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WO2016178436A3 - 液体処理ノズル、それを用いた液体処理方法、ガス溶解方法及びガス溶解装置 - Google Patents

液体処理ノズル、それを用いた液体処理方法、ガス溶解方法及びガス溶解装置 Download PDF

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WO2016178436A3
WO2016178436A3 PCT/JP2016/064072 JP2016064072W WO2016178436A3 WO 2016178436 A3 WO2016178436 A3 WO 2016178436A3 JP 2016064072 W JP2016064072 W JP 2016064072W WO 2016178436 A3 WO2016178436 A3 WO 2016178436A3
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liquid
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gas dissolution
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啓雄 加藤
芝塚　全功
英弘 甲斐
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Water Design Corp
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Water Design Corp
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F25/00—Flow mixers; Mixers for falling materials, e.g. solid particles
    • B01F25/40—Static mixers

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  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract

偏流の影響を解消して十分なキャビテーション効果、ひいてはそれによる微細気泡発生効果ないしガス溶解効率を引き出すことができる液体処理ノズルを提供する。　液体処理ノズル１は、液体流路３が形成されたノズル本体２２と、液体流路３を液体入口４側の流入室６と液体出口５側の流出室７とに区画する隔壁部８と、隔壁部８に貫通形成され流入室６と流出室７とを互いに別経路にて連通させる複数の絞り孔９と、絞り孔９の内面から各々突出するとともに外周面に周方向の山部１１と高流速部となる谷部１２とが複数交互に連なるように形成された衝突部１０とからなる処理コア部ＣＯＲＥとを備える。 絞り孔９は、それら絞り孔９の軸断面積の合計と等価な円の直径をｄｅ、絞り孔９の長さをＬとして、Ｌ／ｄｅにて定義される絞り孔９アスペクト比が３．５以下に設定され、ズル本体２の軸線と直交する平面への投影において、隔壁部８の投影領域の中心位置に定められた基準点から複数の絞り孔９の内周縁までの距離Ｔが該絞り孔９の内径ｄよりも小さくなる程度に近接配置される。
PCT/JP2016/064072 2015-05-07 2016-05-02 液体処理ノズル、それを用いた液体処理方法、ガス溶解方法及びガス溶解装置 Ceased WO2016178436A2 (ja)

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