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WO2016039056A1 - 金属組成物、接合材 - Google Patents

金属組成物、接合材 Download PDF

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WO2016039056A1
WO2016039056A1 PCT/JP2015/072596 JP2015072596W WO2016039056A1 WO 2016039056 A1 WO2016039056 A1 WO 2016039056A1 JP 2015072596 W JP2015072596 W JP 2015072596W WO 2016039056 A1 WO2016039056 A1 WO 2016039056A1
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WO
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metal
powder
rosin
metal composition
metal powder
Prior art date
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Application number
PCT/JP2015/072596
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English (en)
French (fr)
Inventor
川口義博
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Priority to CN201580043416.4A priority patent/CN106660177B/zh
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Priority to US15/447,360 priority patent/US20170173739A1/en
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    • B22F2999/00—Aspects linked to processes or compositions used in powder metallurgy

Definitions

  • the present invention relates to a metal composition including a metal component and a flux component, and a bonding material including the metal composition.
  • Patent Document 1 discloses a metal paste (metal composition) used when a multilayer ceramic capacitor (second bonding object) is mounted on a printed circuit board (first bonding object). The metal paste joins a land provided on the printed circuit board and an external electrode provided on the multilayer ceramic capacitor.
  • the metal paste contains a metal component containing Sn powder and CuNi alloy powder, and a flux component containing rosin and an activator.
  • TLP Transient Liquid Phase Diffusion
  • the heating temperature is not less than the melting point of Sn and not more than the melting point of the CuNi alloy, for example, 250 to 350 ° C.
  • the CuNiSn alloy is an intermetallic compound and has a high melting point (for example, 400 ° C. or higher).
  • the TLP reaction proceeds by heat treatment at a relatively low temperature, and the obtained metal body changes to a metal body having an intermetallic compound having a melting point equal to or higher than the heat treatment temperature as a main phase.
  • the metal body after the heat treatment becomes a bonding material having high heat resistance.
  • the rosin and the activator contained in the metal paste are added to remove (reduce) the metal powder and the oxide film of the object to be joined, like the flux component of a general solder paste.
  • the content ratio (wt%) of rosin and activator in the solder paste is rosin> activator, and the amount of activator in the solder paste is larger than the amount of rosin. It will never be done.
  • the reaction between Sn and CuNi may not be sufficiently progressed, or the solid CuNi alloy powder may be repelled by molten Sn and the two may be separated.
  • An object of the present invention is to provide a metal composition and a bonding material that become a material having high heat resistance by heat treatment at a low temperature.
  • the metal composition of the present invention includes a metal component including a first metal powder and a second metal powder having a melting point higher than that of the first metal powder, and a flux component.
  • the first metal powder is preferably Sn powder or an alloy powder containing Sn
  • the second metal powder is preferably CuNi alloy powder.
  • a metal composition is contained in a joining material, for example.
  • the metal composition of the present invention is characterized in that the hydrogen reduction weight loss of the second metal powder is 0.75 wt% or less.
  • the first metal powder and the second metal powder contained in the metal composition cause a liquid phase diffusion (hereinafter, “TLP”) reaction to generate an intermetallic compound.
  • TLP liquid phase diffusion
  • the heating temperature is not less than the melting point of the first metal and not more than the melting point of the second metal, for example, 250 to 350 ° C.
  • the intermetallic compound has a high melting point (for example, 400 ° C. or more) higher than the heating temperature.
  • the hydrogen reduction weight loss of the second metal powder is 0 wt% or more and 0.75 wt% or less, the degree of oxidation of the surface of the second metal powder is low, and the surface of the second metal powder is sufficiently reduced by rosin or activator.
  • the TLP reaction proceeds by heat treatment at a relatively low temperature. That is, the metal composition having this configuration becomes a material having high heat resistance by heat treatment at a low temperature.
  • the specific surface area of the second metal powder is preferably less than 0 m 2 / greater than g 0.61 m 2 / g.
  • the specific surface area of the second metal powder is 0.61 m 2 / g or more, since the specific surface area of the second metal powder is large, the degree of oxidation of the surface of the second metal powder is increased.
  • the flux component preferably contains rosin and an activator, and the ratio of the weight of the activator to the weight of rosin is preferably 1.0 or more.
  • the reducing power is high, and the surface of the second metal powder is sufficiently reduced by rosin or activator.
  • the acid value of rosin is preferably 130 or more.
  • a high acid value of rosin is equivalent to a large amount of resin acid.
  • the oxide film is removed by the reaction between the carboxyl group of the resin acid and the oxide film on the surface of the second metal powder during heating.
  • rosin with a higher acid value has a greater effect of reducing the oxide film on the surface of the metal powder.
  • the activator preferably has a carboxyl group.
  • the oxide film is removed by the reaction between the carboxyl group of the activator and the oxide film on the surface of the second metal powder during heating.
  • the carboxyl group reduces the surface of the metal powder.
  • the metal composition is preferably formed into a sheet, putty, or paste.
  • FIG. 2 is a side view of an electronic component 24 mounted on a land 21 formed on a printed wiring board 22 via a metal paste 25.
  • FIG. It is an external appearance perspective view of piping 310 which stuck repair sheet 303 to damaged part DP. It is an external appearance perspective view of the wound body 300 by which the repair sheet
  • FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a reaction process of a metal composition according to an embodiment of the present invention.
  • the metal composition 105 is used, for example, to join the first joining object 101 and the second joining object 102. That is, the metal composition 105 is used as a bonding material, for example.
  • the first object 101 is an electronic component such as a pipe, a nut, and a multilayer ceramic capacitor.
  • the second object 102 is, for example, a base sheet that forms a repair sheet to be attached to piping, a bolt that fits in a nut, and a printed circuit board on which electronic components are mounted.
  • a metal composition 105 is applied between the first joining object 101 and the second joining object 102. To do.
  • the metal composition 105 is formed into, for example, a sheet shape, a putty shape, or a paste shape.
  • the metal composition 105 includes a metal component 110 and a flux 108.
  • the metal component 110 is uniformly dispersed in the flux 108.
  • the metal component 110 includes a first metal powder 106 made of an Sn-based metal and a second metal powder 107 made of a Cu-based metal having a melting point higher than that of the Sn-based metal.
  • the material of the first metal powder 106 is Sn.
  • the material of the second metal powder 107 can react with the first metal powder 106 that is melted by heating the metal composition 105 to generate an intermetallic compound.
  • the material of the second metal powder 107 is a Cu—Ni based alloy, more specifically a Cu-10Ni alloy.
  • the flux 108 includes rosin, a solvent, a thixotropic agent, an activator, and the like.
  • the flux 108 functions to remove the oxide film on the surface of the object to be joined or the metal powder.
  • the rosin is, for example, a modified rosin modified with rosin and a rosin resin composed of a derivative such as rosin, a synthetic resin composed of the derivative, or a mixture thereof.
  • rosin resin examples include polymerized rosin, gum rosin, tall rosin, wood rosin, hydrogenated rosin, formylated rosin, rosin ester, rosin modified maleic resin, rosin modified phenolic resin, rosin modified alkyd resin, and other various rosin derivatives.
  • Synthetic resins are, for example, polyester resins, polyamide resins, phenoxy resins, terpene resins and the like.
  • Solvents are, for example, alcohols, ketones, esters, ethers, aromatics and hydrocarbons.
  • thixotropic agents include hydrogenated castor oil, carnauba wax, amides, hydroxy fatty acids, dibenzylidene sorbitol, bis (p-methylbenzylidene) sorbitol, beeswax, stearamide, hydroxystearic acid ethylene bisamide, and the like.
  • Activators are, for example, amine hydrohalides, organic halogen compounds, organic acids, organic amines, polyhydric alcohols, and the like.
  • the activator preferably has a carboxyl group such as monocarboxylic acid, dicarboxylic acid, and tricarboxylic acid. The carboxyl group reacts with the oxide film on the surface of the metal powder to reduce the surface of the metal powder.
  • amine hydrohalides include diphenylguanidine hydrobromide, diphenylguanidine hydrochloride, cyclohexylamine hydrobromide, ethylamine hydrochloride, ethylamine hydrobromide, diethylaniline hydrobromide, Examples thereof include diethylaniline hydrochloride, triethanolamine hydrobromide, monoethanolamine hydrobromide, and the like.
  • organic halogen compound examples include chloroparaffin, tetrabromoethane, dibromopropanol, 2,3-dibromo-1,4-butanediol, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, tris (2,3 -Dibromopropyl) isocyanurate and the like.
  • Organic acids are, for example, adipic acid, sebacic acid, malonic acid, fumaric acid, glycolic acid, citric acid, malic acid, succinic acid, phenylsuccinic acid, maleic acid, salicylic acid, anthranilic acid, glutaric acid, suberic acid, stearic acid Abietic acid, benzoic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, dodecanoic acid and the like.
  • organic amine examples include monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, tributylamine, aniline, and diethylaniline.
  • Polyhydric alcohol is, for example, erythritol, pyrogallol, ribitol and the like.
  • the metal composition 105 is heated with, for example, hot air in the state shown in FIG. Accordingly, when the metal composition 105 reaches a temperature equal to or higher than the melting point of the first metal powder 106, the first metal powder 106 melts as shown in FIG.
  • the heating temperature is not less than the melting point of Sn and not more than the melting point of CuNi, for example, 250 to 350 ° C.
  • the CuNiSn alloy is an alloy containing at least two selected from the group consisting of Cu, Ni and Sn.
  • CuNiSn-based alloys include, for example, (Cu, Ni) 6 Sn 5 , Cu 4 Ni 2 Sn 5 , Cu 5 NiSn 5 , (Cu, Ni) 3 Sn, CuNi 2 Sn, Cu 2 NiSn, Ni 3 Sn 4 , Cu 6
  • FIG. 1C shows an intermetallic compound phase 109 made of a CuNiSn alloy (intermetallic compound).
  • the TLP reaction proceeds by heat treatment at a relatively low temperature.
  • the metal composition 105 becomes the bonding material 104 with high heat resistance.
  • the bonding material 104 has high heat resistance, for example, when manufacturing a semiconductor device, after manufacturing the semiconductor device through a soldering process, the semiconductor device is mounted on a substrate by a reflow soldering method.
  • the soldered portion obtained by the previous soldering can be made excellent in heat resistance.
  • the reflow soldering process does not cause remelting, and highly reliable mounting can be performed.
  • FIG. 2 is a side view of the electronic component 24 mounted on the land 21 formed on the printed wiring board 22 via the metal paste 25.
  • the metal paste 25 is provided on the land 21 formed on the printed wiring board 22. Similar to the metal composition 105 shown in FIG. 1, the metal paste 25 includes a metal component 110 and a flux 108.
  • the electronic component 24 is mounted on the land 21 by a mounting machine.
  • the electronic component 24 is a multilayer ceramic capacitor.
  • the electronic component 24 includes a ceramic laminate 20 including a plurality of internal electrodes, and external electrodes 23 provided at both ends of the ceramic laminate 20 and connected to the internal electrodes.
  • the electronic component 24 and the metal paste 25 are heated using, for example, a reflow apparatus.
  • the metal paste 25 reaches a temperature equal to or higher than the melting point of the first metal powder 106, the first metal powder 106 is melted as shown in FIG.
  • the melted Sn and the CuNi alloy powder as the second metal powder 107 generate a CuNiSn alloy (intermetallic compound) by the TLP reaction.
  • the TLP reaction proceeds by heat treatment at a relatively low temperature.
  • the metal paste 25 becomes the bonding material 104 with high heat resistance.
  • FIG. 3 is an external perspective view of the pipe 310 in which the repair sheet 303 is attached to the damaged portion DP.
  • FIG. 4 is an external perspective view of the wound body 300 around which the repair sheet 303 shown in FIG. 3 is wound.
  • the repair sheet 303 is cut from the wound body 300, and the adhesive surface of the repair sheet 303 is attached to the pipe 310 so as to block the damaged portion DP of the pipe 310.
  • the repair sheet 303 has an adhesive surface.
  • the repair sheet 303 is obtained by attaching a metal sheet to a flexible base sheet. Similar to the metal composition 105 shown in FIG. 1, the metal sheet includes a metal component 110 and a flux 108.
  • the base sheet is made of Cu, for example.
  • the repair sheet 303 is heated with hot air.
  • the repair sheet 303 reaches a temperature equal to or higher than the melting point of the first metal powder 106, the first metal powder 106 in the repair sheet 303 is melted as shown in FIG.
  • the melted Sn and the CuNi alloy powder as the second metal powder 107 generate a CuNiSn alloy (intermetallic compound) by the TLP reaction.
  • an intermetallic compound layer made of a CuNiSn alloy is formed on the repair sheet 303.
  • the TLP reaction proceeds by heat treatment at a relatively low temperature, and the repair sheet 303 can cover the damaged portion DP with an intermetallic compound layer having high heat resistance. Therefore, the repair sheet 303 can repair the pipe 310.
  • FIG. 5 is a cross-sectional view of the bolt 50 to which the metal putty 31 is applied.
  • 6 is a cross-sectional view of the bolt 50 shown in FIG. 5 after heating.
  • FIG. 7 is a cross-sectional view of the bolt 50 shown in FIG. 5 after reheating.
  • the metal putty 31 is applied to the threaded portion 51 of the bolt 50. Similarly to the metal composition 105 shown in FIG. 1, the metal putty 31 also includes a metal component 110 and a flux 108.
  • the bolt 50 is fitted into the threaded portion 61 of the nut 60.
  • the bolt 50 and the threaded portion 61 of the nut 60 are heated by, for example, a hot air gun.
  • a hot air gun When the metal putty 31 reaches a temperature equal to or higher than the melting point of the first metal powder 106, the first metal powder 106 melts as shown in FIG.
  • the metal putty 31 becomes a relatively dense metal member 32 in which the second metal particles are dispersed in a metal body mainly composed of the first metal at room temperature (see FIG. 6).
  • the bolt 50 and the nut 60 are firmly joined by the metal member 32.
  • the bolt 50 and the threaded portion 61 of the nut 60 are reheated by, for example, a hot air gun.
  • a hot air gun When the metal member 32 that joins the bolt 50 and the threaded portion 61 of the nut 60 reaches a temperature equal to or higher than the melting point of the first metal powder 106, the molten Sn and the CuNi alloy powder that is the second metal powder 107 are Then, a CuNiSn alloy (intermetallic compound) is generated by the TLP reaction.
  • the relatively dense metal member 32 is changed to the intermetallic compound member 30 having a relatively large number of holes (see FIG. 7).
  • the bolt 50 and the nut 60 are separated using the intermetallic compound member 30 as a separation part.
  • the intermetallic compound member 30 is a member in which the porosity of the intermetallic compound member 30 is higher than the porosity of the metal member 32. Therefore, the user can easily separate the bolt 50 and the nut 60 using the intermetallic compound member 30 as a separation portion.
  • the bolt 50 and the nut 60 can be easily and firmly joined by the heat treatment, that is, the bolt 50 and the nut 60 can be easily prevented from loosening. 50 and nut 60 can be easily separated.
  • Example 1 In Experiment 1, a plurality of samples prepared by mixing a metal component containing Sn powder (first metal powder) and CuNi alloy powder (second metal powder) and a flux component containing rosin and an activator. 1 to 5 and 51 were prepared, and it was determined whether the TLP reaction proceeded. The TLP reaction was determined by heating a plurality of samples 1 to 5, 51, for example, at 250 ° C. for 5 minutes under atmospheric pressure using a reflow apparatus.
  • Table 1 shows the particle diameter (D50), specific surface area, and hydrogen reduction weight loss of the CuNi alloy powder.
  • Table 2 shows information on each material used in the plurality of samples 1 to 5 and 51 and the blending ratio of each material.
  • Samples 1 to 5 are metal compositions according to examples of the present invention, and sample 51 is a metal composition according to comparative examples of the examples of the present invention.
  • the particle size (D50) of the Sn powder is, for example, 10 ⁇ m.
  • the specific surface area of the CuNi alloy powder is greater 0.61m less than 2 / g than 0 m 2 / g.
  • the hydrogen reduction weight loss of the CuNi alloy powder is obtained according to the measurement method defined in JPMA P03-1992.
  • the initial weight of the CuNi alloy powder is measured in advance, and the CuNi alloy powder is obtained. Is a weight reduction rate obtained by measuring the weight after reduction in hydrogen at 875 ° C. for 30 minutes and dividing the difference between the two by the initial weight.
  • adipic acid which is an activator has a carboxyl group.
  • each of the samples 1 to 5 the TLP reaction proceeds by heat treatment at a relatively low temperature. As a result, each of the samples 1 to 5 becomes a material having high heat resistance.
  • Example 2 In Experiment 2, a plurality of samples prepared by mixing a metal component containing Sn powder (first metal powder) and CuNi alloy powder (second metal powder) and a flux component containing rosin and an activator. 6-8 and 52-55 were prepared, and it was determined whether the TLP reaction would proceed. The TLP reaction was determined by heating a plurality of samples 6 to 8, 52 to 55 at 250 ° C. for 5 minutes under atmospheric pressure using, for example, a reflow apparatus.
  • the plurality of samples 6 to 8 and 52 to 55 differ from the plurality of samples 1 to 5 and 51 used in Experiment 1 mainly in that the specific surface area of the CuNi alloy powder is 0.61 m 2 / g or more. Yes.
  • Table 3 shows the presence / absence of separation of CuNi alloy powder and the presence / absence of TLP reaction.
  • Table 4 shows information on each material used in the plurality of samples 6 to 8 and 52 to 55 and the blending ratio of each material.
  • Samples 6 to 8 are metal compositions according to examples of the present invention, and samples 52 to 55 are metal compositions according to comparative examples of the examples of the present invention.
  • sebacic acid which is an activator has a carboxyl group.
  • the specific surface area of the CuNi alloy powder is 0.61 m 2 / g or more, that is, the ratio of the surface area to be reduced of the CuNi alloy powder contained in the paste is increased. This is probably because the surface of the CuNi alloy powder could not be sufficiently reduced by the activator.
  • the specific surface area of the CuNi alloy powder is 0.61 m 2 / g or more, that is, the ratio of the surface area to be reduced of the CuNi alloy powder contained in the paste is large. This is probably because the surface of the CuNi alloy powder could not be sufficiently reduced even if the amount of rosin having a lower reducing ability on the surface of the CuNi alloy powder than the agent was increased.
  • the reason for this result is that although the specific surface area of the CuNi alloy powder is 0.61 m 2 / g or more, the ratio of the weight of the activator to the weight of rosin is 1.0 or more (ie, This is probably because the reducing power of the activator is high and the surface of the CuNi alloy powder is sufficiently reduced by the activator.
  • each of the samples 6 to 8 the TLP reaction proceeds by heat treatment at a relatively low temperature.
  • each of the samples 6 to 8 is a material having high heat resistance.
  • Example 3 In Experiment 3, a plurality of samples prepared by mixing a metal component containing Sn powder (first metal powder) and CuNi alloy powder (second metal powder) and a flux component containing rosin and an activator. 9-12, 56, and 57 were prepared, and it was determined whether the TLP reaction proceeded. The TLP reaction was determined by heating a plurality of samples 9 to 12, 56, 57 at 250 ° C. for 5 minutes under atmospheric pressure using, for example, a reflow apparatus.
  • Table 5 shows the type of rosin, the acid value of rosin, and the presence or absence of TLP reaction.
  • Table 6 shows information on each material used in the plurality of samples 9 to 12, 56, and 57 and the blending ratio of each material.
  • Samples 9 to 12 are metal compositions according to examples of the present invention, and samples and 56 to 57 are metal compositions according to comparative examples of the examples of the present invention.
  • the specific surface area of the CuNi alloy powder is less than 0.61 m 2 / g.
  • sebacic acid which is an activator has a carboxyl group.
  • the particle diameter (D50) of the CuNi alloy powder is 30 ⁇ m.
  • the acid value of rosin is large is equivalent to that there is much quantity of resin acid.
  • the oxide film is removed by the reaction between the carboxyl group of the resin acid and the oxide film on the surface of the second metal powder during heating. Therefore, the rosin having a higher acid value has a greater effect of reducing the oxide film on the surface of the metal powder.
  • each of the samples 9 to 12 the TLP reaction proceeds by heat treatment at a relatively low temperature. As a result, each of the samples 9 to 12 becomes a material having high heat resistance.
  • the material of the first metal powder 106 is Sn alone, but is not limited thereto.
  • the material of the first metal powder 106 is an alloy containing Sn (specifically, Cu, Ni, Ag, Au, Sb, Zn, Bi, In, Ge, Al, Co, Mn, Fe, Cr). , Mg, Mn, Pd, Si, Sr, Te, and an alloy containing at least one selected from the group consisting of P and Sn.
  • the material of the second metal powder 107 is a CuNi alloy, but is not limited thereto.
  • the material of the second metal powder 107 may be, for example, one or a plurality of powders selected from the group consisting of a CuNi alloy, a CuMn alloy, a CuAl alloy, a CuCr alloy, an AgPd alloy, and the like.
  • heat treatment conditions temperature and time
  • TLP liquid phase diffusion
  • far infrared heating or high frequency induction heating may be performed in addition to hot air heating.

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Abstract

　第１接合対象物（１０１）と第２接合対象物（１０２）との間に、金属組成物（１０５）を付与する。金属組成物（１０５）は、金属成分（１１０）とフラックス（１０８）とを含む。金属成分（１１０）は、Ｓｎ系金属からなる第１金属粉末（１０６）と、Ｓｎ系金属よりも融点の高いＣｕ系金属からなる第２金属粉末（１０７）と、からなる。フラックス（１０８）は、ロジン、溶剤、チキソ剤、活性剤などを含む。金属組成物（１０５）を加熱し、金属組成物（１０５）が第１金属粉末（１０６）の融点以上の温度に達すると、第１金属粉末（１０６）が溶融する。溶融したＳｎとＣｕＮｉ合金粉末とは、ＴＬＰ反応により、ＣｕＮｉＳｎ合金からなる金属間化合物相（１０９）を生成する。

Description

金属組成物、接合材
　本発明は、金属成分とフラックス成分とを含む金属組成物、及び金属組成物を含む接合材に関するものである。
　従来、例えば第１接合対象物と第２接合対象物とを接合する際に、金属組成物が用いられている。例えば特許文献１には、プリント基板（第１接合対象物）上に積層セラミックコンデンサ（第２接合対象物）を実装する際に用いられる金属ペースト（金属組成物）が開示されている。前記金属ペーストは、プリント基板上に設けられたランドと、積層セラミックコンデンサに設けられた外部電極とを接合する。
　前記金属ペーストは、Ｓｎ粉末とＣｕＮｉ合金粉末を含む金属成分と、ロジンと活性剤を含むフラックス成分と、を含んでいる。そして、前記金属ペーストに含まれるＳｎ粉末とＣｕＮｉ合金粉末とは、加熱されると、液相拡散（以下、「ＴＬＰ：Transient Liquid Phase Diffusion」）接合をともない、ＣｕＮｉＳｎ合金を生成する。
　ここで、加熱の温度は、Ｓｎの融点以上、ＣｕＮｉ合金の融点以下であり、例えば２５０～３５０℃である。ＣｕＮｉＳｎ合金は、金属間化合物であり、高い融点（例えば４００℃以上）を有する。
　このように、前記金属ペーストでは比較的低温での熱処理によってＴＬＰ反応が進行し、得られた金属体は、熱処理温度以上の融点を有する金属間化合物を主相とした金属体に変化する。この結果、熱処理後の金属体は、耐熱性の高い接合材となる。
　なお、前記金属ペーストに含まれるロジンや活性剤は、一般的なはんだペーストのフラックス成分と同様に、金属粉末や接合対象物の酸化被膜を除去（還元）するために添加されている。ここで、一般的には、はんだペースト中におけるロジン、活性剤の含有割合（ｗｔ％）は、ロジン＞活性剤となっており、はんだペースト中の活性剤の量がロジンの量よりも多く添加されることはない。
国際公開第２０１２／１０８３９５号パンフレット
　しかしながら、ＣｕＮｉ合金粉末の粒径が小さくなると、ＣｕＮｉ合金粉末表面の酸化度合いが高まるため、ロジンや活性剤によるＣｕＮｉ合金粉末表面の還元が不十分となって、ＳｎとＣｕＮｉとの濡れが悪くなる傾向にある。
　これにより、前記ＴＬＰ反応において、ＳｎとＣｕＮｉとの反応を十分に進行させることができなかったり、溶融したＳｎに固体のＣｕＮｉ合金粉末がはじかれて両者が分離したりすることがある。
　本発明の目的は、低温での熱処理によって耐熱性の高い材料となる金属組成物および接合材を提供することにある。
　本発明の金属組成物は、第１金属粉末と第１金属粉末より融点の高い第２金属粉末とを含む金属成分と、フラックス成分と、を含む。ここで、例えば、第１金属粉末は、Ｓｎ粉末又はＳｎを含む合金粉末であり、第２金属粉末は、ＣｕＮｉ合金粉末であることが好ましい。金属組成物は、例えば接合材に含まれる。
　そして、本発明の金属組成物は、第２金属粉末の水素還元減量は、０．７５ｗｔ％以下であることを特徴とする。
　この構成では、金属組成物が加熱されると、金属組成物に含まれる第１金属粉末と第２金属粉末とが、液相拡散（以下、「ＴＬＰ」）反応を起こし、金属間化合物を生成する。加熱の温度は、第１金属の融点以上、第２金属の融点以下であり、例えば２５０～３５０℃である。金属間化合物は、加熱温度以上の高い融点（例えば４００℃以上）を有する。
　第２金属粉末の水素還元減量が０ｗｔ％以上０．７５ｗｔ％以下である場合、第２金属粉末表面の酸化度合いが低く、ロジンや活性剤によって第２金属粉末表面が十分に還元される。
　したがって、この構成の金属組成物では比較的低温での熱処理によってＴＬＰ反応が進行する。すなわち、この構成の金属組成物は、低温での熱処理によって耐熱性の高い材料となる。
　なお、第２金属粉末の比表面積は、０ｍ2／ｇより大きく０．６１ｍ2／ｇ未満であることが好ましい。
　一方、第２金属粉末の比表面積が０．６１ｍ2／ｇ以上である場合、第２金属粉末の比表面積が大きいため、第２金属粉末表面の酸化度合いが高まる。
　そこで、フラックス成分はロジンと活性剤とを含み、ロジンの重量に対する活性剤の重量の比が１．０以上であることが好ましい。この場合、還元力が高く、ロジンや活性剤によって第２金属粉末の表面が十分に還元される。
　また、ロジンの酸価は、１３０以上であることが好ましい。ロジンの酸価が大きいということは、樹脂酸の量が多いということと等価である。樹脂酸が有するカルボキシル基と第２金属粉末の表面の酸化被膜とが加熱中に反応することによって酸化被膜が除去される。
　したがって、酸価の大きいロジンほど、金属粉末表面の酸化被膜を還元する効果が大きい。
　また、活性剤は、カルボキシル基を有することが好ましい。活性剤が有するカルボキシル基と第２金属粉末の表面の酸化被膜とが加熱中に反応することによって酸化被膜が除去される。カルボキシル基は、金属粉末表面を還元させる。
　なお、金属組成物は、シート状、パテ状またはペースト状に成形されていることが好ましい。
　本発明によれば、低温での熱処理によって耐熱性の高い材料となる金属組成物を提供できる。
本発明の実施形態に係る金属組成物の反応過程を模式的に示す断面図である。 プリント配線基板２２に形成されたランド２１上に金属ペースト２５を介して実装された電子部品２４の側面図である。 破損部ＤＰに補修シート３０３を貼付した配管３１０の外観斜視図である。 図３に示す補修シート３０３が巻回された巻回体３００の外観斜視図である。 金属パテ３１が塗布されたボルト５０の断面図である。 図５に示すボルト５０の加熱後の断面図である。 図５に示すボルト５０の再加熱後の断面図である。
　以下、本発明の実施形態に係る金属組成物について説明する。
　図１は、本発明の実施形態に係る金属組成物の反応過程を模式的に示す断面図である。
　金属組成物１０５は、図１（Ａ）に示すように、例えば、第１接合対象物１０１と第２接合対象物１０２とを接合するために用いられる。すなわち金属組成物１０５は、例えば接合材として用いられる。
　第１接合対象物１０１は、例えば、配管、ナット、及び積層セラミックコンデンサ等の電子部品である。第２接合対象物１０２は、例えば、配管に貼付する補修シートを構成する基材シート、ナットに嵌めるボルト、及び電子部品を実装するプリント基板である。
　図１（Ｃ）に示す接合構造１００を得るため、まず、図１（Ａ）に示すように、第１接合対象物１０１と第２接合対象物１０２との間に、金属組成物１０５を付与する。金属組成物１０５は、例えばシート状、パテ状またはペースト状に成形されている。
　金属組成物１０５は、金属成分１１０とフラックス１０８とを含む。金属成分１１０は、フラックス１０８中に均一に分散している。金属成分１１０は、Ｓｎ系金属からなる第１金属粉末１０６と、Ｓｎ系金属よりも融点の高いＣｕ系金属からなる第２金属粉末１０７と、からなる。
　第１金属粉末１０６の材料は、Ｓｎである。
　第２金属粉末１０７の材料は、金属組成物１０５の加熱によって溶融する第１金属粉末１０６と反応し、金属間化合物を生成し得るものである。本実施形態において、第２金属粉末１０７の材料は、Ｃｕ－Ｎｉ系合金、より具体的にはＣｕ－１０Ｎｉ合金である。
　次に、フラックス１０８は、ロジン、溶剤、チキソ剤、活性剤などを含む。フラックス１０８は、接合対象物や金属粉末の表面の酸化被膜を除去する機能を果たす。
　ロジンは例えば、ロジンを変性した変性ロジン及びロジンなどの誘導体からなるロジン系樹脂、その誘導体からなる合成樹脂、またはこれらの混合体などである。
　ロジン系樹脂は例えば、重合ロジン、ガムロジン、トールロジン、ウッドロジン、水素添加ロジン、ホルミル化ロジン、ロジンエステル、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、ロジン変性アルキド樹脂、その他各種ロジン誘導体などである。
　合成樹脂は例えば、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、フェノキシ樹脂、テルペン樹脂などである。
　溶剤は例えば、アルコール、ケトン、エステル、エーテル、芳香族系、炭化水素類などである。
　チキソ剤は例えば、硬化ヒマシ油、カルナバワックス、アミド類、ヒドロキシ脂肪酸類、ジベンジリデンソルビトール、ビス（ｐ－メチルベンジリデン）ソルビトール類、蜜蝋、ステアリン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸エチレンビスアミドなどである。
　また、活性剤は例えば、アミンのハロゲン化水素酸塩、有機ハロゲン化合物、有機酸、有機アミン、多価アルコールなどである。ここで、活性剤は、モノカルボン酸、ジカルボンサン、トリカルボン酸などのカルボキシル基を有することが好ましい。カルボキシル基は、金属粉末表面の酸化被膜と反応し、金属粉末表面を還元させる。
　アミンのハロゲン化水素酸塩は例えば、ジフェニルグアニジン臭化水素酸塩、ジフェニルグアニジン塩酸塩、シクロヘキシルアミン臭化水素酸塩、エチルアミン塩酸塩、エチルアミン臭化水素酸塩、ジエチルアニリン臭化水素酸塩、ジエチルアニリン塩酸塩、トリエタノールアミン臭化水素酸塩、モノエタノールアミン臭化水素酸塩などである。
　有機ハロゲン化合物は例えば、塩化パラフィン、テトラブロモエタン、ジブロモプロパノール、２，３－ジブロモ－１，４－ブタンジオール、２，３－ジブロモ－２－ブテン－１，４－ジオール、トリス（２，３－ジブロモプロピル）イソシアヌレートなどである。
　有機酸は例えば、アジピン酸、セバシン酸、マロン酸、フマル酸、グリコール酸、クエン酸、リンゴ酸、コハク酸、フェニルコハク酸、マレイン酸、サルチル酸、アントラニル酸、グルタル酸、スベリン酸、ステアリン酸、アビエチン酸、安息香酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ドデカン酸などである。
　有機アミンは例えば、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリブチルアミン、アニリン、ジエチルアニリンなどである。
　多価アルコールは例えば、エリスリトール、ピロガロール、リビトールなどである。
　次に、図１（Ａ）に示した状態で金属組成物１０５を例えば熱風で加熱する。これにより金属組成物１０５が第１金属粉末１０６の融点以上の温度に達すると、第１金属粉末１０６が、図１（Ｂ）に示すように溶融する。加熱の温度は、Ｓｎの融点以上、ＣｕＮｉの融点以下であり、例えば２５０～３５０℃である。
　そして、溶融したＳｎと第２金属粉末１０７であるＣｕＮｉ合金粉末とは、液相拡散（以下、「ＴＬＰ」）反応により、ＣｕＮｉＳｎ系合金を生成する。ＣｕＮｉＳｎ系合金は、Ｃｕ、ＮｉおよびＳｎからなる群より選ばれる少なくとも２種を含んだ合金である。ＣｕＮｉＳｎ系合金は、たとえば（Ｃｕ，Ｎｉ）６Ｓｎ５、Ｃｕ４Ｎｉ２Ｓｎ５、Ｃｕ５ＮｉＳｎ５、（Ｃｕ，Ｎｉ）３Ｓｎ、ＣｕＮｉ２Ｓｎ、Ｃｕ２ＮｉＳｎ，Ｎｉ３Ｓｎ４，Ｃｕ６Ｓｎ５等の金属間化合物であり、熱処理温度以上の高い融点（例えば４００℃以上）を有する。図１（Ｃ）において、ＣｕＮｉＳｎ系合金（金属間化合物）からなる金属間化合物相１０９が図示されている。
　このように、金属組成物１０５では比較的低温での熱処理によってＴＬＰ反応が進行する。この結果、金属組成物１０５は、耐熱性の高い接合材１０４となる。
　接合材１０４の耐熱性が高いと、たとえば、半導体装置の製造に際して、はんだ付けを行なう工程を経て半導体装置を製造した後、その半導体装置をリフローはんだ付けの方法で基板に実装するような場合にも、先のはんだ付けによって得られたはんだ付け部分を耐熱強度に優れたものとすることができる。リフローはんだ付けの工程で再溶融してしまうことがなく、信頼性の高い実装を行なうことができる。
　以下、金属組成物１０５の具体的な使用例について説明する。まず、ペースト状に成形された金属組成物１０５の使用例について説明する。
　図２は、プリント配線基板２２に形成されたランド２１上に金属ペースト２５を介して実装された電子部品２４の側面図である。
　まず、プリント配線基板２２に形成されたランド２１上に金属ペースト２５を設ける。金属ペースト２５は、図１に示した金属組成物１０５と同様に、金属成分１１０とフラックス１０８とを含む。
　次に、ランド２１上に、電子部品２４を実装機によって搭載する。電子部品２４は、積層セラミックコンデンサである。電子部品２４は、複数の内部電極を含むセラミック積層体２０と、セラミック積層体２０の両端部に設けられ、各内部電極に接続する外部電極２３とを有する。
　次に、電子部品２４と金属ペースト２５とを、例えばリフロー装置を用いて加熱する。これにより金属ペースト２５が第１金属粉末１０６の融点以上の温度に達すると、第１金属粉末１０６が、図１（Ｂ）に示すように溶融する。
　そして、溶融したＳｎと第２金属粉末１０７であるＣｕＮｉ合金粉末とは、ＴＬＰ反応により、ＣｕＮｉＳｎ系合金（金属間化合物）を生成する。
　このように、金属ペースト２５では比較的低温での熱処理によってＴＬＰ反応が進行する。この結果、金属ペースト２５は、耐熱性の高い接合材１０４となる。
　次に、シート状に成形された金属組成物１０５の使用例について説明する。
　図３は、破損部ＤＰに補修シート３０３を貼付した配管３１０の外観斜視図である。図４は、図３に示す補修シート３０３が巻回された巻回体３００の外観斜視図である。
　まず、巻回体３００から補修シート３０３を裁断し、配管３１０の破損部ＤＰを塞ぐように、補修シート３０３の粘着面を配管３１０に貼付する。補修シート３０３は、粘着面を有する。
　補修シート３０３は、金属シートを、フレキシブルな基材シートに貼付したものである。この金属シートは、図１に示した金属組成物１０５と同様に、金属成分１１０とフラックス１０８とを含む。基材シートは、例えばＣｕで構成される。
　次に、補修シート３０３を熱風で加熱する。これにより補修シート３０３が第１金属粉末１０６の融点以上の温度に達すると、補修シート３０３中の第１金属粉末１０６が、図１（Ｂ）に示すように溶融する。
　そして、溶融したＳｎと第２金属粉末１０７であるＣｕＮｉ合金粉末とは、ＴＬＰ反応により、ＣｕＮｉＳｎ系合金（金属間化合物）を生成する。この結果、補修シート３０３には、ＣｕＮｉＳｎ系合金からなる金属間化合物層が形成される。
　このように、補修シート３０３では比較的低温での熱処理によってＴＬＰ反応が進行し、補修シート３０３は、破損部ＤＰを耐熱性の高い金属間化合物層で覆うことができる。したがって、補修シート３０３は、配管３１０の補修を行うことができる。
　次に、パテ状に成形された金属組成物１０５の使用例について説明する。
　図５は、金属パテ３１が塗布されたボルト５０の断面図である。図６は、図５に示すボルト５０の加熱後の断面図である。図７は、図５に示すボルト５０の再加熱後の断面図である。
　まず、図５に示すように、金属パテ３１をボルト５０のねじ部５１に塗布する。金属パテ３１も、図１に示した金属組成物１０５と同様に、金属成分１１０とフラックス１０８とを含む。
　次に、ボルト５０を、ナット６０のねじ部６１に嵌め合せる。
　次に、ボルト５０とナット６０のねじ部６１とを、例えばホットエアガンによって加熱する。これにより金属パテ３１が第１金属粉末１０６の融点以上の温度に達すると、第１金属粉末１０６が、図１（Ｂ）に示すように溶融する。
　加熱が終了すると、第１金属は自然冷却し、凝固し、第１金属相を形成する。つまり、金属パテ３１は、室温で、第１金属を主成分とする金属体に第２金属粒が分散してなる比較的緻密な金属部材３２となる（図６参照）。この結果、ボルト５０とナット６０とが金属部材３２によって強固に接合される。
　次に、ボルト５０とナット６０のねじ部６１とを、例えばホットエアガンによって再加熱する。これにより、ボルト５０とナット６０のねじ部６１とを接合する金属部材３２が第１金属粉末１０６の融点以上の温度に達すると、溶融したＳｎと第２金属粉末１０７であるＣｕＮｉ合金粉末とは、ＴＬＰ反応により、ＣｕＮｉＳｎ系合金（金属間化合物）を生成する。
　この結果、比較的緻密であった金属部材３２が比較的空孔の多い金属間化合物部材３０に変化する（図７参照）。
　次に、金属間化合物部材３０を分離部分として、ボルト５０とナット６０とを分離する。
　ここで、金属間化合物部材３０は、金属間化合物部材３０の空孔率が金属部材３２の空孔率よりも高い部材である。そのため、ユーザは、金属間化合物部材３０を分離部分として、ボルト５０とナット６０とを容易に分離することができる。
　したがって、この使用例によれば、加熱処理により、ボルト５０及びナット６０を容易かつ強固に接合でき、つまり、ボルト５０及びナット６０の緩み止めを容易に行うことができ、再加熱処理により、ボルト５０及びナット６０を容易に分離できる。
　次に、金属組成物１０５の構成を変えて実施した実験例について記載する。
（実験１）
　実験１では、Ｓｎ粉末（第１金属粉末）とＣｕＮｉ合金粉末（第２金属粉末）とを含む金属成分と、ロジン及び活性剤を含むフラックス成分と、を混合することにより作製された複数の試料１～５、５１を用意し、ＴＬＰ反応が進行するかどうか判定した。ＴＬＰ反応は、複数の試料１～５、５１を、例えばリフロー装置を用いて大気圧下において２５０℃で５分間加熱することにより判定した。
　ＣｕＮｉ合金粉末の粒径（Ｄ５０）と比表面積と水素還元減量とを表１に示す。また、複数の試料１～５、５１で使用した各材料の情報と各材料の配合比率とを表２に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　なお、試料１～５は、本発明の実施例に係る金属組成物であり、試料５１は、本発明の実施例の比較例に係る金属組成物である。ここで、Ｓｎ粉末の粒径（Ｄ５０）は、例えば１０μｍである。ＣｕＮｉ合金粉末の比表面積は、０ｍ2／ｇより大きく０．６１ｍ2／ｇ未満である。また、ＣｕＮｉ合金粉末の水素還元減量とは、ＪＰＭＡ Ｐ０３－１９９２法に規定されている測定方法に準じて得られるものであり、ここでは、ＣｕＮｉ合金粉末の初期重量を予め測定し、ＣｕＮｉ合金粉末を、８７５℃、３０分間、水素中で還元した後の重量を測定し、両重量の差を初期重量で除算して得られる重量減少率である。また、活性剤であるアジピン酸は、カルボキシル基を有する。
　実験により、試料５１では、表１に示すように、ＴＬＰ反応が殆ど進行しなかったことが明らかとなった。このような結果となった理由は、ＣｕＮｉ合金粉末の水素還元減量が０．７５ｗｔ％を超えており、すなわち、ＣｕＮｉ合金粉末表面の酸化度合いが高く、ロジンや活性剤によってＣｕＮｉ合金粉末の表面が十分に還元できなかったためであると考えられる。
　一方、複数の試料１～５では、表１に示すように、ＴＬＰ反応が適正に進行し、金属間化合物相が生成されたことが明らかとなった。このような結果となった理由は、ＣｕＮｉ合金粉末の水素還元減量が０．７５ｗｔ％以下であり、すなわち、ＣｕＮｉ合金粉末表面の酸化度合いが低く、ロジンや活性剤によってＣｕＮｉ合金粉末の表面が十分に還元されたためであると考えられる。
　したがって、各試料１～５では比較的低温での熱処理によってＴＬＰ反応が進行する。この結果、各試料１～５は、耐熱性の高い材料となる。
（実験２）
　実験２では、Ｓｎ粉末（第１金属粉末）とＣｕＮｉ合金粉末（第２金属粉末）とを含む金属成分と、ロジン及び活性剤を含むフラックス成分と、を混合することにより作製された複数の試料６～８、５２～５５を用意し、ＴＬＰ反応が進行するかどうか判定した。ＴＬＰ反応は、複数の試料６～８、５２～５５を、例えばリフロー装置を用いて大気圧下において２５０℃で５分間加熱することにより判定した。
　複数の試料６～８、５２～５５は、主に、ＣｕＮｉ合金粉末の比表面積が０．６１ｍ2／ｇ以上である点で、実験１で用いた複数の試料１～５、５１と異なっている。
　ＣｕＮｉ合金粉末の粒径（Ｄ５０）とＣｕＮｉ合金粉末の比表面積とＣｕＮｉ合金粉末の水素還元減量とロジンの重量パーセント濃度と活性剤の重量パーセント濃度とロジンの重量に対する活性剤の重量の比とＳｎ及びＣｕＮｉ合金粉末の分離の有無とＴＬＰ反応の有無とを表３に示す。また、複数の試料６～８、５２～５５で使用した各材料の情報と各材料の配合比率とを表４に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000003
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000004
　なお、試料６～８は、本発明の実施例に係る金属組成物であり、試料５２～５５は、本発明の実施例の比較例に係る金属組成物である。また、活性剤であるセバシン酸は、カルボキシル基を有する。
　実験により、試料５２、５３では、表３に示すように、Ｓｎ及びＣｕＮｉ合金粉末が分離し、ＴＬＰ反応が局所的にしか進行しなかったことが明らかとなった。
　このような結果となった理由は、ＣｕＮｉ合金粉末の比表面積が０．６１ｍ2／ｇ以上であり、すなわち、ペースト中に含まれるＣｕＮｉ合金粉末の還元すべき表面積の割合が大きくなり、ロジンや活性剤によってＣｕＮｉ合金粉末の表面が十分に還元できなかったためであると考えられる。
　また、実験により、試料５４、５５では、表３に示すようにロジンの量が試料５２、５３より多くても、Ｓｎ及びＣｕＮｉ合金粉末が分離し、ＴＬＰ反応が局所的にしか進行しなかったことが明らかとなった。
　このような結果となった理由は、ＣｕＮｉ合金粉末の比表面積が０．６１ｍ2／ｇ以上であり、すなわち、ペースト中に含まれるＣｕＮｉ合金粉末の還元すべき表面積の割合が大きく、さらに、活性剤よりもＣｕＮｉ合金粉末表面の還元能力の低いロジン量を増やしてもＣｕＮｉ合金粉末の表面が十分に還元できなかったためであると考えられる。
　一方、複数の試料６～８では、表３に示すように、Ｓｎ及びＣｕＮｉ合金粉末が分離せず、ＴＬＰ反応が適正に進行し、金属間化合物相が生成されたことが明らかとなった。
　このような結果となった理由は、ＣｕＮｉ合金粉末の比表面積が０．６１ｍ2／ｇ以上であるものの、ロジンの重量に対する活性剤の重量の比が１．０以上である（即ち活性剤の量が多い）ため活性剤の還元力が高く、活性剤によってＣｕＮｉ合金粉末の表面が十分に還元されたためであると考えられる。
　したがって、各試料６～８では比較的低温での熱処理によってＴＬＰ反応が進行する。この結果、各試料６～８は、耐熱性の高い材料となる。
（実験３）
　実験３では、Ｓｎ粉末（第１金属粉末）とＣｕＮｉ合金粉末（第２金属粉末）とを含む金属成分と、ロジン及び活性剤を含むフラックス成分と、を混合することにより作製された複数の試料９～１２、５６、５７を用意し、ＴＬＰ反応が進行するかどうか判定した。ＴＬＰ反応は、複数の試料９～１２、５６、５７を、例えばリフロー装置を用いて大気圧下において２５０℃で５分間加熱することにより判定した。
　ロジンの種類とロジンの酸価とＴＬＰ反応の有無とを表５に示す。また、複数の試料９～１２、５６、５７で使用した各材料の情報と各材料の配合比率とを表６に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000006
　なお、試料９～１２は、本発明の実施例に係る金属組成物であり、試料、５６～５７は、本発明の実施例の比較例に係る金属組成物である。複数の試料９～１２、５６、５７についてＣｕＮｉ合金粉末の比表面積は０．６１ｍ2／ｇ未満である。また、活性剤であるセバシン酸は、カルボキシル基を有する。ＣｕＮｉ合金粉末の粒径（Ｄ５０）は、３０μｍである。
　実験により、試料５６、５７では、表５に示すように、ＴＬＰ反応が進行しなかったことが明らかとなった。このような結果となった理由は、ＣｕＮｉ合金粉末の比表面積が０．６１ｍ2／ｇ未満であるものの、ロジンの酸価が１３０未満であり、即ちロジンの還元力が低く、ロジンや活性剤によってＣｕＮｉ合金粉末の表面が十分に還元できなかったためであると考えられる。
　一方、複数の試料９～１２では、表５に示すように、ＴＬＰ反応が適正に進行し、金属間化合物相が生成されたことが明らかとなった。このような結果となった理由は、ロジンの酸価が１３０以上であり、即ちロジンの還元力が高く、ロジンによってＣｕＮｉ合金粉末の表面が十分に還元されたためであると考えられる。
　なお、ロジンの酸価が大きいということは、樹脂酸の量が多いということと等価である。樹脂酸が有するカルボキシル基と第２金属粉末の表面の酸化被膜とが加熱中に反応することによって酸化被膜が除去される。したがって、酸価の大きいロジンほど、金属粉末表面の酸化被膜を還元する効果が大きい。
　したがって、各試料９～１２では比較的低温での熱処理によってＴＬＰ反応が進行する。この結果、各試料９～１２は、耐熱性の高い材料となる。
《他の実施形態》
　なお、本実施形態において第１金属粉末１０６の材料は、Ｓｎ単体であるが、これに限るものではない。実施の際は、第１金属粉末１０６の材料は、Ｓｎを含む合金（具体的にはＣｕ、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｕ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ｂｉ、Ｉｎ、Ｇｅ、Ａｌ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｐｄ、Ｓｉ、Ｓｒ、ＴｅおよびＰからなる群より選ばれる少なくとも１種とＳｎとを含む合金）であってもよい。
　また、本実施形態において第２金属粉末１０７の材料は、ＣｕＮｉ合金であるが、これに限るものではない。実施の際は、第２金属粉末１０７の材料は例えば、ＣｕＮｉ合金、ＣｕＭｎ合金、ＣｕＡｌ合金、ＣｕＣｒ合金、及びＡｇＰｄ合金等からなる群より選ばれる１種または複数種の粉末であってもよい。
　ここで、液相拡散（ＴＬＰ）反応を利用する場合、材料に適した熱処理条件（温度および時間）を設定すればよい。
　また、以上に示した実施形態の加熱工程において、熱風加熱以外に遠赤外線加熱や高周波誘導加熱を行ってもよい。
　最後に、前記実施形態の説明は、すべての点で例示であって、制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上述の実施形態ではなく、特許請求の範囲によって示される。さらに、本発明の範囲には、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
２０…セラミック積層体
２１…ランド
２２…プリント配線基板
２３…外部電極
２４…電子部品
２５…金属ペースト
３０…金属間化合物部材
３１…金属パテ
３２…金属部材
５０…ボルト
６０…ナット
１００…接合構造
１０１…第１接合対象物
１０２…第２接合対象物
１０４…接合材
１０５…金属組成物
１０６…第１金属粉末
１０７…第２金属粉末
１０８…フラックス
１０９…金属間化合物相
１１０…金属成分
３００…巻回体
３０３…補修シート
３１０…配管
ＤＰ…破損部

Claims (8)

  1. 　第１金属粉末と前記第１金属粉末より融点の高い第２金属粉末とを含む金属成分と、フラックス成分と、を含む金属組成物であって、
    　前記第２金属粉末の水素還元減量は、０．７５ｗｔ％以下であることを特徴とする金属組成物。
  2. 　前記第１金属粉末は、Ｓｎ粉末又はＳｎを含む合金粉末であり、
    　前記第２金属粉末は、ＣｕＮｉ合金粉末である、
    ことを特徴とする請求項１に記載の金属組成物。
  3. 　前記第２金属粉末の比表面積は、０．６１ｍ２／ｇ以上であることを特徴とする請求項２に記載の金属組成物。
  4. 　前記フラックスはロジンおよび活性剤を含み、
    　前記ロジンの重量に対する前記活性剤の重量の比は、１．０以上であることを特徴とする請求項２または３に記載の金属組成物。
  5. 　前記ロジンの酸価は、１３０以上であることを特徴とする請求項４に記載の金属組成物。
  6. 　前記活性剤は、カルボキシル基を有することを特徴とする請求項４または請求項５に記載の金属組成物。
  7. 　シート状、パテ状またはペースト状に成形されていることを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか１項に記載の金属組成物。
  8. 　請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の金属組成物を含む接合材。
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