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WO2018230516A1 - ピリドン化合物およびそれを有効成分とする農園芸用殺菌剤 - Google Patents

ピリドン化合物およびそれを有効成分とする農園芸用殺菌剤 Download PDF

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Publication number
WO2018230516A1
WO2018230516A1 PCT/JP2018/022279 JP2018022279W WO2018230516A1 WO 2018230516 A1 WO2018230516 A1 WO 2018230516A1 JP 2018022279 W JP2018022279 W JP 2018022279W WO 2018230516 A1 WO2018230516 A1 WO 2018230516A1
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WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
optionally substituted
substituent
substituents
defined above
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2018/022279
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English (en)
French (fr)
Inventor
豪毅 梅谷
駿 岡谷
光児 益富
健志 福元
暉 小石原
友美 白川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Agro Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Agro Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Agro Inc filed Critical Mitsui Chemicals Agro Inc
Priority to JP2019525423A priority Critical patent/JP7118961B2/ja
Publication of WO2018230516A1 publication Critical patent/WO2018230516A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/34—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • A01N43/40—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with one nitrogen atom as the only ring hetero atom six-membered rings
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
    • A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
    • A01N43/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds
    • A01N43/72—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with nitrogen atoms and oxygen or sulfur atoms as ring hetero atoms
    • A01N43/80—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing heterocyclic compounds having rings with nitrogen atoms and oxygen or sulfur atoms as ring hetero atoms five-membered rings with one nitrogen atom and either one oxygen atom or one sulfur atom in positions 1,2
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D213/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D213/04—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D213/60—Heterocyclic compounds containing six-membered rings, not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom and three or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D213/62—Oxygen or sulfur atoms
    • C07D213/63—One oxygen atom
    • C07D213/64—One oxygen atom attached in position 2 or 6
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D413/00—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms
    • C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/04—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings directly linked by a ring-member-to-ring-member bond

Definitions

  • the present invention relates to a pyridone compound and an agrochemical containing the compound as an active ingredient.
  • Controlling diseases of agricultural and horticultural crops plays an important role in ensuring stable agricultural production. For this reason, various bactericides are used, but the use of bactericides for many years has led to the emergence of drug-resistant bacteria. Has been.
  • 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compounds having an aryl group or a heteroaryl group at the 3-position are disclosed as GABA alpha-2 / 3 ligands (for example, WO 98/55480). reference).
  • GABA alpha-2 / 3 ligands for example, WO 98/55480. reference.
  • 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compounds having a carboxyl group at the 3-position have been disclosed (see, for example, European Patent No. 0308020).
  • 1,3,5,6-substituted-2-pyridone compounds in which 4,4-dimethylpentanoic acid is introduced at the 1-position are disclosed as anti-HIV agents (for example, International Publication No. 2016/012913). reference).
  • An object of the present invention is to provide a novel pyridone compound that is effective as an agricultural and horticultural fungicide.
  • R1 is Hydroxyl group, A cyano group, A C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent A, A C1-C6 haloalkyl group, A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with the substituent A, A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with the substituent A, A C2-C6 haloalkenyl group, A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent A, A C2-C6 haloalkynyl group, A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with the substituent A, A C1-C6 haloalkoxy group, A C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with the substituent A, A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with the substituent A, A C2-C6 haloalkenyloxy group, A C3-C
  • R2 is Hydrogen atom, A cyano group, Nitro group, Halogen atoms, A C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent A, A C1-C6 haloalkyl group, A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with the substituent A, A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with the substituent A, A C2-C6 haloalkenyl group, A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent A, A C2-C6 haloalkynyl group, A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with the substituent A, A C1-C6 haloalkoxy group, A C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with the substituent A, A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with the substituent A, A C2-C6 haloalkenyloxy group, A C3-C6 alkyny
  • R4 is Hydrogen atom, A C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent C, A C1-C6 haloalkyl group, A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent C, A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, A C2-C6 haloalkenyl group, A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, A C2-C6 haloalkynyl group, A phenyl group which may be optionally substituted with 0-5 substituents D (however, in the case of two or more substituents D, each is independent); A C1-C6 alkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (in the case of two or more substituents D, each is independent), A C1-C6 haloalkyl group having a phenyl group which may be optionally
  • the substituent A includes a hydroxyl group, a cyano group, a C3 to C8 cycloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, a C1 to C6 haloalkoxy group, a C3 to C8 cycloalkoxy group, RaRbN— (where Ra And Rb are as defined above) and Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above) and are at least one selected from the group consisting of:
  • Substituent B is at least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, and a C3-C8 cycloalkoxy group;
  • Substituent C is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 halo
  • Substituent D is a hydroxyl group, cyano group, nitro group, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 optionally substituted with substituent B, C1- At least one selected from the group consisting of a C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, and a C3-C8 cycloalkoxy group;
  • Substituent E is a hydroxyl group, cyano group, halogen atom, C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 optionally substituted with substituent C.
  • R1 is A C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent A, A C1-C6 haloalkyl group, A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with the substituent A, A C2-C6 haloalkenyl group, A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent A, Or represents a C2-C6 haloalkynyl group;
  • R2 is Hydrogen atom, Halogen atoms, A C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent A, A C1-C6 haloalkyl group, A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with the substituent A, A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent A, A C1-C6 alkoxy group optionally substituted with the substituent A, A C1-C6 haloalkoxy group, Rc-L-(wherein, Rc represents a halo
  • Each of which may represent a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the nitrogen atom to which they are bonded, is an aziridinyl group, an azetidinyl group Represents a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group).
  • Y is A phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 by R3 (however, in the case of R3 having 2 or more substitutions, each is independent); Or a pyridyl group optionally substituted with 0 to 4 by R3 (provided that each of R3 having 2 or more substituents is independent); R3 is Hydroxyl group, A cyano group, Halogen atoms, A C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent C, A C1-C6 alkoxy group that may be optionally substituted with a substituent C; A C1-C6 haloalkoxy group, A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with the substituent C, A C2-C6 haloalkenyloxy group, A C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent C, A C3-C6 haloalkynyloxy group, Or RdC ( ⁇ O) O— (wherein Rd is as
  • R1 is A C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent A, Or represents a C1-C6 haloalkyl group
  • R2 is Halogen atoms, A C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent A, A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent A, Or a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with the substituent A
  • Y is R3 represents a phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 (provided that each of R3 having two or more substituents is independent);
  • R3 is A cyano group, Halogen atoms, Or a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C;
  • R4 is Hydrogen atom, A C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent C, A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent C, A phenyl group which
  • R5 is Hydrogen atom, A C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent C, Or RdC ( ⁇ O) — (where Rd is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, C1 -C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently substituted with a hydrogen atom or a substituent B as appropriate).
  • Each of which may represent a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the nitrogen atom to which they are bonded, is an aziridinyl group, an azetidinyl group Represents a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group).
  • R4 and R5 together with the oxime structure to which they are attached (C ⁇ N—O)
  • An isoxazole ring optionally substituted with 0 to 2 substituents E (however, in the case of 2 substituted substituents E, each is independent)
  • An isoxazoline ring optionally substituted with 0 to 4 substituents F (provided that each of substituents F having two or more substituents is independent)
  • Or [2] which represents a benzisoxazole ring which may be optionally substituted with 0 to 4 substituents D (however, in the case of two or more substituents D, each is independent).
  • Or a salt thereof (C ⁇ N—O)
  • R4 is Hydrogen atom, A C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent C, A C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent C, A phenyl group which may be optionally substituted with 0-5 substituents D (however, in the case of two or more substituents D, each is independent); Or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 A cycloalkyl group or Ra and Rb together with the nitrogen atom to which they are attached represent an aziridinyl group, an azetidinyl group, a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group.
  • R5 is Hydrogen atom, A C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent C, Or RdC ( ⁇ O) — (where Rd is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, C1 -C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are each independently substituted with a hydrogen atom or a substituent B as appropriate).
  • Each of which may represent a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the nitrogen atom to which they are bonded, is an aziridinyl group, an azetidinyl group Represents a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group).
  • R4 and R5 together with the oxime structure to which they are attached (C ⁇ N—O)
  • [5] The compound or a salt thereof according to any one of [1] to [4], wherein R1 is a methyl group, an ethyl group, or a 2,2-difluoroethyl group.
  • Y represents a phenyl group, a 4-cyanophenyl group, a 4-fluorophenyl group, a 2,6-difluorophenyl group, a 2,4,6-trifluorophenyl group, a 2,6-difluoro-4-methoxyphenyl group, 3
  • R4 is a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, t-butyl group, cyclopentyl group, phenyl group, amino group, or methylamino group, [1] to [ 9] or a salt thereof.
  • R5 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, or an acetyl group.
  • R5ON C (R4)-is (hydroxyimino) methyl group, 1- (hydroxyimino) propyl group, 1- (hydroxyimino) -2-methylpropyl group, 1- (hydroxyimino) -2,2 -Dimethylpropyl group, 1- (hydroxyimino) -3-methylbutyl group, (methoxyimino) methyl group, 1- (methoxyimino) ethyl group, 1- (methoxyimino) propyl group, 1- (methoxyimino) -2 -Methylpropyl group, 1- (methoxyimino) -2,2-dimethylpropyl group, 1- (methoxyimino) butyl group, 1- (methoxyimino) -3-methylbutyl group, 1- (methoxyimino) pentyl group, (Methoxyimino) (phenyl) methyl group, 1- (ethoxyimino) propyl group, 1-
  • RgON C (Rh)-(where Rg and Rh are as defined above) and RiRjRkSi- (where Ri, Rj and Rk are as defined above).
  • Substituent E is chlorine, bromine, iodine, methyl, ethyl, isopropyl, hydroxymethyl, 1-hydroxyethyl, trifluoroacetoxymethyl, bromomethyl, difluoromethyl, vinyl, ethynyl
  • R4 and R5 together with the oxime structure to which they are attached (C ⁇ N—O), may be optionally substituted with 0 to 2 substituents E isoxazole rings (in the case of a disubstituted substituent E, Which form an independent group) isoxazol-3-yl group, 4-chloroisoxazol-3-yl group, 4-bromoisoxazol-3-yl group, 4-iodoisoxazole- 3-yl group, 4-methylisoxazol-3-yl group, 5-methylisoxazol-3-yl group, 5- (hydroxymethyl) isoxazol-3-yl group, 5-ethylisoxazole-3 -Yl group, 5- (1-hydroxyethyl) isoxazol-3-yl group, 5-isopropylisoxazol-3-yl group, 5-aminoisoxazol-3-yl group, 5- (trimethylsilyl) iso Sazol-3-yl group,
  • the substituent F is at least one selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group that may be optionally substituted with the substituent C, and a C1-C6 alkoxy group that may be optionally substituted with the substituent C. , [1] to [3], or a compound or a salt thereof according to any one of [5] to [9].
  • the substituent F is at least one selected from the group consisting of a bromine atom, a methyl group, an ethyl group, and an ethoxy group, and any one of [1] to [3] and [5] to [9] Or a salt thereof.
  • R4 and R5 are combined with an oxime structure (C ⁇ N—O), and isoxazoline ring which may be optionally substituted with 0 to 4 substituents F (provided that the substituent F has 2 or more substituents, Are independently formed from 4-bromo-5,5-dimethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl group, 5-ethyl-4,5-dihydroisoxazole- A 3-yl group, a 5,5-dimethyl-4,5-dihydroisoxazol-3-yl group, or a 5-ethoxy-4,5-dihydroisoxazol-3-yl group, [1] to [3] The compound or a salt thereof according to any one of [5] to [9].
  • a benzisoxazole ring in which R4 and R5 together with the oxime structure (C ⁇ N—O) to which R4 and R5 are bonded may be optionally substituted with 0 to 4 substituents D (provided that the substituents D have two or more substituents) Each of which is independent of each other) is a benzo [d] isoxazol-3-yl group, any one of [1] to [3] and [5] to [9] Or a salt thereof.
  • An agricultural and horticultural pest control agent comprising the compound according to any one of [1] to [19] or a salt thereof as an active ingredient.
  • [21] An agricultural and horticultural fungicide containing the compound according to any one of [1] to [19] or a salt thereof as an active ingredient.
  • a method for controlling plant diseases which comprises applying the agricultural and horticultural pest control agent according to [20] to plants, plant seeds, or soil in which plants are grown.
  • a method for controlling plant diseases which comprises applying the agricultural and horticultural fungicide according to [21] to a plant, plant seed, or soil in which the plant is cultivated.
  • a novel compound that is effective as an agricultural and horticultural fungicide can be provided.
  • Cx-Cy has x to y carbon atoms.
  • x and y represent integers, and it is understood that all integers existing between x and y are also individually disclosed.
  • C1-C6 is 1, 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms
  • C1-C5 is 1, 2, 3, 4, or 5 carbon atoms
  • C2-C6 is 2, 3, 4, 5, or 6 carbon atoms
  • C3-C8 is 3, 4, 5, 6, 7, or 8 carbon atoms
  • C3-C6 is 3, 4, 5 Or 6 carbon atoms each.
  • optionally substituted means substituted or unsubstituted.
  • the number of substituents is 1 when the number of substituents is not specified.
  • the number of substituents is designated as “optionally substituted with 0 to 6”, it is understood that all integers existing between 0 and 6 are also individually disclosed. Is done. That is, the number of substituents means none, 1, 2, 3, 4, 5, or 6 substituents.
  • the number of substituents is none, 1, 2, 3, 4, or 5 as “optionally substituted with 0 to 4 as appropriate”.
  • No, 1, 2, 3, or 4 substituents, and “optionally substituted by 0 to 3” means “no, 1, 2, or 3 substituents” “0 to 2 may be substituted” means having none, 1 or 2 substituents, respectively.
  • the C1-C6 alkyl group may be linear or branched, and is methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, t-butyl, pentyl, isopentyl.
  • halogen atom examples include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • the C1-C6 haloalkyl group represents a group in which the hydrogen in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted with one or more halogen atoms.
  • the halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as it can be present as a substituent.
  • C1-C6 haloalkyl group examples include a monofluoromethyl group, a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a monochloromethyl group, a monobromomethyl group, a monoiodomethyl group, a chlorodifluoromethyl group, a bromodifluoromethyl group, 1 -Fluoroethyl group, 2-fluoroethyl group, 1,1-difluoroethyl group, 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2-trifluoroethyl group, 1,1,2,2-tetrafluoroethyl group , Pentafluoroethyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, 3,3-difluoropropyl group, 3,3,3-trifluoropropyl group, heptafluoropropyl group, heptafluoroisopropyl group, 2,2,2
  • Examples of the C3-C8 cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a cycloheptyl group, and a cyclooctyl group.
  • the C2-C6 alkenyl group represents an unsaturated hydrocarbon group having one or more double bonds and being linear or branched.
  • the C2-C6 alkenyl group includes vinyl group, 1-propenyl group, allyl group, 1-butenyl group, 2-butenyl group, 3-butenyl group, 2-methyl-1-propenyl group, and 1-pentenyl group.
  • the C2-C6 haloalkenyl group represents a group in which the hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally substituted with one or more halogen atoms.
  • the halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as it can be present as a substituent.
  • C2-C6 haloalkenyl group examples include 2-fluorovinyl group, 2,2-difluorovinyl group, 2,2-dichlorovinyl group, 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group, 3, Examples include 3-dichloroallyl group, 4,4-difluoro-3-butenyl group, 5,5-difluoro-4-pentenyl group, 6,6-difluoro-5-hexenyl group and the like.
  • the C2-C6 alkynyl group represents an unsaturated hydrocarbon group having one or more triple bonds and being linear or branched. Specific examples of the C2-C6 alkynyl group include ethynyl group, 1-propynyl group, propargyl group, 1-butynyl group, 2-butynyl group, 3-butynyl group, 1-pentynyl group, 2-pentynyl group, and 3-pentynyl.
  • the C2-C6 haloalkynyl group represents a group in which the hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally substituted with one or more halogen atoms.
  • the halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as it can be present as a substituent.
  • C2-C6 haloalkynyl group examples include 2-fluoroethynyl group, 2-chloroethynyl group, 2-bromoethynyl group, 2-iodoethynyl group, 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3-chloro -3,3-difluoro-1-propynyl group, 3-bromo-3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl Group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4-chloro-4,4-difluoro-1-butynyl group, 4-chloro-4,4-difluoro-2-butynyl group, 4-bromo-4,4 -Difluoro-1-butynyl group, 4-bromo-4,4-Di
  • the C1-C6 alkoxy group represents a group in which the C1-C6 alkyl group is bonded via an oxygen atom.
  • Specific examples of the C1-C6 alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, a sec-butoxy group, a t-butoxy group, a pentyloxy group, and an isopentyloxy group.
  • the C1-C6 haloalkoxy group represents a group in which the hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally substituted with one or more halogen atoms.
  • the halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as it can be present as a substituent.
  • C1-C6 haloalkoxy group examples include difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, chlorodifluoromethoxy group, bromodifluoromethoxy group, 2-fluoroethoxy group, 2,2-difluoroethoxy group, 2,2,2 -Trifluoroethoxy group, 1,1,2,2-tetrafluoroethoxy group, pentafluoroethoxy group, 2,2,2-trichloroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group, 3,3,3-tri Fluoropropyloxy group, heptafluoropropyloxy group, heptafluoroisopropyloxy group, 2,2,2-trifluoro-1- (trifluoromethyl) -ethoxy group, nonafluorobutoxy group, nonafluoro-sec-butoxy group, 3 , 3,4,4,5,5,5-heptafluoropentyloxy group Undecafluoro pent
  • the C3-C8 cycloalkoxy group represents a group in which the C3-C8 cycloalkyl group is bonded via an oxygen atom.
  • Specific examples of the C3-C8 cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group, a cyclohexyloxy group, a cycloheptyloxy group, and a cyclooctyloxy group.
  • the C2-C6 alkenyloxy group is a group in which the C2-C6 alkenyl group is bonded through an oxygen atom.
  • E-form and Z-form or a mixture of E-form and Z-form in an arbitrary ratio, is not particularly limited as long as it is within the specified carbon number range. None happen.
  • C2-C6 alkenyloxy group examples include vinyloxy group, 1-propenyloxy group, allyloxy group, 1-butenyloxy group, 2-butenyloxy group, 3-butenyloxy group, 2-methyl-1-propenyloxy group, 1 -Pentenyloxy group, 2-pentenyloxy group, 3-pentenyloxy group, 4-pentenyloxy group, 2-methyl-1-butenyloxy group, 3-methyl-2-butenyloxy group, 1-hexenyloxy group, 2-hexenyl Examples thereof include an oxy group, a 3-hexenyloxy group, a 4-hexenyloxy group, a 5-hexenyloxy group, a 4-methyl-3-pentenyloxy group, and a 3-methyl-2-pentenyloxy group.
  • the C2-C6 haloalkenyloxy group represents a group in which the hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally substituted with one or more halogen atoms. When substituted with two or more halogen atoms, the halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as it can be present as a substituent.
  • Specific examples of the C2-C6 haloalkenyloxy group include 2-fluorovinyloxy group, 2,2-difluorovinyloxy group, 2,2-dichlorovinyloxy group, 3-fluoroallyloxy group, 3,3-difluoro.
  • the C3-C6 alkynyloxy group represents a group in which the C3-C6 alkynyl group is bonded via an oxygen atom among the C2-C6 alkynyl groups.
  • Specific examples of the C3-C6 alkynyloxy group include propargyloxy group, 2-butynyloxy group, 3-butynyloxy group, 2-pentynyloxy group, 3-pentynyloxy group, 4-pentynyloxy group, 1,1 -Dimethyl-2-propynyloxy group, 2-hexynyloxy group, 3-hexynyloxy group, 4-hexynyloxy group, 5-hexynyloxy group and the like.
  • the C3-C6 haloalkynyloxy group represents a group in which the hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally substituted with one or more halogen atoms.
  • the halogen atoms may be the same or different, and the number of substitutions is not particularly limited as long as it can be present as a substituent.
  • C3-C6 haloalkynyloxy group examples include 1,1-difluoro-2-propynyloxy group, 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-chloro-4,4-difluoro-2-butynyloxy group 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, 5,5-difluoro-3-pentynyloxy group, 5-chloro-5,5 -Difluoro-3-pentynyloxy group, 5-bromo-5,5-difluoro-3-pentynyloxy group, 5,5,5-trifluoro-3-pentynyloxy group, 6,6-difluoro-4 -Hexynyloxy group, 6-chloro-6,6-difluoro-4-hexynyloxy group, 6-bromo-6
  • 3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms include 1,2-epoxyethanyl group, oxetanyl group, oxolanyl group, oxanyl group, 1,3-dioxolanyl group, 1,3- Examples thereof include a dioxanyl group and a 1,4-dioxanyl group.
  • the C2-C6 alkoxyalkoxy group is a group in which the hydrogen atom in the C1-C5 alkoxy group in the C1-C6 alkoxy group is optionally substituted with one or more C1-C5 alkoxy groups Represents. There is no particular limitation as long as the total number of carbon atoms is within the specified carbon number range.
  • C2-C6 alkoxyalkoxy groups include methoxymethoxy, ethoxymethoxy, propyloxymethoxy, isopropyloxymethoxy, methoxyethoxy, ethoxyethoxy, propyloxyethoxy, isopropyloxyethoxy, methoxypropyl Examples thereof include an oxy group, an ethoxypropyloxy group, a propyloxypropyloxy group, and an isopropyloxypropyloxy group.
  • the pyridone compound of the present invention includes a compound represented by the following formula (1) and a salt thereof. (Hereinafter also referred to as the compound of the present invention). Hereinafter, Formula (1) is demonstrated.
  • R1 in formula (1) is a hydroxyl group, a cyano group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-optionally substituted C3- A C8 cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent A, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent A, C2- C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent A, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent A, substituted C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with group A, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with
  • R1 is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with the substituent A, or a C2-C6 halo.
  • An alkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with the substituent A, or a C2-C6 haloalkynyl group is preferred,
  • R1 is preferably a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group which may be optionally substituted with the substituent A.
  • R1 in the formula (1) includes a hydroxyl group and a cyano group.
  • the C1-C6 alkyl group of the “C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent A” in R1 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a methyl group, an ethyl group , A propyl group, an isopropyl group, a butyl group, or an isobutyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.
  • the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent A.
  • the “C1-C6 haloalkyl group” in R1 of the formula (1) has the same definition as described above, preferably a 2-fluoroethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, a 2,2,2-trifluoro group.
  • the C3-C8 cycloalkyl group in the “C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with the substituent A” in R1 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a cyclopropyl group , A cyclobutyl group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group, and more preferably a cyclopropyl group or a cyclobutyl group.
  • the hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally substituted by the substituent A.
  • the C2-C6 alkenyl group of the “C2-C6 alkenyl group optionally substituted with the substituent A” in R1 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a vinyl group, 1- It is a propenyl group or an allyl group, more preferably a vinyl group or an allyl group.
  • the hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally substituted by the substituent A.
  • the “C2-C6 haloalkenyl group” in R1 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, a 3-fluoroallyl group, or A 3,3-difluoroallyl group, more preferably a 2-fluorovinyl group or a 2,2-difluorovinyl group.
  • the C2-C6 alkynyl group of the “C2-C6 alkynyl group optionally substituted with the substituent A” in R1 of the formula (1) has the same meaning as defined above, preferably a propargyl group, 2- It is a butynyl group or a 3-butynyl group, more preferably a propargyl group.
  • the hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally substituted by the substituent A.
  • the “C2-C6 haloalkynyl group” in R1 of the formula (1) has the same definition as above, and is preferably a 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4-chloro-4,4-difluoro- 2-butynyl group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyl group or 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group, more preferably 4,4-difluoro-2-butynyl Or a 4,4,4-trifluoro-2-butynyl group.
  • the C1-C6 alkoxy group of the “C1-C6 alkoxy group optionally substituted with the substituent A” in R1 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a methoxy group, an ethoxy group , A propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, or an isobutoxy group, and more preferably a methoxy group or an ethoxy group.
  • the hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally substituted by the substituent A.
  • the “C1-C6 haloalkoxy group” in R1 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, 2,2, 2-trifluoroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group, or 3,3,3-trifluoropropyloxy group, more preferably difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, 2,2-difluoroethoxy group Or a 2,2,2-trifluoroethoxy group.
  • the C3-C8 cycloalkoxy group in the “C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with the substituent A” in R1 of the formula (1) has the same definition as described above, preferably cyclopropyloxy Group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group, or a cyclohexyloxy group, and more preferably a cyclopropyloxy group or a cyclobutoxy group.
  • the hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally substituted with the substituent A.
  • the C2-C6 alkenyloxy group of “C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent A” in R1 of formula (1) has the same definition as above, preferably a vinyloxy group, It is a 1-propenyloxy group or an allyloxy group, and more preferably a vinyloxy group.
  • the hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally substituted by the substituent A.
  • the “C2-C6 haloalkenyloxy group” in R1 of the formula (1) has the same definition as above, preferably 2-fluorovinyloxy group, 2,2-difluorovinyloxy group, 3-fluoro An allyloxy group or a 3,3-difluoroallyloxy group, more preferably a 2-fluorovinyloxy group or a 2,2-difluorovinyloxy group.
  • the C3-C6 alkynyloxy group of “C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent A” in R1 of formula (1) has the same definition as above, preferably a propargyloxy group , 2-butynyloxy group, or 3-butynyloxy group, and more preferably a propargyloxy group.
  • the hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally substituted by the substituent A.
  • the “C3-C6 haloalkynyloxy group” in R1 of the formula (1) has the same definition as described above, and is preferably a 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-chloro-4,4- A difluoro-2-butynyloxy group, a 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, or a 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, more preferably 4,4-difluoro-2 -Butynyloxy group or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group.
  • Ra and RbN— in R1 of the formula (1) (wherein Ra and Rb are each independently a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent B, a C1-C6 Each represents a haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group, or Ra and Rb together with the nitrogen atom to which they are attached, represents an aziridinyl group, an azetidinyl group, a pyrrolidinyl group, a piperidinyl group, a homopiperidinyl group, or an azocanyl group.
  • the definition of each term of (forms what is formed.) Is synonymous with the said definition.
  • RaRbN— is preferably an amino group, a methylamino group, an ethylamino group, a (methoxymethyl) amino group, a (2-methoxyethyl) amino group, a (cyanomethyl) amino group, a (2-cyanoethyl) amino group, Dimethylamino group, ethylmethylamino group, diethylamino group, (methoxymethyl) methylamino group, (2-methoxyethyl) methylamino group, (cyanomethyl) methylamino group, (2-cyanoethyl) methylamino group, 2,2- A difluoroethylamino group, a 2,2,2-trifluoroethylamino group,
  • R2 in formula (1) is a hydrogen atom, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, or a substituent A as appropriate.
  • C3-C8 cycloalkyl group which may be substituted, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent A, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 optionally substituted with substituent A C6-alkynyl group, C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent A, C1-C6 haloalkoxy group, optionally substituted with substituent A C3- C8 cycloalkoxy group, C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent A, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-C6 optionally substituted with substituent A Rukiniruokishi group, haloalkynyl group of C3 ⁇ C6, Rc-L- (wherein, Rc represents a haloalkyl group of alkyl or C1 ⁇ C6 of C1 ⁇ C6, L is S, SO,
  • R2 is a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, or a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent A.
  • R2 is optionally substituted with a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent A, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with the substituent A, or the substituent A.
  • Preferred is a C1-C6 alkoxy group.
  • R2 in Formula (1) includes a hydrogen atom, a cyano group, and a nitro group.
  • the halogen atom in R2 of the formula (1) has the same definition as described above, and is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • the C1-C6 alkyl group in the “C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent A” in R2 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a methyl group, an ethyl group , A propyl group, or an isopropyl group, and more preferably a methyl group or an ethyl group.
  • the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent A.
  • the “C1-C6 haloalkyl group” in R2 of the formula (1) has the same definition as above, and is preferably a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2 A trifluoroethyl group, a 3,3-difluoropropyl group, or a 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, or 2,2,2-trifluoroethyl group.
  • the C3-C8 cycloalkyl group in the “C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with the substituent A” in R2 of the formula (1) is as defined above, and preferably a cyclopropyl group , A cyclobutyl group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group, and more preferably a cyclopropyl group or a cyclobutyl group.
  • the hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally substituted by the substituent A.
  • the C2-C6 alkenyl group in the “C2-C6 alkenyl group optionally substituted with the substituent A” in R2 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a vinyl group, 1- A propenyl group, an allyl group, a 1-butenyl group, a 2-butenyl group, or a 3-butenyl group, more preferably a vinyl group, a 1-propenyl group, or an allyl group.
  • the hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally substituted by the substituent A.
  • the “C2-C6 haloalkenyl group” in R2 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, a 2,2-dichlorovinyl group. , 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group, or 3,3-dichloroallyl group, more preferably 2-fluorovinyl group or 2,2-difluorovinyl group.
  • the C2-C6 alkynyl group of the “C2-C6 alkynyl group optionally substituted with the substituent A” in R2 of the formula (1) has the same definition as above, preferably an ethynyl group, 1- A propynyl group, a propargyl group, a 1-butynyl group, a 2-butynyl group, or a 3-butynyl group, and more preferably an ethynyl group, a 1-propynyl group, or a propargyl group.
  • the hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally substituted by the substituent A.
  • the “C2-C6 haloalkynyl group” in R2 of the formula (1) has the same definition as above, preferably 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1 -Propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro- A 2-butynyl group, more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group, or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.
  • the C1-C6 alkoxy group of the “C1-C6 alkoxy group optionally substituted with the substituent A” in R2 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a methoxy group, an ethoxy group , A propyloxy group, or an isopropyloxy group, and more preferably a methoxy group or an ethoxy group.
  • the hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally substituted by the substituent A.
  • the “C1-C6 haloalkoxy group” in R2 of the formula (1) has the same definition as above, and is preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, 2,2, 2-trifluoroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group, or 3,3,3-trifluoropropyloxy group, more preferably difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, 2,2-difluoroethoxy group Or a 2,2,2-trifluoroethoxy group.
  • the C3-C8 cycloalkoxy group of the “C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with the substituent A” in R2 of the formula (1) has the same definition as described above, preferably cyclopropyloxy Group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group, or a cyclohexyloxy group, and more preferably a cyclopropyloxy group or a cyclobutoxy group.
  • the hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally substituted with the substituent A.
  • the C2-C6 alkenyloxy group of “C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent A” in R2 of formula (1) has the same definition as above, preferably a vinyloxy group, A 1-propenyloxy group, an allyloxy group, a 1-butenyloxy group, a 2-butenyloxy group, or a 3-butenyloxy group, and more preferably a vinyloxy group, a 1-propenyloxy group, or an allyloxy group.
  • the hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally substituted by the substituent A.
  • the “C2-C6 haloalkenyloxy group” in R2 of the formula (1) has the same definition as above, and includes a 2-fluorovinyloxy group, a 2,2-difluorovinyloxy group, a 2,2-dichlorovinyloxy group. Group, 3-fluoroallyloxy group, 3,3-difluoroallyloxy group, or 3,3-dichloroallyloxy group, more preferably 2-fluorovinyloxy group or 2,2-difluorovinyloxy group It is.
  • the C3-C6 alkynyloxy group of “C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent A” in R2 of formula (1) has the same definition as above, preferably a propargyloxy group , 2-butynyloxy group, or 3-butynyloxy group, and more preferably a propargyloxy group.
  • the hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally substituted by the substituent A.
  • the “C3-C6 haloalkynyloxy group” in R2 of the formula (1) has the same definition as above, and is preferably a 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, a 4-chloro-4,4-difluoro group.
  • Rc-L - in R2 of formula (1) (wherein, Rc represents a haloalkyl group of alkyl or C1 ⁇ C6 of C1 ⁇ C6, L represents S, SO, or SO 2.)
  • Rc—L— is preferably a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, or a trifluoromethanesulfonyl group, and more preferably a methylthio group or a methanesulfinyl group. Or a methanesulfonyl group.
  • Ra and Rb of “RaRbN—” in R2 of the formula (1) are as defined above.
  • “RaRbN—” is preferably an amino group, methylamino group, ethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, (methoxymethyl) amino group, (2-methoxyethyl) amino group, (cyanomethyl) amino group, (2-cyanoethyl) amino group, dimethylamino group, ethyl (methyl) amino group, methyl (propyl) amino group, isopropyl (methyl) amino group, diethylamino group, ethyl (propyl) amino group, ethyl (isopropyl) amino group, (Methoxymethyl) methylamino group, (2-methoxyethyl) methylamino group, (cyanomethyl) methylamino group, (2-cyanoethyl) methylamino group, 2,2-diflu
  • RdC ( ⁇ O) — in R2 of the formula (1) (where Rd is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, C3 -C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above).
  • Rd is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent B, a C1-C6 haloalkyl group, C3 -C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group, or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above).
  • C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent B when it has substituent B, the hydrogen atom in C1-C6 alkyl group is optionally substituted with substituent B.
  • RdC ( ⁇ O) — preferably formyl group, acetyl group, methoxyacetyl group, cyanoacetyl group, propionyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, cyclopropanecarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl Group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group Ethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl) aminocarbonyl group, (2-methoxye
  • X in the formula (1) represents an oxygen atom or a sulfur atom.
  • Preferred X is an oxygen atom.
  • Y in formula (1) may be optionally substituted with R3 as a phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 (provided that each of R3 having two or more substituents is independent), or R3 may be optionally substituted with 0 to 4
  • a good pyridyl group in the case of R3 having two or more substituents, each independently
  • a pyridazinyl group optionally substituted by 0 to 3 with R3 in the case of R3 having two or more substitutions, each independently
  • Pyrimidinyl group optionally substituted with 0-3 by R3 (in the case of R3 having two or more substituents, each independently), pyrazinyl group optionally substituted with 0-3 by R3 ( However, in the case of R3 having two or more substitutions, each is independent.)
  • Y is a phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 by R3 (however, in the case of R3 having two or more substitutions, each is independent), or a pyridyl group which may be optionally substituted with 0 to 4 by R3 (However, in the case of R3 having two or more substitutions, each is independent.)
  • Y is preferably a phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 by R3 (however, in the case of R3 having 2 or more substitutions, each is independent).
  • na represents an integer of 0 to 5
  • two or more substituted R3s each represent an independent substituent, which may be the same or different, and may be arbitrarily selected. it can.
  • the “pyridyl group optionally substituted with 0 to 4 by R3” in Y of Formula (1) (however, each of R3 having 2 or more substituents is independent) is represented by Formula (b-1), Formula The following partial structures represented by (b-2) and formula (b-3) are represented.
  • nb represents an integer of 0 to 4, and when nb is 2 or more, two or more substituted R3s are independent substituents. May be the same or different and can be arbitrarily selected.
  • the “pyridazinyl group optionally substituted with 0-3 by R3” in Y of formula (1) (however, each of R3 having 2 or more substituents is independent) is represented by formula (c-1), formula The following partial structures represented by (c-2) and (c-3) are represented.
  • nc represents an integer of 0 to 3, and when nc is 2 or more, two or more substituted R3s are independent substituents. May be the same or different and can be arbitrarily selected.
  • the “pyrimidinyl group optionally substituted with 0-3 by R3” in Y of formula (1) (however, each of R3 having 2 or more substituents is independent) is represented by formula (d-1), formula The partial structures shown below represented by (d-2) and formula (d-3) are represented.
  • “Pyrazinyl group optionally substituted with 0 to 3 by R3 (in the case of R3 having 2 or more substituents)” in Y of Formula (1) is represented by Formula (e)
  • the partial structure shown below is represented.
  • ne represents an integer of 0 to 3
  • two or more substituted R3s each represent an independent substituent, which may be the same or different, and may be arbitrarily selected. it can.
  • a triazinyl group optionally substituted with 0 to 2 by R3” in Y of formula (1) is represented by formula (f-1), formula ( The partial structures shown below are represented by f-2), formula (f-3), formula (f-4) and formula (f-5).
  • nf represents an integer of 0 to 2
  • nf is 2.
  • each disubstituted R3 represents an independent substituent, may be the same or different, and can be arbitrarily selected.
  • the “tetrazinyl group optionally substituted with R3” in Y in formula (1) is a moiety represented by the following formula (g-1), formula (g-2) or formula (g-3) Represents the structure.
  • ng represents an integer of 0 to 1.
  • the “thienyl group optionally substituted with 0 to 3 by R3” in Y of formula (1) (however, each of R3 having 2 or more substituents is independent) is represented by formula (h-1) and formula The partial structure shown below represented by (h-2) is represented.
  • nh represents an integer of 0 to 3
  • nh is 2 or more
  • R3 each represents an independent substituent, and may be the same or different.
  • the “thiazolyl group optionally substituted by 0 to 2 with R3” in Y of the formula (1) is represented by the formula (i-1), the formula ( The partial structure shown below represented by i-2) and formula (i-3) is represented.
  • ni represents an integer of 0 to 2
  • each disubstituted R3 represents an independent substituent. May be the same or different and can be arbitrarily selected.
  • the “isothiazolyl group optionally substituted by 0 to 2 with R3” in Y of formula (1) (in the case of disubstituted R3, each independently) is represented by formula (j-1), formula ( The partial structure shown below represented by j-2) and formula (j-3) is represented.
  • nj represents an integer of 0 to 2
  • each disubstituted R3 represents an independent substituent. May be the same or different and can be arbitrarily selected.
  • the “thiadiazolyl group optionally substituted with R3” in Y in the formula (1) is the formula (k-1), the formula (k-2), the formula (k-3), the formula (k-4), the formula
  • the partial structures shown below represented by (k-5) and formula (k-6) are represented.
  • nk is an integer of 0 to 1 Represents.
  • R3 in Formula (1) is optionally substituted with a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, or a substituent C.
  • C3-C8 cycloalkyl group C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 optionally substituted with substituent C Alkynyl group, C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 optionally substituted with substituent C
  • R3 represents a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group that may be optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 alkoxy group that may be optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 group.
  • R3 is preferably a cyano group, a halogen atom, or a C1-C6 alkoxy group optionally substituted with a substituent C.
  • R3 in the formula (1) includes a hydroxyl group, a cyano group, and a nitro group.
  • the halogen atom in R3 of the formula (1) has the same definition as described above, and is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • the C1-C6 alkyl group in the “C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent C” in R3 of the formula (1) has the same definition as described above, preferably a methyl group, an ethyl group , A propyl group, an isopropyl group, a butyl group, or an isobutyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or an isopropyl group.
  • the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent C.
  • the “C1-C6 haloalkyl group” in R3 of the formula (1) has the same meaning as defined above, and is preferably a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2 A trifluoroethyl group, a 3,3-difluoropropyl group, or a 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, or 2,2,2-trifluoroethyl group.
  • the C3-C8 cycloalkyl group in the “C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with the substituent C” in R3 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a cyclopropyl group , A cyclobutyl group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group, and more preferably a cyclopropyl group or a cyclobutyl group.
  • the hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally substituted by the substituent C.
  • the C2-C6 alkenyl group of “C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C” in R3 of formula (1) is as defined above, preferably a vinyl group, 1- A propenyl group, an allyl group, a 1-butenyl group, a 2-butenyl group, or a 3-butenyl group, more preferably a vinyl group, a 1-propenyl group, or an allyl group.
  • the hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally substituted by the substituent C.
  • the “C2-C6 haloalkenyl group” in R3 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, a 2,2-dichlorovinyl group. , 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group, or 3,3-dichloroallyl group, more preferably 2-fluorovinyl group or 2,2-difluorovinyl group.
  • the C2-C6 alkynyl group of the “C2-C6 alkynyl group optionally substituted with the substituent C” in R3 of the formula (1) has the same definition as defined above, preferably an ethynyl group, 1- A propynyl group, a propargyl group, a 1-butynyl group, a 2-butynyl group, or a 3-butynyl group, and more preferably an ethynyl group, a 1-propynyl group, or a propargyl group.
  • the hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally substituted by the substituent C.
  • the “C2-C6 haloalkynyl group” in R3 of the formula (1) has the same definition as described above, and is preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1 -Propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro- A 2-butynyl group, more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group, or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.
  • the C1-C6 alkoxy group of the “C1-C6 alkoxy group optionally substituted with the substituent C” in R3 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a methoxy group, an ethoxy group Propyloxy group, isopropyloxy group, butoxy group, isobutoxy group or pentyloxy group, more preferably methoxy group or ethoxy group.
  • the hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally substituted with the substituent C.
  • the “C1-C6 haloalkoxy group” in R3 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, 2,2, 2-trifluoroethoxy group, 3,3-difluoropropyloxy group, or 3,3,3-trifluoropropyloxy group, more preferably difluoromethoxy group, trifluoromethoxy group, 2,2-difluoroethoxy group Or a 2,2,2-trifluoroethoxy group.
  • the C3-C8 cycloalkoxy group in the “C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with the substituent C” in R3 of the formula (1) has the same definition as above, preferably cyclopropyloxy Group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group, or a cyclohexyloxy group, and more preferably a cyclopropyloxy group or a cyclobutoxy group.
  • the hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkoxy group is optionally substituted by the substituent C.
  • the C2-C6 alkenyloxy group of “C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C” in R3 of formula (1) is as defined above, preferably a vinyloxy group, A 1-propenyloxy group, an allyloxy group, a 1-butenyloxy group, a 2-butenyloxy group, or a 3-butenyloxy group, and more preferably a vinyloxy group, a 1-propenyloxy group, or an allyloxy group.
  • the hydrogen atom in the C2-C6 alkenyloxy group is optionally substituted by the substituent C.
  • the “C2-C6 haloalkenyloxy group” in R3 of the formula (1) has the same definition as above, and preferably a 2-fluorovinyloxy group, a 2,2-difluorovinyloxy group, a 2,2- A dichlorovinyloxy group, a 3-fluoroallyloxy group, a 3,3-difluoroallyloxy group, or a 3,3-dichloroallyloxy group, more preferably a 2-fluorovinyloxy group or 2,2-difluoro It is a vinyloxy group.
  • the C3-C6 alkynyloxy group of “C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent C” in R3 of formula (1) is as defined above, preferably a propargyloxy group , 2-butynyloxy group, or 3-butynyloxy group, and more preferably a propargyloxy group.
  • the hydrogen atom in the C3-C6 alkynyloxy group is optionally substituted by the substituent C.
  • the “C3-C6 haloalkynyloxy group” in R3 of the formula (1) has the same definition as above, and is preferably a 4,4-difluoro-2-butynyloxy group, 4-chloro-4,4-difluoro -2-butynyloxy group, 4-bromo-4,4-difluoro-2-butynyloxy group, or 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group, more preferably 4,4-difluoro-2- A butynyloxy group or a 4,4,4-trifluoro-2-butynyloxy group.
  • Rd of “RdC ( ⁇ O) —” in R3 of the formula (1) has the same definition as above.
  • RdC ( ⁇ O) — preferably formyl group, acetyl group, methoxyacetyl group, cyanoacetyl group, propionyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, cyclopropanecarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl Group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group Ethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl) aminocarbonyl group, (2-methoxyethyl) aminocarbonyl group, (cyanomethyl) aminocarbonyl group, (2-cyanoe
  • Rd of “RdC ( ⁇ O) O—” in R3 of the formula (1) has the same definition as above.
  • RdC ( ⁇ O) O— preferably formyloxy group, acetyloxy group, methoxyacetyloxy group, cyanoacetyloxy group, propionyloxy group, difluoroacetyloxy group, trifluoroacetyloxy group, cyclopropanecarbonyl Oxy group, methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, 2,2-difluoroethoxycarbonyloxy group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyloxy group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyloxy group, Cyclopropyloxycarbonyloxy group, aminocarbonyloxy group, methylaminocarbonyloxy group, ethylaminocarbonyloxy group, (methoxymethyl) aminocarbonyloxy group, (2-methoxyethyl) aminocarbon
  • the “3- to 6-membered ring group containing 1 to 2 oxygen atoms” in R3 of the formula (1) is as defined above, and preferably an oxolanyl group, an oxanyl group, or a 1,3-dioxolanyl group Or a 1,3-dioxanyl group, and more preferably a 1,3-dioxolanyl group or a 1,3-dioxanyl group.
  • Rc and L of “Rc-L-” in R3 of the formula (1) are as defined above.
  • Rc-L- is preferably a methylthio group, a methanesulfinyl group, a methanesulfonyl group, a trifluoromethylthio group, a trifluoromethanesulfinyl group, or a trifluoromethanesulfonyl group, and more preferably a methylthio group or a methanesulfinyl group. Or a methanesulfonyl group.
  • Ra and Rb of “RaRbN—” in R3 of the formula (1) are as defined above.
  • “RaRbN—” is preferably an amino group, methylamino group, ethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, (methoxymethyl) amino group, (2-methoxyethyl) amino group, (cyanomethyl) amino group, (2-cyanoethyl) amino group, dimethylamino group, ethyl (methyl) amino group, methyl (propyl) amino group, isopropyl (methyl) amino group, (methoxymethyl) methylamino group, (2-methoxyethyl) methylamino group (Cyanomethyl) methylamino group, (2-cyanoethyl) methylamino group, diethylamino group, ethyl (propyl) amino group, ethyl (isopropyl) amino group, ethy
  • ReC ( ⁇ O) N (Rf) — in R3 of the formula (1) (wherein Re and Rf are independent of each other and may be appropriately substituted with a hydrogen atom or a substituent B).
  • An alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, or a RaRbN- (where Ra And Rb are as defined above.))) Are the same as defined above.
  • C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent B when it has substituent B, the hydrogen atom in C1-C6 alkyl group is optionally substituted with substituent B.
  • ReC ( ⁇ O) N (Rf) — preferably formylamino group, acetylamino group, methoxyacetylamino group, cyanoacetylamino group, propionylamino group, difluoroacetylamino group, trifluoroacetylamino group, Cyclopropanecarbonylamino group, methoxycarbonylamino group, ethoxycarbonylamino group, 2,2-difluoroethoxycarbonylamino group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonylamino group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl Amino group, cyclopropyloxycarbonylamino group, aminocarbonylamino group, methylamin
  • R4 in formula (1) is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 optionally substituted with a substituent C.
  • Has C1-C6 halo Alkyl group (provided that when a 2-substituted or more substituents D, and independent of each other.), Or RaRbN- (wherein, Ra and
  • R4 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituted group.
  • R4 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group that may be optionally substituted with a substituent C, a C3-C8 cycloalkyl group that may be optionally substituted with a substituent C, or a substituent D with 0-5 as appropriate.
  • a phenyl group which may be substituted in the case of two or more substituents D, each is independent), or RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined
  • R4 in the formula (1) includes a hydrogen atom.
  • the C1-C6 alkyl group in the “C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent C” in R4 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a methyl group, an ethyl group , Propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, t-butyl group, pentyl group or isopentyl group, more preferably methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group , An isobutyl group, a sec-butyl group, or a t-butyl group.
  • the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent C.
  • the “C1-C6 haloalkyl group” in R4 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2 A trifluoroethyl group, a 3,3-difluoropropyl group, or a 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, or 2,2,2-trifluoroethyl group.
  • the C3-C8 cycloalkyl group of the “C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with the substituent C” in R4 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a cyclopropyl group , A cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, or a cycloheptyl group, and more preferably a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group.
  • the hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally substituted by the substituent C.
  • the C2-C6 alkenyl group of the “C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C” in R4 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a vinyl group, 1- A propenyl group, an allyl group, a 1-butenyl group, a 2-butenyl group, or a 3-butenyl group, more preferably a vinyl group, a 1-propenyl group, or an allyl group.
  • the hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally substituted by the substituent C.
  • the “C2-C6 haloalkenyl group” in R4 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, a 2,2-dichlorovinyl group. , 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group, or 3,3-dichloroallyl group, more preferably 2-fluorovinyl group or 2,2-difluorovinyl group.
  • the C2-C6 alkynyl group of the “C2-C6 alkynyl group optionally substituted with the substituent C” in R4 of the formula (1) has the same definition as above, preferably an ethynyl group, 1- A propynyl group, a propargyl group, a 1-butynyl group, a 2-butynyl group, or a 3-butynyl group, and more preferably an ethynyl group, a 1-propynyl group, or a propargyl group.
  • the hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally substituted by the substituent C.
  • the “C2-C6 haloalkynyl group” in R4 of the formula (1) has the same definition as above, and is preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1 -Propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro- It is a 2-butynyl group, more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.
  • C1-C6 alkyl group having a phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 substituents D in R4 of formula (1) (however, in the case of substituents D having 2 or more substitutions, each is independent)
  • the “phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 substituents D” and “C1-C6 alkyl group” in the formula (1) are as defined above.
  • the “C1-C6 alkyl group having a phenyl group” is preferably a phenylmethyl group, a 2-phenylethyl group, a 1-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, a 2-phenylpropyl group, or a 1-phenylpropyl group.
  • 4-phenylbutyl group or 5-phenylpentyl group more preferably phenylmethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenylethyl group or 1-phenylpropyl group.
  • C1-C6 haloalkyl group having a phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 substituents D in R4 of formula (1) (however, in the case of substituents D having 2 or more substitutions, each is independent
  • the “phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 substituents D” and “C1-C6 haloalkyl group” in the above) have the same definitions as above.
  • the “C1-C6 haloalkyl group having a phenyl group” is preferably a 2,2,2-trifluoro-1-phenylethyl group or a 2,2-difluoro-1-phenylethyl group, more preferably 2,2,2-trifluoro-1-phenylethyl group.
  • the hydrogen atom in a phenyl group is arbitrarily substituted by the substituent D.
  • Ra and Rb of “RaRbN—” in R4 of the formula (1) are as defined above.
  • Ra and Rb are preferably a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent B, or a C1-C6 haloalkyl group, and more preferably a hydrogen atom or the substituent B.
  • a C1-C6 alkyl group which may be optionally substituted.
  • RaRbN— is preferably an amino group, methylamino group, ethylamino group, propylamino group, isopropylamino group, (methoxymethyl) amino group, (2-methoxyethyl) amino group, (cyanomethyl) amino group, (2-cyanoethyl) amino group, dimethylamino group, ethyl (methyl) amino group, methyl (propyl) amino group, isopropyl (methyl) amino group, (methoxymethyl) methylamino group, (2-methoxyethyl) methylamino group (Cyanomethyl) methylamino group, (2-cyanoethyl) methylamino group, diethylamino group, ethyl (propyl) amino group, ethyl (isopropyl) amino group, ethyl (methoxymethyl) amino group, ethyl (2-methoxyethyl) amino Group,
  • R5 in formula (1) is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 optionally substituted with a substituent C A cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 A haloalkynyl group, a phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 substituents D (in the case of 2 or more substituents D, each independently), a substituent D with 0 to 5 substituents as appropriate A C1-C6 alkyl group having an optionally substituted phenyl group (in the case of two or more substituents D, each independently), a phenyl group optionally substituted
  • R5 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituted group.
  • a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a group C, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkynyl group, or RdC ( ⁇ O) — (wherein Rd is as defined above) is preferable,
  • R5 is preferably a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, or RdC ( ⁇ O) — (wherein Rd has the same meaning as described above).
  • R5 in the formula (1) includes a hydrogen atom.
  • the C1-C6 alkyl group of “C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent C” in R5 of formula (1) has the same definition as above, preferably a methyl group, an ethyl group , A propyl group, an isopropyl group, a butyl group, or an isobutyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or an isopropyl group.
  • the hydrogen atom in the C1-C6 alkyl group is optionally substituted by the substituent C.
  • the “C1-C6 haloalkyl group” in R5 of the formula (1) has the same definition as above, and is preferably a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, 2,2,2 A trifluoroethyl group, a 3,3-difluoropropyl group, or a 3,3,3-trifluoropropyl group, more preferably a difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, or 2,2,2-trifluoroethyl group.
  • the C3-C8 cycloalkyl group in the “C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent C” in R5 of the formula (1) has the same definition as above, preferably a cyclopropyl group , A cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, or a cycloheptyl group, and more preferably a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group.
  • the hydrogen atom in the C3-C8 cycloalkyl group is optionally substituted by the substituent C.
  • the C2-C6 alkenyl group of “C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C” in R5 of formula (1) is as defined above, preferably a vinyl group, 1- A propenyl group, an allyl group, a 1-butenyl group, a 2-butenyl group, or a 3-butenyl group, more preferably a vinyl group, a 1-propenyl group, or an allyl group.
  • the hydrogen atom in the C2-C6 alkenyl group is optionally substituted by the substituent C.
  • the “C2-C6 haloalkenyl group” in R5 of the formula (1) is as defined above, and preferably a 2-fluorovinyl group, a 2,2-difluorovinyl group, a 2,2-dichlorovinyl group. , 3-fluoroallyl group, 3,3-difluoroallyl group, or 3,3-dichloroallyl group, more preferably 2-fluorovinyl group or 2,2-difluorovinyl group.
  • the C2-C6 alkynyl group of the “C2-C6 alkynyl group optionally substituted with the substituent C” in R5 of the formula (1) has the same definition as above, preferably an ethynyl group, 1- A propynyl group, a propargyl group, a 1-butynyl group, a 2-butynyl group, or a 3-butynyl group, and more preferably an ethynyl group, a 1-propynyl group, or a propargyl group.
  • the hydrogen atom in the C2-C6 alkynyl group is optionally substituted by the substituent C.
  • the “C2-C6 haloalkynyl group” in R5 of the formula (1) has the same definition as above, and is preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1 -Propynyl group, 4,4-difluoro-1-butynyl group, 4,4-difluoro-2-butynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, or 4,4,4-trifluoro- A 2-butynyl group, more preferably a 3,3-difluoro-1-propynyl group, or a 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group.
  • C1-C6 alkyl group having a phenyl group optionally substituted with 0-5 substituents D in R5 of formula (1) (however, in the case of a substituent D having 2 or more substitutions, each is independent)
  • the “phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 substituents D” and “C1-C6 alkyl group” in the formula (1) are as defined above.
  • the “C1-C6 alkyl group having a phenyl group” is preferably a phenylmethyl group, a 2-phenylethyl group, a 1-phenylethyl group, a 3-phenylpropyl group, a 2-phenylpropyl group, or a 1-phenylpropyl group.
  • 4-phenylbutyl group or 5-phenylpentyl group more preferably phenylmethyl group, 2-phenylethyl group, 1-phenylethyl group or 1-phenylpropyl group.
  • C1-C6 haloalkyl group having a phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 substituents D in R5 of formula (1) (however, in the case of substituents D having 2 or more substitutions, each is independent)
  • the “phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 substituents D” and “C1-C6 haloalkyl group” in the above) have the same definitions as above.
  • the “C1-C6 haloalkyl group having a phenyl group” is preferably a 2,2,2-trifluoro-1-phenylethyl group or a 2,2-difluoro-1-phenylethyl group, more preferably 2,2,2-trifluoro-1-phenylethyl group.
  • the hydrogen atom in a phenyl group is arbitrarily substituted by the substituent D.
  • Rd of “RdC ( ⁇ O) —” in R5 of formula (1) has the same definition as above.
  • Rd is preferably a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 cycloalkyl group that may be optionally substituted with the substituent B, and more preferably with the substituent B.
  • C1-C6 alkyl group which may be substituted.
  • RdC ( ⁇ O) — preferably formyl group, acetyl group, methoxyacetyl group, cyanoacetyl group, propionyl group, difluoroacetyl group, trifluoroacetyl group, cyclopropanecarbonyl group, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl Group, 2,2-difluoroethoxycarbonyl group, 2,2,2-trifluoroethoxycarbonyl group, 3,3,3-trifluoropropyloxycarbonyl group, cyclopropyloxycarbonyl group, aminocarbonyl group, methylaminocarbonyl group Ethylaminocarbonyl group, (methoxymethyl) aminocarbonyl group, (2-methoxyethyl) aminocarbonyl group, (cyanomethyl) aminocarbonyl group, (2-cyanoethyl) aminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, Ru (methyl) aminocarbonyl group,
  • R4 and R5 together with the oxime structure to be bonded (C ⁇ N—O) together with the isoxazole ring optionally substituted with the substituent E (provided that the disubstituted In the case of the substituent E, each is independent.),
  • a benzisoxazole ring which may be optionally substituted with 0 to 4 substituents D (however, in the case of two or more substituents D, each is independent), or with 0 to 6 substituents as appropriate. It may represent a 5,6-dihydro-4H-1,2-oxazine ring (in the case of two or more substituents F, they are each independent).
  • R4 and R5 together with an oxime structure (C ⁇ N—O) to be bonded together and an isoxazole ring optionally substituted with 0 to 2 substituents E (in the case of a disubstituted substituent E, Each is independent.), An isoxazoline ring optionally substituted with 0 to 4 substituents F (however, in the case of two or more substituents F, each is independent), or a substituent D as appropriate Those which form a benzisoxazole ring which may be substituted by 0 to 4 (however, in the case of the substituent D having two or more substitutions, each is independent), In particular, R4 and R5 together with the oxime structure to which they are bonded (C ⁇ N—O) together with an isoxazole ring optionally substituted with 0 to 2 substituents E (provided that in the case of a disubstituted substituent E, Those which are independent of each other) are preferred.
  • R6 and R7 are each independently a hydrogen atom or a substituent E, and R1, R2, X and Y are as defined above.
  • R6 in formula (2) is specifically a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a substituent.
  • C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with C, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, haloalkenyl group C2-C6, optionally substituted with substituent C C2-C6 alkynyl group, C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, optionally substituted with substituent C C3-C8 cycloalkoxy group, C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-optionally substituted C3 C6 alkynyloxy group, C3 to C6 haloalkynyloxy group, C2 to C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC ( ⁇
  • R6 is a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group that may be optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, or a C2-C6 optionally substituted with a substituent C.
  • Rd is a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, A C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, RdC ( ⁇ O) — (wherein Rd is as defined above), or RgON ⁇ C (Rh) — (wherein Rg and Rh are as defined above.
  • R7 in the formula (2) is specifically a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a substituent.
  • C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with C, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, haloalkenyl group C2-C6, optionally substituted with substituent C C2-C6 alkynyl group, C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, optionally substituted with substituent C C3-C8 cycloalkoxy group, C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyloxy group, C3-optionally substituted C3 C6 alkynyloxy group, C3 to C6 haloalkynyloxy group, C2 to C6 alkoxyalkoxy group, RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), RdC ( ⁇
  • R7 is a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, or a C2-C6 optionally substituted with a substituent C.
  • RdC ( ⁇ O) — (where Rd is as defined above), or RiRjRkSi— (where Ri, Rj, and Rk are each independently a C1-C6 alkyl group).
  • R7 is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, RaRbN— (wherein Ra and Rb are as defined above), RdC ( ⁇ O) — (where Rd is as defined above), or RiRjRkSi— (where Ri, Rj and Rk are each independently a C1-C6 alkyl group). Is preferred.
  • R4 and R5 together with the oxime structure to be bonded form an isoxazoline ring optionally substituted with 0 to 4 substituents F (provided that In the case of two or more substituents F, each is independent.)
  • substituents F provided that In the case of two or more substituents F, each is independent.
  • R8, R9, R10 and R11 are each independently a hydrogen atom or a substituent F, and R1, R2, X and Y are as defined above.
  • R8 and R9 in formula (3) are independent of each other. Specifically, a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyl group, substituted C2-C6 alkynyl group optionally substituted with group C, C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, substituted A C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with the group C, a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with the substituent C, a C2-C6 haloalken
  • R8 and R9 are each independently a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, or a C1-C6 haloalkyl group,
  • R8 and R9 are each independently a hydrogen atom or a halogen atom.
  • R10 and R11 in the formula (3) are independent of each other. Specifically, a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group which may be appropriately substituted with a substituent C, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyl group, substituted C2-C6 alkynyl group optionally substituted with group C, C2-C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, substituted C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with group C, C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyloxy A
  • R10 and R11 are independent of each other, and are optionally substituted with a hydrogen atom, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, or a substituent C.
  • Preferred is an optionally substituted C1-C6 alkoxy group, a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with a substituent C, or a C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with a substituent C.
  • R10 and R11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, or a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C.
  • Alkoxy groups are preferred.
  • R12, R13, R14 and R15 are each independently a hydrogen atom or a substituent D, and R1, R2, X and Y are as defined above.
  • R4 and R5 in formula (1) may be optionally substituted with 0 to 6 substituents F together with the oxime structure to which they are bonded (C ⁇ N—O) , 2-Oxazine ring (in the case of two or more substituents F, each independently) is represented by the formula (5) It is represented by
  • R16, R17, R18, R19, R20 and R21 are each independently a hydrogen atom or a substituent F, and R1, R2, X and Y are as defined above.
  • Substituent A is a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, RaRbN- (where Ra and Rb Represents at least one selected from the group consisting of: and Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above).
  • the substituent A is preferably a cyano group, a C1-C6 alkoxy group or Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above), In particular, a cyano group or a C1-C6 alkoxy group is preferred.
  • substituent A is as defined above.
  • a C3-C8 cycloalkyl group a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group;
  • C1-C6 haloalkoxy groups include difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, 3,3-difluoropropyloxy, and 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
  • a C3-C8 cycloalkoxy group a cyclopropyloxy group, a cyclobutoxy group, a cycl
  • substituent A a hydroxyl group; a cyano group; A cyclopropyl group and a cyclobutyl group as the C3-C8 cycloalkyl group; A methoxy group and an ethoxy group as the C1-C6 alkoxy group; A difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, and a 2,2,2-trifluoroethoxy group as the C1-C6 haloalkoxy group; A cyclopropyloxy group and a cyclobutoxy group as a C3-C8 cycloalkoxy group; RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), a dimethylamino group, an ethyl (methyl) amino group, and a diethylamino group; And Rc-L- (wherein Rc and L are as defined above) include a methylthio group,
  • Substituent B represents at least one selected from the group consisting of a cyano group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group and a C3-C8 cycloalkoxy group.
  • the substituent B is preferably a cyano group or a C1-C6 alkoxy group.
  • Each term of the substituent B is as defined above.
  • substituent B a cyano group
  • C1-C6 haloalkoxy groups include difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, 3,3-difluoropropyloxy, and 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group
  • examples of the C3-C8 cycloalkoxy group include a cyclopropyloxy group, a cyclobutoxy group, a cyclopentyloxy group, and a cyclohexyloxy group.
  • substituent B a cyano group; A methoxy group and an ethoxy group as the C1-C6 alkoxy group; A difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, and a 2,2,2-trifluoroethoxy group as the C1-C6 haloalkoxy group; As the C3-C8 cycloalkoxy group, a cyclopropyloxy group and a cyclobutoxy group can be mentioned.
  • the substituent C includes a hydroxyl group, a cyano group, a C3-C8 cycloalkyl group, a C1-C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, a C3-C8 cycloalkoxy group, Rc-L- (where, Rc and L are as defined above), RdC ( ⁇ O) — (where Rd is as defined above), or RdC ( ⁇ O) O— (wherein Rd is as defined above) Are preferred.) In particular, a hydroxyl group or RdC ( ⁇ O) O— (wherein Rd has the same meaning as described above) is preferable.
  • RdC ( ⁇ O) O— is preferably a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with the substituent B, and more preferably C1-C6.
  • a haloalkyl group is preferably a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with the substituent B, and more preferably C1-C6.
  • a haloalkyl group is preferably a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group optionally substituted with the substituent B, and more preferably C1-C6.
  • substituent C a hydroxyl group; a cyano group;
  • a C3-C8 cycloalkyl group a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group;
  • a C1-C6 alkoxy group as a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, and a t-butoxy group;
  • C1-C6 haloalkoxy groups include difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-difluoroethoxy, 2,2,2-trifluoroethoxy, 3,3-difluoropropyloxy, and 3,3 , 3-trifluoropropyloxy group;
  • a C3-C8 cycloalkoxy group a cyclopropyloxy group, a
  • substituent C a hydroxyl group; a cyano group; A cyclopropyl group and a cyclobutyl group as the C3-C8 cycloalkyl group; A methoxy group and an ethoxy group as the C1-C6 alkoxy group; A difluoromethoxy group, a trifluoromethoxy group, a 2,2-difluoroethoxy group, and a 2,2,2-trifluoroethoxy group as the C1-C6 haloalkoxy group; A cyclopropyloxy group, a cyclobutoxy group as a C3-C8 cycloalkoxy group; A methoxymethoxy group, an ethoxymethoxy group, a methoxyethoxy group, and an ethoxyethoxy group as the C2-C6 alkoxyalkoxy group; RaRbN- (wherein Ra and Rb are as defined above), a dimethylamino
  • Substituent D is a hydroxyl group, cyano group, nitro group, halogen atom, C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 optionally substituted with substituent B, C1- It represents at least one selected from the group consisting of a C6 alkoxy group, a C1-C6 haloalkoxy group, and a C3-C8 cycloalkoxy group.
  • the substituent D is a cyano group, a halogen atom, a C1 to C6 alkyl group, a C1 to C6 haloalkyl group, a C1 to C6 alkoxy group, and a C1 to C6 haloalkoxy group that may be optionally substituted with a substituent B.
  • a halogen atom, a C1-C6 alkyl group which may be optionally substituted with the substituent B, and a C1-C6 alkoxy group are preferable.
  • substituent D has the same definition as above.
  • substituent B when it has substituent B, the hydrogen atom in C1-C6 alkyl group is optionally substituted with substituent B. .
  • substituent D a hydroxyl group; a cyano group; a nitro group;
  • substituent B a hydroxyl group; a cyano group; a nitro group;
  • substituent B a methyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a cyanomethyl group, an ethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 2-ethoxyethyl group, and 2-cyanoethyl.
  • C1-C6 haloalkyl groups include difluoromethyl, trifluoromethyl, 2,2-difluoroethyl, 2,2,2-trifluoroethyl, 3,3-difluoropropyl, and 3,3,3 A trifluoropropyl group;
  • a C3-C8 cycloalkyl group a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group;
  • a C1-C6 alkoxy group as a methoxy group, an ethoxy group, a propyloxy group, an isopropyloxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, and a t-butoxy group;
  • C1-C6 haloalkoxy groups include difluoromethoxy, trifluoromethoxy, 2,2-
  • substituent D a hydroxyl group; a cyano group; a nitro group; A halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom;
  • C1-C6 alkyl group that may be optionally substituted with the substituent B include a methyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, a cyanomethyl group, an ethyl group, a 2-methoxyethyl group, a 2-ethoxyethyl group, and 2- A cyanoethyl group; A difluoromethyl group, a trifluoromethyl group, a 2,2-difluoroethyl group, and a 2,2,2-trifluoroethyl group as the C1-C6 haloalkyl group; A cyclopropyl group and a cyclobutyl group as the C3-C8 cycloalkyl group; A
  • Substituent E is a hydroxyl group, cyano group, halogen atom, C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 optionally substituted with substituent C.
  • the substituent E is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a cyano group, a halogen atom, or a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 optionally substituted with a substituent C.
  • RaRbN— An optionally substituted C2-C6 alkynyl group, RaRbN— (wherein Ra and Rb are as defined above), RdC ( ⁇ O) — (wherein Rd is as defined above).
  • RgON C (Rh)-(where Rg and Rh are as defined above) and RiRjRkSi- (where Ri, Rj and Rk are as defined above).
  • substituent E has the same definition as above.
  • C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, the hydrogen atom in C1-C6 alkyl group is optionally substituted with substituent C.
  • C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, a hydrogen atom in C3-C8 cycloalkyl group is optionally substituted with substituent C .
  • C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, a hydrogen atom in C2-C6 alkenyl group is optionally substituted with substituent C.
  • C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, a hydrogen atom in C2-C6 alkynyl group is optionally substituted with substituent C.
  • C1-C6 alkoxy group optionally substituted with the substituent C when having the substituent C, the hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group is optionally substituted with the substituent C.
  • C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, a hydrogen atom in C3-C8 cycloalkoxy group is optionally substituted with substituent C .
  • C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, a hydrogen atom in C2-C6 alkenyloxy group is optionally substituted with substituent C .
  • C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, a hydrogen atom in C3-C6 alkynyloxy group is optionally substituted with substituent C .
  • substituent E a hydroxyl group; a cyano group; As halogen atom, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom;
  • C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent C include a methyl group, a hydroxymethyl group, a cyanomethyl group, a cyclopropylmethyl group, a cyclobutylmethyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, and a difluoromethoxymethyl group.
  • Trifluoromethoxymethyl group Trifluoromethoxymethyl group, cyclopropyloxymethyl group, cyclobutyloxymethyl group, methoxymethoxymethyl group, dimethylaminomethyl group, methylthiomethyl group, methylsulfinylmethyl group, methylsulfonylmethyl group, acetylmethyl group, propionoyl Methyl group, trifluoroacetylmethyl group, methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, acetyloxymethyl group, difluoroacetyloxymethyl group, trifluoroacetyloxymethyl group, (1,3-dioxy group) Lan-2-yl) methyl group, (1,3-dioxane-2-yl) methyl group, ethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-cyanoethyl group, 2-cyanoethyl group, 1- Methoxyethyl group,
  • 2-trifluoromethoxyvinyloxy group 2-cyclopropyloxyvinyloxy group, 2- (methoxymethoxy) vinyloxy group, 2- (dimethylamino) vinyloxy group, 2-acetylvinyloxy group, 2- (trifluoroacetyl) ) Vinyloxy group, 2- (1,3-dioxolan-2-yl) vinyloxy group, 2- (1,3-dioxane-2-yl) vinyloxy group, 1-propenyloxy group, 3-hydroxy-1-propenyloxy Group, allyloxy group, 1- (methoxymethoxy) allyloxy group, 1- (methyl) Thio) allyloxy group, 1- (methylsulfinyl) allyloxy group, 1- (methylsulfonyl) allyloxy group, 1- (acetyloxy) allyloxy group, 1- (difluoroacetyloxy) allyloxy group, 1- (trifluoroacetyloxy) An allyloxy
  • substituent E a hydroxyl group; a cyano group; As a halogen atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom;
  • C1-C6 alkyl group that may be optionally substituted with the substituent C include a methyl group, a hydroxymethyl group, a methoxymethyl group, an acetyloxymethyl group, a difluoroacetyloxymethyl group, a trifluoroacetyloxymethyl group, an ethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-methoxyethyl group, 1- (acetyloxy) ethyl group, 2- (acetyloxy) ethyl group, 1- (difluoroacetyloxy) ethyl group, 2- (difluoro Acetyloxy) ethyl group, 1- (trifluoroacetyloxy
  • C3-C8 cycloalkoxy groups optionally substituted with substituent C include a cyclopropyloxy group, a cyclobutyloxy group, and a cyclopentyloxy group;
  • a C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with the substituent C includes a vinyloxy group, a 1-propenyloxy group, and an allyloxy group; 2-fluorovinyloxy group and 2,2-difluorovinyloxy group as C2-C6
  • the substituent F is a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group that may be optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-C8 optionally substituted with a substituent C.
  • the substituent F is a hydroxyl group, a cyano group, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a substituent C optionally substituted with a C3- C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent C, RdC ( ⁇ O) — (where Rd is as defined above) and RdC ( ⁇ O) O— (where Rd is as defined above) are preferred,
  • a halogen atom, a C1-C6 alkyl group that may be optionally substituted with the substituent C, and a C1-C6 alkoxy group that may be optionally substituted with the substituent C are preferable.
  • substituent F is as defined above.
  • C1-C6 alkyl group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, the hydrogen atom in C1-C6 alkyl group is optionally substituted with substituent C.
  • C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, a hydrogen atom in C3-C8 cycloalkyl group is optionally substituted with substituent C .
  • C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, a hydrogen atom in C2-C6 alkenyl group is optionally substituted with substituent C.
  • C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, a hydrogen atom in C2-C6 alkynyl group is optionally substituted with substituent C.
  • C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, the hydrogen atom in the C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent C is substituted.
  • group C when it has substituent C, a hydrogen atom in C3-C8 cycloalkoxy group is optionally substituted with substituent C .
  • C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, a hydrogen atom in C2-C6 alkenyloxy group is optionally substituted with substituent C .
  • C3-C6 alkynyloxy group optionally substituted with substituent C when it has substituent C, a hydrogen atom in C3-C6 alkynyloxy group is optionally substituted with substituent C .
  • substituent F a hydroxyl group; a cyano group;
  • substituent C halogen atom, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom
  • substituent C examples include a methyl group, a hydroxymethyl group, a cyanomethyl group, a cyclopropylmethyl group, a cyclobutylmethyl group, a methoxymethyl group, an ethoxymethyl group, and a difluoromethoxymethyl group.
  • Trifluoromethoxymethyl group Trifluoromethoxymethyl group, cyclopropyloxymethyl group, cyclobutyloxymethyl group, methoxymethoxymethyl group, dimethylaminomethyl group, methylthiomethyl group, methylsulfinylmethyl group, methylsulfonylmethyl group, acetylmethyl group, propionoyl Methyl group, trifluoroacetylmethyl group, methoxycarbonylmethyl group, ethoxycarbonylmethyl group, acetyloxymethyl group, difluoroacetyloxymethyl group, trifluoroacetyloxymethyl group, (1,3-dioxy group) Lan-2-yl) methyl group, (1,3-dioxane-2-yl) methyl group, ethyl group, 1-hydroxyethyl group, 2-hydroxyethyl group, 1-cyanoethyl group, 2-cyanoethyl group, 1- Methoxyethyl group,
  • 2-trifluoromethoxyvinyloxy group 2-cyclopropyloxyvinyloxy group, 2- (methoxymethoxy) vinyloxy group, 2- (dimethylamino) vinyloxy group, 2-acetylvinyloxy group, 2- (trifluoroacetyl) ) Vinyloxy group, 2- (1,3-dioxolan-2-yl) vinyloxy group, 2- (1,3-dioxane-2-yl) vinyloxy group, 1-propenyloxy group, 3-hydroxy-1-propenyloxy Group, allyloxy group, 1- (methoxymethoxy) allyloxy group, 1- (methyl) Thio) allyloxy group, 1- (methylsulfinyl) allyloxy group, 1- (methylsulfonyl) allyloxy group, 1- (acetyloxy) allyloxy group, 1- (difluoroacetyloxy) allyloxy group, 1- (trifluoroacetyloxy) An allyloxy
  • substituent F a hydroxyl group; a cyano group;
  • substituent C a halogen atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom
  • Examples of the C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent C include a methyl group, a hydroxymethyl group, a methoxymethyl group, an ethyl group, a 1-hydroxyethyl group, a 2-hydroxyethyl group, a 1-methoxyethyl group, Propyl group, and isopropyl group;
  • C3-C8 cycloalkyl groups optionally substituted with substituent C include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, and a cyclopentyl group;
  • the wavy line in the compound represented by formula (1) represents an E-form or a Z-form. That is, the formula (1-a) Or a compound represented by the formula (1-b) The compound represented by these is represented.
  • the ratio may be either one alone or a mixture of any ratio, and is not particularly limited.
  • the compound represented by the formula (1) may have axial asymmetry.
  • the isomer ratio is a single or an arbitrary mixing ratio, and is not particularly limited.
  • the compound represented by the formula (1) may contain an asymmetric atom.
  • the isomer ratio is a single or an arbitrary mixing ratio, and is not particularly limited.
  • the compound represented by the formula (1) may contain geometric isomers.
  • the isomer ratio is a single or an arbitrary mixing ratio, and is not particularly limited.
  • the compound represented by the formula (1) may be able to form a salt.
  • Examples include acid salts such as hydrochloric acid, sulfuric acid, acetic acid, fumaric acid, and maleic acid, and metal salts such as sodium, potassium, and calcium, but are particularly limited as long as they can be used as agricultural and horticultural fungicides. There is no.
  • R1, R2, R3, R4, R5, X, Y, Substituent A, Substituent B, Substituent C, Substituent D, Substituent E and Substituent F described above can be obtained in any desired combination.
  • the range of all the compounds is also described in this specification as the range of the compound represented by the formula (1) of the present invention.
  • the partial structure represented by Za is represented by the following formula (Za).
  • the partial structure represented by Zb is represented by the following formula (Zb).
  • the partial structure represented by Zc is represented by the following formula (Zc).
  • the partial structure represented by Zd is represented by the following formula (Zd).
  • the manufacturing method of the compound represented by Formula (1) of this invention is shown below.
  • the production method of the compound of the present invention is not limited to Production Method A to Production Method AQ.
  • Z1 represents a C1-C6 alkyl group
  • R22 represents a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group
  • R2, X and Y are as defined above.
  • Manufacturing method A is a manufacturing method of the compound represented by Formula (8) which is a manufacturing intermediate of this invention compound, Comprising: When represented by Formula (6), the compound represented by Formula (7) And a reaction method in a solvent in the presence of a base.
  • the compound represented by the formula (6) used in this reaction can be obtained as a commercial product, or can be produced using Reference Examples or known methods.
  • the compound represented by the formula (7) used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.
  • the amount of the compound represented by formula (7) used in this reaction is particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (6). Usually, it is 1 equivalent or more and 3 equivalents or less.
  • Bases used in this reaction are inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and tripotassium phosphate, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide and potassium t-butoxide. Etc.
  • the base used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 0.01 equivalents or more and 3 equivalents or less with respect to the compound represented by formula (6). .
  • Solvents used in this reaction are ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, Ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1,3-dimethyl -2-Urea solvents such as imidazolidinone, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, sulfur solvents such as dimethyl sulfox
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (6). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (8) obtained above is sodium sulfate or Although moisture can be removed with a desiccant such as magnesium sulfate, it is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (8) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by formula (8) obtained after evaporation of the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R22a represents a C1 to C6 alkyl group
  • R2, X, Y, and Z1 are as defined above.
  • Production method B is a method for obtaining a production intermediate represented by formula (8b) among compounds represented by formula (8), wherein the compound represented by formula (8a) is subjected to acidic conditions or a base. It is a manufacturing method including making it react in a solvent on sexual conditions.
  • the reaction under acidic conditions will be described.
  • the acid used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, and phosphoric acid, and organic acids such as acetic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, and trifluoroacetic acid.
  • inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid, and phosphoric acid
  • organic acids such as acetic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, and trifluoroacetic acid.
  • the amount of acid used in this reaction may be a catalytic amount and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 0.01% with respect to the compound represented by formula (8a). More than equivalent. Further, liquid acids can be used as solvents.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is not limited to an aqueous solvent, an acidic solvent such as acetic acid or methanesulfonic acid, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t- Ether solvents such as butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, ethyl acetate, isopropyl acetate and acetic acid Ester solvents such as butyl, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1,3-d
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (8a). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 0 ° C. or higher and 180 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • Examples of the base used in this reaction include inorganic bases such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, and potassium hydroxide, but are not particularly limited as long as the target reaction proceeds.
  • the base used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (8a). It is below the equivalent.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but an ether such as an aqueous solvent, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, etc.
  • an ether such as an aqueous solvent, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, etc.
  • Solvents alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, nitriles such as acetonitrile Solvents, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane Down, chloroform, and halogen solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (8a). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 20 ° C. or higher and 180 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • the reaction under acidic conditions and the reaction under basic conditions can be performed by a common method.
  • a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (8b) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (8b) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (8b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • the compound represented by the formula (8b) has the formula (8b ′) (Wherein R2, X, Y and Z1 have the same meanings as described above.) Is also included.
  • the compound represented by the formula (8b ′) can be handled in the same manner as the compound represented by the formula (8b), and can be applied to the production method C, for example.
  • the compound represented by the formula (8b ′) contains an asymmetric carbon, but the isomer mixing ratio may be a single compound or a mixture of any ratio. Further, it may be a mixture of the compound represented by the formula (8b) and the compound represented by the formula (8b ′), and the isomer mixing ratio may be a single compound or a mixture of any ratio.
  • R23 is a hydrogen atom, a hydroxyl group, a cyano group, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, or a C3-optionally substituted C3- A C8 cycloalkyl group, a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent A, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent A, C2- C6 haloalkynyl group, C1-C6 alkoxy group optionally substituted with substituent A, C1-C6 haloalkoxy group, C3-C8 cycloalkoxy group optionally substituted with substituent A, substituted A C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with the group A, a C2-C6 haloalkenyloxy group, or a C3-optionally substituted
  • Production method C is a method for obtaining a compound represented by formula (9), which is a production intermediate of the compound of the present invention, and reacts a compound represented by formula (8) with R23NH 2 in the presence of an acid. Manufacturing method.
  • R23NH 2 used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.
  • R23NH 2 may be a salt formed with an acidic compound such as hydrochloric acid or acetic acid, and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds.
  • R23NH 2 used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (8), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but usually 1 equivalent. More than 200 equivalents.
  • Examples of the acid used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids such as acetic acid, methanesulfonic acid, and p-toluenesulfonic acid, and are particularly limited as long as the target reaction proceeds. Although not preferred, acetic acid is preferred. Further, when using salts of R23NH 2 and the acidic compound, the use of acid is not essential.
  • the amount of the acid used in this reaction may if 1 equivalent or more relative to R23NH 2, is not limited in particular as long as the reaction proceeds to the desired, usually not more than 1 equivalent to 200 equivalents .
  • the acid to be used is a liquid, it can also be used as a solvent.
  • a solvent can be used for this reaction, it is not necessarily essential.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but acidic solvents such as acetic acid and methanesulfonic acid, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxy Ether solvents such as ethane, tetrahydrofuran, dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, etc.
  • Ester solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, urea systems such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone solvent Dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and halogen solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the solvent is preferably an acidic solvent, more preferably acetic acid.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (8). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 50 ° C. or higher and 180 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (9) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (9) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (9) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Lv represents a methanesulfonyl group, a trifluoromethanesulfonyl group, a p-toluenesulfonyl group, a leaving group such as a halogen atom, and R1, R2, X, Y, and Z1 are as defined above.
  • Production method D is a method for obtaining a compound represented by the formula (9b), which is a production intermediate of the compound of the present invention, in which the compound represented by the formula (9a) and R1-Lv are reacted in the presence of a base. It is a manufacturing method including making it react in a solvent.
  • the compound represented by the formula (9a), which is a raw material of the present invention, is produced by the production method C or Journal of Heterocyclic Chemistry, Vol. 20, paragraphs 65-67 (1983). It can synthesize
  • R1-Lv used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.
  • Examples of the base used in this reaction include inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, and sodium hydride, but are particularly limited as long as the intended reaction proceeds. It will never be done.
  • the amount of the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (9a), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Equivalent to 10 equivalents.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, Ch
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (9a). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 0 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (9b) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (9b) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (9b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • SR represents a sulfurizing agent
  • R1, R2, Y, and Z1 are as defined above.
  • Production method E is a method for obtaining a compound represented by formula (9b-2) among compounds represented by formula (9b), wherein the compound represented by formula (9b-1) and a sulfurizing agent (SR) is a production method including reacting in a solvent.
  • SR sulfurizing agent
  • sulfurizing agent examples include Lawesson's reagent (2,4-bis (4-methoxyphenyl) -1,3-dithia-2,4-diphosphetan-2,4-disulfide).
  • the amount of the sulfurizing agent used in this reaction may be 0.5 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (9b-1), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Usually, it is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Examples thereof include benzene-based solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (9b-1). It is as follows.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 50 ° C. or higher and 180 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane.
  • liquid separation operation is not essential.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (9b-2) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (9b-2) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (9b-2) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography, etc. with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R2a is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with the substituent A, a substituent C2-C6 alkenyl group optionally substituted with A, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent A, C2-C6 haloalkynyl group, or RdC ( ⁇ O) — (where Rd is as defined above), and R1, X, Y, Z1 and Lv are as defined above.
  • R2a is optionally substituted with a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a substituent A which may be optionally substituted with the substituent A.
  • C3-C8 cycloalkyl group, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent A, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 optionally substituted with substituent A This is a method for obtaining a compound represented by the formula (9b-4), which is an alkynyl group, a C2-C6 haloalkynyl group, or RdC ( ⁇ O) — (wherein Rd is as defined above). And a process comprising reacting a compound represented by the formula (9b-3) with R2a-Lv in a solvent in the presence of a base.
  • R2a-Lv used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.
  • the amount of R2a-Lv used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (9b-3), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Usually, it is 1 equivalent or more and 1.8 equivalent or less.
  • Bases used in this reaction include metal hydrides such as sodium hydride, organic lithiums such as methyl lithium, butyl lithium, sec-butyl lithium, t-butyl lithium, hexyl lithium, lithium diisopropylamide, hexamethyldisilazane
  • metal hydrides such as sodium hydride
  • organic lithiums such as methyl lithium, butyl lithium, sec-butyl lithium, t-butyl lithium, hexyl lithium, lithium diisopropylamide, hexamethyldisilazane
  • metal amides such as lithium, sodium hexamethyldisilazane, and potassium hexamethyldisilazane.
  • the amount of the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (9b-3), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Examples thereof include benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane
  • benzene solvents such as benzene, toluene, x
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (9b-3). It is as follows.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually from ⁇ 80 ° C. to 100 ° C. or the boiling point of the solvent.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • a solvent that is not compatible with water such as an ether solvent such as t-butyl ether, a halogen solvent such as dichloromethane, dichloroethane, or chloroform, or a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, cyclohexane, or methylcyclohexane.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (9b-4) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (9b-4) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (9b-4) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Ox represents an oxidizing agent
  • R1, R2, X, Y, and Z1 are as defined above.
  • Production method G is a method for obtaining a compound represented by formula (10), which is a production intermediate of the compound of the present invention, and comprises a compound represented by formula (9b) and an oxidizing agent (Ox) in a solvent. It is a manufacturing method including making it react with.
  • oxidizing agent used in this reaction examples include metal oxides such as manganese dioxide, benzoquinones such as 2,3-dichloro-5,6-dicyano-p-benzoquinone, azobisisobutyronitrile, and benzoyl peroxide.
  • the oxidizing agent is a metal oxide.
  • the amount of the oxidizing agent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (9b). Equivalent to 200 equivalents.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, And halogen-based solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (9b). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 0 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane.
  • liquid separation operation is not essential.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (10) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • the oxidizing agent is a benzoquinone.
  • the amount of the oxidizing agent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (9b). Equivalent to 20 equivalents.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, And halogen-based solvents such as carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (9b). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 0 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane.
  • liquid separation operation is not essential.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (10) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • the oxidizing agent is a combination of a radical initiator and a halogenating agent. If the amount of radical initiator and halogenating agent used in this reaction is 0.01 equivalent or more and 1.0 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (9b), the target reaction proceeds. As long as it does, it will not specifically limit. Usually, the radical initiator is 0.01 equivalent to 1 equivalent and the halogenating agent is 1 equivalent to 3 equivalent.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but halogenated benzene solvents such as chlorobenzene and dichlorobenzene, and ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate.
  • halogenated benzene solvents such as chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate.
  • the solvent include halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (9b). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • a solvent that is not compatible with water such as an ether solvent such as t-butyl ether, a halogen solvent such as dichloromethane, dichloroethane, or chloroform, or a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, cyclohexane, or methylcyclohexane.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (10) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R2b represents a halogen atom
  • Z2 is a C1-C6 alkyl group
  • R5ON C (R4)-(R4 and R5 are as defined above, and the ON bond includes one or an arbitrary proportion of isomers. )
  • HalR represents a halogenating agent
  • R1, X and Y are as defined above.
  • Production method H is a method for obtaining a compound represented by formula (10b) in which R2b represents a halogen atom, and reacting a compound represented by formula (10a) with a halogenating agent (HalR) in a solvent. Manufacturing method.
  • selectfluoro N-fluoro-N′-triethylenediamine bis (tetrafluoroborate)
  • N-chlorosuccinimide N-bromosuccinimide
  • N-iodosuccinimide 1 1,3-Dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-dibromo-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-diiodo-5,5-dimethylhydantoin, bromine, iodine and the like.
  • the amount of the halogenating agent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (10a). 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.
  • the amount of the halogenating agent containing hydantoin is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 0.5 equivalent or more, and is usually 1 equivalent or more and 5 equivalents or less.
  • the halogenating agent used in this reaction is an iodinating agent
  • an acid such as an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, or an organic acid such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, or trifluoromethanesulfonic acid.
  • an acid such as an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, or an organic acid such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, or trifluoromethanesulfonic acid.
  • the target reaction proceeds. Although it does not restrict
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but acidic solvents such as sulfuric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid, diethyl ether , Ether solvents such as diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene Ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (10a). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 0 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10b) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (10b) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • J represents an oxygen atom or a sulfur atom
  • R2c is a C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, or substituent A optionally substituted with the substituent A.
  • J represents an oxygen atom or a sulfur atom
  • R2c may be optionally substituted with a substituent A, a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, a substituent C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with A, C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent A, haloalkenyl group C2-C6, optionally substituted with substituent A A C2-C6 alkynyl group, a C2-C6 haloalkynyl group, and when J is a sulfur atom, R2c is represented by the formula (10c), which represents a C1-C6 alkyl group or a C1-C6 haloalkyl group
  • a method for obtaining a compound comprising obtaining a compound represented by the formula (10b) and R2c-JQ by a coupling reaction in the presence of a transition metal.
  • R 2b is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • R2c-JQ used in this reaction can be obtained as a commercially available product or can be produced by a known method.
  • Preferred Q is a hydrogen atom or an alkali metal such as sodium or potassium.
  • the amount of R2c-JQ used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (10b).
  • Q is a hydrogen atom, it can also be used as a solvent.
  • the transition metal used in this reaction may have a ligand, such as palladium acetate, [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium dichloride, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, tetrakis ( Palladiums such as triphenylphosphine) palladium and bis (triphenylphosphine) palladium dichloride.
  • a ligand such as palladium acetate, [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium dichloride, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, tetrakis ( Palladiums such as triphenylphosphine) palladium and bis (triphenylphosphine) palladium dichloride.
  • the amount of the transition metal used in this reaction is usually 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by the formula (10b), but is particularly limited as long as the target reaction proceeds. It will never be done.
  • triphenylphosphine 1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene, 2-dicyclohexylphosphino-2′4′6′-triisopropylbiphenyl, 2-di-t -A phosphine ligand such as butylphosphino-2'4'6'-triisopropylbiphenyl can be added.
  • the amount of the phosphine ligand used in this reaction is usually 0.001 equivalents or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by the formula (10b), but particularly as long as the target reaction proceeds. There is no limit.
  • the base used in this reaction is an inorganic base such as sodium carbonate, potassium carbonate or cesium carbonate, or an organic base such as triethylamine, tributylamine or diisopropylethylamine.
  • the amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (10b). More than 50 equivalents.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but R2c-JH (wherein R2c has the same meaning as described above, and J is an oxygen atom).
  • Alcohol solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene Is mentioned.
  • These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (10b). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 30 ° C. or higher and 200 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield. Further, it is possible to remove insoluble matters by performing a filtration operation, but this is not essential.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10c) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (10c) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10c) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R2d is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with the substituent A, a substituent A Represents an optionally substituted C2-C6 alkenyl group or C2-C6 haloalkenyl group, R2d-B represents an organic boronic acid, and R1, R2b, X, Y and Z2 are as defined above .
  • R2d is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent A, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with the substituent A,
  • This is a production method comprising obtaining a compound and an organic boronic acid (R2d-B) by a Suzuki-Miyaura coupling in which a reaction is performed in the presence of a transition metal and a base.
  • R 2b is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • R2d-B used in this reaction represents an organic boronic acid such as an organic boronic acid or an organic boronic acid ester, and can be obtained as a commercial product or produced by a known method.
  • the amount of R2d-B used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (10b). 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.
  • the transition metals used in this reaction are palladium, nickel, ruthenium, etc., and may have a ligand.
  • Palladium is mentioned.
  • the amount of the transition metal used in this reaction is usually 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by the formula (10b), but is particularly limited as long as the target reaction proceeds. It will never be done.
  • phosphine ligands such as triphenylphosphine and tricyclohexylphosphine can be added.
  • the amount of the phosphine ligand used in this reaction is usually 0.001 equivalents or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by the formula (10b), but particularly as long as the target reaction proceeds. There is no limit.
  • Bases used in this reaction are inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and tripotassium phosphate, and metal alkoxides such as sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide and potassium t-butoxide. Etc.
  • the amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (10b). More than 50 equivalents.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but an ether such as an aqueous solvent, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, etc.
  • benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (10b). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 30 ° C. or higher and 200 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield. Further, it is possible to remove insoluble matters by performing a filtration operation, but this is not essential.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10d) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (10d) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10d) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R2e represents a C2-C6 alkynyl group or a C2-C6 haloalkynyl group which may be optionally substituted with the substituent A, and R1, R2b, X, Y and Z2 are as defined above.
  • Production method K is a method for obtaining a compound represented by the formula (10e), wherein R2e is a C2-C6 alkynyl group or a C2-C6 haloalkynyl group optionally substituted with substituent A,
  • This is a production method including obtaining a compound represented by (10b) and a terminal alkyne compound by Sonogashira coupling in which the compound is reacted in the presence of a transition metal and a base.
  • R 2b is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • the terminal alkyne compound used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method. Trimethylsilylacetylene can also be used as the terminal alkyne compound. In this case, it is necessary to desilylate after introducing a trimethylsilylethynyl group into the compound represented by the formula (10b).
  • desilylation Journal of the American Chemical Society, Vol. 131, No. 2, pages 634-643 (2009). And Journal of Organometallic Chemistry, Vol. 696, No. 25, pages 4039-4045 (2011). It can carry out with reference to nonpatent literatures, such as.
  • the amount of the terminal alkyne compound used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (10b). 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.
  • the transition metal used in this reaction may have a ligand, such as palladium acetate, [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium dichloride, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, tetrakis ( Palladiums such as triphenylphosphine) palladium and bis (triphenylphosphine) palladium dichloride.
  • a ligand such as palladium acetate, [1,1′-bis (diphenylphosphino) ferrocene] palladium dichloride, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, tetrakis ( Palladiums such as triphenylphosphine) palladium and bis (triphenylphosphine) palladium dichloride.
  • coppers such as copper chloride, copper bromide and copper iodide are also used at the same time.
  • the amount of the transition metal used in this reaction is usually 0.001 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (10b) in which palladium and the like are each represented by the formula (10b). There is no particular limitation as long as it progresses. A preferable amount is 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less for both.
  • Examples of the base used in this reaction include organic amines such as triethylamine, tributylamine, isopropylamine, diethylamine, diisopropylamine and diisopropylethylamine, and inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate and cesium carbonate.
  • organic amines such as triethylamine, tributylamine, isopropylamine, diethylamine, diisopropylamine and diisopropylethylamine
  • inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate and cesium carbonate.
  • the amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (10b). More than 50 equivalents.
  • the organic base when the organic base is liquid, it can be used as a solvent.
  • a phosphine ligand such as tri-t-butylphosphine or 2-dicyclohexylphosphino-2'4'6'-triisopropylbiphenyl can be added to allow the reaction to proceed efficiently, but it is not essential. .
  • the amount of the phosphine ligand used in this reaction is usually 0.001 equivalents or more and 1 equivalent or less with respect to the compound represented by the formula (10b), but particularly as long as the target reaction proceeds. There is no limit.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide Amide solvents such as N, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, tri
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (10b). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 0 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane.
  • these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield. Further, it is possible to remove insoluble matters by performing a filtration operation, but this is not essential.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10e) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (10e) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10e) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Z3 represents a halogen atom
  • HalR, R1, R2, X, and Y are as defined above.
  • Production method L is a method for obtaining a compound represented by formula (10f) in which Z3 is a halogen atom, and is represented by formula (10-1) using a radical initiator and a halogenating agent (HalR). It is a manufacturing method including reacting a compound.
  • preferable Z3 is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • radical initiator used in this reaction include azobisisobutyronitrile and benzoyl peroxide.
  • the amount of the radical initiator used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 0.01 equivalent to the compound represented by the formula (10-1). It is 1.0 equivalent or less.
  • the halogenating agent used in this reaction is N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, 1,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-dibromo-5,5-dimethylhydantoin 1,3-diiodo-5,5-dimethylhydantoin and the like.
  • the amount of the halogenating agent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 2 equivalents or more with respect to the compound represented by formula (10-1). Usually, it is 2 equivalents or more and 2.8 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but halogenated benzene solvents such as chlorobenzene and dichlorobenzene, and ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate.
  • halogenated benzene solvents such as chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate.
  • the solvent include halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (10-1). It is as follows.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • a solvent that is not compatible with water such as an ether solvent such as t-butyl ether, a halogen solvent such as dichloromethane, dichloroethane, or chloroform, or a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, cyclohexane, or methylcyclohexane.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10f) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (10f) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10f) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Production method M is a method for obtaining a compound represented by formula (10g), which is a production intermediate of the compound of the present invention, and comprises hydrolyzing the compound represented by formula (10f) in the presence of water. It is a manufacturing method.
  • Z3 is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • Water is essential for this reaction.
  • silver nitrate can be used in order to make this reaction proceed smoothly.
  • the amount of water used in this reaction is not limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (10f). Moreover, water can be used as a solvent.
  • the amount of silver nitrate used in this reaction is not limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 2 equivalents or more with respect to the compound represented by formula (10f). It is below the equivalent.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but an ether such as an aqueous solvent, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, etc. And nitrile solvents such as acetonitrile and acetonitrile. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (10f). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually ⁇ 10 ° C. or higher and 100 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10 g) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (10 g) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10 g) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R4a is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituent C A C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkynyl group, a substituent D A phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 (provided that in the case of two or more substituents D, each independently), a phenyl group which may be appropriately substituted with 0 to 5 substituents D C1-C6 alkyl group (in the case of two or more substituents D, each independently), or C1-C6 haloalkyl having a
  • R4a is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, a substituted C2-C6 alkenyl group optionally substituted with group C, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkynyl group, substituted A phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 by the group D (however, in the case of the substituent D having 2 or more substituents, each is independently), a phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 by the substituent D Or a C1-C6 alkyl group having a phenyl group which may be optionally substituted with 0-5 substituents D.
  • the Haroa A method for obtaining a compound represented by the formula (10h) which is a kill group (however, in the case of a substituent D having two or more substitutions, each), and a compound represented by the formula (10g) It is a manufacturing method including reacting an organometallic reagent in a solvent.
  • organometallic reagents used in this reaction include organomagnesium halides (R4a-Mg-Hal: where Hal represents a halogen atom and R4a is as defined above), organolithium reagents (R4a-Li: Here, R4a has the same meaning as described above), organomagnesium halide-zinc (II) ate complex reagent ([(R4a) 3 -Zn] - [Mg-Hal] + [Mg- (Hal) 2 ] 2 Where R4a and Hal are as defined above).
  • organometallic reagents can be obtained as commercially available products or can be produced by known methods.
  • the amount of the organometallic reagent used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the formula (10 g), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Usually, it is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.
  • the solvent used in the reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, and hexane , Hydrocarbon solvents such as heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (10 g). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually from ⁇ 80 ° C. to 100 ° C. or the boiling point of the solvent.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • a solvent that is not compatible with water such as an ether solvent such as t-butyl ether, a halogen solvent such as dichloromethane, dichloroethane, or chloroform, or a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, cyclohexane, or methylcyclohexane.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10h) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (10h) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (10h) obtained after evaporation of the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Ox ′ represents an oxidizing agent
  • R1, R2, X, Y, and R4a have the same meanings as described above.
  • Production method O is a method for obtaining a compound represented by formula (10i), which is a production intermediate of the compound of the present invention, in which a compound represented by formula (10h) and an oxidizing agent (Ox ′) are mixed with a solvent. It is a manufacturing method including making it react in.
  • This production method should be carried out by oxidation methods commonly used by those skilled in the art, such as Dess-Martin oxidation, Swern oxidation, Parrick-Doering oxidation, etc. Can do.
  • the oxidation reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds.
  • the method of the Parrick-Deiling oxidation using dimethyl sulfoxide, pyridine-sulfur trioxide complex and a base in a solvent is described.
  • the dimethyl sulfoxide used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (10h), and should be used as a solvent. You can also.
  • the pyridine-sulfur trioxide complex used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (10h). 1 equivalent or more and 20 equivalents or less.
  • Examples of the base used in this reaction include organic amines such as triethylamine, tributylamine and diisopropylethylamine.
  • the amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (10h). 50 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, sulfur solvents such as dimethyl sulfoxide, and the like. Can be mentioned. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (10h). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 10 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • a solvent that is not compatible with water such as an ether solvent such as t-butyl ether, a halogen solvent such as dichloromethane, dichloroethane, or chloroform, or a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, cyclohexane, or methylcyclohexane.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10i) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (10i) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (10i) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R4b is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C.
  • C2-C6 alkenyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkynyl group A phenyl group that may be optionally substituted with 0 to 5 substituents D (provided that each of substituents D is 2 or more is independent), and optionally substituted with 0 to 5 substituents D.
  • R4b is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a substituent C
  • R4b is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a substituent C
  • R4b is a hydrogen atom, a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a substituent C
  • a substituent C Optionally substituted with a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a C2-C6 alkenyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkenyl group, and optionally substituted with a substituent C.
  • a C2-C6 alkynyl group, a C2-C6 haloalkynyl group, and a phenyl group optionally substituted with 0 to 5 substituents D (in the case of a substituent D having 2 or more substituents, each is independent)
  • a process comprising reacting a compound represented by formula (10j) with R5ONH2 in a solvent.
  • R5ONH2 used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.
  • R5ONH2 may be a salt formed with an acidic compound such as hydrochloric acid or sulfuric acid, and can be used in the presence of a base in the reaction system.
  • bases used include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine, and lutidine.
  • bases used include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine, and lutidine.
  • triethylamine tributylamine,
  • the amount of the base used may be 1 equivalent or more with respect to R5ONH2, and is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 1 equivalent or more and 20 equivalents or less. It is also possible to use R5ONH2 after desalting by a known method in advance.
  • the amount of R5ONH2 used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (10j). It is 20 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, Ch
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (10j). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 0 ° C. or higher and 180 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1a) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Production method Q is a method for obtaining a compound represented by formula (1d), which is a production intermediate of the present invention, and reacting a compound represented by formula (1b) with a chlorinating agent in a solvent. It is a manufacturing method including.
  • chlorinating agent used in this reaction examples include N-chlorosuccinimide and 1,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin.
  • the amount of the chlorinating agent used in this reaction is, in the case of N-chlorosuccinimide, as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1b). Although it does not restrict
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide Amide solvents such as N, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (1b). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 10 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1d) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (1d) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1d) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Production method R is a method for obtaining a compound represented by formula (1e) among compounds represented by formula (1), wherein a compound represented by formula (1d) and an organometallic reagent are mixed with a solvent. It is a manufacturing method including making it react in.
  • organometallic reagents used in this reaction include organomagnesium halides (R4a-Mg-Hal: where Hal represents a halogen atom and R4a is as defined above), organolithium reagents (R4a-Li: Here, R4a is as defined above.
  • organometallic reagents can be obtained as commercially available products or can be produced by known methods.
  • the amount of the organometallic reagent used in this reaction may be 2 equivalents or more with respect to the formula represented by formula (1d), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Usually, it is 2 equivalents or more and 10 equivalents or less.
  • the solvent used in the reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, and hexane , Hydrocarbon solvents such as heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually from ⁇ 80 ° C. to 100 ° C. or the boiling point of the solvent.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • a solvent that is not compatible with water such as an ether solvent such as t-butyl ether, a halogen solvent such as dichloromethane, dichloroethane, or chloroform, or a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, cyclohexane, or methylcyclohexane.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1e) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (1e) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1e) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Production method S is a method for obtaining a compound represented by formula (1f) among the compounds represented by formula (1), wherein the compound represented by formula (1d) and RaRbNH are mixed in a solvent. It is a manufacturing method including reacting.
  • RaRbNH used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.
  • RaRbNH may be a salt formed with an acidic compound such as hydrochloric acid or sulfuric acid, and can be used in the presence of a base in the reaction system.
  • bases used include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine, and lutidine.
  • bases used include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine, and lutidine.
  • triethylamine tributylamine
  • the amount of the base used may be 1 equivalent or more with respect to RaRbNH, and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 1 equivalent or more and 20 equivalents or less. It is also possible to use RaRbNH after desalting by a known method in advance.
  • the amount of RaRbNH used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 2 equivalents or more with respect to the compound represented by formula (1d). It is 20 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene; nitrile solvents such as acetonitrile; amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide; Urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (1d). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 10 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • a solvent that is not compatible with water such as an ether solvent such as t-butyl ether, a halogen solvent such as dichloromethane, dichloroethane, or chloroform, or a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, cyclohexane, or methylcyclohexane.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1f) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (1f) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1f) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R5a is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with the substituent C, a substituent C2-C6 alkenyl group optionally substituted with C, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkynyl group, substituent A C1-C6 alkyl group having a phenyl group which may be optionally substituted with 0 to 5 by D (however, in the case of two or more substituents D, each is independent); A C1-C6 haloalkyl group having an optionally substituted phenyl group (however, in the case of two or more substituents D, each is independent), or RdC ( ⁇ O) — (where Rd is Synonym
  • Production method T is a method for obtaining a compound represented by formula (1h) among compounds represented by formula (1), wherein a compound represented by formula (1g) and R5a-Lv are converted into a base It is a manufacturing method including making it react in presence.
  • R5a-Lv used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be obtained by a known method.
  • R5a-Lv used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (1g), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Equivalent to 50 equivalents.
  • Examples of the base used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine.
  • examples thereof include transition metals such as silver (I) oxide, but are not particularly limited as long as the target reaction proceeds.
  • the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (1g), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but usually 1 equivalent or more. 50 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide Amide solvents such as N, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (1 g). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 10 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1h) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (1h) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1h) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • the compound represented by the formula (11) used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.
  • the compound represented by the formula (11) used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (1d), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Usually, it is 1 equivalent or more and 20 equivalents or less.
  • Bases used in this reaction are inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine.
  • inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride
  • organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine.
  • organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine.
  • the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1d), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but usually 1 equivalent or more. 20 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, etc. Examples include halogen-based solvent media. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (1d). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (3) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (3) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (3) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R8a represents a halogen atom
  • R1, R2, R9, R10, R11, X, and Y are as defined above.
  • Production method V is a method of obtaining a compound represented by formula (3b) among compounds represented by formula (3), wherein the compound represented by formula (3a) is converted into a radical initiator and a halogenating agent. And a reaction method in a solvent.
  • radical initiator used in this reaction examples include azobisisobutyronitrile and benzoyl peroxide.
  • the amount of the radical initiator used in this reaction may be 0.01 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (3a), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Is usually not less than 0.01 equivalent and not more than 1 equivalent.
  • N-chlorosuccinimide, N-bromosuccinimide, N-iodosuccinimide, 1,3-dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-dibromo-5,5-dimethyl Hydantoin, 1,3-diiodo-5,5-dimethylhydantoin and the like can be mentioned.
  • the amount of the halogenating agent used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (3a), and is particularly limited as long as the target reaction proceeds. Usually, it is 1 equivalent or more and 3 equivalents or less.
  • the hydantoins may be 0.5 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (3a), and are not particularly limited as long as the target reaction proceeds. It is 5 equivalents or more and 1.5 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but halogenated benzene solvents such as chlorobenzene and dichlorobenzene, and ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate.
  • halogenated benzene solvents such as chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate.
  • the solvent include halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (3a). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • a solvent that is not compatible with water such as an ether solvent such as t-butyl ether, a halogen solvent such as dichloromethane, dichloroethane, or chloroform, or a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, cyclohexane, or methylcyclohexane.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (3b) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (3b) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (3b) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R24 represents a C1-C6 alkyl group
  • R1, R2, R8, R10, X and Y are as defined above.
  • Production method W is a production method for obtaining a compound represented by formula (2a) among the compounds represented by formula (2), wherein the compound represented by formula (3c) is dissolved in the presence of an acid in a solvent. It is a manufacturing method including making it react in.
  • Examples of the acid used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and phosphoric acid, and organic acids such as acetic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and trifluoroacetic acid. There is no particular limitation as long as the target reaction proceeds.
  • the amount of acid used in this reaction may be a catalytic amount and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 0.01% relative to the compound represented by formula (3c). More than equivalent. Further, liquid acids can be used as solvents.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is not limited to an aqueous solvent, an acidic solvent such as acetic acid or methanesulfonic acid, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t- Ether solvents such as butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, ethyl acetate, isopropyl acetate and acetic acid Ester solvents such as butyl, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1,3-d
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (3c). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 0 ° C. or higher and 180 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2a) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (2a) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2a) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • the production method X is a method for obtaining a compound represented by the formula (2).
  • the compound represented by the formula (12) is reacted in a solvent in the presence of a base. It is a manufacturing method containing.
  • the compound represented by the formula (12) used in this reaction can be obtained as a commercially available product or can be produced by a known method.
  • the compound represented by the formula (12) used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (1d), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Usually, it is 1 equivalent or more and 100 equivalent or less.
  • Bases used in this reaction are inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine.
  • inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride
  • organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine.
  • organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine.
  • the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1d), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but usually 1 equivalent or more. 20 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, etc. Examples include halogen-based solvent media. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (1d). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (2) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R6a represents a halogen atom
  • R1, R2, R7, X and Y have the same meanings as described above.
  • the production method Y is a method for obtaining a compound represented by the formula (2c) among the compounds represented by the formula (2), wherein the compound represented by the formula (2b) and the halogenating agent are mixed with a solvent. It is a manufacturing method including making it react in.
  • selectfluoro N-fluoro-N′-triethylenediamine bis (tetrafluoroborate)
  • N-chlorosuccinimide N-bromosuccinimide
  • N-iodosuccinimide 1 1,3-Dichloro-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-dibromo-5,5-dimethylhydantoin, 1,3-diiodo-5,5-dimethylhydantoin, bromine, iodine and the like.
  • the amount of the halogenating agent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (2b). 1 equivalent or more and 100 equivalents or less.
  • the amount of the halogenating agent containing hydantoin is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 0.5 equivalent or more, and is usually 1 equivalent or more and 5 equivalents or less.
  • the halogenating agent used in this reaction is an iodinating agent
  • an acid such as an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, or an organic acid such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, or trifluoromethanesulfonic acid.
  • an acid such as an inorganic acid such as hydrochloric acid or sulfuric acid, or an organic acid such as acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid, or trifluoromethanesulfonic acid.
  • the target reaction proceeds. Although it does not restrict
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but acidic solvents such as sulfuric acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, methanesulfonic acid and trifluoromethanesulfonic acid, diethyl ether , Ether solvents such as diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene Ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (2b). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 0 ° C. or higher and 180 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2c) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (2c) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • reaction mixture containing the compound represented by formula (2c) obtained after evaporation of the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Production method Z is a method for obtaining a compound represented by formula (2e) among compounds represented by formula (2), wherein the compound represented by formula (2d) and the fluorine-containing compound are mixed with a solvent. It is a manufacturing method including making it react in.
  • fluorine-containing compound used in this reaction examples include inorganic salts such as sodium fluoride, potassium fluoride and cesium fluoride, and organic salts such as tetrabutylammonium fluoride.
  • the amount of the fluorine-containing compound used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (2d). 1 equivalent or more and 20 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, Examples thereof include halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (2d). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2e) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (2e) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (2e) obtained after evaporation of the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R4c and R5b are each independently a hydrogen atom or a C1-C6 alkyl group, and R1, R2, X and Y are as defined above.
  • Production method AA is a method for obtaining a compound represented by formula (2f) among compounds represented by formula (2), in which a compound represented by formula (1i) is treated with iodine and iodine in the presence of a base. It is a manufacturing method including reacting a metal iodide with a solvent.
  • the compound represented by the formula (1i) used for this reaction can be prepared by the method described in Production Method R.
  • Bases used in this reaction are inorganic bases such as sodium carbonate, sodium bicarbonate, potassium carbonate, potassium bicarbonate, cesium carbonate, cesium bicarbonate, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide, potassium t.
  • Metal alkoxides such as butoxide.
  • the amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1i). Equivalent to 30 equivalents.
  • the amount of iodine used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1i). Equivalent to 30 equivalents.
  • Examples of the metal iodide used in this reaction include sodium iodide and potassium iodide.
  • the amount of metal iodide used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1i). 1 equivalent or more and 30 equivalent or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but an ether such as an aqueous solvent, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, etc.
  • an ether such as an aqueous solvent, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, etc.
  • Solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, nitrile solvents such as acetonitrile, amides such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide
  • amides such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide
  • the solvent include urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, and halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (1i). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 0 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane.
  • these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield. Further, it is possible to remove insoluble matters by performing a filtration operation, but this is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (2f) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2f) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R6b represents a hydrogen atom or a substituent E
  • Ox ′′ represents an oxidizing agent
  • R1, R2, Rh, X, and Y have the same meanings as described above.
  • Production method AB is a method for obtaining a compound represented by formula (2h) among compounds represented by formula (2), and comprises a compound represented by formula (2g) and an oxidizing agent (Ox ′′). And a reaction method in a solvent.
  • This production method should be carried out by oxidation methods commonly used by those skilled in the art, such as Dess-Martin oxidation, Swern oxidation, Parrick-Doering oxidation, etc. Can do.
  • the oxidation reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds.
  • the method of Dess-Martin oxidation using Dess-Martin reagent in a solvent is demonstrated.
  • the oxidizing agent used in this reaction is Dess-Martin reagent (1,1,1-triacetoxy-1,1-dihydro-1,2-benziodoxol-3 (1H) -one), which is a commercially available product. Can be obtained as
  • the amount of the oxidizing agent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (2g). It is 20 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, sulfur solvents such as dimethyl sulfoxide, and the like. Can be mentioned. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (2g). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 10 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • a solvent that is not compatible with water such as an ether solvent such as t-butyl ether, a halogen solvent such as dichloromethane, dichloroethane, or chloroform, or a hydrocarbon solvent such as hexane, heptane, cyclohexane, or methylcyclohexane.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2h) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (2h) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (2h) obtained after evaporation of the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Production method AC is a method for obtaining a compound represented by formula (2j) among compounds represented by formula (2), wherein the compound represented by formula (2i), a fluorinating agent (FR), Is a production method comprising reacting in a solvent.
  • fluorinating agent used in this reaction (diethylamino) sulfur trifluoride, bis (2-methoxyethyl) aminosulfur trifluoride, N, N-diethyl-1,1,2,3,3,3-hexafluoropropyl Amine, 2,2-difluoro-1,3-dimethylimidazolidine and the like.
  • the amount of the fluorinating agent used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (2i), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, nitrile solvents such as acetonitrile, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, hexane, heptane, cyclohexane, methylcyclohexane, etc. Examples include hydrocarbon solvents. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (2i). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually from ⁇ 80 ° C. to 100 ° C. or the boiling point of the solvent.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2j) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (2j) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2j) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Production method AD is a method for obtaining a compound represented by formula (2k) among compounds represented by formula (2), wherein the compound represented by formula (2g) and RgONH2 are mixed in a solvent. It is a manufacturing method including reacting.
  • the production method AD is carried out according to the production method P by using the compound represented by the formula (10j) and R5ONH2 in the production method P instead of the compound represented by the formula (2g) and RgONH2, respectively. Can do.
  • Rl is a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group
  • R1, R2, R6b, X and Y are as defined above.
  • the C1-C4 alkyl group represents a C1-C6 alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • Production method AE is a method for obtaining a compound represented by formula (2m) among compounds represented by formula (2), wherein a compound represented by formula (2l) and a diazophosphonate reagent are mixed with a base. It is a production method in which a reaction is carried out in a solvent in the presence.
  • diazophosphonate reagent used in this reaction examples include dimethyl (1-diazo-2-oxypropyl) phosphonate and dimethyl (diazomethyl) phosphonate.
  • the amount of the diazophosphonate reagent used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (2l), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Usually, it is 1 equivalent or more and 10 equivalents or less.
  • Bases used in this reaction are inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, sodium methoxide, sodium ethoxide, sodium t-butoxide, potassium t- Metal alkoxides such as butoxide.
  • the amount of the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (2l), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Equivalent to 20 equivalents.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Alcohol solvents such as methanol, ethanol, isopropanol and the like can be mentioned. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (2l). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 20 ° C. or higher and 100 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more of them can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (2m) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2m) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R6c is a C1-C6 alkyl group, C1-C6 haloalkyl group, C3-C8 cycloalkyl group, C1-C6 alkoxy group, C1-C6 halo optionally substituted with the substituent B.
  • R7a is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with the substituent C, and a substituent C appropriately.
  • An optionally substituted C2-C6 alkenyl group, a C2-C6 haloalkenyl group, a C2-C6 alkynyl group optionally substituted with a substituent C, a C2-C6 haloalkynyl group, and R1, R2, X and Y are as defined above.
  • Production method AF is a method for obtaining a compound represented by formula (2n) among compounds represented by formula (2), and is represented by a compound represented by formula (1d) and formula (13). This is a production method comprising reacting a compound in a solvent in the presence of a base.
  • the compound represented by the formula (13) used in this reaction can be obtained as a commercially available product or can be produced by a known method.
  • the production method AF can be performed according to the production method X.
  • Production method AG is a method of obtaining formula (2g) among the compounds represented by formula (2), wherein the compound represented by formula (2h) is reacted with a hydride reagent in a solvent. It is a manufacturing method including.
  • Examples of the hydride reagent used in this reaction include borons such as sodium borohydride.
  • the hydride reagent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more in terms of hydride with respect to the compound represented by formula (2h). 1 equivalent or more and 40 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but an ether such as an aqueous solvent, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, etc.
  • an ether such as an aqueous solvent, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, etc.
  • the solvent include alcohol solvents such as methanol, ethanol, and isopropanol. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (2h). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2g) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (2g) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2 g) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Rm and Rn are each independently a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group (provided that the total number of carbon atoms of Rm and Rn is 4 or less), and R1, R2, R6b , X and Y are as defined above.
  • the C1-C4 alkyl group represents a C1-C6 alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
  • Production method AH is a method for obtaining a compound represented by formula (2p) among compounds represented by formula (2), wherein the compound represented by formula (2o) is dissolved in a solvent in the presence of an acid. It is a manufacturing method including making it react with.
  • Examples of the acid used in this reaction include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and phosphoric acid, and organic acids such as acetic acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid and trifluoroacetic acid. There is no particular limitation as long as the target reaction proceeds.
  • the amount of the acid used in this reaction may be a catalytic amount and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but usually 0.01% relative to the compound represented by the formula (2o). More than equivalent. Further, liquid acids can be used as solvents.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is not limited to an aqueous solvent, an acidic solvent such as acetic acid or methanesulfonic acid, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t- Ether solvents such as butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane, alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, ethyl acetate, isopropyl acetate and acetic acid Ester solvents such as butyl, nitrile solvents such as acetonitrile, amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 1,3-d
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (2o). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 0 ° C. or higher and 180 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2p) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (2p) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2p) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Production method AI is a method for obtaining a compound represented by formula (4), wherein a compound represented by formula (1d), a compound represented by formula (14) and a fluorine-containing compound are mixed in a solvent. It is a manufacturing method including reacting.
  • the compound represented by the formula (14) used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.
  • the amount of the compound represented by formula (14) used in this reaction is particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1d). Usually, it is 1 equivalent or more and 30 equivalent or less.
  • fluorine-containing compound used in this reaction examples include inorganic salts such as sodium fluoride, potassium fluoride and cesium fluoride, and organic salts such as tetrabutylammonium fluoride.
  • the amount of the fluorine-containing compound used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 2 equivalents or more with respect to the compound represented by the formula (1d). 2 equivalents or more and 30 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, etc. Halogen type solvent etc. are mentioned. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (1d). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (4) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (4) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by formula (4) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R3a represents a halogen atom
  • R3b represents a C1-C6 alkoxy group that may be optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkoxy group, and a C3-C8 optionally substituted with a substituent C.
  • R3b is optionally substituted with a C1-C6 alkoxy group, C1-C6 haloalkoxy group, or substituent C optionally substituted with a substituent C.
  • C3-C8 cycloalkoxy group which may be substituted, C2-C6 alkenyloxy group optionally substituted with substituent C, C2-C6 haloalkenyloxy group, optionally substituted with substituent C
  • C represents a C3-C6 alkynyloxy group or a C3-C6 haloalkynyloxy group
  • Y1 represents a phenyl group having R3a optionally substituted with R3, or R3a optionally substituted with R3.
  • nA represents an integer of 0 to 4 (however, in the case of R3 having 2 or more substitutions, each is independent), and Y1 is a pyridyl group.
  • nA is a method for obtaining a compound represented by the formula (1j) representing an integer of 0 to 3 (provided that each of R3 having 2 or more substituents is independent), A production method comprising reacting the compound represented by 1j) with R3b-Q in a solvent.
  • R3b-Q used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.
  • Preferred Q is a hydrogen atom or an alkali metal such as sodium or potassium.
  • the amount of R3b-Q used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1j). 1 equivalent or more and 30 equivalent or less.
  • Q represents a hydrogen atom, it can be used as a solvent.
  • the base used in this reaction is preferably an inorganic base such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate or sodium hydride. Further, when Q is an alkali metal, the use of a base is not essential.
  • the amount of the base used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds as long as it is 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1j). It is 30 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but alcohol solvents represented by R3b-H, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxy Ether solvents such as ethane, tetrahydrofuran and dioxane, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon te
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (1j). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually 0 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • a liquid separation operation can be performed by adding water or an appropriate aqueous solution to the reaction mixture.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, sodium thiosulfate, sulfurous acid
  • An aqueous solution or a salt solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1k) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (1k) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1k) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R3c represents a C1-C6 alkoxy group
  • R1, R2, R3, R4, R5, nA, X, and Y1 are as defined above.
  • Production method Z is a method for obtaining a compound represented by formula (1m) having a hydroxyl group among the compounds represented by formula (1), and reacting the compound represented by formula (1l) with an acid. It is a manufacturing method including obtaining by making it.
  • Examples of the acid used for this reaction include boron halides such as boron trichloride and boron tribromide.
  • the amount of acid used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1l), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Equivalent to 10 equivalents.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, and nitrile solvents such as acetonitrile. And halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane and methylcyclohexane. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (1l). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually from ⁇ 80 ° C. to 100 ° C. or the boiling point of the solvent.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1m) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (1m) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1m) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R3d is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with the substituent C, a substituent C2-C6 alkenyl group optionally substituted with C, C2-C6 haloalkenyl group, C2-C6 alkynyl group optionally substituted with substituent C, C3-C6 haloalkynyl group, or RdC ( ⁇ O) — (where Rd is as defined above), and R1, R2, R3, R4, R5, nA, Lv, X, and Y1 are as defined above.
  • R3d is optionally substituted with a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a substituent C, which may be optionally substituted with a substituent C.
  • R3d-Lv used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.
  • R3d-Lv used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (1m), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Equivalent to 10 equivalents.
  • Bases used in this reaction include inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine, and lutidine.
  • inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate, sodium hydride
  • organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine, and lutidine.
  • organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine, and lutidine.
  • the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (1m), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but usually 1 equivalent or more. 10 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, Amide solvents such as N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, dichloromethane, dichloroethane, Ch
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (1m). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1n) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (1n) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (1n) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • R3e is a C1-C6 alkyl group optionally substituted with a substituent C, a C1-C6 haloalkyl group, a C3-C8 cycloalkyl group optionally substituted with a substituent C, or a substituent C
  • R3e-B represents an organic boronic acid
  • R1, R2, R3, R3a, R4, R5, nA, X And Y1 are as defined above.
  • R3e is optionally substituted with a C1-C6 alkyl group, a C1-C6 haloalkyl group, or a substituent C, which may be optionally substituted with a substituent C.
  • a production method comprising obtaining by a Suzuki-Miyaura coupling in which a compound represented by the formula (1j) and an organic boronic acid (R3e-B) are reacted in the presence of a transition metal and a base.
  • R 3a is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • R3e-B used in this reaction represents an organic boronic acid such as an organic boronic acid or an organic boronic acid ester, and can be obtained as a commercial product or produced by a known method.
  • AM can be performed.
  • R3f represents a C2 to C6 alkynyl group or a C2 to C6 haloalkynyl group which may be optionally substituted with a substituent C, and R1, R2, R3, R3a, R4, R5, nA, X and Y1 Is as defined above.
  • R3f is a C2 to C6 alkynyl group or a C2 to C6 haloalkynyl group optionally substituted with a substituent C.
  • R 3a is a chlorine atom, a bromine atom, or an iodine atom.
  • the terminal alkyne compound used in this reaction can be obtained as a commercial product or produced by a known method. Trimethylsilylacetylene can also be used as the terminal alkyne compound.
  • the production method AN can be performed according to the production method K.
  • R7b represents a C1-C6 alkyl group optionally substituted with the substituent C
  • R1, R2, X and Y are as defined above.
  • Production method AO is a method of obtaining a compound represented by formula (2q), and reacting a compound represented by formula (1d) represented by formula (1d) in a solvent in the presence of a base. It is a manufacturing method containing.
  • the compound represented by the formula (15) used in this reaction can be obtained as a commercial product or can be produced by a known method.
  • the compound represented by the formula (15) used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by the formula (1d), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds. Usually, it is 1 equivalent or more and 20 equivalents or less.
  • Bases used in this reaction are inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, and organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine.
  • inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride
  • organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine.
  • organic bases such as triethylamine, tributylamine, diisopropylethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, collidine and lutidine.
  • the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1d), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but usually 1 equivalent or more. 20 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the desired reaction proceeds, but ether solvents such as diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, tetrahydrofuran, dioxane, Benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, nitrile solvents such as acetonitrile, dichloromethane, dichloroethane, chloroform, carbon tetrachloride, etc. Examples include halogen-based solvent media. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by formula (1d). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 20 ° C. or higher and 150 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2q) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (2q) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (2q) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Production method AP is a method for obtaining a compound represented by formula (5), and is a production method comprising reacting a compound represented by formula (1c) in a solvent in the presence of a base.
  • the compound represented by the formula (1c) can be obtained with reference to the production method R and the like.
  • the base used in this reaction is exemplified by inorganic bases such as sodium carbonate, potassium carbonate, cesium carbonate and sodium hydride, but is not particularly limited as long as the target reaction proceeds.
  • the base used in this reaction may be 1 equivalent or more with respect to the compound represented by formula (1c), and is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but usually 1 equivalent or more. 20 equivalents or less.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but alcohol solvents such as tertiary butanol, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl-t-butyl ether, dimethoxyethane, Ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane, benzene solvents such as benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene and dichlorobenzene, nitrile solvents such as acetonitrile, N-methylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, N, N- Examples include amide solvents such as dimethylacetamide and urea solvents such as 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (1c). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but is usually 0 ° C. or higher and 180 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid, ammonium chloride or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, thiosulfuric acid
  • An aqueous solution or a saline solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium or sodium sulfite is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (5) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (5) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (5) obtained after distilling off the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • Manufacturing method AQ is the compound represented by the formula (1), there a way to obtain the R1, R2, R3, Lb contained in R4 and R5 of formula (Lb) is SO or SO 2 Compound
  • a compound represented by the formula (La) in which La contained in R1, R2, R3, R4 and R5 is S and an oxidizing agent (Ox ′ ′′) A production method including reacting in a solvent.
  • oxidizing agent used in this reaction examples include peroxides such as hydrogen peroxide and meta-chloroperbenzoic acid.
  • transition metals such as sodium tungstate can be added.
  • the amount of the oxidizing agent used in this reaction is usually 1.0 equivalent or more and 1.2 equivalent or less with respect to the compound represented by the formula (La) when producing SO, and produces SO 2 . When doing, it is usually 2 equivalents or more and 10 equivalents or less. Moreover, when adding transition metals, it is 0.001 equivalent or more and 1 equivalent or less normally.
  • the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but an aqueous solvent, an acidic solvent such as acetic acid, benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, etc.
  • an acidic solvent such as acetic acid, benzene, toluene, xylene, mesitylene, chlorobenzene, dichlorobenzene, etc.
  • examples thereof include benzene solvents, nitrile solvents such as acetonitrile, and halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride. These solvents can be used alone or in admixture of two or more.
  • the amount of the solvent used in this reaction is not particularly limited as long as the target reaction proceeds, but it is usually 3 to 200 times by weight with respect to the compound represented by the formula (La). is there.
  • the temperature at which this reaction is carried out is not particularly limited as long as the intended reaction proceeds, but is usually ⁇ 10 ° C. or higher and 120 ° C. or lower or the boiling point of the solvent or lower.
  • an aqueous solution an acidic aqueous solution in which hydrochloric acid, sulfuric acid or the like is dissolved, an alkaline aqueous solution in which potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium hydrogen carbonate, potassium hydrogen carbonate or the like is dissolved, sodium thiosulfate, sulfurous acid
  • An aqueous solution or a salt solution in which a salt containing a sulfur atom such as sodium is dissolved can be arbitrarily used.
  • benzene solvents such as toluene, xylene, benzene, chlorobenzene and dichlorobenzene
  • ester solvents such as ethyl acetate, isopropyl acetate and butyl acetate, diethyl ether, diisopropyl ether, methyl
  • Solvents that are not compatible with water such as ether solvents such as t-butyl ether, halogen solvents such as dichloromethane, dichloroethane, chloroform, and carbon tetrachloride, and hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, cyclohexane, and methylcyclohexane. It is possible to add.
  • these solvents can be used alone, or two or more kinds can be mixed in an arbitrary ratio.
  • the number of times of liquid separation is not particularly limited, and can be carried out according to the target purity and yield.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (Lb) obtained above can remove moisture with a desiccant such as sodium sulfate or magnesium sulfate, but is not essential.
  • reaction mixture containing the compound represented by the formula (Lb) obtained above can be distilled off under reduced pressure as long as the compound is not decomposed.
  • the reaction mixture containing the compound represented by the formula (Lb) obtained after evaporation of the solvent can be purified by washing, reprecipitation, recrystallization, column chromatography or the like with an appropriate solvent. What is necessary is just to set suitably according to the target purity.
  • the compound represented by the formula (1) can be produced by arbitrarily combining the production methods A to AQ described above. Alternatively, the compound represented by the formula (1) can be produced by arbitrarily combining known methods and production methods A to AQ.
  • the compound of the present invention can control harmful organisms to plants, it can be used as a pesticide, particularly a pesticide for agricultural and horticultural use.
  • a pesticide particularly a pesticide for agricultural and horticultural use.
  • Specific examples include fungicides, insecticides, herbicides, plant growth regulators, and the like.
  • it is a disinfectant.
  • the compound of the present invention can be used as an agricultural and horticultural fungicide in fields, paddy fields, tea gardens, orchards, pastures, lawns, forests, gardens, street trees, etc., for the control of plant diseases.
  • the plant disease as used in the present invention refers to systemic abnormal pathological symptoms such as wilt, withering, yellowing, atrophy, and pupa of plants such as crops, flowers, flowering trees, trees, or spots, leaf wilts, mosaics.
  • partial pathological symptoms such as cigars, branch wilt, root rot, root humps, humps are caused. That is, the plant becomes sick.
  • pathogens that cause plant diseases mainly include fungi, bacteria, spiroplasma, phytoplasma, viruses, viroids, parasitic higher plants, nematodes and the like.
  • the compound of the present invention is effective against fungi, but is not limited thereto.
  • fungi Diseases caused by fungi are mainly fungal diseases.
  • fungi pathogens
  • pathogens include root-knot fungi, oomycetes, zygomycetes, ascomycetous fungi, basidiomycetes, and incomplete fungi.
  • root-knot fungus fungi root-knot fungus
  • potato powdery scab fungus sugar beet root-knot fungus
  • oomycetes plague fungus, downy mildew, Pythium spp.
  • Aphanomyces spp. Aphanomyces spp.
  • peach blight fungus corn sesame leaf blight fungus, rice blast fungus, powdery mildew fungus, anthracnose fungus, red mold fungus, leafy seedling fungus, mycorrhizal fungus, basidiomycetous fungus, rust fungus, purple crest
  • blast fungus blast fungus, blast fungus, blight fungus, and incomplete fungus
  • gray mold Alteria spp., Fusarium spp., Penicillium spp., Rhizoctonia spp.
  • the compound of the present invention is effective against various plant diseases. Specific examples of disease names and pathogen names are shown below.
  • Rice blast Magnaporthe grisea
  • blight Tarephorus cucumeris
  • brown sclerotia Ceratobasidium setariae
  • brown sclerotia Waitea circinata
  • Red sclerotia Wildairea circinata
  • scab Entyloma dactylidis
  • staphylococcal sclerosis Ceratobasidium leaf
  • gray sclerotia Ceratobasidium leaf
  • Blight Sphaerulina oryzina
  • Seedling disease Gibberella fujikuroi
  • Seedling disease Pythium spp., Fusarium spp., Trichoderma spp., Rhizopus spi., Rhizoctonia solpi, spor.
  • Achlya spp. Dictychus spp., Claviceps virens, Black-headed blight (Tillletia barclayana), Brown rice (Curvularia spp., Alternaria spp.), Yellowing atrophy thoracor sprout disease Xanthomonas oryzae pv. Oryzae), brown stripe disease (Acidovora) avenae subsp.
  • Tritici Tritici
  • rust Puccinia striformis, Puccinia graminis, Puccinia recondita, Puccinia h Pyrenophora teres
  • Fusarium head blight Gibberella zeae
  • Fusarium culmorum Fusarium avenaceum, Monographa nivalis, black rot (Typhala incarnata sill) nuda
  • tuna scab Teilletia caries, Tilletia controversa
  • eye rot Pseudocercosporella herpotrichoides
  • bacterial rot Citobasidium gramineum
  • nodorum Fusarium spp., Pythium spp., Rhizoctonia spp., Septoria spp., Pyrenophora spp.
  • Bacterial disease Gaemanomyces graminiol
  • Ergot disease Claviceps pur
  • Syringae Corn red mold (Gibberella zeae, etc.), seedling blight (Fusarium avenaceum, Penicillium spp., Phythium spp.), Rhizoctonia spp. Ustilago maydis, Colletotrichum graminicola, Northern spot disease (Cochliobolus caribonum), Brown scab (Acidovorax avenae subur.
  • Erwinia sp. Erwinia sp.
  • Agrobacterium tumefaciens Rust radiata bacilli (Erwinia chrysanthemia pv. Chrysanthemipy), Pseudomonas syringae disease.
  • s lingae blight blight (Erwinia sp.); peach black scab (Cladosporium carpophilum), homoposis rot (Phomopsis sp.), plague (Phytophthora phlegm morbidity) deformans, perforated bacterial disease (Xhanthomonas campestris pv.
  • ytoplasma asteris yellow dwarf disease (Tobacco leaf curl subgroup III geminiphyrus); Brown spot disease (Pseudomonas cichorrii), stem rot (Pseudomonas corrugata), stem rot (Erwinia chrysanthemi), soft rot (Erwinia carotovora stospor.
  • Black spot disease Alternaria brassicae
  • Black rot Xhanthomonas campestris pv. Campestris
  • Black spot bacterial disease Pseudomonas syringae pv.
  • Maculacola Soft rot disease (Erwina disease) Etc.), white spot disease (Cercosporella brassicae), root rot disease (Phoma lingam), root-knot disease (Plasmophorora brassicae), downy mildew (Peronospora parasitica), black rot (Xhanthomprasc). Pseudomonas sy lingae pv. macrocola), soft rot (Erwinia carotovora subsp.
  • Anthracnose (Colletotrichum lindemuthianum), bacterial wilt (Ralstonia solanacearum), blight (Pseudomonas syringae pv. Phaseolisola), brown bacterial disease (Pseudomonas firla flamp) . phaseoli); Groundnut black blight (Mycosphaerella berkeleyi), brown spot (Mycosphaerella arachidis), bacterial blight (Ralstonia solanacearum); pea mildew (Erysiphe pisi), downy mildew (Peron morse) syringae pv.
  • Streptomyces ipomoeae brown spot of sugar beet (Cercospora bechticola); downy mildew (Peronospora schachtii); black root disease (Aphanomyces cohid); Symptom (Agrobacterium tumefaciens), scab (Streptomyces scabies), spot bacterial disease (Pseudomonas syringae pv. Aptata); Carrot black leaf blight (Alternaria dauci), knot disease (Rhizobacter dauci), root cancer disease (Agrobacterium tumefaciens), Streptomyces or serovar (Strotomyces spp.), Soft rot disease.
  • Strawberry powdery mildew (Sphaerotheca aphanis var. Aphanis), plague (Phytophthora nicotianae, etc.), anthracnose (Glomerella cinulata etc.), bacterial rot (Phythium ultimum), bacterial blight (X) campestris), Bacterial blight (Pseudomonas marginalis pv. Marginalis); Chamodium wilt (Exobasidium reticulosti et al.), Anthracnose (Peludomonas marginalis pv.
  • carotovora damping off (Ralstonia solanacearum) Tobacco mosaic virus; Coffee rust (Hemileia vastatrix); Banana black sigatoga disease (Mycosphaerella fijiensis), Panama disease (Fusarium oxysporum f. Spamur potato disease) (Fusarium oxymarrow) Sclerotinia sclerotiorum, Xanthomonas campestris pv. Malvacearum, cavernous disease (Erwinia carotovora subp. Carotovora), spot bacterial disease (Pseudomosis).
  • Powdery mildew (Sphaerotheca pannosa, etc.), plague (Phytophthora megasperma), downy mildew (Peronospora sparsa), root rot (Agrobacterium terescaiens); ), Plague (Pseudomonas cichoroii), soft rot (Erwinia carotovora subbsp. ifolia); Brown patch disease of turf (Rhizoctonia solani), Dollar spot disease (Sclerotinia homoeocarpa), Curvularia sp.
  • Rhynchosporium secalis Gaeumanomyces graminis, Anthracnose (Colletotrichum sp.), Typhala incarnata, Typhala blackspot Myriosclerotia borealis, fairy ring disease (Marasmius oreades, etc.), Pythium disease (Pythium aphanidermatum, etc.), Blast disease (Pyricularia grisea), etc. are mentioned.
  • the compound of the present invention may be used alone, but is preferably mixed with a solid carrier, liquid carrier, gas carrier, surfactant, fixing agent, dispersant, stabilizer, etc. , Granule wettable powder, aqueous solvent, granular aqueous solvent, granule, emulsion, liquid, microemulsion, aqueous suspension preparation, aqueous emulsion preparation, suspoemulsion preparation and the like. As long as an effect is exhibited, it is not limited to those compositions.
  • composition containing the compound of the present invention (agricultural and horticultural pesticide, agricultural and horticultural fungicide) will be described.
  • Examples of the method of applying the composition containing the compound of the present invention include a method of contacting with a plant body or seeds, or a method of bringing it into cultivated soil and bringing it into contact with plant roots or rhizomes.
  • foliage spraying treatment, injection treatment, seedling box treatment, cell tray treatment, spraying treatment on plant seeds, smearing treatment on plant seeds, immersion treatment in plant seeds, plant seeds Powder coating, soil application, soil mixing after soil application, soil injection, soil injection, soil mixing after soil injection, soil irrigation, soil irrigation Examples include soil mixing. In general, any application method such as that utilized by those skilled in the art will exhibit sufficient efficacy.
  • Plant refers to those that live without moving through photosynthesis. Specific examples include rice, wheat, barley, corn, coffee, banana, grape, apple, pear, peach, sweet potato, oyster, citrus, soybean, green beans, cotton, strawberry, potato, cabbage, lettuce, tomato, cucumber, eggplant, Watermelon, sugar beet, spinach, sweet pea, pumpkin, sugar cane, tobacco, sweet pepper, sweet potato, taro, konjac, cotton, sunflower, rose, tulip, chrysanthemum, turf, etc. and their F1 varieties. It also includes genetically engineered crops that are created by artificially manipulating genes and are not naturally present. For example, soybeans, corn, cotton, etc. that have been given herbicide tolerance have been adapted to cold regions.
  • plants such as corn and cotton that have been provided with the ability to produce insecticides, such as tobacco.
  • insecticides such as tobacco.
  • Further examples include trees such as pine, ash, ginkgo, maple, oak, poplar, and zelkova.
  • the “plant body” as used in the present invention is a general term for all parts constituting the plant individual, and examples thereof include stems, leaves, roots, seeds, flowers, fruits and the like.
  • seed refers to a seed that stores nutrients for germination of young plants and is used for agricultural reproduction.
  • Specific examples include seeds such as corn, soybean, cotton, rice, sugar beet, wheat, barley, sunflower, tomato, cucumber, eggplant, spinach, green pea, pumpkin, sugar cane, tobacco, sweet pepper, oilseed rape, and their F1 varieties.
  • seeds such as seeds, taro, potato, sweet potato, and konjac, edible lilies, bulbs such as tulips, seed balls such as lacquer, and seeds and tubers of genetically modified crops.
  • the application amount and concentration of the composition containing the compound of the present invention vary depending on the target crop, target disease, degree of occurrence of the disease, compound dosage form, application method and various environmental conditions, but when spraying or irrigating.
  • the amount of active ingredient is suitably 0.1 to 10,000 g per hectare, preferably 10 to 1,000 g per hectare.
  • the amount used in the seed treatment is 0.0001 to 1000 g, preferably 0.001 to 100 g, per kg seed as the amount of active ingredient.
  • the composition containing the compound of the present invention is used as a foliage spraying treatment, a soil surface spraying treatment, a soil injection treatment or a soil irrigation treatment to individual plants, it is diluted with a suitable carrier at an appropriate concentration. Thereafter, processing may be performed.
  • the composition containing the compound of the present invention When the composition containing the compound of the present invention is brought into contact with a plant seed, it may be used after being diluted to an appropriate concentration and then dipped, powdered, sprayed or smeared on the plant seed.
  • the amount of the composition used in the dipping, powder coating, spraying or smearing treatment is usually about 0.05 to 50%, preferably 0.1 to 30% of the weight of the dried plant seeds as the amount of the active ingredient. However, it may be appropriately set depending on the form of the composition and the type of plant seed to be treated, and is not limited to these ranges.
  • the compound of the present invention may contain other pesticides such as bactericides, insecticides (including acaricides and nematicides), herbicides, microbial materials, plant growth regulators, and the like as necessary. It can be used by being mixed with a disease control agent (International Publication No. 2014/062775), a soil conditioner, a fertilizer or the like as an active ingredient.
  • bactericides such as bactericides, insecticides (including acaricides and nematicides), herbicides, microbial materials, plant growth regulators, and the like as necessary. It can be used by being mixed with a disease control agent (International Publication No. 2014/062775), a soil conditioner, a fertilizer or the like as an active ingredient.
  • a method of using the compound of the present invention and other agricultural chemicals in combination a method of using the compound of the present invention and other agricultural chemicals in a single dosage form, both of which are formulated in separate dosage forms Use one of the following methods: Mixing before use, using both formulated in separate dosage forms at the same time, or using both formulated in separate dosage forms The method of using the other after doing is mentioned.
  • bactericide that can be used by mixing with the compound of the present invention are exemplified in the following group b, and include salts, isomers and N-oxides thereof.
  • known disinfectants are not limited to these.
  • Group b b-1: Phenylamide fungicide [b-1.1]: Benalaxyl, [b-1.2] Benalaxyl M or Kiraraxyl, [b-1.1]: [b-1.1] -1.3] furaraxyl, [b-1.4] metalaxyl, [b-1.5] metalaxyl M or mephenoxam (metalaxyl-M or mefenoxam), [b-1.6] oxazyl ( oxadixyl), [b-1.7] offrace and the like.
  • b-2 Mitotic fission and cell division inhibitor [b-2.1] benomyl, [b-2.2] carbendazim, [b- 2.3] fuberidazole, [b-2.4] thiabendazole, [b-2.5] thiophanate, [b-2.6] thiophanate-methyl, [b- 2.7] Dietofencarb, [b-2,8] zoxamide, [b-2.9] ethaboxam, [b-2.10] pencycuron, [b-2. 11] fluopico Examples thereof include fluoriclide, [b-2.12] phenacryl and the like.
  • SDHI agent succinate dehydrogenase inhibitor
  • succinate dehydrogenase inhibitors [b-3.1] benodanil, [b-3.2] benzovindiflupyr, [b-3.3] bixafen (bixafen) ), [B-3.4] boscalid, [b-3.5] carboxin, [b-3.6] fenfuram, [b-3.7] fluopyram [B-3.8] flutolanil, [b-3.9] fluxapyroxad, [b-3.10] furamethpyr, [b-3.11] isofetamide ), [B-3.12] isopyrazam (isop) razam), [b-3.13] mepronil, [b-3.14] oxycarboxin, [b-3.15] pentiopyrad, [b-3.16] penflufen ( penflufen), [b-3.17] pydiflumethofen, [
  • b-4 Quinone external inhibitor (QoI agent) As quinone external inhibitors (QoI agents), [b-4.1] azoxystrobin, [b-4.2] cumoxystrobin, [b-4.3] dimoxist Robin (dimoxystrobin), [b-4.4] enoxastrobin, [b-4.5] famoxadone, [b-4.6] fenamidone, [b-4.7] Phenaminestrobin, [b-4.8] fluphenoxystrobin, [b-4.9] fluoxastrobin, [b-4.10] cresoxime-me hyl), [b-4.11] mandestrobin, [b-4.12] methinostrobin, [b-4.13] oryastrobine, [b-4.14] Picoxystrobin, [b-4.15] Pyraclostrobin, [b-4.16] Pyramethostrobin, [b-4.17] Pyraoxystrobin [B-4.18] Pyribencarb, [b-4.
  • quinone internal inhibitor examples include [b-5.1] cyazofamid (cazofamid), [b-5.2] amisulbrom and the like.
  • Oxidative phosphorylation uncoupling inhibitor As oxidative phosphorylation uncoupling inhibitors, [b-6.1] binapacryl, [b-6.2] meptyldinocap, [b-6.1] b-6.3] dinocap, [b-6.4] fluazinam and the like.
  • b-7 Quinone external stigmaterin binding subsite inhibitor
  • QoSI agent quinone external stigmaterin binding subsite inhibitor
  • Examples of the quinone external stigmateline binding subsite inhibitor (QoSI agent) include [b-7.1] ametoctradin.
  • b-8 Amino acid biosynthesis inhibitors As amino acid biosynthesis inhibitors, [b-8.1] cyprodinil, [b-8.2] mepanipyrim, [b-8.3] pyrimethanil ) And the like.
  • b-9 Protein biosynthesis inhibitor [b-9.1] Streptomycin, [b-9.2] Blasticidin-S, [b-9. 3] Kasugamycin, [b-9.4] oxytetracycline, and the like.
  • b-10 Signaling inhibitor As a signal transduction inhibitor, [b-10.1] fenpiclonil, [b-10.2] fludioxonil, [b-10.3] quinoxyfen, [B-10.4] proquinazid, [b-10.5] clozolinate, [b-10.6] dimethachlone, [b-10.7] iprodione, [b -10.8] procymidone, [b-10.9] vinclozolin and the like.
  • b-11 Lipid and cell membrane biosynthesis inhibitors As lipid and cell membrane biosynthesis inhibitors, [b-11.1] edifenphos, [b-11.2] iprobenfos, [b-11. Pyrazophos, [b-11.4] isoprothiolane, [b-11.5] biphenyl, [b-11.6] chloroneb, [b-11.7] dichlorane (Dicloran), [b-11. 8] quintozene, [b-11.
  • DI agent Demethylation inhibitor
  • DI agents include [b-12.1] azaconazole, [b-12.2] bittertanol, [b-12.3] bromuconazole, [ b-12.4] cyproconazole, [b-12.5] difenoconazole, [b-12.6] diniconazole, [b-12.7] diniconazole-M ), [B-12.8] epoxiconazole, [b-12.9] etaconazole, [b-12.10] fenarimol, [b-12.11.
  • Fenbuconazole [b-12.12] fluquinconazole, [b-12.13] quinconazole, [b-12.14] flusilazole, [b-12 .15] flutriafol, [b-12.16] hexaconazole, [b-12.17] imazaril, [b-12.18] imibenconazole, [B-12.19] ipconazole, [b-12.20] metconazole, [b-12.21] microbutanil [B-12.22] nuarimol, [b-12.23] oxpoconazole, [b-12.24] oxpoconazole fumarate, [b- 12.25] pefurazoate, [b-12.26] penconazole, [b-12.27] prochloraz, [b-12.28] propiconazole, [b- 12.29] Prothioconazole, [b-12.30] Pyrifenox, [b-12.31] Pyrioxazole
  • b-13 Amine fungicide [b-13.1] aldimorph, [b-13.2] dodemorph, [b-13.3] fenpropimorph as amine fungicides ), [B-13.4] tridemorph, [b-13.5] fenpropidin, [b-13.6] piperalin, [b-13.7] spiroxamine. ) And the like.
  • b-14 3-keto reductase inhibitor in C4 demethylation of sterol biosynthesis
  • b-15 Squalene epoxidase inhibitor of sterol biosynthesis As a squalene epoxidase inhibitor of sterol biosynthesis, [b-15.1] pyributicalb, [b-15.2] naphthifine, [b ⁇ 15.3] terbinafine and the like.
  • b-16 Cell wall biosynthesis inhibitor As cell wall biosynthesis inhibitors, [b-16.1] polyoxins (polyoxins), [b-16.2] dimethomorph, [b-16.3] furmorph ( flumorph, [b-16.4] pyrimorph, [b-16.5] benchavaricarb, [b-16.6] benchacarbab-isopropyl, [b -16.7] iprovaricarb, [b-16.8] mandipropamide, [b-17.9] varifenate, and the like.
  • b-17 Melanin biosynthesis inhibitor [b-17.1] Phthalide or fthalide, [b-17.2] Pyroquilone, [b-17.3] Tricyclazole as melanin biosynthesis inhibitors (Tricycazole), [b-17.4] carpropamide, [b-17.5] diclocymet, [b-17.6] phenoxanil, [b-17.7] tolprocarb (tolprocarb) ) And the like.
  • b-18 Host Plant Resistance Inducing Agent
  • b-19 Dithiocarbamate fungicide [b-19.1] Mancozeb or manzeb, [b-19.2] maneb, [b-19.3] as a dithiocarbamate fungicide ] Metiram, [b-19.4] Propineb, [b-19.5] Thiuram, [b-19.6] Zineb, [b-19.7] Diram (Ziram), [b-19.8] ferbam and the like.
  • Phthalimide fungicide [b-20.1] captan, [b-20.2] captafol, [b-20.3] holpet as phthalimide fungicide ), [B-20.4] fluorophorpet, and the like.
  • b-21 Guanidine fungicide [b-21.1] guazatine, [b-21.2] iminoctadin, [b-21.3] iminotadine albecyl salt as guanidine fungicides (Iminoctaline alcoholate), [b-21.4] iminoctadine triacetate, and the like.
  • b-22 Multi-acting point contact active fungicide [b-22.1] Copper oxychloride, [b-22.2] Cupric hydroxide as multi-acting point contact active fungicide (Copper (II) hydrochloride), [b-22.3] basic copper sulfate, [b-22.4] organocopper compound, [b-22.5] dodecylbenzenesulfone Bisethylenediamine copper complex salt [II] (Dodecylbenzensulfonic acid bisethylenediamine copper [II] salt, DBEDC), [b-22.6] sulfur, [b-22.7] fluorimide de), [b-22.8] chlorothalonil, [b-22.9] dichlorofluanid, [b-22.10] tolylfluanid, [b-22.11] Anilazine, [b-22.12] dithianon, [b-22.13] chinomethionate or quinomethionate, [b-22.14] extract from cotyledons of buffalo seed
  • bactericides include [b-23.1] dichlorobenazox, [b-23.2] fenpicoxamide, [b-23.3. ] Dipymetitrone, [b-23.4] Bupirimate, [b-23.5] Dimethilimol, [b-23.6] Ethirimol, [b-23.7] Acetic acid Triphenyltin (fentin acetate), [b-23.8] triphenyltin chloride (fentin chloride), [b-23.9] triphenyltin hydroxide (f-23) (Oxo linic acid), [b-23.11] himexazole, [b-23.12] octylinone, [b-23.13] fosetyl, [b-23.14] phosphorous acid (Phosphorous acid), [b-23.15] sodium phosphite, [b-23.16] ammonium phosphite, [b-23.17]
  • Formula (s26) or Formula (s27) [Wherein, m5 represents an integer of 0 to 5, A30 represents a C1 to C6 alkyl group, A31 represents a halogen atom, a cyano group, a C1 to C6 alkyl group, or a C1 to C6 haloalkyl group. And when m5 is 2 or more, two or more A31s each represent an independent substituent, which may be the same or different, and A32 represents a C1-C6 alkyl group, a C2-C6 alkenyl group, or C3 Represents a C6 alkynyl group. ] (See International Publication No. 13/037717),
  • A41 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group (—SH), a thiocyanic acid group (—SCN), or a C1-C6 alkylthio group
  • A42, A43, A44 and A45 are each independently Represents a hydrogen atom or a halogen atom.
  • insecticide that can be used in combination with the compound of the present invention are exemplified in the following group c and include salts, isomers and N-oxides thereof.
  • known insecticides are not limited to these.
  • Group c c-1: Carbamate-type acetylcholinesterase (AChE) inhibitor [c-1.1] Phosphocarb, [c-1.2] alanycarb, [c] -1.3] butocarboxim, [c-1.4] butoxycarboxim, [c-1.5] thiodicarb, [c-1.6] thiofanox ), [C-1.7] aldicarb, [c-1.8] bendiocarb, [c-1.9] benfurcarb, [c-1.10] carbaryl ryl), [c-1.11] carbofuran, [c-1.12] carbosulfan, [c-1.13] etiofencarb, [c-1.14] fenocarb ( fenobucarb), [c-1.15] formatenate, [c-1.16] furathiocarb, [c-1.17] isoprocarb, [c-1.18] metiocarb [C-1.19] mesomy
  • c-2 Organophosphorus acetylcholinesterase (AChE) inhibitors As organophosphorus acetylcholinesterase (AChE) inhibitors, [c-2.1] acephate, [c-2.2] azamethiphos, [C-2.3] Azinphos-methyl, [c-2.4] Azinphos-ethyl, [c-2.5] Ethephon, [c-2.6] [Cadusafos], [c-2.7] Chlorethoxyphos, [c-2.8] Chlorfenvinphos, [c-2.9] Chlormephos, [c- 2.10] Black Rupyrifos, [c-2.11] chloropyrifos-methyl, [c-2.12] coumafos, [c-2.13] cyanophos, [c-2.

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Abstract

植物病害を防除する新規な化合物を提供する。　本発明のピリドン化合物は新規な化合物であり、植物病害を防除することができる。

Description

ピリドン化合物およびそれを有効成分とする農園芸用殺菌剤
　本発明は、ピリドン化合物および該化合物を有効成分とする農薬に関するものである。
　安定的な農業生産を確保する上で、農園芸作物の病害を防除することは重要な役割を果たす。そのため、様々な殺菌剤が使用されているが、長年にわたる殺菌剤の使用は薬剤耐性菌の出現を招くために、薬剤感受性菌のみならず薬剤耐性菌に対しても有効な新規殺菌剤が切望されている。
　ところで、１，３，５，６－置換－２－ピリドン化合物に関する先行例が知られている。例えば、ＧＡＢＡアルファー２／３リガンドとして、３位にアリール基またはヘテロアリール基を有する１，３，５，６－置換－２－ピリドン化合物が開示されている（例えば、国際公開第９８／５５４８０号参照）。細菌性感染症の治療薬としては、３位にカルボキシル基を有する１，３，５，６－置換－２－ピリドン化合物が開示されている（例えば、欧州特許第０３０８０２０明細書参照）。さらに、抗ＨＩＶ剤として、１位に４，４－ジメチルペンタン酸が導入された１，３，５，６－置換－２－ピリドン化合物が開示されている（例えば、国際公開第２０１６／０１２９１３号参照）。
国際公開第９８／５５４８０号 欧州特許第０３０８０２０明細書 国際公開第２０１６／１２９１３号
　しかしながら、国際公開第９８／５５４８０号、欧州特許第０３０８０２０明細書および国際公開第２０１６／１２９１３号に記載されている化合物の用途は、いずれも医薬に関するものであり、本発明に係る農園芸用殺菌剤が属する技術分野とは相違する。
　本発明の課題は、農園芸用殺菌剤として有効である新規なピリドン化合物を提供することである。
　本発明者らは、前記課題を解決すべく、１，３，５，６－置換－２－ピリドン化合物群について鋭意検討を行った。その結果、該２－ピリドン骨格において、５位にオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）を含む置換基を導入した新規な化合物群が、植物病害に対して優れた防除活性を発揮することを見出し、本発明を完成するに至った。
　すなわち、本発明は、以下の通りである。
［１］
　式（１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
［式中、Ｒ１は、
　　水酸基、
　　シアノ基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
　　Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、
　　またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲａおよびＲｂは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表し；
　Ｒ２は、
　　水素原子、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　ハロゲン原子、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
　　Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、
　　Ｒｃ－Ｌ－（ここで、Ｒｃは、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌは、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）、
　　ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、
　　またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、前記と同義である）を表す。）を表し；
　Ｘは、酸素原子または硫黄原子を表し；
　Ｙは、
　　Ｒ３で適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
　　Ｒ３で適宜０～４置換されてもよいピリジル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
　　Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいピリダジニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
　　Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいピリミジニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
　　Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいピラジニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
　　Ｒ３で適宜０～２置換されてもよいトリアジニル基（ただし、２置換のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
　　Ｒ３で適宜置換されてもよいテトラジニル基、
　　Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいチエニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
　　Ｒ３で適宜０～２置換されてもよいチアゾリル基（ただし、２置換のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
　　Ｒ３で適宜０～２置換されてもよいイソチアゾリル基（ただし、２置換のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
またはＲ３で適宜置換されてもよいチアジアゾリル基を表し、
　Ｒ３は、
　　水酸基、
　　シアノ基、
　　ニトロ基、
　　ハロゲン原子、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
　　Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、
　　ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、
　　ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、
　　１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基、
　　Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、
　　ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、
またはＲｅＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆ）－（ここで、ＲｅとＲｆは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）を表す。）を表し；
　Ｒ４は、
　　水素原子、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
　　またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）を表し、
　Ｒ５は、
　　水素原子、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
　　またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）を表し、
　あるいは、Ｒ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、
　　置換基Ｅで適宜０～２置換されてもよいイソキサゾール環（ただし、２置換の置換基Ｅの場合、それぞれ独立している。）、
　　置換基Ｆで適宜０～４置換されてもよいイソキサゾリン環（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）、
　　置換基Ｄで適宜０～４置換されてもよいベンズイソキサゾール環（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
　　または置換基Ｆで適宜０～６置換されてもよい５，６－ジヒドロ－４Ｈ－１，２－オキサジン環（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）を形成するものを表し；
　そして、置換基Ａは、水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）およびＲｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）からなる群から選択される少なくとも１種であり；
　置換基Ｂは、シアノ基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基およびＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
　置換基Ｃは、水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）および１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
　置換基Ｄは、水酸基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基およびＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
　置換基Ｅは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｇＯＮ＝Ｃ（Ｒｈ）－（ここで、ＲｇおよびＲｈは、それぞれ独立していて、水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、ＲｉＲｊＲｋＳｉ－（ここで、Ｒｉ、ＲｊおよびＲｋは、それぞれ独立していてＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）および１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
　置換基Ｆは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）およびＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）からなる群から選択される少なくとも１種である。］で表される化合物またはその塩。
［２］
　Ｒ１は、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
　　またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基を表し；
　Ｒ２は、
　　水素原子、
　　ハロゲン原子、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
　　Ｒｃ－Ｌ－（ここで、Ｒｃは、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌは、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）、
　　またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲａおよびＲｂは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表す。）を表し；
　Ｙは、
　　Ｒ３で適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
　　またはＲ３で適宜０～４置換されてもよいピリジル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）を表し、
　Ｒ３は、
　　水酸基、
　　シアノ基、
　　ハロゲン原子、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
　　Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、
　　またはＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）を表し；
　Ｒ４は、
　　水素原子、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
　　またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）を表し、
　Ｒ５は、
　　水素原子、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
　　またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）を表し、
　あるいは、Ｒ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、
　　置換基Ｅで適宜０～２置換されてもよいイソキサゾール環（ただし、２置換の置換基Ｅの場合、それぞれ独立している。）、
　　置換基Ｆで適宜０～４置換されてもよいイソキサゾリン環（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）、
　　または置換基Ｄで適宜０～４置換されてもよいベンズイソキサゾール環（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）を形成するものを表す、［１］に記載の化合物またはその塩。
［３］
　Ｒ１は、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し；
　Ｒ２は、
　　ハロゲン原子、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
　　または置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表し；
　Ｙは、
　　Ｒ３で適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）を表し、
　Ｒ３は、
　　シアノ基、
　　ハロゲン原子、
　　または置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表し；
　Ｒ４は、
　　水素原子、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
　　またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲａおよびＲｂは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表し、
　Ｒ５は、
　　水素原子、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲａおよびＲｂは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表す。）を表し、
　あるいは、Ｒ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、
　　置換基Ｅで適宜０～２置換されてもよいイソキサゾール環（ただし、２置換の置換基Ｅの場合、それぞれ独立している。）、
　　置換基Ｆで適宜０～４置換されてもよいイソキサゾリン環（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）、
　　または置換基Ｄで適宜０～４置換されてもよいベンズイソキサゾール環（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）を形成するものを表す、［２］に記載の化合物またはその塩。
［４］
　Ｒ４は、
　　水素原子、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
　　またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲａおよびＲｂは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表し、
　Ｒ５は、
　　水素原子、
　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
　　またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲａおよびＲｂは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表す。）を表し、
　あるいは、Ｒ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、
　　置換基Ｅで適宜０～２置換されてもよいイソキサゾール環（ただし、２置換の置換基Ｅの場合、それぞれ独立している。）を形成するものを表す、［３］に記載の化合物またはその塩。
［５］
　Ｒ１が、メチル基、エチル基、または２，２－ジフルオロエチル基である、［１］～［４］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［６］
　Ｒ２が、塩素原子、臭素原子、メチル基、メトキシ基、またはエチニル基である、［１］～［５］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［７］
　Ｘが、酸素原子である、［１］～［６］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［８］
　Ｒ３が、シアノ基、フッ素原子、臭素原子、またはメトキシ基である、［１］～［７］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［９］
　Ｙは、フェニル基、４－シアノフェニル基、４－フルオロフェニル基、２，６－ジフルオロフェニル基、２，４，６－トリフルオロフェニル基、２，６－ジフルオロ－４－メトキシフェニル基、３－ブロモ－４－メトキシフェニル基、または４－メトキシフェニル基である、［１］～［７］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［１０］
　Ｒ４は、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ－ブチル基、シクロペンチル基、フェニル基、アミノ基、またはメチルアミノ基である、［１］～［９］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［１１］
　Ｒ５は、水素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、またはアセチル基である、［１］～［１０］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［１２］
　Ｒ５ＯＮ＝Ｃ（Ｒ４）－の構造が、（ヒドロキシイミノ）メチル基、１－（ヒドロキシイミノ）プロピル基、１－（ヒドロキシイミノ）－２－メチルプロピル基、１－（ヒドロキシイミノ）－２，２－ジメチルプロピル基、１－（ヒドロキシイミノ）－３－メチルブチル基、（メトキシイミノ）メチル基、１－（メトキシイミノ）エチル基、１－（メトキシイミノ）プロピル基、１－（メトキシイミノ）－２－メチルプロピル基、１－（メトキシイミノ）－２，２－ジメチルプロピル基、１－（メトキシイミノ）ブチル基、１－（メトキシイミノ）－３－メチルブチル基、１－（メトキシイミノ）ペンチル基、（メトキシイミノ）（フェニル）メチル基、１－（エトキシイミノ）プロピル基、１－（イソプロピルオキシイミノ）プロピル基、１－（アセトキシイミノ）プロピル基、シクロペンチル（ヒドロキシイミノ）メチル基、シクロペンチル（メトキシイミノ）メチル基、ＨＯＮ＝Ｃ（ＮＨ２）－、ＨＯＮ＝Ｃ（ＮＨＭｅ）－、またはＭｅＯＮ＝Ｃ（ＮＨＭｅ）－である、［１］～［９］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［１３］
　置換基Ｅが、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｇＯＮ＝Ｃ（Ｒｈ）－（ここで、ＲｇおよびＲｈは、前記と同義である。）およびＲｉＲｊＲｋＳｉ－（ここで、Ｒｉ、ＲｊおよびＲｋは、前記と同義である。）からなる群から選択される少なくとも１種である、［１］～［９］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［１４］
　置換基Ｅが、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシメチル基、１－ヒドロキシエチル基、トリフルオロアセトキシメチル基、ブロモメチル基、ジフルオロメチル基、ビニル基、エチニル基、アミノ基、ホルミル基、アセチル基、（メトキシイミノ）メチル基、およびトリメチルシリル基からなる群から選択される少なくとも１種である、［１］～［９］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［１５］
　Ｒ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、置換基Ｅで適宜０～２置換されてもよいイソキサゾール環（ただし、２置換の置換基Ｅの場合、それぞれ独立している。）を形成するものが、イソキサゾール－３－イル基、４－クロロイソキサゾール－３－イル基、４－ブロモイソキサゾール－３－イル基、４－ヨードイソキサゾール－３－イル基、４－メチルイソキサゾール－３－イル基、５－メチルイソキサゾール－３－イル基、５－（ヒドロキシメチル）イソキサゾール－３－イル基、５－エチルイソキサゾール－３－イル基、５－（１－ヒドロキシエチル）イソキサゾール－３－イル基、５－イソプロピルイソキサゾール－３－イル基、５－アミノイソキサゾール－３－イル基、５－（トリメチルシリル）イソキサゾール－３－イル基、４，５－ジクロロイソキサゾール－３－イル基、４－クロロ－５－メチルイソキサゾール－３－イル基、４，５－ジブロモイソキサゾール－３－イル基、４－ブロモ－５－メチルイソキサゾール－３－イル基、４－ブロモ－５－エチルイソキサゾール－３－イル基、４－ブロモ－５－イソプロピルイソキサゾール－３－イル基、４－ブロモ－５－（ジフルオロメチル）イソキサゾール－３－イル基、４－ブロモ－５－ホルミルイソキサゾール－３－イル基、４－ブロモ－５－（トリメチルシリル）イソキサゾール－３－イル基、４，５－ジヨードイソキサゾール－３－イル基、４－ヨード－５－メチルイソキサゾール－３－イル基、４，５－ジメチルイソキサゾール－３－イル基、４－（ヒドロキシメチル）－５－メチルイソキサゾール－３－イル基、４－（ジフルオロメチル）－５－メチルイソキサゾール－３－イル基、４－（ブロモメチル）－５－メチルイソキサゾール－３－イル基、４－（トリフルオロアセトキシメチル）－５－メチルイソキサゾール－３－イル基、４－（１－ヒドロキシエチル）－５－メチルイソキサゾール－３－イル基、５－メチル－４－ビニルイソキサゾール－３－イル基、４－エチニル－５－メチルイソキサゾール－３－イル基、４－ホルミル－５－メチルイソキサゾール－３－イル基、４－アセチル－５－メチルイソキサゾール－３－イル基、または４－（（メトキシイミノ）メチル）－５－メチルイソキサゾール－３－イル基である［１］～［９］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［１６］
　置換基Ｆが、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいアルキル基、および置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種である、［１］～［３］、［５］～［９］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［１７］
　置換基Ｆが、臭素原子、メチル基、エチル基、およびエトキシ基からなる群から選択される少なくとも１種である、［１］～［３］、［５］～［９］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［１８］
　Ｒ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、置換基Ｆで適宜０～４置換されてもよいイソキサゾリン環（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）を形成するものが、４－ブロモ－５，５－ジメチル－４，５－ジヒドロイソキサゾール－３－イル基、５－エチル－４，５－ジヒドロイソキサゾール－３－イル基、５，５－ジメチル－４，５－ジヒドロイソキサゾール－３－イル基、または５－エトキシ－４，５－ジヒドロイソキサゾール－３－イル基である、［１］～［３］、［５］～［９］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［１９］
　Ｒ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、置換基Ｄで適宜０～４置換されてもよいベンズイソキサゾール環（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）を形成するものが、ベンゾ［ｄ］イソキサゾール－３－イル基である、［１］～［３］、［５］～［９］のいずれか１つに記載の化合物またはその塩。
［２０］
　［１］～［１９］のいずれか１つに記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する農園芸用有害生物防除剤。
［２１］
　［１］～［１９］のいずれか１つに記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤。
［２２］
　［２０］に記載の農園芸用有害生物防除剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。
［２３］
　［２１］に記載の農園芸用殺菌剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。
　本発明によれば、農園芸用殺菌剤として有効である新規な化合物を提供することができる。
　以下、本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明する。
　なお、特許請求の範囲および明細書中において用いられる各用語は、特に断らない限り、当該技術分野において一般的に用いられる定義によるものとする。
　本明細書において、使用する略号を以下に説明する。
ＤＭＦ：Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、ＴＨＦ：テトラヒドロフラン、Ｍｅ：メチル基、Ｅｔ：エチル基、Ｐｒ：プロピル基、Ｂｕ：ブチル基、Ｐｅｎｔ：ペンチル基、Ｈｅｘ：ヘキシル基、Ａｃ：アセチル基、Ｐｈ：フェニル基、Ｐｙ：ピリジル基、ｃ：シクロ、ｉ：イソ、ｓｅｃ：セカンダリ、ｔ：ターシャリ、＝：二重結合、≡：三重結合を表す。表のカラム中、Ｐｒ、Ｂｕ、Ｐｅｎｔ、およびＨｅｘに関しては、接頭辞がない場合は、ノルマルを意味する。
　以下に、本明細書中に使用される用語の定義を説明する。
　Ｃｘ～Ｃｙとの記載は、ｘ個からｙ個の炭素原子を有することを表す。ここで、ｘ及びｙは整数を表し、また、ｘとｙとの間に存在する全ての整数も個別に開示されているものと理解される。例えば、Ｃ１～Ｃ６は、１、２、３、４、５、または６個の炭素原子を、Ｃ１～Ｃ５は、１、２、３、４、または５個の炭素原子を、Ｃ２～Ｃ６は、２、３、４、５、または６個の炭素原子を、Ｃ３～Ｃ８は、３、４、５、６、７、または８個の炭素原子を、Ｃ３～Ｃ６は、３、４、５、または６個の炭素原子を、それぞれ有することを意味する。
　用語「適宜置換されてもよい」とは、置換または無置換であることを意味する。この用語を用いる際、置換基の数が明示されていないときは、置換基の数は１であることを表す。一方で、例えば、「適宜０～６置換されてもよい」と置換基の数が指定されている場合、０と６との間に存在する全ての整数も個別に開示されているものと理解される。即ち、置換基が、無し、１、２、３、４、５、または６個の置換基数であることを意味する。同様に、「適宜０～５置換されてもよい」では、置換基が、無し、１、２、３、４、または５個の置換基数を、「適宜０～４置換されてもよい」では、置換基が、無し、１、２、３、または４個の置換基数を、「適宜０～３置換されてもよい」では、無し、１、２、または３個の置換基数を、「適宜０～２置換されてもよい」では、無し、１、または２個の置換基数を、それぞれ有することを意味する。
　Ｃ１～Ｃ６のアルキル基とは、直鎖状または分岐状でよく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、１－メチルブチル基、２－メチルブチル基、ネオペンチル基、１－エチルプロピル基、１，２－ジメチルプロピル基、ヘキシル基、４－メチルペンチル基、３－メチルペンチル基、２－メチルペンチル基、１－メチルペンチル基、３，３－ジメチルブチル基、２，２－ジメチルブチル基、１，１－ジメチルブチル基、１，２－ジメチルブチル基、１，３－ジメチルブチル基、２，３－ジメチルブチル基、２－エチルブチル基、１－イソプロピルプロピル基、１，１，２－トリメチルプロピル基、１，２，２－トリメチルプロピル基等が挙げられる。
　ハロゲン原子とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基とは、前記のＣ１～Ｃ６のアルキル基における水素が１個または２個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。２個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基の具体例として、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、モノブロモメチル基、モノヨードメチル基、クロロジフルオロメチル基、ブロモジフルオロメチル基、１－フルオロエチル基、２－フルオロエチル基、１，１－ジフルオロエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、１，１，２，２－テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２－トリクロロエチル基、３，３－ジフルオロプロピル基、３，３，３－トリフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、ヘプタフルオロイソプロピル基、２，２，２－トリフルオロ－１－（トリフルオロメチル）エチル基、ノナフルオロブチル基、ノナフルオロ－ｓｅｃ－ブチル基、３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロペンチル基、ウンデカフルオロペンチル基、トリデカフルオロヘキシル基等が挙げられる。
　Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基とは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。
　Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基とは、１個または２個以上の二重結合を有し、直鎖状または分岐状である不飽和炭化水素基のものを表す。また、幾何異性体がある場合、Ｅ体またはＺ体のどちらか一方のみ、あるいはＥ体とＺ体との任意の割合の混合物であり、指定される炭素数の範囲であれば、特に限定されることはない。Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基の具体例として、ビニル基、１－プロペニル基、アリル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、３－ブテニル基、２－メチル－１－プロペニル基、１－ペンテニル基、２－ペンテニル基、３－ペンテニル基、４－ペンテニル基、２－メチル－１－ブテニル基、３－メチル－２－ブテニル基、１－ヘキセニル基、２－ヘキセニル基、３－ヘキセニル基、４－ヘキセニル基、５－ヘキセニル基、４－メチル－３－ペンテニル基、３－メチル－２－ペンテニル基等が挙げられる。
　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基とは、前記のＣ２～Ｃ６のアルケニル基における水素原子が１個または２個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。２個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基の具体例として、２－フルオロビニル基、２，２－ジフルオロビニル基、２，２－ジクロロビニル基、３－フルオロアリル基、３，３－ジフルオロアリル基、３，３－ジクロロアリル基、４，４－ジフルオロ－３－ブテニル基、５，５－ジフルオロ－４－ペンテニル基、６，６－ジフルオロ－５－ヘキセニル基等が挙げられる。
　Ｃ２～Ｃ６のアルキニル基とは、１個または２個以上の三重結合を有し、直鎖状または分岐状である不飽和炭化水素基のものを表す。Ｃ２～Ｃ６のアルキニル基の具体例として、エチニル基、１－プロピニル基、プロパルギル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、３－ブチニル基、１－ペンチニル基、２－ペンチニル基、３－ペンチニル基、４－ペンチニル基、１，１－ジメチル－２－プロピニル基、１－ヘキシニル基、２－ヘキシニル基、３－ヘキシニル基、４－ヘキシニル基、５－ヘキシニル基等が挙げられる。
　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基とは、前記のＣ２～Ｃ６のアルキニル基における水素原子が１個または２個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。２個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基の具体例として、２－フルオロエチニル基、２－クロロエチニル基、２－ブロモエチニル基、２－ヨードエチニル基、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３－クロロ－３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３－ブロモ－３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基、４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４，４，４－トリフルオロ－１－ブチニル基、４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基、５，５－ジフルオロ－３－ペンチニル基、５－クロロ－５，５－ジフルオロ－３－ペンチニル基、５－ブロモ－５，５－ジフルオロ－３－ペンチニル基、５，５，５－トリフルオロ－３－ペンチニル基、６，６－ジフルオロ－４－ヘキシニル基、６－クロロ－６，６－ジフルオロ－４－ヘキシニル基、６－ブロモ－６，６－ジフルオロ－４－ヘキシニル基、６，６，６－トリフルオロ－４－ヘキシニル基等が挙げられる。
　Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基とは、前記のＣ１～Ｃ６のアルキル基が酸素原子を介して結合したものを表す。Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ－ブトキシ基、ｔ－ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、２－メチルブトキシ基、ネオペンチルオキシ基、１－エチルプロピルオキシ基、ヘキシルオキシ基、４－メチルペンチルオキシ基、３－メチルペンチルオキシ基、２－メチルペンチルオキシ基、１－メチルペンチルオキシ基、３，３－ジメチルブトキシ基、２，２－ジメチルブトキシ基、１，１－ジメチルブトキシ基、１，２－ジメチルブトキシ基、１，３－ジメチルブトキシ基、２，３－ジメチルブトキシ基、２－エチルブトキシ基等が挙げられる。
　Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基とは、前記のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基における水素原子が１個または２個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。２個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基の具体例として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、クロロジフルオロメトキシ基、ブロモジフルオロメトキシ基、２－フルオロエトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、１，１，２，２－テトラフルオロエトキシ基、ペンタフルオロエトキシ基、２，２，２－トリクロロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロプロピルオキシ基、ヘプタフルオロイソプロピルオキシ基、２，２，２－トリフルオロ－１－（トリフルオロメチル）－エトキシ基、ノナフルオロブトキシ基、ノナフルオロ－ｓｅｃ－ブトキシ基、３，３，４，４，５，５，５－ヘプタフルオロペンチルオキシ基、ウンデカフルオロペンチルオキシ基、トリデカフルオロヘキシルオキシ基等が挙げられる。
　Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基とは、前記のＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基が酸素原子を介して結合したものを表す。Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、具体的には、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、シクロヘプチルオキシ基、シクロオクチルオキシ基等が挙げられる。
　Ｃ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基とは、前記のＣ２～Ｃ６のアルケニル基が酸素原子を介して結合したものを表す。また、幾何異性体がある場合、Ｅ体またはＺ体のどちらか一方のみ、あるいはＥ体とＺ体との任意の割合の混合物であり、指定される炭素数の範囲であれば、特に制限されることはない。Ｃ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基の具体例として、ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、１－ブテニルオキシ基、２－ブテニルオキシ基、３－ブテニルオキシ基、２－メチル－１－プロペニルオキシ基、１－ペンテニルオキシ基、２－ペンテニルオキシ基、３－ペンテニルオキシ基、４－ペンテニルオキシ基、２－メチル－１－ブテニルオキシ基、３－メチル－２－ブテニルオキシ基、１－ヘキセニルオキシ基、２－ヘキセニルオキシ基、３－ヘキセニルオキシ基、４－ヘキセニルオキシ基、５－ヘキセニルオキシ基、４－メチル－３－ペンテニルオキシ基、３－メチル－２－ペンテニルオキシ基等が挙げられる。
　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基とは、前記のＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基における水素原子が１個または２個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。２個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基の具体例として、２－フルオロビニルオキシ基、２，２－ジフルオロビニルオキシ基、２，２－ジクロロビニルオキシ基、３－フルオロアリルオキシ基、３，３－ジフルオロアリルオキシ基、３，３－ジクロロアリルオキシ基、４，４－ジフルオロ－３－ブテニルオキシ基、５，５－ジフルオロ－４－ペンテニルオキシ基、６，６－ジフルオロ－５－ヘキセニルオキシ基等が挙げられる。
　Ｃ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基とは、前記のＣ２～Ｃ６のアルキニル基のうち、Ｃ３～Ｃ６のアルキニル基が酸素原子を介して結合したものを表す。Ｃ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基の具体例として、プロパルギルオキシ基、２－ブチニルオキシ基、３－ブチニルオキシ基、２－ペンチニルオキシ基、３－ペンチニルオキシ基、４－ペンチニルオキシ基、１，１－ジメチル－２－プロピニルオキシ基、２－ヘキシニルオキシ基、３－ヘキシニルオキシ基、４－ヘキシニルオキシ基、５－ヘキシニルオキシ基等が挙げられる。
　Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基とは、前記のＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基における水素原子が１個または２個以上のハロゲン原子によって任意に置換されたものを表す。２個以上のハロゲン原子で置換される場合、それらのハロゲン原子は同一または異なっていてよく、その置換数は置換基として存在することができる限り特に制限はない。Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基の具体例として、１，１－ジフルオロ－２－プロピニルオキシ基、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基、５，５－ジフルオロ－３－ペンチニルオキシ基、５－クロロ－５，５－ジフルオロ－３－ペンチニルオキシ基、５－ブロモ－５，５－ジフルオロ－３－ペンチニルオキシ基、５，５，５－トリフルオロ－３－ペンチニルオキシ基、６，６－ジフルオロ－４－ヘキシニルオキシ基、６－クロロ－６，６－ジフルオロ－４－ヘキシニルオキシ基、６－ブロモ－６，６－ジフルオロ－４－ヘキシニルオキシ基、６，６，６－トリフルオロ－４－ヘキシニルオキシ基等が挙げられる。
　１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基の具体例として、１，２－エポキシエタニル基、オキセタニル基、オキソラニル基、オキサニル基、１，３－ジオキソラニル基、１，３－ジオキサニル基、１，４－ジオキサニル基等が挙げられる。
　Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基とは、前記のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基のうちＣ１～Ｃ５のアルコシキ基における水素原子が、１個または２個以上のＣ１～Ｃ５アルコキシ基で任意に置換されたものを表す。炭素数の総和が指定される炭素数の範囲であれば、特に限定されることはない。Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基の具体例として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロピルオキシメトキシ基、イソプロピルオキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、プロピルオキシエトキシ基、イソプロピルオキシエトキシ基、メトキシプロピルオキシ基、エトキシプロピルオキシ基、プロピルオキシプロピルオキシ基、イソプロピルオキシプロピルオキシ基等が挙げられる。
　本発明のピリドン化合物は、下記式（１）で表される化合物とその塩を包含する。（以下、本発明化合物ともいう）。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　以下、式（１）について説明する。
　式（１）中のＲ１は、水酸基、シアノ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲａおよびＲｂは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表す。
　中でもＲ１は、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基が好ましく、
　特にＲ１は、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基が好ましい。
　式（１）のＲ１には、水酸基およびシアノ基が含まれる。
　式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」のＣ１～Ｃ６のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、またはプロピル基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ１における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３－ジフルオロプロピル基、または３，３，３－トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、２－フルオロエチル基、２，２－ジフルオロエチル基、または２，２，２－トリフルオロエチル基である。
　式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基」のＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基」のＣ２～Ｃ６のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、またはアリル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、またはアリル基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ１における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロビニル基、２，２－ジフルオロビニル基、３－フルオロアリル基、または３，３－ジフルオロアリル基であり、さらに好ましくは、２－フルオロビニル基、または２，２－ジフルオロビニル基である。
　式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基」のＣ２～Ｃ６のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギル基、２－ブチニル基、または３－ブチニル基であり、さらに好ましくは、プロパルギル基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルキニル基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ１における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基であり、さらに好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基である。
　式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基」のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、またはイソブトキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、またはエトキシ基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ１における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、または３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、または２，２，２－トリフルオロエトキシ基である。
　式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基」のＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基」のＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ１における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基」とは、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロビニルオキシ基、２，２－ジフルオロビニルオキシ基、３－フルオロアリルオキシ基、または３，３－ジフルオロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、２－フルオロビニルオキシ基、または２，２－ジフルオロビニルオキシ基である。
　式（１）のＲ１における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基」のＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、２－ブチニルオキシ基、または３－ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ１における「Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基」とは、前記の定義と同義であり、好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基である。
　式（１）のＲ１における「ＲａＲｂＮ－」（ここで、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲａおよびＲｂは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）の各用語の定義は、前記の定義と同義である。なお、「置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」に関しては、置換基Ｂを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ｂによって任意に置換される。「ＲａＲｂＮ－」として、好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、（メトキシメチル）アミノ基、（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）アミノ基、（２－シアノエチル）アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、（メトキシメチル）メチルアミノ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノ基、（シアノメチル）メチルアミノ基、（２－シアノエチル）メチルアミノ基、２，２－ジフルオロエチルアミノ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、（シクロプロピル）メチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基が挙げられ、さらに好ましくは、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチルメチルアミノ基、およびジエチルアミノ基が挙げられる。
　式（１）中のＲ２は、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、Ｒｃは、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌは、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である）を表す。）を表す。
　中でもＲ２は、水素原子、ハロゲン原子、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）が好ましく、
　特にＲ２は、ハロゲン原子、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、または置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基が好ましい。
　式（１）のＲ２には、水素原子、シアノ基、およびニトロ基が含まれる。
　式（１）のＲ２におけるハロゲン原子は、前記の定義と同義であり、好ましくは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
　式（１）のＲ２における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」のＣ１～Ｃ６のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、またはイソプロピル基であり、さらに好ましくは、メチル基、またはエチル基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ２における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３－ジフルオロプロピル基、または３，３，３－トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、または２，２，２－トリフルオロエチル基である。
　式（１）のＲ２における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基」のＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ２における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基」のＣ２～Ｃ６のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、アリル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、または３－ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、またはアリル基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ２における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロビニル基、２，２－ジフルオロビニル基、２，２－ジクロロビニル基、３－フルオロアリル基、３，３－ジフルオロアリル基、または３，３－ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、２－フルオロビニル基、または２，２－ジフルオロビニル基である。
　式（１）のＲ２における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基」のＣ２～Ｃ６のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、１－プロピニル基、プロパルギル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、または３－ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、１－プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルキニル基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ２における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基、４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４，４，４－トリフルオロ－１－ブチニル基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基であり、さらに好ましくは、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、または３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基である。
　式（１）のＲ２における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基」のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、またはイソプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、またはエトキシ基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ２における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、または３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、または２，２，２－トリフルオロエトキシ基である。
　式（１）のＲ２における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基」のＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ２における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基」のＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、１－ブテニルオキシ基、２－ブテニルオキシ基、または３－ブテニルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ２における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、２－フルオロビニルオキシ基、２，２－ジフルオロビニルオキシ基、２，２－ジクロロビニルオキシ基、３－フルオロアリルオキシ基、３，３－ジフルオロアリルオキシ基、または３，３－ジクロロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、２－フルオロビニルオキシ基、または２，２－ジフルオロビニルオキシ基である。
　式（１）のＲ２における「置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基」のＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、２－ブチニルオキシ基、または３－ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Ａを有する場合、Ｃ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Ａによって任意に置換される。
　式（１）のＲ２における「Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基である。
　式（１）のＲ２における「Ｒｃ－Ｌ－」（ここで、Ｒｃは、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌは、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）の各用語は、前記の定義と同義である。「Ｒｃ－Ｌ－」として、好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、またはトリフルオロメタンスルホニル基であり、さらに好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、またはメタンスルホニル基である。
　式（１）のＲ２における「ＲａＲｂＮ－」のＲａおよびＲｂは、前記と同義である。「ＲａＲｂＮ－」として、好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、（メトキシメチル）アミノ基、（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）アミノ基、（２－シアノエチル）アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、メチル（プロピル）アミノ基、イソプロピル（メチル）アミノ基、ジエチルアミノ基、エチル（プロピル）アミノ基、エチル（イソプロピル）アミノ基、（メトキシメチル）メチルアミノ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノ基、（シアノメチル）メチルアミノ基、（２－シアノエチル）メチルアミノ基、２，２－ジフルオロエチルアミノ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、（シクロプロピル）メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、またはジエチルアミノ基である。
　式（１）のＲ２における「ＲｄＣ（＝Ｏ）－」（ここで、Ｒｄは、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）を表す。）の各用語は、前記の定義と同義である。なお、「置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」に関しては、置換基Ｂを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ｂによって任意に置換される。「ＲｄＣ（＝Ｏ）－」として、好ましくは、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニル基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、（メトキシメチル）アミノカルボニル基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニル基、（シアノメチル）アミノカルボニル基、（２－シアノエチル）アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル（メチル）アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニル基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニル基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニル基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニル基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、シクロプロピル（メチル）アミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、またはピペリジニルカルボニル基であり、さらに好ましくは、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル（メチル）アミノカルボニル基、またはジエチルアミノカルボニル基である。
　式（１）のＸは、酸素原子、または硫黄原子を表す。好ましいＸは、酸素原子である。
　式（１）のＹは、Ｒ３で適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、Ｒ３で適宜０～４置換されてもよいピリジル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいピリダジニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいピリミジニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいピラジニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、Ｒ３で適宜０～２置換されてもよいトリアジニル基（ただし、２置換のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、Ｒ３で適宜置換されてもよいテトラジニル基、Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいチエニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、Ｒ３で適宜０～２置換されてもよいチアゾリル基（ただし、２置換のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、Ｒ３で適宜０～２置換されてもよいイソチアゾリル基（ただし、２置換のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、またはＲ３で適宜置換されてもよいチアジアゾリル基を表す。
　中でもＹは、Ｒ３で適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、またはＲ３で適宜０～４置換されてもよいピリジル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）が好ましく、
　特にＹは、Ｒ３で適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）が好ましい。
　式（１）のＹにおける「Ｒ３で適宜０～５置換されてもよいフェニル基」（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）は、式（ａ）で表される下記に示した部分構造を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
　式（ａ）中、ｎａは０～５の整数を表し、ｎａが２以上の場合、２置換以上のＲ３はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。
　式（１）のＹにおける「Ｒ３で適宜０～４置換されてもよいピリジル基」（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）は、式（ｂ－１）、式（ｂ－２）および式（ｂ－３）で表される下記に示した部分構造を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
　式（ｂ－１）、式（ｂ－２）および式（ｂ－３）中、ｎｂは０～４の整数を表し、ｎｂが２以上の場合、２置換以上のＲ３はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。
　式（１）のＹにおける「Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいピリダジニル基」（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）は、式（ｃ－１）、式（ｃ－２）および式（ｃ－３）で表される下記に示した部分構造を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　式（ｃ－１）、式（ｃ－２）および式（ｃ－３）中、ｎｃは０～３の整数を表し、ｎｃが２以上の場合、２置換以上のＲ３はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。
　式（１）のＹにおける「Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいピリミジニル基」（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）は、式（ｄ－１）、式（ｄ－２）および式（ｄ－３）で表される下記に示した部分構造を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
　式（ｄ－１）、式（ｄ－２）および式（ｄ－３）中、ｎｄは０～３の整数を表し、ｎｄが２以上の場合、２置換以上のＲ３はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。
　式（１）のＹにおける「Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいピラジニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）」は、式（ｅ）で表される下記に示した部分構造を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
　式（ｅ）中、ｎｅは０～３の整数を表し、ｎｅが２以上の場合、２置換以上のＲ３はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。
　式（１）のＹにおける「Ｒ３で適宜０～２置換されてもよいトリアジニル基」（ただし、２置換のＲ３の場合、それぞれ独立している。）は、式（ｆ－１）、式（ｆ－２）、式（ｆ－３）、式（ｆ－４）および式（ｆ－５）で表される下記に示した部分構造を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
　式（ｆ－１）、式（ｆ－２）、式（ｆ－３）、式（ｆ－４）および式（ｆ－５）中、ｎｆは０～２の整数を表し、ｎｆが２の場合、２置換のＲ３はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。
　式（１）のＹにおける「Ｒ３で適宜置換されてもよいテトラジニル基」は、式（ｇ－１）、式（ｇ－２）および式（ｇ－３）で表される下記に示した部分構造を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式（ｇ－１）、式（ｇ－２）および式（ｇ－３）中、ｎｇは０～１の整数を表す。
　式（１）のＹにおける「Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいチエニル基」（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）は、式（ｈ－１）および式（ｈ－２）で表される下記に示した部分構造を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
　式（ｈ－１）および式（ｈ－２）中、ｎｈは０～３の整数を表し、ｎｈが２以上の場合、２以上のＲ３はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。
　式（１）のＹにおける「Ｒ３で適宜０～２置換されてもよいチアゾリル基」（ただし、２置換のＲ３の場合、それぞれ独立している。）は、式（ｉ－１）、式（ｉ－２）および式（ｉ―３）で表される下記に示した部分構造を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
　式（ｉ－１）、式（ｉ－２）および式（ｉ―３）中、ｎｉは０～２の整数を表し、ｎｉが２の場合、２置換のＲ３はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。
　式（１）のＹにおける「Ｒ３で適宜０～２置換されてもよいイソチアゾリル基」（ただし、２置換のＲ３の場合、それぞれ独立している。）は、式（ｊ－１）、式（ｊ－２）および式（ｊ―３）で表される下記に示した部分構造を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　式（ｊ－１）、式（ｊ－２）および式（ｊ―３）中、ｎｊは０～２の整数を表し、ｎｊが２の場合、２置換のＲ３はそれぞれ独立した置換基を表し、同一もしくは異なっていてよく、任意に選択することができる。
　式（１）のＹにおける「Ｒ３で適宜置換されてもよいチアジアゾリル基」は、式（ｋ－１）、式（ｋ－２）、式（ｋ－３）、式（ｋ－４）、式（ｋ－５）および式（ｋ－６）で表される下記に示した部分構造を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　式（ｋ－１）、式（ｋ－２）、式（ｋ－３）、式（ｋ－４）、式（ｋ－５）および式（ｋ－６）中、ｎｋは０～１の整数を表す。
　式（１）中のＲ３は、水酸基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、またはＲｅＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆ）－（ここで、ＲｅとＲｆは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）を表す。）を表す。
　中でもＲ３は、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、またはＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）が好ましく、
　特にＲ３は、シアノ基、ハロゲン原子、または置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基が好ましい。
　式（１）のＲ３には、水酸基、シアノ基、およびニトロ基が含まれる。
　式（１）のＲ３におけるハロゲン原子は、前記の定義と同義であり、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
　式（１）のＲ３における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」のＣ１～Ｃ６のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、またはイソプロピル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ３における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３－ジフルオロプロピル基、または３，３，３－トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、または２，２，２－トリフルオロエチル基である。
　式（１）のＲ３における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基」のＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、またはシクロブチル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ３における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基」のＣ２～Ｃ６のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、アリル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、または３－ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、またはアリル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ３における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロビニル基、２，２－ジフルオロビニル基、２，２－ジクロロビニル基、３－フルオロアリル基、３，３－ジフルオロアリル基、または３，３－ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、２－フルオロビニル基、または２，２－ジフルオロビニル基である。
　式（１）のＲ３における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基」のＣ２～Ｃ６のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、１－プロピニル基、プロパルギル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、または３－ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、１－プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルキニル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ３における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基、４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４，４，４－トリフルオロ－１－ブチニル基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基であり、さらに好ましくは、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、または３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基である。
　式（１）のＲ３における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基」のＣ１～Ｃ６のアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、またはペンチルオキシ基であり、さらに好ましくは、メトキシ基、またはエトキシ基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ３における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、または３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、または２，２，２－トリフルオロエトキシ基である。
　式（１）のＲ３における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基」のＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、またはシクロヘキシルオキシ基であり、さらに好ましくは、シクロプロピルオキシ基、またはシクロブトキシ基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ３における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基」のＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、１－ブテニルオキシ基、２－ブテニルオキシ基、または３－ブテニルオキシ基であり、さらに好ましくは、ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、またはアリルオキシ基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ３における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロビニルオキシ基、２，２－ジフルオロビニルオキシ基、２，２－ジクロロビニルオキシ基、３－フルオロアリルオキシ基、３，３－ジフルオロアリルオキシ基、または３，３－ジクロロアリルオキシ基であり、さらに好ましくは、２－フルオロビニルオキシ基、または２，２－ジフルオロビニルオキシ基である。
　式（１）のＲ３における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基」のＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、プロパルギルオキシ基、２－ブチニルオキシ基、または３－ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、プロパルギルオキシ基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ３における「Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基であり、さらに好ましくは、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基である。
　式（１）のＲ３における「ＲｄＣ（＝Ｏ）－」のＲｄは、前記の定義と同義である。「ＲｄＣ（＝Ｏ）－」として、好ましくは、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニル基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、（メトキシメチル）アミノカルボニル基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニル基、（シアノメチル）アミノカルボニル基、（２－シアノエチル）アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル（メチル）アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニル基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニル基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニル基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニル基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、シクロプロピル（メチル）アミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、またはピペリジニルカルボニル基であり、さらに好ましくは、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル（メチル）アミノカルボニル基、またはジエチルアミノカルボニル基である。
　式（１）のＲ３における「ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－」のＲｄは、前記の定義と同義である。「ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－」として、好ましくは、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、シクロプロパンカルボニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニルオキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニルオキシ基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、（メトキシメチル）アミノカルボニルオキシ基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニルオキシ基、（シアノメチル）アミノカルボニルオキシ基、（２－シアノエチル）アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル（メチル）アミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピル（メチル）アミノカルボニルオキシ基、ピロリジニルカルボニルオキシ基、またはピペリジニルカルボニルオキシ基であり、さらに好ましくは、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル（メチル）アミノカルボニルオキシ基、またはジエチルアミノカルボニルオキシ基である。
　式（１）のＲ３における「１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、オキソラニル基、オキサニル基、１，３－ジオキソラニル基、または１，３－ジオキサニル基であり、さらに好ましくは、１，３－ジオキソラニル基、または１，３－ジオキサニル基である。
　式（１）のＲ３における「Ｒｃ－Ｌ－」のＲｃおよびＬは、前記と同義ある。「Ｒｃ－Ｌ－」として、好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、またはトリフルオロメタンスルホニル基であり、さらに好ましくは、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、またはメタンスルホニル基である。
　式（１）のＲ３における「ＲａＲｂＮ－」のＲａおよびＲｂは、前記と同義である。「ＲａＲｂＮ－」として、好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、（メトキシメチル）アミノ基、（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）アミノ基、（２－シアノエチル）アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、メチル（プロピル）アミノ基、イソプロピル（メチル）アミノ基、（メトキシメチル）メチルアミノ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノ基、（シアノメチル）メチルアミノ基、（２－シアノエチル）メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチル（プロピル）アミノ基、エチル（イソプロピル）アミノ基、エチル（メトキシメチル）アミノ基、エチル（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）エチルアミノ基、（２－シアノエチル）エチルアミノ基、２，２－ジフルオロエチルアミノ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、（シクロプロピル）メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、イソプロピル（メチル）アミノ基、ジエチルアミノ基、またはエチル（イソプロピル）アミノ基である。
　式（１）のＲ３における「ＲｅＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆ）－」（ここで、ＲｅとＲｆは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）を表す。）の各用語は、前記の定義と同義である。なお、「置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」に関しては、置換基Ｂを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ｂによって任意に置換される。「ＲｅＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆ）－」として、好ましくは、ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、メトキシアセチルアミノ基、シアノアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ジフルオロアセチルアミノ基、トリフルオロアセチルアミノ基、シクロプロパンカルボニルアミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニルアミノ基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニルアミノ基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニルアミノ基、シクロプロピルオキシカルボニルアミノ基、アミノカルボニルアミノ基、メチルアミノカルボニルアミノ基、エチルアミノカルボニルアミノ基、（メトキシメチル）アミノカルボニルアミノ基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニルアミノ基、（シアノメチル）アミノカルボニルアミノ基、（２－シアノエチル）アミノカルボニルアミノ基、ジメチルアミノカルボニルアミノ基、エチル（メチル）アミノカルボニルアミノ基、ジエチルアミノカルボニルアミノ基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニルアミノ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニルアミノ基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニルアミノ基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニルアミノ基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニルアミノ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニルアミノ基、シクロプロピルアミノカルボニルアミノ基、シクロプロピル（メチル）アミノカルボニルアミノ基、ピロリジニルカルボニルアミノ基、ピペリジニルカルボニルアミノ基、ホルミル（メチル）アミノ基、アセチル（メチル）アミノ基、メトキシアセチル（メチル）アミノ基、シアノアセチル（メチル）アミノ基、プロピオニル（メチル）アミノ基、ジフルオロアセチル（メチル）アミノ基、トリフルオロアセチル（メチル）アミノ基、シクロプロパンカルボニル（メチル）アミノ基、メトキシカルボニル（メチル）アミノ基、エトキシカルボニル（メチル）アミノ基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニル（メチル）アミノ基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニル（メチル）アミノ基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニル（メチル）アミノ基、シクロプロピルオキシカルボニル（メチル）アミノ基、アミノカルボニル（メチル）アミノ基、メチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、エチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、（メトキシメチル）アミノカルボニル（メチル）アミノ基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニル（メチル）アミノ基、（シアノメチル）アミノカルボニル（メチル）アミノ基、（２－シアノエチル）アミノカルボニル（メチル）アミノ基、ジメチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、エチル（メチル）アミノカルボニル（メチル）アミノ基、ジエチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、シクロプロピルアミノカルボニル（メチル）アミノ基、シクロプロピル（メチル）アミノカルボニル（メチル）アミノ基、ピロリジニルカルボニル（メチル）アミノ基、ピペリジニルカルボニル（メチル）アミノ基、ホルミル（エチル）アミノ基、アセチル（エチル）アミノ基、メトキシアセチル（エチル）アミノ基、シアノアセチル（エチル）アミノ基、プロピオニル（エチル）アミノ基、ジフルオロアセチル（エチル）アミノ基、トリフルオロアセチル（エチル）アミノ基、シクロプロパンカルボニル（エチル）アミノ基、メトキシカルボニル（エチル）アミノ基、エトキシカルボニル（エチル）アミノ基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニル（エチル）アミノ基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニル（エチル）アミノ基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニル（エチル）アミノ基、シクロプロピルオキシカルボニル（エチル）アミノ基、アミノカルボニル（エチル）アミノ基、メチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、エチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、（メトキシメチル）アミノカルボニル（エチル）アミノ基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニル（エチル）アミノ基、（シアノメチル）アミノカルボニル（エチル）アミノ基、（２－シアノエチル）アミノカルボニル（エチル）アミノ基、ジメチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、エチル（メチル）アミノカルボニル（エチル）アミノ基、ジエチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、シクロプロピルアミノカルボニル（エチル）アミノ基、シクロプロピル（メチル）アミノカルボニル（エチル）アミノ基、ピロリジニルカルボニル（エチル）アミノ基、ピペリジニルカルボニル（エチル）アミノ基、ホルミル（メトキシ）アミノ基、アセチル（メトキシ）アミノ基、メトキシアセチル（メトキシ）アミノ基、シアノアセチル（メトキシ）アミノ基、プロピオニル（メトキシ）アミノ基、ジフルオロアセチル（メトキシ）アミノ基、トリフルオロアセチル（メトキシ）アミノ基、シクロプロパンカルボニル（メトキシ）アミノ基、メトキシカルボニル（メトキシ）アミノ基、エトキシカルボニル（メトキシ）アミノ基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニル（メトキシ）アミノ基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニル（メトキシ）アミノ基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニル（メトキシ）アミノ基、シクロプロピルオキシカルボニル（メトキシ）アミノ基、アミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、メチルアミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、エチルアミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、（メトキシメチル）アミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、（シアノメチル）アミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、（２－シアノエチル）アミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、ジメチルアミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、エチル（メチル）アミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、ジエチルアミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、シクロプロピルアミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、シクロプロピル（メチル）アミノカルボニル（メトキシ）アミノ基、ピロリジニルカルボニル（メトキシ）アミノ基、ピペリジニルカルボニル（メトキシ）アミノ基、ホルミル（エトキシ）アミノ基、アセチル（エトキシ）アミノ基、メトキシアセチル（エトキシ）アミノ基、シアノアセチル（エトキシ）アミノ基、プロピオニル（エトキシ）アミノ基、ジフルオロアセチル（エトキシ）アミノ基、トリフルオロアセチル（エトキシ）アミノ基、シクロプロパンカルボニル（エトキシ）アミノ基、メトキシカルボニル（エトキシ）アミノ基、エトキシカルボニル（エトキシ）アミノ基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニル（エトキシ）アミノ基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニル（エトキシ）アミノ基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニル（エトキシ）アミノ基、シクロプロピルオキシカルボニル（エトキシ）アミノ基、アミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、メチルアミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、エチルアミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、（メトキシメチル）アミノカルボニル（エトキシシ）アミノ基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、（シアノメチル）アミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、（２－シアノエチル）アミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、ジメチルアミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、エチル（メチル）アミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、ジエチルアミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、シクロプロピルアミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、シクロプロピル（メチル）アミノカルボニル（エトキシ）アミノ基、ピロリジニルカルボニル（エトキシ）アミノ基、またはピペリジニルカルボニル（エトキシ）アミノ基であり、さらに好ましくは、アセチルアミノ基、アセチル（メチル）アミノ基、アセチル（エチル）アミノ基、アセチル（メトキシ）アミノ基、アセチル（エトキシ）アミノ基、メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、メトキシカルボニル（メチル）アミノ基、エトキシカルボニル（メチル）アミノ基、メトキシカルボニル（エチル）アミノ基、エトキシカルボニル（エチル）アミノ基、メトキシカルボニル（メトキシ）アミノ基、エトキシカルボニル（メトキシ）アミノ基、メトキシカルボニル（エトキシ）アミノ基、またはエトキシカルボニル（エトキシ）アミノ基である。
　式（１）中のＲ４は、水素原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）を表す。
　中でもＲ４は、水素原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）が好ましく、
　特にＲ４は、水素原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）が好ましい。
　式（１）のＲ４には、水素原子が含まれる。
　式（１）のＲ４における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」のＣ１～Ｃ６のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、またはイソペンチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、またはｔ－ブチル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ４における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３－ジフルオロプロピル基、または３，３，３－トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、または２，２，２－トリフルオロエチル基である。
　式（１）のＲ４における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基」のＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、またはシクロヘプチル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ４における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基」のＣ２～Ｃ６のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、アリル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、または３－ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、またはアリル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ４における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロビニル基、２，２－ジフルオロビニル基、２，２－ジクロロビニル基、３－フルオロアリル基、３，３－ジフルオロアリル基、または３，３－ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、２－フルオロビニル基、または２，２－ジフルオロビニル基である。
　式（１）のＲ４における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基」のＣ２～Ｃ６のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、１－プロピニル基、プロパルギル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、または３－ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、１－プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルキニル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ４における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基、４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４，４，４－トリフルオロ－１－ブチニル基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基であり、さらに好ましくは、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、または３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基である。
　式（１）のＲ４における「置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基」（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）については、置換基Ｄを有する場合、フェニル基における水素原子が置換基Ｄによって任意に置換される。
　式（１）のＲ４における「置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基」（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）における“置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基”と“Ｃ１～Ｃ６のアルキル基”は、それぞれ前記の定義と同義である。「フェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基」として、好ましくは、フェニルメチル基、２－フェニルエチル基、１－フェニルエチル基、３－フェニルプロピル基、２－フェニルプロピル基、１－フェニルプロピル基、４－フェニルブチル基、または５－フェニルペンチル基であり、さらに好ましくは、フェニルメチル基、２－フェニルエチル基、１－フェニルエチル基、または１－フェニルプロピル基である。置換基Ｄを有する場合、フェニル基における水素原子が、置換基Ｄによって任意に置換される。
　式（１）のＲ４における「置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基」（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）における“置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基”と“Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基”は、それぞれ前記の定義と同義である。「フェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基」として、好ましくは、２，２，２－トリフルオロ－１－フェニルエチル基、または２，２－ジフルオロ－１－フェニルエチル基であり、さらに好ましくは、２，２，２－トリフルオロ－１－フェニルエチル基である。置換基Ｄを有する場合、フェニル基における水素原子が、置換基Ｄによって任意に置換される。
　式（１）のＲ４における「ＲａＲｂＮ－」のＲａおよびＲｂは、前記と同義である。ＲａおよびＲｂとして、好ましくは、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基であり、さらに好ましくは、水素原子、または置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基である。「ＲａＲｂＮ－」として、好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、（メトキシメチル）アミノ基、（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）アミノ基、（２－シアノエチル）アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、メチル（プロピル）アミノ基、イソプロピル（メチル）アミノ基、（メトキシメチル）メチルアミノ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノ基、（シアノメチル）メチルアミノ基、（２－シアノエチル）メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチル（プロピル）アミノ基、エチル（イソプロピル）アミノ基、エチル（メトキシメチル）アミノ基、エチル（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）エチルアミノ基、（２－シアノエチル）エチルアミノ基、２，２－ジフルオロエチルアミノ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、（シクロプロピル）メチルアミノ基、ピロリジニル基、またはピペリジニル基であり、さらに好ましくは、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、またはジエチルアミノ基である。
　式（１）中のＲ５は、水素原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）を表す。
　中でもＲ５は、水素原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）が好ましく、
　特にＲ５は、水素原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）が好ましい。
　式（１）のＲ５には、水素原子が含まれる。
　式（１）のＲ５における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」のＣ１～Ｃ６のアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、またはイソブチル基であり、さらに好ましくは、メチル基、エチル基、プロピル基、またはイソプロピル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ５における「Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３－ジフルオロプロピル基、または３，３，３－トリフルオロプロピル基であり、さらに好ましくは、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、または２，２，２－トリフルオロエチル基である。
　式（１）のＲ５における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基」のＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、またはシクロヘプチル基であり、さらに好ましくは、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、またはシクロヘキシル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ５における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基」のＣ２～Ｃ６のアルケニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、アリル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、または３－ブテニル基であり、さらに好ましくは、ビニル基、１－プロペニル基、またはアリル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ５における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、２－フルオロビニル基、２，２－ジフルオロビニル基、２，２－ジクロロビニル基、３－フルオロアリル基、３，３－ジフルオロアリル基、または３，３－ジクロロアリル基であり、さらに好ましくは、２－フルオロビニル基、または２，２－ジフルオロビニル基である。
　式（１）のＲ５における「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基」のＣ２～Ｃ６のアルキニル基は、前記の定義と同義であり、好ましくは、エチニル基、１－プロピニル基、プロパルギル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、または３－ブチニル基であり、さらに好ましくは、エチニル基、１－プロピニル基、またはプロパルギル基である。置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルキニル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　式（１）のＲ５における「Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基」は、前記の定義と同義であり、好ましくは、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基、４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４，４，４－トリフルオロ－１－ブチニル基、または４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基であり、さらに好ましくは、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、または３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基である。
　式（１）のＲ５における「置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基」（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）については、置換基Ｄを有する場合、フェニル基における水素原子が置換基Ｄによって任意に置換される。
　式（１）のＲ５における「置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基」（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）における“置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基”と“Ｃ１～Ｃ６のアルキル基”は、それぞれ前記の定義と同義である。「フェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基」として、好ましくは、フェニルメチル基、２－フェニルエチル基、１－フェニルエチル基、３－フェニルプロピル基、２－フェニルプロピル基、１－フェニルプロピル基、４－フェニルブチル基、または５－フェニルペンチル基であり、さらに好ましくは、フェニルメチル基、２－フェニルエチル基、１－フェニルエチル基、または１－フェニルプロピル基である。置換基Ｄを有する場合、フェニル基における水素原子が、置換基Ｄによって任意に置換される。
　式（１）のＲ５における「置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基」（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）における“置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基”と“Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基”は、それぞれ前記の定義と同義である。「フェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基」として、好ましくは、２，２，２－トリフルオロ－１－フェニルエチル基、または２，２－ジフルオロ－１－フェニルエチル基であり、さらに好ましくは、２，２，２－トリフルオロ－１－フェニルエチル基である。置換基Ｄを有する場合、フェニル基における水素原子が、置換基Ｄによって任意に置換される。
　式（１）のＲ５における「ＲｄＣ（＝Ｏ）－」のＲｄは、前記の定義と同義である。Ｒｄとして、好ましくは、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基であり、さらに好ましくは、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基である。「ＲｄＣ（＝Ｏ）－」として、好ましくは、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニル基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、（メトキシメチル）アミノカルボニル基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニル基、（シアノメチル）アミノカルボニル基、（２－シアノエチル）アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル（メチル）アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニル基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニル基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニル基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニル基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、シクロプロピル（メチル）アミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、またはピペリジニルカルボニル基であり、さらに好ましくは、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、またはプロピオニル基である。
　式（１）中のＲ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）とと一緒になって、置換基Ｅで適宜０～２置換されてもよいイソキサゾール環（ただし、２置換の置換基Ｅの場合、それぞれ独立している。）、置換基Ｆで適宜０～４置換されてもよいイソキサゾリン環（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）、置換基Ｄで適宜０～４置換されてもよいベンズイソキサゾール環（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、または置換基Ｆで適宜０～６置換されてもよい５，６－ジヒドロ－４Ｈ－１，２－オキサジン環（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）を形成するものを表す。
　中でもＲ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、置換基Ｅで適宜０～２置換されてもよいイソキサゾール環（ただし、２置換の置換基Ｅの場合、それぞれ独立している。）、置換基Ｆで適宜０～４置換されてもよいイソキサゾリン環（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）、または置換基Ｄで適宜０～４置換されてもよいベンズイソキサゾール環（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）を形成するものが好ましく、
　特にＲ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、置換基Ｅで適宜０～２置換されてもよいイソキサゾール環（ただし、２置換の置換基Ｅの場合、それぞれ独立している。）を形成するものが好ましい。
　式（１）中のＲ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、置換基Ｅで適宜０～２置換されてもよいイソキサゾール環を形成するもの（ただし、２置換の置換基Ｅの場合、それぞれ独立している。）は、式（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
で表される。
　式（２）中のＲ６およびＲ７は、それぞれ独立していて、水素原子または置換基Ｅを表し、Ｒ１、Ｒ２、ＸおよびＹは前記と同義である。
　式（２）のＲ６は、具体的には、水素原子、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｇＯＮ＝Ｃ（Ｒｈ）－（ここで、ＲｇおよびＲｈは、それぞれ独立していて、水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、ＲｉＲｊＲｋＳｉ－（ここで、Ｒｉ、ＲｊおよびＲｋは、それぞれ独立していてＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、または１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基を表す。
　中でもＲ６は、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、またはＲｇＯＮ＝Ｃ（Ｒｈ）－（ここで、ＲｇおよびＲｈは、前記と同義である。）が好ましく、
　特にＲ６は、水素原子、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、またはＲｇＯＮ＝Ｃ（Ｒｈ）－（ここで、ＲｇおよびＲｈは、前記と同義である。）が好ましい。
　なお、Ｒ６の各置換基の好ましい例は、置換基Ｅに記載されているものと同一である。
　式（２）のＲ７は、具体的には、水素原子、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｇＯＮ＝Ｃ（Ｒｈ）－（ここで、ＲｇおよびＲｈは、前記と同義である。）、ＲｉＲｊＲｋＳｉ－（ここで、Ｒｉ、ＲｊおよびＲｋは、それぞれ独立していてＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、または１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基を表す。
　中でもＲ７は、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、またはＲｉＲｊＲｋＳｉ－（ここで、Ｒｉ、ＲｊおよびＲｋは、それぞれ独立していてＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）が好ましく、
　特にＲ７は、水素原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、またはＲｉＲｊＲｋＳｉ－（ここで、Ｒｉ、ＲｊおよびＲｋは、それぞれ独立していてＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）が好ましい。
　なお、Ｒ７の各置換基の好ましい例は、置換基Ｅに記載されているものと同一である。
　式（１）中のＲ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、置換基Ｆで適宜０～４置換されてもよいイソキサゾリン環を形成するもの（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）は、式（３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
で表される。
　式（３）中、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０およびＲ１１は、それぞれ独立していて、水素原子または置換基Ｆを表し、Ｒ１、Ｒ２、ＸおよびＹは前記と同義である。
　式（３）中のＲ８およびＲ９は、それぞれ独立していて、具体的には、水素原子、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、またはＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）を表す。
　中でもＲ８およびＲ９は、それぞれ独立していて、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基が好ましく、
　特にＲ８およびＲ９は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子が好ましい。
　なお、Ｒ８およびＲ９の各置換基の好ましい例は、置換基Ｆに記載されているものと同一である。
　式（３）中のＲ１０およびＲ１１は、それぞれ独立していて、具体的には、水素原子、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、またはＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）を表す。
　中でもＲ１０およびＲ１１は、それぞれ独立していて、水素原子、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、または置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基が好ましく、
　特にＲ１０およびＲ１１は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、または置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基が好ましい。
　なお、Ｒ１０およびＲ１１の各置換基の好ましい例は、置換基Ｆに記載されているものと同一である。
　式（１）中のＲ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、置換基Ｄで適宜０～４置換されてもよいベンズイソキサゾール環を形成するもの（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）は、式（４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
で表される。
　式（４）中、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４およびＲ１５は、それぞれ独立していて、水素原子または置換基Ｄを表し、Ｒ１、Ｒ２、ＸおよびＹは前記と同義である。
　式（１）中のＲ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、置換基Ｆで適宜０～６置換されてもよい５，６－ジヒドロ－４Ｈ－１，２－オキサジン環を形成するもの（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）は、式（５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
で表される。
　式（５）中、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０およびＲ２１は、それぞれ独立していて、水素原子または置換基Ｆを表し、Ｒ１、Ｒ２、ＸおよびＹは前記と同義である。
　置換基Ａは、水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）およびＲｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）からなる群から選択される少なくとも１種を表す。
　中でも置換基Ａは、シアノ基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基またはＲｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）が好ましく、
　特に、シアノ基またはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基が好ましい。
　置換基Ａの各用語は前記の定義と同義である。
　置換基Ａの好ましい具体例に関しては、水酸基；シアノ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、および３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基；
ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）として、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、（メトキシメチル）アミノ基、（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）アミノ基、（２－シアノエチル）アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、メチル（プロピル）アミノ基、イソプロピル（メチル）アミノ基、（メトキシメチル）メチルアミノ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノ基、（シアノメチル）メチルアミノ基、（２－シアノエチル）メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチル（プロピル）アミノ基、エチル（イソプロピル）アミノ基、エチル（メトキシメチル）アミノ基、エチル（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）エチルアミノ基、（２－シアノエチル）エチルアミノ基、２，２－ジフルオロエチルアミノ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、（シクロプロピル）メチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基；
ならびにＲｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基が挙げられる。
　置換基Ａのさらに好ましい具体例に関しては、水酸基；シアノ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、および２，２，２－トリフルオロエトキシ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基；
ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）として、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、およびジエチルアミノ基；
ならびにＲｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基が挙げられる。
　置換基Ｂは、シアノ基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基およびＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種を表す。
　中でも置換基Ｂは、シアノ基またはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基が好ましい。
　置換基Ｂの各用語は前記の定義と同義である。
　置換基Ｂの好ましい具体例に関しては、シアノ基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、および３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基；
ならびにＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
　置換基Ｂのさらに好ましい具体例に関しては、シアノ基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、および２，２，２－トリフルオロエトキシ基；
ならびにＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、およびシクロブトキシ基が挙げられる。
　置換基Ｃは、水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）および１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基からなる群から選択される少なくとも１種を表す。
　中でも置換基Ｃは、水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、またはＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）が好ましく、
　特に、水酸基、またはＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）が好ましい。
　置換基Ｃの各用語は前記の定義と同義である。「ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－」におけるＰｄとして、好ましくは、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基であり、さらに好ましくは、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基である。
　置換基Ｃの好ましい具体例に関しては、水酸基；シアノ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、およびｔ－ブトキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、および３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基；
Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、およびメトキシプロピルオキシ基；
ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）として、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、（メトキシメチル）アミノ基、（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）アミノ基、（２－シアノエチル）アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、メチル（プロピル）アミノ基、イソプロピル（メチル）アミノ基、（メトキシメチル）メチルアミノ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノ基、（シアノメチル）メチルアミノ基、（２－シアノエチル）メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチル（プロピル）アミノ基、エチル（イソプロピル）アミノ基、エチル（メトキシメチル）アミノ基、エチル（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）エチルアミノ基、（２－シアノエチル）エチルアミノ基、２，２－ジフルオロエチルアミノ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、（シクロプロピル）メチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基；
Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基；
ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）として、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニル基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、（メトキシメチル）アミノカルボニル基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニル基、（シアノメチル）アミノカルボニル基、（２－シアノエチル）アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル（メチル）アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニル基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニル基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニル基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニル基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、（シクロプロピル）メチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、およびピペリジニルカルボニル基；
ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）として、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、シクロプロパンカルボニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニルオキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニルオキシ基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、（メトキシメチル）アミノカルボニルオキシ基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニルオキシ基、（シアノメチル）アミノカルボニルオキシ基、（２－シアノエチル）アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル（メチル）アミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピル（メチル）アミノカルボニルオキシ基、ピロリジニルカルボニルオキシ基、およびピペリジニルカルボニルオキシ基；
ならびに１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基として、オキソラニル基、オキサニル基、１，３－ジオキソラニル基、および１，３－ジオキサニル基が挙げられる。
　置換基Ｃのさらに好ましい具体例に関しては、水酸基；シアノ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、およびエトキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、および２，２，２－トリフルオロエトキシ基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基；
Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、およびエトキシエトキシ基；
ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）として、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、およびジエチルアミノ基；
Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基；
ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）として、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル（メチル）アミノカルボニル基、およびジエチルアミノカルボニル基；
ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）として、アセチルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、およびトリフルオロアセチルオキシ基；
ならびに１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基として、１，３－ジオキソラニル基、および１，３－ジオキサニル基が挙げられる。
　置換基Ｄは、水酸基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基およびＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種を表す。
　中でも置換基Ｄは、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基およびＣ１～Ｃ６のハロアルコキシ基が好ましく、
　特に、ハロゲン原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、およびＣ１～Ｃ６のアルコキシ基が好ましい。
　置換基Ｄの各用語は前記の定義と同義である。なお、「置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」に関しては、置換基Ｂを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ｂによって任意に置換される。
　置換基Ｄの好ましい具体例に関しては、水酸基；シアノ基；ニトロ基；
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子；
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基として、メチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、２－メトキシエチル基、２－エトキシエチル基、２－シアノエチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、およびイソブチル基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基として、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３－ジフルオロプロピル基、および３，３，３－トリフルオロプロピル基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、およびシクロヘキシル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、およびｔ－ブトキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、および３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基；
ならびにＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブトキシ基、シクロペンチルオキシ基、およびシクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
　置換基Ｄのさらに好ましい具体例に関しては、水酸基；シアノ基；ニトロ基；
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、および臭素原子；
置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基として、メチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、シアノメチル基、エチル基、２－メトキシエチル基、２－エトキシエチル基、および２－シアノエチル基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基として、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、および２，２，２－トリフルオロエチル基；
Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、およびシクロブチル基；
Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、およびイソプロピルオキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、および２，２，２－トリフルオロエトキシ基；
ならびにＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基およびシクロブトキシ基が挙げられる。
　置換基Ｅは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｇＯＮ＝Ｃ（Ｒｈ）－（ここで、ＲｇおよびＲｈは、それぞれ独立していて、水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、ＲｉＲｊＲｋＳｉ－（ここで、Ｒｉ、ＲｊおよびＲｋは、それぞれ独立していてＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）および１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基からなる群から選択される少なくとも１種を表す。
　中でも置換基Ｅは、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｇＯＮ＝Ｃ（Ｒｈ）－（ここで、ＲｇおよびＲｈは、前記と同義である。）およびＲｉＲｊＲｋＳｉ－（ここで、Ｒｉ、ＲｊおよびＲｋは、前記と同義である。）が好ましく、
　特に、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｇＯＮ＝Ｃ（Ｒｈ）－（ここで、ＲｇおよびＲｈは、前記と同義である。）およびＲｉＲｊＲｋＳｉ－（ここで、Ｒｉ、ＲｊおよびＲｋは、前記と同義である。）が好ましい。
　置換基Ｅの各用語は前記の定義と同義である。なお、「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６アルケニル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６アルキニル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　置換基Ｅの好ましい具体例に関しては、水酸基；シアノ基；
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基として、メチル基、ヒドロキシメチル基、シアノメチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ジフルオロメトキシメチル基、トリフルオロメトキシメチル基、シクロプロピルオキシメチル基、シクロブチルオキシメチル基、メトキシメトキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、メチルチオメチル基、メチルスルフィニルメチル基、メチルスルホニルメチル基、アセチルメチル基、プロピオノイルメチル基、トリフルオロアセチルメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、アセチルオキシメチル基、ジフルオロアセチルオキシメチル基、トリフルオロアセチルオキシメチル基、（１，３－ジオキソラン－２－イル）メチル基、（１，３－ジオキサン－２－イル）メチル基、エチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基、１－シアノエチル基、２－シアノエチル基、１－メトキシエチル基、２－メトキシエチル基、１－メトキシエチル基、２－エトキシエチル基、１－ジフルオロメトキシエチル基、２－ジフルオロメトキシエチル基、１－トリフルオロメトキシエチル基、２－トリフルオロメトキシエチル基、１－メトキシメトキシエチル基、２－メトキシメトキシエチル基、２－（ジメチルアミノ）エチル基、１－（メチルチオ）エチル基、２－（メチルチオ）エチル基、１－（メチルスルフィニル）エチル基、２－（メチルスルフィニル）エチル基、１－（メチルスルホニル）エチル基、２－（メチルスルホニル）エチル基、２－（アセチル）エチル基、２－（プロピオノイル）エチル基、２－（メトキシカルボニル）エチル基、２－（エトキシカルボニル）エチル基、１－（アセチルオキシ）エチル基、２－（アセチルオキシ）エチル基、１－（ジフルオロアセチルオキシ）エチル基、２－（ジフルオロアセチルオキシ）エチル基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）エチル基、２－（トリフルオロアセチルオキシ）エチル基、２－（１，３－ジオキソラン－２－イル）エチル基、２－（１，３－ジオキサン－２－イル）エチル基、プロピル基、１－ヒドロキシプロピル基、２－ヒドロキシプロピル基、３－ヒドロキシプロピル基、１－シアノプロピル基、２－シアノプロピル基、３－シアノプロピル基、１－メトキシプロピル基、２－メトキシプロピル基、３－メトキシプロピル基、１－エトキシプロピル基、２－エトキシプロピル基、３－エトキシプロピル基、１－（アセチルオキシ）プロピル基、２－（アセチルオキシ）プロピル基、３－（アセチルオキシ）プロピル基、１－（ジフルオロアセチルオキシ）プロピル基、２－（ジフルオロアセチルオキシ）プロピル基、３－（ジフルオロアセチルオキシ）プロピル基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）プロピル基、２－（トリフルオロアセチルオキシ）プロピル基、３－（トリフルオロアセチルオキシ）プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、およびｔ－ブチル基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基として、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、モノブロモメチル基、モノヨードメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３－ジフルオロプロピル基、および３，３，３－トリフルオロプロピル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、１－ヒドロキシシクロプロピル基、１－シアノシクロプロピル基、２－シクロプロピルシクロプロピル基、１－メトキシクロプロピル基、１－エトキシクロプロピル基、シクロブチル基、１－ヒドロキシシクロブチル基、１－シアノシクロブチル基、１－メトキシクロブチル基、１－エトキシクロブチル基、シクロペンチル基、１－ヒドロキシシクロペンチル基、１－シアノシクロペンチル基、１－メトキシノシクロペンチル基、１－エトキシノシクロペンチル基、シクロヘキシル基、１－ヒドロキシシクロヘキシル基、４－ヒドロキシシクロヘキシル基、１－シアノシクロヘキシル基、１－メトキシシクロヘキシル基、１－エトキシシクロヘキシル基、４－メトキシシクロヘキシル基、４－エトキシシクロヘキシル基、４－ジフルオロメトキシシクロヘキシル基、４－トリフルオロメトキシシクロヘキシル基、４－シクロプロピルオキシシクロヘキシル基、４－シクロブチルオキシシクロヘキシル基、４－（メトキシメトキシ）シクロヘキシル基、４－（ジメチルアミノ）シクロヘキシル基、４－（メチルチオ）シクロヘキシル基、４－（メチルスルフィニル）シクロヘキシル基、４－（メチルスルホニル）シクロヘキシル基、４－アセチルシクロヘキシル基、４－トリフルオロアセチルシクロヘキシル基、４－アセチルオキシシクロヘキシル基、４－トリフルオロアセチルオキシシクロヘキシル基、４－（１，３－ジオキソラン－２－イル）シクロヘキシル基、および４－（１，３－ジオキサン－２－イル）シクロヘキシル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基として、ビニル基、２－シアノビニル基、２－シクロプロピルビニル基、２－メトキシビニル基、２－エトキシビニル基、２－トリフルオロメトキシビニル基、２－シクロプロピルオキシビニル基、２－（メトキシメトキシ）ビニル基、２－（ジメチルアミノ）ビニル基、２－アセチルビニル基、２－（トリフルオロアセチル）ビニル基、２－（１，３－ジオキソラン－２－イル）ビニル基、２－（１，３－ジオキサン－２－イル）ビニル基、１－プロペニル基、３－ヒドロキシ－１－プロペニル基、アリル基、１－ヒドロキシアリル基、１－（メトキシメトキシ）アリル基、１－（メチルチオ）アリル基、１－（メチルスルフィニル）アリル基、１－（メチルスルホニル）アリル基、１－（アセチルオキシ）アリル基、１－（ジフルオロアセチルオキシ）アリル基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）アリル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、および３－ブテニル基；
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基として、２－フルオロビニル基、２，２－ジフルオロビニル基、２，２－ジクロロビニル基、３－フルオロアリル基、３，３－ジフルオロアリル基、および３，３－ジクロロアリル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基として、エチニル基、２－シクロプロピルエチニル基、２－シクロブチルエチニル基、２－（アセチル）エチニル基、２－（トリフルオロアセチル）エチニル基、２－（１，３－ジオキソラン－２－イル）エチニル基、２－（１，３－ジオキサン－２－イル）エチニル基、１－プロピニル基、プロパルギル基、１－ヒドロキシプロパルギル基、１－シアノプロパルギル基、１－メトキシプロパルギル基、１－エトキシプロパルギル基、１－（ジフルオロメトキシ）プロパルギル基、１－（トリフルオロメトキシ）プロパルギル基、１－（ジメチルアミノ）プロパルギル基、１－（メチルチオ）プロパルギル基、１－（メチルスルフィニル）プロパルギル基、１－（メチルスルホニル）プロパルギル基、１－（アセチルオキシ）プロパルギル基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）プロパルギル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、および３－ブチニル基；
　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基として、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基、４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４，４，４－トリフルオロ－１－ブチニル基、および４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、シアノメトキシ基、シクロプロピルメトキシ基、シクロブチルメトキシ基、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、ジフルオロメトキシメトキシ基、トリフルオロメトキシメトキシ基、シクロプロピルオキシメトキシ基、シクロブチルオキシメトキシ基、メチルチオメトキシ基、メチルスルフィニルメトキシ基、メチルスルホニルメトキシ基、アセチルメトキシ基、プロピオノイルメトキシ基、トリフルオロアセチルメトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、アセチルオキシメトキシ基、ジフルオロアセチルオキシメトキシ基、トリフルオロアセチルオキシメトキシ基、（１，３－ジオキソラン－２－イル）メトキシ基、（１，３－ジオキサン－２－イル）メトキシ基、エトキシ基、２－ヒドロキシエトキシ基、１－シアノエトキシ基、２－シアノエトキシ基、２－メトキシエトキシ基、２－エトキシエトキシ基、１－ジフルオロメトキシエトキシ基、２－ジフルオロメトキシエトキシ基、１－トリフルオロメトキシエトキシ基、２－トリフルオロメトキシエトキシ基、２－メトキシメトキシエトキシ基、２－（ジメチルアミノ）エトキシ基、１－（メチルチオ）エトキシ基、２－（メチルチオ）エトキシ基、１－（メチルスルフィニル）エトキシ基、２－（メチルスルフィニル）エトキシ基、１－（メチルスルホニル）エトキシ基、２－（メチルスルホニル）エトキシ基、２－（アセチル）エトキシ基、２－（プロピオノイル）エトキシ基、２－（メトキシカルボニル）エトキシ基、２－（エトキシカルボニル）エトキシ基、１－（アセチルオキシ）エトキシ基、２－（アセチルオキシ）エトキシ基、１－（ジフルオロアセチルオキシ）エトキシ基、２－（ジフルオロアセチルオキシ）エトキシ基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）エトキシ基、２－（トリフルオロアセチルオキシ）エトキシ基、２－（１，３－ジオキソラン－２－イル）エトキシ基、２－（１，３－ジオキサン－２－イル）エトキシ基、プロピルオキシ基、２－ヒドロキシプロピルオキシ基、３－ヒドロキシプロピルオキシ基、１－（アセチルオキシ）プロピルオキシ基、２－（アセチルオキシ）プロピルオキシ基、３－（アセチルオキシ）プロピルオキシ基、１－（ジフルオロアセチルオキシ）プロピルオキシ基、２－（ジフルオロアセチルオキシ）プロピルオキシ基、３－（ジフルオロアセチルオキシ）プロピルオキシ基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）プロピルオキシ基、２－（トリフルオロアセチルオキシ）プロピルオキシ基、３－（トリフルオロアセチルオキシ）プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、およびｔ－ブチルオキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、および３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、１－シアノシクロプロピルオキシ基、２－シクロプロピルシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、１－シアノシクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、１－シアノシクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、４－ヒドロキシシクロヘキシルオキシ基、１－シアノシクロヘキシルオキシ基、４－メトキシシクロヘキシルオキシ基、４－エトキシシクロヘキシルオキシ基、４－ジフルオロメトキシシクロヘキシルオキシ基、４－トリフルオロメトキシシクロヘキシルオキシ基、４－シクロプロピルオキシシクロヘキシルオキシ基、４－シクロブチルオキシシクロヘキシルオキシ基、４－（メトキシメトキシ）シクロヘキシルオキシ基、４－（ジメチルアミノ）シクロヘキシルオキシ基、４－（メチルチオ）シクロヘキシルオキシ基、４－（メチルスルフィニル）シクロヘキシルオキシ基、４－（メチルスルホニル）シクロヘキシルオキシ基、４－アセチルシクロヘキシルオキシ基、４－トリフルオロアセチルシクロヘキシルオキシ基、４－アセチルオキシシクロヘキシルオキシ基、４－トリフルオロアセチルオキシシクロヘキシルオキシ基、４－（１，３－ジオキソラン－２－イル）シクロヘキシルオキシ基、および４－（１，３－ジオキサン－２－イル）シクロヘキシルオキシ基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基として、ビニルオキシ基、２－シアノビニルオキシ基、２－シクロプロピルビニルオキシ基、２－メトキシビニルオキシ基、２－エトキシビニルオキシ基、２－トリフルオロメトキシビニルオキシ基、２－シクロプロピルオキシビニルオキシ基、２－（メトキシメトキシ）ビニルオキシ基、２－（ジメチルアミノ）ビニルオキシ基、２－アセチルビニルオキシ基、２－（トリフルオロアセチル）ビニルオキシ基、２－（１，３－ジオキソラン－２－イル）ビニルオキシ基、２－（１，３－ジオキサン－２－イル）ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、３－ヒドロキシ－１－プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、１－（メトキシメトキシ）アリルオキシ基、１－（メチルチオ）アリルオキシ基、１－（メチルスルフィニル）アリルオキシ基、１－（メチルスルホニル）アリルオキシ基、１－（アセチルオキシ）アリルオキシ基、１－（ジフルオロアセチルオキシ）アリルオキシ基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）アリルオキシ基、１－ブテニルオキシ基、２－ブテニルオキシ基、および３－ブテニルオキシ基；
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基として、２－フルオロビニルオキシ基、２，２－ジフルオロビニルオキシ基、２，２－ジクロロビニルオキシ基、３－フルオロアリルオキシ基、３，３－ジフルオロアリルオキシ基、および３，３－ジクロロアリルオキシ基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基として、プロパルギルオキシ基、３－（シクロプロピル）プロパルギルオキシ基、３－（シクロブチル）プロパルギルオキシ基、３－（アセチル）プロパルギルオキシ基、３－（ジフルオロアセチル）プロパルギルオキシ基、３－（トリフルオロアセチル）プロパルギルオキシ基、３－（１，３－ジオキソラン－２－イル）プロパルギルオキシ基、３－（１，３－ジオキサン－２－イル）プロパルギルオキシ基、２－ブチニルオキシ基、４－ヒドロキシ－２－ブチニルオキシ基、４－シアノ－２－ブチニルオキシ基、４－メトキシ－２－ブチニルオキシ基、４－エトキシ－２－ブチニルオキシ基、４－ジフルオロメトキシ－２－ブチニルオキシ基、４－トリフルオロメトキシ－２－ブチニルオキシ基、４－シクロプロピルオキシ－２－ブチニルオキシ基、４－シクロブチルオキシ－２－ブチニルオキシ基、４－メトキシメトキシ－２－ブチニルオキシ基、４－ジメチルアミノ－２－ブチニルオキシ基、４－ピロリジノ－２－ブチニルオキシ基、４－ピペリジノ－２－ブチニルオキシ基、４－ピロリジノ－２－ブチニルオキシ基、４－メチルチオ－２－ブチニルオキシ基、４－メチルスルフィニル－２－ブチニルオキシ基、４－メチルスルホニル－２－ブチニルオキシ基、４－アセチルオキシ－２－ブチニルオキシ基、４－トリフルオロアセチルオキシ－２－ブチニルオキシ基、および３－ブチニルオキシ基；
Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基として、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、および４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基；
Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、エトキシエトキシ基、およびメトキシプロピルオキシ基；
ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）として、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、（メトキシメチル）アミノ基、（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）アミノ基、（２－シアノエチル）アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、メチル（プロピル）アミノ基、イソプロピル（メチル）アミノ基、（メトキシメチル）メチルアミノ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノ基、（シアノメチル）メチルアミノ基、（２－シアノエチル）メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチル（プロピル）アミノ基、エチル（イソプロピル）アミノ基、エチル（メトキシメチル）アミノ基、エチル（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）エチルアミノ基、（２－シアノエチル）エチルアミノ基、２，２－ジフルオロエチルアミノ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、（シクロプロピル）メチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基；
Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基；
ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）として、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニル基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、（メトキシメチル）アミノカルボニル基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニル基、（シアノメチル）アミノカルボニル基、（２－シアノエチル）アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル（メチル）アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニル基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニル基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニル基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニル基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、（シクロプロピル）メチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、およびピペリジニルカルボニル基；
ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）として、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、シクロプロパンカルボニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニルオキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニルオキシ基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、（メトキシメチル）アミノカルボニルオキシ基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニルオキシ基、（シアノメチル）アミノカルボニルオキシ基、（２－シアノエチル）アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル（メチル）アミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピル（メチル）アミノカルボニルオキシ基、ピロリジニルカルボニルオキシ基、およびピペリジニルカルボニルオキシ基；
ＲｇＯＮ＝Ｃ（Ｒｈ）－（ここで、ＲｇおよびＲｈは、前記と同義である。）として、（ヒドロキシイミノ）メチル基、１－（ヒドロキシイミノ）エチル基、１－（ヒドロキシイミノ）プロピル基、１－（ヒドロキシイミノ）ブチル基、（メトキシイミノ）メチル基、１－（メトキシイミノ）エチル基、１－（メトキシイミノ）プロピル基、１－（メトキシイミノ）ブチル基、（エトキシイミノ）メチル基、１－（エトキシイミノ）エチル基、１－（エトキシイミノ）プロピル基、１－（エトキシイミノ）ブチル基、（プロピルオキシイミノ）メチル基、１－（プロピルオキシイミノ）エチル基、１－（プロピルオキシイミノ）プロピル基、１－（プロピルオキシイミノ）ブチル基、（イソプロピルオキシイミノ）メチル基、１－（イソプロピルオキシイミノ）エチル基、１－（イソプロピルオキシイミノ）プロピル基、および１－（イソプロピルオキシイミノ）ブチル基；
ＲｉＲｊＲｋＳｉ－（ここで、Ｒｉ、ＲｊおよびＲｋは、前記と同義である。）として、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ－ブチルジメチルシリル基、およびトリイソプロピルシリル基；
ならびに１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基として、オキソラニル基、オキサニル基、１，３－ジオキソラニル基、および１，３－ジオキサニル基が挙げられる。
　置換基Ｅのさらに好ましい具体例に関しては、水酸基；シアノ基；
ハロゲン原子として、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基として、メチル基、ヒドロキシメチル基、メトキシメチル基、アセチルオキシメチル基、ジフルオロアセチルオキシメチル基、トリフルオロアセチルオキシメチル基、エチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基、１－メトキシエチル基、１－（アセチルオキシ）エチル基、２－（アセチルオキシ）エチル基、１－（ジフルオロアセチルオキシ）エチル基、２－（ジフルオロアセチルオキシ）エチル基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）エチル基、２－（トリフルオロアセチルオキシ）エチル基、プロピル基、およびイソプロピル基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基として、モノブロモメチル基、ジフルオロメチル基、およびトリフルオロメチル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、およびシクロペンチル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基として、ビニル基、１－プロペニル基、およびアリル基；
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基として、２－フルオロビニル基、および２，２－ジフルオロビニル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基として、エチニル基、１－プロピニル基、およびプロパルギル基；
Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基として、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、および３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、シアノメトキシ基、メトキシメトキシ基、メチルチオメトキシ基、メチルスルフィニルメトキシ基、メチルスルホニルメトキシ基、エトキシ基、１－シアノエトキシ基、２－シアノエトキシ基、２－メトキシエトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、およびｔ－ブチルオキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、および２，２，２－トリフルオロエトキシ基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基およびシクロペンチルオキシ基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基として、ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、およびアリルオキシ基；
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基として、２－フルオロビニルオキシ基、および２，２－ジフルオロビニルオキシ基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基として、プロパルギルオキシ基；
Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基として、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基；
Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基として、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基、およびエトキシエトキシ基；
ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）として、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、およびジエチルアミノ基；
Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基；
ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）として、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、ジフルオロアセチル基、およびトリフルオロアセチル基；
ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）として、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル（メチル）アミノカルボニルオキシ基、およびジエチルアミノカルボニルオキシ基；
ＲｇＯＮ＝Ｃ（Ｒｈ）－（ここで、ＲｇおよびＲｈは、前記と同義である。）として、（ヒドロキシイミノ）メチル基、１－（ヒドロキシイミノ）エチル基、（メトキシイミノ）メチル基、１－（メトキシイミノ）エチル基、（エトキシイミノ）メチル基、１－（エトキシイミノ）エチル基、（プロピルオキシイミノ）メチル基、１－（プロピルオキシイミノ）エチル基、（イソプロピルオキシイミノ）メチル基、および１－（イソプロピルオキシイミノ）エチル基；
ＲｉＲｊＲｋＳｉ－（ここで、Ｒｉ、ＲｊおよびＲｋは、前記と同義である。）として、トリメチルシリル基、およびトリエチルシリル基；
ならびに１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基として、１，３－ジオキソラニル基、および１，３－ジオキサニル基が挙げられる。
　置換基Ｆは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）およびＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）からなる群から選択される少なくとも１種を表す。
　中でも置換基Ｆは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）およびＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）が好ましく、
　特に、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基および置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基が好ましい。
　置換基Ｆの各用語は前記の定義と同義である。なお、「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６アルケニル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルキニル基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。「置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基」に関しては、置換基Ｃを有する場合、Ｃ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基における水素原子が、置換基Ｃによって任意に置換される。
　置換基Ｆの好ましい具体例に関しては、水酸基；シアノ基；
ハロゲン原子として、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基として、メチル基、ヒドロキシメチル基、シアノメチル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、ジフルオロメトキシメチル基、トリフルオロメトキシメチル基、シクロプロピルオキシメチル基、シクロブチルオキシメチル基、メトキシメトキシメチル基、ジメチルアミノメチル基、メチルチオメチル基、メチルスルフィニルメチル基、メチルスルホニルメチル基、アセチルメチル基、プロピオノイルメチル基、トリフルオロアセチルメチル基、メトキシカルボニルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、アセチルオキシメチル基、ジフルオロアセチルオキシメチル基、トリフルオロアセチルオキシメチル基、（１，３－ジオキソラン－２－イル）メチル基、（１，３－ジオキサン－２－イル）メチル基、エチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基、１－シアノエチル基、２－シアノエチル基、１－メトキシエチル基、２－メトキシエチル基、１－メトキシエチル基、２－エトキシエチル基、１－ジフルオロメトキシエチル基、２－ジフルオロメトキシエチル基、１－トリフルオロメトキシエチル基、２－トリフルオロメトキシエチル基、１－メトキシメトキシエチル基、２－メトキシメトキシエチル基、２－（ジメチルアミノ）エチル基、１－（メチルチオ）エチル基、２－（メチルチオ）エチル基、１－（メチルスルフィニル）エチル基、２－（メチルスルフィニル）エチル基、１－（メチルスルホニル）エチル基、２－（メチルスルホニル）エチル基、２－（アセチル）エチル基、２－（プロピオノイル）エチル基、２－（メトキシカルボニル）エチル基、２－（エトキシカルボニル）エチル基、１－（アセチルオキシ）エチル基、２－（アセチルオキシ）エチル基、１－（ジフルオロアセチルオキシ）エチル基、２－（ジフルオロアセチルオキシ）エチル基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）エチル基、２－（トリフルオロアセチルオキシ）エチル基、２－（１，３－ジオキソラン－２－イル）エチル基、２－（１，３－ジオキサン－２－イル）エチル基、プロピル基、１－ヒドロキシプロピル基、２－ヒドロキシプロピル基、３－ヒドロキシプロピル基、１－シアノプロピル基、２－シアノプロピル基、３－シアノプロピル基、１－メトキシプロピル基、２－メトキシプロピル基、３－メトキシプロピル基、１－エトキシプロピル基、２－エトキシプロピル基、３－エトキシプロピル基、１－（アセチルオキシ）プロピル基、２－（アセチルオキシ）プロピル基、３－（アセチルオキシ）プロピル基、１－（ジフルオロアセチルオキシ）プロピル基、２－（ジフルオロアセチルオキシ）プロピル基、３－（ジフルオロアセチルオキシ）プロピル基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）プロピル基、２－（トリフルオロアセチルオキシ）プロピル基、３－（トリフルオロアセチルオキシ）プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、およびｔ－ブチル基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基として、モノフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、モノクロロメチル基、モノブロモメチル基、モノヨードメチル基、２，２－ジフルオロエチル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、３，３－ジフルオロプロピル基、および３，３，３－トリフルオロプロピル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、１－ヒドロキシシクロプロピル基、１－シアノシクロプロピル基、２－シクロプロピルシクロプロピル基、１－メトキシクロプロピル基、１－エトキシクロプロピル基、シクロブチル基、１－ヒドロキシシクロブチル基、１－シアノシクロブチル基、１－メトキシクロブチル基、１－エトキシクロブチル基、シクロペンチル基、１－ヒドロキシシクロペンチル基、１－シアノシクロペンチル基、１－メトキシノシクロペンチル基、１－エトキシノシクロペンチル基、シクロヘキシル基、１－ヒドロキシシクロヘキシル基、４－ヒドロキシシクロヘキシル基、１－シアノシクロヘキシル基、１－メトキシシクロヘキシル基、１－エトキシシクロヘキシル基、４－メトキシシクロヘキシル基、４－エトキシシクロヘキシル基、４－ジフルオロメトキシシクロヘキシル基、４－トリフルオロメトキシシクロヘキシル基、４－シクロプロピルオキシシクロヘキシル基、４－シクロブチルオキシシクロヘキシル基、４－（メトキシメトキシ）シクロヘキシル基、４－（ジメチルアミノ）シクロヘキシル基、４－（メチルチオ）シクロヘキシル基、４－（メチルスルフィニル）シクロヘキシル基、４－（メチルスルホニル）シクロヘキシル基、４－アセチルシクロヘキシル基、４－トリフルオロアセチルシクロヘキシル基、４－アセチルオキシシクロヘキシル基、４－トリフルオロアセチルオキシシクロヘキシル基、４－（１，３－ジオキソラン－２－イル）シクロヘキシル基、および４－（１，３－ジオキサン－２－イル）シクロヘキシル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基として、ビニル基、２－シアノビニル基、２－シクロプロピルビニル基、２－メトキシビニル基、２－エトキシビニル基、２－トリフルオロメトキシビニル基、２－シクロプロピルオキシビニル基、２－（メトキシメトキシ）ビニル基、２－（ジメチルアミノ）ビニル基、２－アセチルビニル基、２－（トリフルオロアセチル）ビニル基、２－（１，３－ジオキソラン－２－イル）ビニル基、２－（１，３－ジオキサン－２－イル）ビニル基、１－プロペニル基、３－ヒドロキシ－１－プロペニル基、アリル基、１－ヒドロキシアリル基、１－（メトキシメトキシ）アリル基、１－（メチルチオ）アリル基、１－（メチルスルフィニル）アリル基、１－（メチルスルホニル）アリル基、１－（アセチルオキシ）アリル基、１－（ジフルオロアセチルオキシ）アリル基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）アリル基、１－ブテニル基、２－ブテニル基、および３－ブテニル基；
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基として、２－フルオロビニル基、２，２－ジフルオロビニル基、２，２－ジクロロビニル基、３－フルオロアリル基、３，３－ジフルオロアリル基、および３，３－ジクロロアリル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基として、エチニル基、２－シクロプロピルエチニル基、２－シクロブチルエチニル基、２－（アセチル）エチニル基、２－（トリフルオロアセチル）エチニル基、２－（１，３－ジオキソラン－２－イル）エチニル基、２－（１，３－ジオキサン－２－イル）エチニル基、１－プロピニル基、プロパルギル基、１－ヒドロキシプロパルギル基、１－シアノプロパルギル基、１－メトキシプロパルギル基、１－エトキシプロパルギル基、１－（ジフルオロメトキシ）プロパルギル基、１－（トリフルオロメトキシ）プロパルギル基、１－（ジメチルアミノ）プロパルギル基、１－（メチルチオ）プロパルギル基、１－（メチルスルフィニル）プロパルギル基、１－（メチルスルホニル）プロパルギル基、１－（アセチルオキシ）プロパルギル基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）プロパルギル基、１－ブチニル基、２－ブチニル基、および３－ブチニル基；
Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基として、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基、４，４－ジフルオロ－１－ブチニル基、４，４－ジフルオロ－２－ブチニル基、４，４，４－トリフルオロ－１－ブチニル基、および４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、シアノメトキシ基、シクロプロピルメトキシ基、シクロブチルメトキシ基、メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、ジフルオロメトキシメトキシ基、トリフルオロメトキシメトキシ基、シクロプロピルオキシメトキシ基、シクロブチルオキシメトキシ基、メチルチオメトキシ基、メチルスルフィニルメトキシ基、メチルスルホニルメトキシ基、アセチルメトキシ基、プロピオノイルメトキシ基、トリフルオロアセチルメトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、アセチルオキシメトキシ基、ジフルオロアセチルオキシメトキシ基、トリフルオロアセチルオキシメトキシ基、（１，３－ジオキソラン－２－イル）メトキシ基、（１，３－ジオキサン－２－イル）メトキシ基、エトキシ基、２－ヒドロキシエトキシ基、１－シアノエトキシ基、２－シアノエトキシ基、２－メトキシエトキシ基、２－エトキシエトキシ基、１－ジフルオロメトキシエトキシ基、２－ジフルオロメトキシエトキシ基、１－トリフルオロメトキシエトキシ基、２－トリフルオロメトキシエトキシ基、２－メトキシメトキシエトキシ基、２－（ジメチルアミノ）エトキシ基、１－（メチルチオ）エトキシ基、２－（メチルチオ）エトキシ基、１－（メチルスルフィニル）エトキシ基、２－（メチルスルフィニル）エトキシ基、１－（メチルスルホニル）エトキシ基、２－（メチルスルホニル）エトキシ基、２－（アセチル）エトキシ基、２－（プロピオノイル）エトキシ基、２－（メトキシカルボニル）エトキシ基、２－（エトキシカルボニル）エトキシ基、１－（アセチルオキシ）エトキシ基、２－（アセチルオキシ）エトキシ基、１－（ジフルオロアセチルオキシ）エトキシ基、２－（ジフルオロアセチルオキシ）エトキシ基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）エトキシ基、２－（トリフルオロアセチルオキシ）エトキシ基、２－（１，３－ジオキソラン－２－イル）エトキシ基、２－（１，３－ジオキサン－２－イル）エトキシ基、プロピルオキシ基、２－ヒドロキシプロピルオキシ基、３－ヒドロキシプロピルオキシ基、１－（アセチルオキシ）プロピルオキシ基、２－（アセチルオキシ）プロピルオキシ基、３－（アセチルオキシ）プロピルオキシ基、１－（ジフルオロアセチルオキシ）プロピルオキシ基、２－（ジフルオロアセチルオキシ）プロピルオキシ基、３－（ジフルオロアセチルオキシ）プロピルオキシ基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）プロピルオキシ基、２－（トリフルオロアセチルオキシ）プロピルオキシ基、３－（トリフルオロアセチルオキシ）プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、およびｔ－ブチルオキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシ基、３，３－ジフルオロプロピルオキシ基、および３，３，３－トリフルオロプロピルオキシ基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、１－シアノシクロプロピルオキシ基、２－シクロプロピルシクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、１－シアノシクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、１－シアノシクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、４－ヒドロキシシクロヘキシルオキシ基、１－シアノシクロヘキシルオキシ基、４－メトキシシクロヘキシルオキシ基、４－エトキシシクロヘキシルオキシ基、４－ジフルオロメトキシシクロヘキシルオキシ基、４－トリフルオロメトキシシクロヘキシルオキシ基、４－シクロプロピルオキシシクロヘキシルオキシ基、４－シクロブチルオキシシクロヘキシルオキシ基、４－（メトキシメトキシ）シクロヘキシルオキシ基、４－（ジメチルアミノ）シクロヘキシルオキシ基、４－（メチルチオ）シクロヘキシルオキシ基、４－（メチルスルフィニル）シクロヘキシルオキシ基、４－（メチルスルホニル）シクロヘキシルオキシ基、４－アセチルシクロヘキシルオキシ基、４－トリフルオロアセチルシクロヘキシルオキシ基、４－アセチルオキシシクロヘキシルオキシ基、４－トリフルオロアセチルオキシシクロヘキシルオキシ基、４－（１，３－ジオキソラン－２－イル）シクロヘキシルオキシ基、および４－（１，３－ジオキサン－２－イル）シクロヘキシルオキシ基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基として、ビニルオキシ基、２－シアノビニルオキシ基、２－シクロプロピルビニルオキシ基、２－メトキシビニルオキシ基、２－エトキシビニルオキシ基、２－トリフルオロメトキシビニルオキシ基、２－シクロプロピルオキシビニルオキシ基、２－（メトキシメトキシ）ビニルオキシ基、２－（ジメチルアミノ）ビニルオキシ基、２－アセチルビニルオキシ基、２－（トリフルオロアセチル）ビニルオキシ基、２－（１，３－ジオキソラン－２－イル）ビニルオキシ基、２－（１，３－ジオキサン－２－イル）ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、３－ヒドロキシ－１－プロペニルオキシ基、アリルオキシ基、１－（メトキシメトキシ）アリルオキシ基、１－（メチルチオ）アリルオキシ基、１－（メチルスルフィニル）アリルオキシ基、１－（メチルスルホニル）アリルオキシ基、１－（アセチルオキシ）アリルオキシ基、１－（ジフルオロアセチルオキシ）アリルオキシ基、１－（トリフルオロアセチルオキシ）アリルオキシ基、１－ブテニルオキシ基、２－ブテニルオキシ基、および３－ブテニルオキシ基；
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基として、２－フルオロビニルオキシ基、２，２－ジフルオロビニルオキシ基、２，２－ジクロロビニルオキシ基、３－フルオロアリルオキシ基、３，３－ジフルオロアリルオキシ基、および３，３－ジクロロアリルオキシ基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基として、プロパルギルオキシ基、３－（シクロプロピル）プロパルギルオキシ基、３－（シクロブチル）プロパルギルオキシ基、３－（アセチル）プロパルギルオキシ基、３－（ジフルオロアセチル）プロパルギルオキシ基、３－（トリフルオロアセチル）プロパルギルオキシ基、３－（１，３－ジオキソラン－２－イル）プロパルギルオキシ基、３－（１，３－ジオキサン－２－イル）プロパルギルオキシ基、２－ブチニルオキシ基、４－ヒドロキシ－２－ブチニルオキシ基、４－シアノ－２－ブチニルオキシ基、４－メトキシ－２－ブチニルオキシ基、４－エトキシ－２－ブチニルオキシ基、４－ジフルオロメトキシ－２－ブチニルオキシ基、４－トリフルオロメトキシ－２－ブチニルオキシ基、４－シクロプロピルオキシ－２－ブチニルオキシ基、４－シクロブチルオキシ－２－ブチニルオキシ基、４－メトキシメトキシ－２－ブチニルオキシ基、４－ジメチルアミノ－２－ブチニルオキシ基、４－ピロリジノ－２－ブチニルオキシ基、４－ピペリジノ－２－ブチニルオキシ基、４－ピロリジノ－２－ブチニルオキシ基、４－メチルチオ－２－ブチニルオキシ基、４－メチルスルフィニル－２－ブチニルオキシ基、４－メチルスルホニル－２－ブチニルオキシ基、４－アセチルオキシ－２－ブチニルオキシ基、４－トリフルオロアセチルオキシ－２－ブチニルオキシ基、および３－ブチニルオキシ基；
Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基として、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－クロロ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、４－ブロモ－４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基、および４，４，４－トリフルオロ－２－ブチニルオキシ基；
ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）として、アミノ基、メチルアミノ基、エチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピルアミノ基、（メトキシメチル）アミノ基、（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）アミノ基、（２－シアノエチル）アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、メチル（プロピル）アミノ基、イソプロピル（メチル）アミノ基、（メトキシメチル）メチルアミノ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノ基、（シアノメチル）メチルアミノ基、（２－シアノエチル）メチルアミノ基、ジエチルアミノ基、エチル（プロピル）アミノ基、エチル（イソプロピル）アミノ基、エチル（メトキシメチル）アミノ基、エチル（２－メトキシエチル）アミノ基、（シアノメチル）エチルアミノ基、（２－シアノエチル）エチルアミノ基、２，２－ジフルオロエチルアミノ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノ基、シクロプロピルアミノ基、（シクロプロピル）メチルアミノ基、ピロリジニル基、およびピペリジニル基；
Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、メタンスルホニル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメタンスルフィニル基、およびトリフルオロメタンスルホニル基；
ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）として、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、プロピオニル基、ジフルオロアセチル基、トリフルオロアセチル基、シクロプロパンカルボニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニル基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニル基、シクロプロピルオキシカルボニル基、アミノカルボニル基、メチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、（メトキシメチル）アミノカルボニル基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニル基、（シアノメチル）アミノカルボニル基、（２－シアノエチル）アミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル基、エチル（メチル）アミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボニル基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニル基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニル基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニル基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニル基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニル基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニル基、シクロプロピルアミノカルボニル基、（シクロプロピル）メチルアミノカルボニル基、ピロリジニルカルボニル基、およびピペリジニルカルボニル基；
ならびにＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）として、ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、シクロプロパンカルボニルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、２，２－ジフルオロエトキシカルボニルオキシ基、２，２，２－トリフルオロエトキシカルボニルオキシ基、３，３，３－トリフルオロプロピルオキシカルボニルオキシ基、シクロプロピルオキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、（メトキシメチル）アミノカルボニルオキシ基、（２－メトキシエチル）アミノカルボニルオキシ基、（シアノメチル）アミノカルボニルオキシ基、（２－シアノエチル）アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル（メチル）アミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキシ基、（メトキシメチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、（２－メトキシエチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、（シアノメチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、（２－シアノエチル）メチルアミノカルボニルオキシ基、２，２－ジフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、２，２，２－トリフルオロエチルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピルアミノカルボニルオキシ基、シクロプロピル（メチル）アミノカルボニルオキシ基、ピロリジニルカルボニルオキシ基、およびピペリジニルカルボニルオキシ基が挙げられる。
　置換基Ｆのさらに好ましい具体例に関しては、水酸基；シアノ基；
ハロゲン原子として、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基として、メチル基、ヒドロキシメチル基、メトキシメチル基、エチル基、１－ヒドロキシエチル基、２－ヒドロキシエチル基、１－メトキシエチル基、プロピル基、およびイソプロピル基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基として、モノブロモメチル基、ジフルオロメチル基、およびトリフルオロメチル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基として、シクロプロピル基、シクロブチル基、およびシクロペンチル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基として、ビニル基、１－プロペニル基、およびアリル基；
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基として、２－フルオロビニル基、および２，２－ジフルオロビニル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基として、エチニル基、１－プロピニル基、およびプロパルギル基；
Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基として、３，３－ジフルオロ－１－プロピニル基、および３，３，３－トリフルオロ－１－プロピニル基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基として、メトキシ基、シアノメトキシ基、メトキシメトキシ基、エトキシ基、２－メトキシエトキシ基、プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ－ブチルオキシ基、およびｔ－ブチルオキシ基；
Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基として、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基、２，２－ジフルオロエトキシ基、および２，２，２－トリフルオロエトキシ基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基として、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基およびシクロペンチルオキシ基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基として、ビニルオキシ基、１－プロペニルオキシ基、およびアリルオキシ基；
Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基として、２－フルオロビニルオキシ基、および２，２－ジフルオロビニルオキシ基；
置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基として、プロパルギルオキシ基；
Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基として、４，４－ジフルオロ－２－ブチニルオキシ基；
ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）として、アミノ基、ジメチルアミノ基、エチル（メチル）アミノ基、およびジエチルアミノ基；
Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）として、メチルチオ基、メタンスルフィニル基、およびメタンスルホニル基；
ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）として、ホルミル基、アセチル基、メトキシアセチル基、シアノアセチル基、ジフルオロアセチル基、およびトリフルオロアセチル基；
ならびにＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）として、アセチルオキシ基、メトキシアセチルオキシ基、シアノアセチルオキシ基、ジフルオロアセチルオキシ基、トリフルオロアセチルオキシ基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチル（メチル）アミノカルボニルオキシ基、およびジエチルアミノカルボニルオキシ基が挙げられる。
　式（１）で表される化合物における波線部は、Ｅ体またはＺ体を表す。つまり、式（１－ａ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
で表される化合物または式（１－ｂ）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
で表される化合物を表す。その比率は、どちらか一方が単独、あるいは任意の割合の混合物であってよく、特に限定されることはない。
　式（１）で表される化合物は、軸不斉を有することがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。
　式（１）で表される化合物は、不斉原子を含むことがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。
　式（１）で表される化合物は、幾何異性体を含むことがある。この際の異性体比は、単独または任意の割合の混合比であり、特に限定されることはない。
　式（１）で表される化合物は、塩を形成できることがある。塩酸、硫酸、酢酸、フマル酸、マレイン酸のような酸塩や、ナトリウム、カリウム、カルシウムのような金属塩等が例示されるが、農園芸用殺菌剤として使用できる限り、特に限定されることはない。
　以上説明したＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｘ、Ｙ、置換基Ａ、置換基Ｂ、置換基Ｃ、置換基Ｄ、置換基Ｅおよび置換基Ｆにおける好ましい範囲を任意に組み合わせて得られる全ての化合物の範囲も本発明の式（１）で表される化合物の範囲として、本明細書に記載されているものとする。
　次に、本発明の具体的な化合物は、表１に示す構造式（Ｐ－１～Ｐ－３０：ただし、構造式中のＸは、酸素原子または硫黄原子である。）、表２に示すＹ（Ｙ－１～Ｙ－８６）、および表３に示すＺ（Ｚ－ａ０００１～Ｚ－ａ０１４０、Ｚ－ｂ０００１～Ｚ－ｂ１３００、Ｚ－ｃ０００１～Ｚ－ｃ００８４、Ｚ－ｄ０００１～Ｚ－ｄ００３３）との組み合わせによって表される。
　これらの化合物は例示のためのものであって、本発明はこれらに限定されるものではない。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000021
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000022
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000023
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000024
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000025
表３中、Ｚａで表記される部分構造は、以下に示す式（Ｚａ）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
表３中、Ｚｂで表記される部分構造は、以下に示す式（Ｚｂ）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
表３中、Ｚｃで表記される部分構造は、以下に示す式（Ｚｃ）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
表３中、Ｚｄで表記される部分構造は、以下の式（Ｚｄ）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000030
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000031
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000032
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000033
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000034
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000035
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000036
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000037
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000038
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000039
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000040
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000041
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000042
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000043
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000044
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000045
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000046
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000047
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000048
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000050
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000051
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000052
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000053
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000054
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000055
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000056
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000057
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000058
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000059
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000060
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000061
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000062
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000063
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000064
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000065
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000066
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000067
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000068
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000069
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000070
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000071
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000072
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000073
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000074
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000075
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000076
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000077
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000078
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000079
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000080
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000081
　以下に本発明の式（１）で表される化合物の製造方法を示す。本発明化合物の製造方法は、製造方法Ａ～製造方法ＡＱに限定されるものではない。
［製造方法Ａ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000082
　式中、Ｚ１はＣ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ｒ２２は水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ｒ２、ＸおよびＹは、前記と同義である。
　製造方法Ａは、本発明化合物の製造中間体である式（８）で表される化合物の製造方法であって、式（６）で表されると式（７）で表される化合物とを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する式（６）で表される化合物は、市販品として入手したり、参考例や公知の方法を利用して製造することができる。
　本反応に使用する式（７）で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造できることができる。
　本反応に使用する式（７）で表される化合物の量は、式（６）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上３当量以下である。
　本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウムのような無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム　ｔ－ブトキシド、カリウム　ｔ－ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。
　本反応に使用する塩基は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（６）で表される化合物に対して０．０１当量以上３当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（６）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－５０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる
　前記で得られた式（８）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（８）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（８）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｂ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000083
　式中、Ｒ２２ａはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ｒ２、Ｘ、ＹおよびＺ１は、前記と同義である。
　製造方法Ｂは、式（８）で表される化合物のうち、式（８ｂ）で表される製造中間体を得る方法であって、式（８ａ）で表される化合物を、酸性条件または塩基性条件下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　まず、酸性条件の反応について説明する。
　本反応に使用する酸は、塩酸、臭化水素酸、リン酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類が例示される。目的とする反応が進行する限り特に制限されることはない。
　本反応に使用する酸の量は、触媒量でもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、式（８ａ）で表される化合物に対して０．０１当量以上である。また、液体状の酸に関しては溶媒として使用することも可能である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（８ａ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１８０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　次に、塩基性条件の反応について説明する。
　本反応に使用する塩基は、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応に使用する塩基は、式（８ａ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上３０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（８ａ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－２０℃以上１８０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理は、酸性条件での反応と塩基性条件の反応は共通の方法で行える。反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（８ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（８ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（８ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
　式（８ｂ）で表される化合物は、式（８ｂ’）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000084
（式中、Ｒ２、Ｘ、ＹおよびＺ１は、前記と同義である。）
で表される異性体も含む。
　式（８ｂ’）で表される化合物は、式（８ｂ）で表される化合物と同様に取り扱うことが可能であり、例えば、製造方法Ｃに適応することができる。また、式（８ｂ’）で表される化合物は不斉炭素を含むが、その異性体混合比は、単独でも任意の割合の混合物でもよい。さらに、式（８ｂ）で表される化合物と式（８ｂ’）で表される化合物との混合物でもよく、その異性体混合比は、単独でも任意の割合の混合物でもよい。
［製造方法Ｃ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000085
　式中、Ｒ２３は、水素原子、水酸基、シアノ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）を表し、Ｒ２、Ｒ２２、Ｘ、ＹおよびＺ１は、前記と同義である。
　製造方法Ｃは、本発明化合物の製造中間体である式（９）で表される化合物を得る方法であって、式（８）で表される化合物とＲ２３ＮＨ２とを、酸存在下で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用するＲ２３ＮＨ２は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。Ｒ２３ＮＨ２は、塩酸、酢酸のような酸性化合物との塩を形成したものでもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応に使用するＲ２３ＮＨ２は、式（８）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上２００当量以下である。
　本反応に使用する酸として、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸等の有機酸類が例示され、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定することはないが、好ましくは、酢酸である。また、Ｒ２３ＮＨ２と酸性化合物との塩を使用する際には、酸の使用は必須ではない。
　本反応に使用する酸の量は、Ｒ２３ＮＨ２に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上２００当量以下である。また、使用する酸が液体である場合には、溶媒として使用することも可能である。
　本反応には溶媒を使用することができるが、必ずしも必須ではない。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。溶媒として、好ましくは、酸性系溶媒が挙げられ、さらに好ましくは、酢酸が挙げられる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（８）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、５０℃以上１８０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（９）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（９）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（９）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｄ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000086
　式中、Ｌｖはメタンスルホニル基、トリフルオロメタンスルホニル基、ｐ‐トルエンスルホニル基、ハロゲン原子等の脱離基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、ＹおよびＺ１は、前記と同義である。
　製造方法Ｄは、本発明化合物の製造中間体である式（９ｂ）で表される化合物を得る方法であって、式（９ａ）で表される化合物とＲ１－Ｌｖとを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本発明の原料である式（９ａ）で表される化合物は、製造方法Ｃやジャーナル　オブ　ヘテロサイクリック　ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ＯＨｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、２０巻、６５－６７項（１９８３）．等の非特許文献を参照に合成することができる。
　本反応に使用するＲ１‐Ｌｖは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
　本反応に使用する塩基として、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応に使用する塩基の量は、式（９ａ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上１０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（９ａ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（９ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（９ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（９ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｅ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000087
　式中、ＳＲは硫黄化剤を表し、Ｒ１、Ｒ２、ＹおよびＺ１は、前記と同義である。
　製造方法Ｅは、式（９ｂ）で表される化合物のうち、式（９ｂ－２）で表される化合物を得る方法であって、式（９ｂ－１）で表される化合物と硫黄化剤（ＳＲ）とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する硫黄化剤としては、ローソン試薬（２，４－ビス（４－メトキシフェニル）－１，３－ジチア－２，４－ジホスフェタン－２，４－ジスルフィド）等が挙げられる。
　本反応に使用する硫黄化剤の量は、式（９ｂ－１）で表される化合物に対して０．５当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上１０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（９ｂ－１）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、５０℃以上１８０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応においては、分液操作は必須ではない。
　前記で得られた式（９ｂ－２）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（９ｂ－２）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（９ｂ－２）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｆ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000088
　式中、Ｒ２ａは、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）を表し、Ｒ１、Ｘ、Ｙ、Ｚ１およびＬｖは、前記と同義である。
　製造方法Ｆは、式（９ｂ）で表される化合物のうち、Ｒ２ａが置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）である式（９ｂ－４）で表される化合物を得る方法であって、式（９ｂ－３）で表される化合物とＲ２ａ－Ｌｖとを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用するＲ２ａ－Ｌｖは、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
　本反応に使用するＲ２ａ－Ｌｖの量は、式（９ｂ－３）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上１．８当量以下である。
　本反応に使用する塩基として、水素化ナトリウム等の金属ヒドリド類、メチルリチウム、ブチルリチウム、ｓｅｃ－ブチルリチウム、ｔ－ブチルリチウム、ヘキシルリチウム等の有機リチウム類や、リチウムジイソプロピルアミド、ヘキサメチルジシラザンリチウム、ヘキサメチルジシラザンナトリウム、ヘキサメチルジシラザンカリウム等の金属アミド類が例示される。
　本反応に使用する塩基の量は、式（９ｂ－３）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上１０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（９ｂ－３）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－８０℃以上１００℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（９ｂ－４）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（９ｂ－４）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（９ｂ－４）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｇ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000089
　式中、Ｏｘは酸化剤を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、ＹおよびＺ１は、前記と同義である。
　製造方法Ｇは、本発明化合物の製造中間体である式（１０）で表される化合物を得る方法であって、式（９ｂ）で表される化合物と酸化剤（Ｏｘ）とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する酸化剤としては、二酸化マンガン等の金属酸化物類、２，３－ジクロロ－５，６－ジシアノ－ｐ－ベンゾキノン等のベンゾキノン類、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等のラジカル開始剤とＮ－クロロスクシンイミド、Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－ヨードスクシンイミド、１，３－ジクロロ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン等のハロゲン化剤とを組み合わせたもの等を使用することができる。
　以下、酸化剤が金属酸化物類である方法について説明する。
　本反応に使用する酸化剤の量は、式（９ｂ）に表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上２００当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（９ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、溶解していない金属類を濾過することにより除去することが可能である。さらに、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応において、分液操作は必須ではない。
　前記で得られた式（１０）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１０）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１０）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
　以下、酸化剤がベンゾキノン類である方法について説明する。
　本反応に使用する酸化剤の量は、式（９ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（９ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、本反応において、分液操作は必須ではない。
　前記で得られた式（１０）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１０）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１０）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
　以下、酸化剤がラジカル開始剤とハロゲン化剤との組み合わせである方法について説明する。
　本反応に使用するラジカル開始剤とハロゲン化剤の量は、それぞれ、式（９ｂ）で表される化合物に対して０．０１当量以上と１．０当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。通常、ラジカル開始剤が０．０１当量以上１当量以下であり、ハロゲン化剤が１当量以上３当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（９ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、２０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１０）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１０）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１０）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｈ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000090
　式中、Ｒ２ｂはハロゲン原子を表し、Ｚ２はＣ１～Ｃ６のアルキル基またはＲ５ＯＮ＝Ｃ（Ｒ４）－（Ｒ４およびＲ５は前記と同義であり、ＯＮ結合は単独または任意の割合の異性体を含む）を表し、ＨａｌＲはハロゲン化剤を表し、Ｒ１、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法Ｈは、Ｒ２ｂがハロゲン原子を表す式（１０ｂ）で表される化合物を得る方法であって、式（１０ａ）で表される化合物とハロゲン化剤（ＨａｌＲ）とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用するハロゲン化剤としては、セレクトロフルオル（Ｎ－フルオロ－Ｎ’－トリエチレンジアミン　ビス（テトラフルオロボラート））、Ｎ－クロロスクシンイミド、Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－ヨードスクシンイミド、１，３－ジクロロ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
　本反応に使用するハロゲン化剤の量は、式（１０ａ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上１０当量以下である。ただし、ヒダントインを含むハロゲン化剤の量は、０．５当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、通常、１当量以上５当量以下である。
　本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸のような酸を加えることができる。
　本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合に使用する酸の量は、式（１０ａ）で表される化合物に対して０．０１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、０．１当量以上３当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１０ａ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１０ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１０ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１０ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｉ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000091
　式中、Ｊは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｊが酸素原子の場合、Ｒ２ｃは置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基を表し、Ｊが硫黄原子の場合、Ｒ２ｃはＣ１～Ｃ６のアルキル基またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｑは水素原子または金属を表し、Ｒ１、Ｒ２ｂ、Ｘ、ＹおよびＺ２は前記と同義である。
　製造方法Ｉは、Ｊは酸素原子または硫黄原子を表し、Ｊが酸素原子の場合、Ｒ２ｃが置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基を表し、Ｊが硫黄原子の場合、Ｒ２ｃはＣ１～Ｃ６のアルキル基またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表す式（１０ｃ）で表される化合物を得る方法であって、式（１０ｂ）で表される化合物とＲ２ｃ－Ｊ－Ｑとを、遷移金属類の存在下に反応させるカップリング反応によって得ることを含む製造方法である。
　式（１０ｂ）で表される化合物中、好ましいＲ２ｂは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
　本反応に使用するＲ２ｃ－Ｊ－Ｑは、市販品として入手または公知の方法で製造できる。好ましいＱは、水素原子、または、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類である。
　本反応に使用するＲ２ｃ－Ｊ－Ｑの量は、式（１０ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。Ｑが水素原子のときは、溶媒としても使用可能である。
　本反応に使用する遷移金属類は、配位子を有してよく、酢酸パラジウム、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウムジクロリド、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリド等のパラジウム類等である。
　本反応に使用する遷移金属類の量は、式（１０ｂ）で表される化合物に対して、通常、０．００１当量以上１当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応を効率的に進行させるために、トリフェニルホスフィン、１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’４’６’－トリイソプロピルビフェニル、２－ジ－ｔ－ブチルホスフィノ－２’４’６’－トリイソプロピルビフェニル等のホスフィン配位子を添加することができる。
　本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式（１０ｂ）で表される化合物に対して、通常、０．００１当量以上１当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのような無機塩基類やトリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機塩基類等である。
　本反応に使用する塩基の量は、式（１０ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上５０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、Ｒ２ｃ－Ｊ－Ｈ（式中、Ｒ２ｃは前記と同義であり、Ｊは酸素原子である。）で表されるアルコール溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１０ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、３０℃以上２００℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。
　前記で得られた式（１０ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１０ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１０ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｊ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000092
　式中、Ｒ２ｄは置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルケニル基を表し、Ｒ２ｄ－Ｂは有機ボロン酸類を表し、Ｒ１、Ｒ２ｂ、Ｘ、ＹおよびＺ２は前記と同義である。
　製造方法Ｊは、Ｒ２ｄが置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルケニル基である式（１０ｄ）で表される化合物を得る方法であって、式（１０ｂ）で表される化合物と有機ボロン酸類（Ｒ２ｄ－Ｂ）とを遷移金属類および塩基存の在下で反応させる鈴木－宮浦カップリングによって得ることを含む製造方法である。
　式（１０ｂ）中、好ましいＲ２ｂは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
　本反応に使用するＲ２ｄ－Ｂは、有機ボロン酸や有機ボロン酸エステル等の有機ボロン酸類を表し、市販品として入手または公知の方法で製造できる。
　本反応に使用するＲ２ｄ－Ｂの量は、式（１０ｂ）で表される化合物に対して、１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上１０当量以下である。
　本反応に使用する遷移金属類は、パラジウム、ニッケル、ルテニウム等であり、配位子を有してよい。好ましくは、酢酸パラジウム、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウムジクロリド、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリド等のパラジウム類が挙げられる。
　本反応に使用する遷移金属類の量は、式（１０ｂ）で表される化合物に対して、通常、０．００１当量以上１当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応を効率的に進行させるために、トリフェニルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン等のホスフィン配位子を添加することができる。
　本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式（１０ｂ）で表される化合物に対して、通常、０．００１当量以上１当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、リン酸三カリウムのような無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム　ｔ－ブトキシド、カリウム　ｔ－ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。
　本反応に使用する塩基の量は、式（１０ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上５０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１０ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、３０℃以上２００℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。
　前記で得られた式（１０ｄ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１０ｄ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１０ｄ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｋ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000093
　式中、Ｒ２ｅは置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基を表し、Ｒ１、Ｒ２ｂ、Ｘ、ＹおよびＺ２は前記と同義である。
　製造方法Ｋは、Ｒ２ｅが置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基である式（１０ｅ）で表される化合物を得る方法であって、（１０ｂ）で表される化合物と末端アルキン化合物とを遷移金属類および塩基の存在下で反応させる薗頭カップリングによって得ることを含む製造方法である。
　式（１０ｂ）中、好ましいＲ２ｂは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
　本反応に使用する末端アルキン化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。また、末端アルキン化合物として、トリメチルシリルアセチレンも使用することができる。この場合は、式（１０ｂ）で表される化合物にトリメチルシリルエチニル基を導入後、脱シリル化を行う必要がある。脱シリル化については、ジャーナル　オブ　ザ　アメリカン　ケミカル　ソサエティー（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　ｔｈｅ　Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｓｏｃｉｅｔｙ）、第１３１巻、２号、６３４－６４３頁（２００９）．およびジャーナル　オブ　オルガノメタリック　ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、第６９６巻、２５号、４０３９－４０４５頁（２０１１）．等の非特許文献を参考にして行うことができる。
　本反応に使用する末端アルキン化合物の量は、式（１０ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上１０当量以下である。
　本反応に使用する遷移金属類は、配位子を有してよく、酢酸パラジウム、［１，１’－ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン］パラジウムジクロリド、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリド等のパラジウム類等である。また、塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅等の銅類も同時に使用する。
　本反応に使用する遷移金属類の量は、パラジウム類等および銅類が、それぞれ式（１０ｂ）で表される化合物に対して、通常、０．００１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはない。好ましい量は、双方ともに０．００１当量以上１当量以下である。
　本反応に使用する塩基は、トリエチルアミン、トリブチルアミン、イソプロピルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン類や、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム等の無機塩基類等が挙げられる。
　本反応に使用する塩基の量は、式（１０ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上５０当量以下である。また、有機塩基で液体状のものに関しては、溶媒として使用することができる。
　本反応を効率的に進行させるために、トリｔ－ブチルホスフィン、２－ジシクロヘキシルホスフィノ－２’４’６’－トリイソプロピルビフェニル等のホスフィン配位子を添加することができるが、必須ではない。
　本反応に使用するホスフィン配位子の量は、式（１０ｂ）で表される化合物に対して、通常、０．００１当量以上１当量以下であるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、トリエチルアミン、トリブチルアミン、イソプロピルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１０ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。
　前記で得られた式（１０ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１０ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１０ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｌ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000094
　式中、Ｚ３はハロゲン原子を表し、ＨａｌＲ、Ｒ１、Ｒ２、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法Ｌは、Ｚ３がハロゲン原子である式（１０ｆ）で表される化合物を得る方法であって、ラジカル開始剤とハロゲン化剤（ＨａｌＲ）を用いて式（１０－１）で表される化合物を反応させることを含む製造方法である。
　式（１０ｆ）中、好ましいＺ３は、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
　本反応に使用するラジカル開始剤は、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等が挙げられる。
　本反応に使用するラジカル開始剤の量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１０－１）で表される化合物に対して０．０１当量以上１．０当量以下である。
　本反応に使用するハロゲン化剤は、Ｎ－クロロスクシンイミド、Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－ヨードスクシンイミド、１，３－ジクロロ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン等が挙げられる。
　本反応に使用するハロゲン化剤の量は、式（１０－１）で表される化合物に対して２当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、２当量以上２．８当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１０－１）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、２０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１０ｆ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１０ｆ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１０ｆ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｍ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000095
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、ＹおよびＺ３は前記と同義である。
　製造方法Ｍは、本発明化合物の製造中間体である式（１０ｇ）で表される化合物を得る方法であって、水存在下、式（１０ｆ）で表される化合物を加水分解することを含む製造方法である。
　式（１０ｆ）中、好ましいＺ３は、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
　本反応には、水が必須である。また、本反応を円滑に進行させるために、硝酸銀を使用することができる。
　本反応に使用する水の量は、式（１０ｆ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて限定されることはない。また、水は溶媒として使用することができる。
　本反応に使用する硝酸銀の量は、式（１０ｆ）で表される化合物に対して２当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて限定されることはなく、通常、２当量以上１０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１０ｆ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－１０℃以上１００℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、溶解していない金属類を濾過することにより除去することが可能である。さらに、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１０ｇ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１０ｇ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１０ｇ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｎ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000096
　式中、Ｒ４ａは置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、または置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）を表し、Ｒ１、Ｒ２、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法Ｎは、Ｒ４ａが置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、または置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）である式（１０ｈ）で表される化合物を得る方法であって、式（１０ｇ）で表される化合物と有機金属試薬とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する有機金属試薬としては、有機マグネシウムハロゲン化物（Ｒ４ａ－Ｍｇ－Ｈａｌ：ここで、Ｈａｌはハロゲン原子を表し、Ｒ４ａは前記と同義である。）、有機リチウム試薬（Ｒ４ａ－Ｌｉ：ここで、Ｒ４ａは前記と同義である。）、有機マグネシウムハロゲン化物－亜鉛（ＩＩ）アート錯体試薬（［（Ｒ４ａ）３－Ｚｎ］－［Ｍｇ－Ｈａｌ］＋［Ｍｇ‐（Ｈａｌ）２］２：ここで、Ｒ４ａおよびＨａｌは前記と同義である。）等が挙げられる。これらの有機金属試薬は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
　本反応に使用する有機金属試薬の量は、式（１０ｇ）で表される式に対して、１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上１０当量以下である。
　反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１０ｇ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－８０℃以上１００℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１０ｈ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１０ｈ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１０ｈ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｏ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000097
　式中、Ｏｘ’は酸化剤を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｘ、ＹおよびＲ４ａは前記と同義である。
　製造方法Ｏは、本発明化合物の製造中間体である式（１０ｉ）で表される化合物を得る方法であって、式（１０ｈ）で表される化合物と酸化剤（Ｏｘ’）とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本製造方法は、デス・マーチン酸化（Ｄｅｓｓ－Ｍａｒｔｉｎ　ｏｘｉｄａｔｉｏｎ）、スワーン酸化（Ｓｗｅｒｎ　ｏｘｉｄａｔｉｏｎ）、パリック・デーリング酸化（Ｐａｒｉｋｈ－Ｄｏｅｒｉｎｇ　ｏｘｉｄａｔｉｏｎ）等のような当業者が通常使用する酸化方法で実施することができる。また、該酸化反応は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはない。ここでは、ジメチルスルホキシド、ピリジン－三酸化硫黄コンプレックスおよび塩基を溶媒中で使用するパリック・デーリング酸化の方法を説明する。
　本反応に使用するジメチルスルホキシドは、式（１０ｈ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、溶媒としても使用することもできる。
　本反応に使用するピリジン－三酸化硫黄コンプレックスは、式（１０ｈ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、通常、１当量以上２０当量以下である。
　本反応に使用する塩基は、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン等の有機アミン類等が挙げられる。
　本反応に使用する塩基の量は、式（１０ｈ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、通常、１当量以上５０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド等の硫黄系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１０ｈ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－１０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１０ｉ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１０ｉ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１０ｉ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｐ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000098
　式中、Ｒ４ｂは、水素原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、または置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ５、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法Ｐは、一般式（１）で表される化合物のうち、Ｒ４ｂが水素原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、または置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）である式（１ａ）で表される化合物を得る方法であって、式（１０ｊ）で表される化合物とＲ５ＯＮＨ２とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用するＲ５ＯＮＨ２は、市販品として入手または公知の方法で製造できる。Ｒ５ＯＮＨ２は、塩酸、硫酸のような酸性化合物との塩を形成したものでもよく、反応系に塩基を共存させて使用することができる。使用する塩基として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類や、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。使用する塩基の量としては、Ｒ５ＯＮＨ２に対して、１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。また、予め公知の方法により脱塩してからＲ５ＯＮＨ２を使用することも可能である。
　本反応に使用するＲ５ＯＮＨ２の量は、式（１０ｊ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１０ｊ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１８０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｑ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000099
　式中、Ｒ１、Ｒ２、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法Ｑは、本発明の製造中間体である式（１ｄ）で表される化合物を得る方法であって、式（１ｂ）で表される化合物と塩素化剤とを溶媒中で反応させること含む製造方法である。
　本反応に使用する塩素化剤として、Ｎ－クロロスクシンイミドや１，３－ジクロロ－５，５－ジメチルヒダントイン等が挙げられる。
　本反応に使用する塩素化剤の量としては、Ｎ－クロロスクシンイミドの場合には、式（１ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。１，３－ジクロロ－５，５－ジメチルヒダントインの場合には、、式（１ｂ）で表される化合物に対して０．５当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、０．５当量以上１０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－１０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１ｄ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１ｄ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１ｄ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｒ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000100
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４ａ、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法Ｒは、式（１）で表される化合物のうち、式（１ｅ）で表される化合物を得る方法であって、式（１ｄ）で表される化合物と有機金属試薬とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する有機金属試薬としては、有機マグネシウムハロゲン化物（Ｒ４ａ－Ｍｇ－Ｈａｌ：ここで、Ｈａｌはハロゲン原子を表し、Ｒ４ａは前記と同義である。）、有機リチウム試薬（Ｒ４ａ－Ｌｉ：ここで、Ｒ４ａは前記と同義である。）等が挙げられる。これらの有機金属試薬は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
　本反応に使用する有機金属試薬の量は、式（１ｄ）で表される式に対して、２当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、２当量以上１０当量以下である。
　反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｄ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－８０℃以上１００℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｓ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000101
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒａ、Ｒｂ、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法Ｓは、式（１）で表される化合物のうち、式（１ｆ）で表される化合物を得る方法であって、式（１ｄ）で表される化合物とＲａＲｂＮＨとを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用するＲａＲｂＮＨは、市販品として入手または公知の方法で製造できる。ＲａＲｂＮＨは、塩酸、硫酸のような酸性化合物との塩を形成したものでもよく、反応系に塩基を共存させて使用することができる。使用する塩基として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類や、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。使用する塩基の量としては、ＲａＲｂＮＨに対して、１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。また、予め公知の方法により脱塩してからＲａＲｂＮＨを使用することも可能である。
　本反応に使用するＲａＲｂＮＨの量は、式（１ｄ）で表される化合物に対して２当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、２当量以上２０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｄ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－１０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１ｆ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１ｆ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１ｆ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｔ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000102
　式中、Ｒ５ａは、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５ａ、Ｘ、ＹおよびＬｖは前記と同義である。
　製造方法Ｔは、式（１）で表される化合物のうち、式（１ｈ）で表される化合物を得る方法であって、式（１ｇ）で表される化合物とＲ５ａ－Ｌｖとを、塩基存在下で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用するＲ５ａ－Ｌｖは、市販品として入手または公知の方法で入手することができる。
　本反応に使用するＲ５ａ－Ｌｖは、式（１ｇ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上５０当量以下である。
　本反応に使用する塩基として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類、酸化銀（Ｉ）等の遷移金属が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応に使用する塩基は、式（１ｇ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上５０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｇ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－１０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１ｈ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１ｈ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１ｈ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｕ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000103
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法Ｕは、式（３）で表される化合物を得る方法であり、式（１ｄ）で表されると式（１１）表される化合物とを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する式（１１）で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
　本反応に使用する式（１１）で表される化合物は、式（１ｄ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。
　本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応に使用する塩基は、式（１ｄ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｄ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－２０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（３）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（３）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（３）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｖ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000104
　式中、Ｒ８ａはハロゲン原子を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ９、Ｒ１０、Ｒ１１、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法Ｖは、式（３）で表される化合物のうち、式（３ｂ）で表される化合物を得る方法であって、式（３ａ）で表される化合物をラジカル開始剤およびハロゲン化剤を使用して、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用するラジカル開始剤としては、アゾビスイソブチロニトリル、過酸化ベンゾイル等が挙げられる。
　本反応に使用するラジカル開始剤の量としては、式（３ａ）で表される化合物に対して０．０１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、０，０１当量以上１当量以下である。
　本反応に使用するハロゲン化剤としては、Ｎ－クロロスクシンイミド、Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－ヨードスクシンイミド、１，３－ジクロロ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン等が挙げられる。
　本反応に使用するハロゲン化剤の量としては、イミド類の場合には、式（３ａ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上３当量以下である。一方、ヒダントイン類に関しては、式（３ａ）で表される化合物に対して０．５当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、０．５当量以上１．５当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化ベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（３ａ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、２０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（３ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（３ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（３ｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｗ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000105
　式中、Ｒ２４はＣ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ８、Ｒ１０、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法Ｗは、式（２）で表される化合物のうち、式（２ａ）で表される化合物をえる製造方法であって、式（３ｃ）で表される化合物を、酸存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する酸は、塩酸、臭化水素酸、リン酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類が例示される。目的とする反応が進行する限り特に制限されることはない。
　本反応に使用する酸の量は、触媒量でもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、式（３ｃ）で表される化合物に対して０．０１当量以上である。また、液体状の酸に関しては溶媒として使用することも可能である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（３ｃ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１８０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（２ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（２ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（２ａ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｘ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000106
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６、Ｒ７、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法Ｘは、式（２）で表される化合物を得る方法であり、式（１ｄ）で表されると式（１２）表される化合物とを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する式（１２）で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
　本反応に使用する式（１２）で表される化合物は、式（１ｄ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上１００当量以下である。
　本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応に使用する塩基は、式（１ｄ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｄ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－２０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（２）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（２）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（２）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｙ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000107
　式中、Ｒ６ａはハロゲン原子を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ７、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法Ｙは、式（２）で表される化合物のうち、式（２ｃ）で表される化合物を得る方法であって、式（２ｂ）で表される化合物とハロゲン化剤とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用するハロゲン化剤としては、セレクトロフルオル（Ｎ－フルオロ－Ｎ’－トリエチレンジアミン　ビス（テトラフルオロボラート））、Ｎ－クロロスクシンイミド、Ｎ－ブロモスクシンイミド、Ｎ－ヨードスクシンイミド、１，３－ジクロロ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジブロモ－５，５－ジメチルヒダントイン、１，３－ジヨード－５，５－ジメチルヒダントイン、臭素、ヨウ素等が挙げられる。
　本反応に使用するハロゲン化剤の量は、式（２ｂ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上１００当量以下である。ただし、ヒダントインを含むハロゲン化剤の量は、０．５当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、通常、１当量以上５当量以下である。
　本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合、塩酸、硫酸等の無機酸類や、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の有機酸のような酸を加えることができる。
　本反応に使用するハロゲン化剤がヨウ素化剤である場合に使用する酸の量は、式（２ｂ）で表される化合物に対して０．０１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、０．１当量以上３当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、硫酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（２ｂ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１８０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（２ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（２ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（２ｃ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法Ｚ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000108
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６、Ｒｉ、Ｒｊ、Ｒｋ、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法Ｚは、式（２）で表される化合物のうち、式（２ｅ）で表される化合物を得る方法であって、式（２ｄ）で表される化合物と含フッ素化合物とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する含フッ素化合物としては、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等の無機塩や、テトラブチルアンモニウムフルオリド等の有機塩が挙げられる。
　本反応に使用する含フッ素化合物の量としては、式（２ｄ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（２ｄ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－２０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（２ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（２ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（２ｅ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法ＡＡ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000109
　式中、Ｒ４ｃおよびＲ５ｂは、それぞれ独立していて、水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法ＡＡは、式（２）で表される化合物のうち、式（２ｆ）で表される化合物を得る方法であって、式（１ｉ）で表される化合物を、塩基存在下、ヨウ素および金属ヨウ化物とを溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する式（１ｉ）で表される化合物は、製造方法Ｒに記載の方法で調製することができる。
　本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、炭酸セシウム、炭酸水素セシウムのような無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム　ｔ－ブトキシド、カリウム　ｔ－ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。
　本反応に使用する塩基の量は、式（１ｉ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上３０当量以下である。
　本反応に使用するヨウ素の量は、式（１ｉ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上３０当量以下である。
　本反応に使用する金属ヨウ化物は、ヨウ化ナトリウムやヨウ化カリウム等が挙げられる。
　本反応に使用する金属ヨウ化物の量は、式（１ｉ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、好ましくは、１当量以上３０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｉ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。また、濾過操作を行うことにより、不溶物を除去することも可能であるが必須ではない。
　前記で得られた式（２ｆ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（２ｆ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法ＡＢ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000110
　式中、Ｒ６ｂは水素原子または置換基Ｅを表し、Ｏｘ’’は酸化剤を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒｈ、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法ＡＢは、式（２）で表される化合物のうち、式（２ｈ）で表される化合物を得る方法であって、式（２ｇ）で表される化合物と酸化剤（Ｏｘ’’）とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本製造方法は、デス・マーチン酸化（Ｄｅｓｓ－Ｍａｒｔｉｎ　ｏｘｉｄａｔｉｏｎ）、スワーン酸化（Ｓｗｅｒｎ　ｏｘｉｄａｔｉｏｎ）、パリック・デーリング酸化（Ｐａｒｉｋｈ－Ｄｏｅｒｉｎｇ　ｏｘｉｄａｔｉｏｎ）等のような当業者が通常使用する酸化方法で実施することができる。また、該酸化反応は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはない。ここでは、デス・マーチン試薬を溶媒中で使用するデス・マーチン酸化の方法を説明する。
　本反応に使用する酸化剤は、デス・マーチン試薬（１，１，１－トリアセトキシ－１，１－ジヒドロ－１，２－ベンズヨードキソール－３（１Ｈ）－オン）であり、市販品として入手することができる。
　本反応に使用する酸化剤の量は、式（２ｇ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはなく、通常、１当量以上２０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド等の硫黄系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（２ｇ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－１０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（２ｈ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（２ｈ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（２ｈ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法ＡＣ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000111
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６ｂ、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法ＡＣは、式（２）で表される化合物のうち、式（２ｊ）で表される化合物を得る方法であって、式（２ｉ）で表される化合物とフッ素化剤（ＦＲ）とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用するフッ素化剤として、（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド、ビス（２－メトキシエチル）アミノサルファートリフルオリド、Ｎ，Ｎ－ジエチル－１，１，２，３，３，３－ヘキサフルオロプロピルアミン、２，２－ジフルオロ－１，３－ジメチルイミダゾリジン等が挙げられる。
　本反応に使用するフッ素化剤の量は、式（２ｉ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上１０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（２ｉ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－８０℃以上１００℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（２ｊ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（２ｊ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（２ｊ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法ＡＤ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000112
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６ｂ、Ｒｈ、Ｒｇ、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法ＡＤは、式（２）で表される化合物のうち、式（２ｋ）で表される化合物を得る方法であって、式（２ｇ）で表される化合物とＲｇＯＮＨ２とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　製造方法Ｐにおける式（１０ｊ）で表される化合物およびＲ５ＯＮＨ２を、それぞれ式（２ｇ）で表される化合物およびＲｇＯＮＨ２に代えて使用することにより、製造方法Ｐに準じて製造方法ＡＤを実施することができる。
［製造方法ＡＥ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000113
　式中、Ｒｌは水素原子またはＣ１～Ｃ４のアルキル基であり、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６ｂ、ＸおよびＹは前記と同義である。
　Ｃ１～Ｃ４のアルキル基とは、前記したＣ１～Ｃ６のアルキル基のうち、炭素原子数が１～４個のものを表す。
　製造方法ＡＥは、式（２）で表られる化合物のうち、式（２ｍ）で表される化合物を得る方法であって、式（２ｌ）で表される化合物とジアゾホスホナート試薬とを、塩基存在下、溶媒中で反応させる製造方法である。
　本反応に使用するジアゾホスホナート試薬として、（１－ジアゾー２－オキシプロピル）ホスホン酸ジメチルや（ジアゾメチル）ホスホン酸ジメチル等が挙げられる。
　本反応に使用するジアゾホスホナート試薬の量は、式（２ｌ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上１０当量以下である。
　本反応に使用する塩基は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類やナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウム　ｔ－ブトキシド、カリウム　ｔ－ブトキシド等の金属アルコキシド類等である。
　本反応に使用する塩基の量は、式（２ｌ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（２ｌ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－２０℃以上１００℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（２ｍ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（２ｍ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法ＡＦ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000114
　式中、Ｒ６ｃは、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）を表し、
Ｒ７ａは、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法ＡＦは、式（２）表される化合物のうち、式（２ｎ）で表される化合物を得る方法であって、式（１ｄ）で表される化合物と式（１３）で表される化合物とを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する式（１３）で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
　製造方法Ｘにおける式（１２）で表される化合物を、式（１３）で表される化合物に代えて使用することにより、製造方法Ｘに準じて製造方法ＡＦを実施することができる。
［製造方法ＡＧ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000115
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６ｂ、Ｒｈ、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法ＡＧは、式（２）で表される化合物のうち、式（２ｇ）を得る方法であって、式（２ｈ）で表される化合物とヒドリド試薬とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用するヒドリド試薬として、水素化ホウ素ナトリウム等のホウ素類等が挙げられる。
　本反応に使用するヒドリド試薬は、式（２ｈ）で表される化合物に対して、ヒドリド換算で１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上４０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（２ｈ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－２０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（２ｇ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（２ｇ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（２ｇ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法ＡＨ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000116
　式中、ＲｍおよびＲｎは、それぞれ独立していて、水素原子またはＣ１～Ｃ４のアルキル基（ただし、ＲｍとＲｎの炭素数の総和は４個以下である。）を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ６ｂ、ＸおよびＹは前記と同義である。
　Ｃ１～Ｃ４のアルキル基とは、前記したＣ１～Ｃ６のアルキル基のうち、炭素原子数が１～４個のものを表す。
　製造方法ＡＨは、式（２）で表される化合物のうち、式（２ｐ）で表される化合物を得る方法であって、式（２ｏ）で表される化合物を、酸存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する酸は、塩酸、臭化水素酸、リン酸等の無機酸類や、酢酸、メタンスルホン酸、ｐ－トルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸類が例示される。目的とする反応が進行する限り特に制限されることはない。
　本反応に使用する酸の量は、触媒量でもよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、式（２ｏ）で表される化合物に対して０．０１当量以上である。また、液体状の酸に関しては溶媒として使用することも可能である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸、メタンスルホン酸等の酸性系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（２ｏ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１８０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水、もしくは適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（２ｐ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（２ｐ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（２ｐ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法ＡＩ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000117
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒｉ、Ｒｊ、Ｒｋ、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法ＡＩは、式（４）で表される化合物を得る方法であって、式（１ｄ）で表される化合物と式（１４）で表される化合物と含フッ素化合物とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する式（１４）で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
　本反応に使用する式（１４）で表される化合物の量は、式（１ｄ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上３０当量以下である。
　本反応に使用する含フッ素化合物としては、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化セシウム等の無機塩や、テトラブチルアンモニウムフルオリド等の有機塩が挙げられる。
　本反応に使用する含フッ素化合物の量としては、式（１ｄ）で表される化合物に対して２当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、２当量以上３０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｄ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－２０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（４）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（４）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（４）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法ＡＪ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000118
　式中、Ｒ３ａはハロゲン原子を表し、Ｒ３ｂは置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、またはＣ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基を表し、Ｙ１は、Ｒ３で適宜ｎＡ置換されてもよいＲ３ａを有するフェニル基、またはＲ３で適宜ｎＡ置換されてもよいＲ３ａを有するピリジル基を表し、Ｙ１がフェニル基の場合、ｎＡは０から４の整数を表し（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、Ｙ１がピリジル基の場合、ｎＡは０～３の整数（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ＱおよびＸは前記と同義である。
　製造方法ＡＪは、式（１）で表される化合物のうち、Ｒ３ｂが、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、またはＣ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基を表し、Ｙ１は、Ｒ３で適宜ｎＡ置換されてもよいＲ３ａを有するフェニル基、またはＲ３で適宜ｎＡ置換されてもよいＲ３ａを有するピリジル基を表し、Ｙ１がフェニル基の場合、ｎＡは０から４の整数を表し（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、Ｙ１がピリジル基の場合、ｎＡは０～３の整数（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）を表す式（１ｊ）で表される化合物を得る方法であって、式（１ｊ）で表される化合物とＲ３ｂ－Ｑとを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応で使用されるＲ３ｂ－Ｑは、市販品として入手または公知の方法で製造できる。好ましいＱは、水素原子、またはナトリウム、カリウム等のアルカリ金属類である。
　本反応で使用されるＲ３ｂ－Ｑの量は、式（１ｊ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上３０当量以下である。また、Ｑが水素原子を表すときは、溶媒として使用することができる。
　本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類が好ましい。また、Ｑがアルカリ金属類のときは、塩基の使用は、必須ではない。
　本反応に使用する塩基の量は、式（１ｊ）で表される化合物に対して１当量以上あれば、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、１当量以上３０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、Ｒ３ｂ－Ｈで表されるアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｊ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１ｋ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１ｋ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１ｋ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法ＡＫ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000119
　式中、Ｒ３ｃはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ｎＡ、ＸおよびＹ１は前記と同義である。
　製造方法Ｚは、式（１）で表される化合物のうち、水酸基を有する式（１ｍ）で表される化合物を得る方法であって、式（１ｌ）で表される化合物と酸とを反応させることによって得ることを含む製造方法である。
　本反応に使用する酸として、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素等のハロゲン化ホウ素類等が挙げられる。
　本反応に使用する酸の量は、式（１ｌ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上１０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｌ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－８０℃以上１００℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１ｍ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１ｍ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１ｍ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法ＡＬ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000120
　式中、Ｒ３ｄは、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニル基、またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、ｎＡ、Ｌｖ、ＸおよびＹ１は前記と同義である。
　製造方法ＡＬは、式（１）で表される化合物のうち、Ｒ３ｄが置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニル基、またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）である式（１ｎ）で表される化合物を得る方法であって、式（１ｍ）で表される化合物とＲ３ｄ－Ｌｖとを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用するＲ３ｄ－Ｌｖは、市販品として入手または公知の方法で製造できる。
　本反応に使用するＲ３ｄ－Ｌｖは、式（１ｍ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上１０当量以下である。
　本反応に使用する塩基として、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類や、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応に使用する塩基は、式（１ｍ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上１０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の硫黄系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｍ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－２０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（１ｎ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（１ｎ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（１ｎ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法ＡＭ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000121
　式中、Ｒ３ｅは置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルケニル基を表し、Ｒ３ｅ－Ｂは有機ボロン酸類を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ３ａ、Ｒ４、Ｒ５、ｎＡ、ＸおよびＹ１は前記と同義である。
　製造方法ＡＭは、式（１）で表される化合物のうち、Ｒ３ｅが置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルケニル基である式（１ｏ）で表される化合物を得る方法であって、式（１ｊ）で表される化合物と有機ボロン酸類（Ｒ３ｅ－Ｂ）とを遷移金属類および塩基の存在下で反応させる鈴木－宮浦カップリングによって得ることを含む製造方法である。
　式（１ｊ）中、好ましいＲ３ａは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
　本反応に使用するＲ３ｅ－Ｂは、有機ボロン酸や有機ボロン酸エステル等の有機ボロン酸類を表し、市販品として入手または公知の方法で製造できる。
　製造方法Ｊにおける式（１０ｂ）で表される化合物とＲ２ｄ－Ｂとを、それぞれ式（１ｊ）で表される化合物とＲ３ｅ－Ｂに代えて使用することにより、製造方法Ｊに準じて製造方法ＡＭを実施することができる。
［製造方法ＡＮ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000122
　式中、Ｒ３ｆは置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ３ａ、Ｒ４、Ｒ５、ｎＡ、ＸおよびＹ１は前記と同義である。
　製造方法ＡＮは、式（１）で表される化合物のうち、Ｒ３ｆが置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基である式（１ｐ）で表される化合物を得る方法であって、（１ｊ）で表される化合物と末端アルキン化合物とを遷移金属類および塩基の存在下で反応させる薗頭カップリングによって得ることを含む製造方法である。
　式（１ｊ）中、好ましいＲ３ａは、塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子である。
　本反応に使用する末端アルキン化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。また、末端アルキン化合物として、トリメチルシリルアセチレンも使用することができる。
　製造方法Ｋにおける式（１０ｂ）で表される化合物を、式（１ｊ）で表される化合物に代えて使用することにより、製造方法Ｋに準じて製造方法ＡＮを実施することができる。
［製造方法ＡＯ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000123
　式中、Ｒ７ｂは、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ｒ１、Ｒ２、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法ＡＯは、式（２ｑ）で表される化合物を得る方法であり、式（１ｄ）で表されると式（１５）表される化合物とを、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する式（１５）で表される化合物は、市販品として入手または公知の方法で製造することができる。
　本反応に使用する式（１５）で表される化合物は、式（１ｄ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。
　本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４－ジメチルアミノピリジン、コリジン、ルチジン等の有機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応に使用する塩基は、式（１ｄ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｄ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－２０℃以上１５０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（２ｑ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（２ｑ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（２ｑ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法ＡＰ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000124
　式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１８、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２１、Ｌｖ、ＸおよびＹは前記と同義である。
　製造方法ＡＰは、式（５）で表される化合物を得る方法であり、式（１ｃ）で表される化合物を、塩基存在下、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　式（１ｃ）で表される化合物は、製造方法Ｒ等を参照に入手することができる。
　本反応に使用する塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、水素化ナトリウム等の無機塩基類が例示されるが、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはない。
　本反応に使用する塩基は、式（１ｃ）で表される化合物に対して１当量以上あればよく、目的とする反応が進行する限りにおいて特に制限されることはないが、通常、１当量以上２０当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、ターシャリブタノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、Ｎ－メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド等のアミド系溶媒、１，３－ジメチル－２－イミダゾリジノン等のウレア系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（１ｃ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、０℃以上１８０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸、塩化アンモニウム等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（５）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（５）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（５）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
［製造方法ＡＱ］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000125
　式中、ＬａはＳを表し、ＬｂはＳＯまたはＳＯ２を表し、Ｏｘ’’’は酸化剤を表す。
　製造方法ＡＱは、式（１）で表される化合物中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５に含まれるＬｂがＳＯまたはＳＯ２である式（Ｌｂ）で表される化合物を得る方法であって、式（１）で表される化合物中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４およびＲ５に含まれるＬａがＳである式（Ｌａ）で表される化合物と酸化剤（Ｏｘ’’’）とを、溶媒中で反応させることを含む製造方法である。
　本反応に使用する酸化剤は、過酸化水素水、メタ－クロロ過安息香酸等の過酸化物類等が挙げられる。また、タングステン酸ナトリウムのような遷移金属類を添加することもできる。
　本反応に使用する酸化剤の量は、ＳＯを製造する際には式（Ｌａ）で表される化合物に対して、通常、１．０当量以上１．２当量以下であり、ＳＯ２を製造する際には、通常、２当量以上１０当量以下である。また、遷移金属類を添加する際には、通常、０．００１当量以上１当量以下である。
　本反応に使用する溶媒は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、水溶媒、酢酸等の酸性系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、アセトニトリル等のニトリル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独または２種類以上を任意の割合で混合して使用することができる。
　本反応に使用する溶媒量は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、式（Ｌａ）で表される化合物に対して３重量倍以上２００重量倍以下である。
　本反応を行う際の温度は、目的とする反応が進行する限りにおいて特に限定されることはないが、通常、－１０℃以上１２０℃以下または溶媒の沸点以下である。
　反応の後処理としては、反応混合物に対して、水または適当な水溶液を加えることにより、分液操作を行うことが可能である。水溶液を使用する場合は、塩酸、硫酸等を溶解した酸性水溶液、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等を溶解したアルカリ水溶液、チオ硫酸ナトリウム、亜硫酸ナトリウム等の硫黄原子を含む塩を溶解した水溶液や食塩水等を任意に使用することができる。分液操作の際に、必要に応じて、トルエン、キシレン、ベンゼン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のベンゼン系溶媒、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル－ｔ－ブチルエーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素系溶媒等の水と相溶することのない溶媒を追加することが可能である。また、これらの溶媒は、単独で使用することも、２種類以上で任意の割合で混合することも可能である。分液の回数は特に制限されることがなく、目的とする純度や収量に応じて実施することができる。
　前記で得られた式（Ｌｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、硫酸ナトリウムや硫酸マグネシウム等の乾燥剤で水分を除去することができるが、必須ではない。
　前記で得られた式（Ｌｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、化合物が分解しない限りにおいて、減圧下で溶媒留去することが可能である。
　溶媒留去後に得られた式（Ｌｂ）で表される化合物を含む反応混合物は、適当な溶媒により、洗浄、再沈殿、再結晶、カラムクロマトグラフィー等にて精製することができる。目的とする純度に応じて適宜設定すればよい。
　以上に示した、製造方法Ａ～製造方法ＡＱを任意に組み合わせて、式（１）で表される化合物を製造することができる。もしくは、公知の方法と製造方法Ａ～製造方法ＡＱ任意に組み合わせても、式（１）で表される化合物を製造することができる。
　本発明化合物は、植物に対して有害な生物を防除できるために、農薬、特に農園芸用有害生物防除剤として使用することができる。具体的には、殺菌剤、殺虫剤、除草剤、植物成長調整剤等が挙げられる。好ましくは、殺菌剤である。
　本発明化合物は、植物病害の防除のために、畑地、水田、茶園、果樹園、牧草地、芝生、森林、庭園、街路樹等で農園芸用殺菌剤として使用することができる。
　本発明でいう植物病害とは、農作物、花き、花木、樹木等の植物に萎ちょう、立枯れ、黄化、萎縮、徒長等の全身的な異常な病的症状、または斑点、葉枯れ、モザイク、葉巻、枝枯れ、根腐れ、根こぶ、こぶ等の部分的な病的症状が惹起されることである。即ち、植物が病気になることである。植物病害を引き起こす病原体として、主に、菌類、細菌、スピロプラズマ、ファイトプラズマ、ウイルス、ウイロイド、寄生性高等植物、線虫等が挙げられる。本発明化合物は菌類に有効であるが、これに限定されるものではない。
　菌類によって引き起こされる病害は、主に菌類病である。菌類病を引き起こす菌類（病原体）として、ネコブカビ菌類、卵菌類、接合菌類、子のう菌類、担子菌類および不完全菌類等が挙げられる。例えば、ネコブカビ菌類として、根こぶ病菌、ジャカイモ粉状そうか病菌、テンサイそう根病菌、卵菌類として疫病菌、べと病菌、Ｐｙｔｈｉｕｍ属菌、Ａｐｈａｎｏｍｙｃｅｓ属菌、接合菌類としてＲｈｉｚｏｐｕｓ属菌、子のう菌類としてモモ縮葉病菌、トウモロコシごま葉枯病菌、イネいもち病菌、うどんこ病菌、炭そ病菌、赤かび病菌、ばか苗病菌、菌核病菌、担子菌類としてさび病菌類、黒穂病菌類、紫紋羽病菌、もち病菌、紋枯病菌、不完全菌類として灰色かび病菌、Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ属菌、Ｆｕｓａｒｉｕｍ属菌、Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ属菌、Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ属菌、白絹病菌等が挙げられる。
　本発明化合物は、各種の植物病害に対して有効である。以下に、病害名およびその病原菌名の具体例を示す。
　イネのいもち病（Ｍａｇｎａｐｏｒｔｈｅ　ｇｒｉｓｅａ）、紋枯病（Ｔｈａｎａｔｅｐｈｏｒｕｓ　ｃｕｃｕｍｅｒｉｓ）、褐色菌核病（Ｃｅｒａｔｏｂａｓｉｄｉｕｍ　ｓｅｔａｒｉａｅ）、褐色小粒菌核病（Ｗａｉｔｅａ　ｃｉｒｃｉｎａｔａ）、褐色紋枯病（Ｔｈａｎａｔｅｐｈｏｒｕｓ　ｃｕｃｕｍｅｒｉｓ）、球状菌核病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｕｍ　ｈｙｄｒｏｐｈｉｌｕｍ）、赤色菌核病（Ｗａｉｒｅａ　ｃｉｒｃｉｎａｔａ）、黒しゅ病（Ｅｎｔｙｌｏｍａ　ｄａｃｔｙｌｉｄｉｓ）、小球菌核病（Ｍａｇｎａｐｏｒｔｈｅ　ｓａｌｖｉｎｉｉ）、灰色菌核病（Ｃｅｒａｔｏｂａｓｉｄｉｕｍ　ｃｏｒｎｉｇｅｒｕｍ）、ごま葉枯病（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ　ｍｉｙａｂｅａｎｕｓ）、条葉枯病（Ｓｐｈａｅｒｕｌｉｎａ　ｏｒｙｚｉｎａ）、ばか苗病（Ｇｉｂｂｅｒｅｌｌａ　ｆｕｊｉｋｕｒｏｉ）、苗立枯病（Ｐｙｔｈｉｕｍ　ｓｐｐ．、Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ｓｐｐ．、Ｔｒｉｃｈｏｄｅｒｍａ　ｓｐｐ．、Ｒｈｉｚｏｐｕｓ　ｓｐｐ．、Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ　ｓｏｌａｎｉ、Ｍｕｃｏｒ　ｓｐ．、Ｐｈｏｍａ　ｓｐ．）、苗腐病（Ｐｙｔｈｉｕｍ　ｓｐｐ．、Ａｃｈｌｙａ　ｓｐｐ．、Ｄｉｃｔｙｕｃｈｕｓ　ｓｐｐ．）、稲こうじ病（Ｃｌａｖｉｃｅｐｓ　ｖｉｒｅｎｓ）、墨黒穂病（Ｔｉｌｌｅｔｉａ　ｂａｒｃｌａｙａｎａ）、褐色米（Ｃｕｒｖｕｌａｒｉａ　ｓｐｐ．、Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ　ｓｐｐ．）、黄化萎縮病（Ｓｃｌｅｒｏｐｈｔｈｏｒａ　ｍａｃｒｏｓｐｏｒａ）、白葉枯病（Ｘａｎｔｈｏｍｏｎａｓ　ｏｒｙｚａｅ　ｐｖ．　ｏｒｙｚａｅ）、褐条病（Ａｃｉｄｏｖｏｒａｘ　ａｖｅｎａｅ　ｓｕｂｓｐ．　ａｖｅｎａｅ）、内頴褐変病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ａｎａｎａｓ）、苗立枯細菌病（Ｂｕｒｋｈｏｌｄｅｒｉａ　ｐｌａｎｔａｒｉｉ）、もみ枯細菌病（Ｂｕｒｋｈｏｌｄｅｒｉａ　ｇｌｕｍａｅ）、葉鞘褐変病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｆｕｓｃｏｖａｇｉｎａｅ）、かさ枯病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．ｏｒｙｚａｅ）、株腐病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｉ）、黄萎病（Ｐｈｙｔｏｐｌａｓｍａ　ｏｒｙｚａｅ）、縞葉枯病（Ｒｉｃｅ　ｓｔｒｉｐｅ　ｔｅｎｕｉｖｉｒｕｓ）、萎縮病（Ｒｉｃｅ　ｄｗａｒｆ　ｒｅｏｖｉｒｕｓ）；
ムギ類のうどんこ病（Ｂｌｕｍｅｒｉａ　ｇｒａｍｉｎｉｓ　ｆ．ｓｐ．ｈｏｒｄｅｉ；　ｆ．ｓｐ．ｔｒｉｔｉｃｉ）、さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ　ｓｔｒｉｉｆｏｒｍｉｓ、　Ｐｕｃｃｉｎｉａ　ｇｒａｍｉｎｉｓ、Ｐｕｃｃｉｎｉａ　ｒｅｃｏｎｄｉｔａ、Ｐｕｃｃｉｎｉａ　ｈｏｒｄｅｉ）、斑葉病（Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ　ｇｒａｍｉｎｅａ）、網斑病（Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ　ｔｅｒｅｓ）、赤かび病（Ｇｉｂｂｅｒｅｌｌａ　ｚｅａｅ、Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ｃｕｌｍｏｒｕｍ、Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ａｖｅｎａｃｅｕｍ、Ｍｏｎｏｇｒａｐｈｅｌｌａ　ｎｉｖａｌｉｓ）、雪腐病（Ｔｙｐｈｕｌａ　ｉｎｃａｒｎａｔａ、Ｔｙｐｈｕｌａ　ｉｓｈｉｋａｒｉｅｎｓｉｓ、Ｍｏｎｏｇｒａｐｈｅｌｌａ　ｎｉｖａｌｉｓ）、裸黒穂病（Ｕｓｔｉｌａｇｏ　ｎｕｄａ）、なまぐさ黒穂病（Ｔｉｌｌｅｔｉａ　ｃａｒｉｅｓ、Ｔｉｌｌｅｔｉａ　ｃｏｎｔｒｏｖｅｒｓａ）、眼紋病（Ｐｓｅｕｄｏｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ　ｈｅｒｐｏｔｒｉｃｈｏｉｄｅｓ）、株腐病（Ｃｅｒａｔｏｂａｓｉｄｉｕｍ　ｇｒａｍｉｎｅｕｍ）、雲形病（Ｒｈｙｎｃｈｏｓｐｏｒｉｕｍ　ｓｅｃａｌｉｓ）、葉枯病（Ｓｅｐｔｏｒｉａ　ｔｒｉｔｉｃｉ）、ふ枯病（Ｐｈａｅｏｓｐｈａｅｒｉａ　ｎｏｄｏｒｕｍ）、苗立枯病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ｓｐｐ．、Ｐｙｔｈｉｕｍ　ｓｐｐ．、Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ　ｓｐｐ．、Ｓｅｐｔｏｒｉａ　ｓｐｐ．、Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ　ｓｐｐ．）、立枯病（Ｇａｅｕｍａｎｎｏｍｙｃｅｓ　ｇｒａｍｉｎｉｓ）、炭疽病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ　ｇｒａｍｉｎｉｃｏｌａ）、麦角病（Ｃｌａｖｉｃｅｐｓ　ｐｕｒｐｕｒｅａ）、斑点病（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ　ｓａｔｉｖｕｓ）、黒節病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．　ｓｙｒｉｎｇａｅ）；
トウモロコシの赤かび病（Ｇｉｂｂｅｒｅｌｌａ　ｚｅａｅ等）、苗立枯病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ａｖｅｎａｃｅｕｍ、　Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ　ｓｐｐ、　Ｐｙｔｈｉｕｍ　ｓｐｐ．、Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ　ｓｐｐ．）、さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ　ｓｏｒｇｈｉ）、ごま葉枯病（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ　ｈｅｔｅｒｏｓｔｒｏｐｈｕｓ）、黒穂病（Ｕｓｔｉｌａｇｏ　ｍａｙｄｉｓ）、炭疽病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ　ｇｒａｍｉｎｉｃｏｌａ）、北方斑点病（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ　ｃａｒｂｏｎｕｍ）、褐条病（Ａｃｉｄｏｖｏｒａｘ　ａｖｅｎａｅ　ｓｕｂｓｐ．　ａｖｅｎａｅ）、条斑細菌病（Ｂｕｒｋｈｏｌｄｅｒｉａ　ａｎｄｒｏｐｏｇｏｎｉｓ）、倒伏細菌病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｉ　ｐｖ．　ｚｅａｅ）、萎ちょう細菌病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｓｔｅｗａｒｔｉｉ）；ブドウのべと病（Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ　ｖｉｔｉｃｏｌａ）、さび病（Ｐｈｙｓｏｐｅｌｌａ　ａｍｐｅｌｏｐｓｉｄｉｓ）、うどんこ病（Ｕｎｃｉｎｕｌａ　ｎｅｃａｔｏｒ）、黒とう病（Ｅｌｓｉｎｏｅ　ａｍｐｅｌｉｎａ）、晩腐病（Ｇｌｏｍｅｒｅｌｌａ　ｃｉｎｇｕｌａｔａ、　Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ　ａｃｕｔａｔｕｍ）、黒腐病（Ｇｕｉｇｎａｒｄｉａ　ｂｉｄｗｅｌｌｉｉ）、つる割病（Ｐｈｏｍｏｐｓｉｓ　ｖｉｔｉｃｏｌａ）、すす点病（Ｚｙｇｏｐｈｉａｌａ　ｊａｍａｉｃｅｎｓｉｓ）、灰色かび病（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ　ｃｉｎｅｒｅａ）、芽枯病（Ｄｉａｐｏｒｔｈｅ　ｍｅｄｕｓａｅａ）、紫紋羽病（Ｈｅｌｉｃｏｂａｓｉｄｉｕｍ　ｍｏｍｐａ）、白紋羽病（Ｒｏｓｅｌｌｉｎｉａ　ｎｅｃａｔｒｉｘ）、根頭がんしゅ病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｖｉｔｉｓ）；リンゴのうどんこ病（Ｐｏｄｏｓｐｈａｅｒａ　ｌｅｕｃｏｔｒｉｃｈａ）、黒星病（Ｖｅｎｔｕｒｉａ　ｉｎａｅｑｕａｌｉｓ）、斑点落葉病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ　ｍａｌｉ）、赤星病（Ｇｙｍｎｏｓｐｏｒａｎｇｉｕｍ　ｙａｍａｄａｅ）、モニリア病（Ｍｏｎｉｌｉｎｉａ　ｍａｌｉ）、腐らん病（Ｖａｌｓａ　ｃｅｒａｔｏｓｐｅｒｍａ）、輪紋病（Ｂｏｔｒｙｏｓｐｈａｅｒｉａ　ｂｅｒｅｎｇｅｒｉａｎａ）、炭疽病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ　ａｃｕｔａｔｕｍ、Ｇｌｏｍｅｒｅｌｌａ　ｃｉｎｇｕｌａｔａ）、すす点病（Ｚｙｇｏｐｈｉａｌａ　ｊａｍａｉｃｅｎｓｉｓ）、すす斑病（Ｇｌｏｅｏｄｅｓ　ｐｏｍｉｇｅｎａ）、黒点病（Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ　ｐｏｍｉ）、紫紋羽病（Ｈｅｌｉｃｏｂａｓｉｄｉｕｍ　ｍｏｍｐａ）、白紋羽病（Ｒｏｓｅｌｌｉｎｉａ　ｎｅｃａｔｒｉｘ）、胴枯病（Ｐｈｏｍｏｐｓｉｓ　ｍａｌｉ、Ｄｉａｐｏｒｔｈｅ　ｔａｎａｋａｅ）、褐斑病（Ｄｉｐｌｏｃａｒｐｏｎ　ｍａｌｉ）、リンゴの火傷病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ａｍｙｌｏｖｏｒａ）、根頭がんしゅ病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｔｕｍｅｆａｃｉｅｎｓ）、毛根病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｒｈｉｚｏｇｅｎｅｓ）；
ナシの黒斑病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ　ｋｉｋｕｃｈｉａｎａ）、黒星病（Ｖｅｎｔｕｒｉａ　ｎａｓｈｉｃｏｌａ）、赤星病（Ｇｙｍｎｏｓｐｏｒａｎｇｉｕｍ　ａｓｉａｔｉｃｕｍ）、輪紋病（Ｂｏｔｒｙｏｓｐｈａｅｒｉａ　ｂｅｒｅｎｇｅｒｉａｎａ　ｆ．ｓｐ．　ｐｉｒｉｃｏｌａ）、胴枯病（Ｐｈｏｍｏｐｓｉｓ　ｆｕｋｕｓｈｉｉ）、枝枯細菌病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｓｐ．）、根頭がんしゅ病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｔｕｍｅｆａｃｉｅｎｓ）、さび色胴枯病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｉ　ｐｖ．　ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｉ）、花腐細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．　ｓｙｒｉｎｇａｅ）；セイヨウナシの疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｃａｃｔｏｒｕｍ、　Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｓｙｒｉｎｇａｅ）、枝枯細菌病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｓｐ．）；モモの黒星病（Ｃｌａｄｏｓｐｏｒｉｕｍ　ｃａｒｐｏｐｈｉｌｕｍ）、ホモプシス腐敗病（Ｐｈｏｍｏｐｓｉｓ　ｓｐ．）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｓｐ．）、炭疽病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ　ｇｌｏｅｏｓｐｏｒｉｏｉｄｅｓ）、縮葉病（Ｔａｐｈｒｉｎａ　ｄｅｆｏｒｍａｎｓ）、穿孔細菌病（Ｘｈａｎｔｈｏｍｏｎａｓ　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ　ｐｖ．　ｐｒｕｎｉ）、根頭がんしゅ病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｔｕｍｅｆａｃｉｅｎｓ）；オウトウの炭疽病（Ｇｌｏｍｅｒｅｌｌａ　ｃｉｎｇｕｌａｔａ）、幼果菌核病（Ｍｏｎｉｌｉｎｉａ　ｋｕｓａｎｏｉ）、灰星病（Ｍｏｎｉｌｉｎｉａ　ｆｒｕｃｔｉｃｏｌａ）、根頭がんしゅ病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｔｕｍｅｆａｃｉｅｎｓ）、樹脂細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．　ｓｙｒｉｎｇａｅ）；カキの炭疽病（Ｇｌｏｍｅｒｅｌｌａ　ｃｉｎｇｕｌａｔａ）、落葉病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ　ｋａｋｉ；　Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ　ｎａｗａｅ）、うどんこ病（Ｐｈｙｌｌａｃｔｉｎｉａ　ｋａｋｉｋｏｒａ）、根頭がんしゅ病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｔｕｍｅｆａｃｉｅｎｓ）；カンキツの黒点病（Ｄｉａｐｏｒｔｈｅ　ｃｉｔｒｉ）、緑かび病（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ　ｄｉｇｉｔａｔｕｍ）、青かび病（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ　ｉｔａｌｉｃｕｍ）、そうか病（Ｅｌｓｉｎｏｅ　ｆａｗｃｅｔｔｉｉ）、褐色腐敗病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｃｉｔｒｏｐｈｔｈｏｒａ）、かいよう病（Ｘｈａｎｔｈｏｍｏｎａｓ　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ　ｐｖ．　ｃｉｔｒｉ）、褐斑細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．　ｓｙｒｉｎｇａｅ）、グリーニング病（Ｌｉｂｅｒｉｂａｃｔｏｒ　ａｓｉａｔｉｃｕｓ）、根頭がんしゅ病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｔｕｍｅｆａｃｉｅｎｓ）；
トマト、キュウリ、豆類、イチゴ、ジャガイモ、キャベツ、ナス、レタス等の灰色かび病（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ　ｃｉｎｅｒｅａ）；トマト、キュウリ、豆類、イチゴ、ジャガイモ、ナタネ、キャベツ、ナス、レタス等の菌核病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ　ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）；トマト、キュウリ、豆類、ダイコン、スイカ、ナス、ナタネ、ピーマン、ホウレンソウ、テンサイ等各種野菜の苗立枯病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ　ｓｐｐ．、Ｐｙｔｈｉｕｍ　ｓｐｐ．、Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ｓｐｐ．、Ｐｈｙｔｈｏｐｈｔｈｏｒａ　ｓｐｐ．、Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ　ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ等）；ナス科植物の青枯病（Ｒａｌｓｔｏｎｉａ　ｓｏｌａｎａｃｅａｒｕｍ）；ウリ類のべと病（Ｐｓｅｕｄｏｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ　ｃｕｂｅｎｓｉｓ）、うどんこ病（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ　ｆｕｌｉｇｉｎｅａ）、炭疽病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ　ｏｒｂｉｃｕｌａｒｅ）、つる枯病（Ｄｉｄｙｍｅｌｌａ　ｂｒｙｏｎｉａｅ）、つる割病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｐａｒａｓｉｔｉｃａ、Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｍｅｌｏｎｉｓ、Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｎｉｃｏｔｉａｎａｅ、Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｄｒｅｃｈｓｌｅｒｉ、Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｃａｐｓｉｃｉ等）、褐斑細菌病（Ｘｈａｎｔｈｏｍｏｎａｓ　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ　ｐｖ．ｃｕｃｕｒｂｉｔａｅ）、軟腐病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ　ｓｕｂｓｐ．　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ）、斑点細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．　ｌａｃｈｒｙｍａｎｓ）、縁枯細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｍａｒｇｉｎａｌｉｓ　ｐｖ．　ｍａｒｇｉｎａｌｉｓ）、がんしゅ病（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ　ｓｐ．）、毛根病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｒｈｉｚｏｇｅｎｅｓ）、キュウリモザイクウィルス（Ｃｕｃｕｍｂｅｒ　ｍｏｓａｉｃ　ｖｉｒｕｓ）；
トマトの輪紋病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ　ｓｏｌａｎｉ）、葉かび病（Ｆｕｌｖｉａ　ｆｕｌｖａ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｉｎｆｅｓｔａｎｓ）、萎凋病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ）、根腐病（Ｐｙｔｈｉｕｍ　ｍｙｒｉｏｔｙｌｕｍ、Ｐｙｔｈｉｕｍ　ｄｉｓｓｏｔｏｃｕｍ）、炭疽病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ　ｇｌｏｅｏｓｐｏｒｉｏｉｄｅｓ）、かいよう病（Ｃｌａｖｉｂａｃｔｅｒ　ｍｉｃｈｉｇａｎｅｎｓｉｓ）、茎えそ細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｃｏｒｒｕｇａｔａ）、黒斑細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｖｉｒｉｄｉｆｌａｖａ）、軟腐病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ　ｓｕｂｓｐ．　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ）、葉こぶ病（Ｃｒｙｎｅｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｓｐ．）、萎黄病（Ｐｈｙｔｏｐｌａｓｍａ　ａｓｔｅｒｉｓ）、黄化萎縮病（Ｔｏｂａｃｃｏ　ｌｅａｆ　ｃｕｒｌ　ｓｕｂｇｒｏｕｐ　ＩＩＩ　ｇｅｍｉｎｉｖｉｒｕｓ）；ナスのうどんこ病（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ　ｆｕｌｉｇｉｎｅａ等）、すすかび病（Ｍｙｃｏｖｅｌｌｏｓｉｅｌｌａ　ｎａｔｔｒａｓｓｉｉ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｉｎｆｅｓｔａｎｓ）、褐色腐敗病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｃａｐｓｉｃｉ）、褐斑細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｃｉｃｈｏｒｉｉ）、茎えそ細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｃｏｒｒｕｇａｔａ）、茎腐細菌病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃｈｒｙｓａｎｔｈｅｍｉ）、軟腐病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ　ｓｕｂｓｐ．　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ）、斑点細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｐ．）；ナタネの黒斑病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ　ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、黒腐病（Ｘｈａｎｔｈｏｍｏｎａｓ　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ　ｐｖ．　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ）、黒斑細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．　ｍａｃｕｌｉｃｏｌａ）、軟腐病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ）；アブラナ科野菜の黒斑病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ　ｂｒａｓｓｉｃａｅ等）、白斑病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ　ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、根朽病（Ｐｈｏｍａ　ｌｉｎｇａｍ）、根こぶ病（Ｐｌａｓｍｏｄｉｏｐｈｏｒａ　ｂｒａｓｓｉｃａｅ）、べと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ　ｐａｒａｓｉｔｉｃａ）、黒腐病（Ｘｈａｎｔｈｏｍｏｎａｓ　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ　ｐｖ．　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ）、黒斑細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．　ｍａｃｕｌｉｃｏｌａ）、軟腐病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ　ｓｕｂｓｐ．　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ）；
キャベツの株腐病（Ｔｈａｎａｔｅｐｈｏｒｕｓ　ｃｕｃｕｍｅｒｉｓ）、萎黄病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ）、黒すす病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ　ｂｒａｓｓｉｓｉｃｏｌａ）；ハクサイの尻腐病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ　ｓｏｌａｎｉ）、黄化病（Ｖｅｒｔｉｃｉｌｌｉｕｍ　ｄａｈｌｉａｅ）；ネギのさび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ　ａｌｌｉｉ）、黒斑病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ　ｐｏｒｒｉ）、白絹病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｕｍ　ｒｏｌｆｓｉｉ）、白色疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｐｏｒｒｉ）、黒腐菌核病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｕｍ　ｃｅｐｉｖｏｒｕｍ）；タマネギのかいよう病（Ｃｕｒｔｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｆｌａｃｃｕｍｆａｃｉｅｎｓ）、軟腐病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ　ｓｕｂｓｐ．　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ）、斑点細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．　ｓｙｒｉｎｇａｅ）、腐敗病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｒｈａｐｏｎｔｉｃｉ）、鱗片腐敗病（Ｂｕｒｋｈｏｌｄｅｒｉａ　ｇｌａｄｉｏｌｉ）、萎黄病（Ｐｈｙｔｏｐｌａｓｍａ　ａｓｔｅｒｉｓ）；ニンニクの軟腐病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ　ｓｕｂｓｐ．　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ）、春腐病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｍａｒｇｉｎａｌｉｓ　ｐｖ．ｍａｒｇｉｎａｌｉｓ）；ダイズの紫斑病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ　ｋｉｋｕｃｈｉｉ）、黒とう病（Ｅｌｓｉｎｏｅ　ｇｌｙｃｉｎｅｓ）、黒点病（Ｄｉａｐｏｒｔｈｅ　ｐｈａｓｅｏｌｏｒｕｍ）、リゾクトニア根腐病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ　ｓｏｌａｎｉ）、茎疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｓｏｊａｅ）、べと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ　ｍａｎｓｈｕｒｉｃａ）、さび病（Ｐｈａｋｏｐｓｏｒａ　ｐａｃｈｙｒｈｉｚｉ）、炭疽病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ　ｔｒｕｎｃａｔｕｍ等）、葉焼病（Ｘｈａｎｔｈｏｍｏｎａｓ　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ　ｐｖ．　ｇｌｙｃｉｎｅｓ）、斑点細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．　ｇｌｙｃｉｎｅａ）；インゲンの炭疽病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ　ｌｉｎｄｅｍｕｔｈｉａｎｕｍ）、青枯病（Ｒａｌｓｔｏｎｉａ　ｓｏｌａｎａｃｅａｒｕｍ）、かさ枯病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．　ｐｈａｓｅｏｌｉｃｏｌａ）、褐斑細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｖｉｒｉｄｉｆｌａｖａ）、葉焼病（Ｘｈａｎｔｈｏｍｏｎａｓ　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ　ｐｖ．　ｐｈａｓｅｏｌｉ）；
ラッカセイの黒渋病（Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ　ｂｅｒｋｅｌｅｙｉ）、褐斑病（Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ　ａｒａｃｈｉｄｉｓ）、青枯病（Ｒａｌｓｔｏｎｉａ　ｓｏｌａｎａｃｅａｒｕｍ）；エンドウのうどんこ病（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ　ｐｉｓｉ）、べと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ　ｐｉｓｉ）、つる枯細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．ｐｉｓｉ）、つる腐細菌病（Ｘｈａｎｔｈｏｍｏｎａｓ　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ　ｐｖ．　ｐｉｓｉ；ソラマメのべと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ　ｖｉｃｉａｅ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｎｉｃｏｔｉａｎａｅ）；ジャガイモの夏疫病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ　ｓｏｌａｎｉ）、黒あざ病（Ｔｈａｎａｔｅｐｈｏｒｕｓ　ｃｕｃｕｍｅｒｉｓ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｉｎｆｅｓｔａｎｓ）、銀か病（Ｈｅｌｍｉｎｔｈｏｓｐｏｒｉｕｍ　ｓｏｌａｎｉ）、乾腐病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ、Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ｓｏｌａｎｉ）、粉状そうか病（Ｓｐｏｎｇｏｓｐｏｒａ　ｓｕｂｔｅｒｒａｎｅａ）、青枯病（Ｒａｌｓｔｏｎｉａ　ｓｏｌａｎａｃｅａｒｕｍ）、黒あし病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ　ｓｕｂｓｐ．　ａｔｒｏｓｅｐｔｉｃａ）、そうか病（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ　ｓｃａｂｉｅｓ、Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ　ａｃｉｄｉｓｃａｂｉｅｓ）、軟腐病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ　ｓｕｂｓｐ．　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ）、粘性腐敗病（Ｃｒｏｓｔｒｉｄｉｕｍ　ｓｐｐ．）、輪腐病（Ｃｌａｖｉｂａｃｔｅｒ　ｍｉｃｈｉｇａｎｅｎｓｉｓ　ｓｕｂｓｐ．ｓｅｐｅｄｏｎｉｃｕｓ）；サツマイモの立枯病（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ　ｉｐｏｍｏｅａｅ）；テンサイの褐斑病（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ　ｂｅｔｉｃｏｌａ）、べと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ　ｓｃｈａｃｈｔｉｉ）、黒根病（Ａｐｈａｎｏｍｙｃｅｓ　ｃｏｃｈｉｏｉｄｅｓ）、蛇の目病（Ｐｈｏｍａ　ｂｅｔａｅ）、根頭がんしゅ病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｔｕｍｅｆａｃｉｅｎｓ）、そうか病（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ　ｓｃａｂｉｅｓ）、斑点細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．　ａｐｔａｔａ）；
ニンジンの黒葉枯病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ　ｄａｕｃｉ）、こぶ病（Ｒｈｉｚｏｂａｃｔｅｒ　ｄａｕｃｉ）、根頭がんしゅ病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｔｕｍｅｆａｃｉｅｎｓ）、ストレプトミセスそうか病（Ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｅｓ　ｓｐｐ．）、軟腐病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ　ｓｕｂｓｐ．　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ）；イチゴのうどんこ病（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ　ａｐｈａｎｉｓ　ｖａｒ．　ａｐｈａｎｉｓ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｎｉｃｏｔｉａｎａｅ等）、炭疽病（Ｇｌｏｍｅｒｅｌｌａ　ｃｉｎｇｕｌａｔａ等）、果実腐敗病（Ｐｙｔｈｉｕｍ　ｕｌｔｉｍｕｍ）、青枯病（Ｒａｌｓｔｏｎｉａ　ｓｏｌａｎａｃｅａｒｕｍ）、角斑細菌病（Ｘｈａｎｔｈｏｍｏｎａｓ　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ）、芽枯細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｍａｒｇｉｎａｌｉｓ　ｐｖ．　ｍａｒｇｉｎａｌｉｓ）；チャの網もち病（Ｅｘｏｂａｓｉｄｉｕｍ　ｒｅｔｉｃｕｌａｔｕｍ）、白星病（Ｅｌｓｉｎｏｅ　ｌｅｕｃｏｓｐｉｌａ）、炭疽病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ　ｔｈｅａｅ－ｓｉｎｅｎｓｉｓ）、輪斑病（Ｐｅｓｔａｌｏｔｉｏｐｓｉｓ　ｌｏｎｇｉｓｅｔａ）、赤焼病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．ｔｈｅａｅ）、かいよう病（Ｘｈａｎｔｈｏｍｏｎａｓ　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ　ｐｖ．　ｔｈｅｉｃｏｌａ）、てんぐ巣病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｐ．）；タバコの赤星病（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ　ａｌｔｅｒｎａｔａ）、うどんこ病（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ　ｃｉｃｈｏｒａｃｅａｒｕｍ）、炭疽病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ　ｇｌｏｅｏｓｐｏｒｉｏｉｄｅｓ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｎｉｃｏｔｉａｎａｅ）、野火病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．ｔａｂａｃｉ）、黄がさ細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．ｍｅｌｌｅａ）、空洞病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ　ｓｕｂｓｐ．　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ）、立枯病（Ｒａｌｓｔｏｎｉａ　ｓｏｌａｎａｃｅａｒｕｍ）、タバコモザイクウィルス（Ｔｏｂａｃｃｏ　ｍｏｓａｉｃ　ｖｉｒｕｓ）；
コーヒーのさび病（Ｈｅｍｉｌｅｉａ　ｖａｓｔａｔｒｉｘ）；バナナの黒シガトガ病（Ｍｙｃｏｓｐｈａｅｒｅｌｌａ　ｆｉｊｉｅｎｓｉｓ）、パナマ病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ　ｆ．ｓｐ　ｃｕｂｅｎｓｅ）；ワタの立枯病（Ｆｕｓａｒｉｕｍ　ｏｘｙｓｐｏｒｕｍ）、白かび病（Ｒａｍｕｌａｒｉａ　ａｒｅｏｌａ）；ヒマワリの菌核病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ　ｓｃｌｅｒｏｔｉｏｒｕｍ）、角点病（Ｘｈａｎｔｈｏｍｏｎａｓ　ｃａｍｐｅｓｔｒｉｓ　ｐｖ．ｍａｌｖａｃｅａｒｕｍ）、空洞病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ　ｓｕｂｓｐ．　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ）、斑点細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｓｙｒｉｎｇａｅ　ｐｖ．ｈｅｌｉａｎｔｈｉ）；バラの黒星病（Ｄｉｐｌｏｃａｒｐｏｎ　ｒｏｓａｅ）、うどんこ病（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ　ｐａｎｎｏｓａ等）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｍｅｇａｓｐｅｒｍａ）、べと病（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ　ｓｐａｒｓａ）、根頭がんしゅ病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｔｕｍｅｆａｃｉｅｎｓ）；キクの褐斑病（Ｓｅｐｔｏｒｉａ　ｏｂｅｓａ）、白さび病（Ｐｕｃｃｉｎｉａ　ｈｏｒｉａｎａ）、疫病（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｃａｃｔｏｒｕｍ）、斑点細菌病（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ　ｃｉｃｈｏｒｉｉ）、軟腐病（Ｅｒｗｉｎｉａ　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ　ｓｕｂｓｐ．　ｃａｒｏｔｏｖｏｒａ）、根頭がんしゅ病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｔｕｍｅｆａｃｉｅｎｓ）、毛根病（Ａｇｒｏｂａｃｔｅｒｉｕｍ　ｒｈｉｚｏｇｅｎｅｓ）、緑化病（Ｐｈｙｔｏｐｌａｓｍａ　ａｕｒａｎｔｉｆｏｌｉａ）；芝のブラウンパッチ病（Ｒｈｉｚｏｃｔｏｎｉａ　ｓｏｌａｎｉ）、ダラースポット病（Ｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ　ｈｏｍｏｅｏｃａｒｐａ）、カーブラリア葉枯病（Ｃｕｒｖｕｌａｒｉａ　ｓｐ．）、さび病　（Ｐｕｃｃｉｎｉａ　ｚｏｙｓｉａｅ）、ヘルミントスポリウム葉枯病（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ　ｓｐ．）、雲形病（Ｒｈｙｎｃｈｏｓｐｏｒｉｕｍ　ｓｅｃａｌｉｓ）、立枯病（Ｇａｅｕｍａｎｎｏｍｙｃｅｓ　ｇｒａｍｉｎｉｓ）、炭疽病（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ　ｓｐ．）、雪腐褐色小粒菌核病（Ｔｙｐｈｕｌａ　ｉｎｃａｒｎａｔａ）、雪腐黒色小粒菌核病（Ｔｙｐｈｕｌａ　ｉｓｈｉｋａｒｉｅｎｓｉｓ）、雪腐大粒菌核病（Ｍｙｒｉｏｓｃｌｅｒｏｔｉｎｉａ　ｂｏｒｅａｌｉｓ）、フェアリーリング病（Ｍａｒａｓｍｉｕｓ　ｏｒｅａｄｅｓ等）、ピシウム病（Ｐｙｔｈｉｕｍ　ａｐｈａｎｉｄｅｒｍａｔｕｍ等）、いもち病（Ｐｙｒｉｃｕｌａｒｉａ　ｇｒｉｓｅａ）等が挙げられる。
　本発明化合物は、本化合物単体で使用してもよいが、好ましくは、固体担体、液体担体、気体担体、界面活性剤、固着剤、分散剤、安定剤等と混合し、粉剤、水和剤、顆粒水和剤、水溶剤、顆粒水溶剤、粒剤、乳剤、液剤、マイクロエマルション剤、水性懸濁製剤、水性乳濁製剤、サスポエマルション製剤等の組成物として使用することができる。効果が発揮される限りにおいて、それらの組成物に限定されることはない。
　以下に具体的な製剤化例を示すが、これらに限定されるものではない。
［製剤例１　フロアブル剤］
　本発明化合物（１０質量部）、ナフタレンスルホン酸のホルムアルデヒド縮合物ナトリウム塩（５質量部）、ポリオキシエチレンアリールフェニルエーテル（１質量部）、プロピレングリコール（５質量部）、シリコン系消泡剤（０．１質量部）、キサンタンガム（０．２質量部）、イオン交換水（７８．７質量部）を混合してスラリーとなし、さらにダイノミルＫＤＬで直径１．０ｍｍのガラスビーズを用いて湿式粉砕しフロアブル剤を得る。
［製剤例２　乳剤］
　本発明化合物（５質量部）をキシレン（４０質量部）とシクロヘキサン（３５質量部）の混合溶液に溶解し、この溶液にＴｗｅｅｎ２０（２０質量部）を添加混合し、乳剤を得る。
［製剤例３　水和剤］
　本発明化合物（１０質量部）、ホワイトカーボン（１０質量部）、ポリビニルアルコール（２質量部）、ジオクチルスルホコハク酸ナトリウム塩（０．５質量部）、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム塩（５質量部）、焼成珪藻土（１０質量部）およびカオリナイトクレー（６２．５質量部）を充分に混合し、エアーミルで粉砕し、水和剤を得る。
　以下、本発明化合物を含有する組成物（農園芸用有害生物防除剤、農園芸用殺菌剤）の施用について説明する。
　本発明化合物を含有する組成物の施用方法としては、植物体もしくは種子と接触させる方法、または、栽培土壌に含有させて、植物の根もしくは地下茎に接触させる方法が挙げられる。具体例として、組成物の植物個体への茎葉散布処理、注入処理、苗箱処理、セルトレー処理、植物種子への吹き付け処理、植物種子への塗沫処理、植物種子への浸漬処理、植物種子への粉衣処理、土壌表面への散布処理、土壌表面への散布処理後の土壌混和、土壌中への注入処理、土壌中での注入処理後の土壌混和、土壌潅注処理、土壌潅注処理後の土壌混和等が挙げられる。通常、当業者が利用するようないかなる施用方法を用いても十分な効力を発揮する。
　本発明でいう「植物」とは、光合成をして運動せずに生活するものをいう。具体例として、稲、小麦、大麦、トウモロコシ、コーヒー、バナナ、ブドウ、リンゴ、ナシ、モモ、オウトウ、カキ、カンキツ、大豆、インゲン、ワタ、イチゴ、ジャガイモ、キャベツ、レタス、トマト、キュウリ、ナス、スイカ、テンサイ、ホウレンソウ、サヤエンドウ、カボチャ、サトウキビ、タバコ、ピーマン、サツマイモ、サトイモ、コンニャク、綿、ヒマワリ、バラ、チューリップ、キク、芝等およびそれらのＦ１品種等が挙げられる。また、遺伝子等を人工的に操作することにより生み出され、元来自然界に存在するものではない遺伝子組み換え作物も含み、例えば、除草剤耐性を付与した大豆、トウモロコシ、綿等、寒冷地適応したイネ、タバコ等、殺虫物質生産能を付与したトウモロコシ、綿等の農園芸作物等が挙げられる。さらに、マツ、トネリコ、イチョウ、カエデ、カシ、ポプラ、ケヤキ等の樹木等が挙げられる。また、本発明でいう「植物体」とは、前記の植物個体を構成する全ての部位を総称するものであり、例えば、茎、葉、根、種子、花、果実等が挙げられる。
　本発明でいう「種子」とは、幼植物が発芽するための栄養分を蓄え、農業上繁殖に用いられるものをいう。具体例として、トウモロコシ、大豆、綿、稲、テンサイ、小麦、大麦、ヒマワリ、トマト、キュウリ、ナス、ホウレンソウ、サヤエンドウ、カボチャ、サトウキビ、タバコ、ピーマン、セイヨウアブラナ等の種子、それらのＦ１品種等の種子、サトイモ、ジャガイモ、サツマイモ、コンニャク等の種芋、食用ゆり、チューリップ等の球根、ラッキョウ等の種球、および遺伝子組み換え作物の種子ならびに塊茎等が挙げられる。
　本発明化合物を含有する組成物の施用量および施用濃度は、対象作物、対象病害、病害の発生程度、化合物の剤型、施用方法および各種環境条件等によって変動するが、散布または潅注する場合には、有効成分量としてヘクタール当たり０．１～１０，０００ｇが適当であり、好ましくは、ヘクタール当り１０～１，０００ｇである。また、種子処理の場合の使用量は、有効成分量として種子１ｋｇ当たり０．０００１～１０００ｇであり、好ましくは、０．００１～１００ｇである。本発明化合物を含有する組成物を植物個体への茎葉散布処理、土壌表面への散布処理、土壌中への注入処理または土壌潅注処理として使用する場合は、適当な担体に適当な濃度で希釈した後、処理を行ってもよい。本発明化合物を含有する組成物を植物種子に接触させる場合は、適当な濃度に希釈した後、植物種子に浸漬、粉衣、吹き付けまたは塗沫処理して用いてもよい。浸漬、粉衣、吹き付けまたは塗沫処理する場合の組成物使用量は、通常、有効成分量として、乾燥植物種子重量の０．０５～５０％程度であり、好ましくは、０．１～３０％が適当であるが、組成物の形態や処理対象となる植物種子の種類により適宜設定すればよく、これら範囲に限定されるものではない。
　本発明化合物は、必要に応じて他の農薬、例えば、殺菌剤、殺虫剤（殺ダニ剤および殺線虫剤を含む）、除草剤、微生物資材等および植物成長調節剤等の農薬、核酸を有効成分とする病害防除剤（国際公開第２０１４／０６２７７５号）、土壌改良剤または肥効物質等と混合して使用することができる。本発明化合物と他の農薬を混合して使用する方法としては、本発明化合物と他の農薬とを一つの剤型に製剤化して使用する方法、それぞれが別々の剤型に製剤化された両者を使用前に混合して使用する方法、それぞれが別々の剤型に製剤化された両者を同時に使用する方法、または、それぞれが別々の剤型に製剤化された両者について、いずれか一方を使用した後に他方を使用する方法が挙げられる。
　本発明化合物と混合して使用することができる殺菌剤に含まれる具体的な成分は、以下の群ｂで例示され、これらの塩、異性体およびＮ－オキシド体を含む。ただし、公知の殺菌剤はこれらに限定されるものではない。
群ｂ：
ｂ－１：フェニルアミド系殺菌剤
　フェニルアミド系殺菌剤として、［ｂ－１．１］：ベナラキシル（ｂｅｎａｌａｘｙｌ）、［ｂ－１．２］ベナラキシルＭまたはキララキシル（ｂｅｎａｌａｘｙｌ－Ｍまたはｋｉｒａｌａｘｙｌ）、［ｂ－１．３］フララキシル（ｆｕｒａｌａｘｙｌ）、［ｂ－１．４］メタラキシル（ｍｅｔａｌａｘｙｌ）、［ｂ－１．５］メタラキシルＭまたはメフェノキサム（ｍｅｔａｌａｘｙｌ－Ｍまたはｍｅｆｅｎｏｘａｍ）、［ｂ－１．６］オキサジキシル（ｏｘａｄｉｘｙｌ）、［ｂ－１．７］オフラセ（ｏｆｕｒａｃｅ）等が挙げられる。
ｂ－２：有糸核分裂および細胞分裂阻害剤
　有糸核分裂および細胞分裂阻害剤として、［ｂ－２．１］ベノミル（ｂｅｎｏｍｙｌ）、［ｂ－２．２］カルベンダジム（ｃａｒｂｅｎｄａｚｉｍ）、［ｂ－２．３］フベリダゾール（ｆｕｂｅｒｉｄａｚｏｌｅ）、［ｂ－２．４］チアベンダゾール（ｔｈｉａｂｅｎｄａｚｏｌｅ）、［ｂ－２．５］チオファネート（ｔｈｉｏｐｈａｎａｔｅ）、［ｂ－２．６］チオファネートメチル（ｔｈｉｏｐｈａｎａｔｅ－ｍｅｔｈｙｌ）、［ｂ－２．７］ジエトフェンカルブ（ｄｉｅｔｈｏｆｅｎｃａｒｂ）、［ｂ－２，８］ゾキサミド（ｚｏｘａｍｉｄｅ）、［ｂ－２．９］エタボキサム（ｅｔｈａｂｏｘａｍ）、［ｂ－２．１０］ペンシクロン（ｐｅｎｃｙｃｕｒｏｎ）、［ｂ－２．１１］フルオピコリド（ｆｌｕｏｐｉｃｏｌｉｄｅ）、［ｂ－２．１２］フェナマクリル（ｐｈｅｎａｍａｃｒｉｌ）等が挙げられる。
ｂ－３：コハク酸脱水素酵素阻害剤（ＳＤＨＩ剤）
　コハク酸脱水素酵素阻害剤（ＳＤＨＩ剤）として、［ｂ－３．１］ベノダニル（ｂｅｎｏｄａｎｉｌ）、［ｂ－３．２］ベンゾビンジフルピル（ｂｅｎｚｏｖｉｎｄｉｆｌｕｐｙｒ）、［ｂ－３．３］ビキサフェン（ｂｉｘａｆｅｎ）、［ｂ－３．４］ボスカリド（ｂｏｓｃａｌｉｄ）、［ｂ－３．５］カルボキシン（ｃａｒｂｏｘｉｎ）、［ｂ－３．６］フェンフラム（ｆｅｎｆｕｒａｍ）、［ｂ－３．７］フルオピラム（ｆｌｕｏｐｙｒａｍ）、［ｂ－３．８］フルトラニル（ｆｌｕｔｏｌａｎｉｌ）、［ｂ－３．９］フルキサピロキサド（ｆｌｕｘａｐｙｒｏｘａｄ）、［ｂ－３．１０］フラメトピル（ｆｕｒａｍｅｔｐｙｒ）、［ｂ－３．１１］イソフェタミド（ｉｓｏｆｅｔａｍｉｄ）、［ｂ－３．１２］イソピラザム（ｉｓｏｐｙｒａｚａｍ）、［ｂ－３．１３］メプロニル（ｍｅｐｒｏｎｉｌ）、［ｂ－３．１４］オキシカルボキシン（ｏｘｙｃａｒｂｏｘｉｎ）、［ｂ－３．１５］ペンチオピラド（ｐｅｎｔｈｉｏｐｙｒａｄ）、［ｂ－３．１６］ペンフルフェン（ｐｅｎｆｌｕｆｅｎ）、［ｂ－３．１７］ピジフルメトフェン（ｐｙｄｉｆｌｕｍｅｔｏｆｅｎ）、［ｂ－３．１８］セダキサン（ｓｅｄａｘａｎｅ）、［ｂ－３．１９］チフルザミド（ｔｈｉｆｌｕｚａｍｉｄｅ）、［ｂ－３．２０］ピラジフルミド（ｐｙｒａｚｉｆｌｕｍｉｄ）等が挙げられる。
ｂ－４：キノン外部阻害剤（ＱｏＩ剤）
　キノン外部阻害剤（ＱｏＩ剤）として、［ｂ－４．１］アゾキシストロビン（ａｚｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．２］クモキシストロビン（ｃｏｕｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．３］ジモキシストロビン（ｄｉｍｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．４］エノキサストロビン（ｅｎｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．５］ファモキサドン（ｆａｍｏｘａｄｏｎｅ）、［ｂ－４．６］フェンアミドン（ｆｅｎａｍｉｄｏｎｅ）、［ｂ－４．７］フェナミンストロビン（ｆｅｎａｍｉｎｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．８］フルフェノキシストロビン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．９］フルオキサストロビン（ｆｌｕｏｘａｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．１０］クレソキシムメチル（ｋｒｅｓｏｘｉｍ－ｍｅｔｈｙｌ）、［ｂ－４．１１］マンデストロビン（ｍａｎｄｅｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．１２］メトミノストロビン（ｍｅｔｏｍｉｎｏｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．１３］オリサストロビン（ｏｒｙｓａｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．１４］ピコキシストロビン（ｐｉｃｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．１５］ピラクロストロビン（ｐｙｒａｃｌｏｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．１６］ピラメトストロビン（ｐｙｒａｍｅｔｏｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．１７］ピラオキシストロビン（ｐｙｒａｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）、［ｂ－４．１８］ピリベンカルブ（ｐｙｒｉｂｅｎｃａｒｂ）、［ｂ－４．１９］トリクロピリカルブ（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒｉｃａｒｂ）、［ｂ－４．２０］トリフロキシストロビン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｔｒｏｂｉｎ）等が挙げられる。
ｂ－５：キノン内部阻害剤（ＱｉＩ剤）
　キノン内部阻害剤（ＱｉＩ剤）として、［ｂ－５．１］シアゾファミド（ｃｙａｚｏｆａｍｉｄ）、［ｂ－５．２］アミスルブロム（ａｍｉｓｕｌｂｒｏｍ）等が挙げられる。
ｂ－６：酸化的リン酸化脱共役阻害剤
　酸化的リン酸化脱共役阻害剤として、［ｂ－６．１］ビナパクリル（ｂｉｎａｐａｃｒｙｌ）、［ｂ－６．２］メプチルジノカップ（ｍｅｐｔｙｌｄｉｎｏｃａｐ）、［ｂ－６．３］ジノカップ（ｄｉｎｏｃａｐ）、［ｂ－６．４］フルアジナム（ｆｌｕａｚｉｎａｍ）等が挙げられる。
ｂ－７：キノン外部スチグマテリン結合サブサイト阻害剤（ＱｏＳＩ剤）
　キノン外部スチグマテリン結合サブサイト阻害剤（ＱｏＳＩ剤）として、［ｂ－７．１］アメトクトラジン（ａｍｅｔｏｃｔｒａｄｉｎ）等が挙げられる。
ｂ－８：アミノ酸生合成阻害剤
　アミノ酸生合成阻害剤として、［ｂ－８．１］シプロジニル（ｃｙｐｒｏｄｉｎｉｌ）、［ｂ－８．２］メパニピリム（ｍｅｐａｎｉｐｙｒｉｍ）、［ｂ－８．３］ピリメタニル（ｐｙｒｉｍｅｔｈａｎｉｌ）等が挙げられる。
ｂ－９：タンパク質生合成阻害剤
　タンパク質生合成阻害剤として、［ｂ－９．１］ストレプトマイシン（ｓｔｒｅｐｔｏｍｙｃｉｎ）、［ｂ－９．２］ブラストサイジンＳ（ｂｌａｓｔｉｃｉｄｉｎ－Ｓ）、［ｂ－９．３］カスガマイシン（ｋａｓｕｇａｍｙｃｉｎ）、［ｂ－９．４］オキシテトラサイクリン（ｏｘｙｔｅｔｒａｃｙｃｌｉｎｅ）等が挙げられる。
ｂ－１０：シグナル伝達阻害剤
　シグナル伝達阻害剤として、［ｂ－１０．１］フェンピクロニル（ｆｅｎｐｉｃｌｏｎｉｌ）、［ｂ－１０．２］フルジオキソニル（ｆｌｕｄｉｏｘｏｎｉｌ）、［ｂ－１０．３］キノキシフェン（ｑｕｉｎｏｘｙｆｅｎ）、［ｂ－１０．４］プロキナジド（ｐｒｏｑｕｉｎａｚｉｄ）、［ｂ－１０．５］クロゾリネート（ｃｈｌｏｚｏｌｉｎａｔｅ）、［ｂ－１０．６］ジメタクロン（ｄｉｍｅｔｈａｃｈｌｏｎｅ）、［ｂ－１０．７］イプロジオン（ｉｐｒｏｄｉｏｎｅ）、［ｂ－１０．８］プロシミドン（ｐｒｏｃｙｍｉｄｏｎｅ）、［ｂ－１０．９］ビンクロゾリン（ｖｉｎｃｌｏｚｏｌｉｎ）等が挙げられる。
ｂ－１１：脂質および細胞膜生合成阻害剤
　脂質および細胞膜生合成阻害剤として、［ｂ－１１．１］エジフェンホス（ｅｄｉｆｅｎｐｈｏｓ）、［ｂ－１１．２］イプロベンホス（ｉｐｒｏｂｅｎｆｏｓ）、［ｂ－１１．３］ピラゾホス（ｐｙｒａｚｏｐｈｏｓ）、［ｂ－１１．４］イソプロチオラン（ｉｓｏｐｒｏｔｈｉｏｌａｎｅ）、［ｂ－１１．５］ビフェニル（ｂｉｐｈｅｎｙｌ）、［ｂ－１１．６］クロロネブ（ｃｈｌｏｒｏｎｅｂ）、［ｂ－１１．７］ジクロラン（ｄｉｃｌｏｒａｎ）、［ｂ－１１．８］キントゼン（ｑｕｉｎｔｏｚｅｎｅ）、［ｂ－１１．９］テクナゼン（ｔｅｃｎａｚｅｎｅ）、［ｂ－１１．１０］トルクロホスメチル（ｔｏｌｃｌｏｆｏｓ－ｍｅｔｈｙｌ）、［ｂ－１１．１１］エトリジアゾール（ｅｃｈｌｏｍｅｚｏｌ　ｏｒ　ｅｔｒｉｄｉａｚｏｌｅ）、［ｂ－１１．１２］ヨードカルブ（ｉｏｄｏｃａｒｂ）、［ｂ－１１．１３］プロパモカルブ（ｐｒｏｐａｍｏｃａｒｂ）、［ｂ－１１．１４］プロチオカルブ（ｐｒｏｔｈｉｏｃａｒｂ）等が挙げられる。
ｂ－１２：脱メチル化阻害剤（ＤＭＩ剤）
　脱メチル化阻害剤（ＤＭＩ剤）として、［ｂ－１２．１］アザコナゾール（ａｚａｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．２］ビテルタノール（ｂｉｔｅｒｔａｎｏｌ）、［ｂ－１２．３］ブロムコナゾール（ｂｒｏｍｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．４］シプロコナゾール（ｃｙｐｒｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．５］ジフェノコナゾール（ｄｉｆｅｎｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．６］ジニコナゾール（ｄｉｎｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．７］ジニコナゾールＭ（ｄｉｎｉｃｏｎａｚｏｌｅ－Ｍ）、［ｂ－１２．８］エポキシコナゾール（ｅｐｏｘｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．９］エタコナゾール（ｅｔａｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．１０］フェナリモル（ｆｅｎａｒｉｍｏｌ）、［ｂ－１２．１１］フェンブコナゾール（ｆｅｎｂｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．１２］フルキンコナゾール（ｆｌｕｑｕｉｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．１３］キンコナゾール（ｑｕｉｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．１４］フルシラゾール（ｆｌｕｓｉｌａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．１５］フルトリアホール（ｆｌｕｔｒｉａｆｏｌ）、［ｂ－１２．１６］ヘキサコナゾール（ｈｅｘａｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．１７］イマザリル（ｉｍａｚａｌｉｌ）、［ｂ－１２．１８］イミベンコナゾール（ｉｍｉｂｅｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．１９］イプコナゾール（ｉｐｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．２０］メトコナゾール（ｍｅｔｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．２１］ミクロブタニル（ｍｙｃｌｏｂｕｔａｎｉｌ）、［ｂ－１２．２２］ヌアリモール（ｎｕａｒｉｍｏｌ）、［ｂ－１２．２３］オキスポコナゾール（ｏｘｐｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．２４］オキスポコナゾールフマル酸塩（ｏｘｐｏｃｏｎａｚｏｌｅ　ｆｕｍａｒａｔｅ）、［ｂ－１２．２５］ペフラゾエート（ｐｅｆｕｒａｚｏａｔｅ）、［ｂ－１２．２６］ペンコナゾール（ｐｅｎｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．２７］プロクロラズ（ｐｒｏｃｈｌｏｒａｚ）、［ｂ－１２．２８］プロピコナゾール（ｐｒｏｐｉｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．２９］プロチオコナゾール（ｐｒｏｔｈｉｏｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．３０］ピリフェノックス（ｐｙｒｉｆｅｎｏｘ）、［ｂ－１２．３１］ピリソキサゾール（ｐｙｒｉｓｏｘａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．３２］シメコナゾール（ｓｉｍｅｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．３３］テブコナゾール（ｔｅｂｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．３４］テトラコナゾール（ｔｅｔｒａｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．３５］トリアジメホン（ｔｒｉａｄｉｍｅｆｏｎ）、［ｂ－１２．３６］トリアジメノール（ｔｒｉａｄｉｍｅｎｏｌ）、［ｂ－１２．３７］トリフルミゾール（ｔｒｉｆｌｕｍｉｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．３８］トリホリン（ｔｒｉｆｏｒｉｎｅ）、［ｂ－１２．３９］トリチコナゾール（ｔｒｉｔｉｃｏｎａｚｏｌｅ）［ｂ－１２．４０］メフェントリフルコナゾール（ｍｅｆｅｎｔｒｉｆｌｕｃｏｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１２．４１］イプフェントリフルコナゾール（ｉｐｆｅｎｔｒｉｆｌｕｃｏｎａｚｏｌｅ）等が挙げられる。
ｂ－１３：アミン系殺菌剤
　アミン系殺菌剤として、［ｂ－１３．１］アルジモルフ（ａｌｄｉｍｏｒｐｈ）、［ｂ－１３．２］ドデモルフ（ｄｏｄｅｍｏｒｐｈ）、［ｂ－１３．３］フェンプロピモルフ（ｆｅｎｐｒｏｐｉｍｏｒｐｈ）、［ｂ－１３．４］トリデモルフ（ｔｒｉｄｅｍｏｒｐｈ）、［ｂ－１３．５］フェンプロピジン（ｆｅｎｐｒｏｐｉｄｉｎ）、［ｂ－１３．６］ピペラリン（ｐｉｐｅｒａｌｉｎ）、［ｂ－１３．７］スピロキサミン（ｓｐｉｒｏｘａｍｉｎｅ）等が挙げられる。
ｂ－１４：ステロール生合成のＣ４位脱メチル化における３－ケト還元酵素阻害剤
　ステロール生合成のＣ４位脱メチル化における３－ケト還元酵素阻害剤として、［ｂ－１４．１］フェンヘキサミド（ｆｅｎｈｅｘａｍｉｄ）、［ｂ－１４．２］フェンピラザミン（ｆｅｎｐｙｒａｚａｍｉｎｅ）等が挙げられる。
ｂ－１５：ステロール生合成のスクアレンエポキシダーゼ阻害剤
　ステロール生合成のスクアレンエポキシダーゼ阻害剤として、［ｂ－１５．１］ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）、［ｂ－１５．２］ナフチフィン（ｎａｆｔｉｆｉｎｅ）、［ｂ－１５．３］テルビナフィン（ｔｅｒｂｉｎａｆｉｎｅ）等が挙げられる。
ｂ－１６：細胞壁生合成阻害剤
　細胞壁生合成阻害剤として、［ｂ－１６．１］ポリオキシン類（ｐｏｌｙｏｘｉｎｓ）、［ｂ－１６．２］ジメトモルフ（ｄｉｍｅｔｈｏｍｏｒｐｈ）、［ｂ－１６．３］フルモルフ（ｆｌｕｍｏｒｐｈ）、［ｂ－１６．４］ピリモルフ（ｐｙｒｉｍｏｒｐｈ）、［ｂ－１６．５］ベンチアバリカルブ（ｂｅｎｔｈｉａｖａｌｉｃａｒｂ）、［ｂ－１６．６］ベンチアバリカルブイソプロピル（ｂｅｎｔｈｉｖａｌｉｃａｒｂ－ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ）、［ｂ－１６．７］イプロバリカルブ（ｉｐｒｏｖａｌｉｃａｒｂ）、［ｂ－１６．８］マンジプロパミド（ｍａｎｄｉｐｒｏｐａｍｉｄ）、［ｂ－１７．９］バリフェナレート（ｖａｌｉｆｅｎａｌａｔｅ）等が挙げられる。
ｂ－１７：メラニン生合成阻害剤
　メラニン生合成阻害剤として、［ｂ－１７．１］フサライド（ｐｈｔｈａｌｉｄｅ　ｏｒ　ｆｔｈａｌｉｄｅ）、［ｂ－１７．２］ピロキロン（ｐｙｒｏｑｕｉｌｏｎｅ）、［ｂ－１７．３］トリシクラゾール（ｔｒｉｃｙｃｌａｚｏｌｅ）、［ｂ－１７．４］カルプロパミド（ｃａｒｐｒｏｐａｍｉｄ）、［ｂ－１７．５］ジクロシメット（ｄｉｃｌｏｃｙｍｅｔ）、［ｂ－１７．６］フェノキサニル（ｆｅｎｏｘａｎｉｌ）、［ｂ－１７．７］トルプロカルブ（ｔｏｌｐｒｏｃａｒｂ）等が挙げられる。
ｂ－１８：宿主植物抵抗性誘導剤
　宿主植物抵抗性誘導剤として、［ｂ－１８．１］アシベンゾラルＳメチル（ａｃｉｂｅｎｚｏｌａｒ－Ｓ－ｍｅｔｈｙｌ）、［ｂ－１８．２］プロベナゾール（ｐｒｏｂｅｎａｚｏｌｅ）、［ｂ－１８．３］チアジニル（ｔｉａｄｉｎｉｌ）、［ｂ－１８．４］イソチアニル（ｉｓｏｔｉａｎｉｌ）、［ｂ－１８．５］ラミナリン（ｌａｍｉｎａｒｉｎ）等が挙げられる。
ｂ－１９：ジチオカーバメート系殺菌剤
　ジチオカーバメート系殺菌剤として、［ｂ－１９．１］マンコゼブまたはマンゼブ（ｍａｎｃｏｚｅｂ　ｏｒ　ｍａｎｚｅｂ）、［ｂ－１９．２］マンネブ（ｍａｎｅｂ）、［ｂ－１９．３］メチラム（ｍｅｔｉｒａｍ）、［ｂ－１９．４］プロピネブ（ｐｒｏｐｉｎｅｂ）、［ｂ－１９．５］チウラム（ｔｈｉｒａｍ）、［ｂ－１９．６］ジネブ（ｚｉｎｅｂ）、［ｂ－１９．７］ジラム（ｚｉｒａｍ）、［ｂ－１９．８］フェルバム（ｆｅｒｂａｍ）等が挙げられる。
ｂ－２０：フタルイミド系殺菌剤
　フタルイミド系殺菌剤として、［ｂ－２０．１］キャプタン（ｃａｐｔａｎ）、［ｂ－２０．２］キャプタホール（ｃａｐｔａｆｏｌ）、［ｂ－２０．３］ホルペット（ｆｏｌｐｅｔ）、［ｂ－２０．４］フルオロホルペット（ｆｌｕｏｒｏｆｏｌｐｅｔ）等が挙げられる。
ｂ－２１：グアニジン系殺菌剤
　グアニジン系殺菌剤として、［ｂ－２１．１］グアザチン（ｇｕａｚａｔｉｎｅ）、［ｂ－２１．２］イミノクタジン（ｉｍｉｎｏｃｔａｄｉｎｅ）、［ｂ－２１．３］イミノクタジンアルベシル酸塩（ｉｍｉｎｏｃｔａｄｉｎｅ　ａｌｂｅｓｉｌａｔｅ）、［ｂ－２１．４］イミノクタジン三酢酸塩（ｉｍｉｎｏｃｔａｄｉｎｅ　ｔｒｉａｃｅｔａｔｅ）等が挙げられる。
ｂ－２２：多作用点接触活性型殺菌剤
　多作用点接触活性型殺菌剤として、［ｂ－２２．１］塩基性塩化銅（ｃｏｐｐｅｒ　ｏｘｙｃｈｌｏｒｉｄｅ）、［ｂ－２２．２］水酸化第二銅（ｃｏｐｐｅｒ（ＩＩ）　ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）、［ｂ－２２．３］塩基性硫酸銅（ｃｏｐｐｅｒ　ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ　ｓｕｌｆａｔｅ）、［ｂ－２２．４］有機銅化合物（ｏｒｇａｎｏｃｏｐｐｅｒ　ｃｏｍｐｏｕｎｄ）、［ｂ－２２．５］ドデシルベンゼンスルホン酸ビスエチレンジアミン銅錯塩［ＩＩ］（Ｄｏｄｅｃｙｌｂｅｎｚｅｎｅｓｕｌｐｈｏｎｉｃ　ａｃｉｄ　ｂｉｓｅｔｈｙｌｅｎｅｄｉａｍｉｎｅ　ｃｏｐｐｅｒ　［ＩＩ］　ｓａｌｔ、ＤＢＥＤＣ）、［ｂ－２２．６］硫黄（ｓｕｌｐｈｕｒ）、［ｂ－２２．７］フルオルイミド（ｆｌｕｏｒｏｉｍｉｄｅ）、［ｂ－２２．８］クロロタロニル（ｃｈｌｏｒｏｔｈａｌｏｎｉｌ）、［ｂ－２２．９］ジクロフルアニド（ｄｉｃｈｌｏｆｌｕａｎｉｄ）、［ｂ－２２．１０］トリルフルアニド（ｔｏｌｙｌｆｌｕａｎｉｄ）、［ｂ－２２．１１］アニラジン（ａｎｉｌａｚｉｎｅ）、［ｂ－２２．１２］ジチアノン（ｄｉｔｈｉａｎｏｎ）、［ｂ－２２．１３］キノメチオナート（ｃｈｉｎｏｍｅｔｈｉｏｎａｔ　ｏｒ　ｑｕｉｎｏｍｅｔｈｉｏｎａｔｅ）、［ｂ－２２．１４］ハウチワマメ苗木の子葉からの抽出物（ＢＬＡＤ）等が挙げられる。
ｂ－２３：その他の殺菌剤
　その他の殺菌剤として、［ｂ－２３．１］ジクロベンチアゾクス（ｄｉｃｈｌｏｂｅｎｔｉａｚｏｘ）、［ｂ－２３．２］フェンピコキサミド（ｆｅｎｐｉｃｏｘａｍｉｄ）、［ｂ－２３．３］ジピメチトロン（ｄｉｐｙｍｅｔｉｔｒｏｎｅ）、［ｂ－２３．４］ブピリメート（ｂｕｐｉｒｉｍａｔｅ）、［ｂ－２３．５］ジメチリモール（ｄｉｍｅｔｈｉｒｉｍｏｌ）、［ｂ－２３．６］エチリモール（ｅｔｈｉｒｉｍｏｌ）、［ｂ－２３．７］酢酸トリフェニルスズ（ｆｅｎｔｉｎ　ａｃｅｔａｔｅ）、［ｂ－２３．８］塩化トリフェニルスズ（ｆｅｎｔｉｎ　ｃｈｌｏｒｉｄｅ）、［ｂ－２３．９］水酸化トリフェニルスズ（ｆｅｎｔｉｎ　ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）、［ｂ－２３．１０］オキソリニック酸（ｏｘｏｌｉｎｉｃ　ａｃｉｄ）、［ｂ－２３．１１］ヒメキサゾール（ｈｙｍｅｘａｚｏｌ）、［ｂ－２３．１２］オクチリノン（ｏｃｔｈｉｌｉｎｏｎｅ）、［ｂ－２３．１３］ホセチル（ｆｏｓｅｔｙｌ）、［ｂ－２３．１４］亜リン酸（ｐｈｏｓｐｈｏｒｏｕｓ　ａｃｉｄ）、［ｂ－２３．１５］亜リン酸のナトリウム塩（ｓｏｄｉｕｍ　ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、［ｂ－２３．１６］亜リン酸のアンモニウム塩（ａｍｍｏｎｉｕｍ　ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、［ｂ－２３．１７］亜リン酸のカリウム塩（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ　ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、［ｂ－２３．１８］テクロフタラム（ｔｅｃｌｏｆｔａｌａｍ）、［ｂ－２３．１９］トリアゾキシド（ｔｒｉａｚｏｘｉｄｅ）、［ｂ－２３．２０］フルスルファミド（ｆｌｕｓｕｌｆａｍｉｄｅ）、［ｂ－２３．２１］ジクロメジン（ｄｉｃｌｏｍｅｚｉｎｅ）、［ｂ－２３．２２］シルチオファム（ｓｉｌｔｈｉｏｆａｍ）、［ｂ－２３．２３］ジフルメトリム（ｄｉｆｌｕｍｅｔｏｒｉｍ）、［ｂ－２３．２４］メタスルホカルブ（ｍｅｔｈａｓｕｌｆｏｃａｒｂ）、［ｂ－２３．２５］シフルフェナミド（ｃｙｆｌｕｆｅｎａｍｉｄ）、［ｂ－２３．２６］メトラフェノン（ｍｅｔｒａｆｅｎｏｎｅ）、［ｂ－２３．２７］ピリオフェノン（ｐｙｒｉｏｆｅｎｏｎｅ）、［ｂ－２３．２８］ドジン（ｄｏｄｉｎｅ）、［ｂ－２３．２９］フルチアニル（ｆｌｕｔｉａｎｉｌ）、［ｂ－２３．３０］フェリムゾン（ｆｅｒｉｍｚｏｎｅ）、［ｂ－２３．３１］オキサチアピプロリン（ｏｘａｔｈｉａｐｉｐｒｏｌｉｎ）、［ｂ－２３．３２］テブフロキン（ｔｅｂｕｆｌｏｑｕｉｎ）、［ｂ－２３．３３］ピカルブトラゾクス（ｐｉｃａｒｂｕｔｒａｚｏｘ）、［ｂ－２３．３４］バリダマイシン類（ｖａｌｉｄａｍｙｃｉｎｓ）、［ｂ－２３．３５］シモキサニル（ｃｙｍｏｘａｎｉｌ）、［ｂ－２３．３６］キノフメリン（ｑｕｉｎｏｆｕｍｅｌｉｎ）、
［ｂ－２３．３７］式（ｓ１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000126
で表される化合物（国際公開第９８／０４６６０７号参照）、
［ｂ－２３．３８］式（ｓ２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000127
で表される化合物（国際公開第０８／１４８５７０号参照）、
［ｂ－２３．３９］式（ｓ３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000128
で表される化合物（国際公開第９２／０１２９７０号参照）、
［ｂ－２３．４０］式（ｓ４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000129
で表される化合物（国際公開第１２／０８４８１２号参照）、
［ｂ－２３．４１］式（ｓ５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000130
で表される化合物（ｇｏｕｇｅｒｏｔｉｎ）、
［ｂ－２３．４２］式（ｓ６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000131
で表される化合物（ｎｉｎｇｎａｎｍｙｃｉｎ）、
［ｂ－２３．４３］式（ｓ７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000132
で表される化合物（国際公開第１０／１３６４７５号参照）、
［ｂ－２３．４４］式（ｓ８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000133
で表される化合物（国際公開第１４／０１０７３７号参照）、
［ｂ－２３．４５］式（ｓ９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000134
で表される化合物（国際公開第１１／０８５０８４号参照）、
［ｂ－２３．４６］式（ｓ１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000135
で表される化合物（国際公開第１１／１３７００２号参照）、
［ｂ－２３．４７］式（ｓ１１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000136
で表される化合物（国際公開第１３／１６２０７２号参照）、
［ｂ－２３．４８］式（ｓ１２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000137
で表される化合物（国際公開第０８／１１０３１３号参照）、
［ｂ－２３．４９］式（ｓ１３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000138
で表される化合物（国際公開第０９／１５６０９８号参照）、
［ｂ－２３．５０］式（ｓ１４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000139
で表される化合物（国際公開第１２／０２５５５７号参照）、
［ｂ－２３．５１］式（ｓ１５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000140
で表される化合物（国際公開第１４／００６９４５号参照）、
［ｂ－２３．５２］式（ｓ１６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000141
［式中、Ａ３は、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはシアノ基を表し、Ａ４は、水素原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表す。］で表される化合物（国際公開第１４／０９５６７５号参照）、
［ｂ－２３．５３］式（ｓ１７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000142
［式中、ｍ１は、０～３の整数を表し、Ａ５およびＡ６は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ａ７およびＡ８は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、またはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表し、ｍ１が２以上の場合、２以上のＡ７は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよい。］で表される化合物（国際公開第０９／１３７５３８号、国際特許第０９／１３７６５１号参照）、
［ｂ－２３．５４］式（ｓ１８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000143
［式中、Ａ９およびＡ１０は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表し、Ａ１１は、ハロゲン原子を表し、Ａ１２は、ハロゲン原子、またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ａ１３は、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表す。］で表される化合物（国際公開第１２／０３１０６１号参照）、
［ｂ－２３．５５］式（ｓ１９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000144
［式中、ｍ２は、０～６の整数を表し、Ａ１４およびＡ１５は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、シアノ基、またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ａ１６は、水素原子、ハロゲン原子、またはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表し、Ａ１７は、ハロゲン原子、またはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表し、ｍ２が２以上の場合、２以上のＡ１７は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよい。］で表される化合物（国際公開第０５／１２１１０４号参照）、
［ｂ－２３．５６］式（ｓ２０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000145
［式中、Ａ１８およびＡ１９は、それぞれ独立していて、ハロゲン原子、シアノ基、またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ａ２０、Ａ２１およびＡ２２は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、またはＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表す。］で表される化合物（国際公開第０７／０６６６０１号参照）、
［ｂ－２３．５７］式（ｓ２１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000146
［式中、Ａ２３およびＡ２４は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表し、Ｘは、酸素原子または硫黄原子を表す。］で表される化合物（国際公開第０７／０８７９０６号、国際特許第０９／０１６２２０号、国際特許第１０／１３０７６７号参照）、
［ｂ－２３．５８］式（ｓ２２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000147
［式中、ｍ３は、０～５の整数を表し、Ａ２５は、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表し、ｍ３が２以上の場合、２以上のＡ２５は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよい。］で表される化合物（国際公開第１３／０９２２２４号参照）、
［ｂ－２３．５９］式（ｓ２３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000148
［式中、Ａ２６は、水素原子、またはハロゲン原子を表し、Ｖ１およびＶ２は、それぞれ独立していて、酸素原子、または硫黄原子を表す。］で表される化合物（国際公開第１２／０２５４５０号参照）、
［ｂ－２３．６０］式（ｓ２４）または式（ｓ２５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000149
［式中、ｍ４は、０～５の整数を表し、Ａ２７は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ａ２８は、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、ｍ４が２以上の場合、２以上のＡ２８は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、Ａ２９は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基、またはＣ３～Ｃ６のアルキニル基を表す。］で表される化合物（国際公開第１３／０３７７１７号参照）、
［ｂ－２３．６１］式（ｓ２６）または式（ｓ２７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000150
［式中、ｍ５は、０～５の整数を表し、Ａ３０は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ａ３１は、ハロゲン原子、シアノ基、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、ｍ５が２以上の場合、２以上のＡ３１は、それぞれ独立した置換基を表し、同一または異なっていてよく、Ａ３２は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ２～Ｃ６のアルケニル基、またはＣ３～Ｃ６のアルキニル基を表す。］で表される化合物（国際公開第１３／０３７７１７号参照）、
［ｂ－２３．６２］式（ｓ２８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000151
［式中、Ａ３３、Ａ３４、Ａ３５およびＡ３６は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表し、Ａ３７は、水素原子、アセチル基、またはベンゾイル基を表す。］で表される化合物（国際公開第０６／０３１６３１号、国際特許第１０／０６９８８２号参照）、
［ｂ－２３．６３］式（ｓ２９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000152
［式中、Ａ３８は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ａ３９およびＡ４０は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表す。］で表される化合物（国際公開第１４／０４３３７６号参照）、
［ｂ－２３．６４］式（ｓ３０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000153
［式中、Ａ４１は、水素原子、水硫基（－ＳＨ）、チオシアン酸基（－ＳＣＮ）、またはＣ１～Ｃ６のアルキルチオ基を表し、Ａ４２、Ａ４３、Ａ４４およびＡ４５は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表す。］で表される化合物（国際公開第０９／０７７４４３号参照）、
［ｂ－２３．６５］式（ｓ３１）または式（ｓ３２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000154
［式中、Ａ４６は、水素原子、またはハロゲン原子を表し、Ａ４７は、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ａ４８は、ハロゲン原子を表す。］で表される化合物（国際公開第１１／０７０７７１号参照）、
［ｂ－２３．６６］式（ｓ３３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000155
［式中、Ａ４９、Ａ５０およびＡ５１は、それぞれ独立していて、水素原子、またはハロゲン原子を表す。］で表される化合物（国際公開第１１／０８１１７４号参照）等が挙げられる。
　本発明化合物と混合して使用することができる殺虫剤に含まれる具体的な成分は、以下の群ｃで例示され、これらの塩、異性体およびＮ－オキシド体を含む。ただし、公知の殺虫剤はこれらに限定されるものではない。
群ｃ：
ｃ－１：カーバメート系アセチルコリンエステラーゼ（ＡＣｈＥ）阻害剤
　カーバメート系アセチルコリンエステラーゼ（ＡＣｈＥ）阻害剤として、［ｃ－１．１］ホスホカルブ（ｐｈｏｓｐｈｏｃａｒｂ）、［ｃ－１．２］アラニカルブ（ａｌａｎｙｃａｒｂ）、［ｃ－１．３］ブトカルボキシム（ｂｕｔｏｃａｒｂｏｘｉｍ）、［ｃ－１．４］ブトキシカルボキシム（ｂｕｔｏｘｙｃａｒｂｏｘｉｍ）、［ｃ－１．５］チオジカルブ（ｔｈｉｏｄｉｃａｒｂ）、［ｃ－１．６］チオファノックス（ｔｈｉｏｆａｎｏｘ）、［ｃ－１．７］アルジカルブ（ａｌｄｉｃａｒｂ）、［ｃ－１．８］ベンジオカルブ（ｂｅｎｄｉｏｃａｒｂ）、［ｃ－１．９］ベンフラカルブ（ｂｅｎｆｕｒａｃａｒｂ）、［ｃ－１．１０］カルバリル（ｃａｒｂａｒｙｌ）、［ｃ－１．１１］カルボフラン（ｃａｒｂｏｆｕｒａｎ）、［ｃ－１．１２］カルボスルファン（ｃａｒｂｏｓｕｌｆａｎ）、［ｃ－１．１３］エチオフェンカルブ（ｅｔｈｉｏｆｅｎｃａｒｂ）、［ｃ－１．１４］フェノブカルブ（ｆｅｎｏｂｕｃａｒｂ）、［ｃ－１．１５］ホルメタネート（ｆｏｒｍｅｔａｎａｔｅ）、［ｃ－１．１６］フラチオカルブ（ｆｕｒａｔｈｉｏｃａｒｂ）、［ｃ－１．１７］イソプロカルブ（ｉｓｏｐｒｏｃａｒｂ）、［ｃ－１．１８］メチオカルブ（ｍｅｔｈｉｏｃａｒｂ）、［ｃ－１．１９］メソミル（ｍｅｔｈｏｍｙｌ）、［ｃ－１．２０］オキサミル（ｏｘａｍｙｌ）、［ｃ－１．２１］ピリミカルブ（ｐｉｒｉｍｉｃａｒｂ）、［ｃ－１．２２］プロポキスル（ｐｒｏｐｏｘｕｒ）、［ｃ－１．２３］トリメタカルブ（ｔｒｉｍｅｔｈａｃａｒｂ）、［ｃ－１．２４］ＸＭＣ（３，５－ｘｙｌｙｌ　ｍｅｔｈｙｌｃａｒｂａｍａｔｅ）、［ｃ－１．２５］アリキシカルブ（ａｌｌｙｘｙｃａｒｂ）、［ｃ－１．２６］アルドキシカルブ（ａｌｄｏｘｙｃａｒｂ）、［ｃ－１．２７］ブフェンカルブ（ｂｕｆｅｎｃａｒｂ）、［ｃ－１．２８］ブタカルブ（ｂｕｔａｃａｒｂ）、［ｃ－１．２９］カーバノレート（ｃａｒｂａｎｏｌａｔｅ）、［ｃ－１．３０］メトルカルブ（ｍｅｔｏｌｃａｒｂ）、［ｃ－１．３１］キシルイルカルブ（ｘｙｌｙｌｃａｒｂ）、［ｃ－１．３２］フェノチオカルブ（ｆｅｎｏｔｈｉｏｃａｒｂ）、［ｃ－１．３３］キシリルカルブ（ｘｙｌｙｌｃａｒｂ）、［ｃ－１．３４］ベンダイオカルブ（ｂｅｎｄｉｏｃａｒｂ）等が挙げられる。
ｃ－２：有機リン系アセチルコリンエステラーゼ（ＡＣｈＥ）阻害剤
　有機リン系アセチルコリンエステラーゼ（ＡＣｈＥ）阻害剤として、［ｃ－２．１］アセフェート（ａｃｅｐｈａｔｅ）、［ｃ－２．２］アザメチホス（ａｚａｍｅｔｈｉｐｈｏｓ）、［ｃ－２．３］アジンホス－メチル（ａｚｉｎｐｈｏｓ－ｍｅｔｈｙｌ）、［ｃ－２．４］アジンホス－エチル（ａｚｉｎｐｈｏｓ－ｅｔｈｙｌ）、［ｃ－２．５］エセフォン（ｅｔｈｅｐｈｏｎ）、［ｃ－２．６］カズサホス（ｃａｄｕｓａｆｏｓ）、［ｃ－２．７］クロルエトキシホス（ｃｈｌｏｒｅｔｈｏｘｙｆｏｓ）、［ｃ－２．８］クロルフェンビンホス（ｃｈｌｏｒｆｅｎｖｉｎｐｈｏｓ）、［ｃ－２．９］クロルメホス（ｃｈｌｏｒｍｅｐｈｏｓ）、［ｃ－２．１０］クロルピリホス（ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ）、［ｃ－２．１１］クロルピリホス－メチル（ｃｈｌｏｒｐｙｒｉｆｏｓ－ｍｅｔｈｙｌ）、［ｃ－２．１２］クマホス（ｃｏｕｍａｐｈｏｓ）、［ｃ－２．１３］シアノホス（ｃｙａｎｏｐｈｏｓ）、［ｃ－２．１４］デメトン－Ｓ－メチル（ｄｅｍｅｔｏｎ－Ｓ－ｍｅｔｈｙｌ）、［ｃ－２．１５］ダイアジノン（ｄｉａｚｉｎｏｎ）、［ｃ－２．１６］ジクロフェンチオン（ｄｉｃｈｌｏｆｅｎｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２．１７］ジクロルボス（ｄｉｃｈｌｏｒｖｏｓ）、［ｃ－２．１８］ジクロトホス（ｄｉｃｒｏｔｏｐｈｏｓ）、［ｃ－２．１９］ジメトエート（ｄｉｍｅｔｈｏａｔｅ）、［ｃ－２．２０］ジメチルビンホス（ｄｉｍｅｔｈｙｌｖｉｎｐｈｏｓ）、［ｃ－２．２１］ジスルホトン（ｄｉｓｕｌｆｏｔｏｎ）、［ｃ－２．２２］Ｏ－エチル　Ｏ－４－ニトロフェニル　フェニルホスホノチオアート（Ｏ－ｅｔｈｙｌ　Ｏ－４－ｎｉｔｒｏｐｈｅｎｙｌ　ｐｈｅｎｙｌｐｈｏｓｐｈｏｎｏｔｈｉｏａｔｅ）、［ｃ－２．２３］エチオン（ｅｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２．２４］エトプロホス（ｅｔｈｏｐｒｏｐｈｏｓ）、［ｃ－２．２５］ファムフール（ｆａｍｐｈｕｒ）、［ｃ－２．２６］フェナミホス（ｆｅｎａｍｉｐｈｏｓ）、［ｃ－２．２７］フェニトロチオン（ｆｅｎｉｔｒｏｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２．２８］フェンチオン（ｆｅｎｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２．２９］ホスチアゼート（ｆｏｓｔｈｉａｚａｔｅ）、［ｃ－２．３０］ヘプテノホス（ｈｅｐｔｅｎｏｐｈｏｓ）、［ｃ－２．３１］イソフェンホス－メチル（ｉｓｏｆｅｎｐｈｏｓ－ｍｅｔｈｙｌ）、［ｃ－２．３２］イソカルボホス（Ｉｓｏｃａｒｂｏｐｈｏｓ）、［ｃ－２．３３］イソキサチオン（ｉｓｏｘａｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２．３４］マラチオン（ｍａｌａｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２．３５］メカルバム（ｍｅｃａｒｂａｍ）、［ｃ－２．３６］メタミドホス（ｍｅｔｈａｍｉｄｏｐｈｏｓ）、［ｃ－２．３７］メチダチオン（ｍｅｔｈｉｄａｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２．３８］メビンホス（ｍｅｖｉｎｐｈｏｓ）、［ｃ－２．３９］モノクロトホス（ｍｏｎｏｃｒｏｔｏｐｈｏｓ）、［ｃ－２．４０］ナレッド（ｎａｌｅｄ）、［ｃ－２．４１］オメトエート（ｏｍｅｔｈｏａｔｅ）、［ｃ－２．４２］オキシデメトン－メチル（ｏｘｙｄｅｍｅｔｏｎ－ｍｅｔｈｙｌ）、［ｃ－２．４３］パラチオン（ｐａｒａｔｈｉｏｎｓ）、［ｃ－２．４４］パラチオン－メチル（ｐａｒａｔｈｉｏｎ－ｍｅｔｈｙｌ）、［ｃ－２．４５］フェントエート（ｐｈｅｎｔｈｏａｔｅ）、［ｃ－２．４６］ホレート（ｐｈｏｒａｔｅ）、［ｃ－２．４７］ホサロン（ｐｈｏｓａｌｏｎｅ）、［ｃ－２．４８］ホスメット（ｐｈｏｓｍｅｔ）、［ｃ－２．４９］ホスファミドン（ｐｈｏｓｐｈａｍｉｄｏｎ）、［ｃ－２．５０］ホキシム（ｐｈｏｘｉｍ）、［ｃ－２．５１］ピリミホス－メチル（ｐｉｒｉｍｉｐｈｏｓ－ｍｅｔｈｙｌ）、［ｃ－２．５２］プロフェノホス（ｐｒｏｆｅｎｏｆｏｓ）、［ｃ－２．５３］プロペタンホス（ｐｒｏｐｅｔａｍｐｈｏｓ）、［ｃ－２．５４］プロチオホス（ｐｒｏｔｈｉｏｆｏｓ）、［ｃ－２．５５］ピラクロホス（ｐｙｒａｃｌｏｆｏｓ）、［ｃ－２．５６］ピリダフェンチオン（ｐｙｒｉｄａｐｈｅｎｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２．５７］キナルホス（ｑｕｉｎａｌｐｈｏｓ）、［ｃ－２．５８］スルホテップ（ｓｕｌｆｏｔｅｐ）、［ｃ－２．５９］テブピリムホス（ｔｅｂｕｐｉｒｉｍｆｏｓ）、［ｃ－２．６０］テメホス（ｔｅｍｅｐｈｏｓ）、［ｃ－２．６１］テルブホス（ｔｅｒｂｕｆｏｓ）、［ｃ－２．６２］チオメトン（ｔｈｉｏｍｅｔｏｎ）、［ｃ－２．６３］トリアゾホス（ｔｒｉａｚｏｐｈｏｓ）、［ｃ－２．６４］トリクロルホン（ｔｒｉｃｈｌｏｒｆｏｎ）、［ｃ－２．６５］バミドチオン（ｖａｍｉｄｏｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２．６６］クロルチオン（ｃｈｌｏｒｏｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２．６７］ブロムフェンビンホス（ｂｒｏｍｆｅｎｖｉｎｆｏｓ）、［ｃ－２．６８］ブロモホス（ｂｒｏｍｏｐｈｏｓ）、［ｃ－２．６９］ブロモホス－エチル（ｂｒｏｍｏｐｈｏｓ－ｅｔｈｙｌ）、［ｃ－２．７０］ブタチオホス（ｂｕｔａｔｈｉｏｆｏｓ）、［ｃ－２．７１］カルボフェノチオン（ｃａｒｂｏｐｈｅｎｏｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２．７２］クロルホキシム（ｃｈｌｏｒｐｈｏｘｉｍ）、［ｃ－２．７３］スルプロホス（ｓｕｌｐｒｏｆｏｓ）、［ｃ－２．７４］ジアミダホス（ｄｉａｍｉｄａｆｏｓ）、［ｃ－２．７５］テトラクロルビンホス（ｔｅｔｒａｃｈｌｏｒｖｉｎｐｈｏｓ）、［ｃ－２．７６］プロパホス（ｐｒｏｐａｐｈｏｓ）、［ｃ－２．７７］メスルフェンホス（ｍｅｓｕｌｆｅｎｆｏｓ）、［ｃ－２．７８］ジオキサベンゾホス（ｄｉｏｘａｂｅｎｚｏｆｏｓ）、［ｃ－２．７９］エトリムホス（ｅｔｒｉｍｆｏｓ）、［ｃ－２．８０］オキシデプロホス（ｏｘｙｄｅｐｒｏｆｏｓ）、［ｃ－２．８１］ホルモチオン（ｆｏｒｍｏｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２．８２］フェンスルホチオン（ｆｅｎｓｕｌｆｏｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２．８３］イサゾホス（ｉｓａｚｏｆｏｓ）、［ｃ－２．８４］イミシアホス（ｉｍｉｃｙａｆｏｓ）、［ｃ－２．８５］イサミドホス（ｉｓａｍｉｄｏｆｏｓ）、［ｃ－２．８６］チオナジン（ｔｈｉｏｎａｚｉｎ）、［ｃ－２．８７］ホスチエタン（ｆｏｓｔｈｉｅｔａｎ）等が挙げられる。
ｃ－３：ＧＡＢＡ作動性塩素イオンチャネルブロッカー
　ＧＡＢＡ作動性塩素イオンチャネルブロッカーとして、［ｃ－３．１］クロルデン（ｃｈｌｏｒｄａｎｅ）、［ｃ－３．２］エンドスルファン（ｅｎｄｏｓｕｌｆａｎ）、［ｃ－３．３］リンデン（ｌｉｎｄａｎｅ）、［ｃ－３．４］ジエノクロル（ｄｉｅｎｏｃｈｌｏｒ）、［ｃ－３．５］エチプロール（ｅｔｈｉｐｒｏｌｅ）、［ｃ－３．６］フィプロニル（ｆｉｐｒｏｎｉｌ）、［ｃ－３．７］アセトプロール（ａｃｅｔｏｐｒｏｌｅ）等が挙げられる。
ｃ－４：ナトリウムチャネルモジュレーター
　ナトリウムチャネルモジュレーターとして、［ｃ－４．１］アクリナトリン（ａｃｒｉｎａｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．２］アレスリン［（１Ｒ）－アイソマー］（ａｌｌｅｔｈｒｉｎ［（１Ｒ）－ｉｓｏｍｅｒ］）、［ｃ－４．３］ビフェントリン（ｂｉｆｅｎｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．４］ビオアレスリン（ｂｉｏａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．５］ビオアレスリン　Ｓ－シクロペンテニル　アイソマー（ｂｉｏａｌｌｅｔｈｒｉｎ　Ｓ－ｃｙｃｌｏｐｅｎｔｅｎｙｌ　ｉｓｏｍｅｒ）、［ｃ－４．６］ビオレスメトリン（ｂｉｏｒｅｓｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．７］シクロプロトリン（ｃｙｃｌｏｐｒｏｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．８］シフルトリン（ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．９］ベータ－シフルトリン（ｂｅｔａ－ｃｙｆｌｕｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．１０］シハロトリン（ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．１１］ガンマ－シハロトリン（ｇａｍｍａ－ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．１２］ラムダ－シハロトリン（ｌａｍｂｄａ－ｃｙｈａｌｏｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．１３］シペルメトリン（ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．１４］アルファ－シペルメトリン（ａｌｐｈａ－ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．１５］ベータ－シペルメトリン（ｂｅｔａ－ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．１６］セタ－シペルメトリン（ｔｈｅｔａ－ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．１７］ゼダ－シペルメトリン（ｚｅｔａ－ｃｙｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．１８］シフェノトリン［（１Ｒ）－トランス－アイソマー］（ｃｙｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ［（１Ｒ）－ｔｒａｎｓ－ｉｓｏｍｅｒ］）、［ｃ－４．１９］デルタメトリン（ｄｅｌｔａｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．２０］エンペントリン［（ＥＺ）－（１Ｒ）－アイソマー］（ｅｍｐｅｎｔｈｒｉｎ［（ＥＺ）－（１Ｒ）－ｉｓｏｍｅｒ］）、［ｃ－４．２１］エスフェンバレレート（ｅｓｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、［ｃ－４．２２］エトフェンプロックス（ｅｔｈｏｆｅｎｐｒｏｘ）、［ｃ－４．２３］フェンプロパトリン（ｆｅｎｐｒｏｐａｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．２４］フェンバレレート（ｆｅｎｖａｌｅｒａｔｅ）、［ｃ－４．２５］フルシトリネート（ｆｌｕｃｙｔｈｒｉｎａｔｅ）、［ｃ－４．２６］フルメトリン（ｆｌｕｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．２７］タウ－フルバリネート（ｔａｕ－ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）、［ｃ－４．２８］ハルフェンプロックス（ｈａｌｆｅｎｐｒｏｘ）、［ｃ－４．２９］イミプロトリン（ｉｍｉｐｒｏｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．３０］メトトリン（ｍｅｔｈｏｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．３１］メトフルトリン（ｍｅｔｏｆｌｕｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．３２］イプシロン－メトフルトリン（ｅｐｓｉｌｏｎ－ｍｅｔｏｆｌｕｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．３３］モンフルオロトリン（ｍｏｍｆｌｕｏｒｏｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．３４］イプシロン－モンフルオロトリン（ｅｐｓｉｌｏｎ－ｍｏｍｆｌｕｏｒｏｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．３５］ペルメトリン（ｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．３６］フェノトリン［（１Ｒ）－トランス－アイソマー］（ｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ［（１Ｒ）－ｔｒａｎｓ－ｉｓｏｍｅｒ］）、［ｃ－４．３７］プラレトリン（ｐｒａｌｌｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．３８］レスメトリン（ｒｅｓｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．３９］カデトリン（ｋａｄｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．４０］シラフルオフェン（ｓｉｌａｆｌｕｏｆｅｎ）、［ｃ－４．４１］テフルトリン（ｔｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．４２］テトラメトリン（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．４３］テトラメトリン［（１Ｒ）－アイソマー］（ｔｅｔｒａｍｅｔｈｒｉｎ［（１Ｒ）－ｉｓｏｍｅｒ］）、［ｃ－４．４４］トラロメトリン（ｔｒａｌｏｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．４５］トランスフルトリン（ｔｒａｎｓｆｌｕｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．４６］ＺＸＩ８９０１（３－（４－ｂｒｏｍｏｐｈｅｎｏｘｙ）ｐｈｅｎｙｌ］－ｃｙａｎｏｍｅｔｈｙｌ４－（ｄｉｆｌｕｏｒｏｍｅｔｈｏｘｙ）－α－（１－ｍｅｔｈｙｌｅｔｈｙｌ）ｂｅｎｚｅｎｅａｃｅｔａｔｅ）、［ｃ－４．４７］バイオペルメトリン（ｂｉｏｐｅｒｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．４８］フラメトリン（ｆｕｒａｍｅｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．４９］プロフルトリン（ｐｒｏｆｌｕｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．５０］フルブロシトリネート（ｆｌｕｂｒｏｃｙｔｈｒｉｎａｔｅ）、［ｃ－４．５１］ジメフルトリン（ｄｉｍｅｆｌｕｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．５２］ＤＤＴ（ｄｉｃｈｌｏｒｏ－ｄｉｐｈｅｎｙｌ－ｔｒｉｃｈｌｏｒｏｅｔｈａｎｅ）、［ｃ－４．５３］メトキシクロル（ｍｅｔｈｏｘｙｃｈｌｏｒ）、［ｃ－４．５４］フェノトリン（ｐｈｅｎｏｔｈｒｉｎ）、［ｃ－４．５５］フルバリネート（ｆｌｕｖａｌｉｎａｔｅ）等が挙げられる。
ｃ－５：ニコチン性アセチルコリン受容体（ｎＡＣｈＲ）競合的モジュレーター
　ニコチン性アセチルコリン受容体（ｎＡＣｈＲ）競合的モジュレーターとして、［ｃ－５．１］アセタミプリド（ａｃｅｔａｍｉｐｒｉｄ）、［ｃ－５．２］クロチアニジン（ｃｌｏｔｈｉａｎｉｄｉｎ）、［ｃ－５．３］ジノテフラン（ｄｉｎｏｔｅｆｕｒａｎ）、［ｃ－５．４］イミダクロプリド（ｉｍｉｄａｃｌｏｐｒｉｄ）、［ｃ－５．５］ニテンピラム（ｎｉｔｅｎｐｙｒａｍ）、［ｃ－５．６］チアクロプリド（ｔｈｉａｃｌｏｐｒｉｄ）、［ｃ－５．７］チアメトキサム（ｔｈｉａｍｅｔｈｏｘａｍ）、［ｃ－５．８］ニコチン（ｎｉｃｏｔｉｎｅ）、［ｃ－５．９］硫酸ニコチン（ｎｉｃｏｔｉｎｅ　ｓｕｌｆａｔｅ）、［ｃ－５．１０］スルホキサフロル（ｓｕｌｆｏｘａｆｌｏｒ）、［ｃ－５．１１］フルピラジフロン（ｆｌｕｐｙｒａｄｉｆｕｒｏｎｅ）、［ｃ－５．１２］トリフルメゾピリム（ｔｒｉｆｌｕｍｅｚｏｐｙｒｉｍ）等が挙げられる。
ｃ－６：ニコチン性アセチルコリン受容体（ｎＡＣｈＲ）アロステリックモジュレーター
　ニコチン性アセチルコリン受容体（ｎＡＣｈＲ）アロステリックモジュレーターとして、［ｃ－６．１］スピノサド（ｓｐｉｎｏｓａｄ）、［ｃ－６．２］スピネトラム（ｓｐｉｎｅｔｏｒａｍ）等が挙げられる。
ｃ－７：グルタミン酸作動性塩素イオンチャネル（ＧｌｕＣｌ）アロステリックモジュレーター
　グルタミン酸作動性塩素イオンチャネル（ＧｌｕＣｌ）アロステリックモジュレーターとして、［ｃ－７．１］アバメクチン（ａｂａｍｅｃｔｉｎ）、［ｃ－７．２］エマメクチン安息香酸塩（ｅｍａｍｅｃｔｉｎ　ｂｅｎｚｏａｔｅ）、［ｃ－７．３］レピメクチン（ｌｅｐｉｍｅｃｔｉｎ）、［ｃ－７．４］ミルベメクチン（ｍｉｌｂｅｍｅｃｔｉｎ）等が挙げられる。
ｃ－８：幼若ホルモン類似剤
　幼若ホルモン類似剤として、［ｃ－８．１］ヒドロプレン（ｈｙｄｒｏｐｒｅｎｅ）、［ｃ－８．２］キノプレン（ｋｉｎｏｐｒｅｎｅ）、［ｃ－８．３］メトプレン（ｍｅｔｈｏｐｒｅｎｅ）、［ｃ－８．４］フェノキシカルブ（ｆｅｎｏｘｙｃａｒｂ）、［ｃ－８．５］ピリプロキシフェン（ｐｙｒｉｐｒｏｘｙｆｅｎ）等が挙げられる。
ｃ－９：非特異的（マルチサイト）阻害剤
　非特異的（マルチサイト）阻害剤として、［ｃ－９．１］臭化メチル（ｍｅｔｈｙｌ　ｂｒｏｍｉｄｅ）、［ｃ－９．２］クロルピクリン（ｃｈｌｏｒｏｐｉｃｒｉｎ）、［ｃ－９．３］クリオライト（ｃｒｙｏｌｉｔｅ）、［ｃ－９．４］フッ化スルフリル（ｓｕｌｆｕｒｙｌ　ｆｌｕｏｒｉｄｅ）、［ｃ－９．５］ホウ砂（ｂｏｒａｘ）、［ｃ－９．６］ホウ酸（ｂｏｒｉｃ　ａｃｉｄ）、［ｃ－９．７］オクタホウ酸ニナトリウム塩（ｄｉｓｏｄｉｕｍ　ｏｃｔａｂｏｒａｔｅ）、［ｃ－９．８］メタホウ酸ナトリウム塩（ｓｏｄｉｕｍ　ｍｅｔａｂｏｒａｔｅ）［ｃ－９．９］吐酒石（ｔａｒｔａｒ　ｅｍｅｔｉｃ）、［ｃ－９．１０］ダゾメット（ｄａｚｏｍｅｔ）、［ｃ－９．１１］メタム（ｍｅｔａｍ）、［ｃ－９．１２］カーバムナトリウム塩（ｍｅｔｈａｍ　ｓｏｄｉｕｍ）等が挙げられる。
ｃ－１０：弦音器官ＴＲＰＶチャネルモジュレーター
　弦音器官ＴＲＰＶチャネルモジュレーターとして、［ｃ－１０．１］ピメトロジン（ｐｙｍｅｔｒｏｚｉｎｅ）、［ｃ－１０．２］ピリフルキナゾン（ｐｙｒｉｆｌｕｑｕｉｎａｚｏｎ）等が挙げられる。
ｃ－１１：ダニ類成長阻害剤
　ダニ類成長阻害剤として、［ｃ－１１．１］クロフェンテジン（ｃｌｏｆｅｎｔｅｚｉｎｅ）、［ｃ－１１．２］ジフロビダジン（ｄｉｆｌｏｖｉｄａｚｉｎ）、［ｃ－１１．３］ヘキシチアゾクス（ｈｅｘｙｔｈｉａｚｏｘ）、［ｃ－１１．４］エトキサゾール（ｅｔｏｘａｚｏｌｅ）等が挙げられる。
ｃ－１２：ミトコンドリアＡＴＰ合成酵素阻害剤
　ミトコンドリアＡＴＰ合成酵素阻害剤として、［ｃ－１２．１］ジアフェンチウロン（ｄｉａｆｅｎｔｈｉｕｒｏｎ）、［ｃ－１２．２］アゾシクロチン（ａｚｏｃｙｃｌｏｔｉｎ）、［ｃ－１２．３］シヘキサチン（ｃｙｈｅｘａｔｉｎ）、［ｃ－１２．４］フェンブタチンオキシド（ｆｅｎｂｕｔａｔｉｎ　ｏｘｉｄｅ）、「ｃ－１２．５」プロパルギット（ｐｒｏｐａｒｇｉｔｅ）、「ｃ－１２．６」テトラジホン（ｔｅｔｒａｄｉｆｏｎ）等が挙げられる。
ｃ－１３：プロトン勾配を撹乱する酸化的リン酸化脱共役剤
　プロトン勾配を撹乱する酸化的リン酸化脱共役剤として、［ｃ－１３．１］クロルフェナピル（ｃｈｌｏｒｆｅｎａｐｙｌ）、［ｃ－１３．２］ＤＮＯＣ（ｄｉｎｉｔｒｏ－ｏｒｔｈｏ－ｃｒｅｓｏｌ）、［ｃ－１３．３］ビナパクリル（ｂｉｎａｐａｃｒｙｌ）、［ｃ－１３．４］スルフルラミド（ｓｕｌｆｌｕｒａｍｉｄ）等が挙げられる。
ｃ－１４：ニコチン性アセチルコリン受容体（ｎＡＣｈＲ）チャネルブロッカー
　ニコチン性アセチルコリン受容体（ｎＡＣｈＲ）チャネルブロッカーとして、［ｃ－１４．１］ベンスルタップ（ｂｅｎｓｕｌｔａｐ）、［ｃ－１４．２］カルタップ塩酸塩（ｃａｒｔａｐ　ｈｙｄｒｏｃｈｌｏｒｉｄｅ）、［ｃ－１４．３］チオシクラム（ｔｈｉｏｃｙｃｌａｍ）、［ｃ－１４．４］モノスルタップ（ｍｏｎｏｓｕｌｔａｐ）等が挙げられる。
ｃ－１５：キチン生合成阻害剤タイプ０
　キチン生合成阻害剤タイプ０として、［ｃ－１５．１］ビストリフルロン（ｂｉｓｔｒｉｆｌｕｒｏｎ）、［ｃ－１５．２］クロルフルアズロン（ｃｈｌｏｒｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、［ｃ－１５．３］ジフルベンズロン（ｄｉｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、［ｃ－１５．４］フルシクロクスロン（ｆｌｕｃｙｃｌｏｘｕｒｏｎ）、［ｃ－１５．５］フルフェノクスロン（ｆｌｕｆｅｎｏｘｕｒｏｎ）、［ｃ－１５．６］ヘキサフルムロン（ｈｅｘａｆｌｕｍｕｒｏｎ）、［ｃ－１５．７］ルフェヌロン（ｌｕｆｅｎｕｒｏｎ）、［ｃ－１５．８］ノバルロン（ｎｏｖａｌｕｒｏｎ）、［ｃ－１５．９］ノビフルムロン（ｎｏｖｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）、［ｃ－１５．１０］テフルベンズロン（ｔｅｆｌｕｂｅｎｚｕｒｏｎ）、［ｃ－１５．１１］トリフルムロン（ｔｒｉｆｌｕｍｕｒｏｎ）等が挙げられる。
ｃ－１６：キチン生合成阻害剤タイプ１
　キチン生合成阻害剤タイプ１として、［ｃ－１６．１］ブプロフェジン（ｂｕｐｒｏｆｅｚｉｎ）等が挙げられる。
ｃ－１７：ハエ目昆虫脱皮阻害剤
　ハエ目昆虫脱皮阻害剤として、［ｃ－１７．１］シロマジン（ｃｙｒｏｍａｚｉｎｅ）等が挙げられる。
ｃ－１８：脱皮ホルモン（エクダイソン）受容体アゴニスト
　脱皮ホルモン（エクダイソン）受容体アゴニストとして、［ｃ－１８．１］クロマフェノジド（ｃｈｒｏｍａｆｅｎｏｚｉｄｅ）、［ｃ－１８．２］ハロフェノジド（ｈａｌｏｆｅｎｏｚｉｄｅ）、［ｃ－１８．３］メトキシフェノジド（ｍｅｔｈｏｘｙｆｅｎｏｚｉｄｅ）、［ｃ－１８．４］テブフェノジド（ｔｅｂｕｆｅｎｏｚｉｄｅ）等が挙げられる。
ｃ－１９：オクトパミン受容体アゴニスト
　オクトパミン受容体アゴニストとして、［ｃ－１９．１］アミトラズ（ａｍｉｔｒａｚ）等が挙げられる。
ｃ－２０：ミトコンドリア電子伝達系複合体III阻害剤
　ミトコンドリア電子伝達系複合体III阻害剤として、［ｃ－２０．１］ヒドラメチルノン（ｈｙｄｒａｍｅｔｈｙｌｎｏｎ）、［ｃ－２０．２］アセキノシル（ａｃｅｑｕｉｎｏｃｙｌ）、［ｃ－２０．３］フルアクリピリム（ｆｌｕａｃｒｙｐｙｒｉｍ）、［ｃ－２０．４］ビフェナゼート（ｂｉｆｅｎａｚａｔｅ）等が挙げられる。
ｃ－２１：ミトコンドリア電子伝達系複合体Ｉ阻害剤（ＭＥＴＩ）
　ミトコンドリア電子伝達系複合体Ｉ阻害剤（ＭＥＴＩ）として、［ｃ－２１．１］フェナザキン（ｆｅｎａｚａｑｕｉｎ）、［ｃ－２１．２］フェンピロキシメート（ｆｅｎｐｙｒｏｘｉｍａｔｅ）、［ｃ－２１．３］ピリダベン（ｐｙｒｉｄａｂｅｎ）、［ｃ－２１．４］ピリミジフェン（ｐｙｌｉｍｉｄｉｆｅｎ）、［ｃ－２１．５］テブフェンピラド（ｔｅｂｕｆｅｎｐｙｒａｄ）、［ｃ－２１．６］トルフェンピラド（ｔｏｌｆｅｎｐｙｒａｄ）、［ｃ－２１．７］ロテノン（ｒｏｔｅｎｏｎｅ）等が挙げられる。
ｃ－２２：電位依存性ナトリウムチャネルブロッカー
　電位依存性ナトリウムチャネルブロッカーとして、［ｃ－２２．１］インドキサカルブ（ｉｎｄｏｘａｃａｒｂ）、［ｃ－２２．２］メタフルミゾン（ｍｅｔａｆｌｕｍｉｚｏｎｅ）等が挙げられる。
ｃ－２３：アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤
　アセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤として、［ｃ－２３．１］スピロジクロフェン（ｓｐｉｒｏｄｉｃｌｏｆｅｎ）、［ｃ－２３．２］スピロメシフェン（ｓｐｉｒｏｍｅｓｉｆｅｎ）、［ｃ－２３．３］スピロテトラマト（ｓｐｉｒｏｔｅｔｒａｍａｔ）等が挙げられる。
ｃ－２４：ミトコンドリア電子伝達系複合体IV阻害剤
　ミトコンドリア電子伝達系複合体IV阻害剤として、［ｃ－２４．１］リン化アルミニウム（ａｌｕｍｉｎｕｍ　ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、［ｃ－２４．２］リン化カルシウム（ｃａｌｃｉｕｍ　ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、［ｃ－２４．３］リン化水素（ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）、［ｃ－２４．４］リン化亜鉛（ｚｉｎｃ　ｐｈｏｓｐｈｉｄｅ）、［ｃ－２４．５］シアン化カルシウム（ｃａｌｃｉｕｍ　ｃｙａｎｉｄｅ）、［ｃ－２４．６］シアン化ナトリウム（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ　ｃｙａｎｉｄｅ）、［ｃ－２４．７］シアン化カリウム（ｓｏｄｉｕｍ　ｃｙａｎｉｄｅ）等が挙げられる。
ｃ－２５：ミトコンドリア電子伝達系複合体II阻害剤
　ミトコンドリア電子伝達系複合体II阻害剤として、［ｃ－２５．１］シエノピラフェン（ｃｙｅｎｏｐｙｒａｆｅｎ）、［ｃ－２５．２］シフルメトフェン（ｃｙｆｌｕｍｅｔｏｆｅｎ）、［ｃ－２５．３］ピフルブミド（ｐｙｆｌｕｂｕｍｉｄｅ）等が挙げられる。
ｃ－２６：リアノジン受容体モジュレーター
　リアノジン受容体モジュレーターとして、［ｃ－２６．１］クロラントラニリプロール（ｃｈｌｏｒａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、［ｃ－２６．２］シアントラニリプロール（ｃｙａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、［ｃ－２６．３］フルベンジアミド（ｆｌｕｂｅｎｄｉａｍｉｄｅ）等が挙げられる。
ｃ－２７：標的部位未特定の弦音器官モジュレーター
　標的部位未特定の弦音器官モジュレーターとして、［ｃ－２７．１］フロニカミド（ｆｌｏｎｉｃａｍｉｄ）等が挙げられる。
ｃ－２８：その他の殺虫剤
　その他の殺虫剤として、［ｃ－２８．１］アザジラクチン（ａｚａｄｉｒａｃｈｔｉｎ）、［ｃ－２８．２］ベンゾキシメート（ｂｅｎｚｏｘｉｍａｔｅ）、［ｃ－２８．３］フェニソブロモレート（ｐｈｅｎｉｓｏｂｒｏｍｏｌａｔｅ）、［ｃ－２８．４］キノメチオナート（ｃｈｉｎｏｍｅｔｈｉｏｎａｔ）、［ｃ－２８．５］ジコホル（ｄｉｃｏｆｏｌ）、［ｃ－２８．６］ピリダリル（ｐｙｒｉｄａｌｙｌ）、［ｃ－２８．７］ブロモプロピレート（ｂｒｏｍｏｐｒｏｐｙｌａｔｅ）、［ｃ－２８．８］トリアザメート（ｔｒｉａｚａｍａｔｅ）、［ｃ－２８．９］ジシクラニル（ｄｉｃｙｃｌａｎｉｌ）、［ｃ－２８．１０］ジノブトン（ｄｉｎｏｂｕｔｏｎ）、［ｃ－２８．１１］ジノカップ（ｄｉｎｏｃａｐ）、［ｃ－２８．１２］シアン化水素（ｈｙｄｒｏｇｅｎ　ｃｙａｎｉｄｅ）、［ｃ－２８．１３］ヨウ化メチル（ｍｅｔｈｙｌ　ｉｏｄｉｄｅ）、［ｃ－２８．１４］カランジン（ｋａｒａｎｊｉｎ）、［ｃ－２８．１５］塩化水銀（ｍｅｒｃｕｒｙ　ｃｈｌｏｒｉｄｅ）、［ｃ－２８．１６］メチルイソチオシアネート（ｍｅｔｈｙｌ　ｉｓｏｔｈｉｏｃｙａｎａｔｅ）、［ｃ－２８．１７］ペンタクロロフェノール（ｐｅｎｔａｃｈｌｏｒｏｐｈｅｎｏｌ）、［ｃ－２８．１８］ホスフィン（ｐｈｏｓｐｈｉｎｅ）、［ｃ－２８．１９］ピペロニル　ブトキシド（ｐｉｐｅｒｏｎｙｌ　ｂｕｔｏｘｉｄｅ）、［ｃ－２８．２０］ポリナクチン複合体（ｐｏｌｙｎａｃｔｉｎｓ）、［ｃ－２８．２１］サバディラ（ｓａｂａｄｉｌｌａ）、［ｃ－２８．２２］スルコフロン塩（スルコフロン－ナトリウム（ｓｕｌｃｏｆｕｒｏｎ－ｓｏｄｉｕｍ））、［ｃ－２８．２３］トリブホス（ｔｒｉｂｕｆｏｓ）、［ｃ－２８．２４］アルドリン（ａｌｄｒｉｎ）、［ｃ－２８．２５］アミジチオオン（ａｍｉｄｉｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２８．２６］アミドチオエート（ａｍｉｄｏｔｈｉｏａｔｅ）、［ｃ－２８．２７］アミノカルブ（ａｍｉｎｏｃａｒｂ）、［ｃ－２８．２８］アミトン（ａｍｉｔｏｎ）、［ｃ－２８．２９］アラマイト（ａｒａｍｉｔｅ）、［ｃ－２８．３０］アチダチオン（ａｔｈｉｄａｔｈｉｏｎ）、［ｃ－２８．３１］アゾトエート（ａｚｏｔｈｏａｔｅ）、［ｃ－２８．３２］ポリスルフィドバリウム（ｂａｒｉｕｍ　ｐｏｌｙｓｕｌｐｈｉｄｅ）、［ｃ－２８．３３］ベンクロチアズ（ｂｅｎｃｌｏｔｈｉａｚ）、［ｃ－２８．３４］５－（１，３－ベンゾジオキソール－５－イル）－３－ヘキシルシクロヘキサ－２－エノン（５－（１，３－ｂｅｎｚｏｄｉｏｘｏｌｅ－５－ｙｌ）－３－ｈｅｘｙｌｃｙｃｌｏｈｅｘａ－２－ｅｎｏｎｅ）、［ｃ－２８．３５］１，１－ビス（４－クロロフェニル）－２－エトキシエタノール（１，１－ｂｉｓ（４－ｃｈｌｏｒｏｐｈｅｎｙｌ）－２－ｅｔｈｏｘｙｅｔｈａｎｏｌ）、［ｃ－２８．３６］ブトネート（ｂｕｔｏｎａｔｅ）、［ｃ－２８．３７］ブトピロノキシル（ｂｕｔｏｐｙｒｏｎｏｘｙｌ）、［ｃ－２８．３８］２－（２－ブトキシエトキシ）エチル　チオシアナート（２－（２－ｂｕｔｏｘｙｅｔｈｏｘｙ）ｅｔｈｙｌ　ｔｈｉｏｃｙａｎａｔｅ）、［ｃ－２８．３９］カンフェクロル（ｃａｍｐｈｅｃｈｌｏｒ）、［ｃ－２８．４０］クロルベンシド（ｃｈｌｏｒｂｅｎｓｉｄｅ）、［ｃ－２８．４１］クロルデコン（ｃｈｌｏｒｄｅｃｏｎｅ）、［ｃ－２８．４２］クロルジメホルム（ｃｈｌｏｒｄｉｍｅｆｏｒｍ）、［ｃ－２８．４３］クロルフェネトール（ｃｈｌｏｒｆｅｎｅｔｈｏｌ）、［ｃ－２８．４４］クロルフェンソン（ｃｈｌｏｒｆｅｎｓｏｎ）、［ｃ－２８．４５］フルアズロン（ｆｌｕａｚｕｒｏｎ）、［ｃ－２８．４６］メタアルデヒド（ｍｅｔａｌｄｅｈｙｄｅ）、［ｃ－２８．４７］ビアラホス（ｂｉａｌａｐｈｏｓ）、［ｃ－２８．４８］塩酸レバミゾール（ｌｅｖａｍｉｓｏｌ）、［ｃ－２８．４９］アミドフルメト（ａｍｉｄｏｆｌｕｍｅｔ）、［ｃ－２８．５０］ピラフルプロール（ｐｙｒａｆｌｕｐｒｏｌｅ）、［ｃ－２８．５１］ピリプロール（ｐｙｒｉｐｒｏｌｅ）、［ｃ－２８．５２］トラロピリル（ｔｒａｌｏｐｙｒｉｌ）、［ｃ－２８．５３］フルピラゾフォス（ｆｌｕｐｙｒａｚｏｆｏｓ）、［ｃ－２８．５４］ジオフェノラン（ｄｉｏｆｅｎｏｌａｎ）、［ｃ－２８．５５］クロルベンジレート（ｃｈｌｏｒｏｂｅｎｚｉｌａｔｅ）、［ｃ－２８．５６］フルフェンジン（ｆｌｕｆｅｎｚｉｎｅ）、［ｃ－２８．５７］ベンゾメート（ｂｅｎｚｏｍａｔｅ）、［ｃ－２８．５８］フルフェネリム（ｆｌｕｆｅｎｅｒｉｍ）、［ｃ－２８．５９］アルベンダゾール（ａｌｂｅｎｄａｚｏｌｅ）、［ｃ－２８．６０］オキシベンダゾール（ｏｘｉｂｅｎｄａｚｏｌｅ）、［ｃ－２８．６１］フェンベンダゾール（ｆｅｎｂｅｎｄａｚｏｌｅ）、［ｃ－２８．６２］メタム・ナトリウム（ｍｅｔａｍ－ｓｏｄｉｕｍ）、［ｃ－２８．６３］１，３－ジクロロプロペン（１，３－ｄｉｃｈｌｏｒｏｐｒｏｐｅｎｅ）、［ｃ－２８．６４］フロメトキン（ｆｌｏｍｅｔｏｑｕｉｎ）、［ｃ－２８．６５］シクラニリプロール（ｃｙｃｌａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、［ｃ－２８．６６］テトラニリプロール（ｔｅｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、［ｃ－２８．６７］ブロフラニリド（ｂｒｏｆｌａｎｉｌｉｄｅ）、［ｃ－２８．６８］ジクロロメゾチアズ（ｄｉｃｌｏｒｏｍｅｚｏｔｉａｚ）、［ｃ－２８．６９］エチレンジブロマイド（ｅｔｈｙｌｅｎｅ　ｄｉｂｒｏｍｉｄｅ）、［ｃ－２８．７０］アクリロニトリル（ａｃｒｙｌｏｎｉｔｒｉｌｅ）、［ｃ－２８．７１］ビス（２－クロロエチル）エーテル（ｂｉｓ（２－ｃｈｌｏｒｏｅｔｈｙｌ）ｅｔｈｅｒ）、［ｃ－２８．７２］１－ブロモ－２－クロロエタン（１－ｂｒｏｍｏ－２－ｃｈｌｏｒｏｅｔｈａｎｅ）、［ｃ－２８．７３］３－ブロモ－１－クロロプロパ－１－エン（３－ｂｒｏｍｏ－１－ｃｈｌｏｒｏｐｒｏｐ－１－ｅｎｅ）、［ｃ－２８．７４］ブロモシクレン（ｂｒｏｍｏｃｙｃｌｅｎ）、［ｃ－２８．７５］二硫化炭素（ｃａｒｂｏｎ　ｄｉｓｕｌｆｉｄｅ）、［ｃ－２８．７６］四塩化炭素（ｔｅｔｒａｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈａｎｅ）、［ｃ－２８．７７］ネマデクチン（ｎｅｍａｄｅｃｔｉｎ）、［ｃ－２８．７８］シミアゾール（ｃｙｍｉａｚｏｌｅ）［ｃ－２８．７９］カルシウム　ポリスルフィド（ｃａｌｃｉｕｍ　ｐｏｌｙｓｕｌｆｉｄｅ）、［ｃ－２８．８０］サイトカイニン（ｃｙｔｏｋｉｎｉｎ）、［ｃ－２８．８１］２－（オクチルチオ）エタノール、［ｃ－２８．８２］オレイン酸カリウム（ｐｏｔａｓｓｉｕｍ　ｏｌｅａｔｅ）、［ｃ－２８．８３］オレイン酸ナトリウム（ｓｏｄｉｕｍ　ｏｌｅａｔｅ）、［ｃ－２８．８４］マシン油（ｍａｃｈｉｎｅ　ｏｉｌ）、［ｃ－２８．８５］タール油（ｔａｒ　ｏｉｌ）、［ｃ－２８．８６］アナバシン（ａｎａｂａｓｉｎｅ）、［ｃ－２８．８７］酒石酸モランテル（ｍｏｒａｎｔｅｌ　ｔａｒｔｒａｔｅ）、［ｃ－２８．８８］除虫菊（ピレトリン（ｐｙｒｅｔｈｒｕｍ））、［ｃ－２８．８９］ナタネ油（ｒａｐｅ　ｓｅｅｄ　ｏｉｌ）、［ｃ－２８．９０］ダイズレチシン（ｓｏｙｂｅａｎ　ｌｅｃｉｔｈｉｎ）、［ｃ－２８．９１］デンプン（ｓｔａｒｃｈ）、［ｃ－２８．９２］ヒドロキシプロピルデンプン（ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌｓｔａｒｃｈ）、［ｃ－２８．９３］脂肪酸グリセリド（ｄｅｃａｎｏｙｌｏｃｔａｎｏｙｌｇｌｙｃｅｒｏｌ）、［ｃ－２８．９４］プロピレングリコールモノ脂肪酸エステル（ｐｒｏｐｙｌｅｎｅ　ｇｌｙｃｏｌ　ｆａｔｔｙ　ａｃｉｄ　ｅｓｔｅｒ）、［ｃ－２８．９５］ケイソウ土（ｄｉａｔｏｍｉｔｅ）、［ｃ－２８．９６］アフォキソラネル（ａｆｏｘｏｌａｎｅｒ）、［ｃ－２８．９７］フルアザインドリジン（ｆｌｕａｚａｉｎｄｏｌｉｚｉｎｅ）、［ｃ－２８．９８］アフィドピロペン（ａｆｉｄｏｐｙｒｏｐｅｎ）、［ｃ－２８．９９］シハロジアミド（ｃｙｈａｌｏｄｉａｍｉｄｅ）、［ｃ－２８．１００］チオキサザフェン（ｔｉｏｘａｚａｆｅｎ）、［ｃ－２８．１０１］フルヘキサフォン（ｆｌｕｈｅｘａｆｏｎ）、［ｃ－２８．１０２］フルララネル（ｆｌｕｒａｌａｎｅｒ）、［ｃ－２８．１０３］フルキサメタミド（ｆｌｕｘａｍｅｔａｍｉｄｅ）、［ｃ－２８．１０４］テトラクロラントラニリプロール（ｔｅｔｒａｃｈｌｏｒａｎｔｒａｎｉｌｉｐｒｏｌｅ）、［ｃ－２８．１０５］サロラネル（ｓａｒｏｌａｎｅｒ）、［ｃ－２８．１０６］ロチラネル（ｌｏｔｉｌａｎｅｒ）、［ｃ－２８．１０７］シクロキサプリド（ｃｙｃｌｏｘａｐｒｉｄ）、［ｃ－２８．１０８］フルエンスルホン（ｆｌｕｅｎｓｕｌｆｏｎｅ）、［ｃ－２８．１０９］ＴＰＩＣ（ｔｒｉｐｒｏｐｙｌ　ｉｓｏｃｙａｎｕｒａｔｅ）、［ｃ－２８．１１０］Ｄ－Ｄ（１，３－Ｄｉｃｈｌｏｒｏｐｒｏｐｅｎｅ）、［ｃ－２８．１１１］ペルオキソカルボナート（ｐｅｒｏｘｏｃａｒｂｏｎａｔｅ）、［ｃ－２８．１１２］ＭＢ－５９９（ｖｅｒｂｕｔｉｎ）、［ｃ－２８．１１３］ビス（２，３，３，３－テトラクロロプロピル）エーテル（ｂｉｓ（２，３，３，３－ｔｅｔｒａｃｈｌｏｒｏｐｒｏｐｙｌ）　ｅｔｈｅｒ）、［ｃ－２８．１１４］ＤＣＩＰ（ｂｉｓ（２－ｃｈｌｏｒｏ－１－ｍｅｔｈｙｌｅｔｈｙｌ）ｅｔｈｅｒ）、［ｃ－２８．１１５］ＥＮＴ－８１８４（Ｎ－（２－Ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ）ｂｉｃｙｃｌｏ［２．２．１］ｈｅｐｔ－５－ｅｎｅ－２，３－ｄｉｃａｒｂｏｘｉｍｉｄｅ）、［ｃ－２８．１１６］Ｂａｙｅｒ　２２４０８（Ｏ，Ｏ－ｄｉｅｔｈｙｌ　Ｏ－ｎａｐｈｔｈａｌｉｍｉｄｏ　ｐｈｏｓｐｈｏｒｏｔｈｉｏａｔｅ）、［ｃ－２８．１１７］Ｂａｙｅｒ　３２３９４（ｔｒｉｓ（１－ｄｏｄｅｃｙｌ－３－ｍｅｔｈｙｌ－２－ｐｈｅｎｙｌｂｅｎｚｉｍｉｄａｚｏｌｉｕｍ）ｈｅｘａｃｙａｎｏｆｅｒｒａｔｅ）、
［ｃ－２８．１１８］式（ｓ３４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000156
で表される化合物（国際公開第１０／０５１９２６号参照）、
［ｃ－２８．１１９］式（ｓ３５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000157
で表される化合物（国際公開第１３／１１５３９１号参照）、
［ｃ－２８．１２０］式（ｓ３６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000158
で表される化合物（国際公開第１２／０２９６７２号参照）、
［ｃ－２８．１２１］式（ｓ３７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000159
で表される化合物（国際公開第０６／０５６１０８号参照）、
［ｃ－２８．１２２］式（ｓ３８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000160
で表される化合物（国際公開第１４／０５３４５０号、国際特許第１５／１４４６８３号参照）、
［ｃ－２８．１２３］式（ｓ３９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000161
で表される化合物（国際公開第１４／０５３４５０号、国際特許第１５／１４４６８３号参照）、
［ｃ－２８．１２４］式（ｓ４０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000162
で表される化合物（国際公開第１４／０５３４５０号、国際特許第１５／１４４６８３号参照）、
［ｃ－２８．１２５］式（ｓ４１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000163
［式中、ｍ６は、０～２の整数を表す。］で表される化合物（国際公開第１０／１２９４９７号参照）、
［ｃ－２８．１２６］式（ｓ４２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000164
［式中、ｍ７は、０～２の整数を表す。］で表される化合物（国際公開第１１／１５２３２０号参照）、
［ｃ－２８．１２７］式（ｓ４３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000165
［式中、ｍ８は、０～２の整数を表す。］で表される化合物（特開平２７―１６０８１３号公報参照）、
［ｃ－２８．１２８］式（ｓ４４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000166
［式中、Ａ５２は、水素原子、またはフッ素原子を表す。］で表される化合物（国際公開第１１／１３４９６４号、国際特許第１４／００５９８２号参照）、
［ｃ－２８．１２９］式（ｓ４５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000167
［式中、ｍ９は、０～２の整数を表し、Ａ５３は、フッ素原子、または塩素原子を表す。］で表される化合物（国際公開第１５／０２５８２６号参照）、
［ｃ－２８．１３０］式（ｓ４６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000168
［式中、Ｖ３は、窒素原子、炭素原子、またはＣ－Ｆを表し、Ｖ４およびＶ５は、それぞれ独立していて、窒素原子、または炭素原子を表す。］で表される化合物（国際公開第１１／１３４９６４号、国際公開第１４／００５９８２号参照）、
［ｃ－２８．１３１］式（ｓ４７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000169
［式中、Ａ５４は、水素原子、メチル基、メトキシ基、またはエトキシ基を表し、Ａ５５は、塩素原子、またはメチル基を表し、Ａ５６は、メチル基、またはエチル基を表す。］で表される化合物（国際公開第０９／０４９８５１号参照）、
［ｃ－２８．１３２］式（ｓ４８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000170
［式中、Ａ５７は、水素原子、フッ素原子、または塩素原子を表し、Ａ５８は、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000171
からなる群から選択される１種の部分構造を表す。］で表される化合物（国際公開第１１／０６７２７２号参照）、
［ｃ－２８．１３３］式（ｓ４９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000172
［式中、Ａ５９は、水素原子、フッ素原子、または塩素原子を表し、Ａ６０は、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000173
からなる群から選択される部分構造を表す。］で表される化合物（国際公開第１０／０９０３４４号参照）、
［ｃ－２８．１３４］式（ｓ５０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000174
［式中、ｍ１０は、０～２の整数を表し、Ａ６１は、トリフルオロメチル基、トリフルオロメチルチオ基、トリフルオロメチルスルフィニル基、またはトリフルオロメチルスルホニル基を表し、Ａ６２は、水素原子、またはトリフルオロメチル基を表し、Ｖ６は、窒素原子、または炭素原子を表し、Ｖ７は、酸素原子、またはＮ－メチル基を表す。］で表される化合物（国際公開第１４／１０４４０７号参照）、
［ｃ－２８．１３５］式（ｓ５１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000175
［式中、Ａ６３は、水素原子、またはフッ素原子を表し、アミド基は４位、または５位に結合し、Ａ６４は、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000176
からなる群から選択される部分構造を表す。］で表される化合物（国際公開第１５／０３８５０３号、国際特許第１６／１４４３５１号、国際特許第１６／１４４６７８号参照）、
［ｃ－２８．１３６］式（ｓ５２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000177
［式中、Ａ６５は、水素原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ａ６６は、水素原子、ハロゲン原子、またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表し、Ａ６７およびＡ６８は、それぞれ独立していて、水素原子、シアノ基で適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、メトキシ基で適宜置換されてもよいアルキル基、エトキシ基で適宜置換されてもよいアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表し、
Ａ６９は、水素原子、シアノ基、シアノ基で適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表す。］で表される化合物（国際公開第１２／１４３３１７号、国際特許第１６／０１６３６９号参照）、
［ｃ－２８．１３７］式（ｓ５３）または式（ｓ５４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000178
［式中、Ａ７０は、メチル基、エチル基、イソプロピル基、２，２，２－トリフルオロエチル基、またはフェニル基を表し、Ａ７１は、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000179
からなる群から選択される部分構造を表し、Ａ７２は、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000180
からなる群から選択される部分構造を表し、Ｖ８は、酸素原子、硫黄原子、－ＣＨ２－、または－ＣＨ２ＣＨ２－を表す。］で表される化合物（国際公開第１４／１６７０８４号、国際特許第１６／０５５４３１号参照）、
［ｃ－２８．１３８］式（ｓ５５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000181
［式中、ｍ１１は、０～１の整数を表し、Ａ７３は、塩素原子、臭素原子、メチル基、またはトリフルオロメチル基を表し、Ａ７４は、水素原子、塩素原子、臭素原子、シアノ基、またはトリフルオロメチル基表し、Ａ７５は、水素原子、塩素原子または臭素原子を表し、Ａ７６およびＡ７７は、それぞれ独立していて、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表し、Ａ７８は、塩素原子、臭素原子、シアノ基、ニトロ基、ジフルオロメチル基、またはトリフルオロメチル基を表す。］で表される化合物（国際公開第１３／０２４００９号参照）、
［ｃ－２８．１３９］式（ｓ５６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000182
［式中、Ａ７９、Ａ８０、Ａ８１およびＡ８２は、それぞれ独立していて、水素原子、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基を表す。］で表される化合物（国際公開第１２／０２７５２１号参照）、
［ｃ－２８．１４０］式（ｓ５７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000183
［式中、ｍ１２は、０～２の整数を表し、Ａ８３は、水素原子、またはフッ素原子を表し、Ａ８４は、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000184
からなる群から選択される部分構造を表す。］で表される化合物（国際公開第１３／１６２７１５号参照）、
［ｃ－２８．１４１］アシノナピル（ａｃｙｎｏｎａｐｙｒ）、
［ｃ－２８．１４２］式（ｓ５９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000185
［Ａ９０は、ハロゲン原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ａ９１は、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ａ９２およびＡ９３は、それぞれ独立していて、水素原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、アセチル基、プロピオノイル基、メタンスルホニルエチル基、メトキシカルボニル基、またはエトキシカルボニル基を表し、Ａ９４およびＡ９５は、それぞれ独立していて、水素原子、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基、またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表す。］で表される化合物（国際公開第１２／１６４６９８号参照）等が挙げられる。
　本発明化合物と有害生物防除剤の混合比は、効果が発揮される限りにおいて特に制限されるものではないが、通常、本発明化合物に対して有害生物防除剤が、重量比で０．００１～１０００の比率であり、好ましくは、０．０１～１００の比率である。
　以下に、合成例、参考例、および試験例を挙げて、本発明を更に詳細に示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［合成例１］
　３－クロロ－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－５－（１－（メトキシイミノ）エチル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ａ－００１とＡ－００２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000186
　５－アセチル－３－クロロ－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オン　１８０ｍｇ、Ｏ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩　５８ｍｇとピリジン　９４μｌを含むエタノール溶液　４ｍｌを還流下で１．５時間撹拌した。減圧下で溶媒留去した後に、反応混合物に１規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物は異性体混合物として得られ、主成分が低極性成分である白色固体を１２２ｍｇ、主成分が高極性成分である白色固体を２８ｍｇ得た。前者が化合物番号１であり、その成分比率は＞９９：＜１（低極性：高極性）であった。一方、後者は化合物番号２であり、その成分比は１６：８４（低極性：高極性）であった。
［合成例２］
　ステップ１：５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルバルデヒド　オキシムの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000187
　参考例１～６を参考にして調製した５－クロロ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１－エチル－６－オキソ－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルボアルデヒド　３．０６ｇ、ヒドロキシルアミン塩酸塩　７４３ｍｇとピリジン　８６１μｌを含むエタノール溶液　３０ｍｌを室温で１時間撹拌した。反応混合物に１規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物を含む３．３０ｇの黄色アモルファスが得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　８．１３　（１Ｈ，　ｓ），　７．３６　（１Ｈ，　ｓ），　７．２４　（１Ｈ，　ｓ），　６．９２－６．８８　（２Ｈ，　ｍ），　３．８８　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．２　Ｈｚ），　１．１５　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．２　Ｈｚ）．
　ステップ２：５－クロロ－１－エチル－Ｎ－ヒドロキシ－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルビミドイルクロリドの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000188
　ステップ１で得られた５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルバルデヒド　オキシム　３００ｍｇとＮ－クロロスクシンイミド　１３３ｍｇを含むＤＭＦ溶液　３ｍｌを５０℃で４０分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物を含む３５６ｍｇの黄色アモルファスが得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。
　ステップ３：３－クロロ－１－エチル－５－（１－（ヒドロキシイミノ）－２－メチルプロピル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ａ－００９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000189
　ステップ１で得られた５－クロロ－１－エチル－Ｎ－ヒドロキシ－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルビミドイルクロリド　１５２ｍｇを含むＴＨＦ溶液　４ｍｌに、イソプロピルマグネシウムクロリドのＴＨＦ溶液（２．０ｍｏｌ／Ｌ）　６２４μｌを－７８℃で滴下して３．５時間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が９５ｍｇの黄色アモルファスとして得られた。
［合成例３］
　３－クロロ－１－エチル－５－（１－（メトキシイミノ）－２－メチルプロピル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ａ－０１０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000190
　３－クロロ－１－エチル－５－（１－（ヒドロキシイミノ）－２－メチルプロピル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　６９．８ｍｇ、ヨウ化メチル　２３．３μｌと酸化銀（Ｉ）　８６．８ｍｇを含むジクロロメタン溶液　２ｍｌを室温で１１時間撹拌した。さらに、ヨウ化メチル　２３．３μｌと酸化銀（Ｉ）　８６．８ｍｇを追加して、室温で２時間撹拌した。得られた反応混合物を濾過することにより不溶物を除去した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が４８ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例４］
　３－クロロ－５－（５－エトキシ－４，５－ジヒドロイソキサゾール－３－イル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｃ－００１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000191
　５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルバルデヒド　オキシム　２０３ｍｇとＮ－クロロスクシンイミド　１２３ｍｇを含むＴＨＦ溶液　５ｍｌを５０℃で１時間撹拌した。室温まで冷却した後に、エチルビニルエーテル　２９５μｌとトリエチルアミン　９５μｌを加えて、室温で１０分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２１７ｍｇの淡黄色ガム状物質として得られた。
［合成例５］
　３－クロロ－１－エチル－５－（イソキサゾール－３－イル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－００１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000192
　ステップ１で得られた３－クロロ－５－（５－エトキシ－４，５－ジヒドロイソキサゾール－３－イル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　１６９ｍｇとｐ－トルエンスルホン酸一水和物　７ｍｇを含むトルエン溶液　４ｍｌを還流下で１５分間撹拌した。さらにｐ－トルエンスルホン酸一水和物　６５ｍｇを追加して、還流下で１時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が１３２ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例６］
　５－（４－ブロモイソキサゾール－３－イル）－３－クロロ－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－００２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000193
　３－クロロ－１－エチル－５－（イソキサゾール－３－イル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　６０３ｍｇと臭素　１．４６ｍｌを含む酢酸溶液　１７ｍｌを１２０℃で５時間撹拌した。さらに、臭素　９７３μｌを追加して、１２０℃で３時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物にチオ硫酸ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２４９ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例７］
　ステップ１：３－クロロ－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－５－（５－（トリメチルシリル）イソキサゾール－３－イル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－００４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000194
　５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルバルデヒド　オキシム　２０９ｍｇとＮ－クロロスクシンイミド　９３ｍｇを含むＴＨＦ溶液　５ｍｌを５０℃で１１０分間撹拌した。さらにＮ－クロロスクシンイミド　４２ｍｇを追加して、５０℃で４０分間撹拌した。室温まで冷却した後に、トリメチルシリルアセチレン　４３７μｌとトリエチルアミン　９８μｌを加えて、室温で１５分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２４１ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例８］
　３－クロロ－５－（４，５－ジブロモイソキサゾール－３－イル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン（化合物番号：Ｂ－００３）および５－（４－ブロモ－５－（トリメチルシリル）イソキサゾール－３－イル）－３－クロロ－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－００５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000195
　３－クロロ－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－５－（５－（トリメチルシリル）イソキサゾール－３－イル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　８８ｍｇとＮ－ブロモスクシンイミド　４４ｍｇを含むＤＭＦ溶液　２ｍｌを８０℃で２０分間撹拌した後、１２０℃で１．５時間撹拌した。さらにＮ－ブロモスクシンイミド　１４７ｍｇを追加して、１２０℃で５５分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。高極性成分である白色固体を３１ｍｇ、低極性成分である白色固体を３０ｍｇ得た。前者が化合物番号Ｂ－００３であり、後者は化合物番号Ｂ－００５であった。
［合成例９］
　ステップ１：３－クロロ－５－（４－クロロ－５－（トリメチルシリル）イソキサゾール－３－イル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000196
　３－クロロ－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－５－（５－（トリメチルシリル）イソキサゾール－３－イル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　２５０ｍｇとＮ－クロロスクシンイミド　１０２ｍｇを含む酢酸溶液　５ｍｌを１００℃で４０分間撹拌した。さらに、Ｎ－クロロスクシンイミド　１０２ｍｇを追加して、１００℃で１．５時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が７３ｍｇの白色固体として得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　７．７１　（１Ｈ，　ｓ），　６．７４－６．７２　（２Ｈ，　ｍ），　３．９８　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．２　Ｈｚ），　１．１９　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．２　Ｈｚ），　０．３６　（９Ｈ，　ｓ）．
　ステップ２：３－クロロ－５－（４－クロロイソキサゾール－３－イル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－００６）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000197
　３－クロロ－５－（４－クロロ－５－（トリメチルシリル）イソキサゾール－３－イル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　９６ｍｇを含むアセトニトリル溶液　３ｍｌに、エタノール　１ｍｌとフッ化セシウム　４１ｍｇを加えて室温で５分撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が７１ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例１０］
　ステップ１：３－クロロ－１－エチル－５－（１－（ヒドロキシイミノ）－２－メチルアリル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000198
　５－クロロ－１－エチル－Ｎ－ヒドロキシ－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルビミドイル　クロリド　２８８ｍｇを含むＴＨＦ溶液　３ｍｌに、イソプロペニルマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液（０．５ｍｏｌ／Ｌ）　４．７３ｍｌを－７８℃で滴下して３０分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が１７９ｍｇの白色アモルファスとして得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　７．６２　（１Ｈ，　ｓ），　７．０９　（１Ｈ，　ｂｒ　ｓ），　６．８０－６．７８　（２Ｈ，　ｍ），　５．２４－５．２３　（１Ｈ，　ｍ），　４．９９－４．９７　（１Ｈ，　ｍ），　３．９０　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．２　Ｈｚ），　１．７５　（３Ｈ，　ｓ），　１．１５　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．２　Ｈｚ）．
　ステップ２：３－クロロ－１－エチル－５－（４－メチルイソキサゾール－３－イル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－００８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000199
　３－クロロ－１－エチル－５－（１－（ヒドロキシイミノ）－２－メチルアリル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　１７９ｍｇを含むＴＨＦ溶液　４ｍｌに炭酸水素ナトリウム　１６２ｍｇを含む水溶液　３ｍｌを室温で加えた。これにヨウ素　１３５ｍｇとヨウ化カリウム　２８１ｍｇの水溶液　３ｍｌを加えて、還流下で５０分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物にチオ硫酸ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２０ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例１１］
　３－クロロ－１－エチル－５－（５－メチルイソキサゾール－３－イル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－０１３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000200
　５－クロロ－１－エチル－Ｎ－ヒドロキシ－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルビミドイル　クロリド　３７８ｍｇに、１－プロピンのＴＨＦ溶液（２．０ｍｏｌ／Ｌ）　３１ｍｌとトリエチルアミン　１６０μｌを加えて、室温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２８７ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例１２］
　５－（４－ブロモ－５－メチルイソキサゾール－３－イル）－３－クロロ－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－０１４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000201
　３－クロロ－１－エチル－５－（５－メチルイソキサゾール－３－イル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　２８７ｍｇとＮ－ブロモスクシンイミド　２０８ｍｇを含む酢酸溶液　３ｍｌを８０℃で２０分間撹拌した後、１００℃で４時間撹拌した。さらに、Ｎ－ブロモスクシンイミド　６９ｍｇを追加して、１００℃で１時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物にチオ硫酸ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２６８ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例１３］
　３－クロロ－１－エチル－５－（５－（ヒドロキシメチル）イソキサゾール－３－イル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－０１９）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000202
　５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルバルデヒド　オキシム　３０５ｍｇとＮ－クロロスクシンイミド　１８５ｍｇを含むＴＨＦ溶液　６ｍｌを５０℃で５５分間撹拌した。室温まで冷却した後に、２－プロピン－１－オール　２７２μｌとトリエチルアミン　１４３μｌを加えて、室温で５０分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２８１ｍｇの白色アモルファスとして得られた。
［合成例１４］
　ステップ１：５－（４－ブロモ－５－（ヒドロキシメチル）イソキサゾール－３－イル）－３－クロロ－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000203
　３－クロロ－１－エチル－５－（５－（ヒドロキシメチル）イソキサゾール－３－イル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　２４８ｍｇとＮ－ブロモスクシンイミド　１７２ｍｇを含むＤＭＦ溶液　３ｍｌを７０℃で２０分間撹拌した後、１００℃で１時間撹拌した。さらに、Ｎ－ブロモスクシンイミド　１７２ｍｇを追加して、１００℃で１時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物を含む１７６ｍｇの黄色固体が得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　７．６７　（１Ｈ，　ｓ），　６．７６－６．７１　（２Ｈ，　ｍ），　４．７３　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ　＝　６．６　Ｈｚ），　３．９７　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ），　１．９７　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　６．６　Ｈｚ）　１．２０　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ）．
　ステップ２：４－ブロモ－３－（５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－イル）イソキサゾール－５－カルバルデヒドの合成（化合物番号：Ｂ－０２０）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000204
　ステップ１で得られた５－（４－ブロモ－５－（ヒドロキシメチル）イソキサゾール－３－イル）－３－クロロ－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　１７６ｍｇのジクロロメタン溶液　４ｍｌに、デス・マーチン試薬（１，１，１－トリアセトキシ－１，１－ジヒドロ－１，２－ベンズヨードキソール－３（１Ｈ）－オン）　１７７ｍｇを加えて室温で撹拌した。さらに１時間後と５．５時間後に、デス・マーチン試薬　１７７ｍｇをそれぞれ追加し、室温で１０５分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄して、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が９４ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例１５］
　５－（４－ブロモ－５－（ジフルオロメチル）イソキサゾール－３－イル）－３－クロロ－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－０２３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000205
　４－ブロモ－３－（５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－イル）イソキサゾール－５－カルバルデヒド　６８ｍｇのジクロロメタン溶液　３ｍｌに、（ジエチルアミノ）サルファートリフルオリド　３９μｌを氷冷下で加えて、１０分間撹拌した後、室温で１００分間撹拌した。反応混合物に１規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が４５ｍｇの白色アモルファスとして得られた。
［合成例１６］
　３－（５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－イル）－５－メチルイソキサゾール－４－カルバルデヒドの合成（化合物番号：Ｂ－０２７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000206
　５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルバルデヒド　オキシム　３２５ｍｇとＮ－クロロスクシンイミド　１９７ｍｇを含むＴＨＦ溶液　６ｍｌを５０℃で４５分間撹拌した。室温まで冷却した後に、クロトンアルデヒド　４０５μｌとトリエチルアミン　１５２μｌを加えて、室温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が１８４ｍｇの黄色アモルファスとして得られた。
［合成例１７］
　３－（５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－イル）－５－メチルイソキサゾール－４－カルバルデヒド　Ｏ－メチル　オキシムの合成（化合物番号：Ｂ－０３２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000207
　３－（５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－イル）－５－メチルイソキサゾール－４－カルバルデヒド　４４ｍｇ、Ｏ－メチルヒドロキシルアミン塩酸塩　１２ｍｇとピリジン　１２μｌを含むエタノール溶液　３ｍｌを室温で７５分間撹拌した。反応混合物に１規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２８ｍｇの白色アモルファスとして得られた。
［合成例１８］
　３－クロロ－１－エチル－５－（４－エチニル－５－メチルイソキサゾール－３－イル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－０３３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000208
　３－（５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－イル）－５－メチルイソキサゾール－４－カルバルデヒド　７１ｍｇ、（１－ジアゾ－２－オキソプロピル）ホスホン酸ジメチル　３２μｌと炭酸カリウム　３７ｍｇを含むメタノール溶液　３ｍｌを室温で６５分間撹拌した。さらに、（１－ジアゾ－２－オキソプロピル）ホスホン酸ジメチル　１１μｌを追加して、室温で３０分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が２５ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例１９］
　５－（４－アセチル－５－メチルイソキサゾール－３－イル）－３－クロロ－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－０３５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000209
　５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルバルデヒド　オキシム　２２７ｍｇとＮ－クロロスクシンイミド　１３７ｍｇを含むＴＨＦ溶液　５ｍｌを５０℃で５０分間撹拌した。室温まで冷却した後に、アセチルアセトン　３５１μｌとトリエチルアミン　１０６μｌを加えて、室温で５時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が１６４ｍｇの白色アモルファスとして得られた。
［合成例２０］
　３－クロロ－１－エチル－５－（４－（１－ヒドロキシエチル）－５－メチルイソキサゾール－３－イル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－０３７）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000210
　５－（４－アセチル－５－メチルイソキサゾール－３－イル）－３－クロロ－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　１３７ｍｇのメタノール溶液　３ｍｌに、水素化ホウ素ナトリウム　３８ｍｇを氷冷下で加えて、２０分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が１１６ｍｇの白色アモルファスとして得られた。
［合成例２１］
　３－クロロ－１－エチル－５－（５－メチル－４－ビニルイソキサゾール－３－イル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－０３８）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000211
　３－クロロ－１－エチル－５－（４－（１－ヒドロキシエチル）－５－メチルイソキサゾール－３－イル）－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン４１ｍｇとｐ－トルエンスルホン酸一水和物　１７ｍｇを含むトルエン溶液　３ｍｌを１２０℃で３０分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が３６ｍｇの淡黄色ガム状物質として得られた。
［合成例２２］
　３－クロロ－５－（５，５－ジメチル－４，５－ジヒドロイソキサゾール－３－イル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｃ－００３）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000212
　５－クロロ－１－エチル－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルバルデヒド　オキシム　１５２ｍｇとＮ－クロロスクシンイミド　９２ｍｇを含むＴＨＦ溶液　３ｍｌを５０℃で４５分間撹拌した。室温まで冷却した後に、１５重量％のイソブテンのＴＨＦ溶液　４．１４ｍｌとトリエチルアミン　７１μｌを加えて、室温で１４０分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が１４３ｍｇの淡黄色固体として得られた。
［合成例２３］
　５－（４－ブロモ－５，５－ジメチル－４，５－ジヒドロイソキサゾール－３－イル）３－クロロ－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｃ－００４）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000213
　３－クロロ－５－（５，５－ジメチル－４，５－ジヒドロイソキサゾール－３－イル）－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　１１５ｍｇ、Ｎ－ブロモスクシンイミド　８０ｍｇとアゾビスイソブチロニトリル　１０ｍｇを含む四塩化炭素溶液　３ｍｌを９０℃で１．５時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物にチオ硫酸ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が５１ｍｇの白色アモルファスとして得られた。
［合成例２４］
　５－（ベンゾ［ｄ］イソキサゾール－３－イル）－３－クロロ－１－エチル－６－（２，４，６－トリフルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｄ－００１）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000214
　５－クロロ－１－エチル－Ｎ－ヒドロキシ－６－オキソ－２－（２，４，６－トリフルオロフェニル）－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルビミドイル　クロリド　１１０ｍｇと２－（トリメチルシリル）フェニルトリフラート　２１９μｌを含むＴＨＦ溶液　２ｍｌに、テトラブチルアンモニウムフルオリドのＴＨＦ溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）　１．０５ｍｌを加えて、室温で１０分間撹拌した。さらに、テトラブチルアンモニウムフルオリドのＴＨＦ溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）　３０１μｌを追加して、室温で１０分間撹拌した。反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が５１ｍｇの白色アモルファスとして得られた。
［合成例２５］
　ステップ１：５－クロロ－１－エチル－２－（４－フルオロフェニル）－６－オキソ－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルボアルデヒドオキシムの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000215
　５－クロロ－１－エチル－２－（４－フルオロフェニル）－６－オキソ－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルボアルデヒド　３１４ｍｇ、ヒドロキシルアミン塩酸塩　１０１ｍｇとピリジン　１１８μｌを含むエタノール溶液　５ｍｌを室温で１５分間撹拌した。反応混合物に１規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物を含む３５３ｍｇの黄色アモルファスが得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　８．１０　（１Ｈ，　ｓ），　７．２８－７．２４　（５Ｈ，　ｍ），　７．０４　（１Ｈ，　ｓ），　３．８５　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．０　Ｈｚ），　１．１４　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．０　Ｈｚ）．
　ステップ２：３－クロロ－１－エチル－６－（４－フルオロフェニル）－５－（イソキサゾール－３－イル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－０１２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000216
　ステップ１で得られた５－クロロ－１－エチル－２－（４－フルオロフェニル）－６－オキソ－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルボアルデヒドオキシム　２３２ｍｇとＮ－クロロスクシンイミド　１５８ｍｇを含むＴＨＦ溶液　４．５ｍｌを５０℃で８０分間撹拌した。さらにＮ－クロロスクシンイミド　１０５ｍｇを追加して、５０℃で１５分間撹拌した。室温まで冷却した後に、エチルビニルエーテル　３７８μｌとトリエチルアミン　１２２μｌを加えて、室温で１５分間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去し、残渣を得た。得られた残渣とｐ－トルエンスルホン酸一水和物　１３６ｍｇを含むトルエン溶液　４．５ｍｌを還流下で３５分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が１１２ｍｇの白色固体として得られた。
［合成例２６］
　５－（４－ブロモイソキサゾール－３－イル）－３－クロロ－１－エチル－６－（４－フルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成（化合物番号：Ｂ－０１５）
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000217
　３－クロロ－１－エチル－６－（４－フルオロフェニル）－５－（イソキサゾール－３－イル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　９１ｍｇと臭素　４３８μｌを含む酢酸溶液　２．５ｍｌを１２０℃で撹拌した。１３時間後、２２時間後に、臭素　４３８μｌをそれぞれ追加した後に、１２０℃で４時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が４０ｍｇの白色固体として得られた。
［参考例１］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000218
　ステップ１：１－（２，６－ジフルオロフェニル）－Ｎ－フェニルプロパン－１－イミンの合成
　アニリン　１１．７４ｇとトリエチルアミン　１７．０１ｇを含むジクロロメタン溶液　１００ｍｌに、四塩化チタン２３．９１ｇを含むジクロロメタン溶液　５０ｍｌを氷冷下で滴下した。該反応液に１－（２，６－ジフルオロフェニル）プロパン－１－オン　１４．３０ｇを含むジクロロメタン溶液　３０ｍｌを滴下した後に、氷冷から室温まで昇温して終夜撹拌した。得られた反応混合物に１規定塩酸を加えて分液し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物を含む２１．１０ｇの濃緑色油状物質が得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。
　ステップ２：６－（２，６－ジフルオロフェニル）－５－メチル－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
　ステップ１で得られた１－（２，６－ジフルオロフェニル）－Ｎ－フェニルプロパン－１－イミン　２１．１０ｇと塩化アルミニウム　１２．３３ｇを含むジオキサン溶液２００ｍｌにアクリルアミド　モノマー　６．５７ｇを加えて、９０℃で３時間撹拌した。該反応混合物を半分程度の量まで減圧下で溶媒留去した後に、１規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄し、表題の化合物が１１．６５ｇの白色固体として得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　７．３６－７．３４　（１Ｈ，　ｍ），　６．９７－６．９４　（２Ｈ，　ｍ），　６．５２　（１Ｈ，　ｂｒ　ｓ），　２．６１－２．５９　（２Ｈ，　ｍ），　２．４８－２．４７　（２Ｈ，　ｍ），　１．６３　（３Ｈ，　ｓ）．
［参考例２］
　６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－５－メチル－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000219
　６－（２，６－ジフルオロフェニル）－５－メチル－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン　１２．４０ｇ、炭酸セシウム　５４．３０ｇおよびヨウ化エチル　２５．９９ｇを含むＤＭＦ溶液　１２０ｍｌを５０℃で３．５時間撹拌した。次いで炭酸セシウム　２７．１５ｇおよびヨウ化エチル　１３．０１ｇを追加した後に、５０℃で２時間、さらに６０℃で１．５時間撹拌した。室温まで冷却後、該反応混合物を濾過することにより不溶物を除去した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、酢酸エチルと水を加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄した。表題の化合物が１１．９８ｇの白色固体として得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　７．３８－７．３５　（１Ｈ，　ｍ），　６．９７－６．９６　（２Ｈ，　ｍ），　３．３３　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ），　２．６０－２．５８　（２Ｈ，　ｍ），　２．３８－２．３６　（２Ｈ，　ｍ），　１．５９　（３Ｈ，　ｓ），　０．９１　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ）．
［参考例３］
　６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－５－メチルピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000220
　６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－５－メチル－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン　１１．９８ｇと２，３－ジクロロ－５，６－ジシアノ－ｐ－ベンゾキノン　２１．６５ｇを含むトルエン溶液　１７０ｍｌを１２０℃で１．５時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物を濾過することにより不溶物を除去した。濾液を減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄し、表題の化合物が９．３４ｇの淡黄色固体として得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　７．５０－７．４９　（１Ｈ，　ｍ），　７．２７　（２Ｈ，　ｄ，　Ｊ　＝　９．５　Ｈｚ），　７．０９－７．０６　（２Ｈ，　ｍ），　６．６３　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ　＝　９．５　Ｈｚ），　３．８３　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ），　１．８０　（３Ｈ，　ｓ），　１．１０　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ）．
［参考例４］
　３－クロロ－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－５－メチルピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000221
　６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－５－メチルピリジン－２（１Ｈ）－オン　１１．３６ｇとＮ－クロロスクシンイミド　６．６９ｇを含むＤＭＦ溶液　１１０ｍｌを７０℃で５０分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物を減圧下で溶媒留去した。これに酢酸エチルと水を加えて分液した後に、得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄した。表題の化合物が１１．４１ｇの白色固体として得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　７．５３－７．４９　（１Ｈ，　ｍ），　７．５０　（１Ｈ，　ｓ），　７．０９－７．０７　（２Ｈ，　ｍ），　３．８８　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ），　１．８１　（３Ｈ，　ｓ），　１．１２　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ）．
［参考例５］
　３－クロロ－５－（ジブロモメチル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000222
　３－クロロ－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－５－メチルピリジン－２（１Ｈ）－オン　１２．６５ｇを含むクロロベンゼン溶液　２３０ｍｌに、Ｎ－ブロモスクシンイミド　１６．６７ｇとアゾビスイソブチロニトリル　３６６ｍｇを加えて、１１０℃で５０分間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水とジクロロメタンを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄した。表題の化合物が１６．８８ｇの淡褐色固体として得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　８．１３　（１Ｈ，　ｓ），　７．６５－７．６３　（１Ｈ，　ｍ），　７．１８　（２Ｈ，　ｄｄ，　Ｊ　＝　８．５，　６．８　Ｈｚ），　５．９６　（１Ｈ，　ｓ），　３．８２　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ），　１．１３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ）．
［参考例６］
　５－クロロ－２－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－６－オキソ－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルボアルデヒドの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000223
　３－クロロ－５－（ジブロモメチル）－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オン　１８．９５ｇを含むアセトニトリル　３８０ｍｌに、硝酸銀　２１．８７ｇを含む水溶液　１９０ｍｌを加えて室温で１５分撹拌した。得られた反応混合物を濾過することにより不溶物を除去した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を１規定塩酸と飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄した。表題の化合物が１１．３７ｇの淡黄色固体として得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　９．１９　（１Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　１．０　Ｈｚ），　８．１３　（１Ｈ，　ｓ），　７．６７－７．６３　（１Ｈ，　ｍ），　７．１８－７．１６　（２Ｈ，　ｍ），　３．９４　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ），　１．１９　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ）．
［参考例７］
　３－クロロ－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－５－（１－ヒドロキシエチル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000224
　５－クロロ－２－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－６－オキソ－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルボアルデヒド　０．８０ｇを含むＴＨＦ溶液　２０ｍｌに、メチルマグネシウムブロミドのＴＨＦ溶液（１．０ｍｏｌ／Ｌ）　８．００ｍｌを氷冷下で滴下して２時間撹拌した。該反応混合物に飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物が０．８１ｇの白色固体として得られた。これ以上精製することなく、次の反応に使用した。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　７．８６　（１Ｈ，　ｓ），　７．５６－７．５４　（１Ｈ，　ｍ），　７．１３－７．０８　（２Ｈ，　ｍ），　４．２５－４．２３　（１Ｈ，　ｍ），　３．８９－３．８６　（１Ｈ，　ｍ），　３．８１－３．７８　（１Ｈ，　ｍ），　１．６５　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ　＝　２．８　Ｈｚ），　１．２９　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ　＝　６．４　Ｈｚ），　１．１２　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．０　Ｈｚ）．
［参考例８］
　５－アセチル－３－クロロ－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチルピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000225
　３－クロロ－６－（２，６－ジフルオロフェニル）－１－エチル－５－（１－ヒドロキシエチル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　０．８１ｇとジメチルスルホキシド　３ｍｌを含むジクロロメタン溶液　９ｍｌに、トリエチルアミン　１．８０ｍｌとピリジン－三酸化硫黄コンプレックス　１．６４ｇを氷冷下で加えて２時間撹拌した。該反応混合物に１規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液と飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が０．７４ｇの淡黄色固体として得られた。
［参考例９］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000226
　ステップ１：５－（４－フルオロフェニル）－４－メチル－５－オキソペンタン酸エチルの合成
　４－フルオロプロピオフェノン　２５．０ｇを含むＴＨＦ溶液　２５０ｍｌに、カリウム　ｔ－ブトキシド　３．６９ｇとアクリル酸エチル　１７．２７ｇを加えて、氷冷下で３時間撹拌した。これに飽和塩化アンモニウム水溶液と酢酸エチルを加えて分液した後に、得られた有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下にて溶媒留去し、表題の化合物が４１．５ｇの黄色油状物質として得られた。これ以上精製することなく次の反応に使用した。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　８．０１－８．００　（２Ｈ，　ｍ），　７．１７－７．１１　（２Ｈ，　ｍ），　４．１１　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．２　Ｈｚ），　３．５５－３．５３　（１Ｈ，　ｍ），　２．４２－２．２７　（１Ｈ，　ｍ），　２．１９－２．１２　（１Ｈ，　ｍ），　１．７８－１．７４　（１Ｈ，　ｍ），　１．２３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．２　Ｈｚ），　１．２１　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ　＝　７．０　Ｈｚ）．
　ステップ２：５－（４－フルオロフェニル）－４－メチル－５－オキソペンタン酸の合成
　ステップ１で得られた５－（４－フルオロフェニル）－４－メチル－５－オキソペンタン酸エチル　４１．５ｇにＴＨＦ　２００ｍｌと水　１００ｍｌを加えた後に、水酸化リチウム１水和物　２０．７１ｇを加えて、６０℃で３時間撹拌した。室温まで冷却後、反応混合物中のＴＨＦを減圧下で留去した。これに水とジエチルエーテルを加えて分液し、得られた水層に１２規定塩酸と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、表題の化合物が３４．０ｇの褐色油状物質として得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　８．０２－７．９８　（２Ｈ，　ｍ），　７．１６－７．１３　（２Ｈ，　ｍ），　３．５６－３．５３　（１Ｈ，　ｍ），　２．４９－２．３３　（２Ｈ，　ｍ），　２．１８－２．１５　（１Ｈ，　ｍ），　１．７９－１．７７　（１Ｈ，　ｍ），　１．２２　（３Ｈ，　ｄ，　Ｊ　＝　７．０　Ｈｚ）．
［参考例１０］
　６－（４－フルオロフェニル）－５－メチル－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000227
　５－（４－フルオロフェニル）－４－メチル－５－オキソペンタン酸　３４．０ｇと酢酸アンモニウム　２３３．７ｇを含む酢酸溶液　３４０ｍｌを、９０℃で３時間撹拌した後に、さらに１２０℃で５時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に酢酸エチルと水を加えて分液した。得られた有機層を飽和食塩水にて洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去を行った後に、ジイソプロピルエーテルにより析出物を洗浄した。得られた褐色固体　１７．８ｇは表題の化合物であった。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　７．２９－７．２５　（２Ｈ，　ｍ），　７．１１－７．０６　（２Ｈ，　ｍ），　６．７７　（１Ｈ，　ｓ），　２．５８－２．５５　（２Ｈ，　ｍ），　２．４３－２．４１　（２Ｈ，　ｍ），　１．７３　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　０．９　Ｈｚ）．
［参考例１１］
　１－エチル－６－（４－フルオロフェニル）－５－メチル－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000228
　６－（４－フルオロフェニル）－５－メチル－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン　１７．３ｇを含むＤＭＦ溶液　１７３ｍｌに、ヨウ化エチル　２０．１７ｍｌと炭酸セシウム　８２．１６ｇを加えて、７０℃で３時間撹拌した後に、さらに９０℃で８時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を水および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が８．１１ｇの淡黄色油状物質として得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　７．１９－７．１６　（２Ｈ，　ｍ），　７．１２－７．０７　（２Ｈ，　ｍ），　３．３３　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．０　Ｈｚ），　２．５９－２．５４　（２Ｈ，　ｍ），　２．３３－２．３０　（２Ｈ，　ｍ），　１．６０　（３Ｈ，　ｓ），　０．８９　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．０　Ｈｚ）．
［参考例１２］
　１－エチル－６－（４－フルオロフェニル）－５－メチルピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000229
　１－エチル－６－（４－フルオロフェニル）－５－メチル－３，４－ジヒドロピリジン－２（１Ｈ）－オン　８．１１ｇと２，３－ジクロロ－５，６－ジシアノ－ｐ－ベンゾキノン　１５．７９ｇを含むトルエン溶液　１３０ｍｌを９０℃で４時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物を濾過することにより不溶物を除去した。濾液を減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が６．３０ｇの黄色固体物質として得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　７．２５－７．１８　（５Ｈ，　ｍ），　６．５８　（１Ｈ，　ｄ，　Ｊ　＝　９．３　Ｈｚ），　３．７９　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ），　１．７３　（３Ｈ，　ｓ），　１．０９　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ）．
［参考例１３］
　３－クロロ－１－エチル－６－（４－フルオロフェニル）－５－メチルピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000230
　１－エチル－６－（４－フルオロフェニル）－５－メチルピリジン－２（１Ｈ）－オン　６．３０ｇとＮ－クロロスクシンイミド　４．００ｇを含むＤＭＦ溶液　６３ｍｌを７０℃で３時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に酢酸エチルと水を加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液および飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製した。表題の化合物が６．２５ｇの褐色固体として得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　７．４７　（１Ｈ，　ｓ），　７．２３－７．２１　（４Ｈ，　ｍ），　３．８４　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ），　１．７５　（３Ｈ，　ｓ），　１．１１　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ）．
［参考例１４］
　３－クロロ－５－（ジブロモメチル）－１－エチル－６－（４－フルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オンの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000231
　３－クロロ－１－エチル－６－（４－フルオロフェニル）－５－メチルピリジン－２（１Ｈ）－オン　５．１７ｇを含むクロロベンゼン溶液　１００ｍｌに、Ｎ－ブロモスクシンイミド　７．２５ｇとアゾビスイソブチロニトリル　３１８ｍｇを加えて、９０℃で４時間撹拌した。室温まで冷却した後に、反応混合物に水とジクロロメタンを加えて分液した。得られた有機層をチオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄した。表題の化合物が７．３７ｇの褐色固体として得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　８．０９　（１Ｈ，　ｓ），　７．３５－７．２９　（４Ｈ，　ｍ），　５．８６　（１Ｈ，　ｓ），　３．７８　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．０　Ｈｚ），　１．１１　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．０　Ｈｚ）．
［参考例１５］
　５－クロロ－１－エチル－２－（４－フルオロフェニル）－６－オキソ－１，６－ジヒドロピリジン－３－カルボアルデヒドの合成
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000232
　３－クロロ－５－（ジブロモメチル）－１－エチル－６－（４－フルオロフェニル）ピリジン－２（１Ｈ）－オン　８．６７ｇを含むアセトニトリル　１３０ｍｌに、硝酸銀　１０．４１ｇを含む水溶液　６５ｍｌを加えて室温で３時間撹拌した。得られた反応混合物を濾過することにより不溶物を除去した。濾液を減圧下にて溶媒留去した後に、水と酢酸エチルを加えて分液した。得られた有機層を１規定塩酸と飽和食塩水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧下で溶媒留去した後に、得られた固体をイソプロピルエーテルで洗浄した。表題の化合物が５．０１ｇの黄色固体として得られた。
　１Ｈ－ＮＭＲ　（ＣＤＣｌ３）　δ：　９．０９　（１Ｈ，　ｓ），　８．１１　（１Ｈ，　ｓ），　７．４０－７．３９　（２Ｈ，　ｍ），　７．３１－７．２９　（２Ｈ，　ｍ），　３．９０　（２Ｈ，　ｑ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ），　１．１８　（３Ｈ，　ｔ，　Ｊ　＝　７．１　Ｈｚ）．
　表４～７に前記の実施例に準じて合成した化合物を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
　表４中、化合物番号がＡで始まる化合物は、以下の構造を表す。また、表４におけるｒａｔｉｏは、異性体比を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000233
　表５中、化合物番号がＢで始まる化合物は式（２）を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000234
　表６中、化合物番号がＣで始まる化合物は式（３）を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000235
　表７中、化合物番号がＤで始まる化合物は式（４）を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000236
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000237
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000238
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000239
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000240
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000241
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000242
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000243
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000244
　次に、表４～７に記載の化合物に関して、表８～１１にそれらの１Ｈ－ＮＭＲデータを示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000245
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000246
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000247
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000248
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000249
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000250
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000251
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000252
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000253
　次に、本発明化合物が植物病害に有効であることを具体的に示すが、これらの例に限定されるものではない。
［試験例Ａ］　イネいもち病
　供試植物（イネ品種：幸風）の種子を播種後、第２葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド－メタノール混合溶液（容積比：９／１）に溶解し、２５０ｐｐｍの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した（２．５ｍｌ／ポット）。薬液が乾燥した後の植物に、１～２×１０５個／ｍｌのイネいもち病菌（Ｍａｇｎａｐｏｒｔｈｅ　ｇｒｉｓｅａ）の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が２０～２３℃の湿室に約２４時間放置し、発病を促した。接種６～１０日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
［試験例Ｂ］　トマト灰色かび病
　供試植物（トマト品種：大型福寿）の種子を播種後、本葉が３～５枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド－メタノール混合溶液（容積比：９／１）に溶解し、２５０ｐｐｍの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した（２．５ｍｌ／ポット）。薬液が乾燥した後の植物に、４～８×１０５個／ｍｌの灰色かび病菌（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ　ｃｉｎｅｒｅａ）の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が２０～２３℃の湿室に約４８時間放置し、発病を促した。接種２～３日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
［試験例Ｃ］　キャベツ黒すす病
　供試植物（キャベツ品種：四季穫）の種子を播種後、子葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド－メタノール混合溶液（容積比：９／１）に溶解し、２５０ｐｐｍの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した（２．５ｍｌ／ポット）。薬液が乾燥した後の植物に、４～８×１０５個／ｍｌのキャベツ黒すす病菌（Ａｌｔｅｒｎａｉａ　ｂｒａｓｓｉｃｉｃｏｌａ）の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が２０～２３℃の湿室に約４８時間放置し、発病を促した。接種２～３日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
［試験例Ｄ］　オオムギうどんこ病
　供試植物（オオムギ品種：赤神力）の種子を播種後、第１葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド－メタノール混合溶液（容積比：９／１）に溶解し、２５０ｐｐｍの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した（２．５ｍｌ／ポット）。薬液が乾燥した後の植物に、オオムギうどんこ病菌（Ｂｌｕｍｅｒｉａ　ｇｒａｍｉｎｉｓ　ｆ．ｓｐ．ｈｏｒｄｅｉ）の分生胞子を叩き落して接種した。接種後、６～１０日後の発病程度を調査し、その効果を評価した。
［試験例Ｅ］　コムギ赤さび病
　供試植物（コムギ品種：農林６１号）の種子を播種後、第１葉が展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド－メタノール混合溶液（容積比：９／１）に溶解し、２５０ｐｐｍの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した（２．５ｍｌ／ポット）。薬液が乾燥した後の植物に、１～２×１０５個／ｍｌのコムギ赤さび病菌（Ｐｕｃｃｉｎｉａ　ｒｅｃｏｎｄｉｔａ）の夏胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が２０～２３℃の湿室に約２４時間放置し、発病を促した。接種７～１０日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
［試験例Ｆ］　トマト疫病
　供試植物（トマト品種：大型福寿）の種子を播種後、本葉が３～５枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド－メタノール混合溶液（容積比：９／１）に溶解し、２５０ｐｐｍの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した（２．５ｍｌ／ポット）。薬液が乾燥した後の植物に、４～８×１０３個／ｍｌのトマト疫病菌（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ　ｉｎｆｅｓｔａｎｓ）の遊走子のう懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が２０℃の湿室に約２４時間放置し、発病を促した。接種５～１０日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
［試験例Ｇ］　ブドウべと病
　供試植物（ブドウ品種：ネオマスカット）の種子を播種後、本葉が３～４枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド－メタノール混合溶液（容積比：９／１）に溶解し、２５０ｐｐｍの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した（２．５ｍｌ／ポット）。薬液が乾燥した後の植物に、１～２×１０４個／ｍｌのブドウべと病菌（Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ　ｖｉｔｉｃｏｌａ）の遊走子のう懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が２０℃の湿室に約２４時間放置し、発病を促した。接種７～１０日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
［試験例Ｈ］　キュウリ炭疽病
　供試植物（キュウリ品種：相模半白）の種子を播種後、本葉が１枚展開するまで栽培した。試験では、本発明化合物をジメチルスルホキシド－メタノール混合溶液（容積比：９／１）に溶解し、２５０ｐｐｍの濃度となるように井戸水で希釈して薬液を得た。得られた薬液を供試植物に散布した（２．５ｍｌ／ポット）。薬液が乾燥した後の植物に、２～４×１０５個／ｍｌのキュウリ炭疽病菌（Ｃｏｌｌｅｔｏｔｒｉｃｈｕｍ　ｏｒｂｉｃｕｌａｒｅ）の分生胞子懸濁液を噴霧接種した。接種後、室温が２０～２３℃の湿室に約２４時間放置し、発病を促した。接種６～１０日後の発病程度を調査し、薬液の効果を評価した。
　以上の試験例の発病程度について、無発病の植物の発病程度を０、薬剤無処理区の植物の発病程度を３として、０．０５ごとの発病程度の評価を行った。また、発病程度から以下の計算式に従って防除価を算出した。
＜防除価＞
　防除価＝１００｛１－（ｎ／３）｝
　ｎ＝各薬剤処理区の発病程度
以上の試験結果をまとめたものを表１２～１５に示す。表中、Ｈは防除価が５０％より大きいもの表し、Ｌは防除価が５０％以下を表す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000254
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000255
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000256
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000257
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000258
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000259
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000260
　本発明のピリドン化合物は新規な化合物であり、植物病害を防除することができるので、農薬、例えば、農園芸用有害生物防除剤、特に農園芸用殺菌剤としての利用価値がある。
　日本国特許出願２０１７－１１５３５９号（出願日：２０１７年６月１２日）の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。
　本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。

Claims (7)

  1. 　式（１）
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    ［式中、Ｒ１は、
    　　水酸基、
    　　シアノ基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
    　　Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、
    　　またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲａおよびＲｂは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表し；
    　Ｒ２は、
    　　水素原子、
    　　シアノ基、
    　　ニトロ基、
    　　ハロゲン原子、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
    　　Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、
    　　Ｒｃ－Ｌ－（ここで、Ｒｃは、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌは、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）、
    　　ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、
    　　またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）を表す。）を表し；
    　Ｘは、酸素原子または硫黄原子を表し；
    　Ｙは、
    　　Ｒ３で適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
    　　Ｒ３で適宜０～４置換されてもよいピリジル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
    　　Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいピリダジニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
    　　Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいピリミジニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
    　　Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいピラジニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
    　　Ｒ３で適宜０～２置換されてもよいトリアジニル基（ただし、２置換のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
    　　Ｒ３で適宜置換されてもよいテトラジニル基、
    　　Ｒ３で適宜０～３置換されてもよいチエニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
    　　Ｒ３で適宜０～２置換されてもよいチアゾリル基（ただし、２置換のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
    　　Ｒ３で適宜０～２置換されてもよいイソチアゾリル基（ただし、２置換のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
    またはＲ３で適宜置換されてもよいチアジアゾリル基を表し、
    　Ｒ３は、
    　　水酸基、
    　　シアノ基、
    　　ニトロ基、
    　　ハロゲン原子、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
    　　Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、
    　　ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、
    　　ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、
    　　１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基、
    　　Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、
    　　ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、
    またはＲｅＣ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒｆ）－（ここで、ＲｅとＲｆは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）を表す。）を表し；
    　Ｒ４は、
    　　水素原子、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
    　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
    　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
    　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
    　　またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）を表し、
    　Ｒ５は、
    　　水素原子、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
    　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
    　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
    　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基を有するＣ１～Ｃ６のハロアルキル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
    　　またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）を表し、
    　あるいは、Ｒ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、
    　　置換基Ｅで適宜０～２置換されてもよいイソキサゾール環（ただし、２置換の置換基Ｅの場合、それぞれ独立している。）、
    　　置換基Ｆで適宜０～４置換されてもよいイソキサゾリン環（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）、
    　　置換基Ｄで適宜０～４置換されてもよいベンズイソキサゾール環（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
    　　または置換基Ｆで適宜０～６置換されてもよい５，６－ジヒドロ－４Ｈ－１，２－オキサジン環（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）を形成するものを表し；
    　そして、置換基Ａは、水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）およびＲｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）からなる群から選択される少なくとも１種であり；
    　置換基Ｂは、シアノ基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基およびＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
    　置換基Ｃは、水酸基、シアノ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）および１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
    　置換基Ｄは、水酸基、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基およびＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
    　置換基Ｅは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のアルコキシアルコキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）、ＲｇＯＮ＝Ｃ（Ｒｈ）－（ここで、ＲｇおよびＲｈは、それぞれ独立していて、水素原子またはＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）、ＲｉＲｊＲｋＳｉ－（ここで、Ｒｉ、ＲｊおよびＲｋは、それぞれ独立していてＣ１～Ｃ６のアルキル基を表す。）および１～２個の酸素原子を含む３～６員環の基からなる群から選択される少なくとも１種であり；
    　置換基Ｆは、水酸基、シアノ基、ハロゲン原子、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６アルケニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、ＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）、Ｒｃ－Ｌ－（ここで、ＲｃおよびＬは、前記と同義である。）、ＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）およびＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）からなる群から選択される少なくとも１種である。］で表される化合物またはその塩。
  2. 　Ｒ１は、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    　　またはＣ２～Ｃ６のハロアルキニル基を表し；
    　Ｒ２は、
    　　水素原子、
    　　ハロゲン原子、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
    　　Ｒｃ－Ｌ－（ここで、Ｒｃは、Ｃ１～Ｃ６のアルキル基またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し、Ｌは、Ｓ、ＳＯ、またはＳＯ２を表す。）、
    　　またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲａおよびＲｂは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表す。）を表し；
    　Ｙは、
    　　Ｒ３で適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）、
    　　またはＲ３で適宜０～４置換されてもよいピリジル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）を表し、
    　Ｒ３は、
    　　水酸基、
    　　シアノ基、
    　　ハロゲン原子、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニルオキシ基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニルオキシ基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ６のアルキニルオキシ基、
    　　Ｃ３～Ｃ６のハロアルキニルオキシ基、
    　　またはＲｄＣ（＝Ｏ）Ｏ－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）を表し；
    　Ｒ４は、
    　　水素原子、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
    　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
    　　またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、前記と同義である。）を表し、
    　Ｒ５は、
    　　水素原子、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルケニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルケニル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    　　Ｃ２～Ｃ６のハロアルキニル基、
    　　またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、前記と同義である。）を表し、
    　あるいは、Ｒ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、
    　　置換基Ｅで適宜０～２置換されてもよいイソキサゾール環（ただし、２置換の置換基Ｅの場合、それぞれ独立している。）、
    　　置換基Ｆで適宜０～４置換されてもよいイソキサゾリン環（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）、
    　　または置換基Ｄで適宜０～４置換されてもよいベンズイソキサゾール環（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）を形成するものを表す、請求項１に記載の化合物またはその塩。
  3. 　Ｒ１は、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　またはＣ１～Ｃ６のハロアルキル基を表し；
    　Ｒ２は、
    　　ハロゲン原子、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ２～Ｃ６のアルキニル基、
    　　または置換基Ａで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表し；
    　Ｙは、
    　　Ｒ３で適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上のＲ３の場合、それぞれ独立している。）を表し、
    　Ｒ３は、
    　　シアノ基、
    　　ハロゲン原子、
    　　または置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルコキシ基を表し；
    　Ｒ４は、
    　　水素原子、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基、
    　　置換基Ｄで適宜０～５置換されてもよいフェニル基（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）、
    　　またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲａおよびＲｂは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表し、
    　Ｒ５は、
    　　水素原子、
    　　置換基Ｃで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、
    　　またはＲｄＣ（＝Ｏ）－（ここで、Ｒｄは、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルコキシ基、Ｃ３～Ｃ８のシクロアルコキシ基、またはＲａＲｂＮ－（ここで、ＲａおよびＲｂは、それぞれ独立していて、水素原子、置換基Ｂで適宜置換されてもよいＣ１～Ｃ６のアルキル基、Ｃ１～Ｃ６のハロアルキル基、またはＣ３～Ｃ８のシクロアルキル基を表すか、あるいはＲａおよびＲｂは、結合する窒素原子と一緒になって、アジリジニル基、アゼチジニル基、ピロリジニル基、ピペリジニル基、ホモピペリジニル基、またはアゾカニル基を形成するものを表す。）を表す。）を表し、
    　あるいは、Ｒ４とＲ５が、結合するオキシム構造（Ｃ＝Ｎ－Ｏ）と一緒になって、
    　　置換基Ｅで適宜０～２置換されてもよいイソキサゾール環（ただし、２置換の置換基Ｅの場合、それぞれ独立している。）、
    　　置換基Ｆで適宜０～４置換されてもよいイソキサゾリン環（ただし、２置換以上の置換基Ｆの場合、それぞれ独立している。）、
    　　または置換基Ｄで適宜０～４置換されてもよいベンズイソキサゾール環（ただし、２置換以上の置換基Ｄの場合、それぞれ独立している。）を形成するものを表す、請求項２に記載の化合物またはその塩。
  4. 　請求項１に記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する農園芸用有害生物防除剤。
  5. 　請求項１に記載の化合物、またはその塩を有効成分として含有する農園芸用殺菌剤。
  6. 　請求項４に記載の農園芸用有害生物防除剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。
  7. 　請求項５に記載の農園芸用殺菌剤を、植物、植物の種子、または植物を栽培する土壌に施用することを含む、植物病害を防除する方法。
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