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WO2008099725A1 - Composé polymère, composition de résist et procédé de formation d'un motif de résist - Google Patents

Composé polymère, composition de résist et procédé de formation d'un motif de résist Download PDF

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Publication number
WO2008099725A1
WO2008099725A1 PCT/JP2008/051907 JP2008051907W WO2008099725A1 WO 2008099725 A1 WO2008099725 A1 WO 2008099725A1 JP 2008051907 W JP2008051907 W JP 2008051907W WO 2008099725 A1 WO2008099725 A1 WO 2008099725A1
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WO
WIPO (PCT)
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polymeric compound
group
alkyl group
formation
resist
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2008/051907
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
Jun Iwashita
Sho Abe
Makiko Irie
Takeshi Iwai
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
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Publication date
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Publication of WO2008099725A1 publication Critical patent/WO2008099725A1/fr
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    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/039—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
    • G03F7/0392—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition
    • G03F7/0397—Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists the macromolecular compound being present in a chemically amplified positive photoresist composition the macromolecular compound having an alicyclic moiety in a side chain

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Abstract

L'invention porte sur un composé polymère ayant une unité constitutive (a0) représentée par la formule générale (a0-1), dans laquelle R1 représente un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ayant 1 à 5 atomes de carbone ou un groupe alkyle fluoré ayant 1 à 5 atomes de carbone; R2 et R3 représentent indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle ou un groupe alcoxy ou forment ensemble un groupe alkylène qui peut avoir un atome d'oxygène ou un atome de soufre à n'importe quelle position, -O- ou -S-; et R4 et R5 représentent indépendamment un atome d'hydrogène, un groupe alkyle qui peut avoir un atome d'oxygène à n'importe quelle position, un groupe cycloalkyle qui peut avoir un atome d'oxygène à n'importe quelle position ou un groupe alkoxycarbonyle.
PCT/JP2008/051907 2007-02-15 2008-02-06 Composé polymère, composition de résist et procédé de formation d'un motif de résist Ceased WO2008099725A1 (fr)

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JP2007034588 2007-02-15
JP2007-034588 2007-02-15
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JP2007-302250 2007-11-21

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