[go: up one dir, main page]

WO2003026357A1 - Substrat transparent utilisant un element electroluminescent organique et element electroluminescent organique - Google Patents

Substrat transparent utilisant un element electroluminescent organique et element electroluminescent organique Download PDF

Info

Publication number
WO2003026357A1
WO2003026357A1 PCT/JP2002/009373 JP0209373W WO03026357A1 WO 2003026357 A1 WO2003026357 A1 WO 2003026357A1 JP 0209373 W JP0209373 W JP 0209373W WO 03026357 A1 WO03026357 A1 WO 03026357A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
transparent substrate
substrate
refractive index
organic electroluminescent
fine particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP2002/009373
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Yoshikazu Ootsuka
Toyohiko Abe
Kenichi Motoyama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Priority to KR10-2004-7001476A priority Critical patent/KR20040030888A/ko
Priority to EP02765519A priority patent/EP1435762A4/en
Priority to US10/489,111 priority patent/US20040241421A1/en
Priority to JP2003529818A priority patent/JPWO2003026357A1/ja
Publication of WO2003026357A1 publication Critical patent/WO2003026357A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/85Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K50/854Arrangements for extracting light from the devices comprising scattering means
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
    • H05B33/00Electroluminescent light sources
    • H05B33/12Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces
    • H05B33/22Light sources with substantially two-dimensional radiating surfaces characterised by the chemical or physical composition or the arrangement of auxiliary dielectric or reflective layers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24942Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.] including components having same physical characteristic in differing degree
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/25Web or sheet containing structurally defined element or component and including a second component containing structurally defined particles

Definitions

  • the present invention relates to a substrate for an organic electroluminescent device and an organic electroluminescent device using the same.
  • an element (Semiconductor FPD World 2001, 6, 152) using a film substrate instead of a glass substrate to achieve weight reduction and flexibility, and using a transparent material for a cathode in the element configuration
  • Devices that use a top-emission method in which a transparent film is placed on top of it and light is emitted from the cathode side (Semiconductor FPD World 2001, 4, 136) are known.
  • Organic electroluminescent devices have advantages over liquid crystal devices that have been widely used in the past as flat panel displays. In other words, because it is a self-luminous element, it has low viewing angle dependence, low power consumption, and an extremely thin element.
  • the light emission luminance of displays using organic electroluminescent elements is not satisfactory when a low voltage is applied.
  • a high voltage is applied to the element to emit light. Brightness needs to be increased.
  • the organic electroluminescent device has a dilemma that the lifetime must be reduced to reduce the light emission luminance, and to enhance the visibility, the lifetime is shortened.
  • the improvement of the light emitting layer material of the organic electroluminescence device has been energetically advanced.
  • a light emitting layer material with high internal energy efficiency is developed.
  • the external energy efficiency which indicates the luminous efficiency of an organic electroluminescent device, is expressed as the product of the internal energy efficiency of the device and the light extraction efficiency (Optics Letters 22, 6, 396, 1997). . That is, in order to improve the luminous efficiency of the organic electroluminescent device, it is necessary to improve not only the internal energy efficiency but also the light extraction efficiency.
  • Light extraction efficiency is the ratio of light emission emitted into the atmosphere from the front of the transparent substrate of the device to the light emission of the device.
  • the light in order for the light emitted from the light-emitting layer to be emitted into the atmosphere, the light must pass through the interface of several media having different refractive indices. Light incident at an angle of is totally reflected at the interface and guided in the layer, and disappears or is emitted from the side of the layer.
  • the light extraction efficiency of the organic EL device is about 0.175, and about 18% of the light generated in the light emitting layer is extracted outside the element, while the remaining about 82% is emitted. Either it is trapped in the device and disappears or is emitted from the side of the device. For this reason, improving the light extraction efficiency is an important issue, and various attempts have been made in the past.
  • a transparent electrode or a light emitting layer that forms a grain boundary and scatters visible light Japanese Patent Publication No. 3-183020
  • Japanese Patent Publication No. 3-183020 uses a glass substrate with one surface roughened as a transparent substrate
  • a device that scatters light Japanese Patent Application Laid-Open No.
  • the present invention has been made based on the above background, and an object of the present invention is to provide a transparent substrate capable of improving the light extraction efficiency of an organic electroluminescence device, and to use this substrate for a practical organic electroluminescence device. It is to provide Disclosure of the invention
  • the present invention provides a transparent substrate for an organic electroluminescent device having the following characteristics, and an organic electroluminescent device using the same.
  • a transparent substrate for an organic electorescence luminescent element characterized in that at least one surface of the transparent substrate is provided with a region that causes disturbance in reflection and refraction angle with respect to light emitted from the light emitting element.
  • Substrate for organic electroluminescent devices are provided.
  • the region according to the above (1), wherein the region where the reflection and refraction angles are disturbed comprises a scattering layer containing fine particles and a binder, and the refractive index of the fine particles differs from that of the binder.
  • Elect port luminescence element substrate a scattering layer containing fine particles and a binder, and the refractive index of the fine particles differs from that of the binder.
  • the transparent substrate for an organic electroluminescent device according to any one of the above (1) to (7), wherein the transparent substrate is silica glass, soda glass or an organic film.
  • FIG. 1 is a cross-sectional view showing the case where the transparent substrate prepared in Example 4 is applied to an organic electroluminescent device.
  • Figure 2 Cross-sectional view showing the internal confinement of light from the light-emitting layer when using a conventional transparent substrate.
  • FIG. 3 is a cross-sectional view showing scattering of light from the light emitting layer and extraction from the front of the substrate when the transparent substrate prepared in Example 4 is used.
  • the transparent substrate for an organic electroluminescent device of the present invention has a surface on one or both sides of a transparent substrate such as a glass or an organic film as a region that causes disturbance in reflection and bending angle with respect to light emitted from the light emitting element. It is characterized by providing a smooth scattering layer.
  • the scattering layer can be obtained by roughening the surface of the substrate and then flattening it with a transparent resin, or by providing a scattering structure on the surface of the substrate or by providing a porous layer.
  • the scattering layer is preferably formed by dispersing fine particles in a binder and applying the fine particles.
  • FIG. 1 shows an example of an organic electroluminescent device using the transparent substrate of the present invention.
  • the device having the configuration shown in FIG. 1 is usually prepared by sequentially depositing a transparent electrode 2, an organic layer 3 including a light emitting layer, and an electrode 4 on a transparent substrate 9 according to the present invention.
  • the thickness of these deposited layers is very thin, and if the surface of the transparent substrate is rough, dielectric breakdown may occur. Therefore, the element side surface of the transparent substrate 9 according to the present invention needs to be sufficiently smooth.
  • the present invention can be applied to an element configuration of a top emission type. In this type, a light emitting element is formed on another substrate and then formed by combining a transparent substrate according to the present invention.
  • the incident light is a, 8b is multidirectional. It is an optical 1 0, 1 1 which is incident at the critical angle 0 i and theta 2 or more angles to the interface between Accordingly transparent substrate, it becomes possible and eject from the transparent substrate front. Further, even if the light is confined in the device, the scattering is not continued due to the scattering regions 8a and 8b, and almost all light can be finally extracted from the front of the transparent substrate.
  • the transparent substrate 9 according to the present invention it is possible to greatly improve the external luminous efficiency of the ordinary organic electroluminescence element, and as a result, to achieve both the emission luminance and the lifetime of the organic electroluminescence element as described above. Can be achieved.
  • the transparent substrate used in the present invention is a transparent substrate such as silica glass, soda glass, and organic film.
  • a color filter or a black matrix may be formed on the surface.
  • a region (hereinafter, also referred to as a scattering layer) that can cause disturbance in the reflection and refraction angles with respect to incident light is formed. More specifically, this region is a region composed of at least two materials having mutually different refractive indices, and the mutual material interface is complicatedly disturbed in order to cause the above-mentioned reflection and bending angles to be disturbed. . In order to avoid diffraction phenomena such as moiré, it is desirable that the disturbance of the material interface in the region does not have microscopic regularity.
  • the scattering layer preferably contains 0.01 to 100 parts by weight of a binder with respect to 100 parts by weight of fine particles, and particularly preferably 0.1 to 10 parts by weight. What is dispersed in the ratio of parts by weight is used.
  • the fine particles used here are spherical or plate-like particles having a diameter of 0.01 to 10 im.
  • the material may be organic or inorganic, but is determined in consideration of dispersibility in a binder, applicability to a transparent substrate, refractive index, transparency, and the like.
  • the fine particles can be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are mixed, two or more kinds of fine particles having different refractive indexes may be used, or two or more kinds of fine particles having different particle diameters may be used.
  • Fine particles include metal particles such as gold, silver, copper, chromium, nickel, zinc, iron, antimony, platinum and rhodium, and metal salts such as AgCl, AgBr, Agl, Csl, CsBr, and CsI.
  • the binder is one that disperses the fine particles well and has excellent coatability on a transparent substrate.
  • the material may be organic or inorganic, but is determined in consideration of the dispersibility of the fine particles, applicability to a transparent substrate, refractive index and transparency. Also, a thermoplastic, thermosetting, or ultraviolet curable binder can be used.
  • Binders include urethane-based substances, acrylic-based substances, acryl-urethane copolymer substances, epoxy resin-based substances, melamine resin-based substances, polyvinyl acetal-based substances, polyvinyl alcohol-based substances, polycarbonate resin-based substances, and hydrolysis of metal alkoxides.
  • a sol-gel material or the like is used. Among them, sol-gel materials, acryl resins, polypinyl butyrals, and polycarbonate resins, which are hydrolysates of alkoxy silanes, are preferred.
  • the relative refractive index of the fine particles relative to the refractive index of the binder (the value obtained by dividing the refractive index of the spherical fine particles by the refractive index of the transparent polymer binder, hereinafter simply referred to as the relative refractive index) is defined as n
  • the relative refractive index n it is preferable that 0.5 ⁇ n ⁇ 2.0, particularly preferably 0.5 ⁇ n ⁇ 0.91 or 1.0 ⁇ n ⁇ 2.0.
  • the refractive index of the entire scattering layer is preferably closer to the refractive index of the transparent substrate used for the scattering layer on the atmosphere side, and is preferably closer to the refractive index of the transparent electrode on the element side.
  • the refractive index n ′ of the entire scattering layer is 1.20 ⁇ n ′ ⁇ 2.00.
  • a dispersing agent a leveling agent, a coloring agent, a plasticizer, a cross-linking material, a photosensitive material, a sensitizer, a surfactant and the like can be added to the scattering layer as needed.
  • the particles are not always present only inside the layer, and there may be particles near the surface or protruding from the surface. Particles protruding from the surface form irregularities on the surface, and cause dielectric breakdown of the organic electroluminescent device.
  • the surface of the scattering layer must be smoothed by a method such as polishing, pressing, or applying a transparent flattening film.
  • the above-mentioned binder is adjusted to an appropriate viscosity with a solvent or the like, and then the above-mentioned fine particles are dispersed by a method such as stirring, a sand mill, or a jet mill to prepare a coating liquid.
  • a dip method can be used in addition to the above.
  • the transparent substrate having the scattering layer formed thereon may be smoothed by a method such as polishing, pressing, or application of a transparent flattening film, if necessary.
  • a reaction flask equipped with a reflux tube was charged with 20.8 g of tetraethoxysilane as an alkoxysilane and 70.1 g of ethanol as a solvent, and stirred and mixed using a magnetic stirrer.
  • a solution prepared by dissolving 0.1 ⁇ of oxalic acid in water 9 as a catalyst was added and mixed. After mixing, the liquid temperature generated about 10 ° C. Stirring was continued for 30 minutes, followed by heating at 76 ° C. for 60 minutes, and then cooling to room temperature to prepare a solution having a solid content of 6% by mass as SiO 2 .
  • This solution was applied to a silicon substrate, baked, and the refractive index was measured to be 1.32.
  • the coating solution obtained in this manner was applied to a soda-lime glass substrate with a transmittance of 91% at a wavelength of 550 nm and a transmittance of 91% using a spin-on-one glass plate at a temperature of 80 ° C. After drying on the above for 5 minutes, it was heated in a clean oven at 300 ° C for 60 minutes to form a cured film having a thickness of about 100 OA (angstrom). And The transmittance was measured at 550 nm using a spectrophotometer (W-160, manufactured by Shimadzu Corporation) and found to be 94.8%.
  • W-160 spectrophotometer
  • a cured film with a thickness of about 100 OA (angstrom) was formed on a silicon substrate by the same method, and the refractive index was measured to be 1.32.
  • the refractive index was measured with an ellipsometer 1 (manufactured by Mizojiri Optical Co., Ltd.).
  • organic electroluminescent elements were prepared respectively.
  • a transparent electrode and a transparent electrode are placed on the scattering layer of each transparent substrate.
  • ITO indium tin oxide
  • the sheet resistance was 20 ⁇ / cm 2 .
  • an oligoaniline derivative an aniline pentamer dissolved in DMF and a 3-fold molar equivalent of 5-sulfosalicyl described in Japanese Patent Application No. 2000-341775 previously filed by the present applicant was used.
  • N —bis (1-naphthyl) -1-N
  • N diphenyl-1,1,1-bisphenyl 4,4, —diamine (Q ; —NPD) with a thickness of 50 nm
  • Q —naphthyl
  • Alq 3 8-hydroxyquinoline aluminum
  • a magnesium-silver alloy was formed by vapor deposition as a cathode. At this time, the thickness of the cathode was 200 nm.
  • a voltage of 10 V was applied to both electrodes of the organic electroluminescent device formed in this manner, the amount of light emitted from the front of the transparent substrate was measured, and the measured value of the comparative example was set to 1, and the values of Examples 1 and 2 were compared. The measured values were compared with those of a device formed from a transparent substrate.
  • the device of Example 1 was 1.1
  • the device of Example 2 was 1.5
  • the device of Example 3 was 1.3.
  • the transparent substrate according to the present invention the conventional structure was obtained. It has been confirmed that the surface emission luminance of the organic electroluminescence device is significantly increased. Industrial applicability
  • the substrate for an organic electroluminescent device of the present invention is excellent in mass productivity, and by using a bracket substrate to constitute the device, non-uniformity of light emission and insulation rupture do not occur. Therefore, the efficiency of external light extraction can be improved.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

明 細 書 有機エレクトロルミネッセンス素子用透明性基板および有機エレクトロルミネ ッセンス素子 技術分野
本発明は、 有機エレクト口ルミネッセンス素子用基板およびこれを用いた有機 エレクト口ルミネッセンス素子に関する。 背景技術
有機エレクトロルミネッセンス素子は近年のフラットディスプレイの需要の高 まりから新たに注目されている素子である。 素子の構成は、 ガラス基板上に形成 した陽極、 ホール輸送層、 電子輸送性発光層、 陰極のものが Tangと Vans lykeによ り提案されている (App l. Phys. Le t t. , 5 1, 913, 1987) 。 この他には、 ガラス 基板のかわりにフィルム基板を用いて軽量化やかとう性を実現した素子(Semicon ductor FPD World 2001, 6, 152)、前記素子構成のうち陰極に透明性材料を用い、 さらにその上に透明性フィルムを設置して陰極側から発光を取り出すトツプエミ ッシヨン方式を採用した素子 (Semiconduc tor FPD World 2001, 4, 136) などが 知られている。 有機エレクト口ルミネッセンス素子は、 従来フラットパネルディ スプレイとして広く用いられてきた液晶素子に比較して優れた点を有する。 すな わち自発光素子であるがゆえに視野角依存性が少ないこと、 消費電力が小さいこ と、 きわめて薄い素子にできることである。
しかしながらフラットディスプレイとするにはいまだ解決すべき問題点も多い。 そのうち一つは素子の発光寿命が短いことである。
これに対しては現在、 素子の構成要素のうち発光層材料を改良することによつ て 1万時間程度の寿命が達成されているが、 フラットディスプレイにこの素子を 適用するためにはまだ満足できる寿命ではない。 寿命が短いとフラットディスプ レイに静止画を長時間表示した場合、 点灯画素と非点灯画素の間に輝度の差が生 じ残像として視認されるという、 残像現象があるためである。 発光寿命に関係す る要因は多々あるが、 発光輝度を高めるためにより高い電圧を素子に印加すると、 より寿命が短くなることが知られている。
しかしながら有機エレクトロルミネッセンス素子を用いたディスプレイの発光 輝度は、 低電圧の印加状態では満足できるものではなく、 昼間室外でのディスプ レイの視認性を確保するためには素子に高い電圧を印加して発光輝度を高める必 要がある。 このように有機エレクト口ルミネッセンス素子には、 寿命を長くしょ うとすれば発光輝度を弱くせねばならず、 視認性を高めようとすれば寿命が短く なるというジレンマに陥っていた。
この問題を解決するために、 従来より有機エレクトロルミネッセンス素子の発 光層材料の改良が精力的に進められてきた。 すなわちより低い電圧印加で高い発 光輝度を実現するため、 内部エネルギー効率の高い発光層材料を開発するもので ある。
一方、 Thompsonらによれば有機エレクトロルミネッセンス素子の発光効率を示 す外部エネルギー効率は、 素子の内部エネルギー効率と光取り出し効率との積で あらわせる (Opt ics Let ters 22, 6, 396, 1997) 。 すなわち有機エレクト口ルミ ネッセンス素子の発光効率を向上するためには、 内部エネルギー効率を向上させ るほかに、 光取り出し効率も向上させる必要がある。
光取り出し効率とは、 素子の発光に対して素子の透明性基板正面から大気中に 放出される発光の割合である。 すなわち発光層での発光が大気中に放出されるに は、 幾つかの屈折率の異なる媒質の界面を通過する必要があるが、 スネルの屈折 の法則に従えば、 各界面にその臨界角以上の角度で入射した光は、 界面で全反射 されて層中にを導波し消失するか層側面より放出され、 その分だけ素子正面から の光放出が減少する。
前記 Thompsonらによれば有機ェレクト口ルミネッセンス素子の光取り出し効率 は約 0 . 1 7 5であり、 発光層で発生した光のおよそ 1 8 %は素子外に取り出さ れるが、 残り約 8 2 %は素子中に封じ込められ消失するか素子側面から放出して いる。 このため、 光取り出し効率を向上することが重要な課題であり、 従来より様々 な試みが行われている。 透明電極や発光層に粒界を形成し可視光を散乱させるも の (特公平 3— 1 8 3 2 0号公報) 、 透明性基板として一方の表面が粗面化され たガラス基板を用いて発光を散乱させるもの(特開昭 6 1 - 1 5 6 6 9 1号公報)、 電極と有機層との界面付近に散乱領域を設けたもの (特開平 0 9— 1 2 9 3 7 5 号公報) が開示されている。 しかしながらこれらの試みは全て素子各層の膜厚を 乱す恐れがあり、 絶縁破壊および素子発光の不均一性を生じる原因となるため、 素子の量産性の観点からは満足できるものではなかった。 したがって有機エレク トロルミネッセンス素子の光取り出し効率が低いという問題点は依然解決されて いない。
本発明は上述の背景に基づきなされてものであり、 その目的は有機エレクトロ ルミネッセンス素子の光取り出し効率を改善することのできる透明性基板を提供 し、 これを用いることにより実用的な有機エレクトロルミネッセンス素子を提供 することにある。 発明の開示
本発明は、 以下の特徴を有する有機エレクト口ルミネッセンス素子用透明性基 板、 及びこれを用いた有機エレクト口ルミネッセンス素子を提供する。
( 1 ) 有機エレクト口ルミネッセンス素子用透明性基板において、 透明性基板の 少なくとも一方の表面上に、 発光素子からの発光に対して反射、 屈折角に乱れを 生じさせる領域を設けたことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子用 基板。
( 2 ) 反射、 屈折角に乱れを生じさせる領域が、 微粒子とバインダーを含む散乱 層からなり、 かつ微粒子の屈折率とバインダ一の屈折率が異なるものよりなる上 記 (1 ) に記載の有機エレクト口ルミネッセンス素子用基板。
( 3 ) 微粒子の屈折率をバインダーの屈折率で割った相対屈折率 nが、 0 . 5ぐ n < 2 . 0を満足する上記 (2 ) に記載の有機エレクト口ルミネッセンス素子用 基板。 (4) バインダーと微粒子の相対屈折率 nが好ましくは 0. 5<n<0. 91の 範囲であるバインダーの屈折率が微粒子より高い上記 (2) 又は (3) に記載の 有機エレクト口ルミネッセンス素子用基板。
(5) バインダーと微粒子の相対屈折率 nが、 好ましくは 1. 09<n<2. 0 の範囲であるバインダーの屈折率が微粒子より低い上記 (2) 又は (3) に記載 の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板。
(6) 微粒子が、 金属、 無機酸化物、 半導体、 又は有機樹脂からなり、 かつ直径 0. 01〜 10 mの粒子である上記 (2) 〜 (5) のいずれかに記載の有機ェ レクトロルミネッセンス素子用基板。
(7)バインダーが、有機高分子または無機ゾルゲル材料である上記(2)〜 (6) のいずれかに記載の有機エレクト口ルミネッセンス素子用基板。
(8) 透明性基板が、 シリカガラス、 ソーダガラス又は有機フィルムである上 記 (1) 〜 (7) のいずれかに記載の有機エレクト口ルミネッセンス素子用透明 性基板。
(9) 上記 (1) 〜 (8) のいずれかに記載の有機エレクト口ルミネッセンス素 子用基板を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。 図面の簡単な説明
図 1 : 実施例 4にて作成した透明性基板を有機エレクト口ルミネッセンス素 子に適用したものを示した断面図。
図 2 : 従来の透明性基板を用いた場合の発光層からの光の内部閉じ込めを示 したものを示した断面図。
図 3 : 実施例 4にて作成した透明性基板を用いた場合の発光層からの光の、 散乱および基板正面からの取り出しを示したものを示した断面図。
符号の説明
1. 透明性基板
2. 透明性電極
3. 発光層を含む有機層 4 . 電極
5 . 透明性電極と透明性基板との界面で反射し素子内を導波する光
6 . 透明性基板と大気との界面で反射し素子内を導波する光
7 . 界面で全反射せず、 素子より取り出される光
8 a . 入射光の反射、 屈折角に乱れを生じさせる領域
8 b . 入射光の反射、 屈折角に乱れを生じさせる領域
9 . 本発明による有機エレクトロルミネッセンス素子用透明性基板
1 0 . 透明性基板の発光層側において反射、 屈折角に乱れが生じたために素子 外へ取り出された光
1 1 . 透明性基板の大気側において反射、 屈折角に乱れが生じたために素子外 へ取り出された光
θ , . 透明性電極と透明性基板との界面の全反射角
θ 2. 透明性基板と大気との界面の全反射角 発明を実施するための最良の形態
本発明の有機エレクト口ルミネッセンス素子用透明性基板はガラス、 有機フィ ルムなど透明性基体の両面または一方に、 発光素子からの発光に対して反射 ·屈 折角に乱れを生じさせる領域として、 表面が平滑な散乱層を設けたことを特徴と する。 散乱層は基体表面を粗面化したのち透明性樹脂などで平坦化したものや基 体表面に散乱性の構造物を設けること、 または多孔質の層を設けることができる が、 量産性や表面平滑性を考慮すると好ましくはこの散乱層は微粒子をバインダ 一に分散させ、 塗布したものが用いられる。
本発明の透明性基板を用いた有機エレクト口ルミネッセンス素子の例を図 1に 示す。 図 1の構成の素子は、 通常本発明による透明性基板 9の上に透明電極 2、 発光層を含む有機層 3、 電極 4、 を順次堆積してゆくことにより作成される。 こ れらの堆積層の厚みは非常に薄く、 透明性基板表面が粗面であると絶縁破壊をお こす恐れがある。 したがって本発明による透明性基板 9の素子側表面は充分に平 滑化されている必要がある。 また、 トップェミッション方式の素子構成にも本発明は適用でき、 この方式に は発光素子を別の基板に形成した後に本発明による透明性基板を組み合わせて作 成される。
有機エレクトロルミネッセンス素子の発光層より発生した光は、 素子内の各層 を透過して透明性基板に達する。 図 2に示すように従来の透明性基板 1を用いた 場合は透明電極 2と透明性基板 1の間で反射 ·屈折が起こり臨界角 Θ 以上の角度 で入射した光は全反射される。 全反射された光 5はもう一方の電極表面 3で再び 全反射され、 これを繰り返すことによって光は素子内を導波し消失する。 臨界角 Θ 以下の角度で入射し透明性基板内に入射した光であっても、 透明性基板 1と大 気界面において再び反射 ·屈折が起こり、 臨界角 θ 2以上の角度で入射した光 6は 全反射されて、 透明性基板内を導波してしまい基板正面より光をとりだすことは できない。 すなわち従来の透明性基板を用いている限りにおいては、 各界面にお いて全反射臨界角 0い 0 2より小さい入射角度を持つ光 7しか素子正面より取り 出すことは出来なかった。
一方、 図 3に示すように、 本発明による反射 ·屈折角に乱れを生じさせる領域 8 a、 8 bを一方の面もしくは両面に備えた透明性基板 9を用いると、 入射光は この領域 8 a、 8 bで多方向性となる。 このため透明性基板との界面に臨界角 0 i および θ 2以上の角度で入射した光 1 0、 1 1であっても、 透明性基板正面より取 り出すことが出来るようになる。 さらに素子内に閉じ込められた光であっても、 散乱領域 8 a、 8 bのために導波が継続されなくなり、 最終的にはほとんどの光 を透明性基板正面から取り出すことができる。 したがって本発明による透明性基 板 9を用いるだけで通常の有機エレクトロルミネッセンス素子の外部発光効率を 大幅に向上させることができ、 ひいては先述のように有機エレクトロルミネッセ ンス素子の発光輝度と寿命の両立を達成することが可能となる。
本発明に用いる透明性基板とはシリカガラス、 ソーダガラス、 有機フィルムな どの透明な基体である。 表面にカラーフィル夕やブラックマトリクスが形成され ているものでもよい。 この透明性基板の一方もしくは両方の表面に、 入射光に対 して反射 '屈折角に乱れを生じさせうる領域(以下散乱層ともいう) を形成する。 詳述すれば、 この領域は少なくとも 2つの相互に屈折率の異なる物質からなる 領域であり、 かつ上記反射 ·屈拚角に乱れを生じせしめるために相互の物質界面 が複雑に乱れたものである。 モアレなど回折現象を回避するためには該領域の物 質界面の乱れは微視的に規則性を持たないものであることが望ましい。 また素子 の光取り出し効率をより向上させるためには、 該領域の後方散乱を減少させ、 よ り前方散乱にした方がよい。 これを実現させるものとしては基体表面を粗面化し たのち透明性樹脂などで平坦化したものや基体表面に散乱性の構造物を設けるこ と、 または多孔質の層を設けることやこれら複数の組み合わせなどが適用できる。 しかし、 量産性や表面平滑性および前方散乱性を考慮すると、 この散乱層は微粒 子 1 00重量部に対してバインダーを好ましくは 0. 01〜1 00重量部、 特に 好ましくは 0. 1〜10重量部の比率で分散させたものが用いられる。
ここで用いられる微粒子とは、 直径 0. 01〜10 imの球形や板状などの粒 子である。 その材質は有機物、 無機物を問わないがバインダー中での分散性や透 明性基板への塗布性、 屈折率や透明性などを考慮して決定される。 また微粒子は 単独でも 2種以上の混合でも使用できる。 2種以上の混合の場合には、 屈折率の 異なる 2種以上の微粒子であってもよく、 単に粒子径の異なる 2種以上の微粒子 であってもよい。
微粒子としては金、 銀、 銅、 クロム、 ニッケル、 亜鉛、 鉄、 アンチモン、 白金 及びロジウムなど金属微粒子、 AgC l、 AgB r、 Ag l、 C s l、 C s B r、 C s Iなどの金属塩、 Zn S、 ZnS e、 ZnTe、 Cd S、 CdS e、 CdT e、 A l As、 A l S b、 GaP、 GaAs、 Ga S b、 I nP、 I nAs、 I nS b、 S i C、 P b S、 HgS、 S i及び G eなど半導体微粒子、 T i〇2 、 S rT i 03、 S i〇2 、 ZnO、 MgO、 Ag2〇、 Cu〇、 A 1203、 B203 、 Z r 02 、 L i 20、 Na20、 K20、 B aO、 C aO、 PbO、 P 205、 C s 2 0、 L a203 、 S rO、 W03 、 C d O及び T a 205など無機酸化物微粒子及び これらの混合物無機系の微粒子、 ポリアクリレート、 ポリメタァクリレート、 ポ リスチレン、 ポリウレタン、 ベンゾグアナミン、 シリコーン樹脂及びメラミン樹 脂等の有機系の微粒子が用いられうるが、 好ましくはシリカ微粒子、 ポリアクリ レート微粒子、 又はポリスチレン微粒子が適用される。
またバインダーとは、 前記微粒子をよく分散させ、 かつ透明性基板への塗布性 に優れるものである。 その材質は有機物、 無機物を問わないが微粒子の分散性や 透明性基板への塗布性、 屈折率や透明性などを考慮して決定される。 また、 熱可 塑性、 熱硬化性、 紫外線硬化性のバインダーを使用することもできる。
バインダーとしては、 ウレタン系物質、 アクリル系物質、 アクリル一ウレタン 共重合物質、 エポキシ樹脂系物質、 メラミン樹脂系物質、 ポリビニルァセタール 系物質、 ポリビニルアルコール系物質、 ポリカーボネート樹脂系及び金属アルコ キシドの加水分解物であるゾルゲル材料等が用いられる。 なかでも、 アルコキシ シランの加水分解物であるゾルゲル材料、 ァクリル樹脂、 ポリピニルプチラール 及びポリカーポネート樹脂等が好ましい。
バインダ一の屈折率に対する微粒子の相対屈折率 (球状微粒子の屈折率を透明 高分子バインダーの屈折率で割った値で、 以下単に相対屈折率という) を nとし たときに、 この相対屈折率 nが、 好ましくは、 0. 5<n<2. 0、 特に好まし くは、 0. 5<n<0. 91または1. 09<n<2. 0であることが好適であ る。
また、 該散乱層全体の屈折率は、 大気側の散乱層は使用する透明性基板の屈折 率に近い方がよく、 素子側の散乱層は透明性電極の屈折率により近いほうがよい。 好ましくは散乱層全体の屈折率 n' が 1. 20<n' <2. 00である。
また、 該散乱層には、 この他に分散剤、 レべリング剤、 着色剤、 可塑剤、 架橋 材、 感光材、 増感剤、 界面活性剤等を必要に応じ添加することができる。
ところで粒子は必ずしも層内部にのみ存在するわけではなく、 表面付近や表面 から突出する粒子が存在する場合もある。 この表面から突出した粒子は、 表面に 凹凸を形成し、 有機エレクトロルミネッセンス素子の絶縁破壌の原因になってし まう。 このような場合は該散乱層表面を研磨、 プレス、 透明性平坦化膜の塗布な どの方法によつて平滑化しなければならない。
次に、 本発明による有機エレクト口ルミネッセンス素子用透明性基板の製造方 法の一例について説明する。 まず、前述のパインダ一を溶剤等で適当な粘度に調整した後、前述の微粒子を、 攪拌、 サンドミル、 ジェットミル等の方法で分散し、 塗布液を作製する。
次に、 透明性基板の片面に該塗布液をスピンコ一夕一や印刷等の方法で、 所定の 膜厚になるように塗布後、 塗布液に応じて熱風乾燥、 UV硬化等の方法で乾燥、 硬化させて有機エレクト口ルミネッセンス素子用透明性基板を形成する。
また透明性基板の両面に散乱層を形成する場合には、 この他にディップ法を用 いることができる。
この後、 散乱層を形成した透明性基板を必要に応じ研磨、 プレス、 透明性平坦 化膜の塗布などの方法によつて平滑化してもよい。
以下、 実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、 これらは例示的なもの であって、 本発明をなんら限定するものではない。
実施例 1
還流管を備えつけた反応フラスコにアルコキシシランとして、 テトラエトキシ シラン 20. 8 gと、 溶媒としてエタノールを 70. 1 gを入れ、 マグネチック ス夕—ラーを用いて攪拌、 混合した。 そこへ、 触媒として蓚酸 0. 1 ^を水9 に溶解したものを添加し混合した。 混合後、 液温は約 10°C発熱した。 そのまま 30分間攪拌を続け、 次いで 76 °Cで 60分間加温し、 その後、 室温まで冷却し て、 固形分濃度が S i 02として 6質量%含まれる溶液を作成した。 この溶液をシ リコン基板に塗布、 焼成し、 屈折率を測定したところ、 1. 32であった。
上記の溶液 10 と、 粒子径 80 nmで S i〇2 として 30質量%のシリカ粒 子 (屈折率は 1. 35) を含有し I PA (イソプロパノール) を分散媒とするシ リカゾル 13. 3 gと、 溶媒としてエタノール 34. 2 g及びプチルセ口ソルプ 57. 5 gをマグネチックスターラーを用いて混合し、 塗布液とした。 この塗布 液の固形分質量比は、 6 40であった。
このようにして得られた塗布液を、 波長 550 nmの透過率が 91 %の厚さ 1. lmmのソーダライムガラス基板上にスピンコ一夕一を用いて成膜し、 80°Cの ホットプレート上で 5分間乾燥させた後、 300°Cのクリンオーブンで 60分間 加熱して、 膜厚約 100 OA (オングストローム) の硬化被膜とした。 そして、 波長 550 nmで分光光度計 (島津製作所製、 W— 160型) により透過率の測 定を行ったところ 94. 8%であった。
同搽の方法によりシリコン基板上に膜厚約 100 OA (オングストローム) の 硬化被膜を作成し、 屈折率の測定を行ったところ 1. 32であった。 屈折率はェ リプソメータ一 ( (株) 溝尻光学工業所製) により測定した。
実施例 2
ポリビニルプチラール 700 gを n—ブ夕ノール 630 gに溶解した後、 メタ ノール 400 g、 水 100 g、 さらに架橋剤としてテトラメトキシシラン 5 gを 添加して均一になるまで撹拌した。 次に、 これに硬化触媒として P—トルエンス ルホン酸 l g、 及び界面活性剤 1 gを添加して撹拌した。 バインダーのみの屈折 率は 1. 40であった。 そして、 粒子径 1 ^mの塩化銀微粒子 (屈折率 2. 09) を分散させた水溶液 (固形分濃度 0. 1質量%) 20 gを添加して、 さらに 1時 間撹拌することによりコート液を作製した。 低圧水銀ランプの紫外線を 1分間照 射して前処理を行ったアクリル製基板に前記コート液をディップコ一ト法により' 引き上げ速度 2 mm/秒にて塗布した。 100° Cで 1 5分間の加熱処理を施す ことにより硬化させて本実施例の散乱層付き透明性基板を作製した。
実施例 3
ビスフエノール A型ポリ力一ポネ一卜樹脂 (粘度平均分子量 4万、 屈折率 1. 65) 240 gと塩化メチレン 60 gとを溶解し混合した。 この混合溶液 80体 積%とアクリル樹脂製微粒子 (綜研化学 (株) 製 数平均粒径: 0. 5 m、 屈 折率 1. 45) 20体積%とを混合し、 超音波により 2時間分散させた。 これを ガラス基板上にスピンコート (840 r pm ; 10秒) し、 オーブンを用いて 1 00°Cで 10分プリべ一ク後、 230°Cで 20分ポストべ一クを行い、 本実施例 の散乱層付き透明性基板を作製した。
実施例 4
上記実施例 1〜 3より得られた散乱層を有する透明性基板、 および散乱層を形 成していない透明性基板を比較例として用いて、 それぞれ有機エレクトロルミネ ッセンス素子を作成した。 それぞれの透明性基板の散乱層の上に、 透明性電極と してスパッ夕法によりインジウムチンオキサイド (I TO) を 1 00 nmの厚み で成膜した。 このときのシ一ト抵抗値は 20 Ω/cm2であった。 この表面にホー ル輸送層材料としては本出願人が先に出願した特願 2000- 341775号に 記載のオリゴァニリン誘導体 (ァニリン 5量体を DMFに溶解させそれに 3倍モ ル当量の 5—スルホサリチルをドーピングしたもの) を 70 nmの厚みで、 発光 層としては N, N, —ビス (1一ナフチル) 一 N, N, ージフエニル— 1, 1, 一ビスフエ二ルー 4, 4, —ジァミン (Q;—NPD) を 50 nmの厚みで、 電子 輸送層としてはトリス (8—ヒドロキシキノリン) アルミニウム (A l q3) を 5 0 nmの厚みで順次形成した。 続いて陰極としてマグネシウム一銀合金を蒸着し 形成した。 このときの陰極の膜厚は 200 nmとした。
このようにして作成した有機エレクト口ルミネッセンス素子の両電極に電圧を 10V印加し、 透明性基板正面からの発光量を測定し、 比較例の測定値を 1とし て実施例 1と実施例 2の透明性基板より作成した素子の測定値と比較した。
結果、 実施例 1の素子では 1. 1、 実施例 2の素子では 1. 5、 実施例 3の素子 では 1. 3となり、 このことから本発明による透明性基板を用いることで従来構 造の有機エレクトロルミネッセンス素子の面発光輝度を大幅に上昇させることを 確認するに至った。 産業上の利用可能性
以上、 詳述したようにこの発明の有機エレクト口ルミネッセンス素子用基板は 量産性に優れ、 かっこの基板を用いて素子を構成することにより、 発光の不均一 性や絶縁破壌等を生じることなく、 光の外部取り出し効率を向上させることがで きる。

Claims

請 求 の 範 囲
1 . 有機エレクト口ルミネッセンス素子用の透明性基板において、 透明性基板の 少なくとも一方の表面上に、 発光素子からの発光に対して反射、 屈折角に乱れを 生じさせる領域を設けたことを特徴とする有機エレクト口ルミネッセンス素子用
2. 反射、 屈折角に乱れを生じさせる領域が、 微粒子とバインダーを含む散乱層 からなり、 かつ微粒子の屈折率とバインダ一の屈折率が異なるものよりなる請求 項 1記載の有機エレクト口ルミネッセンス素子用基板。
3. 微粒子の屈折率をバインダーの屈折率で割った相対屈折率 nが、 0 . 5 < n < 2 . 0を満足する請求項 2に記載の有機エレクト口ルミネッセンス素子用基板。
4 . バインダ一の屈折率が微粒子の屈折率より高い請求項 2又は 3に記載の有機 エレクト口ルミネッセンス素子用基板。
5 . バインダ一の屈折率が微粒子の屈折率より低い請求項 2又は 3に記載の有 機エレクト口ルミネッセンス素子用基板。
6 . 微粒子が、 金属、 無機酸化物、 半導体、 又は有機樹脂からなり、 かつ直径 0 . 0:!〜 1 0; mの粒子である請求項 2〜 5のいずれかに記載の有機エレクトロル 、素子用基板。
7 . バインダーが、 有機高分子または無機ゾルゲル材料である請求項 2〜 6のい ずれかに記載の有機ェレクト口ルミネッセンス素子用基板。
8 . 透明性基板が、 シリカガラス、 ソーダガラス又は有機フィルムである請求項 1〜 7のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用透明性基板。
9 . 請求項 1〜 8のいずれかに記載の有機エレクトロルミネッセンス素子用基板 を有する有機エレクト口ルミネッセンス素子。
PCT/JP2002/009373 2001-09-13 2002-09-12 Substrat transparent utilisant un element electroluminescent organique et element electroluminescent organique Ceased WO2003026357A1 (fr)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2004-7001476A KR20040030888A (ko) 2001-09-13 2002-09-12 유기 일렉트로루미네선스 소자용 투명성 기판 및 유기일렉트로루미네선스 소자
EP02765519A EP1435762A4 (en) 2001-09-13 2002-09-12 TRANSPARENT SUBSTRATE USING ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT
US10/489,111 US20040241421A1 (en) 2001-09-13 2002-09-12 Organic electroluminescent element-use transparent substrate and organic electroluminescence element
JP2003529818A JPWO2003026357A1 (ja) 2001-09-13 2002-09-12 有機エレクトロルミネッセンス素子用透明性基板および有機エレクトロルミネッセンス素子

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001277742 2001-09-13
JP2001-277742 2001-09-13

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2003026357A1 true WO2003026357A1 (fr) 2003-03-27

Family

ID=19102219

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/JP2002/009373 Ceased WO2003026357A1 (fr) 2001-09-13 2002-09-12 Substrat transparent utilisant un element electroluminescent organique et element electroluminescent organique

Country Status (6)

Country Link
US (1) US20040241421A1 (ja)
EP (1) EP1435762A4 (ja)
JP (1) JPWO2003026357A1 (ja)
KR (1) KR20040030888A (ja)
CN (1) CN1554212A (ja)
WO (1) WO2003026357A1 (ja)

Cited By (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004335301A (ja) * 2003-05-08 2004-11-25 Samsung Sdi Co Ltd 有機エレクトロルミネセンス素子用基板の製造方法
JP2004342374A (ja) * 2003-05-13 2004-12-02 Samsung Sdi Co Ltd 有機エレクトロルミネセンス素子用基板、ならびにこれを用いた有機エレクトロルミネセンス素子
JP2004349111A (ja) * 2003-05-22 2004-12-09 Samsung Sdi Co Ltd 有機エレクトロルミネセンス素子
JP2005191219A (ja) * 2003-12-25 2005-07-14 Sanken Electric Co Ltd 半導体発光素子およびその製造方法
WO2006035596A1 (en) * 2004-09-28 2006-04-06 Toshiba Matsushita Display Technology Co., Ltd. Display
JP2006100042A (ja) * 2004-09-28 2006-04-13 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 有機el表示装置
JP2006171228A (ja) * 2004-12-14 2006-06-29 Dainippon Printing Co Ltd 自発光型表示装置用カラーフィルタ
WO2006095632A1 (ja) * 2005-03-11 2006-09-14 Mitsubishi Chemical Corporation エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
JP2006286616A (ja) * 2005-03-11 2006-10-19 Mitsubishi Chemicals Corp エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
KR100638308B1 (ko) 2004-03-03 2006-10-25 가부시키가이샤 히타치 디스프레이즈 발광 소자, 발광형 표시 장치 및 조명 장치
JP2007141728A (ja) * 2005-11-21 2007-06-07 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 両面表示装置
WO2007114256A1 (ja) * 2006-03-31 2007-10-11 Pioneer Corporation 有機エレクトロルミネセンス多色ディスプレイパネル
JPWO2005115740A1 (ja) * 2004-05-26 2008-03-27 日産化学工業株式会社 面発光体
JP2009070816A (ja) * 2007-08-21 2009-04-02 Fujifilm Corp 有機エレクトロルミネッセンス表示装置
WO2009116531A1 (ja) 2008-03-18 2009-09-24 旭硝子株式会社 電子デバイス用基板、有機led素子用積層体及びその製造方法、有機led素子及びその製造方法
US7695757B2 (en) 2003-05-08 2010-04-13 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Method of manufacturing a substrate for organic electroluminescent device
US7722965B2 (en) 2003-12-26 2010-05-25 Nitto Denko Corporation Electroluminescence device, planar light source and display using the same
JP2011082089A (ja) * 2009-10-09 2011-04-21 Konica Minolta Holdings Inc 有機エレクトロルミネッセンス素子、それを用いた照明装置
JP2011513907A (ja) * 2008-02-27 2011-04-28 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 光散乱層を持つ隠れた有機光電子デバイス
WO2011093120A1 (ja) * 2010-01-26 2011-08-04 コニカミノルタホールディングス株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
JP2012022997A (ja) * 2010-07-16 2012-02-02 Jsr Corp 発光素子および粒子含有層形成用組成物
WO2012102243A1 (ja) * 2011-01-24 2012-08-02 株式会社日立製作所 有機発光装置およびこれを用いた光源装置
JP2013518361A (ja) * 2010-01-22 2013-05-20 サン−ゴバン グラス フランス 電極コーティングの下の高屈折率層でコーティングされたガラス基材およびその基材を含む有機発光デバイス
JP2013145695A (ja) * 2012-01-16 2013-07-25 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 光散乱用樹脂組成物、および該光散乱樹脂組成物から形成される光散乱層、および該光散乱層を具備する有機el表示装置または有機el照明装置
WO2014057647A1 (ja) * 2012-10-11 2014-04-17 パナソニック株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
KR20140110927A (ko) 2012-01-10 2014-09-17 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 코팅용 조성물, 다공질막, 광 산란막 및 유기 전계 발광 소자
US9373818B2 (en) 2012-05-30 2016-06-21 Udc Ireland Limited Organic electroluminescent element
JP2016129154A (ja) * 2005-03-10 2016-07-14 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス用樹脂フィルム基板、および有機エレクトロルミネッセンスデバイス
JP2016524304A (ja) * 2013-07-19 2016-08-12 エルジー・ケム・リミテッド 電極積層体および有機発光素子

Families Citing this family (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7455792B2 (en) * 2002-02-20 2008-11-25 Nissan Chemical Industries, Ltd. Organic conductive material and conductive varnish
WO2004089042A1 (ja) * 2003-03-12 2004-10-14 Mitsubishi Chemical Corporation エレクトロルミネッセンス素子
JP2005050708A (ja) * 2003-07-29 2005-02-24 Samsung Sdi Co Ltd 光学素子用基板及び有機エレクトロルミネッセンス素子並びに有機エレクトロルミネッセンス表示装置
WO2005059050A1 (ja) * 2003-12-18 2005-06-30 Nissan Chemical Industries, Ltd. 低屈折率及び撥水性を有する被膜
US20070155897A1 (en) * 2003-12-19 2007-07-05 Nissan Chemical Industries Limited Coating film having low refractive index and large water contact angle
US20070001591A1 (en) * 2005-06-29 2007-01-04 Jun Tanaka Organic electroluminescence display and manufacturing method thereof
TWI280812B (en) * 2005-08-23 2007-05-01 Chunghwa Picture Tubes Ltd Organic electroluminescence device
KR100966367B1 (ko) * 2007-06-15 2010-06-28 삼성엘이디 주식회사 반도체 발광소자 및 그의 제조방법
FR2944147B1 (fr) * 2009-04-02 2011-09-23 Saint Gobain Procede de fabrication d'une structure a surface externe texturee pour dispositif a diode electroluminescente organique et struture a surface externe texturee
DE102009036135A1 (de) * 2009-08-05 2011-02-10 Schott Ag Strukturiertes Substratglas für Lumineszenzdioden und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102009036134A1 (de) * 2009-08-05 2011-02-10 Schott Ag Substratglas für Lumineszenzdioden mit einer Streupartikel enthaltenden Schicht und Verfahren zu dessen Herstellung
US20110062454A1 (en) * 2009-09-11 2011-03-17 Hong Kong Applied Science And Technology Research Institute Co., Ltd. Light emitting device having remotely located light scattering material
KR101296684B1 (ko) 2009-11-18 2013-08-19 한국전자통신연구원 상 분리 현상을 이용한 유기 발광 다이오드 및 그 제조 방법
JP5998124B2 (ja) * 2011-03-31 2016-09-28 旭硝子株式会社 有機led素子、透光性基板、および透光性基板の製造方法
TWI451611B (zh) * 2011-05-19 2014-09-01 Au Optronics Corp 有機發光裝置
US20120305966A1 (en) 2011-05-31 2012-12-06 Electronics And Telecommunications Research Institute Organic light emitting diode and method of fabricating the same
KR101871803B1 (ko) 2011-09-06 2018-06-29 한국전자통신연구원 유기발광다이오드 및 그의 제조방법
DE102012200224A1 (de) * 2012-01-10 2013-07-11 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches bauelement, verfahren zum herstellen eines optoelektronischen bauelements, vorrichtung zum abtrennen eines raumes und möbelstück
KR20130111154A (ko) 2012-03-30 2013-10-10 주식회사 엘지화학 유기전자소자용 기판
TWI489670B (zh) * 2012-11-13 2015-06-21 Ind Tech Res Inst 光取出元件及發光裝置
WO2014097387A1 (ja) 2012-12-18 2014-06-26 パイオニア株式会社 発光装置
CN104051663A (zh) * 2013-03-12 2014-09-17 海洋王照明科技股份有限公司 一种有机电致发光器件及其制备方法
KR102094427B1 (ko) * 2013-08-07 2020-03-30 삼성디스플레이 주식회사 유기 발광 표시 장치
CN103700781A (zh) * 2013-12-25 2014-04-02 京东方科技集团股份有限公司 有机电致发光器件、显示基板和有机电致发光显示器
US10512126B2 (en) * 2016-08-02 2019-12-17 GM Global Technology Operations LLC Treated heated window grid for improved durability in harsh environments

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH118070A (ja) * 1997-06-17 1999-01-12 Casio Comput Co Ltd 表示装置
JPH11329742A (ja) * 1998-05-18 1999-11-30 Idemitsu Kosan Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子および発光装置
JP2000231985A (ja) * 1999-02-12 2000-08-22 Denso Corp 有機el素子

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5747152A (en) * 1993-12-02 1998-05-05 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Transparent functional membrane containing functional ultrafine particles, transparent functional film, and process for producing the same
JP2931211B2 (ja) * 1994-09-13 1999-08-09 出光興産株式会社 有機el装置
TW386609U (en) * 1996-10-15 2000-04-01 Koninkl Philips Electronics Nv Electroluminescent illumination apparatus
JPH10260403A (ja) * 1997-01-20 1998-09-29 Seiko Epson Corp 液晶装置及び電子機器
JP3515401B2 (ja) * 1998-12-18 2004-04-05 大日本印刷株式会社 防眩フィルム、偏光板及び透過型表示装置
GB2367692A (en) * 1999-06-09 2002-04-10 Cambridge Display Tech Ltd Method of producing organic light-emissive devices
KR20010050120A (ko) * 1999-08-25 2001-06-15 고사이 아끼오 광 산란 수지층, 이를 이용한 컬러 필터, 및 액정 표시 장치
US6262479B1 (en) * 1999-10-05 2001-07-17 Pan Pacific Semiconductor Co., Ltd. Semiconductor packaging structure
JP3657869B2 (ja) * 1999-10-29 2005-06-08 株式会社巴川製紙所 低反射部材

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH118070A (ja) * 1997-06-17 1999-01-12 Casio Comput Co Ltd 表示装置
JPH11329742A (ja) * 1998-05-18 1999-11-30 Idemitsu Kosan Co Ltd 有機エレクトロルミネッセンス素子および発光装置
JP2000231985A (ja) * 1999-02-12 2000-08-22 Denso Corp 有機el素子

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See also references of EP1435762A4 *

Cited By (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004335301A (ja) * 2003-05-08 2004-11-25 Samsung Sdi Co Ltd 有機エレクトロルミネセンス素子用基板の製造方法
US7695757B2 (en) 2003-05-08 2010-04-13 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Method of manufacturing a substrate for organic electroluminescent device
JP2004342374A (ja) * 2003-05-13 2004-12-02 Samsung Sdi Co Ltd 有機エレクトロルミネセンス素子用基板、ならびにこれを用いた有機エレクトロルミネセンス素子
JP2004349111A (ja) * 2003-05-22 2004-12-09 Samsung Sdi Co Ltd 有機エレクトロルミネセンス素子
US7619357B2 (en) 2003-05-22 2009-11-17 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Electroluminescent display device
EP1480281A3 (en) * 2003-05-22 2007-08-08 Samsung SDI Co., Ltd. Electroluminescent display device
JP2005191219A (ja) * 2003-12-25 2005-07-14 Sanken Electric Co Ltd 半導体発光素子およびその製造方法
US7722965B2 (en) 2003-12-26 2010-05-25 Nitto Denko Corporation Electroluminescence device, planar light source and display using the same
KR100638308B1 (ko) 2004-03-03 2006-10-25 가부시키가이샤 히타치 디스프레이즈 발광 소자, 발광형 표시 장치 및 조명 장치
JPWO2005115740A1 (ja) * 2004-05-26 2008-03-27 日産化学工業株式会社 面発光体
WO2006035596A1 (en) * 2004-09-28 2006-04-06 Toshiba Matsushita Display Technology Co., Ltd. Display
JP2006100042A (ja) * 2004-09-28 2006-04-13 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 有機el表示装置
JP2006171228A (ja) * 2004-12-14 2006-06-29 Dainippon Printing Co Ltd 自発光型表示装置用カラーフィルタ
JP2016129154A (ja) * 2005-03-10 2016-07-14 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス用樹脂フィルム基板、および有機エレクトロルミネッセンスデバイス
US8125128B2 (en) 2005-03-11 2012-02-28 Mitsubishi Chemical Corporation Electroluminescence element and lighting apparatus
WO2006095632A1 (ja) * 2005-03-11 2006-09-14 Mitsubishi Chemical Corporation エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
JP2006286616A (ja) * 2005-03-11 2006-10-19 Mitsubishi Chemicals Corp エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
JP2007141728A (ja) * 2005-11-21 2007-06-07 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 両面表示装置
WO2007114256A1 (ja) * 2006-03-31 2007-10-11 Pioneer Corporation 有機エレクトロルミネセンス多色ディスプレイパネル
JP2009070816A (ja) * 2007-08-21 2009-04-02 Fujifilm Corp 有機エレクトロルミネッセンス表示装置
JP2011513907A (ja) * 2008-02-27 2011-04-28 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 光散乱層を持つ隠れた有機光電子デバイス
WO2009116531A1 (ja) 2008-03-18 2009-09-24 旭硝子株式会社 電子デバイス用基板、有機led素子用積層体及びその製造方法、有機led素子及びその製造方法
JP2011082089A (ja) * 2009-10-09 2011-04-21 Konica Minolta Holdings Inc 有機エレクトロルミネッセンス素子、それを用いた照明装置
JP2013518361A (ja) * 2010-01-22 2013-05-20 サン−ゴバン グラス フランス 電極コーティングの下の高屈折率層でコーティングされたガラス基材およびその基材を含む有機発光デバイス
US9108881B2 (en) 2010-01-22 2015-08-18 Saint-Gobain Glass France Glass substrate coated with a high-index layer under an electrode coating, and organic light-emitting device comprising such a substrate
WO2011093120A1 (ja) * 2010-01-26 2011-08-04 コニカミノルタホールディングス株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
JP5655795B2 (ja) * 2010-01-26 2015-01-21 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
JP2012022997A (ja) * 2010-07-16 2012-02-02 Jsr Corp 発光素子および粒子含有層形成用組成物
JP2012155868A (ja) * 2011-01-24 2012-08-16 Hitachi Ltd 有機発光装置およびこれを用いた光源装置
WO2012102243A1 (ja) * 2011-01-24 2012-08-02 株式会社日立製作所 有機発光装置およびこれを用いた光源装置
KR20140110927A (ko) 2012-01-10 2014-09-17 미쓰비시 가가꾸 가부시키가이샤 코팅용 조성물, 다공질막, 광 산란막 및 유기 전계 발광 소자
JP2013145695A (ja) * 2012-01-16 2013-07-25 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd 光散乱用樹脂組成物、および該光散乱樹脂組成物から形成される光散乱層、および該光散乱層を具備する有機el表示装置または有機el照明装置
US9373818B2 (en) 2012-05-30 2016-06-21 Udc Ireland Limited Organic electroluminescent element
WO2014057647A1 (ja) * 2012-10-11 2014-04-17 パナソニック株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
JPWO2014057647A1 (ja) * 2012-10-11 2016-08-25 パナソニックIpマネジメント株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
US9620740B2 (en) 2012-10-11 2017-04-11 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Organic electroluminescence element and lighting device
JP2016524304A (ja) * 2013-07-19 2016-08-12 エルジー・ケム・リミテッド 電極積層体および有機発光素子
US10381590B2 (en) 2013-07-19 2019-08-13 Lg Display Co., Ltd. Electrode laminate and organic light emitting device element
US10749132B2 (en) 2013-07-19 2020-08-18 Lg Display Co., Ltd. Electrode laminate and organic light emitting device element

Also Published As

Publication number Publication date
KR20040030888A (ko) 2004-04-09
CN1554212A (zh) 2004-12-08
JPWO2003026357A1 (ja) 2005-01-06
EP1435762A4 (en) 2010-03-24
EP1435762A1 (en) 2004-07-07
US20040241421A1 (en) 2004-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2003026357A1 (fr) Substrat transparent utilisant un element electroluminescent organique et element electroluminescent organique
TWI381029B (zh) Surface luminous body
US11084928B2 (en) Transparent siloxane encapsulant and adhesive
US7834539B2 (en) Extracting light from an electroluminescent layer
CN1832643B (zh) 有机发光设备及其制造方法
TWI417487B (zh) 色彩穩定磷光劑轉換的發光二極體
JP5321010B2 (ja) 有機el素子
JP4186688B2 (ja) エレクトロルミネッセンス素子
KR102148154B1 (ko) 투명 전도성 막 코팅 조성물, 투명 전도성 막 및 투명 전도성 막의 제조 방법
WO2006095632A1 (ja) エレクトロルミネッセンス素子及び照明装置
JP2017138558A (ja) 画像表示装置
CN103155194A (zh) 有机电子器件用衬底及其制造方法
WO2003026356A1 (en) Organic electroluminescence element-use transparent substrate and element
JP2011029099A (ja) 透明導電膜付き基材
CN100463578C (zh) 电致发光元件
US20190047258A1 (en) Transparent electrode and organic electronic device including the same
WO2014158969A1 (en) Organic light emitting diode with light extracting layer
JP2008180852A (ja) 防眩性フィルム
JP6437998B2 (ja) 散乱マトリックス上の真空蒸着屈折率マッチング層を含む光出力結合層スタック(ocls)を有する被覆製品及び装置、及びその製造方法
CN110770644B (zh) 颜色转换膜和包括其的背光单元和显示装置
CN111354868A (zh) 利用发光二极管的发光装置
JP6862814B2 (ja) 量子ドットシートを有するバックライト、及び該バックライトを備えた液晶表示装置
JP6736049B2 (ja) ガラス複合体、それを備えた透明スクリーン、およびそれを備えた映像投影システム
CN1846153A (zh) 漫射结构
CN109155371A (zh) 基板

Legal Events

Date Code Title Description
AK Designated states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AE AG AL AM AT AU AZ BA BB BG BY BZ CA CH CN CO CR CU CZ DE DM DZ EC EE ES FI GB GD GE GH HR HU ID IL IN IS JP KE KG KR KZ LK LR LS LT LU LV MA MD MG MK MW MX MZ NO NZ OM PH PL PT RO SD SE SG SI SK SL TJ TM TN TR TT UA UG US UZ VC VN YU ZA ZM

AL Designated countries for regional patents

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): GH GM KE LS MW MZ SD SL SZ UG ZM ZW AM AZ BY KG KZ RU TJ TM AT BE BG CH CY CZ DK EE ES FI FR GB GR IE IT LU MC PT SE SK TR BF BJ CF CG CI GA GN GQ GW ML MR NE SN TD TG

121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application
DFPE Request for preliminary examination filed prior to expiration of 19th month from priority date (pct application filed before 20040101)
WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 1020047001476

Country of ref document: KR

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2003529818

Country of ref document: JP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 20028176502

Country of ref document: CN

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 2002765519

Country of ref document: EP

WWP Wipo information: published in national office

Ref document number: 2002765519

Country of ref document: EP

WWE Wipo information: entry into national phase

Ref document number: 10489111

Country of ref document: US