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WO2013018495A1 - タッチパネル基板及び表示パネル - Google Patents

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WO2013018495A1
WO2013018495A1 PCT/JP2012/067136 JP2012067136W WO2013018495A1 WO 2013018495 A1 WO2013018495 A1 WO 2013018495A1 JP 2012067136 W JP2012067136 W JP 2012067136W WO 2013018495 A1 WO2013018495 A1 WO 2013018495A1
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WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
electrode
touch panel
electrodes
substrate
panel substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2012/067136
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
山岸　慎治
杉田　靖博
有史 八代
和寿 木田
小川　裕之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to US14/235,172 priority Critical patent/US9405330B2/en
Publication of WO2013018495A1 publication Critical patent/WO2013018495A1/ja
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Ceased legal-status Critical Current

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    • G06F2203/04107—Shielding in digitiser, i.e. guard or shielding arrangements, mostly for capacitive touchscreens, e.g. driven shields, driven grounds

Definitions

  • the present invention relates to a touch panel substrate used for an in-cell type touch panel and a display panel including the touch panel substrate.
  • a display device in which a display unit and an input unit are integrated is widely used in order to reduce the size of the device.
  • a portable terminal such as a cellular phone, a PDA (Personal Digital Assistant), or a notebook personal computer
  • a finger or an input pen detection target
  • Display devices equipped with a touch panel are widely used.
  • touch panels such as a so-called resistance film (pressure-sensitive) method and a capacitance method are known as touch panels.
  • touch panels using a capacitive method are widely used.
  • the contact position is detected by detecting a change in capacitance when a finger or an input pen is brought into contact with the display screen. For this reason, the contact position can be detected by a simple operation.
  • a capacitive touch panel detects a contact position by detecting a change in capacitance, when the touch panel receives noise from the outside, the lines of electric force change due to this noise, and the contact position is changed. There is a possibility that it cannot be detected correctly.
  • Patent Document 1 an out-cell type or on-cell type touch panel mounted on the outside of a display panel (for example, see Patent Document 1) has been widely used.
  • the SN ratio signal-to-noise ratio
  • a touch panel on the outside of the display panel adversely affects contrast and visibility by reflecting external light not only on the surface of the touch panel but also on the interface between the touch panel and the display panel. Further, by mounting the touch panel on the outside of the display panel, the visibility is also lowered by the touch panel itself.
  • an in-cell type touch panel typically, between an array substrate such as a TFT (thin film transistor) substrate and a counter substrate such as a CF (color filter) substrate, which constitute an electro-optical device such as a display panel or a display device.
  • a so-called sensor electrode which is a position detection electrode for detecting a contact position of an object is formed.
  • a sensor electrode is formed between an insulating substrate in a CF substrate and a transparent counter electrode made of ITO (indium tin oxide), and a touch panel substrate constituting an in-cell type touch panel (in other words, As an in-cell touch panel substrate, a CF substrate is used.
  • ITO indium tin oxide
  • FIG. 34 is a cross-sectional view showing the structure of the display device described in Patent Document 2
  • FIG. 35 is a plan view showing the structure of the sensor electrode as seen from the cross-section along the line AB shown in FIG. .
  • the display device 300 described in Patent Document 2 includes a display panel 304 in which a liquid crystal layer 303 is sandwiched between a TFT substrate 301 and a CF substrate 302.
  • a light shielding portion 316 (BM) and a plurality of colored layers 317 (CF) provided between adjacent light shielding portions 316 are formed.
  • a CF layer 318 is provided.
  • a first electrode layer 312 and a second electrode layer 314 are provided as sensor electrodes between the CF layer 318 and the insulating substrate 311.
  • An insulating layer 313 is provided between the first electrode layer 312 and the second electrode layer 314.
  • the first electrode layer 312 has a linear line portion 312a extending in the first direction and a bulging portion 312b bulging from the line portion 312a.
  • the second electrode layer 314 includes a linear line portion 314a extending in a second direction orthogonal to the first direction, and a bulging portion 314b bulging from the line portion 314a.
  • FIG. 36 is a cross-sectional view schematically showing the configuration of the main part of the CF substrate 302 in the display device 300 described in Patent Documents 2 and 3, which is used as a touch panel substrate constituting an in-cell type touch panel. Note that FIG. 36 corresponds to a cross-sectional view schematically showing a configuration of a main part of the CF substrate 302 in the display device 300 shown in FIG.
  • an insulating layer 320 and a shield electrode 321 are provided between the CF layer 318 and the counter electrode 319 from the CF layer 318 side.
  • the illustration of the layer 320 and the shield electrode 321 is omitted.
  • the light shielding portion 316 (BM) and the colored layer 317 (CF) are stacked, but the light shielding portion 316 and the colored layer 317 are substantially in the same layer as shown in FIG. Is provided.
  • Patent Documents 2 and 3 as the first electrode layer 312 and the second electrode layer 314, instead of a planar (sheet-like) transparent conductor, for example, a metal patterned in a lattice (mesh) is used. It is disclosed that it may be used.
  • a planar (sheet-like) transparent conductor for example, a metal patterned in a lattice (mesh) is used. It is disclosed that it may be used.
  • the present invention has been made in view of the above-described problems, and an object of the present invention is to provide a touch panel substrate used for an in-cell type touch panel that has high position detection performance and can perform a stable position detection operation, and the touch panel substrate. It is to provide a display panel.
  • the touch panel substrate according to the present invention is A touch panel substrate provided with a position detection electrode that is used as one of a pair of substrates constituting a display panel and detects a position of an indicated coordinate of a detection target by a change in capacitance, A counter electrode disposed opposite to a pixel electrode provided on the other of the pair of substrates constituting the display panel, and a light shielding layer formed in a matrix corresponding to the pixels, The light shielding layer is formed of a conductor and is electrically connected to the counter electrode.
  • the conductive light shielding layer black matrix
  • the resistance of the counter electrode can be reduced.
  • the CR time constant can be reduced. Therefore, it is possible to provide a touch panel substrate used for an in-cell type touch panel that has high position detection performance and can perform a stable position detection operation.
  • the touch panel substrate of the present invention has a configuration in which the light shielding layer is formed of a conductor and is electrically connected to the counter electrode. Moreover, the display panel of the present invention includes the touch panel substrate. Accordingly, it is possible to provide a touch panel substrate used for an in-cell type touch panel that has high position detection performance and can perform a stable position detection operation, and a display panel including the touch panel substrate.
  • FIG. 1 It is sectional drawing which shows schematic structure of the display apparatus which concerns on this invention. It is sectional drawing of the counter substrate which concerns on Example 1 of this invention. It is a top view which shows an example of an electrostatic capacitance type touch panel, (a) is a top view for demonstrating the electrode structure of a touch panel, (b) is AB sectional drawing of (a), (c) is a figure for demonstrating operation
  • FIG. 3 is a plan view showing a connection relationship between a black matrix and a counter electrode in the counter substrate of FIG. 2.
  • 10A is a sectional view taken along the line Y1-Y1 ′ of FIG. 10
  • FIG. 10B is a sectional view taken along the line Y2-Y2 ′ of FIG. 10
  • FIG. 10C is a sectional view taken along the line X1-X1 ′ of FIG.
  • FIG. 8A and 8B are cross-sectional views illustrating a counter substrate according to Example 3, where FIG. 7A corresponds to the YY ′ cross-sectional view of FIG. 7, and FIG.
  • FIG. 7B corresponds to the XX ′ cross-sectional view of FIG. (A)-(f) is a figure for demonstrating the manufacturing process of the opposing substrate which concerns on Example 3.
  • FIG. 8A and 8B are cross-sectional views showing a counter substrate according to Example 4, where FIG. 7A corresponds to the YY ′ cross-sectional view of FIG. 7 and FIG. 7B corresponds to the XX ′ cross-sectional view of FIG. (A)-(f) is a figure for demonstrating the manufacturing process of the opposing substrate which concerns on Example 4.
  • FIGS. 10 is a schematic cross-sectional view showing a counter substrate according to Example 6. FIG. It is sectional drawing which shows the specific structure of the opposing board
  • FIG. 26A is a plan view showing a schematic configuration of the entire display panel according to the modification of FIG. 25, and FIG. 26B is a sectional view taken along line XX ′ in FIG. (A) is a top view which shows schematic structure of the whole display panel based on the structural example 3, (b) is XX 'sectional drawing of (a).
  • FIG. 29 is a plan view showing a modification of the display panel shown in FIG. 28.
  • FIG. 29 is a plan view showing a modification of the display panel shown in FIG. 28. It is a top view which shows the modification of the 1st electrode and 2nd electrode which are shown in FIG. It is a top view which shows the modification of the 1st electrode and 2nd electrode which are shown in FIG. It is a top view which shows the modification of the metal wiring shown in FIG.
  • FIG. 10 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a display device described in Patent Literature 2.
  • FIG. FIG. 35 is a plan view showing a configuration of a sensor electrode viewed from a cross section along the line AB shown in FIG. 34. It is sectional drawing which shows typically the structure of the principal part of CF board
  • 10 is a plan view illustrating a schematic configuration of a display panel according to Example 5.
  • FIG. FIG. 38 is a cross-sectional view taken along the line XX ′ of FIG.
  • a display device having a touch panel function (hereinafter referred to as a display device) according to the present invention will be described below.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of a display device according to the present embodiment.
  • a display device 1 shown in FIG. 1 includes a display panel 2 having a normal image display function and a capacitive touch panel function, and various drive circuits (data signal line drive circuit, scanning signal line) for driving the display panel 2.
  • a drive circuit and the like (not shown), and a backlight 3 for irradiating the display panel 2 with light.
  • the display panel 2 is an active matrix type liquid crystal display panel in which a liquid crystal layer 6 is sandwiched between a pair of substrates (active matrix substrate 4 and counter substrate 5 (color filter (CF) substrate)) facing each other.
  • the counter substrate 5 side is the observer side
  • the backlight 3 is disposed on the back surface of the active matrix substrate 4.
  • the active matrix substrate 4 includes various signal lines (not shown) such as scanning signal lines and data signal lines, transistors (TFTs) (not shown), and pixels arranged in a matrix on a glass substrate 41.
  • a pixel electrode 42 is provided corresponding to the above.
  • a known configuration can be applied to the active matrix substrate 4.
  • the counter substrate 5 is provided with a structure for realizing a touch panel function in addition to a structure for realizing an image display function.
  • a specific configuration example of the counter substrate 5 having a touch panel function will be mainly described.
  • Example 1 In the display device 1 of FIG. 1, the display panel 2 and the counter substrate 5 according to the first embodiment are illustrated.
  • FIG. 2 shows the counter substrate 5 according to the first embodiment.
  • the counter substrate 5 includes a glass substrate 11, a first electrode 12 and a second electrode 13, a first insulating layer 14, a metal wiring 15, a second insulating layer 16, a black matrix (BM) 17, a color.
  • the filter layer 18, the counter electrode 19, and an alignment film (not shown) are formed, and these members are stacked in this order.
  • the first electrode 12 and the second electrode 13 as position detection electrodes are transparent electrodes, and are formed of, for example, a transparent conductive material such as an oxide.
  • a transparent conductive material such as an oxide.
  • the transparent conductive material include ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), zinc oxide, tin oxide, and the like.
  • the first electrode 12 and the second electrode 13 may be transparent electrodes having a transparent state by forming a thin film such as a metal thin film electrode such as graphene or a thin film carbon electrode. Since the transmittance and the power consumption of the backlight 3 are in a trade-off relationship, the first electrode 12 and the second electrode 13 are preferably formed so that the transmittance is 70% or more. .
  • the first electrode 12 and the second electrode 13 are formed in the same layer. Note that the first electrode 12 and the second electrode 13 are more preferably formed in the same plane. A capacitive touch panel function is realized by both electrodes. Here, the operation principle of the capacitive touch panel will be described with reference to FIG.
  • FIG. 3 shows an example of a capacitive touch panel.
  • 3A is a plan view for explaining the electrode configuration of the touch panel
  • FIG. 3B is a cross-sectional view taken along the line AB of FIG. 3A
  • FIG. ) Is a diagram for explaining the operation of the touch panel when a finger (detection target) is touched on the touch panel.
  • reference numeral 90 denotes a substrate made of a transparent insulator (dielectric), and a plurality of drive electrodes 91 and a plurality of detection electrodes 92 are provided on one surface of the substrate 90.
  • a cover glass 93 is provided to cover the surface on which the drive electrode 91 and the detection electrode 92 are provided.
  • the cover glass 93 is made of an insulator having a predetermined dielectric constant, for example, transparent glass.
  • FIG. 3A a detailed configuration for connection is not shown, but the plurality of drive electrodes 91 are connected in the X-axis direction for each row, and the plurality of detection electrodes 92 are arranged in each column. Each is connected in the Y-axis direction.
  • FIG. 3B when a drive voltage is applied to the drive electrode 91 and the detection electrode 92, an electrostatic charge is generated between the drive electrode 91 and the detection electrode 92 via the substrate 90 and the cover glass 93. A capacitance is formed, and electric lines of force are formed.
  • a known circuit for example, see Patent Document 4
  • FIG. 4 is a circuit configuration diagram of a mutual capacitance system that is the mainstream of a capacitive touch panel according to Patent Document 4, and FIG. 5 is a timing chart showing the operation of the circuit.
  • a transmission electrode (drive electrode) 100 and a reception electrode (detection electrode) 104 are coupled by a capacitor 105, and a switch 401, a storage capacitor 402, a reset switch 404, and an output amplifier 403 are provided on the reception electrode side. .
  • the transmission electrode 100 generates 109 rectangular waveforms by the amplifier 101. First, reset is performed and measurement is performed after charge transfer and hold are repeated.
  • the cross capacitance 105 changes depending on the presence or absence of a finger (for example, the cross capacitance is reduced by placing the finger), the position touched by the fingertip is detected by measuring the difference in the output voltage 402. Can do.
  • one of the first electrode 12 and the second electrode 13 functions as a drive electrode, and the other functions as a detection electrode.
  • the plurality of first electrodes 12 and the plurality of second electrodes 13 are continuously arranged in the X direction and the Y direction, respectively, and these two electrodes (12, 13) are arranged in the first direction. And alternately arranged in the second direction.
  • the plurality of second electrodes 13 arranged in the X direction are electrically connected to each other via a transparent relay electrode 13c (connection wiring) formed in the same layer as the second electrode 13.
  • the first electrode 12 and the second electrode 13 are formed in a rectangular shape (for example, a square shape), but are not limited thereto.
  • the metal wiring 15 is formed in a lattice shape, and a plurality of metal wirings 15 are individually provided corresponding to the plurality of first electrodes 12 and the plurality of second electrodes 13.
  • the plurality of metal wirings 15 are arranged in a state of being electrically disconnected from each other. Specific configurations of the metal wiring 15, the first electrode 12, and the second electrode 13 will be described below.
  • FIG. 7 is a plan view showing the connection relationship between the first electrode 12 and the second electrode 13, and FIG. 8 is a plan view showing a part of the metal wiring 15.
  • 9A is a cross-sectional view taken along the line YY ′ of FIG. 7, and FIG. 9B is a cross-sectional view taken along the line XX ′ of FIG. In FIG. 7, it corresponds to two adjacent first electrodes 12a, 12b, two adjacent second electrodes 13a, 13b, and first electrodes 12a, 12b, which are included in the region surrounded by the dotted line in FIG.
  • a metal wiring 15ab, a metal wiring 15a corresponding to the second electrode 13a, and a metal wiring 15b corresponding to the second electrode 13b are shown.
  • FIG. 8 shows the metal wirings 15a, 15b, and 15ab in FIG.
  • the first electrode 12a is connected to a metal wiring 15ab provided in a different layer from the first electrode 12 (12a, 12b) through the contact hole 5a.
  • the first electrode 12b is connected to the metal wiring 15ab via the contact hole 5b, whereby the first electrodes 12a and 12b are electrically connected to each other via the metal wiring 15ab.
  • the metal wiring 15ab is bridge-connected so as to straddle between the first electrodes 12a and 12b.
  • the second electrodes 13a and 13b are electrically connected to each other via a relay electrode 13c (see FIGS. 6 and 7) formed in the same layer as the second electrodes 13a and 13b. ing. Further, the metal wiring 15a corresponding to the second electrode 13a is connected to the second electrode 13a via the contact holes 5a1, 5a2, and the metal wiring 15b corresponding to the second electrode 13b is connected to the second electrode via the contact holes 5b1, 5b2. It is connected to the electrode 13b.
  • FIG. 10 is a plan view showing the connection relationship between the black matrix 17 and the counter electrode 19.
  • FIG. 11A is a cross-sectional view taken along the line Y1-Y1 ′ of FIG. 10
  • FIG. 10 is a cross-sectional view taken along the line ⁇ Y2 ′
  • FIG. 10C is a cross-sectional view taken along the line X1-X1 ′ of FIG. 10, and FIG. 10 and 11, the first electrodes 12a and 12b, the second electrodes 13a and 13b, and the metal wirings 15ab, 15a, and 15b are partially shown.
  • the counter electrode 19 is a solid transparent electrode, it is shown as an outer dotted line region in FIG.
  • the black matrix 17 is formed of a low resistance conductive film. Further, as shown in FIG. 10, the black matrix 17 is formed so as to overlap the metal wiring 15 when the display panel 2 (counter substrate 5) is viewed in a plan view. As shown in a) and (c), it is electrically connected to the counter electrode 19 through a plurality of contact holes 9.
  • FIG. 12 is a cross-sectional view schematically showing a conventional display panel
  • FIG. 13 is a diagram showing a drive circuit of a capacitive touch panel
  • FIG. 14 shows an outline of the operation of the drive circuit. It is a simulation waveform diagram shown. In the simulation, “Patran” (trade name) manufactured by MS Software Co., Ltd. was used.
  • C D-S is the capacitance for the touch detection is formed between the drive electrode (e.g., the first electrode) and the detection electrode (e.g., second electrode) of the touch panel, the fingertip Is shown as a variable capacitance to indicate that the capacitance changes between when the touch panel touches the touch panel and when the touch panel does not touch.
  • Drive Line corresponds to the output terminal of the drive electrode
  • Sense Line corresponds to the output terminal of the detection electrode
  • CITO Line corresponds to the output terminal of the counter electrode.
  • the detection circuit includes an integration circuit including an operational amplifier and a capacitance C INT, and an output indicating whether or not a fingertip or the like has touched is obtained as V OUT from the integration circuit.
  • C DC is a parasitic capacitance formed between the drive electrode and the counter electrode
  • C CC is a parasitic capacitance formed between the detection electrode and the counter electrode.
  • R sence is the resistance of the sensing electrodes
  • R CITO is the resistance of the counter electrode.
  • the current path is dominated by the path indicated by the arrow A in FIG. 13, but the touch panel is located inside the display panel as in the present invention.
  • a parasitic current path indicated by an arrow B exists in the provided structure in which the touch panel is provided outside the display panel.
  • the thick line P indicates the drive line voltage waveform
  • the thin line Q indicates the output voltage VOUT voltage waveform.
  • the touch panel in order to improve the performance of the touch panel, it is effective to increase the SN ratio by lowering the resistance (R CITO ) of the counter electrode.
  • the black matrix 17 made of a conductor is electrically connected to the counter electrode 19. Therefore, the resistance (R CITO ) of the counter electrode 19 can be reduced.
  • the position detection performance of the touch panel can be improved in the display panel 2 having an in-cell type touch panel function, and a stable position detection operation is performed. be able to.
  • the manufacturing method of the display panel 2 includes an active matrix substrate manufacturing process, a counter substrate manufacturing process, and an assembly process in which both substrates are bonded together and filled with liquid crystal.
  • FIG. 15 corresponds to the YY ′ cross section of FIG.
  • a transparent conductive film made of ITO, IZO (Indium Zinc Oxide), zinc oxide, tin oxide, or a metal thin film such as graphene is sputtered on a substrate made of glass, plastic or the like (here, glass substrate 11). Then, patterning is performed by a photolithography technique (including an etching process), and the resist is removed to form the position detection electrodes (first electrode 12 and second electrode 13) (FIG. 15A).
  • an insulating film is formed on the entire glass substrate 11 on which the first electrode 12 and the second electrode 13 are formed by a CVD (Chemical Vapor Deposition) method and a spin coating method, and the photoresist is removed, and the first An insulating film 14 is formed. Subsequently, contact holes are patterned in the first insulating film 14 by photolithography, and the first insulating film 14 is removed by etching to form contact holes 5a and 5b (FIG. 15B).
  • CVD Chemical Vapor Deposition
  • the metal wiring 15 is formed ((c) of FIG. 15).
  • the thickness of the metal wiring 15 is preferably 100 nm or more from the viewpoint of reducing resistance, and is preferably 300 nm or less in order to ensure the flatness of the counter electrode 19 and to suppress the process cost.
  • an insulating film is formed on the entire substrate on which the metal wiring 15 is formed by a CVD method, a spin coating method, or the like, the photoresist is removed, and a second insulating film 16 is formed.
  • titanium (Ti), copper (Cu), gold (Au), aluminum (Al), tungsten (W), zinc (Zn), nickel (Ni), tin (Sn) After forming a metal film with low resistance such as chromium (Cr), molybdenum (Mo), tantalum (Ta) and the like, and a metal thin film with low resistance such as metal silicide and metal silicide, the film is formed by photolithography. Patterning is performed to form a black matrix 17. Subsequently, red, green, and blue color filter layers 18 are patterned in the gaps of the black matrix 17 by using a pigment dispersion method or the like (FIG. 15D).
  • a contact hole is patterned in the color filter layer 18 by photolithography, and the color filter layer 18 is removed by etching to form a contact hole 9 ((e) in FIG. 15).
  • a transparent conductive film made of ITO, IZO, zinc oxide, tin oxide or the like is formed on the color filter layer 18 to form the counter electrode 19 ((f) in FIG. 15).
  • the counter substrate 5 can be manufactured by forming an alignment film (not shown) on the counter electrode 19.
  • the material of the first insulating film 14 and the second insulating film 16 is, for example, an organic insulating material (photosensitive resin) such as acrylic resin, epoxy resin, polyurethane resin, polyimide resin, or SiNx film.
  • An organic insulating material having insulating properties such as (silicon nitride film) can be used.
  • a resin made of an organic insulating material such as a photosensitive resin
  • the first insulating film 14 and the second insulating film 16 are preferably so-called organic insulating films.
  • the organic insulating film can be made thicker than the inorganic insulating film, and has a lower relative dielectric constant than the inorganic insulating film.
  • the relative dielectric constant ⁇ of nitrogen silicon is 6.9
  • the relative dielectric constant ⁇ of acrylic resin is 3.7.
  • the organic insulating film has high transparency, it can be made thick.
  • the parasitic capacitance between the position detection electrode and the counter electrode 19 is reduced from the viewpoint of both thickening and low dielectric constant. can do.
  • the thickness of the first insulating film 14 and the second insulating film 16 is preferably in the range of 1 ⁇ m to 3.5 ⁇ m.
  • either one of the first insulating film 14 and the second insulating film 16 may be formed of an inorganic insulating film, and the other may be formed of an organic insulating film.
  • a seal material made of a thermosetting epoxy resin or the like is applied to one of the active matrix substrate 4 and the counter substrate 5 by screen printing in a frame-like pattern lacking a liquid crystal inlet portion, and a liquid crystal layer is applied to the other substrate.
  • a spherical spacer made of plastic or silica having a diameter corresponding to the thickness of is dispersed. Instead of dispersing the spacers, the spacers may be formed on the black matrix 17 of the counter substrate 5 or the metal wiring of the active matrix substrate 4.
  • the active matrix substrate 4 and the counter substrate 5 are bonded together, and the sealing material is cured.
  • a liquid crystal material is injected into the space surrounded by the active matrix substrate 4 and the counter substrate 5 and the sealing material by a decompression method, a UV curable resin is applied to the liquid crystal injection port, and the liquid crystal material is sealed by UV irradiation.
  • the liquid crystal layer 6 is formed.
  • the display panel 2 is manufactured.
  • Example 1 is used in accordance with the definitions in the following examples unless otherwise specified.
  • FIG. 16 is a plan view illustrating a schematic configuration of the counter substrate 52 according to the second embodiment
  • FIG. 17 is a cross-sectional view taken along the line XX ′ of FIG.
  • the counter substrate 52 is similar to the counter substrate 5 described in the first embodiment, on the glass substrate 11, the first electrode 12 and the second electrode 13, the first insulating layer 14, the metal wiring 15, A second insulating layer 16, a black matrix (BM) 17, a color filter layer 18, a counter electrode 19, and an alignment film (not shown) are stacked in this order.
  • BM black matrix
  • BM color filter layer
  • counter electrode 19 an alignment film
  • the counter substrate 52 according to the present embodiment differs from the counter substrate 5 according to the first embodiment in the connection position between the black matrix 17 and the counter electrode 19. Specifically, as shown in FIG. 17, the counter substrate 52 is opposed to the black matrix 17 by forming (depositing) the counter electrode 19 on the black matrix 17 at the outer peripheral end of the display panel 2. The electrode 19 is electrically connected.
  • the manufacturing process for electrically connecting the black matrix 17 and the counter electrode 19, that is, the process of forming the contact hole 9 shown in FIG. 15E in the counter substrate 5 is omitted. Therefore, the manufacturing process of the counter substrate 52 can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.
  • FIG. 18 is a cross-sectional view illustrating the counter substrate 53 according to the third embodiment.
  • 18A corresponds to the YY ′ sectional view of FIG. 7
  • FIG. 18B corresponds to the XX ′ sectional view of FIG. 7.
  • the counter substrate 53 is formed on the glass substrate 11 with the first electrode 12 and the second electrode 13, the first insulating layer 14, the metal wiring 15, the second insulating layer 16, the color filter layer 18, black A matrix (BM) 17, a counter electrode 19, and an alignment film (not shown) are laminated in this order. That is, in the counter substrate 53 according to the present embodiment, the formation positions of the black matrix 17 and the color filter layer 18 are reversed as compared with the counter substrate 5 according to the first embodiment.
  • FIG. 19 is a diagram for explaining a manufacturing process of the counter substrate 53 according to the present embodiment. As shown in FIGS. 18 and 19, in the counter substrate 53, the black matrix 17 is formed (film formation) on the color filter layer 18, and the counter electrode 19 is formed (film formation) on the black matrix 17. Yes.
  • the counter electrode 19 is formed (film formation) on the black matrix 17, whereby the black matrix 17 and the counter electrode 19 are electrically connected.
  • the manufacturing process for electrically connecting the black matrix 17 and the counter electrode 19, that is, the process of forming the contact hole 9 shown in FIG. 15E in the counter substrate 5 is omitted. Therefore, the manufacturing process of the counter substrate 53 can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.
  • FIG. 20 is a cross-sectional view illustrating the counter substrate 54 according to the fourth embodiment.
  • 20A corresponds to the YY ′ sectional view of FIG. 7, and
  • FIG. 20B corresponds to the XX ′ sectional view of FIG.
  • the counter substrate 54 is formed on the glass substrate 11 with the first electrode 12 and the second electrode 13, the first insulating layer 14, the metal wiring 15, the second insulating layer 16, and the black matrix (BM) 17.
  • the color filter layer 18, the metal layer 19a, the counter electrode 19, and the alignment film (not shown) are laminated in this order. That is, the counter substrate 54 according to the present embodiment is further provided with a metal layer 19 a as compared with the counter substrate 5 according to the first embodiment, and the metal layer 19 a is electrically connected to the counter electrode 19. .
  • FIG. 21 is a diagram for explaining a manufacturing process of the counter substrate 54 according to the present embodiment.
  • the manufacturing process of the counter substrate 54 is the same as the manufacturing process of the counter substrate 5 according to the first embodiment from the formation of the color filter layer 18 to the process of forming the contact hole 9 (see FIG. 15E). ).
  • a transparent conductive film is formed on the color filter layer 18 to form the metal layer 19a.
  • a transparent conductive film made of ITO, IZO, zinc oxide, tin oxide or the like is formed on the metal layer 19a to form the counter electrode 19 ((f) in FIG. 21).
  • the resistance (R CITO ) of the counter electrode 19 is the same as the configuration of the first embodiment. It can be further reduced in comparison. Thereby, in the display panel 2 provided with the in-cell type touch panel function, the position detection performance of the touch panel can be enhanced, and a stable position detection operation can be performed.
  • FIG. 37 is a plan view illustrating a schematic configuration of the counter substrate 56 according to the fifth embodiment
  • FIG. 38 is a cross-sectional view taken along the line XX ′ of FIG.
  • the counter substrate 56 is similar to the counter substrate 5 described in the first embodiment, on the glass substrate 11, the first electrode 12 and the second electrode 13, the first insulating layer 14, the metal wiring 15, A second insulating layer 16, a black matrix (BM) 17, a color filter layer 18, a counter electrode 19, and an alignment film (not shown) are stacked in this order.
  • BM black matrix
  • BM color filter layer
  • counter electrode 19 an alignment film
  • the counter substrate 56 has the configurations of the first and second embodiments. Specifically, in the counter substrate 56, as shown in FIG. 38, the black matrix 17 is electrically connected to the counter electrode 19 through the contact holes 9 in the inner region of the display panel 2, and the display panel 2
  • the counter electrode 19 is formed (film formation) on the black matrix 17 at the outer peripheral end of the black matrix 17, whereby the black matrix 17 and the counter electrode 19 are electrically connected.
  • the resistance of the entire area of the counter electrode 19 can be reduced.
  • the counter substrate 56 can be manufactured by appropriately combining the manufacturing steps shown in the first and second embodiments.
  • the first electrode 12 and the second electrode 13 are formed in the same layer (or the same plane), but the counter substrate according to the present invention is limited to this. Instead, both electrodes may be formed in different layers. In the counter substrate 55 according to the present embodiment, the first electrode 12 and the second electrode 13 are formed in different layers. That is, the conventional configuration shown in FIGS. 34 and 35 can be applied to the first electrode 12 and the second electrode 13.
  • FIG. 22 is a schematic cross-sectional view illustrating the counter substrate 55 according to the sixth embodiment
  • FIG. 23 is a cross-sectional view illustrating a specific configuration of the counter substrate 55.
  • the counter substrate 55 includes a glass substrate 11, a first electrode 12, a first insulating layer 14, a second electrode 13, a second insulating layer 16, a black matrix (BM) 17, and a color filter.
  • the layer 18, the counter electrode 19, and an alignment film (not shown) are formed, and these members are stacked in this order.
  • the plurality of first electrodes 12 are electrically connected to each other
  • the plurality of second electrodes 13 are electrically connected to each other
  • one of the first electrode 12 and the second electrode 13 serves as a drive electrode.
  • the other functions as a detection electrode.
  • the black matrix 17 is electrically connected to the counter electrode 19 through the contact hole 9.
  • the first electrode 12 and the second electrode 13 are provided in different layers, and in each layer, the plurality of first electrodes 12 are electrically connected to each other, and the plurality of second electrodes 13 are electrically connected to each other. Therefore, the metal wiring 15 according to the first embodiment can be omitted.
  • the resistance of the counter electrode 19 can be reduced by adopting a simple configuration in which the black matrix 17 and the counter electrode 19 are electrically connected in the conventional counter substrate. Can be planned.
  • the configuration in which the first electrode 12 and the second electrode 13 are formed in different layers can be applied to the above-described embodiments.
  • FIG. 24A is a plan view showing a schematic configuration of the entire display panel 2 according to Configuration Example 1, and FIG. 24B is a sectional view taken along line XX ′ in FIG.
  • the display panel 2 according to Configuration Example 1 includes an active matrix substrate 4, a counter substrate 5x, and a liquid crystal layer 6.
  • the counter substrate 5x includes a glass substrate 11, a first electrode 12 and a second electrode 13, a first insulating layer 14, a metal wiring 15, a second insulating layer 16, a black matrix (BM) 17, a color filter layer 18, and a counter electrode 19. And an alignment film (not shown), and these members are laminated in this order.
  • the counter electrode 19 is electrically connected to the metal wiring 15x (shield line) at the seal portion. Thereby, the resistance of the counter electrode 19 can be reduced also in the seal portion.
  • the active matrix substrate 4 and the counter substrate 5x are bonded to each other by a sealing material 7 formed around the liquid crystal layer 6 between the substrates.
  • the method of assembling the active matrix substrate 4 and the counter substrate 5x is as described in the above manufacturing method.
  • FIG. 25A is a plan view showing a schematic configuration of the entire display panel 2 according to Configuration Example 2, and FIG. 25B is a sectional view taken along line XX ′ in FIG.
  • the display panel 2 includes an active matrix substrate 4, a counter substrate 5y, and a liquid crystal layer 6.
  • the counter substrate 5y includes a glass substrate 11, a first electrode 12, a second electrode 13, a third electrode 13x (transparent electrode), a first insulating layer 14, a metal wiring 15, a shield electrode 15x, a signal wiring 15z, and a second insulating layer. 16, a black matrix (BM) 17, a color filter layer 18, a counter electrode 19, and an alignment film (not shown), and these members are stacked in this order.
  • BM black matrix
  • the counter electrode 19 is electrically connected to the black matrix 17 and is also electrically connected to the shield electrode 15x through the contact hole 9x in the seal portion. And electrically connected to the third electrode 13x through the contact hole 9y.
  • the resistance of the counter electrode 19 can be reduced also in the seal portion, and a shielding effect by a fixed potential (counter voltage) can be obtained.
  • FIG. 26A is a plan view showing a schematic configuration of the entire display panel 2 according to the modification of FIG. 25, and FIG. 26B is a sectional view taken along line XX ′ in FIG.
  • a shield electrode 15y is further provided.
  • the shield electrode 15y and the shield electrode 15x are electrically disconnected.
  • the counter electrode 19 is electrically connected to the black matrix 17 and is also electrically connected to the shield electrode 15x through the contact hole 9x in the seal portion. Is electrically connected to the third electrode 13x through the contact hole 9y.
  • the third electrode 13x is connected to a ground line (GND).
  • GND ground line
  • (Configuration example 3 of the seal part) 27A is a plan view showing a schematic configuration of the entire display panel 2 according to Configuration Example 3, and FIG. 27B is a sectional view taken along line XX ′ in FIG.
  • the display panel 2 according to Configuration Example 3 is different from the display panel 2 according to the modification example of Configuration Example 2 shown in FIG. That is, the shield electrode 19x is further provided in the seal portion.
  • the shield electrode 19x is electrically connected to the shield electrode 15x via the contact hole 9x
  • the shield electrode 15y is electrically connected to the third electrode 13x via the contact hole 9y.
  • the third electrode 13x is connected to a ground line (GND).
  • Terminal area frame area Next, the structure of the terminal part arranged in the frame area of the display panel 2 according to the present invention will be described.
  • FIG. 28A is a plan view showing the display drive terminals and touch panel terminals of the liquid crystal panel 2
  • FIG. 28B is a portion (circle) of the touch panel terminals shown in FIG. It is an enlarged view of a surrounding area.
  • 29 and 30 are other plan views showing the display driving terminals and the touch panel terminals of the liquid crystal panel 2, respectively.
  • the liquid crystal panel 2 is configured such that the surface of the display driving terminal and the surface of the touch panel terminal are in the same direction (vertically upward in FIG. 28A). Has been.
  • the terminals provided on the front surface of the touch panel are connected to the signal wiring (touch panel wiring) on the back surface through the contact portion.
  • the touch panel terminal and the signal wiring on the back surface are electrically connected at the contact portion by conductive particles such as gold beads provided in the seal portion.
  • the display drive terminal and the touch panel terminal can be formed in the same direction, so that the display drive terminal, the touch panel terminal, and the circuit are arranged on the active matrix substrate 4 side of the active matrix substrate 4 and the counter substrate 5. Can be connected.
  • the terminal portion of the frame area of the liquid crystal panel 2 is not limited to the above configuration, and may be configured as shown in FIG. 29 or FIG. 30, for example.
  • the surface of the touch panel terminal and the surface of the display drive terminal are opposed to each other by arranging the terminal portions of the active matrix substrate 4 and the counter substrate 5 obliquely cut and shifted. It is configured.
  • the active matrix substrate 4 and the counter substrate 5 are drawn out and shifted in opposite directions to form terminal portions on the active matrix substrate 4 and the counter substrate 5, respectively.
  • the liquid crystal panel 2 shown in FIG. 30 is configured such that the surface of the touch panel terminal and the surface of the display drive terminal face each other and are symmetric with respect to the center of the liquid crystal panel 2.
  • the touch panel terminals are arranged on the back side of the counter substrate 5, and are shown by dotted lines for convenience.
  • the structure of the said terminal part can be applied in common with the counter substrate 5 concerning each embodiment mentioned above.
  • FIG. 31 is a plan view showing the configuration of the position detection electrodes (first electrode 12 and second electrode 13) according to this modification.
  • the first electrode 12 and the second electrode 13 are formed in the same layer, and the plurality of first electrodes 12 and the plurality of second electrodes are formed. 13 are continuously arranged in the X direction and the Y direction, and these electrodes 12 and 13 are alternately arranged in the first direction and the second direction.
  • the plurality of second electrodes 13 arranged in the X direction are electrically connected to each other via a transparent relay electrode 13c (connection wiring) formed in the same layer as the second electrode 13.
  • the first electrode 12 and the second electrode 13 have a rectangular pattern (in the example shown in FIG. 31, a rectangular shape) in plan view. And the electrodes 12 and 13 are alternately arranged in the X and Y directions.
  • connection wiring 13m arranged extending in the X direction.
  • connection wiring 13 and the second electrode 13 are formed of the same material, the second electrode 13 and the connection wiring 13m can be integrally formed in the same layer.
  • the second electrodes 13 arranged in the X direction are connected to each other by a connection wiring 13m in the X direction. Therefore, the second electrodes 13 arranged in the X direction are formed in a comb shape.
  • the first electrodes 12 arranged in the X direction have two rectangular electrode portions 12d adjacent to each other in the X direction, and these electrode portions 12d are arranged between the second electrodes 13 and also in the X direction. Are connected to each other by a connecting portion 12m arranged extending in the direction.
  • the first electrode 12 is formed in a concave shape so as to mesh with the comb tooth pattern formed by the second electrode 13.
  • the first electrode 12 is electrically connected to the metal wiring 15 through a contact hole 12k provided in each electrode portion 12d.
  • the second electrode 13 is electrically connected to the metal wiring 15 through the contact hole 13k.
  • the electrodes 12 and 13 are disconnected so as not to energize each other.
  • a disconnection line 15s is provided in the metal wiring 15 so as to surround each second electrode 13 in a plan view.
  • the first electrode 12 can be electrically connected to the metal wiring 15 without energizing the first electrode 12 and the second electrode 13, so that the CR time constant can be reduced.
  • the metal wiring 15 does not necessarily have a lattice shape, and bridges between at least one of the first electrode 12 and the second electrode 13 in a direction crossing the arrangement direction of the other electrode. It only has to be connected.
  • the metal wiring 15 is a linear wiring (Y wiring), and the metal wiring 15 is bridge-connected between the first electrodes 12 arranged in the Y direction across the Y direction.
  • Y wiring linear wiring
  • the first insulating layer 14 does not have to be provided so as to cover the entire first electrode 12 and the second electrode 13, but the metal wiring 15, the first electrode 12, the second electrode 13, and the connection. What is necessary is just to be provided between the wiring 13m (namely, arrangement
  • the metal wiring 15 can be bridge-connected between the first electrodes 12 without being electrically connected to the second electrode 13.
  • the light shielding layer may be provided in a layer different from the layer in which the counter electrode is provided, and may be configured to be electrically connected to the counter electrode through a contact hole.
  • the light shielding layer may be electrically connected to the counter electrode at the outer peripheral end of the display panel.
  • the process of forming a contact hole becomes unnecessary, Therefore
  • the simplification of the manufacturing process of a touch panel substrate and reduction of manufacturing cost can be aimed at. it can.
  • the counter electrode and the light shielding layer can be connected via the contact hole in the inner region of the display panel and directly connected at the outer peripheral end of the display panel. As a result, the resistance of the entire area of the counter electrode can be reduced.
  • the counter electrode may be provided on the light shielding layer.
  • the process of forming a contact hole becomes unnecessary, Therefore
  • the simplification of the manufacturing process of a touch panel substrate and reduction of manufacturing cost can be aimed at. it can.
  • a metal layer connected to the counter electrode is further provided between the counter electrode and the light shielding layer.
  • the metal layer is connected to the counter electrode in addition to the light shielding layer, the resistance of the counter electrode can be further reduced. Thereby, it can improve rather than the position detection performance of a touch panel.
  • the position detection electrode includes a plurality of first electrodes and a plurality of second electrodes, One of the first and second electrodes may function as a drive electrode, and the other may function as a detection electrode.
  • one of the first and second electrodes functions as a drive electrode and the other functions as a detection electrode, a capacitive touch panel can be realized.
  • the position detection electrodes include a plurality of first electrodes arranged in a first direction, and a plurality of second electrodes arranged in a second direction intersecting the first direction and insulated from the first electrode.
  • the first and second electrodes are preferably formed in the same layer.
  • a plurality of first and second electrodes are formed in the same layer, so that a distance between each electrode and the counter electrode can be earned. Therefore, the parasitic capacitance between the position detection electrode and the counter electrode can be reduced as compared with the case where each electrode is provided in a separate layer.
  • each electrode can be formed of the same material at the same time. For this reason, the manufacturing process of the touch panel substrate can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.
  • first and second electrodes are formed in the same plane.
  • the first and second electrodes are transparent electrodes, Metal wiring provided in a layer different from the first and second electrodes, and transparent connection wiring provided in the same layer as the first and second electrodes,
  • the metal wiring is bridge-connected between one of the first and second electrodes so as to straddle the direction intersecting the arrangement direction of the other electrode,
  • the connection wiring may be configured such that the other electrode of the first and second electrodes is connected within the formation surface of the first and second electrodes.
  • the first and second electrodes are bridge-connected with the metal wiring so as to straddle the direction intersecting the arrangement direction of the other electrode between the first electrode and the second electrode.
  • the electrodes can be connected so that the two electrodes do not energize each other.
  • the first and second electrodes are transparent electrodes, and one of the first and second electrodes is bridge-connected with the metal wiring as described above, so that the light transmittance and the area of the transparent region can be obtained. It is possible to reduce the resistance of the position detection electrode while ensuring the above. Therefore, when the touch panel substrate is mounted on a display panel, it is possible to reduce the resistance of the position detection electrode while ensuring the aperture ratio of the display panel.
  • the resistance of the position detection electrode can be reduced, the CR time constant can be reduced.
  • the metal wiring is provided so as to overlap the light shielding layer when the touch panel substrate is viewed in plan.
  • the resistance of the counter electrode when the touch panel substrate is mounted on a display panel, the resistance of the counter electrode can be reduced while maintaining the aperture ratio of the display panel.
  • the metal wiring is preferably formed in a lattice shape.
  • the resistance of the position detection electrode can be reduced by the lattice-shaped metal wiring. For this reason, the CR time constant can be further reduced.
  • an insulating layer is provided between the metal wiring and an electrode connected by the metal wiring, and the metal wiring is connected to the electrode by at least one contact hole provided in the insulating layer. It can also be set as the structure which connected between them.
  • the bridge connection can be easily performed by the grid-like metal wiring. Therefore, the process can be simplified and the process cost can be reduced.
  • a plurality of the contact holes may be arranged for one electrode.
  • the area of the connection portion between the metal wiring and the electrode can be ensured, and the resistance of the position detection electrode can be reduced, so that the CR time constant can be reduced.
  • one of the first and second electrodes is connected by a transparent connection wiring,
  • the first and second electrodes are electrically connected to the metal wiring via the contact holes, respectively.
  • the metal wiring is disconnected between the contact hole provided in the first electrode and the contact hole provided in the second electrode so that the first and second electrodes do not energize each other. It can also be.
  • an outer peripheral portion serving as a connection portion with the other of the pair of substrates in the metal wiring is electrically disconnected from the first and second electrodes. And it is preferable that the said counter electrode is electrically connected with the outer peripheral part of the said metal wiring.
  • the resistance of the counter electrode can be further reduced. Therefore, the CR time constant can be reduced.
  • a display panel includes: An electro-optic element and a pair of substrates sandwiching the electro-optic element, One of the pair of substrates is the touch panel substrate.
  • the position detection performance is high, and the display provided with the in-cell type touch panel which can perform stable position detection operation
  • the display panel having the touch panel function of the present invention is suitable for various portable terminal devices and the like.

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Abstract

　位置検出電極（第１電極（１２）、第２電極（１３））が設けられたタッチパネル基板（５）において、ブラックマトリクス（１７）は、導電体で形成されているとともに、対向電極（１９）に電気的に接続されている。これにより、位置検出性能が高く、安定した位置検出動作を行うことができる、インセル型のタッチパネルに用いられるタッチパネル基板およびそれを備えた表示パネルを提供する。

Description

タッチパネル基板及び表示パネル
　本発明は、インセル型のタッチパネルに用いられるタッチパネル基板および該タッチパネル基板を備えた表示パネルに関するものである。
　近年、装置の小型化を図るため、表示部と入力部とが一体化された表示装置が広く普及している。特に、携帯電話機、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）、ノート型パーソナルコンピュータ等の携帯端末では、指や入力用のペン（検出対象物）を表示表面に接触させると、その接触位置を検出することができるタッチパネルを備えた表示装置が広く用いられている。
　タッチパネルとしては、従来、いわゆる抵抗膜（感圧）方式や静電容量方式等、種々のタイプのタッチパネルが知られている。そのなかでも、静電容量方式を用いたタッチパネルが広く用いられている。
　静電容量方式のタッチパネルでは、指や入力用のペンを表示画面に接触させたときの静電容量の変化を検出することで接触位置を検出する。このため、簡便な操作で接触位置を検出することができる。
　また、静電容量方式のタッチパネルでは、抵抗膜方式を用いたタッチパネルのように空気層を挟んで２枚の導電膜を形成する必要がないことから、空気層と導電膜との界面における外光の界面反射が生じない。
　しかしながら、静電容量方式のタッチパネルは、静電容量の変化を検出することで接触位置を検出することから、タッチパネルが外部からノイズを受けると、このノイズによって電気力線が変化し、接触位置を正しく検出することができないおそれがある。
　従来、タッチパネルとしては、表示パネルの外側に搭載されるアウトセル（Out-Cell）型またはオンセル（On-Cell）型のタッチパネル（例えば、特許文献１参照）が広く用いられている。
　しかしながら、表示パネルの外側にタッチパネルを設けた場合、表示を行いながらタッチパネル動作を行う際に、表示パネルから輻射ノイズが発生し、タッチパネルが受けるノイズ量が増加するという問題がある。
　このため、表示パネルの外側にタッチパネルを設けた場合、ＳＮ比（信号対雑音比）が低下し、この結果、タッチパネルの検出性能が低下することで、接触位置を誤検出するおそれがある。
　また、表示パネルの外側にタッチパネルを設けた場合、表示パネルにタッチパネルを重ねて設けることで、装置全体の厚みや重量が増大するという問題が発生する。
　しかも、表示パネルの外側にタッチパネルを搭載することで、タッチパネルの表面だけでなく、タッチパネルと表示パネルとの界面において外光が反射することで、コントラストや視認性に悪影響を及ぼす。また、表示パネルの外側にタッチパネルを搭載することで、タッチパネルそのものによっても視認性が低下する。
　そこで、近年、薄型軽量化および視認性の向上、並びに、インセル化による部品点数削減等のコストメリットの観点から、表示パネル等におけるセル内にタッチパネルを組み込んだインセル（In-Cell）型のタッチパネルの開発が進められている（例えば、特許文献２、３参照）。
　インセル型のタッチパネルとしては、代表的には、表示パネルあるいは表示装置等の電気光学装置を構成する、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）基板等のアレイ基板と、ＣＦ（カラーフィルタ）基板等の対向基板との間に、物体の接触位置を検出する位置検出電極である所謂センサ電極を作り込んだ構造が挙げられる。
　特許文献２、３では、ＣＦ基板における絶縁基板と、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）からなる透明な対向電極との間にセンサ電極を作り込んでおり、インセル型のタッチパネルを構成するタッチパネル基板（言い換えれば、インセル方式のタッチパネル基板）として、ＣＦ基板を用いている。
　図３４は、特許文献２に記載の表示装置の構成を示す断面図であり、図３５は、図３４に示すＡ－Ｂ線に沿った断面から見たセンサ電極の構成を示す平面図である。
　図３４に示すように、特許文献２に記載の表示装置３００は、ＴＦＴ基板３０１とＣＦ基板３０２との間に液晶層３０３が挟持された表示パネル３０４を備えている。
　ＣＦ基板３０２における絶縁基板３１１と対向電極３１９（共通電極）との間には、遮光部３１６（ＢＭ）と、隣り合う遮光部３１６間に設けられた複数の着色層３１７（ＣＦ）とからなるＣＦ層３１８が設けられている。また、ＣＦ層３１８と絶縁基板３１１との間には、センサ電極として、第１電極層３１２と第２電極層３１４とが設けられている。第１電極層３１２と第２電極層３１４との間には、絶縁層３１３が設けられている。
　図３４および図３５に示すように、第１電極層３１２は、第１の方向に延びる直線状のライン部３１２ａと、ライン部３１２ａから膨出した膨出部３１２ｂとを有している。また、第２電極層３１４は、第１の方向に直交する第２の方向に延びる直線状のライン部３１４ａと、ライン部３１４ａから膨出した膨出部３１４ｂとを有している。
　図３６は、インセル型のタッチパネルを構成するタッチパネル基板として用いられる、特許文献２、３に記載の表示装置３００におけるＣＦ基板３０２の要部の構成を、積層順に模式的に示す断面図である。なお、図３６は、図３４に示す表示装置３００におけるＣＦ基板３０２の要部の構成を模式的に示す断面図に相当する。
　なお、特許文献１では、図３４に示すように、ＣＦ層３１８と対向電極３１９との間に、ＣＦ層３１８側から、絶縁層３２０およびシールド電極３２１が設けられているが、ここでは、絶縁層３２０およびシールド電極３２１の図示は省略する。また、図３６では、遮光部３１６（ＢＭ）と着色層３１７（ＣＦ）とが積層して記載されているが、遮光部３１６と着色層３１７とは、図３４に示すように、ほぼ同層に設けられている。
　なお、特許文献２、３には、第１電極層３１２および第２電極層３１４として、面状（シート状）の透明導電体に代えて、例えば格子状（メッシュ状）にパターニングされた金属を用いてもよいことが開示されている。
日本国公開特許公報「特開２０１０－７２５８４号公報（２０１０年４月２日公開）」 日本国公開特許公報「特開２０１０－７２５８１号公報（２０１０年４月２日公開）」 日本国公開特許公報「特開２０１０－１６０７４５号公報（２０１０年７月２２日公開）」 米国特許公報「第６４５２５１４号（２００２年７月１７日登録）」
　しかしながら、上記従来の表示装置では、図１２に示すように、第１電極層及び第２電極層と対向電極との間に形成される容量（ＣＤ－Ｃ、ＣＣ－Ｓ）の影響により、ＣＲ時定数（コンデンサ×抵抗）が大きくなるため、タッチパネルとして正常に動作しないおそれがある。
　本発明は、上記問題点に鑑みなされたものであり、その目的は、位置検出性能が高く、安定した位置検出動作を行うことができる、インセル型のタッチパネルに用いられるタッチパネル基板およびそれを備えた表示パネルを提供することにある。
　本発明にかかるタッチパネル基板は、上記の課題を解決するために、
　表示パネルを構成する一対の基板のうち一方の基板として用いられ、静電容量の変化により検出対象物の指示座標の位置を検出する位置検出電極が設けられたタッチパネル基板であって、
　上記表示パネルを構成する一対の基板のうち他方の基板に設けられた画素電極に対向配置された対向電極と、画素に対応してマトリクス状に形成された遮光層とを備え、
　上記遮光層は、導電体で形成されているとともに、上記対向電極に電気的に接続されていることを特徴としている。
　上記の構成によれば、対向電極に導電性の遮光層（ブラックマトリクス）が接続されているため、対向電極の低抵抗化を図ることができる。これにより、ＣＲ時定数を低減することができる。このため、位置検出性能が高く、安定した位置検出動作を行うことができる、インセル型のタッチパネルに用いられるタッチパネル基板を提供することができる。
　以上のように、本発明のタッチパネル基板は、上記遮光層が、導電体で形成されているとともに、上記対向電極に電気的に接続されている構成である。また、本発明の表示パネルは、上記タッチパネル基板を備えている。これにより、位置検出性能が高く、安定した位置検出動作を行うことができる、インセル型のタッチパネルに用いられるタッチパネル基板およびそれを備えた表示パネルを提供することができる。
本発明に係る表示装置の概略構成を示す断面図である。 本発明の実施例１に係る対向基板の断面図である。 静電容量方式のタッチパネルの一例を示す平面図であり、（ａ）はタッチパネルの電極構成を説明するための平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＡ－Ｂ断面図であり、（ｃ）はタッチパネルに指がタッチされた時のタッチパネルの動作を説明するための図である。 相互容量方式のタッチパネルの位置検出回路の構成図である。 図４の回路の動作を示すタイミングチャートである。 図２の対向基板における第１電極及び第２電極の構成を示す平面図である。 図６に示す第１電極及び第２電極の接続関係を示す平面図である。 図２の対向基板における金属配線の一部を示す平面図である。 （ａ）は図７のＹ－Ｙ´断面図であり、（ｂ）は図７のＸ－Ｘ´断面図である。 図２の対向基板におけるブラックマトリクス及び対向電極の接続関係を示す平面図である。 （ａ）は図１０のＹ１－Ｙ１´断面図であり、（ｂ）は図１０のＹ２－Ｙ２´断面図であり、（ｃ）は図１０のＸ１－Ｘ１´断面図であり、（ｄ）は図１０のＸ２－Ｘ２´断面図である。 従来の表示パネルを模式的に示した断面図である。 静電容量方式のタッチパネルの駆動回路を示す図である。 図１３の駆動回路の動作の概要を示すシミュレーション波形図である。 （ａ）～（ｆ）は、実施例１に係る対向基板の製造工程を説明するための図である。 実施例２に係る表示パネルの概略構成を示す平面図である。 図１６のＸ－Ｘ´断面図である。 実施例３に係る対向基板を示す断面図であり、（ａ）は図７のＹ－Ｙ´断面図に対応し、（ｂ）は図７のＸ－Ｘ´断面図に対応している。 （ａ）～（ｆ）は、実施例３に係る対向基板の製造工程を説明するための図である。 実施例４に係る対向基板を示す断面図であり、（ａ）は図７のＹ－Ｙ´断面図に対応し、（ｂ）は図７のＸ－Ｘ´断面図に対応している。 （ａ）～（ｆ）は、実施例４に係る対向基板の製造工程を説明するための図である。 実施例６に係る対向基板を示す模式断面図である。 図２２に示す対向基板の具体的な構成を示す断面図である。 （ａ）は構成例１に係る表示パネル全体の概略構成を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＸ－Ｘ´断面図である。 （ａ）は構成例２に係る表示パネル全体の概略構成を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＸ－Ｘ´断面図である。 （ａ）は図２５の変形例に係る表示パネル全体の概略構成を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＸ－Ｘ´断面図である。 （ａ）は構成例３に係る表示パネル全体の概略構成を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のＸ－Ｘ´断面図である。 （ａ）は本発明に係る表示パネルの表示駆動部端子とタッチパネル部端子を示す平面図であり、（ｂ）は（ａ）のタッチパネル部端子の部分（丸囲み領域）拡大図である。 図２８に示す表示パネルの変形例を示す平面図である。 図２８に示す表示パネルの変形例を示す平面図である。 図６に示す第１電極及び第２電極の変形例を示す平面図である。 図６に示す第１電極及び第２電極の変形例を示す平面図である。 図８に示す金属配線の変形例を示す平面図である。 特許文献２に記載の表示装置の構成を示す断面図である。 図３４に示すＡ－Ｂ線に沿った断面から見たセンサ電極の構成を示す平面図である。 インセル型のタッチパネルを構成するタッチパネル基板として用いられる、特許文献２、３に記載の表示装置におけるＣＦ基板の要部の構成を、積層順に模式的に示す断面図である。 実施例５に係る表示パネルの概略構成を示す平面図である。 図３７のＸ－Ｘ´断面図である。
　本発明に係るタッチパネル機能を有する表示装置（以下、表示装置という）の一実施の形態について以下に説明する。
　図１は、本実施の形態に係る表示装置の概略構成を示す断面図である。図１に示す表示装置１は、通常の画像表示機能と静電容量方式のタッチパネル機能とを兼ね備えた表示パネル２と、表示パネル２を駆動する各種駆動回路（データ信号線駆動回路、走査信号線駆動回路等；図示せず）と、表示パネル２に光を照射するバックライト３とを備えている。
　表示パネル２は、互いに対向する一対の基板（アクティブマトリクス基板４、対向基板５（カラーフィルタ（ＣＦ）基板））の間に液晶層６を挟持させたアクティブマトリクス型の液晶表示パネルである。表示パネル２では、対向基板５側が観察者側となり、アクティブマトリクス基板４の背面にバックライト３が配置される。
　アクティブマトリクス基板４には、ガラス基板４１上に、走査信号線及びデータ信号線等の各種信号線（図示せず）、トランジスタ（ＴＦＴ）（図示せず）、及び、マトリクス状に並べられた画素に対応して画素電極４２が設けられている。なお、アクティブマトリクス基板４は、周知の構成を適用することができる。
　対向基板５には、画像表示機能を実現するための構成に加えて、タッチパネル機能を実現するための構成が設けられている。以下では、主に、タッチパネル機能を有する対向基板５の具体的な構成例について説明する。
　（実施例１）
　図１の表示装置１では、実施例１に係る表示パネル２及び対向基板５を示している。図２には、本実施例１に係る対向基板５を示している。図２に示すように、対向基板５は、ガラス基板１１、第１電極１２及び第２電極１３、第１絶縁層１４、金属配線１５、第２絶縁層１６、ブラックマトリクス（ＢＭ）１７、カラーフィルタ層１８、対向電極１９、及び、配向膜（図示せず）により構成されており、これらの部材がこの順に積層されて形成されている。
　位置検出電極としての第１電極１２及び第２電極１３は、透明な電極であり、例えば、酸化物等の透明導電材料で形成されている。上記透明導電材料としては、例えば、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛酸化物）、酸化亜鉛、酸化スズ等が挙げられる。
　また、第１電極１２及び第２電極１３は、グラフェン等の金属薄膜電極、あるいは、薄膜のカーボン電極等、薄膜とすることで透明状態を有する透明な電極であってもよい。なお、透過率とバックライト３の消費電力とはトレードオフの関係にあることから、第１電極１２及び第２電極１３は、透過率が７０％以上となるように形成されていることが望ましい。
　また、第１電極１２及び第２電極１３は、互いに同一層に形成されている。なお、第１電極１２及び第２電極１３は、同一平面内に形成されていることがより好ましい。両電極により、静電容量方式のタッチパネル機能が実現される。ここで、静電容量方式のタッチパネルの動作原理について、図３を用いて説明する。
　図３は、静電容量方式のタッチパネルの一例を示している。図３の（ａ）は、タッチパネルの電極構成を説明するための平面図であり、図３の（ｂ）は、図３の（ａ）のＡ－Ｂ断面図であり、図３の（ｃ）は、タッチパネルに指（検出対象物）がタッチされた時のタッチパネルの動作を説明するための図である。
　図３において、符号９０は透明な絶縁体（誘電体）よりなる基板であり、この基板９０の一方の面に複数の駆動電極９１、複数の検出電極９２が設けられている。駆動電極９１及び検出電極９２が設けられた面を覆って、カバーガラス９３が設けられている。カバーガラス９３は、所定の誘電率を有する絶縁体、例えば透明なガラスによって構成されている。
　図３の（ａ）では、接続のための詳細な構成は示されていないが、複数の駆動電極９１は、各行毎にＸ軸方向に接続されており、複数の検出電極９２は、各列毎にＹ軸方向に接続されている。図３の（ｂ）に示すように、駆動電極９１と検出電極９２に駆動電圧が印加されると、駆動電極９１と検出電極９２との間に、基板９０及びカバーガラス９３を介して静電容量が形成され、電気力線が形成される。
　このような状態で図３の（ｃ）に示すように、指先９４がカバーガラス９３の表面にタッチされると、人体を介して接地との間に静電容量９５が形成されることになり、電気力線の一部は指先９４を介して接地されることになる。これは、指先９４がタッチした部分の駆動電極９１と検出電極９２との間の静電容量が大きく変化したことを示しており、これを検出することによって、指先９４がタッチした位置を検出することができる。
　本実施の形態において検出対象物の座標位置を検出するための位置検出回路としては、周知の回路（例えば特許文献４参照）を用いることができ、特に限定されるものではない。
　図４は、特許文献４に係る、静電容量方式のタッチパネルの主流である相互容量方式の回路構成図であり、図５は該回路の動作を示すタイミングチャートである。
　送信電極（駆動電極）１００及び受信電極（検出電極）１０４が容量１０５で結合されており、受信電極側には、スイッチ４０１、蓄積容量４０２、リセットスイッチ４０４、及び出力アンプ４０３が設けられている。送信電極１００は、アンプ１０１により、１０９の矩形波形を発生する。まず、リセットを行い、電荷転送、ホールドを繰り返した後に測定を行う。ここで、指の有り無しによりクロス容量１０５が変化するため（例えば、指を置くことによりクロス容量が小さくなる）、出力電圧４０２の差を計測することにより、指先がタッチした位置を検出することができる。
　本実施の形態に係る表示パネル２では、第１電極１２及び第２電極１３のうちの一方が、駆動電極として機能し、他方が検出電極として機能する。また、図６に示すように、複数の第１電極１２及び複数の第２電極１３はそれぞれ、Ｘ方向およびＹ方向に連続的に並べられ、これら両電極（１２、１３）が、第１方向及び第２方向に交互に並べられている。また、Ｘ方向に並べられた複数の第２電極１３は、これと同一層に形成された透明な中継電極１３ｃ（接続配線）を介して互いに電気的に接続されている。なお、図６では、第１電極１２及び第２電極１３は矩形状（例えば正方形状）に形成されているが、これに限定されるものではない。
　金属配線１５は、格子状に形成されており、複数の第１電極１２及び複数の第２電極１３のそれぞれに対応して、個別に複数設けられている。複数の金属配線１５は、互いに電気的に切断された状態で配置されている。金属配線１５、第１電極１２及び第２電極１３の具体的な構成について以下に説明する。
　図７は、第１電極１２及び第２電極１３の接続関係を示す平面図であり、図８は、金属配線１５の一部を示す平面図である。また、図９の（ａ）は、図７のＹ－Ｙ´断面図であり、（ｂ）は、図７のＸ－Ｘ´断面図である。図７では、図６の点線で囲まれた領域に含まれる、隣り合う２つの第１電極１２ａ、１２ｂと、隣り合う２つの第２電極１３ａ、１３ｂと、第１電極１２ａ、１２ｂに対応する金属配線１５ａｂと、第２電極１３ａに対応する金属配線１５ａと、第２電極１３ｂに対応する金属配線１５ｂとを示している。なお、図８には、図７における金属配線１５ａ、１５ｂ、１５ａｂを示している。
　図７及び図９の（ａ）に示すように、第１電極１２ａは、コンタクトホール５ａを介して、第１電極１２（１２ａ、１２ｂ）とは異なる層に設けられた金属配線１５ａｂに接続され、同様に、第１電極１２ｂは、コンタクトホール５ｂを介して金属配線１５ａｂに接続されており、これにより、第１電極１２ａ、１２ｂは、金属配線１５ａｂを介して互いに電気的に接続されている。すなわち、金属配線１５ａｂは、第１電極１２ａ、１２ｂ間を跨ぐようにブリッジ接続している。
　図７及び図９の（ｂ）に示すように、第２電極１３ａ、１３ｂは、これらと同一層に形成された中継電極１３ｃ（図６、図７参照）を介して互いに電気的に接続されている。また、第２電極１３ａに対応する金属配線１５ａがコンタクトホール５ａ１、５ａ２を介して第２電極１３ａに接続され、第２電極１３ｂに対応する金属配線１５ｂがコンタクトホール５ｂ１、５ｂ２を介して第２電極１３ｂに接続されている。
　図１０は、ブラックマトリクス１７及び対向電極１９の接続関係を示す平面図であり、図１１の（ａ）は、図１０のＹ１－Ｙ１´断面図であり、（ｂ）は、図１０のＹ２－Ｙ２´断面図であり、（ｃ）は、図１０のＸ１－Ｘ１´断面図であり、（ｄ）は、図１０のＸ２－Ｘ２´断面図である。図１０及び図１１では、第１電極１２ａ、１２ｂと、第２電極１３ａ、１３ｂと、金属配線１５ａｂ、１５ａ、１５ｂとを部分的に示している。また、対向電極１９はベタ状の透明電極であるため、図１０において外周の点線領域として示している。
　ブラックマトリクス１７は、低抵抗の導電膜で形成されている。また、ブラックマトリクス１７は、図１０に示すように、表示パネル２（対向基板５）を平面的に視て、金属配線１５に重なるように形成されており、さらに、図１０、図１１の（ａ）及び（ｃ）に示すように、複数のコンタクトホール９を介して対向電極１９に電気的に接続されている。
　ここで、タッチパネルを構成する位置検出電極（第１電極、第２電極）と、画像表示パネルを構成する対向電極との間に形成される容量がタッチパネルの性能に与える影響ついて説明する。
　図１２は、従来の表示パネルを模式的に示した断面図であり、図１３は、静電容量方式のタッチパネルの駆動回路を示す図であり、図１４は、該駆動回路の動作の概要を示すシミュレーション波形図である。なお、上記シミュレーションには、エムエスシーソフトウェア株式会社製の「Ｐａｔｒａｎ」（商品名）を用いた。
　図１２及び図１３において、ＣＤ－Ｓは、タッチパネルの駆動電極（例えば第１電極）と検出電極（例えば第２電極）との間に形成されるタッチ検出用の静電容量であり、指先等がタッチパネルにタッチする時とタッチしていない時でその容量が変化することを示すため、可変の静電容量として記載されている。また、Ｄｒｉｖｅ　Ｌｉｎｅは駆動電極の出力端子に該当し、Ｓｅｎｓｅ　Ｌｉｎｅは検出電極の出力端子に該当し、ＣＩＴＯ　Ｌｉｎｅは対向電極の出力端子に該当する。検出回路はオペアンプ及び静電容量ＣＩＮＴから構成される積分回路を有しており、指先等がタッチしたか否かの出力は、この積分回路からＶＯＵＴとして得られる。ＣＤ－Ｃは、駆動電極と対向電極との間に形成される寄生容量であり、ＣＣ－Ｓは、検出電極と対向電極との間に形成される寄生容量である。Ｒｓｅｎｃｅは検出電極の抵抗であり、ＲＣＩＴＯは対向電極の抵抗である。
　タッチパネルが表示パネルの外部に設けられる構造（いわゆるアウトセル型）では、電流の経路は、図１３の矢印Ａで示す経路が支配的となるが、本発明のような、タッチパネルが表示パネルの内部に設けられる構造（いわゆるインセル型）では、さらに矢印Ｂで示す寄生の電流経路が存在する。
　図１４の（ａ）及び（ｂ）において、太線ＰはＤｒｉｖｅ　Ｌｉｎｅの電圧波形を示し、細線Ｑは出力電圧ＶＯＵＴの電圧波形を示している。この図に示すように、対向電極の抵抗が高い場合（例えばＲＣＩＴＯ＝３９０Ω）には、図１３の矢印Ｂで示した寄生の電流経路の影響により、ＣＲ時定数（コンデンサ×抵抗）が大きくなるため、本来の出力電圧に収束するまでの時間が長くなることがわかる（図１４の（ｂ）参照）。そのため、積分時間が長くなり積分回数が減るため、ＳＮ比が低下する。これにより、タッチパネルの性能が低下する。
　上記の考察によれば、タッチパネルの性能を高めるためには、対向電極の抵抗（ＲＣＩＴＯ）を下げてＳＮ比を高めることが有効となる。この点、本実施の形態に係る表示パネル２では、図１及び図９に示したように、対向電極１９に、導電体からなるブラックマトリクス１７が電気的に接続されている。そのため、対向電極１９の抵抗（ＲＣＩＴＯ）を低下させることができる。これにより、ＣＲ時定数を低減でき、ＳＮ比を高めることができるため、インセル型のタッチパネル機能を備えた表示パネル２において、タッチパネルの位置検出性能を高めることができ、安定した位置検出動作を行うことができる。
　（表示パネルの製造方法）
　次に、表示パネル２の製造方法について説明する。表示パネル２の製造方法には、アクティブマトリクス基板製造工程と、対向基板製造工程と、両基板を貼り合わせて液晶を充填する組み立て工程とが含まれる。
　アクティブマトリクス基板の製造工程は周知の技術を適用できるためここでは説明を省略する。
　以下では、対向基板５の製造工程について、図１５を用いて説明する。なお、図１５は、図７のＹ－Ｙ´断面に対応している。
　まず、ガラス、プラスチックなどの基板（ここでは、ガラス基板１１）上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ（Indium Zinc Oxide）、酸化亜鉛、酸化スズなどからなる透明導電膜、または、グラフェンなどの金属薄膜をスパッタリング法により成膜し、その後、フォトリソグラフィー技術（エッチング工程含む）によりパターニングを行い、レジストを除去して位置検出電極（第１電極１２及び第２電極１３）を形成する（図１５の（ａ））。
　次に、第１電極１２及び第２電極１３が形成されたガラス基板１１全体に、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法、スピンコート法により絶縁膜を成膜し、フォトレジストの除去を行い、第１絶縁膜１４を形成する。続いて、フォトリソグラフィー技術により第１絶縁膜１４にコンタクトホールのパターニングを行い、第１絶縁膜１４をエッチング除去してコンタクトホール５ａ、５ｂを形成する（図１５の（ｂ））。
　次に、コンタクトホール５ａ、５ｂが形成された第１絶縁膜１４上に、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、タングステン（Ｗ）、亜鉛（Ｚｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、スズ（Ｓｎ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）等の抵抗の低い金属膜及びその金属化合物並びに金属シリサイドを成膜した後に、フォトリソグラフィー技術によってパターニングを行い、金属配線１５を形成する（図１５の（ｃ））。なお、金属配線１５の厚みは、低抵抗化の観点から１００ｎｍ以上であることが望ましく、対向電極１９の平坦性を確保するとともにプロセスコストを抑えるために、３００ｎｍ以下であることが望ましい。
　次に、金属配線１５が形成された基板全体に、ＣＶＤ法、スピンコート法等により絶縁膜を成膜し、フォトレジストの除去を行い、第２絶縁膜１６を形成する。次に、第２絶縁膜１６上に、チタン（Ｔｉ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、アルミニウム（Ａｌ）、タングステン（Ｗ）、亜鉛（Ｚｎ）、ニッケル（Ｎｉ）、スズ（Ｓｎ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）等の抵抗の低い金属膜及びその金属化合物並びに金属シリサイド等の抵抗が低く遮光性のある金属薄膜を成膜した後に、フォトリソグラフィー技術によってパターニングを行い、ブラックマトリクス１７を形成する。続いて、ブラックマトリクス１７の間隙に、顔料分散法などを用いて、赤、緑及び青のカラーフィルタ層１８をパターン形成する（図１５の（ｄ））。
　次に、フォトリソグラフィー技術によりカラーフィルタ層１８にコンタクトホールのパターニングを行い、カラーフィルタ層１８をエッチング除去してコンタクトホール９を形成する（図１５の（ｅ））。
　次に、カラーフィルタ層１８上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化亜鉛、酸化スズなどからなる透明導電膜を成膜し、対向電極１９を形成する（図１５の（ｆ））。
　最後に対向電極１９上に配向膜（図示せず）を形成することにより、対向基板５を製造することができる。
　なお、第１絶縁膜１４及び第２絶縁膜１６の材料としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリイミド系樹脂等の有機絶縁材料（感光性樹脂）、あるいは、ＳｉＮｘ膜（窒化シリコン膜）等の、絶縁性を有する透明な無機絶縁材料を用いることができる。そのなかでも、感光性樹脂等の、有機絶縁材料からなる樹脂を用いることが好ましく、第１絶縁膜１４及び第２絶縁膜１６は、いわゆる有機絶縁膜であることが好ましい。
　有機絶縁膜は、無機絶縁膜と比較して厚膜化が可能であり、また、無機絶縁膜と比較して比誘電率が低い。例えば、窒素シリコンの比誘電率εが６．９であるのに対し、アクリル樹脂の比誘電率εは、３．７である。また、有機絶縁膜は透明度が高いため、厚膜化が可能となる。
　したがって、第１絶縁膜１４及び第２絶縁膜１６が有機絶縁層である場合、厚膜化と低誘電率化の両方の観点から、位置検出電極と対向電極１９との間の寄生容量を低減することができる。
　なお、第１絶縁膜１４及び第２絶縁膜１６の厚みが薄すぎると、位置検出電極と対向電極１９との間の寄生容量が増加する。一方、第１絶縁膜１４の厚みが厚すぎると、コンタクトホール５ａ、５ｂの形成が困難となり、第２絶縁膜１６の厚みが厚すぎると、コンタクトホール９の形成が困難となる。このため、第１絶縁膜１４及び第２絶縁膜１６の厚みは、１μｍ～３．５μｍの範囲内であることが好ましい。
　また、第１絶縁膜１４及び第２絶縁膜１６の何れか一方を無機絶縁膜で形成し、他方を有機絶縁膜で形成しても良い。
　以下に、表示パネル２の組み立て工程について、説明する。
　まず、アクティブマトリクス基板４及び対向基板５の一方に、スクリーン印刷により、熱硬化性エポキシ樹脂などからなるシール材料を液晶注入口の部分を欠いた枠状パターンに塗布し、他方の基板に液晶層の厚さに相当する直径を持ち、プラスチックまたはシリカからなる球状のスペーサーを散布する。なお、スペーサーを散布する代わりに、対向基板５のブラックマトリクス１７上あるいはアクティブマトリクス基板４のメタル配線上にスペーサーを形成してもよい。
　次に、アクティブマトリクス基板４及び対向基板５を貼り合わせ、シール材料を硬化させる。
　最後に、アクティブマトリクス基板４及び対向基板５並びにシール材料で囲まれる空間に、減圧法により液晶材料を注入した後、液晶注入口にＵＶ硬化樹脂を塗布し、ＵＶ照射によって液晶材料を封止することで液晶層６を形成する。以上のようにして、表示パネル２が製造される。
　以下では、対向基板５の他の実施例について説明する。なお、説明の便宜上、上記実施例１において示した部材と同一の機能を有する部材には、同一の符号を付し、その説明を省略する。また、実施例１において定義した用語については、特に断らない限り以下の実施例においてもその定義に則って用いるものとする。
　（実施例２）
　図１６は、実施例２に係る対向基板５２の概略構成を示す平面図であり、図１７は、図１６のＸ－Ｘ´断面図である。
　図１７に示すように、対向基板５２は、実施例１に示した対向基板５と同様、ガラス基板１１上に、第１電極１２及び第２電極１３、第１絶縁層１４、金属配線１５、第２絶縁層１６、ブラックマトリクス（ＢＭ）１７、カラーフィルタ層１８、対向電極１９、及び、配向膜（図示せず）がこの順に積層されて構成されている。
　本実施例に係る対向基板５２は、実施例１に係る対向基板５と比較して、ブラックマトリクス１７と対向電極１９との接続位置が異なっている。具体的には、対向基板５２では、図１７に示すように、表示パネル２の外周端部において、ブラックマトリクス１７上に対向電極１９が形成（成膜）されることにより、ブラックマトリクス１７と対向電極１９とが電気的に接続されている。
　上記の構成によれば、ブラックマトリクス１７と対向電極１９とを電気的に接続するための製造工程、すなわち、対向基板５における図１５の（ｅ）に示したコンタクトホール９の形成工程を省略することができるため、対向基板５２の製造工程の簡略化及び製造コストの低減化を図ることができる。
　（実施例３）
　図１８は、実施例３に係る対向基板５３を示す断面図である。なお、図１８の（ａ）は図７のＹ－Ｙ´断面図に対応し、（ｂ）は図７のＸ－Ｘ´断面図に対応している。
　図１８に示すように、対向基板５３は、ガラス基板１１上に、第１電極１２及び第２電極１３、第１絶縁層１４、金属配線１５、第２絶縁層１６、カラーフィルタ層１８、ブラックマトリクス（ＢＭ）１７、対向電極１９、及び、配向膜（図示せず）がこの順に積層されて構成されている。すなわち、本実施例に係る対向基板５３は、実施例１に係る対向基板５と比較すると、ブラックマトリクス１７とカラーフィルタ層１８の形成位置が逆になっている。
　図１９は、本実施例に係る対向基板５３の製造工程を説明するための図である。図１８及び図１９に示すように、対向基板５３では、カラーフィルタ層１８の上にブラックマトリクス１７が形成（成膜）され、ブラックマトリクス１７の上に対向電極１９が形成（成膜）されている。
　上記のように、対向基板５３では、ブラックマトリクス１７の上に対向電極１９が形成（成膜）されることにより、ブラックマトリクス１７と対向電極１９とが電気的に接続される。
　上記の構成によれば、ブラックマトリクス１７と対向電極１９とを電気的に接続するための製造工程、すなわち、対向基板５における図１５の（ｅ）に示したコンタクトホール９の形成工程を省略することができるため、対向基板５３の製造工程の簡略化及び製造コストの低減化を図ることができる。
　（実施例４）
　図２０は、実施例４に係る対向基板５４を示す断面図である。なお、図２０の（ａ）は図７のＹ－Ｙ´断面図に対応し、（ｂ）は図７のＸ－Ｘ´断面図に対応している。
　図２０に示すように、対向基板５４は、ガラス基板１１上に、第１電極１２及び第２電極１３、第１絶縁層１４、金属配線１５、第２絶縁層１６、ブラックマトリクス（ＢＭ）１７、カラーフィルタ層１８、金属層１９ａ、対向電極１９、及び、配向膜（図示せず）がこの順に積層されて構成されている。すなわち、本実施例に係る対向基板５４は、実施例１に係る対向基板５と比較すると、金属層１９ａがさらに設けられており、この金属層１９ａが対向電極１９に電気的に接続されている。
　図２１は、本実施例に係る対向基板５４の製造工程を説明するための図である。対向基板５４の製造工程は、カラーフィルタ層１８を形成した後、コンタクトホール９を形成する工程までは、実施例１に係る対向基板５の製造工程と同一である（図１５の（ｅ）参照）。
　対向基板５４では、図２１の（ｅ）に示すように、コンタクトホール９を形成した後、カラーフィルタ層１８上に透明導電膜を成膜し、金属層１９ａを形成する。次に、金属層１９ａ上に、ＩＴＯ、ＩＺＯ、酸化亜鉛、酸化スズなどからなる透明導電膜を成膜し、対向電極１９を形成する（図２１の（ｆ））。
　上記の構成によれば、対向電極１９に、導電体からなるブラックマトリクス１７及び金属層１９ａが電気的に接続されているため、対向電極１９の抵抗（ＲＣＩＴＯ）を、実施例１の構成と比較してさらに低下させることができる。これにより、インセル型のタッチパネル機能を備えた表示パネル２において、タッチパネルの位置検出性能を高めることができ、安定した位置検出動作を行うことができる。
　（実施例５）
　図３７は、実施例５に係る対向基板５６の概略構成を示す平面図であり、図３８は、図３７のＸ－Ｘ´断面図である。
　図３８に示すように、対向基板５６は、実施例１に示した対向基板５と同様、ガラス基板１１上に、第１電極１２及び第２電極１３、第１絶縁層１４、金属配線１５、第２絶縁層１６、ブラックマトリクス（ＢＭ）１７、カラーフィルタ層１８、対向電極１９、及び、配向膜（図示せず）がこの順に積層されて構成されている。
　本実施例に係る対向基板５６は、実施例１及び実施例２の構成を兼ね備えている。具体的には、対向基板５６では、図３８に示すように、表示パネル２の内側領域において、ブラックマトリクス１７がコンタクトホール９を介して対向電極１９に電気的に接続されるとともに、表示パネル２の外周端部において、ブラックマトリクス１７上に対向電極１９が形成（成膜）されることにより、ブラックマトリクス１７と対向電極１９とが電気的に接続されている。
　本実施例に係る対向基板５６によれば、対向電極１９の全面領域について低抵抗化を図ることができる。
　なお、対向基板５６は、実施例１及び実施例２に示した製造工程を適宜組み合わせることにより製造することができる。
　（実施例６）
　上述の実施例１～５では、第１電極１２及び第２電極１３が互いに同一層（あるいは同一平面）に形成されている構成であるが、本発明に係る対向基板は、これに限定されるものではなく、両電極が互いに異なる層に形成されていても良い。本実施例に係る対向基板５５では、第１電極１２及び第２電極１３が互いに異なる層に形成されている。すなわち、第１電極１２及び第２電極１３は、図３４及び図３５に示す従来の構成を適用することができる。
　図２２は、実施例６に係る対向基板５５を示す模式断面図であり、図２３は、対向基板５５の具体的な構成を示す断面図である。
　図２２及び図２３に示すように、対向基板５５は、ガラス基板１１、第１電極１２、第１絶縁層１４、第２電極１３、第２絶縁層１６、ブラックマトリクス（ＢＭ）１７、カラーフィルタ層１８、対向電極１９、及び、配向膜（図示せず）により構成されており、これらの部材がこの順に積層されて形成されている。また、複数の第１電極１２が互いに電気的に接続され、複数の第２電極１３が互いに電気的に接続されており、第１電極１２及び第２電極１３のうちの一方が、駆動電極として機能し、他方が検出電極として機能する。また、ブラックマトリクス１７は、コンタクトホール９を介して対向電極１９に電気的に接続されている。なお、第１電極１２及び第２電極１３は互いに異なる層に設けられ、それぞれの層において、複数の第１電極１２が互いに電気的に接続され、複数の第２電極１３が互いに電気的に接続されているため、実施例１等に係る金属配線１５は省略することができる。
　本実施例に係る対向基板５５によれば、従来の対向基板において、ブラックマトリクス１７と対向電極１９とを電気的に接続するという簡易な構成を採用することにより、対向電極１９の低抵抗化を図ることができる。
　なお、第１電極１２及び第２電極１３を互いに異なる層に形成する構成は、上述の各実施例に適用できることは言うまでもない。
　（シール部の構成例１）
　ここで、本発明に係る表示パネル２のシール部（外周端部）の構成について説明する。なお、シール部の構成は、上述した各実施例に係る対向基板に適用できるものである。以下では、実施例５の対向基板５６（以下では、対向基板５ｘと称す）を例に挙げて説明する。すなわち、対向基板５ｘでは、ブラックマトリクス１７が、表示パネル２の内側領域において、コンタクトホール９を介して対向電極１９に接続されるとともに、外周端部において対向電極１９上に形成されることにより対向電極１９に電気的に接続されている。
　図２４の（ａ）は、構成例１に係る表示パネル２全体の概略構成を示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＸ－Ｘ´断面図である。
　構成例１に係る表示パネル２は、アクティブマトリクス基板４、対向基板５ｘ、液晶層６を備えている。対向基板５ｘは、ガラス基板１１、第１電極１２及び第２電極１３、第１絶縁層１４、金属配線１５、第２絶縁層１６、ブラックマトリクス（ＢＭ）１７、カラーフィルタ層１８、対向電極１９、及び、配向膜（図示せず）により構成されており、これらの部材がこの順に積層されて形成されている。また、対向基板５ｘでは、シール部において、対向電極１９が金属配線１５ｘ（シールドライン）に電気的に接続されている。これにより、シール部においても対向電極１９の低抵抗化を図ることができる。
　アクティブマトリクス基板４及び対向基板５ｘは、両基板間に液晶層６を挟持してその周囲に形成されるシール材７により貼り合わされている。アクティブマトリクス基板４及び対向基板５ｘの組み立て方法は、上述の製造方法に示したとおりである。
　（シール部の構成例２）
　図２５の（ａ）は、構成例２に係る表示パネル２全体の概略構成を示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＸ－Ｘ´断面図である。
　構成例２に係る表示パネル２は、アクティブマトリクス基板４、対向基板５ｙ、液晶層６を備えている。対向基板５ｙは、ガラス基板１１、第１電極１２及び第２電極１３並びに第３電極１３ｘ（透明電極）、第１絶縁層１４、金属配線１５及びシールド電極１５ｘ並びに信号配線１５ｚ、第２絶縁層１６、ブラックマトリクス（ＢＭ）１７、カラーフィルタ層１８、対向電極１９、及び、配向膜（図示せず）により構成されており、これらの部材がこの順に積層されて形成されている。
　また、対向基板５ｙでは、シール部において、対向電極１９が、ブラックマトリクス１７に電気的に接続されるとともに、コンタクトホール９ｘを介してシールド電極１５ｘに電気的に接続されており、シールド電極１５ｘは、コンタクトホール９ｙを介して第３電極１３ｘに電気的に接続されている。これにより、シール部においても対向電極１９の低抵抗化を図ることができるとともに、固定電位（対向電圧）によるシールド効果を得ることができる。
　図２６の（ａ）は、図２５の変形例に係る表示パネル２全体の概略構成を示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＸ－Ｘ´断面図である。
　図２６の表示パネル２では、シールド電極１５ｙがさらに設けられている。なお、シールド電極１５ｙとシールド電極１５ｘとは電気的に切断されている。図２６の対向基板５ｙでは、シール部において、対向電極１９が、ブラックマトリクス１７に電気的に接続されるとともに、コンタクトホール９ｘを介してシールド電極１５ｘに電気的に接続されており、シールド電極１５ｙは、コンタクトホール９ｙを介して第３電極１３ｘに電気的に接続されている。また、第３電極１３ｘはグランドライン（ＧＮＤ）に接続されている。これにより、シール部においても対向電極１９の低抵抗化を図ることができるとともに、固定電位（対向電圧及びＧＮＤ電位）によるシールド効果を得ることができる。
　（シール部の構成例３）
　図２７の（ａ）は、構成例３に係る表示パネル２全体の概略構成を示す平面図であり、（ｂ）は、（ａ）のＸ－Ｘ´断面図である。
　構成例３に係る表示パネル２は、図２６に示した構成例２の変形例に係る表示パネル２において、対向電極１９が、外周端部（シール部）で分離されている。すなわち、シール部においてシールド電極１９ｘがさらに設けられている。シールド電極１９ｘはコンタクトホール９ｘを介してシールド電極１５ｘに電気的に接続されており、シールド電極１５ｙは、コンタクトホール９ｙを介して第３電極１３ｘに電気的に接続されている。また、第３電極１３ｘはグランドライン（ＧＮＤ）に接続されている。
　上記の構成では、対向電極１９はグランドライン（ＧＮＤ）に接続されないため、固定電位（ＧＮＤ電位）によるシールド効果を得ることができる。
　（額縁領域の端子部）
　次に、本発明に係る表示パネル２の額縁領域に配される端子部の構成について説明する。
　図２８の（ａ）は液晶パネル２の表示駆動用端子とタッチパネル用端子とを示す平面図であり、図２８の（ｂ）は、図２８の（ａ）に示すタッチパネル用端子の部分（丸囲み領域）の拡大図である。
　また、図２９及び図３０は、それぞれ、液晶パネル２の表示駆動用端子とタッチパネル用端子とを示す他の平面図である。
　図２８の（ａ）に示すように、液晶パネル２は、表示駆動用端子の表面と、タッチパネル用端子の表面とが同一方向（図２８の（ａ）における紙面鉛直上向き）となるように構成されている。
　図２８の（ｂ）に示すように、タッチパネルの表面に設けられた端子は、コンタクト部を介して裏面の信号配線（タッチパネル用配線）に接続されている。具体的には、タッチパネル用端子と裏面の信号配線とは、コンタクト部において、シール部内に設けられた金ビーズ等の導電性粒子により電気的に接続されている。
　これにより、表示駆動用端子とタッチパネル用端子とを同じ向きに形成することができるので、アクティブマトリクス基板４、対向基板５のうちアクティブマトリクス基板４側で、表示駆動用端子およびタッチパネル用端子と回路との接続を行うことができる。
　但し、液晶パネル２の額縁領域の端子部は、上記の構成に限定されず、例えば図２９あるいは図３０に示す構成としてもよい。
　図２９に示す液晶パネル２では、アクティブマトリクス基板４、対向基板５の端子部を斜めに切り出してずらして配置することで、タッチパネル用端子の表面と、表示駆動用端子の表面とが対向するように構成されている。
　また、図３０に示す液晶パネル２では、アクティブマトリクス基板４、対向基板５を互いに反対方向に引き出してずらして配置することで、アクティブマトリクス基板４、対向基板５にそれぞれ端子部を形成している。これにより、図３０に示す液晶パネル２では、タッチパネル用端子の表面と表示駆動用端子の表面とが、互いに対向するとともに液晶パネル２の中心に対して対称となるように構成されている。なお、図２９、図３０では、タッチパネル用端子は対向基板５の裏面側に配されているため、便宜上、点線で示している。
　なお、上記端子部の構成は、上述した各実施の形態にかかる対向基板５に共通して適用することができる。
　（位置検出電極の変形例）
　ここで、上記実施例１～５に示した位置検出電極（第１電極１２及び第２電極１３）の変形例について説明する。図３１は、本変形例に係る位置検出電極（第１電極１２及び第２電極１３）の構成を示す平面図である。実施例１～５に示した位置検出電極では、図６に示すように、第１電極１２及び第２電極１３が同一層に形成されるとともに、複数の第１電極１２及び複数の第２電極１３はそれぞれ、Ｘ方向およびＹ方向に連続的に並べられ、これら両電極１２、１３が、第１方向及び第２方向に交互に並べられている。また、Ｘ方向に並べられた複数の第２電極１３は、これと同一層に形成された透明な中継電極１３ｃ（接続配線）を介して互いに電気的に接続されている。
　これに対して、本変形例に係る位置検出電極では、図３１に示すように、第１電極１２及び第２電極１３が、平面視で矩形状（図３１に示す例では長方形状）のパターンを有し、かつ、各電極１２、１３が、それそれＸ方向およびＹ方向に交互に並べられている。
　また、Ｘ方向に配列された第２電極１３は、Ｘ方向に延伸して配された接続配線１３ｍによって互いに接続されている。なお、接続配線１３及び第２電極１３を同一材料で形成する場合、第２電極１３と接続配線１３ｍとは、同一層に一体的に形成することができる。
　図３１に示す例では、Ｘ方向に配列された各第２電極１３は、Ｘ方向において、接続配線１３ｍによって互いに接続されている。したがって、Ｘ方向に並ぶ第２電極１３は、櫛歯状に形成されている。
　一方、Ｘ方向に配列された第１電極１２は、Ｘ方向に隣り合う２つの矩形状の電極部１２ｄを有し、これら電極部１２ｄが、第２電極１３間に配されるとともに、Ｘ方向に延伸して配された接続部１２ｍにより互いに接続された構造を有している。
　このため、第１電極１２は、第２電極１３による櫛歯パターンに噛み合うように凹状に形成されている。
　第１電極１２は、各電極部１２ｄに設けられたコンタクトホール１２ｋによって、金属配線１５と電気的に接続されている。第２電極１３は、コンタクトホール１３ｋによって、金属配線１５と電気的に接続されている。
　金属配線１５おける、隣り合う第１電極１２と第２電極１３との間は、両電極１２、１３が互いに通電しないように断線されている。
　このため、図３１では、平面視で各第２電極１３を囲むように、金属配線１５に断線ライン１５ｓが設けられている。
　これにより、第１電極１２及び第２電極１３を通電させることなく、第１電極１２を金属配線１５と電気的に接続させることができるので、ＣＲ時定数を低減することができる。
　ここで、金属配線１５は、必ずしも格子状である必要はなく、第１電極１２及び第２電極１３のうち少なくとも一方の電極間を、他方の電極の配列方向に交差する方向に跨ぐようにブリッジ接続していればよい。
　図３２及び図３３は、それぞれ、金属配線１５が線状配線（Ｙ配線）からなり、金属配線１５が、Ｙ方向に配列された第１電極１２間をＹ方向に跨いでブリッジ接続している例を示している。
　なお、この場合、第１絶縁層１４は、第１電極１２及び第２電極１３全体を覆うように設けられている必要はなく、金属配線１５と、第１電極１２及び第２電極１３並びに接続配線１３ｍとの間（つまり、平面視で金属配線１５の配設領域）に設けられていればよい。
　これにより、金属配線１５が、第２電極１３と導通することなく、第１電極１２間をブリッジ接続することができる。
　本発明の実施の形態に係るタッチパネル基板では、
　上記遮光層は、上記対向電極が設けられている層とは異なる層に設けられるとともに、コンタクトホールを介して上記対向電極に電気的に接続されている構成とすることもできる。
　本発明の実施の形態に係るタッチパネル基板では、上記遮光層は、上記表示パネルの外周端部において、上記対向電極に電気的に接続されている構成とすることもできる。
　上記の構成によれば、対向電極と遮光層とを接続するために、例えばコンタクトホールを形成する工程が不要となるため、タッチパネル基板の製造工程の簡略化及び製造コストの低減化を図ることができる。
　また、上記の構成によれば、対向電極と遮光層とを、表示パネルの内側領域においてコンタクトホールを介して接続するとともに、表示パネルの外周端部において直接接続することができる。これにより、対向電極の全面領域について低抵抗化を図ることができる。
　本発明の実施の形態に係るタッチパネル基板では、上記対向電極は、上記遮光層上に設けられている構成とすることもできる。
　上記の構成によれば、対向電極と遮光層とを接続するために、例えばコンタクトホールを形成する工程が不要となるため、タッチパネル基板の製造工程の簡略化及び製造コストの低減化を図ることができる。
　本発明の実施の形態に係るタッチパネル基板では、上記対向電極と上記遮光層との間に、該対向電極に接続された金属層がさらに設けられていることが好ましい。
　上記の構成によれば、対向電極に、上記遮光層に加えて金属層が接続されているため、対向電極をさらに低抵抗化することができる。これにより、タッチパネルの位置検出性能より高めることができる。
　本発明の実施の形態に係るタッチパネル基板では、
　上記位置検出電極は、複数の第１電極と、複数の第２電極とを備え、
　上記第１及び第２電極の一方が駆動電極として機能し、他方が検出電極として機能する構成とすることもできる。
　上記の構成によれば、第１及び第２電極の一方が駆動電極として機能し、他方が検出電極として機能するため、静電容量式のタッチパネルを実現することができる。
　本発明の実施の形態に係るタッチパネル基板では、
　上記位置検出電極は、第１方向に配列された複数の第１電極と、上記第１方向と交差する第２方向に、上記第１電極とは絶縁して配列された複数の第２電極とを備え、
　上記第１及び第２電極は、同一層内に形成されていることが好ましい。
　上記の構成によれば、複数の第１及び第２電極が同一層内に形成されていることで、各電極と対向電極との間の距離を稼ぐことができる。したがって、各電極を別層に設ける場合と比較して、位置検出電極と対向電極との間の寄生容量を小さくすることができる。
　このため、タッチパネルの位置検出性能より高めることができる。
　また、上記の構成によれば、各電極を同一材料で同時に形成することができる。このため、タッチパネル基板の製造工程の簡略化及び製造コストの低減化を図ることができる。
　また、上記第１及び第２電極は、同一平面内に形成されていることがより好ましい。
　本発明の実施の形態に係るタッチパネル基板では、
　上記第１及び第２電極は透明電極であり、
　上記第１及び第２電極とは異なる層に設けられた金属配線と、上記第１及び第２電極と同じ層に設けられた透明な接続配線とを備え、
　上記金属配線は、上記第１及び第２電極のうち一方の電極間を、他方の電極の配列方向に交差する方向に跨ぐようにブリッジ接続し、
　上記接続配線は、上記第１及び第２電極のうち他方の電極間を、上記第１及び第２電極の形成面内において接続している構成とすることもできる。
　上記の構成によれば、第１及び第２電極のうち一方の電極間を、他方の電極の配列方向に交差する方向に跨ぐように金属配線でブリッジ接続していることで、第１及び第２電極が互いに通電しないように各電極間を接続することができる。
　また、第１及び第２電極が透明電極であり、第１及び第２電極のうち一方の電極間を、上記したように金属配線でブリッジ接続することで、光の透過率並びに透明領域の面積を確保したまま、位置検出電極の低抵抗化を図ることができる。したがって、上記タッチパネル基板を表示パネルに搭載した場合、該表示パネルの開口率を確保したまま、位置検出電極の低抵抗化を図ることができる。
　また、上記したように位置検出電極を低抵抗化することができるので、ＣＲ時定数を低減することができる。
　本発明の実施の形態に係るタッチパネル基板では、上記金属配線は、当該タッチパネル基板を平面的に見て、上記遮光層に重なるように設けられていることが好ましい。
　上記の構成によれば、光の透過率及び透明領域の面積を確保したまま、対向電極の低抵抗化を図ることができる。したがって、上記タッチパネル基板を表示パネルに搭載した場合、表示パネルの開口率を確保したまま、対向電極の低抵抗化を図ることができる。
　本発明の実施の形態に係るタッチパネル基板では、上記金属配線は格子状に形成されていることが好ましい。
　上記の構成によれば、上記格子状の金属配線によって位置検出電極の低抵抗化を図ることができる。このため、ＣＲ時定数をさらに低減することができる。
　上記タッチパネル基板では、上記金属配線と該金属配線で接続される電極との間には絶縁層が設けられており、上記金属配線は、上記絶縁層に設けられた少なくとも１つのコンタクトホールにより上記電極間をブリッジ接続している構成とすることもできる。
　上記の構成によれば、格子状の金属配線によって、容易にブリッジ接続を行うことができる。したがって、プロセスを簡略化することができ、プロセスコストを削減することができる。
　本発明の実施の形態に係るタッチパネル基板では、上記コンタクトホールは、１つの電極に対し、複数配置されている構成とすることもできる。
　上記の構成によれば、金属配線と電極との接続部の面積を確保することができ、位置検出電極を低抵抗化することができるので、ＣＲ時定数を低減することができる。
　本発明の実施の形態に係るタッチパネル基板では、
　上記第１及び第２電極の形成面内において、上記第１及び第２電極のうち一方の電極間は透明な接続配線で接続されているとともに、
　上記第１及び第２電極は、上記コンタクトホールを介して上記金属配線とそれぞれ電気的に接続されており、
　上記金属配線は、上記第１電極に設けられた上記コンタクトホールと上記第２電極に設けられたコンタクトホールとの間で、上記第１及び第２電極が互いに通電しないように断線されている構成とすることもできる。
　本発明の実施の形態に係るタッチパネル基板では、上記金属配線における、上記一対の基板のうち他方の基板との接続部となる外周部は、上記第１及び第２電極から電気的に切断されており、上記対向電極は、上記金属配線の外周部と電気的に接続されていることが好ましい。
　上記の構成によれば、対向電極をさらに低抵抗化することができる。したがって、ＣＲ時定数を低減することができる。
　本発明の実施の形態に係る表示パネルは、
　電気光学素子と、上記電気光学素子を挟持する一対の基板とを備え、
　上記一対の基板のうち一方の基板が、上記タッチパネル基板であることを特徴としている。
　上記の構成によれば、上記一対の基板のうち一方の基板として上記タッチパネル基板を用いることで、位置検出性能が高く、安定した位置検出動作を行うことができる、インセル型のタッチパネルを備えた表示パネルを提供することができる。
　本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
　本発明のタッチパネル機能を備えた表示パネルは、各種携帯端末装置等に好適である。
１　　　表示装置
２　　　表示パネル
３　　　バックライト
４　　　アクティブマトリクス基板
５、５２、５３、５４、５５、５６　対向基板（カラーフィルタ（ＣＦ）基板、タッチパネル基板）
５ａ、５ｂ、５ａ１、５ａ２　コンタクトホール
６　　　液晶層（電気光学素子）
９　　　コンタクトホール
１１　　ガラス基板
１２、１２ａ、１２ｂ　第１電極
１３、１３ａ、１３ｂ　第２電極
１３ｃ　中継電極１３ｃ（接続配線）
１４　　第１絶縁層
１５、１５ａ、１５ｂ、１５ａｂ　金属配線
１６　　第２絶縁層
１７　　ブラックマトリクス（ＢＭ）（遮光層）
１８　　カラーフィルタ層（ＣＦ）
１９　　対向電極
１９ａ　金属層

Claims (15)

  1. 　表示パネルを構成する一対の基板のうち一方の基板として用いられ、静電容量の変化により検出対象物の指示座標の位置を検出する位置検出電極が設けられたタッチパネル基板であって、
    　上記表示パネルを構成する一対の基板のうち他方の基板に設けられた画素電極に対向配置された対向電極と、画素に対応してマトリクス状に形成された遮光層とを備え、
    　上記遮光層は、導電体で形成されているとともに、上記対向電極に電気的に接続されていることを特徴とするタッチパネル基板。
  2. 　上記遮光層は、上記対向電極が設けられている層とは異なる層に設けられるとともに、コンタクトホールを介して上記対向電極に電気的に接続されていることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル基板。
  3. 　上記遮光層は、上記表示パネルの外周端部において、上記対向電極に電気的に接続されていることを特徴とする請求項１または２に記載のタッチパネル基板。
  4. 　上記対向電極は、上記遮光層上に設けられていることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル基板。
  5. 　上記対向電極と上記遮光層との間に、該対向電極に接続された金属層がさらに設けられていることを特徴とする請求項２または３に記載のタッチパネル基板。
  6. 　上記位置検出電極は、複数の第１電極と、複数の第２電極とを備え、
    　上記第１及び第２電極の一方が駆動電極として機能し、他方が検出電極として機能することを特徴とする請求項１～５の何れか１項に記載のタッチパネル基板。
  7. 　上記位置検出電極は、第１方向に配列された複数の第１電極と、上記第１方向と交差する第２方向に、上記第１電極とは絶縁して配列された複数の第２電極とを備え、
    　上記第１及び第２電極は、同一層内に形成されていることを特徴とする請求項１～６の何れか１項に記載のタッチパネル基板。
  8. 　上記第１及び第２電極は透明電極であり、
    　上記第１及び第２電極とは異なる層に設けられた金属配線と、上記第１及び第２電極と同じ層に設けられた透明な接続配線とを備え、
    　上記金属配線は、上記第１及び第２電極のうち一方の電極間を、他方の電極の配列方向に交差する方向に跨ぐようにブリッジ接続し、
    　上記接続配線は、上記第１及び第２電極のうち他方の電極間を、上記第１及び第２電極の形成面内において接続していることを特徴とする請求項７に記載のタッチパネル基板。
  9. 　上記金属配線は、当該タッチパネル基板を平面的に見て、上記遮光層に重なるように設けられていることを特徴とする請求項８に記載のタッチパネル基板。
  10. 　上記金属配線は格子状に形成されていることを特徴とする請求項９に記載のタッチパネル基板。
  11. 　上記金属配線と該金属配線で接続される電極との間には絶縁層が設けられており、上記金属配線は、上記絶縁層に設けられた少なくとも１つのコンタクトホールにより上記電極間をブリッジ接続していることを特徴とする請求項１０に記載のタッチパネル基板。
  12. 　上記コンタクトホールは、１つの電極に対し、複数配置されていることを特徴とする請求項１１に記載のタッチパネル基板。
  13. 　上記第１及び第２電極の形成面内において、上記第１及び第２電極のうち一方の電極間は透明な接続配線で接続されているとともに、
    　上記第１及び第２電極は、上記コンタクトホールを介して上記金属配線とそれぞれ電気的に接続されており、
    　上記金属配線は、上記第１電極に設けられた上記コンタクトホールと上記第２電極に設けられたコンタクトホールとの間で、上記第１及び第２電極が互いに通電しないように断線されていることを特徴とする請求項１１または１２に記載のタッチパネル基板。
  14. 　上記金属配線における、上記一対の基板のうち他方の基板との接続部となる外周部は、上記第１及び第２電極から電気的に切断されており、上記対向電極は、上記金属配線の外周部と電気的に接続されていることを特徴とする請求項１０～１３の何れか１項に記載のタッチパネル基板。
  15. 　電気光学素子と、上記電気光学素子を挟持する一対の基板とを備え、
    　上記一対の基板のうち一方の基板が、請求項１～１４の何れか１項に記載のタッチパネル基板であることを特徴とする表示パネル。
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