WO2005110680A1

WO2005110680A1 - 投射処理装置

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Publication number: WO2005110680A1
Application number: PCT/JP2005/009147
Authority: WO
Inventors: Koji Ushida; Mitsuo Ishikawa; Hiroaki Watanabe; Hideaki Kaga; Nobuyoshi Kawai; Akikazu Yokoi
Original assignee: Sintokogio Ltd
Current assignee: Sintokogio Ltd
Priority date: 2004-05-19
Filing date: 2005-05-19
Publication date: 2005-11-24
Anticipated expiration: 2006-11-19
Also published as: EP1757407A1; KR20070015617A; BRPI0511432A; ATE448051T1; EP1757407A4; EP1757407B1; US7832243B2; BRPI0511432B1; DE602005017618D1; US20080066512A1; KR100860424B1

Abstract

内部に投射室を規定するキャビネット１の両側面にはインペラ式投射機２が装着されている。投射機２からワークへ投射されて落下したショットは、キャビネット１の下端よりも上方に位置する水平スクリューコンベア４により水平方向に搬送された後、基端がキャビネット１の下端よりも上方にある垂直スクリューコンベア５により上方へ搬送される。このショットは垂直スクリューコンベア５の上部からシュート８を通って開閉ゲート９に到達する。開閉ゲート９を開放して、ショットを再投射のために投射機２に供給する際には、開閉ゲート９からショットの一部をオーバーフローさせる。このオーバーフローしたショットは、セパレータ１１及びふるい装置１５を通過することにより不純物を除去されて、水平スクリューコンベア４へ送り返される。

Description

明細書

投射処理装置

技術分野

[0001] 本発明は投射材を用いて対象を投射処理する装置に関する。

背景技術

[0002] ショットと称される球状粒子の投射材を投射処理すべき対象 (ワーク)へ投射する投射機としては、比較的少量のショットの投射に適するノズル式投射機 (例えば出願人に譲渡された特開 2002— 326161号公報）、比較的大量のショットの投射に適するインペラ式投射機 (特開平 1卜 239973号公報）が公知である。

[0003] このような投射機を採用した投射処理装置、例えばワークをショットで研掃するショットブラスト装置またはエアーブラスト装置においては、内部に投射室を規定するキヤビネットに装着した投射機から、このキャビネット内に可動保持機構により保持されたワークにショットを投射して研掃し、このショットを回収して投射機へ戻す循環系も公知である（例えば、特開昭 59— 187462号公報及び上述の特開平 11-239973号公報)。

[0004] しカゝしながら、これらの公報に記載された装置では、投射機から投射されたショットを回収するために、大掛かりな循環系が必要であるので、そのために装置の高さも嵩高になるという問題がある。とりわけ、多量のショットを投射するインペラ式投射機を（特に複数台）使用したショットブラスト装置においては、循環系が更に大掛かりになるので、装置も益々嵩高になる。従ってブラスト装置を設置するためには広い空間を必要とする。

[0005] 更に、従来のブラスト装置の循環系では、キャビネット内で投射後に自重で落下したショットを回収するための回収位置がキャビネットの下端よりも更に下方に位置する設計である。従ってブラスト装置の据付けのためには、その据付位置に床面レベル（または基礎台レベル)よりも低い凹所、即ちピットを設けねばならず、その工事のための労力と時間も要する。

[0006] 同様に、従来のブラスト装置は、ピットに収納されるべき部分がキャビネットの下端力下方へ突出しているので、ピットから取り外した状態では不安定な形状である。換言すれば、装置の運搬や梱包には不都合な設計であり、装置の運搬のためには装置の少なくとも一部を分解せねばならない。例えば、メーカーで製作されたブラスト装置をユーザーの工場へ納入するためには、このブラスト装置をメーカー側において一旦組立てて仮据付をなし、更に試運転をした後に、装置を分解してユーザーの工場へ搬送し、再度の組立及びピット工事を伴う据付をなす必要がある。或いは、例えばユーザーの工場移転に伴い既存のブラスト装置を新たな設置場所に搬送して再据付をなす場合にも、移転前の設置場所では搬送のためにブラスト装置を分解する作業が、新たな設置場所ではピット工事を伴う据付及び組立作業が必要となる。このように従来のブラスト装置には新規導入にも移転にも時間と労力を要する。

発明の開示

[0007] 従って本発明の目的は、小型化を図り、比較的に狭い空間に設置可能であり、しかも据付ピットも不要であり、搬送も容易な投射処理装置を提供することである。

[0008] 本発明に係る投射処理装置は、上端及び下端を有し、且つ内室を規定する筐体と、内室内に処理対象を移動可能に保持する保持機構と、この保持機構により保持された処理対象に対して投射材を投射する少なくとも 1つの投射手段と、投射されて落下した投射材を回収する回収位置を有し、且つこの回収された投射材を投射手段による投射に再使用するために、回収された投射材を投射手段へ帰還させる循環系とを備える投射処理装置にぉヽて、

循環系の回収位置を筐体下端と同等若しくは上方位置に設け、

循環系を、回収位置に水平に設けられて、投射材を横送りする少なくとも 1つの横送り機構と、筐体下端よりも上方の基端を有し、且つ横送り機構から送られてきた投射材を上方へ搬送する少なくとも 1つの縦送り機構とで構成すると共に、

縦送り機構に回収位置よりも上方の所定位置で連通し、且つ閉止状態と、開度が可変な開放状態とを有し、縦送り機構を介して所定位置に到来する投射材を閉止状態においては全てを、開放状態においては開度に応じた一部を所定位置力も分岐させると共に、分岐されない投射材は投射手段へ戻す少なくとも 1つの分岐手段と、分岐手段により分岐された投射材が通過するように、分岐手段と回収位置との間に設けられ、通過中の投射材力不純物を除去する少なくとも 1つの除去手段とを更に備えることを特徴とする。

[0009] 装置の高さをより低くするためには、分岐手段が設けられた所定位置を筐体の上端よりも下方に位置させることが好ましい。この場合、除去手段を筐体に内臓させることができる。

[0010] 横送り機構、縦送り機構、投射手段、分岐手段、及び除去手段は何れも複数を設けてもよい。この場合、各々の縦送り機構力それに設けられた分岐手段を介して、この各々の縦送り機構に対応する各々の投射手段へ投射材が供給される。

[0011] 本発明の実施例では、横送り機構は水平に配置されたスクリューコンベアであり、縦送り機構は実質的に垂直に配置されたスクリューコンベアまたはバケツトコンベアである。

[0012] 装置の高さを低くし、且つ縦送り機構の垂直方向の搬送距離を短くして縦送り機構の動力を低減するためには、除去手段の配置された高さ位置を、上述の所定位置で縦送り機構に連通する分岐手段の高さ位置と実質的に同等か、またはそれよりも低くすることが好ましい。この場合、分岐手段が開放状態にある際に、その開度に応じて分岐する投射材を、分岐手段からオーバーフローさせて除去手段へ導くことも容易である。

[0013] 本発明の実施例においては、筐体には、筐体下端よりも上方の回収位置に 1つまたは複数の横送り機構を収納するように、横送り機構の送り方向に延伸する 1つまたは複数の溝が設けられており、この溝は投射材を横送り機構へ案内するように傾斜面を有する。

[0014] 複数の横送り機構を設ける場合には、複数の溝を並行に配置し、複数の横送り機構が互いに並行をなすように、複数の溝の各々に一つずつ配置してもよい。この場合、投射材がーつの溝に過剰に流入して、この溝内の横送り機構に過負荷を生じさせることのないように、投射材を複数の溝に振り分ける手段を更に備えることが好ましい。

[0015] 投射手段は筐体の側壁に装着して両者の一体ィ匕を図ることが好ましい。この投射手段はインペラ式投射機でもノズル式投射機でもよく、複数のインペラ式投射機を上下方向に並べてもよい。投射処理装置は、ショットブラスト装置、エアーブラスト装置またはショットピーユング装置でもよ!/、。

[0016] 本発明の一実施例によれば、筐体の外側面には集塵機が装着され、この集塵機は吸引ダクトを介して筐体内を吸引する。この場合、集塵機内の集塵ダストの発火を防止するために、吸引ダクトには、抑制する発火抑制剤を供給する供給源を連結することが好ましい。

[0017] 集塵機の内部には複数の平板型カートリッジフィルタを配設することが好ましい。

[0018] 保持機構は、コンベア式、ハンガー式、テーブル式、ドラム式の何れでもよ!/、。

[0019] 好ましい実施の形態

纏列

図 1及び図 2は、本発明の投射処理装置の第 1実施例としてショットブラスト装置を示す。このショットブラスト装置は、内部に投射室を規定するキャビネット (筐体） 1と、その両側壁に装着された 2台のインペラ式投射機 2とを備える。インペラ式投射機 2 はインペラの遠心力にてショットを投射する。ショットブラスト装置は更に、キャビネット 1内の投射室に配置されて、処理対象のワーク（例えば、鍛造品、熱処理品等）を吊り下げて保持しながら搬送するハンガー式の可動保持機構 3と、この保持されたヮークに対して投射されたショットを回収して上述のインペラ式投射機 2へ帰還させるショット循環ユニットとを備えて、る。

[0020] 図 2に符号 Rで示す循環ユニットは、投射されたショットを水平方向に搬送してキヤビネット 1の外部のそれぞれ一箇所に集めるための一対の横送り機構即ち水平に配置されたスクリューコンベア 4と、この横送り機構 4によりキャビネット 1の外部に集められたショットを上方に運搬するように、キャビネット 1の外部に設けられた一対の縦送り機構即ち実質的に垂直に配置されたスクリューコンベア 6とを具備する。循環ユニットは更に、縦送り機構 6に連通されて、投射機 2へ供給するショットから不純物を分離する 2台のショットセパレータ 11も具備している。縦送り機構 6は、図 1においては、それが収容されたカバー 7のみを示してある。

[0021] キャビネット 1は、投射されて落下したショットの回収位置がキャビネット下端から下方へ突出した従来のショットブラスト装置の据付けのために必要とされていたピットを設けることなぐショットブラスト装置を据付可能な設計とされている。このため、キヤビネット 1の下部は、特に図 1に示すように、正面から見て断面が実質的に W字形状をなしている。即ちショットを回収するために、傾斜面を有し、横送り機構 4の送り方向（図 1の紙面に対して垂直方向）へ延伸する 2つの並行な溝 5が設けられており、この溝 5が本実施例においてショットを回収する回収位置である。その溝 5内には、循環ユニットの横送り機構 4がそれぞれ配置されている。溝 5の底はキャビネット 1の下端と同等若しくは上方位置 (本実施例ではキャビネット 1の下端よりもやや上方）にある。従って、この溝 5内に収納された横送り機構 4の下端がキャビネット 1の下端よりも下方へ突出することはない。また縦送り機構 6の基端もキャビネット 1の下端よりも上方に位置している。換言すれば、本発明のショットブラスト装置が据付られた際には、キヤビネット 1の下端ひいては横送り機構 4の下端及び縦送り機構 6の基端は、床面レべル (または基礎台レベル)よりも上方に位置することになる。従って、本発明のショットブラスト装置は、その据付けのためにピットを設ける必要がなぐ据付及び運搬が容易である。

[0022] 溝 5の傾斜面は、投射されて落下したショットを横送り機構 4へ案内する役割を果たす。その傾斜角度は、ショットの安息角、ショットが下方へ案内され易く且つショットの寿命を延ばす条件を考慮すると、 20度乃至 40度が好ましい。これは他の実施例でも同様である。

[0023] 図 2において、各々の縦送り機構即ち垂直スクリューコンベア 6の上部の一側端には、それを駆動するモータ Mが連結されている。各縦送り機構 6の上部の他端にはシユート 8が連通されており、各々のシュート 8の下端には、インペラ式投射機 2と縦送り機構 6とをシュート 8を介して連通させる通路を開閉するための開閉ゲート 9が連結されている。この開閉ゲート 9は閉止状態と開放状態とを有し、開放状態における開度は可変に調節可能にされている。

[0024] 各々の開閉ゲート 9の下端にはショット導入管 10が連結されており、この導入管 10 は対応するインペラ式投射機 2に連結されて、る。

[0025] 上述のセパレータ 11はシュート 8の下方に設けられており、開閉ゲート 9より低い位置でキャビネット 1内に一部が内蔵されている。即ち、セパレータ 11はキャビネット 1の上面よりも下方に設けられて、る。

[0026] 尚、本実施例では、開閉ゲート 9を開放してショットをインペラ式投射機 2に供給し、ワークへ投射する際に、開閉ゲート 9からショットの一部をオーバーフローさせて、そのオーバーフローしたショットをセパレータ 11に供給する。但し、開閉ゲート 9が閉止状態にあるときはショットの全量がセパレータ 11へ供給される。

[0027] 図 1を再度参照すると、キャビネット 1の内部には、可動保持機構 3に保持されるべきワークへのショットの投射がなされる投射室 12と搬入出室（図示せず)とが形成されている。可動保持機構 3は、投射室 12内及び搬入出室内にそれぞれ配設されたノヽンガー 13と、キャビネット 1内の上部に配置されて、ハンガー 13を自転可能に吊設する公転板 (図示せず）と、この公転板をその公転軸（図示せず)を中心に回転させるモータ 14とを具備している。更に可動保持機構 3は、ハンガー 13に連結されて上述の公転板の上方に配設された自転板（図示せず）、及びこの自転板を投射室 12側にお V、て回転させる慣用のモータ（図示せず)も具備して!/、る。

[0028] ショットブラスト装置の循環ユニット Rは以下のように作動する。先ず 2台のインペラ式投射機 2により、キャビネット 1内のハンガー式可動保持機構 3に保持されたワークに対してショットを投射する。ワークに衝突したショットは、重力により下方へ落下し、キャビネット 1の下部の一対の溝 5の傾斜面に案内されて、 2台の横送り機構 4へ供給される。

[0029] 装置の小型化のために、小型の横送り機構即ち水平スクリューコンベア 4を採用すると、その搬送容量も小さいので、過剰なショットの流入による横送り機構 4の過負荷を防止する手段を講じることが好ましい。例えば、キャビネット 1内には、その下部の W 字断面の中央頂部に仕切りを設ける。この仕切りにより、落下したショットが左右の溝に均等に流れるので、横送り機構 4の過負荷を防ぐことができる。或いは、一方の溝力も溢れ出たショットを他方の溝へ導く通路を設けてもよ!、。また横送り機構 4の過負荷を防ぐためには、 2台の投射機 2のショット投射量を互いに同量にすることも好ましいであろう。

[0030] 次いでショットは、 2台の横送り機構 4により横送りされてキャビネット 1の外部の 2箇所に集められる。この 2箇所に集められたショットは、縦送り機構 6により上方へ移送されて、縦送り機構 6の上部力もシュート 8を通って開閉ゲート 9に到達する。開閉ゲート 9を開放して、ショットを再投射のためにインペラ式投射機 2に供給する際には、開閉ゲート 9からショットの一部をオーバーフローさせ、このオーバーフローしたショットをセパレータ 11に供給する。従って、全てのショットがセパレータに供給されることはないので、セパレータを小型にすることができる。

[0031] ブラスト装置は、例えばキャビネット 1の側方に設置されてショットの粒径をふるい分けるふる、装置 15を付加してもよ、。セパレータ 11を通過して不純物を分離されたショットは、ショットふるい装置 15に送られて、更に不純物が分離されて、横送り機構 4へ送り返される。

[0032] 横送り機構 4を並列に 2台用いているので、横送り機構 4の 1台あたりの高さは、 1台の大型の横送り機構を用いた場合よりも低くすることができる。更に、キャビネット 1の下部断面が複数の溝ひ、ては複数の傾斜面を有して、るため、単独の傾斜面を設けてショットを一つの溝に集める場合よりもキャビネット 1の下部が小型になるので、キャビネット 1自体を低、構造にすることができる。

[0033] ショットを常にその全量をショットセパレータに供給するとすれば、背の高いショットセパレータをショット通路の開閉ゲートの上方に位置させる必要があり、装置が著しく嵩高になってしまう。本実施例では、上述のように開閉ゲート 9を開放してショットを再投射のために投射機 2に供給する際には、開閉ゲート 9からショットの一部をオーバ一フローさせ、このオーバーフローしたショットをセパレータ 11に供給するように構成しているので、嵩高なショットセパレータをショット通路の開閉ゲートの上方に位置させる必要が無い。従ってショットブラスト装置の背丈を低くすることができる。また、ショットセパレータ 11を開閉ゲート 9より低い位置に配置することができるので、ショットブラスト装置をより小型にできる。更にセパレータ 11をキャビネット 1に内蔵することができるので、装置をより小型にできる。

[0034] セパレータ 11は本実施例では 2台を設けた力 1台のみ設けてもよい。この場合、上述のように開閉ゲート 9からオーバーフローしたショットは、 1台のセパレータに通過させ、その通過後のショットを 2台の投射機 2へ分配してもよ、。

[0035] 本実施例では 2台の投射機 2を対向する側壁に 1台づっ装着しけたが、対向する側壁に 2台づつ、若しくは一方の側壁のみに 2台を上下方向に並べて装着してもよい。

[0036] 上述した特開平 11 - 239973号に記載された装置ではインペラ式投射機がキヤビネットの上面に取り付けられて、るが、本実施例ではインペラ式投射機 2をキャビネット 1の側壁に装着している。インペラ式投射機 2は、ショットをノズル力も圧縮空気と共に噴射するノズル式投射機よりも大型であるため、キャビネット 1の上面ではなく側壁に装着することは、ショットブラスト装置の高さを低くすることに有効である。但し、本発明は図示のインペラ式投射機 2を用いたショットブラスト装置に限定されるものではなく、例えばノズル式投射機を用いてエアーブラスト装置を構成してもよ、。

[0037] 本発明の実施の形態において、処理対象のワークの材質は、鉄系金属、非鉄系金属、プラスチック、セラミックス、ガラスなど、様々な種類の材料とすることができる。伹し、ワークにショットを投射したときに生じる不純物が多すぎると、ショットセパレータ（除去手段）の処理容量を越えるので、特定の用途によっては好適な結果を得ることができないおそれがある。従って本発明の装置は、ワークにショットを投射したときに生じる不純物がそれほど多くない用途や、精密なワークへの適用に特に好適である。例えば、鍛造品へのピー-ングゃ金属熱処理品のスケール落し、铸造品の铸ばり取りに好適である。

図 3は本発明の第 2実施例のエアーブラスト装置の断面図を示す。図において、シヨットブラスト装置は、キャビネット（筐体） 21と、その両側壁に装着した 2台のノズル式投射機 22と、そのキャビネット 21内に配置されてワーク Wを搬送するテーブル式の可動保持機構 23と、そのワークに対して投射されたショットを回収してノズル式投射機 22へ戻す循環ユニット Sとを備えてヽる。

[0039] 第 1実施例のキャビネット 1と同様に、第 2実施例のキャビネット 21の下方には、装置の据付のためのピットを不要とするために、傾斜面を有する溝 25が設けられて、る。但し、第 1実施例の溝 5は 2つであった力本実施例の溝 25は 1つのみである。この溝 25内には、投射されたショットをキャビネット 21の外部の 1箇所に集める横送り機構 24が水平に収納されている。この横送り機構 24は、第 1実施例の横送り機構 4と同様に、水平に配置されたスクリューコンベアである。横送り機構 24の送り方向即ち溝の延伸方向は図 3の紙面に対して垂直な方向である。横送り機構 24が収納された溝の底がキャビネット 21の下端力も突出しな、ので、キャビネット 21の下端ひ!、ては横送り機構 24の下端 (及び後述の縦送り機構 28の基端）は、床面レベル (または基礎台レベル)より上方にあり、据付のためのピットが不要である

テーブル式可動保持機構 23は、回転テーブル 26と、この回転テーブル 26の上部に配設されて、回転テーブル 26と共に回転する従テーブル 27とを含む。図 3に破線で示すようにワーク Wは従テーブル 27上に載置される。

[0040] 図 4に示すように、循環ユニット Sは、上述の横送り機構 24と、この横送り機構 24によりキャビネット 21の外部の 1箇所に集められたショットを上方に移送するように、キヤビネット 21の外部に設けられた 1台の縦送り機構即ち垂直に配置されたスクリューコンベア 28と、この縦送り機構 28に連通されて、投射機 22へ供給するショットから不純物を分離する 1台のショットセパレータ 33 (図 5参照）とを具備している。縦送り機構 28 の基端は、第 1実施例の縦送り機構 6と同様にキャビネット 21の下端よりも上方にある

[0041] 上述の第 1実施例の装置では、横送り機構 4、縦送り機構 6、及びセパレータ 11をそれぞれ 2台設けたが、本実施例の装置では、横送り機構 24、縦送り機構 28、及びセパレータ 33はそれぞれ 1台のみを設けてある。

[0042] 縦送り機構即ち垂直スクリューコンベア 28の上部の一側端には、それを駆動するモータ Mが連結されて、る。縦送り機構 28の上部の他側端にはシュート 30が連通されており、このシュート 30の下端には、ノズル式投射機 22とスクリューコンベア 28とをシユート 30を介して連通させる通路を開閉するための開閉ゲート 31が連結されている。この開閉ゲート 31は実施例 1の開度を可変に調節可能な開閉ゲート 9と同様である。この開閉ゲート 31の下端にはショット導入管 32が連結されており、この導入管 32は分配函 34を介して上述の 2台のノズル式投射機 22に連結されている。

[0043] 図 5に示すように、セパレータ 33は、シュート 30の下部側面に連通して設けられ、開閉ゲート 31より低い位置でキャビネット 21内に収容されている。即ち、セパレータ 3 3はキャビネット 21の上面より下方に設けられて、る。

[0044] 第 1実施例と同様に、本実施例では、開閉ゲート 31を開放してショットをノズル式投射機 22に供給し、ワークへ投射する際に、開閉ゲート 31からショットの一部をオーバ一フローさせて、このオーバーフローしたショットをシュート 30を介してセパレータ 33 に供給するようにしている。従って、第 1実施例と同様に、投射された全てのショットが一度にセパレータ 33に供給されることはないので、セパレータ 33も小型にすることができる。

[0045] 本実施例のエアーブラスト装置の循環ユニット Sは以下のように作動する。先ず 2台のノズル式投射機 22により、キャビネット 21内のテーブル式可動保持機構 23の従テ一ブル 27上に載置されたワーク Wに対してショットを投射する。ワーク Wに衝突したショットは、重力により下方へ落下し、キャビネット 21の下部の溝 25の傾斜面に案内されて、溝 25内の 1台の横送り機構 24へ供給される。次いでショットは、横送り機構 2 4により横送りされて、キャビネット 21の外部の 1箇所に集められる。この 1箇所に集められたショットは、キャビネット 21の外側の縦送り機構 28により上方へ移送されて、開閉ゲート 31及びシュート 30を介して、ノズル式投射機 22及びセパレータ 33に供給される。

[0046] セパレータ 33に供給されたショットは、不純物を分離され、その分離後のショットは再び横送り機構 24へ供給される。

[0047] 以上の説明から明らかなように、本実施例における循環ユニット Sはそのセパレータ

33を、キャビネット 21の上面よりも下方に設けているので、エアーブラスト装置全体も小型になる。

[0048] 投射機 22はノズル式に限定されるものではなぐ例えば第 1実施例に示したようなインペラ式投射機 2を用いてショットブラスト装置を構成してもよ、。

[0049] 第 3実施例

図 6は本発明の第 3実施例のショットブラスト装置の断面図を示す。このショットブラスト装置は、キャビネット 41と、その一側壁に装着した 1台のインペラ式投射機 42と、キャビネット 41内に配置されて、ワークを保持して搬送するドラム式の可動保持機構 43と、その保持されたワークに対して投射されたショットを回収してインペラ式投射機 42へ帰還させる循環ユニット Tとを備えている。 1台の投射機 42はインペラ式に限定されるものではなぐ例えば第 2実施例に示したようなノズル式投射機 22を 1台用いたエアーブラスト装置を構成してもよ、。

[0050] 第 2実施例のキャビネット 21と同様に、本実施例のキャビネット 41の下部には、ブラスト装置の据付のためのピットを不要とするために、傾斜面を有する一つの溝 45が設けられている。この溝内には、投射されたショットを横送りしてキャビネット 41の外部の一箇所に集める 1台の横送り機構 44が水平に収納されている。

[0051] 第 1及び第 2実施例と同様に、本実施例の横送り機構 44は水平に配置されたスクリユーコンベアである。同様に、本実施例のキャビネット 41の下端ひいては横送り機構 44の下端 (及び後述の縦送り機構 47の基端）は、床面レベル (または基礎台レベル) よりも上方にあるので、据付のためのピットが不要である。

[0052] ドラム式可動保持機構 43は、ワークを投射位置に搬入する回動ドラム 46を具備している。

[0053] 図 7に示すように、循環ユニット Tは、上述の横送り機構 44と、この横送り機構 44によりキャビネット 41の外部の 1箇所に集められたショットを上方に移送するように、キヤビネット 41の外部に設けられた 1台の縦送り機構 47と、この縦送り機構 47に連通されて、投射機 42へ供給するショットから不純物を分離する 1台のショットセパレータ（図示しないが、第 2実施例のショットセパレータと同様である）とを具備している。本実施例の縦送り機構 47は、第 1及び第 2実施例と同様に垂直に配置されたスクリューコンベアであり、その基端はキャビネット 41の下端よりも上方に位置して、る。

[0054] 縦送り機構即ち垂直スクリューコンベア 47の上部の一側端には、それを駆動するモータ Mが連結されて、る。縦送り機構 47の上部の他端にはシュート 49が連通されており、このシュート 49の下端には、インペラ式投射機 42とスクリューコンベア 47とシュート 49を介して連通させる通路を開閉する開度を可変調節可能な開閉ゲート 50 (実施例 1の開閉ゲート 9と同様）が連結されている。この開閉ゲート 50の下端にはショット導入管 51が連結されており、この導入管 51はインペラ式投射機 42に連結されている。上述の図示しないショットセパレータは、シュート 49の下部側面に連通して設けられている。

[0055] 第 2実施例と同様に、本実施例では、開閉ゲート 50を開放してショットを投射機 42 に供給し、ワークへ投射する際に、開閉ゲート 50からショットの一部をオーバーフロ一させて、このオーバーフローしたショットをシュート 49を介してショットセパレータに供給するようにしている。従って、第 2実施例と同様に、投射された全てのショットがー度にセパレータに供給されることはないので、セパレータも小型にすることができる。

[0056] 更に本実施例のショットブラスト装置は、キャビネット 41の内部と流体連通するようにキャビネット 41に一体的に設けられた集塵機 52も具備している。この集塵機 52は、ダストを含んだ空気流が上方から下方に流れる環境で、集塵ダストを集塵機 52の下部に集める。集塵機がショットブラスト装置力離間されて配置されていると、両者を連結する配管も長大になり、広い設置空間を必要とするため、集塵機 52をショットブラスト装置と一体化させて省空間を図ることは望ましいことである。

[0057] 本実施例のブラスト装置の循環ユニット Tは以下のように作動する。先ず 1台のインペラ式投射機 42により、キャビネット 41内のドラム式可動保持機構 43に保持されたワークに対してショットを投射する。ワークに衝突したショットは、重力により下方へ落下し、キャビネット 41の下部の溝 45の傾斜面に案内されて、溝 45内の 1台の横送り機構 44に供給される。次いでショットは、横送り機構 44により横送りされて、キャビネット 41の外部の 1箇所に集められる。この 1箇所に集められたショットは、縦送り機構 4 7により上方へ移送されて、開閉ゲート 50及びシュート 49を介して、インペラ式投射機 42及び上述のセパレータに供給される。

[0058] セパレータに供給されたショットは、不純物を分離され、その分離後のショットは再び横送り機構 44へ供給される。また、例えばショットとワークとの衝突により生じたキヤビネット 41内のダストは、集塵機 52により回収される。

[0059] 4実飾 I

図 8乃至図 14は本発明の第 4実施例に係るショットブラスト装置を示す。

[0060] ワーク Wの搬入及び搬出のための開口 61aを有する箱状のキャビネット 61内の上部及び下部には、それぞれ公転板 62が配設されており、これら上下の公転板 62は、それらの間に配置された複数の仕切り 63 (図 11)で連結されている。上下の公転板 6 2は公転軸 64を中心にして共通の一つの第 1モータ 65 (図 11)により回転される。

[0061] キャビネット 61の内部は、仕切り 63によって区画されて、ワーク Wへのショットの投射がなされる投射室 66と、ワーク Wの搬入及び搬出をなす搬入出室 67 (図 11)とが形成されている。

[0062] 本実施例におけるワーク Wを保持する可動保持機構としては、非限定的な一例としてハンガー式を図示する。即ち、投射室 66内及び搬入出室 67内には、それぞれヮーク Wを吊り下げるハンガー 68 (図 8)が配設されており、これらハンガー 68は上部公転板 2に自転可能に吊設されている。ハンガー 68は、上部公転板 2の上方に配設された自転板 69 (図 8)に連結されており、この自転板 69は投射室 66側において第 2モータ 70 (図 11)により回転される。

[0063] 図 9に示すように、キャビネット 61の下部の傾斜面を有する溝 61A内には、投射室 66から落下するショットを回収して水平方向に搬送する横送り機構、即ち水平に配置されたスクリューコンベア 71が配置されて!、る。

[0064] このスクリューコンベア 71の先導端には、このスクリューコンベア 71で搬送されてきたショットを上方へ移送するために、垂直に配置されたパケットエレベータ 72の基端部が連結されている。縦送り機構として、第 1乃至第 3実施例では垂直スクリューコンベアを示したが、本実施例ではパケットエレベータ 72を採用している。但し、パケットエレベータ 72も第 1乃至第 3実施例の垂直スクリューコンベアと同様に、キャビネット 61の外側面に連結されているので、ショットブラスト装置の小型化を図ることができる

[0065] 上述の各実施例と同様に、溝 61Aの底部ひいては横送り機構 71の下面は、キヤビネット 61の下端よりもやや上方にあり、縦送り機構 72の基端もキャビネット 61の下端よりも上方にある（図 8、図 9、及び図 10参照)。従ってショットブラスト装置の据付けのためのピットは不要である。

[0066] 図 11に示すように、キャビネット 61における開口 61aを有する正面 61b (オペレータ Oが立っている側）に対向する投射室 66側の後面 61cには、パケットエレベータ 72 で搬送されてきたショットをワーク Wへ投射する投射機 73が連結されて、る。投射機 73はインペラ式投射機を図示してある力ノズル式に代えてもよい。

[0067] キャビネット 61の正面 lb及び後面 61cに直交する一側面 61dには上述のパケットエレベータ 72が連結されており、この一側面 6 Idに対向する側面 6 leには集塵機 74 が連結されている。第 3実施例の集塵機 52と同様に、本実施例においても集塵機 74 をショットブラスト装置と一体化させて省空間化を図っている。

[0068] 図 10に示すように、パケットエレベータ 72の上部にはシュート 75が連通されており、このシュート 75の下端には、インペラ式投射機 73とパケットエレベータ 72とをシュート 75を介して連通させる通路を開閉するための開閉ゲート 76が連結されている。この開閉ゲート 76は閉止状態と開放状態とを有し、開放状態における開度は調節可能にされている。この開閉ゲート 76の下端にはショット導入管 77が連結されており、この導入管 77はインペラ式投射機 73の各々に連通されて、る。

[0069] 図 12に示すように、開閉ゲート 76に連なる上述のシュート 75には公知の風選式のショットセパレータ 78が連通されて!/、る。セパレータ 78は風選式に限定されるものではなぐ例えば磁選式に代えてもよい。

[0070] このセパレータ 78は、開閉ゲート 76より低い位置でキャビネット 61内に収納されている。即ちセパレータ 78はキャビネット 61の上面よりも下方に設けられている。

[0071] 上述の各実施例と同様に、本実施例では、開閉ゲート 76を開放してショットを投射機 73に供給し、ワーク Wへ投射する際に、開閉ゲート 76からショットの一部をオーバ一フローさせて、このオーバーフローしたショットをシュート 30を介してセパレータ 78 に供給する。これによりショットブラスト装置の高さを従来装置よりも低くできることも上述の各実施例と同様である。

[0072] 集塵機 74の上部の外側面には送風機 79が連結されている（図 9及び図 11)。この集塵機 74の送風機 79が連結された外側面に直交する外側面には、吸引ダクト 80が連結されている（図 11)。この吸引ダクト 80は沈降室 81に連結されており、この沈降室 81は吸引口 82を介してパレータ 78に連通されている（図 8)。集塵機 74は、吸引ダクト 80から分岐された第 1分岐ダクト 80a (図 8、図 9、及び図 10)を介してシュート 7 5に連結されている。上述のように、シュート 75はパケットエレベータ 72及びスクリューコンベア 71を介してキャビネット 61内に連通しているので、集塵機 74はキャビネット 61内を吸引することができる。吸引ダクト 80から分岐された第 2分岐ダクト 80bはフレキシブルホース 83を介して発火抑制材供給源 84に連結されている。

[0073] 図 13及び図 14に示すように、集塵機 74の内部には集塵機に着脱可能な複数の力ートリッジフィルタ 85が複数列に配設されている。各カートリッジフィルタ 85は、全体的に概ね平板形状であることが好ましい。これは、各カートリッジフィルタ 85が平板形状であれば、平板形状でない厚いカートリッジフィルタを採用した場合に比べて、集塵機 74内のカートリッジフィルタの充填効率が上がり、ひいては濾過面積が大きくなるので、集塵機 74の小型化を図れるためである。本明細書では、このような平板形状のカートリッジフィルタ 85を平板型カートリッジフィルタと称する。

[0074] 集塵機 74内部における平板型カートリッジフィルタ 85の上方には、後述するようにフィルタ 85の空気洗浄のために、フィルタ 85の内部に圧縮空気を間欠的に吹き込むパルスジェット機構 86が配設されて!/、る。

[0075] 第 4実施例の装置の作動について説明する。先ずワーク Wを搬入出室 67内のハンガー 68に吊り下げる。次いで第 1モータ 65が作動し、公転板 62が公転軸 64を中心に 180度回動することにより、ワーク Wが投射室 61内に移動する。次に、第 2モータ 7 0が作動し、投射室 66側の自転板 69が回転し、ワーク Wが投射室 66内で自転する。次いで開閉ゲート 76が開放し、遠心投射機 73の作動により投射室 66内の自転するワーク Wヘシヨットが投射される。一つのワーク Wへのショットの投射は所望時間に亘つて継続される。この一つのワーク Wの投射期間中に、搬入出室 7内の空のハンガ一 68に次に投射処理すべきワーク Wを吊り下げること〖こより、複数のワークを連続的に処理できる。

[0076] 投射室 66から落下したショットは、スクリューコンベア 71で回収され、パケットエレべータ 72に搬送される。このパケットエレベータ 72で上方に搬送されたショットはてシュート 75に投入されて循環される。パケットエレベータ 72の輸送量は遠心投射機 73の総投射量より大きくなるように設定されている。このため、シュート 75に投入されたショットは、開閉ゲート 76を開放して投射機 73へ供給する際に、その一部が開閉ゲート 7 6からオーバーフローする。このオーバーフローしたショットはセパレータ 78に供給される。但し、第 1モータ 65が作動して、公転板 62が回転している間は、開閉ゲート 76 は閉止して!/、るので、この期間中にパケットエレベータ 72で上方に搬送されてシユート 75に投入されたショットは、全量がセパレータ 78に供給される。

[0077] セパレータ 78に供給されたショットは図 12の矢印で示す方向に落下し、スクリューコンベア 71で回収される。この際、セパレータ 78内は、その吸引口 82を介して集塵機 74により吸引されている。このため、不純物は気流に乗って集塵機 74に吸引され、ショットから分離される。この吸引された不純物は沈降室 81に流入し、そのうちの比重の軽いもの（例えば、微粉）は吸引ダクト 80で吸引され、比重の重いもの（例えば、再使用可能なショット）はスクリューコンベア 71に戻される。

[0078] ワーク Wに対するショットの投射が所望時間なされた後、開閉ゲート 76が閉止し、第 2モータ 70が停止する。次いで、第 1モータ 65が作動し、公転板 62が公転軸 64を中心にして 180度回動する。これにより、投射処理済みのワーク Wが投射室 66内から搬入出室 67内に移動し、次に投射処理すべきワーク Wが搬入出室 67内から投射室 66内に移動される。

[0079] 投射室 66内に移動された投射処理すべきワーク Wは、上述した前回のワーク Wに対する処理と同様に、自転しながら投射処理される。この投射処理中に、搬入出室 6 7内の投射処理済みのワーク Wは搬入出室 67内から搬出され、搬入出室 67内の空のハンガー 68には更に次に投射処理すべきワーク Wが吊り下げられる。

[0080] 以上の作動を繰り返すことにより、多数のワーク Wが順次に投射処理される。

[0081] ショットブラスト装置の作動中、上述の送風機 79の作動により吸引作用が働き、吸引ダクト 80及び第 1分岐ダクト 80aからは微粉などの不純物が吸引される。不純物を含む気体は図 13の矢印で示す方向に流れ、集塵機 74内に流入する。この集塵機 7 4内に流入した気体は、複数の平板型カートリッジフィルタ 85の外側からその内部に流入する。この際、流入した気体は、それに乗る不純物がフィルタ 85の外表面に付着することにより、除塵がなされる。フィルタ 85の内部に流入した気体は、清浄気体としてフィルタ 85の上端開口（図示せず)から上方に流れ、送風機 79によって吸引されて装置の外部に排出される。

[0082] このような除塵が繰り返されるにつれて、平板型カートリッジフィルタ 85は、その外表面への不純物の付着量が増加するため、適宜に逆洗をなすことが望ましい。ここで平板型カートリッジフィルタ 85の逆洗とは、集塵によりフィルタ 85の外表面に付着した不純物による目詰まりを解消するための空気洗浄を意味する。即ち、当該フィルタ 85の開口力もその内部に圧縮空気を導入し、フィル 85の内部力も外側に向けて圧縮空気を通気させることにより、フィルタ 85の外表面の付着不純物を剥離させる。本実施例においては、上述のパルスジェット機構 86を作動させると、フィルタ 85の上端の開口力もフィルタ 85の内部に圧縮空気が吹き込まれる。これによりフィルタ 25の逆洗がなされる。この逆洗はショットブラスト装置の作動中に間欠的になされる。

[0083] 次いで発火抑制材供給源 84について説明する。発火抑制材供給源 84内には、図示しない圧縮空気噴出器が内蔵されており、更に発火抑制材として炭酸カルシウム粉が充満されている。ショットブラスト装置の作動中には、供給源 84内に圧縮空気噴出器力所定時間毎に圧縮空気が噴出して、炭酸カルシウム粉を舞い上がらせる。この舞、上がった炭酸カルシウム粉はフレキシブルホース 83、第 2分岐ダクト 80b及び吸引ダクト 80を介して集塵機 74に適宜に吸引される。これによつて集塵機 74内の粉塵濃度を適宜に薄めることができるので、集塵機 74内における粉塵の発火を抑制することができる。

[0084] 本発明の幾つかの実施例について説明した力本発明はこれらに限定されるものではなぐ当業者には添付の請求の範囲の趣旨を逸脱することなぐ様々な変更または修正をなせることが明らかである。

[0085] 上述の各実施例においては、ワークを保持する可動保持機構の例として、ハンガ一式 (第 1及び第 4実施例）、テーブル式 (第 2実施例)及びドラム式 (第 3実施例）を示したが、何れを採用するかは任意である。また、これらに代えて例えばコンベア式を用いてもよい。可動保持機構の形態によっては、例えばキャビネットと一体的で、且つキャビネットの内部と外部とを連続的に繋ぐ連絡通路を設けることも可能であろう。

[0086] 第 2、第 3及び第 4実施例では、キャビネットの下部の溝及び横送り機構は各 1つとしたが、これに限定されるものではなぐ第 1実施例と同様に、複数の溝及びそれに対応する複数の横送り機構を用いてもよい。この場合、複数の横送り機構の過負荷を防止する手段、例えば第 1実施例で説明した仕切りその他を設けることが好ましい複数の溝及び横送り機構を用いる場合、ワークの形状によっては、異なる形状の複数の溝を用い、互いに容量の異なる横送り機構を用いてもよい。但し、装置を小型化するためには複数の横送り機構が同容量であることが好ま、。

[0087] ショットセパレータ 11、 33及び 78は、キャビネットの上面よりも下方に位置しているので、所望により完全にキャビネット内に収納して、外部力見えない設計とすることも可能である。

図面の簡単な説明

[図 1]図 1は本発明の第 1実施例に係るショットブラスト装置を概略的に示す正面図である。

[図 2]図 2は図 1の装置を一部破断して示す概略的な側面図である。

[図 3]図 3は本発明の第 2実施例に係るエアーブラスト装置を一部破断して示す概略的な正面図である。

[図 4]図 4は図 3の装置のショット循環ユニットを概略的に示す側面図である。

[図 5]図 5は図 3の装置に用いられるショットセパレータを概略的に示す後面図である

[図 6]図 6は本発明の第 3実施例に係るショットブラスト装置を概略に示す正面図である。

[図 7]図 7は図 6の装置の循環ユニットを概略的に示す側面図である。

[図 8]図 8は本発明の第 4実施例に係るショットブラスト装置を示す正面図である。

[図 9]図 9は図 8における A— A矢視図である。

[図 10]図 10は図 8における B— B矢視図である。

[図 11]図 11は図 8における C— C矢視図である。

[図 12]図 12は図 10における循環ユニットの D— D矢視図である。

[図 13]図 13は図 9における集塵機の E—E矢視図である。

[図 14]図 14は図 6における集塵機の F—F矢視図である。

Claims

請求の範囲

[1] 上端及び下端を有し、且つ内室を規定する筐体と、前記内室内に処理対象を移動可能に保持する保持機構と、この保持機構により保持された処理対象に対して投射材を投射する少なくとも 1つの投射手段と、前記投射されて落下した投射材を回収する回収位置を有し、且つこの回収された投射材を前記投射手段による投射に再使用するために、回収された投射材を前記投射手段へ帰還させる循環系とを備える投射処理装置において、

前記循環系の前記回収位置を前記筐体下端と同等若しくは上方位置に設け、前記循環系を、前記回収位置に水平に設けられて、投射材を横送りする少なくとも 1つの横送り機構と、前記筐体下端よりも上方の基端を有し、且つ前記横送り機構から送られてきた投射材を上方へ搬送する少なくとも 1つの縦送り機構とで構成すると共に前記縦送り機構に前記回収位置よりも上方の所定位置で連通し、且つ閉止状態と、開度が可変な開放状態とを有し、前記縦送り機構を介して前記所定位置に到来する投射材を前記閉止状態においては全てを、前記開放状態においては前記開度に応じた一部を前記所定位置から分岐させると共に、分岐されな!ヽ投射材は前記投射手段へ戻す少なくとも 1つの分岐手段と、

前記分岐手段により分岐された投射材が通過するように、前記分岐手段と前記回収位置との間に設けられ、通過中の投射材から不純物を除去する少なくとも 1つの除去手段とを更に備えることを特徴とする投射処理装置。

[2] 請求項 1の装置において、前記分岐手段が設けられた前記所定位置が、前記筐体の上端よりも下方に位置している装置。

[3] 請求項 2の装置において、前記除去手段が前記筐体に内臓されている装置。

[4] 請求項 3の装置において、前記横送り機構、前記縦送り機構、前記投射手段、前記分岐手段、及び前記除去手段が何れも複数であり、各々の前記縦送り機構からそれに設けられた前記分岐手段を介して、この各々の縦送り機構に対応する各々の前記投射手段へ投射材が供給される装置。

[5] 請求項 1乃至 4の何れか一項に記載の装置において、前記横送り機構が水平に配置されたスクリューコンベアである装置。

[6] 請求項 1乃至 5の何れか一項に記載の装置において、前記縦送り機構が実質的に垂直に配置されたスクリューコンベアである装置。

[7] 請求項 1乃至 5の何れか一項に記載の装置において、前記縦送り機構がバケツトコンベアである装置。

[8] 請求項 6または 7の装置において、前記除去手段の配置された高さ位置が、前記所定位置で前記縦送り機構に連通する前記分岐手段の高さ位置と実質的に同等か、またはそれよりも低い装置。

[9] 請求項 8の装置において、前記分岐手段が開放状態にある際に、前記開度に応じて分岐する投射材は、前記分岐手段からオーバーフローして前記除去手段へ導かれる装置。

[10] 請求項 1乃至 9の何れか一項に記載の装置において、前記筐体には、前記筐体下端よりも上方の前記回収位置に 1つまたは複数の前記横送り機構を収納するように、前記横送り機構の送り方向に延伸する 1つまたは複数の溝が設けられており、この溝は投射材を前記横送り機構へ案内するように傾斜面を有する装置。

[11] 請求項 10の装置において、前記溝は複数が並行に配置されており、複数の前記横送り機構が互いに並行をなすように、複数の前記溝の各々に一つずつ配置されている装置。

[12] 請求項 11の装置において、前記投射材を複数の溝に振り分ける手段を更に備える装置。

[13] 請求項 1乃至 12の何れか一項に記載の装置において、前記投射手段がインペラ式投射機またはノズル式投射機を含む装置。

[14] 請求項 13の装置において、前記投射処理装置が、ショットブラスト装置、エアーブラスト装置またはショットピーニング装置である装置。

[15] 請求項 13または 14の装置において、前記投射手段が前記筐体の側壁に装着されている装置。

[16] 請求項 15の装置において、複数の前記インペラ式投射機を上下方向に並べた装置

[17] 請求項 1乃至 16の何れか一項に記載の装置において、前記保持機構が、コンベア式、ハンガー式、テーブル式、ドラム式の何れかである装置。

[18] 請求項 1乃至 17の何れか一項に記載の装置において、前記筐体の外側面に集塵機が装着され、この集塵機は吸引ダ外を介して前記筐体内を吸引する装置。

[19] 請求項 18の装置において、前記吸引ダクトには、前記集塵機内の集塵ダストの発火を抑制する発火抑制剤を供給する供給源が連結されている装置。

[20] 請求項 18または 19の装置において、前記集塵機の内部に複数の平板型カートリツジフィルタが配設されて、る装置。