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WO2006033272A1 - 接着性の改良された新規なポリイミドフィルム - Google Patents

接着性の改良された新規なポリイミドフィルム Download PDF

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WO2006033272A1
WO2006033272A1 PCT/JP2005/017019 JP2005017019W WO2006033272A1 WO 2006033272 A1 WO2006033272 A1 WO 2006033272A1 JP 2005017019 W JP2005017019 W JP 2005017019W WO 2006033272 A1 WO2006033272 A1 WO 2006033272A1
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WO
WIPO (PCT)
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polyimide film
diamine
film
film according
polyimide
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP2005/017019
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English (en)
French (fr)
Inventor
Takashi Kikuchi
Hisayasu Kaneshiro
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaneka Corp
Original Assignee
Kaneka Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kaneka Corp filed Critical Kaneka Corp
Priority to US11/663,702 priority Critical patent/US20070292701A1/en
Priority to JP2006536353A priority patent/JP5049594B2/ja
Publication of WO2006033272A1 publication Critical patent/WO2006033272A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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    • Y10T428/31681Next to polyester, polyamide or polyimide [e.g., alkyd, glue, or nylon, etc.]

Definitions

  • the present invention relates to a novel polyimide film that exhibits high adhesion without special surface treatment on the film surface.
  • the flexible printed wiring board has a structure in which a circuit that also serves as a metal foil is formed on an insulating film.
  • a flexible metal-clad laminate that is the basis of the flexible wiring board is generally formed of various insulating materials, and a flexible insulating film is used as a substrate, and various adhesive materials are interposed on the surface of the substrate.
  • the metal foil is manufactured by a method of bonding by heating and pressure bonding.
  • a polyimide film or the like is preferably used as the insulating film.
  • Polyimide film is generally obtained by thermally and chemically imidizing a gel film obtained by solution-casting polyamic acid obtained by reacting diamine and acid dianhydride onto a support and then volatilizing the solvent to some extent. Obtained.
  • Various studies have been made on the structures of diamine and acid dianhydride, which are raw material monomers, and imidity conditions.
  • polyimide films obtained even if they are misaligned are among the types of plastic films that have extremely low adhesion. enter. Therefore, after the film is obtained, various surface treatments such as corona treatment, plasma treatment, flame treatment, and UV treatment are performed before the adhesive layer is provided.
  • WBL Weak Boundary Layer
  • thermosetting adhesives such as epoxy and acrylic are generally used as adhesive materials for bonding polyimide films and metal foils.
  • thermoplastic polyimide As the required characteristics such as heat resistance, flexibility and electrical reliability become stricter in the future, it becomes difficult to cope with thermosetting adhesives, so it is proposed to use thermoplastic polyimide as the adhesive material.
  • thermoplastic polyimide Has been.
  • thermoplastic polyimide is inferior in adhesiveness because it is poorly flowable with respect to thermosetting resin, and poorly bites into the material. For this reason, there is a problem that sufficient adhesive strength cannot be obtained even when a metal foil is bonded to a polyimide film having low adhesiveness through a thermoplastic polyimide adhesive layer having poor adhesiveness.
  • Patent Document 1 Japanese Patent Laid-Open No. 3-180343
  • the present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and the object thereof is a polyimide film having high adhesiveness to a metal layer, in particular, an adhesive layer, without performing a special surface treatment. It is providing the polyimide film which expresses high adhesiveness with metal foil. Among them, the object is to provide a polyimide film that exhibits high adhesion to a metal foil when an adhesive layer using thermoplastic polyimide is used.
  • this invention can solve the said subject with the following novel polyimide films.
  • the solution containing the polyamic acid includes the following steps (A) and (B):
  • step (B) A polyimide precursor solution was synthesized using the prepolymer obtained in step (A), the aromatic dianhydride component and the aromatic diamine component so as to be substantially equimolar in all steps.
  • the flexible structure diamine contains 3, 4'-diaminodiphenyl ether and Z or 2,2 bis ⁇ 4- (4 aminophenoxy) phenol ⁇ propane 2) or 3 ) Non-thermoplastic polyimide film.
  • the 2,2bis ⁇ 4 (4-aminophenoxy) phenol ⁇ propane is added to all diamine components.
  • step (A) The polyimide film as described in 1 to 8), wherein the prepolymer obtained in step (A) is a block component derived from thermoplastic polyimide.
  • the polyimide film according to any one of 1) to 9), wherein the polyimide film is 15 NZcm or more when peeled at 90 degrees and 1 ONZcm or more when peeled at 180 degrees.
  • a laminate obtained by laminating a metal foil on the polyimide film through an adhesive layer containing thermoplastic polyimide without subjecting the polyimide film to a surface treatment is obtained at 121 ° C. and 100% RH. After processing for 96 hours under the conditions, when measuring the peel strength of the metal foil of the laminate, both 90 ° peel and 180 ° peel should be 85% or more of the peel strength before treatment.
  • a laminate obtained by laminating a metal foil on the polyimide film through an adhesive layer containing a thermoplastic polyimide without subjecting the polyimide film to a surface treatment was treated at 150 ° C for 500 hours. After that, when the peel strength of the metal foil of the laminate was measured, both 90 degree peel and 180 degree peel were 85% or more of the peel strength before treatment. ) Or 11).
  • the adhesiveness when bonded to a metal foil via an adhesive can be improved.
  • an adhesive layer containing a thermoplastic polyimide that is inferior in adhesiveness to thermosetting resin is used, high adhesiveness is exhibited. Further, the adhesiveness hardly deteriorates even under high temperature or high humidity conditions. Therefore, the problem of increasing the number of processes and costs due to the surface treatment can be solved.
  • the present invention uses 3,4'-diaminodiphenyl ether and 2,2-bis ⁇ 4- (4-aminophenoxy) phenol ⁇ propane as the diamine component as a raw material for the polyimide film,
  • polyamic acid which is a precursor of polyimide
  • it exhibits excellent adhesion as described above, especially when an adhesive layer containing thermoplastic polyimide is used.
  • the polyamic acid which is a polyimide precursor used in the present invention, is usually obtained by dissolving an aromatic diamine and an aromatic acid dianhydride in an organic solvent so as to have a substantially equimolar amount.
  • the polyamic acid organic solvent solution is stirred under controlled temperature conditions until the polymerization of the acid dianhydride and diamine is completed.
  • These polyamic acid solutions are usually obtained at a concentration of 5 to 35 wt%, preferably 10 to 30 wt%. When the concentration is within this range, an appropriate molecular weight and solution viscosity are obtained.
  • a polyamic acid solution obtained by the following steps (A) and (B) is used. It is important to hesitate.
  • a polyimide precursor solution is prepared by using the prepolymer obtained in step (A), the aromatic anhydride component and the aromatic diamine component so as to be substantially equimolar in all steps.
  • the aromatic diamine that can be used as a raw material monomer for the polyimide film of the present invention includes 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, benzidine, 3,3'-dichloromethane Benzidine, 3, 3'-dimethylbenzidine, 2,2'-dimethylbenze Gin, 3,3'-dimethoxybenzidine, 2,2'-dimethoxybenzidine, 4,4'-diaminodiphenylsulfide, 3,3,1-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, 4,4 ' -Diaminodiphenyl ether, 3, 3, -diaminodiphenyl ether, 3,4'-diaminodiphenyl ether, 1,5-diaminonaphthalene, 4,4'-diaminodiphenyljetylsilane
  • the diamine used in the step (A) is preferably a diamine having flexibility.
  • the prepolymer obtained in the step (A) becomes a block component that also becomes a thermoplastic polyimide resin.
  • the thermoplastic part is contained in the molecular chain.
  • a polyamic acid scattered in the film and a polyimide film can be obtained.
  • the flexible diamine is a diamine having a flexible structure such as an ether group, a sulfone group, a ketone group, or a sulfide group (hereinafter referred to as a flexible structure diamine). It is represented by (1).
  • the polyimide film strength obtained through the above process has not yet been clarified why it exhibits high adhesion without treatment. It can be considered that the bending sites scattered in the molecular chain inhibit the formation of the surface fragile layer or have some involvement in the adhesion with the adhesive layer.
  • the diamine component used in step (B) is a diamine having a rigid structure (hereinafter referred to as a rigid structure diamine), the film finally obtained can be made non-thermoplastic. I like it.
  • the jamin having a rigid structure is
  • R in the formula is the same or
  • 3 is different from H—, CH 1, mono OH, —CF, mono SO, mono COOH, CO — NH, C1, mono,
  • the use ratio of the rigid structure to the flexible structure is 80: 20-20: 80, preferably 70: 30-30: 70, particularly preferably 60: 40-40: 60.
  • the power to be in the range of ⁇ is preferable. If the ratio of rigid-structure jamin exceeds the above range, the resulting film may not have sufficient adhesion. On the other hand, if it falls below this range, the thermoplastic property becomes too strong, and the film may be broken by softening with heat during film formation.
  • the flexible structure and the rigid structure diamine may be used in combination of two or more kinds. In the polyimide film of the present invention, 3, 4'-diaminodiphenyl ether is used as the flexible structure diamine. This is very important.
  • the present inventors have found that the use of 3,4′-diaminodiphenyl ether has a strong effect of improving adhesiveness. Furthermore, the present inventors generally added force 3,4'-diaminodiphenyl ether, which tends to increase the linear expansion coefficient of the resulting polyimide film remarkably, when a flexible structure diamine is added. It has also been found that there is an effect of slightly lowering. For this reason, when 3,4′-diaminodiphenyl ether is used, it can be easily used in combination with other soft-structured diamines.
  • the amount of 3,4′-diaminodiphenyl ether used is preferably 10 mol% or more of the total diamine component, more preferably 15 mol% or more.
  • the upper limit is preferably 50 mol% or less, more preferably 40 mol% or less.
  • the linear expansion coefficient of the resulting polyimide film may become too small due to a synergistic effect with the rigid structure of diamine.
  • 2, 2 bis ⁇ 4 (4-aminophenoxy) phenol ⁇ propane is also important to use as the flexible structure amine.
  • 2, 2 bis ⁇ 4- (4 aminophenoxy) phenyl ⁇ spout pan is used, the moisture absorption and hygroscopic expansion coefficient of the resulting polyimide film tend to decrease, and the moisture resistance is improved.
  • the amount of 2,2bis ⁇ 4- (4aminophenoxy) phenol ⁇ propan is preferably at least 10 mol% of the total diamine component, more preferably at least 15 mol%. If it is less than this, the above-mentioned effects may not be sufficiently exhibited.
  • the upper limit is preferably 40 mol% or less, more preferably 30 mol% or less. If the amount is larger than this, the linear expansion coefficient of the resulting polyimide film becomes too large, which may cause problems such as curling when the metal foil is bonded.
  • the linear expansion coefficient of the polyimide film is preferably in the range of 5-18ppmZ ° C in the range of 100-200 ° C, more preferably in the range of 8-16ppmZ ° C. I like it.
  • the Jiamin the rigid structure, p- Hue - Renjiamin may be used preferably the force p Hue -
  • the amount used be 60 mole 0/0 following all Jiamin component More preferably, it is 50 mol% or less.
  • p Hue-rangeammin Since the molecular weight is small, the number of imide groups present in the polyimide when compared with the same weight increases (the imide group concentration increases), which may cause problems with moisture resistance.
  • Acid dianhydrides that can be used as raw material monomers for the polyimide film of the present invention include pyromellitic dianhydride, 2, 3, 6, 7 naphthalene tetracarboxylic dianhydride, 3, 3 ', 4 , 4, -biphenyltetracarboxylic dianhydride, 1, 2, 5, 6 naphthalenetetracarboxylic dianhydride, 2, 2 ', 3, 3, -biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3, 3 ', 4, 4, monobenzophenone tetracarboxylic dianhydride, 2, 2', 3, 3'-benzophenone tetracarboxylic dianhydride, 4, 4 'oxyphthalic dianhydride, 3 , 4'-oxyphthalic dianhydride, 2, 2 bis (3,4 dicarboxyphenol) propane dianhydride, 3, 4, 9, 10 perylene tetracarboxylic dianhydride, bis (3,
  • the acid dianhydride having a flexible structure means an acid dianhydride having a flexible structure such as an ether group, a sulfone group, a ketone group, or a sulfide group, and an acid dianhydride group attached to a benzene or naphthalene skeleton.
  • the acid dianhydride used in step (A) is preferably benzophenone tetracarboxylic dianhydride, oxyphthalic dianhydride, or biphenyl tetracarboxylic dianhydride. Take as an example. Among them, it is particularly preferable to use benzophenone tetracarboxylic dianhydride. Benzophenone tetracarboxylic dianhydride is highly effective in increasing the adhesion of the resulting polyimide film. The amount of benzophenone tetracarboxylic dianhydride used is preferably 5 mol% or more of the total acid dianhydride component.
  • the upper limit is preferably 30 mol% or less, more preferably 20 mol% or less. If it exceeds the above range, the water absorption rate becomes very large, which may cause a problem in moisture resistance. In addition, the thermoplasticity of the film becomes strong, and problems such as film breakage may occur during film formation.
  • Preferred examples of the acid dianhydride used in the step (B) include pyromellitic dianhydride.
  • the preferred amount is 40 to 95 mol%, more preferably 50 to 90 mol%, particularly preferably 60 to 80 mol%.
  • any solvent can be used as long as it dissolves the polyamic acid.
  • Amide solvents ie, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetate Amides, N-methyl-2-pyrrolidone and the like, among which N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide can be particularly preferably used.
  • a filler can be added for the purpose of improving various film properties such as slidability, thermal conductivity, conductivity, corona resistance, and loop stiffness. Any material may be used as the filler, but preferred examples include silica, titanium oxide, alumina, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, calcium phosphate, mica and the like.
  • the particle size of the filler is not particularly limited because it is determined by the film properties to be modified and the type of filler to be added, but generally the average particle size is 0.05 to 100 m. It is preferably 0.1 to 75 m, more preferably 0.1 to 50 m, and particularly preferably 0.1 to 25 / ⁇ ⁇ . If the particle size is below this range, the modification effect appears. If the particle size is above this range, the surface properties may be greatly impaired, or the mechanical properties may be greatly deteriorated. Further, the number of fillers added is not particularly limited because the film characteristics to be modified are determined by the filler particle size and the like.
  • the amount of filler added is 0.01 to 100 parts by weight of polyimide; L00 weight is preferred ⁇ is 0.01 to 90 parts, more preferably 0.02 to 80 parts by weight. It is. If the amount of filler added is below this range, the effect of modification by the filler is difficult to appear. There is a possibility that. Filling the filler,
  • thermal imidization method is a method in which the imidization reaction proceeds only by heating without the action of a dehydrating agent
  • chemical imidization method uses a dehydrating agent and Z or an imidization catalyst in a polyamic acid solution. This is a method for promoting imidization.
  • the dehydrating agent means a compound having a dehydrating and ring-closing action on polyamic acid.
  • an aliphatic acid anhydride an aromatic acid anhydride, N, N'-dialkyl carpositimide, halogenated lower Aliphatic, halogenated lower fatty acid anhydrides, aryl phosphonic dihalogenates, thionyl halides, or mixtures of two or more thereof.
  • aliphatic acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride, and latacic anhydride, or a mixture of two or more thereof can be preferably used from the viewpoint of availability and cost.
  • the imidization catalyst means a component having an effect of promoting dehydration and cyclization to polyamic acid, and examples thereof include aliphatic tertiary amines, aromatic tertiary amines, and heterocyclic tertiary amines. Is used. Among them, those selected from heterocyclic tertiary amines are particularly preferably used from the viewpoint of reactivity as a catalyst. Specifically, quinoline, isoquinoline, j8-picoline, pyridine and the like are preferably used.
  • Either method may be used to produce the film, but the imide by the chemical imidization method There is a tendency to obtain a polyimide film having various properties that are preferably used in the present invention.
  • the polyimide film production process is particularly preferred.
  • a preferred embodiment of the present invention which is a chemical imidization method, will be described as an example to describe the process for producing a polyimide film.
  • the present invention is not limited to the following examples.
  • the film forming conditions and heating conditions can vary depending on the type of polyamic acid, the thickness of the film, and the like.
  • a film forming dope is obtained by mixing a dehydrating agent and an imido catalyst at a low temperature in a polyamic acid solution. Subsequently, this film-forming dope is cast into a film on a support such as a glass plate, an aluminum foil, an endless stainless steel belt or a stainless drum, and 80 ° C to 200 ° C, preferably 100 ° C on the support. Heating in a temperature range of ⁇ 180 ° C partially activates the dehydrating agent and imido catalyst, and then partially hardens and Z or dries, then the support strength peels off and forms a polyamic acid film (hereinafter referred to as gel film). And get u).
  • a support such as a glass plate, an aluminum foil, an endless stainless steel belt or a stainless drum, and 80 ° C to 200 ° C, preferably 100 ° C on the support. Heating in a temperature range of ⁇ 180 ° C partially activates the dehydrating agent and imido catalyst, and then partially hardens
  • Gel film is in the middle stage of curing to polyamic acid polyimide and has self-supporting properties.
  • a and B represent the following.
  • the volatile content in which the force is calculated is in the range of 5 to 500% by weight, preferably 5 to 200% by weight, more preferably 5 to 150% by weight. Outside this range, defects such as film breakage, uneven film color due to uneven drying, and variations in characteristics occur during the baking process. Sometimes.
  • a preferable amount of the dehydrating agent is 0.5 to 5 mol, preferably 1.0 to 4 mol, per 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid.
  • the preferred amount of the imido catalyst is 0.05 to 3 mol, preferably 0.2 to 2 mol, relative to 1 mol of the amic acid unit in the polyamic acid.
  • the dehydrating agent and the imido catalyst are below the above ranges, the chemical imido is insufficient and may break during firing or the mechanical strength may decrease. If these amounts exceed the above range, the progress of imidization may become too fast, making it difficult to cast into a film.
  • the end of the gel film is fixed and dried while avoiding shrinkage at the time of curing, water, residual solvent, residual dehydrating agent and imidization catalyst are removed, and the remaining amic acid is completely imidized.
  • the polyimide film of the present invention is obtained.
  • heat treatment can be performed under the minimum tension necessary for transporting the film.
  • This heat treatment may be performed in the film manufacturing process, or may be provided separately.
  • the heating conditions vary depending on the film characteristics and the equipment used, and therefore cannot be determined in general. Generally 200 ° C to 500 ° C, preferably 250 ° C to 500 ° C, particularly preferred
  • the internal stress can be relieved by heat treatment at a temperature of 300 ° C. or higher and 450 ° C. or lower for 1 to 300 seconds, preferably 2 to 250 seconds, and particularly preferably 5 to 200 seconds.
  • the polyimide film finally obtained in this way needs to be non-thermoplastic.
  • Non-thermoplastic means that the film is not melted when it is heated to about 450-500 ° C and the shape of the film is maintained. Therefore, the polyimide film should be designed to be non-thermoplastic using the above composition.
  • the polyimide film useful for the present invention obtained as described above is characterized by the film surface. Even if no special treatment is performed, high adhesion is exhibited when the metal foil is bonded through the adhesive layer. In particular, even when a metal foil is bonded through an adhesive layer containing a thermoplastic polyimide, which is generally inferior to adhesiveness compared to a thermosetting resin, high adhesion is exhibited.
  • the adhesive strength can be 15 NZcm or more for 90 degree peel and 10 NZcm or more for 180 degree peel.
  • thermoplastic polyimide contained in the adhesive layer thermoplastic polyimide, thermoplastic polyamideimide, thermoplastic polyetherimide, thermoplastic polyesterimide and the like can be suitably used, and are not particularly limited. Whichever thermoplastic polyimide is used, the polyimide film of the present invention exhibits high adhesiveness. In addition, even when a high Tg thermoplastic polyimide having a glass transition temperature (Tg) of 250 ° C or higher is used, high adhesion is exhibited.
  • Tg glass transition temperature
  • a conventionally known method can be used and is not particularly limited.
  • the non-thermoplastic polyimide film of the present invention has a particularly remarkable effect when bonded to a metal layer through an adhesive layer as described above, but of course, without using the inventive adhesive, sputtering, etc. Even if the metal layer is directly formed by this method, there is no problem.
  • the adhesion of the polyimide film according to the present invention hardly deteriorates even under high temperature and high humidity conditions. Specifically, even after treatment for 96 hours under conditions of 121 ° C and 100% RH, the peel strength of the metal foil is 85% of the pre-treatment value for both 90 ° peel and 180 ° peel. % Or more is possible.
  • the polyimide film which is useful in the present invention hardly deteriorates the adhesiveness even under long-time heating conditions. Specifically, even after treatment at 150 ° C for 500 hours, the peel strength of the metal foil can be 85% of the pre-treatment value for both 90 ° peel and 180 ° peel. It becomes.
  • the polyimide film that is effective in the present invention exhibits high adhesiveness even if it is not subjected to surface treatment, and further maintains adhesiveness even in a high temperature and high humidity environment. It is possible to provide the plate at a low cost.
  • the polyimide film of the present invention may be used after being surface-treated, and the application of the present invention is not limited to this. Needless to say, any laminate including a metal foil can be used for various purposes.
  • thermoplastic polyimide The glass transition temperature of the thermoplastic polyimide, the linear expansion coefficient of the polyimide film, the determination of non-thermoplasticity, and the evaluation method of the metal foil peel strength of the flexible metal-clad laminate in the synthesis examples, examples and comparative examples are It is as follows.
  • the glass transition temperature was measured with a DMS6100 manufactured by SII Nanotechnology, and the inflection point of the storage modulus was taken as the glass transition temperature.
  • Sample measurement range width 9mm, distance between grips 20mm
  • Measurement temperature range 0 to 400 ° C
  • the linear expansion coefficient of the polyimide film is as follows: Thermomechanical analyzer manufactured by SII NanoTechnology Co., Ltd., trade name: TMAZSS6100, raised to 0 ° C to 460 ° C and then cooled to 10 ° C
  • the temperature was further increased at 10 ° C / min, and the average value in the range of 100 to 200 ° C at the second temperature increase was obtained. Measurements were made in the MD direction and TD direction of the core film. Sample shape: width 3mm, length 10mm
  • Measurement temperature range 0 to 460 ° C
  • the plasticity was determined by fixing the obtained film 20 x 20 cm to a square SUS frame (outer diameter 20 x 20 cm, inner diameter 18 x 18 cm) and heat-treating at 450 ° C for 3 minutes to maintain the shape. Those with non-thermoplasticity and those with wrinkles or stretching were made thermoplastic.
  • a sample was prepared according to “6.5 peel strength” of JIS C6471, and a 5 mm wide metal foil was peeled off at 180 ° peel angle and 50 mmZ, and the load was measured. Similarly, a 1 mm wide metal foil part was peeled off at 90 ° peel angle and 50 mmZ, and the load was measured.
  • Hirayama Seisakusho pressure tacker tester trade name: PC-422RIII, sample prepared in the same way as the above initial adhesive strength, and left for 96 hours at 121 ° C and 100% RH .
  • the adhesive strength of the sample taken out was measured in the same manner as the initial adhesive strength described above.
  • a sample prepared in the same manner as the above initial adhesive strength was put into an oven set at 150 ° C. and left for 500 hours.
  • the adhesion strength of the sample taken out was measured in the same manner as the above initial adhesion strength.
  • T MEG 3,3 ′, 4,4 ′ ethylene glycol dibenzoate tetracarboxylic dianhydride
  • the obtained polyamic acid solution was cast on a 25 ⁇ m PET film (Therapy HP, manufactured by Toyo Metallizing Co., Ltd.) to a final thickness of 20 m, and dried at 120 ° C. for 5 minutes.
  • the dried self-supporting film is peeled off from the PET, and then fixed to a metal pin frame.
  • 150 ° C for 5 minutes at 200 ° C for 5 minutes, at 250 ° C for 5 minutes, at 350 ° C for 5 minutes Drying was performed for a minute. It was 270 degreeC when the glass transition temperature of the obtained single layer sheet was measured.
  • pyromellitic dianhydride hereinafter also referred to as PMDA
  • PMDA pyromellitic dianhydride
  • p-PDA p-phenylenediamine
  • an acetic anhydride Z isoquinoline ZDMF (weight ratio 2.0 / 0. 3/4. 0) strength imidizer was added at a weight ratio of 45% with respect to the polyamic acid solution.
  • the mixture was stirred with a mixer and the T-die force was also pushed out and cast onto a stainless steel endless belt running 20mm below the die.
  • This resin film is heated at 130 ° C for 100 seconds, then the self-supporting gel film is peeled off from the endless belt (volatile content 30% by weight), fixed to a tenter clip, transported to a heating furnace, and 300 ° C.
  • the film was dried and imidized continuously for 30 seconds in a hot air drying oven, 30 seconds in a 400 ° C hot air drying oven, and 30 seconds in a 500 ° C IR oven, to obtain a polyimide film having a thickness of 18 ⁇ m.
  • the resulting polyimide film was non-thermoplastic.
  • the polyamic acid obtained in Synthesis Example 1 was applied with a comma coater so that the final single-sided thickness of the thermoplastic polyimide layer (adhesive layer) was 3.5 m.
  • Set to ° C The inside of the drying oven was heated for 1 minute.
  • the film was passed through a far-infrared heater furnace having an atmospheric temperature of 390 ° C. for 20 seconds to perform imidization by heating to obtain an adhesive film.
  • Example 2 Using the obtained polyamic acid solution, the same operation as in Example 1 was performed to obtain a polyimide film having a thickness of 18 m, an adhesive film using the same, and a copper-clad laminate.
  • An adhesive layer was provided on an 18 ⁇ m-thick untreated polyimide film (Abical 18HP GF, manufactured by Kaneiki Co., Ltd.) in the same manner as in Example, and a copper foil was bonded thereto.
  • An adhesive layer was provided on a 20 ⁇ m-thick untreated polyimide film (Abical 20NPI GF, manufactured by Kane force Co., Ltd.) in the same manner as in Example, and a copper foil was bonded thereto.
  • An adhesive layer was provided on an 18 ⁇ m-thick polyimide film (Abical 18HPP, manufactured by Kane force Co., Ltd.) whose surface was plasma-treated in the same manner as in Example, and a copper foil was bonded thereto.
  • the untreated polyimide film has extremely low initial adhesive strength, and the adhesion is completely absent after PCT or heat treatment.
  • Examples 1-7 have high initial adhesive strength in both 90 degree peeling and 180 degree peeling, and hardly decrease even after PCT or heat treatment.
  • it exhibits the same or better adhesion.
  • the adhesion when bonded to a metal foil via an adhesive can be improved.
  • an adhesive layer containing a thermoplastic polyimide that is inferior in adhesiveness to thermosetting resin is used, high adhesiveness is exhibited. Further, the adhesiveness hardly deteriorates even under high temperature or high humidity conditions. Therefore, the problem of increasing the number of processes and costs due to the surface treatment can be solved.

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Abstract

本発明は、3,4’-ジアミノジフェニルエーテルおよび2,2-ビス{4-(4-アミノフェノキシ)フェニル}プロパンを含む芳香族ジアミンと芳香族酸二無水物を特定の重合方法によって反応させポリアミド酸を含む溶液を得、これをイミド化して得られる非熱可塑性ポリイミドフィルムによって、特別な表面処理を施さなくても、熱可塑性ポリイミドを含有する接着層を介して、金属箔と高い接着性を発現するポリイミドフィルムを提供する。                                                                               

Description

明 細 書
接着性の改良された新規なポリイミドフィルム
技術分野
[0001] 本発明は、フィルム表面に特別な表面処理を施すことなぐ高接着性を発現する、 新規なポリイミドフィルムに関する。
背景技術
[0002] 近年、エレクトロニクス製品の軽量化、小型化、高密度化にともない、各種プリント配 線板の需要が伸びている力 中でもフレキシブルプリント配線板 (以下、 FPCとも称 する)の需要が特に伸びている。フレキシブルプリント配線板は、絶縁性フィルム上に 金属箔カもなる回路が形成された構造を有している。
[0003] 上記フレキシブル配線板の元となるフレキシブル金属張積層板は、一般に、各種 絶縁材料により形成され、柔軟性を有する絶縁性フィルムを基板とし、この基板の表 面に、各種接着材料を介して金属箔を加熱'圧着することにより貼りあわせる方法に より製造される。上記絶縁性フィルムとしては、ポリイミドフィルム等が好ましく用いられ ている。
ポリイミドフィルムは一般的に、ジァミンと酸二無水物を反応させて得られるポリアミド 酸を支持体上に溶液キャストした後、溶媒をある程度揮発して得られるゲルフィルム を熱的、化学的にイミド化して得られる。原料モノマーであるジァミン、酸二無水物の 構造やイミドィ匕の条件は種々検討がなされて 、るが、 、ずれにしても得られるポリイミ ドフィルムは、プラスチックフィルムの中でも接着性が極めて低い部類に入る。そのた め、フィルムを得た後、接着層を設ける前に、コロナ処理、プラズマ処理、火炎処理、 UV処理等の各種表面処理がなされているのが実状である。
ポリイミドフィルムの接着性が低 、原因にっ 、ては諸説あるが、製膜の過程にぉ 、て 、フィルム表面に表面脆弱層(WBL : Weak Boundary Layer)が开成されること がー因であると言われている。即ち、表面脆弱層の部分力も界面剥離してしまうため 、接着性が低くなるというのである。 PCT (Pressure Cooker Test)や長期加熱試 験を行うと、この表面脆弱層の分解が促進され、更に接着性が低下する。これに対し 、上記表面処理を施すことによってフィルム表面が荒らされ、この表面脆弱層が除去 されるため、接着性が向上すると言われている。
一方、ポリイミドフィルムと金属箔を貼り合わせるための接着材料としては、エポキシ 系、アクリル系等の熱硬化性接着剤が一般的に用いられている。し力しながら、今後 、耐熱性、屈曲性、電気的信頼性といった要求特性が厳しくなるに従い、熱硬化性 接着剤では対応が困難になるため、熱可塑性ポリイミドを接着材料に使用することが 提案されている。しかし、熱可塑性ポリイミドは熱硬化性榭脂に対して流れ性に劣る ため、材料へのかみ込みが悪ぐ接着性に劣る。そのため、接着性の低いポリイミドフ イルムに、接着性に劣る熱可塑性ポリイミド接着層を介して金属箔を貼り合わせても、 十分な接着強度が得られな 、という問題がある。
この問題を解決するため、様々な取り組みがなされている。例えば、上記表面処理を 施したフィルムを使用する方法、接着層の熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度を下 げ、流れ性を向上させる方法、コア層と接着層を同時形成することによって、表面脆 弱層が生じな!/、ようにする方法 (特許文献 1参照)等である。
[0004] し力しながら、フィルム表面処理は工程数の増カロ、コストの増加と!/、う問題が生じる 。熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度を下げると、耐熱性の面で問題が生じる。コア 層と接着層の同時形成は、コア層と接着層の組み合わせを容易に変更できないとい う問題が生じる。
特許文献 1 :特開平 3— 180343公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0005] 本発明は、上記の課題に鑑みてなされたものであって、その目的は、特別な表面 処理を施さなくても、金属層との高い接着性を有するポリイミドフィルム、特に、接着 層を介して、金属箔と高い接着性を発現するポリイミドフィルムを提供することにある。 その中でも、熱可塑性ポリイミドを用いた接着層を用いた場合の、金属箔と高い接着 性を発現するポリイミドフィルムを提供することにある。
課題を解決するための手段
[0006] 本発明者らは、上記の課題に鑑み鋭意検討した結果、酸二無水物成分と、 3, 4' —ジアミノジフエ-ルエーテルおよび 2, 2 ビス {4— (4 アミノフエノキシ)フエ-ル} プロパンを含むジァミン成分を用いて、特定の製造方法によって得られるポリイミドフ イルムの接着性が飛躍的に向上することを独自に見出し、本発明を完成させるに至 つ 7こ。
即ち本発明は、以下の新規なポリイミドフィルムによって上記課題を解決しうる。
1)芳香族ジァミンと芳香族酸二無水物を反応させて得られるポリアミド酸を含む溶液 をイミドィ匕して得られる非熱可塑性ポリイミドフィルムであって、前記芳香族ジァミンは
、 3, 4'ージアミノジフエ-ルエーテルおよび 2, 2 ビス {4一(4 アミノフエノキシ)フ ェニル }プロパンを含むとともに、前記ポリアミド酸を含む溶液は、下記の工程 (A)お よび工程 (B)を含む、ポリアミド酸溶液の製造方法により得られることを特徴とする非 熱可塑性ポリイミドフィルム。
(A)芳香族酸二無水物成分と、これに対し、 3, 4'ージアミノジフエ-ルエーテルを含 む芳香族ジァミン成分とを、どちらか一方が過剰モル量の状態で有機極性溶媒中で 反応させ、両末端にアミノ基または酸二無水物基を有する屈曲性プレボリマーを得る 工程、
(B) (A)工程で得られたプレボリマーと、芳香族酸二無水物成分と芳香族ジァミン成 分を、全工程において実質的に等モルとなるように用いてポリイミド前駆体溶液を合 成する工程
2)前記 (A)工程で用いるジァミンは、柔構造のジァミンであることを特徴とする 1)記 載の非熱可塑性ポリイミドフィルム。
3)前記 (B)工程で用いるジァミンは、剛直性のジァミンであることを特徴とする 2)記 載の非熱可塑性ポリイミドフィルム。
4)前記柔構造のジァミンとして、 3, 4'—ジアミノジフエニルエーテルおよび Zまたは 2, 2 ビス {4— (4 アミノフエノキシ)フエ-ル}プロパンを含むことを特徴とする 2)ま たは 3)記載の非熱可塑性ポリイミドフィルム。
5)前記 3, 4'—ジアミノジフエ-ルエーテルを、全ジァミン成分の 10モル%以上使用 することを特徴とする、 4)記載のポリイミドフィルム。
6)前記 2, 2 ビス {4一(4 アミノフエノキシ)フエ-ル}プロパンを、全ジァミン成分 の 10モル%以上使用することを特徴とする、 4)または 5)に記載のポリイミドフィルム。
7)前記 (A)工程にぉ 、てべンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物を用いることを特 徴とする 1)〜4)のいずれか一項に記載のポリイミドフィルム。
8)前記べンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物を、全酸二無水物成分の 5モル%以 上使用することを特徴とする、 7)記載のポリイミドフィルム。
9) (A)工程で得られるプレボリマーが、熱可塑性ポリイミド由来のブロック成分である ことを特徴とする 1乃至 8)に記載のポリイミドフィルム。
10)前記ポリイミドフィルムに表面処理を施さずに、熱可塑性ポリイミドを含有する接 着層を介して、前記ポリイミドフィルムに金属箔を積層した際に、得られる積層体の金 属箔引き剥がし強度が、 90度方向剥離で 15NZcm以上、かつ 180度方向剥離で 1 ONZcm以上であることを特徴とする、 1)乃至 9)記載のポリイミドフィルム。
11)前記ポリイミドフィルムに表面処理を施さずに、熱可塑性ポリイミドを含有する接 着層を介して、前記ポリイミドフィルムに金属箔を積層して得られる積層体を、 121°C 、 100%R. H.の条件下で 96時間処理した後、積層体の金属箔引き剥がし強度を 測定した際に、 90度方向剥離、 180度方向剥離のいずれも、処理前の引き剥がし強 度の 85%以上となることを特徴とする、 10)記載のポリイミドフィルム。
12)前記ポリイミドフィルムに表面処理を施さずに、熱可塑性ポリイミドを含有する接 着層を介して、前記ポリイミドフィルムに金属箔を積層して得られる積層体を、 150°C で 500時間処理した後、積層体の金属箔引き剥がし強度を測定した際に、 90度方 向剥離、 180度方向剥離のいずれも、処理前の引き剥がし強度の 85%以上となるこ とを特徴とする、 10)または 11)記載のポリイミドフィルム。
発明の効果
本発明のポリイミドフィルムは、従来のポリイミドフィルムでなされていた表面処理を しないでも、例えば、接着剤を介して金属箔と張り合わせた場合の接着性を良好なも のにすることができる。特に、熱硬化性榭脂よりも接着性に劣る熱可塑性ポリイミドを 含有する接着層を用いた場合であっても高い接着性を示す。また、高温または高湿 の条件下においても、殆ど接着性が低下することは無い。従って、表面処理によるェ 程数、コストの増加という問題を解消できる。 発明を実施するための最良の形態
[0008] 本発明は、ポリイミドフィルムの原料となるジァミン成分として、 3, 4'—ジアミノジフ ェ-ルエーテルおよび 2, 2—ビス {4— (4—アミノフエノキシ)フエ-ル}プロパンを用 いるとともに、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の重合方法を規定することによつ て、上述のような優れた接着性、特に熱可塑性ポリイミドを含有する接着層を用いた 場合の優れた接着性を発現する。
[0009] 本発明の実施の形態について、以下に説明する。
[0010] (ポリアミド酸の製造)
本発明に用いられるポリイミドの前駆体であるポリアミド酸は、通常、芳香族ジァミンと 芳香族酸二無水物とを、実質的に等モル量となるように有機溶媒中に溶解させて、 得られたポリアミド酸有機溶媒溶液を、制御された温度条件下で、上記酸二無水物と ジァミンの重合が完了するまで攪拌することによって製造される。これらのポリアミド酸 溶液は通常 5〜35wt%、好ましくは 10〜30wt%の濃度で得られる。この範囲の濃 度である場合に適当な分子量と溶液粘度を得る。
[0011] 本発明の、特別な表面処理を施すことなく高接着性を示すポリイミドフィルムを得る ためには、下記 (A)および (B)工程を経ることによって得られたポリアミド酸溶液をィ ミドィ匕することが重要である。
(A)芳香族酸二無水物成分と、芳香族ジァミン成分とを、どちらか一方が過剰モル 量の状態で有機極性溶媒中で反応させ、両末端にアミノ基または酸二無水物基を有 するプレボリマーを得る工程
(B) (A)工程で得られたプレボリマーと、芳香族酸無水物成分と芳香族ジァミン成分 を、全工程にお!ヽて実質的に等モルとなるように用いてポリイミド前駆体溶液を合成 する工程
さらに、上記芳香族ジァミン成分として、 3, 4'ージアミノジフエニルエーテルおよび 2 , 2—ビス {4— (4—アミノフエノキシ)フエ-ル}プロパンを用いることが重要である。
[0012] 本発明のポリイミドフィルムの原料モノマーとして使用し得る芳香族ジァミンとしては 、 4, 4'ージアミノジフエニルプロパン、 4, 4'ージアミノジフエニルメタン、ベンジジン 、 3, 3'—ジクロ口べンジジン、 3, 3 '—ジメチルベンジジン、 2, 2'—ジメチルベンジ ジン、 3, 3'ージメトキシベンジジン、 2, 2'ージメトキシベンジジン、 4, 4'ージアミノジ フエ-ルスルフイド、 3, 3,一ジアミノジフエ-ルスルホン、 4, 4'—ジアミノジフエニル スルホン、 4, 4'ージアミノジフエニルエーテル、 3, 3,ージアミノジフエニルエーテル 、 3, 4'—ジアミノジフエニルエーテル、 1, 5—ジァミノナフタレン、 4, 4'ージアミノジ フエ二ルジェチルシラン、 4, 4'ージアミノジフエニルシラン、 4, 4'ージアミノジフエ二 ルェチルホスフィンォキシド、 4, 4'ージアミノジフエニル N—メチルァミン、 4, 4'ージ アミノジフエ-ル N—フエニルァミン、 1, 4—ジァミノベンゼン(p—フエ-レンジアミ ン)、 1, 3—ジァミノベンゼン、 1, 2—ジァミノベンゼン、ビス {4一(4ーァミノフエノキ シ)フエ-ル}スルホン、ビス {4— (3—アミノフエノキシ)フエ-ル}スルホン、 4, 4,一ビ ス(4—アミノフエノキシ)ビフエ-ル、 4, 4,一ビス(3—アミノフエノキシ)ビフエ-ル、 2 , 2—ビス {4— (4—アミノフエノキシ)フエ-ル}プロパン、 1, 3—ビス(3—アミノフエノ キシ)ベンゼン、 1, 3—ビス(4—アミノフエノキシ)ベンゼン、 1, 3—ビス(4—アミノフ エノキシ)ベンゼン、 1, 3—ビス(3—アミノフエノキシ)ベンゼン、 3, 3,一ジァミノベン ゾフエノン、 4, 4'ージァミノべンゾフエノン及びそれらの類似物などが挙げられる。
[0013] 上記 (A)工程において用いるジァミンは、屈曲性を有するジァミンであることが好ま しい。これにより、(A)工程で得られるプレボリマーが熱可塑性ポリイミドカもなるブロ ック成分となり、このプレボリマーを用いて(B)工程の反応ならびに製膜を進めること により、熱可塑性部位が分子鎖中に点在したポリアミド酸、さらにはポリイミドフィルム が得られる。本発明において屈曲性を有するジァミンとは、エーテル基、スルホン基、 ケトン基、スルフイド基などの柔構造を有するジァミン (以下、柔構造のジァミンと言う) のことであり、好ましくは、下記一般式(1)で表されるものである。
[0014] [化 1]
Figure imgf000007_0001
[0015] (式中の Rは、
4
[0016] [化 2]
Figure imgf000008_0001
一般式群 ( 1 )
[0017] で表される 2価の有機基または連結基力 なる群力 選択される基であり、式中の R
5 は同一または異なって、 H—, CH―、 一 OH、 -CF 、 -SO 、 一 COOH、 一 CO-
3 3 4
NH 、 CI—、 Br―、 F―、及び CH O からなる群より選択される 1つの基である。 )
2 3
上記工程を経ることによって得られたポリイミドフィルム力 何故無処理でも高接着 性を発現するのか、詳しいことはまだ明らかになっていない。分子鎖中に点在する屈 曲部位が表面脆弱層の形成を阻害するか、接着層との接着に何らかの関与をしてい ると考免られる。
[0018] さらに (B)工程で用いるジァミン成分は剛構造を有するジァミン(以下、剛構造のジ ァミンと言う)であることが最終的に得るフィルムを非熱可塑性とすることができる点か ら好まし 、。本発明にお 、て剛直構造を有するジァミンとは、
[0019] [化 3]
Figure imgf000009_0001
[0020] (式中の R2は
[0021] [化 4]
Figure imgf000009_0002
[0022] で表される 2価の芳香族基力 なる群力 選択される基であり、式中の Rは同一また
3 は異なって H—, CH 一、 一 OH、 -CF 、 一 SO 、 一 COOH、 一 CO— NH 、 C1一、
3 3 4 2
Br—、 F—、及び CH O—からなる群より選択される何れかの 1つの基である)
3
で表されるものをいう。
[0023] ここで、剛構造と柔構造のジァミンの使用比率はモル比で 80: 20-20: 80、好まし くは 70: 30〜30: 70、特に好ましくは 60: 40〜40: 60の範囲となるようにすること力 ^ 好ましい。剛構造のジァミンの使用比率が上記範囲を上回ると、得られるフィルムの 接着性が充分とはならない場合がある。逆にこの範囲を下回ると、熱可塑性の性質 が強くなりすぎ、フィルム製膜時に熱で軟ィ匕してフィルム破断が起こる場合がある。 [0024] 上記柔構造、剛構造のジァミンはそれぞれ複数種を組み合わせて使用しても良い 力 本発明のポリイミドフィルムにおいては、柔構造のジァミンとして、 3, 4'—ジァミノ ジフエニルエーテルを使用することが重要である。本発明者らは、 3, 4'—ジアミノジ フエニルエーテルを用いると、接着性を向上させる効果が強いことを見出した。さらに 本発明者らは、一般的に柔構造のジァミンを添加すると、得られるポリイミドフィルム の線膨張係数が著しく大きくなる傾向にある力 3, 4'ージアミノジフエニルエーテル は、逆に線膨張係数を若干下げる効果があることも見出した。このため、 3, 4'—ジァ ミノジフエ-ルエーテルを用いると、他の柔構造ジァミンとの併用が行いやすくなる。 3 , 4'ージアミノジフエ-ルエーテルの使用量は、全ジァミン成分の 10モル%以上であ ることが好ましぐ 15モル%以上がより好ましい。これよりも少ないと、上記効果を十分 に発現しない場合がある。一方、上限については、 50モル%以下が好ましぐ 40モ ル%以下がより好ましい。これよりも多いと、剛構造のジァミンとの相乗効果で、得ら れるポリイミドフィルムの線膨張係数が小さくなり過ぎる場合がある。
[0025] 更に、柔構造のジァミンとして、 2, 2 ビス {4一(4 アミノフエノキシ)フエ-ル}プロ パンを使用することも重要である。 2, 2 ビス {4— (4 アミノフエノキシ)フエ二ル}プ 口パンを使用すると、得られるポリイミドフィルムの吸水率や吸湿膨張係数が下がる傾 向にあり、耐湿性が向上する。 2, 2 ビス {4— (4 アミノフエノキシ)フエ-ル}プロパ ンの使用量は、全ジァミン成分の 10モル%以上であることが好ましぐ 15モル%以上 力 り好ましい。これよりも少ないと、上記効果を十分に発現しない場合がある。一方 、上限については、 40モル%以下が好ましぐ 30モル%以下がより好ましい。これよ りも多いと、得られるポリイミドフィルムの線膨張係数が大きくなり過ぎ、金属箔を貼り 合わせた際にカールが発生する等の問題が生じる場合がある。
[0026] なお、ポリイミドフィルムの線膨張係数は、 100〜200°Cの範囲において、 5〜18pp mZ°Cの範囲内にあることが好ましく、 8〜 16ppmZ°Cの範囲内にあることがより好ま しい。
[0027] 一方、剛構造のジァミンとしては、 p—フエ-レンジァミンが好ましく用いられ得る力 p フエ-レンジアミンを用いる場合、その使用量は全ジァミン成分の 60モル0 /0以下 とすることが好ましぐ 50モル%以下とすることがより好ましい。 p フエ-レンジァミン は分子量が小さ 、ため、同一重量で比較した際のポリイミド中に存在するイミド基の 数が多くなり (イミド基の濃度が高くなり)、耐湿性等に問題が生じる場合がある。
[0028] 本発明のポリイミドフィルムの原料モノマーとして使用し得る酸二無水物としては、ピ ロメリット酸二無水物、 2, 3, 6, 7 ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、 3, 3' , 4, 4,ービフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、 1, 2, 5, 6 ナフタレンテトラカルボン酸 二無水物、 2, 2' , 3, 3,ービフエ-ルテトラカルボン酸二無水物、 3, 3' , 4, 4,一べ ンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物、 2, 2' , 3, 3'—べンゾフエノンテトラカルボン 酸二無水物、 4, 4' ォキシフタル酸ニ無水物、 3, 4'—ォキシフタル酸ニ無水物、 2, 2 ビス(3, 4 ジカルボキシフエ-ル)プロパン二無水物、 3, 4, 9, 10 ペリレ ンテトラカルボン酸二無水物、ビス(3, 4—ジカルボキシフエ-ル)プロパン二無水物 、 1, 1—ビス(2, 3 ジカルボキシフエ-ル)エタンニ無水物、 1, 1—ビス(3, 4 ジ カルボキシフエ-ル)エタンニ無水物、ビス(2, 3 ジカルボキシフエ-ル)メタン二無 水物、ビス(3, 4—ジカルボキシフエ-ル)エタンニ無水物、ォキシジフタル酸二無水 物、ビス(3, 4—ジカルボキシフエ-ル)スルホン二無水物、 p フエ-レンビス(トリメリ ット酸モノエステル酸無水物)、エチレンビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)、ビ スフェノール Aビス(トリメリット酸モノエステル酸無水物)及びそれらの類似物等が挙 げられる。これらを単独または、任意の割合の混合物が好ましく用い得る。
[0029] ジァミンの場合と同様、酸二無水物についても、柔構造と剛構造とに分類し、前者 を (A)工程で、後者を (B)工程でそれぞれ使用するのが好ましい。本発明において 柔構造の酸二無水物とは、エーテル基、スルホン基、ケトン基、スルフイド基など柔構 造を有する酸二無水物を 、、ベンゼンまたはナフタレン骨格に酸二無水物基が付 V、たものを剛構造の酸二無水物と!/、う。
[0030] (A)工程で使用する酸二無水物としては、ベンゾフヱノンテトラカルボン酸二無水 物類、ォキシフタル酸ニ無水物類、ビフヱ-ルテトラカルボン酸二無水物類が好まし い例として挙げられる。中でも、ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物を使用する ことが特に好ましい。ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物は、得られるポリイミド フィルムの接着性を上げる効果が高 、。ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物の 使用量は、全酸二無水物成分の 5モル%以上であることが好ましぐ 10モル%以上 であることがより好ましい。これよりも少ないと、上記効果を十分に発現しない場合が ある。一方、上限については、 30モル%以下が好ましぐ 20モル%以下がより好まし い。これよりも多いと、吸水率が非常に大きくなつてしまい、耐湿性に問題が生じる場 合がある。また、フィルムの熱可塑性が強くなり、製膜時にフィルム破断等の問題が 生じる場合がある。
[0031] (B)工程で使用する酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物が好ましい例とし て挙げられる。また、ピロメリット酸二無水物を用いる場合、好ましい使用量は 40〜9 5mol%、更に好ましくは 50〜90mol%、特に好ましくは 60〜80mol%である。ピロ メリット酸二無水物をこの範囲で用いることにより、得られるポリイミドフィルムの線膨張 係数や製膜性を、良好なレベルに保ちやすくなる。
ポリアミド酸を合成するための好まし 、溶媒は、ポリアミド酸を溶解する溶媒であれば いかなるものも用いることができる力 アミド系溶媒すなわち N, N—ジメチルホルムァ ミド、 N, N—ジメチルァセトアミド、 N—メチル—2—ピロリドンなどがあり、その中でも N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N—ジメチルァセトアミドが特に好ましく用い得る。 また、摺動性、熱伝導性、導電性、耐コロナ性、ループスティフネス等のフィルムの諸 特性を改善する目的でフィラーを添加することもできる。フイラ一としてはいかなるもの を用いても良いが、好ましい例としてはシリカ、酸化チタン、アルミナ、窒化珪素、窒 化ホウ素、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウム、雲母などが挙げられる。
[0032] フィラーの粒子径は改質すべきフィルム特性と添加するフイラ一の種類によって決 定されるため、特に限定されるものではないが、一般的には平均粒径が 0. 05-100 m、好ましく ίま 0. 1〜75 m、更に好ましく ίま 0. 1〜50 m、特に好ましく ίま 0. 1 〜25 /ζ πιである。粒子径がこの範囲を下回ると改質効果が現れに《なり、この範囲 を上回ると表面性を大きく損なったり、機械的特性が大きく低下したりすることがある。 また、フィラーの添加部数にっ 、ても改質すべきフィルム特性ゃフイラ一粒子径など により決定されるため特に限定されるものではない。一般的にフィラーの添カ卩量はポ ジイミド、 100重量咅に対して 0. 01〜: L00重量咅^好まし <は 0. 01〜90重量咅^更に 好ましくは 0. 02〜80重量部である。フィラー添加量力この範囲を下回るとフイラ一に よる改質効果が現れにくぐこの範囲を上回るとフィルムの機械的特性が大きく損な われる可能性がある。フィラーの添カロは、
1.重合前または途中に重合反応液に添加する方法
2.重合完了後、 3本ロールなどを用いてフィラーを混鍊する方法
3.フィラーを含む分散液を用意し、これをポリアミド酸有機溶媒溶液に混合する方法 など!/、かなる方法を用いてもょ 、が、フィラーを含む分散液をポリアミド酸溶液に混合 する方法、特に製膜直前に混合する方法が製造ラインのフィラーによる汚染が最も少 なくすむため、好ましい。フィラーを含む分散液を用意する場合、ポリアミド酸の重合 溶媒と同じ溶媒を用いるのが好ましい。また、フィラーを良好に分散させ、また分散状 態を安定化させるために分散剤、増粘剤等をフィルム物性に影響を及ぼさな ヽ範囲 内で用いることもできる。
[0033] (ポリイミドフィルムの製造)
これらポリアミド酸溶液力 ポリイミドフィルムを製造する方法については従来公知の 方法を用いることができる。この方法には熱イミドィ匕法と化学イミドィ匕法が挙げられる。 熱イミド化法は、脱水剤等を作用させずに加熱だけでイミド化反応を進行させる方法 であり、化学イミド化法は、ポリアミド酸溶液に、脱水剤及び Z又はイミド化触媒とを作 用させてイミド化を促進する方法である。
[0034] ここで、脱水剤とは、ポリアミド酸に対する脱水閉環作用を奏する化合物を意味し、 例えば、脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物、 N, N'—ジアルキルカルポジイミド、 ハロゲン化低級脂肪族、ハロゲン化低級脂肪酸無水物、ァリールホスホン酸ジハロ ゲン化物、チォニルハロゲンィ匕物、またはそれら 2種以上の混合物が挙げられる。中 でも入手の容易性、コストの点から、無水酢酸、無水プロピオン酸、無水ラタ酸等の 脂肪族酸無水物、またはそれら 2種以上の混合物を好ましく用いることができる。 また、イミド化触媒とはポリアミド酸に対する脱水閉環作用を促進する効果を有する成 分を意味し、例えば、脂肪族第三級ァミン、芳香族第三級ァミン、複素環式第三級ァ ミン等が用いられる。中でも触媒としての反応性の点から、複素環式第三級ァミンか ら選択されるものが特に好ましく用いられる。具体的にはキノリン、イソキノリン、 j8— ピコリン、ピリジン等が好ましく用いられる。
どちらの方法を用いてフィルムを製造してもかまわないが、化学イミド化法によるイミド 化の方が本発明に好適に用いられる諸特性を有したポリイミドフィルムを得やす ヽ傾 冋にある。
また、本発明にお 、て特に好ま 、ポリイミドフィルムの製造工程は、
a) 有機溶剤中で芳香族ジァミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物を反応させてポ リアミド酸溶液を得る工程、
b)上記ポリアミド酸溶液を含む製膜ドープを支持体上に流延する工程、
c)支持体上で加熱した後、支持体力ゝらゲルフィルムを引き剥がす工程、
d)更に加熱して、残ったァミック酸をイミドィ匕し、かつ乾燥させる工程、
を含むことが好ましい。
以下本発明の好ましい一形態、化学イミド化法を一例にとり、ポリイミドフィルムの製 造工程を説明する。ただし、本発明は以下の例により限定されるものではない。製膜 条件や加熱条件は、ポリアミド酸の種類、フィルムの厚さ等により、変動し得る。
脱水剤及びイミドィ匕触媒を低温でポリアミド酸溶液中に混合して製膜ドープを得る。 引き続いてこの製膜ドープをガラス板、アルミ箔、エンドレスステンレスベルト、ステン レスドラムなどの支持体上にフィルム状にキャストし、支持体上で 80°C〜200°C、好 ましくは 100°C〜180°Cの温度領域で加熱することで脱水剤及びイミドィ匕触媒を活 性ィ匕することによって部分的に硬化及び Zまたは乾燥した後支持体力 剥離してポ リアミド酸フィルム(以下、ゲルフィルムと 、う)を得る。
ゲルフィルムは、ポリアミド酸力 ポリイミドへの硬化の中間段階にあり、自己支持性を 有し、式 (2)
(A-B) Χ 100/Β· · · · (2)
(式 (2)中
A, Bは以下のものを表す。
A:ゲルフィルムの重量
B:ゲルフィルムを 450°Cで 20分間加熱した後の重量)
力も算出される揮発分含量は 5〜500重量%の範囲、好ましくは 5〜200重量%、よ り好ましくは 5〜 150重量%の範囲にあることが好ましい。この範囲外では、焼成過程 でフィルム破断、乾燥ムラによるフィルムの色調ムラ、特性ばらつき等の不具合が起こ ることがある。
脱水剤の好ましい量は、ポリアミド酸中のアミド酸ユニット 1モルに対して、 0. 5〜5モ ル、好ましくは 1. 0〜4モルである。
また、イミドィ匕触媒の好ましい量はポリアミド酸中のアミド酸ユニット 1モルに対して、 0 . 05〜3モル、好ましくは 0. 2〜2モルである。
脱水剤及びイミドィ匕触媒が上記範囲を下回ると化学的イミドィ匕が不十分で、焼成途 中で破断したり、機械的強度が低下したりすることがある。また、これらの量が上記範 囲を上回ると、イミドィ匕の進行が早くなりすぎ、フィルム状にキャストすることが困難とな る場合がある。
[0035] 前記ゲルフィルムの端部を固定して硬化時の収縮を回避して乾燥し、水、残留溶 媒、残存脱水剤及びイミド化触媒を除去し、そして残ったアミド酸を完全にイミド化し て、本発明のポリイミドフィルムが得られる。
この時、最終的に 400〜650°Cの温度で 5〜400秒カ卩熱するのが好ましい。この温 度より高い及び Zまたは時間が長いと、フィルムの熱劣化が起こり問題が生じることが ある。逆にこの温度より低い及び Zまたは時間が短いと所定の効果が発現しないこと がある。
また、フィルム中に残留して!/ヽる内部応力を緩和させるためにフィルムを搬送するに 必要最低限の張力下において加熱処理をすることもできる。この加熱処理はフィルム 製造工程において行ってもよいし、また、別途この工程を設けても良い。加熱条件は フィルムの特性や用いる装置に応じて変動するため一概に決定することはできない 力 一般的には 200°C以上 500°C以下、好ましくは 250°C以上 500°C以下、特に好 ましくは 300°C以上 450°C以下の温度で、 1〜300秒、好ましくは 2〜250秒、特に好 ましくは 5〜200秒程度の熱処理により内部応力を緩和することができる。
[0036] このようにして最終的に得られるポリイミドフィルムは、非熱可塑性となっていること が必要である。非熱可塑性であるとは、フィルムを 450〜500°C程度に加熱した際に 熔融せず、フィルムの形状を保持しているものを指す。従って、上記組成を用い、非 熱可塑性となるようにポリイミドフィルムの設計をすればょ 、。
[0037] 上記のようにして得られる、本発明に力かるポリイミドフィルムは、フィルム表面に特 殊な処理を施さなくても、接着層を介して金属箔を貼り合わせた際に、高い接着性を 示す。特に、熱硬化性榭脂に比べて一般的に接着性に劣る熱可塑性ポリイミドを含 有する接着層を介して金属箔を貼り合わせても、高い接着性を示す。接着強度は、 金属箔引き剥がし強度が、 90度方向剥離で 15NZcm以上、 180度方向剥離で 10 NZcm以上とすることが可能である。
[0038] (接着層)
接着層に含有される熱可塑性ポリイミドとしては、熱可塑性ポリイミド、熱可塑性ポリ アミドイミド、熱可塑性ポリエーテルイミド、熱可塑性ポリエステルイミド等を好適に用 いることができ、特に限定されない。いずれの熱可塑性ポリイミドを用いた場合でも、 本発明のポリイミドフィルムは高い接着性を示す。また、ガラス転移温度 (Tg)が 250 °C以上の高 Tg型熱可塑性ポリイミドを使用しても、高い接着性を示す。ポリイミドフィ ルムに接着層を設ける方法、ならびに金属箔と貼り合わせる方法については、従来 公知の方法が使用可能であり、特に限定されない。本発明の非熱可塑性ポリイミドフ イルムは、本上述のように接着層を介して金属層と張り合わせた場合に、特に顕著な 効果を奏するが、もちろん、発明の接着剤を介さないで、スパッタリングなどの方法に より直接金属層を形成してもカゝまわない。
[0039] 更に、本発明にかかるポリイミドフィルムは、高温高湿条件下においても、接着性が 殆ど低下しない。具体的には、 121°C、 100%R. H.の条件下で 96時間処理した後 においても、 90度方向剥離、 180度方向剥離のいずれも、金属箔の引き剥がし強度 が処理前の値の 85%以上とすることが可能である。
[0040] 更に、本発明に力かるポリイミドフィルムは、長時間の加熱条件下においても、接着 性が殆ど低下しない。具体的には、 150°Cで 500時間処理した後においても、 90度 方向剥離、 180度方向剥離のいずれも、金属箔の引き剥がし強度が処理前の値の 8 5%とすることが可能となる。
[0041] 本発明に力かるポリイミドフィルムは、表面処理を施さなくても高 、接着性を示し、 更に高温、高湿環境下においても接着性が維持されるため、信頼性の高いフレキシ ブル配線板を低コストで提供することが可能である。もちろん、本発明のポリイミドフィ ルムに表面処理を施して用いても力まわないし、本発明の用途はこれに限定されるも のではなぐ金属箔を含む積層体であれば、種々の用途に利用できることはいうまで もない。
実施例
[0042] 以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例のみに 限定されるものではない。
[0043] なお、合成例、実施例及び比較例における熱可塑性ポリイミドのガラス転移温度、 ポリイミドフィルムの線膨張係数、非熱可塑性の判定、フレキシブル金属張積層板の 金属箔引き剥し強度の評価法は次の通りである。
[0044] (ガラス転移温度)
ガラス転移温度は、 SIIナノテクノロジ一社製 DMS6100により測定し、貯蔵弾性 率の変曲点をガラス転移温度とした。
サンプル測定範囲;幅 9mm、つかみ具間距離 20mm
測定温度範囲; 0〜400°C
昇温速度; 3°CZ分
歪み振幅; 10 m
測定周波数; 1, 5, 10Hz
最小張力 Z圧縮力; lOOmN
張力 Z圧縮ゲイン; 1. 5
力振幅初期値; lOOmN
(ポリイミドフィルムの線膨張係数)
ポリイミドフィルムの線膨張係数は、 SIIナノテクノロジ一社製熱機械的分析装置、商 品名: TMAZSS6100により 0°C〜460°Cまで一且昇温させた後、 10°Cまで冷却し
、さらに 10°C/minで昇温させて、 2回目の昇温時の、 100〜200°Cの範囲内の平均 値を求めた。なお、測定はコアフィルムの MD方向及び TD方向に対して行った。 サンプル形状;幅 3mm、長さ 10mm
荷重; 29. 4mN
測定温度範囲; 0〜460°C
昇温速度; 10°CZmin (可塑性の判定)
可塑性の判定は、得られたフィルム 20 X 20cmを正方形の SUS製枠(外径 20 X 20 cm、内径 18 X 18cm)に固定し、 450°C3分間熱処理して判定し、形態を保持してい るものを非熱可塑性、シヮが入ったり、のびたりしたものを熱可塑性とした。
[0045] (金属箔の引き剥がし強度:初期接着強度)
JIS C6471の「6. 5 引きはがし強さ」に従って、サンプルを作製し、 5mm幅の金属 箔部分を、 180度の剥離角度、 50mmZ分の条件で剥離し、その荷重を測定した。 同様に、 1mm幅の金属箔部分を、 90度の剥離角度、 50mmZ分の条件で剥離し、 その荷重を測定した。
[0046] (金属箔の引き剥がし強度: PCT後接着強度)
平山製作所製のプレッシャータッカー試験機、商品名: PC— 422RIIIの中に、上記 の初期接着強度と同様にして作製したサンプルを投入し、 121°C、 100%R. H.の 条件下で 96時間放置した。取り出したサンプルの接着強度を、上記の初期接着強 度と同様にして測定した。
[0047] (金属箔の引き剥がし強度:加熱処理後接着強度)
150°Cに設定したオーブン中に、上記の初期接着強度と同様にして作製したサンプ ルを投入し、 500時間放置した。取り出したサンプルの接着強度を、上記の初期接 着強度と同様にして測定した。
[0048] (合成例 1;熱可塑性ポリイミド前駆体の合成)
容量 2000mlのガラス製フラスコに N, N ジメチルホルムアミド(以下、 DMFともい う)を 780g、ビス〔4— (4 アミノフエノキシ)フエ-ル〕スルホン(以下、 BAPSともいう 。)を 117. 2g加え、窒素雰囲気下で攪拌しながら、 3, 3' , 4, 4'—ビフエニルテトラ カルボン酸二無水物(以下、 BPDAともいう。)を 71. 7g徐々に添加した。続いて、 3 , 3' , 4, 4' エチレングリコールジベンゾエートテトラカルボン酸二無水物(以下、 T MEGともいう。)を 5. 6g添加し、氷浴下で 30分間撹拌した。 5. 5gの TMEGを 20g の DMFに溶解させた溶液を別途調製し、これを上記反応溶液に、粘度に注意しな がら徐々に添加、撹拌を行った。粘度が 3000poiseに達したところで添加、撹拌をや め、ポリアミド酸溶液を得た。 得られたポリアミド酸溶液を 25 μ mPETフィルム(セラピール HP,東洋メタライジング 社製)上に最終厚みが 20 mとなるように流延し、 120°Cで 5分間乾燥を行った。乾 燥後の自己支持性フィルムを PETから剥離した後、金属製のピン枠に固定し、 150 °Cで 5分間、 200°Cで 5分間、 250°Cで 5分間、 350°Cで 5分間乾燥を行った。得られ た単層シートのガラス転移温度を測定したところ、 270°Cであった。
(実施例 1〜6)
反応系内を 5°Cに保った状態で、 DMFに、 3, 4'ージアミノジフエ-ルエーテル(以 下、 3, 4, 一 ODAともいう)ならびに 2, 2—ビス {4— (4—アミノフエノキシ)フエ-ル} プロパン (以下、 BAPPともいう)を表 1に示すモル比で添加し、撹拌を行った。溶解し たことを目視確認した後、ベンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物(以下、 BTDAと ¾ ヽぅ)を表 1に示すモル比で添加し、 30分間撹拌を行った。
続いて、ピロメリット酸二無水物(以下、 PMDAともいう)を表 1に示すモル比で添カロし 、 30分間撹拌を行った。続いて、 p—フエ-レンジァミン (以下、 p— PDAともいう)を 表 1に示すモル比で添加し、 50分間撹拌を行った。続いて、 PMDAを再度、表 1に 示すモル比で添加し、 30分間撹拌を行った。
最後に、 3モル%分の PMDAを固形分濃度 7%となるように DMFに溶解した溶液を 調製し、この溶液を粘度上昇に気をつけながら上記反応溶液に徐々に添加し、 20°C での粘度力 000ボイズに達した時点で重合を終了した。
このポリアミド酸溶液に、無水酢酸 Zイソキノリン ZDMF (重量比 2. 0/0. 3/4. 0) 力もなるイミドィ匕促進剤をポリアミド酸溶液に対して重量比 45%で添加し、連続的にミ キサ一で攪拌し Tダイ力も押出してダイの下 20mmを走行しているステンレス製のェ ンドレスベルト上に流延した。この榭脂膜を 130°C X 100秒で加熱した後エンドレス ベルトから自己支持性のゲル膜を引き剥がして (揮発分含量 30重量%)テンタークリ ップに固定し加熱炉に搬送し、 300°Cの熱風乾燥炉で 30秒、 400°Cの熱風乾燥炉 で 30秒、 500°Cの IR炉で 30秒、連続的に乾燥'イミド化させ、厚み 18 μ mのポリイミ ドフィルムを得た。得られたポリイミドフィルムは非熱可塑性であった。得られたポリイミ ドフィルムの片面に、合成例 1で得られたポリアミド酸を、熱可塑性ポリイミド層(接着 層)の最終片面厚みが 3. 5 mとなるように、コンマコーターで塗布し、 140°Cに設定 した乾燥炉内を 1分間通して加熱を行った。続いて、雰囲気温度 390°Cの遠赤外線 ヒーター炉の中を 20秒間通して加熱イミド化を行って、接着フィルムを得た。
得られた接着フィルムの接着層側に 18 m圧延銅箔(BHY— 22B— T,ジャパンェ ナジ一社製)を配し、それを 125 μ m厚のポリイミドフィルム(アビカル 125NPI ;株式 会社カネ力製)で挟んだ状態で、温度 380°C、圧力 196NZcm (20kgfZcm)、速 度 1. 5mZ分に設定した熱ロールラミネート機を通し、銅箔を貼り合わせた。
(実施例 7)
反応系内を 5°Cに保った状態で、 DMFに、 BTDAならびに PMDAを表 1に示すモ ル比で添加し、撹拌を行った。溶解したことを目視確認した後、 3, 4'— ODAならび に BAPPを表 1に示すモル比で添カ卩し、 30分間撹拌を行った。
続いて、 PMDAを表 1に示すモル比で添カ卩し、溶解後さらに、 p— PDAを表 1に示 すモル比で添加し、 50分間撹拌を行った。
最後に、 3モル%分の p— PDAを固形分濃度 5%となるように DMFに溶解した溶液 を調製し、この溶液を粘度上昇に気をつけながら上記反応溶液に徐々に添加し、 20 °Cでの粘度力 000ボイズに達した時点で重合を終了した。
得られたポリアミド酸溶液を用いて実施例 1と同様の操作を行い、厚み 18 mのポリ イミドフィルム、ならびにそれを用いた接着フィルム、銅張積層板を得た。
[0050] (比較例 1)
18 μ m厚の無処理のポリイミドフィルム(アビカル 18HP GF,株式会社カネ力製)に 実施例と同様にして接着層を設け、銅箔を貼り合わせた。
[0051] (比較例 2)
20 μ m厚の無処理のポリイミドフィルム(アビカル 20NPI GF,株式会社カネ力製) に実施例と同様にして接着層を設け、銅箔を貼り合わせた。
[0052] (比較例 3)
表面をプラズマ処理した 18 μ m厚のポリイミドフィルム(アビカル 18HPP,株式会社 カネ力製)に実施例と同様にして接着層を設け、銅箔を貼り合わせた。
[0053] (比較例 4)
表面をプラズマ処理した 20 μ m厚のポリイミドフィルム(アビカル 20NPP,株式会社 カネ力製)に実施例と同様にして接着層を設け、銅箔を貼り合わせた。
各実施例、比較例で得られたポリイミドフィルムの特性を評価した結果を表 2に示す [表 1]
PMDA PMDA
3, 4' -ODA B AP P BTDA p -PDA
(1回目) (2回目) 実施例 1 20 25 20 20 55 57 実施例 2 30 20 20 25 50 52 実施例 3 30 20 10 35 50 52 実施例 4 20 30 20 25 50 52 実施例 5 10 40 20 25 50 52 実施例 6 20 30 10 35 50 52 実施例 7 20 25 20 30 52 50
K u9003
フィルム線膨張係数 (ppm/°C) 接着強度 (NZcm)
90度剥離 (括弧内保持率) 180度剥離 (括弧内保持率)
MD TD
初期 PCT後 加熱後 初期 PCT後 加熱後
17. 8 17. 9 16. 5 16. 3 実施例 1 5. 1 5. 0 18. 5 17. 0
( 96 %) ( 97 %) ( 97 %) ( 96 %)
18. 7 18. 5 16. 1 15. 7 実施例 2 6. 5 6. 5 19. 0 16. 6
( 98 %) ( 97 %) ( 97 %) ( 98 %)
17. 5 17. 6 15. 2 14. 9 実施例 3 6. 5 6. 7 18. 3 15. 8
( 96 %) ( 96 %) ( 96 %) ( 94 %)
20. 9 21. 2 16. 4 16. 3 実施例 4 9. 1 9. 0 21. 6 17. 5
( 97 %) ( 98 %) ( 94 %) ( 93 %)
19. 1 18. 8 17. 3 17. 4 実施例 5 12. 6 12. 4 19. 5 18. 0
( 98 %) ( 96 %) ( 96 %) ( 97 %)
18. 6 18. 5 17. 5 17. 2 実施例 6 8. 6 8. 6 19. 2 18. 0
( 97 %) ( 96 %) ( 97 %) (96%)
16. 5 17. 3 15. 5 16. 3 実施例 7 5. 0 5. 0 18. 3 17. 0
( 90 %) ( 95 %) (91%) ( 96 %)
0 0 0 0 比較例 1 12. 4 12. 0 1. 0 1. 5
(0%) (0%) ( 0 %) (0%)
0D0 C 0 0 0 0 比較例 2 16. 4 15. 5 2. 2 2. 4
(0%) (0%) (0%) (0%)
8. 0 8. 4
比較例 3 12. 5 12. 1 8. 3 9. 6
( 96 %) (88%)
10. 7 9. 8 11. 2 比較例 4 16. 6 15. 8 11. 5 12. 0
(93%) ( 82 %) ( 93 %)
[0057] 比較例 1及び 2に示すように、無処理のポリイミドフィルムは、初期接着強度が極端に 低ぐ PCTや加熱処理後には、接着性は皆無となる。これに対し、実施例 1〜7では 90度剥離、 180度剥離の両方において、高い初期接着強度を有し、 PCTや加熱処 理後も殆ど低下しない。また、比較例 3及び 4に示すようなプラズマ処理を行ったポリ イミドフィルムと比べても、同等以上の接着性を発現する。
産業上の利用可能性
[0058] 本発明のポリイミドフィルムは、従来のポリイミドフィルムでなされていた表面処理を しないでも、例えば、接着剤を介して金属箔と張り合わせた場合の接着性を良好なも のにすることができる。特に、熱硬化性榭脂よりも接着性に劣る熱可塑性ポリイミドを 含有する接着層を用いた場合であっても高い接着性を示す。また、高温または高湿 の条件下においても、殆ど接着性が低下することは無い。従って、表面処理によるェ 程数、コストの増加という問題を解消できる。

Claims

請求の範囲
[1] 芳香族ジァミンと芳香族酸二無水物を反応させて得られるポリアミド酸を含む溶液を イミドィ匕して得られる非熱可塑性ポリイミドフィルムであって、前記芳香族ジァミンは、
3, 4'ージアミノジフエ-ルエーテルおよび 2, 2 ビス {4一(4 アミノフエノキシ)フエ -ル }プロパンを含むとともに、前記ポリアミド酸を含む溶液は、下記の工程 (A)およ び工程 (B)を含む、ポリアミド酸溶液の製造方法により得られることを特徴とする非熱 可塑性ポリイミドフィルム。
(A)芳香族酸二無水物成分と、これに対し、 3, 4'ージアミノジフエ-ルエーテルを含 む芳香族ジァミン成分とを、どちらか一方が過剰モル量の状態で有機極性溶媒中で 反応させ、両末端にアミノ基または酸二無水物基を有する屈曲性プレボリマーを得る 工程、
(B) (A)工程で得られたプレボリマーと、芳香族酸二無水物成分と芳香族ジァミン成 分を、全工程において実質的に等モルとなるように用いてポリイミド前駆体溶液を合 成する工程
[2] 前記 (A)工程で用いるジァミンは、柔構造のジァミンであることを特徴とする請求項 1 記載の非熱可塑性ポリイミドフィルム。
[3] 前記 (B)工程で用いるジァミンは、剛構造のジァミンであることを特徴とする請求項 2 記載の非熱可塑性ポリイミドフィルム。
[4] 前記柔構造のジァミンとして、 3, 4'—ジアミノジフエ-ルエーテルおよび Zまたは 2,
2 ビス {4一(4 アミノフエノキシ)フエ-ル}プロパンを含むことを特徴とする請求項
2または 3記載の非熱可塑性ポリイミドフィルム。
[5] 前記 3, 4'—ジアミノジフエ-ルエーテルを、全ジァミン成分の 10モル%以上使用す ることを特徴とする、請求項 4記載のポリイミドフィルム。
[6] 前記 2, 2 ビス {4— (4 アミノフエノキシ)フエ-ル}プロパンを、全ジァミン成分の 1
0モル%以上使用することを特徴とする、請求項 4または 5に記載のポリイミドフィルム
[7] 前記 (A)工程にぉ 、てべンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物を用いることを特徴 とする請求項 1〜4のいずれか一項に記載のポリイミドフィルム。
[8] 前記べンゾフエノンテトラカルボン酸二無水物を、全酸二無水物成分の 5モル%以上 使用することを特徴とする、請求項 7記載のポリイミドフィルム。
[9] (A)工程で得られるプレボリマーが、熱可塑性ポリイミド由来のブロック成分であるこ とを特徴とする請求項 1乃至 8に記載のポリイミドフィルム。
[10] 前記ポリイミドフィルムに表面処理を施さずに、熱可塑性ポリイミドを含有する接着層 を介して、前記ポリイミドフィルムに金属箔を積層した際に、得られる積層体の金属箔 引き剥がし強度力 90度方向剥離で 15NZcm以上、かつ 180度方向剥離で 10N Zcm以上であることを特徴とする、請求項 1乃至 9記載のポリイミドフィルム。
[11] 前記ポリイミドフィルムに表面処理を施さずに、熱可塑性ポリイミドを含有する接着層 を介して、前記ポリイミドフィルムに金属箔を積層して得られる積層体を、 121°C、 10 0%R. H.の条件下で 96時間処理した後、積層体の金属箔引き剥がし強度を測定 した際に、 90度方向剥離、 180度方向剥離のいずれも、処理前の引き剥がし強度の 85%以上となることを特徴とする、請求項 10記載のポリイミドフィルム。
[12] 前記ポリイミドフィルムに表面処理を施さずに、熱可塑性ポリイミドを含有する接着層 を介して、前記ポリイミドフィルムに金属箔を積層して得られる積層体を、 150°Cで 50 0時間処理した後、積層体の金属箔引き剥がし強度を測定した際に、 90度方向剥離 、 180度方向剥離のいずれも、処理前の引き剥がし強度の 85%以上となることを特 徴とする、請求項 10または 11記載のポリイミドフィルム。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009098791A1 (ja) * 2008-02-07 2009-08-13 Daiwa Can Company イミドオリゴマー及びこれを加熱硬化させてなるポリイミド樹脂
JP2013189642A (ja) * 2006-07-18 2013-09-26 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc ポリイミド樹脂

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101098909B (zh) * 2005-01-18 2010-07-28 株式会社钟化 粘合性经改良的新的聚酰亚胺薄膜
WO2008010514A1 (en) * 2006-07-20 2008-01-24 Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. Thermocurable polyimide resin composition
JP2008303372A (ja) * 2007-05-09 2008-12-18 Jfe Chemical Corp 非対称構造を有するポリイミド前駆体、ポリイミドおよびそれらの製造方法
JP5766125B2 (ja) * 2010-01-18 2015-08-19 株式会社カネカ 多層ポリイミドフィルム及びそれを用いたフレキシブル金属張積層板
US8986834B2 (en) * 2010-08-25 2015-03-24 Hitachi Metals, Ltd. Polyester imide resin insulating coating material, insulated wire using same, and coil
CN103289402B (zh) * 2013-04-23 2015-08-12 广东丹邦科技有限公司 透明聚酰亚胺薄膜、其前聚体以及其制备方法
CN105307861B (zh) * 2013-05-31 2018-02-09 株式会社钟化 绝缘包覆材料及其利用
CN104155716B (zh) * 2014-08-14 2018-09-11 武汉北方光电科技有限公司 低损耗耐高温光纤
KR102141893B1 (ko) * 2018-04-05 2020-08-07 피아이첨단소재 주식회사 연성금속박적층판 제조용 폴리이미드 필름 및 이를 포함하는 연성금속박적층판
KR102141892B1 (ko) * 2018-04-05 2020-08-07 피아이첨단소재 주식회사 연성금속박적층판 제조용 폴리이미드 필름 및 이를 포함하는 연성금속박적층판
TW202513670A (zh) * 2019-06-14 2025-04-01 美商杜邦電子股份有限公司 聚合物膜及電子裝置
KR102248979B1 (ko) * 2019-09-11 2021-05-07 피아이첨단소재 주식회사 다층 폴리이미드 필름 및 이의 제조방법
CN115612100B (zh) * 2022-09-27 2024-07-16 杭州福斯特应用材料股份有限公司 一种聚酰亚胺薄膜、挠性覆金属板及其制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62208690A (ja) * 1985-10-31 1987-09-12 三井東圧化学株式会社 フレキシブルプリント回路基板及びその製法
JPH01178522A (ja) * 1988-01-06 1989-07-14 Chisso Corp 低融点ポリイミド共重合体
JPH04331230A (ja) * 1990-04-06 1992-11-19 W R Grace & Co 三成分系ポリイミド樹脂組成物及びその製造方法
JPH11116674A (ja) * 1997-10-20 1999-04-27 Hitachi Cable Ltd ブロックポリイミド樹脂及びその製造方法
WO2003060010A1 (fr) * 2002-01-15 2003-07-24 Pi R & D Co., Ltd. Composition de copolyimide sequence soluble dans le solvant et procede de preparation associe

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3684307D1 (de) * 1985-10-31 1992-04-16 Mitsui Toatsu Chemicals Flexibles laminat fur platine fur gedruckte schaltkreise und verfahren zu seiner herstellung.
US5202411A (en) * 1990-04-06 1993-04-13 W. R. Grace & Co.-Conn. Tri-component polyimide composition and preparation thereof
US5406124A (en) * 1992-12-04 1995-04-11 Mitsui Toatsu Chemicals, Inc. Insulating adhesive tape, and lead frame and semiconductor device employing the tape
US5502143A (en) * 1992-12-25 1996-03-26 Pi Material Research Laboratory Process for preparing polyimide resins
TW438861B (en) * 1996-12-17 2001-06-07 Toray Du Pont Kk Copolymerized polyimide, copolymerized polyimide resin molded articles and the method of preparation thereof
US6129982A (en) * 1997-11-28 2000-10-10 Ube Industries, Ltd. Aromatic polyimide film having improved adhesion
TWI377224B (en) * 2004-07-27 2012-11-21 Kaneka Corp Polyimide film having high adhesiveness and production method therefor
KR20100017883A (ko) * 2004-09-24 2010-02-16 가부시키가이샤 가네카 높은 접착성을 갖는 폴리이미드 필름의 제조 방법

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62208690A (ja) * 1985-10-31 1987-09-12 三井東圧化学株式会社 フレキシブルプリント回路基板及びその製法
JPH01178522A (ja) * 1988-01-06 1989-07-14 Chisso Corp 低融点ポリイミド共重合体
JPH04331230A (ja) * 1990-04-06 1992-11-19 W R Grace & Co 三成分系ポリイミド樹脂組成物及びその製造方法
JPH11116674A (ja) * 1997-10-20 1999-04-27 Hitachi Cable Ltd ブロックポリイミド樹脂及びその製造方法
WO2003060010A1 (fr) * 2002-01-15 2003-07-24 Pi R & D Co., Ltd. Composition de copolyimide sequence soluble dans le solvant et procede de preparation associe

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013189642A (ja) * 2006-07-18 2013-09-26 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc ポリイミド樹脂
JP5564792B2 (ja) * 2006-07-18 2014-08-06 三菱瓦斯化学株式会社 ポリイミド樹脂
WO2009098791A1 (ja) * 2008-02-07 2009-08-13 Daiwa Can Company イミドオリゴマー及びこれを加熱硬化させてなるポリイミド樹脂

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