WO2017006810A1

WO2017006810A1 - 蒸着装置および蒸着方法

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Publication number: WO2017006810A1
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Inventors: 勇毅小林; 伸一川戸; 学二星; 井上　智
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Abstract

蒸着装置（１００）は、蒸着源（３０）と、蒸着マスク（１０）と、蒸着源と蒸着マスクとの間に配置された制限板ユニット（２０）と、蒸着マスクと制限板ユニットとの間の部分で、かつ、平面視で、制限板ユニットの隣り合う制限板開口（２１）間であって蒸着マスクの隣り合うマスク開口領域（１１）間の非開口部（１３）にガス壁（５０１）を形成するガス供給機構（５０）と、を備えている。

Description

蒸着装置および蒸着方法

　本発明は、複数の被成膜領域を有する被成膜基板の上記被成膜領域内に、所定パターンの蒸着膜を成膜する蒸着装置および蒸着方法に関する。

　近年、様々な商品や分野でフラットパネルディスプレイが活用されており、フラットパネルディスプレイのさらなる大型化、高画質化、低消費電力化が求められている。

　そのような状況下、有機材料または無機材料の電界発光（Electro luminescence；以下、「ＥＬ」と記す）を利用したＥＬ素子を備えたＥＬ表示装置は、全固体型で、低電圧駆動、高速応答性、自発光性等の点で優れたフラットパネルディスプレイとして、高い注目を浴びている。

　ＥＬ表示装置は、例えば、アクティブマトリクス方式の場合、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）が設けられたガラス基板等からなる基板上に、ＴＦＴに電気的に接続された薄膜状のＥＬ素子が設けられた構成を有している。

　フルカラーのＥＬ表示装置では、一般的に、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色のＥＬ素子が、サブ画素として基板上に配列形成されており、ＴＦＴを用いて、これらＥＬ素子を選択的に所望の輝度で発光させることにより画像表示を行う。

　したがって、このようなＥＬ表示装置を製造するためには、少なくとも、各色に発光する発光材料からなる発光層を、ＥＬ素子毎に所定パターンで形成する必要がある。

　発光層のパターン形成には、例えば真空蒸着法が用いられる。真空蒸着法では、所定パターンの開口が形成された蒸着マスクを介して被成膜基板に蒸着粒子を蒸着させる。このとき、蒸着は、発光層の色毎に行われる（これを「塗り分け蒸着」という）。

　真空蒸着法では、被成膜基板に、該被成膜基板と同等の大きさの蒸着マスクを密着させて蒸着を行う方法が一般的に用いられている。しかしながら、この場合、被成膜基板の大型化に伴い、蒸着マスクも大型化する。

　蒸着マスクが大型化すると、蒸着マスクの自重撓みや伸びにより、被成膜基板と蒸着マスクとの間に隙間が生じ易くなる。そのため、大型の被成膜基板では、高精度なパターニングを行うことは難しい。また、被成膜基板が大型化すると、蒸着マスクやフレーム等の取り扱いが困難になり、生産性や安全性に支障をきたすおそれがある。また、蒸着装置そのものや、それに付随する装置も同様に巨大化、複雑化するため、装置設計が困難になり、設置コストも高額になる。

　このため、量産プロセスでは、上述したように蒸着マスクを被成膜基板に全面密着させる方法よりも、被成膜基板よりも小さな蒸着マスクを使用するスキャン蒸着法が有効である。スキャン蒸着法を用いることで、上述した、大型の蒸着マスクを用いる場合に特有の上記問題点を解決することができる。

　しかしながら、スキャン蒸着法では、蒸着源に、蒸着粒子を射出させる複数の蒸着源開口（射出口）が、走査方向に垂直な方向に一定ピッチで設けられており、被成膜基板と蒸着マスクとを離間させて走査しながら被成膜基板全面に蒸着が行われる。

　このため、高精細なパターン蒸着を行うためには、蒸着粒子の流れ（蒸着流）を制御することが重要であり、このための提案もなされている。

　例えば、特許文献１では、蒸着源の一側に、蒸着源と蒸着マスクとの間の空間を複数の蒸着空間に区画する複数の遮断壁を制限板として備えた遮断壁アセンブリを設けることで、遮断壁によって蒸着範囲を制限している。これにより、蒸着パターンが広がることなく、高精細なパターン蒸着を行うことができる。

日本国公開特許公報「特開２０１０－２７０３９６号公報（２０１０年１２月２日公開）」日本国公開特許公報「特開２００５－２２６１５４号公報（２００５年８月２５日公開）」日本国公開特許公報「特開２００５－２０３２４８号公報（２００５年７月２８日公開）」

　しかしながら、蒸着密度が高くなると（つまり、高レート時には）、制限板を用いただけでは高精細なパターン蒸着を行うことは困難である。

　特に、例えば量産化等のために一つの被成膜基板に複数の被成膜領域を設けた場合、被成膜基板の被成膜面における、ある蒸着源開口に対応する被成膜領域に、該被成膜領域に隣接する被成膜領域（隣接被成膜領域）に蒸着粒子を射出させる蒸着源開口（隣接ノズル）からの蒸着粒子が飛来しないようにする必要がある。

　高レート時に特許文献１のように制限板を用いただけでは、隣接ノズルからの蒸着粒子の飛来を防ぐことができない。以下に、図１５の（ａ）・（ｂ）を参照して具体的に説明する。

　図１５の（ａ）・（ｂ）は、蒸着源６０１と蒸着マスク６１１との間に、平面視で、走査方向に垂直な方向に沿って制限板６２１を複数設けた場合における、蒸着密度の違いによる蒸着流の違いを模式的に示す図である。

　なお、図１５の（ａ）は、蒸着密度が相対的に低い場合（低レート時）を示し、図１５の（ｂ）は、蒸着密度が相対的に高い場合（高レート時）を示す。

　また、図１５の（ａ）・（ｂ）中、Ｙ軸は、被成膜基板２００の走査方向に沿った水平方向軸を示し、Ｘ軸は、被成膜基板２００の走査方向に垂直な方向に沿った水平方向軸を示し、Ｚ軸は、被成膜基板２００の被成膜面２０１（被成膜面）の法線方向であり、該被成膜面２０１に直交する蒸着軸線が延びる方向である、Ｘ軸およびＹ軸に垂直な垂直方向軸（上下方向軸）を示す。

　図１５の（ａ）に示すように、低レート時であれば、蒸着源６０１の各蒸着源開口６０２（射出口、ノズル）から射出された蒸着粒子３０１は、各制限板６２１間の制限板開口６２２によって指向性の悪い蒸着成分が遮られ（捕捉され）、指向性の高い分布に制限される。この結果、各蒸着源開口６０２に対応付けられた領域に、所定パターンの蒸着膜３００が成膜される。

　しかしながら、図１５の（ｂ）に示すように、高レート時には、隣接する蒸着源開口６０２からの蒸着粒子６０１が飛来して正常なパターンの蒸着膜３００（正常パターン膜）に混入したり、正常なパターンの蒸着膜３００間に、異常なパターンの蒸着膜３０２（異常パターン膜）が成膜されたりする。

　これは、以下の理由による。高レートでは蒸着源６０１内の蒸着粒子３０１が増大するが、蒸着源６０１には、成膜用の蒸着源開口６０２しか開口部は設けられていない。このため、蒸着源開口６０２で局所的に蒸着密度が高くなり、圧力増大が生じる。その結果、開口面積の小さい蒸着源開口６０２において、平均自由工程の小さくなった蒸着粒子３０１が散乱し易くなり、図１５の（ｂ）に二点鎖線で示すように、蒸着源開口６０２が見かけ上（擬似的に）拡がる。この蒸着源開口６０２が擬似的に拡がった箇所から飛来した蒸着粒子３０１が、制限板開口６２２を通過し、隣接ノズルに対応したマスク開口６１２を通過することで、正常パターン膜に、隣接する蒸着源開口６０２からの蒸着粒子３０１が混入したり、異常なパターンの蒸着膜３０２が成膜されたりする。これらの現象は、混色発光等の異常発光を引き起こし、表示品位を大きく損なう懸念がある。

　なお、特許文献２、３には、蒸着源の周囲もしくは蒸着源そのものにガスの導入部を設け、蒸着源の周囲から被成膜基板の方向に向かうガスの流れ（ガス流）を形成し、このガス流によって蒸着源から射出された蒸着粒子を被成膜基板に導くことが開示されている。

　しかしながら、特許文献２、３は、蒸着源の周囲もしくは蒸着源の中心部にガスの流路を設けるものであり、一つの被成膜基板に複数の被成膜領域を設けるものではなく、隣接被成膜領域への異常なパターンの蒸着膜の成膜（すなわち、異常成膜）を防止するものではない。

　上述したように、異常成膜は、蒸着源開口における圧力増大による蒸着源開口６０２の擬似的な拡がりに起因して生じる。しかしながら、特許文献２、３では、高レートの場合、蒸着密度が高い蒸着源開口近傍から蒸着流をガイド・バリアするため、多量のガスを放出する必要がある。このため、蒸着源開口近傍は、より一層圧力が高くなる。したがって、特許文献２、３に記載の技術では、上記異常成膜を防止することはできない。

　しかも、特許文献２、３に記載の技術では、高レートの場合、蒸着源開口近傍の圧力がより一層が高くなることで、高レートでは蒸着できない可能性がある。

　本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、高レートでの蒸着が可能であり、かつ、異常成膜の発生を防止することができる蒸着装置および蒸着方法を提供することにある。

　上記の課題を解決するために、本発明の一態様にかかる蒸着装置は、第１方向に複数の被成膜領域を有する被成膜基板の上記被成膜領域内に、上記第１方向に複数配列された所定パターンの蒸着膜を成膜する蒸着装置であって、蒸着粒子を射出する複数の蒸着源開口を有する蒸着源と、上記複数の被成膜領域にそれぞれ対向して、上記蒸着膜のパターンに応じて上記第１方向に配列された複数のマスク開口を有するマスク開口領域が設けられた蒸着マスクと、上記蒸着源と上記蒸着マスクとの間に配置され、上記第１方向に互いに離間して配置された複数の第１の制限板を有し、互いに隣り合う上記第１の制限板間に、上記被成膜領域にそれぞれ対応して、上記蒸着粒子を通過させる第１の制限板開口が設けられた第１の制限板ユニットと、上記蒸着マスクにおける隣り合うマスク開口領域間の非開口領域と上記第１の制限板との間にガス壁を形成するガス供給機構と、を備える。

　上記の課題を解決するために、本発明の一態様にかかる蒸着方法は、第１方向に複数の被成膜領域を有する被成膜基板の上記被成膜領域内に、上記第１方向に複数配列された所定パターンの蒸着膜を成膜する蒸着方法であって、蒸着粒子を射出する複数の蒸着源開口を有する蒸着源と、上記複数の被成膜領域にそれぞれ対向して、上記蒸着膜のパターンに応じて上記第１方向に配列された複数のマスク開口を有するマスク開口領域が設けられた蒸着マスクとの間に、上記第１方向に互いに離間して配置された複数の第１の制限板を有し、互いに隣り合う上記第１の制限板間に、上記被成膜領域にそれぞれ対応して、上記蒸着粒子を通過させる第１の制限板開口が設けられた第１の制限板ユニットを配置し、上記蒸着マスクにおける隣り合うマスク開口領域間の非開口領域と上記第１の制限板との間にガスの壁を形成して上記蒸着源から上記蒸着粒子を射出することにより上記蒸着膜を成膜する。

　本発明の一態様によれば、高レートでの蒸着が可能であり、かつ、異常成膜の発生を防止することができる蒸着装置および蒸着方法を提供することができる。

本発明の実施形態１にかかる蒸着装置の基本構成を示す断面図である。本発明の実施形態１にかかる蒸着装置の基本構成を示す斜視図である。本発明の実施形態１にかかる蒸着装置の概略構成の一例を示す断面図である。本発明の実施形態１の変形例にかかる蒸着装置の基本構成を示す断面図である。本発明の実施形態２にかかる蒸着装置の基本構成を示す断面図である。（ａ）は、本発明の実施形態３にかかる蒸着装置の基本構成を示す斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す蒸着装置の要部の概略構成を示す平面図である。（ａ）は、本発明の実施形態４にかかる蒸着装置の基本構成を示す斜視図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す蒸着装置の要部の概略構成を示す平面図である。本発明の実施形態５にかかる蒸着装置の基本構成を示す断面図である。本発明の実施形態６にかかる蒸着装置の基本構成を示す断面図である。本発明の実施形態７にかかる蒸着装置の基本構成を示す断面図である。本発明の実施形態８にかかる蒸着装置の基本構成を示す断面図である。（ａ）は、本発明の実施形態９にかかる蒸着装置の基本構成を示す断面図であり、（ｂ）は、（ａ）に示す、排気機構が設けられた蒸着マスクの概略構成を示す底面図である。本発明の実施形態１０にかかる蒸着装置の基本構成を示す断面図である。本発明の実施形態１１にかかる蒸着装置の基本構成を示す断面図である。（ａ）・（ｂ）は、蒸着源と蒸着マスクとの間に、平面視で、走査方向に垂直な方向に沿って制限板を複数設けた場合における、蒸着密度の違いによる蒸着流の違いを模式的に示す図である。

　以下、本発明の実施形態の一例について、詳細に説明する。

　〔実施形態１〕
　図１は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の基本構成を示す断面図である。また、図２は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の基本構成を示す斜視図である。図３は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の概略構成の一例を示す断面図である。

　本実施形態にかかる蒸着装置１００および蒸着方法は、特に有機ＥＬ表示装置等のＥＬ表示装置における、ＥＬ素子を構成する発光層等のＥＬ層の蒸着に有用である。

　以下では、一例として、例えば赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色の有機ＥＬ素子がサブ画素として基板上に配列されたＲＧＢフルカラー表示の有機ＥＬ表示装置の製造に本実施形態にかかる蒸着装置１００および蒸着方法を適用し、ＲＧＢ塗り分け方式にて有機ＥＬ素子の発光層を成膜する場合を例に挙げて説明する。

　すなわち、以下では、本実施形態にかかる蒸着装置１００によって成膜される蒸着膜３００が、有機ＥＬ表示装置における、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の発光層である場合を例に挙げて説明する。しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではなく、本実施形態にかかる蒸着装置１００および蒸着方法は、有機ＥＬ表示装置および無機ＥＬ表示装置の製造をはじめとする、気相成長技術を用いたデバイスの製造全般に適用可能である。

　なお、本実施形態では、図１に示すように、有機ＥＬ表示装置における、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の発光層を構成する蒸着膜３００を、順に、蒸着膜３００Ｒ、蒸着膜３００Ｇ、蒸着膜３００Ｂとして記載する。しかしながら、これら各色の蒸着膜３００Ｒ・３００Ｇ・３００Ｂを特に区別する必要がない場合、これら蒸着膜３００Ｒ・３００Ｇ・３００Ｂを総称して単に蒸着膜３００と記す。

　また、以下では、被成膜基板２００の走査方向（走査軸）に沿った水平方向軸をＹ軸とし、被成膜基板２００の走査方向に垂直な方向に沿った水平方向軸をＸ軸とし、被成膜基板２００の被成膜面２０１の法線方向であり、Ｘ軸およびＹ軸に垂直な垂直方向軸（上下方向軸）をＺ軸として説明する。また、Ｘ軸方向を行方向（第１方向）、Ｙ軸方向を列方向（第２方向）とする。また、説明の便宜上、特に言及しない限り、図１中、Ｚ軸の上向きの矢印の側を上（側）として説明する。

　＜蒸着装置１００の概略構成＞
　（蒸着装置１００の基本構成）
　まず、本実施形態にかかる蒸着装置１００の基本構成について説明する。

　図１～図３に示すように、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、蒸着マスク１０、制限板ユニット２０（第１の制限板ユニット）、蒸着源３０、およびガス供給機構５０を備えている。

　ガス供給機構５０は、ガスを噴出するガス噴出口４１（ガス用開口）を有するガス噴出部４０（ガス噴出ユニット）と、ガス供給管５１と、ガス供給源５２と、を備えている。

　本実施形態にかかる蒸着装置１００では、制限板ユニット２０とガス噴出部４０とが、制限板兼ガス供給ユニットとして一体化されており、制限板ユニット２０にガス噴出部４０が設けられている。ガス噴出部４０は、ガス噴出口４１、ガス拡散室４２、およびガス導入口４３を備えている。

　このため、制限板ユニット２０にはガス供給管５１が接続されている。ガス供給管５１は、ガスを供給するガス供給源５２に接続されている。なお、これらガス供給機構５０の各部の構成については後で詳述する。

　蒸着マスク１０、制限板ユニット２０、および蒸着源３０は、Ｚ軸方向に沿って、被成膜基板２００側からこの順に、例えば一定距離離間して対向配置されている。蒸着マスク１０、制限板ユニット２０、および蒸着源３０は、その位置関係が固定されている。

　これら蒸着マスク１０、制限板ユニット２０、および蒸着源３０は、例えば、剛直な部材でお互いに固定されていてもよく、独立した構成を有し、制御動作が一つのユニットとして動作するものであっても構わない。

　蒸着装置１００は、スキャン蒸着法により蒸着を行う蒸着装置である。蒸着装置１００では、蒸着マスク１０と被成膜基板２００との間に一定の空隙を設けた状態で、被成膜基板２００および蒸着ユニット１の少なくとも一方を、走査方向に沿って相対移動（走査）させる。これにより、最終的に、被成膜基板２００における全被成膜領域２０２に蒸着膜３００が成膜される。

　（蒸着装置１００の全体構成）
　次に、本実施形態にかかる蒸着装置１００の全体構成の一例について、図３を参照して以下に説明する。

　なお、以下では、一例として、蒸着マスク１０、制限板ユニット２０、蒸着源３０、および、ガス供給管５１を介して制限板ユニット２０に接続されたガス供給源５２が、同一のホルダ６０（保持部材）によって保持されることで、蒸着ユニット１としてユニット化されている場合を例に挙げて説明する。

　但し、本実施形態はこれに限定されるものではなく、ガス供給源５２は、ホルダ６０の外部に設けられていても構わない。ガス供給源５２は、ガス供給管５１として柔軟性を有するガス供給管を使用する等することにより、成膜チャンバ１０１内で、ホルダ６０の外部に固定されていてもよく、成膜チャンバ１０１外に配置されていても構わない。

　本実施形態にかかる蒸着装置１００は、図３に示すように、例えば、成膜チャンバ１０１、基板ホルダ１０２、基板移動装置１０３、蒸着ユニット１、蒸着ユニット移動装置１０４、および、図示しない防着板、シャッタ、制御装置等を備えている。

　また、蒸着ユニット１は、蒸着マスク１０、制限板ユニット２０、蒸着源３０、ガス供給管５１、ガス供給源５２、およびホルダ６０を備えている。

　（成膜チャンバ１０１）
　成膜チャンバ１０１には、蒸着時に該成膜チャンバ１０１内を真空状態に保つために、該成膜チャンバ１０１に設けられた図示しない排気口を介して成膜チャンバ１０１内を真空排気する図示しない真空ポンプが設けられている。真空ポンプは、成膜チャンバ１０１の外部に設けられている。また、蒸着装置１００の動作を制御する制御装置も成膜チャンバ１０１の外部に設けられている。なお、基板ホルダ１０２、基板移動装置１０３、蒸着ユニット１、蒸着ユニット移動装置１０４、および、図示しない防着板やシャッタは、成膜チャンバ１０１内に設けられている。

　（基板ホルダ１０２）
　基板ホルダ１０２は、被成膜基板２００を保持する基板保持部材である。被成膜基板２００は、その被成膜面２０１が蒸着マスク１０に一定距離離間して対向配置するように基板ホルダ１０２によって保持されている。

　基板ホルダ１０２には、例えば静電チャック等が使用されることが好ましい。被成膜基板２００が基板ホルダ１０２に静電チャック等の手法で固定されていることで、被成膜基板２００は、自重による撓みがない状態で基板ホルダ１０２に保持される。

　（基板移動装置１０３および蒸着ユニット移動装置１０４）
　本実施形態にかかる蒸着装置１００は、例えば、基板移動装置１０３および蒸着ユニット移動装置１０４のうち少なくとも一方を備えている。これにより、本実施形態では、基板移動装置１０３および蒸着ユニット移動装置１０４の少なくとも一方により、被成膜基板２００と、蒸着ユニット１とを、Ｙ軸方向が走査方向となるように相対的に移動させてスキャン蒸着を行う。

　基板移動装置１０３および蒸着ユニット移動装置１０４としては、特に限定されるものではなく、例えばローラ式の移動装置や油圧式の移動装置等、公知の各種移動装置を使用することができる。

　但し、被成膜基板２００および蒸着ユニット１は、その少なくとも一方が相対移動可能に設けられていればよい。したがって、基板移動装置１０３および蒸着ユニット移動装置１０４は、何れか一方のみが設けられていてもよく、被成膜基板２００および蒸着ユニット１の一方は、成膜チャンバ１０１の内壁に固定されていても構わない。

　（被成膜基板２００）
　蒸着マスク１０について説明する前に、本実施形態で用いられる被成膜基板２００について説明する。

　図１および図２に示すように、被成膜基板２００の被成膜面２０１には、蒸着膜パターニング領域として、区画された複数の被成膜領域２０２が設けられている。

　被成膜基板２００はマザー基板である。量産プロセスでは、有機ＥＬ表示装置４００をマザー基板上に複数形成した後、個々の有機ＥＬ表示装置４００に分断する。

　各被成膜領域２０２は、被成膜基板２００の一端から他端にかけて、ストライプ状に形成されている。各被成膜領域２０２の周囲には、各被成膜領域２０２を囲むように非成膜領域２０４が設けられている。

　各被成膜領域２０２には、各有機ＥＬ表示装置４００における、複数の画素４０１が配列された画素領域が、複数形成される。これにより、被成膜基板２００には、各有機ＥＬ表示装置４００における画素領域が、２次元状（マトリクス状）に形成される。

　各画素領域における各画素４０１は、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色のサブ画素４０２を備えている。このため、各被成膜領域２０２内には、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の有機ＥＬ素子からなる各色のサブ画素４０２が複数設けられ、各サブ画素４０２には、蒸着膜３００として、有機ＥＬ素子の発光層として用いられる、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の蒸着膜３００Ｒ・３００Ｇ・３００Ｂからなる微細な蒸着膜パターンが形成される。

　図示はしていないが、本実施形態では、各被成膜領域２０２には、有機ＥＬ表示装置４００の駆動回路と、有機ＥＬ素子における、発光層を挟む一対の電極のうち一方の電極が、あらかじめ形成されている。

　各被成膜領域２０２内には、図１に示すように、各サブ画素に対応して、上記各色の蒸着膜３００Ｒ・３００Ｇ・３００Ｂのパターンを形成する被成膜パターン領域２０３Ｒ・２０３Ｇ・２０３Ｂが設けられている。

　被成膜パターン領域２０３Ｒには、赤色の蒸着膜３００Ｒが成膜され、被成膜パターン領域２０３Ｇには、緑色の蒸着膜３００Ｇが成膜され、被成膜パターン領域２０３Ｂには、青色の蒸着膜３００Ｂが成膜される。なお、以下、これら被成膜パターン領域２０３Ｒ・２０３Ｇ・２０３Ｂを特に区別する必要がない場合、これら被成膜パターン領域２０３Ｒ・２０３Ｇ・２０３Ｂを総称して単に被成膜パターン領域２０３と記す。

　（蒸着マスク１０）
　図２に示すように、蒸着マスク１０は、その主面であるマスク面がＸＹ平面と平行な板状物である。スキャン蒸着を行う場合、蒸着マスク１０には、平面視で、被成膜基板２００よりも少なくともＹ軸方向のサイズが小さな蒸着マスクが使用される。なお、平面視とは、「蒸着マスク１０の主面に垂直な方向（つまり、Ｚ軸に平行な方向）から見たとき」を示す。

　蒸着マスク１０は、そのまま使用してもよく、自重撓みを抑制するために、張力をかけた状態で図示しないマスクフレームに固定されていてもよい。マスクフレームは、平面視で、その外形が、蒸着マスク１０と同じか、もしくは一回り大きな矩形状に形成される。

　蒸着マスク１０の主面には、図１および図２に示すように、蒸着膜３００Ｒ・３００Ｇ・３００Ｂの各パターンの一部に対応したマスク開口１２（第１のマスク開口）群で構成されるマスク開口領域１１が、複数設けられている。

　すなわち、図１および図２に示すように、蒸着マスク１０は、被成膜基板２００に対向させたときに該被成膜基板２００の被成膜領域２０２に対向する、複数のマスク開口領域１１を備えている。マスク開口領域１１の内部には、マスク開口１２として、蒸着時に蒸着粒子３０１（蒸着材料）を通過させるための通過部として機能する複数の開口部（貫通口）が設けられている。なお、蒸着マスク１０におけるマスク開口１２以外の領域は、非開口部１３（非開口領域）であり、蒸着時に蒸着粒子３０１の流れを遮断する遮断部として機能する。

　各マスク開口１２は、被成膜基板２００における、目的とする被成膜パターン領域２０３（つまり、使用する蒸着マスク１０による成膜対象の色の被成膜パターン領域２０３）以外の領域に蒸着粒子３０１が付着しないように、使用する蒸着マスク１０によって成膜される蒸着膜３００の各パターンの一部に対応して設けられている。

　蒸着材料が上述したように有機ＥＬ表示装置における発光層の材料である場合、有機ＥＬ蒸着プロセスにおける発光層の蒸着は、発光層の色毎に行われる。

　赤色の発光層である蒸着膜３００Ｒの成膜には、赤色の発光層成膜用の蒸着マスク１０が使用される。また、緑色の発光層である蒸着膜３００Ｇの成膜には、緑色の発光層成膜用の蒸着マスク１０が使用される。同様に、青色の発光層である蒸着膜３００Ｂの成膜には、青色の発光層成膜用の蒸着マスク１０が使用される。

　但し、本実施形態は、これに限定されるものではなく、同じ蒸着マスク１０を用いて、マスク開口１２の位置をずらすことで、各色の発光層（すなわち蒸着膜３００Ｒ・３００Ｇ・３００Ｂの各パターン）を成膜してもよいことは言うまでもない。

　例えば、緑色の発光層に対応する箇所にだけマスク開口１２が設けられた蒸着マスク１０を使用し、上記マスク開口１２が、被成膜パターン領域２０３Ｇに対向する位置から被成膜パターン領域２０３Ｒに対向する位置までシフトするように蒸着マスク１０または被成膜基板２００をシフトさせて蒸着を行えば、被成膜パターン領域２０３Ｒに、蒸着膜３０２Ｒをパターン成膜することができる。同様に、上記マスク開口１２が、被成膜パターン領域２０３Ｂに対向するように蒸着マスク１０または被成膜基板２００をシフトさせて蒸着を行えば、上記蒸着マスク１０を用いて、被成膜パターン領域２０３Ｂに、蒸着膜３０２Ｂをパターン成膜することができる。

　各マスク開口１２を通過した蒸着粒子３０１のみが被成膜基板２００に到達し、被成膜基板２００に、各マスク開口１２に応じたパターンの蒸着膜３００が形成される。

　なお、図１～図３では、図示の便宜上、マスク開口１２の数や被成膜パターン領域２０３の数、画素４０１の数等を削減して示すとともに、マスク開口１２を、成膜する蒸着膜３００Ｒ・３００Ｇ・３００Ｂによって区別せずに図示している。

　図２に示す例では、各マスク開口領域１１には、列方向に伸びる細長いスリット形状のマスク開口１２が行方向に複数並んで設けられている。しかしながら、マスク開口１２は例えばスロット状であってもよく、マスク開口１２およびマスク開口領域１１の平面視における形状および数は、特に限定されない。

　また、蒸着マスク１０の材質も特に限定されない。蒸着マスク１０の材質は、インバー（鉄－ニッケル合金）等の金属であってもよく、樹脂、あるいはセラミックであってもよく、それらの組み合わせでも構わない。

　（蒸着源３０）
　蒸着源３０は、例えば、内部に蒸着材料を収容する容器である。蒸着源３０は、容器内部に蒸着材料を直接収容する容器であってもよく、ロードロック式の配管を有し、外部から蒸着材料が供給されるように形成されていてもよい。

　蒸着源３０は、図２に示すように、例えば矩形状に形成されている。蒸着源３０の上面（すなわち、制限板兼ガス供給ユニットとの対向面）には、蒸着粒子３０１を射出させる射出口として、複数の蒸着源開口３１（貫通口、ノズル）を有している。これら蒸着源開口３１は、Ｘ軸方向に一定ピッチで配されている。

　蒸着源３０は、蒸着材料を加熱して蒸発（蒸着材料が液体材料である場合）または昇華（蒸着材料が固体材料である場合）させることで気体状の蒸着粒子３０１を発生させる。蒸着源３０は、このように気体にした蒸着材料を、蒸着粒子３０１として、蒸着源開口３１から制限板ユニット２０に向かって射出する。

　（制限板ユニット２０）
　制限板ユニット２０は、蒸着マスク１０と蒸着源３０との間に、蒸着マスク１０および蒸着源３０とは離間して配置されている。

　本実施形態では、上述したようにスキャン蒸着を行うことから、蒸着マスク１０、制限板ユニット２０、および蒸着源３０は、何れも、平面視で、被成膜基板２００よりも少なくともＹ軸方向のサイズが小さくなるように形成されている。

　制限板ユニット２０は、平面視で、蒸着マスク１０と同じか、もしくはそれ以上の大きさを有している。

　制限板ユニット２０には、蒸着粒子３０１を通過させる制限板開口２１（第１の制限板開口）と、ガス供給源５２から供給されたガスを噴出するガス噴出口４１と、が設けられている。

　蒸着源開口３１から射出された蒸着粒子３０１は、略等方的に拡がる。制限板開口２１は、この等方的に拡がる蒸着粒子３０１の流れ（蒸着流）を制御し、指向性を高める役割を有している。

　また、ガス噴出口４１は、制限板ユニット２０と蒸着マスク１０との間に、ガスの流れ（ガス流）によるガス壁５０１（ガスの壁）を形成することで、蒸着源開口３１の擬似的な拡がりによって生成される不要な蒸着流をブロックする役割を有している。

　ガス壁５０１（ガス流）は、制限板開口２１を通過した蒸着粒子３０１のうち、該制限板開口２１に対応付けられた、本来入射するマスク開口領域１１に隣り合うマスク開口領域１１（隣接マスク開口領域）に向かう蒸着粒子３０１の流れを、分子衝突によって阻止（遮断）する遮断壁として機能する。これにより、各制限板開口２１を通過した蒸着粒子３０１は、ガス壁５０１によって、各制限板開口２１に対向するマスク開口領域１１に向かう方向に方向付けられる。

　したがって、ガス壁５０１は、各制限板開口２１を通過した蒸着粒子３０１が、該ガス壁５０１を越えて隣接マスク開口領域に到達することを阻止する障壁として機能するとともに、各制限板開口２１を通過した蒸着粒子３０１の流れを規制し、各制限板開口２１に対応付けられたマスク開口領域１１に導くガイドとして機能する。

　制限板ユニット２０は、例えば中空のブロック状のユニットであり、ＸＹ平面を主面としＸ軸方向を長軸とする矩形状の中空の板状部材に、Ｘ軸方向に沿って複数の制限板開口２１およびガス噴出口４１が、それぞれ一定ピッチで設けられた構成を有している。

　隣り合う制限板開口２１は、蒸着粒子３０１の移動を制限する制限板２２（第１の制限板、制限部、ガス噴出部）で隔てられている。制限板２２は、平面視で、互いに離間し、かつ、Ｘ軸方向に互いに平行に、一定ピッチで配列されている。

　制限板開口２１は、Ｘ軸方向に隣り合う制限板２２間に設けられた貫通口であり、制限板ユニット２０をＺ軸方向に貫通して形成されている。制限板開口２１の開口形状は、その長軸方向がＹ軸と平行な略長方形状である。

　ガス噴出口４１は、各制限板２２における蒸着マスク１０との対向面に設けられている。

　制限板開口２１と被成膜領域２０２とは、一対一の関係を有している。したがって、制限板開口２１とマスク開口領域１１とは、一対一の関係を有している。

　制限板開口２１のピッチは、マスク開口１２のピッチよりも大きく形成されており、平面視で、Ｘ軸方向に隣り合う制限板２２間には、複数のマスク開口１２が配されている。

　また、制限板開口２１と蒸着源開口３１とは、Ｘ軸方向に、同一のピッチで形成されている。このため、制限板開口２１と蒸着源開口３１とは、Ｘ軸方向において、一対一の関係を有している。各蒸着源開口３１は、各制限板開口２１のＸ軸方向の中央位置（つまり、各蒸着源開口３１をＸ軸方向に挟む、隣り合う制限板２２間のＸ軸方向の中央位置）に位置するように、各制限板開口２１に対応して配置されている。

　なお、本実施形態では、図２に示すように、蒸着源３０に、蒸着源開口３１がＸ軸方向に一次元状（すなわち、ライン状）に配列されているライン蒸着源を使用している。このため、蒸着源開口３１は、各制限板開口２１と一対一の関係を有するように、例えば、平面視で、各制限板開口２１の中央（Ｘ軸およびＹ軸の両方向の中央）に配置されている。

　但し、本実施形態はこれに限定されるものではなく、蒸着源開口３１は、Ｘ軸方向およびＹ軸方向に二次元状（タイル状）に配列されていても構わない。蒸着源開口３１が二次元状に配置されている場合でも、各蒸着源開口３１は、各制限板開口２１のＸ軸方向の中央位置に位置するように配置されることが望ましい。

　各制限板２２におけるガス噴出口４１の位置に制約はないが、好適には、平面視で、制限板２２の中央が良い。ガス噴出口４１を制限板２２の端に設けると、ガス噴出口４１から噴出されたガスがマスク開口領域１１に流入（侵入）する確率が高くなり、発光効率や寿命の低下等、有機ＥＬ素子の素子特性に影響する懸念がある。

　また、ガス噴出口４１の大きさも特に限定されないが、ガス噴出口４１における、走査方向に平行な方向の開口長さ（以下、「走査方向開口長」と記す）は、制限板開口２１の走査方向開口長と同一もしくはそれよりも長いことが好ましい。ガス噴出口４１の走査方向開口長が、制限板開口２１の走査方向開口長よりも短いと、制限板開口２１に隣接してガス壁５０１が設けられていない箇所が存在し、該箇所における、隣接マスク領域に向かう蒸着粒子３０１をブロックすることができない。

　一方、ガス噴出口４１における、走査方向と直交する方向の開口長さ（以下、「開口幅」と記す）は、数ｍｍ程度であることが好ましい。ガス噴出口４１の開口幅が太い場合、マスク開口領域１１に流入するガスが多くなり、素子特性に影響する懸念がある。一方、ガス噴出口４１の開口幅が短すぎる場合、ガス噴出口４１近傍でガス密度が高まり、ガス自体が大きく拡がる可能性がある。

　制限板ユニット２０には、該制限板ユニット２０内にガスを導入するガス導入口４３が少なくとも一つ設けられている。

　上述したように、本実施形態にかかる制限板ユニット２０は中空であり、内部に、ガス導入口４３に連結されたガス拡散室４２を備えている。ガス拡散室４２は、ガス導入口４３とガス噴出口４１とを連結する連結部であり、ガス導入口４３から導入されたガスを拡散して各ガス噴出口４１に供給するガス供給路（通気路）として機能する。

　ガス導入口４３にはガス供給管５１が接続されている。ガス導入口４３からガス拡散室４２に導入されたガスは、図１に示すように、ガス噴出口４１を通じて、各制限板２２から、蒸着マスク１０における、Ｘ軸方向において各マスク開口領域１１を間に挟む非開口部１３に噴出される。

　（ガス供給管５１およびガス供給源５２）
　ガス供給管５１は、ガスを供給するガス供給源５２に接続されている。ガス供給管５１は、ガス供給源５２と制限板ユニット２０とを連結する連結管であり、ガス供給源５２から制限板ユニット２０にガスを供給するガス供給路として機能する。

　本実施形態で用いられるガスは、ガス噴出口４１から気体として噴出され、かつ、蒸着粒子３０１と反応しないものであればよく、好適には不活性ガスが用いられる。そのなかでも、Ｎ_２（窒素）ガス、Ａｒ（アルゴン）ガス、Ｈｅ（ヘリウム）ガス等が、安価で入手が容易であることから好ましい。

　ガスの流量は、特に限定されず、蒸着レートによって、異常成膜の原因となる蒸着粒子３０１の数も変動するので、蒸着レートに応じて適宜調整すればよい。

　ガス供給管５１には、図示しない開閉バルブが設けられており、図示しない制御部の制御により、ガス供給源５２からガス導入口４３へのガスの供給が制御される。

　開閉バルブとしては、特に限定されるものではないが、例えば電磁バルブが使用される。この場合、開閉バルブは、図示しない制御部からの制御信号に基づいて、電磁石（ソレノイド）の磁力を用いて弁体を動作させることによって開閉される。

　ガス供給源５２は、不活性ガス等のガスを収容するガスボンベであってもよく、ガスを発生させるガス発生装置であってもよい。

　（ホルダ６０）
　ホルダ６０は、棚６１等を備え、蒸着マスク１０、制限板ユニット２０、および蒸着源３０等の、蒸着ユニット１における各構成要素を保持する保持部材である。

　ホルダ６０は、蒸着マスク１０、制限板ユニット２０、および蒸着源３０の相対的な位置が固定されるように蒸着マスク１０、制限板ユニット２０、および蒸着源３０を保持することができれば、その構成は特に限定されない。

　図３は、図１に示すように蒸着粒子３０１を下方から上方に向かって被成膜基板２００に蒸着（アップデポジション）させる場合を例に挙げて示している。このため、図３では、ホルダ６０の上方に配置された被成膜基板２００側から順に、蒸着マスク１０、制限板ユニット２０、蒸着源３０が配置された例を示している。

　しかしながら、例えば、蒸着粒子３０１を上方から下方に向かって被成膜基板２００に蒸着（ダウンデポジション）させる場合、上方から、蒸着源３０、制限板ユニット２０、蒸着マスク１０、被成膜基板２００が、この順に配置される。

　蒸着源３０、制限板ユニット２０、蒸着マスク１０、被成膜基板２００の配置は、蒸着粒子３０１の射出方向に応じて適宜変更される。

　また、ホルダ６０は、例えば、蒸着マスク１０にテンションをかける図示しないテンション機構を備えていてもよく、図示しない防着板（遮蔽板）やシャッタ等をさらに備えていてもよい。

　特に、ホルダ６０に、制限板ユニット２０に接続されたガス供給源５２を搭載する場合、ガス供給源５２に蒸着源開口３１から飛来する蒸着粒子が付着することを防止するため、ガス供給源５２は、防着板６２で覆われていることが好ましい。なお、防着板６２は、棚を兼ねていてもよい。

　＜蒸着方法＞
　本実施形態では、上述したように、蒸着ユニット１と被成膜基板２００とを相対移動させてスキャン蒸着を行う。

　このため、まず、蒸着ユニット１における蒸着マスク１０と被成膜基板２００とを一定距離離間して対向配置させる。このとき、蒸着マスク１０および被成膜基板２００にそれぞれ設けられた図示しないアライメントマーカを用いて、蒸着マスク１０と被成膜基板２００との相対的な位置合わせ、つまり、アライメント調整、および、蒸着マスク１０と被成膜基板２００との間の隙間の調整（ギャップコントロール）が行われる。

　その後、蒸着源開口３１から蒸着粒子３０１を射出するとともにガス噴出口４１からガスを噴出させながら、上記蒸着ユニット１および被成膜基板２００のうち少なくとも一方を、平面視で、走査方向（つまり、制限板２２および制限板開口２１の配設方向に垂直なＹ軸方向）に沿って相対移動させる。

　ガス噴出口４１からガスを噴出させることで、制限板ユニット２０における各制限板２２と、蒸着マスク１０における、Ｘ軸方向において各マスク開口領域１１を間に挟む非開口部１３との間には、上記ガスによるガス壁５０１が形成される。

　本実施形態では、蒸着源開口３１から射出された蒸着粒子３０１を、制限板開口２１、および、ガス壁５０１によって仕切られた各マスク開口領域１１におけるマスク開口１２を介して、上記被成膜基板２００に被着させる。

　＜効果＞
　本実施形態では、制限板２２間に形成される制限板開口２１で蒸着流の制御を行い、微量の不要成分だけを、ガス壁５０１でブロックする。

　制限板ユニット２０は、各制限板２２によって、蒸着マスク１０と蒸着源３０との間の空間を、制限板開口２１からなる複数の蒸着空間に区画することで、蒸着源３０から射出された蒸着粒子３０１の通過角度を制限する。

　蒸着密度が高くなると、蒸着流の拡がりが大きくなるので、蒸着流の拡がりを抑制するためには、蒸着流の拡がりを立体的に絞る必要がある。

　蒸着源３０から射出された蒸着粒子３０１は、制限板開口２１を通った後、蒸着マスク１０に形成されたマスク開口１２を通過して、被成膜基板２００に蒸着される。

　制限板ユニット２０は、制限板２２によって、該制限板２２の配設方向（つまり、Ｘ軸方向および斜め方向）への蒸着粒子３０１の移動を制限する。制限板ユニット２０は、制限板開口２１に入射した蒸着粒子３０１の入射角度に応じて、該制限板開口２１の通過を選択的に阻害する。

　ガス噴出部４０は、高レート時の蒸着源開口３１の擬似的な拡がりによって発生する異常成膜の原因となる蒸着粒子３０１を、制限板２２における蒸着マスク１０との対向面から噴出（放出）されるガスによって形成されるガス壁５０１でブロックすることで、異常成膜の発生を防止する。

　なお、ガス壁５０１は、制限板２２と、蒸着マスク１０における非開口部１３のうち各マスク開口領域１１間に設けられた非開口部１３ａとの間に形成されていれば、各制限板開口２１を通過した蒸着粒子３０１が、該ガス壁５０１を越えて隣接マスク開口領域に到達することを阻止することができる。

　しかしながら、各マスク開口領域１１間に設けられた非開口部１３ａに加え、蒸着マスク１０における、Ｘ軸方向両端のマスク開口領域１１における外側の部分にもガス壁５０１を形成することで、Ｘ軸方向両端のマスク開口領域１１に対しても、該マスク開口領域１１に対応付けられた制限板開口２１を通過した蒸着粒子３０１を、該マスク開口領域１１に無駄なく導くことができる。このため、蒸着材料の利用効率を向上させることができる。

　このため、ガス導入口４３から制限板ユニット２０に導入されたガスは、蒸着マスク１０における、Ｘ軸方向において各マスク開口領域１１を間に挟む非開口部１３、つまり、蒸着マスク１０における非開口部１３のうち、各マスク開口領域１１間に設けられた非開口部１３ａ、および、Ｘ軸方向両端のマスク開口領域１１における外側の部分（すなわち、蒸着マスク１０における、制限板ユニット２０のＸ軸方向両端の制限板開口２１よりもＸ軸方向端部側にそれぞれ位置するガス噴出口４１に対向する部分）に噴出されることが望ましい。

　以上のように、本実施形態によれば、高レート時の蒸着源開口３１の擬似的拡がりによる異常成膜を防止することができる。また、本実施形態では、制限板２２間に形成される制限板開口２１で蒸着流の制御を行い、微量の不要成分だけをガス壁５０１でブロックするため、蒸着源開口３１近傍の圧力を高めることがない。

　また、本実施形態では、微量の不要成分だけをガス壁５０１でブロックすればよいのでガス量は少なくてよく、真空度の著しい低下もない。

　なお、本来蒸着される蒸着膜３００を形成する蒸着流（すなわち、蒸着源開口３１の擬似的な拡がりによって生成される不要な蒸着流以外の蒸着流）は、制限板開口２１を通過後、制限板開口２１で制御された方向のまま蒸着マスク１０に到達するため、ガス壁５０１に向かうことはない。

　このため、本実施形態によれば、高レートでの蒸着が可能であり、かつ、高レートで蒸着を行った場合でも、異常成膜の発生を防止することができる蒸着装置および蒸着方法を提供することができる。

　また、各制限板開口２１と各マスク開口領域１１との間には、本来蒸着される蒸着膜３００を形成する、蒸着粒子３０１の密度が高い蒸着流が形成されている。本来蒸着される蒸着膜３００を形成する蒸着流の密度に対して、ガス密度は小さい。また、本実施形態では、微量の不要成分だけをガス壁５０１でブロックすればよいので、ガス噴出口４１は蒸着源開口３１よりも小さく、ガス量が少ない。しかも、本実施形態では、スキャン蒸着を行うことで、蒸着マスク１０は、被成膜基板２００よりもＹ軸方向の長さが短く形成されているとともに、被成膜基板２００および蒸着ユニット１の少なくとも一方が、他方に対してＹ軸方向に相対移動される。

　このため、Ｘ軸方向において各マスク開口領域１１を間に挟む非開口部１３に吹き付けられたガスは、Ｙ軸方向に拡がり、Ｙ軸方向の蒸着マスク１０の端部から上方に抜ける。このため、本実施形態によれば、マスク開口領域１１に混入するガスの量を極力低減することができる。したがって、本実施形態によれば、素子特性の低下を抑制することができる。

　また、制限板２２のみで不要成分をブロックした場合、同じ制限板ユニット２０であらゆる蒸着レートに対して対応することは困難であり、蒸着レートに対応した制限板ユニット２０を用いる必要がある。しかしながら、本実施形態にかかる蒸着装置１００および蒸着方法は、ガス壁５０１により不要成分をブロックするので、蒸着レートごとにガスの流量を調整すればよく、汎用性が高い。

　＜変形例＞
　（制限板ユニット２０の形状）
　本実施形態では、制限板ユニット２０が、中空のブロック状のユニットであり、該制限板ユニット２０を構成する中空の板状部材における制限板開口２１以外の部分（つまり、非開口部）が、制限板２２を連結して保持する保持体部２４であり、複数の制限板２２と保持体部２４とが一体的に形成された構成を有している場合を例に挙げて説明した。

　しかしながら、本実施形態にかかる制限板ユニット２０は、これに限定されるものではなく、制限板開口２１を介して配列された制限板２２が、これら制限板２２を連結して保持する枠状の保持体部２４に、ネジ留めあるいは溶接等により固定された構成を有していてもよい。

　すなわち、各制限板２２、並びに、各制限板２２と保持体部２４とは、それぞれ、図２に示すように一体的に形成されていてもよく、別体として形成されていてもよい。各制限板２２の相対的位置や姿勢を一定に維持することができれば、各制限板２２を保持する方法は、上記の方法に限定されない。したがって、制限板ユニット２０の形状は、特に限定されるものではない。

　しかしながら、制限板ユニット２０を、図２に示すようにブロック状に形成することで、制限板ユニット２０を、コンパクトに形成することができるとともに、各制限板２２の位置合わせや制限板ユニット２０の交換作業が容易となる。このため、制限板ユニット２０は、ブロック状に形成されていることが好ましい。

　（ガス噴出口４１の形状）
　図４は、本変形例にかかる蒸着装置１００の基本構成を示す断面図である。

　ガス噴出口４１の深さ（ノズル長さ）に制約はない。しかしながら、ガス噴出口４１のノズル長さは、長ければ長いほど、ガスの指向性が高まり、余分なガスの拡がりを抑えることができる。但し、ガス噴出口４１は、制限板ユニット２０を貫通してはならない。したがって、ガス噴出口４１のノズル長さは、図４に示すように、制限板ユニット２０を貫通しない範囲内で、長いほど好ましい。

　このため、図１では、制限板２２にガス拡散室４２が設けられている場合を例に挙げて図示したが、ガス拡散室４２は、保持体部２４にのみ設けられていても構わない。

　つまり、蒸着装置１００は、例えば、保持体部２４に、ガス導入口４３に連結されたガス拡散室４２を備え、制限板２２に、図１よりもＺ軸方向の長さが長いガス噴出口４１が設けられた構成を有していても構わない。

　もしくは、蒸着装置１００は、保持体部２４に、ガス拡散室４２に代えて、通気管（通気路）として分岐管が設けられ、該分岐管によって、ガス導入口４３とガス噴出口４１とが連結されていても構わない。

　あるいは、蒸着装置１００は、制限板ユニット２０に、各制限板２２に対応して複数のガス導入口４３が設けられており、ガス供給管５１が分岐管であり、ガス供給管５１から、各ガス導入口４３を通じて各制限板２２にガスが供給される構成であっても構わない。

　（蒸着膜３００）
　また、本実施形態では、蒸着膜３００が、有機ＥＬ表示装置における、Ｒ、Ｇ、Ｂの各色の発光層である場合を例に挙げて説明したが、有機ＥＬ素子は、一対の電極間に、発光層以外の有機層を含んでいてもよい。

　したがって、本実施形態では、上記一対の電極のうち一方の電極を形成後、上記蒸着装置１００を用いて、蒸着膜３００として、発光層以外の有機層を形成してもよく、上記一方の電極および上記発光層以外の有機層が形成された被成膜基板２００の各被成膜領域２０２に、蒸着膜３００として発光層を形成してもよい。

　（蒸着方法）
　また、本実施形態では、蒸着マスク１０に、平面視で、被成膜基板２００よりも少なくともＹ軸方向のサイズが小さな蒸着マスクを使用し、蒸着ユニット１と被成膜基板２００とを相対移動させてスキャン蒸着を行う場合を例に挙げて説明した。

　しかしながら、本実施形態はこれに限定されるものではなく、蒸着マスク１０に、被成膜基板２００と同じ大きさを有する蒸着マスクを使用し、蒸着マスク１０と被成膜基板２００とが接触した状態で蒸着を行っても構わない。

　なお、この場合、マスク開口領域１１に混入するガスの量を極力低減するため、後述する実施形態に示すように、蒸着マスク１０および被成膜基板２００に、ガスの抜け道としてそれぞれ開口部が形成されていることが好ましい。

　（ガス噴出口４１の走査方向開口長）
　また、本実施形態では、ガス噴出口４１の走査方向開口長が制限板開口２１の走査方向開口長以上の長さを有している場合を例に挙げて説明した。しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではない。

　前述したように、蒸着マスク１０に吹き付けられたガスは、Ｙ軸方向に拡がって流れる。このため、ガス噴出口４１の走査方向開口長が、制限板開口２１の走査方向開口長以上の長さを有している場合に蒸着マスク１０にガスが吹き付けられる範囲と同じ範囲にガスを吹き付けることができれば、ガス噴出口４１は断続的に形成されていても構わない。言い換えれば、蒸着マスク１０における制限板ユニット２０との対向面に、Ｙ軸方向における非開口部１３ａに沿って途切れなくガス壁５０１が形成されるようにガスを吹き付けることができれば、ガス噴出口４１の走査方向開口長は、特に限定されない。

　〔実施形態２〕
　本実施形態について主に図５に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１との相違点について説明するものとし、実施形態１で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。

　図５は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の基本構成を示す断面図である。

　本実施形態にかかる蒸着装置１００は、各制限板２２と、蒸着マスク１０における各マスク開口領域１１間の非開口部１３ａとの間に、ガス壁５０１が複数（つまり、少なくとも２つ）形成されていることを除けば、実施形態１にかかる蒸着装置１００と同じである。なお、図５では、各制限板２２と各非開口部１３ａとの間にガス壁５０１を２つずつ形成している。

　すなわち、蒸着マスク１０の両端のマスク開口領域１１については、それぞれ、Ｘ軸方向に、該マスク開口領域１１に隣り合うマスク開口領域１１は一つずつしか存在しない。このため、蒸着マスク１０のＸ軸方向両端のマスク開口領域１１については、該マスク開口領域１１の片側に隣り合うマスク開口領域１１に対向する制限板開口２１から該マスク開口領域１１に向かう蒸着粒子３０１のみをブロックすればよい。

　しかしながら、蒸着マスク１０のＸ軸方向両端のマスク開口領域１１以外のマスク開口１２に対しては、該マスク開口領域１１の両側のマスク開口領域１１に対向する制限板開口２１から該マスク開口領域１１に向かう蒸着粒子３０１をそれぞれブロックする必要がある。

　このため、ガス噴出口４１を、各非開口部１３ａに対し、Ｘ軸方向に複数設けることで、そのような蒸着粒子３０１をブロックする確率が高くなる。

　そこで、本実施形態では、一つの制限板２２に付きＸ軸方向に複数（図２に示す例では２つ）のガス噴出口４１を形成している。

　なお、図５では、全制限板２２に対しガス噴出口４１をＸ軸方向に２つずつ設けているが、上述したように、蒸着マスク１０のＸ軸方向両端のマスク開口領域１１については、該マスク開口領域１１の片側に隣り合うマスク開口領域１１に対向する制限板開口２１から該マスク開口領域１１に向かう蒸着粒子３０１のみをブロックすればよい。

　このため、蒸着マスク１０のＸ軸方向両端のマスク開口領域１１の外側の非開口部１３に対しては、Ｘ軸方向に、ガス壁５０１が一つだけ形成されるようにガス噴出口４１が設けられていてもよい。したがって、制限板ユニット２０のＸ軸方向両端の制限板開口２１の外側には、Ｘ軸方向に、ガス噴出口４１が一つだけ設けられていても構わない。

　このように、一つの制限板２２に付きＸ軸方向にガス噴出口４１を複数設ける場合であっても、ガス噴出口４１は、制限板２２の中央部分（中央付近）に形成されていることが好ましい。但し、各ガス噴出口４１が近接すると、各ガス噴出口４１近傍でガスの拡がりが発生するため、各ガス噴出口４１は、好適には、互いに数ｍｍ離間して設けられていることが好ましい。

　〔実施形態３〕
　本実施形態について主に図６に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１、２との相違点について説明するものとし、実施形態１、２で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。なお、以下では、実施形態１において図１に示す蒸着装置１００との相異点を例に挙げて説明するが、実施形態１の変形例および実施形態２と同様の変形が可能であることは、言うまでもない。

　図６の（ａ）は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の基本構成を示す斜視図であり、図６の（ｂ）は、図６の（ａ）に示す蒸着装置１００の要部の概略構成を示す平面図である。なお、図６の（ｂ）は、蒸着装置１００における制限板ユニット２０および蒸着源３０を、制限板ユニット２０の上方から見た状態を示している。

　図２では、各ガス噴出口４１の開口幅（すなわち、ガス噴出口４１における、走査方向と直交するＸ軸方向の開口長さ）が、Ｙ軸方向において常に一定である場合を例に挙げて図示した。しかしながら、各ガス噴出口４１の開口幅は、Ｙ軸方向の位置によって異なっていてもよい。

　制限板開口２１を通過する蒸着粒子３０１の密度は、平面視で制限板開口２１の直上にあたる、制限板開口２１のＹ軸方向中央部分が最も高い。このため、蒸着源開口３１の擬似的な拡がりに起因する、異常成膜の原因となる蒸着粒子３０１の数も、平面視で制限板開口２１のＹ軸方向中央部分が最も多い。

　このため、各ガス噴出口４１の開口幅がＹ軸方向の位置に拘らず一定である場合、Ｙ軸方向でガスガス流量が一定であり、異常成膜の原因となる蒸着粒子３０１の数が相対的に少ないＹ軸方向端部では、ガス流量が無駄に多くなる。

　したがって、無駄なガスの消費を無くし、異常成膜の原因となる蒸着粒子３０１を、効率良くブロックするためには、各制限板２２に設けられたガス噴出口４１における、平面視で、Ｘ軸方向において蒸着源開口３１に隣り合う部分の開口幅を、これらガス噴出口４１における、Ｙ軸方向端部の開口幅（言い換えれば、平面視で、Ｘ軸方向において蒸着源開口３１に隣り合わない部分の開口幅）よりも広くすることが好ましい。

　このためには、例えば、ガス噴出口４１の開口幅は、Ｙ軸方向において、蒸着源開口３１に近い部分ほど広く、蒸着源開口３１から遠ざかるにしたがって小さくなるように設定されていることが望ましい。

　そこで、本実施形態では、各ガス噴出口４１を、制限板２２における、蒸着源開口３１の直上にあたる、制限板開口２１のＹ軸方向中央部分に隣り合う部分の開口幅（言い換えれば、各ガス噴出口４１における、平面視で、Ｘ軸方向において蒸着源開口３１に隣り合う部分の開口幅）を最も広く設定し、Ｙ軸方向端部に向かうにしたがって（つまり、平面視で蒸着源開口３１から遠ざかるにしたがって）先細りする形状とした。なお、上記構成を除けば、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、例えば実施形態１にかかる蒸着装置１００と同じである。

　ガス噴出口４１は、上述した形状を有していれば、楕円形状であってもよく、菱形形状であってもよい。

　ガス噴出口４１を上述した形状とすることで、無駄なガスの消費が無く、異常成膜の原因となる蒸着粒子３０１を、効率良くブロックすることができる。このため、ガス流量を、Ｙ軸方向の位置によって最適化することができる。

　なお、図６の（ａ）・（ｂ）では、各制限板２２にガス噴出口４１を一つずつ設けた場合を例に挙げて図示したが、一つの制限板２２に対し、ガス噴出口４１が複数設けられていてもよいことは、言うまでもない。

　〔実施形態４〕
　本実施形態について主に図７の（ａ）・（ｂ）に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１～３との相違点について説明するものとし、実施形態１～３で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。なお、以下では、実施形態３に示す蒸着装置１００との相異点を例に挙げて説明するが、実施形態１、２と同様の変形が可能であることは、言うまでもない。

　図７の（ａ）は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の基本構成を示す斜視図であり、図７の（ｂ）は、図７の（ａ）に示す蒸着装置１００の要部の概略構成を示す平面図である。なお、図７の（ｂ）は、蒸着装置１００における制限板ユニット２０および蒸着源３０を、制限板ユニット２０の上方から見た状態を示している。

　実施形態３で説明したように、無駄なガスの消費を無くし、異常成膜の原因となる蒸着粒子３０１を、効率良くブロックするためには、各制限板２２に設けられたガス噴出口４１における、平面視で、Ｘ軸方向において蒸着源開口３１に隣り合う部分の開口幅（すなわち、ガス噴出口４１における、走査方向と直交するＸ軸方向の開口長さ）を、これらガス噴出口４１における、Ｙ軸方向端部の開口幅（言い換えれば、平面視で、Ｘ軸方向において蒸着源開口３１に隣り合わない部分の開口幅）よりも広くすることが好ましい。

　そこで、本実施形態では、実施形態３のようにガス噴出口４１の開口幅がＹ軸方向の位置によって異なるようにガス噴出口４１を形成する代わりに、図７の（ａ）・（ｂ）に示すように、各制限板２２に、ガス噴出口４１として、走査方向開口長（すなわち、ガス噴出口４１におけるＹ軸方向の開口長さ）の長さがガス噴出口４１ｂ・４１ｃとは異なるガス噴出口４１ａを含む、複数のガス噴出口４１ａ～４１ｃを設けた。

　なお、図７の（ａ）・（ｂ）では、走査方向開口長の長さが最も長いガス噴出口４１ａを挟むように、該ガス噴出口４１ａよりも走査方向開口長の長さが短いガス噴出口４１ｂ・４１ｃを配置した。このように、本実施形態では、隣り合う制限板開口２１間に、少なくとも３つのガス噴出口４１（例えばガス噴出口４１ａ～４１ｃ）を設けるとともに、平面視で制限板開口２１に相対的に近いガス噴出口４１（例えば平面視で制限板開口２１に隣り合うガス噴出口４１ｂ・４１ｃ）の走査方向開口長が、他のガス噴出口４１（例えばガス噴出口４１）の走査方向開口長よりも短くなるように各ガス噴出口４１を形成した。

　このため、本実施形態では、平面視で、相対的に蒸着源開口３１に近い領域ではガス噴出口４１の配設密度が相対的に高く、相対的に蒸着源開口３１から遠い領域ではガス噴出口４１の配設密度が相対的に低くなっている。上記構成を除けば、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、実施形態３にかかる蒸着装置１００と同じである。

　本実施形態では、このように、一つの制限板２２に、ガス噴出口４１として、走査方向開口長が異なる複数のガス噴出口４１ａ～４１ｃを設けることで、平面視で、各制限板２２における、制限板開口２１のＹ軸方向中央部分に隣り合う部分（すなわち、平面視でＸ軸方向において蒸着源開口３１に隣り合う部分）には、ガス噴出口４１として、ガス噴出口４１ａ～４１ｃが設けられている一方、各制限板２２における、制限板開口２１のＹ軸方向端部に隣り合う部分には、ガス噴出口４１として、ガス噴出口４１ａのみが設けられている構成とした。

　このため、本実施形態では、各制限板２２における、制限板開口２１のＹ軸方向中央部分に隣り合う部分では、各制限板２２における、制限板開口２１のＹ軸方向端部に隣り合う部分よりも、ガス噴出口４１ｂ・４１ｃの開口幅の分だけ、各制限板２２に設けられたガス噴出口４１の総開口幅が広くなっている。

　このように、本実施形態では、平面視で、上記蒸着装置１００における、制限板開口２１のＹ軸方向中央部分に隣り合う部分のガス噴出口４１の総開口幅を、上記制限板開口２１のＹ軸方向端部に隣り合う部分のガス噴出口４１の総開口幅よりも広くした。より具体的には、本実施形態では、各制限板２２における、制限板開口２１のＹ軸方向中央部分に隣り合う部分のガス噴出口４１の総開口幅（すなわち、各制限板２２に設けられたガス噴出口４１ａ～４１ｃの各開口幅の合計）を、各制限板２２におけるＹ軸方向端部に設けられたガス噴出口４１の総開口幅（すなわち、各制限板２２における、制限板開口２１のＹ軸方向端部に隣り合う部分に設けられたガス噴出口４１である、ガス噴出口４１ａの開口幅）よりも広くした。

　したがって、本実施形態でも、実施形態３同様、ガス流量を、Ｙ軸方向の位置によって最適化することができる。

　なお、図７の（ａ）・（ｂ）では、上述したように、走査方向開口長の長さが最も長いガス噴出口４１ａを挟むように、該ガス噴出口４１ａよりも走査方向開口長の長さが短いガス噴出口４１ｂ・４１ｃを配置した。しかしながら、各ガス噴出口４１の配置は、制限板２２における、制限板開口２１のＹ軸方向中央部分（つまり、蒸着源開口３１の直上部分）に隣り合う部分のガス噴出口４１の総開口幅が、制限板２２におけるＹ軸方向端部のガス噴出口４１の総開口幅よりも広くなるように配置されていれば、上記配置に限定されない。

　〔実施形態５〕
　本実施形態について主に図８に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１～４との相違点について説明するものとし、実施形態１～４で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。なお、以下では、実施形態１において図１に示す蒸着装置１００との相異点を例に挙げて説明するが、実施形態１の変形例および実施形態２～４と同様の変形が可能であることは、言うまでもない。

　図８は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の基本構成を示す断面図である。

　図８に示すように、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、制限板ユニット２０（第１の制限板ユニット）と蒸着マスク１０との間に、ガス噴出口４１用の制限板ユニット７０（第２の制限板ユニット）が設けられている点を除けば、例えば実施形態１にかかる蒸着装置１００と同じである。

　制限板ユニット７０は、平面視で、制限板２２に対向し、かつ、互いに離間して設けられた複数の制限板７２（第２の制限板、制限部）を備えている。

　制限板７２は、平面視で、ガス噴出口４１を挟むように、一つのガス噴出口４１につきＸ軸方向に複数設けられている。

　図８に示す例では、制限板７２は、制限板２２（第１の制限板）上に、制限板２２に沿って、一つの制限板２２につきＸ軸方向に２個１組で設けられている。

　このため、制限板７２は、平面視で、それぞれＹ軸に平行に延設されており、２個１組で設けられた各組の制限板７２（つまり、対の制限板７２・７２）が、それぞれ同一ピッチでＸ軸方向に互いに平行に複数配列されている。

　これにより、Ｘ軸方向に隣り合う各組の制限板７２間には、それぞれ、隣り合う制限板２２間の制限板開口２１を通過した蒸着粒子３０１を通過させる、蒸着流用の制限板開口７１が形成されている。

　また、平面視で同一の制限板２２上に設けられた、対をなす制限板７２間には、ガス噴出口４１から噴出されたガスを通過させる、ガス（ガス壁５０１）用の制限板開口７３が形成されている。

　このため、制限板ユニット７０には、２種類の、開口幅が異なる制限板開口７１と制限板開口７３とが、交互に設けられている。制限板開口７１・７３は、それぞれ、制限板ユニット７０をＺ軸方向に貫通する貫通口である。

　制限板開口７１と制限板開口２１とは、一対一の関係を有している。したがって、制限板開口７１とマスク開口領域１１および蒸着源開口３１とは、それぞれ一対一の関係を有している。また、制限板開口７３とガス噴出口４１とは、一対一の関係を有している。

　ガス噴出口４１から噴出されるガスは、流量が少ないものの、ガス噴出口４１で多少の拡がりを持って放出されてマスク開口領域１１から被成膜領域２０２に流入する懸念がある。実施形態１で説明したようにガス噴出口４１の深さ（ノズル長さ）を深くすることで指向性を高めることはできるが、ガス噴出口４１の深さだけで指向性を高めるには限界がある。そこで、ガス噴出口４１の上側に、ガス流を制御する制限板開口７３を有する上記制限板ユニット７０を設けることで、ガス流がマスク開口領域１１に流入しないようにすることができる。

　すなわち、制限板開口７３は、ガス噴出口４１から噴出されたガスの流れ（ガス流）を制御し、指向性を高める役割を有している。また、制限板開口７１は、制限板開口２１を通過した蒸着粒子３０１の流れ（蒸着流）を制御し、さらに指向性を高める役割を有している。

　なお、ガス噴出口４１に対する制限板７２の相対位置や、制限板開口７１・７３の開口サイズ（走査方向開口長および開口幅）等は、制限板７２の幅や、制限板７２の高さや、被成膜基板２００と蒸着源３０との間の距離や、マスク開口領域１１等の設計値によって最適化できる。

　なお、平面視での制限板７２の走査方向の長さは、ガス噴出口４１の走査方向開口長と同一以上の長さ（つまり、Ｙ軸方向におけるガス壁５０１と同一以上の長さ）にする必要がある。平面視での制限板７２の走査方向の長さがガス噴出口４１の走査方向開口長よりも短いと、走査方向端部のガス流を制御できない懸念がある。

　このため、本実施形態では、制限板ユニット７０の外形は、例えば、平面視で、制限板ユニット２０と同程度の大きさ（例えば同じ大きさ）に形成されているが、これに限定されるものではない。

　また、平面視での制限板７２における走査方向と直交する方向の端部の位置が、制限板２２における走査方向と直交する方向の端部の位置を超えると、制限板７２が、正常な蒸着膜３００を成膜する本来の蒸着流に干渉し、正常な蒸着ができなくなるおそれがある。このため、制限板７２は、平面視での制限板７２における走査方向と直交する方向の端部の位置が、制限板２２における走査方向と直交する方向の端部の位置を超えないように配置されることが望ましい。

　本実施形態によれば、上述したように制限板ユニット７０を設けることで、ガス流が被成膜領域２０２に流入することをより確実に防止することができる。

　〔実施形態６〕
　本実施形態について主に図９に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１～５との相違点について説明するものとし、実施形態１～５で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。なお、以下では、実施形態１において図１に示す蒸着装置１００との相異点を例に挙げて説明するが、実施形態１の変形例および実施形態２～５と同様の変形が可能であることは、言うまでもない。

　図９は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の基本構成を示す断面図である。

　図９に示すように、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、蒸着マスク１０におけるマスク開口領域１１を挟む非開口部１３に対応（対向）して、ガスの拡散を制限することでガスのマスク開口領域１１への流入（侵入）を防止する制限板８２（遮蔽板、第３の制限板）が設けられている点を除けば、例えば実施形態１にかかる蒸着装置１００と同じである。

　前述したように、ガス噴出口４１から噴出されるガスは、流量が少ないものの、ガス噴出口４１で多少の拡がりを持って放出されてマスク開口領域１１から被成膜領域２０２に流入する懸念がある。

　また、ガス流量は少なく、各制限板開口２１と各マスク開口領域１１との間には、本来蒸着される蒸着膜３００を形成する、蒸着粒子３０１の密度が高い蒸着流が形成されているため、蒸着マスク１０に吹き付けられたガスは、マスク開口領域１１側には拡がり難いものの、例えばガス流量等によっては、蒸着マスク１０の表面に接触する（つまり、衝突する）ことで、マスク開口領域１１側にも拡がる懸念がある。

　蒸着マスク１０に入射する蒸着流とガス流との干渉が生じるのはマスク開口領域１１の端部である。

　そこで、本実施形態では、蒸着マスク１０におけるマスク開口領域１１を挟むように、ガスの拡散（移動）を制限する制限板８２を設置する。これにより、ガス流がマスク開口領域１１から被成膜領域２０２に侵入することを防止することができる。

　なお、制限板８２は、蒸着マスク１０に直接設けられていてもよく、蒸着マスク１０とは別に設けられていてもよい。例えば、蒸着マスク１０を加工することにより、蒸着マスク１０における、被成膜基板２００とは反対側の面（すなわち、制限板ユニット２０との対向面）に制限板８２が設けられていてもよい。また、蒸着マスク１０を溶接する等して蒸着マスク１０の端部を固定するマスクフレームを加工して、制限板ユニットとしてもよい。すなわち、マスクフレームに制限板８２を設けることで、マスクフレームそのものを制限板ユニットとしてもよい。あるいは、マスクフレームに、追加で制限板ユニットを設けてもよい。

　但し、蒸着マスク１０に制限板８２を直接設けると、蒸着マスク１０の自重撓みを助長する。このため、蒸着マスク１０の大きさによっては正常な蒸着が行えない場合がある。また、マスクフレームとは別に制限板ユニットを設けると、部品点数が多くなるため、蒸着装置１００の製造効率およびアライメント効率が低下する。このため、好適には、マスクフレームを加工して制限板ユニットとした方がよい。

　なお、図９は、蒸着マスク１０と制限板ユニット２０との間に、蒸着マスク１０に隣接して、ガスおよび蒸着粒子３０１の移動をそれぞれ制限する制限板ユニット８０（第３の制限板ユニット、遮蔽ユニット）が設けられた場合を例に挙げて示している。

　制限板ユニット８０は、ガスの拡散（移動、移動範囲）を制限し、マスク開口領域１１へのガスの流入（侵入）を防止する一方、蒸着粒子３０１の移動（移動範囲）を、本来入射するマスク開口領域１１内に制限することで、該マスク開口領域１１に隣接するマスク開口領域１１（隣接マスク領域）への蒸着粒子３０１の流入（侵入）を防止する。

　制限板ユニット８０の厚み、すなわち、制限板８２の厚みに制限はないが、マスクフレームと同一の厚さとすることでマスクフレーム作製の手間がかからない。

　本実施形態では、マスクフレームに制限板８２を設けることで、制限板ユニット８０がマスクフレームを兼ねている場合を例に挙げて説明するが、上述したように、本実施形態は、これに限定されない。

　各制限板８２は、ガス壁５０１を挟むように、Ｘ軸方向に、例えば２個１組で設けられている。つまり、上記各制限板８２は、平面視でガス壁５０１を挟むように、一つの非開口部１３対し、Ｘ軸方向にそれぞれ複数設けられている。これにより、制限板ユニット８０には、平面視で、Ｘ軸方向に２個１組で設けられた各組の制限板８２（つまり、対の制限板８２・８２）が、マスク開口領域１１を挟むように、それぞれ同一ピッチでＸ軸方向に互いに平行に複数配列されている。

　なお、平面視での制限板８２の走査方向の長さは、ガス噴出口４１の走査方向開口長と同一以上の長さ（つまり、Ｙ軸方向におけるガス壁５０１と同一以上の長さ）にする必要がある。平面視での制限板８２の走査方向の長さがガス噴出口４１の走査方向開口長よりも短いと、走査方向端部のガス流を制御できない懸念がある。

　本実施形態によれば、対をなす、隣り合う制限板８２間の隙間８３（ガス用の制限板開口）に吹き付けられたガス流は、該ガス流を挟む対の制限板８２によって、マスク開口領域１１への流入がブロックされる。一方、隣り合う組の制限板８２間の開口８１（蒸着流用の制限板開口）に流入した蒸着流は、ガス壁５０１およびマスク開口領域１１を挟む制限板８２によって、本来入射するマスク開口領域１１に導かれるとともに、隣接マスク領域への流入がブロックされる。

　つまり、対をなす制限板８２間の内壁でＸ軸方向へのガスの流れが規制され、対をなす制限板８２の外壁で蒸着粒子３０１の流れが規制される。なお、蒸着粒子３０１は、制限板開口２１を通過することで、指向性が向上し、制限板ユニット８０における開口８１に入射した蒸着粒子３０１は、散乱することなく、マスク開口領域１１における各マスク開口１２内に入射する。

　本実施形態によれば、上記制限板ユニット８０を設けることで、ガス流が被成膜領域２０２に侵入することを確実に防ぐことができる。

　また、図９に示すように各マスク開口領域１１間の非開口部１３ａに制限板８２を互いに離間させて複数並べて設けることで、マスク開口領域１１に向うガス流を効率的にブロックすることができるとともに、各制限板８２の大きさを小さくすることができるため、制限板ユニット８０全体の重量を軽量化できるといった利点もある。

　なお、図９に示す例では、Ｘ軸方向において各マスク開口領域１１を間に挟む非開口部１３に対向して、ガス壁５０１を挟むように、Ｘ軸方向に２個１組で制限板８２を設けた場合を例に挙げて示しているが、蒸着マスク１０のＸ軸方向両端のマスク開口領域１１については、該マスク開口領域１１の外側にガス壁５０１を形成することは必須ではなく、また、ガス壁５０１を設けたとしても、該ガス壁５０１の片側に隣り合うマスク開口領域１１へのガスの流入をブロックすればよい。

　このため、蒸着マスク１０のＸ軸方向両端のマスク開口領域１１の外側の非開口部１３に対しては、該非開口部１３に対向して、制限板８２が一つだけ形成されていても構わない。

　〔実施形態７〕
　本実施形態について主に図１０に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１～６との相違点について説明するものとし、実施形態１～６で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。なお、以下では、実施形態１において図１に示す蒸着装置１００との相異点を例に挙げて説明するが、実施形態１の変形例および実施形態２～６と同様の変形が可能であることは、言うまでもない。

　図１０は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の基本構成を示す断面図である。

　図１０に示すように、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、蒸着マスク１０に、ガス噴出口４１に対向して、ガス噴出口４１から噴出されたガスを通過させるガス用のマスク開口１４（第２のマスク開口、貫通口）が設けられているとともに、被成膜基板２００として、被成膜領域２０２を挟む非成膜領域２０４に、ガス噴出口４１およびマスク開口１４に対向する貫通口２０５（被成膜基板開口）が設けられた被成膜基板２００を使用する点を除けば、例えば実施形態１にかかる蒸着装置１００と同じである。

　前述したように、ガス流量は少なく、各制限板開口２１と各マスク開口領域１１との間には、本来蒸着される蒸着膜３００を形成する、蒸着粒子３０１の密度が高い蒸着流が形成されているため、蒸着マスク１０に吹き付けられたガスは、マスク開口領域１１側には拡がり難い。しかしながら、例えばガス流量等によっては、蒸着マスク１０に吹き付けられたガスが蒸着マスク１０の表面に接触する（つまり、衝突する）ことで、マスク開口領域１１側にも拡がる懸念がある。

　そこで、本実施形態では、マスク開口領域１１に混入するガスの量を極力低減するため、蒸着マスク１０におけるマスク開口領域１１を挟む非開口部１３に、上記ガスの抜け道として上記ガスを通過させるガス用のマスク開口１４を設けるとともに、被成膜基板２００における被成膜領域２０２を挟む非成膜領域２０４に、上記ガスの抜け道として上記ガスを通過させるガス用の貫通口２０５を設けた。

　これにより、ガス噴出口４１から蒸着マスク１０の表面に吹き付けられたガスは、マスク開口１４および貫通口２０５を介して被成膜基板２００における被成膜面２０１とは反対側に抜ける。すなわち、本実施形態において、ガス壁５０１は、蒸着マスク１０および被成膜基板２００を貫通して形成される。このため、蒸着マスク１０の表面に衝突したガスがマスク開口領域１１側にも拡がってマスク開口領域１１に流入することをより確実に防止することができる。

　また、本実施形態によれば、マスク開口１４および貫通口２０５を形成することで、上述したように、蒸着マスク１０および被成膜基板２００を貫くようにガス壁５０１を形成することができる。このため、マスク開口１２を通過した蒸着粒子３０１が、ガス壁５０１を越えて、本来入射する被成膜領域２０２に隣接する被成膜領域２０２（隣接被成膜領域）に入射することを、より確実に防止することができる。

　しかも、上記したようにマスク開口１４および貫通口２０５を形成することで、マスク開口１４および貫通口２０５を形成しない場合と比較して、ガス流量を多くすることができる。このため、異常成膜の原因となる蒸着粒子３０１のブロック性により一層優れたガス壁５０１を形成することができる。

　なお、マスク開口１４および貫通口２０５の走査方向開口長および開口幅は、それぞれ、蒸着マスク１０と制限板ユニット２０との間に形成されるガス壁５０１のＹ軸方向の長さおよびＸ軸方向の幅と同じであることが望ましい。このため、マスク開口１４および貫通口２０５の走査方向開口長および開口幅は、例えば、平面視で、ガス噴出口４１と同じ、もしくは、ガス噴出口４１の大きさにガスの拡がりを考慮した大きさに形成されることが好ましく、また、ガス噴出口４１に対し、例えば相似形状を有していることが好ましい。

　なお、実施形態６にかかる蒸着装置１００にマスク開口１４を設ける場合、マスク開口１４は、蒸着マスク１０における、隣り合う制限板８２間の隙間８３に対応する領域に設けられる。

　〔実施形態８〕
　本実施形態について主に図１１に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１～７との相違点について説明するものとし、実施形態１～７で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。なお、以下では、実施形態１において図１に示す蒸着装置１００との相異点を例に挙げて説明するが、実施形態１の変形例および実施形態２～７と同様の変形が可能であることは、言うまでもない。

　図１１は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の基本構成を示す断面図である。

　実施形態１～７では、制限板ユニット２０にガス噴出部４０が設けられている場合を例に挙げて説明した。しかしながら、ガス壁５０１は、制限板開口２１を通過した、異常成膜の原因となる蒸着粒子３０１の隣接マスク開口領域への入射を防止することができるように蒸着マスク１０と制限板ユニット２０との間に形成されればよい。

　したがって、ガス噴出部４０は、蒸着マスク１０と制限板ユニット２０との間に、制限板ユニット２０とは別に設けられていてもよい。

　本実施形態にかかる蒸着装置１００は、制限板ユニット２０にガス噴出部４０を設ける代わりに、制限板兼ガス供給ユニットとして、蒸着マスク１０と制限板ユニット２０との間に、制限板ユニット２０に隣接して、ガス噴出部４０を有する制限板ユニット９０（第２の制限板ユニット、ガス噴出ユニット）を備えている。なお、上記構成を除けば、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、例えば実施形態１にかかる蒸着装置１００と同じである。

　制限板ユニット９０は、例えば中空のブロック状のユニットであり、Ｘ軸方向に沿って複数の制限板開口９１およびガス噴出口４１が、それぞれ一定ピッチで設けられた構成を有している。

　制限板ユニット９０は、平面視で、制限板２２に対向し、かつ、互いに離間して設けられた複数の制限板９２（第２の制限板、ガス噴出部）を備えている。

　制限板９２は、一つの制限板２２に対し、少なくとも一つ設けられている。なお、図１１では、Ｘ軸方向における制限板２２の中央部に制限板９２が一つ設けられている場合を例に挙げて示している。一つの制限板２２に対し、ガス噴出口４１を複数設ける場合、制限板９２に複数のガス噴出口４１が設けられていてもよく、一つの制限板２２に対し、Ｘ軸方向におけるガス噴出口４１の数だけ、Ｘ軸方向に制限板９２が設けられていてもよい。

　各制限板９２における蒸着マスク１０との対向面には、それぞれガス噴出口４１が設けられている。

　また、制限板ユニット９０には、ガス供給管５１を介してガス供給源５２に接続されたガス導入口４３が少なくとも一つ設けられている。また、制限板ユニット９０は例えば中空形状を有し、内部に、ガス導入口４３に連結されたガス拡散室４２を備えている。

　このため、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、制限板ユニット２０とガス供給機構５０とが、互いに独立して設けられた構成を有している。

　制限板開口９１は、制限板ユニット９０をＺ軸方向に貫通する貫通口である。制限板開口９１と制限板開口２１とは、一対一の関係を有している。したがって、制限板開口９１とマスク開口領域１１および蒸着源開口３１とは、それぞれ一対一の関係を有している。

　制限板開口９１は、制限板開口２１を通過した蒸着粒子３０１の流れ（蒸着流）を制御し、さらに指向性を高める役割を有している。

　制限板ユニット９０におけるガス噴出口４１は、制限板ユニット２０におけるガス噴出口４１と同様であり、制限板ユニット２０におけるガス噴出口４１と同様に設計することができる。

　前述したように、ガス噴出口４１の走査方向開口長は、制限板開口２１の走査方向開口長と同一もしくはそれよりも長いことが好ましい。ガス噴出口４１の走査方向開口長が、制限板開口２１の走査方向開口長よりも短いと、制限板開口２１に隣接してガス壁５０１が設けられていない箇所が存在し、該箇所における、隣接マスク領域に向かう蒸着粒子３０１をブロックすることができない。

　したがって、平面視での制限板９２の走査方向の長さは、制限板開口２１の走査方向開口長と同一以上の長さにする必要がある。

　このため、本実施形態では、制限板ユニット９０の外形は、例えば、平面視で、制限板ユニット２０と同程度の大きさ（例えば同じ大きさ）に形成されているが、これに限定されるものではない。

　また、平面視での制限板９２における走査方向と直交する方向の端部の位置が、制限板２２における走査方向と直交する方向の端部の位置を超えると、制限板９２が、正常な蒸着膜３００を成膜する本来の蒸着流に干渉し、正常な蒸着ができなくなるおそれがある。このため、制限板９２は、平面視での制限板９２における走査方向と直交する方向の端部の位置が、制限板９２における走査方向と直交する方向の端部の位置を超えないように配置されることが望ましい。

　本実施形態でも、制限板２２間に形成される制限板開口２１で蒸着流の制御を行い、微量の不要成分だけを、ガス壁５０１でブロックするので、実施形態１と同様の効果を得ることができる。

　制限板ユニット２０とは別に制限板ユニット２０遮蔽ユニットを設けると、部品点数が多くなるため、蒸着装置１００の製造効率およびアライメント効率が低下する。

　しかしながら、本実施形態では、ガス供給機構５０が、制限板ユニット２０から独立して形成されているので、制限板ユニット２０が設けられた蒸着装置１００にガス供給機構５０を追加するだけでよく、設備投資を削減することができる。

　〔実施形態９〕
　本実施形態について主に図１２の（ａ）・（ｂ）に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１～８との相違点について説明するものとし、実施形態１～８で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。なお、以下では、実施形態１において図１に示す蒸着装置１００との相異点を例に挙げて説明するが、実施形態１の変形例および実施形態２～６、８と同様の変形が可能であることは、言うまでもない。

　図１２の（ａ）は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の基本構成を示す断面図であり、図１２の（ｂ）は、図１２の（ａ）に示す、排気機構１１０が設けられた蒸着マスク１０の概略構成を示す底面図である。

　図１２の（ａ）・（ｂ）に示すように、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、蒸着マスク１０に排気機構１１０が設けられていることを除けば、例えば実施形態１にかかる蒸着装置１００と同じである。

　排気機構１１０は、蒸着マスク１０に設けられたガス吸引部１５と、排気装置１１２と、ガス吸引部１５と排気装置１１２とを連結する排気管１１１と、を備えている。

　また、ガス吸引部１５は、吸気口１６と、排気路１７と、排気口１８と、を備えている。

　吸気口１６は、蒸着マスク１０における、ガス噴出口４１との対向面側に設けられ、蒸着マスク１０に吹き付けられたガスを吸引するガス吸引口（開口部）である。吸気口１６は、ガス噴出口４１に対向する、蒸着マスク１０におけるマスク開口領域１１を挟む非開口部１３に設けられている。つまり、本実施形態にかかる蒸着マスク１０には、該蒸着マスク１０における、ガス壁５０１が形成される領域に、該ガス壁５０１を形成するガスを吸引する吸気口１６が設けられている。

　また、本実施形態にかかる蒸着マスク１０には、排気管１１１に接続された排気口１８が設けられている。吸気口１６と排気口１８とは、図１２の（ｂ）に示すように、蒸着マスク１０の内部に設けられた排気路１７によって連結されている。

　蒸着マスク１０は、貫通口であるマスク開口１２以外の部分、例えばマスク開口領域１１以外の部分に、内部に排気路１７となる空間部が設けられた、中空構造を有していてもよく、内部に排気路１７（通気路）として排気管（通気管）が埋設された構造を有していてもよい。

　排気管１１１は、排気装置１１２に接続されており、吸気口１６から吸引されたガスは、排気路１７を通り、排気口１８から排気管１１１を介して排気装置１１２に吸引されることで排気される。

　排気装置１１２は、成膜チャンバ１０１の外部に配置されている。排気装置１１２としては、例えば真空ポンプ等の吸気装置が用いられる。なお、上記排気装置１１２は、蒸着時に該成膜チャンバ１０１内を真空状態に保つ真空ポンプとは別に設けられていてもよく、上記真空ポンプが排気装置１１２を兼ねていてもよい。すなわち、例えば、排気管１１１は、分岐管により、成膜チャンバ１０１内を真空状態に保つ真空ポンプに連結されていてもよい。

　実施形態７で説明したように、ガス流量等によっては、蒸着マスク１０に吹き付けられたガスが蒸着マスク１０の表面に接触する（つまり、衝突する）ことで、マスク開口領域１１側にも拡がる懸念がある。しかしながら、本実施形態では、蒸着マスク１０に接続された排気装置１１２によって、蒸着マスク１０に吹き付けられたガスが、該蒸着マスク１０に形成された吸気口１６に吸引され、マスク開口領域１１側に拡がることがない。このため、本実施形態によれば、不要なガスの流れによる蒸着粒子３０１の着弾乱れを防ぐことができる。

　なお、本実施形態では、図１２の（ｂ）に示すように、マスク開口領域１１を挟む非開口部１３に、吸気口１６としてマスク開口１２よりもＹ軸方向の開口長が短い、平面視で円形の吸気口１６が複数設けられている場合を例に挙げて図示した。

　しかしながら、吸気口１６は、蒸着マスク１０におけるガス壁５０１の形成領域に、１つの吸気口１６もしくは複数の吸気口１６群の形成領域の大きさが、ガス壁５０１と同一以上の大きさとなるように形成されていれば、その形状、大きさ、数は、特に限定されるものではない。

　〔実施形態１０〕
　本実施形態について主に図１３に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１～９との相違点について説明するものとし、実施形態１～９で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。なお、以下では、実施形態８に示す蒸着装置１００との相異点を例に挙げて説明するが、実施形態１～６と同様の変形が可能であることは、言うまでもない。

　図１３は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の基本構成を示す断面図である。

　前述したように、ガス噴出部４０は、蒸着マスク１０と制限板ユニット２０との間に、制限板ユニット２０とは別に設けられていてもよい。

　本実施形態にかかる蒸着装置１００は、制限板ユニット９０に代えて、蒸着マスク１０と制限板ユニット２０との間に、蒸着マスク１０に隣接して、ガス噴出部４０を有する制限板ユニット１２０（第３の制限板ユニット、ガス噴出ユニット）を備えている。なお、上記構成を除けば、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、例えば実施形態８にかかる蒸着装置１００と同じである。

　制限板ユニット１２０は、例えば中空のブロック状のユニットであり、Ｘ軸方向に沿って複数の制限板開口１２１およびガス噴出口４１が、それぞれ一定ピッチで設けられた構成を有している。

　隣り合う制限板開口１２１は、蒸着粒子３０１の移動を制限する制限板１２２（第２の制限板、ガス噴出部）で隔てられている。

　制限板１２２は、蒸着粒子３０１の移動（移動範囲）を、本来入射するマスク開口領域１１内に制限することで、該マスク開口領域１１に隣接するマスク開口領域１１（隣接マスク領域）への蒸着粒子３０１の流入（侵入）を防止する。

　制限板１２２は、制限板２２に対向するように、平面視で、互いに離間し、かつ、Ｘ軸方向に互いに平行に、一定ピッチで配列されている。

　制限板開口１２１は、Ｘ軸方向に隣り合う制限板１２２間に設けられた貫通口である。

　ガス噴出口４１は、各制限板１２２における、制限板２２との対向面に設けられている。

　また、制限板ユニット１２０には、ガス供給管５１を介してガス供給源５２に接続されたガス導入口４３が少なくとも一つ設けられている。また、制限板ユニット１２０は例えば中空形状を有し、内部に、ガス導入口４３に連結されたガス拡散室４２を備えている。

　このため、本実施形態にかかる蒸着装置１００でも、制限板ユニット２０とガス供給機構５０とは、互いに独立して設けられた構成を有している。

　なお、制限板ユニット１２０におけるガス噴出口４１は、制限板ユニット２０におけるガス噴出口４１と同様であり、制限板ユニット２０におけるガス噴出口４１と同様に設計することができる。

　したがって、平面視での制限板１２２の走査方向の長さは、制限板開口２１の走査方向開口長と同一以上の長さにする必要がある。

　制限板ユニット１２０は、マスクフレームにガス噴出部４０を設けることで、マスクフレームそのものを制限板ユニット１２０としてもよい。あるいは、マスクフレームに、追加で制限板ユニット１２０を設けてもよい。

　マスクフレームとは別に制限板ユニット１２０を設けると、部品点数が多くなるため、蒸着装置１００の製造効率およびアライメント効率が低下する。このため、好適には、マスクフレームを加工して制限板ユニット１２０とした方がよい。

　制限板ユニット１２０の厚み、すなわち、制限板１２２の厚みに制限はないが、マスクフレームと同一の厚さとすることでマスクフレーム作製の手間がかからない。

　本実施形態では、マスクフレームに制限板１２２を設けることで、制限板ユニット１２０がマスクフレームを兼ねている場合を例に挙げて説明するが、上述したように、本実施形態は、これに限定されない。

　制限板ユニット１２０は、平面視で、Ｘ軸方向において各マスク開口領域１１を間に挟む非開口部１３に対向して、マスク開口領域１１を挟むように、それぞれ制限板１２２（第３の制限板、ガス噴出部）が互いに離間して設けられた構成を有している。

　制限板１２２は、マスク開口領域１１を挟むそれぞれの非開口部１３に対し、少なくとも一つ設けられている。つまり、制限板１２２は、隣り合うマスク開口領域１１間に、少なくとも一つ設けられている。

　なお、図１１では、隣り合うマスク開口領域１１間におけるＸ軸方向の中央部に、ガス噴出部を兼ねる制限板１２２がそれぞれ一つずつ設けられている場合を例に挙げて示している。

　しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではなく、隣り合うマスク開口領域１１間に、ガス噴出口４１が複数設けられていても構わない。なお、隣り合うマスク開口領域１１間にガス噴出口４１を複数設ける場合、制限板１２２に複数のガス噴出口４１が設けられていてもよく、隣り合うマスク開口領域１１間に、Ｘ軸方向におけるガス噴出口４１の数だけ、Ｘ軸方向に制限板１２２が設けられていてもよい。例えば、一つの制限板２２に２つのガス噴出口４１が対向するように制限板ユニット１２０にガス噴出口４１が設けられていても構わない。

　以上のように、本実施形態でも、蒸着マスク１０と制限板ユニット２０との間にガス壁５０１を形成することで、実施形態１と同様の効果を得ることができる。

　しかも、実施形態１～９では、制限板ユニット２０と蒸着マスク１０との間に、制限板ユニット２０側から蒸着マスク１０側に向かってガス噴出口４１からガスを噴出することによりガス壁５０１を形成していた。これに対し、本実施形態では、制限板ユニット２０と蒸着マスク１０との間に、蒸着マスク１０側から制限板ユニット２０側に向かってガス噴出口４１からガスを噴出することによりガス壁５０１を形成する。

　蒸着源開口３１から射出された蒸着粒子３０１は、略等方的に拡がることで、蒸着流は、制限板ユニット２０側から蒸着マスク１０側に向かって拡散する。

　実施形態１～９のように制限板ユニット２０側から蒸着マスク１０側に向かってガス噴出口４１からガスを噴出した場合、ガス噴出口４１が蒸着源開口３１よりも小さく、ガス流量が少ないことから、蒸着流と比較すれば非常に僅かではあるものの、ガス流も制限板ユニット２０側から蒸着マスク１０側に向かって拡散する。このため、制限板ユニット２０側よりも蒸着マスク１０側の方がガス密度が低くなるとともに、ガス流が蒸着マスク１０側で拡がることで、マスク開口領域１１にガスが侵入する懸念がある。また、ガスが蒸着マスク１０に吹き付けられることで、蒸着マスク１０の表面に衝突したガスがマスク開口領域１１側にも拡がってマスク開口領域１１に流入する懸念もある。

　しかしながら、蒸着マスク１０側から制限板ユニット２０側に向かってガス噴出口４１からガスを噴出した場合、ガス流は、蒸着マスク１０側から制限板ユニット２０側に向かって拡散するため、ガス流の拡散方向と蒸着流の拡散方向とは、拡散方向が逆になる。このため、ガスの制御が容易になるとともに、蒸着マスク１０側でガス密度が高いガス壁５０１が形成されるため、隣り合うマスク開口領域１１間において、隣接するマスク開口領域１１に向かう蒸着粒子３０１のブロック力が向上する。

　また、ガスは、制限板ユニット１２０から制限板ユニット２０の制限板２２に向かって噴出されるため、ガス噴出口４１から噴出されたガスが、ガス密度が高いまま直接マスク開口領域１１に流入することはない。

　さらに、本実施形態では制限板ユニット１２０からガスが制限板２２に吹き付けられることで、制限板２２の表面に衝突したガスは、制限板２２の表面に沿って流れるため、蒸着粒子３０１の流れを阻害しない。このため、上記ガスが素子特性に影響を及ぼすことはない。

　＜変形例＞
　なお、本実施形態では、蒸着マスク１０と制限板ユニット２０との間に、ガス噴出部４０を有する制限板ユニット１２０が設けられている場合を例に挙げて説明した。しかしながら、本実施形態は、これに限定されるものではなく、実施形態９に示すように蒸着マスク１０を中空とするか、あるいは、内部に通気路となる通気管を埋設することにより、蒸着マスク１０が、排気機構１１０に代えてガス供給機構５０を備えている構成としてもよい。すなわち、蒸着マスク１０自体にガス噴出部４０が設けられていてもよい。この場合、制限板ユニット１２０は不要であり、マスクフレームが制限板ユニット１２０である必要はない。ガス噴出口４１は、蒸着マスク１０における非開口部１３に直接設けられる。

　この場合、図１２に示す、排気機構１１０が設けられた蒸着マスク１０において、排気装置１１２の代わりにガス供給源５２を用いれば、排気機構１１０がガス供給機構５０となり、ガス吸引部１５がガス噴出部４０となり、吸気口１６がガス噴出口４１となり、排気路１７がガス拡散室４２となり、排気口１８がガス導入口４３となり、排気管１１１がガス供給管５１となる。

　したがって、上記蒸着装置１００は、図１３に示す蒸着マスク１０および制限板ユニット１２０の代わりに、上述した構成を有する、ガス供給機構５０が設けられた蒸着マスク１０が設けられた構成を有していてもよい。

　また、本実施形態では、上述したように、実施形態１～６と同様の変形が可能である。例えば、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、１つの制限板２２に対しＸ軸方向にガス壁５０１が複数形成されるように（言い換えれば、平面視で、隣り合う制限板開口２１間、つまり、平面視で、隣り合うマスク開口領域１１間に、Ｘ軸方向にガス壁５０１が複数形成されるように）、マスク開口領域１１を挟むそれぞれの非開口部１３に対し、ガス噴出口４１がＸ軸方向に複数設けられていてもよい。

　また、本実施形態でも、ガス噴出口４１は、例えば、図２、図６の（ａ）・（ｂ）、図７の（ａ）・（ｂ）の何れかに示す形状を有していてもよく、それらを組み合わせた形状を有していてもよい。

　また、上記制限板ユニット１２０にガス噴出口４１を設ける場合、上記制限板ユニット１２０と上記制限板ユニット２０との間に、第４の制限板ユニットとして制限板ユニット７０が設けられ、ガス噴出口４１を挟むように制限板７２を設けることで、ガス流が制御されていてもよい。この場合、制限板ユニット７０は、上記制限板ユニット１２０に隣接して設けられていることが望ましい。

　一方、上記蒸着マスク１０にガス噴出口４１を設ける場合、上記蒸着マスク１０と上記制限板ユニット２０との間に、上記制限板ユニット１２０に代えて、第３の制限板ユニットとして制限板ユニット７０が設けられ、ガス噴出口４１を挟むように制限板７２を設けることで、ガス流が制御されていてもよい。この場合、制限板ユニット７０は、蒸着マスク１０に隣接して設けられていることが望ましく、マスクフレームを兼ねることが望ましい。

　また、制限板ユニット１２０あるいは蒸着マスク１０に、平面視でガス壁５０１を挟むように、これら制限板ユニット１２０あるいは蒸着マスク１０と一体的に制限板８２が設けられていてもよい。また、上記制限板ユニット１２０に隣接して、第４の制限板ユニットとして、制限板８２を有する制限板ユニット８０が設けられていてもよい。あるいは上記蒸着マスク１０に隣接して、第３の制限板ユニットとして、制限板８２を有する制限板ユニット８０が設けられていてもよい。上記蒸着マスク１０に隣接して上記制限板ユニット８０を設ける場合、上記制限板ユニット８０は、マスクフレームを兼ねることが望ましい。

　このように制限板ユニット１２０あるいは蒸着マスク１０に制限板８２を設けるか、あるいは、制限板ユニット１２０あるいは蒸着マスク１０に隣接して、制限板８２を有する制限板ユニット８０を設ける場合、制限板８２は、ガスのマスク開口領域１１への流入をブロックするとともに、制限板７２同様、ガス噴出口４１から噴出されたガスの流れ（ガス流）を制御し、指向性を高めることができる。

　〔実施形態１１〕
　本実施形態について主に図１４に基づいて説明すれば、以下の通りである。なお、本実施形態では、実施形態１～１０との相違点について説明するものとし、実施形態１～１０で用いた構成要素と同一の機能を有する構成要素には同一の番号を付し、その説明を省略する。なお、以下では、実施形態１０において図１３に示す蒸着装置１００との相異点を例に挙げて説明するが、本実施形態でも、実施形態１～６、および、実施形態１０の変形例と同様の変形が可能であることは、言うまでもない。

　図１４は、本実施形態にかかる蒸着装置１００の基本構成を示す断面図である。

　図１４に示すように、本実施形態にかかる蒸着装置１００は、制限板ユニット２０に排気機構１１０が設けられていることを除けば、実施形態１０にかかる蒸着装置１００と同じである。

　本実施形態では、実施形態１０同様、蒸着マスク１０側から制限板ユニット２０側に向かって、ガス噴出口４１からガスを噴出する。このため、本実施形態では、実施形態９のように蒸着マスク１０に排気機構１１０を設ける代わりに、制限板ユニット２０に排気機構１１０を設けている。

　本実施形態にかかる排気機構１１０は、該排気機構１１０が制限板ユニット２０に設けられていることを除けば、実施形態８にかかる排気機構１１０と同じである。

　すなわち、排気機構１１０は、制限板ユニット２０に設けられたガス吸引部１５と、排気装置１１２と、ガス吸引部１５と排気装置１１２とを連結する排気管１１１と、を備えている。また、ガス吸引部１５は、吸気口１６と、図示しない排気路と、排気口１８と、を備えている。

　吸気口１６は、制限板２２における、ガス噴出口４１との対向面のガス壁５０１の形成領域に設けられている。これにより、吸気口１６は、制限板２２に吹き付けられた、ガス壁５０１を形成するガスを吸引する。

　制限板ユニット２０には、排気管１１１に接続された排気口１８が設けられており、吸気口１６と排気口１８とは、制限板ユニット２０の内部に設けられた図示しない排気路によって連結されている。

　なお、実施形態９における蒸着マスク１０同様、本実施形態にかかる制限板ユニット２０は、貫通口である制限板開口２１以外の部分に、内部に排気路となる空間部が設けられた、中空構造を有していてもよく、内部に排気路として排気管が埋設された構造を有していてもよい。

　本実施形態では、制限板ユニット２０に接続された排気装置１１２によって、制限板２２に吹き付けられたガスが、該制限板２２に形成された吸気口１６に吸引され、排気される。このため、上記ガスは、蒸着粒子３０１の流れを阻害しない。このため、上記ガスが素子特性に影響を及ぼすことはない。

　〔まとめ〕
　本発明の態様１にかかる蒸着装置１００は、第１方向（Ｘ軸方向、走査方向に直交する方向）に複数の被成膜領域２０２を有する被成膜基板２００の上記被成膜領域２０２内に、上記第１方向に複数配列された所定パターンの蒸着膜３００を成膜する蒸着装置であって、蒸着粒子３０１を射出する複数の蒸着源開口３１を有する蒸着源３０と、上記複数の被成膜領域２０２にそれぞれ対向して、上記蒸着膜３００のパターンに応じて上記第１方向に配列された複数のマスク開口１２を有するマスク開口領域１１が設けられた蒸着マスク１０と、上記蒸着源３０と上記蒸着マスク１０との間に配置され、上記第１方向に互いに離間して配置された複数の第１の制限板（制限板２２）を有し、隣り合う上記第１の制限板間に、上記被成膜領域２０２にそれぞれ対応して、上記蒸着粒子３０１を通過させる第１の制限板開口（制限板開口２１）が設けられた第１の制限板ユニット（制限板ユニット２０）と、上記蒸着マスク１０と上記第１の制限板ユニットとの間の部分にガス壁５０１を形成するガス供給機構５０と、を備え、上記ガス壁５０１は、平面視で、上記第１方向における、上記第１の制限板ユニットの隣り合う上記第１の制限板開口間であって、上記蒸着マスク１０の隣り合うマスク開口領域１１間の非開口領域（非開口部１３、非開口部１３ａ）に形成される。

　上記の構成によれば、上記制限板２２間に形成される制限板開口２１で、上記蒸着粒子３０１の流れ（蒸着流）を制御する。そして、上記制限板開口２１を通過した蒸着流に含まれる、高レート時の蒸着源開口３１の擬似的な拡がりによって発生する異常成膜の原因となる不要な蒸着粒子３０１を、上記ガス壁５０１でブロックする。したがって、上記の構成によれば、上記不要成分を効率良くブロックすることができる。

　また、上記の構成によれば、上記制限板開口２１を通過した蒸着流に含まれる微量の不要成分だけをガス壁５０１でブロックすればよいので、ガス量は少なくてよく、また、蒸着源開口３１と制限板開口２１との間にガス壁５０１を形成する必要はない。このため、蒸着源開口近傍から多量のガスを放出する場合のように蒸着源開口３１近傍の圧力を高めることはなく、真空度の著しい低下もない。

　このため、上記の構成によれば、高レートでの蒸着が可能であり、高レートで蒸着を行った場合でも異常成膜の発生を防止することができる蒸着装置を提供することができる。

　また、上記蒸着装置は、上記ガス壁５０１により不要成分をブロックするので、蒸着レートごとにガスの流量を調整すればよい。このため、例えば制限板２２のみで不要成分をブロックする場合と比較して、汎用性が高い。

　また、特許文献２、３のように蒸着源開口近傍からガスを放出した場合、上記態様と比較して多量のガスが被成膜領域に流入（侵入）するおそれがある。このため、特許文献２、３に記載の方法を、上述したように一つの被成膜基板に複数の被成膜領域を設ける場合に適用することにより、ガスのみで不要成分をブロックした場合、上記被成膜基板２００に設けられる有機ＥＬ素子等の素子に大きな影響を及ぼすことが懸念される。

　しかしながら、上記構成によれば、多量のガスがマスク開口領域１１に流入することもないので、上記ガス壁５０１を形成するガスが、上記被成膜基板２００における素子特性等の特性に大きな影響を及ぼすこともない。

　したがって、上記の構成によれば、上記被成膜基板２００の特性に大きな影響を及ぼすことなく、異常成膜の発生を防止することができる。

　本発明の態様２にかかる蒸着装置１００は、上記態様１において、上記各第１の制限板に、上記ガス壁５０１を形成するガスを上記蒸着マスク１０における上記非開口領域に向かって噴出するガス噴出口４１がそれぞれ設けられていてもよい。

　上記の構成によれば、上記ガス噴出口４１から上記蒸着マスク１０の上記非開口領域に向かってガスを噴出することで、上記非開口領域と上記第１の制限板との間に上記ガス壁５０１を容易に形成することができる。

　本発明の態様３にかかる蒸着装置１００は、上記態様２において、上記第１の制限板ユニットと上記蒸着マスク１０との間に、平面視で、上記各第１の制限板に対向し、かつ、互いに離間して設けられた複数の第２の制限板（制限板７２）を有する第２の制限板ユニット（制限板ユニット７０）を備え、上記第２の制限板は、平面視で上記ガス噴出口４１を挟むように、上記第１の制限板一つに対し、上記第１方向に複数設けられていてもよい。

　上記の構成によれば、上記したように第２の制限板ユニットを設けることで、上記ガス壁５０１を形成するガスが被成膜領域２０２に流入することをより確実に防止することができる。

　本発明の態様４にかかる蒸着装置１００は、上記態様１において、上記ガス供給機構５０は、上記ガス壁５０１を形成するガスを噴出する複数のガス噴出口４１を有するガス噴出ユニット（制限板ユニット９０または制限板ユニット１２０）を備え、上記蒸着マスク１０と上記第１の制限板ユニットとの間に、上記ガス噴出ユニットが設けられていてもよい。

　上記の構成によれば、上記ガス噴出ユニットが、第１の制限板ユニットとは別に設けられているので、上記ガス供給機構５０を、第１の制限板ユニットから独立して形成することができる。したがって、上記の構成によれば、第１の制限板ユニットが設けられた蒸着装置１００にガス供給機構５０を追加するだけでよく、設備投資を削減することができる。

　本発明の態様５にかかる蒸着装置１００は、上記態様４において、上記ガス噴出ユニットは、上記第１の制限板ユニットと上記蒸着マスク１０との間に、上記第１の制限板ユニットに隣接して設けられ、平面視で、上記各第１の制限板に対向し、かつ、互いに離間して設けられた複数の第２の制限板（制限板９２）を有する第２の制限板ユニット（制限板ユニット９０）であり、上記各第２の制限板に、上記ガス噴出口４１がそれぞれ設けられており、上記ガス噴出口４１は、上記ガス壁５０１を形成するガスを上記蒸着マスク１０における上記非開口領域に向かって噴出してもよい。

　本発明の態様６にかかる蒸着装置１００は、上記態様２～５の何れかにおいて、上記第１の制限板ユニットと上記蒸着マスク１０との間に、上記蒸着マスク１０に隣接して設けられ、上記蒸着マスク１０における上記マスク開口領域１１間の上記非開口領域に対向し、かつ、互いに離間して設けられた複数の第３の制限板（制限板８２）を有する第３の制限板ユニット（制限板ユニット８０）を備え、上記第３の制限板は、平面視で上記ガス壁５０１を挟むように、上記非開口領域一つに対し、上記第１方向に複数設けられていてもよい。

　上記の構成によれば、上記第３の制限板ユニットを設けることで、上記ガス壁５０１を形成するガスが上記被成膜領域２０２に侵入することを確実に防ぐことができる。

　本発明の態様７にかかる蒸着装置１００は、上記態様１～６の何れかにおいて、排気装置１１２をさらに備えるとともに、上記蒸着マスク１０に、上記排気装置１１２に接続され、上記ガス壁５０１を形成するガスを吸引する吸気口１６が設けられていてもよい。

　上記の構成によれば、蒸着マスク１０に接続された排気装置１１２によって、蒸着マスク１０に吹き付けられたガスが、該蒸着マスク１０に形成された吸気口１６に吸引され、マスク開口領域１１側に拡がることがない。このため、不要なガスの流れによる蒸着粒子３０１の着弾乱れを防ぐことができる。

　本発明の態様８にかかる蒸着装置１００は、上記態様１～６の何れかにおいて、上記蒸着マスク１０および上記被成膜基板２００には、上記ガス壁５０１を形成するガスを通過させる開口部（マスク開口１４、貫通口２０５）がそれぞれ設けられており、上記ガス壁５０１は、上記蒸着マスク１０および上記被成膜基板２００を貫通して形成されてもよい。

　上記の構成によれば、ガス噴出口４１から上記蒸着マスク１０の表面に吹き付けられたガスは、上記蒸着マスク１０および上記被成膜基板２００にそれぞれ設けられた上記開口部を介して、上記被成膜基板２００における被成膜面２０１とは反対側に抜ける。このため、上記の構成によれば、上記蒸着マスク１０の表面に衝突したガスが上記マスク開口領域１１側にも拡がって上記マスク開口領域１１に流入することをより確実に防止することができる。

　また、上記の構成によれば、上記蒸着マスク１０および上記被成膜基板２００を貫くようにガス壁５０１を形成することができる。このため、上記マスク開口１２を通過した蒸着粒子３０１が、上記ガス壁５０１を越えて、本来入射する被成膜領域２０２に隣接する被成膜領域２０２（隣接被成膜領域）に入射することを、より確実に防止することができる。

　しかも、上記の構成によれば、上記蒸着マスク１０および上記被成膜基板２００に上記開口部を形成しない場合と比較して、ガス流量を多くすることができる。このため、上記の構成によれば、異常成膜の原因となる蒸着粒子３０１のブロック性により一層優れたガス壁５０１を形成することができる。

　本発明の態様９にかかる蒸着装置１００は、上記態様４において、上記ガス噴出ユニットは、上記第１の制限板ユニットと上記蒸着マスク１０との間に、上記蒸着マスク１０に隣接して設けられ、平面視で、上記蒸着マスク１０における上記非開口領域に対向し、かつ、互いに離間して設けられた複数の第３の制限板（制限板１２２）を有する第３の制限板ユニット（制限板ユニット１２０）であり、上記各第３の制限板に、上記ガス噴出口４１がそれぞれ設けられており、上記ガス噴出口４１は、上記ガス壁５０１を形成するガスを上記第１の制限板（制限板２２）に向かって噴出してもよい。

　また、上記したように上記ガス噴出口４１から上記蒸着マスク１０の上記非開口領域に向かってガスを噴出することで、ガス流の拡散方向と蒸着流の拡散方向とは、拡散方向が逆になる。このため、上記の構成によれば、ガスの制御が容易になるとともに、蒸着マスク１０側でガス密度が高いガス壁が形成されるため、隣り合うマスク開口領域１１間において、隣接するマスク開口領域１１に向かう蒸着粒子３０１のブロック力が向上する。

　また、ガスは、上記第３の制限板ユニットから上記第１の制限板に向かって噴出されるため、上記ガス噴出口４１から噴出されたガスが、ガス密度が高いまま直接マスク開口領域１１に流入することはない。

　さらに、上記の構成によれば、上記第３の制限板ユニットから上記第１の制限板にガスが吹き付けられることで、上記第１の制限板の表面に衝突したガスは、上記第１の制限板の表面に沿って流れるため、上記蒸着粒子３０１の流れを阻害しない。このため、上記ガスが素子特性に影響を及ぼすことはない。

　本発明の態様１０にかかる蒸着装置１００は、上記態様６または９において、上記第３の制限板ユニット（制限板ユニット８０または制限板ユニット１２０）は、上記蒸着マスク１０の端部を固定するマスクフレームを兼ねていてもよい。

　上記の構成によれば、部品点数を削減することができ、上記蒸着装置１００の製造効率およびアライメント効率を向上させることができる。

　本発明の態様１１にかかる蒸着装置１００は、上記態様１において、上記蒸着マスク１０における上記マスク開口領域１１間の上記非開口領域に、上記ガス壁５０１を形成するガスを上記第１の制限板に向かって噴出するガス噴出口４１が設けられていてもよい。

　本発明の態様１２にかかる蒸着装置１００は、上記態様９または１１において、排気装置１１２をさらに備えるとともに、上記第１の制限板に、上記排気装置１１２に接続され、上記ガス壁５０１を形成するガスを吸引する吸気口１６が設けられていてもよい。

　上記の構成によれば、制限板ユニット２０に接続された排気装置１１２によって、上記第１の制限板に吹き付けられたガスが、該上記第１の制限板に形成された吸気口１６に吸引され、排気される。このため、上記ガスは、蒸着粒子３０１の流れを阻害しない。このため、上記ガスが素子特性に影響を及ぼすことがない。

　本発明の態様１３にかかる蒸着装置１００は、上記態様２～６、９～１２の何れかにおいて、上記第１の制限板一つに対し上記ガス壁５０１が上記第１方向に複数形成されるように上記ガス噴出口４１が設けられていてもよい。

　上記の構成によれば、異常成膜の原因となる、不要な蒸着粒子３０１をブロックする確率を高くすることができる。

　本発明の態様１４にかかる蒸着装置１００は、上記態様２～６、９～１３の何れかにおいて、上記ガス噴出口４１は、平面視で上記第１の制限板開口に沿って上記第１方向に直交する第２方向（Ｙ軸方向、走査方向）に延設されているとともに、平面視で、上記第１方向において上記蒸着源開口３１に隣り合う部分の上記第１方向の開口幅が最も広く、上記第２方向の端部に向かうにしたがって先細りする形状を有していてもよい。

　上記の構成によれば、無駄なガスの消費を無くし、異常成膜の原因となる、不要な蒸着粒子３０１を、効率良くブロックすることができる。

　本発明の態様１５にかかる蒸着装置１００は、上記態様２～６、９～１４の何れかにおいて、平面視で、相対的に上記蒸着源開口３１に近い領域では上記ガス噴出口４１の配設密度が相対的に高く、相対的に上記蒸着源開口３１から遠い領域では上記ガス噴出口４１の配設密度が相対的に低く、上記相対的に上記蒸着源開口３１に近い領域では、上記相対的に上記蒸着源開口３１から遠い領域よりも、上記第１方向における上記ガス噴出口４１の総開口幅が広くてもよい。

　本発明の態様１６にかかる蒸着装置１００は、上記態様２～６、９～１５の何れかにおいて、上記ガス噴出口４１は、平面視で、隣り合う上記制限板開口２１間に、上記第１方向に少なくとも３つのガス噴出口４１（例えばガス噴出口４１ａ～４１ｃ）が位置するように設けられており（言い換えれば、上記ガス噴出口４１は、平面視で、隣り合う上記マスク開口領域１１間に、上記第１方向に少なくとも３つのガス噴出口４１（例えばガス噴出口４１ａ～４１ｃ）が位置するように設けられており）、平面視で上記制限板開口２１に隣り合うガス噴出口４１（例えばガス噴出口４１ｂ・４１ｃ）における上記第１方向に直交する第２方向の開口長さ（走査方向開口長）が、他のガス噴出口４１（例えばガス噴出口４１ａ）における上記第２方向の開口長さ（走査方向開口長）よりも短くてもよい。

　本発明の態様１７にかかる蒸着方法は、第１方向（Ｘ軸方向、走査方向に直交する方向）に複数の被成膜領域２０２を有する被成膜基板２００の上記被成膜領域２０２内に、上記第１方向に複数配列された所定パターンの蒸着膜３００を成膜する蒸着方法であって、蒸着粒子３０１を射出する複数の蒸着源開口３１を有する蒸着源３０と、上記複数の被成膜領域２０２にそれぞれ対向して、上記蒸着膜３００のパターンに応じて上記第１方向に配列された複数のマスク開口１２を有するマスク開口領域１１が設けられた蒸着マスク１０との間に、上記第１方向に互いに離間して配置された複数の第１の制限板（制限板２２）を有し、互いに隣り合う上記第１の制限板間に、上記被成膜領域２０２にそれぞれ対応して、上記蒸着粒子３０１を通過させる第１の制限板開口（制限板開口２１）が設けられた第１の制限板ユニット（制限板ユニット２０）を配置し、ガス供給機構５０により、上記蒸着マスク１０と上記第１の制限板ユニットとの間の部分であって、かつ、平面視で、上記第１方向における、上記第１の制限板ユニットの隣り合う上記第１の制限板開口間であって、上記蒸着マスク１０の隣り合うマスク開口領域１１間の非開口領域（非開口部１３、非開口部１３ａ）にガス壁を形成しながら、上記蒸着源３０から上記蒸着粒子３０１を射出することにより上記蒸着膜３００を成膜する。

　上記の方法によれば、上記態様１と同様の効果を得ることができる。

　本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。

　本発明の蒸着装置および蒸着方法は、有機ＥＬ表示装置または無機ＥＬ表示装置等のＥＬ表示装置の製造をはじめとする、蒸着を利用した各種デバイスの製造等に好適に利用することができる。

　　１　　蒸着ユニット
　１０　　蒸着マスク
　１１　　マスク開口領域
　１２　　マスク開口（蒸着流用のマスク開口）
　１３　　非開口部（非開口領域）
　１３ａ　非開口部（非開口領域）
　１４　　マスク開口（ガス用のマスク開口、開口部）
　１５　　ガス吸引部
　１６　　吸気口
　１７　　排気路
　１８　　排気口
　２０　　制限板ユニット（第１の制限板ユニット）
　２１　　制限板開口（第１の制限板開口）
　２２　　制限板（第１の制限板）
　２４　　保持体部
　３０　　蒸着源
　３１　　蒸着源開口
　４０　　ガス噴出部
　４１、４１ａ、４１ｂ、４１ｃ　　ガス噴出口
　４２　　ガス拡散室
　４３　　ガス導入口
　５０　　ガス供給機構
　５１　　ガス供給管
　５２　　ガス供給源
　６０　　ホルダ
　６２　　防着板
　７０　　制限板ユニット（第２の制限板ユニット）
　７１　　制限板開口（蒸着流用の制限板開口）
　７２　　制限板（第２の制限板）
　７３　　制限板開口（ガス用の制限板開口）
　８０　　制限板ユニット（第３の制限板ユニット）
　８１　　開口（蒸着流用の制限板開口）
　８２　　制限板（第３の制限板）
　８３　　隙間（ガス用の制限板開口）
　９０　　制限板ユニット（第２の制限板ユニット、ガス噴出ユニット）
　９１　　制限板開口（蒸着流用の制限板開口）
　９２　　制限板（第２の制限板）
１００　　蒸着装置
１０１　　成膜チャンバ
１０２　　基板ホルダ
１０３　　基板移動装置
１０４　　蒸着ユニット移動装置
１１０　　排気機構
１１１　　排気管
１１２　　排気装置
１２０　　制限板ユニット（第３の制限板ユニット、ガス噴出ユニット）
１２１　　制限板開口（蒸着流用の制限板開口）
１２２　　制限板（第３の制限板）
２００　　被成膜基板
２０１　　被成膜面
２０２　　被成膜領域
２０３、２０３Ｒ、２０３Ｇ、２０３Ｂ　　被成膜パターン領域
２０４　　非成膜領域
２０５　　貫通口（開口部）
３００、３００Ｒ、３００Ｇ、３００Ｂ　　蒸着膜
３０１　　蒸着粒子
３０２　　蒸着膜
４００　　有機ＥＬ表示装置
４０１　　画素
４０２　　サブ画素
５０１　　ガス壁
６０１　　蒸着源
６０１　　蒸着粒子
６０２　　蒸着源開口
６１１　　蒸着マスク
６１２　　マスク開口
６２１　　制限板
６２２　　制限板開口

Claims

　第１方向に複数の被成膜領域を有する被成膜基板の上記被成膜領域内に、上記第１方向に複数配列された所定パターンの蒸着膜を成膜する蒸着装置であって、
　蒸着粒子を射出する複数の蒸着源開口を有する蒸着源と、
　上記複数の被成膜領域にそれぞれ対向して、上記蒸着膜のパターンに応じて上記第１方向に配列された複数のマスク開口を有するマスク開口領域が設けられた蒸着マスクと、
　上記蒸着源と上記蒸着マスクとの間に配置され、上記第１方向に互いに離間して配置された複数の第１の制限板を有し、隣り合う上記第１の制限板間に、上記被成膜領域にそれぞれ対応して、上記蒸着粒子を通過させる第１の制限板開口が設けられた第１の制限板ユニットと、
　上記蒸着マスクと上記第１の制限板ユニットとの間の部分にガス壁を形成するガス供給機構と、を備え、
　上記ガス壁は、平面視で、上記第１方向における、上記第１の制限板ユニットの隣り合う上記第１の制限板開口間であって、上記蒸着マスクの隣り合うマスク開口領域間の非開口領域に形成されることを特徴とする蒸着装置。
　上記各第１の制限板に、上記ガス壁を形成するガスを上記蒸着マスクにおける上記非開口領域に向かって噴出するガス噴出口がそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
　上記第１の制限板ユニットと上記蒸着マスクとの間に、平面視で、上記各第１の制限板に対向し、かつ、互いに離間して設けられた複数の第２の制限板を有する第２の制限板ユニットを備え、
　上記第２の制限板は、平面視で上記ガス噴出口を挟むように、上記第１の制限板一つに対し、上記第１方向に複数設けられていることを特徴とする請求項２に記載の蒸着装置。
　上記ガス供給機構は、上記ガス壁を形成するガスを噴出する複数のガス噴出口を有するガス噴出ユニットを備え、
　上記蒸着マスクと上記第１の制限板ユニットとの間に、上記ガス噴出ユニットが設けられていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
　上記ガス噴出ユニットは、上記第１の制限板ユニットと上記蒸着マスクとの間に、上記第１の制限板ユニットに隣接して設けられ、平面視で、上記各第１の制限板に対向し、かつ、互いに離間して設けられた複数の第２の制限板を有する第２の制限板ユニットであり、
　上記各第２の制限板に、上記ガス噴出口がそれぞれ設けられており、
　上記ガス噴出口は、上記ガス壁を形成するガスを上記蒸着マスクにおける上記非開口領域に向かって噴出することを特徴とする請求項４に記載の蒸着装置。
　上記第１の制限板ユニットと上記蒸着マスクとの間に、上記蒸着マスクに隣接して設けられ、上記蒸着マスクにおける上記マスク開口領域間の上記非開口領域に対向し、かつ、互いに離間して設けられた複数の第３の制限板を有する第３の制限板ユニットを備え、
　上記第３の制限板は、平面視で上記ガス壁を挟むように、上記非開口領域一つに対し、上記第１方向に複数設けられていることを特徴とする請求項２～５の何れか１項に記載の蒸着装置。
　排気装置をさらに備えるとともに、
　上記蒸着マスクに、上記排気装置に接続され、上記ガス壁を形成するガスを吸引する吸気口が設けられていることを特徴とする請求項１～６の何れか１項に記載の蒸着装置。
　上記蒸着マスクおよび上記被成膜基板には、上記ガス壁を形成するガスを通過させる開口部がそれぞれ設けられており、上記ガス壁は、上記蒸着マスクおよび上記被成膜基板を貫通して形成されることを特徴とする請求項１～６の何れか１項に記載の蒸着装置。
　上記ガス噴出ユニットは、上記第１の制限板ユニットと上記蒸着マスクとの間に、上記蒸着マスクに隣接して設けられ、平面視で、上記蒸着マスクにおける上記非開口領域に対向し、かつ、互いに離間して設けられた複数の第３の制限板を有する第３の制限板ユニットであり、
　上記各第３の制限板に、上記ガス噴出口がそれぞれ設けられており、
　上記ガス噴出口は、上記ガス壁を形成するガスを上記第１の制限板に向かって噴出することを特徴とする請求項４に記載の蒸着装置。
　上記第３の制限板ユニットは、上記蒸着マスクの端部を固定するマスクフレームを兼ねていることを特徴とする請求項６または９に記載の蒸着装置。
　上記蒸着マスクにおける上記マスク開口領域間の上記非開口領域に、上記ガス壁を形成するガスを上記第１の制限板に向かって噴出するガス噴出口が設けられていることを特徴とする請求項１に記載の蒸着装置。
　排気装置をさらに備えるとともに、
　上記第１の制限板に、上記排気装置に接続され、上記ガス壁を形成するガスを吸引する吸気口が設けられていることを特徴とする請求項９または１１に記載の蒸着装置。
　上記第１の制限板一つに対し上記ガス壁が上記第１方向に複数形成されるように上記ガス噴出口が設けられていることを特徴とする請求項２～６、９～１２の何れか１項に記載の蒸着装置。
　上記ガス噴出口は、平面視で上記制限板開口に沿って上記第１方向に直交する第２方向に延設されているとともに、平面視で、上記第１方向において上記蒸着源開口に隣り合う部分の上記第１方向の開口幅が最も広く、上記第２方向の端部に向かうにしたがって先細りする形状を有していることを特徴とする請求項２～６、９～１３の何れか１項に記載の蒸着装置。
　平面視で、相対的に上記蒸着源開口に近い領域では上記ガス噴出口の配設密度が相対的に高く、相対的に上記蒸着源開口から遠い領域では上記ガス噴出口の配設密度が相対的に低く、
　上記相対的に上記蒸着源開口に近い領域では、上記相対的に上記蒸着源開口から遠い領域よりも、上記第１方向における上記ガス噴出口の総開口幅が広いことを特徴とする請求項２～６、９～１４の何れか１項に記載の蒸着装置。
　第１方向に複数の被成膜領域を有する被成膜基板の上記被成膜領域内に、上記第１方向に複数配列された所定パターンの蒸着膜を成膜する蒸着方法であって、
　蒸着粒子を射出する複数の蒸着源開口を有する蒸着源と、上記複数の被成膜領域にそれぞれ対向して、上記蒸着膜のパターンに応じて上記第１方向に配列された複数のマスク開口を有するマスク開口領域が設けられた蒸着マスクとの間に、上記第１方向に互いに離間して配置された複数の第１の制限板を有し、互いに隣り合う上記第１の制限板間に、上記被成膜領域にそれぞれ対応して、上記蒸着粒子を通過させる第１の制限板開口が設けられた第１の制限板ユニットを配置し、
　ガス供給機構により、上記蒸着マスクと上記第１の制限板ユニットとの間の部分であって、かつ、平面視で、上記第１方向における、上記第１の制限板ユニットの隣り合う上記第１の制限板開口間であって、上記蒸着マスクの隣り合うマスク開口領域間の非開口領域にガス壁を形成しながら、上記蒸着源から上記蒸着粒子を射出することにより上記蒸着膜を成膜することを特徴とする蒸着方法。