WO2016199410A1 - Thermally conductive sheet, flexible wiring board in which same is used, and method for manufacturing thermally conductive sheet - Google Patents
Thermally conductive sheet, flexible wiring board in which same is used, and method for manufacturing thermally conductive sheet Download PDFInfo
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Definitions
- the present disclosure relates to a heat conductive sheet used for heat dissipation of various electronic devices, a flexible wiring board using the heat conductive sheet, and a method for manufacturing the heat conductive sheet.
- a sheet material used as a heat conductive sheet is a graphite sheet.
- the graphite sheet has a higher thermal conductivity in the plane direction than in the thickness direction.
- a heat conductive sheet using a graphite sheet is provided with an insulating layer for ensuring electrical insulation on the surface of the heat conductive sheet because the graphite sheet itself has conductivity.
- Patent Document 1 is known as prior art document information related to such a heat conductive sheet.
- a heat conductive sheet of the present disclosure includes a graphite sheet, a first adhesive layer bonded to the upper surface of the graphite sheet, and a first protective film bonded to the upper surface of the first adhesive layer, the first adhesive layer Includes at least a polyolefin-based elastomer and a thermosetting resin, and the glass transition point of the first protective film is higher than the glass transition point of the first adhesive layer.
- the heat conductive sheet of the present disclosure is useful as a heat conductive sheet used at high temperatures.
- FIG. 1 is a cross-sectional view of a heat conductive sheet in the first embodiment.
- FIG. 2 is a cross-sectional view of a flexible wiring board using the heat conductive sheet in the first embodiment.
- FIG. 3 is a cross-sectional view of the heat conductive sheet in the second embodiment.
- FIG. 4 is a cross-sectional view of a flexible wiring board using the heat conductive sheet in the second embodiment.
- FIG. 5 is a cross-sectional view of a flexible wiring board of a comparative example in the second embodiment.
- FIG. 6 is a view for explaining the temperature distribution of the flexible wiring board using the heat conductive sheet in the second embodiment.
- heat conductive sheets are required to be used at high temperatures.
- the conventional heat conductive sheet there is a possibility that peeling occurs between the graphite sheet and the adhesive layer due to thermal strain caused by the difference in thermal expansion coefficient between the graphite sheet and the adhesive layer. That is, the conventional heat conductive sheet has low heat resistance.
- FIG. 1 is a cross-sectional view of a heat conductive sheet in the first embodiment.
- the heat conductive sheet 10 includes a graphite sheet 11, an adhesive layer 12, and a protective film 13.
- the thickness of the graphite sheet 11 is preferably thick in order to ensure thermal conductivity, and is desirably 10 ⁇ m or more in order to ensure sufficient thermal conductivity. On the other hand, the thickness of the graphite sheet 11 is desirably 70 ⁇ m or less in order to ensure the flexibility of the heat conductive sheet 10. In the present embodiment, the thickness of the graphite sheet 11 is 25 ⁇ m.
- the graphite sheet 11 is a pyrolytic graphite sheet produced by pyrolyzing a polymer.
- the adhesive layer 12 includes a first adhesive layer 12a bonded to the upper surface side of the graphite sheet 11, a second adhesive layer 12b bonded to the lower surface side of the graphite sheet 11, and both end portions of the graphite sheet 11 (FIG. 1).
- the adhesive layer 12c and the adhesive layer 12d are present on the left and right ends of FIG. Accordingly, the entire graphite sheet 11 is covered with the first adhesive layer 12a, the second adhesive layer 12b, the adhesive layer 12c, and the adhesive layer 12d.
- the thickness of the first adhesive layer 12a and the second adhesive layer 12b is desirably 5 ⁇ m or more in order to ensure adhesion.
- the thickness of the first adhesive layer 12a and the second adhesive layer 12b is preferably 30 ⁇ m or less in order to transfer heat from the surface of the protective film 13 to the graphite sheet 11 via the adhesive layer 12.
- the thickness of the first adhesive layer 12a and the second adhesive layer 12b is 25 ⁇ m.
- the adhesive layer 12 is made of a polymer alloy containing a polyolefin-based elastomer and a thermosetting resin.
- the adhesive layer 12 has two glass transition points. Of the two glass transition points, the first glass transition point is related to the temperature characteristics of the polyolefin-based elastomer, and the second glass transition point is related to the temperature characteristics of the thermosetting resin. The second glass transition point is higher than the first glass transition point.
- the glass transition point refers to a second glass transition point.
- the glass transition point measurement method according to the present disclosure is performed by DMA (Dynamic Mechanical Analysis).
- polystyrene elastomers examples include styrene elastomers, butadiene elastomers, acrylic elastomers, and elastomers made of polyolefin block copolymers.
- the polyolefin-based elastomer imparts elastic deformation performance to the adhesive layer 12 and has higher compatibility with the thermosetting resin than elastomers other than the polyolefin-based elastomer.
- thermosetting resin contained in the adhesive layer 12 examples include copolymers such as bismaleimide resin and epoxy resin.
- the adhesive layer 12 has high mechanical strength and high moisture resistance by including these thermosetting resins.
- the protective film 13 includes a first protective film 13a bonded to the upper surface side of the first adhesive layer 12a and a second protective film 13b bonded to the lower surface side of the second adhesive layer 12b. That is, the first protective film 13a and the second protective film 13b are bonded to the graphite sheet 11 via the first adhesive layer 12a and the second adhesive layer 12b.
- the protective film 13 also has a glass transition point.
- the glass transition point of the protective film 13 is higher than both the first glass transition point and the second glass transition point in the adhesive layer 12.
- the thickness of the first protective film 13a and the second protective film 13b is desirably 3 ⁇ m or more in order to ensure insulation.
- the thickness of the first protective film 13a and the second protective film 13b is preferably 30 ⁇ m or less in order to transfer heat from the surface of the protective film 13 to the graphite sheet 11 via the adhesive layer 12.
- the thickness of the first protective film 13a and the second protective film 13b is 15 ⁇ m.
- the protective film 13 is made of polyimide and has a glass transition point of 285 ° C.
- the protective film 13 only needs to have a glass transition point higher than the first glass transition point and the second glass transition point of the adhesive layer 12.
- Examples of the constituent material of the protective film 13 include liquid crystal polymer and polyamideimide in addition to polyimide.
- the protective film 13 may have a glass transition point higher than the melting point. In this case, the protective film 13 may have a melting point higher than the glass transition point of the adhesive layer 12.
- the heat conductive sheet 10 of the present disclosure has higher heat resistance than the conventional heat conductive sheet. That is, the adhesive layer 12 has high elastic deformation performance due to the polyolefin-based elastomer. Therefore, the adhesive layer 12 can relieve the thermal stress generated by the difference in coefficient of thermal expansion between the graphite sheet 11 and the protective film 13.
- the adhesive layer 12 includes a polyolefin-based elastomer, and thus has high flexibility near the temperature at which various electronic devices are used.
- the adhesive layer 12 is thermoset by the crosslinking reaction of the thermosetting resin, it has high mechanical strength and high moisture resistance.
- the glass transition point of the protective film 13 is higher than both the first glass transition point and the second glass transition point in the adhesive layer 12.
- the heat conductive sheet 10 has a shape that is symmetrical in the thickness direction with respect to a plane that passes through the center of the graphite sheet 11 in the thickness direction and is parallel to the main surface of the graphite sheet 11. Thereby, the thermal expansion difference between the different materials generated on the upper surface side and the lower surface side of the graphite sheet 11 is offset between the upper surface side and the lower surface side of the graphite sheet 11, and the warpage of the heat conductive sheet 10 is suppressed.
- the end of graphite sheet 11 is covered with adhesive layer 12c and adhesive layer 12d. Thereby, detachment
- desorption of the graphite piece in the edge part of the graphite sheet 11 can be suppressed. The same effect can be obtained even when the end portion of the graphite sheet 11 is covered with the protective film 13.
- the entire graphite sheet 11 is covered with the first adhesive layer 12a, the second adhesive layer 12b, the adhesive layer 12c, and the adhesive layer 12d, so that the graphite sheet 11 is protected from external stress.
- FIG. 2 is a cross-sectional view of a flexible wiring board using the heat conductive sheet in the first embodiment.
- the flexible wiring board 100 includes a graphite sheet 11, an adhesive layer 12, a protective film 13, and a wiring pattern 14 that constitute the heat conductive sheet 10.
- the wiring pattern 14 includes a wiring pattern 14a provided on the upper surface of the first protective film 13a and a wiring pattern 14b provided on the lower surface of the second protective film 13b.
- the wiring pattern 14a and the wiring pattern 14b are both made of copper and have a thickness of 12 ⁇ m. Electronic components are appropriately mounted on the wiring pattern 14a and the wiring pattern 14b.
- the flexible wiring board 100 of the present disclosure diffuses the heat generated by the electronic components mounted on the flexible wiring board 100 through the graphite sheet 11 having a high thermal conductivity, thereby reducing the temperature of the heat generating components. Can be suppressed.
- the flexible wiring board 100 of the present disclosure can form two wiring patterns 14 a and 14 b on both the upper and lower surfaces of one heat conductive sheet 10. Therefore, it is useful for downsizing electronic devices and reducing the number of parts.
- Example 1 The heat conductive sheet 10 and the flexible wiring board 100 were produced using the polymer alloy which mix
- FIG. The polymer alloy has a storage modulus of 25 ° C. of 3.0 ⁇ 10 8 Pa, a storage modulus of 150 ° C. of 1.3 ⁇ 10 8 Pa, a first glass transition point of ⁇ 46 ° C., and a second glass transition point of 240 ° C. is there.
- Example 2 The heat conductive sheet 10 and the flexible wiring board 100 were produced using the polymer alloy which mix
- FIG. The polymer alloy has a storage modulus of 25 ° C. of 2.0 ⁇ 10 8 Pa, a storage modulus of 150 ° C. of 1.0 ⁇ 10 8 Pa, a first glass transition point of 3 ° C., and a second glass transition point of 220 ° C. .
- Example 3 The heat conductive sheet 10 and the flexible wiring board 100 were produced using the polymer alloy which mix
- FIG. The polymer alloy has a storage modulus of 25 ° C. of 9.0 ⁇ 10 8 Pa, a storage modulus of 150 ° C. of 1.2 ⁇ 10 7 Pa, a first glass transition point of 32 ° C., and a second glass transition point of 188 ° C. .
- Example 4 The heat conductive sheet 10 and the flexible wiring board 100 were produced using the polymer alloy which mix
- FIG. The polymer alloy has a storage modulus of 25 ° C. of 5.8 ⁇ 10 8 Pa, a storage modulus of 150 ° C. of 4.0 ⁇ 10 6 Pa, a first glass transition point of 30 ° C., and a second glass transition point of 130 ° C. .
- the heat conductive sheet 10 and the flexible wiring board 100 were produced using the polymer alloy which mix
- FIG. The polymer alloy has a storage modulus of 25 ° C. of 7.0 ⁇ 10 8 Pa, a storage modulus of 150 ° C. of 1.1 ⁇ 10 6 Pa, a first glass transition point of 42 ° C., and a second glass transition point of 120 ° C. .
- thermoplastic polyimide which does not contain polyolefin-type elastomer and a thermosetting resin as the contact bonding layer 12.
- FIG. The thermoplastic polyimide has a 25 ° C. storage elastic modulus of 5.4 ⁇ 10 8 Pa, a 150 ° C. storage elastic modulus of 8.0 ⁇ 10 4 Pa, and a first glass transition point of 46 ° C.
- thermosetting resin which has as a main component the epoxy resin which does not contain polyolefin-type elastomer as the contact bonding layer 12.
- the polymer alloy has a 25 ° C. storage elastic modulus of 3.2 ⁇ 10 9 Pa, a 150 ° C. storage elastic modulus of 8.5 ⁇ 10 8 Pa, and a second glass transition point of 165 ° C.
- the evaluation sample used a heat conductive sheet 10 having a width of 15 mm and a length of 110 mm in order to make it easy to confirm the state of delamination.
- the load during the test was 500 g
- the bending angle was 135 °
- the bending clamp R was 0.38 mm
- the bending test was performed 1000 times.
- Evaluation sample used flexible wiring board 100 having a width of 20 mm and a length of 60 mm. After the 500 cycle test, the presence or absence of swelling of the sample appearance was confirmed. Moreover, in order to confirm the presence or absence of interlayer swelling, the copper of the wiring pattern 14a and the wiring pattern 14b was removed by an etching process, and the presence or absence of swelling inside the heat conductive sheet 10 was confirmed.
- Solder tank float heat resistance test >> A solder bath float heat resistance test, which is generally used for reliability evaluation of flexible substrates, was performed. Test conditions were 260 ° C. for 1 minute and 288 ° C. for 1 minute, respectively, under two conditions.
- Evaluation sample used flexible wiring board 100 having a width of 20 mm and a length of 60 mm. And the presence or absence of the swelling of the sample external appearance after a solder tank float heat test was confirmed. Moreover, in order to confirm the presence or absence of interlayer swelling, the copper of the wiring pattern 14a and the wiring pattern 14b was removed by an etching process, and the presence or absence of swelling inside the heat conductive sheet 10 was confirmed.
- the storage elastic modulus at 25 ° C. is 9.0 ⁇ 10 8 Pa or less from the viewpoint of ensuring folding resistance at room temperature.
- the adhesive layer 12 according to Comparative Example 1 has a glass transition point of 46 ° C. and, unlike the adhesive layers 12 according to Examples 1 to 5, does not have a glass transition point on the high temperature side, and is a single component thermoplastic polyimide It is. And since the storage elastic modulus at 150 ° C. is very low and it is in a state close to a melt at this temperature, the force to hold the wiring pattern 14 and the protective film 13 and the graphite sheet 11 is lost, and swell is generated Conceivable.
- the adhesive layer 12 including a polyolefin elastomer that is soft and sticky from a low temperature region to a high temperature region and a thermosetting resin that does not flow even in a high temperature region is desirable.
- the flexible wiring board 100 according to Comparative Example 1 was not subjected to a solder bath float heat test at 288 ° C. for 1 minute because an abnormality occurred as a result of the solder bath float heat test at 260 ° C. for 1 minute. Further, the flexible wiring board 100 according to Comparative Example 2 was not subjected to the solder bath float heat resistance test because it was abnormal as a result of the folding resistance test (indicated by “-” in Table 1).
- the material of the adhesive layer 12 has the physical property values according to Examples 1 to 5. It is desirable to have. Specifically, the material of the adhesive layer 12 desirably has a first glass transition point of ⁇ 46 ° C. or higher and 42 ° C. or lower, and a second glass transition point of 120 ° C. or higher and 240 ° C. or lower. The material of the adhesive layer 12 desirably has a storage elastic modulus at 150 ° C. in the range of 1.1 ⁇ 10 6 Pa to 1.3 ⁇ 10 8 Pa.
- the adhesive layer 12 By setting the first glass transition point of the adhesive layer 12 to ⁇ 46 ° C. or higher and 42 ° C. or lower and the second glass transition point to 120 ° C. or higher and 240 ° C. or lower, the adhesive layer 12, the graphite sheet 11, and the protective film 13 Adhesiveness to each becomes high.
- the adhesiveness of the contact bonding layer 12 and the graphite sheet 11 becomes high because the viscoelasticity in 150 degreeC shall be 1.1 * 10 ⁇ 6 > or more and 1.3 * 10 ⁇ 8 > Pa or less. That is, due to the above-described viscoelasticity of the adhesive layer 12, the softened adhesive layer 12 enters the irregularities on the surface of the graphite sheet 11, and the adhesion between the adhesive layer 12 and the graphite sheet 11 is increased.
- the first glass transition temperature is 3 ° C. or higher and 32 ° C. or lower
- the second glass transition temperature is 130 ° C. or higher and 220 ° C. or lower.
- the storage elastic modulus at 150 ° C. is preferably in the range of 4.0 ⁇ 10 6 Pa to 1.0 ⁇ 10 8 Pa.
- FIG. 3 is a cross-sectional view of the heat conductive sheet in the second embodiment.
- the heat conductive sheet 20 As shown in FIG. 3, in the heat conductive sheet 20 according to the present embodiment, only one first adhesive layer 22 is adhered to the upper surface of the graphite sheet 21, and the first protective film 23 is adhered to the upper surface of the first adhesive layer 22. Is different from the heat conductive sheet 10 according to the first embodiment in that only one sheet is bonded. Other configurations are basically the same as those of the heat conductive sheet 10 according to the first embodiment. Therefore, only the difference will be described in detail, and the description of other configurations will be simplified or omitted.
- the heat conductive sheet 20 includes a graphite sheet 21, a first adhesive layer 22, and a first protective film 23.
- the first adhesive layer 22 is bonded to the upper surface of the graphite sheet 21.
- the first adhesive layer 22 corresponds to the adhesive layer according to the present disclosure.
- the first protective film 23 is bonded to the upper surface of the first adhesive layer 22.
- the 1st protective film 23 corresponds to the protective film which concerns on this indication.
- the configuration of the heat conductive sheet 20 can be simplified and the thickness can be reduced. Therefore, the heat conductive sheet 20 is useful when the wiring pattern is mounted only on one side.
- FIG. 4 is a cross-sectional view of a flexible wiring board using the heat conductive sheet in the second embodiment.
- the flexible wiring board 200 includes a graphite sheet 21, a first adhesive layer 22, a first protective film 23, and a wiring pattern 24 that constitute the heat conductive sheet 20.
- the first protective film 23 is bonded to the lower surface of the graphite sheet 21 via the first adhesive layer 22, and the wiring pattern 24 is formed on the lower surface of the first protective film 23.
- the wiring pattern 24 is made of copper and has a thickness of 12 ⁇ m.
- a method of forming the wiring pattern 24 a method of forming a pattern by etching or the like on the first protective film 23 bonded to the graphite sheet 21 via the first adhesive layer 22, or a wiring on the first protective film 23 There is a method of bonding the graphite sheet 21 through the first adhesive layer 22 to the pattern 24 formed.
- the substrate protective layer 25a and the substrate protective layer 25b can be configured such that a liquid thermoplastic polyimide is applied and dried, or another film is bonded through the thermoplastic polyimide.
- the 1st contact bonding layer 22 which concerns on the heat conductive sheet 20 and It is desirable that the substrate protective layer 25a and the graphite sheet 21 are bonded together through an adhesive layer 28 made of the same material and configuration.
- the flexible wiring board 200 is provided with a heat generating component 26 serving as a heat source such as a camera unit and a connector component 27.
- the flexible wiring board 200 is used for the flexible wiring board. For this reason, when a component that easily generates heat, such as a camera module, is connected by a flexible wiring board, a countermeasure against heat becomes a problem.
- the flexible wiring board 200 according to the present embodiment the flexible wiring board 200 itself can have good thermal conductivity, and heat dissipation can be improved. As a result, a highly reliable flexible wiring board 200 can be obtained.
- the graphite sheet 21 has two thicknesses of 25 ⁇ m (hereinafter referred to as Example 1) and 70 ⁇ m (hereinafter referred to as Example 2).
- Example 1 the graphite sheet 21 has two thicknesses of 25 ⁇ m (hereinafter referred to as Example 1) and 70 ⁇ m (hereinafter referred to as Example 2).
- a ceramic heating element was attached instead of the heat generating component 26 of the flexible wiring board, and the temperature distribution on the surface of the flexible wiring board 200 when 0.7 W of power was supplied to the ceramic heating element was measured with a thermoviewer.
- the thermoviewer was disposed on the upper side of the drawing (substrate protective layer 25a side).
- FIG. 5 is a cross-sectional view of a flexible wiring board of a comparative example in the second embodiment.
- the wiring pattern 24 is laminated with a first protective film 23 and a substrate protective layer 25 made of polyimide and having a thickness of 30 ⁇ m.
- the flexible wiring board 250 is attached with a heat generating component 26 serving as a heat source such as a camera unit and a connector component 27.
- FIG. 6 is a diagram for explaining the temperature distribution of the flexible wiring board using the heat conductive sheet in the second embodiment.
- Example 6 the diagrams showing the temperature distributions of Example 1, Example 2, and Comparative Example are denoted by L1, L2, and LR, respectively.
- the vertical axis indicates the surface temperature of the flexible wiring board 200.
- the horizontal axis indicates the horizontal position of the flexible wiring board 200, the position a corresponds to the back surface of the heating element, and the position b corresponds to the connector connecting portion (see FIGS. 4 and 5).
- Example 2 was 61.3 ° C. That is, in Example 1 and Example 2 in which the flexible wiring board 200 includes the graphite sheet 21, the maximum temperature on the surface of the flexible wiring board 200 is lower by 20.3 ° C. to 17.4 ° C. than the comparative example. This is because the graphite sheet 21 diffuses heat toward the connector part 27.
- Example 2 In comparison between Example 1 (25 ⁇ m) and Example 2 (70 ⁇ m) in which the thickness of the graphite sheet 21 is different, Example 2 (70 ⁇ m) in which the thickness of the graphite sheet 21 is larger is more likely to diffuse heat. However, the difference in the effect due to the thickness of the graphite sheet 21 is smaller than the difference in the effect of the presence (Example 1 and Example 2) and the absence (Comparative Example) of the graphite sheet 21.
- the graphite sheet 21 included in the flexible wiring board 200 has an effect of diffusing the heat generated from the heat generating component 26 and keeping the temperature of the heat generating component 26 low.
- an adhesive made of a liquid polymer alloy in which a polyolefin elastomer, a thermosetting resin and a solvent are mixed is generated.
- This liquid adhesive is applied to the upper surface of the first protective film 23 and heated at 150 ° C. for 5 minutes to volatilize the solvent and dry the liquid adhesive.
- the first adhesive layer 22 is provided on the upper surface of the first protective film 23.
- the thickness of the 1st contact bonding layer 22 can be made thin by using a liquid adhesive agent.
- the graphite sheet 21 is disposed on the upper surface of the first adhesive layer 22, and this is laminated by heating to 150 ° C. while applying a load of 0.5 MPa in a vacuum state.
- thermosetting resin contained in the polymer alloy is cured by a crosslinking reaction of the thermosetting resin by heating to 200 ° C. while applying a load of 2.0 MPa in a vacuum state and holding for 60 minutes, thereby causing the first
- the adhesive layer 22 is cured.
- the heat conductive sheet 20 is manufactured through the above steps. That is, the manufacturing method of the heat conductive sheet 20 includes a step of applying a liquid adhesive containing a polyolefin-based elastomer, a thermosetting resin, and a solvent to the upper surface of the first protective film 23, and a solvent contained in the adhesive. And a step of providing the first adhesive layer 22 on the upper surface of the first protective film 23, a step of providing the graphite sheet 21 on the upper surface of the first adhesive layer 22, and a step of curing the first adhesive layer 22. .
- the temperature for heating the adhesive is preferably 100 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. This is because if it is less than 100 ° C., it takes too much time to dry, and if it exceeds 150 ° C., the thermosetting resin proceeds. That is, in the step of applying the liquid polymer alloy, it is preferable to dry in the above temperature range where the thermosetting resin is not cured.
- the temperature at which the graphite sheet 21 and the first protective film 23 to which the wiring pattern 24 is pasted is primarily laminated is preferably the temperature range in which the viscosity of the polymer alloy containing the polyolefin-based elastomer and the thermosetting resin is lowest. This is because by lowering the viscosity of the polymer alloy, the polymer alloy enters the concavo-convex portion of the graphite sheet 21 and the anchor effect works to improve the adhesion between the first adhesive layer 22 and the graphite sheet 21.
- This temperature range is, for example, 110 ° C. or more and 160 ° C. or less.
- the first adhesive layer 22 was applied with a polymer alloy containing a liquid polyolefin elastomer and a thermosetting resin and dried.
- a polymer alloy containing a sheet-like polyolefin-based elastomer and a thermosetting resin may be used as the first adhesive layer 22.
- the first protective film 23 to which the graphite sheet 21 and the wiring pattern 24 are attached is subjected to a primary laminating process so that air is not caught, and then the polymer alloy of the first adhesive layer 22 is cured by pressing.
- the temperature ranges from 160 ° C to 220 ° C. In other words, in the method of manufacturing the heat conductive sheet 20, in the step of curing the first adhesive layer 22, it is preferable to heat the first adhesive layer 22 at a temperature of 160 ° C or higher and 220 ° C or lower.
- the press curing temperature is preferably higher than the second glass transition point, but if it exceeds 220 ° C., the elastomer component contained in the first adhesive layer 22 is damaged, which is not preferable. That is, it is better to promote curing by working pressing at 220 ° C. for a long time than to thermally cure at a temperature exceeding 220 ° C.
- the heat conductive sheet according to the present disclosure and a flexible wiring board using the heat conductive sheet are industrially useful because a heat conductive sheet with high heat resistance can be obtained and a flexible wiring board with good heat dissipation can be obtained.
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Abstract
Description
本開示は、各種電子機器の放熱に用いられる熱伝導シート及びこれを用いたフレキシブル配線基板ならびに熱伝導シートの製造方法に関する。 The present disclosure relates to a heat conductive sheet used for heat dissipation of various electronic devices, a flexible wiring board using the heat conductive sheet, and a method for manufacturing the heat conductive sheet.
近年、各種電子機器の高機能化及び処理能力の急速な向上に伴い、半導体素子をはじめとする電子部品からの発熱量は増加傾向にある。そして、これら電子部品から発生した熱をヒートシンク等に伝達させるために、熱伝導シートが使用される。 In recent years, the amount of heat generated from electronic components such as semiconductor elements has been increasing as various electronic devices have advanced functions and processing capabilities have been rapidly improved. And in order to transmit the heat which generate | occur | produced from these electronic components to a heat sink etc., a heat conductive sheet is used.
熱伝導シートとして用いられるシート材料としてはグラファイトシートがあげられる。グラファイトシートは、厚み方向の熱伝導率よりも面方向の熱伝導率が高い。グラファイトシートを用いた熱伝導シートは、グラファイトシート自体が導電性を有するため熱伝導シートの表面には電気的な絶縁性を確保するための絶縁層が設けられる。 A sheet material used as a heat conductive sheet is a graphite sheet. The graphite sheet has a higher thermal conductivity in the plane direction than in the thickness direction. A heat conductive sheet using a graphite sheet is provided with an insulating layer for ensuring electrical insulation on the surface of the heat conductive sheet because the graphite sheet itself has conductivity.
なお、このような熱伝導シートに関連する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1が知られている。 For example, Patent Document 1 is known as prior art document information related to such a heat conductive sheet.
本開示の熱伝導シートは、グラファイトシートと、グラファイトシートの上面に接着している第1接着層と、第1接着層の上面に接着している第1保護フィルムとを備え、第1接着層は、少なくともポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂とを含み、第1保護フィルムのガラス転移点は、第1接着層のガラス転移点よりも高い。 A heat conductive sheet of the present disclosure includes a graphite sheet, a first adhesive layer bonded to the upper surface of the graphite sheet, and a first protective film bonded to the upper surface of the first adhesive layer, the first adhesive layer Includes at least a polyolefin-based elastomer and a thermosetting resin, and the glass transition point of the first protective film is higher than the glass transition point of the first adhesive layer.
上記の構成により、本開示の熱伝導シートは、高温下で使用される熱伝導シートとして有用である。 With the above configuration, the heat conductive sheet of the present disclosure is useful as a heat conductive sheet used at high temperatures.
以下で説明する実施の形態は、いずれも一具体例を示すものである。以下の実施の形態で示される数値、形状、材料、構成要素、構成要素の配置位置および接続形態などは、一例であり、本発明を限定する主旨ではない。また、以下の実施の形態における構成要素のうち、最上位概念を示す独立請求項に記載されていない構成要素については、任意の構成要素として説明される。 Each of the embodiments described below shows a specific example. Numerical values, shapes, materials, constituent elements, arrangement positions and connection forms of the constituent elements, and the like shown in the following embodiments are merely examples, and are not intended to limit the present invention. In addition, among the constituent elements in the following embodiments, constituent elements that are not described in the independent claims indicating the highest concept are described as optional constituent elements.
従来の熱伝導シートにおける問題点を説明する。 The problems with the conventional heat conductive sheet will be described.
電子部品における発熱量の増加に伴い、熱伝導シートは高温下での使用が求められている。従来の熱伝導シートは、グラファイトシートと接着層との熱膨張率の差に起因する熱ひずみによりグラファイトシートと接着層との間で剥離が発生してしまう可能性がある。すなわち、従来の熱伝導シートは耐熱性が低い。 With the increase in heat generation in electronic parts, heat conductive sheets are required to be used at high temperatures. In the conventional heat conductive sheet, there is a possibility that peeling occurs between the graphite sheet and the adhesive layer due to thermal strain caused by the difference in thermal expansion coefficient between the graphite sheet and the adhesive layer. That is, the conventional heat conductive sheet has low heat resistance.
以下、従来の熱伝導シートよりも耐熱性が高い本開示の熱伝導シートについて説明する。 Hereinafter, the heat conductive sheet of the present disclosure having higher heat resistance than the conventional heat conductive sheet will be described.
(実施の形態1)
[1-1.熱伝導シート]
図1は、実施の形態1における熱伝導シートの断面図である。
(Embodiment 1)
[1-1. Thermal conductive sheet]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a heat conductive sheet in the first embodiment.
図1に示すように、熱伝導シート10は、グラファイトシート11と、接着層12と、保護フィルム13とを備える。
As shown in FIG. 1, the heat
グラファイトシート11の厚みは、熱伝導性を確保するために厚いほうがよく、充分な熱伝導性を確保するために、10μm以上であることが望ましい。一方、グラファイトシート11の厚みは、熱伝導シート10の柔軟性を確保するために、70μm以下であることが望ましい。本実施の形態において、グラファイトシート11の厚みは、25μmである。
The thickness of the
グラファイトシート11は、高分子を熱分解して生成される熱分解グラファイトシートである。
The
接着層12は、グラファイトシート11の上面側に接着している第1接着層12aと、グラファイトシート11の下面側に接着している第2接着層12bと、グラファイトシート11の両端部(図1における左側および右側の端部をいう)に存在する接着層12cおよび接着層12dとで構成されている。よって、グラファイトシート11は、第1接着層12a、第2接着層12b、接着層12cおよび接着層12dで、図1における断面全体が覆われている。
The
第1接着層12a及び第2接着層12bの厚みは、接着性を確保するために、5μm以上であることが望ましい。一方、第1接着層12a及び第2接着層12bの厚みは、保護フィルム13の表面から接着層12を介してグラファイトシート11に熱を伝えるために、30μm以下であることが望ましい。本実施の形態において、第1接着層12a及び第2接着層12bの厚みは、25μmである。
The thickness of the first
接着層12は、ポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂を含むポリマーアロイで構成されている。接着層12は、2つのガラス転移点を有している。2つのガラス転移点のうち第1ガラス転移点は、ポリオレフィン系エラストマーの温度特性に関係し、第2ガラス転移点は熱硬化性樹脂の温度特性に関係する。第2ガラス転移点は、第1ガラス転移点よりも高い。ここで、本実施の形態に係るポリマーアロイのガラス転移点の詳細については、実施例にて後述する。
The
なお、本開示に係る接着層12について単にガラス転移点というとき、ガラス転移点とは第2ガラス転移点のことを指す。
Note that when the
また、本開示に係るガラス転移点の測定方法は、DMA(Dynamic Mechanical Analysis)により行っている。 In addition, the glass transition point measurement method according to the present disclosure is performed by DMA (Dynamic Mechanical Analysis).
接着層12に含まれるポリオレフィン系エラストマーとしては、スチレンエラストマー、ブタジエンエラストマー、アクリルエラストマーおよびポリオレフィンのブロック共重合体からなるエラストマーがあげられる。ポリオレフィン系エラストマーは、接着層12に弾性変形性能を付与し、かつポリオレフィン系エラストマー以外のエラストマーと比較して熱硬化性樹脂との相溶性が高い。
Examples of the polyolefin-based elastomer contained in the
接着層12に含まれる熱硬化性樹脂としては、ビスマレイミド樹脂およびエポキシ樹脂のような共重合体があげられる。接着層12は、これらの熱硬化性樹脂を含むことで高い機械強度と高い耐湿性を有する。
Examples of the thermosetting resin contained in the
保護フィルム13は、第1接着層12aの上面側に接着している第1保護フィルム13aと、第2接着層12bの下面側に接着している第2保護フィルム13bとで構成される。すなわち、第1保護フィルム13aおよび第2保護フィルム13bは、第1接着層12aおよび第2接着層12bを介して、グラファイトシート11に接着されている。
The
保護フィルム13もガラス転移点を有する。保護フィルム13のガラス転移点は、接着層12における第1ガラス転移点および第2ガラス転移点のいずれよりも高い。
The
第1保護フィルム13a及び第2保護フィルム13bの厚みは、絶縁性を確保するために、3μm以上であることが望ましい。一方、第1保護フィルム13a及び第2保護フィルム13bの厚みは、保護フィルム13の表面から接着層12を介してグラファイトシート11に熱を伝えるために、30μm以下であることが望ましい。本実施の形態において、第1保護フィルム13a及び第2保護フィルム13bの厚みは、15μmである。
The thickness of the first
本実施の形態において、保護フィルム13は、ポリイミドからなり、ガラス転移点は285℃である。保護フィルム13は、接着層12の第1ガラス転移点および第2ガラス転移点よりも高いガラス転移点を有するものであればよい。保護フィルム13の構成材料としてはポリイミドのほかに、液晶ポリマーおよびポリアミドイミドがあげられる。
In the present embodiment, the
また、保護フィルム13にはガラス転移点が融点よりも高いものを用いてもよい。この場合、保護フィルム13の融点が、接着層12のガラス転移点よりも高いものを用いればよい。
The
以上の構成により本開示の熱伝導シート10は、従来の熱伝導シートよりも高い耐熱性を有する。すなわち接着層12は、ポリオレフィン系エラストマーに起因する高い弾性変形性能を有する。そのため、接着層12は、グラファイトシート11と保護フィルム13との熱膨張率の差によって発生する熱応力を緩和させることができる。
With the above configuration, the heat
また、接着層12はポリオレフィン系エラストマーを含むことで、各種電子機器が使用される温度付近で高い柔軟性を有する。
Further, the
さらに、接着層12は、熱硬化性樹脂の架橋反応で熱硬化しているため、高い機械強度を有するとともに、高い耐湿性も有する。
Furthermore, since the
また、保護フィルム13のガラス転移点が、接着層12における第1ガラス転移点および第2ガラス転移点のいずれよりも高い。これにより、接着層12の第2ガラス転移点温度を超え、かつ保護フィルム13のガラス転移点以下の温度環境下において、保護フィルム13は軟化することなくその形状を保持する。一方、接着層12が軟化し、グラファイトシート11と保護フィルム13の間の線膨張率の差による歪みを緩和する。結果として、保護フィルム13の剥離あるいは破損等を抑制することができ、熱伝導シート10の形状を保持することができる。
Further, the glass transition point of the
熱伝導シート10は、グラファイトシート11の厚み方向中心を通りかつグラファイトシート11の主面と平行な平面に対して、厚み方向に対称な形状を有する。これにより、グラファイトシート11の上面側および下面側のそれぞれで発生する異材間の熱膨張差を、グラファイトシート11の上面側と下面側とで相殺し、熱伝導シート10の反りが抑制される。
The heat
グラファイトシート11は、端部が接着層12c及び接着層12dに覆われている。これにより、グラファイトシート11の端部におけるグラファイト片の脱離を抑制することができる。なお、グラファイトシート11の端部が、保護フィルム13で覆われる構成でも同様の効果が得られる。
The end of
さらにグラファイトシート11の全体が第1接着層12a、第2接着層12b、接着層12cおよび接着層12dに覆われることでグラファイトシート11は、外部応力から保護される。
Further, the
[1-2.フレキシブル配線基板]
次に、本実施の形態に係る熱伝導シートを用いたフレキシブル基板について説明する。
[1-2. Flexible wiring board]
Next, a flexible substrate using the heat conductive sheet according to the present embodiment will be described.
図2は、実施の形態1における熱伝導シートを用いたフレキシブル配線基板の断面図である。 FIG. 2 is a cross-sectional view of a flexible wiring board using the heat conductive sheet in the first embodiment.
図2に示すように、フレキシブル配線基板100は、熱伝導シート10を構成するグラファイトシート11、接着層12及び保護フィルム13と、配線パターン14とを有する。配線パターン14は、第1保護フィルム13aの上面に設けられた配線パターン14aと、第2保護フィルム13bの下面に設けられた配線パターン14bとで構成される。配線パターン14aおよび配線パターン14bは、ともに銅からなり、厚みはそれぞれ12μmである。配線パターン14a及び配線パターン14bには、適宜、電子部品が実装される。
As shown in FIG. 2, the
以上の構成により、本開示のフレキシブル配線基板100は、フレキシブル配線基板100に実装された電子部品で生じた熱を、熱伝導率の高いグラファイトシート11を介して拡散し、発熱部品の温度を低く抑えることができる。
With the above configuration, the
また、本開示のフレキシブル配線基板100は、1枚の熱伝導シート10の上下両面に対して、2つの配線パターン14a及び配線パターン14bを形成することができる。そのため、電子機器の小型化や部品点数の削減に有用である。
Moreover, the
[1-3.接着層材料の実施例]
本実施の形態に係る接着層12の材料について、実施例及び変形例について説明する。
[1-3. Example of adhesive layer material]
Examples and variations of the material of the
<接着層の材料組成>
(実施例1)
接着層12として、ポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂を配合したポリマーアロイを用いて、熱伝導シート10と、フレキシブル配線基板100を作製した。ポリマーアロイの25℃貯蔵弾性率は3.0×108Pa、150℃貯蔵弾性率は1.3×108Pa、第1ガラス転移点は-46℃、第2ガラス転移点は240℃である。
<Material composition of adhesive layer>
(Example 1)
The heat
(実施例2)
接着層12として、ポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂を配合したポリマーアロイを用いて、熱伝導シート10と、フレキシブル配線基板100を作製した。ポリマーアロイの25℃貯蔵弾性率は2.0×108Pa、150℃貯蔵弾性率は1.0×108Pa、第1ガラス転移点は3℃、第2ガラス転移点は220℃である。
(Example 2)
The heat
(実施例3)
接着層12として、ポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂を配合したポリマーアロイを用いて、熱伝導シート10と、フレキシブル配線基板100を作製した。ポリマーアロイの25℃貯蔵弾性率は9.0×108Pa、150℃貯蔵弾性率は1.2×107Pa、第1ガラス転移点は32℃、第2ガラス転移点は188℃である。
(Example 3)
The heat
(実施例4)
接着層12として、ポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂を配合したポリマーアロイを用いて、熱伝導シート10と、フレキシブル配線基板100を作製した。ポリマーアロイの25℃貯蔵弾性率は5.8×108Pa、150℃貯蔵弾性率は4.0×106Pa、第1ガラス転移点は30℃、第2ガラス転移点は130℃である。
Example 4
The heat
(実施例5)
接着層12として、ポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂を配合したポリマーアロイを用いて、熱伝導シート10と、フレキシブル配線基板100を作製した。ポリマーアロイの25℃貯蔵弾性率は7.0×108Pa、150℃貯蔵弾性率は1.1×106Pa、第1ガラス転移点は42℃、第2ガラス転移点は120℃である。
(Example 5)
The heat
(比較例1)
接着層12として、ポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂を含まない熱可塑性ポリイミドを用いて、熱伝導シート10と、フレキシブル配線基板100を作製した。熱可塑性ポリイミドの25℃貯蔵弾性率は5.4×108Pa、150℃貯蔵弾性率は8.0×104Pa、第1ガラス転移点は46℃である。
(Comparative Example 1)
The heat
(比較例2)
接着層12として、ポリオレフィン系エラストマーを含まないエポキシ樹脂を主成分とする熱硬化性樹脂を配合したポリマーアロイを用いて、熱伝導シート10と、フレキシブル配線基板100を作製した。
(Comparative Example 2)
The heat
ポリマーアロイの25℃貯蔵弾性率は3.2×109Pa、150℃貯蔵弾性率は8.5×108Pa、第2ガラス転移点は165℃である。 The polymer alloy has a 25 ° C. storage elastic modulus of 3.2 × 10 9 Pa, a 150 ° C. storage elastic modulus of 8.5 × 10 8 Pa, and a second glass transition point of 165 ° C.
<試験項目>
<<耐折性試験>>
グラファイトシート11、接着層12、保護フィルム13の密着性を確認するため、耐折性試験(MIT(Massachusetts Institute of Technology)試験)を行なった。
<Test items>
<< Folding resistance test >>
In order to confirm the adhesion of the
評価サンプルは、層間剥離の状態を確認しやすくするために、幅15mm、長さ110mmの熱伝導シート10を用いた。試験時の荷重を500g、折り曲げ角度を135°、折り曲げクランプRを0.38mmとし、折り曲げ試験を1000回行なった。
The evaluation sample used a heat
<<ヒートサイクル試験>>
グラファイトシート11、接着層12、保護フィルム13の各構成材料間の熱膨張率の差が、各層間の密着性へ与える影響を確認するため、-40℃~150℃の範囲で、保持時間を各30分間とするヒートサイクル試験を、500サイクル行なった。
<< Heat cycle test >>
In order to confirm the influence of the difference in thermal expansion coefficient between the constituent materials of the
評価サンプルは幅20mm、長さ60mmのフレキシブル配線基板100を用いた。500サイクル試験後、サンプル外観の膨れの有無を確認した。また、層間膨れの有無を確認するため、配線パターン14a及び配線パターン14bの銅をエッチング処理で除去し、熱伝導シート10の内部の膨れの有無を確認した。
Evaluation sample used
<<ハンダ槽フロート耐熱試験>>
フレキシブル基板の信頼性評価に一般的に活用されている、ハンダ槽フロート耐熱試験を行なった。試験条件は260℃で1分間と、288℃で1分間の、それぞれ2条件において行なった。
<< Solder tank float heat resistance test >>
A solder bath float heat resistance test, which is generally used for reliability evaluation of flexible substrates, was performed. Test conditions were 260 ° C. for 1 minute and 288 ° C. for 1 minute, respectively, under two conditions.
評価サンプルは幅20mm、長さ60mmのフレキシブル配線基板100を用いた。そして、ハンダ槽フロート耐熱試験後のサンプル外観の膨れの有無を確認した。また、層間膨れの有無を確認するため、配線パターン14a及び配線パターン14bの銅をエッチング処理で除去し、熱伝導シート10の内部の膨れの有無を確認した。
Evaluation sample used
<試験結果>
<<耐折性試験>>
1000回の折り曲げ試験で層間に剥離が生じなかったものを正常(表1中に「○」で示す)、剥離が生じたものを異常(表1中に「×」で示す)とした。その結果を表1に示す。
<Test results>
<< Folding resistance test >>
Those in which peeling did not occur between the layers in the 1000-fold bending test were normal (indicated by “◯” in Table 1), and those in which peeling occurred were abnormal (indicated by “x” in Table 1). The results are shown in Table 1.
1000回の折り曲げ試験で異常が発生しなかったのは、接着層12にポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂を含む実施例1~実施例5に係る熱伝導シート10と、接着層12に熱可塑性ポリイミドを用いた比較例1に係る熱伝導シート10である。一方、接着層12にエポキシ樹脂を主成分とする熱硬化性樹脂を用いた比較例2に係る熱伝導シート10は、グラファイトシート11と接着層12の界面で膨れが発生していた。この原因としては比較例2の接着層12が、熱硬化性材料で構成されており、常温で硬く柔軟性を有していないためである。
No abnormality occurred in the 1000-fold bending test because the heat-
以上の結果より、常温における耐折性確保の観点では、25℃での貯蔵弾性率は9.0×108Pa以下であることが望ましい。 From the above results, it is desirable that the storage elastic modulus at 25 ° C. is 9.0 × 10 8 Pa or less from the viewpoint of ensuring folding resistance at room temperature.
<<ヒートサイクル試験>>
サンプル外観の膨れ及び内部の膨れの確認において、ともに膨れが発生していないものを正常(表1中に「○」で示す)、いずれかに膨れが発生しているものを異常(表1中に「×」で示す)とした。結果を表1に示す。
<< Heat cycle test >>
In the confirmation of the swelling of the external appearance of the sample and the swelling of the inside, those that are not swollen are normal (indicated by “◯” in Table 1), and those that are swollen are abnormal (in Table 1) (Indicated by “x”). The results are shown in Table 1.
500回のヒートサイクル試験で異常が発生しなかったのは、接着層12にポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂を含む実施例1~実施例5に係るフレキシブル配線基板100である。一方、接着層12に熱可塑性ポリイミドを用いた比較例1に係るフレキシブル配線基板100は、配線パターン14と保護フィルム13の界面に小さなうねりが発生していた。なお、比較例2に係るフレキシブル配線基板100は、耐折性試験の結果、異常が発生したため、ヒートサイクル試験には供していない(表1中に「―」で示す)。
No abnormality occurred in the 500 heat cycle tests in the
比較例1に係る接着層12は、ガラス転移点が46℃であり、実施例1~実施例5に係る接着層12と異なり高温側にガラス転移点を有しない、単一成分の熱可塑性ポリイミドである。そして、150℃の貯蔵弾性率は極めて低く、この温度では融液に近い状態となっているため、配線パターン14及び保護フィルム13と、グラファイトシート11を繋ぎ止める力がなくなり、うねりが発生したと考えられる。
The
以上の結果より、熱膨張率が極めて小さいグラファイトシート11と、熱膨張率が14ppm/℃~20ppm/℃の保護フィルム13との熱膨張率の差を吸収し、接着力を維持するためには、低温域から高温域に亘って柔らかく、かつ、粘着性を備えたポリオレフィン系エラストマーと、高温域においても流動の起こらない熱硬化性樹脂を含んだ本開示に係る接着層12が望ましい。
From the above results, in order to absorb the difference in the thermal expansion coefficient between the
<<ハンダ槽フロート耐熱試験>>
サンプル外観の膨れ及び内部の膨れの確認において、ともに膨れが発生していないものを正常(表1中に○で示す)、いずれかに膨れが発生しているものを異常(表1中に×で示す)とした。結果を表1に示す。
<< Solder tank float heat resistance test >>
In the confirmation of the swelling of the external appearance of the sample and the swelling inside, it is normal that no swelling occurs (indicated by a circle in Table 1), and any one that has swelling is abnormal (× in Table 1) ). The results are shown in Table 1.
260℃、1分間のハンダ槽フロート耐熱試験で異常が発生しなかったのは、接着層12にポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂を含む実施例1~実施例5に係るフレキシブル配線基板100である。一方、接着層12に熱可塑性ポリイミドを用いた比較例1に係るフレキシブル配線基板100は、接着層12が流動し、外観異常が発生した。この原因としては、比較例1に係る接着層12はガラス転移点が46℃と低く、熱可塑性材料であるためである。
No abnormality occurred in the solder bath float heat resistance test at 260 ° C. for 1 minute in the
288℃、1分間のハンダ槽フロート耐熱試験で異常が発生しなかったのは、第1ガラス転移点温度が実施例2~実施例4に係るフレキシブル配線基板100である。一方、実施例1および実施例5に係るフレキシブル配線基板100は、配線パターン14のエッチング確認により、グラファイトシート11と接着層12の界面に膨れが発生した。
No abnormality occurred in the solder bath float heat resistance test at 288 ° C. for 1 minute in the
なお、比較例1に係るフレキシブル配線基板100は、260℃、1分間のハンダ槽フロート耐熱試験の結果、異常が発生したため、288℃、1分間のハンダ槽フロート耐熱試験には供していない。また、比較例2に係るフレキシブル配線基板100は、耐折性試験の結果、異常が発生したため、ハンダ槽フロート耐熱試験には供していない(表1中に「―」で示す)。
Note that the
以上の結果より、-40℃~150℃の範囲におけるヒートサイクル試験及び260℃ハンダ槽耐熱フロート試験では、実施例1~実施例5の接着層12に異常は発生しなかった。よって、熱伝導シート10やフレキシブル配線基板100について信頼性を確保すべき温度域を-40℃以上260℃以下とすると、接着層12の材料は、実施例1~実施例5に係る物性値を有していることが望ましい。具体的には、接着層12の材料は、第1ガラス転移点が-46℃以上42℃以下であり、第2ガラス転移点が120℃以上240℃以下であることが望ましい。また、接着層12の材料は、150℃における貯蔵弾性率が1.1×106Pa以上1.3×108Pa以下の範囲であることが望ましい。
From the above results, in the heat cycle test in the range of −40 ° C. to 150 ° C. and the 260 ° C. solder bath heat resistant float test, no abnormality occurred in the
接着層12の第1ガラス転移点を-46℃以上42℃以下とし、第2ガラス転移点を120℃以上240℃以下とすることで、接着層12と、グラファイトシート11および保護フィルム13とのそれぞれに対する密着性が高くなる。
By setting the first glass transition point of the
また、150℃における粘弾性を1.1×106以上1.3×108Pa以下とすることで、接着層12とグラファイトシート11との密着性が高くなる。すなわち、接着層12の上述した粘弾性により、軟化した接着層12がグラファイトシート11の表面の凹凸に入り込み、接着層12とグラファイトシート11との密着性が高くなる。
Moreover, the adhesiveness of the
さらに、-40℃から288℃の温度域で信頼性を確保するためには、288℃ハンダ槽耐熱フロート試験で異常が発生しなかった、実施例2~実施例4に係る物性値を有する接着層12が望ましい。具体的には、第1ガラス転移点温度が3℃以上32℃以下、第2ガラス転移点温度が130℃以上220℃以下であることが望ましい。また、150℃における貯蔵弾性率が4.0×106Pa~1.0×108Paの範囲であることが望ましい。
Furthermore, in order to ensure the reliability in the temperature range of −40 ° C. to 288 ° C., no abnormality occurred in the 288 ° C. solder bath heat-resistant float test, and the adhesion having the physical property values according to Examples 2 to 4
(実施の形態2)
[2-1.熱伝導シート]
図3は、実施の形態2における熱伝導シートの断面図である。
(Embodiment 2)
[2-1. Thermal conductive sheet]
FIG. 3 is a cross-sectional view of the heat conductive sheet in the second embodiment.
図3に示すように、本実施の形態に係る熱伝導シート20は、グラファイトシート21の上面に第1接着層22を1層のみ接着し、第1接着層22の上面に第1保護フィルム23を1枚のみ接着している点において、実施の形態1に係る熱伝導シート10と相違する。その他の構成については、基本的に実施の形態1に係る熱伝導シート10と略同様である。したがって、上記相違点についてのみ詳細に説明し、その他の構成については説明を簡略もしくは省略する。
As shown in FIG. 3, in the heat
熱伝導シート20は、グラファイトシート21と、第1接着層22と、第1保護フィルム23とを備える。
The heat
第1接着層22は、グラファイトシート21の上面に接着している。なお、第1接着層22が本開示に係る接着層に該当する。
The first
第1保護フィルム23は、第1接着層22の上面に接着している。なお、第1保護フィルム23が本開示に係る保護フィルムに該当する。
The first
かかる構成によれば、熱伝導シート20の構成を簡略化でき、また厚みも薄くできる。そのため、熱伝導シート20は、配線パターンを片面にのみ実装する場合において有用である。
According to such a configuration, the configuration of the heat
[2-2.フレキシブル配線基板]
次に本実施の形態に係る熱伝導シートを用いたフレキシブル配線基板について説明する。
[2-2. Flexible wiring board]
Next, a flexible wiring board using the heat conductive sheet according to the present embodiment will be described.
図4は実施の形態2における熱伝導シートを用いたフレキシブル配線基板の断面図である。 FIG. 4 is a cross-sectional view of a flexible wiring board using the heat conductive sheet in the second embodiment.
図4に示すように、フレキシブル配線基板200は、熱伝導シート20を構成するグラファイトシート21、第1接着層22及び第1保護フィルム23と、配線パターン24とを備える。そして、グラファイトシート21の下面に第1接着層22を介して第1保護フィルム23が貼り合わされ、さらに第1保護フィルム23の下面に配線パターン24が形成されている。
As shown in FIG. 4, the
配線パターン24は銅からなり、厚さは12μmである。配線パターン24を形成する方法として、グラファイトシート21に第1接着層22を介して貼りあわせた第1保護フィルム23の上にエッチング等でパターン形成する方法、あるいは第1保護フィルム23の上に配線パターン24を形成したものに、第1接着層22を介してグラファイトシート21を貼りあわせる等の方法がある。
The
グラファイトシート21の上面には、フレキシブル配線基板200の上面を保護する基板保護層25aを設けることが望ましい。また、配線パターン24の下面には、フレキシブル配線基板200の下面を保護する基板保護層25bを設けることが望ましい。基板保護層25a及び基板保護層25bは、液状の熱可塑性ポリイミドを塗布して乾燥させる、あるいは熱可塑性ポリイミドを介して他のフィルムを貼りあわせる等の構成をとることができる。なお、グラファイトシート21の上面に基板保護層25aを設ける場合、高温環境下におけるグラファイトシート21と基板保護層25aとの接着力を確保するために、熱伝導シート20に係る第1接着層22と同様の材料及び構成からなる接着層28を介して、基板保護層25aとグラファイトシート21が貼り合わされることが望ましい。
It is desirable to provide a substrate
フレキシブル配線基板200には、カメラユニットなどの熱源となる発熱部品26と、コネクタ部品27が取り付けられている。
The
通常、フレキシブル配線基板には熱伝導率の低いポリイミドが用いられる。そのため、カメラモジュール等のように発熱しやすい部品をフレキシブル配線基板によって接続する場合、熱対策が課題となる。これに対して本実施の形態に係るフレキシブル配線基板200によれば、フレキシブル配線基板200そのものに良好な熱伝導性をもたせることができ、放熱性を向上させることができる。その結果、信頼性の高いフレキシブル配線基板200を得ることができる。
Usually, polyimide having low thermal conductivity is used for the flexible wiring board. For this reason, when a component that easily generates heat, such as a camera module, is connected by a flexible wiring board, a countermeasure against heat becomes a problem. On the other hand, according to the
[2-3.フレキシブル配線基板の実施例]
次に、本実施の形態に係る熱伝導シート20を用いたフレキシブル配線基板200の実施例を説明する。
[2-3. Example of flexible wiring board]
Next, examples of the
図4において、グラファイトシート21の厚みは25μm(以下、実施例1とする)と70μm(以下、実施例2とする)の2種類とする。そして、フレキシブル配線基板の発熱部品26の替わりにセラミック発熱体を取り付け、このセラミック発熱体に0.7Wの電力を供給したときのフレキシブル配線基板200表面の温度分布を、サーモビュアーで測定した。サーモビュアーは図面上方側(基板保護層25a側)に配置した。
In FIG. 4, the
図5は、実施の形態2における比較例のフレキシブル配線基板の断面図である。 FIG. 5 is a cross-sectional view of a flexible wiring board of a comparative example in the second embodiment.
図5に示すように、比較例のフレキシブル配線基板250は、配線パターン24が、ポリイミドからなる30μm厚の第1保護フィルム23及び基板保護層25でラミネート加工されている。そして、フレキシブル配線基板250には、カメラユニットなどの熱源となる発熱部品26と、コネクタ部品27が取り付けられている。
As shown in FIG. 5, in the
図6は、実施の形態2における熱伝導シートを用いたフレキシブル配線基板の温度分布を説明するための図である。 FIG. 6 is a diagram for explaining the temperature distribution of the flexible wiring board using the heat conductive sheet in the second embodiment.
図6において、実施例1、実施例2及び比較例の温度分布を示す線図をそれぞれL1、L2、LRとする。図6において、縦軸はフレキシブル配線基板200の表面温度を示す。図6において、横軸はフレキシブル配線基板200の水平方向の位置を示し、位置aは発熱体の裏面、位置bはコネクタの接続部に相当する(図4及び図5参照)。
6, the diagrams showing the temperature distributions of Example 1, Example 2, and Comparative Example are denoted by L1, L2, and LR, respectively. In FIG. 6, the vertical axis indicates the surface temperature of the
図6に示すように、セラミック発熱体へ0.7Wの電力を供給したときの位置aの温度は、比較例が81.6℃であるのに対し、実施例1が64.2℃、実施例2が61.3℃であった。つまり、フレキシブル配線基板200にグラファイトシート21を備える実施例1及び実施例2において、フレキシブル配線基板200表面の最高温度は、比較例に対して20.3℃~17.4℃低下している。これは、グラファイトシート21が、コネクタ部品27の方向へ熱を拡散させているからである。
As shown in FIG. 6, the temperature at position a when 0.7 W of electric power was supplied to the ceramic heating element was 81.6 ° C. in the comparative example, while 64.2 ° C. in Example 1. Example 2 was 61.3 ° C. That is, in Example 1 and Example 2 in which the
グラファイトシート21の厚みが異なる実施例1(25μm)と実施例2(70μm)との比較においては、グラファイトシート21の厚みが大きい実施例2(70μm)のほうが熱を拡散させやすい。しかし、グラファイトシート21の有り(実施例1及び実施例2)と無し(比較例)の効果の差に比べて、グラファイトシート21の厚みによる効果の差は小さい。
In comparison between Example 1 (25 μm) and Example 2 (70 μm) in which the thickness of the
以上のように、フレキシブル配線基板200が備えるグラファイトシート21は、発熱部品26から発生した熱を拡散し、発熱部品26の温度を低く抑える効果を有している。
As described above, the
[2-4.製造方法]
熱伝導シート20の製造方法について一例を説明する。
[2-4. Production method]
An example of the manufacturing method of the heat
まず、ポリオレフィン系エラストマー、熱硬化性樹脂と溶剤を混合した液状のポリマーアロイからなる接着剤を生成する。この液状の接着材を第1保護フィルム23の上面に塗布し、150℃で5分間加熱することで溶剤を揮発させて液状の接着材を乾燥させる。そうすることで、第1保護フィルム23の上面に第1接着層22を設ける。このように、液状の接着剤を用いることで、第1接着層22の厚みを薄くすることができる。
First, an adhesive made of a liquid polymer alloy in which a polyolefin elastomer, a thermosetting resin and a solvent are mixed is generated. This liquid adhesive is applied to the upper surface of the first
次に、第1接着層22の上面にグラファイトシート21を配置し、これを真空状態で0.5MPaの荷重を加えながら150℃に加熱してラミネート加工する。
Next, the
次に、真空状態で2.0MPaの荷重を加えながら200℃に加熱し、60分間保持することで、熱硬化性樹脂の架橋反応によりポリマーアロイに含まれる熱硬化性樹脂を硬化させて第1接着層22を硬化させる。
Next, the thermosetting resin contained in the polymer alloy is cured by a crosslinking reaction of the thermosetting resin by heating to 200 ° C. while applying a load of 2.0 MPa in a vacuum state and holding for 60 minutes, thereby causing the first The
以上の工程を経て熱伝導シート20は製造される。すなわち、熱伝導シート20の製造方法は、ポリオレフィン系エラストマーと、熱硬化性樹脂と、溶剤とを含む液状の接着剤を第1保護フィルム23の上面に塗布するステップと、接着剤に含まれる溶剤を揮発させて第1保護フィルム23の上面に第1接着層22を設けるステップと、第1接着層22の上面にグラファイトシート21を設けるステップと、第1接着層22を硬化させるステップとを備える。
The heat
ここで、熱伝導シート20及びフレキシブル配線基板200を製造する上での留意点を記載する。
Here, notes on manufacturing the heat
接着剤のポリマーアロイに含まれる溶剤を揮発させるとき、接着剤を加熱する温度は100℃以上150℃以下の範囲が良い。100℃未満では乾燥に時間がかかりすぎ、150℃を超えると熱硬化性樹脂の硬化が進行するからである。すなわち、液状のポリマーアロイを塗布する段階では、熱硬化性樹脂が硬化しない上記温度範囲で乾燥するのが良い。 When the solvent contained in the polymer alloy of the adhesive is volatilized, the temperature for heating the adhesive is preferably 100 ° C. or higher and 150 ° C. or lower. This is because if it is less than 100 ° C., it takes too much time to dry, and if it exceeds 150 ° C., the thermosetting resin proceeds. That is, in the step of applying the liquid polymer alloy, it is preferable to dry in the above temperature range where the thermosetting resin is not cured.
グラファイトシート21と、配線パターン24を貼り付けられた第1保護フィルム23を一次ラミネート加工する温度は、ポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂を含んだポリマーアロイの粘度が最も低い温度領域が良い。ポリマーアロイの粘度を低くすることでグラファイトシート21の凹凸部にポリマーアロイが入り込み、アンカー効果が働いて第1接着層22とグラファイトシート21との密着性が良好となるからである。この温度範囲は、例えば110℃以上160℃以下である。
The temperature at which the
上記においては、第1接着層22の厚さを薄くするために、第1接着層22に液状のポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂を含むポリマーアロイを塗布して乾燥させたものを用いた。しかし、シート状のポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂を含むポリマーアロイを第1接着層22として用いてもよい。
In the above, in order to reduce the thickness of the first
グラファイトシート21と配線パターン24が貼り付けられた第1保護フィルム23を、空気を噛み込まないように一次ラミネート加工し、その後、第1接着層22のポリマーアロイをプレス加工にて硬化させるときの温度は160℃以上220℃以下の範囲である。言い換えると、熱伝導シート20の製造方法において、第1接着層22を硬化させるステップでは、第1接着層22を160℃以上220℃以下の温度で加熱することが好ましい。
The first
このとき、プレス硬化温度は第2ガラス転移点より高い温度が好ましいが、220℃を超えると第1接着層22に含まれるエラストマー成分に損傷を与え好ましくない。すなわち、220℃を超える温度で熱硬化させるよりも、220℃で長時間加工プレスすることにより硬化を促す方が良い。
At this time, the press curing temperature is preferably higher than the second glass transition point, but if it exceeds 220 ° C., the elastomer component contained in the first
本開示に係る熱伝導シート及びこれを用いたフレキシブル配線基板は、耐熱性の高い熱伝導シートが得られるとともに、放熱性の良いフレキシブル配線基板を得ることができ、産業上有用である。 The heat conductive sheet according to the present disclosure and a flexible wiring board using the heat conductive sheet are industrially useful because a heat conductive sheet with high heat resistance can be obtained and a flexible wiring board with good heat dissipation can be obtained.
10,20 熱伝導シート
11,21 グラファイトシート
12 接着層
12a,22 第1接着層
12b 第2接着層
13 保護フィルム
13a,23 第1保護フィルム
13b 第2保護フィルム
100,200 フレキシブル配線基板
14,14a,14b,24 配線パターン
10, 20 Thermal
Claims (12)
前記グラファイトシートの上面に接着している第1接着層と、
前記第1接着層の上面に接着している第1保護フィルムと、
を備え、
前記第1接着層は、少なくともポリオレフィン系エラストマーと熱硬化性樹脂とを含み、前記第1保護フィルムのガラス転移点は、前記第1接着層のガラス転移点よりも高い、
熱伝導シート。 Graphite sheet,
A first adhesive layer adhered to the upper surface of the graphite sheet;
A first protective film adhered to the upper surface of the first adhesive layer;
With
The first adhesive layer includes at least a polyolefin-based elastomer and a thermosetting resin, and the glass transition point of the first protective film is higher than the glass transition point of the first adhesive layer.
Thermal conductive sheet.
請求項1記載の熱伝導シート。 The first adhesive layer is obtained by applying a liquid adhesive composed of the polyolefin-based elastomer, the thermosetting resin, and a solvent to the first protective film and drying it.
The heat conductive sheet according to claim 1.
第1ガラス転移点は、-46℃以上42℃以下であり、
第2ガラス転移点は、120℃以上240℃以下である、
請求項1記載の熱伝導シート。 The first adhesive layer has a first glass transition point and a second glass transition point,
The first glass transition point is −46 ° C. or higher and 42 ° C. or lower,
The second glass transition point is 120 ° C. or higher and 240 ° C. or lower.
The heat conductive sheet according to claim 1.
前記第1保護フィルムの厚みは、3μm以上30μm以下である、
請求項1に記載の熱伝導シート。 The graphite sheet has a thickness of 10 μm or more and 70 μm or less,
The thickness of the first protective film is 3 μm or more and 30 μm or less.
The heat conductive sheet according to claim 1.
請求項1に記載の熱伝導シート。 The thickness of the first adhesive layer is 5 μm or more and 30 μm or less.
The heat conductive sheet according to claim 1.
前記第1接着層の150℃における貯蔵弾性率は、1.1×106以上1.3×108Pa以下である、
請求項1に記載の熱伝導シート。 The storage elastic modulus at 25 ° C. of the first adhesive layer is 9.0 × 10 8 Pa or less,
The storage elastic modulus at 150 ° C. of the first adhesive layer is 1.1 × 10 6 or more and 1.3 × 10 8 Pa or less.
The heat conductive sheet according to claim 1.
前記第2接着層の下面に接着している第2保護フィルムと、
をさらに備え、
前記第2接着層は前記第1接着層と同一の材料からなり、前記第2保護フィルムは前記第1保護フィルムと同一の材料からなる、
請求項1に記載の熱伝導シート。 A second adhesive layer adhered to the lower surface of the graphite sheet;
A second protective film adhered to the lower surface of the second adhesive layer;
Further comprising
The second adhesive layer is made of the same material as the first adhesive layer, and the second protective film is made of the same material as the first protective film.
The heat conductive sheet according to claim 1.
フレキシブル配線基板。 The wiring pattern is provided in the upper surface of the said 1st protective film in the heat conductive sheet of Claim 1,
Flexible wiring board.
フレキシブル配線基板。 The wiring pattern is provided in at least any one of the upper surface of the said 1st protective film in the heat conductive sheet of Claim 7, or the lower surface of the said 2nd protective film,
Flexible wiring board.
前記接着剤に含まれる前記溶剤を揮発させて前記保護フィルムの上面に接着層を設けるステップと、
前記接着層の上面にグラファイトシートを設けるステップと、
前記接着層を硬化させるステップと、
を備えた、
熱伝導シートの製造方法。 Applying a liquid adhesive containing a polyolefin-based elastomer, a thermosetting resin, and a solvent to the upper surface of the protective film;
Volatilizing the solvent contained in the adhesive to provide an adhesive layer on the upper surface of the protective film;
Providing a graphite sheet on the upper surface of the adhesive layer;
Curing the adhesive layer;
With
Manufacturing method of heat conductive sheet.
請求項10に記載の熱伝導シートの製造方法。 In the step of volatilizing the solvent, the adhesive is heated at a temperature of 100 ° C. or higher and 150 ° C. or lower.
The manufacturing method of the heat conductive sheet of Claim 10.
請求項10に記載の熱伝導シートの製造方法。 In the step of curing the adhesive layer, the adhesive layer is heated at a temperature of 160 ° C. or higher and 220 ° C. or lower.
The manufacturing method of the heat conductive sheet of Claim 10.
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