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WO2017183315A1 - 静電容量式センサ - Google Patents

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Publication number
WO2017183315A1
WO2017183315A1 PCT/JP2017/007883 JP2017007883W WO2017183315A1 WO 2017183315 A1 WO2017183315 A1 WO 2017183315A1 JP 2017007883 W JP2017007883 W JP 2017007883W WO 2017183315 A1 WO2017183315 A1 WO 2017183315A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
connecting portion
central
peripheral
wiring
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2017/007883
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
真一 樋口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Alps Alpine Co Ltd
Original Assignee
Alps Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Alps Electric Co Ltd filed Critical Alps Electric Co Ltd
Priority to EP17785660.6A priority Critical patent/EP3447616B1/en
Priority to KR1020187029347A priority patent/KR102105607B1/ko
Priority to JP2018513046A priority patent/JP6636618B2/ja
Priority to CN201780024398.4A priority patent/CN109074195B/zh
Publication of WO2017183315A1 publication Critical patent/WO2017183315A1/ja
Priority to US16/154,554 priority patent/US10746770B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R27/00Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
    • G01R27/02Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant
    • G01R27/26Measuring inductance or capacitance; Measuring quality factor, e.g. by using the resonance method; Measuring loss factor; Measuring dielectric constants ; Measuring impedance or related variables
    • G01R27/2605Measuring capacitance
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0443Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a single layer of sensing electrodes
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G06F3/0446Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means using a grid-like structure of electrodes in at least two directions, e.g. using row and column electrodes
    • GPHYSICS
    • G06COMPUTING OR CALCULATING; COUNTING
    • G06FELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04111Cross over in capacitive digitiser, i.e. details of structures for connecting electrodes of the sensing pattern where the connections cross each other, e.g. bridge structures comprising an insulating layer, or vias through substrate

Definitions

  • the present invention relates to a capacitive sensor, and more particularly to a capacitive sensor in which wiring portions are drawn from both sides of an electrode formed on a base material and the wiring portions on both sides are electrically connected in a non-detection region. .
  • Patent Document 1 discloses a capacitance in which wiring portions are drawn out from both sides of a plurality of transparent electrodes formed on a substrate, and the wiring portions on both sides are electrically connected in a peripheral region located around the input region.
  • a formula input device is disclosed.
  • the several transparent electrode described in patent document 1 is electrically connected through the connection part.
  • a capacitance-type input device described in Patent Document 1 for example, a capacitance-type sensor arranged in a relatively wide area, such as a vehicle-mounted sensor mounted on a car navigation device.
  • the electrical resistance can be reduced and the charge time of the charge can be shortened. Therefore, good responsiveness can be obtained with respect to coordinate input and gesture operation.
  • ESD Electro Static Discharge
  • electricity generated by ESD may flow to the connecting portion.
  • at least one of local thermal expansion and thermal shrinkage may occur in the connecting portion, and breakage leading to disconnection may occur in the connecting portion.
  • the disconnection of the connecting part affects the detection operation of the capacitive input device.
  • the connecting portion arranged at a portion other than the central portion (for example, the end portion) of the input region is disconnected, the transparent electrodes and the connecting portions arranged on both sides of the disconnected connecting portion have different electrical resistance values.
  • the electrical resistance value on the side where the number of electrically connected transparent electrodes and connecting portions is relatively small is relatively small.
  • the electrical resistance value on the side where the number of transparent electrodes and connecting portions that are electrically connected is relatively large (side where the connection length is relatively long) is relatively large.
  • the charge time of the charge is different from each other on both sides of the disconnected connection part. Specifically, the charge charging time on the side where the number of electrically connected transparent electrodes and the number of connecting portions is relatively small (side where the connection length is relatively short) is relatively fast. On the other hand, the charge time of charges on the side where the number of transparent electrodes and connecting portions that are electrically connected is relatively large (the side where the connection length is relatively long) is relatively slow.
  • the connecting portion arranged other than the central portion of the input area is disconnected, the response of the capacitive input device, that is, the time constant, is different from each other on both sides of the disconnected connecting portion.
  • the connecting portion arranged other than the central portion of the input region is disconnected, a time constant imbalance occurs on both sides of the disconnected connecting portion.
  • the disconnection of the connection part by ESD may affect the detection operation of the capacitive input device.
  • the present invention is for solving the above-described conventional problems, and an object of the present invention is to provide a capacitance type sensor capable of suppressing the influence of disconnection of a connecting portion due to ESD on detection operation.
  • the capacitance type sensor of the present invention has an electrode having a light-transmitting base material and a plurality of light-transmitting transparent electrodes arranged in a predetermined direction in a detection region of the base material.
  • a connecting body; a first wiring portion provided extending to a non-detection area outside the detection area and electrically connected to one end of the electrode connection body; and a non-detection area outside the detection area A plurality of transparent electrodes disposed in the center of the detection region in the predetermined direction, and a second wiring portion that extends to the other end of the electrode assembly and is electrically connected to the other end of the electrode assembly.
  • a central connection portion connected to the peripheral connection portion, and a peripheral connection portion that electrically connects the plurality of transparent electrodes arranged in the predetermined direction other than the central portion, and the first wiring portion and the second connection portion.
  • the wiring part is electrically connected to each other in the non-detection region. Connected, the electrical resistance of the central connecting portion, being greater than the electrical resistance of the peripheral coupling portion.
  • the first wiring portion electrically connected to one end of the electrode assembly having a plurality of transparent electrodes is electrically connected to the other end of the electrode assembly.
  • the second wiring portion is electrically connected in the non-detection region.
  • the electrical resistance value of the central connecting portion that electrically connects the plurality of transparent electrodes arranged in the center portion of the detection region in the predetermined direction in which the plurality of transparent electrodes are arranged is arranged in a portion other than the center portion in the predetermined direction. It is higher than the electrical resistance value of the peripheral coupling portion that electrically connects the plurality of transparent electrodes.
  • the amount of voltage drop that occurs in the central connection due to ESD is larger than the amount of voltage drop that occurs in the peripheral connection due to ESD.
  • the amount of heat generated in the central connection portion by ESD is larger than the amount of heat generated in the peripheral connection portion by ESD.
  • the central connection portion is more likely to be disconnected preferentially than the peripheral connection portion. That is, the disconnection caused by ESD can be concentrated on the central connecting portion.
  • the central coupling part is located distally from both the first wiring part and the second wiring part.
  • electric charges are less likely to flow in the central connection part than in the peripheral connection part. For this reason, it is dominant that the charge to the transparent electrode connected to one end of the central coupling portion is performed from the first wiring portion side even when the central coupling portion is not disconnected. In addition, it is dominant that the charge to the transparent electrode connected to the other end of the central coupling portion is performed from the second wiring portion side. Therefore, even if ESD occurs and the central connection part is disconnected, a large change does not occur in the process of charging the two transparent electrodes connected to both ends of the central connection part.
  • the time constants of the two transparent electrodes connected to both ends of the central connecting portion do not differ greatly even if the central connecting portion is disconnected or disconnected. Therefore, the influence of ESD on the detection operation of the capacitive sensor can be suppressed by adopting a structure in which disconnections caused by ESD are concentrated in the central coupling portion.
  • the electrical resistance value of the central connection part is higher than the electrical resistance value of the peripheral connection part, in the structure where disconnection due to ESD is concentrated on the central connection part, when the peripheral connection part is disconnected for some reason
  • the time constant of the transparent electrode connected to the disconnected peripheral connection part is particularly higher than the time constants of the other transparent electrodes. That is, the time constant of the transparent electrode connected to the disconnected peripheral connection portion becomes a singular point. Therefore, for example, even when the peripheral connection portion is disconnected due to ESD in the manufacturing process, the disconnection of the peripheral connection portion can be easily detected in the manufacturing process.
  • the width of the central connecting portion may be narrower than the width of the peripheral connecting portion.
  • the electrical resistance value of the central coupling portion can be made higher than the electrical resistance value of the peripheral coupling portion relatively easily. Therefore, it is possible to relatively easily suppress the influence of the disconnection of the connecting portion due to ESD on the detection operation of the capacitive sensor.
  • the thickness of the central connecting portion may be thinner than the thickness of the peripheral connecting portion. Even in this case, in the step of forming the central coupling portion and the peripheral coupling portion, the electrical resistance value of the central coupling portion can be made relatively higher than the electrical resistance value of the peripheral coupling portion. Therefore, it is possible to relatively easily suppress the influence of the disconnection of the connecting portion due to ESD on the detection operation of the capacitive sensor.
  • the central coupling portion may include a material having an electrical resistivity higher than that of the material forming the peripheral coupling portion.
  • the electrical resistance value of the central coupling portion is made higher than the electrical resistance value of the peripheral coupling portion by the material forming the central coupling portion and the peripheral coupling portion, not the shape of the central coupling portion and the peripheral coupling portion. Can do. Therefore, the influence which the disconnection of the connection part by ESD has on the detection operation of the capacitive sensor can be suppressed more reliably.
  • a capacitance type sensor that can suppress the influence of the disconnection of the connecting portion due to ESD on the detection operation.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view taken along a cutting plane C1-C1 shown in FIG.
  • FIG. 4 is a cross-sectional view taken along a cutting plane C2-C2 illustrated in FIG. 3.
  • It is a top view which illustrates the case where the center connection part of this embodiment is disconnected.
  • It is a top view which illustrates the case where the peripheral connection part of this embodiment is disconnected.
  • It is a graph showing the time constant of a 2nd transparent electrode.
  • FIG. 1 is a plan view illustrating a capacitive sensor according to the present embodiment.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing the capacitive sensor according to the present embodiment.
  • FIG. 3 is a plan view illustrating the configuration of the electrodes provided on the base material of the present embodiment. 4 is a cross-sectional view taken along section line C1-C1 shown in FIG.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view taken along section line C2-C2 shown in FIG.
  • the transparent electrode is transparent and cannot be visually recognized, FIGS. 1 and 3 show the outer shape of the transparent electrode for easy understanding.
  • transparent and “translucent” refer to a state where the visible light transmittance is 50% or more (preferably 80% or more). Furthermore, the haze value is preferably 6% or less. In the present specification, “light shielding” and “light shielding” refer to a state where the visible light transmittance is less than 50% (preferably less than 20%).
  • the capacitive sensor 1 includes a base material 2, an optical transparent adhesive layer 30, and a panel 3. As shown in FIG. 2, the base material 2, the optical transparent adhesive layer 30, and the panel 3 are laminated in this order. That is, the optical transparent adhesive layer 30 is provided between the base material 2 and the panel 3. In the manufacturing process of the capacitive sensor 1, the outer main surfaces of the substrate 2 and the panel 3 are covered with, for example, a protective sheet 43.
  • the base material 2 has translucency and is formed of a film-like transparent base material such as polyethylene terephthalate (PET), a glass base material, or the like.
  • a transparent electrode or the like is provided on one main surface of the substrate 2. Details of this will be described later.
  • the panel 3 has translucency.
  • the material of the panel 3 is not particularly limited.
  • the panel 3 is joined to the base material 2 via an optical transparent adhesive layer (OCA: Optical Clear Adhesive) 30 provided between the base material 2 and the panel 3.
  • OCA optical transparent adhesive layer
  • the optical transparent adhesive layer (OCA) 30 is made of an acrylic adhesive, a double-sided adhesive tape, or the like.
  • the capacitive sensor 1 includes a detection region 11 and a non-detection region 25 when viewed from the direction along the normal of the surface on the panel 3 side (Z1-Z2 direction).
  • the detection area 11 is an area where an operation body such as a finger F can be operated
  • the non-detection area 25 is a frame-shaped area located on the outer peripheral side of the detection area 11.
  • the non-detection area 25 is shielded from light by the decorative layer 14 (see FIG.
  • FIG. 1 FIG. 3, FIG. 4 (cross-sectional view taken along section C1-C1 shown in FIG. 3) and FIG. 5 (cross-sectional view taken along section C2-C2 shown in FIG. 3).
  • the first electrode coupling body 8 and the second electrode coupling body 12 are provided on one main surface.
  • the first electrode assembly 8 is disposed in the detection region 11 and has a plurality of first transparent electrodes 4.
  • the plurality of first transparent electrodes 4 are principally located on the Z1 side of the main surface with the direction along the Z1-Z2 direction in the substrate 2 as a normal line.
  • the surface (hereinafter sometimes abbreviated as “front surface”) 2a is provided.
  • Each first transparent electrode 4 is connected in the Y1-Y2 direction (first direction) via the elongated first connecting part 7. Then, first electrode assemblies 8 having a plurality of first transparent electrodes 4 coupled in the Y1-Y2 direction are arranged at intervals in the X1-X2 direction.
  • the first connecting portion 7 is formed integrally with the first transparent electrode 4.
  • the first transparent electrode 4 and the first connecting portion 7 are made of a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) by sputtering or vapor deposition.
  • a transparent conductive material such as ITO (Indium Tin Oxide) by sputtering or vapor deposition.
  • the transparent conductive material include, besides ITO, metal nanowires typified by silver nanowires, thin metals formed in a mesh shape, or conductive polymers. This also applies to the transparent conductive material described later.
  • the second electrode assembly 12 is arranged in the detection region 11 and has a plurality of second transparent electrodes 5. As shown in FIG. 4 with reference to FIG. 3, the plurality of second transparent electrodes 5 are provided on the front surface 2 a of the substrate 2. Thus, the 2nd transparent electrode 5 is provided in the same surface (front surface 2a of the base material 2) as the 1st transparent electrode 4. FIG. As shown in FIGS. 4 and 5, each second transparent electrode 5 is coupled in the X1-X2 direction (second direction) via the elongated second coupling portion 10. Then, second electrode assemblies 12 having a plurality of second transparent electrodes 5 coupled in the X1-X2 direction are arranged at intervals in the Y1-Y2 direction.
  • the second connecting portion 10 is formed as a separate body from the second transparent electrode 5. Note that the X1-X2 direction intersects the Y1-Y2 direction. For example, the X1-X2 direction intersects the Y1-Y2 direction perpendicularly.
  • the second transparent electrode 5 is formed of a transparent conductive material such as ITO by sputtering or vapor deposition.
  • the 2nd connection part 10 is formed with transparent conductive materials, such as ITO. Or the 2nd connection part 10 may have the 1st layer containing transparent conductive materials, such as ITO, and the 2nd layer which consists of a transparent metal with lower resistance than a 1st layer.
  • the second connecting portion 10 has a laminated structure of the first layer and the second layer, the second layer is formed of any one selected from the group consisting of Au, Au alloy, CuNi, and Ni. Is preferred. Among these, it is more preferable to select Au.
  • the second connecting portion 10 can obtain good environmental resistance (humidity resistance, heat resistance).
  • an insulating layer 20 is provided on the surface of the first connecting portion 7 that connects the first transparent electrodes 4. As shown in FIG. 4, the insulating layer 20 fills the space between the first connecting portion 7 and the second transparent electrode 5, and slightly rides on the surface of the second transparent electrode 5.
  • a novolac resin resist
  • the second connecting portion 10 is provided from the surface 20a of the insulating layer 20 to the surface of each second transparent electrode 5 located on both sides of the insulating layer 20 in the X1-X2 direction. ing.
  • the second connecting part 10 electrically connects the second transparent electrodes 5.
  • an insulating layer 20 is provided on the surface of the first coupling portion 7 that connects the first transparent electrodes 4, and each second layer is formed on the surface of the insulating layer 20.
  • a second connecting portion 10 for connecting the transparent electrodes 5 is provided.
  • the insulating layer 20 is interposed between the first connecting portion 7 and the second connecting portion 10, and the first transparent electrode 4 and the second transparent electrode 5 are electrically insulated. It is in a state.
  • the capacitive sensor 1 can be thinned. realizable.
  • the first connecting portion 7 is formed integrally with the first transparent electrode 4, and the second connecting portion 10 is the first connecting portion. 7 is formed as a separate body from the second transparent electrode 5 on the surface 20 a of the insulating layer 20 covering 7. That is, the 2nd connection part 10 is provided as bridge wiring.
  • the arrangement form of each connection part is not limited to this.
  • the first connecting portion 7 is formed separately from the first transparent electrode 4 on the surface 20 a of the insulating layer 20, and the second connecting portion 10 is formed integrally with the second transparent electrode 5.
  • the 1st connection part 7 may be provided as bridge wiring.
  • a case where the second connecting portion 10 is provided as a bridge wiring is taken as an example.
  • the first connecting portion 10 includes a central connecting portion 10a and a peripheral connecting portion 10b.
  • the central connecting portion 10a electrically connects the plurality of second transparent electrodes 5 arranged in the central portion of the detection region 11 in the X1-X2 direction in which the second electrode connecting body 12 extends.
  • the peripheral connection portion 10b electrically connects the plurality of second transparent electrodes 5 arranged at positions other than the central portion (for example, the end portion) of the detection region 11 in the X1-X2 direction in which the second electrode connection body 12 extends. is doing.
  • the first connecting part 7, the second connecting part 10, and the insulating layer 20 are all located in the detection region 11, and are the same as the first transparent electrode 4 and the second transparent electrode 5. It has translucency.
  • a first wiring portion 61, a second wiring portion 62, and a third wiring portion 63 are formed in the non-detection region 25.
  • the first wiring portion 61 and the second wiring portion 62 are drawn out from the end portions on both sides of the second electrode connector 12. Specifically, the first wiring part 61 is drawn from one end (X1 side end) of the second electrode assembly 12 to one non-detection area (X1 side non-detection area) 25. It extends.
  • the first wiring part 61 is electrically connected to one end of the second electrode assembly 12.
  • the second wiring portion 62 extends from the other end (X2 side end) of the second electrode assembly 12 to the other non-detection region (X2 side non-detection region) 25.
  • the second wiring part 62 is electrically connected to the other end of the second electrode connector 12.
  • the third wiring part 63 is drawn out from one end of the first electrode connector 8. Specifically, the third wiring portion 63 is led out from one end portion (Y2 side end portion) of the first electrode assembly 8 to one non-detection region (Y2 side non-detection region) 25. It extends. The third wiring part 63 is electrically connected to one end of the first electrode connector 8.
  • the second electrode connector 12 is electrically connected to the first wiring part 61 and the second wiring part 62 via the connection wiring 16.
  • the first wiring portion 61 and the second wiring portion 62 are electrically connected to each other at the contact portion 17 provided in the non-detection region 25 and are also electrically connected to the flexible printed circuit board 29.
  • Connected to the unit 27 That is, the first wiring part 61 and the second wiring part 62 are electrically connected to each other and also electrically connect the second electrode connector 12 and the external connection part 27. .
  • the first electrode assembly 8 is electrically connected to the third wiring part 63 through the connection wiring 15.
  • the third wiring part 63 is connected to the external connection part 27 that is electrically connected to the flexible printed circuit board 29. That is, the third wiring part 63 electrically connects the first electrode connector 8 and the external connection part 27.
  • the external connection unit 27 is electrically connected to the flexible printed circuit board 29 through, for example, a conductive paste.
  • the insulating layer 19 is provided between the first wiring part 61 and the third wiring part 63.
  • the insulating layer 19 is formed on the surface of the third wiring part 63.
  • the insulating layer 19 is interposed between the first wiring portion 61 and the third wiring portion 63, the first wiring portion 61 and the second wiring portion 62, and the third wiring portion 63. Are electrically insulated from each other.
  • Each wiring part 61, 62, 63 is formed of a material having a metal such as Cu, Cu alloy, CuNi alloy, Ni, Ag, Au or the like.
  • Each of the connection wirings 15 and 16 is made of a transparent conductive material such as ITO, and extends from the detection region 11 to the non-detection region 25.
  • the first wiring portion 61 and the second wiring portion 62 are stacked on the connection wiring 16 in the non-detection region 25 and are electrically connected to the connection wiring 16.
  • the third wiring portion 63 is stacked on the connection wiring 15 in the non-detection region 25 and is electrically connected to the connection wiring 15.
  • Each wiring part 61,62,63 is provided in the part located in the non-detection area
  • FIG. The external connection portion 27 is also provided in a portion located in the non-detection region 25 on the front surface 2a of the base material 2 in the same manner as the wiring portions 61, 62, and 63.
  • the wiring portions 61, 62, 63 and the external connection portion 27 are displayed so as to be easily seen for easy understanding, but in actuality, they are shown in FIGS. 2, 4, and 5.
  • the panel 3 is provided so as to oppose the front surface 2a of the base material 2.
  • the main surface located on the Z1 side (the main surface opposite to the main surface 3b facing the front surface 2a of the substrate 2) ) 3a is a surface on the side where the capacitive sensor 1 is operated, and is also referred to as an “operation surface” in this specification.
  • Panel 3 may have a laminated structure.
  • a specific example of the laminated structure is a laminated structure in which a hard coat layer made of an inorganic material is formed on a film made of an organic material.
  • the shape of the panel 3 may be a flat plate shape or another shape.
  • the operation surface 3a of the panel 3 may be a curved surface, and the surface shape of the operation surface 3a of the panel 3 and the Z2 side of the main surface with the direction along the Z1-Z2 direction in the panel 3 as a normal line.
  • the surface shape of the positioned main surface (in other words, the main surface opposite to the operation surface 3a and may be abbreviated as “back surface” hereinafter) 3b may be different.
  • the decoration layer 14 which has light-shielding property is provided in the part located in the non-detection area
  • the decoration layer 14 is provided on the entire portion located in the non-detection region 25 on the back surface 3 b of the panel 3. For this reason, when the capacitive sensor 1 is viewed from the operation surface 3 a side of the panel 3, the wiring portions 61, 62, 63 and the external connection portion 27 are hidden by the decorative layer 14 and are not visually recognized.
  • the material which comprises the decorating layer 14 is arbitrary as long as it has light-shielding property.
  • the decorative layer 14 may have insulating properties.
  • the capacitive sensor 1 shown in FIG. 1 when a finger F is brought into contact with the operation surface 3 a of the panel 3 as an example of an operation body as shown in FIG. 4 and between the finger F and the second transparent electrode 5 close to the finger F, capacitance occurs.
  • the capacitive sensor 1 can calculate the contact position of the finger F based on the capacitance change at this time.
  • the capacitance type sensor 1 detects the X coordinate of the position of the finger F based on the change in capacitance between the finger F and the first electrode coupling body 8, and the finger F and the second electrode coupling body 12.
  • the Y-coordinate of the position of the finger F is detected based on the capacitance change between the two (self-capacitance detection type).
  • the capacitance type sensor 1 may be a mutual capacitance detection type. That is, the capacitance type sensor 1 applies a driving voltage to one of the electrodes of the first electrode connection body 8 and the second electrode connection body 12, and the first electrode connection body 8 and the second electrode connection body 12. A change in capacitance between the other electrode of the electrode assembly 12 and the finger F may be detected. Thereby, the capacitive sensor 1 detects the Y coordinate of the position of the finger F by the other electrode, and detects the X coordinate of the position of the finger F by the one electrode.
  • the first wiring portion 61 and the second wiring portion 62 are pulled out from the end portions on both sides of the second electrode coupling body 12 and are flexible. It is connected to the printed circuit board 29. Thereby, the electrical resistance value of the 2nd electrode coupling body 12 can be reduced, and the charge time of an electric charge can be advanced. Therefore, good responsiveness can be obtained with respect to coordinate input and gesture operation. That is, the time constant of the capacitive sensor 1 can be suppressed to a smaller value.
  • the capacitance type sensor 1 only needs to detect a change in capacitance between the operation body such as the finger F and the transparent electrode, and calculate the contact position of the operation body with respect to the operation surface 3a.
  • the first transparent electrode 4 and the second transparent electrode 5 may be provided on different main surfaces of the substrate 2.
  • FIG. 6 is a plan view illustrating a case where the central coupling portion of the present embodiment is disconnected.
  • FIG. 7 is a plan view illustrating a case where the peripheral connection portion of this embodiment is disconnected.
  • FIG. 8 is a graph showing the time constant of the second transparent electrode.
  • FIG. 9 is a plan view illustrating a case where the peripheral connection portion of the comparative example is disconnected.
  • one second electrode assembly 12 is shown. Further, reference numerals 5a to 5f described on the horizontal axis of the graph shown in FIG. 8 correspond to the second transparent electrodes 5a to 5f shown in FIG.
  • ESD Electro Static Discharge
  • the protective sheet 43 see FIG. 2
  • ESD Electro Static Discharge
  • the second connection unit 110 electricity generated by the ESD may flow to the second connection unit 110.
  • at least one of local thermal expansion and thermal contraction may occur in the second connecting portion 110, and breakage leading to disconnection may occur in the second connecting portion 110.
  • the second connecting part 110 shown in FIG. 9 has a central connecting part 110a and a peripheral connecting part 110b, and the central connecting part 110a and the peripheral connecting part 110b have the same width, the same thickness, and the same material. (Electrical resistivity).
  • the second electrode coupling body 112 of the comparative example shown in FIG. 9 all the second coupling portions 110 are electrically equal (without distinction between the central coupling portion 110a and the peripheral coupling portion 110b).
  • the first wiring portion 161 and the second wiring portion 162 are drawn out from the end portions on both sides of the second electrode coupling body 112, and are electrically connected to each other at the contact portion 17. For this reason, when ESD occurs in the second electrode coupling body 112 and electricity generated by the ESD flows to the second coupling portion 110, the central coupling portion 110a and the peripheral coupling portion constituting the second coupling portion 110. There is an equal possibility of disconnection in any of 110b.
  • the disconnection of the second connection part 110 may affect the detection operation of the capacitive sensor.
  • the second connecting portion 110 second transparent electrode 115d
  • FIG. 9 the second connecting portion 110 (second transparent electrode 115d) that is the second connecting portion 110 from the X2 side out of the five second connecting portions 110 arranged in the X1-X2 direction.
  • the peripheral connection part 110b) located between the first transparent electrode 115e and the second transparent electrode 115e is disconnected will be described as a specific example.
  • the peripheral connection portion 110b In a state before the second peripheral connection portion 110b from the X2 side is disconnected, the peripheral connection portion 110b is located closer to the second wiring portion 162 than the first wiring portion 161. It is dominant that the charge of the two second transparent electrodes 115d and the second transparent electrode 115e connected to both ends of the first and second transparent electrodes 115e is performed from the second wiring portion 162 side. That is, the second transparent electrode 115e connected to the X2 side of the second peripheral connection part 110b from the X2 side is charged with the second charge connected to the X1 side of the peripheral connection part 110b. Charging of the transparent electrode 115d is performed.
  • the charge charging time shifts in the second transparent electrode 115d and the second transparent electrode 115e connected to both ends of the second peripheral coupling portion 110b from the X2 side.
  • the deviation of the charge time of the charge is individually corrected by a control device (not shown) of the capacitive sensor, so that a smooth operational feeling of the capacitive sensor is realized.
  • the second transparent electrode 115d connected to the X1 side of the disconnected peripheral connection portion 110b is charged from the first wiring portion 161 side.
  • the charge of the second transparent electrode 115d is charged through the charge of the three second transparent electrodes 115a to 115c located on the X1 side of the second transparent electrode 115d.
  • the second transparent electrode 115e connected to the X2 side of the disconnected peripheral coupling part 110b is charged from the second wiring part 162 side. For this reason, the charge of the second transparent electrode 115e is charged through the charge of one second transparent electrode 115f located on the X2 side of the second transparent electrode 115e. Become.
  • the difference in charge time between the two second transparent electrodes 115d and the second transparent electrode 115e connected to both sides of the disconnected peripheral connection part 110b is a state before the peripheral connection part 110b is disconnected. This is greatly different from the difference in charge time of charge.
  • the difference in charge time between the two second transparent electrodes 115 (the second transparent electrode 115d and the second transparent electrode 115e in the specific example shown in FIG. 9) arranged adjacent to each other is 2
  • the change occurs due to the disconnection of the peripheral coupling portion 110b located between the two second transparent electrodes 115, it may be manifested as a difference in response, that is, a time constant, of the capacitive sensor.
  • the capacitive sensor is operated with an operating body such as a finger F, the responsiveness locally changes in a portion where the difference in time constant becomes apparent due to the disconnection of the peripheral connecting portion 110b.
  • the smooth operation feeling of the capacitive sensor may be lost.
  • the electrical resistance value of the central coupling portion 10a is higher than the electrical resistance value of the peripheral coupling portion 10b.
  • the width W1 of the central coupling portion 10a is narrower than the width W2 of the peripheral coupling portion 10b. Therefore, the electrical resistance value of the central connecting portion 10a is higher than the electrical resistance value of the peripheral connecting portion 10b.
  • the voltage drop amount generated in the central connection portion 10a due to ESD is larger than the voltage drop amount generated in the peripheral connection portion 10b due to ESD.
  • the amount of heat generated in the central connecting portion 10a by ESD is larger than the amount of heat generated in the peripheral connecting portion 10b by ESD. Therefore, as shown in FIG. 6, when ESD occurs, the central connection part 10 a is more likely to be disconnected preferentially than the peripheral connection part 10 b. That is, unlike the second electrode coupling body 112 shown in FIG. 9, the second electrode coupling body 12 shown in FIG. 6 has the second coupling portion 10 in which disconnection due to ESD occurs as the central coupling portion 10a. Can focus on.
  • the central connecting portion 10a is located distally from both the first wiring portion 61 and the second wiring portion 62.
  • the central connection portion 10a is less likely to cause charges to flow than the other second connection portions 10, that is, the peripheral connection portions 10b. For this reason, even when the center connecting portion 10a is not disconnected, the charge of the second transparent electrode 5c connected to the X1 end of the center connecting portion 10a is charged from the first wiring portion 61 side. It is dominant that the charge is applied to the second transparent electrode 5d connected to the X2 end of the central coupling portion 10a, and that the charge is performed from the second wiring portion 62 side.
  • the central coupling portion 10a is preferentially disconnected as described above.
  • the charge to the second transparent electrode 5c connected to the X1 end of the central connecting portion 10a is performed from the first wiring portion 61 side.
  • the charge of the second transparent electrode 5d connected to the X2 end is performed from the second wiring portion 62 side.
  • the time constant of the second transparent electrode 5 that has been set is particularly higher than the time constant of the other second transparent electrode 5.
  • the second transparent electrode 5d provided fourth from the second transparent electrode 5a provided at the end on the X1 side toward the X2 side, and provided at the end on the X2 side.
  • the peripheral connection portion 10b between the second transparent electrode 5e provided second from the second transparent electrode 5f thus provided toward the X1 side is broken. In this case, as shown in FIG.
  • the second transparent electrode 5 connected to the disconnected peripheral connection portion 10 b is provided fourth from the second transparent electrode 5 a toward the X2 side.
  • the time constant of the second transparent electrode 5d is higher than the time constants of the other second transparent electrodes 5a, 5b, 5c, 5e, and 5f. That is, the time constant of the second transparent electrode 5d connected to the disconnected peripheral connecting portion 10b becomes a singular point. For this reason, for example, even when the peripheral connection portion 10b is disconnected due to ESD in the manufacturing process, the disconnection of the peripheral connection portion 10b can be easily detected in the manufacturing process.
  • the width W1 of the central connecting portion 10a is narrower than the width W2 of the peripheral connecting portion 10b, the electrical resistance value of the central connecting portion 10a is relatively easily formed in the process of forming the central connecting portion 10a and the peripheral connecting portion 10b. Can be made higher than the electrical resistance value of the peripheral connecting portion 10b. Therefore, the influence which the disconnection of the 2nd connection part 10 by ESD has on the detection operation of the capacitive sensor 1 can be suppressed relatively easily.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a second connecting portion according to another embodiment.
  • FIG. 10 corresponds to a cross-sectional view taken along section line C1-C1 shown in FIG.
  • the thickness t1 of the central connecting portion 10a is thinner than the thickness t2 of the peripheral connecting portion 10b. Therefore, the electrical resistance value of the central connecting portion 10a is higher than the electrical resistance value of the peripheral connecting portion 10b.
  • the disconnection caused by ESD can be concentrated on the central connecting portion 10a. Therefore, the influence which the disconnection of the 2nd connection part 10 by ESD has on the detection operation of the capacitive sensor 1 can be suppressed.
  • the electrical resistance value of the central coupling portion 10a is relatively easily formed in the process of forming the central coupling portion 10a and the peripheral coupling portion 10b. Can be made higher than the electrical resistance value of the peripheral connecting portion 10b. Therefore, the influence which the disconnection of the 2nd connection part 10 by ESD has on the detection operation of the capacitive sensor 1 can be suppressed relatively easily.
  • the shape of the central connecting portion 10a is different from the shape of the peripheral connecting portion 10b, so that the electric resistance value of the central connecting portion 10a is changed to the electric resistance value of the peripheral connecting portion 10b. Higher than that.
  • the electric resistance value of the central connecting portion 10a is made higher than the electric resistance value of the peripheral connecting portion 10b by making the material forming the central connecting portion 10a different from the material forming the peripheral connecting portion 10b. May be.
  • the central coupling portion 10a may include a material having an electrical resistivity higher than that of the material forming the peripheral coupling portion 10b.
  • the material of the central connecting portion 10a and the peripheral connecting portion 10b include the same materials as the material of the second connecting portion 10 described above with reference to FIGS.
  • the electrical resistance value of the central coupling portion 10a is not the shape of the central coupling portion 10a and the peripheral coupling portion 10b, but the material of the central coupling portion 10a and the peripheral coupling portion 10b. Can be higher than the value. Therefore, the influence which the disconnection of the 2nd connection part 10 by ESD has on the detection operation of the capacitive sensor 1 can be suppressed more reliably.
  • the central connecting part 10a and the peripheral connecting part 10b may have different shapes, and the materials forming the central connecting part 10a and the peripheral connecting part 10b may be different from each other.
  • the electric resistance value of the central connecting portion 10a is changed to the electric power of the peripheral connecting portion 10b by both the shape of the central connecting portion 10a and the peripheral connecting portion 10b and the material forming the central connecting portion 10a and the peripheral connecting portion 10b. It can be higher than the resistance value. Therefore, the influence which the disconnection of the 2nd connection part 10 by ESD has on the detection operation of the capacitive sensor 1 can be suppressed more reliably.
  • the fourth wiring part 64 may be further formed in the non-detection region 25 like the fourth wiring part 64 of the two-dot chain line shown in FIG. In this case, the third wiring portion 63 and the fourth wiring portion 64 are drawn out from the end portions on both sides of the first electrode connector 8.
  • the third wiring portion 63 is led out from one end portion (Y2 side end portion) of the first electrode assembly 8 to one non-detection region (Y2 side non-detection region) 25. Extend.
  • the third wiring portion 63 is electrically connected to one end portion of the first electrode connector 8.
  • the fourth wiring portion 64 extends from the other end (Y1 side end) of the first electrode assembly 8 to the other non-detection region (Y1 side non-detection region) 25.
  • the fourth wiring portion 64 is electrically connected to the other end portion of the first electrode assembly 8.
  • the third wiring portion 63 and the fourth wiring portion 64 are electrically connected to each other in the non-detection region 25.
  • the electrical resistance value of the central coupling portion that electrically connects the plurality of first transparent electrodes 4 disposed in the central portion of the detection region 11 in the Y1-Y2 direction in which the first electrode coupling body 8 extends is Y1 It is higher than the electrical resistance value of the peripheral coupling portion that electrically connects the plurality of first transparent electrodes 4 arranged at positions other than the central portion (for example, end portion) of the detection region 11 in the ⁇ Y2 direction.

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Abstract

ESDによる連結部の断線が検出動作に与える影響を抑えることができる静電容量式センサとして、所定方向に並んで配置された複数の透明電極5を有する電極連結体12と、電極連結体12の一方の端部に電気的に接続された第1の配線部61と、電極連結体12の他方の端部に電気的に接続された第2の配線部62と、所定方向において検出領域11の中央部に配置された複数の透明電極5を電気的に接続する中央連結部と、所定方向において中央部以外に配置された複数の透明電極5を電気的に接続する周辺連結部と、を備え、第1の配線部61と第2の配線部62とは、非検出領域25において互いに電気的に接続され、中央連結部の電気抵抗値は、周辺連結部の電気抵抗値よりも高い静電容量式センサ1が提供される。

Description

静電容量式センサ
 本発明は、静電容量式センサに関し、特に基材に形成された電極の両側から配線部が引き出され、両側の配線部同士が非検出領域で電気的に接続された静電容量式センサに関する。
 特許文献1には、基材に形成された複数の透明電極の両側から配線部が引き出され、両側の配線部同士が入力領域の周囲に位置する周辺領域で電気的に接続された静電容量式入力装置が開示されている。特許文献1に記載された複数の透明電極は、連結部を介して電気的に接続されている。特許文献1に記載された静電容量式入力装置によれば、例えばカーナビゲーション装置に搭載される車載用のセンサなどのように、比較的広い領域に配置される静電容量式センサであっても、電気抵抗を低減でき、電荷のチャージ時間を早めることができる。そのため、座標入力やジェスチャ操作に対して良好な応答性を得ることができる。
特開2013-210938号公報
 しかし、例えば製造工程などにおいて、ESD(Electro Static Discharge:静電気放電)が発生すると、ESDにより生じた電気が連結部に流れることがある。すると、局所的な熱膨張および熱収縮の少なくともいずれかが連結部に生じ、断線に至る破壊が連結部に生ずることがある。
 入力領域の中央部以外(例えば端部)に配置された複数の透明電極を電気的に接続する連結部が断線すると、連結部の断線が静電容量式入力装置の検出動作に影響を与えることがある。すなわち、入力領域の中央部以外(例えば端部)に配置された連結部が断線すると、断線した連結部の両側に配置された透明電極および連結部の電気抵抗値が互いに異なる。具体的には、電気的に接続された透明電極および連結部の数が相対的に少ない側(接続の長さが相対的に短い側)の電気抵抗値は、相対的に小さい。一方で、電気的に接続された透明電極および連結部の数が相対的に多い側(接続の長さが相対的に長い側)の電気抵抗値は、相対的に大きい。
 すると、電荷のチャージ時間が、断線した連結部の両側において互いに異なる。具体的には、電気的に接続された透明電極および連結部の数が相対的に少ない側(接続の長さが相対的に短い側)における電荷のチャージ時間は、相対的に早い。一方で、電気的に接続された透明電極および連結部の数が相対的に多い側(接続の長さが相対的に長い側)における電荷のチャージ時間は、相対的に遅い。
 そのため、入力領域の中央部以外に配置された連結部が断線すると、静電容量式入力装置の応答性すなわち時定数が、断線した連結部の両側において互いに異なる。このように、入力領域の中央部以外に配置された連結部が断線すると、断線した連結部の両側において時定数の不均衡が生ずる。これにより、ESDによる連結部の断線が静電容量式入力装置の検出動作に影響を与えることがある。
 本発明は、上記従来の課題を解決するためのものであり、ESDによる連結部の断線が検出動作に与える影響を抑えることができる静電容量式センサを提供することを目的とする。
 本発明の静電容量式センサは、一態様において、透光性を有する基材と、前記基材の検出領域において所定方向に並んで配置された透光性を有する複数の透明電極を有する電極連結体と、前記検出領域の外側の非検出領域に延びて設けられ前記電極連結体の一方の端部に電気的に接続された第1の配線部と、前記検出領域の外側の非検出領域に延びて設けられ前記電極連結体の他方の端部に電気的に接続された第2の配線部と、前記所定方向において前記検出領域の中央部に配置された前記複数の透明電極を電気的に接続する中央連結部と、前記所定方向において前記中央部以外に配置された前記複数の透明電極を電気的に接続する周辺連結部と、を備え、前記第1の配線部と前記第2の配線部とは、前記非検出領域において互いに電気的に接続され、前記中央連結部の電気抵抗値は、前記周辺連結部の電気抵抗値よりも高いことを特徴とする。
 上記の静電容量式センサでは、複数の透明電極を有する電極連結体の一方の端部に電気的に接続された第1の配線部が、電極連結体の他方の端部に電気的に接続された第2の配線部に対して非検出領域において電気的に接続されている。また、複数の透明電極が並んだ所定方向において検出領域の中央部に配置された複数の透明電極を電気的に接続する中央連結部の電気抵抗値は、所定方向において中央部以外に配置された複数の透明電極を電気的に接続する周辺連結部の電気抵抗値よりも高い。
 これにより、ESDにより中央連結部に生ずる電圧降下量は、ESDにより周辺連結部に生ずる電圧降下量よりも大きい。そのため、ESDにより中央連結部に生ずる熱量は、ESDにより周辺連結部に生ずる熱量よりも大きい。そのため、ESDが発生すると、周辺連結部に比べて、中央連結部が優先的に断線しやすい。すなわち、ESDに起因して生じる断線を中央連結部に集中させることができる。
 中央連結部は、第1の配線部および第2の配線部の双方から遠位に位置する。また、中央連結部は、周辺連結部に比べて電荷が流れにくい。このため、中央連結部が断線されていない状態であっても、中央連結部の一方端に接続されている透明電極への電荷のチャージは第1の配線部側から行われることが支配的であり、中央連結部の他方端に接続されている透明電極への電荷のチャージは第2の配線部側から行われることが支配的である。それゆえ、ESDが生じて中央連結部が断線しても、中央連結部の両端に接続されている2つの透明電極への電荷のチャージのプロセスには大きな変化は生じない。これを換言すれば、中央連結部の両端に接続されている2つの透明電極における時定数は、中央連結部が断線していなくても断線していても大差がない。したがって、ESDに起因する断線が中央連結部に集中するような構造とすることにより、ESDが静電容量式センサの検出動作に与える影響を抑えることができる。
 また、中央連結部の電気抵抗値が周辺連結部の電気抵抗値よりも高いため、ESDに起因する断線が中央連結部に集中するような構造において、何らかの原因によって周辺連結部が断線した場合には、断線した周辺連結部に接続されていた透明電極の時定数が、他の透明電極の時定数よりも特に高くなる。すなわち、断線した周辺連結部に接続されていた透明電極の時定数が特異点になる。そのため、例えば製造工程においてESDによる周辺連結部の断線が生じた場合であっても、周辺連結部の断線を製造工程において容易に検出することができる。
 上記の静電容量式センサにおいて、前記中央連結部の幅は、前記周辺連結部の幅よりも細くともよい。この場合には、中央連結部および周辺連結部を形成する工程において、比較的容易に、中央連結部の電気抵抗値を周辺連結部の電気抵抗値よりも高くすることができる。そのため、ESDによる連結部の断線が静電容量式センサの検出動作に与える影響を比較的容易に抑えることができる。
 上記の静電容量式センサにおいて、前記中央連結部の厚さは、前記周辺連結部の厚さよりも薄くともよい。この場合においても、中央連結部および周辺連結部を形成する工程において、比較的容易に、中央連結部の電気抵抗値を周辺連結部の電気抵抗値よりも高くすることができる。そのため、ESDによる連結部の断線が静電容量式センサの検出動作に与える影響を比較的容易に抑えることができる。
 上記の静電容量式センサにおいて、前記中央連結部は、前記周辺連結部を形成する材料の電気抵抗率よりも高い電気抵抗率を有する材料を含んでもよい。この場合には、中央連結部および周辺連結部の形状ではなく、中央連結部および周辺連結部を形成する材料により、中央連結部の電気抵抗値を周辺連結部の電気抵抗値よりも高くすることができる。そのため、ESDによる連結部の断線が静電容量式センサの検出動作に与える影響をより確実に抑えることができる。
 本発明によれば、ESDによる連結部の断線が検出動作に与える影響を抑えることができる静電容量式センサが提供される。
本実施形態に係る静電容量式センサを表す平面図である。 本実施形態に係る静電容量式センサを模式的に表した断面図である。 本実施形態の基材に設けられた電極の構成を表す平面図である。 図3に表した切断面C1-C1における断面図である。 図3に表した切断面C2-C2における断面図である。 本実施形態の中央連結部が断線した場合を例示する平面図である。 本実施形態の周辺連結部が断線した場合を例示する平面図である。 第2の透明電極の時定数を表すグラフである。 比較例の周辺連結部が断線した場合を例示する平面図である。 他の実施形態の第2の連結部を説明する断面図である。
 以下、本発明の実施の形態について図面を参照しつつ説明する。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
 図1は、本実施形態に係る静電容量式センサを表す平面図である。
 図2は、本実施形態に係る静電容量式センサを模式的に表した断面図である。
 図3は、本実施形態の基材に設けられた電極の構成を表す平面図である。
 図4は、図3に表した切断面C1-C1における断面図である。
 図5は、図3に表した切断面C2-C2における断面図である。
 なお、透明電極は透明なので本来は視認できないが、図1および図3では理解を容易にするため透明電極の外形を示している。
 本願明細書において「透明」および「透光性」とは、可視光線透過率が50%以上(好ましくは80%以上)の状態を指す。更に、ヘイズ値が6%以下であることが好適である。本願明細書において「遮光」および「遮光性」とは、可視光線透過率が50%未満(好ましくは20%未満)の状態を指す。
 図1および図2に表したように、本実施形態に係る静電容量式センサ1は、基材2と、光学透明粘着層30と、パネル3と、を備える。図2に表したように、基材2、光学透明粘着層30およびパネル3は、この順に積層されている。すなわち、光学透明粘着層30は、基材2とパネル3との間に設けられている。静電容量式センサ1の製造工程において、基材2およびパネル3のそれぞれの外側の主面は、例えば保護シート43などにより覆われている。
 基材2は、透光性を有し、ポリエチレンテレフタレート(PET)等のフィルム状の透明基材やガラス基材等で形成される。基材2の一方の主面には、透明電極などが設けられている。この詳細については、後述する。パネル3は、透光性を有する。パネル3の材料は、特には限定されない。パネル3の材料としては、ガラス基材やプラスチック基材が好ましく適用される。パネル3は、基材2とパネル3との間に設けられた光学透明粘着層(OCA;Optical Clear Adhesive)30を介して基材2と接合されている。光学透明粘着層(OCA)30は、アクリル系粘着剤や両面粘着テープ等からなる。
 図1に表したように、静電容量式センサ1は、パネル3側の面の法線に沿った方向(Z1-Z2方向)からみて、検出領域11と非検出領域25とからなる。検出領域11は、指Fなどの操作体により操作を行うことができる領域であり、非検出領域25は、検出領域11の外周側に位置する額縁状の領域である。非検出領域25は、パネル3の主面に設けられた加飾層14(図2参照)によって遮光され、静電容量式センサ1におけるパネル3側の面から基材2側の面への光(外光が例示される。)および基材2側の面からパネル3側の面への光(静電容量式センサ1と組み合わせて使用される表示装置のバックライトからの光が例示される。)は、非検出領域25を透過しにくくなっている。
 図1、図3、図4(図3に表した切断面C1-C1における断面図)および図5(図3に表した切断面C2-C2における断面図)に表したように、基材2の一方の主面には、第1の電極連結体8と、第2の電極連結体12と、が設けられている。第1の電極連結体8は、検出領域11に配置され、複数の第1の透明電極4を有する。図3を参照しつつ図5に示すように、複数の第1の透明電極4は、基材2におけるZ1-Z2方向に沿った方向を法線とする主面のうちZ1側に位置する主面(以下、「おもて面」と略記する場合がある。)2aに設けられている。各第1の透明電極4は、細長い第1の連結部7を介してY1-Y2方向(第1の方向)に連結されている。そして、Y1-Y2方向に連結された複数の第1の透明電極4を有する第1の電極連結体8が、X1-X2方向に間隔を空けて配列されている。第1の連結部7は、第1の透明電極4に一体として形成されている。
 第1の透明電極4および第1の連結部7は、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明導電性材料でスパッタや蒸着等により形成される。透明導電性材料としては、ITOの他に、銀ナノワイヤに代表される金属ナノワイヤ、メッシュ状に形成された薄い金属、あるいは導電性ポリマーなどが挙げられる。これは、後述する透明導電性材料においても同じである。
 第2の電極連結体12は、検出領域11に配置され、複数の第2の透明電極5を有する。図3を参照しつつ図4に示すように、複数の第2の透明電極5は、基材2のおもて面2aに設けられている。このように、第2の透明電極5は、第1の透明電極4と同じ面(基材2のおもて面2a)に設けられている。図4および図5に示すように、各第2の透明電極5は、細長い第2の連結部10を介してX1-X2方向(第2の方向)に連結されている。そして、X1-X2方向に連結された複数の第2の透明電極5を有する第2の電極連結体12が、Y1-Y2方向に間隔を空けて配列されている。第2の連結部10は、第2の透明電極5とは別体として形成されている。なお、X1-X2方向は、Y1-Y2方向と交差している。例えば、X1-X2方向は、Y1-Y2方向と垂直に交わっている。
 第2の透明電極5は、ITO等の透明導電性材料でスパッタや蒸着等により形成される。第2の連結部10は、ITO等の透明導電性材料で形成される。あるいは、第2の連結部10は、ITO等の透明導電性材料を含む第1層と、第1層よりも低抵抗で透明な金属からなる第2層と、を有していてもよい。第2の連結部10が第1層と第2層との積層構造を有する場合には、第2層は、Au、Au合金、CuNiおよびNiよりなる群から選択されたいずれかにより形成されることが好適である。この中でも、Auを選択することがより好適である。第2層がAuにより形成された場合には、第2の連結部10は、良好な耐環境性(耐湿性、耐熱性)を得ることができる。
 図4および図5に示すように、各第1の透明電極4間を連結する第1の連結部7の表面には、絶縁層20が設けられている。図4に示すように、絶縁層20は、第1の連結部7と第2の透明電極5との間の空間を埋め、第2の透明電極5の表面にも多少乗り上げている。絶縁層20としては、例えばノボラック樹脂(レジスト)が用いられる。
 図4および図5に示すように、第2の連結部10は、絶縁層20の表面20aから絶縁層20のX1-X2方向の両側に位置する各第2の透明電極5の表面にかけて設けられている。第2の連結部10は、各第2の透明電極5間を電気的に接続している。
 図4および図5に示すように、各第1の透明電極4間を接続する第1の連結部7の表面には絶縁層20が設けられており、絶縁層20の表面に各第2の透明電極5間を接続する第2の連結部10が設けられている。このように、第1の連結部7と第2の連結部10との間には絶縁層20が介在し、第1の透明電極4と第2の透明電極5とは電気的に絶縁された状態となっている。本実施形態では、第1の透明電極4と第2の透明電極5とが同じ面(基材2のおもて面2a)に設けられているため、静電容量式センサ1の薄型化を実現できる。
 図3、図4および図5に表した各連結部の配置例では、第1の連結部7が第1の透明電極4に一体として形成され、第2の連結部10が第1の連結部7を覆う絶縁層20の表面20aに第2の透明電極5とは別体として形成されている。すなわち、第2の連結部10は、ブリッジ配線として設けられている。但し、各連結部の配置形態は、これだけには限定されない。例えば、第1連結部7が絶縁層20の表面20aに第1の透明電極4とは別体として形成され、第2の連結部10が第2の透明電極5に一体として形成されていてもよい。すなわち、第1の連結部7がブリッジ配線として設けられていてもよい。本実施形態に係る静電容量式センサ1の説明では、第2の連結部10がブリッジ配線として設けられた場合を例に挙げる。
 図3および図4に表したように、第1の連結部10は、中央連結部10aと、周辺連結部10bと、を有する。中央連結部10aは、第2の電極連結体12が延びたX1-X2方向において検出領域11の中央部に配置された複数の第2の透明電極5を電気的に接続している。周辺連結部10bは、第2の電極連結体12が延びたX1-X2方向において検出領域11の中央部以外(例えば端部)に配置された複数の第2の透明電極5を電気的に接続している。
 なお、第1の連結部7、第2の連結部10および絶縁層20は、いずれも検出領域11内に位置するものであり、第1の透明電極4および第2の透明電極5と同様に透光性を有する。
 図1および図2に示すように、非検出領域25には、第1の配線部61、第2の配線部62および第3の配線部63が形成されている。第1の配線部61および第2の配線部62は、第2の電極連結体12の両側の端部から引き出されている。具体的には、第1の配線部61は、第2の電極連結体12の一方の端部(X1側の端部)から一方の非検出領域(X1側の非検出領域)25に引き出されて延びている。第1の配線部61は、第2の電極連結体12の一方の端部に電気的に接続されている。第2の配線部62は、第2の電極連結体12の他方の端部(X2側の端部)から他方の非検出領域(X2側の非検出領域)25に引き出されて延びている。第2の配線部62は、第2の電極連結体12の他方の端部に電気的に接続されている。
 第3の配線部63は、第1の電極連結体8の一方の端部から引き出されている。具体的には、第3の配線部63は、第1の電極連結体8の一方の端部(Y2側の端部)から一方の非検出領域(Y2側の非検出領域)25に引き出されて延びている。第3の配線部63は、第1の電極連結体8の一方の端部に電気的に接続されている。
 図1に表したように、第2の電極連結体12は、接続配線16を介して第1の配線部61および第2の配線部62に電気的に接続されている。第1の配線部61および第2の配線部62は、非検出領域25に設けられた接点部17において互いに電気的に接続されているとともに、フレキシブルプリント基板29と電気的に接続される外部接続部27に接続されている。すなわち、第1の配線部61および第2の配線部62は、互いに電気的に接続されているとともに、第2の電極連結体12と、外部接続部27と、を電気的に接続している。
 第1の電極連結体8は、接続配線15を介して第3の配線部63に電気的に接続されている。第3の配線部63は、フレキシブルプリント基板29と電気的に接続される外部接続部27に接続されている。すなわち、第3の配線部63は、第1の電極連結体8と、外部接続部27と、を電気的に接続している。外部接続部27は、例えば導電ペーストを介して、フレキシブルプリント基板29と電気的に接続されている。
 第1の配線部61と第3の配線部63との間には、絶縁層19が設けられている。例えば、絶縁層19は、第3の配線部63の表面に形成されている。このように、絶縁層19が第1の配線部61と第3の配線部63との間に介在するため、第1の配線部61および第2の配線部62と、第3の配線部63と、は互いに電気的に絶縁された状態となっている。
 各配線部61、62、63は、Cu、Cu合金、CuNi合金、Ni、Ag、Au等の金属を有する材料により形成される。各接続配線15、16は、ITO等の透明導電性材料で形成され、検出領域11から非検出領域25に延出している。第1の配線部61および第2の配線部62は、接続配線16の上に非検出領域25内で積層され、接続配線16と電気的に接続されている。第3の配線部63は、接続配線15の上に非検出領域25内で積層され、接続配線15と電気的に接続されている。
 各配線部61、62、63は、基材2のおもて面2aにおける非検出領域25に位置する部分に設けられている。外部接続部27も、各配線部61、62、63と同様に、基材2のおもて面2aにおける非検出領域25に位置する部分に設けられている。
 図1では、理解を容易にするために各配線部61、62、63や外部接続部27が視認されるように表示しているが、実際には、図2、図4および図5に示すように、基材2のおもて面2aに対向するようにパネル3が設けられている。パネル3におけるZ1-Z2方向に沿った方向を法線とする主面のうちZ1側に位置する主面(基材2のおもて面2aに対向する主面3bとは反対側の主面)3aは、静電容量式センサ1を操作する側の面となるため、本明細書において「操作面」ともいう。
 パネル3は、積層構造を有していてもよい。積層構造の具体例として、有機系材料からなるフィルム上に無機系材料からなるハードコート層が形成されている積層構造体が挙げられる。パネル3の形状は平板状であってもよいし、他の形状であってもよい。例えば、パネル3の操作面3aは曲面であってもよく、パネル3の操作面3aの面形状と、パネル3におけるZ1-Z2方向に沿った方向を法線とする主面のうちZ2側に位置する主面(換言すれば、操作面3aとは反対側の主面であって、以下、「裏面」と略記する場合がある。)3bの面形状と、が異なっていてもよい。
 パネル3の裏面3bにおける非検出領域25に位置する部分には、図2に示すように、遮光性を有する加飾層14が設けられている。本実施形態に係る静電容量式センサ1では、パネル3の裏面3bにおける非検出領域25に位置する部分全体に加飾層14が設けられている。このため、静電容量式センサ1をパネル3の操作面3a側からみると、各配線部61、62、63および外部接続部27は加飾層14によって隠蔽され、視認されない。加飾層14を構成する材料は、遮光性を有する限り任意である。加飾層14は絶縁性を有していてもよい。
 図1に示す静電容量式センサ1では、図4に示すようにパネル3の操作面3a上に操作体の一例として指Fを接触させると、指Fと指Fに近い第1の透明電極4との間、および指Fと指Fに近い第2の透明電極5との間で静電容量が生じる。静電容量式センサ1は、このときの静電容量変化に基づいて、指Fの接触位置を算出することが可能である。静電容量式センサ1は、指Fと第1の電極連結体8との間の静電容量変化に基づいて指Fの位置のX座標を検知し、指Fと第2の電極連結体12との間の静電容量変化に基づいて指Fの位置のY座標を検知する(自己容量検出型)。
 あるいは、静電容量式センサ1は、相互容量検出型であってもよい。すなわち、静電容量式センサ1は、第1の電極連結体8および第2の電極連結体12のいずれか一方の電極の一列に駆動電圧を印加し、第1の電極連結体8および第2の電極連結体12のいずれか他方の電極と指Fとの間の静電容量の変化を検知してもよい。これにより、静電容量式センサ1は、他方の電極により指Fの位置のY座標を検知し、一方の電極により指Fの位置のX座標を検知する。
 前述したように、本実施形態に係る静電容量式センサ1では、第1の配線部61および第2の配線部62は、第2の電極連結体12の両側の端部から引き出されてフレキシブルプリント基板29に接続されている。これにより、第2の電極連結体12の電気抵抗値を低減でき、電荷のチャージ時間を早めることができる。そのため、座標入力やジェスチャ操作に対して良好な応答性を得ることができる。すなわち、静電容量式センサ1の時定数をより小さい値に抑えることができる。
 なお、図1および図3に表した第1の透明電極4および第2の透明電極5の配置は、一例であり、これだけには限定されない。静電容量式センサ1は、指Fなどの操作体と透明電極との間の静電容量の変化を検知し、操作体の操作面3aへの接触位置を算出できればよい。例えば、第1の透明電極4と第2の透明電極5とは基材2の異なる主面に設けられていてもよい。
 図6は、本実施形態の中央連結部が断線した場合を例示する平面図である。
 図7は、本実施形態の周辺連結部が断線した場合を例示する平面図である。
 図8は、第2の透明電極の時定数を表すグラフである。
 図9は、比較例の周辺連結部が断線した場合を例示する平面図である。
 なお、図6および図7では、説明の便宜上、1つの第2の電極連結体12を表している。また、図8に表したグラフの横軸に記載した符号5a~5fは、図7に表した第2の透明電極5a~5fに対応している。
 例えば、製造工程などにおいて、保護シート43(図2参照)を剥がすときにESD(Electro Static Discharge:静電気放電)が発生することがある。この際、図9に示す比較例の第2の電極連結体112にESDが発生すると、ESDにより生じた電気が第2の連結部110に流れることがある。すると、局所的な熱膨張および熱収縮の少なくともいずれかが第2の連結部110に生じ、断線に至る破壊が第2の連結部110に生ずることがある。ここで、図9に表した第2の連結部110は中央連結部110aと周辺連結部110bとを有し、中央連結部110aおよび周辺連結部110bは、同じ幅、同じ厚さ、および同じ材料(電気抵抗率)を互いに有する。すなわち、図9に示す比較例の第2の電極連結体112では第2の連結部110は全て(中央連結部110aおよび周辺連結部110bの区別なく)電気的に等しい。そして、第1の配線部161および第2の配線部162は、第2の電極連結体112の両側の端部から引き出され、接点部17において互いに電気的に接続されている。このため、第2の電極連結体112にESDが発生して、ESDにより生じた電気が第2の連結部110に流れると、第2の連結部110を構成する中央連結部110aおよび周辺連結部110bのいずれにおいても断線が生じる可能性が同等にある。図9に示す比較例の第2の電極連結体112では、中央連結部110aが1つであるのに対し周辺連結部110bは4つあるため、確率的には、周辺連結部110bにおいて断線が生じる可能性が中央連結部110aにおいて断線が生じる可能性よりも高くなる。
 入力領域の中央連結部110a以外の第2の連結部110(周辺連結部110b)が断線すると、第2の連結部110の断線が静電容量式センサの検出動作に影響を与えることがある。この点について、以下、図9に示すように、X1-X2方向に並ぶ5つの第2の連結部110のうち、X2側から2つ目の第2の連結部110(第2の透明電極115dと第2の透明電極115eとの間に位置する周辺連結部110b)が断線した場合を具体例として説明する。
 X2側から2番目の周辺連結部110bが断線する前の状態では、この周辺連結部110bは第1の配線部161よりも第2の配線部162の近くに位置するため、この周辺連結部110bの両端に接続されている2つの第2の透明電極115dおよび第2の透明電極115eへの電荷のチャージは、第2の配線部162側から行われることが支配的である。すなわち、X2側から2番目の周辺連結部110bのX2側に接続されている第2の透明電極115eへの電荷のチャージを経て、この周辺連結部110bのX1側に接続されている第2の透明電極115dへの電荷のチャージが行われる。その結果、X2側から2番目の周辺連結部110bの両端に接続されている第2の透明電極115dおよび第2の透明電極115eでは、電荷のチャージ時間のずれが生じる。通常、この電荷のチャージ時間のずれは静電容量式センサの制御装置(図示せず。)によって個別に補正されるため、静電容量式センサの滑らかな操作感が実現されている。
 ところが、X2側から2番目の周辺連結部110bが断線すると、断線した周辺連結部110bのX1側に接続されていた第2の透明電極115dには第1の配線部161側から電荷がチャージされる。このため、この第2の透明電極115dへの電荷のチャージは、この第2の透明電極115dよりもX1側に位置する3つの第2の透明電極115a~115cへの電荷のチャージを経て行われることになる。一方、断線した周辺連結部110bのX2側に接続されていた第2の透明電極115eには、第2の配線部162側から電荷がチャージされる。このため、この第2の透明電極115eへの電荷のチャージは、この第2の透明電極115eよりもX2側に位置する1つの第2の透明電極115fへの電荷のチャージを経て行われることになる。それゆえ、断線した周辺連結部110bの両側に接続されていた2つの第2の透明電極115dおよび第2の透明電極115eにおける電荷のチャージ時間のずれは、周辺連結部110bが断線する前の状態における電荷のチャージ時間のずれと大きく異なってしまう。
 このように隣り合って配置された2つの第2の透明電極115(図9に示す具体例では、第2の透明電極115dおよび第2の透明電極115e)における電荷のチャージ時間のずれが、2つの第2の透明電極115の間に位置していた周辺連結部110bの断線によって変化すると、静電容量式センサの応答性すなわち時定数の相違として顕在化する場合がある。具体的には、指Fなどの操作体によって静電容量式センサを操作した時に、周辺連結部110bの断線によって時定数の相違が顕在化した部分では局所的に応答性が変化し、静電容量式センサの滑らかな操作感が失われてしまう場合がある。
 これに対して、本実施形態に係る静電容量式センサ1では、中央連結部10aの電気抵抗値は、周辺連結部10bの電気抵抗値よりも高い。具体的には、図3に表したように、中央連結部10aの幅W1は、周辺連結部10bの幅W2よりも細い。そのため、中央連結部10aの電気抵抗値は、周辺連結部10bの電気抵抗値よりも高くなる。
 これにより、ESDにより中央連結部10aに生ずる電圧降下量は、ESDにより周辺連結部10bに生ずる電圧降下量よりも大きい。そのため、ESDにより中央連結部10aに生ずる熱量は、ESDにより周辺連結部10bに生ずる熱量よりも大きい。そのため、図6に表したように、ESDが発生すると、周辺連結部10bに比べて、中央連結部10aが優先的に断線しやすい。すなわち、図9に表した第2の電極連結体112とは異なり、図6に示す第2の電極連結体12では、ESDに起因して断線が生じる第2の連結部10を中央連結部10aに集中させることができる。
 中央連結部10aは、第1の配線部61および第2の配線部62の双方から遠位に位置する。また、中央連結部10aは、他の第2の連結部10、すなわち、周辺連結部10bに比べて電荷が流れにくい。このため、中央連結部10aが断線されていない状態であっても、中央連結部10aのX1端に接続されている第2の透明電極5cへの電荷のチャージは第1の配線部61側から行われることが支配的であり、中央連結部10aのX2端に接続されている第2の透明電極5dへの電荷のチャージは第2の配線部62側から行われることが支配的である。
 ここで、図6に示す第2の電極連結体12においてESDが生じた場合には、前述のように、中央連結部10aが優先的に断線する。中央連結部10aが断線した状態において、中央連結部10aのX1端に接続されていた第2の透明電極5cへの電荷のチャージは第1の配線部61側から行われ、中央連結部10aのX2端に接続されていた第2の透明電極5dへの電荷のチャージは第2の配線部62側から行われる。
 それゆえ、ESDが生じて中央連結部10aが断線しても、中央連結部10aの両端に接続されている2つの第2の透明電極5aおよび第2の透明電極5fへの電荷のチャージのプロセス(第1の配線部61側から行われるか第2の配線部62側から行われるか)には大きな変化は生じない。これを換言すれば、中央連結部10aの両端に接続されている2つの第2の透明電極5aおよび第2の透明電極115fにおける時定数は、中央連結部10aが断線していなくても断線していても大差がない。したがって、図6に表したように、ESDに起因する断線が中央連結部10aに集中するような構造とすることにより、ESDが静電容量式センサ1の検出動作に与える影響を抑えることができる。
 また、図7に表したように、ESDに起因する断線が中央連結部10aに集中するような構造において、何らかの原因によって周辺連結部10bが断線した場合には、断線した周辺連結部10bに接続されていた第2の透明電極5の時定数が、他の第2の透明電極5の時定数よりも特に高くなる。図7に表した例では、X1側の端部に設けられた第2の透明電極5aからX2側へ向かって4番目に設けられた第2の透明電極5dと、X2側の端部に設けられた第2の透明電極5fからX1側へ向かって2番目に設けられた第2の透明電極5eと、の間の周辺連結部10bが破断している。この場合には、図8に表したように、断線した周辺連結部10bに接続されていた第2の透明電極5のうち、第2の透明電極5aからX2側へ向かって4番目に設けられた第2の透明電極5dの時定数が、他の第2の透明電極5a、5b、5c、5e、5fのそれぞれの時定数よりも高くなる。すなわち、断線した周辺連結部10bに接続されていた第2の透明電極5dの時定数が特異点になる。そのため、例えば製造工程においてESDによる周辺連結部10bの断線が生じた場合であっても、周辺連結部10bの断線を製造工程において容易に検出することができる。
 また、中央連結部10aの幅W1が周辺連結部10bの幅W2よりも細いため、中央連結部10aおよび周辺連結部10bを形成する工程において、比較的容易に、中央連結部10aの電気抵抗値を周辺連結部10bの電気抵抗値よりも高くすることができる。そのため、ESDによる第2の連結部10の断線が静電容量式センサ1の検出動作に与える影響を比較的容易に抑えることができる。
 図10は、他の実施形態の第2の連結部を説明する断面図である。
 図10は、図3に表した切断面C1-C1における断面図に相当する。
 図10に表した例では、中央連結部10aの厚さt1は、周辺連結部10bの厚さt2よりも薄い。そのため、中央連結部10aの電気抵抗値は、周辺連結部10bの電気抵抗値よりも高くなる。これにより、図6~図9に関して前述したように、ESDに起因して生じる断線を中央連結部10aに集中させることができる。そのため、ESDによる第2の連結部10の断線が静電容量式センサ1の検出動作に与える影響を抑えることができる。
 中央連結部10aの厚さt1が周辺連結部10bの厚さt2よりも薄いため、中央連結部10aおよび周辺連結部10bを形成する工程において、比較的容易に、中央連結部10aの電気抵抗値を周辺連結部10bの電気抵抗値よりも高くすることができる。そのため、ESDによる第2の連結部10の断線が静電容量式センサ1の検出動作に与える影響を比較的容易に抑えることができる。
 図6~図8および図10に関する説明では、中央連結部10aの形状を周辺連結部10bの形状とは異ならせることで、中央連結部10aの電気抵抗値を、周辺連結部10bの電気抵抗値よりも高くしている。一方で、中央連結部10aを形成する材料を、周辺連結部10bを形成する材料とは異ならせることで、中央連結部10aの電気抵抗値を、周辺連結部10bの電気抵抗値よりも高くしてもよい。
 すなわち、中央連結部10aは、周辺連結部10bを形成する材料の電気抵抗率よりも高い電気抵抗率を有する材料を含んでもよい。中央連結部10aおよび周辺連結部10bの材料としては、図1~図5に関して前述した第2の連結部10の材料と同じ材料が挙げられる。この場合には、中央連結部10aおよび周辺連結部10bの形状ではなく、中央連結部10aおよび周辺連結部10bを形成する材料により、中央連結部10aの電気抵抗値を周辺連結部10bの電気抵抗値よりも高くすることができる。そのため、ESDによる第2の連結部10の断線が静電容量式センサ1の検出動作に与える影響をより確実に抑えることができる。
 あるいは、中央連結部10aおよび周辺連結部10bの形状を互いに異ならせるとともに、中央連結部10aおよび周辺連結部10bを形成する材料を互いに異ならせてもよい。これによれば、中央連結部10aおよび周辺連結部10bの形状、および中央連結部10aおよび周辺連結部10bを形成する材料の両方により、中央連結部10aの電気抵抗値を周辺連結部10bの電気抵抗値よりも高くすることができる。そのため、ESDによる第2の連結部10の断線が静電容量式センサ1の検出動作に与える影響をさらに確実に抑えることができる。
 なお、本実施形態の説明では、断線に至る破壊が第2の連結部に生ずる場合を例に挙げた。図6~図10に関する説明は、第1の連結部においても同様に適用可能である。すなわち、図1に表した二点鎖線の第4の配線部64のように、非検出領域25には、第4の配線部64がさらに形成されていてもよい。この場合には、第3の配線部63および第4の配線部64は、第1の電極連結体8の両側の端部から引き出される。
 具体的には、第3の配線部63は、第1の電極連結体8の一方の端部(Y2側の端部)から一方の非検出領域(Y2側の非検出領域)25に引き出されて延びる。第3の配線部63は、第1の電極連結体8の一方の端部に電気的に接続される。第4の配線部64は、第1の電極連結体8の他方の端部(Y1側の端部)から他方の非検出領域(Y1側の非検出領域)25に引き出されて延びる。第4の配線部64は、第1の電極連結体8の他方の端部に電気的に接続される。第3の配線部63および第4の配線部64は、非検出領域25において互いに電気的に接続される。
 そして、第1の電極連結体8が延びるY1-Y2方向において検出領域11の中央部に配置された複数の第1の透明電極4を電気的に接続する中央連結部の電気抵抗値は、Y1-Y2方向において検出領域11の中央部以外(例えば端部)に配置された複数の第1の透明電極4を電気的に接続する周辺連結部の電気抵抗値よりも高い。これにより、ESDによる第1の連結部7の断線が静電容量式センサ1の検出動作に与える影響を抑えることができる。
 以上、本実施形態およびその適用例を説明したが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。例えば、前述の各実施形態またはその適用例に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除、設計変更を行ったものや、各実施形態の特徴を適宜組み合わせたものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含有される。
 1 静電容量式センサ
 2 基材
 2a 主面(おもて面)
 3 パネル
 3a 操作面
 3b 主面(裏面)
 4 第1の透明電極
 5、5a、5b、5c、5d、5e、5f 第2の透明電極
 7 第1の連結部
 8 第1の電極連結体
 10 第2の連結部
 10a 中央連結部
 10b 周辺連結部
 11 検出領域
 12 第2の電極連結体
 14 加飾層
 15 接続配線
 16 接続配線
 17 接点部
 19 絶縁層
 20 絶縁層
 20a 表面
 25 非検出領域
 27 外部接続部
 29 フレキシブルプリント基板
 30 光学透明粘着層
 43 保護シート
 61 第1の配線部
 62 第2の配線部
 63 第3の配線部
 64 第4の配線部
 110 第2の連結部
 110a 中央連結部
 110b 周辺連結部
 112 第2の電極連結体
 115、115a、115b、115c、115d、115e、115f 第2の透明電極
 161 第1の配線部
 162 第2の配線部
 C1 切断面
 C2 切断面
 F 指
 t1 厚さ
 t2 厚さ
 W1 幅
 W2 幅

Claims (4)

  1.  透光性を有する基材と、
     前記基材の検出領域において所定方向に並んで配置された透光性を有する複数の透明電極を有する電極連結体と、
     前記検出領域の外側の非検出領域に延びて設けられ前記電極連結体の一方の端部に電気的に接続された第1の配線部と、
     前記検出領域の外側の非検出領域に延びて設けられ前記電極連結体の他方の端部に電気的に接続された第2の配線部と、
     前記所定方向において前記検出領域の中央部に配置された前記複数の透明電極を電気的に接続する中央連結部と、
     前記所定方向において前記中央部以外に配置された前記複数の透明電極を電気的に接続する周辺連結部と、
     を備え、
     前記第1の配線部と前記第2の配線部とは、前記非検出領域において互いに電気的に接続され、
     前記中央連結部の電気抵抗値は、前記周辺連結部の電気抵抗値よりも高いことを特徴とする静電容量式センサ。
  2.  前記中央連結部の幅は、前記周辺連結部の幅よりも細いことを特徴とする請求項1記載の静電容量式センサ。
  3.  前記中央連結部の厚さは、前記周辺連結部の厚さよりも薄いことを特徴とする請求項1または2に記載の静電容量式センサ。
  4.  前記中央連結部は、前記周辺連結部を形成する材料の電気抵抗率よりも高い電気抵抗率を有する材料を含むことを特徴とする請求項1~3のいずれか1つに記載の静電容量式センサ。
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