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WO2021059971A1 - エポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化物及びエポキシ樹脂組成物 - Google Patents

エポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化物及びエポキシ樹脂組成物 Download PDF

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WO2021059971A1
WO2021059971A1 PCT/JP2020/034004 JP2020034004W WO2021059971A1 WO 2021059971 A1 WO2021059971 A1 WO 2021059971A1 JP 2020034004 W JP2020034004 W JP 2020034004W WO 2021059971 A1 WO2021059971 A1 WO 2021059971A1
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WO
WIPO (PCT)
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group
epoxy resin
cured product
resin
curing
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2020/034004
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English (en)
French (fr)
Inventor
俊幸 大山
雄一郎 所
世龍 梅谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DIC Corp
Yokohama National University NUC
Original Assignee
DIC Corp
Yokohama National University NUC
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Priority to CN202080066457.6A priority patent/CN114423802B/zh
Priority to JP2021548770A priority patent/JP7205842B2/ja
Publication of WO2021059971A1 publication Critical patent/WO2021059971A1/ja
Priority to JP2022002585A priority patent/JP7205843B2/ja
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    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L63/00Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins

Definitions

  • the present invention relates to an epoxy resin, an epoxy resin cured product, and an epoxy resin composition.
  • Epoxy resin has excellent heat resistance, mechanical properties, adhesiveness and electrical insulation, and is used in various fields such as adhesives, paints, and construction / civil engineering materials by utilizing these properties.
  • On the other hand as its use expands to fields such as aircraft materials and semiconductor encapsulants, even higher heat resistance is required.
  • attempts have been made to suppress microBrownian motion and improve physical heat resistance by introducing a rigid skeleton or a highly symmetric skeleton into the molecular structure (Non-Patent Document 1).
  • Attempts have also been made to improve chemical heat resistance by increasing the concentration of aromatic ring structures and alicyclic structures that are not easily thermally decomposed in the molecular structure (Non-Patent Document 2).
  • alicyclic epoxy resins that do not contain a glycidyl ether structure, but since such epoxy resins have substituents on both carbons of the epoxy ring, they can be used with curing agents such as polyfunctional amines and polyfunctional phenols. Is low in reactivity. Further, since the alicyclic epoxy resin is produced by an oxidation reaction of an olefin using a peroxide, there is a concern about safety during production.
  • an object of the present invention to provide an epoxy resin, an epoxy resin cured product, and an epoxy resin composition having good heat resistance when made into a cured product.
  • the present invention is an epoxy resin represented by any one of the following formulas (1) to (8) and (30) to (32) on one side.
  • R 1 to R 116 are independent of each other, hydrogen atom, halogen atom, hydroxy group, alkoxy group, aralkyloxy group, aryloxy, respectively.
  • X 1 and X 2 are independent of each other, such as a carbonyl group, an oxygen atom, an amino group (-N ⁇ ), a sulfur atom, a sulfoxide group, a sulfonyl group, or a hydrocarbon having 1 to 12 carbon atoms. It is a group.
  • the present invention is an epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin of the present invention.
  • the present invention is an epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin of the present invention with a curing agent represented by the following formula (9). (In equation (9), n is a positive integer.)
  • the present invention is an epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin of the present invention with a curing agent represented by the following formula (10).
  • the present invention is an epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin of the present invention with a curing agent represented by the following formula (11).
  • the present invention is an epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin of the present invention with a curing agent represented by the following formula (36).
  • a curing agent represented by the following formula (36).
  • X is a benzene ring, a naphthalene ring, a benzene ring or a naphthalene ring, which is nuclear-substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a biphenyl group
  • Y is a benzene ring, a naphthalene ring, and 1 to 4 carbon atoms.
  • a benzene ring or naphthalene ring substituted with an alkyl group Z is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, k represents 0 or 1, and n is an average of 0.25 to 3.0 in repeating units. is there.)
  • the present invention is an epoxy resin composition containing an epoxy resin represented by any one of the formulas (1) to (8) and (30) to (32) and a curing agent. is there.
  • the curing agent is at least one of the compounds represented by the formulas (9) to (11) and (36).
  • an epoxy resin an epoxy resin cured product, and an epoxy resin composition having good heat resistance when made into a cured product.
  • epoxy resin of the present invention is represented by any one of the following formulas (1) to (8) and (30) to (32).
  • R 1 to R 116 are independent of each other, hydrogen atom, halogen atom, hydroxy group, alkoxy group, aralkyloxy group, aryloxy group, respectively. , Nitro group, amino group, amide group, carboxy group, alkyloxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, formyl group, cyano group, alkyl group, cycloalkyl group, aralkyl group or aryl group.
  • R 1 to R 116 are hydrogen atoms, alkyl groups or cycloalkyl groups, respectively.
  • X 1 and X 2 are independent of each other and have a carbonyl group, an oxygen atom, an amino group (-N ⁇ ), a sulfur atom, a sulfoxide group, a sulfonyl group, or a carbon number of 1.
  • ⁇ 12 hydrocarbon groups The hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms may be an alkylene group (-(CR 117 R 118 ) n- ).
  • R 117 and R 118 can each have the same groups as those of R 1 to R 116.
  • n is a positive integer.
  • the hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms may be an arylene group, a cyclohexylene group or the like.
  • X 1 and X 2 are methylene groups or oxygen atoms, respectively.
  • R 1 to R 116 are hydrogen atoms independently of each other, and X 1 and X 2 are each other. Epoxy resins with two CHs are shown independently.
  • the epoxy resin of the present invention can be produced by a Corey-Chaykovsky reaction between a sulfur ylide generated from trimethylsulfonium bromide or trimethylsulfonium iodide and a polyfunctional aldehyde or ketone. According to such a manufacturing method, an epoxy resin having no -O-CH 2-site in the structure can be manufactured. In addition, since it is not necessary to produce by an oxidation reaction of an olefin using a peroxide, safety during production is improved. For the polyfunctional aldehyde or ketone, the aldehyde or ketone having an appropriate substituent or the like at an appropriate position is selected in consideration of the chemical formula of the desired epoxy resin.
  • an organic solvent, water, and an alkali such as KOH are added to trimethylsulfonium bromide or trimethylsulfonium iodide, and the mixture is stirred.
  • a solution in which 1,4-cyclohexanedione represented by the following formula (20) is dissolved in an organic solvent is added, and the mixture is stirred again to proceed the reaction according to the reaction formula represented by the following formula (21).
  • the mixture is cooled to room temperature, suction filtered, and separated.
  • the organic layer is washed, dried, filtered, concentrated and dried under reduced pressure to obtain an epoxy resin represented by the formula (12).
  • reaction conditions may be appropriately determined, but for example, the reaction temperature is preferably 45 to 75 ° C, more preferably 55 to 65 ° C.
  • the reaction time is preferably 4 to 8 hours, more preferably 5 to 6 hours.
  • the organic solvent acetonitrile, dimethyl sulfoxide, tetrahydrofuran and the like can be used.
  • the structure of the obtained epoxy resin is infrared absorption using 1H-nuclear magnetic resonance (NMR) spectrum method, 13C-NMR spectrum method, 19F-NMR spectrum method, Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR), or the like. It can be confirmed by a general organic analysis method such as IR) spectral method, mass spectrometry (MS) method, element analysis method, and X-ray crystal diffraction method.
  • the epoxy resin cured product of the present invention is an epoxy resin cured product obtained by curing the epoxy resin of the present invention.
  • a generally known curing agent for epoxy resin can be used as the curing agent used for curing the epoxy resin of the present invention.
  • known curing agents for epoxy resins include acid anhydride-based compounds, phenol-based compounds, amine-based compounds, and active ester-based compounds.
  • curing agent for the acid anhydride compound examples include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, maleic anhydride, polypropylene glycol maleic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, and methylnadic anhydride. , Hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride and the like.
  • Examples of the curing agent for phenol-based compounds include dicyclopentadienephenol-added resin, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, triphenylol methane resin, tetraphenylol ethane resin, naphthol novolac resin, and naphthol-phenol co-condensed novolac resin. , Naftor-cresol co-condensed novolak resin, biphenyl-modified phenolic resin, aminotriazine-modified phenolic resin, modified products thereof and the like.
  • any compound can be used regardless of whether it is an aliphatic amine or an aromatic amine.
  • the curing agent for the amine-based compound include aliphatic polyamines such as ethylenediamine, propylenediamine, butylenediamine, hexamethylenediamine, polypropylene glycoldiamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine and pentaethylenehexamine, and metaxylylenediamine and diaminodiphenylmethane.
  • Aromatic polyamines such as diaminodiphenylsulfone and phenylenediamine, alicyclic polyamines such as 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane, isophoronediamine and norbornandiamine, and dicyandiamide.
  • the active ester compound is not particularly limited, but generally contains an ester group having high reactive activity such as phenol esters, thiophenol esters, N-hydroxyamine esters, and esters of heterocyclic hydroxy compounds in one molecule.
  • a compound having two or more is preferably used.
  • the active ester resin is preferably obtained by a condensation reaction of a carboxylic acid compound and / or a thiocarboxylic acid compound with a hydroxy compound and / or a thiol compound.
  • an active ester resin obtained from a carboxylic acid compound or a halide thereof and a hydroxy compound is preferable, and an active ester resin obtained from a carboxylic acid compound or a halide thereof and a phenol compound and / or a naphthol compound is preferable.
  • the carboxylic acid compound include benzoic acid, acetic acid, succinic acid, maleic acid, itaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, pyromellitic acid and the like, or halides thereof.
  • phenol compound or naphthol compound examples include hydroquinone, resorcin, bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, dihydroxydiphenyl ether, phenol phthalein, methylated bisphenol A, methylated bisphenol F, methylated bisphenol S, phenol, o-cresol, m.
  • -Cresol p-cresol, catechol, ⁇ -naphthol, ⁇ -naphthol, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, polyhydroxynaphthylene ether, dihydroxybenzophenone, trihydroxybenzophenone , Tetrahydroxybenzophenone, fluoroglucin, benzenetriol, dicyclopentadiene-phenol-added resin and the like.
  • the active ester compound examples include an active ester resin containing a dicyclopentadiene-phenol addition structure, an active ester resin containing a naphthalene structure, an active ester resin which is an acetylated product of phenol novolac, and an activity which is a benzoyl product of phenol novolac.
  • Ester resins and the like are preferable, and among them, an active ester resin containing a dicyclopentadiene-phenol addition structure and an active ester resin containing a naphthalene structure are more preferable in that they are excellent in improving peel strength.
  • Specific examples of the active ester resin containing a dicyclopentadiene-phenol addition structure include compounds represented by the following formula (36).
  • X is a benzene ring, a naphthalene ring, a benzene ring or a naphthalene ring, which is nuclear-substituted with an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a biphenyl group
  • Y is a benzene ring, a naphthalene ring, and 1 to 4 carbon atoms.
  • Z is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms
  • k represents 0 or 1
  • n is an average of 0.25 to 3.0 in repeating units. is there.
  • the epoxy resin cured product of the present invention may be one in which the epoxy resin of the present invention is repeatedly polymerized and cured, or may further contain a repeating unit derived from a curing agent.
  • a cured product obtained by curing an epoxy resin represented by the formula (12) with a curing accelerator such as imidazole has a repeating unit represented by the following formula (22) or (23).
  • n is a positive integer.
  • the epoxy resin cured product of the present invention may be a cured product of the epoxy resin of the present invention cured with a curing agent (phenol novolac: PN) represented by the following formula (9).
  • a curing agent phenol novolac: PN
  • n is a positive integer.
  • the epoxy resin cured product of the present invention produced by curing the epoxy resin represented by the formula (12) with the curing agent represented by the formula (9) is ideally a repeating unit represented by the formula (24). It becomes a cured product containing. However, some epoxy groups and phenolic OH groups may not react.
  • the epoxy resin cured product of the present invention may be a cured product of the epoxy resin of the present invention cured with a curing agent (4,4'-diaminodiphenyl sulfone: DDS) represented by the following formula (10).
  • a curing agent (4,4'-diaminodiphenyl sulfone: DDS) represented by the following formula (10).
  • the epoxy resin cured product of the present invention produced by curing the epoxy resin represented by the formula (12) with the curing agent represented by the formula (10) is ideally a repeating unit represented by the formula (25). It becomes a cured product containing. However, some epoxy groups and amino groups may not react.
  • the epoxy resin cured product of the present invention may be a cured product of the epoxy resin of the present invention cured with a curing agent (m-phenylenediamine) represented by the formula (11).
  • a curing agent m-phenylenediamine
  • the epoxy resin cured product of the present invention produced by curing the epoxy resin represented by the formula (12) with the curing agent represented by the formula (11) is ideally a repeating product represented by the formula (26). It is a cured product containing units. However, some epoxy groups and amino groups may not react.
  • the epoxy resin cured product of the present invention can be produced by curing the epoxy resin of the present invention.
  • a generally known curing agent such as a curing accelerator (2E4MZ-CN) represented by the following formula (27) can be used.
  • a method for producing a cured epoxy resin product obtained by curing the epoxy resin represented by the above formula (12) will be described.
  • an organic solvent such as acetone is added to the epoxy resin represented by the formula (12) and the mixture is stirred.
  • a curing agent represented by the formula (9), (10), or (11) is added, and the mixture is stirred again to react, concentrated and dried under reduced pressure, and then the epoxy resin represented by the formula (12) is obtained.
  • a cured epoxy resin product is obtained.
  • a curing accelerator may be used in addition to the curing agent.
  • the curing accelerator those known as curing accelerators for epoxy resins can be used.
  • the structure of the obtained cured epoxy resin can be confirmed by an infrared absorption (IR) spectral method using Fourier transform infrared spectroscopy (FT-IR) or the like, an elemental analysis method, an X-ray scattering method or the like.
  • IR infrared absorption
  • FT-IR Fourier transform infrared spectroscopy
  • Epoxy resin composition contains an epoxy resin represented by any one of the above formulas (1) to (8) and (30) to (32), and a curing agent.
  • the epoxy resin cured product of the present invention can be produced by further mixing and reacting the epoxy resin composition with a curing accelerator.
  • the curing agent contained in the epoxy resin composition of the present invention a curing agent that can be used when producing the above-mentioned cured epoxy resin composition of the present invention can be used.
  • the curing accelerator that can be used for the curing reaction of the epoxy resin composition of the present invention the curing accelerator that can be used when producing the above-mentioned cured epoxy resin composition of the present invention can be used.
  • the epoxy resin composition of the present invention further comprises an epoxy resin (other epoxy resin) other than the epoxy resin represented by any one of the above formulas (1) to (8) and (30) to (32), and a filler.
  • an epoxy resin other epoxy resin
  • Fibrous substrate, dispersion medium, resins other than the above-mentioned various compounds, and the like may be included.
  • each content will be specifically described in detail.
  • the epoxy resin composition of the present invention is not limited to the epoxy resin represented by any one of the above formulas (1) to (8) and (30) to (32), as long as the effects of the present invention are not impaired. Other epoxy resins may be used in combination.
  • the proportion of the epoxy resin represented by any one of the above formulas (1) to (8) and (30) to (32) in the epoxy resin composition of the present invention is the total epoxy resin. It is preferably 30% by mass or more, and particularly preferably 40% by mass or more.
  • the epoxy resin that can be used in combination is not limited in any way.
  • bisphenol A type epoxy resin bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, bisphenol AD type epoxy resin, resorcin type epoxy resin, hydroquinone type epoxy resin.
  • the blending amount of the epoxy resin and the curing agent in the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited, but is included in the total amount of the epoxy resin because the mechanical properties of the obtained cured product are good.
  • the amount of the active group in the curing agent is preferably 0.7 to 1.5 equivalents with respect to the total 1 equivalent of the epoxy groups.
  • the epoxy resin composition of the present invention may further contain a filler.
  • the filler include an inorganic filler and an organic filler.
  • the inorganic filler include inorganic fine particles.
  • those having excellent heat resistance include alumina, magnesia, titania, zirconia, silica (quartz, fumed silica, precipitated silica, silicic acid anhydride, fused silica, crystalline silica, ultrafine powder amorphous silica, etc.).
  • examples of those having excellent thermal conductivity include boron nitride, aluminum nitride, alumina oxide, titanium oxide, magnesium oxide, zinc oxide, silicon oxide, diamond and the like.
  • a metal filler and / or a metal coating filler using a metal alone or an alloy for example, iron, copper, magnesium, aluminum, gold, silver, platinum, zinc, manganese, stainless steel, etc.
  • a metal alone or an alloy for example, iron, copper, magnesium, aluminum, gold, silver, platinum, zinc, manganese, stainless steel, etc.
  • minerals such as mica, clay, kaolin, talc, zeolite, wollastonite, smectite, potassium titanate, magnesium sulfate, sepiolite, zonolite, aluminum borate, calcium carbonate, titanium oxide, etc. Examples thereof include barium sulfate, zinc oxide and magnesium hydroxide.
  • Examples of those having a high refractive index include barium titanate, zirconia oxide, and titanium oxide.
  • Examples thereof include photocatalyst metals, composites of the metals, and oxides thereof.
  • Examples of those having excellent wear resistance include metals such as silica, alumina, zirconia, and magnesium oxide, and composites and oxides thereof.
  • examples of those having excellent conductivity include metals such as silver and copper, tin oxide, indium oxide and the like.
  • examples of the material having excellent insulating properties include silica and the like.
  • examples of those having excellent ultraviolet shielding properties include titanium oxide and zinc oxide.
  • inorganic fine particles may be selected in a timely manner depending on the intended use, and may be used alone or in combination of multiple types. Further, since the inorganic fine particles have various properties other than the properties mentioned in the examples, they may be selected according to the timely application.
  • silica fine particles such as powdered silica and colloidal silica can be used.
  • Commercially available powdered silica fine particles include, for example, Aerosil 50, 200 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., Sildex H31, H32, H51, H52, H121, H122 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., and E220A manufactured by Nippon Silysia Chemical Ltd. , E220, SYLYSIA470 manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd., SG flakes manufactured by Nippon Plate Glass Co., Ltd., and the like.
  • colloidal silica examples include methanol silica sol manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., IPA-ST, MEK-ST, NBA-ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-UP, ST-OUP, etc. Examples thereof include ST-20, ST-40, ST-C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL and the like.
  • silica fine particles may be used.
  • the silica fine particles are surface-treated with a reactive silane coupling agent having a hydrophobic group, or modified with a compound having a (meth) acryloyl group.
  • a reactive silane coupling agent having a hydrophobic group or modified with a compound having a (meth) acryloyl group.
  • Commercially available powdered silica modified with a compound having a (meth) acryloyl group includes Aerosil RM50, R711 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd., and commercially available colloidal silica modified with a compound having a (meth) acryloyl group. MIBK-SD manufactured by Nissan Chemical Industry Co., Ltd. and the like can be mentioned.
  • the shape of the silica fine particles is not particularly limited, and spherical, hollow, porous, rod-shaped, plate-shaped, fibrous, or indefinite shapes can be used.
  • the primary particle size is preferably in the range of 5 to 200 nm. When it is 5 nm or more, the inorganic fine particles in the dispersion are sufficiently dispersed, and when the diameter is 200 nm or less, sufficient strength of the cured product can be easily maintained.
  • titanium oxide fine particles not only extender pigments but also ultraviolet light-responsive photocatalysts can be used.
  • anatase-type titanium oxide, rutile-type titanium oxide, brookite-type titanium oxide and the like can be used.
  • particles designed to be made to respond to visible light by doping a different element into the crystal structure of titanium oxide can also be used.
  • the element to be doped in titanium oxide anionic elements such as nitrogen, sulfur, carbon, fluorine and phosphorus, and cationic elements such as chromium, iron, cobalt and manganese are preferably used.
  • a sol or slurry dispersed in a powder an organic solvent or water can be used.
  • Examples of commercially available powdered titanium oxide fine particles include Aerosil P-25 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. and ATM-100 manufactured by TAYCA Corporation.
  • Examples of commercially available slurry-like titanium oxide fine particles include TKD-701 manufactured by TAYCA CORPORATION.
  • the epoxy resin composition of the present invention may further contain a fibrous substrate.
  • the fibrous substrate is not particularly limited, but those used for fiber reinforced resins are preferable, and inorganic fibers and organic fibers can be mentioned.
  • Inorganic fibers include carbon fibers, glass fibers, boron fibers, alumina fibers, silicon carbide fibers and other inorganic fibers, as well as carbon fibers, activated carbon fibers, graphite fibers, glass fibers, tungsten carbide fibers and silicon carbide fibers (silicon carbide fibers). ), Ceramic fibers, alumina fibers, natural fibers, mineral fibers such as genbuiwa, boron fibers, boron nitride fibers, boron carbide fibers, metal fibers and the like. Examples of the metal fiber include aluminum fiber, copper fiber, brass fiber, stainless fiber, and steel fiber.
  • Organic fibers include synthetic fibers made of resin materials such as polybenzazole, aramid, PBO (polyparaphenylene benzoxazole), polyphenylene sulfide, polyester, acrylic, polyamide, polyolefin, polyvinyl alcohol, and polyarylate, cellulose, pulp, and the like.
  • resin materials such as polybenzazole, aramid, PBO (polyparaphenylene benzoxazole), polyphenylene sulfide, polyester, acrylic, polyamide, polyolefin, polyvinyl alcohol, and polyarylate, cellulose, pulp, and the like.
  • natural fibers such as cotton, wool and silk
  • regenerated fibers such as proteins, polypeptides and alginic acid.
  • carbon fiber and glass fiber are preferable because they have a wide range of industrial use. Of these, only one type may be used, or a plurality of types may be used at the same time.
  • the fibrous substrate may be an aggregate of fibers, may be continuous or discontinuous, and may be woven or non-woven. Further, a fiber bundle in which fibers are arranged in one direction may be used, or a sheet in which fiber bundles are arranged may be used. Further, the aggregate of fibers may have a three-dimensional shape having a thickness.
  • the epoxy resin composition of the present invention may use a dispersion medium for the purpose of adjusting the solid content and viscosity of the composition.
  • the dispersion medium may be a liquid medium that does not impair the effects of the present invention, and examples thereof include various organic solvents and liquid organic polymers.
  • organic solvent examples include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK) and methyl isobutyl ketone (MIBK), cyclic ethers such as tetrahydrofuran (THF) and dioxolane, and esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate.
  • ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK) and methyl isobutyl ketone (MIBK)
  • cyclic ethers such as tetrahydrofuran (THF) and dioxolane
  • esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate.
  • Aromatic substances such as toluene and xylene, and alcohols such as carbitol, cellosolve, methanol, isopropanol, butanone and propylene glycol monomethyl ether.
  • the liquid organic polymer is a liquid organic polymer that does not directly contribute to the curing reaction, and is, for example, a carboxyl group-containing polymer modified product (Floren G-900, NC-500: Kyoeisha), an acrylic polymer (Floren WK-20: Kyoeisha). , Amine salt of special modified phosphoric acid ester (HIPLAAD ED-251: Kusumoto Kasei), modified acrylic block copolymer (DISPERBYK2000; Big Chemie) and the like.
  • a carboxyl group-containing polymer modified product Floren G-900, NC-500: Kyoeisha
  • an acrylic polymer Floren WK-20: Kyoeisha
  • Amine salt of special modified phosphoric acid ester HIPLAAD ED-251: Kusumoto Kasei
  • modified acrylic block copolymer DISPERBYK2000; Big Chemie
  • the epoxy resin composition of the present invention may have a resin other than the above-mentioned various compounds of the present invention.
  • a known and commonly used resin may be blended as long as the effect of the present invention is not impaired, and for example, a thermosetting resin or a thermoplastic resin can be used.
  • thermosetting resin is a resin having a property of being substantially insoluble and insoluble when cured by means such as heating or radiation or a catalyst.
  • Specific examples thereof include phenol resin, urea resin, melamine resin, benzoguanamine resin, alkyd resin, unsaturated polyester resin, vinyl ester resin, diallyl terephthalate resin, silicone resin, urethane resin, furan resin, ketone resin, xylene resin, and heat.
  • curable polyimide resin benzoxazine resin, active ester resin, aniline resin, cyanate ester resin, styrene / maleic anhydride (SMA) resin, and maleimide resin.
  • SMA styrene / maleic anhydride
  • Thermoplastic resin refers to a resin that can be melt-molded by heating. Specific examples thereof include polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, rubber-modified polystyrene resin, acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) resin, acrylonitrile-styrene (AS) resin, polymethylmethacrylate resin, acrylic resin, and polyvinyl chloride resin.
  • Polyvinylidene chloride resin polyethylene terephthalate resin, ethylene vinyl alcohol resin, cellulose acetate resin, ionomer resin, polyacrylonitrile resin, polyamide resin, polyacetal resin, polybutylene terephthalate resin, polylactic acid resin, polyphenylene ether resin, modified polyphenylene ether resin, polycarbonate Resin, polysulfone resin, polyphenylene sulfide resin, polyetherimide resin, polyether sulfone resin, polyarylate resin, thermoplastic polyimide resin, polyamideimide resin, polyether ether ketone resin, polyketone resin, liquid crystal polyester resin, fluororesin, Shinji Examples thereof include otakutic polystyrene resin and cyclic polyolefin resin. These thermoplastic resins can be used alone or in combination of two or more.
  • the epoxy resin cured product and the epoxy resin composition of the present invention are excellent in both chemical heat resistance and physical heat resistance, and are useful in the following applications.
  • the epoxy resin composition of the present invention has a fibrous substrate and the fibrous substrate is a reinforcing fiber
  • the epoxy resin composition containing the fibrous substrate can be used as a fiber-reinforced resin.
  • the method for incorporating the fibrous substrate into the composition is not particularly limited as long as the effects of the present invention are not impaired, and the fibrous substrate and the composition are kneaded, coated, impregnated, injected, pressure-bonded, etc. Examples thereof include a method of compounding by a method, which can be selected in a timely manner depending on the form of the fiber and the use of the fiber reinforced resin.
  • the method for molding the fiber-reinforced resin of the present invention is not particularly limited. If a plate-shaped product is to be manufactured, an extrusion molding method is common, but a flat press can also be used. In addition, an extrusion molding method, a blow molding method, a compression molding method, a vacuum forming method, an injection molding method and the like can be used. In addition to the melt extrusion method, a solution cast method can be used to manufacture film-like products. When the melt molding method is used, inflation film molding, cast molding, extrusion lamination molding, calendar molding, and sheet molding can be used. , Fiber molding, blow molding, injection molding, rotary molding, coating molding and the like.
  • a cured product in the case of a resin that is cured by an active energy ray, a cured product can be produced by using various curing methods using the active energy ray.
  • a thermosetting resin is used as the main component of the matrix resin
  • a molding method in which the molding material is made into a prepreg and pressurized and heated by a press or an autoclave can be mentioned.
  • RTM (Resin Transfer Molding) molding examples include VaRTM (Vaccum assist Resin Transfer Molding) molding, laminated molding, and hand lay-up molding.
  • the fiber-reinforced resin of the present invention can form a state called an uncured or semi-cured prepreg. After the product is distributed in the state of prepreg, the final curing may be performed to form a cured product.
  • the mass ratio of the composition to the fibrous substrate used at this time is not particularly limited, but it is usually preferable to adjust the resin content in the prepreg to be 20 to 60% by mass.
  • the epoxy resin cured product using the epoxy resin composition has good chemical heat resistance and physical heat resistance, and can be used as a heat-resistant material and an electronic material.
  • it can be suitably used for semiconductor encapsulants, circuit boards, build-up films, build-up boards, etc., adhesives and resist materials.
  • it can be suitably used for a matrix resin of a fiber reinforced resin, and is particularly suitable as a prepreg having high heat resistance.
  • the heat-resistant members and electronic members thus obtained can be suitably used for various purposes. For example, industrial mechanical parts, general mechanical parts, automobile / railroad / vehicle parts, space / aviation-related parts, electronic / electrical parts, etc. Building materials, container / packaging materials, daily necessities, sports / leisure products, wind power generation housing materials, etc. are included, but are not limited to these.
  • the composition, a curing accelerator, and a compounding agent such as an inorganic filler are used as necessary in an extruder or knee.
  • a method of sufficiently melting and mixing until the mixture becomes uniform using a da, roll or the like include a method of sufficiently melting and mixing until the mixture becomes uniform using a da, roll or the like.
  • fused silica is usually used as the inorganic filler, but when used as a high thermal conductivity semiconductor encapsulant for power transistors and power ICs, crystalline silica, alumina, and nitride having higher thermal conductivity than fused silica are used.
  • Highly filled silica such as silicon, molten silica, crystalline silica, alumina, silicon nitride or the like may be used. It is preferable to use an inorganic filler in the range of 30 to 95% by mass per 100 parts by mass of the epoxy resin composition, among which improvements in flame retardancy, moisture resistance and solder crack resistance, and a coefficient of linear expansion. In order to reduce the amount, 70 parts by mass or more is more preferable, and 80 parts by mass or more is further preferable.
  • the semiconductor encapsulant material is cast or molded using a transfer molding machine, an injection molding machine, or the like, and further at 50 to 250 ° C. A method of heating for 2 to 10 hours can be mentioned.
  • the above prepregs are laminated by a conventional method, copper foils are appropriately laminated, and 10 at 170 to 300 ° C. under a pressure of 1 to 10 MPa. Examples thereof include a method of heat-bonding for minutes to 3 hours.
  • a method for obtaining a build-up substrate from the epoxy resin composition of the present invention includes, for example, the following steps. First, a step (step 1) of applying the above composition, which is appropriately blended with rubber, a filler, and the like, to a circuit board on which a circuit is formed by using a spray coating method, a curtain coating method, or the like, and then curing the composition. After that, if necessary, a predetermined through-hole portion or the like is drilled, treated with a roughening agent, and the surface thereof is washed with hot water to form irregularities, and a metal such as copper is plated (process). 2).
  • a step of alternately building up and forming a resin insulating layer and a conductor layer having a predetermined circuit pattern by sequentially repeating such an operation as desired (step 3).
  • the through-hole portion is drilled after the outermost resin insulating layer is formed.
  • the build-up substrate of the present invention is roughened by heat-pressing a resin-containing copper foil obtained by semi-curing the resin composition on a copper foil onto a wiring board on which a circuit is formed at 170 to 300 ° C. It is also possible to produce a build-up substrate by omitting the steps of forming a chemical surface and plating.
  • the above composition is applied to the surface of the support film (Y) which is a base material, and the composition is further heated or blown with hot air to make it organic. It can be produced by drying the solvent to form a layer (X) of the composition.
  • organic solvent used here examples include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone, acetates such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and carbitol acetate, cellosolve and butyl carbitol.
  • ketones such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone
  • acetates such as ethyl acetate, butyl acetate, cellosolve acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate and carbitol acetate, cellosolve and butyl carbitol.
  • Carbitols, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene, dimethylformamide, dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone and the like are preferably used, and the non-volatile content is 30 to
  • the thickness of the formed layer (X) is usually equal to or greater than the thickness of the conductor layer. Since the thickness of the conductor layer of the circuit board is usually in the range of 5 to 70 ⁇ m, the thickness of the resin composition layer is preferably 10 to 100 ⁇ m.
  • the layer (X) of the composition in the present invention may be protected by a protective film described later. By protecting with a protective film, it is possible to prevent dust and the like from adhering to the surface of the resin composition layer and scratches.
  • the support film and protective film described above include polyolefins such as polyethylene, polypropylene and polyvinyl chloride, polyethylene terephthalate (hereinafter, may be abbreviated as "PET"), polyesters such as polyethylene naphthalate, polycarbonate, polyimide, and further release. Examples include metal foils such as paper patterns, copper foils, and aluminum foils.
  • the support film and the protective film may be subjected to a mold release treatment in addition to the mud treatment and the corona treatment.
  • the thickness of the support film is not particularly limited, but is usually 10 to 150 ⁇ m, and is preferably used in the range of 25 to 50 ⁇ m.
  • the thickness of the protective film is preferably 1 to 40 ⁇ m.
  • the above-mentioned support film (Y) is peeled off after being laminated on a circuit board or after forming an insulating layer by heat curing. If the support film (Y) is peeled off after the curable resin composition layer constituting the build-up film is heat-cured, it is possible to prevent the adhesion of dust and the like in the curing step. When peeling after curing, the support film is usually subjected to a mold release treatment in advance.
  • a multilayer printed circuit board can be manufactured using the build-up film obtained as described above.
  • the layer (X) is protected by a protective film
  • the layer (X) is peeled off and then laminated on one or both sides of the circuit board so as to be in direct contact with the circuit board, for example, by a vacuum laminating method.
  • the laminating method may be a batch method or a continuous method using a roll. If necessary, the build-up film and the circuit board may be preheated if necessary before laminating.
  • the crimping temperature (lamination temperature) is preferably 70 to 140 ° C., and the crimping pressure is 1 to 11 kgf / cm 2 (9.8 ⁇ 10 4 to 107.9 ⁇ 10 4 N / m 2 ). It is preferable to laminate under a reduced air pressure of 20 mmHg (26.7 hPa) or less.
  • Conductive Paste As a method for obtaining a conductive paste from the epoxy resin composition of the present invention, for example, a method of dispersing conductive particles in the composition can be mentioned.
  • the conductive paste can be a paste resin composition for circuit connection or an anisotropic conductive adhesive depending on the type of conductive particles used.
  • the conventional polyfunctional phenol-curing epoxy resin is cured by curing the epoxy resin (DGEBA) with a curing agent (PN) and a curing accelerator (2E4MZ-CN) in the same procedure as in Test Example 2. I made a thing.
  • a conventional polyfunctional amine-cured epoxy resin cured product was prepared by curing the epoxy resin (DGEBA) with a curing agent (MPDA) in the same procedure as in Test Example 3.
  • thermogravimetric measurement TGA measurement
  • DMA measurement dynamic viscoelasticity measurement
  • thermogravimetric measurement TGA measurement
  • DMA measurement dynamic viscoelasticity measurement
  • thermosetting resin composition (Adjustment and evaluation of physical properties of thermosetting resin composition) [Test Examples 8 and 9] According to the equivalent composition shown in Table 3, as the epoxy resin, the epoxy resin (DCD) represented by the formula (12) obtained in Test Example 1 or the bisphenol A type liquid epoxy resin (“EPICLON” manufactured by DIC Co., Ltd. 850S ”, epoxy equivalent: 188 g / eq), and the active ester resin (active equivalent: 220 g / eq) obtained in Synthesis Example 1 below as a curing agent were melt-blended at 150 ° C., and dimethylaminopyridine 0 as a curing catalyst. It was adjusted by adding .5 phr.
  • a cured product was prepared under the following conditions, and the dielectric loss tangent was evaluated by the following method.
  • the evaluation results are shown in Table 3.
  • Curing conditions In a mold, the mixture was cured at 180 ° C. for 2 hours, 200 ° C. for 2 hours, and 230 ° C. for 2 hours. Plate thickness after molding: 2 mm ⁇ Measurement of dielectric loss tangent> A test piece that conforms to JIS-C-2138 and is stored for 24 hours in a room at 23 ° C and 50% humidity after absolute drying by the open coaxial resonance type permittivity measuring device "ADMS01Oc1" manufactured by AET Co., Ltd. The dielectric loss tangent at 1 GHz was measured.

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Abstract

硬化物としたときに良好な耐熱性を有するエポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化物及びエポキシ樹脂組成物を提供する。エポキシ樹脂は、下記式(1)で表される。(式(1)中、R1~R12は、それぞれ、互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、カルボキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホルミル基、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基である。)

Description

エポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化物及びエポキシ樹脂組成物
 本発明は、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化物及びエポキシ樹脂組成物に関する。
 エポキシ樹脂は耐熱性、機械特性、接着性や電気絶縁性に優れており、この特性を利用して接着剤や塗料、建築・土木材料などの多方面で使用されている。一方で、その利用が航空機材料や半導体封止材などの分野に拡がるにつれて、より一層の高耐熱化が要求されている。この問題に対しては、剛直性骨格や高対称性骨格を分子構造に導入することによってミクロブラウン運動を抑制し、物理的耐熱性を向上させる試みが行われている(非特許文献1)。また、分子構造内における熱分解されにくい芳香環構造や脂環構造の濃度を高めることによって化学的耐熱性を向上させる試みも行われている(非特許文献2)。
エポキシ樹脂技術協会、「総説 エポキシ樹脂 最近の進歩」、p3-11(2009)
高橋昭雄,ネットワークポリマー,Vol.33,34-41(2012)
 しかしながら、一般的なエポキシ樹脂は、ビスフェノールAジグリシジルエーテル(DGEBA)に代表されるように、グリシジルエーテル構造を有しているため、その構造中の-O-CH2-部位による耐熱性の低下を避けることができない。そのため、エポキシ樹脂における耐熱性の大幅な向上には困難を伴うことが多い。
 グリシジルエーテル構造を含まない脂環式エポキシ樹脂などもあるが、このようなエポキシ樹脂は、エポキシ環の両方の炭素に置換基を有しているため、多官能アミンや多官能フェノールといった硬化剤との反応性は低い。また、脂環式エポキシ樹脂は過酸化物を用いたオレフィンの酸化反応により製造されているため、製造時の安全性にも懸念がある。
 本発明は、上記問題に鑑み、硬化物としたときに良好な耐熱性を有するエポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化物及びエポキシ樹脂組成物を提供することを課題とする。
 本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、上記課題は、下記式(1)~(8)及び(30)~(32)のいずれか1つで表されるエポキシ樹脂を提供することによって解決できることを見出した。
 本発明は一側面において、下記式(1)~(8)及び(30)~(32)のいずれか1つで表されるエポキシ樹脂である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041

(式(1)~(8)及び(30)~(32)中、R1~R116は、それぞれ、互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、カルボキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホルミル基、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基である。式(7)及び(32)中、X1及びX2は、それぞれ、互いに独立してカルボニル基、酸素原子、アミノ基(-N<)、硫黄原子、スルホキシド基、スルホニル基、または炭素数1~12の炭化水素基である。)
 本発明は別の一側面において、本発明のエポキシ樹脂を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物である。
 本発明は更に別の一側面において、本発明のエポキシ樹脂を下記式(9)で表される硬化剤で硬化してなるエポキシ樹脂硬化物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
(式(9)中、nは正の整数である。)
 本発明は更に別の一側面において、本発明のエポキシ樹脂を下記式(10)で表される硬化剤で硬化してなるエポキシ樹脂硬化物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 本発明は更に別の一側面において、本発明のエポキシ樹脂を下記式(11)で表される硬化剤で硬化してなるエポキシ樹脂硬化物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 本発明は更に別の一側面において、本発明のエポキシ樹脂を下記式(36)で表される硬化剤で硬化してなるエポキシ樹脂硬化物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
(式中、Xはベンゼン環、ナフタレン環、炭素原子数1~4のアルキル基で核置換されたベンゼン環又はナフタレン環、ビフェニル基、Yはベンゼン環、ナフタレン環、炭素原子数1~4のアルキル基で核置換されたベンゼン環又はナフタレン環、Zは炭素原子数1~4のアルキル基であり、kは0又は1を表し、nは繰り返し単位の平均で0.25~3.0である。)
 本発明は更に別の一側面において、前記式(1)~(8)及び(30)~(32)のいずれか1つで表されるエポキシ樹脂と、硬化剤とを含むエポキシ樹脂組成物である。
 本発明のエポキシ樹脂組成物は、一実施形態において、前記硬化剤が、前記式(9)~(11)、(36)で表される化合物のうちの少なくとも1つである。
 本発明によれば、硬化物としたときに良好な耐熱性を有するエポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化物及びエポキシ樹脂組成物を提供することができる。
試験例2、4に係るTGA測定結果を示すグラフである。 試験例2、4に係るDMA測定結果を示すグラフである。 試験例3、5に係るTGA測定結果を示すグラフである。 試験例3、5に係るDMA測定結果を示すグラフである。
 (エポキシ樹脂)
 本発明のエポキシ樹脂は、下記式(1)~(8)及び(30)~(32)のいずれか1つで表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
 上記式(1)~(8)及び(30)~(32)のエポキシ樹脂は、いずれもその構造中に-O-CH2-部位を有さない。このため、耐熱性が良好となる。
 式(1)~(8)及び(30)~(32)中、R1~R116は、それぞれ、互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、カルボキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホルミル基、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基である。ここで、R1~R116は、それぞれ、水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基であることがより好ましい。式(7)及び(32)中、X1及びX2は、それぞれ、互いに独立してカルボニル基、酸素原子、アミノ基(-N<)、硫黄原子、スルホキシド基、スルホニル基、または炭素数1~12の炭化水素基である。炭素数1~12の炭化水素基としては、アルキレン基(-(CR117118n-)であってもよい。ここで、R117、R118は、それぞれR1~R116が取り得る基と同様の基を取り得る。また、nは正の整数である。また、炭素数1~12の炭化水素基としては、アリーレン基、シクロヘキシレン基などであってもよい。さらに、アルキレン基の途中で分岐してもよく、アルキレン基の途中にエーテル結合、アミノ結合、カルボニル結合、エステル結合、アミド結合、ウレタン結合、ウレア結合等が入っていてもよい。ここで、X1及びX2は、それぞれ、メチレン基または酸素原子であることがより好ましい。これらの具体例として、式(12)~(19)、(33)~(35)に、R1~R116がそれぞれ、互いに独立して水素原子であり、X1及びX2がそれぞれ、互いに独立してCH2基であるエポキシ樹脂を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
 (エポキシ樹脂の製造方法)
 次に、本発明のエポキシ樹脂の製造方法について詳述する。本発明のエポキシ樹脂は、トリメチルスルホニウムブロミドまたはトリメチルスルホニウムヨージドから発生させた硫黄イリドと多官能のアルデヒドまたはケトンとのCorey-Chaykovsky反応により製造することができる。このような製造方法によれば、構造中に-O-CH2-部位を有しないエポキシ樹脂を製造することができる。また、過酸化物を用いたオレフィンの酸化反応により製造する必要がないため、製造時の安全性が向上する。多官能のアルデヒドまたはケトンは、所望するエポキシ樹脂の化学式を考慮して、適切な置換基等を適切な位置に有するアルデヒドまたはケトンを選択する。
 以下、一例として、上述の式(12)で表されるエポキシ樹脂の製造方法について説明する。まず、トリメチルスルホニウムブロミドまたはトリメチルスルホニウムヨージドに、有機溶媒、水、及び、KOH等のアルカリを加え、撹拌する。その後、下記式(20)で表される1,4-シクロヘキサンジオンを有機溶媒に溶解させた溶液を加え、再度撹拌し、下記式(21)で示される反応式によって反応を進行させる。反応後、室温に冷却し、吸引ろ過を行い、分液を行う。その後、有機層を洗浄した後、乾燥、ろ過し、濃縮・減圧乾燥することで、式(12)で表されるエポキシ樹脂を得る。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
 また、上述の式(12)で表されるエポキシ樹脂の別の製造方法について説明する。まず、トリメチルスルホニウムブロミドまたはトリメチルスルホニウムヨージドに、1,4-シクロヘキサンジオンを加え、反応系をAr置換等により不活性雰囲気とする。その後、脱水DMSO等の有機溶媒を加え、撹拌する。その後、カリウムtert-ブトキシド等の塩基を有機溶媒に溶解させた溶液を加え、撹拌し、式(21)で示される反応式によって反応を進行させる。反応後、室温に冷却し、吸引ろ過を行い、分液を行う。その後、有機層を洗浄した後、乾燥、ろ過し、濃縮・減圧乾燥することで、式(12)で表されるエポキシ樹脂を得る。
 トリメチルスルホニウムブロミドまたはトリメチルスルホニウムヨージドは、1,4-シクロヘキサンジオン1モルに対して、2~4モル用いることが好ましい。反応条件は、適宜決定すればよいが、例えば、反応温度は45~75℃が好ましく、55~65℃がより好ましい。反応時間は4~8時間が好ましく、5~6時間がより好ましい。有機溶媒は、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド、テトラヒドロフラン等を用いることができる。
 得られたエポキシ樹脂の構造は、1H-核磁気共鳴(NMR)スペクトル法、13C-NMRスペクトル法、19F-NMRスペクトル法、フーリエ変換型赤外分光(FT-IR)等を用いた赤外線吸収(IR)スペクトル法、質量分析(MS)法、元素分析法、X線結晶回折法等の一般的な有機分析法により確認できる。
 (エポキシ樹脂硬化物)
 本発明のエポキシ樹脂硬化物は、本発明のエポキシ樹脂を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物である。本発明のエポキシ樹脂の硬化に使用される硬化剤は、一般に公知なエポキシ樹脂の硬化剤を用いることができる。公知なエポキシ樹脂の硬化剤としては、例えば、酸無水物系化合物、フェノ-ル系化合物、アミン系化合物、活性エステル系化合物などが挙げられる。
 酸無水物系化合物の硬化剤としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、無水マレイン酸ポリプロピレングリコール、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸などが挙げられる。
 フェノ-ル系化合物の硬化剤としては、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、トリフェニロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール-フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール-クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂、アミノトリアジン変性フェノール樹脂やこれらの変性物等が挙げられる。
 アミン系化合物の硬化剤としては、脂肪族アミン・芳香族アミンを問わずどのような化合物でも使用することができる。当該アミン系化合物の硬化剤としては、エチレンジアミン、プロピレンジアミン、ブチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、ポリプロピレングリコールジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ペンタエチレンヘキサミンなどの脂肪族ポリアミン類や、メタキシリレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルホン、フェニレンジアミンなどの芳香族ポリアミン類や、1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、イソホロンジアミン、ノルボルナンジアミンなどの脂環族ポリアミン類等や、ジシアンジアミドなどが挙げられる。
 活性エステル系化合物としては、特に制限はないが、一般にフェノールエステル類、チオフェノールエステル類、N-ヒドロキシアミンエステル類、複素環ヒドロキシ化合物のエステル類等の反応活性の高いエステル基を1分子中に2個以上有する化合物が好ましく用いられる。活性エステル系化合物として、活性エステル樹脂は、カルボン酸化合物及び/又はチオカルボン酸化合物と、ヒドロキシ化合物及び/又はチオール化合物との縮合反応によって得られるものが好ましい。特に耐熱性向上の観点から、カルボン酸化合物又はそのハライドとヒドロキシ化合物とから得られる活性エステル樹脂が好ましく、カルボン酸化合物又はそのハライドと、フェノール化合物及び/又はナフトール化合物とから得られる活性エステル樹脂がより好ましい。カルボン酸化合物としては、例えば安息香酸、酢酸、コハク酸、マレイン酸、イタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ピロメリット酸等、又はそのハライドが挙げられる。フェノール化合物又はナフトール化合物としては、ハイドロキノン、レゾルシン、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、ジヒドロキシジフェニルエーテル、フェノールフタレイン、メチル化ビスフェノールA、メチル化ビスフェノールF、メチル化ビスフェノールS、フェノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、カテコール、α-ナフトール、β-ナフトール、1,5-ジヒドロキシナフタレン、1,6-ジヒドロキシナフタレン、2,7-ジヒドロキシナフタレン、ポリヒドロキシナフチレンエーテル、ジヒドロキシベンゾフェノン、トリヒドロキシベンゾフェノン、テトラヒドロキシベンゾフェノン、フロログルシン、ベンゼントリオール、ジシクロペンタジエン-フェノール付加型樹脂等が挙げられる。
 活性エステル系化合物として、具体的にはジシクロペンタジエン-フェノール付加構造を含む活性エステル樹脂、ナフタレン構造を含む活性エステル樹脂、フェノールノボラックのアセチル化物である活性エステル樹脂、フェノールノボラックのベンゾイル化物である活性エステル樹脂等が好ましく、なかでもピール強度の向上に優れるという点で、ジシクロペンタジエン-フェノール付加構造を含む活性エステル樹脂、ナフタレン構造を含む活性エステル樹脂がより好ましい。ジシクロペンタジエン-フェノール付加構造を含む活性エステル樹脂として、より具体的には下記式(36)で表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
(式中、Xはベンゼン環、ナフタレン環、炭素原子数1~4のアルキル基で核置換されたベンゼン環又はナフタレン環、ビフェニル基、Yはベンゼン環、ナフタレン環、炭素原子数1~4のアルキル基で核置換されたベンゼン環又はナフタレン環、Zは炭素原子数1~4のアルキル基であり、kは0又は1を表し、nは繰り返し単位の平均で0.25~3.0である。)
 本発明のエポキシ樹脂硬化物は、本発明のエポキシ樹脂が繰り返し重合して硬化したものであってもよく、硬化剤由来の繰返し単位を更に含んだものであってもよい。例えば、式(12)で表されるエポキシ樹脂をイミダゾール類などの硬化促進剤で硬化させた硬化物は、下記式(22)または(23)で表される繰り返し単位を有している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
(式(22)中、n、mは正の整数である。)
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
(式(23)中、nは正の整数である。)
 本発明のエポキシ樹脂硬化物は、本発明のエポキシ樹脂を下記式(9)で表される硬化剤(フェノールノボラック:PN)で硬化したものであってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
(式(9)中、nは正の整数である。)
 式(12)で表されるエポキシ樹脂を式(9)で表される硬化剤で硬化することで作製された本発明のエポキシ樹脂硬化物は、理想的には式(24)に示す繰り返し単位を含む硬化物となる。ただし、一部のエポキシ基やフェノール性OH基が反応していない場合もある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
 本発明のエポキシ樹脂硬化物は、本発明のエポキシ樹脂を下記式(10)で表される硬化剤(4,4’-ジアミノジフェニルスルホン:DDS)で硬化したものであってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
 式(12)で表されるエポキシ樹脂を式(10)で表される硬化剤で硬化することで作製された本発明のエポキシ樹脂硬化物は、理想的には式(25)に示す繰り返し単位を含む硬化物となる。ただし、一部のエポキシ基やアミノ基が反応していない場合もある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
 本発明のエポキシ樹脂硬化物は、本発明のエポキシ樹脂を式(11)で表される硬化剤(m-フェニレンジアミン)で硬化したものであってもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
 式(12)で表されるエポキシ樹脂を式(11)で表される硬化剤で硬化することで作製された本発明のエポキシ樹脂硬化物は、理想的には、式(26)に示す繰り返し単位を含む硬化物となる。ただし、一部のエポキシ基やアミノ基が反応していない場合もある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
 (エポキシ樹脂硬化物の製造方法)
 次に、本発明のエポキシ樹脂硬化物の製造方法について詳述する。本発明のエポキシ樹脂硬化物は、本発明のエポキシ樹脂を硬化させることで製造することができる。硬化に使用する硬化剤は、下記式(27)で表される硬化促進剤(2E4MZ-CN)等、一般に公知の硬化剤を用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 以下、一例として、上述の式(12)で表されるエポキシ樹脂を硬化させてなるエポキシ樹脂硬化物の製造方法について説明する。まず、式(12)で表されるエポキシ樹脂にアセトン等の有機溶媒を加えて撹拌する。その後、式(9)、(10)、または(11)等で表される硬化剤を加え、再度撹拌して反応させ、濃縮及び減圧乾燥の後、式(12)で表されるエポキシ樹脂を硬化させてなるエポキシ樹脂硬化物が得られる。
 エポキシ樹脂の硬化には、硬化剤の他に、硬化促進剤を用いてもよい。硬化促進剤としては、エポキシ樹脂の硬化促進剤として公知なものを使用することができる。
 得られたエポキシ樹脂硬化物の構造は、フーリエ変換型赤外分光(FT-IR)等を用いた赤外線吸収(IR)スペクトル法、元素分析法、X線散乱法等により確認できる。
 (エポキシ樹脂組成物)
 本発明のエポキシ樹脂組成物は、前記式(1)~(8)及び(30)~(32)のいずれか1つで表されるエポキシ樹脂と、硬化剤とを含む。当該エポキシ樹脂組成物に、更に硬化促進剤を混合して反応させることで、本発明のエポキシ樹脂硬化物を作製することができる。
 本発明のエポキシ樹脂組成物に含まれる硬化剤は、上述の本発明のエポキシ樹脂硬化物を作製する際に使用可能な硬化剤を用いることができる。また、本発明のエポキシ樹脂組成物の硬化反応に使用可能な硬化促進剤についても、上述の本発明のエポキシ樹脂硬化物を作製する際に使用可能な硬化促進剤を用いることができる。
 本発明のエポキシ樹脂組成物は、更に前記式(1)~(8)及び(30)~(32)のいずれか1つで表されるエポキシ樹脂以外のエポキシ樹脂(その他のエポキシ樹脂)、フィラー、繊維質基質、分散媒、前述の各種化合物以外の樹脂などを含んでもよい。以下、各含有物について、具体的に詳述する。
 (その他のエポキシ樹脂)
 本発明のエポキシ樹脂組成物は、前記式(1)~(8)及び(30)~(32)のいずれか1つで表されるエポキシ樹脂以外に、本発明の効果を損なわない範囲において、その他のエポキシ樹脂を併用してもよい。このとき、本発明のエポキシ樹脂組成物中における前記式(1)~(8)及び(30)~(32)のいずれか1つで表されるエポキシ樹脂の使用割合としては、全エポキシ樹脂中30質量%以上であることが好ましく、特に40質量%以上であることが好ましい。
 併用できるエポキシ樹脂としては、なんら制限されるものではなく、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールAD型エポキシ樹脂、レゾルシン型エポキシ樹脂、ハイドロキノン型エポキシ樹脂、カテコール型エポキシ樹脂、ジヒドロキシナフタレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、テトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂等の液状エポキシ樹脂、ブロム化フェノールノボラック型エポキシ樹脂等の臭素化エポキシ樹脂、固形ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニルエタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン-フェノール付加反応型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、フェニレンエーテル型エポキシ樹脂、ナフチレンエーテル型エポキシ樹脂、ナフトールノボラック型エポキシ樹脂、ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ナフトール-フェノール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、ナフトール-クレゾール共縮ノボラック型エポキシ樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂型エポキシ樹脂、ビフェニル変性ノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられ、単独でも、2種以上を併用してもよく、目的とする用途や硬化物の物性等に応じて種々選択して用いることが好ましい。
 本発明のエポキシ樹脂組成物中におけるエポキシ樹脂と硬化剤の配合量としては、特に制限されるものではないが、得られる硬化物の機械的物性等が良好である点から、エポキシ樹脂全量中のエポキシ基の合計1当量に対して、硬化剤中の活性基が0.7~1.5当量になる量が好ましい。
 (フィラー)
 本発明のエポキシ樹脂組成物は、更にフィラーを含有してもよい。フィラーとしては、無機フィラーと有機フィラーが挙げられる。無機フィラーとしては、例えば無機微粒子が挙げられる。
 無機微粒子としては、耐熱性に優れるものとして、アルミナ、マグネシア、チタニア、ジルコニア、シリカ(石英、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、無水珪酸、溶融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカ等)等が挙げられる。また、熱伝導に優れるものとして、窒化ホウ素、窒化アルミ、酸化アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化珪素、ダイヤモンド等が挙げられる。また、導電性に優れるものとして、金属単体又は合金(例えば、鉄、銅、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、白金、亜鉛、マンガン、ステンレスなど)を用いた金属フィラー及び/又は金属被覆フィラー等が挙げられる。また、バリア性に優れるものとして、マイカ、クレイ、カオリン、タルク、ゼオライト、ウォラストナイト、スメクタイト等の鉱物等やチタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、セピオライト、ゾノライト、ホウ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛、水酸化マグネシウム等が挙げられる。また、屈折率が高いものとして、チタン酸バリウム、酸化ジルコニア、酸化チタン等が挙げられる。また、光触媒性を示すものとして、チタン、セリウム、亜鉛、銅、アルミニウム、錫、インジウム、リン、炭素、イオウ、テリウム、ニッケル、鉄、コバルト、銀、モリブデン、ストロンチウム、クロム、バリウム、鉛等の光触媒金属、前記金属の複合物、それらの酸化物等が挙げられる。また、耐摩耗性に優れるものとして、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化マグネシウム等の金属、及びそれらの複合物及び酸化物等が挙げられる。また、導電性に優れるものとして、銀、銅などの金属、酸化錫、酸化インジウム等が挙げられる。また、絶縁性に優れるものとして、シリカ等が挙げられる。また、紫外線遮蔽に優れるものとして、酸化チタン、酸化亜鉛等が挙げられる。
 これらの無機微粒子は、用途によって適時選択すればよく、単独で使用しても、複数種組み合わせて使用してもかまわない。また、上記無機微粒子は、例に挙げた特性以外にも様々な特性を有することから、適時用途に合わせて選択すればよい。
 例えば無機微粒子としてシリカを用いる場合、特に限定はなく粉末状のシリカやコロイダルシリカなど公知のシリカ微粒子を使用することができる。市販の粉末状のシリカ微粒子としては、例えば、日本アエロジル(株)製アエロジル50、200、旭硝子(株)製シルデックスH31、H32、H51、H52、H121、H122、日本シリカ工業(株)製E220A、E220、富士シリシア(株)製SYLYSIA470、日本板硝子(株)製SGフレ-ク等を挙げることができる。また、市販のコロイダルシリカとしては、例えば、日産化学工業(株)製メタノ-ルシリカゾル、IPA-ST、MEK-ST、NBA-ST、XBA-ST、DMAC-ST、ST-UP、ST-OUP、ST-20、ST-40、ST-C、ST-N、ST-O、ST-50、ST-OL等を挙げることができる。
 表面修飾をしたシリカ微粒子を用いてもよく、例えば、前記シリカ微粒子を、疎水性基を有する反応性シランカップリング剤で表面処理したものや、(メタ)アクリロイル基を有する化合物で修飾したものが挙げられる。(メタ)アクリロイル基を有する化合物で修飾した市販の粉末状のシリカとしては、日本アエロジル(株)製アエロジルRM50、R711等、(メタ)アクリロイル基を有する化合物で修飾した市販のコロイダルシリカとしては、日産化学工業(株)製MIBK-SD等が挙げられる。
 前記シリカ微粒子の形状は特に限定はなく、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、または不定形状のものを用いることができる。また一次粒子径は、5~200nmの範囲が好ましい。5nm以上であると、分散体中の無機微粒子の分散が十分となり、200nm以下の径では、硬化物の十分な強度が保持しやすくなる。
 酸化チタン微粒子としては、体質顔料のみならず紫外光応答型光触媒が使用でき、例えばアナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、ブルッカイト型酸化チタンなどが使用できる。更に、酸化チタンの結晶構造中に異種元素をドーピングさせて可視光に応答させるように設計された粒子についても用いることができる。酸化チタンにドーピングさせる元素としては、窒素、硫黄、炭素、フッ素、リン等のアニオン元素や、クロム、鉄、コバルト、マンガン等のカチオン元素が好適に用いられる。また、形態としては、粉末、有機溶媒中もしくは水中に分散させたゾルもしくはスラリーを用いることができる。市販の粉末状の酸化チタン微粒子としては、例えば、日本アエロジル(株)製アエロジルP-25、テイカ(株)製ATM-100等を挙げることができる。また、市販のスラリー状の酸化チタン微粒子としては、例えば、テイカ(株)製TKD-701等が挙げられる。
 (繊維質基質)
 本発明のエポキシ樹脂組成物は、更に繊維質基質を含有してもよい。繊維質基質は、特に限定はないが、繊維強化樹脂に用いられるものが好ましく、無機繊維や有機繊維が挙げられる。
 無機繊維としては、カーボン繊維、ガラス繊維、ボロン繊維、アルミナ繊維、炭化珪素繊維等の無機繊維のほか、炭素繊維、活性炭繊維、黒鉛繊維、ガラス繊維、タングステンカーバイド繊維、シリコンカーバイド繊維(炭化ケイ素繊維)、セラミックス繊維、アルミナ繊維、天然繊維、玄武岩などの鉱物繊維、ボロン繊維、窒化ホウ素繊維、炭化ホウ素繊維、及び金属繊維等を挙げることができる。上記金属繊維としては、例えば、アルミニウム繊維、銅繊維、黄銅繊維、ステンレス繊維、スチール繊維を挙げることができる。
 有機繊維としては、ポリベンザゾール、アラミド、PBO(ポリパラフェニレンベンズオキサゾール)、ポリフェニレンスルフィド、ポリエステル、アクリル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリビニルアルコール、ポリアリレート等の樹脂材料からなる合成繊維や、セルロース、パルプ、綿、羊毛、絹といった天然繊維、タンパク質、ポリペプチド、アルギン酸等の再生繊維等を挙げる事ができる。
 中でも、カーボン繊維とガラス繊維は、産業上利用範囲が広いため、好ましい。これらのうち、一種類のみ用いてもよく、複数種を同時に用いてもよい。
 繊維質基質は、繊維の集合体であってもよく、繊維が連続していても、不連続状でもかまわず、織布状であっても、不織布状であってもかまわない。また、繊維を一方方向に整列した繊維束でもよく、繊維束を並べたシート状であってもよい。また、繊維の集合体に厚みを持たせた立体形状であってもかまわない。
 (分散媒)
 本発明のエポキシ樹脂組成物は、組成物の固形分量や粘度を調整する目的として、分散媒を使用してもよい。分散媒としては、本発明の効果を損ねることのない液状媒体であればよく、各種有機溶剤、液状有機ポリマー等が挙げられる。
 前記有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)等のケトン類、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキソラン等の環状エーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族類、カルビトール、セロソルブ、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルコール類が挙げられ、これらを単独又は併用して使用可能であるが、中でもメチルエチルケトンが塗工時の揮発性や溶媒回収の面から好ましい。
 前記液状有機ポリマーとは、硬化反応に直接寄与しない液状有機ポリマーであり、例えば、カルボキシル基含有ポリマー変性物(フローレンG-900、NC-500:共栄社)、アクリルポリマー(フローレンWK-20:共栄社)、特殊変性燐酸エステルのアミン塩(HIPLAAD ED-251:楠本化成)、変性アクリル系ブロック共重合物(DISPERBYK2000;ビックケミー)などが挙げられる。
 (樹脂)
 また、本発明のエポキシ樹脂組成物は、本発明の前述した各種化合物以外の樹脂を有していてもよい。樹脂としては、本発明の効果を損なわない範囲であれば公知慣用の樹脂を配合すればよく、例えば熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を用いることができる。
 熱硬化性樹脂とは、加熱または放射線や触媒などの手段によって硬化される際に実質的に不溶かつ不融性に変化し得る特性を持った樹脂である。その具体例としては、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ビニルエステル樹脂、ジアリルテレフタレート樹脂、シリコーン樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、ケトン樹脂、キシレン樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂、活性エステル樹脂、アニリン樹脂、シアネートエステル樹脂、スチレン・無水マレイン酸(SMA)樹脂、マレイミド樹脂などが挙げられる。これらの熱硬化性樹脂は1種または2種以上を併用して用いることができる。
 熱可塑性樹脂とは、加熱により溶融成形可能な樹脂を言う。その具体例としてはポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリスチレン樹脂、ゴム変性ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル-ブタジエン-スチレン(ABS)樹脂、アクリロニトリル-スチレン(AS)樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、酢酸セルロース樹脂、アイオノマー樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリ乳酸樹脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、変性ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリアリレート樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリケトン樹脂、液晶ポリエステル樹脂、フッ素樹脂、シンジオタクチックポリスチレン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂などが挙げられる。これらの熱可塑性樹脂は1種または2種以上を併用して用いることができる。
 (エポキシ樹脂硬化物及びエポキシ樹脂組成物の用途)
 本発明のエポキシ樹脂硬化物及びエポキシ樹脂組成物は、化学的耐熱性及び物理的耐熱性の両方に優れており、以下の用途に有用である。
 (繊維強化樹脂)
 本発明のエポキシ樹脂組成物が繊維質基質を有し、該繊維質基質が強化繊維の場合、繊維質基質を含有するエポキシ樹脂組成物は、繊維強化樹脂として用いることができる。組成物に対し繊維質基質を含有させる方法は、本発明の効果を損なわない範囲であれば特に限定されず、繊維質基質と組成物とを、混練、塗布、含浸、注入、圧着、等の方法で複合化する方法が挙げられ、繊維の形態及び繊維強化樹脂の用途によって適時選択することができる。
 本発明の繊維強化樹脂を成形する方法については、特に限定されない。板状の製品を製造するのであれば、押し出し成形法が一般的であるが、平面プレスによっても可能である。この他、押し出し成形法、ブロー成形法、圧縮成形法、真空成形法、射出成形法等を用いることが可能である。またフィルム状の製品を製造するのであれば、溶融押出法の他、溶液キャスト法を用いることができ、溶融成形方法を用いる場合、インフレーションフィルム成形、キャスト成形、押出ラミネーション成形、カレンダー成形、シート成形、繊維成形、ブロー成形、射出成形、回転成形、被覆成形等が挙げられる。また、活性エネルギー線で硬化する樹脂の場合、活性エネルギー線を用いた各種硬化方法を用いて硬化物を製造することができる。特に、熱硬化性樹脂をマトリクス樹脂の主成分とする場合には、成形材料をプリプレグ化してプレスやオートクレーブにより加圧加熱する成形法が挙げられ、この他にもRTM(Resin Transfer Molding)成形、VaRTM(Vaccum assist Resin Transfer Molding)成形、積層成形、ハンドレイアップ成形等が挙げられる。
 (プリプレグ)
 本発明の繊維強化樹脂は、未硬化あるいは半硬化のプリプレグと呼ばれる状態を形成することができる。プリプレグの状態で製品を流通させた後、最終硬化をおこなって硬化物を形成してもよい。積層体を形成する場合は、プリプレグを形成した後、その他の層を積層してから最終硬化を行うことで、各層が密着した積層体を形成できるため、好ましい。
 この時用いる組成物と繊維質基質の質量割合としては、特に限定されないが、通常、プリプレグ中の樹脂分が20~60質量%となるように調製することが好ましい。
 (耐熱材料および電子材料)
 本発明のエポキシ樹脂組成物は、それを用いたエポキシ樹脂硬化物が、化学的耐熱性及び物理的耐熱性のいずれも良好であり、耐熱材料および電子材料として使用可能である。特に、半導体封止材、回路基板、ビルドアップフィルム、ビルドアップ基板等や、接着剤やレジスト材料に好適に使用可能である。また、繊維強化樹脂のマトリクス樹脂にも好適に使用可能であり、高耐熱性のプリプレグとして特に適している。こうして得られる耐熱部材や電子部材は、各種用途に好適に使用可能であり、例えば、産業用機械部品、一般機械部品、自動車・鉄道・車両等部品、宇宙・航空関連部品、電子・電気部品、建築材料、容器・包装部材、生活用品、スポーツ・レジャー用品、風力発電用筐体部材等が挙げられるが、これらに限定される物ではない。
 以下、代表的な製品について例を挙げて説明する。
 1.半導体封止材料
 本発明のエポキシ樹脂組成物から半導体封止材料を得る方法としては、前記組成物、及び硬化促進剤、及び無機充填剤等の配合剤とを必要に応じて押出機、ニ-ダ、ロ-ル等を用いて均一になるまで充分に溶融混合する方法が挙げられる。その際、無機充填剤としては、通常、溶融シリカが用いられるが、パワートランジスタ、パワーIC用高熱伝導半導体封止材として用いる場合は、溶融シリカよりも熱伝導率の高い結晶シリカ、アルミナ、窒化珪素などの高充填化シリカ、または溶融シリカ、結晶性シリカ、アルミナ、窒化珪素などを用いるとよい。その充填率はエポキシ樹脂組成物100質量部当たり、無機充填剤を30~95質量%の範囲で用いることが好ましく、中でも、難燃性や耐湿性や耐ハンダクラック性の向上、線膨張係数の低下を図るためには、70質量部以上がより好ましく、80質量部以上であることがさらに好ましい。
 2.半導体装置
 本発明のエポキシ樹脂組成物から半導体装置を得る半導体パッケージ成形としては、上記半導体封止材料を注型、或いはトランスファー成形機、射出成形機などを用いて成形し、さらに50~250℃で2~10時間の間、加熱する方法が挙げられる。
 3.プリント配線基板
 本発明のエポキシ樹脂組成物からプリント配線基板を得る方法としては、上記プリプレグを、常法により積層し、適宜銅箔を重ねて、1~10MPaの加圧下に170~300℃で10分~3時間、加熱圧着させる方法が挙げられる。
 4.ビルドアップ基板
 本発明のエポキシ樹脂組成物からビルドアップ基板を得る方法は、例えば以下の工程が挙げられる。まず、ゴム、フィラーなどを適宜配合した上記組成物を、回路を形成した回路基板にスプレーコーティング法、カーテンコーティング法等を用いて塗布した後、硬化させる工程(工程1)。その後、必要に応じて所定のスルーホール部等の穴あけを行った後、粗化剤により処理し、その表面を湯洗することによって凹凸を形成させ、銅などの金属をめっき処理する工程(工程2)。このような操作を所望に応じて順次繰り返し、樹脂絶縁層及び所定の回路パターンの導体層を交互にビルドアップして形成する工程(工程3)。なお、スルーホール部の穴あけは、最外層の樹脂絶縁層の形成後に行う。また、本発明のビルドアップ基板は、銅箔上で当該樹脂組成物を半硬化させた樹脂付き銅箔を、回路を形成した配線基板上に、170~300℃で加熱圧着することで、粗化面を形成、メッキ処理の工程を省き、ビルドアップ基板を作製することも可能である。
 5.ビルドアップフィルム
 本発明のエポキシ樹脂組成物からビルドアップフィルムを得る方法としては、基材である支持フィルム(Y)の表面に、上記組成物を塗布し、更に加熱、あるいは熱風吹きつけ等により有機溶剤を乾燥させて組成物の層(X)を形成させることにより製造することができる。
 ここで用いる有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、カルビトールアセテート等の酢酸エステル類、セロソルブ、ブチルカルビトール等のカルビトール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン等を用いることが好ましく、また、不揮発分30~60質量%となる割合で使用することが好ましい。
 形成される層(X)の厚さは、通常、導体層の厚さ以上とする。回路基板が有する導体層の厚さは通常5~70μmの範囲であるので、樹脂組成物層の厚さは10~100μmの厚みを有するのが好ましい。なお、本発明における上記組成物の層(X)は、後述する保護フィルムで保護されていてもよい。保護フィルムで保護することにより、樹脂組成物層表面へのゴミ等の付着やキズを防止することができる。
 前記した支持フィルム及び保護フィルムは、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート(以下「PET」と略称することがある。)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド、更には離型紙や銅箔、アルミニウム箔等の金属箔などを挙げることができる。なお、支持フィルム及び保護フィルムはマッド処理、コロナ処理の他、離型処理を施してあってもよい。支持フィルムの厚さは特に限定されないが、通常10~150μmであり、好ましくは25~50μmの範囲で用いられる。また保護フィルムの厚さは1~40μmとするのが好ましい。
 上記した支持フィルム(Y)は、回路基板にラミネートした後に、或いは加熱硬化することにより絶縁層を形成した後に、剥離される。ビルドアップフィルムを構成する硬化性樹脂組成物層が加熱硬化した後に支持フィルム(Y)を剥離すれば、硬化工程でのゴミ等の付着を防ぐことができる。硬化後に剥離する場合、通常、支持フィルムには予め離型処理が施される。
 上記のようにして得られたビルドアップフィルムを用いて多層プリント回路基板を製造することができる。例えば、層(X)が保護フィルムで保護されている場合はこれらを剥離した後、層(X)を回路基板に直接接するように回路基板の片面又は両面に、例えば真空ラミネート法によりラミネートする。ラミネートの方法はバッチ式であってもロールでの連続式であってもよい。また必要により、ラミネートを行う前にビルドアップフィルム及び回路基板を必要により加熱(プレヒート)しておいてもよい。ラミネートの条件は、圧着温度(ラミネート温度)を70~140℃とすることが好ましく、圧着圧力を1~11kgf/cm2(9.8×104~107.9×104N/m2)とすることが好ましく、空気圧を20mmHg(26.7hPa)以下の減圧下でラミネートすることが好ましい。
 6.導電性ペースト
 本発明のエポキシ樹脂組成物から導電性ペーストを得る方法としては、例えば、導電性粒子を該組成物中に分散させる方法が挙げられる。上記導電性ペーストは、用いる導電性粒子の種類によって、回路接続用ペースト樹脂組成物や異方性導電接着剤とすることができる。
 以下に、本発明を実施例でさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
 (エポキシ樹脂の合成)
 [試験例1]
 式(28)に示す反応スキームに基づいて、エポキシ樹脂の合成を行った。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
 まず、500mL二口フラスコにトリメチルスルホニウムブロミド49.47g(0.315mol)、アセトニトリル315mL、水1.05mL(52.5mmol)、KOH70.70g(1.26mol)を加え、メカニカルスターラーで撹拌(60℃/5min)した。その後、1,4-シクロヘキサンジオン11.77g(0.105mol)を105mLのアセトニトリルに溶解させた溶液をナスフラスコに加え、再度撹拌(60℃/5h)した。TLCを用いて反応が進行したことを確認した後、室温に冷却し、吸引ろ過(塩化メチレンで洗浄)を行い、分液(塩化メチレン/純水)を3回行った。その後、有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過し、濃縮・減圧乾燥(r.t./ovn.)することで黄白色固体を6.50g(44%)得た。次に、当該黄白色固体を減圧蒸留(1.5torr、100℃)し、本留の回収によって、白色固体を4.52g(23%)得た。当該白色固体を1H-NMRスペクトル分析及び13C-NMRスペクトル分析、FT-IRスペクトル分析(KBr)することで、式(12)で表されるエポキシ樹脂が得られたことを確認した。
 (多官能フェノール硬化剤によるエポキシ樹脂の硬化)
 [試験例2]
 50mLナスフラスコに、試験例1で得られた式(12)で表されるエポキシ樹脂1.0153g(EEW=70.1g/eq.)、砕いた上記式(9)で表される硬化剤(PN)1.5063g(HEW=104g/eq.)とアセトンを加え、撹拌(r.t./40min)を行った。完全に溶解したことを確認した後、上記式(27)で表される硬化促進剤(2E4MZ-CN)0.0252gを全体に対して1phr加え、再度撹拌(r.t./30min)した。その後、エバポレーションで濃縮し、減圧乾燥(r.t./ovn.)を行うことで紅色粘性液体を得た。次に、当該紅色粘性液体を、80℃で溶融させながらシリコーン注型版に注型した。続いて、脱気(80℃/10min)した後、80℃で1時間、90℃で1時間、130℃で4時間、170℃で4時間及び200℃で5時間の加熱硬化処理をこの順で行うことで、黄色透明硬化物を得た。
 (多官能アミン硬化剤によるエポキシ樹脂の硬化)
 [試験例3]
 50mLナスフラスコに、試験例1で得られた式(12)で表されるエポキシ樹脂1.8257g(EEW=70.1g/eq.)、上記式(11)で表される硬化剤(MPDA)0.8074g(活性水素当量=31.0g/eq.)とアセトンを加え、撹拌(r.t./40min)を行った。完全に溶解したことを確認した後、エバポレーションで濃縮し、減圧乾燥(r.t./ovn.)を行うことで白色固体を得た。次に、当該白色固体を、70℃で溶融させながらシリコーン注型版に注型した。続いて、脱気(70℃/5min)した後、70℃で1時間、90℃で1時間、130℃で3時間、170℃で3時間、200℃で3時間及び230℃で3時間の加熱硬化処理をこの順で行うことで、黒褐色透明硬化物を得た。
 [試験例4]
 従来の多官能フェノール硬化エポキシ樹脂硬化物として、以下のようにサンプルを作製した。まず、下記式(29)で表されるエポキシ樹脂(DGEBA:ビスフェノールAジグリシジルエーテル)(EEW=190g/eq.)を準備した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
 次に、試験例2と同様の手順で、硬化剤(PN)と硬化促進剤(2E4MZ-CN)とを用いてエポキシ樹脂(DGEBA)を硬化することで、従来の多官能フェノール硬化エポキシ樹脂硬化物を作製した。
 [試験例5]
 従来の多官能アミン硬化エポキシ樹脂硬化物として、以下のようにサンプルを作製した。まず、式(29)で表されるエポキシ樹脂(DGEBA)(EEW=190g/eq.)を準備した。
 次に、試験例3と同様の手順で、硬化剤(MPDA)を用いて、エポキシ樹脂(DGEBA)を硬化することで、従来の多官能アミン硬化エポキシ樹脂硬化物を作製した。
 (多官能フェノール硬化エポキシ樹脂硬化物の評価)
 [試験例6]
 試験例2で得られた黄色透明硬化物(エポキシ樹脂硬化物)をFT-IRスペクトル分析(KBr)することで、式(12)で表されるエポキシ樹脂のエポキシ基の吸収と同位置の吸収が消失していることを確認した。また、当該エポキシ樹脂硬化物について、島津製作所製TGA-50によって熱重量測定(TGA測定)を実施した。加熱速度(Heating rate)は10℃/minとし、N2ガス雰囲気中で測定した。また、当該エポキシ樹脂硬化物について、SIIナノテクノロジー社製DMS6100を用いた動的粘弾性測定(DMA測定)を実施することにより、ガラス転移温度(Tg)を測定した。測定は、加熱速度5℃/min、周波数1.0Hzにて行った。さらに同様にして、試験例4で得られた従来のエポキシ樹脂硬化物の熱重量測定(TGA測定)及び動的粘弾性測定(DMA測定)を実施した。測定結果を表1、図1及び図2に示す。表1において、「Td5」はサンプルの5%重量が減少する温度を示し、「Td10」はサンプルの10%重量が減少する温度を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000081
 表1及び図1、図2により、試験例2のエポキシ樹脂硬化物(本発明品)は、試験例4のエポキシ樹脂硬化物(従来品)に対して耐熱性が優れていることがわかる。
 (多官能アミン硬化エポキシ樹脂硬化物の評価)
 [試験例7]
 試験例3で得られた褐色透明硬化物(エポキシ樹脂硬化物)をFT-IRスペクトル分析(KBr)することで、式(12)で表されるエポキシ樹脂のエポキシ基の吸収と同位置の吸収が消失していることを確認した。また、当該エポキシ樹脂硬化物について、島津製作所製TGA-50によって熱重量測定(TGA測定)を実施した。加熱速度(Heating rate)は10℃/minとし、N2ガス雰囲気中で測定した。また、当該エポキシ樹脂硬化物について、SIIナノテクノロジー社製DMS6100を用いた動的粘弾性測定(DMA測定)を実施することによりガラス転移温度(Tg)を測定した。加熱速度は5℃/min、周波数1.0Hzにて測定を行った。さらに同様にして、試験例5で得られた従来のエポキシ樹脂硬化物の熱重量測定(TGA測定)および動的粘弾性測定(DMA測定)を実施した。測定結果を表2、図3及び図4に示す。表2において、「Td5」はサンプルの5%重量が減少する温度を示し、「Td10」はサンプルの10%重量が減少する温度を示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000082
 表2及び図3、図4により、試験例3のエポキシ樹脂硬化物(本発明品)は、試験例5のエポキシ樹脂硬化物(従来品)に対して耐熱性が優れていることがわかる。
 (熱硬化性樹脂組成物の調整及び物性評価)
 [試験例8、9]
 表3に記載の当量配合に従い、エポキシ樹脂として、試験例1で得られた式(12)で表されるエポキシ樹脂(DCD)、または、ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂(DIC(株)製「EPICLON 850S」、エポキシ当量:188g/eq)、硬化剤として下記合成例1で得られた活性エステル樹脂(活性当量:220g/eq)を150℃で溶融配合し、更に、硬化触媒としてジメチルアミノピリジン0.5phrを加えて調整した。
 [合成例1]
 温度計、滴下ロート、冷却管、分留管、撹拌器を取り付けたフラスコに、ジシクロペンタジエンとフェノールとの付加反応物(水酸基当量165g/当量、軟化点85℃)165g、1-ナフトール144g、及びトルエン1315gを仕込み、系内を減圧窒素置換しながら溶解させた。次いで、イソフタル酸クロライド200gを仕込み、系内を減圧窒素置換しながら溶解させた。窒素ガスパージを施しながら、系内を60℃以下に制御して、20%水酸化ナトリウム水溶液434gを3時間かけて滴下した。滴下終了後、そのまま1時間撹拌を続けて反応させた。反応終了後、反応混合物を静置して分液し、水層を取り除いた。残った有機層に水を加えて約15分間撹拌混合した後、混合物を静置して分液し、水層を取り除いた。水層のpHが7になるまでこの操作を繰り返した後、加熱減圧条件下でトルエン等を留去し、活性エステル樹脂(AE)を得た。活性エステル樹脂(AE)の官能基当量は220g/当量、JIS K7234に基づいて測定した軟化点は130℃であった。
 次いで、下記の条件で硬化物を作製し、下記の方法で誘電正接を評価した。評価結果を表3に示す。
 <硬化物作製条件>
硬化条件:金型内で、180℃で2時間、200℃で2時間、230℃で2時間硬化させた。成型後板厚:2mm
 <誘電正接の測定>
 JIS-C-2138に準拠し、株式会社エーイーティー製の開放型同軸共振型誘電率測定装置「ADMS01Oc1」により、絶乾後23℃、湿度50%の室内に24時間保管した後の試験片の1GHzでの誘電正接を測定した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000083
 表3の結果より、試験例8のエポキシ樹脂硬化物(本発明品)は、試験例9のエポキシ樹脂硬化物(従来品)に対して誘電正接が約40%優れていることがわかる。これらの硬化物を用いた回路基板により、高周波デバイスの高速演算速度化を実現できる。

Claims (8)

  1.  下記式(1)~(8)及び(30)~(32)のいずれか1つで表されるエポキシ樹脂。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
    (式(1)~(8)及び(30)~(32)中、R1~R116は、それぞれ、互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、カルボキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホルミル基、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基である。式(7)及び(32)中、X1及びX2は、それぞれ、互いに独立してカルボニル基、酸素原子、アミノ基(-N<)、硫黄原子、スルホキシド基、スルホニル基、または炭素数1~12の炭化水素基である。)
  2.  請求項1に記載のエポキシ樹脂を硬化してなるエポキシ樹脂硬化物。
  3.  請求項1に記載のエポキシ樹脂を下記式(9)で表される硬化剤で硬化してなるエポキシ樹脂硬化物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
    (式(9)中、nは正の整数である。)
  4.  請求項1に記載のエポキシ樹脂を下記式(10)で表される硬化剤で硬化してなるエポキシ樹脂硬化物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
  5.  請求項1に記載のエポキシ樹脂を下記式(11)で表される硬化剤で硬化してなるエポキシ樹脂硬化物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
  6.  請求項1に記載のエポキシ樹脂を下記式(36)で表される硬化剤で硬化してなるエポキシ樹脂硬化物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
    (式中、Xはベンゼン環、ナフタレン環、炭素原子数1~4のアルキル基で核置換されたベンゼン環又はナフタレン環、ビフェニル基、Yはベンゼン環、ナフタレン環、炭素原子数1~4のアルキル基で核置換されたベンゼン環又はナフタレン環、Zは炭素原子数1~4のアルキル基であり、kは0又は1を表し、nは繰り返し単位の平均で0.25~3.0である。)
  7.  下記式(1)~(8)及び(30)~(32)のいずれか1つで表されるエポキシ樹脂と、
     硬化剤と、
    を含むエポキシ樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
    (式(1)~(8)及び(30)~(32)中、R1~R116は、それぞれ、互いに独立して水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、アミノ基、アミド基、カルボキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホルミル基、シアノ基、アルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはアリール基である。式(7)及び(32)中、X1及びX2は、それぞれ、互いに独立してカルボニル基、酸素原子、アミノ基(-N<)、硫黄原子、スルホキシド基、スルホニル基、または炭素数1~12の炭化水素基である。)
  8.  前記硬化剤が、下記式(9)~(11)、(36)で表される化合物のうちの少なくとも1つである請求項7に記載のエポキシ樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
    (式(9)中、nは正の整数である。)
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
    (式中、Xはベンゼン環、ナフタレン環、炭素原子数1~4のアルキル基で核置換されたベンゼン環又はナフタレン環、ビフェニル基、Yはベンゼン環、ナフタレン環、炭素原子数1~4のアルキル基で核置換されたベンゼン環又はナフタレン環、Zは炭素原子数1~4のアルキル基であり、kは0又は1を表し、nは繰り返し単位の平均で0.25~3.0である。)
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