WO2014097549A1 - Plasma generation device and cleaning device in which plasma generation device is used - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to a plasma generator and a cleaning device using the plasma generator.
- Patent Document 1 discloses an example of a conventional plasma generator.
- the plasma generator generates a discharge by applying a high voltage between the first electrode disposed in the gas container and the second electrode disposed in the liquid container.
- the plasma generator generates plasma in a gas region in the liquid stored in the liquid storage unit.
- the plasma generator generates hydroxy radicals from water contained in a liquid and oxygen contained in a gas.
- the second electrode is disposed in a liquid containing water stored in the liquid storage portion, and the first electrode is disposed in gas.
- the user adds a lubricant to the liquid as the cleaning liquid stored in the liquid storage unit in order to suppress the seizure phenomenon.
- the user performs maintenance such as periodic replenishment of lubricant and replacement of cleaning liquid when using the cleaning apparatus. For this reason, the user feels troublesome in the cleaning apparatus using the conventional plasma generator.
- the cleaning liquid containing the replaced lubricant is treated as waste water. Considering the environment, it is desirable to reduce the amount of lubricant used as much as possible.
- the present invention was created based on the above background, and an object thereof is to provide a plasma generator and a cleaning device using the plasma generator that facilitate maintenance.
- the plasma generation unit includes a liquid storage unit, a gas storage unit, a partition wall, a first electrode, and a second electrode.
- the liquid storage unit stores a liquid containing at least water.
- the gas storage unit stores gas.
- the partition wall includes a gas passage that separates the liquid container from the gas container and guides the gas stored in the gas container to the liquid container.
- the first electrode is disposed in the gas storage unit.
- the second electrode is disposed in the liquid storage portion so that at least a portion paired with the first electrode is in contact with the liquid in the liquid storage portion.
- the gas supply unit supplies the gas containing at least oxygen to the gas storage unit.
- the plasma power supply unit generates a potential to be supplied to the first electrode and the second electrode, and sets the potential of the second electrode to a value lower than the potential of the first electrode.
- the second electrode is formed of any one of a material causing a sputtering phenomenon, a material compound, and a material mixture.
- the plasma power supply unit applies a predetermined voltage between the first electrode and the second electrode so that the potential of the second electrode is lower than the potential of the first electrode.
- a discharge is generated between the second electrode.
- the plasma generation unit generates plasma in a gas region in the liquid stored in the liquid storage unit. Thereby, a hydroxyl radical is generated from water contained in the liquid and oxygen contained in the gas.
- the plasma generation unit can generate a discharge between the first electrode and the second electrode in a state where the influence of the electrical resistance of the liquid is suppressed.
- the second electrode emits fine particles by a sputtering phenomenon caused by discharge. The fine particles are diffused into the liquid stored in the liquid storage unit.
- the organic matter or the like attached to the object to be cleaned is decomposed by hydroxy radicals, and the fine particles emitted from the second electrode Can be attached to the object to be cleaned.
- the plasma generator is applied to a cleaning device for an electronic device having a movable part, fine particles can be attached to the movable part of the electronic device. For this reason, the frictional resistance of the movable part can be reduced, and the movement can be made smooth.
- the second electrode is formed of any one of silver, a silver compound, and a silver mixture as a material, a material compound, and a material mixture that cause a sputtering phenomenon.
- the second electrode is formed of any one of a material causing a sputtering phenomenon, a material compound, and a material mixture, and has at least a facing surface facing a gas passing through the gas passage.
- the surface roughness of the facing surface has a maximum height value greater than 10 ⁇ m.
- the second electrode has air permeability, and the gas stored in the gas storage unit passes through the second electrode and is supplied to the liquid storage unit.
- Another aspect of the present invention is a cleaning apparatus including the above plasma generator.
- the cleaning device emits fine particles from the second electrode by the sputtering phenomenon and adheres to the target portion to be cleaned.
- the cleaning device is applicable to cleaning of a hair removal device, and the fine particles from the second electrode are attached to the cleaning target portion provided in the hair removal device.
- the hair removal tool includes a blade portion having a sliding surface, and at least a part of the sliding surface prevents movement of the microparticles emitted from the second electrode. Placed in no position.
- the plasma generator and the cleaning device using the plasma generator contribute to facilitating maintenance.
- (A) is a partial expanded sectional view which shows typically the one operation state of the plasma generator in 1st Embodiment
- (b) is the partial expanded cross section which shows the state continued in the state shown to Fig.3 (a) typically.
- the partial expanded sectional view which shows typically the discharge
- (A) is a perspective view of the hair removal instrument inserted in the washing
- FIG. 5 is a schematic block diagram of the inner blade provided in a blade part, and an outer blade.
- FIG. 6 is a side cross-sectional view of the cleaning device shown in FIG. 5 with the hair removal tool shown in FIG. Sectional drawing which shows the cross-sectional structure of 7Z-7Z plane of FIG. The elements on larger scale which show the enlarged structure of the dashed-dotted line circle of FIG.
- A) is a schematic block diagram of the plasma generator in 3rd Embodiment
- (b) is a partial expanded sectional view which shows typically the discharge
- A) is a schematic block diagram of the plasma generator in 4th Embodiment
- (b) is a partial expanded sectional view which shows typically the discharge
- the plasma generation apparatus 1 includes a plasma generation unit 10, a plasma power supply unit 2, a gas supply unit 3, a first lead wire 4, a second lead wire 5, and a gas introduction pipe 6.
- the first lead wire 4 and the second lead wire 5 connect the plasma generation unit 10 and the plasma power source unit 2 to each other.
- the gas introduction pipe 6 connects the plasma generation unit 10 and the gas supply unit 3 to each other.
- the plasma generation unit 10 includes a substantially cylindrical case member 11.
- the case member 11 is not limited to a cylindrical shape.
- the case member 11 may be configured in a rectangular tube shape, for example.
- the case member 11 includes a partition wall portion 12 that divides the internal space vertically.
- the partition wall 12 is formed of ceramics, for example.
- a region on the upper side of the partition wall portion 12 in the internal space of the case member 11 forms a liquid storage portion 15 that stores the liquid 20 containing water.
- a region below the partition wall portion 12 in the internal space of the case member 11 forms a gas storage portion 14 that stores gas.
- the dimension of each side in the plane of the partition wall 12 is several centimeters.
- the thickness of the partition wall portion 12 is several hundred ⁇ m to several mm, and is set to an appropriate value according to the application.
- the case member 11 includes a gas introduction port 17 below the right side wall 11B.
- the gas introduction pipe 6 inserted into the gas introduction port 17 connects the gas storage part 14 and the gas supply part 3.
- the gas supply unit 3 supplies a gas containing at least oxygen to the gas storage unit 14.
- the partition wall 12 includes a gas passage 13.
- the gas introduced from the gas supply unit 3 into the gas storage unit 14 is sent out into the liquid storage unit 15 through the gas passage 13 along the first movement direction 23.
- the plasma generation unit 10 includes a ring-shaped sealing material 16 disposed at the outer peripheral end of the liquid storage unit 15.
- the sealing material 16 closes the gap between the case member 11 and the partition wall portion 12 and prevents the liquid 20 in the liquid storage portion 15 from leaking into the gas storage portion 14.
- the hole diameter of the gas passage 13 is preferably in the range of 100 ⁇ m to 800 ⁇ m, and is set to a size that suppresses the liquid 20 stored in the liquid storage portion 15 from leaking into the gas storage portion 14 through the gas passage 13. Is done.
- the plasma generator 10 includes a first electrode 18 disposed in the gas container 14 and a second electrode 19 disposed in the liquid container 15.
- the second electrode 19 is separated from the first electrode 18 by the partition wall 12.
- the second electrode 19 includes a portion (a surface that generates a discharge between the surface of the first electrode 18) and a pair that is paired with the first electrode 18, and at least this portion is the liquid 20 accommodated in the liquid accommodating portion 15. It arrange
- Each of the first electrode 18 and the second electrode 19 has a donut shape.
- the first electrode 18 is disposed on the surface of the partition wall portion 12 that partitions the gas accommodating portion 14 so that the central hole of the first electrode 18 communicates with the gas passage 13.
- the surface of the first electrode 18 is covered with a dielectric.
- at least a portion of the second electrode 19 that is paired with the first electrode 18 is in contact with the liquid 20 in the liquid storage unit 15. It arrange
- the second electrode 19 is disposed on the surface of the partition wall 12 that partitions the liquid storage unit 15 so that the central hole of the second electrode 19 communicates with the gas passage 13. That is, the first electrode 18 and the second electrode 19 are disposed concentrically on both surfaces of the partition wall portion 12.
- the second electrode 19 is disposed at a position closer to the gas passage 13 than the first electrode 18.
- the doughnut-shaped first electrode 18 is disposed in the gas storage unit 14 so as not to contact the liquid 20 introduced into the liquid storage unit 15.
- the doughnut-shaped second electrode 19 (including at least a portion paired with the first electrode 18) is disposed in the liquid storage portion 15 so as to contact the liquid 20.
- the first electrode 18 is electrically connected to the plasma power supply unit 2 through the second lead wire 5.
- the second electrode 19 is electrically connected to the plasma power supply unit 2 through the first lead wire 4.
- the plasma power supply unit 2 applies a predetermined voltage between the first electrode 18 and the second electrode 19.
- FIG. 2 shows voltages applied to the first electrode 18 and the second electrode 19.
- the plasma generator 1 sets the potential of the second electrode 19 to a value lower than the potential of the first electrode 18.
- the second electrode 19 is a material, a material compound, or the like that causes a sputtering phenomenon when a potential lower than that of the first electrode 18 is applied to the second electrode 19 and a discharge occurs between the first electrode 18 and the second electrode 19. And a material mixture.
- the second electrode 19 is formed of any one of silver, a silver compound, and a silver material mixture as a material that causes a sputtering phenomenon by electric discharge.
- the material of the second electrode 19 is not limited to silver, a silver compound, or a silver material mixture. Platinum, gold, copper, titanium, iron, or the like can be used as a material that causes a sputtering phenomenon by discharge. Alternatively, other materials may be used.
- the method for releasing ozone, hydroxy radicals, and the like into the liquid 20 includes a gas supply step, a bubble growth step, a hydroxy radical generation step, and a bubble release step.
- the gas supply unit 3 supplies a gas containing oxygen to the gas storage unit 14.
- the gas supplied to the gas storage unit 14 is pumped to the liquid storage unit 15 via the gas passage 13.
- the gas supply unit 3 sends a gas containing oxygen based on air having a flow rate of about 0.01 L / min to 1.0 L / min to the gas storage unit 14 through the gas introduction pipe 6.
- the pressure for feeding the gas is set in the order of about 0.0098MPa ⁇ 0.49MPa (0.1kgf / cm 2 ⁇ 5kgf / cm 2).
- the gas supply flow rate is controlled by a generally known means such as a flow rate control provided in the gas supply unit 3.
- the gas storage unit 14 When the gas supply unit 3 supplies gas to the gas storage unit 14, the gas storage unit 14 is in a positive pressure state of about 0.11 MPa to 0.59 MPa (1.1 kgf / cm 2 to 6 kgf / cm 2 ). .
- the gas container 14 When the gas container 14 is in a positive pressure state, the gas container 14 forms a gas flow along the first movement direction 23 toward the liquid container 15 via the gas passage 13.
- the gas accommodating part 14 will be in a positive pressure state, the gas accommodating part 14 suppresses that the liquid 20 accommodated in the liquid accommodating part 15 leaks into the gas accommodating part 14 from the gas channel 13.
- FIG. 3 (a) and 3 (b) show the state of the liquid 20 and gas near the open end 13A of the gas passage 13 facing the liquid storage portion 15.
- the gas storage unit 14 supplies a gas containing oxygen to the liquid storage unit 15, and fine gas containing oxygen at the open end 13 ⁇ / b> A of the gas passage 13. Bubbles 24 are grown.
- the plasma power supply unit 2 applies a predetermined voltage between the first electrode 18 and the second electrode 19.
- the plasma power supply unit 2 preferably applies a voltage having a power of about 1 W to 100 W and enabling glow discharge under atmospheric pressure.
- the plasma power supply unit 2 includes a generally known voltage control unit that controls a voltage applied between the first electrode 18 and the second electrode 19.
- the plasma power supply unit 2 sets the potential of the second electrode 19 to a value lower than the potential of the first electrode 18.
- the plasma power supply unit 2 applies a potential lower than the potential of the first electrode 18 to the second electrode 19, thereby causing a gas having an atmospheric pressure or higher pressure between the first electrode 18 and the second electrode 19. Causes a discharge in the atmosphere.
- the plasma generation unit 10 is a gas region in the liquid 20 stored in the liquid storage unit 15 by discharge between the surface of the first electrode 18 in contact with the gas and the surface of the second electrode 19 in contact with the liquid. A plasma is generated. The plasma is remarkably generated in the gas region in the vicinity of the gas-liquid interface between the bubble 24 and the liquid 20 that is being grown at the opening end 13 ⁇ / b> A of the gas passage 13. The plasma generation unit 10 generates plasma at the opening end 13A of the gas passage 13, thereby generating ozone, hydroxy radicals, or the like by water contained in the liquid or oxygen contained in the gas.
- the plasma generation unit 10 generates a plasma by generating a potential difference in the vicinity of the gas-liquid interface between the liquid 20 stored in the liquid storage unit 15 and the bubbles 24.
- the plasma generation unit 10 generates more ozone, hydroxy radicals, and the like by generating a potential difference in the vicinity of the gas-liquid boundary surface between the bubble 24 and the liquid 20 at the opening end 13A of the gas passage 13 where hydroxy radicals are easily generated. To do.
- the plasma generation unit 10 generates ozone, hydroxy radicals, and the like not only in the bubbles 24 near the opening end 13 ⁇ / b> A of the gas passage 13 facing the liquid 20 but also in the bubbles 24 sent out to the liquid storage unit 15.
- the ozone and hydroxy radicals thus generated are sent out to the liquid storage unit 15 along with the gas flow along the first movement direction 23.
- the plasma generating unit 10 causes the bubbles 24 containing hydroxy radicals or the like to be sheared from the partition wall 12 and released into the liquid 20 by the flow of the liquid 20 stored in the liquid storage unit 15.
- the liquid 20 stored in the liquid storage unit 15 moves in the liquid storage unit 15 along the flow indicated by the second movement direction 25.
- the flow of the liquid 20 acts on the bubble 24 as a shearing force.
- the bubbles 24 are released from the open end 13 ⁇ / b> A of the gas passage 13 into the liquid 20.
- the bubbles 24 released into the liquid 20 are fine bubbles, they are diffused to every corner of the liquid 20 without being immediately released into the atmosphere. A part of the diffused fine bubbles 24 is easily dissolved in the liquid 20.
- the ozone concentration of the liquid 20 rises at a stretch as the ozone contained in the bubbles 24 is dissolved.
- the hydroxy radical has a relatively large energy of about 120 kcal / mol, for example.
- the second electrode 19 disposed in the liquid storage unit 15 is formed of any one of silver, a silver compound, and a silver material mixture, and the second electrode 19 generates a discharge between the electrodes at a lower potential than the first electrode 18. Sometimes, the second electrode 19 emits silver microparticles.
- the second electrode 19 When the second electrode 19 is at a lower potential than the first electrode 18 and a discharge occurs between the first electrode 18 and the second electrode 19, a sputtering phenomenon occurs on the second electrode 19, and the second electrode 19 Silver fine particles 19B are ejected from one portion 19C.
- the silver microparticles 19 ⁇ / b> B protruding from the second electrode 19 due to the sputtering phenomenon are diffused into the liquid 20 accommodated in the liquid accommodating portion 15.
- the second electrode 19 since the second electrode 19 is disposed closer to the gas passage 13 than the first electrode 18, the second electrode 19 is efficiently sputtered. Therefore, the fine particles 19B can be efficiently released.
- the plasma generator 1 has the following effects.
- the plasma generator 1 includes a plasma generator 10, a plasma power supply unit 2, and a gas supply unit 3.
- the plasma generation unit 10 includes a gas storage unit 14 and a liquid storage unit 15 that are partitioned by a partition wall 12 in the internal space of the case member 11.
- the gas storage unit 14 includes a first electrode 18.
- the liquid storage unit 15 includes a second electrode 19.
- the second electrode 19 includes a portion that is paired with the first electrode 18, and is disposed in the liquid storage portion 15 so that at least this portion is in contact with the liquid.
- the second electrode 19 is formed of any one of silver, a silver compound, and a silver material mixture.
- the plasma power supply unit 2 applies a predetermined voltage between the first electrode 18 and the second electrode 18 so that the potential of the second electrode 19 is lower than the potential of the first electrode 18, and A discharge is generated between the two electrodes 19.
- the plasma generation unit 10 generates plasma in a gas region in the liquid 20 accommodated in the liquid storage unit 15, and generates hydroxy radicals from water contained in the liquid 20 and oxygen contained in the gas. According to this configuration, the plasma generation unit 10 can generate a discharge between the first electrode 18 and the second electrode 19 while suppressing the influence of the electric resistance of the liquid 20.
- the second electrode 19 emits silver fine particles 19B by a sputtering phenomenon caused by discharge.
- the fine particles 19 ⁇ / b> B are diffused into the liquid 20 stored in the liquid storage unit 15.
- the plasma generator 1 When the object to be cleaned is disposed in the liquid storage unit 15, the plasma generator 1 generates plasma to generate ozone and radicals that decompose organic substances and the like attached to the object to be cleaned. Further, the plasma generator 1 attaches silver fine particles 19B generated by sputtering of the second electrode 19 to the object to be cleaned. For this reason, when the plasma generator 1 is applied to a cleaning device for an electronic device having a movable part, the silver fine particles 19B can be adhered to the movable part of the electronic device. For this reason, the frictional resistance of the movable part can be reduced, and the movement can be made smooth. (Second Embodiment)
- the cleaning apparatus 30 of the second embodiment uses the plasma generator 1 of the first embodiment. Note that part or all of the description of the plasma generator 1 is omitted.
- the configuration of the cleaning device 30 will be described with reference to FIG.
- a cleaning device 30 as a cleaning device for the hair removal tool 100 includes an opening 31 into which the hair removal tool 100 is inserted.
- the cleaning apparatus 30 includes an operation unit 42, a display unit 43, and a ventilation window 44 on the front surface of the housing 40.
- the housing 40 includes a stand portion 41 on the back surface.
- the stand portion 41 includes a contact member 45 on the inner surface that defines the opening 31.
- the cleaning device 30 includes a tank 50 that stores a liquid as a cleaning liquid on the back surface of the housing 40. The user inserts the object to be cleaned into the opening 31.
- FIGS. 6 (a) and 6 (b) the configuration of the hair removal tool 100 as the object to be cleaned will be described.
- a hair removal tool 100 shown in FIG. 6A includes a grip part 101 and a head part 102.
- the grip part 101 includes an operation switch 103.
- the user operates the operation switch 103 to control the operation of the hair removal tool 100.
- the head part 102 includes a blade part 104.
- the blade portion 104 includes, for example, two outer blades 105.
- the direction extending from the grip portion 101 to the head portion 102 is defined as the front direction in the front-rear direction.
- the direction in which the two outer blades 105 are provided side by side is the up-down direction, and the direction perpendicular to the up-down direction and the front-rear direction is the left-right direction.
- the outer blade 105 is curved so as to protrude forward and is formed in an inverted U shape.
- the outer blade 105 has a large number of slits (blade holes).
- the blade portion 104 includes an inverted U-shaped inner blade 106 that follows the curvature of the outer blade 105 inside the outer blade 105.
- the inner blade 106 reciprocates in the left-right direction using the driving force generated by the power source provided in the hair removal tool 100.
- the hair removal tool 100 moves the inner blade 106 in the left-right direction relative to the outer blade 105, so that the outer hair 105 and the inner blade 106 cooperate with each other in the hair inserted into the slit of the outer blade 105. And cut. That is, the inner blade 106 moves relative to the outer blade 105 in the left-right direction while the outer surface 106 ⁇ / b> A of the inner blade 106 is in sliding contact with the inner surface 105 ⁇ / b> A of the outer blade 105.
- the blade part 104 is an example of a sliding part.
- the outer surface 106A of the inner blade 106 and the inner surface 105A of the outer blade 105 each constitute a sliding surface 107.
- the cleaning device 30 includes a plasma generation unit 10, a plasma power supply unit 2, a gas supply unit 3, a tray 60, a tank 50, an overflow unit 32, and a pump 70.
- the plasma generation unit 10, the plasma power supply unit 2, and the gas supply unit 3 form the plasma generation device 1.
- the receiving tray 60 receives the head portion 102 of the hair removal tool 100 inserted through the opening 31.
- the tank 50 stores a liquid as a cleaning liquid.
- the overflow part 32 is communicated with the tray 60.
- the pump 70 circulates the liquid in the tank 50 through the cleaning device 30 through a circulation path described below. That is, the cleaning device 30 includes a cartridge 80, an on-off valve 33, and a circulation path for circulating the liquid.
- the cartridge 80 has a filter 81 that filters the liquid.
- the on-off valve 33 controls the airtight state in the tank 50.
- the circulation path is formed from a liquid introduction path 91, a drain path 92, a first path 93, a second path 94, and a third path 95.
- the liquid introduction path 91 introduces the liquid stored in the tank 50 into the receiving tray 60.
- the drainage path 92 guides the liquid discharged from the tray 60 to the cartridge 80.
- the first path 93 guides the liquid discharged from the overflow part 32 to the cartridge 80.
- the second path 94 guides the liquid discharged from the cartridge 80 to the pump 70.
- the third path 95 guides the liquid delivered from the pump 70 to the tank 50.
- the on-off valve 33 is connected to the tank 50 through an airtight path 96.
- the stand part 41 of the housing 40 abuts on the grip part 101 of the hair removal device 100 inserted from the opening 31 and holds the hair removal device 100 together with the receiving tray 60.
- a contact member 45 is provided on the inner surface of the stand portion 41. The contact member 45 detects that the hair removal device 100 is attached by contact with the back terminal 108 provided on the back surface of the grip portion 101 of the hair removal device 100. The contact member 45 contacts the back terminal 108 of the hair removal tool 100 and supplies a control signal and driving power to the hair removal tool 100.
- the housing 40 includes a fan 34 above the front part.
- the fan 34 dries the head part 102 after washing the hair removal tool 100.
- the housing 40 includes a first connection port 46, a second connection port 47, and a third connection port 48 formed on the rear surface in contact with the tank 50.
- the first connection port 46, the second connection port 47, and the third connection port 48 are connected to the tank discharge port 51, the tank inflow port 52, and the tank provided in the tank 50, respectively. Each communicates with the vent 53.
- the first connection port 46 is connected to the liquid introduction path 91.
- the second connection port 47 is connected to the third path 95.
- the third connection port 48 is connected to the airtight path 96.
- the tray 60 has a concave shape that follows the shape of the head portion 102 of the hair removal tool 100, and a through hole 62 is formed in the bottom wall portion.
- the plasma generator 10 is provided on the back side of the bottom wall of the tray 60.
- the liquid storage unit 15 of the plasma generation unit 10 communicates with the internal space of the tray 60 through the through hole 62.
- the internal space of the tray 60 is integrated with the liquid storage unit 15 of the plasma generation unit 10 to store a liquid as a cleaning liquid.
- the cleaning device 30 includes a heater 35 provided on the back side of the bottom wall portion of the tray 60.
- the heater 35 dries the head unit 102 in conjunction with the fan 34.
- the overflow part 32 has an inlet connected to the tray 60 and an outlet connected to the first path 93.
- the first path 93 reaches the cartridge 80 from the outlet of the overflow part 32 through the relay port 61 provided in the rear part of the tray 60.
- the tank 50 has the tank discharge port 51, the tank inlet 52, and the tank vent 53 on the front surface.
- the cleaning device 30 controls the liquid discharge from the tank discharge port 51 by opening and closing the tank vent 53.
- the tank discharge port 51 is connected to the first connection port 46, and introduces the liquid stored in the tank 50 into the tray 60 through the liquid introduction path 91.
- the tank inflow port 52 is connected to the second connection port 47 and is connected to the delivery port 71 of the pump 70 through the third path 95.
- the tank vent 53 is connected to the third connection port 48 and is connected to the on-off valve 33 through the airtight path 96.
- the cartridge 80 is a substantially box-like body in which a filter 81 is housed, and includes a cartridge inlet 82 at the top and a cartridge outlet 83 at the front.
- the cartridge 80 is detachably provided on the lower rear side of the housing 40.
- the cartridge inlet 82 is connected to the tray outlet 63 through the drainage path 92 and is connected to the outlet of the overflow portion 32 through the first path 93.
- the cartridge outlet 83 is connected to the suction port 72 of the pump 70 through the second path 94.
- the user attaches the hair removal device 100 to the cleaning device 30 so that the hair removal device 100 is received by the receiving tray 60 with the head portion 102 facing downward.
- the cleaning device 30 In response to the user's operation on the operation unit 42, the cleaning device 30 introduces liquid from the tank 50 into the receiving pan 60 and the liquid storage unit 15 of the plasma generator 1 through the liquid introduction path 91.
- the gas supply unit 3 sends a predetermined flow rate of gas containing oxygen based on air into the gas storage unit 14 of the plasma generation unit 10. As a result, the gas storage unit 14 is in a positive pressure state, and a gas flow toward the liquid storage unit 15 through the gas passage 13 is formed.
- the plasma generation unit 10 is disposed in the liquid storage unit 15 and includes a second electrode 19 formed of any one of silver, a silver compound, and a silver material mixture.
- the plasma power supply unit 2 applies a predetermined voltage between the first electrode 18 and the second electrode 18 so that the potential of the second electrode 19 is lower than the potential of the first electrode 18, and A discharge is generated between the two electrodes 19.
- the plasma generation unit 10 is a gas region in the liquid 20 stored in the liquid storage unit 15 by discharge between the surface of the first electrode 18 in contact with the gas and the surface of the second electrode 19 in contact with the liquid. A plasma is generated.
- the plasma generator 1 generates plasma at the opening end 13A of the gas passage 13, thereby generating ozone, hydroxy radicals, or the like by water contained in the liquid or oxygen contained in the gas.
- the generated ozone and various radicals are sent out into the liquid 20 stored in the liquid container 15 and the receiving tray 60 together with the gas flow described above.
- the gas storage unit 14 supplies a gas containing oxygen to the liquid storage unit 15 and grows fine bubbles 24 containing oxygen at the open end 13 ⁇ / b> A of the gas passage 13 facing the liquid storage unit 15.
- the grown bubbles 24 are released from the open end 13 ⁇ / b> A into the liquid 20 and diffuse to every corner of the liquid 20.
- the liquid 20 stored in the tray 60 and the liquid storage unit 15 of the plasma generation unit 10 has a function as a cleaning liquid in which ozone and various radicals are dissolved.
- the plasma generator 1 emits silver fine particles 19B from the second electrode 19 by a sputtering phenomenon.
- the released silver microparticles 19 ⁇ / b> B diffuse into the liquid 20 stored in the liquid storage unit 15.
- the liquid 20 stored in the saucer 60 and the liquid storage part 15 of the plasma generation part 10 has a function as a cleaning liquid containing fine silver particles 19B in which ozone and various radicals are dissolved.
- the sliding surface 107 of the blade portion 104 which is the sliding portion of the hair removal tool 100, that is, the inner surface 105 A of the outer blade 105 and the outer surface 106 A of the inner blade 106 are the first electrode 18 and the second electrode 19. At least in the vicinity of either one, it is disposed opposite to the plasma generation unit 10. In this case, at least a part of the sliding surface 107 is disposed to face the plasma generation unit 10 at a position that does not hinder the movement of the silver microparticles 19 ⁇ / b> B protruding from the second electrode 19.
- the position where the movement of the silver microparticles 19B is not hindered means that the movement of the silver microparticles 19B protruding from the second electrode 19 is not hindered by a solid object such as a wall portion, and the silver microparticles 10B can slide. A position that can reach 107. Cleaning liquid, air, or the like as a liquid in contact with the second electrode 19 and the sliding surface 107 does not hinder the movement of the silver microparticles 19B.
- the cleaning device 30 has the following effects.
- the cleaning device 30 includes the plasma generation unit 10, the plasma power supply unit 2, the gas supply unit 3, the tray 60, the tank 50, the overflow unit 32, and the pump 70.
- the plasma generation unit 10, the plasma power supply unit 2, and the gas supply unit 3 form the plasma generation device 1.
- the receiving tray 60 receives the head portion 102 of the hair removal tool 100 inserted through the opening 31.
- the tray 60 and the liquid storage unit 15 of the plasma generation unit 10 store a liquid as a cleaning liquid.
- the plasma generation unit 10 is disposed in the liquid storage unit 15 and includes a second electrode 19 formed of any one of silver, a silver compound, and a silver material mixture.
- the plasma power supply unit 2 applies a predetermined voltage between the first and second electrodes 18 and 19 so that the potential of the second electrode 19 is lower than the potential of the first electrode 18, A discharge is generated between the second electrode 19.
- the plasma generation unit 10 generates plasma in a gas region in the liquid 20 accommodated in the liquid storage unit 15, and generates hydroxy radicals from water contained in the liquid 20 and oxygen contained in the gas.
- the plasma generator 10 emits silver microparticles 19B from the second electrode 19 by a sputtering phenomenon.
- the generated ozone, various radicals, and silver microparticles 19 ⁇ / b> B are sent out into the liquid 20 stored in the liquid storage unit 15 and the receiving tray 60 together with the gas flow described above.
- the liquid 20 has a function as a cleaning liquid.
- the liquid 20 having a function as a cleaning liquid is supplied to the head unit 102 as a target portion to be cleaned.
- the organic matter or the like adhering to the head portion 102 is efficiently decomposed by ozone or radicals dissolved in the liquid 20 or ozone or radicals contained in the bubbles 24.
- the cleaning device 30 causes the silver microparticles 19 ⁇ / b> B to adhere to the sliding surface 107 of the blade portion 104 of the hair removal tool 100.
- the cleaning device 30 decomposes organic substances and the like attached to the head unit 102 and reduces friction of the sliding surface 107 to suppress wear.
- the amount of lubricant added to the cleaning liquid, the number of times the cleaning liquid is replaced, and the number of times the cleaning liquid is replenished can be reduced to facilitate maintenance.
- the plasma generator 1 of 3rd Embodiment has a different structure in the following parts compared with the plasma generator 1 of 1st Embodiment, and has the same structure in another part.
- the components common to the plasma generator 1 of the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and a part or all of the description is omitted.
- the second electrode 19 of the plasma generator 1 of the first embodiment has a donut shape formed of any one of silver, a silver compound, and a silver material mixture.
- the second electrode 26 of the plasma generator 1 of the third embodiment is formed of any one of silver, a silver compound, and a silver material mixture and at least It includes a facing surface 26A facing the gas passing through the gas passage 13, and the surface roughness of the facing surface 26A has a maximum height value greater than 10 ⁇ m.
- the configuration of the plasma generation unit 10 of the third embodiment will be described with reference to FIGS. 10 (a) and 10 (b).
- the plasma generation unit 10 includes a second electrode 26 disposed in the liquid storage unit 15.
- the second electrode 26 is desirably disposed at a position closer to the gas passage 13 than the first electrode 18.
- the second electrode 26 is, for example, a silver sintered body.
- the second electrode 26 is, for example, a silver sintered body having an average particle diameter of 100 ⁇ m and a density of 90%.
- the second electrode 26 as the silver sintered body has irregularities on the surface.
- the surface unevenness of the second electrode 26 causes the electric field applied to the second electrode 26 to be localized. To be high. For this reason, the second electrode 26 emits many silver fine particles due to a sputtering phenomenon.
- the discharged silver microparticles are introduced into the liquid storage unit 15 along the gas flow along the first movement direction 23 formed by the gas storage unit 14.
- the second electrode 26 has irregularities on the surface of the facing surface 26 ⁇ / b> A that faces the gas flow along the first movement direction 23.
- the surface roughness of the uneven surface has a maximum height value larger than 10 ⁇ m.
- the plasma generator 1 of the third embodiment has the same effects as (1) exhibited by the plasma generator 1 of the first embodiment. That is, also in the third embodiment, by applying a potential lower than that of the first electrode 18 to the second electrode 26 to cause discharge, silver fine particles 19B are generated together with ozone, radicals, and the like to generate the liquid container 15. There is an effect that it can be introduced. Moreover, the plasma generator 1 has the following effects.
- the plasma generator 1 includes a plasma generator 10, a plasma power supply unit 2, and a gas supply unit 3.
- the plasma generation unit 10 includes a gas storage unit 14 and a liquid storage unit 15 in which the internal space of the case member 11 is partitioned by a partition wall 12.
- the plasma generation unit 10 includes a first electrode 18 disposed in the gas storage unit 14.
- the plasma generation unit 10 includes a second electrode 26 disposed in the liquid storage unit 15.
- the second electrode 26 is formed of any one of silver, a silver compound, and a silver material mixture, and includes at least a facing surface 26 ⁇ / b> A that faces a gas passing through the gas passage 13.
- the surface roughness of the facing surface 26A has a maximum height value greater than 10 ⁇ m.
- the plasma power supply unit 2 applies a predetermined voltage between the first electrode 18 and the second electrode 18 so that the potential of the second electrode 26 is lower than the potential of the first electrode 18, and A discharge is generated between the two electrodes 26.
- the second electrode 26 can release more silver fine particles 19 ⁇ / b> B.
- the plasma generation apparatus 1 arranges the object to be processed in the liquid storage unit 15, more silver fine particles 19 ⁇ / b> B can be attached to the object to be processed.
- the plasma generator 1 is applied to the cleaning device 30 of the hair removal tool 100.
- the plasma generation apparatus 1 includes a plasma generation unit 10, a plasma power supply unit 2, and a gas supply unit 3.
- the plasma generator 10 includes a first electrode 18 and a second electrode 26.
- the plasma power supply unit 2 applies a potential lower than that of the first electrode 18 to the second electrode 26 to cause discharge between the first electrode 18 and the second electrode 26.
- the second electrode 26 includes a facing surface 26 ⁇ / b> A that is formed of any one of silver, a silver compound, and a silver material mixture and faces at least a gas that passes through the gas passage 13.
- the surface roughness of the facing surface 26A has a maximum height value greater than 10 ⁇ m.
- the cleaning device 30 includes the plasma generator 1.
- At least a part of the sliding surface 107 of the blade portion 104 of the hair removal tool 100 is disposed opposite to the plasma generating portion 10 at a position that does not hinder the movement of the silver microparticles 19B protruding from the second electrode 26.
- a large number of silver microparticles 19 ⁇ / b> B protruding from the second electrode 26 due to the sputtering phenomenon can be attached to the sliding surface 107 of the blade portion 104. For this reason, seizure can be suppressed even in cleaning of the hair removal tool 100 in which the frictional resistance of the sliding surface 107 is large and seizure is likely to occur.
- the plasma generator 1 of 4th Embodiment has a different structure in the following parts compared with the plasma generator 1 of 3rd Embodiment, and has the same structure in another part.
- the components common to the plasma generator 1 of the third embodiment are denoted by the same reference numerals, and a part or all of the description is omitted.
- the second electrode 26 is composed of a silver sintered body.
- the second electrode 27 is made of a porous metal having air permeability.
- the configuration of the plasma generation unit 10 will be described with reference to FIGS.
- the plasma generation unit 10 includes a second electrode 27 disposed in the liquid storage unit 15.
- the second electrode 27 is desirably disposed at a position closer to the gas passage 13 than the first electrode 18.
- the second electrode 27 is made of, for example, a circular silver porous metal.
- the second electrode 27 is made of, for example, a silver porous metal having a filling rate of 10%.
- the second electrode 27 is disposed in the liquid storage portion 15 so as to cover the gas passage 13 formed in the partition wall portion 12.
- the gas flow along the first movement direction 23 formed in the gas accommodating portion 14 passes through the numerous holes of the second electrode 27 and the liquid accommodating portion. 15 is introduced.
- the second electrode 27 When a discharge occurs between the electrodes 18 and 27 in a state where a potential lower than that of the first electrode 18 is applied to the second electrode 27, the second electrode 27 emits silver microparticles 19B due to a sputtering phenomenon.
- the released silver microparticles 19 ⁇ / b> B pass through the numerous holes of the second electrode 27 along the gas flow along the first movement direction 23 formed in the gas storage unit 14 and enter the liquid storage unit 15. be introduced.
- the plasma generator 1 of the fourth embodiment has the same effects as (1) exhibited by the plasma generator 1 of the first embodiment. That is, also in the fourth embodiment, by applying a potential lower than that of the first electrode 18 to the second electrode 27 to generate a discharge, silver fine particles 19B are generated together with ozone, radicals, and the like to generate the liquid container 15. There is an effect that it can be introduced. Moreover, the plasma generator 1 has the following effects.
- the plasma generator 1 includes a plasma generator 10, a plasma power supply unit 2, and a gas supply unit 3.
- the plasma generation unit 10 includes a gas storage unit 14 and a liquid storage unit 15 in which the internal space of the case member 11 is partitioned by a partition wall 12.
- the plasma generation unit 10 includes a first electrode 18 disposed in the gas storage unit 14.
- the plasma generation unit 10 includes a second electrode 27 disposed in the liquid storage unit 15.
- the second electrode 27 is formed of a silver porous metal having air permeability.
- the plasma power supply unit 2 applies a predetermined voltage between the first and second electrodes 18 and 27 so that the potential of the second electrode 27 is lower than the potential of the first electrode 18, and A discharge is generated between the two electrodes 27.
- the second electrode 27 can emit silver microparticles 19 ⁇ / b> B.
- the released silver microparticles 19 ⁇ / b> B are introduced into the liquid storage unit 15 through a large number of spaces (holes) in the second electrode 27.
- the plasma generator 1 can suppress the clogging of the gas passage 13 due to silicon, calcium, and the like deposited from the liquid stored in the liquid storage unit 15 by the second electrode 27. Therefore, the plasma generator 1 can stably generate hydroxy radicals and the like and release silver fine particles 19B.
- the plasma generation apparatus and the cleaning apparatus include embodiments other than the first to fourth embodiments.
- modified examples of the first to fourth embodiments as other embodiments of the present plasma generating apparatus and the present cleaning apparatus will be described. The following modifications can be combined with each other.
- the plasma generator 1 of 1st Embodiment contains the partition part 12 as a partition part which has the gas channel
- the partition wall portion and the gas passage 13 are not limited to the configuration shown in the first embodiment.
- a partition part is formed with a glass plate.
- holes are formed in the glass plate by photolithography and etching. This hole functions as the gas passage 13.
- the hole diameter of the glass plate is a fine hole of about 1 ⁇ m to 10 ⁇ m. Alternatively, other materials may be used instead of the glass plate.
- the gas supply unit 3 supplies gas in the atmosphere to the gas storage unit 14.
- the gas supplied by the gas supply part 3 is not restricted to the content shown by 1st Embodiment.
- the gas supply unit 3 supplies a gas having a different oxygen concentration from the atmosphere.
- the gas supply part 3 may have a gas species selection part.
- the gas type selection unit is configured to selectively supply one of the gas in the atmosphere and other types of gases.
- the partition part 12 as a partition part has the gas channel
- the configuration of the partition wall portion and the gas passage 13 is not limited to the configuration shown in the first embodiment.
- the partition wall portion has a plurality of gas passages.
- the cleaning apparatus 30 of 2nd Embodiment has the saucer discharge port 63 in the saucer 60.
- the configuration of the tray is not limited to the configuration shown in the second embodiment.
- the cleaning device 30 according to the modified example forms a drain groove in the tray 60 and discharges the liquid from the drain passage 92.
- the 2nd electrode 27 is comprised with the porous metal which has air permeability.
- the configuration of the second electrode 27 is not limited to the configuration shown in the fourth embodiment.
- the second electrode 27 is configured in a mesh shape.
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Abstract
Description
本発明は、プラズマ発生装置およびプラズマ発生装置を用いた洗浄装置に関する。 The present invention relates to a plasma generator and a cleaning device using the plasma generator.
従来の洗浄装置に用いるプラズマ発生装置は、気泡を含む液中で放電を行うことで気泡にラジカル等を発生させ液体を改質する。特許文献1は、従来のプラズマ発生装置の一例を開示している。
A plasma generator used in a conventional cleaning device generates radicals or the like in the bubbles to modify the liquid by performing discharge in a liquid containing bubbles.
プラズマ発生装置は、気体収容部に配置された第1電極と液体収容部に配置された第2電極との間に高電圧を印加して放電を発生させる。プラズマ発生装置は、液体収容部に収容される液体内の気体の領域においてプラズマを生成する。プラズマ発生装置は、液体に含まれる水および気体に含まれる酸素からヒドロキシラジカルを生成する。第2電極は、液体収容部に収容された水を含む液体中に配置され、第1電極は、気体中に配置される。プラズマ発生装置が可動部を有する電子機器の洗浄装置に適用されるとき、可動部の不純物が浄化されることによって焼付き現象を起こすおそれがある。このため、使用者は、焼付き現象を抑制するために液体収容部に収容される洗浄液としての液体に潤滑剤を添加する。使用者は、洗浄装置を使用するうえにおいて、定期的な潤滑剤の補充および洗浄液の交換等のメンテナンスを行う。このため、従来のプラズマ発生装置を用いた洗浄装置において、使用者が煩わしさを感じる。また、交換された潤滑剤を含む洗浄液は、排水として処理される。環境を考慮すると潤滑剤の使用量を極力削減することが望ましい。 The plasma generator generates a discharge by applying a high voltage between the first electrode disposed in the gas container and the second electrode disposed in the liquid container. The plasma generator generates plasma in a gas region in the liquid stored in the liquid storage unit. The plasma generator generates hydroxy radicals from water contained in a liquid and oxygen contained in a gas. The second electrode is disposed in a liquid containing water stored in the liquid storage portion, and the first electrode is disposed in gas. When the plasma generator is applied to a cleaning device for an electronic apparatus having a movable part, there is a possibility that a seizure phenomenon may occur due to purification of impurities in the movable part. For this reason, the user adds a lubricant to the liquid as the cleaning liquid stored in the liquid storage unit in order to suppress the seizure phenomenon. The user performs maintenance such as periodic replenishment of lubricant and replacement of cleaning liquid when using the cleaning apparatus. For this reason, the user feels troublesome in the cleaning apparatus using the conventional plasma generator. Moreover, the cleaning liquid containing the replaced lubricant is treated as waste water. Considering the environment, it is desirable to reduce the amount of lubricant used as much as possible.
本発明は、以上の背景をもとに創作されたものであり、メンテナンスを容易とするプラズマ発生装置およびプラズマ発生装置を用いた洗浄装置を提供することを目的とする。 The present invention was created based on the above background, and an object thereof is to provide a plasma generator and a cleaning device using the plasma generator that facilitate maintenance.
本発明の一態様は、プラズマ発生部、プラズマ電源部、および気体供給部を有するプラズマ発生装置である。プラズマ発生装置は、前記プラズマ発生部は、液体収容部、気体収容部、隔壁部、第1電極、および第2電極を含む。前記液体収容部は、少なくとも水を含む液体を収容する。前記気体収容部は、気体を収容する。前記隔壁部は、前記液体収容部と前記気体収容部とを隔てるとともに、前記気体収容部に収容された前記気体を前記液体収容部へ導く気体通路を含む。前記第1電極は、前記気体収容部内に配設される。前記第2電極は、少なくとも前記第1電極と対になる部分が前記液体収容部内の液体と接触するように前記液体収容部内に配設される。前記気体供給部は、少なくとも酸素を含む前記気体を前記気体収容部に供給する。前記プラズマ電源部は、前記第1電極および前記第2電極に供給する電位を発生するとともに、前記第2電極の電位を前記第1電極の電位よりも低い値に設定する。前記第2電極は、スパッタリング現象を起こす材料、材料化合物、および材料混合物のいずれかにより形成される。 One embodiment of the present invention is a plasma generation apparatus including a plasma generation unit, a plasma power supply unit, and a gas supply unit. In the plasma generation apparatus, the plasma generation unit includes a liquid storage unit, a gas storage unit, a partition wall, a first electrode, and a second electrode. The liquid storage unit stores a liquid containing at least water. The gas storage unit stores gas. The partition wall includes a gas passage that separates the liquid container from the gas container and guides the gas stored in the gas container to the liquid container. The first electrode is disposed in the gas storage unit. The second electrode is disposed in the liquid storage portion so that at least a portion paired with the first electrode is in contact with the liquid in the liquid storage portion. The gas supply unit supplies the gas containing at least oxygen to the gas storage unit. The plasma power supply unit generates a potential to be supplied to the first electrode and the second electrode, and sets the potential of the second electrode to a value lower than the potential of the first electrode. The second electrode is formed of any one of a material causing a sputtering phenomenon, a material compound, and a material mixture.
上記プラズマ発生装置において、プラズマ電源部は、第2電極の電位が第1電極の電位よりも低くなるように第1および第2電極の間に所定の電圧を印加することにより、第1電極と第2電極との間で放電を生じさせる。プラズマ発生部は、液体収容部に収容された液体内の気体の領域においてプラズマを生成する。これにより、液体に含まれる水および気体に含まれる酸素からヒドロキシラジカルが生成される。この構成によれば、プラズマ発生部は、液体の電気抵抗による影響を抑制した状態で第1電極と第2電極との間で放電を生じさせることができる。また、第2電極は、放電により生じるスパッタリング現象によって微小粒子を放出する。この微小粒子は、液体収容部に収容された液体内に拡散される。この構成によれば、例えば被洗浄処理対象物が液体収容部に配置されたとき、被洗浄処理対象物に付着した有機物等がヒドロキシラジカルによって分解されるとともに、第2電極から放出された微小粒子を被洗浄処理対象物に付着させることができる。例えばプラズマ発生装置が可動部を有する電子機器の洗浄装置に適用された場合、電子機器の可動部に微小粒子を付着させることができる。このため、可動部の摩擦抵抗を減少させて、可動を滑らかにすることができる。 In the plasma generating apparatus, the plasma power supply unit applies a predetermined voltage between the first electrode and the second electrode so that the potential of the second electrode is lower than the potential of the first electrode. A discharge is generated between the second electrode. The plasma generation unit generates plasma in a gas region in the liquid stored in the liquid storage unit. Thereby, a hydroxyl radical is generated from water contained in the liquid and oxygen contained in the gas. According to this configuration, the plasma generation unit can generate a discharge between the first electrode and the second electrode in a state where the influence of the electrical resistance of the liquid is suppressed. The second electrode emits fine particles by a sputtering phenomenon caused by discharge. The fine particles are diffused into the liquid stored in the liquid storage unit. According to this configuration, for example, when the object to be cleaned is disposed in the liquid container, the organic matter or the like attached to the object to be cleaned is decomposed by hydroxy radicals, and the fine particles emitted from the second electrode Can be attached to the object to be cleaned. For example, when the plasma generator is applied to a cleaning device for an electronic device having a movable part, fine particles can be attached to the movable part of the electronic device. For this reason, the frictional resistance of the movable part can be reduced, and the movement can be made smooth.
好ましくは、上記プラズマ発生装置において、前記第2電極は、スパッタリング現象を起こす材料、材料化合物、および材料混合物として、銀、銀化合物、および銀混合物のいずれかにより形成される。 Preferably, in the plasma generating apparatus, the second electrode is formed of any one of silver, a silver compound, and a silver mixture as a material, a material compound, and a material mixture that cause a sputtering phenomenon.
好ましくは、上記プラズマ発生装置において、前記第2電極は、スパッタリング現象を起こす材料、材料化合物、および材料混合物のいずれかにより形成されるとともに、少なくとも前記気体通路を通過する気体と対向する対向面を含み、この対向面の表面粗さが10μmよりも大きい最大高さ値を有する。 Preferably, in the plasma generator, the second electrode is formed of any one of a material causing a sputtering phenomenon, a material compound, and a material mixture, and has at least a facing surface facing a gas passing through the gas passage. In addition, the surface roughness of the facing surface has a maximum height value greater than 10 μm.
好ましくは、上記プラズマ発生装置において、前記第2電極は通気性を有し、前記気体収容部に収容される気体が前記第2電極を通過して前記液体収容部に供給される。 Preferably, in the plasma generating apparatus, the second electrode has air permeability, and the gas stored in the gas storage unit passes through the second electrode and is supplied to the liquid storage unit.
本発明の他の態様は、上記プラズマ発生装置を備える洗浄装置である。前記洗浄装置は、前記スパッタリング現象により前記第2電極から微小粒子を放出して被洗浄処理対象部に付着させる。 Another aspect of the present invention is a cleaning apparatus including the above plasma generator. The cleaning device emits fine particles from the second electrode by the sputtering phenomenon and adheres to the target portion to be cleaned.
好ましくは、前記洗浄装置は、除毛器具の洗浄に適用可能であり、前記除毛装置に備えられた前記被洗浄処理対象部に前記第2電極からの前記微小粒子を付着させる。 Preferably, the cleaning device is applicable to cleaning of a hair removal device, and the fine particles from the second electrode are attached to the cleaning target portion provided in the hair removal device.
好ましくは、前記洗浄装置において、前記除毛器具は、摺動面を備えた刃部を含み、前記摺動面の少なくとも一部が、前記第2電極から放出される前記微小粒子の移動を妨げない位置に配置される。 Preferably, in the cleaning apparatus, the hair removal tool includes a blade portion having a sliding surface, and at least a part of the sliding surface prevents movement of the microparticles emitted from the second electrode. Placed in no position.
本プラズマ発生装置および本プラズマ発生装置を用いた洗浄装置は、メンテナンスを容易にすることに貢献する。 The plasma generator and the cleaning device using the plasma generator contribute to facilitating maintenance.
(第1実施形態)
図1を参照して、プラズマ発生装置1の構成について説明する。
(First embodiment)
With reference to FIG. 1, the structure of the
プラズマ発生装置1は、プラズマ発生部10、プラズマ電源部2、気体供給部3、第1リード線4、第2リード線5、および気体導入配管6を含む。第1リード線4および第2リード線5は、プラズマ発生部10とプラズマ電源部2とを互いに接続する。気体導入配管6は、プラズマ発生部10と気体供給部3とを互いに接続する。
The
プラズマ発生部10は、略円筒状のケース部材11を含む。なお、ケース部材11の形状は円筒状のものに限られない。ケース部材11は、例えば角筒状で構成されてもよい。
The
ケース部材11は、その内部空間を上下に仕切る隔壁部12を含む。隔壁部12は、例えばセラミックスにより形成される。ケース部材11の内部空間のうち隔壁部12の上側の領域は、水を含む液体20を収容する液体収容部15を形成する。ケース部材11の内部空間のうち隔壁部12の下側の領域は、気体を収容する気体収容部14を形成する。隔壁部12の平面における各辺の寸法は、数cmである。隔壁部12の厚さは、数百μm~数mmであり、用途に応じて適切な値に設定される。ケース部材11は、右側壁11Bの下部に気体導入口17を含む。気体導入口17に挿入された気体導入配管6は、気体収容部14と気体供給部3とを接続する。気体供給部3は、少なくとも酸素を含む気体を気体収容部14に供給する。
The
隔壁部12は、気体通路13を含む。気体供給部3から気体収容部14内に導入される気体は、第1移動方向23に沿って気体通路13を通って液体収容部15内に送り出される。
The
プラズマ発生部10は、液体収容部15の外周端部に配置されたリング状のシール材16を含む。シール材16は、ケース部材11と隔壁部12との隙間を塞ぎ、液体収容部15内の液体20が気体収容部14内に漏れ出るのを防止する。
The
気体通路13の孔径は、好ましくは100μm~800μmの範囲であり、液体収容部15に収容された液体20が気体通路13を通って気体収容部14内に漏れ出るのを抑制する大きさに設定される。
The hole diameter of the
プラズマ発生部10は、気体収容部14に配設された第1電極18、および液体収容部15に配設された第2電極19を含む。第2電極19は、隔壁部12によって第1電極18と距離を隔てられている。第2電極19は、第1電極18と対になる部分(第1電極18の表面との間に放電を生じさせる表面)を含み、少なくともこの部分が液体収容部15に収容された液体20と接触するように液体収容部15内に配設される。
The
第1電極18および第2電極19の各々は、ドーナツ形状を有する。第1電極18は、気体収容部14を区画する隔壁部12の表面に、第1電極18の中心孔が気体通路13と連通するように配置される。第1電極18の表面は誘電体で被覆されている。上記したように、第2電極19は、少なくとも第1電極18と対になる部分(第1電極18の表面との間に放電を生じさせる表面)が液体収容部15内の液体20と接触するように液体収容部15内に配置される。第2電極19は、液体収容部15を区画する隔壁部12の表面に、第2電極19の中心孔が気体通路13と連通するように配置される。すなわち、第1電極18および第2電極19は、隔壁部12の両表面に同心状に配置される。第2電極19は、第1電極18よりも気体通路13により近い位置に配置される。
Each of the
このように、ドーナツ状の第1電極18は、液体収容部15内に導入される液体20に接触することがないように、気体収容部14に配設される。一方、ドーナツ状の第2電極19(少なくとも第1電極18と対になる部分を含む)は、液体20に接触するよう液体収容部15に配設される。
Thus, the doughnut-shaped
第1電極18は、第2リード線5を介してプラズマ電源部2に電気的に接続される。第2電極19は、第1リード線4を介してプラズマ電源部2に電気的に接続される。プラズマ電源部2は、第1電極18と第2電極19との間に所定の電圧を印加する。
The
図2は、第1電極18および第2電極19に印加される電圧を示している。プラズマ発生装置1は、第2電極19の電位を第1電極18の電位よりも低い値に設定する。
FIG. 2 shows voltages applied to the
第2電極19は、第2電極19に第1電極18よりも低い電位が印加されて第1電極18と第2電極19との間に放電が生じるときにスパッタリング現象を起こす材料、材料化合物、および材料混合物のいずれかにより形成される。
The
例えば、第2電極19は、放電によりスパッタリング現象を起こす材料として、銀、銀化合物、および銀材料混合物のいずれかにより形成される。
For example, the
ただし、第2電極19の材料は、銀、銀化合物、あるいは銀材料混合物に限られない。放電によってスパッタリング現象を起こす材料としては、白金、金、銅、チタン、鉄等を用いることができる。または、その他の材料が用いられてもよい。
However, the material of the
次に、上述したプラズマ発生装置1の動作ならびにヒドロキシラジカルの生成方法について説明する。
Next, the operation of the
オゾンやヒドロキシラジカル等を液体20に放出する方法は、気体供給工程、気泡成長工程、ヒドロキシラジカル生成工程、および気泡放出工程を含む。 The method for releasing ozone, hydroxy radicals, and the like into the liquid 20 includes a gas supply step, a bubble growth step, a hydroxy radical generation step, and a bubble release step.
気体供給工程において、気体供給部3は、酸素を含む気体を気体収容部14に供給する。気体収容部14に供給された気体は、気体通路13を介して液体収容部15に圧送される。気体供給部3は、流量が約0.01L/min~1.0L/minの空気をベースとした酸素を含有する気体を、気体導入配管6を介して気体収容部14に送り込む。このとき、気体を送り込む圧力は、約0.0098MPa~0.49MPa(0.1kgf/cm2~5kgf/cm2)程度に設定される。気体の供給流量は、気体供給部3に備えられる流量制御等の一般的に知られた手段によって制御される。
In the gas supply step, the
気体供給部3が気体収容部14に気体を供給するとき、気体収容部14は、約0.11MPa~0.59MPa(1.1kgf/cm2~6kgf/cm2)程度の陽圧状態となる。気体収容部14が陽圧状態となるとき、気体収容部14は、気体通路13を経て液体収容部15へ向う第1移動方向23に沿った気体の流れを形成する。また、気体収容部14が陽圧状態となるとき、気体収容部14は、液体収容部15に収容された液体20が気体通路13から気体収容部14内に漏れ出るのを抑制する。
When the
図3(a)及び3(b)は、液体収容部15に面する気体通路13の開口端13A付近の液体20および気体の様子を示している。
3 (a) and 3 (b) show the state of the liquid 20 and gas near the open end 13A of the
図3(a)に示されるように、気泡成長工程において、気体収容部14は、酸素を含有した気体を液体収容部15に供給して、気体通路13の開口端13Aにおいて酸素を含む微細な気泡24を成長させる。
As shown in FIG. 3A, in the bubble growth step, the
ヒドロキシラジカル生成工程において、プラズマ電源部2は、第1電極18と第2電極19との間に所定の電圧を印加する。プラズマ電源部2は、好ましくは、約1W~100W程度のパワーを有する電圧であって、大気圧下においてグロー放電を可能にする電圧を印加する。プラズマ電源部2は、第1電極18と第2電極19との間に印加する電圧を制御する一般的に知られた電圧制御手段を含む。プラズマ電源部2は、第2電極19の電位を第1電極18の電位よりも低い値に設定する。プラズマ電源部2は、第2電極19に第1電極18の電位よりも低い電位を印加することで、第1電極18と第2電極19との間で、大気圧あるいはそれ以上の圧力の気体雰囲気下で放電を生じさせる。
In the hydroxy radical generation step, the plasma
なお、大気圧下でプラズマを生成する技術については、たとえば、文献「岡崎幸子、「大気圧グロー放電プラズマとその応用」、レビュー講演:20th JSPFAnnual Meeting」によって報告されている。 The technology for generating plasma under atmospheric pressure has been reported, for example, in the literature “Sachiko Okazaki,“ Atmospheric pressure glow discharge plasma and its application ”, review lecture: 20th JSPFannual Meeting”.
プラズマ発生部10は、気体に接触する第1電極18の表面と、液体に接触する第2電極19の表面との間における放電によって、液体収容部15に収容される液体20内の気体の領域においてプラズマを生成する。プラズマは、気体通路13の開口端13Aにおいて成長途中の気泡24と液体20との気液境界面近傍の気体の領域で顕著に発生する。プラズマ発生部10は、気体通路13の開口端13Aでプラズマを発生させることにより、液体に含まれる水や気体に含まれる酸素によってオゾンやヒドロキシラジカル等を生成する。
The
このように、プラズマ発生部10は、液体収容部15に収容される液体20と気泡24との気液境界面近傍に電位差を生じさせてプラズマを生成させる。プラズマ発生部10は、ヒドロキシラジカルが生成されやすい気体通路13の開口端13Aにおける気泡24と液体20との気液境界面近傍に電位差を生じさせることで、より多くのオゾンやヒドロキシラジカル等を生成する。また、プラズマ発生部10は、液体20に臨む気体通路13の開口端13A近傍の気泡24だけでなく、液体収容部15へ送り出された気泡24内でもオゾンやヒドロキシラジカル等を生成する。
As described above, the
こうして生成されたオゾンやヒドロキシラジカル等は、第1移動方向23に沿った気体の流れに伴って、液体収容部15へ送り出される。
The ozone and hydroxy radicals thus generated are sent out to the
気泡放出工程において、プラズマ発生部10は、液体収容部15に収容される液体20の流れにより、ヒドロキシラジカル等を含んだ気泡24を隔壁部12からせん断して液体20中に放出させる。
In the bubble releasing step, the
図3(b)に示されるように、液体収容部15に収容された液体20は、第2移動方向25で示される流れに沿って液体収容部15内を移動する。液体20が、成長する気泡24にあたるとき、液体20の流れは、気泡24にせん断力として作用する。気泡24は、気体通路13の開口端13Aから液体20中へ解き放たれる。
3B, the liquid 20 stored in the
液体20中に解き放たれた気泡24は、微細な気泡であるため、大気中に直ぐに放出されることなく液体20の隅々にまで拡散する。拡散した微細な気泡24の一部は、液体20中に容易に溶解する。気泡24が液体20中に溶解するとき、液体20のオゾン濃度は、気泡24に含まれているオゾンが溶解することで、一気に上昇する。
Since the
文献「高橋正好、「マイクロバブルとナノバブルによる水環境の改善」、アクアネット、2004.6」は、通常、オゾンや各種のラジカルを含んだ微細な気泡はマイナスに帯電していることが多いことを報告している。 The literature “Masayoshi Takahashi,“ Improvement of water environment by microbubbles and nanobubbles ”, Aquanet, 2004.6” usually shows that fine bubbles containing ozone and various radicals are often negatively charged. Has been reported.
マイナスに帯電した気泡24の他の一部は、液体20中に含まれる有機物、油脂物、染料、たんぱく質、細菌等に容易に吸着する。液体20中の有機物等は、液体20に溶解したオゾンあるいは各種のラジカルや、有機物等に吸着した気泡24に含まれるオゾンあるいは各種のラジカル等によって分解される。
Other portions of the negatively charged bubbles 24 are easily adsorbed by organic substances, oils and fats, dyes, proteins, bacteria, etc. contained in the liquid 20. The organic matter or the like in the liquid 20 is decomposed by ozone dissolved in the liquid 20 or various radicals, ozone contained in the
ヒドロキシラジカルは、例えば、約120kcal/mol程度の比較的大きなエネルギーを有している。ヒドロキシラジカルが有するエネルギーは、窒素原子と窒素原子との二重結合(N=N)、炭素原子と炭素原子との二重結合(C=C)、および炭素原子と窒素原子との二重結合(C=N)を含む結合エネルギー(~100kcal/mol)を上回る。このため、窒素や炭素等の結合からなる有機物等は、ヒドロキシラジカルによって容易にその結合が切断されて分解される。このような有機物等の分解に寄与するオゾンやヒドロキシラジカル等は、塩素等のような残留性がなく、時間とともに消滅するため、環境に配慮した物質でもある。 The hydroxy radical has a relatively large energy of about 120 kcal / mol, for example. The energy of the hydroxy radical is the double bond between the nitrogen atom and the nitrogen atom (N = N), the double bond between the carbon atom and the carbon atom (C = C), and the double bond between the carbon atom and the nitrogen atom. More than the binding energy (˜100 kcal / mol) including (C═N). For this reason, organic substances composed of bonds such as nitrogen and carbon are easily cleaved and decomposed by hydroxy radicals. Since ozone, hydroxy radicals, and the like that contribute to the decomposition of such organic substances have no persistence such as chlorine and disappear with time, they are also environmentally friendly substances.
液体収容部15に配設される第2電極19を銀、銀化合物、および銀材料混合物のいずれかで形成し、第2電極19が第1電極18よりも低い電位で電極間の放電を生じるとき、第2電極19は、銀の微小粒子を放出する。
The
図4を参照して、気体通路13の開口端13A付近における液体20および気体の様子を説明する。
The state of the liquid 20 and the gas in the vicinity of the opening end 13A of the
第2電極19が第1電極18よりも低い電位で、第1電極18と第2電極19との間に放電が生じるとき、第2電極19に対するスパッタリング現象が生じて、第2電極19の第1部分19Cから銀の微小粒子19Bが飛び出す。スパッタリング現象によって第2電極19から飛び出した銀の微小粒子19Bは、液体収容部15に収容される液体20内に拡散する。このとき、第2電極19が第1電極18よりも気体通路13により近い位置に配置されているため、第2電極19が効率的にスパッタされる。従って、微小粒子19Bを効率良く放出することができる。
When the
プラズマ発生装置1は、以下の効果を奏する。
The
(1)プラズマ発生装置1は、プラズマ発生部10、プラズマ電源部2、および気体供給部3を含む。プラズマ発生部10は、ケース部材11の内部空間に隔壁部12により仕切られた気体収容部14および液体収容部15を含む。気体収容部14は、第1電極18を含む。一方、液体収容部15は、第2電極19を含む。第2電極19は、第1電極18と対になる部分を含み、少なくともこの部分が液体と接触するように液体収容部15内に配置される。第2電極19は、銀、銀化合物、および銀材料混合物のいずれかで形成される。プラズマ電源部2は、第2電極19の電位が第1電極18の電位よりも低くなるように第1及び第2電極18,19間に所定の電圧を印加して、第1電極18と第2電極19との間で放電を生じさせる。プラズマ発生部10は、液体収容部15に収容される液体20内の気体の領域においてプラズマを生成し、液体20に含まれる水および気体に含まれる酸素からヒドロキシラジカルを生成する。この構成によれば、プラズマ発生部10は、液体20の電気抵抗による影響を抑制した状態で、第1電極18と第2電極19との間に放電を生じさせることができる。第2電極19は、放電により生じるスパッタリング現象によって銀の微小粒子19Bを放出する。この微小粒子19Bは、液体収容部15に収容された液体20内に拡散される。液体収容部15に被洗浄処理対象物が配置されたとき、プラズマ発生装置1はプラズマを発生して、被洗浄処理対象物に付着した有機物等を分解するオゾンやラジカルを生成する。さらに、プラズマ発生装置1は、被洗浄処理対象物に対し、第2電極19のスパッタリングによって生じた銀の微小粒子19Bを付着させる。このため、プラズマ発生装置1を可動部を有する電子機器の洗浄装置に適用するとき、電子機器の可動部に銀の微小粒子19Bを付着させることができる。このため、可動部の摩擦抵抗を減少させて、可動を滑らかにすることができる。
(第2実施形態)
第2実施形態の洗浄装置30は、第1実施形態のプラズマ発生装置1を用いる。なお、プラズマ発生装置1に関して、その説明の一部または全部を省略する。
(1) The
(Second Embodiment)
The
図5を参照して、洗浄装置30の構成について説明する。
The configuration of the
除毛器具100(図6参照)の洗浄装置としての洗浄装置30は、除毛器具100を挿入する開口31を含む。また、洗浄装置30は、筐体40の前面に、操作部42、表示部43、および通気窓44を含む。筐体40は、背面にスタンド部41を含む。スタンド部41は、開口31を区画する内面に接触部材45を含む。洗浄装置30は、筐体40の背面に洗浄液としての液体を収容するタンク50を含む。使用者は、開口31に被洗浄処理対象物を挿入する。
A
図6(a)及び6(b)を参照して、被洗浄処理対象物としての除毛器具100の構成について説明する。
Referring to FIGS. 6 (a) and 6 (b), the configuration of the
図6(a)に示される除毛器具100は、把持部101およびヘッド部102を含む。把持部101は、操作スイッチ103を含む。使用者は、操作スイッチ103を操作して除毛器具100の動作を制御する。ヘッド部102は、刃部104を含む。刃部104は、例えば二枚の外刃105を含む。
A
以下、把持部101からヘッド部102へ伸びる方向を前後方向における前方向とする。二枚の外刃105が併設される方向を上下方向、上下方向及び前後方向に対して垂直に交わる方向を左右方向とする。
Hereinafter, the direction extending from the
外刃105は、前方に突出するように湾曲して逆U字状に形成される。外刃105には、多数のスリット(刃穴)が穿設される。
The
図6(b)に示されるように、刃部104は、外刃105の内側に、外刃105の湾曲に沿う逆U字状の内刃106を含む。内刃106は、除毛器具100に備えられた動力源によって発生した駆動力を用いて左右方向に往復動する。
As shown in FIG. 6B, the
除毛器具100は、内刃106を外刃105に対して左右方向に相対移動させることで、外刃105のスリット内に挿入された体毛を、外刃105と内刃106とで協働して切断する。つまり、内刃106の外表面106Aが外刃105の内表面105Aに摺接しながら内刃106が外刃105に対して左右方向に相対移動する。刃部104は、摺動部の一例である。内刃106の外表面106Aおよび外刃105の内表面105Aは各々、摺動面107を構成している。使用者は、除毛器具100を洗浄するとき、除毛器具100の刃部104を下向きにして、洗浄装置30の開口31に挿入する。
The
図7を参照して、除毛器具100が挿入された洗浄装置30の構成について説明する。
With reference to FIG. 7, the structure of the washing | cleaning
洗浄装置30は、プラズマ発生部10、プラズマ電源部2、気体供給部3、受皿60、タンク50、オーバーフロー部32、およびポンプ70を含む。プラズマ発生部10、プラズマ電源部2、および気体供給部3は、プラズマ発生装置1を形成する。
The
受皿60は、開口31を通じて挿入された除毛器具100のヘッド部102を受容する。タンク50は、洗浄液としての液体を貯留する。オーバーフロー部32は、受皿60に連通される。ポンプ70は、タンク50内の液体を以下に説明する循環経路を介して洗浄装置30内を循環させる。すなわち、洗浄装置30は、カートリッジ80、開閉弁33、および液体を循環するための循環経路を含む。カートリッジ80は、液体を濾過するフィルタ81を有する。開閉弁33は、タンク50内の気密状態を制御する。
The receiving
循環経路は、液体導入経路91、排水経路92、第1経路93、第2経路94、および第3経路95から形成される。液体導入経路91は、タンク50に貯留された液体を受皿60に導入する。排水経路92は、受皿60から排出される液体をカートリッジ80に導く。第1経路93は、オーバーフロー部32から排出される液体をカートリッジ80に導く。第2経路94は、カートリッジ80から排出された液体をポンプ70に導く。第3経路95は、ポンプ70から送出される液体をタンク50に導く。また、タンク50には、気密経路96を介して開閉弁33が接続される。
The circulation path is formed from a
以下、各構成部品について説明する。 Hereinafter, each component will be described.
筐体40のスタンド部41は、開口31から挿入された除毛器具100の把持部101と当接して除毛器具100を受皿60と共に保持する。スタンド部41の内面には、接触部材45が設けられている。接触部材45は、除毛器具100の把持部101背面に設けられた背面端子108との接触により除毛器具100が装着されたことを検知する。接触部材45は、除毛器具100の背面端子108と接触して除毛器具100に制御信号および駆動電力を供給する。
The
筐体40は、前部上方にファン34を含む。ファン34は、除毛器具100の洗浄後にヘッド部102を乾燥させる。筐体40は、タンク50と接する後面に形成された第1連結口46、第2連結口47、および第3連結口48を含む。筐体40にタンク50が装着されると、第1連結口46、第2連結口47、および第3連結口48は、タンク50に設けられたタンク吐出口51、タンク流入口52、およびタンク通気口53とそれぞれ連通する。第1連結口46は、液体導入経路91と繋がれる。第2連結口47は、第3経路95と繋がれる。第3連結口48は、気密経路96と繋がれる。
The
受皿60は、除毛器具100のヘッド部102の形状に沿うような凹形状であり、底壁部に貫通孔62が形成される。プラズマ発生部10は、受皿60の底壁部の背面側に設けられる。プラズマ発生部10の液体収容部15は、貫通孔62を介して受皿60の内部空間と連通する。受皿60の内部空間は、プラズマ発生部10の液体収容部15と一体となって洗浄液としての液体を貯留する。
The
図8に示されるように、洗浄装置30は、受皿60の底壁部の背面側に設けられたヒータ35を含む。ヒータ35は、ファン34と連動してヘッド部102の乾燥を行う。
As shown in FIG. 8, the
オーバーフロー部32は、入口が受皿60と繋がり、出口が第1経路93と繋がる。第1経路93は、オーバーフロー部32の出口から、受皿60後部に設けられた中継口61を介してカートリッジ80に至る。
The
タンク50は、上記タンク吐出口51、タンク流入口52、およびタンク通気口53を前面に有する。洗浄装置30は、タンク通気口53を開閉してタンク吐出口51からの液体吐出を制御する。タンク50が筐体40に装着されるとき、タンク吐出口51は、第1連結口46に連結され、タンク50に貯留された液体を液体導入経路91を通じて受皿60に導入する。タンク流入口52は、第2連結口47に連結され、第3経路95を通ってポンプ70の送出口71と繋がる。タンク通気口53は、第3連結口48に連結され、気密経路96を通って開閉弁33と繋がる。
The
カートリッジ80は、フィルタ81を内部に収容した略箱状体であり、上部にカートリッジ流入口82を含み、前部にカートリッジ流出口83を含む。カートリッジ80は、筐体40の下部後方に着脱自在に設けられる。カートリッジ80が筐体40に装着されるとき、カートリッジ流入口82は、排水経路92を通って受皿排出口63と繋がるとともに、第1経路93を通ってオーバーフロー部32の出口と繋がる。カートリッジ流出口83は、第2経路94を通ってポンプ70の吸入口72と繋がる。
The
洗浄装置30の動作について説明する。
The operation of the
使用者は、除毛器具100を、ヘッド部102が下を向いた状態で受皿60に受容されるように洗浄装置30に装着する。
The user attaches the
使用者の操作部42に対する操作に応じて、洗浄装置30は、タンク50から液体導入経路91を介して受皿60およびプラズマ発生装置1の液体収容部15内に液体を導入する。気体供給部3は、空気をベースとして酸素を含有した所定流量の気体をプラズマ発生部10の気体収容部14内に送り込む。その結果、気体収容部14は陽圧状態とされて、気体通路13を経て液体収容部15へ向う気体の流れを形成する。
In response to the user's operation on the
プラズマ発生部10は、液体収容部15に配置され、銀、銀化合物、および銀材料混合物のいずれかにより形成される第2電極19を含む。プラズマ電源部2は、第2電極19の電位が第1電極18の電位よりも低くなるように第1及び第2電極18,19間に所定の電圧を印加して、第1電極18と第2電極19との間で放電を生じさせる。プラズマ発生部10は、気体に接触する第1電極18の表面と、液体に接触する第2電極19の表面との間における放電によって、液体収容部15に収容される液体20内の気体の領域においてプラズマを生成する。プラズマ発生装置1は、気体通路13の開口端13Aでプラズマを発生させることにより、液体に含まれる水や気体に含まれる酸素によってオゾンやヒドロキシラジカル等を生成する。
The
生成されたオゾンや各種のラジカルは、上述した気体の流れとともに液体収容部15および受皿60内に貯留された液体20中に送り出される。気体収容部14は、酸素を含有した気体を液体収容部15に供給して、液体収容部15に臨む気体通路13の開口端13Aにおいて酸素を含む微細な気泡24を成長させる。成長した気泡24は、開口端13Aから液体20中へ解き放たれ、液体20の隅々にまで拡散する。受皿60およびプラズマ発生部10の液体収容部15に貯留された液体20は、オゾンおよび各種ラジカルが溶解した洗浄液としての機能を備える。
The generated ozone and various radicals are sent out into the liquid 20 stored in the
また、プラズマ発生装置1は、スパッタリング現象によって第2電極19から銀の微小粒子19Bを放出する。放出された銀の微小粒子19Bは、液体収容部15に収容された液体20内に拡散する。受皿60およびプラズマ発生部10の液体収容部15に貯留された液体20は、オゾンおよび各種ラジカルが溶解した中に銀の微小粒子19Bを含む洗浄液としての機能を備える。
Further, the
図9を参照して、プラズマ発生装置1が適用された洗浄装置30のプラズマ発生部10および除毛器具100の刃部104の構成を説明する。
With reference to FIG. 9, the structure of the
除毛器具100の摺動部である刃部104の摺動面107、すなわち、外刃105の内表面105Aおよび内刃106の外表面106Aは、第1電極18および第2電極19のうちの少なくともいずれか一方の近傍においてプラズマ発生部10に対向配置される。この場合、摺動面107の少なくとも一部が、第2電極19から飛び出した銀の微小粒子19Bの移動を妨げない位置においてプラズマ発生部10に対向配置される。
The sliding
銀の微小粒子19Bの移動を妨げない位置とは、第2電極19から飛び出した銀の微小粒子19Bの移動が壁部などの固体物によって妨げられることなく、銀の微小粒子10Bが摺動面107に到達できる位置をいう。第2電極19と摺動面107が接する液体としての洗浄液や空気などは、銀の微小粒子19Bの移動を妨げるものではない。
The position where the movement of the
洗浄装置30は、以下の効果を奏する。
The
(2)洗浄装置30は、プラズマ発生部10、プラズマ電源部2、気体供給部3、受皿60、タンク50、オーバーフロー部32、およびポンプ70を含む。プラズマ発生部10、プラズマ電源部2、および気体供給部3は、プラズマ発生装置1を形成する。受皿60は、開口31を通じて挿入された除毛器具100のヘッド部102を受容する。受皿60およびプラズマ発生部10の液体収容部15は、洗浄液としての液体を貯留する。プラズマ発生部10は、液体収容部15に配置され、銀、銀化合物、および銀材料混合物のいずれかにより形成される第2電極19を含む。プラズマ電源部2は、第2電極19の電位が第1電極18の電位よりも低くなるように第1および第2電極18,19の間に所定の電圧を印加して、第1電極18と第2電極19との間で放電を生じさせる。プラズマ発生部10は、液体収容部15に収容される液体20内の気体の領域においてプラズマを生成し、液体20に含まれる水および気体に含まれる酸素からヒドロキシラジカルを生成する。また、プラズマ発生部10は、スパッタリング現象によって第2電極19から銀の微小粒子19Bを放出する。生成されたオゾンや各種のラジカルおよび銀の微小粒子19Bは、上述した気体の流れとともに液体収容部15および受皿60内に貯留された液体20中に送り出される。液体20は、洗浄液としての機能を備える。この構成によれば、洗浄液としての機能を備える液体20は、被洗浄処理対象部としてのヘッド部102に供給される。このため、ヘッド部102に付着した有機物等は、液体20に溶解したオゾンあるいはラジカルや、気泡24に含まれるオゾンあるいはラジカル等によって効率的に分解される。また、洗浄装置30は、除毛器具100の刃部104の摺動面107に銀の微小粒子19Bを付着させる。このため、洗浄装置30は、ヘッド部102に付着した有機物等を分解するとともに、摺動面107の摩擦を低減して摩耗を抑制する。このため、洗浄液への潤滑剤の添加量、洗浄液の交換回数、および洗浄液の補充回数を削減して、メンテナンスを容易とすることができる。
(2) The
(第3実施形態)
第3実施形態のプラズマ発生装置1は、第1実施形態のプラズマ発生装置1と比較して以下の部分において異なる構成を有し、その他の部分において同一の構成を有する。第1実施形態のプラズマ発生装置1と共通する構成については同一の符号を付して、その説明の一部または全部を省略する。
(Third embodiment)
The
第1実施形態のプラズマ発生装置1の第2電極19は、銀、銀化合物、および銀材料混合物のいずれかにより形成されたドーナツ形状を有する。一方、図10(a)(b)に示されるように、第3実施形態のプラズマ発生装置1の第2電極26は、銀、銀化合物、および銀材料混合物のいずれかにより形成されるとともに少なくとも気体通路13を通過する気体と対向する対向面26Aを含み、この対向面26Aの表面粗さが、10μmよりも大きい最大高さ値を有する。
The
図10(a)及び10(b)を参照して、第3実施形態のプラズマ発生部10の構成について説明する。
The configuration of the
図10(a)に示されるように、プラズマ発生部10は、液体収容部15に配設された第2電極26を含む。第1実施形態と同様、第2電極26は、第1電極18よりも気体通路13により近い位置に配置されることが望ましい。第2電極26は、例えば、銀焼結体である。第2電極26は、例えば、平均粒径が100μmで密度90%の銀焼結体である。
As shown in FIG. 10A, the
図10(b)の拡大図に示されるように、銀焼結体としての第2電極26は、表面に凹凸を有する。
As shown in the enlarged view of FIG. 10B, the
第2電極26に第1電極18よりも低い電圧が印加された状態で電極18,26間での放電が生じるとき、第2電極26の表面凹凸は、第2電極26にかかる電界を局所的に高くする。このため、第2電極26は、スパッタリング現象により多くの銀の微小粒子を放出する。放出された銀の微小粒子は、気体収容部14によって形成される第1移動方向23に沿った気体の流れに沿って液体収容部15に導入される。
When a discharge occurs between the
このため、第2電極26は、第1移動方向23に沿った気体の流れに対向する対向面26Aの表面に凹凸を有するのが効果的である。この場合、凹凸を有する表面の表面粗さは、10μmよりも大きい最大高さ値を有することが望ましい。
For this reason, it is effective that the
第3実施形態のプラズマ発生装置1は、第1実施形態のプラズマ発生装置1が奏する(1)と同様の効果を奏する。すなわち、第3実施形態でも、第2電極26に第1電極18よりも低い電位を印加して放電を生じさせることにより、オゾンやラジカル等とともに銀の微小粒子19Bを生成して液体収容部15に導入することができる旨の効果を奏する。また、プラズマ発生装置1は、以下の効果を奏する。
The
(3)プラズマ発生装置1は、プラズマ発生部10、プラズマ電源部2、および気体供給部3を含む。プラズマ発生部10は、ケース部材11の内部空間が隔壁部12により仕切られた気体収容部14および液体収容部15を含む。プラズマ発生部10は、気体収容部14に配設された第1電極18を含む。プラズマ発生部10は、液体収容部15に配設された第2電極26を含む。第2電極26は、銀、銀化合物、および銀材料混合物のいずれかにより形成されるとともに、少なくとも気体通路13を通過する気体と対向する対向面26Aを含む。この対向面26Aの表面粗さは、10μmよりも大きな最大高さ値を有する。プラズマ電源部2は、第2電極26の電位が第1電極18の電位よりも低くなるように第1および第2電極18,26間に所定の電圧を印加して、第1電極18と第2電極26との間で放電を生じさせる。この構成によれば、プラズマ発生部10がプラズマを生成し、液体20にヒドロキシラジカルを生成するとき、第2電極26は、より多くの銀の微小粒子19Bを放出することができる。このため、プラズマ発生装置1は、液体収容部15に被付着処理対象物を配置するとき、被付着処理対象物により多くの銀の微小粒子19Bを付着させることができる。
(3) The
(4)プラズマ発生装置1は、除毛器具100の洗浄装置30に適用される。プラズマ発生装置1は、プラズマ発生部10、プラズマ電源部2、および気体供給部3を含む。プラズマ発生部10は、第1電極18および第2電極26を含む。プラズマ電源部2は、第2電極26に第1電極18よりも低い電位を印加して、第1電極18と第2電極26との間で放電を生じさせる。第2電極26は、銀、銀化合物、および銀材料混合物のいずれかにより形成されるとともに少なくとも気体通路13を通過する気体と対向する対向面26Aを含む。対向面26Aの表面粗さは、10μmよりも大きな最大高さ値を有する。洗浄装置30は、プラズマ発生装置1を含む。除毛器具100の刃部104の摺動面107の少なくとも一部は、第2電極26から飛び出した銀の微小粒子19Bの移動を妨げない位置においてプラズマ発生部10に対向配置される。この構成によれば、スパッタリング現象によって第2電極26から飛び出した多くの銀の微小粒子19Bを刃部104の摺動面107に付着させことができる。このため、摺動面107の摩擦抵抗が大きく焼付きを生じ易い除毛器具100の洗浄においても焼き付きを抑制することができる。
(4) The
(第4実施形態)
第4実施形態のプラズマ発生装置1は、第3実施形態のプラズマ発生装置1と比較して以下の部分において異なる構成を有し、その他の部分において同一の構成を有する。第3実施形態のプラズマ発生装置1と共通する構成については同一の符号を付して、その説明の一部または全部を省略する。
(Fourth embodiment)
The
第3実施形態のプラズマ発生装置1では、第2電極26が銀焼結体で構成される。一方、図11(a)及び11(b)に示されるように、第4実施形態のプラズマ発生装置1では、第2電極27が通気性を有する多孔質金属で構成される。
In the
図11(a)及び11(b)を参照して、プラズマ発生部10の構成について説明する。
The configuration of the
図11(a)に示されるように、プラズマ発生部10は、液体収容部15に配設された第2電極27を含む。第1実施形態と同様、第2電極27は、第1電極18よりも気体通路13により近い位置に配置されることが望ましい。第2電極27は、例えば、円形の銀の多孔質金属で構成される。第2電極27は、例えば、充填率が10%の銀の多孔質金属で構成される。第2電極27は、液体収容部15内において、隔壁部12に形成された気体通路13を覆うように配設される。
As shown in FIG. 11A, the
図11(b)の拡大図に示されるように、気体収容部14にて形成される第1移動方向23に沿った気体の流れは、第2電極27の多数の孔を通って液体収容部15に導入される。
As shown in the enlarged view of FIG. 11 (b), the gas flow along the
第2電極27に第1電極18よりも低い電位が印加された状態で電極18,27間での放電が生じるとき、第2電極27は、スパッタリング現象により銀の微小粒子19Bを放出する。放出された銀の微小粒子19Bは、気体収容部14にて形成される第1移動方向23に沿った気体の流れに沿って、第2電極27の多数の孔を通って液体収容部15に導入される。
When a discharge occurs between the
第4実施形態のプラズマ発生装置1は、第1実施形態のプラズマ発生装置1が奏する(1)と同様の効果を奏する。すなわち、第4実施形態でも、第2電極27に第1電極18よりも低い電位を印加して放電を生じさせることにより、オゾンやラジカル等とともに銀の微小粒子19Bを生成して液体収容部15に導入することができる旨の効果を奏する。また、プラズマ発生装置1は、以下の効果を奏する。
The
(5)プラズマ発生装置1は、プラズマ発生部10、プラズマ電源部2、および気体供給部3を含む。プラズマ発生部10は、ケース部材11の内部空間が隔壁部12により仕切られた気体収容部14および液体収容部15を含む。プラズマ発生部10は、気体収容部14に配設された第1電極18を含む。プラズマ発生部10は、液体収容部15に配設された第2電極27を含む。第2電極27は、通気性を有する銀の多孔質金属により形成される。プラズマ電源部2は、第2電極27の電位が第1電極18の電位よりも低くなるように第1および第2電極18,27間に所定の電圧を印加して、第1電極18と第2電極27との間で放電を生じさせる。この構成によれば、プラズマ発生部10がプラズマを生成し、液体20にヒドロキシラジカルを生成するとき、第2電極27は、銀の微小粒子19Bを放出することができる。放出された銀の微小粒子19Bは、第2電極27の多数の空間(孔)を通って液体収容部15に導入される。この構成では、プラズマ発生装置1は、液体収容部15に収容される液体から析出したケイ素およびカルシュウム等による気体通路13の詰まりを第2電極27によって抑制することができる。このため、プラズマ発生装置1は、ヒドロキシラジカル等の生成および銀の微小粒子19Bの放出を安定して行うことができる。
(5) The
(その他の実施形態)
本プラズマ発生装置および本洗浄装置は、第1~第4実施形態以外の実施形態を含む。以下、本プラズマ発生装置および本洗浄装置のその他の実施形態としての第1~第4実施形態の変形例を示す。なお、以下の各変形例は、互いに組み合わせることもできる。
(Other embodiments)
The plasma generation apparatus and the cleaning apparatus include embodiments other than the first to fourth embodiments. Hereinafter, modified examples of the first to fourth embodiments as other embodiments of the present plasma generating apparatus and the present cleaning apparatus will be described. The following modifications can be combined with each other.
・第1実施形態のプラズマ発生装置1は、気体通路13を有する隔壁部として隔壁部12を含む。ただし、隔壁部および気体通路13は、第1実施形態に示された構成に限られない。例えば、変形例のプラズマ発生装置1では、隔壁部がガラス板で形成される。この場合、例えば、写真製版とエッチングとによって、ガラス板に孔が形成される。この孔が気体通路13として機能する。ガラス板の孔径は、約1μm~10μm程度の微細孔である。または、ガラス板に代えて他の材料を用いてもよい。
-The
・第1実施形態のプラズマ発生装置1では、気体供給部3が、大気中の気体を気体収容部14に供給する。ただし、気体供給部3によって供給される気体は、第1実施形態に示された内容に限られない。例えば、変形例のプラズマ発生装置1では、気体供給部3は、大気とは酸素濃度が異なる気体を供給する。または、気体供給部3は気種選択部を有してもよい。この場合、気種選択部は、大気中の気体および他の複数種類の気体の中から1つを選択的に供給するように構成される。
In the
・第1実施形態のプラズマ発生装置1では、隔壁部としての隔壁部12が気体通路13有する。ただし、隔壁部および気体通路13の構成は、第1実施形態に示された構成に限られない。例えば、変形例のプラズマ発生装置1では、隔壁部が複数の気体通路を有する。
-In the
・第2実施形態の洗浄装置30は、受皿60に受皿排出口63を有する。ただし、受皿の構成は、第2実施形態に示された構成に限られない。例えば、変形例の洗浄装置30は、受皿60に排水溝を形成し、液体を排水経路92から排出する。
-The washing | cleaning
・第4実施形態のプラズマ発生装置1では、第2電極27が通気性を有する多孔質金属で構成される。ただし、第2電極27の構成は、第4実施形態に示された構成に限られない。例えば、変形例のプラズマ発生装置1では、第2電極27がメッシュ状に構成される。
-In the
Claims (7)
前記プラズマ発生部は、
少なくとも水を含む液体を収容する液体収容部と、
気体を収容する気体収容部と、
前記液体収容部と前記気体収容部とを隔てるとともに、前記気体収容部に収容された前記気体を前記液体収容部へ導く気体通路を有する隔壁部と、
前記気体収容部内に配設される第1電極と、
少なくとも前記第1電極と対になる部分が前記液体収容部内の液体と接触するように前記液体収容部内に配設される第2電極と、を含み、
前記気体供給部は、少なくとも酸素を含む前記気体を前記気体収容部に供給し、
前記プラズマ電源部は、前記第1電極および前記第2電極に供給する電位を発生するとともに、前記第2電極の電位を前記第1電極の電位よりも低い値に設定し、
前記第2電極は、スパッタリング現象を起こす材料、材料化合物、および材料混合物のいずれかにより形成される、
プラズマ発生装置。 A plasma generator comprising a plasma generator, a plasma power supply, and a gas supply,
The plasma generator is
A liquid container for containing a liquid containing at least water;
A gas container for containing gas;
A partition wall having a gas passage for separating the liquid container and the gas container and guiding the gas stored in the gas container to the liquid container;
A first electrode disposed in the gas accommodating portion;
A second electrode disposed in the liquid container so that at least a portion paired with the first electrode is in contact with the liquid in the liquid container;
The gas supply unit supplies the gas containing at least oxygen to the gas storage unit,
The plasma power supply unit generates a potential to be supplied to the first electrode and the second electrode, and sets the potential of the second electrode to a value lower than the potential of the first electrode,
The second electrode is formed of any one of a material that causes a sputtering phenomenon, a material compound, and a material mixture.
Plasma generator.
請求項1に記載のプラズマ発生装置。 The second electrode is formed of any one of silver, a silver compound, and a silver mixture as a material, a material compound, and a material mixture that cause the sputtering phenomenon.
The plasma generator according to claim 1.
請求項1または2に記載のプラズマ発生装置。 The second electrode is formed of any one of a material that causes the sputtering phenomenon, a material compound, and a material mixture, and includes a facing surface facing at least a gas passing through the gas passage, and the surface roughness of the facing surface Has a maximum height value greater than 10 μm,
The plasma generator according to claim 1 or 2.
請求項1または2に記載のプラズマ発生装置。 The second electrode has air permeability, and the gas stored in the gas storage part passes through the second electrode and is supplied to the liquid storage part.
The plasma generator according to claim 1 or 2.
前記洗浄装置は、前記スパッタリング現象により前記第2電極から微小粒子を放出して被洗浄処理対象部に付着させる、
洗浄装置。 A cleaning apparatus comprising the plasma generator according to any one of claims 1 to 4,
The cleaning device emits fine particles from the second electrode due to the sputtering phenomenon and adheres to the target portion to be cleaned.
Cleaning device.
請求項5に記載の洗浄装置。 The cleaning apparatus is applicable to cleaning of a hair removal tool, and attaches the microparticles from the second electrode to the cleaning target part provided in the hair removal tool.
The cleaning apparatus according to claim 5.
前記摺動面の少なくとも一部が、前記第2電極から放出される前記微小粒子の移動を妨げない位置に配置される、
請求項6に記載の洗浄装置。 The hair removal tool includes a blade portion having a sliding surface,
At least a part of the sliding surface is disposed at a position that does not hinder the movement of the microparticles emitted from the second electrode.
The cleaning apparatus according to claim 6.
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Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008178870A (en) * | 2006-12-28 | 2008-08-07 | Sharp Corp | Plasma generating apparatus, radical generating method, and cleaning and purifying apparatus |
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|---|---|---|---|---|
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008178870A (en) * | 2006-12-28 | 2008-08-07 | Sharp Corp | Plasma generating apparatus, radical generating method, and cleaning and purifying apparatus |
| JP2012043769A (en) | 2010-07-21 | 2012-03-01 | Panasonic Corp | Plasma generating device and method for producing radical, washing and cleaning device using the same, and compact electrical appliance |
| WO2013080435A1 (en) * | 2011-11-30 | 2013-06-06 | パナソニック株式会社 | Cleaning device |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
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| SATIKO OKAZAKI: "20th JSPF Annual Meeting", article "Atmospheric Pressure Glow Discharge Plasma and its Applications" |
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