WO2015102191A1 - Method for preparing molybdenum disulphide nanosheet, stripping liquid therefor and molybdenum disulphide nanosheet prepared thereby - Google Patents
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Definitions
- the problem to be solved by the present invention is to increase the yield of molybdenum disulfide (MoS2) nanosheets, and to improve the economic efficiency by reducing the ultrasonic treatment time, and the method for producing molybdenum disulfide (MoS2) nanosheets, and the peeling liquid and thereby used To provide a molybdenum disulfide (MoS2) nanosheets prepared.
- MoS2 molybdenum disulfide
- TEM images of MoS 2 nanosheets generally appear as wrinkled sheets partially folded like graphene sheets, and HRTEM images of MoS 2 nanosheets (see FIG. 3E) show very clear edges.
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Abstract
Description
본 발명은 몰리브덴 디설파이드나노시트 제조방법, 이를 위한 박리액 및 이에 의하여 제조된 몰리브덴 디설파이드 나노시트에 관한 것으로, 보다 상세하게는 몰리브덴 디설파이드(MoS2) 나노시트의 수득율을 높이고, 초음파 처리 시간을 줄여서 경제성을 향상시킨, 몰리브덴 디설파이드나노시트 제조방법, 이를 위한 박리액 및 이에 의하여 제조된 몰리브덴 디설파이드 나노시트에 관한 것이다.The present invention relates to a method for preparing molybdenum disulfide nanosheets, a stripping solution for the same, and a molybdenum disulfide nanosheet prepared thereby, and more specifically, to increase the yield of molybdenum disulfide (MoS2) nanosheets and to reduce the sonication time and economical efficiency. An improved method for producing molybdenum disulfide nanosheets, a stripping solution therefor, and molybdenum disulfide nanosheets produced thereby.
2D 층상 나노소재는 저 차원(low-dimensional) 시스템에의 새로운 접근을 위해 많은 관심의 대상이다. 전이금속 디칼코겐나이드(MX2 (M = Mo, W; X = S, Se, Te))는 층상구조의 패밀리에 속하며 그 구조는 흑연과 같이 공유결합 X-M-X 단일층들이 반데르발스힘에 의해 결합되어 쌓여있다. 2D layered nanomaterials are of great interest for new approaches to low-dimensional systems. Transition metal dichalcogenides (MX 2 (M = Mo, W; X = S, Se, Te)) belong to a family of layered structures, in which covalent XMX monolayers, like graphite, are joined by van der Waals forces Are piled up.
각 단일층은 두 개의 칼코겐(X) 원자층과 금속원자 층으로 되어있으며, 금속원자의 층은 칼코겐의 두 층에 삽입되어있다. 종래 기술(B. Radisavljevic, A. Radenovic, J. Brivio, V. Giacometti and A. Kis, Nat. Nanotechnol., 2011, 6, 147., K. F. Mak, C. Lee, J. Hone, J. Shan and T. F. Heinz, Phys. Rev. Lett., 2010, 105, 136805, K. K. Kam and B. A. Parkinson, J. Phys. Chem., 1982, 86, 463.)에서 MX2는 1.1 eV ~ 2.0 eV 의 밴드 갭을 가지고 있음을 증명하였다. 몰리브덴 디설파이드(MoS2) 경우에는, 벌크상태에서는 간접적 밴드 갭(1.2eV)에서 단일층에서 직접적 밴드 갭(1.8eV)으로의 전이가 있으며, 따라서, 에너지 저장장치, 촉매작용, 센서 및 전자장치의 다양한 분야로의 응용 가능성이 연구되고 있다. Each single layer consists of two chalcogen (X) atomic layers and a metal atom layer, which are inserted into two layers of chalcogens. Prior art (B. Radisavljevic, A. Radenovic, J. Brivio, V. Giacometti and A. Kis, Nat. Nanotechnol., 2011, 6 , 147., KF Mak, C. Lee, J. Hone, J. Shan and TF Heinz, Phys. Rev. Lett., 2010, 105 , 136805, KK Kam and BA Parkinson, J. Phys. Chem., 1982, 86 , 463.), MX 2 has a band gap of 1.1 eV to 2.0 eV. Proved that there is. In the case of molybdenum disulfide (MoS 2 ), there is a transition from an indirect band gap (1.2 eV) to a direct band gap (1.8 eV) in a single layer in the bulk, and thus, in energy storage, catalysis, sensors and electronics. Applicability to various fields is being studied.
하지만, MoS2는 불용성 화합물일뿐만 아니라 비휘발성이므로 박막 상태로의 제조가 상당히 어렵다고 알려져 있다. 스카치 태입(Scotch-tape)을 사용하는 기계적 방법이 안정한 단일층의 MX2 추출을 위해 사용되었다. 또한, 액상에서 3차원 구조물을 2차원 나노시트로 박리시키는 기술 또한 소개되었었는데, 이러한 액상 박리 방식은, MX2나노시트의 대량생산을 위한 가장 효율적인 방법들 중에 하나이다.(J. N. Coleman, M. Lotya, A. O'Neill, S. D. Bergin, P. J. King, U. Khan, K. Young, A. Gaucher, S. De, R. J. Smith, I. V. Shvets, S. K. Arora, G. Stanton, H.-Y. Kim, K. Lee, G. T. Kim, G. S. Duesberg, T. Hallam, J. J. Boland, J. J. Wang, J. F. Donegan, J. C. Grunlan, G. Moriarty, A. Shmeliov, R. J. Nicholls, J. M. Perkins, E. M. Grieveson, K. Theuwissen, D. W. McComb, P. D. Nellist and V. Nicolosi, Science, 2011, 331, 568. H. S. S. R. Matte, A. Gomathi, A. K. Manna, D. J. Late, R. Datta, S. K. Pati and C. N. R. Rao, Angew. Chem. Int. Ed., 2010, 49, 4059. G. Eda, H. Yamaguchi, D. Voiry, T. Fujita, M. Chen and M. Chhowalla, Nano. Lett., 2011, 11, 5111) However, since MoS 2 is not only an insoluble compound but also nonvolatile, it is known that it is very difficult to prepare a thin film. Mechanical methods using Scotch-tape were used for the extraction of a stable monolayer of MX 2 . In addition, a technique for peeling three-dimensional structures into two-dimensional nanosheets in a liquid phase was also introduced, which is one of the most efficient methods for mass production of MX 2 nanosheets (JN Coleman, M. Lotya). , A. O'Neill, SD Bergin, PJ King, U. Khan, K. Young, A. Gaucher, S. De, RJ Smith, IV Shvets, SK Arora, G. Stanton, H.-Y. Kim, K Lee, GT Kim, GS Duesberg, T. Hallam, JJ Boland, JJ Wang, JF Donegan, JC Grunlan, G. Moriarty, A. Shmeliov, RJ Nicholls, JM Perkins, EM Grieveson, K. Theuwissen, DW McComb, PD. Nellist and V. Nicolosi, Science, 2011, 331, 568.HSSR Matte, A. Gomathi, AK Manna, DJ Late, R. Datta, SK Pati and CNR Rao, Angew.Chem.Int.Ed., 2010, 49, 4059.G. Eda, H. Yamaguchi, D. Voiry, T. Fujita, M. Chen and M. Chhowalla, Nano.Lett ., 2011, 11, 5111).
MoS2 박리 기술 중 리튬-인터칼레이션(Li-intercalation)은 박리를 위한 유용한 방법이다. 그러나, 이 방법은 주위 환경조건에 매우 민감하여 공정 제어가 어렵다는 문제가 있다. 또한 리튬-인터칼레이션(Li-intercalation)으로 인해 본래의 MoS2의 상전이가 발생하는 문제도 있다. 최근에, 초음파 처리를 통해 유기용매에서 직접 박리함으로써 3-12nm두께의 MoS2 분산액을 제조하는 기술이 개시되었다. 히자만, 이 방법 또한 낮은 수득율을 보이며, 농도를 향상시키기 위해 긴 초음파처리 시간이 필요하다는 문제가 있다.Li-intercalation in the MoS2 stripping technique is a useful method for stripping. However, this method has a problem in that process control is difficult because it is very sensitive to ambient environmental conditions. In addition, due to lithium intercalation (Li-intercalation) there is a problem that the original MoS 2 phase transition occurs. Recently, a technique for producing a MoS 2 dispersion having a thickness of 3-12 nm by peeling directly from an organic solvent through ultrasonication has been disclosed. Hijaman, this method also shows a low yield and there is a problem that long sonication time is required to improve the concentration.
따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 몰리브덴 디설파이드(MoS2) 나노시트의 수득율을 높이고, 초음파 처리 시간을 줄여서 경제성을 향상시킨 몰리브덴 디설파이드(MoS2)나노시트 제조방법과, 이에 사용되는 박리액 및 이에 의하여 제조된 몰리브덴 디설파이드(MoS2)나노시트를 제공하는 것이다.Therefore, the problem to be solved by the present invention is to increase the yield of molybdenum disulfide (MoS2) nanosheets, and to improve the economic efficiency by reducing the ultrasonic treatment time, and the method for producing molybdenum disulfide (MoS2) nanosheets, and the peeling liquid and thereby used To provide a molybdenum disulfide (MoS2) nanosheets prepared.
상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속과 수산화기로 이루어진 박리 촉진제를 함유하는 유기용매에 벌크 몰리브덴 디설파이드(MoS2) 분말을 혼입하는 단계; 및 상기 혼입된 벌크 몰리브덴 디설파이드(MoS2) 분말을 초음파처리하여 몰리브덴 디설파이드(MoS2) 나노시트를 제조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 몰리브덴 디설파이드(MoS2) 나노시트 제조방법을 제공한다. In order to solve the above problems, the present invention comprises the steps of incorporating a bulk molybdenum disulfide (MoS2) powder in an organic solvent containing a peeling accelerator consisting of an alkali metal or alkaline earth metal and a hydroxyl group; And it provides a method for producing molybdenum disulfide (MoS2) nanosheets comprising the step of producing a molybdenum disulfide (MoS2) nanosheets by sonicating the mixed bulk molybdenum disulfide (MoS2) powder.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 유기용매는 N-메틸 피롤리돈(Methyl pyrrolidone, NMP)이며, 상기 몰리브덴 디설파이드(MoS2) 나노시트는 상기 초음파처리 시간에 따라 제조수율이 증가한다. In one embodiment of the present invention, the organic solvent is N-methyl pyrrolidone (NMP), the molybdenum disulfide (MoS2) nanosheets the production yield increases with the sonication time.
본 발명의 일 실시예에서, 상기 박리촉진제는 수산화나트륨이다. In one embodiment of the present invention, the release promoter is sodium hydroxide.
본 발명은 또한 상술한 방법에 의하여 제조된 몰리브덴 디설파이드(MoS2) 나노시트를 제공하며, 상기 몰리브덴 디설파이드(MoS2) 나노시트는 1 내지 3개 층의 나노시트가 전체 나노시트의 85% 이상이다. The present invention also provides molybdenum disulfide (MoS2) nanosheets prepared by the method described above, wherein the molybdenum disulfide (MoS2) nanosheets comprise 1-3 layers of nanosheets at least 85% of the total nanosheets.
본 발명은 또한 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속과 수산화기로 이루어진 박리 촉진제; 및 유기용매를 포함하는, 몰리브덴 디설파이드(MoS2) 박리액을 제공하며, 상기 유기용매는 N-메틸 피롤리돈(Methyl pyrrolidone, NMP)이며, 상기 박리 촉진제는 수산화 나트륨이다.The present invention also provides a peeling accelerator comprising an alkali metal or alkaline earth metal and a hydroxyl group; And an organic solvent, wherein the molybdenum disulfide (MoS 2) stripping solution is provided, wherein the organic solvent is N-methyl pyrrolidone (NMP), and the stripping accelerator is sodium hydroxide.
본 발명에 따르면, 유기 용매에 염기성 용액을 첨가한 박리액에 MoS2를 혼입하고 초음파처리한 경우에, 현저하게 짧은 초음파 분해시간으로 MoS2 박리가 가능하며, 약 6배의 MoS2 나노시트 수득율을 보여, 경제적이고 효율적인 방식으로 MoS2를 제조할 수 있다. 또한, 본 발명에 따른 박리액 및 공정을 통하여 단일 또한 적은 수의 층을 갖는 MoS2 나노시트를 대량으로 생산할 수 있다.According to the present invention, when MoS2 is mixed and sonicated in a stripping solution in which a basic solution is added to an organic solvent, it is possible to peel MoS2 with a remarkably short ultrasonic decomposition time, and shows a yield of about 6 times MoS2 nanosheets. MoS2 can be produced in an economical and efficient manner. In addition, the stripper and the process according to the invention allow for the production of large quantities of MoS 2 nanosheets with a single and small number of layers.
도 1은 A) 본래 MoS2 분말의 SEM 이미지(B) MoS2의 구조의 모식도 (C) NaOH로 첨가한 효과를 나타내는 SEM 이미지 (오른쪽, 실시예) NaOH를 첨가하지 않지 않는 경우의 결과를 나타내는 SEM 이미지(왼쪽, 비교예)이다. Figure 1 is a) SEM image of the original MoS2 powder (B) Schematic diagram of the structure of MoS 2 (C) SEM image showing the effect of the addition of NaOH (right, Example) SEM showing the result of not adding NaOH It is an image (left, comparative example).
도 2A는 UV-vis and photoluminescence 스펙트럼 (삽입: 분산된 MoS2의 사진 이미지), 2B는 NMP에 NaOH를 첨가하여 박리된 MoS2 나노시트의 SEM 이미지이다.FIG. 2A is a UV-vis and photoluminescence spectrum (insertion: photographic image of dispersed MoS 2 ), 2B is an SEM image of MoS2 nanosheets peeled off by adding NaOH to NMP.
도 3A 내지 E는 는 MoS2 나노시트의 TEM이미지이고, 3F는 태핑-모드 AFM 이미지, 3G는 실리콘 기판 상의 MoS2-나노시트의 대응 라인 스캔 결과이다.3A to E are TEM images of MoS 2 nanosheets, 3F is a tapping-mode AFM image, and 3G is the corresponding line scan results of MoS2-nanosheets on a silicon substrate.
도 4 (A) 라만 스펙트럼, (B) SiO2/Si 기판위의 MoS2나노시트 막의 Mo 3d 와 (C) S 2p 의XPS 스펙트럼. (D) MoS2 벌크분말, NaOH가 첨가된 MoS2나노시트, NaOH가 첨가되지 않은 나노시트의 XRD패턴이다. Fig. 4 (A) Raman spectrum, (B) XPS spectrum of Mo 3d and (C) S 2p of
도 5 (A)는 충전-방전 곡선, (B) 실온의 coin-type half cells 에서 쿨롱효율 과 cycle number.Sodiation 와 Desodiation의 용량이 나타내는 그래프이다.Figure 5 (A) is a charge-discharge curve, (B) is a graph showing the Coulomb efficiency and cycle number.Sodiation and Desodiation capacity in coin-type half cells at room temperature.
다음에 소개되는 실험예는 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 예로서 제공되는 것이다. 따라서 본 발명은 이하 설명된 실험예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 또한, 본 명세서 전반에 걸쳐 표시되는 약어는 본 명세서 내에서 별도의 다른 지칭이 없다면 당업계에서 통용되어, 이해되는 수준으로 해석되어야 한다.Experimental examples introduced below are provided as examples to ensure that the spirit of the present invention to those skilled in the art can be sufficiently delivered. Therefore, the present invention is not limited to the experimental examples described below and may be embodied in other forms. In addition, the abbreviations shown throughout this specification should be interpreted to the level understood in the art, unless otherwise indicated herein.
본 발명자는 전술한 종래기술의 문제점을 해결하고, 주위 환경에 뛰어난 작업성과, 상전이의 문제가 발생하지 않으며, 초음파의 처리 시간을 단축시킨 고수율 몰리브덴 디설파이드(MoS2)나노시트 박리액 및 그 박리액을 이용한 MoS2 나노시트 제조방법을 제공한다. MEANS TO SOLVE THE PROBLEM The present inventor solved the problem of the prior art mentioned above, the outstanding workability to a surrounding environment, the problem of phase transition does not arise, and the high yield molybdenum disulfide (MoS2) nanosheet peeling liquid and its peeling liquid which shortened the process time of an ultrasonic wave. It provides a method for producing MoS2 nanosheets.
이를 위하여 본 발명은 알칼리 금속 또는 알칼리 토금속과 수산화기로 이루어진 화합물(이하 박리 촉진제)를 함유하는 유기용매를 박리액으로 사용하며, 상기 박리액에서 벌크 상태의 몰리브덴 디설파이드(MoS2) 분말을 혼입하고, 이를 초음파처리하여 몰리브덴 디설파이드(MoS2) 나노시트를 제조하였다. 특히 N-메틸 피롤리돈(Methyl pyrrolidone, NMP)와 같이 MoS2에 대하여 고유전 강도(High dielectirc strength)를 갖는 용매와, NaOH 같이 수산화기와 알칼리금속 또는 알칼리토금속을 함유하는 박리촉진제를 혼합 사용하는 경우, MoS2의 층 내부의 공간으로 용이하게 Na+와 OH- 이온의 침투가 용이해지는 새로운 사실로부터 본 발명은 경제적인 MoS2의 나노시트 박리방법을 제공한다. To this end, the present invention uses an organic solvent containing a compound consisting of an alkali metal or an alkaline earth metal and a hydroxyl group (hereinafter, a peeling accelerator) as a stripping solution, and incorporates molybdenum disulfide (MoS 2) powder in bulk from the stripping solution. Sonication to prepare molybdenum disulfide (MoS2) nanosheets. In particular, a mixture of a solvent having high dielectirc strength with respect to MoS2 such as N-methyl pyrrolidone (NMP) and a release accelerator containing a hydroxyl group and an alkali or alkaline earth metal such as NaOH is used. The present invention provides an economical method for stripping nanosheets of MoS2 from the new fact that the penetration of Na + and OH- ions into the space inside the layer of MoS2 is easy.
MoS2 나노시트 분산MoS2 Nanosheet Dispersion
우선, NaOH(5g)을 NMP(20 mL)에 용해시켰고, MoS2 벌크분말(20mg)을 NaOH용액에 첨가하였다. 혼합물을 2시간동안 초음파기기에서 초음파 처리하였다. 대조실험을 위하여, 같은 조건이지만 NaOH가 첨가되지 않는 혼합액을 사용하였다. First, NaOH (5 g) was dissolved in NMP (20 mL), and
실험결과 Experiment result
도 1은 A) 본래 MoS2 분말의 SEM 이미지(B) MoS2의 구조의 모식도 (C) NaOH로 첨가한 효과를 나타내는 SEM 이미지 (오른쪽, 실시예) NaOH를 첨가하지 않지 않는 경우의 결과를 나타내는 SEM 이미지(왼쪽, 비교예)이다. Figure 1 is a) SEM image of the original MoS2 powder (B) Schematic diagram of the structure of MoS 2 (C) SEM image showing the effect of the addition of NaOH (right, Example) SEM showing the result of not adding NaOH It is an image (left, comparative example).
본 실험예에서 혼합용액을 배쓰 초음파기에서 2시간 동안 초음파처리하였고, 비교예에서는 NaOH와 같은 염기성 용액이 첨가되지 않는 박리액을 사용하였다. In this experimental example, the mixed solution was sonicated for 2 hours in a bath sonicator, and in the comparative example, a peeling solution to which a basic solution such as NaOH was not added was used.
* 2시간동안의 상기 초음파처리 후에 실시예 혹은 비교예의 박리액을 원심분리기(Hanil Industrial Co., Ltd., Combi 514R)를 사용, 30분동안 2000rpm으로 원심분리하고, 침전물은 박리되지 않은 MoS2 혹은 두꺼운 조각들을 제거하기 위해서 버려졌다. After the sonication for 2 hours, the separation solution of Example or Comparative Example was centrifuged at 2000 rpm for 30 minutes using a centrifuge (Hanil Industrial Co., Ltd., Combi 514R), and the precipitate was not stripped of MoS 2. Or discarded to remove thick pieces.
세 번째로 수득한 상층액의 MoS2 박리막에 대하여, 양극 산화 알루미늄(anodic aluminium oxide ,AAO) (Anodisc 47, 0.025 ㎛ pores, Whatman)을 사용하는 진공필터로 상기 MoS2 나노시트의 내부층 공간을 분석하였다. NaOH를 포함하거나 또는 포함하지 않은 남아있는 상층액을 45분동안 9000rpm으로 원심분리하고, 상기 상층액을 버리고, 새로운 NMP 용매를 첨가하였다. For the MoS 2 release film of the supernatant obtained third, the inner layer space of the MoS 2 nanosheets with a vacuum filter using anodized aluminum oxide (AAO) (Anodisc 47, 0.025 μm pores, Whatman) Was analyzed. The remaining supernatant with or without NaOH was centrifuged at 9000 rpm for 45 minutes, the supernatant was discarded and fresh NMP solvent was added.
이후, 3분동안 상기 용액을 초음파처리하고 NaOH의 대부분을 제거하기 위해서 45분동안 9000rpm으로 원심분리하였다. NaOH가 있는 깨끗한 용액을 얻기 위해서 세척과정이 여러 번 반복되었다. 각 원심분리 후에 NaOH의 제거를 확인하기 위해서 pH 테스트 종이를 사용하여 상층액의 pH를 측정하였다. 원심분리 후, NaOH가 첨가된 침전물의 부피가 NaOH가 첨가되지 않는 것보다 훨씬 더 컸다(도 1의 (C)). 또한 비교예의 박리액에 비하여 실시예의 박리액은 MoS2 나노시트의 수득율이 약 6배 수준으로 증가하였다. 상기 결과로부터 초음파 공정 하에서, 박리액에 첨가된 NaOH는 MoS2 층들을 박리시키는데 기여하며, 그 결과 박리된 MoS2 시트의 농도가 상당히 개선됨을 알 수 있다. 또한, 초음파분해 시간을 증가시킴에 따라 그 농도는 증가하였고, 상기 초음파 분해 시간이 길어지는 경우 NaOH를 첨가한 MoS2 의 분산 효율성이 아주 높았다. 이것 또한 NaOH가 MoS2 벌크 조각들의 박리를 용이하게 함을 의미한다. The solution was then sonicated for 3 minutes and centrifuged at 9000 rpm for 45 minutes to remove most of the NaOH. The washing process was repeated several times to obtain a clean solution with NaOH. The pH of the supernatant was measured using pH test paper to confirm the removal of NaOH after each centrifugation. After centrifugation, the volume of precipitate added with NaOH was much larger than that without NaOH (FIG. 1C). In addition, compared to the peeling solution of the comparative example, the peeling solution of the Example increased the yield of MoS2 nanosheets to about 6 times. From the above results, it can be seen that under the ultrasonic process, NaOH added to the stripping solution contributes to stripping the MoS 2 layers, and as a result, the concentration of the stripped MoS 2 sheet is significantly improved. In addition, as the sonication time was increased, its concentration increased. When the sonication time was longer, the dispersion efficiency of MoS 2 added with NaOH was very high. This also means that NaOH facilitates the exfoliation of MoS 2 bulk pieces.
상기 세척 후, 40분 동안의 추가 초음파 분해를 하여 최종 MoS2 분산액을 제조하였다. 2000rpm 과 9000rpm사이의 최종 수득 용액은 어두운 초록색이며 응집없이 수 일 동안 안정한 상태로 존재하였다. After the wash, further sonication for 40 minutes gave the final MoS 2 dispersion. The final obtained solution between 2000 rpm and 9000 rpm was dark green and remained stable for several days without aggregation.
최종 용액을 UV-vis spectrophotometer 로 특성분석을 하기 위하여, 드랍 캐스팅법에 의한 SiO2/Si 기판에 MoS2박막을 준비하기 위해 사용되었으며, SEM and photoluminescence 에 의해 나노시트의 특성을 분석하였다. In order to characterize the final solution by UV-vis spectrophotometer, it was used to prepare MoS2 thin film on SiO 2 / Si substrate by drop casting method, and the nanosheets were characterized by SEM and photoluminescence.
도 2A는 UV-vis and photoluminescence 스펙트럼 (삽입: 분산된 MoS2의 사진 이미지), 2B는 NMP에 NaOH를 첨가하여 박리된 MoS2 나노시트의 SEM 이미지이다. FIG. 2A is a UV-vis and photoluminescence spectrum (insertion: photographic image of dispersed MoS 2 ), 2B is an SEM image of MoS2 nanosheets peeled off by adding NaOH to NMP.
도 2A를 참조하면, 본 발명에 따른 박리액이 사용되어 분산된 MoS2 나노시트의 스펙트럼은 600nm와 700nm사이에서 2번의 피크(A 와 B) 를 나타내며, 399nm에서 숄더를 가지고 있는 450nm 근방의 넓은 대역 또한 나타낸다. A 와 B 피크는 2H-MoS2 나노시트의 특징이며 가장 적은 직접 전이에 해당한다. 이때 A와 B 의 여기자에 대한 피크 위치는 670 nm (1.85 eV) 와 607 nm (2.04 eV)이고, 이때 0.19eV의 에너지 차이가 있다. 여기자의 수치들은 벌크 분말(748 nm (1.66 eV))에 대한 알려진 데이터와 비교하여 청색 편이임을 보여준다. 청색 편이는 the quantum-size confinement때문이며 이는 종래 연구와도 일치하는 결과이다. Referring to FIG. 2A, the spectrum of the MoS2 nanosheets dispersed using the stripper according to the present invention shows two peaks (A and B) between 600 nm and 700 nm, and a broad band near 450 nm having a shoulder at 399 nm. Also indicated. A and B peaks are characteristic of 2H-MoS 2 nanosheets and correspond to the fewest direct transitions. At this time, the peak positions of the excitons of A and B are 670 nm (1.85 eV) and 607 nm (2.04 eV), and there is an energy difference of 0.19 eV. The exciter values show a blue shift compared to known data for bulk powder (748 nm (1.66 eV)). The blue shift is due to the quantum-size confinement, which is consistent with previous studies.
또한, 도 2B를 참조하면, SiO2/Si 기판 위에 MoS2 박막은 기저판과 엣지를 가지고 있는 2D 조각들임을 명확하게 나타낸다. Also, referring to FIG. 2B, the MoS 2 thin film on the SiO 2 / Si substrate is clearly shown to be 2D pieces having a base plate and an edge.
본 발명자는 TEM분석을 통해 MoS2나노시트의 분산액을 조사하였는데, 도 3은 Holy carbon TEM 그리드 위의 몇 층의 MoS2 나노시트의 TEM이미지들을 보여준다. The inventors examined the dispersion of MoS 2 nanosheets through TEM analysis, and FIG. 3 shows TEM images of several layers of MoS 2 nanosheets on a Holy carbon TEM grid.
도 3을 참조하면, MoS2나노시트의 TEM이미지들은 일반적으로 그래핀 시트처럼 부분적으로 접혀진 주름진 시트로 나타나며, MoS2 나노시트의 HRTEM 이미지는 (도 3E 참조) 아주 명확한 엣지를 보여준다. Referring to FIG. 3, TEM images of MoS 2 nanosheets generally appear as wrinkled sheets partially folded like graphene sheets, and HRTEM images of MoS 2 nanosheets (see FIG. 3E) show very clear edges.
이는 도 3D의 왼편 아래쪽에 보여진 것처럼 검은 원으로 표시된 부분으로 얻어진 것이며, 도 3E의 삽입된 부분은 박리된 MoS2의 전형적인 전자 회절 패턴을 보여준다.This was obtained with the part indicated by the black circle as shown at the bottom left of FIG. 3D, and the inserted part of FIG. 3E shows a typical electron diffraction pattern of the exfoliated MoS 2 .
AFM 이미지는 단일 층의 두께와 MoS2 나노시트의 효율적인 박리에 대해 추가적인 정보를 제공한다. AFM분석을 통해서 본 발명자는형태 와 나노시트 필름의 두께 사이의 연관성을 알아냈다. The AFM image provides additional information on the thickness of the single layer and the efficient exfoliation of the MoS 2 nanosheets. Through AFM analysis, the inventors found an association between the morphology and the thickness of the nanosheet film.
도 3F와 G는 SiO2/Si 기판 위의 단일 층의 MoS2 나노시트의 AFM 이미지와 층 높이를 나타내는 결과이다. 3F and G show the AFM image and layer height of a single layer MoS 2 nanosheet on a SiO 2 / Si substrate.
도 3F와 G 결과를 참조하면, 나노시트의 층 높이는 1.2 nm로 측정되었다. 이 두께는 액상 박리에서 단일 층 MoS2에 대한 종래 연구 결과와도 상당히 일치한다. Referring to Figures 3F and G results, the layer height of the nanosheets was measured at 1.2 nm. This thickness is quite consistent with the results of previous studies on single layer MoS 2 in liquid stripping.
상기 결과로부터 얻은 TEM 과 AFM 이미지들에 의하면, 나노시트의 측면치수는 50nm에서 1㎛의 범위임을 알 수 있다. 또한, 단일 층의 MoS2나노시트는 300nm보다 작은 측면길이는 나타낸다.According to the TEM and AFM images obtained from the above results, it can be seen that the lateral dimension of the nanosheets ranges from 50 nm to 1 μm. In addition, single layer MoS 2 nanosheets exhibit lateral lengths less than 300 nm.
Raman 스펙트럼은 MoS2 나노시트의 쉽고도 질적인 특징분석을 제공한다. Raman spectra provide easy and qualitative characterization of MoS 2 nanosheets.
도 4 (A) 라만 스펙트럼, (B) SiO2/Si 기판위의 MoS2나노시트 막의 Mo 3d 와 (C) S 2p 의XPS 스펙트럼. (D) MoS2 벌크분말, NaOH가 첨가된 MoS2나노시트, NaOH가 첨가되지 않은 나노시트의 XRD패턴이다. Fig. 4 (A) Raman spectrum, (B) XPS spectrum of Mo 3d and (C) S 2p of
도 4를 참조하면, 385.6 cm-1 에서 E1 2g 피크로 알려진 전형적인 피크는 Mo-S의 평면 진동에서 비롯되며 408 cm-1 근처에서 A1g 피크는 비평면 진동이 관찰된다. 본래의 MoS2분말의 스펙트럼은 383 와 409 cm-1에서 피크를 나타낸다. E1 2g 와 A1g 의 피크 차이는 본래의 MoS2에 대해서는 26 cm-1 이지만, 본 발명에 따라 제조된 MoS2 분산액에 대해서는 22.4 cm-1이다. 즉, 본 발명에 따른 MoS2 분산액의 수치는 본래의 MoS2분말의 수치보다 작다. 이러한 피크 차이는 MoS2 층의 수를 측정하는데 사용될 수 있는데, 본 발명에 따른 MoS2 분산액의 22.4 cm-1라는 피크 차이는 MoS2 삼층구조에 상응한다. 게다가, 본 발명에 따른 MoS2 분산액에 대한 라인 너비(Line widths( (6 ~ 7 cm-1)는 기계적 박리 방법에 의한 MoS2 단일 결정의 알려진 데이타(2 ~ 6 cm-1)보다 크다. 라인 확장(The line broadening)은 액상 박리 방법을 포함한 이전의 연구들의 MoS2 단일결정에 비하여 작은 결정 크기와 더 큰 디펙트(defect)로 기인한다. Referring to FIG. 4, a typical peak known as the E 1 2g peak at 385.6 cm −1 originates from the planar vibration of Mo-S and a non-planar vibration is observed in the A 1g peak near 408 cm −1 . The spectrum of the original MoS 2 powder shows peaks at 383 and 409 cm −1 . The peak difference between E 1 2g and A 1g is 26 cm −1 for the original MoS 2 , but 22.4 cm −1 for the MoS 2 dispersion prepared according to the invention. In other words, the numerical value of the MoS 2 dispersion according to the present invention is smaller than that of the original MoS 2 powder. This peak difference can be used to measure the number of MoS 2 layers, the peak difference of 22.4 cm −1 of the MoS 2 dispersion according to the invention corresponding to the MoS 2 trilayer structure. In addition, the line widths (6 to 7 cm -1 ) for the MoS2 dispersions according to the invention are larger than the known data (2 to 6 cm -1 ) of MoS 2 single crystals by the mechanical exfoliation method. The line broadening is due to the smaller crystal size and larger defects compared to the MoS 2 single crystals of previous studies, including the liquid stripping method.
삼층구조의 MoS2 나노시트는 도 2(A)(빨간 선)의 PL 스펙트럼으로 명백히 보여진다. PL 스펙트럼은 665nm (1.86 eV)근방에서 하나의 주요피크 와 614nm에서 하나의 숄더 피크로 구성된다. 그리고, 직접 밴드 갭 PL로 부터의 여기자 에너지와 잘 맞으며, 이는 알려진 데이터와 잘 일치한다. The three-layer MoS 2 nanosheets are clearly seen in the PL spectrum of FIG. 2 (A) (red line). The PL spectrum consists of one main peak near 665 nm (1.86 eV) and one shoulder peak at 614 nm. And it fits well with the exciton energy from the direct band gap PL, which is in good agreement with the known data.
이후, 본 발명자는XPS 측정을 하였으며, 이는 도 4(B) 내지 (D)에 도시된다. The inventors then made an XPS measurement, which is shown in FIGS. 4 (B)-(D).
도 4(B)에서, Mo 3d 피크는 MoS2에서 Mo4+에 대해 예상되는 수치인 Mo4+ 3d5/2 (229.3 eV) 와 Mo4+ 3d3/2 (232.6 eV)에 해당한다. 상응하는 S 2p 피크는 2p1/2 (163.4 eV) 와S 2p3/2 (162.3 eV)의 하나의 이중항으로 구성된다. 이는 MoS2에 S2- 형태와 일치한다. (그림. 4(C)) 이것은 236 eV주위에서 작은 피크를 보여주며 Mo 산화의 Mo6+ 3d5/2에 상응한다. In FIG. 4B, the Mo 3d peak corresponds to Mo 4+ 3d5 / 2 (229.3 eV) and Mo 4+ 3d3 / 2 (232.6 eV), which are expected values for Mo 4+ in MoS 2 . The corresponding S 2p peak consists of one double term of 2p 1/2 (163.4 eV) and S 2p3 / 2 (162.3 eV). This is consistent with the S 2 -form in MoS 2 . (Fig. 4 (C)) This shows a small peak around 236 eV, corresponding to Mo 6+ 3d5 / 2 of Mo oxidation.
본 발명에 따른 박리 실험에서, NaOH는 MoS2 조각들의 박리를 용이하게 한다.즉, MoS2 나노시트에 NaOH의 인터칼레이션을 특징짓기 위해서 본 발명자는XRD(엑스선회절) 측정을 하였으며 본래의 MoS2 분말과 NaOH첨가없이 NMP에서 박리된 막의 그것과 비교하였는데, 이는 도 4(D)에서 볼 수 있다. In the exfoliation experiment according to the present invention, NaOH facilitates exfoliation of MoS 2 pieces, i.e., to characterize the intercalation of NaOH in the MoS 2 nanosheets, the inventors made XRD (X-ray diffraction) measurements and the original MoS It was compared with that of the film peeled off from NMP without 2 powder and NaOH addition, which can be seen in FIG. 4 (D).
NaOH를 첨가하지 않는 NMP 용액내의 재적층된 MoS2필름의 (002)결정면의 XRD 피크는 본래의 MoS2 분말의 (002)결정면의 피크와 동일한 패턴을 가진다. 이것은 MoS2의 내부층의 공간이 NMP에서 처리로 인해 변화되지 않았음을 암시하며 MoS2내부층으로 인터칼레이션에 대해 NMP분자에 영향이 없음을 의미한다. 그러나, NaOH처리를 한 MoS2의 재적층된 막은 (002)결정면의 피크가 야간 아래로 이동함을 알 수 있다. 그 피크는 (002)결정면 피크의 낮은 회절 각도에서 막의 내부층 공간이 NaOH의 첨가로 인해 부분적으로 확장되었음을 알려주는 것이다. Mo 산화에 관한 XPS 분석에서 언급한 바와 같이, Mo 산화의 작은 피크가 XRD 스펙트럼에서 Na2MoO4로써 분석되며, 산화된 황 원자에 대해서는 168 eV 주위에서 어떠한 피크도 발견되지 않았다. The XRD peak of the (002) crystal plane of the relaminated MoS 2 film in the NMP solution without adding NaOH has the same pattern as the peak of the (002) crystal plane of the original MoS 2 powder. This implies that the space of the inner layer of MoS 2 has not changed due to the treatment in NMP and that there is no effect on NMP molecules for intercalation to MoS 2 inner layer. However, it can be seen that the re-laminated film of MoS 2 subjected to NaOH treatment shifts the peak of the (002) crystal plane below nighttime. The peak indicates that the interlayer space of the film was partially expanded due to the addition of NaOH at the low diffraction angle of the (002) crystal plane peak. As mentioned in the XPS analysis of Mo oxidation, a small peak of Mo oxidation was analyzed as Na 2 MoO 4 in the XRD spectrum, and no peak was found around 168 eV for the oxidized sulfur atom.
결론적으로, 박리된 MoS2 나노시트는 나트륨-이온 밧데리의 산화전극 재료의 전기화학적 물성을 나타냈다. In conclusion, the exfoliated MoS 2 nanosheets exhibited the electrochemical properties of the anode material of sodium-ion batteries.
도 5 (A)는 충전-방전 곡선, (B) 실온의 coin-type half cells 에서 쿨롱효율 과 cycle number.Sodiation 와 Desodiation의 용량이 나타내는 그래프이다. Figure 5 (A) is a charge-discharge curve, (B) is a graph showing the Coulomb efficiency and cycle number.Sodiation and Desodiation capacity in coin-type half cells at room temperature.
도 5를 참조하면, 20 mA g-1의 전류밀도에서 충전과 방전 곡선을 보여준다. 첫 번째 Sodiation 곡선에서 0.94 V 와 0.84 V 에서 두 번의 안정기가 나타나며 첫 번째 desodiation 곡선에서 1.3, 1.6, 2.3, 와 2.5 V 에서 4번의 안정기가 관찰된다. 두 번째 사이클로부터, Sodiation 와 Desodiation 곡선이 첫 번째 곡선의 안정한 것으로부터 기울기를 가지는 곡선으로 변화된다.Referring to FIG. 5, the charging and discharging curves are shown at a current density of 20 mA g −1 . Two ballasts were observed at 0.94 V and 0.84 V on the first sodiation curve, and four ballasts were observed at 1.3, 1.6, 2.3, and 2.5 V on the first desodiation curve. From the second cycle, the Sodiation and Desodiation curves change from the stable of the first curve to the sloped curve.
Sodiation 용량은 사이클이 반복됨에 따라 점차적으로 감소되며 45싸이클 후에는 용량이 96 mA h g-1 로 된다. (도 5(B))Sodiation capacity gradually decreases as the cycle repeats, and after 45 cycles the capacity reaches 96 mA hg -1 . (Fig. 5 (B))
이상 살핀 바와 같이, 본 발명자는 MoS2 단일층 시트를 박리촉진제를 함유하는 NMP와 같은 유기 용매 내에서 매우 빨리 박리시켰다. 특히 NMP와 같이 MoS2에 대하여 고유전 강도(High dielectirc strength)를 갖는 용매와, NaOH 같이 수산화기와 알칼리금속 또는 알칼리토금속을 함유하는 박리촉진제를 혼합 사용하는 경우, MoS2의 층 내부의 공간으로 용이하게 Na+와 OH- 이온의 침투가 용이해진다. 그 결과, 초음파 조건에서 NaOH는 MoS2 층의 용이한 박리를 도와주며, 짧은 반응 시간임에도 불구하고, 충분한 농도의 MoS2 나노시트 분산액을 얻을 수 있다. 수득된 MoS2 시트는 주로 단일층 또는 몇개 층 수준의 두께를 갖는다. 따라서, 본 발명은 NMP와 같은 유기 용매에 NaOH와 같은 염기성 용액을 혼합사용하여, MoS2의 박리를 촉진시켜, 경제적이고 효율적인 방식으로 MoS2 나노시트를 제조할 수 있다.As described above, the inventors peeled MoS2 monolayer sheets very quickly in an organic solvent such as NMP containing a release promoter. In particular, when a solvent having high dielectirc strength with respect to MoS2, such as NMP, and a release accelerator containing a hydroxyl group and an alkali metal or an alkaline earth metal, such as NaOH, Na + is easily used as a space inside the layer of MoS2. And the penetration of OH- ions becomes easy. As a result, NaOH in the ultrasonic conditions help the easy peeling of the MoS2 layer, despite the short reaction time, it is possible to obtain a sufficient concentration of MoS2 nanosheet dispersion. The MoS2 sheet obtained has mainly a single layer or several layer thicknesses. Therefore, the present invention can mix MoS2 by using a basic solution such as NaOH in an organic solvent such as NMP, thereby producing MoS2 nanosheets in an economical and efficient manner.
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