[go: up one dir, main page]

WO2009041659A1 - 太陽電池 - Google Patents

太陽電池 Download PDF

Info

Publication number
WO2009041659A1
WO2009041659A1 PCT/JP2008/067558 JP2008067558W WO2009041659A1 WO 2009041659 A1 WO2009041659 A1 WO 2009041659A1 JP 2008067558 W JP2008067558 W JP 2008067558W WO 2009041659 A1 WO2009041659 A1 WO 2009041659A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
solar cell
coating film
photoelectric conversion
conversion layer
oxide coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2008/067558
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Haruo Yago
Naruhiko Aono
Youichi Hosoya
Tadanobu Sato
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Priority to EP08834602A priority Critical patent/EP2197040A1/en
Priority to US12/680,441 priority patent/US20100252110A1/en
Publication of WO2009041659A1 publication Critical patent/WO2009041659A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
    • H10F10/00—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells
    • H10F10/10—Individual photovoltaic cells, e.g. solar cells having potential barriers
    • H10F10/16—Photovoltaic cells having only PN heterojunction potential barriers
    • H10F10/167—Photovoltaic cells having only PN heterojunction potential barriers comprising Group I-III-VI materials, e.g. CdS/CuInSe2 [CIS] heterojunction photovoltaic cells
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/541—CuInSe2 material PV cells

Landscapes

  • Photovoltaic Devices (AREA)

Abstract

　絶縁性の陽極酸化皮膜を有する金属基板上に光電変換層を有する太陽電池であって、前記陽極酸化皮膜の表面粗さが０．５ｎｍ～２μｍであり、かつ、光電変換層に用いられる半導体が、カルコパイライト型材料であり、その禁制帯幅が１．３～１．５ｅＶである、太陽電池。
PCT/JP2008/067558 2007-09-28 2008-09-26 太陽電池 Ceased WO2009041659A1 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP08834602A EP2197040A1 (en) 2007-09-28 2008-09-26 Solar cell
US12/680,441 US20100252110A1 (en) 2007-09-28 2008-09-26 Solar cell

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007255664 2007-09-28
JP2007-255664 2007-09-28
JP2008-088958 2008-03-30
JP2008088958 2008-03-30

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2009041659A1 true WO2009041659A1 (ja) 2009-04-02

Family

ID=40511539

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2008/067558 Ceased WO2009041659A1 (ja) 2007-09-28 2008-09-26 太陽電池

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20100252110A1 (ja)
EP (1) EP2197040A1 (ja)
JP (1) JP2009267337A (ja)
WO (1) WO2009041659A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011082295A (ja) * 2009-10-06 2011-04-21 Fujifilm Corp 太陽電池
JP2011165790A (ja) * 2010-02-08 2011-08-25 Fujifilm Corp 太陽電池およびその製造方法
US20110265865A1 (en) * 2010-04-28 2011-11-03 General Electric Company Photovoltaic cells with cadmium telluride intrinsic layer

Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7824947B2 (en) * 2007-09-18 2010-11-02 Solopower, Inc. Method to improve flexible foil substrate for thin film solar cell applications
JP5498221B2 (ja) * 2009-04-08 2014-05-21 富士フイルム株式会社 半導体装置及びそれを用いた太陽電池
DE102009039777A1 (de) * 2009-09-02 2011-03-03 Forschungszentrum Jülich GmbH Verfahren zur Herstellung und Strukturierung einer Zinkoxidschicht und Zinkoxidschicht
JP5480782B2 (ja) * 2010-01-21 2014-04-23 富士フイルム株式会社 太陽電池および太陽電池の製造方法
JP2011159685A (ja) * 2010-01-29 2011-08-18 Fujifilm Corp 太陽電池の製造方法
JP2011159796A (ja) * 2010-02-01 2011-08-18 Fujifilm Corp 絶縁層付基板および薄膜太陽電池
JP5473885B2 (ja) * 2010-02-08 2014-04-16 富士フイルム株式会社 絶縁層付金属基板およびその製造方法、半導体装置およびその製造方法ならびに太陽電池およびその製造方法
JP5312368B2 (ja) * 2010-02-16 2013-10-09 富士フイルム株式会社 金属複合基板およびその製造方法
US8349626B2 (en) * 2010-03-23 2013-01-08 Gtat Corporation Creation of low-relief texture for a photovoltaic cell
KR101091375B1 (ko) * 2010-09-16 2011-12-07 엘지이노텍 주식회사 태양 전지 및 이의 제조 방법
US9356172B2 (en) 2010-09-16 2016-05-31 Lg Innotek Co., Ltd. Solar cell and method for manufacturing same
EP2633576B9 (en) 2010-10-29 2015-04-01 Umicore Si based negative electrode material
JP2012136749A (ja) * 2010-12-27 2012-07-19 Fujifilm Corp 光反射基板
KR101219835B1 (ko) * 2011-01-25 2013-01-21 엘지이노텍 주식회사 태양전지 및 이의 제조방법
US20140246088A1 (en) * 2011-10-24 2014-09-04 Reliance Industries Limited Thin films and preparation process thereof
US8822816B2 (en) * 2012-06-27 2014-09-02 International Business Machines Corporation Niobium thin film stress relieving layer for thin-film solar cells
US10315275B2 (en) * 2013-01-24 2019-06-11 Wisconsin Alumni Research Foundation Reducing surface asperities
JP2015061062A (ja) * 2013-09-20 2015-03-30 株式会社東芝 光電変換素子の製造方法
CN104976802A (zh) * 2014-04-11 2015-10-14 太浩科技有限公司 一种太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法
WO2016103423A1 (ja) * 2014-12-25 2016-06-30 オリンパス株式会社 骨接合用インプラントとその製造方法
JP2016195162A (ja) * 2015-03-31 2016-11-17 株式会社神戸製鋼所 金属基板
CN118675985B (zh) * 2024-08-20 2024-11-01 金阳(泉州)新能源科技有限公司 一种电池片裂断装置以及电池片裂断方法

Citations (78)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB526854A (en) 1939-03-27 1940-09-26 Battelle Memorial Institute Improvements in or relating to the electrolytic polishing of metal surfaces and an electrolyte therefor
GB552638A (en) 1939-08-18 1943-04-16 Batielle Memorial Instituie Improvements in or relating to methods of electropolishing metals and aqueous electrolytes suitable for use in such methods
US3511661A (en) 1966-07-01 1970-05-12 Eastman Kodak Co Lithographic printing plate
JPS4828123B1 (ja) 1970-06-16 1973-08-29
GB1412768A (en) 1971-10-07 1975-11-05 Fuji Photo Film Co Ltd Process for producing a base plate for a photosensitive printing plate
JPS5040047B2 (ja) 1971-09-06 1975-12-22
JPS5312739A (en) 1976-07-22 1978-02-04 Nippon Keikinzoku Sougou Kenki Desmutting method in electrolytic roughing treatment for aluminum
JPS5574898A (en) 1978-12-04 1980-06-05 British Aluminum Co Ltd Za Method of making flat printing plate
JPS585796B2 (ja) 1976-12-21 1983-02-01 日本軽金属株式会社 オフセツト印刷用アルミニウム粗面板の製造法
JPS59152675A (ja) * 1983-02-21 1984-08-31 Sumitomo Electric Ind Ltd アモルフアスシリコン光起電力素子
JPS61162351A (ja) 1985-01-11 1986-07-23 Kobe Steel Ltd 平版印刷版支持体の砂目製造法
JPS6289369A (ja) * 1985-10-16 1987-04-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光起電力装置
JPS63104889A (ja) 1986-10-17 1988-05-10 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 平版用印刷版に使用されるアルミニウムまたはアルミニウム合金の研摩支持材料の製造方法
JPS63249380A (ja) * 1987-04-03 1988-10-17 Showa Alum Corp 薄膜太陽電池用基板の製造方法
JPS6428891A (en) 1987-07-23 1989-01-31 Toshiba Corp Multi-layer printed circuit board
JPH0344377B2 (ja) 1982-08-12 1991-07-05 Fuji Photo Film Co Ltd
JPH05195300A (ja) 1992-01-23 1993-08-03 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理装置
JPH05315633A (ja) 1992-05-01 1993-11-26 Dowa Mining Co Ltd ＣｕＩｎＳｅ２ 系薄膜太陽電池およびその製法
JPH06135175A (ja) 1992-10-28 1994-05-17 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
JPH06252433A (ja) 1993-03-02 1994-09-09 Fuji Electric Co Ltd 薄膜太陽電池
JPH08222750A (ja) 1994-12-01 1996-08-30 Siemens Ag 基板上に太陽電池を製造する方法及びカルコパイライト吸収層を有する太陽電池
JPH0955378A (ja) 1995-06-08 1997-02-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体薄膜形成用前駆体及び半導体薄膜の製造方法
JPH0974065A (ja) 1995-09-06 1997-03-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 化合物半導体薄膜の形成法
JPH0974213A (ja) 1995-09-06 1997-03-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 化合物半導体薄膜の形成法
JPH0982992A (ja) * 1995-09-13 1997-03-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜太陽電池及びその製造方法
JPH09503346A (ja) 1993-09-30 1997-03-31 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト カルコパイライト吸収層を有する太陽電池
JPH09172193A (ja) 1995-12-20 1997-06-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜太陽電池
JPH09219530A (ja) 1996-02-08 1997-08-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd カルコパイライト構造半導体薄膜太陽電池及びその製造方法
JPH09509108A (ja) 1993-09-29 1997-09-16 ヘキスト、セラニーズ、コーポレーション 改良された平版印刷板の製造法
JPH1074966A (ja) 1996-08-29 1998-03-17 Moririka:Kk 薄膜太陽電池の製造方法
JPH1074967A (ja) 1996-08-29 1998-03-17 Moririka:Kk 薄膜太陽電池
JPH10121292A (ja) 1996-08-26 1998-05-12 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 多孔性陽極酸化アルミナ膜の作製方法
JPH10135501A (ja) 1996-09-05 1998-05-22 Yazaki Corp 半導体装置及びその製造方法並びに太陽電池
JPH10144944A (ja) * 1996-09-12 1998-05-29 Canon Inc 光起電力素子
JPH11284211A (ja) 1998-03-27 1999-10-15 Showa Shell Sekiyu Kk 薄膜太陽電池のＺｎＯ系透明導電膜の製造方法
JPH11312817A (ja) 1998-04-28 1999-11-09 Honda Motor Co Ltd 太陽電池
JPH11312815A (ja) 1998-04-28 1999-11-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜太陽電池の製造方法
JP2000012883A (ja) 1998-06-25 2000-01-14 Yazaki Corp 太陽電池の製造方法
JP2000017499A (ja) 1998-06-26 2000-01-18 Fuji Photo Film Co Ltd 帯状金属板の電解装置
JP3082040B1 (ja) 1999-11-30 2000-08-28 工業技術院長 アルミニウム材の高能率光沢度向上方法
JP2000315785A (ja) 1999-04-30 2000-11-14 Canon Inc ナノ構造体の製造方法及びナノ構造体デバイス
JP2001004757A (ja) 1999-06-24 2001-01-12 Aloka Co Ltd 放射線測定器
JP2001105400A (ja) 1998-12-25 2001-04-17 Canon Inc 細孔の製造方法、並びに該製造方法により製造された細孔および該細孔を有する構造体
JP2001140100A (ja) 1999-11-12 2001-05-22 Fuji Photo Film Co Ltd 金属板電解処理装置及び金属板電解処理用電極
JP2002343987A (ja) 2001-05-15 2002-11-29 Showa Shell Sekiyu Kk ヘテロ接合薄膜太陽電池の製造方法
WO2003007386A1 (en) * 2001-07-13 2003-01-23 Midwest Research Institute Thin-film solar cell fabricated on a flexible metallic substrate
JP2003096584A (ja) 2001-09-25 2003-04-03 Fuji Photo Film Co Ltd 金属ウエブの洗浄用スプレー装置及び洗浄方法
JP2003129288A (ja) 2001-10-16 2003-05-08 Canon Inc 細孔構造体及びその製造方法
JP2003282902A (ja) 2002-03-20 2003-10-03 Kyocera Corp 薄膜太陽電池
JP2003318424A (ja) 2002-04-18 2003-11-07 Honda Motor Co Ltd 薄膜太陽電池およびその製造方法
JP2004031648A (ja) 2002-06-26 2004-01-29 Toppan Printing Co Ltd 光閉じ込め層を持つ光電変換素子と光電変換装置およびこの装置を備えた太陽電池
JP2004079858A (ja) 2002-08-20 2004-03-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 太陽電池およびその製造方法
JP2004082285A (ja) 2002-08-27 2004-03-18 Kyocera Corp 太陽電池素子用ガラス基板の粗面化方法
JP2004115356A (ja) 2002-09-26 2004-04-15 Honda Motor Co Ltd メカニカルスクライブ装置
JP2004134494A (ja) 2002-10-09 2004-04-30 Sharp Corp 太陽電池の製造方法およびその製造装置
WO2004090995A1 (ja) 2003-04-09 2004-10-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 太陽電池
JP2005047084A (ja) 2003-07-31 2005-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JP2005047070A (ja) 2003-07-31 2005-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JP2005254638A (ja) 2004-03-12 2005-09-22 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JP2005311292A (ja) 2004-03-25 2005-11-04 Kaneka Corp 薄膜太陽電池用基板、及びその製造方法、並びにそれを用いた薄膜太陽電池
JP2005340643A (ja) 2004-05-28 2005-12-08 Sharp Corp 太陽電池用半導体基板の製造方法
JP2006165386A (ja) 2004-12-09 2006-06-22 Showa Shell Sekiyu Kk Ｃｉｓ系薄膜太陽電池及びその作製方法
JP2006210424A (ja) 2005-01-25 2006-08-10 Honda Motor Co Ltd カルコパイライト型薄膜太陽電池の製造方法
JP2007030146A (ja) 2005-07-29 2007-02-08 Fujifilm Corp ナノ構造体の製造方法
JP2007109842A (ja) 2005-10-13 2007-04-26 Honda Motor Co Ltd 太陽電池およびその製造方法
JP2007123721A (ja) 2005-10-31 2007-05-17 Rohm Co Ltd 光電変換装置の製造方法および光電変換装置
JP2007123532A (ja) 2005-10-27 2007-05-17 Honda Motor Co Ltd 太陽電池
JP2007123725A (ja) 2005-10-31 2007-05-17 Showa Shell Sekiyu Kk Ｃｉｓ系薄膜太陽電池モジュール及びその製造方法
JP2007194569A (ja) 2005-12-19 2007-08-02 Hitachi Metals Ltd 太陽電池用基板及びその製造方法
JP2007201304A (ja) 2006-01-30 2007-08-09 Honda Motor Co Ltd 太陽電池およびその製造方法
JP2007527121A (ja) 2004-03-05 2007-09-20 ソリブロ アーベー Ｃｉｇｓプロセスのインラインプロセス制御のための方法および装置
JP2007255664A (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Mitsubishi Motors Corp 車両の旋回挙動制御装置
JP2007528600A (ja) 2004-03-11 2007-10-11 ソリブロ アーベー 薄膜太陽電池および製造方法
JP2007317879A (ja) 2006-05-25 2007-12-06 Honda Motor Co Ltd カルコパイライト型太陽電池およびその製造方法
JP2007317885A (ja) 2006-05-25 2007-12-06 Honda Motor Co Ltd 太陽電池およびその製造方法
JP2007317868A (ja) 2006-05-25 2007-12-06 Honda Motor Co Ltd カルコパイライト型太陽電池およびその製造方法
JP2007317858A (ja) 2006-05-25 2007-12-06 Honda Motor Co Ltd カルコパイライト型太陽電池およびその製造方法
JP2008088958A (ja) 2006-10-05 2008-04-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 冷媒圧縮機

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5981934A (en) * 1996-09-12 1999-11-09 Canon Kabushiki Kaisha Photovoltaic element having a transparent conductive layer with specified fractal dimension and fractal property
US7053294B2 (en) * 2001-07-13 2006-05-30 Midwest Research Institute Thin-film solar cell fabricated on a flexible metallic substrate
US20060234396A1 (en) * 2005-04-18 2006-10-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method for producing structure

Patent Citations (79)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB526854A (en) 1939-03-27 1940-09-26 Battelle Memorial Institute Improvements in or relating to the electrolytic polishing of metal surfaces and an electrolyte therefor
GB552638A (en) 1939-08-18 1943-04-16 Batielle Memorial Instituie Improvements in or relating to methods of electropolishing metals and aqueous electrolytes suitable for use in such methods
US3511661A (en) 1966-07-01 1970-05-12 Eastman Kodak Co Lithographic printing plate
JPS4828123B1 (ja) 1970-06-16 1973-08-29
JPS5040047B2 (ja) 1971-09-06 1975-12-22
GB1412768A (en) 1971-10-07 1975-11-05 Fuji Photo Film Co Ltd Process for producing a base plate for a photosensitive printing plate
JPS5312739A (en) 1976-07-22 1978-02-04 Nippon Keikinzoku Sougou Kenki Desmutting method in electrolytic roughing treatment for aluminum
JPS585796B2 (ja) 1976-12-21 1983-02-01 日本軽金属株式会社 オフセツト印刷用アルミニウム粗面板の製造法
JPS5574898A (en) 1978-12-04 1980-06-05 British Aluminum Co Ltd Za Method of making flat printing plate
JPH0344377B2 (ja) 1982-08-12 1991-07-05 Fuji Photo Film Co Ltd
JPS59152675A (ja) * 1983-02-21 1984-08-31 Sumitomo Electric Ind Ltd アモルフアスシリコン光起電力素子
JPS61162351A (ja) 1985-01-11 1986-07-23 Kobe Steel Ltd 平版印刷版支持体の砂目製造法
JPS6289369A (ja) * 1985-10-16 1987-04-23 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光起電力装置
JPS63104889A (ja) 1986-10-17 1988-05-10 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト 平版用印刷版に使用されるアルミニウムまたはアルミニウム合金の研摩支持材料の製造方法
JPS63249380A (ja) * 1987-04-03 1988-10-17 Showa Alum Corp 薄膜太陽電池用基板の製造方法
JPS6428891A (en) 1987-07-23 1989-01-31 Toshiba Corp Multi-layer printed circuit board
JPH05195300A (ja) 1992-01-23 1993-08-03 Fuji Photo Film Co Ltd 電解処理装置
JPH05315633A (ja) 1992-05-01 1993-11-26 Dowa Mining Co Ltd ＣｕＩｎＳｅ２ 系薄膜太陽電池およびその製法
JPH06135175A (ja) 1992-10-28 1994-05-17 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用アルミニウム支持体の製造方法
JPH06252433A (ja) 1993-03-02 1994-09-09 Fuji Electric Co Ltd 薄膜太陽電池
JPH09509108A (ja) 1993-09-29 1997-09-16 ヘキスト、セラニーズ、コーポレーション 改良された平版印刷板の製造法
JPH09503346A (ja) 1993-09-30 1997-03-31 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト カルコパイライト吸収層を有する太陽電池
JPH08222750A (ja) 1994-12-01 1996-08-30 Siemens Ag 基板上に太陽電池を製造する方法及びカルコパイライト吸収層を有する太陽電池
JP2007266626A (ja) 1994-12-01 2007-10-11 Shell Solar Gmbh 基板上に太陽電池を製造する方法及びカルコパイライト吸収層を有する太陽電池
JPH0955378A (ja) 1995-06-08 1997-02-25 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体薄膜形成用前駆体及び半導体薄膜の製造方法
JPH0974065A (ja) 1995-09-06 1997-03-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 化合物半導体薄膜の形成法
JPH0974213A (ja) 1995-09-06 1997-03-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd 化合物半導体薄膜の形成法
JPH0982992A (ja) * 1995-09-13 1997-03-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜太陽電池及びその製造方法
JPH09172193A (ja) 1995-12-20 1997-06-30 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜太陽電池
JPH09219530A (ja) 1996-02-08 1997-08-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd カルコパイライト構造半導体薄膜太陽電池及びその製造方法
JPH10121292A (ja) 1996-08-26 1998-05-12 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 多孔性陽極酸化アルミナ膜の作製方法
JPH1074966A (ja) 1996-08-29 1998-03-17 Moririka:Kk 薄膜太陽電池の製造方法
JPH1074967A (ja) 1996-08-29 1998-03-17 Moririka:Kk 薄膜太陽電池
JPH10135501A (ja) 1996-09-05 1998-05-22 Yazaki Corp 半導体装置及びその製造方法並びに太陽電池
JPH10144944A (ja) * 1996-09-12 1998-05-29 Canon Inc 光起電力素子
JPH11284211A (ja) 1998-03-27 1999-10-15 Showa Shell Sekiyu Kk 薄膜太陽電池のＺｎＯ系透明導電膜の製造方法
JPH11312817A (ja) 1998-04-28 1999-11-09 Honda Motor Co Ltd 太陽電池
JPH11312815A (ja) 1998-04-28 1999-11-09 Matsushita Electric Ind Co Ltd 薄膜太陽電池の製造方法
JP2000012883A (ja) 1998-06-25 2000-01-14 Yazaki Corp 太陽電池の製造方法
JP2000017499A (ja) 1998-06-26 2000-01-18 Fuji Photo Film Co Ltd 帯状金属板の電解装置
JP2001105400A (ja) 1998-12-25 2001-04-17 Canon Inc 細孔の製造方法、並びに該製造方法により製造された細孔および該細孔を有する構造体
JP2000315785A (ja) 1999-04-30 2000-11-14 Canon Inc ナノ構造体の製造方法及びナノ構造体デバイス
JP2001004757A (ja) 1999-06-24 2001-01-12 Aloka Co Ltd 放射線測定器
JP2001140100A (ja) 1999-11-12 2001-05-22 Fuji Photo Film Co Ltd 金属板電解処理装置及び金属板電解処理用電極
JP3082040B1 (ja) 1999-11-30 2000-08-28 工業技術院長 アルミニウム材の高能率光沢度向上方法
JP2002343987A (ja) 2001-05-15 2002-11-29 Showa Shell Sekiyu Kk ヘテロ接合薄膜太陽電池の製造方法
WO2003007386A1 (en) * 2001-07-13 2003-01-23 Midwest Research Institute Thin-film solar cell fabricated on a flexible metallic substrate
JP2003096584A (ja) 2001-09-25 2003-04-03 Fuji Photo Film Co Ltd 金属ウエブの洗浄用スプレー装置及び洗浄方法
JP2003129288A (ja) 2001-10-16 2003-05-08 Canon Inc 細孔構造体及びその製造方法
JP2003282902A (ja) 2002-03-20 2003-10-03 Kyocera Corp 薄膜太陽電池
JP2003318424A (ja) 2002-04-18 2003-11-07 Honda Motor Co Ltd 薄膜太陽電池およびその製造方法
JP2004031648A (ja) 2002-06-26 2004-01-29 Toppan Printing Co Ltd 光閉じ込め層を持つ光電変換素子と光電変換装置およびこの装置を備えた太陽電池
JP2004079858A (ja) 2002-08-20 2004-03-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 太陽電池およびその製造方法
JP2004082285A (ja) 2002-08-27 2004-03-18 Kyocera Corp 太陽電池素子用ガラス基板の粗面化方法
JP2004115356A (ja) 2002-09-26 2004-04-15 Honda Motor Co Ltd メカニカルスクライブ装置
JP2004134494A (ja) 2002-10-09 2004-04-30 Sharp Corp 太陽電池の製造方法およびその製造装置
WO2004090995A1 (ja) 2003-04-09 2004-10-21 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 太陽電池
JP2005047084A (ja) 2003-07-31 2005-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JP2005047070A (ja) 2003-07-31 2005-02-24 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JP2007527121A (ja) 2004-03-05 2007-09-20 ソリブロ アーベー Ｃｉｇｓプロセスのインラインプロセス制御のための方法および装置
JP2007528600A (ja) 2004-03-11 2007-10-11 ソリブロ アーベー 薄膜太陽電池および製造方法
JP2005254638A (ja) 2004-03-12 2005-09-22 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版用支持体の製造方法
JP2005311292A (ja) 2004-03-25 2005-11-04 Kaneka Corp 薄膜太陽電池用基板、及びその製造方法、並びにそれを用いた薄膜太陽電池
JP2005340643A (ja) 2004-05-28 2005-12-08 Sharp Corp 太陽電池用半導体基板の製造方法
JP2006165386A (ja) 2004-12-09 2006-06-22 Showa Shell Sekiyu Kk Ｃｉｓ系薄膜太陽電池及びその作製方法
JP2006210424A (ja) 2005-01-25 2006-08-10 Honda Motor Co Ltd カルコパイライト型薄膜太陽電池の製造方法
JP2007030146A (ja) 2005-07-29 2007-02-08 Fujifilm Corp ナノ構造体の製造方法
JP2007109842A (ja) 2005-10-13 2007-04-26 Honda Motor Co Ltd 太陽電池およびその製造方法
JP2007123532A (ja) 2005-10-27 2007-05-17 Honda Motor Co Ltd 太陽電池
JP2007123725A (ja) 2005-10-31 2007-05-17 Showa Shell Sekiyu Kk Ｃｉｓ系薄膜太陽電池モジュール及びその製造方法
JP2007123721A (ja) 2005-10-31 2007-05-17 Rohm Co Ltd 光電変換装置の製造方法および光電変換装置
JP2007194569A (ja) 2005-12-19 2007-08-02 Hitachi Metals Ltd 太陽電池用基板及びその製造方法
JP2007201304A (ja) 2006-01-30 2007-08-09 Honda Motor Co Ltd 太陽電池およびその製造方法
JP2007255664A (ja) 2006-03-24 2007-10-04 Mitsubishi Motors Corp 車両の旋回挙動制御装置
JP2007317879A (ja) 2006-05-25 2007-12-06 Honda Motor Co Ltd カルコパイライト型太陽電池およびその製造方法
JP2007317885A (ja) 2006-05-25 2007-12-06 Honda Motor Co Ltd 太陽電池およびその製造方法
JP2007317868A (ja) 2006-05-25 2007-12-06 Honda Motor Co Ltd カルコパイライト型太陽電池およびその製造方法
JP2007317858A (ja) 2006-05-25 2007-12-06 Honda Motor Co Ltd カルコパイライト型太陽電池およびその製造方法
JP2008088958A (ja) 2006-10-05 2008-04-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 冷媒圧縮機

Non-Patent Citations (42)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"Abstract of 108th Lecture Meeting", vol. 18-B2, THE SURFACE FINISHING SOCIETY OF JAPAN, pages: 76 - 77
"Handbook of Aluminum Technology", 1996, KALLOS PUBLISHING CO., LTD.
"New Practical Technology for Polishing", 1992, OHMSHA, LTD., pages: 55 - 93
"New Theories on Anodized Aluminum", 1997, KALLOS PUBLISHING CO., LTD., pages: 16
"Proceedings of the 54th Meeting of the Japan Society of Applied Physics", 2007, AOYAMA GAKUIN UNIVERSITY, pages: 29,ZW-10
"Proceedings of the 54th Meeting of the Japan Society of Applied Physics", 2007, AOYAMA GAKUIN UNIVERSITY, SPRING, pages: 29,ZW-14
"Proceedings of the 68th Meeting of the Japan Society of Applied Physics", 2007, HOKKAIDO INSTITUTE OF TECHNOLOGY, pages: 7,L-6
"Structure of CMP Apparatus", pages: 172
"Surface Treatment of Aluminum", 1980, UCHIDA ROKAKUHO PUBLISHING CO., LTD., pages: 36
"Surface Treatment of Aluminum", 1980, UCHIDA ROKAKUHO PUBLISHING CO., LTD., pages: 47
A. ROCKETT; T. C. LOMMANSSON; L. C. YANG; H. TALIEH; P. CAMPOS; J. A. THORNTON, PROC. 20TH IEEE PHOTOVOLTAIC SPECIALISTS CONF., 1988, pages 1505
APPL. PHYS. LETT., vol. 71, no. 19, 10 November 1997 (1997-11-10), pages 2771
B. M. BASOL; V. K. KAPUR; C. R. LEIDHOLM; R. ROE; A. HALANI; G. NORSWORTHY: "NREL/SNL Photovoltaics Prog. Rev. Proc. 14th Conf.-A Joint Meeting", AIP CONF PROC., 1996, pages 394
C.RENSEN: "The Study of Base Electrode/Substrate Interactions By Use of Air Anneal Imaging", PROC. 13TH EUROPEAN PHOTOVOLTAIC SOLAR ENERGY CONFERENCE, 1995
DAVID F. DAWSON-ELLI: "Substrate Influences On CIS Device Performance", PROC.IST WORLD CONFERENCE OF PHOTOVOLTAIC ENERGY CONVERSION, 1995, pages 152 - 155
H. MIYAZAKI; T. MIYAKE; Y. CHIBA; A. YAMADA; M. KONAGAI, PHYS. STAT. SOL. (A), vol. 203, 2006, pages 2603
J. ELECTROCHEM. SOC., vol. 144, no. 5, May 1997 (1997-05-01), pages L128
J. H. ERMER; R. B. LOVE; A. K. KHANNA; S. C. LEWIS; F. COHEN: "CdS/CuInSe2 Junctions Fabricated by DC Magnetron Sputtering af Cu2Se and In2Se", PROC. 18TH IEEE PHOTOVOLTAIC SPECIALISTS CONF, 1985, pages 1655 - 1658
J. HOLZ ET AL., PROC. 12TH EUROPEAN PHOTOVOLTAIC SOLAR ENERGY CONFERENCE, 1994, pages 1592 - 1595
J. HOLZ ET AL., PROC. I2TH EUROPEAN PHOTOVOLTAIC SOLAR ENERGY CONFERENCE, 1994, pages 1592 - 1595
J. R. TUTTLE; J. S. WARD; A. DUDA; T. A. BERENS; M. A. CONTRERAS; K. R. RAMANATHAN; A. L. TENNANT; J. KAENE; E. D. COLE; K. EMERY, MAT. RES. SOC. SYMP. RROC., vol. 426, 1996, pages 143
JIS B, 1994, pages 601
JOHN A. THORNTON; DAVID W. HOFFMAN, J. VAC. SCI. TECHNOL., vol. 14, no. 1, January 1977 (1977-01-01)
JOHN H. SCHOFIELD ET AL., THIN SOLID FILMS, vol. 260, 1995, pages 26 - 31
JPN. J. APPL. PHYS., vol. 35, no. 2, 1996, pages L126
K. KUSHIYA; 1. SUGIYAMA; M. TACHIYUKI; T. KASE; Y. NAGOYA; O. YAMASE; H. TAKESHITA, TECH. DIGEST 9TH PHOTOVOLTAIC SCIENCE AND ENGINEERING CONF. MIYAZAKI, 1996, pages 149
KAZUO MAEDA: "Basic Principle of CMP Method and Apparatus Structure", March 1999, KOGYO CHOSAKAI PUBLISHING CO., LTD., article "Introduction of Semiconductor Manufacturing Equipment", pages: J 7J
L. STOLT ET AL., PROC. 13THECPVSEC, 1995, pages 1451
MET. IND., vol. 78, 1951, pages 89
OPTICS AND LASERS IN ENGINEERING, vol. 34, 2000, pages 15
R. J. ARAUJO: "Sodium Redistribution Between Oxide Phases", ROURNAL OFNON-CRYSTALLINE SOLIDS, vol. 197, 1996, pages 154 - 163
S. ISOMURA; H. KANEKO; S. TOMIOKA; 1. NAKATANI; K. MASUMOTO, JPN. J. APPL. PHYS., vol. 19, no. 19-3, 1980, pages 23
T. DULLWEBER: "A new approach to high-efficiency solar cells by band gap grading in Cu(In,Ga)Se2 chalcopyrite semiconductors", SOLAR ENERGY MATERIALS & SOLAR CELLS, vol. 67, 2001, pages 145 - 150
T. NAKADA; K. MIGITA; A. KUNIOKA: "Polycrystalline CuInSe2 Thin Films for Solar Cells by Three-Source Magnetron Sputtering", JPN. J. APPL. PHYS., vol. 32, 1993, pages L1169 - L1172
T. NAKADA; K. MIGITA; S. NIKI; A. KUNIOKA: "Microstructural Characterization for Sputter-Deposited CuInSe2 Films and Photovoltaic Devices", JPN. APPL. PHYS., vol. 34, 1995, pages 4715 - 4721
T. NAKADA; K. YUDA; A. KUNIOKA: "Thin Films of CuInSe2 Produced by Thermal Annealing of Multilayers with Ultra-Thin Stacked Elemental Layers", PROC. OF 10TH EUROPEAN PHOTOVOLTAIC SOLAR ENERGY CONFERENCE, 1991, pages 887 - 890
T. NAKADA; M. NISHIOKA; A. KUNIOKA: "CuInSe2 Films for Solar Cells by Multi-Source Sputtering of Cu, In, and Se-Cu Binary Alloy", PROC. 4TH PHOTOVOLTAIC SCIENCE AND ENGINEERING CONF., 1989, pages 371 - 375
T. NAKADA; R. OHNISHI; A. KUNIOKA: "CuInSe2-Based Solar Cells by Se-Vapor Selenization from Se-Containing Precursors", SOLAR ENERGY MATERIALS AND SOLAR CELLS, vol. 35, 1994, pages 204 - 214
T. WADA; Y. MATSUO; S. NOMURA; Y. NAKAMURA; A. NLIYAMURA; Y. CHIA; A. YAMADA; M. KONAGAI, PHYS. STAT. SOL (A), vol. 203, 2006, pages 2593
V. PROBST: "Advanced Stacked a CIS Formation By Rapid Thermal Processing Of Stacked Elemental Layer Process For Cu(InGa)Se2. Thin Film Photovoltaic Devices", MAT. RES. SOC. SYMP. PROC., vol. 426, 1996, pages 165 - 176
V.PROBST: "Large Area CIS Formation By Rapid Thermal Processing Of Stacked Elemental Layers", PROC. 17TH EUROPEAN PHOTOVOLTAIC SOLAR ENERGY CONFERENCE, 2002, pages 1005 - 1010
W. E. DEVANEY; W. S. CHEN; J. M. STEWART; R. A. MICKELSEN, IEEE TRANS. ELECTRON. DEVICES, vol. 37, 1990, pages 428

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011082295A (ja) * 2009-10-06 2011-04-21 Fujifilm Corp 太陽電池
JP2011165790A (ja) * 2010-02-08 2011-08-25 Fujifilm Corp 太陽電池およびその製造方法
US20110265865A1 (en) * 2010-04-28 2011-11-03 General Electric Company Photovoltaic cells with cadmium telluride intrinsic layer
CN102237419A (zh) * 2010-04-28 2011-11-09 通用电气公司 具有碲化镉本征层的光伏电池
AU2011201778B2 (en) * 2010-04-28 2015-01-22 First Solar Malaysia Sdn. Bhd. Photovoltaic cells with cadmium telluride intrinsic layer

Also Published As

Publication number Publication date
US20100252110A1 (en) 2010-10-07
EP2197040A1 (en) 2010-06-16
JP2009267337A (ja) 2009-11-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2009041659A1 (ja) 太陽電池
Kessler et al. Technological aspects of flexible CIGS solar cells and modules
MX2009011383A (es) Metodo para limpiar una abertura superficial de celda solar con una pasta de grabado solar.
WO2009041660A1 (ja) 太陽電池用基板および太陽電池
WO2008099524A1 (ja) 光電変換装置及びその製造方法
WO2008039757A3 (en) Semiconductor devices and methods from group iv nanoparticle materials
WO2012037389A3 (en) Inks with alkali metals for thin film solar cell processes
EP1944811A3 (en) Multilayered film-nanowire composite, bifacial, and tandem solar cells
MY152398A (en) Method for manufacturing a solar cell with a surface-passivating dielectric double layer, and corresponding solar cell
WO2011102677A3 (ko) 나노구조 무기-유기 이종 접합 태양전지의 제조방법
WO2008124154A3 (en) Photovoltaics on silicon
ATE312412T1 (de) Verfahren und verwendung einer durchtrennungsvorrichtung zur herstellung eines cds/cdte dünnschichtsolarmoduls
WO2009041658A1 (ja) 太陽電池用基板および太陽電池
WO2008097365A3 (en) Photoconductive devices with enhanced efficiency from group iv nanoparticle materials and methods thereof
WO2010089364A3 (de) Verfahren zur herstellung eines dünnschicht-photovoltaik-systems und dünnschicht-photovoltaik-system
WO2011056570A3 (en) Conductive metal oxide films and photovoltaic devices
Yin et al. Highly efficient graphene-based Cu (In, Ga) Se 2 solar cells with large active area
CO6400212A2 (es) Selenización de capa precursora que contiene nanopartículas de culns2
WO2010141814A3 (en) Passivation process for solar cell fabrication
WO2009044659A1 (ja) パターン形成方法
WO2010043414A3 (de) Fluoreszenz-kollektor und dessen verwendung
WO2010124059A3 (en) Crystalline thin-film photovoltaic structures and methods for forming the same
WO2007142865A3 (en) Thin film photovoltaic structure and fabrication
WO2008018005A3 (en) Solar cell composite integrated thin film battery
ATE554503T1 (de) Glassubstrat für solarzelle

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 08834602

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 12680441

Country of ref document: US

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2008834602

Country of ref document: EP