WO2017111198A1 - Bidirectional contact module for semiconductor test and semiconductor test socket using same - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a bidirectional conductive sheet, a semiconductor test socket using the same, and a method of manufacturing a bidirectional conductive sheet, and more particularly, to a bidirectional contact module for semiconductor test, which can compensate for the disadvantages of a pogo-pin type semiconductor test socket. It relates to a semiconductor test socket using the same.
- the semiconductor device After the semiconductor device is manufactured, the semiconductor device performs a test to determine whether the electrical performance is poor.
- the positive test of the semiconductor device is performed by inserting a semiconductor test socket (or a contactor or a connector) formed between the semiconductor device and the test circuit board so as to be in electrical contact with a terminal of the semiconductor device.
- the semiconductor test socket is also used in a burn-in test process during the manufacturing process of the semiconductor device, in addition to the final positive inspection of the semiconductor device.
- the conventional Pogo-pin type semiconductor test socket has a limitation in manufacturing a semiconductor test socket for testing a semiconductor device to be integrated.
- 1 to 3 are diagrams showing an example of a conventional Pogo-pin type semiconductor test socket disclosed in Korean Patent Laid-Open No. 10-2011-0065047.
- a conventional semiconductor test socket 100 includes a housing 110 having a through hole 111 formed in a vertical direction at a position corresponding to a terminal 131 of a semiconductor device 130; Pogo-pin 120 mounted in the through hole 111 of the housing 110 to electrically connect the terminal 131 of the semiconductor device 130 and the pad 141 of the test device 140. Is done.
- the configuration of the pogo-pin (120) (pogo-pin) (120) is used as a pogo-pin (Pogo-pin) body, the barrel 124 having a cylindrical shape with an empty inside, and formed on the lower side of the barrel 124
- the semiconductor device may be connected to a contact tip 123, a spring 122 connected to the contact tip 123 inside the barrel 124 and contracting and expanding a motion, and a spring 122 connected to the contact tip 123.
- 130 is composed of a contact pin 121 to perform the vertical movement in accordance with the contact.
- the spring 122 is contracted and expanded while absorbing the mechanical shock transmitted to the contact pin 121 and the contact tip 123, the terminal 131 of the semiconductor device 130 and the pad of the test device 140 141 is electrically connected to check whether there is an electrical defect.
- the conventional Pogo-pin type semiconductor test socket as described above uses a physical spring to maintain elasticity in the vertical direction, inserts the spring and the pin into the barrel, and Since the process has to be inserted into the through-hole of the housing again, the process is complicated and the manufacturing cost increases due to the complexity of the process.
- the physical configuration itself for the implementation of the electrical contact structure having elasticity in the vertical direction has a limit to implement the fine pitch, and the situation has already reached the limit to apply to the integrated semiconductor device in recent years.
- the limited technology forms a perforated pattern in a vertical direction on a silicon main body made of an elastic silicon material, and then conductive powder inside the perforated pattern. It is a PCR socket type semiconductor test socket that fills the conductive pattern to form a conductive pattern.
- the PCR-type semiconductor test socket also has a problem due to structural limitations of the PCR-type semiconductor test socket, such as a problem of shortening of life due to separation of conductive powder filled therein.
- the present invention has been made to solve the above problems, to compensate for the shortcomings of the semiconductor test socket of the pogo-pin type and PCR type, it is possible to implement the fine pitch while increasing the height in the vertical direction long or short
- the object of the present invention is to provide a bidirectional contact module for semiconductor test and a semiconductor test socket using the same, which can guarantee stable electrical contact even if implemented.
- the upper support member of the insulating material having an elasticity extending in the longitudinal direction and the upper surface of the upper support member is attached to the spaced apart from each other in the longitudinal direction in contact with the terminal of the semiconductor element A plurality of upper mesh portions having conductivity, spaced apart from the upper support member in a vertical direction, and provided with a lower support member of an insulating material having elasticity extending in the longitudinal direction, and a lower surface of the lower support member.
- the lower mesh part having conductivity and being in contact with the terminals of the test circuit board so as to be spaced apart from each other in the longitudinal direction so as to correspond to the plurality of upper meshes, and the upper support member and the lower support member are respectively disposed in both the vertical direction Is coupled to, the both sides in the horizontal direction extending outward than the upper support member and the lower support member Horizontal support bar and the insulating material is formed so as to, be achieved by the mutually corresponding portions of the upper mesh and the two-way keontekteu module for a semiconductor test, comprising a step of including a plurality of the lower of upper and lower connection portion electrically connected to the mesh unit for.
- the upper mesh portion and the lower mesh portion may include a mesh having a network structure and a plating layer formed by plating of a metal of a conductive material on the base mesh.
- the base mesh may be made of an insulating polymer compound material or a metal material.
- the plating layer may be formed by sequentially plating copper, nickel, and gold.
- At least one of an upper surface of the upper mesh portion and a lower surface of the lower mesh portion may be provided with a metal powder to form a rough surface.
- each of the upper and lower connection parts may be provided in the form of a conductive material having one side connected to the upper mesh part and the other side connected to the lower mesh part.
- one side is exposed to the upper surface of the upper support member to be in electrical contact with one of the upper mesh portion, the other side is the upper conductive powder exposed to the lower surface of the upper support member is A plurality of upper mesh portions are formed along the longitudinal direction; Inside the lower support member, one side of the lower conductive powder is exposed to the lower surface of the lower support member to be in electrical contact with one of the lower mesh parts, and the other side is exposed to the upper surface of the lower support member.
- a connection conductive pattern electrically connecting the upper conductive powder and the lower conductive powder to each other in the horizontal support bar is formed along the length direction;
- the upper conductive powder, the connection conductive pattern, and the lower conductive powder, which are electrically connected to each other, may form one vertical connection part.
- connection conductive pattern may be formed by a conductive sheet covering at least one side of the upper surface, the lower surface, and both sides of the horizontal support bar.
- the conductive sheet may be provided in the form of a flexible circuit board on which at least one surface of the PI film is plated with a conductive material.
- connection conductive pattern may be provided in the form of a via hole in which a metal of conductive material is coated on the inner surface of the perforated hole perforated in the vertical direction on the horizontal support bar.
- connection conductive pattern may be formed by winding at least one or more times the outer diameter of the horizontal support bar with a conductive wire.
- the above object is in accordance with another embodiment of the present invention, has an open rectangular shape in the vertical direction, and the inner housing formed with a plurality of slots from the top to the bottom to correspond to a pair of sides facing each other, facing each other.
- the plurality of bidirectional contact module according to any one of claims 1 to 10 respectively inserted into the pair of slots and the inner housing is provided in the form of a hollow frame so that the plurality of the bidirectional contact module is exposed to the top
- the bidirectional contact module can be manufactured in a simpler way.
- the pitch in the horizontal direction can be adjusted only by adjusting the distance between the upper mesh portion or the lower mesh portion, thereby overcoming the pitch limit of the conventional Pogo-pin type semiconductor test socket.
- the thickness of the upper support member, the lower support member or the horizontal support bar can be adjusted more easily in the vertical direction, the upper mesh portion having a conductivity, the lower mesh portion and the upper and lower connecting portions electrically connecting them By forming the conductive lines in the vertical direction through the, more stable electrical connection is possible.
- 1 to 3 are diagrams for explaining a conventional Pogo-pin type semiconductor test socket
- FIG. 4 is a diagram for describing a bidirectional contact module for a semiconductor test according to a first embodiment of the present invention
- FIG. 5 is a diagram for describing a bidirectional contact module for semiconductor test according to a second embodiment of the present invention.
- FIG. 6 is a view showing embodiments of a horizontal support bar of a bidirectional contact module for semiconductor test according to the present invention
- FIG. 7 is an exploded perspective view of a semiconductor test socket according to the present invention.
- FIG. 8 is a cross-sectional view of a semiconductor test socket according to the present invention.
- FIG. 9 is a cross-sectional view of the bidirectional contact module 1e according to the third embodiment of the present invention.
- the present invention relates to a bidirectional contact module for a semiconductor test, comprising: an upper support member of an insulating material having an elasticity extending in a longitudinal direction, and a semiconductor device attached to the upper surface of the upper support member at a distance from each other in the longitudinal direction; A plurality of upper mesh portions having conductivity contacting the terminals of the plurality of upper mesh portions, spaced apart from the upper support member in the vertical direction, and lower supporting members of an insulating material having elasticity extending in the longitudinal direction, and the lower support.
- a lower mesh portion having conductivity and being in contact with the terminals of the test circuit board so as to be spaced apart from each other in the longitudinal direction to correspond to the plurality of upper meshes on the lower surface of the member, the upper support member and the lower support member Respectively coupled to both sides in the vertical direction, and both sides of the horizontal direction are connected to the upper support member and the And a horizontal support bar formed of an insulating material extending outward from the lower support member, and a plurality of vertical connecting portions electrically connecting the upper mesh part and the lower mesh part to correspond to each other.
- the bidirectional contact module 1 for a semiconductor test according to the first embodiment of the present invention includes an upper support member 20, a plurality of upper mesh portions 40, a lower support member 30, It includes a plurality of lower mesh portion 50, the horizontal support bar 10 and a plurality of vertical connection.
- the upper support member 20 is made of an insulating material having elasticity extending in the longitudinal direction.
- the upper support member 20 is provided with a silicon material having elasticity.
- the lower support member 30 is provided with an insulating material having elasticity extending in the longitudinal direction corresponding to the shape of the upper support member 20.
- the lower support member 30 is an example of being provided with a silicon material having elasticity.
- the plurality of upper mesh portions 40 are attached to the upper surface of the upper support member 20 in a state spaced apart from each other along the longitudinal direction.
- each upper mesh portion 40 is provided to be conductive
- the upper mesh portion 40 is a terminal of the semiconductor device in the test process when the bidirectional contact module 1 according to the present invention is applied to the semiconductor test socket (Fig. Contact directly).
- each lower mesh portion 50 is provided to be conductive, and the lower mesh portion 50 is a pad 510 of the test apparatus 500 when the bidirectional contact module 1 according to the present invention is applied to the semiconductor test socket. , See FIG. 8).
- the upper mesh portion 40 and the lower mesh portion 50 are manufactured to have conductivity by a plating layer formed by plating a metal of conductive material on a base mesh of a network structure.
- the base mesh when the base mesh is made of a synthetic polymer compound material such as polyester, after plating of copper, nickel and gold may be sequentially plated to form a plating layer.
- a plating layer when the base mesh is made of a metal material such as sus, a plating layer may be formed through sequential plating of nickel and gold.
- each upper mesh portion 40 is shown to have a flat shape
- the surface of the conductive material may be applied so that the surface has an uneven shape.
- the lower mesh portion 50 may also be provided to have a concave-convex shape through the application of powder of a conductive material.
- the horizontal support bar 10 is disposed between the upper support member 20 and the lower support member 30. That is, the upper support member 20 is coupled to the upper portion of the horizontal support bar 10 and the lower support member 30 is coupled to the lower portion of the horizontal support bar 10.
- the horizontal support bar 10 is provided with an insulating material, it is provided with a rigid material than the upper support member 20 and the lower support member 30.
- the rigidity of the horizontal support bar 10 is preferably provided to have a rigidity not to bend the pressure in the downward direction formed by the semiconductor device when inspecting the semiconductor device through the semiconductor test socket according to the present invention. This will be described later.
- the horizontal support bar 10 is formed so that both sides in the horizontal direction extending outward in the horizontal direction than the upper support member 20 and the lower support member 30, when applied to the semiconductor test socket to be described later It can be used as a structure for coupling, a detailed description thereof will be described later.
- the plurality of vertically connecting portions electrically connect the upper mesh portion 40 and the lower mesh portion 50 at corresponding positions.
- the vertical connecting portion as shown in (b) of FIG. 4, one side is in contact with the lower surface of the upper mesh portion 40 and the other side is at the lower surface of the lower mesh portion 50.
- it is provided in the form of a conductive wire (W) in contact.
- the insulating member is formed such that the cover member 20 ′ is formed so that the wire W is not exposed to the outside.
- the liquid silicone is applied and then cured. It is possible to prevent the external exposure of the conductive wire (W).
- the bidirectional contact module 1 can be manufactured in a simpler manner.
- the pitch in the horizontal direction can be adjusted only by adjusting the gap between the upper mesh portion 40 or the lower mesh portion 50, thereby overcoming the pitch limitation of the conventional Pogo-pin type semiconductor test socket. You can do it.
- the thickness in the vertical direction can be more easily adjusted, the upper mesh portion 40 having conductivity By forming a conductive line in the vertical direction through the lower mesh part 50 and the wire W electrically connecting the lower mesh part 50, a more stable electrical connection is possible.
- the semiconductor test contact module 1a includes a plurality of upper mesh portions 40a, an upper support member 20a, a horizontal support bar 10a, a lower support member 30a, and a plurality of contacts. It includes a lower mesh portion 50a and a plurality of vertical connecting portions.
- the bidirectional contact module 1a for semiconductor test includes a plurality of upper mesh portions 40a, upper support members 20a, and horizontal support bars (from top). 10a), the lower support member 30a and the lower mesh portion 50a are sequentially formed in the same manner as in the first embodiment, and the structure and the material also correspond to the first embodiment, and description thereof will be omitted.
- a plurality of upper conductive powders 70a are formed along the length direction at positions corresponding to the plurality of upper mesh portions 40a inside the upper support member 20a. More specifically, as shown in FIG. 5B, each of the upper conductive powders 70a has one side exposed to the upper surface of the upper support member 20a so that the upper mesh portion 40a at the corresponding position is shown. Electrical contact with The other side of each of the upper conductive powders 70a is exposed to the lower surface of the upper support member 20a.
- each of the lower conductive powders 80a has one side exposed to the lower surface of the lower support member 30a so that the lower mesh portion 50a at the corresponding position is shown. Electrical contact with The other side of each lower conductive powder 80a is exposed to the upper surface of the lower support member 30a.
- a connecting conductive pattern 60a for electrically connecting the upper conductive powder 70a and the lower conductive powder 80a to each other is formed in the horizontal support bar 10a along the length direction.
- one connection conductive pattern 60a is formed by the upper surface, the lower surface, and the horizontal support bar 10a, as shown in FIGS. 5A and 6A.
- it is formed by a conductive sheet covering at least one side of both sides.
- conductive sheets are formed on the upper surface and the lower surface of the horizontal support bar 10a, respectively, and at least one of the two surfaces is formed with a conductive sheet for electrically connecting the conductive sheet of the upper surface and the conductive sheet of the lower surface.
- conductive sheets are formed on the upper surface and the lower surface of the horizontal support bar 10a, respectively, and at least one of the two surfaces is formed with a conductive sheet for electrically connecting the conductive sheet of the upper surface and the conductive sheet of the lower surface.
- one upper conductive powder 70a, one connection conductive pattern 60a, and one lower conductive powder 80a corresponding to each other are electrically connected to form one vertical connection part.
- the upper conductive powder 70a is electrically connected to the upper mesh portion 40a
- the lower conductive powder 80a is electrically connected to the lower mesh portion 50a, thereby providing the upper mesh portion 40a and the lower mesh portion 50a.
- the conductive sheet may be provided in the form of a flexible circuit board on which at least one surface of the PI film is plated with a conductive material. That is, the plating material of the flexible circuit board is patterned in the form of the connection conductive pattern 60a according to the present invention, and after the connection conductive pattern 60a is formed in the corresponding portion through nickel and gold plating, the horizontal support bar 10a is formed. By attaching so as to surround the circumference, the connection conductive pattern 60a can be formed on the horizontal support bar 10a.
- FIG. 6 is a diagram illustrating another example of the connection conductive pattern 60a of the horizontal support bar 10a of the bidirectional contact module 1a for semiconductor test according to the present invention.
- FIG. 6B illustrates an example in which a perforated hole formed in the vertical support bar 10b is formed in the horizontal support bar 10b and provided in the form of a via hole in which a metal of a conductive material is coated on the inner surface of the perforated hole.
- a conductive pad electrically connected to the via hole is formed on the upper surface and the lower surface of the via hole.
- FIG. 6C illustrates an example in which the outer diameter of the horizontal support bar 10c is wound at least one or more with a conductive wire to form a connection conductive pattern 60c.
- the outer diameters of the horizontal support bar 10c are wound to be spaced apart from each other by conductive wires, the upper conductive powder 70a and the lower conductive powder 80a are electrically connected to at least one of them, thereby forming a vertical connection part.
- FIG. 6C is a view showing an example in which conductive wires are independently wound, and after winding one long conductive wire continuously in a state spaced apart at regular intervals, any one of the surfaces of both sides of the horizontal support bar 10d.
- adjacent conductive wires may be electrically disconnected to form a connection conductive pattern 60d.
- connection conductive patterns 60a, 60b, 60c, and 60d are formed on the horizontal support bars 10a, 10b, 10c, and 10d, and then the surfaces of both sides of the horizontal support bars 10a, 10b, 10c, and 10d may be formed of silicon or the like.
- a conductive material By coating with a conductive material, it is possible to enable insulation between adjacent bidirectional contact modules 1a when manufacturing a semiconductor test socket.
- the semiconductor test socket according to the present invention includes an inner housing 300, a plurality of bidirectional contact modules 1a and an outer housing 400.
- the inner housing 300 has a square shape open in the vertical direction.
- a plurality of slits 310 are formed from an upper side to a lower side to correspond to a pair of opposite sides of the inner housing 300.
- Each bidirectional contact module 1a is inserted into a pair of slots facing each other, respectively.
- both edges of the horizontal support bar 10a of the bidirectional contact module 1a are inserted into the slots on both sides, respectively, and are installed in the inner housing 300.
- the bidirectional contact module 1a is as described above, and FIG. 7 illustrates that the bidirectional contact module 1a according to the second embodiment of the present invention is applied.
- the outer housing 400 is provided in a hollow frame shape, and is coupled to the inner housing 300 so that the plurality of bidirectional contact modules 1a are exposed upward.
- the external housing 400 is fixed to the test apparatus 500 by pressing downward, the lower mesh portion 50a of the bidirectional contact module 1a contacts the pad 510 of the test apparatus 500. State is maintained.
- the outer housing 400 is formed with a bolt through hole 410 through which the coupling bolt 420 for coupling the outer housing 400 and the test device 500, the bolt through hole in the test device 500
- the bolt fastening hole 520 is formed at a position corresponding to 410, and the coupling bolt 420 passing through the bolt through hole 410 is fastened to the bolt fastening hole 520, thereby providing the semiconductor test socket according to the present invention. It can be fixed to this test apparatus.
- the semiconductor test socket can be manufactured by inserting the bidirectional contact module 1a into the slit 310 of the inner housing 300, thereby making it possible to manufacture in a simpler manner.
- the number of slots of the inner housing 300 and the number of conductive lines in the vertical direction of the bidirectional contact module 1a are varied so as to be manufactured in the same manner, thereby forming various patterns. It is possible to manufacture a semiconductor test socket for testing a semiconductor device.
- the upper mesh portions 40 and 40a and the lower mesh portions 50 and 50a are described as being conductive by the plating layer.
- the conductive powder constituting the upper conductive powder 70a and the lower conductive powder 80a The upper mesh portion 40a and the lower mesh portion 50a may be exposed to the outside of the upper mesh portion 40a and the lower mesh portion 50a through a network structure to provide conductivity.
- the bidirectional contact module 1e according to the third embodiment of the present invention may include a plurality of upper mesh portions 40e, upper support members 20e, horizontal support bars 10e, and lower support members. 30e, a plurality of lower mesh portions 50e, and a plurality of vertical connecting portions.
- the plurality of upper mesh portion 40e, the upper support member 20e, the horizontal support bar 10e, the lower support member 30e, the plurality of the bidirectional contact module 1e according to the third embodiment of the present invention The basic configuration of the lower mesh portion 50e corresponds to the above-described first or second embodiment, and description thereof will be omitted.
- the upper mesh portion 40e and the lower mesh portion 50e of the bidirectional contact module 1e according to the third embodiment of the present invention are connected via the side base mesh 20e ', and are provided with a wire W. As an example, the connection is covered by the side base mesh 20e '.
- the upper mesh portion 40e and the lower mesh portion 50e are conductive by plating, only an area corresponding to the upper mesh portion 40e and the lower mesh portion 50e is plated during the plating of the base mesh. 9, the region located on the side of the bidirectional contact module 1e is not plated, so that the side base mesh portion 20e 'on the side has insulation and wires ( W) can be covered.
- the base mesh is bent and attached as shown in FIG. 9 and the upper conductive powder 70a and the lower conductive powder ( The conductive powder constituting the 80a is exposed to the outside of the upper mesh portion 40e and the lower mesh portion 50e through the mesh structure so that the upper mesh portion 40e and the lower mesh portion 50e are conductive, and the remaining portion is conductive. It may be provided to form the side base mesh portion 20e '.
- connection conductive pattern 60a, 60b, 60c, 60d: connection conductive pattern
- the present invention is used in the positive test of electrical and electronic devices such as semiconductor devices, or during burn-in testing of semiconductor devices.
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Abstract
Description
본 발명은 양방향 도전성 시트 및 이를 이용한 반도체 테스트 소켓, 양방향 도전성 시트의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 포고-핀 타입의 반도체 테스트 소켓이 갖는 단점을 보완할 수 있는 반도체 테스트용 양방향 컨텍트 모듈 및 이를 이용한 반도체 테스트 소켓에 관한 것이다.The present invention relates to a bidirectional conductive sheet, a semiconductor test socket using the same, and a method of manufacturing a bidirectional conductive sheet, and more particularly, to a bidirectional contact module for semiconductor test, which can compensate for the disadvantages of a pogo-pin type semiconductor test socket. It relates to a semiconductor test socket using the same.
반도체 소자는 제조 과정을 거친 후 전기적 성능의 양불을 판단하기 위한 검사를 수행하게 된다. 반도체 소자의 양불 검사는 반도체 소자의 단자와 전기적으로 접촉될 수 있도록 형성된 반도체 테스트 소켓(또는 콘텍터 또는 커넥터)을 반도체 소자와 검사회로기판 사이에 삽입한 상태에서 검사가 수행된다. 그리고, 반도체 테스트 소켓은 반도체 소자의 최종 양불 검사 외에도 반도체 소자의 제조 과정 중 번-인(Burn-In) 테스트 과정에서도 사용되고 있다.After the semiconductor device is manufactured, the semiconductor device performs a test to determine whether the electrical performance is poor. The positive test of the semiconductor device is performed by inserting a semiconductor test socket (or a contactor or a connector) formed between the semiconductor device and the test circuit board so as to be in electrical contact with a terminal of the semiconductor device. The semiconductor test socket is also used in a burn-in test process during the manufacturing process of the semiconductor device, in addition to the final positive inspection of the semiconductor device.
반도체 소자의 집적화 기술의 발달과 소형화 추세에 따라 반도체 소자의 단자 즉, 리드의 크기 및 간격도 미세화되는 추세이고, 그에 따라 테스트 소켓의 도전 패턴 상호간의 간격도 미세하게 형성하는 방법이 요구되고 있다.With the development and miniaturization of semiconductor device integration technology, the size and spacing of terminals of semiconductor devices, that is, leads, are also miniaturized. Accordingly, there is a demand for a method of forming minute spacing between conductive patterns of test sockets.
그런데, 기존의 포고-핀(Pogo-pin) 타입의 반도체 테스트 소켓으로는 집적화되는 반도체 소자를 테스트하기 위한 반도체 테스트 소켓을 제작하는데 한계가 있었다. 도 1 내지 도 3은 한국공개특허 제10-2011-0065047호에 개시된 종래의 포고-핀(Pogo-pin) 타입의 반도체 테스트 소켓의 예를 나타낸 도면이다.However, the conventional Pogo-pin type semiconductor test socket has a limitation in manufacturing a semiconductor test socket for testing a semiconductor device to be integrated. 1 to 3 are diagrams showing an example of a conventional Pogo-pin type semiconductor test socket disclosed in Korean Patent Laid-Open No. 10-2011-0065047.
도 1 내지 도 3을 참조하여 설명하면 기존이 반도체 테스트 소켓(100)은 반도체 디바이스(130)의 단자(131)와 대응되는 위치에 상하방향으로 관통공(111)이 형성된 하우징(110)과, 하우징(110)의 관통공(111) 내에 장착되어 반도체 디바이스(130)의 단자(131) 및 테스트 장치(140)의 패드(141)를 전기적으로 연결시키는 포고-핀(Pogo-pin)(120)으로 이루어진다.1 to 3, a conventional
포고-핀(Pogo-pin)(120)의 구성은, 포고-핀(Pogo-pin) 본체로 사용되며 내부가 비어있는 원통형 형태를 가지는 배럴(124)과, 배럴(124)의 하측에 형성되는 접촉팁(123)과, 배럴(124) 내부에서 접촉팁(123)과 연결되어 수축과 팽창 운동을 하는 스프링(122) 및 접촉팁(123)과 연결된 스프링(122) 반대편에 연결되어 반도체 디바이스(130)와의 접촉에 따라 상하운동을 수행하는 접촉핀(121)으로 구성된다.The configuration of the pogo-pin (120) (pogo-pin) (120) is used as a pogo-pin (Pogo-pin) body, the
이때, 스프링(122)은 수축 및 팽창을 하면서 접촉핀(121)과 접촉팁(123)에 전달되는 기계적인 충격을 흡수하면서 반도체 디바이스(130)의 단자(131)와 테스트 장치(140)의 패드(141)를 전기적으로 접속시켜 전기적인 불량여부를 검사하게 한다.At this time, the
그런데, 상기와 같은 기존의 포고-핀(Pogo-pin) 타입의 반도체 테스트 소켓은 상하 방향으로의 탄성을 유지하기 위해 물리적인 스프링을 사용하게 되고, 배럴 내부에 스프링과 핀을 삽입하고, 배럴을 다시 하우징의 관통공 내부에 삽입하여야 하므로 그 공정이 복잡할 뿐만 아니라 공정의 복잡성으로 인해 제조 가격이 상승하는 문제가 있다.However, the conventional Pogo-pin type semiconductor test socket as described above uses a physical spring to maintain elasticity in the vertical direction, inserts the spring and the pin into the barrel, and Since the process has to be inserted into the through-hole of the housing again, the process is complicated and the manufacturing cost increases due to the complexity of the process.
뿐만 아니라, 상하 방향으로 탄성을 갖는 전기적 접촉 구조의 구현을 위한 물리적인 구성 자체가 미세 피치를 구현하는데 한계가 있으며, 근래에 집적화된 반도체 소자에는 적용하는데 이미 한계치까지 도달해 있는 실정이다.In addition, the physical configuration itself for the implementation of the electrical contact structure having elasticity in the vertical direction has a limit to implement the fine pitch, and the situation has already reached the limit to apply to the integrated semiconductor device in recent years.
포고-핀(Pogo-pin) 타입의 반도체 소자의 한계를 극복하고자 제한된 기술이, 탄성 재질의 실리콘 소재로 제작되는 실리콘 본체 상에 수직 방향으로 타공 패턴을 형성한 후, 타공된 패턴 내부에 도전성 분말을 충진하여 도전 패턴을 형성하는 PCR 소켓 타입의 반도체 테스트 소켓이다.In order to overcome the limitations of the pogo-pin type semiconductor device, the limited technology forms a perforated pattern in a vertical direction on a silicon main body made of an elastic silicon material, and then conductive powder inside the perforated pattern. It is a PCR socket type semiconductor test socket that fills the conductive pattern to form a conductive pattern.
그러나, PCR 타입의 반도체 테스트 소켓은 내부에 충진되는 도전성 분말의 이탈로 인한 수명의 단축 문제 등과 같이 PCR 타입의 반도체 테스트 소켓의 구조적 한계로 인해 갖는 문제점 또한 가지고 있다.However, the PCR-type semiconductor test socket also has a problem due to structural limitations of the PCR-type semiconductor test socket, such as a problem of shortening of life due to separation of conductive powder filled therein.
따라서, 미세 피치의 구현이 가능하면서도 높이의 제한이나 PCR 타입의 반도체 테스트 소켓과 같은 다른 방식의 반도체 테스트 소켓이 갖는 문제점을 해소할 후 있는 다른 형태의 반도체 테스트 소켓의 개발이 요구되고 있다.Accordingly, there is a need for development of other types of semiconductor test sockets capable of realizing fine pitches, but also to solve the problems of height limitations and other types of semiconductor test sockets such as PCR type semiconductor test sockets.
이에, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로서, 포고-핀 타입과 PCR 타입의 반도체 테스트 소켓이 갖는 단점을 보완하여, 미세 피치의 구현이 가능하면서도 상하 방향으로 높이를 길게 또는 짧게 구현하더라도 안정적인 전기적 접촉을 보장할 수 있는 반도체 테스트용 양방향 컨텍트 모듈 및 이를 이용한 반도체 테스트 소켓을 제공하는데 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, to compensate for the shortcomings of the semiconductor test socket of the pogo-pin type and PCR type, it is possible to implement the fine pitch while increasing the height in the vertical direction long or short The object of the present invention is to provide a bidirectional contact module for semiconductor test and a semiconductor test socket using the same, which can guarantee stable electrical contact even if implemented.
상기 목적은 본 발명에 따라, 길이 방향으로 연장된 탄성을 갖는 절연성 재질의 상부 지지부재와, 상기 상부 지지부재의 상부 표면에 상기 길이 방향으로 상호 이격된 상태로 부착되어 반도체 소자의 단자와 접촉되는 도전성을 갖는 복수의 상부 메시부와, 상기 상부 지지부재와 상하 방향으로 이격된 상태로 배치되고, 상기 길이 방향으로 연장된 탄성을 갖는 절연성 재질의 하부 지지부재와, 상기 하부 지지부재의 하부 표면에 복수의 상기 상부 메시에 대응하도록 상기 길이 방향으로 상호 이격된 상태로 부탁되어 검사회로기판의 단자와 접촉되는 도전성을 갖는 하부 메시부와, 상기 상부 지지부재와 상기 하부 지지부재가 각각 상기 상하 방향 양측에서 결합되고, 상기 가로 방향 양측이 상기 상부 지지부재 및 상기 하부 지지부재보다 외측으로 연장되도록 형성되는 절연성 재질의 가로 지지바와, 상호 대응하는 상기 상부 메시부와 상기 하부 메시부를 전기적으로 연결하는 복수의 상하 연결부를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트용 양방향 컨텍트 모듈에 의해서 달성된다.According to the present invention, the upper support member of the insulating material having an elasticity extending in the longitudinal direction and the upper surface of the upper support member is attached to the spaced apart from each other in the longitudinal direction in contact with the terminal of the semiconductor element A plurality of upper mesh portions having conductivity, spaced apart from the upper support member in a vertical direction, and provided with a lower support member of an insulating material having elasticity extending in the longitudinal direction, and a lower surface of the lower support member. The lower mesh part having conductivity and being in contact with the terminals of the test circuit board so as to be spaced apart from each other in the longitudinal direction so as to correspond to the plurality of upper meshes, and the upper support member and the lower support member are respectively disposed in both the vertical direction Is coupled to, the both sides in the horizontal direction extending outward than the upper support member and the lower support member Horizontal support bar and the insulating material is formed so as to, be achieved by the mutually corresponding portions of the upper mesh and the two-way keontekteu module for a semiconductor test, comprising a step of including a plurality of the lower of upper and lower connection portion electrically connected to the mesh unit for.
여기서, 상기 상부 메시부와 상기 하부 메시부는 망상 구조를 갖는 메시와, 상기 베이스 메시에 도전성 재질의 금속의 도금에 의해 형성되는 도금층을 포함할 수 있다.Here, the upper mesh portion and the lower mesh portion may include a mesh having a network structure and a plating layer formed by plating of a metal of a conductive material on the base mesh.
또한, 상기 베이스 메시는 절연성의 고분자 화합물 재질 또는 금속 재질로 마련될 수 있다.In addition, the base mesh may be made of an insulating polymer compound material or a metal material.
그리고, 상기 베이스 메시가 고분자 화합물 재질로 마련되는 경우, 상기 도금층은 구리, 니켈 및 금이 순차적으로 도금되어 형성될 수 있다.In addition, when the base mesh is made of a polymer compound material, the plating layer may be formed by sequentially plating copper, nickel, and gold.
또한, 상기 상부 메시부의 상부 표면과 상기 하부 메시부의 하부 표면 중 적어도 어느 일측에는 금속 재질의 분말이 마련되어 거친 표면을 형성할 수 있다.In addition, at least one of an upper surface of the upper mesh portion and a lower surface of the lower mesh portion may be provided with a metal powder to form a rough surface.
그리고, 각각의 상기 상하 연결부는 일측이 상기 상부 메시부에 연결되고 타측이 상기 하부 메시부에 연결되는 도전성 재질이 와이어 형태로 마련될 수 있다.In addition, each of the upper and lower connection parts may be provided in the form of a conductive material having one side connected to the upper mesh part and the other side connected to the lower mesh part.
그리고, 상기 상부 지지부재의 내부에는 일측이 상기 상부 지지부재의 상부 표면으로 노출되어 하나의 상기 상부 메시부와 전기적으로 접촉하고, 타측이 상기 상부 지지부재의 하부 표면으로 노출되는 상부 도전성 파우더가 상기 길이 방향을 따라 복수의 상기 상부 메시부에 대응하여 형성되고; 상기 하부 지지부재의 내부에는 일측이 상기 하부 지지부재의 하부 표면에 노출되어 하나의 상기 하부 메시부와 전기적으로 접촉하고, 타측이 상기 하부 지지부재의 상부 표면으로 노출되는 하부 도전성 파우더가 상기 길이 방향을 따라 복수의 상기 하부 메시부에 대응하여 형성되고; 상기 가로 지지바에는 상호 대응하는 상부 도전성 파우더와 하부 도전성 파우더를 전기적으로 연결하는 연결 도전 패턴이 상기 길이 방향을 따라 형성되며; 상호 전기적으로 연결되는 상기 상부 도전성 파우더, 상기 연결 도전 패턴 및 상기 하부 도전성 파우더가 하나의 상기 상하 연결부를 형성할 수 있다.And, inside the upper support member, one side is exposed to the upper surface of the upper support member to be in electrical contact with one of the upper mesh portion, the other side is the upper conductive powder exposed to the lower surface of the upper support member is A plurality of upper mesh portions are formed along the longitudinal direction; Inside the lower support member, one side of the lower conductive powder is exposed to the lower surface of the lower support member to be in electrical contact with one of the lower mesh parts, and the other side is exposed to the upper surface of the lower support member. A plurality of lower mesh portions corresponding to the lower mesh portions; A connection conductive pattern electrically connecting the upper conductive powder and the lower conductive powder to each other in the horizontal support bar is formed along the length direction; The upper conductive powder, the connection conductive pattern, and the lower conductive powder, which are electrically connected to each other, may form one vertical connection part.
여기서, 하나의 상기 연결 도전 패턴은 상기 가로 지지바의 상부 표면, 하부 표면, 양 측면 중 적어도 일측을 감싸는 도전성 시트에 의해 형성될 수 있다.Here, one connection conductive pattern may be formed by a conductive sheet covering at least one side of the upper surface, the lower surface, and both sides of the horizontal support bar.
그리고, 상기 도전성 시트는 PI 필름의 적어도 일측 표면이 도전성 재질로 도금된 연성회로기판 형태로 마련될 수 있다.The conductive sheet may be provided in the form of a flexible circuit board on which at least one surface of the PI film is plated with a conductive material.
또한, 하나의 상기 연결 도전 패턴은 상기 가로 지지바에 상하 방향으로 타공된 타공홀의 내부 표면에 도전성 재질의 금속이 도포된 비아홀 형태로 마련될 수 있다.In addition, one connection conductive pattern may be provided in the form of a via hole in which a metal of conductive material is coated on the inner surface of the perforated hole perforated in the vertical direction on the horizontal support bar.
또한, 하나의 상기 연결 도전 패턴은 상기 가로 지지바의 외경을 도전성 와이어로 적어도 1회 이상 권취하여 형성될 수 있다.In addition, one connection conductive pattern may be formed by winding at least one or more times the outer diameter of the horizontal support bar with a conductive wire.
한편, 상기 목적은 본 발명의 다른 실시 형태에 따라, 상하 방향으로 개방된 사각 형상을 가지며, 상호 마주하는 한 쌍의 변에 상호 대응하게 상부로부터 하부로 복수의 슬롯이 형성된 내부 하우징과, 상호 마주하는 한 쌍의 슬롯에 각각 삽입되는 제1한 내지 제10항 중 어느 한 항에 따른 복수의 양방향 컨텍트 모듈과, 내부가 빈 틀 형태로 마련되어 복수의 상기 양방향 컨텍트 모듈이 상부로 노출되도록 상기 내부 하우징과 결합하는 외부 하우징을 포함하며; 상기 양방향 컨텍트 모듈의 상기 가로 지지바의 양측 가장자리가 양측의 상기 슬롯에 각각 삽입되는 것을 특징으로 하는 반도체 테스트 소켓에 의해서도 달성된다.On the other hand, the above object is in accordance with another embodiment of the present invention, has an open rectangular shape in the vertical direction, and the inner housing formed with a plurality of slots from the top to the bottom to correspond to a pair of sides facing each other, facing each other The plurality of bidirectional contact module according to any one of claims 1 to 10 respectively inserted into the pair of slots and the inner housing is provided in the form of a hollow frame so that the plurality of the bidirectional contact module is exposed to the top An outer housing in engagement with; It is also achieved by a semiconductor test socket, characterized in that both edges of the transverse support bar of the bidirectional contact module are respectively inserted into the slots on both sides.
상기와 같은 구성에 따라 본 발명에 따르면, 절연성 재질의 상부 지지부재 및 하부 지지부재에 각각 상부 메시부와 하부 메시부(50)를 형성한 후, 가로 지지바에 상부 지지부재와 하부 지지부재를 부착하는 방법으로 보다 간단한 방법으로 양방향 컨텍트 모듈의 제작이 가능하게 된다.According to the present invention according to the above configuration, after forming the upper mesh portion and the
또한, 가로 방향으로의 피치를 상부 메시부 또는 하부 메시부 간의 간격의 조절 만으로 조절 가능하게 되어 기존의 포고-핀(Pogo-pin) 타입의 반도체 테스트 소켓의 피치 한계를 극복할 수 있게 된다.In addition, the pitch in the horizontal direction can be adjusted only by adjusting the distance between the upper mesh portion or the lower mesh portion, thereby overcoming the pitch limit of the conventional Pogo-pin type semiconductor test socket.
또한, 상부 지지부재, 하부 지지부재 또는 가로 지지바의 두께를 조절하여 상하 방향으로의 두께도 보다 용이하게 조절할 수 있게 되며, 도전성을 갖는 상부 메시부, 하부 메시부 및 이를 전기적으로 연결하는 상하 연결부를 통해 상하 방향으로 도전 라인을 형성함으로써, 보다 안정적인 전기적 연결이 가능하게 된다.In addition, the thickness of the upper support member, the lower support member or the horizontal support bar can be adjusted more easily in the vertical direction, the upper mesh portion having a conductivity, the lower mesh portion and the upper and lower connecting portions electrically connecting them By forming the conductive lines in the vertical direction through the, more stable electrical connection is possible.
도 1 내지 도 3은 종래의 포고-핀(Pogo-pin) 타입의 반도체 테스트 소켓을 설명하기 위한 도면이고,1 to 3 are diagrams for explaining a conventional Pogo-pin type semiconductor test socket,
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 반도체 테스트용 양방향 컨텍트 모듈을 설명하기 위한 도면이고,4 is a diagram for describing a bidirectional contact module for a semiconductor test according to a first embodiment of the present invention;
도 5는 본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 테스트용 양방향 컨텍트 모듈을 설명하기 위한 도면이고,5 is a diagram for describing a bidirectional contact module for semiconductor test according to a second embodiment of the present invention;
도 6은 본 발명에 따른 반도체 테스트용 양방향 컨텍트 모듈의 가로 지지바에 대한 실시예들을 나타낸 도면이고,6 is a view showing embodiments of a horizontal support bar of a bidirectional contact module for semiconductor test according to the present invention,
도 7은 본 발명에 따른 반도체 테스트 소켓의 분해 사시도이고,7 is an exploded perspective view of a semiconductor test socket according to the present invention;
도 8은 본 발명에 따른 반도체 테스트 소켓의 단면도이고,8 is a cross-sectional view of a semiconductor test socket according to the present invention,
도 9는 본 발명의 제3 실시예에 따른 양방향 컨텍트 모듈(1e)의 단면을 나타낸 도면이다. 9 is a cross-sectional view of the bidirectional contact module 1e according to the third embodiment of the present invention.
본 발명은 반도체 테스트용 양방향 컨텍트 모듈에 관한 것으로, 길이 방향으로 연장된 탄성을 갖는 절연성 재질의 상부 지지부재와, 상기 상부 지지부재의 상부 표면에 상기 길이 방향으로 상호 이격된 상태로 부착되어 반도체 소자의 단자와 접촉되는 도전성을 갖는 복수의 상부 메시부와, 상기 상부 지지부재와 상하 방향으로 이격된 상태로 배치되고, 상기 길이 방향으로 연장된 탄성을 갖는 절연성 재질의 하부 지지부재와, 상기 하부 지지부재의 하부 표면에 복수의 상기 상부 메시에 대응하도록 상기 길이 방향으로 상호 이격된 상태로 부탁되어 검사회로기판의 단자와 접촉되는 도전성을 갖는 하부 메시부와, 상기 상부 지지부재와 상기 하부 지지부재가 각각 상기 상하 방향 양측에서 결합되고, 상기 가로 방향 양측이 상기 상부 지지부재 및 상기 하부 지지부재보다 외측으로 연장되도록 형성되는 절연성 재질의 가로 지지바와, 상호 대응하는 상기 상부 메시부와 상기 하부 메시부를 전기적으로 연결하는 복수의 상하 연결부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to a bidirectional contact module for a semiconductor test, comprising: an upper support member of an insulating material having an elasticity extending in a longitudinal direction, and a semiconductor device attached to the upper surface of the upper support member at a distance from each other in the longitudinal direction; A plurality of upper mesh portions having conductivity contacting the terminals of the plurality of upper mesh portions, spaced apart from the upper support member in the vertical direction, and lower supporting members of an insulating material having elasticity extending in the longitudinal direction, and the lower support. A lower mesh portion having conductivity and being in contact with the terminals of the test circuit board so as to be spaced apart from each other in the longitudinal direction to correspond to the plurality of upper meshes on the lower surface of the member, the upper support member and the lower support member Respectively coupled to both sides in the vertical direction, and both sides of the horizontal direction are connected to the upper support member and the And a horizontal support bar formed of an insulating material extending outward from the lower support member, and a plurality of vertical connecting portions electrically connecting the upper mesh part and the lower mesh part to correspond to each other.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예들을 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described embodiments of the present invention;
도 4는 본 발명의 제1 실시예에 따른 반도체 테스트용 양방향 컨텍트 모듈(1)을 설명하기 위한 도면이다. 도 4를 참조하여 설명하면, 본 발명의 제1 실시예에 따른 반도체 테스트용 양방향 컨텍트 모듈(1)은 상부 지지부재(20), 복수의 상부 메시부(40), 하부 지지부재(30), 복수의 하부 메시부(50), 가로 지지바(10) 및 복수의 상하 연결부를 포함한다.4 is a diagram for describing a bidirectional contact module 1 for a semiconductor test according to a first embodiment of the present invention. Referring to FIG. 4, the bidirectional contact module 1 for a semiconductor test according to the first embodiment of the present invention includes an
상부 지지부재(20)는 길이 방향으로 연장된 탄성을 갖는 절연성 재질로 마련된다. 본 발명에서는 상부 지지부재(20)가 탄성을 갖는 실리콘 재질로 마련되는 것을 예로 한다.The
하부 지지부재(30)는 상부 지지부재(20)의 형상에 대응하여 길이 방향으로 연장된 탄성을 갖는 절연성 재질로 마련된다. 상부 지지부재(20)와 마찬가지로 하부 지지부재(30)는 탄성을 갖는 실리콘 재질로 마련되는 것을 예로 한다.The
복수의 상부 메시부(40)는 상부 지지부재(20)의 상부 표면에 길이 방향을 따라 상호 이격된 상태로 부착된다. 여기서, 각각의 상부 메시부(40)는 도전성을 갖도록 마련되는데, 상부 메시부(40)는 본 발명에 따른 양방향 컨텍트 모듈(1)이 반도체 테스트 소켓에 적용될 때 테스트 과정에서 반도체 디바이스의 단자(도 1 참조)와 직접 접촉된다.The plurality of
복수의 하부 메시부(50)는 하부 지지부재(30)의 하부 표면에 길이 방향을 따라 상호 이격된 상태로 부착된다. 여기서, 각각의 하부 메시부(50)는 도전성을 갖도록 마련되며, 하부 메시부(50)는 본 발명에 따른 양방향 컨텍트 모듈(1)이 반도체 테스트 소켓에 적용될 때 테스트 장치(500)의 패드(510, 도 8 참조))와 직접 접촉된다.The plurality of
본 발명에서는 상부 메시부(40)와 하부 메시부(50)가 망상 구조의 베이스 메시에 도전성 재질의 금속의 도금을 통해 형성된 도금층에 의해 도전성을 갖도록 제작되는 것을 예로 한다.In the present invention, for example, the
예를 들어, 베이스 메시가 폴리에스테르와 같은 합성 고분자 화합물 재질로 마련되는 경우, 구리의 도금 후에, 니켈과 금을 순차적으로 도금하여 도금층을 형성할 수 있다. 다른 예로, 베이스 메시가 서스(SUS)와 같은 금속 재질로 마련되는 경우, 니켈과 금의 순차적인 도금을 통해 도금층이 형성될 수 있다.For example, when the base mesh is made of a synthetic polymer compound material such as polyester, after plating of copper, nickel and gold may be sequentially plated to form a plating layer. As another example, when the base mesh is made of a metal material such as sus, a plating layer may be formed through sequential plating of nickel and gold.
여기서, 본 발명에서는 각각의 상부 메시부(40)의 상부 표면이 평평한 형태를 갖는 것으로 도시되어 있으나, 도전성 재질의 분말이 도포되어 표면이 요철 형태를 갖도록 마련될 수 있다. 또한, 하부 메시부(50)도 도전 재질의 분말의 도포를 통해 요철 형태를 갖도록 마련될 수 있다.Here, in the present invention, although the upper surface of each
가로 지지바(10)는 상부 지지부재(20)와 하부 지지부재(30) 사이에 배치된다. 즉, 상부 지지부재(20)가 가로 지지바(10)의 상부에 결합되고 하부 지지부재(30)가 가로 지지바(10)의 하부에 결합된다. 여기서, 가로 지지바(10)는 절연성 재질로 마련되는데, 상부 지지부재(20)와 하부 지지부재(30)보다 강성 재질로 마련된다. 여기서, 가로 지지바(10)의 강성은 본 발명에 따른 반도체 테스트 소켓을 통해 반도체 디바이스를 검사할 때 반도체 디바이스에 의해 형성되는 하부 방향으로의 압력에 휘지 않을 정도의 강성을 갖도록 마련되는 것이 바람직하며, 이에 대한 상세한 설명은 후술한다.The
또한, 본 발명에 따른 가로 지지바(10)는 가로 방향 양측이 상부 지지부재(20) 및 하부 지지부재(30)보다 가로 방향 외측으로 연장되도록 형성되며, 이를 통해 후술할 반도체 테스트 소켓에 적용될 때 결합을 위한 구조로 사용 가능하게 되는 바, 이에 대한 상세한 설명은 후술한다.In addition, the
복수의 상하 연결부는 상호 대응하는 위치의 상부 메시부(40)와 하부 메시부(50)를 전기적으로 연결한다. 본 발명의 제1 실시예에서는 상하 연결부가, 도 4의 (b)에 도시된 바와 같이, 일측이 상부 메시부(40)의 하부 표면에 접촉되고 타측이 하부 메시부(50)의 하부 표면에 접촉되는 도전성의 와이어(W) 형태로 마련되는 것을 예로 한다.The plurality of vertically connecting portions electrically connect the
여기서, 도 4의 (b)에서는 와이어(W)가 외부로 노출되지 않도록 절연성 재질이 커버 부재(20')가 형성되는 것을 예로 하는데, 와이어(W)의 형성 후 액상의 실리콘을 도포한 후 경화시켜 도전 와이어(W)의 외부 노출을 방지할 수 있게 된다.Here, in (b) of FIG. 4, the insulating member is formed such that the
상기와 같은 구성에 따라, 절연성 재질의 상부 지지부재(20) 및 하부 지지부재(30)에 각각 상부 메시부(40)와 하부 메시부(50)를 형성한 후, 가로 지지바(10)에 상부 지지부재(20)와 하부 지지부재(30)를 부착하는 방법으로 보다 간단한 방법으로 양방향 컨텍트 모듈(1)의 제작이 가능하게 된다.According to the configuration as described above, after forming the
또한, 가로 방향으로의 피치를 상부 메시부(40) 또는 하부 메시부(50) 간의 간격의 조절 만으로 조절 가능하게 되어 기존의 포고-핀(Pogo-pin) 타입의 반도체 테스트 소켓의 피치 한계를 극복할 수 있게 된다.In addition, the pitch in the horizontal direction can be adjusted only by adjusting the gap between the
또한, 상부 지지부재(20), 하부 지지부재(30) 또는 가로 지지바(10)의 두께를 조절하여 상하 방향으로의 두께도 보다 용이하게 조절할 수 있게 되며, 도전성을 갖는 상부 메시부(40), 하부 메시부(50) 및 이를 전기적으로 연결하는 와이어(W)를 통해 상하 방향으로 도전 라인을 형성함으로써, 보다 안정적인 전기적 연결이 가능하게 된다.In addition, by adjusting the thickness of the
이하에서는, 도 5를 참조하여 본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 테스트용 양방향 컨텍트 모듈(1a)에 대해 설명한다. 본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 테스트용 컨텍트 모듈(1a)은 복수의 상부 메시부(40a), 상부 지지부재(20a), 가로 지지바(10a), 하부 지지부재(30a), 복수의 하부 메시부(50a) 및 복수의 상하 연결부를 포함한다.Hereinafter, the bidirectional contact module 1a for semiconductor test according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. 5. The semiconductor test contact module 1a according to the second embodiment of the present invention includes a plurality of
본 발명의 제2 실시예에 따른 반도체 테스트용 양방향 컨텍트 모듈(1a)은, 도 5에 도시된 바와 같이, 상부로부터 복수의 상부 메시부(40a), 상부 지지부재(20a), 가로 지지바(10a), 하부 지지부재(30a) 및 하부 메시부(50a)가 순차적으로 형성되는 것은 제1 실시예와 동일하며, 그 구조 및 재질도 제1 실시예에 대응하는 바 그 설명은 생략한다.As shown in FIG. 5, the bidirectional contact module 1a for semiconductor test according to the second embodiment of the present invention includes a plurality of
본 발명의 제2 실시예에서는 상부 지지부재(20a)의 내측에 복수의 상부 메시부(40a)에 대응하는 위치에 길이 방향을 따라 복수의 상부 도전성 파우더(70a)가 형성된다. 보다 구체적으로 설명하면, 도 5의 (b)에 도시된 바와 같이, 각각의 상부 도전성 파우더(70a)는 일측이 상부 지지부재(20a)의 상부 표면에 노출되어 대응하는 위치의 상부 메시부(40a)와 전기적으로 접촉한다. 그리고, 각각의 상부 도전성 파우더(70a)의 타측은 상부 지지부재(20a)의 하부 표면에 노출된다.In the second embodiment of the present invention, a plurality of upper
마찬가지로, 하부 지지부재(30a)의 내측에 복수의 하부 메시부(50a)에 대응하는 위치에 길이 방향을 따라 복수의 하부 도전성 파우더(80a)가 형성된다. 보다 구체적으로 설명하면, 도 5의 (b)에 도시된 바와 같이, 각각의 하부 도전성 파우더(80a)는 일측이 하부 지지부재(30a)의 하부 표면에 노출되어 대응하는 위치의 하부 메시부(50a)와 전기적으로 접촉한다. 그리고, 각각의 하부 도전성 파우더(80a)의 타측은 하부 지지부재(30a)의 상부 표면에 노출된다.Similarly, a plurality of lower
또한, 가로 지지바(10a)에는 상호 대응하는 상부 도전성 파우더(70a)와 하부 도전성 파우더(80a)를 전기적으로 연결하는 연결 도전 패턴(60a)이 길이 방향을 따라 형성된다. 본 발명의 제2 실시예에서는 하나의 연결 도전 패턴(60a)이, 도 5의 (a) 및 도 6의 (a)에 도시된 바와 같이, 가로 지지바(10a)의 상부 표면, 하부 표면, 양측면 중 적어도 일측을 감싸는 도전성 시트에 의해 형성되는 것을 예로 한다.In addition, a connecting
즉, 가로 지지바(10a)의 상부 표면과 하부 표면에 각각 도전성 시트가 형성되고, 양측 표면 중 적어도 일측에 상부 표면의 도전성 시트와 하부 표면의 도전성 시트를 전기적으로 연결하기 위한 도전성 시트가 형성될 수 있다.That is, conductive sheets are formed on the upper surface and the lower surface of the
상기와 같은 구성을 통해, 상호 대응하는 하나의 상부 도전성 파우더(70a), 하나의 연결 도전 패턴(60a), 하나의 하부 도전성 파우더(80a)가 전기적으로 연결되어 하나의 상하 연결부를 형성하게 되고, 상부 도전성 파우더(70a)가 상부 메시부(40a)와 전기적으로 연결되고, 하부 도전성 파우더(80a)가 하부 메시부(50a)와 전기적으로 연결됨으로써, 상부 메시부(40a)와 하부 메시부(50a)가 전기적으로 연결 가능하게 된다.Through the above configuration, one upper
여기서, 도전성 시트는 PI 필름의 적어도 일측 표면이 도전성 재질로 도금된 연성회로기판 형태로 마련될 수 있다. 즉, 연성회로기판의 도금 재질을 본 발명에 따른 연결 도전 패턴(60a) 형태로 패터닝 처리하고, 니켈과 금 도금을 통해 해당 부분에 연결 도전 패턴(60a)을 형성한 후, 가로 지지바(10a)의 둘레를 감싸도록 부착함으로써 연결 도전 패턴(60a)을 가로 지지바(10a)에 형성할 수 있다.Here, the conductive sheet may be provided in the form of a flexible circuit board on which at least one surface of the PI film is plated with a conductive material. That is, the plating material of the flexible circuit board is patterned in the form of the connection
도 6은 본 발명에 따른 반도체 테스트용 양방향 컨텍트 모듈(1a)의 가로 지지바(10a)의 연결 도전 패턴(60a)의 다른 예들을 나타낸 도면이다. 도 6의 (b)는 가로 지지바(10b)에 상하 방향으로 타공된 타공홀을 형성하고, 해당 타공홀의 내부 표면에 도전성 재질의 금속을 도포한 비아홀 형태로 마련되는 예를 나타내고 있다. 여기서, 비아홀의 상부 표면 및 하부 표면에는 비아홀과 전기적으로 연결되는 도전성 패드가 형성되는 것이 바람직하다.FIG. 6 is a diagram illustrating another example of the connection
도 6의 (c)에서는 가로 지지바(10c)의 외경을 도전성 와이어로 적어도 1외 이상 권취하여 연결 도전 패턴(60c)을 형성하는 예를 도시하고 있다. 가로 지지바(10c)의 외경을 도전성 와이어로 상호 이격되게 권취하게 되면, 상부 도전성 파우더(70a) 및 하부 도전성 파우더(80a)가 이중 적어도 하나와 전기적으로 연결됨으로써, 상하 연결부를 형성하게 된다.FIG. 6C illustrates an example in which the outer diameter of the
도 6의 (c)는 도전성 와이어를 독립적으로 권취한 예를 나타낸 도면이고, 하나의 긴 도전성 와이어를 연속적으로 일정 간격 이격된 상태로 권취한 후, 가로 지지바(10d)의 양측 표면 중 어느 일측면의 도전성 와이어를 가로 방향으로 절단하게 되면 인접한 도전성 와이어는 전기적으로 단선된 상태되어 연결 도전 패턴(60d)가 형성될 수 있다.FIG. 6C is a view showing an example in which conductive wires are independently wound, and after winding one long conductive wire continuously in a state spaced apart at regular intervals, any one of the surfaces of both sides of the
상술한 연결 도전 패턴(60a,60b,60c,60d)들은 가로 지지바(10a,10b,10c,10d)에 형성된 후, 가로 지지바(10a,10b,10c,10d)의 양측 표면을 실리콘 등과 같은 도전성 재질로 도포함으로써, 반도체 테스트 소켓을 제조할 때, 인접한 양방향 컨텍트 모듈(1a) 간의 절연을 가능하게 할 수 있다.The above-described connection
이하에서는, 도 7 및 도 8을 참조하여 본 발명에 따른 반도체 테스트 소켓에 대해 상세히 설명한다.Hereinafter, a semiconductor test socket according to the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 7 and 8.
본 발명에 따른 반도체 테스트 소켓은 내부 하우징(300), 복수의 양방향 컨텍트 모듈(1a) 및 외부 하우징(400)을 포함한다.The semiconductor test socket according to the present invention includes an
내부 하우징(300)은 상하 방향으로 개방된 사각 형상을 갖는다. 그리고, 내부 하우징(300)의 상호 마주하는 한 쌍의 변에 상호 대응하게 상부로부터 하부로 복수의 슬릿(310)이 형성된다.The
각각의 양방향 컨텍트 모듈(1a)은 상호 마주하는 한 쌍의 슬롯에 각각 삽입된다. 여기서, 양방향 컨텍트 모듈(1a)의 가로 지지바(10a)의 양측 가장자리가 양측의 슬롯에 각각 삽입되어 내부 하우징(300)에 설치된다. 여기서, 양방향 컨텍트 모듈(1a)은 상술한 바와 같으며, 도 7에서는 본 발명의 제2 실시예에 따른 양방향 컨텍트 모듈(1a)이 적용되는 것을 예로 하고 있다.Each bidirectional contact module 1a is inserted into a pair of slots facing each other, respectively. Here, both edges of the
외부 하우징(400)은 내부가 빈 틀 형태로 마련되며, 복수의 양방향 컨텍트 모듈(1a)이 상부로 노출되도록 내부 하우징(300)과 결합된다. 그리고, 외부 하우징(400)을 테스트 장치(500)에 하부 방향으로 가압하여 고정시키게 되면, 양방향 컨텍트 모듈(1a)의 하부 메시부(50a)가 테스트 장치(500)의 패드(510)와 접촉한 상태를 유지하게 된다.The
여기서, 외부 하우징(400)에는 외부 하우징(400)과 테스트 장치(500)의 결합을 위한 결합 볼트(420)가 통과하는 볼트 통과공(410)이 형성되고, 테스트 장치(500)에는 볼트 통과공(410)에 대응하는 위치에 볼트 체결공(520)이 형성되어, 볼트 통과공(410)을 통과한 결합 볼트(420)가 볼트 체결공(520)에 체결됨으로써, 본 발명에 따른 반도체 테스트 소켓이 테스트 장치에 고정 가능하게 된다.Here, the
상기와 같이, 양방향 컨텍트 모듈(1a)을 내부 하우징(300)의 슬릿(310)에 삽입하는 방법으로 반도체 테스트 소켓의 제작이 가능하게 됨으로써, 보다 간단한 방법으로 제작이 가능하게 된다.As described above, the semiconductor test socket can be manufactured by inserting the bidirectional contact module 1a into the
또한, 반도체 디바이스의 단자의 개수가 변하더라도 내부 하우징(300)의 슬롯의 개수와, 양방향 컨텍트 모듈(1a)의 상하 방향으로의 도전 라인의 개수만을 가변시켜 동일한 방법으로 제작하게 됨으로써, 다양한 패턴의 반도체 디바이스의 테스트를 위한 반도체 테스트 소켓의 제작이 가능하게 된다.In addition, even if the number of terminals of the semiconductor device is changed, the number of slots of the
전술한 실시예에서는 상부 메시부(40,40a) 및 하부 메시부(50,50a)가 도금층에 의해 도전성을 갖는 것으로 설명하였다. 이외에도, 본 발명의 제2 실시예에 따른 상부 메시부(40a) 및 하부 메시부(50a)가 절연성 재질로 마련된 후, 상부 도전성 파우더(70a) 및 하부 도전성 파우더(80a)를 구성하는 도전성 파우더가 망상 구조를 통해 상부 메시부(40a) 및 하부 메시부(50a) 외부로 노출되어 상부 메시부(40a) 및 하부 메시부(50a)가 도전성을 갖도록 마련될 수 있다.In the above embodiment, the
한편, 도 9는 본 발명의 제3 실시예에 따른 양방향 컨텍트 모듈(1e)의 단면을 나타낸 도면이다. 도 9를 참조하여 설명하면, 본 발명의 제3 실시예에 따른 양방향 컨텍트 모듈(1e)은 복수의 상부 메시부(40e), 상부 지지부재(20e), 가로 지지바(10e), 하부 지지부재(30e), 복수의 하부 메시부(50e) 및 복수의 상하 연결부를 포함한다.9 is a cross-sectional view of the bidirectional contact module 1e according to the third embodiment of the present invention. Referring to FIG. 9, the bidirectional contact module 1e according to the third embodiment of the present invention may include a plurality of
여기서, 본 발명의 제3 실시예에 따른 양방향 컨텍트 모듈(1e)의 복수의 상부 메시부(40e), 상부 지지부재(20e), 가로 지지바(10e), 하부 지지부재(30e), 복수의 하부 메시부(50e)의 기본적인 구성은 전술한 제1 실시예 또는 제2 실시예에 대응하는 바 그 설명은 생략한다.Here, the plurality of
본 발명의 제3 실시예에 따른 양방향 컨텍트 모듈(1e)의 상부 메시부(40e)와 하부 메시부(50e)가 측면 베이스 메시(20e')를 통해 연결되고, 와이어(W)로 마련되는 상하 연결부가 측면 베이스 메시(20e')에 의해 커버되는 것을 예로 한다.The
여기서, 상부 메시부(40e)와 하부 메시부(50e)가 도금을 통해 도전성을 갖는 경우, 베이스 메시의 도금 과정에서 상부 메시부(40e)와 하부 메시부(50e)에 해당하는 영역만이 도금되고 나머지 부분, 즉 도 9에 도시된 바와 같이, 양방향 컨텍트 모듈(1e)의 측면에 위치하는 영역은 도금되지 않도록 구성함으로써, 측면 측의 측면 베이스 메시부(20e')가 절연성을 가지면서 와이어(W)를 커버할 수 있게 된다.Here, when the
또한, 상부 메시부(40e)와 하부 메시부(50e)가 도전성 파우더에 의해 도전성을 갖는 경우, 베이스 메시를 도 9에 도시된 바와 같이 절곡하여 부착하고 상부 도전성 파우더(70a) 및 하부 도전성 파우더(80a)를 구성하는 도전성 파우더가 망상 구조를 통해 상부 메시부(40e) 및 하부 메시부(50e) 외부로 노출되어 상부 메시부(40e) 및 하부 메시부(50e)가 도전성을 가지면서, 나머지 부분이 측면 베이스 메시부(20e')를 형성하도록 마련될 수 있다.In addition, when the
비록 본 발명의 몇몇 실시예들이 도시되고 설명되었지만, 본 발명이 속하는 기술분야의 통상의 지식을 가진 당업자라면 본 발명의 원칙이나 정신에서 벗어나지 않으면서 본 실시예를 변형할 수 있음을 알 수 있을 것이다. 발명의 범위는 첨부된 청구항과 그 균등물에 의해 정해질 것이다.Although some embodiments of the invention have been shown and described, it will be apparent to those skilled in the art that modifications may be made to the embodiment without departing from the spirit or spirit of the invention. . It is intended that the scope of the invention be defined by the claims appended hereto and their equivalents.
[부호의 설명][Description of the code]
1,1a : 반도체 테스트용 컨텍트 모듈1,1a: Contact module for semiconductor test
10,10a,10b,10c,10d : 가로 지지바 20,20a : 상부 지지부재10, 10a, 10b, 10c, 10d:
30,30a : 하부 지지부재 40,40a : 상부 메시부30,30a:
50,50a : 하부 메시부 50,50a: lower mesh part
60a,60b,60c,60d : 연결 도전 패턴60a, 60b, 60c, 60d: connection conductive pattern
70a : 상부 도전성 파우더 80a : 하부 도전성 파우더70a: upper
300 : 내부 하우징 310 : 슬릿300: inner housing 310: slit
400 : 외부 하우징 W : 와이어400: outer housing W: wire
본 발명은 반도체 소자와 같은 전기전자소자의 양불 테스트나 반도체 소자의 제조 과정 중 번-인(Burn-In) 테스트 과정에서 사용된다.The present invention is used in the positive test of electrical and electronic devices such as semiconductor devices, or during burn-in testing of semiconductor devices.
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