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WO2016159025A1 - ポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形体 - Google Patents

ポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形体 Download PDF

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WO2016159025A1
WO2016159025A1 PCT/JP2016/060274 JP2016060274W WO2016159025A1 WO 2016159025 A1 WO2016159025 A1 WO 2016159025A1 JP 2016060274 W JP2016060274 W JP 2016060274W WO 2016159025 A1 WO2016159025 A1 WO 2016159025A1
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WO
WIPO (PCT)
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group
carbon atoms
polycarbonate
polyorganosiloxane
polycarbonate resin
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2016/060274
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
亜起 山田
石川　康弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Priority to US15/561,953 priority patent/US10975195B2/en
Priority to JP2017510067A priority patent/JP6699860B2/ja
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    • C08G64/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbonic ester link in the main chain of the macromolecule
    • C08G64/18—Block or graft polymers
    • C08G64/186—Block or graft polymers containing polysiloxane sequences
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/42—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences
    • C08G77/445—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyester sequences
    • C08G77/448—Block-or graft-polymers containing polysiloxane sequences containing polyester sequences containing polycarbonate sequences

Definitions

  • the present invention relates to a polycarbonate resin composition having excellent transparency and low temperature impact resistance, and a molded product thereof.
  • the polycarbonate resin has attracted attention because of its excellent properties such as high impact resistance, chemical resistance, and flame retardancy. Therefore, it is expected to be widely used in various fields such as the electric / electronic equipment field and the automobile field. In particular, the use of portable telephones, mobile personal computers, digital cameras, video cameras, power tools and other housings, and other daily necessities is expanding.
  • a typical polycarbonate a homopolycarbonate using 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane (common name: bisphenol A) as a dihydric phenol as a raw material is generally used.
  • PC-POS polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer
  • PC-POS polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer
  • Patent Documents 1 to 3 In order to improve the impact resistance of a polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer, particularly impact resistance at low temperatures, as disclosed in Patent Document 3, a method using a polyorganosiloxane having a long chain length is known. It has been. However, this method has a problem that transparency is lowered.
  • Patent Documents 4 and 5 a method using a polyorganosiloxane having a relatively short chain length is known (see Patent Documents 4 and 5).
  • this method has a problem that impact resistance is lowered.
  • Patent Document 6 an attempt is made to improve transparency while maintaining excellent impact resistance by blending two kinds of polycarbonate-polyorganosiloxane copolymers having different light transmittances. Transparency was not sufficient.
  • it has been difficult for conventional polycarbonate-polyorganosiloxane copolymers to achieve both excellent transparency and impact resistance, particularly impact resistance at low temperatures.
  • An object of the present invention is to provide a polycarbonate resin composition having excellent transparency and impact resistance, particularly impact resistance at low temperatures, and a molded product thereof.
  • the present inventors have found that the above problem can be achieved by controlling the molecular weight distribution of the polyorganosiloxane block of the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer contained in the polycarbonate resin composition to a specific region. . That is, the present invention relates to the following 1 to 14. 1. 10 to 90% by mass of the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (E-1), and 10 to 90% by mass of the aromatic polycarbonate resin (E-2) other than the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (E-1).
  • the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (E-1) includes a polycarbonate block (A) composed of a repeating unit represented by the following general formula (I) and a repeating unit represented by the following general formula (II): Having a polyorganosiloxane block (B),
  • the polyorganosiloxane block (B) is obtained by measurement by gel permeation chromatography using polystyrene as a conversion standard, the horizontal axis is the logarithmic value log (M) of molecular weight M, and the vertical axis is the concentration fraction w.
  • R 1 and R 2 each independently represents a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
  • X is a single bond, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 8 carbon atoms, a cycloalkylene group having 5 to 15 carbon atoms, a cycloalkylidene group having 5 to 15 carbon atoms, a fluorenediyl group, a carbon An arylalkylene group having 7 to 15 carbon atoms, an arylalkylidene group having 7 to 15 carbon atoms, —S—, —SO—, —SO 2 —, —O— or —CO—; R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl
  • a and b each independently represent an integer of 0 to 4. ] 2. 10 to 90% by mass of the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (E-1), and 10 to 90% by mass of the aromatic polycarbonate resin (E-2) other than the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (E-1).
  • the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (E-1) includes a polycarbonate block (A) composed of a repeating unit represented by the following general formula (I) and a repeating unit represented by the following general formula (II): Having a polyorganosiloxane block (B), Obtained from measurement by gel permeation chromatography using polystyrene as a conversion standard, the horizontal axis is a logarithmic value log (M) of molecular weight M, and the vertical axis is a derivative of concentration fraction w by logarithmic value log (M) of molecular weight.
  • R 1 and R 2 each independently represents a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
  • X is a single bond, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 8 carbon atoms, a cycloalkylene group having 5 to 15 carbon atoms, a cycloalkylidene group having 5 to 15 carbon atoms, a fluorenediyl group, a carbon An arylalkylene group having 7 to 15 carbon atoms, an arylalkylidene group having 7 to 15 carbon atoms, —S—, —SO—, —SO 2 —, —O— or —CO—; R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl
  • a and b each independently represent an integer of 0 to 4. ] 3.
  • a polycarbonate resin composition having excellent transparency and impact resistance, particularly impact resistance at low temperatures, and a molded product thereof can be obtained.
  • the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (E-1) includes a polycarbonate block (A) composed of a repeating unit represented by the following general formula (I) and a repeating unit represented by the following general formula (II): Having a polyorganosiloxane block (B),
  • the horizontal axis is the logarithmic value log (M) of the molecular weight M
  • the vertical axis is the concentration fraction w obtained from the measurement by gel permeation chromatography using the polystyrene of the polyorganosiloxane block (B) as a conversion standard.
  • R 1 and R 2 each independently represents a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
  • X is a single bond, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 8 carbon atoms, a cycloalkylene group having 5 to 15 carbon atoms, a cycloalkylidene group having 5 to 15 carbon atoms, a fluorenediyl group, a carbon An arylalkylene group having 7 to 15 carbon atoms, an arylalkylidene group having 7 to 15 carbon atoms, —S—, —SO—, —SO 2 —, —O— or —CO—; R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl
  • polycarbonate resin In the polycarbonate resin composition of the present invention, a polycarbonate resin containing a polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (E-1) is used.
  • the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (E-1) includes a polycarbonate block (A) composed of a repeating unit represented by the following general formula (I) and a polycrystal containing a repeating unit represented by the following general formula (II). It has an organosiloxane block (B).
  • examples of the halogen atom independently represented by R 1 and R 2 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • examples of the alkyl group independently represented by R 1 and R 2 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and various butyl groups (“various” means linear and all branched ones). And the same applies hereinafter), various pentyl groups, and various hexyl groups.
  • examples of the alkoxy group independently represented by R 1 and R 2 include a case where the alkyl group moiety is the alkyl group.
  • Examples of the alkylene group represented by X include a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a hexamethylene group, and the like, and an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms is preferable.
  • Examples of the alkylidene group represented by X include an ethylidene group and an isopropylidene group.
  • Examples of the cycloalkylene group represented by X include a cyclopentanediyl group, a cyclohexanediyl group, and a cyclooctanediyl group, and a cycloalkylene group having 5 to 10 carbon atoms is preferable.
  • Examples of the cycloalkylidene group represented by X include a cyclohexylidene group, a 3,5,5-trimethylcyclohexylidene group, a 2-adamantylidene group and the like, and a cycloalkylidene group having 5 to 10 carbon atoms is preferable. A cycloalkylidene group having 5 to 8 carbon atoms is more preferred.
  • Examples of the aryl moiety of the arylalkylene group represented by X include aryl groups having 6 to 14 ring carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, and an anthryl group.
  • Examples of the aryl moiety of the arylalkylidene group represented by X include aryl groups having 6 to 14 ring carbon atoms such as a phenyl group, a naphthyl group, a biphenyl group, and an anthryl group.
  • a and b each independently represent an integer of 0 to 4, preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1.
  • a and b are 0 and X is a single bond or an alkylidene group having 2 to 8 carbon atoms, or a and b are 0 and X is an alkylidene group having 3 carbon atoms, particularly an isopropylidene group.
  • examples of the halogen atom represented by R 3 or R 4 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • examples of the alkyl group represented by R 3 or R 4 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, various butyl groups, various pentyl groups, and various hexyl groups.
  • Examples of the alkoxy group represented by R 3 or R 4 include a case where the alkyl group moiety is the alkyl group.
  • Examples of the aryl group represented by R 3 or R 4 include a phenyl group and a naphthyl group.
  • R 3 and R 4 are each preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. More preferred is a methyl group.
  • the content of the polyorganosiloxane block (B) containing the repeating unit represented by the general formula (II) in the PC-POS copolymer (E-1) used in the present invention is preferably 0.5 to It is 20.0% by mass, more preferably 1.5 to 15.0% by mass.
  • the content of the polyorganosiloxane block (B) is 0.5% by mass or more, sufficient low-temperature impact resistance is obtained, and when it is 20.0% by mass or less, sufficient heat resistance is obtained.
  • the polyorganosiloxane block (B) containing the repeating unit represented by the general formula (II) in the PC-POS copolymer (E-1) used in the present invention is preferably the following general formula (II-I) Represented by (II-III).
  • R 3 to R 6 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms,
  • the plurality of R 3 to R 6 may be the same as or different from each other.
  • Y is -R 7 O -, - R 7 COO -, - R 7 NH -, - R 7 NR 8 -, - COO -, - S -, - R 7 COO-R 9 -O-, or -R 7 O—R 10 —O—, and a plurality of Y may be the same or different from each other.
  • R 7 represents a single bond, a linear, branched or cyclic alkylene group, an aryl-substituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, or a diarylene group.
  • R 8 represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
  • R 9 represents a diarylene group.
  • R 10 represents a linear, branched or cyclic alkylene group, or a diarylene group.
  • ⁇ represents a divalent group derived from a diisocyanate compound or a divalent group derived from dicarboxylic acid or a halide of dicarboxylic acid.
  • p and q are each an integer of 1 or more, and the sum of p and q is n ⁇ 2.
  • n represents the average chain length of the polyorganosiloxane.
  • Examples of the halogen atom independently represented by R 3 to R 6 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the alkyl group independently represented by R 3 to R 6 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, various butyl groups, various pentyl groups, and various hexyl groups.
  • Examples of the alkoxy group independently represented by R 3 to R 6 include a case where the alkyl group moiety is the alkyl group.
  • Examples of the aryl group independently represented by R 3 to R 6 include a phenyl group and a naphthyl group.
  • R 3 to R 6 are each preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • R 3 to R 6 are all preferably methyl groups.
  • Y represents -R 7 O -, - R 7 COO -, - R 7 NH -, - R 7 NR 8 -, - COO -, - S -, - R 7 COO-R 9 -O-, or -R
  • Examples of the linear or branched alkylene group represented by R 7 in 7 O—R 10 —O— include an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms. Examples thereof include cycloalkylene groups having 5 to 15, preferably 5 to 10 carbon atoms.
  • the average chain length n of the polyorganosiloxane block (B) in the PC-POS copolymer (E-1) used in the present invention is preferably 30 or more and 85 or less, more preferably 40 or more and 75 or less, and still more preferably 58. It is 72 or less.
  • the average chain length n is calculated by nuclear magnetic resonance (NMR) measurement. If the average chain length n is 30 or more, a resin composition and a molded article having sufficient impact resistance at low temperatures can be obtained. Moreover, if average chain length n is 85 or less, the resin composition and molded object which are excellent in a shaping
  • the polyorganosiloxane block (B) containing the repeating unit represented by the general formula (II) constituting the PC-POS copolymer (E-1) used in the present invention is the polyorganosiloxane block (B). Obtained from measurement by gel permeation chromatography using polystyrene as a conversion standard, the horizontal axis is a logarithmic value log (M) of molecular weight M, and the vertical axis is a derivative of concentration fraction w by logarithmic value log (M) of molecular weight. In the differential molecular weight distribution curve as dw / dlog (M), the following (1) and (2) are satisfied.
  • dw / dlog (M) becomes the maximum in the range of 3.4 ⁇ log (M) ⁇ 4.0.
  • the value obtained by integrating the dw / dlog (M) value in the range of 4.00 ⁇ log (M) ⁇ 4.50 is dw / dlog (M ) 6 to 40% of the integrated value.
  • the polyorganosiloxane used in the present invention is obtained by measurement by gel permeation chromatography using polystyrene as a conversion standard, the horizontal axis is a logarithmic value log (M) of molecular weight M, and the vertical axis indicates the concentration fraction w.
  • the polyorganosiloxane block (B) constituting the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (E-1) used in the present invention to have such characteristics, the following general formulas (2), (3) and / or The polyorganosiloxane shown in (4) can be used as a raw material.
  • R 3 to R 6 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms
  • the plurality of R 3 to R 6 may be the same as or different from each other.
  • Y is -R 7 O -, - R 7 COO -, - R 7 NH -, - R 7 NR 8 -, - COO -, - S -, - R 7 COO-R 9 -O-, or -R 7 O—R 10 —O—, and a plurality of Y may be the same or different from each other.
  • R 7 represents a single bond, a linear, branched or cyclic alkylene group, an aryl-substituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, or a diarylene group.
  • R 8 represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
  • R 9 represents a diarylene group.
  • R 10 represents a linear, branched or cyclic alkylene group, or a diarylene group.
  • Z represents a hydrogen atom or a halogen atom, and a plurality of Z may be the same as or different from each other.
  • ⁇ represents a divalent group derived from a diisocyanate compound or a divalent group derived from dicarboxylic acid or a halide of dicarboxylic acid.
  • p and q are each an integer of 1 or more, and the sum of p and q is n ⁇ 2.
  • n represents the average chain length of the polyorganosiloxane.
  • Examples of the halogen atom independently represented by R 3 to R 6 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
  • Examples of the alkyl group independently represented by R 3 to R 6 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, various butyl groups, various pentyl groups, and various hexyl groups.
  • Examples of the alkoxy group independently represented by R 3 to R 6 include a case where the alkyl group moiety is the alkyl group.
  • Examples of the aryl group independently represented by R 3 to R 6 include a phenyl group and a naphthyl group.
  • R 3 to R 6 are each preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.
  • the polyorganosiloxane represented by the general formulas (2), (3) and / or (4) those in which R 3 to R 6 are all methyl groups are preferable.
  • Y represents -R 7 O -, - R 7 COO -, - R 7 NH -, - R 7 NR 8 -, - COO -, - S -, - R 7 COO-R 9 -O-, or -R
  • Examples of the linear or branched alkylene group represented by R 7 in 7 O—R 10 —O— include an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, preferably 1 to 5 carbon atoms. Examples thereof include cycloalkylene groups having 5 to 15, preferably 5 to 10 carbon atoms.
  • the aryl-substituted alkylene group represented by R 7 may have a substituent such as an alkoxy group or an alkyl group on the aromatic ring.
  • a substituent such as an alkoxy group or an alkyl group on the aromatic ring.
  • Specific examples of the structure include, for example, the following general formula (5) or ( The structure of 6) can be shown.
  • the alkylene group is couple
  • the diarylene group represented by R 7 , R 9 and R 10 is a group in which two arylene groups are linked directly or via a divalent organic group.
  • —Ar 1 —W— A group having a structure represented by Ar 2 —.
  • Ar 1 and Ar 2 represent an arylene group
  • W represents a single bond or a divalent organic group.
  • the divalent organic group represented by W is, for example, an isopropylidene group, a methylene group, a dimethylene group, or a trimethylene group.
  • Examples of the arylene group represented by R 7 , Ar 1, and Ar 2 include arylene groups having 6 to 14 ring carbon atoms such as a phenylene group, a naphthylene group, a biphenylene group, and an anthrylene group. These arylene groups may have an arbitrary substituent such as an alkoxy group or an alkyl group.
  • the alkyl group represented by R 8 is linear or branched having 1 to 8, preferably 1 to 5 carbon atoms.
  • Examples of the alkenyl group include straight or branched chain groups having 2 to 8 carbon atoms, preferably 2 to 5 carbon atoms.
  • Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group.
  • Examples of the aralkyl group include a phenylmethyl group and a phenylethyl group.
  • the linear, branched or cyclic alkylene group represented by R 10 is the same as R 7 .
  • Y is preferably —R 7 O—, wherein R 7 is an aryl-substituted alkylene group, particularly a residue of a phenolic compound having an alkyl group, and is an organic residue derived from allylphenol or eugenol. The organic residue derived from is more preferable.
  • n is preferably 30 or more and 85 or less, more preferably 40 or more and 75 or less, and still more preferably 58 or more and 72 or less.
  • ⁇ represents a divalent group derived from a diisocyanate compound or a divalent group derived from dicarboxylic acid or a halide of dicarboxylic acid.
  • ⁇ is represented by the following general formulas (7-1) to (7-5). And a divalent group.
  • Examples of the polyorganosiloxane represented by the general formula (2) include compounds represented by the following general formulas (2-1) to (2-11).
  • R 3 to R 6 , n and R 8 are as defined above, and preferred ones are also the same.
  • c represents a positive integer and is usually an integer of 1 to 6.
  • the phenol-modified polyorganosiloxane represented by the general formula (2-1) is preferable from the viewpoint of ease of polymerization.
  • ⁇ , ⁇ -bis [3- (o-hydroxyphenyl) propyl] polydimethylsiloxane which is one of the compounds represented by the general formula (2-2), ⁇ , ⁇ -bis [3- (4-hydroxy-3-methoxyphenyl) propyl] polydimethylsiloxane which is one of the compounds represented by the general formula (2-3) is preferable.
  • polyorganosiloxane compounds described in JP-T-2013-523938, JP-A-4-225059, JP-T 2006-518803, and International Publication WO2013 / 115604 are also suitable. Can be used.
  • the average chain length n of the polyorganosiloxane represented by the above general formula is preferably 30 or more and 85 or less, more preferably 40 or more and 75 or less, and still more preferably 58 or more and 72 or less.
  • the average chain length n is calculated by nuclear magnetic resonance (NMR) measurement. If the average chain length n is 30 or more, sufficient impact resistance at low temperatures can be obtained. Further, when the average chain length n is 85 or less, a copolymer having an excellent molded appearance can be obtained.
  • GPC gel permeation chromatograph
  • RI differential refractometer
  • HLC-8200 a column obtained by connecting “TSK-GEL G4000HXL” and “TSK-GEL G2000HXL” manufactured by Tosoh Corporation is used.
  • the column temperature is set to 40 ° C., tetrahydrofuran (THF) is used as the eluent, and measurement is performed at a flow rate of 1.0 ml / min. Standard polystyrene made by Tosoh Corporation is used for preparing the calibration curve.
  • the logarithmic value of the molecular weight thus obtained is referred to as logarithmic molecular weight (log (M)).
  • a time curve (generally referred to as an elution curve) of an intensity distribution detected by a differential refraction (RI) detector of a GPC apparatus is converted into a molecular weight using a calibration curve obtained from a substance having a known molecular weight.
  • RI detection intensity is proportional to the component concentration
  • the integrated molecular weight distribution curve can be obtained by sequentially integrating the concentration fractions and plotting the logarithmic value of the molecular weight (log (M)) on the horizontal axis and the integrated value of the concentration fraction (w) on the vertical axis.
  • the differential value of the curve in the logarithmic value of each molecular weight (that is, the slope of the integral molecular weight curve) is obtained, the logarithmic value of the molecular weight (log (M)) is plotted on the horizontal axis, and the differential value (dw / dlog ( M)) can be plotted to obtain a differential molecular weight distribution curve. Therefore, the differential molecular weight distribution means a value obtained by differentiating the concentration fraction (w) by the logarithmic value of the molecular weight (log (M)), that is, “dw / dlog (M)”.
  • the differential molecular weight distribution dw / dlog (M) at a specific log (M) can be read.
  • a differential molecular weight distribution curve can be obtained with the same method.
  • the value of (1) dw / dlog (M) is in the range of 3.4 ⁇ log (M) ⁇ 4.0, preferably in the range of 3.5 ⁇ log (M) ⁇ 3.8. Is the largest.
  • the maximum value of the differential molecular weight distribution dw / dlog (M) refers to the peak top in the differential molecular weight curve. Sufficient low temperature impact resistance is obtained when the peak top log (M) value in the differential molecular weight curve is 3.4 or more, and good transparency is obtained when the value is 4.0 or less.
  • a value obtained by integrating the dw / dlog (M) value in the range of 4.00 ⁇ log (M) ⁇ 4.50 is log (M). It is 6 to 40%, preferably 6.5 to 30%, based on the integrated value of dw / dlog (M) over the entire range.
  • the ratio is 6% or more, sufficient low-temperature impact resistance is obtained, and when it is 40% or less, good transparency is obtained.
  • the ratio with respect to POS indicates the ratio of components having a log (M) of 4.00 to 4.50 in the POS molecular weight distribution with respect to the entire POS.
  • the method for producing the polyorganosiloxane is not particularly limited.
  • cyclotrisiloxane and disiloxane are reacted in the presence of an acidic catalyst to synthesize ⁇ , ⁇ -dihydrogenorganopentasiloxane
  • a hydrosilylation catalyst e.g, 2-allylphenol, 4-allylphenol, eugenol, 2-propenylphenol, etc.
  • a crude polyorganosiloxane can be obtained.
  • octamethylcyclotetrasiloxane and tetramethyldisiloxane are reacted in the presence of sulfuric acid (acidic catalyst), and the resulting ⁇ , ⁇ -dihydrogenorgano is obtained.
  • a crude polyorganosiloxane can be obtained by subjecting polysiloxane to an addition reaction with a phenolic compound or the like in the presence of a hydrosilylation catalyst.
  • the ⁇ , ⁇ -dihydrogenorganopolysiloxane can be used by appropriately adjusting the chain length n depending on the polymerization conditions, or a commercially available ⁇ , ⁇ -dihydrogenorganopolysiloxane may be used. .
  • a transition metal catalyst may be mentioned, and among them, a platinum catalyst is preferably used from the viewpoint of reaction rate and selectivity.
  • a platinum catalyst is preferably used from the viewpoint of reaction rate and selectivity.
  • Specific examples of the platinum-based catalyst include chloroplatinic acid, an alcohol solution of chloroplatinic acid, an olefin complex of platinum, a complex of platinum and a vinyl group-containing siloxane, platinum-supported silica, platinum-supported activated carbon, and the like.
  • the transition metal derived from the transition metal catalyst used as the hydrosilylation reaction catalyst contained in the crude polyorganosiloxane is adsorbed on the adsorbent and removed. It is preferable to do.
  • the adsorbent for example, one having an average pore diameter of 1000 mm or less can be used. If the average pore diameter is 1000 mm or less, the transition metal in the crude polyorganosiloxane can be efficiently removed. From such a viewpoint, the average pore diameter of the adsorbent is preferably 500 mm or less, more preferably 200 mm or less, still more preferably 150 mm or less, and still more preferably 100 mm or less. From the same viewpoint, the adsorbent is preferably a porous adsorbent.
  • the adsorbent is not particularly limited as long as it has the above average pore diameter.
  • Cellulose and the like can be used, and at least one selected from the group consisting of activated clay, acidic clay, activated carbon, synthetic zeolite, natural zeolite, activated alumina, silica and silica-magnesia-based adsorbent is preferable.
  • the adsorbent can be separated from the polyorganosiloxane by any separation means.
  • means for separating the adsorbent from the polyorganosiloxane include a filter and centrifugal separation.
  • a filter such as a membrane filter, a sintered metal filter, or a glass fiber filter can be used, but it is particularly preferable to use a membrane filter.
  • the average particle size of the adsorbent is usually 1 ⁇ m to 4 mm, preferably 1 to 100 ⁇ m.
  • the amount used is not particularly limited.
  • An amount of the porous adsorbent in the range of preferably 1 to 30 parts by mass, more preferably 2 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the crude polyorganosiloxane can be used.
  • the crude polyorganosiloxane to be treated is not in a liquid state due to its high molecular weight, it may be heated to a temperature at which the polyorganosiloxane is in a liquid state when adsorbing with the adsorbent and separating the adsorbent. Good. Alternatively, it may be carried out by dissolving in a solvent such as methylene chloride or hexane.
  • a polyorganosiloxane having a desired molecular weight distribution can be obtained, for example, by adjusting the molecular weight distribution by blending a plurality of polyorganosiloxanes.
  • the blending is performed by blending a plurality of ⁇ , ⁇ -dihydrogenorganopolysiloxanes and then adding a phenol compound or the like in the presence of a hydrosilylation reaction catalyst to obtain a crude polyorganosiloxane having a desired molecular weight distribution.
  • You can also.
  • it can also adjust suitably with the polymerization conditions at the time of polyorganosiloxane manufacture.
  • it can also obtain by fractionating only a part from existing polyorganosiloxane by means such as various separations.
  • PC-POS copolymer (E-1) there is no particular limitation on the method for producing the PC-POS copolymer (E-1), and a known method for producing a PC-POS copolymer, for example, the method described in JP 2010-241943 A or the like is referred to.
  • Can be manufactured Specifically, a polycarbonate oligomer prepared in advance and the above polyorganosiloxane are dissolved in a water-insoluble organic solvent (such as methylene chloride), and an aqueous alkaline compound solution (water) of a dihydric phenol compound (such as bisphenol A).
  • the PC-POS copolymer (E-1) can also be produced by copolymerizing polyorganosiloxane, dihydric phenol, phosgene, carbonate ester or chloroformate.
  • the vertical axis is dw / dlog (M) and the horizontal axis is log (M) (w is the concentration).
  • dw / dlog (M) is maximum in the range of 3.4 ⁇ log (M) ⁇ 4.0
  • the differential molecular weight In the distribution curve the integrated value of dw / dlog (M) in the range of 4.00 ⁇ log (M) ⁇ 4.50 integrated the dw / dlog (M) value in the entire range of log (M).
  • a polyorganosiloxane that is 6 to 40% of the value is used as a raw material. Specifically, polyorganosiloxane represented by the general formula (2), (3) and / or (4) is used.
  • the polycarbonate oligomer can be produced by reacting a dihydric phenol with a carbonate precursor such as phosgene or triphosgene in an organic solvent such as methylene chloride, chlorobenzene, or chloroform.
  • a carbonate precursor such as phosgene or triphosgene
  • organic solvent such as methylene chloride, chlorobenzene, or chloroform.
  • carbonate precursor like dihydric phenol and diphenyl carbonate.
  • dihydric phenol it is preferable to use a dihydric phenol represented by the following general formula (i).
  • R 1 , R 2 , a, b and X are as described above.
  • dihydric phenol represented by the general formula (i) examples include bis (hydroxyaryl) alkanes, bis (hydroxyaryl) cycloalkanes, dihydroxyaryl ethers, dihydroxydiaryl sulfides, dihydroxydiaryl sulfoxides, Dihydroxy diaryl sulfones, dihydroxy diphenyls, dihydroxy diaryl fluorenes, dihydroxy diaryl adamantanes and the like can be mentioned. These dihydric phenols may be used individually by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them.
  • bis (hydroxyaryl) alkanes examples include bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) ethane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane [bisphenol A], 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) butane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) octane, bis (4-hydroxyphenyl) phenylmethane, bis (4-hydroxyphenyl) diphenylmethane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) propane, bis (4-hydroxyphenyl) naphthylmethane, 1,1-bis (4-hydroxy-3-tert-butylphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy) -3-Bromophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethyl) Ruphenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3-chlorophenyl) propane, 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dichlorophenyl) propane, 2,2-bis (4-
  • Examples of bis (hydroxyaryl) cycloalkanes include 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclopentane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclohexane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) -3,5,5-trimethylcyclohexane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) norbornane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclododecane and the like.
  • Examples of dihydroxyaryl ethers include 4,4'-dihydroxydiphenyl ether and 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethylphenyl ether.
  • dihydroxydiaryl sulfides examples include 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenyl sulfide, and the like.
  • dihydroxydiaryl sulfoxides examples include 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfoxide, 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenyl sulfoxide, and the like.
  • dihydroxydiaryl sulfones examples include 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone and 4,4'-dihydroxy-3,3'-dimethyldiphenyl sulfone.
  • dihydroxydiphenyls examples include 4,4'-dihydroxydiphenyl.
  • dihydroxydiarylfluorenes include 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene and 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene.
  • dihydroxydiaryladamantanes examples include 1,3-bis (4-hydroxyphenyl) adamantane, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) adamantane, 1,3-bis (4-hydroxyphenyl) -5,7- Examples thereof include dimethyladamantane.
  • dihydric phenols for example, 4,4 ′-[1,3-phenylenebis (1-methylethylidene)] bisphenol, 10,10-bis (4-hydroxyphenyl) -9-anthrone, 1,5 -Bis (4-hydroxyphenylthio) -2,3-dioxapentane and the like.
  • the said bihydric phenol may be used individually by 1 type, and may mix and use 2 or more types. Among these, bis (hydroxyphenyl) alkane dihydric phenol is preferable, and bisphenol A is more preferable.
  • a terminal terminator can be used.
  • the terminal terminator include phenol, p-cresol, p-tert-butylphenol, p-tert-octylphenol, p-cumylphenol, p-nonylphenol, m-pentadecylphenol and p-tert-amylphenol.
  • Mention may be made of monohydric phenols. These monohydric phenols may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
  • the mixture is allowed to stand to separate into an aqueous phase and an organic solvent phase [separation step], and the organic solvent phase is washed (preferably washed in the order of basic aqueous solution, acidic aqueous solution, and water) Step], the obtained organic phase is concentrated [concentration step], and dried [drying step] to obtain a PC-POS copolymer.
  • the viscosity average molecular weight of the PC-POS copolymer (E-1) used in the present invention can be produced by using a molecular weight adjusting agent or the like as appropriate depending on the intended use and product. Can do. Usually, it is produced in the range of about 12,000 to 40,000, preferably about 15,000 to 30,000. If the viscosity average molecular weight is 12,000 or more, the strength of the molded article is sufficient, and if it is 40,000 or less, injection molding and extrusion molding in an appropriate temperature range are possible, and thus excellent transparency. Is obtained. It is also possible to lower the viscosity of the PC-POS copolymer (E-1) by raising the molding temperature.
  • the blending amount of the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (E-1) in the polycarbonate resin composition of the present invention is 10 to 90% by mass, preferably 15 to 85% by mass, and 20 to 80% by mass. % Is more preferable.
  • the polycarbonate resin used in the polycarbonate resin composition of the present invention includes an aromatic polycarbonate resin (E-2) other than the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer (E-1).
  • a polycarbonate block (A ′) comprising a repeating unit represented by the general formula (I) and a repeating unit represented by the following general formula (II) are used.
  • the polyorganosiloxane block (B ′) containing the polyorganosiloxane block (B ′) containing the repeating unit represented by the general formula (II) is, for example, represented by the following general formulas (ii-I) to (ii-): III) and an aromatic polycarbonate resin (E-2a) having an average chain length of 20 or more and less than 60.
  • the average chain length of the aromatic polycarbonate resin (E-2a) is preferably 30 to 50, more preferably 30 to 45.
  • a polycarbonate block (A ′) composed of a repeating unit represented by the general formula (I) and a repeating unit represented by the following general formula (II) are used.
  • the polyorganosiloxane block (B ′) containing the polyorganosiloxane block (B ′) containing the repeating unit represented by the general formula (II) is, for example, represented by the following general formulas (ii-I) to (ii-):
  • the average chain length of the aromatic polycarbonate resin (E-2b) is preferably 70 to 200, more preferably 80 to 150.
  • R 1 and R 2 each independently represents a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
  • X is a single bond, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 8 carbon atoms, a cycloalkylene group having 5 to 15 carbon atoms, a cycloalkylidene group having 5 to 15 carbon atoms, a fluorenediyl group, a carbon An arylalkylene group having 7 to 15 carbon atoms, an arylalkylidene group having 7 to 15 carbon atoms, —S—, —SO—, —SO 2 —, —O— or —CO—; R 3 and R 4 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl
  • R 3 to R 6 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 12 carbon atoms,
  • the plurality of R 3 to R 6 may be the same as or different from each other.
  • Y is -R 7 O -, - R 7 COO -, - R 7 NH -, - R 7 NR 8 -, - COO -, - S -, - R 7 COO-R 9 -O-, or -R 7 O—R 10 —O—, and a plurality of Y may be the same or different from each other.
  • R 7 represents a single bond, a linear, branched or cyclic alkylene group, an aryl-substituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, or a diarylene group.
  • R 8 represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, or an aralkyl group.
  • R 9 represents a diarylene group.
  • R 10 represents a linear, branched or cyclic alkylene group, or a diarylene group.
  • ⁇ represents a divalent group derived from a diisocyanate compound or a divalent group derived from dicarboxylic acid or a halide of dicarboxylic acid.
  • p and q are each an integer of 1 or more, and the sum of p and q is n ⁇ 2.
  • n represents the average chain length of the polyorganosiloxane.
  • R 3 to R 10 are the same as described above.
  • the production methods of the aromatic polycarbonate resins (E-2a) and (E-2b) are the same as in the above (E-1).
  • the polyorganosiloxane block (B ′) in (E-2a) and (E-2b) is a predetermined polyorganosiloxane block (B) in the PC-POS copolymer (E-1). It does not meet the requirements for molecular weight distribution.
  • an aromatic homopolycarbonate resin is exemplified.
  • the aromatic polycarbonate resin (E) which does not have the repeating structure represented by the general formula (II) and whose main chain is a repeating unit represented by the following general formula (III) -2c).
  • the aromatic polycarbonate resin (E-2c) is not particularly limited, and various known polycarbonate resins can be used.
  • R 9 and R 10 each independently represent a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
  • X ′ is a single bond, an alkylene group having 1 to 8 carbon atoms, an alkylidene group having 2 to 8 carbon atoms, a cycloalkylene group having 5 to 15 carbon atoms, a cycloalkylidene group having 5 to 15 carbon atoms, —S—, —SO -, -SO 2- , -O- or -CO- is shown.
  • d and e each independently represents an integer of 0 to 4.
  • R 9 and R 10 in the above formula (III) include the same as R 1 and R 2, and preferred ones are also the same.
  • R 9 and R 10 are more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms.
  • Specific examples of X ′ include the same as X described above, and preferable examples are also the same.
  • d and e are each independently preferably 0 to 2, more preferably 0 or 1.
  • the aromatic polycarbonate resin (E-2c) is reacted with a dihydric phenol-based compound and phosgene in the presence of an organic solvent inert to the reaction and an aqueous alkaline solution, and then a tertiary amine or a secondary amine.
  • Conventional methods such as the interfacial polymerization method in which a polymerization catalyst such as a quaternary ammonium salt is added for polymerization, the pyridine method in which a dihydric phenol compound is dissolved in pyridine or a mixed solution of pyridine and an inert solvent, and phosgene is introduced directly. Those obtained by the method for producing polycarbonates can be used.
  • a molecular weight regulator (terminal terminator), a branching agent and the like are used as necessary.
  • dihydric phenol type compound what is represented by the following general formula (III ') is mentioned.
  • R 9 , R 10 , X ′, d and e are as defined above, and preferred ones are also the same.
  • dihydric phenol compound examples include, for example, 2,2-bis (4-hydroxyphenyl) propane [bisphenol A], bis (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1-bis (4-hydroxyphenyl).
  • Ethane bis (hydroxyphenyl) alkane dihydric phenol such as 2,2-bis (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) propane, 4,4′-dihydroxydiphenyl, bis (4-hydroxyphenyl) cyclo
  • Examples include alkane, bis (4-hydroxyphenyl) oxide, bis (4-hydroxyphenyl) sulfide, bis (4-hydroxyphenyl) sulfone, bis (4-hydroxyphenyl) sulfoxide, and bis (4-hydroxyphenyl) ketone. .
  • bis (hydroxyphenyl) alkane dihydric phenol is preferable, and bisphenol A is more preferable.
  • the aromatic polycarbonate resin (E-2) may be used alone or in combination of two or more.
  • the blending amount of the aromatic polycarbonate resin (E-2) in the polycarbonate resin composition of the present invention is 10 to 90% by mass, preferably 15 to 85% by mass, and 20 to 80% by mass. Is more preferable.
  • the content of the polyorganosiloxane block containing the repeating unit represented by the general formula (II) is preferably 0.5 to 20.0% by mass, more preferably 1.5 to 15.0% by mass.
  • the viscosity average molecular weight of the polycarbonate resin is preferably 12,000 to 40,000, more preferably 15,000 to 30,000.
  • the viscosity average molecular weight is 12,000 or more, the strength of the molded article is sufficient, and if it is 40,000 or less, injection molding and extrusion molding in an appropriate temperature range are possible, and thus a good transparency. Sex is obtained.
  • the polycarbonate-based resin composition of the present invention can contain other additives as long as the effects of the present invention are not impaired.
  • examples of other additives include antioxidants, ultraviolet absorbers, flame retardants, mold release agents, and dyes.
  • the polycarbonate-type resin composition of this invention contains antioxidant.
  • an antioxidant By containing an antioxidant in the polycarbonate resin composition, it is possible to prevent oxidative degradation when the polycarbonate resin composition is melted, and to prevent coloring due to oxidative degradation.
  • a phosphorus-based antioxidant and / or a phenol-based antioxidant is preferably used.
  • phosphorus antioxidants include triphenyl phosphite, diphenyl nonyl phosphite, diphenyl (2-ethylhexyl) phosphite, tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, trisnonyl phenyl phosphite.
  • Diphenylisooctyl phosphite 2,2′-methylenebis (4,6-di-t-butylphenyl) octyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, diphenylmono (tridecyl) phosphite, phenyldiisodecyl phosphite, phenyldi ( Tridecyl) phosphite, Tris (2-ethylhexyl) phosphite, Tris (isodecyl) phosphite, Tris (tridecyl) phosphite, Dibutyl hydrogen phosphite, Trilauryl trithiophosphite, Te Trakis (2,4-di-t-butylphenyl) -4,4′-biphenylenediphosphonite, 4,4′-isopropylid
  • Examples of phosphorus-based antioxidants include Irgafos 168 (trademark, manufactured by BASF Japan), Irgafos12 (trademark, manufactured by BASF Japan), Irgafos38 (trademark, manufactured by BASF Japan), Adekastab 2112 (trademark) ADEKA Corporation, Trademark), ADK STAB C (trademark, ADEKA Corporation), ADK STAB 329K (trademark, ADEKA Corporation), ADK STAB PEP36 (trademark, ADEKA Corporation), JC263 (manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd., Trademarks), Sandstab® P-EPQ (Clariant, Trademark), Weston® 618 (GE, Trademark), Weston 619G (GE, Trademark) and Weston® 624 (GE, Trademark) Can do.
  • phenolic antioxidant examples include n-octadecyl-3- (3,5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate, 2,6-di-t-butyl-4-methylphenol, 2 Hindered phenols such as 2,2'-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), pentaerythrityl-tetrakis [3- (3,5-di-tert-butyl-4-hydroxyphenyl) propionate] Can be mentioned.
  • antioxidants bis (2,6-di-tert-butyl-4-methylphenyl) pentaerythritol diphosphite, bis (2,4-di-tert-butylphenyl) pentaerythritol diphosphite, etc.
  • Those having a pentaerythritol diphosphite structure and triphenylphosphine are preferred.
  • phenolic antioxidants examples include Irganox 1010 (trademark, manufactured by BASF Japan), Irganox 1076 (trademark, manufactured by BASF Japan), Irganox 1330 (trademark, manufactured by BASF Japan), Irganox 3114 (BASF Japan). (Trademark), Irganox 3125 (trademark, manufactured by BASF Japan Ltd.), BHT (trademark, manufactured by Takeda Pharmaceutical Co., Ltd.), Cyanox 1790 (trademark, manufactured by Cyanamid Co., Ltd.) and Sumilizer GA-80 (trademark, Sumitomo Chemical Co., Ltd.) , Trademarks) and the like.
  • the content of the antioxidant is about 0.001 to 0.5 parts by weight, preferably 0.01 to 0.5 parts by weight with respect to 100 parts by weight as a total of (E-1) and (E-2).
  • the amount is 0.3 parts by mass, more preferably 0.05 to 0.3 parts by mass. If the content of the antioxidant is 0.001 part by mass or more, a sufficient antioxidant effect is obtained, and if it is 0.5 part by mass or less, mold contamination used during molding can be sufficiently suppressed.
  • the polycarbonate-based resin composition of the present invention can be obtained by blending and kneading each of the above components in the above proportions and various optional components used as necessary.
  • Compounding and kneading are premixed with commonly used equipment such as a ribbon blender, drum tumbler, etc., Henschel mixer, Banbury mixer, single screw extruder, twin screw extruder, multi screw extruder and It can be performed by a method using a conida or the like.
  • the heating temperature at the time of kneading is usually appropriately selected within the range of 240 to 320 ° C.
  • As the melt-kneading molding it is preferable to use an extrusion molding machine, particularly a vent type extrusion molding machine.
  • the polycarbonate resin composition of the present invention is an injection molding method, an injection compression molding method, an extrusion molding method, a blow molding method, a press molding method, a vacuum molding, using the above-described melt-kneading molding machine or the obtained pellets as a raw material.
  • Various molded products can be produced by the method and the foam molding method.
  • the obtained pellets can be used suitably for the production of injection molded articles by injection molding and injection compression molding.
  • the molded body made of the polycarbonate resin composition of the present invention is, for example, (1) Parts for electrical and electronic equipment such as TVs, radio cassettes, video cameras, video tape recorders, audio players, DVD players, air conditioners, mobile phones, displays, computers, registers, calculators, copiers, printers, facsimiles, etc. , (2) It can be suitably used as the casing for the electric / electronic device of (1) above.
  • the differential molecular weight distribution curve can be obtained by the following method. First, a time curve (elution curve) of the intensity distribution detected by the RI detector was used as a molecular weight distribution curve with respect to a logarithmic value of the molecular weight (log (M)) using a calibration curve. Next, after obtaining an integral molecular weight distribution curve with respect to log (M) when the total area of the distribution curve is 100%, the integral molecular weight distribution curve is differentiated with log (M) to obtain log (M). A differential molecular weight distribution curve can be obtained. In addition, a series of operations until obtaining the differential molecular weight distribution curve can be usually performed using analysis software built in the GPC measurement apparatus. FIG.
  • 1 is a graph showing an example of the obtained differential distribution curve, and the value of log (M) having the maximum value of dw / log (M) and dw / dlog (M) is 4.00 ⁇ log ( M) The value integrated in the range of ⁇ 4.50 is indicated by the hatched portion.
  • the GPC measurement of the polyorganosiloxane block (B) or polyorganosiloxane block (B ′) in the polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer was performed under the following conditions. 20 ml of methylene chloride was added to 4.3 g of the obtained PC-POS copolymer flakes and completely dissolved. While stirring with a magnetic stirrer, 20 ml of a methanol solution of sodium hydroxide (48% by mass NaOH aqueous solution and methanol mixed at a volume ratio of 1: 9) was added and stirred for 30 minutes.
  • Probe 50TH5AT / FG2 Observation range: -5 to 15 ppm Observation center: 5ppm Pulse repetition time: 9 seconds Pulse width: 45 ° NMR sample tube: 5 ⁇ Sample amount: 45-55mg
  • the tubular reactor had a jacket portion, and the temperature of the reaction solution was kept at 40 ° C. or lower by passing cooling water through the jacket.
  • the reaction liquid exiting the tubular reactor was continuously introduced into a tank reactor with a baffle having an internal volume of 40 L equipped with a receding blade, and a sodium hydroxide aqueous solution of BPA was further added at 2.8 L / hr, 25
  • the reaction was carried out by adding 0.07 L / hr of a mass% sodium hydroxide aqueous solution, 17 L / hr of water at a flow rate of 0.64 L / hr, and 1 mass% of an aqueous triethylamine solution.
  • the reaction liquid overflowing from the tank reactor was continuously extracted and allowed to stand to separate and remove the aqueous phase, and the methylene chloride phase was collected.
  • the polycarbonate oligomer thus obtained had a concentration of 330 g / L and a chloroformate group concentration of 0.71 mol / L.
  • Allylphenol terminal modification which is 15.0% with respect to the integrated value of dw / dlog (M) (hereinafter referred to as log (M) 4.00 to 4.50 in the examples)
  • log (M) 4.00 to 4.50 in the examples
  • PDMS polydimethylsiloxane
  • methylene chloride solution of pt-butylphenol (PTBP) (PTBP 128.1 g dissolved in 1.3 L of methylene chloride), BPA sodium hydroxide aqueous solution (567 g NaOH and 1.9 g sodium dithionite) And a solution obtained by dissolving 997 g of BPA in an aqueous solution in which 8.3 L of water was dissolved, and the polymerization reaction was carried out for 40 minutes.
  • 10 L of methylene chloride was added and stirred for 20 minutes, and then the organic phase was separated into an organic phase containing PC-PDMS and an aqueous phase containing excess BPA and NaOH, and the organic phase was isolated.
  • the methylene chloride solution of PC-PDMS thus obtained was washed successively with 15% by volume of 0.03 mol / L NaOH aqueous solution and 0.2N hydrochloric acid, and then the electric conductivity in the aqueous phase after washing. Was repeatedly washed with pure water until the value became 0.01 ⁇ S / m or less.
  • the methylene chloride solution of polycarbonate obtained by washing was concentrated and pulverized, and the obtained flakes were dried at 120 ° C. under reduced pressure.
  • the PDMS concentration was 6.0% by mass, the viscosity number measured according to ISO 1628-4 (1999) was 47.7, and the viscosity average molecular weight Mv was 17,800.
  • SiPC-a1 was obtained as PC-PDMS (E-1).
  • Test pieces two 63 ⁇ 13 ⁇ 3.2 mm test pieces for injection molding and the Izod test were prepared.
  • a test piece (three-stage plate 90 mm ⁇ 50 mm, 3 mm thick portion) for performing a transparency evaluation test on the dried pellet sample for evaluation using an injection molding machine (manufactured by Niigata Machine Techno Co., Ltd., MD50XB, screw diameter 30 mm ⁇ ) 45 mm ⁇ 50 mm, 2 mm thick portion 22.5 mm ⁇ 50 mm, 1 mm thick portion 22.5 mm ⁇ 50 mm). Moreover, it shows below about each other component. It shows in Table 1 and Table 2 about each component and an evaluation test result.
  • ⁇ Izod impact strength> The notched Izod impact strength at a measurement temperature of ⁇ 40 ° C. was measured according to ASTM standard D-256. If the criterion is 40 kJ / m 2 or more at ⁇ 40 ° C., it indicates that the impact resistance at low temperature is excellent.
  • Antioxidant “IRGAFOS168 (trade name)” [Tris (2,4-di-t-butylphenyl) phosphite, manufactured by BASF Japan Ltd.]
  • the molded products obtained from the polycarbonate resin compositions of Examples 1 to 5 are both excellent in transparency and impact resistance, and particularly excellent in impact resistance at low temperatures. It is shown.
  • Comparative Examples 1 to 7 a polycarbonate resin composition comprising a combination of a specific polycarbonate-polyorganosiloxane copolymer in which the molecular weight distribution of the polyorganosiloxane is controlled and an aromatic polycarbonate resin is combined.
  • Comparative Examples 1 to 3 and 7 showing impact resistance under a low temperature comparable to Examples 1 to 5 are inferior in transparency, and comparatively showing transparency comparable to Examples 1 to 5.
  • the impact resistance at low temperature was inferior.
  • the polycarbonate-based resin composition obtained in the present invention is excellent in transparency and low-temperature impact resistance, and therefore is suitably used for parts for electric and electronic equipment, interior / exterior parts of lighting equipment, interior / exterior parts of vehicles, food trays and tableware. Can do.

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Abstract

　ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）を１０～９０質量％、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）以外の芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）を１０～９０質量％含み、前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体のポリオルガノシロキサンブロックの分子量分布を特定の領域に制御した、ポリカーボネート系樹脂組成物である。

Description

ポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形体
　本発明は、透明性に優れ、且つ低温耐衝撃性を有するポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形体に関する。
　ポリカーボネート樹脂は、その高い耐衝撃性、耐薬品性、及び難燃性等の優れた性質から注目されている。そのため、電気・電子機器分野、自動車分野等の様々な分野において幅広く利用が期待されている。特に、携帯電話、モバイルパソコン、デジタルカメラ、ビデオカメラ、電動工具などの筐体、及びその他の日用品への利用が広がっている。
　通常、代表的なポリカーボネートとしては、原料の二価フェノールとして、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン〔通称：ビスフェノールＡ〕を用いたホモポリカーボネートが一般的に使用されている。このホモポリカーボネートの難燃性や耐衝撃性等の物性を改良するために、ポリオルガノシロキサンを共重合モノマーとして用いたポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（以下、ＰＣ－ＰＯＳと称することがある。）が知られている（特許文献１～３参照）。
　ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の耐衝撃性、特に低温下での耐衝撃性を改善する場合には、特許文献３に開示されるように、鎖長の長いポリオルガノシロキサンを用いる方法が知られている。しかし、この方法では、透明性が低下するという問題があった。
　逆に、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の透明性をより改善するためには、比較的鎖長の短いポリオルガノシロキサンを用いる方法が知られている（特許文献４，５参照）。しかし、この方法では、耐衝撃性が低下するという問題があった。
　また、特許文献６では、光線透過率の相違する２種類のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体の配合によって、優れた耐衝撃性を維持しつつ透明性を向上させる試みがなされているが、その透明性は十分とはいえないものであった。このように、これまでのポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体において、優れた透明性及び耐衝撃性、特に低温下での耐衝撃性を両立させることは困難であった。
特許第２６６２３１０号公報 特開２０１１－２１１２７号公報 特開２０１２－２４６４３０号公報 特開平８－８１６２０号公報 特開２０１１－４６９１１号公報 特表２００６－５２３２４３号公報
　本発明は、優れた透明性及び耐衝撃性、特に低温下での耐衝撃性を有するポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形体を提供することを目的とする。
　本発明者らは、ポリカーボネート系樹脂組成物に含まれるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体のポリオルガノシロキサンブロックの分子量分布を特定の領域に制御することにより、上記課題が達成されることを見出した。
　すなわち本発明は、下記１～１４に関する。
１．ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）を１０～９０質量％、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）以外の芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）を１０～９０質量％含み、
　前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）が、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有し、
　前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の、ポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６～４０％であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
２．ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）を１０～９０質量％、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）以外の芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）を１０～９０質量％含み、
　前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）が、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有し、
　ポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６～４０％であるポリオルガノシロキサンを原料に用いることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
３．前記芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）が芳香族ホモポリカーボネート樹脂を含む、１又は２に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
４．前記芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）が前記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ'）及び前記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ'）を有するポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を含む、１～３のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
５．前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ'）の平均鎖長が２０以上６０未満である、４に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
６．前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ'）の平均鎖長が６０以上５００以下である、４に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
７．前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の平均鎖長が３０以上８５以下である、１～６のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
８．前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の含有量が０．５～２０．０質量％である、１～７のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
９．前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）の粘度平均分子量が１２，０００～４０，０００である、１～８のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１０．前記一般式（Ｉ）におけるａ及びｂが０であり、Ｘが単結合または炭素数２～８のアルキリデン基である、１～９のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１１．前記一般式（Ｉ）におけるａ及びｂが０であり、Ｘが炭素数３のアルキリデン基である、１０に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１２．前記一般式（ＩＩ）におけるＲ３及びＲ４がメチル基である、１～１１のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
１３．１～１２のいずれかに記載のポリカーボネート系樹脂組成物を成形してなる成形体。
１４．電気及び電子機器用部品である、１３に記載の成形体。
　本発明によれば、優れた透明性及び耐衝撃性、特に低温下での耐衝撃性を有するポリカーボネート系樹脂組成物及びその成形体を得ることができる。
得られる微分分布曲線の一例を示すグラフであり、ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）について、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲で積分した値を斜線部分で示したものである。
　以下、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物について詳細に説明する。なお、本明細書において、好ましいとされている規定は任意に採用することができ、好ましいもの同士の組み合わせはより好ましいといえる。また、本明細書において、「ＸＸ～ＹＹ」の記載は、「ＸＸ以上ＹＹ以下」を意味する。
　本発明は、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）を１０～９０質量％、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）以外の芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）を１０～９０質量％含み、
　前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）が、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有し、
　前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）のポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６～４０％であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物である。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
［ポリカーボネート系樹脂］
　本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）を含むポリカーボネート系樹脂が用いられる。ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）は、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
　上記一般式（Ｉ）中、Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。
　Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基（「各種」とは、直鎖状及びあらゆる分岐鎖状のものを含むことを示し、以下、同様である。）、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ１及びＲ２がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。
　Ｘが表すアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられ、炭素数１～５のアルキレン基が好ましい。Ｘが表すアルキリデン基としては、エチリデン基、イソプロピリデン基等が挙げられる。Ｘが表すシクロアルキレン基としては、シクロペンタンジイル基やシクロヘキサンジイル基、シクロオクタンジイル基等が挙げられ、炭素数５～１０のシクロアルキレン基が好ましい。Ｘが表すシクロアルキリデン基としては、例えば、シクロヘキシリデン基、３，５，５－トリメチルシクロヘキシリデン基、２－アダマンチリデン基等が挙げられ、炭素数５～１０のシクロアルキリデン基が好ましく、炭素数５～８のシクロアルキリデン基がより好ましい。Ｘが表すアリールアルキレン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６～１４のアリール基が挙げられる。Ｘが表すアリールアルキリデン基のアリール部位としては、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基、アントリル基などの環形成炭素数６～１４のアリール基が挙げられる。
　ａ及びｂは、それぞれ独立に０～４の整数を示し、好ましくは０～２、より好ましくは０又は１である。
　中でも、ａ及びｂが０であり、Ｘが単結合または炭素数２～８のアルキリデン基であるもの、またはａ及びｂが０であり、Ｘが炭素数３のアルキリデン基、特にイソプロピリデン基であるものが好適である。
　上記一般式（ＩＩ）中、Ｒ３又はＲ４で示されるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ３又はＲ４で示されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ３又はＲ４示されるアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ３又はＲ４で示されるアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
　なお、Ｒ３及びＲ４としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基であり、いずれもメチル基であることがより好ましい。
　本発明に用いられるＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）中の前記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の含有量は、好ましくは０．５～２０．０質量％、より好ましくは１．５～１５．０質量％である。ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の含有量が０．５質量％以上であると、十分な低温耐衝撃性が得られ、２０．０質量％以下であると、十分な耐熱性が得られる。
　本発明に用いられるＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）における上記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）は、好ましくは下記一般式（ＩＩ－Ｉ）～（ＩＩ－ＩＩＩ）で表される。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
［式中、Ｒ３～Ｒ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示し、複数のＲ３～Ｒ６は、互いに同一であっても異なっていても良い。Ｙは－Ｒ７Ｏ－、－Ｒ７ＣＯＯ－、－Ｒ７ＮＨ－、－Ｒ７ＮＲ８－、－ＣＯＯ－、－Ｓ－、－Ｒ７ＣＯＯ－Ｒ９－Ｏ－、または－Ｒ７Ｏ－Ｒ１０－Ｏ－を示し、複数のＹは、互いに同一であっても異なっていても良い。前記Ｒ７は、単結合、直鎖、分岐鎖若しくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、またはジアリーレン基を示す。Ｒ８は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはアラルキル基を示す。Ｒ９は、ジアリーレン基を示す。Ｒ１０は、直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、又はジアリーレン基を示す。βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基、又はジカルボン酸若しくはジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示す。ｐとｑはそれぞれ１以上の整数であり、ｐとｑの和はｎ－２である。ｎは、ポリオルガノシロキサンの平均鎖長を表す。］
　Ｒ３～Ｒ６がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ３～Ｒ６がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ３～Ｒ６がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ３～Ｒ６がそれぞれ独立して示すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
　Ｒ３～Ｒ６としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基である。
　一般式（ＩＩ－Ｉ）、（ＩＩ－ＩＩ）及び／または（ＩＩ－ＩＩＩ）中の、Ｒ３～Ｒ６がいずれもメチル基であるものが好ましい。
　Ｙが示す－Ｒ７Ｏ－、－Ｒ７ＣＯＯ－、－Ｒ７ＮＨ－、－Ｒ７ＮＲ８－、－ＣＯＯ－、－Ｓ－、－Ｒ７ＣＯＯ－Ｒ９－Ｏ－、または－Ｒ７Ｏ－Ｒ１０－Ｏ－におけるＲ７が表す直鎖又は分岐鎖アルキレン基としては、炭素数１～８、好ましくは炭素数１～５のアルキレン基が挙げられ、環状アルキレン基としては、炭素数５～１５、好ましくは炭素数５～１０のシクロアルキレン基が挙げられる。
　本発明に用いられるＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）におけるポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の平均鎖長ｎは、好ましくは３０以上８５以下、より好ましくは４０以上７５以下、さらに好ましくは５８以上７２以下である。平均鎖長ｎは核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定により算出される。平均鎖長ｎが３０以上であれば低温における耐衝撃性が十分な樹脂組成物及び成形体を得ることができる。また、平均鎖長ｎが８５以下であれば、成形外観に優れる樹脂組成物及び成形体を得ることができる。
　本発明に用いられるＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）を構成する一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）は、上記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）のポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、下記（１）及び（２）を満たす。
（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となる。
（２）微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６～４０％である。
＜ポリオルガノシロキサン＞
　本発明に用いられるポリオルガノシロキサンは、ポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、
（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６～４０％のポリオルガノシロキサンである。
　本発明に用いられるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）を構成するポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）が当該特徴を有するには、以下の一般式（２）、（３）及び／または（４）に示すポリオルガノシロキサンを原料として用いることができる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
［式中、Ｒ３～Ｒ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示し、複数のＲ３～Ｒ６は、互いに同一であっても異なっていても良い。Ｙは－Ｒ７Ｏ－、－Ｒ７ＣＯＯ－、－Ｒ７ＮＨ－、－Ｒ７ＮＲ８－、－ＣＯＯ－、－Ｓ－、－Ｒ７ＣＯＯ－Ｒ９－Ｏ－、または－Ｒ７Ｏ－Ｒ１０－Ｏ－を示し、複数のＹは、互いに同一であっても異なっていても良い。前記Ｒ７は、単結合、直鎖、分岐鎖若しくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、またはジアリーレン基を示す。Ｒ８は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはアラルキル基を示す。Ｒ９は、ジアリーレン基を示す。Ｒ１０は、直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、又はジアリーレン基を示す。Ｚは、水素原子又はハロゲン原子を示し、複数のＺは、互いに同一であっても異なっていても良い。βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基、又はジカルボン酸若しくはジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示す。ｐとｑはそれぞれ１以上の整数であり、ｐとｑの和はｎ－２である。ｎは、ポリオルガノシロキサンの平均鎖長を表す。］
　Ｒ３～Ｒ６がそれぞれ独立して示すハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子が挙げられる。Ｒ３～Ｒ６がそれぞれ独立して示すアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ペンチル基、及び各種ヘキシル基が挙げられる。Ｒ３～Ｒ６がそれぞれ独立して示すアルコキシ基としては、アルキル基部位が前記アルキル基である場合が挙げられる。Ｒ３～Ｒ６がそれぞれ独立して示すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
　Ｒ３～Ｒ６としては、いずれも、好ましくは、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基である。
　一般式（２）、（３）及び／または（４）で表されるポリオルガノシロキサンとしては、Ｒ３～Ｒ６がいずれもメチル基であるものが好ましい。
　Ｙが示す－Ｒ７Ｏ－、－Ｒ７ＣＯＯ－、－Ｒ７ＮＨ－、－Ｒ７ＮＲ８－、－ＣＯＯ－、－Ｓ－、－Ｒ７ＣＯＯ－Ｒ９－Ｏ－、または－Ｒ７Ｏ－Ｒ１０－Ｏ－におけるＲ７が表す直鎖又は分岐鎖アルキレン基としては、炭素数１～８、好ましくは炭素数１～５のアルキレン基が挙げられ、環状アルキレン基としては、炭素数５～１５、好ましくは炭素数５～１０のシクロアルキレン基が挙げられる。
　Ｒ７が表すアリール置換アルキレン基としては、芳香環にアルコキシ基、アルキル基のような置換基を有していてもよく、その具体的構造としては、例えば、下記の一般式（５）または（６）の構造を示すことができる。なお、アリール置換アルキレン基を有する場合、アルキレン基がＳｉに結合している。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
［式中ｃは正の整数を示し、通常１～６の整数である。］
　Ｒ７、Ｒ９及びＲ１０が示すジアリーレン基とは、二つのアリーレン基が直接、又は二価の有機基を介して連結された基のことであり、具体的には－Ａｒ１－Ｗ－Ａｒ２－で表わされる構造を有する基である。ここで、Ａｒ１及びＡｒ２は、アリーレン基を示し、Ｗは単結合、又は２価の有機基を示す。Ｗの示す２価の有機基は、例えばイソプロピリデン基、メチレン基、ジメチレン基、トリメチレン基である。
　Ｒ７、Ａｒ１及びＡｒ２が表すアリーレン基としては、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、アントリレン基などの環形成炭素数６～１４のアリーレン基が挙げられる。これらアリーレン基は、アルコキシ基、アルキル基等の任意の置換基を有していてもよい。
　Ｒ８が示すアルキル基としては炭素数１～８、好ましくは１～５の直鎖または分岐鎖のものである。アルケニル基としては、炭素数２～８、好ましくは２～５の直鎖または分岐鎖のものが挙げられる。アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。アラルキル基としては、フェニルメチル基、フェニルエチル基等が挙げられる。
　Ｒ１０が示す直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基は、Ｒ７と同様である。
　Ｙとしては、好ましくは－Ｒ７Ｏ－であって、Ｒ７が、アリール置換アルキレン基であって、特にアルキル基を有するフェノール系化合物の残基であり、アリルフェノール由来の有機残基やオイゲノール由来の有機残基がより好ましい。
　なお、一般式（３）中のｐ及びｑについては、ｐ＝ｑ、すなわち、ｐ＝（ｎ－２）／２、ｑ＝（ｎ－２）／２であることが好ましい。
　ｎは上述した通り、好ましくは３０以上８５以下、より好ましくは４０以上７５以下、さらに好ましくは５８以上７２以下である。
　また、βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基又はジカルボン酸又はジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示し、例えば、以下の一般式（７－１）～（７－５）で表される２価の基が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　一般式（２）で表されるポリオルガノシロキサンとしては、例えば、以下の一般式（２－１）～（２－１１）の化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
　上記一般式（２－１）～（２－１１）中、Ｒ３～Ｒ６、ｎ及びＲ８は上記の定義の通りであり、好ましいものも同じである。ｃは正の整数を示し、通常１～６の整数である。
　これらの中でも、重合の容易さの観点においては、上記一般式（２－１）で表されるフェノール変性ポリオルガノシロキサンが好ましい。また、入手の容易さの観点においては、上記一般式（２－２）で表される化合物中の一種であるα，ω－ビス［３－（ｏ－ヒドロキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサン、上記一般式（２－３）で表される化合物中の一種であるα，ω－ビス［３－（４－ヒドロキシ－３－メトキシフェニル）プロピル］ポリジメチルシロキサンが好ましい。
　上記で掲げたものの他、特表２０１３－５２３９３８号公報、特開平４－２２５０５９号公報、特表２００６－５１８８０３号公報、及び国際公開公報ＷＯ２０１３／１１５６０４等に記載されているポリオルガノシロキサン化合物も好適に用いることができる。
　上記一般式で示したポリオルガノシロキサンの平均鎖長ｎは、好ましくは３０以上８５以下、より好ましくは４０以上７５以下、さらに好ましくは５８以上７２以下である。平均鎖長ｎは核磁気共鳴（ＮＭＲ）測定により算出される。平均鎖長ｎが３０以上であれば低温における耐衝撃性が十分に得られる。また、平均鎖長ｎが８５以下であれば、成形外観に優れる共重合体を得ることができる。
　ポリオルガノシロキサンの分子量・分子量分布測定値を得るためのゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）装置には特に制限はなく、一般に市販されているＧＰＣ装置、例えば、東ソー株式会社製、示差屈折計（ＲＩ）内蔵型ＧＰＣ測定器、「ＨＬＣ－８２００」を利用することが可能である。具体的には、ＧＰＣカラムとして、東ソー株式会社製、「ＴＳＫ－ＧＥＬ　Ｇ４０００ＨＸＬ」と「ＴＳＫ－ＧＥＬ　Ｇ２０００ＨＸＬ」とを連結させたものを用いる。カラム温度は４０℃に設定し、溶離液にはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を用い、流速１．０ｍｌ／分にて測定する。検量線の作製には、東ソー株式会社製の標準ポリスチレンを用いる。このようにして得られる分子量の対数値を、対数分子量（ｌｏｇ（Ｍ））と称する。
　ＧＰＣ装置の示差屈折（ＲＩ）検出計において検出される強度分布の時間曲線（一般に、溶出曲線と呼ぶ）を、分子量既知の物質から得た較正曲線を用いて溶出時間を分子量に換算する。ここで、ＲＩ検出強度は成分濃度とは比例関係にあるので、溶出曲線の全面積を１００％としたときの強度面積を求め、それぞれの溶出時間の濃度分率を求める。濃度分率を順次積算し、横軸に分子量の対数値（ｌｏｇ（Ｍ））、縦軸に濃度分率（ｗ）の積算値をプロットすることにより積分分子量分布曲線を得ることができる。
　続いて、各分子量の対数値における曲線の微分値（すなわち、積分分子量曲線の傾き）を求め、横軸に分子量の対数値（ｌｏｇ（Ｍ））、縦軸に上記微分値（ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ））をプロットして微分分子量分布曲線を得ることができる。従って、微分分子量分布とは、濃度分率（ｗ）を分子量の対数値（ｌｏｇ（Ｍ））で微分した値、すなわち「ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）」を意味する。この微分分子量分布曲線から、特定のｌｏｇ（Ｍ）における微分分子量分布ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）を読み取ることができる。なお、複数のポリオルガノシロキサンを配合したポリオルガノシロキサン配合物についても、ポリオルガノシロキサン配合物をＧＰＣ法により測定した後、同じ手法により微分分子量分布曲線を得ることができる。
　本発明においては、（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で、好ましくは３．５≦ｌｏｇ（Ｍ）≦３．８の範囲で最大となる。微分分子量分布ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の最大値とは、微分分子量曲線におけるピークトップを指す。微分分子量曲線におけるピークトップのｌｏｇ（Ｍ）の値が３．４以上であると、十分な低温耐衝撃性が得られ、４．０以下であれば、良好な透明性が得られる。
　また、本発明においては、（２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６～４０％であり、好ましくは６．５～３０％である。上記割合が６％以上であると、十分な低温耐衝撃性が得られ、４０％以下であれば、良好な透明性が得られる。ここで、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値の、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対する割合は、ＰＯＳの分子量分布において、ｌｏｇ（Ｍ）が４．００～４．５０である成分がＰＯＳ全体に対して存在する割合を示すものである。
　前記ポリオルガノシロキサンの製造方法は特に限定されない。例えば、特開平１１－２１７３９０号公報に記載の方法によれば、シクロトリシロキサンとジシロキサンとを酸性触媒存在下で反応させて、α，ω－ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンを合成し、次いで、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下に、該α，ω－ジハイドロジェンオルガノペンタシロキサンにフェノール性化合物（例えば２－アリルフェノール、４－アリルフェノール、オイゲノール、２－プロペニルフェノール等）等を付加反応させることで、粗ポリオルガノシロキサンを得ることができる。また、特許第２６６２３１０号公報に記載の方法によれば、オクタメチルシクロテトラシロキサンとテトラメチルジシロキサンとを硫酸（酸性触媒）の存在下で反応させ、得られたα，ω－ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを上記と同様に、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下にフェノール性化合物等を付加反応させることで、粗ポリオルガノシロキサンを得ることができる。なお、α，ω－ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンは、その重合条件によりその鎖長ｎを適宜調整して用いることもできるし、市販のα，ω－ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを用いてもよい。
　上記ヒドロシリル化反応用触媒としては、遷移金属系触媒が挙げられるが、中でも反応速度及び選択性の点から白金系触媒が好ましく用いられる。白金系触媒の具体例としては、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金のオレフィン錯体、白金とビニル基含有シロキサンとの錯体、白金担持シリカ、白金担持活性炭等が挙げられる。
　粗ポリオルガノシロキサンを吸着剤と接触させることにより、粗ポリオルガノシロキサン中に含まれる、上記ヒドロシリル化反応用触媒として使用された遷移金属系触媒に由来する遷移金属を、吸着剤に吸着させて除去することが好ましい。
　吸着剤としては、例えば、１０００Å以下の平均細孔直径を有するものを用いることができる。平均細孔直径が１０００Å以下であれば、粗ポリオルガノシロキサン中の遷移金属を効率的に除去することができる。このような観点から、吸着剤の平均細孔直径は、好ましくは５００Å以下、より好ましくは２００Å以下、更に好ましくは１５０Å以下、より更に好ましくは１００Å以下である。また同様の観点から、吸着剤は多孔性吸着剤であることが好ましい。
　吸着剤としては、上記の平均細孔直径を有するものであれば特に限定されないが、例えば活性白土、酸性白土、活性炭、合成ゼオライト、天然ゼオライト、活性アルミナ、シリカ、シリカ－マグネシア系吸着剤、珪藻土、セルロース等を用いることができ、活性白土、酸性白土、活性炭、合成ゼオライト、天然ゼオライト、活性アルミナ、シリカ及びシリカ－マグネシア系吸着剤からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
　粗ポリオルガノシロキサン中に含まれる遷移金属を吸着剤に吸着させた後、吸着剤は任意の分離手段によってポリオルガノシロキサンから分離することができる。ポリオルガノシロキサンから吸着剤を分離する手段としては、例えばフィルタや遠心分離等が挙げられる。フィルタを用いる場合は、メンブランフィルタ、焼結金属フィルタ、ガラス繊維フィルタ等のフィルタを用いることができるが、特にメンブランフィルタを用いることが好ましい。
　遷移金属の吸着後に吸着剤をポリオルガノシロキサンから分離する観点から、吸着剤の平均粒子径は、通常１μｍ～４ｍｍ、好ましくは１～１００μｍである。
　前記吸着剤を使用する場合には、その使用量は特に限定されない。粗ポリオルガノシロキサン１００質量部に対して、好ましくは１～３０質量部、より好ましくは２～２０質量部の範囲の量の多孔性吸着剤を使用することができる。
　なお、処理する粗ポリオルガノシロキサンの分子量が高いために液体状態でない場合は、吸着剤による吸着及び吸着剤の分離を行う際に、ポリオルガノシロキサンが液体状態となるような温度に加熱してもよい。または、塩化メチレンやヘキサン等の溶剤に溶かして行ってもよい。
　所望の分子量分布のポリオルガノシロキサンは、例えば、複数のポリオルガノシロキサンを配合することにより分子量分布を調節して得られる。配合は、複数のα，ω－ジハイドロジェンオルガノポリシロキサンを配合したあと、ヒドロシリル化反応用触媒の存在下にフェノール化合物等を付加反応させることで所望の分子量分布となる粗ポリオルガノシロキサンを得ることもできる。また、複数の粗ポリオルガノシロキサンを配合したのち、ヒドロシリル化反応触媒を除去させるなどの精製を行ってもよい。精製後の複数のポリオルガノシロキサンを配合してもよい。また、ポリオルガノシロキサン製造時の重合条件により適宜調整することもできる。また、既存のポリオルガノシロキサンから各種分離等の手段によって一部のみを分取することで得ることもできる。
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）の製造方法＞
　本発明に用いるＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）を製造する方法としては、界面重合法（ホスゲン法）、ピリジン法、エステル交換法等の公知の製造方法を用いることができる。特に界面重合法の場合に、ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）を含む有機相と未反応物や触媒残渣等を含む水相との分離工程が容易となり、アルカリ洗浄、酸洗浄、純水洗浄による各洗浄工程におけるＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）を含む有機相と水相との分離が容易となり、効率よくＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）が得られる。
　ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）の製造方法に特に制限はなく、公知のＰＣ－ＰＯＳ共重合体の製造方法、例えば、特開２０１０－２４１９４３号公報等に記載の方法を参照して製造することができる。
　具体的には、予め製造されたポリカーボネートオリゴマーと、上記ポリオルガノシロキサンとを、非水溶性有機溶媒（塩化メチレン等）に溶解させ、二価フェノール系化合物（ビスフェノールＡ等）のアルカリ性化合物水溶液（水酸化ナトリウム水溶液等）を加え、重合触媒として第三級アミン（トリエチルアミン等）や第四級アンモニウム塩（トリメチルベンジルアンモニウムクロライド等）を用い、末端停止剤（ｐ－ｔ－ブチルフェノール等の１価フェノール）の存在下、界面重縮合反応させることにより製造できる。また、ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）は、ポリオルガノシロキサンと、二価フェノールと、ホスゲン、炭酸エステル又はクロロホーメートとを共重合させることによっても製造できる。
　本発明においては、上述した通り、ポリスチレンを換算基準としたＧＰＣ法による測定結果から得られる微分分子量分布曲線において、縦軸をｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）、横軸をｌｏｇ（Ｍ）（ｗは濃度分率、Ｍは分子量である）としたとき、（１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、（２）上記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６～４０％であるポリオルガノシロキサンを原料に用いる。具体的には、一般式（２）、（３）及び／又は（４）で表されるポリオルガノシロキサンを用いる。
　ポリカーボネートオリゴマーは、塩化メチレン、クロロベンゼン、クロロホルム等の有機溶剤中で、二価フェノールとホスゲンやトリホスゲンのようなカーボネート前駆体との反応によって製造することができる。なお、エステル交換法を用いてポリカーボネートオリゴマーを製造する際には、二価フェノールとジフェニルカーボネートのようなカーボネート前駆体との反応によって製造することもできる。
　二価フェノールとしては、下記一般式（ｉ）で表される二価フェノールを用いることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
　式中、Ｒ１、Ｒ２、ａ、ｂ及びＸは上述した通りである。
　上記一般式（ｉ）で表される二価フェノールとしては、例えば、ビス（ヒドロキシアリール）アルカン類、ビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類、ジヒドロキシアリールエーテル類、ジヒドロキシジアリールスルフィド類、ジヒドロキシジアリールスルホキシド類、ジヒドロキシジアリールスルホン類、ジヒドロキシジフェニル類、ジヒドロキシジアリールフルオレン類、ジヒドロキシジアリールアダマンタン類等が挙げられる。これらの二価フェノールは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
　ビス（ヒドロキシアリール）アルカン類としては、例えばビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン［ビスフェノールＡ］、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）プロパン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ナフチルメタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシ－３－ｔ－ブチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－ブロモフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３－クロロフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジクロロフェニル）プロパン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジブロモフェニル）プロパン等が挙げられる。
　ビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類としては、例えば１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－３，５，５－トリメチルシクロヘキサン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ノルボルナン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロドデカン等が挙げられる。ジヒドロキシアリールエーテル類としては、例えば４，４’－ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルフェニルエーテル等が挙げられる。
　ジヒドロキシジアリールスルフィド類としては、例えば４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルジフェニルスルフィド等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールスルホキシド類としては、例えば４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルジフェニルスルホキシド等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールスルホン類としては、例えば４，４’－ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４’－ジヒドロキシ－３，３’－ジメチルジフェニルスルホン等が挙げられる。
　ジヒドロキシジフェニル類としては、例えば４，４’－ジヒドロキシジフェニル等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールフルオレン類としては、例えば９，９－ビス（４－ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９－ビス（４－ヒドロキシ－３－メチルフェニル）フルオレン等が挙げられる。ジヒドロキシジアリールアダマンタン類としては、例えば１，３－ビス（４－ヒドロキシフェニル）アダマンタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）アダマンタン、１，３－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－５，７－ジメチルアダマンタン等が挙げられる。
　上記以外の二価フェノールとしては、例えば４，４’－［１，３－フェニレンビス（１－メチルエチリデン）］ビスフェノール、１０，１０－ビス（４－ヒドロキシフェニル）－９－アントロン、１，５－ビス（４－ヒドロキシフェニルチオ）－２，３－ジオキサペンタン等が挙げられる。
　上記二価フェノールは、１種を単独で使用してもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
　これらの中でも、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系二価フェノールが好ましく、ビスフェノールＡがより好ましい。二価フェノールとしてビスフェノールＡを用いた場合、前記一般式（ｉ）において、Ｘがイソプロピリデン基であり、且つａ＝ｂ＝０となる。
　得られるＰＣ－ＰＯＳ共重合体の分子量を調整するために、末端停止剤を使用することができる。末端停止剤としては、例えば、フェノール、ｐ－クレゾール、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール、ｐ－ｔｅｒｔ－オクチルフェノール、ｐ－クミルフェノール、ｐ－ノニルフェノール、ｍ－ペンタデシルフェノール及びｐ－ｔｅｒｔ－アミルフェノール等の一価フェノールを挙げることができる。これら一価フェノールは、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　上記界面重縮合反応後、適宜静置して水相と有機溶媒相とに分離し［分離工程］、有機溶媒相を洗浄（好ましくは塩基性水溶液、酸性水溶液、水の順に洗浄）し［洗浄工程］、得られた有機相を濃縮［濃縮工程］、及び乾燥する［乾燥工程］ことによって、ＰＣ－ＰＯＳ共重合体を得ることができる。
　本発明に用いられるＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）の粘度平均分子量は、使用される用途や製品により、適宜、目的の分子量となるように分子量調整剤等を用いることにより製造することができる。通常は、１２，０００～４０，０００、好ましくは１５，０００～３０，０００程度の範囲として製造される。粘度平均分子量が１２，０００以上であれば、成形体の強度が十分であり、４０，０００以下であれば、適切な温度領域での射出成形や押出成形が可能となるため、良好な透明性が得られる。
　また、成形温度を上げることによりＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）の粘度を下げることも可能であるが、その場合、成形サイクルが長くなり経済性に劣るほか、温度を上げすぎるとＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）の熱劣化により透明性が低下する傾向がある。
　なお、粘度平均分子量（Ｍｖ）は、２０℃における塩化メチレン溶液の極限粘度〔η〕を測定し、Ｓｃｈｎｅｌｌの式（〔η〕＝１．２３×１０－５×Ｍｖ０．８３）より算出した値である。
　本発明のポリカーボネート系樹脂組成物におけるポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）の配合量は、１０～９０質量％であり、１５～８５質量％であることが好ましく、２０～８０質量％であることがより好ましい。
［芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）］
　本発明のポリカーボネート系樹脂組成物に用いられるポリカーボネート系樹脂は、前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）以外の芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）を含む。
　芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）の第１の態様としては、一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ'）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ'）を含み、上記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ'）が、例えば、下記一般式（ｉｉ－Ｉ）～（ｉｉ－ＩＩＩ）のいずれかで表され、かつ、平均鎖長が２０以上６０未満の芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２ａ）が挙げられる。芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２ａ）の平均鎖長は、好ましくは３０～５０であり、より好ましくは３０～４５である。ポリカーボネートブロック（Ａ'）中の一般式（Ｉ）及びその好ましい態様、及びポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ'）中の一般式（ＩＩ）及びその好ましい態様は、前記（Ｅ－１）と同じである。
　芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）の第２の態様としては、一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ'）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ'）を含み、上記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ'）が、例えば、下記一般式（ｉｉ－Ｉ）～（ｉｉ－ＩＩＩ）のいずれかで表され、かつ、平均鎖長が６０以上５００以下の芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２ｂ）が挙げられる。上記芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２ｂ）の平均鎖長は、好ましくは７０～２００であり、より好ましくは８０～１５０である。ポリカーボネートブロック（Ａ'）中の一般式（Ｉ）及びその好ましい態様、及びポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ'）中の一般式（ＩＩ）及びその好ましい態様は、前記（Ｅ－１）と同じである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
［式中、Ｒ３～Ｒ６は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示し、複数のＲ３～Ｒ６は、互いに同一であっても異なっていても良い。Ｙは－Ｒ７Ｏ－、－Ｒ７ＣＯＯ－、－Ｒ７ＮＨ－、－Ｒ７ＮＲ８－、－ＣＯＯ－、－Ｓ－、－Ｒ７ＣＯＯ－Ｒ９－Ｏ－、または－Ｒ７Ｏ－Ｒ１０－Ｏ－を示し、複数のＹは、互いに同一であっても異なっていても良い。前記Ｒ７は、単結合、直鎖、分岐鎖若しくは環状アルキレン基、アリール置換アルキレン基、置換または無置換のアリーレン基、またはジアリーレン基を示す。Ｒ８は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、またはアラルキル基を示す。Ｒ９は、ジアリーレン基を示す。Ｒ１０は、直鎖、分岐鎖もしくは環状アルキレン基、又はジアリーレン基を示す。βは、ジイソシアネート化合物由来の２価の基、又はジカルボン酸若しくはジカルボン酸のハロゲン化物由来の２価の基を示す。ｐとｑはそれぞれ１以上の整数であり、ｐとｑの和はｎ－２である。ｎは、ポリオルガノシロキサンの平均鎖長を表す。］
　上記Ｒ３～Ｒ１０の好ましい態様は前記と同じである。また、芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２ａ）及び（Ｅ－２ｂ）の製造方法も前記（Ｅ－１）と同様である。但し、（Ｅ－２ａ）及び（Ｅ－２ｂ）中のポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）は、前述のＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）中のポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）が有する所定の分子量分布の要件を満たさないものである。
　芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）の第３の態様としては、芳香族ホモポリカーボネート樹脂が挙げられる。具体的には、前記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し構造を有していないものであり、かつ主鎖が下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位である芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２ｃ）が挙げられる。上記芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２ｃ）としては、特に制限はなく種々の公知のポリカーボネート樹脂を使用できる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
［式中、Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘ’は単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。ｄ及びｅは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
　上記式（ＩＩＩ）中のＲ９及びＲ１０の具体例としては、前記Ｒ１及びＲ２と同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。Ｒ９及びＲ１０としては、より好ましくは、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基である。Ｘ’の具体例としては、前記Ｘと同じものが挙げられ、好ましいものも同じである。ｄ及びｅは、それぞれ独立に、好ましくは０～２、より好ましくは０又は１である。
　上記芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２ｃ）は、具体的には、反応に不活性な有機溶媒、アルカリ水溶液の存在下、二価フェノール系化合物及びホスゲンと反応させた後、第三級アミンもしくは第四級アンモニウム塩等の重合触媒を添加して重合させる界面重合法や、二価フェノール系化合物をピリジン又はピリジンと不活性溶媒の混合溶液に溶解し、ホスゲンを導入し直接製造するピリジン法等従来のポリカーボネートの製造法により得られるものを使用できる。
　上記の反応に際し、必要に応じて、分子量調節剤（末端停止剤）、分岐化剤等が使用される。
　なお、上記二価フェノール系化合物としては、下記一般式（ＩＩＩ’）で表されるものが挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
［式中、Ｒ９、Ｒ１０、Ｘ’、ｄ及びｅは前記定義の通りであり、好ましいものも同じである。］
　該二価フェノール系化合物の具体例としては、例えば、２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン〔ビスフェノールＡ〕、ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン、１，１－ビス（４－ヒドロキシフェニル）エタン、２，２－ビス（４－ヒドロキシ－３，５－ジメチルフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系二価フェノール、４，４'－ジヒドロキシジフェニル、ビス（４－ヒドロキシフェニル）シクロアルカン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）オキシド、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（４－ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス（４－ヒドロキシフェニル）ケトン等が挙げられる。
　これらの中でも、ビス（ヒドロキシフェニル）アルカン系二価フェノールが好ましく、ビスフェノールＡがより好ましい。
　上記芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）は１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
　本発明のポリカーボネート系樹脂組成物における芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）の配合量は、１０～９０質量％であり、１５～８５質量％であることが好ましく、２０～８０質量％であることがより好ましい。
　前記ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）及び芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）（以下、（Ｅ－１）及び（Ｅ－２）をまとめて「ポリカーボネート系樹脂」ともいう）中の、前記一般式（ＩＩ）で表わされる繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロックの含有量は、好ましくは０．５～２０．０質量％、より好ましくは１．５～１５．０質量％である。ポリオルガノシロキサンブロックの含有量が０．５質量％以上であると、十分な低温耐衝撃性が得られ、２０．０質量％以下であると、十分な耐熱性が得られる。
　また上記ポリカーボネート系樹脂の粘度平均分子量は、好ましくは１２，０００～４０，０００、より好ましくは１５，０００～３０，０００である。当該粘度平均分子量が１２，０００以上であれば、成形体の強度が十分であり、４０，０００以下であれば、適切な温度領域での射出成形や押出成形が可能となるため、良好な透明性が得られる。
［その他の添加剤］
　本発明のポリカーボネート系樹脂組成物には、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の添加剤を含ませることができる。その他の添加剤としては、酸化防止剤、紫外線吸収剤、難燃剤や離型剤、染料等を挙げることができる。これらの中でも、本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は酸化防止剤を含むことが好ましい。ポリカーボネート系樹脂組成物に酸化防止剤が含まれることにより、ポリカーボネート系樹脂組成物の溶融時における酸化劣化を防止することができ、酸化劣化による着色等を防止することができる。酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤及び／又はフェノール系酸化防止剤等が好適に用いられる。
　リン系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルノニルホスファイト、ジフェニル（２－エチルヘキシル）ホスファイト、トリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、ジフェニルイソオクチルホスファイト、２，２’－メチレンビス（４，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、ジフェニルモノ（トリデシル）ホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、フェニルジ（トリデシル）ホスファイト、トリス（２－エチルヘキシル）ホスファイト、トリス（イソデシル）ホスファイト、トリス（トリデシル）ホスファイト、ジブチルハイドロジェンホスファイト、トリラウリルトリチオホスファイト、テトラキス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）－４，４’－ビフェニレンジホスホナイト、４，４’－イソプロピリデンジフェノールドデシルホスファイト、４，４’－イソプロピリデンジフェノールトリデシルホスファイト、４，４’－イソプロピリデンジフェノールテトラデシルホスファイト、４，４’－イソプロピリデンジフェノールペンタデシルホスファイト、４，４’－ブチリデンビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェニル）ジトリデシルホスファイト、ビス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリル－ペンタエリスリトールジホスファイト、フェニルビスフェノールＡペンタエリスリトールジホスファイト、テトラフェニルジプロピレングリコールジホスファイト、１，１，３－トリス（２－メチル－４－ジ－トリデシルホスファイト－５－ｔ－ブチルフェニル）ブタン、３，４，５，６－ジベンゾ－１，２－オキサホスファン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルブチルホスフィン、ジフェニルオクタデシルホスフィン、トリス－（ｐ－トリル）ホスフィン、トリス－（ｐ－ノニルフェニル）ホスフィン、トリス－（ナフチル）ホスフィン、ジフェニル－（ヒドロキシメチル）－ホスフィン、ジフェニル－（アセトキシメチル）－ホスフィン、ジフェニル－（β－エチルカルボキシエチル）－ホスフィン、トリス－（ｐ－クロロフェニル）ホスフィン、トリス－（ｐ－フルオロフェニル）ホスフィン、ジフェニルベンジルホスフィン、ジフェニル－β－シアノエチルホスフィン、ジフェニル－（ｐ－ヒドロキシフェニル）－ホスフィン、ジフェニル－１，４－ジヒドロキシフェニル－２－ホスフィン、フェニルナフチルベンジルホスフィン等が挙げられる。
　また、リン系酸化防止剤として、例えば、Ｉｒｇａｆｏｓ１６８（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、Ｉｒｇａｆｏｓ１２（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、Ｉｒｇａｆｏｓ３８（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、アデカスタブ２１１２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商標）、アデカスタブ　Ｃ（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商標）、アデカスタブ　３２９Ｋ（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商標）、アデカスタブ　ＰＥＰ３６（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商標）、ＪＣ２６３（城北化学工業株式会社製、商標）、Ｓａｎｄｓｔａｂ Ｐ－ＥＰＱ（クラリアント社製、商標）、Ｗｅｓｔｏｎ ６１８（ＧＥ社製、商標）、Ｗｅｓｔｏｎ６１９Ｇ（ＧＥ社製、商標）及びＷｅｓｔｏｎ ６２４（ＧＥ社製、商標）等の市販品を挙げることができる。
　フェノール系酸化防止剤としては、例えば、ｎ－オクタデシル－３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－メチルフェノール、２，２'－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、ペンタエリスリチル－テトラキス〔３－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕等のヒンダードフェノール類が挙げられる。
　これら酸化防止剤の中では、ビス（２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４－ジ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト等のペンタエリスリトールジホスファイト構造を持つものやトリフェニルホスフィンが好ましい。
　フェノール系酸化防止剤としては、例えば、Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、Ｉｒｇａｎｏｘ１３３０（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、Ｉｒｇａｎｏｘ３１２５（ＢＡＳＦジャパン（株）製、商標）、ＢＨＴ（武田薬品工業株式会社製、商標）、Ｃｙａｎｏｘ１７９０（サイアナミド社製、商標）及びＳｕｍｉｌｉｚｅｒＧＡ－８０（住友化学株式会社製、商標）等の市販品を挙げることができる。
　前記酸化防止剤の含有量は、前記（Ｅ－１）及び（Ｅ－２）の合計量１００質量部に対して、０．００１～０．５質量部程度であり、好ましくは０．０１～０．３質量部、より好ましくは０．０５～０．３質量部である。前記酸化防止剤の含有量が０．００１質量部以上であれば、十分な酸化防止効果が得られ、０．５質量部以下であれば、成形時に用いる金型汚れを十分に抑制できる。
　本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、前記の各成分を上記割合で、更に必要に応じて用いられる各種任意成分を適当な割合で配合し、混練することにより得られる。
　配合及び混練は、通常用いられている機器、例えば、リボンブレンダー、ドラムタンブラーなどで予備混合して、ヘンシェルミキサー、バンバリーミキサー、単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機、多軸スクリュー押出機及びコニーダ等を用いる方法で行うことができる。混練の際の加熱温度は、通常、２４０～３２０℃の範囲で適宜選択される。この溶融混練成形としては、押出成形機、特に、ベント式の押出成形機の使用が好ましい。
［成形体］
　本発明のポリカーボネート系樹脂組成物は、上記の溶融混練成形機、又は、得られたペレットを原料として、射出成形法、射出圧縮成形法、押出成形法、ブロー成形法、プレス成形法、真空成形法及び発泡成形法等により各種成形体を製造することができる。特に、得られたペレットを用いて、射出成形及び射出圧縮成形による射出成形体の製造に好適に用いることができる。
　本発明のポリカーボネート系樹脂組成物からなる成形体は、例えば、
（１）テレビ、ラジオカセット、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダ、オーディオプレーヤー、ＤＶＤプレーヤー、エアコンディショナ、携帯電話、ディスプレイ、コンピュータ、レジスター、電卓、複写機、プリンター、ファクシミリ等の電気・電子機器用部品、
（２）上記（１）の電気・電子機器用の筐体等として好適に用いることができる。
　次に、本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例により何ら限定されるものではない。なお、各例における特性値、評価結果は、以下の要領に従って求めた。
（１）ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）
　ポリオルガノシロキサンのＧＰＣ測定は以下の条件で行った。
　試験機器：ＴＯＳＯＨ　ＨＬＣ　８２２０
　カラム：ＴＯＳＯＨ　ＴＳＫ－ＧＥＬ　ＧＨＸＬ－Ｌ，Ｇ４０００ＨＸＬ，Ｇ２０００ＨＸＬ
　溶媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
　カラム温度：４０℃
　流速：１．０ｍｌ／分
　検出器：ＲＩ
　注入濃度：０．１ｗ／ｖ％
　注入量：０．１ｍｌ
　検量線の作製には、東ソー株式会社製の標準ポリスチレンを用いた。
　微分分子量分布曲線は、次のような方法で得ることが出来る。まず、ＲＩ検出計において検出される強度分布の時間曲線（溶出曲線）を、検量線を用いて分子量の対数値（ｌｏｇ（Ｍ））に対する分子量分布曲線とした。次に、分布曲線の全面積を１００％とした場合のｌｏｇ（Ｍ）に対する積分分子量分布曲線を得た後、この積分分子量分布曲線をｌｏｇ（Ｍ）で、微分することによってｌｏｇ（Ｍ）に対する微分分子量分布曲線を得ることが出来る。なお、微分分子量分布曲線を得るまでの一連の操作は、通常、ＧＰＣ測定装置に内蔵の解析ソフトウェアを用いて行うことが出来る。図１は、得られる微分分布曲線の一例を示すグラフであり、ｄｗ／ｌｏｇ（Ｍ）の値が最大値のｌｏｇ（Ｍ）の値及びｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）について、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲で積分した値を斜線部分で示したものである。
　なお、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体中のポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）又はポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ’）のＧＰＣ測定は以下の条件で行った。
　得られたＰＣ－ＰＯＳ共重合体のフレーク４．３ｇにメチレンクロライドを２０ｍｌ加え、完全に溶解した。マグネチックスターラーで撹拌しながら、水酸化ナトリウムのメタノール溶液（４８質量％のＮａＯＨ水溶液とメタノールを容積比で１：９の割合で混合したもの）２０ｍｌを加え、３０分撹拌した。析出したＰＣ由来の固形分結晶を溶解するため、イオン交換水２５ｍｌを加え１分間攪拌後、静置することで有機層と水層に分離し有機層を得た。有機層に有機層の１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液を加え攪拌により洗浄後、静置分離し有機層を得る操作を二回実施した。得られた有機層に有機層の１５容積％の０．２ｍｏｌ／Ｌの塩酸を加え攪拌により洗浄後、静置分離し有機層を得た。次に、有機層を有機層の１５容積％の純水を加え攪拌により洗浄後、静置分離し有機層を得た。得られた有機層を乾燥機にて６０℃で１６時間乾燥した。得られたサンプルをＧＰＣにて測定した。ここで、得られるＧＰＣスペクトルにおいて、ポリスチレン換算分子量でｌｏｇ［Ｍ］２．０以上３．０未満に最大値を持つＰＣ由来の低分子量成分と、ｌｏｇ［Ｍ］３．０以上４．５未満に最大値を持つＰＯＳ成分であることが分かる。このＰＯＳのスペクトルについて確認することで、用いたポリオルガノシロキサンの分子量分布を確認することができる。
（２）ポリジメチルシロキサン鎖長及び含有量
　ＮＭＲ測定によって、ポリジメチルシロキサンのメチル基の積分値比により算出した。
＜ポリジメチルシロキサンの鎖長の定量方法＞
　１Ｈ－ＮＭＲ測定条件
　ＮＭＲ装置：株式会社ＪＥＯＬ　ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製　ＥＣＡ５００
　プローブ：５０ＴＨ５ＡＴ／ＦＧ２
　観測範囲：－５～１５ｐｐｍ
　観測中心：５ｐｐｍ
　パルス繰り返し時間：９秒
　パルス幅：４５°
　ＮＭＲ試料管：５φ
　サンプル量：       ４５～５５ｍｇ
　溶媒：重クロロホルム
　測定温度：室温
　積算回数：２５６回
　アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサンの場合
　Ａ：δ－０．０２～０．５付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
　Ｂ：δ２．５０～２．７５付近に観測されるアリルフェノールのベンジル位のメチレン基の積分値
　ポリジメチルシロキサンの鎖長＝（Ａ／６）／（Ｂ／４）
＜ＰＣ－ＰＤＭＳ中のポリジメチルシロキサン含有量の定量方法＞
　例）アリルフェノール末端ポリジメチルシロキサンを共重合したｐ－ｔ－ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）末端ポリカーボネート中のポリジメチルシロキサン共重合量の定量方法にて定量した。
　ＮＭＲ装置：株式会社ＪＥＯＬ　ＲＥＳＯＮＡＮＣＥ製　ＥＣＡ－５００
　プローブ：ＴＨ５　５φＮＭＲ試料管対応
　観測範囲：－５～１５ｐｐｍ
　観測中心：５ｐｐｍ
　パルス繰り返し時間：９秒
　パルス幅：４５°
　積算回数：２５６回
　ＮＭＲ試料管：５φ
　溶媒：重クロロホルム
　測定温度：室温
　Ａ：δ１．５～１．９付近に観測されるＢＰＡ部のメチル基の積分値
　Ｂ：δ－０．０２～０．３付近に観測されるジメチルシロキサン部のメチル基の積分値
　Ｃ：δ１．２～１．４付近に観測されるｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル部のブチル基の積分値
　ａ＝Ａ／６
　ｂ＝Ｂ／６
　ｃ＝Ｃ／９
　Ｔ＝ａ＋ｂ＋ｃ
　ｆ＝ａ／Ｔ×１００
　ｇ＝ｂ／Ｔ×１００
　ｈ＝ｃ／Ｔ×１００
　ＴＷ＝ｆ×２５４＋ｇ×７４．１＋ｈ×１４９
　ＰＤＭＳ（ｗｔ％）＝ｇ×７４．１／ＴＷ×１００
（３）粘度平均分子量
　粘度平均分子量（Ｍｖ）は、ウベローデ型粘度計を用いて、２０℃における塩化メチレン溶液の粘度を測定し、これより極限粘度［η］を求め、次式（Ｓｃｈｎｅｌｌ式）にて算出した。
　［η］＝１．２３×１０－５×Ｍｖ０．８３
＜ポリカーボネートオリゴマーの製造＞
　５．６質量％の水酸化ナトリウム水溶液に、ビスフェノールＡ（ＢＰＡ）（後から溶解する）に対して２０００ｐｐｍの亜二チオン酸ナトリウムを加えた。これにＢＰＡ濃度が１３．５質量％となるようにＢＰＡを溶解し、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を調製した。このＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を４０Ｌ／ｈｒ、塩化メチレンを１５Ｌ／ｈｒ、及びホスゲンを４．０ｋｇ／ｈｒの流量で内径６ｍｍ、管長３０ｍの管型反応器に連続的に通した。管型反応器はジャケット部分を有しており、ジャケットに冷却水を通して反応液の温度を４０℃以下に保った。管型反応器を出た反応液を、後退翼を備えた内容積４０Ｌのバッフル付き槽型反応器へ連続的に導入し、ここにさらにＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液を２．８Ｌ／ｈｒ、２５質量％の水酸化ナトリウム水溶液を０．０７Ｌ／ｈｒ、水を１７Ｌ／ｈｒ、１質量％のトリエチルアミン水溶液を０．６４Ｌ／ｈｒの流量で添加して反応を行なった。槽型反応器から溢れ出る反応液を連続的に抜き出し、静置することで水相を分離除去し、塩化メチレン相を採取した。
　このようにして得られたポリカーボネートオリゴマーは濃度３３０ｇ／Ｌ、クロロホーメート基濃度０．７１ｍｏｌ／Ｌであった。
＜ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（Ｅ－１）の製造＞
製造例１（ＳｉＰＣ－ａ１の製造）
　邪魔板、パドル型攪拌翼及び冷却用ジャケットを備えた５０Ｌ槽型反応器に上記の通り製造したポリカーボネートオリゴマー溶液１３．５Ｌ、塩化メチレン１１．４Ｌ、及び平均鎖長ｎ＝６４、ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）が最大値となるｌｏｇ（Ｍ）が３．７、ｌｏｇ（Ｍ）４．００～４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値がｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して（以下、実施例においてはｌｏｇ（Ｍ）４．００～４．５０の割合と呼ぶことがある）１５．０％であるアリルフェノール末端変性ポリジメチルシロキサン（以下、ポリジメチルシロキサンをＰＤＭＳと呼ぶことがある）３５０ｇを塩化メチレン８００ｍｌに溶解したもの、ならびに、トリエチルアミン７．９ｍＬを仕込み、攪拌下でここに６．４質量％の水酸化ナトリウム水溶液１２８４ｇを加え、２０分間ポリカーボネートオリゴマーとアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳの反応を行った。なお、ここで用いたアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳは、平均鎖長ｎ＝３４、ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）が最大値となるｌｏｇ（Ｍ）が３．６、ｌｏｇ（Ｍ）４．００～４．５０の割合が５．６％のアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳと、平均鎖長ｎ＝９２、ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）が最大値となるｌｏｇ（Ｍ）が４．１、ｌｏｇ（Ｍ）４．００～４．５０の割合が３４．８％のアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳとを質量比５：５で配合したものである。
　この重合液に、ｐ－ｔ－ブチルフェノール（ＰＴＢＰ）の塩化メチレン溶液（ＰＴＢＰ１２８．１ｇを塩化メチレン１．３Ｌに溶解したもの）、ＢＰＡの水酸化ナトリウム水溶液（ＮａＯＨ５６７ｇと亜二チオン酸ナトリウム１．９ｇとを水８．３Ｌに溶解した水溶液にＢＰＡ９９７ｇを溶解させたもの）を添加し４０分間重合反応を実施した。
　希釈のため塩化メチレン１０Ｌを加え２０分間攪拌した後、ＰＣ－ＰＤＭＳを含む有機相と過剰のＢＰＡ及びＮａＯＨを含む水相に分離し、有機相を単離した。
　こうして得られたＰＣ－ＰＤＭＳの塩化メチレン溶液を、その溶液に対して、１５容積％の０．０３ｍｏｌ／ＬＮａＯＨ水溶液、０．２Ｎ塩酸で順次洗浄し、次いで洗浄後の水相中の電気伝導度が０．０１μＳ／ｍ以下になるまで純水で洗浄を繰り返した。
　洗浄により得られたポリカーボネートの塩化メチレン溶液を濃縮・粉砕し、得られたフレークを減圧下１２０℃で乾燥した。ＰＤＭＳ濃度は６．０質量％、ＩＳＯ１６２８－４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は４７．７、粘度平均分子量Ｍｖ＝１７，８００であった。このようにして、ＰＣ－ＰＤＭＳ（Ｅ－１）として、ＳｉＰＣ－ａ１を得た。
＜芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２ａ）の製造＞
製造例２（ＳｉＰＣ－ｂ１の製造）
　製造例１において用いたアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳを、平均鎖長ｎ＝３４、ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）が最大値を取るときのｌｏｇ（Ｍ）が３．６、ｌｏｇ（Ｍ）４．００～４．５０の割合が５．６％のアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳに変えた以外は製造例１と同様に行って、ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（ＳｉＰＣ－ｂ１）のフレークを得た。得られたフレークのＰＤＭＳ量は６．０質量％、ＩＳＯ１６２８－４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は４７．３、粘度平均分子量は１７，５００であった。
＜芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２ｂ）の製造＞
製造例３（ＳｉＰＣ－ｃ１の製造）
　製造例１において用いたアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳを、平均鎖長ｎ＝９２、ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）が最大値を取るときのｌｏｇ（Ｍ）が４．１、ｌｏｇ（Ｍ）４．００～４．５０の割合が３４．８％のアリルフェノール末端変性ＰＤＭＳを３５０ｇに変えた以外は製造例１と同様に行って、ＰＣ－ＰＯＳ共重合体（ＳｉＰＣ－ｃ１）のフレークを得た。得られたフレークのＰＤＭＳ量は６．０質量％、ＩＳＯ１６２８－４（１９９９）に準拠して測定した粘度数は４７．４、粘度平均分子量は１７，７００であった。
＜芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２ｃ）＞
　ＰＣ－１：芳香族ホモポリカーボネート樹脂［出光興産株式会社製、タフロンＦＮ１７００（商品名）、粘度平均分子量＝１７，７００］
　実施例１～５及び比較例１～７
　製造例１～３で得られたＰＣ－ＰＯＳ共重合体、及びその他の各成分を表１及び表２に示す配合割合（単位；質量部）で混合し、ベント式二軸押出機（東芝機械株式会社製、ＴＥＭ３５Ｂ）に供給し、スクリュー回転数１５０ｒｐｍ、吐出量２０ｋｇ／ｈｒ、樹脂温度２９５～３００℃にて溶融混練し、評価用ペレットサンプルを得た。この評価用ペレットサンプルを１２０℃で８時間乾燥させた後、射出成形機（日精樹脂工業株式会社製、ＮＥＸ１１０、スクリュー径３６ｍｍΦ）を用いて、シリンダー温度２８０℃、金型温度８０℃にて、射出成形してＩｚｏｄ試験を行うための試験片（６３×１３×３．２ｍｍ試験片２個）を作成した。さらに乾燥した評価用ペレットサンプルを射出成形機（株式会社ニイガタマシンテクノ製、ＭＤ５０ＸＢ、スクリュー径３０ｍｍφ）を用いて透明性の評価試験を行うための試験片（３段プレート９０ｍｍ×５０ｍｍ、３ｍｍ厚部分４５ｍｍ×５０ｍｍ、２ｍｍ厚部分２２．５ｍｍ×５０ｍｍ、１ｍｍ厚部分２２．５ｍｍ×５０ｍｍ）を作成した。また、その他の各成分について、以下に示す。各成分と評価試験結果について、表１及び表２に示す。
［評価試験］
＜全光線透過率（Ｔｔ）及びヘイズ値＞
　前記３段プレートの３ｍｍ厚部分について、全光線透過率についてはＩＳＯ１３４６８に基づいて３回測定し、ヘイズ値についてはＩＳＯ１４７８２に基づいて３回測定し、それぞれその平均を求めた。
＜アイゾット（Ｉｚｏｄ）衝撃強度＞
　ＡＳＴＭ規格Ｄ－２５６に準拠して、測定温度－４０℃におけるノッチ付きアイゾット衝撃強度を測定した。その判断基準として－４０℃で４０ｋＪ／ｍ２以上であれば、低温での耐衝撃性が優れていることを示すものである。
＜その他の成分＞
　酸化防止剤：「ＩＲＧＡＦＯＳ１６８（商品名）」［トリス（２，４－ジ－t－ブチルフェニル）ホスファイト、ＢＡＳＦジャパン株式会社製］
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000019
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000020
　表１から明らかなように、実施例１～５のポリカーボネート系樹脂組成物から得られた成形体は、透明性及び耐衝撃性が共に優れ、特に低温下での耐衝撃性に優れていることが示されている。
　一方、比較例１～７で示されているように、ポリオルガノシロキサンの分子量分布が制御された特定のポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体と芳香族ポリカーボネート樹脂とを組み合わせたポリカーボネート系樹脂組成物を用いない場合には、透明性及び低温での耐衝撃性を両立する成形体とはならないことが示されている。具体的には、実施例１～５と同程度の低温下での耐衝撃性を示す比較例１～３，７では透明性が劣り、実施例１～５と同程度の透明性を示す比較例４～６では低温での耐衝撃性が劣る結果となった。
　本発明で得られるポリカーボネート系樹脂組成物は、透明性及び低温耐衝撃性に優れるため、電気及び電子機器用部品、照明器具内外装部品、車両内外装部品、食品トレーや食器に好適に用いることができる。

Claims (14)

  1. 　ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）を１０～９０質量％、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）以外の芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）を１０～９０質量％含み、
    　前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）が、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有し、
    　前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の、ポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
    （１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、
    （２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６～４０％であることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
    ［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
  2. 　ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）を１０～９０質量％、ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）以外の芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）を１０～９０質量％含み、
    　前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）が、下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ）及び下記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）を有し、
    　ポリスチレンを換算基準としたゲル浸透クロマトグラフ法による測定から得られる、横軸が分子量Ｍの対数値ｌｏｇ（Ｍ）であり、縦軸が濃度分率ｗを分子量の対数値ｌｏｇ（Ｍ）で微分したｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）である微分分子量分布曲線において、
    （１）ｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）の値が、３．４≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．０の範囲で最大となり、
    （２）前記微分分子量分布曲線において、４．００≦ｌｏｇ（Ｍ）≦４．５０の範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値が、ｌｏｇ（Ｍ）の全範囲でｄｗ／ｄｌｏｇ（Ｍ）値を積分した値に対して６～４０％であるポリオルガノシロキサンを原料に用いることを特徴とする、ポリカーボネート系樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
    ［式中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～６のアルコキシ基を示す。Ｘは、単結合、炭素数１～８のアルキレン基、炭素数２～８のアルキリデン基、炭素数５～１５のシクロアルキレン基、炭素数５～１５のシクロアルキリデン基、フルオレンジイル基、炭素数７～１５のアリールアルキレン基、炭素数７～１５のアリールアルキリデン基、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ２－、－Ｏ－又は－ＣＯ－を示す。Ｒ３及びＲ４はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基又は炭素数６～１２のアリール基を示す。ａ及びｂは、それぞれ独立に０～４の整数を示す。］
  3. 　前記芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）が芳香族ホモポリカーボネート樹脂を含む、請求項１又は２に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  4. 　前記芳香族ポリカーボネート樹脂（Ｅ－２）が前記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位からなるポリカーボネートブロック（Ａ'）及び前記一般式（ＩＩ）で表される繰り返し単位を含むポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ'）を有するポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体を含む、請求項１～３のいずれか１項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  5. 　前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ'）の平均鎖長が２０以上６０未満である、請求項４に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  6. 　前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ'）の平均鎖長が６０以上５００以下である、請求項４に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  7. 　前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の平均鎖長が３０以上８５以下である、請求項１～６のいずれか１項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  8. 　前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）中の前記ポリオルガノシロキサンブロック（Ｂ）の含有量が０．５～２０．０質量％である、請求項１～７のいずれか１項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  9. 　前記ポリカーボネート－ポリオルガノシロキサン共重合体（Ｅ－１）の粘度平均分子量が１２，０００～４０，０００である、請求項１～８のいずれか１項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  10. 　前記一般式（Ｉ）におけるａ及びｂが０であり、Ｘが単結合または炭素数２～８のアルキリデン基である、請求項１～９のいずれか１項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  11. 　前記一般式（Ｉ）におけるａ及びｂが０であり、Ｘが炭素数３のアルキリデン基である、請求項１０に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  12. 　前記一般式（ＩＩ）におけるＲ３及びＲ４がメチル基である、請求項１～１１のいずれか１項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物。
  13. 　請求項１～１２のいずれか１項に記載のポリカーボネート系樹脂組成物を成形してなる成形体。
  14. 　電気及び電子機器用部品である、請求項１３に記載の成形体。
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