WO2005046742A1 - 除染方法、及び除染装置 - Google Patents

Abstract

　まず、過酸化水素ガスを発生させる。次に、この過酸化水素ガスを除染用密閉室２内に投入する。次に、投入した過酸化水素ガスを当該除染用密閉室２内で凝縮させて、除染用密閉室２の内壁、及び除染用密閉室２内にある除染対象物３の外表面に凝縮液層を薄膜状に形成する。次に、一旦形成した凝縮液層を一部全部蒸発させる。さらに、この蒸発工程の後、再度過酸化水素ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する。

Description

明 細 書

除染方法、及び除染装置

技術分野

[0001] 本発明は、除染用密閉室、及び除染用密閉室内にある除染対象物を除染する除 染方法、及び除染装置に関する。

背景技術

[0002] 除染用密閉室 (チャンバ一等)、及び除染用密閉室内に置かれた除染対象物 (プ レフィルドシリンジを製造するために用いられる空のシリンジ外筒等)を除染する方法 は既にいくつか知られている。例えば、ガス発生装置を用いて過酸化水素ガスを発 生させ、この過酸化水素ガスを除染用密閉室内に投入し、除染用密閉室の室温を下 げて除染用密閉室を飽和させ、除染用密閉室の内壁、及び除染対象物の外表面に 過酸ィ匕水素水で構成される凝縮液層を薄膜状に形成する方法が挙げられる（例えば 、特許文献 1参照)。また、この凝縮液層の過酸ィ匕水素濃度が高いほど、除染効果が 高いことも良く知られている。なお、上述の除染とは、化学 T期除染、無菌、殺菌、滅 菌等が含まれる。

特許文献 1：特公昭 61-4543号公報

発明の開示

発明が解決しょうとする課題

[0003] しかし、上記従来構成には、一度形成した凝縮液層の過酸ィ匕水素濃度が時間の経 過と共に低下してしまい、除染効果が低くなつてしまう問題がある。これは、以下のよ うな理由によるものである。過酸ィ匕水素水に含まれる過酸ィ匕水素は水より沸点が高い ため、除染用密閉室の室温を下げて凝縮液層を形成するときは、過酸化水素が先に 凝縮を開始して液層を形成し始め、遅れて水蒸気が凝縮し始める。すなわち、凝縮 する過程の初期は、高い過酸ィ匕水素濃度の凝縮液層が形成される力 ある程度時 間が経過して水蒸気が凝縮し始めると、全体として凝縮液層の過酸化水素濃度が低 下していくことになる。例えば、 35%の過酸ィ匕水素水を蒸発させて過酸ィ匕水素ガスを 発生させた場合は、凝縮する過程の初期には 58%の濃度の凝縮液層が形成される 力 ある程度時間が経過すると、濃度が 35%近くまで低下してしまう。

[0004] そこで本発明は、過酸化水素ガスを凝縮させて凝縮液層を形成する場合に、時間 が経過しても除染効果が低下しな ヽ除染方法、及び除染装置を提供することを目的 とする。

課題を解決するための手段

[0005] 本発明は、水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガ スを発生させ、前記除染用ガスを除染用密閉室内に投入し、投入した除染用ガスを 当該除染用密閉室内で凝縮させて、除染用密閉室の内壁、及び除染用密閉室内に ある除染対象物の外表面に凝縮液層を薄膜状に形成することにより、前記除染用密 閉室、及び前記除染対象物を除染する除染方法において、一旦形成された凝縮液 層を一部、又は全部蒸発させる蒸発工程と、蒸発工程の後、再度除染用ガスを凝縮 させて凝縮液層を再形成する再凝縮工程とを備えた除染方法である。

[0006] 前記除染用ガスは、水より沸点が高いため、凝縮する過程の初期には、高い溶質 濃度 (全水溶液量に対する溶解した除染用ガスの重量，体積，モル数の割合)の凝 縮液層が形成される。そして、凝縮液層が形成された後、溶質濃度は低下し始める。 しかし、本発明は一旦形成された凝縮液層を蒸発させる蒸発工程を実行するため、 溶質濃度の低下を阻止することができる。なぜならば、凝縮液層を蒸発させると、凝 縮液層に含まれる水が除染用ガスの凝縮液よりも先に気化し、除染用ガスの凝縮液 が凝縮液層に残留して、全体として凝縮液層の溶質濃度が高くなるためである。なお 、凝縮液層を蒸発させる態様としては、全部蒸発させる態様と、一部のみ蒸発させる 態様とがある。一旦形成された凝縮液層を一部のみ蒸発させれば、高濃度の凝縮液 層を形成することができる。一方、一旦形成された凝縮液層を全部蒸発させれば、濃 度低下を完全に停止させることができる。さらに本発明は、凝縮液層を再形成する再 凝縮工程を実行することを特徴としている。このような構成とすると、再度、除染効果 の高い高濃度の凝縮液層が除染対象物の外表面等に形成されることとなる。したが つて、除染効果の高い高濃度の凝縮液層が、従来構成よりも実質的に長い時間保た れることとなる。なお、除染用ガスを除染用密閉室内に投入することには、除染用密 閉室外で除染用ガスを発生させてカゝら除染用密閉室内に投入する構成と、除染用 密閉室内で除染用ガスを発生させて当該除染用密閉室内に投入する構成とが含ま れる。

[0007] また、蒸発工程が、除染用密閉室の室温を上げることにより凝縮液層を蒸発させる ものであると共に、再凝縮工程が、除染用密閉室の室温を下げることにより除染用ガ スを凝縮させて、凝縮液層を再形成するものである構成が提案される。

[0008] この構成は、室内の温度を調節できる既存設備を利用して、凝縮液層の蒸発と再 形成を実現できると ヽぅ点で好適である。

[0009] さらに、再凝縮行程が、除染用密閉室の室温を下げながら除染用ガスを除染用密 閉室内に投入するものである構成が提案される。

[0010] ここで、再凝縮行程で凝縮液層を再形成する際は、除染開始カゝらある程度時間が 経過しているため、除染用ガスの分解が進んでいることが考えられる。このため、再凝 縮行程で充分な凝縮を得ることが困難となることが予想される。したがって、上述の構 成とすることにより、新たな除染用ガスが補充され、再凝縮行程で充分な凝縮液層を 形成することが可能となる。

[0011] また、蒸発工程が、除染用密閉室の内圧を下げることにより凝縮液層を蒸発させる ものであると共に、再凝縮工程が、除染用密閉室の内圧を上げることにより除染用ガ スを凝縮させて、凝縮液層を再形成するものである構成が提案される。

[0012] この構成は、室内の内圧を調節できる既存設備を利用して、凝縮液層の蒸発と再 形成を実現できると ヽぅ点で好適である。

[0013] さらに、再凝縮行程が、除染用密閉室の内圧を上げながら除染用ガスを除染用密 閉室内に投入するものである構成が提案され得る。

[0014] ここで、上述のように、再凝縮行程で凝縮液層を再形成する際は、除染開始からあ る程度時間が経過しているため、除染用ガスの分解が進んでいることが考えられる。 このため、再凝縮行程で充分な凝縮を得ることが困難となることが予想される。したが つて、上述の構成とすることにより、新たな除染用ガスが補充され、再凝縮行程で充 分な凝縮液層を形成することが可能となる。

[0015] また、蒸発工程が、除染用密閉室で飽和しない不飽和ガスを除染用密閉室内に供 給することにより凝縮液層を蒸発させるものであると共に、再凝縮工程が、前記不飽 和ガスの供給を停止し、かつ除染用ガスを再投入して除染用ガスを凝縮させて、凝 縮液層を再形成するものである構成が提案される。

[0016] この構成によれば、除染用密閉室内の温度や内圧を変化させることなく凝縮液層を 蒸発させたり再形成したりすることができる点で好適である。

[0017] また、再凝縮工程を、複数回実行する構成が提案される。

[0018] この構成は、溶質濃度が高い凝縮液層を除染対象物の外表面に複数回形成する ことができ、除染効果の高い高濃度の凝縮液層を長時間保持できる。

[0019] さらに、室壁に、除染対象物を室外から室内に供給するための供給口と、除染済み の除染対象物を室内カゝら室外へ排出するための排出口とがそれぞれ形成された、前 記供給口及び前記排出口を遮閉状態とすると室内と外界とが気密状に遮断される除 染用密閉室に、除染用ガスを投入し、当該除染用ガスを遮閉状態の除染用密閉室 内で凝縮させて、供給口カゝら供給された除染対象物の外表面に凝縮液層を薄膜状 に形成し、その後、当該凝縮液層を除去して、除染対象物を排出口から排出する除 染方法において、除染対象物の外表面に凝縮液層を形成し、この形成時から所定 時間経過後に蒸発工程を実行し、この蒸発工程実行後、再凝縮工程を実行すると 共に、再凝縮行程実行後、既に形成された凝縮液層を除去する除染方法が提案さ れる。

[0020] カゝかる構成とすることにより、未だ除染されていない除染対象物を高濃度の凝縮液 層により除染し、凝縮液層を除去した上で除染済みの除染対象物を得ることが可能 となる。

[0021] さらに、除染対象物を供給口から排出口へ移送する過程の中で、その前半で、除 染対象物の外表面に凝縮液層を形成し、この形成時から所定時間経過後に蒸発ェ 程を実行し、この蒸発工程実行後、再凝縮工程を実行すると共に、後半で、既に形 成された凝縮液層を除去する構成が提案される。

[0022] ここで、従来は、除染用ガスを除染用密閉室内全域に拡散するように投入し、その 後、室内全域に拡散した除染用ガスを全て除去する (エアレーシヨン)する必要があ つた。そのため、除染時間が長時間となってしまう場合があった。しかし、本発明は、 除染用密閉室内全域に除染用ガスを拡散するように投入する必要がないため、除染 時間が従来構成に比べて短縮できる。

[0023] ここで、除染用密閉室内と外界とが連通するときは、前記除染用密閉室の内圧を外 気圧に比べて高圧とする構成が提案される。

[0024] この構成は、除染対象物を外部から室内に供給する際に、外界の汚染物質が室内 に侵入することを防ぐことができる。

[0025] また、これまでに述べた除染方法にあって、除染対象物が、除染済みの資材が無 菌状態を維持したまま包装材により包装されてなる構成が提案される。ところで、この ような構成からなる除染対象物の外表面、すなわち包装材の外表面を除染する場合 には、次のような問題がある。すなわち、包装材の外表面に形成した凝縮液層は時 間経過と共にガス化して、除染用ガスが発生する。ここで、包装材の透過性が液体に 対して低く気体に対して高いと、この除染用ガスが包装材に浸透し、内部の資材にま で達してしまう場合がある。そして、資材に除染用ガスが接触してしまうと、資材が変 質したり、腐食されたりするという問題が生ずる。

[0026] しかし、上述した本発明のような除染方法であると、この問題を解消できる。すなわ ち、除染用ガスが包装材に浸透して資材に達してしまう前に蒸発工程を実行すること により、除染用ガスが資材に達することを確実に阻止できる。なお、蒸発工程を実行 するタイミングは、除染用ガスが包装材を浸透して内部の資材に達してしまうタイミン グよりも前となる。したがってこのようなタイミングが実現されるように、凝縮液層を形成 して力 蒸発工程を実行するまでの時間を適宜調節することとなる。

[0027] また、除染対象物が、除染済みの資材が無菌状態を維持したまま包装材により包 装されてなる構成にあって、除染用密閉室内と連通し、かつ室内が除染された包装 材除去室を形成し、除染用密閉室と包装材除去室とを遮断状態として、除染用密閉 室、及び除染用密閉室内に置かれた除染対象物の包装材の外表面を除染し、除染 した後に、両室を遮断状態から連通状態として、除染された除染対象物を除染用密 閉室から包装材除去室へ移送し、再び両室を遮断状態とした後、包装材除去室にて 除染対象物の包装材を除去して内部の資材を取出す構成が提案される。

[0028] この構成は、包装材除去室で、無菌状態を保ったまま資材を取出すことができ、資 材を扱う作業を迅速かつ安全に実行することができる。 [0029] また、これまでに述べた除染方法には、除染用ガスを過酸ィ匕水素ガスとする構成が 好適である。

[0030] なせならば、過酸ィ匕水素ガスは強力な除染能力を備え、 10— ⁴から 10— ¹²までの除染 のノ リデーシヨンに対応できる力もである。また、安価で入手し易い利点もある。さら に、この過酸ィ匕水素ガスは、最終的に酸素と水とに分解されるため、環境に対して影 響が少ない点も理由の一つである。

[0031] ここで、室内と外界とが気密状に遮断される除染用密閉室と、水より沸点の高い除 染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ、除染用密閉室内に 除染用ガスを放出する除染用ガス供給手段と、放出された除染用ガスを遮閉状態の 除染用密閉室内で凝縮させて、当該室内表面に凝縮液層を薄膜状に形成し、除染 用密閉室内を除染する凝縮制御手段と、既に形成された凝縮液層を除去する凝縮 液層除去制御手段とを備えた除染装置において、凝縮液層除去制御手段により、形 成された凝縮液層を一部、または全部蒸発させ、凝縮制御手段により、蒸発後、再 度除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する再凝縮制御手段を備えたことを特 徴とする除染装置が提案される。

[0032] カゝかる構成とすることにより、形成された凝縮液層を一部、または全部蒸発させ、蒸 発後、再度除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する除染装置を提供すること ができる。

[0033] さらに、再凝縮制御手段が、凝縮液層の再形成を複数回繰り返すものである構成 が提案される。

[0034] カゝかる構成とすることにより、凝縮液層の再形成を複数回繰り返す除染装置を提供 することができる。

[0035] 次に、上述の除染方法を好適に実現できる除染装置を提案する。

本発明は、室壁に、除染対象物を室外から室内に供給するための供給口と、除染 済みの除染対象物を室内から室外へ排出するための排出口とがそれぞれ形成され た、前記供給口及び前記排出口を遮閉状態とすると室内と外界とが気密状に遮断さ れる除染用密閉室と、開口面が除染対象物の外表面に対向するガス放出口を備え、 水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ 、除染対象物に対して前記ガス放出口を介して除染用ガスを放出する除染用ガス供 給手段と、開口面が除染対象物の外表面に対向するガス放出口を備え、除染用密 閉室内で飽和しない不飽和ガスを発生させ、除染対象物に対して前記ガス放出口を 介して不飽和ガスを放出する不飽和ガス供給手段と、放出された除染用ガスを遮閉 状態の除染用密閉室内で凝縮させて、除染対象物の外表面に凝縮液層を薄膜状に 形成し、除染対象物を除染する凝縮制御手段と、除染対象物に対して、既に形成さ れた凝縮液層を除去する凝縮液層除去手段とを備えたことを特徴とする除染装置で ある。

[0036] カゝかる構成とすることにより、未だ除染されていない除染対象物を高濃度の凝縮液 層により除染し、凝縮液層を除去した上で除染済みの除染対象物を得ることが可能 となる。

[0037] さらに、除染用密閉室内に設置され、供給口から供給された除染対象物を所定移 送経路に従って排出口へ移送する移送手段を備え、除染用ガス供給手段が、前記 移送経路の前段部で移送されている除染対象物に対してガス放出口を介して除染 用ガスを放出し、凝縮液層除去手段が、前記移送経路の後段部で移送されている除 染対象物に対して、既に形成された凝縮液層を除去すると共に、除染用ガス供給手 段のガス放出口と、不飽和ガス供給手段のガス放出口とが、前記移送経路の前段部 で、移送経路に沿って交互に形成されてなる構成が提案される。

[0038] かかる構成にあっては、除染対象物が移送経路に沿って移送されると、この除染対 象物に対して除染用ガスと不飽和ガスとが交互に放出される。これは、除染用ガスの ガス放出口と不飽和ガスのガス放出口とが移送経路に沿って交互に配置されている ためである。ここで、除染用ガスが除染対象物に対して放出されるときは、所定条件 の下、除染対象物の外表面に凝縮液層が形成される。一方、不飽和ガスが放出され るときは、形成された凝縮液層が蒸発される。したがって、除染対象物の外表面では 、移送される間に凝縮液層の形成と蒸発とが交互に繰返し生ずることとなる。すなわ ち、請求項 1に記載する蒸発工程と再凝縮工程とを備えた除染方法が好適に実現さ れる。また、この除染装置は、除染用ガスを放出する放出口の開口面を、除染対象 物の外表面と対向するように配置したため、除染用ガスが、室内全域に浸透する前 に除染対象物の外表面と十分に接触することとなる。したがって、除染用ガスを無駄 に投入することなぐ効率的に凝縮液層を形成することができる。また、この除染装置 は、除染対象物を供給口から排出口に移送する過程の中で、除染とエアレーシヨン（ 凝縮液層の除去)を実行する構成であるため、除染用ガスを室内全域に浸透させて その後浸透させた除染用ガスを室内から除去していた従来構成に比べて、除染時間 が確実に短縮される。

[0039] また、ガス放出口が、所定の等間隔で形成されると共に、移送手段が、移送経路上 で、複数の除染対象物を前記ガス放出口の間隔とほぼ同一間隔で移送するもので ある構成が提案される。

[0040] この構成は、移送経路上で複数の除染対象物を同時平行して、凝縮液層の形成 及びその蒸発を実行することが可能となる。したがって、単位時間当りの除染可能な 除染対象物数が増加し、除染効率が向上する。

[0041] ここで、これまでに述べた除染装置にあって、除染対象物が、除染済みの資材が無 菌状態を維持したまま包装材により包装されてなる構成が提案される。

[0042] この除染対象物は、上述のように、除染用ガスが包装材に浸透し、内部の資材が変 質してしまうおそれがある。しかし、本発明の除染装置は、一旦形成した凝縮液層を 蒸発させる構成であるため、除染用ガスが資材に達することを確実に阻止できる。

[0043] また、除染用密閉室の排出口に接続された連通口を具備すると共に、前記連通口 を介して除染用密閉室内と連通し、かつ室内が除染された包装材除去室を備えた構 成が提案される。

[0044] この構成は、除染用密閉室の排出ロカ 連通口を介して包装材除去室に除染対 象物を移送し、包装材除去室で、無菌状態を保ったまま資材を取出すことができる。 したがって、資材を扱う作業を迅速かつ安全に実行することができる。

[0045] また、これまでに述べた除染装置には、除染用ガスを過酸ィ匕水素ガスとする構成が 好適である。

[0046] なせならば、過酸ィ匕水素ガスは強力な除染能力を備え、 10— ⁴から 10— ¹²までの除染 のノ リデーシヨンに対応できる力もである。また、安価で入手し易い利点もある。さら に、この過酸ィ匕水素ガスは、最終的に酸素と水とに分解されるため、環境に対して影 響が少ない点も理由の一つである。さらに、過酸ィ匕水素ガスを発生させる装置は比 較的簡易構造であるため、除染用密閉室の密閉構造が簡易となる。さらに、除染効 果が安定しているという理由も挙げられる。また、除染対象物の大きさが制限されにく Vヽ除染装置することができると 、う理由もある。

発明の効果

[0047] 本発明の除染方法は、蒸発工程と再凝縮工程とを備えた除染方法としたため、凝 縮液層の溶質濃度が低下することを防止できる効果がある。また、除染効果の高い 高濃度の凝縮液層を形成できる利点もある。これにより、除染時間を従来構成に比 ベて短縮できる効果がある。

[0048] また、蒸発工程が、除染用密閉室の室温を上げることにより凝縮液層を蒸発させる ものであると共に、再凝縮工程が、除染用密閉室の室温を下げることにより凝縮液層 を再形成するものである構成とした場合は、室内の温度を調節できる既存設備を利 用できる。このため、除染に必要なコストを抑えることができる効果がある。

[0049] さらに、再凝縮行程が、除染用密閉室の室温を下げながら除染用ガスを除染用密 閉室内に投入する構成とした場合は、新たな除染用ガスが補充され、再凝縮行程で 充分な凝縮液層を形成することができる効果がある。

[0050] また、蒸発工程が、除染用密閉室の内圧を下げることにより凝縮液層を蒸発させる ものであると共に、再凝縮工程が、除染用密閉室の内圧を上げることにより凝縮液層 を再形成するものである構成とした場合は、室内の内圧を調節できる既存設備を利 用できる。このため、除染に必要なコストを抑えることができる効果がある。

[0051] また、再凝縮行程が、除染用密閉室の内圧を上げながら除染用ガスを除染用密閉 室内に投入するものである構成とした場合は、新たな除染用ガスが補充され、再凝 縮行程で充分な凝縮液層を形成することができる効果がある。

[0052] また、蒸発工程が、除染用密閉室で飽和しない不飽和ガスを除染用密閉室内に供 給することにより凝縮液層を蒸発させるものであると共に、再凝縮工程が、前記不飽 和ガスの供給を停止し、かつ除染用ガスを再投入して凝縮液層を再形成するもので ある構成とした場合は、除染用密閉室内の温度や内圧を変化させることなく凝縮液 層を蒸発させたり再形成したりすることができる効果がある。 [0053] また、再凝縮工程を、複数回実行する構成とした場合は、溶質濃度が高!ヽ凝縮液 層を除染対象物の外表面に複数回形成することができる、このため、除染効果の高 い凝縮液層を実質的に長時間保持できる効果がある。

[0054] さらに、供給口と排出口とが形成された除染用密閉室に、除染用ガスを投入し、除 染対象物の外表面に凝縮液層を形成し、この形成時から所定時間経過後に蒸発ェ 程を実行し、この蒸発工程実行後、再凝縮工程を実行し、再凝縮行程実行後、当該 凝縮液層を除去して、除染対象物を排出ロカゝら排出する構成とした場合は、未だ除 染されて 、な 、除染対象物を高濃度の凝縮液層により除染し、凝縮液層を除去した 上で除染済みの除染対象物を得ることができる効果がある。

[0055] さらに、除染対象物を供給口から排出口へ移送する過程の中で、その前半で、除 染対象物の外表面に凝縮液層を形成し、この形成時から所定時間経過後に蒸発ェ 程を実行し、この蒸発工程実行後、再凝縮工程を実行すると共に、後半で、既に形 成された凝縮液層を除去する構成とした場合は、従来構成のように除染用ガスを室 内全域に浸透させてその後この除染用ガスを除去する必要がなくなる。このため、除 染時間を短縮できる効果がある。

[0056] また、除染用密閉室内と外界とが連通するときは、前記除染用密閉室の内圧を外 気圧に比べて高圧とする構成とした場合は、外界から汚染物質が侵入してしまうこと を防止できる効果がある。

[0057] また、除染対象物が、除染済みの資材が無菌状態を維持したまま包装材により包 装されてなる構成とした場合は、蒸発工程の実行により除染用ガスが資材に達するこ とを確実に阻止できる。このため、除染用ガスが包装材に浸透して資材が変質したり 、腐食されたりすることなぐ包装材の外表面を除染することができる効果がある。

[0058] また、包装材除去室を形成し、この包装材除去室で除染対象物の包装材を除去し て内部の資材を取出す構成とした場合は、無菌状態を保ったまま資材を取出すこと ができるため、資材を扱う作業を迅速かつ安全に実行できる効果がある。

[0059] また、除染用ガスが過酸ィ匕水素ガスである除染方法とした場合は、 10— ⁴から 10— ¹²ま での除染のノ リデーシヨンに対応できる効果がある。また、過酸化水素ガスは安価で 入手しやすいため、除染に必要なコストを抑えることができる効果がある。さらに、この 過酸化水素ガスは、最終的に酸素と水とに分解されるため、環境に対して影響が少 ない利点がある。

[0060] また、本発明にかかる除染装置は、凝縮液層除去制御手段により、形成された凝 縮液層を一部、または全部蒸発させ、凝縮制御手段により、蒸発後、再度除染用ガ スを凝縮させて凝縮液層を再形成する再凝縮制御手段を備えた構成としたため、形 成された凝縮液層を一部、または全部蒸発させ、蒸発後、再度除染用ガスを凝縮さ せて凝縮液層を再形成する工程を実行できる効果がある。

[0061] さらに、再凝縮制御手段が、凝縮液層の再形成を複数回繰り返すものである構成と した場合は、凝縮液層の再形成を複数回繰り返す工程を実行できる効果がある。

[0062] また本発明の除染装置は、供給口と排出口とが形成された除染用密閉室と、除染 用ガス供給手段と、不飽和ガス供給手段と、凝縮制御手段と、凝縮液層除去手段と を備えた構成としたため、未だ除染されて!/、な！、除染対象物を高濃度の凝縮液層に より除染し、凝縮液層を除去した上で除染済みの除染対象物を得ることができる効果 がある。

[0063] また、除染対象物を所定移送経路に従って排出口へ移送する移送手段を備え、除 染用ガス供給手段が、移送経路の前段部で移送されている除染対象物に対してガ ス放出口を介して除染用ガスを放出し、凝縮液層除去手段が、移送経路の後段部で 移送されている除染対象物に対して、既に形成された凝縮液層を除去すると共に、 除染用ガス供給手段のガス放出口と、不飽和ガス供給手段のガス放出口とが、前記 移送経路の前段部で、移送経路に沿って交互に形成されてなる構成とした場合は、 除染対象物を排出口に移送する過程で、蒸発工程と再凝縮工程とを実行できるよう になった。また、除染用ガスを除染用密閉室の全域に浸透させることなく除染用ガス と除染対象物の外表面を十分に接触させることができるようになった。さらに、除染用 ガスを除染用密閉室の全域から除去することなぐエアレーシヨンを実行できるように なった。したがって、凝縮液層の溶質濃度が著しく低下することを防止できる効果を 奏する。また、除染効果の高い高濃度の凝縮液層を形成して除染できる効果もある。 さらに、除染時間を従来構成に比べて飛躍的に短縮できる効果もある。

[0064] また、移送手段が、複数の除染対象物をガス放出口の間隔とほぼ同一間隔で移送 する構成とした場合は、単位時間当りの除染可能な除染対象物数が増加し、除染効 率が向上する効果がある。

[0065] また、除染対象物が、除染済みの資材が無菌状態を維持したまま包装材により包 装されてなる構成とした場合は、除染用ガスが資材に達することを確実に阻止できる 。このため、除染用ガスが包装材に浸透して資材が変質したり、腐食されたりすること なぐ包装材の外表面を除染することができる効果がある。

[0066] また、包装材除去室を備えた構成とした場合は、無菌状態を保ったまま資材を取出 すことができ、資材を扱う作業を迅速かつ安全に実行することができる効果がある。

[0067] また、除染用ガスが過酸ィ匕水素ガスである除染装置とした場合は、 10— ⁴から 10— ¹²ま での除染のノ リデーシヨンに対応できる効果がある。また、過酸化水素ガスは安価で 入手しやすいため、除染に必要なコストを抑えることができる効果がある。さらに、この 過酸化水素ガスは、最終的に酸素と水とに分解されるため、環境に対して影響が少 ない利点がある。さらに、過酸ィ匕水素ガスを発生させる装置は比較的簡易構造であ るため、除染用密閉室の密閉構造が簡単にできる効果がある。また、除染装置は複 雑ィ匕しないため、除染対象物の大きさが制限されにくいという効果もある。

図面の簡単な説明

[0068] [図 1]除染装置 1の概略図である。

[図 2]内圧調節装置 13を備えた除染装置 1の概略図である。

[図 3]除染装置 laの側面図である。

[図 4]除染用密閉室 2aの縦断側面図である。

[図 5]ホットエアーが噴出されるルーバー 46a, 46bが配設された除染用密閉室 2aの 縦断側面図である。

[図 6]アイソレータ 14の横断平面図である。

[図 7]凝縮液層 mが包装材 51上に形成された除染対象物 3aの縦断側面図である。

[図 8]資材 50と包装材 51とからなる除染対処物 3aの縦断側面図である。

符号の説明

[0069] 1, la 除染装置

2 チャンバ一 2a 除染用密閉室

3, 3a 除染対象物

4 ガス発生装置

20 供給口

14 イソレータ

21 排出口

33 連通口

50 資材

51 包装材

77 除染用ガス放出口

99 低湿ガス放出口

m 凝縮液層

発明を実施するための最良の形態

[0070] く第一実施例〉

チャンバ一 2 (除染用密閉室)、及びチャンバ一 2内にある除染対象物 3を除染する 除染装置 1について、添付図面に従って説明する。なお、この除染装置 1は、除染用 ガスとして過酸ィ匕水素ガスを用いて 、る。

[0071] 図 1に示されるように、除染装置 1は、チャンバ一 2、及びガス発生装置 4を備えてい る。前記チャンバ一 2は、密閉空間を形成する。また、前記ガス発生装置 4は、過酸 化水素ガスを発生させる。そして、回路 Xにより、ガス発生装置 4から過酸化水素ガス がチャンバ一 2に投入される。なお、この回路 Xは、循環回路となっていて、チャンバ 一 2内のガスがガス発生装置 4へ再び送り込まれる。

[0072] また、チャンバ一 2内には、温度センサー 9、温度調節装置 10、及び凝縮センサー 11が設けられている。前記温度センサー 9は、チャンバ一 2内の室温を検知する。ま た、前記温度調節装置 10は、チャンバ一 2内の室温を調節する。さらに、前記凝縮 センサー 11は、チャンバ一 2の内壁、及び除染対象物 3の外表面に形成された凝縮 液層の有無を検知する。そして、温度センサー 9、温度調節装置 10、及び凝縮セン サー 11は、それぞれ中央制御装置 CPUに電気的に接続されている。なお、温度セ ンサー 9、温度調節装置 10、及び凝縮センサー 11は、公知のものが用いられる。

[0073] ガス発生装置 4は、蒸発装置 5、液体タンク 6、及び送風機 7を具備して ヽる。前記 蒸発装置 5は、フラッシュ蒸発 (いわゆる急速蒸発法）によりガスを発生させる構成で ある。また、前記液体タンク 6には、過酸ィ匕水素ガスが溶解した過酸ィ匕水素水が入つ ている。そして、この過酸ィ匕水素水が、重力下で、蒸発装置 5の加熱面（図示省略） に滴下されて蒸発することにより、過酸化水素ガスが発生する。また、前記送風機 7 は、発生した過酸ィ匕水素ガスをチャンバ一 2内に送り込む。このガス発生装置 4は、 公知のものが用いられる。

[0074] また、回路 Xには、循環用送風機 8が設けられて ヽる。前記循環用送風機 8は、過 酸化水素ガスを回路 X内で常時循環させる。

[0075] 次に、前記除染装置 1を用いた除染方法について説明する。

まず、ガス発生装置 4を用いて過酸ィ匕水素ガスを発生させる。次に、この過酸化水 素ガスをチャンバ一 2内に投入する。次に、過酸ィ匕水素ガスをチャンバ一 2内で飽和 状態として凝縮させる。そして、チャンバ一 2の内壁、及び除染対象物 3の外表面に 凝縮液層を薄膜状に形成する。ここで、過酸化水素ガスを凝縮させるには、温度調 節装置 10を用いてチャンバ一 2内の室温を下げて飽和状態とする。前記凝縮液層が 、チャンバ一 2の内壁、及び除染対象物 3の外表面に形成されると、除染効果が得ら れる。

[0076] さらに、本除染方法は、一旦形成した凝縮液層を一部蒸発させる蒸発工程を実行 することを特徴としている。具体的には、以下のように蒸発させる。まず、凝縮センサ 一 11が、凝縮液層の存在を検知すると、凝縮センサー 11は中央制御装置 CPU〖こ 検知信号を送信する。中央制御装置 CPUが前記検知信号を受信すると、所定時間 経過後に、温度調節装置 10に信号を送信する。この信号は、室温を上昇させるため の信号である。温度調節装置 10は、前記信号を受信すると、チャンバ一 2の室温を 所定温度まで上げる。そうすると、一旦形成された凝縮液層が一部蒸発し始める。こ れにより、蒸発工程が実行されたこととなる。

[0077] なお、凝縮液層が蒸発する過程では、凝縮液層に含まれる過酸ィ匕水素と水とのう ち、水の方が先に気化する。なぜならば、水の沸点は、過酸化水素の沸点（150°C) よりも低いからである。したがって、凝縮液層を一部蒸発させるような蒸発工程を実行 すると、除染対象物 3の外表面に、過酸ィ匕水素濃度が高い凝縮液層が形成されるこ ととなる。なお、上述の、温度調節装置 10が信号を受信して力も信号を送信するまで の時間、凝縮液層を蒸発させるための温度は、適宜設定される。

[0078] さらに本発明は、前記蒸発工程の後、過酸ィ匕水素ガスを再度凝縮させて、凝縮液 層を再形成する再凝縮工程を実行することを特徴としている。具体的には、以下のよ うに再形成する。

[0079] まず、中央制御装置 CPUは、前記蒸発工程を実行してから所定時間経過後に、温 度調節装置 10に信号を送信する。この信号は、室温を下げるための信号である。温 度調節装置 10は、前記信号を受信すると、室温を所定温度まで下げる。そうすると、 過酸ィ匕水素ガスが再び凝縮し始めて、凝縮液層が除染対象物 3の外表面等に再び 形成される。これにより、再凝縮工程が実行されることとなる。なお、凝縮液層の再形 成が不充分である場合は、再凝縮行程で室温を下げながら過酸ィ匕水素ガスを新た に投入しても良い。

[0080] なお、再び凝縮液層が形成される過程では、既に知られているように、水よりも先に 過酸化水素ガスが凝縮する。したがって、初期の段階では、高い過酸化水素濃度の 凝縮液層が形成されることとなる。なお、中央制御装置 CPUが、蒸発工程を実行し て力も室温を下げるための信号を送信するまでの時間、凝縮液層を形成するための 温度は、適宜設定される。

[0081] ところで、この再凝縮工程は、複数回実行しても良い。すなわち、凝縮液層の蒸発 、形成を繰返し行うものである。なぜならば、高濃度の凝縮液層が実質的に長時間 保持されることとなって除染効果が著しく向上する力 である。また、温度調節装置 1 0、中央制御装置 CPU等を用いて、上述の温度調節を自動制御する構成としても良 い。なぜならば、チャンバ一 2ゃ除染対象物 3の除染を管理することが簡便となるから である。

[0082] なお、凝縮センサー 11が、凝縮液層の層厚を検知できる構成である場合は、以下 のような構成が提案される。すなわち、凝縮センサー 11が、凝縮液層が所定厚となつ たことを検知すると、中央制御装置 CPUに検知信号を送信する。中央制御装置 CP Uは、前記検知信号を受信すると、所定時間経過後、温度調節装置 10に室温を上 げる信号を送信し、蒸発工程を実行する。この構成は、除染効果が最も高い凝縮液 層の層厚を予め特定し、その層厚となったタイミングで蒸発工程を実行することがで きる。

[0083] 次に、他の実施形態例を説明する。

除染装置 1は、図 2に示されるように、内圧センサー 12、内圧調節装置 13、及び凝 縮センサー 11を備えた構成としても良い。前記内圧センサー 12は、チャンバ一 2の 内圧を検知する。また、前記内圧調節装置 13は、チャンバ一 2の内圧を調節する。 前記凝縮センサー 11は、これまでに述べた構成と同じである。また、内圧センサー 1 2、及び内圧調節装置 13は、公知のものが用いられる。

[0084] 次に、この構成を用いた除染方法を説明する。

まず、過酸ィ匕水素ガスをチャンバ一 2内に投入する。次に、チャンバ一 2の内圧（+ 10— lOOOPa)を上げる。これにより、過酸化水素ガスがチャンバ一 2内で飽和状態 となって凝縮液層が形成される。その後、所定時間経過後に、中央制御装置 CPUが 内圧調節装置 13に信号を送信する。この信号は、内圧を所定圧まで下げるための 信号である。この信号を受信した内圧調節装置 13は、圧を開放して内圧を所定圧ま で下げる。そうすると、一旦形成された凝縮液層が一部蒸発し始める。これにより、蒸 発工程が実行されて凝縮液層の過酸化水素濃度が高まり、凝縮液層の濃度低下が 阻止される。さらに、その後、内圧を所定圧まで上げて凝縮液層を再形成する。これ により、再凝縮工程が実行され、高濃度の凝縮液層が除染対象物 3の表面等に再び 保持される。なお、再凝縮工程は、複数回実行して良い。また、凝縮液層の再形成 が不充分である場合は、内圧を上げながら過酸ィ匕水素ガスを投入しても良い。

[0085] また、蒸発工程、及び再凝縮工程を実行する手段としては、以下のような構成も提 案される。すなわち、不飽和ガス供給装置を用いた構成である。前記不飽和ガス供 給装置は、チャンバ一 2内で飽和しない不飽和ガスを、チャンバ一 2内に供給する。

[0086] この構成を用いた除染方法を説明する。

まず、チャンバ一 2内に過酸化水素ガスを投入して凝縮液層を形成する。次に、不 飽和ガス供給装置を用いて不飽和ガスをチャンバ一 2内に供給する。不飽和ガスを 所定量供給すると、チャンバ一 2内の内圧が高くなり、凝縮液層が一部蒸発し始める 。これにより蒸発工程を実行することができる。次に、不飽和ガスの供給を停止して、 蒸発工程を終了する。そして、過酸ィ匕水素ガスを再投入して、過酸化水素ガスをチヤ ンバー 2内で飽和状態とする。そうすると、過酸ィ匕水素ガスが凝縮を開始し、凝縮液 層が再形成される。これにより再凝縮工程を実行することができる。なお、不飽和ガス の供給量は、適正に蒸発工程を実行すベぐ適宜設定される。

[0087] この構成は、過酸化水素ガスを蒸発させたり再形成させたりするために、チャンバ 一 2内の温度や内圧を変更する必要がない。このため、蒸発工程、及び再凝縮工程 を繰り返すサイクルを迅速に実行できる。

[0088] なお、これまでに述べた除染方法にあっては、除染が終了した場合、チャンバ一 2 内力も過酸ィ匕水素ガスを除去（エアレーシヨン)することとなる。

[0089] これまでに述べた除染装置 1は、加圧による凝縮方式であるため、公知の減圧方式 に比べ、無菌性の維持に絶対的に有為である。また、これまでに述べた除染装置 1 は、上記した構成以外にも、様々な構成が付加されていても良い。

[0090] また、これまでに述べた構成は、凝縮液層の有無を凝縮センサー 11により検知す る構成であるが、凝縮液層の有無をチャンバ一 2に配設された湿度センサーにより検 知する構成とすることちでさる。

[0091] また、除染方法としては、蒸発工程で、凝縮液層を全部蒸発させる構成としても良 い。凝縮液層が全部蒸発してしまえば、凝縮液層の濃度低下は起こらないため、凝 縮液層の濃度低下を完全に阻止することができる。

[0092] なお、過酸ィ匕水素ガスをチャンバ一 2内で凝縮させて、凝縮液層をチャンバ一 2の 内表面に薄膜状に形成する中央制御装置 CPUにより、請求項 14, 15に記載される 凝縮制御手段が構成される。また、形成された凝縮液層の一部、または全部蒸発さ せる中央制御装置 CPUにより、請求項 14, 15に記載される凝縮液層除去制御手段 が構成される。さらに、凝縮液層の蒸発後、再度過酸化水素ガスを凝縮させて凝縮 液層を再形成 (複数回を含む)する中央制御装置 CPUにより、請求項 14, 15に記載 される再凝縮制御手段が構成される。

[0093] く第二実施例〉 次に、除染済みの資材 50が無菌状態を維持したまま包装材 51により包装されてな る除染対象物 3aを好適に除染できる除染装置 laを説明する。

[0094] 前記除染対象物 3aは、図 8に示されるように、資材 50が包装材 51により包装され ている。前記資材 50は、既に除染されている。前記包装材 51は、資材 50を、無菌状 態を維持したまま包装している。また、透過性が液体に対して低く気体に対して高い 。なお、前記資材 50としては、例えばプレフィルドシリンジに用いられる除染済みのシ リンジ外筒等が挙げられる。

[0095] 除染装置 laは、図 3に示されるように、除染用密閉室 2aを備えている。また、この除 染用密閉室 2aの壁面には、供給口 20、及び排出口 21が形成されている。前記供給 口 20と前記排出口 21は、それぞれ対面している。そして、前記供給口 20から除染 対象物 3aを除染用密閉室 2a内に供給し、除染用密閉室 2a内で除染対象物 3aを 10 一 10— ¹²の SAL (無菌性保証水準)で除染した後、除染済みの除染対象物 3aを前 記排出口 21から排出する。

[0096] 前記供給口 20には、供給口扉 22が配設されている。前記供給口扉 22は、上下動 することにより外界と室内とを遮断する。一方、排出口 21には、排出口扉 23が配設さ れている。前記排出口扉 23は、前記供給口扉 22と同じ機構である。なお、除染用密 閉室 2aの外壁と、各扉 22, 23の内側面との間にはパッキン（図示省略）が設けられ ている。このため、両扉 22, 23を遮蔽すると、除染用密閉室 2a内と外界とが気密状 に遮断される。この扉機構は、公知技術が好適に用いられる。

[0097] また、図 4に示されるように、除染用密閉室 2aの室内中央には、移送装置 24が設 置されている。前記移送装置 24は、複数の移送用ローラ 25を具備している。さらに 詳述すると、円柱状の移送用ローラ 25が、その長手方向と当該除染用密閉室 2aの 奥行き方向とが直交するように複数列設されている。そして、供給口 20と排出口 21と を結ぶ移送経路を構成している。また、移送用ローラ 25の配設位置は、前記供給口 20の下縁と排出口 21の下縁とを結ぶ仮想線とほぼ同じ高さに設定されている。さら に、移送用ローラ 25は、供給口 20から排出口 21にかけて所定間隔で軸支されてい る。そして、移送用ローラ 25は、回転制御可能となっている。このような構成にあって 、供給口 20から除染対象物 3aが供給されると、この除染対象物 3aが前記移送用口 ーラ 25上を移動し、排出口 21まで移送される。なお、この移送装置 24により、本発 明に力かる移送手段が構成される。

[0098] また、除染用密閉室 2aには、図 4に示されるように、ガス発生装置 4が備えられてい る。前記ガス発生装置 4は、蒸発装置 5、液体タンク 6、及び送風機 7を具備している 。前記液体タンク 6には、水より沸点の高い過酸ィ匕水素ガスが溶解した過酸ィ匕水素 水が入っている。そして、この過酸ィ匕水素水が重力下で蒸発装置 5の加熱面（図示 省略）に滴下されると、過酸化水素ガスが発生する。この過酸化水素ガスは送風機 7 により、除染用密閉室 2a内に送り込まれる。なお、この過酸ィ匕水素ガスは、除染用ガ ス導入管 66を介して除染用密閉室 2a内に送り込まれる。前記除染用ガス導入管 66 の一端は蒸発装置 5に接続され、他端は除染用密閉室 2a内に接続されている。なお 、前記蒸発装置 5は、フラッシュ蒸発 (いわゆる急速蒸発法）によりガスを発生させる 構成である。

[0099] なお、ガス発生装置 4は、除染用密閉室 2aに一体的に取付けても良いし、別体とし ても良い。ガス発生装置 4は、公知のものが用いられる。

[0100] また、除染用密閉室 2a内には、前記除染用ガス導入管 66と連通している除染用ガ ス放出管 66a, 66bが設けられている。前記除染用ガス放出管 66a, 66bは、前記移 送経路に沿って配設されている。そして、除染用ガス放出管 66a, 66bは、前記ガス 発生装置 4が発生させた過酸ィ匕水素ガスを除染用密閉室 2a内に放出する。さらに詳 述すると、除染用ガス放出管 66a, 66bは、除染用密閉室 2a内の上方位置に配設さ れた第一除染用ガス放出管 66aと、室内下方位置に配設された第二除染用ガス放 出管 66bとで構成されている。また、両除染用ガス放出管 66a, 66bには、複数の除 染用ガス放出口 77が開口している。前記除染用ガス放出口 77は、除染用ガス放出 管 66a, 66bの長手方向に沿って開口している。また、除染用ガス放出口 77の開口 面は、除染対象物 3aの外表面 (上面及び下面）に対向するようにそれぞれ配置され ている。これにより、除染用ガス導入管 66から供給される過酸ィ匕水素ガスが、除染対 象物 3aに向けて放出される。

[0101] ここで、第一、第二除染用ガス放出管 66a, 66bに加え、除染用密閉室 2a内の側 方位置にも除染用ガス放出管を配設した構成が提案される。すなわち、上下左右方 向から過酸ィ匕水素ガスを放出できる構成である。なお、上述のガス発生装置 4、除染 用ガス導入管 66、及び除染用ガス放出管 66a, 66bにより、本発明にかかる除染用 ガス供給手段が構成される。

[0102] さら〖こ、除染装置 laは、低湿ガス供給装置 55を備えている。前記低湿ガス供給装 置 55は、除染用密閉室 2a内に低湿ガスを投入する。この低湿ガスは、低湿ガス導入 管 88により除染用密閉室 2a内に送り込まれる。前記低湿ガス導入管 88の一端は低 湿ガス供給装置 55に接続され、他端は除染用密閉室 2a内に接続されている。また、 低湿ガス導入管 88は、低湿ガス放出管 88a, 88bと連通している。前記低湿ガス放 出管 88a, 88bは、除染用密閉室 2a内に配設されている。前記低湿ガス放出管 88a , 88bは、前記移送経路に沿って配設されている。この低湿ガス放出管 88a, 88bに は、複数の低湿ガス放出口 99が除染用密閉室 2a内で開口している。前記低湿ガス 放出口 99は、低湿ガス放出管 88a, 88bの長手方向に沿って開口している。また、 低湿ガス放出口 99の開口面は、除染対象物 3aの外表面（上面及び下面）に対向す るようにそれぞれ配置されている。そして、この低湿ガス導入管 88、及び低湿ガス放 出管 88a, 88bを通じて、低湿ガスが除染用密閉室 2a内に供給され、低湿ガス放出 口 99を介して除染対象物 3aに放出されることとなる。なお、低湿ガス放出管 88a, 88 bも、第一低湿ガス放出管 88aと、第二低湿ガス放出管 88bとで構成されている。第 一低湿ガス放出管 88aは、除染用密閉室 2a内の上方位置に配設されている。これに 対し、第二低湿ガス放出管 88bは、除染用密閉室 2a内の下方位置に配設されてい る。これにより、低湿ガスが除染対象物 3aの上下面に放出される。なお、除染用密閉 室 2a内の側方位置に、低湿ガス放出管を配設しても良い。この構成は、上下左右方 向から低湿ガスを放出できる。

[0103] ここで、上述の低湿ガスは、除染用密閉室 2a内で飽和しない不飽和ガスである。ま た、除染用密閉室 2a内の湿度より低い湿度に設定されている。なお、この低湿ガス 供給装置 55、低湿ガス放出管 88a, 88b、及び低湿ガス導入管 88により、本発明に カゝかる不飽和ガス供給手段が構成される。

[0104] ここで、前記除染用ガス放出口 77、及び前記低湿ガス放出口 99は、移送経路に 沿って交互に形成されている。さらに、その間隔を所定長さで等間隔としている。 [0105] ところで、除染用ガス放出管 66a, 66b、及び低湿ガス放出管 88a, 88bは、除染用 密閉室 2a内の供給口 20側寄りに配設されている。したがって、除染用密閉室 2a内 に形成された移送経路のうち、その前段部 (供給口 20側寄りの空間）が、除染対象 物 3aを除染する除染領域 aとなる。これに対し、移送経路の後段部 (排出口 21側寄 りの空間）が、除染対象物 3aの凝縮液層 mを除去するエアレーシヨン領域 |8となる。 したがって、これまでに述べた説明は、主に除染領域 αの説明である。

[0106] このように、本発明にかかる除染装置 laは、一つの空間（除染用密閉室 2a)を前後 に二分し、前段部の除染領域 OCと後段部のエアレーシヨン領域 βとを形成しているこ とを特徴としている。

[0107] 次に、エアレーシヨン領域 j8について詳述する。

エアレーシヨン領域 j8には、第一ルーバー 46a、及び第二ルーバー 46bがそれぞ れ設けられている。前記第一ルーバー 46a、及び第二ルーバー 46bからは、ホットェ ァ一が放出される。また、前記第一ルーバー 46aは、移送用ローラ 25よりも上位置に 配設される。したがって、第一ルーバー 46aは、除染対象物 3aの上面にホットエアー を放出する。これに対し、第二ルーバー 46bは、移送用ローラ 25よりも下位置に配設 される。したがって、第二ルーバー 46bは、除染対象物 3aの下面にホットエアーを放 出する。また、力かるホットエアーは、ホットエアー供給装置 45からホットエアー導入 管 45aを介して供給される。このホットエアー供給装置 45は、除染用密閉室 2a外に 設けられる。なお、ホットエアー供給装置 45、ホットエアー導入管 45a、及びルーバ 一 46a, 46bにより、本発明にかかる凝縮液層除去手段が構成される。

[0108] その他、除染装置 laは、制御部 28を備えている。前記制御部 28は、中央制御装 置 CPUを具備している。前記中央制御装置 CPUは、ガス発生装置 4、低湿ガス供給 装置 55、及びホットエアー供給装置 45と電気的に接続されている。そして、前記制 御部 28は、各装置等と所定のデータをやり取りし、各装置 4, 55, 45を駆動制御す るようにしている。なお、中央制御装置 CPUの制御内容については、後述する。

[0109] また、除染装置 laは、温度検出装置 38、及び湿度検出装置 39を備えている。前 記温度検出装置 38、及び湿度検出装置 39は、除染用密閉室 2aの温度、湿度を検 出する。また、温度検出装置 38、及び湿度検出装置 39は、それぞれ前記中央制御 装置 CPUに電気的に接続されている。そして、温度検出装置 38、及び湿度検出装 置 39の検出データ力 中央制御装置 CPUに送信される構成となっている。なお、本 実施形態例にかかる制御部 28、ガス発生装置 4、低湿ガス供給装置 55、温度検出 装置 38、及び湿度検出装置 39により、本発明にかかる凝縮制御手段が構成される。

[0110] さらに、除染装置 laは、内圧調節装置 13も備えている。前記内圧調節装置 13は、 除染用密閉室 2aの内圧を調節する。さらに、この内圧調節装置 13は、中央制御装 置 CPUに接続されている。そして、前記中央制御装置 CPUは、内圧調節装置 13を 用いて、所定時に除染用密閉室 2aの内圧を外界に対して高圧とする。

[0111] また、除染用密閉室 2a内には、ガス排出口 43が開口している。前記ガス排出口 43 は、エアレーシヨン時に当該除染用密閉室 2a内のガスを排出する。なお、ガスが排 出されるときは、除染用密閉室 2a内のガスの過酸ィ匕水素成分が触媒 44を介して分 解されてカゝら外部に排気される。

[0112] なお、除染用密閉室 2aの壁面には、密閉室用透明窓 48 (図 1参照）が形成されて いる。前記密閉室用透明窓 48は、ガラス材等カもなる。これにより、作業者は、密閉 室用透明窓 48を通して、除染用密閉室 2aの内部を視認できる。

[0113] さらに、除染装置 laは、図 3, 6に示されるように、除染用密閉室 2aと連結したァイソ レータ 14を備えている。前記アイソレータ 14の除染用密閉室 2a側の壁面には、連通 口 33が形成されている。そして、前記連通口 33は、除染用密閉室 2aの排出口 21と 接続している。そして、前記連通口 33、及び前記排出口 21を介して室内相互が連 通している。これにより、除染用密閉室 2a内の除染対象物 3aをアイソレータ 14内に 直接移送できる。なお、排出口扉 23が遮蔽されると、両室内が気密状に遮断される 構成となっている。すなわち、除染用密閉室 2aとアイソレータ 14とは、気密的に接続 されていることとなる。したがって、汚染されたガスが外部から除染用密閉室 2a内に 進入しない。この接続機構は、公知技術が好適に用いられる。

[0114] また、前記アイソレータ 14は、図 6に示されるように、除染対象物 3aの包装材 51を 除去するための除去手段が設けられている。ここで、前記除去手段は、作業グローブ 32である。具体的には、アイソレータ 14の壁面には、ガラス窓 30が設けられている。 さらに、このガラス窓 30には作業孔 31が形成されている。そして、この作業孔 31に、 作業グローブ 32の基端部が密閉状に取付けられている。

[0115] ここで、除染用密閉室 2aで除染対象物 3aを除染した後、この除染対象物 3aを外部 に取出すことなぐ直接アイソレータ 14に移送する。アイソレータ 14内の中央には、 除染用密閉室 2aから移送されてきた除染対象物 3aを置く作業台 35が配置されてい る。したがって、移送された除染対象物 3aは、作業台 35上に載置される。そして、作 業グローブ 32に手を挿入すると、ガラス窓 30を介して除染対象物 3aを確認しながら 内部作業をすることができる。なお、前記アイソレータ 14により、本発明にかかる包装 材除去室が構成される。

[0116] 次に、この除染装置 laを用いた除染方法を説明する。

まず、供給口扉 22、及び排出口扉 23を遮蔽して、除染用密閉室 2a内と外界とを気 密状に遮断する。そして次に、低湿ガス供給装置 55を駆動して低湿ガスを除染用密 閉室 2a内に放出し、除染用密閉室 2a内の湿度調整を行う。このように、事前に除染 用密閉室 2a内の湿度調整を行うのは、当該除染用密閉室 2a内で過酸化水素ガス 濃度を高め、かつその濃度を安定させるためである。そして、除染用密閉室 2a内の 湿度が、所定湿度となると、低湿ガスの投入を終了する。

[0117] 一方、除染対象物 3aは、除染用密閉室 2aの供給口 20手前側に設置された集積 台 36 (図 1参照)上に集積される。そして、供給口扉 22を開放し、集積された除染対 象物 3aを、供給口 20から除染用密閉室 2a内に供給する。このとき、除染対象物 3a は、包装材 51で包装されたままである。また、供給口扉 22開放時には、前記内圧調 整装置 13を駆動制御して、除染用密閉室 2a内の内圧を外気圧に比して高圧とする 。これにより、除染対象物 3aを除染用密閉室 2aに供給する時に、供給口 20から何ら 力の異物が侵入することを防止できる。

[0118] 除染対象物 3aを除染用密閉室 2a内に供給すると、供給口扉 22を遮閉する。次に 、除染用密閉室 2a内に過酸ィ匕水素ガスを投入開始する。これと共に、移送装置 24 を駆動開始させ、所定速度で除染対象物 3aを移送経路に従って移送開始する。さら に、低湿ガス供給装置 55も駆動開始する。ところで、供給口扉 22、排出口扉 23、及 び移送装置 24も中央制御装置 CPUに接続されている（図示省略)。したがって、供 給口扉 22、排出口扉 23、及び移送装置 24は、制御部 28により統括的に駆動制御 される。また、中央制御装置 CPUは、予め定められた運転プログラムに従ってガス発 生装置 4、低湿ガス供給装置 55、温度検出装置 38、及び湿度検出装置 39を制御す る。具体的には、所定量の過酸化水素ガスを除染用密閉室 2a内に投入して過酸ィ匕 水素ガスの凝縮液層 _m (図 7参照）を包装材 51の外表面で薄膜状に形成する制御内 容が予め設定されている。

[0119] ここで、除染対象物 3aは、移送装置 24により移送経路に沿って移動すると、過酸 化水素ガスと、低湿ガスとが交互に放出される。なぜならば、上記放出口 77, 99は、 交互に配置されているためである。ここで、除染対象物 3aが移送経路を進行する間 に、過酸ィ匕水素ガスが放出されれば、当該除染対象物 3aの外表面に凝縮液層 mが 形成される。一方、低湿ガスが放出されれば、その凝縮液層 mが蒸発される。したが つて、移送経路の前段部 (すなわち、除染領域 α )で移送されている除染対象物 3a の外表面では、凝縮液層 mの形成と蒸発とが交互に繰返し生ずることとなる。以下、 さらに詳述する。

[0120] 除染対象物 3aの移送過程にあって、上下に形成された除染用ガス放出口 77, 77 に挟まれた領域に除染対象物 3aが位置すると、除染対象物 3の外表面に過酸化水 素ガスが放出され，凝縮液層 mが形成される。

[0121] さらに除染対象物 3aが移動して、低湿ガス放出口 99, 99に挟まれた領域に除染 対象物 3aが位置すると、除染対象物 3aの外表面に低湿ガスが放出される。これによ り、一旦形成された凝縮液層 mがー部蒸発し始める (蒸発工程)。このとき、過酸化水 素の沸点は 150°Cであって水の沸点よりも高ぐ凝縮液層 mに含まれる水の方が過 酸ィ匕水素水より先に気化しやすい。このため、凝縮液層 mの過酸化水素濃度は高く なる。さらに、低湿ガスが放出されると凝縮液層 mが全部蒸発し始める。このように一 且形成した凝縮液層 mを所定時間内に全部蒸発させることにより、凝縮液層 mの凝 縮液がガス化してこの過酸ィ匕水素ガスが包装材 51を浸透してしまう、ということを防 止できる。ここで、前記所定時間とは、「凝縮液層 mの凝縮液がガス化し、当該ガスが 包装材を浸透し、内部の資材に達する時間」より短い時間である。この時間は、放出 口 77, 99の間隔を考慮した上で、移送スピードを適正に設定することにより実現され る。 [0122] さら〖こ、除染対象物 3aが移動して次の除染用ガス放出口 77, 77に挟まれた領域 に位置すると、包装材 51の外表面に凝縮液層 mが再形成される（再凝縮工程)。そ して、再度除染が実行されることとなる。

[0123] このように、蒸発工程と再凝縮工程が繰返し実行されると、除染成分の資材 50への 浸透を防止し、資材 50を変質等させることなぐ高濃度の凝縮液層 mを長時間保持 して高 、除染効果を得ることができる。

[0124] 次に、除染領域 exを通過した除染対象物 3aは、移送経路の後段部であるエアレー シヨン領域 に移行する。ここでは、除染対象物 3aの外表面に残留する凝縮液層 m を除去して、エアレーシヨンを実行する。さらに詳述すると、移送用ローラ 25により除 染対象物 3aが移送され、ルーバー 46a, 46bに挟まれた領域に位置すると、除染済 みの除染対象物 3a外表面に、上下方向力 ホットエアー（40°C— 150°C)が噴出さ れる。これにより、外表面に残留する凝縮液層 m及び周囲の過酸ィ匕水素ガスが除去 される。したがって、除染後の除染対象物 3aについてエアレーシヨンが実行されるこ ととなる。ここで、各ルーバー 46a, 46bは、放出方向を除染対象物 3aに向けて配置 されている。この構成は、除染領域 αの除染効果を妨げない。

[0125] そして、エアレーシヨン完了後、排出口扉 23が開放する。そして、除染対象物 3aを 排出口 21からアイソレータ 14に移送する。このときも、上述のように、除染用密閉室 2 a内の内圧がアイソレータ 14の内圧よりも高くする。これにより、除染用密閉室 2a内の 汚染を防止している。そして、除染対象物 3aをアイソレータ 14に移送した後、排出口 扉 23を遮閉状態とする。次に、アイソレータ 14内で、供給された除染対象物 3aの包 装材 51を作業グローブ 32を使用して除去する。そして、内部の資材 50を取出す。そ うすると、このアイソレータ 14で種々の作業を行うことができる。

[0126] これまでに述べたように、移送経路の前段部に除染領域 exを、後段部にエアレー シヨン領域 を設け、移送過程の前半で除染を実行し、後半でエアレーシヨンを実行 する構成とすることにより、除染用密閉室 2a全域をエアレーシヨンしなくても良くなる。 また、除染対象物 3aをエアレーシヨンのために除染用密閉室 2a内にー且滞留させて おく必要がなくなる。このため、エアレーシヨン時間が短縮される。したがって、除染用 密閉室 2a内に除染対象物 3aを順次供給し、移送用ローラ 25の回転タイミングと両扉 22, 23の開閉タイミングとをこれに呼応させて、供給した数と同数をアイソレータ 14 に移送する工程を一連の流れで連続的に除染作業を実行することが可能となる。こ れにより、除染時間を全体として大幅に短縮することができる。さら〖こ、移送経路上で 、複数の除染対象物 3aを放出口 77, 99の間隔とほぼ同一間隔とし、移送装置 24を 間欠駆動して移送する構成としても良い。なぜならば、移送経路の前段部で複数の 除染対象物 3aを同時平行して除染することができるカゝらである。この構成は、除染効 率が飛躍的に向上することとなる。なお、このように、移送装置 24は、移送用ローラ 2 5を間欠駆動させ、除染対象物 3aを間欠的に移動させて移送させる構成が好適であ る。なぜならば、除染対象物 3aが置かれた各位置で、十分に凝縮液層を形成、又は 除去する時間を稼ぐことが可能となる。なお、本発明は、除染対象物 3aを一定速度 で連続移動させる構成を排除するものではな 、。

[0127] さらに、エアレーシヨン領域 に、水蒸気を噴出する装置を備えた構成としても良い 。さらに詳述すると、この除染装置 laは、除染対象物 3aの包装材 51の外表面に、水 蒸気を噴出した後、外表面に残留する過酸ィ匕水素水をマスキングし、アイソレータ 14 内にお ヽて過酸化水素ガス濃度を見かけ上減少させる。

[0128] また、低湿ガスを噴出する構成としても良 ヽ。前記低湿ガスは、エアレーシヨン領域 βの湿度以下の湿度に設定されたガスである。これにより、外表面に残留する凝縮 液層 m及び周囲の過酸ィ匕水素ガスを除去することができる。なお、かかる構成は、低 湿ガス供給装置 55を除染領域 aと共用することができる。

[0129] さらに、その他の構成として、図 5に示されるように、エアレーシヨン領域 j8に UV照 射装置 47a, 47bを設けた構成が提案される。さらに詳述すると、 UV照射装置 47a, 47bは、第一 UV照射装置 47a、及び第二 UV照射装置 47bで構成される。前記第 一 UV照射装置 47aは、室内の上方位置に配設される。これに対し、第二 UV照射装 置 47bは、室内の下方位置に配設される。したがって、移送用ローラ 25により移送さ れてきた除染対象物 3aの外表面に、上下方向力も紫外線（180nm— 400nm)が照 射される。そうすると、除染対象物 3aの外表面に形成された凝縮液層 m、及び周囲 の過酸ィ匕水素ガスが分解されて、除染後の除染対象物 3aにつ ヽてエアレーシヨンを 実行することができる。 [0130] なお、上述した、ホットエアーを噴出する構成、水蒸気を噴出する構成、低湿ガスを 噴出する構成、及び紫外線を照射する構成を様々に組み合わせた構成としても良い 。また、エアレーシヨン条件は、公知技術が好適に用いられる。

[0131] また、上記した実施形態例にあって、ガス発生装置 4をチャンバ一 2内、又は除染 用密閉室 2a内に設け、過酸ィ匕水素ガスをチャンバ一 2内、又は除染用密閉室 2a内 で発生させて、チャンバ一 2内、又は除染用密閉室 2a内に投入するようにしても良い

[0132] なお、本発明には、室壁に、除染対象物 3aを室外から室内に供給するための供給 口 20と、除染済みの除染対象物 3aを室内から室外へ排出するための排出口 21とが それぞれ形成された、前記供給口 20及び前記排出口 21を遮閉状態とすると室内と 外界とが気密状に遮断される除染用密閉室 2aに、過酸化水素ガスを投入し、当該過 酸ィ匕水素ガスを遮閉状態の除染用密閉室 2a内で凝縮させて、除染対象物 3aの外 表面に凝縮液層 mを形成し、この形成時カゝら所定時間経過後に蒸発工程を実行し、 この蒸発工程実行後、再凝縮工程を実行し、再凝縮行程実行後、既に形成された凝 縮液層 mを除去して除染対象物 3aを排出口 21から排出する除染方法が含まれる。 また、この除染方法を実現する構成としては、移送装置 24が設けられていない除染 用密閉室 2aが提案される。

[0133] また、蒸発工程と再凝縮工程とからなる除染工程を実行する場合の除染用ガスとし ては、水より沸点の高い除染用ガスであれば好適に用いることができる。また、除染 用ガスとしては、ホルムアルデヒド、エチレンオキサイド、過酢酸水溶液、及びオゾン 水等の除染剤をガス化したものでも良 、。

[0134] また、除染対象物 3aの構造は、これまでに述べた除染対象物 3aに限定されるもの ではない。

産業上の利用可能性

[0135] チャンバ一等の密閉室、または密閉室内にある除染対象物を除染する方法、及び 除染する装置に関する。

Claims

請求の範囲

[1] 水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生さ せ、前記除染用ガスを除染用密閉室内に投入し、投入した除染用ガスを当該除染用 密閉室内で凝縮させて、除染用密閉室の内壁、及び除染用密閉室内にある除染対 象物の外表面に凝縮液層を薄膜状に形成することにより、前記除染用密閉室、及び 前記除染対象物を除染する除染方法において、

一旦形成された凝縮液層を一部、又は全部蒸発させる蒸発工程と、

蒸発工程の後、再度除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成する再凝縮工程と を備えたことを特徴とする除染方法。

[2] 蒸発工程が、除染用密閉室の室温を上げることにより凝縮液層を蒸発させるもので あると共に、再凝縮工程が、除染用密閉室の室温を下げることにより除染用ガスを凝 縮させて、凝縮液層を再形成するものであることを特徴とする請求項 1記載の除染方 法。

[3] 再凝縮行程が、除染用密閉室の室温を下げながら除染用ガスを除染用密閉室内 に投入するものであることを特徴とする請求項 2記載の除染方法。

[4] 蒸発工程が、除染用密閉室の内圧を下げることにより凝縮液層を蒸発させるもので あると共に、再凝縮工程が、除染用密閉室の内圧を上げることにより除染用ガスを凝 縮させて、凝縮液層を再形成するものであることを特徴とする請求項 1記載の除染方 法。

[5] 再凝縮行程が、除染用密閉室の内圧を上げながら除染用ガスを除染用密閉室内 に投入するものであることを特徴とする請求項 4記載の除染方法。

[6] 蒸発工程が、除染用密閉室で飽和しな 、不飽和ガスを除染用密閉室内に供給する ことにより凝縮液層を蒸発させるものであると共に、再凝縮工程が、前記不飽和ガス の供給を停止し、かつ除染用ガスを再投入して除染用ガスを凝縮させて、凝縮液層 を再形成するものであることを特徴とする請求項 1記載の除染方法。

[7] 再凝縮工程を、複数回実行することを特徴とする請求項 1乃至請求項 6のいずれか に記載の除染方法。

[8] 室壁に、除染対象物を室外から室内に供給するための供給口と、除染済みの除染 対象物を室内から室外へ排出するための排出口とがそれぞれ形成された、前記供 給口及び前記排出口を遮閉状態とすると室内と外界とが気密状に遮断される除染用 密閉室に、除染用ガスを投入し、当該除染用ガスを遮閉状態の除染用密閉室内で 凝縮させて、供給口から供給された除染対象物の外表面に凝縮液層を薄膜状に形 成し、その後、当該凝縮液層を除去して、除染対象物を排出ロカゝら排出する除染方 法において、

除染対象物の外表面に凝縮液層を形成し、この形成時カゝら所定時間経過後に蒸 発工程を実行し、この蒸発工程実行後、再凝縮工程を実行すると共に、再凝縮行程 実行後、既に形成された凝縮液層を除去することを特徴とする請求項 1乃至請求項 5 の!、ずれかに記載の除染方法。

[9] 除染対象物を供給口から排出口へ移送する過程の中で、その前半で、除染対象 物の外表面に凝縮液層を形成し、この形成時カゝら所定時間経過後に蒸発工程を実 行し、この蒸発工程実行後、再凝縮工程を実行すると共に、後半で、既に形成され た凝縮液層を除去することを特徴とする請求項 8記載の除染方法。

[10] 除染用密閉室内と外界とが連通するときは、前記除染用密閉室の内圧を外気圧に 比べて高圧とすることを特徴とする請求項 8又は請求項 9記載の除染方法。

[11] 除染対象物が、除染済みの資材が無菌状態を維持したまま包装材により包装され てなることを特徴とする請求項 1乃至請求項 10のいずれかに記載の除染方法。

[12] 除染対象物が、除染済みの資材が無菌状態を維持したまま包装材により包装され てなる構成にあって、

除染用密閉室内と連通し、かつ室内が除染された包装材除去室を形成し、 除染用密閉室と包装材除去室とを遮断状態として、除染用密閉室、及び除染用密 閉室内に置かれた除染対象物の包装材の外表面を除染し、除染した後に、両室を 遮断状態から連通状態として、除染された除染対象物を除染用密閉室から包装材 除去室へ移送し、再び両室を遮断状態とした後、包装材除去室にて除染対象物の 包装材を除去して内部の資材を取出すようにしたことを特徴とする請求項 8乃至請求 項 10の 、ずれかに記載の除染方法。

[13] 除染用ガスが、過酸ィ匕水素ガスであることを特徴とする請求項 1乃至請求項 12のい ずれかに記載の除染方法。

[14] 室内と外界とが気密状に遮断される除染用密閉室と、

水より沸点の高い除染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生さ せ、除染用密閉室内に除染用ガスを放出する除染用ガス供給手段と、

放出された除染用ガスを遮閉状態の除染用密閉室内で凝縮させて、当該室内表 面に凝縮液層を薄膜状に形成し、除染用密閉室内を除染する凝縮制御手段と、 既に形成された凝縮液層を除去する凝縮液層除去制御手段と

を備えた除染装置において、

凝縮液層除去制御手段により、形成された凝縮液層を一部、または全部蒸発させ 、凝縮制御手段により、蒸発後、再度除染用ガスを凝縮させて凝縮液層を再形成す る再凝縮制御手段を備えたことを特徴とする除染装置。

[15] 再凝縮制御手段が、凝縮液層の再形成を複数回繰り返すものであることを特徴と する請求項 14記載の除染装置。

[16] 室壁に、除染対象物を室外から室内に供給するための供給口と、除染済みの除染 対象物を室内から室外へ排出するための排出口とがそれぞれ形成された、前記供 給口及び前記排出口を遮閉状態とすると室内と外界とが気密状に遮断される除染用 密閉室と、

開口面が除染対象物の外表面に対向するガス放出口を備え、水より沸点の高 、除 染用ガスが溶解した水溶液を蒸発させて除染用ガスを発生させ、除染対象物に対し て前記ガス放出口を介して除染用ガスを放出する除染用ガス供給手段と、

開口面が除染対象物の外表面に対向するガス放出口を備え、除染用密閉室内で 飽和しない不飽和ガスを発生させ、除染対象物に対して前記ガス放出口を介して不 飽和ガスを放出する不飽和ガス供給手段と、

放出された除染用ガスを遮閉状態の除染用密閉室内で凝縮させて、除染対象物 の外表面に凝縮液層を薄膜状に形成し、除染対象物を除染する凝縮制御手段と、 除染対象物に対して、既に形成された凝縮液層を除去する凝縮液層除去手段とを 備えたことを特徴とする除染装置。

[17] 除染用密閉室内に設置され、供給口から供給された除染対象物を所定移送経路 に従って排出口へ移送する移送手段を備え、

除染用ガス供給手段が、前記移送経路の前段部で移送されている除染対象物に 対してガス放出口を介して除染用ガスを放出し、

凝縮液層除去手段が、前記移送経路の後段部で移送されている除染対象物に対 して、既に形成された凝縮液層を除去すると共に、

除染用ガス供給手段のガス放出口と、不飽和ガス供給手段のガス放出口とが、前 記移送経路の前段部で、移送経路に沿って交互に形成されてなることを特徴とする 請求項 16記載の除染装置。

[18] ガス放出口が、所定の等間隔で形成されると共に、

移送手段が、移送経路上で、複数の除染対象物を前記ガス放出口の間隔とほぼ 同一間隔で移送するものであることを特徴とする請求項 17記載の除染装置。

[19] 除染対象物が、除染済みの資材が無菌状態を維持したまま包装材により包装され てなることを特徴とする請求項 17又は請求項 18記載の除染装置。

[20] 除染用密閉室の排出口に接続された連通口を具備すると共に、前記連通口を介し て除染用密閉室内と連通し、かつ室内が除染された包装材除去室を備えたことを特 徴とする請求項 16乃至請求項 19のいずれかに記載の除染装置。

[21] 除染用ガスが、過酸ィ匕水素ガスであることを特徴とする請求項 14乃至請求項 20の いずれかに記載の除染装置。