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WO2018179964A1 - 基板収納容器 - Google Patents

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WO2018179964A1
WO2018179964A1 PCT/JP2018/005296 JP2018005296W WO2018179964A1 WO 2018179964 A1 WO2018179964 A1 WO 2018179964A1 JP 2018005296 W JP2018005296 W JP 2018005296W WO 2018179964 A1 WO2018179964 A1 WO 2018179964A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
gas
internal space
unit
storage container
substrate storage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2018/005296
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
統 小川
公徳 冨永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Polymer Co Ltd, Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority to JP2019508740A priority Critical patent/JP6953661B2/ja
Priority to US16/494,451 priority patent/US11646214B2/en
Priority to CN201880016160.1A priority patent/CN110383451B/zh
Priority to DE112018001612.9T priority patent/DE112018001612T5/de
Priority to SG11201908168W priority patent/SG11201908168WA/en
Priority to KR1020197031227A priority patent/KR102461290B1/ko
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    • H01L21/67763Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
    • H01L21/67769Storage means

Definitions

  • the present invention relates to a substrate storage container that stores a plurality of substrates.
  • the substrate storage container stores a substrate such as a semiconductor wafer in an internal space, and is used for storage in a warehouse, transportation between semiconductor processing apparatuses, transportation between factories, and the like.
  • the internal space may be replaced with an inert gas such as nitrogen gas or dry air so that the substrate stored in the internal space is not oxidized or contaminated.
  • a substrate storage container As such a substrate storage container, a container main body for storing a plurality of substrates and a lid body that is detachably fitted to the opening of the container main body, and an internal space from the outside of the container main body to the bottom plate of the container main body A gas supply member for supplying gas to each of the gas supply members is fitted, and a hollow nozzle (functional unit; gas replacement unit) communicating with the gas supply member is provided vertically, and gas is supplied to the peripheral wall of the nozzle toward the substrate. What provided the blowing hole which blows off is known (refer patent documents 1 and 2).
  • JP 2016-004949 A Japanese Unexamined Patent Publication No. 2016-015421
  • the present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof is to provide a substrate storage container in which a functional unit that changes the environment of the internal space can be easily replaced.
  • One aspect according to the present invention includes a container main body capable of storing a plurality of substrates, and an air supply member capable of supplying gas to the internal space from the outside of the container main body.
  • a substrate storage container formed in a front open box and having the air supply member attached to the bottom surface, wherein the air supply member can be exchanged by fitting a functional unit that changes the environment of the internal space to a different state. It is connected.
  • the air supply member may include a filter member that filters the gas.
  • the functional unit includes a housing member that stores the gas supplied from the air supply member, a cover member that covers an opening of the housing member, and the housing member And a gas replacement unit including a blowout hole for blowing out the gas formed in at least one of the cover members.
  • the functional unit may be a valve unit including a check valve that allows the gas to flow into the internal space.
  • the functional unit may be a closed unit that disables the flow of the gas to the internal space.
  • the functional unit may be a filter unit including a filter member for purifying the gas supplied to the internal space.
  • the gas may be nitrogen gas or dry air.
  • the present invention it is possible to provide a substrate storage container in which a functional unit that changes the environment of the internal space can be easily replaced.
  • FIG. 1 is an exploded perspective view of a substrate storage container 1 according to an embodiment of the present invention.
  • 2 is a front view of the container body 2
  • FIG. 3 is a bottom view of the container body 2
  • FIG. 4 is a cross-sectional plan view of the container body 2.
  • a substrate storage container 1 shown in FIG. 1 includes a container main body 2 that stores a plurality of substrates W, and a lid 4 that is detachably attached to an opening of the container main body 2.
  • Examples of the substrate W stored in the substrate storage container 1 include a semiconductor wafer having a diameter of 300 mm or 450 mm, a mask glass, and the like.
  • the container body 2 is a so-called front open box type formed of a front opening frame 2a, a back wall 2b, a right side wall 2c, a left side wall 2d, a top surface 2e, and a bottom surface 2f.
  • the lid 4 is attached to the opening of the front opening frame 2 a of the container body 2, and is attached so that a seal gasket (not shown) faces the front opening frame 2 a of the container body 2.
  • the seal gasket is in close contact with the peripheral edge between the container body 2 and the lid 4 and is configured to maintain the airtightness of the internal space of the substrate storage container 1. ing.
  • the rear wall 2b of the container body 2 is further formed with protrusions protruding rearward B on the left and right sides (see FIG. 4).
  • the protrusion functions as a leg when placed with the opening of the front F of the container body 2 facing upward.
  • a scale for assisting the number of stored substrates W is displayed (see FIG. 1).
  • a grip 23 that functions for gripping operation is attached near the center of the outside of the right side wall 2c and the left side wall 2d of the container body 2.
  • a plurality of paired left and right support pieces 21 for horizontally supporting the substrate W to be stored are provided inside the right side wall 2c and the left side wall 2d of the container main body 2, respectively, and inside the right side wall 2c and the left side wall 2d.
  • position restricting portions 22 that restrict the insertion position of the substrate W when the substrate W is inserted toward the rear B are provided.
  • the pair of left and right support pieces 21 are arranged at a predetermined pitch in the vertical direction, and each support piece 21 is formed in an elongated plate shape that supports the periphery of the substrate W.
  • the support piece 21 is provided so that 25 substrates W can be supported, but the maximum number of substrates W that can be stored is not limited to 25.
  • the substrates W are stored in the container main body 2 in a full state as necessary, or a smaller number than the full state is stored, or the storage position is changed.
  • the state varies depending on how the substrate storage container 1 is used. For example, a plurality of substrates W may be stored in an upward or downward direction, or stored alternately.
  • a top flange 25 such as a robotic flange is attached to the outside of the top surface 2e of the container body 2.
  • the top flange 25 is, for example, gripped by an overhead transport vehicle in a semiconductor manufacturing factory and transported between processes, or used for positioning in a lid opening / closing device such as a semiconductor processing apparatus.
  • a bottom plate 26 for positioning and placing the container body 2 is attached to the outside of the bottom surface 2f of the container body 2.
  • Accessories such as the container body 2 and the lid body 4, and the grip 23, the top flange 25, and the bottom plate 26 are injection-molded with a molding material containing a required resin, or a combination of a plurality of injection-molded parts. Or configured.
  • the resin contained in the molding material include thermoplastic resins such as polycarbonate, cycloolefin polymer, polyetherimide, polyether ketone, polyether ether ketone, polybutylene terephthalate, polyacetal, and liquid crystal polymer, and alloys thereof.
  • various antistatic agents such as conductive substances such as carbon fibers, carbon powder, carbon nanotubes, conductive polymers and the like, anions, cations, and nonionics are added as necessary.
  • an ultraviolet absorber or a reinforcing fiber for improving rigidity is added as necessary.
  • the container body 2, the lid body 4, the grip 23, the top flange 25, and the bottom plate 26 may be transparent, opaque, or translucent, but the container body 2 and the lid body 4 are preferably transparent.
  • three air supply members 50 and one exhaust member 60 are provided on the bottom surface 2 f of the container body 2.
  • the air supply member 50 and the exhaust member 60 suppress the deterioration of the surface of the stored substrate W by circulating the gas G from the outside of the substrate storage container 1 to the internal space or from the internal space to the outside. It functions to eliminate the pressure difference between the internal space of the storage container 1 and the outside.
  • the two air supply members 50 are provided on the left and right sides of the rear B of the bottom surface 2f, and one air supply member 50 and one exhaust member 60 are located on the left side of the front surface F of the bottom surface 2f. Or it is provided on the right side. And various functional units U mentioned later are connected to these air supply members 50 (refer to Drawing 13). Note that the air supply member 50 near the front surface F may be used as the exhaust member 60.
  • the air supply member 50 includes a grommet 50a attached to a recess formed in the bottom surface 2f of the container body 2, a gas-permeable filtration member 51 attached to an end of the grommet 50a, and a check valve 52.
  • the grommet 50a is formed of an elastic resin member such as an elastomer.
  • the filtering member 51 filters the supplied gas G to remove dust, and a nonwoven fabric filter or the like is used.
  • the check valve 52 is energized by a coil spring 53 in the direction of closing the valve and is accommodated in the valve housing 54.
  • the air supply member 50 has the check valve 52.
  • the air supply member 50 may not have the check valve 52 depending on the type of the functional unit U described later.
  • the exhaust member 60 has a check valve (not shown) and, for example, a humidity (or concentration) sensor is attached to replace the internal space of the substrate storage container 1 with the gas G, and then the substrate storage container 1 The humidity (or concentration) of the internal space can be measured, and it is possible to manage whether the replacement of the gas G into the internal space of the substrate storage container 1 is normally performed.
  • FIG. 13 is a schematic diagram illustrating various functional units U that can be exchanged.
  • the functional unit U include gas replacement units 3R and 3L, a valve unit U1, a closing unit U2, a small diameter filter unit U3, and a large diameter filter unit U4.
  • FIG. 5 is a perspective view of the gas replacement units 3R and 3L
  • FIG. 6 is an exploded perspective view of the gas replacement units 3R and 3L
  • 7A is a front view
  • FIG. 7B is a plan view
  • FIG. 7C is a bottom view
  • FIG. 7D is a rear view
  • FIG. 8 is a cross-sectional view of the gas replacement units 3R and 3L taken along the line AA in FIG. 5 to 8 show the gas replacement unit 3R on the right side when viewed from the front F.
  • the gas replacement units 3R and 3L replace the internal space of the container main body 2 with the gas G, and the rear B of the container main body 2 (the rear wall 2b or the rear wall 2b or the like so as not to interfere with the substrate W even when the substrate W is inserted). It is provided on both the left and right sides in the vicinity of the protruding portion) with the longitudinal direction being vertical (see FIGS. 1 and 2).
  • These gas replacement units 3R and 3L blow out the gas G into the internal space of the container body 2.
  • the gas G to be blown out include inert gas and dry air.
  • examples of the inert gas include nitrogen gas and argon gas, but nitrogen gas is preferable from the viewpoint of cost.
  • gas replacement unit 3L has the same shape and structure except that it is symmetrical to the gas replacement unit 3R, as shown in FIG.
  • the gas replacement unit 3R shown in FIG. 5 includes a housing member 31 and a cover member 32, and is formed in a substantially pentagonal column shape, but the shape is not limited thereto. Further, the gas replacement unit 3R may be formed of the same resin as the container body 2 or the like, or may be formed of a different resin.
  • the housing member 31 is formed in a box shape having one open face so as to store the gas G, and the cover member 32 is provided with a locking means (engagement) such as a claw so as to cover the open face. Attached).
  • the housing member 31 and the cover member 32 form a space for storing the gas G.
  • the housing member 31 has two surface portions 31A and 31B which intersect at a predetermined angle and have different sizes.
  • the crossing angle between the surface portion 31A and the surface portion 31B is an inner angle in a range of 120 ° to 170 °.
  • the area of the surface portion 31A is formed larger than the area of the surface portion 31B.
  • a cylindrical connector 311 into which the gas G from the air supply member 50 flows is provided so as to protrude from the lower surface of the housing member 31.
  • a rotation stop projection 312 is formed to stop the rotation of the gas replacement unit 3 ⁇ / b> R in the left-right direction and position the rotation direction (see FIG. 7).
  • a cylindrical positioning protrusion 313 for positioning and fixing to the container body 2 is formed on the upper surface of the housing member 31.
  • the surface portion 31A of the housing member 31 has horizontally elongated substantially rectangular blow holes in the vertical direction (longitudinal direction) from the top in the first blow holes 31a, 31b, 31c,. .. 31x, 31y, 31z (hereinafter referred to as “first outlet hole group 31a-z” as necessary) are formed at 26 locations.
  • the surface portion 31B of the housing member 31 has horizontally elongated blow holes, which are arranged in the vertical direction (longitudinal direction) from the top in the order of the third blow holes 33a, 33b, 33c,. As required, it is referred to as “third outlet hole group 33a-z”).
  • the blowing direction of the gas G can be made different.
  • the gas G easily diffuses into the internal space of the substrate storage container 1.
  • the opening height of the first blowout hole 31a at the uppermost stage is slightly larger than the opening height of the first blowout hole 31b at the second stage, that is, the opening area of the first blowout hole 31a is that of the first blowout hole 31b. It is slightly larger than the opening area. Moreover, the opening area from the 1st blowing hole 31b to the 1st blowing hole 31u is all equal, and the opening area from the 1st blowing hole 31v to the 1st blowing hole 31y is gradually smaller than the opening area of the 1st blowing hole 31u. The opening area of the first blowing hole 31z is smaller than the opening area of the first blowing hole 31y. The same applies to the third outlet group 33a-z.
  • the lowermost first blowout hole 31z and the third blowout hole 33z are positioned below the substrate W supported by the lowermost support piece 21 of the container body 2.
  • the number of the first blowing holes 31z and the third blowing holes 33z positioned below the lowermost substrate W is not limited to one, and may be plural.
  • the first blow hole group 31a-z and the third blow hole group 33a-z have a large opening area on the lower side, even if the straightness of the gas G supplied from below is high, The gas G is uniformly blown out from below to above the first blow hole group 31a-z and the third blow hole group 33a-z. Further, since the first blow hole 31z and the third blow hole 33z are also formed under the lowermost substrate W, the gas G is also blown between the lowermost substrate W and the bottom surface 2f. Even if the downflow air in the clean room enters the inside from the opening of the front face F of the container body 2, the gas G blown out from the upper face of the bottom face 2f toward the front face F does not flow more than necessary.
  • the cover member 32 has substantially rectangular or square blow holes in the vertical direction (longitudinal direction) in order from the top, the second blow holes 32a, 32b, 32e, 32f (hereinafter referred to as “second outlet hole group 32a-f” as necessary) are formed at six locations.
  • the height position of the uppermost second blowing hole 32a is substantially the same as the height position of the first blowing hole 31c, and hereinafter, the second blowing hole 32b and the first blowing hole 31h are referred to as the second blowing hole 32c.
  • the first blow hole 31m, the second blow hole 32d and the first blow hole 31s, the second blow hole 32e and the first blow hole 31w, the second blow hole 32f and the first blow hole 31y They are almost the same height and match.
  • the ratio of the total opening areas S1, S2, and S3 of the first blowing hole group 31a-z, the second blowing hole group 32a-f, and the third blowing hole group 33a-z is stored in the container body 2. Further, it is possible to adjust the humidity variation among the plurality of substrates W to be smaller.
  • the adjustment of the opening area can be achieved by preparing the housing member 31 and the cover member 32 having different outlet holes of the first outlet hole group 31a-z, the second outlet hole group 32a-f, and the third outlet hole group 33a-z. It can be carried out by closing an appropriate outlet hole.
  • the gas replacement units 3R and 3L are provided on the left and right sides of the rear B (near the rear wall 2b or the protruding portion) of the container body 2 as described above, the blown out gas G is stored in the substrate.
  • the air is basically blown out from the first blow hole group 31a-z and the third blow hole group 33a-z toward the front F side, and the air is replaced with the gas G. It will be.
  • air also exists in the vicinity of the right side wall 2c or the left side wall 2d from the rear wall 2b on the rear B side from the position where the first outlet group 31a-z and the third outlet group 33a-z are provided. Therefore, it is better to blow the gas G toward the rear B also from the second blowing hole group 32a-f.
  • the space on the front side F from the position where the first outlet hole group 31a-z and the third outlet hole group 33a-z are provided is the first outlet hole group 31a-z and the third outlet hole group 33a-z. Is considerably larger than the space on the rear B side than the position where is provided, the total opening area S1 of the first blowing hole group 31a-z facing the front F side and the total opening area of the third blowing hole group 33a-z S3 is preferably larger than the total opening area S2 of the second outlet group 32a-f facing the rear B side.
  • the gas replacement units 3R and 3L basically blow out the gas G toward the front F side.
  • the gas replacement units 3R and 3L are provided near the right side wall 2c or the left side wall 2d, the right side wall 2c or the left side wall 2d is provided.
  • the gas G heading toward the front surface F along the line may be small, but conversely, the gas G heading toward the center of the container body 2 should be large. Therefore, the total opening area S1 of the first blowing hole group 31a-z is preferably larger than the total opening area S3 of the third blowing hole group 33a-z.
  • a filter member 34 having air permeability is provided inside the housing member 31, and a filter member 35 having air permeability is also provided inside the cover member 32.
  • Examples of the filter members 34 and 35 include a nonwoven fabric filter.
  • the gas G introduced from the cylindrical connector 311 is introduced and stored in a space formed by the housing member 31 and the cover member 32.
  • the stored gas G is passed through the filter members 34 and 35 into the internal space of the container body 2 from the first blow hole group 31a-z, the second blow hole group 32a-f, and the third blow hole group 33a-z. Be blown out.
  • FIG. 9A is a schematic front view of the container body 2
  • FIG. 9B is an enlarged perspective view of the upper mounting portion of the gas replacement unit 3R
  • FIG. 9C is an enlarged perspective view of the lower mounting portion of the gas replacement unit 3R
  • FIG. 10 is an enlarged perspective view of the upper mounting portion of the gas replacement unit 3R
  • 11A is an enlarged view of the lower mounting portion of the gas replacement unit 3R
  • the gas replacement unit 3 ⁇ / b> R is attached to the container body 2 by a positioning and fixing member 8 and an offset member 9. Specifically, the upper part of the gas replacement unit 3R is attached to the positioning fixing member 8, and the lower part of the gas replacement unit 3R is attached to the offset member 9.
  • a circular through hole 27 is formed on both the left and right sides of the back wall 2b of the container body 2 in order to fix the positioning fixing member 8, and a stopper 28 is formed above the through hole 27.
  • attachment holes 29 are formed on the left and right sides of the bottom surface 2 f of the container body 2 in order to fix the offset member 9.
  • the mounting hole 29 is not circular but is formed in a substantially elliptical shape connecting a large circle and a small circle.
  • the positioning and fixing member 8 shown in FIG. 10 has an elongated shape, and is formed of a shaft having one end side substantially plate-like and the other end side rectangular. Around this shaft, three disc-shaped flanges 81, 82, 83 are formed toward the other end side.
  • the shaft end flange 83 and the intermediate flange 82 are formed smaller than the diameter of the through hole 27 in the back wall 2 b and are inserted into the through hole 27.
  • a small-diameter step portion is formed on the intermediate flange 82, and an O-ring 84A is fitted therein.
  • a small-diameter stepped portion is also formed on the inner flange 81, and an O-ring 84B is fitted therein.
  • the inner flange 81 and the O-ring 84 ⁇ / b> B are formed larger than the diameter of the through hole 27, and the O-ring is interposed between the container body 2 and the flange 81 when the other end side of the positioning fixing member 8 is inserted into the through hole 27. Since 84B is sandwiched, the gas G does not leak.
  • a C-ring 85 is formed on the rectangular shaft located between the shaft-end flange 83 and the container body 2 with a rectangular inner side and an outer diameter larger than the through-hole 27.
  • the positioning fixing member 8 is fixed to the container body 2 through the through hole 27.
  • the sealing performance is enhanced by inserting the C-ring 85 while the O-ring 84B is crushed between the flange 81 and the container body 2 while pulling the flange 83 at the shaft end outward.
  • one end side of the positioning and fixing member 8 is formed in a plate shape bent upward and has an elongated slit 86 formed therein.
  • the positioning projection 313 and the stopper 28 of the housing member 31 are fitted into the slit 86.
  • the end portion 87 is further curved upward, and a U-shaped notch 88 is formed at the distal end thereof.
  • the offset member 9 shown in FIG. 11 is formed such that a gap through which the gas G flows is formed between the offset plate press 90 positioned inside the bottom surface 2f and the offset plate 95 positioned outside the bottom surface 2f. , Assembled through an O-ring 94.
  • the offset plate holder 90 is formed with a recess 92 into which the rotation projection 312 of the housing member 31 is fitted, and the direction and position of the rotating gas replacement unit 3R is adjusted by fitting the rotation projection 312 into the recess 92. Determined.
  • the offset plate holder 90 is formed with an insertion hole 96 into which the connector 311 of the gas replacement unit 3R is inserted. The connector 311 is inserted into the insertion hole 96 through the packing 93.
  • the offset plate presser 90 is fitted into the mounting hole 29 via an O-ring 91.
  • the offset plate 95 has a recess into which the air supply member 50 is fitted so that the center of the air supply member 50 is located at a position shifted from the center position of the packing 93 in plan view.
  • the lower connector 311 is attached to the offset member 9, and then the upper positioning protrusion 313 is attached to the positioning fixing member 8 and attached to the container body 2.
  • the positioning protrusion 313 at the upper part of the gas replacement unit 3R is pushed from the end 87 side toward the slit 86 from the state in which the lower connector 311 of the gas replacement unit 3R is inserted into the packing 93 and tilted.
  • the positioning fixing member 8 is curved, and the positioning projection 313 is fitted into the slit 86.
  • the positioning projection 313 also comes into contact with the stopper 28, whereby the position in the slit 86 is determined, and the upper portion of the gas replacement unit 3R is positioned and fixed.
  • FIG. 12 is a cross-sectional perspective view showing the flow of the gas G flowing from the air supply member 50.
  • the flow of gas G is indicated by arrows.
  • the gas G introduced at high pressure from the air supply member 50 passes through the filter member 51, flows through the gap between the offset plate press 90 and the offset plate 95, and the rear B offset plate press 90 and the gas replacement unit. It goes to the connection part with the connection tool 311 of the lower part of 3R.
  • the gas G is blown out from the first blowing hole group 31a-z, the third blowing hole group 33a-z, and the second blowing hole group 32a-f while proceeding through the storage space of the gas replacement unit 3R (see FIG. 8).
  • the gas G is blown out in three different directions, that is, the direction toward the center on the front F side and the direction toward the right side wall 2c, and the direction toward the rear side wall 2b on the rear B side (see FIG. 4).
  • the extending direction of the blowout opening of the first blowout hole group 31a-z or the third blowout hole group 33a-z that is, the surface portion 31A on which the first blowout hole group 31a-z or the third blowout hole group 33a-z is formed or It is preferable that the normal passing through the center of the surface portion 31B is a range that reaches the opening of the front opening frame 2a of the container body 2 without intersecting the right side wall 2c or the left side wall 2d. More preferably, in the case of the gas replacement unit 3R, the normal line of the surface portion 31A is in the range of 10 ° to 40 ° with respect to the normal line NL (perpendicular line) from the opening of the front opening frame 2a of the container body 2.
  • the normal line of 31B is a range from 5 ° on the central side to 10 ° on the right side wall 2c across the normal NL (perpendicular line) from the opening of the front opening frame 2a of the container body 2.
  • the gas replacement unit 3L is symmetrical with the gas replacement unit 3R.
  • the surface portion 31A and the surface portion 31B (or the first blowing hole group 31a-z and the third blowing hole group 33a-z) are formed so as to be in such a range, and the gas replacement units 3R and 3L are connected to the container body 2.
  • the gas G blown out from each blowing hole does not collide with and reflect on the right side wall 2c or the left side wall 2d of the container body 2. For this reason, since the turbulence of the gas G does not occur, the internal space of the container body 2 can be quickly and reliably replaced with the gas G.
  • the gas G is supplied to the container body 2 at a high pressure and fills the internal space
  • the gas G is supplied from the exhaust member 60 shown in FIG. Leaks out of the water.
  • the internal space of the substrate storage container 1 is replaced with the gas G which is a purge gas.
  • FIG. 14 is a cross-sectional perspective view of the lower mounting portion in a state where the valve unit U1 is connected.
  • the valve unit U ⁇ b> 1 includes a check valve 110 that allows the gas G to flow from the air supply member 50 to the internal space of the substrate storage container 1, but the gas G in the internal space does not flow backward to the air supply member 50.
  • the valve unit U ⁇ b> 1 includes a substantially cylindrical valve housing 112 having a valve seat 113 and a check valve 110 urged against the valve seat 113 by a coil spring 111.
  • the check valve 110 and the valve housing 112 are formed of various materials having a predetermined elasticity such as a fluororesin, an elastomer, and rubber.
  • the gas replacement units 3R and 3L described above are configured to blow the gas G uniformly between the accommodated substrates W, whereas the valve unit U1 is a gas supplied from the air supply member 50.
  • the pressure of G overcomes the urging force of the coil spring 111 and the check valve 110 is separated from the valve seat 113, the gas G is circulated into the internal space of the substrate storage container 1. This is used when the uniformity of the gas G is not important.
  • valve housing 112 When connecting the valve unit U1 to the air supply member 50, the valve housing 112 may be inserted into the insertion hole 96 of the offset member 9 and fitted and locked by the two flanges 114.
  • FIGS. 15A and 15B are a perspective view and a cross-sectional perspective view of the lower mounting portion in a state where the closing unit U2 is connected.
  • the closing unit U ⁇ b> 2 disables the flow of the gas G from the air supply member 50 to the internal space of the substrate storage container 1.
  • the closing unit U ⁇ b> 2 has a mushroom-shaped plug body 120 and a mounting hole 122 in which a rod-shaped portion of the plug body 120 is mounted, and is inserted into the insertion hole 96 to be fitted and locked.
  • Packing 121 The plug body 120 is made of plastic resin or the like, and the packing 121 is made of various materials having predetermined elasticity such as fluorine resin, elastomer, or rubber.
  • the packing 121 When connecting the closing unit U2 to the air supply member 50, the packing 121 may be inserted into the insertion hole 96 of the offset member 9, fitted and locked, and the plug main body 120 may be inserted into the mounting hole 122.
  • FIGS. 16A and 16B are a perspective view and a cross-sectional perspective view of the lower mounting portion in a state where the small-diameter filter unit U3 is connected.
  • the small-diameter filter unit U3 includes a filter member 130 that purifies the gas G supplied from the air supply member 50 to the internal space of the substrate storage container 1.
  • the small-diameter filter unit U3 includes a filter member 130 having air permeability, a two-stage cylindrical filter housing 133 having a large-diameter cylindrical portion to which the filter member 130 is bonded or held, and a filter housing.
  • 133 has a mounting hole 132 to which the small-diameter cylindrical portion is mounted, and is formed of a packing 131 that is inserted into the insertion hole 96 and fitted and locked.
  • the filter housing 133 is made of plastic resin or the like, and the packing 131 is made of various materials having predetermined elasticity such as fluorine resin, elastomer, or rubber.
  • the filter member 130 is formed of a nonwoven fabric filter or the like.
  • the packing 131 When connecting the small-diameter filter unit U3 to the air supply member 50, the packing 131 may be inserted into the insertion hole 96 of the offset member 9, fitted and locked, and the filter housing 133 may be inserted into the mounting hole 132.
  • the small diameter filter unit U3 supplies the gas G of about 10 L / min, since a passage pressure loss is small, even if it connects only by fitting, fitting does not come off.
  • FIG. 17 is a (a) perspective view and (b) a cross-sectional perspective view of the lower mounting portion in a state where the large-diameter filter unit U4 is connected.
  • the large-diameter filter unit U4 includes a filter member 140 that purifies the gas G supplied from the air supply member 50 to the internal space of the substrate storage container 1 in the same manner as the small-diameter filter unit U3.
  • the large-diameter filter unit U4 includes a filter member 140 having air permeability, a two-stage cylindrical filter housing 143 having a large-diameter cylindrical portion to which the filter member 140 is bonded or held, and a filter.
  • the housing 143 includes a mounting hole 142 into which the small diameter cylindrical portion is mounted, and a packing 141 that is inserted into the insertion hole 96 and fitted and locked.
  • the filter housing 143 is formed of plastic resin or the like, and the packing 141 is formed of various materials having predetermined elasticity such as fluorine resin, elastomer, or rubber.
  • the filter member 140 is formed of a nonwoven fabric filter or the like.
  • the large-diameter filter unit U4 When the large-diameter filter unit U4 is connected to the air supply member 50, the packing 141 is inserted into the insertion hole 96 of the offset member 9, fitted and locked, and the filter housing 143 is inserted into the mounting hole 142. .
  • the large-diameter filter unit U4 has an area of the filter member 140 that is about four times larger than the area of the filter member 130 of the small-diameter filter unit U3. For example, even when supplying a large amount of gas G of about 30 L / min. The passage pressure loss can be reduced.
  • the gas replacement units 3R and 3L described above are configured to blow out the gas G uniformly between the accommodated substrates W, whereas the small-diameter filter unit U3 and the large-diameter filter unit U4 are configured to accommodate substrates. This is used when the uniformity of the gas G in the internal space of the container 1 is not important. Since the gas replacement units 3R and 3L include the filter members 34 and 35, the gas replacement units 3R and 3L can also be referred to as the filter units 3R and 3L.
  • the substrate storage container 1 includes the container main body 2 that can store a plurality of substrates W, and the air supply member 50 that can supply the gas G from the outside of the container main body 2 to the internal space.
  • the functional unit U is connected so as to be exchangeable by fitting.
  • the functional unit U can be easily attached or detached from the container body 2. Also when cleaning the container main body 2, the functional unit U can be easily removed, and the inside of the container main body 2 can be cleaned to every corner. Also, the removed functional unit U can be easily cleaned.
  • the air supply member 50 includes a filter member 51 that filters gas.
  • a filter member 51 that filters gas.
  • the functional unit U includes at least one of the housing member 31 that stores the gas G supplied from the air supply member 50, the cover member 32 that covers the opening of the housing member 31, and the housing member 31 and the cover member 32. It is gas replacement unit 3R, 3L containing the blowing hole which blows off formed gas. As a result, the gas G blown from the blow holes of the gas replacement units 3R and 3L can flow toward the vicinity of the center of the container body 2, the side walls 2c and 2d, and the back wall 2b.
  • the functional unit U is the valve unit U1 including the check valve 110 that enables the gas G to flow into the internal space.
  • the functional unit U is a closing unit U2 that disables the flow of the gas G to the internal space. Thereby, it is possible to more reliably prevent the gas G or air from flowing between the internal space of the substrate storage container 1 and the external atmosphere via the air supply member 50.
  • the functional unit U is a filter unit U3, U4 including a filter member that purifies the gas G supplied to the internal space.
  • the filter members 130 and 140 can be captured by the filter members 130 and 140, so that dust is not blown into the container body 2 and the inside of the substrate storage container 1. The space is not polluted.
  • the gas G is nitrogen gas or dry air.
  • the opening area, the number, and the arrangement of the first blowing hole group 31a-z, the third blowing hole group 33a-z, and the second blowing hole group 32a-f are not limited to the embodiment.
  • the lower blown air volume may be increased so that the air can be opposed from the outside such as downflow air blown along the upper surface of the bottom surface 2f.
  • the ratio of the blown air volume in the front F direction and the rear B direction may be adjusted by selectively closing or additionally drilling the second blow hole group 32a-f. Furthermore, you may change the direction of gas replacement unit 3R, 3L by changing the position of the recessed part 92 of the offset member 9. FIG. Alternatively, the ratio of the blowing direction and / or the amount of blowing air may be adjusted by changing the crossing angle between the two surface portions 31A and 31B of the housing member 31 or changing the area. These changes can be dealt with by using nesting in the molding die.
  • the housing member 31 may be positioned and fixed at the central portion instead of the upper portion, or may be positioned and fixed at the upper portion and the central portion. At this time, the position of the through hole 27 formed in the back wall 2b is appropriately changed, and the shape of the positioning fixing member 8 is also appropriately changed.
  • gas replacement units 3R and 3L in addition to the gas replacement units 3R and 3L, a plurality of other gas replacement units may be provided, or conversely, any one of the gas replacement units 3R or 3L may be provided.
  • the gas replacement units 3R and 3L are not limited to the left and right two locations on the rear B, and may be disposed in any region that does not interfere with the substrate W at the center of the rear B.
  • Substrate storage container 2 Container body, 2a Front opening frame, 2b Rear wall, 2c Right side wall, 2d Left side wall, 2e Top surface, 2f Bottom surface, 21 Support piece, 22 Position restriction part, 23 Grip, 25 Top flange, 26 Bottom Plate, 27 Through-hole, 28 Stopper, 29 Mounting hole 3R, 3L Gas replacement unit, 31 Housing member, 31A, 31B Surface portion, 311 Connector, 312 Non-rotating projection, 313 Positioning projection, 32 Cover member, 31a ... 31z First blowout hole, 32a ... 32f Second blowout hole, 33a ...

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Abstract

本発明は、基板(W)を収納可能な容器本体(2)と、容器本体(2)の外部から内部空間に気体(G)を供給可能な給気部材(50)と、を備え、容器本体(2)をフロントオープンボックスに形成し、底面(2f)に給気部材(50)を取付けた基板収納容器(1)であって、給気部材(50)は、内部空間の環境を異なる状態に変更する機能ユニット(U;3R,3L,U1,U2,U3,U4)が、嵌合によって交換可能に接続されているものである。 これにより、内部空間の環境を変化させる機能ユニットを、簡単に交換することができる基板収納容器を提供することができる。

Description

基板収納容器
 本発明は、複数枚の基板を収納する基板収納容器に関する。
 基板収納容器は、半導体ウエハなどの基板を内部空間に収納し、倉庫での保管、半導体加工装置間での搬送、工場間での輸送などに使用されている。基板収納容器は、内部空間に収納した基板が酸化や汚染されないように、内部空間が窒素ガスなどの不活性ガスやドライエアで置換されることがある。
 このような基板収納容器として、複数枚の基板を収納する容器本体と、容器本体の開口に着脱自在に嵌合される蓋体とを備え、容器本体の底板に、容器本体の外部から内部空間に気体を供給する給気部材がそれぞれ嵌着され、給気部材に連通する中空の吹出しノズル(機能ユニット;気体置換ユニット)を縦にして設け、吹出しノズルの周壁に、基板に向けて気体を吹出す吹出孔を設けたものが知られている(特許文献1及び2参照)。
特開2016-004949号公報 特開2016-015421号公報
 しかしながら、特許文献1及び2にみられる基板収納容器では、機能ユニットと螺合部材とで容器本体を挟むようにして、機能ユニットを螺合により取付けているため、機能ユニットを交換する際、容器本体の内側及び外側の両側で、取付け又は取外し作業を行う必要があり、作業性が悪かった。
 そこで、本発明は以上の課題に鑑みてなされたものであり、内部空間の環境を変化させる機能ユニットを、簡単に交換することができる基板収納容器を提供することを目的とする。
 (1)本発明に係る1つの態様は、複数枚の基板を収納可能な容器本体と、前記容器本体の外部から内部空間に気体を供給可能な給気部材と、を備え、前記容器本体をフロントオープンボックスに形成し、底面に前記給気部材を取付けた基板収納容器であって、前記給気部材は、前記内部空間の環境を異なる状態に変更する機能ユニットが、嵌合によって交換可能に接続されているものである。
 (2)上記(1)の態様において、前記給気部材は、前記気体を濾過する濾過部材を有してもよい。
 (3)上記(1)又は(2)の態様において前記機能ユニットは、前記給気部材から供給された前記気体を貯留するハウジング部材と、前記ハウジング部材の開口を覆うカバー部材と、前記ハウジング部材及び前記カバー部材の少なくとも一方に形成された前記気体を吹出す吹出孔と、を含む気体置換ユニットであってもよい。
 (4)上記(1)又は(2)の態様において、前記機能ユニットは、前記内部空間への前記気体の流通を可能にするチェックバルブを含むバルブユニットであってもよい。
 (5)上記(1)又は(2)の態様において、前記機能ユニットは、前記内部空間への前記気体の流通を不能にする閉塞ユニットであってもよい。
 (6)上記(1)又は(2)の態様において、前記機能ユニットは、前記内部空間に供給される前記気体を浄化するフィルタ部材を含むフィルタユニットであってもよい。
 (7)上記(1)から(6)までのいずれか1つの態様において、前記気体は、窒素ガス又はドライエアであってもよい。
 本発明によれば、内部空間の環境を変化させる機能ユニットを、簡単に交換することができる基板収納容器を提供することができる。
本発明の実施形態に係る基板収納容器の分解斜視図である。 容器本体の正面図である。 容器本体の底面図である。 容器本体の断面平面図である。 気体置換ユニットの斜視図である。 気体置換ユニットの分解斜視図である。 気体置換ユニットの(a)正面図、(b)平面図、(c)底面図、(d)背面図である。 気体置換ユニットの図7(a)におけるA-A断面図である。 容器本体の(a)正面概略図、(b)気体置換ユニットの上部取付部の拡大斜視図、(c)気体置換ユニットの下部取付部の拡大斜視図である。 気体置換ユニットの上部取付部の拡大斜視図である。 気体置換ユニットの(a)下部取付部の拡大図、(b)断面斜視図である。 給気部材から流入した気体の流れを示す断面斜視図である。 交換可能な各種の機能ユニットを説明する概略図である。 バルブユニットを接続した状態における下部取付部の断面斜視図である。 閉塞ユニットを接続した状態における下部取付部の(a)斜視図、(b)断面斜視図である。 小径フィルタユニットを接続した状態における下部取付部の(a)斜視図、(b)断面斜視図である。 大径フィルタユニットを接続した状態における下部取付部の(a)斜視図、(b)断面斜視図である。
 以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、本明細書の実施形態においては、全体を通じて、同一の部材には同一の符号を付している。また、図面中に、正面Fの方向及び後方(背面壁)Bの方向を、実線矢印で示している。また、左右は、正面Fから見た状態を指すものとする。
 基板収納容器1について説明する。図1は、本発明の実施形態に係る基板収納容器1の分解斜視図である。図2は、容器本体2の正面図であり、図3は、容器本体2の底面図であり、図4は、容器本体2の断面平面図である。
 図1に示される基板収納容器1は、複数枚の基板Wを収納する容器本体2と、この容器本体2の開口に着脱自在に装着される蓋体4と、を備えている。基板収納容器1に収納される基板Wとしては、直径が300mmや450mmの半導体ウエハ、マスクガラスなどが挙げられる。
 容器本体2は、正面開口枠2aと、背面壁2bと、右側壁2cと、左側壁2dと、天面2eと、底面2fとで形成される、いわゆるフロントオープンボックスタイプのものである。
 蓋体4は、容器本体2の正面開口枠2aの開口に装着されるもので、図示しないシールガスケットが容器本体2の正面開口枠2aに対向するように取付けられている。この蓋体4を容器本体2に装着した際、シールガスケットは容器本体2と蓋体4との間の周縁部に密着し、基板収納容器1の内部空間の気密性を維持するように構成されている。
 容器本体2の背面壁2bには、更に後方Bに突出する突出部が左右両側に形成されている(図4参照)。この突出部は、容器本体2の正面Fの開口を上向きにして載置される際に、脚部として機能する。また、容器本体2の背面壁2bの中央外側には、収納された基板Wの枚数の補助となる目盛りなどが表示される(図1参照)。
 容器本体2の右側壁2c及び左側壁2dの外側の中央付近には、握持操作用に機能するグリップ23がそれぞれ取付けられている。
 また、容器本体2の右側壁2c及び左側壁2dの内側には、収納される基板Wを水平に支持する左右一対の支持片21がそれぞれ複数設けられ、右側壁2c及び左側壁2dの内側の後方B側には、基板Wを後方Bに向けて挿入した際に、基板Wの挿入位置を規制する位置規制部22がそれぞれ設けられている。
 この左右一対の支持片21は、上下方向に所定のピッチで配列され、各支持片21が基板Wの周縁を支持する細長い板状に形成されている。実施形態では、25枚の基板Wが支持できるように支持片21が設けられているが、基板Wの最大収納枚数は25枚に限らない。
 このとき、基板Wは、容器本体2に必要に応じて満載状態で収納されたり、満載状態より少ない数が収納されたり、収納位置が変えられたりするため、容器本体2への収納枚数及び収納状態は、基板収納容器1の使用態様によって種々異なる。例えば、複数枚の基板Wが、上方又は下方に偏って収納されたり、1つ置きに収納されたりすることもある。
 容器本体2の天面2eの外側には、ロボティックフランジなどのトップフランジ25が取付けられている。このトップフランジ25は、例えば、半導体製造工場の天井搬送車に把持され、工程間を搬送されたり、半導体加工装置などの蓋体開閉装置に位置決めに利用されたりする。
 容器本体2の底面2fの外側には、容器本体2を位置決め、載置するためのボトムプレート26が取付けられている。
 容器本体2や蓋体4、また、グリップ23、トップフランジ25、ボトムプレート26などの付属品は、所要の樹脂を含有する成形材料により射出成形されたり、射出成形された複数の部品の組み合わせにより構成されたりする。成形材料に含まれる樹脂としては、例えばポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリブチレンテレフタレート、ポリアセタール、液晶ポリマーといった熱可塑性樹脂やこれらのアロイなどが挙げられる。
 また、これらの樹脂には、カーボン繊維、カーボンパウダー、カーボンナノチューブ、導電性ポリマーなどからなる導電性物質やアニオン、カチオン、非イオン系などの各種帯電防止剤が必要に応じて添加される。さらに、紫外線吸収剤や、剛性を向上させる強化繊維なども必要に応じて添加される。なお、容器本体2、蓋体4、グリップ23、トップフランジ25及びボトムプレート26などは、透明、不透明、半透明のいずれでもよいが、容器本体2及び蓋体4は、透明が好ましい。
 ここで、容器本体2の底面2fには、図3に示すように、3つの給気部材50と1つの排気部材60とが設けられている。これらの給気部材50及び排気部材60は、基板収納容器1の外部から内部空間に又は内部空間から外部に気体Gを流通させることにより、収納した基板Wの表面の変質を抑制したり、基板収納容器1の内部空間と外部との圧力差を解消したりするように機能する。
 このうち、2つの給気部材50が、底面2fの後方Bの左右両側に設けられており、また、1つの給気部材50と1つの排気部材60とが、底面2fの正面F付近の左又は右側に設けられている。そして、これらの給気部材50に、後述する各種の機能ユニットUが接続されている(図13参照)。なお、正面F付近の給気部材50は、排気部材60として使用される場合もある。
 給気部材50は、容器本体2の底面2fに形成された凹部に装着されるグロメット50aと、グロメット50aの端部に取付けられた、通気性を有する濾過部材51と、逆止弁52とを有している。グロメット50aは、エラストマーなどの弾性樹脂部材で形成されている。濾過部材51は、供給される気体Gを濾過し、塵埃を除去するもので、不織布フィルタなどが用いられる。
 逆止弁52は、弁を閉止する方向にコイルバネ53により付勢されて、バルブハウジング54に収容されている。なお、本実施形態では、給気部材50は、逆止弁52を有するものとしたが、後述する機能ユニットUの種類によっては、逆止弁52を有さないものであってもよい。
 一方、排気部材60は、逆止弁(図示なし)を有するとともに、例えば、湿度(又は濃度)センサを取付けることで、基板収納容器1の内部空間を気体Gで置換した後、基板収納容器1の内部空間の湿度(又は濃度)を測定することができ、基板収納容器1の内部空間への気体Gの置換が正常に行われているかの管理を行うことができる。
 つづいて、基板収納容器1の内部空間の環境を変化させる各種の機能ユニットUの構成について順に説明する。図13は、交換可能な各種の機能ユニットUを説明する概略図である。
 機能ユニットUとしては、気体置換ユニット3R,3L、バルブユニットU1、閉塞ユニットU2、小径フィルタユニットU3、大径フィルタユニットU4などが挙げられる。
(気体置換ユニット3R,3L)
 まず、基板収納容器1の内部空間を気体置換ユニット3R,3Lにより気体Gに置換する構成について説明する。図5は、気体置換ユニット3R,3Lの斜視図であり、図6は、気体置換ユニット3R,3Lの分解斜視図である。図7は、気体置換ユニット3R,3Lの(a)正面図、(b)平面図、(c)底面図、(d)背面図である。図8は、気体置換ユニット3R,3Lの図7におけるA-A断面図である。なお、図5から図8は、正面Fから見て右側の気体置換ユニット3Rについて示す。
 気体置換ユニット3R,3Lは、容器本体2の内部空間を気体Gで置換するもので、基板Wが挿入された状態でも基板Wと干渉しないように、容器本体2の後方B(背面壁2b又は突出部付近)の左右両側に、長手方向を縦にして備えられている(図1及び2参照)。
 この気体置換ユニット3R,3Lは、容器本体2の内部空間に気体Gを吹出すものである。吹出す気体Gとしては、不活性ガスやドライエアが挙げられる。さらに、不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガスなどが挙げられるが、コスト面から窒素ガスが好ましい。
 気体置換ユニット3R,3Lについて更に詳細に説明する。ただし、気体置換ユニット3Lは、図2に示されるように、気体置換ユニット3Rと左右対称なものである点を除いて、同じ形状・構造であるから、説明を省略する。
 図5に示される気体置換ユニット3Rは、ハウジング部材31と、カバー部材32とを含み、略5角形柱状に形成されているが、形状はこれに限られない。また、気体置換ユニット3Rは、容器本体2などと同様の樹脂で形成されても、異なる樹脂で形成されてもよい。
 ハウジング部材31は、気体Gを貯留するように、一方が開口した面となる箱状に形成されており、この開口した面を覆うように、カバー部材32が、爪などの係止手段(係合手段)によって取付けられている。これらのハウジング部材31とカバー部材32とで、気体Gを貯留する空間が形成されている。
 ここで、ハウジング部材31は、所定の角度で交差し、大きさの異なる2つの面部31A,31Bを有している。面部31Aと面部31Bとの交差角度は、内角で120°から170°の範囲である。また、面部31Aの面積は、面部31Bの面積より大きく形成されている。
 ハウジング部材31の下面には、給気部材50からの気体Gが流れ込む円筒状の接続具311が突出して設けられている。接続具311の近傍には、気体置換ユニット3Rの左右方向の回転を止め、回転方向の位置決めをする回止め突起312が形成されている(図7参照)。一方、ハウジング部材31の上面には、容器本体2に位置決め固定するための円柱状の位置決め突起313が形成されている。
 ハウジング部材31の面部31Aには、図7(a)に示すように、横長の略矩形状の吹出孔が、縦方向(長手方向)に上から順に、第1吹出孔31a,31b,31c・・・31x,31y,31z(以下、必要に応じて「第1吹出孔群31a-z」という。)が26か所に形成されている。
 ハウジング部材31の面部31Bには、同じく横長の略矩形状の吹出孔が、縦方向(長手方向)に上から順に、第3吹出孔33a,33b,33c・・・33x,33y,33z(以下、必要に応じて「第3吹出孔群33a-z」という。)として26か所に形成されている。
 第1吹出孔群31a-zと、第3吹出孔群33a-zとを、所定の角度で交差する面部31A,31Bにそれぞれ形成することにより、気体Gの吹出方向を異ならせることができ、気体Gが基板収納容器1の内部空間に拡散し易くなる。
 最上段の第1吹出孔31aの開口高さは、2段目の第1吹出孔31bの開口高さよりも、少し大きく、すなわち、第1吹出孔31aの開口面積は、第1吹出孔31bの開口面積よりも、少し大きい。また、第1吹出孔31bから第1吹出孔31uまでの開口面積は、すべて等しく、第1吹出孔31vから第1吹出孔31yまでの開口面積は、第1吹出孔31uの開口面積よりも徐々に大きくなり、第1吹出孔31zの開口面積は、第1吹出孔31yの開口面積よりも小さい。また、第3吹出孔群33a-zについても同様である。
 そして、最下段の第1吹出孔31z及び第3吹出孔33zは、容器本体2の最下段の支持片21に支持された基板Wよりも下方に位置している。ただし、最下段の基板Wよりも下方に位置する第1吹出孔31z及び第3吹出孔33zは、1つに限らず複数であってもよい。
 このように、第1吹出孔群31a-z及び第3吹出孔群33a-zは、下方側の開口面積を大きくしているため、下方から供給される気体Gの直進性が高くても、第1吹出孔群31a-z及び第3吹出孔群33a-zの下方から上方にわたって、気体Gが均一に吹出される。また、最下段の基板Wの下にも第1吹出孔31z及び第3吹出孔33zが形成されているので、最下段の基板Wと底面2fとの間にも、気体Gが吹出されるから、クリーンルーム内のダウンフローのエアが容器本体2の正面Fの開口から内部に侵入しても、底面2fの上面を正面Fに向かって吹出す気体Gによって、必要以上に流れ込むことがない。
 一方、カバー部材32には、図7(d)に示すように、略矩形又は正方形状の吹出孔が、縦方向(長手方向)に上から順に、第2吹出孔32a,32b・・32e,32f(以下、必要に応じて「第2吹出孔群32a-f」という。)として6か所に形成されている。最上段の第2吹出孔32aの高さ位置は、第1吹出孔31cの高さ位置と略同じで、以下、第2吹出孔32bと第1吹出孔31hとが、第2吹出孔32cと第1吹出孔31mとが、第2吹出孔32dと第1吹出孔31sとが、第2吹出孔32eと第1吹出孔31wとが、第2吹出孔32fと第1吹出孔31yとが、略同じ高さでそれぞれ一致している。
 ここで、第1吹出孔群31a-z、第2吹出孔群32a-f及び第3吹出孔群33a-zのそれぞれの合計開口面積S1,S2,S3の比率は、容器本体2に収納された複数の基板W間での湿度のバラツキがより小さくなるように調節できる。開口面積の調節は、第1吹出孔群31a-z、第2吹出孔群32a-f及び第3吹出孔群33a-zの各吹出孔が異なるハウジング部材31及びカバー部材32を準備することや、適宜の吹出孔を閉止することで実施できる。
 図4に戻って、気体置換ユニット3R,3Lは、上述したように容器本体2の後方B(背面壁2b又は突出部付近)の左右両側に備えられているため、吹出した気体Gを基板収納容器1の内部空間に均一に拡散させるためには、基本的に第1吹出孔群31a-z及び第3吹出孔群33a-zから正面F側に向かって吹出し、空気を気体Gで置換することになる。このとき、第1吹出孔群31a-z及び第3吹出孔群33a-zが設けられた位置よりも後方B側の、背面壁2bから右側壁2c又は左側壁2d付近にも空気が存在するため、後方Bに向かって第2吹出孔群32a-fからも気体Gを吹出す方がよい。
 そして、第1吹出孔群31a-z及び第3吹出孔群33a-zが設けられた位置よりも正面F側の空間は、第1吹出孔群31a-z及び第3吹出孔群33a-zが設けられた位置よりも後方B側の空間と比較するとかなり大きいため、正面F側を向く第1吹出孔群31a-zの合計開口面積S1及び第3吹出孔群33a-zの合計開口面積S3は、後方B側を向く第2吹出孔群32a-fの合計開口面積S2よりも、大きくする方がよい。
 また、気体置換ユニット3R,3Lは、前述したように基本的に正面F側に向かって気体Gを吹出すが、右側壁2c又は左側壁2d付近に備えられるため、右側壁2c又は左側壁2dに沿って正面Fに向かう気体Gは、少なくてもよいが、逆に、容器本体2の中央に向かう気体Gは、多い方がよい。そのため、第1吹出孔群31a-zの合計開口面積S1は、第3吹出孔群33a-zの合計開口面積S3よりも、大きくする方がよい。
 これらを踏まえると、第1吹出孔群31a-z、第2吹出孔群32a-f及び第3吹出孔群33a-zのそれぞれの合計開口面積S1,S2,S3は、S1:S2:S3=3:1:2などとしてもよい。
 図6に戻って、ハウジング部材31の内側には、通気性を有するフィルタ部材34が設けられており、同じくカバー部材32の内側には、通気性を有するフィルタ部材35が設けられている。フィルタ部材34,35としては、例えば、不織布フィルタなどが挙げられる。
 そして、円筒状の接続具311から導入された気体Gは、ハウジング部材31とカバー部材32とで形成される空間に導入され、貯留される。貯留された気体Gは、フィルタ部材34,35を介して、第1吹出孔群31a-z、第2吹出孔群32a-f及び第3吹出孔群33a-zから容器本体2の内部空間に吹出される。
 気体置換ユニット3Rの容器本体2への取付方法について説明する。図9は、容器本体2の(a)正面概略図、(b)気体置換ユニット3Rの上部取付部の拡大斜視図、(c)気体置換ユニット3Rの下部取付部の拡大斜視図である。図10は、気体置換ユニット3Rの上部取付部の拡大斜視図である。図11は、気体置換ユニット3Rの(a)下部取付部の拡大図、(b)断面斜視図である。
 気体置換ユニット3Rは、位置決め固定部材8及びオフセット部材9により容器本体2に取付けられている。具体的には、気体置換ユニット3Rの上部が、位置決め固定部材8に取付けられ、気体置換ユニット3Rの下部が、オフセット部材9に取付けられる。
 そこで、容器本体2の背面壁2bの左右両側には、位置決め固定部材8を固定するために、円形の貫通孔27が形成されており、また、貫通孔27の上部には、ストッパ28が形成されている。一方、容器本体2の底面2fの左右両側には、オフセット部材9を固定するために、取付孔29が形成されている。この取付孔29は、円形でなく大きな円と小さな円を繋いだ略楕円形状で形成されている。
 図10に示される位置決め固定部材8は、細長い形状で、一端側が略板状で、他端側が矩形の軸で形成されている。この軸の周囲には、3つの円盤状のフランジ81,82,83が他端側に向かって形成されている。軸端のフランジ83と中間のフランジ82は、背面壁2bの貫通孔27の径より小さく形成され、貫通孔27に挿入される。中間のフランジ82には、小径の段部が形成され、Oリング84Aが嵌め込まれている。内側のフランジ81にも、小径の段部が形成され、Oリング84Bが嵌め込まれている。内側のフランジ81及びOリング84Bは、貫通孔27の径より大きく形成されており、位置決め固定部材8の他端側を貫通孔27に挿入した際、容器本体2とフランジ81の間にOリング84Bが挟まるため、気体Gが漏れることがない。
 位置決め固定部材8を貫通孔27に挿入後、軸端のフランジ83と容器本体2の間に位置する矩形の軸に、内側が矩形状に形成され、外径が貫通孔27より大きいCリング85を挟むことにより、位置決め固定部材8が貫通孔27を介して容器本体2に固定される。具体的には、軸端のフランジ83を外側に引っ張りながら、Oリング84Bをフランジ81と容器本体2との間で潰しながら、Cリング85を差し込むことで密封性が高まる。
 また、位置決め固定部材8の一端側は、上方に屈曲した板形状で、細長いスリット86が形成されている。このスリット86には、ハウジング部材31の位置決め突起313とストッパ28が嵌り込む。端部87は、更に上部に湾曲し、その更に先端にはU字型の切欠き88が形成されている。
 図11に示されるオフセット部材9は、底面2fの内側に位置するオフセットプレート押さえ90と、底面2fの外側に位置するオフセットプレート95との間に、気体Gが流通する隙間が形成されるように、Oリング94を介して組立てられている。
 オフセットプレート押さえ90には、ハウジング部材31の回止め突起312が嵌り込む凹部92が形成されており、回止め突起312が凹部92に嵌り込むことで、回転する気体置換ユニット3Rの方向及び位置が決まる。また、オフセットプレート押さえ90には、気体置換ユニット3Rの接続具311を差し込む差込孔96が形成されており、接続具311は、パッキン93を介して差込孔96に差し込まれる。取付孔29には、このオフセットプレート押さえ90がOリング91を介して嵌め込まれる。
 オフセットプレート95は、平面視で、パッキン93の中心位置からズレた位置に、給気部材50の中心が位置するように、給気部材50を嵌め込む凹部が形成されている。
 このような構成により、気体置換ユニット3Rは、まず下部の接続具311がオフセット部材9に取付けられ、その後、上部の位置決め突起313が位置決め固定部材8に取付けられて、容器本体2に取付けられる。
 具体的には、気体置換ユニット3Rの下部の接続具311をパッキン93に差し込んで傾いた状態から、気体置換ユニット3Rの上部の位置決め突起313を、端部87側からスリット86に向かって押し込むことで、位置決め固定部材8が湾曲して、位置決め突起313が、スリット86に嵌り込む。と同時に、位置決め突起313は、ストッパ28にも当接することで、スリット86内での位置が決められ、気体置換ユニット3Rの上部が位置決め固定される。
 気体Gの流れについて説明する。図12は、給気部材50から流入した気体Gの流れを示す断面斜視図である。なお、気体Gの流れは、矢印で示す。
 図12において、給気部材50から高圧で導入された気体Gは、濾過部材51を通過し、オフセットプレート押さえ90とオフセットプレート95との隙間を流れ、後方Bのオフセットプレート押さえ90と気体置換ユニット3Rの下部の接続具311との接続部に向かう。
 その後、気体Gは気体置換ユニット3Rの貯留空間を進みながら(図8参照)、第1吹出孔群31a-z、第3吹出孔群33a-z及び第2吹出孔群32a-fから吹出される。このとき、気体Gは、正面F側の中央付近及び右側壁2cに向かう方向と、後方B側の背面壁2bに向かう方向との、異なる3方向に吹出される(図4参照)。
 ここで、第1吹出孔群31a-zから容器本体2の正面F側の中央付近に向かって吹き出される気体Gの方向及び第3吹出孔群33a-zから容器本体2の右側壁2c又は左側壁2dに向かって吹出される気体Gの方向について具体的に説明する。
 第1吹出孔群31a-z又は第3吹出孔群33a-zの吹出開口の延長方向、つまり、第1吹出孔群31a-z又は第3吹出孔群33a-zが形成された面部31A又は面部31Bの中央を通る法線が、右側壁2c又は左側壁2dに交差することなく、容器本体2の正面開口枠2aの開口に到達する範囲であることが好ましい。更に好ましくは、気体置換ユニット3Rの場合、面部31Aの法線が、容器本体2の正面開口枠2aの開口からの法線NL(垂線)に対して10°から40°の範囲であり、面部31Bの法線が、容器本体2の正面開口枠2aの開口からの法線NL(垂線)を挟んで、中央側5°から右側壁2c側10°の範囲である。なお、気体置換ユニット3Lの場合は、気体置換ユニット3Rと対称となる。
 このような範囲となるように、面部31A及び面部31B(あるいは、第1吹出孔群31a-z及び第3吹出孔群33a-z)を形成し、気体置換ユニット3R,3Lを容器本体2の内部に備えることで、各吹出孔から吹出された気体Gは、容器本体2の右側壁2c又は左側壁2dに、衝突して反射することがない。そのため、気体Gの気流に乱れが起きることがないから、容器本体2の内部空間を気体Gで素早く確実に置換することができる。
 蓋体4が容器本体2に装着されている場合には、容器本体2に気体Gが高圧で供給され、内部空間に充満すると、気体Gは、図3に示した排気部材60から容器本体2の外部に流出する。この空気の流出により、基板収納容器1の内部空間がパージガスである気体Gに置換される。
 一方、蓋体4が装着されていない場合には、図示しないクリーンルームなど外部装置からのダウンフローのエアが、容器本体2の正面Fから流れ込むが、このエアに抗しながら、基板収納容器1の内部空間がパージガスである気体Gに置換される。
(バルブユニットU1)
 図14は、バルブユニットU1を接続した状態における下部取付部の断面斜視図である。
 バルブユニットU1は、給気部材50から基板収納容器1の内部空間への気体Gの流通を可能にするが、内部空間の気体Gが給気部材50に逆流しない、チェックバルブ110を含むものである。
 バルブユニットU1は、図14に示すように、弁座113を有する略円筒状のバルブハウジング112と、コイルバネ111によって弁座113に付勢されるチェックバルブ110と、で構成されている。チェックバルブ110及びバルブハウジング112は、フッ素系樹脂、エラストマー、ゴムなどの所定の弾性を有する各種材料で形成されている。
 上述した気体置換ユニット3R,3Lは、収納された基板W間に均一に気体Gを吹出すように構成されているのに対して、このバルブユニットU1は、給気部材50から供給される気体Gの圧力が、コイルバネ111の付勢力に打ち勝って、チェックバルブ110を、弁座113から離間したときに、基板収納容器1の内部空間へ気体Gを流通させるようになっており、内部空間における気体Gの均一性が重要でない場合などに利用される。
 バルブユニットU1を給気部材50に接続する場合は、オフセット部材9の差込孔96に、バルブハウジング112を差し込み、2つのフランジ114で嵌合係止すればよい。
(閉塞ユニットU2)
 図15は、閉塞ユニットU2を接続した状態における下部取付部の(a)斜視図、(b)断面斜視図である。
 閉塞ユニットU2は、給気部材50から基板収納容器1の内部空間への気体Gの流通を不能にするものである。
 閉塞ユニットU2は、図15に示すように、キノコ状のプラグ本体120と、プラグ本体120の棒状部が装着される装着孔122を有するとともに、差込孔96に差し込まれ、嵌合係止されるパッキン121と、で構成されている。プラグ本体120は、プラスチック樹脂などで形成されており、パッキン121は、フッ素系樹脂、エラストマー、ゴムなどの所定の弾性を有する各種材料で形成されている。
 閉塞ユニットU2を給気部材50に接続する場合は、オフセット部材9の差込孔96に、パッキン121を差し込み、嵌合係止し、プラグ本体120を装着孔122に挿入装着すればよい。
(小径フィルタユニットU3)
 図16は、小径フィルタユニットU3を接続した状態における下部取付部の(a)斜視図、(b)断面斜視図である。
 小径フィルタユニットU3は、給気部材50から基板収納容器1の内部空間に供給される気体Gを浄化するフィルタ部材130を含むものである。
 小径フィルタユニットU3は、図16に示すように、通気性を有するフィルタ部材130と、フィルタ部材130が接着又は保持固定される大径円筒部を有する二段円筒状のフィルタハウジング133と、フィルタハウジング133の小径円筒部が装着される装着孔132を有するとともに、差込孔96に差し込まれ、嵌合係止されるパッキン131と、で構成されている。フィルタハウジング133は、プラスチック樹脂などで形成され、パッキン131は、フッ素系樹脂、エラストマー、ゴムなどの所定の弾性を有する各種材料で形成されている。また、フィルタ部材130は、不織布フィルタなどで形成されている。
 小径フィルタユニットU3を給気部材50に接続する場合は、オフセット部材9の差込孔96に、パッキン131を差し込み、嵌合係止し、フィルタハウジング133を装着孔132に挿入装着すればよい。なお、小径フィルタユニットU3は、約10L/minの気体Gを供給しても、通過圧損が小さいため、嵌合のみで接続されていても、嵌合が外れるようなことがない。
(大径フィルタユニットU4)
 図17は、大径フィルタユニットU4を接続した状態における下部取付部の(a)斜視図、(b)断面斜視図である。
 大径フィルタユニットU4は、小径フィルタユニットU3と同様に、給気部材50から基板収納容器1の内部空間に供給される気体Gを浄化するフィルタ部材140を含むものである。
 大径フィルタユニットU4は、図17に示すように、通気性を有するフィルタ部材140と、フィルタ部材140が接着又は保持固定される大径円筒部を有する二段円筒状のフィルタハウジング143と、フィルタハウジング143の小径円筒部が装着される装着孔142を有するとともに、差込孔96に差し込まれ、嵌合係止されるパッキン141と、で構成されている。フィルタハウジング143は、プラスチック樹脂などで形成され、パッキン141は、フッ素系樹脂、エラストマー、ゴムなどの所定の弾性を有する各種材料で形成されている。また、フィルタ部材140は、不織布フィルタなどで形成されている。
 大径フィルタユニットU4を給気部材50に接続する場合は、オフセット部材9の差込孔96に、パッキン141を差し込み、嵌合係止し、フィルタハウジング143を装着孔142に挿入装着すればよい。なお、大径フィルタユニットU4は、フィルタ部材140の面積が、小径フィルタユニットU3のフィルタ部材130の面積よりも約4倍大きいため、例えば、約30L/minの大量の気体Gを供給する場合でも、通過圧損を小さくすることができる。
 上述した気体置換ユニット3R,3Lは、収納された基板W間に均一に気体Gを吹出すように構成されているのに対して、この小径フィルタユニットU3及び大径フィルタユニットU4は、基板収納容器1の内部空間における気体Gの均一性が重要でない場合などに利用される。なお、気体置換ユニット3R,3Lは、フィルタ部材34,35を含むものであるから、フィルタユニット3R,3Lと言い換えることもできる。
 以上のとおり、本発明の実施形態に係る基板収納容器1は、複数枚の基板Wを収納可能な容器本体2と、容器本体2の外部から内部空間に気体Gを供給可能な給気部材50と、を備え、容器本体2をフロントオープンボックスに形成し、底面2fに給気部材50を取付けた基板収納容器1であって、給気部材50は、内部空間の環境を異なる状態に変更する機能ユニットUが、嵌合によって交換可能に接続されているものである。
 これにより、給気部材50に各種の機能ユニットUを取付けることができるため、容器本体2から機能ユニットUを簡単に取付け又は取外しをすることができる。容器本体2を洗浄する際も、機能ユニットUを容易に取外すことができ、容器本体2内を隅々まで洗浄することができる。また、取外した機能ユニットUも簡単に洗浄することができる。
 実施形態では、給気部材50は、気体を濾過する濾過部材51を有する。これにより、フィルタを有さない機能ユニットUを接続する場合であっても、機能ユニットUから、塵埃を含んだ気体Gが吹出されることを抑制できるし、また、フィルタユニットU2,U3などのフィルタを有する機能ユニットUを接続する場合は、二重に塵埃を除去することができ、機能ユニットUのフィルタ交換間隔を長くすることができる。さらに、容器本体2を洗浄する際に使用される洗浄液などの液体が、疎水性の濾過部材51により、液体の侵入を防止することができる。
 実施形態では、機能ユニットUは、給気部材50から供給された気体Gを貯留するハウジング部材31と、ハウジング部材31の開口を覆うカバー部材32と、ハウジング部材31及びカバー部材32の少なくとも一方に形成された気体を吹出す吹出孔と、を含む気体置換ユニット3R,3Lである。これにより、気体置換ユニット3R,3Lの吹出孔から吹出した気体Gは、容器本体2の中央付近、側壁2c,2d、背面壁2bに向かって流すことができる。
 実施形態では、機能ユニットUは、内部空間への気体Gの流通を可能にするチェックバルブ110を含むバルブユニットU1である。これにより、基板収納容器1の内部空間における気体Gの均一性が重要でない場合などは、気体置換ユニット3R,3Lを利用する必要がない。
 実施形態では、機能ユニットUは、内部空間への気体Gの流通を不能にする閉塞ユニットU2である。これにより、給気部材50を介して、基板収納容器1の内部空間と外部の雰囲気との間で、気体G又は空気などが流通することを、より確実に防止することができる。
 実施形態では、機能ユニットUは、内部空間に供給される気体Gを浄化するフィルタ部材を含むフィルタユニットU3,U4である。これにより、供給される気体Gに塵埃が含まれていても、フィルタ部材130,140で捕獲することができるため、容器本体2内に塵埃が吹出されることがなく、基板収納容器1の内部空間が汚染されることがない。
 実施形態では、気体Gは、窒素ガス又はドライエアである。これにより、基板収納容器1の内部空間に気体Gを供給した場合、内部空間が不活性又は低湿度に維持されるので、基板Wの表面は変質することがない。
 (変形例)
 実施形態の気体置換ユニット3R,3Lにおいて、第1吹出孔群31a-z、第3吹出孔群33a-z及び第2吹出孔群32a-fの開口面積や数量や配置も実施形態に限らず、底面2fの上面に沿って吹き込むダウンフローエアなどの外部からエアに対向できるように、下方の吹出風量を増やすように構成してもよい。
 また、第2吹出孔群32a-fを選択的に塞いだり、追加で穿設したりすることで、正面F方向及び後方B方向への吹出風量の比率を調整してもよい。さらに、オフセット部材9の凹部92の位置を変更することで、気体置換ユニット3R,3Lの方向を変更してもよい。あるいは、ハウジング部材31の2つの面部31A,31Bの交差角度を変更したり、面積を変更したりして、吹出方向及び/又は吹出風量の比率を調整してもよい。なお、これらの変更は、成形金型に入れ子を用いることで対応することができる。
 また、ハウジング部材31は、上部でなく中央部で位置決め固定されてもよく、あるいは、上部及び中央部で位置決め固定されてもよい。このとき、背面壁2bに形成される貫通孔27の位置は、適宜変更され、位置決め固定部材8の形状も適宜変更される。
 上記実施形態において、気体置換ユニット3R,3Lの他に、他の気体置換ユニットを複数備えてもよいし、逆に気体置換ユニット3R又は3Lのいずれか1つであってもよい。また、気体置換ユニット3R,3Lは、後方Bの左右の2か所に限らず、後方Bの中央部に基板Wと干渉しない領域があれば、その領域に配置してもよい。
 以上、本発明の好ましい実施形態について詳述したが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、変更が可能である。
 1  基板収納容器
 2  容器本体、2a 正面開口枠、2b 背面壁、2c 右側壁、2d 左側壁、2e 天面、2f 底面、21 支持片、22 位置規制部、23 グリップ、25 トップフランジ、26 ボトムプレート、27  貫通孔、28  ストッパ、29  取付孔
 3R,3L  気体置換ユニット、31 ハウジング部材、31A,31B 面部、311 接続具、312 回止め突起、313 位置決め突起、32 カバー部材、31a・・・31z 第1吹出孔、32a・・・32f 第2吹出孔、33a・・・33z 第3吹出孔、34,35 フィルタ部材
 4  蓋体
 50 給気部材、50a グロメット、51 濾過部材、52 逆止弁、53 コイルバネ、54 バルブハウジング
 60 排気部材
 8  位置決め固定部材、81,82,83 フランジ、84A,84B Oリング、85 Cリング、86 スリット、87 端部、88 切欠き
 9  オフセット部材、90 オフセットプレート押さえ、91 Oリング、92 凹部、93 パッキン、94 Oリング、95 オフセットプレート、96 差込孔
 F  正面、B  後方、G  気体、W  基板、NL 法線
 U  機能ユニット
 U1 バルブユニット、110 チェックバルブ、111 コイルバネ、112 バルブハウジング
 U2 閉塞ユニット、120 プラグ本体、121 パッキン
 U3 小径フィルタユニット、130 フィルタ部材、131 パッキン、133 フィルタハウジング
 U4 大径フィルタユニット 140 フィルタ部材、141 パッキン、143 フィルタハウジング

Claims (7)

  1.  複数枚の基板を収納可能な容器本体と、
     前記容器本体の外部から内部空間に気体を供給可能な給気部材と、を備え、
     前記容器本体をフロントオープンボックスに形成し、底面に前記給気部材を取付けた基板収納容器であって、
     前記給気部材は、前記内部空間の環境を異なる状態に変更する機能ユニットが、嵌合によって交換可能に接続されている
     ことを特徴とする基板収納容器。
  2.  前記給気部材は、前記気体を濾過する濾過部材を有する
     ことを特徴とする請求項1に記載の基板収納容器。
  3.  前記機能ユニットは、
     前記給気部材から供給された前記気体を貯留するハウジング部材と、
     前記ハウジング部材の開口を覆うカバー部材と、
     前記ハウジング部材及び前記カバー部材の少なくとも一方に形成された前記気体を吹出す吹出孔と、を含む気体置換ユニットである
     ことを特徴とする請求項1又は2に記載の基板収納容器。
  4.  前記機能ユニットは、前記内部空間への前記気体の流通を可能にするチェックバルブを含むバルブユニットである
     ことを特徴とする請求項1又は2に記載の基板収納容器。
  5.  前記機能ユニットは、前記内部空間への前記気体の流通を不能にする閉塞ユニットである
     ことを特徴とする請求項1又は2に記載の基板収納容器。
  6.  前記機能ユニットは、前記内部空間に供給される前記気体を浄化するフィルタ部材を含むフィルタユニットである
     ことを特徴とする請求項1又は2に記載の基板収納容器。
  7.  前記気体は、窒素ガス又はドライエアである
     ことを特徴とする請求項1から6までのいずれか1項に記載の基板収納容器。
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Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019176024A (ja) * 2018-03-28 2019-10-10 Tdk株式会社 ウエハ収容容器及びウエハ収容容器の清浄化方法
JP2020136486A (ja) * 2019-02-19 2020-08-31 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JP2021015951A (ja) * 2019-07-13 2021-02-12 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 基板キャリア及びその気体拡散モジュール
JP2021040089A (ja) * 2019-09-05 2021-03-11 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JPWO2022269718A1 (ja) * 2021-06-21 2022-12-29
JP2023027776A (ja) * 2021-08-17 2023-03-02 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 気体拡散装置、及びそれを含むウェーハ容器
JP2023043097A (ja) * 2021-09-15 2023-03-28 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JP2024137664A (ja) * 2023-03-23 2024-10-07 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 気体弁蓋および其れを応用する基板キャリア
US12315749B2 (en) 2021-12-17 2025-05-27 Entegris, Inc. Methods of installing a purge fluid conditioning element into a semiconductor substrate carrying container

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11948821B2 (en) * 2018-04-25 2024-04-02 Miraial Co., Ltd. Substrate storing container
US12017841B2 (en) 2019-07-13 2024-06-25 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd Substrate container system
US11104496B2 (en) * 2019-08-16 2021-08-31 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. Non-sealed reticle storage device
DE102020127889A1 (de) * 2020-10-22 2022-04-28 Feurer Febra Gmbh Ladungsträger
US12424472B2 (en) * 2021-03-29 2025-09-23 Miraial Co., Ltd. Substrate storing container
CN117581348A (zh) * 2021-06-08 2024-02-20 恩特格里斯公司 晶片容器及清洁系统
KR102314174B1 (ko) * 2021-06-10 2021-10-18 (주)상아프론테크 웨이퍼 저장 장치
CN113937041A (zh) * 2021-06-30 2022-01-14 家登精密工业股份有限公司 基板容器系统
WO2023183517A1 (en) * 2022-03-25 2023-09-28 Entegris, Inc. Wafer container purge port assembly
CN118318291A (zh) * 2022-11-08 2024-07-09 霭崴科技股份有限公司 晶圆盒的气帘装置
US20250029857A1 (en) * 2023-07-21 2025-01-23 Entegris, Inc. Module retainer

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011181930A (ja) * 2004-04-18 2011-09-15 Entegris Inc ウエハー容器をパージする方法
JP2014160783A (ja) * 2013-02-20 2014-09-04 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
WO2016013536A1 (ja) * 2014-07-25 2016-01-28 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
WO2016089912A1 (en) * 2014-12-01 2016-06-09 Entegris, Inc. Substrate container valve assemblies
WO2016135952A1 (ja) * 2015-02-27 2016-09-01 ミライアル株式会社 基板収納容器
JP2016538732A (ja) * 2013-10-14 2016-12-08 インテグリス・インコーポレーテッド 基板キャリア用タワー

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5873468A (en) * 1995-11-16 1999-02-23 Sumitomo Sitix Corporation Thin-plate supporting container with filter means
DE60332644D1 (de) * 2002-10-25 2010-07-01 Shinetsu Polymer Co Substratspeicherbehälter
US7201276B2 (en) * 2003-11-07 2007-04-10 Entegris, Inc. Front opening substrate container with bottom plate
US8783463B2 (en) * 2008-03-13 2014-07-22 Entegris, Inc. Wafer container with tubular environmental control components
JP6265844B2 (ja) 2014-06-18 2018-01-24 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JP6325374B2 (ja) 2014-07-02 2018-05-16 ミライアル株式会社 基板収納容器

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011181930A (ja) * 2004-04-18 2011-09-15 Entegris Inc ウエハー容器をパージする方法
JP2014160783A (ja) * 2013-02-20 2014-09-04 Shin Etsu Polymer Co Ltd 基板収納容器
JP2016538732A (ja) * 2013-10-14 2016-12-08 インテグリス・インコーポレーテッド 基板キャリア用タワー
WO2016013536A1 (ja) * 2014-07-25 2016-01-28 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
WO2016089912A1 (en) * 2014-12-01 2016-06-09 Entegris, Inc. Substrate container valve assemblies
WO2016135952A1 (ja) * 2015-02-27 2016-09-01 ミライアル株式会社 基板収納容器

Cited By (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019176024A (ja) * 2018-03-28 2019-10-10 Tdk株式会社 ウエハ収容容器及びウエハ収容容器の清浄化方法
JP7110663B2 (ja) 2018-03-28 2022-08-02 Tdk株式会社 ウエハ収容容器及びウエハ収容容器の清浄化方法
JP7234476B2 (ja) 2019-02-19 2023-03-08 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JP2020136486A (ja) * 2019-02-19 2020-08-31 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JP2021015951A (ja) * 2019-07-13 2021-02-12 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 基板キャリア及びその気体拡散モジュール
JP7351681B2 (ja) 2019-09-05 2023-09-27 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JP2021040089A (ja) * 2019-09-05 2021-03-11 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JPWO2022269718A1 (ja) * 2021-06-21 2022-12-29
JP7721643B2 (ja) 2021-06-21 2025-08-12 ミライアル株式会社 基板収納容器
US12374573B2 (en) 2021-06-21 2025-07-29 Miraial Co., Ltd. Substrate storing container
JP2023027776A (ja) * 2021-08-17 2023-03-02 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 気体拡散装置、及びそれを含むウェーハ容器
US12347711B2 (en) 2021-08-17 2025-07-01 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. Gas diffusion device, and wafer container including the same
JP7495449B2 (ja) 2021-08-17 2024-06-04 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 気体拡散装置、及びそれを含むウェーハ容器
JP2023043097A (ja) * 2021-09-15 2023-03-28 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
JP7651419B2 (ja) 2021-09-15 2025-03-26 信越ポリマー株式会社 基板収納容器
TWI888728B (zh) * 2021-12-17 2025-07-01 美商恩特葛瑞斯股份有限公司 安裝潔淨流體調節元件至半導體基板攜載容器內之方法
US12315749B2 (en) 2021-12-17 2025-05-27 Entegris, Inc. Methods of installing a purge fluid conditioning element into a semiconductor substrate carrying container
JP2024137664A (ja) * 2023-03-23 2024-10-07 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 気体弁蓋および其れを応用する基板キャリア
JP7724273B2 (ja) 2023-03-23 2025-08-15 家登精密工業股▲ふん▼有限公司 気体弁蓋および其れを応用する基板キャリア

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