WO2004031814A1

WO2004031814A1 - 光学基材及び反射防止フィルム

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Publication number: WO2004031814A1
Application number: PCT/JP2003/012603
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Inventors: Mitsuhiro Nishida
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Filing date: 2003-10-01
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Abstract

　基材とハードコート層との屈折率差が大きくても干渉ジミが発生しないハードコート層付き光学基材及びこのハードコート層付き光学基材を用いた反射防止フィルムが提供される。透明基材上に、透明基材側から順番に、１層以上の干渉ジミ対策層が塗工され、その上にハードコート層が順次積層された光学基材において、該ハードコート層の５５０ｎｍの光における複素屈折率をｎＨ−ｉｋとしたときに、ｎＨ＝１．４５～１．５９であり、ｋが実質的に０である。干渉ジミ対策層と透明基材との積層体の光学アドミッタンスを（ｘ＋ｉｙ）とした場合に、ｘ、ｙが、（ｘ−ｎＨ）２＋Ｙ２≦０．０８の不等式を満たす。

Description

明細書光学基材及び反射防止：技術分野

本発明は、干渉ジミ防止用の光学基材に関し、特にワープロ、コンピュータ、テレビなどの各種ディスプレイ、液晶表示装置に用いる偏光版、透明なプラスチック類からなるサングラスのレンズ、度付きメガネのレンズ、カメラ用ファインダーのレンズなどの光学レンズ、各種計器のカバー、自動車や電車などの窓ガラス等において適用される干渉ジミ防止用の光学基材に関する。また、本発明は、この光学基材ょりなる反射防止フィルムに関する。背景技術

窓ガラス、パソコン、ワープロなどのディスプレイや、その他種々の商業ディスプレイなどには、ガラスやプラスチックなどの透明基板が使用されている。また、自動車の窓ガラスには飛散防止の為にフィルムを張ることが必要とされてきている。これらの表面は、手で引つ搔く、鉛筆等で引つ搔く、先の鋭い金属製品がぶっかるなどの物理的ストレスや、アル力リ洗浄剤や酸性洗剤などによる化学的なストレスが常にかかるため、これらのストレス、特に物理的なストレスを加えられても傷が付かないように、ハードコート層を設けるのが一般的である。

し力し、このように異なる種類の基材同士を積層した場合、かかる積層体に光を照射すると、屈折率の差によって特有の反射スぺクトルが現われることが知られている。図 1に、一般的なポリエステル樹脂フィルムである P E Tフィルムに、ハードコート層を塗工した場合の反射スペクトルを示す。ここで、 P E Tフィルムの屈折率は 1 . 6 6、ハードコート層の屈折率は 1 . 5 2 、 P E Tフィルムの膜厚は 2 . 9 μ ηαである。図 1からわかる通り、このハードコー.ト層を塗工した P E Tフィルムに光が入射した場合、光の反射率は入射光の波長により周期的に変化する。このようなある特定の繰り返し周期の反射スペクトルを、以下、フリンジと称す。このフリンジの周期は、長波長側では大きく、短波長側では短くなり、また、膜厚が厚いほど周期は短くなることが知られている。また、フリンジの振幅は基材とハ—ドコート層の屈折率差に依存し、基材とハードコート層との屈折率差が大きいほど、振幅が大きくなる。

このフリンジにより、蛍光灯の反射光に斑模様が生じ、著しく外観が損なわれる (なお、この斑模様を以下、干渉ジミと称する。）。

上述した通り、基材とハードコート層との屈折率差が大きいほどフリンジの振幅 'が大きくなり、干渉ジミの濃淡が濃くなる。そして、この干渉ジミの濃淡が濃くなると、観者に著しい不快感が感取される。例えば、反射防止のために市販の反射防止フィルムをディスプレイ（PET製、屈折率 1. 66) 表面に貼り付けた場合、ハードコート層と PETの屈折率差が大きいため、フリンジの振幅が大きく、反射光に干渉ジミがくつきりと生じる。特に、蛍光灯の蛍光塗料に希土類を用い、発光効率を高めた NEC製 40ヮット 3波長昼白色蛍光灯 FLR 40 S EX-N/M/

36—HGで照らした場合、蛍光灯の発光波長が特定の波長（特に 450 nm, 5

40 nm, 610 nm) に限られているため、発光波長領域の反射率の差がはっきり出て、著しくくっきりとした干渉ジミが生じる。

以下に、干渉ジミの発生機構について説明する。

ハードコート層を塗工する際に、完全に均一な膜を塗工することは不可能であり、必ず局所的な膜厚差が生じる。その膜厚差は膜厚の 1〜 5%程度の範囲である。そして、上述の通り、膜厚によって反射スペクトルが異なるものとなり、その結果干渉ジミが生じる。

図 2に、 PETフィルム（屈折率 1. 66 μΐιι) に各膜厚のハードコート層（屈折率 1. 52) を塗工し、 3波長蛍光灯の光を照射したときのハードコート層の膜厚と色との関係を示す。なお、図 2において、 x、 yは ΧΥΖ色度図形における X 、 yである。図 2のように、ハードコート層の膜厚が異なると、その場所での反射スペクトルが異なるため反射色が変化する。これが、光の干渉ジミ（斑模様）の原因である。上述した通り、基材とハードコート層との屈折率の差が大きいと、反射スペクトルの振幅が大きいため、膜厚差による反射色の変化が大きくなり、その結果、干渉ジミの濃淡がはっきりしたものとなる。

従来、この斑模様の干渉ジミを無くすために、以下の 3つの方法（1) 〜（3) が行われている。

(1) 第 1の方法は、ハードコート層の膜厚を非常に厚くするという方法である

。ハードコート層の膜厚を非常に厚くすると、フリンジの周期が非常に短くなるため、ハードコート層の膜厚が局所的に異なっても、あまり色は変化しない。

しかし、このハードコート層を厚塗りする方法では、次のような欠点がある。まず、千渉ジミを見えなくするには、膜厚 20 μπ！〜 30 /m以上のハードコート層を塗工する必要がある。そのため、ハードコート層を硬化する際の硬化収縮が非常に大きくなり、塗工が難しく、コストも非常に高くなる。また、ハードコート層にクラックが入り易くなる。クラックを避けるため、ある程度柔らかいハードコート層を塗るという方法もあるが、その場合でもコストが非常に高くなる上に、塗工も難しい。また、柔らかいハードコート材料よりなるハードコート層は、硬度が低く、.傷が付き易い。

(2) 第 2の方法は、基材の屈折率をハードコート層の屈折率に近づけるという方法である。例えば、ハードコート層の屈折率は一般的には約 1. 49〜1. 55 程度なので、基材に屈折率が 1. 49の T ACフィルムを用いる場合、基材とハードコート層との屈折率がほぼ同じなので、フリンジの振幅は非常に小さくなり、干渉ジミの濃淡が薄くなる。

但し、 TACフィルムは PETフィルムと比較すると値段が著しく高い上に、フイルム自体が柔らカゝく、裂けやすい。塗工時にも、基材自体が柔らかいためにくぼみ等が生じて外観欠陥となる。また、ハードコート層を塗工しても、ハードコート層の下側の TACフィルムが柔らかいため、鉛筆硬度が低くなってしまう。

(3) 第 3の方法は、ハードコート層の屈折率を基材の屈折率に近づけるという方法である。例えば、熱硬化型樹脂及ぴ Z又は電離放射線型樹脂からなるバインダ一に、 Z nO, T i 0₂, C e 0₂, S b ₂0₅, Sn〇₂， I TO, I n₂〇₃， Y₂ 0₃， L a ₂0₃， A 1₂0₃, H f 0₂及ぴ Z r 0₂からなる群から選ばれる少なくとも 1種の高屈折率の金属酸化物超微粒子を適量混合したものをハードコート層とし、ハードコート層の屈折率を基材である PETフィルムの屈折率（一般的には 1. 65程度）に近づけるという方法である。

し力し、この方法には次の如き種々の欠点がある。まず、ハードコート層の中に存在している金属酸化物超微粒子は通常有色であり、ハードコート性能を満足させるように 3 m以上の膜厚でハードコート層を塗工すると、大抵は色がついてしまう。色を消すために（各波長の透過率を一定にするために）調色すると、透過率の減少につながる。また、シリカ以外の超微粒子を含有させた場合には、ハードコート層単体と比較して硬度が落ちる。また、最表面にあるハードコート層の屈折率を高くすると反射率が高くなり、その結果、透明光学基材にとつて必要な程度の透過率が得られない。

このように、 PETのような安価ではあるが屈折率が高く、ハードコート層との屈折率差が大きな基材にハードコート層（屈折率 1. 45〜1. 60) を塗工した .ときにおいても、干渉ジミが見えない技術が必要である。発明の開示

本発明は、基材とハードコート層との屈折率差が大きくても干渉ジミが発生しないハードコート層付き基材を提供することを目的とする。また、このハードコート層付き基材よりなる反射防止フィルムを提供することを目的とする。

本発明の光学基材は、透明基材上に、透明基材側から順番に、 1層以上の干渉ジミ対策層が塗工され、その上にハードコート層が順次積層された光学基材において、該ハードコート層の 540〜 560 nmの光における複素屈折率を n_H— i kとしたときに、 n_H=l. 45〜1. 59であり、 kが実質的に 0であることを特徴とするものである。なお、 kが実質的に 0であるとは、色が全くつかなくなるように選定された kの値であり、具体的には 0. 001以下である。

本発明においては、干渉ジミ対策層及ぴ透明基材の 2者のみよりなる干渉ジミ対策層付き透明基材の光学アドミッタンス（x+ i y) の値を（n_H+ i O) に近づけることによって、フリンジの振幅を 0に近づけることができる。このフリンジの振幅を 0にすると、干渉ジミは見えなくなる。

この干渉ジミ対策層は、 2層以上塗工しても特に問題はないが、コスト上 1層のみ塗工するのが好ましい。

本発明では、干渉ジミ対策層とハードコート層との界面の光学ァドミッタンスを (x+ i y) とした場合に、 540〜560 nmの少なくとも一部の波長において、 [x— n_H) ² + Y²]の値が好ましくは 0. 08以下、より好ましくは 0. 03以下、特に好ましくは 0. 01以下である。

透明基材、各干渉ジミ対策層及びハードコート層の 550 nmにおける減衰係数 kは、好ましくは 0. 001以下である。

干渉ジミ対策層は、熱硬化型樹脂及び Z又は電離放射線型樹脂と、 ZnO， T i 0₂， C e0₂， S b ₂0₅, S n 0₂, I TO, I n ₂0₃, Y₂0₃， L a ₂0₃, A 1₂0₃， H f 0₂及び Z r 0₂からなる群から選ばれる少なくとも 1種の超微粒子を該樹脂 1重量部に対して 0. '1〜85の割合で含むことが好ましい。

本発明の一態様では、干渉ジミ対策層は、熱硬化型樹脂及び/又は電離放射線型樹脂を含み、且つ該熱硬化型樹脂及び/又は電離放射線型樹脂は、臭素、硫黄及びフエニル基の少なくとも 1種を 0. 1〜60重量部含む。

該干渉ジミ対策層は、さらにシリカ微粒子を含有してもよい。シリカ微粒子の粒径は、好ましくは 380 nm以下である。シリカ微粒子の配合量は、好ましくは 2

0〜80 PHRである。

ハードコート層は塗工されたものであってもよい。

本発明の一態様では、該透明基材の屈折率が 1. 62〜 1. 68好ましくは約 1 . 66であり、該ハードコート層の屈折率が 1. 50〜1. 54好ましくは約 1. 52であり、該干渉ジミ対策層の屈折率が 1. 565〜1. 605好ましくは約 1 . 585であり、該干渉ジミ対策層の膜厚が 80〜95 nmである。図面の簡単な説明

図 1は PETフィルムとハードコート層との積層体の反射スぺクトルである。図 2は P ETフィルムとハードコート層との積層体におけるハードコート層の膜厚と反射色との関係を示す XYZ色度図である。

図 3はハードコート層付き光学基材の断面図である。

図 4は PET製透明基材と干渉ジミ対策層との積層体の光学ァドミッタンス Y_H がハードコート層の膜厚によって変化する様子を示す図面（admittance diagram) である。

図 5はハードコート層の膜厚が 1. 537 μπιのときの透明基材と干渉ジミ対策層との積層体の反射スぺクトルである。

図 6は表 1のハードコート層付き光学基材のうちのいくつかの反射スぺクトルであ。

図 7は表 1のハードコート層付き光学基材のうちのいくつかの反射スぺクトルでめ。発明の好ましい形態

以下、必要に応じて図面を参照しながら、実施の形態について詳細に説明する。光学アドミッタンス Yは、光波の電場成分 Eと磁場成分 Hとの比（Y = H/E ) で定義されるものであり、光波が屈折率 n _sの単一層内を進行する進行波である場合、該層の屈折率 n _sと該層の光学アドミッタンス Yとの間には、以下の関係がある。

1

Y= (1 )

1 /2

ここで、 ε。は真空の誘電率、。は真空の透磁率である。

なお、慣習的に真空中の光速及ぴ透磁率を 1とする単位系を用いるため、以下の通り光学ァドミッタンス Υは媒質の屈折率 n _sと一致する。

Y = n _s ( 2 )

ここまでは、屈折率 n _sの単一層內を光波が進行する場合について説明したが、基板上に屈折率の異なる複数層の薄膜を積層させたフィルムの膜厚方向に光波が進行する場合は、進行波の一部が各層同士の界面で反射した後に進行波と逆方向に戻つてくるため（以下、進行方向と逆方向に戻る波を後退波と称す場合がある。）、各層内の光波は、進行波と、複数の界面における反射によって戻ってきた後退波との合成波となる。従って各層内の光波（合成波）の電場成分 E及び磁場成分 Hは進行波単独のものとは異なるものとなる。その結果、電場と磁場の比である光学アドミッタンス Yも変化し、各層内における屈折率と光学ァドミッタンス Yとは一致しなくなる。

図 3に、ハードコート層付き光学基材の断面図を示す。ハードコート層付き光学基材は、透明基材 1 0と、該透明基材 1 0上に積層された干渉ジミ対策層 20、及び該干渉ジミ対策層上に積層されたハードコート層 3 0とからなる。図 3では、干渉ジミ対策層 20は第 1層 1、第 2層 2、 ···、第 n— 1層 n— 1及び第 n層 nの n 層からなる。干渉ジミ対策層 20は 1層でも多層でもよい。但し、塗工費用を考えると 1層であることが好ましい。該光学基材内にハードコート層 3 0側から光を入射した場合、透明基材 1 0と第 1層 1との界面における光の電場成分及び磁場成分をそれぞれ E _s、 H_sとし、該界面から第 1層内に距離離れた位置での光の電場成分及び磁場成分をそれぞれ E_d、 H_dとすると、これらの間には、以下の関係がある。

Λ = 2.πη_Λά_Λ/ λ (4)

ここで、

i ：虚数単位

n_x：第 1層の複素屈折率

1 ：入射光の真空中の波長

である。

従って、この位置での光学アドミッタンス Y_dは、（3) 式より以下のように表わされる。

H_d Y_SCOS o -I +in-iSin o -]

(5)

ここで、 Y_sは透明基材の光学アドミッタンスであり、 Y_S==H_S/E_Sである。

(4) 及ぴ（5) 式から明らかな通り、第 1層 1内の光学アドミッタンス Y_dは

、透明基材との界面からの距離によって変化する。光学アドミッタンスが連続であることに注意して同様の操作を次々と行うことにより、第 n層（nは自然数）の任意の点での光学ァドミッタンスを算出することが可能である。

ハードコート層と該ハードコート層より 1層手前の層 _nとの界面の光学アドミッタンス Y及ぴハードコート層層終点、即ち、ハードコート層と、該ハードコート層の外側（例えば大気）との領域との界面の光学アドミッタンス Y_eをそれぞれ

Y=x+ i y (6)

Y_e = x_e+ i y_e (7)

とする。ここで、ハードコート層は透明とみなせる場合、すなわちハードコート層の複素屈折率が実数 nのみで表わせる場合、ハードコート層と第 n層 nとの界面の光学アドミッタンス Yは以下の（8)、 (9) 式の通り表わされる。

X = (8)

2x_p-tan<5 _e +y_e ) "tan δ

1 一 + cos² (5

2 , 2

_;(1-tan²5>-n tan o

n

. ン

y = (9)

2y_e-tan(5 (x_e +y_e ) "tan δ

1 +

n ここで、

δ = 2 π n ά/λ₀ (1 0)

λ ο ：入射光の真空中の波長

d ：ハードコート層の膜厚

ここで、大気等の外側領域の光学アドミツタンス¥。（外側領域の屈折率（実数 ) n。と一致する。）及びハードコート層層終点（ハードコート層と該外側領域との界面）の光学アドミッタンス Y_eを用いて、反射率 Rは以下のように表わすことができる。 Y_e-Yo (11)

R=

Ye+Yo

従って、この光学アドミッタンス Y_eがわかると、各波長ごとの反射率が求まる。図 4に、干渉ジミ対策層を設けず、 PET製透明基材の上に直接ハードコート層を塗工した積層体に光波長 55 Onmの光をハードコート層側から入射させた場合において、該積層体の光学ァドミッタンス ₁₁がハードコート層の膜厚によって変化する様子を示す。図 4において、横軸は光学アドミッタンス Y_Hの実数部 R e [ Y]、縦軸は虚数部 I m [Y] を示す。 £丁の屈折率は1. 66、ハードコート層の屈折率は 1. 5 2である。光学アドミッタンス Υ_Ηは、膜厚変化によってハードコート層単体の光学アドミッタンス（1. 5 2， 0) を中心として PET単体の光学アドミッタンス（1. 66， 0) を通る円を描く。このとき、ハードコート層側から光を入射させたときの反射率は、（1 1)式及び空気の複素屈折率 1. O + O i から計算できる。

実際の反射率は、このアドミッタンスダイアグラムの最終ァドミッタンス Y_H座標と、空気のアドミッタンス座標（1， 0) との距離に比例する。

ハードコート層の膜厚が変化することによって、かかる透明基材とハードコート層との積層体の 550 nmの光波における反射率は 6. 16%から 2. 68%まで変化する。この場合、フリンジの振幅が 6. 1 6- 2. 68 = 3. 48%と非常に高い値となり、干渉ジミの濃淡がはっきりと視認される。

図 5に、ハードコート層の膜厚が 1. 53 7 iirQのときの透明基材とハードコート層との積層体の反射スペクトルを示す。図 5の通り、屈折率 1. 66の PETの上に屈折率 1. 5 2のハードコート層を塗工すると、フリンジの振幅が 3. 48% と非常に高くなる。

次に、透明基材とハードコート層との間に干渉ジミ対策層を積層させたハードコ一ト層付き光学基材.の 550 nmにおけるフリンジ振幅について説明する。干渉ジミ対策層を 1層とし、干渉ジミ対策層の屈折率を種々変化させて、干渉ジミ対策層の膜厚を 550 nmの波長に対して約 1Z4 としたときの（x— n_H) ²+ y²の値及び、その上に屈折率約 1 . 5 2のハードコート層を塗工した場合の反射スぺクトル及び干渉ジミの見え方を図 6、図 7及び表 1に示す。

干渉ジミ対策層の材料としては、ジヱイエスアール株式会社製高屈折率ハードコート KZ 7987B (n = 1. 65)、及び KZ 7349 (n= 1. 55) の 2種類を混合して用いた。両者の混合比を変えることによつて屈折率を変化させた。

干渉ジミ対策層を塗工した後の、透明基材と干渉ジミ対策層との積層体の光学ァドミッタンスを X + i yとし、ハードコート層の屈折率を n_Hとしたとき、波長 5 50 nmにおいて（x_n_H) ² + y ²< 0. 08を満たすと干渉ジミは薄くなる。特に、屈折率 1. 574の干渉ジミ対策層を用いた場合、 550 nmの波長における（X— n_H) ²+ ²の値は0. 025とはり、フリンジの振幅は 0. 2%となり、干渉ジミはほとんど見えなくなる。屈折率 1. 585の干渉ジミ対策層を用いた場合の 5 50 nm波長における（x— n_H) ²+y²の値は 0. 006となり、このときフリンジ振幅はほぼ 0となり、干渉ジミは実質的に見えない。

このように、ハードコート層を塗工する前の、透明基材と干渉ジミ対策層との 2 者のみよりなる積層体の光学ァドミッタンを x+ i yにて表したとき ίこ、（X— n_H) ²+y ²の値を小さくすることによりフリンジの振幅を小さくすることができる。

なお、種々の実験の結果、波長 550 nmにおける（x— n_H) ²+ ²の値を0 . 08以下にすることにより干渉ジミが十分に薄くなり、この（X— ir_H) ² + y ² の値を 0. 03以下にすると干渉ジミはほとんど視認されなくなり、 0. 01以下にすると干渉ジミは実質的に視認されなくなることが認められた。

前記の通り、この干渉ジミ対策層は、 2層以上としてもよいが、コストを勘案すると 1層で十分である。

以下、干渉ジミ対策層を 1層とした光学基材について説明する。

一般的には、干渉ジミ対策層を 1層塗工し、かつ、膜厚を 550 nmの光に対して 1Z4 程度塗工する場合、干渉ジミ対策層の屈折率を、基材（PETなど）とハードコート層の屈折率のおよそ中間になるように調整すれば、（X— _{n H}) ² + _y ² の値は 0に近づく。

干渉ジミ対策層は、バインダ一中に金属酸化物微粒子を分散させたものが好ましい。この金属酸化物微粒子の体積割合を調整することにより、干渉ジミ対策層の屈折率を変化させることができる。干渎ジミ対策層は、具体的には、バインダーである熱硬化型樹脂及ぴ Z又は電離放射線型樹脂と、屈折率が 1. 5以上の金属酸化物微粒子、例えば、 Zn〇（屈折率 1. 90)、 T i 0₂ (屈折率 2. 3〜2. 7)、 C e〇₂ (屈折率 1. 95)、 S b ₂0₅ (屈折率 1. 71)、 S n〇₂ (屈折率 1 · 997)、 I TO (屈折率 1. 9 5)、 I n₂O_s (屈折率 2. 00)、 Y₂0₃ (屈折率 1 · 8 7)、 L a ₂0₃ (屈折率 1. 95)、 A 1₂0₃ (屈折率 1. 63)、 H f 0₂ (屈折率 2. 00)、 Z r 0₂ ( 屈折率 2. 05) からなる群から選ばれる少なくとも 1種の超微粒子とから形成されるのが好ましい。超微粒子の平均粒径は 5〜50 nmが好ましく、 5〜10nm がより好ましい。また、超微粒子はバインダーよりも屈折率が高いことが好ましいなお、これらの金属酸ィ匕物超微粒子を用いない場合でも、バインダーで樹脂の基本骨格の中に硫黄、臭素、フエニル基等が入っている熱硬化型樹脂及び Z又は電離放射線型樹脂を用いると屈折率を高くすることができる。

干渉ジミ対策層を形成するための好ましい熱硬化型樹脂及び/又は電離放射線型樹脂としては、例えば、アタリレート系の官能基をもつもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル、ポリエーテル、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピロァセタール樹脂、ポリブタジエン、ポリチオールポリェン系樹脂、多価アルコールなどの多官能化合物の（メタ）アタリレート（以下、アタリレートとメタアタリレートとを合わせて (メタ）アタリレートと記載する。 ) などのオリゴマー又はプレボリマー及ぴ反応性の希釈剤であるェチル（メタ）ァクリレート、ェチノレへキシノレ（メタ）アタリレート、スチレン、ビニルトルエン、 N—ビエルピロリドンなどの単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えば、ト Vメチロールプロパントリ (メタ）アタリレート、へキサンジオール (メタ）ァクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アタリレート、ジエチレングリコールジ (メタ）アタリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ (メタ）アタリレート、 1， 6へキサンジオールジ (メタ) アタリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アタリレートなどを比較的多量に含むものが使用される。

さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用するときはこれらの中に光重合開始剤として、例えば、ァセトフエノン類、ベンゾフエノンミヒラーべンゾィノレベンゾェ一ト、 _α—アミ口キシムエステノレ、チォキサントン類や、光増感剤として η—プチルァミン、トリェチルァミン、トリー η—ブチルホスフィンなどを混合して使用することが好ましい。 . ハードコート層としては、例えば従来の熱硬化型樹脂及び/又は電離放射線型樹脂が使用される。ハードコート層の膜厚は、好ましくは 0 . 5〜5 0 i m、さらに好ましくは 3〜 2 0 μ πιである。

厚みが薄過ぎると J I Sで定められているところの鉛筆硬度を高く維持することが困難となる。一方、ハードコート層を必要以上に厚くすると、反射防止フィルムの可撓性を損なうばかりでなく、硬化時間が長くなつて生産性を低下させ、製造コストを高くすることにもなる。

上記の要件を満たすハードコート層を形成するための好ましい熱硬化型樹脂及び /又は電離放射線型樹脂としては、例えば、アタリレート系の官能基をもつもの、例えば比較的低分子量のポリエステル、ポリエーテル、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、アルキッド樹脂、スピロァセタール樹脂、ポリブタジエン、ポリチオールポリェン系樹脂、多価アルコールなどの多官能化合物の（メタ）ァクリレートなどのオリゴマー又はプレボリマー及び反応性の希釈剤であるェチル（メタ）アタリレート、ェチノレへキシノレ (メタ）アタリレート、スチレン、ビニノレトノレェン、 N—ビニルピロリドンなどの単官能モノマー、並びに多官能モノマー、例えばトリメチロールプロパントリ (メタ）アタリレート、へキサンンジオール (メタ ) アタリレート、トリプロピレンダリコールジ (メタ）アタリレート、ジエチレンダリコールジ (メタ）ァクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アタリレート、ジペンタエリスリトールへキサ (メタ）アタリレート、 1 , 6へキサンジ才ールジ（メタ）アタリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アタリレートなどを比較的多量に含むものが使用される。

硬化時の硬化収縮を減らすためには、平均粒子径が 1 0 0 n m以下であるシリカ微粒子を上記反応性硬化物に混合することが多い。シリ力微粒子を含有させることにより、上記硬化収縮が小さくなる他、表面耐擦傷性の大幅な改善、ハードコート層の屈折率低下による反射率の低減（透過率の向上）等の効果が得られる。シリカ微粒子の粒径が可視光の波長（380 nm) よりも大きくなると、光が散乱して光学膜が白く濁って見えるところから、シリカ微粒子の粒径は 380 nm以下特に 100 nm以下例えば 10〜100 n mであることが好ましい。シリカ微粒子の混合量は樹脂 100重量部に対し 80重量部（PHR) 以下、特に 20〜80 PHRであることが好ましい。 80 PHRよりも多いとシリカの量が多すぎ、膜の中に空隙が生じ、膜強度が著しく落ちることになる。なお、 20 PHR以上とすることにより、ハードコート層の耐擦傷性が十分に高くなる。

上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂として使用するときは、これらの中に光重合開始剤として、例えば、ァセトフエノン類、ベンゾフエノン類、ミヒラーベンゾィルベンゾエート、ひ一アミ口キシムエステノレ、チォキサントン類ゃ光增感剤として n—ブチルァミン、トリエチルァミン、トリ一n—ブチルホスフィンなどを混合して使用することが好ましい。

上記の電離放射線硬化型樹脂には、一般式 R_mS i (OR') _nで表される反応性有機ケィ素化合物（式中の R、 R' は炭素数 1〜10のアルキル基を表し、 m+n =4である。）を含ませることもできる。ケィ素化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラー i s o—プロポキシシラン、テトラー n—プロポキシシラン、テトラー n—ブトキシシラン、テトラー s e c—ブトキシシラン、テトラー t e r t—ブトキシシラン、テトラペンタエトキシシラン、テトラペンター i s o一プロポキシシラン、テトラペンター n—プロポキシシラン、テトラペンター n—ブトキシシラン、テトラペンター s e c—ブトキシシラン、テトラペンター t e r t—ブトキシシラン、メチノレトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジェトキシシラン、ジメチルェトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロボキシシラン、ジメチルブトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジェトキシシラン、へキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。

本発明の光学基材は、反射防止フィルムや ASフィルムとして用いるのにきわめて好適である。

以上の通り、本発明によれば、透明基材の屈折率及びハードコート層の屈折率さえわかれば、透明基材とハードコート層との間に干渉ジミ対策層を塗工することで、光の干渉ジミを見えなくすることが可能となる。

Claims

1. 透明基材上に、透明基材側から順番に、 1層以上の干渉ジミ対策層が塗工され、その上にハードコート層が順次積層された光学基材において、

該ハードコート層の波長 ₅40〜560 nmの光における複素屈折率を n_H— i kとしたときに、 n_H=l. 45〜1. 59であり、； kが実質的に 0であることを特徴とする光学基材。

2. 請求項 1において、干渉ジミ対策層とハードコート層との界面の光学アドミッタンスを（x+ i y) とした場合に、 540〜560 nmの少なくとも一部の波長において、 x、 yが次の不等式を満たすものであることを特徴とする光学基材。

(x-n_H) ² + Y²≤0. 08

3. 請求項 1において、干渉ジミ対策層とハードコート層との界面の光学アドミッタンスを（x+ i y) とした場合に、 540〜560 nmの少なくとも一部の波長において、 x、 yが次の不等式を満たすものであることを特徴とする光学基材。

(x-n_H) ² + Y²≤ 0. 03

4. 請求項 1において、干渉ジミ対策層とハードコート層との界面の光学アドミッタンスを（； s+ i y) とした場合に、 540〜560 nmの少なくとも一部の波長において、 x、 yが次の不等式を満たすものであることを特徴とする光学基材。

(x-n_H) ² + Y²≤ 0. 01

5. 請求項 1において、透明基材、各干渉ジミ対策層及びハードコート層の 55 0 nmにおける減衰係数 kが、 0. 001以下であることを特徴とする光学基材。

6. 請求項 1において、干渉ジミ対策層は、熱硬化型樹脂及び/又は電離放射線型樹脂と、 Z nO， T i〇₂， C e 0₂, S b ₂0₅, S n0₂, I TO, I n ₂0₃, Y₂0₃， L a ₂0₃, A 1₂0₃, H f O ₂及び Z r O ₂からなる群から選ばれる少なくとも 1種の超微粒子を該樹脂 1重量部に対して 0. 1〜 85の割合で含むことを特徴とする光学基材。

7. 請求項 1において、干渉ジミ対策層は、熱硬化型樹脂及び Z又は電離放射線型樹脂を含み、且つ該熱硬化型樹脂及び Z又は電離放射線型樹脂は、臭素、硫黄及びフエニル基の少なくとも 1種を 0. 1〜60重量部含むことを特徴とする光学基材。

8. 請求項 6において、該干涉ジミ対策層がさらにシリカ微粒子を含有することを特徴とする光学基材。

9. 請求項 7において、該干渉ジミ対策層がさらにシリカ微粒子を含有することを特徴とする光学基材。

10. 請求項 8において、シリカ微粒子の粒径が 380 nm以下である光学基材

1 1. 請求項 9において、シリカ微粒子の粒径が 380 nm以下である光学基材

12. 請求項 8において、シリカ微粒子の配合量が 20〜80 PHRである光学基材。

13. 請求項 9において、シリカ微粒子の配合量が 20〜80 PHRである光学

14. 請求項 1において、ハードコート層は塗工されたものであることを特徵とする光学基材。

15. 請求項 1において、該透明基材が PETフィルムであることを特徴とする光学基材。

16. 請求項 1において、該透明基材の屈折率が 1. 62〜1. 68好ましくは約 1. 66であり、

該ハードコート層の屈折率が 1. 50〜1. 54好ましくは約 1. 52であり、該干渉ジミ対策層の屈折率が 1. 565〜1. 605好ましくは約 1. 585であり、

該干渉ジミ対策層の膜厚が 80〜95 nmであることを特徴とする光学基材。

17. 請求項 1ないし 16のいずれか 1項の光学基材よりなる反射防止フィルム