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WO2014050769A1 - 防眩膜を備える太陽電池モジュールおよびその製造方法、太陽電池用防眩膜およびその製造方法ならびに防眩膜形成用塗布液 - Google Patents

防眩膜を備える太陽電池モジュールおよびその製造方法、太陽電池用防眩膜およびその製造方法ならびに防眩膜形成用塗布液 Download PDF

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WO2014050769A1
WO2014050769A1 PCT/JP2013/075595 JP2013075595W WO2014050769A1 WO 2014050769 A1 WO2014050769 A1 WO 2014050769A1 JP 2013075595 W JP2013075595 W JP 2013075595W WO 2014050769 A1 WO2014050769 A1 WO 2014050769A1
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WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
solar cell
antiglare film
film
cell module
fine particles
Prior art date
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PCT/JP2013/075595
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
直人 飯塚
清水　一弘
武良 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaneka Corp
Original Assignee
Kaneka Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kaneka Corp filed Critical Kaneka Corp
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Priority to EP13840857.0A priority patent/EP2903031B1/en
Priority to JP2014538473A priority patent/JP6193244B2/ja
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Ceased legal-status Critical Current

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    • H10F77/30—Coatings
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    • G—PHYSICS
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    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy

Definitions

  • the present invention relates to a solar cell module having an antiglare film and a method for producing the same.
  • the present invention also relates to an antiglare film for a solar cell module, a method for producing the same, and a coating solution used for forming the antiglare film.
  • a solar cell is a solar cell in which an electromotive force element (solar cell) composed of single crystal silicon, a silicon-based thin film, a compound semiconductor, or the like is sealed with a resin between a front cover glass and a back cover film. Served as a module.
  • an electromotive force element solar cell
  • a transparent electrode layer, a semiconductor layer, and a second electrode layer are sequentially formed on a transparent insulating substrate such as glass while patterning each layer by a laser scribe method from the light incident side.
  • Substrate-integrated thin film solar cell modules obtained in this way have also been proposed.
  • an antiglare film a concavo-convex shape film containing inorganic fine particles in a binder on a glass surface after modularizing a solar battery cell
  • Patent Document 1 and Patent Patent Document 2
  • Reference 2 It has also been proposed to increase the amount of light taken into the solar cell by forming an antireflection layer containing spherical inorganic fine particles having a particle size of 50 nm to 200 nm in the binder on the glass surface (for example, Patent Document 3).
  • an antiglare film is formed by forming a film containing fine particles in an acrylic or urethane organic polymer matrix on the display surface (see, for example, Patent Document 4).
  • JP 2001-53316 A Japanese Patent Laid-Open No. 11-330508 WO2009 / 142156 International Publication Pamphlet JP 2004-4176 A
  • the solar cell module is generally installed on the solar radiation surface (south side in the case of the northern hemisphere) or the outer wall, and the reflected light from the solar cell module is mainly above the module installation location, that is, above the roof of the adjacent house. Reflected.
  • the provided solar cell module has not been put to practical use.
  • an object of the present invention is to provide a solar cell module in which an antiglare film having excellent adhesion and strength and a high antiglare effect is formed on a substrate surface, and a method for producing the same. To do.
  • the present invention relates to a solar cell module including at least one solar battery cell on a first main surface of a transparent insulating substrate and an antiglare film on a second main surface of the transparent insulating substrate.
  • the antiglare film is a continuous film containing transparent inorganic fine particles in an inorganic binder and having no cracks.
  • the antiglare film preferably has an average film thickness d 1 of 500 nm to 2000 nm and a maximum surface height Ry 1 of 1000 nm to 10000 nm.
  • the antiglare film preferably has a surface arithmetic average roughness Ra of 250 nm to 2000 nm and an uneven period Sm 1 of 1 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • the ratio Ry 1 / d 1 between the anti-glare film thickness d 1 and the maximum height Ry 1 is preferably 1-20.
  • the inorganic binder is preferably composed mainly of silicon oxide containing Si—O bonds obtained by hydrolysis of Si—H bonds and Si—N bonds.
  • the inorganic fine particles are non-spherical particles having a crushed surface, and the average primary particle diameter calculated from cross-sectional observation of the antiglare film is preferably 0.1 ⁇ m to 5.0 ⁇ m.
  • the inorganic fine particles those containing SiO 2 as a main component are preferably used.
  • the solar cell module of the present invention may further include a second inorganic layer on the surface of the antiglare film opposite to the transparent insulating substrate.
  • the second inorganic layer for example, average film thickness d 2 is 50 nm ⁇ 1000 nm, has a smaller refractive index than the anti Mabayumaku. According to such a configuration, since the second inorganic layer acts as an antireflection layer and reflection loss is reduced, conversion characteristics (particularly short-circuit current density) can be improved.
  • the solar battery cell includes a first electrode layer, a photoelectric conversion unit, and a second electrode layer from the transparent insulating substrate side, and a linear separation groove is provided in each of these layers. And being divided into a plurality of cells, and the plurality of cells are electrically connected in series or in parallel.
  • the separation groove is formed, for example, by irradiating laser light from the second main surface side of the transparent substrate.
  • the solar battery cell may be a crystalline silicon solar battery cell including a crystalline silicon substrate.
  • the solar cell module of the present invention can be made into a color solar cell module by further containing a pigment or dye in the antiglare film. Further, an anti-glare region in which the anti-glare film is formed on the surface of the transparent insulating substrate by forming an anti-glare film after a part of the surface of the transparent insulating substrate is coated with a mask material, and an anti-glare film It can also be set as an anti-glare pattern module provided with the non-anti-glare region in which no is formed.
  • this invention relates to the manufacturing method of the said solar cell module, and the formation method of the glare-proof film for solar cell modules.
  • the second main surface of the transparent insulating substrate is antiglare.
  • An antiglare film forming step for forming a film is performed.
  • an antiglare film is formed by applying a coating liquid for forming an antiglare film on the second main surface of the transparent insulating substrate, and then drying the solvent in the coating liquid and curing the polysilazane.
  • the coating solution for forming an antiglare film preferably contains 0.01 to 20% by weight of inorganic fine particles, 0.1 to 20% by weight of polysilazane, and a solvent.
  • the coating solution is prepared, for example, by adding inorganic fine particles having an average secondary particle size of 0.1 ⁇ m to 10 ⁇ m to the solution.
  • the cell formation step is performed indoors, such as in a clean room, and then the substrate after the cell formation is carried out outdoors, and the antiglare film formation step is performed outdoors.
  • the antiglare film is formed by applying the above coating liquid onto the transparent insulating substrate by a spray method.
  • the present invention relates to a coating solution used for forming the antiglare film.
  • a solar cell module having an antiglare film having high antiglare properties and excellent physical durability (hardness) and high adhesion to a substrate can be obtained.
  • the solar cell module of the present invention can contribute to reduction of light pollution.
  • the antiglare film can be formed on the substrate surface of the solar cell without performing high-temperature heating, so that the power generation characteristics of the solar battery cell are maintained, An antiglare film can be formed.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a solar cell module according to an embodiment of the present invention.
  • This solar cell module 100 includes a transparent insulating substrate 1 and solar cells 5 formed on the first main surface of the transparent insulating substrate 1, and an antiglare film 10 is formed on the second main surface of the translucent substrate. Prepare.
  • the solar battery cell 5 includes a first electrode layer 2, a photoelectric conversion unit 3, and a second electrode layer 4 from the transparent insulating substrate 1 side.
  • the solar cell 5 is divided into a plurality of regions, and each region is electrically connected in series with each other.
  • the filling resin 6 and the back surface sealing plate 7 are provided on the second electrode layer 4.
  • the solar cell thus sealed is attached with a frame 8 used to hold the transparent insulating substrate 1, the filling resin 6, the back surface sealing plate 7 and the like, and to be attached to a frame such as a roof. ing.
  • the embodiment relating to the thin film solar cell module shown in FIG. 1 will be mainly described.
  • the present invention is applied to various solar cell modules such as a crystalline silicon solar cell module using a crystalline silicon substrate. Is also applicable.
  • the transparent insulating substrate 1 As the transparent insulating substrate 1, a glass plate, a plate member made of a transparent resin, a sheet member, or the like is used. In particular, a glass plate is preferable because it has high transmittance and is inexpensive.
  • the solar battery cell 5 formed on the main surface opposite to the surface on which the antiglare film 10 is formed on the transparent insulating substrate 1 is not particularly limited.
  • a crystalline silicon solar cell using a single crystal silicon substrate or a polycrystalline silicon substrate. Examples include batteries, silicon-based thin film solar cells using amorphous silicon thin films, crystalline silicon thin films, and the like, compound solar cells such as CIGS and CIS, organic thin film solar cells, and dye-sensitized solar cells.
  • a first electrode layer 2 a photoelectric conversion unit 3, and a second electrode layer 4 are sequentially formed on a transparent insulating substrate 1.
  • a transparent conductive metal oxide such as ITO, SnO 2 , or ZnO is preferably used.
  • silicon-based semiconductor thin films such as amorphous silicon, amorphous silicon carbide, amorphous silicon germanium, and crystalline silicon are combined in a pin type, nip type, ni type, pn type, and the like.
  • a semiconductor junction is used.
  • the photoelectric conversion unit 3 may be a tandem type having a plurality of pn junctions, pin junctions, and the like.
  • a reflective metal layer such as Ag or Al, a composite layer of a metal layer and a conductive metal oxide layer, or the like is used.
  • a solar cell module includes a plurality of solar cells, and each solar cell is electrically connected in series or in parallel.
  • a linear separation groove is provided in each layer of the first electrode layer 2, the photoelectric conversion unit 3, and the second electrode layer 4, and a plurality of cells are formed by dividing each layer into a plurality of regions.
  • Each cell is preferably electrically connected.
  • FIG. 1 shows a configuration in which three photoelectric conversion cells are connected in series.
  • an integrated solar cell in which each layer is divided into a plurality of cells by separation grooves can be formed by sequentially repeating the formation of each layer and the formation of separation grooves by patterning means such as laser scribing.
  • the integrated solar cell 5 shown in FIG. 1 is manufactured by the following process.
  • the photoelectric conversion unit 3 is formed on the first electrode layer 2. Thereafter, a separation groove is formed in the photoelectric conversion unit 3 and divided into predetermined patterns by laser scribing with a laser incident from the transparent insulating substrate 1 side. Thereafter, a second electrode layer is formed on the photoelectric conversion unit 3, and a separation groove is formed by blowing off the second electrode layer 4 together with the photoelectric conversion unit 3 by laser scribing with a laser incident from the transparent insulating substrate 1 side.
  • the formation of the antiglare film on the transparent insulating substrate 1 is preferably performed after laser scribing.
  • the filling resin 6 and the back surface sealing board 7 are provided.
  • the filling resin 6 silicon, ethylene vinyl acetate, polyvinyl butyral or the like is used, and as the back surface sealing plate, a fluorine resin film, a polyethylene terephthalate film, a metal film such as aluminum, a laminate thereof, or A film having a multilayer structure in which a thin film such as SiO 2 is laminated on these films is used.
  • a conductive semiconductor layer, an electrode, or the like is formed on the silicon substrate to form a cell.
  • a plurality of cells are arranged on a transparent insulating substrate via a sealing agent such as a filling resin, and each cell is electrically connected via an interconnector such as a TAB, whereby modularization is performed.
  • An antiglare film 10 is provided on the light incident surface side of the transparent insulating substrate 1.
  • the formation of the antiglare film is preferably performed after the formation of the solar battery cell 5 and integration by laser scribing.
  • the antiglare film can be formed at any time after laser scribing, and may be immediately after scribing, after sealing with the filling resin 6 and the back surface sealing plate 7, or after the module is installed on the roof or wall surface. .
  • the solar cell module before the anti-glare film is formed on the substrate surface is outdoors (for example, in the premises of the housing where the module is installed).
  • An anti-glare film can also be formed after moving to, and before installing on a roof etc.
  • an antiglare film is selectively formed only on a solar cell module installed in an orientation opposite to the solar radiation surface (for example, the north side in the case of the northern hemisphere) to prevent light pollution. Etc. are also possible.
  • the surface on which the antiglare film 10 is formed is an incident surface of sunlight, and the antiglare film 10 has surface irregularities.
  • the antiglare film 10 having surface irregularities on the light incident surface side of the transparent insulating substrate 1 sunlight reflected on the surface of the solar cell module is irregularly reflected in an unspecified direction.
  • the scattered light that is irregularly reflected is not a parallel light beam, and the light reflected by the solar cell module is blurred as a whole, so that light pollution is suppressed.
  • the antiglare film 10 contains an inorganic binder 11 and inorganic fine particles 12.
  • the inorganic fine particles 12 non-spherical particles having a crushed surface are used.
  • Non-spherical fine particles having a pulverized surface are nonuniform in particle size and shape, and therefore easily reflect light irregularly.
  • the inorganic binder 11 serves to improve the adhesion strength between the fine particles and between the fine particles and the transparent insulating substrate.
  • the material of the inorganic fine particles 12 examples include silicon oxide (SiO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), zirconium oxide (ZrO 2 ), indium tin oxide (ITO), and magnesium fluoride (MgF). 2 ) etc. are preferred. Among these, a material having a refractive index difference close to that of the binder 11 is preferable, and a material mainly composed of silicon oxide is most preferably used. As the inorganic fine particles having a pulverized surface, for example, glass frit (powder glass) is preferably used.
  • the inorganic fine particles 12 preferably have a primary average particle size of 0.1 ⁇ m to 5.0 ⁇ m, more preferably 0.5 ⁇ m to 4.0 ⁇ m, and further preferably 1.0 ⁇ m to 3.0 ⁇ m. preferable.
  • the primary average particle diameter of the fine particles is calculated from the average value obtained by obtaining the particle diameter of each particle from the cross-sectional observation image of the antiglare film.
  • the particle diameter of each particle is defined by the diameter of a circle having the same area as the projected area of the particle (projected area circle equivalent diameter, Heywood diameter).
  • an antireflection film having a curved uneven surface on the light incident surface side of a substrate by using spherical fine particles made of acrylic, silica, or the like. Since such an antireflection film has a spherical curved surface, in addition to reducing light loss due to irregular reflection, fine particles are likely to be regularly arranged, and the antireflection effect tends to be enhanced.
  • an antireflection layer is provided on the substrate surface, the amount of reflected light is reduced, but it is difficult to sufficiently suppress light pollution because it is difficult to obtain an effect of irregularly reflecting light in an unspecified direction. is there.
  • the surface of the antiglare film 10 since the surface of the antiglare film 10 has fine particles 12 having a pulverized surface, the size and shape of the irregularities formed on the surface of the antiglare film are random, causing irregular reflection of light. Cheap. Therefore, the reflected light from the antiglare film 10 on the surface of the solar cell module is blurred as a whole, the reflected light is reduced from being irradiated in a specific direction, and light pollution is suppressed.
  • silicon oxide is preferably used as the inorganic binder 11 of the antiglare film 10, and among these, silicon oxide containing Si—O bonds obtained by hydrolysis of Si—H bonds and Si—N bonds. A thing is used suitably.
  • the silicon oxide contains Si—O bond by hydrolysis of Si—H bond or Si—N bond, in addition to the high transparency of the binder, adhesion with a transparent insulating substrate such as glass, Excellent light resistance and hardness.
  • the present inventors formed an antiglare film using a sol-gel material such as a partially hydrolyzed condensate of alkyl silicate, which has been conventionally proposed as a binder material for an antiglare film
  • a sol-gel material such as a partially hydrolyzed condensate of alkyl silicate
  • the obtained silicon oxide A large number of cracks occurred in the material film, and it was inferior in hardness and durability. This is due to the stress of the interface between the transparent insulating substrate (glass plate) and the antiglare film due to the shrinkage of the material when silicon oxide is formed by reaction hardening and the influence of subsequent heat and moisture. was estimated to have occurred.
  • particles having a crushed surface such as glass frit are more likely to be randomly arranged in the antiglare film than the spherical particles, and the antiglare film is in a state where a part of the fine particles are exposed from the film surface. Easy to form. For this reason, when alkyl silicate or the like is used as the binder material for the antiglare film, when an external force such as frictional force is applied to the antiglare film, there is a problem that fine particles are peeled off from the surface of the antiglare film.
  • silicon oxide containing Si—O bonds obtained by hydrolysis of Si—H bonds or Si—N bonds is free of fine particles having a ground surface such as glass frit. Since it can be firmly fixed inside, it is possible to form an antiglare film having excellent friction resistance and no cracks.
  • the antiglare film 10 is preferably a continuous film that does not have cracks.
  • “No cracks” means that 5 points are randomly extracted from the range of 10 cm square of the antiglare film, and a 5000 times SEM plane observation is performed. It refers to those where no cracks are observed.
  • the fact that Si—O bond is obtained by hydrolysis of Si—H bond is that there is a peak near 2160 cm ⁇ 1 derived from Si—H bond in the infrared spectrum immediately after application of the binder material, and the peak There can be confirmed by well as decreases over time or lost, around 1060 cm -1 derived from Si-O bond, a peak around 800 cm -1 and around 450 cm -1 occurrence increases.
  • the Si—O bond can be obtained by the hydrolysis of the Si—N bond, indicating that there is a peak near 840 cm ⁇ 1 derived from the Si—N bond in the infrared spectrum immediately after application of the binder material. and together with the peaks decreases over time or lost, around 1060 cm -1 derived from Si-O bond can be confirmed by a peak around 800 cm -1 and around 450 cm -1 appearance, increases.
  • the binder material is a hydrolyzed product of perhydropolysilazane (— [SiH 2 —NH] n —)
  • the peak around 3370 cm ⁇ 1 derived from the N—H bond decreases with time. Disappear.
  • the film thickness d 1 of the antiglare film 10 is preferably 0.5 ⁇ m to 2 ⁇ m, more preferably 0.75 ⁇ m to 1.75 ⁇ m, and even more preferably 1.0 ⁇ m to 1.5 ⁇ m. If the thickness d 1 is 0.5 ⁇ m or more, it can be firmly adhered to irregular particles average primary particle size of greater than 0.1 ⁇ m on the substrate surface. If the film thickness d 1 is 2 ⁇ m or less, surface irregularities that follow the shape of the fine particles are easily formed on the surface of the anti-glare film 10, so that a film having high anti-glare properties can be obtained. When the antiglare film 10 is formed by a coating method, the film thickness d 1 can be calculated from the solid content concentration, the coating amount, and the coating area of the coating liquid for forming the antiglare film.
  • the maximum height Ry 1 of the surface of the antiglare film 10 is preferably 1 ⁇ m to 10 ⁇ m, more preferably 3 ⁇ m to 8 ⁇ m, and even more preferably 5 ⁇ m to 6 ⁇ m.
  • the maximum height Ry 1 is a value represented by the distance between the peak line and the valley bottom line of the extracted portion of a roughness curve obtained by a laser microscope, which is extracted by a reference length (0.8 m) in the direction of the average line. is there.
  • the arithmetic average roughness Ra of the antiglare film 10 surface is preferably 250 nm to 2000 nm. 300 nm to 1500 nm is more preferable, 500 nm to 1250 nm is more preferable, and 750 nm to 1000 nm is still more preferable.
  • the irregularity period Sm on the surface of the antiglare film 10 is preferably 1 ⁇ m to 30 ⁇ m, more preferably 5 ⁇ m to 25 ⁇ m, and further preferably 10 ⁇ m to 20 ⁇ m.
  • the concavo-convex cycle Sm is an average value of intervals between peak-valley cycles obtained from an intersection where a roughness curve obtained by a laser microscope intersects an average line.
  • the maximum height Ry 1 , the arithmetic average roughness Ra 1 , and the uneven period Sm 1 are measured in accordance with JIS B0601-1994, except for the conditions described here.
  • the arithmetic average roughness Ra and the uneven period Sm can be adjusted by changing the content of the fine particles with respect to the binder and the particle diameter of the fine particles, for example. As the particle size of the fine particles increases, the arithmetic average roughness Ra tends to increase, and as the content of the fine particles increases, the unevenness period Sm tends to decrease.
  • Thickness d 1 and a ratio Ry 1 / d 1 between the maximum height Ry 1 of anti-glare film 10 is 1 or more.
  • Ry 1 / d 1 is 1 or more, it means that the difference in height of the surface unevenness is equal to or greater than the average film thickness of the antiglare film. It means having.
  • the anti-glare film 10 since the anti-glare film 10 has highly uneven surface irregularities, a high irregular reflection effect is obtained.
  • an antiglare film having a large surface undulation as described above can be obtained by using non-spherical fine particles having a pulverized surface.
  • Ry 1 / d 1 is preferably 1 to 20, more preferably 5 to 16, and further preferably 9 to 12.
  • a method for forming the antiglare film 10 on the transparent insulating substrate 1 is not particularly limited, but a method of applying a solution containing a silicon oxide binder or a precursor thereof and fine particles on the transparent insulating substrate 1 is suitable.
  • the coating method include a dipping method, a spin coating method, a bar coating method, a die coating method, a roll coating method (printing method), a flow coating method, and a spray method.
  • the spray method is preferable because it does not require special equipment and an anti-glare film can be easily formed on the insulating substrate even after sealing the cell or installing the module on a roof or the like.
  • polymers containing Si—H bonds and Si—N bonds are preferably used as the silicon oxide precursor contained in the coating solution for forming the antiglare film 10.
  • Polysilazane is preferred as the polymer containing Si—H bonds and Si—N bonds.
  • Polysilazane is a polymer whose basic unit is a Si—N bond (silazane bond). It is a material that reacts with moisture in the atmosphere to hydrolyze Si—H bonds and Si—N bonds and convert them into SiO 2. is there.
  • Polysilazanes include perhydropolysilazanes that do not have an organic group in the molecule and are composed of repeating basic units represented by — [SiH 2 —NH] —, and a part of alkyl bonded to hydrogen bonded to silicon and / or nitrogen. And organopolysilazane substituted with an organic group such as a group.
  • perhydropolysilazane is preferably used from the viewpoint of increasing the content of Si—O bonds derived from Si—H bonds and obtaining an antiglare film having excellent adhesion and strength. Further, a mixture of perhydropolysilazane and organopolysilazane may be used.
  • a coating solution containing 0.01 to 20% by weight of inorganic fine particles, 0.1 to 20% by weight of polysilazane and a solvent is preferably used.
  • the solvent those that dissolve polysilazane and are excellent in dispersibility of inorganic fine particles are preferably used, and xylene, dibutyl ether, and the like are particularly preferably used.
  • the concentration of polysilazane in the coating solution for forming an antiglare film is preferably 0.1% by weight to 20% by weight, more preferably 1% by weight to 10% by weight, and further preferably 2% by weight to 5% by weight.
  • the coating solution has a solution viscosity suitable for coating by a spray method or the like, and an antiglare film having a thickness of 0.5 ⁇ m or more can be stably formed.
  • the concentration of the inorganic fine particles in the coating solution for forming an antiglare film is preferably 0.01% by weight to 20% by weight, more preferably 0.1% by weight to 10% by weight, and further preferably 1% by weight to 5% by weight. . If the fine particle concentration in the coating solution is within the above range, the fine particles are appropriately dispersed in the polysilazane, and an antiglare film having excellent antiglare properties can be easily obtained.
  • inorganic fine particles in the antiglare film inorganic fine particles having a pulverized surface are used as described above, and glass frit is preferably used.
  • glass frit or the like having a primary particle diameter of about 1 ⁇ m aggregates in air and in solution to form secondary particles.
  • the fine particles used in the coating solution preferably have an average secondary particle size of 0.1 ⁇ m to 10 ⁇ m, more preferably 0.5 ⁇ m to 7.5 ⁇ m, and even more preferably 1 ⁇ m to 5 ⁇ m.
  • the average secondary particle diameter of the fine particles is measured by a dynamic light scattering method.
  • polysilazane is excellent in embedding in fine gaps, and therefore can penetrate into fine gaps between primary particles even when fine particles are aggregated. Therefore, according to the present invention, despite the use of irregularly shaped fine particles having a crushed surface, the adhesiveness between the transparent insulating substrate 1 and the binder 11 and the inorganic fine particles 12 is excellent, and cracks are present.
  • An antiglare film 10 having no continuous film can be formed.
  • the content of the inorganic fine particles in the coating solution for forming an antiglare film is preferably 10 to 200 parts by weight, more preferably 20 to 100 parts by weight, and more preferably 40 to 80 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the binder. Part by weight is more preferred.
  • the maximum height Ry 1 of the surface of the antiglare film 10 after coating and the ratio Ry 1 / d 1 between the film thickness d 1 and the maximum height Ry 1 increase. There is a tendency for scattering to be enhanced.
  • the relative content of the fine particles is excessively large, the hardness in the antiglare film may be lowered, or the fine particles may be insufficiently fixed in the antiglare film.
  • the coating solution used for forming the antiglare film may contain components other than the binder, fine particles and solvent.
  • a catalyst can be contained in the coating solution.
  • the catalyst examples include 1-methylpiperazine, 1-methylpiperidine, 4,4′-trimethylenedipiperidine, 4,4′-trimethylenebis (1-methylpiperidine), diazabicyclo- [2,2,2] octane, Cis-2,6-dimethylpiperazine, 4- (4-methylpiperidine) pyridine, pyridine, dipyridine, ⁇ -picoline, ⁇ -picoline, ⁇ -picoline, piperidine, lutidine, pyrimidine, pyridazine, 4,4'-trimethylene N-heterocyclic compounds such as dipyridine, 2- (methylamino) pyridine, pyrazine, quinoline, quinoxaline, triazine, pyrrole, 3-pyrroline, imidazole, triazole, tetrazole, 1-methylpyrrolidine; methylamine, dimethylamine, trimethylamine , Ethylamine, diethylamine, Ethylamine, propy
  • organic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, maleic acid, stearic acid, and inorganic acids include hydrochloric acid, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, hydrogen peroxide, chloric acid, hypochlorous acid, etc. Is mentioned.
  • the metal carboxylate has the formula: (RCOO) nM [wherein R represents an aliphatic group or an alicyclic group and has 1 to 22 carbon atoms, and M represents Ni, Ti, Pt, Rh, Co.
  • the metal carboxylate may be an anhydride or a hydrate.
  • An acetylacetona complex is a complex in which an anion generated by acid dissociation from acetylacetone (2,4-pentadione) is coordinated to a metal atom, and generally has the formula (CH 3 COCHCOCH 3 ) nM [wherein M represents an n-valent metal. ] Is represented.
  • Suitable metals M include, for example, nickel, platinum, palladium, aluminum, rhodium and the like.
  • organic metal compounds such as peroxide, metal chloride, ferrocene, zirconocene and the like can also be used.
  • the content of the catalyst in the coating solution is preferably about 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polysilazane.
  • a colored antiglare film can also be formed by adding a pigment or a dye to the antiglare film forming coating solution.
  • the kind of the pigment or dye is not particularly limited, but the pigment is preferably one that can be well dispersed in the solvent of the coating solution, and the dye is preferably one that dissolves in the solvent of the coating solution.
  • the particle diameter of the pigment is preferably small, and preferably about 50 nm to 200 nm.
  • the content of the dye or pigment varies depending on the color to be colored and the type of the dye / pigment, but is preferably about 30 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the solid content of the antiglare film.
  • a color solar cell module as shown in FIG. 3 can be produced by adding a pigment or a dye to the antiglare film 10 and coloring the antiglare film, thereby improving the design of the module or design variations. Can be expanded. Moreover, since the anti-glare film 10 has fine particles, the color developability of pigments and dyes tends to be improved. Therefore, by adding a pigment or a dye to the antiglare film to form a colored layer, a colored antiglare film having excellent colorability and clear color development can be obtained.
  • an appropriate method such as a spray method can be employed as described above.
  • Polysilazane can be cured even at room temperature and normal pressure. Therefore, it can be said that the spray method in which the coating solution can be stored in a sealed state until just before use is a coating method with excellent productivity.
  • the antiglare film 10 may be formed on the entire surface of the transparent insulating substrate 1 or may be formed on only a part thereof. For example, an anti-glare region where an anti-glare film is formed on the transparent insulating substrate 1 and a non-glare region where no anti-glare film is formed can be formed.
  • a pattern anti-glare film may be formed by forming the anti-glare region and the non-glare region into a predetermined pattern. For example, before forming the anti-glare film, a mask material such as a water-resistant tape is attached to a part of the surface of the transparent insulating substrate 1 to cover the substrate surface, and selectively anti-glare to an area where no mask is attached.
  • a solar cell module with a pattern antiglare film as shown in FIG. 4 may be formed.
  • the character portion is formed as a non-glare-proof region by forming an anti-glare film after covering the character portion with a mask material.
  • the character portion is made an anti-glare region by forming an anti-glare film after covering the portion other than the character with a mask material.
  • the shape of the anti-glare region or the non-glare region is not particularly limited, and may be a mark, a pattern, a pattern, or the like in addition to characters.
  • the wettability of the substrate surface can also be improved by performing alkali cleaning, serico cleaning, or the like on the substrate surface before applying the coating liquid to the transparent insulating substrate 1.
  • polysilazane is excellent in adhesion (affinity) with glass and has a high embedding property in fine gaps. Therefore, in the present invention, pretreatment for increasing the wettability of the substrate surface is performed. It can be omitted to increase productivity.
  • the pretreatment of the substrate can be omitted because the formation of the antiglare film is facilitated.
  • the solvent of the coating solution is dried and the polysilazane is cured to form an antiglare film.
  • the drying of the solvent in the coating liquid and the curing of the polysilazane are preferably performed at 80 ° C. or lower. . If drying and curing are performed at such a low temperature, it is possible to suppress a decrease in power generation characteristics due to thermal deterioration of the amorphous silicon semiconductor or the like in the solar battery cell. In particular, in the present invention, drying and curing are preferably performed at normal temperature and normal pressure.
  • drying and curing are preferably performed at room temperature and normal pressure from the viewpoint of facilitating the formation of the antiglare film.
  • the normal temperature / normal pressure refers to an environment in which no artificial heating, pressurization / depressurization from the outside is performed as in a normal outdoor environment.
  • the antiglare film thus obtained has excellent adhesion to the transparent insulating substrate 1 and is less prone to cracks and has high antiglare properties.
  • the pencil hardness by the pencil hardness test (JIS K5600) of the anti-glare film 10 is preferably 3H or more, more preferably 5H or more, and further preferably 6H or more.
  • the solar cell module of the present invention may further have another layer on the antiglare film 10.
  • a solar cell module including the second inorganic layer 20 on the antiglare film 10 is illustrated.
  • the second inorganic layer 21 can function as an antireflection layer, an antifouling layer, or the like.
  • an average thickness d 2 is 50 nm ⁇ 1000 nm, by providing the second inorganic layer 21 having a smaller refractive index than the anti-glare film, anti-glare properties by anti-glare film 10 While maintaining, it is possible to reduce the reflection of incident light at the interface and enhance the conversion characteristics.
  • the second inorganic layer 20 contains a binder 21.
  • the binder 21 constituting the second inorganic layer 20 is preferably a material having excellent adhesion to the antiglare film 10, and an inorganic binder is suitably used.
  • the inorganic binder 21 is not particularly limited as long as it has transparency, but a silicon-based compound is preferable, and silicon oxide is particularly preferable. If the binder 11 of the antiglare film and the binder 21 of the second inorganic layer are the same material, the adhesion at the interface is excellent and the fine particles 12 in the antiglare film 10 are prevented from being detached from the film surface. It is easy to obtain a high-strength film that can contribute.
  • the second inorganic layer 20 is preferably curable at a low temperature, more preferably at a normal temperature and a normal pressure. Therefore, as the binder 21 of the second inorganic layer, silicon oxide having polysilazane as a precursor (that is, silicon oxide containing Si—O bonds formed by hydrolysis of Si—H bonds or Si—N bonds) is used. Are particularly preferably used.
  • the average film thickness d2 of the second inorganic layer 20 is preferably 50 nm to 1000 nm, more preferably 75 nm to 750 nm, and further preferably 100 nm to 500 nm.
  • the average thickness d 1 and a ratio d 2 / d 1 between the average thickness d 2 of the second inorganic layer 20 of the anti-glare film 10 is preferably 0.025-0.5, 0.04 to 0 .4 is more preferable, and 0.06 to 0.3 is more preferable.
  • the film thickness d 2 of the second inorganic layer 20 is preferably 0.025 to 0.8 times the average primary particle size of the fine particles 12 in the antiglare film 10, and preferably 0.04 to 0. 0.7 times is more preferable, and 0.06 times to 0.6 times is more preferable.
  • the film thickness d 2 is solid concentration of the coating solution can be calculated from the coating weight and coating area.
  • the average refractive index n 2 of the second inorganic layer 20 is preferably smaller than the average refractive index n 1 of the antiglare film 10.
  • the difference between n 1 and n 2 is preferably 0.03 or more, more preferably 0.05 or more, still more preferably 0.07 or more, and particularly preferably 0.10 or more.
  • the average refractive index n 1 of the antiglare film 10 mainly made of silicon oxide is about 1.45 to 1.55, whereas the average refractive index n 2 of the second inorganic layer 20 is 1.45 or less. Is preferable, and 1.40 or less is more preferable.
  • the second inorganic layer has a lower refractive index by containing inorganic fine particles 22 having a lower refractive index than that of the binder 21 in the second inorganic layer 20.
  • the difference between the refractive index of the binder 21 and the refractive index of the fine particles 22 is preferably 0.05 or more, more preferably 0.10 or more, and further preferably 0.13 or more.
  • the average primary particle diameter calculated from cross-sectional observation is preferably 10 nm to 300 nm, more preferably 20 nm to 150 nm, and further preferably 30 nm to 100 nm. Further, from the viewpoint of relaxing the uneven shape on the surface of the antiglare film 10, the average primary particle size of the inorganic fine particles 22 in the second inorganic layer 20 is larger than the average primary particle size of the inorganic fine particles 12 in the antiglare film 10. Small is preferable.
  • the particle size of the fine particles 22 in the second inorganic layer 20 is 300 nm or less, the particle size is smaller than the main wavelength range of sunlight, so that light is refracted / reflected / scattered at the interface between the binder 21 and the fine particles 22. Is suppressed. Therefore, the refractive index of the second inorganic layer 20 is lowered, and loss due to reflection / scattering of the light incident on the antiglare film 50 is reduced. Moreover, if the particle size of the fine particles 22 is 10 nm or more, the fine particles 22 can be well dispersed in the film.
  • the material of the fine particles 22 in the second inorganic layer 20 is not particularly limited as long as the refractive index is lower than that of the binder 21.
  • a metal fluoride such as magnesium fluoride can be used assuming that the material itself has a low refractive index.
  • hollow particles can also be used as the low refractive particles. Since the hollow particles have an intermediate refractive index between the constituent material and air, they are suitable for lowering the refractive index.
  • hollow silica particles are preferable from the viewpoint of dispersibility in the film and strength, and among them, hollow colloidal silica particles are preferably used.
  • the content is not particularly limited, but from the viewpoint of achieving a low refractive index, the amount is preferably 10 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the binder, 30% by weight. More preferably, the amount is more preferably 40 parts by weight or more.
  • the upper limit of the content of the fine particles 22 is not particularly limited, but if the relative content of the fine particles 22 is excessively large, the hardness of the second inorganic layer may be lowered or the fine particles may not be firmly fixed. Therefore, the content of the fine particles 22 is preferably 300 parts by weight or less, more preferably 200 parts by weight or less, and further preferably 150 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the binder.
  • the method for forming the second inorganic layer 20 on the antiglare film 10 is not particularly limited.
  • a second inorganic layer is formed by applying a coating solution containing a binder and, if necessary, fine particles by a coating method such as a spray method, and drying and curing. it can.
  • an antiglare film is formed on a glass plate on which solar cells are not formed and evaluated in order to clarify the difference in characteristics of the antiglare film.
  • the abrasion resistance of the antiglare film was evaluated by the pencil hardness of the pencil strength test (JIS K5600).
  • the antiglare property is obtained by visually observing the reflected light of a white fluorescent lamp irradiated on a glass substrate on which an antiglare film is formed. It was evaluated in five stages, up to “what can be seen straight” (evaluation E: equivalent to a glass substrate on which no antiglare film is formed).
  • Example 1 Preparation of coating solution
  • a polysilazane-containing solution (trade name “AQUAMICA NAX120-20” manufactured by AZ Electromaterial Co., Ltd. containing perhydropolysilazane having a solid content of 20% by weight in dibutyl ether)
  • To 5 parts by weight 1.5 parts by weight of crushed glass powder (manufactured by Nippon Frit Co., Ltd., average secondary particle size: 1.0 ⁇ m) is added, and further 86.0 parts by weight of dibutyl ether is added as a solvent and applied.
  • a liquid was prepared.
  • This coating solution contained 60 parts by weight of fine particles with respect to 100 parts by weight of polysilazane, and the total solid content concentration was 4% by weight.
  • a transparent glass substrate of a solar cell having a thickness of 3.2 mm and a size of 1400 mm ⁇ 1100 mm was washed with tap water, and then water droplets were blown off with an air knife, followed by drying.
  • the above coating solution is applied to one surface of the glass substrate after drying by a spray method so that the film thickness after drying is 1.0 ⁇ m, and the coating film is dried at room temperature, and then left at room temperature for 24 hours. Then, the binder was cured to obtain an antiglare film containing silicon oxide as a main component.
  • the glass substrate on which the antiglare film was formed was left in the outdoor environment for 2 months, and the infrared spectrum was measured again. As a result, the peaks near 2160 cm ⁇ 1 , 840 cm ⁇ 1 , and 3370 cm ⁇ 1 disappeared. It was confirmed that Si—O bonds were generated by hydrolysis of Si—H bonds and Si—N bonds.
  • Example 2 A coating solution similar to that in Example 1 was prepared, and a glass substrate was immersed in this coating solution, and the coating was lifted at a speed of 500 mm / min and applied by a dipping method. Thereafter, in the same manner as in Example 1, the coating film was dried and cured at room temperature.
  • Example 3 In the adjustment of the coating solution, the coating solution was adjusted and the antiglare film was formed in the same manner as in Example 1 except that crushed glass powder having an average secondary particle size of 2.9 ⁇ m was used.
  • a coating solution for forming an antiglare film As a coating solution for forming an antiglare film, a mixture of 40.5 g of water, 281.9 g of isopropyl alcohol, and 35.4 g of 1.63% hydrochloric acid, an oligomer of tetraethylorthosilicate (TEOS) as a binder (degree of polymerization n: 4-6) 33.0 g and 27.0 g of pulverized glass powder (manufactured by Nippon Frit Co., Ltd., average secondary particle size: 1.0 ⁇ m) as fine particles were sequentially added and mixed with stirring at room temperature for 4 hours.
  • TEOS tetraethylorthosilicate
  • Example 2 On one surface of the same glass substrate as used in Example 1, the above coating solution was applied by a spray method so that the film thickness after drying was 2.5 ⁇ m, and baked at 200 ° C. for 60 minutes. The coating film was cured by performing a treatment to obtain an antiglare film containing silicon oxide as a main component.
  • the infrared spectrum of the binder portion (portion other than the fine particles) of the antiglare film was measured by microinfrared spectroscopy, no peak was confirmed in the vicinity of 2160 cm ⁇ 1 .
  • Comparative Example 2 A coating solution similar to that of Comparative Example 1 was prepared, and a glass substrate was immersed in this coating solution and pulled up at a speed of 500 mm / min and applied by a dipping method. Thereafter, similarly to Comparative Example 1, the coating film was dried and cured by heating.
  • Example 4 The coating liquid was the same as in Example 1 except that spherical glass beads (Potters Barotini, average secondary particle size: 5.0 ⁇ m) were used as the inorganic fine particles instead of the pulverized glass powder. And an antiglare film were formed.
  • spherical glass beads Pigments Barotini, average secondary particle size: 5.0 ⁇ m
  • Comparative Example 1 in which an anti-glare film was formed by spraying a coating solution containing tetraethylorthosilicate, which is a sol-gel material, as a binder, cracks originated from the vicinity of the surface of fine particles, (FIG. 16) confirmed film peeling.
  • Comparative Example 2 in which the antiglare film was formed by the dipping method, generation of cracks was suppressed as compared to Comparative Example 1, but SEM plane observation (FIG. 18) and cross-sectional observation (FIG. 18) at a magnification of 5000 times. In 19), cracks starting from the vicinity of the surface of the fine particles were confirmed.
  • Comparative Example 3 in which a UV curable resin was used as the binder, cracks as in Comparative Examples 1 and 2 were not confirmed, but the pencil hardness was HB, and the solar cell module that was exposed to the outdoor environment for a long time was prevented. The dazzling film lacked strength.
  • Comparative Example 4 a polysilazane material is used as a binder, and an antiglare film having Si—O bonds by hydrolysis of Si—H bonds and Si—N bonds is formed, so that cracks are generated in the antiglare films.
  • the pencil hardness was 6H or more and had a sufficient hardness.
  • the antiglare film of Comparative Example 4 was not sufficient in antiglare properties. This is considered to be because light is hardly diffusely reflected because the convex portions of the fine particles are curved as shown in the cross-sectional SEM photograph of FIG.
  • Examples 1 to 3 in which a polysilazane material is used as the binder and pulverized glass powder is used as the fine particles, the average particle size of the fine particles and the coating method of the coating liquid on the glass substrate are high. It can be seen that an antiglare film having antiglare properties and film strength is formed at the same time.
  • Example 3 in which the arithmetic average roughness of the antiglare film was increased to 0.8 ⁇ m by increasing the particle diameter of the fine particles showed high antiglare property.
  • Comparative Example 4 in which glass beads are used as the fine particles, the antiglare property is inferior although Ra 1 is larger than those in Examples 1 to 3. This is because, in Examples 1 to 3, light is irregularly reflected by using non-spherical particles whose surface is a pulverized surface as inorganic fine particles, which is higher in antiglare property than Comparative Example 4 in which spherical fine particles are used.

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Description

防眩膜を備える太陽電池モジュールおよびその製造方法、太陽電池用防眩膜およびその製造方法ならびに防眩膜形成用塗布液
　本発明は、防眩膜を備える太陽電池モジュールおよびその製造方法に関する。また、本発明は太陽電池モジュール用防眩膜およびその製造方法、ならびに防眩膜の形成に用いられる塗布液に関する。
　クリーンエネルギの利用がますます叫ばれるようになり、それに伴い太陽電池の利用の促進が図られている。太陽電池は、一般に、表面カバーガラスと裏面カバーフィルムとの間に、単結晶シリコンやシリコン系薄膜、化合物半導体等により構成される起電力素子（太陽電池セル）が樹脂で封止された太陽電池モジュールとして実用に供される。また、太陽電池モジュールのコストを低減する構造として、ガラス等の透明絶縁基板に、光入射側から透明電極層、半導体層、第二電極層を、レーザスクライブ法により各層をパターニングしながら順次形成して得られる、基板一体型薄膜系太陽電池モジュールも提案されている。
　近年では、市街地で住宅の屋根やビルの外壁に太陽電池モジュールを取付けて、その発電エネルギーを、住宅やオフィスで利用することが主流となりつつある。しかしながら、光入射側の表面にガラスを備える太陽電池モジュールを屋根や外壁に設置した場合、太陽光の入射角度等によっては、太陽電池モジュールによる反射光が隣接する家屋の中を照らす等の光公害の問題が生じ得ることが指摘されている。
　そこで、太陽電池モジュールのガラス基板の光入射面上に凹凸形状を形成し、光を乱反射させることで太陽光が同一方向に反射することを防止し、眩しさを抑制する検討が行われている。しかしながら、ガラス基板自体に凹凸形状を形成するためには、高温での加工やフッ酸等の反応性の高い溶液の使用が必要であるため、太陽電池セルのモジュール化後の凹凸形成は困難である。また、モジュール化前に予めガラス基板自体に加工を施すと、ガラス基板でレーザ光が散乱されるため、レーザスクライブによる電極層や半導体層のパターニングが困難であるとの問題がある。
　これに対して、太陽電池セルをモジュール化した後に、バインダ中に無機微粒子を含む凹凸形状膜（以下、防眩膜）をガラス表面に形成することが提案されている（例えば特許文献１および特許文献２）。また、バインダ中に粒径５０ｎｍ～２００ｎｍの球状無機微粒子を含む反射防止層をガラス表面に形成して、太陽電池セルへの光の取り込み量を増大させることも提案されている（例えば特許文献３）。これらの従来技術では、バインダとしてテトラエチルオルトケイ酸（ＴＥＯＳ）等のアルキルシリケ―トの部分加水分解縮合物を用い、微粒子として球状シリカ等を用いることが提案されている。
　上記の他、ディスプレー表面に、アクリル系やウレタン系等の有機ポリマーマトリクス中に微粒子を含む皮膜を形成して、防眩膜とすることが行われている（例えば特許文献４参照）。
特開２００１－５３３１６号公報 特開平１１－３３０５０８号公報 ＷＯ２００９／１４２１５６号国際公開パンフレット 特開２００４－４１７６号公報
　太陽電池モジュールは、一般に日射面（北半球であれば南側）の屋根や外壁に設置され、太陽電池モジュールによる反射光は、主にモジュールの設置箇所の上側、すなわち隣接する家屋の屋根よりも上方に反射される。上記のように、ガラス基板表面に防眩膜や反射防止層を設けることが提案されているが、これまで光公害が大きく取り上げられることは少なく、ガラス基板表面に防眩膜や反射防止層が設けられた太陽電池モジュールが実用化されるには至っていなかった。
　しかし、近年、出力増大等の目的や、屋根瓦一体型の太陽電池モジュールを用いた場合の屋根全体としての統一感を持たせる目的で、日射面以外（例えば北面）にも太陽電池モジュールが設置されることが多くなっている。そのため、太陽電池モジュールに防眩性を付与することが急務となっている。かかる観点から、本発明者らが検討を行ったところ、特許文献３に開示されているような反射防止膜は、主に垂直入射光の反射量を低減させる目的で設計されているため、斜め入射する太陽光の反射量を低減させて光公害を抑制する効果を発揮し得るものではなかった。
　また、太陽電池モジュールは屋外等に長期間設置され、高温環境や風雨に暴露されるため、防眩膜には、高い物理的耐久性（硬度）に加えて、基板に対する高い密着性が要求される。本発明者らが、上記特許文献１～４で提案されている防眩膜や反射防止膜を評価したところ、膜強度や、基板との密着性が十分ではないことが判明した。さらに、上記の従来技術では、バインダを硬化して防眩膜を形成する際に、１００℃あるいはそれ以上の温度での加熱が必要となり、基板上に設けられた太陽電池セルの熱劣化を生じる場合がある。
　このような課題に鑑みて、本発明は、基板表面に、密着性および強度に優れ、かつ防眩効果の高い防眩膜が形成された太陽電池モジュールおよびその製造方法を提供することを目的とする。
　本発明者らは上記課題に鑑み鋭意検討を行った結果、以下の構成により上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、透明絶縁基板の第一の主面に少なくとも１つの太陽電池セルを備え、透明絶縁基板の第二の主面に防眩膜を備える太陽電池モジュールに関する。
　本発明の太陽電池モジュールにおいて、防眩膜は、無機バインダ中に透明な無機微粒子を含有しており、クラックを有していない連続皮膜である。防眩膜は、平均膜厚ｄ１が５００ｎｍ～２０００ｎｍ、表面の最大高さＲｙ１が１０００ｎｍ～１００００ｎｍであることが好ましい。また、防眩膜は、表面の算術平均粗さＲａが２５０ｎｍ～２０００ｎｍであり、かつ凹凸周期Ｓｍ１が１μｍ～３０μｍであることが好ましい。防眩膜の膜厚ｄ１と最大高さＲｙ１との比Ｒｙ１／ｄ１は、１～２０が好ましい。
　無機バインダは、Ｓｉ－Ｈ結合およびＳｉ－Ｎ結合の加水分解によって得られるＳｉ－Ｏ結合を含有するシリコン酸化物を主成分とするものであることが好ましい。無機微粒子は、表面が粉砕面からなる非球状粒子であり、防眩膜の断面観察から算出される平均一次粒子径が０．１μｍ～５．０μｍであることが好ましい。無機微粒子としては、ＳｉＯ２を主成分とするものが好適に用いられる。
　本発明の太陽電池モジュールは、防眩膜の透明絶縁性基板と反対側の面に、さらに第二の無機層を備えていてもよい。第二の無機層は、例えば、平均膜厚ｄ２が５０ｎｍ～１０００ｎｍであり、前記防眩膜よりも小さな屈折率を有する。このような構成によれば、第二の無機層が反射防止層として作用し、反射ロスが低減されるため、変換特性（特に短絡電流密度）が向上し得る。
　本発明の太陽電池モジュールの一実施形態において、太陽電池セルは、透明絶縁基板側から、第一電極層、光電変換ユニットおよび第二電極層を備え、これらの各層に線状の分離溝が設けられることにより複数のセルに分割されるとともに、複数のセルが電気的に直列または並列に接続されている。分離溝は、例えば、透明基板の第二の主面側からレーザ光を照射することによって形成される。
　本発明の太陽電池モジュールの一実施形態において、太陽電池セルは、結晶シリコン基板を備える結晶シリコン系太陽電池セルであってもよい。
　本発明の太陽電池モジュールは、防眩膜の膜中に顔料または染料をさらに含有することにより、カラー太陽電池モジュールとすることもできる。また、透明絶縁基板の表面の一部がマスク材で被覆された後に、防眩膜を形成することにより、透明絶縁基板の表面に、防眩膜が形成された防眩領域と、防眩膜が形成されていない非防眩領域とを備える、防眩パターンモジュールとすることもできる。
　さらに、本発明は前記太陽電池モジュールの製造方法、および太陽電池モジュール用の防眩膜の形成方法に関する。本発明の太陽電池モジュールの製造方法の一実施形態では、透明絶縁基板の第一の主面に太陽電池セルが形成されるセル形成工程後に、前記透明絶縁基板の第二の主面に防眩膜が形成される防眩膜形成工程が実施される。
　一実施形態では、透明絶縁基板の第二の主面上に防眩膜形成用塗布液を塗布後、塗布液中の溶媒が乾燥されるとともにポリシラザンが硬化されることによって防眩膜が形成される。防眩膜形成用塗布液は、無機微粒子０．０１～２０重量％、ポリシラザン０．１～２０重量％および溶媒を含有することが好ましい。また、この塗布液は、例えば、平均二次粒子径が０．１μｍ～１０μｍの無機微粒子が液中に添加されることにより調製される。
　本発明の一実施形態において、セル形成工程は、クリーンルーム等の屋内で行われ、その後、セル形成後の基板が屋外に搬出され、防眩膜形成工程が屋外で行われる。この場合、防眩膜の形成は、上記の塗布液がスプレー法により透明絶縁基板上に塗布されることによって行われることが好ましい。
　さらに、本発明は、上記防眩膜の形成に用いられる塗布液に関する。
　本発明によれば、高い防眩性を有するとともに、物理的耐久性（硬度）および基板に対する高い密着性に優れる防眩膜を備える太陽電池モジュールが得られる。本発明の太陽電池モジュールは、光公害の低減に貢献し得る。また、防眩膜のバインダ材料としてポリシラザンが用いられる場合は、高温の加熱を行うことなく太陽電池の基板表面に防眩膜を形成可能であるため、太陽電池セルの発電特性を維持したまま、防眩膜を形成することができる。
一実施形態の太陽電池モジュールの模式的断面図である。 一実施形態の太陽電池モジュールの模式的断面図である。 着色太陽電池モジュールを示す図面代用写真である。 パターン防眩膜を備える太陽電池モジュールを示す図面代用写真である。 実施例の防眩膜の平面ＳＥＭ写真（倍率２００倍）である。 実施例の防眩膜の平面ＳＥＭ写真（倍率５０００倍）である。 実施例の防眩膜の断面ＳＥＭ写真（倍率５０００倍）である。 実施例の防眩膜の平面ＳＥＭ写真（倍率２００倍）である。 実施例の防眩膜の平面ＳＥＭ写真（倍率５０００倍）である。 実施例の防眩膜の断面ＳＥＭ写真（倍率５０００倍）である。 実施例の防眩膜の平面ＳＥＭ写真（倍率２００倍）である。 実施例の防眩膜の平面ＳＥＭ写真（倍率５０００倍）である。 実施例の防眩膜の断面ＳＥＭ写真（倍率５０００倍）である。 比較例の防眩膜の平面ＳＥＭ写真（倍率２００倍）である。 比較例の防眩膜の平面ＳＥＭ写真（倍率５０００倍）である。 比較例の防眩膜の断面ＳＥＭ写真（倍率５０００倍）である。 比較例の防眩膜の平面ＳＥＭ写真（倍率２００倍）である。 比較例の防眩膜の平面ＳＥＭ写真（倍率５０００倍）である。 比較例の防眩膜の断面ＳＥＭ写真（倍率５０００倍）である。 比較例の防眩膜の平面ＳＥＭ写真（倍率２００倍）である。 比較例の防眩膜の平面ＳＥＭ写真（倍率５０００倍）である。 比較例の防眩膜の断面ＳＥＭ写真（倍率５０００倍）である。
　以下、図面を参照して、本発明の実施形態に係る太陽電池モジュールについて説明する。なお、本願の図面において、厚さや幅などの寸法関係は、図面の明瞭化と簡略化のために適宜変更されており、実際の寸法関係を表してはいない。
[太陽電池モジュールの構成]
　図１は、本発明による一実施形態の太陽電池モジュールの概略構成を示す断面図である。この太陽電池モジュール１００は、透明絶縁基板１と、透明絶縁基板１の第一の主面に形成された太陽電池セル５を備え、透光性基板の第二の主面に防眩膜１０を備える。
　図１に示す形態では、太陽電池セル５は、透明絶縁基板１側から、第一電極層２、光電変換ユニット３および第二電極層４を備える。図１において、太陽電池セル５は、複数の領域に分離され、各領域は互いに電気的に直列に接続されている。また、この太陽電池モジュールでは、太陽電池セル５を保護するため、第二電極層４上に、充填樹脂６、および裏面封止板７が設けられている。さらに、このように封止された太陽電池には、透明絶縁基板１、充填樹脂６および裏面封止板７等を保持するとともに、屋根等の架台等に取付けるために用いられるフレーム８が取付けられている。なお、以下では、図１に示す薄膜系の太陽電池モジュールに関する実施形態を中心に説明するが、本発明は、結晶シリコン基板を用いた結晶シリコン系の太陽電池モジュール等、各種の太陽電池モジュールにも適用可能である。
　透明絶縁基板１としては、ガラス板や、透明樹脂からなる板状部材またはシート状部材等が用いられる。特に、ガラス板は、高い透過率を有しかつ安価であるので好ましい。透明絶縁基板１の防眩膜１０形成面と反対側の主面に形成される太陽電池セル５は特に限定されず、例えば、単結晶シリコン基板や多結晶シリコン基板を用いた結晶シリコン系の太陽電池、非晶質シリコン薄膜や結晶質シリコン薄膜等を用いたシリコン系薄膜太陽電池や、ＣＩＧＳ、ＣＩＳ等の化合物太陽電池、有機薄膜太陽電池、色素増感太陽電池等が挙げられる。
　例えば、シリコン系薄膜太陽電池では、透明絶縁基板１上に、第一電極層２、光電変換ユニット３、および第二電極層４が順に形成される。第一電極層２の材料としては、ＩＴＯ、ＳｎＯ２、ＺｎＯ等の透明導電性の金属酸化物が好適に用いられる。
　光電変換ユニット３としては、非晶質シリコン、非晶質シリコンカーバイド、非晶質シリコンゲルマニウム、結晶質シリコン等のシリコン系半導体薄膜を、ｐｉｎ型、ｎｉｐ型、ｎｉ型、ｐｎ型等で組み合わせた半導体接合が用いられる。また、光電変換ユニット３は、複数のｐｎ接合やｐｉｎ接合等を有するタンデム型のものであってもよい。
　第二電極層４としては、Ａｇ，Ａｌ等の反射性の金属層や、金属層と導電性金属酸化物層との複合層等が用いられる。
　一般に、太陽電池モジュールは、複数の太陽電池セルを備え、各太陽電池セルは、電気的に直列または並列に接続されている。特に薄膜太陽電池では、第一電極層２、光電変換ユニット３および第二電極層４の各層に線状の分離溝が設けられ、各層が複数の領域に分割されることによって複数のセルが形成され、各セルが電気的に接続されることが好ましい。例えば、図１では、３つの光電変換セルが直列に接続された形態が図示されている。
　このように、各層が分離溝により複数のセルに分割された集積型の太陽電池は、各層の形成と、レーザスクライブ等のパターニング手段による分離溝の形成とを順次繰り返すことによって形成され得る。例えば、図１に示す集積型の太陽電池セル５は、下記の工程により製造される。
　レーザスクライブにより第一電極層２に分離溝が形成され所定パターンに分割された後、第一電極層２上に光電変換ユニット３が形成される。その後、透明絶縁基板１側からレーザを入射するレーザスクライブにより、光電変換ユニット３に分離溝が形成され所定パターンに分割される。その後、光電変換ユニット３上に第二電極層が形成され、透明絶縁基板１側からレーザを入射するレーザスクライブにより、光電変換ユニット３とともに第二電極層４を吹き飛ばすことにより、分離溝が形成される。
　レーザスクライブにより効率的に分離溝を形成して、太陽電池セル５を集積するためには、レーザ光が透明絶縁基板１側から入射されることが好ましい。ここで、レーザスクライブの際に、透明絶縁基板１表面に防眩膜１０が形成されていると、レーザ光の乱反射によって、分離溝形成等に不具合を生じる場合がある。そのため、透明絶縁基板１への防眩膜の形成は、レーザスクライブ後に行われることが好ましい。
　第二電極層４上には、太陽電池セル５を保護するため、充填樹脂６、および裏面封止板７が設けられることが好ましい。充填樹脂６としては、シリコン、エチレンビニルアセテート、ポリビニルブチラール等が用いられ、また、裏面封止板としては、フッ素系樹脂フィルムやポリエチレンテレフタレートフィルム、アルミニウム等の金属フィルムや、これらの積層体、あるいはこれらのフィルムにＳｉＯ２等の薄膜をラミネートした多層構造のフィルム等が用いられる。
　単結晶シリコン基板や多結晶シリコン基板を用いた結晶シリコン系の太陽電池は、シリコン基板上に、導電型半導体層や電極等が形成され、セルが形成される。透明絶縁基板上に、充填樹脂等の封止剤を介して、複数のセルが配置され、各セルが、ＴＡＢ等のインターコネクタを介して電気的に接続さることによって、モジュール化が行われる。
　透明絶縁基板１の光入射面側には、防眩膜１０が設けられる。前述の如く、防眩膜の形成は、太陽電池セル５の形成およびレーザスクライブによる集積後に行われることが好ましい。なお、防眩膜の形成は、レーザスクライブ後であればいつでも可能であり、スクライブ直後、充填樹脂６および裏面封止板７による封止後、あるいはモジュールを屋根や壁面等に設置した後でもよい。また、セルの形成および封止までを工場内等の屋内で実施した後、基板表面に防眩膜が形成される前の太陽電池モジュールを、屋外（例えば、モジュールを設置する住宅の敷地内）に移動した後、屋根等に設置する前に防眩膜を形成することもできる。このような方法によれば、例えば日射面と反対側の方位（例えば北半球であれば北側）に設置される太陽電池モジュールのみに選択的に防眩膜を形成して、光公害を防止すること等も可能である。
　本発明の太陽電池モジュールは、防眩膜１０の形成面側が太陽光の入射面であり、防眩膜１０は表面凹凸を有している。透明絶縁基板１の光入射面側に表面凹凸を有する防眩膜１０を備えることにより、太陽電池モジュール表面で反射される太陽光は、不特定の方向に乱反射される。乱反射された散乱光は平行光線ではなく、太陽電池モジュールによる反射光は全体としてぼやけた状態となるため、光公害が抑制される。
[防眩膜]
　防眩膜１０は、無機バインダ１１および無機微粒子１２を含有する。
　無機微粒子１２としては、表面が粉砕面からなる非球状粒子が用いられる。表面が粉砕面からなる非球状微粒子は、粒子の大きさおよび形状が不均一であるため、光を乱反射させやすい。無機バインダ１１は、微粒子同士、および微粒子と透明絶縁基板との間の付着強度を向上させる役目を果たす。
＜防眩膜中の無機微粒子＞
　無機微粒子１２の材料としては、酸化シリコン（ＳｉＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）等が好ましい。中でも、バインダ１１と屈折率差の近い材料が好ましく、酸化シリコンを主成分とするものが最も好適に用いられる。粉砕面を有する無機微粒子としては、例えばガラスフリット（粉末ガラス）が好適に用いられる。
　無機微粒子１２は、一次平均粒径が、０．１μｍ～５．０μｍであることが好ましく、０．５μｍ～４．０μｍであることがより好ましく、１．０μｍ～３．０μｍであることがさらに好ましい。表面が粉砕面からなる非球状無機微粒子の粒径が前記範囲であれば、防眩膜１０の表面に、可視光の乱反射に適した表面凹凸が形成される。そのため、防眩性を高め、光公害を抑止することができる。微粒子の一次平均粒径は、防眩膜の断面観察像から各粒子の粒径を求め、その平均値により算出される。なお、各粒子の粒径は、粒子の投影面積と等面積の円の直径（投影面積円相当径、Ｈｅｙｗｏｏｄ径）により定義される。
　従来より、アクリルやシリカ等からなる球状微粒子によって曲面状の凹凸表面を有する反射防止膜を基板の光入射面側に形成することが提案されている。このような反射防止膜は、表面が球状の曲面であるため、乱反射による光損失が低減されることに加えて、微粒子が規則的に配列されやすく、反射防止効果が高められる傾向がある。基材表面にこのような反射防止層が設けられる場合、反射光量が低減されるが、不特定の方向に光を乱反射する作用が得られ難いため、光公害を十分に抑制することは困難である。
　これに対して、本発明では、防眩膜１０中に、表面が粉砕面からなる微粒子１２を有するため、防眩膜の表面に形成される凹凸の大きさや形状がランダムとなり、光を乱反射させやすい。そのため、太陽電池モジュール表面の防眩膜１０による反射光は、全体としてぼやけた状態となり、反射光が特定方向に照射されることが低減され、光公害が抑制される。
＜防眩膜のバインダ＞
　本発明において、防眩膜１０の無機バインダ１１としては、シリコン酸化物が好適に用いられ、中でも、Ｓｉ－Ｈ結合およびＳｉ－Ｎ結合の加水分解によって得られるＳｉ－Ｏ結合を含有するシリコン酸化物が好適に用いられる。シリコン酸化物が、Ｓｉ－Ｈ結合やＳｉ－Ｎ結合の加水分解によるＳｉ－Ｏ結合を含有する場合、バインダの透明性が高いことに加えて、ガラス等の透明絶縁基板との密着性や、耐光性、硬度等に優れる。
　本発明者らが、従来より防眩膜のバインダ材料として提案されていたアルキルシリケ―トの部分加水分解縮合物等のゾル・ゲル材料を用いて防眩膜を形成したところ、得られたシリコン酸化物膜には多数のクラックが生じており、硬度や耐久性に劣るものであった。これは、反応硬化によりシリコン酸化物が形成される際の材料の収縮や、その後の熱や水分の影響等によって、透明絶縁基板（ガラス板）と防眩膜の界面の応力に起因してクラックが発生したものと推定された。
　また、ガラスフリット等の表面が粉砕面からなる粒子は、球状の粒子に比して、防眩膜中でランダムに配列されやすく、微粒子の一部が膜表面から露出した状態で防眩膜が形成され易い。そのため、防眩膜のバインダ材料としてアルキルシリケ―ト等を用いた場合、防眩膜に摩擦力等の外力が加わると、防眩膜表面から微粒子が剥がれ落ちる等の不具合を生じていた。また、微粒子を防眩膜内に強固に固着させる目的で防眩膜の膜厚を大きくすると、微粒子による表面凹凸が緩和され防眩性が低下するとの問題があった。さらに、微粒子とバインダとの界面の形状が不定形であるために、当該界面を起点としてクラックが発生しやすくなる傾向がみられた。
　これに対して、Ｓｉ－Ｈ結合やＳｉ－Ｎ結合の加水分解により得られＳｉ－Ｏ結合を含有するシリコン酸化物は、ガラスフリットのように表面が粉砕面からなる微粒子を、防眩膜１０内に強固に固着可能であるため、耐摩擦性に優れ、かつクラックのない防眩膜を形成可能である。
　すなわち、本発明において、防眩膜１０は、クラックを有していない連続皮膜であることが好ましい。なお、「クラックを有していない」とは、防眩膜の膜面１０ｃｍ角の範囲から５点をランダムに抽出し、５０００倍のＳＥＭ平面観察を行った場合に、いずれの観察箇所においてもクラックが認められないものを指す。Ｓｉ－Ｏ結合がＳｉ－Ｈ結合の加水分解により得られることは、バインダ材料の塗布直後に、赤外分光スペクトルのＳｉ－Ｈ結合由来の２１６０ｃｍ－１付近のピークが存在すること、および当該ピークが経時的に減少・消失するとともに、Ｓｉ－Ｏ結合由来の１０６０ｃｍ－１付近、８００ｃｍ－１付近および４５０ｃｍ－１付近のピークが出現、増加することにより確認できる。同様に、Ｓｉ－Ｏ結合がＳｉ－Ｎ結合の加水分解により得られることは、バインダ材料の塗布直後に、赤外分光スペクトルのＳｉ－Ｎ結合由来の８４０ｃｍ－１付近のピークが存在すること、および当該ピークが経時的に減少・消失するとともに、Ｓｉ－Ｏ結合由来の１０６０ｃｍ－１付近、８００ｃｍ－１付近および４５０ｃｍ－１付近のピークが出現、増加することにより確認できる。なお、バインダ材料がパーヒドロポリシラザン（－［ＳｉＨ２－ＮＨ］ｎ－の加水分解硬化物である場合は、上記に加えてＮ－Ｈ結合由来の３３７０ｃｍ－１付近のピークが経時的に減少・消失する。
＜防眩膜の形状＞
　防眩膜１０の膜厚ｄ１は、０．５μｍ～２μｍが好ましく、０．７５μｍ～１．７５μｍがより好ましく、１．０μｍ～１．５μｍがさらに好ましい。膜厚ｄ１が０．５μｍ以上であれば、一次平均粒径が０．１μｍを超える不定形粒子を基板表面に強固に付着することができる。また、膜厚ｄ１が２μｍ以下であれば、防眩膜１０の表面に、微粒子の形状に倣った表面凹凸が形成され易いため、防眩性の高い膜とすることができる。防眩膜１０が塗布法により形成される場合、膜厚ｄ１は、防眩膜形成用塗布液の固形分濃度、塗布量および塗布面積から算出することができる。
　防眩膜１０表面の最大高さＲｙ１は、１μｍ～１０μｍが好ましく、３μｍ～８μｍがより好ましく、５μｍ～６μｍがさらに好ましい。Ｒｙ１が前記範囲であれば、広波長領域の可視光（特に長波長側の光）が防眩膜１０によって乱反射され、防眩効果が得られ易い。最大高さＲｙ１は、レーザ顕微鏡により求められる粗さ曲線を、平均線の方向に基準長（０．８ｍ）だけ抜き取り、この抜取り部分の山頂線と谷底線との間隔で表される値である。
　特に、長波長領域の光（例えば、波長９００ｎｍ以上の赤外光）を乱反射させて高い防眩効果を得る観点から、防眩膜１０表面の算術平均粗さＲａは、２５０ｎｍ～２０００ｎｍが好ましく、３００ｎｍ～１５００ｎｍがより好ましく、５００ｎｍ～１２５０ｎｍがより好ましく、７５０ｎｍ～１０００ｎｍがさらに好ましい。同様の観点から、防眩膜１０表面の凹凸周期Ｓｍは、１μｍ～３０μｍが好ましく、５μｍ～２５μｍがより好ましく、１０μｍ～２０μｍがさらに好ましい。凹凸周期Ｓｍは、レーザ顕微鏡により求められる粗さ曲線が平均線と交差する交点から求められる山－谷周期の間隔の平均値である。なお、最大高さＲｙ１，算術平均粗さＲａ１、および凹凸周期Ｓｍ１は、ここに記載した以外の条件は、ＪＩＳ　Ｂ０６０１－１９９４に準拠して測定される。
　算術平均粗さＲａおよび凹凸周期Ｓｍは、例えば、バインダに対する微粒子の含有量や、微粒子の粒子径を変更することによって、調整可能である。微粒子の粒径が大きくなるにつれて、算術平均粗さＲａが大きくなる傾向があり、微粒子の含有量が増加するにつれて凹凸周期Ｓｍが小さくなる傾向がある。
　防眩膜１０の膜厚ｄ１と最大高さＲｙ１との比Ｒｙ１／ｄ１は、１以上が好ましい。Ｒｙ１／ｄ１が１以上であることは、表面凹凸の高低差が、防眩膜の平均膜厚以上であることを表し、防眩膜が膜厚に比して起伏の激しい表面凹凸を有することを意味する。本発明では、防眩膜１０が起伏の激しい表面凹凸を有するために、高い乱反射効果が得られる。本発明では、表面が粉砕面からなる非球状粒子微粒子が用いられることで、上記のような表面起伏の大きい防眩膜が得られる。また、Ｓｉ－Ｈ結合およびＳｉ－Ｎ結合の加水分解によるＳｉ－Ｏ結合を含有するシリコン酸化物を主成分とするバインダ１１が用いられることによって、表面起伏が大きいにも関わらず、微粒子１２が強固に固着され、かつクラックのない連続皮膜の防眩膜が得られる。なお、Ｒｙ１／ｄ１が過度に大きいと、防眩膜中での微粒子の固着が不十分となり、強度が低下する傾向がある。そのため、Ｒｙ１／ｄ１は、１～２０が好ましく、５～１６がより好ましく、９～１２がさらに好ましい。
＜防眩膜の形成方法＞
　透明絶縁基板１上に防眩膜１０を形成する方法は特に制限されないが、シリコン酸化物バインダあるいはその前駆体、および微粒子を含有する溶液を、透明絶縁基板１上に塗布する方法が適している。塗布方法としては、ディッピング法、スピンコート法、バーコート法、ダイコート法、ロールコート法（印刷法）、フローコート法、スプレー法等が挙げられる。これらの塗布法のうち、スプレー法は特別な設備を必要とせず、セルの封止後や、モジュールを屋根等に設置した後でも、絶縁基板上に防眩膜を容易に形成できるため好ましい。
　防眩膜１０を形成するための塗布液に含まれるシリコン酸化物前駆体としては、Ｓｉ－Ｈ結合およびＳｉ－Ｎ結合を含有するポリマーが好適に用いられる。Ｓｉ－Ｈ結合およびＳｉ－Ｎ結合を含有するポリマーとしては、ポリシラザンが好ましい。ポリシラザンはＳｉ－Ｎ結合（シラザン結合）を基本ユニットとするポリマーであり、大気中の水分等と反応して、Ｓｉ－Ｈ結合およびＳｉ－Ｎ結合が加水分解され、ＳｉＯ２に転化する材料である。ポリシラザンとしては、分子中に有機基を有さず－［ＳｉＨ２－ＮＨ］－で表される基本ユニットの繰り返しからなるパーヒドロポリシラザン、およびケイ素および／または窒素に結合した水素に一部がアルキル基等の有機基で置換されたオルガノポリシラザンを挙げることができる。特に、Ｓｉ－Ｈ結合由来のＳｉ－Ｏ結合の含有量を高めて、密着性および強度に優れる防眩膜を得る観点から、パーヒドロポリシラザンが好適に用いられる。また、パーヒドロポリシラザンとオルガノポリシラザンの混合物等を用いてもよい。
　防眩膜の形成に用いられる塗布液としては、無機微粒子０．０１～２０重量％、ポリシラザン０．１～２０重量％および溶媒を含有するものが好適に用いられる。溶媒としては、ポリシラザンを溶解するとともに、無機微粒子の分散性に優れるものが好適に用いられ、キシレンやジブチルエーテル等が特に好ましく用いられる。
　防眩膜形成用塗布液中のポリシラザンの濃度は、０．１重量％～２０重量％が好ましく、１重量％～１０重量％がより好ましく、２重量％～５重量％がさらに好ましい。ポリシラザンの濃度が前記範囲であれば、塗布液がスプレー法等による塗工に適した溶液粘度を有するとともに、０．５μｍ以上の膜厚を有する防眩膜を安定的に形成することができる。
　防眩膜形成用塗布液中の無機微粒子の濃度は、０．０１重量％～２０重量％が好ましく、０．１重量％～１０重量％がより好ましく、１重量％～５重量％がさらに好ましい。塗布液中の微粒子濃度が前記範囲であれば、ポリシラザン中に微粒子が適宜に分散され、防眩性に優れる防眩膜が得られ易い。
　防眩膜中の無機微粒子としては、前述の如く、粉砕面を有する無機微粒子が用いられ、ガラスフリットが好適に用いられる。一般に一次粒子径が１μｍ程度のガラスフリット等は、空気中および溶液中で凝集して、二次粒子を形成している。塗布溶液に用いられる微粒子は、平均二次粒子径が０．１μｍ～１０μｍであることが好ましく、０．５μｍ～７．５μｍであることがより好ましく、１μｍ～５μｍであることがさらに好ましい。微粒子の平均二次粒子径は、動的光散乱法により測定される。
　なお、ポリシラザンは、微細な隙間への埋設性に優れているため、微粒子に凝集が生じている場合でも、一次粒子間の微細な隙間にも浸透可能である。そのため、本発明によれば、表面が粉砕面からなる不定形の微粒子が用いられているにも関わらず、透明絶縁基板１とバインダ１１および無機微粒子１２との間の密着性に優れ、かつクラックのない連続皮膜の防眩膜１０を形成することができる。
　防眩膜形成用塗布液中の無機微粒子の含有量は、バインダ１００重量部に対して、１０重量部～２００重量部が好ましく、２０重量部～１００重量部がより好ましく、４０重量部～８０重量部がさらに好ましい。バインダに対する微粒子の相対含有量が大きいほど、塗布後の防眩膜１０表面の最大高さＲｙ１、および膜厚ｄ１と最大高さＲｙ１との比Ｒｙ１／ｄ１が大きくなり、光散乱性が高められる傾向がある。一方、微粒子の相対含有量が過度に大きいと、防眩膜中の硬度が低下したり、防眩膜中での微粒子の固着が不十分となる場合がある。
　防眩膜の形成に用いられる塗布液は、バインダ、微粒子および溶媒以外の他の成分を含有するものであってもよい。例えば、ポリシラザンを常温で硬化してシリコン酸化物に転化するために、塗布液中に触媒を含有させることもできる。
　触媒としては、１－メチルピペラジン、１－メチルピペリジン、４，４’－トリメチレンジピペリジン、４，４’－トリメチレンビス（１－メチルピペリジン）、ジアザビシクロ－［２，２，２］オクタン、シス－２，６－ジメチルピペラジン、４－（４－メチルピペリジン）ピリジン、ピリジン、ジピリジン、α－ピコリン、β－ピコリン、γ－ピコリン、ピペリジン、ルチジン、ピリミジン、ピリダジン、４，４’－トリメチレンジピリジン、２－（メチルアミノ）ピリジン、ピラジン、キノリン、キノクサリン、トリアジン、ピロール、３－ピロリン、イミダゾール、トリアゾール、テトラゾール、１－メチルピロリジンなどのＮ－ヘテロ環状化合物；メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピルアミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルアミン、ペンチルアミン、ジペンチルアミン、トリペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジヘキシルアミン、トリヘキシルアミン、ヘプチルアミン、ジヘプチルアミン、オクチルアミン、ジオクチルアミン、トリオクチルアミン、フェニルアミン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミンなどのアミン類；更にＤＢＵ（１，８－ジアザビシクロ［５，４，０］７－ウンデセン）、ＤＢＮ（１，５－ジアザビシクロ［４，３，０］５－ノネン）、１，５，９－トリアザシクロドデカン、１，４，７－トリアザシクロノナン等が挙げられる。また、有機酸、無機酸、金属カルボン酸塩、アセチルアセトナ錯体等も好ましい触媒としてあげられる。有機酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、マレイン酸、ステアリン酸などが、また無機酸としては、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸、過酸化水素、塩素酸、次亜塩素酸などが挙げられる。金属カルボン酸塩は、式：（ＲＣＯＯ）ｎＭ〔式中、Ｒは脂肪族基、または脂環族基で、炭素数１～２２のものを表し、ＭはＮｉ、Ｔｉ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ａｌからなる群より選択された少なくとも１種の金属を表し、ｎはＭの原子価である。〕で表わされる化合物である。金属カルボン酸塩は無水物でも水和物でもよい。アセチルアセトナ錯体は、アセチルアセトン（２，４－ペンタジオン）から酸解離により生じた陰イオンが金属原子に配位した錯体であり、一般的には、式（ＣＨ３ＣＯＣＨＣＯＣＨ３）ｎＭ〔式中、Ｍはｎ価の金属を表す。〕で表される。好適な金属Ｍとしては、例えば、ニッケル、白金、パラジウム、アルミニウム、ロジウムなどが挙げられる。これら以外にも、過酸化物、メタルクロライド、フェロセン、ジルコノセンなどの有機金属化合物も用いることができる。塗布液中の触媒の含有量は、ポリシラザン１００重量部に対して、０．５重量部～１０重量部程度が好ましい。
　防眩膜形成用塗布液に、顔料や染料を含有させることで、着色防眩膜を形成することもできる。顔料や染料の種類は特に限定されないが、顔料は塗布液の溶媒中に良好に分散し得るものが好ましく、染料は塗布液の溶媒に溶解するものが好ましい。また、発色性を高めるために、顔料の粒径は小さいことが好ましく、５０ｎｍ～２００ｎｍ程度が好ましい。染料や顔料の含有量は、着色すべき色や、染料・顔料の種類等によって異なるが、例えば、防眩膜の固形分１００重量部に対して、３０重量部～６０重量部程度が好ましい。
　防眩膜１０中に顔料や染料を含有させ、防眩膜を着色することにより、図３に示すようなカラー太陽電池モジュールを作製することができ、モジュールの意匠性を高めたり、デザインのバリエーションを拡げることができる。また、防眩膜１０は微粒子を有するため、顔料や染料の発色性が高められる傾向がある。そのため、防眩膜に顔料や染料を含有させて着色層とすることによって、着色性に優れ、発色がクリアな着色防眩膜が得られる。
　透明絶縁基板１への塗布溶液の塗布方法としては、前述のようにスプレー法等の適宜の方法が採用され得る。なおポリシラザンは、常温常圧下でも硬化が進行し得る。そのため、使用直前まで塗布液を密閉状態で保管可能なスプレー法は、生産性に優れた塗布方法であるといえる。
　防眩膜１０は、透明絶縁基板１の全面に形成されてもよく、一部のみに形成されてもよい。例えば、透明絶縁基板１上に防眩膜が形成された防眩領域と、防眩膜が形成されていない非防眩領域とを形成することもできる。この防眩領域と非防眩領域を所定のパターンとすることで、パターン防眩膜を形成してもよい。例えば、防眩膜の形成前に、透明絶縁基板１の表面の一部に耐水テープ等のマスク材を付設して、基板表面を被覆し、マスクが付設されていない領域に選択的に防眩膜を形成することにより、図４に示すようなパターン防眩膜付き太陽電池モジュールを形成してもよい。図４に示すモジュールの左半分では、文字部分をマスク材で被覆後に防眩膜を形成することにより、文字部分を非防眩領域としている。また、図４に示すモジュールの右半分では、文字以外の部分をマスク材で被覆後に防眩膜を形成することにより、文字部分を防眩領域としている。なお、防眩領域あるいは非防眩領域の形状は特に限定されず、文字以外に、マーク、図柄、模様等であってもよい。
　透明絶縁基板１へ塗布液の塗布前に、基板表面にアルカリ洗浄やセリコ洗浄等を行うことによって、基板表面の濡れ性を向上させることもできる。なお、前述の如くポリシラザンは、ガラスとの密着性（親和性）に優れるとともに、微細な隙間への埋設性が高いことから、本発明においては、基板表面の濡れ性を高めるための前処理を省略して、生産性を高めることもできる。特に、工場のクリーンルーム内等の屋内でセルの封止までを行った後、基板表面に防眩膜が形成される前の太陽電池モジュールが、モジュール設置場所等の屋外へ移動後に防眩膜が形成される場合、基板の前処理を省略可能であれば、防眩膜の形成が容易となるため、好ましい。
　透明絶縁基板上に塗布液を塗布後は、塗布液の溶媒が乾燥されるとともに、ポリシラザンが硬化され、防眩膜が形成される。透明絶縁基板１上に太陽電池セル５が形成された後に、防眩膜１０が形成される場合、塗布液中の溶媒の乾燥およびポリシラザンの硬化は、いずれも８０℃以下で行われることが好ましい。このような低温で乾燥および硬化が行われれば、太陽電池セル中の非晶質シリコン半導体等の熱劣化による発電特性の低下を抑止することができる。特に、本発明においては、乾燥および硬化が、常温・常圧下で行われることが好ましい。特に、モジュール設置場所等の工場外で防眩膜が形成される場合は、防眩膜の形成を容易とする観点から、乾燥および硬化が、常温・常圧下で行われることが好ましい。なお、常温・常圧とは、通常の屋外環境のように、外部からの人工的な加熱や加圧・減圧が行われていない環境を指す。
　このようにして得られる防眩膜は、透明絶縁基板１との密着性に優れるとともに、クラックが発生し難く、高い防眩性を備えている。なお、防眩膜１０の鉛筆硬度試験（ＪＩＳ　Ｋ５６００）による鉛筆硬度は、３Ｈ以上が好ましく、５Ｈ以上がより好ましく、６Ｈ以上がさらに好ましい。
[第二の無機層]
　本発明の太陽電池モジュールは、防眩膜１０上に、さらに他の層を有していてもよい。図２では、防眩膜１０上に第二の無機層２０を備える太陽電池モジュールが図示されている。第二の無機層２１は、反射防止層や防汚層等として機能し得る。例えば、防眩膜１０上に、平均膜厚ｄ２が５０ｎｍ～１０００ｎｍで、防眩膜よりも小さな屈折率を有する第二の無機層２１を備えることにより、防眩膜１０による防眩性を維持しつつ、界面での入射光の反射を低減して、変換特性を高めることができる。
　第二の無機層２０は、バインダ２１を含有する。第二の無機層２０を構成するバインダ２１は、防眩膜１０との密着性に優れる材料が好ましく、無機バインダが好適に用いられる。無機バインダ２１は、透明性を有するものであれば、特に限定されないが、シリコン系化合物が好ましく、中でもシリコン酸化物が好ましい。防眩膜のバインダ１１と第二の無機層のバインダ２１とが同種の材料であれば、界面での密着性に優れ、かつ防眩膜１０中の微粒子１２の膜表面からの脱離防止に寄与し得る高強度の膜が得られやすい。
　また、第二の無機層２０は、防眩膜１０と同様に、低温、より好ましくは常温常圧で硬化可能であることが好ましい。そのため、第二の無機層のバインダ２１としては、ポリシラザンを前駆体とするシリコン酸化物（すなわち、Ｓｉ－Ｈ結合やＳｉ－Ｎ結合の加水分解により形成されるＳｉ－Ｏ結合を含有するシリコン酸化物）が特に好ましく用いられる。
　第二の無機層２０の平均膜厚ｄ２は、５０ｎｍ～１０００ｎｍが好ましく、７５ｎｍ～７５０ｎｍがより好ましく、１００ｎｍ～５００ｎｍがさらに好ましい。また、防眩膜１０の平均膜厚ｄ１と第二の無機層２０の平均膜厚ｄ２との比率ｄ２／ｄ１は、０．０２５～０．５が好ましく、０．０４～０．４がより好ましく、０．０６～０．３がさらに好ましい。
　膜厚ｄ２が上記範囲内であれば、第二の無機層２０の表面、すなわち太陽電池モジュールの受光面側表面は、防眩膜１０の凹凸形状パターンを維持できるため、防眩膜の凹凸形状による防眩性を維持できる。同様の観点から、第二の無機層２０の膜厚ｄ２は、防眩膜１０中の微粒子１２の平均一次粒径の０．０２５倍～０．８倍が好ましく、０．０４倍～０.７倍がより好ましく、０．０６倍～０.６倍がさらに好ましい。第二の無機層２０が塗布法により形成される場合、膜厚ｄ２は、塗布液の固形分濃度、塗布量および塗布面積から算出できる。
　第二の無機層２０の平均屈折率ｎ２は、防眩膜１０の平均屈折率ｎ１よりも小さいことが好ましい。ｎ１とｎ２との差は、０．０３以上が好ましく、０．０５以上がより好ましく、０．０７以上がさらに好ましく、０.１０以上が特に好ましい。主に酸化シリコンからなる防眩膜１０の平均屈折率ｎ１が１．４５～１．５５程度であるのに対して、第二の無機層２０の平均屈折率ｎ２は、１．４５以下が好ましく、１．４０以下がさらに好ましい。
　ｎ１＞ｎ２であれば、受光面側界面の空気（屈折率＝１）から、第二の無機層２０、防眩膜１０、透明絶縁基板１へと、光入射方向に沿って屈折率が段階的に大きくなる。そのため、界面での反射が低減され、太陽電池モジュールに取り込まれる光量が増大し、太陽電池モジュールの変換特性（特に短絡電流密度）を向上し得る。
　第二の無機層２０の屈折率ｎ２を小さくする方法としては、バインダ２１として低屈折率材料を用いる方法が挙げられる。一方、前述のように、防眩膜１０と第二の無機層２０との密着性を高める観点から、両者に含まれるバインダ１１，２１は同種あるいは類似の成分であることが好ましい。そのため、図２に示すように、第二の無機層２０中に、バインダ２１よりも低屈折率の無機微粒子２２を含有することにより、第二の無機層が低屈折率化されることが好ましい。バインダ２１の屈折率と微粒子２２の屈折率との差は、０．０５以上が好ましく、０．１０以上がより好ましく、０．１３以上がさらに好ましい。
　第二の無機層２０中に無機微粒子２２を含有する場合、断面観察から算出される平均一次粒子径は、１０ｎｍ～３００ｎｍが好ましく、２０ｎｍ～１５０ｎｍがより好ましく、３０ｎｍ～１００ｎｍがさらに好ましい。また、防眩膜１０表面の凹凸形状を緩和する観点から、第二の無機層２０中の無機微粒子２２の平均一次粒径は、防眩膜１０中の無機微粒子１２の平均一次粒径よりも小さいことが好ましい。
　第二の無機層２０中の微粒子２２の粒径が３００ｎｍ以下であれば、太陽光の主波長範囲よりも粒径が小さいため、バインダ２１と微粒子２２との界面における光の屈折・反射・散乱が抑制される。そのため、第二の無機層２０が低屈折率化されるとともに、防眩膜５０内に入射した光の膜内での反射・散乱によるロスが低減される。また、微粒子２２の粒径が１０ｎｍ以上であれば、膜内で微粒子２２を良好に分散させることができる。
　第二の無機層２０中の微粒子２２は、バインダ２１よりも低屈折率であれば、その材料は特に限定されない。例えば、材料自体が低屈折率であるものとして、フッ化マグネシウム等の金属フッ化物を用いることができる。また、低屈折粒子として、中空粒子を用いることもできる。中空粒子は、その構成材料と空気との中間的な屈折率を有するため、低屈折率化に適している。中空粒子としては、膜中の分散性や強度の観点から、中空シリカ粒子が好ましく、中でも中空コロイダルシリカ粒子が好適に用いられる。
　第二の無機層２０が微粒子２２を含有する場合、その含有量は特に限定されないが、低屈折率化を達成する観点から、バインダ１００重量部に対して、１０重量部以上が好ましく、３０重量部以上がより好ましく、４０重量部以上がさらに好ましい。微粒子２２の含有量の上限は特に限定されないが、微粒子２２の相対含有量が過度に大きいと、第二の無機層の硬度が低下したり、微粒子の固着が不十分となる場合がある。そのため、微粒子２２の含有量は、バインダ１００重量部に対して、３００重量部以下が好ましく、２００重量部以下がより好ましく、１５０重量部以下がさらに好ましい。
　防眩膜１０上に第二の無機層２０を形成する方法は特に制限されない。例えば、防眩膜１０の形成と同様に、バインダおよび必要に応じて微粒子を含有する塗布液を、スプレー法等の塗布法により塗布し、乾燥および硬化することにより、第二の無機層を形成できる。
　以下、実施例および比較例により、本発明をより具体的に説明する。なお、本発明の範囲は、その趣旨を超えない限りにおいて以下の実施例に限定されるものではない。なお、以下の実施例および比較例では、防眩膜の特性等の相違をより明確とするために、太陽電池セルが形成されていないガラス板上に防眩膜が形成され、評価が行われたが、ガラス板上に太陽電池セルが形成されている場合でも、同様の結果が得られることは容易に理解される。
　防眩膜の耐摩耗性は、鉛筆強度試験（ＪＩＳ　Ｋ５６００）の鉛筆硬度により評価した。また、防眩性は、防眩膜が形成されたガラス基板に照射された白色蛍光灯の反射光を目視観察し、「蛍光灯の像がぼやけてみえるもの」（評価Ａ）から「蛍光灯の像がまっすぐ見えるもの」（評価Ｅ：防眩膜が形成されていないガラス基板と同等）までの５段階で評価した。
［実施例１］
（塗布液の調製）
　防眩膜形成用の塗布液として、ポリシラザン含有溶液（ジブチルエーテル中に固形分濃度２０重量％のパーヒドロポリシラザンを含有するＡＺエレクトロマテリアル株式会社製の商品名：「アクアミカ　ＮＡＸ１２０－２０」）１２．５重量部に、粉砕ガラス粉末（日本フリット株式会社製、平均二次粒子径：１．０μｍ）を１．５重量部添加し、さらに溶媒としてジブチルエーテルを８６．０重量部添加して、塗布液を調製した。この塗布液は、ポリシラザン１００重量部に対して微粒子を６０重量部含有し、総固形分濃度は４重量％であった。
（防眩膜の形成）
　厚み３．２ｍｍ、サイズ１４００ｍｍ×１１００ｍｍの太陽電池の透明ガラス基板を水道水により洗浄した後、エアナイフにて水滴を飛ばし、乾燥を行った。乾燥後のガラス基板の一方の面に、上記の塗布液を、乾燥後の膜厚が１．０μｍとなるようにスプレー法により塗布し、室温で塗布膜を乾燥した後、室温で２４時間放置して、バインダを硬化させ、シリコン酸化物を主成分とする防眩膜とした。顕微赤外分光法により、この２４時間放置後の防眩膜のバインダ部分（微粒子以外の部分）の赤外スペクトルを測定したところ、Ｓｉ－Ｏ結合由来の１０６０ｃｍ－１付近、８００ｃｍ－１付近および４５０ｃｍ－１付近のピークに加えて、２１６０ｃｍ－１付近（Ｓｉ－Ｈ結合）、８４０ｃｍ－１付近（Ｓｉ－Ｎ結合）、および３３７０ｃｍ－１付近（Ｎ－Ｈ結合）にピークが確認された。
　この防眩膜が形成されたガラス基板を、屋外環境に２ヶ月放置後、再度赤外スペクトルを測定したところ、２１６０ｃｍ－１付近、８４０ｃｍ－１付近、および３３７０ｃｍ－１付近のピークが消失しており、Ｓｉ－Ｈ結合およびＳｉ－Ｎ結合の加水分解によるＳｉ－Ｏ結合の生成が確認された。
［実施例２］
　実施例１と同様の塗布液を調製し、この塗布液中に、ガラス基板を浸漬し、速度５００ｍｍ／分で引き上げてディッピング法により塗布を行った。その後、実施例１と同様に、室温で塗布膜の乾燥および硬化を行った。
［実施例３］
　塗布液の調整において、平均二次粒子径が２．９μｍの粉砕ガラス粉末が用いられたこと以外は、実施例１と同様にして、塗布液の調整および防眩膜の形成が行われた。
［比較例１］
（塗布液の調製）
　防眩膜形成用の塗布液として、水４０．５ｇ、イソプロピルアルコール２８１．９ｇ、および１．６３％塩酸３５．４ｇの混合液に、バインダとしてテトラエチルオルトケイ酸
（ＴＥＯＳ）のオリゴマー（重合度ｎ：４～６）３３．０ｇ、および微粒子として粉砕ガラス粉末（日本フリット株式会社製、平均二次粒子径：１．０μｍ）２７．０ｇを順次添加して、室温で４時間攪拌混合した。その後、希釈溶媒として、イソプロパノール４８２．１ｇを添加して撹拌し、テトラエトキシシラン１００重量部に対して微粒子を８２重量部含有し、総固形分濃度が６．７重量％の塗布液を調製した。
（防眩膜の形成）
　実施例１で用いたのと同様のガラス基板の一方の面に、上記の塗布液を、乾燥後の膜厚が２．５μｍとなるようにスプレー法により塗布し、２００℃で６０分間の焼成処理を行って塗布膜を硬化させ、シリコン酸化物を主成分とする防眩膜とした。顕微赤外分光法により、この防眩膜のバインダ部分（微粒子以外の部分）の赤外スペクトルを測定したところ、２１６０ｃｍ－１付近にピークは確認されなかった。
［比較例２］
　比較例１と同様の塗布液を調製し、この塗布液中に、ガラス基板を浸漬し、速度５００ｍｍ／分で引き上げてディッピング法により塗布を行った。その後、比較例１と同様に、加熱による塗布膜の乾燥および硬化を行った。
［比較例３］
（塗布液の調製）
　防眩膜形成用の塗布液として、アクリル系のＵＶ硬化樹脂（ＡＤＥＫＡ社製の商品名：「ＦＸ－Ｖ５４００」）８０重量部、ジブチルエーテル１５重量部、および粉砕ガラス粉末（日本フリット株式会社製、平均二次粒子径：１．０μｍ）５重量部を混合、撹拌して、
樹脂１００重量部に対する微粒子の含有量が７８重量部、総固形分濃度が４５．６重量％の塗布液を調製した。
（防眩膜の形成）
　実施例１で用いたのと同様のガラス基板の一方の面に、上記の塗布液を、乾燥後の膜厚が５μｍとなるようにバーコータ法により塗布し、８０℃の熱風乾燥処理を３０分間施した後、紫外線（波長３６５ｎｍ）：５０００ｍＪを照射して塗布膜を硬化させ、防眩膜とした。
［比較例４］
　無機微粒子として、粉砕ガラス粉末に代えて球形のガラスビーズ（ポッターズ・バロティーニ社製、平均二次粒子径：５．０μｍ）が用いられたこと以外は、実施例１と同様にして、塗布液の調整および防眩膜の形成が行われた。
[評価]
　上記各実施例および比較例で得られた防眩膜の評価結果を、各実施例で用いた塗布液の組成、塗布方法とともに表１に示す。また、実施例１の防眩膜の表面ＳＥＭ観察像および断面観察像を図５～図７に、実施例２の防眩膜の表面ＳＥＭ観察像および断面観察像を図８～図１０に、実施例３の防眩膜の表面ＳＥＭ観察像および断面観察像を図１１～図１３に、比較例１の防眩膜の表面ＳＥＭ観察像および断面観察像を図１４～図１６に、比較例２の防眩膜の表面ＳＥＭ観察像および断面観察像を図１７～図１９に、比較例４の防眩膜の表面ＳＥＭ観察像および断面観察像を図２０～図２２に、それぞれ示す。
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　バインダとして、ゾル・ゲル材料であるテトラエチルオルトケイ酸を含む塗布液をスプレーにより塗布して防眩膜が形成された比較例１では、微粒子の表面付近を起点としたクラックが生じており、断面観察（図１６）から膜剥がれが確認された。一方、ディッピング法により防眩膜が形成された比較例２では、比較例１に比してクラックの発生が抑制されていたものの、倍率５０００倍のＳＥＭ平面観察（図１８）および断面観察（図１９）では、微粒子の表面付近を起点としたクラックが確認された。
　バインダとしてＵＶ硬化樹脂が用いられた比較例３では、比較例１，２のようなクラックは確認されなかったが、鉛筆硬度がＨＢであり、屋外環境に長時間暴露される太陽電池モジュールの防眩膜としては強度を欠くものであった。
　比較例４では、バインダとしてポリシラザン材料が用いられ、Ｓｉ－Ｈ結合およびＳｉ－Ｎ結合の加水分解によるＳｉ－Ｏ結合を有する防眩膜が形成されたことにより、防眩膜にはクラックが発生しておらず、また鉛筆硬度も６Ｈ以上と十分な硬度を有していた。しかしながら、比較例４の防眩膜は、防眩性が十分といえるものではなかった。これは、図２２の断面ＳＥＭ写真に示すように、微粒子による凸部が曲面からなるために、光が乱反射され難いためであると考えられる。
　一方、バインダとしてポリシラザン材料が用いられ、微粒子として粉砕ガラス粉末が用いられた実施例１～３では、微粒子の平均粒径や、塗布液のガラス基板上への塗布方法が変更されても、高い防眩性と膜強度を同時に備える防眩膜が形成されていることがわかる。
　実施例１～３の中でも、特に微粒子の粒径を大きくすることによって防眩膜の算術平均粗さが０．８μｍに増大された実施例３が高い防眩性を示した。一方、微粒子としてガラスビーズが用いられた比較例４では、実施例１～３よりもＲａ１が大きいにも関わらず、防眩性は劣っている。これは、実施例１～３では、無機微粒子がとして表面が粉砕面からなる非球状粒子が用いられることにより光が乱反射され、球状微粒子が用いられた比較例４に比して高い防眩性を示したためであると考えられる。このように、実施例１～３では、バインダにより微粒子が強固に固着されるために、膜厚ｄ１が小さい場合でも、乱反射に適した表面凹凸形状を有し、かつ強度に優れる防眩膜が形成されることがわかる。
　　１０　　　　防眩膜
　　２０　　　　無機層
　　１１　　　　バインダ
　　１２　　　　微粒子
　　１　　　　　透明絶縁基板
　　２，４　　　電極層
　　３　　　　　光電変換ユニット
　　５　　　　　太陽電池セル
　　６　　　　　充填樹脂
　　７　　　　　裏面封止板
　　８　　　　　フレーム

Claims (16)

  1. 　透明絶縁基板の第一の主面に少なくとも１つの太陽電池セルを備え、前記透明絶縁基板の第二の主面に防眩膜を備える太陽電池モジュールであって、
    　前記防眩膜は、無機バインダ中に透明な無機微粒子を含有しており、クラックを有していない連続皮膜であり、
    　前記防眩膜は、平均膜厚ｄ１が５００ｎｍ～２０００ｎｍ、表面の最大高さＲｙ１が１０００ｎｍ～１００００ｎｍであり、
    　前記無機バインダは、Ｓｉ－Ｈ結合およびＳｉ－Ｎ結合の加水分解によって得られる、Ｓｉ－Ｏ結合を含有するシリコン酸化物を主成分とするものであり、
    　前記無機微粒子は、表面が粉砕面からなる非球状粒子であり、防眩膜の断面観察から算出される平均一次粒子径が０．１μｍ～５．０μｍである、
    　太陽電池モジュール。
  2. 　前記防眩膜は、表面の算術平均粗さＲａ１が２５０ｎｍ～２０００ｎｍであり、かつ凹凸周期Ｓｍ１が１μｍ～３０μｍである、請求項１に記載の太陽電池モジュール。
  3. 　前記防眩膜は、膜厚ｄ１と最大高さＲｙ１との比Ｒｙ１／ｄ１が１～２０である、請求項１または２に記載の太陽電池モジュール。
  4. 　前記無機微粒子は、ＳｉＯ２を主成分とするものである、請求項１～３のいずれか１項に記載の太陽電池モジュール。
  5. 　前記防眩膜の透明絶縁性基板と反対側の面に、さらに第二の無機層を備え、
    　前記第二の無機層は、平均膜厚ｄ２が５０ｎｍ～１０００ｎｍであり、前記防眩膜よりも小さな屈折率を有する、請求項１～４のいずれか１項に記載の太陽電池モジュール。
  6. 　前記少なくとも１つの太陽電池セルは、前記透明絶縁基板側から第一電極層、光電変換ユニットおよび第二電極層を備え、これらの各層に線状の分離溝が設けられることにより複数のセルに分割されるとともに、複数のセルが電気的に直列または並列に接続されている、請求項１～５のいずれか１項に記載の太陽電池モジュール。
  7. 　前記少なくとも１つの太陽電池セルは、結晶シリコン基板を備える結晶シリコン系太陽電池セルである、請求項１～５のいずれか１項に記載の太陽電池モジュール。
  8. 　前記透明絶縁基板の第二の主面上に、前記防眩膜が形成された防眩領域と、防眩膜が形成されていない非防眩領域とを有する、請求項１～７のいずれか１項に記載の太陽電池モジュール。
  9. 　前記防眩膜の膜中に、顔料または染料をさらに含有する、請求項１～８のいずれか１項に記載の太陽電池モジュール。
  10. 　請求項１～９のいずれか１項に記載の太陽電池モジュールを製造する方法であって、
    　前記透明絶縁基板の第一の主面に太陽電池セルが形成されるセル形成工程後に、前記透明絶縁基板の第二の主面に防眩膜形成用塗布液が塗布されて防眩膜が形成される防眩膜形成工程が実施される、太陽電池モジュールの製造方法。
  11. 　請求項６に記載の太陽電池モジュールを製造する方法であって、
    　前記透明絶縁基板の第一の主面に太陽電池セルが形成されるセル形成工程後に、前記透明絶縁基板の第二の主面に防眩膜形成用塗布液が塗布されて防眩膜が形成される防眩膜形成工程が実施され、
    　前記セル形成工程において、前記透明絶縁基板の第二の主面側からレーザ光が照射されることにより、前記分離溝が形成される、太陽電池モジュールの製造方法。
  12. 　前記防眩膜形成工程において、無機微粒子０．０１～２０重量％、ポリシラザン０．１～２０重量％および溶媒を含有する防眩膜形成用塗布液が、透明絶縁基板の第二の主面上に塗布された後、
    　前記防眩膜形成用塗布液中の溶媒が乾燥されるとともにポリシラザンが硬化される、請求項１０または１１に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
  13. 　平均二次粒子径が０．１μｍ～１０μｍの無機微粒子が液中に添加されることにより前記防眩膜形成用塗布液が調製される、請求項１２に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
  14. 　前記セル形成工程が屋内で行われた後、セル形成後の基板が屋外に搬出され、前記防眩膜形成工程が屋外で行われ、前記透明絶縁基板の第二の主面上への前記防眩膜形成用塗布液の塗布がスプレー法により行われる、請求項１０～１３のいずれか１項に記載の太陽電池モジュールの製造方法。
  15. 　請求項１０～１４のいずれか１項に記載の太陽電池モジュールの製造方法に用いられる防眩膜形成用塗布液であって、無機微粒子０．０１～２０重量％、ポリシラザン０．１～２０重量％および溶媒を含有する、防眩膜形成用塗布液。
  16. 　透明絶縁基板の一方の主面に、太陽電池モジュール用の防眩膜を形成する方法であって、
    　無機微粒子０．０１～２０重量％、ポリシラザン０．１～２０重量％および溶媒を含有する防眩膜形成用塗布液が、透明絶縁基板の表面に塗布される塗布工程、および
    　前記防眩膜形成用塗布液の溶媒が乾燥されるとともにポリシラザンが硬化される硬化工程を有し、
    　前記無機微粒子は、表面が粉砕面からなる非球状粒子であり、防眩膜の断面観察から算出される平均一次粒子径が０．１μｍ～５．０μｍである、防眩膜の形成方法。
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