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WO2014050241A1 - 磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents

磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 Download PDF

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WO2014050241A1
WO2014050241A1 PCT/JP2013/067940 JP2013067940W WO2014050241A1 WO 2014050241 A1 WO2014050241 A1 WO 2014050241A1 JP 2013067940 W JP2013067940 W JP 2013067940W WO 2014050241 A1 WO2014050241 A1 WO 2014050241A1
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WO
WIPO (PCT)
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glass substrate
magnetic disk
roughness
side wall
polishing
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2013/067940
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
政明 植田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hoya Corp
Original Assignee
Hoya Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hoya Corp filed Critical Hoya Corp
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Priority to US14/432,172 priority patent/US9697860B2/en
Priority to JP2014510559A priority patent/JP5592037B1/ja
Priority to CN201380044680.0A priority patent/CN104584126B8/zh
Publication of WO2014050241A1 publication Critical patent/WO2014050241A1/ja
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    • G11B5/739—Magnetic recording media substrates
    • G11B5/73911—Inorganic substrates
    • G11B5/73921—Glass or ceramic substrates
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
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    • B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
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    • B24B7/24—Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass
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    • G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/8404—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers manufacturing base layers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C19/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by mechanical means
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2204/00—Glasses, glazes or enamels with special properties
    • C03C2204/08—Glass having a rough surface

Definitions

  • the present invention relates to a glass substrate for a magnetic disk, a magnetic disk, and a method for manufacturing a glass substrate for a magnetic disk.
  • a personal computer or a DVD (Digital Versatile Disc) recording device has a built-in hard disk device (HDD: Hard Disk Drive) for data recording.
  • HDD Hard Disk Drive
  • a hard disk device used in a portable computer such as a notebook personal computer
  • a magnetic disk in which a magnetic layer is provided on a glass substrate is used, and the magnetic head slightly floats above the surface of the magnetic disk.
  • magnetic recording information is recorded on or read from the magnetic layer.
  • a glass substrate is preferably used because it has a property that it is less likely to be plastically deformed than a metal substrate (aluminum substrate) or the like.
  • the density of magnetic recording has been increased.
  • the magnetic recording information area (recording bit) is miniaturized by using a perpendicular magnetic recording method in which the magnetization direction in the magnetic layer is perpendicular to the surface of the substrate.
  • the storage capacity of one disk substrate can be increased.
  • the distance from the magnetic recording layer is extremely shortened by further protruding the recording / reproducing element portion of the magnetic head, thereby further improving the accuracy of information recording / reproducing (S / N). To improve the ratio).
  • Such control of the recording / reproducing element portion of the magnetic head is called a DFH (Dynamic Flying Height) control mechanism, and a magnetic head equipped with this control mechanism is called a DFH head.
  • the main surface of the magnetic disk glass substrate used in the HDD in combination with such a DFH head is an extremely smooth surface in order to avoid collision and contact with the magnetic head and the recording / reproducing element portion further protruding therefrom. It is produced to become.
  • the glass substrate for magnetic disk has a pair of main surfaces, side wall surfaces, and a chamfered surface between the main surface and the side wall surfaces.
  • a spindle in an HDD is obtained by setting the surface roughness of the side wall surface and / or chamfered surface of the glass substrate for magnetic disk to a predetermined value or less, or by forming the side wall surface and / or chamfered surface into a desired shape. It is known that the generation of particles due to rubbing with the head can be prevented and problems such as head crash failure and thermal asperity failure can be suppressed.
  • the surface roughness of the side wall surface and the chamfered surface is set to 1 ⁇ m or less in Rmax, between the side wall surface and the chamfered surface of the glass substrate, and the main surface and the chamfered surface of the glass substrate.
  • a curved surface having a radius of 0.003 mm or more and less than 0.2 mm is interposed in at least one of the two.
  • An object of the present invention is to provide a magnetic disk glass substrate, a magnetic disk, and a method for manufacturing a magnetic disk glass substrate that are unlikely to cause problems such as head crash failure and thermal asperity failure.
  • the inventor of the present application diligently studied in order to investigate the cause of problems such as a head crash failure and a thermal asperity failure even though the surface roughness of the main surface was sufficiently reduced. As a result, it was found that foreign matter was adhered to the main surface of the glass substrate where the defect occurred. This foreign matter is colloidal silica fine particles, and when the generation source thereof was investigated, it was found that the foreign matter was also adhered to the outer peripheral surface and the inner peripheral side wall surface and / or the chamfered surface of the glass substrate. From these facts, it was presumed that the foreign matter was a part of the abrasive grains of colloidal silica used for mirror-finish polishing, and the colloidal silica particles remained on the glass substrate.
  • colloidal silica fine particles may adhere to the main surface as follows. Even when the surface roughness of the outer peripheral surface and inner peripheral surface of the glass substrate and / or the chamfered surface is sufficiently small, fine groove shapes and hole shapes exist on the surface. Among them, when there are many relatively deep grooves (deep grooves) and deep holes, colloidal silica particles enter the deep grooves and adhere to the side wall surface and / or the chamfered surface. In other words, colloidal silica particles are captured by the deep grooves.
  • the colloidal silica abrasive grains when the glass substrate is held by the carrier, the colloidal silica abrasive grains enter the gap between the glass substrate and the carrier during the polishing, and the side wall surface and / or It is thought that it enters the deep groove of the chamfered surface.
  • the size of colloidal silica fine particles used as abrasive grains has been about 50 nm in the past, but in recent years, the size is 20 nm or less, making it easier to enter deep grooves.
  • the colloidal silica fine particles adhering to the side wall surface and / or the chamfered surface may not be removed by cleaning the glass substrate after the final polishing.
  • Colloidal silica particles adhering to the side wall surface and / or the chamfered surface are removed in the process after the final polishing, that is, in the manufacturing process of the glass substrate for magnetic disk (for example, inspection, packing, etc.) or in the manufacturing process of the magnetic disk. It is considered that the main surface was transferred from the wall surface and / or the chamfered surface.
  • the colloidal silica fine particles are transferred to the main surface, a magnetic layer is laminated thereabove to form minute irregularities on the surface of the magnetic layer.
  • the minute irregularities cause problems such as a head crash failure and a thermal asperity failure.
  • the gap between the surface of the magnetic disk and the element portion of the magnetic head has become extremely small (for example, 2 nm or less). Even the small fine particles remain on the main surface of the magnetic disk, so that the above problems are likely to occur.
  • the indices (Ra, Rmax, etc.) used for the surface roughness of the glass substrate do not reflect the number of such deep grooves, so that the surface roughness of the side wall surface and / or the chamfered surface of the glass substrate. Even when the thickness is made sufficiently small according to the conventional index, it is considered that many colloidal silica fine particles may remain on the glass substrate.
  • the present inventor has devised a surface characteristic in which fine abrasive grains such as colloidal silica fine particles are unlikely to remain on the side wall surface or chamfered surface of the glass substrate.
  • the present inventors have found that problems such as asperity failure can be suppressed and have completed the present invention.
  • a first aspect of the present invention is a donut-shaped glass substrate for a magnetic disk having a pair of main surfaces, a side wall surface, and a chamfered surface between the main surface and the side wall surface.
  • the surface property of at least one of the chamfered surfaces, the arithmetic mean roughness (Ra) is 0.015 ⁇ m or less, and the roughness percentage is 60% in the load factor curve of the roughness cross-sectional area.
  • the load factor of the roughness cross-sectional area is 95% or more.
  • the load factor of the roughness cross-sectional area is in the range of 20 to 80% in the load factor curve of the roughness cross-sectional area with respect to the surface property of at least one of the side wall surface and the chamfered surface.
  • the amount of change in the percentage of roughness is preferably 25% or less.
  • the maximum height (Rz) is preferably 0.15 ⁇ m or less with respect to the surface property of at least one of the side wall surface and the chamfered surface.
  • the arithmetic average roughness (Ra) and / or maximum height (Rz) and the load factor curve of the roughness cross-sectional area are for a region of a predetermined size on the side wall surface and / or chamfered surface. It is preferably measured.
  • At least one of the side wall surface and the chamfered surface is preferably an outer peripheral surface of the glass substrate, and more preferably a side wall surface.
  • a second aspect of the present invention is a magnetic disk characterized in that at least a magnetic recording layer is formed on the surface of the magnetic disk glass substrate.
  • a third aspect of the present invention is a polishing liquid containing polishing grains for a donut-shaped glass substrate having a pair of main surfaces, a side wall surface, and a chamfered surface between the main surface and the side wall surface.
  • the roughness (Ra) is 0.015 ⁇ m or less, and the load factor curve of the roughness cross-sectional area is 95% or more when the roughness percentage is 60%. .
  • the figure which shows the external appearance shape of the glass substrate for magnetic discs of embodiment The figure which expands and shows the cross section of the edge part of the outer peripheral side of the glass substrate for magnetic discs of embodiment.
  • Aluminosilicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, or the like can be used as the material for the magnetic disk glass substrate in the present embodiment.
  • aluminosilicate glass can be suitably used in that it can be chemically strengthened and a glass substrate for a magnetic disk excellent in the flatness of the main surface and the strength of the substrate can be produced.
  • the composition of the glass substrate for a magnetic disk of this embodiment is not limited, the glass substrate of this embodiment is preferably converted to an oxide standard and expressed in mol%, SiO 2 is 50 to 75%, Al 2 to O 3 to 1 to 15%, at least one component selected from Li 2 O, Na 2 O and K 2 O in total 5 to 35%, selected from MgO, CaO, SrO, BaO and ZnO 0-20% in total of at least one component, and at least one selected from ZrO 2 , TiO 2 , La 2 O 3 , Y 2 O 3 , Ta 2 O 5 , Nb 2 O 5 and HfO 2 An aluminosilicate glass having a composition having a total of 0 to 10% of the components.
  • the glass substrate of the present embodiment is preferably 57% to 75% SiO 2 , 5% to 20% Al 2 O 3 in mass% as disclosed in, for example, JP-A-2009-99239, ( However, the total amount of SiO 2 and Al 2 O 3 is 74% or more), ZrO 2 , HfO 2 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , La 2 O 3 , Y 2 O 3 and TiO 2 in total 0 %, 6% or less, Li 2 O more than 1%, 9% or less, Na 2 O 5 to 18% (where the mass ratio Li 2 O / Na 2 O is 0.5 or less), K 2 0 to 6% for O, 0 to 4% for MgO, more than 0% for CaO and 5% or less (however, the total amount of MgO and CaO is 5% or less, and the content of CaO is the content of MgO) Amorphous aluminosilicate having a composition having SrO + BaO in an amount of 0 to
  • the glass substrate of the present embodiment may be a heat resistant glass having a Tg of 650 ° C. or higher.
  • a magnetic film for an energy-assisted magnetic recording system can be formed, and a higher recording density can be achieved.
  • the glass described above is more preferably an amorphous aluminosilicate glass. This is because amorphous aluminosilicate glass does not contain a crystal structure like crystallized glass, and thus has a uniform structure and an extremely smooth surface can be obtained.
  • FIG. 1A and 1B show the appearance of the magnetic disk glass substrate of the embodiment.
  • the glass substrate for a magnetic disk in the present embodiment is a donut-shaped thin glass substrate in which an inner hole 2 is formed.
  • the size of the glass substrate for magnetic disks is not ask
  • FIG. 1B is an enlarged view showing a cross section of an end portion on the outer peripheral side of the glass substrate for magnetic disk of the embodiment.
  • the magnetic disk glass substrate includes a pair of main surfaces 1p, side wall surfaces 1t arranged along a direction orthogonal to the pair of main surfaces 1p, and a pair of main surfaces 1p and sides.
  • chamfered surfaces 1c arranged between the wall surface 1t.
  • a side wall surface and a chamfered surface are similarly formed on the inner peripheral side end of the magnetic disk glass substrate.
  • the chamfered surface may be formed in an arc shape in a sectional view.
  • the glass substrate for a magnetic disk of this embodiment has a shape that satisfies at least the following two requirements 1 and 2 with respect to the surface property of at least one of the side wall surface and the chamfered surface.
  • Arithmetic average roughness (Ra) is 0.015 ⁇ m or less
  • Requirement 2 In the load factor curve of roughness cross-sectional area, the load factor of roughness cross-sectional area is 95% when the roughness percentage is 60% That's it (see Figure 2)
  • FIG. 2 is a diagram showing the requirement 2 in the load factor curve of the roughness cross-sectional area of the side wall surface and / or the chamfered surface.
  • “roughness percentage” means that the target surface (or measurement data of the surface shape) is cut when it is assumed that the surface is cut at a certain height in a plane parallel to the surface.
  • the height level (cutting level) is a value expressed as a percentage when the maximum height is 0% and the minimum height is 100%.
  • “Load factor of roughness cross-sectional area” means the area of the cut surface when the surface is cut at a specific cutting level (ie, when viewed from the direction perpendicular to the cut surface) Is the area of the surface area, not the surface area of the surface).
  • “Roughness cross-section load factor curve” represents the relationship between the target surface when the vertical axis is the roughness percentage and the horizontal axis is the roughness cross-section load factor. It is a curve.
  • FIG. 3 is a diagram illustrating a minute region of the cross section of the glass substrate corresponding to the side wall surface and / or the chamfered surface, and the roughness percentage is displayed in the vertical direction of the paper surface.
  • a groove concave portion having a roughness percentage exceeding 60% is referred to as a “deep groove”.
  • Such deep grooves are extremely small and narrow grooves, but when the main surface is polished with fine particles such as colloidal silica when the glass substrate is produced, the fine particles enter the deep grooves and remain on the side wall surface and / or the chamfered surface. There are things to do.
  • the fine particles that have entered the deep groove can move (re-release) to the main surface and cause problems such as head crash failure and thermal asperity failure. Therefore, in order to reduce the number of colloidal silica fine particles remaining on the side wall surface and / or the chamfered surface as much as possible, it is preferable that the number of deep grooves is small in the surface properties of the side wall surface and / or the chamfered surface.
  • the load factor of the roughness cross-sectional area when the roughness percentage is 60% is 95% or more.
  • the number of deep grooves that is, grooves whose roughness percentage exceeds 60%
  • the load factor is less than 5% of the total.
  • the load factor curve of the roughness cross-sectional area of FIG. 2 when the value obtained by subtracting the load factor (%) of the roughness cross-sectional area at 100% of the roughness percentage from 100 (%) is r60, the value of r60 is the sidewall surface. It is considered that there is a high correlation with the number of deep grooves formed on the chamfered surface.
  • the main surface is polished with fine particles, such as colloidal silica
  • the fine particles enter the gap between the outer edge of the glass substrate and the carrier. If deep grooves are formed on the chamfered surface, fine particles such as colloidal silica are easily captured in the deep grooves. Therefore, it is preferable to satisfy the above requirement 2 on the outer peripheral side of the outer peripheral side and inner peripheral side wall surface and / or chamfered surface of the glass substrate. Also, the side wall surface of the outer peripheral side wall surface and the chamfered surface of the glass substrate comes into contact with the inner peripheral surface of the carrier during polishing of the main surface, whereby fine particles such as colloidal silica are exposed to the outer peripheral side wall surface of the glass substrate.
  • the fine particles act so as to be embedded in the deep groove on the outer peripheral side wall surface. Therefore, in order to make it difficult for such an action to occur, it is more preferable that the above requirement 2 is satisfied particularly on the side wall surface of the side wall surface and the chamfered surface on the outer peripheral side of the glass substrate.
  • the glass substrate for magnetic disks of this embodiment further satisfies the following requirement 3 regarding the surface properties of at least one of the side wall surface and the chamfered surface.
  • the load factor curve of the roughness cross-sectional area In the load factor curve of the roughness cross-sectional area, the amount of change in the roughness percentage when the load factor of the roughness cross-sectional area is 20 to 80% is 25% or less (see FIG. 4).
  • FIG. 4 is a diagram showing the requirement 3 in the load factor curve of the roughness cross-sectional area of the side wall surface and / or the chamfered surface.
  • the reason why it is more preferable to satisfy the requirement 3 is as follows. As long as the above requirement 2 is satisfied, the range where the load factor of the roughness cross-sectional area is 20 to 80% is a region where the deep groove is not included in the surface properties of the glass substrate. By satisfying Requirement 3, in this region, since the groove has a relatively uniform depth, the surface texture is formed more uniformly. Therefore, the possibility that the colloidal silica fine particles enter or adhere to the region other than the deep groove is reduced. can do.
  • the arithmetic mean roughness (Ra) and the roughness cross section load factor curve were measured for a predetermined size region on the side wall surface and / or chamfered surface (surface roughness). It is preferable that There may be streak-like grooves (or scratches) on the side wall and / or chamfered surface of the glass substrate for magnetic disks, but the load factor curve of arithmetic mean roughness (Ra) and roughness cross-sectional area This is because, when measured by line roughness, the streak-like groove may not be reflected in the measurement result depending on the measurement direction.
  • the magnetic disk glass substrate of the present embodiment preferably has a maximum height (Rz) of 0.15 ⁇ m or less with respect to the surface property of at least one of the side wall surface and the chamfered surface.
  • Rz maximum height
  • the maximum height (Rz) is 0.15 ⁇ m or less, the depth of the groove generated on the side wall surface or the chamfered surface becomes shallow, so that colloidal silica fine particles are difficult to adhere (residual) to the surface.
  • a glass base plate having a predetermined shape that is a base of a glass substrate for a magnetic disk is cut out from the plate glass.
  • the glass base plate may be formed by press molding using an upper mold and a lower mold, for example.
  • a glass base plate can also be manufactured not only using these methods but using well-known manufacturing methods, such as a downdraw method, a redraw method, and a fusion method.
  • Shape processing treatment After the inner hole forming treatment, a shape machining treatment for forming a chamfered surface at the end portions (the outer peripheral end portion and the inner peripheral end portion) is performed.
  • a shape machining treatment for forming a chamfered surface at the end portions (the outer peripheral end portion and the inner peripheral end portion) is performed.
  • an outer peripheral end and an inner peripheral end of an annular glass substrate are ground using, for example, an electrodeposited diamond grindstone having a particle size of # 400, and a chamfered shape is created at a relatively high speed.
  • the chamfered surface is polished to a surface property close to a mirror surface using a grindstone that has a low polishing rate but does not damage the end surface, such as a resin-bonded diamond grindstone having a particle size of # 2000.
  • end surface polishing (edge polishing) of an annular glass substrate is performed.
  • end face polishing a magnetic slurry lump is formed by holding the magnetic slurry at the lines of magnetic force, and the lump is brought into contact with the inner peripheral end face and the outer peripheral end face of the glass substrate to move relative to each other. Polishing of the end face and outer peripheral end face.
  • the side wall surface and the chamfered surface can be polished simultaneously.
  • the machining allowance in the end surface polishing process is, for example, about 1 ⁇ m to 5 ⁇ m.
  • fine particles such as cerium oxide and zirconium oxide are used as the magnetorheological fluid and abrasive grains.
  • Nonpolar oil or polar oil has a viscosity of 1 to 20 (Pa ⁇ sec) in a non-magnetized state at room temperature (20 ° C.), for example.
  • polishing the end face it is possible to remove damage such as contamination and scratches on the end face of the glass substrate, preventing the occurrence of thermal asperity failure, and causing corrosion such as sodium and potassium. The occurrence of ion precipitation can be prevented.
  • the end surface polishing according to the present embodiment enables extremely precise and high quality processing as compared with the conventional end surface polishing method using a brush. Specifically, the surface roughness and undulation can also be made extremely small, making it difficult to generate deep grooves on the surface.
  • FIG. 5A to FIG. 5C and FIG. 6 are diagrams for explaining an example of the polishing method in the end face polishing in this embodiment.
  • the apparatus 10 for polishing the end face polishes the end face of the glass substrate by using a means for generating magnetism and magnetic slurry.
  • the outline of the apparatus 10 for performing end surface polishing will be described.
  • the apparatus 10 has a pair of magnets 12 and 14, which are permanent magnets, a spacer 16, and a cylindrical shape made of a nonmagnetic material such as stainless steel.
  • a pipe 18. Magnets 12 and 14 and a spacer 16 are built in the pipe 18.
  • the glass substrate for end face polishing is held by a holder (not shown).
  • the pipe 18 is passed through the inner hole of the glass substrate held by the holder, and a lump 20 of magnetic slurry (see FIG. 5C and FIG. 6) described later is brought into contact with the inner peripheral end face of the glass substrate. Moreover, as shown in FIG. 6, you may arrange
  • the outer peripheral end surface of the glass substrate is polished by relatively moving the lump 20 formed by the magnets 12 and 14 in the pipe 18 and the outer peripheral end surface of the glass substrate in contact with each other.
  • a holder (not shown) that holds the pipe 18 and the glass substrate of the apparatus 10 is mechanically connected to a drive motor (not shown).
  • FIG. 6 shows a case where the inner peripheral end face and the outer peripheral end face of the glass substrate are polished simultaneously, but the present invention is not limited to such a case.
  • the polishing of the inner peripheral end face and the outer peripheral end face of the glass substrate may be performed separately.
  • the magnet 12 and the magnet 14 are close to each other and function as magnetism generating means to form a magnetic force line 19 as shown in FIG. 5B.
  • the magnetic force lines 19 proceed so as to protrude outward from the centers of the magnets 12 and 14, and proceed in the thickness direction of the glass substrate.
  • a spacer 16 made of a non-magnetic material is provided in order to produce a lump 20 of magnetic slurry on the outer periphery of the pipe 18 as shown in FIG. 5C.
  • the magnetic flux density in the magnetism generating means may be set to such an extent that the magnetic slurry lump 20 is formed.
  • a permanent magnet is used as the magnetism generating means, but an electromagnet can also be used.
  • the magnets 12 and 14 are fixed to the pipe 18 without using the spacer 16, and the separation distance between the end face of the N pole of the magnet 12 and the end face of the S pole of the magnet 14 can be secured constant.
  • abrasive grains contained in the magnetic slurry known glass substrate abrasive grains such as cerium oxide, colloidal silica, zirconia oxide, alumina abrasive grains and diamond abrasive grains can be used.
  • the particle size of the abrasive grains is, for example, 0.5 to 3 ⁇ m. By using abrasive grains in this range, the inner end face of the glass substrate can be satisfactorily polished.
  • the abrasive grains are contained, for example, in an amount of 1 to 20 vol% in the magnetic slurry.
  • the glass substrate has an arithmetic average roughness (Ra) of 0.015 ⁇ m or less and a load of roughness cross-sectional area with respect to the surface properties of the side wall surface and / or the chamfered surface.
  • the load factor of the roughness cross-sectional area when the roughness percentage is 60% can be 95% or more.
  • Precision grinding process In a precision grinding process, it grinds with respect to the main surface of an annular
  • the fixed abrasive used in the fine grinding process for example, a grinding pad in which diamond abrasive grains are fixed with a binder such as a resin bond can be used.
  • the double-sided grinding apparatus has a pair of upper and lower surface plates (upper surface plate and lower surface plate), and an annular glass substrate mounted on a carrier is sandwiched between the upper surface plate and the lower surface plate. Then, by moving the upper surface plate or the lower surface plate, or both of them, the main surface of the glass substrate can be ground by relatively moving the glass substrate and each surface plate. it can.
  • polishing is given to the main surface of the ground glass substrate.
  • the purpose of the first polishing is to remove scratches and distortions remaining on the main surface by fine grinding, to adjust waviness, and fine waviness.
  • a double-side grinding apparatus having a planetary gear mechanism is used.
  • an annular flat plate polishing pad is attached to the upper surface of the lower surface plate and the bottom surface of the upper surface plate, and a glass substrate mounted on a carrier during the operation of the planetary gear mechanism. The polishing pad is pressed against.
  • the material of the polishing pad is, for example, urethane foam, and a material impregnated with abrasive grains can be suitably used.
  • a polishing liquid containing cerium oxide or zirconium oxide having an average particle diameter of about 0.1 to 5 ⁇ m as polishing abrasive grains is used.
  • the average particle size (D50) means a particle size at which the cumulative volume frequency calculated by the volume fraction is 50% calculated from the smaller particle size.
  • the surface roughness of the main surface of the glass substrate is polished so that the roughness (Ra) is 0.5 nm or less and the micro waveness (MW-Rq) is 0.5 nm or less.
  • the micro waveness can be expressed by an RMS (Rq) value calculated as a roughness of a wavelength band of 100 to 500 ⁇ m on the main surface, and can be measured using, for example, an optical surface shape measuring device.
  • the roughness of the main surface is represented by an arithmetic average roughness Ra defined by JIS B0601: 2001, and can be measured by, for example, AFM.
  • the arithmetic average roughness Ra when measured at a resolution of 512 ⁇ 512 pixels in a 1 ⁇ m ⁇ 1 ⁇ m square measurement area can be used.
  • the glass substrate after the first polishing is chemically strengthened.
  • the chemical strengthening liquid for example, a molten liquid of a mixed salt of potassium nitrate and sodium sulfate can be used.
  • the chemical strengthening solution lithium ions and sodium ions on the surface layer of the glass substrate are respectively replaced with sodium ions and potassium ions having a relatively large ion radius in the chemical strengthening solution, The glass substrate is strengthened.
  • Second Polishing (Final Polishing) Process
  • second polishing is performed on the glass substrate that has been chemically strengthened and sufficiently cleaned.
  • the second polishing is intended for mirror polishing of the main surface.
  • the machining allowance by the second polishing is preferably 5 ⁇ m or less.
  • a polishing apparatus similar to that used in the first polishing can be used.
  • the difference from the first polishing is that the type and particle size of the free abrasive grains are different and the hardness of the resin polisher is different.
  • the resin polisher for example, a suede type soft polisher of foamed polyurethane can be used.
  • the Asker C hardness is preferably in the range of 70 to 90.
  • the free abrasive grains used for the second polishing for example, fine particles such as colloidal silica made turbid in the slurry are used.
  • the average particle diameter (D50) of the colloidal silica abrasive grains is, for example, 50 nm or less, and more preferably 20 nm or less.
  • the glass substrate that has undergone the end surface polishing treatment (4) has an arithmetic average roughness (Ra) with respect to the surface properties of the side wall surface and / or the chamfered surface.
  • Ra arithmetic average roughness
  • the load factor of the roughness cross section when the roughness percentage is 60% is 95% or more. Therefore, even when the average particle size of the colloidal silica used in the second polishing treatment is 20 nm or less, the colloidal silica fine particles enter the grooves (or valleys) on the side wall surface and / or the chamfered surface. Adhering to the side wall surface and / or the chamfered surface can be prevented.
  • a magnetic disk is obtained as follows using a magnetic disk glass substrate.
  • the magnetic disk is, for example, on the main surface of a glass substrate for magnetic disk (hereinafter simply referred to as “substrate”), in order from the closest to the main surface, at least an adhesion layer, an underlayer, a magnetic layer (magnetic recording layer), and a protection A layer and a lubricating layer are laminated.
  • the substrate is introduced into a film forming apparatus that has been evacuated, and a film is sequentially formed from an adhesion layer to a magnetic layer on the main surface of the substrate in an Ar atmosphere by a DC magnetron sputtering method.
  • a magnetic recording medium can be formed by forming a protective layer using, for example, C 2 H 4 by a CVD method and subsequently performing nitriding treatment for introducing nitrogen into the surface. Thereafter, for example, PFPE (perfluoropolyether) is applied on the protective layer by a dip coating method, whereby a lubricating layer can be formed.
  • the produced magnetic disk is preferably incorporated in an HDD (Hard Disk Drive) as a magnetic recording / reproducing apparatus together with a magnetic head equipped with a DFH (Dynamic Flying Height) control mechanism.
  • HDD Hard Disk Drive
  • DFH Dynamic Flying Height
  • Examples and Comparative Examples In order to confirm the effect of the glass substrate for magnetic disk of the present embodiment, a 2.5-inch magnetic disk is manufactured from the manufactured glass substrate, LUL durability test is performed, and defects such as head crash failure and thermal asperity failure The presence or absence of occurrence was investigated.
  • the composition of the glass of the manufactured magnetic disk glass substrate is as follows.
  • Glass composition In terms of mass%, SiO 2 is 65.08%, Al 2 O 3 is 15.14%, Li 2 O is 3.61%, Na 2 O is 10.68%, K 2 O is 0.35%, An amorphous aluminosilicate glass having a composition having 0.99% MgO, 2.07% CaO, 1.98% ZrO 2 and 0.10% Fe 2 O 3 , and has a glass transition temperature of 510 ° C. It is.
  • the glass substrate for magnetic disks of an Example it produced by performing each process of the said manufacturing method in order.
  • a press molding method was used for forming the glass base plate of (1).
  • alumina loose abrasive grains were used for forming the glass base plate of (1).
  • a chamfered surface was formed on the outer peripheral end portion and the inner peripheral end portion of the glass substrate using an electrodeposited diamond grindstone having a particle size # 400 and a resin bond diamond grindstone having a particle size # 2000 in this order.
  • end face polishing of (4) end face polishing with magnetic slurry was performed using the polishing apparatus shown in FIG.
  • the polishing slurry used for polishing the end face of the glass substrate was obtained by dispersing cerium oxide abrasive grains in a magnetic fluid in which Fe fine particles were dispersed in nonmagnetic oil.
  • the Example of Table 1 was made separately by adjusting suitably the chamfering allowance and the process conditions in the process of (4).
  • grinding was performed using a grinding apparatus in which fixed abrasive grains obtained by hardening diamond abrasive grains with resin bonds were attached to a surface plate.
  • polishing was performed using a polishing apparatus equipped with a planetary gear mechanism.
  • a hard urethane pad was used as a polishing liquid containing cerium oxide abrasive grains and a polishing pad.
  • chemical strengthening was performed using a mixed liquid of potassium nitrate and sodium nitrate or the like as the chemical strengthening liquid.
  • the second polishing of (8) was performed using a polishing apparatus equipped with a planetary gear mechanism, similarly to the first polishing.
  • a polishing pad of soft polisher suede
  • Colloidal silica average particle diameter (D50): 30 nm) was used as free abrasive grains.
  • the produced magnetic disk glass substrate is a magnetic disk substrate having a nominal 2.5 inch size (inner diameter 20 mm, outer diameter 65 mm, plate thickness 0.635 mm).
  • Ra was 0.2 nm or less.
  • a chamfered surface was formed using an electrodeposited diamond grindstone having a particle size of # 400.
  • grinding using a resin bond diamond grindstone having a particle size of # 2000 was not performed.
  • the end face polishing of (4) the end face of the glass substrate was polished with a polishing brush using cerium oxide as free abrasive grains.
  • comparative examples were created by appropriately adjusting the chamfering allowance and processing conditions in the processes (3) and (4). Processes other than (3) and (4) were the same as in the example.
  • the surface roughness of the chamfered surface and the side wall surface of the glass substrate for magnetic disk of Examples and Comparative Examples was adjusted. .
  • the load factor of the roughness cross-sectional area when the roughness percentage was 60% was adjusted by increasing or decreasing the relative speed between the glass substrate and the magnet among the polishing conditions for magnetic polishing.
  • the maximum height (Rz) of the chamfered surface and the side wall surface was 0.15 ⁇ m or less.
  • the arithmetic average roughness (Ra) of the chamfered surface and the side wall surface of the produced magnetic disk glass substrate, and the load factor of the roughness cross-sectional area when the roughness percentage is 60% are measured with a laser microscope under the following measurement conditions. And obtained from data obtained by measuring the surface shape in an evaluation region of 50 ⁇ m square. [Laser microscope] Resolution: 0.7nm Observation magnification: 1000 times Z-axis measurement pitch: 0.1 ⁇ m Cut-off value ⁇ s: 0.08 ⁇ m Cut-off value ⁇ c: 0.25 mm
  • the LUL endurance test is a state in which a hard disk drive (HDD) that constitutes a magnetic disk is placed in a constant temperature and humidity layer at a temperature of 70 ° C. and a humidity of 80%, and the head does not stop moving between the lamp and the ID stopper. It is a test to investigate the occurrence of abnormalities such as dirt and wear of the head after the test.
  • HDD hard disk drive

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Description

磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
　本発明は、磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、及び磁気ディスク用ガラス基板の製造方法に関する。
　今日、パーソナルコンピュータ、あるいはＤＶＤ（Digital Versatile Disc）記録装置等には、データ記録のためにハードディスク装置(ＨＤＤ：Hard Disk Drive)が内蔵されている。特に、ノート型パーソナルコンピュータ等の可搬性を前提とした機器に用いられるハードディスク装置では、ガラス基板に磁性層が設けられた磁気ディスクが用いられ、磁気ディスクの面上を僅かに浮上させた磁気ヘッドで磁性層に磁気記録情報が記録され、あるいは読み取られる。この磁気ディスクの基板として、金属基板（アルミニウム基板）等に比べて塑性変形し難い性質を持つことから、ガラス基板が好適に用いられる。
　また、ハードディスク装置における記憶容量の増大の要請を受けて、磁気記録の高密度化が図られている。例えば、磁性層における磁化方向を基板の面に対して垂直方向にする垂直磁気記録方式を用いて、磁気記録情報エリア（記録ビット）の微細化が行われている。これにより、１枚のディスク基板における記憶容量を増大させることができる。さらに、記憶容量の一層の増大化のために、磁気ヘッドの記録再生素子部をさらに突き出すことによって磁気記録層との距離を極めて短くして、情報の記録再生の精度をより高める（Ｓ／Ｎ比を向上させる）ことも行われている。なお、このような磁気ヘッドの記録再生素子部の制御はＤＦＨ（Dynamic Flying Height)制御機構と呼ばれ、この制御機構を搭載した磁気ヘッドはＤＦＨヘッドと呼ばれている。このようなＤＦＨヘッドと組み合わされてＨＤＤに用いられる磁気ディスク用ガラス基板の主表面は、磁気ヘッドやそこからさらに突き出された記録再生素子部との衝突や接触を避けるために、極めて平滑な表面となるように作製されている。
　磁気ディスク用ガラス基板は、一対の主表面と、側壁面と、主表面と側壁面との間の面取面とを有している。従来、磁気ディスク用ガラス基板の側壁面及び／又は面取面の表面粗さを所定値以下とすること、あるいは側壁面及び／又は面取面を所望の形状とすることによって、ＨＤＤ内のスピンドルとの擦れによるパーティクルの発生を防止し、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害等の不具合を抑制できることが知られている。例えば特許文献１には、側壁面、面取面の表面粗さをＲｍａｘで１μｍ以下とすることや、ガラス基板の側壁面と面取面との間、及びガラス基板の主表面と面取面との間のうちの少なくとも一方に、半径０．００３ｍｍ以上０．２ｍｍ未満の曲面を介在させること等が記載されている。
特開２００６－２３６５６１号公報
　磁気ディスク用ガラス基板の主表面の表面粗さを十分に小さくしたにも関わらず、当該ガラス基板に磁気層を成膜して磁気ディスクを作製したときに、磁気ヘッドを用いた長時間のＬＵＬ耐久性試験において、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害等の不具合が生ずる場合があった。
　そこで、本発明は、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害等の不具合を起こし難い磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
　本願発明者は、主表面の表面粗さを十分に小さくしたにも関わらず、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害等の不具合を起こす原因を究明するために鋭意検討した。その結果、不具合が生じたガラス基板の主表面には、異物が付着していることがわかった。この異物は、コロイダルシリカの微粒子であって、その発生源を調査したところ、ガラス基板の外周面及び内周面の側壁面及び／又は面取面にも付着していることがわかった。これらのことから、異物は、鏡面仕上げの研磨に用いたコロイダルシリカの砥粒の一部であって、コロイダルシリカの微粒子がガラス基板に残留したものと推定された。
　本願発明者は、主表面にコロイダルシリカの微粒子が付着している場合がある理由を、以下のとおり考えている。
　ガラス基板の外周面及び内周面の側壁面及び／又は面取面の表面粗さを十分に小さくした場合でも、微細な溝形状や穴形状が表面に存在する。それらの中で、比較的深い溝（深溝）や深い穴が数多く存在するときには、その深溝にコロイダルシリカの微粒子が入り込むことで側壁面及び／又は面取面に付着する。換言すれば、コロイダルシリカの微粒子が深溝によって捕捉される。特に、コロイダルシリカの砥粒による主表面研磨において、ガラス基板をキャリアに保持させて行う場合には、研磨中にガラス基板とキャリアの間隙にコロイダルシリカの砥粒が入り込み、さらに側壁面及び／又は面取面の深溝に入り込むと考えられる。砥粒として用いられるコロイダルシリカの微粒子のサイズは従来５０ｎｍ程度であったが、近年では２０ｎｍ以下のサイズとなっており、より深溝に入り込みやすくなっている。このようにして側壁面及び／又は面取面に付着したコロイダルシリカの微粒子は、最終研磨後のガラス基板の洗浄によっては除去されない場合がある。側壁面及び／又は面取面に付着したコロイダルシリカの微粒子は、最終研磨後の工程、すなわち磁気ディスク用ガラス基板の製造工程（例えば、検査、梱包等）、あるいは磁気ディスクの製造工程において、側壁面及び／又は面取面から主表面に移着したと考えられる。コロイダルシリカの微粒子が主表面に移着した場合、その上方に磁性層が積層されて磁性層の表面に微小凹凸が形成される。そして、この微小凹凸がヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害等の不具合の原因となる。近年、磁気ディスクの高記録密度化に伴って磁気ヘッドにＤＦＨ機構が搭載されたため磁気ディスク表面と磁気ヘッドの素子部との間隙が極めて小さくなってきており（例えば、２ｎｍ以下）、従来よりも小さい微粒子であっても磁気ディスクの主表面に残留していることで、上記不具合が生じやすくなってきている。
　ここで、ガラス基板の側壁面及び／又は面取面に形成される深溝の数が多いほど、コロイダルシリカの微粒子がより多く側壁面及び／又は面取面に付着する可能性が高くなると考えられる。従来からガラス基板の表面粗さに用いられる指標（Ra, Rmax等）は、このような深溝の数を反映したものになっていないため、ガラス基板の側壁面及び／又は面取面の表面粗さを従来指標による見かけ上十分に小さくした場合であっても多くのコロイダルシリカの微粒子がガラス基板に残留する場合があったと考えられる。
　上述した点を鑑み、本願発明者は、コロイダルシリカの微粒子等の微細な研磨砥粒がガラス基板の側壁面又は面取面に残留し難い表面の特性について考案し、それによってヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害等の不具合を抑制できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
　すなわち、本発明の第１の観点は、一対の主表面と、側壁面と、主表面と側壁面との間の面取面とを有するドーナツ型の磁気ディスク用ガラス基板であって、側壁面及び面取面の少なくともいずれか一方の面の表面性状に関し、算術平均粗さ(Ra)が０．０１５μｍ以下であって、かつ粗さ断面積の負荷率曲線において、粗さ百分率が６０％における粗さ断面積の負荷率は９５％以上であることを特徴とする。
　上記磁気ディスク用ガラス基板において、側壁面及び面取面の少なくともいずれか一方の面の表面性状に関し、粗さ断面積の負荷率曲線において、粗さ断面積の負荷率が２０～８０％の範囲における粗さ百分率の変化量は２５％以下であることが好ましい。
　上記磁気ディスク用ガラス基板において、側壁面及び面取面の少なくともいずれか一方の面の表面性状に関し、最大高さ(Rz)が０．１５μｍ以下であることが好ましい。
　上記磁気ディスク用ガラス基板において、算術平均粗さ(Ra)及び／又は最大高さ(Rz)と粗さ断面積の負荷率曲線は、側壁面及び／又は面取面上の所定サイズの領域について測定されたものであることが好ましい。
　上記磁気ディスク用ガラス基板において、前記側壁面及び面取面の少なくともいずれか一方の面は、前記ガラス基板の外周側の面であることが好ましく、側壁面であることがより好ましい。
　本発明の第２の観点は、上記磁気ディスク用ガラス基板の表面に少なくとも磁気記録層が成膜されたことを特徴とする磁気ディスクである。
　本発明の第３の観点は、一対の主表面と、側壁面と、主表面と側壁面との間の面取面とを有するドーナツ型のガラス基板に対して、研磨砥粒を含む研磨液を用いて主表面の研磨を行う研磨処理を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、前記ガラス基板は、側壁面及び面取面の少なくともいずれか一方の面の表面性状に関し、算術平均粗さ(Ra)が０．０１５μｍ以下であって、かつ粗さ断面積の負荷率曲線において、粗さ百分率が６０％における粗さ断面積の負荷率は９５％以上であることを特徴とする。
　上述の磁気ディスク用ガラス基板、磁気ディスク、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法によれば、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害等の不具合を起こし難くすることができる。
実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の外観形状を示す図。 実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の外周側の端部の断面を拡大して示す図。 実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の粗さ断面積の負荷率曲線を示す図。 実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の側壁面又は面取面の断面形状の一例を示す図。 実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の粗さ断面積の負荷率曲線を示す図。 実施形態におけるガラス基板の研磨方法を説明する図。 実施形態におけるガラス基板の研磨方法を説明する図。 実施形態におけるガラス基板の研磨方法を説明する図。 実施形態におけるガラス基板の研磨方法を説明する図。
　以下、本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について詳細に説明する。
［磁気ディスク用ガラス基板］
　本実施形態における磁気ディスク用ガラス基板の材料として、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラスなどを用いることができる。特に、化学強化を施すことができ、また主表面の平坦度及び基板の強度において優れた磁気ディスク用ガラス基板を作製することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好適に用いることができる。
　本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の組成を限定するものではないが、本実施形態のガラス基板は好ましくは、酸化物基準に換算し、モル％表示で、ＳｉＯ２を５０～７５％、Ａｌ２Ｏ３を１～１５％、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ及びＫ２Ｏから選択される少なくとも１種の成分を合計で５～３５％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ及びＺｎＯから選択される少なくとも１種の成分を合計で０～２０％、ならびにＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｌａ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５、Ｎｂ２Ｏ５及びＨｆＯ２から選択される少なくとも１種の成分を合計で０～１０％、有する組成からなるアルミノシリケートガラスである。
　本実施形態のガラス基板は好ましくは、例えば特開２００９－９９２３９号公報に開示されるように、質量％表示にて、ＳｉＯ2を５７～７５％、Ａｌ2Ｏ3を５～２０％、（ただし、ＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の合計量が７４％以上）、ＺｒＯ2、ＨｆＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、Ｌａ２Ｏ３、Ｙ２Ｏ３およびＴｉＯ２を合計で０％を超え、６％以下、Ｌｉ2Ｏを１％を超え、９％以下、Ｎａ2Ｏを５～１８％（ただし、質量比Ｌｉ2Ｏ／Ｎａ2Ｏが０．５以下）、Ｋ2Ｏを０～６％、ＭｇＯを０～４％、ＣａＯを０％を超え、５％以下（ただし、ＭｇＯとＣａＯの合計量は５％以下であり、かつＣａＯの含有量はＭｇＯの含有量よりも多い）、ＳｒＯ＋ＢａＯを０～３％、有する組成からなるアモルファスのアルミノシリケートガラスであってもよい。
　本実施形態のガラス基板は、Ｔｇが６５０℃以上の耐熱ガラスであってもよい。このようなガラス基板には、エネルギーアシスト磁気記録方式用の磁性膜を形成することが可能であり、さらに高記録密度化を達成することができる。
　なお、上述したガラスは、アモルファスのアルミノシリケートガラスとするとなお好ましい。アモルファスのアルミノシリケートガラスは、結晶化ガラスのように結晶構造を含まないため均一な構造であり、極めて平滑な表面を得ることができるためである。
　図１Ａおよび図１Ｂに、実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の外観形状を示す。図１Ａに示すように、本実施形態における磁気ディスク用ガラス基板は、内孔２が形成された、ドーナツ型の薄板のガラス基板である。磁気ディスク用ガラス基板のサイズは問わないが、例えば、公称直径２．５インチの磁気ディスク用ガラス基板として好適である。
　図１Ｂは、実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の外周側の端部の断面を拡大して示す図である。図１Ｂに示すように、磁気ディスク用ガラス基板は、一対の主表面１ｐと、一対の主表面１ｐに対して直交する方向に沿って配置された側壁面１ｔと、一対の主表面１ｐと側壁面１ｔとの間に配置された一対の面取面１ｃとを有する。図示しないが、磁気ディスク用ガラス基板の内周側の端部についても同様に、側壁面と面取面が形成されている。なお、面取面は、断面視において円弧状に形成されていてもよい。
　本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板は、側壁面及び面取面の少なくともいずれか一方の面の表面性状に関して、少なくとも以下の２つの要件１、２を満たすような形状となっている。
（要件１）算術平均粗さ(Ra)が０．０１５μｍ以下であること
（要件２）粗さ断面積の負荷率曲線において、粗さ百分率が６０％における粗さ断面積の負荷率は９５％以上であること（図２参照）
　図２は、側壁面及び／又は面取面の粗さ断面積の負荷率曲線において、上記要件２について示した図である。
　ここで、「粗さ百分率」とは、対象となる表面（または表面形状の測定データ）において、ある高さにおいて当該表面を当該表面に平行な平面で切断することを想定したときに、その切断高さのレベル（切断レベル）を、最高高さを０％、最低高さを１００％としたときのパーセントで表示した値である。「粗さ断面積の負荷率」とは、特定の切断レベルにおいて当該表面を切断したときの切断面の面積の、当該表面が存在するエリアの面積（すなわち、切断面に直交する方向からみたときの当該表面のエリアの面積であって、当該表面の表面積ではない。）に対する割合をパーセントで表示した値である。「粗さ断面積の負荷率曲線」とは、対象となる表面について、縦軸に粗さ百分率をとり、横軸に粗さ断面積の負荷率をとったときの、両者の関係を表した曲線である。
　側壁面及び／又は面取面の算術平均粗さ(Ra)が０．０１５μｍよりも大きい場合、表面の凸凹に異物が捕捉されることによって異物が付着しやすくなるため、要件１が規定されている。
　要件２が規定される理由について、図２及び図３を参照して説明する。図３は、側壁面及び／又は面取面に対応するガラス基板の断面の微小領域を例示する図であり、紙面の縦方向に粗さ百分率を表示している。ここで、図３に示すように、側壁面及び／又は面取面の表面性状において、粗さ百分率が６０％を超える溝（凹部）を「深溝」という。このような深溝は極めて微小で狭い溝であるが、ガラス基板を作製時に主表面をコロイダルシリカ等の微粒子で研磨するときにその微粒子が深溝内に入り込み、側壁面及び／又は面取面に残留することがある。深溝内に入り込んだ微粒子は主表面に移着（再放出）してヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害等の不具合の原因となりうる。そのため、側壁面及び／又は面取面に残留するコロイダルシリカの微粒子の数を極力低減する目的で、側壁面及び／又は面取面の表面性状において深溝の数は少ないことが好ましい。かかる観点から、粗さ断面積の負荷率曲線において、粗さ百分率が６０％における粗さ断面積の負荷率は９５％以上とする。これによって、深溝（つまり、粗さ百分率が６０％を超える溝）の数が極めて少なくなる（負荷率は全体の５％未満となる）。図２の粗さ断面積の負荷率曲線において、粗さ百分率が６０％における粗さ断面積の負荷率（％）を１００（％）から引いた値をｒ６０とすると、ｒ６０の値は側壁面及び／又は面取面に形成される深溝の数と相関が高いと考えられる。
　特に、主表面をコロイダルシリカ等の微粒子で研磨するときにガラス基板をキャリアに装着して行う場合には、微粒子がガラス基板の外周側端部とキャリアとの間の間隙に入り込むため、側壁面及び／又は面取面に深溝が形成されていると、その深溝にコロイダルシリカ等の微粒子が捕捉されやすくなる。よって、ガラス基板の外周側と内周側の側壁面及び／又は面取面のうち外周側について、上記要件２を満足することが好ましい。また、ガラス基板の外周側の側壁面及び面取面のうち側壁面は、主表面の研磨時にキャリアの内周面と接触し、それによってコロイダルシリカ等の微粒子がガラス基板の外周側の側壁面に押し当てられることで、微粒子が外周側の側壁面上の深溝に埋め込まれるように作用する。よって、このような作用を生じ難くするため、ガラス基板の外周側の側壁面及び面取面のうち、特に側壁面について上記要件２を満足することがより好ましい。
　なお、本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板は、側壁面及び面取面の少なくともいずれか一方の面の表面性状に関して、以下の要件３をさらに満たすことが好ましい。
（要件３）粗さ断面積の負荷率曲線において、粗さ断面積の負荷率が２０～８０％の範囲における粗さ百分率の変化量は２５％以下であること（図４参照）。
　図４は、側壁面及び／又は面取面の粗さ断面積の負荷率曲線において、上記要件３について示した図である。
　要件３を満たすことがさらに好ましい理由は、以下のとおりである。上記要件２を満たす限り、粗さ断面積の負荷率が２０～８０％の範囲は、ガラス基板の表面性状において、深溝が含まれない領域である。要件３を満たすことにより、この領域において、深さが比較的浅い溝がより均一に形成された表面性状となるため、コロイダルシリカの微粒子が深溝以外の領域に入り込み、あるいは付着する可能性を小さくすることができる。
　なお、上記磁気ディスク用ガラス基板において、算術平均粗さ(Ra)及び粗さ断面積の負
荷率曲線は、側壁面及び／又は面取面上の所定サイズの領域について測定されたもの（面粗さ）であることが好ましい。磁気ディスク用ガラス基板の側壁面及び／又は面取面には、スジ状の溝（あるいはスクラッチ）が存在する場合があるが、算術平均粗さ(Ra)及び粗さ断面積の負荷率曲線について線粗さで測定すると、その測定方向次第で、上記スジ状の溝が測定結果に反映されない場合があるためである。
　また、本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板は、側壁面及び面取面の少なくともいずれか一方の面の表面性状に関して、最大高さ(Rz)が０．１５μｍ以下であることが好ましい。最大高さ(Rz)が０．１５μｍ以下とすることで、側壁面又は面取面に発生する溝の深さが浅くなるため、コロイダルシリカの微粒子が表面に付着（残留）し難くなる。
［磁気ディスク用ガラス基板の製造方法］
　以下、本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法について、処理毎に説明する。ただし、各処理の順番は適宜入れ替えてもよい。
　（１）板状ガラスの成形および粗研削処理
　例えばフロート法によって板状ガラスを形成した後、この板状ガラスから、磁気ディスク用ガラス基板の元となる所定形状のガラス素板が切り出される。フロート法の代わりに、例えば上型と下型を用いたプレス成形によってガラス素板を成形してもよい。なお、ガラス素板は、これらの方法に限らず、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法などの公知の製造方法を用いて製造することもできる。
　なお、ガラス素板の両主表面に対して、必要に応じて、遊離砥粒を用いた粗研削加工を行ってもよい。
　（２）内孔形成処理
　円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、円板状ガラス素材の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とする。
　（３）形状加工処理
　内孔形成処理の後、端部（外周端部及び内周端部）に面取面を形成するための形状加工処理が行われる。形状加工処理では先ず、円環状のガラス基板の外周端部及び内周端部に対して、例えば粒度＃４００の電着ダイヤモンド砥石等を用いて研削を行い、比較的高速で面取り形状を作り込む。次いで、例えば粒度＃２０００のレジンボンドダイヤモンド砥石等、研磨レートは低いが端部表面にダメージを与えない砥石を用いて、面取面を鏡面に近い表面性状まで研磨する。
　（４）端面研磨処理
　次に、円環状のガラス基板の端面研磨（エッジポリッシング）が行われる。
　端面研磨では、磁性スラリーを磁力線に保持させることにより磁性スラリーの塊を形成させ、この塊と、ガラス基板の内周端面及び外周端面とを接触させて相対移動させることにより、ガラス基板の内周端面と外周端面の研磨を行う。側壁面と面取面とを同時に研磨することができる。なお、端面研磨処理における取り代は、例えば１μｍ～５μｍ程度である。磁性スラリーには、磁気粘性流体と、研磨砥粒として、例えば、酸化セリウムや酸化ジルコニウム等の微粒子が用いられる。磁気粘性流体は、例えば、０．１～１０μｍのＦｅからなる磁性体微粒子を３～５ｇ／ｃｍ3含む非極性オイル、及び界面活性剤を含んだ流体が用いられる。非極性オイルあるいは極性オイルは、例えば、室温（２０℃）において非磁化状態で１～２０（Ｐａ・秒）の粘度を有する。端面研磨を行うことにより、ガラス基板の端面での塵等が付着した汚染、傷等の損傷の除去を行うことができ、サーマルアスペリティ障害の発生の防止や、ナトリウムやカリウム等のコロージョンの原因となるイオン析出の発生を防止することができる。本実施形態の端面研磨は、従来のブラシによる端面研磨の方式に比べて、極めて精密で品質の高い加工が可能である。具体的には、表面の粗さやうねりも極めて小さくし、表面に深溝を発生し難くすることができる。
　ここで、端面研磨についてより詳細に説明する。図５Ａ～図５Ｃ、及び図６は、本実施形態における端面研磨での研磨方法の一例を説明する図である。
　端面研磨を行う装置１０は、磁気を発生させる手段と磁性スラリーを用いてガラス基板の端面の研磨を行う。端面研磨を行う装置１０の概要を説明すると、図５Ａに示すように、装置１０は、永久磁石である一対の磁石１２，１４と、スペーサ１６と、非磁性体、例えばステンレスからなる円筒形状のパイプ１８と、を含む。パイプ１８内に、磁石１２，１４及びスペーサ１６が内蔵されている。端面研磨を行うガラス基板は、図示されない保持具によって把持されている。保持具に把持されたガラス基板の内孔にパイプ１８を貫通させ、後述する磁性スラリーの塊２０（図５Ｃ，図６参照）とガラス基板の内周端面とを接触させる。また、図６に示すように、パイプ１８を、ガラス基板の外周端面の近傍にも配置してもよい。このパイプ１８内の磁石１２，１４によって形成された塊２０と、ガラス基板の外周端面とを接触させた状態で相対的に移動させることにより、ガラス基板の外周端面の研磨が行われる。装置１０のパイプ１８及びガラス基板を保持する図示されない保持具は、図示されない駆動モータと機械的に接続されている。パイプ１８と保持具が回転してガラス基板の端面と塊２０とを相対的に移動させることにより、例えば５００～２０００ｒｐｍで相対的に回転させることにより、ガラス基板の内周端面及び外周端面を研磨することができる。なお、各パイプ１８と保持具を固定し、ガラス基板のみを回転させることによって、ガラス基板の端面と塊２０とを相対的に移動させてもよい。
　なお、図６では、ガラス基板の内周端面と外周端面の研磨は同時に行っている場合を示しているが、このような場合に限られない。ガラス基板の内周端面と外周端面の研磨はそれぞれ別個に行ってもよい。
　端面研磨をより具体的に説明すると、磁石１２と磁石１４は、互いに近接して、磁気発生手段として機能し、図５Ｂに示すような磁力線１９を形成する。この磁力線１９は、磁石１２，１４の中心から外側に向けて突出するように進み、かつ、ガラス基板の厚さ方向に進む。磁石１２，１４との間には、例えば、図５Ｃに示すような磁性スラリーの塊２０をパイプ１８の外周につくるために、非磁性体からなるスペーサ１６が設けられる。
　磁気発生手段における磁束密度は、磁性スラリーの塊２０を形成させる程度に設定すればよいが、端面研磨を効率よく行う点で、０．３～５テスラであることが好ましい。
　なお、図５Ａ～図５Ｃ、及び図６に示す例では、磁気発生手段として永久磁石を用いたが、電磁石を用いることもできる。また、スペーサ１６を用いず、パイプ１８に磁石１２，１４が固定されて、磁石１２のＮ極の端面と磁石１４のＳ極の端面との間の離間距離を一定に確保することもできる。
　磁性スラリーに含まれる研磨砥粒として、酸化セリウム、コロイダルシリカ、酸化ジルコニア、アルミナ砥粒、ダイヤモンド砥粒等の公知のガラス基板の研磨砥粒を用いることができる。研磨砥粒の粒径については、例えば０．５～３μｍである。この範囲の研磨砥粒を用いることにより、ガラス基板の内側端面を良好に研磨することができる。研磨砥粒は、磁性スラリー中に、例えば１～２０ｖｏｌ％含まれる。
　本実施形態の端面研磨処理を行うことで、ガラス基板は、側壁面及び／又は面取面の表面性状に関して、算術平均粗さ(Ra)を０．０１５μｍ以下とし、かつ粗さ断面積の負荷率
曲線において、粗さ百分率が６０％における粗さ断面積の負荷率を９５％以上とすることができる。
　（５）精研削処理
　精研削工程では、遊星歯車機構を備えた両面研削装置を用いて円環状のガラス基板の主表面に対して研削加工を行う。精研削処理で使用する固定砥粒としては、例えば、ダイヤモンド砥粒がレジンボンド等の結合剤で固定された研削パッドを使用することができる。両面研削装置は、上下一対の定盤（上定盤および下定盤）を有しており、上定盤および下定盤の間に、キャリアに装着された円環状のガラス基板が狭持される。そして、上定盤または下定盤のいずれか一方、または、双方を移動操作することにより、ガラス基板と各定盤とを相対的に移動させることで、ガラス基板の両主表面を研削することができる。
　（６）第１研磨（主表面研磨）処理
　次に、研削されたガラス基板の主表面に第１研磨が施される。第１研磨は、精研削により主表面に残留したキズ、歪みの除去、うねり、微小うねりの調整を目的とする。
　第１研磨処理においても、遊星歯車機構を備えた両面研削装置が用いられる。この研磨装置において、下定盤の上面および上定盤の底面には、全体として円環形状の平板の研磨パッドが取り付けられており、遊星歯車機構の動作中には、キャリアに装着されたガラス基板に対して研磨パッドが押圧される。研磨パッドの材質は、例えば発泡ウレタンであり、砥粒を含浸させたものを好適に用いることができる。研磨装置には、例えば平均粒径が０．１～５μｍ程度の酸化セリウム又は酸化ジルコニウムを研磨砥粒として含有する研磨液が用いられる。平均粒径（D50）とは、体積分率で計算した累積体積頻度が粒径の小さいほうから計算して５０％となる粒径を意味している。
　第１研磨処理では、ガラス基板の主表面の表面凹凸について、粗さ(Ra)を０．５ｎｍ以下とし、かつマイクロウェービネス(MW-Rq)を０．５ｎｍ以下とするように研磨が行われる。ここで、マイクロウェービネスは、主表面における波長帯域１００～５００μｍの粗さとして算出されるＲＭＳ（Ｒｑ）値で表すことができ、例えば、光学式の表面形状測定装置を用いて計測できる。
　主表面の粗さは、ＪＩＳ　Ｂ０６０１：２００１により規定される算術平均粗さRaで表され、例えば、ＡＦＭで計測できる。本願においては、１μｍ×１μｍ角の測定エリアにおいて、５１２×５１２ピクセルの解像度で測定したときの算術平均粗さRaを用いることができる。
　（７）化学強化処理
　次に、第１研磨後のガラス基板は化学強化される。
　化学強化液として、例えば硝酸カリウムと硫酸ナトリウムの混合塩の溶融液等を用いることができる。
　このように、ガラス基板を化学強化液に浸漬することによって、ガラス基板の表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化液中のイオン半径が相対的に大きいナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、ガラス基板が強化される。
　（８）第２研磨（最終研磨）処理
　次に、化学強化されて十分に洗浄されたガラス基板に第２研磨が施される。第２研磨は、主表面の鏡面研磨を目的とする。第２研磨による取り代は、５μｍ以下とすることが好ましい。
　第２研磨では例えば、第１研磨で用いたものと同様の研磨装置を用いることができる。このとき、第１研磨と異なる点は、遊離砥粒の種類及び粒子サイズが異なることと、樹脂ポリッシャの硬度が異なることである。樹脂ポリシャは、例えば、発泡ポリウレタンのスウェードタイプの軟質ポリシャを用いることができる。また、アスカーＣ硬度で７０～９０の範囲内とすることが好ましい。
　第２研磨に用いる遊離砥粒として、例えば、スラリーに混濁させたコロイダルシリカ等の微粒子が用いられる。コロイダルシリカの砥粒の平均粒径（Ｄ５０）は、例えば５０ｎｍ以下であり、２０ｎｍ以下であるとより好ましい。平均粒径が２０ｎｍ以下のコロイダルシリカの砥粒を使用することで、極めて平滑な主表面を得ることができる。
　研磨されたガラス基板を洗浄することで、磁気ディスク用ガラス基板が得られる。
　なお、本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法では、（４）の端面研磨処理を経たガラス基板が、側壁面及び／又は面取面の表面性状に関して、算術平均粗さ(Ra)が０．０１５μｍ以下であり、かつ粗さ断面積の負荷率曲線において、粗さ百分率が６０％における粗さ断面積の負荷率は９５％以上となっている。そのため、第２研磨処理で使用されるコロイダルシリカの平均粒径が２０ｎｍ以下の大きさの場合であっても、コロイダルシリカの微粒子が側壁面及び／又は面取面の溝（あるいは谷）に入り込み、側壁面及び／又は面取面に付着することを防止することができる。
　［磁気ディスク］
　磁気ディスクは、磁気ディスク用ガラス基板を用いて以下のようにして得られる。
　磁気ディスクは、例えば磁気ディスク用ガラス基板（以下、単に「基板」という。）の主表面上に、主表面に近いほうから順に、少なくとも付着層、下地層、磁性層（磁気記録層）、保護層、潤滑層が積層された構成になっている。
　例えば基板を、真空引きを行った成膜装置内に導入し、ＤＣマグネトロンスパッタリング法にてＡｒ雰囲気中で、基板の主表面上に付着層から磁性層まで順次成膜する。付着層としては例えばＣｒＴｉ、下地層としては例えばＣｒＲｕを用いることができる。磁性層としては、例えばＣｏＰｔ系合金を用いることができる。また、Ｌ１０規則構造のＣｏＰｔ系合金やＦｅＰｔ系合金を形成して熱アシスト磁気記録用の磁性層とすることもできる。上記成膜後、例えばＣＶＤ法によりＣ２Ｈ４を用いて保護層を成膜し、続いて表面に窒素を導入する窒化処理を行うことにより、磁気記録媒体を形成することができる。その後、例えばＰＦＰＥ（パーフルオロポリエーテル）をディップコート法により保護層上に塗布することにより、潤滑層を形成することができる。
　作製された磁気ディスクは、好ましくは、ＤＦＨ(Dynamic Flying Height)コントロール機構を搭載した磁気ヘッドとともに、磁気記録再生装置としてのＨＤＤ(Hard Disk Drive)に組み込まれる。
［実施例、比較例］
　本実施形態の磁気ディスク用ガラス基板の効果を確認するために、製造したガラス基板から２．５インチの磁気ディスクを作製し、ＬＵＬ耐久試験を行って、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害等の不具合の発生有無を調べた。
　製造した磁気ディスク用ガラス基板のガラスの組成は、下記の通りである。
　［ガラスの組成］
　質量％表示で、ＳｉＯ２を６５．０８％、Ａｌ２Ｏ３を１５．１４％、Ｌｉ２Ｏを３．６１％、Ｎａ２Ｏを１０．６８％、Ｋ２Ｏを０．３５％、ＭｇＯを０．９９％、ＣａＯを２．０７％、ＺｒＯ２を１．９８％、Ｆｅ２Ｏ３を０．１０％、有する組成からなるアモルファスのアルミノシリケートガラスであり、ガラス転移温度が５１０℃である。
　［実施例、比較例の磁気ディスク用ガラス基板の作製］
　実施例の磁気ディスク用ガラス基板については、上記製造方法の各処理を順序通りに行うことで作製した。ここで、
　（１）のガラス素板の成形は、プレス成形方法を用いた。粗研削では、アルミナ系遊離砥粒を用いた。
　（３）の形状加工処理では、粒度＃４００の電着ダイヤモンド砥石、粒度＃２０００のレジンボンドダイヤモンド砥石を順に用いて、ガラス基板の外周端部及び内周端部に面取面を形成した。
　（４）の端面研磨では、図５に示した研磨用装置を用いて、磁性スラリーによる端面研磨を行った。このとき、ガラス基板の端面の研磨のために用いる研磨スラリーは、Ｆｅの微粒子を非磁性オイルに分散させた磁性流体に、酸化セリウムの研磨砥粒を分散させたものを用いた。なお、（４）の処理における面取面の取り代及び加工条件を適宜調整することによって、表１の実施例を作り分けた。
　（５）の精研削では、ダイヤモンド砥粒をレジンボンドで固めた固定砥粒を定盤に貼り付けた研削装置を用いて研削した。
　（６）の第１研磨では、遊星歯車機構を備えた研磨装置を用いて研磨した。酸化セリウム砥粒を含む研磨液、及び研磨パッドとして硬質ウレタンパッドを使用した。
　（７）の化学強化では、化学強化液として硝酸カリウムと硝酸ナトリウムの混合液等を用いて化学強化を行った。
　（８）の第２研磨は、第１研磨と同様に、遊星歯車機構を備えた研磨装置を用いて行った。ポリシャを軟質ポリシャ（スウェード）の研磨パッド（アスカーＣ硬度で７５の発泡ポリウレタン）を用いた。遊離砥粒としてコロイダルシリカ（平均粒径(D50):３０ｎｍ）を用いた。なお、粒度分布を確認したところ、粒径が２０ｎｍのコロイダルシリカも含まれていた。以上により、磁気ディスク用ガラス基板を得た。作製された磁気ディスク用ガラス基板は公称２．５インチサイズ（内径２０ｍｍ、外径６５ｍｍ、板厚０．６３５ｍｍ）の磁気ディスク用の基板である。主表面の表面粗さをＡＦＭで測定したところ、Ｒａで０．２ｎｍ以下であった。
　一方、比較例の磁気ディスク用ガラス基板を作製するに当たり、（３）の形状加工において、粒度＃４００の電着ダイヤモンド砥石を用いて面取面を形成した。なお、比較例では、粒度＃２０００のレジンボンドダイヤモンド砥石を用いた研削を行わなかった。また、（４）の端面研磨において、ガラス基板の端面を、酸化セリウムを遊離砥粒として用いて、研磨ブラシにより研磨した。さらに、（３）及び（４）の処理における面取面の取り代及び加工条件を適宜調整することによって比較例を作り分けた。（３）及び（４）以外の処理については、実施例と同様とした。
　端面研磨に用いる酸化セリウム砥粒の平均粒径を調整することによって、表１に示すように、実施例及び比較例の磁気ディスク用ガラス基板の面取面及び側壁面の表面粗さを調整した。また、粗さ百分率が６０％における粗さ断面積の負荷率は、磁気研磨の研磨条件のうちガラス基板と磁石との相対速度を増減することによって調整した。実施例１～３の面取面及び側壁面の最大高さ(Rz)は０．１５μｍ以下であった。
　なお、作製した磁気ディスク用ガラス基板の面取面及び側壁面の算術平均粗さ(Ra)、粗さ百分率が６０％における粗さ断面積の負荷率は、以下の測定条件にてレーザ顕微鏡を用いて、５０μｍ四方の評価領域にて表面形状を測定したデータから得たものである。
　［レーザ顕微鏡］
　分解能：０．７ｎｍ
　観察倍率：１０００倍
　Ｚ軸測定ピッチ：０．１μｍ
　カットオフ値λｓ：０．０８μｍ
　カットオフ値λｃ：０．２５ｍｍ
　実施例及び比較例の磁気ディスク用ガラス基板の側壁面上の１００μｍ四方の領域について顕微鏡及びＳＥＭで観察し、付着する異物の数を評価した。評価基準は以下のとおりであり、○及び◎が合格である。
　［評価基準］
　◎：０～１個
　○：２～５個
　△：６～１９個
　×：２０個以上
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000001
　表１に示すように、算術平均粗さ(Ra)を０．０１５μｍ以下とし、かつ粗さ断面積の負荷率曲線において、粗さ百分率が６０％における粗さ断面積の負荷率は９５％以上とすることによって、付着する異物の数の評価が基準を満たすことがわかる。これは、測定領域において異物が入り込む深溝の数が非常に少なかったためであると考えられる。
　次に、実施例１と算術平均粗さ(Ra)、及び粗さ百分率が６０％における粗さ断面積の負荷率を同一の値を維持しつつ、磁気研磨の研磨条件のうち磁性材料であるＦｅの微粒子の粒子サイズを適宜変化させることによって、粗さ断面積の負荷率が２０～８０％の範囲における粗さ百分率の変化量を、表２に示すように調整した（実施例４～９）。実施例４～９の磁気ディスク用ガラス基板について付着する異物の数を評価したところ、表２に示すように、粗さ断面積の負荷率が２０～８０％の範囲における粗さ百分率の変化量を２５％以下とすることによって、付着する異物の数の評価がさらに良好になったことがわかる（実施例７～９）。これは、側壁面上で深さが比較的浅い溝がより均一に形成されたため、異物がさらに残留し難くなったためであると考えられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000002
　さらに、得られた実施例及び比較例の磁気ディスク用ガラス基板に磁性層等を形成した磁気ディスクを作製し、ＬＵＬ耐久試験（６０万回）を行って評価した。ＬＵＬ耐久試験とは、磁気ディスクを構成するハードディスクドライブ（ＨＤＤ）を温度７０℃、湿度８０％の恒温恒湿層に入れた状態で、ヘッドを、ランプ上とＩＤストッパーの間を動きを止めずに往復運動（シーク動作）させ、試験後のヘッドの汚れや磨耗等の異常発生を調査する試験のことである。８万回／日×７．５日＝６０万回のＬＵＬ試験の結果、ヘッドＡＢＳ面を顕微鏡で拡大して目視し、コンタミネーションの付着や磨耗、カケが見られる場合は不合格として評価した。
　上記実施例及び比較例におけるＬＵＬ耐久試験では、実施例は合格であり、比較例は不合格であった。ＬＵＬ耐久試験で不合格であった比較例の原因を調べたところ、ガラス基板と磁性層との間に粒子が付着しており、この粒子の組成分析を行ったところ、粒子はコロイダルシリカの微粒子であることがわかった。すなわち、第２研磨に用いたコロイダルシリカの砥粒の残存物がガラス基板の主表面に付着したことが、上記耐久試験の不合格の原因であることがわかった。これより、側壁面及び／又は面取面を実施例のような表面性状とすることで、ヘッドクラッシュ障害やサーマルアスペリティ障害等の不具合を起こし難くなることがわかる。
　以上、本発明の磁気ディスク用ガラス基板について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されず、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々の改良や変更をしてもよいのは勿論である。

Claims (8)

  1. 　一対の主表面と、側壁面と、主表面と側壁面との間の面取面とを有するドーナツ型の磁気ディスク用ガラス基板であって、
    　側壁面及び面取面の少なくともいずれか一方の面の表面性状に関し、算術平均粗さ(Ra)が０．０１５μｍ以下であって、かつ粗さ断面積の負荷率曲線において、粗さ百分率が６０％における粗さ断面積の負荷率は９５％以上であることを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板。
  2. 　側壁面及び面取面の少なくともいずれか一方の面の表面性状に関し、粗さ断面積の負荷率曲線において、粗さ断面積の負荷率が２０～８０％の範囲における粗さ百分率の変化量は２５％以下であることを特徴とする、
    　請求項１に記載された磁気ディスク用ガラス基板。
  3. 　側壁面及び面取面の少なくともいずれか一方の面の表面性状に関し、最大高さ(Rz)が０．１５μｍ以下であることを特徴とする、
    　請求項１又は２に記載された磁気ディスク用ガラス基板。
  4. 　算術平均粗さ(Ra)及び／又は最大高さ(Rz)と粗さ断面積の負荷率曲線は、側壁面及び／又は面取面上の所定サイズの領域について測定されたものであることを特徴とする、
    　請求項１～３のいずれかに記載された磁気ディスク用ガラス基板。
  5. 　前記側壁面及び面取面の少なくともいずれか一方の面は、前記ガラス基板の外周側の面であることを特徴とする、
    　請求項１～４のいずれかに記載された磁気ディスク用ガラス基板。
  6. 　前記ガラス基板の外周側の面は、側壁面であることを特徴とする、
    　請求項５に記載された磁気ディスク用ガラス基板。
  7. 　請求項１～６に記載された磁気ディスク用ガラス基板の表面に少なくとも磁気記録層が成膜されたことを特徴とする、
    　磁気ディスク。
  8. 　一対の主表面と、側壁面と、主表面と側壁面との間の面取面とを有するドーナツ型のガラス基板に対して、研磨砥粒を含む研磨液を用いて主表面の研磨を行う研磨処理を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
    　前記ガラス基板は、側壁面及び面取面の少なくともいずれか一方の面の表面性状に関し、算術平均粗さ(Ra)が０．０１５μｍ以下であって、かつ粗さ断面積の負荷率曲線において、粗さ百分率が６０％における粗さ断面積の負荷率は９５％以上であることを特徴とする、
    　磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
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