[go: up one dir, main page]

WO2006041209A1 - ２－ヒドロキシ－４－（メチルチオ）酪酸の製造方法 - Google Patents

２－ヒドロキシ－４－（メチルチオ）酪酸の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2006041209A1
WO2006041209A1 PCT/JP2005/019259 JP2005019259W WO2006041209A1 WO 2006041209 A1 WO2006041209 A1 WO 2006041209A1 JP 2005019259 W JP2005019259 W JP 2005019259W WO 2006041209 A1 WO2006041209 A1 WO 2006041209A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
methylthio
diol
hydroxy
butene
pseudomonas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2005/019259
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Koji Hagiya
Hiroyuki Asako
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to CN2005800345627A priority Critical patent/CN101040051B/zh
Priority to US11/665,070 priority patent/US7632664B2/en
Priority to EP05795688A priority patent/EP1801227B1/en
Priority to DE602005013993T priority patent/DE602005013993D1/de
Publication of WO2006041209A1 publication Critical patent/WO2006041209A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C12—BIOCHEMISTRY; BEER; SPIRITS; WINE; VINEGAR; MICROBIOLOGY; ENZYMOLOGY; MUTATION OR GENETIC ENGINEERING
    • C12P—FERMENTATION OR ENZYME-USING PROCESSES TO SYNTHESISE A DESIRED CHEMICAL COMPOUND OR COMPOSITION OR TO SEPARATE OPTICAL ISOMERS FROM A RACEMIC MIXTURE
    • C12P11/00—Preparation of sulfur-containing organic compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C29/00—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring
    • C07C29/09—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by hydrolysis
    • C07C29/10—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by hydrolysis of ethers, including cyclic ethers, e.g. oxiranes
    • C07C29/103—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by hydrolysis of ethers, including cyclic ethers, e.g. oxiranes of cyclic ethers
    • C07C29/106—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by hydrolysis of ethers, including cyclic ethers, e.g. oxiranes of cyclic ethers of oxiranes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
    • C07C319/18—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides by addition of thiols to unsaturated compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
    • C07C319/14—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides
    • C07C319/20—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of sulfides by reactions not involving the formation of sulfide groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
    • C07D303/04—Compounds containing oxirane rings containing only hydrogen and carbon atoms in addition to the ring oxygen atoms

Definitions

  • the present invention relates to a method for producing 2-hydroxy-4-mono (methylthio) butyric acid.
  • 2-Hydroxy-1,4- (methylthio) butyric acid is an analog of 1-methionine, which is an essential amino acid, and is an important compound used in feed additives.
  • methanethiol is added to acrolein to obtain 3-methylthiopropionaldehyde, and the obtained 3-methylthiopropionaldehyde and hydrogen cyanide are reacted to produce 2-hydroxy-4-methylthioptyronitrile.
  • There is known a method of hydrolyzing the obtained 2-hydroxy-4-monomethylthioptyronitrile with sulfuric acid see, for example, US Pat. No. 4,520,407). Disclosure of the invention
  • the present invention provides a method for producing 2-hydroxy-4-mono (methylthio) butyric acid, which comprises the following steps (A), (B) and (C).
  • Step A step of obtaining 1,2-epoxy-1,3-diol by reacting 1,2-epoxy-1-butene with water will be described.
  • 1,2-Epoxy-3-butene can be produced by a known method such as a method of reacting an oxidizing agent such as oxygen, organic peroxide, or hydrogen peroxide with butadiene.
  • an oxidizing agent such as oxygen, organic peroxide, or hydrogen peroxide with butadiene.
  • Preferable methods include, for example, a method of reacting butadiene and oxygen in the presence of a silver-containing catalyst described in US Pat. No. 4,897,7498.
  • Acids include sulfuric acid, phosphoric acid compounds, strongly acidic ion exchange resins, and siligates containing at least one element selected from the group consisting of Group 5 elements and Group 6 elements in the Long Periodic Table (hereinafter referred to as constituent elements) , Abbreviated as metal-containing silicide). Of these, phosphate compounds or metal-containing silicates are preferred.
  • sulfuric acid When sulfuric acid is used as the acid, it can be carried out according to the method described in US Pat. No. 5,250,073. Further, when a strongly acidic ion exchange resin is used as the acid, it may be carried out according to the method described in International Application No. 9 1/1 5 4 6 9 Pamphlet.
  • Examples of the phosphoric acid compound include phosphoric acid, phosphorous acid, hypophosphorous acid, metaphosphoric acid, polyphosphoric acid, and the like, and those that are usually commercially available are used. Such a phosphoric acid compound may be used as an aqueous solution.
  • the amount of the phosphoric acid compound used is usually 0,001 mol times or more with respect to 1,2-epoxy-3-butene, and there is no particular upper limit, but considering the economical aspect, it is practically used. Is 1 mol times or less with respect to 1,2-epoxy-3-butene.
  • the amount of water used is usually at least 1 mole times that of 1,2-epoxy-3-butene, and there is no particular upper limit for the amount used.
  • Epoxy 1 You may use 500 mole times with respect to butane.
  • the reaction of 1,2-epoxy-1-butene with water is usually carried out by mixing 1,2-epoxy-3-butene with water and a phosphoric acid compound without solvent or using water as a solvent. .
  • the mixing order is not particularly limited.
  • organic solvents include ether solvents such as jetyl ether, methyl tert-butyl ether, and tetrahydrofuran; ester solvents such as ethyl acetate; tertiary alcohol solvents such as tert-butanol; nitrile solvents such as acetonitrile and propionitrile; Or a mixed solvent.
  • the amount of organic solvent used is not particularly limited, but considering volumetric efficiency, it is practically less than 100 times the weight of 1,2-epoxy-3-butene.
  • the reaction is usually carried out under normal pressure conditions, but may be carried out under reduced pressure conditions or pressurized conditions.
  • the reaction temperature is usually ⁇ 20 to 100, preferably 0 to 100 ° C.
  • the progress of the reaction can be confirmed by ordinary analytical means such as gas chromatography, high performance liquid chromatography, thin layer chromatography, nuclear magnetic resonance spectrum analysis, infrared absorption spectrum analysis.
  • 3-butene-1,2-diol After completion of the reaction, for example, water and Z or an organic solvent insoluble in water are added to the reaction solution as necessary, followed by extraction treatment to obtain an organic layer containing 3-butene-1,2-diol.
  • the 3-butene-1,2-diol can be taken out by washing it with water or alkaline water as it is or after concentrating.
  • organic solvents insoluble in water include halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane, chloroform, and benzene; ether solvents such as jetyl ether and methyl tert-butyl ether; ester solvents such as ethyl acetate; The amount of use is not particularly limited.
  • Alkaline water is ammonia water; Al strength lithium metal hydrogen carbonate aqueous solution such as sodium hydrogen carbonate aqueous solution and hydrogen carbonate power lithium aqueous solution; Al force lithium metal carbonate such as sodium carbonate aqueous solution and carbonate power lithium aqueous solution; There are no particular restrictions on the concentration and amount of use thereof, such as aqueous solutions of sodium hydroxide; aqueous solutions of alkaline metal hydroxides such as aqueous solutions of hydroxylated lithium.
  • the metal-containing silicate is not particularly limited as long as it is a silicate containing a Group 5 element of the Long Periodic Table, a Group 6 element of the Long Periodic Table, or both elements as constituent elements.
  • Group 5 elements in the long periodic table include vanadium, niobium, tantalum, and the like.
  • Group 6 elements in the long periodic table include tungsten, molybdenum, chromium, etc., and vanadium, molybdenum, and tungsten. Vanadium and molybdenum are more preferable.
  • Such metal-containing silicates are described, for example, in EP 1 4 7 3 2 75, Applied Catalysis A: General 179, 11 (1999), J. C em. Soc, C em. Commun. , 2231 (1995) and the like, a metal oxide containing at least one element selected from the group consisting of Group 5 elements and Group 6 elements in the Long Periodic Table as a constituent element, and It can be produced by a method in which a compound is reacted in the presence of an organic template, and the resulting reaction product is washed or baked.
  • a metal containing a group 5 metal of a long periodic table, a group 6 metal of a long periodic table, a group 5 element of a long periodic table, and a group 6 of a long periodic table It is produced using a metal oxide obtained by reacting at least one selected from the group consisting of compounds containing an element as a constituent element (hereinafter abbreviated as metal or compound) with hydrogen peroxide.
  • Metal-containing silicates are preferred.
  • a method for producing a metal-containing silicide produced by using a metal oxide obtained by reacting such a metal or compound with hydrogen peroxide will be described.
  • Examples of the Group 5 metal of the long periodic table include vanadium metal, niobium metal, and tantalum metal.
  • Examples of the Group 6 metal of the long periodic table include tungsten metal, molybdenum metal, and chromium metal.
  • Examples of compounds containing Group 5 elements of the Long Periodic Table include vanadium compounds such as vanadium oxide, ammonium vanadate, vanadium carbonyl complex, vanadium sulfate, vanadium sulfate ethylenediamine complex; niobium oxide, niobium chloride, niobium Niobium compounds such as strong sulfonyl complexes; and tantalum compounds such as tantalum oxide and tantalum chloride.
  • tungsten compounds such as tungsten boride, tungsten carbide, tungsten oxide, ammonium tungstic acid, tungsten power complex
  • molybdenum compounds such as molybdenum boride, molybdenum oxide, molybdenum chloride, molybdenum power complex
  • acid And chromium compounds such as chromium fluoride and chrome chloride.
  • tungsten metal, tungsten compound, molybdenum metal, molybdenum compound, vanadium metal and vanadium compound are preferable, and molybdenum metal, molybdenum compound, vanadium metal and vanadium compound are more preferable.
  • Such metals or compounds may be used alone or in combination of two or more.
  • some of these metals or compounds have hydrates, but hydrates or anhydrides may be used in the present invention.
  • a metal oxide can be obtained by reacting such a metal or compound with hydrogen peroxide, and an aqueous solution is usually used as the hydrogen peroxide.
  • An organic solvent solution of hydrogen peroxide may be used, but it is preferable to use a hydrogen peroxide solution because it is easier to handle.
  • the hydrogen peroxide concentration in the hydrogen peroxide solution or the organic solvent solution of hydrogen peroxide is not particularly limited, but considering volume efficiency, safety, etc., the practical hydrogen peroxide concentration is 1-60 wt. %.
  • As the hydrogen peroxide solution a commercially available one is usually used as it is or after adjusting the concentration by dilution, concentration or the like as necessary.
  • an organic solvent solution of hydrogen peroxide can be prepared, for example, by subjecting an aqueous hydrogen peroxide solution to extraction treatment with an organic solvent, or by distillation treatment in the presence of an organic solvent.
  • the amount of hydrogen peroxide used is usually at least 3 mole times, preferably at least 5 mole times the metal or compound, and there is no particular upper limit.
  • the reaction of the metal or compound with hydrogen peroxide is usually carried out in an aqueous solution.
  • ether solvents such as dimethyl ether, methyl tert-butyl ether and tetrahydrofuran, ester solvents such as ethyl acetate, alcohol solvents such as methanol, ethanol and tert-butanol, nitrile solvents such as acetonitrile and propionitol
  • the reaction may be carried out in an organic solvent or a mixed solvent of the organic solvent and water.
  • the reaction between a metal or compound and hydrogen peroxide is usually carried out by bringing them into contact. In order to improve the contact efficiency between the metal or compound and hydrogen peroxide, it is preferable to carry out the reaction with stirring so that the metal or compound is sufficiently dispersed in the metal oxide preparation solution. It is 1_0 ⁇ 1 0 oC.
  • metal or compound By reacting a metal or compound with hydrogen peroxide in water, in an organic solvent, or in a mixed solvent of water and an organic solvent, all or part of the metal or compound dissolves and contains a metal oxide.
  • a homogeneous solution or slurry is obtained.
  • the metal oxide may be isolated from the homogeneous solution or slurry by, for example, concentration treatment or filtration treatment, and then the metal-containing silicate may be prepared, or the homogeneous solution or slurry may be used as it is. It may be used for the preparation of a single syrup.
  • tetraalkoxysilane such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane and the like are usually used.
  • Such a key compound is usually used in such an amount that the number of key atoms is 4 moles or more with respect to the metal atom in the metal oxide, and there is no particular upper limit on the amount used.
  • organic template examples include alkylamines, quaternary ammonium salts, nonionic surfactants and the like, and alkylamines and quaternary ammonium salts are preferable.
  • alkylamine for example, one of the hydrogen atoms of ammonia such as octylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine, dodecylamine, tridecylamine, tetradecylamine, eicosylamine and the like is substituted with an alkyl group having 8 to 20 carbon atoms.
  • a secondary amine in which one of the hydrogen atoms of the amino group of the primary amine such as methyloctylamine is substituted with a lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group;
  • Examples include tertiary amines in which the hydrogen atom of the secondary amine such as cutylamine is substituted with the lower alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and primary amines are preferred.
  • the quaternary ammonium salt is a quaternary ammonium salt in which the four hydrogen atoms of the ammonium ion (NH +) are replaced by the same or different four alkyl groups having 1 to 18 carbon atoms. Examples thereof include those composed of humic ions and anions such as hydroxide ions, chlorine ions, bromine ions, and the like.
  • quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium hydroxide, tetrapropylammonium hydroxide, tetraptylammonium hydroxide, trimethyloctylammonium hydroxide, etc .
  • odor tetratetramonium chloride, bromotetrapropylammonium, odor Quaternary ammonium salts such as tetrabutylammonium bromide, odor trimethyloctylammonium, and the like, and quaternary ammonium hydroxides are preferred.
  • nonionic surfactants examples include polyethylene dallicol.
  • Such an organic template may be used as it is, or may be used by mixing with water or a hydrophilic solvent described later.
  • the amount of the organic template used is usually 0.03 to 1 mole times the amount of the key compound.
  • the reaction between the metal oxide and the key compound is usually performed by mixing the three in the presence of a solvent.
  • a solvent include water, a hydrophilic organic solvent alone or a mixed solvent, and a water solvent and a mixed solvent of water and a hydrophilic organic solvent are preferable.
  • the hydrophilic organic solvent include hydrophilic alcohol solvents such as methanol, ethanol and isopropanol; hydrophilic nitrile solvents such as acetonitrile; and hydrophilic ether solvents such as dioxane and the like. Methanol and ethanol are more preferable.
  • the amount of solvent used is usually: ⁇ 10 0 0 times by weight.
  • the reaction temperature is usually from 0 to 200 ° C.
  • the metal-containing silicate can be produced by separating the reaction product from the reaction solution by filtration or the like, and washing or baking the separated reaction product.
  • the washing solvent for washing the separated reaction product include alcohol solvents such as methanol and ethanol, water, etc., and the amount used is not particularly limited.
  • the calcining temperature when the separated reaction product is calcined is usually 300 to 700 ° C, preferably It is 500 to 600 ° C.
  • the firing time is usually 0.5 to 20 hours.
  • the separated reaction product may be subjected to a washing treatment and then a firing treatment.
  • the amount of metal-containing silicate is usually 0.001 times or more the weight of 1,2-epoxy-1-butene, and there is no upper limit, but considering the economic aspect, Less than 5 times the weight of 2-epoxy-3-butene.
  • the amount of water used is usually at least 1 mole times that of 1,2-epoxy-3-butene, and there is no particular upper limit for the amount used.
  • Epoxy-3--butane may be used at 500 mole times.
  • '1, 2—Epoxy—3-Butene is usually reacted with water without solvent or with water as solvent.
  • 1,2-Epoxy 1-Butene, water and metal-containing silicate The mixing order is not particularly limited.
  • the reaction may be carried out in the presence of an organic solvent.
  • organic solvents include ether solvents such as jetyl ether, methyl tert-butyl ether, tetrahydrofuran, etc .; ester solvents such as ethyl acetate; tertiary alcohol solvents such as tert-butyl alcohol; nitriles such as acetonitrile and propionitrile Solvent; etc. may be used alone or as a mixed solvent.
  • the amount of organic solvent used is not particularly limited, but considering volumetric efficiency, it is practically less than 100 times the weight of 1,2-epoxy-3-butene.
  • the reaction is usually carried out under normal pressure conditions, but may be carried out under reduced pressure conditions or pressurized conditions.
  • the reaction temperature is usually from 1 to 20; L 00t, preferably from 0 to 100.
  • gas chromatography high performance liquid chromatography
  • thin layer chromatography It can be confirmed by ordinary analytical means such as matography, nuclear magnetic resonance spectrum analysis, infrared absorption spectrum analysis.
  • 3-butene-1,2-diol can be taken out by concentrating the filtrate obtained by filtering the metal-containing silicate. Further, water and Z or an organic solvent insoluble in water are added to the filtrate as necessary, followed by extraction treatment to obtain an organic layer containing 3-butene-1,2-diol, and the organic layer is used as it is or If necessary, 3-butene-1,2-diol can be removed by washing with water or alkaline water and then concentrating.
  • the 3-butene-1,2-diol obtained in this way can be used as it is or after further purification by a usual purification means such as distillation, force chromatography, etc. . Further, the filtrate may be used as a solution of the organic layer or the like without taking out 3-butene-1,2-diol.
  • step (B) a step of obtaining 4_ (methylthio) butane-1,2-diol by reacting 3-butene-1,2-diol with methanethiol will be described.
  • methane phenol a commercially available product may be used, or a product produced from methanol and hydrogen sulfide may be used.
  • methanethiol a gaseous one or a liquid one may be used. Liquid methanethiol can be prepared by, for example, a method in which gaseous methanethiol is introduced into a container cooled to a boiling point (6 ° C.) or lower and condensed.
  • the amount of methanethiol used is usually 1 mole or more of 3-pentene-1,2-diol, and there is no particular upper limit. However, considering the economic aspect, it is practically 3— Less than 10 mole times that of butene — 1,2-diol.
  • the reaction between 3-butene-1,2-diol and methanethiol is usually carried out without solvent, but it may be carried out in the presence of a solvent.
  • the solvent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, and water; hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, and toluene; halogenated hydrocarbon solvents such as chlorobenzene and chloroform; jetyl ether, Methyl tert-butyl Ether solvents such as ether and tetrahydrofuran; ester solvents such as ethyl acetate; tertiary alcohol solvents such as tert-butanol; nitrile solvents such as acetonitrile and propionitol; and the like alone or in combination.
  • the amount of the solvent used is not particularly limited, but is practically less than 100 times the weight of 3-butene-1,2-diol in terms of volumetric efficiency.
  • the reaction is usually carried out under normal pressure or pressurized conditions. Further, the reaction may be carried out under reduced pressure conditions.
  • the reaction between 3-butene-1,2-diol and methanethiol is preferably carried out in the presence of a catalyst.
  • the catalyst include known catalysts such as organic peroxides and boron compounds.
  • a known catalyst such as an organic peroxide or boron compound is used, the reaction is carried out according to the method described in, for example, J. of Agricultural and Food Chemistry, 23, 1137 (1975), European Patent Publication No. 1260500 Can be implemented.
  • an azo compound can be used as the catalyst in the step (B).
  • this step (B) it is preferable to use such an azo compound as a catalyst.
  • the amount of azo compound used is usually 0.01 or more moles of 3-butene-1,2-diol, and there is no particular upper limit, but considering the economical aspect, it is practical. Specifically, it is 0.2 mol times or less with respect to 3-butene-1,2-diol.
  • the reaction temperature varies depending on the type of azo compound used and the amount used, but if the reaction temperature is too low, the reaction does not proceed easily and the reaction temperature is too high. And side reactions such as the polymerization of 3-butene-1,2-diol and products may proceed, and usually in the range of -10 to 100 ° C, preferably in the range of 0 to 50 ° C. The reaction is carried out.
  • a nitrogen-containing aromatic compound and an aliphatic carboxylic oxide compound can also be used as a catalyst in the step (B).
  • this step (B) it is also preferable to use such a nitrogen-containing aromatic compound and an aliphatic carboxylic acid compound as a catalyst.
  • the nitrogen-containing aromatic compound may be a monocyclic or condensed cyclic C3-C20 heteroaromatic compound in which at least one atom constituting the aromatic ring is a nitrogen atom.
  • One or two or more hydrogen atoms constituting the aromatic ring may be substituted with a substituent.
  • the substituent include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom; methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, tert-butyl group.
  • Alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms such as methoxy groups; methoxy groups, ethoxy groups, n-propoxy groups, isopropoxy groups, n-butoxy groups, isobutoxy groups, sec monobutoxy groups, tert-butoxy groups, etc.
  • 1 Alkoxy group having 2 to 5 carbon atoms such as methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group, isopropoxy group, n-butoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, etc.
  • Such nitrogen-containing aromatic compounds include pyridine, piperidine, pyrazine, imidazole, benzimidazole, phenanthroline, oxazole, thiazole, quinoline, Soquinoline, 2-Methylpyridine, 3-Methylpyridine, 4-Methylpyridine, .2-Chloropyridine, 3-Chloropyridine, 4-Chromopyridine, 2, 3, 5-Colidine, 2, 4, 6- Collidine, nicotinic acid amide, methyl nicotinate, N-methylimidazole, 2-chloroquinoline, etc., among others, pyridine, 2-methylpyridine, 3-methylpyridine, 4-monomethylpyridine, 2-chloro Even if it has a substituent such as oral pyridine, 3-chloromouth pyridine, 4-chloromouth pyridine, 2,3,5-collidine, 2,4,6-collidine, nicotinamide, and nicotinate methyl Good pyridine compounds are preferred.
  • the amount of nitrogen-containing aromatic compound used is usually 0,001 mol times or more with respect to 3-butene-1,2-diol, and there is no particular upper limit, but considering the economic aspect, it is practical. Is less than 1 mole times that of 3-butene-1,2-diol.
  • the aliphatic carboxylic acid compound may be an aliphatic compound having 1 to 20 carbon atoms having at least one powerful lpoxyl group, such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butanoic acid, pentanoic acid, hexanoic acid, Examples include citric acid, lactic acid, octaoctanoic acid, and adipic acid.
  • lpoxyl group such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butanoic acid, pentanoic acid, hexanoic acid.
  • Examples include citric acid, lactic acid, octaoctanoic acid, and adipic acid.
  • commercially available products are usually used as the aliphatic carboxylic acid.
  • the amount of the aliphatic carboxylic acid compound used is usually 0.3 to 10 mol times with respect to the nitrogen-containing aromatic compound. .
  • Such a nitrogen-containing aromatic compound and an aliphatic sulfonic acid compound may be mixed in advance.
  • the reaction between 3-butene-1,2-diol and methanethiol is usually carried out by mixing the catalyst with 3-butene-1,2-diol and methanethiol, and the mixing order is not particularly limited.
  • the reaction is usually carried out by adjusting the mixture of the catalyst and 3-butene-1,2-diol to a predetermined temperature and blowing gaseous methanethiol into the mixture. To be implemented.
  • a catalyst and 3-butene-1,2-diol are added to a sealable container such as an autoclave and the container is sealed, and then at a predetermined temperature.
  • a method of press-fitting gaseous methanethiol, a catalyst, 3-butene-1,2-diol and liquid methanethiol were added to the sealed container, and the container was sealed Thereafter, the reaction is carried out by a method of adjusting to a predetermined temperature.
  • the progress of the reaction can be confirmed by ordinary analytical means such as gas chromatography, high performance liquid chromatography, thin layer chromatography, nuclear magnetic resonance spectrum analysis, infrared absorption spectrum analysis.
  • a lipophilic catalyst When a lipophilic catalyst is used as the catalyst, after the reaction is completed, for example, after removing residual methanethiol from the reaction mixture, water or a non-polar solvent is added as necessary, followed by extraction treatment. 4- (Methylthio) butane-1,2-diol can be removed by concentrating the aqueous layer containing 4- (methylthio) butane-1,2-diol.
  • a hydrophilic catalyst for example, after removing the remaining methanethiol from the reaction product, if necessary, water or an insoluble organic solvent is added to perform extraction treatment.
  • the resulting organic layer containing 4- (methylthio) butane-1,1,2-diol can be concentrated to extract 4- (methylthio) butane-1,2-diol.
  • methods for removing remaining methanethiol from the reaction mixture include a method of concentrating the reaction mixture, and a method of blowing an inert gas such as nitrogen gas into the reaction mixture.
  • the nonpolar solvent include hydrocarbon solvents such as hexane, heptane, toluene, and xylene, and the amount used is not particularly limited.
  • water-insoluble organic solvent examples include, in addition to the hydrocarbon solvent described above, for example, ester solvents such as ethyl acetate, ether solvents such as methyl tert-butyl ether, and the use amount thereof is not particularly limited.
  • the obtained 4-1- (methylthio) butane-1,2-diol can be used as it is or after further purification by a usual purification means such as distillation, column chromatography or the like in the step (C) described later. Further, the solution such as the organic layer may be used as it is without taking out 4- (methylthio) butane-1,2-diol.
  • the oxidation of the primary alcohol moiety in the molecule of 4-1- (methylthio) butane-1,2-diol is generally preferential over the oxidation of the secondary alcohol moiety or the sulfide moiety. proceed. '
  • 4- (methylthio) butane-1,2-diol to obtain 2-hydroxy-4- (methylthio) butyric acid
  • 4- (methylthio) butane-1,2- A method in which silver is oxidized after swollen oxidation of diol, 4 1 (methylthio) butane 1, 2 -diol is transformed into 2-hydroxy-4- (methylthio) butyric acid
  • An example is a method in which the treated product is allowed to act on 4- (methylthio) butane-1,2-diol.
  • 4- (methylthio) butane microbial cells or treated cells having the ability to convert 4- (methylthio) butane-1,2-diol to 2-hydroxy-4- (methylthio) butyric acid
  • a method of acting on butane-1,2-diol is mentioned.
  • a method of subjecting 4- (methylthio) butane-1,2-diol to Swern oxidation followed by silver nitrate oxidation can be carried out, for example, according to the method described in Tetrahedron, 48, 6043 (1992).
  • Pseudomonas auricularis Pseudomonas azotoformans, Pseudomonas caryophylli (Pseudomonas caryophylli), Pseudomonas chloroto denitrif icans), Pseudomonas diminta, Pseudomonas fluorescens Pseudomonas fragi> Pseudomonas fulva, Pududomonas fulva, Pudoudomonas Mutapilis (Pseudomonas mutabilis) Nitroreducens (Pseudomonas nitroreducens), Syudomonas oleoporans
  • Pseudomonas oleovorans Pseudomonas oval is, Pseudomonas oxalaUcus, Pseudomonas planta (Pseudomonas pi ant arii), Pseudomonas' Paludomonas pseudoalta Pseudomonas putida> Pseudomonas putrefaciens, Shudomonas.
  • Pseudomonas ri1 ⁇ 2f lavina Pseudomonas sp.
  • Pseudomonas straminea Pseudomonas straminea
  • Pseudomonas taetrolens microorganisms belonging to the genus Pseudomonas, such as Pseudomonas vesicularis;
  • Rhodobacter such as Rhodobacter sp aeroides
  • Rhodococcus erythropol is (Rhodococcus erythropol is), Rhodococcus groberulus, Rhodococcus rhodochrous, Rhodococcus sp. Or a treated product of the microbial cells.
  • Pseudomonas fulva JCM2780t Pseudomonas mendocina (IFse) Pseudomonas nit roreducens JCM2782t> Pseudomonas oleovorans IF0135835, Pseudomonas oval is IF012688 Pseudomonas oxalaticus IF013593t, Pseudomonas plantarii JCM5492t, Pseudomonas pseudoalcaligenes JCM5968 t, Pseudomonas putida Pseudomonas putida IF0P Pseudomonas putida IA 1090, Pseudomonas putida IAM1236, Pseudomonas putida ATCC39213, Pseudomonas putrefaciens (Pseudomonas putref
  • ATCC53617 Pseudomonas straminea JC 2783t, P13 synth syringae) IF014055, Pseudomonas t abaci IF03508, Pseudomonas taetrolens IF03460, Pseudomonas vesicularis JCM1477t, Rhodoacter sp.
  • Rhodococcus erythropol is IF012320, Rhodococcus groberulus ATCC15610, Rhodococcus rhodochrous JCM32021, Rhodococcus rhodochrous (Rhodococcus rhodochrous)
  • Examples include cells such as odococcus rhodochrous) ATCC15610 and Rhodococcus sp. ATCC19148 or treated cells.
  • microorganisms include at least one microorganism selected from the group consisting of the genus Alcaligenes, Bacillus, Pseudomonas, Rhodobacter and Rhodococcus. More preferably, it is more preferably at least one microorganism selected from the group consisting of the genus Bacillus, the genus Pseudomonas and the genus Rhodococcus, and the genus Pseudomonas and More preferably, it is at least one microorganism selected from the group consisting of the genus Rhodococcus, and particularly preferably a microorganism of the genus Rhodococcus.
  • Such microorganisms can be cultured using a medium for culturing various microorganisms containing carbon sources, nitrogen sources, organic salts, inorganic salts and the like as appropriate.
  • carbon sources contained in the medium include glucose, sucrose, glycerol, starch, organic acid, and molasses.
  • nitrogen sources include yeast extract, meat extract, peptone, casamino acid, malt extract, soy flour, corn steep liquor, cottonseed flour, dry yeast, ammonium sulfate, sodium nitrate, etc. It is done.
  • organic and inorganic salts include sodium chloride , Potassium salt, sodium carbonate, potassium phosphate, potassium phosphate, calcium carbonate, ammonium acetate, magnesium sulfate, copper sulfate, zinc sulfate, ferrous sulfate, cobalt chloride, etc. .
  • Examples of the culture method include solid culture, liquid culture (test tube culture, flask culture, jar armor culture, etc.) and the like.
  • the culture temperature and pH of the culture solution are not particularly limited as long as the microorganism grows, but the culture temperature is usually about 15 to 45 ° C, and the pH of the culture solution is usually About 4-8.
  • the culture time can be appropriately selected depending on the culture conditions, but is usually about 1 to 7 days.
  • Such microbial cells can be used as they are.
  • Methods for using such microorganisms as they are include (1) a method of using the culture solution as it is, (2) collecting the cells by centrifugation of the culture solution, etc., and collecting the collected cells (if necessary) And a method using a wet cell after washing with a buffer solution or water.
  • a treated product of such a microorganism can also be used.
  • the treated cells include cells obtained by culturing cells treated with organic solvents (acetone, ethanol, etc.), freeze-dried or alkali-treated, or cells physically Or, enzymatically crushed, or crude enzyme separated and extracted from these.
  • the treated bacterial cells include those that have been subjected to the above-mentioned treatment and then subjected to immobilization treatment by a known method.
  • the dose of such microorganisms or treated cells is such that the concentration of microorganisms or treated cells in the reaction solution is usually from 0.001 to 50% by weight, preferably from 0.001%. It is an amount that becomes ⁇ 20% by weight.
  • the reaction of microbial cells or treated products with 4-1- (methylthio) butane-1,2-diol is usually carried out in the presence of water.
  • a buffered aqueous solution may be used.
  • buffering agents used in such buffered aqueous solutions include alkaline metal salts of phosphoric acid such as sodium phosphate and potassium phosphate; alkaline metal salts of acetic acid such as sodium acetate and acetic acid lithium; and the like.
  • the microbial cell or the treated product thereof may be reacted with 4- (methylthio) butane-1,2-diol.
  • Such an organic solvent may be a hydrophobic organic solvent or a hydrophilic organic solvent.
  • hydrophobic organic solvents include ester solvents such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, ethyl propionate, and butyl propionate; n-butyl alcohol, n-amyl alcohol, n-octyl alcohol, etc.
  • Hydrophobic alcohol solvents such as benzene, toluene, xylene, etc .
  • Hydrophobic ether solvents such as jetyl ether, diisopropyl ether, methyl tert-butyl ether; halogens such as chloroform, 1,2-dichloroethane, etc. Hydrocarbon hydrocarbon solvents; and mixed solvents thereof.
  • the hydrophilic organic solvent include a hydrophilic alcohol solvent such as methanol and ethanol; a hydrophilic ketone solvent such as acetone; a hydrophilic ether solvent such as dimethoxyethane, tetrahydrofuran and dioxane; and a mixed solvent thereof.
  • the pH when reacting microbial cells or treated cells with 4 _ (methylthio) butane-1,2-diol is usually in the range of 3 to 10 and the reaction temperature is usually 0 to 6 0 ° C.
  • the reaction time is usually 5 hours to 10 days.
  • the concentration of 4-1- (methylthio) butane-1,2-diol in the reaction solution is usually 50% (w / v) or less.
  • reaction of a microbial cell or treated product with 4_ (methylthio) 'butane-1,2-diol is usually carried out by mixing the two. Alternatively, the reaction may be carried out by continuously or sequentially adding 4- (methylthio) butane-1,2-diol to the reaction system.
  • sugars such as dalcoose, sucrose, and fructose
  • surfactants such as Triton X-100 and Tween 60 may be added to the reaction system.
  • the end point of the reaction is confirmed, for example, by measuring the amount of 4- (methylthio) butane-1,2-diol in the reaction solution by liquid chromatography, gas chromatography, or the like. Can.
  • reaction solution can be subjected to usual post-treatments such as extraction and concentration to remove 2-hydroxy-4- (methylthio) butyric acid.
  • 2-hydroxy-4- (methylthio) butyric acid can be further purified by ordinary purification means such as column chromatography and distillation.
  • the specific surface area and average pore diameter of the metal-containing silicate Ichito are both used Qu antachr ome Co. Au tosorb- 6, at 150, 1. 35X 10- 5 Kg / cm- 2 (0. 013 kPa corresponding )
  • Reference example 1
  • XRD spectrum d value 3. 77 A broad peak with a vertex at A was shown. There was no sharp peak attributed to tandastene oxide.
  • XRD spectrum d value 3.76 A broad peak with a vertex at A was shown. A slight sharp peak attributed to tandastene oxide was observed.
  • XRD spectrum d value 3.8 A spectrum with a broad peak having a peak at A and a sharp peak attributed to molybdenum oxide.
  • Example 1 The same procedure as in Example 1 was performed except that the vanadium-containing silicate prepared in 5 was used and the amount of 1,2-epoxy-1-butene was changed to 30 Omg.
  • Example 1 instead of the molybdenum-containing silicate prepared in Reference Example 4, using the molybdenum-containing silicate prepared in Reference Example 3, except that the amount of 1,2-epoxy-3-butene used was 33 Omg, The same operation as in Example 1 was performed.
  • Example 4 In Example 1, it replaced with the molybdenum containing silicate prepared in Reference Example 4, and it implemented similarly to Example 1 except having used the tungsten containing silicate prepared in Reference Example 1. The yield of 3-butene-1,2-diol was 81%.
  • Example 5 In Example 1, it replaced with the molybdenum containing silicate prepared in Reference Example 4, and it implemented similarly to Example 1 except having used the tungsten containing silicate prepared in Reference Example 1. The yield of 3-butene-1,2-diol was 81%.
  • Example 1 the same procedure as in Example 1 was performed except that the tungsten-containing silicate prepared in Reference Example 2 was used instead of the molybdenum-containing silicate prepared in Reference Example 4. The yield of 3-butene-1,2-diol was 82%.
  • Example 6 the same procedure as in Example 1 was performed except that the tungsten-containing silicate prepared in Reference Example 2 was used instead of the molybdenum-containing silicate prepared in Reference Example 4. The yield of 3-butene-1,2-diol was 82%.
  • Example 8 Add 85% phosphoric acid 3 Omg, 1,2-epoxy-1-3-butene 30 Omg and distilled water 3 g to a 5 OmL flask equipped with a magnetic rotor and reflux condenser, and stir for 5 hours at an internal temperature of 5 ° C. Stirred and allowed to react. Tetrahydrofuran (10 g) was added to the resulting reaction solution to obtain a solution containing 3-butene-1,2-1diol. Analysis by gas chromatography internal standard analysis revealed that the yield of 53-butene-1,2-diol was 92%.
  • gaseous methanechol was blown in at a rate of about 10-2 OmL / min over 1 hour with stirring. The mixture was further stirred for 1 hour at the same temperature. After completion of the reaction, nitrogen was blown into the reaction mixture to remove the remaining methanethiol, and 4- (methylthio)
  • Example 13 A solution containing 1 (methylthio) butane-1,2-diol was obtained. This solution was analyzed by gas chromatography area percentage method. As a result, the yield of 4- (methylthio) butane-1,2- “diol was 98%.
  • Example 15
  • Example 16 A predetermined amount of water was added to the colorless oil obtained in Example 10, and the insoluble matter was filtered off to prepare a 10% (w / v) 4- (methylthio) butane-1,2-diol aqueous solution. did.
  • Sterilized medium (1L water, glucose 20 g, polypeptone 5 g, yeast extract 3 g, meat extract 3 g, ammonium sulfate 0.2 g, potassium dihydrogen phosphate 1 g and magnesium sulfate 7 water After adding 0.5 g of the Japanese product, the pH was adjusted to 7.0) 5 mL was introduced, and various cells shown in Tables 1 to 4 were inoculated therein. This was cultured with shaking at 30 ° C under aerobic conditions. After culturing, the cells were separated by centrifugation to obtain viable cells.
  • Alcal igenes faecal is IFO 131 111 0.1
  • Alcal igenes faecal is IFO 12669 0.2
  • Al cal igenes faecal is IFO 14479 0.1
  • Al cal igenes faecal is JCM 5485t 2.5
  • Baci 1 lus subti 1 is JCM 1465t 10.8
  • Baci I lus subti I is ATCC15841 5.6
  • Baci 1 lus subti 1 is IFO 03026 2.8
  • Baci i lus subti 1 is IFO 03108 2.5
  • Baci 1 lus subti 1 is IFO 03134 2.8
  • Baci 1 lus subti 1 is IFO 3026 3.3
  • Baci 1 lus subti I is IFO 3037 2.7
  • Baci 1 lus subti 1 is IFO 3108 1.7
  • Baci I lus subti 1 is IFO 3134 1.5
  • Pseudomonas mutabi I is ATCC31014 13.5
  • Pseudomonas oval is IFO 12688 1.4

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Zoology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Microbiology (AREA)
  • Biotechnology (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Genetics & Genomics (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

下記（Ａ）工程、（Ｂ）工程および（Ｃ）工程を含むことを特徴とする２−ヒドロキシ−４−（メチルチオ）酪酸の製造方法。（Ａ）工程：１，２−エポキシ−３−ブテンと水とを反応させて、３−ブテン−１，２−ジオールを得る工程（Ｂ）工程：３−ブテン−１，２−ジオールとメタンチオールとを反応させて、４−（メチルチオ）ブタン−１，２−ジオールを得る工程（Ｃ）工程：４−（メチルチオ）ブタン−１，２−ジオールを酸化して、２−ヒドロキシ−４−（メチルチオ）酪酸を得る工程

Description

明 細 書
2—ヒドロキシ— 4— (メチルチオ） 酪酸の製造方法 技術分野
本発明は、 2—ヒドロキシー4一 （メチルチオ） 酪酸の製造方法に関する。 背景技術
2—ヒドロキシ一 4 ,一 （メチルチオ） 酪酸は、 必須アミノ酸である 1一メチォニンの アナローグであり、 飼料添加剤等に用いられる重要な化合物である。 その製造方法として は、 ァクロレインにメタンチオールを付加させて、 3—メチルチオプロピオンアルデヒド を得、 得られた 3—メチルチオプロピオンアルデヒドとシァン化水素とを反応させて 2— ヒドロキシ— 4ーメチルチオプチロニトリルを得、 得られた 2—ヒドロキシー 4一メチル チォプチロニトリルを硫酸で加水分解する方法 （例えば、 米国特許第 4 5 2 4 0 7 7号明 細書参照。） が知られている。 発明の開示
本発明は、 下記 （A) 工程、 （B ) 工程および （C) 工程を含むことを特徴とする 2 ーヒドロキシ— 4一 （メチルチオ） 酪酸の製造方法を提供するものである。
(A) 工程： 1， 2—エポキシ一 3—ブテンと水とを反応させて、 3—ブテン—1 , 2— ジオールを得る工程
( B ) 工程： 3—ブテン一 1 , 2—ジオールとメタンチオールとを反応させて、 4— (メ チルチオ） ブタン—1 , 2—ジオールを得る工程
( C) 工程： 4一 （メチルチオ） ブタン一 1 , 2—ジオールを酸ィ匕して、 2—ヒドロキシ - 4 - (メチルチオ） 酪酸を得る工程 発明を実施するための最良の形態
まず、 （A) 工程： 1， 2—エポキシ一 3—ブテンと水とを反応させて、 3—プテン 一 1， 2—ジオールを得る工程について説明する。
1 , 2—エポキシ— 3—ブテンは、 例えば、 酸素、 有機過酸化物、 過酸化水素等の酸 化剤とブタジエンとを反応させる方法等の公知の方法により製造することができる。 好ま しい方法としては、 例えば米国特許第 4 8 9 7 4 9 8号明細書に記載の、 銀含有触媒の存 在下にブタジエンと酸素とを反応させる方法が挙げられる。
1 , 2—エポキシ一 3—ブテンと水との反応は、 酸の存在下に実施することが好まし い。 酸としては、 硫酸；リン酸化合物；強酸性イオン交換樹脂；長周期律表第 5族元素お よび第 6族元素からなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を構成要素として含有す るシリゲート （以下、 金属含有シリゲートと略記する。）；等が挙げられる。 なかでも、 リ ン酸化合物または金属含有シリゲートが好ましい。
酸として、 硫酸を用いる場合は、 米国特許第 5 2 5 0 7 4 3号明細書に記載の方法に 従い、 実施すればよい。 また、 酸として、 強酸性イオン交換樹脂を用いる場合には、 国際 出願第 9 1 / 1 5 4 6 9号パンフレツトに記載の方法に従い、 実施すればよい。
以下、 酸として、 リン酸化合物を用いる場合および金属含有シリケ一トを用いる場合 について説明する。
まず、 酸として、 リン酸化合物を用いる場合について説明する。
リン酸化合物としては、 リン酸、 亜リン酸、 次亜リン酸、 メタリン酸、 ポリリン酸等 が挙げられ、 通常市販されているものが用いられる。 また、 かかるリン酸化合物は、 水溶 液として用いてもよい。
かかるリン酸化合物の使用量は、 1 , 2—エポキシ一 3—ブテンに対して、 通常 0 0 1モル倍以上であり、その上限は特にないが、経済的な面を考慮すると、実用的には、 1 , 2—エポキシ一 3—ブテンに対して、 1モル倍以下である。
水の使用量は、 1 , 2—エポキシ一 3—ブテンに対して、 通常 1モル倍以上であり、 使用量の上限は特になく、 反応溶媒を兼ねて大過剩量、 例えば、 1， 2—エポキシ一 3— ブタンに対して 5 0 0モル倍、 を用いてもよい。
1 , 2—エポキシ一 3—ブテンと水との反応は、 通常無溶媒または水を溶媒として用 いて、 1 , 2—エポキシ一 3—ブテンと水とリン酸化合物を混合することにより実施され る。その混合順序は特に制限されない。また、有機溶媒の存在下に反応を実施してもよい。 有機溶媒としては、 ジェチルエーテル、 メチル t e r t—ブチルエーテル、 テトラヒドロ フラン等のエーテル溶媒；酢酸ェチル等のエステル溶媒； t e r t—ブタノール等の第三 級アルコール溶媒；ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等の二トリル溶媒；等の単独もし くは混合溶媒が挙げられる。 有機溶媒の使用量は特に制限されないが、 容積効率を考慮す ると、 実用的には、 1， 2—エポキシ— 3—ブテンに対して、 1 0 0重量倍以下である。
反応は、 通常常圧条件下で実施されるが、 減圧条件下または加圧条件下で実施しても よい。 反応温度は、 通常— 2 0〜 1 0 0で、 好ましくは 0〜 1 0 0 °Cである。
反応の進行は、 例えばガスクロマトグラフィ、 高速液体クロマトグラフィ、 薄層クロ マトグラフィ、 核磁気共鳴スペクトル分析、 赤外吸収スペクトル分析等の通常の分析手段 により確認することができる。
反応終了後、 例えば、 反応液に、 必要に応じて水および Zまたは水に不溶の有機溶媒 を加え、 抽出処理し、 3—ブテン— 1 , 2—ジオールを含む有機層を得、 該有機層を、 そ のままもしくは必要に応じて水やアルカリ水で洗浄した後、 濃縮処理することにより、 3 —ブテン— 1， 2—ジオールを取り出すこともできる。 水に不溶の有機溶媒としては、 ジ クロロメタン、 クロ口ホルム、 クロ口ベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒；ジェチルェ 一テル、 メチル t e r t—プチルエーテル等のエーテル溶媒；酢酸ェチル等のエステル溶 媒；等が挙げられ、その使用量は特に制限されない。アルカリ水としては、アンモニア水；. 炭酸水素ナトリゥム水溶液、 炭酸水素力リゥム水溶液等のアル力リ金属炭酸水素塩水溶 液；炭酸ナトリゥム水溶液、 炭酸力リゥム水溶液等のアル力リ金属炭酸塩；水酸化ナトリ ゥム水溶液； 水酸化力リゥム水溶液等のアル力リ金属水酸化物水溶液；等が挙げられ、 そ の濃度や使用量は特に制限されない。
続いて、 酸として、 金属含有シリゲートを用いる場合について説明する。 本発明において、 金属含有シリゲートとは、 長周期律表第 5族元素、 長周期律表第 6 族元素またはその両方の元素を構成要素として含んだシリケートであれば、 特に制限され ない。
長周期律表第 5族元素としては、例えばバナジウム、ニオブ、タンタル等が挙げられ、 長周期律表第 6族元素としては、例えばタングステン、モリブデン、クロム等が挙げられ、 バナジウム、 モリブテンおよびタングステンが好ましく、 バナジウムおよびモリブデンが より好ましい。
かかる金属含有シリケ一トは、例えば、欧州特許出願公開第 1 4 7 3 2 7 5号明細書、 Applied Catalysis A: General 179, 11 (1999)、 J. C em. Soc, C em. Commun., 2231 (1995)等に記載されているように、長周期律表第 5族元素および第 6族元素からなる群 から選ばれる少なくとも一種の元素を構成要素として含有する金属酸化物と、 ケィ素化合 物とを、 有機テンプレートの存在下に反応させ、 得られた反応生^物を洗浄もしくは焼成 する方法により製造することができる。 なかでも、 前記金属酸化物として、 長周期律表第 5族金属、 長周期律表第 6族金属、 長周期律表第 5族元素を構成要素として含む化合物お よび長周期律表第 6族元素を構成要素として含む化合物からなる群から選ばれる少なく とも一つ （以下、 金属または化合物、 と略記する。） と、 過酸化水素とを反応させて得ら れる金属酸化物を用いて製造された金属含有シリゲートが好ましい。 以下、 かかる金属ま たは化合物と、 過酸化水素とを反応させて得られる金属酸化物を用レ Yて製造された金属含 有シリゲートの製造方法について説明する。
長周期律表第 5族金属としては、 例えばバナジウム金属、 ニオブ金属、 タンタル金属 等が挙げられ、 長周期律表第 6族金属としては、 例えばタングステン金属、 モリブデン金 属、 クロム金属等が挙げられる。 長周期律表第 5族元素を構成要素として含む化合物とし ては、 例えば酸化バナジウム、 バナジン酸アンモニゥム、 バナジウムカルボニル錯体、 硫 酸バナジウム、硫酸バナジウムエチレンジアミン錯体等のバナジウム化合物；酸化ニオブ、 塩化ニオブ、 ニオブ力ルポ二ル錯体等のニオブ化合物；酸化タンタル、 塩化タンタル等の 夕ンタル化合物が挙げられる。 長周期律表第 6族元素を構成要素として含む化合物として は、 例えばホウ化タングステン、 炭化タングステン、 酸化タングステン、 タングステン酸 アンモニゥム、タングステン力ルポ二ル錯体等のタングステン化合物；ホウ化モリブデン、 酸化モリブデン、 塩化モリブデン、 モリブデン力ルポ二ル錯体等のモリブデン化合物；酸 化クロム、 塩ィ匕クロム等のクロム化合物が挙げられる。
かかる金属または化合物の中でも、 タングステン金属、 タングステン化合物、 モリブ デン金属、 モリブデン化合物、 バナジウム金属およびバナジウム化合物が好ましく、 モリ ブデン金属、モリブデン化合物、バナジウム金属およびバナジウム化合物がより好ましい。
かかる金属または化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、二種以上用いてもよい。 また、 かかる金属または化合物の中には、 水和物が存在するものがあるが、 本発明には、 水和物を用いてもよいし、 無水物を用いてもよい。
かかる金属または化合物と過酸化水素とを反応させることにより、 金属酸化物が得ら れるが、 過酸化水素としては、 通常、 水溶液が用いられる。 過酸化水素の有機溶媒溶液を 用いてもよいが、 取扱いがより容易であるという点で、 過酸化水素水を用いることが好ま しい。 過酸化水素水もしくは過酸化水素の有機溶媒溶液中の過酸化水素濃度は特に制限さ れないが、容積効率、安全面等を考慮すると、実用的な過酸化水素濃度は、 1〜 6 0重量％ である。 過酸化水素水は、 通常、 市販のものをそのままもしくは必要に応じて、 希釈、 濃 縮等により濃度調整レた後用いられる。 また過酸化水素の有機溶媒溶液は、 例えば過酸化 水素水溶液を有機溶媒で抽出処理することにより、 もしくは、 有機溶媒の存在下に蒸留処 理することにより、 調製することができる。
過酸化水素の使用量は、 金属また化合物に対して、 通常 3モル倍以上、 好ましくは 5 モル倍以上であり、 その上限は特にない。
金属または化合物と過酸化水素との反応は、 通常、 水溶液中で実施される。 例えばジ ェチルエーテル、 メチル t e r t—ブチルエーテル、 テトラヒドロフラン等のエーテル溶 媒、 例えば酢酸ェチル等のエステル溶媒、 メタノール、 エタノール、 t e r t—ブタノ一 ル等のアルコール溶媒、 ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等の二トリル溶媒等の有機溶 媒中または該有機溶媒と水との混合溶媒中で反応を実施してもよい。 金属または化合物と過酸化水素との反応は、 通常その両者を接触させることにより行 われる。 金属または化合物と過酸化水素との接触効率を向上させるため、 金属酸化物調製 液中で金属または化合物が十分に分散するよう攪拌しながら反応を行うことが好ましレ^ 反応温度は、 通常一 1_0〜1 0 o °cである。
金属またはィ匕合物と過酸化水素とを水中、 有機溶媒中もしくは水と有機溶媒の混合溶 媒中で反応させることにより、 金属または化合物の全部もしくは一部が溶解し、 金属酸化 物を含む均一溶液もしくはスラリ一が得られる。 かかる均一溶液もしくはスラリ一から、 金属酸化物を、 例えば濃縮処理、 濾過処理等により単離した後、 金属含有シリケ一トを調 製してもよいし、 該均一溶液もしくはスラリーをそのまま、 金属含有シリケ一卜の調製に 用いてもよい。
ケィ素化合物としては、 例えばテトラメトキシシラン、 テトラエトキシシラン、 テト ライソプロボキシシラン等のテトラアルコキシシランが通常用いられる。 かかるケィ素化 合物は、 通常、 前記金属酸化物中の金属原子に対して、 ケィ素原子が 4モル倍以上となる 量が用いられ、 その使用量の上限は特にない。
有機テンプレートとしては、 例えばアルキルァミン、 第四級アンモニゥム塩、 ノニォ ン系界面活性剤等が挙げられ、 アルキルアミンおよび第四級アンモニゥム塩が好ましい。
アルキルァミンとしては、 例えばォクチルァミン、 ノニルァミン、 デシルァミン、 ゥ ンデシルァミン、 ドデシルァミン、 トリデシルァミン、 テトラデシルァミン、 エイコシル ァミン等のアンモニアの水素原子の一つが、 炭素数 8〜 2 0のアルキル基で置換された一 級ァミン；例えばメチルォクチルァミン等の前記一級ァミンのァミノ基の水素原子のうち の一つが、 例えばメチル基等の炭素数 1〜 6の低級アルキル基で置換された二級アミン； 例えばジメチルォクチルァミン等の前記二級アミンのァミノ基の水素原子が、 例えば前記 炭素数 1〜 6の低級アルキル基で置換された三級アミン等が挙げられ、 一級アミンが好ま しい。
第四級アンモニゥム塩としては、 アンモニゥムイオン （NH +) の四つの水素原子が、 同一もしくは相異なる四つの炭素数 1 ~ 1 8のアルキル基で置換された第四級アンモニ ゥムイオンと、 例えば水酸イオン、 塩素イオン、 臭素イオン等のァニオンとから構成され るものが挙げられる。 具体的には、 水酸化テトラエヂルアンモニゥム、 水酸化テトラプロ ピルアンモニゥム、 水酸化テトラプチルアンモニゥム、 水酸化トリメチルォクチルアンモ ニゥム等の水酸化第四級アンモニゥム塩；塩ィ匕テトラェチルアンモニゥム、 塩ィ匕テトラプ 口ピルアンモニゥム、 塩化テトラプチルアンモニゥム、 塩化トリメチルォクチルアンモニ ゥム等の塩化第四級アンモニゥム塩；臭ィ匕テトラェチルアンモニゥム、 臭化テトラプロピ ルアンモニゥム、 臭化テトラブチルアンモニゥム、 臭ィ匕トリメチルォクチルアンモニゥム 等の臭化第四級アンモニゥム塩等が挙げられ、 水酸化第四級アンモニゥム塩が好ましい。
ノニオン系界面活性剤としては、 例えばポリエチレンダリコール等が挙げられる。 かかる有機テンプレートは、 そのまま用いてもよいし、 後述する水や親水性溶媒と混 合して用いてもよい。 有機テンプレートの使用量は、 ケィ素化合物に対して、 通常 0 . 0 3 ~ 1モル倍である。
有機テンプレートの存在下、 前記金属酸化物とケィ素化合物との反応は、 通常、 溶媒 の存在下に、 三者を混合することにより実施される。 溶媒としては、 例えば水、 親水性有 機溶媒の単独または混合溶媒が挙げられ、 水溶媒および水と親水性有機溶媒との混合溶媒 が好ましい。 親水性有機溶媒としては、 例えばメタノール、 エタノール、 イソプロパノ一 ル等の親水性アルコール溶媒；例えばァセトニトリル等の親水性二トリル溶媒；例えばジ ォキサン等の親水性エーテル溶媒等が挙げられ、 親水性アルコール溶媒が好ましく、 メタ ノールおよびエタノールがより好ましい。 かがる溶媒の使用量は、 有機テンプレートに対 して、 通常:！〜 1 0 0 0重量倍である。
反応温度は、 通常 0〜2 0 0 °Cである。
反応終了後、 例えば、 反応液から反応生成物を濾過等により分離し、 分離した反応生 成物を洗浄処理または焼成処理することにより、 金属含有シリケ一トを製造することがで. きる。 分離した反応生成物を洗浄処理する場合の洗浄溶媒としては、 例えばメタノール、 エタノ一ル等のアルコール溶媒、 水等が挙げられ、 その使用量は、 特に制限されない。 分 離した反応生成物を焼成処理する場合の焼成温度としては、 通常 3 0 0〜7 0 0 °C、 好ま しくは 500〜 600°Cである。 焼成時間は、 通常 0. 5~20時間である。 なお、 分離 した反応生成物を洗浄処理した後、 焼成処理してもよい。
かくして得られる金属含有シリケ一トは、 通常、 平均細孔径 （窒素吸着法により測定 した結果を BH J法により算出） が 4〜10 O Aの細孔を有しており、 また、 その比表面 積（窒素吸着法により測定した結果を BET多点法（pZp。 =0. 1)により算出）は、 通常 10 Om2 /g以上である。
続いて、 かかる金属含有シリゲートを用いて、 1, 2—エポキシ一 3—ブテンと水と の反応について説明する。
金属含有シリケ一トの使用量は、 1, 2—エポキシ一 3—ブテンに対して、 通常 0. 001重量倍以上であり、 その上限は特にないが、 経済的な面を考慮すると、 1, 2—ェ ポキシ—3—ブテンに対して、 5重量倍以下である。
水の使用量は、 1， 2—エポキシ— 3—ブテンに対して、 通常 1モル倍以上であり、 使用量の上限は特になく、 反応溶媒を兼ねて大過剰量、 例えば、 1， 2—エポキシ— 3— ブタンに対して 500モル倍、 を用いてもよい。
' 1, 2—エポキシ— 3—ブテンと水との反応は、 通常無溶媒または水を溶媒として用. いて、 1, 2—エポキシ一 3—ブテンと水と金属含有シリケ一卜とを混合することにより 実施され、 その混合順序は特に制限されない。 また、 有機溶媒の存在下に反応を実施して もよい。 有機溶媒としては、 ジェチルエーテル、 メチル t e r t一ブチルエーテル、 テト ラヒドロフラン等のエーテル溶媒；酢酸ェチル等のエステル溶媒； t e r t—ブ夕ノール 等の第三級アルコール溶媒；ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等の二トリル溶媒；等の 単独もしくは混合溶媒が挙げられる。 有機溶媒の使用量は特に制限されないが、 容積効率 を考慮すると、 実用的には、 1, 2—エポキシ— 3—ブテンに対して、 100重量倍以下 である。
反応は、 通常常圧条件下で実施されるが、 減圧条件下または加圧条件下で実施しても よい。 反応温度は、 通常一 20〜； L 00t、 好ましくは 0~100 である。
反応の進行は、 例えばガスクロマトグラフィ、 高速液体クロマトグラフィ、 薄層クロ マトグラフィ、 核磁気共鳴スペクトル分析、 赤外吸収スペクトル分析等の通常の分析手段 により確認することができる。
反応終了後、 例えば、 金属含有シリケ一トを濾別して得られる濾液を濃縮処理するこ とにより、 3—ブテン— 1， 2—ジオールを取り出すことができる。 また、 前記濾液に、 必要に応じて水および Zまたは水に不溶の有機溶媒を加え、抽出処理し、 3—ブテン— 1， 2—ジオールを含む有機層を得、 該有機層を、 そのままもしくは必要に応じて水やアル力 リ水で洗浄した後、 濃縮処理することにより、 3—ブテン— 1， 2—ジオールを取り出す こともできる。
かくして得られた 3—ブテン一 1， 2—ジォ一ルは、 そのまま、 もしくは、 蒸留、 力 ラムクロマトグラフィ等の通常の精製手段によりさらに精製した後に、 後述の （B) 工程 に用いることができる。 また、 3—ブテン一 1 , 2—ジオールを取り出すことなく、 前記 濾液ゃ前記有機層等の溶液として用いてもよい。
続いて、 （B) 工程： 3—ブテン— 1 , 2—ジオールとメタンチオールとを反応させ て、 4 _ (メチルチオ） ブタン— 1 , 2—ジオールを得る工程について説明する。
メタンチォ一ルは、 市販のものを用いてもよいし、 メタノールと硫化水素とから製造 したものを用いてもよい。 メタンチオールは、 ガス状のものを用いてもよいし、 液状のも のを用いてもよい。 液状のメタンチオールは、 例えば、 ガス状のメタンチォ一ルを、 その 沸点 （6 °C) 以下に冷却した容器内に導入して、 凝縮させる方法等により調製することが できる。
メタンチオールの使用量は、 3—プテン一 1， 2—ジオールに対して、 通常 1モル倍 以上であり、 その上限は特にないが、 経済的な面を考慮すると、 実用的には、 3—ブテン — 1 , 2—ジオールに対して、 1 0モル倍以下である。
3—ブテン— 1 , 2—ジオールとメタンチオールとの反応は、 通常、 無溶媒で実施さ れるが、 溶媒の存在下に実施してもよい。 溶媒としては、 反応を阻害しないものであれば 特に制限されず、水；へキサン、ヘプタン、 トルエン等の炭化水素溶媒；クロ口ベンゼン、 クロ口ホルム等のハロゲン化炭化水素溶媒；ジェチルエーテル、 メチル t e r t—プチル エーテル、 テトラヒドロフラン等のエーテル溶媒；酢酸ェチル等のエステル溶媒； t e r tーブタノ一ル等の第 3級アルコール溶媒；ァセトニトリル、 プロピオ二トリル等のニト リル溶媒；等の単独または混合溶媒が挙げられる。 かかる溶媒の使用量は特に制限されな いが、 容積効率の点で、 実用的には、 3—ブテン— 1， 2—ジオールに対して、 100重 量倍以下である。
反応は、 通常常圧または加圧条件下で実施される。 また、 減圧条件下で反応を実施し てもよい。
3—ブテン一 1， 2—ジオールとメタンチオールとの反応は、 触媒の存在下に実施す ることが好ましく、 触媒としては、 例えば有機過酸化物、 ホウ素化合物等の公知の触媒が 挙げられる。かかる有機過酸化物やホウ素化合物等の公知の触媒を用いる場合は、例えば、 J. of Agricultural and Food Chemistry, 23, 1137 (1975)、 欧州公開特許第 12605 00号公報等に記載の方法に従い反応を実施することができる。
また、 本 （B) 工程の触媒としては、 ァゾ化合物を用いることもできる。 本 （B) ェ 程において、 かかるァゾ化合物を触媒として用いることが好ましい。 ここで、 ァゾ化合物 とは、 分子内にァゾ結合 （一 N = N—） を有し、 分解温度が 250°C以下の化合物を意味 し、 例えば、 2, 2 ' —ァゾビスイソプチロニトリル、 2, 2 ' —ァゾビス （2， 4ージ メチルバレロニトリル)、 2， 2' ーァゾビス （2—メチルプチロニトリル）、 1, 1' - ァゾビス （シクロへキサン— 1一力ルポ二トリル）、 4, 4' ーァゾビス一 4ーシァノぺ ンタノイツクアシッド、 2—フエ二ルァゾ一2, 4—ジメチルー 4—メトキシバレロニト リル、 2—シァノ— 2—プロピルァゾホルムアミド等のァゾニトリル化合物；ァゾビスィ ソブタノ一ルジアセテート、 ァゾビスイソ酪酸メチル、 ァゾビスイソ酪酸ェチル等のァゾ エステル化合物； 2, 2' —ァゾビス （2—アミジノプロパン） 二塩酸塩等のァゾアミジ ン化合物； 2, 2' ーァゾビス [2— (2—イミダゾリン— 2—ィル） プロパン] 等のァ ゾイミダゾリン化合物； 1, 1' —ァゾビスホルムアミド、 1, 1' ーァゾビス （N—メ チルホルムアミド）、 1， 1' —ァゾビス （N， N—ジメチルホルムアミド） 等のァゾァ ミド化合物；ァゾー t e r t—ブタン等のァゾアルキル化合物；等が挙げられ、 ァゾニト リル化合物、 ァゾエステル化合物、 ァゾァミジン化合物およびァゾィミダゾリン化合物が 好ましい。 かかるァゾ化合物は、 通常市販されているものが用いられる。
ァゾ化合物の使用量は、 3—ブテン一 1， 2—ジオールに対して、 通常 0 . 0 0 1モ ル倍以上であり、 その上限は特にないが、 経済的な面を考慮すると、 実用的には、 3—ブ テン— 1 , 2—ジオールに対して、 0 . 2モル倍以下である。
ァゾ化合物を触媒として用いた場合の反応温度は、 用いるァゾ化合物の種類やその使 ' 用量により異なるが、 反応温度があまり低過ぎると、 反応が進行しにくく、 また反応温度 があまり高過ぎると、 3—ブテン— 1 , 2—ジオールや生成物の重合等副反応が進行する 恐れがあるため、 通常ー1 0 ~ 1 0 0 °Cの範囲、 好ましくは 0〜 5 0 °Cの範囲で反応が実 施される。
また、 本 （B) 工程の触媒として、 含窒素芳香族化合物および脂肪族カルボン酸化合 物を用いることもできる。 本 （B) 工程において、 かかる含窒素芳香族化合物および脂肪 族カルボン酸化合物を触媒として用いることも好ましい。
含窒素芳香族化合物としては、 芳香環を構成する原子のうち少なくとも一つが窒素原 子である単環状もしくは縮合環状の炭素数 3 ~ 2 0の複素芳香族化合物であればよい。 ま た、 前記芳香環を構成する一つもしくは二つ以上の水素原子が置換基で置換されていても よい。 かかる置換基としては、 フッ素原子、 塩素原子、 臭素原子等のハロゲン原子；メチ ル基、 ェチル基、 n—プロピル基、 イソプロピル基、 n—ブチル基、 イソブチル基、 s e c一ブチル基、 t e r t一ブチル基等の炭素数 1 ~ 4のアルキル基；メトキシ基、 ェトキ シ基、 n—プロポキシ基、 イソプロポキシ基、 n—ブトキシ基、 イソブトキシ基、 s e c 一ブトキシ基、 t e r t—ブトキシ基等の炭素数 1 ~ 4のアルコキシ基；メトキシカルポ ニル基、 エトキシカルポニル基、 n—プロポキシカルポニル基、 イソプロポキシ力ルポ二 ル基、 n—ブトキシカルポニル基、 t e r t—ブトキシカルポニル基等の炭素数 2〜 5の アルコキシ力ルポニル基；ァミノ基；力ルバモイル基；等が挙げられる。
かかる含窒素芳香族化合物としては、 ピリジン、 ピぺリジン、 ピラジン、 イミダゾー ル、 ベンズイミダゾール、 フエナンスロリン、 ォキサゾール、 チアゾール、 キノリン、 ィ ソキノリン、 2—メチルピリジン、 3—メチルピリジン、 4—メチルピリジン、 .2—クロ 口ピリジン、 3—クロ口ピリジン、 4一クロ口ピリジン、 2 , 3， 5—コリジン、 2 , 4 , 6—コリジン、 ニコチン酸アミド、 ニコチン酸メチル、 N—メチルイミダゾ一ル、 2—ク ロロキノリン等が挙げられ、 なかでも、 ピリジン、 2—メチルピリジン、 3—メチルピリ 'ジン、 4一メチルピリジン、 2—クロ口ピリジン、 3—クロ口ピリジン、 4—クロ口ピリ ジン、 2 , 3 , 5—コリジン、 2， 4 , 6—コリジン、 ニコチン酸アミド、 ニコチン酸メ チル等の置換基を有していてもよぃピリジン化合物が好ましい。 かかる含窒素芳香族化合 物は、 通常市販されているものが用いられる。
含窒素芳香族化合物の使用量は、 3—ブテン—1 , 2—ジオールに対して、 通常 0 0 1モル倍以上であり、その上限は特にないが、経済的な面を考慮すると、実用的には、 3—ブテン— 1 , 2—ジオールに対して、 1モル倍以下である。
脂肪族カルボン酸化合物としては、 少なくとも一つの力ルポキシル基を有する炭素数 1 ~ 2 0の脂肪族化合物であればよく、 例えばギ酸、 酢酸、 プロピオン酸、 ブタン酸、 ぺ ンタン酸、 へキサン酸、 シユウ酸、 乳酸、 コ八ク酸、 アジピン酸等が挙げられる。 かかる 脂肪族カルボン酸は、 通常市販されているものが用いられる。
脂肪族カルボン酸化合物の使用量は、 含窒素芳香族化合物に対して、 通常 0 . 3〜1 0モル倍である。 .
かかる含窒素芳香族化合物と脂肪族力ルポン酸化合物は予め混合しておいてもよい。 3—ブテン一 1 , 2—ジオールとメタンチオールとの反応は、 通常触媒と 3—ブテン —1 , 2—ジオールとメタンチオールとを混合することにより実施され、 その混合順序は 特に制限されない。常圧条件下で反応を実施する場合には、通常、触媒と 3—ブテン一 1， 2—ジオールとの混合物を所定温度に調整し、 これにガス状のメタンチオールを吹き込む 方法により、 反応が実施される。 加圧条件下で反応を実施する場合には、 例えば、 触媒と 3ーブテン一 1， 2—ジオールとをォ一トクレーブ等の密閉可能な容器に加えて、 該容器 を密閉した後、 所定温度でガス状のメタンチオールを圧入する方法、 触媒と 3—ブテン一 1 , 2—ジオールと液状のメタンチオールとを前記密閉容器に加えて、 該容器を密閉した 後、 所定温度に調整する方法等により反応が実施される。 3—ブテン— 1 , 2—ジオール とメタンチオールと触媒を混合した後、 所定温度に調整して反応させる場合や 3—ブテン —1 , 2—ジオールとメタンチオールとを混合しておき、 これに触媒を加えて反応させる 場合には、 円滑に反応を開始させるため、 3—ブテン— 1 , 2—ジオールとメタンチォー ルとを含む混合物中のメタンチオールを、 3—ブテン一 1， 2—ジオールに対して、 4モ ル倍以下としておくことが好ましい。
反応の進行は、 例えばガスクロマトグラフィ、 高速液体クロマトグラフィ、 薄層クロ マトグラフィ、 核磁気共鳴スペクトル分析、 赤外吸収スペクトル分析等の通常の分析手段 により確認することができる。
触媒として、 親油性の触媒を用いた場合には、 反応終了後、 例えば、 反応混合物から 残存するメタンチオールを除去した後、 必要に応じて、 水や非極性溶媒を加え、 抽出処理 し、 得られる 4— (メチルチオ） ブタン一 1， 2—ジオールを含む水層を濃縮処理するこ とにより、 4— (メチルチオ）ブタン一 1， 2—ジオールを取り出すことができる。また、 触媒として、 親水性の触媒を用いた場合には、 例えば反応 合物から残存するメタンチォ —ルを除去した後、 必要に応じて、 水や水に不溶の有機溶媒を加え、 抽出処理し、 得られ る 4— (メチルチオ）ブタン一 1 , ' 2—ジオールを含む有機層を濃縮処理することにより、 4 - (メチルチオ） ブタン一 1， 2—ジオールを取り出すことができる。 反応混合物から 残存するメタンチオールを除去する方法としては、 例えば、 反応混合物を濃縮処理する方 法、 反応混合物に、 窒素ガス等の不活性ガスを吹き込む方法等が挙—げられる。 非極性溶媒 としては、 '例えばへキサン、 ヘプタン、 トルエン、 キシレン等の炭化水素溶媒等が挙げら れ、 その使用量は特に制限されない。 水に不溶の有機溶媒としては、 例えば前記炭化水素 溶媒のほか、 例えば酢酸ェチル等のエステル溶媒、 例えばメチル t e r t一ブチルエーテ ル等のエーテル溶媒等が挙げられ、 その使用量は特に制限されない。
また、 触媒として、 含窒素芳香族ィ匕合物および脂肪族カルボン酸化合物を用いた場合 には、 反応終了後、 例えば、 反応混合物から残存するメタンチオールを除去し、 必要に応 じて水に不溶の有機溶媒を加え、 抽出処理し、 得られる 4一 （メチルチオ） ブタン— 1， 2—ジオールを含む有機層を水、 酸性水および/またはアルカリ水で洗浄した後、 濃縮処 理することにより、 4一 （メチルチオ） ブタン一 1, 2—ジオールを取り出すことができ る。
得られた 4一 （メチルチオ） ブタン— 1, 2—ジオールは、 そのまま、 もしくは、 蒸 留、 カラムクロマトグラフィ等の通常の精製手段によりさらに精製した後に、 後述する (C) 工程に用いることができる。 また、 4一 （メチルチオ） ブタン一 1， 2—ジオール を取り出すことなく、 前記有機層等の溶液のまま用いてもよい。
最後に、 （C) 工程： 4一 （メチルチオ'） ブタン—1, 2—ジオールを酸化して、 2 ーヒドロキシ— 4— (メチルチオ) 酪酸を得る工程について説明する。
本発明においては、 4一 （メチルチオ） ブタン— 1, 2—ジオールの分子内の 1級ァ ルコール部位の酸化が、 2級アルコール部位の酸化やスルフイド部位の酸化よりも、 概し て優先的に進行する。 '
4- (メチルチオ） ブタン一 1， 2—ジォ一ルを酸化して、 2—ヒドロキシ一4— (メ チルチオ） 酪酸を得る方法としては、 例えば、 4— (メチルチオ） ブタン一 1， 2—ジォ ールを Swe r n酸化した後、 硝酸銀酸化する方法、 4一 （メチルチオ） ブタン一 1， 2 ージオールを 2—ヒドロキシー 4— (メチルチオ） 酪酸に変換する能力を有する微生物の 菌体または菌体処理物を、 4— (メチルチオ） ブタン— 1， 2—ジオールに作用させる方 法が挙げられる。 好ましくは、 4— (メチルチオ） ブタン一 1， 2—ジオールを 2—ヒド 口キシ— 4— (メチルチオ） 酪酸に変換する能力を有する微生物の菌体または菌体処理物 を、 4— (メチルチオ） ブタン— 1， 2—ジオールに作用させる方法が挙げられる。
4- (メチルチオ） ブタン— 1, 2—ジオールを Swe r n酸化した後、 硝酸銀酸化 する方法は、 例えば T e t r ahe d r on, 48, 6043 (1992) に記載の方法 に従い実施することができる。
4一 （メチルチオ） ブタン一 1， 2—ジオールを 2—ヒドロキシー 4一 （メチルチオ） 酪酸に変換する能力を有する微生物の菌体または菌体処理物を、 4一 （メチルチオ） ブタ ン— 1, 2—ジオールに作用させる方法について、 以下説明する。 4— (メチルチオ） ブタン— 1, 2—ジオールを 2—ヒドロキシー4一 （メチルチオ） 酪酸に変換する能力を有する微生物の菌体または菌体処理物としては、 例えば、 アルカリ ジェネス '.ファェカリス （Alcaligenes faecalis), アルカリジエネス .デニトリフイカ ンス (Alcaligenes denitrif icans), アルカリジエネス ·ェゥトロパス (Alcaligenes eutrop us), アルカリジエネス ·エスピー （Alcaligenes sp.；)、 アルカリジエネス ·キシ 口ソキシダンス （Alcaligenes xylosoxydans) 等のアル力リジェネス (Alcaligenes) 属 に属する微生物；
バシラス 'アルべィ （Bacillus alvei)、 パシラス 'パディウス （Bacillus badius)、 バ シラス ·ブレビス (Bacillus brevis), バシラス 'セレウス （Bacillus cereus), バシラ ス 'サ一キュランス （Bacillus circulans)、 バシラス ' コアギュランス （Bacillus coagulans), パシラス 'ファーマス （Bacillus firmus), バシラス ' レンタス （Bacillus lentus)^ バシラス · リケニフォルミス （Bacillus licheniformis), バシラス ·マセラン ス (Bacillus macerans)、 ノ シラス ·メ力テリクム （Bacillus megaterium), ノ シラス ' モリタイ （Bacillus moritai)、 バシラス 'ミコイデス （Baci 1 lus mycoides)、 ノ シラス ' ポリミキシァ （Bacillus polymyxa), バシラス 'プミルス （Bacillus pumilus), パシラ ス *スファエリカス （Bacillus sphaericus)、 バシラス ·サチルス (Bacil lus subti lis)、 バシラス 'チューリンゲネシス（Bacillus thuringenesis)>パシラス'バリダス（Bacillus validus) 等のバシラス (Bacillus) 属に属する微生物；
シユードモナス ·ァゥリキユラリス （Pseudomonas auricularis), シユードモナス 'ァゾ トフオリレマンス （Pseudomonas azotoformans)、 シュ一ドモナス ' キヤリ ヨフイ リ (Pseudomonas caryophylli , シュ一 ドモナス · クロ口ラフイ ス (Pseudomonas chlororaphis , シュ一ドモナス ·テ二トリカンス (Pseudomonas denitrif icans), シュ ードモナス 'ディミヌタ （Pseudomonas diminta)、 シユードモナス · フ レオレツセンス (Pseudomonas fluorescens シユードモナス 'フラキ (Pseudomonas fragi)> シュード モナス ' フ レノヾ (Pseudomonas fulva) , シュ一ドモナス ' メンドーシナ (Pseudomonas mendocina)、 シユードモナス ·ムタピリス (Pseudomonas mutabilis), シュ一ドモナス ' ニトロレデュセンス （Pseudomonas nitroreducens)、 シユードモナス 'ォレオポランス
(Pseudomonas oleovorans)、 シユードモナス 'ォバリス (Pseudomonas oval is)、 シユー ドモナス · キサラテイクス (Pseudomonas oxalaUcus)、 シユードモナス ·プランタリ ィ (Pseudomonas pi ant arii)、 シュードモナス 'シュ一ドアルカリジェネス (Pseudomonas pseudoalcaligenes) シュードモナス 'プチタ (Pseudomonas putida > シユードモナス · プトレファシエンス （Pseudomonas putrefaciens)、 シュ一ドモナス . リボフラピナ
(Pseudomonas ri½f lavina)、 シユードモナス 'エスピー (Pseudomonas sp.)、 シユード モナス ' ストラミネア （Pseudomonas straminea) シュ一ドモナス ' シンクサンタ
(Pseudomonas synxantha), シユードモナス · シリンガエ (Pseudomonas syringae), シ ユードモナス ' タバシ （Pseudomonas tabaci)、 シュ一ドモナス · タエトロレンス
(Pseudomonas taetrolens)>シユードモナス 'べシキユラリス (Pseudomonas vesicularis) 等のシユードモナス （Pseudomonas) 属に属する微生物；
ロ ドパクター ' スファエロイデス （Rhodobacter sp aeroides ) 等のロドパクター (Rhodobacter) 属に属する微生物；および、
ロドコッカス 'エリス口ポリス （Rhodococcus erythropol is；)、 ロドコッカス .グロベル ルス (Rhodococcus groberulus)、ロドコッカス-口ドクラウス (Rhodococcus rhodochrous)、 ロドコッカス 'エスピー （Rhodococcus sp.) 等のロドコッカス （Rhodococcus) 属に属す る微生物；等の菌体または菌体処理物が挙げられる。
具体的には、 アルカリジエネス ·ファェカリス (Alcaligenes faecalis) IF013111t、 アルカリジエネス ·デニトリフイカンス （Alcaligenes denitrificans) JCM5490, アル力 リジェネス ·ェゥトロパス （Alcaligenes eutrophus) ATCC43123, アルカリジエネス ·ェ スピ一 (Alcaligenes sp.) IF014130,アルカリジエネス ·キシロソキシダンス (Alcaligenes xylosoxydans) IF015125t、 バシラス 'アルべィ (Bacillus alvei) IF03343 t バシラス - パディウス（Bacillus badius) ATCC 574t、バシラス.ブレビス (Bacillus brevis) IF012334, バシラス 'セレウス （Bacillus cereus) JC 2503t, パシラス *サーキュランス （Bacillus circulans) ATCC13403, パシラス .コアギュランス (Bacillus coagulans) JCM2257t、 パ シラス ·ファーマス （Bacillus firmus) JC 2512t バシラス ·レンタス （Bacillus lentus) 謂 51U、 バシラス'リケニフォルミス (Bacillus licheniformis) 讓2195、 パシラス · マセランス (Bacillus macerans) JCM2500t、パシラス'メガテリゥム (Bacillus megaterium) IF012108、 パシラス ·モリタイ （Bacillus moritai) ATCC21282, パシラス .ミコイデス (Bacillus mycoides) IFO3039、 バシラス ·ポリミキシァ (Bacillus polymyxa) IFO3020, バシラス ·プミルス (Bacillus pumilus) IF012092t、バシラス ·スファェリカス (Bacillus sphaericus) 画 341、 パシラス ·サチルス (Bacillus subtilis) JCM1磁、 パシラス - チューリンゲネシス (Bacillus thuringenesis) ATCC13366>バシラス.パリダス (Bacillus validus) IF013635, シユードモナス ·ァゥリキユラリス （Pseudomonas auricularis) IF013334t,シュ一ドモナス'ァゾトフオルマンス（Pseudomonas azotoformans) JCM2777t, シユードモナス ·キヤリヨフイリ （Pseudomonas caryophyl li) IF01359L シュ一ドモナ ス 'クロ口ラフイス （Pseudomonas chlororaphis) IF0312U, シユードモナス 'デニトリ カンス（Pseudomonas denitrificans) IAM1923、シュ一ドモナス ·ティミヌタ（Pseudomonas diminta) JC 2788 t , シュ一ドモナス ·フルォレツセンス （Pseudomonas f luorescens) IF014160t シュ一ドモナス 'フラギ （Pseudomonas fragi) IF03458t, シユードモナス . フルバ （Pseudomonas fulva) JCM2780t, シュ一ドモナス ·メンドーシナ （Pseudomonas mendocina) IF014162,シュ一ドモナス.ムタビリス（Pseudomonas mutabi lis) ATCC31014、 シユードモナス ·ニトロレヂュセンス （Pseudomonas nit roreducens) JCM2782t> シユー ドモナス 'ォレオポランス （Pseudomonas oleovorans) IF0135835、 シユードモナス 'ォ パリス（Pseudomonas oval is) IF012688 シュ一ドモナス ·ォキサラテイクス（Pseudomonas oxalaticus) IF013593t、シユードモナス ·プランタリィ (Pseudomonas plantarii) JCM5492t、 シユードモナス ·シユードアルカリジエネス （Pseudomonas pseudoalcaligenes) JCM5968 t、 シュ一ドモナス ·プチダ （Pseudomonas putida) IF03738> シユードモナス ·プチダ (Pseudomonas putida) 1纖002、シユードモナス ·プチダ (Pseudomonas putida) IA 1090、 シュ一ドモナス ·プチダ （Pseudomonas putida) IAM1236, シユードモナス ·プチダ (Pseudomonas putida) ATCC39213、 シユードモナス ·プトレファシエンス （Pseudomonas putrefaciens) IFO3910、 シユードモナス ' リボフラピナ (Pseudomonas riboflavina) IF013584t、 シュ一ドモナス 'エスピー （Pseudomonas sp. ) ATCC53617, シユードモナス ' ストラミネア （Pseudomonas straminea) JC 2783t, シユードモナス 'シンクサン夕 (Pseudomonas synxantha) IF03913t,シユードモナス ·シリンガェ (Pseudomonas syringae) IF014055、 シュ一ドモナス 'タバシ （Pseudomonas t abaci) IF03508、 シユードモナス - 夕エトロレンス （Pseudomonas taetrolens) IF03460, シュ一ドモナス .べシキユラリス (Pseudomonas vesicularis) JCM1477t, ロドパクター'.スファエロイデス （Rhodobacter sp aeroides) ATCC17023, ロドコッカス 'エリス口ポリス (Rhodococcus erythropol is) IF012320, ロドコッカス 'グロべルルス (Rhodococcus groberulus) ATCC15610, ロドコ ッカス 'ロドクラウス （Rhodococcus rhodochrous) JCM32021、 ロドコッカス ·ロドクラ ウス （Rhodococcus rhodochrous) ATCC15610およびロドコッカス ·エスピー（Rhodococcus sp.) ATCC19148等の菌体または菌体処理物が挙げられる。
かかる微生物としては、 アルカリジエネス (Alcaligenes) 属、 バシラス (Bacillus) 属、 シュ一ドモナス （Pseudomonas) 属、 ロドパクター （Rhodobacter) 属およびロドコッ カス （Rhodococcus) 属からなる群から選ばれる少なくとも一種の微生物であることが好 ましく、 バシラス （Bacillus) 属、 シュ一ドモナス （Pseudomonas) 属およびロドコッカ ス （Rhodococcus) 属からなる群から選ばれる少なくとも一種の微生物であることがより 好ましく、 シユードモナス （Pseudomonas) 属およびロドコッカス （Rhodococcus) 属から なる群から選ばれる少なくとも一種の微生物であることがさらに好ましく、 口ドコッカス (Rhodococcus) 属の微生物であることが特に好ましい。
かかる微生物は、 炭素源、 窒素源、 有機塩、 無機塩等を適宜含有する各種の微生物を 培養するための培地を用いて培養することができる。 かかる培地に含まれる炭素源として は、 例えば、 グルコース、 スクロース、 グリセロール、 でんぷん、 有機酸、 廃糖蜜等が挙 げられる。 窒素源としては、 例えば、 酵母エキス、 肉エキス、 ペプトン、 カザミノ酸、 麦 芽エキス、 大豆粉、 コーンスティプリカ一 （corn steep liquor), 綿実粉、 乾燥酵母、 硫 安、 硝酸ナトリウム等が挙げられる。 有機塩および無機塩としては、 例えば、 塩化ナトリ ゥム、 塩ィ匕カリゥム、 炭酸ナトリウム、 .リン酸 1カリウム、 リン酸 2カリゥム、 炭酸カル シゥム、 酢酸アンモニゥム、 硫酸マグネシウム、 硫酸銅、 硫酸亜鉛、 硫酸第 1鉄、 塩化コ バルト等が挙げられる。
培養方法としては、 例えば、 固体培養、 液体培養 （試験管培養、 フラスコ培養、 ジャ ーフアーメンター培養等） 等が挙げられる。
培養温度および培養液の P Hは、 本微生物が生育する範囲であれば特に限定されるも のではないが、培養温度は、通常約 1 5〜4 5 °C、培養液の p Hは、通常約 4 ~ 8である。 培養時間は、 培養条件により適宜選択することができるが、 通常、 約 1〜7日間である。
かかる微生物の菌体は、 そのまま用いることができる。 かかる微生物の菌体をそのま ま用いる方法としては、 （1 ) 培養液をそのまま用いる方法、 （2 ) 培養液の遠心分離等に より菌体を集め、集められた菌体（必要に応じて、緩衝液または水で洗浄した後の湿菌体） を用いる方法等を挙げることができる。
また、 かかる微生物の菌体処理物を用いることもできる。 当該菌体処理物としては、 例えば、 培養して得られた菌体を有機溶媒 (アセトン、 エタノール等） 処理したもの、 凍 結乾燥処理したもの若しくはアルカリ処理したもの、 または、 菌体を物理的若しくは酵素 的に破砕したもの、 または、 これらのものから分離'抽出された粗酵素等を挙げることが できる。 さらに、 菌体処理物には、 前記処理を施した後、 公知の方法により固定化処理し たものも含まれる。
かかる微生物の菌体または菌体処理物を、 4— (メチルチオ） ブタン— 1， 2—ジォ ールに作用させることにより、 4 _ (メチルチオ）ブタン一 1 , 2—ジオールが酸化され、 2—ヒドロキシ一 4— (メチルチオ） 酪酸が得られる。
かかる微生物の菌体または菌体処理物の烤用量は、 反応液中の微生物の菌体または菌 体処理物の濃度が、 通常 0 . 0 0 1 ~ 5 0重量％、 好ましくは 0 . 0 1〜2 0重量％とな る量である。
微生物の菌体または菌体処理物と 4一 （メチルチオ） ブタン—1 , 2—ジオールとの 反応は、 通常水の存在下で実施される。 かかる水として、 緩衝水溶液を用いてもよく、 か かる緩衝水溶液に用いられる緩衝剤としては、 リン酸ナトリゥム、 リン酸カリゥム等のリ ン酸のアル力リ金属塩；酢酸ナトリゥム、 酢酸力リゥム等の酢酸のアル力リ金属塩；等が 挙げられる。 また、 水および有機溶媒の存在下で、 かかる微生物の菌体または菌体処理物 と 4一 （メチルチオ） ブタン一 1， 2—ジオールとを反応させてもよい。 かかる有機溶媒 としては、 疎水性有機溶媒であってもよいし、 親水性有機溶媒であってもよい。 疎水性有 機溶媒としては、 ギ酸ェチル、 酢酸ェチル、 酢酸プロピル、 酢酸プチル、 プロピオン酸ェ チル、 プロピオン酸ブチル等のエステル溶媒； n—ブチルアルコール、 n—ァミルアルコ —ル、 n—才クチルアルコール等の疎水性アルコール溶媒；ベンゼン、 トルエン、 キシレ ン等の芳香族炭化水素溶媒；ジェチルエーテル、 ジイソプロピルエーテル、 メチルー t e r t—ブチルエーテル等の疎水性エーテル溶媒；クロ口ホルム、 1， 2—ジクロロエタン 等のハロゲン化炭化水素溶媒；およびこれらの混合溶媒が挙げられる。 親水性有機溶媒と しては、 メタノール、 エタノール等の親水性アルコール溶媒；アセトン等の親水性ケトン 溶媒；ジメトキシェタン、 テトラヒドロフラン、 ジォキサン等の親水性エーテル溶媒；お よびこれらの混合溶媒が挙げられる。
微生物の菌体または菌体処理物と 4 _ (メチルチオ） ブタン一 1 , 2—ジオールとを 反応させる際の p Hは、通常 3〜 1 0の範囲であり、反応温度は、通常 0〜 6 0 °Cである。 また、 反応時間は、 通常 5時間〜 1 0日間である。
反応液中の 4一 （メチルチオ） ブタンー1， 2—ジオールの濃度は、通常、 5 0 % (w /v) 以下である。
微生物の菌体または菌体処理物と 4 _ (メチルチオ）'ブタン一 1 , 2—ジオールとの 反応は、 通常その両者を混合することにより実施される。 また、 4— (メチルチオ） ブタ ンー 1 , 2—ジオールを反応系に連続的または逐次的に加えて反応を実施してもよい。
また、 必要に応じて、 反応系に、 ダルコ一ス、 シユークロース、 フルクトース等の糖 類や T r i t o n X- 1 0 0、 Tw e e n 6 0等の界面活性剤等を加えてもよい。
反応の終点は、 例えば、 反応液中の 4一 （メチルチオ） ブタン— 1， 2—ジオールの 量を、 液体クロマトグラフィ、 ガスクロマトグラフィ等により測定することにより確認す ることができる。
反応終了後、 反応液について、 抽出処理、 濃縮処理等の通常の後処理を行うことによ り、 2—ヒドロキシ一 4一 （メチルチオ） 酪酸を取り出すことができる。 得られた 2—ヒ ドロキシ一 4— (メチルチオ） 酪酸は、 カラムクロマトグラフィ、 蒸留等の通常の精製手 段によりさらに精製することもできる。
実施例
以下、 実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、'本発明はこれら実施例に限定さ れるものではない。
なお、 金属含有シリケ一トの比表面積および平均細孔径は、 いずれも Qu a n t a c h r ome社製 Au t o s o r b— 6を用い、 150で、 1. 35X 10- 5 Kg/cm- 2 (0. 013 kPa相当） の脱気条件下で窒素吸着法により測定し、 比表面積について は BET多点法（p/p。 =0. 1)を用いて、平均細孔径については BH J法を用いて、 それぞれ算出した。 参考例 1
攪拌器を備えた 50 OmLフラスコに、 粉末状タングステン金属 5 gとイオン交換水 25 gを加え、 内温 40°Cに調整した。 これに 60重量％過酸化水素水溶液 15 gを 30 分かけて滴下した後、 同温度で 2時間保持し、 タングステン酸化物含有溶液を得た。 該タ ングステン酸化物含有溶液に、 イオン交換水 75 gおよびエタノール 80 gを加えた後、 内温 40°Cで、 テトラエトキシシラン 41. 6 gを 10分かけて加えた。 さらに、 同温度 で、 40重量％水酸化テトラプチルアンモニゥム水溶液 20 gを 10分かけて滴下した。 その後、 内温 25でまで冷却し、 同温度で攪拌を継続したところ、 約 30分で固体が析出 し、 スラリーとなった。 同温度で 24時間攪拌、 保持した後、 固体を濾取した。 濾取した 固体をイオン交換水 100 gで 2回洗浄した後、 130°Cで 24時間乾燥し、 白色固体 3 8. Ogを得た。 さらに、 得られた白色固体を 550°Cで 6時間焼成し、 白色のタングス テン含有シリケート 16. 5 gを得た。
XRDスペクトル： d値 3. 77 Aに頂点を持つブロードなピークを示した。 酸化タンダ ステンに帰属されるシャープなピークは見られなかつた。
I Rスぺクトル （KB r)
レ m a x : 3478, 1638, 1078， 960, 806、 557 cm- 1 元素分析値； W: 9. 8%, S i ： 39. 5%
比表面積： 543m2 /g、 平均細孔径： 16 A 参考例 2
攪拌器を備えた 50 OmLフラスコに、 粉末状タングステン金属 5 gとイオン交換水 25 gを加え、，内温 40°Cに調整した。 これに 60重量％過酸化水素水溶液 15 gを 30 分かけて滴下した後、 同温度で 2時間保持し、 タングステン酸化物含有溶液を得た。 該タ ングステン酸化物含有溶液に、 イオン交換水 75 gおよびエタノール 80.gを加えた後、 内温 40でで、 テトラエトキシシラン 41. 6 gを 10分かけて加えた。 さらに、 同温度 で、 10重量％水酸化テトラプロピルアンモニゥム水溶液 40 gを 10分かけて滴下した。 その後、 内温 25°Cまで冷却し、 同温度で攪拌を継続したところ、 約 30分で固体が析出 し、 スラリーとなった。 同温度で 24時間攪拌、 保持した後、 固体を濾取した。 濾取した 固体をイオン交換水 100 gで 2回洗浄した後、 13 ΟΤで 24時間乾燥し、 白色固体 3 8. 0 gを得た。 得られた白色固体を 550°Cで 6時間焼成し、 白色のタングステン含有 シリゲート 17. 3 gを得た。
XRDスペクトル： d値 3. 76 Aに頂点を持つブロードなピークを示した。 酸化タンダ ステンに帰属されるシャープなピークがわずかに見られた。
I Rスぺクトル （KB r)
vm a x : 3480， 1638, 1078， 956， 800 cm- 1
元素分析値； W: 11. 0%, S i ： 31. 4% 比表面積： 573m2 /g> 平均細孔径： 22 A 参考例 3
攪拌器を備えた 50 OmLフラスコに、 粉末状モリブデン金属 2 gとイオン交換水 2 5 gを加え、 内温 40 °Cに調整した。 これに 60重量％過酸化水素水溶液 15 gを 1時間 かけて滴下した後、 同温度で 1時間保持し、 モリブデン酸化物含有溶液を得た。 該モリブ デン酸化物含有溶液に、 イオン交換水 75 gおよびエタノール 80 gを加えた後、 内温 4 0°Cで、 テトラエトキシシラン 41. 6 gを 10分かけて加えた。 さらに、 同温度で、 ド デシルァミン 10 gを 10分かけて滴下したところ、 すぐに固体が析出してスラリーとな つた。 内温 25°Cに冷却し、 さらに 24時間攪拌、 保持した後、 固体を濾取した。 濾取し た固体をイオン交換水 100 gで 2回洗浄した後、 110 で 6時間乾燥し、 次いで 55 0でで 6時間焼成し、 白色のモリブデン含有シリケ一ト 15. 5 gを得た。
XRDスペクトル： d値 3. 8 Aに頂点を持つブロードなピークと酸化モリブデンに帰属 されるシャープなピークの混合したスペクトルであった。
I Rスぺクトル （KB r)
vm a x ： 3470, 1640, 1090, , 956， 915, 802 cm- 1 元素分析値； Mo : 13. 9%, S i : 32. 4%
比表面積： 171m2 Zg、 平均細孔径： 73 A
これらの結果から、 得られた白色のモリブデン含有シリゲートには、 酸化モリブデンが混 じっていることがわかった。 参考例 4
攪拌器を備えた 50 OmLフラスコに、 粉末状モリブデン金属 2. 5 gとイオン交換 水 25 gを加え、 内温 40でに調整した。 これに 60重量％過酸化水素水溶液 15 gを 1 時間かけて滴下した後、 同温度で 1時間保持し、 モリブデン酸化物含有溶液を得た。 該モ リブデン酸化物含有溶液に、 イオン交換水 75 gおよびエタノール 80 gを加えた後、 内 温 40°Cで、テトラエトキシシラン 41. 6 gを 10分かけて加えた。さらに、 40重量％ 水酸化テトラプチルアンモニゥム水溶液 20 gを 10分かけて滴下した。 その後、 同温度 で攪拌を継続したところ、 15分程度で固体が析出してスラリーとなった。 スラリーに、 イオン交換水 200 gを加え、 内温 25°Cに冷却し、 24時間攪拌、 保持した後、 固体を 濾取した。濾取した固体をイオン交換水 100 gで 2回洗浄し、 110°Cで 6時間乾燥し、 次いで 550°Cで 6時間焼成し、 白色のモリブデン含有シリケ一ト 15. 9 gを得た。 XRDスペクトル： d値 3. 79 Aに頂点を持つブロードなピークを示した。 酸化モリブ デンに帰属されるシャ一プなピークは見られなかつた。
I Rスぺクトル （KB r)
vm a x ： 3470, 1640， 1080, 956， 913， 796 cm.1 元素分析値； Mo： 5. 22%, S i : 37. 0%
比表面積： 649m2 Zg、 平均細孔径： 22A 参考例 5
攪拌器を備えた 50 OmLフラスコに、 粉末状バナジウム金属 1. 3 gとイオン交換 水 25 gを加え、 内温 40 °Cに調整した。 これに 30重量％過酸化水素水溶液 15 gを 3 0分かけて滴下した後、 同温度で 1時間保持し、 バナジウム酸化物含有溶液を得た。 該バ ナジゥム酸化物含有溶液に、 イオン交換水 75 gおよびエタノール 80 gを加えた後、 内 温 40°Cで、テトラエトキシシラン 41. 6 gを 10分かけて加えた。さらに、 40重量％ テトラー n—プロピルァミン水溶液 40 gを 10分かけて滴下した。 その後、 内温 25 まで冷却し、 攪拌を継続したところ、 30分程度で固体が析出してスラリーとなった。 同 温度でさらに 24時間攪拌、 保持した後、 固体を濾取した。 濾取した固体をイオン交換水 100 gで 2回洗浄し、 130°Cで 8時間乾燥し、 次いで 550°Cで 6時間焼成し、 褐色 のバナジウム含有シリケート 16. 0 gを得た。
XRDスペクトル： d値 3. 85 Aに頂点を持つブロードなピークを示した。 酸化バナジ ゥムに帰属されるシャープなピークは見られなかつた。 I Rスぺクトル （KB r)
vm a x : 1050, 956， 794, 629 cm'1
元素分析値； V： 5. 56%, S i : 36. 1 %
比表面積： 708m2 /g、 平均細孔径： 27 A 実施例 1
磁気回転子および還流冷却管を付した 5 OmLフラスコに、 参考例 4で調製したモリ ブデン含有シリゲート 3 Omg、 1， 2—エポキシ一 3—ブテン 3 1 Omgおよび蒸留水 3 gを加え、 内温 25 °Cで 5時間攪拌、 反応させた。 得られた反応液にテトラヒドロフラ ン 1 0 gを加え、 3—ブテン一 1, 2—ジォ一ルを含む溶液を得た。 ガスクロマトグラフ ィ内部標準法により分析したところ、 3—ブテン— 1， 2—ジオールの収率は 93%であ つた。 実施例 2
実施例 1において、 参考例 4で調製したモリブデン含有シリケートに代えて、 参考例
5で調製したバナジウム含有シリケ一トを用い、 1， 2—エポキシ一 3—ブテンの使用量 を 30 Omgとした以外は、 実施例 1と同様に実施した。
3—ブテン— 1, 2—ジオールの収率は 94%であった。 実施例 3
実施例 1において、 参考例 4で調製したモリブデン含有シリケートに代えて、 参考例 3で調製したモリブデン含有シリケートを用い、 1， 2—エポキシ— 3—ブテンの使用量 を 33 Omgとした以外は、 実施例 1と同様に実施した。
3—プテン一 1, 2—ジオールの収率は 95%であった。 実施例 4 実施例 1において、 参考例 4で調製したモリブデン含有シリケートに代えて、 参考例 1で調製したタングステン含有シリケートを用いた以外は、 実施例 1と同様に実施した。 3—ブテン— 1， 2—ジオールの収率は 81 %であった。 実施例 5
実施例 1において、 参考例 4で調製したモリブデン含有シリケ一トに代えて、 参考例 2で調製したタングステン含有シリケ一トを用いた以外は、 実施例 1と同様に実施した。 3—ブテン— 1， 2—ジオールの収率は 82 %であった。 実施例 6
磁気回転子および還流冷却管を付した 50 mLフラスコに、 参考例 5で調製したバナ ジゥム含有シリケ一ト 30mg、 1, 2 _エポキシ— 3—ブテン 30 Omgおよび蒸留水 3 gを加え、 内温 25°Cで 5時間攪拌、 反応させた。 得られた反応液にテトラヒドロフラ ン 10 gを加え、 バナジウム含有シリケ一トをデカンテーシヨンにより除き、 3—ブテン 一 1 , 2—ジオールを含む溶液を得た。 ガスクロマトグラフィ内部標準法により分析した ところ、 3—ブテン一 1, 2—ジオールの収率は 94%であった。 実施例 7
磁気回転子および還流冷却管を付した 5 OmLフラスコに、 実施例 6でデカンテーシ ヨンにより除去したバナジウム含有シリケ一トの全量、 1， 2—エポキシ— 3—ブテン 3 0 Omgおよび蒸留水 3 gを加え、 内温 25°Cで 5時間攛梓、 反応させた。 得られた反応 液にテトラヒドロフラン 10 gを加え、 3—ブテン一 1, 2—ジオールを含む溶液を得た。 ガスクロマトグラフィ内部標準法により分析したところ、 3—ブテン一 1, 2—ジオール の収率は 87%であった。 実施例 8 磁気回転子および還流冷却管を付した 5 OmLフラスコに、 85%リン酸 3 Omg、 1， 2—エポキシ一 3—ブテン 30 Omgおよび蒸留水 3 gを加え、 内温 5°Cで 5時間攪 拌、 反応させた。 得られた反応液にテトラヒドロフラン 10 gを加え、 3—ブテン— 1， 2一ジオールを含む溶液を得た。 ガスクロマトグラフィ内部標準法により分析したところ、 5 3—ブテン一 1, 2—ジオールの収率は 92%であった。 実施例 9
磁気 ili転子および還流冷却管を付した 5 OmLフラスコに、メタリン酸 30mg、 1， 2—エポキシ— 3—ブテン 30 Omgおよび蒸留水 3 gを加え、 内温 25°Cで 5時間攪拌、 10 反応させた。 得られた反応液にテトラヒドロフラン 10 gを加え、 3—ブテン一 1, 2— ジオールを含む溶液を得た。 ガスクロマトグラフィ内部標準法により分析したところ、 3 ーブテン一 1， 2—ジオールの収率は 86%であった。 実施例 10
L5 - 磁気回転子を付した 10 OmLフラスコに、 3—ブテン一 1, 2—ジォ一ル 880m gと 2, 2' —ァゾビスイソプチロニトリル 1 Omgを加えた。 得られた混合物に、 内温
25°Cで、 攪拌しながらガス状のメタンチォ一ルを約 10〜2 OmL/分の速度で 1時間 かけて吹き込んだ。 同温度で、 さらに 1時間攙拌、 反応させた。 反応終了後、 反応混合物 中に、窒素を吹き込むことにより、残存するメタンチオールを除去し、 4— (メチルチオ）
：0 ブタン一 1， 2—ジオールを含む油状物 1245mgを得た。 この油状物をガスクロマト グラフィ面積百分率法により分析したところ、 4— (メチルチオ） ブタン一 1， 2—ジォ —ルの収率は 73 %であった。 実施例 11
5 磁気回転子を付した 10 OmLォ一トクレープに、 3—ブテン一 1, 2—ジオール 1
300mgと 2， 2' —ァゾビスイソプチロニトリル 2 Omgを加えた。 得られた混合物 を内温 0°Cに冷却した後、 液状のメタンチオール 140 Omgを加えた。 オートクレープ を密閉した後、 30°Cで 2時間攪拌、 反応させた。 反応開始時のォ一トクレーブ内の圧力 (ゲージ圧） は S kgZcm2 ( 0. 2MPa相当）であり、 反応終了時の圧力 （ゲージ） は l kgZcm2 ( 0. IMP a相当） であった。 反応終了後、 窒素を反応混合物中に吹 き込み、 残存するメ夕ンチオールを除去し、 4一 (メチルチオ) ブタン一 1, 2—ジォ一 ルを含む油状物 179 Omgを得た。 この油状物をガスクロマトグラフィ面積百分率法に より分析したところ、 4一 ' (メチルチオ） ブタン一 1， 2—ジオールの収率は 67%であ つた。 実施例 12
磁気回転子を付した 10 OmLオートクレープに、 3—ブテン— 1， 2—ジオール 1 30 Omgと 2， 2 ' —ァゾビスイソプチロニトリル 2 Omgを加えた。 得られた混合物 を内温 0°Cに冷却した後、 液状のメタンチオール 140 Omgを加えた。 オートクレープ を密閉した後、 40でで 4時間攪拌、 反応させた。 反応開始時のオートクレープ内の圧力 (ゲージ圧） は、 2. 5 kg/cm2 ( 0. 25 MP a相当） であり、 反応終了時の圧力 (ゲージ圧） は 0. 5 kg/cm2 ( 0. 05MP a相当） であった。 反応終了後、 反応 混合物中に窒素を吹き込み、 残存するメタンチオールを除去し、 4一 （メチルチオ） ブタ ン一 1, 2 _ジォ一ルを含む油状物 199 Omgを得た。 この油状物をガスクロマトグラ フィ面積百分率法により分析したところ、 4— (メチルチオ） ブタン一 1, 2—ジオール の収率は 94%であった。 ' 実施例 13
磁気回転子を付した 5 OmLオートクレーブに、 3—ブテン— 1， 2—ジオール 20 0 Omgと 2， 2 ' —ァゾビス [2— （2—イミダゾリンー2—ィル） プロパン] 20m gを加えた。 得られた混合物を内温 0°Cに冷却した後、 液状のメタンチオール 1500m gを加えた。 ォ一トクレーブを密閉した後、 40でで 4時間攪拌、 反応させた。 反応開始 時のオートクレーブ内の圧力 （ゲージ圧） は、 2. 5 kg/cm2 ( 0. 25 MP a相当） であり、 反応終了時の圧力 （ゲージ圧） は 0. 5kg/cm2 ( 0. 05 MP a相当） で あった。反応終了後、反応混合物中に窒素を吹き込み、残存するメタンチオールを除去し、 酢酸ェチル 10 gを加え、 4— (メチルチオ） ブタン一 1， 2—ジオールを含む溶液を得 た。 この溶液をガスクロマトグラフィ面積百分率法により分析したところ、 4一 （メチル チォ） ブタン—1, 2—ジオールの収率は 94%であった。 実施例 14
実施例 13において、 2, 2 ' —ァゾビス [2— （2—イミダゾリン— 2—ィル） プ 口パン]に代えて、ァゾビスイソ酪酸メチルを用いる以外は実施例 13と同様に実施して、 4一 （メチルチオ） ブタン一 1, 2—ジォ一ルを含む溶液を得た。 この溶液をガスクロマ トグラフィ面積百分率法により分析したところ、 4一 （メチルチオ） ブタンー1， 2—「ジ オールの収率は 98%であった。 実施例 15
磁気回転子を付した 5 OmLォ一トクレーブに、 3—ブテン一 1， 2—ジォ一ル 200 Omgとピリジン 9mgと酢酸 14mgとを加え、 内温 0°Cに冷却した後、 液状のメタン チオール 150 Omgを加えた。 オートクレープを密閉した後、 40°Cで 4時間攪拌、 反 応させた。反応開始時のオートクレープ内の圧力（ゲージ圧）は、 2. 5 kg/cm2 (0. 25 MP a相当） であり、 反応終了時の圧力は、 0. 5 kgZcm2 (0. 05MPa相 当） であった。 反応終了後、 常圧に戻し、 反応混合物中に窒素を吹き込み、 残存するメタ ンチォ一ルを除去し、 酢酸ェチル 10 gを加えた。 この溶捧をガスクロマトグラフィ内部 標準法により分析したところ、 4一 （メチルチオ） ブタン一 1, 2—ジオールの収率は 9 4%であった。 実施例 16 実施例 10で得られた無色オイルに、 所定量の水を加えた後、 不溶分を濾別し、 10% (w/v) の 4一 （メチルチオ） ブタン— 1， 2—ジオール水溶液を調製した。
試験管に滅菌済み培地 （1Lの水に、 グルコース 20 g、 ポリペプトン 5 g、 酵母ェキ ス 3 g、 肉エキス 3g、 硫酸アンモニゥム 0. 2g、 リン酸 2水素カリウム 1 gおよび硫 酸マグネシウム 7水和物 0. 5 gを加えた後、 pHを 7. 0に調整したもの） 5mLを入 れ、 これに表 1〜 4に示された各種の菌体を植菌した。 これを 30 °Cで好気条件下、 振盪 培養した。 培養終了後、 遠心分離により菌体を分離することにより、 生菌体を得た。 ねじ 口試験管に、 0. 1Mリン酸カリウムバッファー （pH7) 2mLを入れ、 これに上記の 生菌体を加え、 得られた懸濁液に、 前記 10% (w/v) の 4一 （メチルチオ） ブタン一 1, 2—ジオール水溶液 0. 2mLを添加した。 その後、 得られた混合物を 30°Cで 2~ 3日間振盪させた。 反応終了後、 反応液 ImLをサンプリングした。 当該サンプリング液 から菌体を除去した後、 生成した 2—ヒドロキシ一 4—メチルチオ酪酸の量を液体クロマ トグラフィにより分析した。 得られた結果を表 1〜4に示す。 なお、 表 1〜4中の 2—ヒ ドロキシ— 4一 （メチルチオ） 酪酸の生成率 （％) は、 4— (メチルチオ） ブタンー1， 2—ジオール基準で算出した。
なお、 液体クロマトグラフィの分析条件は以下のとおりである。
カラム： Cadenz a CD-C 18 (4. 6πιπι X 15 cm, 3 ^m) ( I m t a k t社製）
移動相： A液 0. 1 %トリフルォロ酢酸水溶液， B液 メタノール
グラジェント条件： 0— 10分 A液 ZB液 =80/20 (—定）
10— 20分 10分かけャ、 A液 ZB液 =50 ： 50へ
20 - 30分 A液 ZB液 =50 : 50 (一定）
30 - 30. 1分 0. 1分かけて、 A液 ZB液 =80 ： 20へ 30. 1— 50分 A液 ZB液 =80/20 (一定）
流量： 0. SmLZ分， カラム温度： 40°C， 検出波長： 220 nm 2_ヒドロキシ一 4一（メチルチオ） 菌株名 酪酸の生成率（％)
Alcal igenes faecal is IFO 131111 0.1
Al cal igenes den i tr i f i cans JCM 5490 0.4
Alcal igenes eutrophus ATCC 43123 0, 1
Alcal igenes faecal is IFO 12669 0.2
Al cal igenes faecal is IFO 14479 0.1
Al cal igenes faecal is JCM 5485t 2.5
Al cal igenes sp. IFO 14130 0.1
Alcal igenes xylosoxydans IF015125t denitrificans 0.2
Al cal igenes xylosoxydans IF015126t xylosoxydans 0.5
Baci I lus a!vei IFO 3343t 17.0
Baci I【us badius ATCC 14574t 7.3
Baci 1 lus brevis IFO 12334 4.7
Baci I lus brevis JCM 2503t 4.2
Baci I lus cereus JCM 2152t 11.2
Bacil lus cereus var. juroi ATCC 21281 10.3
Bacil lus cereus var.mycoides [FO 3039 2.6
Baci I lus circulans ATCC 13403 、 1.2
Baci I lus ci rculans IFO 3329 2.8
Baci 1 lus circulans JCM Z504t 1.4
Bacillus coagul ans JCM 2257t 5.0
Baci 1 lus f i rmus JCM 2512t 0.6
Baci 1 lus ientus JCM 2511 t 3.6
Bacillus 1 i chen i formi s ATCC 27811 2.0
Baci I lus 1 icheniformis IFO 12195 1.8
Baci I lus i icheniformis IFO 12195 1.3
Baci I lus 1 icheniformis IFO 12197 12.9
Baci I lus I icheniformis IFO 12200t 1.3
Bacil lus tnacerans JCM 2500t 1.5
Baci llus megaterium IFO 12108 0-6
Bacillus megaterium JCM 250Bt 1.2 2
2—ヒドロキシー 4一（メチルチオ.） 菌株名 酪酸の生成率（％)
Baci I lus mori tai ATCC 21282 11.5
Baci I lus mycoides IFO 3039 6.0
Baci 1 lus polymyxa IFO 3020 3.5
Bacil lus polymyxa JCM 2507t 2.8
Baci i lus pumi lus IFO 120921 1.5
' Baci 1 lus sphaericus IFO 3341 13.2
Bacil lus sphaericus IFO 3525 0.6
Baci 1 lus sphaericus IFO 3526 6.2
Bacil lus sphaericus IFO 3527 4.0
Baci 1 lus sphaericus IFO 3528 1.6
Baci 1 lus subti 1 is JCM 1465t 10.8
Baci 1 lus subti lis. ATCC 14593 1.7
Baci I lus subti I is ATCC15841 5.6
Baci 1 lus subti 1 is IFO 03026 2.8
Baci i lus subti 1 is IFO 03108 2.5
Baci 1 lus subti 1 is IFO 03134 2.8
Baci 1 lus subti 1 is IFO 3026 3.3
Baci 1 lus subti I is IFO 3037 2.7
Baci 1 lus subti 1 is IFO 3108 1.7
Baci I lus subti 1 is IFO 3134 1.5
Bacil lus thuringensis ATCC 13366 10.4
Baci 1 lus val idus IFO 13635 3.8
Pseudomonas auricul aris IFO 13334t 1.9
Pseudomonas azotof orraans JCM 2777 t 8.9
Pseudomonas caryophy 1 i i IFO 13591 0.4
Pseudomonas chlororaphis IFO 3521 t 1.1
Pseudomonas chlororaphis IFO 3904t 0.7
Pseudomonas denitrif icans 1AM 1923 2.7
Pseudomonas diminuta JCM 2788t 38.9 2—ヒドロキシー 4一（メチルチオ） 菌株名 酪酸の生成率（％)
Pseudomonas f luorescens Biotype F ATCC 17513 7.6
Pseudomonas f luorescens IFO 141601 0.3
Pseudomonas f ragi IAM12402 0.1
Pseudomonas f ragi IFO 3458t 0.4
Pseudomonas fulva JCM 2780t 1.1
Pseudomonas mendocina IFO 14162 34.1
Pseudomonas mutabi I is ATCC31014 13.5
Pseudomonas ni troreducens JCM 2782t 8.4
Pseudomonas oleovorans IFO 13583t 0.3
Pseudomonas oval is IFO 12688 1.4
Pseudomonas oxa I at i cus IFO 135931 0.2
Pseudomonas p! antari i JCM 5492t 1.3
Pseudomonas pseudoalcal igenes JCM S968t 36. Z
Pseudomonas putida ATCC 17428 1.5
Pseudomonas putida ATCC 17484 9.9
Pseudomonas putida ATCC39213 23.3
Pseudomonas putida 1AM 1002 20.5
Pseudomonas putida I AM 1090 28.1
Pseudomonas putida !AM 1094 1.0
Pseudomonas putida I AM 1236 19.6
Pseudomonas putida IFO 12996 5.6
Pseudomonas putida IFO 13696 9.3
Pseudomonas putida IFO 14164t 41.2
Pseudomonas putida IFO 14671 0.9
Pseudomonas putida IFO 14796 1.0
Pseudomonas putida IFO 3738 38.2
Pseudomonas putida IFOI'2653 5.7
Pseudomonas putida JCM 6156 1.5
Pseudomonas putida JCM 6157 0.5
Pseudomonas putida JCM 61S& 1.2 2—ヒドロキシー 4一（メチルチオ） 菌株名 賂酸の生成率（％〉
Pseudomonas putrefaciens IFO 3910 0.2
Pseudomonas r iboflavina IFO 13584t 0.1
Pseudomonas sp. ATCC 53617 4.4
Pseudomonas straminea JCM 27831 1.0
Pseudomonas synxantha IFO 3913t 0.4
Pseudomonas syringae subsp. syringae IF014055 3.8
Pseudomonas tabac i IFO 3508 1.7
Pseudomonas taetrol ens IFO 3460 0.3
Pseudomonas vesicul aris JCM 1477t 8.4
Rhodobacter sphaeroides ATCC 17023 3.0
Rhodococcus erythropol i s IFO 12320 21.7
Rhodococcus globeriilus ATCC 15076 22.7
Rhodococcus rhodochrous ATCC 15610 58.9
Rhodococcus rhodochrous ATCC 19067 16.0
Rhodococcus rhodochrous ATCC 19149 14.6
Rhodococcus rhodochrous ATCC 19150 12.3
Rhodococcus rhodochrous ATCC 21197 2.7
Rhodococcus rhodochrous ATCC 21199 7.9
Rhodococcus rhodochrous JCM 3202t 30.9
Rhodococcus sp ATCC 19070 13.1
Rhodococcus sp ATCC 19071 7.7
Rhodococcus sp ATCC 19148 34.5

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 下記 （A) 工程、 （B ) 工程および （C) 工程を含むことを特徴とする 2—ヒドロキシー 4一 （メチルチオ） 酪酸の製造方法。
(A) 工程： 1， 2—エポキシ— 3—ブテンと水とを反応させて、 3—ブテン一 1， 2— ジオールを得る工程
(B) 工程： 3—ブテン一 1， 2—ジオールとメタンチオールとを反応させて、 4一 （メ チルチオ） ブタン一 1， 2—ジオールを得る工程
( C) 工程： 4— (メチルチオ） ブタン— 1 , 2—ジオールを酸化して、 2—ヒドロキシ 一 4一 (メチルチオ) 酪酸を得る工程
2 . (A) 工程において、 酸の存在下に反応を実施する請求の範囲第 1項に 記載の 2—ヒドロキシー 4一 （メチルチオ） 酪酸の製造方法。
3 . 酸が、 長周期律表第 5族元素および第 6族元素からなる群から選ばれる 少なくとも一種の元素を構成要素として含有するシリケートである請求の範囲第 2項に 記載の 2—ヒドロキシー 4一 （メチルチオ） 酪酸の製造方法。
4 . 長周期律表第 5族元素および第 6族元素からなる群から選ばれる少なくとも 一種の元素が、 バナジウム、 タングステンまたはモリブデンである請求の範囲第 3項に記 載の 2—ヒドロキシー 4一 （メチルチオ） 酪酸の製造方法。
5 . 酸が、 リン酸化合物である請求の範囲第 2項に記載の 2—ヒドロキシ— 4— (メチルチオ） 酪酸の製造方法。
6 . (A) 工程において、 1 , 2—エポキシ一 3—ブテンが、 ブタジエンを酸化 して得られる 1 , 2 _エポキシ— 3—ブテンである請求の範囲第 1項に記載の 2—ヒドロ キシー 4— (メチルチオ） 酪酸の製造方法。
7 . (B ) 工程において、 触媒の存在下に反応を実施する請求の範囲第 1項 に記載の 2—ヒドロキシ— 4一 （メチルチオ） 酪酸の製造方法。
8. 触媒が、 ァゾィ匕合物である請求の範囲第 7項に記載の 2—ヒドロキシ— 4一 (メチルチオ） 酪酸の製造方法。
9. ァゾ化合物が、 ァゾニトリル化合物、 ァゾエステル化合物、 ァゾアミジ ン化合物またはァゾイミダゾリン化合物である請求の範囲第 8項に記載の 2—ヒドロキ シ— 4一 （メチルチオ） 酪酸の製造方法。
10. 触媒が、 含窒素芳香族化合物および脂肪族カルボン酸化合物である請求の 範囲第 7項に記載の 2—ヒドロキシー 4— (メチルチオ） 酪酸の製造方法。
11. (C) 工程において、 4一 （メチルチオ） ブタン— 1, 2—ジオールを 2—ヒドロキシ— 4— (メチルチオ） 酪酸に変換する能力を有する微生物の菌体または菌 体処理物を、 4— (メチルチオ） ブタン— 1, 2—ジオールに作用させて、 4— (メチル チォ） ブタン一 1, 2—ジオールを酸化する請求の範囲第 1項に記載の 2—ヒドロキシー 4- (メチルチオ） 酪酸の製造方法。
12. 微生物が、 アルカリジエネス （Alcaligenes) 属、 バシラス （Bacillus) 属、 シユードモナス （Pseudomonas) 属、 ロドパクター （R odobacter) 属およびロドコッ カス （Rhodococcus) 属からなる群より選ばれる少なくとも 1種の微生物である請求項.1 1に記載の 2—ヒドロキシー 4— (メチルチオ） 酪酸の製造方法。
PCT/JP2005/019259 2004-10-14 2005-10-13 ２－ヒドロキシ－４－（メチルチオ）酪酸の製造方法 Ceased WO2006041209A1 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN2005800345627A CN101040051B (zh) 2004-10-14 2005-10-13 生产2-羟基-4-(甲硫基)丁酸的方法
US11/665,070 US7632664B2 (en) 2004-10-14 2005-10-13 Method for producing 2-hydroxy-4-(methylthio)butyric acid
EP05795688A EP1801227B1 (en) 2004-10-14 2005-10-13 Method for producing 2-hydroxy-4-(methylthio)butanoic acid
DE602005013993T DE602005013993D1 (de) 2004-10-14 2005-10-13 Verfahren zur herstellung von 2-hydroxy-4-(methylthio)butansäure

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004-299654 2004-10-14
JP2004299654 2004-10-14

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2006041209A1 true WO2006041209A1 (ja) 2006-04-20

Family

ID=36148493

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2005/019259 Ceased WO2006041209A1 (ja) 2004-10-14 2005-10-13 ２－ヒドロキシ－４－（メチルチオ）酪酸の製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US7632664B2 (ja)
EP (1) EP1801227B1 (ja)
CN (1) CN101040051B (ja)
DE (1) DE602005013993D1 (ja)
ES (1) ES2324547T3 (ja)
WO (1) WO2006041209A1 (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7754454B2 (en) 2004-09-17 2010-07-13 Sumitomo Chemical Co., Ltd. Process for producing sulfur-containing hydroxycarboxylic acid
CN101258128A (zh) * 2005-09-12 2008-09-03 住友化学株式会社 制备4-(甲硫基)丁-1,2-二醇的方法
CN102702046B (zh) 2006-07-21 2014-07-09 住友化学株式会社 生产2-羟基-4-(甲硫基)丁酸或丁酸酯化合物及其中间体的方法
EP2566969B1 (en) 2010-05-05 2019-09-04 Genomatica, Inc. Microorganisms and methods for the biosynthesis of butadiene
JP2012126651A (ja) * 2010-12-13 2012-07-05 Sumitomo Chemical Co Ltd ヒドロキシカルボン酸化合物またはその塩の製造方法
CN104073528B (zh) * 2013-03-28 2017-06-06 上海医药工业研究院 一种3‑甲硫基丙酸的制备方法
RU2710598C2 (ru) 2014-06-19 2019-12-30 Хальдор Топсеэ А/С Конверсия с1-3 оксигенатных соединений до с4-оксигенатных соединений, опосредованная кристаллическим микропористым материалом

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH026467A (ja) * 1988-04-19 1990-01-10 Pfizer Inc 光学活性３―（メタンスルホニルオキシ）チオランおよびその類似化合物
JPH03502330A (ja) * 1988-01-28 1991-05-30 イーストマン ケミカル カンパニー オレフィンの選択的エポキシ化
JP2000516232A (ja) * 1996-08-09 2000-12-05 ザ ダウ ケミカル カンパニー ビニルグリコールの不飽和ジオールへの異性化
JP2001054380A (ja) * 1999-08-13 2001-02-27 Daicel Chem Ind Ltd 新規ニトリラーゼ、および２−ヒドロキシ−４−メチルチオ酪酸の製造方法
EP1260500A1 (en) * 2001-05-18 2002-11-27 Aventis Animal Nutrition S.A. Process for the production of a sulphur-containing organic compound
JP2003300722A (ja) * 2002-02-08 2003-10-21 Sumitomo Chem Co Ltd 金属含有メソポアシリケート、その製造方法およびその用途

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4524077A (en) 1983-11-14 1985-06-18 Monsanto Company Liquid 2-hydroxy-4-methylthiobutyric acid and process for the preparation thereof
US4897498A (en) * 1988-01-28 1990-01-30 Eastman Kodak Company Selective monoepoxidation of olefins
US5250743A (en) * 1992-12-31 1993-10-05 Eastman Kodak Company Method of intercoversion of enantiomers of acyclic 1,2-dihydroxy-3-alkenes
US5973200A (en) * 1997-01-23 1999-10-26 Novus International, Inc. Process for the preparation of 2-hydroxy-4-(methylthio) butanoic acid or methionine by mercaptan addition
ES2204501T3 (es) * 1999-02-03 2004-05-01 Sumitomo Chemical Company Limited Procedimiento para producir acido 2-hidroxi-4-metiltio-butanoico.
US6649794B2 (en) * 2000-02-18 2003-11-18 Sumitomo Chemical Company, Limited Method for producing 2-Hydroxy-4-Methylthiobutanoic Acid
AU2003244381A1 (en) * 2002-02-08 2003-09-02 Sumitomo Chemical Company, Limited Metallized mesoporous silicate and method of oxidation with the same

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03502330A (ja) * 1988-01-28 1991-05-30 イーストマン ケミカル カンパニー オレフィンの選択的エポキシ化
JPH026467A (ja) * 1988-04-19 1990-01-10 Pfizer Inc 光学活性３―（メタンスルホニルオキシ）チオランおよびその類似化合物
JP2000516232A (ja) * 1996-08-09 2000-12-05 ザ ダウ ケミカル カンパニー ビニルグリコールの不飽和ジオールへの異性化
JP2001054380A (ja) * 1999-08-13 2001-02-27 Daicel Chem Ind Ltd 新規ニトリラーゼ、および２−ヒドロキシ−４−メチルチオ酪酸の製造方法
EP1260500A1 (en) * 2001-05-18 2002-11-27 Aventis Animal Nutrition S.A. Process for the production of a sulphur-containing organic compound
JP2003300722A (ja) * 2002-02-08 2003-10-21 Sumitomo Chem Co Ltd 金属含有メソポアシリケート、その製造方法およびその用途

Non-Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"Morrison Boyd Yuki Kagaku (Chu)", TOKYO KAGAKU DOJIN - TOKYO CHEMISTRY COTERIE, XX, XX, no. ED. 5, 2 October 1989 (1989-10-02), XX, pages 905 - 907, XP002998490 *
See also references of EP1801227A4 *
STEADMAN T.R. ET AL: "A Methionine Substitute: 4-methylthiobutane-1,2-diol", JOURNAL OF AGRICULTURAL AND FOOD CHEMISTRY, vol. 23, no. 6, 1975, pages 1137 - 1144, XP002998489 *

Also Published As

Publication number Publication date
ES2324547T3 (es) 2009-08-10
EP1801227B1 (en) 2009-04-15
CN101040051A (zh) 2007-09-19
CN101040051B (zh) 2012-02-01
US7632664B2 (en) 2009-12-15
DE602005013993D1 (de) 2009-05-28
US20090053781A1 (en) 2009-02-26
EP1801227A4 (en) 2008-08-06
EP1801227A1 (en) 2007-06-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2006041209A1 (ja) ２－ヒドロキシ－４－（メチルチオ）酪酸の製造方法
Aplander et al. A green and facile route to γ-and δ-lactones via efficient Pinner-cyclization of hydroxynitriles in water
Nishide et al. Reductive desulfurization using the raney nickel—Sodium hypophosphite combination system without racemization of a secondary alcohol
US4269940A (en) Microbiological alkane oxidation process
JP3409353B2 (ja) アミド化合物の製造方法および使用される微生物
JP4815984B2 (ja) ２−ヒドロキシ−４−（メチルチオ）酪酸の製造方法
JP2012184215A (ja) メチオニンの製造方法
US5672504A (en) Process for enriching an R,S!-1,2-epoxide in one enantiomer by using microbes to convert one enantiomer to the other or to preferentially open the epoxide ring
WO2003066524A1 (en) Metallized mesoporous silicate and method of oxidation with the same
JP4962016B2 (ja) 含硫ヒドロキシカルボン酸の製造法
CN105112468B (zh) 一种多酶耦联体系制备手性胺的方法
WO2000036086A1 (en) Novel microorganisms and process for producing amide compounds
CN101056986B (zh) 含硫羟基羧酸的制造法
JP4898129B2 (ja) 光学活性ビニルアルコール類の製造方法
JPS62248493A (ja) 桂皮酸の製造方法
JPH0412719B2 (ja)
JP2006109834A (ja) 含硫ヒドロキシカルボン酸の製造法
JPH02295488A (ja) 酸化物および／またはアルデヒド類の製造方法
CN116064693A (zh) 一种双酶催化苯甲亚砜去消旋化的方法
JPS63129988A (ja) トランス−４−シアノシクロヘキサン−１−カルボン酸を製造する方法
Kovalenko et al. A novel approach to selective oxidation of gaseous hydrocarbons
JPH053277B2 (ja)
JPH09187292A (ja) （ｒ）−２−アルカノールの製造法
JPS6125489A (ja) フエニルフエノ−ルまたはその誘導体の製造法
JP2011193857A (ja) Ｎ−カルバモイルアミノ化合物の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BR BW BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DK DM DZ EC EE EG ES FI GB GD GE GH GM HR HU ID IL IN IS KE KG KM KP KR KZ LC LK LR LS LT LU LV LY MA MD MG MK MN MW MX MZ NA NG NI NO NZ OM PG PH PL PT RO RU SC SD SE SG SK SL SM SY TJ TM TN TR TT TZ UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM ZW

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): GM KE LS MW MZ NA SD SL SZ TZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ MD RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HU IE IS IT LT LU LV MC NL PL PT RO SE SI SK TR BF BJ CF CG CI CM GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 200580034562.7

Country of ref document: CN

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 11665070

Country of ref document: US

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2005795688

Country of ref document: EP

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2005795688

Country of ref document: EP