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WO2013047696A1 - エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 - Google Patents

エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置 Download PDF

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WO2013047696A1
WO2013047696A1 PCT/JP2012/074960 JP2012074960W WO2013047696A1 WO 2013047696 A1 WO2013047696 A1 WO 2013047696A1 JP 2012074960 W JP2012074960 W JP 2012074960W WO 2013047696 A1 WO2013047696 A1 WO 2013047696A1
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WO
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epoxy resin
resin composition
mass
general formula
compound
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Ceased
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PCT/JP2012/074960
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English (en)
French (fr)
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弘邦 荻原
文夫 古沢
中村　真也
孝敏 池内
高士 山本
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Definitions

  • the present invention relates to an epoxy resin composition and an electronic component device.
  • curable resins such as epoxy resins have been widely used in fields such as molding materials, laminate and adhesive materials, various electronic and electrical parts, paints and ink materials.
  • epoxy resin cured products are widely used as a sealing material in the field of sealing technology for electronic component elements such as transistors and ICs. This is because the cured epoxy resin is balanced in various properties such as moldability, electrical properties, moisture resistance, heat resistance, mechanical properties, and adhesion to inserts.
  • the glass transition temperature of the cured epoxy resin is increased to about 200 ° C., and high heat resistance can be imparted.
  • a method of using a polyfunctional epoxy resin such as a trisphenolmethane type epoxy resin and a polyfunctional phenol resin such as a trisphenolmethane type phenolic resin in combination is also known as a method for raising the glass transition temperature to about 200 ° C. .
  • Dihydroxynaphthalene aralkylphenol resin is included as an epoxy resin composition for sealing that is less halogen and non-antimony and has good flame resistance without reducing reliability such as moldability, moisture resistance, and high-temperature storage properties. Have been proposed (see, for example, JP 2009-221357 A).
  • a cured product of a conventional composition containing a trisphenolmethane type epoxy resin has a high glass transition temperature, but the elastic modulus is greatly reduced at around 200 ° C.
  • the reliability under a high temperature environment such as 200 ° C. is not sufficient.
  • the present invention comprises an epoxy resin composition having a high glass transition temperature when cured and having a small change in elastic modulus and small mass loss even when used in a high temperature environment, and an element sealed thereby. It is an object to provide an electronic component device.
  • the present inventors have found that a cured product of an epoxy resin composition containing a specific epoxy resin and a specific phenol resin has a high glass transition temperature under a high temperature environment. Also in use, the inventors have found that the change in elastic modulus and the decrease in mass are small and the reliability under a high temperature environment is excellent, and the present invention has been completed. Specifically, it relates to the following.
  • R represents a hydrogen atom
  • n represents an integer of 0 to 10.
  • R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, which may be the same or different.
  • n represents an integer of 0 to 10.
  • R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms.
  • the content of the total amount of the compound represented by the general formula (III) in the total amount of the compound represented by the general formula (II) and the compound represented by the general formula (III) is 10% by mass to 55% by mass. % Of the epoxy resin composition according to ⁇ 1> or ⁇ 2>.
  • An electronic component device comprising an element sealed with the epoxy resin composition according to any one of ⁇ 1> to ⁇ 4>.
  • an epoxy resin composition having a high glass transition temperature when cured and having a small change in elastic modulus and small mass loss even when used in a high temperature environment, and excellent reliability in a high temperature environment.
  • An electronic component device can be provided.
  • 2 is a GPC chart of phenol resin 1.
  • 2 is a GPC chart of phenol resin 2.
  • 3 is a GPC chart of phenol resin 3.
  • the amount of each component in the composition is the amount of each of the plurality of substances present in the composition unless there is a specific indication when there are a plurality of substances corresponding to each component in the composition. It means the total amount.
  • the epoxy resin composition of the present invention comprises (A) an epoxy resin containing a compound represented by the following general formula (I), (B) a phenol resin containing a compound represented by the following general formula (II), and An epoxy resin composition comprising (C) a dihydroxynaphthalene compound containing a compound represented by the general formula (III).
  • the epoxy resin composition of the present invention is solid at room temperature (25 ° C.).
  • the epoxy resin composition used in the present invention contains a compound represented by the following general formula (I) (hereinafter referred to as a trisphenol methane type epoxy resin).
  • R represents a hydrogen atom.
  • n represents an integer of 0 to 10.
  • the epoxy resin composition contains a trisphenol methane type epoxy resin, particularly heat resistance can be improved.
  • the trisphenol methane type epoxy resin has a high aromatic ring content in the resin skeleton and is multifunctional, so that the glass transition temperature of the cured product is high, and in combination with the phenol resin described below, It is considered that a highly reliable resin composition in a high temperature environment can be obtained when a cured product is obtained.
  • R is a hydrogen atom
  • the moldability is excellent.
  • R is a hydrogen atom
  • trade name: EPPN-500 series manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., and trade name: 1032H60 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation are commercially available.
  • N in the formula (I) is an integer of 0 to 10, and preferably an integer of 0 to 8, from the viewpoint of fluidity and moldability.
  • the compound represented by the formula (I) may include a compound represented by the following formula (I-1) used for synthesizing the compound.
  • R represents a hydrogen atom.
  • the compound represented by the formula (I-1) is 5% by mass based on the total mass of the compound represented by the formula (I) and the compound represented by the formula (I-1). It is preferably contained in an amount of from 90 to 90% by mass, more preferably from 10 to 80% by mass, and still more preferably from 20 to 70% by mass.
  • the epoxy equivalent of the trisphenolmethane type epoxy resin represented by the general formula (I) is preferably 100 to 220, and preferably 120 to 200. Is more preferred, More preferably, it is 140 to 185.
  • a general method can be adopted, and for example, it can be measured by a method according to JIS K7236.
  • epoxy resins can be used in combination as long as the effect of using the trisphenolmethane type epoxy resin is not impaired.
  • the epoxy resin that can be used in combination is not particularly limited as long as it is a compound having two or more epoxy groups in one molecule.
  • epoxy resins examples include bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type, naphthalene type, phenol novolac type, cresol novolac type, dihydroxybenzene novolak type, phenol aralkyl type, biphenyl type, dicyclopentadiene type, Examples include glycidyl ester type, glycidyl amine type, hydantoin type, and isocyanurate type. These epoxy resins may be used alone or in combination of two or more with respect to the trisphenolmethane type epoxy resin.
  • the content of the trisphenolmethane type epoxy resin is preferably 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more in the total amount of epoxy resin.
  • the epoxy resin composition used in the present invention contains a compound represented by the following general formula (II) (hereinafter referred to as naphthalenediol aralkyl resin).
  • R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, which may be the same or different.
  • n represents an integer of 0 to 10.
  • naphthalene diol aralkyl resin in combination with the trisphenolmethane type epoxy resin. This is presumably because the naphthalene diol aralkyl resin has a rigid skeleton called a naphthalene ring in the resin skeleton and is multifunctional, so that the glass transition temperature of the cured product is increased.
  • the two hydroxyl groups bonded to the naphthalene ring can increase the molecular chain restraint of the epoxy resin after the curing reaction, and when combined with the epoxy resin described above, when the cured product is obtained It is considered that a highly reliable resin composition in a high temperature environment can be obtained.
  • the trisphenolmethane type epoxy resin since the trisphenolmethane type epoxy resin has a high aromatic ring content and is multifunctional, it can increase the crosslinking density by reacting with the hydroxyl group of naphthalenediol aralkyl resin. Furthermore, the trisphenol methane type epoxy resin can be stacked in the cured product by two hydroxyl groups bonded to the naphthalene ring of the naphthalenediol aralkyl resin, and stacking can be formed by its own naphthalene ring. You can also. It is considered that the molecular chain restraint can be effectively increased by these actions, and the elastic modulus retention at high temperatures can be increased.
  • R 1 in the formula (II) represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms, and is more preferably a hydrogen atom from the viewpoint of elastic modulus retention.
  • N in the formula (II) is preferably an integer of 0 to 10, and preferably an integer of 0 to 8, from the viewpoints of fluidity, moldability and flame retardancy.
  • the compound represented by the general formula (II) is preferably a compound represented by the following formula (IV).
  • R 1 represents a hydrogen atom.
  • n represents an integer of 0 to 10, and the preferred range is the same as in the case of the general formula (II).
  • 1,6-naphthalenediol aralkyl resin represented by the formula (IV) As the 1,6-naphthalenediol aralkyl resin represented by the formula (IV), SN-375, SN-395 (both trade names manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) and the like are available.
  • phenol resins can be used in combination as long as the effect of using the naphthalenediol aralkyl resin is not impaired.
  • Usable phenol resins include those generally used in epoxy resin compositions for sealing, and there is no particular limitation.
  • phenols such as phenol, cresol, resorcinol, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol, aminophenol and / or naphthols such as ⁇ -naphthol, ⁇ -naphthol, dihydroxynaphthalene, and formaldehyde, benzaldehyde, salicylaldehyde
  • Novolak-type phenolic resin obtained by condensation or cocondensation with a compound having an aldehyde group such as an acid catalyst; synthesized from phenols and / or naphthols and dimethoxyparaxylene or bis (methoxymethyl) biphenyl
  • Aralkyl type phenol resins such as phenol aralkyl resin, biphenylene type phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, etc .; phenols and / or naphthols; Dicyclopentadiene-type phenolic resins such as
  • phenolic resins may be used alone or in combination of two or more with respect to the naphthalenediol aralkyl resin.
  • the naphthalenediol aralkyl resin is preferably 50% by mass or more in the total phenolic resin in order to sufficiently obtain the effect of the naphthalenediol aralkyl resin. 80% by mass or more is more preferable.
  • the total amount of (B) phenolic resin containing naphthalenediol aralkyl resin is based on the total amount of (A) epoxy resin containing the above trisphenolmethane type epoxy resin (B) hydroxyl group of phenolic resin and (A) epoxy resin epoxy It is preferable to add them so that the groups are close to equivalent.
  • the ratio of the number of hydroxyl groups in (B) phenol resin (curing agent) to the number of epoxy groups in (A) epoxy resin (number of hydroxyl groups in curing agent / number of epoxy groups in epoxy resin) is not particularly limited. However, it is preferably set in the range of 0.5 to 2 and more preferably in the range of 0.6 to 1.3 in order to keep each unreacted component small. In order to obtain an epoxy resin composition for sealing having excellent moldability, it is more preferably set in the range of 0.8 to 1.2.
  • the epoxy resin composition of the present invention contains a compound represented by the following general formula (III) (hereinafter referred to as a dihydroxynaphthalene compound).
  • R 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 2 carbon atoms.
  • the dihydroxynaphthalene compound is a compound used as a raw material when synthesizing the naphthalenediol aralkyl resin.
  • the epoxy resin composition contains a dihydroxynaphthalene compound
  • the fluidity of the epoxy resin composition can be improved, and the fluidity and heat resistance are adjusted by adjusting the blending ratio with the naphthalenediol aralkyl resin. be able to.
  • the dihydroxynaphthalene compound has a rigid skeleton called a naphthalene ring, and has two hydroxyl groups bonded to the naphthalene ring. Therefore, it is considered that the heat resistance can be maintained while improving the fluidity of the resin composition as compared with other low molecular weight phenol compounds.
  • dihydroxynaphthalene compound examples include 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene, 1,7-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydroxynaphthalene and 2,7-dihydroxynaphthalene.
  • 1,6-dihydroxynaphthalene from the viewpoint of fluidity as a resin composition, it is preferable to use 1,6-dihydroxynaphthalene.
  • the content ratio of the naphthalenediol aralkyl resin and the dihydroxynaphthalene compound is such that the content of the dihydroxynaphthalene compound relative to the total amount of the naphthalenediol aralkyl resin and the dihydroxynaphthalene compound is 10% by mass to 55% from the viewpoint of fluidity and heat resistance.
  • the mass is preferably 20% by mass, and more preferably 20% by mass to 50% by mass.
  • the content ratio of the dihydroxynaphthalene compound with respect to the total amount of the naphthalenediol aralkyl resin and the dihydroxynaphthalene compound can be obtained from the area integral ratio of GPC detected by the differential refractive index detector (RI).
  • the hydroxyl equivalent when the naphthalenediol aralkyl resin represented by the general formula (II) and the dihydroxynaphthalene compound represented by the general formula (III) are combined is preferably 70 to 140, and preferably 80 to 135. More preferably, it is 90 to 130.
  • a general method can be adopted as a method for measuring the hydroxyl equivalent, and for example, it can be measured by a method according to JISK0070.
  • the epoxy resin composition of the present invention preferably contains an antioxidant as necessary in order to prevent oxidation of the resin.
  • An antioxidant is an additive that prevents oxidation of the resin, and the epoxy resin composition containing the epoxy resin and the phenol resin described above can reduce a decrease in elastic modulus at high temperature. By containing an antioxidant in the resin composition, it is possible to suppress a decrease in mass of the cured product when left at high temperature.
  • antioxidants examples include phenolic antioxidants, phosphite antioxidants, sulfur antioxidants, hindered amine antioxidants, and the like. These antioxidants can be used in combination. In particular, it is preferable to contain a phenolic antioxidant. By using a phenolic antioxidant, it is possible to effectively prevent thermal oxidative degradation of the resin. It contains phenolic antioxidants, and if necessary, in combination with other antioxidants such as phosphite antioxidants, sulfur antioxidants, hindered amine antioxidants, etc. Thermal oxidation deterioration can be further effectively suppressed.
  • phenolic antioxidant examples include 1,3,5-tris (3 ′, 5′-di-t-butyl-4′-hydroxybenzyl) isocyanuric acid, 1,1,3-tris (2-methyl) -4-hydroxy-5-t-butylphenyl) butane, 3- (4'-hydroxy-3 ', 5'-di-t-butylphenyl) propionic acid-n-octadecyl, 3- (4'-hydroxy- 3 ′, 5′-di-t-butylphenyl) propionic acid-n-octadecyl, 3,9-bis ⁇ 2- [3- (3-t-butyl-4-hydroxy-5-methylphenyl) propionyloxy] -1,1-dimethylethyl ⁇ 2,4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane, 2-t-butyl-4-methoxyphenol, 3-t-butyl-4-methoxyphenol, 2, 6- -T-buty
  • each of two carbon atoms adjacent to the carbon atom to which the phenolic hydroxyl group is bonded has an organic group having 1 or more carbon atoms.
  • preferred organic groups include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, isopropyl group, t-butyl group and the like.
  • each of the two carbon atoms adjacent to the carbon atom to which the phenolic hydroxyl group is bonded preferably has an organic group containing a tertiary carbon as a substituent.
  • the organic group containing tertiary carbon include a t-butyl group.
  • the phenolic antioxidant may be synthesized and / or prepared by a conventional method, or a commercially available product may be obtained.
  • examples of commercially available antioxidants include, for example, “Yoshinox BB”, “Yoshinox BHT”, “Yoshinox 425” (above, manufactured by API Corporation, trade name), “TTIC”, “TTAD” (above , Product name), “IRGANOX L107” (product name, manufactured by BASF Japan), “AO-20”, “AO-30”, “AO-40”, “AO-50”, “AO-” 50F ”,“ AO-60 ”,“ AO-60G ”,“ AO-70 ”,“ AO-80 ”,“ AO-330 ”(above, trade name, manufactured by ADEKA). These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
  • a compound represented by the following formula (V) having t-butyl groups on both sides of the ortho position of the phenolic hydroxyl group and including four skeletons thereof is more preferable.
  • a compound in which the phenolic hydroxyl group is surrounded by more bulky substituents, has a high steric hindrance, and contains more of its skeleton is expected to have a more reliable effect.
  • AO-60 trade name manufactured by ADEKA.
  • the content of the phenolic antioxidant in the epoxy resin composition of the present invention is not particularly limited as long as the mass reduction inhibiting effect is achieved. However, since a glass transition temperature may be lowered when a large amount of an antioxidant is blended, from the viewpoint of the glass transition temperature (heat resistance) of the epoxy resin composition, the total of 100 parts by mass of the epoxy resin is oxidized.
  • the total amount of the inhibitor is preferably 0.1 to 20 parts by mass, and more preferably 1 to 10 parts by mass.
  • the content rate of the said phenolic antioxidant 0.1 mass part or more, the mass reduction inhibitory effect of hardened
  • phosphite antioxidant examples include triphenyl phosphite, diphenylisodecyl phosphite, phenyl diisodecyl phosphite, 4,4′-butylidene-bis (3-methyl-6-t-butylphenylditridecyl) phos Phyto, cyclic neopentanetetrayl bis (nonylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetrayl bis (dinonylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetrayl tris (nonylphenyl) phosphite, cyclic neopentanetetra Irtris (dinonylphenyl) phosphite, 10- (2,5-dihydroxyphenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide
  • sulfur-based antioxidants examples include tetrakis [methylene-3- (dodecylthio) propionate] methane, dilauryl 3,3′-thiodipropionate, distearyl 3,3′-thiodipropionate, N-cyclohexylthio. Mention may be made of phthalimide and Nn-butylbenzenesulfonamide. These may be used individually by 1 type and may be used in combination of 2 or more type.
  • hindered amine antioxidants include bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) sebacate, bis (1,2,2,6,6-pentamethyl-4-piperidyl) sebacate, 3 -Dodecyl-1- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) pyrrolidine-2,5-dione, N-methyl-3-dodecyl-1- (2,2,6,6-tetramethyl -4-piperidyl) pyrrolidine-2,5-dione, N-acetyl-3-dodecyl-1- (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) pyrrolidine-2,5-dione, poly [ ⁇ 6- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) imino-1,3,5-triazine-2,4-diyne ⁇ ⁇ (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperidyl) imino ⁇ Hexamethylene ⁇ (2, ,
  • the above antioxidant may be used by being melt mixed with an epoxy resin and / or a phenol resin in advance. By previously melt-mixing the antioxidant with the epoxy resin and / or the phenol resin, the antioxidant can be sufficiently dispersed in the resin composition.
  • the molding material of the present invention preferably contains (E) a curing accelerator in order to accelerate the curing reaction.
  • (E) hardening accelerator used by this invention what is generally used with the epoxy resin molding material for sealing is mentioned, There is no limitation in particular.
  • 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 1,5-diazabicyclo [4.3.0] nonene-5, 5,6-dibutylamino-1,8-diazabicyclo [5.4 .0] cycloamidine compounds such as undecene-7 and these compounds include maleic anhydride, 1,4-benzoquinone, 2,5-toluquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethyl Quinones such as benzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl-1,4benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, phenyl-1,4-benzoquinone, ⁇ such as diazophenylmethane, phenol resin, etc.
  • an adduct of a tertiary phosphine and a quinone compound is preferable, and an adduct of triphenylphosphine and benzoquinone is more preferable.
  • an adduct of a cycloamidine compound and a phenol resin is preferable, and a novolak-type phenol resin salt of diazabicycloundecene is more preferable.
  • the total amount of adduct of tertiary phosphine and quinone compound and / or adduct of cycloamidine compound and phenol resin as a curing accelerator is preferably 60% by mass or more, and 80% by mass in the total amount of curing accelerator. The above is more preferable.
  • the tertiary phosphine used for the adduct of the tertiary phosphine and the quinone compound is not particularly limited.
  • the quinone compound used in the adduct of the tertiary phosphine and the quinone compound is not particularly limited, and examples thereof include o-benzoquinone, p-benzoquinone, diphenoquinone, 1,4-naphthoquinone, and anthraquinone. Alternatively, p-benzoquinone is preferable from the viewpoint of storage stability.
  • the curing accelerator include diazabicycloalkenes such as 1,5-diazabicyclo [4.3.0] non-5-ene and 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undec-7-ene.
  • a cycloamidine compound such as a phenol novolak salt of a cycloamidine compound; a cycloamidine compound or a derivative thereof, maleic anhydride, 1,4-benzoquinone, 2,5-toluquinone, 1,4-naphthoquinone, 2,3-dimethylbenzoquinone, 2,6-dimethylbenzoquinone, 2,3-dimethoxy-5-methyl-1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, phenyl-1,4-benzoquinone, etc.
  • ⁇ -bonded compounds such as quinone compounds, diazophenylmethane, and phenolic resins
  • tertiary amine compounds such as benzyldimethylamine, triethanolamine, dimethylaminoethanol, tris (dimethylaminomethyl) phenol and their derivatives
  • 2-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl Imidazole compounds such as -4-methylimidazole and their derivatives
  • tributylphosphine methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, tris (4-methylphenyl) phosphine, tris (4-butylphenyl) phosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine, etc.
  • Organic phosphine compounds molecules obtained by adding compounds having a ⁇ bond such as maleic anhydride, quinone compounds, diazophenylmethane, and phenol resins to these organic phosphine compounds Phosphorus compounds having polarization; tetraphenylboron salts such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, triphenylphosphinetetraphenylborate, 2-ethyl-4-methylimidazoletetraphenylborate, N-methylmorpholine tetraphenylborate and derivatives thereof; Etc.
  • compounds having a ⁇ bond such as maleic anhydride, quinone compounds, diazophenylmethane, and phenol resins
  • Phosphorus compounds having polarization Phosphorus compounds having polarization
  • tetraphenylboron salts such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, triphenylphosphi
  • These compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • an adduct of an organic phosphine and a quinone compound is preferable.
  • the content of the (E) curing accelerator in the epoxy resin composition according to the present invention is not particularly limited as long as a curing acceleration effect is achieved.
  • the total amount of (E) the curing accelerator is 0.1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) epoxy resin. It is preferable to mix at a ratio of 1 to 7 parts by mass.
  • the epoxy resin composition of the present invention preferably contains an inorganic filler as necessary.
  • the inorganic filler can be blended for the purpose of improving the linear expansion coefficient, thermal conductivity, elastic modulus, etc. in the cured product of the epoxy resin composition.
  • inorganic fillers include fused silica, crystalline silica, glass, alumina, calcium carbonate, zirconium silicate, calcium silicate, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, beryllia, zirconia, zircon, fosterite, steatite, Examples include spinel, mullite, titania, talc, clay, mica, and the like, and beads formed by spheroidizing these.
  • inorganic fillers having a flame-retardant effect examples include aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, composite metal hydroxides such as composite hydroxide of magnesium and zinc, zinc borate, and zinc molybdate.
  • fused silica is preferable from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient
  • alumina is preferable from the viewpoint of high thermal conductivity.
  • These inorganic fillers may be used alone or in combination of two or more.
  • the content of the inorganic filler is not particularly limited as long as the effect of the present invention is obtained, but is preferably 50% by mass or more in the epoxy resin composition, and more preferably 60% by mass to 95% by mass from the viewpoint of flame retardancy. 70 mass% to 90 mass% is more preferable.
  • the average particle diameter (D50) of the inorganic filler is preferably 0.1 ⁇ m to 50 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • D50 The average particle diameter of the inorganic filler is preferably 0.1 ⁇ m to 50 ⁇ m, more preferably 10 ⁇ m to 30 ⁇ m.
  • the average particle size is 0.1 ⁇ m or more, an increase in the viscosity of the epoxy resin composition is suppressed, and when the average particle size is 50 ⁇ m or less, separation between the resin component and the inorganic filler can be reduced. Therefore, by setting the average particle size within the above range, it is possible to prevent the cured product from becoming uneven, the cured product characteristics from varying, and the filling ability to narrow gaps from being lowered.
  • the volume average particle diameter (D50) is a particle diameter that is 50% by volume when a volume cumulative distribution curve is drawn from the small diameter side in the particle diameter distribution.
  • the measurement can be performed by dispersing the sample in purified water containing a surfactant and using a laser diffraction particle size distribution analyzer (for example, SALD-3000J manufactured by Shimadzu Corporation).
  • the particle shape of the inorganic filler is preferably spherical rather than square, and the particle size distribution of the inorganic filler is preferably distributed over a wide range.
  • the inorganic filler is blended in an amount of 75% by volume or more with respect to the epoxy resin composition, 70% by weight or more of the inorganic filler is a spherical particle, and the particle size distribution of the inorganic filler is distributed over a wide range of 0.1 ⁇ m to 80 ⁇ m.
  • the specific surface area of the inorganic filler is preferably 0.1m 2 / g ⁇ 10m 2 / g, is 0.5m 2 /g ⁇ 6.0m 2 / g It is more preferable.
  • the epoxy resin composition of the present invention includes, in addition to the above-mentioned epoxy resin, phenol resin, antioxidant, curing accelerator and inorganic filler, a coupling agent, an ion exchanger, a release agent, and stress relaxation exemplified below.
  • Various additives such as an agent, a flame retardant, and a colorant can be contained as necessary.
  • the epoxy resin composition of the present invention is not limited to the following additives, and various additives known in the art may be added as necessary.
  • the epoxy resin composition of the present invention includes various silanes such as epoxy silane, mercapto silane, amino silane, alkyl silane, ureido silane, and vinyl silane as necessary in order to enhance the adhesion between the resin component and the inorganic filler. It is preferable to add a known coupling agent such as a compound, a titanium compound, an aluminum chelate, or an aluminum / zirconium compound.
  • the content of the coupling agent is preferably 0.05% by mass to 5% by mass with respect to the inorganic filler, and more preferably 0.1% by mass to 2.5% by mass.
  • the content is 0.05% by mass or more, the adhesion to the frame can be improved, and when the content is 5% by mass or less, the moldability of the package is improved.
  • These coupling agents may be used alone or in combination of two or more.
  • the epoxy resin composition of this invention contains an anion exchanger as needed.
  • an epoxy resin composition is used as a molding material for sealing, it is preferable to contain an anion exchanger from the viewpoint of improving moisture resistance and high-temperature storage characteristics of an electronic component device including an element to be sealed. .
  • the anion exchanger is not particularly limited, and conventionally known anion exchangers can be used. Examples thereof include hydrotalcites and hydrous oxides of elements selected from magnesium, aluminum, titanium, zirconium and bismuth. These can be used alone or in combination of two or more.
  • release agent In the epoxy resin composition of the present invention, it is preferable to incorporate a release agent in order to give a good release property to the mold during molding.
  • a mold release agent used in this invention, A conventionally well-known thing can be used.
  • release agent examples include carnauba wax, higher fatty acids such as montanic acid and stearic acid, higher fatty acid metal salts, ester waxes such as montanic acid esters, and polyolefin waxes such as polyethylene oxide and non-oxidized polyethylene. These may be used alone or in combination of two or more. Among these, oxidized or non-oxidized polyolefin wax is preferable.
  • the content of the release agent is preferably 0.01% by mass to 10% by mass and more preferably 0.1% by mass to 5% by mass with respect to the epoxy resin.
  • the content of the release agent is 0.01% by mass or more, the effect of releasability is easily obtained, and when the content is 10% by mass or less, the adhesiveness is improved.
  • Stress relaxation agent It is preferable to mix
  • the usable stress relaxation agent is not particularly limited as long as it is a known flexible agent (stress relaxation agent) that is generally used.
  • flexible agents include, for example, thermoplastic elastomers such as silicone, styrene, olefin, urethane, polyester, polyether, polyamide, and polybutadiene; NR (natural rubber), NBR (Acrylonitrile-butadiene rubber), rubber particles such as acrylic rubber, urethane rubber, silicone powder; methyl methacrylate-styrene-butadiene copolymer (MBS), methyl methacrylate-silicone copolymer, methyl methacrylate-butyl acrylate Examples thereof include rubber particles having a core-shell structure such as a copolymer. These may be used alone or in combination of two or more.
  • a flame retardant it is preferable to add a flame retardant to the epoxy resin composition of the present invention as necessary in order to impart flame retardancy.
  • a flame retardant used in this invention For example, the well-known organic or inorganic compound and metal hydroxide containing a halogen atom, an antimony atom, a nitrogen atom, or a phosphorus atom are mentioned. These may be used alone or in combination of two or more.
  • the epoxy resin composition of the present invention can be blended with known colorants such as carbon black, organic dyes, organic pigments, titanium oxide, red lead, bengara and the like.
  • the epoxy resin composition of the present invention can be prepared by any method as long as various raw materials can be uniformly dispersed and mixed.
  • raw materials with a predetermined content ratio are sufficiently mixed by a mixer, etc., then mixed or melt-kneaded by a mixing roll, an extruder, a raking machine, a planetary mixer, etc., cooled, and if necessary.
  • Examples of the method include defoaming and pulverization.
  • a low-pressure transfer molding method is the most common, but an injection molding method, a compression molding method, a dispensing method method, A casting method, a printing method, or the like may be used.
  • the electronic component device of the present invention includes an element sealed with the above-described epoxy resin composition of the present invention.
  • an electronic component device for example, a lead frame, a wired tape carrier, a wiring board, glass, a silicon wafer or other supporting member, an active element such as a semiconductor chip, a transistor, a diode, or a thyristor, and / or a capacitor, a resistor A passive element such as a body or a coil is mounted and sealed with the epoxy resin composition of the present invention.
  • the transfer is performed using the epoxy resin composition of the present invention.
  • DIP Dual Inline Package
  • PLCC Physical Leaded Chip Chip Carrier
  • QFP Quad Flat Package
  • SOP Small Outline Package
  • SOJ Small Outline J-lead package
  • TSOP Thin Small
  • TQFP Thin Quad Flat Package
  • General resin-encapsulated IC TCP (Tape Carrier Package) in which a semiconductor chip connected to a tape carrier with a bump is encapsulated with the epoxy resin composition of the present invention Connected to the wiring formed on the wiring board or glass by wire bonding, flip chip bonding, solder, etc.
  • COB Chip On Board
  • hybrid IC hybrid IC or multi-chip in which active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, thyristors and / or passive elements such as capacitors, resistors and coils are sealed with the epoxy resin composition of the present invention.
  • Chip module An element is mounted on the surface of an organic substrate on which a wiring board connection terminal is formed on the back surface, and the element and the wiring formed on the organic substrate are connected by bump or wire bonding, and then the epoxy resin composition of the present invention And BGA (Ball Grid Array) and CSP (Chip Size Package) in which the elements are sealed.
  • BGA Bit Grid Array
  • CSP Chip Size Package
  • the epoxy resin composition of the present invention has a high glass transition temperature when cured, and has a small elastic modulus and mass reduction at high temperatures, so it is suitable for applications requiring heat resistance, high-temperature operation assurance, etc.
  • a power module package, an in-vehicle package, a semiconductor package that operates even at a high temperature such as SiC, GaN, and the like can be given.
  • the epoxy resin composition of this invention can be used effectively also in a printed wiring board.
  • Epoxy resin / epoxy resin 1 Trisphenol methane type epoxy resin (epoxy resin of general formula (I), 46% content of compound of formula (I-1), n is an integer of 0 to 10, epoxy Equivalent 170, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation (formerly Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name “1032H60”)
  • Epoxy resin 2 Naphthalene all aralkyl epoxy resin (epoxy equivalent 164, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
  • Epoxy resin 3 o-cresol novolac type epoxy resin (epoxy equivalent 195, manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name “ESCN-190-2”)
  • Epoxy resin 4 biphenyl type epoxy resin (epoxy equivalent 196, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation (former Japan Epoxy Resin Co., Ltd., trade name “YX-4000H”))
  • Epoxy resin 5 biphenylene type epoxy resin (epoxy equivalent 273, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name “NC-3000”)
  • Phenol resin / phenol resin 1 phenol resin of the above general formula (II) containing 30% of 1,6-dihydroxynaphthalene (n is an integer of 0 to 10, R 1 is hydrogen atom, hydroxyl group equivalent) 110, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd. (formerly Toto Kasei Co., Ltd.), trade name “SN-395”, lot number: 71101))
  • Phenol resin 2 A phenol resin of the above general formula (II) containing 47% of 1,6-dihydroxynaphthalene (n is an integer of 0 to 10, R 1 is a hydrogen atom, hydroxyl group equivalent 100, Nippon Steel Chemical Co., Ltd.
  • -Phenolic resin 3 phenolic resin of the above general formula (II) containing 60% 1,6-dihydroxynaphthalene (n is an integer of 0 to 10, R 1 is a hydrogen atom, hydroxyl equivalent 99, Nippon Steel Made by Chemical Co., Ltd.
  • Phenol resin 4 Trisphenol methane type phenol resin (hydroxyl equivalent 103, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd., trade name “MEH-7500”) -Phenol resin 5: Phenol novolac type phenol resin (hydroxyl equivalent 106, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd., trade name "HP-850N”) Phenol resin 6: Biphenylene dimethylene type phenol resin (hydroxyl equivalent 199, Air Water Co., Ltd. (formerly Air Water Chemical Co., Ltd., trade name “HE200C-10”))
  • the content of 1,6-dihydroxynaphthalene contained in phenol resin 1, phenol resin 2 and phenol resin 3 was measured using gel permeation chromatography (GPC).
  • GPC gel permeation chromatography
  • component of the dihydroxynaphthalene compound in the phenol resin is (C) and the other components are (B)
  • the content of component (C) with respect to the total amount of component (B) and component (C) / [ (B) + (C)] was determined and used as the content of the dihydroxynaphthalene compound.
  • Coupling agent Epoxy silane ( ⁇ -glycidoxypropyltrimethoxysilane) Colorant: Carbon Black (Mitsubishi Chemical Corporation, trade name “MA-100”) Mold release agent: Carnauba wax (manufactured by Celerica NODA)
  • Mass retention An epoxy resin composition was molded under the above molding conditions using a mold that was molded into a disk having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm, and after-curing at 250 ° C. for 6 hours, the mass (A 2 ) was measured. Next, it was stored in a high-temperature bath at 250 ° C., taken out after a predetermined time (1008 h), and mass (B 2 ) was measured.
  • the mass retention rate excludes the mass of the inorganic filler from the total mass of the epoxy resin composition, uses the mass (A 2 ) and the mass (B 2 ), and converts to the resin content to obtain the following mathematical formula (2). I asked more. Tables 1 and 2 show the evaluation results of the mass retention rate.
  • Mass retention (%) (B 2 -mass of inorganic filler in epoxy resin composition) / (A 2 -mass of inorganic filler in epoxy resin composition) ⁇ 100 Formula (2)
  • Examples 1 to 9 using the epoxy resin composition of the present invention showed a higher glass transition temperature than Comparative Examples 1 to 8, and were left in a high temperature environment of 250 ° C. Later, the decrease in mass is small (high weight retention) and excellent reliability. From the above results, it can be seen that the combination of the trisphenolmethane type epoxy resin and naphthalenediol aralkyl resin specified in the present invention is important. Moreover, it turns out that the epoxy resin composition of this invention can provide the semiconductor device suitable for use in a high temperature environment, when it is set as a hardened
  • Comparative Example 3 uses a trisphenol methane type phenol resin, the glass transition temperature does not increase even when a naphthalene diol aralkyl type epoxy resin is used as the epoxy resin. This is because when a part of the trisphenolmethane phenol resin reacts with the epoxy resin, steric hindrance occurs, and the adjacent phenolic hydroxyl group is inhibited from reacting with the epoxy resin. As a result, it is considered that the crosslinking density does not increase and the glass transition temperature does not increase.
  • Examples 5 to 8 to which the antioxidant was added had less weight loss after being left in a high temperature environment (250 ° C.).
  • Examples 1 to 8 using phenol resins 1 and 2 in which the content of the dihydroxynaphthalene compound with respect to the total amount of the naphthalenediol aralkyl resin and the dihydroxynaphthalene compound is within the range of 10% by mass to 55% by mass are 55% by mass. It can be seen that the glass transition temperature and the elastic modulus retention ratio are superior to those of Example 9 using the phenol resin 3 contained in excess of%.

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Abstract

　下記一般式（Ｉ）で示される化合物を含有する（Ａ）エポキシ樹脂と、下記一般式（II）で示される化合物を含有する（Ｂ）フェノール樹脂と、下記一般式（III）で示される化合物を含有する（Ｃ）ジヒドロキシナフタレン化合物と、を含有するエポキシ樹脂組成物。式（Ｉ）中、Ｒは水素原子を示し、ｎは０～１０の整数を示す。式（II）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～２のアルコキシ基を示し、互いに同一であっても異なってもよく、ｎは０～１０の整数を示す。式（III）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～２のアルコキシ基を示す。

Description

エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置
　本発明は、エポキシ樹脂組成物及び電子部品装置に関する。
　従来から、成形材料、積層板用及び接着剤用材料、各種電子電気部品、塗料及びインキ材料等の分野において、エポキシ樹脂等の硬化性樹脂が広く使用されている。特に、トランジスタ、ＩＣ等の電子部品素子の封止技術に関する分野では、封止材料としてエポキシ樹脂硬化物が広く使用されている。その理由としては、エポキシ樹脂硬化物は、成形性、電気特性、耐湿性、耐熱性、機械特性、インサート品との接着性等の諸特性においてバランスがとれているためである。
　一方、近年、電子部品の分野では高速化及び高密度化が進んでおり、それに伴って、電子部品の発熱が顕著となってきている。車載用途などの高温環境下で動作する電子部品も増加している。そのため、電子部品に使用されるプラスチック、特にエポキシ樹脂硬化物には、高温環境下での使用においても室温と比較して物性の変化が小さいこと等、高温環境下での使用に関して信頼性向上の要求が高まっている。
　ここで、高温環境下での信頼性向上方法としては、ガラス転移温度を上昇させる方法がある。ガラス転移温度を上昇させる手法として、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂とフェノールノボラックを併用する方法等が報告されている（例えば、最新半導体・ＬＥＤにおける封止技術を材料開発大全集（技術情報協会）、２２－２４（２００６年）参照）。この方法によれば、エポキシ樹脂硬化物のガラス転移温度を約２００℃付近まで高め、高い耐熱性を付与することが可能であるとされている。また、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂などの多官能型エポキシ樹脂とトリスフェノールメタン型フェノール樹脂などの多官能フェノール樹脂を併用する方法も、ガラス転移温度を約２００℃付近まで高める方法として知られている。
　また、ＢＧＡパッケージにおける反りが小さく、かつ室温（２５℃）～リフロー温度における反りの温度変化が小さく、２次実装時の不良が少なく、また流動性が良好でボイドや金線流れといった不良の発生も少なく、かつ成形性や耐湿性、高温放置特性等の信頼性を低下させずにノンハロゲン、ノンアンチモンで難燃性が良好な封止用エポキシ樹脂組成物として、ジヒドロキシナフタレンアラルキルフェノール樹脂を含有するものが提案されている（例えば、特開２００９－２２１３５７号公報参照。）。
　しかしながら、本発明者らが検討を進めた結果、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂を含有する従来の組成物の硬化物はガラス転移温度が高いものの、２００℃付近では弾性率が大きく低下するために、例えば、２００℃のような高温環境下での信頼性が充分とは言えないことが判明した。市場では、高温環境下での使用においても硬化物の物性変化の少ない信頼性に優れるエポキシ樹脂組成物が強く望まれている。
　そこで本発明は、硬化物としたときにガラス転移温度が高く、高温環境下で使用した場合でも弾性率の変化及び質量減少が小さいエポキシ樹脂組成物及びそれにより封止された素子を備えてなる電子部品装置を提供することを課題とする。
　本発明者らは上記の課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定のエポキシ樹脂と特定のフェノール樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物の硬化物は、ガラス転移温度が高く、高温環境下での使用においても、弾性率の変化、質量減少が小さく、高温環境下での信頼性に優れることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、以下に関する。
＜１＞　下記一般式（Ｉ）で示される化合物を含有する（Ａ）エポキシ樹脂と、
　下記一般式（II）で示される化合物を含有する（Ｂ）フェノール樹脂と、
　下記一般式（III）で示される化合物を含有する（Ｃ）ジヒドロキシナフタレン化合物と、
　を含有するエポキシ樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 
〔式（Ｉ）中、Ｒは水素原子を示し、ｎは０～１０の整数を示す。〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 
〔式（II）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～２のアルコキシ基を示し、互いに同一であっても異なってもよい。ｎは０～１０の整数を示す。〕
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 
〔式（III）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～２のアルコキシ基を示す。〕
＜２＞　前記一般式（II）で示される化合物が、下記一般式（IV）で表されるフェノール樹脂を含む前記＜１＞に記載のエポキシ樹脂組成物。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
 
〔式（IV）中、Ｒ１は水素原子を示し、ｎは０～１０の整数を示す。〕
＜３＞　前記一般式（II）で示される化合物と前記一般式（III）で示される化合物の総量中の前記一般式（III）で示される化合物の総量の含有率が１０質量％～５５質量％である前記＜１＞又は＜２＞に記載のエポキシ樹脂組成物。
＜４＞　更に、酸化防止剤を含有する前記＜１＞～＜３＞のいずれか１項に記載のエポキシ樹脂組成物。
＜５＞　前記＜１＞～＜４＞のいずれか１項に記載のエポキシ樹脂組成物によって封止された素子を備える電子部品装置。
　本発明によれば、硬化物としたときにガラス転移温度が高く、高温環境下での使用においても弾性率の変化及び質量減少が小さいエポキシ樹脂組成物、および高温環境下での信頼性に優れる電子部品装置を提供することができる。
フェノール樹脂１のＧＰＣチャートである。 フェノール樹脂２のＧＰＣチャートである。 フェノール樹脂３のＧＰＣチャートである。
　以下、本発明について詳細に説明する。
　なお、本明細書において「～」は、その前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示すものとする。また、本明細書において組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合には、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。
＜エポキシ樹脂組成物＞
　本発明のエポキシ樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）で示される化合物を含有する（Ａ）エポキシ樹脂と、下記一般式（II）で示される化合物を含有する（Ｂ）フェノール樹脂と、下記一般式（III）で示される化合物を含有する（Ｃ）ジヒドロキシナフタレン化合物と、を含有するエポキシ樹脂組成物である。本発明のエポキシ樹脂組成物は、室温（２５℃）において固形である。
　以下、本発明のエポキシ樹脂組成物を構成する各成分について説明する。
〔（Ａ）エポキシ樹脂〕
　本発明に用いるエポキシ樹脂組成物は、下記一般式（Ｉ）で示される化合物（以下、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂と記載する。）を含有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
 
　式（Ｉ）中、Ｒは水素原子を示す。ｎは０～１０の整数を示す。
　エポキシ樹脂組成物がトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂を含有することにより、特に耐熱性を向上させることが可能となる。トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂は、樹脂骨格に占める芳香族環含有率が高く、かつ多官能であることから、硬化物のガラス転移温度が高くなり、さらに以下に説明するフェノール樹脂との組合せにより、硬化物としたときに高温環境下における信頼性の高い樹脂組成物を得ることができるものと考えられる。
　前記一般式（Ｉ）においてＲが水素原子の場合、成形性に優れる。Ｒが水素原子である上記化合物としては、例えば日本化薬株式会社製の商品名：ＥＰＰＮ－５００シリーズ、三菱化学株式会社製の商品名：１０３２Ｈ６０が市販品として入手可能である。
　式（Ｉ）におけるｎは、流動性および成形性の観点から、０～１０の整数であり、０～８の整数であることが好ましい。
　なお、式（Ｉ）で示される化合物は、これを合成する際に用いる下記式（Ｉ－１）で示される化合物を含んでいてもよい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
　式（Ｉ－１）中、Ｒは水素原子を示す。
　流動性及び耐熱性の観点から、式（Ｉ－１）で示される化合物は、式（Ｉ）で示される化合物及び式（Ｉ－１）で示される化合物の総質量に対して、５質量％～９０質量％含むことが好ましく、１０質量％～８０質量％含むことがより好ましく、２０質量％～７０質量％含むことが更に好ましい。
　前記一般式（Ｉ）で示されるトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂（上記一般式（Ｉ－１で示される化合物を含む）のエポキシ当量は、１００～２２０であることが好ましく、１２０～２００であることがより好ましく、
１４０～１８５であることがさらに好ましい。
　前記エポキシ当量の測定方法は、一般的な方法を採用することができ、例えば、ＪＩＳ　Ｋ７２３６に準じた方法によって測定することができる。
　また、本発明では、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂を用いる効果を損なわない範囲で、他のエポキシ樹脂を併用することができる。併用可能なエポキシ樹脂としては、１分子中に２個以上のエポキシ基を有する化合物であればよく、特に限定されるものではない。
　併用可能なエポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型、ビスフェノールＦ型、ビスフェノールＳ型、ナフタレン型、フェノールノボラック型、クレゾールノボラック型、ジヒドロキシベンゼンノボラック型、フェノールアラルキル型、ビフェニル型、ジシクロペンタジエン型、グリシジルエステル型、グリシジルアミン型、ヒダントイン型、イソシアヌレート型が挙げられる。これらのエポキシ樹脂は、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂に対して、単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　他のエポキシ樹脂を併用する場合の含有率としては、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂が、全エポキシ樹脂量中に、５０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましい。トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂の含有率を上記範囲内とすることで、優れた耐熱性を得ることができる。
〔（Ｂ）フェノール樹脂〕
　本発明に用いるエポキシ樹脂組成物は、下記一般式（II）で示される化合物（以下、ナフタレンジオールアラルキル樹脂と記載する。）を含有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
 
　式（II）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～２のアルコキシ基を示し、互いに同一であっても異なってもよい。ｎは０～１０の整数を示す。
　前記トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂にナフタレンジオールアラルキル樹脂を併用することにより、特に高温時の耐熱性を向上させることが可能となる。これは、ナフタレンジオールアラルキル樹脂が、樹脂骨格中にナフタレン環という剛直な骨格を有し、かつ多官能であるため、硬化物のガラス転移温度が高くなることによるものと考えられる。さらに、ナフタレン環に結合している２個の水酸基によって、硬化反応後、エポキシ樹脂の分子鎖の拘束性を高めることができ、上記に説明したエポキシ樹脂との組合せにより、硬化物としたときに高温環境下における信頼性の高い樹脂組成物を得ることができると考えられる。
　詳細には、前記トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂は、芳香族環含有率が高く、かつ多官能であるため、ナフタレンジオールアラルキル樹脂の水酸基と反応することによって、架橋密度を高めることができる。さらに、ナフタレンジオールアラルキル樹脂のナフタレン環に結合している２個の水酸基によって、前記トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂を硬化物中でスタッキングさせることができ、さらに、自身のナフタレン環によってスタッキングを形成することもできる。これらの作用によって分子鎖の拘束性を効果的に高めることができ、高温時の弾性率保持率を高めることができると考えられる。
　式（II）におけるＲ１は、水素原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～２のアルコキシ基を示し、弾性率保持率性の観点から、水素原子であることがより好ましい。
　式（II）におけるｎは、流動性、成形性および難燃性の観点から、０～１０の整数であることが好ましく、０～８の整数であることが好ましい。
　また、一般式（II）において本発明の効果を達成する観点から、水酸基がナフタレン骨格の１位と６位に結合することが好ましい。したがって、上記一般式（II）で示される化合物は、下記式（IV）で示される化合物であることが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
 
　式（IV）中、Ｒ１は水素原子を示す。ｎは０～１０の整数を示し、好適な範囲は一般式（II）の場合と同様である。
　式（IV）で示される１，６－ナフタレンジオールアラルキル樹脂としては、ＳＮ－３７５、ＳＮ－３９５（ともに新日鐵化学株式会社製商品名）などが入手可能である。
　また、本発明では、ナフタレンジオールアラルキル樹脂を用いる効果を損なわない範囲で、他のフェノール樹脂を併用することができる。使用可能なフェノール樹脂としては、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されているものが挙げられ、特に制限はない。
　例えば、フェノール、クレゾール、レゾルシノール、カテコール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、フェニルフェノール、アミノフェノール等のフェノール類及び／又はα－ナフトール、β－ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類と、ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール樹脂；フェノール類及び／又はナフトール類と、ジメトキシパラキシレン又はビス（メトキシメチル）ビフェニルとから合成されるフェノールアラルキル樹脂、ビフェニレン型フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂；フェノール類及び／又はナフトール類と、ジシクロペンタジエンとから共重合により合成されるジシクロペンタジエン型フェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン型ナフトールノボラック樹脂等のジシクロペンタジエン型フェノール樹脂；トリフェニルメタン型フェノール樹脂；テルペン変性フェノール樹脂；パラキシリレン及び／又はメタキシリレン変性フェノール樹脂；メラミン変性フェノール樹脂；シクロペンタジエン変性フェノール樹脂；これら２種以上を共重合して得たフェノール樹脂が挙げられる。
　これらのフェノール樹脂は、前記ナフタレンジオールアラルキル樹脂に対して、単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。他のフェノール樹脂を併用する場合の含有率としては、前記ナフタレンジオールアラルキル樹脂の効果を充分に得るために、前記ナフタレンジオールアラルキル樹脂が、全フェノール樹脂中で、５０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましい。
　ナフタレンジオールアラルキル樹脂を含む（Ｂ）フェノール樹脂の総量は、前記トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂を含む（Ａ）エポキシ樹脂の総量に対して、（Ｂ）フェノール樹脂の水酸基と（Ａ）エポキシ樹脂のエポキシ基とが等当量に近くなるように添加することが好ましい。
　具体的には、（Ａ）エポキシ樹脂中のエポキシ基数に対する（Ｂ）フェノール樹脂（硬化剤）中の水酸基数の比（硬化剤中の水酸基数／エポキシ樹脂中のエポキシ基数）は、特に制限はないが、それぞれの未反応分を少なく抑えるために０．５～２の範囲に設定されることが好ましく、０．６～１．３がより好ましい。成形性に優れる封止用エポキシ樹脂組成物を得るためには０．８～１．２の範囲に設定されることがさらに好ましい。
〔（Ｃ）ジヒドロキシナフタレン化合物〕
　本発明のエポキシ樹脂組成物は、下記一般式（III）で示される化合物（以下、ジヒドロキシナフタレン化合物と記載する。）を含有する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
 
　式（III）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～２のアルコキシ基を示す。
　ジヒドロキシナフタレン化合物は、前記ナフタレンジオールアラルキル樹脂を合成する際の原料として使用される化合物である。エポキシ樹脂組成物がジヒドロキシナフタレン化合物を含有することにより、エポキシ樹脂組成物の流動性を向上することができ、ナフタレンジオールアラルキル樹脂との配合比率を調整することで、流動性と耐熱性を調整することができる。なお、ナフタレンジオールアラルキル樹脂と同様に、ジヒドロキシナフタレン化合物はナフタレン環という剛直な骨格を有し、ナフタレン環に結合している２個の水酸基を有している。そのため、その他の低分子のフェノール化合物などと比較して、樹脂組成物の流動性を向上しつつ、耐熱性を維持できると考えられる。
　ジヒドロキシナフタレン化合物として具体的には、１，５－ジヒドロキシナフタレン、１，６－ジヒドロキシナフタレン、１，７－ジヒドロキシナフタレン、２，６－ジヒドロキシナフタレン、２，７－ジヒドロキシナフタレンなどを挙げることができる。特に、樹脂組成物としての流動性の観点から、１，６－ジヒドロキシナフタレンを使用するのが好ましい。
　前記ナフタレンジオールアラルキル樹脂と前記ジヒドロキシナフタレン化合物の含有比率は、前記ナフタレンジオールアラルキル樹脂及び前記ジヒドロキシナフタレン化合物の総量に対する前記ジヒドロキシナフタレン化合物の含有率が、流動性及び耐熱性の観点から１０質量％～５５質量％であることが好ましく、２０質量％～５０質量％であることがより好ましい。ジヒドロキシナフタレン化合物の含有率を１０質量％以上とすることで、流動性が向上し、５５質量％以下とすることで優れた耐熱性（高Ｔｇ）が得られやすくなる。
　ここで、ナフタレンジオールアラルキル樹脂及びジヒドロキシナフタレン化合物の総量に対するジヒドロキシナフタレン化合物の含有率は、示差屈折率検出器（ＲＩ）で検出したＧＰＣの面積積分比から求めることができる。
　前記一般式（II）で示されるナフタレンジオールアラルキル樹脂及び一般式（III）で示されるジヒドロキシナフタレン化合物を合わせたときの水酸基当量は、７０～１４０であることが好ましく、８０～１３５であることがより好ましく、９０～１３０であることがさらに好ましい。
　前記水酸基当量の測定方法は、一般的な方法を採用することができ、例えば、ＪＩＳＫ００７０に準じた方法によって測定することができる。
〔（Ｄ）酸化防止剤〕
　本発明のエポキシ樹脂組成物には、樹脂の酸化を防ぐために、必要に応じて酸化防止剤を含有することが好ましい。酸化防止剤とは、樹脂の酸化を防ぐ添加剤であり、上述のエポキシ樹脂及びフェノール樹脂を含有するエポキシ樹脂組成物は高温時の弾性率の低下を低減することができるが、更に、これらの樹脂組成物に酸化防止剤を含有させることにより、高温放置下の硬化物の質量低下を抑制できる。
　酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤などが挙げられる。これらの酸化防止剤は併用することもできる。特に、フェノール系酸化防止剤を含有することが好ましい。フェノール系酸化防止剤を用いることにより樹脂の熱酸化劣化を効果的に防止することができる。フェノール系酸化防止剤を含有し、更に、必要に応じて、ホスファイト系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤などのその他の酸化防止剤全般を併用することにより、樹脂の熱酸化劣化をさらに効果的に抑制することができる。
　フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，３，５－トリス（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシベンジル）イソシアヌル酸、１，１，３－トリス（２－メチル－４－ヒドロキシ－５－ｔ－ブチルフェニル）ブタン、３－（４’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）プロピオン酸－ｎ－オクタデシル、３－（４’－ヒドロキシ－３’，５’－ジ－ｔ－ブチルフェニル）プロピオン酸－ｎ－オクタデシル、３，９－ビス｛２－［３－（３－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシ－５－メチルフェニル）プロピオニルオキシ］－１，１－ジメチルエチル｝２，４，８，１０－テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、２－ｔ－ブチル－４－メトキシフェノール、３－ｔ－ブチル－４－メトキシフェノール、２，６－ジ－ｔ－ブチル－４－エチルフェノール、２，２’－メチレン－ビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４，４’－チオビス－（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、４，４’－ブチリデンビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、１，３，５－トリメチル－２，４，６－トリス（３，５－ジ－ｔ－ブチル－４－ヒドロキシベンジル）ベンゼン及びテトラキス－［メチレン－３－（３’，５’－ジ－ｔ－ブチル－４’－ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンが挙げられる。
　フェノール系酸化防止剤は、フェノール性水酸基が結合している炭素原子に隣接する２つの炭素原子各々が、炭素数１以上の有機基を持つことが好ましい。好ましい有機基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、ｔ－ブチル基などが挙げられる。より好ましくは、フェノール性水酸基が結合している炭素原子に隣接する２つの炭素原子各々が、３級炭素を含む有機基を置換基として有することが好ましい。３級炭素を含む有機基として、具体的には、ｔ－ブチル基などが挙げられる。
　フェノール系酸化防止剤は、常法により合成及び／又は調製してもよく、市販品を入手してもよい。入手可能な酸化防止剤の市販品としては、例えば、「ヨシノックスＢＢ」、「ヨシノックスＢＨＴ」、「ヨシノックス４２５」（以上、エーピーアイ　コーポレーション社製、商品名）、「ＴＴＩＣ」、「ＴＴＡＤ」（以上、東レ社製、商品名）、「ＩＲＧＡＮＯＸ　Ｌ１０７」（ＢＡＳＦジャパン社製、商品名）、「ＡＯ－２０」、「ＡＯ－３０」、「ＡＯ－４０」、「ＡＯ－５０」、「ＡＯ－５０Ｆ」、「ＡＯ－６０」、「ＡＯ－６０Ｇ」、「ＡＯ－７０」、「ＡＯ－８０」、「ＡＯ－３３０」（以上、ＡＤＥＫＡ社製、商品名）が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　中でも、フェノール性水酸基のオルト位の両側にｔ－ブチル基を有し、その骨格が４つ含まれる下記式（Ｖ）で示す化合物がより好ましい。フェノール性水酸基がより嵩高い置換基で囲まれ、立体障害が高く、また、その骨格をより多く含んでいる化合物は、より信頼性向上効果が期待される。このような化合物として、ＡＤＥＫＡ社製、商品名「ＡＯ－６０」がある。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
 
　本発明のエポキシ樹脂組成物におけるフェノール系酸化防止剤の含有率は、質量減少抑制効果が達成されれば特に制限はない。しかし、酸化防止剤を多量に配合するとガラス転移温度が低下する場合があることから、エポキシ樹脂組成物のガラス転移温度（耐熱性）の観点からは、エポキシ樹脂の合計１００質量部に対し、酸化防止剤を合計で０．１質量部～２０質量部配合することが好ましく、１質量部～１０質量部配合することがより好ましい。前記フェノール系酸化防止剤の含有率を０．１質量部以上とすることで、硬化物の質量減少抑制効果を充分に得ることができ、また、フェノール系酸化防止剤の含有率を２０質量部以下とすることで、硬化物のガラス転移温度（耐熱性）の低下が抑えられる。
　ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、４，４’－ブチリデン－ビス（３－メチル－６－ｔ－ブチルフェニルジトリデシル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（ノニルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルビス（ジノニルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルトリス（ノニルフェニル）ホスファイト、サイクリックネオペンタンテトライルトリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、１０－（２，５－ジヒドロキシフェニル）－１０Ｈ－９－オキサ－１０－ホスファフェナントレン－１０－オキシド、２，２－メチレンビス（４，６－ジ－ｔ－ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ジイソデシルペンタエリスリトール及びトリス（２，４－ジ－ｔ－ブチルフェニル）ホスファイトが挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　硫黄系酸化防止剤としては、例えば、テトラキス［メチレン－３－（ドデシルチオ）プロピオネート］メタン、ジラウリル３，３’－チオジプロピオネート、ジステアリル３，３’－チオジプロピオネート、Ｎ－シクロヘキシルチオフタルイミド及びＮ－ｎ－ブチルベンゼンスルホンアミドが挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６－ペンタメチル－４－ピペリジル）セバケート、３－ドデシル－１－（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）ピロリジン－２，５－ジオン、Ｎ－メチル－３－ドデシル－１－（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）ピロリジン－２，５－ジオン、Ｎ－アセチル－３－ドデシル－１－（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）ピロリジン－２，５－ジオン、ポリ〔｛６－（１，１，３，３－テトラメチルブチル）イミノ－１，３，５－トリアジン－２，４－ジイン｝｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）イミノ｝〕が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　また、上記の酸化防止剤は、エポキシ樹脂及び／またはフェノール樹脂と予め溶融混合して用いてもよい。酸化防止剤をエポキシ樹脂及び/またはフェノール樹脂と予め溶融混合することによって、樹脂組成物中に酸化防止剤を十分に分散させることができる。
〔（Ｅ）硬化促進剤〕
　本発明の成形材料は、硬化反応を促進するために（Ｅ）硬化促進剤を含有することが好ましい。本発明で用いられる（Ｅ）硬化促進剤としては、封止用エポキシ樹脂成形材料で一般に使用されているものが挙げられ、特に限定はない。
　例えば、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン－５、５，６－ジブチルアミノ－１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン－７等のシクロアミジン化合物及びこれらの化合物に無水マレイン酸、１，４－ベンゾキノン、２，５－トルキノン、１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチルベンゾキノン、２，６－ジメチルベンゾキノン、２，３－ジメトキシ－５－メチル－１，４ベンゾキノン、２，３－ジメトキシ－１，４－ベンゾキノン、フェニル－１，４－ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物；ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール等の三級アミン類及びこれらの誘導体；２－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２―フェニル－４－メチルイミダゾール、２－ヘプタデシルイミダゾール等のイミダゾール類及びこれらの誘導体；トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（４－メチルフェニル）ホスフィン、トリス（４－ブチルフェニル）ホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン類及びこれらのホスフィン類に無水マレイン酸、上記キノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化合物；テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、２－エチル－４－メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、Ｎ－メチルモルホリンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩及びこれらの誘導体；などが挙げられる。これらの１種を単独で用いても２種以上組合せて用いてもよい。 
　なかでも、硬化性及び流動性の観点からは、第三ホスフィンとキノン化合物との付加物が好ましく、トリフェニルホスフィンとベンゾキノンとの付加物がより好ましい。保存安定性の観点からはシクロアミジン化合物とフェノール樹脂との付加物が好ましく、ジアザビシクロウンデセンのノボラック型フェノール樹脂塩がより好ましい。
　硬化促進剤としての第三ホスフィンとキノン化合物との付加物及び／又はシクロアミジン化合物とフェノール樹脂との付加物の総配合量は、硬化促進剤全量中、６０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましい。
　第三ホスフィンとキノン化合物との付加物に用いられる第三ホスフィンとしては特に制限はなく、例えば、トリブチルホスフィン、ジブチルフェニルホスフィン、ブチルジフェニルホスフィン、エチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（４－メチルフェニル）ホスフィン、トリス（４－エチルフェニル）ホスフィン、トリス（４－プロピルフェニル）ホスフィン、トリス（４－ブチルフェニル）ホスフィン、トリス（イソプロピルフェニル）ホスフィン、トリス（ｔ－ブチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，４－ジメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，６－ジメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，４，６－トリメチルフェニル）ホスフィン、トリス（２，６－ジメチル－４－エトキシフェニル）ホスフィン、トリス（４－メトキシフェニル）ホスフィン、トリス（４－エトキシフェニル）ホスフィン等のアリール基を有する第三ホスフィンが挙げられ、成形性の観点からはトリフェニルホスフィンが好ましい。
　また、第三ホスフィンとキノン化合物との付加物に用いられるキノン化合物としては特に制限はないが、例えば、ｏ－ベンゾキノン、ｐ－ベンゾキノン、ジフェノキノン、１，４－ナフトキノン、アントラキノンが挙げられ、耐湿性又は保存安定性の観点からはｐ－ベンゾキノンが好ましい。
　硬化促進剤の具体例として例えば、１，５－ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ－５－エン、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ－７－エン等のジアザビシクロアルケンであるシクロアミジン化合物；シクロアミジン化合物のフェノールノボラック塩等のシクロアミジン化合物誘導体；シクロアミジン化合物又はその誘導体に、無水マレイン酸、１，４－ベンゾキノン、２，５－トルキノン、１，４－ナフトキノン、２，３－ジメチルベンゾキノン、２，６－ジメチルベンゾキノン、２，３－ジメトキシ－５－メチル－１，４－ベンゾキノン、２，３－ジメトキシ－１，４－ベンゾキノン、フェニル－１，４－ベンゾキノン等のキノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂などのπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物；ベンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアミノエタノール、トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール等の３級アミン化合物及びこれらの誘導体；２－メチルイミダゾール、２－フェニルイミダゾール、２－フェニル－４－メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物及びこれらの誘導体；トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（４－メチルフェニル）ホスフィン、トリス（４－ブチルフェニル）ホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン化合物；これらの有機ホスフィン化合物に、無水マレイン酸、上記キノン化合物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化合物；テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレート、２－エチル－４－メチルイミダゾールテトラフェニルボレート、Ｎ－メチルモルホリンテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩及びこれらの誘導体；などが挙げられる。
　これらの化合物は単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。なかでも流動性及び耐湿性の観点からは、有機ホスフィンとキノン化合物との付加物等が好適である。
　本発明によるエポキシ樹脂組成物における（Ｅ）硬化促進剤の含有率は、硬化促進効果が達成されれば特に制限はない。樹脂組成物の吸湿時の硬化性及び流動性における改善の観点からは、（Ａ）エポキシ樹脂の合計１００質量部に対し、（Ｅ）硬化促進剤を合計で０．１質量部～１０質量部の割合で配合することが好ましく、１質量部～７質量部の割合で配合することがより好ましい。（Ｅ）硬化促進剤の含有率を０．１質量部以上とすることで樹脂組成物の硬化が短時間で進みやすくなり、１０質量部以下とすることで適度な硬化速度となり良好な成形品が得られやすくなる。
〔（Ｆ）無機充填剤〕
　本発明のエポキシ樹脂組成物には、無機充填剤を必要に応じて含有することが好ましい。無機充填剤はエポキシ樹脂組成物の硬化物における線膨張係数、熱伝導率又は弾性率等の向上を目的に配合することができる。無機充填剤の具体例として、溶融シリカ、結晶シリカ、ガラス、アルミナ、炭酸カルシウム、ケイ酸ジルコニウム、ケイ酸カルシウム、窒化珪素、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、ベリリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタイト、スピネル、ムライト、チタニア、タルク、クレー、マイカ等の微粉未、及びこれらを球形化したビーズなどが挙げられる。
　難燃効果のある無機充填剤としては、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、マグネシウムと亜鉛の複合水酸化物等の複合金属水酸化物、硼酸亜鉛、モリブデン酸亜鉛が挙げられる。
　これら無機充填剤のなかでも、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカが、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましい。これら無機充填剤は１種を単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
　無機充填剤の含有率は、本発明の効果が得られれば特に制限はないが、エポキシ樹脂組成物中、５０質量％以上が好ましく、６０質量％～９５質量％が難燃性の観点からより好ましく、７０質量％～９０質量％がさらに好ましい。無機充填剤の含有率を５０質量％以上とすることにより硬化物の線膨張係数、熱伝導率又は弾性率などの特性が向上し、９５質量％以下とすることによりエポキシ樹脂組成物の粘度の上昇を低減し、充分な流動性が得られやすく、成形性が向上する。
　無機充填剤の平均粒径（Ｄ５０）は０．１μｍ～５０μｍが好ましく、１０μｍ～３０μｍがより好ましい。前記平均粒径を０．１μｍ以上とすることによりエポキシ樹脂組成物の粘度の上昇が抑えられ、５０μｍ以下とすることにより樹脂成分と無機充墳剤との分離を低減できる。したがって上記平均粒径の範囲内とすることで、硬化物が不均一になったり硬化物特性がばらついたり、狭い隙間への充填性が低下したりすることが防止される。
　なお、体積平均粒子径（Ｄ５０）は、粒子径分布において、小径側から体積累積分布曲線を描いた場合に、累積５０体積％となる粒子径である。測定は、界面活性剤を含んだ精製水に試料を分散させ、レーザー回折式粒度分布測定装置（例えば、(株)島津製作所製ＳＡＬＤ－３０００Ｊ）により行うことができる。
　流動性の観点からは、無機充填剤の粒子形状は角形よりも球形が好ましく、無機充填剤の粒度分布は広範囲に分布したものが好ましい。例えば、エポキシ樹脂組成物に対して無機充填剤を７５体積％以上配合する場合、無機充填剤の７０質量％以上が球状粒子であり無機充填剤の粒度分布が０．１μｍ～８０μｍの広範囲に分布したものであることが好ましい。このような無機充填剤は最密充填構造をとりやすいことから、無機充填剤の含有率を増加させてもエポキシ樹脂組成物の粘度上昇が少なく、流動性に優れたエポキシ樹脂組成物を得ることができる。
　無機充填剤の比表面積は、難燃性および流動性の観点から、０．１ｍ２／ｇ～１０ｍ２／ｇであることが好ましく、０．５ｍ２／ｇ～６．０ｍ２／ｇであることがより好ましい。
〔各種添加剤〕
　本発明のエポキシ樹脂組成物は、上述のエポキシ樹脂、フェノール樹脂、酸化防止剤、硬化促進剤および無機充填剤に加えて、以下に例示するカップリング剤、イオン交換体、離型剤、応力緩和剤、難燃剤、着色剤といった各種添加剤を必要に応じて含有することができる。ただし、本発明のエポキシ樹脂組成物には、以下の添加剤に限定することなく、必要に応じて当技術分野で周知の各種添加剤を追加してもよい。
（カップリング剤）
　本発明のエポキシ樹脂組成物には、樹脂成分と無機充填剤との接着性を高めるために、必要に応じて、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等の各種シラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウムキレート類、アルミニウム／ジルコニウム系化合物等の公知のカップリング剤を添加することが好ましい。
　カップリング剤の含有率は、無機充填剤に対して０．０５質量％～５質量％であることが好ましく、０．１質量％～２．５質量％であることがより好ましい。前記含有率を０．０５質量％以上とすることでフレームとの接着性を向上することができ、５質量％以下とすることでパッケージの成形性が向上する。これらカップリング剤は単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（イオン交換体）
　本発明のエポキシ樹脂組成物は、陰イオン交換体を必要に応じて含有することが好ましい。特にエポキシ樹脂組成物を封止用成形材料として用いる場合には、封止される素子を備える電子部品装置の耐湿性及び高温放置特性を向上させる観点から、陰イオン交換体を含有することが好ましい。
　陰イオン交換体としては特に制限はなく、従来公知のものを用いることができる。例えば、ハイドロタルサイト類や、マグネシウム、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、ビスマスから選ばれる元素の含水酸化物が挙げられる。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
（離型剤）
　本発明のエポキシ樹脂組成物には、成形時に金型との良好な離型性を持たせるため離型剤を配合することが好ましい。本発明において用いられる離型剤としては特に制限はなく従来公知のものを用いることができる。
　離型剤としては例えば、カルナバワックス、モンタン酸、ステアリン酸等の高級脂肪酸、高級脂肪酸金属塩、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス、酸化ポリエチレン、非酸化ポリエチレン等のポリオレフィン系ワックスが挙げられ、これらの１種を単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。これらのなかでも、酸化型又は非酸化型のポリオレフィン系ワックスが好ましい。
　離型剤の含有率は、エポキシ樹脂に対して０．０１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．１質量％～５質量％であることがより好ましい。離型剤の含有率を０．０１質量％以上とすることにより離型性の効果が得られやすくなり、１０質量％以下とすることで接着性が向上する。
（応力緩和剤）
　本発明のエポキシ樹脂組成物には、シリコーンオイル、シリコーンゴム粉末等の応力緩和剤を必要に応じて配合することが好ましい。応力緩和剤を配合することにより、パッケージの反り変形量、パッケージクラックを低減させることができる。
　使用できる応力緩和剤としては、一般に使用されている公知の可とう剤（応力緩和剤）であれば特に限定されるものではない。一般に使用されている可とう剤としては、例えば、シリコーン系、スチレン系、オレフィン系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリエーテル系、ポリアミド系、ポリブタジエン系等の熱可塑性エラストマー；ＮＲ（天然ゴム）、ＮＢＲ（アクリロニトリル－ブタジエンゴム）、アクリルゴム、ウレタンゴム、シリコーンパウダー等のゴム粒子；メタクリル酸メチル－スチレン－ブタジエン共重合体（ＭＢＳ）、メタクリル酸メチル－シリコーン共重合体、メタクリル酸メチル－アクリル酸ブチル共重合体等のコア－シェル構造を有するゴム粒子が挙げられる。これらは単独で用いても２種以上組み合わせて用いてもよい。
（難燃剤）
　本発明のエポキシ樹脂組成物には、難燃性を付与するために必要に応じて難燃剤を配合することが好ましい。本発明において用いられる難燃剤としては特に制限はなく、例えば、ハロゲン原子、アンチモン原子、窒素原子又はリン原子を含む公知の有機若しくは無機の化合物、金属水酸化物が挙げられる。これらは１種を単独で用いても２種以上を組み合わせて用いてもよい。
（着色剤）
　本発明のエポキシ樹脂組成物には、カーボンブラック、有機染料、有機顔料、酸化チタン、鉛丹、ベンガラ等の公知の着色剤を配合することができる。
＜エポキシ樹脂組成物の調製＞
　本発明のエポキシ樹脂組成物は、各種原材料を均一に分散混合できるのであれば、いかなる手法を用いても調製できる。一般的な調製方法として、所定の含有率の原材料をミキサー等によって十分混合した後、ミキシングロール、押出機、らいかい機、プラネタリミキサ等によって混合又は溶融混練した後、冷却し、必要に応じて脱泡、粉砕する方法等を挙げることができる。また、必要に応じて成形条件に合うような寸法及び質量でタブレット化してもよい。
　本発明のエポキシ樹脂組成物を用いて、半導体装置等の電子部品装置を封止する方法としては、低圧トランスファー成形法が最も一般的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法、ディスペンス方式法、注型方式法、印刷方式法等を用いてもよい。
＜電子部品装置＞
　本発明の電子部品装置は、上記の本発明のエポキシ樹脂組成物によって封止された素子を備える。かかる電子部品装置としては、例えば、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材に、半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子、及び／又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を搭載し、それらを本発明のエポキシ樹脂組成物で封止したものが挙げられる。
　より具体的には、例えば、リードフレーム上に半導体素子を固定し、ボンディングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンディングやバンプで接続した後、本発明のエポキシ樹脂組成物を用いてトランスファー成形等によって封止した、ＤＩＰ（Dual Inline Package）、ＰＬＣＣ（Plastic Leaded Chip Carrier）、ＱＦＰ（Quad Flat Package）、ＳＯＰ（Small Outline Package）、ＳＯＪ（Small Outline J-lead package）、ＴＳＯＰ（Thin Small Outline Package）、ＴＱＦＰ（Thin Quad Flat Package）等の一般的な樹脂封止型ＩＣ；テープキャリアにバンプで接続した半導体チップを、本発明のエポキシ樹脂組成物で封止したＴＣＰ（Tape Carrier Package）；配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボンディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子及び／又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を、本発明のエポキシ樹脂組成物で封止したＣＯＢ（Chip On Board）モジュール、ハイブリッドＩＣ又はマルチチップモジュール；裏面に配線板接続用の端子を形成した有機基板の表面に素子を搭載し、バンプ又はワイヤボンディングにより素子と有機基板に形成された配線を接続した後、本発明のエポキシ樹脂組成物で素子を封止したＢＧＡ（Ball Grid Array）、ＣＳＰ（Chip Size Package）；などが挙げられる。
　本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化物としたときに高いガラス転移温度を有し、高温における弾性率及び質量の減少が小さいため、耐熱性、高温動作保証等が要求されている用途に好適に使用することができる。具体的には、パワーモジュールパッケージ、車載用途パッケージ、ＳｉＣ、ＧａＮ等の高温でも動作する半導体のパッケージなどが挙げられる。また、プリント配線板においても本発明のエポキシ樹脂組成物を有効に使用することができる。
　なお、日本出願２０１１－２１５３３８の開示はその全体が参照により本明細書に取り込まれる。
　本明細書に記載された全ての文献、特許出願、および技術規格は、個々の文献、特許出願、および技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。
　以下、実施例によって本発明をより具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、「％」は断りがない限り「質量％」を意味する。
＜エポキシ樹脂組成物の各成分の準備＞
（Ａ）エポキシ樹脂
・エポキシ樹脂１：トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂（上記一般式（Ｉ）のエポキシ樹脂、式（Ｉ－１）の化合物の含有率４６％、ｎは０～１０の整数、エポキシ当量１７０、三菱化学株式会社（旧ジャパンエポキシレジン株式会社）製、商品名「１０３２Ｈ６０」）
・エポキシ樹脂２：ナフタレンジオールアラルキル型エポキシ樹脂（エポキシ当量１６４、新日鐵化学株式会社（旧東都化成株式会社）製、商品名「ＥＳＮ－３５５」）
・エポキシ樹脂３：ｏ－クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（エポキシ当量１９５、住友化学株式会社製、商品名「ＥＳＣＮ－１９０－２」）
・エポキシ樹脂４：ビフェニル型エポキシ樹脂（エポキシ当量１９６、三菱化学株式会社（旧ジャパンエポキシレジン株式会社）製、商品名「ＹＸ－４０００Ｈ」）
・エポキシ樹脂５：ビフェニレン型エポキシ樹脂（エポキシ当量２７３、日本化薬株式会社製、商品名「ＮＣ－３０００」）
（Ｂ）フェノール樹脂
・フェノール樹脂１：１，６－ジヒドロキシナフタレンを３０％含有している、上記一般式（ＩＩ）のフェノール樹脂（ｎは０～１０の整数、Ｒ１は水素原子、水酸基当量１１０、新日鐵化学株式会社製（旧東都化成株式会社）、商品名「ＳＮ－３９５」、ロット番号：７１１０１））
・フェノール樹脂２：１，６－ジヒドロキシナフタレンを４７％含有している、上記一般式（ＩＩ）のフェノール樹脂（ｎは０～１０の整数、Ｒ１は水素原子、水酸基当量１００、新日鐵化学株式会社製（旧東都化成株式会社）、商品名「ＳＮ－３７５」、ロット番号：P-２００３３））
・フェノール樹脂３：１，６－ジヒドロキシナフタレンを６０％含有している、上記一般式（ＩＩ）のフェノール樹脂（ｎは０～１０の整数、Ｒ１は水素原子、水酸基当量９９、新日鐵化学株式会社製（旧東都化成株式会社）、商品名「ＳＮ－３７５」、ロット番号：Ｐ－０９０８１０
・フェノール樹脂４：トリスフェノールメタン型フェノール樹脂（水酸基当量１０３、明和化成株式会社製、商品名「ＭＥＨ－７５００」）
・フェノール樹脂５：フェノールノボラック型フェノール樹脂（水酸基当量１０６、日立化成工業株式会社製、商品名「ＨＰ－８５０Ｎ」）
・フェノール樹脂６：ビフェニレンジメチレン型フェノール樹脂（水酸基当量１９９、エア・ウォーター株式会社（旧エア・ウォーター・ケミカル株式会社）、商品名「ＨＥ２００Ｃ－１０」）
　フェノール樹脂１、フェノール樹脂２及びフェノール樹脂３中に含まれる１，６－ジヒドロキシナフタレンの含有率は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定した。ＧＰＣの条件は以下の通りである。
［ＧＰＣ条件］
・ポンプ：Ｌ６２００　Ｐｕｍｐ（株式会社日立製作所製）
・検出器：示差屈折率検出器Ｌ３３００　ＲＩ　Ｍｏｎｉｔｏｒ（株式会社日立製作所製）
・カラム：ＴＳＫｇｅｌ－Ｇ５０００ＨＸＬとＴＳＫｇｅｌ－Ｇ２０００ＨＸＬ（計２本）（共に東ソー株式会社製）を直列に繋いで使用した。
・溶離液： テトラヒドロフラン
・流量：１ｍｌ／ｍｉｎ
・カラムオーブンの温度：３０℃
［ジヒドロキシナフタレン化合物の含有率］
　フェノール樹脂１、フェノール樹脂２及びフェノール樹脂３のＧＰＣチャートを図１、図２及び図３に示す。図１～図３ともに、１，６－ジヒドロキシナフタレンのピークは２０．５分頃のピークであり、１６分から２０分までのピークは１，６－ナフタレンジオールアラルキル樹脂の混合物である。これから得られたスペクトルの面積％から（Ｃ）ジヒドロキシナフタレン化合物の含有率を求めた。フェノール樹脂中のジヒドロキシナフタレン化合物の成分を（Ｃ）とし、それ以外の成分を（Ｂ）とすると、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分の総量に対する（Ｃ）成分の含有率（Ｃ）／［（Ｂ）＋（Ｃ）］を求め、ジヒドロキシナフタレン化合物の含有率とした。
（Ｄ）酸化防止剤
　ヒンダードフェノール系酸化防止剤（ＡＤＥＫＡ社製　商品名「ＡＯ－６０」）
（Ｅ）（硬化促進剤）
　トリフェニルホスフィンと１，４－ベンゾキノンの付加反応物
（Ｆ）（無機充填剤）
　平均粒径（Ｄ５０）１７．５μｍ、比表面積３．８ｍ２／ｇの球状溶融シリカ
（その他の添加剤）
　カップリング剤：エポキシシラン（γ－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン）
　着色剤：カーボンブラック（三菱化学株式会社製、商品名「ＭＡ－１００」）
　離型剤：カルナバワックス（株式会社セラリカＮＯＤＡ製）
＜エポキシ樹脂組成物の調製＞
　上述の成分をそれぞれ下記表１及び表２に示す質量部で配合し、混練温度８０℃、混練時間１５分の条件でロール混練を行うことによって、それぞれ実施例１～９、比較例１～８のエポキシ樹脂組成物を得た。
＜エポキシ樹脂組成物の成形＞
　次に、実施例１～９、及び比較例１～８によって得たそれぞれのエポキシ樹脂組成物を、以下に示す各試験によって評価し、その結果を表１及び表２に示す。
　なお、エポキシ樹脂組成物の成形は、トランスファー成形機を用いて、金型温度１８０℃、成形圧力６．９ＭＰａ、硬化加熱時間９０秒の条件で行った。
＜評価＞
（ガラス転移温度）
　長さ８０ｍｍ×幅１０ｍｍ×厚さ３ｍｍの試験片を成形する金型を用いて、エポキシ樹脂組成物を上記成形条件で成形して、さらに２５０℃で６時間アフターキュアした。次いで、試験片をダイヤモンドカッターを用いて、長さ５０ｍｍ、幅５ｍｍ、に切断し、粘弾性測定装置ＲＳＡ３（ＴＡインスツルメンツ社製）を用い、３点曲げモードで昇温速度５℃／ｍｉｎ．、周波数６．２８ｒａｄ／ｓの条件で測定した。ｔａｎδピーク値をガラス転移温度とした。ガラス転移温度の測定結果を表１及び表２に示す。
（流動性）
　ＥＭＭＩ－１－６６に準じたスパイラルフロー測定用金型を用いて、封止用エポキシ樹脂組成物をトランスファ成形機により、金型温度１８０℃、成形圧力６．９ＭＰａ、硬化加熱時間９０秒の条件で成形し、流動距離（ｃｍ）を求めた。流動性の測定結果を表１及び表２に示す。
（弾性率保持率）
　弾性率保持率は、上記ガラス転移温度の測定方法と同様の試料を作製し、この試料について粘弾性測定装置ＲＳＡ３（ＴＡインスツルメンツ社製）を用い、３点曲げモードで昇温速度５℃／ｍｉｎ．、周波数６．２８ｒａｄ／ｓの条件で測定した。そして、６０℃時の弾性率（Ａ１）と２５０℃時の弾性率（Ｂ１）値から下記数式（１）により求めた。弾性率保持率の評価結果を表１及び表２に示す。
　弾性率保持率（％）＝Ｂ１／Ａ１×１００　・・・式（１）
（質量保持率）
　直径５０ｍｍ×厚さ３ｍｍの円板に成形する金型を用いて、エポキシ樹脂組成物を上記成形条件で成形して、２５０℃で６時間アフターキュアした後、質量（Ａ２）を測定した。次に、２５０℃の高温槽中に保管し、所定時間（１００８ｈ）後に取り出して質量（Ｂ２）を測定した。質量保持率は、無機充填剤の質量をエポキシ樹脂組成物の総質量から除外し、前記質量（Ａ２）及び前記質量（Ｂ２）を用いて、樹脂分に換算して下記数式（２）より求めた。質量保持率の評価結果を表１及び表２に示す。
　質量保持率（％）＝（Ｂ２－エポキシ樹脂組成物中の無機充填剤の質量）／（Ａ２－エポキシ樹脂組成物中の無機充填剤の質量）×１００　・・・式（２）
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000015
 
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000016
 
　表１及び表２より、本発明のエポキシ樹脂組成物を用いた実施例１～９は、比較例１～８と比較して、高いガラス転移温度を示し、２５０℃の高温環境下に放置した後でも、質量の減少が小さく（重量保持率が高く）信頼性にも優れている。以上の結果から、本発明で規定のトリスフェノールメタン型エポキシ樹脂とナフタレンジオールアラルキル樹脂の組合せが重要であることが分かる。また、本発明のエポキシ樹脂組成物は、硬化物としたときに高温環境下での使用に適した半導体装置を提供することができることがわかる。
　比較例３は、トリスフェノールメタン型フェノール樹脂を用いているため、エポキシ樹脂にナフタレンジオールアラルキル型エポキシ樹脂を用いてもガラス転移温度が上がらない。この理由は、トリスフェノールメタン型フェノール樹脂の一部がエポキシ樹脂と反応すると、立体障害が生じ、隣接するフェノール性水酸基はエポキシ樹脂との反応が阻害される。その結果、架橋密度が上がらず、ガラス転移温度が高くならないためであると考えられる。
　一方で、酸化防止剤を添加した実施例５～８は、高温環境下（２５０℃）に放置した後の重量の低下がより少ないことが分かる。また、ナフタレンジオールアラルキル樹脂及びジヒドロキシナフタレン化合物の総量に対するジヒドロキシナフタレン化合物の含有率が、１０質量％～５５質量％の範囲内であるフェノール樹脂１および２を用いた実施例１～８は、５５質量％を超えて含有するフェノール樹脂３を用いた実施例９に比べて、ガラス転移温度および弾性率保持率においてより優れていることが分かる。

Claims (5)

  1. 　下記一般式（Ｉ）で示される化合物を含有する（Ａ）エポキシ樹脂と、
    　下記一般式（II）で示される化合物を含有する（Ｂ）フェノール樹脂と、
    　下記一般式（III）で示される化合物を含有する（Ｃ）ジヒドロキシナフタレン化合物と、
    　を含有するエポキシ樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     
    〔式（Ｉ）中、Ｒは水素原子を示し、ｎは０～１０の整数を示す。〕
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     
    〔式（II）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～２のアルコキシ基を示し、互いに同一であっても異なってもよい。ｎは０～１０の整数を示す。〕
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
     
    〔式（III）中、Ｒ１は水素原子、炭素数１～６のアルキル基又は炭素数１～２のアルコキシ基を示す。〕
  2. 　前記一般式（II）で示される化合物が、下記一般式（IV）で表されるフェノール樹脂を含む請求項１に記載のエポキシ樹脂組成物。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
     
    〔式（IV）中、Ｒ１は水素原子を示し、ｎは０～１０の整数を示す。〕
  3. 前記一般式（II）で示される化合物と前記一般式（III）で示される化合物の総量中の前記一般式（III）で示される化合物の総量の含有率が１０質量％～５５質量％である請求項１又は請求項２に記載のエポキシ樹脂組成物。
  4. 　更に、酸化防止剤を含有する請求項１～請求項３のいずれか１項に記載のエポキシ樹脂組成物。
  5. 　請求項１～請求項４のいずれか１項に記載のエポキシ樹脂組成物によって封止された素子を備える電子部品装置。
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