WO2013094645A1 - Optical substrate and method for manufacturing same, light-emitting element, liquid crystal element, display device, liquid crystal device, and illumination device - Google Patents
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Definitions
- the present invention relates to an optical substrate provided with a layer having a light emitting function, such as a phosphor, or a layer having a light scattering function, and a manufacturing method thereof, a light emitting element, a liquid crystal element, a display device, a liquid crystal device, and a lighting device.
- a layer having a light emitting function such as a phosphor, or a layer having a light scattering function
- a manufacturing method thereof a light emitting element, a liquid crystal element, a display device, a liquid crystal device, and a lighting device.
- a film having a light emitting function such as a phosphor can be used for wavelength conversion, energy conversion, and the like.
- a phosphor in which a phosphor is combined with an organic electroluminescence (hereinafter also referred to as “organic EL”) element is well known as a color conversion organic EL device (see, for example, Patent Document 1 below).
- organic EL organic electroluminescence
- a display device in which a phosphor is combined with a liquid crystal element is also known (for example, see Patent Document 2 below).
- the phosphor is generally used in such a form that it is formed on a light-transmitting substrate such as a glass substrate or dispersed inside a resin substrate such as an acrylic plate. In that case, since the refractive index of the substrate is larger than the refractive index of air, light cannot be efficiently extracted from the substrate according to the total reflection condition based on Snell's law.
- Patent Document 1 discloses providing a reflective film on a side surface of a phosphor layer combined with an organic EL element.
- Patent Document 3 listed below discloses an active matrix light emitting element in which a low refractive index layer having a refractive index in the range of 1.01 to 1.3 is provided on the surface of the transparent conductive layer opposite to the light emitting layer.
- an EL is provided with a leaching light diffusing layer in which light scattering particles are diffused in a matrix resin made of a low refractive index material between a transparent electrode layer and a light transmissive substrate.
- An element is disclosed.
- Patent Document 5 listed below discloses a light emitting element in which light extraction efficiency is improved by providing a reflective layer on the side surface of a pixel.
- Patent Document 1 and Patent Document 5 are intended to extract light toward the side surface of the light emitting unit to the front side by providing a reflecting member on the side surface of the light emitting unit.
- a light transmissive substrate such as glass may be disposed on the light emission side of the organic EL element.
- no effective countermeasure is taken against the total reflection component generated by the difference in refractive index between the light-transmitting substrate through which light from the light emitting portion is transmitted and air. Therefore, the techniques of Patent Document 1 and Patent Document 5 have a limit in improving the light extraction efficiency.
- Patent Document 3 and Patent Document 4 describe that the light extraction efficiency can be improved by the arrangement of the low refractive index layer.
- the low refractive index layer when light is extracted from the low refractive index layer, there is still a refractive index difference between the low refractive index layer and air. Therefore, it is difficult to sufficiently increase the light extraction efficiency.
- the present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an optical substrate that can sufficiently increase the light extraction efficiency and a method for manufacturing the same. It is another object of the present invention to provide a light-emitting element, a liquid crystal element, a display device, a liquid crystal device, and a lighting device that include the optical substrate and have high luminance.
- an optical substrate of the present invention is provided with a first substrate having optical transparency and a predetermined distance from the first substrate, and directed toward the first substrate. Provided at a predetermined interval in a direction along the surface facing the optical layer of the first substrate, in contact with at least one of the optical layer that emits light, the first substrate, and the optical layer A plurality of structures and a gas layer provided between the first substrate and the optical layer are provided.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that a second substrate is provided on the surface of the optical layer opposite to the surface facing the first substrate.
- the structure is constituted by a plurality of layers of structures arranged in a normal direction of the first substrate, and the plurality of layers of the structure is opposed to the first substrate.
- a first structure in contact with the surface and a second structure in contact with the optical layer are included.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that the first structure and the second structure are in contact with each other.
- the first structure and the second structure are separated from each other, and a support member that is in contact with the facing surface of the first substrate at an outer edge portion of the first substrate. Is provided.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that at least a part of the first structure is composed of a light absorbing member made of a light-absorbing material.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that at least a part of the outer surface of the first structure is composed of a light reflecting member made of a light reflective material.
- the first structure is in contact with the first substrate and includes a light absorbing member made of a light-absorbing material, and a surface of the light absorbing member in contact with the first substrate. It is characterized by comprising a light reflecting member made of a material having a light reflecting property and covering the remaining surface.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that a light reflecting member made of a material having light reflectivity is provided on at least a part of the outer surface of the second structure.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that the thickness of the optical layer is thinner than the thickness of the second structure.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that the structure is composed of a single layer structure.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that the structure is in contact with both the facing surface of the first substrate and the optical layer.
- the structure is in contact with either the opposing surface of the first substrate or the optical layer, and an outer edge portion of the first substrate and an outer edge portion of the optical layer. Further, a support member is provided in contact with each of the opposing surface of the first substrate and the optical layer.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that at least a part of the structure is composed of a light-absorbing member made of a light-absorbing material.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that at least a part of the outer surface of the structure is composed of a light reflecting member made of a light reflective material.
- the structure is in contact with the first substrate and is made of a light-absorbing member made of a light-absorbing material, and the remaining surface except for the surface of the light-absorbing member in contact with the first substrate.
- a light reflecting member made of a material having a light reflecting property.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that the optical layer is a light emitting layer that emits light in a predetermined wavelength range.
- the optical substrate of the present invention selectively reflects light in the wavelength region on the surface of the optical layer opposite to the surface facing the first substrate, and transmits light in a wavelength region other than the wavelength region.
- a wavelength selective reflection member having a characteristic of selectively transmitting is provided.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that the wavelength selective reflection member is a second substrate provided on the surface of the optical layer opposite to the surface facing the first substrate.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that the optical layer is a light scattering layer that scatters incident light.
- the optical substrate of the present invention is characterized in that a color filter is provided between the first substrate and the optical layer.
- the structure penetrates the optical layer, and the surface of the structure opposite to the surface in contact with the first substrate is opposite to the first substrate of the optical layer.
- the surface opposite to the surface is substantially on the same plane.
- the method for manufacturing an optical substrate according to the present invention includes a step of forming a plurality of first structures at a predetermined interval on one surface of a light-transmitting first substrate, and a light-transmitting second substrate.
- the method of manufacturing an optical substrate according to the present invention is characterized in that the first substrate and the second substrate are fixed in a state where the first structure and the second structure are in contact with each other. .
- the method for manufacturing an optical substrate according to the present invention includes a step of forming a support member on at least one outer edge of one surface of the first substrate and one surface of the second substrate, and the first structure and the first substrate The first substrate and the second substrate are fixed via the support member in a state where the second structure is not in contact.
- the method for manufacturing an optical substrate according to the present invention is characterized in that the optical layer is formed so that the thickness of the optical layer is thinner than the thickness of the second structure.
- a plurality of structures are provided at a predetermined interval on one surface of a first substrate having light transmittance and one surface of a second substrate having light transmittance. And forming an optical layer in a region surrounded by the adjacent structures on one surface of the first substrate and the second substrate on which the plurality of structures are formed.
- a predetermined step so that a surface on which the structure of the substrate on which the plurality of structures are formed and one surface of the other substrate face each other.
- the method for manufacturing an optical substrate according to the present invention is characterized in that the first substrate and the second substrate are fixed in a state where the structure and one surface of the other substrate are in contact with each other.
- the method for manufacturing an optical substrate according to the present invention includes a step of forming a support member on at least one outer edge of one surface of the first substrate and one surface of the second substrate, and the structure and the other substrate The first substrate and the second substrate are fixed via the support member in a state where the first surface is not in contact with the first surface.
- the method for manufacturing an optical substrate of the present invention includes a step of peeling at least a part of the second substrate in the thickness direction after fixing the first substrate and the second substrate.
- the optical layer is a light emitting layer that emits light in a predetermined wavelength range
- the third substrate selectively reflects light in the wavelength range
- It is a wavelength selective reflection plate having a characteristic of selectively transmitting light in a wavelength range other than.
- the optical substrate manufacturing method of the present invention includes a step of forming a sacrificial layer on the second substrate, and at least a part of the second substrate in the thickness direction is peeled off at the position of the sacrificial layer.
- the method for manufacturing an optical substrate according to the present invention is characterized in that the first substrate and the second substrate are fixed in a reduced-pressure atmosphere.
- the light-emitting element of the present invention includes the optical substrate of the present invention and a light source that emits light toward the optical substrate.
- the light emitting device of the present invention is characterized in that the optical layer of the optical substrate is a light emitting layer that emits light using excitation light as light emitted from the light source.
- the liquid crystal element of the present invention includes the optical substrate of the present invention, a light source that emits light toward the optical substrate, and a liquid crystal cell that adjusts the transmittance of the light emitted from the light source.
- the liquid crystal element of the present invention is characterized in that the optical layer of the optical substrate is a light emitting layer that emits light using excitation light as light emitted from the light source and adjusted in transmittance by the liquid crystal cell.
- the display device of the present invention includes the light emitting element of the present invention and a control unit that controls a light emission state of the light source in the light emitting element.
- the liquid crystal device of the present invention includes the liquid crystal element of the present invention and a control unit that controls the transmittance of the liquid crystal cell in the liquid crystal element.
- the illuminating device of the present invention includes the light emitting element of the present invention and a control unit that controls the light emission state of the light source in the light emitting element.
- an optical substrate having a sufficiently high light extraction efficiency and a manufacturing method thereof.
- a light-emitting element, a liquid crystal element, a display device, a liquid crystal device, and a lighting device each including the above-described optical substrate can be provided.
- FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A ′ of FIG. 1 showing the optical substrate of the first embodiment. It is a top view which shows the optical board
- FIG. 4 is a cross-sectional view taken along line A-A ′ of FIG. 3 showing an optical substrate of a second embodiment. It is sectional drawing which shows the optical board
- the optical substrate of the present embodiment includes a layer having a light emitting function, and an example of an optical substrate suitable for use as, for example, a light emitting substrate of a display device is shown.
- FIG. 1 is a plan view showing an optical substrate of the present embodiment.
- FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 1, showing the optical substrate of the present embodiment.
- the scale of the size may be varied depending on the component.
- the luminescent substrate 1 (optical substrate) of the present embodiment includes a first substrate 2, a second substrate 3, a plurality of structures 4, and a layer having a light emitting function. 5 (optical layer) and a gas layer 6.
- the “layer having a light emitting function” is referred to as a “light emitting functional layer”.
- the plurality of structures 4 when viewed from the normal direction of the first substrate 2 and the second substrate 3, are a plurality of structures 4 arranged in parallel with each other at a predetermined interval. Two sets of structures consisting of are arranged so as to be orthogonal to each other. In other words, the plurality of structures 4 are arranged in a lattice shape as a whole.
- the light emitting functional layer 5 is provided in a rectangular region surrounded by the adjacent structures 4.
- the first substrate 2 and the second substrate 3 are arranged at a predetermined interval via the structure 4.
- a light emitting functional layer 5 that emits light toward the first substrate 2 is provided on the surface of the second substrate 3 facing the first substrate 2.
- a plurality of structures 4 are provided at predetermined intervals in the direction along the facing surface 2a of the first substrate 2 facing the light emitting functional layer 5.
- the structure 4 includes a plurality of layers of structures 7 and 8 stacked in the thickness direction of the first substrate 2 and the second substrate 3.
- the multi-layer structures 7 and 8 are opposed to the first structure 7 in contact with the surface 2a of the first substrate 2 facing the second substrate 3 and the first substrate 2 of the second substrate 3.
- the second structure 8 is in contact with the surface 3a.
- the first structure 7 and the second structure 8 are in contact with each other. Gas exists in the space surrounded by the first substrate 2, the light emitting functional layer 5, and the structure 4, and this portion constitutes the gas layer 6.
- the first substrate 2 is a substrate having optical transparency.
- the first substrate 2 is composed of, for example, an inorganic material substrate such as glass or quartz, a transparent resin substrate such as polyethylene terephthalate, polycarbazole, or polyimide.
- the first substrate 2 is a substrate on the side from which light emitted from the light emitting functional layer 5 described later is emitted, and needs to have light transmittance.
- a glass substrate having a thickness of 0.7 mm that is often used for a liquid crystal display or the like is used for the first substrate 2.
- the second substrate 3 is a light-transmitting substrate, like the first substrate.
- the second substrate 3 is composed of, for example, an inorganic material substrate such as glass or quartz, a transparent resin substrate such as polyethylene terephthalate, polycarbazole, or polyimide.
- a glass substrate having a thickness of 0.7 mm, for example is used for the second substrate 3.
- the second substrate 3 it is necessary to irradiate light to the light emitting functional layer 5 described later via the second substrate 3. For this reason, the second substrate 3 needs to have optical transparency.
- substrate 3 may be comprised from the material which does not have light transmittance, such as a metal and an inorganic material, for example.
- the first structure 7 is formed in a wall shape on the surface 2 a of the first substrate 2 facing the second substrate 3.
- an inorganic material, an organic material, an inorganic-organic hybrid material, or the like is used.
- the luminescent substrate 1 of the present embodiment is used for a display device, the first structure 7 is desirably disposed so as to surround each pixel or each sub-pixel.
- the first structure 7 does not necessarily have such an arrangement.
- substrate 1 of this embodiment is used for the use of an illuminating device, it is desirable for the 1st structure 7 to be arrange
- the second structure 8 is formed in a wall shape on the surface 3 a of the second substrate 3 facing the first substrate 2.
- an inorganic material, an organic material, an inorganic-organic hybrid material, or the like is used.
- the second structure 8 may be disposed so as to surround each pixel or each sub-pixel. Although desirable, such an arrangement is not necessarily required.
- substrate 1 of this embodiment is used for an illuminating device, it is desirable for the 2nd structure 8 to be arrange
- the width W1 of the first structure 7 is wider than the width W2 of the second structure 8.
- the width W1 of the first structure 7 is not necessarily larger than the width W2 of the second structure 8. That is, the width W1 of the first structure 7 and the width W2 of the second structure 8 may be equal.
- the width W1 of the first structure 7 may be narrower than the width W2 of the second structure 8.
- the first substrate 2 and the second substrate 3 face each other so that the positions of the first structure 7 and the second structure 8 coincide with each other. However, there may be a place where the first structure 7 exists and the second structure 8 does not exist, or a place where the second structure 8 exists and the first structure 7 does not exist. .
- the first structure 7 and the second structure 8 are in contact with each other, and an adhesive is disposed between the first structure 7 and the second structure 8 as necessary. Then, the first structure 7 and the second structure 8 are fixed by the adhesive. At this time, for example, when particles such as titanium oxide are dispersed in the adhesive, it is preferable in terms of imparting light reflectivity to the adhesive layer.
- the first structure 7 and the second structure 8 are merely in contact with each other and need not be fixed. In that case, it is necessary to maintain the state in which the first structure 7 and the second structure 8 are in contact with each other without separating the first substrate 2 and the second substrate 3. Therefore, for example, a sealing member for bonding the first substrate 2 and the second substrate 3 may be provided on the peripheral portions of the first substrate 2 and the second substrate 3.
- the first structure 7 and the second structure 8 may have various characteristics with respect to light, such as light transmission, light non-transmission, light absorption, light reflection, and light scattering, respectively. .
- these structures 7 and 8 function as a light-shielding layer that partitions pixels or sub-pixels, a so-called black matrix.
- the first structure 7 or the second structure 8 can use a black matrix technique used for a normal liquid crystal display, a color filter substrate, or the like.
- a metal such as titanium may be used as a constituent material of the first structure 7 or the second structure 8, or an organic material such as a black resist may be used.
- the first structure 7 and the second structure 8 are light reflecting structures
- the light emitted from the light emitting functional layer 5 propagates in the lateral direction, It is possible to prevent escape through.
- the side surfaces of the structures 7 and 8 can be obtained simply by having the light reflective properties of the structures 7 and 8.
- the profile of the extracted light varies greatly depending on the angle of each of the substrates 2 and 3 and the shape of the structures 7 and 8. Therefore, in order to obtain a desired profile, it is necessary to appropriately control the angles of the side surfaces of the structures 7 and 8 with respect to the substrates 2 and 3 and the shapes of the structures 7 and 8.
- the profile of the extracted light does not depend so much on the angle of the side surfaces of the structures 7 and 8 with respect to the substrates 2 and 3 and the shape of the structures 7 and 8, and a natural light emission profile is easily obtained.
- the structures 7 and 8 can be formed by utilizing a high reflectance white solder resist disclosed in Japanese Patent Application No. -66267.
- a photosensitive resin such as polyimide or acrylic dispersing the particles, such as TiO 2, light reflectivity, light-scattering, it is also an effective method of imparting functions such as whiteness.
- the particles such as TiO 2 preferably have a particle size of 200 nm to 5 ⁇ m. By using this type of particles, it is possible to impart light reflectivity to the structures 7 and 8 and also provide light scattering properties that make the light reflection direction random.
- the first structure 7 and the second structure 8 are the first substrate 2 and the second structure 8. 2 is formed in a predetermined pattern on one or both surfaces of the two substrates 3.
- a method of patterning a material obtained by adding titanium oxide particles or the like to a photosensitive resin by photolithography can be employed.
- a method in which a material obtained by adding titanium oxide particles or the like to the resin is formed on the entire surface, a photoresist pattern is formed thereon, and the resin layer to which the titanium oxide particles are added may be etched into a predetermined pattern.
- a known manufacturing process used in a semiconductor manufacturing process, a liquid crystal panel manufacturing process, or the like can be applied.
- a film thickness of about 1 ⁇ m to 5 ⁇ m is generally in an appropriate range.
- a film thickness outside the above range may be appropriately selected according to the purpose.
- structures 7 and 8 having a film thickness (height) of 100 nm to several tens of ⁇ m can be used, and the effects of the present embodiment can be obtained in any case.
- the interval between the adjacent structures 4 is preferably set to a value such as 50 mm, 20 mm, 10 mm, 5 mm, 1 mm, 500 ⁇ m, 100 ⁇ m, 50 ⁇ m, 20 ⁇ m, or the like.
- the positions of the first structure 7 and the second structure 8 are the same for the basic units of the light emitting functional layer 5 as in the present embodiment. It is ideal to cover with. However, even when only a part of the periphery of the light emitting functional layer 5 is covered with these structures 7 and 8, the effect of improving the light extraction efficiency can be obtained.
- the second structure 8 prevents the liquid applied to a predetermined pixel region of the second substrate 3 from flowing to an adjacent pixel region when the light emitting functional layer 5 is formed by a wet process such as inkjet. You may give the function to do. In order to enhance such a function, it is also preferable to perform a process for imparting liquid repellency to the second structure 8.
- a phosphor is used for the light emitting functional layer 5.
- the light emitting functional layer 5 is made of a phosphor, more specifically, it can be formed of a mixture of a phosphor and a polymer resin.
- the phosphor an inorganic phosphor, an organic phosphor, an organic / inorganic hybrid phosphor, a quantum dot phosphor, or the like can be used.
- the phosphor may be composed of a plurality of materials such as a host / guest type.
- the light emitting functional layer 5 is composed of a phosphor, when the phosphor is irradiated with excitation light from the outside, the phosphor emits light by the light energy of the excitation light.
- the light emission functional layer 5 does not necessarily need to be comprised with fluorescent substance.
- the light emitting functional layer 5 may be made of a material that emits light by external energy such as electric energy, mechanical energy, thermal energy, charged particle beam energy, radiation energy, and acoustic energy.
- the light emitting functional layer 5 may be made of a material that emits light by a chemical reaction or a biochemical reaction.
- a method for selectively forming the light emitting functional layer 5 in the region surrounded by the second structure 8 for example, a method of coating materials using a mask vapor deposition method or a wet method such as an inkjet method or a printing method, A method using a laser, such as LITI (Laser Induced Thermal Imaging), LIPS (Laser Induced® Pattern® Wise Sublimation), or a method such as a photo bleaching method may be appropriately selected.
- LITI Laser Induced Thermal Imaging
- LIPS Laser Induced® Pattern® Wise Sublimation
- a method such as a photo bleaching method may be appropriately selected.
- the light emitting functional layer 5 does not necessarily have to be selectively formed in a region surrounded by the second structure 8, and in addition to the region surrounded by the second structure 8, It may be formed on the upper surface of the structure 8.
- the light emitting functional layer 5 absorbs excitation light from an excitation light source such as an ultraviolet light emitting organic EL element, a blue light emitting organic EL element, an ultraviolet light emitting LED, or a blue LED, and emits red light.
- an excitation light source such as an ultraviolet light emitting organic EL element, a blue light emitting organic EL element, an ultraviolet light emitting LED, or a blue LED, and emits red light.
- the blue phosphor layer may not be provided and the blue excitation light may be used as it is for display.
- a light scattering layer is used instead of the blue phosphor layer so that the excitation light with directionality is scattered and isotropically extracted. May be.
- the light distribution characteristic of the light from the phosphor layer and the light distribution characteristic of the light from the light scattering layer can be matched, and a display with excellent viewing angle characteristics can be realized.
- the material for forming the light scattering layer can be adjusted to match the light distribution characteristic of the light scattering layer with the light distribution characteristic of the phosphor layer.
- the phosphor layer may be composed of only the phosphor material exemplified below.
- the phosphor layer may optionally contain an additive or the like, and may be configured such that these materials are dispersed in a polymer material (binding resin) or an inorganic material.
- a known phosphor material can be used as the phosphor material of the present embodiment. Such phosphor materials are classified into organic phosphor materials and inorganic phosphor materials. Although these specific compounds are illustrated below, this embodiment is not limited to these materials.
- Organic phosphor materials include blue fluorescent dyes, stilbenzene dyes: 1,4-bis (2-methylstyryl) benzene, trans-4,4′-diphenylstilbenzene, coumarin dyes: 7-hydroxy- 4-methylcoumarin and the like can be mentioned.
- coumarin dyes 2,3,5,6-1H, 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidine (9,9a, 1-gh) coumarin (coumarin 153), 3- (2 ′ -Benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (coumarin 6), 3- (2'-benzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 7), naphthalimide dyes: basic yellow 51, solvent yellow 11, solvent yellow 116 or the like.
- red fluorescent dyes examples include cyanine dyes: 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran, pyridine dyes: 1-ethyl-2- [4- (p- Dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl] -pyridinium-perchlorate and rhodamine dyes: rhodamine B, rhodamine 6G, rhodamine 3B, rhodamine 101, rhodamine 110, basic violet 11, sulforhodamine 101 and the like.
- cyanine dyes 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran
- pyridine dyes 1-ethyl-2- [4- (p- Dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl] -pyridinium-perchlorate
- Inorganic phosphor materials include blue phosphors such as Sr 2 P 2 O 7 : Sn 4+ , Sr 4 Al 14 O 25 : Eu 2+ , BaMgAl 10 O 17 : Eu 2+ , SrGa 2 S 4 : Ce.
- the above-mentioned inorganic phosphor may be subjected to surface modification treatment as necessary.
- the surface modification treatment include chemical treatment using a silane coupling agent, physical treatment using addition of submicron-order fine particles, and combinations thereof.
- an inorganic material it is preferable to use an inorganic material.
- the average particle size of the inorganic material is preferably 0.5 ⁇ m to 50 ⁇ m. If the average particle size of the inorganic material is 0.5 ⁇ m or less, the luminous efficiency of the phosphor is drastically reduced. When the average particle size of the inorganic material is 50 ⁇ m or more, it becomes difficult to perform patterning with high resolution.
- the phosphor layer is prepared by using a phosphor layer forming coating solution obtained by dissolving and dispersing the phosphor material and the resin material in a solvent, using a spin coating method, a dipping method, a doctor blade method, a discharge coating method, a spray coating method. It can be formed by a known wet process such as a coating method such as an inkjet method, a relief printing method, an intaglio printing method, a screen printing method, a micro gravure coating method, or the like.
- a known dry process such as a resistance heating vapor deposition method, an electron beam (EB) vapor deposition method, a molecular beam epitaxy (MBE) method, a sputtering method, an organic vapor deposition (OVPD) method, or the like, or It can be formed by a laser transfer method or the like.
- EB electron beam
- MBE molecular beam epitaxy
- OVPD organic vapor deposition
- the phosphor layer can be patterned by a photolithography method by using a photosensitive resin as the polymer material.
- a photosensitive resin a photosensitive resin (photocurable resist material) having a reactive vinyl group such as an acrylic acid resin, a methacrylic acid resin, a polyvinyl cinnamate resin, or a hard rubber resin is used.
- a photosensitive resin photocurable resist material having a reactive vinyl group such as an acrylic acid resin, a methacrylic acid resin, a polyvinyl cinnamate resin, or a hard rubber resin is used.
- One kind or a mixture of two or more kinds can be used.
- wet processes such as inkjet printing, letterpress printing, intaglio printing, and screen printing, resistance heating vapor deposition using a shadow mask, electron beam (EB) vapor deposition, molecular beam epitaxy (MBE), sputtering,
- EB electron beam
- MBE molecular beam epitaxy
- the phosphor material can also be directly patterned by a known dry process such as an organic vapor deposition (OVPD) method or a laser transfer method.
- OVPD organic vapor deposition
- the film thickness of the phosphor layer is generally about 100 nm to 100 ⁇ m, but is particularly preferably in the range of 1 ⁇ m to 100 ⁇ m. If the thickness of the phosphor layer is less than 100 nm, the light from the excitation light source cannot be sufficiently absorbed and the light emission efficiency is lowered. The color purity is deteriorated by mixing the required color with the transmitted light of the excitation light. , Problems arise. Furthermore, in order to increase the absorption of light emitted from the excitation light source and reduce the transmitted light of the excitation light to the extent that the color purity is not adversely affected, the thickness of the phosphor layer is preferably 1 ⁇ m or more. When the thickness of the phosphor layer exceeds 100 ⁇ m, the efficiency is not increased, and only the material is consumed, and the material cost increases.
- the light scattering particles may be composed of either an organic material or an inorganic material, but are composed of an inorganic material. It is preferable. Thereby, it becomes possible to diffuse or scatter excitation light having directivity more isotropically and efficiently. Further, by using an inorganic material, a light scattering layer that is stable to light and heat can be provided.
- the light scattering particles have high transparency.
- the light scattering layer is preferably a layer in which fine particles having a higher refractive index than the base material are dispersed in a low refractive index base material. Further, in order for blue light to be effectively scattered by the light scattering layer, it is necessary that the particle size of the light scattering particles is in the Mie scattering region. Therefore, the particle size of the light scattering particles is preferably about 100 nm to 500 nm.
- the main component is an oxide of at least one metal selected from the group consisting of silicon, titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony.
- examples thereof include particles (fine particles).
- particles (inorganic fine particles) made of an inorganic material are used as the light scattering particles, for example, silica beads (refractive index: 1.44), alumina beads (refractive index: 1.63), titanium oxide beads ( Examples of the refractive index include anatase type: 2.50, rutile type: 2.70), zirconia bead (refractive index: 2.05), and zinc oxide bead (refractive index: 2.00).
- particles (organic fine particles) made of an organic material are used as the light scattering particles, for example, polymethyl methacrylate beads (refractive index: 1.49), acrylic beads (refractive index: 1.50), acrylic- Styrene copolymer beads (refractive index: 1.54), melamine beads (refractive index: 1.57), high refractive index melamine beads (refractive index: 1.65), polycarbonate beads (refractive index: 1.57), Styrene beads (refractive index: 1.60), crosslinked polystyrene beads (refractive index: 1.61), polyvinyl chloride beads (refractive index: 1.60), benzoguanamine-melamine formaldehyde beads (refractive index: 1.68), Examples thereof include silicone beads (refractive index: 1.50).
- the resin material used by mixing with the above-described light scattering particles is preferably a translucent resin.
- the resin material include melamine resin (refractive index: 1.57), nylon (refractive index: 1.53), polystyrene (refractive index: 1.60), melamine beads (refractive index: 1.57).
- Polycarbonate (refractive index: 1.57), polyvinyl chloride (refractive index: 1.60), polyvinylidene chloride (refractive index: 1.61), polyvinyl acetate (refractive index: 1.46), polyethylene (refractive Ratio: 1.53), polymethyl methacrylate (refractive index: 1.49), poly MBS (refractive index: 1.54), medium density polyethylene (refractive index: 1.53), high density polyethylene (refractive index: 1.54), tetrafluoroethylene (refractive index: 1.35), polytrifluoroethylene chloride (refractive index: 1.42), polytetrafluoroethylene (refractive index: 1.35), and the like.
- the gas layer 6 can be composed of various gases such as air, nitrogen, and argon, and the type of gas is not particularly limited. However, it is desirable to use an inert gas from the viewpoint of suppressing characteristic deterioration due to reaction with the light emitting functional layer 5. From the viewpoint of suppressing characteristic deterioration due to the ingress of moisture into the light emitting functional layer 5, it is desirable to use a gas with low humidity such as dry air.
- the refractive index of air is about 1.000293
- the refractive index of nitrogen is about 1.000297
- the refractive index of argon is 1.000281. Even if other gases are included, the refractive index of the gas can be regarded as approximately 1.000.
- the pressure of the gas layer 6 may be arbitrary, may be atmospheric pressure (1.01325 ⁇ 10 5 Pa), may be in a reduced pressure state relative to atmospheric pressure, or may be in a pressurized state. Also good. In the reduced pressure state, an absolute vacuum does not actually exist, but if the form of the gas layer 6 is maintained, for example, a high vacuum state (0.1 Pa to 10 ⁇ 5 Pa) or an ultrahigh vacuum state (10 -5 Pa or less). That is, regardless of the gas pressure, the light emitting functional layer 5 and the first substrate 2 are arranged at a predetermined distance without contacting each other, and between the light emitting functional layer 5 and the first substrate 2.
- the gas layer 6 having a substantially constant thickness needs to be formed. In the following description, the refractive index of the gas layer 6 is 1.000.
- the gas layer 6 exists between the light emitting functional layer 5 on the second substrate 3 and the first substrate 2.
- the refractive index of the gas layer 6 is 1.000, and when the general optical glass is used for the first substrate 2, the refractive index of the first substrate 2 is about 1.5. Accordingly, for example, if the second substrate 3 is a light-impermeable substrate, the light L1 emitted from the light emitting functional layer 6 is refracted from the gas layer 6 having a refractive index of 1.000 as shown in FIG. The light passes through the first substrate 2 having a rate of 1.5 and is injected into the external space.
- the light L1 traveling from the gas layer 6 toward the first substrate 2 enters the high refractive index material from the low refractive index material, and is totally reflected at the interface between the gas layer 6 and the first substrate 2. Does not occur. Therefore, substantially all of the light traveling from the gas layer 6 toward the first substrate 2 enters the first substrate 2.
- the light L1 is incident on the first substrate 2 from the gas layer 6, the light L1 is refracted at an angle ⁇ 2 smaller than the incident angle ⁇ 1 and travels inside the first substrate 2.
- the critical angle at the interface between the first substrate 2 having a refractive index of 1.5 and the atmosphere (external space) having a refractive index of 1.000 is about 42 °. Therefore, when the light L1 travels inside the first substrate 2 and enters the upper surface of the first substrate 2 (the interface between the first substrate 2 and the external space) at an incident angle of less than 42 °, It is injected from the upper surface of one substrate 2. On the other hand, when the light L1 is incident at an incident angle of 42 ° or more, the light L1 is totally reflected on the upper surface of the first substrate.
- the light L1 since the light L1 is refracted at an angle close to the normal direction of the first substrate 2 when entering the first substrate 2, the light L1 has a sufficiently small incident angle with respect to the upper surface of the first substrate 2. Incident. Therefore, the amount of light totally reflected on the upper surface of the first substrate 2 is small, and a lot of light is emitted from the first substrate 2 to the external space.
- the conventional light emitting device disclosed in Patent Document 3 has a low refractive index layer having a refractive index of about 1.01 to 1.30 in the light path from the light emitting layer to the external space.
- the luminescent substrate 1 of this embodiment has a gas layer 6 having a refractive index of 1.000 between the light emitting functional layer 5 and the first substrate 2. Therefore, in the case of the luminescent substrate 1 of the present embodiment, the light L1 is refracted more than the conventional light emitting element when entering the first substrate 2, and the traveling direction of the light L1 is the normal line of the first substrate 2. Closer to the direction. Therefore, the incident angle of the light L1 with respect to the upper surface of the first substrate 2 is smaller than that of the conventional light emitting element.
- the proportion of light totally reflected on the upper surface of the first substrate 2 and confined in the first substrate 2 is reduced, and emitted from the upper surface of the first substrate 2.
- the proportion of light increases.
- substrate 1 of this embodiment the extraction efficiency of light can be improved.
- the light L2 traveling in the lateral direction from the light emitting functional layer 5 toward the second structure 8 is the second structure.
- the light is reflected at 8 to change the traveling direction, and travels toward the first substrate 2.
- the light L2 traveling in the lateral direction from the light emitting functional layer 5 can be extracted from the first substrate 2.
- the light extraction efficiency can be increased.
- FIG. 3 is a plan view showing the optical substrate of the present embodiment.
- 4 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 3, showing the optical substrate of the present embodiment. 3 and 4, the same reference numerals are given to the same components as those in FIGS. 1 and 2 of the first embodiment, and description thereof will be omitted.
- the first structure 7 and the second structure 8 were in contact with each other. With this configuration, the first structure 7 and the second structure 8 have a role of supporting the first substrate 2 and the second substrate 3 with each other.
- the first structure 7 and the second structure 8 are separated by a predetermined distance d.
- the distance d is, for example, about 20 ⁇ m or less. When the surface of the first substrate 2 or the second substrate 3 is uneven, the distance d may vary. In some cases, the first structure 7 and the second structure 8 come into contact with each other, and the distance d may be 0 ⁇ m.
- the first structure 7 and the second structure 8 are separated from each other in the luminescent substrate 10 of the present embodiment, the first structure 7 and the second structure 8 are separated from each other. It is difficult for the structure 8 to play a role of supporting the first substrate 2 and the second substrate 3 with each other.
- a bonding member 11 for fixing the first substrate 2 and the second substrate 3 to each other in a state where the first substrate 2 and the second substrate 3 are bonded to each other is provided on the outer edges of the first substrate 2 and the second substrate 3. Yes.
- the bonding member 11 may use, for example, a resin adhesive, or may be formed of an inorganic material or the like.
- the material of the bonding member 11 is not particularly limited as long as adhesion between the first substrate 2 and the second substrate 3 and the bonding member 11 can be secured.
- the bonding member 11 is in contact with both the facing surface 2 a of the first substrate 2 facing the second substrate 3 and the facing surface 3 a of the second substrate 3 facing the first substrate 2. That is, the bonding member 11 functions as a support member for supporting the first substrate 2 and the second substrate 3 with each other.
- the bonding member 11 also functions as an interval holding member that holds an interval d between the first structure 7 and the second structure 8. Accordingly, the height H3 of the bonding member 11 is set to be equal to the sum of the height H1 of the first structure 7, the height H2 of the second structure 8, and the distance d. .
- a particulate gap material having a certain diameter may be mixed in the constituent material of the bonding member 11.
- the bonding member 11 is provided in a rectangular ring shape so as to surround the lattice-like structure 4 on the outer edges of the first substrate 2 and the second substrate 3. However, it is not necessary to be provided so as to surround the entire circumference of the structure 4. For example, a part of the bonding member 11 may be interrupted, and a plurality of bonding members may be arranged at intervals.
- the same effect as that of the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased can be obtained.
- FIG. 5 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
- symbol is attached
- the structure 4 is composed of the first structure 7 and the second structure 8.
- the structure is composed of only the second structure 8, and the first structure 7 in the first embodiment. Does not have. That is, in the luminescent substrate 13 of the present embodiment, the structure is composed of a single layer structure.
- the second structure 8 is in contact with both the facing surface 2 a of the first substrate 2 facing the second substrate 3 and the facing surface 3 a of the second substrate 3 facing the first substrate 2.
- the second structure 8 is also in contact with the light emitting functional layer 5.
- the second structure 8 desirably has light reflectivity, light scattering, whiteness, and the like. Other configurations are the same as those of the first embodiment.
- the same effect as the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased can be obtained.
- the structure of the structure is simple, and there is no need to match the first structure 7 and the second structure 8 together. Therefore, the alignment accuracy is low when the first substrate 2 and the second substrate 3 are bonded together, and the bonding operation can be performed easily.
- FIG. 6 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
- symbol is attached
- the structure 4 is composed of the first structure 7 and the second structure 8.
- the structure is composed of only the second structure 8, and the first structure 7 in the second embodiment. Does not have.
- the second structure 8 is in contact with both the facing surface 2 a of the first substrate 2 facing the second substrate 3 and the facing surface 3 a of the second substrate 3 facing the first substrate 2.
- the second structure 8 is also in contact with the light emitting functional layer 5.
- the second structure 8 desirably has light reflectivity, light scattering, whiteness, and the like. Other configurations are the same as those of the second embodiment.
- the same effect as the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased can be obtained.
- the structure of the structure is simple, and there is no need to match the first structure 7 and the second structure 8 together.
- the alignment accuracy is low, and the bonding operation can be performed easily.
- FIG. 7 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
- the same components as those in FIG. 4 of the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
- the second substrate 3 is a light transmissive or light opaque substrate.
- the second substrate 3 is practically used in this embodiment. It is more desirable to have a configuration of form.
- the second substrate 18 selectively transmits light in a specific wavelength range and selectively reflects light in other wavelength ranges. It has a function.
- This type of function can be realized by forming a multilayer film in which layers having different refractive indexes are alternately laminated on one surface of the substrate body.
- this type of function can be realized by laminating a sheet formed by alternately laminating layers having different refractive indexes on a substrate.
- a member having this kind of function is often called a bandpass filter or the like.
- Other configurations are the same as those of the second embodiment.
- the second substrate 18 selectively transmits light in the wavelength region of the excitation light for causing the light emitting functional layer 5 to emit light, and selectively transmits light in the wavelength region emitted by the light emitting functional layer 5. It has the function of reflecting. Therefore, when ultraviolet light is used as excitation light, the second substrate 18 desirably has a function of selectively transmitting light in the ultraviolet region and selectively reflecting light in the blue region to red region. Alternatively, when blue light is used as the excitation light, the second substrate 18 desirably has a function of selectively transmitting blue light and selectively reflecting green to red light.
- the excitation light L 0 can pass through the second substrate 18 and reach the light emitting functional layer 5.
- the light L 1 emitted from the light emitting functional layer 5 cannot pass through the second substrate 18.
- the light L 1 emitted from the light emitting functional layer 5 is reflected by the second substrate 18, then sequentially passes through the gas layer 6 and the first substrate 2, and is emitted from the upper surface of the first substrate 2 to the external space.
- the light extraction efficiency can be increased also in the luminescent substrate 17 of the present embodiment. Furthermore, since the luminescent substrate 17 of the present embodiment includes the gas layer 6 and the second substrate 18 has a wavelength selective reflection function, the light extraction efficiency can be further increased. .
- FIG. 8 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
- the same components as those in FIG. 7 of the fifth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
- the entire first structure 7 is formed of a material having light absorption or light reflection.
- the first structure 21 includes a light absorption layer 22 and a light reflection layer 23 that covers the outer surface of the light absorption layer 22. And a two-layer structure.
- the light reflection layer 23 is formed on the side surface and the lower surface of the light absorption layer 22, but is not formed on the surface in contact with the first substrate 2.
- the constituent material of the light absorption layer 22 and the light reflection layer 23 those exemplified in the first embodiment are used. Other configurations are the same as those of the fifth embodiment.
- the first structure 21 may have a configuration in which the light absorption layer 22 and the light reflection layer 23 have the same width, and the light reflection layer 23 is laminated on the light absorption layer 22.
- the width W4 of the light reflection layer 23 is larger than the width W3 of the light absorption layer 22 and the light reflection layer 23 covers the outer surface of the light absorption layer 22 as in the present embodiment. The reason is that if the light reflecting layer 23 does not cover the outer surface of the light absorbing layer 22, the light emitted from the light emitting functional layer 5 strikes the light absorbing layer 22. This is because when light emitted from the light emitting functional layer 5 hits the light absorbing layer 22, it is absorbed and leads to light loss.
- the same effect as that of the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased can be obtained. Furthermore, according to the present embodiment, since the first structure 21 having the two-layer structure is provided, the external light LG incident from the outside of the first substrate 2 is light absorption layer 22 as shown in FIG. The light L1 emitted from the light emitting functional layer 5 is reflected by the light reflecting layer 23 and extracted outside. As a result, when this luminescent substrate 20 is used in a display device, the contrast ratio of display can be further increased.
- FIG. 9 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment. 9, the same code
- the luminescent substrate 25 of the present embodiment includes a color filter including color filter layers 26R, 26G, and 26B of different colors on the surface 2a of the first substrate 2 facing the second substrate 18. 26 is provided.
- the gas layer 6 is interposed between the color filter 26 on the first substrate 2 and the light emitting functional layer 5 on the second substrate 18.
- the color filter 26 is formed in a region surrounded by the first structure 21 on the surface 2 a of the first substrate 2 facing the second substrate 18.
- Other configurations are the same as those of the sixth embodiment.
- the color filter 26 of the present embodiment includes a red color filter layer 26R that transmits red light, a green color filter layer 26G that transmits green light, and a blue color filter layer 26B that transmits blue light.
- the color filter 26 has both a function of adjusting a spectral spectrum of light emitted from the light emitting functional layer 5 and a function of suppressing reflection of external light incident on the first substrate 2 from the outside.
- the red color filter layer 26R, the green color filter layer 26G, and the blue color filter layer 26B are arranged corresponding to the color of light emitted from the light emitting functional layer 5 or the light scattering layer. That is, the red color filter layer 26R is disposed at a position corresponding to the light emitting functional layer 5R that emits red light. Similarly, the green color filter layer 26G is disposed at a position corresponding to the light emitting functional layer 5G that emits green light. The blue color filter layer 26B is disposed at a position corresponding to the light emitting functional layer 5B that emits blue light or the light scattering layer 27 that emits blue light.
- the spectral spectrum of the light emitted from the light emitting functional layers 5R, 5G, and 5B and the transmission through the color filter layers 26R, 26G, and 26B does not need to coincide completely, and it is sufficient that at least a part of both spectra overlap. That is, it is only necessary that the hue of light emitted from the light emitting functional layers 5R, 5G, and 5B and the hue of light transmitted through the color filter layers 26R, 26G, and 26B match at least.
- the same effect as that of the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased can be obtained. Furthermore, since the luminescent substrate 25 of the present embodiment includes the color filter 26, the light emitted from the luminescent substrate 25 is adjusted to a desired hue by appropriately adjusting the spectral spectrum of the color filter 26 to be used. be able to. Further, since the reflection of external light is suppressed by the color filter 26, the contrast ratio of display can be increased.
- FIG. 10 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment. 10, the same code
- the luminescent substrate 28 of the present embodiment is provided with a color filter 26 including color filter layers 26 ⁇ / b> R, 26 ⁇ / b> G, and 26 ⁇ / b> B of different colors on the light emitting functional layer 5 of the second substrate 18. Yes.
- the gas layer 6 is interposed between the first substrate 2 and the color filter 26 on the second substrate 18.
- the color filter 26 is formed in a region surrounded by the second structure 8 on the light emitting functional layer 5 of the second substrate 18.
- the red color filter layer 26R is laminated on the light emitting functional layer 5R that emits red light.
- the green color filter layer 26G is laminated on the light emitting functional layer 5G that emits green light.
- the blue color filter layer 26B is laminated on the light emitting functional layer 5B that emits blue light or the light scattering layer 27 that scatters blue light. That is, the color filter 26 may be disposed on the first substrate 2 side or on the second substrate 18 side as long as it is between the light emitting functional layer 5 and the first substrate 2. It may be.
- the configuration of the color filter 26 is the same as that of the seventh embodiment. Other configurations are the same as those of the seventh embodiment.
- the same effect as that of the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased is obtained. Further, by using the color filter 26, it is possible to obtain the same effect as the seventh embodiment that the light from the luminescent substrate 28 can be adjusted to a desired hue and the contrast ratio of display can be increased.
- the light-emitting substrate 30 of the first modification has a structure composed of only the first structure 21.
- the first structure 21 has a two-layer structure of a light absorption layer 22 and a light reflection layer 23.
- the second substrate 18 has a wavelength selective reflection function.
- the light emitting substrate 32 of the second modified example is composed of only the second structure 8.
- the second structure 8 is not in contact with the first substrate 2.
- the second substrate 18 has a wavelength selective reflection function.
- the light emitting substrate 34 of the third modified example includes a structure 4 including a first structure 7 and a second structure 8.
- the first structure 7 and the second structure 8 are in contact with each other.
- the second substrate 18 has a wavelength selective reflection function.
- the light emitting substrate 36 according to the fourth modified example includes a first structure 21 and a second structure 8.
- the first structure 21 and the second structure 8 are in contact with each other.
- the first structure 21 has a two-layer structure of a light absorption layer 22 and a light reflection layer 23.
- the second substrate 18 has a wavelength selective reflection function.
- the light emitting substrate 38 of the fifth modified example includes a first structure 21 and a second structure 8.
- the first structure 21 and the second structure 8 are in contact with each other.
- the first structure 21 has a two-layer structure of a light absorption layer 22 and a light reflection layer 23.
- the second substrate 18 has a wavelength selective reflection function.
- a color filter 26 is provided on the first substrate 2.
- the light emitting substrate 40 according to the sixth modification has a structure including a first structure 21 and a second structure 8.
- the first structure 21 and the second structure 8 are in contact with each other.
- the first structure 21 has a two-layer structure of a light absorption layer 22 and a light reflection layer 23.
- the second substrate 18 has a wavelength selective reflection function.
- a color filter 26 is provided on the second substrate 18.
- FIG. 17 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
- the same components as those in FIG. 14 of the fourth modification are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
- the luminescent substrate 42 of the present embodiment is provided with another structure 43 in each region surrounded by the lattice-shaped structure 21.
- the structure 43 has the same configuration as the first structure 21 on the first substrate 2, and has a two-layer structure of the light absorption layer 22 and the light reflection layer 23.
- the second structure 8 does not exist in the region where the structure 43 is provided, and the structure 43 faces the gas layer 6.
- Other configurations are the same as those of the fourth modification.
- the luminescent substrate 42 of the present embodiment includes the structure 43, and the ratio of the light absorption layer 22 is increased. Since these light absorption layers 22 suppress the reflection of external light, the contrast ratio of display can be further increased.
- FIG. 18 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment. 18, the same code
- another structure 46 is further provided in each region surrounded by the lattice-shaped structure 21.
- the structure 46 is different in height from the first structure 21 on the first substrate 2.
- the structure 46 is higher than the first structure 21 and is in contact with the light emitting functional layer 5 on the second substrate 18.
- the structure 46 has a two-layer structure of the light absorption layer 22 and the light reflection layer 23. Other configurations are the same as those of the ninth embodiment.
- the same effect as that of the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased is obtained. Further, the same effect as that of the ninth embodiment that the contrast ratio of display can be increased can be obtained.
- FIG. 19 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment. 19, the same code
- the structure 4 includes a first structure 7 and a second structure 8.
- the first structure 7 and the second structure 8 are joined.
- the light emitting functional layer 5 is supported by the first substrate 2 in contact with the second structure 8.
- the second structure 8 is originally formed on the second substrate. After the first substrate and the second substrate are bonded together, the second structure 8 is left, leaving the second structure 8.
- the substrate from which the second substrate is peeled is the luminescent substrate 48 of the present embodiment.
- a method for manufacturing the luminescent substrate 48 of this embodiment will be described later.
- the configuration is the same as that of the first embodiment except that the second substrate is not provided.
- the same effect as that of the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased is obtained.
- the luminescent substrate 48 of this embodiment does not include the second substrate, the luminescent substrate can be thinned.
- FIG. 20 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment. 20, the same code
- the structure 4 includes a first structure 7 and a second structure 8.
- the first structure 7 and the second structure 8 are separated from each other with a predetermined interval.
- the lower surface of the bonding member 11 provided on the outer edge portion of the first substrate 2 is bonded to the light emitting functional layer 5.
- the bonding member 11 functions as a support member for supporting the light emitting functional layer 5 on the first substrate 2.
- Other configurations are the same as those of the second embodiment.
- the same effect as that of the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased is obtained. Further, the same effect as that of the eleventh embodiment that the light emitting substrate can be thinned can be obtained.
- FIG. 21 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
- the same components as those in FIG. 19 of the eleventh embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
- the structure 4 is composed of the first structure 7 and the second structure 8.
- the structure is composed of only the second structure 8, and the first structure 7 in the eleventh embodiment. Does not have. That is, in the luminescent substrate 52 of the present embodiment, the structure is composed of a single layer structure.
- the second structure 8 is in contact with the first substrate 2 and the light emitting functional layer 5. In this configuration, the light emitting functional layer 5 is supported on the first substrate 2 by the second structure 8.
- Other configurations are the same as those in the eleventh embodiment.
- the same effect as that of the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased is obtained. Further, the same effect as that of the eleventh embodiment that the light emitting substrate can be thinned can be obtained.
- FIG. 22 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment. 22, the same code
- the structure 4 is composed of the first structure 7 and the second structure 8.
- the structure is composed of only the second structure 8, and the first structure 7 in the twelfth embodiment. Does not have. That is, in the luminescent substrate 54 of the present embodiment, the structure is composed of a single layer structure. The second structure 8 is not in contact with the first substrate 2, and the light emitting functional layer 5 is supported on the first substrate 2 via the bonding member 11. Other configurations are the same as those in the twelfth embodiment.
- the same effect as that of the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased is obtained. Further, the same effect as that of the eleventh embodiment that the light emitting substrate can be thinned can be obtained.
- FIGS. 23A to 23D are cross-sectional views sequentially showing the manufacturing process of the luminescent substrate of this embodiment.
- the manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, a first substrate, a second substrate, Bonding process.
- the manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent substrate of the first embodiment.
- the first structure 7 is formed on the one surface 2 a of the first substrate 2.
- the first structure 7 can have various functions such as light transmission, light non-transmission, light absorption, light reflection, and light scattering.
- a particularly preferable example is a light-absorbing structure.
- the first structure 7 is a so-called black matrix.
- Another preferred example is a laminated structure of a light absorption layer and a light reflection layer.
- a black matrix forming technique used in a manufacturing process of a normal liquid crystal display or a color filter substrate can be used.
- the technique of forming a high reflectance white solder resist disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2007-322546, 2008-211036, 2011-66267, and the like can be used.
- the patterning can be performed by processes such as exposure, development, and etching that are frequently used in the manufacture of liquid crystal displays and semiconductors, but is not limited thereto.
- the second structure 8 is formed on the one surface 3 a of the second substrate 3.
- the second structure 8 can have various functions such as light transmission, light non-transmission, light absorption, light reflection, and light scattering.
- a particularly preferred example is a structure having light scattering properties. In this case as well, for example, a white solder resist forming technique can be used.
- the light emitting functional layer 5 is formed on the one surface 3a on which the second structure 8 of the second substrate 3 is formed.
- a material in which a phosphor is dispersed in a resin is applied on the second substrate 3.
- a coating method for example, a method in which a material in which a phosphor is dispersed in a resin is applied to the entire surface of the substrate by using a spin coating method, a cup coating method, or the like.
- a method of applying a material to each region partitioned by the second structure 8 using an ink jet method, a dispenser method, or the like can be used.
- a method of forming a light emitting functional material such as a phosphor on the second substrate 3 using an evaporation method or the like may be used.
- the coating amount of the material it is desirable to adjust the coating amount of the material so that the thickness of the light emitting functional layer 5 is thinner than the thickness (height) of the second structure 8. By doing so, the flow of the material is blocked by the second structure 8 when the light emitting functional layer material is applied onto the second substrate 3. Therefore, the light emitting functional layer material can be prevented from flowing out to an unintended position.
- the first substrate 2 and the second substrate 3 are bonded together so that the first structure 7 and the second structure 8 face each other.
- the gas layer 6 is formed between the first substrate 2 and the second substrate 3.
- alignment is performed so that the position of the first structure 7 on the first substrate 2 and the position of the second structure 8 on the second substrate 3 coincide.
- the following various methods can be adopted as a method of bonding the substrates.
- the simplest method is a method of pressing the first substrate 2 and the second substrate 3 after aligning the first substrate 2 and the second substrate 3. At this time, the first substrate 2 and the second substrate 3 may be pressurized or heated as necessary. However, although this method is a simple method, sufficient bonding strength may not be obtained.
- a more realistic method is to apply an adhesive to at least one of the opposing surfaces of the first structure 7 and the second structure 8, and then align the first substrate 2 and the second substrate 3. This is a method of pasting together. Also in this case, the first substrate 2 and the second substrate 3 may be pressurized as necessary. Depending on the type of adhesive, the first substrate 2 and the second substrate 3 may be heated or may be irradiated with light. The adhesive can be applied by printing or the like.
- a luminescent substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
- FIGS. 24A to 24E The sixteenth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 24A to 24E.
- the basic configuration of the manufacturing method of the light emitting substrate of the present embodiment is the same as that of the fifteenth embodiment, and is different from the fifteenth embodiment in that two substrates are bonded through a bonding member.
- 24A to 24E are cross-sectional views showing the manufacturing process of the luminescent substrate of this embodiment step by step.
- 24A to 24E, the same components as those in FIGS. 23A to 23D of the fifteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
- the manufacturing process of the luminescent substrate according to the present embodiment includes a first structure forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, a bonding member forming step, And a bonding step between the substrate and the second substrate.
- the manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent substrate of the second embodiment.
- the steps shown in FIGS. 24A to 24C are the same as those in the fifteenth embodiment.
- the bonding member 11 is formed in a frame shape on the light emitting functional layer 5 of the second substrate 3 as shown in FIG. 24D.
- an adhesive is used as a constituent material of the bonding member 11.
- Application of the adhesive onto the second substrate 3 can be performed using a dispenser method, a printing method, or the like.
- a gap material may be mixed in advance in the adhesive in order to keep the distance d between the first structure 7 and the second structure 8 constant after the substrates are bonded together.
- the bonding member 11 was shown in the area
- the bonding member 11 may be formed on the first substrate 2 instead of the second substrate 3.
- the first substrate 2 and the second substrate 3 are bonded via the bonding member 11 so that the first structure 7 and the second structure 8 face each other. And paste them together.
- alignment is performed so that the position of the first structure 7 on the first substrate 2 matches the position of the second structure 8 on the second substrate 3.
- the first substrate 2 and the second substrate 3 may be pressurized as necessary.
- it may be heated or irradiated with light.
- FIGS. 25A to 25D are cross-sectional views sequentially showing the manufacturing steps of the luminescent substrate of this embodiment.
- 25A to 25D the same components as those in FIGS. 23A to 23D of the fifteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
- the manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, and a bonding step between the first substrate and the second substrate. .
- the manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent substrate of the third embodiment.
- the first structure is not formed on the first substrate 2 as shown in FIG. 25A.
- the other steps shown in FIGS. 25B to 25E are the same as those in the fifteenth embodiment. That is, in the step shown in FIG. 25D, the first substrate 2 on which the structure is not formed and the second substrate 3 on which the second structure 8 is formed are pasted via the second structure 8. Match.
- the same effects as those of the fifteenth to sixteenth embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
- FIGS. 26A to 26E The eighteenth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 26A to 26E.
- the basic configuration of the manufacturing method of the light emitting substrate of this embodiment is the same as that of the seventeenth embodiment, and is different from the seventeenth embodiment in that two substrates are bonded through a bonding member.
- 26A to 26E are cross-sectional views showing the manufacturing process of the light emitting substrate of this embodiment in order.
- the same reference numerals are given to the same constituent elements as those in FIG. 25A to FIG.
- the manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, a bonding member forming step, and a bonding between the first substrate and the second substrate. And a combining step.
- the manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent board
- the steps shown in FIGS. 26A to 26C are the same as those in the seventeenth embodiment.
- the bonding member 11 is formed in a frame shape on the light emitting functional layer 5 of the second substrate 3 as shown in FIG. 26D.
- an adhesive is used as a constituent material of the bonding member 11.
- Application of the adhesive onto the second substrate 3 can be performed using a dispenser method, a printing method, or the like.
- a gap material may be mixed in the adhesive in advance.
- the bonding member 11 was shown in the area
- a bonding member may be formed on the first substrate 2.
- the first substrate 2 and the second substrate 3 are bonded via the bonding member 11 so that the second structure 8 faces the first substrate 2.
- the first substrate 2 and the second substrate 3 may be pressurized as necessary.
- it may be heated or irradiated with light.
- the same effects as those of the fifteenth to seventeenth embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
- FIGS. 27A to 27E are cross-sectional views showing the manufacturing process of the luminescent substrate of this embodiment in order.
- FIGS. 27A to 27E the same components as those in FIGS. 23A to 23D of the fifteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
- the manufacturing process of the luminescent substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a sacrificial layer forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, A bonding process between the substrate and the second substrate and a peeling process of the second substrate are provided.
- the manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent substrate of the eleventh embodiment.
- the first structure 7 is formed on the one surface 2 a of the first substrate 2.
- a specific method for forming the first structure 7 is as described in the fifteenth embodiment.
- the second structure 8 is formed on the one surface 3 a of the second substrate 3.
- a specific method for forming the second structure 8 is as described in the fifteenth embodiment.
- the second substrate 3 is peeled from the second structure 8. Therefore, if the second substrate 3 can be easily peeled at the position of the interface between the second structure 8 and the second substrate 3, it is not necessary to process the second substrate 3.
- the second structure 8 may be formed on one surface of the substrate 3. However, in general, it is often difficult to peel the substrate from the interface between the structure and the substrate without processing the second substrate 3. In that case, the following steps may be added.
- the sacrificial layer 57 is formed at a position slightly deep from the one surface 3a of the second substrate 3.
- a specific method of forming the sacrificial layer 57 for example, a method of introducing a high concentration of hydrogen ions into the second substrate 3 using an ion implantation method to form a layer into which hydrogen ions are introduced can be employed.
- a method of peeling the second substrate 3 from the layer into which hydrogen ions are introduced by applying a heat treatment later is a known method.
- an alkali metal oxide such as lithium oxide, carbonate, sulfate, hydroxide, or alkaline earth metal such as sodium carbonate is formed on one surface 3 a of the second substrate 3.
- a method of forming a layer made of oxide, carbonate, sulfate, hydroxide or the like can be employed.
- the second substrate 3 is peeled off by etching and removing the sacrificial layer 57 later. According to this method, since the sacrificial layer 57 can be formed on the one surface 3a of the second substrate 3, the second substrate 3 is peeled off at the position of the interface between the second structure 8 and the second substrate 3. Can do.
- the light emitting functional layer 5 is formed on the surface of the second substrate 3 on which the second structures 8 are formed.
- a specific method for forming the light emitting functional layer 5 is as described in the fifteenth embodiment.
- the first substrate 2 and the second substrate 3 are bonded together so that the first structure 7 and the second structure 8 face each other.
- a specific bonding method is as described in the fifteenth embodiment.
- the second substrate 3 is peeled off at the position where the sacrificial layer 57 is formed.
- the sacrificial layer 57 if the sacrificial layer 57 is a hydrogen ion introduction layer, heat treatment may be applied to the entire bonded substrate.
- the sacrificial layer 57 is an alkali metal or alkaline earth metal compound, etching such as wet etching or dry etching may be performed.
- the sacrificial layer 57 is a hydrogen ion introduction layer, a part 3 f of the second substrate 3 having a slight thickness remains on the lower surface side of the light emitting functional layer 5.
- the second substrate 3 even if a part 3f of the second substrate 3 remains, there is no particular problem in terms of characteristics. Further, it is preferable in that the light emitting functional layer 5 and the second structure 8 are supported by the remaining part 3 f of the second substrate 3.
- FIGS. 28A to 28F The twentieth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 28A to 28F.
- the basic configuration of the manufacturing method of the light emitting substrate of the present embodiment is the same as that of the nineteenth embodiment, and differs from the nineteenth embodiment in that two substrates are bonded through a bonding member.
- 28A to 28F are cross-sectional views showing the manufacturing process of the light-emitting substrate of this embodiment in order.
- 28A to 28F the same components as those in FIGS. 27A to 27E according to the nineteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
- the manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a sacrificial layer forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, and a bonding member. Forming step, a bonding step between the first substrate and the second substrate, and a peeling step of the second substrate.
- the manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent substrate of the twelfth embodiment.
- FIGS. 28A to 28C are the same as those in the nineteenth embodiment.
- the bonding member 11 is formed on the light emitting functional layer 5 of the second substrate 3 as shown in FIG. 28D.
- FIG. 28E the first substrate and the second substrate are bonded to each other with the bonding member 11 so that the second structure 8 faces the first substrate.
- Other steps are the same as those in the nineteenth embodiment.
- the same effects as those of the fifteenth to nineteenth embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
- FIGS. 29A to 29F are cross-sectional views sequentially showing the manufacturing steps of the luminescent substrate of this embodiment. 29A to 29F, the same components as those in FIGS. 27A to 27E according to the nineteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
- the manufacturing process of the luminescent substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a sacrificial layer forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, A bonding step between the substrate and the second substrate; a peeling step of the second substrate; and a bonding step of the third substrate.
- the manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent board
- FIGS. 29A to 29E are the same as those in the nineteenth embodiment.
- FIG. 29E after the second substrate 3 is peeled off, as shown in FIG. 29F, a portion 3f of the second substrate 3 remaining when the second substrate 3 is peeled is added to the third substrate 3f.
- the substrate 58 is attached.
- the third substrate 58 selectively transmits light in a specific wavelength range (excitation light) and selectively reflects light in another wavelength range (fluorescence emitted from the light emitting functional layer).
- the same effects as those of the fifteenth to twentieth embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
- FIGS. 30A to 30F The basic configuration of the method for manufacturing a luminescent substrate of the present embodiment is the same as that of the twenty-first embodiment, and is different from the twenty-first embodiment in that two substrates are bonded via a bonding member.
- 30A to 30F are cross-sectional views showing the manufacturing process of the luminescent substrate of this embodiment step by step.
- 30A to 30F the same reference numerals are given to the same components as those in FIGS. 29A to 29F of the twenty-first embodiment, and the description thereof will be omitted.
- the manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a sacrificial layer forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, and a bonding member. Forming step, a bonding step between the first substrate and the second substrate, a peeling step of the second substrate, and a bonding step of the third substrate.
- FIGS. 30A to 30B are the same as those in the twenty-first embodiment.
- FIG. 30C after the light emitting functional layer 5 is formed on the second substrate 3, the bonding member 11 is formed on the light emitting functional layer 5 of the second substrate 3.
- FIG. 30D the first substrate 2 and the second substrate 3 are bonded via the bonding member 11 so that the second structure 8 faces the first structure 7. to paste together.
- Other steps are the same as those in the twenty-first embodiment.
- the same effects as those of the fifteenth to twenty-first embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
- FIGS. 31A to 31E A twenty-third embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 31A to 31E.
- the basic structure of the manufacturing method of the light emitting substrate of the present embodiment is the same as that of the fifteenth embodiment.
- the first structure has a two-layer structure of a light absorption layer and a light reflection layer, and the second substrate has the same structure. The point which peels one part differs from 15th Embodiment.
- FIG. 31A to FIG. 31E are cross-sectional views sequentially showing the manufacturing process of the luminescent substrate of this embodiment. 31A to 31E, the same components as those in FIGS. 23A to 23D of the fifteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
- the manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a sacrificial layer forming step, a wavelength selective reflection layer forming step, a second structure forming step, and a light emitting function.
- the manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent board
- a first structure 21 having a two-layer structure of a light absorption layer 22 and a light reflection layer 23 is formed on one surface of the first substrate 2.
- the width W4 of the light reflecting layer 23 is set wider than the width W3 of the light absorbing layer 22.
- a film made of the constituent material of the light absorption layer 22 is first formed.
- the light absorbing layer 22 is formed by patterning the light absorbing material film by photolithography.
- a film made of a constituent material of the light reflection layer 23 is formed so as to cover the light absorption layer 22.
- the light reflecting material film is patterned by photolithography to form the light reflecting layer 23 wider than the light absorbing layer 22.
- the 1st structure 21 can be formed by performing patterning twice by photolithography. Note that, in place of the configuration of the present embodiment, when the width of the light reflection layer is equal to the width of the light absorption layer, the light reflection layer and the light absorption layer may be formed in a single patterning process. .
- a second structure 8 is formed on one surface 3a of the second substrate 3.
- a specific method for forming the second structure 8 is as described in the fifteenth embodiment.
- the second substrate 3 is different from the fifteenth embodiment in that the second substrate 3 on which the sacrificial layer 57 and the wavelength selective reflection layer 59 are sequentially formed is used as the second substrate. Therefore, before the second structure 8 is formed, the sacrificial layer 57 and the wavelength selective reflection layer 59 are sequentially formed on one surface of the arbitrary substrate to form the second substrate 3.
- the bonding member 11 is formed on the one surface 3 a of the second substrate 3.
- the first substrate 2 and the second substrate 3 are bonded via the bonding member 11 so that the first structure 21 and the second structure 8 face each other. And paste them together.
- the second substrate 3 is peeled off at the position where the sacrificial layer 57 is formed. Thereby, the wavelength selective reflection layer 59 remains on the lower surface of the light emitting functional layer 5.
- the same effects as those of the fifteenth to twenty-second embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured. Further, according to the manufacturing method of the present embodiment, a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured without attaching a third substrate having a wavelength selective reflection function later.
- FIGS. 32A to 32E A twenty-fourth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 32A to 32E.
- the basic configuration of the method for manufacturing a luminescent substrate of the present embodiment is the same as that of the twenty-third embodiment, and is different from the twenty-third embodiment in that the first structure is not formed.
- FIG. 32A to FIG. 32E are cross-sectional views sequentially showing the manufacturing process of the light emitting substrate of this embodiment.
- 32A to 32E the same components as those in FIGS. 31A to 31D of the twenty-third embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
- the manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, a bonding member forming step, and a bonding between the first substrate and the second substrate.
- the first structure is not formed on the first substrate 2.
- the other steps shown in FIGS. 32B to 32E are the same as those in the twenty-third embodiment. That is, in the step shown in FIG. 32D, the first substrate 2 on which the structure is not formed and the second substrate 3 on which the second structure 8 is formed are bonded through the bonding member 11.
- the same effects as those of the fifteenth to twenty-third embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
- FIGS. 33A to 33D The twenty-fifth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 33A to 33D.
- the basic configuration of the manufacturing method of the light emitting substrate of this embodiment is the same as that of the fifteenth embodiment, and is different from the fifteenth embodiment in that the substrates are bonded together under a reduced pressure atmosphere.
- 33A to 33D are cross-sectional views showing the manufacturing process of the luminescent substrate of this embodiment step by step.
- 33A to 33D, the same components as those in FIGS. 23A to 23D of the fifteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
- the manufacturing process of the luminescent substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, and a first substrate in a reduced-pressure atmosphere. And a bonding step with the second substrate.
- the first substrate 2 and the second substrate 3 are bonded together under a normal pressure atmosphere.
- substrate 3 are bonded together in a pressure-reduced atmosphere. Therefore, in this embodiment, as shown in FIG. 33D, a bonding apparatus including a chamber 61 whose inside can be sealed is used. The inside of the chamber 61 is made into a reduced-pressure atmosphere by a pump 62 so that the pressure can be adjusted arbitrarily. By bonding using this type of bonding apparatus, the pressure of the gas layer 6 formed between the first substrate 2 and the second substrate 3 becomes lower than atmospheric pressure.
- the gas layer 6 made of the introduced gas can be formed.
- nitrogen gas is introduced into the chamber
- the gas layer 6 made of nitrogen gas is formed.
- dry air is introduced into the chamber, a gas layer 6 made of dry air is formed. In that case, it is preferable at the point which can suppress the permeation of the water
- the same effects as those of the fifteenth to twenty-fourth embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
- FIG. 34 is a cross-sectional view of the organic EL element of this embodiment.
- the organic EL element 70 of the present embodiment includes a first substrate 2, a second substrate 3, a structure 4, an organic EL light source 71, a light emitting functional layer 5, and a gas layer. 6 and a color filter 26.
- the organic EL element 70 of the present embodiment includes the light emitting substrate of the fifth modified example shown in FIG. That is, the structure 4 is composed of the first structure 21 and the second structure 8 joined to each other.
- the first structure 21 on the first substrate 2 has a two-layer structure of a light absorption layer 22 that becomes a black matrix and a light reflection layer 23.
- the second structure 8 on the second substrate 3 has light scattering properties.
- each of the areas partitioned by the structure 4 corresponds to a sub-pixel constituting a pixel that is a minimum unit of display. Therefore, as shown in FIG. 34, the three adjacent regions correspond to a red sub-pixel 72R that displays red, a green sub-pixel 72G that displays green, and a blue sub-pixel 72B that displays blue.
- One pixel is composed of three sub-pixels of the red sub-pixel 72R, the green sub-pixel 72G, and the blue sub-pixel 72B.
- the organic EL light source 71 is provided for each sub-pixel on the surface of the second substrate 3 facing the first substrate 2.
- the organic EL light source 71 includes a first electrode 73, an organic light emitting layer 74, and a second electrode 75.
- the first electrode 73 (lower electrode) may be a transparent electrode, and for example, ITO (Indium-tin-oxide), ZnO (Zinc oxide), or the like is used.
- the thickness of the first electrode 73 is, for example, about 100 nm.
- the first electrode 73 is normally an anode, but can be a cathode. When the first electrode 73 is a cathode, a material having a low work function is used.
- auxiliary wiring may be provided for the purpose of reducing wiring resistance.
- the auxiliary wiring can be formed of a metal material such as Al, Ag, Ta, Ti, Ni, for example.
- the second electrode 75 (upper electrode) is formed of a transparent electrode, like the first electrode 73.
- the second electrode 75 (upper electrode) can be an anode.
- a material having a high work function, such as ITO, is preferably used.
- various known electrode materials can be used as the electrode material for forming the first electrode 73 and the second electrode 75.
- the electrode is an anode, gold (Au), platinum (Pt), nickel (Ni), or the like having a work function of 4.5 eV or more from the viewpoint of more efficiently injecting holes into the organic light emitting layer 74.
- examples thereof include metals such as (Ba) and aluminum (Al), and alloys such as Mg: Ag alloy and Li: Al alloy containing these metals.
- the first electrode 73 and the second electrode 75 can be formed using the above materials by a known method such as an EB vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or a resistance heating vapor deposition method. However, this embodiment is not limited to these formation methods. If necessary, the formed electrode can be patterned by a photolithography method or a laser peeling method. In addition, a patterned electrode can be directly formed by combining with a shadow mask.
- the film thickness of the electrode is preferably 50 nm or more. When the film thickness is less than 50 nm, the wiring resistance is increased, which may increase the drive voltage.
- the organic light emitting layer 74 emits light in a predetermined wavelength range by a voltage applied between the first electrode 73 and the second electrode 75. In the present embodiment, the organic light emitting layer 74 emits light in a blue wavelength region.
- the organic light emitting layer 74 may be a single layer, but is usually composed of a plurality of layers. For example, a laminated film of ⁇ -NPD and Alq3 can be used. Further, a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, a hole blocking layer, an electron transport are provided between the first electrode 73 (lower electrode) serving as the anode and the second electrode 75 (upper electrode) serving as the cathode.
- a multilayer organic light-emitting layer composed of a layer, an electron injection layer, and the like may be formed.
- a MoO 3 layer a C 60 layer, a fullerene-containing layer, and a quantum dot-containing layer.
- Any layer can be applied to this embodiment.
- a light-emitting element using a quantum dot-containing layer is called a QLED (Quantum-dot light emitting diode).
- QLED Quantum-dot light emitting diode
- a structure in which light emitting regions are stacked, a so-called tandem structure can be used.
- positioned between the 1st electrode 73 and the 2nd electrode 75, each layer is about several tens of nm normally.
- Organic light emitting layer 74 includes the following configurations, but the present invention is not limited thereto.
- the organic light emitting layer 74 may be composed only of the organic light emitting material exemplified below. Or you may be comprised from the combination of a luminescent dopant and host material. Alternatively, a hole transport material, an electron transport material, an additive (donor, acceptor, etc.) and the like may be optionally included. Alternatively, a configuration in which these materials are dispersed in a polymer material (binding resin) or an inorganic material may be used. From the viewpoint of luminous efficiency and lifetime, those in which a luminescent dopant is dispersed in a host material are preferable.
- the organic light emitting material a known light emitting material for an organic light emitting layer can be used.
- Such light-emitting materials are classified into low-molecular light-emitting materials, polymer light-emitting materials, and the like, and specific compounds thereof are exemplified below.
- the light emitting material may be classified into a fluorescent material, a phosphorescent material, and the like. From the viewpoint of reducing power consumption, it is preferable to use a phosphorescent material having high luminous efficiency.
- specific compounds are exemplified below. However, the present invention is not limited to these materials.
- a known dopant material for an organic light-emitting layer can be used.
- a dopant material for example, as an ultraviolet light emitting material, p-quaterphenyl, 3,5,3,5 tetra-t-butylsecphenyl, 3,5,3,5 tetra-t-butyl-p -Fluorescent materials such as quinckphenyl.
- Fluorescent light-emitting materials such as styryl derivatives, bis [(4,6-difluorophenyl) -pyridinato-N, C2 ′] picolinate iridium (III) (FIrpic), bis (4 ′, 6′-difluorophenyl) And phosphorescent organometallic complexes such as polydinato) tetrakis (1-pyrazolyl) borate iridium (III) (FIr 6 ).
- a known host material for organic EL can be used as a host material when using a dopant.
- host materials include the low-molecular light-emitting materials, the polymer light-emitting materials, 4,4′-bis (carbazole) biphenyl, 9,9-di (4-dicarbazole-benzyl) fluorene (CPF), 3 , 6-bis (triphenylsilyl) carbazole (mCP), carbazole derivatives such as (PCF), aniline derivatives such as 4- (diphenylphosphoyl) -N, N-diphenylaniline (HM-A1), 1,3- And fluorene derivatives such as bis (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) benzene (mDPFB) and 1,4-bis (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) benzene (pDPFB).
- the charge injection / transport layer is used to more efficiently inject charges (holes, electrons) from the electrode and transport (injection) to the light emitting layer, and the charge injection layer (hole injection layer, electron injection layer). It is classified as a transport layer (hole transport layer, electron transport layer).
- the charge injecting and transporting layer may be composed only of the charge injecting and transporting material exemplified below. Alternatively, the charge injection / transport layer may optionally contain an additive (donor, acceptor, etc.) and the like. A structure in which these materials are dispersed in a polymer material (binding resin) or an inorganic material may be used.
- charge injecting and transporting material a known charge transporting material for the organic light emitting layer can be used.
- charge injection transport materials are classified into hole injection transport materials and electron injection transport materials. These specific compounds are illustrated below. However, this embodiment is not limited to these materials.
- the hole injection / hole transport material examples include oxides such as vanadium oxide (V 2 O 5 ) and molybdenum oxide (MoO 2 ), inorganic p-type semiconductor materials, porphyrin compounds, N, N′-bis (3 -Methylphenyl) -N, N′-bis (phenyl) -benzidine (TPD), N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine (NPD), etc.
- oxides such as vanadium oxide (V 2 O 5 ) and molybdenum oxide (MoO 2 )
- inorganic p-type semiconductor materials examples include porphyrin compounds, N, N′-bis (3 -Methylphenyl) -N, N′-bis (phenyl) -benzidine (TPD), N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine (NPD), etc
- Low molecular weight materials such as tertiary amine compounds, hydrazone compounds, quinacridone compounds, styrylamine compounds, polyaniline (PANI), polyaniline-camphor sulfonic acid (PANI-CSA), 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate ( PEDOT / PSS), poly (triphenylamine) derivative (Poly-TPD), polyvinylcarbazole (PVC) z), polymer materials such as poly (p-phenylene vinylene) (PPV), poly (p-naphthalene vinylene) (PNV), and the like.
- PANI polyaniline
- PANI-CSA polyaniline-camphor sulfonic acid
- PEDOT / PSS poly (triphenylamine) derivative
- PVC polyvinylcarbazole
- polymer materials such as poly (p-phenylene vinylene) (PPV), poly (p-naphthalene
- the energy level of the highest occupied molecular orbital (HOMO) is higher than that of the hole injection and transport material used for the hole transport layer in that the injection and transport of holes from the anode is performed more efficiently. It is preferable to use a material having a low position.
- a material having a higher hole mobility than the hole injection transport material used for the hole injection layer is preferably used.
- the hole injection / transport material In order to further improve the hole injection / transport property, it is preferable to dope the hole injection / transport material with an acceptor.
- an acceptor a known acceptor material for the organic light emitting layer can be used. These specific compounds are illustrated below. However, this embodiment is not limited to these materials.
- Acceptor materials include Au, Pt, W, Ir, POCl 3 , AsF 6 , Cl, Br, I, vanadium oxide (V 2 O 5 ), molybdenum oxide (MoO 2 ), and other inorganic materials, TCNQ (7, 7 , 8,8, -tetracyanoquinodimethane), TCNQF 4 (tetrafluorotetracyanoquinodimethane), TCNE (tetracyanoethylene), HCNB (hexacyanobutadiene), DDQ (dicyclodicyanobenzoquinone), etc.
- TNF trinitrofluorenone
- DNF dinitrofluorenone
- organic materials such as fluoranyl, chloranil and bromanyl.
- compounds having a cyano group such as TCNQ, TCNQF 4 , TCNE, HCNB, DDQ and the like are more preferable because they can increase the carrier concentration more effectively.
- Examples of electron injection / electron transport materials include inorganic materials that are n-type semiconductors, oxadiazole derivatives, triazole derivatives, thiopyrazine dioxide derivatives, benzoquinone derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, diphenoquinone derivatives, fluorenone derivatives, benzodifuran derivatives, etc. And low molecular weight materials; polymer materials such as poly (oxadiazole) (Poly-OXZ) and polystyrene derivatives (PSS).
- examples of the electron injection material include fluorides such as lithium fluoride (LiF) and barium fluoride (BaF 2 ), and oxides such as lithium oxide (Li 2 O).
- the material used for the electron injection layer is a material having an energy level of the lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) higher than that of the electron injection / transport material used for the electron transport layer, in order to more efficiently inject and transport electrons from the cathode. Is preferably used.
- LUMO lowest unoccupied molecular orbital
- As the material used for the electron transport layer a material having higher electron mobility than the electron injection transport material used for the electron injection layer is preferably used.
- the electron injection / transport material In order to further improve the electron injection / transport property, it is preferable to dope the electron injection / transport material with a donor.
- a donor a known donor material for an organic light emitting layer can be used. These specific compounds are illustrated below. However, this embodiment is not limited to these materials.
- Donor materials include inorganic materials such as alkali metals, alkaline earth metals, rare earth elements, Al, Ag, Cu, In, anilines, phenylenediamines, benzidines (N, N, N ′, N′-tetraphenylbenzidine N, N′-bis- (3-methylphenyl) -N, N′-bis- (phenyl) -benzidine, N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine Etc.), triphenylamines (triphenylamine, 4,4′4 ′′ -tris (N, N-diphenyl-amino) -triphenylamine, 4,4′4 ′′ -tris (N-3-methyl) Phenyl-N-phenyl-amino) -triphenylamine, 4,4′4 ′′ -tris (N- (1-naphthyl) -N-phenyl-
- An organic light emitting layer such as a light emitting layer, a hole transport layer, an electron transport layer, a hole injection layer and an electron injection layer is prepared by using a coating liquid for forming an organic light emitting layer in which the above materials are dissolved and dispersed in a solvent.
- Known coating methods such as spin coating method, dipping method, doctor blade method, discharge coating method, spray coating method, ink jet method, letterpress printing method, intaglio printing method, screen printing method, printing method such as microgravure coating method, etc.
- the coating liquid for forming the organic light emitting layer may contain additives for adjusting the physical properties of the coating liquid, such as a leveling agent and a viscosity modifier. .
- each layer constituting the organic light emitting layer 74 is usually about 1 nm to 1000 nm, but preferably 10 nm to 200 nm. If the film thickness is less than 10 nm, the physical properties (charge injection characteristics, transport characteristics, confinement characteristics) that are originally required cannot be obtained. In addition, pixel defects due to foreign matters such as dust may occur. Further, when the film thickness exceeds 200 nm, there is a concern that the drive voltage increases due to the resistance component of the organic light emitting layer 74, leading to an increase in power consumption.
- the red sub-pixel 72 ⁇ / b> R is provided with a phosphor layer 5 ⁇ / b> R including a phosphor that emits red light using blue light emitted from the organic EL light source 71 as excitation light.
- the green sub-pixel 72G is provided with a phosphor layer 5G including a phosphor that emits green light using blue light emitted from the organic EL light source 71 as excitation light.
- the blue sub-pixel 72B is provided with a light scattering layer 27 that scatters and emits blue light emitted from the organic EL light source 71.
- a gas layer 6 is provided between the color filter 26 on the first substrate 2 and the light emitting functional layer 5 or the light scattering layer 27.
- blue light emitted from the organic EL light source 71 enters the light emitting functional layer 5 or the light scattering layer 27 of each subpixel.
- red sub-pixel 72 ⁇ / b> R red light is emitted from the light emitting functional layer 5 ⁇ / b> R using blue light as excitation light, and the red light further passes through the red color filter layer 26 ⁇ / b> R of the color filter 26 and passes through the first substrate 2 to external space. Is injected into.
- green light is emitted from the light emitting functional layer 5G using blue light as excitation light, and the green light further passes through the green color filter layer 26G of the color filter 26 and passes through the first substrate 2. And injected into the external space.
- blue sub-pixel 72B blue light is scattered by the light scattering layer 27, and the blue light further passes through the blue color filter layer 26B of the color filter 26 and is emitted to the external space through the first substrate 2.
- the Full color display is performed by appropriately adjusting the intensity of the blue light in each of the sub-pixels 72R, 72G, and 72B.
- the organic EL element 70 of the present embodiment includes the light-emitting substrate of the above-described embodiment that is excellent in light extraction efficiency, a high-luminance organic EL element can be realized. In addition, since power for obtaining a predetermined luminance can be reduced, an organic EL element with low power consumption can be realized.
- the second electrode 75 is divided for each of the sub-pixels 72R, 72G, and 72B.
- the second electrode 81 is provided in common over all the sub-pixels 72R, 72G, 72B. Therefore, the second electrode 81 is provided so as to get over the second structure 8 and is in contact with both the first structure 21 and the second structure 8.
- the light reflecting layer 23 of the first structure 21 is made of a conductive metal such as aluminum.
- the second structure 8 is preferably made of a non-conductive material such as a resin material. In this case, since the light reflection layer 23 and the second electrode 81 constituting the first structure 21 are electrically connected, the light reflection layer 23 functions as an auxiliary electrode of the second electrode 81. Therefore, even if the second electrode 81 is formed in a wide area over all the subpixels, the wiring resistance of the second electrode 81 can be lowered.
- FIG. 36 is a cross-sectional view of the liquid crystal element of this embodiment.
- the liquid crystal element 90 of the present embodiment includes a first substrate 2, a second substrate 18 made of a wavelength selective reflector, a structure 4, a light emitting functional layer 5, and a gas layer 6. And a color filter 26 and a liquid crystal device 91.
- the liquid crystal element 90 of the present embodiment includes the light emitting substrate of the fifth modified example shown in FIG. That is, the structure 4 is composed of the first structure 21 and the second structure 8 joined to each other.
- the first structure 21 on the first substrate 2 has a two-layer structure of a light absorption layer 22 that becomes a black matrix and a light reflection layer 23.
- the second structure 8 on the second substrate 18 has light scattering properties.
- the liquid crystal device 91 includes a backlight 92, a pair of polarizing plates 93 and 94, and a liquid crystal cell 95.
- the liquid crystal cell 95 has a configuration in which a glass substrate 96 and a second substrate 18 are bonded together with a sealing material 97 at a predetermined interval. Liquid crystal 98 is sealed in a space surrounded by the glass substrate 96, the second substrate 18, and the sealing material 97.
- a first electrode 99 is provided on the surface of the glass substrate 96 facing the second substrate 18.
- a second electrode 100 is provided on the surface of the second substrate 18 facing the glass substrate 96.
- An alignment film 101 is formed so as to cover the first electrode 99.
- An alignment film 102 is formed so as to cover the second electrode 100.
- the first electrode 99 independent for each subpixel is provided on the glass substrate 96 side.
- a second electrode 100 common to all the subpixels is provided on the second substrate 18 side.
- a thin film transistor (Thin Film Transistor, hereinafter abbreviated as TFT) (not shown) is provided on the glass substrate 96 for each sub-pixel.
- TFT Thin Film Transistor
- the backlight 92 includes a light source 103 that emits blue light and a light guide plate 104, and irradiates the liquid crystal cell 95 with blue light.
- One polarizing plate 93 is disposed between the backlight 92 and the glass substrate 96.
- the other polarizing plate 94 is disposed between the second substrate 18 and the second electrode 100.
- the transmittance of the blue light emitted from the backlight 92 is adjusted by the liquid crystal cell 95 for each of the sub-pixels 72R, 72G, and 72B.
- the blue light transmitted through the liquid crystal cell 95 enters the light emitting functional layer 5 of each of the subpixels 72R, 72G, 72B.
- red sub-pixel 72 ⁇ / b> R red light is emitted from the light emitting functional layer 5 ⁇ / b> R using blue light as excitation light, and the red light further passes through the red color filter layer 26 ⁇ / b> R of the color filter 26 and passes through the first substrate 2 to external space. Is injected into.
- green light is emitted from the light emitting functional layer 5G using blue light as excitation light, and the green light further passes through the green color filter layer 26G of the color filter 26 and passes through the first substrate 2. And injected into the external space.
- blue sub-pixel 26 ⁇ / b> B blue light is scattered by the light scattering layer 27, and the blue light further passes through the blue color filter layer 26 ⁇ / b> B of the color filter 26 and is emitted to the external space through the first substrate 2.
- the liquid crystal cell 95 appropriately adjusts the amount of blue light in each of the sub-pixels 72R, 72G, 72B, thereby changing the hue of the pixel and performing full color display.
- the liquid crystal element 90 of the present embodiment includes the luminescent substrate of the above-described embodiment having excellent light extraction efficiency, a high-luminance liquid crystal element can be realized. In addition, since power for obtaining a predetermined luminance can be reduced, a liquid crystal element with low power consumption can be realized.
- a cellular phone 1000 illustrated in FIG. 37A includes a main body 1001, a display portion 1002, a sound input portion 1003, a sound output portion 1004, an antenna 1005, an operation switch 1006, and the like.
- the light emitting element and the liquid crystal of the above embodiment are included in the display portion 1002.
- An element is used.
- a television receiver 1100 illustrated in FIG. 37B includes a main body cabinet 1101, a display portion 1102, a speaker 1103, a stand 1104, and the like, and the light-emitting element and the liquid crystal element of the above embodiment are used for the display portion 1102.
- the cellular phone 1000 and the television receiver 1100 since the light emitting element and the liquid crystal element of the above embodiment are used, a display device with high luminance and excellent display quality can be realized.
- a ceiling light (illumination device) illustrated in FIG. 38A can be given.
- a ceiling light 1400 shown in FIG. 38A includes an illumination unit 1401, a hanging tool 1402, a power cord 1403, and the like.
- the illumination unit 1401 the light-emitting element of the above embodiment can be suitably applied.
- illumination light with a light and free color tone can be obtained with low power consumption. Therefore, it is possible to realize a lighting fixture with high light performance.
- An illumination stand 1500 shown in FIG. 38B includes an illumination unit 1501, a stand 1502, a power switch 1503, a power cord 1504, and the like.
- the illumination unit 1501 the light emitting element of the above embodiment can be suitably applied.
- the present invention can be used for an optical substrate and a manufacturing method thereof, a light emitting element, a liquid crystal element, a display device, and a lighting device.
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Abstract
Description
本発明は、蛍光体等の発光機能を有する層、もしくは光散乱機能を有する層などを備えた光学基板およびその製造方法、発光素子、液晶素子、表示装置、液晶装置および照明装置に関する。
本願は、2011年12月21日に、日本に出願された特願2011-279780号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
The present invention relates to an optical substrate provided with a layer having a light emitting function, such as a phosphor, or a layer having a light scattering function, and a manufacturing method thereof, a light emitting element, a liquid crystal element, a display device, a liquid crystal device, and a lighting device.
This application claims priority based on Japanese Patent Application No. 2011-279780 filed in Japan on December 21, 2011, the contents of which are incorporated herein by reference.
蛍光体などの発光機能を有する膜は、波長変換、エネルギー変換などに活用できる。例えば、有機エレクトロルミネッセンス(以下、「有機EL」とも言う)素子に蛍光体を組み合わせるタイプの有機EL装置は、色変換有機EL装置としてよく知られている(例えば、下記の特許文献1参照)。また、液晶素子に蛍光体を組み合わせるタイプの表示装置も知られている(例えば、下記の特許文献2参照)。
A film having a light emitting function such as a phosphor can be used for wavelength conversion, energy conversion, and the like. For example, an organic EL device in which a phosphor is combined with an organic electroluminescence (hereinafter also referred to as “organic EL”) element is well known as a color conversion organic EL device (see, for example, Patent Document 1 below). A display device in which a phosphor is combined with a liquid crystal element is also known (for example, see
ところが、これらの装置において、大きな課題の一つは、蛍光体などの発光機能を有する膜から発した光を充分に取り出すことができない、という問題である。蛍光体は、ガラス基板などの光透過性基板の上に形成される、もしくはアクリル板などの樹脂基板の内部に分散される、等の形態で使用されるのが一般的である。その場合、基板の屈折率が空気の屈折率よりも大きいため、Snellの法則に基づく全反射条件に従って基板から光を効率良く取り出すことができない。 However, in these devices, one of the major problems is that light emitted from a film having a light emitting function such as a phosphor cannot be sufficiently extracted. The phosphor is generally used in such a form that it is formed on a light-transmitting substrate such as a glass substrate or dispersed inside a resin substrate such as an acrylic plate. In that case, since the refractive index of the substrate is larger than the refractive index of air, light cannot be efficiently extracted from the substrate according to the total reflection condition based on Snell's law.
このような課題に対して、例えば特許文献1には、有機EL素子と組み合わせた蛍光体層の側面に反射膜を設けることが開示されている。
下記の特許文献3には、透明導電層の発光層と反対側の面に屈折率が1.01~1.3の範囲の低屈折率層を設けたアクティブマトリクス型発光素子が開示されている。
下記の特許文献4には、透明電極層と光透過性基板との間に、光を散乱させる粒子を低屈折率材料からなるマトリクス樹脂中に拡散させた浸み出し光拡散層を設けたEL素子が開示されている。
下記の特許文献5には、画素の側面に反射層を設けることにより光取り出し効率を向上させた発光素子が開示されている。
For such a problem, for example, Patent Document 1 discloses providing a reflective film on a side surface of a phosphor layer combined with an organic EL element.
In the following
上述の特許文献1、および特許文献5に開示された発明は、発光部の側面に反射部材を設けることで、発光部の側面に向かう光を正面側に取り出そうとするものである。しかしながら、有機EL素子の保護等の目的で、有機EL素子の光射出側にガラス等の光透過性基板を配置する場合がある。その場合、特許文献1、および特許文献5では、発光部からの光が透過する光透過性基板と空気との屈折率差により生じる全反射成分に対して有効な対策が施されていない。したがって、特許文献1、および特許文献5の技術では、光取り出し効率の改善に限界がある。
The inventions disclosed in Patent Document 1 and
一方、特許文献3、および特許文献4には、低屈折率層の配置により光取り出し効率を向上できると記載されている。しかしながら、低屈折率層から光を取り出す際に依然として低屈折率層と空気との屈折率差がある。そのため、光取り出し効率を充分に高くすることは難しい。
On the other hand,
以上、有機EL素子等の発光素子からの光を直接取り出す場合を例として課題を説明した。しかしながら、例えば発光素子からの光を光散乱層等の光学層を介して取り出す場合にも同様の課題がある。 The problem has been described above by taking as an example the case of directly extracting light from a light emitting element such as an organic EL element. However, there is a similar problem when, for example, light from a light emitting element is extracted through an optical layer such as a light scattering layer.
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、光取り出し効率を充分に高めることができる光学基板およびその製造方法を提供することを目的とする。また、上記の光学基板を備え、高輝度の発光素子、液晶素子、表示装置、液晶装置および照明装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above-described problems, and an object of the present invention is to provide an optical substrate that can sufficiently increase the light extraction efficiency and a method for manufacturing the same. It is another object of the present invention to provide a light-emitting element, a liquid crystal element, a display device, a liquid crystal device, and a lighting device that include the optical substrate and have high luminance.
上記の目的を達成するために、本発明の光学基板は、光透過性を有する第1の基板と、前記第1の基板から所定の間隔をおいて設けられ、前記第1の基板に向けて光を射出する光学層と、前記第1の基板と前記光学層との少なくとも一方に接し、前記第1の基板の前記光学層との対向面に沿う方向に所定の間隔をおいて設けられた複数の構造物と、前記第1の基板と前記光学層との間に設けられた気体層と、が備えられたことを特徴とする。 In order to achieve the above object, an optical substrate of the present invention is provided with a first substrate having optical transparency and a predetermined distance from the first substrate, and directed toward the first substrate. Provided at a predetermined interval in a direction along the surface facing the optical layer of the first substrate, in contact with at least one of the optical layer that emits light, the first substrate, and the optical layer A plurality of structures and a gas layer provided between the first substrate and the optical layer are provided.
本発明の光学基板は、前記光学層の前記第1の基板との対向面とは反対側の面に、第2の基板が備えられたことを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that a second substrate is provided on the surface of the optical layer opposite to the surface facing the first substrate.
本発明の光学基板は、前記構造物が、前記第1の基板の法線方向に配置された複数層の構造物で構成され、前記複数層の構造物が、前記第1の基板の前記対向面に接する第1の構造物と、前記光学層に接する第2の構造物と、を含むことを特徴とする。 In the optical substrate of the present invention, the structure is constituted by a plurality of layers of structures arranged in a normal direction of the first substrate, and the plurality of layers of the structure is opposed to the first substrate. A first structure in contact with the surface and a second structure in contact with the optical layer are included.
本発明の光学基板は、前記第1の構造物と前記第2の構造物とが接していることを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that the first structure and the second structure are in contact with each other.
本発明の光学基板は、前記第1の構造物と前記第2の構造物とが離間しており、前記第1の基板の外縁部に、前記第1の基板の前記対向面に接する支持部材が備えられたことを特徴とする。 In the optical substrate of the present invention, the first structure and the second structure are separated from each other, and a support member that is in contact with the facing surface of the first substrate at an outer edge portion of the first substrate. Is provided.
本発明の光学基板は、前記第1の構造物の少なくとも一部が、光吸収性を有する材料からなる光吸収部材で構成されていることを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that at least a part of the first structure is composed of a light absorbing member made of a light-absorbing material.
本発明の光学基板は、前記第1の構造物の外面の少なくとも一部が、光反射性を有する材料からなる光反射部材で構成されていることを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that at least a part of the outer surface of the first structure is composed of a light reflecting member made of a light reflective material.
本発明の光学基板は、前記第1の構造物が、前記第1の基板と接し、光吸収性を有する材料からなる光吸収部材と、前記光吸収部材の前記第1の基板と接する面を除く残りの面を覆い、光反射性を有する材料からなる光反射部材と、から構成されたことを特徴とする。 In the optical substrate of the present invention, the first structure is in contact with the first substrate and includes a light absorbing member made of a light-absorbing material, and a surface of the light absorbing member in contact with the first substrate. It is characterized by comprising a light reflecting member made of a material having a light reflecting property and covering the remaining surface.
本発明の光学基板は、前記第2の構造物の外面の少なくとも一部に、光反射性を有する材料からなる光反射部材が設けられたことを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that a light reflecting member made of a material having light reflectivity is provided on at least a part of the outer surface of the second structure.
本発明の光学基板は、前記光学層の厚さが、前記第2の構造物の厚さよりも薄いことを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that the thickness of the optical layer is thinner than the thickness of the second structure.
本発明の光学基板は、前記構造物が、単一層の構造物で構成されていることを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that the structure is composed of a single layer structure.
本発明の光学基板は、前記構造物が、前記第1の基板の前記対向面と前記光学層との双方に接していることを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that the structure is in contact with both the facing surface of the first substrate and the optical layer.
本発明の光学基板は、前記構造物が、前記第1の基板の前記対向面と前記光学層とのいずれか一方に接しており、前記第1の基板の外縁部および前記光学層の外縁部に、前記第1の基板の前記対向面と前記光学層との各々に接する支持部材が備えられたことを特徴とする。 In the optical substrate of the present invention, the structure is in contact with either the opposing surface of the first substrate or the optical layer, and an outer edge portion of the first substrate and an outer edge portion of the optical layer. Further, a support member is provided in contact with each of the opposing surface of the first substrate and the optical layer.
本発明の光学基板は、前記構造物の少なくとも一部が、光吸収性を有する材料からなる光吸収部材で構成されていることを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that at least a part of the structure is composed of a light-absorbing member made of a light-absorbing material.
本発明の光学基板は、前記構造物の外面の少なくとも一部が、光反射性を有する材料からなる光反射部材で構成されていることを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that at least a part of the outer surface of the structure is composed of a light reflecting member made of a light reflective material.
本発明の光学基板は、前記構造物が、前記第1の基板と接し、光吸収性を有する材料からなる光吸収部材と、前記光吸収部材の前記第1の基板と接する面を除く残りの面を覆い、光反射性を有する材料からなる光反射部材と、から構成されたことを特徴とする。 In the optical substrate of the present invention, the structure is in contact with the first substrate and is made of a light-absorbing member made of a light-absorbing material, and the remaining surface except for the surface of the light-absorbing member in contact with the first substrate. And a light reflecting member made of a material having a light reflecting property.
本発明の光学基板は、前記光学層が、所定の波長域の光を発する発光層であることを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that the optical layer is a light emitting layer that emits light in a predetermined wavelength range.
本発明の光学基板は、前記光学層の前記第1の基板との対向面とは反対側の面に、前記波長域の光を選択的に反射し、前記波長域以外の波長域の光を選択的に透過する特性を有する波長選択反射部材が備えられたことを特徴とする。 The optical substrate of the present invention selectively reflects light in the wavelength region on the surface of the optical layer opposite to the surface facing the first substrate, and transmits light in a wavelength region other than the wavelength region. A wavelength selective reflection member having a characteristic of selectively transmitting is provided.
本発明の光学基板は、前記波長選択反射部材が、前記光学層の前記第1の基板との対向面とは反対側の面に備えられた第2の基板であることを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that the wavelength selective reflection member is a second substrate provided on the surface of the optical layer opposite to the surface facing the first substrate.
本発明の光学基板は、前記光学層が、入射された光を散乱させる光散乱層であることを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that the optical layer is a light scattering layer that scatters incident light.
本発明の光学基板は、前記第1の基板と前記光学層との間に、カラーフィルタが備えられていることを特徴とする。 The optical substrate of the present invention is characterized in that a color filter is provided between the first substrate and the optical layer.
本発明の光学基板は、前記構造物が前記光学層を貫通し、前記構造物の前記第1の基板と接する面とは反対側の面と、前記光学層の前記第1の基板との対向面とは反対側の面と、が略同一平面上にあることを特徴とする。 In the optical substrate of the present invention, the structure penetrates the optical layer, and the surface of the structure opposite to the surface in contact with the first substrate is opposite to the first substrate of the optical layer. The surface opposite to the surface is substantially on the same plane.
本発明の光学基板の製造方法は、光透過性を有する第1の基板の一面に、所定の間隔をおいて複数の第1の構造物を形成する工程と、光透過性を有する第2の基板の一面に、所定の間隔をおいて複数の第2の構造物を形成する工程と、前記第2の基板の前記一面において、隣り合う前記第2の構造物に囲まれた領域に光学層を形成する工程と、前記第1の基板と前記第2の基板とを、前記第1の構造物の形成面と前記第2の構造物の形成面とが互いに対向するように、所定の間隔を保持して固定する工程と、を備えたことを特徴とする。 The method for manufacturing an optical substrate according to the present invention includes a step of forming a plurality of first structures at a predetermined interval on one surface of a light-transmitting first substrate, and a light-transmitting second substrate. A step of forming a plurality of second structures on one surface of the substrate at a predetermined interval; and an optical layer in a region surrounded by the adjacent second structures on the one surface of the second substrate. And forming the first substrate and the second substrate at a predetermined interval so that a formation surface of the first structure and a formation surface of the second structure face each other. And holding and fixing.
本発明の光学基板の製造方法は、前記第1の構造物と前記第2の構造物とが接した状態において、前記第1の基板と前記第2の基板とを固定することを特徴とする。 The method of manufacturing an optical substrate according to the present invention is characterized in that the first substrate and the second substrate are fixed in a state where the first structure and the second structure are in contact with each other. .
本発明の光学基板の製造方法は、前記第1の基板の一面と前記第2の基板の一面の少なくとも一方の外縁部に支持部材を形成する工程を備え、前記第1の構造物と前記第2の構造物とが接しない状態において、前記支持部材を介して前記第1の基板と前記第2の基板とを固定することを特徴とする。 The method for manufacturing an optical substrate according to the present invention includes a step of forming a support member on at least one outer edge of one surface of the first substrate and one surface of the second substrate, and the first structure and the first substrate The first substrate and the second substrate are fixed via the support member in a state where the second structure is not in contact.
本発明の光学基板の製造方法は、前記光学層の厚さが前記第2の構造物の厚さよりも薄くなるように、前記光学層を形成することを特徴とする。 The method for manufacturing an optical substrate according to the present invention is characterized in that the optical layer is formed so that the thickness of the optical layer is thinner than the thickness of the second structure.
本発明の光学基板の製造方法は、光透過性を有する第1の基板の一面と光透過性を有する第2の基板の一面のいずれか一方に、所定の間隔をおいて複数の構造物を形成する工程と、前記第1の基板と前記第2の基板のうち、前記複数の構造物を形成した側の基板の一面において、隣り合う前記構造物に囲まれた領域に光学層を形成する工程と、前記第1の基板と前記第2の基板とを、前記複数の構造物を形成した側の基板の前記構造物の形成面と他の基板の一面とが互いに対向するように、所定の間隔を保持して固定する工程と、を備えたことを特徴とする。 According to the method of manufacturing an optical substrate of the present invention, a plurality of structures are provided at a predetermined interval on one surface of a first substrate having light transmittance and one surface of a second substrate having light transmittance. And forming an optical layer in a region surrounded by the adjacent structures on one surface of the first substrate and the second substrate on which the plurality of structures are formed. A predetermined step so that a surface on which the structure of the substrate on which the plurality of structures are formed and one surface of the other substrate face each other. A step of holding and fixing the interval.
本発明の光学基板の製造方法は、前記構造物と前記他の基板の一面とが接した状態において、前記第1の基板と前記第2の基板とを固定することを特徴とする。 The method for manufacturing an optical substrate according to the present invention is characterized in that the first substrate and the second substrate are fixed in a state where the structure and one surface of the other substrate are in contact with each other.
本発明の光学基板の製造方法は、前記第1の基板の一面と前記第2の基板の一面の少なくとも一方の外縁部に支持部材を形成する工程を備え、前記構造物と前記他の基板の一面とが接しない状態において、前記支持部材を介して前記第1の基板と前記第2の基板とを固定することを特徴とする。 The method for manufacturing an optical substrate according to the present invention includes a step of forming a support member on at least one outer edge of one surface of the first substrate and one surface of the second substrate, and the structure and the other substrate The first substrate and the second substrate are fixed via the support member in a state where the first surface is not in contact with the first surface.
本発明の光学基板の製造方法は、前記第1の基板と前記第2の基板とを固定した後、前記第2の基板の厚さ方向の少なくとも一部を剥離する工程を備えたことを特徴とする。 The method for manufacturing an optical substrate of the present invention includes a step of peeling at least a part of the second substrate in the thickness direction after fixing the first substrate and the second substrate. And
本発明の光学基板の製造方法は、前記第2の基板の厚さ方向の少なくとも一部を剥離した後、前記光学層の第2の基板の少なくとも一部を剥離した側の面に、第3の基板を固定する工程を備えたことを特徴とする。 In the method for manufacturing an optical substrate according to the present invention, after peeling at least a part of the second substrate in the thickness direction, a third surface of the optical layer on the side where the second substrate is peeled off, And a step of fixing the substrate.
本発明の光学基板の製造方法は、前記光学層が、所定の波長域の光を発する発光層であり、前記第3の基板が、前記波長域の光を選択的に反射し、前記波長域以外の波長域の光を選択的に透過する特性を有する波長選択反射板であることを特徴とする。 In the method for producing an optical substrate of the present invention, the optical layer is a light emitting layer that emits light in a predetermined wavelength range, and the third substrate selectively reflects light in the wavelength range, It is a wavelength selective reflection plate having a characteristic of selectively transmitting light in a wavelength range other than.
本発明の光学基板の製造方法は、前記第2の基板に犠牲層を形成する工程を備え、前記犠牲層の位置で前記第2の基板の厚さ方向の少なくとも一部を剥離することを特徴とする。 The optical substrate manufacturing method of the present invention includes a step of forming a sacrificial layer on the second substrate, and at least a part of the second substrate in the thickness direction is peeled off at the position of the sacrificial layer. And
本発明の光学基板の製造方法は、前記第1の基板と前記第2の基板とを減圧雰囲気下で固定することを特徴とする。 The method for manufacturing an optical substrate according to the present invention is characterized in that the first substrate and the second substrate are fixed in a reduced-pressure atmosphere.
本発明の発光素子は、本発明の光学基板と、前記光学基板に向けて光を射出する光源と、が備えられたことを特徴とする。 The light-emitting element of the present invention includes the optical substrate of the present invention and a light source that emits light toward the optical substrate.
本発明の発光素子は、前記光学基板の前記光学層が、前記光源から射出された光を励起光として光を発する発光層であることを特徴とする。 The light emitting device of the present invention is characterized in that the optical layer of the optical substrate is a light emitting layer that emits light using excitation light as light emitted from the light source.
本発明の液晶素子は、本発明の光学基板と、前記光学基板に向けて光を射出する光源と、前記光源から射出された光の透過率を調整する液晶セルと、が備えられたことを特徴とする。 The liquid crystal element of the present invention includes the optical substrate of the present invention, a light source that emits light toward the optical substrate, and a liquid crystal cell that adjusts the transmittance of the light emitted from the light source. Features.
本発明の液晶素子は、前記光学基板の前記光学層が、前記光源から射出され、前記液晶セルによって透過率が調整された光を励起光として光を発する発光層であることを特徴とする。 The liquid crystal element of the present invention is characterized in that the optical layer of the optical substrate is a light emitting layer that emits light using excitation light as light emitted from the light source and adjusted in transmittance by the liquid crystal cell.
本発明の表示装置は、本発明の発光素子と、前記発光素子における前記光源の発光状態を制御する制御部と、が備えられたことを特徴とする。 The display device of the present invention includes the light emitting element of the present invention and a control unit that controls a light emission state of the light source in the light emitting element.
本発明の液晶装置は、本発明の液晶素子と、前記液晶素子における前記液晶セルの透過率を制御する制御部と、が備えられたことを特徴とする。 The liquid crystal device of the present invention includes the liquid crystal element of the present invention and a control unit that controls the transmittance of the liquid crystal cell in the liquid crystal element.
本発明の照明装置は、本発明の発光素子と、前記発光素子における前記光源の発光状態を制御する制御部と、が備えられたことを特徴とする。 The illuminating device of the present invention includes the light emitting element of the present invention and a control unit that controls the light emission state of the light source in the light emitting element.
本発明によれば、光取り出し効率が充分に高い光学基板、およびその製造方法を提供することができる。また、上記の光学基板を備え、高輝度の発光素子、液晶素子、表示装置、液晶装置および照明装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide an optical substrate having a sufficiently high light extraction efficiency and a manufacturing method thereof. In addition, a light-emitting element, a liquid crystal element, a display device, a liquid crystal device, and a lighting device each including the above-described optical substrate can be provided.
[第1実施形態]
以下、本発明の第1実施形態について、図1、図2を用いて説明する。
本実施形態の光学基板は、発光機能を有する層を備え、例えば表示装置の発光性基板に用いて好適な光学基板の例を示す。
図1は、本実施形態の光学基板を示す平面図である。図2は、本実施形態の光学基板を示す、図1のA-A’線に沿う断面図である。
なお、以下の各図面においては各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。
[First Embodiment]
Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2.
The optical substrate of the present embodiment includes a layer having a light emitting function, and an example of an optical substrate suitable for use as, for example, a light emitting substrate of a display device is shown.
FIG. 1 is a plan view showing an optical substrate of the present embodiment. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 1, showing the optical substrate of the present embodiment.
In the following drawings, in order to make each component easy to see, the scale of the size may be varied depending on the component.
本実施形態の発光性基板1(光学基板)は、図1、図2に示すように、第1の基板2と、第2の基板3と、複数の構造物4と、発光機能を有する層5(光学層)と、気体層6と、を備えている。以下、「発光機能を有する層」のことを「発光機能層」と称する。図1に示すように、第1の基板2および第2の基板3の法線方向から見ると、複数の構造物4は、所定の間隔をおいて互いに平行に配置された複数の構造物4からなる2組の構造物群が互いに直交するように配置されている。言い換えると、複数の構造物4は、全体として格子状に配置されている。発光機能層5は、隣り合う構造物4によって囲まれた矩形状の領域に設けられている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the luminescent substrate 1 (optical substrate) of the present embodiment includes a
図2に示すように、第1の基板2と第2の基板3とは、構造物4を介して所定の間隔をおいて配置されている。第2の基板3の第1の基板2との対向面には、第1の基板2に向けて光を射出する発光機能層5が設けられている。構造物4は、第1の基板2の発光機能層5との対向面2aに沿う方向に所定の間隔をおいて複数設けられている。
As shown in FIG. 2, the
構造物4は、第1の基板2および第2の基板3の厚さ方向に積層された複数層の構造物7,8で構成されている。複数層の構造物7,8は、第1の基板2の第2の基板3との対向面2aに接する第1の構造物7と、第2の基板3の第1の基板2との対向面3aに接する第2の構造物8である。本実施形態の場合、第1の構造物7と第2の構造物8とは互いに接している。第1の基板2と発光機能層5と構造物4とで囲まれた空間には気体が存在しており、この部分が気体層6を構成している。
The
第1の基板2は、光透過性を有する基板である。第1の基板2は、例えばガラス、石英等の無機材料基板、ポリエチレンテレフタレート、ポリカルバゾール、ポリイミド等の透明樹脂基板等から構成される。第1の基板2は、後述する発光機能層5から発する光を射出する側の基板であり、光透過性を有することが必要である。本実施形態の具体例として、第1の基板2には、例えば液晶ディスプレイ等によく用いられる厚さ0.7mmのガラス基板が用いられる。
The
第2の基板3は、第1の基板と同様、光透過性を有する基板である。第2の基板3は、例えばガラス、石英等の無機材料基板、ポリエチレンテレフタレート、ポリカルバゾール、ポリイミド等の透明樹脂基板等から構成される。本実施形態の具体例として、第2の基板3には、例えば厚さ0.7mmのガラス基板が用いられる。本実施形態の場合、後述する発光機能層5に対して第2の基板3を介して光を照射する必要がある。そのため、第2の基板3は、光透過性を有することが必要である。ただし、発光機能層5に第2の基板3を介して光を照射する必要がない場合には、第2の基板3は、光透過性を有していなくてもよい。その場合、第2の基板3は、例えば金属、無機材料等の光透過性を持たない材料から構成されていてもよい。
The
第1の構造物7は、第1の基板2の第2の基板3との対向面2aに壁状に形成されている。第1の構造物7には、例えば無機材料、有機材料、無機-有機ハイブリッド材料などが用いられる。本実施形態の発光性基板1が表示装置の用途で用いられる場合、第1の構造物7は、各画素もしくは各サブ画素の周囲を囲むように配置されることが望ましい。ただし、第1の構造物7は、必ずしもそのような配置でなくてもよい。もしくは、本実施形態の発光性基板1が照明装置の用途で用いられる場合、第1の構造物7は、第1の基板2上に一定の間隔で配置されることが望ましい。
The
第2の構造物8は、第2の基板3の第1の基板2との対向面3aに壁状に形成されている。第2の構造物8には、例えば無機材料、有機材料、無機-有機ハイブリッド材料などが用いられる。第1の構造物7と同様、本実施形態の発光性基板1が表示装置に用いられる場合、第2の構造物8は、各画素もしくは各サブ画素の周囲を囲むように配置されることが望ましいが、必ずしもそのような配置にしなくてもよい。もしくは、本実施形態の発光性基板1が照明装置に用いられる場合、第2の構造物8は、第2の基板3上に一定の間隔で配置されることが望ましい。
The
本実施形態の場合、第1の構造物7の幅W1は、第2の構造物8の幅W2よりも広い。
しかしながら、必ずしも第1の構造物7の幅W1が第2の構造物8の幅W2より広くなくてもよい。すなわち、第1の構造物7の幅W1と第2の構造物8の幅W2とが等しくてもよい。あるいは、第1の構造物7の幅W1が第2の構造物8の幅W2より狭くてもよい。
In the present embodiment, the width W1 of the
However, the width W1 of the
第1の基板2と第2の基板3とは、第1の構造物7と第2の構造物8の位置が互いに一致するように対向している。ただし、第1の構造物7が存在し、第2の構造物8が存在しない箇所、もしくは第2の構造物8が存在し、第1の構造物7が存在しない箇所などがあってもよい。本実施形態の場合、第1の構造物7と第2の構造物8とが接しており、必要に応じて第1の構造物7と第2の構造物8との間に接着剤が配置され、接着剤によって第1の構造物7と第2の構造物8とが固定される。このとき、例えば接着剤に例えば酸化チタン等の粒子が分散されていると、接着剤層に光反射性が付与される点で好ましい。
The
第1の構造物7と第2の構造物8とは、接触しているだけで、固定されていなくてもよい。その場合、第1の基板2と第2の基板3とが分離することなく、第1の構造物7と第2の構造物8とが接触している状態を保持する必要がある。そのため、例えば第1の基板2と第2の基板3の周縁部に、第1の基板2と第2の基板3とを貼り合わせるための封止部材を設けてもよい。
The
第1の構造物7および第2の構造物8は、それぞれ光透過性、光不透過性、光吸収性、光反射性、光散乱性など、光に対する各種の特性を有していてもよい。第1の構造物7または第2の構造物8を光不透過性とする場合、これらの構造物7,8は、画素もしくはサブ画素を区画する遮光層、いわゆるブラックマトリクスとして機能する。その場合、第1の構造物7または第2の構造物8には、通常の液晶ディスプレイやカラーフィルタ基板などに用いられるブラックマトリクス技術を用いることができる。具体的には、第1の構造物7または第2の構造物8の構成材料に、例えばチタン等の金属を用いてもよいし、ブラックレジスト等の有機材料を用いてもよい。
The
これらの構造物7,8をブラックマトリクスとすることにより、本実施形態の発光性基板1を表示装置に適用した際に、外光の反射を抑制し、明環境でのコントラストを向上させ、視認性を向上させる効果が得られる。
By using these
一方、第1の構造物7、第2の構造物8のいずれか一方、あるいは両方を光反射性の構造物にすると、発光機能層5から発した光が横方向に伝播し、構造物を透過して逃げるのを防ぐことができる。第1の構造物7、第2の構造物8のいずれか一方、あるいは両方を光反射性にする場合、単に構造物7,8が光反射性を有するだけでは、構造物7,8の側面の各基板2,3に対する角度や構造物7,8の形状によって、取り出される光のプロファイルが大きく変わる。そのため、所望のプロファイルを得るために、構造物7,8の側面の基板2,3に対する角度や構造物7,8の形状を適切に制御する必要がある。
On the other hand, when either one or both of the
これに対して、構造物7,8が光反射性に加えて白色性、もしくは光散乱性を有する場合、構造物7,8で反射する光の射出方向が広がる。そのため、取り出される光のプロファイルは、構造物7,8の側面の基板2,3に対する角度や構造物7,8の形状にそれほど依存せず、自然な発光プロファイルが得られやすい。
On the other hand, when the
一例として、第1の構造物7、第2の構造物8のいずれか一方、もしくは両方を光散乱性とする場合、特開2007-322546号公報、特開2008-211036号公報、特開2011-66267号公報などに開示されている高反射率の白色ソルダーレジストを利用して構造物7,8を形成することができる。あるいは、ポリイミド系やアクリル系などの感光性樹脂にTiO2などの粒子を分散させて、光反射性、光散乱性、白色性などの機能を付与することも有効な手法である。この場合、TiO2などの粒子は、粒径が200nm~5μmであることが好ましい。この種の粒子を用いることにより、構造物7,8に光反射性を付与するとともに、光の反射方向をランダムにする光散乱性も付与することができる。
As an example, in the case where one or both of the
第1の構造物7、第2の構造物8のいずれか一方、もしくは両方を光散乱性とする場合、第1の構造物7や第2の構造物8は、第1の基板2、第2の基板3のいずれか一方、もしくは両方の一面上に所定のパターンで形成される。これらの構造物7,8を所定の形状にパターニングするためには、例えば光感光性樹脂に酸化チタン粒子などを添加した材料をフォトリソグラフィーによりパターニングする方法が採用できる。もしくは、樹脂に酸化チタン粒子などを添加した材料を全面に形成し、その上にフォトレジストのパターンを形成して、酸化チタン粒子を添加した樹脂層を所定のパターンにエッチングする方法が採用できる。このように、半導体製造プロセスや液晶パネル製造プロセスなどで用いられる公知の製造工程を適用することができる。
When one or both of the
第1の構造物7や第2の構造物8の膜厚については、例えば1μm~5μm程度の膜厚が概ね適切な範囲である。ただし、目的に合わせて、上記の範囲外の膜厚を適宜選定してかまわない。例えば、100nm~数10μmの膜厚(高さ)を有する構造物7,8も使用可能であり、いずれの場合であっても本実施形態の効果を得ることができる。
Regarding the film thicknesses of the
第2の構造物8によって発光機能層5から射出された光を反射する前に、発光機能層5の内部で全反射を繰り返し、その度ごとに光の損失が生じるのは好ましくない。したがって、互いに隣り合う構造物4同士の間隔(開口径)はあまり大きくないことが望ましい。
隣り合う構造物4同士の間隔は、例えば50mm、20mm、10mm、5mm、1mm、500μm、100μm、50μm、20μmなどの値とすることが望ましい。
Before the light emitted from the light emitting
The interval between the
第1の構造物7、第2の構造物8の位置は、本実施形態のように、発光機能層5の基本単位毎に、発光機能層5の周囲の全てをこれらの構造物7,8で覆うことが理想的である。ただし、発光機能層5の周囲の一部のみをこれらの構造物7,8で覆った場合でも、光取り出し効率の向上効果は得られる。
The positions of the
第2の構造物8は、インクジェット等のウェットプロセスによって発光機能層5を形成する場合に、第2の基板3の所定の画素領域に塗布された液体が、隣り合う画素領域に流れることを防止する機能を持たせてもよい。このような機能をより高めるために、第2の構造物8に撥液性を付与する処理を施すことも好ましい。
The
発光機能層5には、例えば蛍光体などが用いられる。発光機能層5を蛍光体で構成する場合、より具体的には、蛍光体と高分子樹脂との混合体などにより形成することができる。蛍光体としては、無機蛍光体、有機蛍光体、有機/無機ハイブリッド蛍光体、量子ドット蛍光体などを用いることができる。また、蛍光体は、ホスト・ゲスト型など、複数の材料で構成されていてもよい。
For example, a phosphor is used for the light emitting
本実施形態では、発光機能層5が蛍光体で構成されているため、蛍光体に外部から励起光が照射されると、励起光の持つ光エネルギーによって蛍光体が発光する。ただし、発光機能層5は、必ずしも蛍光体で構成されていなくてもよい。発光機能層5は、例えば電気エネルギー、力学的エネルギー、熱エネルギー、荷電粒子線エネルギー、放射線エネルギー、音響エネルギーなどの外部エネルギーによって発光する材料で構成されていてもよい。さらに、発光機能層5は、化学反応や生化学反応によって発光する材料で構成されていてもよい。
In this embodiment, since the light emitting
発光機能層5を第2の構造物8で囲まれた領域に選択的に形成する方法として、例えば、マスク蒸着法、もしくはインクジェット法や印刷法等のウェット法を用いて材料を塗り分ける手法、LITI(Laser Induced Thermal Imaging)、LIPS(Laser Induced Pattern wise Sublimation)等のレーザーを用いる手法、フォトブリーチ法などの方法を適宜選択すればよい。ただし、発光機能層5は、必ずしも第2の構造物8で囲まれた領域に選択的に形成されていなくてもよく、第2の構造物8で囲まれた領域に加えて、第2の構造物8の上面に形成されていてもよい。
As a method for selectively forming the light emitting
発光機能層5に蛍光体を用いる場合、発光機能層5は、紫外発光有機EL素子、青色発光有機EL素子、紫外発光LED、青色LED等の励起光源からの励起光を吸収し、赤色光を発する赤色蛍光体層、緑色光を発する緑色蛍光体層、青色光を発する青色蛍光体層等で構成される。ただし、励起光として青色光を適用する場合には、青色蛍光体層を設けず、青色励起光をそのまま表示に用いてもよい。励起光として指向性を有する青色光を用いる場合は、青色蛍光体層に代えて、指向性を有する励起光を散乱させ、等方的な光にして外部へ取り出せるように、光散乱層を用いてもよい。こうすることにより、蛍光体層からの光の配光特性と光散乱層からの光の配光特性とを合わせることができ、視野角特性に優れた表示を実現できる。また、蛍光体層からの発光が等方発光でない場合は、光散乱層の形成材料を調整して、光散乱層の配光特性を蛍光体層の配光特性に合わせることができる。
When a phosphor is used for the light emitting
蛍光体層は、以下に例示する蛍光体材料のみから構成されていてもよい。蛍光体層は、任意に添加剤等を含んでいてもよく、これらの材料が高分子材料(結着用樹脂)または無機材料中に分散された構成であってもよい。
本実施形態の蛍光体材料としては、公知の蛍光体材料を用いることができる。このような蛍光体材料は、有機系蛍光体材料と無機系蛍光体材料に分類される。これらの具体的な化合物を以下に例示するが、本実施形態はこれらの材料に限定されるものではない。
The phosphor layer may be composed of only the phosphor material exemplified below. The phosphor layer may optionally contain an additive or the like, and may be configured such that these materials are dispersed in a polymer material (binding resin) or an inorganic material.
A known phosphor material can be used as the phosphor material of the present embodiment. Such phosphor materials are classified into organic phosphor materials and inorganic phosphor materials. Although these specific compounds are illustrated below, this embodiment is not limited to these materials.
有機系蛍光体材料としては、青色蛍光色素として、スチルベンゼン系色素:1,4-ビス(2-メチルスチリル)ベンゼン、トランス-4,4’-ジフェニルスチルベンゼン、クマリン系色素:7-ヒドロキシ-4-メチルクマリン等が挙げられる。緑色蛍光色素として、クマリン系色素:2,3,5,6-1H、4H-テトラヒドロ-8-トリフロメチルキノリジン(9,9a、1-gh)クマリン(クマリン153)、3-(2′-ベンゾチアゾリル)―7-ジエチルアミノクマリン(クマリン6)、3-(2′-ベンゾイミダゾリル)―7-N,N-ジエチルアミノクマリン(クマリン7)、ナフタルイミド系色素:ベーシックイエロー51、ソルベントイエロー11、ソルベントイエロー116等が挙げられる。赤色蛍光色素としては、シアニン系色素:4-ジシアノメチレン-2-メチル-6-(p-ジメチルアミノスチルリル)-4H-ピラン、ピリジン系色素:1-エチル-2-[4-(p-ジメチルアミノフェニル)-1,3-ブタジエニル]-ピリジニウム-パークロレート、及びローダミン系色素:ローダミンB、ローダミン6G、ローダミン3B、ローダミン101、ローダミン110、ベーシックバイオレット11、スルホローダミン101等が挙げられる。
Organic phosphor materials include blue fluorescent dyes, stilbenzene dyes: 1,4-bis (2-methylstyryl) benzene, trans-4,4′-diphenylstilbenzene, coumarin dyes: 7-hydroxy- 4-methylcoumarin and the like can be mentioned. As green fluorescent dyes, coumarin dyes: 2,3,5,6-1H, 4H-tetrahydro-8-trifluoromethylquinolidine (9,9a, 1-gh) coumarin (coumarin 153), 3- (2 ′ -Benzothiazolyl) -7-diethylaminocoumarin (coumarin 6), 3- (2'-benzimidazolyl) -7-N, N-diethylaminocoumarin (coumarin 7), naphthalimide dyes: basic yellow 51, solvent yellow 11, solvent yellow 116 or the like. Examples of red fluorescent dyes include cyanine dyes: 4-dicyanomethylene-2-methyl-6- (p-dimethylaminostyryl) -4H-pyran, pyridine dyes: 1-ethyl-2- [4- (p- Dimethylaminophenyl) -1,3-butadienyl] -pyridinium-perchlorate and rhodamine dyes: rhodamine B, rhodamine 6G, rhodamine 3B,
無機系蛍光体材料としては、青色蛍光体として、Sr2P2O7:Sn4+、Sr4Al14O25:Eu2+、BaMgAl10O17:Eu2+、SrGa2S4:Ce3+、CaGa2S4:Ce3+、(Ba、Sr)(Mg、Mn)Al10O17:Eu2+、(Sr、Ca、Ba2、0 Mg)10(PO4)6Cl2:Eu2+、BaAl2SiO8:Eu2+、Sr2P2O7:Eu2+、Sr5(PO4)3Cl:Eu2+、(Sr,Ca,Ba)5(PO4)3Cl:Eu2+、BaMg2Al16O27:Eu2+、(Ba,Ca)5(PO4)3Cl:Eu2+、Ba3MgSi2O8:Eu2+、Sr3MgSi2O8:Eu2+等が挙げられる。緑色蛍光体として、(BaMg)Al16O27:Eu2+,Mn2+、Sr4Al14O25:Eu2+、(SrBa)Al12Si2O8:Eu2+、(BaMg)2SiO4:Eu2+、Y2SiO5:Ce3+,Tb3+、Sr2P2O7-Sr2B2O5:Eu2+、(BaCaMg)5(PO4)3Cl:Eu2+、Sr2Si3O8-2SrCl2:Eu2+、Zr2SiO4、MgAl11O19:Ce3+,Tb3+、Ba2SiO4:Eu2+、Sr2SiO4:Eu2+、(BaSr)SiO4:Eu2+等が挙げられる。赤色蛍光体としては、Y2O2S:Eu3+、YAlO3:Eu3+、Ca2Y2(SiO4)6:Eu3+、LiY9(SiO4)6O2:Eu3+、YVO4:Eu3+、CaS:Eu3+、Gd2O3:Eu3+、Gd2O2S:Eu3+、Y(P,V)O4:Eu3+、Mg4GeO5.5F:Mn4+、Mg4GeO6:Mn4+、K5Eu2.5(WO4)6.25、Na5Eu2.5(WO4)6.25、K5Eu2.5(MoO4)6.25、Na5Eu2.5(MoO4)6.25等が挙げられる。
Inorganic phosphor materials include blue phosphors such as Sr 2 P 2 O 7 : Sn 4+ , Sr 4 Al 14 O 25 : Eu 2+ , BaMgAl 10 O 17 : Eu 2+ , SrGa 2 S 4 : Ce. 3+ , CaGa 2 S 4 : Ce 3+ , (Ba, Sr) (Mg, Mn) Al 10 O 17 : Eu 2+ , (Sr, Ca, Ba 2 , 0 Mg) 10 (PO 4 ) 6 Cl 2 : Eu 2+ , BaAl 2 SiO 8 : Eu 2+ , Sr 2 P 2 O 7 : Eu 2+ , Sr 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu 2+ , (Sr, Ca, Ba) 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu 2+ , BaMg 2 Al 16 O 27 : Eu 2+ , (Ba, Ca) 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu 2+ , Ba 3 MgSi 2 O 8 : Eu 2+ , Sr 3 MgSi 2 Examples include O 8 : Eu 2+ . As the green phosphor, (BaMg) Al 16 O 27 : Eu 2+ , Mn 2+ , Sr 4 Al 14 O 25 : Eu 2+ , (SrBa) Al 12 Si 2 O 8 : Eu 2+ , (BaMg) 2 SiO 4 : Eu 2+ , Y 2 SiO 5 : Ce 3+ , Tb 3+ , Sr 2 P 2 O 7 —Sr 2 B 2 O 5 : Eu 2+ , (BaCaMg) 5 (PO 4 ) 3 Cl: Eu 2+, Sr 2 Si 3 O 8 -2SrCl 2:
上記無機系蛍光体は、必要に応じて表面改質処理を施してもよい。表面改質処理の方法としては、シランカップリング剤等の化学的処理によるもの、サブミクロンオーダーの微粒子等の添加による物理的処理によるもの、更にそれらの併用によるもの等が挙げられる。励起光による劣化、発光による劣化等に対する安定性を考慮すると、無機材料を使用する方が好ましい。さらに、無機材料を用いる場合には、無機材料の平均粒径が0.5μm~50μmであることが好ましい。無機材料の平均粒径が0.5μm以下であると、蛍光体の発光効率が急激に低下する。無機材料の平均粒径が50μm以上であると、高い解像度でパターニングすることが困難になる。 The above-mentioned inorganic phosphor may be subjected to surface modification treatment as necessary. Examples of the surface modification treatment include chemical treatment using a silane coupling agent, physical treatment using addition of submicron-order fine particles, and combinations thereof. In view of stability against deterioration due to excitation light, light emission, and the like, it is preferable to use an inorganic material. Further, when an inorganic material is used, the average particle size of the inorganic material is preferably 0.5 μm to 50 μm. If the average particle size of the inorganic material is 0.5 μm or less, the luminous efficiency of the phosphor is drastically reduced. When the average particle size of the inorganic material is 50 μm or more, it becomes difficult to perform patterning with high resolution.
蛍光体層は、上記の蛍光体材料と樹脂材料を溶剤に溶解、分散させた蛍光体層形成用塗液を用いて、スピンコーティング法、ディッピング法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法等の塗布法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法等の印刷法等による公知のウェットプロセスにより形成できる。あるいは、上記の材料を用いて、抵抗加熱蒸着法、電子線(EB)蒸着法、分子線エピタキシー(MBE)法、スパッタリング法、有機気相蒸着(OVPD)法等の公知のドライプロセス、または、レーザー転写法等により形成できる。 The phosphor layer is prepared by using a phosphor layer forming coating solution obtained by dissolving and dispersing the phosphor material and the resin material in a solvent, using a spin coating method, a dipping method, a doctor blade method, a discharge coating method, a spray coating method. It can be formed by a known wet process such as a coating method such as an inkjet method, a relief printing method, an intaglio printing method, a screen printing method, a micro gravure coating method, or the like. Alternatively, a known dry process such as a resistance heating vapor deposition method, an electron beam (EB) vapor deposition method, a molecular beam epitaxy (MBE) method, a sputtering method, an organic vapor deposition (OVPD) method, or the like, or It can be formed by a laser transfer method or the like.
蛍光体層は、上記の高分子材料として感光性樹脂を用いることで、フォトリソグラフィー法によるパターニングが可能となる。ここで、感光性樹脂としては、アクリル酸系樹脂、メタクリル酸系樹脂、ポリ桂皮酸ビニル系樹脂、硬ゴム系樹脂等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂(光硬化型レジスト材料)の一種類または複数種類の混合物を用いることができる。また、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法等のウェットプロセス、シャドーマスクを用いた抵抗加熱蒸着法、電子線(EB)蒸着法、分子線エピタキシー(MBE)法、スパッタリング法、有機気相蒸着(OVPD)法等の公知のドライプロセス、または、レーザー転写法等により蛍光体材料を直接パターニングすることもできる。 The phosphor layer can be patterned by a photolithography method by using a photosensitive resin as the polymer material. Here, as the photosensitive resin, a photosensitive resin (photocurable resist material) having a reactive vinyl group such as an acrylic acid resin, a methacrylic acid resin, a polyvinyl cinnamate resin, or a hard rubber resin is used. One kind or a mixture of two or more kinds can be used. In addition, wet processes such as inkjet printing, letterpress printing, intaglio printing, and screen printing, resistance heating vapor deposition using a shadow mask, electron beam (EB) vapor deposition, molecular beam epitaxy (MBE), sputtering, The phosphor material can also be directly patterned by a known dry process such as an organic vapor deposition (OVPD) method or a laser transfer method.
蛍光体層の膜厚は、一般的には100nm~100μm程度であるが、特に1μm~100μmの範囲が好ましい。蛍光体層の膜厚が100nm未満であると、励起光源からの光を十分吸収できずに発光効率が低下する、必要とされる色に励起光の透過光が混じることで色純度が悪化する、といった問題が生じる。さらに、励起光源からの発光の吸収を高め、色純度の悪影響を及ぼさない程度に励起光の透過光を低減するために、蛍光体層の膜厚は1μm以上とすることが好ましい。蛍光体層の膜厚が100μmを超えると、効率の上昇には繋がらず、材料を消費するだけに留まり、材料コストが高騰する。 The film thickness of the phosphor layer is generally about 100 nm to 100 μm, but is particularly preferably in the range of 1 μm to 100 μm. If the thickness of the phosphor layer is less than 100 nm, the light from the excitation light source cannot be sufficiently absorbed and the light emission efficiency is lowered. The color purity is deteriorated by mixing the required color with the transmitted light of the excitation light. , Problems arise. Furthermore, in order to increase the absorption of light emitted from the excitation light source and reduce the transmitted light of the excitation light to the extent that the color purity is not adversely affected, the thickness of the phosphor layer is preferably 1 μm or more. When the thickness of the phosphor layer exceeds 100 μm, the efficiency is not increased, and only the material is consumed, and the material cost increases.
励起光として青色光を用いる際に、青色蛍光体層の代わりとして光散乱層を適用する場合、光散乱粒子は、有機材料、無機材料のいずれで構成してもよいが、無機材料で構成することが好ましい。これにより、指向性を有する励起光をより等方的に効率良く拡散または散乱させることが可能となる。また、無機材料を使用することにより、光や熱に安定な光散乱層を提供することができる。 When using blue light as excitation light, when a light scattering layer is applied instead of a blue phosphor layer, the light scattering particles may be composed of either an organic material or an inorganic material, but are composed of an inorganic material. It is preferable. Thereby, it becomes possible to diffuse or scatter excitation light having directivity more isotropically and efficiently. Further, by using an inorganic material, a light scattering layer that is stable to light and heat can be provided.
光散乱粒子としては、透明度が高いものであることが好ましい。また、光散乱層としては、低屈折率の母材中に母材よりも高屈折率の微粒子が分散されたものであることが好ましい。また、青色光が光散乱層によって効果的に散乱するためには、光散乱性粒子の粒径がミー散乱の領域にあることが必要である。そのため、光散乱性粒子の粒径は100nm~500nm程度が好ましい。 It is preferable that the light scattering particles have high transparency. In addition, the light scattering layer is preferably a layer in which fine particles having a higher refractive index than the base material are dispersed in a low refractive index base material. Further, in order for blue light to be effectively scattered by the light scattering layer, it is necessary that the particle size of the light scattering particles is in the Mie scattering region. Therefore, the particle size of the light scattering particles is preferably about 100 nm to 500 nm.
光散乱粒子として、無機材料を用いる場合には、例えば、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、およびアンチモンからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物を主成分とした粒子(微粒子)等が挙げられる。光散乱粒子として、無機材料により構成された粒子(無機微粒子)を用いる場合には、例えば、シリカビーズ(屈折率:1.44)、アルミナビーズ(屈折率:1.63)、酸化チタンビーズ(屈折率 アナタース型:2.50、ルチル型:2.70)、酸化ジルコニアビーズ(屈折率:2.05)、酸化亜鉛ビーズ(屈折率:2.00)等が挙げられる。 When an inorganic material is used as the light scattering particle, for example, the main component is an oxide of at least one metal selected from the group consisting of silicon, titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony. Examples thereof include particles (fine particles). When particles (inorganic fine particles) made of an inorganic material are used as the light scattering particles, for example, silica beads (refractive index: 1.44), alumina beads (refractive index: 1.63), titanium oxide beads ( Examples of the refractive index include anatase type: 2.50, rutile type: 2.70), zirconia bead (refractive index: 2.05), and zinc oxide bead (refractive index: 2.00).
光散乱粒子として、有機材料により構成された粒子(有機微粒子)を用いる場合には、例えば、ポリメチルメタクリレートビーズ(屈折率:1.49)、アクリルビーズ(屈折率:1.50)、アクリル-スチレン共重合体ビーズ(屈折率:1.54)、メラミンビーズ(屈折率:1.57)、高屈折率メラミンビーズ(屈折率:1.65)、ポリカーボネートビーズ(屈折率:1.57)、スチレンビーズ(屈折率:1.60)、架橋ポリスチレンビーズ(屈折率:1.61)、ポリ塩化ビニルビーズ(屈折率:1.60)、ベンゾグアナミン-メラミンホルムアルデヒドビーズ(屈折率:1.68)、シリコーンビーズ(屈折率:1.50)等が挙げられる。 When particles (organic fine particles) made of an organic material are used as the light scattering particles, for example, polymethyl methacrylate beads (refractive index: 1.49), acrylic beads (refractive index: 1.50), acrylic- Styrene copolymer beads (refractive index: 1.54), melamine beads (refractive index: 1.57), high refractive index melamine beads (refractive index: 1.65), polycarbonate beads (refractive index: 1.57), Styrene beads (refractive index: 1.60), crosslinked polystyrene beads (refractive index: 1.61), polyvinyl chloride beads (refractive index: 1.60), benzoguanamine-melamine formaldehyde beads (refractive index: 1.68), Examples thereof include silicone beads (refractive index: 1.50).
上述した光散乱粒子と混合して用いる樹脂材料としては、透光性の樹脂であることが好ましい。また、樹脂材料としては、例えば、メラミン樹脂(屈折率:1.57)、ナイロン(屈折率:1.53)、ポリスチレン(屈折率:1.60)、メラミンビーズ(屈折率:1.57)、ポリカーボネート(屈折率:1.57)、ポリ塩化ビニル(屈折率:1.60)、ポリ塩化ビニリデン(屈折率:1.61)、ポリ酢酸ビニル(屈折率:1.46)、ポリエチレン(屈折率:1.53)、ポリメタクリル酸メチル(屈折率:1.49)、ポリMBS(屈折率:1.54)、中密度ポリエチレン(屈折率:1.53)、高密度ポリエチレン(屈折率:1.54)、テトラフルオロエチレン(屈折率:1.35)、ポリ三フッ化塩化エチレン(屈折率:1.42)、ポリテトラフルオロエチレン(屈折率:1.35)等が挙げられる。 The resin material used by mixing with the above-described light scattering particles is preferably a translucent resin. Examples of the resin material include melamine resin (refractive index: 1.57), nylon (refractive index: 1.53), polystyrene (refractive index: 1.60), melamine beads (refractive index: 1.57). , Polycarbonate (refractive index: 1.57), polyvinyl chloride (refractive index: 1.60), polyvinylidene chloride (refractive index: 1.61), polyvinyl acetate (refractive index: 1.46), polyethylene (refractive Ratio: 1.53), polymethyl methacrylate (refractive index: 1.49), poly MBS (refractive index: 1.54), medium density polyethylene (refractive index: 1.53), high density polyethylene (refractive index: 1.54), tetrafluoroethylene (refractive index: 1.35), polytrifluoroethylene chloride (refractive index: 1.42), polytetrafluoroethylene (refractive index: 1.35), and the like.
気体層6は、例えば空気、窒素、アルゴン等の種々の気体で構成することができ、気体の種類は特に限定されない。ただし、発光機能層5との反応による特性劣化を抑制する観点では、不活性ガスを用いることが望ましい。発光機能層5への水分の浸入による特性劣化を抑制する観点では、乾燥空気等の湿度が低い気体を用いることが望ましい。大気圧において、空気の屈折率は約1.000293であり、窒素の屈折率は約1.000297であり、アルゴンの屈折率は1.000281である。その他の気体を含めても、気体の屈折率は概ね1.000とみなすことができる。
The
気体の屈折率は、圧力が変わっても略変わらないと考えてよい。よって、気体層6の圧力は任意でよく、大気圧(1.01325×105Pa)であってもよいし、大気圧に対して減圧状態であってもよいし、加圧状態であってもよい。減圧状態の場合、絶対真空は現実には存在しないものの、気体層6の形態が維持される状態であれば、例えば高真空状態(0.1Pa~10-5Pa)や超高真空状態(10-5Pa以下)であってもよい。
すなわち、気体の圧力に係わらず、発光機能層5と第1の基板2とは、互いに接触することなく、所定の距離をおいて配置され、発光機能層5と第1の基板2との間に厚さが略一定の気体層6が形成されている必要がある。以下の説明では、気体層6の屈折率を1.000とする。
It can be considered that the refractive index of gas does not change substantially even if the pressure changes. Therefore, the pressure of the
That is, regardless of the gas pressure, the light emitting
本実施形態の発光性基板1においては、第2の基板3上の発光機能層5と第1の基板2との間に気体層6が存在している。上述したように、気体層6の屈折率は1.000であり、第1の基板2に一般的な光学ガラスを用いた場合、第1の基板2の屈折率は約1.5である。したがって、例えば第2の基板3が光不透過性の基板であったとすると、図2に示すように、発光機能層6で発した光L1は、屈折率が1.000の気体層6と屈折率が1.5の第1の基板2とを透過して外部空間に射出される。
In the luminescent substrate 1 of the present embodiment, the
このとき、気体層6から第1の基板2に向かう光L1は低屈折率の物質から高屈折率の物質に入射することになり、気体層6と第1の基板2との界面では全反射が生じない。そのため、気体層6から第1の基板2に向かう光の略全ては第1の基板2に入射する。光L1は気体層6から第1の基板2に入射する際に、入射角θ1よりも小さい角度θ2で屈折し、第1の基板2の内部を進む。
At this time, the light L1 traveling from the
次に、屈折率が1.5の第1の基板2と屈折率が1.000の大気(外部空間)との界面での臨界角は約42°となる。そのため、光L1は、第1の基板2の内部を進み、第1の基板2の上面(第1の基板2と外部空間との界面)に42°未満の入射角で入射したときに、第1の基板2の上面から射出される。一方、光L1は、42°以上の入射角で入射したときには、第1の基板の上面で全反射する。ところが、光L1は第1の基板2に入射する際に第1の基板2の法線方向に近い角度に屈折しているため、第1の基板2の上面に対して充分に小さい入射角で入射する。したがって、第1の基板2の上面で全反射する光は少なく、多くの光が第1の基板2から外部空間に射出される。
Next, the critical angle at the interface between the
例えば、特許文献3に開示された従来の発光素子は、発光層から外部空間に至る光の経路中に屈折率が1.01~1.30程度の低屈折率層を有している。これに対して、本実施形態の発光性基板1は、発光機能層5と第1の基板2との間に屈折率が1.000の気体層6を有している。そのため、本実施形態の発光性基板1の場合、光L1は第1の基板2に入射する際に従来の発光素子よりも大きく屈折し、光L1の進行方向は第1の基板2の法線方向により近くなる。したがって、第1の基板2の上面に対する光L1の入射角は従来の発光素子よりも小さくなる。その結果、本実施形態の発光性基板1では、第1の基板2の上面で全反射して第1の基板2に閉じこめられる光の割合が減り、第1の基板2の上面から射出される光の割合が増える。このように、本実施形態の発光性基板1では、光の取り出し効率を高めることができる。
For example, the conventional light emitting device disclosed in
さらに、第2の構造物8が光反射性を有する場合、図2に示すように、発光機能層5から第2の構造物8に向けて横方向に進む光L2は、第2の構造物8で反射して進行方向を変え、第1の基板2に向かう。このように、発光機能層5から横方向に向かう光L2を第1の基板2から取り出すことができる。これにより、光の取り出し効率を高めることができる。
Furthermore, when the
[第2実施形態]
以下、本発明の第2実施形態について、図3、図4を用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の基本構成は第1実施形態と同様であり、構造物の構成が第1実施形態と異なる。
図3は、本実施形態の光学基板を示す平面図である。図4は、本実施形態の光学基板を示す、図3のA-A’線に沿う断面図である。
図3、図4において、第1実施形態の図1、図2と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Second Embodiment]
Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
The basic structure of the luminescent substrate of this embodiment is the same as that of the first embodiment, and the structure of the structure is different from that of the first embodiment.
FIG. 3 is a plan view showing the optical substrate of the present embodiment. 4 is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 3, showing the optical substrate of the present embodiment.
3 and 4, the same reference numerals are given to the same components as those in FIGS. 1 and 2 of the first embodiment, and description thereof will be omitted.
第1実施形態の発光性基板1においては、第1の構造物7と第2の構造物8とが接していた。この構成により、第1の構造物7と第2の構造物8とが第1の基板2と第2の基板3とを相互に支持する役目を担っていた。これに対して、本実施形態の発光性基板10においては、図4に示すように、第1の構造物7と第2の構造物8とが所定の間隔dだけ離間している。間隔dは、例えば20μm以下程度である。第1の基板2や第2の基板3の表面に凹凸がある場合、間隔dは変動することがある。場合によっては、第1の構造物7と第2の構造物8とが接触し、間隔dが0μmになることもある。いずれにしても、本実施形態の発光性基板10において、少なくとも一部の第1の構造物7と第2の構造物8とは離間しているため、第1の構造物7および第2の構造物8は第1の基板2と第2の基板3とを相互に支持する役目を担うことが難しい。
In the luminescent substrate 1 of the first embodiment, the
そこで、第1の基板2および第2の基板3の外縁部に、第1の基板2と第2の基板3とを貼り合わせた状態で相互に固定するための貼り合わせ部材11が設けられている。貼り合わせ部材11は、例えば樹脂系の接着剤を用いてもよいし、無機材料等で形成してもよい。第1の基板2および第2の基板3と貼り合わせ部材11との間の密着性が確保できるものであれば、特に貼り合わせ部材11の材料は問わない。
Therefore, a
貼り合わせ部材11は、第1の基板2の第2の基板3との対向面2aと第2の基板3の第1の基板2との対向面3aとの双方に接している。すなわち、貼り合わせ部材11は、第1の基板2と第2の基板3とを相互に支持するための支持部材として機能する。また、貼り合わせ部材11は、第1の構造物7と第2の構造物8との間隔dを保持する間隔保持部材としても機能する。したがって、貼り合わせ部材11の高さH3は、第1の構造物7の高さH1と、第2の構造物8の高さH2と、間隔dと、の和に等しくなるように設定される。貼り合わせ部材11の高さH3を規定するため、貼り合わせ部材11の構成材料中に、例えば一定の径を有する粒子状のギャップ材などを混入してもよい。
The bonding
貼り合わせ部材11は、図3に示すように、第1の基板2および第2の基板3の外縁部に格子状の構造物4を囲むように矩形環状に設けられている。ただし、必ずしも構造物4の全周を囲むように設けられる必要はない。例えば、貼り合わせ部材11の一部が途切れ、複数の貼り合わせ部材が間隔をおいて配置されていてもよい。
As shown in FIG. 3, the bonding
本実施形態の発光性基板10においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果を得ることができる。
Also in the
[第3実施形態]
以下、本発明の第3実施形態について、図5を用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の基本構成は第1実施形態と同様であり、構造物の構成が第1実施形態と異なる。
図5は、本実施形態の光学基板を示す断面図である。
図5において、第1実施形態の図2と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Third Embodiment]
Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The basic structure of the luminescent substrate of this embodiment is the same as that of the first embodiment, and the structure of the structure is different from that of the first embodiment.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
In FIG. 5, the same code | symbol is attached | subjected to the same component as FIG. 2 of 1st Embodiment, and description is abbreviate | omitted.
第1実施形態の発光性基板1においては、構造物4が第1の構造物7と第2の構造物8とで構成されていた。これに対して、本実施形態の発光性基板13においては、図5に示すように、構造物が第2の構造物8のみで構成されており、第1実施形態における第1の構造物7を有していない。すなわち、本実施形態の発光性基板13では、構造物が単一層の構造物で構成されている。第2の構造物8は、第1の基板2の第2の基板3との対向面2aと第2の基板3の第1の基板2との対向面3aとの双方に接している。第2の構造物8は、発光機能層5にも接している。第2の構造物8は、光反射性、光散乱性、白色性等を有することが望ましい。その他の構成は第1実施形態と同様である。
In the luminescent substrate 1 of the first embodiment, the
本実施形態の発光性基板13においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果を得ることができる。本実施形態の場合、第1の構造物7が存在しないため、構造物の構成が簡単であり、第1の構造物7と第2の構造物8とを突き合わせる必要がない。したがって、第1の基板2と第2の基板3との貼り合わせ時に位置合わせ精度が低くて済み、貼り合わせ作業を容易に行うことができる。
Also in the
[第4実施形態]
以下、本発明の第4実施形態について、図6を用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の基本構成は第2実施形態と同様であり、構造物の構成が第2実施形態と異なる。
図6は、本実施形態の光学基板を示す断面図である。
図6において、第2実施形態の図4と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Fourth Embodiment]
Hereinafter, a fourth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The basic configuration of the luminescent substrate of this embodiment is the same as that of the second embodiment, and the configuration of the structure is different from that of the second embodiment.
FIG. 6 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
In FIG. 6, the same code | symbol is attached | subjected to the same component as FIG. 4 of 2nd Embodiment, and description is abbreviate | omitted.
第2実施形態の発光性基板10においては、構造物4が第1の構造物7と第2の構造物8とで構成されていた。これに対して、本実施形態の発光性基板15においては、図6に示すように、構造物が第2の構造物8のみで構成されており、第2実施形態における第1の構造物7を有していない。第2の構造物8は、第1の基板2の第2の基板3との対向面2aと第2の基板3の第1の基板2との対向面3aとの双方に接している。第2の構造物8は、発光機能層5にも接している。第2の構造物8は、光反射性、光散乱性、白色性等を有することが望ましい。その他の構成は第2実施形態と同様である。
In the
本実施形態の発光性基板15においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果を得ることができる。本実施形態の場合、第1の構造物7が存在しないため、構造物の構成が簡単であり、第1の構造物7と第2の構造物8とを突き合わせる必要がない。第1の基板2と第2の基板3との貼り合わせ時に位置合わせ精度が低くて済み、貼り合わせ作業を容易に行うことができる。
Also in the
[第5実施形態]
以下、本発明の第5実施形態について、図7を用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の基本構成は第2実施形態と同様であり、第2の基板の構成が第2実施形態と異なる。
図7は、本実施形態の光学基板を示す断面図である。
図7において、第2実施形態の図4と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Fifth Embodiment]
Hereinafter, a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The basic configuration of the luminescent substrate of this embodiment is the same as that of the second embodiment, and the configuration of the second substrate is different from that of the second embodiment.
FIG. 7 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
In FIG. 7, the same components as those in FIG. 4 of the second embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
第1実施形態において、第2の基板3は光透過性もしくは光不透過性を有する基板である、などと説明した。ただし、発光機能層5として蛍光体層を用い、第2の基板3を介して蛍光体層に励起光を照射する構成を採用する場合には、実用的には第2の基板3を本実施形態の構成とすることがより望ましい。
In the first embodiment, it has been described that the
本実施形態の発光性基板17においては、図7に示すように、第2の基板18は、特定の波長域の光を選択的に透過し、その他の波長域の光を選択的に反射する機能を有している。この種の機能は、屈折率が異なる層を交互に多層積層した多層膜を基板本体の一面に形成することで実現できる。もしくは、この種の機能は、屈折率が異なる層を交互に多層積層してなるシートを基板上に貼り合わせることで実現できる。この種の機能を有する部材は、しばしばバンドパスフィルターなどと呼ばれる。その他の構成は第2実施形態と同様である。
In the
具体的には、第2の基板18は、発光機能層5を発光させるための励起光の波長域の光を選択的に透過し、発光機能層5で発光した波長域の光を選択的に反射する機能を有している。したがって、励起光として紫外光を用いる場合、第2の基板18は、紫外域の光を選択的に透過し、青色域~赤色域の光を選択的に反射する機能を有することが望ましい。
あるいは、励起光として青色光を用いる場合、第2の基板18は、青色域の光を選択的に透過し、緑色域~赤色域の光を選択的に反射する機能を有することが望ましい。
Specifically, the
Alternatively, when blue light is used as the excitation light, the
この構成によれば、図7に示すように、励起光L0は、第2の基板18を透過して発光機能層5に達することができる。一方、発光機能層5で発光した光L1は第2の基板18を透過することができない。発光機能層5で発光した光L1は第2の基板18で反射した後、気体層6、第1の基板2を順次透過し、第1の基板2の上面から外部空間に射出される。
According to this configuration, as shown in FIG. 7, the excitation light L 0 can pass through the
本実施形態の発光性基板17においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、本実施形態の発光性基板17は、気体層6を備えたことに加えて、第2の基板18が波長選択反射機能を有しているため、光の取り出し効率をより高めることができる。
The same effect as that of the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased also in the
[第6実施形態]
以下、本発明の第6実施形態について、図8を用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の基本構成は第5実施形態と同様であり、第1の構造物の構成が第5実施形態と異なる。
図8は、本実施形態の光学基板を示す断面図である。
図8において、第5実施形態の図7と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Sixth Embodiment]
Hereinafter, a sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The basic configuration of the luminescent substrate of this embodiment is the same as that of the fifth embodiment, and the configuration of the first structure is different from that of the fifth embodiment.
FIG. 8 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
In FIG. 8, the same components as those in FIG. 7 of the fifth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
第1実施形態において、第1の構造物7の全体が光吸収性もしくは光反射性を有する材料で形成されていた。これに対して、本実施形態の発光性基板20においては、図8に示すように、第1の構造物21が、光吸収層22と、光吸収層22の外面を被覆する光反射層23と、の2層構造となっている。光反射層23は、光吸収層22の側面と下面には形成されているが、第1の基板2に接する側の面には形成されていない。光吸収層22、光反射層23の構成材料としては、第1実施形態で例示したものが用いられる。その他の構成は、第5実施形態と同様である。
In the first embodiment, the entire
第1の構造物21は、光吸収層22と光反射層23の幅が等しく、光吸収層22上に光反射層23が積層された構成であってもよい。しかしながら、本実施形態のように、光吸収層22の幅W3よりも光反射層23の幅W4が大きく、光吸収層22の外面上を光反射層23が覆う構成である方が望ましい。その理由は、光吸収層22の外面上を光反射層23が覆っていないと、発光機能層5で発した光が光吸収層22に当たるからである。発光機能層5で発した光が光吸収層22に当たると、吸収されて光の損失につながるからである。
The
本実施形態の発光性基板20においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、本実施形態によれば、2層構造の第1の構造物21を備えたことにより、図8に示すように、第1の基板2の外側から入射する外光LGは光吸収層22で吸収され、発光機能層5から発した光L1は光反射層23で反射して外部に取り出される。その結果、この発光性基板20を表示装置に用いた場合、表示のコントラスト比をより高めることができる。
Also in the
[第7実施形態]
以下、本発明の第7実施形態について、図9を用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の基本構成は第6実施形態と同様であり、カラーフィルタを付加した点が第6実施形態と異なる。
図9は、本実施形態の光学基板を示す断面図である。
図9において、第6実施形態の図8と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Seventh Embodiment]
Hereinafter, a seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The basic configuration of the luminescent substrate of this embodiment is the same as that of the sixth embodiment, and is different from the sixth embodiment in that a color filter is added.
FIG. 9 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
9, the same code | symbol is attached | subjected to the same component as FIG. 8 of 6th Embodiment, and description is abbreviate | omitted.
本実施形態の発光性基板25は、図9に示すように、第1の基板2の第2の基板18との対向面2aに、異なる色のカラーフィルタ層26R,26G,26Bを含むカラーフィルタ26が設けられている。第1の基板2上のカラーフィルタ26と第2の基板18上の発光機能層5との間に気体層6が介在している。カラーフィルタ26は、第1の基板2の第2の基板18との対向面2aにおいて、第1の構造物21に囲まれた領域に形成されている。その他の構成は、第6実施形態と同様である。
As shown in FIG. 9, the
本実施形態のカラーフィルタ26は、赤色光を透過する赤色カラーフィルタ層26Rと、緑色光を透過する緑色カラーフィルタ層26Gと、青色光を透過する青色カラーフィルタ層26Bと、を含む。カラーフィルタ26は、発光機能層5から射出される光の分光スペクトルを調整する機能と、第1の基板2に外部から入射する外光の反射を抑制する機能を併せ持っている。
The
赤色カラーフィルタ層26R、緑色カラーフィルタ層26G、青色カラーフィルタ層26Bは、発光機能層5もしくは光散乱層から射出される光の色に対応して配置されている。すなわち、赤色カラーフィルタ層26Rは、赤色光を発光する発光機能層5Rに対応する位置に配置されている。同様に、緑色カラーフィルタ層26Gは、緑色光を発光する発光機能層5Gに対応する位置に配置されている。青色カラーフィルタ層26Bは、青色光を発光する発光機能層5Bもしくは青色光を射出する光散乱層27に対応する位置に配置されている。
The red
なお、対応する発光機能層5R,5G,5Bとカラーフィルタ層26R,26G,26Bとにおいて、発光機能層5R,5G,5Bからの射出光の分光スペクトルとカラーフィルタ層26R,26G,26Bの透過光の分光スペクトルとは、完全に一致する必要はなく、双方のスペクトルの少なくとも一部が重なっていればよい。すなわち、発光機能層5R,5G,5Bから射出される光の色相とカラーフィルタ層26R,26G,26Bを透過する光の色相とが少なくとも一致していればよい。
In the corresponding light emitting
本実施形態の発光性基板25においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果を得ることができる。さらに、本実施形態の発光性基板25はカラーフィルタ26を備えているため、用いるカラーフィルタ26の分光スペクトルを適宜調整することで、発光性基板25から射出される光を所望の色相に調整することができる。また、カラーフィルタ26により外光の反射が抑制されるため、表示のコントラスト比を高めることができる。
Also in the
[第8実施形態]
以下、本発明の第8実施形態について、図10を用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の基本構成は第7実施形態と同様であり、カラーフィルタの配置が第7実施形態と異なる。
図10は、本実施形態の光学基板を示す断面図である。
図10において、第7実施形態の図9と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Eighth Embodiment]
Hereinafter, an eighth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The basic configuration of the luminescent substrate of this embodiment is the same as that of the seventh embodiment, and the arrangement of the color filters is different from that of the seventh embodiment.
FIG. 10 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
10, the same code | symbol is attached | subjected to the same component as FIG. 9 of 7th Embodiment, and description is abbreviate | omitted.
本実施形態の発光性基板28は、図10に示すように、第2の基板18の発光機能層5上に、異なる色のカラーフィルタ層26R,26G,26Bを含むカラーフィルタ26が設けられている。第1の基板2と第2の基板18上のカラーフィルタ26との間に気体層6が介在している。カラーフィルタ26は、第2の基板18の発光機能層5上において第2の構造物8に囲まれた領域に形成されている。
As shown in FIG. 10, the
本実施形態の場合、赤色カラーフィルタ層26Rは、赤色光を発光する発光機能層5R上に積層されている。同様に、緑色カラーフィルタ層26Gは、緑色光を発光する発光機能層5G上に積層されている。青色カラーフィルタ層26Bは、青色光を発光する発光機能層5B上もしくは青色光を散乱させる光散乱層27上に積層されている。すなわち、カラーフィルタ26は、発光機能層5と第1の基板2との間であれば、第1の基板2の側に配置されていてもよいし、第2の基板18の側に配置されていてもよい。カラーフィルタ26の構成は第7実施形態と同様である。その他の構成は第7実施形態と同様である。
In the case of the present embodiment, the red
本実施形態の発光性基板28においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果が得られる。また、カラーフィルタ26の使用により、発光性基板28からの光を所望の色相に調整できる、表示のコントラスト比を高められる、という第7実施形態と同様の効果が得られる。
Also in the
以下、発光性基板の変形例をいくつか例示する。
以下の変形例は、上記第1~第8実施形態の発光性基板の各構成要素の組み合わせを変えたものである。
以下の図面において、第1~第8実施形態で用いた図面と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
Hereinafter, some modifications of the luminescent substrate will be exemplified.
The following modifications are obtained by changing the combinations of the constituent elements of the luminescent substrates of the first to eighth embodiments.
In the following drawings, components common to those used in the first to eighth embodiments are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
[第1変形例]
第1変形例の発光性基板30は、図11に示すように、構造物が第1の構造物21のみで構成されている。第1の構造物21は、光吸収層22と光反射層23との2層構造である。第2の基板18は波長選択反射機能を有している。
[First Modification]
As shown in FIG. 11, the light-emitting
[第2変形例]
第2変形例の発光性基板32は、図12に示すように、構造物が第2の構造物8のみで構成されている。第2の構造物8は第1の基板2と接していない。第2の基板18は波長選択反射機能を有している。
[Second Modification]
As shown in FIG. 12, the
[第3変形例]
第3変形例の発光性基板34は、図13に示すように、構造物4が第1の構造物7と第2の構造物8とで構成されている。第1の構造物7と第2の構造物8とは互いに接している。第2の基板18は波長選択反射機能を有している。
[Third Modification]
As shown in FIG. 13, the
[第4変形例]
第4変形例の発光性基板36は、図14に示すように、構造物が第1の構造物21と第2の構造物8とで構成されている。第1の構造物21と第2の構造物8とは互いに接している。第1の構造物21は光吸収層22と光反射層23との2層構造である。第2の基板18は波長選択反射機能を有している。
[Fourth Modification]
As shown in FIG. 14, the
[第5変形例]
第5変形例の発光性基板38は、図15に示すように、構造物が第1の構造物21と第2の構造物8とで構成されている。第1の構造物21と第2の構造物8とは互いに接している。第1の構造物21は光吸収層22と光反射層23との2層構造である。第2の基板18は波長選択反射機能を有している。第1の基板2上にカラーフィルタ26が備えられている。
[Fifth Modification]
As shown in FIG. 15, the
[第6変形例]
第6変形例の発光性基板40は、図16に示すように、構造物が第1の構造物21と第2の構造物8とで構成されている。第1の構造物21と第2の構造物8とは互いに接している。第1の構造物21は光吸収層22と光反射層23との2層構造である。第2の基板18は波長選択反射機能を有している。第2の基板18上にカラーフィルタ26が備えられている。
[Sixth Modification]
As shown in FIG. 16, the
上記第1~第6変形例の発光性基板30,32,34,36,38,40においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果が得られる。
Also in the
[第9実施形態]
以下、本発明の第9実施形態について、図17を用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の基本構成は第4変形例と同様であり、構造物の構成が第4変形例と異なる。
図17は、本実施形態の光学基板を示す断面図である。
図17において、第4変形例の図14と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Ninth Embodiment]
The ninth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.
The basic configuration of the luminescent substrate of the present embodiment is the same as that of the fourth modified example, and the configuration of the structure is different from that of the fourth modified example.
FIG. 17 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
In FIG. 17, the same components as those in FIG. 14 of the fourth modification are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
本実施形態の発光性基板42は、図17に示すように、格子状の構造物21で囲まれた各領域内に、さらに他の構造物43が設けられている。構造物43は、第1の基板2上の第1の構造物21と同様の構成を有しており、光吸収層22と光反射層23との2層構造である。構造物43が設けられた領域には第2の構造物8が存在せず、構造物43は気体層6に面している。その他の構成は第4変形例と同様である。
As shown in FIG. 17, the
本実施形態の発光性基板42においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果が得られる。さらに、本実施形態の発光性基板42は構造物43を備えており、光吸収層22が占める割合がより多くなっている。これらの光吸収層22により外光の反射が抑制されるため、表示のコントラスト比をさらに高めることができる。
The same effect as that of the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased also in the
[第10実施形態]
以下、本発明の第10実施形態について、図18を用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の基本構成は第9実施形態と同様であり、構造物の構成が第9実施形態と異なる。
図18は、本実施形態の光学基板を示す断面図である。
図18において、第9実施形態の図17と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Tenth embodiment]
Hereinafter, a tenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The basic structure of the luminescent substrate of this embodiment is the same as that of the ninth embodiment, and the structure of the structure is different from that of the ninth embodiment.
FIG. 18 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
18, the same code | symbol is attached | subjected to the same component as FIG. 17 of 9th Embodiment, and description is abbreviate | omitted.
本実施形態の発光性基板45は、図18に示すように、格子状の構造物21で囲まれた各領域内に、さらに他の構造物46が設けられている。構造物46は、第1の基板2上の第1の構造物21とは高さが異なっている。構造物46は、第1の構造物21よりも高さが高く、第2の基板18上の発光機能層5と接している。構造物46は、光吸収層22と光反射層23との2層構造である。その他の構成は第9実施形態と同様である。
In the
本実施形態の発光性基板45においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果が得られる。さらに、表示のコントラスト比を高められる、という第9実施形態と同様の効果が得られる。
Also in the
[第11実施形態]
以下、本発明の第11実施形態について、図19を用いて説明する。
第1~第10実施形態の発光性基板は第2の基板を備えていたのに対し、以下の第11~第14実施形態では第2の基板を備えていない構成の発光性基板を例示する。
図19は、本実施形態の光学基板を示す断面図である。
図19において、第1実施形態の図2と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Eleventh embodiment]
Hereinafter, an eleventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
While the luminescent substrates of the first to tenth embodiments include the second substrate, the following eleventh to fourteenth embodiments exemplify luminescent substrates that do not include the second substrate. .
FIG. 19 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
19, the same code | symbol is attached | subjected to the same component as FIG. 2 of 1st Embodiment, and description is abbreviate | omitted.
本実施形態の発光性基板48は、図19に示すように、構造物4が第1の構造物7と第2の構造物8とで構成されている。第1の構造物7と第2の構造物8とは接合されている。発光機能層5は、第2の構造物8に接触した状態で第1の基板2に支持されている。製造プロセスにおいて、第2の構造物8は元来第2の基板上に形成されるが、第1の基板と第2の基板とが貼り合わされた後、第2の構造物8を残して第2の基板が剥離されたものが本実施形態の発光性基板48である。本実施形態の発光性基板48の製造方法については後述する。第2の基板を備えていない点以外は、第1実施形態の構成と同様である。
In the luminescent substrate 48 of the present embodiment, as shown in FIG. 19, the
本実施形態の発光性基板48においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果が得られる。また、本実施形態の発光性基板48は第2の基板を備えていないため、発光性基板の薄型化を図ることができる。 Also in the luminescent substrate 48 of the present embodiment, the same effect as that of the first embodiment that the light extraction efficiency can be increased is obtained. In addition, since the luminescent substrate 48 of this embodiment does not include the second substrate, the luminescent substrate can be thinned.
[第12実施形態]
以下、本発明の第12実施形態について、図20を用いて説明する。
本実施形態の発光性基板は、第2の基板を備えていない点以外は第2実施形態と同様である。
図20は、本実施形態の光学基板を示す断面図である。
図20において、第2実施形態の図4と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Twelfth embodiment]
Hereinafter, a twelfth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The luminescent substrate of the present embodiment is the same as that of the second embodiment, except that the second substrate is not provided.
FIG. 20 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
20, the same code | symbol is attached | subjected to the same component as FIG. 4 of 2nd Embodiment, and description is abbreviate | omitted.
本実施形態の発光性基板50は、図20に示すように、構造物4が第1の構造物7と第2の構造物8とで構成されている。第1の構造物7と第2の構造物8とは所定の間隔をおいて離間している。第1の基板2の外縁部に設けられた貼り合わせ部材11の下面は発光機能層5に接合されている。これにより、発光機能層5は貼り合わせ部材11を介して第1の基板2に支持されている。すなわち、貼り合わせ部材11は、発光機能層5を第1の基板2に支持するための支持部材として機能する。その他の構成は第2実施形態と同様である。
In the
本実施形態の発光性基板50においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果が得られる。また、発光性基板の薄型化を図ることができる、という第11実施形態と同様の効果が得られる。
Also in the
[第13実施形態]
以下、本発明の第13実施形態について、図21を用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の基本構成は第11実施形態と同様であり、構造物の構成が第11実施形態と異なる。
図21は、本実施形態の光学基板を示す断面図である。
図21において、第11実施形態の図19と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Thirteenth embodiment]
Hereinafter, a thirteenth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The basic configuration of the luminescent substrate of this embodiment is the same as that of the eleventh embodiment, and the configuration of the structure is different from that of the eleventh embodiment.
FIG. 21 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
In FIG. 21, the same components as those in FIG. 19 of the eleventh embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
第11実施形態の発光性基板48においては、構造物4が第1の構造物7と第2の構造物8とで構成されていた。これに対して、本実施形態の発光性基板52においては、図21に示すように、構造物が第2の構造物8のみで構成されており、第11実施形態における第1の構造物7を有していない。すなわち、本実施形態の発光性基板52では、構造物が単一層の構造物で構成されている。第2の構造物8は、第1の基板2と発光機能層5とに接している。この構成では、発光機能層5は第2の構造物8により第1の基板2に支持されている。その他の構成は第11実施形態と同様である。
In the luminescent substrate 48 of the eleventh embodiment, the
本実施形態の発光性基板52においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果が得られる。また、発光性基板の薄型化を図ることができる、という第11実施形態と同様の効果が得られる。
Also in the
[第14実施形態]
以下、本発明の第14実施形態について、図22を用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の基本構成は第12実施形態と同様であり、構造物の構成が第12実施形態と異なる。
図22は、本実施形態の光学基板を示す断面図である。
図22において、第12実施形態の図20と共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Fourteenth embodiment]
The fourteenth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG.
The basic structure of the luminescent substrate of this embodiment is the same as that of the twelfth embodiment, and the structure of the structure is different from that of the twelfth embodiment.
FIG. 22 is a cross-sectional view showing the optical substrate of the present embodiment.
22, the same code | symbol is attached | subjected to the same component as FIG. 20 of 12th Embodiment, and description is abbreviate | omitted.
第12実施形態の発光性基板50においては、構造物4が第1の構造物7と第2の構造物8とで構成されていた。これに対して、本実施形態の発光性基板54においては、図22に示すように、構造物が第2の構造物8のみで構成されており、第12実施形態における第1の構造物7を有していない。すなわち、本実施形態の発光性基板54では、構造物が単一層の構造物で構成されている。第2の構造物8は第1の基板2に接しておらず、発光機能層5は貼り合わせ部材11を介して第1の基板2に支持されている。その他の構成は第12実施形態と同様である。
In the
本実施形態の発光性基板54においても、光の取り出し効率を高めることができる、という第1実施形態と同様の効果が得られる。また、発光性基板の薄型化を図ることができる、という第11実施形態と同様の効果が得られる。
Also in the
[第15実施形態]
以下、本発明の第15実施形態について、図23A~図23Dを用いて説明する。
以下の第15~第25実施形態では、本発明の光学基板の製造方法を例示する。
図23A~図23Dは、本実施形態の発光性基板の製造工程を、順を追って示す断面図である。
[Fifteenth embodiment]
The fifteenth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 23A to 23D.
In the following fifteenth to twenty-fifth embodiments, the method for producing an optical substrate of the present invention is illustrated.
FIG. 23A to FIG. 23D are cross-sectional views sequentially showing the manufacturing process of the luminescent substrate of this embodiment.
本実施形態の発光性基板の製造プロセスは、第1の構造物の形成工程と、第2の構造物の形成工程と、発光機能層の形成工程と、第1の基板と第2の基板との貼り合わせ工程と、を備えている。本実施形態の製造プロセスは、第1実施形態の発光性基板の製造プロセスである。 The manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, a first substrate, a second substrate, Bonding process. The manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent substrate of the first embodiment.
図23Aに示すように、第1の基板2の一面2aに、第1の構造物7を形成する。
既に述べたように、第1の構造物7は、光透過性、光不透過性、光吸収性、光反射性、光散乱性など、種々の機能を有する形態が可能である。特に好ましい一例は光吸収性を有する構造物であり、この場合、第1の構造物7はいわゆるブラックマトリクスとなる。他の好ましい一例は、光吸収層と光反射層との積層構造である。
As shown in FIG. 23A, the
As already described, the
第1の構造物7を形成する際には、例えば、通常の液晶ディスプレイやカラーフィルタ基板の製造プロセスに用いられるブラックマトリクスの形成技術を利用できる。あるいは、特開2007-322546号公報、特開2008-211036号公報、 特開2011-66267号公報などに開示されている高反射率の白色ソルダーレジストの形成技術を利用できる。あるいは、ポリイミド系やアクリル系などの感光性樹脂中にTiO2などの粒子を分散させて、光反射性、光散乱性、白色性などの機能を付与することも有効な手法である。これらの場合、パターニングは液晶ディスプレイや半導体の製造において頻繁に用いられる露光、現像、エッチングなどの処理によって行うことができるが、これに限らない。
In forming the
別途、図23Bに示すように、第2の基板3の一面3aに、第2の構造物8を形成する。
第2の構造物8は、第1の構造物7と同様、光透過性、光不透過性、光吸収性、光反射性、光散乱性など、種々の機能を有する形態が可能である。特に好ましい一例は光散乱性を有する構造物である。この場合も、上記と同様、例えば白色ソルダーレジストの形成技術を利用することができる。
Separately, as shown in FIG. 23B, the
As with the
次に、図23Cに示すように、第2の基板3の第2の構造物8を形成した一面3aに発光機能層5を形成する。発光機能層5として蛍光体層を用いる場合、蛍光体を樹脂に分散させた材料を第2の基板3上に塗布する。塗布の方法としては、例えば、スピンコート法、カップコート法などを用いて蛍光体を樹脂に分散させた材料を基板全面に塗布する方法を用いることができる。もしくは、インクジェット法、ディスペンサ法などを用いて第2の構造物8で区画された領域毎に材料を塗布する方法を用いることができる。もしくは、蒸着法などを用いて蛍光体などの発光機能材料を第2の基板3上に成膜する手法を用いてもよい。
Next, as shown in FIG. 23C, the light emitting
本工程においては、発光機能層5の厚さが第2の構造物8の厚さ(高さ)よりも薄くなるように材料の塗布量を調整することが望ましい。そうすることにより、第2の基板3上に発光機能層材料を塗布した際に材料の流れが第2の構造物8で堰き止められる。そのため、意図しない位置に発光機能層材料が流れ出すことを抑制できる。
In this step, it is desirable to adjust the coating amount of the material so that the thickness of the light emitting
次に、図23Dに示すように、第1の構造物7と第2の構造物8とを対向させるようにして第1の基板2と第2の基板3とを貼り合わせる。これにより、第1の基板2と第2の基板3との間に気体層6が形成される。このとき、第1の基板2上の第1の構造物7の位置と第2の基板3上の第2の構造物8の位置とが一致するように位置合わせを行う。
基板を貼り合わせる方法には、以下の種々の方法を採用できる。
Next, as shown in FIG. 23D, the
The following various methods can be adopted as a method of bonding the substrates.
最も簡単な方法は、第1の基板2と第2の基板3とを位置合わせした後、第1の基板2と第2の基板3とを押し付ける方法である。この際、必要に応じて、第1の基板2と第2の基板3とを加圧したり、加熱したりしてもよい。ただし、この方法は簡便な方法ではあるが、十分な貼り合わせ強度が得られない場合がある。
The simplest method is a method of pressing the
より現実的な方法は、第1の構造物7、第2の構造物8の少なくとも一方の対向面に接着剤を塗布した後、第1の基板2と第2の基板3とを位置合わせして貼り合わせる方法である。この場合も、必要に応じて、第1の基板2と第2の基板3とを加圧してもよい。接着剤の種類によっては、第1の基板2および第2の基板3を加熱してもよいし、光を照射してもよい。接着剤の塗布は、印刷などで行うことができる。
A more realistic method is to apply an adhesive to at least one of the opposing surfaces of the
本実施形態の製造方法によれば、光の取り出し効率に優れた発光性基板を製造することができる。 According to the manufacturing method of the present embodiment, a luminescent substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
[第16実施形態]
以下、本発明の第16実施形態について、図24A~図24Eを用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の製造方法の基本構成は第15実施形態と同様であり、貼り合わせ部材を介して2枚の基板を貼り合わせる点が第15実施形態と異なる。
図24A~図24Eは、本実施形態の発光性基板の製造工程を、順を追って示す断面図である。
図24A~図24Eにおいて、第15実施形態の図23A~図23Dと共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Sixteenth Embodiment]
The sixteenth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 24A to 24E.
The basic configuration of the manufacturing method of the light emitting substrate of the present embodiment is the same as that of the fifteenth embodiment, and is different from the fifteenth embodiment in that two substrates are bonded through a bonding member.
24A to 24E are cross-sectional views showing the manufacturing process of the luminescent substrate of this embodiment step by step.
24A to 24E, the same components as those in FIGS. 23A to 23D of the fifteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
本実施形態の発光性基板の製造プロセスは、第1の構造物の形成工程と、第2の構造物の形成工程と、発光機能層の形成工程と、貼り合わせ部材の形成工程と、第1の基板と第2の基板との貼り合わせ工程と、を備えている。本実施形態の製造プロセスは、第2実施形態の発光性基板の製造プロセスである。 The manufacturing process of the luminescent substrate according to the present embodiment includes a first structure forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, a bonding member forming step, And a bonding step between the substrate and the second substrate. The manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent substrate of the second embodiment.
本実施形態の製造プロセスにおいて、図24A~図24Cで示す工程は第15実施形態と同様である。
図24Aに示すように、第2の基板3上に発光機能層5を形成した後、図24Dに示すように、第2の基板3の発光機能層5上に貼り合わせ部材11を枠状に形成する。貼り合わせ部材11の構成材料には、例えば接着剤が用いられる。第2の基板3上への接着剤の塗布は、ディスペンサ法、印刷法などを用いて行うことができる。また、基板を貼り合わせた後に第1の構造物7と第2の構造物8との間隔dを一定に保持するために、接着剤中に予めギャップ材を混入しておくのもよい。ここでは、第2の基板3の発光機能層5上に貼り合わせ部材11を形成する例を示したが、第2の基板3上の発光機能層5が形成されていない領域に貼り合わせ部材11を形成してもよい。もしくは、第2の基板3に代えて、第1の基板2に貼り合わせ部材11を形成してもよい。
In the manufacturing process of this embodiment, the steps shown in FIGS. 24A to 24C are the same as those in the fifteenth embodiment.
After forming the light emitting
次に、図24Eに示すように、第1の構造物7と第2の構造物8とを対向させるようにして、第1の基板2と第2の基板3とを貼り合わせ部材11を介して貼り合わせる。
この際、第1の基板2上の第1の構造物7の位置と第2の基板3上の第2の構造物8の位置とが一致するように位置合わせを行う。貼り合わせの際には、必要に応じて、第1の基板2と第2の基板3とを加圧してもよい。貼り合わせ部材11に用いる接着剤の種類によっては、加熱してもよいし、光を照射してもよい。
Next, as shown in FIG. 24E, the
At this time, alignment is performed so that the position of the
本実施形態の製造方法においても、光の取り出し効率に優れた発光性基板を製造できる、といった第15実施形態と同様の効果が得られる。 Also in the manufacturing method of the present embodiment, an effect similar to that of the fifteenth embodiment can be obtained, in which a luminescent substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
[第17実施形態]
以下、本発明の第17実施形態について、図25A~図25Dを用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の製造方法の基本構成は第15実施形態と同様であり、第1の構造物を形成しない点が第15実施形態と異なる。
図25A~図25Dは、本実施形態の発光性基板の製造工程を、順を追って示す断面図である。
図25A~図25Dにおいて、第15実施形態の図23A~図23Dと共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Seventeenth embodiment]
The seventeenth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 25A to 25D.
The basic configuration of the method for manufacturing a luminescent substrate of the present embodiment is the same as that of the fifteenth embodiment, and is different from the fifteenth embodiment in that the first structure is not formed.
FIG. 25A to FIG. 25D are cross-sectional views sequentially showing the manufacturing steps of the luminescent substrate of this embodiment.
25A to 25D, the same components as those in FIGS. 23A to 23D of the fifteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
本実施形態の発光性基板の製造プロセスは、第2の構造物の形成工程と、発光機能層の形成工程と、第1の基板と第2の基板との貼り合わせ工程と、を備えている。本実施形態の製造プロセスは、第3実施形態の発光性基板の製造プロセスである。 The manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, and a bonding step between the first substrate and the second substrate. . The manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent substrate of the third embodiment.
本実施形態の製造プロセスにおいては、図25Aに示すように、第1の基板2上には第1の構造物を形成しない。その他、図25B~図25Eで示す工程は第15実施形態と同様である。すなわち、図25Dで示す工程では、構造物が形成されていない第1の基板2と第2の構造物8が形成された第2の基板3とを、第2の構造物8を介して貼り合わせる。
In the manufacturing process of the present embodiment, the first structure is not formed on the
本実施形態の製造方法においても、光の取り出し効率に優れた発光性基板を製造できる、といった第15~第16実施形態と同様の効果が得られる。 Also in the manufacturing method of the present embodiment, the same effects as those of the fifteenth to sixteenth embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
[第18実施形態]
以下、本発明の第18実施形態について、図26A~図26Eを用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の製造方法の基本構成は第17実施形態と同様であり、貼り合わせ部材を介して2枚の基板を貼り合わせる点が第17実施形態と異なる。
図26A~図26Eは、本実施形態の発光性基板の製造工程を、順を追って示す断面図である。
図26A~図26Eにおいて、第17実施形態の図25A~図25Dと共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Eighteenth embodiment]
The eighteenth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 26A to 26E.
The basic configuration of the manufacturing method of the light emitting substrate of this embodiment is the same as that of the seventeenth embodiment, and is different from the seventeenth embodiment in that two substrates are bonded through a bonding member.
26A to 26E are cross-sectional views showing the manufacturing process of the light emitting substrate of this embodiment in order.
In FIG. 26A to FIG. 26E, the same reference numerals are given to the same constituent elements as those in FIG. 25A to FIG.
本実施形態の発光性基板の製造プロセスは、第2の構造物の形成工程と、発光機能層の形成工程と、貼り合わせ部材の形成工程と、第1の基板と第2の基板との貼り合わせ工程と、を備えている。本実施形態の製造プロセスは、第4実施形態の発光性基板の製造プロセスである。 The manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, a bonding member forming step, and a bonding between the first substrate and the second substrate. And a combining step. The manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent board | substrate of 4th Embodiment.
本実施形態の製造プロセスにおいて、図26A~図26Cで示す工程は第17実施形態と同様である。
図26Cに示すように、第2の基板3上に発光機能層5を形成した後、図26Dに示すように、第2の基板3の発光機能層5上に貼り合わせ部材11を枠状に形成する。貼り合わせ部材11の構成材料には、例えば接着剤が用いられる。第2の基板3上への接着剤の塗布は、ディスペンサ法、印刷法などを用いて行うことができる。また、第1の基板2と第2の構造物8との間隔dを一定に保持するために、接着剤中に予めギャップ材を混入しておくのもよい。ここでは、第2の基板3の発光機能層5上に貼り合わせ部材11を形成する例を示したが、第2の基板3上の発光機能層5が形成されていない領域に貼り合わせ部材11を形成してもよい。もしくは、第1の基板2上に貼り合わせ部材を形成してもよい。
In the manufacturing process of the present embodiment, the steps shown in FIGS. 26A to 26C are the same as those in the seventeenth embodiment.
After forming the light emitting
次に、図26Eに示すように、第2の構造物8を第1の基板2に対向させるようにして、第1の基板2と第2の基板3とを貼り合わせ部材11を介して貼り合わせる。基板を貼り合わせる際には、必要に応じて、第1の基板2と第2の基板3とを加圧してもよい。貼り合わせ部材11に用いる接着剤の種類によっては、加熱してもよいし、光を照射してもよい。
Next, as shown in FIG. 26E, the
本実施形態の製造方法においても、光の取り出し効率に優れた発光性基板を製造できる、といった第15~第17実施形態と同様の効果が得られる。 Also in the manufacturing method of the present embodiment, the same effects as those of the fifteenth to seventeenth embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
[第19実施形態]
以下、本発明の第19実施形態について、図27A~図27Eを用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の製造方法の基本構成は第15実施形態と同様であり、2枚の基板を一旦貼り合わせた後、第2の基板を剥離する点が第15実施形態と異なる。
図27A~図27Eは、本実施形態の発光性基板の製造工程を、順を追って示す断面図である。
図27A~図27Eにおいて、第15実施形態の図23A~図23Dと共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Nineteenth Embodiment]
The nineteenth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 27A to 27E.
The basic configuration of the method for manufacturing a light emitting substrate of this embodiment is the same as that of the fifteenth embodiment, and differs from the fifteenth embodiment in that after the two substrates are bonded together, the second substrate is peeled off.
27A to 27E are cross-sectional views showing the manufacturing process of the luminescent substrate of this embodiment in order.
In FIGS. 27A to 27E, the same components as those in FIGS. 23A to 23D of the fifteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
本実施形態の発光性基板の製造プロセスは、第1の構造物の形成工程と、犠牲層の形成工程と、第2の構造物の形成工程と、発光機能層の形成工程と、第1の基板と第2の基板との貼り合わせ工程と、第2の基板の剥離工程と、を備えている。本実施形態の製造プロセスは、第11実施形態の発光性基板の製造プロセスである。 The manufacturing process of the luminescent substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a sacrificial layer forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, A bonding process between the substrate and the second substrate and a peeling process of the second substrate are provided. The manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent substrate of the eleventh embodiment.
図27Aに示すように、第1の基板2の一面2aに、第1の構造物7を形成する。
第1の構造物7の具体的な形成方法は、第15実施形態で述べた通りである。
As shown in FIG. 27A, the
A specific method for forming the
別途、図27Bに示すように、第2の基板3の一面3aに、第2の構造物8を形成する。第2の構造物8の具体的な形成方法は、第15実施形態で述べた通りである。後工程において、第1の基板2と第2の基板3とを貼り合わせた後、第2の構造物8から第2の基板3を剥離する。したがって、第2の構造物8と第2の基板3との界面の位置で第2の基板3を容易に剥離できるのであれば、特に第2の基板3に加工を加える必要はなく、第2の基板3の一面に第2の構造物8を形成すればよい。ただし、一般的には、第2の基板3に加工を加えることなく、構造物と基板との界面から基板を剥離するのは難しい場合が多い。その場合には、以下の工程を加えればよい。
Separately, as shown in FIG. 27B, the
第2の基板3上に第2の構造物8を形成する前に、第2の基板3の一面3aから僅かな深さの位置に犠牲層57を形成する。犠牲層57の具体的な形成方法として、例えばイオン注入法を用いて第2の基板3の内部に水素イオンを高濃度に導入し、水素イオンが導入された層を形成する方法が採用できる。後で熱処理を加えて、水素イオンが導入された層から第2の基板3を剥離する方法は周知の方法である。
Before the
あるいは、犠牲層57の形成方法として、第2の基板3の一面3aに、例えば酸化リチウム等のアルカリ金属の酸化物、炭酸化物、硫酸化物、水酸化物や、炭酸ナトリウム等のアルカリ土類金属の酸化物、炭酸化物、硫酸化物、水酸化物等からなる層を形成する方法が採用できる。犠牲層57を後でエッチングして除去することにより、第2の基板3を剥離する。本方法によれば、第2の基板3の一面3aに犠牲層57を形成できるため、第2の構造物8と第2の基板3との界面の位置で第2の基板3を剥離することができる。
Alternatively, as a method for forming the
次に、図27Cに示すように、第2の基板3の第2の構造物8を形成した面に発光機能層5を形成する。発光機能層5の具体的な形成方法は、第15実施形態で述べた通りである。
Next, as shown in FIG. 27C, the light emitting
次に、図27Dに示すように、第1の構造物7と第2の構造物8とを対向させるようにして、第1の基板2と第2の基板3とを貼り合わせる。具体的な貼り合わせ方法は、第15実施形態で述べた通りである。
Next, as shown in FIG. 27D, the
次に、図27Eに示すように、犠牲層57を除去することにより、犠牲層57の形成位置で第2の基板3を剥離する。上述したように、犠牲層57を除去する際には、犠牲層57が水素イオン導入層である場合は、貼り合わせた基板全体に熱処理を加えればよい。犠牲層57がアルカリ金属やアルカリ土類金属の化合物である場合は、ウェットエッチング、ドライエッチング等のエッチングを行えばよい。なお、犠牲層57が水素イオン導入層である場合、発光機能層5の下面側に僅かな厚さの第2の基板3の一部3fが残存する。この場合、第2の基板3として光透過性を有する基板を用いれば、第2の基板3の一部3fが残存しても、特性的に特に支障はない。また、残存した第2の基板3の一部3fにより発光機能層5や第2の構造物8が支持される点で好ましい。
Next, as shown in FIG. 27E, by removing the
本実施形態の製造方法においても、光の取り出し効率に優れた発光性基板を製造できる、といった第15~第18実施形態と同様の効果が得られる。 Also in the manufacturing method of this embodiment, the same effects as those of the fifteenth to eighteenth embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
[第20実施形態]
以下、本発明の第20実施形態について、図28A~図28Fを用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の製造方法の基本構成は第19実施形態と同様であり、貼り合わせ部材を介して2枚の基板を貼り合わせる点が第19実施形態と異なる。
図28A~図28Fは、本実施形態の発光性基板の製造工程を、順を追って示す断面図である。
図28A~図28Fにおいて、第19実施形態の図27A~図27Eと共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[20th embodiment]
The twentieth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 28A to 28F.
The basic configuration of the manufacturing method of the light emitting substrate of the present embodiment is the same as that of the nineteenth embodiment, and differs from the nineteenth embodiment in that two substrates are bonded through a bonding member.
28A to 28F are cross-sectional views showing the manufacturing process of the light-emitting substrate of this embodiment in order.
28A to 28F, the same components as those in FIGS. 27A to 27E according to the nineteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
本実施形態の発光性基板の製造プロセスは、第1の構造物の形成工程と、犠牲層の形成工程と、第2の構造物の形成工程と、発光機能層の形成工程と、貼り合わせ部材の形成工程と、第1の基板と第2の基板との貼り合わせ工程と、第2の基板の剥離工程と、を備えている。本実施形態の製造プロセスは、第12実施形態の発光性基板の製造プロセスである。 The manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a sacrificial layer forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, and a bonding member. Forming step, a bonding step between the first substrate and the second substrate, and a peeling step of the second substrate. The manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent substrate of the twelfth embodiment.
本実施形態の製造プロセスにおいて、図28A~図28Cで示す工程は第19実施形態と同様である。
図28Cに示すように、第2の基板3上に発光機能層5を形成した後、図28Dに示すように、第2の基板3の発光機能層5上に貼り合わせ部材11を形成する。
次に、図28Eに示すように、第2の構造物8を第1の基板に対向させるようにして第1の基板と第2の基板とを貼り合わせ部材11を介して貼り合わせる。その他の工程は第19実施形態と同様である。
In the manufacturing process of this embodiment, the steps shown in FIGS. 28A to 28C are the same as those in the nineteenth embodiment.
As shown in FIG. 28C, after the light emitting
Next, as shown in FIG. 28E, the first substrate and the second substrate are bonded to each other with the bonding
本実施形態の製造方法においても、光の取り出し効率に優れた発光性基板を製造できる、といった第15~第19実施形態と同様の効果が得られる。 Also in the manufacturing method of the present embodiment, the same effects as those of the fifteenth to nineteenth embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
[第21実施形態]
以下、本発明の第21実施形態について、図29A~図29Fを用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の製造方法の基本構成は第19実施形態と同様であり、第2の基板を剥離した後、剥離面に第3の基板を貼り合わせる点が第19実施形態と異なる。
図29A~図29Fは、本実施形態の発光性基板の製造工程を、順を追って示す断面図である。
図29A~図29Fにおいて、第19実施形態の図27A~図27Eと共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Twenty-first embodiment]
Hereinafter, a twenty-first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 29A to 29F.
The basic configuration of the manufacturing method of the luminescent substrate of this embodiment is the same as that of the nineteenth embodiment, and is different from the nineteenth embodiment in that after the second substrate is peeled off, the third substrate is bonded to the peeled surface. .
FIG. 29A to FIG. 29F are cross-sectional views sequentially showing the manufacturing steps of the luminescent substrate of this embodiment.
29A to 29F, the same components as those in FIGS. 27A to 27E according to the nineteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
本実施形態の発光性基板の製造プロセスは、第1の構造物の形成工程と、犠牲層の形成工程と、第2の構造物の形成工程と、発光機能層の形成工程と、第1の基板と第2の基板との貼り合わせ工程と、第2の基板の剥離工程と、第3の基板の貼り合わせ工程と、を備えている。本実施形態の製造プロセスは、第3変形例の発光性基板の製造プロセスである。 The manufacturing process of the luminescent substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a sacrificial layer forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, A bonding step between the substrate and the second substrate; a peeling step of the second substrate; and a bonding step of the third substrate. The manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent board | substrate of a 3rd modification.
本実施形態の製造プロセスにおいて、図29A~図29Eで示す工程は第19実施形態と同様である。
図29Eに示すように、第2の基板3を剥離した後、図29Fに示すように、第2の基板3を剥離した際に残存した第2の基板3の一部3fに、第3の基板58を貼り合わせる。本実施形態では、第3の基板58として、特定の波長域の光(励起光)を選択的に透過し、他の波長域の光(発光機能層から発する蛍光)を選択的に反射する特性を有する基板もしくはフィルムを用いる。第3の基板58を貼り合わせる際には接着剤を用いてもよいし、熱圧着などを用いてもよい。
In the manufacturing process of this embodiment, the steps shown in FIGS. 29A to 29E are the same as those in the nineteenth embodiment.
As shown in FIG. 29E, after the
本実施形態の製造方法においても、光の取り出し効率に優れた発光性基板を製造できる、といった第15~第20実施形態と同様の効果が得られる。 Also in the manufacturing method of the present embodiment, the same effects as those of the fifteenth to twentieth embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
[第22実施形態]
以下、本発明の第22実施形態について、図30A~図30Fを用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の製造方法の基本構成は第21実施形態と同様であり、貼り合わせ部材を介して2枚の基板を貼り合わせる点が第21実施形態と異なる。
図30A~図30Fは、本実施形態の発光性基板の製造工程を、順を追って示す断面図である。
図30A~図30Fにおいて、第21実施形態の図29A~図29Fと共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Twenty-second embodiment]
Hereinafter, a twenty-second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 30A to 30F.
The basic configuration of the method for manufacturing a luminescent substrate of the present embodiment is the same as that of the twenty-first embodiment, and is different from the twenty-first embodiment in that two substrates are bonded via a bonding member.
30A to 30F are cross-sectional views showing the manufacturing process of the luminescent substrate of this embodiment step by step.
30A to 30F, the same reference numerals are given to the same components as those in FIGS. 29A to 29F of the twenty-first embodiment, and the description thereof will be omitted.
本実施形態の発光性基板の製造プロセスは、第1の構造物の形成工程と、犠牲層の形成工程と、第2の構造物の形成工程と、発光機能層の形成工程と、貼り合わせ部材の形成工程と、第1の基板と第2の基板との貼り合わせ工程と、第2の基板の剥離工程と、第3の基板の貼り合わせ工程と、を備えている。 The manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a sacrificial layer forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, and a bonding member. Forming step, a bonding step between the first substrate and the second substrate, a peeling step of the second substrate, and a bonding step of the third substrate.
本実施形態の製造プロセスにおいて、図30A~図30Bで示す工程は第21実施形態と同様である。
図30Cに示すように、第2の基板3上に発光機能層5を形成した後、第2の基板3の発光機能層5上に貼り合わせ部材11を形成する。
次に、図30Dに示すように、第2の構造物8を第1の構造物7に対向させるようにして、第1の基板2と第2の基板3とを貼り合わせ部材11を介して貼り合わせる。
その他の工程は第21実施形態と同様である。
In the manufacturing process of this embodiment, the steps shown in FIGS. 30A to 30B are the same as those in the twenty-first embodiment.
As shown in FIG. 30C, after the light emitting
Next, as shown in FIG. 30D, the
Other steps are the same as those in the twenty-first embodiment.
本実施形態の製造方法においても、光の取り出し効率に優れた発光性基板を製造できる、といった第15~第21実施形態と同様の効果が得られる。 Also in the manufacturing method of the present embodiment, the same effects as those of the fifteenth to twenty-first embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
[第23実施形態]
以下、本発明の第23実施形態について、図31A~図31Eを用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の製造方法の基本構成は第15実施形態と同様であり、第1の構造物が光吸収層と光反射層の2層構造である点と、第2の基板の一部を剥離する点が第15実施形態と異なる。
図31A~図31Eは、本実施形態の発光性基板の製造工程を、順を追って示す断面図である。
図31A~図31Eにおいて、第15実施形態の図23A~図23Dと共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Twenty-third embodiment]
A twenty-third embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 31A to 31E.
The basic structure of the manufacturing method of the light emitting substrate of the present embodiment is the same as that of the fifteenth embodiment. The first structure has a two-layer structure of a light absorption layer and a light reflection layer, and the second substrate has the same structure. The point which peels one part differs from 15th Embodiment.
FIG. 31A to FIG. 31E are cross-sectional views sequentially showing the manufacturing process of the luminescent substrate of this embodiment.
31A to 31E, the same components as those in FIGS. 23A to 23D of the fifteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
本実施形態の発光性基板の製造プロセスは、第1の構造物の形成工程と、犠牲層の形成工程と、波長選択反射層の形成工程と、第2の構造物の形成工程と、発光機能層の形成工程と、貼り合わせ部材の形成工程と、第1の基板と第2の基板との貼り合わせ工程と、第2の基板の剥離工程と、を備えている。本実施形態の製造プロセスは、第4変形例の発光性基板の製造プロセスである。 The manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a sacrificial layer forming step, a wavelength selective reflection layer forming step, a second structure forming step, and a light emitting function. A layer forming step, a bonding member forming step, a first substrate and second substrate bonding step, and a second substrate peeling step. The manufacturing process of this embodiment is a manufacturing process of the luminescent board | substrate of a 4th modification.
図31Aに示すように、第1の基板2の一面に、光吸収層22と光反射層23との2層構造を有する第1の構造物21を形成する。本実施形態の場合、光反射層23の幅W4が光吸収層22の幅W3よりも広く設定されている。このような第1の構造物21を形成する際には、最初に光吸収層22の構成材料からなる膜を形成する。次に、フォトリソグラフィーにより光吸収性材料膜をパターニングして光吸収層22を形成する。次に、光吸収層22を覆うように光反射層23の構成材料からなる膜を形成する。次に、フォトリソグラフィーにより光反射性材料膜をパターニングして光吸収層22よりも幅が広い光反射層23を形成する。このように、フォトリソグラフィーによる2回のパターニングを行うことにより、第1の構造物21を形成できる。なお、本実施形態の構成に代えて、光反射層の幅が光吸収層の幅と等しい場合には、光反射層と光吸収層とを1回のパターニングで一括して形成できる場合もある。
As shown in FIG. 31A, a
別途、図31Bに示すように、第2の基板3の一面3aに、第2の構造物8を形成する。第2の構造物8の具体的な形成方法は、第15実施形態で述べた通りである。ただし、第2の基板として、犠牲層57、波長選択反射層59が順次形成された第2の基板3を用いる点は第15実施形態と異なる。よって、第2の構造物8を形成する前に、任意の基板の一面に犠牲層57、波長選択反射層59を順次形成し、第2の基板3を作成する。
Separately, as shown in FIG. 31B, a
次に、図31Cに示すように、第2の基板3の一面3aに、貼り合わせ部材11を形成する。
次に、図31Dに示すように、第1の構造物21と第2の構造物8とを対向させるようにして、第1の基板2と第2の基板3とを貼り合わせ部材11を介して貼り合わせる。
次に、図31Eに示すように、犠牲層57を除去することにより、犠牲層57の形成位置で第2の基板3を剥離する。これにより、発光機能層5の下面に波長選択反射層59が残存する。
Next, as illustrated in FIG. 31C, the bonding
Next, as shown in FIG. 31D, the
Next, as shown in FIG. 31E, by removing the
本実施形態の製造方法においても、光の取り出し効率に優れた発光性基板を製造できる、といった第15~第22実施形態と同様の効果が得られる。また、本実施形態の製造方法によれば、波長選択反射機能を備えた第3の基板を後から貼り合わせることなく、光の取り出し効率に優れた発光性基板を製造できる。 Also in the manufacturing method of the present embodiment, the same effects as those of the fifteenth to twenty-second embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured. Further, according to the manufacturing method of the present embodiment, a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured without attaching a third substrate having a wavelength selective reflection function later.
[第24実施形態]
以下、本発明の第24実施形態について、図32A~図32Eを用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の製造方法の基本構成は第23実施形態と同様であり、第1の構造物を形成しない点が第23実施形態と異なる。
図32A~図32Eは、本実施形態の発光性基板の製造工程を、順を追って示す断面図である。
図32A~図32Eにおいて、第23実施形態の図31A~図31Dと共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[Twenty-fourth embodiment]
A twenty-fourth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 32A to 32E.
The basic configuration of the method for manufacturing a luminescent substrate of the present embodiment is the same as that of the twenty-third embodiment, and is different from the twenty-third embodiment in that the first structure is not formed.
FIG. 32A to FIG. 32E are cross-sectional views sequentially showing the manufacturing process of the light emitting substrate of this embodiment.
32A to 32E, the same components as those in FIGS. 31A to 31D of the twenty-third embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
本実施形態の発光性基板の製造プロセスは、第2の構造物の形成工程と、発光機能層の形成工程と、貼り合わせ部材の形成工程と、第1の基板と第2の基板との貼り合わせ工程と、第2の基板の剥離工程と、を備えている。 The manufacturing process of the light emitting substrate of the present embodiment includes a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, a bonding member forming step, and a bonding between the first substrate and the second substrate. A matching step and a second substrate peeling step.
本実施形態の製造プロセスにおいては、図32Aに示すように、第1の基板2上に第1の構造物を形成しない。その他、図32B~図32Eで示す工程は第23実施形態と同様である。すなわち、図32Dで示す工程では、構造物が形成されていない第1の基板2と第2の構造物8が形成された第2の基板3とを、貼り合わせ部材11を介して貼り合わせる。
In the manufacturing process of this embodiment, as shown in FIG. 32A, the first structure is not formed on the
本実施形態の製造方法においても、光の取り出し効率に優れた発光性基板を製造できる、といった第15~第23実施形態と同様の効果が得られる。 Also in the manufacturing method of the present embodiment, the same effects as those of the fifteenth to twenty-third embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
[第25実施形態]
以下、本発明の第25実施形態について、図33A~図33Dを用いて説明する。
本実施形態の発光性基板の製造方法の基本構成は第15実施形態と同様であり、減圧雰囲気下で基板の貼り合わせを行う点が第15実施形態と異なる。
図33A~図33Dは、本実施形態の発光性基板の製造工程を、順を追って示す断面図である。
図33A~図33Dにおいて、第15実施形態の図23A~図23Dと共通の構成要素には同一の符号を付し、説明は省略する。
[25th Embodiment]
The twenty-fifth embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 33A to 33D.
The basic configuration of the manufacturing method of the light emitting substrate of this embodiment is the same as that of the fifteenth embodiment, and is different from the fifteenth embodiment in that the substrates are bonded together under a reduced pressure atmosphere.
33A to 33D are cross-sectional views showing the manufacturing process of the luminescent substrate of this embodiment step by step.
33A to 33D, the same components as those in FIGS. 23A to 23D of the fifteenth embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted.
本実施形態の発光性基板の製造プロセスは、第1の構造物の形成工程と、第2の構造物の形成工程と、発光機能層の形成工程と、減圧雰囲気下での第1の基板と第2の基板との貼り合わせ工程と、を備えている。 The manufacturing process of the luminescent substrate of the present embodiment includes a first structure forming step, a second structure forming step, a light emitting functional layer forming step, and a first substrate in a reduced-pressure atmosphere. And a bonding step with the second substrate.
図33A~図33Cで示す工程は第15実施形態と同様である。次に、第15~第24実施形態では、常圧雰囲気下で第1の基板2と第2の基板3とを貼り合わせていた。これに対して、本実施形態では、減圧雰囲気下で第1の基板2と第2の基板3とを貼り合わせる。したがって、本実施形態では、図33Dに示すように、内部が密閉可能とされたチャンバー61を備えた貼り合わせ装置を用いる。チャンバー61の内部は、ポンプ62により減圧雰囲気とされ、圧力が任意に調整できるようになっている。この種の貼り合わせ装置を用いて貼り合わせを行うことにより、第1の基板2と第2の基板3との間に形成される気体層6の圧力が大気圧よりも低くなる。
33A to 33C are the same as those in the fifteenth embodiment. Next, in the fifteenth to twenty-fourth embodiments, the
このとき、チャンバー61の内部に空気以外の気体を導入すれば、導入した気体からなる気体層6を形成することができる。例えば、チャンバー内に窒素ガスを導入すれば、窒素ガスからなる気体層6が形成される。チャンバー内に乾燥空気を導入すれば、乾燥空気からなる気体層6が形成される。その場合、発光機能層5への水分の浸入を抑制できる点で好ましい。
At this time, if a gas other than air is introduced into the
逆に、チャンバー61の内部を加圧状態とすれば、第1の基板2と第2の基板3との間に形成される気体層6の圧力が大気圧よりも高くなる。
Conversely, when the inside of the
本実施形態の製造方法においても、光の取り出し効率に優れた発光性基板を製造できる、といった第15~第24実施形態と同様の効果が得られる。 Also in the manufacturing method of the present embodiment, the same effects as those of the fifteenth to twenty-fourth embodiments can be obtained, such that a light-emitting substrate having excellent light extraction efficiency can be manufactured.
[第26実施形態]
以下、本発明の第26実施形態について、図34を用いて説明する。
本実施形態では、上記発光性基板を備えた発光素子の一例として、有機EL素子の例を挙げる。
図34は、本実施形態の有機EL素子の断面図である。
[Twenty-sixth embodiment]
Hereinafter, a twenty-sixth embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
In the present embodiment, an example of an organic EL element is given as an example of a light emitting element provided with the light emitting substrate.
FIG. 34 is a cross-sectional view of the organic EL element of this embodiment.
本実施形態の有機EL素子70は、図34に示すように、第1の基板2と、第2の基板3と、構造物4と、有機EL光源71と、発光機能層5と、気体層6と、カラーフィルタ26と、を備えている。本実施形態の有機EL素子70は、図15に示した第5変形例の発光性基板を備えている。すなわち、構造物4は、互いに接合された第1の構造物21と第2の構造物8とで構成されている。第1の基板2上の第1の構造物21は、ブラックマトリクスとなる光吸収層22と光反射層23との2層構造を有している。第2の基板3上の第2の構造物8は、光散乱性を有している。
As shown in FIG. 34, the
本実施形態において、構造物4で区画された領域の各々は、表示の最小単位である画素を構成するサブ画素に対応する。したがって、図34に示すように、隣接する3つの領域は、赤色の表示を行う赤色サブ画素72R、緑色の表示を行う緑色サブ画素72G、青色の表示を行う青色サブ画素72Bにそれぞれ対応する。赤色サブ画素72R、緑色サブ画素72G、および青色サブ画素72Bの3つのサブ画素で1つの画素が構成される。
In the present embodiment, each of the areas partitioned by the
第2の基板3の第1の基板2との対向面には、サブ画素毎に有機EL光源71が設けられている。有機EL光源71は、第1の電極73と、有機発光層74と、第2の電極75と、を備えている。 第1の電極73(下部電極)は、透明電極であればよく、例えば、ITO(Indium-tin-oxide)や、ZnO(Zinc oxide)などが用いられる。第1の電極73の厚さは、例えば100nm程度である。なお、第1の電極73は、通常はアノードであるが、カソードとすることも可能である。第1の電極73をカソードとする場合には、仕事関数の低い材料を用いる。また、配線抵抗を下げる目的等で補助配線を併設してもよい。補助配線は、例えばAl, Ag, Ta, Ti, Niなどの金属材料で形成できる。 第2の電極75(上部電極)は、第1の電極73と同様、透明電極で構成される。第2の電極75(上部電極)をアノードとすることも可能である。第2の電極75をアノードとする場合には、仕事関数の高い材料、例えば、ITOなどが好ましく用いられる。
An organic EL
これら以外にも、第1の電極73および第2の電極75を形成する電極材料として、公知の各種電極材料を用いることができる。電極がアノードである場合には、有機発光層74への正孔の注入をより効率よく行う観点から、仕事関数が4.5eV以上の金(Au)、白金(Pt)、ニッケル(Ni)等の金属、および、インジウム(In)と錫(Sn)からなる酸化物(ITO)、錫(Sn)の酸化物(SnO2)インジウム(In)と亜鉛(Zn)からなる酸化物(IZO)等が透明電極材料として挙げられる。
In addition to these, various known electrode materials can be used as the electrode material for forming the
カソードを形成する電極材料としては、有機発光層74への電子の注入をより効率良く行う観点から、仕事関数が4.5eV以下のリチウム(Li)、カルシウム(Ca)、セリウム(Ce)、バリウム(Ba)、アルミニウム(Al)等の金属、または、これらの金属を含有するMg:Ag合金、Li:Al合金等の合金が挙げられる。
As an electrode material for forming the cathode, lithium (Li), calcium (Ca), cerium (Ce), barium having a work function of 4.5 eV or less from the viewpoint of more efficiently injecting electrons into the organic
第1の電極73および第2の電極75は上記の材料を用いてEB蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、抵抗加熱蒸着法等の公知の方法により形成することができる。ただし、本実施形態はこれらの形成方法に限定されるものではない。必要に応じて、フォトリソグラフィー法、レーザー剥離法により、形成した電極をパターン化することもできる。また、シャドーマスクと組み合わせることでパターン化した電極を直接形成することもできる。電極の膜厚は、50nm以上が好ましい。膜厚が50nm未満の場合には、配線抵抗が高くなることから、駆動電圧の上昇が生じるおそれがある。
The
有機発光層74は、第1の電極73と第2の電極75との間に印加された電圧によって、所定の波長域の光を発する。本実施形態の場合、有機発光層74は、青色の波長域の光を発する。有機発光層74は、単層でもよいが、通常は複数の層からなり、例えば、α-NPDとAlq3の積層膜などを用いることができる。また、アノードである第1の電極73(下部電極)と、カソードである第2の電極75(上部電極)との間に、ホール注入層、ホール輸送層、発光層、ホールブロッキング層、電子輸送層、電子注入層などからなる複層の有機発光層を形成してもよい。
The organic
これらの層以外に、MoO3層、C60層、フラーレン含有層、量子ドット含有層などさまざまな層を併用することも盛んに検討されている。いずれの層も本実施形態に適用できる。量子ドット含有層を用いた発光素子は、QLED(Quantum-dot light emitting diode)と呼ばれている。また、発光領域を積層する構造、いわゆるタンデム構造を用いることもできる。第1の電極73と第2の電極75との間に配置される層の膜厚は、通常、各層が数10nm程度である。
In addition to these layers, it has been actively studied to use various layers such as a MoO 3 layer, a C 60 layer, a fullerene-containing layer, and a quantum dot-containing layer. Any layer can be applied to this embodiment. A light-emitting element using a quantum dot-containing layer is called a QLED (Quantum-dot light emitting diode). Alternatively, a structure in which light emitting regions are stacked, a so-called tandem structure can be used. As for the film thickness of the layer arrange | positioned between the
有機発光層74の層構造としての具体例として下記の構成が挙げられるが、本発明はこれらにより限定されるものではない。
(1)有機発光層
(2)正孔輸送層/有機発光層
(3)有機発光層/電子輸送層
(4)正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層
(5)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層
(6)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層
(7)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/正孔防止層/電子輸送層
(8)正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/正孔防止層/電子輸送層/電子注入層
(9)正孔注入層/正孔輸送層/電子防止層/有機発光層/正孔防止層/電子輸送層/電子注入層
ここで、有機発光層、正孔注入層、正孔輸送層、正孔防止層、電子防止層、電子輸送層および電子注入層の各層は、単層構造でも多層構造でもよい。
Specific examples of the layer structure of the organic
(1) Organic light emitting layer (2) Hole transport layer / organic light emitting layer (3) Organic light emitting layer / electron transport layer (4) Hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer (5) Hole injection layer / Hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer (6) hole injection layer / hole transport layer / organic light emitting layer / electron transport layer / electron injection layer (7) hole injection layer / hole transport layer / organic Light emitting layer / Hole prevention layer / Electron transport layer (8) Hole injection layer / Hole transport layer / Organic light emitting layer / Hole prevention layer / Electron transport layer / Electron injection layer (9) Hole injection layer / Hole Transport layer / electron prevention layer / organic light emitting layer / hole prevention layer / electron transport layer / electron injection layer Here, organic light emission layer, hole injection layer, hole transport layer, hole prevention layer, electron prevention layer, electron Each layer of the transport layer and the electron injection layer may have a single layer structure or a multilayer structure.
有機発光層74は、以下に例示する有機発光材料のみから構成されていてもよい。もしくは、発光性のドーパントとホスト材料の組み合わせから構成されていてもよい。もしくは、任意に正孔輸送材料、電子輸送材料、添加剤(ドナー、アクセプター等)等を含んでいてもよい。もしくは、これらの材料が高分子材料(結着用樹脂)または無機材料中に分散された構成であってもよい。発光効率・寿命の観点からは、ホスト材料中に発光性のドーパントが分散されたものが好ましい。
The organic
有機発光材料として、有機発光層用の公知の発光材料を用いることができる。このような発光材料は、低分子発光材料、高分子発光材料等に分類され、これらの具体的な化合物を以下に例示する。ただし、本実施形態はこれらの材料に限定されるものではない。また、上記発光材料は、蛍光材料、燐光材料等に分類されるものでもよい。低消費電力化の観点で、発光効率の高い燐光材料を用いる事が好ましい。
ここで、具体的な化合物を以下に例示する。ただし、本発明はこれらの材料に限定されるものではない。
As the organic light emitting material, a known light emitting material for an organic light emitting layer can be used. Such light-emitting materials are classified into low-molecular light-emitting materials, polymer light-emitting materials, and the like, and specific compounds thereof are exemplified below. However, this embodiment is not limited to these materials. The light emitting material may be classified into a fluorescent material, a phosphorescent material, and the like. From the viewpoint of reducing power consumption, it is preferable to use a phosphorescent material having high luminous efficiency.
Here, specific compounds are exemplified below. However, the present invention is not limited to these materials.
発光層に任意に含まれる発光性のドーパントとして、有機発光層用の公知のドーパント材料を用いることができる。このようなドーパント材料としては、例えば、紫外発光材料としては、p-クォーターフェニル、3,5,3,5テトラ-t-ブチルセクシフェニル、3,5,3,5テトラ-t-ブチル-p-クィンクフェニル等の蛍光発光材料等が挙げられる。青色発光材料として、スチリル誘導体等の蛍光発光材料、ビス[(4,6-ジフルオロフェニル)-ピリジナト-N,C2‘]ピコリネート イリジウム(III)(FIrpic)、ビス(4’,6‘-ジフルオロフェニルポリジナト)テトラキス(1-ピラゾイル)ボレート イリジウム(III)(FIr6)等の燐光発光有機金属錯体等が挙げられる。 As the light-emitting dopant optionally contained in the light-emitting layer, a known dopant material for an organic light-emitting layer can be used. As such a dopant material, for example, as an ultraviolet light emitting material, p-quaterphenyl, 3,5,3,5 tetra-t-butylsecphenyl, 3,5,3,5 tetra-t-butyl-p -Fluorescent materials such as quinckphenyl. Fluorescent light-emitting materials such as styryl derivatives, bis [(4,6-difluorophenyl) -pyridinato-N, C2 ′] picolinate iridium (III) (FIrpic), bis (4 ′, 6′-difluorophenyl) And phosphorescent organometallic complexes such as polydinato) tetrakis (1-pyrazolyl) borate iridium (III) (FIr 6 ).
ドーパントを用いる時のホスト材料としては、有機EL用の公知のホスト材料を用いることができる。このようなホスト材料としては、上述した低分子発光材料、高分子発光材料、4,4‘-ビス(カルバゾール)ビフェニル、9,9-ジ(4-ジカルバゾール-ベンジル)フルオレン(CPF)、3,6-ビス(トリフェニルシリル)カルバゾール(mCP)、(PCF)等のカルバゾール誘導体、4-(ジフェニルフォスフォイル)-N,N-ジフェニルアニリン(HM-A1)等のアニリン誘導体、1,3-ビス(9-フェニル-9H-フルオレン-9-イル)ベンゼン(mDPFB)、1,4-ビス(9-フェニル-9H-フルオレン-9-イル)ベンゼン(pDPFB)等のフルオレン誘導体等が挙げられる。 As a host material when using a dopant, a known host material for organic EL can be used. Examples of such host materials include the low-molecular light-emitting materials, the polymer light-emitting materials, 4,4′-bis (carbazole) biphenyl, 9,9-di (4-dicarbazole-benzyl) fluorene (CPF), 3 , 6-bis (triphenylsilyl) carbazole (mCP), carbazole derivatives such as (PCF), aniline derivatives such as 4- (diphenylphosphoyl) -N, N-diphenylaniline (HM-A1), 1,3- And fluorene derivatives such as bis (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) benzene (mDPFB) and 1,4-bis (9-phenyl-9H-fluoren-9-yl) benzene (pDPFB).
電荷注入輸送層は、電荷(正孔、電子)の電極からの注入と発光層への輸送(注入)をより効率よく行う目的で、電荷注入層(正孔注入層、電子注入層)と電荷輸送層(正孔輸送層、電子輸送層)とに分類される。電荷注入輸送層は、以下に例示する電荷注入輸送材料のみから構成されていてもよい。もしくは、電荷注入輸送層は、任意に添加剤(ドナー、アクセプター等)等を含んでいてもよい。これらの材料が高分子材料(結着用樹脂)又は無機材料中に分散された構成であってもよい。 The charge injection / transport layer is used to more efficiently inject charges (holes, electrons) from the electrode and transport (injection) to the light emitting layer, and the charge injection layer (hole injection layer, electron injection layer). It is classified as a transport layer (hole transport layer, electron transport layer). The charge injecting and transporting layer may be composed only of the charge injecting and transporting material exemplified below. Alternatively, the charge injection / transport layer may optionally contain an additive (donor, acceptor, etc.) and the like. A structure in which these materials are dispersed in a polymer material (binding resin) or an inorganic material may be used.
電荷注入輸送材料として、有機発光層用の公知の電荷輸送材料を用いることができる。
このような電荷注入輸送材料は、正孔注入輸送材料及び電子注入輸送材料に分類される。
これらの具体的な化合物を以下に例示する。ただし、本実施形態はこれらの材料に限定されるものではない。
As the charge injecting and transporting material, a known charge transporting material for the organic light emitting layer can be used.
Such charge injection transport materials are classified into hole injection transport materials and electron injection transport materials.
These specific compounds are illustrated below. However, this embodiment is not limited to these materials.
正孔注入・正孔輸送材料としては、例えば、酸化バナジウム(V2O5)、酸化モリブデン(MoO2)等の酸化物、無機p型半導体材料、ポルフィリン化合物、N,N’-ビス(3-メチルフェニル)-N,N’-ビス(フェニル)-ベンジジン(TPD)、N,N’-ジ(ナフタレン-1-イル)-N,N’-ジフェニル-ベンジジン(NPD)等の芳香族第三級アミン化合物、ヒドラゾン化合物、キナクリドン化合物、スチリルアミン化合物等の低分子材料、ポリアニリン(PANI)、ポリアニリン-樟脳スルホン酸(PANI-CSA)、3,4-ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンサルフォネイト(PEDOT/PSS)、ポリ(トリフェニルアミン)誘導体(Poly-TPD)、ポリビニルカルバゾール(PVCz)、ポリ(p-フェニレンビニレン)(PPV)、ポリ(p-ナフタレンビニレン)(PNV)等の高分子材料等が挙げられる。 Examples of the hole injection / hole transport material include oxides such as vanadium oxide (V 2 O 5 ) and molybdenum oxide (MoO 2 ), inorganic p-type semiconductor materials, porphyrin compounds, N, N′-bis (3 -Methylphenyl) -N, N′-bis (phenyl) -benzidine (TPD), N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine (NPD), etc. Low molecular weight materials such as tertiary amine compounds, hydrazone compounds, quinacridone compounds, styrylamine compounds, polyaniline (PANI), polyaniline-camphor sulfonic acid (PANI-CSA), 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonate ( PEDOT / PSS), poly (triphenylamine) derivative (Poly-TPD), polyvinylcarbazole (PVC) z), polymer materials such as poly (p-phenylene vinylene) (PPV), poly (p-naphthalene vinylene) (PNV), and the like.
アノードからの正孔の注入・輸送をより効率よく行う点で、正孔注入層として用いる材料として、正孔輸送層に使用する正孔注入輸送材料より最高被占分子軌道(HOMO)のエネルギー準位が低い材料を用いることが好ましい。正孔輸送層としては、正孔注入層に使用する正孔注入輸送材料より正孔の移動度が高い材料を用いることが好ましい。 As the material used for the hole injection layer, the energy level of the highest occupied molecular orbital (HOMO) is higher than that of the hole injection and transport material used for the hole transport layer in that the injection and transport of holes from the anode is performed more efficiently. It is preferable to use a material having a low position. As the hole transport layer, a material having a higher hole mobility than the hole injection transport material used for the hole injection layer is preferably used.
正孔の注入・輸送性をより向上させるため、正孔注入・輸送材料にアクセプターをドープすることが好ましい。アクセプターとして、有機発光層用の公知のアクセプター材料を用いることができる。これらの具体的な化合物を以下に例示する。ただし、本実施形態はこれらの材料に限定されるものではない。 In order to further improve the hole injection / transport property, it is preferable to dope the hole injection / transport material with an acceptor. As the acceptor, a known acceptor material for the organic light emitting layer can be used. These specific compounds are illustrated below. However, this embodiment is not limited to these materials.
アクセプター材料としては、Au、Pt、W,Ir、POCl3 、AsF6 、Cl、Br、I、酸化バナジウム(V2O5)、酸化モリブデン(MoO2)等の無機材料、TCNQ(7,7,8,8,-テトラシアノキノジメタン)、TCNQF4 (テトラフルオロテトラシアノキノジメタン)、TCNE(テトラシアノエチレン)、HCNB(ヘキサシアノブタジエン)、DDQ(ジシクロジシアノベンゾキノン)等のシアノ基を有する化合物、TNF(トリニトロフルオレノン)、DNF(ジニトロフルオレノン)等のニトロ基を有する化合物、フルオラニル、クロラニル、ブロマニル等の有機材料が挙げられる。このうち、TCNQ、TCNQF4 、TCNE、HCNB、DDQ等のシアノ基を有する化合物がキャリア濃度をより効果的に増加させることができるため、より好ましい。 Acceptor materials include Au, Pt, W, Ir, POCl 3 , AsF 6 , Cl, Br, I, vanadium oxide (V 2 O 5 ), molybdenum oxide (MoO 2 ), and other inorganic materials, TCNQ (7, 7 , 8,8, -tetracyanoquinodimethane), TCNQF 4 (tetrafluorotetracyanoquinodimethane), TCNE (tetracyanoethylene), HCNB (hexacyanobutadiene), DDQ (dicyclodicyanobenzoquinone), etc. And compounds having a nitro group such as TNF (trinitrofluorenone) and DNF (dinitrofluorenone), and organic materials such as fluoranyl, chloranil and bromanyl. Among these, compounds having a cyano group such as TCNQ, TCNQF 4 , TCNE, HCNB, DDQ and the like are more preferable because they can increase the carrier concentration more effectively.
電子注入・電子輸送材料として、例えば、n型半導体である無機材料、オキサジアゾール誘導体、トリアゾール誘導体、チオピラジンジオキシド誘導体、ベンゾキノン誘導体、ナフトキノン誘導体、アントラキノン誘導体、ジフェノキノン誘導体、フルオレノン誘導体、ベンゾジフラン誘導体等の低分子材料;ポリ(オキサジアゾール)(Poly-OXZ)、ポリスチレン誘導体(PSS)等の高分子材料が挙げられる。特に、電子注入材料としては、特にフッ化リチウム(LiF)、フッ化バリウム(BaF2)等のフッ化物、酸化リチウム(Li2O)等の酸化物等が挙げられる。 Examples of electron injection / electron transport materials include inorganic materials that are n-type semiconductors, oxadiazole derivatives, triazole derivatives, thiopyrazine dioxide derivatives, benzoquinone derivatives, naphthoquinone derivatives, anthraquinone derivatives, diphenoquinone derivatives, fluorenone derivatives, benzodifuran derivatives, etc. And low molecular weight materials; polymer materials such as poly (oxadiazole) (Poly-OXZ) and polystyrene derivatives (PSS). In particular, examples of the electron injection material include fluorides such as lithium fluoride (LiF) and barium fluoride (BaF 2 ), and oxides such as lithium oxide (Li 2 O).
電子のカソードからの注入・輸送をより効率よく行う点で、電子注入層として用いる材料としては、電子輸送層に使用する電子注入輸送材料より最低空分子軌道(LUMO)のエネルギー準位が高い材料を用いることが好ましい。電子輸送層として用いる材料として、電子注入層に使用する電子注入輸送材料より電子の移動度が高い材料を用いることが好ましい。 The material used for the electron injection layer is a material having an energy level of the lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) higher than that of the electron injection / transport material used for the electron transport layer, in order to more efficiently inject and transport electrons from the cathode. Is preferably used. As the material used for the electron transport layer, a material having higher electron mobility than the electron injection transport material used for the electron injection layer is preferably used.
電子の注入・輸送性をより向上させるため、電子注入・輸送材料にドナーをドープすることが好ましい。ドナーとしては、有機発光層用の公知のドナー材料を用いることができる。これらの具体的な化合物を以下に例示する。ただし、本実施形態はこれらの材料に限定されるものではない。 In order to further improve the electron injection / transport property, it is preferable to dope the electron injection / transport material with a donor. As the donor, a known donor material for an organic light emitting layer can be used. These specific compounds are illustrated below. However, this embodiment is not limited to these materials.
ドナー材料として、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Al、Ag、Cu、In等の無機材料、アニリン類、フェニレンジアミン類、ベンジジン類(N,N,N’,N’-テトラフェニルベンジジン、N,N’-ビス-(3-メチルフェニル)-N,N’-ビス-(フェニル)-ベンジジン、N,N’-ジ(ナフタレン-1-イル)-N,N’-ジフェニル-ベンジジン等)、トリフェニルアミン類(トリフェニルアミン、4,4’4''-トリス(N,N-ジフェニル-アミノ)-トリフェニルアミン、4,4’4''-トリス(N-3-メチルフェニル-N-フェニル-アミノ)-トリフェニルアミン、4,4’4''-トリス(N-(1-ナフチル)-N-フェニル-アミノ)-トリフェニルアミン等)、トリフェニルジアミン類(N,N’-ジ-(4-メチル-フェニル)-N,N’-ジフェニル-1,4-フェニレンジアミン)等の芳香族3級アミンを骨格にもつ化合物、フェナントレン、ピレン、ペリレン、アントラセン、テトラセン、ペンタセン等の縮合多環化合物(ただし、縮合多環化合物は置換基を有してもよい)、TTF(テトラチアフルバレン)類、ジベンゾフラン、フェノチアジン、カルバゾール等の有機材料が挙げられる。このうち、特に芳香族3級アミンを骨格にもつ化合物、縮合多環化合物、アルカリ金属がキャリア濃度をより効果的に増加させることができるため、より好ましい。 Donor materials include inorganic materials such as alkali metals, alkaline earth metals, rare earth elements, Al, Ag, Cu, In, anilines, phenylenediamines, benzidines (N, N, N ′, N′-tetraphenylbenzidine N, N′-bis- (3-methylphenyl) -N, N′-bis- (phenyl) -benzidine, N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine Etc.), triphenylamines (triphenylamine, 4,4′4 ″ -tris (N, N-diphenyl-amino) -triphenylamine, 4,4′4 ″ -tris (N-3-methyl) Phenyl-N-phenyl-amino) -triphenylamine, 4,4′4 ″ -tris (N- (1-naphthyl) -N-phenyl-amino) -triphenylamine, etc.), triphenyldiamine Compounds having aromatic tertiary amine skeleton such as (N, N'-di- (4-methyl-phenyl) -N, N'-diphenyl-1,4-phenylenediamine), phenanthrene, pyrene, perylene, anthracene And condensed polycyclic compounds such as tetracene and pentacene (however, the condensed polycyclic compound may have a substituent), TTF (tetrathiafulvalene) s, dibenzofuran, phenothiazine, carbazole, and other organic materials. Among these, a compound having an aromatic tertiary amine as a skeleton, a condensed polycyclic compound, and an alkali metal are more preferable because they can increase the carrier concentration more effectively.
発光層、正孔輸送層、電子輸送層、正孔注入層および電子注入層等の有機発光層は、上記の材料を溶剤に溶解、分散させた有機発光層形成用の塗液を用いて、スピンコーティング法、ディッピング法、ドクターブレード法、吐出コート法、スプレーコート法等の塗布法、インクジェット法、凸版印刷法、凹版印刷法、スクリーン印刷法、マイクログラビアコート法等の印刷法等による公知のウェットプロセス、上記の材料を抵抗加熱蒸着法、電子線(EB)蒸着法、分子線エピタキシー(MBE)法、スパッタリング法、有機気相蒸着(OVPD)法等の公知のドライプロセス、または、レーザー転写法等により形成することができる。なお、ウェットプロセスにより有機発光層を形成する場合には、有機発光層形成用の塗液は、レベリング剤、粘度調整剤等の塗液の物性を調整するための添加剤を含んでいてもよい。 An organic light emitting layer such as a light emitting layer, a hole transport layer, an electron transport layer, a hole injection layer and an electron injection layer is prepared by using a coating liquid for forming an organic light emitting layer in which the above materials are dissolved and dispersed in a solvent. Known coating methods such as spin coating method, dipping method, doctor blade method, discharge coating method, spray coating method, ink jet method, letterpress printing method, intaglio printing method, screen printing method, printing method such as microgravure coating method, etc. Wet processes, known dry processes such as resistance heating vapor deposition, electron beam (EB) vapor deposition, molecular beam epitaxy (MBE), sputtering, organic vapor deposition (OVPD), etc., or laser transfer It can be formed by a method or the like. When forming the organic light emitting layer by a wet process, the coating liquid for forming the organic light emitting layer may contain additives for adjusting the physical properties of the coating liquid, such as a leveling agent and a viscosity modifier. .
上記の有機発光層74を構成する各層の膜厚は、通常1nm~1000nm程度であるが、10nm~200nmが好ましい。膜厚が10nm未満であると、本来必要とされる物性(電荷の注入特性、輸送特性、閉じ込め特性)が得られない。また、ゴミ等の異物による画素欠陥が生じるおそれがある。また、膜厚が200nmを超えると有機発光層74の抵抗成分により駆動電圧の上昇が生じ、消費電力の上昇に繋がる懸念がある。
The thickness of each layer constituting the organic
発光機能層5として、赤色サブ画素72Rには、有機EL光源71から発する青色光を励起光として赤色光を発光する蛍光体を含む蛍光体層5Rが設けられている。同様に、緑色サブ画素72Gには、有機EL光源71から発する青色光を励起光として緑色光を発光する蛍光体を含む蛍光体層5Gが設けられている。これに対し、青色サブ画素72Bには、有機EL光源71から発する青色光を散乱させて射出させる光散乱層27が設けられている。第1の基板2上のカラーフィルタ26と発光機能層5または光散乱層27との間には気体層6が設けられている。
As the light emitting
本実施形態の有機EL素子70においては、有機EL光源71から射出された青色光が各サブ画素の発光機能層5または光散乱層27に入射する。赤色サブ画素72Rでは、青色光を励起光として発光機能層5Rから赤色光が射出され、赤色光がさらにカラーフィルタ26の赤色カラーフィルタ層26Rを透過し、第1の基板2を介して外部空間に射出される。同様に、緑色サブ画素72Gでは、青色光を励起光として発光機能層5Gから緑色光が射出され、緑色光がさらにカラーフィルタ26の緑色カラーフィルタ層26Gを透過し、第1の基板2を介して外部空間に射出される。一方、青色サブ画素72Bでは、青色光が光散乱層27で散乱し、その青色光がさらにカラーフィルタ26の青色カラーフィルタ層26Bを透過し、第1の基板2を介して外部空間に射出される。各サブ画素72R,72G,72Bでの青色光の強度が適宜調整されることにより、フルカラーの表示が行われる。
In the
本実施形態の有機EL素子70は、光取り出し効率に優れた上記実施形態の発光性基板を備えているため、高輝度の有機EL素子を実現することができる。また、所定の輝度を得るための電力が削減できるため、低消費電力の有機EL素子を実現することができる。
Since the
(有機EL素子の変形例)
上記実施形態の有機EL素子70では、第2の電極75がサブ画素72R,72G,72B毎に分割されていた。この構成に代えて、本変形例の有機EL素子80では、図35に示すように、第2の電極81が全てのサブ画素72R,72G,72Bにわたって共通に設けられている。そのため、第2の電極81は、第2の構造物8を乗り越えるように設けられ、第1の構造物21と第2の構造物8との双方に接触している。
(Modification of organic EL element)
In the
本変形例の有機EL素子80において、第1の構造物21のうち、光反射層23は例えばアルミニウム等の導電性を有する金属で構成されることが望ましい。一方、第2の構造物8は、例えば樹脂材料等の非導電性の材料で構成されることが望ましい。この場合、第1の構造物21を構成する光反射層23と第2の電極81とが電気的に接続されるため、光反射層23が第2の電極81の補助電極として機能する。したがって、第2の電極81が全てのサブ画素にわたって広い面積で形成されていても、第2の電極81の配線抵抗を下げることができる。
In the
[第27実施形態]
以下、本発明の第27実施形態について、図36を用いて説明する。
本実施形態では、上記発光性基板を備えた液晶素子の一例を挙げる。
図36は、本実施形態の液晶素子の断面図である。
[Twenty-seventh embodiment]
Hereinafter, a twenty-seventh embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
In the present embodiment, an example of a liquid crystal element including the light emitting substrate is given.
FIG. 36 is a cross-sectional view of the liquid crystal element of this embodiment.
本実施形態の液晶素子90は、図36に示すように、第1の基板2と、波長選択反射板からなる第2の基板18と、構造物4と、発光機能層5と、気体層6と、カラーフィルタ26と、液晶装置91と、を備えている。本実施形態の液晶素子90は、図15に示した第5変形例の発光性基板を備えている。すなわち、構造物4は、互いに接合された第1の構造物21と第2の構造物8とで構成されている。第1の基板2上の第1の構造物21は、ブラックマトリクスとなる光吸収層22と光反射層23との2層構造を有している。第2の基板18上の第2の構造物8は、光散乱性を有している。
As shown in FIG. 36, the
液晶装置91は、バックライト92と、一対の偏光板93,94と、液晶セル95と、を備えている。液晶セル95は、ガラス基板96と第2の基板18とが所定の間隔をおいてシール材97により貼り合わされた構成を有している。ガラス基板96と第2の基板18とシール材97とに囲まれた空間に液晶98が封入されている。ガラス基板96の第2の基板18との対向面には第1の電極99が設けられている。第2の基板18のガラス基板96との対向面には第2の電極100が設けられている。第1の電極99を覆うように配向膜101が形成されている。第2の電極100を覆うように配向膜102が形成されている。
The
本実施形態の例では、ガラス基板96側にはサブ画素毎に独立した第1の電極99が設けられている。第2の基板18側には全てのサブ画素にわたって共通の第2の電極100が設けられている。ガラス基板96には、サブ画素毎に、図示しない薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor, 以下、TFTと略記する)が設けられている。また、ガラス基板96上には、TFTを駆動するための複数のデータ線、複数の走査線などが設けられている。
In the example of this embodiment, the
バックライト92は、青色光を射出する光源103と導光板104とを備えており、液晶セル95に向けて青色光を照射する。一方の偏光板93は、バックライト92とガラス基板96との間に配置されている。他方の偏光板94は、第2の基板18と第2の電極100との間に配置されている。
The
バックライト92から射出された青色光の透過率は、液晶セル95によってサブ画素72R,72G,72B毎に調整される。液晶セル95を透過した青色光は、各サブ画素72R,72G,72Bの発光機能層5に入射する。赤色サブ画素72Rでは、青色光を励起光として発光機能層5Rから赤色光が射出され、赤色光がさらにカラーフィルタ26の赤色カラーフィルタ層26Rを透過し、第1の基板2を介して外部空間に射出される。同様に、緑色サブ画素72Gでは、青色光を励起光として発光機能層5Gから緑色光が射出され、緑色光がさらにカラーフィルタ26の緑色カラーフィルタ層26Gを透過し、第1の基板2を介して外部空間に射出される。一方、青色サブ画素26Bでは、青色光が光散乱層27で散乱し、その青色光がさらにカラーフィルタ26の青色カラーフィルタ層26Bを透過し、第1の基板2を介して外部空間に射出される。液晶セル95により各サブ画素72R,72G,72Bでの青色光の光量が適宜調整されることにより、画素の色相が変化し、フルカラーの表示が行われる。
The transmittance of the blue light emitted from the
本実施形態の液晶素子90は、光取り出し効率に優れた上記実施形態の発光性基板を備えているため、高輝度の液晶素子を実現することができる。また、所定の輝度を得るための電力が削減できるため、低消費電力の液晶素子を実現することができる。
Since the
[第28実施形態:表示装置]
上記の発光素子や液晶素子の適用例として、図37Aに示す携帯電話機、図37Bに示すテレビ受信装置などの表示装置が挙げられる。
図37Aに示す携帯電話機1000は、本体1001、表示部1002、音声入力部1003、音声出力部1004、アンテナ1005、操作スイッチ1006等を備えており、表示部1002に上記実施形態の発光素子や液晶素子が用いられている。
[Twenty-eighth embodiment: display device]
Application examples of the light-emitting element and the liquid crystal element include display devices such as a mobile phone illustrated in FIG. 37A and a television receiver illustrated in FIG. 37B.
A
図37Bに示すテレビ受信装置1100は、本体キャビネット1101、表示部1102、スピーカー1103、スタンド1104等を備えており、表示部1102に上記実施形態の発光素子や液晶素子が用いられている。
これら携帯電話機1000やテレビ受信装置1100においては、上記実施形態の発光素子や液晶素子が用いられているため、輝度が高く、表示品位に優れた表示装置を実現することができる。
A
In the
[第29実施形態:照明装置]
発光素子の適用例として、例えば、図38Aに示すシーリングライト(照明装置)が挙げられる。図38Aに示すシーリングライト1400は、照明部1401、吊具1402、および電源コード1403等を備えている。照明部1401として、上記実施形態の発光素子が好適に適用できる。本発明の一実施形態に係る発光素子をシーリングライト1400の照明部1401に適用することにより、少ない消費電力で明るく、かつ自在な色調の照明光が得られる。そのため、光演出性の高い照明器具を実現することができる。
[Twenty-ninth embodiment: lighting device]
As an application example of the light-emitting element, for example, a ceiling light (illumination device) illustrated in FIG. 38A can be given. A
発光素子の他の適用例として、例えば、図38Bに示す照明スタンドが挙げられる。図38Bに示す照明スタンド1500は、照明部1501、スタンド1502、電源スイッチ1503、および電源コード1504等を備えている。照明部1501として、上記実施形態の発光素子が好適に適用できる。本発明の一実施形態に係る発光デバイスを照明スタンド1500の照明部1501に適用することにより、少ない消費電力で明るく、かつ自在な色調の照明光が得られる。そのため、光演出性の高い照明器具を実現することができる。
As another application example of the light emitting element, for example, there is a lighting stand shown in FIG. An
本発明は、光学基板およびその製造方法、発光素子、液晶素子、表示装置および照明装置に利用可能である。 The present invention can be used for an optical substrate and a manufacturing method thereof, a light emitting element, a liquid crystal element, a display device, and a lighting device.
1,10,13,15,17,20,25,28,30,32,34,36,38,40,42,45,48,50,52,54…発光性基板(光学基板)、2…第1の基板、3,18…第2の基板、4,43,46…構造物、5,5R,5G,5B…発光機能層(光学層)、6…気体層、7,21…第1の構造物、8…第2の構造物、11…貼り合わせ部材(支持部材)、22…光吸収層、23…光反射層、26…カラーフィルタ、27…光散乱層(光学層)、57…犠牲層、58…第3の基板、70,80…有機EL素子(発光素子)、90…液晶素子、1000…携帯電話機(表示装置)、1100…テレビ受信装置(表示装置)、1400…シーリングライト(照明装置)、1500…照明スタンド(照明装置)。
1, 10, 13, 15, 17, 20, 25, 28, 30, 32, 34, 36, 38, 40, 42, 45, 48, 50, 52, 54 ... luminous substrate (optical substrate), 2 ...
Claims (20)
前記第1の基板から所定の間隔をおいて設けられ、前記第1の基板に向けて光を射出する光学層と、
前記第1の基板と前記光学層との少なくとも一方に接し、前記第1の基板の前記光学層との対向面に沿う方向に所定の間隔をおいて設けられた複数の構造物と、
前記第1の基板と前記光学層との間に設けられた気体層と、が備えられたことを特徴とする光学基板。 A first substrate having optical transparency;
An optical layer provided at a predetermined interval from the first substrate and emitting light toward the first substrate;
A plurality of structures that are in contact with at least one of the first substrate and the optical layer, and are provided at predetermined intervals in a direction along a surface facing the optical layer of the first substrate;
An optical substrate comprising: a gas layer provided between the first substrate and the optical layer.
前記複数層の構造物が、前記第1の基板の前記対向面に接する第1の構造物と、前記光学層に接する第2の構造物と、を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の光学基板。 The structure is composed of a multi-layer structure arranged in the normal direction of the first substrate,
3. The structure according to claim 1, wherein the multi-layer structure includes a first structure in contact with the facing surface of the first substrate and a second structure in contact with the optical layer. An optical substrate according to 1.
前記第1の基板の外縁部に、前記第1の基板の前記対向面に接する支持部材が備えられたことを特徴とする請求項3に記載の光学基板。 The first structure and the second structure are separated from each other;
The optical substrate according to claim 3, wherein a support member that is in contact with the facing surface of the first substrate is provided at an outer edge portion of the first substrate.
前記第1の基板の外縁部および前記光学層の外縁部に、前記第1の基板の前記対向面と前記光学層との各々に接する支持部材が備えられたことを特徴とする請求項11に記載の光学基板。 The structure is in contact with either the opposing surface of the first substrate or the optical layer;
The support member which contacts each of the said opposing surface of the said 1st board | substrate and the said optical layer was provided in the outer edge part of the said 1st board | substrate, and the outer edge part of the said optical layer. The optical substrate as described.
前記構造物の前記第1の基板と接する面とは反対側の面と、前記光学層の前記第1の基板との対向面とは反対側の面と、が略同一平面上にあることを特徴とする請求項1ないし19のいずれか一項に記載の光学基板。 The structure penetrates the optical layer;
The surface of the structure opposite to the surface in contact with the first substrate and the surface of the optical layer opposite to the surface facing the first substrate are on substantially the same plane. The optical substrate according to claim 1, wherein the optical substrate is a substrate.
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