[go: up one dir, main page]

WO2014173799A1 - Verfahren und strahldüse zum reinigen von oberflächen - Google Patents

Verfahren und strahldüse zum reinigen von oberflächen Download PDF

Info

Publication number
WO2014173799A1
WO2014173799A1 PCT/EP2014/057871 EP2014057871W WO2014173799A1 WO 2014173799 A1 WO2014173799 A1 WO 2014173799A1 EP 2014057871 W EP2014057871 W EP 2014057871W WO 2014173799 A1 WO2014173799 A1 WO 2014173799A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
nozzle
main channel
blasting
jet
compressed air
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/EP2014/057871
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Markus Dörig
Stefan Schaub
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ZF Friedrichshafen AG
Original Assignee
ZF Friedrichshafen AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ZF Friedrichshafen AG filed Critical ZF Friedrichshafen AG
Publication of WO2014173799A1 publication Critical patent/WO2014173799A1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C1/00Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods
    • B24C1/003Methods for use of abrasive blasting for producing particular effects; Use of auxiliary equipment in connection with such methods using material which dissolves or changes phase after the treatment, e.g. ice, CO2
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24CABRASIVE OR RELATED BLASTING WITH PARTICULATE MATERIAL
    • B24C3/00Abrasive blasting machines or devices; Plants
    • B24C3/32Abrasive blasting machines or devices; Plants designed for abrasive blasting of particular work, e.g. the internal surfaces of cylinder blocks
    • B24C3/322Abrasive blasting machines or devices; Plants designed for abrasive blasting of particular work, e.g. the internal surfaces of cylinder blocks for electrical components

Definitions

  • the invention relates to a method for cleaning surfaces, in particular surfaces of electronic components, according to the Merkmaien of patent claim 1 and a jet nozzle for use in devices for cleaning surfaces, in particular surfaces of electronic components, according to the features of claim 4.
  • the blasting process is usually carried out with jet granules and normal compressed air.
  • the jet granules are mixed with the compressed air and fired at high speed onto the component to be irradiated, that is to be cleaned.
  • the plastic surface of e.g. Duroplastmaschine creates a static charge of about 1000V to 20000V. This can not be prevented even with admixed antistatic but only reduced to about 00V to 1000V. Since the maximum limit for electronic components is zero volts, the static charge must be prevented before it occurs.
  • a method for separating dust particles from a granulate in which an air flow is passed through the granules, which entrains the dust particles, wherein the dust particles containing granules is introduced into a container. At least part of the air stream forming air is ionized. The ionization is carried out in such a way that the air flow is passed through a per se known, but not described, ionizing device.
  • the device comprises an air duct through which cleaning air is blown transversely to the feed of the film to be cleaned on the surface to be cleaned.
  • the air is ionized in the cleaning area, discharging electrostatic charges on the surface of the film and blowing it away.
  • a surface cleaning device for dedusting of solid objects comprising a built-in Blas Kunststoffdüse.
  • This blown air nozzle is in operative connection with an ionization device.
  • dust particles are electrostatically charged and shot by means of the blower nozzle on the surface to be cleaned, where they neutralize the electrostatically adhering dust particles.
  • the object of the invention is to provide an improved method for preventing static charge of surfaces to be cleaned. Another task is to specify a corresponding jet nozzle.
  • the inventive method for cleaning surfaces of electronic components is characterized in that blasting material is mixed with compressed air and fed by means of a nozzle of the surface to be cleaned, wherein the rice Cleaning jet is mixed with ionized air.
  • the blasting material is, for example, glass beads, natural granules or other agents which a person skilled in the art uses for cleaning surfaces.
  • the cleaning jet is mixed with ionized air at the exit from the nozzle.
  • the cleaning jet is mixed in a region after leaving the nozzle and before impinging on the surface to be cleaned with ionized air.
  • the jet nozzle according to the invention for use in devices for cleaning surfaces of electronic components consists of a nozzle body with a main channel, which comprises an axial inlet for a mixture of blasting material and compressed air and an axial outlet. Furthermore, the jet nozzle has one or more secondary channels for the promotion and introduction of ionized air in the mixture of blasting and compressed air.
  • the secondary channels Finekana- I au stresöff now gene, which are arranged in a ring around the main channel.
  • the axes of the Maukanalausirittsö Maschinenen run at an acute angle or at right angles to the axis of the main channel.
  • the auxiliary channels assigned to the secondary duct outlet openings are expediently designed such that the ionized air guided in these secondary ducts is supplied at a predetermined angle, in particular between 10 ° and 90 °, to the mixture of blasting material and compressed air.
  • a rotationally symmetrical arrangement of the side channel outlet openings around the main channel proves to be suitable as a result. net, since in such an arrangement can achieve optimal mixing of the mixture of blasting and compressed air with the ionized air.
  • annular secondary channel outlet opening is present around the main channel, wherein the annular secondary channel outlet opening is designed such that the outflowing ionized air is supplied to the mixture of blasting material and compressed air at an acute angle or right angle.
  • FIG. 1 is a schematic representation of a jet nozzle in a first embodiment in plan view
  • FIG. 2 is a schematic representation of a jet nozzle in a second embodiment in plan view
  • FIG. 3 is a schematic Thomasdarsteliung by a jet nozzle according to the invention in a first variant
  • FIG. 4 is a schematic sectional view through a blasting nozzle according to the invention in a second variant
  • Fig. 1 shows a schematic representation of a jet nozzle in plan view.
  • the jet nozzle 1 by way of example four auxiliary channels 4, which are arranged symmetrically about the outlet opening 6 of the main channel 3.
  • the nozzle body 2 has, in addition to the main channel outlet opening 6 of the main channel 3, the opening channel 5 of the exemplary four secondary channels 4.
  • the axis H of the main channel 3 points out of the plane of the drawing.
  • the axes N of the secondary channels 4 are indicated such that they intersect the axis H of the main channel 3.
  • the intersection S of the axis H of the main channel 3 and the axes N of the secondary channels 4 is outside the plane of the drawing.
  • Fig. 2 shows a further schematic representation of a jet nozzle in plan view.
  • the jet nozzle 1 has an annular secondary channel outlet opening 5, which is arranged around the main channel 5.
  • the annular secondary channel 4 is designed concentrically to the main channel 5 in the nozzle body 2.
  • the axis H of the main channel 3 is perpendicular to the plane of the drawing and the axis N of the annular secondary channel is oriented such that the two axes H and N intersect outside the plane of the drawing.
  • the annular sub-channel is designed such that the flow direction of the outflowing ionized air in the direction of the axis H of the main channel 3 is aligned.
  • FIG. 3 shows a schematic sectional illustration through a blasting nozzle according to the invention in a first variant, wherein this sectional illustration shown covers both the exemplary embodiment with several secondary channels and with an annular secondary channel.
  • FIG. 3 thus shows a sectional illustration of FIGS. 1 and 2 along the section line A.
  • the illustration shows a jet nozzle 1 with a nozzle body 2 in which a main channel 3 and two secondary channels 4 arranged symmetrically to the main channel 3.
  • the inlet of the main channel 3 and the inlets of the secondary channels 4 are not further illustrated.
  • the reservoir for the jet granules and the compressed air and the device for the ionization of air, expedient of compressed air not shown.
  • the latter device is state of the art and not the subject of this invention.
  • the connection of the main channel 3 and the Subchannels 4 to appropriate containers for storage and supply of the corresponding media is also prior art and not the subject of this invention.
  • the axes N of the secondary channels 4 and the axis H of the main channel 3 intersect outside the nozzle body 2 at a point S.
  • the angle a, under which the two axes N and H intersect, is less than 90 °.
  • the angle ⁇ is between 10 ° and 50 °.
  • the point of intersection S of the two axes N and H is here seen in the flow direction behind the outlet opening 6 of the main channel 4 and in front of the surface to be cleaned (not shown).
  • FIGS. 4a and 4b show a schematic sectional view through a blasting nozzle according to the invention in a second variant, wherein the latter shown
  • the same reference numerals mean the same objects.
  • the axes N of the secondary channels 4 and the annular secondary channel and the axis H of the main channel 3 are arranged to each other such that the angle ⁇ between the two axes N and H is 90 °.
  • the respective axes N and H are arranged such that the angle ⁇ is between 10 ° and 50 °.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Cleaning In General (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Reinigen von Oberflächen von elektronischen Bauteilen, wobei ein Strahlgut mit Druckluft vermischt und mittels einer Düse (1) der zu reinigenden Oberfläche zugeführt wird, wobei der Reinigungsstrahl mit ionisierter Luft vermischt wird und eine Strahldüse (1) zum Einsatz in Vorrichtungen zum Reinigen von Oberflächen von elektronischen Bauteilen, bestehend aus einem Düsenkörper (2) mit einem Hauptkanal (3), der einen axialen Einlass für ein Gemisch aus Strahlgut und Druckluft und einen axialen Auslass (6) umfasst, wobei die Strahldüse (1) einen oder mehrere Nebenkanäle (4) zur Förderung und Einbringung ionisierter Luft in das Gemisch aus Strahlgut und Druckluft aufweist.

Description

Verfahren und Strahldüse zum Reinigen von Oberflächen
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Reinigen von Oberflächen, insbesondere von Oberflächen von elektronischen Bauteilen, nach den Merkmaien des Patentanspruchs 1 sowie eine Strahldüse zum Einsatz in Vorrichtungen zum Reinigen von Oberflächen, insbesondere von Oberflächen von elektronischen Bauteilen, nach den Merkmalen des Patentanspruchs 4.
Es ist bekannt, elektronische Teile mit z.B. Glaskugeln, Naturgranulat oder ähnlichem zu bestrahlen. Dabei entsteht statische Aufladung auf den elektronischen Teilen durch die Reibung des Strahlgranulates. Die Oberfläche der elektronischen Teile ist üblicherweise eine Ku n ststoffo berf läch e . Durch den Einsatz von Antistatikum kann diese dabei entstehende Aufladung zwar reduziert aber leider nicht verhindert werden. Die statische Aufladung kann nachträglich durch eine ionisierte Luftdusche entfernt werden, allerdings können schon vorher elektronische Bauteile beschädigt werden.
Der Strahlvorgang wird üblicherweise mit Strahlgranulat und normaler Druckluft durchgeführt. Dabei wird das Strahlgranulat mit der Druckluft vermischt und mit hoher Geschwindigkeit auf das zu bestrahlende, also zu reinigende Bauteil geschossen. Beim Auftreffen auf der Kunststoffoberfläche der z.B. Duroplastteile entsteht eine statische Aufladung von ca. 1000V bis 20000V. Diese kann selbst mit zugemischten Antistatikum nicht verhindert sondern nur auf ca. 00V bis 1000V reduziert werden. Da die maximale Grenze für elektronische Bauteile bei null Volt liegt, muss die statische Aufladung verhindert werden, bevor diese entsteht.
Aus US 2004/0194803 ist ein Verfahren zur Reinigung von elektronischen Bauteilen bekannt, bei welchem ionisierte gereinigte Druckluft verwendet wird, um Verunreinigungen und Restbestände von Farben etc. auf dem elektronischen Bauteil zu entfernen.
Aus WO2004/048006 A1 ist ein Verfahren zum Abtrennen von Staubpartikeln aus einem Granulat bekannt, bei dem ein Luftstrom durch das Granulat geleitet wird, welcher die Staubpartikel mitführt, wobei das Staubpartikel enthaltende Granulat in einen Behälter eingebracht wird. Wenigstens ein Teil der den Luftstrom bildenden Luft ist dabei ionisiert. Die Ionisierung erfolgt dabei derart, dass der Luftstrom durch eine an sich bekannte, aber nicht näher beschriebene, lonisierungsvorrichtung geführt wird.
Aus DE 37 411 777 A1 eine Vorrichtung zum Entstauben von Folien, dünner Platten oder aus Folien bestehender Gegenstände bekannt. Die Vorrichtung umfasst einen Luftführungskanal durch welchen Reinigungsluft quer zum Vorschub der zu reinigenden Folie über die zu reinigende Oberfläche geblasen wird. Die Luft wird im Reinigungsbereich ionisiert, wodurch elektrostatische Ladungen an der Folienoberfläche entladen und weggeblasen werden.
Aus DE 36 03 041 A1 ist ein Flächenreinigungsgerät zur Entstaubung von festen Gegenständen, insbesondere zur Vorreinigung von Autokarosserien vor der Lackierung bekannt, das eine eingebaute Blasluftdüse umfasst. Diese Blasluftdüse steht mit einer lonisierungsvorrichtung in Wirkverbindung. In der lonisierungsvorrichtung werden Staubpartikel elektrostatisch geladen und mittels der Blasluftdüse auf die zu reinigende Oberfläche geschossen, wo sie die elektrostatisch haftenden Staubpartikeln neutralisieren.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein verbessertes Verfahren zur Vermeidung statischer Aufladung von zu reinigenden Oberflächen anzugeben. Eine weitere Aufgabe besteht in der Angabe einer entsprechenden Strahldüse.
Diese Aufgaben werden mit dem Verfahren gemäß den Merkmalen des geltenden Patentanspruchs 1 sowie mit der Strahldüse gemäß den Merkmalen des geltenden Patentanspruchs 4 gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand von Unteransprüchen.
Das erfindungsgemäße Verfahren zum Reinigen von Oberflächen von elektronischen Bauteilen zeichnet sich dadurch aus, dass Strahlgut mit Druckluft vermischt und mittels einer Düse der zu reinigenden Oberfläche zugeführt wird, wobei der Rei- nigungsstrahl mit ionisierter Luft vermischt wird. Bei dem Strahlgut handelt es sich z.B. um Glaskugeln, Naturgranulat oder anderen Mitteln, welche ein Fachmann bei der Reinigung von Oberflächen verwendet.
In einer Ausführungsform der Erfindung wird der Reinigungsstrahl beim Austritt aus der Düse mit ionisierter Luft vermischt.
In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird der Reinigungsstrahl in einem Bereich nach Verlassen der Düse und vor Auftreffen auf die zu reinigende Oberfläche mit ionisierter Luft vermischt.
Die Erzeugung von ionisierter Luft sowie die Beschleunigung des Gemisches aus ionisierter Luft mit Strahlgranulat und Druckluft auf die zu behandelnde Oberfläche eines elektronischen Bauteils sind einem Fachmann hinreichend bekannt und sind nicht Gegenstand dieser Erfindung.
Die erfindungsgemäße Strahldüse zum Einsatz in Vorrichtungen zum Reinigen von Oberflächen von elektronischen Bauteilen besteht aus einem Düsenkörper mit einem Hauptkanal, der einen axialen Einlass für ein Gemisch aus Strahlgut und Druckluft und einen axialen Auslass umfasst. Ferner weist die Strahldüse einen oder mehrere Neben kanäle zur Förderung und Einbringung ionisierter Luft in das Gemisch aus Strahlgut und Druckluft auf.
In einer Ausführungsform der Erfindung weisen die Nebenkanäle Nebenka- n a I a u strittsöff n u n gen auf, welche ringförmig um den Hauptkanal angeordnet sind. Die Achsen der Nebenkanalausirittsöffnungen verlaufen unter spitzem Winkel oder in rechtem Winkel zur Achse des Hauptkanals. Zweckmäßig sind 4 Nebenkanalaus- trittsöffnungen vorhanden, welche symmetrisch um den Hauptkanal angeordnet sind. Die den Nebenkanalausirittsöffnungen zugeordneten Nebenkanäle sind zweckmäßig derart ausgeführt, dass die in diesen Nebenkanälen geführte ionisierte Luft unter einem vorgegebenen Winkel, insbesondere zwischen 10° und 90°, dem Gemisch aus Strahlgut und Druckluft zugeführt ist. Eine rotationssymmetrische Anordnung der Ne- benkanalaustrittsöffnungen um den Hauptkanal erweist sich dahingehend als geeig- net, da in einer solchen Anordnung eine optimale Durchmischung des Gemisches aus Strahlgut und Druckluft mit der ionisierten Luft erreichen lässt.
Die Beschleunigung des Gemisches aus ionisierter Luft mit Strahlgut und Druckluft auf vorgegebene Geschwindigkeiten erfolgt mit den einem Fachmann bekannten strömungsmechanischen Mitteln. Ebenso erfolgt die Zuführung der entsprechenden Medien in die Neben- bzw. Hauptkanäle gemäß einem Fachmann bekannten Mitteln.
In einer weiteren Ausführungsform der Erfindung ist eine ringförmige Nebenkanalaustrittsöffnung um den Hauptkanal vorhanden, wobei die ringförmige Nebenkanalaustrittsöffnung ist derart ausgebildet, dass die ausströmende ionisierte Luft dem Gemisch aus Strahlgut und Druckluft unter spitzem Winkel oder rechtem Winkel zugeführt ist.
Die Erfindung sowie weitere Vorteile der Erfindung werden anhand von Figuren näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Darstellung einer Strahldüse in einer ersten Ausführungsform in Draufsicht,
Fig. 2 eine schematische Darstellung einer Strahldüse in einer zweiten Ausführungsform in Draufsicht,
Fig. 3 eine schematische Schnittdarsteliung durch eine erfindungsgemäße Strahldüse in einer ersten Variante,
Fig. 4 eine schematische Schnittdarstellung durch eine erfindungsgemäße Strahldüse in einer zweiten Variante,
Fig. 1 zeigt eine schematische Darstellung einer Strahldüse in Draufsicht. In dieser gezeigten Ausführungsform weist die Strahldüse 1 beispielhaft vier Nebenkanäle 4 auf, welche symmetrisch um die Auslassöffnung 6 des Hauptkanals 3 angeordnet sind. Der Düsenkörper 2 weist neben der Hauptkanalaustrittsöffnung 6 des Hauptkanals 3 die Ne be n kan al au strittsöff n u ng 5 der beispielhaft vier Nebenkanäle 4 auf. Die Achse H des Hauptkanals 3 zeigt aus der Zeichenebene heraus. Die Achsen N der Nebenkanäle 4 sind derart angedeutet, dass sie die Achse H des Hauptkanals 3 schneiden. Der Schnittpunkt S der Achse H des Hauptkanals 3 und der Achsen N der Nebenkanäle 4 liegt außerhalb der Zeichenebene.
Dadurch wird deutlich, dass die in den Nebenkanälen 4 transportierte ionisierte Luft außerhalb des Düsenkörpers 2 und somit in Strahlrichtung nach Austritt des Gemischs aus Strahlgranulat und Druckluft aus dem Hauptkanal 3 der Strahldüse 1 mit dem Gemisch aus Strahlgranulat und Druckluft gemischt wird.
Fig. 2 zeigt eine weitere schematische Darstellung einer Strahldüse in Draufsicht. Gleiche Bezugszeichen bedeuten hierbei gleiche Gegenstände. In dieser gezeigten Ausführungsform weist die Strahldüse 1 eine ringförmige Neben kanalaus- trittsöffnung 5 auf, welche um den Hauptkanal 5 angeordnet ist. Der ringförmige Nebenkanal 4 ist dabei konzentrisch zum Hauptkanal 5 im Düsenkörper 2 ausgeführt. Die Achse H des Hauptkanals 3 steht senkrecht zur Zeichenebene und die Achse N des ringförmigen Nebenkanals ist derart ausgerichtet, dass sich die beiden Achsen H und N außerhalb der Zeichenebene schneiden. Mit anderen Worten, der ringförmige Nebenkanal ist derart ausgeführt, dass die Strömungsrichtung der ausströmenden ionisierten Luft in Richtung der Achse H des Hauptkanals 3 ausgerichtet ist.
Fig. 3 zeigt einer schematische Schnittdarstellung durch eine erfindungsgemäße Strahldüse in einer ersten Variante, wobei diese gezeigte Schnittdarstellung sowohl das Ausführungsbeispiel mit mehreren Nebenkanälen als auch mit einem ringförmigen Nebenkanal abdeckt. Fig. 3 stellt somit eine Schnittdarstellung der Fig. 1 und Fig. 2 entlang der Schnittlinie A dar.
Die Darstellung zeigt eine Strahldüse 1 mit einem Düsenkörper 2, in welchem ein Hauptkanal 3 und zwei symmetrisch zum Hauptkanal 3 angeordneten Nebenkanäle 4. Der Eintritt des Hauptkanals 3 sowie die Eintritte der Nebenkanäle 4 sind nicht weiter dargestellt. Außerdem sind in der Darstellung die Vorratsbehälter für das Strahlgranulat sowie die Druckluft als auch die Einrichtung zur Ionisierung von Luft, zweckmäßig von Druckluft, nicht gezeigt. Letztere Einrichtung ist Stand der Technik und nicht Gegenstand dieser Erfindung. Der Anschluss des Hauptkanals 3 und der Nebenkanäle 4 an entsprechende Behältnisse zur Bevorratung und Versorgung mit den entsprechenden Medien ist ebenfalls Stand der Technik und nicht Gegenstand dieser Erfindung.
Die Achsen N der Nebenkanäle 4 und die Achse H des Hauptkanals 3 schneiden sich außerhalb des Düsenkörpers 2 in einem Punkt S. Der Winkel a, unter dem sich die beiden Achsen N und H schneiden beträgt weniger als 90°. Zweckmäßig beträgt der Winkel α zwischen 10° und 50°. Der Schnittpunkt S der beiden Achsen N und H liegt hier in Strömungsrichtung gesehen hinter der Austrittsöffnung 6 des Hauptkanals 4 und vor der zu reinigenden Oberfläche (nicht dargestellt).
Fig. 4a und Fig. 4b zeigen einer schematische Schnittdarstellung durch eine erfindungsgemäße Strahldüse in einer zweite Variante, wobei diese gezeigte
Schnittdarstellung sowohl das Ausführungsbeispiel mit mehreren Nebenkanälen als auch mit einem ringförmigen Nebenkanal abdeckt. Gleiche Bezugszeichen bedeuten hierbei gleiche Gegenstände.
Die Achsen N der Nebenkanäle 4 bzw. des ringförmigen Nebenkanals und die Achse H des Hauptkanals 3 schneiden sich in dem Punkt S, welcher innerhalb des Düsenkörpers 2 liegt und zwar zweckmäßig auf der Achse H des Hauptkanals 3. Dadurch erfolgt die Mischung der ionisierten Luft aus den Nebenkanälen 4 mit dem Gemisch aus Strahlgut und Druckluft im Hauptkanal 4 vor Austritt des Gemisches aus der Strahldüse 1.
In Fig. 4a sind die Achsen N der Nebenkanäle 4 bzw. des ringförmigen Nebenkanals und die Achse H des Hauptkanals 3 derart zueinander angeordnet, dass der Winkel α zwischen den beiden Achsen N und H 90° beträgt. In Fig. 4b sind die entsprechenden Achsen N und H derart angeordnet, dass der Winkel α zwischen 10° und 50° beträgt.
Selbstverständlich ist es möglich, dass bei den in Fig. 3 und Fig. 4a, b gezeigten Beispielen für den Fall mehrerer Nebenkanäle 4 die Achsen N der Nebenkanäle 4 und der Achse H des Hauptkanals 3 in mehreren Schnittpunkten S schneiden. Dadurch kann eine bessere Durchmischung der Medien aus den Nebenkanälen und dem Hauptkanal erzielt werden. Eine gute Durchmischung der ionisierten Luft mit dem Gemisch aus Strahlgranulat und Druckluft gewährleistet ein Reinigen und Bestrahlen von elektronischen Bauteilen, ohne dass es zu einer statischen Aufladung dieser Bauteile kommt.
Dadurch wird eine Zerstörung der Bauteile verhindert.
Bezugszeichen
1 Strahldüse
2 Düsengehäuse
3 Hauptkanal
4 Nebenkanai
5 Nebenkanalaustrittsöffnung
6 Hauptkanalaustrittsöffnung
H Hauptachse
N Nebenachse
α Winkel
S Achsenschnittpunkt

Claims

Patentansprüche
1. Verfahren zum Reinigen von Oberflächen von elektronischen Bauteilen, wobei ein Strahlgut mit Druckluft vermischt und mittels einer Düse (1 ) der zu reinigenden Oberfläche zugeführt wird, dadurch gekennzeichnet, dass der Reinigungsstrahl mit ionisierter Luft vermischt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass der Reinigungsstrahl beim Austritt aus der Düse (1 ) mit ionisierter Luft vermischt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass der Reinigungsstrahl in einem Bereich nach Verlassen der Düse (1 ) und vor Auftreffen auf die zu reinigende Oberfläche mit ionisierter Luft vermischt wird.
4. Strahldüse (1 ) zum Einsatz in Vorrichtungen zum Reinigen von Oberflächen von elektronischen Bauteilen, bestehend aus einem Düsenkörper (2) mit einem Hauptkanal (3), der einen axialen Einlass für ein Gemisch aus Strahlgut und Druckluft und einen axialen Auslass (6) umfasst, dadurch gekennzeichnet, dass die Strahldüse (1 ) einen oder mehrere Nebenkanäle (4) zur Förderung und Einbringung ionisierter Luft in das Gemisch aus Strahlgut und Druckluft aufweist.
5. Strahldüse nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Nebenkanäle (4) Nebenkanalaustrittsöffnungen (5) aufweisen, welche ringförmig um den Hauptkanal (3) angeordnet sind und die Achsen (N) der Nebenkanalaustrittsöffnungen (5) unter spitzem Winkel (a) oder rechtem Winkel zur Achse (H) des Hauptkanals (3) verlaufen.
6. Strahldüse nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass eine ringförmige Nebenkanalaustrittsöffnung (5) um den Hauptkanal (3) vorhanden ist und die ringförmige Nebenkanalaustrittsöffnung (5) derart ausgebildet ist, dass die ausströmende ionisierte Luft dem Gemisch aus Strahlgut und Druckluft unter spitzem Winkel oder rechtem Winkel zugeführt ist.
PCT/EP2014/057871 2013-04-23 2014-04-17 Verfahren und strahldüse zum reinigen von oberflächen Ceased WO2014173799A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102013207354.2 2013-04-23
DE201310207354 DE102013207354A1 (de) 2013-04-23 2013-04-23 Verfahren und Strahldüse zum Reinigen von Oberflächen

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2014173799A1 true WO2014173799A1 (de) 2014-10-30

Family

ID=50513280

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2014/057871 Ceased WO2014173799A1 (de) 2013-04-23 2014-04-17 Verfahren und strahldüse zum reinigen von oberflächen

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102013207354A1 (de)
WO (1) WO2014173799A1 (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107537335A (zh) * 2017-10-10 2018-01-05 中煤科工清洁能源股份有限公司 一种喷嘴、混合器及供料系统

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR3076760B1 (fr) 2018-01-15 2020-02-07 Chanel Parfums Beaute Procede de post-traitement d'une piece obtenue par fabrication additive a partir d'une poudre d'un materiau plastique
DE102018000814A1 (de) 2018-02-01 2019-08-01 Harald Eckstein Vorrichtung zum Behandeln und Verfahren zur Verwendung
CN110125087B (zh) * 2019-05-24 2024-01-30 明度智云(浙江)科技有限公司 一种涡壳放置基座和涡壳清洗装置
CN113414186A (zh) * 2021-06-23 2021-09-21 上海弗列加滤清器有限公司 一种清洁系统和滤清器清洁方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3603041A1 (de) 1985-04-11 1986-10-30 Zöll, Dieter, Selzach Flaechenreinigungsgeraet
DE3711777A1 (de) 1987-04-08 1988-10-27 Claus G Dipl Ing Wandres Verfahren und vorrichtung zum entstauben von folien o. dgl.
US5725154A (en) * 1995-08-18 1998-03-10 Jackson; David P. Dense fluid spray cleaning method and apparatus
WO2004048006A1 (de) 2002-11-28 2004-06-10 Mbengineering Gmbh & Co. Kg Verfahren und vorrichtung zum abtrennen von staubpartikeln aus einem granulat
US20040194803A1 (en) 2003-04-04 2004-10-07 Asm Technology Singapore Pte Ltd Cleaning of an electronic device
US20050272347A1 (en) * 2004-05-14 2005-12-08 British Columbia Hydro And Power Authority Dry ice blasting cleaning apparatus

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4665462A (en) * 1985-06-17 1987-05-12 The Simco Company, Inc. Ionizing gas gun for balanced static elimination
US5388769A (en) * 1993-09-20 1995-02-14 Illinois Tool Works Inc. Self-cleaning ionizing air gun

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3603041A1 (de) 1985-04-11 1986-10-30 Zöll, Dieter, Selzach Flaechenreinigungsgeraet
DE3711777A1 (de) 1987-04-08 1988-10-27 Claus G Dipl Ing Wandres Verfahren und vorrichtung zum entstauben von folien o. dgl.
US5725154A (en) * 1995-08-18 1998-03-10 Jackson; David P. Dense fluid spray cleaning method and apparatus
WO2004048006A1 (de) 2002-11-28 2004-06-10 Mbengineering Gmbh & Co. Kg Verfahren und vorrichtung zum abtrennen von staubpartikeln aus einem granulat
US20040194803A1 (en) 2003-04-04 2004-10-07 Asm Technology Singapore Pte Ltd Cleaning of an electronic device
US20050272347A1 (en) * 2004-05-14 2005-12-08 British Columbia Hydro And Power Authority Dry ice blasting cleaning apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107537335A (zh) * 2017-10-10 2018-01-05 中煤科工清洁能源股份有限公司 一种喷嘴、混合器及供料系统
CN107537335B (zh) * 2017-10-10 2024-02-06 中煤科工清洁能源股份有限公司 一种喷嘴、混合器及供料系统

Also Published As

Publication number Publication date
DE102013207354A1 (de) 2014-10-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2014173799A1 (de) Verfahren und strahldüse zum reinigen von oberflächen
DE102012219692A1 (de) Vorrichtung für das Aufbereiten von partikelförmigem Hilfsmaterial
DE69421736T2 (de) Apparat zur Entfernung feiner Partikel von synthetischen Harzkugeln
EP2470308A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines sprühauftrags aus reaktivkunststoff
DE102014016364A1 (de) Reinigungsverfahren und Reinigungsvorrichtung für ein oder mehrere Teile eines Applikationssystems
DE102013226731A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Bedrucken von Behältern
DE69414872T2 (de) Pulversprühbeschichtung
DE112016000194T5 (de) Windkanalumlauf-Sichtvorrichtung für Schüttmaterial
DE102015002498A1 (de) Abscheidevorrichtung zum Abscheiden von Partikeln
DE19926084B4 (de) Absaugvorrichtung und Vorrichtung enthaltend eine Absaugvorrichtung
DE10252437A1 (de) Ultraschall-Stehwellen-Zerstäuberanordnung
DE2540993C2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Pulverbeschichten von ausgewählten Bereichen eines Artikels
DE102020110976B4 (de) Optische Sortieranlage für die Sortierung von Granulatpartikeln
DE3708180A1 (de) Vorrichtung zur wiederaufbereitung von recyclingstoffen, vorzugsweise bauschutt
EP0594916B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen von Oberflächen, insbesondere von Mauerwerk
EP0651687B1 (de) Vorrichtung zur entfernung von graten an kunststoffteilen mittels strahlung mit kunststoffgranulat
DE102012010030B4 (de) Verfahren und vorrichtung zur trennung eines heterogenen materialstroms in mindestens zwei materialfraktionen
WO2014019839A1 (de) Beschichtungskabine zum beschichten von werkstücken
DE102016212602A1 (de) Reinigungsvorrichtung mit einer co2 - strahlmittelleitung
DE3214764A1 (de) Vorrichtung zum strahlen feinwerktechnischer werkstuecke
EP3482877B1 (de) Verfahren zur behandlung einer oberfläche eines faserverbundbauteils
DE102015016554A1 (de) Vorrichtung zum Abscheiden von Overspray, Oberflächenbehandlungsanlage und Verfahren zum Abscheiden von Overspray
DE102020124668B3 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Bearbeiten einer Oberfläche
DE3307894A1 (de) Schleuderstrahlvorrichtung zum aetzen von metalloberflaechen
DE10302594A1 (de) Verfahren zur Vorbereitung von Oberflächen kohlenstofffaserverstärkter Kunststoffe für die Weiterverarbeitung zu tragenden Strukturteilen

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 14718111

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 14718111

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1