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WO2020071505A1 - 排水から含フッ素化合物を除去する方法 - Google Patents

排水から含フッ素化合物を除去する方法

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Publication number
WO2020071505A1
WO2020071505A1 PCT/JP2019/039190 JP2019039190W WO2020071505A1 WO 2020071505 A1 WO2020071505 A1 WO 2020071505A1 JP 2019039190 W JP2019039190 W JP 2019039190W WO 2020071505 A1 WO2020071505 A1 WO 2020071505A1
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WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
ppm
fluorine
wastewater
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2019/039190
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English (en)
French (fr)
Inventor
平良　隆博
林　忠雄
千亜紀 奥井
領 畠山
道宣 小泉
丈人 加藤
田中　勇次
裕俊 吉田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daikin Industries Ltd
Original Assignee
Daikin Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Daikin Industries Ltd filed Critical Daikin Industries Ltd
Priority to US17/280,972 priority Critical patent/US12030790B2/en
Priority to EP19869375.6A priority patent/EP3862324B1/en
Priority to CN201980062790.7A priority patent/CN112771006A/zh
Priority to JP2020551086A priority patent/JP7216304B2/ja
Priority to EP24211738.0A priority patent/EP4484404A3/en
Publication of WO2020071505A1 publication Critical patent/WO2020071505A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Priority to JP2022187532A priority patent/JP7485978B2/ja
Priority to US18/648,761 priority patent/US12371349B2/en
Ceased legal-status Critical Current

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    • C02F2305/08—Nanoparticles or nanotubes

Definitions

  • the present disclosure relates to a method for removing a fluorine-containing compound from wastewater.
  • fluorinated anionic surfactants When producing fluoropolymers by emulsion polymerization, fluorinated anionic surfactants have been used. Recently, use of a hydrocarbon-based surfactant instead of the fluorinated anionic surfactant has been proposed (for example, see Patent Documents 1 to 3).
  • the present disclosure provides a method for removing a fluorine-containing compound from wastewater, which can efficiently remove two or more specific fluorine-containing compounds from wastewater.
  • the present disclosure relates to adsorbing two or more types of fluorine-containing compounds by contacting an adsorbent with a wastewater containing two or more types of fluorine-containing compounds represented by the following general formula (1) or (2).
  • a method for removing a fluorine-containing compound from wastewater which comprises an adsorption step (hereinafter, sometimes simply referred to as “removal method of the present disclosure”).
  • M 2 is H, a metal atom, NR b 4 (R b is the same as described above), imidazolium which may have a substituent, and a substituent. Is pyridinium which may be substituted, or phosphonium which may have a substituent. Q is 1 or 2.
  • the wastewater preferably contains the wastewater obtained in a fluoropolymer production step using a hydrocarbon-based surfactant.
  • the wastewater further contains a hydrocarbon-based surfactant.
  • the hydrocarbon-based surfactant is preferably a carboxylic acid-type hydrocarbon-based surfactant.
  • the adsorbent is preferably at least one selected from the group consisting of an ion exchange resin, activated carbon, a synthetic adsorbent, silica gel, clay, and zeolite.
  • the adsorbent is an ion exchange resin or a synthetic adsorbent, and preferably has a pore diameter of 1 to 5000 °.
  • the adsorbent is activated carbon, and preferably has a specific surface area of 500 m 2 / g or more.
  • the temperature in the adsorption step is preferably 0 to 50 ° C.
  • the removal rate of the fluorine-containing compound in the adsorption step is preferably 40% or more.
  • the method of removing a fluorine-containing compound from wastewater according to the present disclosure preferably further includes, before the adsorption step, a pretreatment step of removing solid components from the wastewater.
  • the fluorine-containing compound preferably contains at least a fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 7 or more or a fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 8 or more.
  • the removal method of the present disclosure has the above configuration, it is possible to efficiently remove two or more specific fluorine-containing compounds from wastewater.
  • the “organic group” means a group containing one or more carbon atoms or a group formed by removing one hydrogen atom from an organic compound.
  • Examples of the "organic group” include: An alkyl group optionally having one or more substituents, An alkenyl group optionally having one or more substituents, An alkynyl group optionally having one or more substituents, A cycloalkyl group optionally having one or more substituents, A cycloalkenyl group optionally having one or more substituents, A cycloalkadienyl group optionally having one or more substituents, An aryl group optionally having one or more substituents, An aralkyl group optionally having one or more substituents, A non-aromatic heterocyclic group optionally having one or more substituents, A heteroaryl group optionally having one or more substituents, Cyano group, Formyl group, RaO-, RaCO-, RaSO 2- , RaCOO
  • an alkyl group which may have one or more substituents is preferable.
  • substituted means a substitutable group. Examples of the "substituent” include an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an acyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an aliphatic oxy group, an aromatic oxy group, a heterocyclic oxy group, and an aliphatic oxycarbonyl group.
  • the aliphatic group may be saturated or unsaturated, and may have a hydroxy group, an aliphatic oxy group, a carbamoyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aliphatic thio group, an amino group, or an aliphatic amino group.
  • the aliphatic group include an alkyl group having 1 to 8, preferably 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group, an ethyl group, a vinyl group, a cyclohexyl group, and a carbamoylmethyl group.
  • aromatic group examples include a nitro group, a halogen atom, an aliphatic oxy group, a carbamoyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aliphatic thio group, an amino group, an aliphatic amino group, an acylamino group, and a carbamoylamino group. It may be.
  • aromatic group examples include aryl groups having 6 to 12 carbon atoms, preferably 6 to 10 carbon atoms, such as phenyl, 4-nitrophenyl, 4-acetylaminophenyl, and 4-methanesulfonylphenyl. And the like.
  • the heterocyclic group has a halogen atom, a hydroxy group, an aliphatic oxy group, a carbamoyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aliphatic thio group, an amino group, an aliphatic amino group, an acylamino group, a carbamoylamino group, and the like. You may.
  • Examples of the heterocyclic group include a 5- to 6-membered heterocyclic ring having a total of 2 to 12, preferably 2 to 10, carbon atoms, such as a 2-tetrahydrofuryl group and a 2-pyrimidyl group.
  • the acyl group is an aliphatic carbonyl group, an arylcarbonyl group, a heterocyclic carbonyl group, a hydroxy group, a halogen atom, an aromatic group, an aliphatic oxy group, a carbamoyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aliphatic thio group, or an amino group.
  • the acyl group include acyl groups having 2 to 8 carbon atoms, preferably 2 to 4 carbon atoms, such as acetyl, propanoyl, benzoyl, and 3-pyridinecarbonyl.
  • the acylamino group may have an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group and the like, for example, has an acetylamino group, a benzoylamino group, a 2-pyridinecarbonylamino group, a propanoylamino group and the like. May be.
  • the acylamino group include acylamino groups having 2 to 12 carbon atoms, preferably 2 to 8 carbon atoms, alkylcarbonylamino groups having 2 to 8 carbon atoms, such as acetylamino group, benzoylamino group and 2-pyridinecarbonylamino. Group, propanoylamino group and the like.
  • the aliphatic oxycarbonyl group may be saturated or unsaturated, and may be a hydroxy group, an aliphatic oxy group, a carbamoyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aliphatic thio group, an amino group, an aliphatic group. It may have an amino group, an acylamino group, a carbamoylamino group and the like.
  • Examples of the aliphatic oxycarbonyl group include an alkoxycarbonyl group having 2 to 8, preferably 2 to 4 carbon atoms, such as a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, and a (t) -butoxycarbonyl group.
  • the carbamoyl group may have an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, and the like.
  • Examples of the carbamoyl group include an unsubstituted carbamoyl group, an alkylcarbamoyl group having a total of 2 to 9 carbon atoms, preferably an unsubstituted carbamoyl group, an alkylcarbamoyl group having a total of 2 to 5 carbon atoms, for example, an N-methylcarbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group and the like can be mentioned.
  • the aliphatic sulfonyl group may be saturated or unsaturated, and may have a hydroxy group, an aromatic group, an aliphatic oxy group, a carbamoyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aliphatic thio group, or an amino group.
  • Examples of the aliphatic sulfonyl group include an alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms, such as a methanesulfonyl group.
  • the aromatic sulfonyl group includes a hydroxy group, an aliphatic group, an aliphatic oxy group, a carbamoyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aliphatic thio group, an amino group, an aliphatic amino group, an acylamino group, a carbamoylamino group, and the like. It may be.
  • the aromatic sulfonyl group include an arylsulfonyl group having 6 to 10 carbon atoms, such as benzenesulfonyl.
  • the amino group may have an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, and the like.
  • the acylamino group may have, for example, an acetylamino group, a benzoylamino group, a 2-pyridinecarbonylamino group, a propanoylamino group, and the like.
  • the acylamino group is preferably an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms, preferably 2 to 8 carbon atoms, more preferably an alkylcarbonylamino group having 2 to 8 carbon atoms, for example, acetylamino group, benzoylamino. Group, 2-pyridinecarbonylamino group, propanoylamino group and the like.
  • the aliphatic sulfonamide group, aromatic sulfonamide group, and heterocyclic sulfonamide group may be, for example, a methanesulfonamide group, a benzenesulfonamide group, a 2-pyridinesulfonamide group, or the like.
  • the sulfamoyl group may have an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, and the like.
  • sulfamoyl group examples include a sulfamoyl group, an alkylsulfamoyl group having 1 to 9 carbon atoms, a dialkylsulfamoyl group having 2 to 10 carbon atoms, and an arylsulfamoyl group having 7 to 13 carbon atoms.
  • the aliphatic oxy group may be saturated or unsaturated, and may have a methoxy group, an ethoxy group, an i-propyloxy group, a cyclohexyloxy group, a methoxyethoxy group, or the like.
  • Examples of the aliphatic oxy group include an alkoxy group having 1 to 8, preferably 1 to 6, carbon atoms, such as a methoxy group, an ethoxy group, an i-propyloxy group, a cyclohexyloxy group, and a methoxyethoxy group.
  • the aromatic amino group and the heterocyclic amino group are an aliphatic group, an aliphatic oxy group, a halogen atom, a carbamoyl group, a heterocyclic group fused with the aryl group, an aliphatic oxycarbonyl group, and preferably a total number of carbon atoms.
  • the aliphatic thio group may be saturated or unsaturated, and is an alkylthio group having 1 to 8 carbon atoms, more preferably 1 to 6 carbon atoms, such as a methylthio group and an ethylthio group. Carbamoylmethylthio group, t-butylthio group and the like.
  • the carbamoylamino group may have an aliphatic group, an aryl group, a heterocyclic group, and the like.
  • Examples of the carbamoylamino group include a carbamoylamino group, an alkylcarbamoylamino group having 2 to 9 carbon atoms, a dialkylcarbamoylamino group having 3 to 10 carbon atoms, an arylcarbamoylamino group having 7 to 13 carbon atoms, Heterocyclic carbamoylamino group having 3 to 12 carbon atoms, preferably carbamoylamino group, alkylcarbamoylamino group having 2 to 7 total carbon atoms, dialkylcarbamoylamino group having 3 to 6 total carbon atoms, total number of carbon atoms An arylcarbamoylamino group having 7 to 11 atoms, a heterocyclic carbamoylamino group having a total of 3 to 10 carbon
  • the removal method of the present disclosure includes contacting wastewater containing two or more types of fluorine-containing compounds represented by the following general formulas (1) or (2) with an adsorbent, thereby allowing the adsorbent to contain two or more types of fluorine-containing compounds.
  • Adsorbing step General formula (1): (H— (CF 2 ) m —COO) p M 1 (Wherein m is 3 to 19, M 1 is H, a metal atom, NR b 4 (R b may be the same or different and H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms), (Imidazolium which may be possessed, pyridinium which may have a substituent, or phosphonium which may have a substituent.
  • P is 1 or 2.
  • General formula (2) (H— (CF 2 ) n —SO 3 ) q M 2 (In the formula, n is 4 to 20. M 2 is H, a metal atom, NR b 4 (R b is the same as described above), imidazolium which may have a substituent, and a substituent. Is pyridinium which may be substituted, or phosphonium which may have a substituent.
  • Q is 1 or 2.
  • Examples of the metal atom include monovalent and divalent metal atoms, and include alkali metals (Group 1) and alkaline earth metals (Group 2), and specific examples include Na, K, and Li. You. As the Rb , the four Rb's may be the same or different.
  • R b is preferably H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably H or an organic group having 1 to 4 carbon atoms. Further, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable. The above rules apply to all Rb described below.
  • m may be 5 to 11.
  • n may be 6 to 12.
  • the wastewater containing two or more kinds of the fluorine-containing compounds represented by the general formula (1) or (2) refers to the wastewater containing the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) or (2). Among them, it means that it is necessary to include at least two types.
  • the wastewater contains two or more types of the fluorinated compounds represented by the general formula (1), and includes a fluorinated compound represented by the general formula (2). It may not contain, may not contain the fluorine-containing compound represented by the general formula (1), and may contain two or more kinds of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2). It may contain one or more compounds represented by the formula (1) and one or more fluorine-containing compounds represented by the general formula (2).
  • the wastewater may contain three or more kinds of fluorine-containing compounds or four or more kinds of fluorine-containing compounds as long as it contains two or more kinds of fluorine-containing compounds. )) May be included.
  • m includes 3, 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17 and 19, and m is 4, 6, 8,
  • the embodiment may not include the fluorine-containing compound of 10, 12, 14, 16, and 18, or may include the fluorine-containing compound of m of 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18, and 20.
  • m is 3, 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17 and 19, and may be a mode that does not include a fluorinated compound in which m is 3 to 19. It may be a mode that includes.
  • the fluorine-containing compounds included in the general formula (2) include n is 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17, and 19, and n is 4, 6, 8, 10 , 12, 14, 16, 18 and 20 may not be included, or n may be 4, 6, 8, 10, 12, 14, 16, 18 and 20. And n may not include a fluorine-containing compound in which n is 5, 7, 9, 11, 13, 15, 17, and 19, or may include all fluorine-containing compounds in which n is 4 to 20. It may be an aspect.
  • the concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) or (2) in the wastewater is not particularly limited, and the wastewater having an arbitrary concentration can be treated.
  • the total amount of the compound represented by the general formula (1) or (2) in the wastewater to be treated is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, based on the total amount of the wastewater. 5 ppm or more is more preferable.
  • the total amount is more preferably 1 ppm or more, still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more, based on the total amount of the wastewater.
  • the total amount of the fluorinated compound represented by the general formula (1) or (2) is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. Is more preferably 2000 ppm or less, still more preferably 1000 ppm or less, still more preferably 500 ppm or less, and particularly preferably 200 ppm or less.
  • the removal efficiency can be further improved.
  • the waste water generated in the fluoropolymer production process described below may be used as it is, or the wastewater generated in the fluoropolymer production process may be diluted or concentrated to be represented by the general formula (1) or (2).
  • the total amount of the fluorine-containing compound may be in the above range.
  • ppm means a value calculated in terms of mass unless otherwise specified.
  • At least one of the fluorine-containing compounds in which m in the general formula (1) is 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, or 19 The amount of each is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, still more preferably 1 ppm or more, still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more, based on the total amount of wastewater.
  • the above is particularly preferred.
  • the concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • m of the general formula (1) is 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18 or 19
  • At least one amount is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, still more preferably 1000 ppm or less, still more preferably 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less, based on the total amount of wastewater. preferable.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 3 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 3 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and even more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 4 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 4 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 5 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 5 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 6 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 6 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 7 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, further preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 7 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 8 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 8 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 9 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 9 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 10 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 10 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 11 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 11 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 12 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 12 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 13 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 13 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 14 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 14 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 15 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 15 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 16 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 16 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 17 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 17 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 18 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 18 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 19 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 19 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. It is particularly preferably at most 500 ppm, particularly preferably at most 200 ppm. When the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • At least one of the fluorine-containing compounds in which n in the general formula (2) is 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, or 20 The amount of each is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, still more preferably 1 ppm or more, still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more, based on the total amount of wastewater.
  • the above is particularly preferred.
  • the concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • n of the general formula (2) is 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 18, 19, or 20.
  • At least one amount is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, still more preferably 1000 ppm or less, still more preferably 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. .
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 4 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 4 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 5 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 5 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 6 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 6 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 7 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 7 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 8 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 8 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 9 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 9 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 10 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 10 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, more preferably 2000 ppm or less, still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 11 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 11 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 12 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 12 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 13 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 13 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 14 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 14 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 15 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 15 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 16 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 16 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 17 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 17 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 18 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 18 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, and still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 19 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 19 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5000 ppm or less, still more preferably 2000 ppm or less, still more preferably 1000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 20 is preferably 0.01 ppm or more, more preferably 0.1 ppm or more, still more preferably 0.5 ppm or more, and more preferably 1 ppm or more based on the total amount of the wastewater. Is still more preferably 5 ppm or more, particularly preferably 10 ppm or more.
  • concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (2) in the wastewater is equal to or higher than a certain value as described above, the removal method of the present disclosure exhibits higher removal efficiency.
  • the amount of the fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 20 is preferably 10,000 ppm or less, more preferably 5,000 ppm or less, still more preferably 2,000 ppm or less, and still more preferably 1,000 ppm or less, based on the total amount of the wastewater. , 500 ppm or less, particularly preferably 200 ppm or less.
  • the amount of the fluorine-containing compound in the wastewater is within the above range, the removal efficiency can be further improved.
  • the fluorine-containing compound preferably contains at least a fluorine-containing compound in which m in the general formula (1) is 7 or more or a fluorine-containing compound in which n in the general formula (2) is 8 or more. More preferably, the fluorinated compound includes a fluorinated compound in which m in the general formula (1) is 9 or more or a fluorinated compound in which n in the general formula (2) is 10 or more. It is more preferable to include a fluorinated compound wherein is equal to or greater than 11 or a fluorinated compound wherein n in the general formula (2) is equal to or greater than 12.
  • the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) or (2) having a large number of carbon atoms can also be efficiently removed. Therefore, m of the general formula (1) and the general formula (2) ) Is particularly effective when treating wastewater containing a fluorine-containing compound having a large n.
  • the two or more kinds of fluorine-containing compounds include a fluorine-containing compound in which m in general formula (1) is 7 or more, 9 or more, or 11 or more, or n in general formula (2) is 8 or more, 10 or more.
  • At least one kind of fluorine-containing compound of at least 12 may be contained, and a fluorine-containing compound of general formula (1) in which m is less than 7, or a fluorine-containing compound of general formula (2) in which n is less than 8 is included. May be.
  • the fluorine-containing compound preferably contains the compound represented by the general formula (1).
  • the removal method of the present disclosure is particularly effective when the wastewater contains the compound represented by the general formula (1).
  • it is effective when the wastewater contains a fluorine-containing compound of general formula (1) in which m is 7 or more, more preferably a fluorine-containing compound in which m is 9 or more, and still more preferably a fluorine-containing compound in which m is 11 or more. .
  • aqueous medium refers to water and water and organic solvents soluble in water (for example, alcohols such as methanol, ethanol, and propanol, esters such as methyl acetate, ketones such as acetone, and dimethyl ether such as dimethyl ether). Ether, etc.).
  • the wastewater contains two or more kinds of the fluorine-containing compounds represented by the general formula (1) or (2).
  • Examples of the wastewater include wastewater generated in a fluoropolymer production process.
  • the wastewater includes an aqueous solution, a dispersion, and a liquid obtained by liquefying a gas (eg, an exhaust gas generated in a drying step described below).
  • the “fluorine-containing polymer production step” means the entire step of producing a fluoropolymer by polymerizing one or more types of monomers including a fluorine-containing monomer, and is not limited to a specific production step. Absent. Fluorinated polymers are generally produced by emulsion or suspension polymerization of one or more monomers, including fluorinated monomers. In emulsion polymerization and suspension polymerization, hydrocarbon surfactants can be used as emulsifiers.
  • the wastewater preferably contains the wastewater obtained in a fluoropolymer production step using a hydrocarbon-based surfactant. Further, the wastewater preferably contains a hydrocarbon-based surfactant.
  • the “fluorinated monomer” is not particularly limited as long as it is a monomer having at least one fluorine or fluoroalkyl group.
  • fluorinated monomer is not particularly limited as long as it is a monomer having at least one fluorine or fluoroalkyl group.
  • trifluoroethylene tetrafluoroethylene (TFE), vinylidene fluoride (VdF), vinyl fluoride (VF), chlorotrifluoroethylene (CTFE), hexafluoropropylene (HFP), hexafluoroisobutylene, perfluoroalkyl ethylene, fluorovinyl ether (FVE), and the like.
  • the “fluorinated polymer” may be a polymer obtained by polymerizing a monomer containing one or more fluorine-containing monomers described above.
  • the present invention is not limited to this. Examples include polytetrafluoroethylene (PTFE) obtained by homopolymerization of TFE, TFE, and other monomers copolymerizable with TFE (vinylidene fluoride, hexafluoropropylene, chlorotrifluoroethylene, perfluoro (alkyl vinyl ether), and the like).
  • PTFE polytetrafluoroethylene
  • Copolymers with fluorine monomers, hydrocarbon olefins such as ethylene, propylene and isobutene, alkyl vinyl ethers and the like eg, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene-perfluoro (alkyl vinyl ether) copolymer (PFA) and Ethylene-tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), polyvinylidene fluoride (PVDF), polychlorotrifluoroethylene (PCTFE), and ethylene-c Fluororesins such as rotrifluoroethylene (ECTFE), vinylidene fluoride rubber (FKM) such as vinylidene fluoride-hexafluoropropylene copolymer, tetrafluoroethylene-propylene rubber (FEPM), and tetrafluoroethylene-perfluoromethyl vinyl ether rubber (FFKM) and the
  • the “fluorinated polymer” also includes a low molecular weight polymer having a molecular weight of about 10,000 to 500,000 (for example, low molecular weight PTFE and the like).
  • the fluoropolymer is preferably polytetrafluoroethylene.
  • the removal method of the present disclosure exhibits particularly high removal efficiency when treating wastewater generated during the production of polytetrafluoroethylene.
  • the polytetrafluoroethylene may be a TFE homopolymer or a modified PTFE containing a TFE unit and a modified monomer unit based on a modified monomer copolymerizable with TFE.
  • high-molecular-weight PTFE or low-molecular-weight PTFE may be used, but the removal method of the present disclosure is particularly effective when treating wastewater generated in the production of high-molecular-weight PTFE.
  • the high molecular weight PTFE generally has non-melt processability and fibrillation properties, and has a standard specific gravity (SSG) of 2.130 to 2.280, for example.
  • SSG standard specific gravity
  • the standard specific gravity is measured using a sample molded in accordance with ASTM D4895-89 by a water displacement method in accordance with ASTM D792.
  • "high molecular weight PTFE” means that the standard specific gravity is within the above range.
  • the removal method of the present disclosure may include the following fluoropolymer production step.
  • the “fluorine-containing polymer production step” is not particularly limited as long as it is a step included in the fluoropolymer production process, and may include one or more steps constituting a known fluoropolymer production process. May include.
  • the “fluorine-containing polymer production step” includes, in addition to a polymerization step of polymerizing one or more monomers including a fluorine-containing monomer, a pretreatment step before the polymerization step (for example, a step of preparing an emulsifier having a predetermined concentration) and polymerization.
  • a post-treatment step after the step may also be included.
  • a post-treatment step after the step eg, an aqueous dispersion concentration step, a solid-liquid separation step, a coagulation step, a washing step, a dehydration step, a drying step, a heat treatment step, etc.
  • a specific example of the “fluorine-containing polymer production step” will be described, but the method according to the present embodiment is not limited to the following specific example.
  • the fluoropolymer is produced by polymerizing one or more monomers including a fluoromonomer.
  • the fluoropolymer is generally produced by emulsion polymerization or suspension polymerization.
  • an aqueous dispersion in which polymer particles are dispersed in an aqueous medium is obtained.
  • the polymerization step is preferably performed in the presence of a hydrocarbon surfactant.
  • a concentration step for example, phase separation concentration, electric concentration, filtration using an ultrafiltration membrane, reverse osmosis membrane (RO membrane)). (Filtration treatment, nanofiltration treatment and the like used).
  • the liquid remaining after collecting the concentrated aqueous dispersion may be included in the “drainage” in the present specification.
  • a salt or an acid is added to the aqueous dispersion to coagulate the fluoropolymer.
  • the aggregated fluoropolymer is separated and collected.
  • the liquid remaining after separating and recovering the fluorine-containing polymer may be included in “drainage” in the present specification.
  • the fluoropolymer separated and recovered in the solid-liquid separation step may be washed with a washing liquid such as an aqueous medium in the washing step.
  • the cleaning liquid used in the cleaning step may be included in “drainage” in the present specification.
  • the fluoropolymer separated and recovered in the solid-liquid separation step may be mechanically dehydrated in the dehydration step.
  • the liquid removed from the fluoropolymer in the dehydration step can be included in the “drainage” in the present specification.
  • the dewatered fluoropolymer may be washed with a washing liquid such as an aqueous medium in the washing step, and the washing liquid used in this washing step may also be included in the “drainage” in the present specification.
  • the fluoropolymer obtained after the above-mentioned washing step and / or dehydrating step may be dried by heating in a drying step to remove residual moisture and organic solvents as exhaust gas.
  • the liquefied waste gas generated in the drying step can be included in the “drainage” in this specification.
  • Exhaust gas generated in the drying step contains, in addition to water vapor and an organic solvent, a fluorinated surfactant accompanying the fluorinated polymer and a fluorinated compound represented by the general formula (1) or (2) produced during the polymerization. May be included. Therefore, it is preferable to wash the exhaust gas with a washing liquid such as water or an aqueous alkaline solution.
  • the cleaning liquid used for cleaning the exhaust gas may also be included in the “drainage” in the present specification.
  • the fluoropolymer obtained after the drying step may be formed into a desired shape such as a pellet in the heat treatment step.
  • the liquefied waste gas generated in the heat treatment step can be included in the “drainage” in the present specification.
  • Exhaust gas generated in the heat treatment step may include a vaporized fluorine-containing compound represented by the general formula (1) or (2) accompanying the fluorine-containing polymer. Therefore, it is preferable to wash the exhaust gas with a washing liquid such as water or an aqueous alkaline solution.
  • the cleaning liquid used for cleaning the exhaust gas may also be included in the “drainage” in the present specification.
  • both the exhaust gas generated in the drying step and the exhaust gas generated in the heat treatment step may be washed together to obtain a single cleaning liquid.
  • the wastewater may be wastewater generated from one type of fluoropolymer production process, or may include wastewater generated from a plurality of different types of fluoropolymer production processes.
  • the effluent may be a mixture containing effluent generated from a process of manufacturing a fluororubber and effluent generated from a process of manufacturing PTFE (such as low-molecular-weight PTFE).
  • the wastewater from the process can be treated at the same time.
  • the wastewater may be wastewater generated from one of the steps included in the process for producing the fluoropolymer, or may include wastewater generated from a plurality of different steps.
  • the above wastewater is a mixture of wastewater obtained in a fluoropolymer production process using a hydrocarbon-based surfactant and wastewater obtained in a fluoropolymer production process using a fluorosurfactant. It may be.
  • the pH of the waste water may be, for example, 1.5 to 13.5, and may be 2 to 13.
  • the drainage is preferably acidic. By being acidic, the efficiency of removing the fluorine-containing compound can be further increased.
  • the pH of the waste water in the adsorption step may be 1 to 6, and may be 1 to 5.
  • the acid include hydrochloric acid (HCl), nitric acid (HNO 3 ), sulfuric acid (H 2 SO 4 ), phosphoric acid (H 3 PO 4 ), and particularly, hydrochloric acid (HCl) or nitric acid (HNO 3 ). preferable.
  • the removal method of the present disclosure includes an adsorption step in which the wastewater is brought into contact with an adsorbent to cause the adsorbent to adsorb two or more fluorine-containing compounds.
  • the temperature in the adsorption step is not particularly limited, but may be, for example, 0 to 50 ° C. From the viewpoint of increasing the removal rate, 5 ° C. or higher is preferable. Further, the temperature is preferably 40 ° C. or lower, more preferably 35 ° C. or lower. Further, the temperature may be 20 ° C. or lower.
  • the pressure in the adsorption step is not particularly limited, but may be, for example, 0.1 to 10 atm, and can be carried out at normal pressure (about 1 atm).
  • the contact time in the adsorption step may be 0.1 second to 100 hours, 1 second to 50 hours, and 1 second to 10 hours. Further, it may be from 1 second to 1 hour.
  • the contact in the adsorption step may be a batch type or a flow type.
  • the above adsorption step may be performed once or may be repeated plural times.
  • the amount of the adsorbent with respect to the wastewater is not limited, but may be, for example, 0.01 to 1000 g per 1,000 g of the wastewater. 0.1 g or more is preferable, 1 g or more is more preferable, and 5 g or more is more preferable with respect to 1000 g of drainage. Further, the weight is preferably 500 g or less.
  • a method for bringing the wastewater into contact with the adsorbent a method conventionally used can be adopted.
  • the method can be carried out by a method in which an adsorbent is added to wastewater and stirring is performed, a column method in which the wastewater containing the fluorine-containing compound is passed through a column filled with the adsorbent, or the like.
  • the packed column used in the column method may be any of a moving type, a fixed bed type, and a fluidized bed type.
  • a separation step of separating the adsorbent and the wastewater after the adsorption step after the adsorption step it is preferable to include a separation step of separating the adsorbent and the wastewater after the adsorption step after the adsorption step.
  • the method for separating the adsorbent and the waste water after the adsorption step is not limited, and for example, filtration or the like can be used.
  • the removal method of the present disclosure may include a step of pretreating the wastewater before the adsorption step.
  • the pretreatment step include a step of removing uncoagulated polymer from wastewater and a step of diluting or condensing wastewater.
  • the removal method of the present disclosure further includes a pretreatment step of removing solid components from wastewater before the adsorption step.
  • the solid component include an uncoagulated polymer, a flocculant, and a particulate polymer.
  • the wastewater may contain a solid component such as a fluoropolymer.
  • the solid component is a component that can remain in the effluent after separating and recovering the fluoropolymer produced in the fluoropolymer production step.
  • the coagulation effluent described above (the liquid remaining after being separated and collected in the solid-liquid separation step after the coagulation step) may include an uncoagulated polymer that cannot be completely recovered in the solid-liquid separation step.
  • the uncoagulated polymer is a polymer component which is dispersed and present in wastewater remaining after a polymerization step, a coagulant is added, a solid-liquid separation step is performed, and a fluoropolymer is separated and recovered.
  • the particle size of the uncoagulated polymer may be on the order of 0.01 ⁇ m to 5.0 ⁇ m.
  • the particle size of the particulate polymer that can be contained in the wastewater is not limited.
  • the wastewater may include a solid component, and may include an uncoagulated polymer and / or a fine particle polymer as the solid component.
  • the concentration of the solid component in the wastewater is not particularly limited, and the wastewater having an arbitrary solid component concentration can be treated.
  • the concentration of the solid component in the wastewater may vary depending on the process of producing the fluoropolymer that produces the wastewater, but may be, for example, 0.1 ppm to 50,000 ppm.
  • the above pretreatment step preferably sets, for example, 0.1 ppm to 500 ppm, more preferably 0.05 ppm to 50 ppm, and further preferably 0.05 ppm to 10 ppm.
  • the method for removing the solid component is not limited, and examples thereof include filtration.
  • the filtration method include a method of separating a solid component by a UF membrane and an MF membrane, a method using a filter aid, a method using a liquid cyclone, and the like.
  • the MF membrane include a security filter, a hollow fiber membrane, a flat membrane, and a spiral.
  • the filter aid include diatomaceous earth, filter sand (manganese sand, manganese zeolite, anthracite, ceramic sand, etc.), perlite, cellulose, and the like.
  • the removal method of the present disclosure may further include a persulfate treatment step of adding persulfate ions to the wastewater before the adsorption step to perform treatment with persulfate ions.
  • the efficiency of removing the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) or (2) can be further increased.
  • the reason why the efficiency of removing the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) or (2) can be further improved by the treatment with persulfate ions is not particularly limited because it cannot be escaped from the range of estimation.
  • the treatment with persulfate ion causes some decomposition reaction such that the number of carbon atoms is reduced in the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) or (2). The reason is that the contact between the fluorine-containing compound represented by the formula (2) and the adsorbent and the adsorbent tends to occur more easily.
  • the persulfate ion used in the persulfate ion treatment step When the persulfate ion used in the persulfate ion treatment step is added, it may be added in the form of a compound containing persulfate ion (S 2 O 8 2 ⁇ ). (H 2 S 2 O 8 ) and salts thereof can be used.
  • the persulfate include potassium persulfate (K 2 S 2 O 8 ), ammonium persulfate ((NH 4 ) 2 S 2 O 8 ), and sodium persulfate (Na 2 S 2 O 8 ).
  • the processing temperature in the persulfate ion processing step may be, for example, 0 to 95 ° C. From the viewpoint of increasing the removal rate, the temperature is preferably 25 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, even more preferably 60 ° C. or higher. Further, the temperature is preferably 90 ° C. or lower, more preferably 85 ° C. or lower.
  • the pressure in the persulfate ion treatment step is not particularly limited, but may be, for example, 0.1 to 10 atm, and can be carried out at normal pressure (about 1 atm). Alternatively, it can be carried out under a pressurized condition, and the processing temperature at this time can be 100 to 150 ° C.
  • the treatment time in the persulfate ion treatment step may be 0.1 second to 100 hours, 1 second to 50 hours, and 1 minute to 20 hours. Further, it may be 1 hour to 10 hours.
  • the amount of persulfate ions in the wastewater is not limited, but may be, for example, 0.0001 to 10 g per 1,000 g of the wastewater.
  • the amount is preferably 0.001 g or more, more preferably 0.01 g or more, and even more preferably 0.05 g or more, based on 1,000 g of the wastewater. Also, it is preferably 5 g or less.
  • the above-mentioned waste water contains nitric acid; aluminum sulfate, polyaluminum chloride (PAC), etc., in addition to the above-mentioned fluorine-containing compound represented by the general formula (1) or (2), the hydrocarbon surfactant, the above-mentioned solid components and the like.
  • Aluminum salts of iron iron salts such as ferrous hydroxide, ferric hydroxide, ferrous sulfate, ferric sulfate, and ferric polysulfate; calcium hydroxide, calcium chloride, calcium sulfate, calcium carbonate, and nitric acid Calcium salts such as calcium and calcium fluoride; silicate minerals containing divalent or higher valent metal elements and silicon, such as kaolinite, montmorillonite, and zeolite; sodium alginate, chitin / chitosan-based flocculants, and cationic polymer flocculants , A flocculant such as an anionic polymer flocculant and a nonionic polymer flocculant.
  • iron salts such as ferrous hydroxide, ferric hydroxide, ferrous sulfate, ferric sulfate, and ferric polysulfate
  • calcium hydroxide calcium chloride, calcium sulfate, calcium carbonate, and nitric acid
  • These flocculants may be those used as flocculants in the fluoropolymer production step.
  • the above-described coagulant may be further added to the wastewater. By adding the coagulant, the amount of the solid component in the wastewater can be reduced, and the adsorption of the fluorine-containing compound to the adsorbent can be performed more efficiently.
  • the adsorbent is not limited as long as it can adsorb the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) or (2).
  • Examples thereof include ion exchange resins, synthetic adsorbents, activated carbon, silica gel, clay, and zeolites. And at least one selected from the group consisting of an ion exchange resin, a synthetic adsorbent, and activated carbon.
  • Alumina, carbon nanotubes and the like can also be used.
  • the ion exchange resin may be either a cation exchange resin or an anion exchange resin.
  • the anion exchange resin for example, an ion exchange resin having an amino group and / or a quaternary ammonium group as a functional group can be used.
  • the ion exchange resin is preferably a strongly basic anion exchange resin.
  • the basicity of the anion exchange resin can be variously set depending on the type of the polymer skeleton and / or the functional group.
  • Commercially available products may be used as the anion exchange resin, for example, Diaion (trademark) SA series manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, A200, A300, PFA694E manufactured by Purolite Co., Ltd.
  • cation exchange resin for example, an ion exchange resin having a carboxylic acid group and / or a sulfonic acid group as a functional group can be used.
  • the acidity of the cation exchange resin can be set variously depending on the type of polymer skeleton and / or functional group.
  • Commercially available products may be used as the cation exchange resin. Examples thereof include Diaion (trademark) SK series manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, C100 manufactured by Purolite Co., Ltd., and Amberlite (trademark) series manufactured by Organo Corporation. Can be used.
  • the ion exchange resin preferably has a pore size of 1 to 5000 °.
  • the pore size is preferably 50 ° or more, more preferably 100 ° or more, and even more preferably 150 ° or more. Further, it may be 200 ° or more, or 250 ° or more. Further, the pore diameter may be 1000 ° or less. The pore diameter can be calculated, for example, by measuring the specific surface area and the total pore volume by a gas adsorption method.
  • the ion exchange resin preferably has a total exchange capacity of 0.1 eq / L-Resin or more. More preferably, it is 0.5 eq / L-Resin or more, and still more preferably, 0.9 eq / L-Resin or more. The larger the total exchange capacity, the better. For example, the upper limit may be 5.0 eq / L-Resin. Further, the ion exchange resin is usually spherical and has an average particle size of about 300 to 1300 ⁇ m.
  • the anion exchange resin the following general formula (A1): -N + R c1 R c2 R c3 X - group (wherein, R c1, R c2 and where R c3 are the same or different and each represents a hydrogen atom or an organic group, at least one of R c1, R c2 and R c3 Is an organic group having 3 or more carbon atoms, and X represents a counter ion.)
  • R c1 , R c2 and R c3 are the same or different and are a hydrogen atom or an organic group.
  • R c1 , R c2 and R c3 may all be organic groups, or one may be a hydrogen atom and two may be organic groups. Further, two may be hydrogen atoms and one may be an organic group.
  • the organic group has one or more carbon atoms.
  • the organic group preferably has 2 or more carbon atoms.
  • R c1 , R c2 and R c3 are an organic group having 2 or more carbon atoms.
  • R c1 , R c2, and R c3 is an organic group having 3 or more carbon atoms.
  • One of R c1 , R c2 and R c3 may be an organic group having 3 or more carbon atoms, and two may be a hydrogen atom or an organic group having 1 or 2 carbon atoms.
  • Two may be organic groups having 3 or more carbon atoms, and one may be a hydrogen atom or an organic group having 1 or 2 carbon atoms.
  • All of R c1 , R c2 and R c3 may be an organic group having 3 or more carbon atoms.
  • the number of carbon atoms of the organic group is preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and still more preferably 6 or less.
  • the carbon number of the organic group may be 5 or less.
  • At least one of R c1 , R c2, and R c3 is preferably an organic group having 4 or more carbon atoms. With such a configuration, the specific fluorine-containing compound can be more efficiently removed.
  • the organic group in R c1 , R c2 and R c3 is preferably an alkyl group, an alkanol group or an alkenyl group, more preferably an alkyl group or an alkanol group, and further preferably an alkyl group.
  • the alkanol group may be any remaining group obtained by removing one hydrogen atom from the alkanol, and may be a linear or branched alkanol group having 1 or more carbon atoms or a cyclic alkanol group having 3 or more carbon atoms. Including.
  • R c1 , R c2 and R c3 are the same or different and are an alkyl group having 2 or more carbon atoms or an alkanol group having 1 or more carbon atoms, and at least one of R c1 , R c2 and R c3 has 3 carbon atoms.
  • the above alkyl group is preferred.
  • R c1 , R c2 and R c3 are the same or different and are an alkyl group having 2 or more carbon atoms or an alkanol group having 2 or more carbon atoms, and at least one of R c1 , R c2 and R c3 has 3 carbon atoms.
  • One of the more preferable embodiments is an alkyl group as described above.
  • R c1 , R c2 and R c3 are the same or different and are an alkyl group having 2 or more carbon atoms or an alkanol group having 1 or more carbon atoms, and at least one of R c1 , R c2 and R c3 has a carbon number of It is also one of the preferable embodiments that the alkyl group is four or more.
  • R c1 , R c2 and R c3 are the same or different and are an alkyl group having 2 or more carbon atoms or an alkanol group having 2 or more carbon atoms, and at least one of R c1 , R c2 and R c3 is a carbon atom. It is also one of the preferable embodiments that it is an alkyl group having a number of 4 or more.
  • the carbon number of the alkyl group is preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and still more preferably 6 or less.
  • the alkyl group may have 5 or less carbon atoms.
  • the carbon number of the alkanol group is preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and still more preferably 6 or less.
  • the alkanol group may have 5 or less carbon atoms.
  • X is a counter ion.
  • X includes Cl, OH, Br, I, NO 3 , SO 4 and the like, and is preferably Cl or OH.
  • a divalent anion such as SO 4
  • one counter ion coordinates to two groups represented by the general formula (A1).
  • R c4 and R c5 are the same or different and are a hydrogen atom or an organic group, and at least one of R c4 and R c5 is an organic group having 2 or more carbon atoms.
  • R c4 and R c5 may all be organic groups.
  • One may be a hydrogen atom and one may be an organic group.
  • R c4 and R c5 are organic groups having 2 or more carbon atoms.
  • One of R c4 and R c5 may be an organic group having 2 or more carbon atoms, and one may be a hydrogen atom or an organic group having 1 carbon atom. Further, both R c4 and R c5 may be an organic group having 2 or more carbon atoms.
  • At least one of R c4 and R c5 may be an organic group having 3 or more carbon atoms, or may be an organic group having 4 or more carbon atoms.
  • R c4 and R c5 are also preferably an organic group having 2 or more carbon atoms.
  • the carbon number of the organic group is preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and still more preferably 6 or less.
  • the carbon number of the organic group may be 5 or less.
  • the organic group in R c4 and R c5 is preferably an alkyl group, an alkanol group or an alkenyl group, more preferably an alkyl group or an alkanol group, and further preferably an alkyl group.
  • R c4 and R c5 may be the same or different and are alkyl groups or alkanol groups, and at least one of R c4 and R c5 may be an alkyl group having 2 or more carbon atoms or an alkanol group having 2 or more carbon atoms. This is one of more preferred embodiments.
  • the carbon number of the alkyl group is preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and still more preferably 6 or less.
  • the alkyl group may have 5 or less carbon atoms.
  • the carbon number of the alkanol group is preferably 10 or less, more preferably 8 or less, and still more preferably 6 or less.
  • the alkanol group may have 5 or less carbon atoms.
  • the anion exchange resin A is preferably a resin in which a group represented by the general formula (A1) or a group represented by the general formula (A2) is bonded to a resin matrix.
  • the anion exchange resin include those in which a group represented by the general formula (A1) or a group represented by the general formula (A2) is bonded to a resin base composed of a styrene-based or acrylic-based polymer. .
  • the styrene or acrylic polymer as the resin base is not limited.
  • a resin base used for a known anion exchange resin can be used.
  • the basicity of the anion exchange resin A can be variously set depending on the type of the polymer skeleton and / or the ion exchange group.
  • the pore diameter and the total exchange capacity of the anion exchange resin A may be within the above ranges.
  • the water content of the anion exchange resin A is preferably 20% by mass or more, more preferably 30 to 70% by mass, and still more preferably 35 to 65% by mass from the viewpoint of removal efficiency.
  • the anion exchange resin A is usually spherical.
  • the average particle diameter of the anion exchange resin A is preferably 0.1 to 5 mm, more preferably 0.2 to 2 mm, and particularly preferably 0.3 to 1.5 mm. When the average particle diameter of the anion exchange resin A is within the above range, the packed tower of the anion exchange resin is less likely to be clogged.
  • the average particle diameter is a value determined by a sieving method. Specifically, first, the anion exchange resin A is placed in a sieve shaker, and the particle size distribution is measured by sieving. Then, the sieve mesh diameter corresponding to 50% of the residual classifier is determined, and this is defined as the average particle diameter.
  • anion exchange resin A a commercially available product may be used, and examples thereof include PFA694E and A592E manufactured by Purolite Co., Ltd.
  • anion exchange resin A group represented by —N + (CH 3 ) 3 X — group (wherein X represents a counter ion), or the following general formula (B2):
  • An anion exchange resin B having an ion exchange group represented by a —N + (CH 3 ) 2 (C 2 H 4 OH) X — group (wherein, X represents a counter ion) may be used.
  • X in the general formulas (B1) and (B2) includes Cl, OH, Br, I, NO 3 , SO 4 and the like, and is preferably Cl or OH.
  • a divalent anion such as SO 4
  • one counter ion coordinates to two groups represented by the general formula (B1) or (B2).
  • the anion exchange resin B is preferably a resin in which the ion exchange group is bonded to a resin matrix.
  • the resin matrix include a styrene-based or acrylic-based polymer.
  • the styrene or acrylic polymer as the resin base is not limited.
  • a resin base used for a known anion exchange resin can be used.
  • the anion exchange resin B preferably has a styrene resin base.
  • the anion exchange resin B may be weakly basic or strongly basic. Preferred are strongly basic anion exchange resins.
  • the basicity of the anion exchange resin B can be variously set depending on the type of the polymer skeleton and / or the ion exchange group.
  • the anion exchange resin B preferably has a pore size of 1 to 5000 °.
  • the pore size is preferably 50 ° or more, more preferably 100 ° or more, and even more preferably 150 ° or more. Further, it may be 200 ° or more, or 250 ° or more. Further, the pore diameter may be 1000 ° or less. The pore diameter can be calculated, for example, by measuring the specific surface area and the total pore volume by a gas adsorption method.
  • the anion exchange resin B preferably has a total exchange capacity of 0.1 eq / L-Resin or more. It is more preferably at least 0.3 eq / L-Resin, even more preferably at least 0.5 eq / L-Resin, particularly preferably at least 0.7 eq / L-Resin.
  • the upper limit is preferably 5.0 eq / L-Resin, more preferably 2.0 eq / L-Resin or less, and 1.5 eq / L-Resin. It is particularly preferred that:
  • the water content of the anion exchange resin B is preferably 20% by mass or more, more preferably 30 to 70% by mass, and still more preferably 35 to 65% by mass. When the water content of the anion exchange resin B is 30% by mass or more, it can be efficiently removed.
  • the water content can be measured by the same method as for the anion exchange resin A described above.
  • the anion exchange resin B is usually spherical.
  • the average particle diameter of the anion exchange resin B is preferably 0.1 to 5 mm, more preferably 0.2 to 2 mm, and particularly preferably 0.3 to 1.5 mm.
  • the average particle diameter is a value determined by a sieving method. Specifically, first, the anion exchange resin B is placed in a sieve shaker, and the particle size distribution is measured by sieving. Then, the sieve mesh diameter corresponding to 50% of the residual classifier is determined, and this is defined as the average particle diameter.
  • anion exchange resin B Commercial products may be used as the anion exchange resin B.
  • anion exchange resin B examples include Diaion (trademark) SA series manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, A400 and A300 manufactured by Purolite Co., Ltd., and Amberlite manufactured by Organo Co., Ltd. And AmberJet (trademark) series such as IRA4002OH.
  • the synthetic adsorbent is a porous resin having no ion exchange group, and a known synthetic adsorbent can be used.
  • the ion exchange group include an amino group, a quaternary ammonium group, a carboxylic acid group, and a sulfonic acid group.
  • Specific examples of the synthetic adsorbent include a styrene resin such as a styrene-divinylbenzene copolymer, an acrylic resin such as a (meth) acrylate-ethylene glycol dimethacrylate copolymer, a methacrylic resin, and a polyvinyl resin. And dextran-based resins.
  • Examples of commercially available synthetic adsorbents include, as styrene resins, Diaion HP10, Diaion HP20, Diaion HP21, Diaion HP40, Diaion HP50, Sepapies SP207, Sepapies SP70, Sepapies SP825, Sepapies SP850, Sepapies SP207 (Mitsubishi Chemical Corporation), Amberlite XAD1180N, Amberlite XAD2000, Amberlite XAD4, Amberlite FPX66 (above, manufactured by Organo), etc .; Mitsubishi Chemical Corporation), Amberlite HXAD-7HP (Organo Corporation) and the like.
  • the synthetic adsorbent preferably has a pore size of 1 to 5000 °.
  • the pore size is preferably 50 ° or more, more preferably 100 ° or more, and even more preferably 150 ° or more. Further, it may be 200 ° or more, or 250 ° or more. Further, the pore diameter may be 1000 ° or less.
  • the pore diameter can be calculated, for example, by measuring the specific surface area and the total pore volume by a gas adsorption method.
  • the synthetic adsorbent preferably has a specific surface area of 300 m 2 / g or more. The specific surface area is more preferably equal to or greater than 400m 2 / g, 500m 2 / g or more and more preferably, 600m 2 / g or more is preferable in especially.
  • the upper limit of the specific surface area is not limited, it may be, for example, 2000 m 2 / g or less, 1500 m 2 / g or less, or 1000 m 2 / g or less.
  • the synthetic adsorbent is usually spherical, and the average particle diameter of the synthetic adsorbent is preferably from 0.1 to 2.0 mm, more preferably from 0.2 to 1.5 mm, from the viewpoint of removal efficiency. 0.2 to 1.3 mm is more preferable, and 0.3 to 1.0 mm is particularly preferable.
  • the average particle size of the synthetic adsorbent means a 50% mass value obtained by plotting the integrated mass after classification by a sieve on a graph.
  • the synthetic adsorbent preferably contains water from the viewpoint of increasing the removal efficiency.
  • the water content is preferably from 20 to 80% by mass, more preferably from 40 to 75% by mass, and particularly preferably from 50 to 70% by mass.
  • the activated carbon can be manufactured from a carbonaceous material.
  • the carbonaceous material may be any material that can generate activated carbon by carbonization, activation, etc., such as wood, sawdust, charcoal, coconut shells, fruit shells such as walnut shells, plant systems such as fruit seeds, peat, lignite, lignite, Coal such as bituminous coal and anthracite; oil pitch; pitch such as coal pitch; tar such as coke, coal tar and petroleum; minerals such as petroleum distillation residue; natural materials such as cellulosic fibers such as cotton and rayon; phenolic resins And synthetic materials such as polyvinyl alcohol and polyacrylonitrile.
  • the shape may be any of powder, granule, and fiber, and may be formed by molding them.
  • the activated carbon preferably has a specific surface area of 500 m 2 / g or more.
  • the specific surface area is more preferably equal to or greater than 1000m 2 / g, 1500m 2 / g or more, and preferably to 1800 m 2 / g or more especially, 2000 m 2 / g or more is particularly preferable.
  • the upper limit of the specific surface area is not limited, it may be, for example, 2500 m 2 / g.
  • the shape of the activated carbon is not particularly limited, and may be, for example, pellets, granules, powders, and spherical particles.
  • Activated carbon may be a commercial product. Commercially available activated carbon products include, for example, Shirasagi (trademark) manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd .; EVA DIA (trademark) series manufactured by Co., Ltd. and the like.
  • the activated carbon preferably has improved adsorption performance by performing the steam activation treatment.
  • the activated carbon may be exposed to steam at a temperature of 120 ° C. or more, for example, 130 to 350 ° C., particularly 150 to 1000 ° C., and a pressure of 0.2 MPa or more, for example, 0.5 to 15 MPa, especially 1 to 15 MPa. preferable.
  • the steam activation time may generally be between 10 seconds and 50 hours, for example between 10 minutes and 10 hours. In activation, heating in a furnace may be performed.
  • a cation may be impregnated on the surface of the activated carbon. Examples of the cation include a metal ion, a metal oxide ion, and an ammonium ion.
  • metals examples include metal atoms of groups 1 to 13 of the periodic table (eg, alkali metals (eg, Li, Na, K), alkaline earth metals (eg, Mg, Ca), Ti, Zr, V, Cr). , Fe, Ni, Cu, Zn).
  • alkali metals eg, Li, Na, K
  • alkaline earth metals eg, Mg, Ca
  • Ti, Zr, V, Cr titanium
  • Fe Ni, Cu, Zn
  • the removal method of the present disclosure may include, after the adsorption step, a step of concentrating wastewater that has passed through the adsorption step.
  • concentration method include phase separation concentration, an ion exchanger method, and membrane concentration.
  • the phase separation and concentration, the ion exchanger method, and the membrane concentration can be performed under conventionally known treatment conditions, and are not particularly limited.
  • the method can be carried out by the method described in JP-A-55-120630.
  • the adsorbent that has adsorbed the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) or (2) elutes the adsorbed fluorine-containing compound by treating it with an alkaline solution containing water and an organic solvent, etc.
  • an alkaline solution containing water and an organic solvent, etc. can also be used.
  • the alkali include hydroxides of alkali metals such as NaOH and KOH, and NH 4 OH.
  • the eluted fluorine-containing compound may be recovered.
  • the removal rate of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) or (2) is preferably 40% or more, more preferably 50% or more, still more preferably 60% or more, and 70% or more. It is even more preferably 80% or more, particularly preferably 90% or more, particularly preferably 95% or more, still more preferably 99% or more, and most preferably 99.9% or more.
  • the removal rate is calculated by the following equation by measuring the concentration of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) or (2) before and after the adsorption step.
  • Removal rate (%) (1-peak area of fluorine-containing compound represented by general formula (1) or (2) after adsorption step) / (expressed by general formula (1) or (2) before adsorption step) Peak area of fluorine-containing compound) x 100
  • the concentration of the fluorine-containing compound can be measured by the method described in Examples described later.
  • the above-mentioned adsorption step may be repeated a plurality of times, and the removal rate in the case of repeating the plurality of times is determined by the concentration of the fluorine-containing compound before performing the first adsorption step and the concentration of the fluorine-containing compound after performing the last adsorption step. Is calculated from If repeated a plurality of times, it can be 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9 or 10 times. It can be 2-10 times, 2-7 times, 3-5 times.
  • the same adsorbent may be used or different adsorbents may be used in each adsorption step.
  • the same adsorbent may be used as the first adsorbent and the same adsorbent may be used as the second adsorbent, or different adsorbents may be used.
  • the above-mentioned adsorption step is performed three or more times, for example, the first and second times use the same adsorbent, the third time uses another adsorbent, and the first, second, and third times.
  • adsorption step using the anion exchange resin A is performed once or more, and then the anion exchange resin A is used.
  • the adsorption step using the exchange resin B can be performed one or more times.
  • the adsorption step using the anion exchange resin A can be performed at least once.
  • the adsorption step using the synthetic adsorbent is performed once or more, and then the anion exchange resin is used.
  • the adsorption step using B can be performed one or more times.
  • the adsorption step using the synthetic adsorbent can be performed one or more times.
  • the total amount of the fluorine-containing compound represented by the general formula (1) or (2) is preferably 100 ppm or less. It is more preferably at most 10 ppm, further preferably at most 1 ppm, still more preferably at most 0.1 ppm, particularly preferably at most 0.01 ppm.
  • the wastewater is preferably obtained by polymerization using a hydrocarbon-based surfactant.
  • a fluoropolymer is produced by polymerization using a hydrocarbon-based surfactant
  • the wastewater contains two or more compounds represented by the general formula (1) or (2) together with the hydrocarbon-based surfactant. obtain. That is, the wastewater may further contain a hydrocarbon-based surfactant.
  • the removal method of the present disclosure may include a step of polymerizing a fluorine monomer in an aqueous medium in the presence of a hydrocarbon-based surfactant. The removal method of the present disclosure can also remove the hydrocarbon-based surfactant used in the polymerization.
  • the concentration of the hydrocarbon surfactant in the wastewater is not particularly limited, and the wastewater having an arbitrary concentration of the hydrocarbon surfactant can be treated.
  • the concentration of the hydrocarbon surfactant in the wastewater may vary depending on the process of producing the fluoropolymer from which the wastewater is produced, and may be about 0.1 ppm to about 50,000 ppm, for example, 1 ppm to 10,000 ppm. From 1 to 5000 ppm.
  • the wastewater generated from the fluoropolymer production step can be directly treated in the method according to the present disclosure without pretreatment, but may be appropriately subjected to pretreatment such as dilution.
  • the hydrocarbon-based surfactant is not limited, and for example, those described in JP-A-2013-542308, JP-A-2013-542309, and JP-A-2013-542310 may be used. it can.
  • the hydrocarbon-based surfactant may be a surfactant having a hydrophilic portion and a hydrophobic portion on the same molecule. These may be cationic, non-ionic or anionic.
  • Cationic hydrocarbon-based surfactants usually have a positively charged hydrophilic portion such as an alkylated ammonium halide such as an alkylated ammonium bromide and a hydrophobic portion such as a long-chain fatty acid.
  • the hydrocarbon-based anionic surfactant usually has a hydrophilic portion such as a carboxylate, a sulfonate or a sulfate, and a hydrophobic portion that is a long-chain hydrocarbon portion such as an alkyl.
  • Nonionic hydrocarbon-based surfactants usually do not contain charged groups and have a hydrophobic moiety that is a long-chain hydrocarbon.
  • the hydrophilic portion of the non-ionic surfactant contains water-soluble functional groups such as chains of ethylene ether derived from polymerization with ethylene oxide.
  • nonionic hydrocarbon surfactants include polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, polyoxyethylene alkyl ester, sorbitan alkyl ester, polyoxyethylene sorbitan alkyl ester, glycerol ester, and derivatives thereof.
  • polyoxyethylene alkyl ethers polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene cetyl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene behenyl ether and the like.
  • polyoxyethylene alkyl phenyl ether polyoxyethylene nonyl phenyl ether, polyoxyethylene octyl phenyl ether and the like.
  • polyoxyethylene alkyl esters polyethylene glycol monolaurate, polyethylene glycol monooleate, polyethylene glycol monostearate and the like.
  • sorbitan alkyl esters polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate, polyoxyethylene sorbitan monooleate and the like.
  • polyoxyethylene sorbitan alkyl ester polyoxyethylene sorbitan monolaurate, polyoxyethylene sorbitan monopalmitate, polyoxyethylene sorbitan monostearate and the like.
  • glycerol esters glycerol monomyristate, glycerol monostearate, glycerol monooleate and the like.
  • polyoxyethylene alkylamine polyoxyethylene alkylphenyl-formaldehyde condensate, polyoxyethylene alkyl ether phosphate, and the like.
  • the ethers and esters may have an HLB value of 10-18.
  • nonionic hydrocarbon surfactant examples include Triton (registered trademark) X series (X15, X45, X100, etc.), Tergitol (registered trademark) 15-S series, and Tergitol (registered trademark) TMN series manufactured by Dow Chemical Company. (TMN-6, TMN-10, TMN-100, etc.), Tergitol (registered trademark) L series, Pluronic (registered trademark) R series manufactured by BASF (31R1, 17R2, 10R5, 25R4 (m-22, n-23)) And Iconol (registered trademark) TDA series (TDA-6, TDA-9, TDA-10).
  • hydrocarbon-based anionic surfactant examples include Versatic (registered trademark) 10 of Resolution Performance Products, and Avanel S series (S-70, S-74, etc.) manufactured by BASF.
  • hydrocarbon surfactant examples include RLM (wherein R is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent, or a substituent. Is a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms, and when the number of carbon atoms is 3 or more, a monovalent or divalent heterocyclic ring may be contained or a ring may be formed.
  • RLM wherein R is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent, or a substituent. Is a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms, and when the number of carbon atoms is 3 or more, a monovalent or divalent heterocyclic ring may be contained or a ring may be formed.
  • R is an alkyl group having 12 to 16 carbon atoms and L is sulfate or sodium dodecyl sulfate (SDS) can also be used.
  • Other compounds having surface activity include R 6 (-LM) 2 (wherein R 6 is a linear or branched alkylene having 1 or more carbon atoms which may have a substituent.)
  • R 6 is a linear or branched alkylene having 1 or more carbon atoms which may have a substituent.
  • a group or a cyclic alkylene group having 3 or more carbon atoms which may have a substituent, and having 3 or more carbon atoms, may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring, or form a ring.
  • L is, -ArSO 3 -, -SO 3 - , -SO 4 -, - PO 3 - or -COO - a and, M is, H, a metal atom, NR b 4, substituted Optionally imidazolium, optionally substituted pyridinium or optionally substituted phosphonium, R b is H or an organic group, -ArSO 3 - is an arylsulfonate ) Are also included.
  • hydrocarbon surfactant examples include R 7 (-LM) 3 (wherein R 7 is a linear or branched alkylidyne group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent.) Or a cyclic alkylidene group having 3 or more carbon atoms which may have a substituent, and having 3 or more carbon atoms may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring or form a ring which may .L is, -ArSO 3 -, -SO 3 - , -SO 4 -, - PO 3 - or -COO - a and, M is, H, a metal atom, NR b 4, have a substituent
  • Optionally imidazolium, optionally substituted pyridinium or optionally substituted phosphonium, R b is H or an organic group, and -ArSO 3 - is an arylsulfonate. ) Are also included.
  • hydrocarbon surfactant examples include a siloxane hydrocarbon surfactant.
  • siloxane hydrocarbon-based surfactant examples include Silicone Surfactants, R.S. M. Hill, Marcel Dekker, Inc. And ISBN: 0-8247-1004.
  • the structure of the siloxane hydrocarbon-based surfactant contains distinct hydrophobic and hydrophilic moieties.
  • the hydrophobic moiety comprises one or more dihydrocarbylsiloxane units, wherein the substituents on the silicone atom are completely hydrocarbon.
  • siloxane hydrocarbon-based surfactants may also be considered as hydrocarbon surfactants, in the sense that a carbon atom of a hydrocarbyl group can be completely replaced by a hydrogen atom when it can be replaced by a halogen such as fluorine. Yes, ie, the monovalent substituent on a carbon atom of the hydrocarbyl group is hydrogen.
  • the hydrophilic portion of the siloxane hydrocarbon surfactant includes sulfate, sulfonate, phosphonate, phosphate, carboxylate, carbonate, sulfosuccinate, taurate (as free acid, salt or ester), phosphine oxide, betaine, betaine It may include one or more polar moieties containing ionic groups, such as copolyols, quaternary ammonium salts.
  • the ionic hydrophobic moiety can also include an ionically functionalized siloxane graft.
  • siloxane hydrocarbon-based surfactants include, for example, polydimethylsiloxane-graft- (meth) acrylate, polydimethylsiloxane-graft-polyacrylate salt and polydimethylsiloxane-grafted quaternary amine.
  • the polar portion of the hydrophilic portion of the siloxane hydrocarbon-based surfactant is a polyether such as polyethylene oxide (PEO) and mixed polyethylene oxide / propylene oxide polyether (PEO / PPO); monosaccharides and disaccharides; It may contain a non-ionic group formed by a water-soluble heterocycle such as pyrrolidinone.
  • the ratio of ethylene oxide to propylene oxide (EO / PO) can be varied in the mixed polyethylene oxide / propylene oxide polyether.
  • the hydrophilic portion of the siloxane hydrocarbon-based surfactant can also include a combination of ionic and non-ionic portions.
  • Such moieties include, for example, ionically terminally functionalized or randomly functionalized polyethers or polyols.
  • Preferred for the practice of the present disclosure are siloxanes having non-ionic moieties, ie, non-ionic siloxane surfactants.
  • the arrangement of the hydrophobic and hydrophilic portions of the structure of the siloxane hydrocarbon-based surfactant includes diblock polymer (AB), triblock polymer (ABA) (where "B” represents the siloxane portion of the molecule), Alternatively, it may be in the form of a multi-block polymer. Alternatively, the siloxane hydrocarbon-based surfactant may include a graft polymer.
  • Siloxane hydrocarbon surfactants are also disclosed in U.S. Patent No. 6,841,616.
  • siloxane-based hydrocarbon-based anionic surfactants examples include Lubrizol Advanced Materials, Inc. SilSense TM PE-100 silicone, SilSense TM CA-1 silicone available from Noveon® Consumer Specialties, Inc.
  • hydrocarbon-based anionic surfactant examples include a sulfosuccinate surfactant from Akzo Nobel Surface Chemistry LLC, such as Lancropol (registered trademark) K8300.
  • sulfosuccinate surfactant examples include diisodecyl sodium sulfosuccinate (Emulsogen (registered trademark) SB10 of Clariant), diisotridecyl sodium salt of sulfosuccinate (Polyrol (registered trademark) TR / LNA of Cesapinia Chemicals), and the like.
  • hydrocarbon-based surfactant examples include Omniva Solutions, Inc. PolyFox® surfactants (such as PolyFox TM PF-156A, PolyFox TM PF-136A).
  • the hydrocarbon-based surfactant is preferably a hydrocarbon-based anionic surfactant.
  • hydrocarbon-based anionic surfactants those described above can be employed.
  • hydrocarbon-based surfactants can be suitably employed.
  • hydrocarbon-based anionic surfactant examples include the following formula ( ⁇ ): R 100 -COOM ( ⁇ ) (Wherein, R 100 is a monovalent organic group containing one or more carbon atoms. M is H, a metal atom, NR 101 4 , an optionally substituted imidazolium, R 101 is H or an organic group, which may be the same or different, and the compound ( ⁇ ) represented by No. R 101 is preferably H or a C 1-10 organic group, more preferably H or a C 1-4 organic group. In terms of surface activity, the number of carbon atoms of R 100 is preferably 2 or more, 3 or more is more preferable.
  • the carbon number of R 100 is preferably 29 or less, more preferably 23 or less.
  • the metal atom of M include an alkali metal (Group 1) and an alkaline earth metal (Group 2), and Na, K or Li is preferable.
  • M is preferably H, a metal atom or NR 101 4, more preferably H, an alkali metal (Group 1), an alkaline earth metal (Group 2) or NR 101 4 , and H, Na, K, Li or NH 4 Is more preferred, Na, K or NH 4 is even more preferred, Na or NH 4 is particularly preferred, and NH 4 is most preferred.
  • Examples of the compound ( ⁇ ) include R 102 -COOM (where R 102 is a linear or branched alkyl group, alkenyl group, alkylene group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent, An alkenylene group, or a cyclic alkyl group, alkenyl group, alkylene group or alkenylene group having 3 or more carbon atoms which may have a substituent, which may contain an ether bond. May contain a monovalent or divalent heterocyclic ring, or may form a ring. M is the same as described above.). Specific examples include those represented by CH 3 — (CH 2 ) n —COOM (where n is an integer of 2 to 28, and M is the same as described above).
  • the compound ( ⁇ ) may not contain a carbonyl group (excluding the carbonyl group in the carboxyl group) from the viewpoint of emulsion stability.
  • the hydrocarbon-based surfactant containing no carbonyl group include the following formula (A): R-COO-M (A) Wherein R is an alkyl, alkenyl, alkylene or alkenylene group containing 6 to 17 carbon atoms, which may contain an ether linkage; M is H, a metal atom, NR 101 4, which may imidazolium substituted, which may have a substituent pyridinium, or substituted are also good phosphonium .R 101, which may be the same or different, H Or an organic group having 1 to 10 carbon atoms).
  • R is preferably an alkyl group or an alkenyl group (these may include an ether group).
  • the alkyl group or alkenyl group in R may be linear or branched.
  • the carbon number of R is not limited, but is, for example, 4 to 29.
  • R When the above alkyl group is linear, R preferably has 3 to 29 carbon atoms, more preferably 5 to 23 carbon atoms. When the alkyl group is branched, R preferably has 5 to 35 carbon atoms, and more preferably 11 to 23 carbon atoms. When the alkenyl group is linear, R preferably has 2 to 29 carbon atoms, and more preferably 9 to 23 carbon atoms. When the alkenyl group is branched, R preferably has 2 to 29 carbon atoms, and more preferably 9 to 23 carbon atoms.
  • alkyl group and alkenyl group examples include a methyl group, an ethyl group, an isobutyl group, a t-butyl group, and a vinyl group.
  • Examples of the compound ( ⁇ ) include butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, lauric acid, myristic acid, and pentadecyl acid.
  • At least one selected from the group consisting of lauric acid, capric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, and salts thereof is preferable.
  • the salt the metal atom of the formula M hydrogen of the carboxyl groups mentioned above, NR 11 4, which may imidazolium substituted, pyridinium which may have a substituent, or a substituent Examples thereof include those which may have phosphonium, but are not particularly limited.
  • the compound ( ⁇ ) (a carboxylic acid type hydrocarbon surfactant) particles having a small average primary particle diameter are obtained by polymerization, and a large number of particles are generated during the polymerization to efficiently produce a fluorine-containing polymer.
  • lauric acid, capric acid, myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, and at least one selected from the group consisting of these salts are preferred, lauric acid and salts thereof are more preferred, and salts of lauric acid are preferred. Are particularly preferred, and sodium laurate and ammonium laurate are most preferred.
  • R 1 to R 5 represent H or a monovalent substituent, provided that at least one of R 1 and R 3 is a group represented by the general formula: —YR 6 , R 2 And at least one of R 5 represents a group represented by the general formula: -XA or a group represented by the general formula: -YR 6 .
  • X is the same or different at each occurrence, and is a divalent linking group or a bond;
  • A is identical or different at each occurrence, -COOM, is -SO 3 M or -OSO 3 M (M, H, a metal atom, NR 7 4, which may imidazolium have a substituent, A pyridinium or a phosphonium which may have a substituent, R 7 is H or an organic group);
  • R 8 is H or an organic group;
  • R 6 is the same or different at each occurrence, and is an alkyl group having 2 or more carbon atoms which may contain at least one selected from the group consisting of a carbonyl group, an ester group, an amide group and a sulfon
  • the surfactant (1) will be described.
  • R 1 to R 5 represent H or a monovalent substituent, provided that at least one of R 1 and R 3 is a group represented by the general formula: —YR 6 , R 2 and At least one of R 5 represents a group represented by the general formula: -XA or a group represented by the general formula: -YR 6 . Any two of R 1 to R 5 may be bonded to each other to form a ring.
  • Examples of the substituent which the alkyl group as R 1 may have include a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A hydroxy group is preferred, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferred.
  • the alkyl group as R 1 preferably does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with halogen atoms, 50% or less may be substituted with halogen atoms, and 25% or less may be substituted with halogen atoms.
  • it is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • the alkyl group does not have any substituents.
  • R 1 is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms which may have a substituent. And a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms not containing a carbonyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms not containing a carbonyl group is more preferable. A straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 10 is more preferable, and a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 3 carbon atoms having no substituent is further more preferable. 3 ) or an ethyl group (—C 2 H 5 ) is particularly preferred, and a methyl group (—CH 3 ) is most preferred.
  • Examples of the monovalent substituent include a group represented by the general formula: -YR 6 , a group represented by the general formula: -XA, -H, a C 1-20 which may have a substituent.
  • Preferred are an alkyl group, -NH 2 , -NHR 9 (R 9 is an organic group), -OH, -COOR 9 (R 9 is an organic group) or -OR 9 (R 9 is an organic group).
  • the alkyl group preferably has 1 to 10 carbon atoms.
  • a C 1-10 alkyl group or a C 1-10 alkylcarbonyl group is preferable, and a C 1-4 alkyl group or a C 1-4 alkylcarbonyl group is more preferable.
  • X is the same or different at each occurrence, and represents a divalent linking group or a bond.
  • R 6 does not contain any of a carbonyl group, an ester group, an amide group and a sulfonyl group
  • X is a divalent group containing at least one selected from the group consisting of a carbonyl group, an ester group, an amide group and a sulfonyl group. Is preferable.
  • R 8 represents H or an organic group.
  • R 8 is preferably H or a C 1-10 organic group, more preferably an H or C 1-4 organic group, further preferably an H or C 1-4 alkyl group, and further preferably H.
  • A identical or different at each occurrence, -COOM, is -SO 3 M or -OSO 3 M (M, H, a metal atom, NR 7 4, good imidazolium be substituted , R 7 is H or an organic group, and the four R 7 s may be the same or different.) .
  • one of the preferable embodiments is that A is -COOM.
  • R 7 is preferably H or C 1-10 organic group, more preferably H or C 1-4 organic group, and still more preferably H or C 1-4 alkyl group.
  • the metal atom include an alkali metal (Group 1) and an alkaline earth metal (Group 2), and Na, K or Li is preferable.
  • the M, H, a metal atom or NR 7 4 are preferable, H, an alkali metal (Group 1), alkaline earth metal (Group 2) or NR 7 4, more preferably, H, Na, K, Li or NH 4 Is more preferred, Na, K or NH 4 is still more preferred, Na or NH 4 is particularly preferred, and NH 4 is most preferred.
  • Y is preferably a divalent linking group selected from the group consisting of a bond, —O—, —COO—, —OCO—, —CONR 8 — and —NR 8 CO—, and a bond, —COO— And a divalent linking group selected from the group consisting of and -OCO-.
  • R 8 is preferably H or a C 1-10 organic group, more preferably an H or C 1-4 organic group, further preferably an H or C 1-4 alkyl group, and further preferably H.
  • R 6 is the same or different at each occurrence, and has at least one kind selected from the group consisting of a carbonyl group, an ester group, an amide group and a sulfonyl group, having 2 or more carbon atoms which may contain between carbon-carbon atoms. Represents an alkyl group.
  • the carbon number of the organic group represented by R 6 is preferably 2 to 20, more preferably 2 to 10.
  • the alkyl group for R 6 may include one or more selected from the group consisting of a carbonyl group, an ester group, an amide group, and a sulfonyl group between carbon-carbon atoms. Does not include these groups.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with halogen atoms, 50% or less may be substituted with halogen atoms, and 25% or less of halogen atoms may be substituted with halogen atoms. May be substituted, but is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • R 6 A group represented by the general formula: —R 10 —CO—R 11 ; A group represented by the general formula: —R 10 —COO—R 11 ; General formula: a group represented by -R 11, A group represented by the general formula: —R 10 —NR 8 CO—R 11 , or A group represented by the general formula: -R 10 -CONR 8 -R 11 ; (Wherein, R 8 represents H or an organic group; R 10 is an alkylene group, and R 11 is an alkyl group which may have a substituent). As R 6 , a group represented by the general formula: —R 10 —CO—R 11 is more preferable.
  • R 8 is preferably H or a C 1-10 organic group, more preferably an H or C 1-4 organic group, further preferably an H or C 1-4 alkyl group, and further preferably H.
  • the carbon number of the alkylene group represented by R 10 is preferably 1 or more, more preferably 3 or more, preferably 20 or less, more preferably 12 or less, still more preferably 10 or less, and particularly preferably 8 or less. Further, the carbon number of the alkylene group of R 10 is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 10, and still more preferably 3 to 10.
  • the carbon number of the alkyl group of R 11 may be 1 to 20, preferably 1 to 15, more preferably 1 to 12, still more preferably 1 to 10, still more preferably 1 to 8, and 1 to 6 Particularly preferably, 1 to 3 are still more preferred, 1 or 2 is particularly preferred, and 1 is most preferred.
  • the alkyl group of R 11 is preferably composed of only primary carbon, secondary carbon, and tertiary carbon, and particularly preferably composed of only primary carbon and secondary carbon. That is, R 11 is preferably a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an isopropyl group, and particularly preferably a methyl group.
  • R 2 and R 5 are a group represented by the general formula: —XA, and A is —COOM. is there.
  • a compound represented by the general formula (1-1), a compound represented by the general formula (1-2) or a compound represented by the general formula (1-3) is preferable.
  • the compound represented by 1-1) or the compound represented by formula (1-2) is more preferable.
  • R 12 is a C 1-10 alkylene group.
  • Alkylene group of the R 12 may be substituted by 75% or less halogen atom of the hydrogen atoms bonded to carbon atoms, may be 50% or less is optionally substituted by halogen atom, 25% or less halogen atom May be substituted, but is preferably a non-halogenated alkylene group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • the group represented by the general formula: -YR 6 includes A group represented by the general formula: —R 10 —CO—R 11 ; A group represented by the general formula: —OCO—R 10 —CO—R 11 ; A group represented by the general formula: -COO-R 10 -CO-R 11 ; A group represented by the general formula: —OCO—R 10 —COO—R 11 ; General formula: a group represented by -COO-R 11, A group represented by the general formula: —NR 8 CO—R 10 —CO—R 11 , or A group represented by the general formula: -CONR 8 -R 10 -NR 8 CO-R 11 (wherein R 8 , R 10 and R 11 are as defined above) is preferable.
  • R 4 and R 5 are independently preferably H or a C 1-4 alkyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with halogen atoms, 50% or less may be substituted with halogen atoms, and 25% or less. May be substituted with a halogen atom, but is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • H or a C 1-20 alkyl group which may have a substituent is preferable, and H or a C 1-20 alkyl group which does not have a substituent is preferable. Is more preferable, and H is still more preferable.
  • the alkyl group represented by R 3 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with halogen atoms, 50% or less may be substituted with halogen atoms, and 25% or less of halogen atoms may be substituted with halogen atoms. May be substituted, but is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • H, OH or substituted preferably an alkyl group optionally C 1-20 also has no H, OH or a substituent C 1- 20 alkyl groups are more preferred, and H or OH is even more preferred.
  • the alkyl group represented by R 2 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with halogen atoms, 50% or less may be substituted with halogen atoms, and 25% or less of halogen atoms may be substituted with halogen atoms. May be substituted, but is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • R 1A to R 5A are H, a monovalent hydrocarbon group which may contain an ester group between carbon and carbon atoms, or a group represented by the general formula: -X A -A.
  • R 2A and R 5A represent a group represented by the general formula: -X A -A.
  • X A is the same or different at each occurrence, and is a divalent hydrocarbon group or a bond; A may be the same or different at each occurrence, -COOM (M is H, a metal atom, NR 7 4, which may imidazolium substituted, pyridinium which may have a substituent group or a substituted A phosphonium optionally having a group, R 7 is H or an organic group); Any two of R 1A to R 5A may be bonded to each other to form a ring. )) And the like (1-0A).
  • the monovalent hydrocarbon group which may include an ester group between carbon-carbon atoms preferably has 1 to 50 carbon atoms, and has 5 to 20 carbon atoms. Is more preferable. Any two of R 1A to R 5A may be bonded to each other to form a ring.
  • the monovalent hydrocarbon group which may contain an ester group between carbon-carbon atoms an alkyl group is preferable.
  • the divalent carbon number of the hydrocarbon group is 1 to 50, more preferably 5 to 20.
  • the divalent hydrocarbon group include an alkylene group and an alkanediyl group, and an alkylene group is preferable.
  • R 2A and R 5A are preferably a group represented by the general formula: -X A -A, and R 2A is preferably a group represented by the general formula: -X A- The group represented by A is more preferable.
  • R 2A is a group represented by the general formula: -X A -A, and R 1A , R 3A , R 4A and R 5A are H. It is. In this case, it is preferable X A is an alkylene group having a bond or a C 1-5.
  • R 2A is a group represented by the general formula: -X A -A, and R 1A and R 3A are represented by -Y A -R 6.
  • Y A is the same or different at each occurrence and is —COO—, —OCO— or a bond
  • R 6 is the same or different at each occurrence and is an alkyl group having 2 or more carbon atoms.
  • R 4A and R 5A are H.
  • hydrocarbon surfactant represented by the general formula (1-0A) examples include glutaric acid or a salt thereof, adipic acid or a salt thereof, pimelic acid or a salt thereof, suberic acid or a salt thereof, azelaic acid or a salt thereof. Salt, sebacic acid or a salt thereof, and the like.
  • the aliphatic carboxylic acid type hydrocarbon-based surfactant represented by the general formula (1-0A) may be a two-chain two-hydrophilic group-type synthetic surfactant, for example, a gemini-type surfactant.
  • Examples thereof include Gemini Surf (Chukyo Yushi Co., Ltd.), Gemsurf ⁇ 142 (12 carbon atoms lauryl group), Gemsurf ⁇ 102 (10 carbon atoms), Gemsurf ⁇ 182 (14 carbon atoms) and the like.
  • the surfactant (1) is obtained by reacting a carboxylic acid represented by the formula: R 6 —COOH (wherein R 6 is as described above) with a halogenating agent to form a formula: R 6 —COZ (formula Wherein R 6 is as described above, and Z is a halogen atom.)
  • R 6 carboxylic acid represented by the formula: R 6 —COOH
  • R 6 —COZ formulaula Wherein R 6 is as described above, and Z is a halogen atom.
  • the compound (12) can be suitably produced by a production method including a step (12) of obtaining a compound (12).
  • R 3 in the above formula of the acid compound a group represented by the general formula: -Z 11 H (where Z 11 is as described above) or -H is preferable.
  • R 3 is a group represented by the general formula: —Z 11 H
  • the group reacts with the carboxylic acid halide in step (12), and the general formula: —Z 11 —CO—R 6 (wherein R 6 and Z 11 are as described above.)
  • halogenating agent used in the step (11) oxalyl chloride, thionyl chloride, diethylaminosulfur trifluoride (DAST), Deoxo-Fluor (deoxofluoro), 1,1,2,2-tetrafluoro-N, N-dimethylethylamine (TFEDMA) and the like.
  • the reaction ratio between the carboxylic acid and the halogenating agent is set such that the amount of the halogenating agent is 0 with respect to 1 mol of the carboxylic acid in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste. It is preferably from 0.6 to 5.0 mol, more preferably from 0.8 to 2.0 mol. Further, the amount is preferably 0.5 to 10 mol, more preferably 0.6 to 5.0 mol.
  • the reaction in step (11) can be performed in a solvent.
  • the solvent include esters, ketones, aromatic hydrocarbons, ethers, nitrogen-containing polar organic compounds, halogenated hydrocarbons, nitriles, pyridines, and mixtures thereof.
  • ester examples include ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA; also known as 1-methoxy-2-acetoxypropane), and among them, ethyl acetate is preferable.
  • PGMEA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compound examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferred.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the reaction temperature in step (11) is preferably from 0 to 150 ° C, more preferably from 20 to 100 ° C. Further, it is preferably ⁇ 78 to 150 ° C., more preferably 0 to 100 ° C.
  • the reaction pressure in the step (11) is preferably from 0 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in the step (11) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the reaction ratio between the carboxylic acid halide and the acid compound is set such that the acid compound is 0 with respect to 1 mol of the carboxylic acid halide in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste. It is preferably from 0.5 to 10 mol, more preferably from 0.6 to 5.0 mol, even more preferably from 0.8 to 2.0 mol.
  • the reaction in step (12) is preferably performed in the presence of an acid.
  • the acid include sulfuric acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and the like, and among them, sulfuric acid is preferable.
  • the amount of the acid used in the step (12) is preferably 0.00001 to 1.0 mol, more preferably 0.0001 to 1 mol of the carboxylic acid halide, in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste.
  • 1.01.0 mol is more preferable, 0.00005-0.1 mol is more preferable, and 0.001-0.1 mol is particularly preferable.
  • the temperature of the reaction in the step (12) is preferably from 0 to 150 ° C, more preferably from 20 to 100 ° C.
  • the reaction pressure in the step (12) is preferably from 0 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in the step (12) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (1) also has the formula: (Wherein, R 1 to R 5 are as described above; Z 11 is —CH 2 O—, —O—, or —NH—), and a compound represented by the formula: (Where n is an integer of 1 to 5) by reacting with an acid anhydride represented by the formula: (Wherein, R 1 to R 5 , Z 11 , M and n are as described above).
  • the compound (21) can be suitably produced by a production method including a step (21) of obtaining a compound (21).
  • R 2 in the formula of the compound (20) a group represented by the general formula: -Z 11 H (where Z 11 is as described above) or -H is preferable.
  • R 2 is a group represented by the general formula: —Z 11 H
  • the group reacts with the acid anhydride in step (21), and the general formula: —Z 11 —CO— (CH 2 ) n —COOM (In the formula, Z 11 , M and n are as described above.)
  • Compound (20) may be a hydrochloride, a sulfate, or the like as long as it has a structure represented by the above formula.
  • the reaction ratio between the compound (20) and the acid anhydride is determined based on 1 mol of the compound (20) with respect to 1 mol of the compound (20) in consideration of an improvement in yield and a decrease in waste.
  • the reaction in step (21) can be carried out in the presence of a base.
  • Examples of the base include amine, potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate and the like.
  • amine examples include tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine, pyridine, Heteroaromatic amines such as pyrrole, uracil, collidine, lutidine, etc., 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3.0] -5- Examples include cyclic amines such as nonene, and pyridine or triethylamine is preferable.
  • tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine,
  • the reaction temperature in step (21) is preferably from 0 to 150 ° C, more preferably from 20 to 80 ° C. Further, it is preferably ⁇ 78 to 150 ° C., more preferably 0 to 100 ° C.
  • the reaction pressure in the step (21) is preferably from 0 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (21) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (1) also has the formula: (Wherein R 4 and R 5 are as described above) and an amine represented by the formula: R 6 R 8 —NH (wherein R 6 and R 8 are as described above). And reacting with the formula: (In the formula, R 4 to R 6 and R 8 are as described above), a step (31) of obtaining a compound (31), and Compound (31) and the formula: (Wherein M is as defined above) by reacting with a sulfonic acid chloride represented by the formula: (Wherein, R 4 to R 6 , R 8 and M are as described above).
  • the reaction ratio of the above tartaric acid ester and the above amine is 0.5 to 10 with respect to 1 mol of the above tartaric acid ester in consideration of improvement in yield and reduction of waste.
  • Mol more preferably 0.6 to 5.0 mol, even more preferably 1.2 to 5 mol, particularly preferably 1.6 to 5.0 mol.
  • the reaction in step (31) can be performed in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, and an alcohol, an ether, a halogenated hydrocarbon, a nitrogen-containing polar organic compound or a nitrile is more preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • ether examples include tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like.
  • nitrogen-containing polar organic compound examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferred.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, benzonitrile and the like.
  • the reaction temperature in step (31) is preferably from 0 to 150 ° C, more preferably from 20 to 100 ° C.
  • the reaction pressure in the step (31) is preferably from 0 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (31) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the reaction ratio of the compound (31) with the chlorosulfonic acid is preferably 1 mol of the compound (31) with respect to 1 mole of the compound (31) in consideration of an improvement in yield and a decrease in waste. Is preferably 1.0 to 50 mol, more preferably 1.6 to 20 mol.
  • the reaction in step (32) is preferably performed in the presence of a base.
  • a base examples include an alkali metal hydroxide, an alkaline earth metal hydroxide, and an amine. Among them, an amine is preferable.
  • Examples of the amine in the step (32) include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, and N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine.
  • Heteroaromatic amines such as primary amine, pyridine, pyrrole, uracil, collidine, lutidine, etc., 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3. 0] -5-nonene and the like.
  • triethylamine is preferred.
  • the amount of the base to be used in step (32) is preferably 0.1 to 50 mol, and more preferably 1.0 to 20 mol, per 1 mol of compound (31), in consideration of improvement in yield and reduction in waste. Molar is more preferred.
  • the reaction in step (32) can be performed in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and a nitrile, a halogenated hydrocarbon, dimethyl sulfoxide, sulfolane, a nitrogen-containing polar organic compound or an ether is more preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compound examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferred.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, and diethylene glycol diethyl ether. Among them, diethyl ether is preferable.
  • the reaction temperature in the step (32) is preferably -78 to 150 ° C, more preferably -78 to 100 ° C, further preferably -20 to 100 ° C, and particularly preferably 10 to 50 ° C.
  • the reaction pressure in the step (32) is preferably from 0 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 Pa.
  • the reaction time in the step (32) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (1) also has the formula: Wherein R 1 and R 3 to R 5 are as described above, and an alcohol represented by the formula: (Where n is an integer of 1 to 5) by reacting with an acid anhydride represented by the formula: (Wherein R 1 , R 3 to R 5 , M and n are as described above).
  • the compound (41) can be suitably produced by a production method including a step (41) of obtaining a compound (41).
  • the reaction ratio of the above-mentioned alcohol and the above-mentioned acid anhydride is preferably 0.5 to 0.5 mol per 1 mol of the above-mentioned alcohol in consideration of an improvement in yield and a decrease in waste.
  • the reaction in the step (41) can be carried out in the presence of a base.
  • Examples of the base include amine, potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate and the like.
  • amine examples include tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine, pyridine, Heteroaromatic amines such as pyrrole, uracil, collidine, lutidine and the like, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3.0] -5- Examples include cyclic amines such as nonene, and pyridine or triethylamine is preferable.
  • tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine,
  • the reaction temperature in the step (41) is preferably -78 to 150 ° C, more preferably 0 to 150 ° C, still more preferably 0 to 100 ° C, and particularly preferably 20 to 80 ° C.
  • the reaction pressure in the step (41) is preferably from 0 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (41) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (1) also has the formula: (Wherein R 4 and R 5 are as described above) and an amine represented by the formula: R 6 R 8 —NH (wherein R 6 and R 8 are as described above). And reacting with the formula: (In the formula, R 4 to R 6 and R 8 are as described above), a step (31) of obtaining a compound (31), and Compound (31) and a compound represented by the formula: (Where n is an integer of 1 to 5) by reacting with an acid anhydride represented by the formula: (Wherein, R 4 to R 6 , R 8 , M and n are as described above).
  • the reaction ratio between the compound (31) and the acid anhydride is determined based on 1 mol of the compound (31) with respect to 1 mol of the compound (31) in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste.
  • the reaction in the step (51) can be carried out in the presence of a base.
  • Examples of the base include amine, potassium hydroxide, sodium hydroxide, potassium carbonate and the like.
  • amine examples include tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine, pyridine, Heteroaromatic amines such as pyrrole, uracil, collidine, lutidine and the like, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3.0] -5- Examples include cyclic amines such as nonene, and pyridine or triethylamine is preferable.
  • tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine,
  • the reaction temperature in the step (51) is preferably -78 to 150 ° C, more preferably 0 to 150 ° C, still more preferably 0 to 100 ° C, and particularly preferably 20 to 80 ° C.
  • the reaction pressure in the step (51) is preferably from 0 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (51) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (1) also reacts an alcohol represented by the formula: R 6 —OH (where R 6 is as described above) with a fumaric acid halide to form a compound represented by the formula: (Wherein, R 6 is as described above) (61) to obtain a compound (61) represented by the following formula: (Wherein R 6 and X are as described above).
  • the compound (62) can be suitably produced by a production method including a step (62) of obtaining a compound (62).
  • Examples of the fumaric acid halide used in the step (61) include fumaryl chloride, fumaryl fluoride, fumaryl bromide and the like.
  • the reaction ratio of the fumaric acid halide with respect to 1 mol of the alcohol is 0 with respect to the reaction ratio of the alcohol and the fumaric acid halide in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste. It is preferably from 1 to 10 mol, more preferably from 0.1 to 2.0 mol, even more preferably from 0.1 to 2.0 mol, and more preferably from 0.2 to 0.7 mol. It is particularly preferred that there is.
  • the reaction in the step (61) can be carried out in a solvent.
  • the solvent include esters, ketones, aromatic hydrocarbons, ethers, nitrogen-containing polar organic compounds, halogenated hydrocarbons, nitriles, pyridines, and mixtures thereof.
  • ester examples include ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA; also known as 1-methoxy-2-acetoxypropane), and among them, ethyl acetate is preferable.
  • PGMEA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compound examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferred.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the reaction temperature in step (61) is preferably from -78 to 200 ° C, more preferably from -20 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the step (61) is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in step (61) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • a compound (62) is produced by an addition reaction between the compound (61) having a double bond and a sulfonating agent such as sodium bisulfite.
  • the reaction ratio between the compound (61) and the sulfonating agent is determined based on 1 mole of the compound (61) with respect to 1 mole of the compound (61) in consideration of improvement in yield and reduction of waste.
  • Step (62) can be performed in a solvent.
  • a water-soluble solvent is preferable, and examples thereof include water, alcohol, ether, and nitrile.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • ether examples include tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the reaction temperature in the step (62) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably -20 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the step (62) is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in the step (62) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (1) also has the formula: (Wherein, R 10 , R 11 and Y are as described above). (Wherein R 10 , R 11 and Y are as described above; A 100 is —OH or —OSO 3 M. M is as described above) including a step (71) of obtaining a compound (71) represented by It can be suitably manufactured by a manufacturing method.
  • the sulfate esterification in the step (71) can be carried out by reacting the compound (70) with a sulfate reagent.
  • a sulfate reagent examples include sulfur trioxide pyridine complexes, sulfur trioxide trimethylamine complexes, sulfur trioxide amine complexes such as sulfur trioxide amine complexes, sulfur trioxide amide complexes such as sulfur trioxide dimethylformamide complexes, and sulfuric acid-dicyclohexylcarbodiimide. , Chlorosulfuric acid, concentrated sulfuric acid, sulfamic acid and the like.
  • the amount of the sulfating reagent to be used is preferably 0.5 to 10 mol, more preferably 0.5 to 5 mol, and still more preferably 0.7 to 4 mol, per 1 mol of compound (70).
  • amount of the sulfating reagent used one or both of the two —OH groups of the compound (20) can be sulfated.
  • the sulfate esterification in the step (71) can be performed in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, pyridine, dimethyl sulfoxide, sulfolane, and nitrile.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the temperature of the sulfate esterification in the step (71) is preferably from -78 to 200 ° C, more preferably from -20 to 150 ° C.
  • the pressure for sulfate esterification in the step (71) is preferably from 0 to 10 MPa, more preferably from 0.1 to 5 MPa.
  • the time for the sulfate esterification in the step (71) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Compound (70) also has the formula: (Wherein R 10 and Y are as described above, and R 100 is an alkyl group). (Wherein R 10 , R 100 and Y are as described above) (101) to obtain a compound (101) represented by The compound (101) can be produced by a production method including a step (102) of oxidizing the compound (101) to obtain a compound (70).
  • the alkyl group as R 100 constitutes R 11 described above as R 100 —CH 2 —.
  • the hydroxylation in the step (101) can be performed, for example, by (1) a method of reacting the compound (100) with iron phthalocyanine (II) (Fe (Pc)) and sodium borohydride in an oxygen atmosphere, or (2) a compound ( 100) is reacted with isopinocampheylborane (IpcBH 2 ), and then the resulting intermediate (dialkylborane) is oxidized.
  • II iron phthalocyanine
  • Pc isopinocampheylborane
  • the amount of iron (II) phthalocyanine may be a catalytic amount, and can be used in an amount of 0.001 to 1.2 mol based on 1 mol of the compound (100).
  • sodium borohydride can be used in an amount of 0.5 to 20 mol based on 1 mol of the compound (100).
  • the reaction of the method (1) can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, nitriles, and nitrogen-containing polar organic compounds.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compound examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferred.
  • the reaction temperature of the method (1) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably 0 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the method (1) is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of the method (1) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • isopinocampheylborane can be used in an amount of 0.1 to 10.0 mol based on 1 mol of the compound (100).
  • the reaction of compound (100) with isopinocampheylborane can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • reaction temperature of compound (100) with isopinocampheylborane is preferably from -78 to 200 ° C, more preferably from 0 to 150 ° C.
  • reaction pressure of compound (100) with isopinocampheylborane is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of the compound (100) with isopinocampheylborane is preferably from 0.1 to 72 hours, more preferably from 0.1 to 48 hours.
  • the oxidation in the method (2) can be carried out by allowing an oxidizing agent to act on the above intermediate.
  • the oxidizing agent include hydrogen peroxide.
  • the oxidizing agent can be used in an amount of 0.7 to 10 mol based on 1 mol of the intermediate.
  • the oxidation in the method (2) can be performed in a solvent.
  • the solvent include water, methanol, ethanol and the like, with water being preferred.
  • the oxidation temperature in the method (2) is preferably -78 to 150 ° C, more preferably 0 to 100 ° C, and still more preferably 10 to 80 ° C.
  • the oxidation pressure in the method (2) is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the oxidation time in the method (2) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • step (102) as a method of oxidizing the compound (101), for example, (a) a method using a Jones reagent (CrO 3 / H 2 SO 4 ) (Jones oxidation), (b) Dess-Martin periodinane ( DMP) (Dess-Martin oxidation), (c) Pyridinium chlorochromate (PCC), (d) Bleaching agent (about 5-6% aqueous solution of NaOCl in the presence of nickel compound such as NiCl 2 ) (E) a method of reacting a hydrogen acceptor such as an aldehyde or a ketone in the presence of an aluminum catalyst such as Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Oppenauer oxidation) Is mentioned.
  • a hydrogen acceptor such as an aldehyde or a ketone
  • an aluminum catalyst such as Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Oppenauer oxid
  • the oxidation in step (102) can be performed in a solvent.
  • the solvent is preferably water or an organic solvent, and includes water, ketone, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, nitrile and the like.
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the oxidation temperature in the step (102) is preferably -78 to 200 ° C, and can be appropriately selected depending on the method to be adopted.
  • the oxidation pressure in the step (102) is preferably 0 to 5.0 MPa, and can be appropriately selected according to the method to be employed.
  • the oxidation time in the step (102) is preferably 0.1 to 72 hours, and can be appropriately selected according to the method to be adopted.
  • Compound (70) also has the formula: (Wherein R 10 , R 11 and Y are as described above, and R 101 is an organic group). (201) Step of subjecting compound (200) represented by the following formula to ozonolysis to obtain compound (70). It can be manufactured by a manufacturing method including:
  • R 101 an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable.
  • the four R 101 may be the same or different.
  • the ozonolysis in the step (201) can be carried out by reacting the compound (200) with ozone and then performing post-treatment with a reducing agent.
  • Ozone can be generated by silent discharge in oxygen gas.
  • Examples of the reducing agent used for the post-treatment include zinc, dimethyl sulfide, thiourea, and phosphines, and among them, phosphines are preferable.
  • the ozonolysis in the step (201) can be performed in a solvent.
  • the above-mentioned solvent is preferably water and an organic solvent, and includes water, alcohol, carboxylic acids, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon and the like.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol. Of these, methanol and ethanol are preferred.
  • carboxylic acids examples include acetic acid and propionic acid. Of these, acetic acid is preferred.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the temperature of the ozonolysis in the step (201) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably 0 to 150 ° C.
  • the pressure for ozonolysis in the step (201) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the ozonolysis time in the step (201) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Compound (70) also has the formula: (Wherein R 10 and Y are as described above; R 100 is an alkyl group). (Wherein R 10 , R 100 and Y are as described above) (301) to obtain a compound (301) represented by the formula: Compound (301) is reacted with lithium dialkyl copper lithium represented by R 102 2 CuLi (R 102 is an alkyl group) to obtain a compound represented by the formula: (Wherein R 10 , R 100 , R 102 and Y are as described above) (302) to obtain a compound (302) represented by the formula: The compound (302) can be produced by a production method including a step (303) of obtaining a compound (70) by oxidation.
  • R 100 and R 102 constitute R 11 described above as R 100 R 102 —CH—.
  • the two R 100 may be the same or different.
  • the two R 102 may be the same or different.
  • the epoxidation in the step (301) can be carried out by reacting the compound (300) with an epoxidizing agent.
  • the epoxidizing agent examples include metachloroperbenzoic acid (m-CPBA), perbenzoic acid, hydrogen peroxide, and peracids such as tert-butyl hydroperoxide, dimethyldioxirane, methyltrifluoromethyldioxirane, and the like. Of these, peracids are preferred, and metachloroperbenzoic acid is more preferred.
  • the epoxidizing agent can be used in an amount of 0.5 to 10.0 mol based on 1 mol of compound (300).
  • Epoxidation in step (301) can be performed in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ketones, ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, nitriles, pyridine, nitrogen-containing polar organic compounds, and dimethyl sulfoxide. Of these, dichloromethane is preferable.
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compound examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferred.
  • the epoxidation temperature in the step (301) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably -40 to 150 ° C.
  • the epoxidation pressure in the step (301) is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the epoxidation time in the step (301) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the lithium dialkyl copper can be used in an amount of 0.5 to 10.0 mol based on 1 mol of the compound (301).
  • the reaction of step (302) can be performed in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the reaction temperature in the step (302) is preferably from -78 to 200 ° C, more preferably from -40 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the step (302) is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in the step (302) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • step (303) as a method for oxidizing the compound (302), for example, (a) a method using a Jones reagent (CrO 3 / H 2 SO 4 ) (Jones oxidation), (b) Dess-Martin periodinane ( DMP) (Dess-Martin oxidation), (c) Pyridinium chlorochromate (PCC), (d) Bleaching agent (about 5-6% aqueous solution of NaOCl in the presence of nickel compound such as NiCl 2 ) (E) a method of reacting a hydrogen acceptor such as an aldehyde or a ketone in the presence of an aluminum catalyst such as Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Oppenauer oxidation) Is mentioned.
  • a hydrogen acceptor such as an aldehyde or a ketone
  • an aluminum catalyst such as Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Oppenauer oxid
  • the oxidation in step (303) can be performed in a solvent.
  • the solvent is preferably water or an organic solvent, and includes water, ketone, alcohol, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, nitrile and the like.
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol. Of these, methanol and ethanol are preferred.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the oxidation temperature in the step (303) is preferably -78 to 200 ° C., and can be appropriately selected depending on the method to be adopted.
  • the oxidation pressure in the step (303) is preferably 0 to 5.0 MPa, and can be appropriately selected according to the method to be adopted.
  • the oxidation time in the step (303) is preferably 0.1 to 72 hours, and can be appropriately selected depending on the method to be employed.
  • Compound (70) also has the formula: (Wherein R 10 and Y are as described above; R 100 is an alkyl group.)
  • a production method including a step (401) of oxidizing a compound (400) represented by the formula (401) to obtain a compound (70). Can be manufactured.
  • the oxidation in the step (401) can be carried out by allowing an oxidizing agent to act on the compound (400) in the presence of water and a palladium compound.
  • the oxidizing agent examples include copper chloride, copper acetate, copper cyanide, monovalent or divalent copper salts such as copper trifluoromethanethiol, iron chloride, iron acetate, iron cyanide, iron trifluoromethanethiol, and iron hexacyano.
  • Benzoquinones such as iron salts, 1,4-benzoquinone, 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone, tetrachloro-1,2-benzoquinone, tetrachloro-1,4-benzoquinone, H Examples include 2 O 2 , MnO 2 , KMnO 4 , RuO 4 , m-chloroperbenzoic acid, oxygen and the like, or a combination thereof. Among them, copper salts, iron salts and benzoquinones are preferred, and copper chloride, iron chloride and 1,4-benzoquinone are more preferred.
  • the oxidizing agent can be used in an amount of 0.001 to 10 mol based on 1 mol of the compound (400).
  • the amount of water can be used in an amount of 0.5 to 1000 mol per 1 mol of compound (400).
  • Examples of the palladium compound include palladium dichloride.
  • the amount of the palladium compound may be a catalytic amount, and can be used in an amount of 0.0001 to 1.0 mol based on 1 mol of the compound (400).
  • the oxidation in step (401) can be performed in a solvent.
  • the solvent include water, esters, aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, alcohols, carboxylic acids, ethers, halogenated hydrocarbons, polar organic compounds containing nitrogen, nitrile, dimethyl sulfoxide, and sulfolane.
  • ester examples include ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA; also known as 1-methoxy-2-acetoxypropane), and among them, ethyl acetate is preferable.
  • PGMEA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • aliphatic hydrocarbon examples include hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, mineral spirit, and the like. Of these, cyclohexane and heptane are preferred.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • carboxylic acids examples include acetic acid and propionic acid. Of these, acetic acid is preferred.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compound examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferred.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the oxidation temperature in the step (401) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably -20 to 150 ° C.
  • the oxidation pressure in the step (401) is preferably from 0 to 10 MPa, more preferably from 0.1 to 5.0 MPa.
  • the oxidation time in the step (401) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Compound (100), compound (300) and compound (400) have the formula: (Wherein R 10 and Y are as described above; R 100 is an alkyl group).
  • a production method comprising a step (501) of reacting an aldehyde represented by formula (50) with a reducing agent to obtain a compound (100). Can be manufactured.
  • the aldehyde is dimerized by a reductive coupling reaction to produce a compound (100), a compound (300) and a compound (400).
  • the reducing agent used in the step (501) includes samarium diiodide, titanium dichloride, vanadium trichloride, titanium tetrachloride, bis (cyclooctadiene) nickel, copper, magnesium, zinc, sodium, cerium trichloride, Chromium, triphenyltin hydride and the like.
  • the above reducing agents may be used in combination.
  • the amount of the reducing agent to be used is preferably from 0.001 to 10 mol, more preferably from 0.01 to 5 mol, even more preferably from 0.1 to 2 mol, per 1 mol of the above-mentioned aldehyde.
  • the reaction in the step (501) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, and ether, a halogenated hydrocarbon, pyridine, a nitrile, an aromatic hydrocarbon and the like are more preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the reaction in the step (501) is preferably performed in the presence of an alcohol.
  • the alcohol include methanol, ethanol, and isopropanol.
  • the reaction temperature in the step (501) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably -20 to 100 ° C.
  • the reaction pressure in the step (501) is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in the step (501) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the purity of the obtained compound may be increased by distilling off the solvent, or performing distillation, purification, or the like.
  • M is H, such as —COOH, —SO 3 H, and —OSO 3 H
  • these groups are brought into a salt form by contacting with an alkali such as sodium carbonate or ammonia.
  • an alkali such as sodium carbonate or ammonia.
  • the hydrocarbon-based surfactant also includes a hydrocarbon-based surfactant having at least one carbonyl group (excluding a carbonyl group in a carboxyl group).
  • Examples of the hydrocarbon surfactant having one or more carbonyl groups include a compound represented by the formula: R—X (where R is a carbonyl group (provided that A fluorine-free organic group having 1 to 2000 carbon atoms having at least one carbonyl group (excluding a carbonyl group), and X represents —OSO 3 X 1 , —COOX 1, or —SO 3 X 1 (X 1 represents H, metal atoms, NR 1 4, which may imidazolium substituted, have a substituent a good phosphonium optionally having also good pyridinium or a substituent, R 1 is H or an organic radical And may be the same or different.))
  • R—X where R is a carbonyl group (provided that A fluorine-free organic group having 1 to 2000 carbon atoms having at least one carbonyl group (excluding a carbonyl group), and X represents —OSO 3 X 1 , —COOX 1, or —SO 3 X 1 (
  • R preferably has a carbon number of 500 or less, more preferably 100 or less, further preferably 50 or less, and still more preferably 30 or less.
  • the hydrocarbon surfactant the following formula (a): (Wherein, R 1a is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms, and a hydrogen atom bonded to a carbon atom forms a hydroxy group or an ester bond. May be substituted by a monovalent organic group containing a carbonyl group having 2 or more carbon atoms, or a monovalent or divalent heterocyclic ring having 3 or more carbon atoms.
  • R 2a and R 3a are independently a single bond or a divalent linking group .
  • R 1a, R 2a and R 3a are 6 or more carbon atoms in total .
  • X a Is H, a metal atom, NR 4a 4 , an optionally substituted imidazolium, an optionally substituted pyridinium or an optionally substituted phosphonium, and R 4a is H or an organic group, which may be the same or different .
  • R 1a, R 2a and R 3a is that attached to any 2 Tsugaotagai, may form a ring surfactant represented by) (a), the following formula (b): (Wherein, R 1b is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms which may have a substituent.
  • R 2b and R 4b may be the case of three or more carbon atoms to form a ring include a monovalent or divalent heterocyclic are independently H or a substituent .
  • R 3b is , An alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, n is an integer of 1 or more, p and q are each independently an integer of 0 or more, and X b is H , A metal atom, NR 5b 4 , an optionally substituted imidazolium, an optionally substituted pyridinium or an optionally substituted phosphonium, and R 5b is H or organic.
  • a group may be the same or different .
  • R 1b, R 2b, R 3b and R 4b have Re or bind to 2 Tsugaotagai may .L other to form a ring is a single bond, -CO 2 -B - *, - OCO-B - *, - CONR 6b -B - *, - NR 6b CO-B- * or -CO- (excluding the carbonyl group contained in -CO 2 -B-, -OCO-B-, -CONR 6b -B-, and -NR 6 CO-B-) B is a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, and R 6b is H or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a substituent.
  • a surfactant (b) represented by the following formula (c): (Wherein, R 1c is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms, and a hydrogen atom bonded to a carbon atom forms a hydroxy group or an ester bond. May be substituted by a monovalent organic group containing a carbonyl group having 2 or more carbon atoms, or a monovalent or divalent heterocyclic ring having 3 or more carbon atoms.
  • R 2c and R 3c are independently a single bond or a divalent linking group .
  • R 1c, R 2c and R 3c are 5 or more total carbon atoms .
  • a c Is -COOX c or -SO 3 X c (X c is H, a metal atom, NR 4c 4 , an imidazolium which may have a substituent, a pyridinium which may have a substituent or a substituent is a good phosphonium also have a, R 4c is Or an organic group and may be the same or different.)
  • R 2d and R 4d be the case of 3 or more carbon atoms to form a ring include a monovalent or divalent heterocyclic are independently H or a substituent .
  • R 3d is , a is .n alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, a is .p and q is an integer of 1 or more, independently, an integer of 0 or more .
  • a d is - SO 3 X d or —COOX d (X d is H, a metal atom, NR 5d 4 , imidazolium optionally having a substituent, pyridinium optionally having a substituent, or a substituent even though a good phosphonium, R 5d is H or an organic group and may be the same or different.
  • R 1d, R 2d, R 3d and R 4d are attached to one or two Tsugaotagai, they may form a ring .
  • L is a single bond, -CO 2 -B - *, - OCO -B - *, - CONR 6d -B - *, - NR 6d CO-B- *, or, -CO- (where, -CO 2 -B -, - OCO -B -, - CONR 6d -B-, -NR 6d CO-B- excluding a carbonyl group), B is a single bond or an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent, and R 6d is H or substituted Is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a group.
  • * Indicates a side bonded to Ad in the formula.) Selected from the group consisting of surfactants (d) At least one of these is more preferred.
  • the surfactant (a) will be described.
  • R 1a is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms.
  • the alkyl group may include a monovalent or divalent heterocyclic ring, or may form a ring.
  • the heterocyclic ring is preferably an unsaturated heterocyclic ring, more preferably an oxygen-containing unsaturated heterocyclic ring, and examples include a furan ring.
  • the “carbon number” of the alkyl group includes the number of carbon atoms constituting the carbonyl group and the number of carbon atoms constituting the heterocyclic ring.
  • the group represented by-has 7 carbon atoms, and the group represented by CH 3 -C ( O)-has 2 carbon atoms.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted by a functional group, for example, a hydroxyl group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond may be substituted, Preferably it is not substituted by any functional group.
  • R 101a is an alkyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with halogen atoms, 50% or less may be substituted with halogen atoms, and 25% or less may be substituted with halogen atoms.
  • it is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • R 2a and R 3a are each independently a single bond or a divalent linking group.
  • R 2a and R 3a are independently a single bond, a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms, or a cyclic alkylene group having 3 or more carbon atoms.
  • the alkylene group constituting R 2a and R 3a preferably does not contain a carbonyl group.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted with a functional group.
  • the hydrogen atom may be substituted with a hydroxy group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond.
  • a monovalent organic group containing an ester bond Preferably it is not substituted by any functional group.
  • alkylene group 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with a halogen atom, 50% or less may be substituted with a halogen atom, and 25% or less may be substituted with a halogen atom.
  • a non-halogenated alkylene group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • R 1a , R 2a and R 3a have a total of 6 or more carbon atoms.
  • the total carbon number is preferably 8 or more, more preferably 9 or more, still more preferably 10 or more, preferably 20 or less, more preferably 18 or less, and still more preferably 15 or less. Any two of R 1a , R 2a and R 3a may be bonded to each other to form a ring.
  • Xa is H, a metal atom, NR 4a 4 , an imidazolium which may have a substituent, a pyridinium which may have a substituent, or a group which has a substituent.
  • a good phosphonium and R 4a is H or an organic group.
  • the four R 4a may be the same or different.
  • R 4a is preferably H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably H or an organic group having 1 to 4 carbon atoms.
  • the metal atom include monovalent and divalent metal atoms, such as an alkali metal (Group 1) and an alkaline earth metal (Group 2). Na, K or Li is preferable.
  • Xa is NH 4
  • the solubility of the surfactant in an aqueous medium is excellent, and the metal component hardly remains in the PTFE or the final product.
  • R 1a is a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms not containing a carbonyl group, a cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms not containing a carbonyl group, and 1 to 10 carbonyl groups And a linear or branched alkyl group having 2 to 45 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 45 carbon atoms including a carbonyl group, or a monovalent or divalent complex having 3 to 45 carbon atoms Alkyl groups containing rings are preferred.
  • R 1a is represented by the following formula: (In the formula, n 11a is an integer of 0 to 10, R 11a is a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 to 5 carbon atoms, and R 12a Is an alkylene group having 0 to 3 carbon atoms. When n 11a is an integer of 2 to 10, R 12a may be the same or different.
  • n 11a is preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 3, and still more preferably an integer of 1 to 3.
  • the alkyl group as R 11a preferably does not contain a carbonyl group.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted by a functional group, for example, a hydrogen group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond. However, it is preferably not substituted by any functional group.
  • the hydrogen atom bonded to the carbon atom may be substituted with a halogen atom, 50% or less may be substituted with a halogen atom, and 25% or less may be substituted with a halogen atom.
  • a halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • R 12a is an alkylene group having 0 to 3 carbon atoms. The number of carbon atoms is preferably 1 to 3.
  • the alkylene group as R 12a may be linear or branched.
  • the alkylene group as R 12a preferably does not contain a carbonyl group.
  • R 12a is more preferably an ethylene group (—C 2 H 4 —) or a propylene group (—C 3 H 6 —).
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted by a functional group, for example, a hydrogen atom (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond. However, it is preferably not substituted by any functional group.
  • R 104a is an alkyl group.
  • the alkylene group as R 12a 75% or less of a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted with a halogen atom, 50% or less may be substituted with a halogen atom, and 25% or less may be substituted with a halogen atom.
  • it may be substituted by an atom, it is preferably a non-halogenated alkylene group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • R 2a and R 3a independently, an alkylene group having 1 or more carbon atoms not containing a carbonyl group is preferable, an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms not containing a carbonyl group is more preferable, and an ethylene group (—C 2 H 4 -) or propylene group (-C 3 H 6 -) is more preferred.
  • surfactant (a) examples include the following surfactants.
  • Xa is as described above.
  • the surfactant (a) is a novel compound and can be produced, for example, by the following production method.
  • the surfactant (a) has the formula: (Wherein the R 3a as described above, E a is a leaving group.)
  • R 21a represents a single bond or a divalent linking group
  • an olefin represented by the formula: (Wherein R 1a , R 21a , R 3a and E a are as described above) (12a) to obtain a compound (12a)
  • the leaving group of the compound (12a) is eliminated to form a compound represented by the formula: (Wherein R 1a , R 21a and R 3a are as described above) (13a) to obtain a compound (13a) represented by the formula: Compound (13a) and a compound represented by the formula: (Wherein Xa is as described above), and reacted with a sulfonic acid chloride represented by the formula: (Wherein R 1a , R 21a , R 3a and Xa are as described above), and can be produced by a production method including a step (14a) of obtaining a compound (14a) represented by the following formula:
  • R 1a contains a furan ring
  • the furan ring may be opened with an acid to convert to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, with acetic acid being preferred.
  • step (11a) it is preferable to react the lithium and the chlorosilane compound in advance to obtain a siloxylithium compound, and then to react the siloxylithium compound with the compound (10a) to obtain the compound (11a).
  • Ea represents a leaving group.
  • the leaving group include a tert-butyldimethylsilyl (TBS) group, a triethylsilyl (TES) group, a triisopropylsilyl (TIPS) group, a tert-butyldiphenylsilyl (TBDPS) group, and a benzyl (Bn) group.
  • TBS tert-butyldimethylsilyl
  • TES triethylsilyl
  • TIPS triisopropylsilyl
  • TDPS tert-butyldiphenylsilyl
  • Bn benzyl
  • R 21a a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms is preferable.
  • chlorosilane compound for example, Is mentioned.
  • any reaction in step (11a) can be performed in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and ether is more preferable.
  • the ether include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the reaction temperature of the lithium and the chlorosilane compound in the step (11a) is preferably from 10 to 40 ° C., more preferably from 20 to 30 ° C.
  • the temperature of the reaction between the siloxylithium compound and compound (10a) in step (11a) is preferably -100 to 0 ° C, more preferably -80 to -50 ° C.
  • the reaction pressure of lithium and the chlorosilane compound in the step (11a) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the pressure of the reaction between the siloxylithium compound and compound (10a) in step (11a) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time of the lithium and the chlorosilane compound in the step (11a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 6 to 10 hours.
  • the reaction time of the siloxylithium compound with the compound (10a) in the step (11a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 1 to 2 hours.
  • the reaction ratio of the compound (11a) and the olefin is 1 to 2 with respect to 1 mol of the compound (11a) in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste.
  • Mole preferably 1 to 1.1 mole.
  • the reaction in the step (12a) can be carried out in a solvent in the presence of a thiazolium salt and a base.
  • thiazolium salt examples include 3-ethyl-5- (2-hydroxyethyl) -4-methylthiazolium bromide and 3-benzyl-5- (2-hydroxyethyl) -4-methylthiazolium chloride.
  • Examples of the base include 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, triethylamine and the like.
  • an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an alcohol and an ether are further preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the reaction temperature in the step (12a) is preferably from 40 to 60 ° C, more preferably from 50 to 55 ° C.
  • the reaction pressure in the step (12a) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (12a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 6 to 10 hours.
  • the elimination reaction of the leaving group in the step (13a) can be carried out by using a fluoride ion or an acid.
  • the method for removing the leaving group include a method using hydrofluoric acid, a method using an amine complex of hydrogen fluoride such as pyridine / nHF or triethylamine / nHF, cesium fluoride, potassium fluoride, and lithium borofluoride. (LiBF 4 ), a method using an inorganic salt such as ammonium fluoride, and a method using an organic salt such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF).
  • TBAF tetrabutylammonium fluoride
  • the elimination reaction of the leaving group in the step (13a) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and ether is more preferable.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the reaction temperature in the step (13a) is preferably from 0 to 40 ° C, more preferably from 0 to 20 ° C.
  • the reaction pressure in the step (13a) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in step (13a) is preferably from 0.1 to 72 hours, more preferably from 3 to 8 hours.
  • the reaction ratio between the compound (13a) and the chlorinated sulfonic acid is determined based on 1 mol of the compound (13a) with respect to 1 mol of the compound (13a) in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste. Is preferably 1 to 2 mol, more preferably 1 to 1.1 mol.
  • the reaction in step (14a) is preferably performed in the presence of a base.
  • a base examples include an alkali metal hydroxide, an alkaline earth metal hydroxide, and an amine. Of these, an amine is preferable.
  • Examples of the amine in the step (14a) include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, and N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine.
  • Heteroaromatic amines such as primary amine, pyridine, pyrrole, uracil, collidine, lutidine, etc., 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3. 0] -5-nonene and the like. Of these, triethylamine and pyridine are preferred.
  • the amount of the base to be used in step (14a) is preferably 1 to 2 mol, more preferably 1 to 1.1 mol, per 1 mol of compound (13a), in consideration of the improvement in yield and the reduction of waste. More preferred.
  • the reaction in step (14a) can be performed in a polar solvent.
  • a polar solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and ether is more preferable.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which diethyl ether is preferable.
  • the reaction temperature in step (14a) is preferably from 0 to 40 ° C, more preferably from 0 to 20 ° C.
  • the reaction pressure in the step (14a) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in step (14a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 12 hours.
  • a solution containing compound (14a) is obtained after the completion of the reaction. After adding water to the above solution, the solution may be allowed to stand and separated into two phases, the aqueous phase may be recovered, and the solvent may be distilled off to recover the high-purity compound (14a).
  • the compound (14a) has a group represented by —OSO 3 H (that is, when X is H)
  • an aqueous alkali solution such as an aqueous sodium hydrogen carbonate solution or aqueous ammonia instead of water, It is also possible to convert -OSO 3 H to sulfate groups.
  • the purity of the obtained compound may be increased by distilling off the solvent, or performing distillation, purification, or the like.
  • Surfactant (a) also has the formula: (. Wherein the R 3a as described above, is R 22a 1 monovalent organic group, E a is a leaving group) with a ketone represented by the formula: (Wherein, R 1a is as described above, and R 23a is a monovalent organic group.) (Wherein R 1a , R 3a and E a are as described above, and R 24a is a single bond or a divalent linking group) (21a) to obtain a compound (21a) The leaving group of compound (21a) is removed to form a compound represented by the formula: (Wherein R 1a , R 24a and R 3a are as described above) (22a) to obtain a compound (22a) represented by the formula: Compound (22a) and a compound represented by the formula: (Wherein Xa is as described above), and reacted with a sulfonic acid chloride represented by the formula: (Wherein, R 1a , R 24a , R 3a and Xa
  • R 1a contains a furan ring
  • the furan ring may be opened with an acid to convert to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, with acetic acid being preferred.
  • Ea represents a leaving group.
  • the leaving group include a tert-butyldimethylsilyl (TBS) group, a triethylsilyl (TES) group, a triisopropylsilyl (TIPS) group, a tert-butyldiphenylsilyl (TBDPS) group, and a benzyl (Bn) group.
  • TBS tert-butyldimethylsilyl
  • TES triethylsilyl
  • TIPS triisopropylsilyl
  • TDPS tert-butyldiphenylsilyl
  • Bn benzyl
  • R 22a a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable.
  • R 23a a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable.
  • R 24a a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms is preferable, and a methylene group (—CH 2 —) is more preferable.
  • the reaction in the step (21a) can be carried out in a solvent in the presence of a base.
  • Examples of the base include sodium amide, sodium hydride, sodium methoxide, sodium ethoxide and the like.
  • an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an alcohol and an ether are further preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the reaction temperature in the step (21a) is preferably from 0 to 40 ° C, more preferably from 0 to 20 ° C.
  • the reaction pressure in the step (21a) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (21a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the elimination reaction of the leaving group in the step (22a) can be carried out by using a fluoride ion or an acid.
  • the method for removing the leaving group include a method using hydrofluoric acid, a method using an amine complex of hydrogen fluoride such as pyridine / nHF or triethylamine / nHF, cesium fluoride, potassium fluoride, and lithium borofluoride. (LiBF 4 ), a method using an inorganic salt such as ammonium fluoride, and a method using an organic salt such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF).
  • TBAF tetrabutylammonium fluoride
  • the elimination reaction of the leaving group in the step (22a) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and ether is more preferable.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the reaction temperature in the step (22a) is preferably from 0 to 40 ° C, more preferably from 0 to 20 ° C.
  • the reaction pressure in the step (22a) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (22a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the reaction ratio of the compound (22a) with the chlorosulfonic acid is preferably 1 mole of the compound (22a) with respect to 1 mole of the compound (22a) in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste. Is preferably 1 to 2 mol, more preferably 1 to 1.1 mol.
  • the reaction in step (23a) is preferably performed in the presence of a base.
  • a base examples include an alkali metal hydroxide, an alkaline earth metal hydroxide, and an amine. Of these, an amine is preferable.
  • Examples of the amine in the step (23a) include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, and N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine.
  • Heteroaromatic amines such as primary amine, pyridine, pyrrole, uracil, collidine, lutidine, etc., 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3. 0] -5-nonene and the like. Of these, triethylamine and pyridine are preferred.
  • the amount of the base to be used in the step (23a) is preferably 1 to 2 mol, preferably 1 to 1.1 mol, per 1 mol of the compound (22a), in consideration of improvement in yield and reduction in waste. More preferred.
  • the reaction in step (23a) can be performed in a polar solvent.
  • a polar solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and ether is more preferable.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which diethyl ether is preferable.
  • the reaction temperature in the step (23a) is preferably from 0 to 40 ° C, more preferably from 0 to 20 ° C.
  • the reaction pressure in the step (23a) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in step (23a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 12 hours.
  • a solution containing the compound (23a) is obtained after the completion of the reaction. After adding water to the solution, the solution may be allowed to stand and separated into two phases, the aqueous phase may be recovered, and the solvent may be distilled off to recover the high-purity compound (23a).
  • the compound (23a) has a group represented by —OSO 3 H (that is, when X is H)
  • an aqueous alkali solution such as an aqueous sodium hydrogen carbonate solution or aqueous ammonia is used in place of water, It is also possible to convert -OSO 3 H to sulfate groups.
  • the purity of the obtained compound may be increased by distilling off the solvent, or performing distillation, purification, or the like.
  • Surfactant (a) also has the formula: Y a -R 3a -OE a (. Wherein the R 3a as described above, Y a is a halogen atom, E a is a leaving group) and an alkyl halide represented by the formula: (Wherein R 1a is as described above), and reacted with lithium acetylide represented by the formula: (Wherein R 1a , R 3a and E a are as described above) (31a) to obtain a compound (31a) Compound (31a) is oxidized to give a compound of formula (Wherein R 1a , R 3a and E a are as described above) (32a) to obtain a compound (32a) The leaving group of compound (32a) is removed to form a compound represented by the formula: (Wherein R 1a and R 3a are as described above) (33a) to obtain a compound (33a) represented by the formula: Compound (33a) and a compound represented by the formula: (Where
  • R 1a contains a furan ring
  • the furan ring may be opened with an acid to convert to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, with acetic acid being preferred.
  • Ea represents a leaving group.
  • the leaving group include a tert-butyldimethylsilyl (TBS) group, a triethylsilyl (TES) group, a triisopropylsilyl (TIPS) group, a tert-butyldiphenylsilyl (TBDPS) group, and a benzyl (Bn) group.
  • TBS tert-butyldimethylsilyl
  • TES triethylsilyl
  • TIPS triisopropylsilyl
  • TDPS tert-butyldiphenylsilyl
  • Bn benzyl
  • the reaction ratio of the alkyl halide to the lithium acetylide is determined based on the ratio of the lithium acetylide to 1 mole of the alkyl halide in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste.
  • the amount is preferably 2 to 2 mol, more preferably 1 to 1.2 mol.
  • the reaction in step (31a) can be performed in a solvent.
  • Hexane is preferred as the solvent.
  • the temperature of the reaction in the step (31a) is preferably from -100 to -40 ° C, more preferably from -80 to -50 ° C.
  • the reaction pressure in the step (31a) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (31a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 6 to 10 hours.
  • the oxidation in the step (32a) is performed by [(Cn * ) Ru III (CF 3 CO 2 ) 3 ] ⁇ H 2 O (where Cn * is 1,4,7-trimethyl-1,4,7-triazabicyclo Nonane) is treated with (NH 4 ) 2 Ce (NO 3 ) 6 and trifluoroacetic acid, and then carried out in a nitrile solvent using a complex formed by adding sodium perchlorate.
  • the compound (32a) may be neutralized with an alkali and the compound (32a) may be extracted using an organic solvent such as ether.
  • the reaction temperature in the step (32a) is preferably from 30 to 100 ° C, more preferably from 40 to 90 ° C.
  • the reaction pressure in the step (32a) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (32a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the elimination reaction of the leaving group in the step (33a) can be carried out by using a fluoride ion or an acid.
  • the method for removing the leaving group include a method using hydrofluoric acid, a method using an amine complex of hydrogen fluoride such as pyridine / nHF or triethylamine / nHF, cesium fluoride, potassium fluoride, and lithium borofluoride. (LiBF 4 ), a method using an inorganic salt such as ammonium fluoride, and a method using an organic salt such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF).
  • TBAF tetrabutylammonium fluoride
  • the elimination reaction of the leaving group in the step (33a) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and ether is more preferable.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the reaction temperature in step (33a) is preferably from 0 to 40 ° C, more preferably from 0 to 20 ° C.
  • the reaction pressure in the step (33a) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (33a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the reaction ratio between the compound (33a) and the chlorinated sulfonic acid is determined based on 1 mol of the compound (33a) with respect to 1 mol of the compound (33a) in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste. Is preferably 1 to 2 mol, more preferably 1 to 1.1 mol.
  • the reaction in step (34a) is preferably performed in the presence of a base.
  • a base examples include an alkali metal hydroxide, an alkaline earth metal hydroxide, and an amine. Of these, an amine is preferable.
  • Examples of the amine in the step (34a) include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, and N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine.
  • Heteroaromatic amines such as primary amine, pyridine, pyrrole, uracil, collidine, lutidine, etc., 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3. 0] -5-nonene and the like. Of these, triethylamine and pyridine are preferred.
  • the amount of the base to be used in step (34a) is preferably 1 to 2 mol, and preferably 1 to 1.1 mol, per 1 mol of compound (33a), in consideration of improvement in yield and reduction in waste. More preferred.
  • the reaction in step (34a) can be performed in a polar solvent.
  • a polar solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and ether is more preferable.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which diethyl ether is preferable.
  • the reaction temperature in the step (34a) is preferably from 0 to 40 ° C, more preferably from 0 to 20 ° C.
  • the reaction pressure in the step (34a) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in step (34a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 12 hours.
  • a solution containing the compound (34a) is obtained after the completion of the reaction.
  • the mixture may be allowed to stand to be separated into two phases, the aqueous phase may be recovered, and the solvent may be distilled off to recover the high-purity compound (34a).
  • the compound (34a) has a group represented by —OSO 3 H (that is, when X is H)
  • an aqueous alkali solution such as an aqueous sodium hydrogen carbonate solution or aqueous ammonia instead of water, It is also possible to convert -OSO 3 H to sulfate groups.
  • the purity of the obtained compound may be increased by distilling off the solvent, or performing distillation, purification, or the like.
  • Surfactant (a) also has the formula: (. Wherein the R 1a as described above, R 21a represents a single bond or a divalent linking group) and alkene represented by the formula: ( Wherein , Y 51a is an alkoxyl group) by reacting with an alkyne represented by the formula: (Wherein, R 1a and R 21a are as described above.) (41a) obtaining a compound (41a) represented by Compound (41a) has the formula: (Wherein Xa is as described above), and reacted with a sulfonic acid chloride represented by the formula: (Wherein R 1a , R 21a and X a are as described above).
  • R 1a contains a furan ring
  • the furan ring may be opened with an acid to convert to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, with acetic acid being preferred.
  • R 21a a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms is preferable.
  • the reaction ratio of the alkene to the alkyne is 0.5 to 2 mols per 1 mol of the alkynes in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste. Preferably, it is 0.6 to 1.2 moles.
  • the reaction in the step (41a) is preferably performed in the presence of a metal catalyst.
  • the metal includes ruthenium and the like.
  • the amount of the metal catalyst used in the step (41a) is preferably 0.01 to 0.4 mol, more preferably 0.05 to 0.4 mol, per 1 mol of the alkene, in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste. 0.1 mole is more preferred.
  • the reaction in step (41a) can be performed in a polar solvent.
  • a polar solvent water, acetonitrile, dimethylacetamide, and dimethylformamide are preferable.
  • the reaction temperature in the step (41a) is preferably from 20 to 160 ° C, more preferably from 40 to 140 ° C.
  • the reaction pressure in the step (41a) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (41a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 4 to 8 hours.
  • the reaction ratio of the compound (41a) and the chlorosulfonic acid is determined based on 1 mol of the compound (41a) with respect to 1 mol of the compound (41a) in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste. Is preferably 1 to 2 mol, more preferably 1 to 1.1 mol.
  • the reaction in the step (42a) is preferably performed in the presence of a base.
  • a base include an alkali metal hydroxide, an alkaline earth metal hydroxide, and an amine. Of these, an amine is preferable.
  • Examples of the amine in the step (42a) include trimethylamine, triethylamine, tributylamine, N, N-dimethylaniline, dimethylbenzylamine, and N, N, N ′, N′-tetramethyl-1,8-naphthalenediamine.
  • Heteroaromatic amines such as tertiary amines, pyridine, pyrrole, uracil, collidine, lutidine and the like, 1,8-diaza-bicyclo [5.4.0] -7-undecene, 1,5-diaza-bicyclo [4.3. 0] -5-nonene and the like. Of these, triethylamine and pyridine are preferred.
  • the amount of the base to be used in step (42a) is preferably 1 to 2 mol, more preferably 1 to 1.1 mol, per 1 mol of compound (41a), in consideration of the improvement in yield and reduction of waste. More preferred.
  • the reaction in step (42a) can be performed in a polar solvent.
  • a polar solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and ether is more preferable.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which diethyl ether is preferable.
  • the reaction temperature in the step (42a) is preferably from 0 to 40 ° C, more preferably from 0 to 20 ° C.
  • the reaction pressure in the step (42a) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (42a) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 12 hours.
  • a solution containing the compound (42a) is obtained after the completion of the reaction.
  • the mixture may be allowed to stand and separated into two phases, the aqueous phase may be recovered, and the solvent may be distilled off to recover the high-purity compound (42a).
  • an aqueous alkali solution such as an aqueous sodium hydrogen carbonate solution or aqueous ammonia is used in place of water, It is also possible to convert -OSO 3 H to sulfate groups.
  • the purity of the obtained compound may be increased by distilling off the solvent, or performing distillation, purification, or the like.
  • R 1b represents a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms which may have a substituent. Group.
  • the alkyl group may include a monovalent or divalent heterocyclic ring, or may form a ring.
  • the heterocyclic ring is preferably an unsaturated heterocyclic ring, more preferably an oxygen-containing unsaturated heterocyclic ring, and examples include a furan ring.
  • the “carbon number” of the alkyl group includes the number of carbon atoms constituting the heterocyclic ring.
  • Examples of the substituent which the alkyl group as R 1b may have include a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A hydroxy group is preferred, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferred.
  • the alkyl group as R 1b preferably does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with halogen atoms, 50% or less may be substituted with halogen atoms, and 25% or less may be substituted with halogen atoms.
  • it is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • the alkyl group does not have any substituents.
  • R 1b is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms which may have a substituent. And a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms not containing a carbonyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms not containing a carbonyl group is more preferable. A straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 10 is more preferable, and a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 3 carbon atoms having no substituent is still more preferable. 3 ) or an ethyl group (—C 2 H 5 ) is particularly preferred, and a methyl group (—CH 3 ) is most preferred.
  • R 2b and R 4b are independently H or a substituent.
  • a plurality of R 2b and R 4b may be the same or different.
  • R 2b and R 4b is preferably a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a hydroxy group. And an ethyl group are particularly preferred.
  • the alkyl group as R 2b and R 4b preferably does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with halogen atoms, 50% or less may be substituted with halogen atoms, and 25% or less may be substituted with halogen atoms.
  • it is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • the alkyl group does not have any substituents.
  • Examples of the alkyl group as R 2b and R 4b include a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms not containing a carbonyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms not containing a carbonyl group. And more preferably a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 10 carbon atoms not containing a carbonyl group, and a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 3 carbon atoms having no substituent. Is more preferable, and a methyl group (—CH 3 ) or an ethyl group (—C 2 H 5 ) is particularly preferable.
  • R 2b and R 4b are independently preferably H or a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and not containing a carbonyl group, and H or 1 to 3 carbon atoms having no substituent. Is more preferably H, a methyl group (—CH 3 ) or an ethyl group (—C 2 H 5 ), and H is particularly preferable.
  • R 3b is an optionally substituted alkylene group having 1 to 10 carbon atoms. When a plurality of R 3b are present, they may be the same or different.
  • the alkylene group preferably does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with a halogen atom, 50% or less may be substituted with a halogen atom, and 25% or less may be substituted with a halogen atom.
  • it is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • the alkylene group does not have any substituents.
  • alkylene group examples include a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkylene group having 3 to 10 carbon atoms which may have a substituent.
  • a linear or branched alkylene group having 1 to 10 carbon atoms not containing a carbonyl group or a cyclic alkylene group having 3 to 10 carbon atoms not containing a carbonyl group is preferred.
  • a linear or branched alkylene group of 1 to 10 is more preferable, and a methylene group (—CH 2 —), an ethylene group (—C 2 H 4 —), an isopropylene group (—CH (CH 3 ) CH 2 ) -) Or a propylene group (-C 3 H 6- ) is more preferred.
  • R 1b , R 2b , R 3b and R 4b may be bonded to each other to form a ring, but preferably do not form a ring.
  • n is an integer of 1 or more.
  • n is preferably an integer of 1 to 40, more preferably an integer of 1 to 30, further preferably an integer of 5 to 25, particularly preferably an integer of 5 to 9, and 11 to 25.
  • p and q are each independently an integer of 0 or more.
  • p is preferably an integer of 0 to 10, more preferably 0 or 1.
  • q is preferably an integer of 0 to 10, and more preferably an integer of 0 to 5.
  • n, p and q are integers of 5 or more in total.
  • the total of n, p and q is more preferably an integer of 8 or more.
  • the total of n, p and q is also preferably an integer of 60 or less, more preferably an integer of 50 or less, and further preferably an integer of 40 or less.
  • X b represents H, a metal atom, NR 5b 4 , an imidazolium which may have a substituent, a pyridinium which may have a substituent, or a group which has a substituent.
  • a good phosphonium and R 5b is H or an organic group.
  • the four R 5b may be the same or different.
  • R 5b H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and H or an organic group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable.
  • the metal atom include monovalent and divalent metal atoms, such as an alkali metal (Group 1) and an alkaline earth metal (Group 2). Na, K or Li is preferable.
  • X b may be a metal atom or NR 5b 4 (R 5b is as described above).
  • Xb is NH 4
  • the solubility of the surfactant in an aqueous medium is excellent, and the metal component hardly remains in the PTFE or the final product.
  • L is a single bond, -CO 2 -B- *, -OCO-B- *, -CONR 6b -B- *, -NR 6b CO-B- *, or -CO- ( However, carbonyl groups included in —CO 2 —B—, —OCO—B—, —CONR 6b —B—, and —NR 6 CO—B— are excluded.)
  • B has a single bond or a substituent. Is an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, and R 6b is H or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which may have a substituent. More preferably, the alkylene group has 1 to 5 carbon atoms. Further, R 6 is more preferably H or a methyl group. * Indicates the side bound to -OSO 3 X b in the formula.
  • L is preferably a single bond.
  • the surfactant (b) preferably has an integral value of 10% or more of the total peak intensity observed in a chemical shift range of 2.0 to 5.0 ppm in the 1 H-NMR spectrum.
  • the above surfactant (b) preferably has an integrated value of the total peak intensity observed in a chemical shift range of 2.0 to 5.0 ppm in the 1 H-NMR spectrum within the above range.
  • the surfactant preferably has a ketone structure in the molecule.
  • the integral value is more preferably 15 or more, preferably 95 or less, more preferably 80 or less, and even more preferably 70 or less.
  • the above integral value is measured at room temperature in a heavy water solvent. Heavy water is set to 4.79 ppm.
  • the surfactant (b) for example, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, CH 3 C (O) CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, (CH 3) 3 CC (O ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, (CH 3) 2 CHC (O ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, (CH 2) 5 CHC (O ) CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 CH 2 OSO 3 Na, (CH 2) 5 CHC (O ) CH
  • Surfactant (b) is a novel compound and can be produced, for example, by the following production method.
  • R 11b is H, a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent.) Or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms which may have a substituent, and having 3 or more carbon atoms may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring or form a ring.
  • L is a single bond, -CO 2 -B- *, -OCO-B- *, -CONR 6b -B- *, -NR 6b CO-B- *, or -CO- (however, -CO 2 -B-, -OCO-B-, -CONR 6b -B- and -NR 6b except for the carbonyl group contained in CO-B-), and B is a single bond or a carbon which may have a substituent.
  • R 6b is, H, or may have a substituent group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms ..
  • Step (11b) of obtaining compound (11b), The following formula: (where L, R 2b to R 4b , R 11b , n, p and q are as described above) (12b), and Compound (12b) is sulfated to give the following formula: (Wherein L, R 2b to R 4b , R 11b , n, p, q and Xb are as described above), which can be produced by a production method including a step (13b) of obtaining a compound (13b) represented by the following formula: .
  • the alkyl group as R 11b preferably does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted with a halogen atom, 50% or less may be substituted with a halogen atom, and 25% or less of a halogen atom may be substituted with a halogen atom.
  • it may be substituted by an atom, it is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • the alkyl group does not have any substituents.
  • R 11b is H, a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent, or a cyclic alkyl group having 3 to 9 carbon atoms which may have a substituent.
  • An alkyl group is preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms not containing H or a carbonyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 9 carbon atoms not containing a carbonyl group is more preferable.
  • a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 9 carbon atoms having no substituent is more preferable, and H, a methyl group (—CH 3 ) or an ethyl group (—C 2 H 5 ) is still more preferable.
  • H or a methyl group (—CH 3 ) is particularly preferred, and H is most preferred.
  • the hydroxylation in the step (11b) can be performed, for example, by (1) a method of reacting the compound (10b) with iron phthalocyanine (II) (Fe (Pc)) and sodium borohydride in an oxygen atmosphere, or (2) a compound ( After reacting isopinocampheylborane (IpcBH 2 ) with 10b), the resulting intermediate (dialkylborane) can be oxidized.
  • II iron phthalocyanine
  • IpcBH 2 isopinocampheylborane
  • the amount of the iron (II) phthalocyanine may be a catalytic amount, and can be used in an amount of 0.001 to 1.2 mol based on 1 mol of the compound (10b).
  • sodium borohydride can be used in an amount of 0.5 to 20 mol based on 1 mol of the compound (10b).
  • the reaction of the method (1) can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, nitriles, and nitrogen-containing polar organic compounds.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compound examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferred.
  • the reaction temperature of the method (1) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably 0 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the method (1) is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of the method (1) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • isopinocampheylborane can be used in an amount of 1.0 to 10.0 mol based on 1 mol of the compound (10b).
  • the reaction between compound (10b) and isopinocampheylborane can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the reaction temperature of the compound (10b) with isopinocampheylborane is preferably from -78 to 200 ° C, more preferably from 0 to 150 ° C.
  • the pressure for the reaction between the compound (10b) and isopinocampheylborane is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time of the compound (10b) with isopinocampheylborane is preferably from 0.1 to 72 hours, more preferably from 0.1 to 48 hours.
  • the oxidation in the method (2) can be carried out by allowing an oxidizing agent to act on the above intermediate.
  • the oxidizing agent include hydrogen peroxide.
  • the oxidizing agent can be used in an amount of 0.7 to 10 mol based on 1 mol of the intermediate.
  • the oxidation in the method (2) can be performed in a solvent.
  • the solvent include water, methanol, ethanol and the like, with water being preferred.
  • the oxidation temperature in the method (2) is preferably from 0 to 100 ° C, more preferably from 0 to 80 ° C.
  • the oxidation pressure in the method (2) is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the oxidation time in the method (2) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • step (12b) as a method for oxidizing the compound (11b), for example, (a) a method using Jones reagent (CrO 3 / H 2 SO 4 ) (Jones oxidation), (b) Dess-Martin periodinane ( DMP) (Dess-Martin oxidation), (c) Pyridinium chlorochromate (PCC), (d) Bleaching agent (about 5-6% aqueous solution of NaOCl in the presence of nickel compound such as NiCl 2 ) (E) a method of reacting a hydrogen acceptor such as an aldehyde or a ketone in the presence of an aluminum catalyst such as Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Oppenauer oxidation) Is mentioned.
  • a hydrogen acceptor such as an aldehyde or a ketone
  • an aluminum catalyst such as Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Oppenauer oxidation
  • the oxidation in step (12b) can be performed in a solvent.
  • the solvent is preferably water or an organic solvent, and includes water, ketone, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, nitrile and the like.
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the oxidation temperature in the step (12b) is preferably -78 to 200 ° C, and can be appropriately selected depending on the method to be adopted.
  • the oxidation pressure in the step (12b) is preferably 0 to 5.0 MPa, and can be appropriately selected according to the method to be adopted.
  • the oxidation time in the step (12b) is preferably 0.1 to 72 hours, and can be appropriately selected according to the method to be adopted.
  • the sulfate esterification in the step (13b) can be carried out by reacting the compound (12b) with a sulfate reagent.
  • the sulfating reagent include sulfur trioxide pyridine complexes, sulfur trioxide trimethylamine complexes, sulfur trioxide amine complexes such as sulfur trioxide amine complexes, sulfur trioxide amide complexes such as sulfur trioxide dimethylformamide complexes, and sulfuric acid-dicyclohexylcarbodiimide. , Chlorosulfuric acid, concentrated sulfuric acid, sulfamic acid and the like.
  • the amount of the sulfating reagent to be used is preferably 0.5 to 10 mol, more preferably 0.5 to 5 mol, and still more preferably 0.7 to 4 mol, per 1 mol of compound (12b).
  • the sulfate esterification in the step (13b) can be performed in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, pyridine, dimethyl sulfoxide, sulfolane, and nitrile.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the temperature of the sulfate esterification in the step (13b) is preferably from -78 to 200 ° C, more preferably from -20 to 150 ° C.
  • the pressure for sulfate esterification in the step (13b) is preferably 0 to 10 MPa, more preferably 0.1 to 5 MPa.
  • the time for sulfate esterification in the step (13b) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • Surfactant (b) also has the following formula: (Wherein L, R 1b to R 4b , n, p and q are as described above, and R 101b is an organic group). ( Where L, R 1b to R 4b , n, p and q are as described above) (21b) to obtain a compound (21b) represented by the formula: Compound (21b) is sulfated to give the following formula: (Wherein L, R 1b to R 4b , n, p, q and Xb are as defined above).
  • R 101b an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms is preferable.
  • the two R 101b may be the same or different.
  • the ozonolysis in the step (21b) can be carried out by reacting the compound (20b) with ozone and then performing a post-treatment with a reducing agent.
  • Ozone can be generated by silent discharge in oxygen gas.
  • Examples of the reducing agent used for the post-treatment include zinc, dimethyl sulfide, thiourea, and phosphines, and among them, phosphines are preferable.
  • the ozonolysis in step (21b) can be performed in a solvent.
  • the above-mentioned solvent is preferably water and an organic solvent, and includes water, alcohol, carboxylic acids, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon and the like.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol. Of these, methanol and ethanol are preferred.
  • carboxylic acids examples include acetic acid and propionic acid. Of these, acetic acid is preferred.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the ozonolysis temperature in the step (21b) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably 0 to 150 ° C.
  • the pressure for ozonolysis in the step (21b) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the ozonolysis time in the step (21b) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the sulfate esterification in the step (22b) can be carried out by reacting the compound (21b) with a sulfate reagent, and the same conditions as the sulfate esterification in the step (13b) can be employed.
  • R 21b is H, a linear or branched C 1 or more carbon atom which may have a substituent.
  • An alkyl group or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms which may have a substituent, and having 3 or more carbon atoms forms a ring including a monovalent or divalent heterocyclic ring.
  • Epoxidized compound (30b) represented by the following formula: (where L, R 2b to R 4b , R 21b , n, p and q are as described above) (31b) to obtain a compound (31b) Compound (31b) and R 22b 2 CuLi (R 22b is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent or 3 carbon atoms which may have a substituent The above-mentioned cyclic alkyl group, and when it has 3 or more carbon atoms, it may contain a monovalent or divalent heterocyclic ring or may form a ring.) The following formula: ( Where L, R 2b to R 4b , R 21b , R 22b , n, p and q are as described above) (32b) to obtain a compound (32b) The compound (32b) is oxidized to give the following formula: (where L, R 2b to R 4b , R 21b , R
  • the alkyl group as R 21b preferably does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted with a halogen atom, 50% or less may be substituted with a halogen atom, and 25% or less of a halogen atom may be substituted with a halogen atom.
  • it may be substituted by an atom, it is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • the alkyl group does not have any substituents.
  • R 21b represents H, a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms which may have a substituent, or a cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms which may have a substituent.
  • An alkyl group is preferable, and a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms not containing H or a carbonyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms not containing a carbonyl group is more preferable.
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms having no substituent is more preferable, H or a methyl group (—CH 3 ) is particularly preferable, and H is most preferable.
  • the alkyl group as R 22b preferably does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of the hydrogen atom bonded to the carbon atom may be substituted with a halogen atom, 50% or less may be substituted with a halogen atom, and 25% or less may be substituted with a halogen atom.
  • it may be substituted by an atom, it is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • the alkyl group does not have any substituents.
  • R 22b is a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms which may have a substituent, or a cyclic alkyl group having 3 to 9 carbon atoms which may have a substituent. And a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms not containing a carbonyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 9 carbon atoms not containing a carbonyl group is more preferable, and having no substituent.
  • a linear or branched alkyl group having 1 to 9 carbon atoms is more preferable, a methyl group (—CH 3 ) or an ethyl group (—C 2 H 5 ) is particularly preferable, and a methyl group (—CH 3 ) is most preferable. preferable.
  • the two R 22b may be the same or different.
  • R 21b and R 22b preferably have a total of 1 to 7 carbon atoms, more preferably 1 to 2, and most preferably 1.
  • the epoxidation in the step (31b) can be carried out by reacting the compound (30b) with an epoxidizing agent.
  • the epoxidizing agent examples include metachloroperbenzoic acid (m-CPBA), perbenzoic acid, hydrogen peroxide, peracids such as tert-butyl hydroperoxide, dimethyldioxirane, methyltrifluoromethyldioxirane, and the like. Of these, peracids are preferred, and metachloroperbenzoic acid is more preferred.
  • the epoxidizing agent can be used in an amount of 0.5 to 10.0 mol per 1 mol of compound (30b).
  • Epoxidation in step (31b) can be performed in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include ketones, ethers, halogenated hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, nitriles, pyridine, nitrogen-containing polar organic compounds, and dimethyl sulfoxide. Of these, dichloromethane is preferable.
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compound examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferred.
  • the epoxidation temperature in the step (31b) is preferably from -78 to 200 ° C, more preferably from -40 to 150 ° C.
  • the epoxidation pressure in the step (31b) is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the epoxidation time in the step (31b) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the lithium dialkyl copper can be used in an amount of 0.5 to 10.0 mol based on 1 mol of the compound (31b).
  • the reaction of step (32b) can be performed in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the reaction temperature in the step (32b) is preferably from -78 to 200 ° C, more preferably from -40 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the step (32b) is preferably 0 to 5.0 MPa, more preferably 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in the step (32b) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • step (33b) as a method for oxidizing the compound (32b), for example, (a) a method using a Jones reagent (CrO 3 / H 2 SO 4 ) (Jones oxidation), and (b) Dess-Martin periodinane ( DMP) (Dess-Martin oxidation), (c) Pyridinium chlorochromate (PCC), (d) Bleaching agent (about 5-6% aqueous solution of NaOCl in the presence of nickel compound such as NiCl 2 ) (E) a method of reacting a hydrogen acceptor such as an aldehyde or a ketone in the presence of an aluminum catalyst such as Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Oppenauer oxidation) Is mentioned.
  • a hydrogen acceptor such as an aldehyde or a ketone
  • an aluminum catalyst such as Al (CH 3 ) 3 or Al [OCH (CH 3 ) 2 ] 3 (Oppen
  • the oxidation in step (33b) can be performed in a solvent.
  • the solvent is preferably water or an organic solvent, and includes water, ketone, alcohol, ether, halogenated hydrocarbon, aromatic hydrocarbon, nitrile and the like.
  • ketone examples include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diacetone alcohol and the like, and among them, acetone is preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol. Of these, methanol and ethanol are preferred.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the oxidation temperature in the step (33b) is preferably -78 to 200 ° C, and can be appropriately selected depending on the method to be adopted.
  • the oxidation pressure in the step (33b) is preferably from 0 to 5.0 MPa, and can be appropriately selected according to the method to be adopted.
  • the oxidation time in the step (33b) is preferably 0.1 to 72 hours, and can be appropriately selected depending on the method to be adopted.
  • the sulfate esterification in the step (34b) can be carried out by reacting the compound (33b) with a sulfate reagent, and the same conditions as the sulfate esterification in the step (13b) can be employed.
  • the oxidation in the step (41b) can be carried out by allowing an oxidizing agent to act on the compound (10b) in the presence of water and a palladium compound.
  • the oxidizing agent examples include copper chloride, copper acetate, copper cyanide, monovalent or divalent copper salts such as copper trifluoromethanethiol, iron chloride, iron acetate, iron cyanide, iron trifluoromethanethiol, and iron hexacyano.
  • Benzoquinones such as iron salts, 1,4-benzoquinone, 2,3-dichloro-5,6-dicyano-1,4-benzoquinone, tetrachloro-1,2-benzoquinone, tetrachloro-1,4-benzoquinone, H Examples include 2 O 2 , MnO 2 , KMnO 4 , RuO 4 , m-chloroperbenzoic acid, oxygen and the like. Among them, copper salts, iron salts and benzoquinones are preferred, and copper chloride, iron chloride and 1,4-benzoquinone are more preferred.
  • the oxidizing agent can be used in an amount of 0.001 to 10 mol based on 1 mol of the compound (10b).
  • the water can be used in an amount of 0.5 to 1000 mol per 1 mol of compound (10b).
  • Examples of the palladium compound include palladium dichloride.
  • the amount of the palladium compound may be a catalytic amount, and can be used in an amount of 0.0001 to 1.0 mol based on 1 mol of the compound (10b).
  • the oxidation in step (41b) can be performed in a solvent.
  • the solvent include water, esters, aliphatic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, alcohols, carboxylic acids, ethers, halogenated hydrocarbons, polar organic compounds containing nitrogen, nitrile, dimethyl sulfoxide, and sulfolane.
  • ester examples include ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA; also known as 1-methoxy-2-acetoxypropane), and among them, ethyl acetate is preferable.
  • PGMEA propylene glycol monomethyl ether acetate
  • aliphatic hydrocarbon examples include hexane, cyclohexane, heptane, octane, nonane, decane, undecane, dodecane, mineral spirit, and the like. Of these, cyclohexane and heptane are preferred.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • carboxylic acids examples include acetic acid and propionic acid. Of these, acetic acid is preferred.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • nitrogen-containing polar organic compound examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferred.
  • nitrile examples include acetonitrile, propionitrile, butyronitrile, isobutyronitrile, and benzonitrile, and among them, acetonitrile is preferable.
  • the oxidation temperature in the step (41b) is preferably -78 to 200 ° C, more preferably -20 to 150 ° C.
  • the oxidation pressure in the step (41b) is preferably from 0 to 10 MPa, more preferably from 0.1 to 5.0 MPa.
  • the oxidation time in the step (41b) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the sulfate esterification in the step (42b) can be carried out by reacting the compound (41b) with a sulfate reagent, and the same conditions as in the sulfate esterification in the step (13b) can be employed.
  • halogenating agent used in the step (51) examples include N-bromosuccinimide, N-chlorosuccinimide and the like.
  • the halogenating agent can be used in an amount of 0.5 to 10.0 mol based on 1 mol of the compound (50).
  • the reaction of the step (51) can be carried out in the presence of a phosphine such as triphenylphosphine.
  • a phosphine such as triphenylphosphine.
  • the above phosphines can be used in an amount of 0.5 to 10.0 mol per 1 mol of compound (50).
  • the reaction of Step (51) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, and examples thereof include ethers, halogenated hydrocarbons, and aromatic hydrocarbons.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the reaction temperature in the step (51) is preferably from -78 to 200 ° C, more preferably from -40 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the step (51) is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in the step (51) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the alkylene glycol can be used in an amount of 0.5 to 10.0 mol per 1 mol of the compound (51).
  • the reaction of Step (52) can be carried out in the presence of a base.
  • a base examples include sodium hydride, sodium hydroxide, potassium hydroxide and the like.
  • the above base can be used in an amount of 0.5 to 10.0 mol based on 1 mol of compound (51).
  • the reaction of step (52) can be carried out in a solvent.
  • the solvent is preferably an organic solvent, and examples thereof include a nitrogen-containing polar organic compound, ether, halogenated hydrocarbon, and aromatic hydrocarbon.
  • nitrogen-containing polar organic compound examples include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methyl-2-pyrrolidone, 2-pyrrolidone, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and the like. Among them, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide and N-methyl-2-pyrrolidone are preferred.
  • ether examples include diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, diethylene glycol diethyl ether and the like, and among them, diethyl ether and tetrahydrofuran are preferable.
  • halogenated hydrocarbon examples include dichloromethane, dichloroethane, chloroform, chlorobenzene, o-dichlorobenzene and the like, and among them, dichloromethane and chloroform are preferable.
  • aromatic hydrocarbon examples include benzene, toluene, xylene and the like, among which benzene and toluene are preferable.
  • the reaction temperature in the step (52) is preferably from -78 to 200 ° C, more preferably from -40 to 150 ° C.
  • the reaction pressure in the step (52) is preferably from 0 to 5.0 MPa, more preferably from 0.1 to 1.0 MPa.
  • the reaction time in the step (52) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 0.1 to 48 hours.
  • the oxidation in the step (53) can be carried out by allowing an oxidizing agent to act on the compound (52) in the presence of water and a palladium compound, and the same conditions as in the oxidation in the step (41) can be employed.
  • the sulfate esterification in the step (54) can be carried out by reacting the compound (53) with a sulfate reagent, and the same conditions as in the sulfate esterification in the step (13) can be employed.
  • the purity of the obtained compound may be increased by distilling off the solvent, or performing distillation, purification, or the like.
  • the obtained compound has a group represented by -OSO 3 H (that is, when Xb is H)
  • the compound is brought into contact with an alkali such as sodium carbonate or ammonia to convert -OSO 3 H into a sulfate base.
  • an alkali such as sodium carbonate or ammonia
  • the production method including the steps (41b) and (42b) is preferable.
  • the surfactant (c) will be described.
  • R 1c is a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms.
  • the alkyl group may include a monovalent or divalent heterocyclic ring, or may form a ring.
  • the heterocyclic ring is preferably an unsaturated heterocyclic ring, more preferably an oxygen-containing unsaturated heterocyclic ring, and examples include a furan ring.
  • the “carbon number” of the alkyl group includes the number of carbon atoms constituting the carbonyl group and the number of carbon atoms constituting the heterocyclic ring.
  • the group represented by-has 7 carbon atoms, and the group represented by CH 3 -C ( O)-has 2 carbon atoms.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted by a functional group, for example, a hydroxyl group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond may be substituted, Preferably it is not substituted by any functional group.
  • R 101c is an alkyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with halogen atoms, 50% or less may be substituted with halogen atoms, and 25% or less may be substituted with halogen atoms.
  • it is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • R 2c and R 3c are each independently a single bond or a divalent linking group.
  • R 2c and R 3c are independently a single bond, a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms, or a cyclic alkylene group having 3 or more carbon atoms.
  • the alkylene group constituting R 2c and R 3c preferably does not contain a carbonyl group.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted with a functional group.
  • the hydrogen atom may be substituted with a hydroxy group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond.
  • a monovalent organic group containing an ester bond Preferably it is not substituted by any functional group.
  • alkylene group 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with a halogen atom, 50% or less may be substituted with a halogen atom, and 25% or less may be substituted with a halogen atom.
  • a non-halogenated alkylene group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • R 1c , R 2c and R 3c have a total of 5 or more carbon atoms.
  • the total carbon number is preferably 7 or more, more preferably 9 or more, preferably 20 or less, more preferably 18 or less, and even more preferably 15 or less. Any two of R 1c , R 2c and R 3c may be bonded to each other to form a ring.
  • a c is, -COOX c or -SO 3 X c
  • X c is, H, a metal atom, NR 4c 4, good imidazolium be substituted
  • R 4c is H or an organic group, which may be the same or different.
  • R 4c H or an organic group having 1 to 10 carbon atoms is preferable, and H or an organic group having 1 to 4 carbon atoms is more preferable.
  • the metal atom include monovalent and divalent metal atoms, such as an alkali metal (Group 1) and an alkaline earth metal (Group 2). Na, K or Li is preferable.
  • Xc is NH 4
  • the solubility of the surfactant in an aqueous medium is excellent, and the metal component does not easily remain in PTFE or in a final product.
  • R 1c represents a linear or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, not containing a carbonyl group, a cyclic alkyl group having 3 to 8 carbon atoms, not containing a carbonyl group, and 1 to 10 carbonyl groups. Or a linear or branched alkyl group having 2 to 45 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 45 carbon atoms including a carbonyl group, or a monovalent or divalent complex having 3 to 45 carbon atoms Alkyl groups containing rings are preferred.
  • R 1c is represented by the following formula: (Wherein n 11c is an integer of 0 to 10, R 11c is a linear or branched alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or a cyclic alkyl group having 3 to 5 carbon atoms, and R 12c Is an alkylene group having 0 to 3 carbon atoms. When n 11c is an integer of 2 to 10, R 12c may be the same or different.
  • n 11c is preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 3, and still more preferably an integer of 1 to 3.
  • the alkyl group as R 11c preferably does not contain a carbonyl group.
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted with a functional group, for example, a hydrogen group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond is substituted. However, it is preferably not substituted by any functional group.
  • alkyl group represented by R 11c 75% or less of a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted with a halogen atom, 50% or less may be substituted with a halogen atom, and 25% or less of a halogen atom may be substituted with a halogen atom.
  • a halogen atom 75% or less of a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted with a halogen atom, 50% or less may be substituted with a halogen atom, and 25% or less of a halogen atom may be substituted with a halogen atom.
  • it may be substituted by an atom, it is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • R 12c is an alkylene group having 0 to 3 carbon atoms. The number of carbon atoms is preferably 1 to 3.
  • the alkylene group as R 12c may be linear or branched.
  • the alkylene group as R 12c preferably does not contain a carbonyl group.
  • R 12c is more preferably an ethylene group (—C 2 H 4 —) or a propylene group (—C 3 H 6 —).
  • a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted by a functional group.
  • the hydrogen atom is substituted by a hydroxyl group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond. However, it is preferably not substituted by any functional group.
  • R 104c is an alkyl group.
  • R 12c 75% or less of a hydrogen atom bonded to a carbon atom may be substituted with a halogen atom, 50% or less may be substituted with a halogen atom, and 25% or less of a halogen atom may be substituted with a halogen atom.
  • it may be substituted by an atom, it is preferably a non-halogenated alkylene group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • R 2c and R 3c are independently preferably an alkylene group having 1 or more carbon atoms not containing a carbonyl group, more preferably an alkylene group having 1 to 3 carbon atoms not containing a carbonyl group, and an ethylene group (—C 2 H 4 -) or propylene group (-C 3 H 6 -) is more preferred.
  • surfactant (c) examples include the following surfactants.
  • Ac is as described above.
  • Surfactant (c) is a novel compound and can be produced, for example, by the following production method.
  • Surfactant (c) has the formula: (Wherein, R 3c is as described above, E c is a leaving group), lithium, and a compound represented by the formula: R 201c 3 Si—Cl (where R 201c is Independently represents an alkyl group or an aryl group.) (Wherein R 3c , R 201c and E c are as described above) (11c) to obtain a compound (11c) Compound (11c) and a compound represented by the formula: (.
  • R 1c represents a single bond or a divalent linking group
  • R 21c represents a single bond or a divalent linking group
  • an olefin represented by the formula: (Wherein R 1c , R 21c , R 3c and E c are as described above) (12c) to obtain a compound (12c)
  • the leaving group of the compound (12c) is removed to form a compound represented by the formula: (Wherein R 1c , R 21c and R 3c are as described above) (13c) to obtain a compound (13c) represented by the formula:
  • Compound (13c) is oxidized to give a compound of the formula: (Wherein R 1c , R 21c and R 3c are as described above) (14c) to obtain a compound (14c)
  • R 1c contains a furan ring
  • the furan ring may be opened with an acid to convert to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, with acetic acid being preferred.
  • step (11c) it is preferable to react the lithium and the chlorosilane compound in advance to obtain a siloxylithium compound, and then to react the siloxylithium compound with the compound (10c) to obtain a compound (11c).
  • E c represents a leaving group.
  • the leaving group include a tert-butyldimethylsilyl (TBS) group, a triethylsilyl (TES) group, a triisopropylsilyl (TIPS) group, a tert-butyldiphenylsilyl (TBDPS) group, and a benzyl (Bn) group.
  • TBS tert-butyldimethylsilyl
  • TES triethylsilyl
  • TIPS triisopropylsilyl
  • TDPS tert-butyldiphenylsilyl
  • Bn benzyl
  • R 21c a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms is preferable.
  • chlorosilane compound for example, Is mentioned.
  • any of the reactions in step (11c) can be performed in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and ether is more preferable.
  • the ether include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the temperature of the reaction between lithium and the chlorosilane compound in the step (11c) is preferably -78 to 100 ° C, more preferably 10 to 40 ° C.
  • the temperature of the reaction between the siloxylithium compound and compound (10c) in step (11c) is preferably -100 to 0 ° C, more preferably -80 to -50 ° C.
  • the pressure of the reaction between lithium and the chlorosilane compound in the step (11c) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the pressure for the reaction between the siloxylithium compound and compound (10c) in step (11c) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time of the lithium and the chlorosilane compound in the step (11c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 6 to 10 hours.
  • the reaction time of the siloxylithium compound with the compound (10c) in the step (11c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 1 to 2 hours.
  • the reaction ratio between the compound (11c) and the olefin is preferably 1 to 2 with respect to 1 mol of the compound (11c) in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste.
  • Mole preferably 1 to 1.1 mole.
  • step (12c) can be performed in a solvent in the presence of a thiazolium salt and a base.
  • thiazolium salt examples include 3-ethyl-5- (2-hydroxyethyl) -4-methylthiazolium bromide and 3-benzyl-5- (2-hydroxyethyl) -4-methylthiazolium chloride.
  • Examples of the base include 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, triethylamine and the like.
  • an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an alcohol or ether is more preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the reaction temperature in the step (12c) is preferably from 40 to 60 ° C, more preferably from 50 to 55 ° C.
  • the reaction pressure in the step (12c) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (12c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 6 to 10 hours.
  • the elimination reaction of the leaving group in the step (13c) can be carried out by using a fluoride ion or an acid.
  • the method for removing the leaving group include a method using hydrofluoric acid, a method using an amine complex of hydrogen fluoride such as pyridine / nHF or triethylamine / nHF, cesium fluoride, potassium fluoride, and lithium borofluoride. (LiBF 4 ), a method using an inorganic salt such as ammonium fluoride, and a method using an organic salt such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF).
  • TBAF tetrabutylammonium fluoride
  • the elimination reaction of the leaving group in the step (13c) can be performed in a polar solvent.
  • a polar solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and ether is more preferable.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the reaction temperature in step (13c) is preferably from 0 to 40 ° C, more preferably from 0 to 20 ° C.
  • the reaction pressure in the step (13c) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in step (13c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the oxidation in step (14c) can be performed in a solvent in the presence of sodium chlorite.
  • the solvent examples include alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, isopropanol, 1-butanol, and tert-butyl alcohol, and water.
  • a disodium hydrogen phosphate solution may be used as the buffer.
  • Compound (14c) may be contacted with an alkali to convert -COOH to a salt form.
  • alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and ammonia, and it is preferable to use an aqueous solution of ammonia.
  • the purity of the obtained compound may be increased by distilling off the solvent, or performing distillation, purification, or the like.
  • Surfactant (c) also has the formula: (. Wherein, the R 3c as described above, the R 22c 1 monovalent organic group, E c is a leaving group) with a ketone represented by the formula: (Wherein, R 1c is as described above, and R 23c is a monovalent organic group). (Wherein, R 1c , R 3c and E c are as described above, and R 24c is a single bond or a divalent linking group) (21c).
  • the leaving group of the compound (21c) is removed to form a compound represented by the formula: (Wherein R 1c , R 24c and R 3c are as described above) (22c) to obtain a compound (22c) represented by the formula: Compound (22c) is oxidized to give a compound of the formula: (Wherein R 1c , R 24c and R 3c are as described above) (23c) to obtain a compound (23c) Can be suitably manufactured by a manufacturing method including
  • R 1c contains a furan ring
  • the furan ring may be opened with an acid to convert to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, with acetic acid being preferred.
  • E c represents a leaving group.
  • the leaving group include a tert-butyldimethylsilyl (TBS) group, a triethylsilyl (TES) group, a triisopropylsilyl (TIPS) group, a tert-butyldiphenylsilyl (TBDPS) group, and a benzyl (Bn) group.
  • TBS tert-butyldimethylsilyl
  • TES triethylsilyl
  • TIPS triisopropylsilyl
  • TDPS tert-butyldiphenylsilyl
  • Bn benzyl
  • R 22c a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable.
  • R 23c a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms is preferable, and a methyl group is more preferable.
  • R 24c a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms is preferable, and a methylene group (—CH 2 —) is more preferable.
  • step (21c) can be carried out in a solvent in the presence of a base.
  • Examples of the base include sodium amide, sodium hydride, sodium methoxide, sodium ethoxide and the like.
  • an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and an alcohol and an ether are further preferable.
  • Examples of the alcohol include methanol, ethanol, 1-propanol and isopropanol.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the reaction temperature in the step (21c) is preferably from 0 to 40 ° C., and more preferably from 0 to 20.
  • the reaction pressure in the step (21c) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (21c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the elimination reaction of the leaving group in the step (22c) can be carried out by using a fluoride ion or an acid.
  • the method for removing the leaving group include a method using hydrofluoric acid, a method using an amine complex of hydrogen fluoride such as pyridine / nHF or triethylamine / nHF, cesium fluoride, potassium fluoride, and lithium borofluoride. (LiBF 4 ), a method using an inorganic salt such as ammonium fluoride, and a method using an organic salt such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF).
  • TBAF tetrabutylammonium fluoride
  • the elimination reaction of the leaving group in the step (22c) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and ether is more preferable.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the reaction temperature in the step (22c) is preferably from 0 to 40 ° C, more preferably from 0 to 20 ° C.
  • the reaction pressure in the step (22c) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (22c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the oxidation in step (23c) can be performed in a solvent in the presence of sodium chlorite.
  • alcohol and water can be used as the solvent.
  • a disodium hydrogen phosphate solution may be used as the buffer.
  • Compound (23c) may be contacted with an alkali to convert -COOH to a salt form.
  • alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and ammonia, and it is preferable to use an aqueous solution of ammonia.
  • the purity of the obtained compound may be increased by distilling off the solvent, or performing distillation, purification, or the like.
  • Surfactant (c) also has the formula: Y c -R 3c -CH 2 -OE c (Wherein, R 3c is as described above, Y c is a halogen atom, and E c is a leaving group), and an alkyl halide represented by the formula: (Wherein R 1c is as described above), and reacted with lithium acetylide represented by the formula: (Wherein R 1c , R 3c and E c are as described above) (31c) to obtain a compound (31c) Compound (31c) is oxidized to give a compound of formula (Wherein R 1c , R 3c and E c are as described above) (32c) to obtain a compound (32c) The leaving group of the compound (32c) is removed to form a compound represented by the formula: (Wherein, R 1c and R 3c are as described above) (33c) to obtain a compound (33c) represented by the formula: Compound (33c) is oxidized
  • R 1c contains a furan ring
  • the furan ring may be opened with an acid to convert to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, with acetic acid being preferred.
  • E c represents a leaving group.
  • the leaving group include a tert-butyldimethylsilyl (TBS) group, a triethylsilyl (TES) group, a triisopropylsilyl (TIPS) group, a tert-butyldiphenylsilyl (TBDPS) group, and a benzyl (Bn) group.
  • TBS tert-butyldimethylsilyl
  • TES triethylsilyl
  • TIPS triisopropylsilyl
  • TDPS tert-butyldiphenylsilyl
  • Bn benzyl
  • the reaction ratio of the alkyl halide to the lithium acetylide is determined based on the ratio of the lithium acetylide to 1 mole of the alkyl halide in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste.
  • the amount is preferably 2 to 2 mol, more preferably 1 to 1.2 mol.
  • the reaction in the step (31c) can be carried out in a solvent.
  • Hexane is preferred as the solvent.
  • the temperature of the reaction in the step (31c) is preferably from -100 to -40 ° C, more preferably from -80 to -50 ° C.
  • the reaction pressure in the step (31c) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (31c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 6 to 10 hours.
  • the oxidation in the step (32c) is performed by [(Cn * ) Ru III (CF 3 CO 2 ) 3 ] ⁇ H 2 O (where Cn * is 1,4,7-trimethyl-1,4,7-triazabicyclo Nonane) is treated with (NH 4 ) 2 Ce (NO 3 ) 6 and trifluoroacetic acid, and then can be carried out in a nitrile solvent using a complex formed by adding sodium perchlorate.
  • the compound (32c) may be neutralized with an alkali and extracted using an organic solvent such as ether.
  • the reaction temperature in step (32c) is preferably from 30 to 100 ° C, more preferably from 40 to 90 ° C.
  • the reaction pressure in the step (32c) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (32c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the elimination reaction of the leaving group in the step (33c) can be carried out by using a fluoride ion or an acid.
  • the method for removing the leaving group include a method using hydrofluoric acid, a method using an amine complex of hydrogen fluoride such as pyridine / nHF or triethylamine / nHF, cesium fluoride, potassium fluoride, and lithium borofluoride. (LiBF 4 ), a method using an inorganic salt such as ammonium fluoride, and a method using an organic salt such as tetrabutylammonium fluoride (TBAF).
  • TBAF tetrabutylammonium fluoride
  • the elimination reaction of the leaving group in the step (33c) can be carried out in a solvent.
  • a solvent an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and ether is more preferable.
  • ether examples include ethyl methyl ether, diethyl ether, monoglyme (ethylene glycol dimethyl ether), diglyme (diethylene glycol dimethyl ether), triglyme (triethylene glycol dimethyl ether), tetrahydrofuran, tetraglyme (tetraethylene glycol dimethyl ether), and crown ether (15-crown). -5,18-crown-6), among which tetrahydrofuran and diethyl ether are preferred.
  • the reaction temperature in step (33c) is preferably from 0 to 40 ° C, more preferably from 0 to 20 ° C.
  • the reaction pressure in the step (33c) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (33c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 3 to 8 hours.
  • the oxidation in step (34c) can be performed in a solvent in the presence of sodium chlorite.
  • alcohol and water can be used as the solvent.
  • a disodium hydrogen phosphate solution may be used as the buffer.
  • Compound (34c) may be contacted with an alkali to convert -COOH to a salt form.
  • alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and ammonia, and it is preferable to use an aqueous solution of ammonia.
  • the purity of the obtained compound may be increased by distilling off the solvent, or performing distillation, purification, or the like.
  • Surfactant (c) also has the formula: And a divinyl ketone represented by the formula: By reacting with 2-methylfuran represented by the formula: (51c) obtaining a compound (51c) represented by Compound (51c) and formula: By reacting with furan represented by the formula: (52c) obtaining a compound (52c) represented by By heating compound (52c) in the presence of an acid, a compound of the formula: A step (53c) of obtaining a compound (53c) represented by Compound (53c) is oxidized to give a compound of the formula: A step (54c) of obtaining a compound (54c) represented by Can be suitably manufactured by a manufacturing method including
  • the reaction ratio of divinyl ketone and 2-methylfuran is 0.5 to 2 mol of divinyl ketone with respect to 1 mol of divinyl ketone in consideration of improvement in yield and reduction of waste. It is preferably from 1 to 1 mol, more preferably from 0.6 to 0.9 mol.
  • the reaction in the step (51c) is preferably carried out in the presence of an acid.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfonic acid and the like, and among them, acetic acid is preferable.
  • the amount of the acid used in the step (51c) is preferably from 0.1 to 2 mol, and more preferably from 0.1 to 1 mol, per 1 mol of divinyl ketone, in consideration of improvement in yield and reduction of waste. More preferred.
  • the reaction in the step (51c) can be carried out in a polar solvent.
  • a polar solvent water and acetonitrile are preferable.
  • the reaction temperature in the step (51c) is preferably from 20 to 100 ° C, more preferably from 40 to 100 ° C.
  • the reaction pressure in the step (51c) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (51c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 4 to 8 hours.
  • the reaction ratio of the compound (51c) with furan is 1 to 2 mol of furan with respect to 1 mol of the compound (51c) in consideration of improvement in yield and reduction of waste.
  • the amount is 1 to 1.1 mol.
  • the reaction in the step (52c) is preferably carried out in the presence of an acid.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, among which acetic acid is preferable.
  • the amount of the acid to be used in the step (52c) is preferably 0.1 to 2 mol, more preferably 0.1 to 1 mol, per 1 mol of the compound (51c), in consideration of improvement in yield and reduction of waste. Molar is more preferred.
  • the reaction in the step (52c) can be carried out in a polar solvent.
  • a polar solvent water is preferable.
  • the reaction temperature in the step (52c) is preferably from 20 to 100 ° C, more preferably from 40 to 100 ° C.
  • the reaction pressure in the step (52c) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (52c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 4 to 8 hours.
  • the furan ring is opened by heating the compound (52c) in the presence of an acid.
  • hydrochloric acid and sulfuric acid are preferable.
  • the reaction in the step (53c) can be carried out in a polar solvent.
  • a polar solvent water is preferable.
  • the reaction temperature in step (53c) is preferably from 50 to 100 ° C, more preferably from 70 to 100 ° C.
  • the reaction pressure in the step (53c) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (53c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 1 to 12 hours.
  • the oxidation in step (54c) can be performed in a solvent in the presence of sodium chlorite.
  • tert-butyl alcohol and water can be used as the solvent.
  • a disodium hydrogen phosphate solution may be used as the buffer.
  • Compound (54c) may be contacted with an alkali to convert -COOH to a salt form.
  • alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and ammonia, and it is preferable to use an aqueous solution of ammonia.
  • the purity of the obtained compound may be increased by distilling off the solvent, or performing distillation, purification, or the like.
  • Surfactant (c) also has the formula: (. Wherein, the R 1c as described above, R 21c represents a single bond or a divalent linking group) and alkene represented by the formula: ( Wherein , Y 61c is an alkyl ester group), and reacted with an alkyne represented by the formula: (In the formula, R 1c , R 21c and Y 61c are as described above) (61c) to obtain a compound (61c), and Compound (61c) is reacted with an acid and then an acid to give a compound of the formula: (Wherein R 1c and R 21c are as described above) (62c) to obtain a compound (62c) Can be suitably manufactured by a manufacturing method including
  • R 1c contains a furan ring
  • the furan ring may be opened with an acid to convert to a dicarbonyl derivative.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, with acetic acid being preferred.
  • R 21c a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms is preferable.
  • the reaction ratio of the alkene to the alkyne is 0.5 to 2 mols per 1 mol of the alkynes in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste. Preferably, it is 0.6 to 1.2 moles.
  • the reaction in the step (61c) is preferably performed in the presence of a metal catalyst.
  • the metal includes ruthenium and the like.
  • the amount of the metal catalyst used in the step (61c) is preferably 0.01 to 0.4 mol, more preferably 0.05 to 0.4 mol, per 1 mol of the alkene, in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste. 0.1 mole is more preferred.
  • the reaction in the step (61c) can be carried out in a polar solvent.
  • a polar solvent water, acetonitrile, dimethylacetamide, and dimethylformamide are preferable.
  • the reaction temperature in step (61c) is preferably from 20 to 160 ° C, more preferably from 40 to 140 ° C.
  • the reaction pressure in the step (61c) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (61c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 4 to 8 hours.
  • the reaction ratio of the compound (61c) with the above-mentioned alkali is preferably 0.6 to 0.6 mol per 1 mol of the compound (61c) in consideration of an improvement in yield and a decrease in waste. It is preferably 2 mol, more preferably 0.8 to 1.1 mol.
  • the amount of the acid to be used in the step (62c) is preferably 1.0 to 20.0 mol, and more preferably 1.0 to 20.0 mol, per 1 mol of the compound (61c), in consideration of an improvement in yield and a reduction in waste. ⁇ 10.0 mol is more preferred.
  • the reaction in the step (62c) can be carried out in a polar solvent.
  • a polar solvent water is preferable.
  • the reaction temperature in step (62c) is preferably from 0 to 100 ° C, more preferably from 20 to 100 ° C.
  • the reaction pressure in the step (62c) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (62c) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 4 to 8 hours.
  • Compound (62c) may be contacted with an alkali to convert -COOH to a salt form.
  • alkali include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, and ammonia, and it is preferable to use an aqueous solution of ammonia.
  • the purity of the obtained compound may be increased by distilling off the solvent, or performing distillation, purification, or the like.
  • the surfactant (d) will be described.
  • R 1d represents a linear or branched alkyl group having 1 or more carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl group having 3 or more carbon atoms which may have a substituent. Group.
  • the alkyl group may include a monovalent or divalent heterocyclic ring, or may form a ring.
  • the heterocyclic ring is preferably an unsaturated heterocyclic ring, more preferably an oxygen-containing unsaturated heterocyclic ring, and examples include a furan ring.
  • the “carbon number” of the alkyl group includes the number of carbon atoms constituting the heterocyclic ring.
  • Examples of the substituent which the alkyl group as R 1d may have include a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A hydroxy group is preferred, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferred.
  • the alkyl group as R 1d preferably does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with halogen atoms, 50% or less may be substituted with halogen atoms, and 25% or less may be substituted with halogen atoms.
  • it is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • the alkyl group does not have any substituents.
  • R 1d is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms which may have a substituent. And a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms not containing a carbonyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms not containing a carbonyl group is more preferable. A straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 10 is more preferable, and a straight-chain or branched-chain alkyl group having 1 to 3 carbon atoms having no substituent is still more preferable. 3 ) or an ethyl group (—C 2 H 5 ) is particularly preferred, and a methyl group (—CH 3 ) is most preferred.
  • R 2d and R 4d are independently H or a substituent.
  • a plurality of R 2d and R 4d may be the same or different.
  • R 2d and R 4d is preferably a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, or a hydroxy group. And an ethyl group are particularly preferred.
  • the alkyl group as R 2d and R 4d preferably does not contain a carbonyl group.
  • 75% or less of hydrogen atoms bonded to carbon atoms may be substituted with halogen atoms, 50% or less may be substituted with halogen atoms, and 25% or less may be substituted with halogen atoms.
  • it is preferably a non-halogenated alkyl group containing no halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom.
  • the alkyl group does not have any substituents.
  • the alkyl group as R 2d and R 4d includes a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms not containing a carbonyl group or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms not containing a carbonyl group.
  • a methyl group (—CH 3 ) or an ethyl group (—C 2 H 5 ) is particularly preferable.

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Abstract

下記一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物を２種以上含む排水と吸着剤とを接触させることにより、該吸着剤に前記含フッ素化合物の２種以上を吸着させる吸着工程を含む、ことを特徴とする排水から含フッ素化合物を除去する方法を提供する。 一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１ （式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲｂ ４（Ｒｂは、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。） 一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２ （式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲｂ ４（Ｒｂは前記と同じ）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）

Description

排水から含フッ素化合物を除去する方法
本開示は、排水から含フッ素化合物を除去する方法に関する。
乳化重合により含フッ素ポリマーを製造する場合、フッ素化アニオン界面活性剤が使用されてきた。最近では、フッ素化アニオン界面活性剤に代えて、炭化水素系界面活性剤の使用も提案されている（例えば、特許文献１～３参照）。
米国特許第９２５５１６４号明細書 米国特許第８５６３６７０号明細書 米国特許第９０７４０２５号明細書
本開示は、排水から特定の２種以上の含フッ素化合物を効率的に除去することができる、排水から含フッ素化合物を除去する方法を提供する。
本開示は、下記一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物を２種以上含む排水と吸着剤とを接触させることにより、該吸着剤に含フッ素化合物の２種以上を吸着させる吸着工程を含む、ことを特徴とする排水から含フッ素化合物を除去する方法（以下、単に「本開示の除去方法」と記載することもある）を提供する。
一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲｂ ４（Ｒｂは、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲｂ ４（Ｒｂは前記と同じ）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
上記排水は、炭化水素系界面活性剤を用いた含フッ素ポリマー製造工程で得られた排水を含むことが好ましい。
上記排水は、更に、炭化水素系界面活性剤を含むことが好ましい。
上記炭化水素系界面活性剤は、カルボン酸型炭化水素系界面活性剤であることが好ましい。
上記吸着剤は、イオン交換樹脂、活性炭、合成吸着剤、シリカゲル、クレイ、及び、ゼオライトからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。
上記吸着剤は、イオン交換樹脂又は合成吸着剤であって、細孔径が１～５０００Åであることが好ましい。
上記吸着剤は、活性炭であって、比表面積が５００ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。
上記吸着工程における温度は、０～５０℃であることが好ましい。
上記吸着工程における、上記含フッ素化合物の除去率が４０％以上であることが好ましい。
本開示の排水から含フッ素化合物を除去する方法は、更に、前記吸着工程の前に、排水から固体成分を除去する前処理工程を含むことも好ましい。
上記含フッ素化合物は、少なくとも、前記一般式（１）におけるｍが７以上である含フッ素化合物又は一般式（２）におけるｎが８以上である含フッ素化合物を含むことが好ましい。
本開示の除去方法は、上記構成を有することから、排水から特定の２種以上の含フッ素化合物を効率的に除去することができる。
本明細書中、特に断りのない限り、「有機基」は、１個以上の炭素原子を含有する基、又は有機化合物から１個の水素原子を除去して形成される基を意味する。
当該「有機基」の例は、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基、
シアノ基、
ホルミル基、
ＲａＯ－、
ＲａＣＯ－、
ＲａＳＯ２－、
ＲａＣＯＯ－、
ＲａＮＲａＣＯ－、
ＲａＣＯＮＲａ－、
ＲａＯＣＯ－、及び
ＲａＯＳＯ２－
（これらの式中、Ｒａは、独立して、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基である）
を包含する。
上記有機基としては、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基が好ましい。
本明細書中、特に断りのない限り、「置換基」は、置換可能な基を意味する。当該「置換基」の例は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、ヘテロ環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、ヘテロ環スルホニル基、脂肪族スルホニルオキシ基、芳香族スルホニルオキシ基、ヘテロ環スルホニルオキシ基、スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基、アミノ基、脂肪族アミノ基、芳香族アミノ基、ヘテロ環アミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、芳香族オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルフィニル基、芳香族スルフィニル基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、脂肪族オキシアミノ基、芳香族オキシアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ハロゲン原子、スルファモイルカルバモイル基、カルバモイルスルファモイル基、ジ脂肪族オキシホスフィニル基、又は、ジ芳香族オキシホスフィニル基を包含する。
上記脂肪族基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族基としては、総炭素原子数１～８、好ましくは１～４のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ビニル基、シクロヘキシル基、カルバモイルメチル基等が挙げられる。
上記芳香族基は、例えば、ニトロ基、ハロゲン原子、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記芳香族基としては、炭素数６～１２、好ましくは総炭素原子数６～１０のアリール基、例えば、フェニル基、４－ニトロフェニル基、４－アセチルアミノフェニル基、４－メタンスルホニルフェニル基等が挙げられる。
上記ヘテロ環基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記ヘテロ環基としては、総炭素原子数２～１２、好ましくは２～１０の５～６員ヘテロ環、例えば２－テトラヒドロフリル基、２－ピリミジル基等が挙げられる。
上記アシル基は、脂肪族カルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、芳香族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシル基としては、総炭素原子数２～８、好ましくは２～４のアシル基、例えばアセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基、３－ピリジンカルボニル基等が挙げられる。
上記アシルアミノ基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよく、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２－ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシルアミノ基としては、総炭素原子数２～１２、好ましくは２～８のアシルアミノ基、総炭素原子数２～８のアルキルカルボニルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２－ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等が挙げられる。
上記脂肪族オキシカルボニル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族オキシカルボニル基としては、総炭素原子数２～８、好ましくは２～４のアルコキシカルボニル基、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、（ｔ）－ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
上記カルバモイル基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記カルバモイル基としては、無置換のカルバモイル基、総炭素数２～９のアルキルカルバモイル基、好ましくは無置換のカルバモイル基、総炭素原子数２～５のアルキルカルバモイル基、例えばＮ－メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル基、Ｎ－フェニルカルバモイル基等が挙げられる。
上記脂肪族スルホニル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、芳香族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族スルホニル基としては、総炭素原子数１～６、好ましくは総炭素原子数１～４のアルキルスルホニル基、例えばメタンスルホニル基等が挙げられる。
上記芳香族スルホニル基は、ヒドロキシ基、脂肪族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記芳香族スルホニル基としては、総炭素原子数６～１０のアリールスルホニル基、例えばベンゼンスルホニル等が挙げられる。
上記アミノ基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。
上記アシルアミノ基は、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２－ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシルアミノ基としては、総炭素原子数２～１２、好ましくは総炭素原子数２～８のアシルアミノ基、より好ましくは総炭素原子数２～８のアルキルカルボニルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２－ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等が挙げられる。
上記脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基は、例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、２－ピリジンスルホンアミド基等であってもよい。
上記スルファモイル基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記スルファモイル基としては、スルファモイル基、総炭素原子数１～９のアルキルスルファモイル基、総炭素原子数２～１０のジアルキルスルファモイル基、総炭素原子数７～１３のアリールスルファモイル基、総炭素原子数２～１２のヘテロ環スルファモイル基、より好ましくはスルファモイル基、総炭素原子数１～７のアルキルスルファモイル基、総炭素原子数３～６のジアルキルスルファモイル基、総炭素原子数６～１１のアリールスルファモイル基、総炭素原子数２～１０のヘテロ環スルファモイル基、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基、４－ピリジンスルファモイル基等が挙げられる。
上記脂肪族オキシ基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、メトキシ基、エトキシ基、ｉ－プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メトキシエトキシ基等を有していてもよい。上記脂肪族オキシ基としては、総炭素原子数１～８、好ましくは１～６のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｉ－プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メトキシエトキシ基等が挙げられる。
上記芳香族アミノ基、ヘテロ環アミノ基は、脂肪族基、脂肪族オキシ基、ハロゲン原子、カルバモイル基、該アリール基と縮環したヘテロ環基、脂肪族オキシカルボニル基、好ましくは総炭素原子数１～４の脂肪族基、総炭素原子数１～４の脂肪族オキシ基、ハロゲン原子、総炭素原子数１～４のカルバモイル基、ニトロ基、総炭素原子数２～４の脂肪族オキシカルボニル基を有していてもよい。
上記脂肪族チオ基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、総炭素原子数１～８、より好ましくは総炭素原子数１～６のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、カルバモイルメチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基等が挙げられる。
上記カルバモイルアミノ基は、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記カルバモイルアミノ基としては、カルバモイルアミノ基、総炭素原子数２～９のアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３～１０のジアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数７～１３のアリールカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３～１２のヘテロ環カルバモイルアミノ基、好ましくはカルバモイルアミノ基、総炭素原子数２～７のアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３～６のジアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数７～１１のアリールカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３～１０のヘテロ環カルバモイルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、メチルカルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイルアミノ基、フェニルカルバモイルアミノ基、４－ピリジンカルバモイルアミノ基等が挙げられる。
以下、本開示の具体的な実施形態について詳細に説明するが、本開示は、以下の実施形態に限定されるものではない。
従来の炭化水素系界面活性剤を用いた含フッ素ポリマーの製造では排水に着目した検討は行われていなかった。炭化水素系界面活性剤を用いた重合により含フッ素ポリマーを製造すると、含フッ素ポリマー製造工程により生じた排水に上記一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物が２種以上含まれ得ることが見出された。本開示者等が鋭意検討したところ、上記吸着工程を含む方法によって、２種以上の上記含フッ素化合物を効率的に除去することができることを見いだし、本開示の除去方法は完成したものである。
本開示の除去方法は、下記一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物を２種以上含む排水と吸着剤とを接触させることにより、該吸着剤に含フッ素化合物の２種以上を吸着させる吸着工程を含む。
一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１
（式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲｂ ４（Ｒｂは、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２
（式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲｂ ４（Ｒｂは前記と同じ）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）又はアルカリ土類金属（２族）が挙げられ、具体的には、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ等が例示される。
上記Ｒｂとしては、４つのＲｂは、同一でも異なっていてもよい。Ｒｂとしては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。また、好ましくは炭素数１～１０のアルキル基、さらに好ましくは炭素数１～４のアルキル基である。以下で記載する全てのＲｂに上記規定は適用できる。
一般式（１）において、ｍは５～１１であってもよい。
一般式（２）において、ｎは６～１２であってもよい。
本明細書において、「一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物を２種以上含む排水」とは、排水が一般式（１）又は（２）に包含される含フッ素化合物のうち、少なくとも２種を含んでいればよいことを意味し、例えば、排水が、一般式（１）で示される含フッ素化合物を２種以上含み、一般式（２）で示される含フッ素化合物を含まないものであってもよいし、一般式（１）で示される含フッ素化合物を含まず、一般式（２）で示される含フッ素化合物を２種以上含むものであってもよいし、一般式（１）で示される化合物を１種以上、一般式（２）で示される含フッ素化合物を１種以上含むものであってもよい。
排水としては、一般式（１）のｍが６である含フッ素化合物と、ｍが１２である含フッ素化合物とを含む態様、一般式（２）のｎが６である含フッ素化合物と、ｎが１２である含フッ素化合物とを含む態様等が挙げられる。また、排水は、含フッ素化合物を２種以上含むものであれば、含フッ素化合物を３種以上含むものでも、含フッ素化合物を４種以上含むものでもよく、上記一般式（１）又は（２）に包含される全ての含フッ素化合物を含んでいてもよい。
一般式（１）に包含される含フッ素化合物のうち、ｍが３、５、７、９、１１、１３、１５、１７及び１９である含フッ素化合物を含み、ｍが４、６、８、１０、１２、１４、１６及び１８である含フッ素化合物を含まない態様であってもよいし、ｍが４、６、８、１０、１２、１４、１６、１８及び２０である含フッ素化合物を含み、ｍが３、５、７、９、１１、１３、１５、１７及び１９である含フッ素化合物を含まない態様であってもよいし、ｍが３～１９である含フッ素化合物のすべてを含む態様であってもよい。
また一般式（２）に包含される含フッ素化合物のうち、ｎが５、７、９、１１、１３、１５、１７及び１９である含フッ素化合物を含み、ｎが４、６、８、１０、１２、１４、１６、１８及び２０である含フッ素化合物を含まない態様であってもよいし、ｎが４、６、８、１０、１２、１４、１６、１８及び２０である含フッ素化合物を含み、ｎが５、７、９、１１、１３、１５、１７及び１９である含フッ素化合物を含まない態様であってもよいし、ｎが４～２０である含フッ素化合物のすべてを含む態様であってもよい。
本開示の除去方法において、排水中の一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物の濃度は特に限定されず、任意の濃度の排水を処理することができる。処理に供される排水は、上記一般式（１）又は（２）で示される化合物の合計量が、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましい。上記合計量は、排水の全量に対して、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、処理に供される排水は、排水の全量に対して、一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物の合計量が、排水の全量に対して１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の合計量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記排水は後述の含フッ素ポリマー製造工程で生じた排水をそのまま用いてもよいし、含フッ素ポリマー製造工程で生じた排水を希釈又は濃縮して、一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物の合計量を上記範囲にしてもよい。
なお、本明細書において、ｐｐｍは特に記載のない限り、質量換算で求めた値を意味する。
上記一般式（１）のｍが３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８又は１９である含フッ素化合物の少なくとも１つの量は、各々、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８又は１９である含フッ素化合物の少なくとも１つの量は、各々、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが３である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが３である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが４である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが４である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが５である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが５である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが６である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが６である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが７である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが７である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが８である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが８である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが９である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが９である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが１０である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが１０である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが１１である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが１１である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが１２である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが１２である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが１３である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが１３である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが１４である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが１４である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが１５である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが１５である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが１６である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが１６である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが１７である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが１７である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが１８である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが１８である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（１）のｍが１９である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。
排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（１）のｍが１９である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に好ましく、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９又は２０である含フッ素化合物の少なくとも１つの量は、各々、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９又は２０である含フッ素化合物の少なくとも１つの量は、各々、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが４である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが４である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが５である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが５である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが６である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが６である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが７である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが７である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが８である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが８である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが９である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが９である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが１０である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが１０である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが１１である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが１１である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが１２である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが１２である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが１３である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが１３である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが１４である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが１４である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが１５である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが１５である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが１６である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが１６である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが１７である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが１７である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが１８である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが１８である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが１９である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが１９である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記一般式（２）のｎが２０である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して０．０１ｐｐｍ以上が好ましく、０．１ｐｐｍ以上がより好ましく、０．５ｐｐｍ以上が更に好ましく、１ｐｐｍ以上が更により好ましく、５ｐｐｍ以上が殊更に好ましく、１０ｐｐｍ以上が特に好ましい。排水中の一般式（２）で示される含フッ素化合物の濃度が上記のように一定以上である場合に、本開示の除去方法はより高い除去効率が発揮される。
また、上記一般式（２）のｎが２０である含フッ素化合物の量は、排水の全量に対して、１００００ｐｐｍ以下が好ましく、５０００ｐｐｍ以下がより好ましく、２０００ｐｐｍ以下が更に、１０００ｐｐｍ以下が更により好ましく、５００ｐｐｍ以下が殊更に好ましく、２００ｐｐｍ以下が特に好ましい。排水中の上記含フッ素化合物の量が上記範囲であることによって、除去効率をより高めることができる。
上記含フッ素化合物は、少なくとも、前記一般式（１）におけるｍが７以上である含フッ素化合物又は一般式（２）におけるｎが８以上である含フッ素化合物を含むことが好ましい。
上記含フッ素化合物は、一般式（１）のｍが９以上である含フッ素化合物又は一般式（２）のｎが１０以上の含フッ素化合物を含むことがより好ましく、一般式（１）のｍが１１以上である含フッ素化合物又は一般式（２）のｎが１２以上の含フッ素化合物を含むことが更に好ましい。
本開示の除去方法では、炭素数が大きい一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物をも効率的に除去することができることから、一般式（１）のｍ及び一般式（２）のｎが大きい含フッ素化合物を含む排水を処理する場合に特に有効である。
この場合、上記２種以上の含フッ素化合物には、一般式（１）のｍが７以上、９以上又は１１以上の含フッ素化合物、若しくは、一般式（２）のｎが８以上、１０以上又は１２以上の含フッ素化合物が少なくとも１種含まれればよく、一般式（１）のｍが７未満の含フッ素化合物、又は、一般式（２）のｎが８未満の含フッ素化合物を含んでいてよい。
上記含フッ素化合物は、上記一般式（１）で示される化合物を含むことが好ましい。排水が一般式（１）で示される化合物を含む場合に本開示の除去方法は特に有効である。特に、排水が一般式（１）のｍが７以上の含フッ素化合物、より好ましくはｍが９以上である含フッ素化合物、更に好ましくはｍが１１以上の含フッ素化合物を含む場合に有効である。
上記排水は、通常、水等の水性媒体を含む。本明細書において、「水性媒体」は、水、ならびに、水および水に可溶な有機溶媒（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール等のアルコール、酢酸メチル等のエステル、アセトン等のケトン、ジメチルエーテル等のエーテル等）を含む混合媒体を意味する。
上記排水は、上記一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物を２種以上含む。上記排水は、例えば、含フッ素ポリマー製造工程により生じる排水が挙げられる。上記排水には、水溶液、分散液、およびガス（後述する乾燥工程等で生じる排ガス等）を液化して得られる液体が含まれる。
本明細書において、「含フッ素ポリマー製造工程」は、含フッ素モノマーを含む１種類以上のモノマーを重合して含フッ素ポリマーを製造する工程全般を意味し、特定の製造工程に限定されるものではない。含フッ素ポリマーは一般に、含フッ素モノマーを含む１種類以上のモノマーを乳化重合または懸濁重合することにより製造される。乳化重合および懸濁重合において、炭化水素系界面活性剤が乳化剤として使用され得る。上記排水は、炭化水素系界面活性剤を用いた含フッ素ポリマー製造工程で得られた排水を含むことが好ましい。また、上記排水は、炭化水素系界面活性剤を含むことが好ましい。
本明細書において、「含フッ素モノマー」は、少なくとも１つのフッ素またはフルオロアルキル基を有するモノマーであれば特に限定されるものではなく、例えば、トリフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、フッ化ビニリデン（ＶｄＦ）、フッ化ビニル（ＶＦ）、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）、ヘキサフルオロイソブチレン、パーフルオロアルキルエチレン、およびフルオロビニルエーテル（ＦＶＥ）等を含んでよい。
本明細書において、「含フッ素ポリマー」は、上述した１以上の含フッ素モノマーを含むモノマーを重合して得られるものであってよく、例えば以下に示す含フッ素ポリマーの１以上を含むものであってよいが、これに限定されるものではない。ＴＦＥの単独重合により得られるポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ＴＦＥと、ＴＦＥと共重合可能な別のモノマー（フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン、パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）等の含フッ素モノマー、エチレン、プロピレン、イソブテン等の炭化水素オレフィン、アルキルビニルエーテル等）とのコポリマー（例えばテトラフルオロエチレン－ヘキサフルオロプロピレンコポリマー（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレン－パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）コポリマー（ＰＦＡ）およびエチレン－テトラフルオロエチレンコポリマー（ＥＴＦＥ）等）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）、およびエチレン－クロロトリフルオロエチレン（ＥＣＴＦＥ）等のフッ素樹脂、フッ化ビニリデン－ヘキサフルオロプロピレンコポリマー等のフッ化ビニリデン系ゴム（ＦＫＭ）、テトラフルオロエチレン－プロピレンゴム（ＦＥＰＭ）、およびテトラフルオロエチレン－パーフルオロメチルビニルエーテルゴム（ＦＦＫＭ）等のフッ素ゴム、ならびに含フッ素エラストマー等が挙げられる。本明細書において、「含フッ素ポリマー」には、分子量が約１００００～５０００００程度の低分子量ポリマー（例えば低分子量ＰＴＦＥ等）も含まれる。
本開示の除去方法において、上記含フッ素ポリマーは、ポリテトラフルオロエチレンであることが好ましい。本開示の除去方法は、ポリテトラフルオロエチレンの製造時に生じる排水を処理する場合に特に高い除去効率が発揮される。
上記ポリテトラフルオロエチレンは、ＴＦＥ単独重合体であってもよいし、ＴＦＥ単位とＴＦＥと共重合可能な変性モノマーに基づく変性モノマー単位とを含む変性ＰＴＦＥであってもよい。また、高分子量ＰＴＦＥであってもよいし、低分子量ＰＴＦＥであってもよいが、特に高分子量ＰＴＦＥの製造で生じる排水を処理する場合に本開示の除去方法は有効である。
高分子量ＰＴＦＥは、通常、非溶融加工性及びフィブリル化性を有するものであり、例えば、標準比重（ＳＳＧ）が２．１３０～２．２８０である。上記標準比重は、ＡＳＴＭ　Ｄ４８９５－８９に準拠して成形されたサンプルを用い、ＡＳＴＭ　Ｄ　７９２に準拠した水置換法により測定する。本開示において、「高分子量ＰＴＦＥ」とは、標準比重が上記の範囲内にあることを意味する。
本開示の除去方法は、下記の含フッ素ポリマー製造工程を含むものであってよい。
本明細書において、「含フッ素ポリマー製造工程」は、含フッ素ポリマーの製造プロセスに含まれる工程であれば特に限定されるものではなく、公知の含フッ素ポリマー製造プロセスを構成する１以上の工程を含んでよい。「含フッ素ポリマー製造工程」には、含フッ素モノマーを含む１以上のモノマーを重合する重合工程に加えて、重合工程前の前処理工程（例えば、所定濃度の乳化剤を調製する工程等）および重合工程後の後処理工程（例えば、水性分散液の濃縮工程、固液分離工程、凝析工程、洗浄工程、脱水工程、乾燥工程、熱処理工程等）も含まれ得る。以下、「含フッ素ポリマー製造工程」の具体例について説明するが、本実施形態に係る方法は、以下の具体例に限定されるものではない。
上述したように、含フッ素ポリマーは、含フッ素モノマーを含む１種類以上のモノマーを重合することにより製造される。含フッ素ポリマーは一般に乳化重合または懸濁重合により製造される。この重合工程において、ポリマー粒子が水性媒体中に分散した水性分散液が得られる。上記重合工程は、炭化水素系界面活性剤の存在下で行うことが好ましい。
水性分散液の状態で使用する場合には、得られた水性分散液は、濃縮工程（例えば、相分離濃縮、電気濃縮、限外濾過膜を用いた濾過処理、逆浸透膜（ＲＯ膜）を用いた濾過処理、ナノ濾過処理等）によって濃縮してもよい。その場合、濃縮した水性分散液を回収した後に残る液は、本明細書における「排水」に含まれ得る。
重合工程の後、凝析工程において、水性分散液に塩または酸を添加して、含フッ素ポリマーを凝集させる。次いで、固液分離工程において、凝集した含フッ素ポリマーを分離して回収する。含フッ素ポリマーを分離回収した後に残る液は、本明細書における「排水」に含まれ得る。
固液分離工程で分離回収された含フッ素ポリマーは、洗浄工程において、水性媒体等の洗浄液で洗浄してよい。洗浄工程において使用した洗浄液は、本明細書における「排水」に含まれ得る。
固液分離工程で分離回収された含フッ素ポリマーは、脱水工程において、機械的に脱水してよい。脱水工程において含フッ素ポリマーから除去された液は、本明細書における「排水」に含まれ得る。
脱水後の含フッ素ポリマーを、洗浄工程において、水性媒体等の洗浄液で洗浄してもよく、この洗浄工程で使用した洗浄液もまた、本明細書における「排水」に含まれ得る。
上述の洗浄工程および／または脱水工程の後に得られる含フッ素ポリマーは、乾燥工程において加熱乾燥して、残留する水分や有機溶媒を排ガスとして除去してよい。乾燥工程で生じる排ガスを液化したものは、本明細書における「排水」に含まれ得る。
乾燥工程で生じる排ガスには、水蒸気および有機溶媒に加えて、含フッ素ポリマーに同伴された含フッ素界面活性剤、重合時に生成した一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物が気化したものが含まれ得る。そのため、この排ガスを、水またはアルカリ水溶液等の洗浄液で洗浄することが好ましい。排ガスの洗浄に用いた洗浄液もまた、本明細書における「排水」に含まれ得る。
乾燥工程の後に得られる含フッ素ポリマーは、熱処理工程において、ペレット等の所望の形状に成形してよい。熱処理工程で生じる排ガスを液化したものは、本明細書における「排水」に含まれ得る。熱処理工程で生じる排ガスには、含フッ素ポリマーに同伴された一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物が気化したものが含まれ得る。そのため、この排ガスを、水またはアルカリ水溶液等の洗浄液で洗浄することが好ましい。排ガスの洗浄に用いた洗浄液もまた、本明細書における「排水」に含まれ得る。
なお、乾燥工程で生じる排ガスおよび熱処理工程で生じる排ガスの両方を一緒に洗浄して単一の洗浄液を得てもよい。
上記排水は、１種類の含フッ素ポリマーの製造工程から生じる排水であってよく、あるいは複数の異なる種類の含フッ素ポリマーの製造工程から生じる排水を含んでもよい。例えば、排水は、フッ素ゴムの製造工程から生じる排水およびＰＴＦＥ（低分子量ＰＴＦＥ等）の製造工程から生じる排水を含む混合物であってよく、本開示の除去方法によって、２種類の含フッ素ポリマーの製造工程から生じる排水を同時に処理することができる。また、排水は、含フッ素ポリマーの製造プロセスに含まれる工程のうち１つの工程から生じる排水であってよく、あるいは複数の異なる工程から生じる排水を含んでもよい。
例えば、上記排水は、炭化水素系界面活性剤を用いた含フッ素ポリマー製造工程で得られた排水と、含フッ素界面活性剤を用いた含フッ素ポリマー製造工程で得られた排水とを混合したものであってもよい。
上記排水のｐＨは、例えば１．５～１３．５であってよく、２～１３であってよい。
上記排水は、酸性であることも好ましい。酸性であることによって上記含フッ素化合物の除去効率をより高めることができる。例えば、上記吸着工程における排水のｐＨは１～６であってよく、１～５であってよい。
上記排水を酸性にする方法としては、吸着工程の前に、酸を加えることによってｐＨを調整する方法が挙げられる。上記酸としては、塩酸（ＨＣｌ）、硝酸（ＨＮＯ３）、硫酸（Ｈ２ＳＯ４）、りん酸（Ｈ３ＰＯ４）等が挙げられ、特に、塩酸（ＨＣｌ）又は硝酸（ＨＮＯ３）が好ましい。
本開示の除去方法は、上記排水と吸着剤とを接触させることにより、該吸着剤に含フッ素化合物の２種以上を吸着させる吸着工程を含む。
上記吸着工程における温度は特に限定されないが、例えば、０～５０℃であってよい。除去率を高める観点から、５℃以上が好ましい。また、４０℃以下が好ましく、３５℃以下がより好ましい。また２０℃以下であってもよい。
上記吸着工程における圧力は特に限定されないが、例えば、０．１～１０気圧であってよく、常圧（約１気圧）で実施できる。
上記吸着工程における接触時間は、０．１秒～１００時間であってよく、１秒～５０時間であってよく、１秒～１０時間であってよい。また、１秒～１時間であってもよい。
本開示の除去方法において、上記吸着工程における接触は、回分式であっても、または流動式であってもよい。上記吸着工程は、１回行ってもよいし、複数回繰り返してもよい。
上記吸着工程において、排水に対する吸着剤の量は限定されないが、例えば、排水１０００ｇに対して０．０１～１０００ｇであってよい。排水１０００ｇに対して、０．１ｇ以上が好ましく、１ｇ以上がより好ましく、５ｇ以上が更に好ましい。また、５００ｇ以下が好ましい。
上記排水を吸着剤に接触させる方法としては、常套的に採用されている方法を採用できる。例えば、排水に吸着剤を添加し、攪拌する方法、吸着剤を充填したカラムに上記含フッ素化合物を含む排水を流すカラム法等によって実施できる。カラム法で使用する充填カラムは移動式、固定層式、又は、流動層式のいずれであってもよい。
排水に吸着剤を添加し、攪拌する方法を用いる場合、吸着工程の後に、吸着剤と、吸着工程後の排水を分離する分離工程を含むことが好ましい。吸着剤と吸着工程後の排水を分離する方法は限定されず、例えば、濾過等を用いることができる。
本開示の除去方法は、上記吸着工程の前に、排水を前処理する工程を含んでもよい。前処理工程としては、排水から未凝析ポリマーを除去する工程、排水を希釈又は濃縮する工程等が挙げられる。
本開示の除去方法は、更に、上記吸着工程の前に、排水から固体成分を除去する前処理工程を含むことも好ましい。固体成分としては、未凝析ポリマー、凝集剤、微粒子状ポリマー等が挙げられる。
上記排水は、含フッ素ポリマー等の固体成分を含有し得る。固体成分は、含フッ素ポリマー製造工程において製造される含フッ素ポリマーを分離回収した後の排液中に残存し得る成分である。例えば、上述した凝析排液（凝析工程後の固液分離工程において、分離回収した後に残る液）は、固液分離工程で回収しきれなかった未凝析ポリマーを含み得る。このような固体成分は、含フッ素化合物を除去するプロセスに悪影響を及ぼし得るので、吸着工程の前に排水から除去することが望ましい。
本明細書において、未凝析ポリマーは、重合工程の後、凝集剤を添加し、固液分離工程を行って含フッ素ポリマーを分離回収した後に残る排水中に分散して存在するポリマー成分であって、フィルタ等のろ材の表面にゲル状物質となって堆積するものを意味する。未凝析ポリマーの粒径は、０．０１μｍ～５．０μｍ程度であってよい。
また、排水に含まれ得る微粒子状ポリマーは、その粒径が限定されるものではないが、例えば、粒径が約０．１μｍ～０．２μｍ程度のポリマーであってもよい。
上記排水は、固体成分を含むものであってよく、固体成分として未凝析ポリマー及び／または微粒子ポリマーを含むものであってよい。本開示の除去方法において、排水中の固体成分の濃度は特に限定されず、任意の固体成分濃度の排水を処理することができる。
排水中の固体成分の濃度は、排水が生じる含フッ素ポリマー製造工程に応じて変化し得るが、例えば、０．１ｐｐｍ～５００００ｐｐｍであってもよい。
また、上記前処理工程によって、例えば、０．１ｐｐｍ～５００ｐｐｍにすることが好ましく、０．０５ｐｐｍ～５０ｐｐｍにすることがより好ましく、０．０５ｐｐｍ～１０ｐｐｍにすることが更に好ましい。
固体成分を除去する方法としては限定されず、ろ過等が挙げられる。ろ過の方法としては、ＵＦ膜、ＭＦ膜により固体成分を分離する方法、ろ過助剤を使用する方法、液体サイクロンを使用する方法等が挙げられる。
上記ＭＦ膜としては、保安フィルターや中空糸膜、平膜、スパイラル等が挙げられる。
上記ろ過助剤としては、珪藻土、ろ過砂（マンガン砂、マンガンゼオライト、アンスラサイト、セラミックサンド等）、パーライト、セルロース等が挙げられる。
また、本開示の除去方法は、更に、上記吸着工程の前に、上記排水に、過硫酸イオンを添加することで、過硫酸イオンによる処理を行う過硫酸処理工程を含んでもよい。
過硫酸イオンによる処理を行うことにより、一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物の除去効率をより高めることができる。なお、過硫酸イオンによる処理により、一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物の除去効率をより高められる理由としては、推測の域を脱し得ず、特に限定されるものではないが、過硫酸イオンによる処理により、一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物において、炭素数が減少するような何らかの分解反応が起こり、これにより、吸着工程において、一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物と、吸着剤との接触がより容易に起こりやすくなるという理由が考えられる。
過硫酸イオン処理工程において用いる過硫酸イオンを添加する際には、過硫酸イオン（Ｓ２Ｏ８ ２－）を含む化合物の形態で添加すればよく、過硫酸イオンを含む化合物としては、過硫酸（Ｈ２Ｓ２Ｏ８）やその塩類を用いることができる。過硫酸塩としては過硫酸カリウム（Ｋ２Ｓ２Ｏ８）、過硫酸アンモニウム（（ＮＨ４）２Ｓ２Ｏ８）、過硫酸ナトリウム（Ｎａ２Ｓ２Ｏ８）等が挙げられる。
上記過硫酸イオン処理工程における処理温度は、例えば、０～９５℃であってよい。除去率を高める観点から、２５℃以上が好ましく、４０℃以上がより好ましく、６０℃以上がさらに好ましい。また、９０℃以下が好ましく、８５℃以下がより好ましい。
上記過硫酸イオン処理工程における圧力は特に限定されないが、例えば、０．１～１０気圧であってよく、常圧（約１気圧）で実施できる。あるいは、加圧条件で実施することもでき、この際における処理温度は、１００～１５０℃とすることができる。
上記過硫酸イオン処理工程における処理時間は、０．１秒～１００時間であってよく、１秒～５０時間であってよく、１分～２０時間であってよい。また、１時間～１０時間であってもよい。
過硫酸イオン処理工程における、排水に対する過硫酸イオンの量は限定されないが、例えば、排水１０００ｇに対して０．０００１～１０ｇであってよい。排水１０００ｇに対して、０．００１ｇ以上が好ましく、０．０１ｇ以上がより好ましく、０．０５ｇ以上が更に好ましい。また、５ｇ以下が好ましい。
上記排水は、上述の一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物、炭化水素系界面活性剤、上記の固体成分等に加えて、硝酸；硫酸アルミニウム、ポリ塩化アルミニウム（ＰＡＣ）等のアルミニウム塩；水酸化第一鉄、水酸化第二鉄、硫酸第一鉄、硫酸第二鉄、ポリ硫酸第二鉄等の鉄塩；水酸化カルシウム、塩化カルシウム、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、硝酸カルシウム、フッ化カルシウム等のカルシウム塩；カオリナイト、モンモリロナイト、ゼオライト等の、２価以上の金属元素およびケイ素を含むケイ酸塩鉱物；アルギン酸ソーダ、キチン・キトサン系凝集剤、カチオン系高分子凝集剤、アニオン系高分子凝集剤、ノニオン系高分子凝集剤等の凝集剤を含み得る。これらの凝集剤は、含フッ素ポリマー製造工程において凝集剤として用いられたものであってよい。また、上記吸着工程の前に、排水に上述の凝集剤を更に添加してもよい。凝集剤を添加することによって、排水中の固体成分量を低減でき、吸着剤への含フッ素化合物の吸着をより効率的に行うことができる。
上記吸着剤は、一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物を吸着できるものであれば限定されないが、例えば、イオン交換樹脂、合成吸着剤、活性炭、シリカゲル、クレイ、及び、ゼオライトからなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、イオン交換樹脂、合成吸着剤及び活性炭からなる群より選択される少なくとも１種がより好ましい。アルミナやカーボンナノチューブ等も用いることができる。
上記イオン交換樹脂は、陽イオン交換樹脂または陰イオン交換樹脂のいずれであってもよい。陰イオン交換樹脂としては、例えば、官能基としてアミノ基および／または四級アンモニウム基を有するイオン交換樹脂を用いることができる。イオン交換樹脂は、好ましくは強塩基性陰イオン交換樹脂である。陰イオン交換樹脂の塩基性度は、ポリマー骨格および／または官能基の種類によって種々設定することができる。陰イオン交換樹脂として市販品を用いてよく、例えば、三菱ケミカル株式会社製のダイヤイオン(商標)ＳＡシリーズなど、ピュロライト株式会社製のＡ２００、Ａ３００、ＰＦＡ６９４Ｅなど、オルガノ株式会社製のアンバーライト（商標）シリーズなど、ＩＲＡ４００２ＯＨ等のアンバージェット（商標）シリーズなど、を用いることができる。陽イオン交換樹脂としては、例えば、官能基としてカルボン酸基および／またはスルホン酸基を有するイオン交換樹脂を用いることができる。陽イオン交換樹脂の酸性度は、ポリマー骨格および／または官能基の種類によって種々設定することができる。陽イオン交換樹脂として市販品を用いてよく、例えば、三菱ケミカル株式会社製のダイヤイオン(商標)ＳＫシリーズなど、ピュロライト株式会社製のＣ１００など、オルガノ株式会社製のアンバーライト（商標）シリーズ等を用いることができる。
イオン交換樹脂は、細孔径が１～５０００Åであることが好ましい。除去効率の観点から、細孔径が５０Å以上であることが好ましく、１００Å以上がより好ましく、１５０Å以上が更に好ましい。また、２００Å以上であってもよく、２５０Å以上であってもよい。また、細孔径１０００Å以下であってもよい。細孔径は、例えば、ガス吸着法で比表面積と全細孔容積を測定し、算出することができる。
イオン交換樹脂は、除去効率の観点から、総交換容量が０．１ｅｑ／Ｌ－Ｒｅｓｉｎ以上が好ましい。より好ましくは、０．５ｅｑ／Ｌ－Ｒｅｓｉｎ以上であり、更に好ましくは、０．９ｅｑ／Ｌ－Ｒｅｓｉｎ以上である。また、総交換容量は大きいほどよいが、例えば、上限は５．０ｅｑ／Ｌ－Ｒｅｓｉｎであってよい。
また、イオン交換樹脂は、通常、球状であり、３００～１３００μｍ程度の平均粒子径を有している。
また、陰イオン交換樹脂としては、下記一般式（Ａ１）：
－Ｎ＋Ｒｃ１Ｒｃ２Ｒｃ３Ｘ－基
（式中、Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３は、同一又は異なって水素原子又は有機基であり、Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３の少なくとも１つは炭素数が３以上の有機基である。Ｘは対イオンを表す。）で表されるイオン交換基、又は、下記一般式（Ａ２）：
－ＮＲｃ４Ｒｃ５基
（式中、Ｒｃ４及びＲｃ５は、同一又は異なって水素原子又は有機基であり、Ｒｃ４及びＲｃ５の少なくとも１つは炭素数が２以上の有機基である。）で表されるイオン交換基を有する陰イオン交換樹脂Ａであってもよい。
一般式（Ａ１）において、Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３は同一又は異なって水素原子又は有機基である。Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３は、全てが有機基であってもよいし、１つが水素原子であり２つが有機基であってもよい。更に、２つが水素原子であり１つが有機基であってもよい。上記有機基は、炭素数が１以上である。上記有機基は、炭素数が２以上であることが好ましい。上記Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３は炭素数が２以上の有機基であることが好ましい形態の一つである。
一般式（Ａ１）において、上記Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３のうち少なくとも１つは炭素数が３以上の有機基である。Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３のうち、１つが炭素数３以上の有機基であり、２つが水素原子又は炭素数１又は２の有機基であってもよい。また、２つが炭素数３以上の有機基であり、１つが水素原子又は炭素数１又は２の有機基であってもよい。Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３の全てが炭素数３以上の有機基であってもよい。
上記Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３において、有機基の炭素数は１０以下が好ましく、８以下がより好ましく、６以下が更に好ましい。有機基の炭素数は５以下であってもよい。
一般式（Ａ１）において、Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３の少なくとも１つは炭素数が４以上の有機基であることが好ましい。このような構成をとることによって、より効率的に特定の含フッ素化合物を除去することができる。
上記Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３における有機基は、アルキル基、アルカノール基又はアルケニル基であることが好ましく、アルキル基又はアルカノール基であることがより好ましく、アルキル基であることが更に好ましい。なお、アルカノール基としては、アルカノールから水素原子１個を除いた残りの基であればよく、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルカノール基又は炭素数３以上の環状のアルカノール基も含む。
上記Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３は、同一又は異なって、炭素数２以上のアルキル基又は炭素数１以上のアルカノール基であり、Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３の少なくとも１つは炭素数３以上のアルキル基であることが好ましい。
上記Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３は、同一又は異なって、炭素数２以上のアルキル基又は炭素数２以上のアルカノール基であり、Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３の少なくとも１つは炭素数３以上のアルキル基であることがより好ましい形態の一つである。
上記Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３はまた、同一又は異なって、炭素数２以上のアルキル基または炭素数１以上のアルカノール基であり、Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３の少なくとも１つは炭素数４以上のアルキル基であることも好ましい形態の一つである。
また、上記Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３は、同一又は異なって、炭素数２以上のアルキル基または炭素数２以上のアルカノール基であり、Ｒｃ１、Ｒｃ２及びＲｃ３の少なくとも１つは炭素数４以上のアルキル基であることも好ましい形態の一つである。
上記アルキル基の炭素数は１０以下が好ましく、８以下がより好ましく、６以下が更に好ましい。上記アルキル基の炭素数は５以下であってもよい。
上記アルカノール基の炭素数は１０以下が好ましく、８以下がより好ましく、６以下が更に好ましい。上記アルカノール基の炭素数は５以下であってもよい。
一般式（Ａ１）において、Ｘは対イオンである。Ｘとしては、Ｃｌ、ＯＨ、Ｂｒ、Ｉ、ＮＯ３、ＳＯ４等が挙げられ、Ｃｌ又はＯＨであることが好ましい。なお、ＳＯ４のように２価のアニオンである場合は、一般式（Ａ１）で表される基２つに対して、１つの対イオンが配位する。
上記一般式（Ａ２）において、Ｒｃ４及びＲｃ５は、同一又は異なって水素原子又は有機基であり、Ｒｃ４及びＲｃ５の少なくとも１つは炭素数が２以上の有機基である。
Ｒｃ４及びＲｃ５は、全てが有機基であってもよい。また、１つが水素原子であり１つが有機基であってもよい。
一般式（Ａ２）において、上記Ｒｃ４及びＲｃ５のうち少なくとも１つは炭素数が２以上の有機基である。
Ｒｃ４及びＲｃ５のうち、１つが炭素数２以上の有機基であり、１つが水素原子又は炭素数１の有機基であってもよい。また、Ｒｃ４及びＲｃ５の両方が炭素数２以上の有機基であってもよい。
上記Ｒｃ４及びＲｃ５のうち少なくとも１つは炭素数が３以上の有機基であってもよいし、炭素数が４以上の有機基であってもよい。
また、上記Ｒｃ４及びＲｃ５は炭素数が２以上の有機基であることも好ましい。
上記Ｒｃ４及びＲｃ５において、有機基の炭素数は１０以下が好ましく、８以下がより好ましく、６以下が更に好ましい。有機基の炭素数は５以下であってもよい。
上記Ｒｃ４及びＲｃ５における有機基は、アルキル基、アルカノール基又はアルケニル基であることが好ましく、アルキル基又はアルカノール基であることがより好ましく、アルキル基であることが更に好ましい。
上記Ｒｃ４及びＲｃ５は、同一又は異なってアルキル基又はアルカノール基であり、上記Ｒｃ４及びＲｃ５の少なくとも１つは炭素数２以上のアルキル基又は炭素数２以上のアルカノール基であることがより好ましい形態の一つである。
上記アルキル基の炭素数は１０以下が好ましく、８以下がより好ましく、６以下が更に好ましい。上記アルキル基の炭素数は５以下であってもよい。
上記アルカノール基の炭素数は１０以下が好ましく、８以下がより好ましく、６以下が更に好ましい。上記アルカノール基の炭素数は５以下であってもよい。
上記陰イオン交換樹脂Ａは、上記一般式（Ａ１）で表される基又は一般式（Ａ２）で表される基が樹脂母体に結合しているものであることが好ましい。上記陰イオン交換樹脂は、スチレン系又はアクリル系の重合体からなる樹脂母体に、上記一般式（Ａ１）で表される基又は一般式（Ａ２）で表される基が結合したものが挙げられる。樹脂母体としてのスチレン系又はアクリル系重合体は限定されないが、例えば、公知の陰イオン交換樹脂で使用されている樹脂母体を使用することができる。
上記陰イオン交換樹脂Ａの塩基性度は、ポリマー骨格および／またはイオン交換基の種類によって種々設定することができる。
上記陰イオン交換樹脂Ａの細孔径および総交換容量は、上記した範囲であればよい。
上記陰イオン交換樹脂Ａの水分含有量は、除去効率の観点から、２０質量％以上であることが好ましく、３０～７０質量％がより好ましく、３５～６５質量％が更に好ましい。
上記水分含有量は、下記方法により測定できる。
まず、基準形にした試料を、メスシリンダーで１０ｍＬ正確にはかり取り、この樹脂を布に包み遠心分離して、付着水分を除いた後、すばやく樹脂の質量を測定する。次いで、１０５℃の恒温乾燥機中で４時間乾燥した後、デシケーター中で３０分放冷し、乾燥後の樹脂の質量をはかり、下記式により水分含有量を計算する。
水分含有量（％）＝（乾燥前の樹脂の質量（ｇ）－乾燥後の樹脂の質量（ｇ））／乾燥前の樹脂の質量（ｇ）×１００
上記陰イオン交換樹脂Ａは、通常、球状である。陰イオン交換樹脂Ａの平均粒子径は０．１～５ｍｍが好ましく、０．２～２ｍｍがより好ましく、０．３～１．５ｍｍが特に好ましい。上記陰イオン交換樹脂Ａの平均粒子径が前記範囲内にあれば、上記陰イオン交換樹脂の充填塔が閉塞しにくくなる。上記平均粒子径は、ふるい分け法により求めた値である。具体的には、まず、ふるい振とう器に上記陰イオン交換樹脂Ａを取り、ふるい分けにより粒度分布を測定する。そして、残留分類計５０％に対応する篩の目の径を求め、これを平均粒子径とする。
上記陰イオン交換樹脂Ａとしては市販品を用いてよく、例えば、ピュロライト株式会社製のＰＦＡ６９４Ｅ、Ａ５９２Ｅ等が挙げられる。
さらに、陰イオン交換樹脂としては、下記一般式（Ｂ１）：
－Ｎ＋（ＣＨ３）３Ｘ－基
（式中、Ｘは対イオンを表す。）で表される基、又は、下記一般式（Ｂ２）：
－Ｎ＋（ＣＨ３）２（Ｃ２Ｈ４ＯＨ）Ｘ－基
（式中、Ｘは対イオンを表す。）で表されるイオン交換基を有する陰イオン交換樹脂Ｂであってもよい。
一般式（Ｂ１）及び（Ｂ２）のＸとしては、Ｃｌ、ＯＨ、Ｂｒ、Ｉ、ＮＯ３、ＳＯ４等が挙げられ、Ｃｌ又はＯＨであることが好ましい。なお、ＳＯ４のように２価のアニオンである場合は、一般式（Ｂ１）または一般式（Ｂ２）で表される基２つに対して、１つの対イオンが配位する。
上記陰イオン交換樹脂Ｂとしては、上記イオン交換基が樹脂母体に結合しているものであることが好ましく、上記樹脂母体としては、スチレン系又はアクリル系の重合体が挙げられる。樹脂母体としてのスチレン系又はアクリル系重合体は限定されないが、例えば、公知の陰イオン交換樹脂で使用されている樹脂母体を使用することができる。除去効率の観点から、陰イオン交換樹脂Ｂは、樹脂母体がスチレン系であることが好ましい。
陰イオン交換樹脂Ｂは、弱塩基性であってもよく、強塩基性であってもよい。好ましくは強塩基性陰イオン交換樹脂である。
陰イオン交換樹脂Ｂの塩基性度は、ポリマー骨格および／またはイオン交換基の種類によって種々設定することができる。
上記陰イオン交換樹脂Ｂは、細孔径が１～５０００Åであることが好ましい。除去効率の観点から、細孔径が５０Å以上であることが好ましく、１００Å以上がより好ましく、１５０Å以上が更に好ましい。また、２００Å以上であってもよく、２５０Å以上であってもよい。また、細孔径１０００Å以下であってもよい。細孔径は、例えば、ガス吸着法で比表面積と全細孔容積を測定し、算出することができる。
上記陰イオン交換樹脂Ｂは、除去効率の観点から、総交換容量が０．１ｅｑ／Ｌ－Ｒｅｓｉｎ以上が好ましい。より好ましくは、０．３ｅｑ／Ｌ－Ｒｅｓｉｎ以上であり、更に好ましくは、０．５ｅｑ／Ｌ－Ｒｅｓｉｎ以上であり、特に好ましくは０．７ｅｑ／Ｌ－Ｒｅｓｉｎ以上である。また、総交換容量は大きいほどよいが、例えば、上限は５．０ｅｑ／Ｌ－Ｒｅｓｉｎであることが好ましく、２．０ｅｑ／Ｌ－Ｒｅｓｉｎ以下であることがより好ましく、１．５ｅｑ／Ｌ－Ｒｅｓｉｎ以下であることが特に好ましい。
上記陰イオン交換樹脂Ｂの水分含有量は、２０質量％以上であることが好ましく、３０～７０質量％がより好ましく、３５～６５質量％が更に好ましい。上記陰イオン交換樹脂Ｂの水分含有量が３０質量％以上であることによって、効率的に除去することができる。
上記水分含有量は、上述した陰イオン交換樹脂Ａと同じ方法により測定できる。
上記陰イオン交換樹脂Ｂは、通常、球状である。陰イオン交換樹脂Ｂの平均粒子径は０．１～５ｍｍが好ましく、０．２～２ｍｍがより好ましく、０．３～１．５ｍｍが特に好ましい。上記陰イオン交換樹脂Ｂの平均粒子径が前記範囲内にあれば、上記陰イオン交換樹脂の充填塔が閉塞しにくくなる。上記平均粒子径は、ふるい分け法により求めた値である。具体的には、まず、ふるい振とう器に上記陰イオン交換樹脂Ｂを取り、ふるい分けにより粒度分布を測定する。そして、残留分類計５０％に対応する篩の目の径を求め、これを平均粒子径とする。
上記陰イオン交換樹脂Ｂとしては市販品を用いてよく、例えば、三菱ケミカル株式会社製のダイヤイオン(商標)ＳＡシリーズなど、ピュロライト株式会社製のＡ４００、Ａ３００など、オルガノ株式会社製のアンバーライト（商標）シリーズなど、ＩＲＡ４００２ＯＨ等のアンバージェット（商標）シリーズなど、を用いることができる。
上記合成吸着剤は、イオン交換基を持たない多孔質樹脂であり、合成吸着剤として知られている公知のものを採用することができる。イオン交換基としては、アミノ基、四級アンモニウム基、カルボン酸基、スルホン酸基等が挙げられる。合成吸着剤として具体的には、スチレン－ジビニルベンゼン共重合体等のスチレン系樹脂、（メタ）アクリル酸エステル－エチレングリコールジメタクリレート共重合体等のアクリル系樹脂、メタアクリル系樹脂、ポリビニル系樹脂、デキストラン系樹脂等が挙げられる。合成吸着剤として商業的に入手可能なものとしては、具体的には、スチレン系樹脂として、ダイヤイオンＨＰ１０、ダイヤイオンＨＰ２０、ダイヤイオンＨＰ２１、ダイヤイオンＨＰ４０、ダイヤイオンＨＰ５０、セパピーズＳＰ２０７、セパピーズＳＰ７０、セパピーズＳＰ８２５、セパピーズＳＰ８５０、セパピーズＳＰ２０７（以上、三菱ケミカル社製）、アンバーライトＸＡＤ１１８０Ｎ、アンバーライトＸＡＤ２０００、アンバーライトＸＡＤ４、アンバーライトＦＰＸ６６（以上、オルガノ社製）等；アクリル系樹脂として、ダイヤイオンＨＰ２ＭＧ（三菱ケミカル社製）、アンバーライトＨＸＡＤ－７ＨＰ（オルガノ社製）等が挙げられる。
合成吸着剤は、細孔径が１～５０００Åであることが好ましい。除去効率の観点から、細孔径が５０Å以上であることが好ましく、１００Å以上がより好ましく、１５０Å以上が更に好ましい。また、２００Å以上であってもよく、２５０Å以上であってもよい。また、細孔径１０００Å以下であってもよい。細孔径は、例えば、ガス吸着法で比表面積と全細孔容積を測定し、算出することができる。
合成吸着剤は、比表面積が３００ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。比表面積は４００ｍ２／ｇ以上がより好ましく、５００ｍ２／ｇ以上が更に好ましく、６００ｍ２／ｇ以上が殊更に好ましい。比表面積の上限は限定されないが、例えば２０００ｍ２／ｇ以下であってよく、１５００ｍ２／ｇ以下であってよく、１０００ｍ２／ｇ以下であってもよい。また、合成吸着剤は、通常、球状であり、合成吸着剤の平均粒子径は、除去効率の観点から、０．１～２．０ｍｍが好ましく、０．２～１．５ｍｍがより好ましく、０．２～１．３ｍｍがさらに好ましく、０．３～１．０ｍｍが特に好ましい。合成吸着剤の平均粒子径は、篩いで分級した後の積分質量をグラフにプロットして得られる５０％質量値を意味する。
合成吸着剤は、除去効率を高める観点から、水分を含有していることが好ましい。水分量は２０～８０質量％が好ましく、４０～７５質量％がより好ましく、５０～７０質量％が特に好ましい。
上記活性炭は炭素質材料から製造できる。炭素質材料としては、炭化、賦活などにより活性炭を生成するものであればよく、木材、鋸屑、木炭、ヤシ殻、クルミ殻などの果実殻、果実種子などの植物系、泥炭、亜炭、褐炭、瀝青炭、無煙炭などの石炭、石油ピッチ、石炭ピッチなどのピッチ、コークス、コールタール、石油タールなどのタール、石油蒸留残渣などの鉱物系、木綿、レーヨンなどのセルロース系繊維などの天然素材、フェノール樹脂、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリルなどの合成素材などを例示することができる。形状としては、粉末状、粒状、繊維状いずれでもよく、またそれらを成形したものであってもよい。
上記活性炭は、比表面積が５００ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。比表面積は１０００ｍ２／ｇ以上がより好ましく、１５００ｍ２／ｇ以上が更に好ましく、１８００ｍ２／ｇ以上が殊更に好ましく、２０００ｍ２／ｇ以上が特に好ましい。比表面積の上限は限定されないが、例えば２５００ｍ２／ｇであってよい。活性炭の形状は、特に限定されるものではなく、例えば、ペレット状、顆粒状、粉末状、球状粒子の形状であってよい。活性炭は市販品であってもよい。活性炭の市販品としては、例えば、大阪ガスケミカル株式会社製の白鷺（商標）など、カルゴン・カーボン・ジャパン株式会社製のＦｉｌｔｒａｓｏｒｂ（商標）ＣＡＬ、ダイアホープ（商標）、ダイアソーブ（商標）など、水ｉｎｇ株式会社製のエバダイヤ（商標）シリーズなどが挙げられる。
上記活性炭は、水蒸気賦活処理を行うことによって向上した吸着性能を有することが好ましい。水蒸気賦活処理において、活性炭を１２０℃以上、例えば１３０～３５０℃、特に１５０～１０００℃の温度、および０．２ＭＰａ以上、例えば０．５～１５ＭＰａ、特に１ＭＰａ～１５ＭＰａの圧力のスチームにさらすことが好ましい。水蒸気賦活処理時間は、一般に１０秒～５０時間、例えば１０分～１０時間であってよい。賦活において、炉内での加温を行ってもよい。
活性炭の表面にカチオンを添着させてもよい。カチオンの例としては、金属イオン、金属酸化物イオン、アンモニウムイオンなどが挙げられる。金属の例としては、周期表の１～１３族の金属原子（例えば、アルカリ金属（例えば、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ）、アルカリ土類金属（例えば、Ｍｇ、Ｃａ）、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ）が挙げられる。
本開示の除去方法は、上記吸着工程の後に、吸着工程を経た排水を濃縮する工程を含んでもよい、
上記濃縮方法としては、相分離濃縮、イオン交換体法、膜濃縮等が挙げられる。上記相分離濃縮、イオン交換体法及び膜濃縮は、従来公知の処理条件で行うことができ、特に限定されないが、国際公開第２００４／０５０７１９号パンフレット、特表２００２－５３２５８３号公報や特開昭５５－１２０６３０号公報に記載の方法により行うことができる。
上記一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物を吸着した吸着剤は、水および有機溶媒を含むアルカリ溶液で処理すること等によって、吸着された上記含フッ素化合物を溶離させ、再利用することもできる。
上記アルカリとしては、ＮａＯＨおよびＫＯＨ等のアルカリ金属の水酸化物およびＮＨ４ＯＨ等が使用できる。
また、溶離した上記含フッ素化合物を回収してもよい。
上記吸着工程においては、上記一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物の除去率が４０％以上が好ましく、５０％以上がより好ましく、６０％以上が更に好ましく、７０％以上が更により好ましく、８０％以上が殊更に好ましく、９０％以上が特に好ましく、９５％以上がより好ましく、９９％以上が更により好ましく、９９．９％以上が最も好ましい。上記除去率は、吸着工程前後の一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物の濃度を測定し、下記式により算出する。
除去率（％）＝（１－吸着工程後の一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物のピーク面積）／（吸着工程前の一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物のピーク面積）×１００
上記含フッ素化合物の濃度は後述する実施例で記載する方法で測定することができる。
上記吸着工程は複数回繰り返してもよく、複数回繰り返す場合の除去率は、１回目の吸着工程を行う前の含フッ素化合物の濃度と、最後の吸着工程を行った後の含フッ素化合物の濃度から算出する。
複数回繰り返す場合は、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０回であることができる。２～１０回、２～７回、３～５回であることができる。
また、上記吸着工程を複数回繰り返して行う場合には、各吸着工程において、同じ吸着剤を用いてもよいし、異なる吸着剤を用いてもよい。例えば、上記吸着工程を２回とする場合には、１回目に用いる吸着剤と、２回目に用いる吸着剤とを同じものを使用してもよいし、異なるものを使用してもよい。また、例えば、上記吸着工程を、３回以上行う場合を例示すると、１回目、２回目を同じ吸着剤を用い、３回目を別の吸着剤を用いる態様や、１回目、２回目、３回目の全てにおいて異なる吸着剤を用いる態様等、種々の態様とすることができる。
例えば、上記吸着剤として、上記陰イオン交換樹脂Ａと、上記陰イオン交換樹脂Ｂとを用いる場合には、上記陰イオン交換樹脂Ａを用いた吸着工程を１回以上行った後、上記陰イオン交換樹脂Ｂを用いた吸着工程を１回以上行うことができる。あるいは、上記陰イオン交換樹脂Ｂを用いた吸着工程を１回以上行った後に、上記陰イオン交換樹脂Ａを用いた吸着工程を１回以上行うことができる。
また、例えば、上記吸着剤として、上記合成吸着剤と、上記陰イオン交換樹脂Ｂとを用いる場合には、上記合成吸着剤を用いた吸着工程を１回以上行った後、上記陰イオン交換樹脂Ｂを用いた吸着工程を１回以上行うことができる。あるいは、上記陰イオン交換樹脂Ｂを用いた吸着工程を１回以上行った後に、上記合成吸着剤を用いた吸着工程を１回以上行うことができる。
本開示の除去方法により処理された排水は、上記一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物の合計量が、１００ｐｐｍ以下であることが好ましい。より好ましくは、１０ｐｐｍ以下であり、更に好ましくは、１ｐｐｍ以下であり、更により好ましくは、０．１ｐｐｍ以下であり、特に好ましくは、０．０１ｐｐｍ以下である。
上記排水は、炭化水素系界面活性剤を用いた重合で得られたものであることが好ましい。炭化水素系界面活性剤を用いた重合により含フッ素ポリマーを製造する場合、排水には炭化水素系界面活性剤とともに、２種以上の一般式（１）又は（２）で示される化合物が含まれ得る。すなわち、上記排水は、更に、炭化水素系界面活性剤を含むものであってよい。また、本開示の除去方法は、炭化水素系界面活性剤の存在下、水性媒体中でフッ素モノマーを重合する工程、を含んでもよい。
本開示の除去方法は、重合で用いた炭化水素系界面活性剤も除去することができる。
本開示の除去方法において、排水中の炭化水素系界面活性剤の濃度は特に限定されず、任意の炭化水素系界面活性剤の濃度の排水を処理することができる。排水中の炭化水素系界面活性剤の濃度は、排水が生じる含フッ素ポリマー製造工程に応じて変化し得、約０．１ｐｐｍ～約５００００ｐｐｍ程度であってよく、例えば１ｐｐｍ～１００００ｐｐｍであってもよく、１～５０００ｐｐｍであってよい。含フッ素ポリマー製造工程から生じる排水は、前処理をすることなくそのまま本開示に係る方法において処理することができるが、希釈等の前処理を適宜行ってもよい。
上記炭化水素系界面活性剤としては限定されず、例えば、特表２０１３－５４２３０８号公報、特表２０１３－５４２３０９号公報、特表２０１３－５４２３１０号公報に記載されているもの等を使用することができる。
上記炭化水素系界面活性剤は、同じ分子上に親水性部分及び疎水性部分を有する界面活性剤であってよい。これらは、カチオン性、非イオン性またはアニオン性であってよい。
カチオン性炭化水素系界面活性剤は、通常、アルキル化臭化アンモニウムなどのアルキル化ハロゲン化アンモニウムなどの正に帯電した親水性部分と、長鎖脂肪酸などの疎水性部分を有する。
炭化水素系アニオン性界面活性剤は、通常、カルボン酸塩、スルホン酸塩又は硫酸塩などの親水性部分と、アルキルなどの長鎖炭化水素部分である疎水性部分とを有する。
非イオン性炭化水素系界面活性剤は、通常、帯電した基を含まず、長鎖炭化水素である疎水性部分を有する。非イオン性界面活性剤の親水性部分は、エチレンオキシドとの重合から誘導されるエチレンエーテルの鎖などの水溶性官能基を含む。
非イオン性炭化水素系界面活性剤の例
ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエステル、ソルビタンアルキルエステル、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル、グリセロールエステル、それらの誘導体。
ポリオキシエチレンアルキルエーテルの具体例：ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル等。
ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルの具体例：ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル等。
ポリオキシエチレンアルキルエステルの具体例：ポリエチレングリコールモノラウリレート、ポリエチレングリコールモノオレエート、ポリエチレングリコールモノステアレート等。
ソルビタンアルキルエステルの具体例：ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノオレエート等。
ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステルの具体例：ポリオキシエチレンソルビタンモノラウリレート、ポリオキシエチレンソルビタンモノパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンモノステアレート等。
グリセロールエステルの具体例：モノミリスチン酸グリセロール、モノステアリン酸グリセロール、モノオレイン酸グリセロール等。
上記誘導体の具体例：ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルフェニル－ホルムアルデヒド凝縮物、ポリオキシエチレンアルキルエーテルホスフェート等。
上記エーテル及びエステルは、１０～１８のＨＬＢ値を有してよい。
非イオン性炭化水素系界面活性剤としては、Ｄｏｗ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃｏｍｐａｎｙ製のＴｒｉｔｏｎ（登録商標）Ｘシリーズ（Ｘ１５、Ｘ４５、Ｘ１００等）、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）１５－Ｓシリーズ、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）ＴＭＮシリーズ（ＴＭＮ－６、ＴＭＮ－１０、ＴＭＮ－１００等）、Ｔｅｒｇｉｔｏｌ（登録商標）Ｌシリーズ、ＢＡＳＦ製のＰｌｕｒｏｎｉｃ（登録商標）Ｒシリーズ（３１Ｒ１、１７Ｒ２、１０Ｒ５、２５Ｒ４（ｍ～２２、ｎ～２３）、Ｉｃｏｎｏｌ（登録商標）ＴＤＡシリーズ（ＴＤＡ－６、ＴＤＡ－９、ＴＤＡ－１０）等が挙げられる。
炭化水素系アニオン性界面活性剤としては、Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ　Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ　ＰｒｏｄｕｃｔｓのＶｅｒｓａｔｉｃ（登録商標）１０、ＢＡＳＦ製のＡｖａｎｅｌ　Ｓシリーズ（Ｓ－７０、Ｓ－７４等）等が挙げられる。
上記炭化水素系界面活性剤としては、Ｒ－Ｌ－Ｍ（式中、Ｒが、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成してもよい。Ｌが、－ＡｒＳＯ３ －、－ＳＯ３ －、－ＳＯ４－、－ＰＯ３ －又は－ＣＯＯ－であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲｂ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒｂは、Ｈ又は有機基、－ＡｒＳＯ３ －は、アリールスルホン酸塩である。）によって表される炭化水素系アニオン性界面活性剤も挙げられる。
具体的には、ＣＨ３－（ＣＨ２）ｎ－Ｌ－Ｍ（式中、ｎが、６～１７の整数である。ＬおよびＭが、上記と同じ）によって表されるものが挙げられる。
Ｒが、１２～１６個の炭素原子を有するアルキル基であり、Ｌが、硫酸塩又はドデシル硫酸ナトリウム（ＳＤＳ）であるものの混合物も使用できる。
その他の界面活性能を有する化合物としては、Ｒ６（－Ｌ－Ｍ）２（式中、Ｒ６が、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキレン基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成してもよい。Ｌが、－ＡｒＳＯ３ －、－ＳＯ３ －、－ＳＯ４－、－ＰＯ３ －又は－ＣＯＯ－であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲｂ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒｂは、Ｈ又は有機基、－ＡｒＳＯ３ －は、アリールスルホン酸塩である。）によって表される炭化水素系アニオン性界面活性剤も挙げられる。
上記炭化水素系界面活性剤としては、Ｒ７（－Ｌ－Ｍ）３（式中、Ｒ７が、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキリジン基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキリジン基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成してもよい。Ｌが、－ＡｒＳＯ３ －、－ＳＯ３ －、－ＳＯ４－、－ＰＯ３ －又は－ＣＯＯ－であり、Ｍが、Ｈ、金属原子、ＮＲｂ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、ＲｂはＨ又は有機基である。－ＡｒＳＯ３ －は、アリールスルホン酸塩である。）によって表される炭化水素系アニオン性界面活性剤も挙げられる。
炭化水素系界面活性剤としては、シロキサン炭化水素系界面活性剤も挙げられる。シロキサン炭化水素系界面活性剤としては、Ｓｉｌｉｃｏｎｅ　Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ，Ｒ．Ｍ．Ｈｉｌｌ，Ｍａｒｃｅｌ　Ｄｅｋｋｅｒ，Ｉｎｃ．，ＩＳＢＮ：０－８２４７－００１０４に記載されているものが挙げられる。シロキサン炭化水素系界面活性剤の構造は、明確な疎水性部分および親水性部分を含む。疎水性部分は、１つ以上のジヒドロカルビルシロキサン単位を含み、ここで、シリコーン原子上の置換基が、完全に炭化水素である。
ヒドロカルビル基の炭素原子が、フッ素などのハロゲンによって置換され得る場合に、水素原子によって完全に置換されるという意味では、これらのシロキサン炭化水素系界面活性剤は、炭化水素界面活性剤とみなすこともでき、すなわち、ヒドロカルビル基の炭素原子上の一価置換基は水素である。
シロキサン炭化水素系界面活性剤の親水性部分は、スルフェート、スルホネート、ホスホネート、リン酸エステル、カルボキシレート、カーボネート、スルホサクシネート、タウレート（遊離酸、塩またはエステルとしての）、ホスフィンオキシド、ベタイン、ベタインコポリオール、第４級アンモニウム塩などのイオン性基を含む１つ以上の極性部分を含んでもよい。イオン性疎水性部分は、イオン的に官能化されたシロキサングラフトも含み得る。
このようなシロキサン炭化水素系界面活性剤としては、例えば、ポリジメチルシロキサン－グラフト－（メタ）アクリル酸塩、ポリジメチルシロキサン－グラフト－ポリアクリレート塩およびポリジメチルシロキサングラフト化第４級アミンが挙げられる。
シロキサン炭化水素系界面活性剤の親水性部分の極性部分は、ポリエチレンオキシド（ＰＥＯ）、および混合されたポリエチレンオキシド／プロピレンオキシドポリエーテル（ＰＥＯ／ＰＰＯ）などのポリエーテル；単糖類および二糖類；およびピロリジノンなどの水溶性複素環によって形成される非イオン性基を含み得る。エチレンオキシド対プロピレンオキシド（ＥＯ／ＰＯ）の比率は、混合されたポリエチレンオキシド／プロピレンオキシドポリエーテルにおいて変化され得る。
シロキサン炭化水素系界面活性剤の親水性部分は、イオン性部分と非イオン性部分との組合せも含み得る。このような部分としては、例えば、イオン的に末端官能化されたまたはランダムに官能化されたポリエーテルまたはポリオールが挙げられる。本開示の実施に好ましいのは、非イオン性部分を有するシロキサン、すなわち、非イオン性シロキサン界面活性剤である。
シロキサン炭化水素系界面活性剤の構造の疎水性および親水性部分の配置は、ジブロックポリマー（ＡＢ）、トリブロックポリマー（ＡＢＡ）（ここで、「Ｂ」は、分子のシロキサン部分を表す）、またはマルチブロックポリマーの形態をとってもよい。あるいは、シロキサン炭化水素系界面活性剤は、グラフトポリマーを含んでいてもよい。
シロキサン炭化水素系界面活性剤については、米国特許第６，８４１，６１６号明細書にも開示されている。
シロキサンベースの炭化水素系アニオン性界面活性剤としては、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ　Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃ．のＮｏｖｅｏｎ（登録商標）Ｃｏｎｓｕｍｅｒ　Ｓｐｅｃｉａｌｔｉｅｓから入手可能なＳｉｌＳｅｎｓｅＴＭＰＥ－１００シリコーン、ＳｉｌＳｅｎｓｅＴＭＣＡ－１シリコーン等が挙げられる。
炭化水素系アニオン性界面活性剤としては、Ａｋｚｏ　Ｎｏｂｅｌ　Ｓｕｒｆａｃｅ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ　ＬＬＣのスルホサクシネート界面活性剤Ｌａｎｋｒｏｐｏｌ（登録商標）Ｋ８３００等も挙げられる。
スルホサクシネート界面活性剤としては、スルホコハク酸ジイソデシルＮａ塩、（ＣｌａｒｉａｎｔのＥｍｕｌｓｏｇｅｎ（登録商標）ＳＢ１０）、スルホコハク酸ジイソトリデシルＮａ塩（Ｃｅｓａｐｉｎｉａ　ＣｈｅｍｉｃａｌｓのＰｏｌｉｒｏｌ（登録商標）ＴＲ／ＬＮＡ）等が挙げられる。
上記炭化水素系界面活性剤としては、Ｏｍｎｏｖａ　Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ，Ｉｎｃ．のＰｏｌｙＦｏｘ（登録商標）界面活性剤（ＰｏｌｙＦｏｘＴＭＰＦ－１５６Ａ、ＰｏｌｙＦｏｘＴＭＰＦ－１３６Ａ等）も挙げられる。
上記炭化水素系界面活性剤としては、炭化水素系アニオン性界面活性剤であることが好ましい。炭化水素系アニオン性界面活性剤としては上述したものを採用できるが、例えば、下記の炭化水素系界面活性剤を好適に採用できる。
上記炭化水素系アニオン性界面活性剤としては、例えば、下記式（α）：
Ｒ１００－ＣＯＯＭ　　　（α）
（式中、Ｒ１００は、１個以上の炭素原子を含有する１価の有機基である。Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ１０１ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ１０１はＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）で示される化合物（α）が挙げられる。Ｒ１０１としてはＨ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましい。
界面活性能の観点から、Ｒ１００の炭素数は２個以上が好ましく、３個以上がより好ましい。また、水溶性の観点から、Ｒ１００の炭素数は、２９個以下であることが好ましく、２３個以下がより好ましい。
上記Ｍの金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。Ｍとしては、Ｈ、金属原子又はＮＲ１０１ ４が好ましく、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ１０１ ４がより好ましく、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更により好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、ＮＨ４が最も好ましい。
上記化合物（α）としては、Ｒ１０２－ＣＯＯＭ（式中、Ｒ１０２が、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基又はアルケニレン基、若しくは、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基又はアルケニレン基であり、これらはエーテル結合を含んでもよい。炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでもよいし、環を形成してもよい。Ｍは上記と同じ。）によって表される炭化水素系アニオン性界面活性剤も挙げられる。
具体的には、ＣＨ３－（ＣＨ２）ｎ－ＣＯＯＭ（式中、ｎが、２～２８の整数である。Ｍは上記と同じ）によって表されるものが挙げられる。
上記化合物（α）は、乳化安定性の観点で、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を含まないものであってもよい。
上記カルボニル基を含まない炭化水素系界面活性剤としては、例えば、下記式（Ａ）：
Ｒ－ＣＯＯ－Ｍ　（Ａ）
（式中、Ｒは、６～１７個の炭素原子を含有するアルキル基、アルケニル基、アルキレン基又はアルケニレン基であり、これらはエーテル結合を含んでもよい。Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ１０１ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。Ｒ１０１は、同一又は異なって、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基である。）の化合物が好ましく例示される。上記式（Ａ）において、Ｒは、アルキル基又はアルケニル基（これらはエーテル基を含んでいてもよい）であることが好ましい。上記Ｒにおけるアルキル基又はアルケニル基は、直鎖状でも分岐状でもよい。上記Ｒの炭素数は限定されないが、例えば、４～２９である。
上記アルキル基が直鎖状である場合、Ｒの炭素数は３～２９であることが好ましく、５～２３であることがより好ましい。上記アルキル基が分岐状である場合、Ｒの炭素数は５～３５であることが好ましく、１１～２３であることがより好ましい。
上記アルケニル基が直鎖状である場合、Ｒの炭素数は２～２９であることが好ましく、９～２３であることがより好ましい。上記アルケニル基が分岐状である場合、Ｒの炭素数は２～２９であることが好ましく、９～２３であることがより好ましい。
上記アルキル基及びアルケニル基としては、例えば、メチル基、エチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、ビニル基等が挙げられる。
上記化合物（α）（カルボン酸型炭化水素系界面活性剤）としては、例えば、ブチル酸、バレリアン酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、パルミトレイン酸、マルガリン酸、ステアリン酸、オレイン酸、バクセン酸、リノール酸、（９，１２，１５）－リノレン酸、（６，９，１２）リノレン酸、エレオステアリン酸、アラキジン酸、８、１１－エイコサジエン酸、ミード酸、アラキドン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、ネルボン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、クロトン酸、ミリストレイン酸、パルミトレイン酸、サピエン酸、オレイン酸、エライジン酸、バクセン酸、ガドレイン酸、エイコセン酸、エルカ酸、ネルボン酸、リノール酸、エイコサジエン酸、ドコサジエン酸、リノレン酸、ピノレン酸、α－エレオステアリン酸、β-エレオステアリン酸、ミード酸、ジホモ-γ-リノレン酸、エイコサトリエン酸、ステアリドン酸、アラキドン酸、エイコサテトラエン酸、アドレン酸、ボセオペンタエン酸、エイコサペンタエン酸、オズボンド酸、イワシ酸、テトラコサペンタエン酸、ドコサヘキサエン酸、ニシン酸、及びこれらの塩が挙げられる。
特に、ラウリン酸、カプリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、及び、これらの塩からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
上記塩としては、カルボキシル基の水素が上述した式Ｍの金属原子、ＮＲ１１ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムであるものが挙げられるが特に限定されない。
化合物（α）（カルボン酸型炭化水素系界面活性剤）としては、重合により平均一次粒子径の小さい粒子が得られ、また、重合の際に多数の粒子を発生させ、効率よく含フッ素ポリマーを製造できることから、ラウリン酸、カプリン酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、及び、これらの塩からなる群より選択される少なくとも１種が好ましく、ラウリン酸及びその塩がさらに好ましく、ラウリン酸の塩が特に好ましく、ラウリン酸ナトリウム、ラウリン酸アンモニウムが最も好ましい。
上記炭化水素系界面活性剤としては、下記一般式（１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
 （式中、Ｒ１～Ｒ５はＨ又は一価の置換基を表し、但し、Ｒ１及びＲ３のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基、Ｒ２及びＲ５のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｘ－Ａで示される基、又は、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基を表す。
また、Ｘは、各出現において同一又は異なって、２価の連結基、又は、結合手；
Ａは、各出現において同一又は異なって、－ＣＯＯＭ、－ＳＯ３Ｍ又は－ＯＳＯ３Ｍ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７は、Ｈ又は有機基）；
Ｙは、各出現において同一又は異なって、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ８－及び－ＮＲ８ＣＯ－からなる群より選択される２価の連結基、又は、結合手、Ｒ８はＨ又は有機基；
Ｒ６は、各出現において同一又は異なって、カルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を炭素－炭素原子間に含んでもよい炭素数２以上のアルキル基；
を表す。
Ｒ１～Ｒ５のうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（以下、界面活性剤（１）ともいう）も挙げられる。
界面活性剤（１）について説明する。
式中、Ｒ１～Ｒ５はＨ又は一価の置換基を表し、但し、Ｒ１及びＲ３のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基、Ｒ２及びＲ５のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｘ－Ａで示される基、又は、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基を表す。Ｒ１～Ｒ５のうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
Ｒ１としての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ１としての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ１としては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
一価の置換基としては、一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基、一般式：－Ｘ－Ａで示される基、－Ｈ、置換基を有していてもよいＣ１－２０のアルキル基、－ＮＨ２、－ＮＨＲ９（Ｒ９は有機基）、－ＯＨ、－ＣＯＯＲ９（Ｒ９は有機基）又は－ＯＲ９（Ｒ９は有機基）が好ましい。上記アルキル基の炭素数は１～１０が好ましい。
Ｒ９としては、Ｃ１－１０のアルキル基又はＣ１－１０のアルキルカルボニル基が好ましく、Ｃ１－４のアルキル基又はＣ１－４のアルキルカルボニル基がより好ましい。
式中、Ｘは、各出現において同一又は異なって、２価の連結基、又は、結合手を表す。
Ｒ６がカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基のいずれをも含まない場合は、Ｘはカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を含む２価の連結基であることが好ましい。
Ｘとしては、－ＣＯ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－Ｓ（＝Ｏ）２－Ｏ－、－Ｏ－Ｓ（＝Ｏ）２－、－ＣＯＮＲ８－及び－ＮＲ８ＣＯ－からなる群より選択される少なくとも１種の結合を含む２価の連結基、Ｃ１－１０のアルキレン基、又は、結合手が好ましい。Ｒ８はＨ又は有機基を表す。
Ｒ８における有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ８としては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１－４のアルキル基が更に好ましく、Ｈが更に好ましい。
式中、Ａは、各出現において同一又は異なって、－ＣＯＯＭ、－ＳＯ３Ｍ又は－ＯＳＯ３Ｍ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７はＨ又は有機基である。４つのＲ７は、同一でも異なっていてもよい。）を表す。一般式（１）において、Ａは－ＣＯＯＭであることが好適な態様の一つである。
Ｒ７における有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ７としては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１－４のアルキル基が更に好ましい。
上記金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
Ｍとしては、Ｈ、金属原子又はＮＲ７ ４が好ましく、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ７ ４がより好ましく、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更により好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、ＮＨ４が最も好ましい。
式中、Ｙは、各出現において同一又は異なって、－Ｓ（＝Ｏ）２－、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ８－及び－ＮＲ８ＣＯ－からなる群より選択される２価の連結基、又は、結合手、Ｒ８はＨ又は有機基を表す。
Ｙとしては、結合手、－Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＮＲ８－及び－ＮＲ８ＣＯ－からなる群より選択される２価の連結基が好ましく、結合手、－ＣＯＯ－及び－ＯＣＯ－からなる群より選択される２価の連結基がより好ましい。
Ｒ８における有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ８としては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１－４のアルキル基が更に好ましく、Ｈが更に好ましい。
式中、Ｒ６は、各出現において同一又は異なって、カルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を炭素－炭素原子間に含んでもよい炭素数２以上のアルキル基を表す。上記Ｒ６の有機基の炭素数は、２～２０が好ましく、２～１０がより好ましい。
Ｒ６のアルキル基は、炭素－炭素原子間にカルボニル基、エステル基、アミド基及びスルホニル基からなる群より選択される少なくとも１種を１又は２以上含むことができるが、上記アルキル基の末端にこれらの基を含まない。上記Ｒ６のアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
Ｒ６としては、
一般式：－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－Ｒ１０－ＣＯＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－Ｒ１１で示される基、
一般式：－Ｒ１０－ＮＲ８ＣＯ－Ｒ１１で示される基、又は、
一般式：－Ｒ１０－ＣＯＮＲ８－Ｒ１１で示される基、
（式中、Ｒ８はＨ又は有機基を表す。Ｒ１０はアルキレン基、Ｒ１１は置換基を有してもよいアルキル基）が好ましい。
Ｒ６としては、一般式：－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基がより好ましい。
Ｒ８における有機基としてはアルキル基が好ましい。Ｒ８としては、Ｈ又はＣ１－１０の有機基が好ましく、Ｈ又はＣ１－４の有機基がより好ましく、Ｈ又はＣ１－４のアルキル基が更に好ましく、Ｈが更に好ましい。
Ｒ１０のアルキレン基の炭素数は、１以上が好ましく、３以上がより好ましく、２０以下が好ましく、１２以下がより好ましく、１０以下が更に好ましく、８以下が特に好ましい。また、Ｒ１０のアルキレン基の炭素数は、１～２０が好ましく、１～１０がより好ましく、３～１０が更に好ましい。
Ｒ１１のアルキル基の炭素数は、１～２０であってよく、１～１５が好ましく、１～１２がより好ましく、１～１０が更に好ましく、１～８が更により好ましく、１～６が殊更好ましく、１～３が尚更に好ましく、１又は２が特に好ましく、１が最も好ましい。また、上記Ｒ１１のアルキル基は、１級炭素、２級炭素、３級炭素のみで構成されていることが好ましく、１級炭素、２級炭素のみで構成されるのが特に好ましい。すなわち、Ｒ１１としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基が好ましく、特にメチル基が最も好ましい。
一般式（１）において、Ｒ２及びＲ５のうち、少なくとも１つは、一般式：－Ｘ－Ａで示される基であり、該Ａは－ＣＯＯＭであることも好適な態様の一つである。
界面活性剤（１）としては、一般式（１－１）で示される化合物、一般式（１－２）で示される化合物又は一般式（１－３）で示される化合物が好ましく、一般式（１－１）で示される化合物又は一般式（１－２）で示される化合物がより好ましい。
一般式（１－１）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
 （式中、Ｒ３～Ｒ６、Ｘ、Ａ及びＹは、上記のとおり。）
一般式（１－２）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 （式中、Ｒ４～Ｒ６、Ｘ、Ａ及びＹは、上記のとおり。）
一般式（１－３）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 （式中、Ｒ２、Ｒ４～Ｒ６、Ｘ、Ａ及びＹは、上記のとおり。）
一般式：－Ｘ－Ａで示される基としては、
－ＣＯＯＭ、
－Ｒ１２ＣＯＯＭ、
－ＳＯ３Ｍ、
－ＯＳＯ３Ｍ、
－Ｒ１２ＳＯ３Ｍ、
－Ｒ１２ＯＳＯ３Ｍ、
－ＯＣＯ－Ｒ１２－ＣＯＯＭ、
－ＯＣＯ－Ｒ１２－ＳＯ３Ｍ、
－ＯＣＯ－Ｒ１２－ＯＳＯ３Ｍ
－ＣＯＯ－Ｒ１２－ＣＯＯＭ、
－ＣＯＯ－Ｒ１２－ＳＯ３Ｍ、
－ＣＯＯ－Ｒ１２－ＯＳＯ３Ｍ、
－ＣＯＮＲ８－Ｒ１２－ＣＯＯＭ、
－ＣＯＮＲ８－Ｒ１２－ＳＯ３Ｍ、
－ＣＯＮＲ８－Ｒ１２－ＯＳＯ３Ｍ、
－ＮＲ８ＣＯ－Ｒ１２－ＣＯＯＭ、
－ＮＲ８ＣＯ－Ｒ１２－ＳＯ３Ｍ、
－ＮＲ８ＣＯ－Ｒ１２－ＯＳＯ３Ｍ、
－ＯＳ（＝Ｏ）２－Ｒ１２－ＣＯＯＭ、
－ＯＳ（＝Ｏ）２－Ｒ１２－ＳＯ３Ｍ、又は
－ＯＳ（＝Ｏ）２－Ｒ１２－ＯＳＯ３Ｍ
（式中、Ｒ８及びＭは、上記のとおり。Ｒ１２はＣ１－１０のアルキレン基。）が好ましい。
上記Ｒ１２のアルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
一般式：－Ｙ－Ｒ６で示される基としては、
一般式：－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－ＯＣＯ－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－ＣＯＯ－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－ＯＣＯ－Ｒ１０－ＣＯＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－ＣＯＯ－Ｒ１１で示される基、
一般式：－ＮＲ８ＣＯ－Ｒ１０－ＣＯ－Ｒ１１で示される基、又は、
一般式：－ＣＯＮＲ８－Ｒ１０－ＮＲ８ＣＯ－Ｒ１１で示される基
（式中、Ｒ８、Ｒ１０及びＲ１１は上記のとおり。）が好ましい。
式中、Ｒ４及びＲ５としては、独立に、Ｈ又はＣ１－４のアルキル基が好ましい。
上記Ｒ４及びＲ５のアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
一般式（１－１）におけるＲ３としては、Ｈ又は置換基を有していてもよいＣ１－２０のアルキル基が好ましく、Ｈ又は置換基を有していないＣ１－２０のアルキル基がより好ましく、Ｈが更に好ましい。
上記Ｒ３のアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
一般式（１－３）におけるＲ２としては、Ｈ、ＯＨ又は置換基を有していてもよいＣ１－２０のアルキル基が好ましく、Ｈ、ＯＨ又は置換基を有していないＣ１－２０のアルキル基がより好ましく、Ｈ又はＯＨが更に好ましい。
上記Ｒ２のアルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記炭化水素系界面活性剤としては、下記式（１－０Ａ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 （式中、Ｒ１Ａ～Ｒ５Ａは、Ｈ、炭素－炭素原子間にエステル基を含んでもよい１価の炭化水素基、又は、一般式：－ＸＡ－Ａで示される基である。但し、Ｒ２Ａ及びＲ５Ａの少なくとも１つは、一般式：－ＸＡ－Ａで示される基を表す。
ＸＡは、各出現において同一又は異なって、２価の炭化水素基、又は、結合手；
Ａは、各出現において同一又は異なって、－ＣＯＯＭ（Ｍは、Ｈ、金属原子、ＮＲ７ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウム、Ｒ７は、Ｈ又は有機基）；
Ｒ１Ａ～Ｒ５Ａのうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（１－０Ａ）等も挙げられる。
一般式（１－０Ａ）中、Ｒ１Ａ～Ｒ５Ａにおいて、炭素－炭素原子間にエステル基を含んでもよい１価の炭化水素基の炭素数は１～５０であることが好ましく、５～２０であることがより好ましい。Ｒ１Ａ～Ｒ５Ａのうち、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。上記炭素－炭素原子間にエステル基を含んでもよい１価の炭化水素基としては、アルキル基が好ましい。
式中、ＸＡにおいて、２価の炭化水素基の炭素数は１～５０であることが好ましく、５～２０であることがより好ましい。上記２価の炭化水素基としては、アルキレン基、アルカンジイル基等が挙げられ、アルキレン基が好ましい。
一般式（１－０Ａ）中、Ｒ２Ａ及びＲ５Ａのいずれか１つが、上記一般式：－ＸＡ－Ａで示される基であることが好ましく、Ｒ２Ａが上記一般式：－ＸＡ－Ａで示される基であることがより好ましい。
一般式（１－０Ａ）中、好適な態様としては、Ｒ２Ａが、一般式：－ＸＡ－Ａで示される基であり、Ｒ１Ａ、Ｒ３Ａ、Ｒ４Ａ及びＲ５ＡがＨである態様である。この場合、ＸＡは結合手又は炭素数１～５のアルキレン基であることが好ましい。
一般式（１－０Ａ）中、好適な態様としてはまた、Ｒ２Ａが、一般式：－ＸＡ－Ａで示される基であり、Ｒ１Ａ及びＲ３Ａが－ＹＡ－Ｒ６で示される基であり、ＹＡは、各出現において同一又は異なって、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、又は、結合手であり、Ｒ６は各出現において同一又は異なって、炭素数２以上のアルキル基である態様である。この場合、Ｒ４Ａ及びＲ５ＡがＨであることが好ましい。
一般式（１－０Ａ）で表される炭化水素系界面活性剤としては、例えば、グルタル酸又はその塩、アジピン酸又はその塩、ピメリン酸又はその塩、スベリン酸又はその塩、アゼライン酸又はその塩、セバシン酸又はその塩等が挙げられる。
また、一般式（１－０Ａ）で表される脂肪族型のカルボン酸型炭化水素系界面活性剤は２鎖２親水基型合成界面活性剤であってもよく、例えば、ジェミニ型界面活性剤として、ジェミニサ－フ（中京油脂株式会社）、Ｇｅｍｓｕｒｆ α１４２（炭素数１２　ラウリル基）、Ｇｅｍｓｕｒｆ　α１０２（炭素数１０）、Ｇｅｍｓｕｒｆ　α１８２（炭素数１４）等が挙げられる。
界面活性剤（１）は、式：Ｒ６－ＣＯＯＨ（式中、Ｒ６は上述のとおり。）で示されるカルボン酸と、ハロゲン化剤とを反応させて、式：Ｒ６－ＣＯＺ（式中、Ｒ６は上述のとおり。Ｚはハロゲン原子。）で示されるカルボン酸ハライドを得る工程（１１）、及び、
上記カルボン酸ハライドと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 （式中、Ｒ３～Ｒ５、Ｘ及びＡは、上記のとおり。Ｚ１１は―ＣＨ２Ｏ－、－Ｏ－又は－ＮＨ－。）で示される化合物を反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 （式中、Ｒ３～Ｒ６、Ｘ、Ａ及びＺ１１は、上記のとおり。）で示される化合物（１２）を得る工程（１２）を含む製造方法により、好適に製造できる。
上記酸化合物の式におけるＲ３としては、一般式：－Ｚ１１Ｈ（式中、Ｚ１１は上記のとおり。）で示される基、又は、－Ｈが好ましい。Ｒ３が一般式：－Ｚ１１Ｈで示される基である場合、工程（１２）において上記基が上記カルボン酸ハライドと反応し、一般式：－Ｚ１１－ＣＯ－Ｒ６（式中、Ｒ６及びＺ１１は上記のとおり。）で示される基が生成する。
工程（１１）で使用するハロゲン化剤としては、塩化オキサリル、塩化チオニル、三フッ化ジエチルアミノ硫黄（ＤＡＳＴ）、Ｄｅｏｘｏ－Ｆｌｕｏｒ（デオキソフルオル）、１，１，２，２－ｔｅｔｒａｆｌｕｏｒｏ－Ｎ，Ｎ－ｄｉｍｅｔｈｙｌｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ（ＴＦＥＤＭＡ）等が挙げられる。
Ｚとしては、Ｆ又はＣｌが好ましく、Ｃｌがより好ましい。
工程（１１）において、上記カルボン酸と上記ハロゲン化剤との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記カルボン酸１モルに対して、上記ハロゲン化剤が０．６～５．０モルであることが好ましく、０．８～２．０モルであることがより好ましい。また、０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～５．０モルであることがより好ましい。
工程（１１）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、エステル、ケトン、芳香族炭化水素、エーテル、含窒素極性有機化合物、ハロゲン化炭化水素、ニトリル、ピリジン、又はこれらの混合物が挙げられる。
上記エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ；別名１－メトキシ－２－アセトキシプロパン）等が挙げられ、なかでも、酢酸エチルが好ましい。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（１１）における反応の温度としては、０～１５０℃が好ましく、２０～１００℃がより好ましい。また、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましい。
工程（１１）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（１１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（１２）において、上記カルボン酸ハライドと上記酸化合物との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記カルボン酸ハライド１モルに対して、上記酸化合物が０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～５．０モルであることがより好ましく、０．８～２．０モルであることが更に好ましい。
工程（１２）における反応は、酸の存在下に実施することが好ましい。上記酸としては、硫酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等が挙げられ、なかでも、硫酸が好ましい。
工程（１２）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記カルボン酸ハライド１モルに対して、０．００００１～１．０モルが好ましく、０．０００１～１．０モルがより好ましく、０．００００５～０．１モルが更に好ましく、０．００１～０．１モルが特に好ましい。
工程（１２）における反応の温度としては、０～１５０℃が好ましく、２０～１００℃がより好ましい。
工程（１２）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（１２）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（１）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 （式中、Ｒ１～Ｒ５は上記のとおり。Ｚ１１は－ＣＨ２Ｏ－、－Ｏ－又は－ＮＨ－。）で示される化合物（２０）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 （式中、ｎは１～５の整数。）で示される酸無水物とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
 （式中、Ｒ１～Ｒ５、Ｚ１１、Ｍ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（２１）を得る工程（２１）を含む製造方法により、好適に製造できる。
化合物（２０）の式におけるＲ２としては、一般式：－Ｚ１１Ｈ（式中、Ｚ１１は上記のとおり。）で示される基、又は、－Ｈが好ましい。Ｒ２が一般式：－Ｚ１１Ｈで示される基である場合、工程（２１）において上記基が上記酸無水物と反応し、一般式：－Ｚ１１－ＣＯ－（ＣＨ２）ｎ－ＣＯＯＭ（式中、Ｚ１１、Ｍ及びｎは上記のとおり。）で示される基が生成する。化合物（２０）は、上記式で示される構造を含むものであれば、塩酸塩、硫酸塩等であってもよい。
工程（２１）において、化合物（２０）と上記酸無水物との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（２０）１モルに対して、上記酸無水物が０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～５．０モルであることがより好ましく、１．２～１０モルであることが更に好ましく、１．６～４．０モルであることが特に好ましい。
工程（２１）における反応は、塩基の存在下で実施できる。
上記塩基としては、アミン、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。
上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられ、ピリジン又はトリエチルアミンが好ましい。
工程（２１）における反応の温度としては、０～１５０℃が好ましく、２０～８０℃がより好ましい。また、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましい。
工程（２１）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（１）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 （式中、Ｒ４及びＲ５は上記のとおり。）で示される酒石酸エステルと、式：Ｒ６Ｒ８－ＮＨ（式中、Ｒ６及びＲ８は上記のとおり。）で示されるアミンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 （式中、Ｒ４～Ｒ６及びＲ８は上記のとおり。）で示される化合物（３１）を得る工程（３１）、及び、
化合物（３１）と式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 （式中、Ｍは、上記のとおり。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 （式中、Ｒ４～Ｒ６、Ｒ８及びＭは上記のとおり。）で示される化合物（３２）を得る工程（３２）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（３１）において、上記酒石酸エステルと上記アミンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記酒石酸エステル１モルに対して、上記アミンが０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～５．０モルであることがより好ましく、１．２～５モルであることが更に好ましく、１．６～５．０モルであることが特に好ましい。
工程（３１）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、アルコール、エーテル、ハロゲン化炭化水素、含窒素極性有機化合物又はニトリルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられる。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられる。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられる。
工程（３１）における反応の温度としては、０～１５０℃が好ましく、２０～１００℃がより好ましい。
工程（３１）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３２）において、化合物（３１）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３１）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１．０～５０モルであることが好ましく、１．６～２０モルがより好ましい。
工程（３２）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等が挙げられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程（３２）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミンが好ましい。
工程（３２）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３１）１モルに対して、０．１～５０モルが好ましく、１．０～２０モルがより好ましい。
工程（３２）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、ニトリル、ハロゲン化炭化水素、ジメチルスルホキシド、スルホラン、含窒素極性有機化合物又はエーテルが更に好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（３２）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、－７８～１００℃がより好ましく、－２０～１００℃が更に好ましく、１０～５０℃が特に好ましい。
工程（３２）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１．０Ｐａがより好ましい。
工程（３２）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（１）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
 （式中、Ｒ１及びＲ３～Ｒ５は上記のとおり。）で示されるアルコールと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 （式中、ｎは１～５の整数。）で示される酸無水物とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 （式中、Ｒ１、Ｒ３～Ｒ５、Ｍ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（４１）を得る工程（４１）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（４１）において、上記アルコールと上記酸無水物との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルコール１モルに対して、上記酸無水物が０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～４．０モルであることがより好ましく、１．２～４．０モルであることが更に好ましく、１．６～４．０モルであることが特に好ましい。
工程（４１）における反応は、塩基の存在下で実施できる。
上記塩基としては、アミン、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。
上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられ、ピリジン又はトリエチルアミンが好ましい。
工程（４１）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましく、０～１００℃が更に好ましく、２０～８０℃が特に好ましい。
工程（４１）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（４１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（１）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 （式中、Ｒ４及びＲ５は上記のとおり。）で示される酒石酸エステルと、式：Ｒ６Ｒ８－ＮＨ（式中、Ｒ６及びＲ８は上記のとおり。）で示されるアミンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 （式中、Ｒ４～Ｒ６及びＲ８は上記のとおり。）で示される化合物（３１）を得る工程（３１）、及び、
化合物（３１）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 （式中、ｎは１～５の整数。）で示される酸無水物とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 （式中、Ｒ４～Ｒ６、Ｒ８、Ｍ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（５１）を得る工程（５１）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（５１）において、化合物（３１）と上記酸無水物との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３１）１モルに対して、上記酸無水物が０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～４．０モルであることがより好ましく、１．２～４．０モルであることが更に好ましく、１．６～４．０モルであることが特に好ましい。
工程（５１）における反応は、塩基の存在下で実施できる。
上記塩基としては、アミン、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリウム等が挙げられる。
上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられ、ピリジン又はトリエチルアミンが好ましい。
工程（５１）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましく、０～１００℃が更に好ましく、２０～８０℃が特に好ましい。
工程（５１）における反応の圧力としては、０～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（５１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（１）は、また、式：Ｒ６－ＯＨ（式中、Ｒ６は上述のとおり。）で示されるアルコールと、フマル酸ハロゲン化物とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 （式中、Ｒ６は上述のとおり。）で示される化合物（６１）を得る工程（６１）、及び、化合物（６１）と、亜硫酸水素ナトリウム等のスルホン酸化剤とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 （式中、Ｒ６及びＸは上述のとおり。）で示される化合物（６２）を得る工程（６２）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（６１）で使用するフマル酸ハロゲン化物としては、フマリルクロリド、フマリルフルオリド、フマリルブロミド等が挙げられる。
工程（６１）において、上記アルコールと上記フマル酸ハロゲン化物との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルコール１モルに対して、上記フマル酸ハロゲン化物が０．１～１０モルであることが好ましく、０．１～２．０モルであることがより好ましく、０．１～２．０モルであることが更に好ましく、０．２～０．７モルであることが特に好ましい。
工程（６１）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、エステル、ケトン、芳香族炭化水素、エーテル、含窒素極性有機化合物、ハロゲン化炭化水素、ニトリル、ピリジン又はこれらの混合物が挙げられる。
上記エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ；別名１－メトキシ－２－アセトキシプロパン）等が挙げられ、なかでも、酢酸エチルが好ましい。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（６１）における反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（６１）における反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（６１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（６２）では、二重結合を有する化合物（６１）と亜硫酸水素ナトリウム等のスルホン化剤との付加反応によって、化合物（６２）が生成する。
工程（６２）において、化合物（６１）と上記スルホン化剤との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（６１）１モルに対して、上記スルホン化剤が０．５～２０．０モルであることが好ましく、０．６～１０．０モルであることがより好ましく、０．８～１０．０モルであることが更に好ましく、１．２～１０．０モルであることが特に好ましい。
工程（６２）は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水溶性溶媒が好ましく、水、アルコール、エーテル、ニトリル等が挙げられる。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられる。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（６２）における反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（６２）における反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（６２）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（１）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 （式中、Ｒ１０、Ｒ１１及びＹは、上記のとおり。）で示される化合物（７０）を硫酸エステル化して、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 （式中、Ｒ１０、Ｒ１１及びＹは、上記のとおり。Ａ１００は－ＯＨ又は－ＯＳＯ３Ｍ。Ｍは上記のとおり。）で示される化合物（７１）を得る工程（７１）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（７１）における硫酸エステル化は、化合物（７０）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施できる。上記硫酸化試薬としては、三酸化硫黄ピリジン錯体、三酸化硫黄トリメチルアミン錯体、三酸化硫黄トリエチルアミン錯体等の三酸化硫黄アミン錯体、三酸化硫黄ジメチルホルムアミド錯体等の三酸化硫黄アミド錯体、硫酸－ジシクロヘキシルカルボジイミド、クロロ硫酸、濃硫酸、スルファミン酸等が挙げられる。上記硫酸化試薬の使用量としては、化合物（７０）１モルに対して、０．５～１０モルが好ましく、０．５～５モルがより好ましく、０．７～４モルが更に好ましい。上記硫酸化試薬の使用量を調整することにより、化合物（２０）が有する２つの－ＯＨ基の一方又は両方を硫酸エステル化させられる。
工程（７１）における硫酸エステル化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ピリジン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ニトリル等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（７１）における硫酸エステル化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（７１）における硫酸エステル化の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０．１～５ＭＰａがより好ましい。
工程（７１）における硫酸エステル化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
化合物（７０）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 （式中、Ｒ１０及びＹは、上記のとおり。Ｒ１００は、アルキル基である。）で示される化合物（１００）をヒドロキシ化して、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 （式中、Ｒ１０、Ｒ１００及びＹは、上記のとおり。）で示される化合物（１０１）を得る工程（１０１）、及び、
化合物（１０１）を酸化して、化合物（７０）を得る工程（１０２）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１００としてのアルキル基は、Ｒ１００－ＣＨ２－として、上述したＲ１１を構成する。
工程（１０１）におけるヒドロキシ化は、例えば、（１）酸素雰囲気中で化合物（１００）にフタロシアニン鉄（ＩＩ）（Ｆｅ（Ｐｃ））及び水素化ホウ素ナトリウムを作用させる方法や、（２）化合物（１００）にイソピノカンフェイルボラン（ＩｐｃＢＨ２）を作用させた後、得られる中間体（ジアルキルボラン）を酸化する方法により実施できる。
方法（１）において、フタロシアニン鉄（ＩＩ）の量は、触媒量であってよく、化合物（１００）１モルに対して、０．００１～１．２モルの量で使用できる。
方法（１）において、水素化ホウ素ナトリウムは、化合物（１００）１モルに対して、０．５～２０モルの量で使用できる。
方法（１）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、含窒素極性有機化合物等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
方法（１）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
方法（１）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
方法（１）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
方法（２）において、イソピノカンフェイルボランは、化合物（１００）１モルに対して、０．１～１０．０モルの量で使用できる。
化合物（１００）とイソピノカンフェイルボランとの反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
化合物（１００）とイソピノカンフェイルボランとの反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
化合物（１００）とイソピノカンフェイルボランとの反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
化合物（１００）とイソピノカンフェイルボランとの反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
方法（２）における酸化は、上記中間体に酸化剤を作用させることにより実施できる。上記酸化剤としては、過酸化水素等が挙げられる。上記酸化剤は、上記中間体１モルに対して、０．７～１０モルの量で使用できる。
方法（２）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、メタノール、エタノール等が挙げられ、なかでも水が好ましい。
方法（２）における酸化の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましく、１０～８０℃が更に好ましい。
方法（２）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
方法（２）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（１０２）において、化合物（１０１）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ３／Ｈ２ＳＯ４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｂ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５～６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ３）３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。
工程（１０２）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（１０２）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１０２）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１０２）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
化合物（７０）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 （式中、Ｒ１０、Ｒ１１及びＹは、上記のとおり。Ｒ１０１は、有機基である。）で示される化合物（２００）をオゾン分解して、化合物（７０）を得る工程（２０１）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１０１としては、炭素数１～２０のアルキル基が好ましい。４個のＲ１０１は、同一でも異なっていてもよい。
工程（２０１）におけるオゾン分解は、化合物（２００）にオゾンを作用させた後、還元剤で後処理することにより実施できる。
オゾンは、酸素ガス中の無声放電によって発生させることができる。
上記後処理に用いる還元剤としては、亜鉛、ジメチルスルフィド、チオウレア、ホスフィン類等が挙げられ、なかでもホスフィン類が好ましい。
工程（２０１）におけるオゾン分解は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノールが好ましい。
上記カルボン酸類としては、酢酸、プロピオン酸等が挙げられる。なかでも、酢酸が好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（２０１）におけるオゾン分解の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
工程（２０１）におけるオゾン分解の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（２０１）におけるオゾン分解の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
化合物（７０）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 （式中、Ｒ１０及びＹは、上記のとおり。Ｒ１００は、アルキル基である。）で示される化合物（３００）をエポキシ化して、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 （式中、Ｒ１０、Ｒ１００及びＹは、上記のとおり。）で示される化合物（３０１）を得る工程（３０１）、
化合物（３０１）と、Ｒ１０２ ２ＣｕＬｉ（Ｒ１０２は、アルキル基）で示されるジアルキル銅リチウムとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 （式中、Ｒ１０、Ｒ１００、Ｒ１０２及びＹは、上記のとおり。）で示される化合物（３０２）を得る工程（３０２）、及び、
化合物（３０２）を酸化して、化合物（７０）を得る工程（３０３）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１００及びＲ１０２としての上記アルキル基は、Ｒ１００Ｒ１０２－ＣＨ－として、上述したＲ１１を構成する。
２個のＲ１００は、同一でも異なっていてもよい。２個のＲ１０２は、同一でも異なっていてもよい。
工程（３０１）におけるエポキシ化は、化合物（３００）にエポキシ化剤を作用させることにより実施できる。
上記エポキシ化剤としては、メタクロロ過安息香酸（ｍ－ＣＰＢＡ）、過安息香酸、過酸化水素、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロペルオキソド等の過酸、ジメチルジオキシラン、メチルトリフルオロメチルジオキシラン等が挙げられ、なかでも過酸が好ましく、メタクロロ過安息香酸がより好ましい。
上記エポキシ化剤は、化合物（３００）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（３０１）におけるエポキシ化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、ピリジン、含窒素極性有機化合物、ジメチルスルホキシド等が挙げられ、なかでもジクロロメタンが好ましい。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
工程（３０１）におけるエポキシ化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（３０１）におけるエポキシ化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（３０１）におけるエポキシ化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３０２）において、上記ジアルキル銅リチウムは、化合物（３０１）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（３０２）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（３０２）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（３０２）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（３０２）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３０３）において、化合物（３０２）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ３／Ｈ２ＳＯ４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｂ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５～６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ３）３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。
工程（３０３）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、ケトン、アルコール、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノールが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（３０３）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３０３）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３０３）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
化合物（７０）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 （式中、Ｒ１０及びＹは、上記のとおり。Ｒ１００は、アルキル基である。）で示される化合物（４００）を酸化して、化合物（７０）を得る工程（４０１）を含む製造方法により製造できる。
工程（４０１）における酸化は、水及びパラジウム化合物の存在下で、化合物（４００）に酸化剤を作用させることにより実施できる。
上記酸化剤としては、塩化銅、酢酸銅、シアン化銅、トリフルオロメタンチオール銅等の一価又は二価の銅塩、塩化鉄、酢酸鉄、シアン化鉄、トリフルオロメタンチオール鉄、ヘキサシアノ鉄等の鉄塩、１，４－ベンゾキノン、２，３－ジクロロ－５，６－ジシアノ－１，４－ベンゾキノン、テトラクロロ－１，２－ベンゾキノン、テトラクロロ－１，４－ベンゾキノン等のベンゾキノン類、Ｈ２Ｏ２、ＭｎＯ２、ＫＭｎＯ４、ＲｕＯ４、ｍ－クロロ過安息香酸、酸素等、又はそれらの組み合わせが挙げられる。なかでも、銅塩、鉄塩、ベンゾキノン類が好ましく、塩化銅、塩化鉄、１，４－ベンゾキノンがより好ましい。上記酸化剤は、化合物（４００）１モルに対して、０．００１～１０モルの量で使用できる。
上記水の量は、化合物（４００）１モルに対して、０．５～１０００モルの量で使用できる。
上記パラジウム化合物としては、二塩化パラジウムが挙げられる。上記パラジウム化合物の量は、触媒量であってよく、化合物（４００）１モルに対して、０．０００１～１．０モルの量で使用できる。
工程（４０１）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、エステル、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、含窒素極性有機化合物、ニトリル、ジメチルスルホキシド、スルホランが挙げられる。
上記エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ；別名１－メトキシ－２－アセトキシプロパン）等が挙げられ、なかでも、酢酸エチルが好ましい。
上記脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等が挙げられ、なかでも、シクロヘキサン、ヘプタンが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記カルボン酸類としては、酢酸、プロピオン酸等が挙げられる。なかでも、酢酸が好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（４０１）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（４０１）における酸化の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０．１～５．０ＭＰａがより好ましい。
工程（４０１）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
化合物（１００）、化合物（３００）及び化合物（４００）は、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 （式中、Ｒ１０及びＹは、上記のとおり。Ｒ１００は、アルキル基である。）で示されるアルデヒドに還元剤を作用させて、化合物（１００）を得る工程（５０１）を含む製造方法により製造できる。
工程（５０１）では、還元的カップリング反応により、上記アルデヒトが二量化して、化合物（１００）、化合物（３００）及び化合物（４００）が生成する。工程（５０１）で使用する還元剤としては、二ヨウ化サマリウム、二塩化チタン、三塩化バナジウム、四塩化チタン、ビス（シクロオクタジエン）ニッケル、銅、マグネシウム、亜鉛、ナトリウム、三塩化セリウム、酸化クロム、水素化トリフェニルスズ等が挙げられる。上記還元剤は組み合わせで用いてもよい。上記還元剤の使用量としては、上記アルデヒト１モルに対して、０．００１～１０モルが好ましく、０．０１～５モルがより好ましく、０．１～２モルが更に好ましい。
工程（５０１）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、ピリジン、ニトリル、芳香族炭化水素等がより好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（５０１）における反応は、アルコールの存在下で実施することが好ましい。上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等が挙げられる。
工程（５０１）における反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１００℃がより好ましい。
工程（５０１）における反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（５０１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
上述したいずれの製造方法においても、各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。また、得られる化合物が－ＣＯＯＨ、－ＳＯ３Ｈ、－ＯＳＯ３Ｈ等のＭがＨである化合物である場合は、炭酸ナトリウム、アンモニア等のアルカリと接触させることにより、これらの基を塩型に変換できる。
上記炭化水素系界面活性剤としては、また、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤も挙げられる。
上記カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭化水素系界面活性剤としては、式：Ｒ－Ｘ（式中、Ｒは、カルボニル基（但し、カルボキシル基中のカルボニル基を除く）を１つ以上有する炭素数１～２０００のフッ素非含有有機基であり、Ｘは、－ＯＳＯ３Ｘ１、－ＣＯＯＸ１又は－ＳＯ３Ｘ１（Ｘ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲ１ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ１はＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。））で示される界面活性剤が好ましい。Ｒは、炭素数が５００以下であることが好ましく、１００以下であることがより好ましく、５０以下であることが更に好ましく、３０以下であることが更により好ましい。
上記炭化水素系界面活性剤としては、下記式（ａ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 （式中、Ｒ１ａは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ａ及びＲ３ａは、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、炭素数が合計で６以上である。Ｘａは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ａ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ａはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（ａ）、下記式（ｂ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 （式中、Ｒ１ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ｂ及びＲ４ｂは、独立に、Ｈ又は置換基である。Ｒ３ｂは、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基である。ｎは、１以上の整数である。ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。Ｘｂは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｂ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｂはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ及びＲ４ｂは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｂＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－、－ＮＲ６ＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１から１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－ＯＳＯ３Ｘｂに結合する側を指す。）で示される界面活性剤（ｂ）、下記式（ｃ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 （式中、Ｒ１ｃは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、炭素数が合計で５以上である。Ａｃは、－ＣＯＯＸｃ又は－ＳＯ３Ｘｃ（Ｘｃは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ｃ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ｃはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示される界面活性剤（ｃ）、及び、下記式（ｄ）：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 （式中、Ｒ１ｄは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｒ２ｄ及びＲ４ｄは、独立に、Ｈ又は置換基である。Ｒ３ｄは、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基である。ｎは、１以上の整数である。ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。Ａｄは、－ＳＯ３Ｘｄ又は－ＣＯＯＸｄ（Ｘｄは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｄ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｄはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ１ｄ、Ｒ２ｄ、Ｒ３ｄ及びＲ４ｄは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１から１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中のＡｄに結合する側を指す。）で示される界面活性剤（ｄ）からなる群より選択される少なくとも１種がより好ましい。
界面活性剤（ａ）について説明する。
式（ａ）中、Ｒ１ａは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合、２つの炭素原子間にカルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）を含んでもよい。また、上記アルキル基は、炭素数が２以上の場合、上記アルキル基の末端に上記カルボニル基を含むこともできる。すなわち、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示されるアセチル基等のアシル基も、上記アルキル基に含まれる。
また、上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ａにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して－Ｃ（＝Ｏ）－と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、カルボニル基を構成する炭素原子の数及び上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。例えば、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ２－で示される基は炭素数が３であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－で示される基は炭素数が７であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示される基は炭素数が２である。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０１ａ（式中、Ｒ１０１ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
式中、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、独立に、単結合又は２価の連結基である。
Ｒ２ａ及びＲ３ａは、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２ａ及びＲ３ａを構成する上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０２ａ（式中、Ｒ１０２ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、炭素数が合計で６以上である。合計の炭素数としては、８以上が好ましく、９以上がより好ましく、１０以上が更に好ましく、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１５以下が更に好ましい。
Ｒ１ａ、Ｒ２ａ及びＲ３ａは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
式（ａ）中、Ｘａは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ａ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ａはＨ又は有機基である。４つのＲ４ａは、同一でも異なっていてもよい。Ｒ４ａとしては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。Ｘａとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ４ａ ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸａがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ＰＴＦＥ中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
Ｒ１ａとしては、カルボニル基を含まない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数３～８の環状のアルキル基、１～１０個のカルボニル基を含む炭素数２～４５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数３～４５の環状のアルキル基、又は、炭素数が３～４５の１価又は２価の複素環を含むアルキル基が好ましい。
また、Ｒ１ａとしては、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 （式中、ｎ１１ａは０～１０の整数であり、Ｒ１１ａは炭素数１～５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～５の環状のアルキル基であり、Ｒ１２ａは炭素数０～３のアルキレン基である。ｎ１１ａが２～１０の整数である場合、Ｒ１２ａは各々同じであっても異なっていてもよい。）で示される基がより好ましい。
ｎ１１ａとしては、０～５の整数が好ましく、０～３の整数がより好ましく、１～３の整数が更に好ましい。
Ｒ１１ａとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ１１ａとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０３ａ（式中、Ｒ１０３ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１１ａとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
Ｒ１２ａは炭素数０～３のアルキレン基である。上記炭素数は１～３が好ましい。
Ｒ１２ａとしての上記アルキレン基は、直鎖状又は分岐鎖状であってよい。
Ｒ１２ａとしての上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。Ｒ１２ａとしては、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）がより好ましい。
Ｒ１２ａとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０４ａ（式中、Ｒ１０４ａはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１２ａとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２ａ及びＲ３ａとしては、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１以上のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～３のアルキレン基がより好ましく、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）が更に好ましい。
界面活性剤（ａ）としては、次の界面活性剤が例示できる。各式中、Ｘａは上述のとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
界面活性剤（ａ）は、新規化合物であり、例えば、次に例示する製造方法により製造することができる。
界面活性剤（ａ）は、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 （式中、Ｒ３ａは上述のとおり、Ｅａは脱離基である。）で示される化合物（１０ａ）と、リチウム、及び、式：Ｒ２０１ａ ３Ｓｉ－Ｃｌ（式中、Ｒ２０１ａは、独立に、アルキル基又はアリール基である。）で示されるクロロシラン化合物とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 （式中、Ｒ３ａ、Ｒ２０１ａ及びＥａは上述のとおりである。）で示される化合物（１１ａ）を得る工程（１１ａ）、
化合物（１１ａ）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000049
 （式中、Ｒ１ａは上述のとおり、Ｒ２１ａは単結合又は２価の連結基である。）で示されるオレフィンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000050
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２１ａ、Ｒ３ａ及びＥａは上述のとおりである。）で示される化合物（１２ａ）を得る工程（１２ａ）、
化合物（１２ａ）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000051
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２１ａ及びＲ３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（１３ａ）を得る工程（１３ａ）、及び、
化合物（１３ａ）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000052
 （式中、Ｘａは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000053
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２１ａ、Ｒ３ａ及びＸａは上述のとおりである。）で示される化合物（１４ａ）を得る工程（１４ａ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１ａにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
工程（１１ａ）では、リチウム及び上記クロロシラン化合物を予め反応させて、シロキシリチウム化合物を得た後、上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ａ）とを反応させて、化合物（１１ａ）を得ることが好ましい。
Ｅａは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
Ｒ２１ａとしては、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
上記クロロシラン化合物としては、例えば、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000054
 が挙げられる。
工程（１１ａ）におけるいずれの反応も、溶媒中で実施することができる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１１ａ）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の温度としては、１０～４０℃が好ましく、２０～３０℃がより好ましい。
工程（１１ａ）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ａ）との反応の温度としては、－１００～０℃が好ましく、－８０～－５０℃がより好ましい。
工程（１１ａ）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１１ａ）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ａ）との反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１１ａ）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、６～１０時間がより好ましい。
工程（１１ａ）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ａ）との反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～２時間がより好ましい。
工程（１２ａ）において、化合物（１１ａ）と上記オレフィンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１１ａ）１モルに対して、上記オレフィンが１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（１２ａ）における反応は、チアゾリウム塩及び塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
上記チアゾリウム塩としては、３－エチル－５－（２－ヒドロキシエチル）－４－メチルチアゾリウムブロミド、３－ベンジル－５－（２－ヒドロキシエチル）－４－メチルチアゾリウムクロリド等が挙げられる。
上記塩基としては、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、トリエチルアミン等が挙げられる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール、エーテルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１２ａ）における反応の温度としては、４０～６０℃が好ましく、５０～５５℃がより好ましい。
工程（１２ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１２ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、６～１０時間がより好ましい。
工程（１３ａ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（１３ａ）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１３ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（１３ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１３ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（１４ａ）において、化合物（１３ａ）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１３ａ）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（１４ａ）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程（１４ａ）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
工程（１４ａ）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１３ａ）１モルに対して、１～２モルが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（１４ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１４ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（１４ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１４ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～１２時間がより好ましい。
工程（１４ａ）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（１４ａ）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（１４ａ）を回収してもよい。化合物（１４ａ）が－ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、－ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ａ）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000055
 （式中、Ｒ３ａは上述のとおり、Ｒ２２ａは１価の有機基、Ｅａは脱離基である。）で示されるケトンと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000056
 （式中、Ｒ１ａは上述のとおり、Ｒ２３ａは１価の有機基である。）で示されるカルボン酸エステルとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000057
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ３ａ及びＥａは上述のとおり、Ｒ２４ａは単結合又は２価の連結基である。）で示される化合物（２１ａ）を得る工程（２１ａ）、
化合物（２１ａ）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000058
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２４ａ及びＲ３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（２２ａ）を得る工程（２２ａ）、及び、
化合物（２２ａ）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000059
 （式中、Ｘａは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000060
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２４ａ、Ｒ３ａ及びＸａは上述のとおりである。）で示される化合物（２３ａ）を得る工程（２３ａ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１ａにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｅａは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
Ｒ２２ａとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ２３ａとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ２４ａとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基（－ＣＨ２－）がより好ましい。
工程（２１ａ）における反応は、塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
上記塩基としては、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等が挙げられる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール、エーテルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（２１ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（２１ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２１ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（２２ａ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（２２ａ）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（２２ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（２２ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２２ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（２３ａ）において、化合物（２２ａ）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（２２ａ）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（２３ａ）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程（２３ａ）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
工程（２３ａ）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（２２ａ）１モルに対して、１～２モルが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（２３ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（２３ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（２３ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２３ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～１２時間がより好ましい。
工程（２３ａ）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（２３ａ）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（２３ａ）を回収してもよい。化合物（２３ａ）が－ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、－ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ａ）は、また、式：Ｙａ－Ｒ３ａ－ＯＥａ
（式中、Ｒ３ａは上述のとおり、Ｙａはハロゲン原子、Ｅａは脱離基である。）で示されるハロゲン化アルキルと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000061
 （式中、Ｒ１ａは上述のとおりである。）で示されるリチウムアセチリドとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000062
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ３ａ及びＥａは上述のとおりである。）で示される化合物（３１ａ）を得る工程（３１ａ）、
化合物（３１ａ）を酸化して、式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000063
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ３ａ及びＥａは上述のとおりである。）で示される化合物（３２ａ）を得る工程（３２ａ）、
化合物（３２ａ）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000064
 （式中、Ｒ１ａ及びＲ３ａは上述のとおりである。）で示される化合物（３３ａ）を得る工程（３３ａ）、及び、
化合物（３３ａ）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000065
 （式中、Ｘａは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000066
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ３ａ及びＸａは上述のとおりである。）で示される化合物（３４ａ）を得る工程（３４ａ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１ａにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｅａは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
工程（３１ａ）において、上記ハロゲン化アルキルと上記リチウムアセチリドとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記ハロゲン化アルキル１モルに対して、上記リチウムアセチリドが１～２モルであることが好ましく、１～１．２モルがより好ましい。
工程（３１ａ）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、ヘキサンが好ましい。
工程（３１ａ）における反応の温度としては、－１００～－４０℃が好ましく、－８０～－５０℃がより好ましい。
工程（３１ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３１ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、６～１０時間がより好ましい。
工程（３２ａ）における酸化は、［（Ｃｎ＊）ＲｕＩＩＩ（ＣＦ３ＣＯ２）３］・Ｈ２Ｏ（式中、Ｃｎ＊は１，４，７－トリメチルー１，４，７－トリアザビシクロノナンを表す）を、（ＮＨ４）２Ｃｅ（ＮＯ３）６及びトリフルオロ酢酸で処理した後、過塩素酸ナトリウムを添加することにより生じる錯体を使用して、ニトリル系溶媒中で実施できる。
酸化終了後に、アルカリにより中和し、エーテル等の有機溶媒を使用して化合物（３２ａ）を抽出してもよい。
工程（３２ａ）における反応の温度としては、３０～１００℃が好ましく、４０～９０℃がより好ましい。
工程（３２ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３２ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（３３ａ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（３３ａ）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（３３ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（３３ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３３ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（３４ａ）において、化合物（３３ａ）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３３ａ）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（３４ａ）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程（３４ａ）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
工程（３４ａ）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（３３ａ）１モルに対して、１～２モルが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（３４ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（３４ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（３４ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３４ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～１２時間がより好ましい。
工程（３４ａ）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（３４ａ）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（３４ａ）を回収してもよい。化合物（３４ａ）が－ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、－ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ａ）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000067
 （式中、Ｒ１ａは上述のとおり、Ｒ２１ａは単結合又は２価の連結基である。）で示されるアルケンと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000068
 （式中、Ｙ５１ａはアルコキシル基である。）で示されるアルキンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000069
 （式中、Ｒ１ａ及びＲ２１ａは上述のとおりである。）
で示される化合物（４１ａ）を得る工程（４１ａ）、及び、
化合物（４１ａ）に、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000070
 （式中、Ｘａは、上述したとおりである。）で示される塩化スルホン酸とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000071
 （式中、Ｒ１ａ、Ｒ２１ａ及びＸａは上述のとおりである。）で示される化合物（４２ａ）を得る工程（４２ａ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１ａにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｒ２１ａとしては、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
工程（４１ａ）において、上記アルケンと上記アルキンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルキン１モルに対して、上記アルケンが０．５～２モルであることが好ましく、０．６～１．２モルがより好ましい。
工程（４１ａ）における反応は、金属触媒存在下に実施することが好ましい。上記金属としては、ルテニウム等があげられる。
工程（４１ａ）における上記金属触媒の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルケン１モルに対して、０．０１～０．４モルが好ましく、０．０５～０．１モルがより好ましい。
工程（４１ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドが好ましい。
工程（４１ａ）における反応の温度としては、２０～１６０℃が好ましく、４０～１４０℃がより好ましい。
工程（４１ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（４１ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、４～８時間がより好ましい。
工程（４２ａ）において、化合物（４１ａ）と上記塩化スルホン酸との反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（４１ａ）１モルに対して、上記塩化スルホン酸が１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（４２ａ）における反応は、塩基の存在下に実施することが好ましい。上記塩基としては、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アミン等があげられ、なかでも、アミンが好ましい。
工程（４２ａ）における上記アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルアニリン、ジメチルベンジルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’－テトラメチル－１，８－ナフタレンジアミン等の三級アミン、ピリジン、ピロール、ウラシル、コリジン、ルチジン等の複素芳香族アミン、１，８－ジアザ－ビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、１，５－ジアザ－ビシクロ［４．３．０］－５－ノネン等の環状アミン等が挙げられる。なかでも、トリエチルアミン、ピリジンが好ましい。
工程（４２ａ）における上記塩基の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（４１ａ）１モルに対して、１～２モルが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（４２ａ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（４２ａ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（４２ａ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（４２ａ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～１２時間がより好ましい。
工程（４２ａ）における反応を溶媒中で実施すると、上記反応の終了後に化合物（４２ａ）を含む溶液が得られる。上記溶液に水を加えた後、静置して２相に分離させ、水相を回収し、溶媒を留去することにより、高純度の化合物（４２ａ）を回収してもよい。化合物（４２ａ）が－ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸがＨである場合は）、水に代えて、炭酸水素ナトリウム水溶液やアンモニア水等のアルカリ水溶液を使用することにより、－ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換することも可能である。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
次に界面活性剤（ｂ）について説明する。
式（ｂ）中、Ｒ１ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ｂにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して－Ｃ（＝Ｏ）－と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。
Ｒ１ｂとしての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ１ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ１ｂとしては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
式（ｂ）中、Ｒ２ｂ及びＲ４ｂは、独立に、Ｈ又は置換基である。複数個のＲ２ｂ及びＲ４ｂは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしての上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしての上記アルキル基としては、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましい。
Ｒ２ｂ及びＲ４ｂとしては、独立に、Ｈ又はカルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、Ｈ又は置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が更により好ましく、Ｈが特に好ましい。
式（ｂ）中、Ｒ３ｂは、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基である。Ｒ３ｂは、複数個存在する場合、同一でも異なっていてもよい。
上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキレン基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
上記アルキレン基としては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキレン基が好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、メチレン基（－ＣＨ２－）、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）、イソプロピレン基（－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）が更に好ましい。
Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ及びＲ４ｂは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよいが、環を形成していないことが好ましい。
式（ｂ）中、ｎは、１以上の整数である。ｎとしては、１～４０の整数が好ましく、１～３０の整数がより好ましく、５～２５の整数が更に好ましく、５～９、１１～２５の整数が特に好ましい。
式（ｂ）中、ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。ｐとしては、０～１０の整数が好ましく、０又は１がより好ましい。ｑとしては、０～１０の整数が好ましく、０～５の整数がより好ましい。
ｎ、ｐ及びｑは、合計が５以上の整数であることが好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計は８以上の整数であることがより好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計はまた、６０以下の整数であることが好ましく、５０以下の整数であることがより好ましく、４０以下の整数であることが更に好ましい。
式（ｂ）中、Ｘｂは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｂ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｂはＨ又は有機基である。４つのＲ５ｂは、同一でも異なっていてもよい。Ｒ５ｂとしては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。Ｘｂは金属原子又はＮＲ５ｂ ４（Ｒ５ｂは上記のとおり）であってよい。
Ｘｂとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ５ｂ ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸｂがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ＰＴＦＥ中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
式（ｂ）中、Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｂＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－、－ＮＲ６ＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。上記アルキレン基は、炭素数が１～５であることがより好ましい。また、上記Ｒ６は、Ｈ又はメチル基であることがより好ましい。＊は、式中の－ＯＳＯ３Ｘｂに結合する側を指す。
Ｌは単結合であることが好ましい。
界面活性剤（ｂ）としては、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000072
 （式中、Ｒ１ｂ、Ｒ２ｂ、Ｌ、ｎ及びＸｂは、上記のとおり。）で示される化合物が好ましい。
上記界面活性剤（ｂ）は、１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０～５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が１０％以上であることが好ましい。
上記界面活性剤（ｂ）は、１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０～５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が上記範囲内にあることが好ましい。この場合、上記界面活性剤は分子中にケトン構造を有することが好ましい。
上記界面活性剤（ｂ）において、上記積分値は、１５以上がより好ましく、９５以下が好ましく、８０以下がより好ましく、７０以下が更に好ましい。
上記積分値は、重水溶媒にて室温下に測定する。重水を４．７９ｐｐｍとする。
界面活性剤（ｂ）としては、例えば、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｈ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｌｉ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｋ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３ＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｈ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｌｉ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｋ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３ＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＳＯ３Ｎａ等が挙げられる。
界面活性剤（ｂ）は、新規化合物であり、例えば、次に例示する製造方法により製造することができる。
界面活性剤（ｂ）は、下記式：
Ｒ１１ｂ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｂ ２）ｎ－（ＯＲ３ｂ）ｐ－（ＣＲ４ｂ ２）ｑ－Ｌ－ＯＨ
（式中、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。Ｒ１１ｂは、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｂＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｂ－Ｂ－、－ＮＲ６ｂＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｂは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－ＯＨに結合する側を指す。）で示される化合物（１０ｂ）をヒドロキシ化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000073
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（１１ｂ）を得る工程（１１ｂ）、化合物（１１ｂ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000074
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（１２ｂ）を得る工程（１２ｂ）、及び、
化合物（１２ｂ）を硫酸エステル化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000075
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｂは、上記のとおり。）で示される化合物（１３ｂ）を得る工程（１３ｂ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１１ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ１１ｂとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ１１ｂとしては、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３～９の環状のアルキル基が好ましく、Ｈ、カルボニル基を含まない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～９の環状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、又は、置換基を有さない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、Ｈ、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が更により好ましく、Ｈ又はメチル基（－ＣＨ３）が特に好ましく、Ｈが最も好ましい。
工程（１１ｂ）におけるヒドロキシ化は、例えば、（１）酸素雰囲気中で化合物（１０ｂ）にフタロシアニン鉄（ＩＩ）（Ｆｅ（Ｐｃ））及び水素化ホウ素ナトリウムを作用させる方法や、（２）化合物（１０ｂ）にイソピノカンフェイルボラン（ＩｐｃＢＨ２）を作用させた後、得られる中間体（ジアルキルボラン）を酸化する方法により実施できる。
方法（１）において、フタロシアニン鉄（ＩＩ）の量は、触媒量であってよく、化合物（１０ｂ）１モルに対して、０．００１～１．２モルの量で使用できる。
方法（１）において、水素化ホウ素ナトリウムは、化合物（１０ｂ）１モルに対して、０．５～２０モルの量で使用できる。
方法（１）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、含窒素極性有機化合物等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
方法（１）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
方法（１）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
方法（１）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
方法（２）において、イソピノカンフェイルボランは、化合物（１０ｂ）１モルに対して、１．０～１０．０モルの量で使用できる。
化合物（１０ｂ）とイソピノカンフェイルボランとの反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
化合物（１０ｂ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
化合物（１０ｂ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
化合物（１０ｂ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
方法（２）における酸化は、上記中間体に酸化剤を作用させることにより実施できる。上記酸化剤としては、過酸化水素が挙げられる。上記酸化剤は、上記中間体１モルに対して、０．７～１０モルの量で使用できる。
方法（２）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、メタノール、エタノール等が挙げられ、なかでも水が好ましい。
方法（２）における酸化の温度としては、０～１００℃が好ましく、０～８０℃がより好ましい。
方法（２）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
方法（２）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（１２ｂ）において、化合物（１１ｂ）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ３／Ｈ２ＳＯ４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｂ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５～６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ３）３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。
工程（１２ｂ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（１２ｂ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１２ｂ）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１２ｂ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１３ｂ）における硫酸エステル化は、化合物（１２ｂ）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施できる。上記硫酸化試薬としては、三酸化硫黄ピリジン錯体、三酸化硫黄トリメチルアミン錯体、三酸化硫黄トリエチルアミン錯体等の三酸化硫黄アミン錯体、三酸化硫黄ジメチルホルムアミド錯体等の三酸化硫黄アミド錯体、硫酸－ジシクロヘキシルカルボジイミド、クロロ硫酸、濃硫酸、スルファミン酸等が挙げられる。上記硫酸化試薬の使用量としては、化合物（１２ｂ）１モルに対して、０．５～１０モルが好ましく、０．５～５モルがより好ましく、０．７～４モルが更に好ましい。
工程（１３ｂ）における硫酸エステル化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ピリジン、ジメチルスルホキシド、スルホラン、ニトリル等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（１３ｂ）における硫酸エステル化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（１３ｂ）における硫酸エステル化の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０．１～５ＭＰａがより好ましい。
工程（１３ｂ）における硫酸エステル化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（ｂ）は、また、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000076
 （式中、Ｌ、Ｒ１ｂ～Ｒ４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。Ｒ１０１ｂは、有機基である。）で示される化合物（２０ｂ）をオゾン分解して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000077
 （式中、Ｌ、Ｒ１ｂ～Ｒ４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（２１ｂ）を得る工程（２１ｂ）、及び、
化合物（２１ｂ）を硫酸エステル化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000078
 （式中、Ｌ、Ｒ１ｂ～Ｒ４ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｂは、上記のとおり。）で示される化合物（２２ｂ）を得る工程（２２ｂ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１０１ｂとしては、炭素数１～２０のアルキル基が好ましい。２個のＲ１０１ｂは、同一でも異なっていてもよい。
工程（２１ｂ）におけるオゾン分解は、化合物（２０ｂ）にオゾンを作用させた後、還元剤で後処理することにより実施できる。
オゾンは、酸素ガス中の無声放電によって発生させることができる。
上記後処理に用いる還元剤としては、亜鉛、ジメチルスルフィド、チオウレア、ホスフィン類等が挙げられ、なかでもホスフィン類が好ましい。
工程（２１ｂ）におけるオゾン分解は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノールが好ましい。
上記カルボン酸類としては、酢酸、プロピオン酸等が挙げられる。なかでも、酢酸が好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（２１ｂ）におけるオゾン分解の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
工程（２１ｂ）におけるオゾン分解の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（２１ｂ）におけるオゾン分解の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（２２ｂ）における硫酸エステル化は、化合物（２１ｂ）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施でき、工程（１３ｂ）における硫酸エステル化と同様の条件が採用できる。
界面活性剤（ｂ）は、また、下記式：
Ｒ２１ｂ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｂ ２）ｎ－（ＯＲ３ｂ）ｐ－（ＣＲ４ｂ ２）ｑ－Ｌ－ＯＨ
（式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。Ｒ２１ｂは、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。）で示される化合物（３０ｂ）をエポキシ化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000079
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ２１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（３１ｂ）を得る工程（３１ｂ）、
化合物（３１ｂ）と、Ｒ２２ｂ ２ＣｕＬｉ（Ｒ２２ｂは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。）で示されるジアルキル銅リチウムとを反応させて、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000080
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ２１ｂ、Ｒ２２ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（３２ｂ）を得る工程（３２ｂ）、
化合物（３２ｂ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000081
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ２１ｂ、Ｒ２２ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（３３ｂ）を得る工程（３３ｂ）、及び、
化合物（３３ｂ）を硫酸エステル化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ２１ｂ、Ｒ２２ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｂは、上記のとおり。）で示される化合物（３４ｂ）を得る工程（３４ｂ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ２１ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ２１ｂとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２１ｂとしては、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３～８の環状のアルキル基が好ましく、Ｈ、カルボニル基を含まない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～８の環状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、又は、置換基を有さない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、Ｈ又はメチル基（－ＣＨ３）が特に好ましく、Ｈが最も好ましい。
Ｒ２２ｂとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ２２ｂとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２２ｂとしては、置換基を有してもよい炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３～９の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～９の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
２個のＲ２２ｂは、同一でも異なっていてもよい。
Ｒ２１ｂ及びＲ２２ｂは、炭素数が合計で１～７であることが好ましく、１～２であることがより好ましく、１であることが最も好ましい。
工程（３１ｂ）におけるエポキシ化は、化合物（３０ｂ）にエポキシ化剤を作用させることにより実施できる。
上記エポキシ化剤としては、メタクロロ過安息香酸（ｍ－ＣＰＢＡ）、過安息香酸、過酸化水素、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロペルオキシド等の過酸、ジメチルジオキシラン、メチルトリフルオロメチルジオキシラン等が挙げられ、なかでも過酸が好ましく、メタクロロ過安息香酸がより好ましい。
上記エポキシ化剤は、化合物（３０ｂ）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（３１ｂ）におけるエポキシ化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、ピリジン、含窒素極性有機化合物、ジメチルスルホキシド等が挙げられ、なかでもジクロロメタンが好ましい。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
工程（３１ｂ）におけるエポキシ化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（３１ｂ）におけるエポキシ化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（３１ｂ）におけるエポキシ化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３２ｂ）において、上記ジアルキル銅リチウムは、化合物（３１ｂ）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（３２ｂ）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（３２ｂ）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（３２ｂ）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（３２ｂ）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３３ｂ）において、化合物（３２ｂ）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ３／Ｈ２ＳＯ４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｂ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５～６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ３）３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。
工程（３３ｂ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、ケトン、アルコール、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノールが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（３３ｂ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３３ｂ）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３３ｂ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３４ｂ）における硫酸エステル化は、化合物（３３ｂ）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施でき、工程（１３ｂ）における硫酸エステル化と同様の条件が採用できる。
界面活性剤（ｂ）は、また、下記式：
Ｒ１１ｂ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｂ ２）ｎ－（ＯＲ３ｂ）ｐ－（ＣＲ４ｂ ２）ｑ－Ｌ－ＯＨ
（式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（１０ｂ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ、ｐ及びｑは、上記のとおり。）で示される化合物（４１ｂ）を得る工程（４１ｂ）、及び、
化合物（４１ｂ）を硫酸エステル化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ～Ｒ４ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｂは、上記のとおり。）で示される化合物（４２ｂ）を得る工程（４２ｂ）を含む製造方法により製造できる。
工程（４１ｂ）における酸化は、水及びパラジウム化合物の存在下で、化合物（１０ｂ）に酸化剤を作用させることにより実施できる。
上記酸化剤としては、塩化銅、酢酸銅、シアン化銅、トリフルオロメタンチオール銅等の一価又は二価の銅塩、塩化鉄、酢酸鉄、シアン化鉄、トリフルオロメタンチオール鉄、ヘキサシアノ鉄等の鉄塩、１，４－ベンゾキノン、２，３－ジクロロ－５，６－ジシアノ－１，４－ベンゾキノン、テトラクロロ－１，２－ベンゾキノン、テトラクロロ－１，４－ベンゾキノン等のベンゾキノン類、Ｈ２Ｏ２、ＭｎＯ２、ＫＭｎＯ４、ＲｕＯ４、ｍ－クロロ過安息香酸、酸素等が挙げられる。なかでも、銅塩、鉄塩、ベンゾキノン類が好ましく、塩化銅、塩化鉄、１，４－ベンゾキノンがより好ましい。
上記酸化剤は、化合物（１０ｂ）１モルに対して、０．００１～１０モルの量で使用できる。
上記水は、化合物（１０ｂ）１モルに対して、０．５～１０００モルの量で使用できる。
上記パラジウム化合物としては、二塩化パラジウムが挙げられる。上記パラジウム化合物の量は、触媒量であってよく、化合物（１０ｂ）１モルに対して、０．０００１～１．０モルの量で使用できる。
工程（４１ｂ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、エステル、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、含窒素極性有機化合物、ニトリル、ジメチルスルホキシド、スルホランが挙げられる。
上記エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ；別名１－メトキシ－２－アセトキシプロパン）等が挙げられ、なかでも、酢酸エチルが好ましい。
上記脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等が挙げられ、なかでも、シクロヘキサン、ヘプタンが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記カルボン酸類としては、酢酸、プロピオン酸等が挙げられる。なかでも、酢酸が好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（４１ｂ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（４１ｂ）における酸化の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０．１～５．０ＭＰａがより好ましい。
工程（４１ｂ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（４２ｂ）における硫酸エステル化は、化合物（４１ｂ）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施でき、工程（１３ｂ）における硫酸エステル化と同様の条件が採用できる。
界面活性剤（ｂ）は、また、下記式：
Ｒ１１ｂ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｂ ２）ｎ－ＯＨ
（式中、Ｒ２ｂ、Ｒ１１ｂ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（５０）とハロゲン化剤とを反応させて、下記式：
Ｒ１１ｂ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｂ ２）ｎ－Ｚ５１ｂ
（式中、Ｒ２ｂ、Ｒ１１ｂ及びｎは、上記のとおり。Ｚ５１ｂは、ハロゲン原子である。）で示される化合物（５１）を得る工程（５１）、
化合物（５１）と、ＨＯ－Ｒ３ｂ－Ｌ－ＯＨ（Ｌ、Ｒ３ｂは、上記のとおり。）で示されるアルキレングリコールとを反応させて、下記式：
Ｒ１１ｂ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｂ ２）ｎ－Ｏ－Ｒ３ｂ－Ｌ－ＯＨ
（式中、Ｌ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ１１ｂ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（５２）を得る工程（５２）、
化合物（５２）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ１１ｂ及びｎは、上記のとおり。）で示される化合物（５３）を得る工程（５３）、及び、
化合物（５３）を硫酸エステル化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
 （式中、Ｌ、Ｒ２ｂ、Ｒ３ｂ、Ｒ１１ｂ、ｎ及びＸｂは、上記のとおり。）で示される化合物（５４）を得る工程（５４）を含む製造方法により製造できる。
Ｚ５１ｂとしては、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩが好ましく、Ｂｒがより好ましい。
工程（５１）で使用するハロゲン化剤としては、Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－クロロスクシンイミド等が挙げられる。
上記ハロゲン化剤は、化合物（５０）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（５１）の反応は、トリフェニルホスフィン等のホスフィン類の存在下に実施できる。
上記ホスフィン類は、化合物（５０）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（５１）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（５１）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（５１）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（５１）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（５２）において、上記アルキレングリコールは、化合物（５１）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（５２）の反応は、塩基の存在下に実施できる。上記塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。
上記塩基は、化合物（５１）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（５２）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、含窒素極性有機化合物、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（５２）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（５２）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（５２）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（５３）における酸化は、水及びパラジウム化合物の存在下で、化合物（５２）に酸化剤を作用させることにより実施でき、工程（４１）における酸化と同様の条件が採用できる。
工程（５４）における硫酸エステル化は、化合物（５３）と硫酸化試薬とを反応させることにより実施でき、工程（１３）における硫酸エステル化と同様の条件が採用できる。
上述したいずれの製造方法においても、各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。また、得られる化合物が－ＯＳＯ３Ｈで示される基を有する場合は（すなわちＸｂがＨである場合は）、炭酸ナトリウム、アンモニア等のアルカリと接触させることにより、－ＯＳＯ３Ｈを硫酸塩基に変換できる。
界面活性剤（ｂ）の製造方法のなかでも、上記工程（４１ｂ）及び（４２ｂ）を含む製造方法が好ましい。
界面活性剤（ｃ）について説明する。
式（ｃ）中、Ｒ１ｃは、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合、２つの炭素原子間にカルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）を含んでもよい。また、上記アルキル基は、炭素数が２以上の場合、上記アルキル基の末端に上記カルボニル基を含むこともできる。すなわち、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示されるアセチル基等のアシル基も、上記アルキル基に含まれる。
また、上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ｃにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して－Ｃ（＝Ｏ）－と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、カルボニル基を構成する炭素原子の数及び上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。例えば、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ２－で示される基は炭素数が３であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－で示される基は炭素数が７であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示される基は炭素数が２である。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０１ｃ（式中、Ｒ１０１ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
式（ｃ）中、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、独立に、単結合又は２価の連結基である。
Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２ｃ及びＲ３ｃを構成する上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０２ｃ（式中、Ｒ１０２ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、炭素数が合計で５以上である。合計の炭素数としては、７以上が好ましく、９以上がより好ましく、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１５以下が更に好ましい。
Ｒ１ｃ、Ｒ２ｃ及びＲ３ｃは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
式（ｃ）中、式中、Ａｃは、－ＣＯＯＸｃ又は－ＳＯ３Ｘｃ（Ｘｃは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ｃ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４ｃはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ４ｃとしては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
Ｘｃとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ４ｃ ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸｃがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ＰＴＦＥ中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
Ｒ１ｃとしては、カルボニル基を含まない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数３～８の環状のアルキル基、１～１０個のカルボニル基を含む炭素数２～４５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数３～４５の環状のアルキル基、又は、炭素数が３～４５の１価又は２価の複素環を含むアルキル基が好ましい。
また、Ｒ１ｃとしては、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
 （式中、ｎ１１ｃは０～１０の整数であり、Ｒ１１ｃは炭素数１～５の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～５の環状のアルキル基であり、Ｒ１２ｃは炭素数０～３のアルキレン基である。ｎ１１ｃが２～１０の整数である場合、Ｒ１２ｃは各々同じであっても異なっていてもよい。）で示される基がより好ましい。
ｎ１１ｃとしては、０～５の整数が好ましく、０～３の整数がより好ましく、１～３の整数が更に好ましい。
Ｒ１１ｃとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ１１ｃとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０３ｃ（式中、Ｒ１０３ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１１ｃとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
Ｒ１２ｃは炭素数０～３のアルキレン基である。上記炭素数は１～３が好ましい。
Ｒ１２ｃとしての上記アルキレン基は、直鎖状又は分岐鎖状であってよい。
Ｒ１２ｃとしての上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。Ｒ１２ｃとしては、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）がより好ましい。
Ｒ１２ｃとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０４ｃ（式中、Ｒ１０４ｃはアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１２ｃとしての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２ｃ及びＲ３ｃとしては、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１以上のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～３のアルキレン基がより好ましく、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）が更に好ましい。
上記界面活性剤（ｃ）としては、次の界面活性剤が例示できる。各式中、Ａｃは上述のとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
界面活性剤（ｃ）は、新規化合物であり、例えば、次に例示する製造方法により製造することができる。
界面活性剤（ｃ）は、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
 （式中、Ｒ３ｃは上述のとおり、Ｅｃは脱離基である。）で示される化合物（１０ｃ）と、リチウム、及び、式：Ｒ２０１ｃ ３Ｓｉ－Ｃｌ（式中、Ｒ２０１ｃは、独立に、アルキル基又はアリール基である。）で示されるクロロシラン化合物とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
 （式中、Ｒ３ｃ、Ｒ２０１ｃ及びＥｃは上述のとおりである。）で示される化合物（１１ｃ）を得る工程（１１ｃ）、
化合物（１１ｃ）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
 （式中、Ｒ１ｃは上述のとおり、Ｒ２１ｃは単結合又は２価の連結基である。）で示されるオレフィンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ２１ｃ、Ｒ３ｃ及びＥｃは上述のとおりである。）で示される化合物（１２ｃ）を得る工程（１２ｃ）、
化合物（１２ｃ）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ２１ｃ及びＲ３ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（１３ｃ）を得る工程（１３ｃ）、及び、
化合物（１３ｃ）を酸化させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ２１ｃ及びＲ３ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（１４ｃ）を得る工程（１４ｃ）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
Ｒ１ｃにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
工程（１１ｃ）では、リチウム及び上記クロロシラン化合物を予め反応させて、シロキシリチウム化合物を得た後、上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ｃ）とを反応させて、化合物（１１ｃ）を得ることが好ましい。
Ｅｃは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
Ｒ２１ｃとしては、単結合又は炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
上記クロロシラン化合物としては、例えば、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
 が挙げられる。
工程（１１ｃ）におけるいずれの反応も、溶媒中で実施することができる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１１ｃ）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の温度としては、－７８～１００℃が好ましく、１０～４０℃がより好ましい。
工程（１１ｃ）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ｃ）との反応の温度としては、－１００～０℃が好ましく、－８０～－５０℃がより好ましい。
工程（１１ｃ）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１１ｃ）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ｃ）との反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１１ｃ）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、６～１０時間がより好ましい。
工程（１１ｃ）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０ｃ）との反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～２時間がより好ましい。
工程（１２ｃ）において、化合物（１１ｃ）と上記オレフィンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１１ｃ）１モルに対して、上記オレフィンが１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（１２ｃ）における反応は、チアゾリウム塩及び塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
上記チアゾリウム塩としては、３－エチル－５－（２－ヒドロキシエチル）－４－メチルチアゾリウムブロミド、３－ベンジル－５－（２－ヒドロキシエチル）－４－メチルチアゾリウムクロリド等が挙げられる。
上記塩基としては、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、トリエチルアミン等が挙げられる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール又はエーテルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１２ｃ）における反応の温度としては、４０～６０℃が好ましく、５０～５５℃がより好ましい。
工程（１２ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１２ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、６～１０時間がより好ましい。
工程（１３ｃ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基を脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（１３ｃ）における脱離基の脱離反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１３ｃ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（１３ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１３ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（１４ｃ）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール、１－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール等のアルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。
化合物（１４ｃ）をアルカリと接触させて、－ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ｃ）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
 （式中、Ｒ３ｃは上述のとおり、Ｒ２２ｃは１価の有機基、Ｅｃは脱離基である。）で示されるケトンと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
 （式中、Ｒ１ｃは上述のとおり、Ｒ２３ｃは１価の有機基である。）で示されるカルボン酸エステルとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ３ｃ及びＥｃは上述のとおり、Ｒ２４ｃは単結合又は２価の連結基である。）で示される化合物（２１ｃ）を得る工程（２１ｃ）、
化合物（２１ｃ）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ２４ｃ及びＲ３ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（２２ｃ）を得る工程（２２ｃ）、及び、
化合物（２２ｃ）を酸化させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ２４ｃ及びＲ３ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（２３ｃ）を得る工程（２３ｃ）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
Ｒ１ｃにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｅｃは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
Ｒ２２ｃとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ２３ｃとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ２４ｃとしては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基（－ＣＨ２－）がより好ましい。
工程（２１ｃ）における反応は、塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
上記塩基としては、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等が挙げられる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール、エーテルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（２１ｃ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０がより好ましい。
工程（２１ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２１ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（２２ｃ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（２２ｃ）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（２２ｃ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（２２ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２２ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（２３ｃ）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、アルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。
化合物（２３ｃ）をアルカリと接触させて、－ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ｃ）は、また、式：Ｙｃ－Ｒ３ｃ－ＣＨ２－ＯＥｃ
（式中、Ｒ３ｃは上述のとおり、Ｙｃはハロゲン原子、Ｅｃは脱離基である。）で示されるハロゲン化アルキルと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
 （式中、Ｒ１ｃは上述のとおりである。）で示されるリチウムアセチリドとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ３ｃ及びＥｃは上述のとおりである。）で示される化合物（３１ｃ）を得る工程（３１ｃ）、
化合物（３１ｃ）を酸化して、式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ３ｃ及びＥｃは上述のとおりである。）で示される化合物（３２ｃ）を得る工程（３２ｃ）、
化合物（３２ｃ）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
 （式中、Ｒ１ｃ及びＲ３ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（３３ｃ）を得る工程（３３ｃ）、及び、
化合物（３３ｃ）を酸化させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
 （式中、Ｒ１ｃ及びＲ３ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（３４ｃ）を得る工程（３４ｃ）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
Ｒ１ｃにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｅｃは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
工程（３１ｃ）において、上記ハロゲン化アルキルと上記リチウムアセチリドとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記ハロゲン化アルキル１モルに対して、上記リチウムアセチリドが１～２モルであることが好ましく、１～１．２モルがより好ましい。
工程（３１ｃ）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、ヘキサンが好ましい。
工程（３１ｃ）における反応の温度としては、－１００～－４０℃が好ましく、－８０～－５０℃がより好ましい。
工程（３１ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３１ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、６～１０時間がより好ましい。
工程（３２ｃ）における酸化は、［（Ｃｎ＊）ＲｕＩＩＩ（ＣＦ３ＣＯ２）３］・Ｈ２Ｏ（式中、Ｃｎ＊は１，４，７－トリメチルー１，４，７－トリアザビシクロノナンを表す）を、（ＮＨ４）２Ｃｅ（ＮＯ３）６及びトリフルオロ酢酸で処理した後、過塩素酸ナトリウムを添加することにより生じる錯体を使用して、ニトリル系溶媒中で実施できる。
酸化終了後に、アルカリにより中和し、エーテル等の有機溶媒を使用して化合物（３２ｃ）を抽出してもよい。
工程（３２ｃ）における反応の温度としては、３０～１００℃が好ましく、４０～９０℃がより好ましい。
工程（３２ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。　
工程（３２ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（３３ｃ）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（３３ｃ）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（３３ｃ）における反応の温度としては、０～４０℃が好ましく、０～２０℃がより好ましい。
工程（３３ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３３ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、３～８時間がより好ましい。
工程（３４ｃ）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、アルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。
化合物（３４ｃ）をアルカリと接触させて、－ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ｃ）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
 で示されるジビニルケトンと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
 で示される２－メチルフランとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
 で示される化合物（５１ｃ）を得る工程（５１ｃ）、
化合物（５１ｃ）と式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
 で示されるフランとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
 で示される化合物（５２ｃ）を得る工程（５２ｃ）、
化合物（５２ｃ）を酸の存在下で加熱することにより、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
 で示される化合物（５３ｃ）を得る工程（５３ｃ）、及び、
化合物（５３ｃ）を酸化させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
 で示される化合物（５４ｃ）を得る工程（５４ｃ）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（５１ｃ）において、ジビニルケトンと２－メチルフランとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、ジビニルケトン１モルに対して、２－メチルフランが０．５～１モルであることが好ましく、０．６～０．９モルがより好ましい。
工程（５１ｃ）における反応は、酸の存在下に実施することが好ましい。上記酸としては、酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン酸等があげられ、なかでも、酢酸が好ましい。
工程（５１ｃ）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、ジビニルケトン１モルに対して、０．１～２モルが好ましく、０．１～１モルがより好ましい。
工程（５１ｃ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、アセトニトリルが好ましい。
工程（５１ｃ）における反応の温度としては、２０～１００℃が好ましく、４０～１００℃がより好ましい。
工程（５１ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（５１ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、４～８時間がより好ましい。
工程（５２ｃ）において、化合物（５１ｃ）とフランとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（５１ｃ）１モルに対してフランが１～２モルであることが好ましく、１～１．１モルがより好ましい。
工程（５２ｃ）における反応は、酸の存在下に実施することが好ましい。上記酸としては、酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、なかでも、酢酸が好ましい。
工程（５２ｃ）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（５１ｃ）１モルに対して、０．１～２モルが好ましく、０．１～１モルがより好ましい。
工程（５２ｃ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水が好ましい。
工程（５２ｃ）における反応の温度としては、２０～１００℃が好ましく、４０～１００℃がより好ましい。
工程（５２ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（５２ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、４～８時間がより好ましい。
工程（５３ｃ）では、化合物（５２ｃ）を酸の存在下で加熱することにより、フラン環を開環させる。
上記酸としては、塩酸、硫酸が好ましい。
工程（５３ｃ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水が好ましい。
工程（５３ｃ）における反応の温度としては、５０～１００℃が好ましく、７０～１００℃がより好ましい。
工程（５３ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（５３ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～１２時間がより好ましい。
工程（５４ｃ）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。
化合物（５４ｃ）をアルカリと接触させて、－ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ｃ）は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
 （式中、Ｒ１ｃは上述のとおり、Ｒ２１ｃは単結合又は２価の連結基である。）で示されるアルケンと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
 （式中、Ｙ６１ｃはアルキルエステル基である。）で示されるアルキンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
 （式中、Ｒ１ｃ、Ｒ２１ｃ及びＹ６１ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（６１ｃ）を得る工程（６１ｃ）、及び、
化合物（６１ｃ）に、アルカリを作用させたのちに酸を作用させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
 （式中、Ｒ１ｃ及びＲ２１ｃは上述のとおりである。）で示される化合物（６２ｃ）を得る工程（６２ｃ）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
Ｒ１ｃにフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｒ２１ｃとしては、単結合又は炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
工程（６１ｃ）において、上記アルケンと上記アルキンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルキン１モルに対して、上記アルケンが０．５～２モルであることが好ましく、０．６～１．２モルがより好ましい。
工程（６１ｃ）における反応は、金属触媒存在下に実施することが好ましい。上記金属としては、ルテニウム等があげられる。
工程（６１ｃ）における上記金属触媒の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルケン１モルに対して、０．０１～０．４モルが好ましく、０．０５～０．１モルがより好ましい。
工程（６１ｃ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドが好ましい。
工程（６１ｃ）における反応の温度としては、２０～１６０℃が好ましく、４０～１４０℃がより好ましい。
工程（６１ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（６１ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、４～８時間がより好ましい。
工程（６２ｃ）において、化合物（６１ｃ）と上記アルカリとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（６１ｃ）１モルに対して上記アルカリが０．６～２モルであることが好ましく、０．８～１．１モルがより好ましい。
工程（６２ｃ）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（６１ｃ）１モルに対して、１．０～２０．０モルが好ましく、１．０～１０．０モルがより好ましい。
工程（６２ｃ）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水が好ましい。
工程（６２ｃ）における反応の温度としては、０～１００℃が好ましく、２０～１００℃がより好ましい。
工程（６２ｃ）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（６２ｃ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、４～８時間がより好ましい。
化合物（６２ｃ）をアルカリと接触させて、－ＣＯＯＨを塩型に変換してもよい。上記アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
界面活性剤（ｄ）について説明する。
式（ｄ）中、Ｒ１ｄは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を形成することもできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１ｄにおいて、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して－Ｃ（＝Ｏ）－と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。
Ｒ１ｄとしての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ１ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ１ｄとしては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
式（ｄ）中、Ｒ２ｄ及びＲ４ｄは、独立に、Ｈ又は置換基である。複数個のＲ２ｄ及びＲ４ｄは、それぞれ同一でも異なっていてもよい。
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしての上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしての上記アルキル基としては、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましい。
Ｒ２ｄ及びＲ４ｄとしては、独立に、Ｈ又はカルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が好ましく、Ｈ又は置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が更により好ましく、Ｈが特に好ましい。
式（ｄ）中、Ｒ３ｄは、置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基である。Ｒ３ｄは、複数個存在する場合、同一でも異なっていてもよい。
上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキレン基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
上記アルキレン基としては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキレン基が好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、メチレン基（－ＣＨ２－）、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）、イソプロピレン基（－ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）が更に好ましい。
Ｒ１ｄ、Ｒ２ｄ、Ｒ３ｄ及びＲ４ｄは、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
式（ｄ）中、ｎは、１以上の整数である。ｎとしては、１～４０の整数が好ましく、１～３０の整数がより好ましく、５～２５の整数が更に好ましい。
式（ｄ）中、ｐ及びｑは、独立に、０以上の整数である。ｐとしては、０～１０の整数が好ましく、０又は１がより好ましい。ｑとしては、０～１０の整数が好ましく、０～５の整数がより好ましい。
ｎ、ｐ及びｑは、合計が６以上の整数であることが好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計は８以上の整数であることがより好ましい。ｎ、ｐ及びｑの合計はまた、６０以下の整数であることが好ましく、５０以下の整数であることがより好ましく、４０以下の整数であることが更に好ましい。
式（ｄ）中、Ａｄは、－ＳＯ３Ｘｄ又は－ＣＯＯＸｄ（Ｘｄは、Ｈ、金属原子、ＮＲ５ｄ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ５ｄはＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ５ｄとしては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、１、２価の金属原子が挙げられ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。Ｘｄは金属原子又はＮＲ５ｄ ４（Ｒ５ｄは上記のとおり）であってよい。
Ｘｄとしては、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ５ｄ ４が好ましく、水に溶解しやすいことから、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４がより好ましく、水に更に溶解しやすいことから、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、除去が容易であることから、ＮＨ４が最も好ましい。ＸｄがＮＨ４であると、上記界面活性剤の水性媒体への溶解性が優れるとともに、ＰＴＦＥ中又は最終製品中に金属成分が残留しにくい。
式（ｄ）中、Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。上記アルキレン基は、炭素数が１～５であることがより好ましい。また、上記Ｒ６ｄは、Ｈ又はメチル基であることがより好ましい。＊は、式中のＡｄに結合する側を指す。
Ｌは単結合であることが好ましい。
上記界面活性剤は、１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０～５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が１０以上であることが好ましい。
上記界面活性剤は、１Ｈ－ＮＭＲスペクトルにおいて、ケミカルシフト２．０～５．０ｐｐｍの領域に観測される全ピーク強度の積分値が上記範囲内にあることが好ましい。この場合、上記界面活性剤は分子中にケトン構造を有することが好ましい。
上記界面活性剤において、上記積分値は、１５以上がより好ましく、９５以下が好ましく、８０以下がより好ましく、７０以下が更に好ましい。
上記積分値は、重水溶媒にて室温下に測定する。重水を４．７９ｐｐｍとする。
上記界面活性剤（ｄ）としては、例えば、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＨ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＬｉ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＣＯＯＮａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＣＯＯＫ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）３ＣＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ３）２ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
（ＣＨ２）５ＣＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣ（Ｏ）ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣ（Ｏ）ＣＨ２ＳＯ３Ｎａ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｈ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｋ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３Ｌｉ、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳＯ３ＮＨ４、
ＣＨ３Ｃ（Ｏ）ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｃ（ＣＨ３）２ＳＯ３Ｎａ
等が挙げられる。
界面活性剤（ｄ）は、新規化合物であり、例えば、次に例示する製造方法により製造することができる。
界面活性剤（ｄ）は、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
 （式中、Ｒ１ｄ、Ｒ２ｄ及びｎは、上記のとおりである。）
で示される化合物（１０ｄ）と、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
 （式中、Ｒ３ｄは、上記のとおりである。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－Ｓ（＝Ｏ）２－に結合する側を指す。）で示されるサルトンとを反応させて、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
 （式中、Ｒ１ｄ～Ｒ３ｄ、ｎ及びＸｄは、上記のとおりである。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－ＯＳＯ３Ｘｄに結合する側を指す。）
で示される化合物（１１ｄ）を得る工程（１１ｄ）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（１１ｄ）における反応は、塩基の存在下に実施できる。
上記塩基としては、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチルアミン等が挙げられる。上記塩基は、化合物（１０ｄ）１モルに対して、０．５～２０モルの量で使用できる。
工程（１１ｄ）における反応は、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましい。上記有機溶媒としては、エーテル、芳香族化合物、ニトリル、ハロゲン化炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記芳香族化合物としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
工程（１１ｄ）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、－２０～１００℃がより好ましい。
工程（１１ｄ）における反応の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（１１ｄ）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（ｄ）は、また、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
 （式中、Ｒ１ｄ～Ｒ４ｄ、ｎ、ｐ及びｑは上記のとおりである。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－ＣＨ２－ＯＨに結合する側を指す。）
で示される化合物（２０ｄ）を酸化させて、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
 （式中、Ｒ１ｄ～Ｒ４ｄ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｄは上記のとおりである。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－ＣＨ２－ＣＯＯＸｄに結合する側を指す。）
で示される化合物（２１ｄ）を得る工程（２１ｄ）を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（２１ｄ）における酸化は、化合物（２０ｄ）にニトロソ化剤を作用させることにより実施できる。
上記ニトロソ化剤としては、亜硝酸ナトリウム、ニトロシル硫酸及び亜硝酸イソアミル等が使用できる。
上記ニトロソ化剤は、化合物（２０ｄ）１モルに対して、０．５～１０モルの量で使用できる。
工程（２１ｄ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、トリフルオロ酢酸、アセトニトリル等が使用できる。
工程（２１ｄ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１００℃がより好ましい。
工程（２１ｄ）における酸化の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（２１ｄ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～２４時間がより好ましい。
化合物（１０ｄ）及び化合物（２０ｄ）は、下記式：
Ｒ１１ｄ－ＣＨ＝ＣＨ－Ｙ１ｄ－ＯＨ
（式中、Ｒ１１ｄは、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。Ｙ１ｄは、－（ＣＲ２ｄ ２）ｎ－又は－（ＣＲ２ｄ ２）ｎ－（ＯＲ３ｄ）ｐ－（ＣＲ４ｄ ２）ｑ－Ｌ－ＣＨ２－（Ｒ２ｄ～Ｒ４ｄ、ｎ、Ｌ、ｐ及びｑは、上記のとおり。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。＊は、式中の－ＣＨ２－に結合する側を指す。）である。）で示される化合物（１００ｄ）をヒドロキシ化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000129
 （式中、Ｒ１１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（１０１ｄ）を得る工程（１０１ｄ）、及び、
化合物（１０１ｄ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000130
 （式中、Ｒ１１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（１０２ｄ）を得る工程（１０２ｄ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１１ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ１１ｄとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ１１ｄとしては、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３～９の環状のアルキル基が好ましく、Ｈ、カルボニル基を含まない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～９の環状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、又は、置換基を有さない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、Ｈ、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が更により好ましく、Ｈ又はメチル基（－ＣＨ３）が特に好ましく、Ｈが最も好ましい。
工程（１０１ｄ）におけるヒドロキシ化は、例えば、（１ｄ）酸素雰囲気中で化合物（１００ｄ）にフタロシアニン鉄（ＩＩ）（Ｆｅ（Ｐｃ））及び水素化ホウ素ナトリウムを作用させる方法や、（２ｄ）化合物（１００ｄ）にイソピノカンフェイルボラン（ＩｐｃＢＨ２）を作用させた後、得られる中間体（ジアルキルボラン）を酸化する方法により実施できる。
方法（１ｄ）において、フタロシアニン鉄（ＩＩ）の量は、触媒量であってよく、化合物（１００ｄ）１モルに対して、０．００１～１．２モルの量で使用できる。
方法（１ｄ）において、水素化ホウ素ナトリウムは、化合物（１００ｄ）１モルに対して、０．５～２０モルの量で使用できる。
方法（１ｄ）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、含窒素極性有機化合物等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
方法（１ｄ）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
方法（１ｄ）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
方法（１ｄ）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
方法（２ｄ）において、イソピノカンフェイルボランは、化合物（１００ｄ）１モルに対して、１．０～１０．０モルの量で使用できる。
化合物（１００ｄ）とイソピノカンフェイルボランとの反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
化合物（１００ｄ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
化合物（１００ｄ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
化合物（１００ｄ）とイソピノカンフェイルボランとの反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
方法（２ｄ）における酸化は、上記中間体に酸化剤を作用させることにより実施できる。上記酸化剤としては、過酸化水素が挙げられる。上記酸化剤は、上記中間体１モルに対して、０．７～１０モルの量で使用できる。
方法（２ｄ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、メタノール、エタノール等が挙げられ、なかでも水が好ましい。
方法（２ｄ）における酸化の温度としては、０～１００℃が好ましく、０～８０℃がより好ましい。
方法（２ｄ）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
方法（２ｄ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（１０２ｄ）において、化合物（１０１ｄ）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ３／Ｈ２ＳＯ４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｄ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５～６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ３）３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。
工程（１０２ｄ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（１０２ｄ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１０２ｄ）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（１０２ｄ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
化合物（１０ｄ）及び化合物（２０ｄ）は、また、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000131
 （式中、Ｒ１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。Ｒ１０１ｄは、有機基である。）で示される化合物（２００ｄ）をオゾン分解して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000132
 （式中、Ｒ１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（２０１ｄ）を得る工程（２０１ｄ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ１０１ｄとしては、炭素数１～２０のアルキル基が好ましい。２個のＲ１０１ｄは、同一でも異なっていてもよい。
工程（２０１ｄ）におけるオゾン分解は、化合物（２００ｄ）にオゾンを作用させた後、還元剤で後処理することにより実施できる。
オゾンは、酸素ガス中の無声放電によって発生させることができる。
上記後処理に用いる還元剤としては、亜鉛、ジメチルスルフィド、チオウレア、ホスフィン類等が挙げられ、なかでもホスフィン類が好ましい。
工程（２０１ｄ）におけるオゾン分解は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノールが好ましい。
上記カルボン酸類としては、酢酸、プロピオン酸等が挙げられる。なかでも、酢酸が好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（２０１ｄ）におけるオゾン分解の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、０～１５０℃がより好ましい。
工程（２０１ｄ）におけるオゾン分解の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（２０１ｄ）におけるオゾン分解の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
化合物（１０ｄ）及び化合物（２０ｄ）は、また、下記式：
Ｒ２１ｄ－ＣＨ＝ＣＨ－Ｙ１ｄ－ＯＨ
（式中、Ｙ１ｄは、上記のとおり。Ｒ２１ｄは、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。）で示される化合物（３００ｄ）をエポキシ化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000133
 （式中、Ｒ２１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（３０１ｄ）を得る工程（３０１ｄ）、
化合物（３０１ｄ）と、Ｒ２２ｄ ２ＣｕＬｉ（Ｒ２２ｄは、置換基を有してもよい炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を形成していてもよい。）で示されるジアルキル銅リチウムとを反応させて、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000134
 （式中、Ｒ２１ｄ、Ｒ２２ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（３０２ｄ）を得る工程（３０２ｄ）、及び、
化合物（３０２ｄ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000135
 （式中、Ｒ２１ｄ、Ｒ２２ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（３０３ｄ）を得る工程（３０３ｄ）を含む製造方法により製造できる。
Ｒ２１ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ２１ｄとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２１ｄとしては、Ｈ、置換基を有してもよい炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３～８の環状のアルキル基が好ましく、Ｈ、カルボニル基を含まない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～８の環状のアルキル基がより好ましく、Ｈ、又は、置換基を有さない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、Ｈ又はメチル基（－ＣＨ３）が特に好ましく、Ｈが最も好ましい。
Ｒ２２ｄとしての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ２２ｄとしての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。
上記アルキル基は、如何なる置換基も有していないことが好ましい。
Ｒ２２ｄとしては、置換基を有してもよい炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、又は、置換基を有してもよい炭素数３～９の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～９の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～９の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
２個のＲ２２ｄは、同一でも異なっていてもよい。
Ｒ２１ｄ及びＲ２２ｄは、炭素数が合計で１～７であることが好ましく、１～２であることがより好ましく、１であることが最も好ましい。
工程（３０１ｄ）におけるエポキシ化は、化合物（３００ｄ）にエポキシ化剤を作用させることにより実施できる。
上記エポキシ化剤としては、メタクロロ過安息香酸（ｍ－ＣＰＢＡ）、過安息香酸、過酸化水素、ｔｅｒｔ－ブチルヒドロペルオキシド等の過酸、ジメチルジオキシラン、メチルトリフルオロメチルジオキシラン等が挙げられ、なかでも過酸が好ましく、メタクロロ過安息香酸がより好ましい。
上記エポキシ化剤は、化合物（３００ｄ）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（３０１ｄ）におけるエポキシ化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、ケトン、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル、ピリジン、含窒素極性有機化合物、ジメチルスルホキシド等が挙げられ、なかでもジクロロメタンが好ましい。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
工程（３０１ｄ）におけるエポキシ化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（３０１ｄ）におけるエポキシ化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（３０１ｄ）におけるエポキシ化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３０２ｄ）において、上記ジアルキル銅リチウムは、化合物（３０１ｄ）１モルに対して、０．５～１０．０モルの量で使用できる。
工程（３０２ｄ）の反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素等が挙げられる。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
工程（３０２ｄ）の反応の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－４０～１５０℃がより好ましい。
工程（３０２ｄ）の反応の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、０．１～１．０ＭＰａがより好ましい。
工程（３０２ｄ）の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
工程（３０３ｄ）において、化合物（３０２ｄ）を酸化する方法としては、例えば、（ａ）ジョーンズ試薬（ＣｒＯ３／Ｈ２ＳＯ４）を用いる方法（ジョーンズ酸化）、（ｄ）デス・マーチン・ペルヨージナン（ＤＭＰ）を用いる方法（デス・マーチン酸化）、（ｃ）クロロクロム酸ピリジニウム（ＰＣＣ）を用いる方法、（ｄ）ＮｉＣｌ２等のニッケル化合物の存在下に漂白剤（ＮａＯＣｌの約５～６％水溶液）を作用させる方法、（ｅ）Ａｌ（ＣＨ３）３、Ａｌ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］３等のアルミニウム触媒の存在下にアルデヒド、ケトン等の水素受容体を作用させる方法（オッペナウアー酸化）が挙げられる。
工程（３０３ｄ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水及び有機溶媒が好ましく、水、ケトン、アルコール、エーテル、ハロゲン化炭化水素、芳香族炭化水素、ニトリル等が挙げられる。
上記ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられ、なかでも、アセトンが好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。なかでも、メタノール、エタノールが好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（３０３ｄ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３０３ｄ）における酸化の圧力としては、０～５．０ＭＰａが好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
工程（３０３ｄ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、採用する方法に応じて適宜選択することができる。
化合物（１０ｄ）及び化合物（２０ｄ）は、また、下記式：
Ｒ１１ｄ－ＣＨ＝ＣＨ－Ｙ１ｄ－ＯＨ
（式中、Ｒ１１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（１００ｄ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000136
 （式中、Ｒ１１ｄ及びＹ１ｄは、上記のとおり。）で示される化合物（４０１ｄ）を得る工程（４０１ｄ）を含む製造方法により製造できる。
工程（４０１ｄ）における酸化は、水及びパラジウム化合物の存在下で、化合物（１００ｄ）に酸化剤を作用させることにより実施できる。
上記酸化剤としては、塩化銅、酢酸銅、シアン化銅、トリフルオロメタンチオール銅等の一価又は二価の銅塩、塩化鉄、酢酸鉄、シアン化鉄、トリフルオロメタンチオール鉄、ヘキサシアノ鉄等の鉄塩、１，４－ベンゾキノン、２，３－ジクロロ－５，６－ジシアノ－１，４－ベンゾキノン、テトラクロロ－１，２－ベンゾキノン、テトラクロロ－１，４－ベンゾキノン等のベンゾキノン類、Ｈ２Ｏ２、ＭｎＯ２、ＫＭｎＯ４、ＲｕＯ４、ｍ－クロロ過安息香酸、酸素等が挙げられる。なかでも、銅塩、鉄塩、ベンゾキノン類が好ましく、塩化銅、塩化鉄、１，４－ベンゾキノンがより好ましい。
上記酸化剤は、化合物（１００ｄ）１モルに対して、０．００１～１０モルの量で使用できる。
上記水は、化合物（１００ｄ）１モルに対して、０．５～１０００モルの量で使用できる。
上記パラジウム化合物としては、二塩化パラジウムが挙げられる。上記パラジウム化合物の量は、触媒量であってよく、化合物（１００ｄ）１モルに対して、０．０００１～１．０モルの量で使用できる。
工程（４０１ｄ）における酸化は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、エステル、脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、アルコール、カルボン酸類、エーテル、ハロゲン化炭化水素、含窒素極性有機化合物、ニトリル、ジメチルスルホキシド、スルホランが挙げられる。
上記エステルとしては、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ；別名１－メトキシ－２－アセトキシプロパン）等が挙げられ、なかでも、酢酸エチルが好ましい。
上記脂肪族炭化水素としては、ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン、ミネラルスピリット等が挙げられ、なかでも、シクロヘキサン、ヘプタンが好ましい。
上記芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、なかでも、ベンゼン、トルエンが好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記カルボン酸類としては、酢酸、プロピオン酸等が挙げられる。なかでも、酢酸が好ましい。
上記エーテルとしては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、なかでも、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランが好ましい。
上記ハロゲン化炭化水素としては、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、クロロベンゼン、ｏ－ジクロロベンゼン等が挙げられ、なかでも、ジクロロメタン、クロロホルムが好ましい。
上記含窒素極性有機化合物としては、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドン、２－ピロリドン、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等が挙げられ、なかでも、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、Ｎ－メチル－２－ピロリドンが好ましい。
上記ニトリルとしては、アセトニトリル、プロピオニトリル、ブチロニトリル、イソブチロニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられ、なかでも、アセトニトリルが好ましい。
工程（４０１ｄ）における酸化の温度としては、－７８～２００℃が好ましく、－２０～１５０℃がより好ましい。
工程（４０１ｄ）における酸化の圧力としては、０～１０ＭＰａが好ましく、０．１～５．０ＭＰａがより好ましい。
工程（４０１ｄ）における酸化の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、０．１～４８時間がより好ましい。
界面活性剤（ｄ）は、また、下記式：
Ｒ１１ｄ－ＣＨ＝ＣＨ－（ＣＲ２ｄ ２）ｎ－（ＯＲ３ｄ）ｐ－（ＣＲ４ｄ ２）ｑ－Ｌ－ＣＯＯＸｄ
（式中、Ｒ２ｄ～Ｒ４ｄ、Ｒ１１ｄ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｄは、上記のとおり。Ｌは、単結合、－ＣＯ２－Ｂ－＊、－ＯＣＯ－Ｂ－＊、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－＊、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－＊、又は、－ＣＯ－（但し、－ＣＯ２－Ｂ－、－ＯＣＯ－Ｂ－、－ＣＯＮＲ６ｄ－Ｂ－、－ＮＲ６ｄＣＯ－Ｂ－に含まれるカルボニル基を除く。）であり、Ｂは単結合もしくは置換基を有してもよい炭素数１～１０のアルキレン基であり、Ｒ６ｄは、Ｈ又は置換基を有していてもよい、炭素数１～４のアルキル基である。上記アルキレン基は、炭素数が１～５であることがより好ましい。また、上記Ｒ６ｄは、Ｈ又はメチル基であることがより好ましい。＊は、式中の－ＣＯＯＸｄに結合する側を指す。）で示される化合物（３０ｄ）を酸化して、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000137
 （Ｒ２ｄ～Ｒ４ｄ、Ｌ、Ｒ１１ｄ、ｎ、ｐ、ｑ及びＸｄは、上記のとおり。）で示される化合物（３１ｄ）を得る工程（３１ｄ）を含む製造方法により製造できる。
工程（３１ｄ）における酸化は、水及びパラジウム化合物の存在下で、化合物（３０ｄ）に酸化剤を作用させることにより実施でき、工程（４０１ｄ）における酸化と同様の条件が採用できる。
上述したいずれの製造方法においても、各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。また、得られる化合物が－ＳＯ３Ｈ、－ＣＯＯＨ等のＸｄがＨである化合物である場合は、炭酸ナトリウム、アンモニア等のアルカリと接触させることにより、これらの基を塩型に変換できる。
本開示の除去方法においては、上記炭化水素系界面活性剤を２種以上同時に用いてもよい。
上記炭化水素系界面活性剤としては、上記式（ａ）で表される界面活性剤（ａ）、上記式（ｂ）で示される界面活性剤（ｂ）、及び、上記式（ｃ）で示される界面活性剤（ｃ）、上記式（ｄ）で示される界面活性剤（ｄ）からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。
本開示の除去方法においては、スルホン酸型の界面活性剤由来の含硫黄の不純物が排水に含まれないため、炭化水素系界面活性剤がカルボン酸型炭化水素系界面活性剤であることが特に好適である。
上記カルボン酸型炭化水素系界面活性剤としては、カルボキシル基又はカルボキシル基の水素原子が上述した式（α）におけるＭ（金属原子、ＮＲ１１ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウム）等で置換された基を有するものが挙げられる。例えば、上述した炭化水素系界面活性剤の中から、カルボキシル基又はカルボキシル基の水素原子が上述した式（α）におけるＭ（Ｍは上記と同じ）に置換された基を有する炭化水素系界面活性剤を使用することができる。
上記カルボン酸型炭化水素系界面活性剤として好ましくは、上記化合物（α）、上記式（１）で示される界面活性剤（１）において式（１）のＡが－ＣＯＯＭである化合物、上記式（ｃ）で示される界面活性剤（ｃ）、及び、上記式（ｄ）で示される界面活性剤（ｄ）からなる群より選択される少なくとも１種が好ましい。カルボン酸型炭化水素系界面活性剤としては、特に、上記化合物（α）が好ましい。
以上、実施形態を説明したが、特許請求の範囲の趣旨および範囲から逸脱することなく、形態や詳細の多様な変更が可能なことが理解されるであろう。
つぎに本開示を実験例をあげて説明するが、本開示はかかる実験例のみに限定されるものではない。
実験例の各数値は以下の方法により測定した。
平均一次粒子径（ｎｍ）
ＰＴＦＥ水性分散液を水で固形分含有量が０．１５質量％になるまで希釈し、得られた希釈ラテックスの単位長さに対する５５０ｎｍの投射光の透過率と、透過型電子顕微鏡写真により定方向径を測定して決定した数基準長さ平均一次粒子径とを測定して、検量線を作成する。この検量線を用いて、各試料の５５０ｎｍの投射光の実測透過率からＰＴＦＥ水性分散液中のＰＴＦＥ粒子の平均一次粒子径を決定した。
ＰＴＦＥ固形分含有量（質量％）
ＰＴＦＥ水性分散液１ｇを、送風乾燥機中で１５０℃、６０分の条件で乾燥し、水性分散液の質量（１ｇ）に対する、加熱残分の質量の割合を百分率で表した値を採用した。
標準比重（ＳＳＧ）
ＡＳＴＭ　Ｄ４８９５－８９に準拠して成形されたサンプルを用い、ＡＳＴＭ　Ｄ　７９２に準拠した水置換法により測定した。
一般式（１）又は（２）で示される化合物の含有量
液体クロマトグラフィー質量分析法を用いて下記条件で測定した。
〔一般式（１）で示される化合物の含有量測定方法〕
水性分散液からの抽出
水性分散液の固形分含有量を測定し、ＰＴＦＥ固形分０．５ｇに相当する量の水性分散液を１００ｍＬスクリュー管に秤量した。その後、水性分散液中に含まれている水と合わせ、抽出溶媒が４０ｇ（４３．１４ｍＬ）の水／メタノール＝５０／５０ｖｏｌ％となるように水とメタノールを加えた。その後、凝析するまでよく振とうした。固形分を取り除き、液相を４０００ｒｐｍで１時間遠心分離を行い、一般式（１）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。
粉末からの抽出
粉末１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（１）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。
抽出液に含まれる一般式（１）で示される化合物の含有量測定
抽出液に含まれる一般式（１）で示される化合物の含有量はパーフルオロオクタン酸に換算することにより求めた。
パーフルオロオクタン酸の検量線
１ｎｇ／ｍＬ～１００ｎｇ／ｍＬの濃度既知のパーフルオロオクタン酸のメタノール標準溶液を５水準調製し、液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，　ＬＣ－ＭＳ　ＡＣＱＵＩＴＹ　ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用いて測定を行った。それぞれのサンプル濃度とピークの積分値から一次近似を用い、下記関係式（１）によりａ、ｂを求めた。
Ａ＝ａ×Ｘ＋ｂ　　（１）
Ａ：パーフルオロオクタン酸のピーク面積
Ｘ：パーフルオロオクタン酸の濃度（ｎｇ／ｍＬ）
測定機器構成とＬＣ－ＭＳ測定条件
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000138
ＭＲＭ測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000139
抽出液に含まれる炭素数が４以上、２０以下の一般式（１）で示される化合物の含有量
液体クロマトグラフ質量分析計を用い、炭素数が４以上、２０以下の一般式（１）で示される化合物を測定した。抽出した液相について、ＭＲＭ法を用いて各炭素数の一般式（１）で示される化合物のピーク面積を求めた。
ＭＲＭ測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000140
抽出液中の炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量は下記式（３）を用いて算出した。式（３）のａ、ｂは式（１）より求めた。
ＸＣｍ＝（（ＡＣｍ－ｂ）／ａ）×（（５０×ｍ＋４５）／４１３）　　（３）
ＸＣｍ：抽出溶液中の炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量（ｎｇ／ｍＬ）
ＡＣｍ：抽出溶液中の炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物のピーク面積
この測定における定量限界は１ｎｇ／ｍＬである。
水性分散液中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量
水性分散液中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量は下記式（５）により求めた。
ＺＣｍ＝ＸＣｍ×８６．３　　（５）
ＺＣｍ：水性分散液中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）
粉末中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量
粉末中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量は下記式（４）により求めた。
ＹＣｍ＝ＸＣｍ×１２．６　　（４）
ＹＣｍ：粉末中に含まれる炭素数（ｍ＋１）の一般式（１）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）
〔一般式（２）で示される化合物の含有量測定方法〕
水性分散液からの抽出
水性分散液の固形分含有量を測定し、ＰＴＦＥ固形分０．５ｇに相当する量の水性分散液を１００ｍＬスクリュー管に秤量した。その後、水性分散液中に含まれている水と合わせ、抽出溶媒が４０ｇ（４３．１４ｍＬ）の水／メタノール＝５０／５０ｖｏｌ％となるように水とメタノールを加えた。その後、凝析するまでよく振とうした。固形分を取り除き、液相を４０００ｒｐｍで１時間遠心分離を行い、一般式（２）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。
粉末からの抽出
粉末１ｇにメタノール１０ｇ（１２．６ｍＬ）を加え、６０分間の超音波処理を行い、一般式（２）で示される化合物を含む上澄み液を抽出した。
抽出液に含まれる一般式（２）で示される化合物の含有量測定
抽出液に含まれる一般式（２）で示される化合物の含有量はパーフルオロオクタンスルホン酸に換算することにより求めた。
パーフルオロオクタンスルホン酸の検量線
１ｎｇ／ｍＬ～１００ｎｇ／ｍＬの濃度既知のパーフルオロオクタンスルホン酸のメタノール標準溶液を５水準調製し、液体クロマトグラフ質量分析計（Ｗａｔｅｒｓ，　ＬＣ－ＭＳ　ＡＣＱＵＩＴＹ　ＵＰＬＣ／ＴＱＤ）を用いて測定を行った。それぞれのサンプル濃度とピークの積分値から一次近似を用い、下記関係式（１）によりａ、ｂを求めた。
Ａ＝ａ×Ｘ＋ｂ　　（１）
Ａ：パーフルオロオクタンスルホン酸のピーク面積
Ｘ：パーフルオロオクタンスルホン酸の濃度（ｎｇ／ｍＬ）
測定機器構成とＬＣ－ＭＳ測定条件
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000141
ＭＲＭ測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000142
抽出液に含まれる炭素数が４以上、２０以下の一般式（２）で示される化合物の含有量
液体クロマトグラフ質量分析計を用い、炭素数が４以上、２０以下の一般式（２）で示される化合物を測定した。抽出した液相について、ＭＲＭ法を用いて各炭素数の一般式（２）で示される化合物のピーク面積を求めた。
ＭＲＭ測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000143
抽出液中の炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量は下記式（３）を用いて算出した。式（３）のａ、ｂは式（１）より求めた。
ＸＳｎ＝（（ＡＳｎ－ｂ）／ａ）×（（５０×ｎ＋８１）／４９９）　　（３）
ＸＳｎ：抽出溶液中の炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量（ｎｇ／ｍＬ）ＡＳｎ：抽出溶液中の炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物のピーク面積
この測定における定量限界は１ｎｇ／ｍＬである。
水性分散液中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量
水性分散液中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量は下記式（５）により求めた。
ＺＳｎ＝ＸＳｎ×８６．３　　（５）
ＺＳｎ：水性分散液中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）
粉末中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量
粉末中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量は下記式（４）により求めた。
ＹＳｎ＝ＸＳｎ×１２．６　　（４）
ＹＳｎ：粉末中に含まれる炭素数ｎの一般式（２）で示される化合物の含有量（ｐｐｂ対ＰＴＦＥ）
合成例１
１０－オキソウンデカン酸（１．８ｇ）を１．０ＭＫＯＨ水に加えて、水を留去して、１０－オキソウンデカン酸カリウム（２．２ｇ）を得た。
得られた１０－オキソウンデカン酸カリウム（以下、界面活性剤Ｂという）のスペクトルデータを以下に示す。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δｐｐｍ：１．０４（ｍ，８Ｈ）、１．３０－１．３２（ｍ，４Ｈ）、１．８９－２．０１（ｍ，５Ｈ）、２．２７－２．３３（ｔ，Ｊ＝７．６，４Ｈ）
合成例２
内容積１Ｌのガラス製のオートクレーブに５５０ｇの脱イオン脱気水、３０ｇのパラフィンワックス、０．０１４５ｇの界面活性剤Ｂを加えた。反応器を密閉し、系内を窒素で置換を行ない、酸素を取り除いた。反応器を７０℃に昇温し、ＴＦＥを反応器に充填して、反応器を０．７８ＭＰａにした。重合開始剤として過硫酸アンモニウム（ＡＰＳ）０．１１０ｇを仕込んだ。反応圧力が０．７８ＭＰａ一定となるように、ＴＦＥを仕込んだ。ＴＦＥを５０ｇ仕込んだ時に、撹拌を停止し、反応器が大気圧になるまで脱圧を行なった。水性分散液を反応器より取り出し、冷却後、パラフィンワックスを分離し、ＰＴＦＥ水性分散液Ｂを得た。得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｂに含まれる粒子の平均一次粒子径は、２１６ｎｍであった。また、得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｂの固形分含有量は、８．２質量％であった。
得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｂの一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量を測定した。結果を下記表７に示す。
調製例１
合成例２で得られたＰＴＦＥ水性分散液Ｂに脱イオン水を加え、比重（２５℃）を１．０８０に調整した。アンカー型撹拌翼と邪魔板を備えた内容量が６Ｌのガラス製凝析槽に、比重調整したＰＴＦＥ水性分散液Ｂ２．５Ｌを加え、内温が３４℃になるように温度調節した。調節後直ちに硝酸（１０％）１６ｇを添加すると同時に撹拌速度５００ｒｐｍで撹拌を開始した。撹拌開始後、水性分散液がスラリー状態を経て、湿潤ＰＴＦＥ粉末が形成されたことを確認し、更に１分間撹拌を継続した。
続いて、湿潤ＰＴＦＥ粉末を濾別し、湿潤ＰＴＦＥ粉末と脱イオン水２．５Ｌを凝析槽内に仕込み、２５℃に調整して、撹拌速度５００ｒｐｍでポリマー粉末を洗浄する操作を２回繰り返した。洗浄の後、湿潤ＰＴＦＥ粉末を濾別し、１５０℃の熱風循環式乾燥機内に１８時間静置して乾燥させ、ＰＴＦＥ粉末を得た。
得られたＰＴＦＥ粉末のＳＳＧは、２．２６１であった。このことより、得られたＰＴＦＥは、高分子量ＰＴＦＥであることが分かった。
得られたＰＴＦＥ粉末の一般式（１）及び（２）で示される化合物の含有量を測定した。結果を下記表７に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000144
 ｎが５、７、９、１１、１３、１５、１７及び１９、ｍが４、６、８、１０、１２、１４、１６及び１８のピークについては定量限界以下であった。
定量限界は、水性分散液の場合が８６ｐｐｂであり、粉末の場合が１３ｐｐｂである。
本開示において、表中の「Ｅ」とは指数を表す。たとえば、「８．３Ｅ＋０４」は、８．３×１０４を表す。
表１で示されるように、炭化水素系界面活性剤を用いた重合により含フッ素ポリマーを得た場合、一般式（１）で示される含フッ素化合物が含フッ素ポリマーの水性分散液中に存在することがわかる。水性分散液から含フッ素ポリマーを回収すれば、一般式（１）で示される含フッ素化合物を含有する排水が生じる。このような含フッ素ポリマー製造工程で生じる排水と吸着剤とを接触させることで排水中の一般式（１）で示される含フッ素化合物を排水中から除去することができる。
以下では、モデル水溶液（一般式（１）で示される含フッ素化合物を含む水溶液）を用いた実験例を用いて、本開示の除去方法について説明する。
吸着処理によるＨ－（ＣＦ２）６－ＣＯＯＨ、及びＨ－（ＣＦ２）８－ＣＯＯＨの除去率は液体クロマトグラフィー質量分析法を用いて下記条件で測定した。
測定機器構成とＬＣ－ＭＳ測定条件
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000145
ＭＲＭ測定パラメータ
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000146
Ｈ－（ＣＦ２）６－ＣＯＯＨの除去率ＸＣ７％は式（６）より求めた。
ＸＣ７＝（１－（ＡＣ７／ＢＣ７））×１００）　式（６）
ＡＣ７：吸着処理後サンプルに含まれるＨ－（ＣＦ２）６－ＣＯＯＨのピーク面積
ＢＣ７：吸着処理前サンプルに含まれるＨ－（ＣＦ２）６－ＣＯＯＨのピーク面積
Ｈ－（ＣＦ２）８－ＣＯＯＨの除去率ＸＣ９％は式（７）より求めた。
ＸＣ９＝（１－（ＡＣ９／ＢＣ９））×１００）　式（７）
ＡＣ９：吸着処理後サンプルに含まれるＨ－（ＣＦ２）８－ＣＯＯＨのピーク面積
ＢＣ９：吸着処理前サンプルに含まれるＨ－（ＣＦ２）８－ＣＯＯＨのピーク面積
検出限界は、ピーク面積で５以下とする。
以下の実験例における一般式（１）で示される含フッ素化合物の濃度は下記の通りとした。実験例中、「％」、「ｐｐｍ」および「ｐｐｂ」は、ことわりのない限り、重量基準による。
実験例Ａ
Ｈ（ＣＦ２）６ＣＯＯＨを５ｐｐｍ及びＨ（ＣＦ２）８ＣＯＯＨを５ｐｐｍ含む水溶液（水溶液Ａ）５ｇを水４５ｇで希釈した後、Ｈ（ＣＦ２）６ＣＯＯＨ及びＨ（ＣＦ２）８ＣＯＯＨ（一般式（１）で示される含フッ素化合物）の分析を行った。分析の結果を、表１０の吸着処理前の欄に示す。
実験例１
モデル水溶液として、Ｈ（ＣＦ２）６ＣＯＯＨを５ｐｐｍ及びＨ（ＣＦ２）８ＣＯＯＨを５ｐｐｍ含む水溶液（水溶液Ａ）５０ｇに、吸着剤として陰イオン交換樹脂アンバージェットＩＲＡ４００２ＯＨ（商品名、オルガノ社製）を１．５ｇ加え、シェイキングバスＳＢ－２０（アズワン製）を用いて１８０ｒｐｍ（毎分回転数）で３時間撹拌した。撹拌停止後、０．５時間静置して上澄み液を５g採取し、水４５ｇで希釈した後、Ｈ（ＣＦ２）６ＣＯＯＨ及びＨ（ＣＦ２）８ＣＯＯＨ（一般式（１）で示される含フッ素化合物）の分析を行った。結果を表１０に示す。
実験例２
吸着剤の仕込み量を６．５ｇに変えた以外は、実験例１と同様の操作を行った。
結果を表１０に示す。
実験例３
吸着剤の仕込み量を１３．０ｇに変えた以外は、実験例１と同様の操作を行った。
結果を表１０に示す。
実験例４
吸着剤を陰イオン交換樹脂ピュロライトＡ３００（ピュロライト社製）に変えた以外は、実験例１と同様の操作を行った。結果を表１０に示す。
実験例５
吸着剤の仕込み量を６．５ｇに変えた以外は、実験例４と同様の操作を行った。
結果を表１０に示す。
実験例６
吸着剤の仕込み量を１３．０ｇに変えた以外は、実験例４と同様の操作を行った。結果を表１０に示す。
実験例７
吸着剤を陰イオン交換樹脂ピュロライトＰＦＡ６９４Ｅ（ピュロライト社製）に変えた以外は、実験例１と同様の操作を行った。結果を表１０に示す。
実験例８
吸着剤の仕込み量を６．５ｇに変えた以外は、実験例７と同様の操作を行った。
結果を表１０に示す。
実験例９
吸着剤の仕込み量を１３．０ｇに変えた以外は、実験例７と同様の操作を行った。結果を表１０に示す。
実験例１０
吸着剤を合成吸着剤アンバーライトＸＡＤ１１８０Ｎ（オルガノ社製、細孔径５０６Å　、比表面積　６２３ｍ２／ｇ）に変えた以外は、実験例１と同様の操作を行った。結果を表１０に示す。
実験例１１
吸着剤の仕込み量を６．５ｇに変えた以外は、実験例１０と同様の操作を行った。
結果を表１０に示す。
実験例１２
吸着剤の仕込み量を１３．０ｇに変えた以外は、実験例１０と同様の操作を行った。結果を表１０に示す。
実験例１３
吸着剤を合成吸着剤アンバーライトＦＰＸ６６（オルガノ社製、細孔径２４３Å、比表面積９１４ｍ２／ｇ）に変えた以外は、実験例１と同様の操作を行った。結果を表１０に示す。
実験例１４
吸着剤の仕込み量を６．５ｇに変えた以外は、実験例１３と同様の操作を行った。
結果を表１０に示す。
実験例１５
吸着剤の仕込み量を１３．０ｇに変えた以外は、実験例１３と同様の操作を行った。結果を表１０に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000147
実験例１６
モデル水溶液として、Ｈ（ＣＦ２）６ＣＯＯＨを５ｐｐｍ及びＨ（ＣＦ２）８ＣＯＯＨを５ｐｐｍ含む水溶液５ｇを水４５ｇで希釈した５０ｇの水溶液（水溶液Ｂ）を作製した。水溶液Ｂに過硫酸アンモニウムを２５００ｐｐｍ含む水溶液１ｇを混合し、８０℃の恒温槽で７時間加熱処理した後、室温まで冷却し、Ｈ（ＣＦ２）６ＣＯＯＨ及びＨ（ＣＦ２）８ＣＯＯＨの濃度分析を行った。結果を表１１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000148
表１１に示す結果から、モデル水溶液に対して、過硫酸イオンによる処理を行うことにより、モデル水溶液に含まれていた含フッ素化合物が、炭素数が減少した含フッ素化合物などに変化したものと推測される。

Claims (11)

  1. 下記一般式（１）又は（２）で示される含フッ素化合物を２種以上含む排水と吸着剤とを接触させることにより、該吸着剤に前記含フッ素化合物の２種以上を吸着させる吸着工程を含む、ことを特徴とする、排水から含フッ素化合物を除去する方法。
    一般式（１）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｍ－ＣＯＯ）ｐＭ１
    （式中、ｍは３～１９、Ｍ１は、Ｈ、金属原子、ＮＲｂ ４（Ｒｂは、同一でも異なっていてもよく、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｐは１又は２である。）
    一般式（２）：（Ｈ－（ＣＦ２）ｎ－ＳＯ３）ｑＭ２
    （式中、ｎは４～２０である。Ｍ２はＨ、金属原子、ＮＲｂ ４（Ｒｂは前記と同じ）、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム、又は、置換基を有していてもよいホスホニウムである。ｑは１又は２である。）
  2. 前記排水は、炭化水素系界面活性剤を用いた含フッ素ポリマー製造工程で得られた排水を含む請求項１記載の排水から含フッ素化合物を除去する方法。
  3. 前記排水は、更に、炭化水素系界面活性剤を含む請求項１又は２記載の排水から含フッ素化合物を除去する方法。
  4. 前記炭化水素系界面活性剤は、カルボン酸型炭化水素系界面活性剤である請求項２又は３記載の排水から含フッ素化合物を除去する方法。
  5. 前記吸着剤は、イオン交換樹脂、活性炭、合成吸着剤、シリカゲル、クレイ、及び、ゼオライトからなる群より選択される少なくとも１種である請求項１～４のいずれかに記載の排水から含フッ素化合物を除去する方法。
  6. 前記吸着剤は、イオン交換樹脂又は合成吸着剤であって、細孔径が１～５０００Åである請求項１～５のいずれかに記載の排水から含フッ素化合物を除去する方法。
  7. 前記吸着剤は、活性炭であって、比表面積が５００ｍ２／ｇ以上である請求項１～５のいずれかに記載の排水から含フッ素化合物を除去する方法。
  8. 前記吸着工程における温度は、０～５０℃である請求項１～７のいずれかに記載の排水から含フッ素化合物を除去する方法。
  9. 前記吸着工程における、前記含フッ素化合物の除去率が４０％以上である請求項１～８のいずれかに記載の排水から含フッ素化合物を除去する方法。
  10. 更に、前記吸着工程の前に、排水から固体成分を除去する前処理工程を含む請求項１～９のいずれかに記載の排水から含フッ素化合物を除去する方法。
  11. 前記含フッ素化合物は、少なくとも、前記一般式（１）におけるｍが７以上である含フッ素化合物又は一般式（２）におけるｎが８以上である含フッ素化合物を含む請求項１～１０のいずれかに記載の排水から含フッ素化合物を除去する方法。
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