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WO2010039008A2 - 플로트 유리의 제조방법 및 이의 제조장치 - Google Patents

플로트 유리의 제조방법 및 이의 제조장치 Download PDF

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WO2010039008A2
WO2010039008A2 PCT/KR2009/005658 KR2009005658W WO2010039008A2 WO 2010039008 A2 WO2010039008 A2 WO 2010039008A2 KR 2009005658 W KR2009005658 W KR 2009005658W WO 2010039008 A2 WO2010039008 A2 WO 2010039008A2
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WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
molten tin
oxygen
gas
chamber
bath
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/KR2009/005658
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English (en)
French (fr)
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WO2010039008A3 (ko
Inventor
나상업
김길호
김양한
오형영
김영식
문원재
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Chem Ltd
Original Assignee
LG Chem Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Priority to US12/677,073 priority patent/US8656739B2/en
Priority to JP2011530004A priority patent/JP5743218B2/ja
Publication of WO2010039008A2 publication Critical patent/WO2010039008A2/ko
Publication of WO2010039008A3 publication Critical patent/WO2010039008A3/ko
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
    • C03B18/02—Forming sheets
    • C03B18/18—Controlling or regulating the temperature of the float bath; Composition or purification of the float bath
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
    • C03B18/02—Forming sheets
    • C03B18/16—Construction of the float tank; Use of material for the float tank; Coating or protection of the tank wall
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B18/00—Shaping glass in contact with the surface of a liquid
    • C03B18/02—Forming sheets
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
    • Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
    • Y02P40/57—Improving the yield, e-g- reduction of reject rates

Definitions

  • the present invention relates to a method of manufacturing a float glass and an apparatus for manufacturing the same, in which the amount of dissolved oxygen in the molten tin bath can be reduced when the glass is floated on the molten tin contained in the molten tin bath.
  • Float glass is manufactured using the conventional float process method.
  • the molten glass is injected into the upper portion of the molten tin having a large specific gravity contained in the molten tin bath to produce a float glass that produces plate glass without irregularities.
  • An object of the present invention is to float dissolved oxygen in the molten tin bath by the oxygen solubility difference according to the temperature and the oxygen of the molten tin by the oxygen removal gas containing hydrogen effectively float glass which can reduce product defects It is to provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus thereof.
  • the present invention relates to a method of manufacturing a float glass in which a glass is floated on a molten tin contained in a molten tin bath to produce a float glass, the method comprising: a) discharging a part of the molten tin of the molten tin bath to the outside of the molten tin bath Doing; b) removing oxygen contained in the molten tin discharged from the molten tin bath, and spraying an oxygen removing gas including hydrogen into the molten tin to remove oxygen contained in the molten tin; And c) returning the molten tin from which the oxygen has been removed to the molten tin bath.
  • the present invention provides a float glass manufacturing apparatus for producing a float glass by floating the glass over the molten tin contained in the molten tin bath, molten tin bath;
  • a discharge line connected to communicate with the inside of the molten tin bath and discharging a part of the molten tin of the molten tin bath to the outside of the molten tin bath;
  • An oxygen removal chamber provided to be connected to the discharge line to receive the molten tin discharged from the molten tin bath through the discharge line;
  • An injector provided inside the oxygen removal chamber and injecting an oxygen removal gas including hydrogen to the molten tin in the oxygen removal chamber; And a return line for returning the molten tin from which oxygen has been removed by the injector to the molten tin bath.
  • the amount of dissolved oxygen in the molten tin bath can be reduced, defects caused by tin oxides such as Tin Drop, Tin Pick-up, and Top Speck, It is possible to reduce Bottom Open Seed.
  • FIG. 1 is a plan view of a molten tin bath according to the present invention.
  • FIG. 2 is a cross-sectional view of the oxygen removing chamber and the heating chamber along the line A-A of FIG.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view of the porous member of FIG. 2.
  • a method of manufacturing a float glass in which a glass is floated on a molten tin contained in a molten tin bath, to produce a float glass, a) a part of the molten tin of the molten tin bath Discharging to the outside of the molten tin bath; b) removing oxygen contained in the molten tin discharged from the molten tin bath, and spraying an oxygen removing gas including hydrogen into the molten tin to remove oxygen contained in the molten tin; And c) returning the molten tin from which the oxygen has been removed to the molten tin bath.
  • the process of removing the oxygen in the molten tin is not carried out directly in the molten tin bath for producing a float glass, but by proceeding outside the molten tin bath, it is effective without affecting the production of float glass in the molten tin bath.
  • the present invention is characterized by using a method of spraying oxygen removal into the molten tin at the same time using the oxygen removing gas when removing oxygen in the molten tin, and not simply contacting the oxygen removing gas with the surface of the molten tin.
  • Injecting the oxygen removal gas into the molten tin as described above may be more efficiently performed by performing oxygen removal outside the molten tin bath. That is, when oxygen removal is directly performed in the molten tin bath, spraying the oxygen removing gas into the molten tin as described above may affect the production of float glass.
  • the oxygen removal gas is not only in contact with the surface of the molten tin, but oxygen can be more efficiently removed by directly injecting the oxygen gas into the molten tin.
  • the contact area between the oxygen removing gas and the molten tin is not only small, and the oxygen removing gas is in contact with the molten tin before removing the oxygen in the molten tin. Because it reacts first with oxygen that may be present in it, the oxygen removal efficiency is reduced. Therefore, the method according to the present invention can remove oxygen much more efficiently than the technique of simply contacting the oxygen removing gas with molten tin.
  • the molten tin bath in which the molten tin is discharged is not limited, but the molten tin of the molten tin bath in the region where the temperature of the molten tin is 700 ⁇ 1000 °C of all areas of the molten tin bath Can be discharged.
  • molten tin may be discharged from a cold zone of a molten tin bath having a molten tin temperature of 600 to 800 ° C. in the molten tin bath.
  • the flow rate is 0.2 ⁇ 2Nm 3 / hr
  • the pressure is 2 ⁇ 5kgf / cm 2
  • the temperature may be 300 ⁇ 500 °C.
  • the flow rate and pressure is a value set based on the amount required for the reaction and the standard that can penetrate the porous layer, it can prevent the molten tin supercooling at the temperature.
  • the present invention is not limited to the flow rate, pressure, and temperature conditions, and may be variously changed as necessary.
  • the oxygen removing gas of step b) may further include an inert gas. Nitrogen is mentioned as said inert gas. However, it is not limited to this.
  • hydrogen may be dissolved into the molten tin. If oxygen removal gas containing an inert gas is used together with hydrogen gas (H 2 ), hydrogen gas may be prevented from being dissolved into the molten tin. Can be. The inert gas may be discharged to the outlet.
  • the mixing ratio of the inert gas and the hydrogen gas, based on volume may be less than 90 ⁇ 100: over 0 ⁇ 10.
  • nitrogen gas: hydrogen gas may be less than 90 ⁇ 100: more than 0 ⁇ 10.
  • the nitrogen gas: hydrogen gas on a volume basis may be 90 to 100: 0 to 10.
  • step b) as oxygen (H 2 O) is generated by chemically reacting the oxygen contained in the molten tin with the hydrogen, oxygen included in the molten tin may be removed.
  • the oxygen removal gas When the oxygen removal gas is bubbled when the oxygen removal gas is brought into contact with the molten tin, extraction of the dissolved oxygen is further facilitated by bubbling the oxygen removal gas. Specifically, the bubbles of the oxygen removing gas generated by bubbling to rise by absorbing the oxygen contained in the molten tin.
  • the contact area with the molten tin can be increased by the bubbled oxygen removing gas, thereby not only making the chemical removal of dissolved oxygen in the molten tin more efficient, that is, the oxygen and hydrogen of the molten tin
  • water (H 2 O) is generated by the reaction
  • removal of dissolved oxygen can be more efficient, and the physical effect of extracting dissolved oxygen by reducing the dissolved oxygen and saturation due to the cooling effect by the oxygen removal gas is reduced. It can also be more efficient.
  • the temperature of the bubbling molten tin bubbled in step b) may be 400 ⁇ 700 °C.
  • the saturated solubility of oxygen reduced in step b) may be several tens ppm or less.
  • Saturation solubility of oxygen contained in the molten tin may be as shown in Table 1 below.
  • solubility is the solubility (thermodynamic data) according to the temperature, and means the maximum oxygen saturation after bubbling.
  • step c) the molten tin from which the oxygen is removed may be heated and then returned to the molten tin bath.
  • the temperature of the heated molten tin may be 1200 ⁇ 1400 °C. If the temperature is not high enough, the operating stability of the return region of the molten tin in which the glass forming starts may deteriorate.
  • the molten tin from which the oxygen is removed may be returned to a region where the temperature of the molten tin is 1200 to 1400 ° C. in the entire region of the molten tin bath.
  • An apparatus for producing float glass comprises: a apparatus for producing float glass, which floats glass onto molten tin contained in a molten tin bath to produce float glass, comprising: molten tin bath; A discharge line connected to communicate with the inside of the molten tin bath and discharging a part of the molten tin of the molten tin bath to the outside of the molten tin bath; An oxygen removal chamber provided to be connected to the discharge line to receive the molten tin discharged from the molten tin bath through the discharge line; An injector provided inside the oxygen removal chamber and injecting an oxygen removal gas including hydrogen to the molten tin in the oxygen removal chamber; And a return line for returning the molten tin from which oxygen has been removed by the injector to the molten tin bath.
  • the discharge line may be connected to a region in which the temperature of the molten tin is 700 ⁇ 1000 °C of the entire region of the molten tin bath.
  • the injector may be configured to lower the temperature of the molten tin in the oxygen removing chamber to reduce the saturated solubility of oxygen contained in the molten tin so that oxygen contained in the molten tin may be removed, thereby removing oxygen including hydrogen. It may be a bubbling device for bubbling a gas to the molten tin contained in the oxygen removal chamber.
  • the bubbling device may supply an oxygen removal gas having a temperature of 300 to 500 ° C. at a flow rate of 0.2 to 2 Nm 3 / hr and a pressure of 2 to 5 kgf / cm 2 .
  • the oxygen removal gas may further include an inert gas. Nitrogen is mentioned as said inert gas. However, it is not limited to this.
  • the mixing ratio of the inert gas and the hydrogen gas may be less than 90 to 100: greater than 0 to 10 on a volume basis.
  • nitrogen gas: hydrogen gas may be less than 90 ⁇ 100: more than 0 ⁇ 10.
  • nitrogen gas: hydrogen gas may be 90-100: 0-10 by volume.
  • the bubbling device may include a porous member, and the porous member may be formed of a ceramic material.
  • the hole of the porous member may be formed in a direction perpendicular to the plate surface, it may be formed inclined in one direction (see Fig. 3).
  • the floating trajectory of the bubbling oxygen removing gas passing through the porous member may be longer than the hole formed in the vertical direction, so that the bubbling oxygen removing gas floats in the molten tin ( path), ie the reaction time can be extended.
  • the gas supply line may further include a gas supply line connected to the oxygen removing chamber and supplying the oxygen removing gas bubbled by the bubbling device into the oxygen removing chamber.
  • the temperature of the molten tin in the oxygen removing chamber bubbled by the bubbling device may be 400 ⁇ 700 °C.
  • the saturated solubility of oxygen contained in the molten tin bubbled by the bubbling device may be several tens ppm or less.
  • oxygen (H 2 O) As oxygen (H 2 O) is generated by reacting oxygen contained in the molten tin with the hydrogen in the oxygen removing chamber, oxygen included in the molten tin may be removed.
  • the oxygen removal chamber may be provided with a discharge port through which the water (H 2 O) is discharged to the outside of the oxygen removal chamber in the form of water vapor.
  • the apparatus for manufacturing float glass according to the present invention may further include a heating chamber provided to be connected to the oxygen removing chamber and including a heating device for heating molten tin from which oxygen is removed from the oxygen removing chamber.
  • the return line may be connected to the heating chamber and the molten tin bath to return the molten tin heated in the heating chamber to the molten tin bath.
  • the temperature of the molten tin heated in the heating chamber may be 1200 ⁇ 1400 °C.
  • the heating chamber and the oxygen removal chamber may be separately provided and connected to each other, or the heating chamber and the oxygen removing chamber may be integrally divided into partitions of the heating chamber and the oxygen removing chamber by partition walls.
  • the partition wall may be formed with a through hole so that the molten tin from which the oxygen is removed from the oxygen removal chamber may be moved to the heating chamber.
  • the through hole may be formed in the partition wall so as to be positioned at a position lower than the level of the molten tin contained in the oxygen removing chamber.
  • the through hole is formed at a position that is immersed in the molten tin.
  • the temperature of the molten tin decreases, and thus, tin oxide may be generated on the surface and floated.
  • the floating tin oxide layer passes through the through hole to the heating chamber.
  • the through hole is preferably formed at a position lower than the level of the molten tin, for example, soaked in the molten tin.
  • the through hole may be formed in the partition wall at a predetermined height from the bottom surface of the chamber.
  • the return line may return the molten tin from which oxygen has been removed to a region where the temperature of the molten tin is 1200 to 1400 ° C. in all regions of the molten tin bath.
  • a chemical reaction in which water (H 2 O) is generated by reaction of oxygen and hydrogen in molten tin by using a method of directly injecting an oxygen removing gas into molten tin and directly contacting it Not only can the dissolved oxygen be removed, but the dissolved oxygen in the molten tin can be discharged due to the difference in solubility by the relatively low temperature oxygen removing gas, thereby reducing the amount of dissolved oxygen in the molten tin bath. Functions also occur.
  • the bubble of the oxygen removing gas generated by bubbling is to rise to absorb the oxygen contained in the molten tin.
  • the bubbling oxygen removal gas has a larger contact area with molten tin, and thus, the chemical removal of dissolved oxygen of the molten tin, that is, by the reaction of oxygen and hydrogen in the molten tin, generates water (H 2 O). Not only does oxygen removal occur more efficiently, but also the physical function of extracting dissolved oxygen by reducing the saturation of dissolved oxygen by the cooling effect by the oxygen removal gas can be made more efficient.
  • a stripping chamber including an oxygen removal chamber and a heating chamber is provided for removing oxygen dissolved in the molten tin in the molten tin bath.
  • stripping chambers are provided on both sides of the molten tin bath, but the number and installation positions of the stripping chambers are not limited to those illustrated in the drawing.
  • each stripping chamber is connected to a discharge line for supplying molten tin discharged from the molten tin bath into the oxygen removing chamber.
  • each stripping chamber is connected to a return line connecting a heating chamber and a molten tin bath for heating the molten tin from which oxygen is removed to a predetermined level or less, such as several ppm or less of dissolved oxygen, inside the oxygen removing chamber.
  • the stripping chamber of FIG. 2 is a chamber in which the oxygen removal chamber and the heating chamber are integrated, and includes a partition wall, an oxygen removal chamber and a heating chamber partitioned by the partition wall.
  • the partition wall separates the atmosphere of the oxygen removal chamber from the atmosphere of the heating chamber to separate the atmospheric conditions favorable for oxygen removal and the atmospheric conditions for suppressing reoxidation of the molten tin from which oxygen is removed. .
  • the partition wall is formed with a through hole for moving the molten tin from which oxygen is removed from the oxygen removal chamber to the heating chamber.
  • the through hole is preferably formed in the partition wall so as to be positioned at a position lower than the level of the molten tin contained in the oxygen removing chamber. As shown in Figure 2, it is preferable that the through hole is formed at a position that is submerged in the molten tin.
  • the oxygen removal chamber is a region for removing oxygen contained in the molten tin discharged from the molten tin bath.
  • a discharge line connecting the molten tin bath and the oxygen removal chamber is connected.
  • the discharge line is not limited to the installation position unless it interferes with the molten tin flow in the molten tin bath as much as possible.
  • a bubbling device capable of blowing a mixed gas of nitrogen (N 2 ) and hydrogen (H 2 ), which are oxygen removal gases, into the oxygen removal chamber is provided.
  • a gas supply line (not shown) is provided to supply the mixed gas to the oxygen removing chamber so that the mixed gas can pass through the bubbling device.
  • the bubbling device can be used in various ways as long as it is a porous member having mechanical and chemical durability against molten tin.
  • the porous member may be a porous ceramic plate having a plurality of holes. Accordingly, the mixed gas of nitrogen (N 2 ) and hydrogen (H 2 ) supplied into the oxygen removal chamber passes through the hole of the porous ceramic plate.
  • the hole of the porous member may be formed to be inclined in an oblique direction as shown in FIG. 3.
  • the dissolved oxygen of the molten tin contained in the oxygen removal chamber may be chemically removed, that is, the molten tin by the mixed gas of nitrogen (N 2 ) and hydrogen (H 2 ) bubbled by the bubbling device.
  • the water (H 2 O) is generated by the reaction of oxygen and hydrogen, not only can oxygen be removed, but also dissolved oxygen and saturation are reduced by the cooling effect by the mixed gas introduced into the oxygen removal chamber.
  • the physical function of extracting is also achieved.
  • the water (H 2 O) generated by the above process is converted into water vapor form in the oxygen removal region of the oxygen removal chamber and discharged through an outlet provided on the upper side of the oxygen removal chamber.
  • the heating chamber is used to heat the molten tin that has passed through the oxygen removing chamber at a predetermined temperature, for example, 1200 to 1400 ° C. It is a heating area to heat above.
  • a plurality of electric heaters are provided in the heating chamber to heat molten tin.
  • the electric heater may use an electric heater of the same or similar type as the electric heater in the molten tin bath.
  • One side of the heating chamber is connected to the return line connecting the molten tin bath and the heating chamber.
  • the return line is preferably installed where the depth of tin is as deep as possible, for example, where the depth is 70 to 100 mm and the molten tin temperature in the molten tin bath is 1200 to 1400 ° C.
  • the installation location is not limited unless it is disturbed as much as possible.
  • the dissolved oxygen content of the molten tin in the molten tin bath is effectively removed by dissolving the oxygen in the molten tin by bubbling of the oxygen solubility gas and the oxygen removing gas containing hydrogen according to the temperature, thereby dissolving the dissolved oxygen.
  • Oxygen can be reduced to several ppm or less, thereby reducing product defects.

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Abstract

본 발명은, 용융주석배스의 내부에 수용된 용융주석 위로 유리를 플로팅하여 플로트 유리를 제조하는 플로트 유리의 제조방법에 있어서, a) 상기 용융주석배스의 용융주석 일부를 상기 용융주석배스의 외부로 배출하는 단계; b) 상기 용융주석배스에서 배출된 용융주석에 포함된 산소를 제거하는 단계로서, 수소를 포함하는 산소제거가스를 상기 용융주석에 분사하여 상기 용융주석에 포함된 산소를 제거하는 단계; 및 c) 상기 산소가 제거된 용융주석을 상기 용융주석배스로 복귀시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리의 제조방법 및 이의 제조장치를 제공한다.

Description

플로트 유리의 제조방법 및 이의 제조장치
본 발명은, 용융주석배스의 내부에 수용된 용융주석 위로 유리를 플로팅하여 플로트 유리를 제조함에 있어, 용융주석배스 내의 용존 산소량을 감소시킬 수 있는 플로트 유리의 제조방법 및 이의 제조장치에 관한 것이다. 본 출원은 2008년 10월 2일에 한국특허청에 제출된 한국 특허 출원 제10-2008-0097373 호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.
플로트 유리는, 통상적인 플로트법(float process)법을 사용하여 제조하게 된다. 즉, 용융주석배스 내부에 수용된 비중이 큰 용융 주석의 상부에, 용융된 유리를 주입하여 요철이 없는 판유리를 생산하는 플로트법을 사용하여 제조하게 되는 것이다.
그러나, 용융주석배스를 이용한 판 유리 생산 시, 주석의 산화물 또는 주석 내 용존되어 있는 산소에 의한 기포 불량이 기존 생산 방식에서는 큰 기술적 문제가 되어 왔다.
이에, 이를 해결하기 위해 용융주석배스의 대기를 산소가 없는 분위기로 유지하고, 대기가 유입되지 않도록 실링(Sealing)을 하여 주석 내부로 산소가 용존되는 것을 방지하는 기술이 개발되었으나, 이로는 주석 내 용존되어 있는 산소를 충분히 제거하기 용이하지 않음에 따라, 제품불량율을 낮추는데 어려움이 있었다.
본 발명의 목적은, 용융주석배스 내 용융주석의 용존산소량을 온도에 따른 산소 용해도 차이와 수소를 포함하는 산소제거가스에 의해 용융주석의 산소를 효과적으로 제거하여, 제품불량을 감소시킬 수 있는 플로트 유리의 제조방법 및 이의 제조장치를 제공하는 것이다.
본 발명은, 용융주석배스의 내부에 수용된 용융주석 위로 유리를 플로팅하여 플로트 유리를 제조하는 플로트 유리의 제조방법에 있어서, a) 상기 용융주석배스의 용융주석 일부를 상기 용융주석배스의 외부로 배출하는 단계; b) 상기 용융주석배스에서 배출된 용융주석에 포함된 산소를 제거하는 단계로서, 수소를 포함하는 산소제거가스를 상기 용융주석 내에 분사하여 상기 용융주석에 포함된 산소를 제거하는 단계; 및 c) 상기 산소가 제거된 용융주석을 상기 용융주석배스로 복귀시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리의 제조방법을 제공한다.
본 발명은, 용융주석배스의 내부에 수용된 용융주석 위로 유리를 플로팅하여 플로트 유리를 제조하는 플로트 유리의 제조장치에 있어서, 용융주석배스; 상기 용융주석배스 내부와 연통하도록 연결되어, 상기 용융주석배스의 용융주석 일부를 상기 용융주석배스의 외부로 배출시키는 배출라인; 상기 배출라인에 연결되게 마련되어, 상기 배출라인을 통해 상기 용융주석배스에서 배출된 용융주석을 수용하는 산소제거챔버; 상기 산소제거챔버 내부에 마련되며, 상기 산소제거챔버내의 용융주석에 수소를 포함하는 산소제거가스를 분사하는 분사장치; 및 상기 분사장치에 의해 산소가 제거된 용융주석을 상기 용융주석배스로 복귀시키는 복귀라인을 포함하는 것인 플로트 유리의 제조장치를 제공한다.
본 발명에 따르면, 용융주석배스 내의 용존 산소량을 감소시킬 수 있음에 따라, 틴 드랍(Tin Drop), 틴 픽업(Tin Pick-up) 및 탑 스펙(Top Speck)과 같은 주석산화물에 의한 불량과, 기포 불량(Bottom Open Seed)을 감소시킬 수 있게 된다.
도 1은 본 발명에 따른 용융주석배스의 평면도이다.
도 2는 도 1의 A-A선에 따른 산소제거챔버와 가열챔버의 단면도이다.
도 3은 도 2의 다공성부재의 단면도이다.
본 발명에 따른 플로트 유리의 제조방법은, 용융주석배스의 내부에 수용된 용융주석 위로 유리를 플로팅하여 플로트 유리를 제조하는 플로트 유리의 제조방법에 있어서, a) 상기 용융주석배스의 용융주석 일부를 상기 용융주석배스의 외부로 배출하는 단계; b) 상기 용융주석배스에서 배출된 용융주석에 포함된 산소를 제거하는 단계로서, 수소를 포함하는 산소제거가스를 상기 용융주석 내에 분사하여 상기 용융주석에 포함된 산소를 제거하는 단계; 및 c) 상기 산소가 제거된 용융주석을 상기 용융주석배스로 복귀시키는 단계를 포함한다.
본 발명에서는 용융주석내의 산소를 제거하는 공정을 플로트 유리를 제작하는 용융주석배스에서 직접 수행하지 않고, 상기 용융주석배스 외부에서 진행함으로써 용융주석배스 내에서의 플로트 유리 제작에 영향을 미치지 않으면서 효율적으로 용융주석내의 산소를 제거할 수 있다.
또한, 본 발명은 용융주석 내의 산소 제거시 산소제거가스를 이용함과 동시에, 상기 산소제거가스를 단순히 용융주석의 표면과 접촉시키는 것이 아니라, 산소제거를 용융주석 내로 분사하는 방법을 이용하는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 산소제거가스를 용융주석 내로 분사하는 것은 산소 제거를 용융주석 배스 외에서 수행함으로써 더욱 효율적으로 진행될 수 있다. 즉, 산소 제거를 용융주석배스에서 직접 수행하는 경우에는 상기와 같이 산소제거가스를 용융주석 내로 분사하면 플로트 유리 제작에 영향을 미칠 수 있다.
본 발명에서는 산소제거가스를 단순히 용융주석의 표면과 접촉하는 것에 그치지 않고, 산소가스를 용융주석 내부에서 직접 분사함으로써 더욱 효율적으로 산소를 제거할 수 있다. 구체적으로 설명하면, 산소제거가스를 용융주석의 표면과 단순히 접촉하는 경우에는 산소제거가스와 용융주석의 접촉 면적이 작을 뿐만 아니라, 산소제거가스가 용융주석 내의 산소를 제거하기 전에 용융주석과 접하는 분위기 내에 존재할 수 있는 산소와 먼저 반응하기 때문에, 산소제거효율이 떨어지게 된다. 따라서, 본 발명에 따른 방법에서는 단순히 산소제거가스를 용융주석과 접촉시키는 기술에 비하여 훨씬 효율적으로 산소를 제거할 수 있다.
상기 a) 단계에서, 용융주석이 배출되는 용융주석배스의 영역이 한정되는 것은 아니나, 상기 용융주석배스의 전 영역 중 용융주석의 온도가 700~1000℃인 영역에서 상기 용융주석배스의 용융주석을 배출할 수 있다. 예컨대, 용융주석배스 내의 용융주석 온도가 600~800℃인 용융주석배스의 콜드 존(Cold Zone)에서 용융주석을 배출할 수 있다. 그러나, 이로 한정되는 것은 아니다.
상기 b) 단계의 산소제거가스는, 유량이 0.2~2Nm3/hr이고, 압력이 2~5kgf/cm2 이며, 온도가 300~500℃일 수 있다. 여기서, 상기 유량 및 압력은 반응에 필요한 양과 다공층을 뚫고 나갈 수 있는 기준에 준하여 설정한 값이며, 상기 온도에서는 용융주석 과냉을 방지할 수 있다. 그러나, 상기 유량, 압력, 온도 조건으로 한정되는 것은 아니며, 필요에 따라 다양하게 변경할 수 있다.
상기 b) 단계의 산소제거가스는, 불활성가스를 더 포함할 수 있다. 상기 불활성 가스로는 질소를 들 수 있다. 그러나, 이로 한정되는 것은 아니다.
순수한 수소가스만 사용하는 경우 수소가 용융주석으로 용존되어 들어갈 수도 있는데, 수소가스(H2)와 함께 불활성가스를 포함하는 산소제거가스를 사용하면, 수소가스가 용융주석으로 용존되어 들어가는 것을 방지할 수 있다. 여기서 불활성 가스는 배출구로 배출될 수 있다.
상기 b) 단계의 산소제거가스에 있어서, 상기 불활성가스와 상기 수소가스의 혼합비율은, 부피기준으로, 90~100미만 : 0초과~10일 수 있다. 여기서, 상기 불활성가스가 질소가스인 경우 질소가스:수소가스는 90~100미만 : 0초과~10일 수 있다. 한편, 부피기준으로 질소가스:수소가스는 90~100 : 0~10일 수도 있다.
상기 b) 단계에서는, 상기 용융주석에 포함된 산소와 상기 수소가 화학적으로 반응하여 물(H2O)이 생성됨에 따라, 상기 용융주석에 포함된 산소를 제거할 수 있다.
또한, 상대적으로 온도가 낮은 산소제거가스에 의하여 용융주석의 온도를 낮춤으로써, 상기 용융주석에 포함된 산소의 포화 용해도를 감소시켜 용존산소를 추출해내는 물리적인 효과도 함께 발생한다.
산소제거가스를 용융주석와 접촉시킬 때 산소제거가스를 버블링시키는 경우, 산소제거가스의 버블링에 의해 용존 산소의 추출(extraction)이 더욱 용이해 진다. 구체적으로, 버블링에 의하여 발생한 산소제거가스의 기포가 용융주석에 포함된 산소를 흡수하여 부상하게 된다. 이처럼, 버블링된 산소제거가스에 의해 용융주석과의 접촉 면적을 증가시킬 수 있고, 이에 의하여 용융주석 내의 용존산소의 화학적 제거를 더욱 효율적으로 할 수 있을 뿐만 아니라, 즉 용융주석의 산소와 수소의 반응에 의해 물(H2O)이 생성됨에 따라 용존산소를 제거하는 것을 더욱 효율적으로 할 수 있을 뿐만 아니라, 산소제거가스에 의한 냉각효과로 용존산소와 포화도를 감소시켜 용존산소를 추출해내는 물리적인 기능도 더욱 효율적으로 할 수 있다.
상기 b) 단계에서 버블링처리된 용융주석의 온도는 400~700℃일 수 있다.
상기 b) 단계에서 감소된 산소의 포화 용해도는 수십 ppm 이하일 수 있다.
상기 용융주석에 포함된 산소의 포화 용해도는 예컨대 하기 표 1과 같을 수 있다.
(표 1)
Figure PCTKR2009005658-appb-I000001
여기서, 용해도는, 온도에 따른 용해도(열역학 데이터)로서, 버블링 후 최대 산소 포화도를 의미한다.
상기 c) 단계는 상기 산소가 제거된 용융주석을 가열시킨 후, 상기 용융주석배스로 복귀시킬 수 있다.
상기 가열된 용융주석의 온도는 1200~1400℃일 수 있다. 온도가 충분히 높지 않으면, 유리 성형이 시작되는 용융주석의 복귀영역의 운전 안정성이 떨어질 수도 있다.
상기 c) 단계에서는, 상기 용융주석배스의 전 영역 중 용융주석의 온도가 1200~1400℃인 영역으로 상기 산소가 제거된 용융주석을 복귀시킬 수 있다.
본 발명에 따른 플로트 유리의 제조장치는, 용융주석배스의 내부에 수용된 용융주석 위로 유리를 플로팅하여 플로트 유리를 제조하는 플로트 유리의 제조장치에 있어서, 용융주석배스; 상기 용융주석배스 내부와 연통하도록 연결되어, 상기 용융주석배스의 용융주석 일부를 상기 용융주석배스의 외부로 배출시키는 배출라인; 상기 배출라인에 연결되게 마련되어, 상기 배출라인을 통해 상기 용융주석배스에서 배출된 용융주석을 수용하는 산소제거챔버; 상기 산소제거챔버 내부에 마련되며, 상기 산소제거챔버내의 용융주석에 수소를 포함하는 산소제거가스를 분사하는 분사장치; 및 상기 분사장치에 의해 산소가 제거된 용융주석을 상기 용융주석배스로 복귀시키는 복귀라인을 포함한다.
상기 배출라인은 상기 용융주석배스의 전 영역 중 용융주석의 온도가 700~1000℃인 영역에 연결되어 있을 수 있다.
상기 분사장치는, 상기 산소제거챔버 내의 용융주석의 온도를 낮춰 상기 용융주석에 포함된 산소의 포화 용해도를 감소시킴에 따라 상기 용융주석에 포함된 산소가 제거될 수 있도록, 수소를 포함하는 산소제거가스를 상기 산소제거챔버 내부에 수용된 용융주석에 버블링시키는 버블링장치일 수 있다.
상기 버블링장치는, 0.2~2Nm3/hr의 유량과, 2~5kgf/cm2 의 압력으로, 온도가 300~500℃인 산소제거가스를 공급할 수 있다.
상기 산소제거가스는, 불활성가스를 더 포함할 수 있다. 상기 불활성 가스로는 질소를 들 수 있다. 그러나, 이로 한정되는 것은 아니다.
상기 불활성가스와 상기 수소가스의 혼합비율은, 부피기준으로, 90~100미만 : 0초과~10일 수 있다. 여기서, 상기 불활성가스가 질소가스인 경우 질소가스:수소가스는 90~100미만 : 0초과~10일 수 있다. 한편 부피기준으로 질소가스:수소가스는 90~100 : 0~10일 수도 있다.
상기 버블링장치는, 다공성 부재를 포함할 수 있고, 상기 다공성부재는 세라믹 재질로 형성될 수 있다.
상기 다공성 부재의 홀은 판면에 대한 수직방향으로 형성될 수도 있고, 일방향으로 경사지게 형성될 수 있다(도 3참조).
상기 다공성 부재의 홀이 사선방향으로 경사지게 형성되어 있으면, 이를 통과하는 버블링 산소제거가스의 부상궤적이 수직방향으로 형성된 홀 보다 길게 될 수 있어, 버블링 산소제거가스가 용융주석에서 부상하는 패스(path) 즉 반응 시간을 연장시킬 수 있다.
또한, 용융주석 표면에 부유할 수 있는 산화주석을 가급적 한 곳으로 모이게 할 수 있는 흐름을 형성하여, 최종 부유된 산화주석의 제거가 필요한 경우, 용이하게 산화주석 부유층을 제거할 수 있다.
상기 산소제거챔버에 연결되며, 상기 버블링장치에 의해 버블링되는 상기 산소제거가스를 상기 산소제거챔버 내부로 공급하는 가스공급라인을 더 포함할 수 있다.
상기 버블링장치에 의해 버블링처리된 상기 산소제거챔버 내부의 용융주석의 온도는 400~700℃일 수 있다.
상기 버블링장치에 의해 버블링처리된 용융주석에 포함된 산소의 포화 용해도는 수십 ppm 이하일 수 있다.
상기 산소제거챔버 내부에서 상기 용융주석에 포함된 산소와 상기 수소가 반응하여 물(H2O)이 생성됨에 따라, 상기 용융주석에 포함된 산소를 제거할 수 있다.
상기 산소제거챔버에는, 상기 물(H2O)이 수증기 형태로 상기 산소제거챔버 외부로 배출되는 배출구가 마련되어 있을 수 있다.
본 발명에 따른 플로트 유리의 제조장치는, 상기 산소제거챔버와 연결되게 마련되어, 상기 산소제거챔버에서 산소가 제거된 용융주석을 가열시키는 가열장치를 포함하는 가열챔버를 더 포함할 수 있다.
이 경우, 상기 복귀라인은 상기 가열챔버와 상기 용융주석배스를 연결하게 구비되어 상기 가열챔버에서 가열된 용융주석을 상기 용융주석배스로 복귀시킬 수 있다.
상기 가열챔버에서 가열된 용융주석의 온도는 1200~1400℃일 수 있다.
상기 가열챔버와 상기 산소제거챔버는 별도로 마련되어 연결되게 구성될 수도 있고, 상기 가열챔버와 상기 산소제거챔버가 일체형으로, 격벽에 의해 상기 가열챔버와 상기 산소제거챔버로 구획되어 있을 수도 있다.
상기 격벽에는 상기 산소제거챔버에서 상기 산소가 제거된 용융주석이 상기 가열챔버로 이동될 수 있도록 관통구가 형성되어 있을 수 있다.
상기 관통구는, 상기 산소제거챔버에 수용된 용융주석의 수위보다 낮은 위치에 위치하도록 상기 격벽에 형성되어 있을 수 있다. 상기 관통구가 용융주석에 잠기는 정도의 위치에 형성되는 것이 바람직하다.
산소제거챔버에서 용융주석이 버블링됨에 따라, 용융주석의 온도가 내려가고, 이에 따른 산화주석이 표면에 발생되어 부유할 수도 있는데, 이 부유하는 산화주석층이 관통구를 통해 가열챔버로 넘어가는 것을 방지하기 위해, 관통구가 용융주석의 수위 보다 낮게 예컨대 용융주석에 잠기는 정도의 위치에 형성되는 것이 바람직하다.
한 예로 관통구는 챔버의 바닥면으로부터 일정 높이에 위치하도록 격벽에 형성되어 있을 수 있다.
상기 복귀라인은 상기 용융주석배스의 전 영역 중 용융주석의 온도가 1200~1400℃인 영역으로 상기 산소가 제거된 용융주석을 복귀시킬 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 방법 및 장치에 따르면, 산소제거가스를 용융주석에 분사하여 직접 접촉시키는 방법을 이용함으로써, 용융주석의 산소와 수소의 반응에 의해 물(H2O)이 생성되는 화학적 반응에 의하여 용존산소를 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 상대적으로 온도가 낮은 산소제거가스에 의하여 용융주석 내의 용존 산소가 용해도 차이에 의하여 배출될 수 있고, 이에 의하여 용융주석 배스 내의 용존 산소량이 감소하는 물리적인 기능도 함께 발생한다.
특히, 산소제거가스를 용융주석와 접촉시킬 때 산소제거가스를 버블링시키는 방법을 이용하는 경우, 산소제거가스의 버블링에 의해 용존 산소의 추출(extraction)이 더욱 용이해 진다. 구체적으로, 버블링에 의하여 발생한 산소제거가스의 기포가 용융주석에 포함된 산소를 흡수하여 부상하게 되는 것이다. 이처럼, 버블링되는 산소제거가스는 용융주석과의 접촉 면적이 더욱 넓어지므로, 용융주석의 용존산소의 화학적 제거, 즉 용융주석의 산소와 수소의 반응에 의한 물(H2O)의 생성에 의한 산소 제거가 더욱 효율적으로 일어날 뿐만 아니라, 산소제거가스에 의한 냉각효과로 용존산소의 포화도를 감소시켜 용존산소를 추출해내는 물리적인 기능도 더욱 효율적으로 이루어질 수 있다.
이하에서는 첨부도면을 참조하여 본 발명에 대해 상세히 설명한다.
도 1의 용융주석배스의 양측에는, 용융주석배스 내의 용융주석에 용존되어 있는 산소를 제거하기 위한, 산소제거챔버 및 가열챔버를 포함하는 스트리핑 챔버가 구비되어 있다. 도 1에는 용융주석배스 양측에 하나씩 스트리핑 챔버가 구비되어 있으나, 스트리핑 챔버의 개수 및 설치위치는 도면에 도시된 바로 한정되는 것은 아니다.
각 스트리핑 챔버의 용융주석 유입측은, 용융주석배스로부터 배출된 용융주석을 산소제거챔버의 내부로 공급하는 배출라인과 연결되어 있다.
각 스트리핑 챔버의 용융주석 유출측은, 산소제거챔버 내부에서 일정 수준 이하 예컨대 용존산소 수 ppm 이하로 산소가 제거된 용융주석을 가열하는 가열챔버와 용융주석배스를 연결하는 복귀라인에 연결되어 있다.
도 2의 스트리핑 챔버는 산소제거챔버와 가열챔버가 일체형인 챔버로서, 격벽과, 격벽에 의해 구획된 산소제거챔버 및 가열챔버를 포함한다.
격벽은, 산소제거챔버의 대기와 가열챔버의 대기를 분리하여, 산소제거에 유리한 대기 조건과, 산소가 제거된 용융주석의 가열과정에서의 재산화를 억제하기 위한 대기 조건을 분리하는 역할을 한다.
격벽에는 산소제거챔버에서 산소가 제거된 용융주석을 가열챔버로 이동시키는 관통구가 형성되어 있다.
관통구는, 산소제거챔버에 수용된 용융주석의 수위보다 낮은 위치에 위치하도록 격벽에 형성되어 있는 것이 바람직하다. 도 2에 도시된 바와 같이, 관통구가 용융주석에 잠기는 정도의 위치에 형성되는 것이 바람직하다.
산소제거챔버는, 용융주석배스로부터 배출된 용융주석에 포함된 산소를 제거하는 영역이다.
산소제거챔버의 일측에는, 용융주석배스와 산소제거챔버를 연결하는 배출라인이 연결되어 있다.
여기서, 배출라인은 용융주석배스 내의 용융주석 흐름을 최대한 방해하지 않는다면 그 설치위치가 한정되는 것은 아니다.
산소제거챔버의 내부에는, 산소제거가스인 질소(N2)와 수소(H2)의 혼합가스를 산소제거챔버 내에 불어넣어 줄 수 있는 버블링장치가 구비되어 있다. 그리고, 상기 혼합가스가 버블링장치를 통과할 수 있도록 상기 산소제거챔버에 혼합가스를 공급하는 가스공급라인(미도시)이 구비되어 있다.
버블링장치는, 용융주석에 대해 기계적 및 화학적 내구성이 있는 다공성 부재라면 다양하게 사용할 수 있다.
한 예로, 다공성 부재는 복수의 홀을 갖는 다공성 세라믹 플레이트일 수 있다. 이에, 산소제거챔버내부로 공급되는 질소(N2)와 수소(H2)의 혼합가스는 다공성 세라믹 플레이트의 홀을 통과하게 되는 것이다.
다공성 부재의 홀은, 도 3에 도시된 바와 같이, 사선방향으로 경사지게 형성되어 있을 수 있다.
이와 같이, 버블링장치에 의해 버블링되는 질소(N2)와 수소(H2)의 혼합가스에 의해 산소제거챔버 내에 수용된 용융주석의 용존산소를 화학적으로 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 즉 용융주석의 산소와 수소의 반응에 의해 물(H2O)이 생성됨에 따라 용존산소를 제거할 수 있을 뿐만 아니라, 산소제거챔버로 도입되는 혼합가스에 의한 냉각효과로 용존산소와 포화도를 감소시켜 용존산소를 추출해내는 물리적인 기능도 함께 이루어진다.
상기 과정에 의해 생성되는 물(H2O)은 산소제거챔버의 산소제거영역에서 수증기 형태로 변환되어 산소제거챔버의 상측에 마련된 배출구를 통해 배출된다.
가열챔버는, 산소제거챔버에서 산소가 제거된 용융주석의 온도와 유리가 성형되고 있는 용융주석배스의 용융주석 온도를 맞추기 위해, 산소제거챔버를 통과한 용융주석을 일정 온도 이상 예컨대 1200~1400℃ 이상으로 가열하는 가열영역이다.
가열챔버의 내부에는 용융주석을 가열하기 위해 복수의 전기히터가 구비되어 있다.
여기서, 전기히터는 용융주석배스 내의 전기히터와 동일 또는 유사한 종류의 전기히터를 사용할 수 있다.
가열챔버의 일측에는 용융주석배스와 가열챔버를 연결하는 복귀라인이 연결되어 있다.
복귀라인은, 주석 깊이(depth)가 가급적 깊은 곳에 예컨대, 깊이가 70~100mm이고, 용융주석배스 내의 용융주석 온도가 1200~1400℃인 곳에 설치하는 것이 바람직하나, 용융주석배스 내의 용융주석 흐름을 최대한 방해하지 않는다면 그 설치위치가 한정되는 것은 아니다.
이와 같이, 본 발명에 따르면, 용융주석배스 내 용융주석의 용존산소량을 온도에 따른 산소 용해도 차이와 수소를 포함하는 산소제거가스의 버블링(Bubbling)에 의해 용융주석의 산소를 효과적으로 제거하여, 용존산소를 수 ppm 이하로 감소시킬 수 있어, 제품불량을 감소시킬 수 있다.

Claims (29)

  1. 용융주석배스의 내부에 수용된 용융주석 위로 유리를 플로팅하여 플로트 유리를 제조하는 플로트 유리의 제조방법에 있어서,
    a) 상기 용융주석배스의 용융주석 일부를 상기 용융주석배스의 외부로 배출하는 단계;
    b) 상기 용융주석배스에서 배출된 용융주석에 포함된 산소를 제거하는 단계로서, 수소를 포함하는 산소제거가스를 상기 용융주석 내에 분사하여 상기 용융주석에 포함된 산소를 제거하는 단계; 및
    c) 상기 산소가 제거된 용융주석을 상기 용융주석배스로 복귀시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 플로트 유리의 제조방법.
  2. 청구항 1에 있어서, 상기 a) 단계에서는, 상기 용융주석배스의 전 영역 중 용융주석의 온도가 700~1000℃인 영역에서 상기 용융주석배스의 용융주석을 배출하는 것인 플로트 유리의 제조방법.
  3. 청구항 1에 있어서, 상기 b) 단계의 산소제거가스는, 유량이 0.2~2Nm3/hr이고, 압력이 2~5kgf/cm2 이며, 온도가 300~500℃인 것인 플로트 유리의 제조방법.
  4. 청구항 1에 있어서, 상기 b) 단계의 산소제거가스는, 불활성가스를 더 포함하는 것인 플로트 유리의 제조방법.
  5. 청구항 4에 있어서, 상기 b) 단계의 산소제거가스의 상기 불활성가스와 상기 수소가스의 혼합비율은, 부피기준으로, 90~100미만 : 0초과~10인 것인 플로트 유리의 제조방법.
  6. 청구항 1에 있어서, 상기 b) 단계에서는, 수소를 포함하는 산소제거가스를 상기 용융주석에 버블링시켜 상기 용융주석의 온도를 낮춤으로써, 상기 용융주석에 포함된 산소의 포화 용해도를 감소시켜 상기 용융주석에 포함된 산소를 제거하는 것인 플로트 유리의 제조방법.
  7. 청구항 6에 있어서, 상기 b) 단계에서 버블링처리된 용융주석의 온도는 400~700℃인 것인 플로트 유리의 제조방법.
  8. 청구항 1에 있어서, 상기 b) 단계에서는, 상기 용융주석에 포함된 산소와 상기 수소가 반응하여 물(H2O)이 생성됨에 따라, 상기 용융주석에 포함된 산소를 제거하는 것인 플로트 유리의 제조방법.
  9. 청구항 1에 있어서, 상기 c) 단계는 상기 산소가 제거된 용융주석을 가열시킨 후, 상기 용융주석배스로 복귀시키는 것인 플로트 유리의 제조방법.
  10. 청구항 9에 있어서, 상기 가열된 용융주석의 온도는 1200~1400℃인 것인 플로트 유리의 제조방법.
  11. 청구항 1에 있어서, 상기 c) 단계에서는, 상기 용융주석배스의 전 영역 중 용융주석의 온도가 1200~1400℃인 영역으로 상기 산소가 제거된 용융주석을 복귀시키는 것인 플로트 유리의 제조방법.
  12. 용융주석배스의 내부에 수용된 용융주석 위로 유리를 플로팅하여 플로트 유리를 제조하는 플로트 유리의 제조장치에 있어서,
    용융주석배스;
    상기 용융주석배스 내부와 연통하도록 연결되어, 상기 용융주석배스의 용융주석 일부를 상기 용융주석배스의 외부로 배출시키는 배출라인;
    상기 배출라인에 연결되게 마련되어, 상기 배출라인을 통해 상기 용융주석배스에서 배출된 용융주석을 수용하는 산소제거챔버;
    상기 산소제거챔버 내부에 마련되며, 상기 산소제거챔버내의 용융주석에 수소를 포함하는 산소제거가스를 분사하는 분사장치; 및
    상기 분사장치에 의해 산소가 제거된 용융주석을 상기 용융주석배스로 복귀시키는 복귀라인을 포함하는 것인 플로트 유리의 제조장치.
  13. 청구항 12에 있어서, 상기 배출라인은 상기 용융주석배스의 전 영역 중 용융주석의 온도가 700~1000℃인 영역에 연결되어 있는 것인 플로트 유리의 제조장치.
  14. 청구항 12에 있어서, 상기 분사장치는, 상기 산소제거챔버 내의 용융주석의 온도를 낮춰 상기 용융주석에 포함된 산소의 포화 용해도를 감소시킴에 따라 상기 용융주석에 포함된 산소가 제거될 수 있도록, 수소를 포함하는 산소제거가스를 상기 산소제거챔버 내부에 수용된 용융주석에 버블링시키는 버블링장치인 것인 플로트 유리의 제조장치.
  15. 청구항 14에 있어서, 상기 버블링장치는, 0.2~2Nm3/hr의 유량과, 2~5kgf/cm2 의 압력으로, 온도가 300~500℃인 산소제거가스를 공급하는 것인 플로트 유리의 제조장치.
  16. 청구항 12에 있어서, 상기 산소제거가스는, 불활성가스를 더 포함하는 것인 플로트 유리의 제조장치.
  17. 청구항 16에 있어서, 상기 산소제거가스의 상기 불활성가스와 상기 수소가스의 혼합비율은, 부피기준으로, 90~100미만 : 0초과~10인 것인 플로트 유리의 제조장치.
  18. 청구항 14에 있어서, 상기 버블링장치는, 다공성 부재를 포함하는 것인 플로트 유리의 제조장치.
  19. 청구항 18에 있어서, 상기 다공성 부재에 형성된 홀은, 상기 다공성 부재의판면에 대해 수직인 수직선에 대해 경사지게 형성되어 있는 것인 플로트 유리의 제조장치.
  20. 청구항 18에 있어서, 상기 다공성 부재는, 세라믹 재질로 형성된 것인 플로트 유리의 제조장치.
  21. 청구항 14에 있어서, 상기 산소제거챔버에 연결되며, 상기 버블링장치에 의해 버블링되는 상기 산소제거가스를 상기 산소제거챔버 내부로 공급하는 가스공급라인을 더 포함하는 것인 플로트 유리의 제조장치.
  22. 청구항 14에 있어서, 상기 버블링장치에 의해 버블링처리된 상기 산소제거챔버 내부의 용융주석의 온도는 400~700℃인 것인 플로트 유리의 제조장치.
  23. 청구항 12에 있어서, 상기 산소제거챔버 내부에서 상기 용융주석에 포함된 산소와 상기 수소가 반응하여 물(H2O)이 생성됨에 따라, 상기 용융주석에 포함된 산소를 제거하는 것인 플로트 유리의 제조장치.
  24. 청구항 23에 있어서, 상기 산소제거챔버에는, 상기 물(H2O)이 수증기 형태로 상기 산소제거챔버 외부로 배출되는 배출구가 마련되어 있는 것인 플로트 유리의 제조장치.
  25. 청구항 12에 있어서, 상기 산소제거챔버와 연결되게 마련되어, 상기 산소제거챔버에서 산소가 제거된 용융주석을 가열시키는 가열장치를 포함하는 가열챔버를 더 포함하며,
    상기 복귀라인은 상기 가열챔버와 상기 용융주석배스를 연결하게 구비되어 상기 가열챔버에서 가열된 용융주석을 상기 용융주석배스로 복귀시키는 것인 플로트 유리의 제조장치.
  26. 청구항 25에 있어서, 상기 가열챔버에서 가열된 용융주석의 온도는 1200~1400℃인 것인 플로트 유리의 제조장치.
  27. 청구항 25에 있어서, 상기 가열챔버와 상기 산소제거챔버는 일체형으로, 격벽에 의해 상기 가열챔버와 상기 산소제거챔버로 구획되어 있고,
    상기 격벽에는 상기 산소제거챔버에서 상기 산소가 제거된 용융주석이 상기 가열챔버로 이동될 수 있도록 관통구가 형성되어 있는 것인 플로트 유리의 제조장치.
  28. 청구항 27에 있어서, 상기 관통구는, 상기 산소제거챔버에 수용된 용융주석의 수위보다 낮은 위치에 위치하도록 상기 격벽에 형성되어 있는 것인 플로트 유리의 제조장치.
  29. 청구항 12에 있어서, 상기 복귀라인은 상기 용융주석배스의 전 영역 중 용융주석의 온도가 1200~1400℃인 영역으로 상기 산소가 제거된 용융주석을 복귀시키는 것인 플로트 유리의 제조장치.
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