WO2023089703A1 - エアロゾル生成システム - Google Patents

Abstract

エアロゾル源（５０４）及びサセプタ（５０５～５０５Ｆ）を含むスティック（５００～５００Ｆ）と、エアロゾル生成装置（１００）と、を備えるエアロゾル生成システムであって、エアロゾル生成装置（１００）は、電源（１０）と、電源（１０）から供給される電力を高周波電力へ変換する変換回路（１３５）と、スティック（５００）が開口を介して挿抜可能な空洞（１３１）と、第１磁性体（１３２）と、第１磁性体（１３２）に巻き回されており、且つ、高周波電力が供給される誘導コイル（１３３）と、を備える。空洞（１３１）にスティック（５００）が挿入された状態において、第１磁性体（１３３）の長手方向及びサセプタ（５０５）の長手方向は、スティック（５００）の挿抜方向と一致し、サセプタ（５０５）は、誘導コイル（１３３）から見て、前記開口側に配置される。

Description

エアロゾル生成システム

　本発明は、スティックとエアロゾル生成装置とを備えるエアロゾル生成システムに関する。

　加熱効率が優れる誘導加熱を用いたエアロゾル生成装置が知られている（特許文献１－５）。誘導加熱は抵抗加熱と比べて必要な電気部品が多いため、エアロゾル生成装置のサイズが大きくなりやすい。特許文献１及び２に記載のエアロゾル生成装置は、液体を加熱することでエアロゾルを発生させるものであり、エアロゾル源を含むスティックを加熱するものではない。一方、特許文献３から５に記載のエアロゾル生成装置は、エアロゾル源を含むスティックを加熱するものである。

日本国特表２０１７－５０６９１５号公報 日本国特開２０２１－０６５２３６号公報 日本国特許第６６９０８６２号公報 日本国特表２０１９－５２６２４７号公報 日本国特開２０２０－１５０９５９号公報

　しかしながら、特許文献３から５に記載のエアロゾル生成装置では、サセプタと、強磁性体に巻き回される誘導コイルとを径方向に配置するため、エアロゾル生成装置が径方向に大型化してしまう。ユーザはエアロゾル生成装置を径方向に掴むため、エアロゾル生成装置の使い勝手や商品性の向上には、エアロゾル生成装置を径方向に太くならないようにすることが重要である。

　本発明は、エアロゾル生成装置が径方向に太くなることを抑制しながら、スティックを全体に亘って加熱することが可能なエアロゾル生成システムを提供する。

　本発明は、
　エアロゾル源及びサセプタを含むスティックと、
　エアロゾル生成装置と、を備えるエアロゾル生成システムであって、
　前記エアロゾル生成装置は、
　電源と、
　前記電源から供給される電力を高周波電力へ変換する変換回路と、
　前記スティックが開口を介して挿抜可能な空洞と、
　第１磁性体と、
　前記第１磁性体に巻き回されており、且つ、前記高周波電力が供給される誘導コイルと、を備え、
　前記空洞に前記スティックが挿入された状態において、
　前記第１磁性体の長手方向及び前記サセプタの長手方向は、前記スティックの挿抜方向と一致し、且つ、
　前記サセプタは、前記誘導コイルから見て、前記開口側に配置される。

　本発明によれば、エアロゾル生成装置が径方向に太くなることを抑制しながら、スティックを全体に亘って加熱することができる。

非燃焼式吸引器の斜視図である。 非燃焼式吸引器にスティックを装着したエアロゾル生成システムの斜視図である。 非燃焼式吸引器の制御構成を示すブロック図である。 第１実施形態のスティック及び加熱部を示す断面図である。 第１実施形態のスティックの断面図である。 第１実施形態のスティックに収容された第２磁性体及びサセプタと加熱部を示す斜視図である。 第２実施形態のスティックの断面図である。 第３実施形態のスティックの断面図である。 第４実施形態のスティックの断面図である。 第５実施形態のスティックの断面図である。 第６実施形態のスティック及び加熱部を示す断面図である。 第６実施形態のスティックに収容された第２磁性体及びサセプタと加熱部を示す斜視図である。 第６実施形態のサセプタにおける誘導電流の流れを示す説明図である。

（エアロゾル生成システム）
　以下、本発明におけるエアロゾル生成システムについて図面を参照しながら説明する。このエアロゾル生成システム１は、エアロゾル生成装置である非燃焼式吸引器１００（以下、単に、「吸引器１００」ともいう）と、吸引器１００によって加熱されるスティック５００と、を備える。

　図１は、吸引器１００の全体構成を示す斜視図である。図２は、吸引器１００にスティック５００を装着したエアロゾル生成システム１の斜視図である。以下の説明では、互いに直交する３方向を、便宜上、前後方向、左右方向、上下方向とした、３次元空間の直交座標系を用いて説明する。図中、前方をＦｒ、後方をＲｒ、右側をＲ、左側をＬ、上方をＵ、下方をＤ、として示す。

　図１及び図２に示すように、吸引器１００は、エアロゾル源及び香味源を含む充填物などを有する香味成分生成基材の一例としての細長い略円柱状のスティック５００を加熱することによって、香味を含むエアロゾルを生成するように構成される。

（スティックの概要）
　スティック５００は、所定温度で加熱されてエアロゾルを生成するエアロゾル源を含有する充填物を含む。エアロゾル源の種類は、特に限定されず、用途に応じて種々の天然物からの抽出物質及び／又はそれらの構成成分を選択することができる。エアロゾル源は、固体であってもよいし、例えば、グリセリン、プロピレングリコールといった多価アルコールや、水などの液体であってもよい。エアロゾル源は、加熱することによって香味成分を放出するたばこ原料やたばこ原料由来の抽出物等の香味源を含んでいてもよい。香味成分が付加される気体はエアロゾルに限定されず、例えば不可視の蒸気が生成されてもよい。

　スティック５００の充填物は、香味源としてたばこ刻みを含有し得る。たばこ刻みの材料は特に限定されず、ラミナや中骨等の公知の材料を用いることができる。充填物は、１種又は２種以上の香料を含んでいてもよい。当該香料の種類は特に限定されないが、良好な喫味の付与の観点から、好ましくはメンソールである。香味源は、たばこ以外の植物（例えば、ミント、漢方、又はハーブ等）を含有し得る。用途によっては、スティック５００は香味源を含まなくてもよい。

（非燃焼式吸引器の概要）
　図１～図３に示すように、吸引器１００は、ケース１１０と、ケース１１０の内部空間に配置される電源１０、制御部１２０、及び加熱部１３０、を備える。ケース１１０は、前面、後面、左面、右面、上面、及び下面を備える略直方体形状を有する。電源１０は、充電可能な二次電池、電気二重層キャパシタ等であり、好ましくは、リチウムイオン二次電池である。電源１０の電解質は、ゲル状の電解質、電解液、固体電解質、イオン液体の１つ又はこれらの組み合わせで構成されていてもよい。

　図２に示すように、ケース１１０の上面には、スティック５００を挿入可能な開口１１１と、開口１１１を開閉するスライダ１１９と、が設けられる。スライダ１１９は、開口１１１を閉じる位置（図１参照）と開口１１１を開放する位置（図２参照）との間を、前後方向に移動可能にケース１１０に結合される。

　図３に示すように、制御部１２０の入力側には、電源１０と、パフ（吸気）動作を検出する吸気センサ１５と、スティック５００の挿入を検出する内部スイッチ１６と、ケース１１０の外部に配置され、ユーザによって操作される外部スイッチ１７と、が接続され、制御部１２０の出力側には、加熱部１３０が接続されている。

　また、制御部１２０の内部には、ハードウェアとソフトウェアとの協働により実現される機能的な構成として、内部スイッチ１６や外部スイッチ１７のスイッチ信号などに基づいて加熱部１３０を制御する加熱制御部１２２と、加熱部１３０の加熱継続時間やパフ動作の回数などを記憶するメモリー１２３と、電源１０の充放電を管理する電源制御部１２４と、を備える。

　なお、制御部１２０は、具体的にはプロセッサ（コンピュータ）である。このプロセッサの構造は、より具体的には、半導体素子などの回路素子を組み合わせた電気回路である。また、吸気センサ１５は、コンデンサマイクロフォンや圧力センサ等から構成されていてもよい。さらに、吸気センサ１５でパフを検知する代わりに、パフによる加熱部１３０の温度変化をサーミスタで感知してパフを検知してもよい。

　加熱部１３０は、開口１１１から挿入されたスティック５００を燃焼させずに加熱する。スティック５００が加熱されると、スティック５００に含まれるエアロゾル源からエアロゾルが生成され、スティック５００に含まれる香味源の香味が当該エアロゾルに付加される。ユーザは、開口１１１から突出したスティック５００の吸口５０２を咥えて吸引することにより、香味を含むエアロゾルを吸引することができる。

（加熱部及びスティックの詳細）
　つぎに、加熱部１３０及びスティック５００の詳細について、図４～図６を参照して説明する。加熱部１３０は、電源１０から供給される電力を高周波電力へ変換する変換回路１３５（図３参照）と、開口１１１を介してスティック５００を挿抜可能な空洞１３１と、フェライトコアなどの強磁性体で構成される第１磁性体１３２と、第１磁性体１３２に巻き回されており、且つ、高周波電力が供給される誘導コイル１３３と、を備える。

　スティック５００は、空洞１３１に挿入された状態において、挿抜方向の一方側である開口１１１側の端部に位置する吸口５０２（フィルタ）と、挿抜方向の他方側である誘導コイル１３３側の端部に位置し、空洞１３１の底面部１３１ａに接続されるプラグ５０３と、吸引器１００の誘導コイル１３３が発生させる磁束によって誘導電流（渦電流）が流れ、且つ、誘導電流をジュール熱に変換（ヒステリシス損失による発熱）するサセプタ５０５と、サセプタ５０５の周囲に配置されたエアロゾル源５０４と、エアロゾル源５０４と吸口５０２との間に位置し、エアロゾルを冷却する冷却流路５０６と、を備える。なお、本実施形態のエアロゾル源５０４は、香味源を含むものである。

　吸引器１００の加熱部１３０及びスティック５００のサセプタ５０５は、いわゆる誘導加熱でエアロゾル源５０４を加熱する。誘導コイル１３３が発生させる磁束の多くは、スティック５００のサセプタ５０５に到達し、サセプタ５０５に誘導電流を発生させる。誘導加熱において第１磁性体１３２を使用することで、誘導コイル１３３が生成した磁束の指向性が第１磁性体１３２によって向上し、サセプタ５０５を貫く磁束密度の増加に伴って誘導加熱の効率が高められる。さらに、誘導コイル１３３が生成した磁束が第１磁性体１３２を貫くことで第１磁性体１３２が磁化し、第１磁性体１３２から発せられる磁束によってもサセプタ５０５を貫く磁束密度が増加する。

　第１磁性体１３２は、長手方向に直交する面における断面が円形状である円柱形状の強磁性部材であり、その外周側に誘導コイル１３３が巻き回される。サセプタ５０５は、長手方向に直交する面の断面が円形状の導電性部材である。なお、第１磁性体１３２及びサセプタ５０５は、円柱形状に限らず、角柱形状、又は平板形状の強磁性部材であってもよい。空洞１３１にスティック５００が挿入された状態では、第１磁性体１３２の長手方向及びサセプタ５０５の長手方向がスティック５００の挿抜方向と一致し、且つ、サセプタ５０５が誘導コイル１３３から見て開口１１１側に配置される。

　以上のように構成された加熱部１３０及びスティック５００によれば、誘導コイル１３３及びサセプタ５０５がスティック５００の挿抜方向に一列に並べられる。したがって、吸引器１００が径方向に太くなることを抑制しながら、第１磁性体１３２により増幅された磁束をサセプタ５０５に通すことができる。これにより、吸引器１００を小型化しつつ、スティック５００を全体に亘って加熱することができる。

　また、第１磁性体１３２は、長手方向に直交する面の断面が円形状を有するので、第１磁性体１３２及び誘導コイル１３３により生成される磁場が等方性を有する。これにより、スティック５００の加熱効率を、空洞１３１に挿入する際のスティック５００のローリング方向の角度に対して一定にできる。第１磁性体１３２は、例えばフェライトで構成される。なお、第１磁性体１３２の断面は、完全な真円や楕円形状でなく、その一部に直線を含んだような形状でもよい。

　また、本実施形態では、誘導コイル１３３及びサセプタ５０５をスティック５００の挿抜方向に一列に並べて配置するにあたり、図４及び図６に示すように、誘導コイル１３３の中心線Ｃ１を開口１１１側に延長した仮想線Ｃ２が、サセプタ５０５の中心線Ｃ３に重なるようにしている。このようにすると、誘導コイル１３３及び第１磁性体１３２が発生させる磁束がサセプタ５０５の中心を通りやすくなり、サセプタ５０５に多くの磁束を通すことが可能になる。

　また、スティック５００は、図４～図６に示すように、サセプタ５０５の内部に長手方向がスティック５００の挿抜方向に一致するように配置された第２磁性体５０７を備える。本実施形態の第２磁性体５０７は、長手方向に直交する面における断面が円形状である円柱形状の強磁性部材であり、空洞１３１にスティック５００が挿入された状態において、第１磁性体１３２とスティック５００の挿抜方向に一列に並ぶように配置される。第２磁性体５０７は、例えばフェライトで構成される。なお、第２磁性体５０７の断面は、完全な真円や楕円形状でなく、その一部に直線を含んだような形状でもよい。

　このような第２磁性体５０７を設けると、第２磁性体５０７を介してサセプタ５０５により多くの磁束を届けることができるので、スティック５００の加熱効率を向上できる。即ち、誘導コイル１３３が生成した磁束が第１磁性体１３２及び第２磁性体５０７を貫くことで第１磁性体１３２及び第２磁性体５０７が磁化し、第１磁性体１３２及び第２磁性体５０７から発せられる磁束によってもサセプタ５０５を貫く磁束密度が増加する。また、第１磁性体１３２及び第２磁性体５０７の長手方向に直交する面の断面は、いずれも円形状を有するので、第１磁性体１３２、第２磁性体５０７及び誘導コイル１３３により生成される磁場が等方性を有する。これにより、スティック５００の加熱効率が、空洞１３１に挿入する際のスティック５００のローリング方向の角度に対して一定にできる。なお、第２磁性体５０７も、円柱形状に限らず、角柱形状、又は平板形状の強磁性部材であってもよい。

　また、第２磁性体５０７の長手方向に直交する面における第２磁性体５０７の断面積は、第１磁性体１３２の長手方向に直交する面における第１磁性体１３２の断面積以上であることが好ましい。このようにすると、第１磁性体１３２及び誘導コイル１３３によって生成された磁束の多くをサセプタ５０５に届けることができるので、スティック５００の加熱効率を向上できる。

　また、第２磁性体５０７は、誘導コイル１３３側の端部（以下、他端部という場合がある）がプラグ５０３まで伸びている。例えば、図４及び図５に示すように、第２磁性体５０７の他端部は、プラグ５０３を貫通してスティック５００の他端まで伸びる。このようにすると、プラグ５０３まで第２磁性体５０７が伸びない場合に比べて第１磁性体と第２磁性体の間が空きにくくなる。これにより、多くの磁束をサセプタ５０５に届けることができる。なお、本発明において「ＡがＢまで伸びる」とは、Ａの少なくとも一部がスティック５００の挿抜方向においてＢとオーバーラップすることを意味し、「ＡがＢまで伸びない」とは、Ａが挿抜方向においてＢとオーバーラップしないことを意味する。「ＡがＢまで伸びない」には、Ａの端部がＢの端部と当接することを含むことに留意されたい。

　また、図４及び図５に示すように、サセプタ５０５も、第２磁性体５０７と同様に誘導コイル１３３側の端部（以下、他端部という場合がある）がプラグ５０３まで伸びており、さらにプラグ５０３を貫通してスティック５００の他端まで伸びている。このようにすると、サセプタ５０５をプラグ５０３まで伸ばさない場合に比べて、漏れ磁束を低減できるので、スティック５００の加熱効率を向上できる。

（第２実施形態）
　つぎに、第２～第６実施形態のスティック５００Ｂ～５００Ｆについて、図７～図１３を参照して説明する。ただし、前記実施形態と共通の構成については、前記実施形態と同じ符号を用いることで、前記実施形態の説明を援用する場合がある。

　第２実施形態のスティック５００Ｂは、図７に示すように、サセプタ５０５Ｂの他端部及び第２磁性体５０７Ｂの他端部がプラグ５０３Ｂまで伸びない点が第１実施形態と相違している。即ち、スティック５００Ｂでは、サセプタ５０５Ｂの他端部及び第２磁性体５０７Ｂの他端部がプラグ５０３Ｂと当接し、プラグ５０３Ｂがサセプタ５０５Ｂの他端部及び第２磁性体５０７Ｂの他端部を覆う。

　このような第２実施形態によれば、サセプタ５０５Ｂがエアロゾル生成に寄与しないプラグ５０３Ｂを加熱しないことで、エアロゾル生成に寄与する箇所（エアロゾル源５０４）を集中して加熱できるので、エアロゾルの生成効率を向上できる。また、プラグ５０３Ｂによってサセプタ５０５Ｂ及び第２磁性体５０７Ｂがスティック５００Ｂから脱落することを抑制できる。

（第３実施形態）
　第３実施形態のスティック５００Ｃは、図８に示すように、サセプタ５０５Ｃの他端部がプラグ５０３Ｃまで伸びない点が第１実施形態と相違し、第２磁性体５０７Ｃの他端部がプラグ５０３Ｃまで伸びている点が第２実施形態と相違している。即ち、スティック５００Ｃでは、サセプタ５０５Ｃの他端部がプラグ５０３Ｃと当接し、プラグ５０３Ｃがサセプタ５０５Ｃの他端部を覆う。また、第２磁性体５０７Ｃの他端部がプラグ５０３Ｃまで伸びており、さらにプラグ５０３Ｃを貫通してスティック５００の他端まで伸びている。

　このような第３実施形態によれば、サセプタ５０５Ｃがエアロゾル生成に寄与しないプラグ５０３Ｃを加熱しないことで、エアロゾル生成に寄与する箇所（エアロゾル源５０４）を集中して加熱できるので、エアロゾルの生成効率を向上できる。また、プラグ５０３Ｃまで第２磁性体５０７Ｃが伸びない場合に比べて、第１磁性体１３２からより多くの磁束を第２磁性体５０７Ｃを介してサセプタ５０５Ｂに届けることができる。また、プラグ５０３Ｃによってサセプタ５０５Ｃがスティック５００Ｃから脱落することを抑制できる。

（第４実施形態）
　第４実施形態のスティック５００Ｄは、図９に示すように、サセプタ５０５Ｄの内部に磁性体を含まない点が第１～第３実施形態と相違している。即ち、スティック５００Ｄでは、サセプタ５０５Ｄの他端部のみがプラグ５０３Ｄまで伸びており、さらにプラグ５０３Ｄを貫通してスティック５００の他端まで伸びている。

　このような第４実施形態によれば、サセプタ５０５Ｄの内部に磁性体を設ける場合に比べて、スティック５００Ｄの構造が単純になるので、スティック５００Ｄのコストを低減できる。また、サセプタ５０５Ｄは、プラグ５０３Ｄまで伸びるので、サセプタ５０５Ｄをプラグ５０３Ｄまで伸ばさない場合に比べて、第１磁性体１３２からサセプタ５０５Ｂに届けることができるので、漏れ磁束を低減し、スティック５００Ｄの加熱効率を向上できる。

（第５実施形態）
　第５実施形態のスティック５００Ｅは、図１０に示すように、サセプタ５０５Ｅの内部に磁性体を含まない点が第１～第３実施形態と相違し、サセプタ５０５Ｅがプラグ５０３Ｅまで伸びていない点が第４実施形態と相違している。即ち、スティック５００Ｅでは、サセプタ５０５Ｅの他端部のみがプラグ５０３Ｅと当接し、プラグ５０３Ｅがサセプタ５０５Ｅの他端部を覆う。

　このような第５実施形態によれば、サセプタ５０５Ｅの内部に磁性体を設ける場合に比べて、スティック５００Ｅの構造が単純になるので、スティック５００Ｅのコストを低減できる。また、サセプタ５０５Ｅがエアロゾル生成に寄与しないプラグ５０３Ｅを加熱しないことで、エアロゾル生成に寄与する箇所（エアロゾル源５０４）を集中して加熱できるので、エアロゾルの生成効率を向上できる。また、プラグ５０３Ｅによってサセプタ５０５Ｅがスティック５００Ｅから脱落することを抑制できる。

（第６実施形態）
　第６実施形態のスティック５００Ｆは、図１１及び図１２に示すように、サセプタ５０５Ｆが長手方向（スティック５００Ｆの挿抜方向）に延びるスリット５０５ａを有する点が第１実施形態と相違している。第１実施形態では、第１磁性体１３２及び第２磁性体５０７によってサセプタ５０５を貫く磁束密度が増加するが、それでもサセプタ５０５において誘導コイル１３３に近い方から遠い方に向かうにしたがって磁束密度が低下し得る。このような磁束密度のかたよりが発生すると、誘導コイル１３３に近いサセプタ５０５の根本近くに誘導電流が集中し、サセプタ５０５の根本近くで温度が高く、誘導コイル１３３から離れるにしたがって温度が低くなる温度勾配がサセプタ５０５に発生する。サセプタ５０５に温度勾配が発生すると、スティック５００を均一に加熱することができず、エアロゾルの生成効率が悪化し得る。

　そこで、本実施形態では、サセプタ５０５Ｆに長手方向に延びるスリット５０５ａを設けている。これにより、サセプタ５０５Ｆ内の誘導電流の流れをスリット５０５ａによって改善し、サセプタ５０５Ｆの長手方向に生じやすい温度勾配を緩和できる。

　また、サセプタ５０５Ｆは、開口１１１側の端部に突起５０５ｂを有する。スリット５０５ａは、突起５０５ｂまでは伸びないことが好ましい。また、スリット５０５ａは、誘導コイル１３３側の端部がサセプタ５０５Ｆの誘導コイル１３３側の端部まで伸びるように形成されることが好ましい。このようにすると、図１３に示すように、サセプタ５０５Ｆの誘導コイル１３３側に集中しやすい誘導電流は、スリット５０５ａを迂回するため開口１１１側に回りこむ。これにより、サセプタ５０５Ｆの根本側から先端側に誘導電流を流すことができ、サセプタ５０５の温度勾配をより緩和することが可能となる。なお、サセプタ５０５Ｆが突起５０５ｂを有している場合を例示したが、必ずしも突起５０５ｂを有している必要はない。この場合、スリット５０５ａは、開口１１１側の端部まで伸びないことが好ましい。また、スリット５０５ａの長さは、長手方向における全長の３／４以下、若しくは１／２以下であることが好ましい。

　スリット５０５ａには、絶縁性を有する部材（図示せず）が設けることができる。言い換えると、絶縁性を有する部材をスリット５０５ａに充填してもよい。具体的一例として、エポキシ樹脂を、この絶縁性を有する部材に用いてもよい。  このようにすると、スリット５０５ａからの異物の侵入を抑制できるので、吸引器１００の耐久性を向上させることができる。なお、図１１～１３に示す例では、スリット５０５ａは、円周方向に１箇所のみであったが、２箇所以上設けられていてもよい。さらに、スリット５０５ａは、第２～第５実施形態のサセプタ５０５Ｂ～５０５Ｅにも適用することができる。また、エポキシ樹脂よりも耐熱性が優れるセラミックやガラスを、絶縁性を有する部材に用いてもよい。  

　以上、図面を参照しながら各種の実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されないことは言うまでもない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された範疇内において、各種の変更例又は修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。また、発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上記実施の形態における各構成要素を任意に組み合わせてもよい。

　本明細書には少なくとも以下の事項が記載されている。なお、括弧内には、上記した実施形態において対応する構成要素等を示しているが、これに限定されるものではない。

　（１）　エアロゾル源（エアロゾル源５０４）及びサセプタ（サセプタ５０５～５０５Ｆ）を含むスティック（スティック５００～５００Ｆ）と、
　エアロゾル生成装置（非燃焼式吸引器１００）と、を備えるエアロゾル生成システム（エアロゾル生成システム１）であって、
　前記エアロゾル生成装置は、
　電源（電源１０）と、
　前記電源から供給される電力を高周波電力へ変換する変換回路（変換回路１３５）と、
　前記スティックが開口を介して挿抜可能な空洞（空洞１３１）と、
　第１磁性体（第１磁性体１３２）と、
　前記第１磁性体に巻き回されており、且つ、前記高周波電力が供給される誘導コイル（誘導コイル１３３）と、を備え、
　前記空洞に前記スティックが挿入された状態において、
　前記第１磁性体の長手方向及び前記サセプタの長手方向は、前記スティックの挿抜方向と一致し、且つ、
　前記サセプタは、前記誘導コイルから見て、前記開口側に配置される、
　エアロゾル生成システム。

　（１）によれば、第１磁性体及びサセプタをそれぞれの長手方向がスティックの挿抜方向と一致するように挿抜方向に一列に並べることで、エアロゾル生成装置が径方向に太くなることを抑制しながら、第１磁性体により増幅された磁束をサセプタに通すことができる。これにより、エアロゾル生成装置を小型化しつつ、スティックを全体に亘って加熱することができる。

　（２）　（１）に記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記第１磁性体の前記長手方向に直交する面における前記第１磁性体の断面は、円形状を有する、
　エアロゾル生成システム。

　（２）によれば、第１磁性体及び誘導コイルにより生成される磁場が等方性を有するので、スティックの加熱効率が、空洞に挿入する際のスティックのローリング方向の角度に対して一定にできる。

　（３）　（１）に記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記スティックは、前記サセプタの内部に少なくても一部が位置する第２磁性体（第２磁性体５０７～５０７Ｃ）を含む、
　エアロゾル生成システム。

　（３）によれば、サセプタに対してより多くの磁束を届けることができるので、スティックの加熱効率を向上できる。

　（４）　（３）に記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記第１磁性体の前記長手方向に直交する面における前記第１磁性体の断面は、円形状を有し、
　前記第２磁性体の長手方向に直交する面における前記第２磁性体の断面は、円形状を有する、
　エアロゾル生成システム。

　（４）によれば、第１磁性体、第２磁性体及び誘導コイルにより生成される磁場が等方性を有するので、スティックの加熱効率が、空洞に挿入する際のスティックのローリング方向の角度に対して一定にできる。

　（５）　（４）に記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記第２磁性体の前記長手方向に直交する面における前記第２磁性体の断面積は、前記第１磁性体の前記長手方向に直交する面における前記第１磁性体の断面積以上である、
　エアロゾル生成システム。

　（５）によれば、第１磁性体及び誘導コイルによって生成された磁束の多くをサセプタに届けることができるので、スティックの加熱効率を向上できる。

　（６）　（３）から（５）のいずれかに記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記スティックは、前記開口側に位置する吸口（吸口５０２）と、前記スティックの挿抜方向において前記開口側と反対側に位置するプラグ（プラグ５０３）と、を含み、
　前記第２磁性体は、前記プラグまで伸びる、
　エアロゾル生成システム。

　（６）によれば、プラグまで第２磁性体が伸びない場合に比べて、第１磁性体と第２磁性体の間が空きにくくなる。これにより多くの磁束をサセプタに届けることができるので、スティックの加熱効率を向上できる。

　（７）　（６）に記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記サセプタは、前記プラグまで伸びる、
　エアロゾル生成システム。

　（７）によれば、プラグまでサセプタが伸びない場合に比べて、漏れ磁束を低減できるので、スティックの加熱効率を向上できる。

　（８）　（６）に記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記サセプタは、前記プラグまで伸びない、
　エアロゾル生成システム。

　（８）によれば、エアロゾル生成に寄与しないプラグを加熱しないことで、エアロゾル生成に寄与する箇所を集中して加熱できるので、エアロゾルの生成効率を向上できる。また、サセプタの脱落を抑制できる。

　（９）　（１）又は（２）に記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記スティックは、前記サセプタの内部に磁性体を含まない、
　エアロゾル生成システム。

　（９）によれば、サセプタの内部に磁性体を設ける場合に比べて、スティックの構造が単純になるので、スティックのコストを低減できる。

　（１０）　（９）に記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記スティックは、前記開口側に位置する吸口（吸口５０２）と、前記スティックの挿抜方向において前記開口側と反対側に位置するプラグ（プラグ５０３）と、を含み、
　前記サセプタは、前記プラグまで伸びる、
　エアロゾル生成システム。

　（１０）によれば、プラグまでサセプタが伸びない場合に比べて、漏れ磁束を低減できるので、スティックの加熱効率を向上できる。

　（１１）　（９）に記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記スティックは、前記開口側に位置する吸口（吸口５０２）と、前記スティックの挿抜方向において前記開口側と反対側に位置するプラグ（プラグ５０３）と、を含み、
　前記サセプタは、前記プラグまで伸びない、
　エアロゾル生成システム。

　（１１）によれば、エアロゾル生成に寄与しないプラグを加熱しないことで、エアロゾル生成に寄与する箇所を集中して加熱できるので、エアロゾルの生成効率を向上できる。また、サセプタの脱落を抑制できる。

　（１２）　（１）から（１１）のいずれかに記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記サセプタは、前記長手方向に延びる隙間（スリット５０５ａ）を有する、
　エアロゾル生成システム。

　（１２）によれば、隙間により、サセプタ内の誘導電流の流れを改善できるので、スティック全体に亘って、加熱できる。

　（１３）　（１２）に記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記サセプタは、前記開口側の端部に突起（突起５０５ｂ）を有し、
　前記隙間は、前記突起までは伸びない、
　エアロゾル生成システム。

　（１３）によれば、サセプタの根元近くに集中しやすい誘導電流を、サセプタの他の箇所へ流すことができるので、スティック全体に亘って、加熱できる。

　（１４）　（１２）又は（１３）に記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記隙間は、前記開口側と反対側の端部まで伸びる、
　エアロゾル生成システム。

　（１４）によれば、サセプタの根元近くに集中しやすい誘導電流を、サセプタの他の箇所へ流すことができるので、スティック全体に亘って、加熱できる。

　（１５）　（１２）から（１４）のいずれかに記載のエアロゾル生成システムであって、
　前記隙間の少なくとも一部には、絶縁性を有する部材が設けられる、
　エアロゾル生成システム。

　（１５）によれば、スリットからの異物の侵入を抑制できるので、エアロゾル生成装置の耐久性が向上し、またその動作が安定する。

１　エアロゾル生成システム
１０　電源
１００　非燃焼式吸引器（エアロゾル生成装置）
１３１　空洞
１３２　第１磁性体
１３３　誘導コイル
１３５　変換回路
５００～５００Ｆ　スティック
５０２　吸口
５０３～５０３Ｅ　プラグ
５０４　エアロゾル源
５０５～５０５Ｆ　サセプタ
５０５ａ　スリット（隙間）
５０５ｂ　突起
５０７　第２磁性体

 

Claims (15)

1. 　エアロゾル源及びサセプタを含むスティックと、
   　エアロゾル生成装置と、を備えるエアロゾル生成システムであって、
   　前記エアロゾル生成装置は、
   　電源と、
   　前記電源から供給される電力を高周波電力へ変換する変換回路と、
   　前記スティックが開口を介して挿抜可能な空洞と、
   　第１磁性体と、
   　前記第１磁性体に巻き回されており、且つ、前記高周波電力が供給される誘導コイルと、を備え、
   　前記空洞に前記スティックが挿入された状態において、
   　前記第１磁性体の長手方向及び前記サセプタの長手方向は、前記スティックの挿抜方向と一致し、且つ、
   　前記サセプタは、前記誘導コイルから見て、前記開口側に配置される、
   　エアロゾル生成システム。
2. 　請求項１に記載のエアロゾル生成システムであって、
   　前記第１磁性体の前記長手方向に直交する面における前記第１磁性体の断面は、円形状を有する、
   　エアロゾル生成システム。
3. 　請求項１に記載のエアロゾル生成システムであって、
   　前記スティックは、前記サセプタの内部に少なくても一部が位置する第２磁性体を含む、
   　エアロゾル生成システム。
4. 　請求項３に記載のエアロゾル生成システムであって、
   　前記第１磁性体の前記長手方向に直交する面における前記第１磁性体の断面は、円形状を有し、
   　前記第２磁性体の長手方向に直交する面における前記第２磁性体の断面は、円形状を有する、
   　エアロゾル生成システム。
5. 　請求項４に記載のエアロゾル生成システムであって、
   　前記第２磁性体の前記長手方向に直交する面における前記第２磁性体の断面積は、前記第１磁性体の前記長手方向に直交する面における前記第１磁性体の断面積以上である、
   　エアロゾル生成システム。
6. 　請求項３から５のいずれか一項に記載のエアロゾル生成システムであって、
   　前記スティックは、前記開口側に位置する吸口と、前記スティックの挿抜方向において前記開口側と反対側に位置するプラグと、を含み、
   　前記第２磁性体は、前記プラグまで伸びる、
   　エアロゾル生成システム。
7. 　請求項６に記載のエアロゾル生成システムであって、
   　前記サセプタは、前記プラグまで伸びる、
   　エアロゾル生成システム。
8. 　請求項６に記載のエアロゾル生成システムであって、
   　前記サセプタは、前記プラグまで伸びない、
   　エアロゾル生成システム。
9. 　請求項１又は２に記載のエアロゾル生成システムであって、
   　前記スティックは、前記サセプタの内部に磁性体を含まない、
   　エアロゾル生成システム。
10. 　請求項９に記載のエアロゾル生成システムであって、
    　前記スティックは、前記開口側に位置する吸口と、前記スティックの挿抜方向において前記開口側と反対側に位置するプラグと、を含み、
    　前記サセプタは、前記プラグまで伸びる、
    　エアロゾル生成システム。
11. 　請求項９に記載のエアロゾル生成システムであって、
    　前記スティックは、前記開口側に位置する吸口と、前記スティックの挿抜方向において前記開口側と反対側に位置するプラグと、を含み、
    　前記サセプタは、前記プラグまで伸びない、
    　エアロゾル生成システム。
12. 　請求項１から１１のいずれか一項に記載のエアロゾル生成システムであって、
    　前記サセプタは、前記長手方向に延びる隙間を有する、
    　エアロゾル生成システム。
13. 　請求項１２に記載のエアロゾル生成システムであって、
    　前記サセプタは、前記開口側の端部に突起を有し、
    　前記隙間は、前記突起までは伸びない、
    　エアロゾル生成システム。
14. 　請求項１２又は１３に記載のエアロゾル生成システムであって、
    　前記隙間は、前記開口側と反対側の端部まで伸びる、
    　エアロゾル生成システム。
15. 　請求項１２から１４のいずれか一項に記載のエアロゾル生成システムであって、
    　前記隙間の少なくとも一部には、絶縁性を有する部材が設けられる、
    　エアロゾル生成システム。
    
     

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