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WO2025069299A1 - 表示装置、及び表示装置の製造方法 - Google Patents

表示装置、及び表示装置の製造方法 Download PDF

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WO2025069299A1
WO2025069299A1 PCT/JP2023/035384 JP2023035384W WO2025069299A1 WO 2025069299 A1 WO2025069299 A1 WO 2025069299A1 JP 2023035384 W JP2023035384 W JP 2023035384W WO 2025069299 A1 WO2025069299 A1 WO 2025069299A1
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WO
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layer
display device
electrode
common
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Pending
Application number
PCT/JP2023/035384
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English (en)
French (fr)
Inventor
翔太 岡本
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Sharp Display Technology Corp
Original Assignee
Sharp Display Technology Corp
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Publication date
Application filed by Sharp Display Technology Corp filed Critical Sharp Display Technology Corp
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Pending legal-status Critical Current
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    • G—PHYSICS
    • G09—EDUCATION; CRYPTOGRAPHY; DISPLAY; ADVERTISING; SEALS
    • G09F—DISPLAYING; ADVERTISING; SIGNS; LABELS OR NAME-PLATES; SEALS
    • G09F9/00—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements
    • G09F9/30—Indicating arrangements for variable information in which the information is built-up on a support by selection or combination of individual elements in which the desired character or characters are formed by combining individual elements
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00—Electroluminescent light sources
    • H05B33/02—Details
    • H05B33/06—Electrode terminals
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    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
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    • H05B33/12—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/14—Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of the electroluminescent material, or by the simultaneous addition of the electroluminescent material in or onto the light source
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    • H10K50/11—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
    • H10K50/115—OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers comprising active inorganic nanostructures, e.g. luminescent quantum dots
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    • H10K71/12—Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00—Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/60—Forming conductive regions or layers, e.g. electrodes

Definitions

  • the present invention relates to a display device in which a charge transport layer of a light-emitting element is uniformly formed over the entire display area using, for example, an inkjet device, and a method for manufacturing the display device.
  • a configuration is disclosed in which a first bank and a second bank are provided in the frame area to dam up the ink material by stopping the flow of the ink material used in the sealing layer that seals the OLED elements (Patent Document 1).
  • the ink will spread immediately after application and a film will be formed on the cathode contact located outside the display area.
  • the frame area of the display device will become large.
  • the display device includes a plurality of light-emitting elements each having a first electrode, a second electrode that is a layer above the first electrode, and a light-emitting layer and a charge transport layer that are provided between the first electrode and the second electrode, the second electrode being a part of a common electrode formed in common for the plurality of light-emitting elements, the charge transport layer being a part of a common layer formed in common for the plurality of light-emitting elements, the display area in which the plurality of light-emitting elements are provided, the display area including a first region having an end located outside an end of the display area in a plan view, and a connection portion in which the common electrode is electrically connected to a conductive layer that is the same layer as the first electrode or a layer below the first electrode, the display area including a second region provided outside the first region, and a third region provided between the first region and the second region, the end of the common layer being located outside the display area, and the third region including
  • the manufacturing method of a display device includes a process for forming a plurality of light-emitting elements, including a first process for forming a plurality of first electrodes, a second process for forming one of the light-emitting layer and the charge-transporting common layer, a third process for forming the other of the light-emitting layer and the charge-transporting common layer, and a fourth process for forming a second electrode that is a common electrode, and includes a process for forming a conductive layer outside the display area in which the plurality of light-emitting elements are provided, at or before the first process, and a process for providing a formation area defining portion, at or before the process for forming the charge-transporting common layer, for positioning an end of the common layer formed in the process for forming the charge-transporting common layer at least one of between the display area and the formation area defining portion and on the formation area defining portion.
  • a display device that can suppress the spreading of liquid in the display area during, for example, inkjet coating, without widening the area between the display area and the cathode contact.
  • FIG. 1 is a plan view of a display device according to a first embodiment.
  • 2 is a cross-sectional view taken along line II-II shown in FIG. 1.
  • FIG. 2 is a partial plan view of the display device.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV shown in FIG.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view of a display device according to a second embodiment.
  • FIG. 2 is a partial plan view of the display device.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII shown in FIG. 6.
  • FIG. 11 is a cross-sectional view of a display device according to a third embodiment.
  • FIG. 2 is a partial plan view of the display device.
  • 10 is a cross-sectional view taken along line XX shown in FIG. 9.
  • Fig. 1 is a plan view of a display device 1 according to embodiment 1.
  • Fig. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II shown in Fig. 1.
  • Fig. 3 is a partial plan view of the display device 1.
  • Fig. 4 is a cross-sectional view taken along line IV-IV shown in Fig. 3.
  • the display device 1 includes a plurality of light-emitting elements 2R (e.g., light-emitting elements that emit red light), a plurality of light-emitting elements 2G (e.g., light-emitting elements that emit green light), and a plurality of light-emitting elements 2B (e.g., light-emitting elements that emit blue light).
  • Each of the light-emitting elements 2R, 2G, and 2B includes a first electrode 3, a second electrode 4 that is an upper layer than the first electrode 3, and light-emitting layers 5R, 5G, and 5B, a first charge transport layer 10, and a second charge transport layer 11 that are provided between the first electrode 3 and the second electrode 4.
  • the second electrode 4 is a part of a common electrode 8 formed in common to the plurality of light-emitting elements 2R, 2G, and 2B.
  • the first charge transport layer 10 and the second charge transport layer 11 are a part of a common layer 9 formed in common to the plurality of light-emitting elements 2R, 2G, and 2B.
  • the display device 1 includes a display area 12 in which a plurality of light-emitting elements 2R, 2G, and 2B are provided.
  • the display device 1 also includes a first area 13 having an end 13a located outside an end 12a of the display area 12 in a plan view, a connection portion 17 in which a common electrode 8 is electrically connected to a conductive layer 16 that is in the same layer as the first electrode 3 or a layer below the first electrode 3, a second area 14 provided outside the first area 13, and a third area 15 provided between the first area 13 and the second area 14.
  • An end of the common layer 9 is located outside the display region 12.
  • the third region 15 is provided with a protrusion 18 (formation region defining portion) that is a layer below the common layer 9 and positions the end of the common layer 9 at least one of inside the third region 15 and within the third region 15.
  • protrusions 18 are formed between the display region 12 and the connection portion 17 to suppress the penetration of the liquid into the connection portion 17. This makes it possible to form a uniform film by inkjet coating in the display region 12 without the liquid during inkjet coating being formed into a film on the cathode contact.
  • An end 13a of the first region 13 is in contact with an inner end 15a of the third region 15.
  • An outer end 15b of the third region 15 is in contact with an inner end 14a of the second region 14.
  • the protrusion 18 is formed to be higher than the film thickness of the common layer 9 .
  • An end 13a of the first region 13 is formed so as to surround an end 12a of the display region 12.
  • the third region 15 is formed so as to surround the first region 13.
  • the second region 14 is formed so as to surround the third region 15.
  • the protrusion 18 is formed so as to surround the end 13a of the first region 13.
  • the protrusions 18 can be formed by photolithography using, for example, an organic photosensitive material or a material that forms a silicon nitride film.
  • the height of the protrusion 18 is preferably 1 ⁇ m or more and 3 ⁇ m or less.
  • the shortest distance between the inner end 18a of the protrusion 18 and the outer end 18b of the protrusion 18 is preferably 100 ⁇ m or more and 300 ⁇ m or less, and more preferably 100 ⁇ m or more and 200 ⁇ m or less.
  • the display device 1 includes a bank 7 that exposes the center of the first electrode 3 and covers the end of the first electrode 3.
  • the protrusion 18 and the bank 7 may be the same layer made of the same material. In this way, the protrusions 18 can be fabricated in the same layer as the banks 7 that define the size of the pixels in the display area 12 .
  • the shortest distance between the end 12a of the display area 12 and the inner end 14a of the second area 14 is preferably 0.5 mm or more and 1 mm or less. This allows the frame area surrounding the display area 12 to be narrowed.
  • the common layer 9 includes at least one of a first charge transport layer 10 formed on the first electrode 3 side of the light-emitting layers 5R, 5G, and 5B, and a second charge transport layer 11 formed on the second electrode 4 side of the light-emitting layers 5R, 5G, and 5B.
  • the first charge transport layer 10 is preferably at least one of a hole injection layer and a hole transport layer.
  • the second charge transport layer 11 is preferably at least one of an electron injection layer and an electron transport layer.
  • the first charge transport layer 10 may be at least one of an electron injection layer and an electron transport layer
  • the second charge transport layer 11 may be at least one of a hole injection layer and a hole transport layer.
  • the first charge transport layer 10 and the second charge transport layer 11 contain ink in which charge transporting nanoparticles or a charge transporting resin is dissolved.
  • the light-emitting layer 5 preferably contains quantum dots or an organic light-emitting material, but is not limited to a structure containing quantum dots.
  • the protrusions 18 are formed so that they are positioned in the order of the boundary of the display area 12, the boundary of the inkjet printing area, the protrusions 18, and the connection area 17 from the inside of the display device 1.
  • the inkjet film is formed so that the inkjet film formed after drying does not exceed the protrusions 18.
  • the film thickness unevenness 21 of the common layer 9 that occurs at the boundary of the inkjet printing area does not exist within the display area 12, and the inkjet liquid does not penetrate and form a film in the cathode contact area of the conductive layer 16.
  • the distance D from the display area 12 to the connection area 17 is 0.5 mm or more and 1 mm or less.
  • the first bank and second bank in Patent Document 1 are installed in the frame region outside the cathode contact, but the protrusion 18 in this embodiment is not installed in the frame region outside the cathode contact, but is installed inside the cathode contact just outside the display region 12. This allows the protrusion 18 to have the effect of preventing the spread of the inkjet film when the common layer 9 of the functional material that constitutes the device is formed by inkjet.
  • the “functional material” formed by inkjet refers to the charge transport layer common to each color other than the light-emitting layers 5R, 5G, and 5B that make up the OLED.
  • the charge transport layer includes a hole injection layer, a hole transport layer, an electron injection layer, and an electron transport layer.
  • the structure of the protrusions 18 outside the display area 12 in this embodiment is effective when these charge transport layers are applied by inkjet in a so-called solid coating, that is, when they are applied uniformly over the entire display area 12. It is difficult to achieve the effect with a printing method in which the charge transport layer is applied separately for each pixel rather than in a solid coating.
  • the protrusion 18 if the protrusion 18 is too high, there is a risk of a step being generated when forming the common electrode 8 including the second electrode 4, which serves as the cathode. Therefore, it is preferable to limit the height of the protrusion 18 to 1-3 ⁇ m.
  • the manufacturing method of the display device 1 includes the steps of forming a plurality of light-emitting elements 2R, 2G, and 2B, including a first step of forming a plurality of first electrodes 3, a second step of forming one of the light-emitting layer 5 and the charge-transporting common layer 9, a third step of forming the other of the light-emitting layer 5 and the charge-transporting common layer 9, and a fourth step of forming the second electrode 4, which is the common electrode 8.
  • the manufacturing method of this display device 1 includes, in the first step or prior to the first step, a step of forming a conductive layer 16 outside a display area 12 in which a plurality of light-emitting elements 2R, 2G, and 2B are provided, and, prior to the step of forming a charge-transporting common layer 9, a step of providing a protrusion 18 that positions an end of the common layer 9 formed in the step of forming the charge-transporting common layer 9 at least one of between the display area 12 and the protrusion 18 (formation area defining portion) and on the protrusion 18 (formation area defining portion).
  • Fig. 5 is a cross-sectional view of a display device 1A according to embodiment 2.
  • Fig. 6 is a partial plan view of the display device 1A.
  • Fig. 7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII shown in Fig. 6. Components similar to those described above are designated by similar reference numerals. Detailed descriptions of these components will not be repeated.
  • the display device 1A includes a liquid-repellent portion 19 (a formation region defining portion) that repels the material that forms the common layer 9 .
  • An end 13a of the first region 13 is formed so as to surround an end 12a of the display region 12.
  • the third region 15 is formed so as to surround the first region 13.
  • the second region 14 is formed so as to surround the third region 15.
  • the liquid repellent portion 19 is formed so as to surround the end 13a of the first region 13.
  • the liquid repellent portion 19 preferably contains a fluorine-based material or a silicon-based material. In this manner, by forming the surface of the region between the display region 12 and the conductive layer 16 into the liquid-repellent portion 19 made of a liquid-repellent material, the penetration of liquid from the display region 12 to the conductive layer 16 is suppressed.
  • the liquid-repellent portion 19 may be made of a fluorine-based or silicon-based material. It is preferable that the distance D from the display area 12 to the connection portion 17 is 0.5 mm or more and 1 mm or less.
  • the liquid repellent portion 19 is formed so that, from the inside of the display device 1A, the boundary of the display area 12, the boundary of the printing area, the liquid repellent portion 19, and the connection portion 17 are in this positional relationship. It is also possible to perform inkjet printing on the liquid repellent portion 19, but the printed ink is repelled by the liquid repellent portion 19 and printed so that a film is formed on the display area 12 side. As a result, the unevenness in film thickness that occurs at the boundary of the printing area does not exist within the display area 12, and the liquid does not penetrate and form a film in the cathode contact area of the conductive layer 16.
  • the shortest distance between the inner end 19a of the liquid repellent portion 19 and the outer end 19b of the liquid repellent portion 19 is preferably 100 ⁇ m or more and 300 ⁇ m or less.
  • the display device 1A includes a bank 7 that exposes a central portion of the first electrode 3 and covers an end portion of the first electrode 3.
  • the liquid repellent portion 19 may be provided in an opening of a layer that is made of the same material as the bank 7 and is the same layer. In the step of providing the formation region defining portion, it is preferable to provide a liquid repellent portion 19 that repels the material that forms the common layer 9 .
  • Fig. 8 is a cross-sectional view of a display device 1B according to embodiment 3. Fig.
  • FIG. 9 is a partial plan view of the display device 1B.
  • Fig. 10 is a cross-sectional view taken along line X-X shown in Fig. 9. Components similar to those described above are given the same reference numerals. Detailed descriptions of these components will not be repeated.
  • the display device 1B includes a groove 20 in a layer below the common layer 9 .
  • a groove 20 is provided as a depression between the display area 12 and the conductive layer 16.
  • This groove 20 may be formed in advance using an organic photosensitive material or the like before creating the circuit of the display area 12 of the backplane substrate.
  • the groove 20 is formed so as to have a positional relationship of the boundary of the display area 12, the boundary of the printing area, the groove 20, and the connection section 17 in that order from the inside of the display device 1B. As a result, the unevenness in film thickness occurring at the boundary of the printing area does not exist within the display area 12, and the liquid does not penetrate and form a film in the cathode contact area of the conductive layer 16.
  • the display device 1B includes a bank 7 that exposes the center of the first electrode 3 and covers the end of the first electrode 3.
  • the layer below the common layer 9 in which the groove 20 is formed and the bank 7 may be the same layer made of the same material.
  • a layer below the common layer 9 may have a plurality of grooves 20 formed therein. In the step of providing the formation region defining portion, it is preferable to provide the groove 20 in a layer below the common layer 9 .
  • the width of the groove 20 is preferably 100 ⁇ m or more and 500 ⁇ m or less.
  • the distance D from the display area 12 to the connection portion 17 is preferably 0.5 mm or more and 1 mm or less.

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Abstract

表示装置（１）は、発光素子（２Ｒ・２Ｇ・２Ｂ）を複数個含み、第２電極（４）は、発光素子（２Ｒ・２Ｇ・２Ｂ）に対して共通な共通電極（８）の一部であり、電荷輸送層は共通層（９）の一部であり、発光素子（２Ｒ・２Ｇ・２Ｂ）が設けられた表示領域（１２）の端部（１２ａ）の外側に位置する端部（１３ａ）を有する第１領域（１３）と、第１電極（３）と同一層または下層である導電層（１６）と共通電極（８）とが接続された接続部（１７）を含み、第１領域（１３）の外側に設けられた第２領域（１４）と、第１領域（１３）と第２領域（１４）との間に設けられた第３領域（１５）とを含み、共通層（９）の端部は、表示領域（１２）の外側に位置しており、第３領域（１５）には、共通層（９）よりも下層であり、共通層（９）の端部を第３領域（１５）よりも内側及び第３領域（１５）内の一方に位置させる突起部（１８）が設けられている。

Description

表示装置、及び表示装置の製造方法
　本発明は、発光素子の電荷輸送層を例えばインクジェット装置で表示領域全体に一様に成膜する表示装置、及び表示装置の製造方法に関する。
　ＯＬＥＤ（有機発光ダイオード、Organic Light Emitting Diode）素子が設けられた表示領域と表示領域の周囲を囲む額縁領域とを備える表示装置において、ＯＬＥＤ素子を封止する封止層に用いられるインク材の流動を止めることでインク材を堰き止める第１バンク及び第２バンクを額縁領域に設ける構成が開示されている（特許文献１）。
国際公開公報第2020/194736号パンフレット
　インクジェット装置で表示装置の表示領域全体に均一な膜を成膜するとき、塗布領域の境界では、中央部と比較して膜厚が異なるためムラが発生する。
　このムラを改善する目的で、表示領域内の膜厚が均一になるように、塗布領域の境界を表示領域の外にすると、塗布直後のインクのぬれ広がりにより、表示領域の外に設けたカソードコンタクトに成膜されてしまう。
　このようにカソードコンタクトに成膜されてしまうことを抑制するために、表示領域とカソードコンタクトとの間を広く設計してしまうと、表示装置の額縁領域が広くなってしまう。
　そこで、表示領域とカソードコンタクトとの間の領域を広くすることなく、当該領域に例えばインクジェット塗布時の液の塗れ広がりを抑制する構造が求められている。
　本開示の一態様に係る表示装置は、第１電極と、前記第１電極よりも上層である第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に備えられた発光層及び電荷輸送層と、を備えた発光素子を複数個含み、前記第２電極は、前記複数個の発光素子に対して共通に形成された共通電極の一部であり、前記電荷輸送層は、前記複数個の発光素子に対して共通に形成された共通層の一部であり、前記複数個の発光素子が設けられた表示領域を含み、平面視において前記表示領域の端部よりも外側に位置する端部を有する第１領域と、前記第１電極と同一層または前記第１電極よりも下層である導電層と前記共通電極とが電気的に接続された接続部を含み、前記第１領域よりも外側に設けられた第２領域と、前記第１領域と前記第２領域との間に設けられた第３領域とを含み、前記共通層の端部は、前記表示領域よりも外側に位置しており、前記第３領域には、前記共通層よりも下層であり、前記共通層の端部を前記第３領域よりも内側及び前記第３領域内の少なくとも一方に位置させる形成領域規定部が設けられている。
　本開示の一態様に係る表示装置の製造方法は、複数の第１電極を形成する第１工程と、発光層及び電荷輸送性の共通層の一方を形成する第２工程と、前記発光層及び前記電荷輸送性の共通層の他方を形成する第３工程と、共通電極である第２電極を形成する第４工程と、を含む、複数個の発光素子の形成工程を含み、前記第１工程または前記第１工程よりも前において、前記複数個の発光素子が設けられる表示領域よりも外側に導電層を形成する工程と、前記電荷輸送性の共通層を形成する工程の前に、前記電荷輸送性の共通層を形成する工程において形成される前記共通層の端部を、前記表示領域と形成領域規定部との間及び前記形成領域規定部上の少なくとも一方に位置させる前記形成領域規定部を設ける工程と、を含む。
　本開示の一態様によれば、表示領域とカソードコンタクトとの間の領域を広くすることなく、当該領域に例えばインクジェット塗布時の液の塗れ広がりを抑制することができる表示装置を提供することができる。
実施形態１に係る表示装置の平面図である。 図１に示される線ＩＩ－ＩＩに沿った断面図である。 上記表示装置の部分平面図である。 図３に示される線ＩＶ－ＩＶに沿った断面図である。 実施形態２に係る表示装置の断面図である。 上記表示装置の部分平面図である。 図６に示される線ＶＩＩ－ＶＩＩに沿った断面図である。 実施形態３に係る表示装置の断面図である。 上記表示装置の部分平面図である。 図９に示される線Ｘ－Ｘに沿った断面図である。
　（実施形態１）
　図１は実施形態１に係る表示装置１の平面図である。図２は図１に示される線ＩＩ－ＩＩに沿った断面図である。図３は表示装置１の部分平面図である。図４は図３に示される線ＩＶ－ＩＶに沿った断面図である。
　表示装置１は、複数個の発光素子２Ｒ（例えば、赤色光を発光する発光素子）と複数個の発光素子２Ｇ（例えば、緑色光を発光する発光素子）と複数個の発光素子２Ｂ（例えば、青色光を発光する発光素子）とを含む。発光素子２Ｒ・２Ｇ・２Ｂのそれぞれは、第１電極３と、第１電極３よりも上層である第２電極４と、第１電極３と第２電極４との間に備えられた発光層５Ｒ・５Ｇ・５Ｂ及び第１電荷輸送層１０及び第２電荷輸送層１１と、を備える。
　第２電極４は、複数個の発光素子２Ｒ・２Ｇ・２Ｂに対して共通に形成された共通電極８の一部である。第１電荷輸送層１０及び第２電荷輸送層１１は、複数個の発光素子２Ｒ・２Ｇ・２Ｂに対して共通に形成された共通層９の一部である。
　表示装置１は、複数個の発光素子２Ｒ・２Ｇ・２Ｂが設けられた表示領域１２を含む。そして、表示装置１は、平面視において表示領域１２の端部１２ａよりも外側に位置する端部１３ａを有する第１領域１３と、第１電極３と同一層または第１電極３よりも下層である導電層１６と共通電極８とが電気的に接続された接続部１７を含み、第１領域１３よりも外側に設けられた第２領域１４と、第１領域１３と第２領域１４との間に設けられた第３領域１５とを含む。
　共通層９の端部は、表示領域１２よりも外側に位置している。第３領域１５には、共通層９よりも下層であり、共通層９の端部を第３領域１５よりも内側及び第３領域１５内の少なくとも一方に位置させる突起部１８（形成領域規定部）が設けられている。
　このように、表示領域１２とカソードコンタクトとなる接続部１７との間の領域を広くすることなく、当該領域にインクジェット塗布時の液の塗れ広がりを抑制するために、表示領域１２と接続部１７との間に、接続部１７への液の浸透を抑制する突起部１８を形成する。これにより、インクジェット塗布時の液がカソードコンタクト上に成膜されることなく、インクジェット塗布による均一な膜を表示領域１２内に成膜することが可能となる。
　第１領域１３の端部１３ａと第３領域１５の内側の端部１５ａとは接している。第３領域１５の外側の端部１５ｂと第２領域１４の内側の端部１４ａとは接している。
　突起部１８は、共通層９の膜厚よりも高く形成される。
　第１領域１３の端部１３ａは、表示領域１２の端部１２ａを取り囲むように形成されている。第３領域１５は、第１領域１３を取り囲むように形成されている。第２領域１４は、第３領域１５を取り囲むように形成されている。突起部１８は、第１領域１３の端部１３ａを取り囲むように形成されている。
　突起部１８は、例えば、有機物の感光材料や窒化ケイ素膜を形成する材料を用いてフォトリソグラフィーなどで形成することができる。
　突起部１８の高さは、１μｍ以上、３μｍ以下であることが好ましい。
　突起部１８の内側の端部１８ａと突起部１８の外側の端部１８ｂとの間の最短距離は、１００μｍ以上、３００μｍ以下であることが好ましく、１００μｍ以上、２００μｍ以下であることがより好ましい。
　表示装置１は、第１電極３の中央部を露出するとともに、第１電極３の端部を覆うバンク７を備える。突起部１８とバンク７とは、同一材料の同一層であってもよい。
　このように、突起部１８は、表示領域１２内の画素の大きさを定義するバンク７と同じ層で作製することが可能である。
　表示領域１２の端部１２ａと第２領域１４の内側の端部１４ａとの間の最短距離は、０．５ｍｍ以上、１ｍｍ以下であることが好ましい。これにより、表示領域１２を取り囲む額縁領域を狭くすることができる。
　共通層９は、発光層５Ｒ・５Ｇ・５Ｂの第１電極３側に形成された第１電荷輸送層１０と、発光層５Ｒ・５Ｇ・５Ｂの第２電極４側に形成された第２電荷輸送層１１との少なくとも一方を含む。
　本実施形態においては、第１電極３がアノードで、第２電極４がカソードであるので、第１電荷輸送層１０は、正孔注入層及び正孔輸送層の少なくとも一方であることが好ましい。第２電荷輸送層１１は、電子注入層及び電子輸送層の少なくとも一方であることが好ましい。第１電荷輸送層１０は、電子注入層及び電子輸送層の少なくとも一方であってもよく、第２電荷輸送層１１は、正孔注入層及び正孔輸送層の少なくとも一方であってもよい。
　第１電荷輸送層１０及び第２電荷輸送層１１は、電荷輸送性ナノ粒子又は電荷輸送性樹脂を溶解させたインクを含む。
　発光層５は、量子ドットまたは有機発光材料を含むことが好ましい。但し、発光層５は量子ドットを含む構成に限定するものではない。
　このように、表示装置１の内側から順番に、表示領域１２の境界、インクジェット印刷領域の境界、突起部１８、及び接続部１７となる位置関係になるように突起部１８を形成する。そして、乾燥後のインクジェット成膜が突起部１８を超えないように成膜する。以上により、インクジェット印刷領域の境界に発生する共通層９の膜厚ムラ２１は、表示領域１２内には存在せず、且つ、インクジェット液が浸透し導電層１６のカソードコンタクト領域に成膜されることもない。表示領域１２から接続部１７までの距離Ｄは、０．５ｍｍ以上、１ｍｍ以下であることが好ましい。
　特許文献１の第１バンク及び第２バンクは設置場所がカソードコンタクトよりも外側の額縁領域であるが、本実施形態に係る突起部１８は、設置場所がカソードコンタクトよりも外側の額縁領域ではなく、表示領域１２のすぐ外側であるカソードコンタクトよりも内側に設置する。これにより、デバイスを構成する機能性材料の共通層９をインクジェットで成膜するときに突起部１８がインクジェット成膜の拡がりを阻止する効果を発揮するものである。
　インクジェットで成膜する「機能性材料」は、ＯＬＥＤなどを構成する発光層５Ｒ・５Ｇ・５Ｂ以外の各色共通の電荷輸送層を指す。電荷輸送層には、正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、及び電子輸送層などが含まれる。本実施形態における表示領域１２外の突起部１８などの構造は、これらの電荷輸送層を、インクジェットにて、いわゆるベタ塗りするとき、つまり、表示領域１２の全体に均一に塗布するときに効果を発揮する。ベタ塗りではなく画素毎に電荷輸送層を塗り分ける印刷方法では効果を発揮し難い。
　本実施形態の突起部１８は、突起部１８が高すぎると、例えば、カソードとなる第２電極４を含む共通電極８を成膜するときに段切れを起こす恐れがあるため、高さを１－３μｍと制限することが好ましい。
　実施形態に係る表示装置１の製造方法は、複数の第１電極３を形成する第１工程と、発光層５及び電荷輸送性の共通層９の一方を形成する第２工程と、発光層５及び電荷輸送性の共通層９の他方を形成する第３工程と、共通電極８である第２電極４を形成する第４工程と、を含む、複数個の発光素子２Ｒ・２Ｇ・２Ｂの形成工程を含む。
　そして、この表示装置１の製造方法は、第１工程または第１工程よりも前において、複数個の発光素子２Ｒ・２Ｇ・２Ｂが設けられる表示領域１２よりも外側に導電層１６を形成する工程と、電荷輸送性の共通層９を形成する工程の前に、電荷輸送性の共通層９を形成する工程において形成される共通層９の端部を、表示領域１２と突起部１８（形成領域規定部）との間及び突起部１８（形成領域規定部）上の少なくとも一方に位置させる突起部１８を設ける工程と、を含む。
　前記形成領域規定部を設ける工程においては、前記共通層９の膜厚よりも高い突起部１８を設けることが好ましい。
　（実施形態２）
　図５は実施形態２に係る表示装置１Ａの断面図である。図６は表示装置１Ａの部分平面図である。図７は図６に示される線ＶＩＩ－ＶＩＩに沿った断面図である。前述した構成要素と同様の構成要素には同様の参照符号を付している。これらの構成要素の詳細な説明は繰り返さない。
　表示装置１Ａは、共通層９を形成する材料を弾く撥液部１９（形成領域規定部）を備える。
　第１領域１３の端部１３ａは、表示領域１２の端部１２ａを取り囲むように形成されている。第３領域１５は、第１領域１３を取り囲むように形成されている。第２領域１４は、第３領域１５を取り囲むように形成されている。撥液部１９は、第１領域１３の端部１３ａを取り囲むように形成されている。
　撥液部１９は、フッ素系材料またはシリコン系材料を含むことが好ましい。
　このように、表示領域１２と導電層１６との間の領域の表面を撥液性の材料で構成される撥液部１９にすることで、表示領域１２から導電層１６への液の浸透を抑制する。
　撥液部１９の材料は、フッ素系やシリコン系の材料を使用することができる。表示領域１２から接続部１７までの距離Ｄは、０．５ｍｍ以上、１ｍｍ以下であることが好ましい。
　このように、表示装置１Ａの内側から順番に、表示領域１２の境界、印刷領域の境界、撥液部１９、接続部１７となる位置関係になるように撥液部１９を形成する。撥液部１９上にインクジェット印刷することも可能であるが、印刷されたインクが撥液部１９で弾かれ、表示領域１２側に成膜されるように印刷される。以上により、印刷領域の境界に発生する膜厚ムラは、表示領域１２内には存在せず、且つ、液が浸透し導電層１６のカソードコンタクト領域に成膜されることもない。
　実施形態２によれば、実施形態１とは異なり、表示領域１２と導電層１６との間の領域に突起部１８がないことで共通電極８における段切れの恐れがなくなる。
　撥液部１９の内側の端部１９ａと撥液部１９の外側の端部１９ｂとの間の最短距離は、１００μｍ以上、３００μｍ以下であることが好ましい。
　表示装置１Ａは、第１電極３の中央部を露出するとともに、第１電極３の端部を覆うバンク７を備える。撥液部１９は、バンク７と同一材料の同一層で形成された層の開口部に設けられてもよい。
　前記形成領域規定部を設ける工程においては、前記共通層９を形成する材料を弾く撥液部１９を設けることが好ましい。
　（実施形態３）
　図８は実施形態３に係る表示装置１Ｂの断面図である。図９は表示装置１Ｂの部分平面図である。図１０は図９に示される線Ｘ－Ｘに沿った断面図である。前述した構成要素と同様の構成要素には同様の参照符号を付している。これらの構成要素の詳細な説明は繰り返さない。
　表示装置１Ｂは、共通層９よりも下層である層の溝２０を備える。
　このように、表示領域１２と導電層１６との間に窪みとなる溝２０を設ける。この溝２０は、バックプレーン基板の表示領域１２の回路を作成する前に、あらかじめ有機感光材料などで形成してもよい。表示装置１Ｂの内側から順番に、表示領域１２の境界、印刷領域の境界、溝２０、接続部１７となる位置関係になるように溝２０を形成する。以上により、印刷領域の境界に発生する膜厚ムラは、表示領域１２内には存在せず、且つ、液が浸透し導電層１６のカソードコンタクト領域に成膜されることもない。
　第１領域１３の端部１３ａは、表示領域１２の端部１２ａを取り囲むように形成されている。第３領域１５は、第１領域１３を取り囲むように形成されている。第２領域１４は、第３領域１５を取り囲むように形成されている。溝２０は、第１領域１３の端部１３ａを取り囲むように形成されている。
　表示装置１Ｂは、第１電極３の中央部を露出するとともに、第１電極３の端部を覆うバンク７を備える。溝２０が形成された共通層９よりも下層である層とバンク７とは、同一材料の同一層であってもよい。
　共通層９よりも下層である層には、溝２０が複数個設けられていてもよい。
　前記形成領域規定部を設ける工程においては、前記共通層９よりも下層である層に溝２０を設けることが好ましい。
　溝２０の幅は、１００μｍ以上、５００μｍ以下であることが好ましい。表示領域１２から接続部１７までの距離Ｄは、０．５ｍｍ以上、１ｍｍ以下であることが好ましい。
　本開示は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
　１　表示装置
　２Ｒ、２Ｇ、２Ｂ　発光素子
　３　第１電極
　４　第２電極
　５Ｒ、５Ｇ、５Ｂ　発光層
１０　第１電荷輸送層
１１　第２電荷輸送層
１２　表示領域
１３　第１領域
１４　第２領域
１５　第３領域
１６　導電層
１７　接続部
１８　突起部（形成領域規定部）
１９　撥液部（形成領域規定部）
２０　溝（形成領域規定部）

 

Claims (26)

  1. 　第１電極と、前記第１電極よりも上層である第２電極と、前記第１電極と前記第２電極との間に備えられた発光層及び電荷輸送層と、を備えた発光素子を複数個含み、
    　前記第２電極は、前記複数個の発光素子に対して共通に形成された共通電極の一部であり、
    　前記電荷輸送層は、前記複数個の発光素子に対して共通に形成された共通層の一部であり、
    　前記複数個の発光素子が設けられた表示領域を含み、平面視において前記表示領域の端部よりも外側に位置する端部を有する第１領域と、
    　前記第１電極と同一層または前記第１電極よりも下層である導電層と前記共通電極とが電気的に接続された接続部を含み、前記第１領域よりも外側に設けられた第２領域と、
    　前記第１領域と前記第２領域との間に設けられた第３領域とを含み、
    　前記共通層の端部は、前記表示領域よりも外側に位置しており、
    　前記第３領域には、前記共通層よりも下層であり、前記共通層の端部を前記第３領域よりも内側及び前記第３領域内の少なくとも一方に位置させる形成領域規定部が設けられている、表示装置。
  2. 　前記第１領域の端部と前記第３領域の内側の端部とは接しており、
    　前記第３領域の外側の端部と前記第２領域の内側の端部とは接している、請求項１に記載の表示装置。
  3. 　前記形成領域規定部は、前記共通層の膜厚よりも高く形成された突起部である、請求項１または２に記載の表示装置。
  4. 　前記第１領域の端部は、前記表示領域の端部を取り囲むように形成され、
    　前記第３領域は、前記第１領域を取り囲むように形成され、
    　前記第２領域は、前記第３領域を取り囲むように形成され、
    　前記突起部は、前記第１領域の端部を取り囲むように形成されている、請求項３に記載の表示装置。
  5. 　前記突起部の高さは、１μｍ以上、３μｍ以下である、請求項３または４に記載の表示装置。
  6. 　前記突起部の内側の端部と前記突起部の外側の端部との間の最短距離は、１００μｍ以上、３００μｍ以下である、請求項３から５の何れか１項に記載の表示装置。
  7. 　前記第１電極の中央部を露出するとともに、前記第１電極の端部を覆うバンクを備え、
    　前記突起部と前記バンクとは、同一材料の同一層である、請求項３から６の何れか１項に記載の表示装置。
  8. 　前記形成領域規定部は、前記共通層を形成する材料を弾く撥液部である、請求項１または２に記載の表示装置。
  9. 　前記第１領域の端部は、前記表示領域の端部を取り囲むように形成され、
    　前記第３領域は、前記第１領域を取り囲むように形成され、
    　前記第２領域は、前記第３領域を取り囲むように形成され、
    　前記撥液部は、前記第１領域の端部を取り囲むように形成されている、請求項８に記載の表示装置。
  10. 　前記撥液部は、フッ素系材料またはシリコン系材料を含む、請求項８または９に記載の表示装置。
  11. 　前記撥液部の内側の端部と前記撥液部の外側の端部との間の最短距離は、１００μｍ以上、３００μｍ以下である、請求項８から１０の何れか１項に記載の表示装置。
  12. 　前記第１電極の中央部を露出するとともに、前記第１電極の端部を覆うバンクを備え、
    　前記撥液部は、前記バンクと同一材料の同一層で形成された層の開口部に設けられている、請求項８から１１の何れか１項に記載の表示装置。
  13. 　前記形成領域規定部は、前記共通層よりも下層である層の溝である、請求項１または２に記載の表示装置。
  14. 　前記第１領域の端部は、前記表示領域の端部を取り囲むように形成され、
    　前記第３領域は、前記第１領域を取り囲むように形成され、
    　前記第２領域は、前記第３領域を取り囲むように形成され、
    　前記共通層よりも下層である層の溝は、前記第１領域の端部を取り囲むように形成されている、請求項１３に記載の表示装置。
  15. 　前記第１電極の中央部を露出するとともに、前記第１電極の端部を覆うバンクを備え、
    　前記溝が形成された前記共通層よりも下層である層と前記バンクとは、同一材料の同一層である、請求項１３または１４に記載の表示装置。
  16. 　前記共通層よりも下層である層には、前記溝が複数個設けられている、請求項１３から１５の何れか１項に記載の表示装置。
  17. 　前記表示領域の端部と前記第２領域の内側の端部との間の最短距離は、０．５ｍｍ以上、１ｍｍ以下である、請求項１から１６の何れか１項に記載の表示装置。
  18. 　前記共通層は、前記発光層の前記第１電極側に形成された第１電荷輸送層と、前記発光層の前記第２電極側に形成された第２電荷輸送層との少なくとも一方を含む、請求項１から１７の何れか1項に記載の表示装置。
  19. 　前記第１電荷輸送層は、正孔注入層及び正孔輸送層の少なくとも一方であり、
    　前記第２電荷輸送層は、電子注入層及び電子輸送層の少なくとも一方である、請求項１８に記載の表示装置。
  20. 　前記第１電荷輸送層は、電子注入層及び電子輸送層の少なくとも一方であり、
    　前記第２電荷輸送層は、正孔注入層及び正孔輸送層の少なくとも一方である、請求項１８に記載の表示装置。
  21. 　前記第１電荷輸送層及び前記第２電荷輸送層は、電荷輸送性ナノ粒子又は電荷輸送性樹脂を溶解させたインクを含む、請求項１８に記載の表示装置。
  22. 　前記発光層は、量子ドットまたは有機発光材料を含む、請求項１から２１の何れか１項に記載の表示装置。
  23. 　複数の第１電極を形成する第１工程と、
    　発光層及び電荷輸送性の共通層の一方を形成する第２工程と、
    　前記発光層及び前記電荷輸送性の共通層の他方を形成する第３工程と、
    　共通電極である第２電極を形成する第４工程と、を含む、複数個の発光素子の形成工程を含み、
    　前記第１工程または前記第１工程よりも前において、前記複数個の発光素子が設けられる表示領域よりも外側に導電層を形成する工程と、
    　前記電荷輸送性の共通層を形成する工程の前に、前記電荷輸送性の共通層を形成する工程において形成される前記共通層の端部を、前記表示領域と形成領域規定部との間及び前記形成領域規定部上の少なくとも一方に位置させる前記形成領域規定部を設ける工程と、を含む、表示装置の製造方法。
  24. 　前記形成領域規定部を設ける工程においては、前記共通層の膜厚よりも高い突起部を設ける、請求項２３に記載の表示装置の製造方法。
  25. 　前記形成領域規定部を設ける工程においては、前記共通層を形成する材料を弾く撥液部を設ける、請求項２３に記載の表示装置の製造方法。
  26. 　前記形成領域規定部を設ける工程においては、前記共通層よりも下層である層に溝を設ける、請求項２３に記載の表示装置の製造方法。
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