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WO2020255570A1 - 光ファイバ - Google Patents

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WO2020255570A1
WO2020255570A1 PCT/JP2020/018344 JP2020018344W WO2020255570A1 WO 2020255570 A1 WO2020255570 A1 WO 2020255570A1 JP 2020018344 W JP2020018344 W JP 2020018344W WO 2020255570 A1 WO2020255570 A1 WO 2020255570A1
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WO
WIPO (PCT)
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resin layer
meth
acrylate
optical fiber
inorganic oxide
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2020/018344
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English (en)
French (fr)
Inventor
勝史 浜窪
一之 相馬
小西　達也
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Priority to JP2021527433A priority patent/JP7484907B2/ja
Priority to EP20825760.0A priority patent/EP3988590A4/en
Priority to KR1020227000613A priority patent/KR102791365B1/ko
Priority to US17/259,070 priority patent/US11960115B2/en
Publication of WO2020255570A1 publication Critical patent/WO2020255570A1/ja
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    • C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
    • C03C2201/31—Doped silica-based glasses containing metals containing germanium

Definitions

  • the present disclosure relates to optical fibers.
  • This application claims priority based on Japanese Application No. 2019-112621 filed on June 18, 2019, and incorporates all the contents described in the Japanese application.
  • an optical fiber has a coating resin layer for protecting a glass fiber which is an optical transmitter.
  • the coating resin layer is composed of, for example, a primary resin layer and a secondary resin layer.
  • the optical fiber is required to have improved lateral pressure characteristics.
  • Patent Document 1 it is studied to reduce the bending loss of an optical fiber by increasing the Young's modulus of the secondary resin layer (second coating).
  • the optical fiber according to one aspect of the present disclosure includes a glass fiber including a core and a clad, and a coating resin layer that covers the outer periphery of the glass fiber, and the average linear expansion coefficient of the coating resin layer at ⁇ 50 ° C. or higher and 0 ° C. or lower. However, it is 3.3 ⁇ 10-5 / ° C. or higher and lower than 9.0 ⁇ 10-5 / ° C.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an optical fiber according to the present embodiment.
  • Optical fibers are used in various environments and require various environmental resistances.
  • an optical fiber having a small transmission loss in a low temperature environment that is, an optical fiber having excellent low temperature characteristics is required.
  • it is important to increase the Young's modulus of the secondary resin layer in order to improve the lateral pressure characteristics it is difficult to reduce the transmission loss in a low temperature environment only by increasing the Young's modulus of the secondary resin layer. ..
  • the object of the present disclosure is to provide an optical fiber having excellent low temperature characteristics.
  • the optical fiber according to one aspect of the present disclosure includes a glass fiber including a core and a clad, and a coating resin layer that covers the outer periphery of the glass fiber, and the average linear expansion coefficient of the coating resin layer at ⁇ 50 ° C. or higher and 0 ° C. or lower. However, it is 3.3 ⁇ 10-5 / ° C. or higher and lower than 9.0 ⁇ 10-5 / ° C.
  • the low temperature characteristics of the optical fiber can be improved.
  • the coating resin layer has a primary resin layer that is in contact with the glass fiber and coats the glass fiber, and a secondary resin layer that covers the outer periphery of the primary resin layer, and the secondary resin layer contains urethane (meth) acrylate.
  • a cured product of a resin composition containing a base resin containing an oligomer, a monomer and a photopolymerization initiator and hydrophobic inorganic oxide particles may be contained.
  • the content of the inorganic oxide particles is 1.5% by mass or more and less than 65% by mass based on the total amount of the resin composition. There may be.
  • the inorganic oxide particles are more than the group consisting of silicon dioxide, zirconium dioxide, aluminum oxide, magnesium oxide, titanium oxide, tin oxide and zinc oxide. It may be a particle containing at least one selected.
  • the inorganic oxide particles may have an ultraviolet curable functional group because the coefficient of linear expansion of the coating resin layer can be easily reduced.
  • the UV-curable functional group may be a (meth) acryloyl group because it is easy to form a resin layer having a high Young's modulus.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an optical fiber according to the present embodiment.
  • the optical fiber 10 includes a glass fiber 13 including a core 11 and a clad 12, and a coating resin layer 16 including a primary resin layer 14 and a secondary resin layer 15 provided on the outer periphery of the glass fiber 13.
  • the clad 12 surrounds the core 11.
  • the core 11 and the clad 12 mainly contain glass such as quartz glass.
  • glass such as quartz glass.
  • quartz glass or pure quartz glass to which germanium is added can be used for the core 11, and pure quartz glass or pure quartz glass or pure quartz glass can be used for the clad 12.
  • Fused quartz glass to which fluorine has been added can be used.
  • the outer diameter (D2) of the glass fiber 13 is about 100 ⁇ m to 125 ⁇ m, and the diameter (D1) of the core 11 constituting the glass fiber 13 is about 7 ⁇ m to 15 ⁇ m.
  • the thickness of the coating resin layer 16 is usually about 22 ⁇ m to 70 ⁇ m.
  • the thickness of each of the primary resin layer 14 and the secondary resin layer 15 may be about 5 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • the thickness of each layer of the primary resin layer 14 and the secondary resin layer 15 is about 10 ⁇ m to 50 ⁇ m.
  • the thickness of the primary resin layer 14 may be 35 ⁇ m, and the thickness of the secondary resin layer 15 may be 25 ⁇ m.
  • the outer diameter of the optical fiber 10 may be about 245 ⁇ m to 265 ⁇ m.
  • the thickness of each layer of the primary resin layer 14 and the secondary resin layer 15 is about 10 ⁇ m to 38 ⁇ m.
  • the thickness of the primary resin layer 14 may be 25 ⁇ m, and the thickness of the secondary resin layer 15 may be 10 ⁇ m.
  • the outer diameter of the optical fiber 10 may be about 179 ⁇ m to 221 ⁇ m.
  • the thickness of each layer of the primary resin layer 14 and the secondary resin layer 15 is about 5 ⁇ m to 32 ⁇ m.
  • the thickness of the primary resin layer 14 may be 25 ⁇ m, and the thickness of the secondary resin layer 15 may be 10 ⁇ m.
  • the outer diameter of the optical fiber 10 may be about 144 ⁇ m to 174 ⁇ m.
  • the average coefficient of linear expansion of the coating resin layer 16 at -50 ° C or higher and 0 ° C or lower is 3.3 ⁇ 10-5 / ° C or higher and less than 9.0 ⁇ 10-5 / ° C. It is preferably 3.3 ⁇ 10-5 / ° C. or higher and 8.9 ⁇ 10-5 / ° C. or lower, and more preferably 3.4 ⁇ 10-5 / ° C. or higher and 8.5 ⁇ 10-5 / ° C. or lower. More preferably, it is 3.5 ⁇ 10-5 / ° C. or higher and 8.0 ⁇ 10-5 / ° C. or lower.
  • the secondary resin layer 15 is composed of a base resin containing an oligomer containing urethane (meth) acrylate, a monomer and a photopolymerization initiator. It can be formed by curing a resin composition containing hydrophobic inorganic oxide particles. That is, the secondary resin layer 15 may contain a cured product of a resin composition containing an oligomer containing a urethane (meth) acrylate, a monomer, a base resin containing a photopolymerization initiator, and hydrophobic inorganic oxide particles. ..
  • the (meth) acrylate means an acrylate or a methacrylate corresponding thereto.
  • the inorganic oxide particles according to the present embodiment are spherical particles, and the surface thereof is hydrophobically treated.
  • the hydrophobic treatment according to the present embodiment means that a hydrophobic group is introduced on the surface of the inorganic oxide particles.
  • the inorganic oxide particles into which a hydrophobic group has been introduced are excellent in dispersibility in the resin composition.
  • the hydrophobic group is a reactive group (ultraviolet curable functional group) such as a (meth) acryloyl group, an aliphatic hydrocarbon group (for example, an alkyl group), or an aromatic hydrocarbon group (for example, a phenyl group). It may be a non-reactive group such as. When the inorganic oxide particles have a reactive group, it becomes easy to form a resin layer having a high Young's modulus.
  • the inorganic oxide particles according to the present embodiment may have an ultraviolet curable functional group.
  • the ultraviolet curable functional group can be introduced on the surface of the inorganic oxide particles.
  • silane compound having an ultraviolet curable functional group examples include 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, and 3-acryloxypropyltriethoxysilane. , 8-Methyloxyoctyltrimethoxysilane, 8-acryloxyoctyltrimethoxysilane, 7-octenyltrimethoxysilane, vinyltrimethoxysilane and vinyltriethoxysilane.
  • the inorganic oxide particles according to this embodiment are dispersed in a dispersion medium.
  • the inorganic oxide particles can be uniformly dispersed in the resin composition, and the storage stability of the resin composition can be improved.
  • the dispersion medium is not particularly limited as long as it does not inhibit the curing of the resin composition.
  • the dispersion medium may be reactive or non-reactive.
  • a monomer such as a (meth) acryloyl compound or an epoxy compound
  • examples of the (meth) acrylic compound include 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, EO-modified bisphenol A di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, and PO-modified bisphenol A di (meth) acrylate.
  • the (meth) acryloyl compound exemplified by the monomer described later may be used.
  • a ketone solvent such as methyl ethyl ketone (MEK), an alcohol solvent such as methanol (methanol), or an ester solvent such as propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA) may be used.
  • MEK methyl ethyl ketone
  • methanol methanol
  • PMEA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • the base resin and the inorganic oxide particles dispersed in the dispersion medium may be mixed, and then a part of the dispersion medium may be removed to prepare a resin composition.
  • the inorganic oxide particles dispersed in the dispersion medium exist in a dispersed state in the resin layer even after the resin composition is cured.
  • a reactive dispersion medium used, the inorganic oxide particles are mixed with the resin composition together with the dispersion medium and incorporated into the resin layer while maintaining the dispersed state.
  • a non-reactive dispersion medium used, at least a part of the dispersion medium volatilizes from the resin composition and disappears, but the inorganic oxide particles remain in the resin composition in a dispersed state and the cured resin layer. Also exists in a dispersed state.
  • the inorganic oxide particles existing in the resin layer are observed in a state in which the primary particles are dispersed when observed with an electron microscope.
  • the inorganic oxide particles are silicon dioxide (silica), zirconium dioxide (zirconia), aluminum oxide (alumina), magnesium oxide (alumina), the inorganic oxide particles are excellent in dispersibility in the resin composition and easily form a smooth resin layer. It is preferably at least one species from the group consisting of magnesia), titanium oxide (titania), tin oxide and zinc oxide. Hydrophobic silica particles are used as the inorganic oxide particles according to the present embodiment from the viewpoints of excellent low cost, easy surface treatment, ultraviolet transmission, and easy to impart appropriate hardness to the resin layer. It is more preferable to use it. It is more preferable to use silica particles having an ultraviolet curable functional group.
  • the average primary particle size of the inorganic oxide particles may be 500 nm or less, preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less, still more preferably 50 nm or less.
  • the average primary particle size of the inorganic oxide particles is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more.
  • the average primary particle size can be measured by, for example, image analysis of electron micrographs, a light scattering method, a BET method, or the like.
  • the dispersion medium in which the primary particles of the inorganic oxide are dispersed looks transparent visually when the particle size of the primary particles is small. When the particle size of the primary particles is relatively large (40 nm or more), the dispersion medium in which the primary particles are dispersed appears cloudy, but no sediment is observed.
  • the content of the inorganic oxide particles is preferably 1.5% by mass or more and less than 65% by mass, preferably 3% by mass or more and 63% by mass or less, based on the total amount of the resin composition (total amount of the base resin and the inorganic oxide particles). More preferably, it is 8% by mass or more and 60% by mass or less.
  • the content of the inorganic oxide particles is 1.5% by mass or more, the coefficient of linear expansion of the coating resin layer can be easily reduced.
  • the content of the inorganic oxide particles is less than 65% by mass, the coatability of the resin composition can be easily improved, and a tough resin layer can be formed. Since the total amount of the resin composition hardly changes with curing, the total amount of the resin composition may be considered as the total amount of the cured product of the resin composition.
  • the base resin according to the present embodiment contains an oligomer containing a urethane (meth) acrylate, a monomer, and a photopolymerization initiator.
  • urethane (meth) acrylate an oligomer obtained by reacting a polyol compound, a polyisocyanate compound and a hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound can be used.
  • polystyrene resin examples include polytetramethylene glycol, polypropylene glycol and bisphenol A / ethylene oxide-added diol.
  • the number average molecular weight of the polyol compound may be 400 or more and 1000 or less.
  • polyisocyanate compound examples include 2,4-tolylene diisocyanate, 2,6-tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate and dicyclohexylmethane 4,4'-diisocyanate.
  • Examples of the hydroxyl group-containing (meth) acrylate compound include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 1,6-hexanediol mono (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and the like. Examples thereof include 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and tripropylene glycol mono (meth) acrylate.
  • An organic tin compound is generally used as a catalyst for synthesizing urethane (meth) acrylate.
  • organotin compound examples include dibutyltin dilaurate, dibutyltin diacetate, dibutyltinmalate, dibutyltinbis (2-ethylhexyl mercaptoacetate), dibutyltinbis (isooctyl mercaptoacetate) and dibutyltin oxide. From the viewpoint of easy availability or catalytic performance, it is preferable to use dibutyltin dilaurate or dibutyltin diacetate as the catalyst.
  • a lower alcohol having 5 or less carbon atoms may be used when synthesizing urethane (meth) acrylate.
  • the lower alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-2-propanol, 1-pentanol, 2-pentanol, 3-pentanol, and the like. Examples thereof include 2-methyl-1-butanol, 3-methyl-1-butanol, 2-methyl-2-butanol, 3-methyl-2-butanol and 2,2-dimethyl-1-propanol.
  • the base resin may further contain an epoxy (meth) acrylate as an oligomer.
  • an epoxy (meth) acrylate an oligomer obtained by reacting an epoxy resin having two or more glycidyl groups with a compound having a (meth) acryloyl group can be used.
  • the monomer at least one selected from the group consisting of a monofunctional monomer having one polymerizable group and a polyfunctional monomer having two or more polymerizable groups can be used. Two or more kinds of monomers may be mixed and used.
  • Examples of the monofunctional monomer include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, and tert-butyl (meth) acrylate.
  • polyfunctional monomer examples include ethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and tripropylene glycol di (meth) acrylate.
  • Di (meth) acrylate of alkylene oxide adduct of bisphenol A tetraethylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate of hydroxypivalate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6 -Hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, 1,12-dodecanediol di (meth) acrylate, 1,14-tetradecanediol di (meth) acrylate, 1,16-hexadecane EO addition of diol di (meth) acrylate, 1,20-eicosane diol di (meth) acrylate, isopentyl diol di (meth) acrylate, 3-ethyl-1,8-octane diol di (meth) acrylate, bisphenol A
  • the monomer preferably contains a polyfunctional monomer, and more preferably contains a monomer having two polymerizable groups.
  • the photopolymerization initiator it can be appropriately selected from known radical photopolymerization initiators and used.
  • the photopolymerization initiator include 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (Omnirad 184, manufactured by IGM Resins), 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-.
  • Methylpropan-1-one bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propane-1 -On (Omnirad 907, manufactured by IGM Resins), 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (Omnirad TPO, manufactured by IGM Resins) and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphin oxide (Omnirad 819) , IGM Resins).
  • the resin composition may further contain a silane coupling agent, a leveling agent, an antifoaming agent, an antioxidant, a sensitizer and the like.
  • the silane coupling agent is not particularly limited as long as it does not interfere with the curing of the resin composition.
  • examples of the silane coupling agent include tetramethyl silicate, tetraethyl silicate, mercaptopropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris ( ⁇ -methoxy-ethoxy) silane, and ⁇ - (3,4-epylcyclohexyl).
  • -Ethyltrimethoxysilane dimethoxydimethylsilane, diethoxydimethylsilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, ⁇ -glycidoxypropyltrimethoxysilane, ⁇ -glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, ⁇ -methacryloxypropyl Trimethoxysilane, N- ( ⁇ -aminoethyl) - ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane, N- ( ⁇ -aminoethyl) - ⁇ -aminopropyltrimethyldimethoxysilane, N-phenyl- ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane, ⁇ -Chloropropyltrimethoxysilane, ⁇ -mercaptopropyltrimethoxysilane, ⁇ -aminopropyltrimethoxysilane, bis- [3- (triethoxysilyl) prop
  • the Young's modulus of the secondary resin layer is preferably 1200 MPa or more and 2800 MPa or less at 23 ° C., more preferably 1250 MPa or more and 2750 MPa or less, and further preferably 1300 MPa or more and 2700 MPa or less.
  • the Young's modulus of the secondary resin layer is 1200 MPa or more, the lateral pressure characteristics can be easily improved, and when it is 2800 MPa or less, appropriate toughness can be imparted to the secondary resin layer, so that the low temperature characteristics can be easily improved.
  • the primary resin layer 14 can be formed by curing, for example, a resin composition containing an oligomer containing a urethane (meth) acrylate, a monomer, a photopolymerization initiator, and a silane coupling agent.
  • a resin composition for the primary resin layer a conventionally known technique can be used.
  • the urethane (meth) acrylate, monomer, photopolymerization initiator and silane coupling agent may be appropriately selected from the compounds exemplified in the above base resin.
  • the resin composition forming the primary resin layer has a composition different from that of the base resin forming the secondary resin layer.
  • the Young's modulus of the primary resin layer is preferably 0.04 MPa or more and 1.0 MPa or less, and 0.05 MPa or more and 0.9 MPa or less at 23 ° C. Is more preferable, and 0.05 MPa or more and 0.8 MPa or less is further preferable.
  • Resin composition for secondary resin layer (Oligomer)
  • urethane acrylate (UA) obtained by reacting polypropylene glycol, 2,4-tolylene diisocyanate and hydroxyethyl acrylate having a molecular weight of 600 and epoxy acrylate (EA) were prepared.
  • Photopolymerization initiator As a photopolymerization initiator, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (Omnirad 184) and 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (Omnirad TPO) were prepared.
  • Inorganic oxide particles As the inorganic oxide particles, a silica sol having a methacryloyl group and hydrophobic silica particles having an average primary particle size of 10 to 15 nm dispersed in MEK was prepared.
  • oligomers and monomers are the contents based on the total amount of oligomers and monomers
  • numerical values of silica particles are the contents based on the total amount of the resin composition.
  • Resin composition for primary resin layer Urethane acrylate obtained by reacting polypropylene glycol, isophorone diisocyanate, hydroxyethyl acrylate and methanol having a molecular weight of 4000 was prepared. 75 parts by mass of this urethane acrylate, 12 parts by mass of nonylphenol EO modified acrylate, 6 parts by mass of N-vinylcaprolactam, 2 parts by mass of 1,6-hexanediol diacrylate, 1 part by mass of 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, And 1 part by mass of 3-mercaptopropyltrimethoxysilane were mixed to obtain a resin composition for the primary resin layer.
  • a primary resin layer having a thickness of 35 ⁇ m is formed on the outer periphery of a glass fiber having a diameter of 125 ⁇ m composed of a core and a clad using a resin composition for a primary resin layer, and a resin composition of an example or a comparative example is further formed on the outer periphery thereof.
  • An optical fiber was produced by forming a secondary resin layer having a thickness of 25 ⁇ m using a material. The line speed was 1500 m / min.
  • the Young's modulus of the primary resin layer was measured by the Pullout Modulus (POM) method at 23 ° C. Two points of the optical fiber are fixed by two chuck devices, the coating resin layer (primary resin layer and secondary resin layer) portion between the two chuck devices is removed, then one chuck device is fixed and the other. The chuck device was gently moved in the opposite direction of the fixed chuck device. The length of the part sandwiched between the moving chuck devices in the optical fiber is L, the moving amount of the chuck is Z, the outer diameter of the primary resin layer is Dp, the outer diameter of the glass fiber is Df, and the Poisson's ratio of the primary resin layer is n.
  • L The length of the part sandwiched between the moving chuck devices in the optical fiber
  • the moving amount of the chuck is Z
  • the outer diameter of the primary resin layer is Dp
  • the outer diameter of the glass fiber is Df
  • the Poisson's ratio of the primary resin layer is n.
  • the Young ratio of the primary resin layer was obtained from the following formula.
  • the Young's modulus of the primary resin layer was 0.2 MPa.
  • Young's modulus (MPa) ((1 + n) W / ⁇ LZ) ⁇ ln (Dp / Df)
  • the Young's modulus of the secondary resin layer is tensioned in an environment of 23 ⁇ 2 ° C. and 50 ⁇ 10% RH using a pipe-shaped coated resin layer (length: 50 mm or more) obtained by extracting the glass fiber from the optical fiber. A test (distance between marked lines: 25 mm) was performed, and the value was determined from the 2.5% score line value.
  • a 10 m optical fiber was stored at 85 ° C. under a humidity of 85% for 120 days, then placed at ⁇ 40 ° C. for 16 hours, and the presence or absence of voids having a diameter of 10 ⁇ m or more was observed under a microscope.
  • the case where the number of voids per 1 m of the optical fiber was less than 1 was evaluated as "A”
  • the case where the number of voids was 1 to 2 was evaluated as "B”
  • the case where the number of voids exceeded 2 was evaluated as "C”. ..
  • the transmission loss of light having a wavelength of 1550 nm when an optical fiber was wound in a single layer on a bobbin having a diameter of 280 mm covered with sandpaper was measured by an OTDR (Optical Time Domain Reflectometer) method. Further, the transmission loss of light having a wavelength of 1550 nm when the optical fiber was wound in a single layer on a bobbin having a diameter of 280 mm without sandpaper was measured by the OTDR method.
  • the difference in the measured transmission losses was obtained, and the case where the transmission loss difference was 0.6 dB / km or less was evaluated as the lateral pressure characteristic "A", and the case where the transmission loss difference was more than 0.6 dB / km was evaluated as the lateral pressure characteristic "B".
  • An optical fiber is wound around a glass bobbin with a tension of 50 g and is wound in a single layer, and the transmission characteristics of signal light having a wavelength of 1550 nm are measured under the respective temperature conditions of 23 ° C. and -40 ° C., and transmission at 23 ° C. and -40 ° C. I asked for a loss.
  • the transmission loss difference obtained by subtracting the transmission loss at 23 ° C from the transmission loss at -40 ° C is "A" when it is less than 0 dB, "B" when it is 0 dB or more and less than 0.01 dB / km, and 0.01 dB / km or more.

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Abstract

光ファイバは、コア及びクラッドを含むガラスファイバと、ガラスファイバの外周を被覆する被覆樹脂層とを備え、被覆樹脂層の－５０℃以上０℃以下における平均線膨張係数が、３．３×１０－５／℃以上９．０×１０－５／℃未満である。

Description

光ファイバ
　本開示は、光ファイバに関する。
　本出願は、２０１９年６月１８日出願の日本出願第２０１９－１１２６２１号に基づく優先権を主張し、前記日本出願に記載された全ての記載内容を援用するものである。
　一般に、光ファイバは、光伝送体であるガラスファイバを保護するための被覆樹脂層を有している。被覆樹脂層は、例えば、プライマリ樹脂層及びセカンダリ樹脂層から構成される。光ファイバに側圧が付与された際に発生する微小な曲げにより誘起される伝送損失の増加を小さくするために、光ファイバには側圧特性を向上することが求められている。
　例えば、特許文献１では、セカンダリ樹脂層（第二コーティング）のヤング率を高くすることで、光ファイバの曲げ損失を低減することが検討されている。
特表２００９－５１０５２０号公報
　本開示の一態様に係る光ファイバは、コア及びクラッドを含むガラスファイバと、ガラスファイバの外周を被覆する被覆樹脂層とを備え、被覆樹脂層の－５０℃以上０℃以下における平均線膨張係数が、３．３×１０－５／℃以上９．０×１０－５／℃未満である。
図１は本実施形態に係る光ファイバの一例を示す概略断面図である。
［本開示が解決しようとする課題］
　光ファイバは、様々な環境で使用されており、種々の環境耐性が必要とされる。特に、低温環境下で伝送損失が少ない光ファイバ、すなわち、低温特性に優れる光ファイバが求められている。側圧特性を向上するためには、セカンダリ樹脂層のヤング率を大きくすることが重要となるものの、セカンダリ樹脂層のヤング率を大きくするのみでは、低温環境下での伝送損失を低減することは難しい。
　本開示は、低温特性に優れる光ファイバを提供することを目的とする。
［本開示の効果］
　本開示によれば、低温特性に優れる光ファイバを提供することができる。
［本開示の実施形態の説明］
　最初に、本開示の実施形態の内容を列記して説明する。本開示の一態様に係る光ファイバは、コア及びクラッドを含むガラスファイバと、ガラスファイバの外周を被覆する被覆樹脂層とを備え、被覆樹脂層の－５０℃以上０℃以下における平均線膨張係数が、３．３×１０－５／℃以上９．０×１０－５／℃未満である。
　被覆樹脂層の平均線膨張係数を調整することで、光ファイバの低温特性を向上することができる。
　上記被覆樹脂層は、ガラスファイバに接して該ガラスファイバを被覆するプライマリ樹脂層と、プライマリ樹脂層の外周を被覆するセカンダリ樹脂層とを有し、セカンダリ樹脂層は、ウレタン（メタ）アクリレートを含むオリゴマー、モノマー及び光重合開始剤を含有するベース樹脂と、疎水性の無機酸化物粒子とを含む樹脂組成物の硬化物を含んでもよい。このようなセカンダリ樹脂を有することで、被覆樹脂層の線膨張係数を低減し、光ファイバの低温特性を向上し易くなる。
　ヤング率と線膨張係数とのバランスに優れるセカンダリ樹脂層を形成し易くなることから、無機酸化物粒子の含有量は、樹脂組成物の総量を基準として１．５質量％以上６５質量％未満であってもよい。
　樹脂組成物中での分散性に優れ、ヤング率を調整し易いことから、無機酸化物粒子は、二酸化ケイ素、二酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ及び酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種を含む粒子であってもよい。被覆樹脂層の線膨張係数を低減し易いことから、無機酸化物粒子は、紫外線硬化性の官能基を有していてもよい。ヤング率の高い樹脂層を形成し易いことから、紫外線硬化性の官能基は、（メタ）アクリロイル基であってもよい。
［本開示の実施形態の詳細］
　本実施形態に係る樹脂組成物及び光ファイバの具体例を、必要により図面を参照しつつ説明する。なお、本発明はこれらの例示に限定されず、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味及び範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。以下の説明では、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
＜光ファイバ＞
　図１は、本実施形態に係る光ファイバの一例を示す概略断面図である。光ファイバ１０は、コア１１及びクラッド１２を含むガラスファイバ１３と、ガラスファイバ１３の外周に設けられたプライマリ樹脂層１４及びセカンダリ樹脂層１５を含む被覆樹脂層１６とを備えている。
　クラッド１２はコア１１を取り囲んでいる。コア１１及びクラッド１２は石英ガラス等のガラスを主に含み、例えば、コア１１にはゲルマニウムを添加した石英ガラス、又は、純石英ガラスを用いることができ、クラッド１２には純石英ガラス、又は、フッ素が添加された石英ガラスを用いることができる。
　図１において、例えば、ガラスファイバ１３の外径（Ｄ２）は１００μｍから１２５μｍ程度であり、ガラスファイバ１３を構成するコア１１の直径（Ｄ１）は、７μｍから１５μｍ程度である。被覆樹脂層１６の厚さは、通常、２２μｍから７０μｍ程度である。プライマリ樹脂層１４及びセカンダリ樹脂層１５の各層の厚さは、５μｍから５０μｍ程度であってもよい。
　ガラスファイバ１３の外径（Ｄ２）が１２５μｍ程度で、被覆樹脂層１６の厚さが６０μｍ以上７０μｍ以下の場合、プライマリ樹脂層１４及びセカンダリ樹脂層１５の各層の厚さは、１０μｍから５０μｍ程度であってよく、例えば、プライマリ樹脂層１４の厚さが３５μｍで、セカンダリ樹脂層１５の厚さが２５μｍであってよい。光ファイバ１０の外径は、２４５μｍから２６５μｍ程度であってよい。
　ガラスファイバ１３の外径（Ｄ２）が１２５μｍ程度で、被覆樹脂層１６の厚さが２７μｍ以上４８μｍ以下の場合、プライマリ樹脂層１４及びセカンダリ樹脂層１５の各層の厚さは、１０μｍから３８μｍ程度であってよく、例えば、プライマリ樹脂層１４の厚さが２５μｍで、セカンダリ樹脂層１５の厚さが１０μｍであってよい。光ファイバ１０の外径は、１７９μｍから２２１μｍ程度であってよい。
　ガラスファイバ１３の外径（Ｄ２）が１００μｍ程度で、被覆樹脂層１６の厚さが２２μｍ以上３７μｍ以下の場合、プライマリ樹脂層１４及びセカンダリ樹脂層１５の各層の厚さは、５μｍから３２μｍ程度であってよく、例えば、プライマリ樹脂層１４の厚さが２５μｍで、セカンダリ樹脂層１５の厚さが１０μｍであってよい。光ファイバ１０の外径は、１４４μｍから１７４μｍ程度であってよい。
　光ファイバの低温特性を向上することから、被覆樹脂層１６の－５０℃以上０℃以下における平均線膨張係数は、３．３×１０－５／℃以上９．０×１０－５／℃未満であり、３．３×１０－５／℃以上８．９×１０－５／℃以下が好ましく、３．４×１０－５／℃以上８．５×１０－５／℃以下がより好ましく、３．５×１０－５／℃以上８．０×１０－５／℃以下が更に好ましい。
（セカンダリ樹脂層）
　被覆樹脂層の線膨張係数を低減し、光ファイバの低温特性を向上する観点から、セカンダリ樹脂層１５は、ウレタン（メタ）アクリレートを含むオリゴマー、モノマー及び光重合開始剤を含有するベース樹脂と、疎水性の無機酸化物粒子とを含む樹脂組成物を硬化させて形成することができる。すなわち、セカンダリ樹脂層１５は、ウレタン（メタ）アクリレートを含むオリゴマー、モノマー及び光重合開始剤を含有するベース樹脂と、疎水性の無機酸化物粒子とを含む樹脂組成物の硬化物を含んでよい。
　ここで、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。（メタ）アクリル酸等についても同様である。
（無機酸化物粒子）
　本実施形態に係る無機酸化物粒子は、球状の粒子であり、その表面が疎水処理されている。本実施形態に係る疎水処理とは、無機酸化物粒子の表面に疎水性の基が導入されていることをいう。疎水性の基が導入された無機酸化物粒子は、樹脂組成物中の分散性に優れている。疎水性の基は、（メタ）アクリロイル基等の反応性基（紫外線硬化性の官能基）、又は、脂肪族炭化水素基（例えば、アルキル基）、芳香族炭化水素基（例えば、フェニル基）等の非反応性基であってもよい。無機酸化物粒子が反応性基を有する場合、ヤング率が高い樹脂層を形成し易くなる。
　線膨張係数を低減した樹脂層を形成し易いことから、本実施形態に係る無機酸化物粒子は、紫外線硬化性の官能基を有してもよい。紫外線硬化性の官能基を有するシラン化合物で無機酸化物粒子を処理することで、無機酸化物粒子の表面に紫外線硬化性の官能基が導入することができる。
　紫外線硬化性の官能基を有するシラン化合物としては、例えば、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３－アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、８－メタクリロキシオクチルトリメトキシシラン、８－アクリロキシオクチルトリメトキシシラン、７－オクテニルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン及びビニルトリエトキシシランが挙げられる。
　本実施形態に係る無機酸化物粒子は、分散媒に分散されている。分散媒に分散された無機酸化物粒子を用いることで、樹脂組成物中に無機酸化物粒子を均一に分散でき、樹脂組成物の保存安定性を向上することができる。分散媒としては、樹脂組成物の硬化を阻害しなければ、特に限定されない。分散媒は、反応性であっても、非反応性であってもよい。
　反応性の分散媒として、（メタ）アクリロイル化合物、エポキシ化合物等のモノマーを用いてもよい。（メタ）アクリロイル化合物としては、例えば、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシ－３－フェノキシプロピルアクリレート、プロピレングリコールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、及びグリセリンジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物が挙げられる。分散媒として、後述するモノマーで例示する（メタ）アクリロイル化合物を用いてもよい。
　非反応性の分散媒として、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）等のケトン系溶媒、メタノール（ＭｅＯＨ）等のアルコール系溶媒、又は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）等のエステル系溶媒を用いてもよい。非反応性の分散媒の場合、ベース樹脂と分散媒に分散された無機酸化物粒子とを混合した後、分散媒の一部を除去して樹脂組成物を調製してもよい。
　分散媒に分散された無機酸化物粒子は、樹脂組成物の硬化後も樹脂層中に分散した状態で存在する。反応性の分散媒を使用した場合、無機酸化物粒子は樹脂組成物に分散媒ごと混合され、分散状態が維持されたまま樹脂層中に取り込まれる。非反応性の分散媒を使用した場合、分散媒は少なくともその一部が樹脂組成物から揮発して無くなるが、無機酸化物粒子は分散状態のまま樹脂組成物中に残り、硬化後の樹脂層にも分散した状態で存在する。樹脂層中に存在する無機酸化物粒子は、電子顕微鏡で観察した場合に、一次粒子が分散した状態で観察される。
　樹脂組成物中での分散性に優れ、平滑な樹脂層を形成し易いことから、上記無機酸化物粒子は、二酸化ケイ素（シリカ）、二酸化ジルコニウム（ジルコニア）、酸化アルミニウム（アルミナ）、酸化マグネシウム（マグネシア）、酸化チタン（チタニア）、酸化スズ及び酸化亜鉛からなる群より少なくとも１種であることが好ましい。廉価性に優れる、表面処理がし易い、紫外線透過性を有する、樹脂層に適度な硬さを付与し易い等の観点から、本実施形態に係る無機酸化物粒子として、疎水性のシリカ粒子を用いることがより好ましい。紫外線硬化性の官能基を有するシリカ粒子を用いることが更に好ましい。
　セカンダリ樹脂層に適度な靱性を付与する観点から、無機酸化物粒子の平均一次粒径は、５００ｎｍ以下であってもよく、２００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、５０ｎｍ以下が更に好ましい。セカンダリ樹脂層のヤング率を高くする観点から、無機酸化物粒子の平均一次粒径は、５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。平均一次粒径は、例えば、電子顕微鏡写真の画像解析、光散乱法、ＢＥＴ法等によって測定することができる。無機酸化物の一次粒子が分散された分散媒は、一次粒子の粒径が小さい場合は目視で透明に見える。一次粒子の粒径が比較的大きい（４０ｎｍ以上）場合は、一次粒子が分散された分散媒は白濁して見えるが沈降物は観察されない。
　無機酸化物粒子の含有量は、樹脂組成物の総量（ベース樹脂及び無機酸化物粒子の総量）を基準として１．５質量％以上６５質量％未満が好ましく、３質量％以上６３質量％以下がより好ましく、８質量％以上６０質量％以下が更に好ましい。無機酸化物粒子の含有量が１．５質量％以上であると、被覆樹脂層の線膨張係数を低減し易くなる。無機酸化物粒子の含有量が６５質量％未満であると、樹脂組成物の塗布性を向上し易くなり、強靱な樹脂層を形成することができる。なお、樹脂組成物の総量は硬化によりほとんど変化しないため、樹脂組成物の総量は樹脂組成物の硬化物の総量と考えてもよい。
（ベース樹脂）
　本実施形態に係るベース樹脂は、ウレタン（メタ）アクリレートを含むオリゴマー、モノマー及び光重合開始剤を含有する。
　ウレタン（メタ）アクリレートとしては、ポリオール化合物、ポリイソシアネート化合物及び水酸基含有（メタ）アクリレート化合物を反応させて得られるオリゴマーを用いることができる。
　ポリオール化合物としては、例えば、ポリテトラメチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びビスフェノールＡ・エチレンオキサイド付加ジオールが挙げられる。ポリオール化合物の数平均分子量は、４００以上１０００以下であってもよい。ポリイソシアネート化合物としては、例えば、２，４－トリレンジイソシアネート、２，６－トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート及びジシクロヘキシルメタン４，４’－ジイソシアナートが挙げられる。水酸基含有（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート及びトリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートが挙げられる。
　ウレタン（メタ）アクリレートを合成する際の触媒として、一般に有機スズ化合物が使用される。有機スズ化合物としては、例えば、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズマレート、ジブチルスズビス（メルカプト酢酸２－エチルヘキシル）、ジブチルスズビス（メルカプト酢酸イソオクチル）及びジブチルスズオキシドが挙げられる。易入手性又は触媒性能の点から、触媒としてジブチルスズジラウレート又はジブチルスズジアセテートを使用することが好ましい。
　ウレタン（メタ）アクリレートの合成時に炭素数５以下の低級アルコールを使用してもよい。低級アルコールとしては、例えば、メタノール、エタノール、１－プロパノール、２－プロパノール、１－ブタノール、２－ブタノール、２－メチル－２－プロパノール、１－ペンタノール、２－ペンタノール、３－ペンタノール、２－メチル－１－ブタノール、３－メチル－１－ブタノール、２－メチル－２－ブタノール、３－メチル－２－ブタノール及び２，２－ジメチル－１－プロパノールが挙げられる。
　ベース樹脂は、オリゴマーとして、エポキシ（メタ）アクリレートを更に含んでもよい。エポキシ（メタ）アクリレートとしては、グリシジル基を２以上有するエポキシ樹脂に（メタ）アクリロイル基を有する化合物を反応させて得られるオリゴマーを用いることができる。
　モノマーとしては、重合性基を１つ有する単官能モノマー、及び重合性基を２つ以上有する多官能モノマーからなる群より選ばれる少なくとも１種を用いることができる。モノマーは、２種以上を混合して用いてもよい。
　単官能モノマーとしては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、ｓ－ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｎ－ペンチル（メタ）アクリレート、イソペンチル（メタ）アクリレート、へキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ－オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２－フェノキシエチル（メタ）アクリレート、３－フェノキシベンジルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、４－ｔｅｒｔ－ブチルシクロヘキサノールアクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ノニルフェノールポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート系モノマー；（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、カルボキシエチル（メタ）アクリレート、カルボキシペンチル（メタ）アクリレート、ω－カルボキシ－ポリカプロラクトン（メタ）アクリレート等のカルボキシル基含有モノマー；Ｎ－（メタ）アクリロイルモルホリン、Ｎ－ビニルピロリドン、Ｎ－ビニルカプロラクタム、Ｎ－アクリロイルピペリジン、Ｎ－メタクリロイルピペリジン、Ｎ－（メタ）アクリロイルピロリジン、３－（３－ピリジン）プロピル（メタ）アクリレート、環状トリメチロールプロパンホルマールアクリレート等の複素環含有モノマー；マレイミド、Ｎ－シクロへキシルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド等のマレイミド系モノマー；（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ヘキシル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロールプロパン（メタ）アクリルアミド等のアミド系モノマー；（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸アミノプロピル、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ－ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ｔｅｒｔ－ブチルアミノエチル等の（メタ）アクリル酸アミノアルキル系モノマー；Ｎ－（メタ）アクリロイルオキシメチレンスクシンイミド、Ｎ－（メタ）アクリロイル－６－オキシヘキサメチレンスクシンイミド、Ｎ－（メタ）アクリロイル－８－オキシオクタメチレンスクシンイミド等のスクシンイミド系モノマーが挙げられる。
　多官能モノマーとしては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのアルキレンオキシド付加物のジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９－ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１２－ドデカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１４－テトラデカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１６－ヘキサデカンジオールジ（メタ）アクリレート、１，２０－エイコサンジオールジ（メタ）アクリレート、イソペンチルジオールジ（メタ）アクリレート、３－エチル－１，８－オクタンジオールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのＥＯ付加物ジ（メタ）アクリレート等の重合性基を２つ有するモノマー；及びトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールオクタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンポリエトキシポリプロポキシトリ（メタ）アクリレート、トリス［（メタ）アクリロイルオキシエチル］イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールポリエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールポリプロポキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリス［（メタ）アクリロイルオキシエチル］イソシアヌレート等の重合性基を３つ以上有するモノマーが挙げられる。
　樹脂層のヤング率を高める観点から、モノマーは、多官能モノマーを含むことが好ましく、重合性基を２つ有するモノマーを含むことがより好ましい。
　光重合開始剤としては、公知のラジカル光重合開始剤の中から適宜選択して使用することができる。光重合開始剤として、例えば、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社製）、２，２－ジメトキシ－２－フェニルアセトフェノン、１－（４－イソプロピルフェニル）－２－ヒドロキシ－２－メチルプロパン－１－オン、ビス（２，６－ジメトキシベンゾイル）－２，４，４－トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、２－メチル－１－［４－（メチルチオ）フェニル］－２－モルホリノ－プロパン－１－オン（Ｏｍｎｉｒａｄ　９０７、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社製）、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド（Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社製）及びビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（Ｏｍｎｉｒａｄ　８１９、ＩＧＭ　Ｒｅｓｉｎｓ社製）が挙げられる。
　樹脂組成物は、シランカップリング剤、レベリング剤、消泡剤、酸化防止剤、増感剤等を更に含有してもよい。
　シランカップリング剤としては、樹脂組成物の硬化の妨げにならなければ、特に限定されない。シランカップリング剤として、例えば、テトラメチルシリケート、テトラエチルシリケート、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β－メトキシ－エトキシ）シラン、β－（３，４－エポキシシクロヘキシル）－エチルトリメトキシシラン、ジメトキシジメチルシラン、ジエトキシジメチルシラン、３－アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（β－アミノエチル）－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ－（β－アミノエチル）－γ－アミノプロピルトリメチルジメトキシシラン、Ｎ－フェニル－γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、γ－クロロプロピルトリメトキシシラン、γ－メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ－アミノプロピルトリメトキシシラン、ビス－［３－（トリエトキシシリル）プロピル］テトラスルフィド、ビス－［３－（トリエトキシシリル）プロピル］ジスルフィド、γ－トリメトキシシリルプロピルジメチルチオカルバミルテトラスルフィド及びγ－トリメトキシシリルプロピルベンゾチアジルテトラスルフィドが挙げられる。
　セカンダリ樹脂層のヤング率は、２３℃で１２００ＭＰａ以上２８００ＭＰａ以下であることが好ましく、１２５０ＭＰａ以上２７５０ＭＰａ以下がより好ましく、１３００ＭＰａ以上２７００ＭＰａ以下が更に好ましい。セカンダリ樹脂層のヤング率が１２００ＭＰａ以上であると、側圧特性を向上し易く、２８００ＭＰａ以下であると、セカンダリ樹脂層に適度な靱性を付与できるため、低温特性を向上し易くなる。
（プライマリ樹脂層）
　プライマリ樹脂層１４は、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートを含むオリゴマー、モノマー、光重合開始剤及びシランカップリング剤を含む樹脂組成物を硬化させて形成することができる。プライマリ樹脂層用の樹脂組成物は、従来公知の技術を用いることができる。ウレタン（メタ）アクリレート、モノマー、光重合開始剤及びシランカップリング剤としては、上記ベース樹脂で例示した化合物から適宜、選択してもよい。ただし、プライマリ樹脂層を形成する樹脂組成物は、セカンダリ樹脂層を形成するベース樹脂とは異なる組成を有している。
　光ファイバにボイドが発生することを抑制する観点から、プライマリ樹脂層のヤング率は、２３℃で０．０４ＭＰａ以上１．０ＭＰａ以下であることが好ましく、０．０５ＭＰａ以上０．９ＭＰａ以下であることがより好ましく、０．０５ＭＰａ以上０．８ＭＰａ以下であることが更に好ましい。
　以下、本開示に係る実施例及び比較例を用いた評価試験の結果を示し、本開示を更に詳細に説明する。なお、本発明はこれら実施例に限定されない。
［セカンダリ樹脂層用の樹脂組成物］
（オリゴマー）
　オリゴマーとして、分子量６００のポリプロピレングリコール、２，４－トリレンジイソシアネート及びヒドロキシエチルアクリレートを反応させることにより得られたウレタンアクリレート（ＵＡ）と、エポキシアクリレート（ＥＡ）とを準備した。
（モノマー）
　モノマーとして、イソボルニルアクリレート（大阪有機化学工業株式会社の商品名「ＩＢＸＡ」）トリプロピレングリコールジアクリレート（ダイセル・オルネクス株式会社の商品名「ＴＰＧＤＡ」）及び２－フェノキシエチルアクリレート（共栄社化学株式会社の商品名「ライトアクリレートＰＯ－Ａ」）を準備した。
（光重合開始剤）
　光重合開始剤として、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ｏｍｎｉｒａｄ　１８４）及び２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド（Ｏｍｎｉｒａｄ　ＴＰＯ）を準備した。
（無機酸化物粒子）
　無機酸化物粒子として、メタクリロイル基を有し、平均一次粒径が１０～１５ｎｍである疎水性シリカ粒子がＭＥＫに分散されたシリカゾルを準備した。
（樹脂組成物）
　まず、上記オリゴマー、モノマー及び光重合開始剤を混合して、ベース樹脂を調製した。次いで、表１又は表２に示すシリカ粒子の含有量となるように、シリカゾルをベース樹脂と混合した後、分散媒であるＭＥＫの大部分を減圧除去して、セカンダリ樹脂層用の樹脂組成物をそれぞれ作製した。なお、樹脂組成物中に残存しているＭＥＫの含有量は、５質量％以下であった。
　表１及び２において、オリゴマー及びモノマーの数値は、オリゴマー及びモノマーの総量を基準とする含有量であり、シリカ粒子の数値は、樹脂組成物の総量を基準とする含有量である。
［プライマリ樹脂層用の樹脂組成物］
　分子量４０００のポリプロピレングリコール、イソホロンジイソシアネート、ヒドロキシエチルアクリレート及びメタノールを反応させることにより得られるウレタンアクリレートを準備した。このウレタンアクリレート７５質量部、ノニルフェノールＥＯ変性アクリレート１２質量部、Ｎ－ビニルカプロラクタム６質量部、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート２質量部、２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド１質量部、及び３－メルカプトプロピルトリメトキシシラン１質量部を混合して、プライマリ樹脂層用の樹脂組成物を得た。
［光ファイバの作製］
　コア及びクラッドから構成される直径１２５μｍのガラスファイバの外周に、プライマリ樹脂層用の樹脂組成物を用いて厚さ３５μｍのプライマリ樹脂層を形成し、更にその外周に実施例又は比較例の樹脂組成物を用いて厚さ２５μｍのセカンダリ樹脂層を形成して、光ファイバを作製した。線速は１５００ｍ／分とした。
（プライマリ樹脂層のヤング率）
　プライマリ樹脂層のヤング率は、２３℃でのＰｕｌｌｏｕｔ　Ｍｏｄｕｌｕｓ（ＰＯＭ）法により測定した。光ファイバの２箇所を２つのチャック装置で固定し、２つのチャック装置の間の被覆樹脂層（プライマリ樹脂層及びセカンダリ樹脂層）部分を除去し、次いで、一方のチャック装置を固定し、他方のチャック装置を固定したチャック装置の反対方向に緩やかに移動させた。光ファイバにおける移動させるチャック装置に挟まれている部分の長さをＬ、チャックの移動量をＺ、プライマリ樹脂層の外径をＤｐ、ガラスファイバの外径をＤｆ、プライマリ樹脂層のポアソン比をｎ、チャック装置の移動時の荷重をＷとした場合、下記式からプライマリ樹脂層のヤング率を求めた。プライマリ樹脂層のヤング率は、０．２ＭＰａであった。
　ヤング率（ＭＰａ）＝（（１＋ｎ）Ｗ／πＬＺ）×ｌｎ（Ｄｐ／Ｄｆ）
（セカンダリ樹脂層のヤング率）
　セカンダリ樹脂層のヤング率は、光ファイバからガラスファイバを抜き取って得られるパイプ状の被覆樹脂層（長さ：５０ｍｍ以上）を用いて、２３±２℃、５０±１０％ＲＨの環境下で引張試験（標線間距離：２５ｍｍ）を行い、２．５％割線値から求めた。
（線膨張係数）
　光ファイバからガラスファイバを抜き取って得られるパイプ状の被覆樹脂層を、線膨張係数測定用の試料とした。熱機械分析装置（ブルカー　ＡＸＳ社製の「ＴＭＡ４０００Ｓ」）を用いて、被覆樹脂層の線膨張係数を下記条件で測定した。温度Ｔ（℃）のデータはＴ℃からＴ℃＋１０℃まで１℃刻みで測定して平均化し、１０℃の間隔でデータとして算出し、下記温度範囲で３サイクル測定を行い、３サイクル分の温度範囲の平均値から－５０℃～０℃の平均線膨張係数を算出した。
温度範囲　：－５０℃～０℃
昇温速度　：５℃／分
雰囲気　　：空気
測定長さ　：約１５ｍｍ
測定モード：引張法
張力　　　：０．０１５Ｎ
（ボイドの発生）
　１０ｍの光ファイバを８５℃で湿度８５％の条件下で１２０日間保管した後、－４０℃に１６時間置いて、直径１０μｍ以上のボイドの有無を顕微鏡で観察した。光ファイバ１ｍ当たりのボイドの数が１個未満の場合を「Ａ」、ボイドの数が１～２個の場合を「Ｂ」、ボイドの数が２個を超える場合を「Ｃ」と評価した。
（側圧特性）
　サンドペーパーで表面を覆った２８０ｍｍ径のボビンに、光ファイバを単層状に巻き付けた時の１５５０ｎｍの波長の光の伝送損失を、ＯＴＤＲ（Ｏｐｔｉｃａｌ　Ｔｉｍｅ　Ｄｏｍａｉｎ　Ｒｅｆｌｅｃｔｏｍｅｔｅｒ）法により測定した。また、サンドペーパーのない２８０ｍｍ径のボビンに、光ファイバを単層状に巻き付けた時の１５５０ｎｍの波長の光の伝送損失を、ＯＴＤＲ法により測定した。測定した伝送損失の差を求め、伝送損失差が０．６ｄＢ／ｋｍ以下の場合を側圧特性「Ａ」、伝送損失差が０．６ｄＢ／ｋｍ超の場合を側圧特性「Ｂ」と評価した。
（低温特性）
　ガラスボビンに張力５０ｇで一層巻に光ファイバを巻き付け、２３℃及び－４０℃のそれぞれの温度条件下で、波長１５５０ｎｍの信号光の伝送特性を測定し、２３℃と－４０℃とでの伝送損失を求めた。－４０℃での伝送損失から２３℃での伝送損失を引いた伝送損失差が０ｄＢ未満を「Ａ」、０ｄＢ以上０．０１ｄＢ／ｋｍ未満の場合を「Ｂ」、０．０１ｄＢ／ｋｍ以上の場合を「Ｃ」と評価した。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　１０　光ファイバ
　１１　コア
　１２　クラッド
　１３　ガラスファイバ
　１４　プライマリ樹脂層
　１５　セカンダリ樹脂層
　１６　被覆樹脂層

Claims (7)

  1. 　コア及びクラッドを含むガラスファイバと、前記ガラスファイバの外周を被覆する被覆樹脂層とを備え、
    　前記被覆樹脂層の－５０℃以上０℃以下における平均線膨張係数が、３．３×１０－５／℃以上９．０×１０－５／℃未満である、光ファイバ。
  2. 　前記被覆樹脂層が、前記ガラスファイバに接して前記ガラスファイバを被覆するプライマリ樹脂層と、前記プライマリ樹脂層の外周を被覆するセカンダリ樹脂層とを有し、
    　前記セカンダリ樹脂層が、ウレタン（メタ）アクリレートを含むオリゴマー、モノマー及び光重合開始剤を含有するベース樹脂と、疎水性の無機酸化物粒子とを含む樹脂組成物の硬化物を含む、請求項１に記載の光ファイバ。
  3. 　前記無機酸化物粒子の含有量が、前記樹脂組成物の総量を基準として１．５質量％以上６５質量％未満である、請求項２に記載の光ファイバ。
  4. 　前記無機酸化物粒子の含有量が、前記樹脂組成物の総量を基準として８質量％以上６０質量％以下である、請求項３に記載の光ファイバ。
  5. 　前記無機酸化物粒子が、二酸化ケイ素、二酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ及び酸化亜鉛からなる群より選ばれる少なくとも１種である、請求項２から請求項４のいずれか一項に記載の光ファイバ。
  6. 　前記無機酸化物粒子が、紫外線硬化性の官能基を有する、請求項２から請求項５のいずれか一項に記載の光ファイバ。
  7. 　前記紫外線硬化性の官能基が、（メタ）アクリロイル基である、請求項６に記載の光ファイバ。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023210505A1 (ja) * 2022-04-26 2023-11-02 株式会社フジクラ 光ファイバ素線、および光ファイバリボンの製造方法
WO2025121330A1 (ja) * 2023-12-04 2025-06-12 住友電気工業株式会社 反共振中空コア光ファイバ

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102765409B1 (ko) * 2019-06-18 2025-02-07 스미토모 덴키 고교 가부시키가이샤 광파이버
JP7757664B2 (ja) * 2021-08-31 2025-10-22 住友電気工業株式会社 光ファイバ
JP2024110717A (ja) * 2023-02-03 2024-08-16 住友電気工業株式会社 光ファイバ

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0269706A (ja) * 1988-09-06 1990-03-08 Sumitomo Electric Ind Ltd 被覆光ファイバ
JP2000007717A (ja) * 1998-06-19 2000-01-11 Takeda Chem Ind Ltd 紫外線硬化型樹脂組成物
JP2004204206A (ja) * 2002-03-29 2004-07-22 Mitsubishi Chemicals Corp 光硬化性組成物及びその製造方法、並びに硬化物
JP2009510520A (ja) 2005-09-30 2009-03-12 コーニング インコーポレイテッド 低曲げ損失光ファイバ
JP2010511770A (ja) * 2006-12-05 2010-04-15 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． 放射線硬化性被覆組成物
US20120321265A1 (en) * 2009-11-26 2012-12-20 Lidia Terruzzi Optical fiber with double coating
WO2019116967A1 (ja) * 2017-12-11 2019-06-20 住友電気工業株式会社 樹脂組成物及び光ファイバ
JP2019112621A (ja) 2017-12-25 2019-07-11 日本化薬株式会社 ディスプレイ用封止剤

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4525026A (en) * 1982-11-19 1985-06-25 Aetna Telecommunications Laboratories Optical fiber protection by powder filled coatings
US6075065A (en) * 1996-12-20 2000-06-13 Takeda Chemical Industries, Ltd. Photocurable resin composition and a method for producing the same
JP2001100067A (ja) * 1999-09-28 2001-04-13 Sumitomo Electric Ind Ltd 光ファイバテープ心線及び光ファイバケーブル
JP4134724B2 (ja) * 2001-02-20 2008-08-20 住友電気工業株式会社 被覆光ファイバ、これを用いた光ファイバテープ心線及び光ファイバユニット
US7542644B2 (en) * 2003-02-20 2009-06-02 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Coated optical fiber and coated optical fiber with connector
US20120020106A1 (en) * 2009-03-23 2012-01-26 Cabot Corporation particle containing a hydrophobic region and a hydrophilic region and methods to make same
JP5041450B2 (ja) * 2010-11-24 2012-10-03 古河電気工業株式会社 光ファイバ着色心線
US9304231B2 (en) * 2014-02-04 2016-04-05 Kraton Polymers U.S. Llc Heat fusible oil gels
JP6245015B2 (ja) * 2014-03-24 2017-12-13 住友電気工業株式会社 光ファイバ
US10347460B2 (en) * 2017-03-01 2019-07-09 Dongfang Jingyuan Electron Limited Patterned substrate imaging using multiple electron beams
JP2019077605A (ja) * 2017-10-26 2019-05-23 住友電気工業株式会社 紫外線硬化型樹脂組成物及び光ファイバ
TWI814811B (zh) * 2018-04-16 2023-09-11 日商住友電氣工業股份有限公司 光纖

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0269706A (ja) * 1988-09-06 1990-03-08 Sumitomo Electric Ind Ltd 被覆光ファイバ
JP2000007717A (ja) * 1998-06-19 2000-01-11 Takeda Chem Ind Ltd 紫外線硬化型樹脂組成物
JP2004204206A (ja) * 2002-03-29 2004-07-22 Mitsubishi Chemicals Corp 光硬化性組成物及びその製造方法、並びに硬化物
JP2009510520A (ja) 2005-09-30 2009-03-12 コーニング インコーポレイテッド 低曲げ損失光ファイバ
JP2010511770A (ja) * 2006-12-05 2010-04-15 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． 放射線硬化性被覆組成物
US20120321265A1 (en) * 2009-11-26 2012-12-20 Lidia Terruzzi Optical fiber with double coating
WO2019116967A1 (ja) * 2017-12-11 2019-06-20 住友電気工業株式会社 樹脂組成物及び光ファイバ
JP2019112621A (ja) 2017-12-25 2019-07-11 日本化薬株式会社 ディスプレイ用封止剤

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP3988590A4
SHIUE, J. ET AL.: "Effects of silica nanoparticle addition to the secondary coating of dual-coated optical fibers", ACTA MATERIALIA, vol. 54, no. 10, June 2006 (2006-06-01), pages 2631 - 2636, XP027889775 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023210505A1 (ja) * 2022-04-26 2023-11-02 株式会社フジクラ 光ファイバ素線、および光ファイバリボンの製造方法
WO2025121330A1 (ja) * 2023-12-04 2025-06-12 住友電気工業株式会社 反共振中空コア光ファイバ

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