WO2006095740A1

WO2006095740A1 - 置換カルバモイル基を保護基とした核酸の合成方法

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Publication number: WO2006095740A1
Application number: PCT/JP2006/304400
Authority: WO
Inventors: Mitsuo Sekine; Kenichi Miyata; Ryuji Tamamushi; Kohji Seio
Original assignee: Tokyo Institute of Technology NUC
Current assignee: Tokyo Institute of Technology NUC
Priority date: 2005-03-09
Filing date: 2006-03-07
Publication date: 2006-09-14
Anticipated expiration: 2007-09-09
Also published as: JP2006248931A

Abstract

　一般式（Ｉ）：【化１】〔式中、Ｘはアミノ基を持つ核酸塩基などのアミノ基以外の部分を表す。〕で表される化合物を、一般式（II）：【化２】〔式中、Ｙは電子吸引性基を表す。〕で表されるイソシアナート誘導体と反応させ、一般式（III）：【化３】〔式中、Ｘ及びＹは前記と同意義を示す。〕で表される化合物を得る工程、及び一般式（III）で表される化合物を、加熱又はマイクロウェーブ照射し、一般式（Ｉ）で表される化合物を得る工程を含むことを特徴とする核酸の合成方法を提供する。

Description

明細書

置換力ルバモイル基を保護基とした核酸の合成方法

技術分野

[0001] 本発明は、置換力ルバモイル基を保護基として利用した核酸の合成方法、及び前記保護基の脱保護方法に関する。

背景技術

[0002] 核酸塩基部のアミノ基は反応性が高ぐ糖部などその他の核酸部位に化学修飾する際や、 DNAや RNAオリゴマーの合成時には保護基が必要である。現在汎用されている保護基としてはトリチル骨格、ァシル骨格、力ルバメート骨格、アミジン骨格 (力レントプロトコールズインヌクレイックアシッドケミストリー，チャプター 2, ュニット 2. 1ジョンワイリーアンドサンズ社)などを骨格にもつ保護基が挙げられる。しかし、いずれの保護基も脱保護には酸性あるいは塩基性条件が必要であり、中性条件下脱保護可能な新規保護基の開発が求められている。

[0003] DNAや RNAオリゴマーの合成時の核酸塩基アミノ基の保護基はァシル骨格、アミジン骨格をもつものが汎用されている。いずれの保護基もアンモニアゃメチルァミンを用いて脱保護する必要があり、塩基性条件下不安定な分子を含むオリゴマーを合成することはできない。この問題を克服する方法として、核酸塩基アミノ基の保護基に中性条件下脱保護可能なァリルォキシカルボ-ル基を用いる方法 (ザジャーナルォブオーガニックケミストリー 51卷 P2400— 2402 1986年）力開発されているが、脱保護に遷移金属を用いる必要があり問題がある。一方、塩基部に保護基を用いない塩基部無保護ホスホロアミダイト法 (ジャーナルォブザアメリカンケミカノレソサイァティー 126卷 P10884— 10896 2004年）力 S本発明者らにより開発されている。

[0004] また修飾塩基として、アデニン塩基アミノ基の修飾基として N—力ルバモイル基をもつ修飾核酸（ジャーナルォブザアメリカンケミカルソサイァティー 125卷 P 8086— 8087 2003年）、シトシン塩基アミノ基の修飾基として N—力ルバモイル基をもつ修飾核酸（ヌクレイックァシッズリサーチサプリメント 2卷 P161— 162 2002年）が報告されている。更に、修飾ヌクレオシドとして、本発明者らによって 4— N—(N ァリール力ルバモイル)デォキシシチジン (非特許文献 1)が報告されている。

[0005] 非特許文献 1 :テトラへドロンレターズ 45卷 P9365— 9368 2004年

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0006] 上述したように、中性条件下で脱保護可能な核酸塩基のァミノ基の保護基は非常に少なぐまた、脱保護可能な保護基も、遷移金属を使用しなければならないなど使い難いものであった。本発明は、以上のような技術的背景の下になされたものであり、核酸塩基のァミノ基の新規な保護手段を提供することを目的とする。

課題を解決するための手段

[0007] 本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、 4 N—（N ァリ一ルカルバモイル)デォキシシチジン (非特許文献 1)などに含まれるァリール力ルバモイル基が、中性条件下で脱離させることができ、核酸塩基のァミノ基の保護基として好適な性質を持つことを見出し、この知見に基づき、本発明を完成するに至った。

[0008] 即ち、本発明は、以下の（1)〜（7)を提供するものである。

[0009] (1)ー般式(1)：

[0010] [化 1]

NH₂— X (I)

〔式中、 Xはアミノ基を持つ核酸塩基を含むヌクレオシド又はその類似化合物のァミノ基以外の部分を表す。〕

で表される化合物を、一般式 (Π)：

[0011] [化 2]

0=C=N-Y (I I )

〔式中、 Yは電子吸引性基を表す。〕で表されるイソシアナ一ト誘導体と反応させ、一般式 (ΠΙ)：

[0012] [化 3]

〔式中、 X及び γは前記と同意義を示す。〕

で表される化合物を得る工程、及び一般式 (in)で表される化合物を、加熱又はマイクロウェーブ照射し、一般式 (I)で表される化合物を得る工程を含むことを特徴とする核酸の合成方法。

[0013] (2)一般式 (II)及び (III)における Yが、置換基を有して!/、てもよ、ァリール基又は置換基を有して、てもよ、ァリールスルホ-ル基であることを特徴とする（1)記載の核酸の合成方法。

[0014] (3)—般式（Π)及び（III)における Y力 4 -トロフエ-ル基、 3 -トロフエ-ル基、 2

-トロフエ-ル基、又はフエ-ルスルホ-ル基であることを特徴とする（1)記載の核酸の合成方法。

[0015] (4)一般式 (III) :

[0016] [化 4]

〔式中、 Xはアミノ基を持つ核酸塩基を含むヌクレオシド又はその類似化合物のァミノ基以外の部分を表し、 Yは電子吸引性基を表す。〕

で表される化合物を、加熱又はマイクロウェーブ照射し、一般式 (I)：

[0017] [化 5]

〔式中、 Xは前記と同意義を示す。〕で表される化合物に変換することを特徴とする核酸塩基中のアミノ基の脱保護方法。

[0018] (5)一般式 (III)における Yが、置換基を有して!/、てもよ、ァリール基又は置換基を有して、てもよ、ァリールスルホ-ル基であることを特徴とする（4)記載の核酸塩基中のァミノ基の脱保護方法。

[0019] (6)—般式（III)における Y力 4 -トロフエ-ル基、 3 -トロフエ-ル基、 2 -トロフエニル基、又はフエ-ルスルホ-ル基であることを特徴とする（4)記載の核酸塩基中のアミノ基の脱保護方法。

[0020] (7)—般式 (m，）：

[0021] [化 6]

0

HNへ _Νζ^Υ， (H I')

〔式中、 Xはアミノ基を持つ核酸塩基を含むヌクレオシド又はその類似化合物のァミノ基以外の部分を表し、 Y，は 4 -トロフエ-ル基、 3 -トロフエ-ル基、 2 -トロフェニル基、又はフエ-ルスルホ-ル基を表す。〕

で表される化合物。

発明の効果

[0022] 本発明は、置換力ルバモイル基を核酸塩基のァミノ基の保護基として利用する新規な核酸の合成方法を提供する。置換力ルバモイル基は、中性条件下で加熱等によつて脱離させることができ、また、イソシアナ一ト誘導体によって容易に導入することができ、保護基として非常に優れた性質を持っている。

発明を実施するための最良の形態

[0023] 以下、本発明を詳細に説明する。

[0024] 本発明の核酸の合成方法は、少なくとも以下の保護基導入工程と脱保護工程を含むことを特徴とするものである。

[0025] 保護基導入工程は、一般式 (I)

[0026] [化 7] NH₂— X で表される化合物を、一般式 (II)

[0027] [化 8]

0=C=N-Y (I I) で表されるイソシアナ一ト誘導体と反応させ、一般式 (III)

[0028] [化 9]

(I I I)

で表される化合物を得る工程である。

[0029] 一般式 (I)及び (III)における Xはアミノ基を持つ核酸塩基を含むヌクレオシド、又はその類似化合物のアミノ基以外の部分を表す。

[0030] ここで、「アミノ基を持つ核酸塩基を含むヌクレオシド」とは、リボース 1ーィルもしくは 2—デォキシリボース 1ーィル基とアミノ基を有する任意のへテロ芳香環とが結合した物質全般を指し、例えば 2'—デォキシアデノシン、 2'—デォキシグアノシン、 2' デォキシシチジン、アデノシン、グアノシン、シチジン、などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。

[0031] 「ヌクレオシドの類似化合物」とは、ヌクレオシドと同様にその分子内に核酸塩基を含む天然由来の又は人工的に合成されたィ匕合物をいい、少なくともヌクレオシド誘導体、ヌクレオシドホスホロアミダイト化合物、オリゴ DNA、オリゴ RNA、 PNA、及び PN Aのモノマーは「ヌクレオシドの類似化合物」に含まれる。

[0032] 「ヌクレオシド誘導体」とは、ヌクレオシド分子中の一部が他の原子又は基で置き換えられたィ匕合物をいい、例えば、ヌクレオシド中の糖部位に存在する水酸基の一部もしくは全部が適当な保護基で保護されたィ匕合物ゃデォキシリボースの 2位の水素原子が水酸基以外の官能基によって置換されたィ匕合物などが含まれる。 [0033] 「ヌクレオシドホスホロアミダイトイ匕合物」とは、リボース又はデォキシリボースの 5位の水酸基が適当な保護基で保護され、 3位が遊離の水酸基である化合物の 3位の酸素原子上に式 (IV)で表わされる基が結合したィ匕合物である。

[0034] [化 10]

R¹

、_P ^N、R2 (,V)

\

⁰、R3 ここで、 R²は同一または異なるアルキル基、もしくは R¹と R²が互いに結合してへテロ原子を含んでもよ!ヽ環を形成した基を表わし、 R³はリン酸基の保護基をあらわす。 R²としては例えば、イソプロピル基などがあげられ、 R³としては 2—シァノエチル基などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。

[0035] また、オリゴ DNA及びオリゴ RNAは、化学修飾を受けて、るものも含む。

[0036] 一般式 (II)及び (III)における Yは電子吸引性基を表す。電子吸引性基としては、置換基を有して、てもよ、ァリール基、置換基を有して!/、てもよヽァリールスルホ- ル基などを挙げることができ、より具体的には、 4— -トロフエ-ル基、 3— -トロフエ- ル基、 2— -トロフエ-ル基、フエ-ルスルホ-ル基を挙げることができる。これらの中でも 2— -トロフエ-ル基、フエ-ルスルホ-ル基を特に好適な基として挙げることができる。なお、 Yが 4— -トロフエ-ル基、 3— -トロフエ-ル基、 2— -トロフエ-ル基、又はフ -ルスルホ-ル基の場合、一般式 (III)で表される化合物は新規ィ匕合物である。

[0037] 一般式 (I)で表される化合物と一般式 (II)で表されるイソシアナ一ト誘導体との反応は、公知の方法（例えば、テトラへドロンレターズ 45卷 P9365— 9368 2004年に記載の方法）に従って行うことができる。例えば、一般式 (I)で表される化合物と一般式 (Π)で表されるイソシアナ一ト誘導体を、反応を阻害しな!ヽ有機溶媒 (複数の有機溶媒同士を任意の体積比で混合した混合有機溶媒を用いてもょヽ）中で混合し、一定時間撹拌処理を行うことにより、一般式 (III)で表される化合物を得ることができる

[0038] 脱保護工程は、一般式 (III)で表される化合物を、加熱又はマイクロウェーブ照射し、一般式 (I)で表される化合物を得る工程である。

[0039] 加熱温度は脱保護可能な温度であれば特に限定されないが、 40〜100°Cとするのが好ましぐ 50〜90°Cとするのが更に好ましい。加熱時間は力ルバモイル基の置換基の種類によって異なる力例えば、置換基が 2— -トロフエ-ル基であれば、カロ熱時間は 1〜30時間とするのが好ましぐ 3〜20時間とするのが更に好ましい。

[0040] 照射するマイクロウェーブの周波数は脱保護可能な範囲であれば限定されないが、 1000〜10000MHzとするのが好ましぐ 1000〜5000MHzとするのが更に好ま L 、。脱保護に要するマイクロウエーブの照射時間は力ルバモイル基の置換基の種類によって異なる力例えば、置換基が 2— -トロフエニル基であれば、照射時間は 1 〜30時間とするのが好ましく 3〜20時間とするのが更に好ましい。

[0041] 上述した加熱処理等は、通常溶媒中で行う。溶媒は、反応を阻害しない有機溶媒と水系溶媒とを 0： 100—100： 0の任意の体積比で混合したものを用いることができる。有機溶媒としては脱保護反応を阻害しなヽ複数の有機溶媒同士を任意の体積比で混合した混合有機溶媒を用いてもよ!ヽ。また水系溶媒としては水だけでなく任意の緩衝溶液を用いることができ、複数の緩衝溶液同士を任意の濃度で混合した混合緩衝溶液を用いても良い。また反応を阻害しない添加剤として、たとえば、アンモ- ァ、一級ァミン、二級ァミン、三級ァミン、アミジン化合物、グァ-ジンィ匕合物、テトラ（ n—ブチル）アンモ-ゥムフルオリド、炭酸塩、カルボン酸塩、金属アルコキシド、金属ヒドロキシド、金属水素化物などを同時に複数用いることもできる。

[0042] 本発明の核酸合成方法は、上述した保護基導入工程と脱保護工程以外は、一般的な核酸の合成方法 (例えば、ホスホロアミダイト法）と同様に行うことができる。ホスホロアミダイト法を用いた場合の合成法の一例を以下に示す。まず、アミノ基を持つ核酸塩基を含むヌクレオシドホスホロアミダイトイ匕合物を合成する。このヌクレオシドホスホロアミダイトイ匕合物のアミノ基に、上述した保護基導入工程に従って保護基を導入する。保護基の導入されたヌクレオシドホスホロアミダイトイ匕合物を順次連結し、保護基を含むオリゴ核酸を合成する。この保護基を含むオリゴ核酸を、上述した脱保護工程に従って保護基を除去し、オリゴ核酸を得る。

[0043] なお、本発明の合成方法にお!、て合成対象とする核酸には、 PNAなどの非天然型の核酸も含まれる。

実施例

[0044] 〔実施例 1〕 4—N—[N—(4— -トロフエ-ル）カルノ

成

[0045] [化 11]

デォキシシチジン塩酸塩（264 mg, 1.0 mmol)をジメチルホルムアミド（10 ml)に懸濁させ、トリェチルァミン（141 n 1.0 mmol)をカ卩ぇ 5分間撹拌した。ついで、 4 -トロフエ-ルイソシアナート（164 mg, 1.0 mmol)をカ卩え 30分撹拌し、溶媒を減圧留去した。イソプロピルアルコールを加え生じた沈殿を乾燥させ、表記化合物（334 mg, 収率 88%)を得た。

[0046] IH NMR (DMSO— d6) δ 2.01— 2.09(1H, m), 2.27— 2.33(1H, m ), 3.50— 3.64(1H, m), 3.84— 3.90(1H, m), 4.19—4.25(1H, m), 5. 07(1H, br), 5. 18(1H, br), 6.08 (IH, dd, J = 6. OHz, J = 5.9Hz), 6.37( IH, d, J = 7.6Hz), 7.74— 7.77 (2H, m), 7.92(1H, d, J = 7.6Hz), 8.12 —8.23 (3H, m)

〔実施例 2〕 4 N— [N—（3 -トロフエ-ル）力ルバモイル]デォキシシチジンの合成

[0047] [化 12]

z塩酸塩（264 mg, 1.0 mmol)をジメチルホルムアミド（10 ml)に懸濁させ、トリェチルァミン（141 n 1.0 mmol)をカ卩ぇ 5分間撹拌した。ついで、 3— -トロフエ-ルイソシアナート（164 mg, 1.0 mmol)をカ卩え 30分撹拌し、溶媒を減圧留去した。イソプロピルアルコールを加え生じた沈殿を乾燥させ、表記化合物（352 mg,収率 90%)を得た。

[0048] IH NMR (DMSO— d6) δ 1.98— 2.10(1H, m), 2.25— 2.35(1H, m ), 3.50— 3.64(1H, m), 3.84— 3.90(1H, m), 4.19—4.25(1H, m), 5. 08 (IH, br), 5.25 (IH, br), 6.08 (IH, dd, J = 6.3Hz, J = 5.9Hz), 6.36 ( IH, d, J = 7.2Hz), 7.55 (IH, m), 7.79(1H, m), 7.89 (IH, m), 8.18(1 H, d, J=7.2Hz), 8.56 (IH, m)

〔実施例 3〕 4— N— [N— (2— -トロフエ-ル）カル

成

[0049] [化 13]

z塩酸塩（264 mg, 1.0 mmol)をジメチルホルムアミド（10 ml)に懸濁させ、トリェチルァミン（141 n 1.0 mmol)をカ卩ぇ 5分間撹拌した。ついで、 2— -トロフエ-ルイソシアナート（164 mg, 1.0 mmol)をカ卩え 30分撹拌し、溶媒を減圧留去した。 60Nシリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー（クロ口ホルム—メタノール）により精製し、表記化合物（352 mg,収率 90%)を得た。

[0050] IH NMR (DMSO— d6) δ 1.97— 2.08(1H, m), 2.25— 2.34(1H, m ), 3.50— 3.64(1H, m), 3.84— 3.89(1H, m), 4.16—4.21 (IH, m), 5. 05 (IH, br), 5.21 (IH, br), 6.07(1H, dd, J = 6.3Hz, J = 6.2Hz), 6.32( IH, d, J = 7.2Hz), 7.32(1H, m), 7.67(1H, m), 7.91 (IH, m), 8.02(1 H, m), 8.19 (IH, m, J = 7.2Hz)

〔実施例 4〕 3，， 5，— O—ビス— (tert -ブチルジメチルシリル）— 4— N— (N—フエ [0051] [化 14]

2.0 mmol)を塩化メチレン（20 mL)に懸濁させ、フエ-ルスルフォ-ルイソシァネート（271 μ 2.0 mmol)を加え 5分間撹拌した。クロ口ホルム（20 mL)で希釈し、塩ィ匕ナトリウム水溶液ついで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を減圧下留去した。 C200シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー（へキサン一クロ口ホルム）により精製し、表記化合物（1. 1 g,収率 87%)を得た。

[0052] 1H NMR (CDC13) δ 0.08— 0. 11(12H, m), 0.90— 0.92(18H, m), 2.07-2.17(1H, m), 2.59— 2.67(1H, m), 3.76— 3.95 (2H, m), 3.95 —4.03(1H, m), 4.34—4.42(1H, m), 6.26 (1H, dd, J = 5.9Hz, J = 5.6 Hz), 7.42-7.75 (4H, m), 8.09— 8.13 (2H, m), 8.32(1H, d, J = 7.6H z)

〔実施例 5〕 6-N- [N- (2— -トロフエ-ル）力ルバモイル]デォキシアデノシンの合成

[0053] [化 15]

デォキシアデノシン（502 mg, 2.0 mmol)をピリジン（20 mL)に懸濁させ、トリメチノレシリノレクロリド（758 L, 6.0 mmol)をカロえ 30分撹拌した。つ \ /、で、 2— ニトロフエ-ルイソシアナート（361 mg, 2.2 mmol)をカ卩ぇ 90分撹拌した。ピリジン（20 mL)で希釈したのち、濃アンモニア水（20 mL)をカ卩え、 2時間撹拌した。クロロホルム（50 mL)、塩化ナトリウム水溶液（50 mL)をカ卩えたのち、クロ口ホルム一ピリジン（1:1, v/v, 30 mL)を用いて 3回抽出した。有機層を回収し溶媒を減圧下留去し、水を加えた。生じた沈殿を回収し乾燥させ、表記化合物（740 mg,収率 89%)を得た。

[0054] 1H NMR (DMSO— d6) δ 2.31— 2.42(1H, m) , 2.71— 2.81 (1Η, m ), 3.50— 3.69 (2H, m), 3.88— 8.93(1H, m), 4.41—4.57(1H, m), 5. 03 (1H, t, J = 5.6Hz), 5.36 (1H, d, J=4.0Hz)6.45 (1H, dd, J=6, 6Hz, J =6.9Hz), 7.22-7.33(1H, m), 7.71— 7.80(1H, m), 8.10— 8.15(2H , m), 8.43-8.50(1H, m), 8.65(1H, s), 8.69(1H, s), 10.63(1H, br) , 13.09 (1H, br)

〔実施例 6〕 3，， 5，— O—ビス— (tert -ブチルジメチルシリル）— 6— N— (N—フエ [0055] [化 16]

1.0 mmol)を塩化メチレン（20 mL)に懸濁させ、フエ-ルスルフォ-ルイソシァネート（136 μ 1.0 mmol)を加え 5分間撹拌した。クロ口ホルム（20 mL)で希釈し、塩化ナトリウム水溶液ついで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。有機層を回収し、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ、溶媒を減圧下隆去した。 C200シリカゲルを用いたカラムクロマトグラフィー（へキサン一クロ口ホルム）により精製し、表記化合物（613 mg,収率 92%)を得た。

[0056] 1H NMR (CDC13) δ 0.05— 0. 12(12H, m) , 0.82— 0.97(18H, m) , 2.42-2.52(1Η, m), 2.61— 2.73(1Η, m), 3.73— 3.91 (2Η, m), 4.02 —4.07(1H, m), 4.60—4.67(1H, m), 6.46 (1H, dd, J = 6, 6Hz, J = 6.3 Hz), 7.51-7.67 (3H, m), 8.16— 8.21 (2H, m), 8.41 (1H, s), 8.61(1 H, br), 8.65(1H, s), 13.12(1H, br)

〔実施例 7〕 3，， 5，— O—ビス—（tert—ブチルジメチルシリル）— 2— N— (N—フエ [0057] [化 17]

1.0 mmol)をピリジン（20 mL)に懸濁させ、トリメチルシリルクロリド（631 μ 5.0 mL)をカ卩ぇ 30分間撹拌した。フエ-ルスルフォ-ルイソシァネート（136 L , 1.0 mmol)を加え 20分間撹拌した。溶媒を減圧下留去し、トルエンで 3回、クロ口ホルムで 3回共沸した。酢酸ェチルをカ卩ぇ生じた沈殿を回収し、乾燥させることで表記化合物（1.24 g,収率 91%)を得た。

[0058] 1H NMR (CDC13) δ 0.04— 0. 11 (12H, m) , 0.83— 0.96 (18H, m) , 2.26-2.57 (2H, m), 3.70— 3.80 (2H, m), 3.91— 3.94(1H, m), 4.49 —4.58(1H, m), 6.62(1H, dd, J = 6, 6Hz, J = 6.3Hz), 7.35— 7.60 (3H , m), 7.94(1H, s), 7.90— 8.01 (2H, m), 8.17(1H, br), 12.46 (1H, s) , 13.12(1H, br)

〔実施例 8〕デォキシシチジンの脱保護

種々の置換力ルバモイル基で保護したデォキシシチジンを加熱処理し、脱保護されるまでの時間を測定した。

[0059] 脱保護反応は、 D OZDMSO— d6中で行い、加熱温度は 80°Cとした。

2

[0060] 保護デォキシシチジンの半分が脱保護されるまでの時間 (T )及び全ての保護

1/2

デォキシシチジンが脱保護されるまでの時間 (T )を表 1に示す。

comp

[0061] [表 1] 保護基 τ_1/2 τ丄 c o m ϋ

N フエ二ルカルバモイル基 ^a 1 1時間 n d^d

N （ナフトー 1 ィル）力ルバモイル基" 2. 5時間 20時間

N （キノールー 5 ィル）力ルバモイル基 ^a 1. 5時間 10時間

N— （2—二卜口フエノール）力ルバモイル基 ^b 30分 3時間

N— （3—二トロフエノール）力ルバモイル基 ^b 3時間 25時間

N— （4一二トロフエノール）力ルバモイル基 ^b 2. 5時間 20時間

N フエニルスルホニルカルバモイル基 n d ^d 10分未満 a保護ヌクレオシドの量は 2 OmMとし、 D₂0と DMSO— d 6の容量比は 1： 1とした。 b保護ヌクレオシドの量は 1 OmMとし、 D₂〇と DMSO d 6の容量比は 1： 3とした。 c保護ヌクレオシドの量は 7mMとし、 D₂0と DMS O— d 6の容量比は 1 ： 5とした。 dnot determined 表 1に示すように、 N— (2— -トロフエノール）力ルバモイル基ゃ N フエ-ルスルホ二ルカルバモイル基などの電子吸引性の高い基は、脱保護に要する時間が短かつた。

本明細書は、本願の優先権の基礎である日本国特許出願 (特願 2005-64892号)の明細書および Zまたは図面に記載されている内容を包含する。また、本発明で引用した全ての刊行物、特許および特許出願をそのまま参考として本明細書にとり入れるものとする。

Claims

請求の範囲 [1] 一般式 (I) :

[化 1]

で表される化合物を、一般式 (Π)：

[化 2]

0=C=N-Y (I I )

〔式中、 Yは電子吸引性基を表す。〕

で表されるイソシアナ一ト誘導体と反応させ、一般式 (ΠΙ)：

[化 3]

〔式中、 X及び γは前記と同意義を示す。〕

[2] 一般式 (II)及び (in)における γが、置換基を有していてもよいァリール基又は置換基を有して、てもよ、ァリールスルホニル基であることを特徴とする請求項 1記載の核酸の合成方法。

[3] 一般式（Π)及び（ΙΠ)における Y力 4 二トロフエ-ル基、 3 -トロフエ-ル基、 2

-トロフエ-ル基、又はフエニルスルホ-ル基であることを特徴とする請求項 1記載の核酸の合成方法。一般式 (m)

[5]

[6]

[7]

〔式中、 Xはアミノ基を持つ核酸塩基を含むヌクレオシド又はその類似化合物のァミノ基以外の部分を表し、 Υ，は 4— -トロフエ-ル基、 3— -トロフエ-ル基、 2— -トロフェニル基、又はフエ-ルスルホ-ル基を表す。〕で表される化合物。