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WO2009044902A1 - 誘電泳動装置および方法 - Google Patents

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WO2009044902A1
WO2009044902A1 PCT/JP2008/068114 JP2008068114W WO2009044902A1 WO 2009044902 A1 WO2009044902 A1 WO 2009044902A1 JP 2008068114 W JP2008068114 W JP 2008068114W WO 2009044902 A1 WO2009044902 A1 WO 2009044902A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
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case
dielectrophoresis
small object
electric field
dielectric
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2008/068114
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Takeshi Yamakawa
Hiroko Imasato
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyushu Institute of Technology NUC
Original Assignee
Kyushu Institute of Technology NUC
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
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Priority to JP2009536128A priority patent/JP5120968B2/ja
Priority to CN2008801103224A priority patent/CN101820978B/zh
Priority to US12/681,616 priority patent/US8864972B2/en
Priority to EP08835862A priority patent/EP2204228A1/en
Publication of WO2009044902A1 publication Critical patent/WO2009044902A1/ja
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Ceased legal-status Critical Current

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    • B03SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
    • B03CMAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
    • B03C5/00Separating dispersed particles from liquids by electrostatic effect
    • B03C5/02Separators
    • B03C5/022Non-uniform field separators
    • B03C5/026Non-uniform field separators using open-gradient differential dielectric separation, i.e. using electrodes of special shapes for non-uniform field creation, e.g. Fluid Integrated Circuit [FIC]
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D57/00Separation, other than separation of solids, not fully covered by a single other group or subclass, e.g. B03C
    • B01D57/02Separation, other than separation of solids, not fully covered by a single other group or subclass, e.g. B03C by electrophoresis
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B03C5/00Separating dispersed particles from liquids by electrostatic effect
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B03SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
    • B03CMAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
    • B03C2201/00Details of magnetic or electrostatic separation
    • B03C2201/26Details of magnetic or electrostatic separation for use in medical or biological applications

Definitions

  • the present invention relates to a dielectrophoresis apparatus and method.
  • Dielectrophoresis is a phenomenon in which a substance placed in a non-uniform electric field is driven by the interaction between the electric field and the dipole moment induced by it. Utilizing this phenomenon, research is currently being conducted in various fields, including the separation and identification of biological samples. For example, see:
  • the present invention provides a dielectrophoresis apparatus capable of handling, including measurement of dielectrophoretic force, as well as moving, stopping, separating, rejecting, and classifying small target objects including a dielectric portion. aimed to.
  • the present invention also provides a device suitable for the above dielectrophoresis apparatus.
  • the present invention further provides a method of handling the object small object, a method of sorting, a method of measuring the electrophoretic force, and the like. These methods can be suitably carried out using the above dielectrophoresis apparatus.
  • the dielectrophoresis device comprises a case for filling a small target object that is filled with a dielectric solution and includes a dielectric portion, a dielectrophoretic force acting on the small target object in the case, and a force based on gravity and buoyancy.
  • An electrode device including a plurality of electrodes that form an inhomogeneous alternating electric field in the case that generates at least one stable equilibrium point with respect to the balance, and a tilt mechanism that holds and tilts the case and the electrode device. It is what it has.
  • a non-uniform alternating electric field can be formed in the case.
  • the dielectrophoretic force acting on a small object depends on the strength of the applied inhomogeneous alternating electric field and its gradient.
  • the force based on gravity and buoyancy depends on the tilt angle of the case. This tilt angle can be obtained by the tilt mechanism.
  • the dielectrophoretic force is equal to the force based on gravity and buoyancy when a small object is stationary, the dielectrophoretic force can be found by calculating the force based on gravity and buoyancy. Since the force based on gravity and buoyancy depends on the tilt angle of the case, the dielectrophoretic force can be measured by changing the tilt angle and measuring the tilt angle when a small object is stationary.
  • the dielectrophoresis apparatus further includes a rotating mechanism that rotates the case and the electrode device on a plane plane tilted by the tilting mechanism.
  • the dielectrophoretic force and the force based on gravity and buoyancy are not in the opposite directions, the dielectrophoretic force and the gravitational force are rotated by rotating the case in an inclined plane using the rotating mechanism. And force based on buoyancy can be balanced.
  • the movement of the small object can be controlled by positively creating an imbalance by the rotation of the case and the electrode device by the rotating mechanism.
  • the rotating mechanism can also be used for small object handling.
  • the electrodes in the above electrode device have a plurality of (a pair of) electrodes whose sides facing each other are symmetrical with respect to the center line between the electrodes, and the electrode interval extends from one end to the other in a narrow parallel manner. Subsequently, a curve is formed so that the electrode spacing gradually increases. This pair of electrodes generates a stable equilibrium point and an unstable equilibrium point.
  • the dielectrophoresis apparatus further includes an AC generator that generates an AC voltage that is applied to the plurality of electrodes and at least the frequency or voltage is variable.
  • the angle of inclination by the tilt mechanism and the angle of rotation by the rotation mechanism can be measured.
  • the angle may be measured visually or automatically by a sensor.
  • the present invention also provides a device (apparatus) preferably used in the dielectrophoresis apparatus.
  • This device includes a case for filling a small target object containing a dielectric part and filled with a dielectric solution, and the above case. k .
  • a plurality of electrodes forming a non-uniform alternating electric field are provided in the four electrodes, and the sides facing each other are axisymmetric with respect to the center line between the electrodes, and the electrode spacing is narrow and parallel from one end to the other. It is then formed into a curve so that the electrode spacing gradually increases.
  • the case is provided with a mouth for sucking or discharging the target small object.
  • an inlet for injecting the dielectric solution into the case and an outlet for discharging the dielectric solution are opened in the case.
  • Such devices can be used to separate, reject, and separate small objects.
  • the case is filled with a dielectric solution and a target small object including a dielectric portion is placed, and a non-uniform alternating electric field is formed in the case.
  • the dielectrophoretic force acting on the target small object in the case and the force based on gravity and buoyancy is adjusted.
  • the target small object is moved in a desired direction. After moving the small object, it can be stopped at the desired position (stable equilibrium point).
  • a dielectric solution is filled in a case and a plurality of different types of small objects each including a dielectric portion are placed to form a non-uniform alternating electric field in the case.
  • the force based on the dielectrophoretic force acting on the small object in the case and the gravity and buoyancy This causes an imbalance between the two and the different types of target small objects to move in different directions, and stops the desired types of target small objects at the desired stable equilibrium point.
  • a target small object including a dielectric part is filled in a case, a non-uniform alternating electric field is formed in the case, and a non-uniform alternating electric field is formed.
  • the dielectrophoretic force acting on the target small object in the case and the force based on gravity and buoyancy are balanced.
  • the dielectrophoretic force is calculated using a tilt angle in a predetermined direction of the case when the small object is stationary and the small object is stationary.
  • the target small object can be applied to any dielectric including a biological cell or a small object partially including a dielectric part.
  • Figure 1 shows the principle of the balance between gravitational slope component force acting on dielectric particles and dielectrophoretic force.
  • Fig. 2 is a cross-sectional view showing a DEP device.
  • Figure 3 is a plan view of the D E ⁇ device with the cover glass removed.
  • Figure 4a shows the force acting on the particles, showing that the particles are on the center line and are balanced.
  • Figure 4b is a graph showing the dielectrophoretic force profile and the gravitational slope component.
  • Fig. 5a shows the force acting on the particles when the DEP device is placed upside down
  • Fig. 5b shows the profile of the dielectrophoretic force and the gravitational slope component generated at this time. It is a graph.
  • Figure 6 shows the force acting on the particles, and shows the state where the particles are off the center line and a resultant force is generated.
  • Figure 7 shows the force acting on the particles, and the particles are off the center line. Indicates a balanced state.
  • Figure 8 shows the positional relationship between the tilting plate and the rotating plate, that is, the inclination of the D D ⁇ device.
  • Figure 9 shows the positional relationship between the tilting plate and the rotating plate, that is, the rotation of the device D ⁇ .
  • Figure 10 shows the coordinate axes.
  • Figures 11a and 11b are graphs showing the amount of particle movement over time when the angle 0 pitch is abruptly changed from 60 ° to 15 ° and from 15 ° to 60 °. is there.
  • Fig. 12 is a graph showing multiple consecutive angular step responses.
  • Fig. 13a shows the position of the particle in the angular step response, and
  • Fig. 13b is a rough diagram showing the stable equilibrium point for each angle.
  • Figure 14 is a graph showing the change in the position of a stationary particle where the gravitational slope component and the dielectrophoretic force are balanced, with the angle ⁇ pitch as the horizontal axis.
  • Figures 15a and 15b are graphs showing the amount of particle movement over time when the voltage is suddenly changed from 8 Vpp to 20 Vpp and from 20 Vpp to 8 Vpp, respectively.
  • Figure 16 shows a draft that shows multiple consecutive voltage step responses.
  • Fig. 17a shows the position of the particles in the voltage step response, and
  • Fig. 17b shows the stable equilibrium point for each voltage.
  • Figure 18 shows a draft showing the change in the position of a stationary particle where the gravitational slope component and the dielectrophoretic force are balanced, with the voltage Vpp as the horizontal axis.
  • Figures 19a and 19b show the amount of particle movement when the frequency f is changed rapidly from 3001: 1 ⁇ 2 to 51 ⁇ 112 and from 5 MHz to 300 KHz, respectively. It is a graph shown according to progress.
  • Figure 20 is a graph showing multiple consecutive frequency step responses.
  • Figure 21a shows the particle position in the frequency step response
  • Figure 21b is a graph showing the stable equilibrium point for each frequency.
  • Figure 22 is a graph showing the change in the position of a stationary particle where the gravitational slope component and the dielectrophoretic force are balanced, with frequency f as the horizontal axis.
  • Figure 23 shows the movement of the dielectric particles (handling).
  • Figure 24 shows a state in which multiple dielectric particles are separated.
  • FIG. 25 is a perspective view showing the overall configuration of the dielectrophoresis apparatus.
  • Fig. 26 is a perspective view showing the mounting structure of the tilting plate in the dielectrophoresis apparatus.
  • Fig. 27 is a side view showing the positioning and fixing structure of the tilting plate in the dielectrophoresis apparatus.
  • FIG. 28 is an enlarged sectional view taken along the line aa in FIG.
  • Fig. 29 is a perspective view showing a state in which a rotating disk is provided on an XY table in the dielectrophoresis apparatus.
  • FIG. 30 is a cross-sectional view showing the mounting structure of the rotating disk in the dielectrophoresis apparatus.
  • Fig. 31 is a block diagram showing the electrical configuration of the dielectrophoresis apparatus.
  • Figure 32 shows a modification of the DEP device, and is a plan view with a part cut away.
  • Fig. 33 is a longitudinal sectional view of Fig. 32. BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
  • R e (f CM ) R e ⁇ (-) / ( ⁇ ; + 2 ⁇ ) ⁇ Equation (2) where ⁇ ⁇ * and ⁇ m * are the complex ratio dielectric constants of the particles and the solution, respectively.
  • the dielectrophoretic force differs in the direction and magnitude of the dielectrophoretic force depending on whether the dielectric constant of the particles (including the above living cells) is larger or smaller than the dielectric constant of the solution (solvent). Stop of mixed particles (including the above living cells) Handling such as separation or separation and identification of specific particles (including the above living cells) becomes possible.
  • a dielectrophoresis device (apparatus) that contains particles in a solution (hereinafter referred to as a DEP device) (case).
  • This DEP device fixes a frame by a spacer around a flat substrate glass (bottom plate), fills the space enclosed by the spacer with the solution, It is covered with a flat cover glass (top plate) to form a space (sealed) filled with the solution.
  • An electrode that forms a non-uniform alternating electric field in the (closed) space is provided on the substrate glass, etc., details of which will be described later.
  • the dielectrophoretic force F DEP is applied to the particles in the solution in an upward direction parallel to the slope, and these forces F G sin 0 pitch and F DE p If they are balanced, the particles are stationary.
  • F DEP- F G Sin 9 pitch ° Equation (4)
  • the state of F DEP > F G sin ⁇ piteh or F DEP ⁇ F G sin 0 piteh can be changed by changing the slope angle 0 pitch .
  • the dielectric particles can be moved upward or downward along the slope, and by creating a state where Eq. (4) holds, the dielectric particles can be made stationary. (Handling of particles).
  • Et al is, all parameters r representing the F G sin 0 pitch, p p , p m, g, ⁇ the pitch is assumed to be known, to the Dusko which Ri take a state to stand equation (4) is made Therefore, the dielectrophoretic force F DEP can be measured using Eq. (4) (this is called the zero method). Also, ⁇ . , ⁇ m , and E p are known, the electric field strength E can be calculated from Eqs. (1) and (2).
  • This dielectrophoretic force measurement method has the following features.
  • FIGS. 1-10 An example of the configuration of DEP device 10 is shown in FIGS.
  • a pair of left and right electrodes (Creek-Gap Electrode) 13A and 13B forces are formed at the approximate center of the flat surface of the substrate glass 11 and are formed.
  • the electrodes 13A and 13B have sides facing each other on the one side, that is, on the right side of FIG. 3 (the side that is located at the bottom when placed on the slope) (hereinafter referred to as the lower side or the terminal side).
  • the length of the electrode is about 1/3 to 14
  • the curves are formed so that they extend in parallel at very narrow intervals, and then increase gradually (the rate of increase increases).
  • a wiring pattern extends from the lower side of the electrodes 13A and 13B, and is connected to electrode terminals 13a and 13b formed at the end of the substrate glass 11, respectively.
  • a line passing through the middle of the above sides of electrodes 13A and 13B is assumed, and this is called the center line N between the electrodes.
  • the electrodes 13 A and 13 B are line symmetric with respect to the center line N.
  • Electrodes 13A, 13B, wiring patterns, and terminals 13a, 13b are formed by forming an aluminum thin film on the surface of the substrate glass 11 by sputtering and patterning it using photolithography technology. This comes out.
  • an insulating film 14 (for example, a photosensitive polyimide with a thickness of ⁇ ⁇ or less) including the electrodes 13A and 13B and its wiring pattern is formed. Is parallel to the surface of the substrate glass 11 and is flat. The insulating film 14 is not formed on the right end portion of the substrate 11 including the terminals 13a and 13b.
  • a spacer 15 with a circular hole 15A is disposed on the insulating film 14 and It is fixed. The position and size of the hole 15A are determined so that the electrodes 13A and 13B slip into the hole 15A.
  • the spacer 15 can be made of, for example, silicon rubber (thickness 100 m).
  • the hole 15 A of the spacer 15 is filled with a dielectric solution S (eg, distilled water) having a relative permittivity E m and has one or more dielectric particles P (eg, diameter) having a relative permittivity f p. 9.9 ⁇ m polystyrene beads).
  • a dielectric solution S eg, distilled water
  • P dielectric particles
  • the dielectric constant of the polystyrene beads is smaller than the dielectric constant of distilled water S, so negative dielectrophoresis occurs, and the dielectrophoretic force of the polystyrene beads (particles P) toward the larger electrode spacing. If the DEP device 10 is placed horizontally, it moves in that direction (left direction in Fig. 3).
  • the particle P has an upward dielectrophoretic force F DEP along the slope and a downward gravitational slope component force F c sin ⁇ pitch along the slope.
  • F DEP dielectrophoretic force
  • F G sin ⁇ pitch gravitational slope component force
  • the intersection of these two forces F DEP and F G sin 0 pitch is two as described above. This is the point where the power of the two balances (referred to as the “equilibrium point”).
  • the crank and gap electrodes There are two equilibration points for the crank and gap electrodes. This is because the dielectric swimming power F DEP has a curved profile with a peak at the center as shown in Fig. 4b. In the lower part of the electrode, the distance between the two electrodes 13A and 13B is narrow, so the electric field strength is large, but the opposing sides of the left and right electrodes 13A and 13B are parallel, so there is no electric field gradient, so dielectrophoresis There is no power. On the other hand, the distance between the electrodes is very wide above the electrodes, the electric field strength and inclination are extremely small, and the dielectrophoretic force is almost zero. As a result, the dielectrophoretic force has a peak at the center.
  • the upper equilibrium point of the two equilibrium points is the stable equilibrium point. That is, the dielectrophoretic force F DEP acting on the particles below this equilibrium point is greater than the gravitational slope component Ferine piteh , and the particles rise toward the equilibrium point and above the equilibrium point. dielectric force F DEP acting on the particles in the slopes component force of gravity F c s in 0 pitch by Ri also rather small, the particles is lowered toward the equilibrium point. In any case, the particle moves toward the equilibrium point, so it is a stable equilibrium point. On the other hand, the lower equilibrium point is an unstable equilibrium point because the particles that are above or below the equilibrium point act to move the particles away from the equilibrium point.
  • Fig. 5a shows the DEP device placed upside down from Fig. 4a
  • Fig. 5b shows the dielectrophoretic force acting on the dielectric particles at that time. Shows the profile. In this case as well, two equilibrium points arise, one of which is the stable equilibrium point.
  • a DEP device with a clique-gap electrode can secure a single stable equilibrium point for both positive and negative dielectrophoretic forces, and keep particles in a stable state. Can be stopped (stopped). The above is the case where the particle P exists on the center line N between the electrodes.
  • the dielectrophoretic force F DEP can also be calculated from Eqs . (3) and (4).
  • Fig. 8 To correlate with the dielectrophoresis apparatus described below, the position, angular relationship, and coordinate axes of the tilting plate 30 and the rotating table 50 that hold the DEP device 10 and rotate on the tilting surface (tilting plate 30) are shown in Fig. 8. To Figure 10 for a brief summary.
  • the direction along the tilting plate 30 is the X-axis, and the direction perpendicular to the X-axis, along the surface of the tilting plate 30 is the Y-axis, and the direction perpendicular to the surface of the tilting plate 30 is This is the Z axis (the coordinate system is different from the X and Y axes of the XY table 41 described later).
  • the tilt 0 pitch of the tilt plate 30 corresponds to the rotation of the Y axis.
  • the rotation of the turntable 50 corresponds to the rotation 0 ya , about the Z axis. It can be understood that the above-described composite force C is canceled by rotating the turntable 50.
  • the tilt angle 0 pitch of the tilting plate 30 is related to the magnitude of the dielectrophoretic force F DEP , and the rotation angle 0 ya of the turntable 50 represents the direction of the dielectrophoretic force F DEP .
  • FIGS. 25 to 31 An example of a dielectrophoresis apparatus is shown in FIGS. 25 to 31.
  • This dielectrophoretic device can also be used as a dielectrophoretic force measuring device, a dielectric particle handling device, and a sorting device.
  • Various methods dielectrophoretic force measuring method, handling method) , Separation method can be realized.
  • a tilting plate 30 is pivotally mounted on the base 20 at its lower end so as to be tiltable.
  • a plurality of bearings 21 are fixed on the base 20.
  • a plurality of mounting portions 32 having shaft holes are formed in the lower end portion of the tilting plate 30, and the rotary shaft 31 is inserted into and fixed to the shaft holes of these mounting portions 32.
  • the rotating shaft 3 1 is rotatably received by the bearing 21.
  • a rotating transducer (for example, a potentiometer) 25 for detecting the rotation angle of the rotating shaft 3 1 is attached to the base 20 (or one bearing 21).
  • a fan-shaped positioning plate 22 is erected vertically on the surface of the base 20 on one side of the base 20.
  • a positioning groove 23 is formed in an arc shape near the arc-shaped side edge of the positioning plate 22.
  • a slide 33 in which a screw hole is formed slightly protrudes from one side of the tilting plate 30 at a position that moves along the positioning groove 23 as the tilting plate 30 tilts. Is provided.
  • the fixing screw 24 with the knob 24 a enters the positioning groove 23 from the outside of the positioning plate 22 and is screwed into the screw hole of the slide 33.
  • the tilting plate 30 forms the above-mentioned slope.
  • 0 pi tc h is at least 0 ° to 90 °.
  • the tilting plate 30 can be brought to an arbitrary angular position.
  • the angle position (angle 0 pi tch ) of the tilting plate 30 can be obtained in the form of an electric signal by the output of the rotary transducer 25, and the angle scale 22A is engraved on the positioning plate 22. It is also possible to know by visual inspection.
  • the angle 0 pi tch when the tilting plate 30 is in the horizontal state is 0 °.
  • an XY table mechanism 40 is fixed on the tilting plate 30.
  • the XY table mechanism 40 is provided with an XY table 41 at the top, and the position of the XY table 41 can be adjusted in the X and Y directions by means of knobs 42 and 43.
  • the surface of the XY table 41 is parallel to the surface of the tilting plate 30.
  • the X direction of the XY table mechanism 40 (with a coordinate system different from the X direction along the inclined surface shown in Fig. 1) is in the surface of the XY table 41, and the rotation axis 31 of the tilting plate 30 and The Y direction is parallel to the X direction on the surface of the XY table 41.
  • a circular recess 44 is formed in the XY table 41, and a rotating disk 50 is rotatably inserted in the recess 44. That is, a rotating shaft 52 fixed to the lower center of the rotating disk 50 is rotatably received by a bearing 45 provided on the XY table 41.
  • the XY table 41 is provided with a rotational transducer 46 for detecting the rotational angle position (angle ⁇ yaw ) of the rotary shaft 52 (that is, the rotary disk 50).
  • the XY table 41 has a positioning groove 47 around the circular recess 44 over an angular range of 180 ° (—90 ° to + 90 °) or more.
  • the positioning groove 47 is formed with a wide groove at the lower portion thereof, and a slide 55 is freely moved along the groove in the wide groove.
  • a handle 53 extending radially outward is fixed to the periphery of the rotating disk 50.
  • a hole is drilled in the handle 53, and a fixing screw 54 having a knob 54a passes through the hole.
  • the tip of the fixing screw 54 is screwed into a screw hole ⁇ ⁇ formed in the slide 55.
  • the turntable 50 can be rotated manually (within a range of at least 90 ° to 90 °) with the handle 53, and the knob 54a can be rotated at any angular position. It can be fixed to the XY table 41 by tightening the fixing screw 54.
  • the angular position of the turntable 50 can be obtained from the rotary transducer 46 in the form of an electrical signal, and the scale 41A drawn (engraved) on the XY table 41 is used around the turntable 50. It can also be read visually.
  • a recess 51 for accommodating the DEP device 10 is formed on the surface of the turntable 50.
  • the recess 51 is sized to accommodate the DEP device 10 (the recess 51 may be larger than the DEP device 10), and the DEP device 10 contained in the recess 51 is , Does not move except for upward movement.
  • the recess 51 is formed with a notch 51 A for attaching and detaching the DEP device 10 with tweezers or the like.
  • a claw 58 made of a spring material is rotatably attached to the turntable 50 by pins at a plurality of locations around the recess 51. With this claw 52, the DEP device 10 housed in the recess 51 can be more firmly fixed. Furthermore, it is also possible to secure the DEP device 10 by inserting an adhesive between the bottom surface of the recess 51 and the backside of the DEP device 10.
  • the surface of the turntable 50 and the bottom surface of the recess 51 are also parallel to the surface of the XY table 41 and the surface of the tilt plate 30. Therefore, the inclination angle of the DEP device 10 (substrate glass 11 and the surface of the insulating film 14) housed in the recess 51 is equal to the inclination angle of the tilting plate 30, and the tilt angle of the tilting plate 30 is measured.
  • You can The center line N of the electrodes 13A and 13B of the DEP device 10 housed in the recess 51 is tilted when the angle position of the rotating disk 50 is 0 °. , It corresponds to the direction with the largest angle of the turntable 50 (Y direction of XY table 41).
  • the center line The angle position of the rotating disk 50 when the direction of N coincides with the direction of the largest angle ( ⁇ ya J is assumed to be 0 °.
  • a support 63 is fixed on the tilting plate 30, and the microscope 60 is supported by the support 63 in a vertical direction (a direction perpendicular to the surface of the tilting plate 30).
  • the microscope 60 is arranged at a position where the particles P in the DEP device 10 set on the rotating disk 50 can be accommodated in the visual field (for example, near the rotation center of the rotating disk 50).
  • the position of the field of view of the microscope 60 can be adjusted by moving the XY table 41 in the X and Y directions by the XY table mechanism 40.
  • the force force of the field image of the microscope 60 can be adjusted with the knob 62.
  • the microscope 60 also has a built-in CCD camera (indicated by reference numeral 61 in Fig. 31) to obtain a video signal representing the field image.
  • the microscope 60 can be adjusted for magnification.
  • FIG. 31 shows an outline of the electrical configuration of the dielectrophoresis apparatus.
  • the processing device 70 is preferably composed of a computer system, and when measuring the electrophoretic force, etc., it accepts various inputs, which will be described later, and performs calculations according to the above-mentioned equations (1) to (4).
  • the electrophoretic force F DEP and the electric field strength E are obtained and output to the output device 72 (printer, display device, etc.).
  • the high-frequency generator 73 generates a high-frequency voltage applied between the electrodes 13 A and 13 B of the DEP device 10, and the frequency f and voltage V are variable.
  • the generated high-frequency signal waveform can be observed with an oscilloscope 75.
  • the frequency f and voltage V of the high frequency voltage are given to the processing device 70. It is also possible to visually read the frequency f and voltage V from the waveform display of the oscilloscope 75.
  • the processor 70 may control the high frequency generator 73 to change the frequency f and the voltage V.
  • the signals representing the tilt angle 0 pitch of the tilt plate 30 detected by the rotary transducers 25 and 45 and the angle position 0 ya of the rotary plate 50 are processed via the interface 76. _ _
  • the video signal output from the CCD camera 61 of the microscope 60 mm is always displayed on the display device 74 (as a movie). If necessary, the video signal is converted to digital image data by the interface 76 and provided to the processing device 70.
  • the processor 70 can be programmed to perform image processing on these digital image data and determine whether the particles P are stationary.
  • Parameters necessary for the calculation of the dielectrophoretic force F DEP are input from the input device 71 to the processing device 70. If necessary, the dielectric constant ⁇ 0 of air, the relative dielectric constant im of the solution, and the relative dielectric constant £ p of the particles are also input from the input device 71.
  • the processing unit 70 can control the microscope control unit 77 that adjusts the auto focus, magnification, etc. based on the input digital image data.
  • Motors 78 and 79 are provided to adjust the angle ⁇ pitch of the tilting plate 30 and the angle 0 ya of the rotating plate 50 so that the particles P remain stationary under program control by the processing device 70. It can also be made. :
  • the high frequency between the electrodes 13 A and 13B of the DEP device 10 Apply voltage (frequency f and voltage V are fixed values).
  • the angle 0 pitch of the tilting plate 30 ie, DEP device 10.
  • the direction of the dielectrophoretic force F DE p is not parallel to the center line N, but is inclined from the center line N. Since the heavy slope component force F c sin 0 pitch works in a direction parallel to the center line N, a combined force C of these forces is generated, and the particle P moves in the solution by this force C. The turntable 50 is rotated so that gravity works in the direction to cancel the resultant force C. Then, as shown in Fig. 7, the dielectrophoretic force F DEP and the gravitational slope component force F c sin0 pitch are balanced at an angular position of 0 ya , where the turntable 50 is located. At this time, Eq. (4) holds, and the dielectrophoretic force F DE p can be calculated from Eqs. (3) and (4).
  • the particle P at an arbitrary position G can be moved to another desired position H and stopped at the position H in the space of the DEP device 10 mm.
  • the base 20 may be tilted or rotated as described below).
  • the dielectrophoretic force F DEP is a function of the dielectric constant (relative dielectric constant) and radius of the particle P, as is clear from Eqs. (1) and (2). 10), tilt angle 0 pitch , rotation angle 0 yaw) Adjust voltage, frequency, etc. (including tilting and rotation of base 20), move each particle in its own direction, and finally They can be separated as shown in Fig. 24.
  • PI, P 2, and P 3 represent particles with different dielectric constants or diameters, and are positioned separately on the center line N.
  • particle dielectrophoretic force F DEP measurement ranging from manual measurement to automatic control.
  • the digital image data obtained from the CCD camera 61 is taken into the processing unit 70, and the movement (direction and size) of the particles P is judged in the processing unit 70 to determine the tilt of the tilting plate 30 and the rotation of the rotating plate 50. It is also possible to automatically control the particle P so that it is stationary, and the dielectrophoretic force F DEP can be calculated from the tilt angle of 0 pitch when it is stationary.
  • the tilt angle may be fixed or changed at 0 pitch .
  • Change the angle ⁇ ya the particle P can be moved or stopped.
  • Fig. 11a, Fig. Lib, Fig. 12, Fig. 13a, Fig. 13b and Fig. 14 show the angular step response.
  • the angle step response is obtained by changing the angle 0 pitch rapidly from 60 ° to 15 ° (B force, et al. A) and 15 ° to 60 ° (A to B) under the conditions of applied voltage 20Vpp and frequency 1MHz. (See Fig. 12, Fig. 13a, Fig. 13b) and obtained by measuring the amount of particle movement.
  • the time constant for moving from point B to point A is 3 minutes, and the time constant from point A to point B is 1.9 minutes (see Figure 11a and Figure lib).
  • Fig. 14 shows the change (movement amount) of the stationary position of particles in a state where the gravitational slope component force and the dielectrophoretic force are balanced, with the angle 0 pitch being the horizontal axis. It can be seen that the greater the angle 0, the more balanced it is at the lower position.
  • the time constant for moving from point D to point C is 1 minute, and the time constant for moving from point C to point D is 5 minutes (see Figures 15a and 15b).
  • the resting position moves upward as the voltage increases (see Figure 18).
  • the time constant in each step response is within a few minutes, and the steady state is reached in about 15 minutes.
  • the response speed can withstand practical use.
  • Figures 32 and 33 show examples of DEP devices that can further expand the particle handling range.
  • the DEP device 10A has a solution inlet 17A at the center of one end and a solution outlet 18A at the center of the other end. These inlet 17A and outlet 18A are connected to solution inlet pipe (tube) 17 and outlet pipe (tube) 18, respectively. These pipes 17, 18 are connected to valves (cocks or valves) 17B, 18B is provided. In addition, a particle suction port (trap port) 16A is opened in the bottom plate at the center line between the electrodes or at another appropriate position, and the suction tube (tube 16) is connected to this.
  • This DEP device 10 A can be used, for example, to separate only one particle from a large number of particles (small target objects) introduced into the DEP device. That is, as described above, a specific particle is attracted by adjusting the angle 0 pilch or ⁇ ya » or the voltage or frequency (or the tilt or rotation of the base 20 if necessary). Move it to the position of the mouth 16 A and suck the particles to the suction pipe 16 (or an appropriate trough connected to it). Evacuate). In this state, the solution is injected through the injection tube 17 from the injection port 17A into the D ⁇ ⁇ device 10A, and other particles existing inside the device are discharged through the discharge port 18A and the discharge tube 18.
  • Valves 17B and 18 ⁇ ⁇ are opened and closed during the injection and discharge of the solution during the above fractionation procedure.
  • a valve is also provided in the suction pipe 16 as necessary.
  • the particles can be moved faster by tilting the DEP device, rotating it abruptly, or changing the voltage and frequency rapidly.
  • rotation about the X axis when moving if necessary rotate the base 20 itself (by rotating the X axis shown in FIG. 10 at an angle 0 pitch opposite directions on a base 20 0 r. u) It may be possible to rotate the base 20 in the 0 pitch direction.
  • a rotating disk is used to place and rotate the D E P device, but it is not necessarily a disk.
  • a rotating body having a shape suitable for the support may be used.
  • a tilting body that is not plate-shaped can be used instead of the tilting plate of the tilting mechanism.
  • a pair of electrodes 13A and 13B are used in the above embodiment, a plurality of pairs of electrodes may be arranged vertically (vertically) at intervals or horizontally. . When arranged horizontally, two adjacent electrodes (belonging to different pairs) may be integrated.

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Abstract

 誘電泳動を利用して誘電体粒子のハンドリング(移動,停止,分離,分別等),誘電泳動力の測定等が可能な誘電泳動装置を提供する。 上面または下面が平坦なケースを含む誘電泳動ディバイス内に誘電体溶液Sを充填しかつ誘電体よりなる対象小物体(粒子)Pを入れ,ケース内に不均一な交番電場を形成し,ケースを斜めに傾けたり(角度θpitch,その他の方向),斜面内で回転させたり(回転角θyaw),交番電場の電圧,周波数を調整したりすることにより,上記小物体に働く誘電泳動力FDEPと重力および浮力に基づく力FGsinθpitchとの間に不釣り合い,または釣り合いを生じさせることにより小物体を移動,停止させることができる。小物体が静止したときの誘電泳動ディバイスの傾き角θpitchを用いて誘電泳動力FDEPを測定することもできる。

Description

明 細 書 誘電泳動装置および方法 技術分野
この発明は誘電泳動装置および方法に関する。 背景技術
誘電泳動とは, 不均一電場内におかれた物質が電場とそれによ り誘導 される双極子モーメ ン トの相互作用によ り駆動される現象である。 この 現象を利用 して, 現在, 生体試料の分離, 同定をはじめ, さまざまな分 野で研究が進められている。 たと えば, 次の文献を参照。
H. Li and R. Bashir, Di el ec trophoret 1 c separation and raanipula t ion of live and heat-treated cells of Listeria on microf abr icat ed devices with interdigi tated electrodes" , Sensors and Actuato rs B : Chemical, vol.86, no.2-3, pp.215 - 221, 2002.
P. Gascoyne, J. Satayavivad and M. Ruchirawat, "Micror luidic app roaches to malaria detection", Acta Tropica, vol.89, pp.357-369, 2004.
特定の物質に生じたこの駆動力, すなわち, 誘電泳動力を測定する こ とは, 極めて重要であるが, その具体的数値を求めるこ とは容易ではな い。 一般に設計された電極によって生ずる誘電泳動力を解析的に求める こ とは不可能に近いので, 有限要素法を用いて, 計算によって求められ る。 しかしこれは, 実際の誘電泳動力を測定しているこ とにならない。 発明の開示 この発明は, 誘電泳動力の測定を含めて, それのみならず誘電体部分 を含む対象小物体の移動, 停止, 分離, 排斥, 分別等のハン ドリ ングが 可能な誘電泳動装置を提供するこ と を目的とする。
この発明はまた, 上記誘電泳動装置に適したディバイス (装置) も提 供するものである。
この発明はさ らに上記対象小物体のハン ド リ ング方法, 分別方法, 誘 電泳動力の測定方法等も提供する。 これらの方法は上記誘電泳動装置を 用いて好適に実施できる。
この発明による誘電泳動装置は, 誘電体溶液を充填しかつ誘電体部分 を含む対象小物体を入れるためのケース, 上記ケース内の対象小物体に 働く誘電泳動力と重力および浮力に基づく 力との釣り合いに関して少な く と も一つの安定平衡点を生じさせる不均一交番電場を上記ケース内に 形成する複数の電極を含む電極装置, ならびに上記ケースおよび上記電 極装置を保持して傾動させる傾動機構を備えているものである。
上記電極装置の電極に交流電圧を印加する と, 上記ケース内に不均一 交番電場を形成するこ とができる。 小物体に働く誘電泳動力は印加する 不均一交番電場の強さおよびその勾配に依存する。 重力および浮力に基 づく カはケースの傾き角に依存する。 この傾き角は上記傾動機構によ り 得るこ とができる。 上記の 2つの力が釣り合っていない, すなわち不均 衡が生じている と きには小物体は溶液中を移動していく こ とになる。 移 動方向と速度はケースの傾きの方向および角度, または電極に印加する 電圧も しく は周波数によ り調整するこ とができ る。 すなわち, 小物体の ハン ドリ ングが可能となる。
上記の 2つの力が釣り合う と小物体は静止する (上記安定平衡点)。 誘電泳動力は小物体が静止したと きの重力および浮力に基づく力と等し いから, 重力および浮力に基づく 力を算出すれば誘電泳動力が求まる。 重力および浮力に基づく力はケースの傾き角に依存するので, 傾き角を 変えて小物体が静止したときの傾き角度を測定すれば, 誘電泳動力が測 定できることになる。
上記誘電泳動装置はさらに, 上記ケースおよび上記電極装置を, 上記 傾動機構による傾きの平面內で回転させる回転機構を備える。
上記誘電泳動力と重力および浮力に基づく力とが正反対方向にない 場合には, 上記回転機構を利用して上記ケースを, 斜めに傾いた平面内 で回転させることにより, 上記誘電泳動力と重力および浮力に基づく力 とを釣り合わせることができる。 もちろん, 上記回転機構によるケース および電極装置の回転により積極的に不均衡を生じさせて小物体の移動 を制御することもできる。 上記回転機構は小物体のハン ド リ ングにも活 用できる。
上記電極装置における電極は, 好ましい実施態様では, 複数の (一対 の) 電極の互いに向い合う辺が, 電極間中心線に関して線対称で, 一端 から他端に向って電極間隔が狭く平行に延び, 続いてしだいに電極間隔 が増大するよ うに曲線に形成されている。 この一対の電極は安定平衡点 と不安定平衡点とを生じさせる。
上記誘電泳動装置はさらに, 上記複数の電極に印加する, 少なく とも 周波数または電圧が可変な交流電圧を発生する交流発生装置を備えてい る。
好ましい実施態様では, 上記傾動機構による傾きの角度および上記回 転機構による回転の角度が測定可能である。 角度の測定は目視によって もよく, センサにより 自動的に測定してもよい。
この発明はまた, 上記誘電泳動装置で好適に用いられるディバイス (装置) を提供する。 このディバイスは, 内部に誘電体溶液を充填しか つ誘電体部分を含む対象小物体を入れるためのケース, および上記ケ一 k .
Γυ ι / u r IJ / Lf (j i l 4
4 ス内に不均一交番電場を形成する複数の電極を備え, 上記複数の電極の 互いに向い合う辺が, 電極間中心線に関して線対称で, 一端から他端に 向って電極間隔が狭く 平行に延ぴ, 続いてしだいに電極間隔が増大する よ う に曲線に形成されているものである。
一実施態様では, 上記ケースに対象小物体を吸引または排出するため の口があけられている。
他の実施態様では, 上記ケース内に誘電体溶液を注入する注入口およ び誘電体溶液を排出する排出口が上記ケースにあけられている。
このよ う なディバイスは, 小物体の分離, 排斥, 分別等に利用するこ とができる。
この発明による小物体のハン ドリ ング方法は, ケース内に誘電体溶液 を充填しかつ誘電体部分を含む対象小物体を入れ, 上記ケース内に不均 一交番電場を形成し, 不均一交番電場の強さおよび周波数ならびに上記 ケースの傾きの方向および角度の う ちの少なく と も一つを調整して, 上 記ケース内の対象小物体に働く誘電泳動力と重力および浮力に基づく 力 との間に不均衡を生じさせて対象小物体を所望の方向に移動させるもの である。 小物体を移動させたのち, 所望の位置 (安定平衡点) で停止さ せるこ と もできる。
この発明による小物体の分別方法は, ケース内に誘電体溶液を充填し かつそれぞれが誘電体部分を含む異なる複数種類の対象小物体を入れ, 上記ケース内に不均一交番電場を形成し, 不均一交番電場の強さおよび 周波数ならびに上記ケースの傾きの方向および角度の う ちの少なく と も 一つを調整して, 上記ケース内の対象小物体に働く誘電泳動力と重力お よび浮力に基づく 力との間に不均衡を生じさせて異なる複数種類の対象 小物体を別個の方向に移動させ, 所望の種類の対象小物体を所望の安定 平衡点で停止させるものである。 この発明による小物体の誘電泳動力の測定方法は, ケース内に誘電体 溶液を充填しかつ誘電体部分を含む対象小物体を入れ, 上記ケース内に 不均一交番電場を形成し, 不均一交番電場の強さおよび周波数ならびに 上記ケースの傾きの方向および角度の少なく と も一つを調整して, 上記 ケース内の対象小物体に働く誘電泳動力と重力および浮力に基づく 力と を釣り合わせて小物体を静止させ, 上記小物体が静止したときの上記ケ —スの所定方向の傾き角度を用いて誘電泳動力を算出するものである。 この発明においては, 対象小物体と しては生体細胞を含むあらゆる誘 電体または誘電体部分を一部に含む小物体に適用可能である。 図面の簡単な説明
第 1 図は, 誘電体粒子に働く 重力の斜面分力と誘電泳動力との釣り合 いの原理を示す。
第 2図は, D E Pディバイスを示す断面図である。
第 3図は, D E Ρディバイスのカバーガラスを除いた状態の平面図で ある。
第 4 a 図は, 粒子に働く 力を示すもので, 粒子が中心線上にあり , 釣 り合っている状態を示す。
第 4 b図は, 誘電泳動力のプロファイルと重力の斜面分力と を示すグ ラ フである。
第 5 a 図は D E Pディバイスの上下を逆にして配置したと きの粒子 に働く 力を示し, 第 5 b 図はこのと き生じる誘電泳動力のプロ フ ァイル と重力の斜面分力と を示すグラフである。
第 6図は, 粒子に働く 力を示すもので, 粒子が中心線から外れて合力 が生じている状態を示す。
第 7図は, 粒子に働く 力を示すもので, 粒子が中心線から外れている が, 釣り合つている状態を示す。
第 8図は, 傾動板と回転盤の配置関係, すなわち D Ε Ρディバイスの 傾きを示す。
第 9図は, 傾動板と回転盤の配置関係, すなわち D Ε Ρディバイスの 回転を示す。
第 10図は, 座標軸を示す。
第 11 a 図および第 11 b図は, 角度 0 pitchを 60° から 15° へ, および 15° から 60° へそれぞれ急激に変化させたと きの粒子の移動量を時間の経過 にしたがって示すグラフである。
第 12図は, 複数回の連続する角度ステップ応答を示すグラフである。 第 13 a 図は角度ステップ応答における粒子の位置を示し, 第 13b図は 角度ごとの安定平衡点を示すダラフである。
第 14図は, 重力の斜面分力と誘電泳動力とが釣り合つている静止粒子 の位置の変化を角度 Θ pitchを横軸にして示すグラフである。
第 15 a 図および第 15 b図は, 電圧を 8 Vppから 20Vppへ, および 20V ppから 8 Vppへそれぞれ急激に変化させたときの粒子の移動量を時間の 経過にしたがって示すグラフである。
第 16図は, 複数回の連続する電圧ステ ップ応答を示すダラフである。 第 17 a 図は電圧ステップ応答における粒子の位置を示し, 第 17b図は 電圧ごとの安定平衡点を示すグラフである。
第 18図は, 重力の斜面分力と誘電泳動力とが釣り合つている静止粒子 の位置の変化を電圧 Vppを横軸にして示すダラフである。
第 19 a 図および第 19 b 図は, 周波数 f を 3001: 1^2から 51^112へ , お よび 5 M H zから 300 K H zへそれぞれ急激に変化させたと きの粒子の移 動量を時間の経過にしたがって示すグラフである。
第 20図は, 複数回の連続する周波数ステップ応答を示すグラフである。 第 21 a図は周波数ステップ応答における粒子の位置を示し, 第 21 b図 は周波数ごとの安定平衡点を示すグラフである。
第 22図は, 重力の斜面分力と誘電泳動力とが釣り合つている静止粒子 の位置の変化を周波数 f を横軸にして示すグラフである。
第 23図は, 誘電体粒子の移動 (ハンドリ ング) の様子を示す。
第 24図は, 複数の誘電体粒子を分離させた状態を示す。
第 25図は, 誘電泳動装置の全体構成を示す斜視図である。
第 26図は, 誘電泳動装置における傾動板の取付構造を示す斜視図であ る。
第 27図は , 誘電泳動装置における傾動板の位置決め固定構造を示す側 面図である o
第 28図は , 第 27図における a — a線に沿う拡大断面図である。
第 29図は , 誘電泳動装置における X Yテーブル上に回転盤が設けられ ている様子を示す斜視図であ Ό o
第 30図は , 誘電泳動装置における回転盤の取付構造を示す断面図であ る。
第 31図は, 誘電泳動装置の電気的構成を示すプロ ック図である。 第 32図は, D E Pディバイスの変形例を示すもので, 一部を切欠いて 示す平面図である。
第 33図は, 第 32図の縦断面図である。 発明を実施するための最良の形態
( 1 ) 誘電泳動と誘電泳動力
誘電体溶液の中に誘電体粒子を置き, 不均一な (場所によって電場の 強さが異なる) 交番 (交流) 電場 (電界) を印加すると, 誘電体粒子に は次式で与えられる力 F D E p (これを誘電泳動力 ( d i e l e c trophore t i c forcce) という) が働き, 誘電体粒子はこの誘電泳動力によって溶液 (不 均一交番電場) 内を移動する (この現象を誘電泳動という)。
FDEP = 2兀£0 3 Re(fCM )VEL … 式(i) ここで, £ 。は真空中の誘電率, ε mは溶液の比誘導率, r は粒子 (球 形と仮定する) の半径, R e ( f C M)はクラ ウジウスーモソツチ (Clausi us- osotti) の式の実部であり , 式(2)で表わされる。 E r m sは交流電場 の強さを実効値と して表現したものである。
R e (fCM ) = R e {( - )/(ε; + 2ε )} …式 (2) こ こで ε ρ *および ε m*はそれぞれ粒子および溶液の複素比誘 電率である。
£ p < £ mの場合には粒子は電界分布の疎の方へ向 う誘電泳動力を受 ける (これを負の誘電泳動という), £ p > £ mの場合には粒子は電界分 布の密な方へ移動する誘電泳動力を受ける(これを正の誘電泳動とい う)。 溶液中の非荷電粒子, 特に生体細胞 (赤血球や白血球の正常細胞およ び癌細胞, マラ リ ア原虫寄生赤血球, 各種の細菌など), D NA分子など の分類方法 (フィ ルタ リ ング) や特性評価は, その粒子の大き さが数ミ ク ロ ン以下となる と極めて困難である。 これらの対象物を操作 (ハン ド リ ング) するこ と も容易ではない。
誘電泳動力は, 溶液 (溶媒) の誘電率と比べて粒子 (上記生体細胞を 含む) の誘電率が大きいか小さいかによつて誘電泳動力の方向と大き さ が異なるので, 粒子の移動と停止, 混合粒子 (上記生体細胞を含む) の 分離または分別, 特定粒子 (上記生体細胞を含む) の同定などのハン ド リ ングが可能となる。
(2) 誘電泳動力と重力との釣り合いおよびその応用
第 1図に示すよ う に, 溶液中に粒子を収容する誘電泳動ディバイス (装置) (以下, D E Pディバイスとレ、 う) (ケース) を考える。 この D E Pディバイスは, 平坦な基板ガラス (下面板) 上の周囲にスぺーサに よる枠体を固定し, このスぺーサによって囲まれた空間内に溶液を充填 する と と もに, 粒子を入れ, その上を平坦なカバーガラス (上面板) で 覆って内部に溶液で満たされた (密閉) 空間を形成したものである。 (密 閉)空間内に不均一交番電場を形成する電極を基板ガラス等に設けるが, その詳細は後述する。
D E Pディバイス内の粒子には, 粒子の重力と溶液による浮力が働く。 浮力よ り も重力の方が大きいとすれば, 粒子に働く 力 F G (以下, これ を単に 「重力」 という) は次式で与えられる (粒子の重力よ り も浮力の 方が大きい場合には ( P p _ P m ) を ( P m— P P ) と置きかえ, 粒子に 働く 力の方向を上方向にすれば, 以下の議論はすべて同じよ う にあては まる)。
FG =(4/3)πΓ 3ρ— pm)g 式(3) こ こで p pは粒子の密度, p mは溶液の密度, gは重力の加速度 である。 上記の D E Pディバイスを斜面の上に置く。 斜面の傾斜角度を pitch, 斜面を上る方向を X軸方向とする。 上記の力 F eの斜面に平行に下方向に向う分力は F c sin 0 pitch (以下, この力を重力の斜面分力という) である。 不均一交番電場を加えて, 溶 液中の粒子に斜面に平行に上方向に向 う誘電泳動力 F D E Pが働く よ う に し, も し, これらの力 F G sin 0 pitchと F D E pが釣り合ったとする と, 粒 子は静止する。
この状態 (誘電体粒子が静止する状態) では次式が成り立つ。
FDEP - FG Sin 9pitch = ° 式(4) すなわち,斜面の傾斜角度 0 pitchを変えるこ とによ り, F D E P〉 F G sin Θ pitehまたは F D E P < F G sin 0 pitehの状態をつく れば誘電体粒子を斜面 に沿って上方または下方に移動させるこ とができる し,式(4)が成り立つ 状態をつく り 出すこ とによ り ,誘電体粒子を静止させるこ とができる(粒 子のハン ドリ ング)。
さ らに, F G sin 0 pitchを表わすすべてのパラメータ r , p p , p m , g, Θ pitchが既知である とする と, 式(4)が成り 立つ状態をつく り 出すこ とに よ り , 式(4)を用いて誘電泳動力 F D E Pを測定するこ とができる (これを 零位法という)。 また, ε 。, ε m, E pが既知である とする と, 式(1), (2) から電界の強さ Eの値を算出するこ と もでき る。
この誘電泳動力測定法の特徴は次の点にある。
粒子が静止するので, 粘性抵抗によ る測定誤差を除く こ とができ る。 斜面の角度 0 pi tchを変えるこ とによ り 釣り 合いをつく り , 粒子を静止 させるこ とができる (誘電泳動力を生じさせる交番電場の強さ (印加電 圧や周波数) を変化させても粒子を静止させるこ とはもちろん可能であ るが, 必ずしもそ う しなく てもよい)。 (3) D E Pディバイ スの構造と特徵
D E Pディバイ ス 10の構成の一例が第 2 図および第 3 図に示されて いる。
基板ガラス 11の平坦面上のほぼ中央に左右一対の電極 (ク リ ーク ' ギ ヤップ電極 : Creek-Gap Electrode) 13A , 13B力 形成されてレヽる。 電極 13A, 13Bは互いに向い合う辺が, 一方側すなわち第 3図右側 (斜面に 配置されたと きに下部に位置する側) (以下, これを下側または端子側と いう) から他方側, すなわち第 3図左側 (斜面に配置されたと きに上部 に位置する側) (以下, これを上側という) に向 うにしたがって, まず, 電極の長さの 1 / 3〜 1 4程度の長さについては非常に狭い間隔で平 行にのび, 続いてしだいに間隔が増大するよ う に (増大する割合も増大 する) 曲線に形成されている。 電極 13A, 13Bの下側からそれぞれ配線 パターンがのび, 基板ガラス 11の端部に形成された電極端子 13 a , 13b につながっている。電極 13A, 13Bの上記の辺の中間を通る線を仮想し, これを電極間の中心線 Nという こ とにする。 電極 13 Aと 13Bは中心線 N に関して線対称である。
これらの電極 13A, 13B , 配線パターン, 端子 13a , 13b は基板ガラ ス 11表面にスパッタ リ ングによ り アルミニウム薄膜を形成し, フォ ト リ ソグラフィ技術を用いてパターニングするこ とによ り形成するこ とがで さる。
基板ガラス 11の表面上には, 電極 13A, 13Bおよびその配線パターン の上を含めて絶縁膜 14 (たと えば感光性ポリ イ ミ ド : 厚さ Ι μ π 以下) が形成されており , その表面は基板ガラス 11の表面と平行でかつ平坦で ある。 絶縁膜 14は端子 13a , 13b を含む基板 11の右端部上には形成され ていない。
円形の穴 15Aがあけられたスぺーサ 15が絶縁膜 14上に配置されかつ 固定されている。 電極 13A, 13Bが穴 15Aの中にすつぼり と入るよ うに 穴 15 Aの位置と大きさが定められている。 スぺーサ 15はたとえばシリ コ ンゴム (厚さ 100 m) でつく る こ と ができ る。
スぺーサ 15の穴 15 Aの中に比誘電率 E mの誘電体溶液 S (たとえば蒸 留水) を満たし, かつ比誘電率 f pの 1個または複数個の誘電体粒子 P (たとえば直径 9.9 μ mのポリ スチレンビーズ) を入れる。
溶液 S と粒子 Pが入った空間 (穴 15A) に空気が入らないよ うにして スぺーサ 15の上にカバーガラス 12を乗せ, 固定する。 これにより誘電体 溶液が充填され, かつ誘電体粒子 (対象小物体) が入ったケースができ 上がる。 端子 13a , 13bは外部に露出している。
端子 13a , 13b間に高周波電圧を印加することによ り, 穴 15Aによつ て規定される溶液 Sが満たされた空間内において, 電極 13Aと 13Bとの 間 (上述した電極の 2つの辺の間) に不均一な交番電場が形成される。 上述した例でいう と, ポリ スチレンビーズの誘電率は蒸留水 Sの誘電率 より も小さいので負の誘電泳動が生じ, ポ リ スチ レンビーズ (粒子 P ) は電極間隔の大きい方に向う誘電泳動力を受け, D E Pディバイス 10が 水平に配置されているとすればその方向 (第 3図左方向) に移動する。
このよ うな D E Pディバイス 10を端子側を下側にして第 1図に示す ような斜面上に置く。 簡単のために, 1個の誘電体粒子 Pが D E Pディ バイス 10内の空間において中心線 N上に存在するとする。 また, 中心線 Nの傾きを 0 pitchとする。 上述のよ うに粒子 Pには, 斜面に沿って上向 きの誘電泳動力 F D E Pと斜面に沿って下向きの重力の斜面分力 F csin Θ pitchとが働く。 この様子が第 4 a図および第 4 b図に示されている。 第 4 b図において, 誘電泳動力 F D E Pが曲線で示され, 重力の斜面分力 F Gsin Θ pitchが直線で示されている(傾斜角度 0 pitchに応じて変化する)。 これらの 2つの力 F D E Pと F Gsin 0 pitchとの交点が上述したように 2つ の力が釣り合う点 (「平衡点」 という) である。
ク リ ーク · ギヤ ップ電極においては平衡点は 2つある。 それは誘電泳 動力 F D E Pが第 4 b図に示すよ うに中央にピークをもつ曲線プロフアイ ルをもっからである。 電極の下の方では 2つの電極 13 Aと 13Bとの間の 間隔が狭いので電界強度は大きいが左右の電極 13 A , 13Bの向い合う辺 が平行であるから電界の傾きが無いので誘電泳動力は生じない。 他方, 電極の上の方では電極間隔がきわめて広く , 電界の強さ も傾きも極めて 小さ く なり, 誘電泳動力はほぼ零になる。 この結果, 誘電泳動力は中央 にピーク を持つこ とになる。
2つの平衡点のう ち上側の平衡点は安定平衡点である。 すなわち, こ の平衡点よ り も下にある粒子に働く誘電泳動力 F D E Pは重力の斜面分力 Ferine pitehよ り も大き く , 粒子は平衡点に向って上昇し, 平衡点よ り も上にある粒子に働く誘電泳動力 F D E Pは重力の斜面分力 Fcs in 0 pitch よ り も小さ く , 粒子は平衡点に向って下降する。 いずれにしても粒子は 平衡点に向って移動するので安定な平衡点である。 これとは逆に, 下側 の平衡点は, その平衡点の上または下に存在する粒子には, 粒子を平衡 点から離れる方向に動かす力が働く ので不安定な平衡点である。
第 5 a 図は D E Pディ バイ スを第 4 a図とは上下逆に して斜面に配 置した様子を示すもので, 第 5 b図はそのと きに誘電体粒子に働く誘電 泳動力のプロ ファイルを示している。この場合にも 2つの平衡点が生じ, その う ちの一つは安定平衡点である。
このよ う にして, ク リーク · ギャ ップ電極をもつ D E Pディバイスは, 正, 負の誘電泳動力のいずれにおいても, 一つの安定平衡点を確保する こ とができ, 粒子を安定な状態で静止 (停止) させるこ とができる。 上記は粒子 Pが電極間中心線 N上に存在する場合である。
第 6図に示すよ うに, 粒子 Pが中心線 Nにない場合には, 誘電泳動力 F D E Pの方向は中心線 Nと平行な方向ではなく, 中心線 Nから傾く。 重 力の斜面分力 Fcsin0 pitchは中心線 Nと平行な方向に働くから, これら の力の合成力 Cが生じ, この力 Cによって粒子 Pは溶液中を移動する。 この合成力 Cを打ち消す方向に重力が働く よ うにするために, D E P ディバイス 10を斜面上で回転させる (後述するよ うに D E Pディバイス 10を置載した回転盤 50を回転させる)(回転角を 0 ya,で表わす)。すると, D E Pディバイス 10 (回転盤 50) のある角度位置 0 ya,で, 第 7図に示す よ うに, 誘電泳動力 F D E Pと重力の斜面分力 F Gsin0 pitchが釣り合い, 粒子は静止(停止)する。すなわちこの場合にも安定平衡点が存在する。 また, このときにも式(4)は成立つ。
したがって, 粒子が中心線 N上に存在しない場合にも, 粒子の移動と 停止 (中心線 N上のみならず, 中心線 Nを横切る方向にも移動する) が 可能であり, 粒子が静止したときの条件を用いて式(3), (4)により誘電 泳動力 F D E Pを算出することもできる。
次に述べる誘電泳動装置と関連づけるために, 斜面を構成する傾動板 30, および D E Pディバイス 10を保持し斜面 (傾動板 30) 上で回転する 回転盤 50の位置, 角度関係および座標軸が第 8図から第 10図に簡潔にま とめて示されている。
第 1図に示すよ うに傾動板 30に沿う方向が X軸であり, この X軸に直 交し, かつ傾動板 30の表面に沿う方向が Y軸, 傾動板 30の表面に垂直な 方向が Z軸である (後述する X Yテーブル 41の X, Y軸とは異なる座標 系である)。 傾動板 30の傾き 0 pitchは Y軸の回転に相当する。 回転盤 50の 回転は Z軸のまわりの回転 0 ya,に相当する。 回転盤 50を回転させること により, 上述した合成力 Cが打消されるのが理解できるであろう。 傾動 板 30の傾き角 0 pitchは誘電泳動力 F D E Pの大きさに関係し, 回転盤 50の 回転角 0 ya,は誘電泳動力 F D E Pの方向を表わす。 (4) 誘電泳動装置および方法
誘電泳動装置の一例が第 25図から第 3 1図に示されている。 この誘電泳 動装置は, 誘電泳動力測定装置, 誘電体粒子のハン ドリ ング装置, 分別. 装置と しても用いるこ とができ, 各種の方法 (誘電泳動力測定方法, ハ ン ドリ ング方法, 分別方法) を実現するこ とができる。
特に第 25図, 第 26図を参照して, 傾動機構について説明する。 基台 20 上に傾動板 30が傾動自在にその下端部で枢着されている。 すなわち, 基 台 20上には複数の軸受 21が固定されている。 他方, 傾動板 30の下端部に は軸孔が形成された複数の取付部 32がー体的に形成され, これらの取付 部 32の軸孔内に回転軸 31が挿通され, かつ固定されている。 回転軸 3 1は 軸受 2 1に回転自在に受けられている。 基台 20 (又は 1 つの軸受 2 1 ) には 回転軸 3 1の回転角を検出する回転 ト ランスデューサ (たと えばポテンシ ョ メータ) 25が取付けられている。
特に第 27図, 第 28図を参照して, 基台 20の一側には扇形の位置決め板 22が基台 20の表面に垂直に立設されている。 位置決め板 22の円弧状の側 縁の近く には位置決め溝 23が円弧状に形成されている。 他方, 傾動板 30 の一側には, 傾動板 30の傾動に伴って上記位置決め溝 23に沿って動く 箇 所に, ねじ孔が形成されたスライ ド 33が傾動板 30の一側からやや突出し て設けられている。 つまみ 24 a を持つ固定ねじ 24が位置決め板 22の外側 から位置決め溝 23内にゆる く 入り , スライ ド 33のねじ孔にねじ嵌められ ている。
傾動板 30は上述した斜面を形成する もので, 回転軸 3 1を中心に手動操 作で傾動板 30を回転させるこ とによ り , 0 p i tc hが少なく と も 0 ° から 90° の間で, 傾動板 30を任意の角度位置にもたらすこ とができる。 そ して, 固定ねじ 24を締め付けるこ とによ り , 傾動板 30を位置決めした位置に固 定するこ とができる。 傾動板 30の角度位置 (角度 0 p i tch ) は回転 ト ラン スデューサ 25の出力によ り電気信号の形で得るこ とができる し, 位置決 め板 22に角度目盛 22 Aを刻んでおく こ とによ り , 目視によ り知るこ と も できる。 傾動板 30が水平状態のときの角度 0 p i tchを 0 ° とする。
特に第 25図, 第 29図を参照して, 傾動板 30上には X Yテーブル機構 40 が固定されている。 X Yテーブル機構 40はその上部に X Yテーブル 41を 備え, X Yテーブル 41の位置はつまみ 42 , 43によ り X , Y方向に調整す るこ とができる。 X Yテーブル 41の表面は傾動板 30の表面と平行である。 X Yテーブル機構 40の X方向 (第 1 図に示す斜面に沿う X方向とは異な る座標系のものである) は X Yテ一ブル 41の表面内にあり , かつ傾動板 30の回転軸 31と平行な方向であり, Y方向は X Yテーブル 41の表面内に おいて X方向と直交する方向である。
さ らに第 29図, 第 30図を参照して, 回転機構について説明する。 X Y テーブル 41には円形の凹所 44が形成され, この凹所 44内に回転盤 50が回 転自在に入っている。 すなわち, 回転盤 50の中心下部に固定された回転 軸 52が X Yテ一ブル 41に設けられた軸受 45に回転自在に受けられている。 X Yテーブル 41には回転軸 52 (すなわち回転盤 50 ) の回転角度'位置 (角 度 Θ yaw) を検出する回転 ト ランスデューサ 46が設けられている。
X Yテーブル 41には, 180° (— 90° 〜+ 90° ) 以上の角度範囲にわた つて, 円形凹所 44の周囲に位置決め溝 47が形成されている。 この位置決 め溝 47はその下部において溝幅が広く形成され, この幅広の溝内にスラ ィ ド 55が溝にそって移動自在に入っている。
他方, 回転盤 50の周縁には径方向外方にのびる取手 53が固定されてい る。 この取手 53には孔があけられ, この孔内につまみ 54 a を有する固定 ねじ 54が回転自在に通り , 固定ねじ 54の先端部はスライ ド 55にあけられ たねじ孔內にねじ嵌められている。 したがって, 回転盤 50は取手 53をもって手動操作によ り (少なく と も 一 90° 〜90° の範囲内で) 回転させるこ とができ, かつ任意の角度位置 において, つまみ 54 a を回転させ, 固定ねじ 54を締めるこ とによ り X Y テーブル 41に固定するこ とができる。 回転盤 50の角度位置は回転 トラン スデューサ 46から電気信号の形で得るこ とができる し, 回転盤 50の周囲 の場所において X Yテーブル 41に描かれた (刻まれた) 目盛 41Aを使つ て目視によ り読取るこ と もできる。
回転盤 50の表面には D E Pディバイ ス 10を収納するための凹所 51が 形成されている。 凹所 51は D E Pディバイス 10を丁度収納する大き さに つく られ (D E Pディバイス 10よ り も凹所 51の方が大き く てもよい), こ の凹所 51内に収められた D E Pディバイス 10は, 上方向への移動を除い て動かない。 凹所 51には D E Pディバイス 10をピンセッ ト等によ り着脱 するための切欠き 51 Aが形成されている。
回転盤 50には凹所 51の周囲の複数箇所においてバネ材よ り なる爪 58 がピンによ り回転可能に取付けられている。 この爪 52によ り, 凹所 51内 に収められた D E Pディバイス 10の固定をよ り強固にするこ とができ る。 もっ と も, 凹所 51の底面と D E Pディバイス 10の裏面との間に粘着剤等 を入れて D E Pディバイス 10の固定を確保するよ うにしてもよい。
回転盤 50の表面, その凹所 51の底面も X Yテーブル 41の表面および傾 動板 30の表面と平行である。 したがって, 凹所 51内に収められた D E P ディバイ ス 10 (基板ガラス 11, 絶縁膜 14の表面) の傾き角度は傾動板 30 の傾き角度と等しく ,傾動板 30の傾き角度と して測定するこ とができ る。 また, 凹所 51内に収められた D E Pディバイス 10の電極 13A, 13Bの中 心線 Nは,回転盤 50の角度位置が 0 ° のと きに,傾いたときの傾動板 30, XYテーブル 41, 回転盤 50の最も角度の大きい方向 ( X Yテーブル 41の Y方向) に一致する。 逆にいえば, 傾動板 30のある角度位置で, 中心線 Nの方向が最も角度の大きい方向と一致しているときの回転盤 50の角度 位置 ( Θ yaJ を 0 ° とする。
最後に第 25図において, 傾動板 30上には支持体 63が固定され, 顕微鏡 60がこの支持体 63に上下方向 (傾動板 30の表面に垂直な方向) に昇降自 在に支持されている。 顕微鏡 60は回転盤 50にセッ トされた D E Pディバ イス 10内の粒子 Pを (たとえば回転盤 50の回転中心付近を) 視野内に収 めることができる位置に配置されている。 顕微鏡 60の視野の位置は, X Yテーブル機構 40によって X Yテーブル 41を X, Y方向に動かすことに より調整することができる。 顕微鏡 60の視野像のフォー力シングはつま み 62で調整できる。 また顕微鏡 60には C C Dカメラ (第 3 1図に符号 61で 示す) が内蔵され, 視野像を表わす映像信号を得ることができる。 もち ろん, 顕微鏡 60は倍率調整を行う ことが可能である。
第 31図は誘電泳動装置の電気的構成の概要を示すものである。
処理装置 70は好ましくはコ ンピュータ · システムによ り構成され, 誘 電泳動力等を測定するときには, 後述する各種入力を受付, 上述した式 ( 1 )ないし式(4)にしたがう演算を行い, 誘電泳動力 F D E P , 電界の強さ E等を求めて, 出力装置 72 (プリ ンタ, 表示装置など) に出力する。 高周波発生装置 73は, D E Pディバイス 10の電極 13 A , 13 B間に印加 する高周波電圧を発生するもので,その周波数 f と電圧 Vが可変である。 発生した高周波信号波形はオシロ ス コープ 75により観察することができ る。 高周波電圧の周波数 f と電圧 Vは処理装置 70に与えられる。 周波数 f と電圧 Vをオシロ スコープ 75の波形表示から目視により読取ることも 可能である。 処理装置 70が高周波発生装置 73を制御し, 周波数 f と電圧 Vを変えるよ うにしてもよレ、。
回転トランスデューサ 25 , 45が検出する傾動板 30の傾き角度 0 p i tch, 回転盤 50の角度位置 0 ya,を表わす信号はイ ンターフェース 76を介して処 _ _
19 理装置 70に入力する。 これらの角度 0 pitch, 0 ya,は目盛 22A, 41A力 ら 目視で読取り , 入力装置 71 (キーボー ド, 表示装置とマウスなど) から 入力するこ と もできる。
顕微鏡 60內の C C Dカメ ラ 61から出力される映像信号は表示装置 74 に常時 (ムービーと して) 表示される。 必要に応じて映像信号はイ ンタ 一フェース 76によ りディ ジタル画像データに変換され, 処理装置 70に与 えられる。 処理装置 70はこれらのディ ジタル画像データの画像処理を行 い, 粒子 Pが静止しているかどう かを判定するよ う にプログラムするこ とができる。
誘電泳動力 F D E Pの演算に必要なパラメータ (粒子の半径 r , 溶液の 密度 p m, 粒子の密度 p p, 重力の加速度 g など) は入力装置 71から処理 装置 70に入力される。 必要に応じて, 空気の誘電率 ε 0, 溶液の比誘電 率 i m, 粒子の比誘電率 £ pも入力装置 71から入力される。
最も発展した形態では, 入力するディ ジタル画像データにも とづいて 処理装置 70によって, オー ト フォーカス, 倍率などを調整する顕微鏡制 御装置 77を制御するこ と もできる し, 回転軸 31, 52を回転させるモータ 78, 79を設け, 処理装置 70によるプロ グラム制御の下で, 粒子 Pが静止 するよ う に傾動板 30の角度 Θ pitch, 回転盤 50の角度 0 ya,を調整するよ う. にするこ と もできる。:
この誘電泳動装置を用いた誘電体粒子のハン ドリ ングおよび誘電泳 動力測定の例について説明する。
D E Pディバイス 10を回転盤 50の凹所 51にセッ ト し, 回転盤 50の角度 位置を 0 ° ( 0 ya,= 0 ) にした状態で, D E Pディバイス 10の電極 13 A, 13B間に, 高周波電圧(周波数 f と電圧 Vは固定値とする) を印加する。 粒子 Pが第 4 a 図に示すよ う に, 中心線 N上にあれば, 傾動板 30 (す なわち D E Pディバイス 10) の角度 0 pitchを変化させるこ と によ り , 粒 子 Pを移動または停止 (静止) させることができる。 粒子 Pに働く誘電 泳動力 F D E Pと粒子 Pに作用する重力の斜面分力 F csin0 pitchが釣り合 つたときに粒子 Pは静止するので, このときの傾き角度 0 pitchを用いて, 式(3), (4)により誘電泳動力 F D E Pを求めることができる。
第 6図に示すように, 粒子 Pが中心線 Nにない場合には, 誘電泳動力 F D E pの.方向は中心線 Nと平行な方向ではなく, 中心線 Nから傾く。 重 力の斜面分力 F c sin 0 pitchは中心線 Nと平行な方向に働くから, これら の力の合成力 Cが生じ, この力 Cによって粒子 Pは溶液中を移動する。 この合成力 Cを打ち消す方向に重力が働く よ うにするために回転盤 50を回転させる。 すると, 回転盤 50のある角度位置 0 ya,で, 第 7図に示 すよ うに,誘電泳動力 F D E Pと重力の斜面分力 Fcsin0 pitchが釣り合う。 このときにも式(4)は成立つので, 式(3), (4)によ り誘電泳動力 F D E p を算出することができる。
第 23図に示すように, D E Pディバイス 10內の空間において, 任意の 位置 Gにある粒子 Pを他の所望の位置 Hまで移動させて, 位置 Hに停止 させることもできる。 このとき, 最も好ましく は, 傾動板 30の傾き角度 Θ pitchと回転盤 50の回転角度 0 ya,を変えることが好ましいが, 電極 13 A, 13Bに印する電圧 Vまたは周波数 f を変えてもよい (後述するよ うに基 台 20を傾動または回転させるよ うにしてもよい)。
誘電泳動力 FD E Pは, 式(1), (2)から明らかなよ うに粒子 Pの誘電率 (比誘電率) および半径の関数であるから, 誘電率や半径の異なる複数 の粒子を D E Pディバイス 10内に入れ,傾き角度 0 pitch, 回転角度 0 yaw) 電圧, 周波数等を調整 (基台 20の傾動, 回転を含む) して, 各粒子をそ れぞれの方向に移動させ, 最終的に第 24図に示すように分離することが 可能である。 この図において P I , P 2 , P 3は誘電率または径の異な る粒子を表わしており, 中心線 N上に分離して位置決めされている。 粒子のハン ドリ ングゃ誘電泳動力 F D E Pの測定は, 手動操作による測 定から自動制御による測定までさまざまな形態がある。
顕微鏡 60の C C Dカメ ラ 61から出力される映像信号に基づく D E P ディバイス 10の電極 13A, 13Bや粒子 Pの画像 (第 4 a 図, 第 6図, 第 7図, 第 23図, 第 24図に示すよ うな) を表示装置 74に表示しながら, 粒 子 Pの動き (速度と方向) を観察して, 傾動板 30の傾き 0 pitchや回転盤 50の角度 0 ya,等を手動操作で調整して粒子 Pを所望の位置まで移動させ る, または静止させる。 粒子が静止したと きの傾き角 0 pitchを入力装置 71から手動操作で入力 し, 処理装置 70に誘電泳動力 F D E Pを計算させる こ とができる。 または粒子 Pが静止したと きの角度 0 pitchを回転 ト ラン スデューサ 25から取込めば, 手動操作による入力は不要と なる。 もちろ ん, 誘電泳動力 F D E Pの計算を処理装置 70に行なわせるこ となく 手動操 作によ り行ってもよい。
C C Dカメ ラ 61から得られるディ ジタル画像データを処理装置 70に 取込み, 処理装置 70内において粒子 Pの動き (方向と大き さ) を判断し て傾動板 30の傾き, 回転盤 50の回転等を粒子 Pが静止するよ う に自動制 御するこ と も可能であ り , 静止したと きの傾き角 0 pitchから誘電泳動力 F D E Pを算出するこ とができ る。
電極 13A, 13B間に印加する高周波信号の電圧 Vまたは周波数 f を変 えるこ とによつても (傾き角 0 pitchを固定しても, 変えてもよい) (必要 に応じて回転盤 50の角度 Θ ya,を変える),粒子 Pを移動または静止させる ことができる。
上述したよ う に, 電界の強さ E r p mの測定も可能である。 (5) ステツプ応答
D E Pディバイ ス内で粒子を移動または停止させるために必要な時 —
22 間は充分に実用化可能な範囲内であるこ と を以下に実験結果によ り示す。 この実験は上述した D E Ρディバイ ス 10および誘電泳動装置を用い て行った。 粒子 Ρは直径 9.9μ mのポリ スチレンビーズ, 溶液は蒸留水で ある。
第 11 a 図, 第 lib図, 第 12図, 第 13a 図, 第 13 b図および第 14図は角 度ステップ応答を示すものである。
角度ステップ応答は, 印加電圧 20Vpp, 周波数 1 MHzの条件下にお いて, 角度 0 pitchを 60° から 15° ( B力、ら A) および 15° から 60° ( A から B) 急激に変化させて (第 12図, 第 13a 図, 第 13b図参照), 粒子 の移動量を測定して得た。 B点から A点への移動の時定数は 3分, A点 から B点への時定数は 1.9分である (第 11 a 図, 第 lib図参照)。 第 14図 は重力の斜面分力と誘電泳動力とが釣り合つている状態の粒子の静止位 置の変化(移動量)を角度 0 Pitchを横軸にして示すものである。角度 0 が大き く なるほど下方の位置で釣り合つているこ とが分る。
電圧ステップ応答は, 周波数 1 MHz, 角度 0 piteh=3O° (l49fN) の 条件下において, 電圧 8 Vppから 20Vpp (Dから C) および 20Vpp から 8 Vpp (Cから D) 急激に変化させて (第 16図, 第 17a 図, 第 17 b図参照) 粒子の移動量を測定して得た。 D点から C点への移動の時定 数は 1分, C点から D点への移動の時定数は 5分である (第 15 a 図, 第 15 b 図参照)。 静止位置は電圧が上昇するにつれて上方に移る (第 18図参 昭)
周波数特性は, 印加電圧 15Vpp, 角度 0 piteh=3O° (l49fN) の条件下 において, 周波数 300K Hzから 5 MHz ( Fから E ) および 5 MHz から 300KHz ( Eから F ) 急激に変化させて (第 20図, 第 21 a 図, 第 21 b 図参照) 粒子の移動量を測定して得た。 F点から E点への移動の時 定数は 0.7分, E点から F点への移動の時定数は 2.8分である(第 19 a 図, 第 19b図参照)。 静止位置は周波数が高く なるにつれて上方に移る (第 22 図参照)。
このよ う に, 各ステップ応答において時定数は数分以内であり, 約 15 分で定常状態に達している。 充分に実用に耐えう る応答の速さである。
(6) 変形例
上述したよ う に, 誘電泳動装置を用いて誘電体粒子のハン ドリ ングと 誘電泳動力の測定とが可能である。 第 32図, 第 33図はさ らに粒子のハン ドリ ングの範囲を広げるこ とが可能な D E Pディバイスの例を示してい る。
この D E Pディバイス 10Aの基本構造は第 2図, 第 3図に示すものと 同じであ り, したがって第 32図, 第 33図では細部の構造の図示は省略さ れ, 電極 13A, 13Bのみが図示されている。
D E Pディバイス 10Aは, その一端部中央に溶液の注入口 17Aを有し, 他端部中央に溶液の排出口 18Aを有している。 これらの注入口 17A, 排 出口 18Aにはそれぞれ溶液の注入管 (チューブ) 17, 排出管 (チューブ) 18が結合され, これらの管 17, 18にはそれぞれ弁 (コ ックまたはバルブ) 17B , 18Bが設けられている。 さ らに, 電極間中心線上または他の適当 な位置において, 下面板に粒子の吸引 口 ( トラ ップ口) 16Aがあけられ, これに吸引管 (チューブ 16) が結合している。
この D E Pディバイス 10 Aは, たとえば D E Pディバイス内に導入さ れた多数の粒子 (対象小物体) の中から 1個の粒子のみを分別するため に用いる こ とができる。 すなわち, 上述したよ う に角度 0 pilchも しく は Θ ya», または電圧も しく は周波数 (さ らに必要なら基台 20の傾きまたは 回転) を調整するこ とによ り特定の粒子を吸引口 16 Aの位置まで移動さ せ, その粒子を吸引 して吸引管 16 (またはそれに接続された適当な トラ ップ) に退避させる。 この状態で注入管 17を通して溶液を注入口 17Aか ら D Ε Ρディバイス 10A内部に注入してディバイス内部に存在する他の 粒子を排出口 18A, 排出管 18を通して排出する。 そして, 吸引管 16に退 避しておいた特定の粒子を D E Pディバイス 10A内部に戻す。 このよう にして, D Ε Ρディバイス 10A内部には特定の粒子のみを確保すること ができる。 上記の分別操作の過程で溶液の注入, 排出時にバルブ 17B , 18 Βを開閉する。 吸引管 16にも必要に応じてバルブを設けておく。
上述のステップ応答からも分るよ うに, D E Pディバイスを急激に傾 けたり, 急激に回転させたり, 電圧や周波数を急激に変化させることに より, 粒子の移動を速くすることができるので, 粒子のハン ドリ ングに おいては, 上述のよ うな急激な変化を生じさせて粒子を目標位置に向つ て移動させ, 目標位置に近づいたところで角度, 電圧, 周波数を微調整 するとよい。 そのときに, 必要ならば基台 20そのものを回転 (第 10図に 示す X軸を角度 0 pitch逆方向に回転させて基台 20上に移動させたときの X軸の回りの回転 0 r。u) させてもよいし, 基台 20を 0 pitch方向に回転さ せてもよレ、。
上記実施例では D E Pディバイスを載置しかつ回転させるために回 転盤が用いられているが必ずしも盤状体である必要はなレ、。特に第 32図, 第 33図に示すよ うな吸引口 16 Aや吸引管 16が設けられた D E Pディバイ ス 10Aの場合には, その支持に適した形状の回転体を用いればよい。 同 じょ うに傾動機構の傾動板に代えて板状でない傾動体を用いることがで きるのはいうまでもない。
さらに上記実施例では 1対の電極 13A, 13Bが用いられているが, 複 数対の電極を縦に (上下方向に) 間隔をあけて配置してもよいし, 横に 配置してもよい。 横に配置した場合には隣り合う 2つの電極 (異なる対 に属する) を一体化してもよい。

Claims

Ρ0Τ/,ΙΡ Γι Π Ρ: /Ο ί? 3 ΐ ΐ O 2009/044902 PCT/JP2008/068114 25 請求の範囲
1 . 誘電体溶液を充填しかつ誘電体部分を含む対象小物体を入れるため のケース,
上記ケース内の対象小物体に働く誘電泳動力と重力および浮力に基づ く力との釣り合いに関して少なく とも一つの安定平衡点を生じさせる不 均一交番電場を上記ケース內に形成する複数の電極を含む電極装置, な らびに
上記ケースおよび上記電極装置を保持して傾動させる傾動機構, を備えた誘電泳動装置。
2 . 上記電極装置において, 上記複数の電極の互いに向い合う辺が, 電 極間中心線に関して線対称で, 一端から他端に向って電極間隔が狭く平 行に延び, 続いてしだいに電極間隔が増大するよ うに曲線に形成されて ' いる, 請求の範囲第 1項に記載の誘電泳動装置。
3 . 上記ケースおよび上記電極装置を, 上記傾動機構による傾きの平面 内で回転させる回転機構をさ らに備えた, 請求の範囲第 1項または第 2 項に記載の誘電泳動装置。
4 . 上記複数の電極に印加する, 少なく とも周波数または電圧が可変な 交流電圧を発生する交流発生装置をさ らに備えている, 請求の範囲第 1 項ないし第 3項のいずれか一項に記載の誘電泳動装置。
5 . 上記傾動機構による傾きの角度および上記回転機構による回転の角 度が測定可能である, 請求の範囲第 3項に記載の誘電泳動装置。
6 . 内部に誘電体溶液を充填しかつ誘電体部分を含む対象小物体を入れ るためのケース, および
上記ケース内に不均一交番電場を形成する複数の電極を備え,
上記複数の電極の互いに向い合う辺が, 電極間中心線に関して線対称 26 で, 一端から他端に向って電極間隔が狭く 平行に延び, 続いてしだいに 電極間隔が増大するよ う に曲線に形成されている,
誘電泳動のための装置。
7 . 上記ケースに対象小物体を吸引または排出するための口があけられ ている, 請求の範囲第 6項に記載の装置。
8 . 上記ケース内に誘電体溶液を注入する注入口および誘電体溶液を排 出する排出口が上記ケースにあけられている, 請求の範囲第 6項または 第 7項に記載の装置。
9 . ケース内に誘電体溶液を充填しかつ誘電体部分を含む対象小物体を 入れ,
上記ケース内に不均一交番電場を形成し,
不均一交番電場の強さおよび周波数ならびに上記ケースの傾きの方向 および角度のう ちの少なく と も一つを調整して, 上記ケース内の対象小 物体に働く誘電泳動力と重力および浮力に基づく 力との間に不均衡を生 じさせて対象小物体を所望の方向に移動させる,
誘電泳動を利用 した小物体のハン ドリ ング方法。
10. 請求の範囲第 1 項から第 5項のいずれか一項に記載の誘電泳動装置 を用い,
上記ケース内に誘電体溶液を充填しかつ対象小物体を入れ, 上記電極装置の複数の電極に交流電圧を印加して上記ケース内に不均 一交番電場を形成し,
不均一交番電場の強さおよび周波数ならびに上記ケースの傾きの方向 および角度の う ちの少なく と も一つを調整して, 上記ケース内の対象小 物体に働く誘電泳動力と重力および浮力に基づく 力との間に不均衡を生 じさせて対象小物体を所望の方向に移動させる,
誘電泳動を利用 した小物体のハン ドリ ング方法。 27
1 1. 上記対象小物体を安定平衡点で停止させる, 請求の範囲第 9項また は第 10項に記載のハンドリ ング方法。
12. ケース内に誘電体溶液を充填しかつそれぞれが誘電体部分を含む異 なる複数種類の対象小物体を入れ,
上記ケース内に不均一交番電場を形成し,
不均一交番電場の強さおよび周波数ならびに上記ケースの傾きの方向 および角度の少なく とも一つを調整して, 上記ケース内の対象小物体に 働く誘電泳動力と重力および浮力に基づく力との間に不均衡を生じさせ て異なる複数種類の対象小物体を別個の方向に移動させ, 所望の種類の 対象小物体を所望の安定平衡点で停止させる,
誘電泳動を利用した小物体の分別方法。
13. ケース内に誘電体溶液を充填しかつ誘電体部分を含む対象小物体を 入れ,
上記ケース内に不均一交番電場を形成し,
不均一交番電場の強さおよび周波数ならびに上記ケースの傾きの方向 および角度のうちの少なく とも一つを調整して, 上記ケース内の対象小 物体に働く誘電泳動力と重力および浮力に基づく力とを釣り合わせて小 物体を静止させ,
上記小物体が静止したときの上記ケースの所定方向の傾き角度を用い て誘電泳動力を算出する,
誘電泳動を利用した小物体の誘電泳動力の測定方法。
14. 対象小物体が生体細胞である請求の範囲第 9項ないし第 13項のいず れか一項に記載の方法。
15. 請求の範囲第 1項から第 5項のいずれか一項に記載の誘電泳動装置 を用いる請求の範囲第 12項または第 13項に記載の方法。
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