WO2016002607A1 - 新規なビス(ヒドロキシアルコキシフェニル)ジフェニルメタン類 - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to novel bis (hydroxyalkoxyphenyl) diphenylmethanes, and more particularly to a dihydroxy compound having a diphenylmethane skeleton.
- aromatic dihydroxy compounds are useful as raw materials for various chemical products such as aromatic polyester resins, polycarbonate resin raw materials, and high refractive resin raw materials for acrylic derivatives.
- polynuclear aromatic polyvalent hydroxy compounds such as aromatic dihydroxy compounds have been used as highly functional resin raw materials such as heat resistant resins.
- aromatic dihydroxyalkoxy compounds having a diphenylmethane skeleton such as 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -1,1-diphenylmethane are used as polyester resins. It is used as a raw material for monomers and acrylic derivatives of high refractive resin raw materials (Patent Document 1, Patent Document 2, Patent Document 3).
- 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -1,1-diphenylmethane has a high melting point and low solubility in a solvent, and is poor in operability and processability. If it is used, it will take a long time to dissolve or melt, or more solvents and higher temperatures may be required.
- compounds such as 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -1-phenylethane have a low melting point and high solvent solubility, the resulting resin has a refractive index and a glass transition temperature. It was low (patent document 4). Accordingly, there is a demand for an aromatic dihydroxyalkoxy compound that has high solubility, a low melting point and good operability, and that can improve properties such as optical properties and heat resistance.
- an object of the present invention is to provide a new aromatic dihydroxyalkoxy compound that has high solubility, low melting point, good operability, and can improve optical properties and heat resistance.
- the present inventors have intensively studied the above-mentioned problems of aromatic dihydroxyalkoxy compounds having a tetraphenyl skeleton such as 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -1,1-diphenylmethane.
- a polynuclear aromatic dihydroxyalkoxy compound in which a phenyl group having a hydroxyalkoxy group in 1,1-bis [4- (2-hydroxyalkoxy) phenyl] -1,1-diphenylmethane is further substituted with a phenyl group has a low melting point.
- the present invention has been completed by finding that it has excellent solubility in organic solvents and has the same or superior refractive index and glass transition temperature.
- R represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms
- R 1 is a phenyl group
- R 2 is each independently an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or 1 to 6 carbon atoms
- a represents an integer of 1 to 3
- b represents 0 or an integer of 1 to 3, provided that when b is 2 or more, R 2 may be the same or different;
- 1 ⁇ a + b ⁇ 4. It is bis (hydroxyalkoxyphenyl) diphenylmethane represented by these.
- the bis (hydroxyalkoxyphenyl) diphenylmethanes of the present invention have a diphenylmethane skeleton, and furthermore, an aromatic dinuclear aromatic hydrocarbon having a structure in which a phenyl group substituted by a hydroxyalkoxy group is substituted by a phenyl group. It is alcohol.
- the aromatic dialcohol of the present invention has a lower melting point and better solubility than conventional bis ⁇ 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl ⁇ diphenylmethane, for example. Therefore, operability in reaction and purification can be improved. For example, when industrially used in large quantities, the melting or dissolution time can be shortened.
- the bis (hydroxyalkoxyphenyl) diphenylmethanes of the present invention are represented by the above general formula (1).
- the substitution position of R 1 which is a phenyl group substituted by a phenyl group substituted by a hydroxyalkoxy group is preferably an ortho position of the hydroxyalkoxy group.
- the phenyl group substituted with a phenyl group substituted with a hydroxyalkoxy group may be substituted with an alkyl group or an alkoxyl group having about 1 to 3 carbon atoms within a range not inhibiting the effect of the present invention. Although it is good, it is preferable that it is not substituted from the viewpoint of heat resistance and refractive index.
- A represents an integer of 1 to 3, preferably 1 or 2, and more preferably 1.
- each R 2 independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a halogen atom.
- the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferably a linear or branched alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a cyclic alkyl group having 5 to 6 carbon atoms. Examples thereof include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a t-butyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group.
- the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms is preferably a linear or branched alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms or a cyclic alkoxy group having 5 to 6 carbon atoms.
- Examples include ethoxy group, propoxy group, t-butoxy group, cyclohexyloxy and the like.
- Specific examples of the halogen atom include a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.
- R 2 an alkyl group is preferable, and a methyl group is more preferable.
- substitution position of R 2 is preferably the ortho position of the hydroxyalkoxy group.
- B represents 0 or an integer of 1 to 3, preferably 0, 1 or 2, and more preferably 0 or 1 from the viewpoint of heat resistance and refractive index.
- R 2 may be the same or different and is in the range of 1 ⁇ a + b ⁇ 4.
- R represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.
- the alkylene group is preferably a linear or branched alkylene group, preferably an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, and particularly preferably an alkylene group having 2 or 3 carbon atoms. Therefore, specific examples of R include 1,2-ethylenediyl group, 1,2-propanediyl group, 1,3-propanediyl group, pentamethylene group, hexamethylene group and the like.
- the bonding position of the hydroxy group bonded to the alkylene group R is the carbon atom constituting the alkylene group R directly bonded to the ether group (position 1). It is called a carbon atom.) That is, the alkylene group R is bonded to the 2-6 position carbon atoms. When R has 3 or more carbon atoms, it is preferably bonded to the 2- or 3-position of the alkylene group R, more preferably the 2-position. Therefore, specific examples of preferred hydroxyalkoxy groups include 2-hydroxyethoxy group, 2-hydroxypropoxy group, 2-hydroxy-1-methylethoxy group, 3-hydroxypropoxy group and the like.
- preferred bis (hydroxyalkoxyphenyl) diphenylmethanes are bis (hydroxyethoxyphenyl) diphenylmethanes, which are represented by the following general formula: It is represented by (2).
- General formula (2) (Wherein R 1 , R 2 , a and b are the same as those in formula (1), and R 3 each independently represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, provided that each The total number of carbon atoms of R 3 substituted on the hydroxyethoxy group is 4 or less.)
- examples of the alkyl group represented by R 3 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and an isobutyl group.
- R 3 is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
- R 3 substituted for each hydroxyethoxy group when two R 3 are bonded to the same carbon atom, it is preferable that at least one of the two R 3 is a hydrogen atom. More preferably, R 3 are all hydrogen atoms.
- preferred bis (hydroxyalkoxyphenyl) diphenylmethanes include, for example, 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-phenylphenyl] -1,1-diphenylmethane, 1,1-bis [4- (2-hydroxypropoxy) -3-phenylphenyl] -1,1-diphenylmethane, 1,1-bis [4- (2-hydroxy-1-methylethoxy) -3-phenylphenyl ] -1,1-diphenylmethane, 1,1-bis [4- (3-hydroxypropoxy) -3-phenylphenyl] -1,1-diphenylmethane, 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy)- 3,5-diphenylphenyl] -1,1-diphenylmethane, 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-methyl-5-phenylphenyl] -1,1-diphenylmethane,
- the production method of the bis (hydroxyalkoxyphenyl) diphenylmethanes represented by the general formula (1) of the present invention preferably bis (hydroxyethoxyphenyl) diphenylmethanes is not particularly limited, and is produced using a known method. Can do.
- Examples include a method of producing by reacting in a solvent.
- the method using alkylene carbonates or alkylene oxides is mainly a bis (hydroxyethoxyphenyl) diphenylmethane of the above general formula (2), which is a preferred embodiment of the present invention, mainly from the viewpoint of economy. It is preferable as a production method.
- reaction formula (1) 1,1-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) -1,1-diphenylmethane and ethylene carbonate is represented by the following reaction formula (1).
- the raw material bisphenol represented by the general formula (3) is preferably, for example, 1,1-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) -1,1-diphenylmethane, 1,1 -Bis (5-methyl-4-hydroxy-3-phenylphenyl) -1,1-diphenylmethane, 1,1-bis (2-methyl-4-hydroxy-5-phenylphenyl) -1,1-diphenylmethane, , 1-bis (4-hydroxy-3,5-diphenylphenyl) -1,1-diphenylmethane, 1,1-bis (4-hydroxy-2-phenylphenyl) -1,1-diphenylmethane, and the like.
- examples of the alkylene carbonate represented by the general formula (4) include ethylene carbonate, propylene carbonate, 1,2-butylene carbonate and the like.
- the amount of alkylene carbonate used is usually in the range of about 2 to 10 moles, preferably in the range of about 3 to 5 moles per mole of bisphenols.
- the reaction is usually performed in the presence of a base catalyst.
- the base catalyst include alkali catalysts such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate and potassium carbonate, and quaternary ammonium halides such as tetrabutylammonium bromide, tetraethylammonium chloride and tetramethylammonium chloride.
- the amount of the catalyst is usually in the range of 0.005 to 0.5 mol, preferably in the range of 0.01 to 0.3, with respect to 1 mol of the bisphenol.
- the reaction temperature is usually in the range of 100 to 150 ° C, preferably in the range of 120 to 130 ° C.
- Solvents include aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, ketone solvents such as acetone and methyl isobutyl ketone, ether solvents such as tetrahydrofuran, dioxane and 1,2-diethoxyethane, 1-butanol and 2-butanol. Examples thereof include aliphatic alcohol solvents such as ethylene glycol, and aprotic polar solvents such as dimethylformamide and dimethyl sulfoxide.
- the amount of the solvent is, for example, preferably 50 to 300 parts by weight, more preferably 100 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of bisphenols.
- the reaction may be performed, for example, by charging reaction raw materials, catalyst, solvent, etc. into a reaction vessel at once and raising the temperature to the reaction temperature, or raising the temperature of the mixture of bisphenols, solvent, and catalyst to a predetermined temperature. Further, alkylene carbonates may be dropped there. After completion of the reaction, the target product can be taken out from the reaction mixture as a crude product or a high-purity product by a known purification method. For example, after completion of the reaction, water is added to the reaction completion mixture to decompose excess alkylene carbonate. When an alkali catalyst is used, it may be neutralized by adding an acid.
- a solvent that separates from water is added, and then the oil layer is washed with water to remove the catalyst or neutralized salt. Then, after cooling an oil layer or concentrating an oil layer, it melt
- the raw material bisphenol represented by the general formula (3) can be produced by a known method.
- it can be obtained by a method in which the phenylphenol represented by the general formula (7) and the dichlorodiphenylmethane represented by the general formula (8) corresponding to the bisphenol are reacted under heating.
- the above reaction is represented by a reaction formula.
- the reaction for obtaining 1,1-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) -1,1-diphenylmethane by the reaction of 2-phenylphenols with dichlorodiphenylmethane is the following reaction. It is represented by Formula (2).
- the molar ratio of dichlorodiphenylmethanes and phenylphenols is usually in the range of 2 to 10 moles, preferably 2.5 to 5 moles of phenyl-substituted phenols per mole of dichlorodiphenylmethanes. is there.
- the catalyst may not be used.
- the solvent is not particularly required if the raw materials can be mixed in a liquid state, but it is preferable to use the solvent if the raw materials cannot be mixed for reasons such as a solid at the reaction temperature.
- the solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction.
- an aromatic hydrocarbon solvent such as toluene and xylene
- a saturated hydrocarbon solvent such as n-heptane and cyclohexane
- an ether type such as dioxane and tetrahydrofuran.
- a solvent etc. are mentioned.
- the reaction raw materials may be charged and reacted all at once, or after phenylphenols are charged, dichlorodiphenylmethanes are dropped and reacted at a low temperature, and then the temperature is raised to further react. You may let them.
- the desired product can be obtained as a crude product or a refined product from the reaction mixture by a known purification method.
- the reaction mixture was cooled to 30 ° C., neutralized by adding a 16% aqueous sodium hydroxide solution to the reaction mixture, and the precipitated crystals were separated by filtration.
- the obtained crystals were dried at 60 ° C. under reduced pressure to obtain 97.5 g of yellow powdery crystals having a purity of 74.7% (according to high performance liquid chromatography analysis).
- Distilled water was added to the solution and stirred, and a water washing operation for separating and removing the aqueous layer was performed 4 times.
- the water-washed oil layer was concentrated to 78.9 g, and then cooled and crystallized. After cooling to room temperature, the precipitated crystals are separated by filtration, dried, and 1,1-bis (3-phenyl-4-hydroxyphenyl) -1,1 having a purity of 99.0% as determined by high performance liquid chromatography analysis. -12.9 g of diphenylmethane was obtained. Melting point: 290.8 ° C.
- Example 1 A 200 ml four-necked flask equipped with a stirrer was purged with nitrogen, and 14.5 g of 1,1-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) diphenylmethane having a purity of 96.7%, 7.6 g of ethylene carbonate, 0.3 g of potassium hydroxide, 0.3 g of tetrabutylammonium bromide and 72.5 g of n-butanol were charged, the temperature was raised to 115 ° C., and the mixture was stirred at a temperature of 115 ° C. to 120 ° C. for 44 hours.
- 1,1-1,1- 1 as a white powder having a purity of 97.8% (according to high performance liquid chromatography analysis).
- 13.8 g of bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-phenylphenyl] -1,1-diphenylmethane was obtained.
- the yield based on the raw material 1,1-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) -1,1-diphenylmethane was 81.2 mol%.
- ⁇ Glass transition temperature measurement method> In a differential scanning calorimeter, each compound was melted, cooled, and heated again to measure the glass transition point. At this time, the measurement start temperature was 30 ° C., and the temperature elevation rate was 10 ° C./min.
- a saturated solution was prepared by adding 3 g of a solvent to a test tube and adding a compound to be measured at a measurement temperature. The concentration of the supernatant of this saturated solution was measured with a calibration curve by liquid chromatography.
- Example 1 Measurement of Compound Physical Properties
- the glass transition temperature, melting point and refractive index of 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) -3-phenylphenyl] -1,1-diphenylmethane of Example 1 were measured and summarized in Table 3. Furthermore, the compound concentration in the saturated solution was measured and summarized in Table 4.
- the glass transition temperature, melting point, and refractive index of 1,1-bis [4- (2-hydroxyethoxy) phenyl] -1,1-diphenylmethane (BisPDP-2EO) having a purity of 98.9% were measured and summarized in Table 3. It was. Furthermore, the compound concentration in the saturated solution was measured and summarized in Table 4.
- the compound of the present invention in which the phenyl group is further bonded to the phenyl group to which the hydroxyethoxy group is bonded has a lower melting point than BisPDP-2EO in which the phenyl group is not further bonded, And it can be understood that the solubility in a solvent is high.
- an alkyl group, an alkoxy group or a halogen atom is further bonded to the phenyl group to which the hydroxyethoxy group is bonded together with the phenyl group, or the number of carbon atoms is 3 instead of the ethylene group to which the hydroxy group of the hydroxyethoxy group is bonded.
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Abstract
Description
このような芳香族ジヒドロキシ化合物は芳香族ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂の原料、高屈折樹脂原料のアクリル誘導体の原料等各種化学品の原料として有用である。
しかしながら、1,1-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-1,1-ジフェニルメタンは高融点で溶剤への溶解性が低く、操作性や加工性が悪く、例えば、工業的に多量に使用すれば、溶解や溶融に長時間要するか、より多くの溶剤やより高温が必要となる等の問題がある。
また、1,1-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-1-フェニルエタンのような化合物は、低融点で溶剤溶解性が高いものの、得られる樹脂の屈折率やガラス転移温度が低いものであった(特許文献4)。
そこで、溶解度が高く、低融点で操作性のよい、さらに光学特性や耐熱性等の特性についても向上しうる芳香族ジヒドロキシアルコキシ化合物が求められている。
そのような構造でありながら、本発明の上記芳香族ジアルコールは、従来の例えばビス{4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル}ジフェニルメタンに比して、低融点であり、溶解性がすぐれているので、反応や精製における操作性が改善できる。例えば、工業的に多量に使用する場合には、溶融若しくは溶解時間を短縮することができる。また、より低温であっても同程度の溶解時間を得ることができるか、あるいは、使用溶剤が同じであれば、その溶剤の使用量を少なくすることができる。
更に、従来の例えば1,1-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-1-フェニルエタンのような化合物は、低融点で溶剤溶解性が高く、かつ得られる樹脂の屈折率やガラス転移温度が低いのに対し、本発明の化合物は、低融点でありながら屈折率やガラス転移温度は変わらず、むしろ向上するので得られる樹脂の屈折率や耐熱性も向上することが期待される。
上記一般式(1)において、式中、ヒドロキシアルコキシ基が置換したフェニル基に置換したフェニル基であるR1の置換位置は、ヒドロキシアルコキシ基のオルソ位が好ましい。また、ヒドロキシアルコキシ基が置換したフェニル基に置換した該フェニル基は、本願発明の効果を阻害しない範囲で炭素原子数1~3程度のアルキル基又はアルコキシル基により1~2程度置換されていてもよいが、耐熱性や屈折率の観点から置換されていないほうが好ましい。またaは1~3の整数を示し、好ましくは1又は2であり、より好ましくは1である。
炭素原子数1~6のアルキル基としては、好ましくは炭素原子数1~4の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、炭素原子数5~6の環状アルキル基であり、具体的には例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、t-ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
炭素原子数1~6のアルコキシ基としては、好ましくは炭素原子数1~4の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基、炭素原子数5~6の環状アルコキシ基であり、具体的には例えば、エトキシ基、プロポキシ基、t-ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ等が挙げられる。
また、ハロゲン原子としては、具体的には例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
このようなR2としては、アルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
また、bは0、又は1~3の整数を示し、0、1又は2が好ましく、耐熱性や屈折率の観点から0又は1がより好ましい。bが2以上の場合、R2は同一でも異なっていてもよく、また、1≦a+b≦4の範囲である。
該アルキレン基としては、直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、好ましくは炭素原子数2~4のアルキレン基であり、炭素原子数2又は3のアルキレン基が特に好ましい。従ってRとしては具体的には例えば、1,2-エチレンジイル基、1,2-プロパンジイル基、1,3-プロパンジイル基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。
また、式中、-O-R-OHで表されるヒドロキシアルコキシ基において、アルキレン基Rに結合したヒドロキシ基の結合位置は、エーテル基と直接結合したアルキレン基Rを構成する炭素原子(1位炭素原子と称呼する。)には結合しない。即ち、アルキレン基Rの2位-6位の炭素原子に結合する。
Rの炭素原子数が3以上の場合、アルキレン基Rの2位または3位に結合することが好ましく、2位がより好ましい。従って、好ましいヒドロキシアルコキシ基としては、具体的には例えば、2-ヒドロキシエトキシ基、2-ヒドロキシプロポキシ基、2-ヒドロキシ-1-メチルエトキシ基、3-ヒドロキシプロポキシ基等が挙げられる。
一般式(2)
(式中、R1、R2、a及びbは一般式(1)のそれと同じであり、R3は各々独立して水素原子又は炭素原子数1~4のアルキル基を表し、ただし、各々のヒドロキシエトキシ基に置換するR3の炭素原子数の合計は4以下である。)
また、各々のヒドロキシエトキシ基に置換するR3の好ましい組合せとしては、同一炭素原子に2つのR3が結合した場合において、その2つのR3の内、少なくとも一つが水素原子であることが好ましく、R3がすべて水素原子であることがより好ましい。
1,1-ビス[4-(2-ヒドロキシプロポキシ)-3-フェニルフェニル]-1,1-ジフェニルメタン、1,1-ビス[4-(2-ヒドロキシ-1-メチルエトキシ)-3-フェニルフェニル]-1,1-ジフェニルメタン、1,1-ビス[4-(3-ヒドロキシプロポキシ)-3-フェニルフェニル]-1,1-ジフェニルメタン、1,1-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-3,5-ジフェニルフェニル]-1,1-ジフェニルメタン、1,1-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-3-メチル-5-フェニルフェニル]-1,1-ジフェニルメタン、1,1-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-2-メチル-5-フェニルフェニル]-1,1-ジフェニルメタン等が挙げられる。
例えば、本発明の前記一般式(1)で表されるビス(ヒドロキシアルコキシフェニル)ジフェニルメタン類に対応する、下記一般式(3)のビスフェノール類と下記一般式(4)のアルキレンカーボネート類又は下記一般式(5)のアルキレンオキサイド類を用いて製造する方法、或いは前記のビスフェノール類と下記一般式(6)のハロゲン化アルコール類とを用いて、炭酸カリウム等のアルカリ存在下、ジメチルホルムアミド等の極性溶媒中で反応させて製造する方法等が挙げられる。
一般式(3)
(式中、R1、R2、a又はbは一般式(1)のそれと同じである。)
一般式(4)
(式中、R3は一般式(2)のそれと同じである)
一般式(5)
(式中、R3は一般式(2)のそれと同じである。)
一般式(6)
(式中、Rは一般式(1)のそれと同じであり、Xはハロゲン原子を示し、但しXは水酸基が置換した炭素原子に置換しない。)
上記反応を反応式で示すと、例えば、1,1-ビス(4-ヒドロキシ-3-フェニルフェニル)-1,1-ジフェニルメタンとエチレンカーボネートとの反応は下記反応式(1)で表される。
反応式(1)
塩基触媒としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ触媒、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド等の4級アンモニウムハライド等が例示できる。
触媒の量は、ビスフェノール類1モルに対して通常、0.005~0.5モルの範囲、好ましくは0.01~0.3の範囲である。
反応温度は、通常、100~150℃の範囲、好ましくは120~130℃の範囲である。
反応終了後、反応終了混合物からは、公知の精製方法により粗製品、又は高純度品として目的物を取り出すことができる。
例えば、反応終了後、反応終了混合物に水を加えて過剰のアルキレンカーボネートを分解する。アルカリ触媒を用いた場合には、酸を加えて中和してもよい。次に必要に応じて水と分離する溶媒を加えた後、油層を水洗し、触媒若しくは中和塩を除去する。
その後、油層を冷却するか、または、油層を濃縮した後、溶媒を加えて溶解してから冷却して晶析、濾過することによって目的物を得ることができる。再結晶すれば、さらに高純度の目的物を得ることができる。
反応式(2)
一般式(7)
(式中、R1、R2、a及びbは一般式(1)のそれと同じである。ただし、R1は水酸基のパラ位に置換せず、bが1以上の場合、R2は水酸基のパラ位に置換しない。)
一般式(8)
触媒は、通常、用いなくてもよい。
通常、例えば、温度20~80℃の範囲、好ましくは40~70℃の範囲で反応し、次いで100℃~150℃の範囲、好ましくは120~130℃の範囲に昇温して反応させる方法が好ましい。
溶媒は原料が液状で混合できれば特に必要でないが、原料が反応温度で固体の場合等の理由で混合できなければ使用することが好ましい。用いられる溶媒は反応を阻害しないものであれば特に制限はないが、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、n-ヘプタン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒等が挙げられる。
反応は、例えば、反応原料を一括して仕込み、反応させてもよく、あるいは、フェニルフェノール類を仕込んだ後、ジクロロジフェニルメタン類を低温下で滴下して反応させ、その後、昇温して更に反応させてもよい。
反応終了後、反応終了混合物からは、公知の精製方法により粗製品、又は精製品として目的物を得る事が出来る。
(参考例1)(原料ビスフェノールの合成)
撹拌装置を備えた1リッターの四つ口フラスコに純度99.0%の2-フェニルフェノール306.2g、キシレン183.6gを仕込み、60℃に昇温して溶解した。その溶液に撹拌下60℃でジクロロジフェニルメタン141.6gを4.5時間かけて滴下した。滴下終了後、反応液を120℃に昇温し、120℃から135℃で30時間撹拌した。
反応終了後、30℃に冷却し、反応混合物に16%水酸化ナトリウム水溶液を加え中和した後、析出した結晶を濾別した。得られた結晶を減圧下60℃で乾燥して、純度74.7%(高速液体クロマトグラフィー分析による)の黄色粉末状結晶97.5gを得た。
更に、得られた結晶35.8gの内16.0gにメチルエチルケトン769.8gを加えて81℃に昇温して溶解した。その溶液に蒸留水を加えて撹拌し、水層を分離除去する水洗操作を4回実施した。水洗した油層を78.9gまで濃縮した後、冷却して晶析を行った。
室温まで冷却後、析出している結晶を濾別、乾燥して、高速液体クロマトグラフィー分析による純度が99.0%の1,1-ビス(3-フェニル-4-ヒドロキシフェニル)-1,1-ジフェニルメタン12.9gを得た。
融点:290.8℃(示差走査熱量測定法)
分子量:503(M-H)-(液体クロマトグラフィー質量分析法)
1H-NMR測定結果
(400MHz、溶媒;DMSO-d6、内部標準:テトラメチルシラン)
撹拌装置を備えた200mlの四つ口フラスコを窒素置換し、そこに純度96.7%の1,1-ビス(4-ヒドロキシ-3-フェニルフェニル)ジフェニルメタン14.5g、炭酸エチレン7.6g、水酸化カリウム0.3g、テトラブチルアンモニウムブロミド0.3g、n-ブタノール72.5gを仕込み、115℃に昇温し、その後115℃から120℃の温度で44時間撹拌した。
途中、炭酸エチレンを33時間後に0.7g、38時間後に0.7g、40時間後に1.4g追加した。この反応液に蒸留水36.2gを加え95℃で6時間撹拌した後、70℃で酢酸を加え中和した。水層を分離してから、油層に蒸留水36.2gを加えて撹拌して水洗し、さらに同様の操作でもう一度油層を水洗し、油層から減圧下で85℃まで昇温し、溶剤を留去した。
蒸留残渣である17.6gの白色固体を26.4gメチルイソブチルケトンで再溶解し、その溶液に53.0gメタノールを添加して晶析した。
更にメチルイソブチルケトンに溶解しメタノールを添加して、再結晶、濾過する同様の精製操作を2回行い、125℃で減圧乾燥することによって、純度99.1%(高速液体クロマトグラフィー分析による)白色結晶の1,1-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-3-フェニルフェニル]-1,1-ジフェニルメタン10.7gを得た。原料の1,1-ビス(4-ヒドロキシ-3-フェニルフェニル)-1,1-ジフェニルメタンに対する収率は62.9モル%であった。
融点 :160℃(示差走査熱量測定法による)
分子量:593(M+H)+(液体クロマトグラフィー質量分析法)
1H-NMR測定結果(400MHz、溶媒;DMSO-d6、内部標準:テトラ
メチルシラン)
以下の例におけるガラス転移温度及び飽和溶液中の化合物濃度は次の方法により測定した。
示差走査熱量計において、各化合物を融解した後冷却し、再度加熱することによってガラス転移点を測定した。この際、測定開始温度は30℃、昇温速度は10℃/分とした。
試験管に溶剤を3g入れ、測定温度において測定する化合物を添加して飽和溶液を作成した。この飽和溶液の上澄み液の濃度を液体クロマトグラフィーによる検量線で測定した。
実施例1の1,1-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)-3-フェニルフェニル]-1,1-ジフェニルメタンのガラス転移温度、融点、屈折率を測定し、表3にまとめた。
さらに、飽和溶液中の化合物濃度を測定し、表4にまとめた。
(比較例1)
純度98.9%の1,1-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-1,1-ジフェニルメタン(BisPDP-2EO)のガラス転移温度、融点、屈折率を測定し、表3にまとめた。
さらに、飽和溶液中の化合物濃度を測定し、表4にまとめた。
純度98.9%の1,1-ビス[4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル]-1-フェニルエタン(BisPAP-2EO)のガラス転移温度、融点、屈折率を測定し、表3にまとめた。
さらに、飽和溶液中の化合物濃度を測定し、表4にまとめた。
この結果を考慮すると、ヒドロキシエトキシ基が結合するフェニル基にさらにフェニル基と共にアルキル基、アルコキシ基やハロゲン原子が結合したり、ヒドロキシエトキシ基のヒドロキシ基が結合するエチレン基に代えて炭素原子数3~6のアルキレン基を採用しても、低融点や溶媒への溶解性に関して同程度の性質を備えることもわかる。
また、ビス(ヒドロキシエトキシフェニル)フェニルエタン骨格を持つBisPAP-2EOは、低融点で溶剤溶解性に優れているが、本発明の化合物の方が、ガラス転移温度や屈折率が著しく優れている。
Claims (1)
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201580029942.5A CN106458817B (zh) | 2014-06-30 | 2015-06-25 | 新型的双(羟基烷氧基苯基)二苯甲烷类 |
| JP2016531304A JP6826885B2 (ja) | 2014-06-30 | 2015-06-25 | 新規なビス(ヒドロキシアルコキシフェニル)ジフェニルメタン類 |
| KR1020167032858A KR102357570B1 (ko) | 2014-06-30 | 2015-06-25 | 신규한 비스(히드록시알콕시페닐)디페닐메탄류 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014-134785 | 2014-06-30 | ||
| JP2014134785 | 2014-06-30 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| WO2016002607A1 true WO2016002607A1 (ja) | 2016-01-07 |
Family
ID=55019149
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| PCT/JP2015/068286 Ceased WO2016002607A1 (ja) | 2014-06-30 | 2015-06-25 | 新規なビス(ヒドロキシアルコキシフェニル)ジフェニルメタン類 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6826885B2 (ja) |
| KR (1) | KR102357570B1 (ja) |
| CN (1) | CN106458817B (ja) |
| TW (1) | TWI655183B (ja) |
| WO (1) | WO2016002607A1 (ja) |
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Family Cites Families (1)
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| GB1377556A (en) | 1971-04-21 | 1974-12-18 | Ciba Geigy Ag | Heat-stable thermoplastic saturated polyesters |
-
2015
- 2015-06-25 KR KR1020167032858A patent/KR102357570B1/ko active Active
- 2015-06-25 CN CN201580029942.5A patent/CN106458817B/zh active Active
- 2015-06-25 JP JP2016531304A patent/JP6826885B2/ja active Active
- 2015-06-25 WO PCT/JP2015/068286 patent/WO2016002607A1/ja not_active Ceased
- 2015-06-29 TW TW104120924A patent/TWI655183B/zh active
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP6826885B2 (ja) | 2021-02-10 |
| CN106458817B (zh) | 2021-03-16 |
| TWI655183B (zh) | 2019-04-01 |
| TW201609622A (zh) | 2016-03-16 |
| CN106458817A (zh) | 2017-02-22 |
| JPWO2016002607A1 (ja) | 2017-04-27 |
| KR102357570B1 (ko) | 2022-01-28 |
| KR20170026341A (ko) | 2017-03-08 |
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Legal Events
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| 121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
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|
| ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2016531304 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
| ENP | Entry into the national phase |
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|
| NENP | Non-entry into the national phase |
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|
| 122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
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