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WO2024237167A1 - 光学フィルタ - Google Patents

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Publication number
WO2024237167A1
WO2024237167A1 PCT/JP2024/017250 JP2024017250W WO2024237167A1 WO 2024237167 A1 WO2024237167 A1 WO 2024237167A1 JP 2024017250 W JP2024017250 W JP 2024017250W WO 2024237167 A1 WO2024237167 A1 WO 2024237167A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
wavelength
refractive index
less
multilayer film
dielectric multilayer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
PCT/JP2024/017250
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
崇 長田
貴尋 坂上
和彦 塩野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to CN202480032330.0A priority Critical patent/CN121127777A/zh
Publication of WO2024237167A1 publication Critical patent/WO2024237167A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Pending legal-status Critical Current

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    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/22—Absorbing filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/26—Reflecting filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G02B5/28—Interference filters

Definitions

  • the present invention relates to an optical filter that selectively transmits light in the visible light range and a specific near-infrared light range, and blocks light outside these ranges.
  • imaging devices using solid-state imaging elements are expanding to include surveillance cameras, in-vehicle cameras, and other devices that capture images day and night. Such devices need to capture both visible light (color) images and infrared light (black and white) images.
  • Patent Document 1 describes an optical filter that combines a dielectric multilayer film with a resin substrate containing a near-infrared absorbing dye, which transmits visible light and near-infrared light around 850 nm and blocks other light.
  • imaging sensors have been using laser light that includes a portion of the 800 to 1000 nm range, so there is a demand for optical filters that can transmit near-infrared light in this sensing range and block other near-infrared light that becomes noise.
  • the optical filter described in Patent Document 1 does not have sufficient transmittance for near-infrared light around 850 nm.
  • optical filters having a dielectric multilayer film have a problem in that the optical thickness of the dielectric multilayer film changes depending on the angle of incidence of light, and therefore the change in the spectral transmittance curve depending on the angle of incidence is a problem.
  • the spectral sensitivity of the solid-state imaging element may be affected by the angle of incidence.
  • the present invention aims to provide an optical filter that has excellent transmittance for visible light and specific near-infrared light, excellent blocking properties for other near-infrared light, and small shifts in the spectral curve even at high angles of incidence.
  • the present invention provides an optical filter having the following configuration. a light-absorbing glass substrate having a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 900 nm to 1000 nm; a dielectric multilayer film A provided on one main surface side of the light-absorbing glass substrate; a dielectric multilayer film B provided on the other main surface side of the light-absorbing glass substrate; a light absorbing layer provided on the other main surface side of the light absorbing glass substrate and having a maximum absorption wavelength in a wavelength region shorter than 800 nm,
  • the optical filter satisfies both of the following spectral characteristics (i-1) and (i-2): (i-1) When the dielectric multilayer film A side is the incident direction, the average reflectance is 3.0% or less and the maximum reflectance is 5.0% or less at a wavelength of 820 nm to 870 nm and an incident angle of 5 degrees. (i-2) When the dielectric multilayer film A side is the incident direction, the average reflectance is 7.0% or less and the maximum reflectance is 11.0% or less at
  • the present invention provides an optical filter that has excellent transmittance for visible light and specific near-infrared light, and excellent blocking of other near-infrared light, even at high angles of incidence.
  • the optical filter of the present invention has excellent transmittance for the near-infrared light region around 850 nm, which is the sensing wavelength region, even at high angles of incidence, and the spectral transmittance curve of the boundary region between this transmission region and the wavelength region on the long wavelength side that is to be blocked is unlikely to shift depending on the angle of incidence, making it an optical filter that is not easily affected by the angle of incidence.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an example of an optical filter according to an embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating a schematic configuration of another example of the optical filter according to the embodiment.
  • FIG. 3 is a diagram showing the spectral transmittance curves of glass A and glass B.
  • FIG. 4 is a diagram showing the spectral transmittance curves of the light absorbing layers of Examples 1-1 and 1-2.
  • FIG. 5 is a diagram showing the spectral transmittance curve and the spectral reflectance curve (dielectric multilayer film A side) of the optical filter of Example 2-1.
  • FIG. 6 is a diagram showing the spectral reflectance curve (dielectric multilayer film B side) and the amount of absorption loss of the optical filter of Example 2-1.
  • FIG. 7 is a diagram showing the spectral transmittance curve and the spectral reflectance curve (dielectric multilayer film A side) of the optical filter of Example 2-2.
  • FIG. 8 is a diagram showing the spectral reflectance curve (dielectric multilayer film B side) and the amount of absorption loss of the optical filter of Example 2-2.
  • FIG. 9 is a diagram showing the spectral transmittance curve and the spectral reflectance curve (dielectric multilayer film A side) of the optical filter of Example 2-4.
  • FIG. 10 is a diagram showing the spectral reflectance curve (dielectric multilayer film B side) and the amount of absorption loss of the optical filter of Example 2-4.
  • the near-infrared absorbing dye may be abbreviated as "NIR dye” and the ultraviolet absorbing dye may be abbreviated as "UV dye”.
  • NIR dye near-infrared absorbing dye
  • UV dye ultraviolet absorbing dye
  • the compound represented by formula (I) is referred to as compound (I).
  • the dye consisting of compound (I) is also referred to as dye (I), and the same applies to other dyes.
  • the group represented by formula (I) is also referred to as group (I), and the same applies to groups represented by other formulas.
  • the internal transmittance is the transmittance obtained by subtracting the influence of interface reflection from the measured transmittance, which is expressed by the formula ⁇ measured transmittance (incident angle 0 degrees)/(100-reflectance (incident angle 5 degrees)) ⁇ 100.
  • the transmittance of glass and the transmittance of a light absorbing layer including a case where a dye is contained in a resin are all "internal transmittance" even when they are described as "transmittance".
  • the transmittance measured by dissolving a dye in a solvent such as dichloromethane the transmittance of a dielectric multilayer film, and the transmittance of an optical filter having a dielectric multilayer film are actually measured transmittances.
  • a transmittance of 90% or more in a specific wavelength range means that the transmittance is not below 90% in the entire wavelength range, i.e., the minimum transmittance is 90% or more in the wavelength range.
  • a transmittance of 1% or less in a specific wavelength range means that the transmittance is not more than 1% in the entire wavelength range, i.e., the maximum transmittance is 1% or less in the wavelength range.
  • the average transmittance and average internal transmittance in a specific wavelength range are the arithmetic mean of the transmittance and internal transmittance per 1 nm in the wavelength range.
  • the spectral characteristics can be measured using a UV-Vis spectrophotometer. In this specification, any numerical range expressed by "to" includes the upper and lower limits.
  • An optical filter according to one embodiment of the present invention (hereinafter also referred to as "this filter”) comprises a light-absorbing glass substrate having a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 900 nm to 1000 nm, a dielectric multilayer film A provided on one main surface of the light-absorbing glass substrate, a dielectric multilayer film B provided on the other main surface of the light-absorbing glass substrate, and a light-absorbing layer provided on the other main surface of the light-absorbing glass substrate and having a maximum absorption wavelength in a wavelength region shorter than 800 nm.
  • the reflective properties of the dielectric multilayer film and the absorption properties of the light-absorbing glass substrate and light-absorbing layer enable the optical filter as a whole to achieve excellent transmittance in the visible light region and a specific near-infrared light region, as well as excellent blocking properties in other near-infrared light regions.
  • Figures 1 and 2 are cross-sectional views that show an outline of an example of an optical filter according to one embodiment.
  • the optical filter 1A shown in FIG. 1 is an example that includes a light-absorbing glass substrate 10, a dielectric multilayer film 20A provided on one main surface side of the light-absorbing glass substrate 10, a dielectric multilayer film 20B provided on the other main surface side of the light-absorbing glass substrate 10, and a light-absorbing layer 30 provided on the surface of the dielectric multilayer film 20B.
  • the optical filter 1B shown in FIG. 2 is an example that further includes a dielectric multilayer film 20C provided on the surface of the light absorbing layer 30.
  • the optical filter of the present invention satisfies all of the following spectral characteristics (i-1) to (i-2).
  • i-1 When the dielectric multilayer film A side is the incident direction, the average reflectance is 3.0% or less and the maximum reflectance is 5.0% or less at a wavelength of 820 nm to 870 nm and an incident angle of 5 degrees.
  • i-2) When the dielectric multilayer film A side is the incident direction, the average reflectance is 7.0% or less and the maximum reflectance is 11.0% or less at a wavelength of 820 nm to 870 nm and an incident angle of 40 degrees.
  • Satisfying all of the spectral characteristics (i-1) to (i-2) means that the reflectance of the multilayer film A side of near-infrared light in the sensing region of around 850 nm remains low and does not shift even at high angles of incidence.
  • the region longer than around 850 nm is blocked by the absorption characteristics of the light-absorbing glass substrate, which has a maximum absorption wavelength in the range of 900 nm to 1000 nm
  • the region shorter than around 850 nm is blocked by the absorption characteristics of the light-absorbing layer, which has a maximum absorption wavelength in the region shorter than 800 nm.
  • this filter is a dual passband filter that has excellent transparency for specific near-infrared light and blocking of other near-infrared light.
  • the average reflectance is preferably 2.5% or less, more preferably 2.0% or less, and the maximum reflectance is preferably 4.0% or less, more preferably 3.0% or less.
  • the average reflectance is preferably 6.0% or less, more preferably 5.0% or less, and the maximum reflectance is preferably 9.0% or less, more preferably 7.0% or less.
  • a dielectric multilayer film A that satisfies the characteristics (iiA-1) to (iiA-2) described below can be provided.
  • the present filter satisfies all of the following spectral characteristics (i-3) to (i-6).
  • i-3) When the dielectric multilayer film A side is the incident direction, the average reflectance is 3.0% or less and the maximum reflectance is 12.0% or less at a wavelength of 420 nm to 650 nm and an incident angle of 5 degrees.
  • i-4) When the dielectric multilayer film A side is the incident direction, the average reflectance is 4.0% or less and the maximum reflectance is 12.0% or less at a wavelength of 420 nm to 650 nm and an incident angle of 40 degrees.
  • the average reflectance is 98% or more at a wavelength of 1050 nm to 1100 nm and an incident angle of 5 degrees.
  • the average reflectance is 98% or more at a wavelength of 970 nm to 1100 nm and an incident angle of 40 degrees.
  • Satisfying the spectral characteristics (i-3) to (i-4) means that the reflectance in the visible light region is low even at a high angle of incidence. Satisfying the spectral characteristics (i-5) to (i-6) means that the reflectance in a specific near-infrared light region in the long wavelength region is high even at a high angle of incidence.
  • the average reflectance is more preferably 2.5% or less, and further preferably 2.0% or less, and the maximum reflectance is more preferably 10.0% or less, and further preferably 8.0% or less.
  • the average reflectance is more preferably 3.0% or less, and further preferably 2.0% or less, and the maximum reflectance is more preferably 10.0% or less, and further preferably 8.0% or less.
  • the average reflectance is more preferably 98.2% or more, and further preferably 98.5% or more.
  • the average reflectance is more preferably 98.2% or more, and further preferably 98.5% or more.
  • this filter satisfies all of the following spectral characteristics (i-7) to (i-8).
  • i-7) When the dielectric multilayer film B side is the incident direction, the average reflectance is 3.0% or less and the maximum reflectance is 5.0% or less at a wavelength of 820 nm to 870 nm and an incident angle of 5 degrees.
  • i-8) When the dielectric multilayer film B side is the incident direction, the average reflectance is 7.0% or less and the maximum reflectance is 10.0% or less at a wavelength of 820 nm to 870 nm and an incident angle of 40 degrees.
  • the average reflectance is more preferably 2.5% or less, and further preferably 2.0% or less, and the maximum reflectance is more preferably 4.0% or less, and further preferably 3.0% or less.
  • the average reflectance is more preferably 6.0% or less, and further preferably 5.0% or less, and the maximum reflectance is more preferably 8.0% or less, and further preferably 6.0% or less.
  • this filter satisfies all of the following spectral characteristics (i-9) to (i-12).
  • i-9) When the dielectric multilayer film B side is the incident direction, the average reflectance at a wavelength of 420 nm to 650 nm and an incident angle of 5 degrees is 2.0% or less, and the maximum reflectance is 10.0% or less.
  • i-10) When the dielectric multilayer film B side is the incident direction, the average reflectance at a wavelength of 420 nm to 650 nm and an incident angle of 40 degrees is 4.0% or less, and the maximum reflectance is 11.0% or less.
  • the average reflectance at a wavelength of 1050 nm to 1150 nm and an incident angle of 5 degrees is 93.0% or more.
  • the average reflectance at a wavelength of 1000 nm to 1200 nm and an incident angle of 40 degrees is 93.0% or more.
  • Satisfying the spectral characteristics (i-9) to (i-10) means that the reflectance in the visible light region is low even at a high angle of incidence. Satisfying the spectral characteristics (i-11) to (i-12) means that the reflectance in a specific near-infrared light region in the long wavelength region is high even at a high angle of incidence.
  • the average reflectance is more preferably 1.8% or less, and further preferably 1.6% or less, and the maximum reflectance is more preferably 8.0% or less, and further preferably 6.0% or less.
  • the average reflectance is more preferably 3.0% or less, and further preferably 2.0% or less, and the maximum reflectance is more preferably 9.0% or less, and further preferably 7.0% or less.
  • the average reflectance is more preferably 94.2% or more, and further preferably 94.4% or more.
  • the average reflectance is more preferably 94% or more, and further preferably 95% or more.
  • this filter satisfies all of the following spectral characteristics (i-13) to (i-14).
  • the amount of absorption loss X at a wavelength of X nm is defined as follows.
  • (Absorption loss amount X ) [%] 100 - (Transmittance at an incident angle of 0 degrees) - (Reflectance at an incident angle of 5 degrees)
  • the integral value of the absorption loss amount 600-830 in the wavelength range of 600 to 830 nm is 15,000 or more.
  • the integral value of the absorption loss amount 850-1000 in the wavelength range of 850 to 1000 nm is 6,000 or more.
  • the absorption loss amount X is an index showing the degree of light blocking due to the absorption characteristics at a wavelength of X nm. The larger the value, the more light of the wavelength X is blocked by absorption.
  • the integral value of the absorption loss amount XY is the sum of the absorption loss amounts from X to Y nm determined for each 1 nm wavelength, and a larger value means that the wavelength region from X to Y nm is more blocked by absorption. Satisfying the spectral characteristic (i-13) means that stray light is suppressed and fluctuations are reduced in the red wavelength region of the visible light region. Satisfying the spectral characteristic (i-14) means that stray light is suppressed and fluctuations are reduced at the sensing wavelength.
  • the integral value of the absorption loss amount 600-830 is more preferably 15,500 or more, and further preferably 16,000 or more.
  • the integral value of the absorption loss amount 850-1000 is more preferably 6500 or more, and further preferably 7000 or more.
  • a light-absorbing glass containing 20 mol % or more of Yb 2 O 3 described later and a light-absorbing layer containing a dye having a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 680 to 800 nm may be provided.
  • this filter satisfies all of the following spectral characteristics (i-15) to (i-20).
  • the average transmittance at a wavelength of 420 to 650 nm and an incident angle of 0 degrees is 80% or more;
  • the average transmittance at a wavelength of 420 to 650 nm and an incident angle of 40 degrees is 80% or more;
  • the average transmittance at a wavelength of 820 to 870 nm and an incident angle of 0 degrees is 80% or more;
  • the average transmittance at a wavelength of 820 to 870 nm and an incident angle of 40 degrees is 78% or more;
  • the average transmittance at a wavelength of 820 to 870 nm and an incident angle of 40 degrees is 78% or more;
  • This filter is equipped with a light-absorbing glass substrate that has a maximum absorption wavelength in the wavelength range of 900 nm to 1000 nm. This allows it to block wavelengths longer than the sensing wavelength of around 850 nm.
  • the absorption characteristics of the light-absorbing glass substrate do not shift the light-blocking region depending on the angle of incidence of light, as occurs with the reflection characteristics of a dielectric multilayer film, so it can exhibit high light-blocking properties even at high angles of incidence.
  • the light-absorbing glass satisfies the characteristic (iv-1).
  • iv-1 When converted to a thickness of 0.4 mm, among the wavelengths at which the transmittance is 50% in the wavelength range of 800 to 1100 nm, the wavelength on the longer wavelength side is ⁇ IRL50 and the wavelength on the shorter wavelength side is ⁇ IRS50 , and the absolute value ⁇ IR50 of the difference between ⁇ IRL50 and ⁇ IRS50 is 100 to 160 nm.
  • an optical filter can be obtained in which the change in light transmittance is steep from 850 nm to 940 nm (the slope of the relationship between wavelength and transmittance is large).
  • ⁇ IR50 is more preferably 105 nm or more, further preferably 110 nm or more, and more preferably 155 nm or less, further preferably 150 nm or less.
  • the light-absorbing glass satisfies the characteristic (iv-2).
  • the transmittance of light with a wavelength of 400 nm is preferably 80% or more.
  • the glass of this embodiment when made to have a thickness of 0.4 mm, more preferably has a transmittance of 81% or more, even more preferably 82% or more, even more preferably 83% or more, particularly preferably 83.5% or more, and most preferably 84% or more for light with a wavelength of 400 nm.
  • glass containing ytterbium is preferable.
  • glass containing ytterbium has a steep absorption band, so it can maintain high transmittance in regions other than the maximum absorption wavelength region, and has excellent transmittance in the visible light region and in the near-infrared light region from visible light to about 800 nm.
  • each component that can constitute glass and its suitable content (expressed as mol% based on oxide) are explained.
  • the content of each component and the total content are expressed as mol% based on oxide.
  • Yb 2 O 3 is a component for efficiently absorbing light with a wavelength of about 900 to 1000 nm, particularly light with a wavelength of 940 nm, and reducing transmittance.
  • the content of Yb 2 O 3 is 20% or more, this effect is sufficiently obtained, and if it is 60% or less, problems such as deterioration of devitrification tendency of the glass, deterioration of melting tendency, and generation of stray light due to fluorescence are unlikely to occur. Therefore, the content of Yb 2 O 3 is preferably 20 to 60%, more preferably 25 to 60%, even more preferably 30 to 60%, still more preferably 35 to 60%, particularly preferably more than 40% to 60% or less, and most preferably 45% to 60%.
  • SiO2 is a main component that forms glass and is a component that increases the devitrification resistance and viscosity at the liquidus temperature of the glass. If the content of SiO2 in the glass of this embodiment is 0.1% or more, problems such as glass becoming unstable, weather resistance decreasing, and striae occurring in the glass are unlikely to occur. If the content of SiO2 is 50% or less, problems such as deterioration of the meltability of the glass are unlikely to occur. Therefore, the content of SiO2 is preferably 0.1 to 50%, more preferably 0.1 to 40%, even more preferably 0.1 to 30%, even more preferably 0.1 to 20%, particularly preferably 0.1 to 10%, and most preferably 0.1 to 9%.
  • B2O3 is a main component that forms glass and is a component that increases the devitrification resistance and viscosity at the liquidus temperature of the glass. If the content of B2O3 in the glass of this embodiment is 15% or more , problems such as glass becoming unstable are unlikely to occur. If the content of B2O3 is 40 % or less, problems such as a decrease in the weather resistance of the glass and the occurrence of striae in the glass are unlikely to occur. Therefore, the content of B 2 O 3 is preferably 15 to 40%, more preferably 15 to 38%, even more preferably 15 to 36%, still more preferably 15 to 34%, particularly preferably 15 to 32%, and most preferably 15 to 30%.
  • the glass of the present embodiment preferably contains at least one of SiO 2 and B 2 O 3.
  • the total content of the above components is preferably more than 65% from the viewpoint of preventing problems such as glass instability, and is preferably 80% or less from the viewpoint of preventing problems such as deterioration of the meltability of the glass. Therefore, it is more preferably from 65% to 79%, even more preferably from 65% to 78%, even more preferably from 65% to 77%, particularly preferably from 65% to 76%, and most preferably from 65% to 75%.
  • P 2 O 5 is a component for improving the meltability and stability of glass.
  • the content of P 2 O 5 is preferably 0 to 15%. If the content of P 2 O 5 is 15% or less, problems such as deterioration of the weather resistance of the glass, phase separation of the glass, and generation of striae in the glass are unlikely to occur.
  • the content of P 2 O 5 is more preferably 1 to 13%, further preferably 2 to 12%, even more preferably 3 to 11%, and most preferably 4 to 10%.
  • GeO2 is a component for increasing the devitrification resistance and viscosity at the liquidus temperature of the glass.
  • the content of GeO2 is preferably 0 to 15%. If the content of GeO2 is 15% or less, problems such as deterioration of the melting property of the glass are unlikely to occur.
  • the GeO2 content is more preferably 0-13%, even more preferably 0-11%, even more preferably 0-9%, and most preferably 0-7%.
  • Ga 2 O 3 is a component for increasing the Young's modulus of glass and improving meltability and stability.
  • the Ga 2 O 3 content is preferably 0 to 30%. If the Ga 2 O 3 content is 30% or less, problems such as deterioration of devitrification of the glass, increase in reflectance and generation of stray light due to reflected light are unlikely to occur.
  • the content of Ga 2 O 3 is more preferably 0.5 to 28%, further preferably 1 to 26%, even more preferably 2 to 24%, and most preferably 3 to 22%.
  • ZrO2 is a component for increasing the Young's modulus of glass and increasing the viscosity of glass at the liquidus temperature.
  • the content of ZrO2 is preferably 0 to 7%. If the content of ZrO2 is 7% or less, problems such as deterioration of devitrification tendency and deterioration of melting tendency of glass are unlikely to occur.
  • the content of ZrO2 is more preferably 0-6%, even more preferably 0-5%, even more preferably 0-4%, and most preferably 0-3%.
  • La 2 O 3 is a component for increasing the Young's modulus of glass and improving meltability.
  • the content of La 2 O 3 is preferably 0.1 to 20%. If the content of La 2 O 3 is 0.1% or more, the effect is sufficiently obtained, and if the content is 20% or less, problems such as deterioration of devitrification of the glass, increase in reflectance, and generation of stray light due to reflected light are unlikely to occur.
  • the content of La 2 O 3 is more preferably 0.5 to 19%, further preferably 1 to 18%, even more preferably 2 to 17%, and most preferably 2 to 16%.
  • Al 2 O 3 is a component for increasing the Young's modulus of glass and lowering the refractive index of glass.
  • the content of Al 2 O 3 is preferably 0.1 to 20%. If the content of Al 2 O 3 is 0.1% or more, the effect is sufficiently obtained, and if the content is 20% or less, problems such as deterioration of devitrification of glass, increase in reflectance, and generation of stray light due to reflected light are unlikely to occur. More preferably, it is 0.1 to 18%, even more preferably, it is 0.1 to 15%, even more preferably, it is 0.1 to 13%, and most preferably, it is 0.1 to 11%.
  • the ratio of the total amount of Al2O3 , GeO2 , Ga2O3 , and P2O5 components to the total content of SiO2 and B2O3 components i.e. , (total content of Al2O3 , GeO2 , Ga2O3 , and P2O5 )/(total content of SiO2 and B2O3 ) , is preferably less than 0.1 from the viewpoint of vitrifying a glass containing a Yb component without devitrifying it.
  • the glass of the present embodiment may contain alkali metal oxides, alkaline earth metal oxides, Sb 2 O 3 , Cl, F, and other components within the scope of the present invention.
  • the glass of this embodiment is used in an optical filter, it is desirable to reduce the reflectance of the glass in order to prevent stray light caused by reflected light on the glass surface.
  • the reflectance of glass is determined by its refractive index, and typically, it is preferable that the refractive index at a wavelength of 588 nm is 1.700 to 1.900.
  • the glass of this embodiment is used as an optical filter, a so-called dual bandpass filter, that has a function of selectively transmitting specific near-infrared light in addition to a near-infrared cut filter function for transmitting visible light and faithfully reproducing an image based on the visible light
  • the glass is usually used with a thickness of 3 mm or less.
  • the glass is preferably used with a thickness of 2 mm or less, more preferably 1 mm or less, even more preferably 0.5 mm or less, and even more preferably 0.3 mm or less.
  • the glass is preferably 0.05 mm or more.
  • the glass of this embodiment has been described above as having preferred spectral characteristics at a thickness of 0.4 mm. Therefore, comparison with glass that is not 0.4 mm thick is possible by converting the spectral characteristics of the glass to a thickness of 0.4 mm.
  • the glass of this embodiment can be produced, for example, as follows. First, the raw materials are weighed and mixed so as to obtain the above composition range (mixing step). This raw material mixture is placed in a platinum crucible and heated and melted at a temperature of 1200 to 1650°C in an electric furnace (melting step). After thorough stirring and clarification, the mixture is cast into a metal mold, cut, polished and formed into a plate of a specified thickness (molding step).
  • the highest temperature of the glass during melting is 1650°C or less. If the highest temperature of the glass during melting is below the above temperature, problems such as crystallization of the glass and generation of unmelted foreign matter in the glass are unlikely to occur.
  • the above temperature is more preferably 1625°C or less, and even more preferably 1600°C or less.
  • the temperature in the melting process is too low, problems such as devitrification during melting and a long melt-through time may occur, so the temperature is preferably 1300°C or higher, and more preferably 1350°C or higher.
  • This filter includes a light absorbing layer having a maximum absorption wavelength in the region shorter than 800 nm, which allows the region not blocked by the reflection characteristics of the dielectric multilayer film to be compensated for by its absorption characteristics.
  • the light absorbing layer preferably satisfies all of the following spectral characteristics (v-1) to (v-2).
  • v-1) When the shortest wavelength at which the internal transmittance is 30% in the spectral transmittance curve of 650 to 720 nm is ⁇ A_VIS(30%) and the shortest wavelength at which the internal transmittance is 30% in the spectral transmittance curve of 720 to 1000 nm is ⁇ A_IR(30%) , the following relational expression is satisfied:
  • the optical density at a wavelength of 450 nm is OD 450
  • the optical density at a wavelength of 720 nm is OD 720
  • the following relationship is satisfied: OD 720 -OD 450 ⁇ 1
  • two near-infrared absorbing dyes having different maximum absorption wavelengths in the region of 680 to 800 nm may be combined, preferably a dye having a maximum absorption wavelength of 680 to 740 nm and a dye having a maximum absorption wavelength of 740 to 800 nm may be combined.
  • a squarylium dye may be used.
  • the characteristic (v-2) means that the light absorbing layer has both high visible light transmittance at 450 nm and high near-infrared light shielding property at 720 nm.
  • OD — 720 - OD — 450 is preferably 1.5 or more, more preferably 2 or more.
  • a symmetric squarylium dye may be used as the near-infrared absorbing dye, from the viewpoint of strongly absorbing near 720 nm and maintaining a high transmittance in the visible light region.
  • the light absorbing layer preferably contains a dye having a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 680 to 800 nm in dichloromethane (hereinafter also referred to as "NIR dye").
  • NIR dye a dye having a maximum absorption wavelength in the wavelength region of 680 to 800 nm in dichloromethane
  • the light absorbing layer can absorb a wide near-infrared light absorption band centered at 720 nm, as shown in the above characteristics (v-1) and (v-2), and can easily achieve both visible light transmittance of 450 nm and near-infrared light shielding properties of 720 nm.
  • the light absorbing layer is also preferably a resin film containing the dye and a resin.
  • the NIR dye is preferably at least one selected from the group consisting of squarylium dyes, cyanine dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, dithiol metal complex dyes, azo dyes, polymethine dyes, phthalide dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, indophenol dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, cucumber dyes, tetradehydrocoline dyes, triphenylmethane dyes, aminium dyes, and diimmonium dyes.
  • the NIR dye preferably contains at least one dye selected from squarylium dyes, phthalocyanine dyes, and cyanine dyes. Of these NIR dyes, squarylium dyes and cyanine dyes are preferred from a spectral standpoint, and phthalocyanine dyes are preferred from a durability standpoint.
  • the content of the NIR dye in the light absorbing layer is preferably 0.1 to 25 parts by mass, more preferably 0.3 to 15 parts by mass, per 100 parts by mass of resin. When two or more types of compounds are combined, the above content is the sum of the contents of each compound.
  • the light absorbing layer may contain other dyes in addition to the above NIR dye.
  • dyes UV dyes
  • UV dyes that have a maximum absorption wavelength in the resin at 370 to 440 nm are preferred. This allows for efficient blocking of the near-ultraviolet light region.
  • UV dyes examples include oxazole dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, naphthalimide dyes, oxadiazole dyes, oxazine dyes, oxazolidine dyes, naphthalic acid dyes, styryl dyes, anthracene dyes, cyclic carbonyl dyes, and triazole dyes.
  • merocyanine dyes are particularly preferred.
  • one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
  • the light absorbing layer is provided on the other main surface side of the light absorbing glass substrate, and is preferably laminated on the surface of the dielectric multilayer film B provided on the other main surface side of the light absorbing glass substrate.
  • the light absorbing layer preferably contains a near infrared absorbing dye and a resin
  • the resin is not limited as long as it is a transparent resin, and one or more transparent resins selected from polyester resin, acrylic resin, epoxy resin, ene-thiol resin, polycarbonate resin, polyether resin, polyarylate resin, polysulfone resin, polyethersulfone resin, polyparaphenylene resin, polyarylene ether phosphine oxide resin, polyamide resin, polyimide resin, polyamideimide resin, polyolefin resin, cyclic olefin resin, polyurethane resin, and polystyrene resin are used. These resins may be used alone or in combination of two or more. From the viewpoints of the spectral characteristics, glass transition point (Tg) and adhesion of the light absorbing layer, one or more resins selected from polyimide resins, polycarbonate resins, polyester resins and acrylic resins are preferred.
  • NIR dyes or other dyes When multiple compounds are used as NIR dyes or other dyes, they may be contained in the same light absorbing layer, or each may be contained in a separate light absorbing layer.
  • the light-absorbing layer can be formed by dissolving or dispersing the dye, resin or raw material components of the resin, and other components that are mixed as necessary in a solvent to prepare a coating liquid, applying this to a support, drying it, and further curing it as necessary.
  • the support may be a light-absorbing glass substrate, or a peelable support that is used only when forming the light-absorbing layer.
  • the solvent may be a dispersion medium in which the dye can be stably dispersed, or a solvent in which the dye can be dissolved.
  • the coating liquid may also contain a surfactant to improve voids caused by tiny bubbles, depressions caused by the adhesion of foreign matter, and repellency during the drying process.
  • a surfactant to improve voids caused by tiny bubbles, depressions caused by the adhesion of foreign matter, and repellency during the drying process.
  • the dip coating method, cast coating method, or spin coating method can be used to apply the coating liquid. If the coating liquid contains raw materials for a transparent resin, a curing process such as heat curing or light curing is further performed.
  • the light absorbing layer can also be manufactured in the form of a film by extrusion molding.
  • the resulting film-like absorption layer can be laminated onto a light absorbing glass substrate and integrated by thermocompression bonding or the like to produce the present filter.
  • the optical filter may have one light absorbing layer or two or more layers.
  • each layer may have the same or different configurations, and may be formed on the surface of each dielectric multilayer film, or two or more layers may be stacked on the surface of one of the dielectric multilayer films.
  • the thickness of the light absorbing layer is 10 ⁇ m or less, preferably 5 ⁇ m or less, from the viewpoint of the in-plane film thickness distribution in the substrate after coating and the appearance quality, and is preferably 0.5 ⁇ m or more, from the viewpoint of expressing the desired spectral characteristics at an appropriate dye concentration. Note that, when the optical filter has two or more light absorbing layers, it is preferable that the total thickness of each light absorbing layer is within the above range.
  • This filter comprises a dielectric multilayer film A on one main surface side of a light-absorbing glass substrate, and a dielectric multilayer film B on the other main surface side of the light-absorbing glass substrate. Both are preferably designed as reflective films that reflect a portion of near-infrared light (hereinafter also referred to as "NIR reflective film").
  • the NIR reflective layer preferably has wavelength selectivity that transmits visible light and near-infrared light in the sensing wavelength range and mainly reflects other near-infrared light.
  • the NIR reflective layer may be further appropriately designed to further reflect light in wavelength ranges other than near-infrared light, for example, near-ultraviolet light.
  • a dielectric multilayer film is a laminate of dielectric films with different refractive indices. More specifically, it is composed of a dielectric multilayer film that is made by laminating two or more of a low refractive index dielectric film (low refractive index film), a medium refractive index dielectric film (medium refractive index film), and a high refractive index dielectric film (high refractive index film).
  • a low refractive index dielectric film low refractive index film
  • medium refractive index dielectric film medium refractive index film
  • high refractive index film high refractive index film
  • the dielectric multilayer film A satisfies all of the following characteristics (iiA-1) to (iiA-2).
  • (iiA-1) A layer including a high refractive index layer H A made of a high refractive index material having a refractive index of 1.8 or more and 2.5 or less at a wavelength of 500 nm, a medium refractive index layer M A made of a medium refractive index material having a refractive index of more than 1.5 and less than 1.8 at a wavelength of 500 nm, and a low refractive index layer L A made of a low refractive index material having a refractive index of 1.4 or more and 1.5 or less at a wavelength of 500 nm, and having a repeated laminate structure represented by (H A /M A /L A /M A ) n (n is a natural number of 2 or more) (however, when the medium refractive index layer M A is made of a high refractive index layer H A and a low refferences
  • the dielectric multilayer film A When the dielectric multilayer film A satisfies the characteristics (iiA-1) to (iiA-2), it has the characteristics of transmitting the visible light region and the sensing wavelength region and reflecting wavelengths of 1000 to 1100 nm, and when combined with the characteristic (i-14), a reflective layer with small fluctuations in transmittance in the wavelength range of 850 to 950 nm can be obtained.
  • n is preferably a natural number of 2 or more, more preferably 2.05 or more, and even more preferably 2.1 or more, and the larger the number the better. If n is in this range, the repeated layer structure (H A /M A /L A /M A ) is appropriately present, and desired reflection characteristics can be obtained.
  • the multiple repeated laminate structures may be continuous with each other or separated from each other.
  • the number of layers in the dielectric multilayer film A is more preferably within the range of 30-60, and further preferably within the range of 40-60.
  • the dielectric multilayer film A satisfies the following characteristic (iiA-3).
  • the QWOT of the high refractive index layer HA at a wavelength of 500 nm is QHA
  • the QWOT of the medium refractive index layer MA at a wavelength of 500 nm is QMA
  • the QWOT of the low refractive index layer LA at a wavelength of 500 nm is QLA
  • the layer has a repeated laminate structure represented by (a n QHA /b n QMA /c n QLA /d n QMA ) n (n is a natural number of 2 or more), wherein the average value of the a n is 1.5 or more and 2.7 or less, the average value of the b n is 0.3 or more and 0.9 or less, the average value of the c n is 1.3 or more and 2.1 or less, and the average value of the d n is 0.3 or more and 0.9 or less.
  • a n , b n , c n , and d n are coefficients in each basic unit, and represent how many times the physical film thickness of the film in each basic unit is compared to the QWOT (quarter-wavelength optical film thickness). Therefore, a n Q HA , b n Q MA , c n Q LA , and d n Q MA represent the optical film thickness of each film.
  • the dielectric multilayer film A satisfies the characteristic (iiA-3), a reflective layer having a characteristic of suppressing the reflectance low in the wavelength range of 420 to 900 nm can be obtained.
  • the average value of a n is more preferably 1.55 or more and 2.65 or less, and even more preferably 1.6 or more and 2.6 or less, the average value of b n is more preferably 0.35 or more and 0.85 or less, and even more preferably 0.4 or more and 0.8 or less, the average value of c n is more preferably 1.35 or more and 2.05 or less, and even more preferably 1.4 or more and 2.0 or less, and the average value of d n is more preferably 0.35 or more and 0.85 or less, and even more preferably 0.4 or more and 0.8 or less.
  • the dielectric multilayer film A satisfies the following characteristic (iiA-4).
  • the medium refractive index layer M A is an equivalent film consisting of a high refractive index layer H A and a low refractive index layer L A
  • the ratio ( PHA /PL A ) of the total physical thickness PHA of the high refractive index layer H A to the total physical thickness PL A of the low refractive index layer L A is within the range of 0.6 to 0.8.
  • a reflective layer having a characteristic of suppressing the reflectance low in the wavelength range of 420 to 900 nm can be obtained.
  • PH A /PL A is more preferably within the range of 0.62 to 0.78, and even more preferably within the range of 0.64 to 0.76.
  • the dielectric multilayer film A satisfies the following characteristic (iiA-5).
  • the dielectric multilayer film A has an average reflectance of 5% or less at a wavelength of 420 nm to 950 nm and an incident angle of 5 degrees when the air side is the incident direction.
  • the dielectric multilayer film A satisfying the characteristic (iiA-5) means that the film has small reflectance characteristics over the visible light region and the near-infrared light region including the sensing wavelength of 850 nm.
  • the average reflectance is more preferably 3% or less.
  • the dielectric multilayer film B satisfies all of the following characteristics (iiB-1) to (iiB-2).
  • (iiB-1) A layer including a high refractive index layer H B made of a high refractive index material having a refractive index of 1.8 or more and 2.5 or less at a wavelength of 500 nm, a medium refractive index layer M B made of a medium refractive index material having a refractive index of more than 1.5 and less than 1.8 at a wavelength of 500 nm, and a low refractive index layer L B made of a low refractive index material having a refractive index of 1.4 or more and 1.5 or less at a wavelength of 500 nm, and having a repeated laminate structure represented by (H B /M B /L B /M B ) n (n is a natural number of 2 or more) (however, when the medium refractive index layer M B is made of a high refractive index layer H B and a low refferences
  • n is preferably a natural number of 2 or more, more preferably 2.05 or more, and even more preferably 2.1 or more.
  • the repeated layer structure H B /M B /L B /M B
  • the multiple repeated laminate structures may be continuous with each other or separated from each other.
  • the number of layers in the dielectric multilayer film B is more preferably within the range of 1 to 60, and further preferably within the range of 30 to 60.
  • the dielectric multilayer film B satisfies the following characteristic (iiB-3).
  • the QWOT of the high refractive index layer H B at a wavelength of 500 nm is QHB
  • the QWOT of the medium refractive index layer M B at a wavelength of 500 nm is QMB
  • the QWOT of the low refractive index layer L B at a wavelength of 500 nm is QLB
  • the layer has a repeated laminate structure represented by (e n QHB /f n QMB /g n QLB /h n QMB ) n (n is a natural number of 2 or more), wherein the average value of e n is 2.0 or more and 2.5 or less, the average value of f n is 0.4 or more and 0.9 or less, the average value of g n is 1.0 or more and 2.5 or less, and the average value of h n is 0.4 or more and 0.9 or less.
  • e n , f n , g n , and h n are coefficients in each basic unit, and represent the physical thickness of the film in each basic unit times the QWOT (quarter wavelength optical film thickness). Therefore, e n QHB , f n QMB , g n QLB , and h n QMB represent the optical film thickness of each film.
  • the dielectric multilayer film B satisfies the characteristic (iiB-3), a reflective layer having a characteristic of suppressing the reflectance low in the wavelength range of 420 to 900 nm can be obtained.
  • the average value of e n is more preferably 2.05 or more and 2.45 or less, and even more preferably 2.1 or more and 2.4 or less; the average value of f n is more preferably 0.45 or more and 0.85 or less, and even more preferably 0.5 or more and 0.8 or less; the average value of g n is more preferably 1.05 or more and 2.45 or less, and even more preferably 1.1 or more and 2.4 or less; and the average value of h n is more preferably 0.45 or more and 0.85 or less, and even more preferably 0.5 or more and 0.8 or less.
  • the dielectric multilayer film B satisfies the following characteristic (iiB-4).
  • the medium refractive index layer M B is an equivalent film consisting of a high refractive index layer H B and a low refractive index layer L B
  • the ratio (PH B /PL B ) of the total physical thickness of the high refractive index layer H B to the total physical thickness of the low refractive index layer L B is within the range of 0.6 to 0.8 .
  • a reflective layer having a characteristic of suppressing the reflectance low in the wavelength range of 420 to 900 nm can be obtained.
  • PH B /PL B is more preferably within the range of 0.62 to 0.78, and even more preferably 0.64 to 0.76.
  • the dielectric multilayer film B satisfies the following characteristic (iiB-5).
  • the dielectric multilayer film B has an average reflectance of 5% or less at a wavelength of 420 nm to 970 nm and an incident angle of 5 degrees when the air side is the incident direction.
  • the dielectric multilayer film B satisfying the characteristic (iiB-5) means that the film has small reflectance characteristics over the visible light region and the near-infrared light region including the sensing wavelength of 850 nm.
  • the average reflectance is more preferably 3% or less.
  • the high refractive index material preferably has a refractive index of 1.8 or more and 2.5 or less, more preferably 1.9 or more and 2.5 or less, at a wavelength of 500 nm.
  • high refractive index materials include Ta2O5 , TiO2 , TiO, and Nb2O5 .
  • Other commercially available products include OS50 ( Ti3O5 ), OS10 ( Ti4O7 ) , OA500 (a mixture of Ta2O5 and ZrO2 ), and OA600 (a mixture of Ta2O5 and TiO2 ), all of which are manufactured by Canon Optron .
  • TiO2 is preferred from the viewpoints of film forming properties, reproducibility in refractive index, and stability.
  • the medium refractive index material preferably has a refractive index of more than 1.5 and less than 1.8 at a wavelength of 500 nm, more preferably 1.55 or more and less than 1.8.
  • the medium refractive index material include ZrO 2 , Nb 2 O 5 , Al 2 O 3 , HfO 2 , OM-4, OM-6 (a mixture of Al 2 O 3 and ZrO 2 ), OA-100 sold by Canon Optron, and H4 and M2 (alumina lanthania) sold by Merck.
  • Al 2 O 3 -based compounds and mixtures of Al 2 O 3 and ZrO 2 are preferred from the standpoint of film-forming properties, reproducibility in refractive index, stability, and the like.
  • the low refractive index material has a refractive index at a wavelength of 500 nm of preferably 1.4 to 1.5, more preferably 1.45 to 1.5.
  • low refractive index materials include SiO2 , SiOxNy , MgF2, etc.
  • Other commercially available products include S4F and S5F (a mixture of SiO2 and AlO2 ) manufactured by Canon Optron. Among these, SiO2 is preferred from the viewpoints of reproducibility, stability, and economy in film formation.
  • the film thickness (physical film thickness) of dielectric multilayer film A and dielectric multilayer film B is preferably 100 nm or more, more preferably 300 nm or more, respectively, from the viewpoint of suppressing deterioration of the material, and is preferably 5 ⁇ m or less from the viewpoints of productivity and suppression of reflection ripples in the visible light region.
  • the filter may have a dielectric multilayer film C on at least one of the outermost surfaces.
  • the dielectric multilayer film C is designed as, for example, a near-infrared anti-reflection layer (NIR anti-reflection layer).
  • the total number of layers of the dielectric multilayer film C is preferably 25 or less, more preferably 20 or less, further preferably 17 or less, and is preferably at least 10. In order to suppress reflection in the visible wavelength range even when the angle of incidence changes, a film having low reflectance over the entire wavelength range is preferred, rather than a film that reflects a specific wavelength.
  • the overall thickness (physical thickness) of the dielectric multilayer film C is preferably 200 to 600 ⁇ m.
  • the dielectric multilayer film can be formed using, for example, vacuum deposition processes such as CVD, sputtering, and vacuum deposition, or wet deposition processes such as spraying and dipping.
  • vacuum deposition processes such as CVD, sputtering, and vacuum deposition
  • wet deposition processes such as spraying and dipping.
  • This filter may also include other components (layers) that provide absorption by inorganic fine particles that control the transmission and absorption of light in a specific wavelength range.
  • inorganic fine particles include ITO (indium tin oxide), ATO (antimony-doped tin oxide), cesium tungstate, lanthanum boride, etc.
  • ITO fine particles and cesium tungstate fine particles have high transmittance of visible light and have light absorption properties over a wide range of infrared wavelengths exceeding 1200 nm, so they can be used when blocking such infrared light is required.
  • the imaging device preferably includes the optical filter according to the embodiment of the present invention.
  • the imaging device preferably further includes a solid-state imaging element and an imaging lens.
  • the optical filter according to the present embodiment can be used, for example, by being disposed between the imaging lens and the solid-state imaging element, or by being directly attached to the solid-state imaging element, imaging lens, etc. of the imaging device via an adhesive layer.
  • this filter which has excellent transparency to visible light and specific near-infrared light, has a shielding property for specific near-infrared light, and has a spectral curve that is unlikely to shift even at a high incidence angle, an imaging device with excellent color reproducibility even for light at a high incidence angle can be obtained.
  • dielectric multilayer film A On the lens side and dielectric multilayer film B on the sensor side.
  • the optical filter satisfies both of the following spectral characteristics (i-1) and (i-2): (i-1) When the dielectric multilayer film A side is the incident direction, the average reflectance is 3.0% or less and the maximum reflectance is 5.0% or less at a wavelength of 820 nm to 870 nm and an incident angle of 5 degrees when the dielectric multilayer film A side is the incident direction.
  • the average reflectance is 4.0% or less and the maximum reflectance is 12.0% or less at a wavelength of 420 nm to 650 nm and an incident angle of 40 degrees.
  • the average reflectance is 98% or more at a wavelength of 1050 nm to 1100 nm and an incident angle of 5 degrees.
  • the average reflectance is 98% or more at a wavelength of 970 nm to 1100 nm and an incident angle of 40 degrees.
  • (iiA-1) A layer including a high refractive index layer H A made of a high refractive index material having a refractive index of 1.8 or more and 2.5 or less at a wavelength of 500 nm, a medium refractive index layer M A made of a medium refractive index material having a refractive index of more than 1.5 and less than 1.8 at a wavelength of 500 nm, and a low refractive index layer L A made of a low refractive index material having a refractive index of 1.4 or more and 1.5 or less at a wavelength of 500 nm, and having a repeated laminate structure represented by (H A /M A /L A /M A ) n (n is a natural number of 2 or more) (however, when the medium refractive index layer M A is made of a high refractive index layer H A and a low refractive index layer L A, it is treated as an equivalent film).
  • the optical filter according to any one of [1] to [6], wherein the number of laminations is within the range of 1 to 60, [7] the dielectric multilayer film A satisfies the following characteristic (iiA-3): (iiA-3)
  • the optical filter has a repeated laminate structure represented by (a n Q HA /b n Q MA /c n Q LA /d n Q MA ) n (n is a natural number of 2 or more), wherein the average value of the a n is 1.5 to 2.7, the average value of the b n is 0.3 to 0.9, the average value of the c n is
  • the optical filter according to any one of [1] to [10], wherein the dielectric multilayer film B satisfies the following characteristic (iiB-4): (iiB-4)
  • the medium refractive index layer M B is an equivalent film consisting of a high refractive index layer H B and a low refractive index layer L B
  • the ratio (PH B /PL B ) of the total physical thickness of the high refractive index layer H B to the total physical thickness of the low refractive index layer L B is within a range of 0.6 to 0.8.
  • the light-absorbing glass substrate is expressed in mol% on an oxide basis, SiO2 from 0.1 to 50 mol%, 15 to 40 mol% of B2O3 ,
  • the spectral characteristics were measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer (UH-4150, manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation).
  • the spectral characteristics are values measured at an angle of incidence of 0 degrees (perpendicular to the principal surface of the optical filter).
  • the dyes used in each example are as follows: Compound 1 (squarylium compound): Synthesized based on U.S. Pat. No. 5,543,086. Compound 2 (squarylium compound): Synthesized based on WO 2017/135359. Compound 3 (merocyanine compound): Synthesized according to the specification of German Patent Publication No. 10109243. Compound 4 (cyanine compound): Synthesized based on Dyes and pigments 73 (2007) 344-352. Compounds 1, 2, and 4 are near-infrared absorbing dyes (NIR dyes), and compound 3 is a near-ultraviolet absorbing dye (UV dye).
  • NIR dyes near-infrared absorbing dyes
  • UV dye near-ultraviolet absorbing dye
  • glass A was prepared by weighing and mixing raw materials so that the oxide-equivalent mol% content was 7.5% SiO 2 , 23.6% B 2 O 3 , 7.5% P 2 O 5 , 47.2% Yb 2 O 3 , 11.8% Ga 2 O 3 , and 2.4% La 2 O 3 , and then placing the mixture in a crucible with an internal volume of about 400 cc and melting it at 1400 to 1650° C. for 2 hours in an air atmosphere. The mixture was then clarified, stirred, and poured into a rectangular mold with dimensions of 100 mm length, 50 mm width, and 20 mm height that had been preheated to about 300° C.
  • Glass B was a non-absorbing glass, and D263 glass (manufactured by Schott, borosilicate glass, commercially available product) was used.
  • the raw materials for each glass were as follows: SiO2 : oxide B2O3 : one or more selected from oxide, PBO4 , and H3BO3 P2O5 : one or more of H3PO4 and PBO4 GeO2 : oxide ZrO2 : oxide Ga2O3 : oxide Yb2O3 : oxide La2O3 : oxide Al2O3 : one or more of oxide and Al( OH ) 3 Note that the raw materials for the glass are not limited to those mentioned above, and known materials can be used.
  • the transmittance (incident angle 0 degrees) at wavelengths of 300 to 1200 nm was measured using a spectrophotometer (V-570, manufactured by JASCO Corporation), and was converted into the transmittance at a thickness of 0.4 mm using the following formula (1).
  • the transmittance of glass was calculated by converting the measured transmittance of a glass sample of a given thickness at an incident angle of 0 degrees into the transmittance of a glass sample with a thickness of 0.4 mm using the following formula (1), assuming that the reflectances of the front and back surfaces of the glass are each 8.12%, where R is the reflectance.
  • Converted transmittance (thickness 0.4 mm) 100 ⁇ (1 - R) 2 ⁇ ⁇ actual transmittance (0 deg) / (100 ⁇ (1 - R) 2 ) ⁇ (0.4 / actual thickness)
  • the transmittance of light with a wavelength of 940 nm, the transmittance of light with a wavelength of 850 nm, and the transmittance of light with a wavelength of 400 nm were obtained.
  • the transmittance data for every 1 nm from the short wavelength side to the long wavelength side in the wavelength ranges of 870 nm to 910 nm and 990 to 1030 nm was approximated by a linear equation, and the wavelength at which the transmittance becomes 50% was calculated from the obtained approximation equation, and the short wavelength side was designated as ⁇ IRS50 and the long wavelength side was designated as ⁇ IRL50 .
  • FIG. 3 shows the transmittance curves of glass A and glass B for light with wavelengths of 350 to 1200 nm.
  • Examples 1-1 to 1-2 Spectral characteristics of light absorbing layer>
  • a coating liquid was obtained by dissolving any one of the dyes of Compounds 1 to 4 in polyimide resin C-3G30G manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, mixing them at the concentrations shown in the table below, and stirring and dissolving them for 2 hours at 50° C.
  • the obtained coating liquid was applied to alkaline glass (manufactured by SCHOTT, D263 glass, thickness 0.2 mm) by spin coating to form a light absorbing layer with a thickness shown in the table below.
  • the resulting light absorbing layer was measured for its spectral transmittance curve and spectral reflectance curve in the wavelength range of 350 to 1200 nm using an ultraviolet-visible spectrophotometer.
  • Example 2-1 Spectral characteristics of optical filters>
  • SiO2 and TiO2 were alternately laminated by vapor deposition to form a dielectric multilayer film A1 (reflective film).
  • SiO2 and TiO2 were alternately laminated by vapor deposition to form a dielectric multilayer film B1 (reflective film).
  • a resin solution having the same composition as the light absorbing layer of Example 1-1 was applied to the surface of the dielectric multilayer film B1 and heated sufficiently to remove the organic solvent, thereby forming a light absorbing layer having a thickness of 1.4 ⁇ m.
  • SiO2 and TiO2 were alternately laminated by vapor deposition to form a dielectric multilayer film C1 (anti-reflection film). In this manner, the optical filter 2-1 was manufactured.
  • Example 2-2 An optical filter 2-2 was produced in the same manner as in Example 2-1, except that the thickness of the glass substrate (light-absorbing glass A) was changed.
  • Example 2-3 A dielectric multilayer film A2 (reflective film) was formed on one main surface of a glass substrate (non-light-absorbing glass B) by alternately laminating SiO2 and TiO2 by vapor deposition. On the other main surface of the glass substrate (non-light-absorbing glass B), SiO2 and TiO2 were alternately laminated by vapor deposition to form a dielectric multilayer film B2 (reflective film).
  • a resin solution having the same composition as the light absorbing layer of Example 1-2 was applied to the surface of the dielectric multilayer film B2 and heated sufficiently to remove the organic solvent, thereby forming a light absorbing layer having a thickness of 1.4 ⁇ m. On the surface of the light absorbing layer, SiO2 and TiO2 were alternately laminated by vapor deposition to form a dielectric multilayer film C1 (anti-reflection film). In this manner, the optical filter 2-3 was manufactured.
  • Example 2-4 A dielectric multilayer film A2 (reflective film) was formed on one main surface of a glass substrate (non-light-absorbing glass B) by alternately laminating SiO2 and TiO2 by vapor deposition. On the other main surface of the glass substrate (non-light-absorbing glass B), SiO2 and TiO2 were alternately laminated by vapor deposition to form a dielectric multilayer film B3 (reflective film). In this manner, the optical filter 2-4 was manufactured.
  • Example 2-5 An optical filter 2-5 was produced in the same manner as in Example 2-4, except that the light-absorbing glass A was used as the glass substrate.
  • dielectric multilayer films A1-A2, dielectric multilayer films B1-B3, and dielectric multilayer film C1 are shown in Tables 3-8 below, respectively.
  • the order of the numbers corresponds to the order of the layers.
  • the average value of a n was 1.94
  • the average value of b n was 0.56
  • the average value of c n was 1.76
  • the average value of d n was 0.56
  • the average value of e n was 2.23
  • the average value of f n was 0.70
  • the average value of g n was 1.22
  • the average value of h n was 0.70.
  • a spectral transmittance curve at an incident angle of 0 degree and a spectral reflectance curve at incident angles of 5 degrees and 40 degrees in the wavelength range of 350 to 1200 nm were measured using an ultraviolet-visible spectrophotometer. From the obtained data of spectral characteristics, the various characteristics shown in Table 9 below were calculated. 5 to 10 show curves of the spectral transmittance, reflectance, and absorption loss of each of the optical filters of Examples 2-1, 2-2, and 2-4, respectively.
  • Examples 2-1 and 2-2 are working examples, and Examples 2-3 to 2-5 are comparative examples.
  • the optical filters of Examples 2-1 and 2-2 have excellent transmittance for visible light and near-infrared light around 850 nm, and excellent light blocking properties for other near-infrared light, particularly in the wavelength range of 1050 to 1200 nm.Furthermore, it can be seen that these optical filters have a small shift in the spectral curve even at high angles of incidence.
  • the optical filter according to this embodiment has excellent transmittance for visible light and certain near-infrared light, excellent blocking of other near-infrared light, and has spectral characteristics with a small shift in the spectral curve even at high angles of incidence. This is useful for imaging devices such as cameras and sensors for transport aircraft, which have become increasingly high-performance in recent years.
  • Optical filter 10 Light absorbing glass substrate 20A, 20B, 20C... Dielectric multilayer film 30... Light absorbing layer

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Abstract

本発明は、９００ｎｍ～１０００ｎｍに最大吸収波長を有する光吸収ガラス基板と、誘電体多層膜Ａと、誘電体多層膜Ｂと、８００ｎｍより短波長領域に最大吸収波長を有する光吸収層と、を備えた光学フィルタであって、前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が３．０％以下、最大反射率が５．０％以下、かつ波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が７．０％以下、最大反射率が１１．０％以下である、光学フィルタに関する。

Description

光学フィルタ
　本発明は、可視光領域と特定の近赤外光領域を選択的に透過し、これらの領域以外の光を遮断する光学フィルタに関する。
　固体撮像素子を用いた撮像装置は、監視カメラや車載カメラ等、昼夜を問わず撮像する装置にまでその用途を拡げている。このような装置では、可視光に基づく（カラー）画像と赤外光に基づく（白黒）画像をそれぞれ取得する必要がある。
　このため、可視光を透過させ、該可視光に基づく画像を忠実に再現するための近赤外線カットフィルタ機能に加え、特定の近赤外光を選択的に透過させる機能を備えた光学フィルタ、いわゆるデュアルバンドパスフィルタの使用が検討されている。
　特許文献１には、誘電体多層膜と近赤外線吸収色素を含む樹脂基材とを組み合わせた、可視光と８５０ｎｍ付近の近赤外光を透過し、それ以外の光を遮断する光学フィルタが記載されている。
日本国特開２０２１－６９０１号公報
　近年、イメージング分野のセンサでは８００～１０００ｎｍの一部の領域を含むレーザー光が用いられるため、かかるセンシング領域の近赤外光を透過でき、ノイズとなるそれ以外の近赤外光を遮断できる光学フィルタが求められている。
　これに対し、特許文献１に記載の光学フィルタは、８５０ｎｍ付近の近赤外光の透過性が十分ではない。
　また、誘電体多層膜を有する光学フィルタは、光の入射角度により誘電体多層膜の光学膜厚が変化するために、入射角による分光透過率曲線の変化が問題である。例えば、光の入射角度が大きくなると反射特性が短波長側にシフトする結果、本来遮蔽したい領域において反射特性が低下するおそれがある。かかる現象は入射角度が大きいほど強く発生しやすい。このようなフィルタを使用すると、固体撮像素子の分光感度が入射角の影響を受けるおそれがある。近年のカメラモジュール低背化に伴い高入射角条件での使用が想定されるため、入射角の影響を受けにくい光学フィルタが求められている。
　可視光透過領域や、短波側近赤外遮光領域から近赤外透過領域に切り替わる領域におけるシフトは色素等の吸収材料を用いることでシフトを低減することができる。一方で近赤外光透過領域から近赤外光遮光領域に切り替わる領域は吸収材料によってシフトを低減することが難しい。この領域のみシフトが大きい場合には、入射角度により近赤外光の透過光量が変化してしまい、固体撮像素子における可視光と赤外光の取り込み光量の比率も入射角により変化することになる。その結果可視光に基づく（カラー）画像の色再現性や、赤外光に基づく（白黒）画像の再現性に影響を及ぼすことが懸念される。
　本発明は、可視光および特定の近赤外光の透過性に優れ、それ以外の近赤外光の遮蔽性に優れ、高入射角においても分光曲線のシフトが小さい光学フィルタの提供を目的とする。
　本発明は、以下の構成を有する光学フィルタを提供する。
　９００ｎｍ～１０００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する光吸収ガラス基板と、
　前記光吸収ガラス基板の一方の主面側に設けられた誘電体多層膜Ａと、
　前記光吸収ガラス基板の他方の主面側に設けられた誘電体多層膜Ｂと、
　前記光吸収ガラス基板の他方の主面側に設けられ、８００ｎｍより短波長領域に最大吸収波長を有する光吸収層と、を備えた光学フィルタであって、
　前記光学フィルタが下記分光特性（ｉ－１）および（ｉ－２）をすべて満たす光学フィルタ。
（ｉ－１）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が３．０％以下、最大反射率が５．０％以下
（ｉ－２）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が７．０％以下、最大反射率が１１．０％以下
　本発明によれば、高入射角においても、可視光および特定の近赤外光の透過性に優れ、それ以外の近赤外光の遮蔽性に優れた光学フィルタが提供できる。本発明の光学フィルタは、特に、高入射角においてもセンシング波長領域である８５０ｎｍ付近の近赤外光領域の透過性に優れ、かかる透過領域と、遮蔽したい長波長側の波長領域との境界領域の分光透過率曲線が入射角度によってシフトしにくく、入射角の影響を受けにくい光学フィルタである。
図１は一実施形態の光学フィルタの一例を概略的に示す断面図である。 図２は一実施形態の光学フィルタの別の一例を概略的に示す断面図である。 図３はガラスＡ、ガラスＢの分光透過率曲線を示す図である。 図４は例１－１および例１－２の光吸収層の分光透過率曲線を示す図である。 図５は例２－１の光学フィルタの分光透過率曲線および分光反射率曲線（誘電体多層膜Ａ側）を示す図である。 図６は例２－１の光学フィルタの分光反射率曲線（誘電体多層膜Ｂ側）および吸収損失量を示す図である。 図７は例２－２の光学フィルタの分光透過率曲線および分光反射率曲線（誘電体多層膜Ａ側）を示す図である。 図８は例２－２の光学フィルタの分光反射率曲線（誘電体多層膜Ｂ側）および吸収損失量を示す図である。 図９は例２－４の光学フィルタの分光透過率曲線および分光反射率曲線（誘電体多層膜Ａ側）を示す図である。 図１０は例２－４の光学フィルタの分光反射率曲線（誘電体多層膜Ｂ側）および吸収損失量を示す図である。
　以下、本発明の実施の形態について説明する。
　本明細書において、近赤外線吸収色素を「ＮＩＲ色素」、紫外線吸収色素を「ＵＶ色素」と略記することもある。
　本明細書において、式（Ｉ）で示される化合物を化合物（Ｉ）という。他の式で表される化合物も同様である。化合物（Ｉ）からなる色素を色素（Ｉ）ともいい、他の色素についても同様である。また、式（Ｉ）で表される基を基（Ｉ）とも記し、他の式で表される基も同様である。
　本明細書において、内部透過率とは、｛実測透過率（入射角０度）／（１００－反射率（入射角５度））｝×１００の式で示される、実測透過率から界面反射の影響を引いて得られる透過率である。
　本明細書において、ガラスの透過率、色素が樹脂に含有される場合を含む光吸収層の透過率の分光は、「透過率」と記載されている場合も全て「内部透過率」である。一方、色素をジクロロメタン等の溶媒に溶解して測定される透過率、誘電体多層膜の透過率、誘電体多層膜を有する光学フィルタの透過率は、実測透過率である。
　本明細書において、特定の波長域について、透過率が例えば９０％以上とは、その全波長領域において透過率が９０％を下回らない、すなわちその波長領域において最小透過率が９０％以上であることをいう。同様に、特定の波長域について、透過率が例えば１％以下とは、その全波長領域において透過率が１％を超えない、すなわちその波長領域において最大透過率が１％以下であることをいう。内部透過率においても同様である。特定の波長域における平均透過率および平均内部透過率は、該波長域の１ｎｍ毎の透過率および内部透過率の相加平均である。
　分光特性は、紫外可視分光光度計を用いて測定できる。
　本明細書において、数値範囲を表す「～」では、上下限を含む。
＜光学フィルタ＞
　本発明の一実施形態の光学フィルタ（以下、「本フィルタ」ともいう）は、９００ｎｍ～１０００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する光吸収ガラス基板と、前記光吸収ガラス基板の一方の主面側に設けられた誘電体多層膜Ａと、前記光吸収ガラス基板の他方の主面側に設けられた誘電体多層膜Ｂと、前記光吸収ガラス基板の他方の主面側に設けられ、８００ｎｍより短波長領域に最大吸収波長を有する光吸収層と、を備える。
　誘電体多層膜の反射特性と、光吸収ガラス基板および光吸収層の吸収特性とにより、光学フィルタ全体として、可視光領域および特定の近赤外光領域の優れた透過性と、他の近赤外光領域の優れた遮蔽性を実現できる。
　図面を用いて本フィルタの構成例について説明する。図１～２は、一実施形態の光学フィルタの一例を概略的に示す断面図である。
　図１に示す光学フィルタ１Ａは、光吸収ガラス基板１０と、光吸収ガラス基板１０の一方の主面側に設けられた誘電体多層膜２０Ａと、光吸収ガラス基板１０の他方の主面側に設けられた誘電体多層膜２０Ｂと、誘電体多層膜２０Ｂの表面に設けられた光吸収層３０とを備えた例である。
　図２に示す光学フィルタ１Ｂは、光吸収層３０の表面に設けられた誘電体多層膜２０Ｃをさらに備えた例である。
　本発明の光学フィルタは、下記分光特性（ｉ－１）～（ｉ－２）をすべて満たす。
（ｉ－１）誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が３．０％以下、最大反射率が５．０％以下
（ｉ－２）誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が７．０％以下、最大反射率が１１．０％以下
　分光特性（ｉ－１）～（ｉ－２）をすべて満たすことは、センシング領域である８５０ｎｍ付近の近赤外光の多層膜Ａ側の反射率が高入射角であってもシフトせずに低いことを意味する。また８５０ｎｍ付近より長波長領域は、９００ｎｍ～１０００ｎｍに最大吸収波長を有する光吸収ガラス基板の吸収特性により遮光され、８５０ｎｍ付近より短波長領域は、８００ｎｍより短波長領域に最大吸収波長を有する光吸収層の吸収特性により遮光される。換言すると本フィルタは特定の近赤外光の透過性と他の近赤外光の遮蔽性に優れたデュアルパスバンドフィルタである。
　（ｉ－１）において、平均反射率は好ましくは２．５％以下、より好ましくは２．０％以下であり、最大反射率は好ましくは４．０％以下、より好ましくは３．０％以下である。
　（ｉ－２）において、平均反射率は好ましくは６．０％以下、より好ましくは５．０％以下であり、最大反射率は好ましくは９．０％以下、より好ましくは７．０％以下である。
　分光特性（ｉ－１）～（ｉ－２）を満たすためには、たとえば後述する特性（ｉｉＡ－１）～（ｉｉＡ－２）を満たす誘電体多層膜Ａを備えることが挙げられる。
　本フィルタは、下記分光特性（ｉ－３）～（ｉ－６）をすべて満たすことが好ましい。
（ｉ－３）誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～６５０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が３．０％以下、最大反射率が１２．０％以下
（ｉ－４）誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～６５０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が４．０％以下、最大反射率が１２．０％以下
（ｉ－５）誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長１０５０ｎｍ～１１００ｎｍ、入射角５度での平均反射率が９８％以上
（ｉ－６）誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長９７０ｎｍ～１１００ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が９８％以上
　分光特性（ｉ－３）～（ｉ－４）を満たすことは、可視光領域の反射率が高入射角であっても低いことを意味する。
　分光特性（ｉ－５）～（ｉ－６）を満たすことは、長波長領域の特定の近赤外光領域の反射率が高入射角であっても高いことを意味する。
　（ｉ－３）において、平均反射率はより好ましくは２．５％以下、さらに好ましくは２．０％以下であり、最大反射率はより好ましくは１０．０％以下、さらに好ましくは８．０％以下である。
　（ｉ－４）において、平均反射率はより好ましくは３．０％以下、さらに好ましくは２．０％以下であり、最大反射率はより好ましくは１０．０％以下、さらに好ましくは８．０％以下である。
　（ｉ－５）において、平均反射率はより好ましくは９８．２％以上、さらに好ましくは９８．５％以上である。
　（ｉ－６）において、平均反射率はより好ましくは９８．２％以上、さらに好ましくは９８．５％以上である。
　分光特性（ｉ－３）～（ｉ－６）を満たすためには、たとえば後述する特性（ｉｉＡ－１）～（ｉｉＡ－２）を満たす誘電体多層膜Ａを備えることが挙げられる。
　本フィルタは、下記分光特性（ｉ－７）～（ｉ－８）をすべて満たすことが好ましい。
（ｉ－７）誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が３．０％以下、最大反射率が５．０％以下
（ｉ－８）誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が７．０％以下、最大反射率が１０．０％以下
　分光特性（ｉ－７）～（ｉ－８）を満たすことは、センシング領域である８５０ｎｍ付近の近赤外光の多層膜Ｂ側の反射率も高入射角であってもシフトせずに低いことを意味する。
　（ｉ－７）において、平均反射率はより好ましくは２．５％以下、さらに好ましくは２．０％以下であり、最大反射率はより好ましくは４．０％以下、さらに好ましくは３．０％以下である。
　（ｉ－８）において、平均反射率はより好ましくは６．０％以下、さらに好ましくは５．０％以下であり、最大反射率はより好ましくは８．０％以下、さらに好ましくは６．０％以下である。
　分光特性（ｉ－７）～（ｉ－８）を満たすためには、たとえば後述する特性（ｉｉＢ－１）～（ｉｉＢ－２）を満たす誘電体多層膜Ｂを備えることが挙げられる。
　本フィルタは、下記分光特性（ｉ－９）～（ｉ－１２）をすべて満たすことが好ましい。
（ｉ－９）誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～６５０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が２．０％以下、最大反射率が１０．０％以下
（ｉ－１０）誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～６５０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が４．０％以下、最大反射率が１１．０％以下
（ｉ－１１）誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長１０５０ｎｍ～１１５０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が９３．０％以上
（ｉ－１２）誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長１０００ｎｍ～１２００ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が９３．０％以上
　分光特性（ｉ－９）～（ｉ－１０）を満たすことは、可視光領域の反射率が高入射角であっても低いことを意味する。
　分光特性（ｉ－１１）～（ｉ－１２）を満たすことは、長波長領域の特定の近赤外光領域の反射率が高入射角であっても高いことを意味する。
　（ｉ－９）において、平均反射率はより好ましくは１．８％以下、さらに好ましくは１．６％以下であり、最大反射率はより好ましくは８．０％以下、さらに好ましくは６．０％以下である。
　（ｉ－１０）において、平均反射率はより好ましくは３．０％以下、さらに好ましくは２．０％以下であり、最大反射率はより好ましくは９．０％以下、さらに好ましくは７．０％以下である。
　（ｉ－１１）において、平均反射率はより好ましくは９４．２％以上、さらに好ましくは９４．４％以上である。
　（ｉ－１２）において、平均反射率はより好ましくは９４％以上、さらに好ましくは９５％以上である。
　分光特性（ｉ－９）～（ｉ－１２）を満たすためには、たとえば後述する特性（ｉｉＢ－１）～（ｉｉＢ－２）を満たす誘電体多層膜Ｂを備えることが挙げられる。
　本フィルタは、下記分光特性（ｉ－１３）～（ｉ－１４）をすべて満たすことが好ましい。
　誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長Ｘｎｍにおける吸収損失量Ｘを以下に定義する。
（吸収損失量Ｘ）［％］＝１００－（入射角０度における透過率）－（入射角５度における反射率）
（ｉ－１３）波長６００～８３０ｎｍにおける吸収損失量６００－８３０の積分値が１５０００以上
（ｉ－１４）波長８５０～１０００ｎｍにおける吸収損失量８５０－１０００の積分値が６０００以上
　吸収損失量Ｘは、波長Ｘｎｍにおける吸収特性による遮光度合を示す指標であり、数値が大きいほどかかる波長Ｘの光は吸収により遮蔽されていることを意味する。
　吸収損失量Ｘ－Ｙの積分値は、Ｘ～Ｙｎｍにおける各吸収損失量を波長１ｎｍごとに求め合算した値であり、数値が大きいほどＸ～Ｙｎｍの波長領域が吸収により遮蔽されていることを意味する。
　分光特性（ｉ－１３）を満たすことは、可視光領域の赤色側波長において迷光を抑制し変動が少なくなることを意味する。
　分光特性（ｉ－１４）を満たすことは、センシング波長において迷光を抑制し変動が少なくなることを意味する。
　吸収損失量６００－８３０の積分値はより好ましくは１５５００以上、さらに好ましくは１６０００以上である。
　吸収損失量８５０－１０００の積分値はより好ましくは６５００以上、さらに好ましくは７０００以上である。
　分光特性（ｉ－１３）～（ｉ－１４）を満たすためには、たとえば後述するＹｂ２Ｏ３を２０ｍｏｌ％以上含有する光吸収ガラス、及び６８０～８００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する色素を含有する光吸収層を備えることが挙げられる。
　本フィルタは、下記分光特性（ｉ－１５）～（ｉ－２０）をすべて満たすことが好ましい。
（ｉ－１５）誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長４２０～６５０ｎｍ、入射角０度での平均透過率が８０％以上、
（ｉ－１６）誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長４２０～６５０ｎｍ、入射角４０度での平均透過率が８０％以上、
（ｉ－１７）誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長８２０～８７０ｎｍ、入射角０度での平均透過率が８０％以上、
（ｉ－１８）誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長８２０～８７０ｎｍ、入射角４０度での平均透過率が７８％以上、
（ｉ－１９）誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長１０５０～１１５０ｎｍ、入射角０度での平均透過率が１．５％以下、
（ｉ－２０）誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長１０５０～１１５０ｎｍ、入射角４０度での平均透過率が１．５％以下、
　上記分光特性を満たす本フィルタは、高入射角であっても、特性の近赤外光領域の遮光性に優れ、可視光領域と他の近赤外光領域の透過性に優れるフィルタである。
＜光吸収ガラス基板＞
　本フィルタは、９００ｎｍ～１０００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する光吸収ガラス基板を備える。これにより、センシング波長である８５０ｎｍ付近よりも長波長側の波長領域を遮光できる。また、光吸収ガラス基板の吸収特性は、誘電体多層膜の反射特性のように光の入射角によって遮光領域がシフトしないため、高入射角であっても高い遮光性を発揮できる。
　光吸収ガラスとしては、特性（ｉｖ－１）を満たすことが好ましい。
（ｉｖ－１）厚さ０．４ｍｍに換算したときに波長８００～１１００ｎｍにおいて、透過率が５０％となる波長のうち、長波長側の波長をλＩＲＬ５０とし、短波長側の波長をλＩＲＳ５０としたとき、λＩＲＬ５０とλＩＲＳ５０との差の絶対値ΔλＩＲ５０が１００～１６０ｎｍ
　かかる分光特性を満たすガラスを備えることで、波長８５０ｎｍから波長９４０ｎｍにかけて光の透過率の変化が急峻（波長と透過率との関係における傾きが大きい）な光学フィルタが得られる。そのため、例えば、波長８５０ｎｍの光を用いたセンシングを行う固体撮像素子のフィルタとして用いられる場合に、ノイズとなる波長９４０ｎｍ付近の光の遮蔽性を高く維持しつつ波長８５０ｎｍの光の透過性を高くでき、センシング精度を向上できる。
　ΔλＩＲ５０はより好ましくは１０５ｎｍ以上、さらに好ましくは１１０ｎｍ以上、また、より好ましくは１５５ｎｍ以下、さらに好ましくは１５０ｎｍ以下である。
　光吸収ガラスとしては、特性（ｉｖ－２）を満たすことが好ましい。
（ｉｖ－２）厚さ０．４ｍｍとしたときに波長４００ｎｍの光の透過率が好ましくは８０％以上
　ガラスがこのような分光特性を有することで、可視光を用いたイメージングを行う固体撮像素子のフィルタとして用いられる場合に、色再現性の良い画像を得ることができる。
　本実施形態のガラスは、厚さ０．４ｍｍとしたときに波長４００ｎｍの光の透過率がより好ましくは８１％以上、さらに好ましくは８２％以上、一層好ましくは８３％以上、特に好ましくは８３．５％以上、最も好ましくは８４％以上である。
　光吸収ガラスとしては、イッテルビウムを含むガラスが好ましい。イッテルビウムを含むガラスは、波長９００～１０００ｎｍの近赤外光領域を吸収する特性に加え、吸収帯が急峻であるため、最大吸収波長領域以外の領域の透過性を高く保持でき、可視光領域や、可視光から８００ｎｍ程度の近赤外光領域にかけての透過性に優れる。
　以下に、ガラスを構成しうる各成分およびその好適な含有量（酸化物基準のｍｏｌ％表示）について説明する。本明細書において、特記しない限り、各成分の含有量、および合計含有量は、酸化物基準のｍｏｌ％表示とする。
　Ｙｂ２Ｏ３は波長９００～１０００ｎｍ付近の光、特に波長９４０ｎｍの光を効率良く吸収し、透過率を低くするための成分である。本実施形態のガラスにおいてＹｂ２Ｏ３の含有量が２０％以上であればその効果が十分に得られ、６０％以下であれば、ガラスの失透性が悪化する、溶融性が悪化する、蛍光による迷光が発生する等の問題が生じにくい。
　そのため、Ｙｂ２Ｏ３の含有量は好ましくは２０～６０％であり、より好ましくは２５～６０％であり、さらに好ましくは３０～６０％であり、さらに一層好ましくは３５～６０％であり、特に好ましくは４０％を超え６０％以下であり、最も好ましくは４５％～６０％である。
　ＳｉＯ２は、ガラスを形成する主成分であり、ガラスの耐失透性及び液相温度に対する粘性を高くするための成分である。本実施形態のガラスにおいてＳｉＯ２の含有量が０．１％以上であれば、ガラスが不安定になる、耐候性が低下する、ガラス中に脈理が発生する等の問題が生じにくい。ＳｉＯ２の含有量が５０％以下であれば、ガラスの溶融性が悪化するなどの問題が生じにくい。
　そのため、ＳｉＯ２の含有量は好ましくは０．１～５０％であり、より好ましくは０．１～４０％であり、さらに好ましくは０．１～３０％であり、さらに一層好ましくは０．１～２０％であり、特に好ましくは０．１～１０％であり、最も好ましくは０．１％～９％である。
　Ｂ２Ｏ３は、ガラスを形成する主成分であり、ガラスの耐失透性及び液相温度に対する粘性を高くするための成分である。本実施形態のガラスにおいてＢ２Ｏ３の含有量が１５％以上であれば、ガラスが不安定になる等の問題が生じにくい。Ｂ２Ｏ３の含有量が４０％以下であれば、ガラスの耐候性が低下する、ガラス中に脈理が発生する等の問題が生じにくい。
　そのため、Ｂ２Ｏ３の含有量は好ましくは１５～４０％であり、より好ましくは１５～３８％であり、さらに好ましくは１５～３６％であり、さらに一層好ましくは１５～３４％であり、特に好ましくは１５～３２％であり、最も好ましくは１５～３０％である。
　本実施形態のガラスは、安定したガラスを得る観点から、ＳｉＯ２及びＢ２Ｏ３の少なくとも一方を含むことが好ましい。上記成分の合計含有量は、ガラスが不安定になる等の問題が生じにくい観点から６５％超であることが好ましく、また、ガラスの溶融性が悪化する等の問題が生じにくい観点から８０％以下であることが好ましい。
　そのため、より好ましくは６５％超７９％以下、さらに好ましくは６５％超７８％以下、さらに一層好ましくは６５％超７７％以下、特に好ましくは６５％超７６％以下、最も好ましくは６５％超７５％以下である。
　Ｐ２Ｏ５はガラスの溶融性と安定性を改善するための成分である。本実施形態のガラスにおいてＰ２Ｏ５の含有量は０～１５％が好ましい。Ｐ２Ｏ５の含有量が１５％以下であれば、ガラスの耐候性が悪化する、ガラスが分相する、ガラス中に脈理が発生する等の問題が生じにくい。
　Ｐ２Ｏ５の含有量は、より好ましくは１～１３％であり、さらに好ましくは２～１２％であり、さらに一層好ましくは３～１１％であり、最も好ましくは４～１０％である。
　ＧｅＯ２はガラスの耐失透性及び液相温度に対する粘性を高くするための成分である。本実施形態のガラスにおいてＧｅＯ２の含有量は０～１５％が好ましい。ＧｅＯ２の含有量が１５％以下であれば、ガラスの溶融性が悪化するなどの問題が生じにくい。
　ＧｅＯ２の含有量はより好ましくは０～１３％であり、さらに好ましくは０～１１％であり、さらに一層好ましくは０～９％であり、最も好ましくは０～７％である。
　Ｇａ２Ｏ３はガラスのヤング率を高める、溶融性と安定性を改善するための成分である。本実施形態のガラスにおいてＧａ２Ｏ３の含有量は０～３０％が好ましい。Ｇａ２Ｏ３の含有量が３０％以下であれば、ガラスの失透性が悪化する、反射率が上がり反射光による迷光が発生するなどの問題が生じにくい。
　Ｇａ２Ｏ３の含有量はより好ましくは０．５～２８％であり、さらに好ましくは１～２６％であり、さらに一層好ましくは２～２４％であり、最も好ましくは３～２２％である。
　ＺｒＯ２はガラスのヤング率を高める、ガラスの液相温度に対する粘性を高くするための成分である。本実施形態のガラスにおいてＺｒＯ２の含有量は０～７％が好ましい。ＺｒＯ２の含有量が７％以下であれば、ガラスの失透性が悪化する、溶融性が悪化する等の問題が生じにくい。
　ＺｒＯ２の含有量は、より好ましくは０～６％であり、さらに好ましくは０～５％であり、さらに一層好ましくは０～４％であり、最も好ましくは０～３％である。
　Ｌａ２Ｏ３はガラスのヤング率を高める、溶融性を改善するための成分である。本実施形態のガラスにおいてＬａ２Ｏ３の含有量は０．１～２０％が好ましい。Ｌａ２Ｏ３の含有量が０．１％以上であればその効果が十分得られ、２０％以下であれば、ガラスの失透性が悪化する、反射率が上がり、反射光による迷光が発生する等の問題が生じにくい。
　Ｌａ２Ｏ３の含有量はより好ましくは０．５～１９％であり、さらに好ましくは１～１８％であり、さらに一層好ましくは２～１７％であり、最も好ましくは２～１６％である。
　Ａｌ２Ｏ３はガラスのヤング率を高める、ガラスの屈折率を低くするための成分である。本実施形態のガラスにおいてＡｌ２Ｏ３の含有量は０．１～２０％が好ましい。Ａｌ２Ｏ３の含有量が０．１％以上であればその効果が十分得られ、２０％以下であれば、ガラスの失透性が悪化する、反射率が上がり、反射光による迷光が発生する等の問題が生じにくい。
　より好ましくは０．１～１８％であり、さらに好ましくは０．１～１５％であり、さらに一層好ましくは０．１～１３％であり、最も好ましくは０．１～１１％である。
　Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ２、Ｇａ２Ｏ３、及びＰ２Ｏ５成分の合計量と、ＳｉＯ２及びＢ２Ｏ３成分の合計含有量との比、すなわち（Ａｌ２Ｏ３、ＧｅＯ２、Ｇａ２Ｏ３及びＰ２Ｏ５の合計含有量）／（ＳｉＯ２及びＢ２Ｏ３の合計含有量）は、Ｙｂ成分を含むガラスを失透させることなくガラス化させる観点から、０．１未満であることが好ましい。
　本実施形態のガラスは、本発明の目的を損なわない範囲で、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、Ｓｂ２Ｏ３、Ｃｌ、Ｆ、その他の成分を含有してもよい。
　本実施形態のガラスは、光学フィルタに用いられる場合に、ガラス表面における反射光が原因で発生する迷光を防ぐため、ガラスの反射率を低くすることが望ましい。ガラスの反射率は屈折率によって決まり、典型的には波長５８８ｎｍにおける屈折率が１．７００～１．９００であることが好ましい。
　本実施形態のガラスは、可視光を透過させ、該可視光に基づく画像を忠実に再現するための近赤外線カットフィルタ機能に加え、特定の近赤外光を選択的に透過させる機能を備えた光学フィルタ、いわゆるデュアルバンドパスフィルタに用いられる場合、厚さは通常３ｍｍ以下で使用されることが多い。部品軽量化の観点から好ましくは２ｍｍ以下、より好ましくは１ｍｍ以下、さらに好ましくは０．５ｍｍ以下、さらに一層好ましくは０．３ｍｍ以下で使用される。また、ガラスの強度を確保する観点から、０．０５ｍｍ以上が好ましい。
　なお、本実施形態のガラスは、前述の説明で厚さ０．４ｍｍにおける好ましい分光特性を述べている。そのため、厚さが０．４ｍｍでないガラスとの対比は、そのガラスの分光特性を厚さ０．４ｍｍに換算することにより可能である。
　本実施形態のガラスは、例えば次のようにして作製できる。
　まず、上記組成範囲になるように原料を秤量、混合する（混合工程）。この原料混合物を白金ルツボに収容し、電気炉内において１２００～１６５０℃の温度で加熱溶解する（溶解工程）。十分に撹拌・清澄した後、金型内に鋳込み、切断・研磨して所定の厚さの平板状に成形する（成形工程）。
　上記製造方法の溶解工程において、ガラス溶解中のガラスの最も高い温度を１６５０℃以下にすることが好ましい。ガラス溶解中のガラスの最も高い温度が上記温度以下であれば、ガラスが結晶化する、ガラス中に未溶融異物が発生する等の問題が生じにくい。上記温度は、より好ましくは１６２５℃以下、さらに好ましくは１６００℃以下である。
　また、上記溶解工程における温度は低くなりすぎると、溶解中に失透が発生する、溶け落ちに時間がかかるなどの問題が生じるおそれがあるため、好ましくは１３００℃以上、より好ましくは１３５０℃以上である。
＜光吸収層＞
　本フィルタは、８００ｎｍより短波長領域に最大吸収波長を有する光吸収層を備える。これにより、誘電体多層膜の反射特性で遮光しない領域を吸収特性により補うことができる。
　光吸収層は、下記分光特性（ｖ－１）～（ｖ－２）をすべて満たすことが好ましい。
（ｖ－１）波長６５０～７２０ｎｍの分光透過率曲線において内部透過率が３０％となる最短の波長をλＡ＿ＶＩＳ（３０％）とし、波長７２０～１０００ｎｍの分光透過率曲線において内部透過率が３０％となる最短の波長をλＡ＿ＩＲ（３０％）としたとき、下記関係式を満たす
　｜λＡ＿ＩＲ（３０％）－λＡ＿ＶＩＳ（３０％）｜≧１００ｎｍ
（ｖ－２）波長４５０ｎｍにおける光学濃度をＯＤ＿４５０とし、波長７２０ｎｍにおける光学濃度をＯＤ＿７２０としたとき、下記関係式を満たす
　ＯＤ＿７２０－ＯＤ＿４５０≧１
　特性（ｖ－１）における｜λＡ＿ＩＲ（３０％）－λＡ＿ＶＩＳ（３０％）｜は、７２０ｎｍを中心とする近赤外光吸収帯の指標であり、１００ｎｍ以上であることで当該領域を幅広く吸収する光吸収層であることを意味する。
　｜λＡ＿ＩＲ（３０％）－λＡ＿ＶＩＳ（３０％）｜は、より好ましくは１２０ｎｍ以上である。また、色素の最大吸収波長が長波長領域であるほど可視光領域の透過率を高く保つのが難しくなる点から、好ましくは１５０ｎｍ以下である。
　特性（ｖ－１）を満たすためには、例えば、近赤外線吸収色素として、最大吸収波長が異なりかつ６８０～８００ｎｍの領域にある色素を２種組み合わせること、好ましくは最大吸収波長が６８０～７４０ｎｍにある色素と７４０～８００ｎｍにある色素を組み合わせることが挙げられる。また、少ない添加量で幅広い吸収を実現できる観点から、スクアリリウム色素を用いることが挙げられる。
　特性（ｖ－２）は、４５０ｎｍにおける高い可視光透過性と、７２０ｎｍにおける高い近赤外光遮蔽性が両立された光吸収層であることを意味する。
　ＯＤ＿７２０－ＯＤ＿４５０は好ましくは１．５以上、より好ましくは２以上である。
　特性（ｖ－２）を満たすためには、例えば、近赤外線吸収色素として、７２０ｎｍ付近を強く吸収し、可視光領域の透過率を高く保つ観点から、対称型のスクアリリウム色素を用いることが挙げられる。
　光吸収層は、ジクロロメタン中で６８０～８００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する色素（以下、「ＮＩＲ色素」とも記載する。）を含むことが好ましい。かかる色素を含むことで、光吸収層が上記特性（ｖ－１）および（ｖ－２）に示すように、７２０ｎｍを中心とする近赤外光吸収帯を幅広く吸収でき、かつ、４５０ｎｍの可視光透過性と７２０ｎｍの近赤外光遮蔽性の両立が実現しやすい。
　近赤外領域を幅広く吸収できる観点から、最大吸収波長が異なりかつ６８０～８００ｎｍの領域にある色素を２種組み合わせること、好ましくは最大吸収波長が６８０～７４０ｎｍにある色素と７４０～８００ｎｍにある色素を組み合わせることが好ましい。
　光吸収層はまた、当該色素と樹脂を含む樹脂膜であることが好ましい。
　ＮＩＲ色素としては、スクアリリウム色素、シアニン色素、フタロシアニン色素、ナフタロシアニン色素、ジチオール金属錯体色素、アゾ色素、ポリメチン色素、フタリド色素、ナフトキノン色素、アン卜ラキノン色素、インドフェノール色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、ク口コニウム色素、テ卜ラデヒドオコリン色素、卜リフェニルメタン色素、アミニウム色素およびジインモニウム色素からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。
　ＮＩＲ色素としては、スクアリリウム色素、フタロシアニン色素、およびシアニン色素から選ばれる少なくとも１つの色素を含むことが好ましい。これらのＮＩＲ色素のうちでもスクアリリウム色素、シアニン色素が分光上の観点から好ましく、耐久性の観点からはフタロシアニン色素が好ましい。
　光吸収層におけるＮＩＲ色素の含有量は、樹脂１００質量部に対し好ましくは０．１～２５質量部、より好ましくは０．３～１５質量部である。なお、２種以上の化合物を組み合わせる場合、上記含有量は各化合物の総和である。
　光吸収層は、上記ＮＩＲ色素以外に、他の色素を含有してもよい。他の色素としては、樹脂中で３７０～４４０ｎｍに最大吸収波長を有する色素（ＵＶ色素）が好ましい。これにより、近紫外光領域を効率的に遮光できる。
　ＵＶ色素としては、オキサゾール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、ナフタルイミド色素、オキサジアゾール色素、オキサジン色素、オキサゾリジン色素、ナフタル酸色素、スチリル色素、アントラセン色素、環状カルボニル色素、トリアゾール色素等が挙げられる。この中でも、メロシアニン色素が特に好ましい。また、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
　光吸収層は、光吸収ガラス基板の他方の主面側に設けられ、好ましくは、光吸収ガラス基板の他方の主面側に設けられた誘電体多層膜Ｂの表面に積層される。
　光吸収層は、近赤外線吸収色素と樹脂を含有することが好ましく、樹脂としては、透明樹脂であれば制限されず、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、エン・チオール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリパラフェニレン樹脂、ポリアリーレンエーテルフォスフィンオキシド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状オレフィン樹脂、ポリウレタン樹脂、およびポリスチレン樹脂等から選ばれる１種以上の透明樹脂が用いられる。これらの樹脂は１種を単独で使用してもよく、２種以上を混合して使用してもよい。
　光吸収層の分光特性やガラス転移点（Ｔｇ）、密着性の観点から、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂から選ばれる１種以上の樹脂が好ましい。
　ＮＩＲ色素やその他の色素として複数の化合物を用いる場合、これらは同一の光吸収層に含まれてもよく、また、それぞれ別の光吸収層に含まれてもよい。
　光吸収層は、色素と、樹脂または樹脂の原料成分と、必要に応じて配合される各成分とを、溶媒に溶解または分散させて塗工液を調製し、これを支持体に塗工し乾燥させ、さらに必要に応じて硬化させて形成できる。支持体は、光吸収ガラス基板でもよいし、光吸収層を形成する際にのみ使用する剥離性の支持体でもよい。また、溶媒は、安定に分散できる分散媒または溶解できる溶媒であればよい。
　また、塗工液は、微小な泡によるボイド、異物等の付着による凹み、乾燥工程でのはじき等の改善のため界面活性剤を含んでもよい。さらに、塗工液の塗工には、例えば、浸漬コーティング法、キャストコーティング法、またはスピンコート法等を使用できる。また、塗工液が透明樹脂の原料成分を含有する場合、さらに熱硬化、光硬化等の硬化処理を行う。
　また、光吸収層は、押出成形によりフィルム状に製造可能でもある。得られたフィルム状吸収層を光吸収ガラス基板に積層し熱圧着等により一体化させることにより本フィルタを製造できる。
　光吸収層は、光学フィルタの中に１層有してもよく、２層以上有してもよい。２層以上有する場合、各層は同じ構成であっても異なってもよく、また、誘電体多層膜それぞれの表面に形成されても一方の誘電体多層膜表面に２層以上を重ねてもよい。
　光吸収層の厚さは、塗工後の基板内の面内膜厚分布、外観品質の観点から１０μｍ以下、好ましくは５μｍ以下であり、また、適切な色素濃度で所望の分光特性を発現する観点から好ましくは０．５μｍ以上である。なお、光学フィルタが光吸収層を２層以上有する場合は、各光吸収層の総厚が上記範囲内であることが好ましい。
＜誘電体多層膜＞
　本フィルタは、光吸収ガラス基板の一方の主面側に誘電体多層膜Ａを備え、光吸収ガラス基板の他方の主面側に誘電体多層膜Ｂを設ける。いずれも、近赤外光の一部を反射する反射膜（以下「ＮＩＲ反射膜」とも記載する。）として設計されることが好ましい。
　ＮＩＲ反射層は、例えば、可視光と、センシング波長領域の近赤外光を透過し、それ以外の近赤外光を主に反射する波長選択性を有することが好ましい。ＮＩＲ反射層は、さらに、近赤外光以外の波長域の光、例えば、近紫外光をさらに反射する仕様に適宜設計してもよい。
　誘電体多層膜は、屈折率の異なる誘電体膜の積層体である。より具体的には、低屈折率の誘電体膜（低屈折率膜）、中屈折率の誘電体膜（中屈折率膜）、高屈折率の誘電体膜（高屈折率膜）が挙げられ、これらのうち２以上を積層した誘電体多層膜から構成される。所望の波長帯域を透過、選択する際に数種類の分光特性の異なる誘電体膜を組み合わせることで、反射特性を調整できる。なお、後述する等価膜とは、例えば一つの膜の代わりに高屈折率と低屈折率の２種以上の膜を組み合わせて光学的に等価にした膜のことをいう。
　誘電体多層膜Ａは下記特性（ｉｉＡ－１）～（ｉｉＡ－２）をすべて満たすことが好ましい。
（ｉｉＡ－１）波長５００ｎｍにおける屈折率が１．８以上２．５以下である高屈折率材料からなる高屈折率層ＨＡと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．５超１．８未満である中屈折率材料からなる中屈折率層ＭＡと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．４以上１．５以下である低屈折率材料からなる低屈折率層ＬＡとを含み、（ＨＡ／ＭＡ／ＬＡ／ＭＡ）ｎ（ｎは２以上の自然数）で表される繰り返し積層構造を有する（ただし、中屈折率層ＭＡが高屈折率層ＨＡと低屈折率層ＬＡとからなる場合は等価膜として扱う。）
（ｉｉＡ－２）積層数が１～６０の範囲内である
　誘電体多層膜Ａが特性（ｉｉＡ－１）～（ｉｉＡ－２）を満たすことで、可視光領域とセンシング波長領域を透過し、波長１０００～１１００ｎｍを反射する特性を有し、特性（ｉ－１４）と組み合わせることで波長８５０～９５０ｎｍにおける透過率の変動が小さい反射層が得られる。
　また、ｎは２以上の自然数が好ましく、より好ましくは２．０５以上であり、さらにより好ましくは２．１以上であり、大きいほど好ましい。ｎがかかる範囲であれば繰り返し積層構造（ＨＡ／ＭＡ／ＬＡ／ＭＡ）が適切に存在し、所望の反射特性が得られる。
　なお、複数の繰り返し積層構造（ＨＡ／ＭＡ／ＬＡ／ＭＡ）は互いに連続していても、離れていてもよい。
　誘電体多層膜Ａの積層数はより好ましくは３０～６０、さらに好ましくは４０～６０の範囲内である。
　誘電体多層膜Ａは下記特性（ｉｉＡ－３）を満たすことが好ましい。
（ｉｉＡ－３）高屈折率層ＨＡの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＨＡとし、中屈折率層ＭＡの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＭＡとし、低屈折率層ＬＡの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＬＡとしたときに、（ａｎＱＨＡ／ｂｎＱＭＡ／ｃｎＱＬＡ／ｄｎＱＭＡ）ｎ（ｎは２以上の自然数）で表される繰り返し積層構造を有する
　ただし、前記ａｎの平均値は１．５以上２．７以下であり、前記ｂｎの平均値は０．３以上０．９以下であり、前記ｃｎの平均値は１．３以上２．１以下であり、前記ｄｎの平均値は０．３以上０．９以下である
　ａｎ、ｂｎ、ｃｎ、ｄｎは、各基本単位における係数であり、各基本単位における膜の物理膜厚がＱＷＯＴ（１／４波長の光学膜厚）の何倍であるかを表している。そのため、ａｎＱＨＡ、ｂｎＱＭＡ、ｃｎＱＬＡ、ｄｎＱＭＡは、各膜の光学膜厚を示す。
　誘電体多層膜Ａが特性（ｉｉＡ－３）を満たすことで、波長４２０～９００ｎｍにおいて反射率を低く抑える特性を有する反射層が得られる。
　ａｎの平均値はより好ましくは１．５５以上２．６５以下、さらに好ましくは１．６以上２．６以下であり、ｂｎの平均値はより好ましくは０．３５以上０．８５以下、さらに好ましくは０．４以上０．８以下であり、ｃｎの平均値はより好ましくは１．３５以上２．０５以下、さらに好ましくは１．４以上２．０以下であり、ｄｎの平均値はより好ましくは０．３５以上０．８５以下、さらに好ましくは０．４以上０．８以下である。
　誘電体多層膜Ａは下記特性（ｉｉＡ－４）を満たすことが好ましい。
（ｉｉＡ－４）中屈折率層ＭＡが高屈折率層ＨＡと低屈折率層ＬＡとからなる等価膜である場合、高屈折率層ＨＡの物理膜厚の合計ＰＨＡと低屈折率層ＬＡの物理膜厚の合計ＰＬＡの比率（ＰＨＡ／ＰＬＡ）が０．６～０．８の範囲内である
　誘電体多層膜Ａが特性（ｉｉＡ－４）を満たすことで、波長４２０～９００ｎｍにおいて反射率を低く抑える特性を有する反射層が得られる。
　（ＰＨＡ／ＰＬＡ）はより好ましくは０．６２～０．７８、さらに好ましくは０．６４～０．７６の範囲内である。
　誘電体多層膜Ａは下記特性（ｉｉＡ－５）を満たすことが好ましい。
（ｉｉＡ－５）誘電体多層膜Ａは、空気側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～９５０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が５％以下
　特性（ｉｉＡ－５）を満たす誘電体多層膜Ａは、可視光領域と８５０ｎｍのセンシング波長を含めた近赤外光領域にかけて反射特性が小さい膜であることを意味する。
　平均反射率はより好ましくは３％以下である。
　誘電体多層膜Ｂは下記特性（ｉｉＢ－１）～（ｉｉＢ－２）をすべて満たすことが好ましい。
（ｉｉＢ－１）波長５００ｎｍにおける屈折率が１．８以上２．５以下である高屈折率材料からなる高屈折率層ＨＢと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．５超１．８未満である中屈折率材料からなる中屈折率層ＭＢと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．４以上１．５以下である低屈折率材料からなる低屈折率層ＬＢとを含み、（ＨＢ／ＭＢ／ＬＢ／ＭＢ）ｎ（ｎは２以上の自然数）で表される繰り返し積層構造を有する（ただし、中屈折率層ＭＢが高屈折率層ＨＢと低屈折率層ＬＢとからなる場合は等価膜として扱う。）
（ｉｉＢ－２）積層数が１～６０の範囲内である
　誘電体多層膜Ｂが特性（ｉｉＢ－１）～（ｉｉＢ－２）を満たすことで、可視帯波長とセンシング波長を透過し、波長１１００～１２００ｎｍを反射する特性を有する反射層が得られる。
　また、ｎは２以上の自然数が好ましく、より好ましくは２．０５以上であり、さらにより好ましくは２．１以上である。ｎがかかる範囲であれば繰り返し積層構造（ＨＢ／ＭＢ／ＬＢ／ＭＢ）が適切に存在し、所望の反射特性が得られる。
　なお、複数の繰り返し積層構造（ＨＢ／ＭＢ／ＬＢ／ＭＢ）は互いに連続していても、離れていてもよい。
　誘電体多層膜Ｂの積層数はより好ましくは１～６０、さらに好ましくは３０～６０の範囲内である。
　誘電体多層膜Ｂは下記特性（ｉｉＢ－３）を満たすことが好ましい。
（ｉｉＢ－３）高屈折率層ＨＢの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＨＢとし、中屈折率層ＭＢの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＭＢとし、低屈折率層ＬＢの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＬＢとしたときに、（ｅｎＱＨＢ／ｆｎＱＭＢ／ｇｎＱＬＢ／ｈｎＱＭＢ）ｎ（ｎは２以上の自然数）で表される繰り返し積層構造を有する
　ただし前記ｅｎの平均値は、２．０以上２．５以下であり、前記ｆｎの平均値は、０．４以上０．９以下であり、前記ｇｎの平均値は、１．０以上２．５以下であり、前記ｈｎの平均値は、０．４以上０．９以下である
　ｅｎ、ｆｎ、ｇｎ、ｈｎは、各基本単位における係数であり、各基本単位における膜の物理膜厚がＱＷＯＴ（１／４波長の光学膜厚）の何倍であるかを表している。そのため、ｅｎＱＨＢ、ｆｎＱＭＢ、ｇｎＱＬＢ、ｈｎＱＭＢは、各膜の光学膜厚を示す。
　誘電体多層膜Ｂが特性（ｉｉＢ－３）を満たすことで、波長４２０～９００ｎｍにおいて反射率を低く抑える特性を有する反射層が得られる。
　ｅｎの平均値はより好ましくは２．０５以上２．４５以下、さらに好ましくは２．１以上２．４以下であり、ｆｎの平均値はより好ましくは０．４５以上０．８５以下、さらに好ましくは０．５以上０．８以下であり、ｇｎの平均値はより好ましくは１．０５以上２．４５以下、さらに好ましくは１．１以上２．４以下であり、ｈｎの平均値はより好ましくは０．４５以上０．８５以下、さらに好ましくは０．５以上０．８以下である。
　誘電体多層膜Ｂは下記特性（ｉｉＢ－４）を満たすことが好ましい。
（ｉｉＢ－４）中屈折率層ＭＢが高屈折率層ＨＢと低屈折率層ＬＢとからなる等価膜である場合、高屈折率層ＨＢの物理膜厚の合計ＰＨＢと低屈折率層ＬＢの物理膜厚の合計ＰＬＢの比率（ＰＨＢ／ＰＬＢ）が０．６～０．８の範囲内である
　誘電体多層膜Ｂが特性（ｉｉＢ－４）を満たすことで、波長４２０～９００ｎｍにおいて反射率を低く抑える特性を有する反射層が得られる。
　（ＰＨＢ／ＰＬＢ）はより好ましくは０．６２～０．７８、さらに好ましくは０．６４～０．７６の範囲内である。
　誘電体多層膜Ｂは下記特性（ｉｉＢ－５）を満たすことが好ましい。
（ｉｉＢ－５）誘電体多層膜Ｂは、空気側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～９７０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が５％以下
　特性（ｉｉＢ－５）を満たす誘電体多層膜Ｂは、可視光領域と８５０ｎｍのセンシング波長を含めた近赤外光領域にかけて反射特性が小さい膜であることを意味する。
　平均反射率はより好ましくは３％以下である。
　高屈折率材料は、波長５００ｎｍにおける屈折率が好ましくは１．８以上２．５以下であり、より好ましくは１．９以上２．５以下である。高屈折率材料としては、例えばＴａ２Ｏ５、ＴｉＯ２、ＴｉＯ、Ｎｂ２Ｏ５が挙げられる。その他市販品としてキヤノンオプトロン社製、ＯＳ５０（Ｔｉ３Ｏ５）、ＯＳ１０（Ｔｉ４Ｏ７）、ＯＡ５００（Ｔａ２Ｏ５とＺｒＯ２の混合物）、ＯＡ６００（Ｔａ２Ｏ５とＴｉＯ２の混合物）などが挙げられる。これらのうち、成膜性、屈折率等における再現性、安定性等の点から、ＴｉＯ２が好ましい。
　中屈折率材料は、波長５００ｎｍにおける屈折率が好ましくは１．５超１．８未満であり、より好ましくは１．５５以上１．８未満である。中屈折率材料としては、ＺｒＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ａｌ２Ｏ３、ＨｆＯ２や、キヤノンオプトロン社が販売しているＯＭ－４、ＯＭ－６（Ａｌ２Ｏ３とＺｒＯ２との混合物）、ＯＡ－１００、Ｍｅｒｃｋ社が販売しているＨ４、Ｍ２（アルミナランタニア）等が挙げられる。これらのうち、成膜性、屈折率等における再現性、安定性等の点から、Ａｌ２Ｏ３系の化合物やＡｌ２Ｏ３とＺｒＯ２との混合物が好ましい。
　低屈折率材料は、波長５００ｎｍにおける屈折率が好ましくは１．４以上１．５以下であり、より好ましくは１．４５以上１．５以下である。低屈折率材料としては、例えばＳｉＯ２、ＳｉＯｘＮｙ、ＭｇＦ２等が挙げられる。その他市販品としてキヤノンオプトロン社製、Ｓ４Ｆ、Ｓ５Ｆ（ＳｉＯ２とＡｌＯ２の混合物）が挙げられる。これらのうち、成膜性における再現性、安定性、経済性等の点から、ＳｉＯ２が好ましい。
　誘電体多層膜Ａおよび誘電体多層膜Ｂの膜厚（物理膜厚）は、材料の劣化を抑制する観点から、それぞれ、好ましくは１００ｎｍ以上、より好ましくは３００ｎｍ以上であり、また、生産性や、可視光領域での反射リップル抑制の観点から好ましくは５μｍ以下である。
　本フィルタは、少なくとも一方の最表面に誘電体多層膜Ｃを備えてもよい。可視光領域のリップル発生が低減される観点から、誘電体多層膜Ｃはたとえば近赤外線反射防止層（ＮＩＲ反射防止層）として設計されることが好ましい。
　誘電体多層膜Ｃの合計積層数は、好ましくは２５層以下、より好ましくは２０層以下、さらに好ましくは１７層以下であり、また好ましくは１０層以上である。入射角度が変化しても、可視波長帯域の反射を抑制するためには、特定の波長を反射するような膜ではなく、全波長帯域にわたり反射率が低い膜が好ましい。
　また、誘電体多層膜Ｃの膜厚（物理膜厚）は、全体として２００～６００μｍが好ましい。
　誘電体多層膜の形成には、例えば、ＣＶＤ法、スパッタリング法、真空蒸着法等の真空成膜プロセスや、スプレー法、ディップ法等の湿式成膜プロセス等を使用できる。
　本フィルタは、他の構成要素として、例えば、特定の波長域の光の透過と吸収を制御する無機微粒子等による吸収を与える構成要素（層）などを備えてもよい。無機微粒子の具体例としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅｓ）、ＡＴＯ（Ａｎｔｉｍｏｎｙ－ｄｏｐｅｄ　Ｔｉｎ　Ｏｘｉｄｅｓ）、タングステン酸セシウム、ホウ化ランタン等が挙げられる。ＩＴＯ微粒子、タングステン酸セシウム微粒子は、可視光の透過率が高く、かつ１２００ｎｍを超える赤外波長領域の広範囲に光吸収性を有するため、かかる赤外光の遮蔽性を必要とする場合に使用できる。
＜撮像装置＞
　本発明の実施形態に係る撮像装置は、上記本発明の実施形態に係る光学フィルタを備えることが好ましい。撮像装置は、固体撮像素子と、撮像レンズとをさらに備えることが好ましい。本実施形態に係る光学フィルタは、例えば、撮像レンズと固体撮像素子との間に配置されたり、撮像装置の固体撮像素子、撮像レンズ等に粘着剤層を介して直接貼着されたりして使用できる。可視光および特定の近赤外光の透過性に優れ、特定の近赤外光の遮蔽性を有し、高入射角であっても分光曲線がシフトしにくい本フィルタを備えることで、高入射角の光に対しても色再現性に優れた撮像装置が得られる。
　光学フィルタを撮像装置に実装する際は、通常、誘電体多層膜Ａをレンズ側に、誘電体多層膜Ｂをセンサ側となるようにすることが好ましい。
　以上に記載した通り、本明細書には下記の光学フィルタ等が開示されている。
〔１〕９００ｎｍ～１０００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する光吸収ガラス基板と、
　前記光吸収ガラス基板の一方の主面側に設けられた誘電体多層膜Ａと、
　前記光吸収ガラス基板の他方の主面側に設けられた誘電体多層膜Ｂと、
　前記光吸収ガラス基板の他方の主面側に設けられ、８００ｎｍより短波長領域に最大吸収波長を有する光吸収層と、を備えた光学フィルタであって、
　前記光学フィルタが下記分光特性（ｉ－１）および（ｉ－２）をすべて満たす光学フィルタ。
（ｉ－１）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が３．０％以下、最大反射率が５．０％以下
（ｉ－２）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が７．０％以下、最大反射率が１１．０％以下
〔２〕前記光学フィルタが下記分光特性（ｉ－３）～（ｉ－６）をすべて満たす〔１〕に記載の光学フィルタ。
（ｉ－３）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～６５０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が３．０％以下、最大反射率が１２．０％以下
（ｉ－４）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～６５０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が４．０％以下、最大反射率が１２．０％以下
（ｉ－５）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長１０５０ｎｍ～１１００ｎｍ、入射角５度での平均反射率が９８％以上
（ｉ－６）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長９７０ｎｍ～１１００ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が９８％以上
〔３〕前記光学フィルタが下記分光特性（ｉ－７）～（ｉ－８）をすべて満たす、〔１〕または〔２〕に記載の光学フィルタ。
（ｉ－７）前記誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が３．０％以下、最大反射率が５．０％以下
（ｉ－８）前記誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が７．０％以下、最大反射率が１０．０％以下
〔４〕前記光学フィルタが下記分光特性（ｉ－９）～（ｉ－１２）をすべて満たす、〔１〕～〔３〕のいずれかに記載の光学フィルタ。
（ｉ－９）前記誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～６５０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が２．０％以下、最大反射率が１０．０％以下
（ｉ－１０）前記誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～６５０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が４．０％以下、最大反射率が１１．０％以下
（ｉ－１１）前記誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長１０５０ｎｍ～１１５０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が９３．０％以上
（ｉ－１２）前記誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長１０００ｎｍ～１２００ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が９３．０％以上
〔５〕前記光学フィルタが下記分光特性（ｉ－１３）～（ｉ－１４）をすべて満たす、〔１〕～〔４〕のいずれかに記載の光学フィルタ。
　前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長Ｘｎｍにおける吸収損失量Ｘを以下に定義する。
（吸収損失量Ｘ）［％］＝１００－（入射角０度における透過率）－（入射角５度における反射率）
（ｉ－１３）波長６００～８３０ｎｍにおける吸収損失量６００－８３０の積分値が１５０００以上
（ｉ－１４）波長８５０～１０００ｎｍにおける吸収損失量８５０－１０００の積分値が６０００以上
〔６〕前記誘電体多層膜Ａが下記特性（ｉｉＡ－１）～（ｉｉＡ－２）をすべて満たす、〔１〕～〔５〕のいずれかに記載の光学フィルタ。
（ｉｉＡ－１）波長５００ｎｍにおける屈折率が１．８以上２．５以下である高屈折率材料からなる高屈折率層ＨＡと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．５超１．８未満である中屈折率材料からなる中屈折率層ＭＡと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．４以上１．５以下である低屈折率材料からなる低屈折率層ＬＡとを含み、（ＨＡ／ＭＡ／ＬＡ／ＭＡ）ｎ（ｎは２以上の自然数）で表される繰り返し積層構造を有する（ただし、中屈折率層ＭＡが高屈折率層ＨＡと低屈折率層ＬＡとからなる場合は等価膜として扱う。）
（ｉｉＡ－２）積層数が１～６０の範囲内である
〔７〕前記誘電体多層膜Ａが下記特性（ｉｉＡ－３）を満たす、〔１〕～〔６〕のいずれかに記載の光学フィルタ。
（ｉｉＡ－３）高屈折率層ＨＡの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＨＡとし、中屈折率層ＭＡの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＭＡとし、低屈折率層ＬＡの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＬＡとしたときに、（ａｎＱＨＡ／ｂｎＱＭＡ／ｃｎＱＬＡ／ｄｎＱＭＡ）ｎ（ｎは２以上の自然数）で表される繰り返し積層構造を有する
　ただし、前記ａｎの平均値は１．５以上２．７以下であり、前記ｂｎの平均値は０．３以上０．９以下であり、前記ｃｎの平均値は１．３以上２．１以下であり、前記ｄｎの平均値は０．３以上０．９以下である
〔８〕前記誘電体多層膜Ａが下記特性（ｉｉＡ－４）を満たす、〔１〕～〔７〕のいずれかに記載の光学フィルタ。
（ｉｉＡ－４）前記中屈折率層ＭＡが高屈折率層ＨＡと低屈折率層ＬＡとからなる等価膜である場合、高屈折率層ＨＡの物理膜厚の合計ＰＨＡと低屈折率層ＬＡの物理膜厚の合計ＰＬＡの比率（ＰＨＡ／ＰＬＡ）が０．６～０．８の範囲内である
〔９〕前記誘電体多層膜Ｂが下記特性（ｉｉＢ－１）～（ｉｉＢ－２）をすべて満たす、〔１〕～〔８〕のいずれかに記載の光学フィルタ。
（ｉｉＢ－１）波長５００ｎｍにおける屈折率が１．８以上２．５以下である高屈折率材料からなる高屈折率層ＨＢと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．５超１．８未満である中屈折率材料からなる中屈折率層ＭＢと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．４以上１．５以下である低屈折率材料からなる低屈折率層ＬＢとを含み、（ＨＢ／ＭＢ／ＬＢ／ＭＢ）ｎ（ｎは２以上の自然数）で表される繰り返し積層構造を有する（ただし、中屈折率層ＭＢが高屈折率層ＨＢと低屈折率層ＬＢとからなる場合は等価膜として扱う。）
（ｉｉＢ－２）積層数が１～６０の範囲内である
〔１０〕前記誘電体多層膜Ｂが下記特性（ｉｉＢ－３）を満たす、〔１〕～〔９〕のいずれかに記載の光学フィルタ。
（ｉｉＢ－３）高屈折率層ＨＢの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＨＢとし、中屈折率層ＭＢの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＭＢとし、低屈折率層ＬＢの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＬＢとしたときに、（ｅｎＱＨＢ／ｆｎＱＭＢ／ｇｎＱＬＢ／ｈｎＱＭＢ）ｎ（ｎは２以上の自然数）で表される繰り返し積層構造を有する
　ただし前記ｅｎの平均値は、２．０以上２．５以下であり、前記ｆｎの平均値は、０．４以上０．９以下であり、前記ｇｎの平均値は、１．０以上２．５以下であり、前記ｈｎの平均値は、０．４以上０．９以下である
〔１１〕前記誘電体多層膜Ｂが下記特性（ｉｉＢ－４）を満たす、〔１〕～〔１０〕のいずれかに記載の光学フィルタ。
（ｉｉＢ－４）中屈折率層ＭＢが高屈折率層ＨＢと低屈折率層ＬＢとからなる等価膜である場合、高屈折率層ＨＢの物理膜厚の合計ＰＨＢと低屈折率層ＬＢの物理膜厚の合計ＰＬＢの比率（ＰＨＢ／ＰＬＢ）が０．６～０．８の範囲内である
〔１２〕前記光吸収ガラス基板が下記特性（ｉｖ－１）を満たす、〔１〕～〔１１〕のいずれかに記載の光学フィルタ。
（ｉｖ－１）厚さ０．４ｍｍに換算したときに波長８００～１１００ｎｍにおいて、透過率が５０％となる波長のうち、長波長側の波長をλＩＲＬ５０とし、短波長側の波長をλＩＲＳ５０としたとき、λＩＲＬ５０とλＩＲＳ５０との差の絶対値ΔλＩＲ５０が１００～１６０ｎｍ
〔１３〕前記光吸収ガラス基板が酸化物基準のｍｏｌ％表示で、Ｙｂ２Ｏ３を２０ｍｏｌ％以上含有する、〔１〕～〔１２〕のいずれかに記載の光学フィルタ。
〔１４〕前記光吸収ガラス基板が酸化物基準のｍｏｌ％表示で、
　ＳｉＯ２を０．１～５０ｍｏｌ％、
　Ｂ２Ｏ３を１５～４０ｍｏｌ％、
　Ｐ２Ｏ５を０～１５ｍｏｌ％、および
　Ｙｂ２Ｏ３を２０～６０ｍｏｌ％含有する、〔１〕～〔１３〕のいずれかに記載の光学フィルタ。
〔１５〕前記光吸収層は、下記分光特性（ｖ－１）～（ｖ－２）をすべて満たす、〔１〕～〔１４〕のいずれかに記載の光学フィルタ。
（ｖ－１）波長６５０～７２０ｎｍの分光透過率曲線において内部透過率が３０％となる最短の波長をλＡ＿ＶＩＳ（３０％）とし、波長７２０～１０００ｎｍの分光透過率曲線において内部透過率が３０％となる最短の波長をλＡ＿ＩＲ（３０％）としたとき、下記関係式を満たす
　｜λＡ＿ＩＲ（３０％）－λＡ＿ＶＩＳ（３０％）｜≧１００ｎｍ
（ｖ－２）波長４５０ｎｍにおける光学濃度をＯＤ＿４５０とし、波長７２０ｎｍにおける光学濃度をＯＤ＿７２０としたとき、下記関係式を満たす
　ＯＤ＿７２０－ＯＤ＿４５０≧１
〔１６〕前記光吸収層は、６８０～８００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する色素を含有する、〔１〕～〔１５〕のいずれかに記載の光学フィルタ。
〔１７〕〔１〕～〔１６〕のいずれかに記載の光学フィルタを備えた撮像装置。
　次に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明する。
　各分光特性の測定には、紫外可視分光光度計（（株）日立ハイテクノロジーズ社製、ＵＨ－４１５０型）を用いた。
　なお、入射角度が特に明記されていない場合の分光特性は入射角０度（光学フィルタ主面に対し垂直方向）で測定した値である。
　各例で用いた色素は下記のとおりである。
化合物１（スクアリリウム化合物）：米国特許第５５４３０８６号公報に基づき合成した。
化合物２（スクアリリウム化合物）：国際公開第２０１７／１３５３５９号に基づき合成した。
化合物３（メロシアニン化合物）：独国特許公報第１０１０９２４３号明細書に基づき合成した。
化合物４（シアニン化合物）：Ｄｙｅｓ　ａｎｄ　ｐｉｇｍｅｎｔｓ　７３（２００７）　３４４－３５２に基づき合成した。
　なお、化合物１、化合物２、化合物４は近赤外線吸収色素（ＮＩＲ色素）であり、化合物３は近紫外線吸収色素（ＵＶ色素）である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
＜色素の分光特性＞
　上記色素（化合物１～４）をジクロロメタンに溶解して測定した吸収スペクトルにおける最大吸収波長を後述の表２に示す。
＜光吸収ガラス基板の分光特性＞
　光吸収ガラスとして、ガラスＡは、酸化物換算のｍｏｌ％表示で、ＳｉＯ２　７．５％、Ｂ２Ｏ３　２３．６％、Ｐ２０５　７．５％、Ｙｂ２Ｏ３　４７．２％、Ｇａ２Ｏ３　１１．８％、Ｌａ２Ｏ３　２．４％となるよう原料を秤量・混合し、内容積約４００ｃｃのルツボ内に入れて、大気雰囲気下、１４００～１６５０℃で２時間溶融した。その後、清澄、撹拌し、およそ３００℃～５００℃に予熱した縦１００ｍｍ×横５０ｍｍ×高さ２０ｍｍの長方形のモールドに鋳込み、約－１℃／分で室温まで徐冷して、縦４０ｍｍ×横３０ｍｍ×厚さ０．３～１．５ｍｍの範囲で所定の厚さに切断し、両面を光学研磨し、板状体のガラスを得た。
　また、ガラスＢは、非吸収ガラスであり、Ｄ２６３ガラス（Ｓｃｈｏｔｔ社製、ホウケイ酸ガラス、市販品）を用いた。
　なお、各ガラスの原料は、下記に示すものを使用した。
　ＳｉＯ２：酸化物
　Ｂ２Ｏ３：酸化物、ＰＢＯ４、およびＨ３ＢＯ３から選ばれる１種以上
　Ｐ２Ｏ５：Ｈ３ＰＯ４およびＰＢＯ４のいずれか１種以上
　ＧｅＯ２：酸化物
　ＺｒＯ２：酸化物
　Ｇａ２Ｏ３：酸化物
　Ｙｂ２Ｏ３：酸化物
　Ｌａ２Ｏ３：酸化物
　Ａｌ２Ｏ３：酸化物およびＡｌ（ＯＨ）３のいずれか１種以上
　なお、ガラスの原料は上記に限らず公知のものを用いることができる。
［評価］
　以上のようにして作製した各ガラス板について、分光光度計（日本分光社製、Ｖ－５７０）を用いて波長３００～１２００ｎｍの透過率（入射角０度）を測定し、下記式（１）を用いて厚さ０．４ｍｍの透過率に換算した。
　ガラスの透過率は、所定の厚さのガラスサンプルの入射角０度の実測透過率を元に、ガラス表面および裏面の反射率をそれぞれ８．１２％と仮定して、以下の式（１）を用いて厚さ０．４ｍｍの透過率に換算して求めた。式（１）においてＲは反射率である。
　　換算透過率（厚さ０．４ｍｍ）＝１００×（１－Ｒ）２×｛実測透過率（０ｄｅｇ）／（１００×（１－Ｒ）２）｝（０．４／実測厚さ）　　　式（１）
　換算された透過率から、波長９４０ｎｍの光の透過率、波長８５０ｎｍの光の透過率、波長４００ｎｍの光の透過率を得た。また、上記で測定した透過率から、波長８７０ｎｍ～波長９１０ｎｍおよび波長９９０～１０３０ｎｍの範囲にて、短波長側から長波長側の波長まで１ｎｍごとの透過率データを一次式で近似し、得られた近似式から透過率５０％となる波長を算出し、それぞれ短波長側をλＩＲＳ５０、長波長側をλＩＲＬ５０とした。
　分光特性の結果を表１に示す。
　また、ガラスＡ、ガラスＢの波長３５０～１２００ｎｍの光の透過率曲線を図３に示した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
＜例１－１～１－２：光吸収層の分光特性＞
　化合物１～４のいずれかの色素を、三菱ガス化学社製ポリイミド樹脂Ｃ－３Ｇ３０Ｇに溶解し、下記表に記載の濃度でそれぞれ混合し、５０℃、２時間撹拌・溶解することで塗工液を得た。得られた塗工液をアルカリガラス（ＳＣＨＯＴＴ社製、Ｄ２６３ガラス、厚み０．２ｍｍ）にスピンコート法により塗布し、下記表に示す膜厚の光吸収層を形成した。
　得られた光吸収層について、紫外可視分光光度計を用いて３５０～１２００ｎｍの波長範囲における分光透過率曲線および分光反射率曲線を測定した。
　結果を下記表２に示す。
　なお、下記表に示す分光特性については、空気界面とガラス界面での反射の影響を回避するため、内部透過率で評価した。
　内部透過率（％）＝｛実測透過率（０ｄｅｇ）／（１００－反射率（５ｄｅｇ））｝×１００
　また、例１－１および例１－２の光吸収層の分光透過率曲線を図４に示す。
　なお、例１－１～１－２は参考例である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
＜例２－１：光学フィルタの分光特性＞
　ガラス基板（光吸収ガラスＡ）の一方の主面に、ＳｉＯ２とＴｉＯ２を蒸着により交互に積層することで、誘電体多層膜Ａ１（反射膜）を形成した。
　ガラス基板（光吸収ガラスＡ）の他方の主面に、ＳｉＯ２とＴｉＯ２を蒸着により交互に積層することで、誘電体多層膜Ｂ１（反射膜）を形成した。
　例１－１の光吸収層と同様の組成で、誘電体多層膜Ｂ１の表面に樹脂溶液を塗工し、十分に加熱して有機溶媒を除去することで、厚み１．４μｍの光吸収層を形成した。
　光吸収層の表面に、ＳｉＯ２とＴｉＯ２を蒸着により交互に積層することで、誘電体多層膜Ｃ１（反射防止膜）を形成した。
　以上より、光学フィルタ２－１を製造した。
＜例２－２＞
　ガラス基板（光吸収ガラスＡ）の板厚を変更したこと以外は、例２－１と同様にして、光学フィルタ２－２を製造した。
＜例２－３＞
　ガラス基板（光吸収性のないガラスＢ）の一方の主面に、ＳｉＯ２とＴｉＯ２を蒸着により交互に積層することで、誘電体多層膜Ａ２（反射膜）を形成した。
　ガラス基板（光吸収性のないガラスＢ）の他方の主面に、ＳｉＯ２とＴｉＯ２を蒸着により交互に積層することで、誘電体多層膜Ｂ２（反射膜）を形成した。
　例１－２の光吸収層と同様の組成で、誘電体多層膜Ｂ２の表面に樹脂溶液を塗工し、十分に加熱して有機溶媒を除去することで、厚み１．４μｍの光吸収層を形成した。
　光吸収層の表面に、ＳｉＯ２とＴｉＯ２を蒸着により交互に積層することで、誘電体多層膜Ｃ１（反射防止膜）を形成した。
　以上より、光学フィルタ２－３を製造した。
＜例２－４＞
　ガラス基板（光吸収性のないガラスＢ）の一方の主面に、ＳｉＯ２とＴｉＯ２を蒸着により交互に積層することで、誘電体多層膜Ａ２（反射膜）を形成した。
　ガラス基板（光吸収性のないガラスＢ）の他方の主面に、ＳｉＯ２とＴｉＯ２を蒸着により交互に積層することで、誘電体多層膜Ｂ３（反射膜）を形成した。
　以上より、光学フィルタ２－４を製造した。
＜例２－５＞
　ガラス基板として光吸収ガラスＡを用いたこと以外は、例２－４と同様にして、光学フィルタ２－５を製造した。
　誘電体多層膜Ａ１～Ａ２、誘電体多層膜Ｂ１～Ｂ３、誘電体多層膜Ｃ１の構成を下記表３～８にそれぞれ示す。なお、番号（Ｎｏ．）の順番が積層順に相当する。
　誘電体多層膜Ａ１におけるａｎの平均値は１．９４であり、ｂｎの平均値は０．５６であり、ｃｎの平均値は１．７６であり、ｄｎの平均値は０．５６であった。
　誘電体多層膜Ｂ１におけるｅｎの平均値は２．２３であり、ｆｎの平均値は０．７０であり、ｇｎの平均値は１．２２であり、ｈｎの平均値は０．７０であった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000007
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000009
　上記より得られた各光学フィルタについて、紫外可視分光光度計を用いて３５０～１２００ｎｍの波長範囲における入射角０度での分光透過率曲線と、入射角５度、４０度での分光反射率曲線を測定した。
　得られた分光特性のデータから、下記表９に示す各特性を算出した。
　また、例２－１、例２－２、例２－４の各光学フィルタの分光透過率、反射率、吸収損失量の曲線を図５～１０にそれぞれ示す。
　なお、例２－１～例２－２は実施例であり、例２－３～例２－５は比較例である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000010
　上記結果および各光学フィルタの分光透過率曲線に示すように、例２－１、例２－２の光学フィルタは、可視光および８５０ｎｍ付近の近赤外光の透過性に優れ、それ以外の近赤外光、特に１０５０～１２００ｎｍの波長領域の遮光性に優れ、さらに、高入射角においても分光曲線のシフトが小さい光学フィルタであることが分かる。
　本発明を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本発明の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。本出願は２０２３年５月１７日出願の日本特許出願（特願２０２３－０８１６２３）に基づくものであり、その内容はここに参照として取り込まれる。
　本実施形態に係る光学フィルタは、可視光および特定の近赤外光の透過性に優れ、それ以外の近赤外光の遮蔽性に優れ、高入射角においても分光曲線のシフトが小さい分光特性を有する。近年、高性能化が進む、例えば、輸送機用のカメラやセンサ等の撮像装置の用途に有用である。
１Ａ、１Ｂ…光学フィルタ
１０…光吸収ガラス基板
２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ…誘電体多層膜
３０…光吸収層

Claims (17)

  1. 　９００ｎｍ～１０００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する光吸収ガラス基板と、
    　前記光吸収ガラス基板の一方の主面側に設けられた誘電体多層膜Ａと、
    　前記光吸収ガラス基板の他方の主面側に設けられた誘電体多層膜Ｂと、
    　前記光吸収ガラス基板の他方の主面側に設けられ、８００ｎｍより短波長領域に最大吸収波長を有する光吸収層と、を備えた光学フィルタであって、
    　前記光学フィルタが下記分光特性（ｉ－１）および（ｉ－２）をすべて満たす光学フィルタ。
    （ｉ－１）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が３．０％以下、最大反射率が５．０％以下
    （ｉ－２）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が７．０％以下、最大反射率が１１．０％以下
  2. 　前記光学フィルタが下記分光特性（ｉ－３）～（ｉ－６）をすべて満たす請求項１に記載の光学フィルタ。
    （ｉ－３）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～６５０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が３．０％以下、最大反射率が１２．０％以下
    （ｉ－４）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～６５０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が４．０％以下、最大反射率が１２．０％以下
    （ｉ－５）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長１０５０ｎｍ～１１００ｎｍ、入射角５度での平均反射率が９８％以上
    （ｉ－６）前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長９７０ｎｍ～１１００ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が９８％以上
  3. 　前記光学フィルタが下記分光特性（ｉ－７）～（ｉ－８）をすべて満たす、請求項１に記載の光学フィルタ。
    （ｉ－７）前記誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が３．０％以下、最大反射率が５．０％以下
    （ｉ－８）前記誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長８２０ｎｍ～８７０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が７．０％以下、最大反射率が１０．０％以下
  4. 　前記光学フィルタが下記分光特性（ｉ－９）～（ｉ－１２）をすべて満たす、請求項３に記載の光学フィルタ。
    （ｉ－９）前記誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～６５０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が２．０％以下、最大反射率が１０．０％以下
    （ｉ－１０）前記誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長４２０ｎｍ～６５０ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が４．０％以下、最大反射率が１１．０％以下
    （ｉ－１１）前記誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長１０５０ｎｍ～１１５０ｎｍ、入射角５度での平均反射率が９３．０％以上
    （ｉ－１２）前記誘電体多層膜Ｂ側を入射方向としたとき、波長１０００ｎｍ～１２００ｎｍ、入射角４０度での平均反射率が９３．０％以上
  5. 　前記光学フィルタが下記分光特性（ｉ－１３）～（ｉ－１４）をすべて満たす、請求項１に記載の光学フィルタ。
    　前記誘電体多層膜Ａ側を入射方向としたとき、波長Ｘｎｍにおける吸収損失量Ｘを以下に定義する。
    （吸収損失量Ｘ）［％］＝１００－（入射角０度における透過率）―（入射角５度における反射率）
    （ｉ－１３）波長６００～８３０ｎｍにおける吸収損失量６００－８３０の積分値が１５０００以上
    （ｉ－１４）波長８５０～１０００ｎｍにおける吸収損失量８５０－１０００の積分値が６０００以上
  6. 　前記誘電体多層膜Ａが下記特性（ｉｉＡ－１）～（ｉｉＡ－２）をすべて満たす、請求項１に記載の光学フィルタ。
    （ｉｉＡ－１）波長５００ｎｍにおける屈折率が１．８以上２．５以下である高屈折率材料からなる高屈折率層ＨＡと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．５超１．８未満である中屈折率材料からなる中屈折率層ＭＡと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．４以上１．５以下である低屈折率材料からなる低屈折率層ＬＡとを含み、（ＨＡ／ＭＡ／ＬＡ／ＭＡ）ｎ（ｎは２以上の自然数）で表される繰り返し積層構造を有する
    （ただし、中屈折率層ＭＡが高屈折率層ＨＡと低屈折率層ＬＡとからなる場合は等価膜として扱う。）
    （ｉｉＡ－２）積層数が１～６０の範囲内である
  7. 　前記誘電体多層膜Ａが下記特性（ｉｉＡ－３）を満たす、請求項６に記載の光学フィルタ。
    （ｉｉＡ－３）高屈折率層ＨＡの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＨＡとし、中屈折率層ＭＡの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＭＡとし、低屈折率層ＬＡの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＬＡとしたときに、（ａｎＱＨＡ／ｂｎＱＭＡ／ｃｎＱＬＡ／ｄｎＱＭＡ）ｎ（ｎは２以上の自然数）で表される繰り返し積層構造を有する
    　ただし、前記ａｎの平均値は１．５以上２．７以下であり、前記ｂｎの平均値は０．３以上０．９以下であり、前記ｃｎの平均値は１．３以上２．１以下であり、前記ｄｎの平均値は０．３以上０．９以下である
  8. 　前記誘電体多層膜Ａが下記特性（ｉｉＡ－４）を満たす、請求項６に記載の光学フィルタ。
    （ｉｉＡ－４）前記中屈折率層ＭＡが高屈折率層ＨＡと低屈折率層ＬＡとからなる等価膜である場合、高屈折率層ＨＡの物理膜厚の合計ＰＨＡと低屈折率層ＬＡの物理膜厚の合計ＰＬＡの比率（ＰＨＡ／ＰＬＡ）が０．６～０．８の範囲内である
  9. 　前記誘電体多層膜Ｂが下記特性（ｉｉＢ－１）～（ｉｉＢ－２）をすべて満たす、請求項１に記載の光学フィルタ。
    （ｉｉＢ－１）波長５００ｎｍにおける屈折率が１．８以上２．５以下である高屈折率材料からなる高屈折率層ＨＢと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．５超１．８未満である中屈折率材料からなる中屈折率層ＭＢと、波長５００ｎｍにおける屈折率が１．４以上１．５以下である低屈折率材料からなる低屈折率層ＬＢとを含み、（ＨＢ／ＭＢ／ＬＢ／ＭＢ）ｎ（ｎは２以上の自然数）で表される繰り返し積層構造を有する（ただし、中屈折率層ＭＢが高屈折率層ＨＢと低屈折率層ＬＢとからなる場合は等価膜として扱う。）
    （ｉｉＢ－２）積層数が１～６０の範囲内である
  10. 　前記誘電体多層膜Ｂが下記特性（ｉｉＢ－３）を満たす、請求項９に記載の光学フィルタ。
    （ｉｉＢ－３）高屈折率層ＨＢの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＨＢとし、中屈折率層ＭＢの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＭＢとし、低屈折率層ＬＢの波長５００ｎｍにおけるＱＷＯＴをＱＬＢとしたときに、（ｅｎＱＨＢ／ｆｎＱＭＢ／ｇｎＱＬＢ／ｈｎＱＭＢ）ｎ（ｎは２以上の自然数）で表される繰り返し積層構造を有する
    　ただし前記ｅｎの平均値は、２．０以上２．５以下であり、前記ｆｎの平均値は、０．４以上０．９以下であり、前記ｇｎの平均値は、１．０以上２．５以下であり、前記ｈｎの平均値は、０．４以上０．９以下である
  11. 　前記誘電体多層膜Ｂが下記特性（ｉｉＢ－４）を満たす、請求項９に記載の光学フィルタ。
    （ｉｉＢ－４）中屈折率層ＭＢが高屈折率層ＨＢと低屈折率層ＬＢとからなる等価膜である場合、高屈折率層ＨＢの物理膜厚の合計ＰＨＢと低屈折率層ＬＢの物理膜厚の合計ＰＬＢの比率（ＰＨＢ／ＰＬＢ）が０．６～０．８の範囲内である
  12. 　前記光吸収ガラス基板が下記特性（ｉｖ－１）を満たす、請求項１に記載の光学フィルタ。
    （ｉｖ－１）厚さ０．４ｍｍに換算したときに波長８００～１１００ｎｍにおいて、透過率が５０％となる波長のうち、長波長側の波長をλＩＲＬ５０とし、短波長側の波長をλＩＲＳ５０としたとき、λＩＲＬ５０とλＩＲＳ５０との差の絶対値ΔλＩＲ５０が１００～１６０ｎｍ
  13. 　前記光吸収ガラス基板が酸化物基準のｍｏｌ％表示で、Ｙｂ２Ｏ３を２０ｍｏｌ％以上含有する、請求項１に記載の光学フィルタ。
  14. 　前記光吸収ガラス基板が酸化物基準のｍｏｌ％表示で、
    　ＳｉＯ２を０．１～５０ｍｏｌ％、
    　Ｂ２Ｏ３を１５～４０ｍｏｌ％、
    　Ｐ２Ｏ５を０～１５ｍｏｌ％、および
    　Ｙｂ２Ｏ３を２０～６０ｍｏｌ％含有する、請求項１に記載の光学フィルタ。
  15. 　前記光吸収層は、下記分光特性（ｖ－１）～（ｖ－２）をすべて満たす、請求項１に記載の光学フィルタ。
    （ｖ－１）波長６５０～７２０ｎｍの分光透過率曲線において内部透過率が３０％となる最短の波長をλＡ＿ＶＩＳ（３０％）とし、波長７２０～１０００ｎｍの分光透過率曲線において内部透過率が３０％となる最短の波長をλＡ＿ＩＲ（３０％）としたとき、下記関係式を満たす
    　｜λＡ＿ＩＲ（３０％）－λＡ＿ＶＩＳ（３０％）｜≧１００ｎｍ
    （ｖ－２）波長４５０ｎｍにおける光学濃度をＯＤ＿４５０とし、波長７２０ｎｍにおける光学濃度をＯＤ＿７２０としたとき、下記関係式を満たす
    　ＯＤ＿７２０－ＯＤ＿４５０≧１
  16. 　前記光吸収層は、６８０～８００ｎｍの波長領域に最大吸収波長を有する色素を含有する、請求項１に記載の光学フィルタ。
  17. 　請求項１～１６のいずれか１項に記載の光学フィルタを備えた撮像装置。
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