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WO2022034834A1 - Mold release film and method for manufacturing molded product - Google Patents

Mold release film and method for manufacturing molded product Download PDF

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WO2022034834A1
WO2022034834A1 PCT/JP2021/028849 JP2021028849W WO2022034834A1 WO 2022034834 A1 WO2022034834 A1 WO 2022034834A1 JP 2021028849 W JP2021028849 W JP 2021028849W WO 2022034834 A1 WO2022034834 A1 WO 2022034834A1
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WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
release film
release
layer
film
circuit board
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2021/028849
Other languages
French (fr)
Japanese (ja)
Inventor
誠治 山本
元 山戸
陽介 榎本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Priority to JP2022542816A priority patent/JP7283639B2/en
Publication of WO2022034834A1 publication Critical patent/WO2022034834A1/en
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Ceased legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B27/00Layered products comprising a layer of synthetic resin
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L23/00Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L23/02Compositions of homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
    • C08L23/18Homopolymers or copolymers of hydrocarbons having four or more carbon atoms
    • C08L23/20Homopolymers or copolymers of hydrocarbons having four or more carbon atoms having four to nine carbon atoms

Definitions

  • the roll-to-roll press machine 100 is a transfer means (not shown) for transporting a release film 10, a flexible printed circuit board 200 (hereinafter, also referred to as “FPC”), and glass cloths 300A and 300B. ),
  • It is provided with a heat press means 50 for joining by heat pressing, and a mold release means 60 for releasing (peeling) the release film 10 from the FPC 200 to which the CL film 220 is bonded to the flexible circuit board 210. ..
  • the temperature for heating the FPC 200 is not particularly limited, but is preferably 100 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, and more preferably 150 ° C. or higher and 200 ° C. or lower.
  • release film 10 By forming the release film 10 in this manner, it is possible to obtain a release film in which both excellent embedding property and releasability are exhibited in a well-balanced manner.
  • the first thermoplastic resin composition contains a crystal nucleating agent
  • the crystallinity of polymethylpentene can be improved, and as a result, the storage elastic modulus E'is relatively easily set to 30 MPa or more. Can be set to.
  • the content of the crystal nucleating agent in the first thermoplastic resin composition is preferably 0.1% by weight or more and 2.0% by weight or less, and 0.3% by weight or more and 0.8% by weight or less. % Or less is more preferable.
  • the second release layer 2 has flexibility. As described above, in the method of manufacturing the flexible printed circuit board 200 by the roll-to-roll press machine 100 using the release film 10, the first release layer 1 comes into contact with the CL film 220 included in the FPC 200. The release film 10 is superposed on the top. Then, the second release layer 2 is heat-bonded when the flexible circuit board 210 and the CL film 220, which are overlapped with each other, are bonded to each other via the adhesive layer 222 in the second step of this manufacturing method. It functions as a layer that transmits the force from the plate 521 to the cushion layer 3. Further, the second release layer 2 has a function as a contact layer for exerting excellent mold release property between the glass cloths 300A and 300B and the release film 10 in the third step. There is.
  • the second release layer 2 having such a configuration preferably has a storage elastic modulus E'2 at 180 ° C. of 60 MPa or more, more preferably 65 MPa or more and 150 MPa or less, and 68 MPa or more and 150 MPa or less. It is more preferably 70 MPa or more and 100 MPa or less, and particularly preferably 100 MPa or less.
  • the storage elastic modulus E'at 180 ° C. of the release film 10 can be relatively easily set to 30 MPa or more. Can be set to.
  • the release film of the present invention when used as a release film for a roll-to-roll press applied to the manufacture of a flexible printed circuit board by a roll-to-roll press machine, that is, it has a penetrating recess.
  • the coverlay functional layer
  • the present invention is not limited thereto. Specifically, even when a functional layer having a penetrating recess is joined to a substrate via an adhesive layer by using a press molding method, a vacuum pressure pneumatic molding method, or the like, which is different from the roll-to-roll method. , The release film of the present invention can be used.
  • the average thickness of the first release layer 1 is 12 ⁇ m or more and 38 ⁇ m or less, and the storage elastic modulus E't of the release film 10 at 180 ° C. is 30 MPa or more. I was not satisfied with either of them. As a result, either the limit peeling speed of 100 mm / sec or more and the maximum exudation amount of the adhesive of 100 ⁇ m or less cannot be satisfied, resulting in excellent embedding property. The results show that it cannot be said that both excellent releasability and compatibility are exhibited in a well-balanced manner.

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Abstract

This mold release film 10 has a first mold release layer 1 composed of a first thermoplastic resin composition, and a cushion layer 3, wherein: the first mold release layer 1 has an average thickness of 12-38 μm; and the mold release film 10 has a storage elastic modulus E' of 30 MPa or more at 18℃. In addition, the mold release film 10 favorably has an average thickness of 80-180 μm, and the cushion layer 3 favorably has an average thickness of 40-110 μm. In addition, the first mold release layer 1 favorably has a ten-point average roughness (Rz) of 3-20 μm at the surface on the opposite side to the cushion layer 3.

Description

離型フィルムおよび成型品の製造方法Manufacturing method of release film and molded product

 本発明は、離型フィルムおよび成型品の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a release film and a molded product.

 近年、回路が露出したフレキシブル回路基板に対して、カバーレイフィルムを、カバーレイフィルムが備える接着剤層を介して、加熱プレスにより接着してフレキシブルプリント回路基板すなわち積層体を形成する際に、離型フィルムが、一般的に、使用されている。 In recent years, when a coverlay film is bonded to a flexible circuit board whose circuit is exposed by a heat press via an adhesive layer provided in the coverlay film to form a flexible printed circuit board, that is, a laminate, it is released. Mold films are commonly used.

 このような離型フィルムを用いたフレキシブルプリント回路基板、換言すればフレキシブル回路基板とカバーレイフィルムとの積層体の形成の際に、離型フィルムには、2つの特性、すなわち、埋め込み性および離型性に優れることが要求されてきた。 When forming a flexible printed circuit board using such a release film, in other words, a laminate of a flexible circuit board and a coverlay film, the release film has two characteristics, that is, embedding property and release. It has been required to have excellent moldability.

 詳しくは、まず、フレキシブルプリント回路基板には、フレキシブル回路基板へのカバーレイフィルムの積層により、凹部が形成されるが、この凹部に対して、優れた埋め込み性を発揮することが離型フィルムに求められる。 Specifically, first, a recess is formed in the flexible printed circuit board by laminating a coverlay film on the flexible circuit board, and the release film can exhibit excellent embedding property in the recess. Desired.

 より具体的には、フレキシブル回路基板に対するカバーレイフィルムの積層は、カバーレイフィルムが備える接着剤層を介して行われる。この積層の際に、凹部に対して、離型フィルムが優れた埋め込み性を発揮して、凹部内における接着剤のしみ出しが抑制されることが求められる。 More specifically, the coverlay film is laminated on the flexible circuit board via the adhesive layer provided in the coverlay film. At the time of this laminating, it is required that the release film exhibits excellent embedding property in the concave portion and the exudation of the adhesive in the concave portion is suppressed.

 また、上記のようなフレキシブル回路基板に対するカバーレイフィルムの積層の後には、形成されたフレキシブルプリント回路基板から、優れた離型性をもって離型フィルムが剥離されることが求められる。 Further, after laminating the coverlay film on the flexible circuit board as described above, it is required that the release film is peeled off from the formed flexible printed circuit board with excellent releasability.

 より具体的には、形成されたフレキシブルプリント回路基板から、離型フィルムを剥離させる際に、フレキシブルプリント回路基板に対して、離型フィルムが優れた離型性を発揮して、フレキシブルプリント回路基板における折れシワおよび破断の発生が抑制されることが求められる。 More specifically, when the release film is peeled off from the formed flexible printed circuit board, the release film exhibits excellent releasability with respect to the flexible printed circuit board, and the flexible printed circuit board. It is required that the occurrence of creases and breaks in the above is suppressed.

 上記のような2つの特性(埋め込み性および離型性)に優れた離型フィルムとすることを目的に、例えば、特許文献1では、ポリエステル系エラストマー層と、ポリエステル層とを有する離型フィルムが提案されている。しかしながら、係る構成の離型フィルムでは、優れた埋め込み性と、優れた離型性との両立が図られているとは言えず、これら2つの特性が、バランス良くより優れた離型フィルムの開発が求められているのが実情であった。 For the purpose of obtaining a release film having excellent two characteristics (embedding property and releasability) as described above, for example, in Patent Document 1, a release film having a polyester-based elastomer layer and a polyester layer is used. Proposed. However, it cannot be said that the release film having such a structure has both excellent embedding property and excellent release property, and the development of a release film having a good balance between these two characteristics. Was the reality.

 また、このような問題は、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料によって形成された対象物に対して、離型フィルムを貼付した状態とし、この状態で熱硬化性樹脂を硬化させることで、対象物を用いて成型品を製造する場合等についても同様に生じている。 Further, such a problem is caused by setting a release film to be attached to an object formed of a material containing a thermosetting resin in a semi-cured state, and curing the thermosetting resin in this state. The same applies to the case where a molded product is manufactured using an object.

特開2011-88351号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2011-88351

 本発明の目的は、優れた埋め込み性と優れた離型性との両立をバランス良く発揮させることができる離型フィルム、および、かかる離型フィルムを用いた成型品の製造方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a release film capable of achieving both excellent embedding property and excellent mold release property in a well-balanced manner, and a method for manufacturing a molded product using such a release film. be.

 このような目的は、下記(1)~(13)に記載の本発明により達成される。
 (1) 第1熱可塑性樹脂組成物からなる第1離型層と、クッション層とを有する離型フィルムであって、
 前記第1離型層は、その平均厚さが12μm以上38μm以下であり、
 当該離型フィルムは、180℃における貯蔵弾性率E’が30MPa以上であることを特徴とする離型フィルム。
Such an object is achieved by the present invention described in the following (1) to (13).
(1) A release film having a first release layer made of a first thermoplastic resin composition and a cushion layer.
The first release layer has an average thickness of 12 μm or more and 38 μm or less.
The release film is a release film having a storage elastic modulus E'at 180 ° C. of 30 MPa or more.

 (2) 当該離型フィルムは、その平均厚さが80μm以上180μm以下である上記(1)に記載の離型フィルム。 (2) The release film according to (1) above, wherein the release film has an average thickness of 80 μm or more and 180 μm or less.

 (3) 前記クッション層は、その平均厚さが40μm以上110μm以下である上記(1)または(2)に記載の離型フィルム。 (3) The release film according to (1) or (2) above, wherein the cushion layer has an average thickness of 40 μm or more and 110 μm or less.

 (4) 前記第1離型層は、前記クッション層と反対側の表面における10点平均粗さ(Rz)が3μm以上20μm以下である上記(1)ないし(3)のいずれかに記載の離型フィルム。 (4) The release according to any one of (1) to (3) above, wherein the first release layer has a 10-point average roughness (Rz) of 3 μm or more and 20 μm or less on the surface opposite to the cushion layer. Mold film.

 (5) 前記第1離型層は、180℃における貯蔵弾性率E’が60MPa以上である上記(1)ないし(4)のいずれかに記載の離型フィルム。 (5) The release film according to any one of (1) to (4) above, wherein the first release layer has a storage elastic modulus E'at 180 ° C. of 60 MPa or more.

 (6) 前記第1離型層の平均厚さをT1[μm]とし、前記第1離型層の180℃における貯蔵弾性率E’をE’1[MPa]としたとき、E’1/T1[MPa/μm]は、2.1<E’1/T1<6.0なる関係を満足する上記(1)ないし(5)のいずれかに記載の離型フィルム。 (6) When the average thickness of the first release layer is T1 [μm] and the storage elastic modulus E'of the first release layer at 180 ° C. is E'1 [MPa], E'1 /. The release film according to any one of (1) to (5) above, wherein T1 [MPa / μm] satisfies the relationship of 2.1 <E'1 / T1 <6.0.

 (7) 前記第1熱可塑性樹脂組成物は、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂を含む上記(1)ないし(6)のいずれかに記載の離型フィルム。 (7) The release film according to any one of (1) to (6) above, wherein the first thermoplastic resin composition contains a poly 4-methyl-1-pentene resin.

 (8) 前記クッション層は、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂と、該ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂とは異なるポリオレフィン系樹脂とを含む第3熱可塑性樹脂組成物からなる上記(1)ないし(7)のいずれかに記載の離型フィルム。 (8) The cushion layer is made of a third thermoplastic resin composition containing a poly 4-methyl 1-pentene resin and a polyolefin-based resin different from the poly 4-methyl 1-pentene resin (1) to the above. The release film according to any one of (7).

 (9) 当該離型フィルムは、前記クッション層の前記第1離型層と反対側に積層された、第2熱可塑性樹脂組成物からなる第2離型層を有する上記(1)ないし(8)のいずれかに記載の離型フィルム。 (9) The release film has a second release layer made of a second thermoplastic resin composition laminated on the opposite side of the cushion layer to the first release layer (1) to (8). ). The release film according to any one of.

 (10) 幅270mmの当該離型フィルムを、ピッチ50μm、幅50μm、高さ18μmの凹凸を備えるフレキシブル回路基板に、180℃、11MPa、120secの条件でロールツーロールプレス機にて加圧貼付して、加圧直後に搬送しつつ、前記フレキシブル回路基板と当該離型フィルムとを引き剥がしたときに、当該離型フィルムにシワが認められない限界引き剥がし速度が100mm/秒以上となる上記(1)ないし(9)のいずれかに記載の離型フィルム。 (10) The release film having a width of 270 mm is pressure-bonded to a flexible circuit board having irregularities with a pitch of 50 μm, a width of 50 μm, and a height of 18 μm under the conditions of 180 ° C., 11 MPa, and 120 sec by a roll-to-roll press machine. When the flexible circuit board and the release film are peeled off while being conveyed immediately after pressurization, the limit peeling speed at which no wrinkles are observed on the release film is 100 mm / sec or more (the above). The release film according to any one of 1) to (9).

 (11) ピッチ50μm、幅50μm、高さ18μmの凹凸を備えるフレキシブル回路基板に、カバーレイフィルム(有沢製作所社製、「CMA0525」)を、該カバーレイフィルムが備える接着剤層を前記フレキシブル回路基板側にして貼付することで形成される積層体に対して、幅270mmの当該離型フィルムを、180℃、11MPa、120sの条件で押し込み、その後当該離型フィルムの一端を持ち引き剥がした際の、前記積層体の凹部における平面視での接着剤の最大しみ出し量が100μm以下となる上記(1)ないし(10)のいずれかに記載の離型フィルム。 (11) A coverlay film (manufactured by Arisawa Seisakusho Co., Ltd., "CMA0525") is provided on a flexible circuit board having irregularities having a pitch of 50 μm, a width of 50 μm, and a height of 18 μm, and an adhesive layer provided on the coverlay film is provided on the flexible circuit board. When the release film having a width of 270 mm is pushed into the laminate formed by sticking it sideways under the conditions of 180 ° C., 11 MPa, and 120 s, and then one end of the release film is held and peeled off. The release film according to any one of (1) to (10) above, wherein the maximum amount of the adhesive exuded in the concave portion of the laminated body in a plan view is 100 μm or less.

 (12) 当該離型フィルムが、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料によって形成された対象物の表面に、
 前記第1離型層側の表面が接するように重ねて用いられる上記(1)ないし(11)のいずれかに記載の離型フィルム。
(12) The release film is formed on the surface of an object formed of a material containing a thermosetting resin in a semi-cured state.
The release film according to any one of (1) to (11) above, which is used in layers so that the surfaces on the first release layer side are in contact with each other.

 (13) 上記(1)ないし(12)のいずれかに記載の離型フィルムの前記第1離型層が対象物側になるように、
 前記対象物上に前記離型フィルムを配置する工程と、前記離型フィルムが配置された前記対象物に対し、加熱プレスを行う工程と、を含み、前記離型フィルムを配置する前記工程において、前記対象物の前記離型フィルムが配置される側の面が、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料によって形成されていることを特徴とする成型品の製造方法。
(13) The first release layer of the release film according to any one of (1) to (12) above is on the object side.
In the step of arranging the release film, which includes a step of arranging the release film on the object and a step of performing a heat press on the object on which the release film is arranged. A method for producing a molded product, wherein the surface of the object on which the release film is arranged is formed of a material containing a heat-curable resin in a semi-cured state.

 本発明によれば、優れた埋め込み性と、優れた離型性との両立がバランス良く発揮された離型フィルムとすることができる。 According to the present invention, it is possible to obtain a releasable film in which both excellent embedding property and excellent releasability are exhibited in a well-balanced manner.

 したがって、離型フィルムを、例えば、フレキシブル回路基板とカバーレイフィルムとを用いたフレキシブルプリント回路基板の形成に用いた場合には、フレキシブルプリント回路基板に形成された凹部において、接着剤がしみ出すのを的確に抑制または防止することができる。 Therefore, when the release film is used for forming a flexible printed circuit board using, for example, a flexible circuit board and a coverlay film, the adhesive seeps out in the recesses formed in the flexible printed circuit board. Can be accurately suppressed or prevented.

 そして、フレキシブルプリント回路基板の形成の後に、フレキシブルプリント回路基板から離型フィルムを剥離させる際に、フレキシブルプリント回路基板において、折れシワおよび破断が生じるのを的確に抑制または防止することができる。 Then, when the release film is peeled off from the flexible printed circuit board after the formation of the flexible printed circuit board, it is possible to accurately suppress or prevent breakage and breakage in the flexible printed circuit board.

図1は、フレキシブルプリント回路基板の製造に用いられるロールツーロールプレス機の主要部を示す側面図である。FIG. 1 is a side view showing a main part of a roll-to-roll press machine used for manufacturing a flexible printed circuit board. 図2は、図1に示すロールツーロールプレス機を用いたフレキシブルプリント回路基板の製造方法における各工程を示す縦断面図である。FIG. 2 is a vertical cross-sectional view showing each process in a method of manufacturing a flexible printed circuit board using the roll-to-roll press machine shown in FIG. 図3は、図1に示すロールツーロールプレス機を用いたフレキシブルプリント回路基板の製造方法における加熱プレス工程を示す縦断面図である。FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing a heating press process in a method for manufacturing a flexible printed circuit board using the roll-to-roll press machine shown in FIG. 1. 図4は、本発明の離型フィルムの実施形態を示す縦断面図である。FIG. 4 is a vertical sectional view showing an embodiment of the release film of the present invention. 図5は、図4に示す離型フィルムのA部を部分的に拡大した部分拡大縦断面図である。FIG. 5 is a partially enlarged vertical sectional view of a part A of the release film shown in FIG. 4 which is partially enlarged.

 以下、本発明の離型フィルムおよび成型品の製造方法を添付図面に示す好適実施形態に基づいて詳細に説明する。 Hereinafter, the method for producing the release film and the molded product of the present invention will be described in detail based on the preferred embodiments shown in the attached drawings.

 なお、以下では、本発明の離型フィルムを用いて、フレキシブルプリント回路基板を製造する場合を一例に説明する。また、本発明の離型フィルムおよび成型品の製造方法を説明するのに先立って、まず、フレキシブルプリント回路基板の製造に用いられるロールツーロールプレス機について説明する。 In the following, a case where a flexible printed circuit board is manufactured using the release film of the present invention will be described as an example. Further, prior to explaining the method for manufacturing the release film and the molded product of the present invention, first, a roll-to-roll press machine used for manufacturing a flexible printed circuit board will be described.

 <ロールツーロールプレス機>
 図1は、フレキシブルプリント回路基板の製造に用いられるロールツーロールプレス機の主要部を示す側面図、図2は、図1に示すロールツーロールプレス機を用いたフレキシブルプリント回路基板の製造方法における各工程を示す縦断面図、図3は、図1に示すロールツーロールプレス機を用いたフレキシブルプリント回路基板の製造方法における加熱プレス工程を示す縦断面図である。なお、以下では、説明の都合上、図1~図3中の上側を「上」または「上方」、下側を「下」または「下方」と言い、左側を「左」、右側を「右」と言う。
<Roll-to-roll press machine>
FIG. 1 is a side view showing a main part of a roll-to-roll press machine used for manufacturing a flexible printed circuit board, and FIG. 2 is a method for manufacturing a flexible printed circuit board using the roll-to-roll press machine shown in FIG. A vertical sectional view showing each process, FIG. 3 is a vertical sectional view showing a heating press process in a method for manufacturing a flexible printed circuit board using the roll-to-roll press machine shown in FIG. 1. In the following, for convenience of explanation, the upper side in FIGS. 1 to 3 is referred to as "upper" or "upper", the lower side is referred to as "lower" or "lower", the left side is referred to as "left", and the right side is referred to as "right". ".

 ロールツーロールプレス機100(RtoRプレス機)は、離型フィルム10、フレキシブルプリント回路基板200(以下「FPC」と言うこともある。)およびガラスクロス300A、300Bを搬送する搬送手段(図示せず)と、FPC200が備えるフレキシブル回路基板210とカバーレイフィルム220(以下、「CLフィルム」と言うこともある。)とを、離型フィルム10を用いてフレキシブル回路基板210に対してCLフィルム220を加熱プレスすることで接合する加熱プレス手段50と、フレキシブル回路基板210に対してCLフィルム220が接合されたFPC200から、離型フィルム10を離型(剥離)させる離型手段60とを備えている。 The roll-to-roll press machine 100 (RtoR press machine) is a transfer means (not shown) for transporting a release film 10, a flexible printed circuit board 200 (hereinafter, also referred to as “FPC”), and glass cloths 300A and 300B. ), The flexible circuit board 210 included in the FPC 200 and the coverlay film 220 (hereinafter, also referred to as “CL film”), and the CL film 220 is attached to the flexible circuit board 210 using the release film 10. It is provided with a heat press means 50 for joining by heat pressing, and a mold release means 60 for releasing (peeling) the release film 10 from the FPC 200 to which the CL film 220 is bonded to the flexible circuit board 210. ..

 搬送手段は、それぞれ異なる巻出しローラに巻回されたFPC200、離型フィルム10A、10B、および、ガラスクロス300A、300Bを、それぞれ、これらの長手方向に沿って、テンショナ(テンションローラー)の回転により、搬送するとともに、加熱プレス手段50および離型手段60による処理後に、巻取りローラに巻回するものである。 The transporting means is the FPC200, the release films 10A and 10B, and the glass cloths 300A and 300B wound on different unwinding rollers, respectively, by the rotation of the tensioner (tension roller) along the longitudinal direction thereof. , And after processing by the heating press means 50 and the mold release means 60, the film is wound around a take-up roller.

 なお、各ローラは、それぞれ、例えば、ステンレス鋼等のような金属材料で構成されている。また、これらのローラは、回動軸(中心軸)同士が同じ方向を向いており、互いに離間して配置されている。
 加熱プレス手段50は、図1に示すように、加熱圧着部52を有している。
Each roller is made of a metal material such as stainless steel. Further, these rollers have rotation shafts (central shafts) facing in the same direction and are arranged apart from each other.
As shown in FIG. 1, the heat pressing means 50 has a heat crimping portion 52.

 加熱圧着部52は、一対の加熱圧着板521を有している。加熱圧着板521は、搬送手段により搬送されるとともに、重ね合わされた状態とされたガラスクロス300A、離型フィルム10A、FPC200、離型フィルム10Bおよびガラスクロス300Bに対向して、その上方および下方に1つずつ配置されている。そして、重ね合わされた状態とされたガラスクロス300A、離型フィルム10A、FPC200、離型フィルム10Bおよびガラスクロス300Bが、加熱圧着板521同士の間を通過する際に、加熱圧着板521により、ガラスクロス300A、300Bと、離型フィルム10A、10Bとを介して、FPC200が加熱されつつ加圧される。したがって、FPC200において、重ね合わされているフレキシブル回路基板210とCLフィルム220とが、CLフィルム220が備える接着剤層222を介して接合される。換言すれば、カバーレイ221とフレキシブル回路基板210とが接着剤層222を介して接合される。また、FPC200の加熱・加圧の際、すなわち、カバーレイ221とフレキシブル回路基板210との接着剤層222を介した接合の際に、カバーレイ221に形成される凹部223内に離型フィルム10が埋入されることとなる。そのため、凹部223内における、接着剤層222に由来する接着剤のしみ出しが抑制される(図2(b)参照)。 The heat crimping portion 52 has a pair of heat crimping plates 521. The heat-bonded plate 521 is conveyed above and below the glass cloth 300A, the release film 10A, the FPC 200, the release film 10B, and the glass cloth 300B, which are conveyed by the conveying means and are in an overlapped state. They are arranged one by one. Then, when the glass cloth 300A, the release film 10A, the FPC200, the release film 10B and the glass cloth 300B in the overlapped state pass between the heat crimping plates 521, the glass is formed by the heat crimping plate 521. The FPC 200 is heated and pressed through the cloths 300A and 300B and the release films 10A and 10B. Therefore, in the FPC 200, the laminated flexible circuit board 210 and the CL film 220 are joined via the adhesive layer 222 included in the CL film 220. In other words, the coverlay 221 and the flexible circuit board 210 are bonded via the adhesive layer 222. Further, when the FPC 200 is heated and pressurized, that is, when the coverlay 221 and the flexible circuit board 210 are bonded via the adhesive layer 222, the release film 10 is formed in the recess 223 formed in the coverlay 221. Will be embedded. Therefore, the exudation of the adhesive derived from the adhesive layer 222 in the recess 223 is suppressed (see FIG. 2B).

 なお、加熱圧着板521により加熱圧着される前において、FPC200は、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とが重ね合わせることで積層された状態となってはいるが、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とは、CLフィルム220が備える接着剤層222を介して接合されていない。 Before the heat crimping is performed by the heat crimping plate 521, the FPC 200 is in a state of being laminated by overlapping the flexible circuit board 210 and the CL film 220, but the flexible circuit board 210 and the CL film 220 are laminated. Is not bonded via the adhesive layer 222 included in the CL film 220.

 離型手段60は、図1に示すように、加熱プレス手段50に対して、搬送方向の下流側に配置されている。この離型手段60は、FPC200と離型フィルム10A、Bとを離間させるように構成されている。前述したように、加熱プレス手段50が備える加熱圧着部52において、カバーレイ221に形成される凹部223内に離型フィルム10が埋入され、これにより、CLフィルム220(FPC200)に離型フィルム10が接合されている。その後、ロールツーロールプレス機100は、この離型手段60の作用により、CLフィルム220(FPC200)から離型フィルム10を剥離(離型)させ得るように構成されている(図2(c)参照)。 As shown in FIG. 1, the mold release means 60 is arranged on the downstream side in the transport direction with respect to the heating press means 50. The mold release means 60 is configured to separate the FPC 200 from the mold release films 10A and B. As described above, in the heat crimping portion 52 provided in the heat pressing means 50, the release film 10 is embedded in the recess 223 formed in the coverlay 221, whereby the release film 10 is embedded in the CL film 220 (FPC200). 10 is joined. After that, the roll-to-roll press machine 100 is configured so that the release film 10 can be peeled (released) from the CL film 220 (FPC200) by the action of the mold release means 60 (FIG. 2 (c)). reference).

 以上のようなロールツーロールプレス機100を用いて、フレキシブルプリント回路基板200(FPC200)を製造し得る。以下、このロールツーロールプレス機を用いたFPC200の製造方法について説明する。なお、このFPC200の製造方法に、本発明の成型品の製造方法が適用される。 The flexible printed circuit board 200 (FPC200) can be manufactured by using the roll-to-roll press machine 100 as described above. Hereinafter, a method for manufacturing the FPC 200 using this roll-to-roll press machine will be described. The method for producing a molded product of the present invention is applied to the method for producing FPC200.

 FPC200の製造方法は、本実施形態では、それぞれがシート状をなす、ガラスクロス300Aと、離型フィルム10Aと、FPC200と、離型フィルム10Bと、ガラスクロス300Bとを、この順で重ね合わされた状態をなす積層体とする第1の工程と、かかる積層体を加熱プレスすることで、FPC200において、フレキシブル回路基板210に対してカバーレイ221(CLフィルム220)を、接着剤層222を介して接合する第2の工程と、FPC200から離型フィルム10(10A、10B)を離型させて、フレキシブル回路基板210に対してCLフィルム220が接合されているFPC200を得る第3の工程とを有する。 In the present embodiment, in the present embodiment, the glass cloth 300A, the release film 10A, the FPC200, the release film 10B, and the glass cloth 300B, each of which is in the form of a sheet, are laminated in this order. In the FPC 200, the coverlay 221 (CL film 220) is attached to the flexible circuit board 210 via the adhesive layer 222 in the first step of forming the laminated body into a state and by heating and pressing the laminated body. It has a second step of joining and a third step of releasing the release film 10 (10A, 10B) from the FPC 200 to obtain an FPC 200 to which the CL film 220 is bonded to the flexible circuit board 210. ..

 以下、これらの各工程について、順次説明する。
(第1の工程)
 まず、それぞれがシート状をなす、巻出しローラにそれぞれ巻回されたガラスクロス300Aと、離型フィルム10Aと、FPC200と、離型フィルム10Bと、ガラスクロス300Bとを、搬送手段による搬送の際に、この順で重ね合わされた状態をなす積層体とする(図1、図2(a)、図3参照。)。
Hereinafter, each of these steps will be described in sequence.
(First step)
First, when the glass cloth 300A, the release film 10A, the FPC200, the release film 10B, and the glass cloth 300B, each of which is in the shape of a sheet, are transported by the transport means. In addition, the laminated body is in a state of being overlapped in this order (see FIGS. 1, 2 (a), and 3).

 なお、各部材(フィルム)を積層体に積層する方法は特に限定されず、例えば、ロールにより押し付けながら積層してもよいし、プレスにより押し付けながら積層してもよい。また、各部材を積層する順番も、任意に行うことが出来る。例えば、すべての部材を同時に積層してもよいし、カバーレイフィルム220とフレキシブル回路基板210とを事前に積層しておき、その後その他の部材を同時に積層してもよい。 The method of laminating each member (film) on the laminated body is not particularly limited, and for example, laminating may be performed while pressing with a roll, or may be performed while pressing with a press. Further, the order in which the members are laminated can be arbitrarily set. For example, all the members may be laminated at the same time, or the coverlay film 220 and the flexible circuit board 210 may be laminated in advance, and then the other members may be laminated at the same time.

 また、この第1の工程における前記積層体の形成により、本発明の成型品の製造方法における、対象物(FPC200)上に離型フィルム10を配置する工程が構成される。 Further, the formation of the laminated body in the first step constitutes a step of arranging the release film 10 on the object (FPC200) in the method for manufacturing a molded product of the present invention.

(第2の工程)
 次に、ガラスクロス300Aと、離型フィルム10Aと、FPC200と、離型フィルム10Bと、ガラスクロス300Bとが、この順で重ね合わされた積層体を、加熱プレス手段50(加熱圧着部52)を用いて、加熱プレスすることで、FPC200において、フレキシブル回路基板210に対してカバーレイ221(CLフィルム220)を、接着剤層222を介して接合する(加熱プレス工程、図1、図2(b)、図3参照。)。
(Second step)
Next, a laminated body in which the glass cloth 300A, the release film 10A, the FPC 200, the release film 10B, and the glass cloth 300B are laminated in this order is subjected to the heat pressing means 50 (heat crimping portion 52). The coverlay 221 (CL film 220) is bonded to the flexible circuit board 210 via the adhesive layer 222 in the FPC 200 by heat-pressing (heat-pressing step, FIGS. 1, 2 (b)). ), See FIG. 3).

 この加熱プレス工程において、FPC200を加熱する温度は、特に限定されないが、例えば、100℃以上250℃以下であることが好ましく、150℃以上200℃以下であることがより好ましい。 In this heating press step, the temperature for heating the FPC 200 is not particularly limited, but is preferably 100 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, and more preferably 150 ° C. or higher and 200 ° C. or lower.

 また、加熱プレス工程において、FPC200を加圧する圧力は、特に限定されないが、1MPa以上14MPa以下であることが好ましく、より好ましくは5MPa以上14MPa以下に設定される。 Further, in the heating press step, the pressure for pressurizing the FPC 200 is not particularly limited, but is preferably 1 MPa or more and 14 MPa or less, and more preferably 5 MPa or more and 14 MPa or less.

 さらに、前記積層体を搬送する搬送速度は、特に限定されないが、40mm/sec以上400mm/sec以下であることが好ましく、より好ましくは200mm/sec以上350mm/sec以下に設定される。 Further, the transport speed for transporting the laminated body is not particularly limited, but is preferably 40 mm / sec or more and 400 mm / sec or less, and more preferably 200 mm / sec or more and 350 mm / sec or less.

 なお、加熱プレス工程により、本発明の成型品の製造方法における、離型フィルム10が配置された対象物(FPC200)に対し、加熱プレスを行う工程が構成される。また、カバーレイ221(絶縁層)が、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料で構成される場合には、対象物(FPC200)の離型フィルム10が配置される側の面を、カバーレイ221が構成する。そして、このカバーレイ221の表面に、第1離型層1側の表面が接するように離型フィルム10が重ねて用いられているため、離型フィルム10により、凹部223が形成されたカバーレイ221の形状を維持して、熱硬化性樹脂を硬化させ得る。これにより、フレキシブル回路基板210上に、カバーレイ221(成型品)を優れた精度で成型することができる。また、本実施形態においては加熱プレスにより加熱する手段を示したが、必ずしもこの方法に限定されるものではなく、例えば赤外線により加熱してもよいし、加熱ロールによる加熱を行ってもよい。 It should be noted that the heat-pressing process constitutes a process of heat-pressing the object (FPC200) on which the release film 10 is arranged in the method for producing a molded product of the present invention. When the coverlay 221 (insulating layer) is made of a material containing a thermosetting resin in a semi-cured state, it covers the surface of the object (FPC200) on the side where the release film 10 is arranged. Ray 221 constitutes. Since the release film 10 is superposed on the surface of the coverlay 221 so that the surface on the first release layer 1 side is in contact with the surface of the coverlay 221, the coverlay in which the recess 223 is formed by the release film 10 is used. The thermosetting resin can be cured while maintaining the shape of 221. As a result, the coverlay 221 (molded product) can be molded on the flexible circuit board 210 with excellent accuracy. Further, in the present embodiment, the means for heating by a heating press is shown, but the method is not necessarily limited to this method, and for example, heating may be performed by infrared rays or heating may be performed by a heating roll.

(第3の工程)
 次に、離型手段60において、FPC200から離型フィルム10(10A、10B)を離型させる。すなわち、カバーレイフィルム220とフレキシブル回路基板210との接合体から、離型フィルム10Aと離型フィルム10Bとを剥離する。これにより、フレキシブル回路基板210に対してCLフィルム220が接合されているFPC200を得る(図1、図2(c)図3参照。)。
(Third step)
Next, in the mold release means 60, the mold release film 10 (10A, 10B) is released from the FPC 200. That is, the release film 10A and the release film 10B are peeled off from the bonded body of the coverlay film 220 and the flexible circuit board 210. As a result, an FPC 200 having a CL film 220 bonded to the flexible circuit board 210 is obtained (see FIGS. 1, 2 (c) and 3).

 なお、離型手段60としては、特に限定されず、例えば、外側に真空装置を設置し、真空引きすることで剥離する構成であってもよいし、前記接合体と離型フィルム10A、10Bの間に空気を送り込むことで剥離する構成であってもよいし、接合体と離型フィルム10A、10Bの間に棒を挟みこみ剥離する構成であってもよい。 The mold release means 60 is not particularly limited, and may be configured to be peeled off by installing a vacuum device on the outside and drawing a vacuum, or the bonded body and the mold release films 10A and 10B. It may be configured to be peeled off by sending air between them, or it may be configured to be peeled off by sandwiching a rod between the bonded body and the release films 10A and 10B.

 その後、カバーレイフィルム220とフレキシブル回路基板210との接合体、ガラスクロス300A、離型フィルム10A、離型フィルム10B、ガラスクロス300Bをそれぞれの巻取りローラにて巻き取る。 After that, the bonded body of the coverlay film 220 and the flexible circuit board 210, the glass cloth 300A, the release film 10A, the release film 10B, and the glass cloth 300B are wound by the respective take-up rollers.

 このような巻取りにより、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とが、CLフィルム220が備える接着剤層222を介して接合されたFPC200が、巻取りローラに巻き取られた状態で連続的に得られることとなる。 By such winding, the flexible circuit board 210 and the CL film 220 are continuously obtained in a state where the FPC 200 bonded via the adhesive layer 222 included in the CL film 220 is wound by the winding roller. Will be done.

 以上のように、離型フィルム10を用いたロールツーロールプレス機100による、フレキシブルプリント回路基板200の製造方法を適用することで、連続的にフレキシブルプリント回路基板200が製造される。 As described above, the flexible printed circuit board 200 is continuously manufactured by applying the manufacturing method of the flexible printed circuit board 200 by the roll-to-roll press machine 100 using the release film 10.

 そして、ロールツーロールプレス機100に使用される離型フィルム10として、本発明の離型フィルムが用いられる。すなわち、離型フィルム10として、第1熱可塑性樹脂組成物からなる第1離型層と、クッション層とを有し、前記第1離型層は、その平均厚さが12μm以上38μm以下であり、離型フィルム全層の180℃における貯蔵弾性率E’が30MPa以上であることを特徴とする離型フィルムが用いられる。 Then, as the release film 10 used in the roll-to-roll press machine 100, the release film of the present invention is used. That is, the release film 10 has a first release layer made of the first thermoplastic resin composition and a cushion layer, and the average thickness of the first release layer is 12 μm or more and 38 μm or less. , A release film characterized in that the storage elasticity E'at 180 ° C. of all layers of the release film is 30 MPa or more is used.

 離型フィルム10が、かかる構成をなすことで、優れた埋め込み性と離型性との両立がバランス良く発揮された離型フィルムとすることができる。 By forming the release film 10 in this manner, it is possible to obtain a release film in which both excellent embedding property and releasability are exhibited in a well-balanced manner.

 したがって、離型フィルムを、上記の通り、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とを用いたFPC200の形成に用いた場合には、前記第2の工程において、FPC200に形成された凹部223に、接着剤層222に由来する接着剤がしみ出すのを的確に抑制または防止することができる。 Therefore, when the release film is used for forming the FPC200 using the flexible circuit board 210 and the CL film 220 as described above, it is adhered to the recess 223 formed in the FPC200 in the second step. It is possible to accurately suppress or prevent the adhesive derived from the agent layer 222 from seeping out.

 そして、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とが、CLフィルム220が備える接着剤層222を介して接合されたFPC200の形成の後に、前記第3の工程において、FPC200から離型フィルム10を剥離させる際に、FPC200に、折れシワおよび破断が生じるのを的確に抑制または防止することができる。 Then, after the flexible circuit board 210 and the CL film 220 are bonded to each other via the adhesive layer 222 included in the CL film 220, the release film 10 is peeled off from the FPC 200 in the third step. At that time, it is possible to accurately suppress or prevent the FPC 200 from being broken or broken.

 以下、本発明の離型フィルムが適用された離型フィルム10について説明する。なお、以下では、離型フィルム10が、第1離型層1と、クッション層3と、第2離型層2とがこの順で積層された積層体で構成される場合について説明する。 Hereinafter, the release film 10 to which the release film of the present invention is applied will be described. In the following, a case where the release film 10 is composed of a laminate in which the first release layer 1, the cushion layer 3, and the second release layer 2 are laminated in this order will be described.

 <離型フィルム10>
 図4は、本発明の離型フィルムの実施形態を示す縦断面図、図5は、図4に示す離型フィルムのA部を部分的に拡大した部分拡大縦断面図である。なお、以下の説明では、説明の便宜上、図4、図5中の上側を「上」、下側を「下」と言う。
<Release film 10>
FIG. 4 is a vertical sectional view showing an embodiment of the release film of the present invention, and FIG. 5 is a partially enlarged vertical sectional view of a part A of the release film shown in FIG. In the following description, for convenience of explanation, the upper side in FIGS. 4 and 5 is referred to as "upper" and the lower side is referred to as "lower".

 図4に示すように、本実施形態において、離型フィルム10は、第1離型層1と、クッション層3と、第2離型層2とがこの順で積層されており、FPC200が備えるCLフィルム220に対して、第1離型層1側の表面が接するように重ねて用いられる。
 以下、離型フィルム10を構成する各層について説明する。
As shown in FIG. 4, in the present embodiment, the release film 10 includes a first release layer 1, a cushion layer 3, and a second release layer 2 laminated in this order, and is provided in the FPC 200. It is used so as to be in contact with the surface of the first release layer 1 side with respect to the CL film 220.
Hereinafter, each layer constituting the release film 10 will be described.

 <第1離型層1>
 まず、第1離型層1について説明する。この第1離型層1は、クッション層3の一方の面側に積層されている。
<1st release layer 1>
First, the first release layer 1 will be described. The first release layer 1 is laminated on one surface side of the cushion layer 3.

 第1離型層1は、可撓性を備え、前述した、離型フィルム10を用いたロールツーロールプレス機100による、フレキシブルプリント回路基板200の製造方法において、FPC200が備えるCLフィルム220に対して、この第1離型層1が接触するように、離型フィルム10が重ね合わされる。そして、第1離型層1は、この製造方法の前記第2の工程において、重ね合わされているフレキシブル回路基板210とCLフィルム220とを、接着剤層222を介して接合する際に、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とで形成される凹部223の形状に追従して、押し込まれる層である。これにより、第1離型層1は、離型フィルム10が破断するのを防止する保護(緩衝)材として機能する。さらに、第1離型層1は、前記第3の工程において、CLフィルム220(FPC200)からの離型フィルム10の優れた離型性を発揮させるための接触層としての機能を有している。 The first release layer 1 has flexibility, and in the method for manufacturing a flexible printed circuit board 200 by the roll-to-roll press machine 100 using the release film 10 described above, the first release layer 1 has a flexibility with respect to the CL film 220 included in the FPC 200. Then, the release films 10 are superposed so that the first release layer 1 comes into contact with each other. Then, the first release layer 1 is a flexible circuit when the flexible circuit board 210 and the CL film 220 that are overlapped are bonded to each other via the adhesive layer 222 in the second step of this manufacturing method. It is a layer that is pushed in following the shape of the recess 223 formed by the substrate 210 and the CL film 220. As a result, the first release layer 1 functions as a protective (cushioning) material for preventing the release film 10 from breaking. Further, the first release layer 1 has a function as a contact layer for exerting the excellent release property of the release film 10 from the CL film 220 (FPC200) in the third step. ..

 第1離型層1は、第1熱可塑性樹脂組成物からなり、この第1熱可塑性樹脂組成物は、離型フィルム10の180℃における貯蔵弾性率E’を30MPa以上に設定し得る組成物であれば、特に限定されないが、主としてポリ4-メチル1-ペンテン樹脂(ポリメチルペンテン;TPX(登録商標))を含有することが好ましい。これにより、前記貯蔵弾性率E’を比較的容易に30MPa以上に設定することができるとともに、第1離型層1に、確実に前述した機能を付与することができる。 The first release layer 1 is composed of a first thermoplastic resin composition, and this first thermoplastic resin composition is a composition capable of setting the storage elastic modulus E'of the release film 10 at 180 ° C. to 30 MPa or more. If so, it is not particularly limited, but it is preferable to mainly contain a poly4-methyl1-pentene resin (polymethylpentene; TPX (registered trademark)). As a result, the storage elastic modulus E'can be set to 30 MPa or more relatively easily, and the above-mentioned function can be reliably imparted to the first release layer 1.

 したがって、離型フィルム10を、上記の通り、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とを用いたFPC200の形成に用いた場合には、前記第2の工程において、FPC200に形成された凹部223に、接着剤層222に由来する接着剤がしみ出すのを的確に抑制または防止することができる。 Therefore, when the release film 10 is used for forming the FPC200 using the flexible circuit board 210 and the CL film 220 as described above, in the recess 223 formed in the FPC200 in the second step, the release film 10 is formed. It is possible to accurately suppress or prevent the adhesive derived from the adhesive layer 222 from seeping out.

 そして、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とが、CLフィルム220が備える接着剤層222を介して接合されたFPC200の形成の後に、前記第3の工程において、FPC200から離型フィルム10を剥離させる際に、FPC200に、折れシワおよび破断が生じるのを的確に抑制または防止することができる。 Then, after the flexible circuit board 210 and the CL film 220 are bonded to each other via the adhesive layer 222 included in the CL film 220, the release film 10 is peeled off from the FPC 200 in the third step. At that time, it is possible to accurately suppress or prevent the FPC 200 from being broken or broken.

 さらに、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂は、260℃、5.0kg荷重で測定したメルトフローレート(MFR)が5g/10min以上250g/10min以下であることが好ましく、30g/10min以上200g/10min以下であることがより好ましく、40g/10min以上160g/10min以下であることがさらに好ましい。これにより、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂を用いることにより得られる効果をより顕著に発揮させることができる。 Further, the poly 4-methyl-1-pentene resin preferably has a melt flow rate (MFR) of 5 g / 10 min or more and 250 g / 10 min or less measured at 260 ° C. and a 5.0 kg load, and 30 g / 10 min or more and 200 g / 10 min. It is more preferably 40 g / 10 min or more and 160 g / 10 min or less. Thereby, the effect obtained by using the poly 4-methyl 1-pentene resin can be more remarkablely exhibited.

 なお、第1熱可塑性樹脂組成物は、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂以外の樹脂材料が含まれていてもよく、この樹脂材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートのようなポリエステル系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレンのようなポリ4-メチル1-ペンテン以外のポリオレフィン系樹脂、シンジオタクチックポリスチレンのようなポリスチレン系樹脂等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 The first thermoplastic resin composition may contain a resin material other than the poly4-methyl1-pentene resin, and the resin materials include, for example, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate. Such as polyester resin, polyethylene, polyolefin resin other than poly4-methyl1-pentene such as polypropylene, polystyrene resin such as syndiotactic polystyrene, etc., and one or more of these. Can be used in combination.

 また、第1熱可塑性樹脂組成物は、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂の他に、さらに、無機粒子および有機粒子のうちの少なくとも1種を含んでいてもよい。第1熱可塑性樹脂組成物に上記のような粒子が含まれることで、特に、エアナイフ系の成膜方法を用いた場合において、図5に示すように、第1離型層1のクッション層3と反対側の表面に凹凸形状を有する第1離型層1を成膜することができる。 Further, the first thermoplastic resin composition may further contain at least one of inorganic particles and organic particles in addition to the poly4-methyl-1-pentene resin. Since the first thermoplastic resin composition contains the above-mentioned particles, particularly when an air knife-based film forming method is used, as shown in FIG. 5, the cushion layer 3 of the first release layer 1 is used. The first mold release layer 1 having a concavo-convex shape can be formed on the surface opposite to the above.

 無機粒子としては、特に限定されないが、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、アルミナ、窒化アルミニウム、ホウ酸アルミニウムウイスカ、窒化ホウ素、結晶性シリカ、非晶性シリカ、アンチモン酸化物、Eガラス、Dガラス、Sガラス等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 The inorganic particles are not particularly limited, and are, for example, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium oxide, magnesium oxide, alumina, aluminum nitride, aluminum borate whisk, and the like. Examples thereof include boron nitride, crystalline silica, amorphous silica, antimony oxide, E glass, D glass, S glass and the like, and one or more of these can be used in combination.

 また、有機粒子としては、特に限定されないが、例えば、ポリスチレン粒子、アクリル粒子、ポリイミド粒子、ポリエステル粒子、シリコーン粒子、ポリプロピレン粒子、ポリエチレン粒子、フッ素樹脂粒子およびコアシェル粒子等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 The organic particles are not particularly limited, and examples thereof include polystyrene particles, acrylic particles, polyimide particles, polyester particles, silicone particles, polypropylene particles, polyethylene particles, fluororesin particles, core-shell particles, and the like. One kind or a combination of two or more kinds can be used.

 さらに、無機粒子および有機粒子は、その平均粒子径が3μm以上20μm以下であるのが好ましく、5μm以上20μm以下であるのがより好ましい。これにより、第1離型層1のクッション層3と反対側の表面に、確実に凹凸形状を形成することができる。 Further, the average particle diameter of the inorganic particles and the organic particles is preferably 3 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 20 μm or less. As a result, the uneven shape can be surely formed on the surface of the first release layer 1 opposite to the cushion layer 3.

 この凹凸形状を前記表面に有する第1離型層1は、前記表面における10点平均粗さ(Rz)が3μm以上20μm以下であることが好ましく、5μm以上17μm以下であることがより好ましく、7μm以上17μm以下であることがさらに好ましい。これにより、第1離型層1に、より確実に前述した機能を付与することができる。また、前記第2の工程において、FPC200に形成された凹部223に、第1離型層1が押し込まれる際に、フレキシブル回路基板210およびCLフィルム220の表面に、この凹凸形状が転写されるのを的確に抑制または防止することができる。なお、前記10点平均粗さ(Rz)は、JIS B 0601-1994に準拠して測定することができる。 The first release layer 1 having this uneven shape on the surface preferably has a 10-point average roughness (Rz) of 3 μm or more and 20 μm or less, more preferably 5 μm or more and 17 μm or less, and 7 μm. It is more preferably 17 μm or less. As a result, the above-mentioned function can be more reliably imparted to the first release layer 1. Further, in the second step, when the first release layer 1 is pushed into the recess 223 formed in the FPC 200, the uneven shape is transferred to the surfaces of the flexible circuit board 210 and the CL film 220. Can be accurately suppressed or prevented. The 10-point average roughness (Rz) can be measured in accordance with JIS B 0601-1994.

 かかる構成をなす第1離型層1は、その180℃における貯蔵弾性率E’1が60MPa以上であるのが好ましく、65MPa以上150MPa以下であるのがより好ましく、68MPa以上150MPa以下であるのがさらに好ましく、70MPa以上100MPa以下であるのが特に好ましい。このように、第1離型層1の180℃における貯蔵弾性率E’1を、前記のように設定することで、離型フィルム10の180℃における貯蔵弾性率E’tを比較的容易に30MPa以上に設定することができる。 The first release layer 1 having such a configuration preferably has a storage elastic modulus E'1 at 180 ° C. of 60 MPa or more, more preferably 65 MPa or more and 150 MPa or less, and 68 MPa or more and 150 MPa or less. It is more preferably 70 MPa or more and 100 MPa or less, and particularly preferably 100 MPa or less. As described above, by setting the storage elastic modulus E'1 of the first release layer 1 at 180 ° C. as described above, the storage elastic modulus E't of the release film 10 at 180 ° C. can be relatively easily set. It can be set to 30 MPa or more.

 なお、第1離型層1の180℃における貯蔵弾性率E’1は、JIS K7244-4に準拠して、幅4mm、長さ20mmの第1離型層1を用意し、動的粘弾性測定装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、「DMS6100」)を用いて、引っ張りモード、周波数1Hz、昇温速度5℃/minとして測定することで得ることができる。 The storage elastic modulus E'1 of the first release layer 1 at 180 ° C. is based on JIS K7424-4, and the first release layer 1 having a width of 4 mm and a length of 20 mm is prepared and has dynamic viscoelasticity. It can be obtained by measuring with a pulling mode, a frequency of 1 Hz, and a heating rate of 5 ° C./min using a measuring device (“DMS6100” manufactured by SII Nanotechnology Co., Ltd.).

 また、この第1離型層1は、本発明では、その平均厚さT1が12μm以上38μm以下に設定され、好ましくは14μm以上36μm以下に、より好ましくは25μm以上36μm以下に設定される。これにより、第1離型層1に、より確実に前述した機能を付与することができるとともに、離型フィルム10の180℃における貯蔵弾性率E’を、確実に30MPa以上に設定することができる。 Further, in the present invention, the average thickness T1 of the first release layer 1 is set to 12 μm or more and 38 μm or less, preferably 14 μm or more and 36 μm or less, and more preferably 25 μm or more and 36 μm or less. As a result, the above-mentioned function can be more reliably imparted to the first release layer 1, and the storage elastic modulus E'at 180 ° C. of the release film 10 can be surely set to 30 MPa or more. ..

 また、第1離型層1の平均厚さをT1[μm]とし、第1離型層1の180℃における貯蔵弾性率E’をE’1[MPa]としたとき、E’1/T1[MPa/μm]は、2.1<E’1/T1<6.0なる関係を満足することが好ましく、2.2<E’1/T1<5.0なる関係を満足することがより好ましく、2.2<E’1/T1<2.9なる関係を満足することがさらに好ましい。これにより、前記貯蔵弾性率E’および第1離型層1の平均厚さを、上記のように設定することにより得られる効果をより顕著に発揮させることができる。 Further, when the average thickness of the first release layer 1 is T1 [μm] and the storage elastic modulus E'of the first release layer 1 at 180 ° C. is E'1 [MPa], E'1 / T1. [MPa / μm] preferably satisfies the relationship of 2.1 <E'1 / T1 <6.0, and more preferably satisfies the relationship of 2.2 <E'1 / T1 <5.0. It is preferable to satisfy the relationship of 2.2 <E'1 / T1 <2.9. Thereby, the effect obtained by setting the storage elastic modulus E'and the average thickness of the first release layer 1 as described above can be more remarkably exhibited.

 なお、第1離型層1の厚さは、上記の通り、第1離型層1のクッション層3と反対側の表面が凹凸形状を有する場合、凸部では凸部を含む位置、また、凹部では凹部を含む位置で、それぞれ、その厚さを測定することとする。 As described above, the thickness of the first release layer 1 is such that when the surface of the first release layer 1 on the opposite side of the cushion layer 3 has an uneven shape, the convex portion includes the convex portion and the convex portion. In the recess, the thickness is measured at each position including the recess.

 また、第1離型層1を構成する第1熱可塑性樹脂組成物には、前述した樹脂材料、無機粒子、有機粒子の他に、結晶核剤、酸化防止剤、スリップ剤、アンチブロッキング剤、帯電防止剤、着色剤、安定剤のような添加剤が含まれていてもよい。 Further, in the first thermoplastic resin composition constituting the first release layer 1, in addition to the above-mentioned resin material, inorganic particles and organic particles, a crystal nucleating agent, an antioxidant, a slip agent, an antiblocking agent, etc. Additives such as antistatic agents, colorants and stabilizers may be included.

 なお、第1熱可塑性樹脂組成物に、結晶核剤が含まれる場合、ポリメチルペンテンの結晶化度の向上を図ることができ、その結果、前記貯蔵弾性率E’を比較的容易に30MPa以上に設定することができる。 When the first thermoplastic resin composition contains a crystal nucleating agent, the crystallinity of polymethylpentene can be improved, and as a result, the storage elastic modulus E'is relatively easily set to 30 MPa or more. Can be set to.

 また、この場合、第1熱可塑性樹脂組成物における、結晶核剤の含有量は、0.1重量%以上2.0重量%以下であることが好ましく、0.3重量%以上0.8重量%以下であることがより好ましい。 Further, in this case, the content of the crystal nucleating agent in the first thermoplastic resin composition is preferably 0.1% by weight or more and 2.0% by weight or less, and 0.3% by weight or more and 0.8% by weight or less. % Or less is more preferable.

<クッション層3>
 次に、クッション層3について説明する。このクッション層3は、第1離型層1と第2離型層2との間の中間層として配置されている。
<Cushion layer 3>
Next, the cushion layer 3 will be described. The cushion layer 3 is arranged as an intermediate layer between the first release layer 1 and the second release layer 2.

 クッション層3は、優れた追従性を備えている。前述したように、離型フィルム10を用いたロールツーロールプレス機100による、フレキシブルプリント回路基板200の製造方法において、FPC200が備えるCLフィルム220に対して、第1離型層1が接触するように、離型フィルム10が重ね合わされる。そして、クッション層3は、この製造方法の前記第2の工程において、重ね合わされているフレキシブル回路基板210とCLフィルム220とを、接着剤層222を介して接合する際に、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とで形成される凹部223の形状に、第1離型層1が追従するように、この第1離型層1を押し込む層であり、クッションとしての機能を有している。また、このクッション層3を離型フィルム10が備えることで、離型フィルム10により、CLフィルム220をフレキシブル回路基板210に対して、均一な圧力で押し付けることができる。 The cushion layer 3 has excellent followability. As described above, in the method of manufacturing the flexible printed circuit board 200 by the roll-to-roll press machine 100 using the release film 10, the first release layer 1 comes into contact with the CL film 220 included in the FPC 200. The release film 10 is superposed on the top. Then, the cushion layer 3 is attached to the flexible circuit board 210 when the laminated flexible circuit board 210 and the CL film 220 are bonded to each other via the adhesive layer 222 in the second step of this manufacturing method. It is a layer that pushes the first release layer 1 so that the first release layer 1 follows the shape of the recess 223 formed by the CL film 220, and has a function as a cushion. Further, since the release film 10 includes the cushion layer 3, the CL film 220 can be pressed against the flexible circuit board 210 with a uniform pressure by the release film 10.

 クッション層3は、第3熱可塑性樹脂組成物からなり、この第3熱可塑性樹脂組成物は、クッション層3に優れた追従性を付与できるものであれば、特に限定されないが、例えば、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂(ポリメチルペンテン;TPX(登録商標))と、このポリ4-メチル1-ペンテン樹脂とは異なるポリオレフィン系樹脂とを含むことが好ましい。これにより、クッション層3に優れた追従性を付与できるとともに、第1離型層1および第2離型層2に対して、クッション層3を優れた密着性を発揮するものとすることができる。 The cushion layer 3 is made of a third thermoplastic resin composition, and the third thermoplastic resin composition is not particularly limited as long as it can impart excellent followability to the cushion layer 3, but for example, poly 4 -It is preferable to contain a methyl 1-pentene resin (polymethylpentene; TPX (registered trademark)) and a polyolefin-based resin different from this poly4-methyl1-pentene resin. As a result, the cushion layer 3 can be provided with excellent followability, and the cushion layer 3 can be made to exhibit excellent adhesion to the first release layer 1 and the second release layer 2. ..

 この第3熱可塑性樹脂組成物における、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂の含有量は、20重量%以上であることが好ましく、20重量%以上50重量%以下であることがより好ましい。これにより、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂と、ポリオレフィン系樹脂とを含む構成とすることにより得られる効果をより顕著に発揮させることができる。 The content of the poly4-methyl-1-pentene resin in this third thermoplastic resin composition is preferably 20% by weight or more, and more preferably 20% by weight or more and 50% by weight or less. As a result, the effect obtained by the configuration containing the poly 4-methyl 1-pentene resin and the polyolefin-based resin can be more remarkably exhibited.

 さらに、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂は、260℃、5.0kg荷重で測定したメルトフローレート(MFR)が5g/10min以上250g/10min以下であることが好ましく、15g/10min以上200g/10min以下であることがより好ましく、20g/10min以上150g/10min以下であることがさらに好ましい。これにより、前記第2の工程において、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とで形成される凹部223の形状に、第1離型層1が追従するように第1離型層1を押し込む押込み層としての機能を、より確実にクッション層3に付与することができる。 Further, the poly 4-methyl 1-pentene resin preferably has a melt flow rate (MFR) of 5 g / 10 min or more and 250 g / 10 min or less, and 15 g / 10 min or more and 200 g / 10 min or more, measured at 260 ° C. and a 5.0 kg load. It is more preferably 20 g / 10 min or more, and further preferably 150 g / 10 min or less. As a result, in the second step, the push-in layer that pushes the first release layer 1 so that the first release layer 1 follows the shape of the recess 223 formed by the flexible circuit board 210 and the CL film 220. Can be more reliably imparted to the cushion layer 3.

 また、第3熱可塑性樹脂組成物に含まれる、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂以外のポリオレフィン系樹脂としては、特に限定されず、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のα-オレフィン系重合体、エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン、ヘキセン、メチルペンテン等を重合体成分として有するα-オレフィン系共重合体等が挙げられ、これらのうちの1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。 Further, the polyolefin-based resin other than the poly4-methyl1-pentene resin contained in the third thermoplastic resin composition is not particularly limited, and for example, an α-olefin polymer such as polyethylene and polypropylene, ethylene, and the like. Examples thereof include α-olefin-based copolymers having propylene, butene, penten, hexene, methylpentene and the like as polymer components, and one or a combination of two or more of these can be used.

 また、このクッション層3は、その平均厚さTkが40μm以上110μm以下であることが好ましく、より好ましくは50μm以上100μm以下、さらに好ましくは60μm以上85μm以下に設定される。これにより、クッション層3に、より確実に前述した機能を付与することができるとともに、離型フィルム10の180℃における貯蔵弾性率E’を、確実に30MPa以上に設定することができる。 Further, the cushion layer 3 is preferably set to have an average thickness Tk of 40 μm or more and 110 μm or less, more preferably 50 μm or more and 100 μm or less, and further preferably 60 μm or more and 85 μm or less. As a result, the above-mentioned function can be more reliably imparted to the cushion layer 3, and the storage elastic modulus E'at 180 ° C. of the release film 10 can be surely set to 30 MPa or more.

 なお、クッション層3を構成する第3熱可塑性樹脂組成物には、前述した樹脂材料の他に、前記第1熱可塑性樹脂組成物で挙げたのと同様の添加剤が含まれていてもよい。 In addition to the resin material described above, the third thermoplastic resin composition constituting the cushion layer 3 may contain the same additives as those mentioned in the first thermoplastic resin composition. ..

 <第2離型層2>
 次に、第2離型層2について説明する。この第2離型層2は、クッション層3の他方の面側、すなわち、クッション層3の第1離型層1と反対の面側に積層されている。
<Second mold release layer 2>
Next, the second release layer 2 will be described. The second release layer 2 is laminated on the other surface side of the cushion layer 3, that is, on the surface side of the cushion layer 3 opposite to the first release layer 1.

 第2離型層2は、可撓性を備えている。前述したように、離型フィルム10を用いたロールツーロールプレス機100による、フレキシブルプリント回路基板200の製造方法において、FPC200が備えるCLフィルム220に対して、第1離型層1が接触するように、離型フィルム10が重ね合わされる。そして、第2離型層2は、この製造方法の前記第2の工程において、重ね合わされているフレキシブル回路基板210とCLフィルム220とを、接着剤層222を介して接合する際に、加熱圧着板521からの力を、クッション層3に伝達する層として機能する。さらに、第2離型層2は、前記第3の工程において、ガラスクロス300A、300Bと離型フィルム10との間で優れた離型性を発揮させるための接触層としての機能を有している。 The second release layer 2 has flexibility. As described above, in the method of manufacturing the flexible printed circuit board 200 by the roll-to-roll press machine 100 using the release film 10, the first release layer 1 comes into contact with the CL film 220 included in the FPC 200. The release film 10 is superposed on the top. Then, the second release layer 2 is heat-bonded when the flexible circuit board 210 and the CL film 220, which are overlapped with each other, are bonded to each other via the adhesive layer 222 in the second step of this manufacturing method. It functions as a layer that transmits the force from the plate 521 to the cushion layer 3. Further, the second release layer 2 has a function as a contact layer for exerting excellent mold release property between the glass cloths 300A and 300B and the release film 10 in the third step. There is.

 第2離型層2は、第2熱可塑性樹脂組成物からなり、この第2熱可塑性樹脂組成物は、離型フィルム10の180℃における貯蔵弾性率E’を30MPa以上に設定し得る組成物であれば、特に限定されないが、前記第1熱可塑性樹脂組成物と同様に、主としてポリ4-メチル1-ペンテン樹脂(ポリメチルペンテン;TPX(登録商標))を含有することが好ましい。これにより、前記貯蔵弾性率E’を比較的容易に30MPa以上に設定することができるとともに、第2離型層2に、確実に前述した機能を付与することができる。 The second release layer 2 is composed of a second thermoplastic resin composition, and the second thermoplastic resin composition is a composition capable of setting the storage elasticity E'of the release film 10 at 180 ° C. to 30 MPa or more. If this is the case, it is not particularly limited, but it is preferable to mainly contain a poly4-methyl1-pentene resin (polymethylpentene; TPX (registered trademark)) as in the first thermoplastic resin composition. As a result, the storage elastic modulus E'can be set to 30 MPa or more relatively easily, and the above-mentioned function can be reliably imparted to the second release layer 2.

 さらに、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂は、260℃、5.0kg荷重で測定したメルトフローレート(MFR)が5g/10min以上250g/10min以下であることが好ましく、30g/10min以上200g/10min以下であることがより好ましく、40g/10min以上160g/10min以下であることがさらに好ましい。これにより、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂を用いることにより得られる効果をより顕著に発揮させることができる。 Further, the poly 4-methyl-1-pentene resin preferably has a melt flow rate (MFR) of 5 g / 10 min or more and 250 g / 10 min or less measured at 260 ° C. and a 5.0 kg load, and 30 g / 10 min or more and 200 g / 10 min. It is more preferably 40 g / 10 min or more and 160 g / 10 min or less. Thereby, the effect obtained by using the poly 4-methyl 1-pentene resin can be more remarkablely exhibited.

 なお、第2熱可塑性樹脂組成物は、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂以外の樹脂材料が含まれていてもよく、この樹脂材料としては、前記第1熱可塑性樹脂組成物で挙げたのと同様のものを用いることができる。 The second thermoplastic resin composition may contain a resin material other than the poly4-methyl1-pentene resin, and the resin material is mentioned in the first thermoplastic resin composition. Similar ones can be used.

 また、第2熱可塑性樹脂組成物は、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂の他に、さらに、無機粒子および有機粒子のうちの少なくとも1種を含んでいてもよい。第2熱可塑性樹脂組成物に上記のような粒子が含まれることで、特に、エアナイフ系の成膜方法を用いた場合において、図5に示すように、第2離型層2のクッション層3と反対側の表面に凹凸形状を有する第2離型層2を成膜することができる。 Further, the second thermoplastic resin composition may further contain at least one of inorganic particles and organic particles in addition to the poly4-methyl1-pentene resin. Since the second thermoplastic resin composition contains the above-mentioned particles, particularly when an air knife-based film forming method is used, as shown in FIG. 5, the cushion layer 3 of the second release layer 2 is used. The second mold release layer 2 having an uneven shape can be formed on the surface opposite to the above.

 無機粒子および有機粒子としては、特に限定されないが、前記第1熱可塑性樹脂組成物で挙げたのと同様のものを用いることができる。 The inorganic particles and the organic particles are not particularly limited, but the same particles as those mentioned in the first thermoplastic resin composition can be used.

 さらに、無機粒子および有機粒子は、その平均粒子径が3μm以上20μm以下であるのが好ましく、5μm以上20μm以下であるのがより好ましい。これにより、第2離型層2のクッション層3と反対側の表面に、確実に凹凸形状を形成することができる。 Further, the average particle diameter of the inorganic particles and the organic particles is preferably 3 μm or more and 20 μm or less, and more preferably 5 μm or more and 20 μm or less. As a result, the uneven shape can be reliably formed on the surface of the second release layer 2 opposite to the cushion layer 3.

 この凹凸形状を前記表面に有する第2離型層2は、前記表面における10点平均粗さ(Rz)が3μm以上20μm以下であることが好ましく、5μm以上17μm以下であることがより好ましく、7μm以上17μm以下であることがさらに好ましい。これにより、第2離型層2に、より確実に前述した機能を付与することができる。なお、前記10点平均粗さ(Rz)は、JIS B 0601-1994に準拠して測定することができる。 The second release layer 2 having this uneven shape on the surface preferably has a 10-point average roughness (Rz) of 3 μm or more and 20 μm or less, more preferably 5 μm or more and 17 μm or less, and 7 μm. It is more preferably 17 μm or less. As a result, the above-mentioned function can be more reliably imparted to the second release layer 2. The 10-point average roughness (Rz) can be measured in accordance with JIS B 0601-1994.

 かかる構成をなす第2離型層2は、その180℃における貯蔵弾性率E’2が60MPa以上であるのが好ましく、65MPa以上150MPa以下であるのがより好ましく、68MPa以上150MPa以下であるのがさらに好ましく、70MPa以上100MPa以下であるのが特に好ましい。このように、第2離型層2の180℃における貯蔵弾性率E’を、前記のように設定することで、離型フィルム10の180℃における貯蔵弾性率E’を比較的容易に30MPa以上に設定することができる。 The second release layer 2 having such a configuration preferably has a storage elastic modulus E'2 at 180 ° C. of 60 MPa or more, more preferably 65 MPa or more and 150 MPa or less, and 68 MPa or more and 150 MPa or less. It is more preferably 70 MPa or more and 100 MPa or less, and particularly preferably 100 MPa or less. As described above, by setting the storage elastic modulus E'of the second release layer 2 at 180 ° C. as described above, the storage elastic modulus E'at 180 ° C. of the release film 10 can be relatively easily set to 30 MPa or more. Can be set to.

 また、この第2離型層2は、その平均厚さT2が12μm以上38μm以下であることが好ましく、より好ましくは14μm以上36μm以下に設定され、さらに好ましくは25μm以上36μm以下に設定される。これにより、第2離型層2に、より確実に前述した機能を付与することができるとともに、離型フィルム10の180℃における貯蔵弾性率E’を、確実に30MPa以上に設定することができる。 Further, the average thickness T2 of the second release layer 2 is preferably 12 μm or more and 38 μm or less, more preferably 14 μm or more and 36 μm or less, and further preferably 25 μm or more and 36 μm or less. Thereby, the above-mentioned function can be more reliably imparted to the second release layer 2, and the storage elastic modulus E'at 180 ° C. of the release film 10 can be surely set to 30 MPa or more. ..

 なお、第2離型層2を構成する第2熱可塑性樹脂組成物には、前述した樹脂材料、無機粒子、有機粒子の他に、前記第1熱可塑性樹脂組成物で挙げたのと同様の添加剤が含まれていてもよい。 In addition to the resin material, inorganic particles, and organic particles described above, the second thermoplastic resin composition constituting the second release layer 2 is the same as that mentioned in the first thermoplastic resin composition. Additives may be included.

 また、第1離型層1と第2離型層2とにおいて、第1熱可塑性樹脂組成物と第2熱可塑性樹脂組成物とは、同一であっても異なっていても良いが、代替性を有すると言う観点からは、同一もしくは同質であることが好ましい。さらに、第1離型層1と第2離型層2において、その平均厚さは、同一であっても異なっていてもよい。 Further, in the first release layer 1 and the second release layer 2, the first thermoplastic resin composition and the second thermoplastic resin composition may be the same or different, but they are substitutable. From the viewpoint of having the same or the same quality, it is preferable. Further, the average thickness of the first release layer 1 and the second release layer 2 may be the same or different.

 ここで、本発明では、離型フィルム10が備える第1離型層1の平均厚さT1が12μm以上38μm以下に設定され、かつ、離型フィルム10の180℃における貯蔵弾性率E’tが30MPa以上に設定されている。 Here, in the present invention, the average thickness T1 of the first release layer 1 included in the release film 10 is set to 12 μm or more and 38 μm or less, and the storage elastic modulus E't of the release film 10 at 180 ° C. is set. It is set to 30 MPa or more.

 離型フィルム10を、上記の通り、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とを用いたFPC200の形成に用いた際に、前記第2の工程において、FPC200に形成された凹部223に、押し込まれることとなる第1離型層1の平均厚さを前記範囲内に設定し、さらに、離型フィルム10全体としての180℃における貯蔵弾性率E’を前記下限値以上に設定することで、優れた埋め込み性と離型性との両立がバランス良く発揮された離型フィルム10を得ることができる。 When the release film 10 is used for forming the FPC200 using the flexible circuit substrate 210 and the CL film 220 as described above, it is pushed into the recess 223 formed in the FPC200 in the second step. By setting the average thickness of the first release layer 1 to be within the above range, and further setting the storage elastic modulus E'at 180 ° C. of the entire release film 10 at 180 ° C. to the lower limit value or more, it is excellent. It is possible to obtain a mold release film 10 in which both embedding property and mold release property are exhibited in a well-balanced manner.

 したがって、離型フィルム10を、上記の通り、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とを用いたFPC200の形成に用いた場合には、前記第2の工程において、FPC200に形成された凹部223に、接着剤層222に由来する接着剤がしみ出すのを的確に抑制または防止することができる。 Therefore, when the release film 10 is used for forming the FPC200 using the flexible circuit board 210 and the CL film 220 as described above, in the recess 223 formed in the FPC200 in the second step, the release film 10 is formed. It is possible to accurately suppress or prevent the adhesive derived from the adhesive layer 222 from seeping out.

 具体的には、ピッチ50μm、幅50μm、高さ18μmの凹凸(回路)を備えるフレキシブル回路基板210に、カバーレイフィルム220(有沢製作所社製、「CMA0525」)を、このカバーレイフィルム220が備える接着剤層222をフレキシブル回路基板210側にして貼付することで形成される積層体に対して、幅270mmの離型フィルム10を、ロールツーロールプレス機100を用いて、180℃、11MPa、120secの条件で押し込み、その後、離型フィルム10の一端を持ち引き剥がした際の、前記積層体の凹部における平面視での接着剤の最大しみ出し量を、好ましくは100μm以下、より好ましくは85μm以下に設定することができる。 Specifically, the coverlay film 220 (“CMA0525” manufactured by Arisawa Seisakusho Co., Ltd.) is provided on a flexible circuit board 210 having irregularities (circuits) having a pitch of 50 μm, a width of 50 μm, and a height of 18 μm. A release film 10 having a width of 270 mm was applied to a laminate formed by attaching the adhesive layer 222 to the flexible circuit board 210 side at 180 ° C., 11 MPa, 120 sec using a roll-to-roll press machine 100. The maximum amount of adhesive oozing out in a plan view in the recesses of the laminate when the release film 10 is pushed in under the above conditions and then peeled off by holding one end of the release film 10 is preferably 100 μm or less, more preferably 85 μm or less. Can be set to.

 そして、フレキシブル回路基板210とCLフィルム220とが、CLフィルム220が備える接着剤層222を介して接合されたFPC200の形成の後に、前記第3の工程において、FPC200から離型フィルム10を剥離させる際に、FPC200に、折れシワおよび破断が生じるのを的確に抑制または防止することができる。 Then, after the flexible circuit board 210 and the CL film 220 are bonded to each other via the adhesive layer 222 included in the CL film 220, the release film 10 is peeled off from the FPC 200 in the third step. At that time, it is possible to accurately suppress or prevent the FPC 200 from being broken or broken.

 具体的には、幅270mmの離型フィルム10を、ピッチ50μm、幅50μm、高さ18μmの凹凸(回路)を備えるフレキシブル回路基板210に、180℃、11MPa、120secの条件でロールツーロールプレス機100にて加圧貼付して、加圧直後に搬送しつつ、フレキシブル回路基板210と離型フィルム10とを引き剥がしたときに、離型フィルム10にシワが認められない限界引き剥がし速度を、好ましくは100mm/秒以上、より好ましくは150mm/秒以上、さらに好ましくは190mm/秒以上、特に好ましくは250mm/秒以上に設定することができる。 Specifically, a roll-to-roll press machine is applied to a release film 10 having a width of 270 mm on a flexible circuit board 210 having unevenness (circuit) having a pitch of 50 μm, a width of 50 μm, and a height of 18 μm under the conditions of 180 ° C., 11 MPa, and 120 sec. When the flexible circuit board 210 and the release film 10 are peeled off while being pressure-bonded at 100 and conveyed immediately after the pressurization, the limit peeling speed at which no wrinkles are observed on the release film 10 is set. It can be preferably set to 100 mm / sec or more, more preferably 150 mm / sec or more, still more preferably 190 mm / sec or more, and particularly preferably 250 mm / sec or more.

 上記の通り、前記最大しみ出し量が前記上限値以下に設定され、かつ、前記限界引き剥がし速度が前記下限値以上に設定されることで、離型フィルム10は、優れた埋め込み性と離型性との両立がバランス良く発揮された離型フィルムであると言うことができる。 As described above, when the maximum exudation amount is set to be equal to or lower than the upper limit value and the limit peeling speed is set to be equal to or higher than the lower limit value, the release film 10 has excellent embedding property and mold release property. It can be said that it is a release film that has a good balance between sex and sex.

 また、離型フィルム10の180℃における貯蔵弾性率E’tは、30MPa以上であればよいが、30MPa以上150MPa以下であることが好ましい。これにより、優れた埋め込み性と優れた離型性との両立がよりバランス良く発揮された離型フィルム10を得ることができる。 Further, the storage elastic modulus E't of the release film 10 at 180 ° C. may be 30 MPa or more, but preferably 30 MPa or more and 150 MPa or less. As a result, it is possible to obtain a mold release film 10 in which both excellent embedding property and excellent mold release property are exhibited in a more balanced manner.

 なお、離型フィルム10の180℃における貯蔵弾性率E’tは、JIS K7244-4に準拠して、幅4mm、長さ20mmの離型フィルム10を用意し、動的粘弾性測定装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、「DMS6100」)を用いて、引っ張りモード、周波数1Hz、昇温速度5℃/minとして測定することで得ることができる。 The storage elastic modulus E't of the release film 10 at 180 ° C. is based on JIS K7424-4, and a release film 10 having a width of 4 mm and a length of 20 mm is prepared, and a dynamic viscoelasticity measuring device (SI) is prepared. It can be obtained by measuring with a tension mode, a frequency of 1 Hz, and a heating rate of 5 ° C./min using "DMS6100" manufactured by i-Nanotechnology.

 さらに、離型フィルム10の平均厚さTtは、80μm以上180μm以下であることが好ましく、90μm以上160μm以下であることがより好ましい。また、クッション層3の平均厚さTkと第1離型層1の平均厚さT1との関係式であるT1/Tkは、0.5以下であることが好ましく、0.3以上0.4以下であることがより好ましい。これら厚さの関係を満足することにより、優れた埋め込み性と優れた離型性との両立がさらにバランス良く発揮された離型フィルム10を得ることができる。 Further, the average thickness Tt of the release film 10 is preferably 80 μm or more and 180 μm or less, and more preferably 90 μm or more and 160 μm or less. Further, T1 / Tk, which is a relational expression between the average thickness Tk of the cushion layer 3 and the average thickness T1 of the first release layer 1, is preferably 0.5 or less, and is 0.3 or more and 0.4. The following is more preferable. By satisfying these thickness relationships, it is possible to obtain a mold release film 10 in which both excellent embedding property and excellent mold release property are exhibited in a more balanced manner.

 なお、離型フィルム10は、本実施形態では、第1離型層1と、クッション層3と、第2離型層2とが、この順で積層された積層体で構成されるが、かかる構成に限定されず、例えば、第1離型層1とクッション層3との間、および、第2離型層2とクッション層3との間の少なくとも一方に配置された、接着剤層のような中間層を備える積層体で構成されてもよい。 In the present embodiment, the release film 10 is composed of a laminate in which the first release layer 1, the cushion layer 3, and the second release layer 2 are laminated in this order. The configuration is not limited, for example, such as an adhesive layer arranged between the first release layer 1 and the cushion layer 3 and at least one between the second release layer 2 and the cushion layer 3. It may be composed of a laminated body provided with an intermediate layer.

 また、離型フィルム10は、前記第3の工程において、ガラスクロス300A、300Bと離型フィルム10との間で優れた離型性を維持し得るのであれば、ガラスクロス300A、300Bに接触する第2離型層2が、省略されてもよい。 Further, the release film 10 comes into contact with the glass cloths 300A and 300B in the third step if the excellent mold release property can be maintained between the glass cloths 300A and 300B and the release film 10. The second release layer 2 may be omitted.

 以上、本発明の離型フィルムおよび成型品の製造方法について説明したが、本発明は、これらに限定されない。 Although the method for producing the release film and the molded product of the present invention has been described above, the present invention is not limited thereto.

 例えば、前記実施形態では、本発明の離型フィルムを、ロールツーロールプレス機によるフレキシブルプリント回路基板の製造に適用されたロールツーロールプレス用離型フィルムとして用いる場合、すなわち、貫通する凹部を有するカバーレイ(機能層)を、接着剤層を介して、フレキシブル回路基板(基板)に対して、ロールツーロール方式によるプレスにより接合する場合について説明したが、これに限定されない。具体的には、ロールツーロール方式とは異なる、プレス成型法や真空圧空成形法等を用いて、貫通する凹部を有する機能層を、接着剤層を介して基板に対して接合する場合においても、本発明の離型フィルムを用いることができる。 For example, in the above embodiment, when the release film of the present invention is used as a release film for a roll-to-roll press applied to the manufacture of a flexible printed circuit board by a roll-to-roll press machine, that is, it has a penetrating recess. Although the case where the coverlay (functional layer) is joined to the flexible circuit board (board) via the adhesive layer by a roll-to-roll method is described, the present invention is not limited thereto. Specifically, even when a functional layer having a penetrating recess is joined to a substrate via an adhesive layer by using a press molding method, a vacuum pressure pneumatic molding method, or the like, which is different from the roll-to-roll method. , The release film of the present invention can be used.

 以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明するが、本発明はこれに限定されない。 Hereinafter, the present invention will be described in detail based on examples, but the present invention is not limited thereto.

1.原材料の準備
 離型フィルムを製造するための原材料として、それぞれ、以下の材料を用意した。
1. 1. Preparation of raw materials The following materials were prepared as raw materials for producing the release film.

・熱可塑性樹脂材料
  ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂I(4-メチル-1-ペンテン・ヘキサデセン・オクタデセン共重合体、MFR=100g/10min)
  ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂II(4-メチル-1-ペンテン・デセン-1共重合体、MFR=180g/10min)
  ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂III(4-メチル-1-ペンテン・デセン-1共重合体、MFR=9g/10min、)
  ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂IV(4-メチル-1-ペンテン・デセン-1共重合体、MFR=21g/10min)
  低密度ポリエチレン(LDPE、宇部丸善ポリエチレン社製、「R500」)
  ポリプロピレン(PP、住友化学社製、「FH1016」)
  エチレン-メタクリル酸メチル共重合体(EMMA、住友化学社製、「WD106」)
  エチレン-アクリル酸メチル共重合体(EMA、三井・ダウポリケミカル社製、「エルバロイAC 1125」)
Thermoplastic resin material Poly4-methyl-1-pentene resin I (4-methyl-1-pentene / hexadecene / octadecene copolymer, MFR = 100 g / 10 min)
Poly 4-methyl-1-pentene resin II (4-methyl-1-pentene-decene-1 copolymer, MFR = 180 g / 10 min)
Poly 4-methyl-1-pentene resin III (4-methyl-1-pentene-decene-1 copolymer, MFR = 9 g / 10 min,)
Poly 4-methyl-1-pentene resin IV (4-methyl-1-pentene-decene-1 copolymer, MFR = 21 g / 10 min)
Low density polyethylene (LDPE, manufactured by Ube Maruzen Polyethylene, "R500")
Polypropylene (PP, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., "FH1016")
Ethylene-methyl methacrylate copolymer (EMMA, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., "WD106")
Ethylene-methyl acrylate copolymer (EMA, manufactured by Mitsui Dow Polychemical Co., Ltd., "Elvalois AC 1125")

・粒子材料
  非晶性シリカ(Si、日鉄ケミカル&マテリアル社製、φ12μm、「SC10-32F」)
  アクリルビーズ(総研化学社製、φ10μm、「MZ-10HN」)
-Particle material Amorphous silica (Si, manufactured by Nittetsu Chemical & Materials Co., Ltd., φ12 μm, “SC10-32F”)
Acrylic beads (manufactured by Soken Kagaku Co., Ltd., φ10 μm, “MZ-10HN”)

・結晶核剤
  ゲルオールDXR(新日本理化社製)
・ Crystal nucleating agent Gelol DXR (manufactured by NEW JAPAN CHEMICAL CO., LTD.)

2.離型フィルムの製造
 <実施例1>
 まず、第1熱可塑性樹脂組成物および第2熱可塑性樹脂組成物として、それぞれ、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂Iを用意した。また、第3熱可塑性樹脂組成物として、低密度ポリエチレン(R500)50重量部と、ポリプロピレン(FH1016)30重量部と、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂I20重量部とで構成される組成物を用意した。
2. 2. Production of Release Film <Example 1>
First, poly 4-methyl-1-pentene resin I was prepared as the first thermoplastic resin composition and the second thermoplastic resin composition, respectively. Further, as the third thermoplastic resin composition, a composition composed of 50 parts by weight of low-density polyethylene (R500), 30 parts by weight of polypropylene (FH1016), and 20 parts by weight of poly 4-methyl-1-pentene resin I. I prepared it.

 次いで、第1熱可塑性樹脂組成物、第3熱可塑性樹脂組成物および第2熱可塑性樹脂組成物を用いて、Tダイ内で積層させて、1つの溶融樹脂積層体を形成後、冷却固化して、第1離型層1に、クッション層3と第2離型層2とがこの順で積層された積層体を形成することで実施例1の離型フィルム10を得た。なお、冷却の際、エンボス形状のついた100℃の金属ロールとエンボス形状のついた30℃のゴムロールで、溶融樹脂を挟み込み、冷却しながら凹凸を転写した。 Next, using the first thermoplastic resin composition, the third thermoplastic resin composition, and the second thermoplastic resin composition, they are laminated in a T-die to form one molten resin laminate, and then cooled and solidified. The release film 10 of Example 1 was obtained by forming a laminated body in which the cushion layer 3 and the second release layer 2 were laminated in this order on the first release layer 1. At the time of cooling, the molten resin was sandwiched between a metal roll having an embossed shape at 100 ° C. and a rubber roll having an embossed shape at 30 ° C., and the unevenness was transferred while cooling.

 なお、得られた離型フィルム10において、第1離型層1の平均厚さT1は25μm、クッション層3の平均厚さTkは70μm、第2離型層2の平均厚さT2は25μmであった。 In the obtained release film 10, the average thickness T1 of the first release layer 1 is 25 μm, the average thickness Tk of the cushion layer 3 is 70 μm, and the average thickness T2 of the second release layer 2 is 25 μm. there were.

 また、離型フィルム10および第1離型層1について、それぞれ、180℃における貯蔵弾性率E’tおよび貯蔵弾性率E’1を、動的粘弾性測定装置(エスアイアイ・ナノテクノロジー社製、「DMS6100」)を用いて測定したところ34MPaおよび72MPaであった。 Further, for the release film 10 and the first release layer 1, the storage elastic modulus E't and the storage elastic modulus E'1 at 180 ° C. are measured by a dynamic viscoelasticity measuring device (manufactured by SII Nanotechnology), respectively. When measured using "DMS6100"), it was 34 MPa and 72 MPa.

 さらに、第1離型層1および第2離型層2について、それぞれ、クッション層3と反対側で露出する表面における10点平均粗さ(Rz)を、表面粗さ測定装置(ミツトヨ社製、「サーフテスト SJ-210」)を用いて測定したところ15.8μmおよび10.3μmであった。 Further, for the first release layer 1 and the second release layer 2, the 10-point average roughness (Rz) on the surface exposed on the opposite side of the cushion layer 3 is measured by a surface roughness measuring device (manufactured by Mitutoyo Co., Ltd.). When measured using "Surftest SJ-210"), it was 15.8 μm and 10.3 μm.

 <実施例2~10、比較例1~4>
 第1熱可塑性樹脂組成物、第2熱可塑性樹脂組成物および第3熱可塑性樹脂組成物として、表1に示す材料を用い、表面10点平均粗さ(Rz)および平均厚さが表1に示すようになっている、第1離型層1、クッション層3および第2離型層2を成膜したこと以外は、前記実施例1と同様にして、実施例2~10、比較例1~4の離型フィルム10を得た。なお、第1離型層、第2離型層に粒子を含む実施例3、4、9においては、溶融樹脂積層体冷却の際、エンボス形状のついた100℃の金属ロールにエアナイフの風圧で、溶融樹脂を押し当て、フイラーを露出させて凹凸が形成されるように冷却させた。
<Examples 2 to 10, Comparative Examples 1 to 4>
The materials shown in Table 1 were used as the first thermoplastic resin composition, the second thermoplastic resin composition, and the third thermoplastic resin composition, and the surface 10-point average roughness (Rz) and average thickness were shown in Table 1. Examples 2 to 10 and Comparative Example 1 are the same as in Example 1 except that the first release layer 1, the cushion layer 3 and the second release layer 2 are formed as shown. A release film 10 of ~ 4 was obtained. In Examples 3, 4, and 9 in which particles are contained in the first release layer and the second release layer, when the molten resin laminate is cooled, a metal roll having an embossed shape at 100 ° C. is subjected to wind pressure of an air knife. , The molten resin was pressed to expose the filler and cooled so that unevenness was formed.

3.評価
 各実施例および各比較例の離型フィルム10について、ロールツーロールプレス機100を用いて、以下の評価を行った。
3. 3. Evaluation The following evaluations were performed on the release films 10 of each example and each comparative example using the roll-to-roll press machine 100.

3-1.離型フィルムの離型性
 各実施例および各比較例の離型フィルム10について、それぞれ、幅270mmに形成した。そして、この離型フィルム10を、ピッチ50μm、幅50μm、高さ18μmの凹凸を備えるフレキシブル回路基板210に、180℃、11MPa、120secの条件でロールツーロールプレス機100にて加圧貼付して、加圧直後に搬送しつつ、離型手段60が備える離型棒で、フレキシブル回路基板210と離型フィルム10とを引き剥がしたときに、離型フィルム10にシワが認められない限界引き剥がし速度を測定した。
3-1. Release property of release film The release film 10 of each Example and each Comparative Example was formed to have a width of 270 mm. Then, the release film 10 is pressure-bonded to a flexible circuit board 210 having irregularities having a pitch of 50 μm, a width of 50 μm, and a height of 18 μm by a roll-to-roll press machine 100 at 180 ° C., 11 MPa, and 120 sec. When the flexible circuit board 210 and the release film 10 are peeled off with the release rod provided in the mold release means 60 while being conveyed immediately after pressurization, the release film 10 is peeled off to the limit where no wrinkles are observed. The speed was measured.

3-2.離型フィルムの埋め込み性
 各実施例および各比較例の離型フィルム10について、それぞれ、幅270mmに形成した。そして、フレキシブル回路基板210に、カバーレイフィルム220(有沢製作所社製、「CMA0525」)を、このカバーレイフィルム220が備える接着剤層222をフレキシブル回路基板210側にして貼付することで形成される、ピッチ50μm、幅50μm、高さ18μmの凹凸を備える積層体に対して、この離型フィルム10を、ロールツーロールプレス機100を用いて、180℃、11MPa、120sの条件で押し込み、その後、離型フィルム10の一端を持ち引き剥がした際の、前記積層体の凹部における平面視での接着剤の最大しみ出し量を測定した。
3-2. Embedding property of release film Each of the release films 10 of each Example and each Comparative Example was formed to have a width of 270 mm. Then, the coverlay film 220 (manufactured by Arisawa Seisakusho Co., Ltd., "CMA0525") is attached to the flexible circuit board 210 with the adhesive layer 222 included in the coverlay film 220 on the flexible circuit board 210 side. This release film 10 is pushed into a laminate having irregularities having a pitch of 50 μm, a width of 50 μm, and a height of 18 μm under the conditions of 180 ° C., 11 MPa, and 120 s using a roll-to-roll press machine 100, and then When one end of the release film 10 was held and peeled off, the maximum amount of the adhesive exuded in the concave portion of the laminated body in a plan view was measured.

3-3.まとめ
 前記3-1.離型フィルムの離型性および前記3-2.離型フィルムの埋め込み性において得られた評価結果を表1に示す。
3-3. Summary 3-1. Releasability of the release film and the above 3-2. Table 1 shows the evaluation results obtained in the embedding property of the release film.

[規則26に基づく補充 25.08.2021] 

Figure WO-DOC-TABLE-1
[Replenishment under Rule 26 25.08.2021]
Figure WO-DOC-TABLE-1

 表1に示すように、各実施例では、第1離型層1の平均厚さが12μm以上38μm以下であることと、離型フィルム10の180℃における貯蔵弾性率E’tが30MPa以上であることとの双方を満足していた。その結果、前記限界引き剥がし速度が100mm/秒以上、かつ、前記接着剤の最大しみ出し量が100μm以下となっており、優れた埋め込み性と優れた離型性との両立がバランス良く発揮されている結果を示した。 As shown in Table 1, in each example, the average thickness of the first release layer 1 is 12 μm or more and 38 μm or less, and the storage elastic modulus E't of the release film 10 at 180 ° C. is 30 MPa or more. I was satisfied with both things. As a result, the limit peeling speed is 100 mm / sec or more, and the maximum exudation amount of the adhesive is 100 μm or less, and both excellent embedding property and excellent mold releasability are exhibited in a well-balanced manner. The result is shown.

 これに対して、各比較例では、第1離型層1の平均厚さが12μm以上38μm以下であることと、離型フィルム10の180℃における貯蔵弾性率E’tが30MPa以上であることとの何れか一方を満足していなかった。これにより、前記限界引き剥がし速度が100mm/秒以上であることと、前記接着剤の最大しみ出し量が100μm以下であることとの何れか一方を満足することができず、優れた埋め込み性と優れた離型性との両立がバランス良く発揮されているとは言えない結果を示した。 On the other hand, in each comparative example, the average thickness of the first release layer 1 is 12 μm or more and 38 μm or less, and the storage elastic modulus E't of the release film 10 at 180 ° C. is 30 MPa or more. I was not satisfied with either of them. As a result, either the limit peeling speed of 100 mm / sec or more and the maximum exudation amount of the adhesive of 100 μm or less cannot be satisfied, resulting in excellent embedding property. The results show that it cannot be said that both excellent releasability and compatibility are exhibited in a well-balanced manner.

 本発明によれば、優れた埋め込み性と、優れた離型性との両立がバランス良く発揮された離型フィルムとすることができる。したがって、離型フィルムを、例えば、フレキシブル回路基板とカバーレイフィルムとを用いたフレキシブルプリント回路基板の形成に用いた場合には、フレキシブルプリント回路基板に形成された凹部において、接着剤がしみ出すのを的確に抑制または防止することができる。そして、フレキシブルプリント回路基板の形成の後に、フレキシブルプリント回路基板から離型フィルムを剥離させる際に、フレキシブルプリント回路基板において、折れシワおよび破断が生じるのを的確に抑制または防止することができる。したがって、本発明は、産業上の利用可能性を有する。 According to the present invention, it is possible to obtain a releasable film in which both excellent embedding property and excellent releasability are exhibited in a well-balanced manner. Therefore, when the release film is used for forming a flexible printed circuit board using, for example, a flexible circuit board and a coverlay film, the adhesive seeps out in the recesses formed in the flexible printed circuit board. Can be accurately suppressed or prevented. Then, when the release film is peeled off from the flexible printed circuit board after the formation of the flexible printed circuit board, it is possible to accurately suppress or prevent breakage wrinkles and breakage in the flexible printed circuit board. Therefore, the present invention has industrial applicability.

Claims (13)

 第1熱可塑性樹脂組成物からなる第1離型層と、クッション層とを有する離型フィルムであって、
 前記第1離型層は、その平均厚さが12μm以上38μm以下であり、
 当該離型フィルムは、180℃における貯蔵弾性率E’が30MPa以上であることを特徴とする離型フィルム。
A release film having a first release layer made of a first thermoplastic resin composition and a cushion layer.
The first release layer has an average thickness of 12 μm or more and 38 μm or less.
The release film is a release film having a storage elastic modulus E'at 180 ° C. of 30 MPa or more.
 当該離型フィルムは、その平均厚さが80μm以上180μm以下である請求項1に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1, wherein the release film has an average thickness of 80 μm or more and 180 μm or less.  前記クッション層は、その平均厚さが40μm以上110μm以下である請求項1または2に記載の離型フィルム。 The release film according to claim 1 or 2, wherein the cushion layer has an average thickness of 40 μm or more and 110 μm or less.  前記第1離型層は、前記クッション層と反対側の表面における10点平均粗さ(Rz)が3μm以上20μm以下である請求項1ないし3のいずれか1項に記載の離型フィルム。 The release film according to any one of claims 1 to 3, wherein the first release layer has a 10-point average roughness (Rz) of 3 μm or more and 20 μm or less on the surface opposite to the cushion layer.  前記第1離型層は、180℃における貯蔵弾性率E’が60MPa以上である請求項1ないし4のいずれか1項に記載の離型フィルム。 The release film according to any one of claims 1 to 4, wherein the first release layer has a storage elastic modulus E'at 180 ° C. of 60 MPa or more.  前記第1離型層の平均厚さをT1[μm]とし、前記第1離型層の180℃における貯蔵弾性率E’をE’1[MPa]としたとき、E’1/T1[MPa/μm]は、2.1<E’1/T1<6.0なる関係を満足する請求項1ないし5のいずれか1項に記載の離型フィルム。 When the average thickness of the first release layer is T1 [μm] and the storage elastic modulus E'of the first release layer at 180 ° C. is E'1 [MPa], E'1 / T1 [MPa]. / Μm] is the release film according to any one of claims 1 to 5, which satisfies the relationship of 2.1 <E'1 / T1 <6.0.  前記第1熱可塑性樹脂組成物は、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂を含む請求項1ないし6のいずれか1項に記載の離型フィルム。 The release film according to any one of claims 1 to 6, wherein the first thermoplastic resin composition contains a poly 4-methyl 1-pentene resin.  前記クッション層は、ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂と、該ポリ4-メチル1-ペンテン樹脂とは異なるポリオレフィン系樹脂とを含む第3熱可塑性樹脂組成物からなる請求項1ないし7のいずれか1項に記載の離型フィルム。 One of claims 1 to 7, wherein the cushion layer comprises a third thermoplastic resin composition containing a poly 4-methyl 1-pentene resin and a polyolefin-based resin different from the poly 4-methyl 1-pentene resin. The release film according to item 1.  当該離型フィルムは、前記クッション層の前記第1離型層と反対側に積層された、第2熱可塑性樹脂組成物からなる第2離型層を有する請求項1ないし8のいずれか1項に記載の離型フィルム。 The release film has any one of claims 1 to 8 having a second release layer made of a second thermoplastic resin composition laminated on the opposite side of the cushion layer to the first release layer. The release film described in.  幅270mmの当該離型フィルムを、ピッチ50μm、幅50μm、高さ18μmの凹凸を備えるフレキシブル回路基板に、180℃、11MPa、120secの条件でロールツーロールプレス機にて加圧貼付して、加圧直後に搬送しつつ、前記フレキシブル回路基板と当該離型フィルムとを引き剥がしたときに、当該離型フィルムにシワが認められない限界引き剥がし速度が100mm/秒以上となる請求項1ないし9のいずれか1項に記載の離型フィルム。 The release film having a width of 270 mm is pressure-bonded to a flexible circuit board having irregularities having a pitch of 50 μm, a width of 50 μm, and a height of 18 μm by a roll-to-roll press machine at 180 ° C., 11 MPa, and 120 sec. Claims 1 to 9 in which when the flexible circuit board and the release film are peeled off while being conveyed immediately after compression, the limit peeling speed at which no wrinkles are observed on the release film is 100 mm / sec or more. The release film according to any one of the above items.  ピッチ50μm、幅50μm、高さ18μmの凹凸を備えるフレキシブル回路基板に、カバーレイフィルム(有沢製作所社製、「CMA0525」)を、該カバーレイフィルムが備える接着剤層を前記フレキシブル回路基板側にして貼付することで形成される積層体に対して、幅270mmの当該離型フィルムを、180℃、11MPa、120secの条件で押し込み、その後当該離型フィルムの一端を持ち引き剥がした際の、前記積層体の凹部における平面視での接着剤の最大しみ出し量が100μm以下となる請求項1ないし10のいずれか1項に記載の離型フィルム。 A coverlay film (manufactured by Arisawa Seisakusho Co., Ltd., "CMA0525") is placed on a flexible circuit board having irregularities with a pitch of 50 μm, a width of 50 μm, and a height of 18 μm, and the adhesive layer contained in the coverlay film is set to the flexible circuit board side. The release film having a width of 270 mm is pushed into the laminate formed by sticking under the conditions of 180 ° C., 11 MPa, and 120 sec, and then one end of the release film is held and peeled off. The release film according to any one of claims 1 to 10, wherein the maximum amount of the adhesive oozing out in a concave portion of the body in a plan view is 100 μm or less.  当該離型フィルムが、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料によって形成された対象物の表面に、
 前記第1離型層側の表面が接するように重ねて用いられる請求項1ないし11のいずれか1項に記載の離型フィルム。
The release film is applied to the surface of an object formed of a material containing a semi-cured thermosetting resin.
The release film according to any one of claims 1 to 11, which is used in layers so that the surfaces on the first release layer side are in contact with each other.
 請求項1ないし12のいずれか1項に記載の離型フィルムの前記第1離型層が対象物側になるように、
 前記対象物上に前記離型フィルムを配置する工程と、前記離型フィルムが配置された前記対象物に対し、加熱プレスを行う工程と、を含み、前記離型フィルムを配置する前記工程において、前記対象物の前記離型フィルムが配置される側の面が、半硬化状態の熱硬化性樹脂を含む材料によって形成されていることを特徴とする成型品の製造方法。
The first release layer of the release film according to any one of claims 1 to 12 is on the object side.
In the step of arranging the release film, which includes a step of arranging the release film on the object and a step of performing a heat press on the object on which the release film is arranged. A method for producing a molded product, wherein the surface of the object on which the release film is arranged is formed of a material containing a heat-curable resin in a semi-cured state.
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Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005187526A (en) * 2003-12-24 2005-07-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Mold release film and method for producing flexible film with the same
WO2006120983A1 (en) * 2005-05-13 2006-11-16 Mitsui Chemicals, Inc. Laminate comprising 4-methyl-1-pentene polymer and release film comprising the same
WO2008001682A1 (en) * 2006-06-27 2008-01-03 Mitsui Chemicals, Inc. Film and mold release film
WO2011135763A1 (en) * 2010-04-28 2011-11-03 三井化学株式会社 Resin fine powder consisting of 4-methyl-1-pentene polymer, composition containing same, and process for production thereof
JP2016203475A (en) * 2015-04-22 2016-12-08 住友ベークライト株式会社 Release film and method for manufacturing molded product
WO2017169654A1 (en) * 2016-03-30 2017-10-05 住友ベークライト株式会社 Mold release film and method for producing molded article
WO2020040240A1 (en) * 2018-08-24 2020-02-27 住友ベークライト株式会社 Release film and method for producing molded article

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5895755B2 (en) * 2012-07-17 2016-03-30 住友ベークライト株式会社 Release film
CN105163938B (en) * 2013-04-30 2018-01-30 住友电木株式会社 Release film and how to use the release film
JP5874774B2 (en) * 2013-06-06 2016-03-02 住友ベークライト株式会社 Release film and method of using release film
WO2015133631A1 (en) * 2014-03-07 2015-09-11 旭硝子株式会社 Method for producing semiconductor-element-mounting package, and mould-release film
JP6352034B2 (en) * 2014-04-21 2018-07-04 三井化学東セロ株式会社 Multi-layer release film
EP3438166B1 (en) * 2016-03-30 2021-12-15 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Resin composite film including cellulose microfiber layer
KR20190035606A (en) * 2016-08-03 2019-04-03 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤 Colored plywood Glass for interlayer and colored plywood
KR102399713B1 (en) * 2016-12-16 2022-05-19 도레이 필름 카코우 가부시키가이샤 Release film and protective film

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005187526A (en) * 2003-12-24 2005-07-14 Sumitomo Bakelite Co Ltd Mold release film and method for producing flexible film with the same
WO2006120983A1 (en) * 2005-05-13 2006-11-16 Mitsui Chemicals, Inc. Laminate comprising 4-methyl-1-pentene polymer and release film comprising the same
WO2008001682A1 (en) * 2006-06-27 2008-01-03 Mitsui Chemicals, Inc. Film and mold release film
WO2011135763A1 (en) * 2010-04-28 2011-11-03 三井化学株式会社 Resin fine powder consisting of 4-methyl-1-pentene polymer, composition containing same, and process for production thereof
JP2016203475A (en) * 2015-04-22 2016-12-08 住友ベークライト株式会社 Release film and method for manufacturing molded product
WO2017169654A1 (en) * 2016-03-30 2017-10-05 住友ベークライト株式会社 Mold release film and method for producing molded article
WO2020040240A1 (en) * 2018-08-24 2020-02-27 住友ベークライト株式会社 Release film and method for producing molded article

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