WO1999021874A1

WO1999021874A1 - Oligodeoxyribonucleotides containing modified nucleoside and the like

Info

Publication number: WO1999021874A1
Application number: PCT/JP1998/004863
Authority: WO
Inventors: Makoto Koizumi; Masakatsu Kaneko; Toshinori Ohmine; Hidehiko Furukawa; Takashi Nishigaki
Original assignee: Sankyo Co Ltd
Current assignee: Sankyo Co Ltd
Priority date: 1997-10-27
Filing date: 1998-10-27
Publication date: 1999-05-06
Anticipated expiration: 2000-04-27
Also published as: AU9648998A; JPH11199597A

Abstract

Novel modified oligodeoxynucleotides having an excellent activity against human immunodeficiency virus. Specifically, compounds represented by general formula (1) or pharmacologically acceptable salts thereof, wherein B1, B2, and B3 are the same or different and each is A, G, C, T, a, g, c, t, M, X, etc.; m is an integer of 0 to 7; S1 and S2 each represents hydrogen, alkyl, alkoxy, or halogeno; z is an integer of 0 to 9; in the m repetitions of B2, the B2's may be the same or different; a, g, c, and t respectively represent A, G, C, and T each bonded at the 3' end; M represents 2-N-methyl-G; and X represents 2'-methoxy-G.

Description

明細書修飾ヌクレオシド等を含有するオリゴデォキシリボヌクレオチド技術分野本 ¾明は、優れた抗エイズウイルス作用を有する新規な修飾オリゴデォキシリボヌクレオチドに関する。背景技術アンチセンスオリゴデォキシリボヌクレオチドは、特定の遺伝子または mRNA に対して相補的な塩基配列を持つ、およそ 1 5から 3 0量体の合成の核酸またはその誘導体である。これらのアンチセンスオリゴデォキシリボヌクレオチドは、標的遺伝子または mRNA に結合することによつて、遺伝子の転写または翻訳を選択的に抑制するため、この遺伝子から生ずる疾患を治療できることが期待できる。アンチセンスオリゴデォキシリポヌクレオチドが薬剤として機能するためには、該ヌクレオチドが、ヌクレアーゼに対する安定性を有すること、細胞内又は核内へ移行できること、標的遺伝子または mRNA との塩基対形成能があること等が重要である（Uh l mann, E. and Peyman , A. Chem. Rev. , 90, 543 , ( 1990) )。これらのことを満たすために、種々のアンチセンスオリゴデォキシリボヌクレオチドの化学修飾がなされている。例えば、該ヌクレオチドのリン酸ジエステル結合中のリン酸基の 1つの非架橋酸素原子を硫黄原子、メチル基又は置換基を有するアミノ基で置換したリン酸修飾体、該ヌクレオチドをアミド結合を有するペプチド核酸（peptide nucleic acids) 等に変換した修飾体等が報告されている (Uhlmann, E. and Peyman, Λ. Chem. Rev . , 90, 543 - 584，（1990))。 TECHNICAL FIELD The present invention relates to a novel modified oligodeoxyribonucleotide having excellent anti-AIDS virus activity. BACKGROUND ART Antisense oligodeoxyribonucleotides are approximately 15 to 30-mer synthetic nucleic acids or derivatives thereof having a base sequence complementary to a specific gene or mRNA. These antisense oligodeoxyribonucleotides selectively inhibit the transcription or translation of a gene by binding to a target gene or mRNA, so that it can be expected to be able to treat diseases caused by this gene. In order for antisense oligodoxyliponutide to function as a drug, the nucleotide must have nuclease stability, be capable of translocating into the cell or nucleus, and have a salt with the target gene or mRNA. It is important to have a group-pairing ability (Uhlmann, E. and Peyman, A. Chem. Rev., 90, 543, (1990)). In order to meet these requirements, various antisense oligodeoxyribonucleotides have been chemically modified. For example, one non-bridging oxygen atom of a phosphoric acid group in the phosphodiester bond of the nucleotide is replaced with a sulfur atom, a methyl group or a substituted amino group. The modified phosphoric acid modified form and the modified form obtained by converting the nucleotide into peptide nucleic acids having an amide bond and the like have been reported (Uhlmann, E. and Peyman, Λ. Chem. Rev. , 90, 543-584, (1990)).

一方、蛋白質に結合するオリゴデォキシリボヌクレオチドは、ァプタマーと呼ばれ、現在までに、トロンビン、 HIV の表面蛋白である gpl20 等に結合するものが見い出されている。また、近年、ランダムな塩基配列を有する DNA と RT - PCR法を組み合わせた in vitro selection と呼ばれる手法を用いて、蛋白質結合性の核酸の検索も行なわれている (Osborne, S. E. and Ellington, A. D. Chem Rev .， 97, 349-370, (1997))。ところで、アンチセンスオリゴデォキシリボヌクレオチドがその作用を ¾揮するためには、生体内での標的である m R N A等と安定な塩基対を形成しなくてはならず、この塩基対形成のためには、該アンチセンスォリゴデォキシリボヌクレオチドは、少なくとも 1 5ヌクレオチド程度以上の長さを持つことが必要と言われていた。 On the other hand, oligodoxyribonucleotides that bind to proteins are called aptamers, and those that bind to thrombin, gpl20, a surface protein of HIV, etc. have been found to date. In recent years, protein-binding nucleic acids have been searched using a technique called in vitro selection that combines RT-PCR with DNA having a random base sequence (Osborne, SE and Ellington, AD Chem Rev., 97, 349-370, (1997)). By the way, in order for antisense oligodeoxyribonucleotide to exert its effect, it must form a stable base pair with mRNA or the like which is a target in vivo, and this base pair formation For this purpose, it has been said that the antisense oligodeoxyribonucleotide needs to have a length of at least about 15 nucleotides or more.

しかし、一般に、長さが 1 5ヌクレオチド程度以上のものは、合成コストの問題により、その実用化が困難である。また、これらアンチセンスオリゴデォキシリボヌクレオチドによるウィルスの複製または細胞の増殖阻害活性も十分満足するものとはいえず、さらに、リン酸ジエステル結合をリン酸基の 1つの非架橋酸素原子を硫黄原子に置換したホスホロチォエート型オリゴデォキシリボヌクレオチドは、宿主の正常細胞に対する毒性も比較的高い。これらの欠点を克服する目的で、発明者らは、 5'末端及ぴ 3'末端側に種々の置換基を有する短鎖のオリゴデォキシリボヌクレオチドを発明し、該オリゴヌクレオチドが抗 HI V- 1 活性を示すことを開示している（特開平 7— 8 7 9 8 2号）。 However, in general, those having a length of about 15 nucleotides or more are difficult to put into practical use due to a problem of synthesis cost. In addition, the antisense oligodeoxyribonucleotides cannot be said to be sufficiently satisfactory in the activity of inhibiting virus replication or cell growth, and furthermore, a diester phosphate bond forms a non-bridging oxygen atom of one of the phosphate groups. Phosphorothioate oligodeoxyribonucleotides substituted with sulfur atoms have relatively high toxicity to normal host cells. In order to overcome these drawbacks, the inventors have invented short-chain oligodoxyribonucleotides having various substituents at the 5 ′ end and 3 ′ end, It discloses that the oligonucleotide exhibits anti-HIV-1 activity (Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-87982).

¾明の開示本発明者らは，鎖長の短いオリゴデォキシリボヌクレオチドについて、 3 '末端側からの 3 ' -ヌクレアーゼに対する分解を抑制することを考慮し、オリゴデォキシリボヌクレオチド内に 3' , 3' -リン酸ジエテル結合を導入した誘導体、並びに、各種ヌクレアーゼに対する分解を抑制することを考慮し、塩基を含まない疑似ヌクレオチドュニットを含有する誘導体を合成した。 DISCLOSURE OF THE INVENTION The present inventors considered that oligodeoxyribonucleotides having a short chain length suppress degradation of 3'-nuclease from the 3'-terminal side, and have considered oligodeoxyribonucleotides. A derivative having a 3 ', 3'-phosphate diester bond introduced therein and a derivative containing a base-free pseudonucleotide unit were synthesized in consideration of suppressing degradation of various nucleases. .

なお、これらの誘導体は、新規かつ斬新なアイディアに基づいて合成されたものである。 These derivatives were synthesized based on new and novel ideas.

また、オリゴデォキシリボヌクレオチド内のヌクレオシドの塩基部又は糖部を比較的単純な置換基を導入した誘導体も合成した。その結果、これらの修飾オリゴデォキシリボヌクレオチド誘導体は、高い抗 HIV - 1 活性を有し、宿主の正常細胞に対する毒性は低く、かつ、合成も比較的容易で実用性があることを見出し、本発明を完成するに至つた。さらに、化学修飾されたォリゴデォキシリボヌクレオチドを製造するにあたり、 2— N—メチルー 2 '一デォキシグァノシン誘導体が有用な製造中間体であることを見出し、本発明を完成した。本発明の目的は、高い抗 HI V- 1 活性を有するオリゴデォキシリボヌクレオチドを提供すること、エイズ疾患の治療又は予防のための組成物を提供すること及び抗エイズ剤を製造するために該ォリゴデォキシヌクレォチドを使用することである。また、本 ¾明の他の目的は、該オリゴデォキシリボヌクレオチドの薬理的な有効量を温血動物に投与するエイズ疾患の治療方法又は予防方法を提供することである。加えて、本発明の更に他の目的は、修飾オリゴデォキシリボヌクレオチドを合成するための有用な製造中間体である 2— N—メチル一 2 ' — デォキシグアノシン誘導体を提供することである。本発明の新規な修飾ォリゴデォキシリボヌクレオチドは、 In addition, a derivative was also synthesized in which a relatively simple substituent was introduced into the base or sugar moiety of the nucleoside in oligodeoxyribonucleotide. As a result, they have found that these modified oligodeoxyribonucleotide derivatives have high anti-HIV-1 activity, low toxicity to normal host cells, and are relatively easy to synthesize and practical. Thus, the present invention has been completed. Furthermore, they have found that a 2-N-methyl-2′-deoxyguanosine derivative is a useful production intermediate in producing chemically modified oligodeoxyribonucleotides, and completed the present invention. An object of the present invention is to provide an oligodeoxyribonucleic acid having high anti-HIV-1 activity. To provide leotide; to provide a composition for treating or preventing AIDS disease; and to use the oligodoxynucleotide for producing an anti-AIDS agent. Another object of the present invention is to provide a method for treating or preventing AIDS disease, which comprises administering a pharmacologically effective amount of the oligodeoxyribonucleotide to a warm-blooded animal. In addition, still another object of the present invention is to provide a 2-N-methyl-12'-deoxyguanosine derivative which is a useful production intermediate for synthesizing a modified oligodeoxyribonucleotide. That is. The novel modified oligodeoxyribonucleotides of the present invention

一般式 General formula

(1) を有し、また、本発明は、該オリゴデォキシリボヌクレオチドの薬理上許容しうる塩も包含する。一般式（ 1 ) において、 The present invention also includes a pharmacologically acceptable salt of the oligodeoxyribonucleotide having (1). In the general formula (1),

は M， X、 R、 K _n、 A、 G、 Cまたは Τであり、 Β ₂及び Β ₃は、同一または異なって、 a 、 g、 c 、 t 、 M、 X、 R、 K _n、 A、 G、 C または Tであり、 mは 0乃至 7の整数を示し、 zは 0乃至 9の整数を示し、 3 ₁及び3₂は、同一又は異なって、水素原子、炭素数 1乃至 4個のアルキル基、炭素数 1乃至 4個のアルコキシ基又はハロゲン原子を示す。ここで、 B ₂は mの繰り返しにおいてそれぞれ同一または異なっていてもよく、 a、 g、 c、 t、 M、 X、 R、 K_n、 A、 G、 C及び Tは、 The M, X, R, is K _n, A, G, C or T, beta ₂ and beta ₃ are the same or different, a, g, c, t , M, X, R, K n, A , G, C or T, m represents an integer of 0 to 7, and z represents an integer of 0 to 9. And, 3 ₁ and 3 ₂ are the same or different and each represents a hydrogen atom, an alkyl group of 1 to 4 carbon atoms, shows the number of 1-4 alkoxy groups or halogen atoms carbon. Wherein B ₂ may be the same or different at each repetition of m, and a, g, c, t, M, X, R, _Kn , A, G, C and T are

X Κη X Κη

A G C T を示す。 AGCT Is shown.

なお、 K„自体及び K _nを表わす式において、 nは 2乃至 6の整数である。 In the expression representing K „itself and K _n , n is an integer of 2 to 6.

但し、 B ₁ B ₂及び B ₃からなる配列が A、 G、 C及び Tの組み合わせのみからなるもの、並びに、 Β 及び Β ₂からなる配列が A、 G、 C 及び Tの組み合わせからなり、かつ、 B ₃が K ₂であるものを除く。また、本発明は、上記化合物（ 1 ) 又はその薬理上許容しうる塩を含有する、医薬、特にエイズ疾患の治療又は予防のための組成物である。さらに、本発明は、医薬、特に抗エイズ剤を製造するための、上記化合物（ 1 ) 又はその薬理上許容しうる塩の使用である。またさらに、本発明は、上記化合物（ 1 ) 又はその薬理上許容しうる塩の薬理的な有効量を温血動物に投与することを特徴とする、エイズ疾患の治療方法又は予防方法である。上記式（ 1 ) 中、 S ,及び S ₂の炭素数 1乃至 4個のアルキル基としては、例えば、メチル基、ェチル基、プロピル基、イソプロピル基、プチル基、イソブチル基、 s —ブチル基、 tert—ブチル基があげられ、好適には、メチル基である。 However, the sequence consisting of B ₁ B ₂ and B ₃ consists only of the combination of A, G, C and T, and the sequence consisting of Β and Β ₂ consists of the combination of A, G, C and T, And excluding those in which B ₃ is K ₂ . The present invention is also a medicament, particularly a composition for treating or preventing an AIDS disease, comprising the compound (1) or a pharmacologically acceptable salt thereof. Furthermore, the present invention relates to the use of the above compound (1) or a pharmaceutically acceptable salt thereof for producing a medicament, particularly an anti-AIDS agent. Still further, the present invention is a method for treating or preventing AIDS disease, which comprises administering a pharmacologically effective amount of the compound (1) or a pharmacologically acceptable salt thereof to a warm-blooded animal. . In the above formula (1), examples of the alkyl group having 1 to 4 carbon atoms of S and S ₂ include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group and an s-butyl group. And a tert-butyl group, and is preferably a methyl group.

上記式（ 1 ) 中、 S i及び S ₂の炭素数 1乃至 4個のアルコキシ基は、前述の「炭素数 1乃至 4個のアルキル基」が酸素原子に結合した基をいい、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、 s —ブトキシ基、 tert—ブトキシ基があげられ、好適には、メトキシ基である。 In the above formula (1), the alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms of Si and S ₂ is a group in which the aforementioned “alkyl group having 1 to 4 carbon atoms” is bonded to an oxygen atom. Examples include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, an isobutoxy group, an s-butoxy group, and a tert-butoxy group, and a methoxy group is preferable.

上記式（ 1 ) 中、 S i及び S ₂のハロゲン原子としては、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子があげられ、好適には、弗素原子、塩素原子である。 In the above formula (1), the halogen atom of Si and S ₂ is a fluorine atom or a salt. Examples include a fluorine atom, a bromine atom and an iodine atom, and a fluorine atom and a chlorine atom are preferred.

(A) Bい B ₂及び B ₃からなる配列が、 a、 g、 c、 t、 R又は K_n を含む場合には、 If (A) B had consisting B ₂ and B ₃ sequence, comprising a, g, c, t, R or K _n is

は、好適には、 T， R又は Κ_η、さらに好適には、 T， R， K₃または Κ₆であり、最も好適には、 Τ又は Κ₃である。 Is preferably, T, R or kappa _eta, more preferably, the T, R, is K ₃ or the kappa _6, and most preferably a ₃ T or kappa.

Β ₂は、好適には、 A、 G、 g、 M, X又は Κ_βであり、さらに好適には、 G， g又は Mであり、 Beta ₂ is preferably, A, a G, g, M, X or kappa _beta, more preferably, a G, g, or M,

B ₃は、好適には、 G、 g又は Mであり、さらに好適には、 gであり、 mは、好適には、 2乃至 4であり、さらに好適には、 2乃至 3であり、最も好適には、 3であり、 B ₃ is preferably G, g or M, more preferably g, m is preferably 2 to 4, more preferably 2 to 3, most preferably Preferably 3,

zは、好適には、 0乃至 4であり、さらに好適には、 0又は 1であり、最も好適には、 0であり、 z is preferably from 0 to 4, more preferably 0 or 1, most preferably 0,

≤ ₁及び3₂は、好適には、水素原子であり、 ≤ ₁ and 3 ₂ is preferably a hydrogen atom,

B _{1 N} B ₂及び B ₃からなる配列としては、 TGG g g、 TGGG g , K 3 G G G, K₃MMM又は K₃GGGGが好適であり、さらに好適には、 T G G G gである。 The sequence consisting of B _{1 NB} ₂ and B ₃ is preferably TGG gg, TGGG g, K 3 GGG, K ₃ MMM or K ₃ GGGG, and more preferably TGGG g.

(B) B B ₂及び B ₃からなる配列が、 a、 g、 c、 t、 R及ぴ K_n のいずれをも含まない場合には、 If (B) BB ₂ and consisting of B ₃ sequence does not comprise a, g, c, t, any of R及Pi K _n is

！^ は、好適には、 G、 Τ、 Μ又は Xであり、最も好適には、 Τであ <0、 ! ^ Is preferably G, Τ, Μ or X, most preferably Τ and <0,

Β ₂は、好適には、 A， G， M又は Xであり、さらに好適には、 A， G又は Mであり、 Β ₂ is preferably A, G, M or X, more preferably A, G or M;

B ₃は、好適には、 G， M又は Xであり、さらに好適には、 G又は M であり、 B ₃ is preferably G, M or X, more preferably G or M And

mは、好適には、 0乃至 4であり、さらに好適には、 2乃至 4であり、最も好適には、 4であり、 m is preferably from 0 to 4, more preferably from 2 to 4, and most preferably 4.

zは、好適には、 0又は 1であり、さらに好適には、 0であり、 ≤ ₁及び3₂は、好適には、水素原子であり、 z is preferably 0 or 1, and more preferably, 0, ≤ ₁ and 3 ₂ is preferably a hydrogen atom,

Bい B ₂及び B ₃からなる配列中の Aの個数は、 0乃至 1個が好適であり、さらに好適には、 1個であり、 The number of A in the sequence consisting of B or B ₂ and B ₃ is preferably 0 to 1, more preferably 1,

13ぃ B ₂及び B ₃からなる配列としては、 TMMM, TMGGAG, TGMGAG, TGGMAG, TGGGAM、 TMMMAG又は TXX XXが好適であり、さらに好適には、 TMGGAG, TGMGAG, T GGMAG, TGGG AM又は TMMMAGである。本発明において、一般式（ 1 ) を有する化合物として好適なものは以下の化合物である。 13 is a I B ₂ and consisting of B ₃ sequence, TMMM, TMGGAG, TGMGAG, TGGMAG , TGGGAM, a suitable TMMMAG or TXX XX, more preferably, TMGGAG, TGMGAG, T GGMAG, TGGG AM or TMMMAG It is. In the present invention, the following compounds are preferred as compounds having the general formula (1).

( A - 1 ) B が T， R又は K _n ( nは 2乃至 6 ) であり、 B ₂が A， G, g、 M、 X又は K„ ( ηは 2乃至 6) であり、 B ^^G, g又は Mであり、 mが 2乃至 4であり、 zが 0乃至 4である化合物、 (A-1) B is T, R or K _n (n is 2 to 6), B ₂ is A, G, g, M, X or K „(η is 2 to 6), and B ^ ^ G, g or M, m is 2-4 and z is 0-4,

( A— 2 ) B が T， R又は K _n ( nは 3又は 6 ) であり、 B ₂が G、 g 又は Mであり、 B ₃が gであり、 mが 2乃至 3であり、 zが 0又は 1であり、 S i及び S ₂が水素原子である化合物、 (A—2) B is T, R or K _n (n is 3 or 6), B ₂ is G, g or M, B ₃ is g, m is 2 to 3, z Is 0 or 1, and S i and S ₂ are hydrogen atoms.

( A— 3 ) B が T又は K _n ( nは 3又は 6 ) であり、 B ₂が G、 g又は Mであり、 B ₃が gであり、 mが 2乃至 3であり、 z力 0であり、 S 及び S ₂が水素原子である化合物、 (A- 4 ) B B ₂及び B ₃からなる配列が、 TGG g g、 TGGG g, K 3 G G G , K₃MMM又は K₃GGGGである化合物、 (A-3) B is T or K _n (n is 3 or 6), B ₂ is G, g or M, B ₃ is g, m is 2 to 3, and z force 0 Wherein S and S ₂ are hydrogen atoms, (A- 4) BB ₂ and consisting of B ₃ sequence, TGG gg, TGGG g, K 3 GGG, K 3 MMM or K ₃ compound is GGGG,

( A— 5 ) Bい B ₂及び B ₃からなる配列が、 T G G G gであり、 mが 2乃至 3であり、 zが 0であり、 S 及び S ₂が水素原子である化合物、 (A-5) a compound consisting of B or B ₂ and B ₃ is TGGG g, m is 2 to 3, z is 0, and S and S ₂ are hydrogen atoms,

(13— 1 ) B ^ G, T， Μ又は Xであり、 Β ₂が A, G， M又は Xであり、 B ₃が G， M又は Xであり、 mが 0乃至 4であり、 zが 0又は 1 である化合物、 (13-1) B ^ G, T, Μ or X, Β ₂ is A, G, M or X, B ₃ is G, M or X, m is 0 to 4, z Is 0 or 1,

( B— 2 ) B iが Tであり、 B ₂が A , G又は Mであり、 B ₃が G又は M であり、 mが 2乃至 4であり、 zが 0であり、 3₁及ぴ3₂が水素原子であり、 B p B ₂及び B ₃からなる配列中の Aの個数が 0乃至 1個である化合物、 (B- 2) is B i is T, B ₂ is A, G or M, B ₃ is G or M, m is 2 to 4, z is 0, 3 ₁及Pi 3 ₂ is a hydrogen atom, B p B ₂ and the number is 0 to 1 Kodea Ru compound of a in the sequence consisting of B _3,

(B— 3 ) が Tであり、 13₂が， G又は Mであり、 8₃が〇又は1^ であり、 mが 4であり、 zが 0であり、 S ,及び S ₂が水素原子であり、 Bい B ₂及び B ₃からなる配列中の Aの個数が 1個である化合物、 (B- 3) is T, 13 ₂ is a G or M, 8 ₃ a is 〇 or 1 ^, m is 4, z is 0, S, and S ₂ is a hydrogen atom Wherein B is a compound in which the number of A in the sequence consisting of B ₂ and B ₃ is 1,

(B— 4 ) Bい B ₂及び B ₃からなる配列が、 TMMM， TMGGA G, TGMGAG, TGGMAG, TGGGAM、 TMMMAG又は T XX X Xであり、 mが 4であり、 zが 0であり、 3 ₁及ぴ3₂が水素原子である化合物、 (B- 4) B have B ₂ and B ₃ consisting of sequences, TMMM, a TMGGA G, TGMGAG, TGGMAG, TGGGAM , TMMMAG or T XX XX, m is 4, z is 0, 3 ₁ A compound in which ₂ and 3 are hydrogen atoms,

(B— 5 ) B B ₂及び B ₃からなる配列が、 TMGGAG, TGM G AG, TG GMAG, T G G G AM又は T MMM A Gであり、 mが 4 であり、 zが 0であり、 S i及び S ₂が水素原子である化合物。本発明の前記一般式（ 1 ) を有する化合物は、「薬理上許容される塩」の形で使用することができる。そのような塩としては、例えばナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属；カルシウムのようなアル力リ土類金属；アンモニア；リジン、アルギニンのような塩基性ァミノ酸；トリェチルァミンのようなアルキルァミン類；などの無機塩又は有機塩を挙げることができ、好適にはナトリウム、カリウムのようなアルカリ金属塩である。また、一般式（ 1 ) を有する化合物及びその薬理上許容される塩は、その製造工程で溶媒和物を形成したり、保存中に水和物を形成することがあるが、それらの溶媒和物及び水和物も本発明に含まれる。一方、本発明の、ォリゴデォキシリボヌクレオチドを製造するための、有用な製造中間体である、 2— N—メチル— 2 ' —デォキシグアノシン誘導体は、 (B- 5) BB ₂ and consisting of B ₃ sequence, TMGGAG, TGM A compound which is G AG, TG GMAG, TGGG AM or TMMM AG, m is 4, z is 0, and Si and S ₂ are hydrogen atoms. The compound having the general formula (1) of the present invention can be used in the form of a “pharmaceutically acceptable salt”. Examples of such salts include alkali metals such as sodium and potassium; alkaline earth metals such as calcium; ammonia; basic amino acids such as lysine and arginine; and triethylamine. Inorganic salts or organic salts such as a suitable alkylamine; and preferred are alkali metal salts such as sodium and potassium. In addition, the compound having the general formula (1) and a pharmacologically acceptable salt thereof may form a solvate in the production process or a hydrate during storage. And hydrates are also included in the present invention. On the other hand, the 2-N-methyl-2′-deoxyguanosine derivative, which is a useful production intermediate for producing oligodoxyribonucleotide of the present invention, comprises:

一般式 General formula

(2) を有する。 —般式（2 ) において、は、水素原子、 4一モノメトキシトリチル基又は 4， 4 ' —ジメトキシトリチル基を示し、 R ₂は、水素原子、式一 P (0CH₂CH₂CN) N (CH (CH₃) ₂) ₂又は式- P (0CH₃) N (CH (CH₃) ,) ₂を示す。上記式（2 ) において、は、好適には、 4一モノメトキシトリチル基又は 4 , 4 ' ージメトキシトリチル基であり、さらに好適には、 4， 4 ' ージメトキシトリチル基であり、 R ₂は、好適には、式 (2). —In the general formula (2), represents a hydrogen atom, a 4-monomethoxytrityl group or a 4,4′-dimethoxytrityl group, R ₂ is a hydrogen atom, and a formula P (0CH ₂ CH ₂ CN) N ( CH (CH ₃ ) ₂ ) ₂ or formula -P (0CH ₃ ) N (CH (CH ₃ ),) ₂ is shown. In the above formula (2), is preferably a 4-monomethoxytrityl group or a 4,4′-dimethoxytrityl group, more preferably a 4,4′-dimethoxytrityl group, and R ₂ is preferably Contains the expression

- P (0CH₂CH₂CN) N (CH (CH₃) ₂) ₂又は式 - (0CH₃) N (CH (CH₃) ₂) ₂であり、さらに好適には、式- P (0CH₂CH₂CN) N (CH (CH₃) ₂) ₂である。本発明の一般式（1 ) を有する化合物としては、例えば、表 1に記载するものを挙げることができるが、本発明はこれらの化合物に限定されるものではない。 _{_{- P (0CH 2 CH 2 CN}} ) N (CH (CH 3) 2) 2 or the formula _{- (0CH 3) N (CH} (CH 3) 2) _2, and more favorable suitable formula - P (0CH ₂ CH ₂ CN) N (CH (CH ₃ ) ₂ ) ₂ . Examples of the compound having the general formula (1) of the present invention include those listed in Table 1, but the present invention is not limited to these compounds.

(表 1 ) (table 1 )

化合物 z Bl B2 B3 Compound z Bl B2 B3

1 3 0 T g g g g 1 3 0 T g g g g

2 3 0 T G g g g 2 3 0 T G g g g

3 3 0 T G G g g -3 -3 。 3 3 0 TGG gg -3 -3.

to to

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O o o o o o o O oooooo

e- e-

0 0 0 丄 τ ε 0 0 0 丄 τ ε

ΰ 0 D 丄 τ ε 90 ΐ O D D 丄 τ ε SOT ΰ 0 D 丄 τ ε 90 ΐ O D D 丄 τ ε SOT

3 D 0 0 丄 τ ε Οΐ 3 3 0 0 丄 τ £ COT S 3 S 0 丄？; ζ ΖΟΙ 3 3 3 3 丄 ζ £ ΐΟΙ 3 0 3 0 0 3 I ΟΟΐ 3 3 0 0 3 0 I t- 66 S 3 3 0 0 3 τ ί' 86 3 3 3 3 o 0 ΐ \ L6 a 3 3 3 3 ο ι 96 3 D 0 0 丄 τ ε Οΐ 3 3 0 0 丄 τ £ COT S 3 S 0 丄? ; ζ ΖΟΙ 3 3 3 3 丄 ζ £ ΐΟΙ 3 0 3 0 0 3 I ΟΟΐ 3 3 0 0 3 0 It t- 66 S 3 3 0 0 3 τ ί '86 3 3 3 3 o 0 ΐ \ L6 a 3 3 3 3 ο ι 96

0 0 0 3 T 96 0 0 0 3 T 96

0 0 0 3 Τ £ 0 0 0 3 Τ £

0 0 D 3 ΐ ε C6 0 0 D 3 ΐ ε C6

3 0 D 0 0 1 ε 26 3 3 0 0 0 ΐ ε ΐ6 3 3 3 0 3 ΐ e 06 3 3 3 3 3 ΐ ε 683 0 D 0 0 1 ε 26 3 3 0 0 0 ΐ ε ΐ 6 3 3 3 0 3 ΐ e 06 3 3 3 3 3 ΐ ε 68

1 0 0 0 0 0 0 0 丄 ΐ L 88 ^ * 0 0 0 0 0 0 丄 ΐ ί Ζ8 丄 ΐ L 98 ΐ 0 0 0 0 0 0 丄 I 9 S8 ΐ 1 0 0 O D 0 丄 ΐ 9 ϊ ϊ 1 0 D D 0 丄 ΐ 9 £S1 0 0 0 0 0 0 0 丄 ΐ L 88 ^ * 0 0 0 0 0 0 丄 ΐ ί Ζ 丄丄 ΐ L 98 ΐ 0 0 0 0 0 0 丄 I 9 S8 ΐ 1 0 0 OD 0 丄 ΐ 9 ϊ ϊ 1 0 DD 0 丄 ΐ 9 £ S

1 0 0 0 0 0 丄 ί S 1 0 0 0 0 0 丄 ί S

£98^0/86Jf/XDd ^81Ζ/66 OAV 3 D 0 0 1 8 c εετ a 0 Ό 0 Ό 丄 L ζζ\£ 98 ^ 0 / 86Jf / XDd ^ 81Ζ / 66 OAV 3 D 0 0 1 8 c εετ a 0 Ό 0 Ό 丄 L ζζ \

3 0 0 0 丄ん ε l£l 3 0 0 0 0 丄 9 οετ 3 0 0 0 丄 9 6Ζ\ 3 D Ό D 0 丄 S szi 3 0 0 0 丄 S ε ίζ 8 0 0 0 D 丄 92Τ 3 ΰ 0 0 丄 ' ε 9ΖΪ 3 0 0 0 0 丄 ε WA 3 3 0 0 0 丄 ε £ΖΙ 3 0 0 0 丄 ε l £ l 3 0 0 0 0 丄 9 οετ 3 0 0 0 丄 9 6Ζ \ 3 D Ό D 0 丄 S szi 3 0 0 0 丄 S ε ίζ 8 0 0 0 D 丄 92Τ 3 ΰ 0 0 丄 'ε 9ΖΪ 3 0 0 0 0 丄 ε WA 3 3 0 0 0 丄 ε £ ΖΙ

3 3 0 ΰ 丄 ε ζζι 3 3 0 ΰ 丄 ε ζζι

3 3 3 0 丄 ε ιζι

0 0 0 丄 c C 6ΐΐ 0 0 0 丄 c C 6ΐΐ

0 0 0 丄 ε C 8ΐΐ0 0 0 丄 ε C 8ΐΐ

0 0 丄 ε ε Ζ,Π0 0 丄 ε ε Ζ, Π

0 0 0 丄 ε G 9Π 3 0 D 丄 ε c 9Π 3 3 Ό 丄 ε ε Ηΐ 3 3 3 丄 ε ε επ0 0 0 ε ε G 9 Π 3 0 D 丄 ε c 9 Π 3 3 Ό 丄 ε Ηΐ Ηΐ 3 3 3 丄 ε ε επ

0 0 0 D 丄 ζ ζιι0 0 0 D 丄 ζ ζιι

3 D 0 0 丄 τ Πΐ 3 3 0 0 丄 τ οπ3 D 0 0 丄 τ Πΐ 3 3 0 0 τ τ οπ

3 3 3 0 丄 ζ ν 6013 3 3 0 丄 ζ ν 601

3 3 3 3 丄 ζ 80ΐ 3 3 3 3 丄 ζ 80ΐ

9 I e98f0/86df/13d 81 66 ΟΛΑ 9 I e98f0 / 86df / 13d 81 66 ΟΛΑ

s s: ss:

t— ¹ t— · o o o o t— ¹ t— · oooo

o O o O

-3 -3 -3 -3 -3 -3 -3 -3

3 Three

ST S 3 ST S 3

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0 Vi Vi 0 ■ I 0 ε £9Ζ 0 Vi Vi 0 ■ I 0 ε £ 9Ζ

Vi Ό Vi n o ε 292 0 Vi Ό Vi 0 e Τ92 D 0 IN W n o 093 Vi D 0 0 ) I 0 ε 692 D W 0 0 0 ε 892 0 0 W 0 n o ε L9Z 0 0 0 W t)l 0 ε 992 0 0 0 0 I 0 S 2 Vi Ό Vi no ε 292 0 Vi Ό Vi 0 e Τ 92 D 0 IN W no 093 Vi D 0 0) I 0 ε 692 DW 0 0 0 ε 892 0 0 W 0 no ε L9Z 0 0 0 W t) l 0 ε 992 0 0 0 0 I 0 S 2

W W W ε¾ o ε W W W ε¾ o ε

Vi Vi Vi D ε>ι o ε Vi Vi Vi D ε> ι o ε

Vi W O W o ε Vi W O W o ε

Vi 0 W W oi o c Ι9Ζ 0 W W ε>ι o ε 09^ N W 9 0 n o ε 6^Ζ n 0 W 0 C o ε 8U o W W 0 ε)ι o ε 1 Ζ Vi 0 W W oi o c Ι9Ζ 0 W W ε> ι o ε 09 ^ N W 9 0 n o ε 6 ^ Ζ n 0 W 0 C o ε 8U o W W 0 ε) ι o ε 1 Ζ

0 0 w SM o ε o w o w 0 {： 0 0 w SM o ε o w o w 0 0:

o 0 w w ε>ι o ε o 0 w w ε> ι o ε

Vi 0 0 0 ε>ι o ε Vi 0 0 0 ε> ι o ε

D w o o οι o ί; Ζ Ζ 0 0 W 0 εχ o ε IVZ 0 0 0 w ε)ι o OVZ D w o o οι o ί; Ζ Ζ 0 0 W 0 εχ o ε IVZ 0 0 0 w ε) ι o OVZ

0 0 0 ε>ι ο G

0 0 0 ε> ι ο G

I Ζ I Ζ

C98IO/86df/lDd 1 66 OM 3 0 4 G G Μ 3 0 K4 G G Μ 3 0 Κ4 Μ Μ G 3 0 1(4 Μ G Μ 3 0 Κ4 Μ G Μ Μ 3 0 1(4 G Μ Μ 3 0 4 Μ Μ Μ 3 0 5 G G G G 3 0 Κ5 Μ G G G 3 0 5 G G G 3 0 Κ5 G G Μ G 3 0 Κ5 G G G Μ 3 0 Κ5 Μ Μ G G 3 0 Κ5 Μ G Μ G 3 0 Κ5 Μ G G Μ 3 0 5 G Μ G 3 0 5 G Μ G Μ 3 0 Κ5 G G Μ Μ 3 0 Κ5 Μ Μ G 3 0 Κ5 Μ Μ G Μ 3 0 Κ5 Μ G Μ C98IO / 86df / lDd 1 66 OM 3 0 4 GG Μ 3 0 K4 GG Μ 3 0 Κ4 Μ Μ G 3 0 1 (4 Μ G Μ 3 0 Κ4 Μ G Μ Μ 3 0 1 (4 G Μ Μ 3 0 4 Μ Μ Μ 3 0 5 GGGG 3 0 Κ5 Μ GGG 3 0 5 GGG 3 0 Κ5 GG Μ G 3 0 Κ5 GGG Μ 3 0 Κ5 Μ ΜGG 3 0 Κ5 Μ G Μ G 3 0 Κ5 Μ GG Μ 3 0 5 G Μ G 3 0 5 G Μ G Μ 3 0 Κ5 GG Μ Μ 3 0 Κ5 Μ Μ G 3 0 Κ5 Μ Μ G Μ 3 0 Κ5 Μ G Μ

3 0 Κ5 G Μ Μ Μ 3 0 Κ5 Μ Μ Μ 3 0 Κ6 G G G G 3 0 Κ6 Μ G G G 3 0 Κ6 G Μ G G w V w 0 Vi 丄 0 9ΐε 3 0 Κ5 G Μ Μ Μ 3 0 Κ5 Μ Μ Μ 3 0 Κ6 GGGG 3 0 Κ6 Μ GGG 3 0 Κ6 G Μ GG w V w 0 Vi 丄 0 9ΐε

Vi V 0 w w 丄 0 ίΊε 0 v n w n 丄 0 ειε w V w Ό 0 丄 0 ζιε n V 0 W 0 丄 0 ηε o V Vi n o 丄 0 οιε Vi V 0 w w 丄 0 ίΊε 0 v n w n 丄 0 ειε w V w Ό 0 丄 0 ζιε n V 0 W 0 丄 0 ηε o V Vi n o 丄 0 οιε

Vi V 0 丄 0 6οε 0 V Vi 0 w 丄 0 8οε 0 V 0 w w 丄 0 ζοε w V D D D 丄 0 9οεVi V 0 丄 0 6οε 0 V Vi 0 w 丄 0 8οε 0 V 0 w w 丄 0 ζοε w V D D D 丄 0 9οε

0 v n 0 0 丄 0 V 0 v n 0 0 丄 0 V

V 0 W 0 丄 0 t- 0 V 0 0 w 1 0 εοε

w W 0 9)1 0 τοε n 0 w 9)1 0 £ οοε n 0 w w 9)1 0 ε 66Ζ w W 0 9) 1 0 τοε n 0 w 9) 1 0 £ οοε n 0 w w 9) 1 0 ε 66Ζ

0 w 9)1 0 £ mz w w 0 0 9)1 0 ΐ, L6Z w W 0 9)1 0 ε 9620 w 9) 1 0 £ mz w w 0 0 9) 1 0 ΐ, L6Z w W 0 9) 1 0 ε 962

0 w n o 9)1 0 ε S6S HI D W 9)1 0 C ί'βΖ w 0 w 9)1 0 C 0 w n o 9) 1 0 ε S6S HI D W 9) 1 0 C ί'βΖ w 0 w 9) 1 0 C

0 D M W 9» 0 C w 0 0 0 9)1 0 ε 0 D MW 9 »0 C w 0 0 0 9) 1 0 ε

0 0 0 9 0 ε 06Ζ 0 0 0 9 0 ε 06Ζ

e98tO/86dT/13d /66 OAV 一 e98tO / 86dT / 13d / 66 OAV one

u u

<: < < · <: <<·

s s 0 s s s 0 s

s o つ s c s o tsu s c

o Ξ s c ^ o Ξ sc ^

0 V 3 9 W f I 0 Z9E 0 V 3 9 W f I 0 Z9E

3 V 0 0 0 0 99ε Vi V Vi w w C 0 99ε W V W W 0 εχ o 3 V 0 0 0 0 99ε Vi V Vi w w C 0 99ε W V W W 0 εχ o

Vi V W 0 w Ol 0 9£ Vi V W 0 w Ol 0 9 £

V 0 C)l 0 29CV 0 C) l 0 29C

0 V W w w U 0 19ε Vi V Vi 0 0 ex 0 09C Vi V 0 W 0 C 0 69ε 0 V IM W 0 CM 0 89ε Vi V 0 0 w ε>ι o 0 V W w w U 0 19ε Vi V Vi 0 0 ex 0 09C Vi V 0 W 0 C 0 69ε 0 V IM W 0 CM 0 89ε Vi V 0 0 w ε> ι o

0 V W 0 w ε» o 99ε 0 V 0 w w ε» o 99ε Vi V 0 0 0 C 0 ί^ε 0 V W 0 0 C 0 0 V W 0 w ε »o 99ε 0 V 0 ww ε» o 99ε Vi V 0 0 0 C 0 ί ^ ε 0 V W 0 0 C 0

0 V 0 W 0 G 0 0 V 0 W 0 G 0

0 V 0 9 W ε>ι o 0 V 0 9 W ε> ι o

0 V 0 0 0 I 0 09ε IAI V w W IAI Z)\ 0 6 ε Vi v n W 0 2)! 0 8V£ n V w 0 w 2)1 0 i n V 0 Z)\ 0 0 V 0 0 0 I 0 09ε IAI V w W IAI Z) \ 0 6 ε Vi v n W 0 2)! 0 8V £ n V w 0 w 2) 1 0 in V 0 Z) \ 0

o v n W N Z 0 o v n W N Z 0

n v w 0 0 2) 1 0 n v w 0 0 2) 1 0

IN V 0 W 0 3) 1 0 IN V 0 W 0 3) 1 0

o V w W 0 2)1 0 o V w W 0 2) 1 0

9 Z 9 Z

£98tO/86df/XDd

£ 98tO / 86df / XDd

≡ s Ξ C s o ≡ s Ξ C s o

COCO

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s D S C s o o s D S C s o o

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ε98一 ε98 one

CM CM

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O S S o s s ζ. O S S o s s ζ.

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IN 2)1 W w w C)l 0 S IN 2) 1 W w w C) l 0 S

W n o Z{ 0 W n o Z {0

n Z n 0 w C 0 n Z n 0 w C 0

n Z{ D CM 0 n Z {D CM 0

o w w Z 0 \\\ o w w Z 0 \\\

0 0 C)l 0 f 0 n 2)1 0 HI 0 S 0 0 0 C) l 0 f 0 n 2) 1 0 HI 0 S 0

Ό 2M W W 0 εΐ o set Vi Z)l 0 0 Vi C)I 0 LZV 0 Z)l Vi 0 w { 0 Ό 2M W W 0 εΐ o set Vi Z) l 0 0 Vi C) I 0 LZV 0 Z) l Vi 0 w {0

0 Zl 0 w w C)I 0 0 Zl 0 ww C) I 0

IN Z)i D 0 0 ε>ι o n 0 Z\ Ά 0 0 C 0 IN Z) i D 0 0 ε> ι o n 0 Z \ Ά 0 0 C 0

ΰ Z\ 0 W 0 o ΰ Z \ 0 W 0 o

0 0 0 w ε>ι o 0 0 0 w ε> ι o

0 2)1 0 D 0 C)I 0 0 2) 1 0 D 0 C) I 0

Vi Z)I W Vi w 丄 0 621^ Vi Z\ Vi W 0 丄 0 Vi Z) I W Vi w 丄 0 621 ^ Vi Z \ Vi W 0 丄 0

w zi w D W 丄 0 LZf w Z)I 0 w w 丄 0 9 w zi w D W 丄 0 LZf w Z) I 0 w w 丄 0 9

0 丄 0 9Z Vi z» w 0 0 丄 0 H W Z 0 n o 丄 0 zzv 0 2>I W W 0 丄 0 zzv w S)I 0 0 w 丄 0 0 丄 0 9Z Vi z »w 0 0 丄 0 H W Z 0 n o 丄 0 zzv 0 2> I W W 0 丄 0 zzv w S) I 0 0 w 丄 0

0 2)1 W 0 w 丄 0 V 0 2) 1 W 0 w 丄 0 V

8 Z 8 Z

e98fO/86df/XDd 8 /66 OAV 0 D W I 1 W 丄 0 V \ 1 e98fO / 86df / XDd 8/66 OAV 0 DWI 1 W 丄 0 V \ 1

0 3 W 0 0 丄 0 0 0 3 W 0 0 丄 0 0

0 0 W W W ε>ι o 690 0 W W W ε> ι o 69

D 0 0 0 0 ε>ι ο \> D 0 0 0 0 ε> ι ο \>

D 0 w w w 丄 ο D 0 w w w 丄 ο

D 0 W ΰ 0 丄 ο 99^ D 0 W ΰ 0 丄 ο 99 ^

0 y w w w ε>ι ο 0 y w w w ε> ι ο

0 a o o o ε>ι ο 0 a o o o ε> ι ο

0 a w w w 1 0 Z9f 0 a w w w 1 0 Z9f

0 y w o o 丄 0 290 y w o o 丄 0 29

0 9 W W W ε>ι ο 190 9 W W W ε> ι ο 19

0 9)1 0 0 0 ε>ι ο V 090 9) 1 0 0 0 ε> ι ο V 09

D 9)1 W W W 丄 ο 6D 9) 1 W W W 丄 ο 6

0 9)1 W 0 0 丄 ο ' 85Ϊ-0 9) 1 W 0 0 丄 ο '85Ϊ-

0 S>I w w w l o 0 S> I w w w l o

0 9)1 0 0 0 ε>ι o 99' 0 9) 1 0 0 0 ε> ι o 99 '

0 5)1 W W W 丄 ο 0 5) 1 W W W 丄 ο

9>I W 9 0 丄 0 9> I W 9 0 丄 0

0 f \ n n n ε ο 0 f \ n n n ε ο

0 ) 1 w w w 丄 ο 1 ST' 0) 1 w w w ο ο 1 ST '

0 ^)1 M 0 5 丄 0 09^0 ^) 1 M 0 5 丄 0 09 ^

0 C W W W ε>ι ο 6V\>0 C W W W ε> ι ο 6V \>

0 C D 0 9 ε>ι ο V 0 C D 0 9 ε> ι ο V

0 ε¾ w w w 丄 ο in 0 ε¾ w w w ο ο in

0 CM W 0 0 丄 0 9V 0 CM W 0 0 丄 0 9V

6 Z 6 Z

£98*O/86df/lDd 8 /66 OM £98i6 Oζ/66ιAV £ 98 * O / 86df / lDd 8/66 OM £ 98i6 Oζ / 66ιAV

υ υ

CO CO

E_ S E_ S

s s s s s s

c- c-

0 X 9 0 J, 0 GZ9 0 X 9 0 J, 0 GZ9

0 X 0 丄 0 £ 229 0 0 0 X J, 0 c IZS 0 2)1 W w w C)l 6 ' 029 ϋ Z)I w w w 8 619 0 X 0 丄 0 £ 229 0 0 0 X J, 0 c IZS 0 2) 1 W w w C) l 6 '029 ϋ Z) I w w w 8 619

0 2)1 W w w CM L 8ΐ9 0 z i w w n C 9 Αΐ9 0 2)1 W n n C>I S 9Τ9 0 2)1 0 0 0 Z)\ S 915 0 D 0 0 C 9 ε 0 2) 1 W ww CM L 8ΐ9 0 z i w w n C 9 Αΐ9 0 2) 1 W n n C> I S 9Τ9 0 2) 1 0 0 0 Z) \ S 915 0 D 0 0 C 9 ε

w w w S 9 ζ £1 w w w S 9 ζ £ 1

0 V w 丄 S 2ΐ9 0 v n 0 0 丄 S Π9 w 丄 9 ζ 0ΐ90 V w 丄 S 2ΐ9 0 v n 0 0 丄 S Π9 w 丄 9 ζ 0ΐ9

0 n n 60S0 n n 60S

0 2)1 0 0 0 80S 0 0 0 0 ε>ι Α09 w ε)ΐ t ζ 909 0 2) 1 0 0 0 80S 0 0 0 0 ε> ι Α09 w ε) ΐ t 909 909

v n w w 丄 ' 909 v n w w 丄 '909

0 v w 0 0 丄 t ΙΌ9 w Vi Vi 丄 ζ C090 v w 0 0 丄 t ΙΌ9 w Vi Vi 丄 ζ C09

0 n n ε>ι c Z0S 0 0 0 D 109 0 0 0 0 005 w n n οι ε ζ 66 ^0 n n ε> ι c Z0S 0 0 0 D 109 0 0 0 0 005 w n n οι ε ζ 66 ^

0 V w Vi W 丄 ε 0 V w Vi W 丄 ε

I ε e98tO/86df/13d ^,8ΙΖ/66 OAV o o o I ε e98tO / 86df / 13d ^, 8ΙΖ / 66 OAV ooo

550 3 0 C G X X X 550 3 0 C G X X X

551 3 0 C X X X 551 3 0 C X X X

552 3 1 T X X X 552 3 1 T X X X

553 3 2 T X X X 553 3 2 T X X X

554 3 3 T X X X 554 3 3 T X X X

555 3 4 T X X 555 3 4 T X X

556 3 5 Ϊ X X X X 556 3 5 Ϊ X X X X

557 3 1 C X 557 3 1 C X

558 3 2 C X X 558 3 2 C X X

559 3 3 C X X 559 3 3 C X X

560 3 4 C X X X 560 3 4 C X X X

561 3 5 C X X 561 3 5 C X X

上記例示化合物のうち、好適な化合物としては、 3、 4、 1 4 3 , 1 6 0 , 1 6 7、 2 3 9、 3 0 3、 3 0 4、 3 0 5、 3 0 6、 3 1 3、 5 3 5の化合物をあげることができ、 Among the above-exemplified compounds, preferred compounds include 3, 4, 143, 160, 167, 239, 303, 304, 305, 306, 3 1 3 and 5 3 5 compounds,

さらに、好適な化合物としては、 4、 3 0 3、 3 0 4、 3 0 5、 3 0 6、 3 1 3の化合物をあげることができる。本発明の一般式（ 2) を有する化合物としては、表 2に記載する化合物を挙げることができる。なお、表中、 4, 4' - DMTは 4, 4'-ジメトキシトリチル基、 4 -匪 Tは 4 -モノメトキシトリチル基を示す。 (表 2) Further, examples of suitable compounds include compounds of 4,303,304,305,306,313. Examples of the compound having the general formula (2) of the present invention include the compounds described in Table 2. In the table, 4,4'-DMT indicates 4,4'-dimethoxytrityl group, and 4-band T indicates 4-monomethoxytrityl group. (Table 2)

(2) (2)

化合物 Compound

2-1 H H 2-1 H H

2-2 H P(0CH2CH2CN)N(iPr)2 2-2 HP (0CH2CH2CN) N (iPr) 2

2-3 H P(0CH3)N(iPr)2 2-3 H P (0CH3) N (iPr) 2

2-4 4, 4' -DMT H 2-4 4, 4 '-DMT H

2-5 4, 4' -DMT P(OCH2CH2CN)N(iPr)2 2-5 4, 4 '-DMT P (OCH2CH2CN) N (iPr) 2

2-6 4, 4' -DMT P(0CH3)N(iPr)2 2-6 4, 4 '-DMT P (0CH3) N (iPr) 2

2-7 4-M T H 2-7 4-M T H

2-8 4-MMT P(OCH2CH2CN)N(iPr)2 2-8 4-MMT P (OCH2CH2CN) N (iPr) 2

2-9 4-MMT P(0CH3)N(iPr)2 上記例示化合物のうち、好適な化合物としては、 2— 4から 2— 9の化合物をあげることができる。 2-9 4-MMT P (0CH3) N (iPr) 2 Among the above-exemplified compounds, suitable compounds include compounds 2-4 to 2-9.

さらに、好適な化合物としては、 Further, suitable compounds include

2 -シァノェチル =2— N—メチノレ— 6—0-ジフエ二ルカルバミノレ— 2'—デォキシ- 5'- 0- (4, 4'-ジメトキシトリチル）グアノシン- 3' - 0-ィルー N, N - ジィソプロピルホスホロアミダイト（例示番号 2— 5 )、メチル =2 - N -メチル -6 - 0-ジフヱ二ルカルバミル- 2' -デォキシ- 5' - 0 - (4, 4' -ジメトキシトリチル）グアノシン- 3' - 0 -ィルー Ν,Ν-ジイソプロピルホスホロアミダイト（例示番号 2— 6)、 '2-Cyanethyl = 2—N-Methylenol—6-0-Diphenylcarbaminole—2′—Doxy-5′-0- (4,4′-Dimethoxytrityl) Guanosine-3′-0-ylu N, N- Disopropyl phosphoramidite (Example number 2-5), Methyl = 2-N-methyl-6-0-diphenylcarbamyl-2'-dexoxy-5'-0- (4,4'-Dimethoxy) Trityl) guanosine-3'-0-yl Ν, Ν-diisopropylpropyl phosphoramidite (Example number 2-6), '

2-シァノェチル =2- Ν-メチル- 6-0-ジフエ二ルカルバミル- 2' -デォキシ- 5' - 0- (4-モノメトキシトリチル）グアノシン - 3' - 0 -ィル一 Ν, Ν -ジィソプロピルホスホロアミダイト（例示番号 2— 8 ) 及び 2-cyanoethyl = 2-Ν-methyl-6-0-diphenylcarbamyl-2'-doxy-5'-0- (4-monomethoxytrityl) guanosine -3'-0-yl-1Ν, Ν -Diisopropyl propyl phosphoramidite (Example number 2-8) and

メチノレ =2— Ν—メチノレ— 6—0—ジフェ二ノレカノレノくミノレ— 2'—デォキシ— 5'— 0— (4-モノメトキシトリチル）グアノシン - 3' -0 -ィル一 Ν, Ν -ジイソプロピルホスホロアミダイト（例示番号 2— 9 ) の化合物をあげることができる。 Methinole = 2— Ν—Methinole— 6—0—Dipheninorecanoreno kuminore— 2′—Deoxy—5′—0— (4-Monomethoxytrityl) Guanosine-3 '-0 -yl-1 Ν, Ν- Compounds of diisopropyl phosphoramidite (exemplification number 2-9) can be mentioned.

最も好適な化合物としては、 2— 5の化合物をあげることができる。本発明の一般式（ 1 ) の化合物は、まず、下記 Β— 1 、 Β— 2、 Β 一 3、 Β— 4又は Β— 5法により製造される化合物（ 5 )、（ 6 )、（ 7 )、 The most preferred compounds include 2-5 compounds. First, the compounds of the general formula (1) of the present invention are prepared by the following methods (1), (2), (1), (3), (4) or (5), (6), (7) ),

( 8 ) 若しくは（9 ) 又は DN Α合成機上で、通常使用される市販の DN A合成用ヌクレオチド試薬（以下、ヌクレオチドュ-ットという）を原料として用いて下記 C法により製造される化合物（ 1 0 a )、（ 1 O b ) 又は（ 1 0 c ) の脱ジメトキシトリチル（ D M T ) 化した化合物と、下記 A— 1 、 A— 2法又は A— 3法により製造される化合物（ 3 ) 又は（4 ) とを、下記 D— l 、 D— 2、 D— 3、 D— 4、 D_ 5又は D— 6法により、結合することにより製造することができる。 (8) or (9) or a compound prepared by the following method C on a DNΑ synthesizer using a commercially available nucleotide reagent for DNA synthesis (hereinafter referred to as “nucleotide”) as a raw material. (10a), (1Ob) or (10c) de-dimethyloxytrityl (DMT) compound and a compound (A) prepared by the following A-1, A-2 or A-3 method ( 3) or (4) can be produced by bonding by the following D-I, D-2, D-3, D-4, D_5 or D-6 method.

また、本明の一般式（ 2 ) の化合物は、 B— 5法により、製造することができる。 A 去 Further, the compound of the general formula (2) of the present invention can be produced by the B-5 method. A left

A— 2法

A—2 method

(3) (3)

A— 3法 8 A—3 law 8

(4-3) B- 1法 (4-3) B-1 method

D' D'D 'D'

HOつ第 1 1工程 0"jノ 0、 HO 1st process 0 "j no 0,

HO (3-1) H0 (5-1) 第 1 2工程 HO (3-1) H0 (5-1) Step 1 2

)

L.-P、 (5-4) 第 1 4工程 L.-P, (5-4) Step 14

U U

U、 D- YP-0-i 、 U, D-YP-0-i,

V V

A₂0 (5) B— 2法 A ₂ 0 (5) B—2 method

D' D '

HO-i . D' HO-i. D '

第 1 5工程 Αιθηノ O, Step 15 5ιθη ノ O,

HO (3-1) HO (3-1)

AiO (6-1) 第 1 6工程 AiO (6-1) Step 16

B-3法 B-3 method

υ υ

?ρ、 , ? ρ,,

V V

H0-(CH₂)_n-0H H0- (CH ₂ ) _n -0H

8 (4-1) 第 1 8工程 8 (4-1) Step 18

Β-4法 Β-4 method

HO-i 0、 ΑιΟ_Ί/0 し- P、 (5-4) ΑιΟ_Ί /0、 HO-i 0, ΑιΟ _{Ί /} 0, -P, (5-4) ΑιΟ _Ί / 0,

U U

HO 第 20工程 HO Step 20

HO 第 2 1工程 HO 2nd step

(8-1) (8-2) B— 5法 (8-1) (8-2) B—5 method

c法

c method

(5-4) (5-4)

HOCH₂CH₂OH DMT-OCH₂CH₂OH DMT-OCH₂CH₂-0-P: HOCH ₂ CH ₂ OH DMT-OCH ₂ CH ₂ OH DMT-OCH ₂ CH ₂ -0-P:

(10-1) 第 28工程 (10-1) Step 28

(10-2) 第 29工程 (10-3) 第 30工程 (10-2) 29th step (10-3) 30th step

DMT-OCH₂CH₂OOCCH₂CH₂COOH (10-4) 第 31工程 ΝΗ₂' (CPG) (10-5) DMT-OCH ₂ CH ₂ OOCCH ₂ CH ₂ COOH (10-4) Step 31 ΝΗ ₂ '(CPG) (10-5)

DMT-OCH₂CH₂OOCCH₂CH₂CONH^^ <' CPG DMT-OCH ₂ CH ₂ OOCCH ₂ CH ₂ CONH ^^ <'CPG

(10-6) (10-6)

第 32工程 32nd step

DMT-O-iB^m-Ba'-W, -. HOCH₂CH₂OOCCH₂CH₂CONH ^-^ CPG^ DMT-O-iB ^ m-Ba'-W,-. HOCH ₂ CH ₂ OOCCH ₂ CH ₂ CONH ^-^ CPG ^

(10a) 第 33工程 (^H-W,) (10-7) (10a) Step 33 (^ H-W,) (10-7)

第 34工程 (10-3) Step 34 (10-3)

O O

D T-OCH₂CH20-P-OCH2CH₂OOCCH2CH₂CO H^^'^C^ ^' D T-OCH ₂ CH20-P-OCH2CH ₂ OOCCH2CH ₂ CO H ^^ ' ^C ^ ^'

V (10-8) V (10-8)

第 35工程 Step 35

O O

DMT- B₂')_m-B₃'-W₂ HOCH₂CH20-P-OCH2CH₂OOCCH2CH2CO H-^^-⁽^P§^ 第 36工程 I DMT- B ₂ ') _m -B ₃ ' -W ₂ HOCH ₂ CH20-P-OCH2CH ₂ OOCCH2CH2CO H-^^- ⁽ ^ P§ ^ Step 36 I

( = H-W₃) (10-10) (= HW ₃ ) (10-10)

(1) (1)

D— 3法 D—3 method

(1) (1)

D— 4法 D—4 method

(14) (14)

(1) (1)

5法 5 law

(4) 0、 0 第 47工程が 0-(CH₂)_n-0 -P-0- V (4) 0, 0 The 47th step is 0- (CH ₂ ) _n -0 -P-0- V

(15) (15)

: XT

: XT

(1) (1)

(4) (Four)

第 49工程 Step 49

(16) (16)

上記 A— 1、 A— 2、 A— 3、 B— 1、 B— 2、 B— 3、 B _ 4、 B — 5、 C、 D— 1、 D— 2、 D— 3、 D— 4、 D— 5及び D— 6法中、Above A-1, A-2, A-3, B-1, B-2, B-3, B-4, B-5, C, D-1, D-2, D-3, D-4 , D-5 and D-6 methods,

Bい B ₂、 B ₃、 K n、 m、 n、 z、 Sい S ₂、及び R₂は、前述のものと同意義を示し、 B i B ₂ , B ₃ , K n, m, n, z, S i S ₂ , and R ₂ are as defined above,

は、一般にヌクレオシドの一級の水酸基を特異的に保護するために使用されるトリチル基（T r )、 4一モノメトキシトリチル（MMT) 基、 4， 4 ' —ジメトキシトリチル（DMT) 基等を示し、 Are trityl (Tr), 4-monomethoxytrityl (MMT), and 4,4'-dimethoxytrityl (DMT), which are generally used to specifically protect the primary hydroxyl groups of nucleosides. ,

A₂は、三級ブチルジメチルシリル（TB DMS) 基やトリイソプロビルシリノレ（ T I P S ) 基のような 3置換シリル基；トリクロロェトキシカルボニル（T r o c ) 基のようなトリハロゲノエトキシカルボニル基；ベンジルォキシカルボ-ル（Z) 基のようなァラルキルォキシカルボニル基等を示し、 A ₂ is a tri-substituted silyl group such as a tertiary butyldimethylsilyl (TB DMS) group or a triisopropylsilinole (TIPS) group; a trihalogenoethoxycarbonyl group such as a trichloroethoxycarbonyl (Troc) group; -Represents an aralkyloxycarbonyl group such as a (Z) group,

A₃は、一般に水酸基を保護するために用いられるテトライソプロピルジシロキサン（T I P D S) 基のようなアルキルジシロキサン基等を示し、 A ₃ represents an alkyldisiloxane group such as a tetraisopropyldisiloxane (TIPDS) group generally used for protecting a hydroxyl group,

D' は、水素原子、チミン、又はアミノ基がァシル基（例えば、ァセチル基）で保護されたアデェン、グァニン若しくはシトシンを示し； D 'represents hydrogen, thymine, or adene, guanine or cytosine in which the amino group is protected by an acetyl group (eg, an acetyl group);

H a 1 は、ハロゲン原子（好適には、塩素又は臭素原子）を示し、H a 1 represents a halogen atom (preferably a chlorine or bromine atom),

Vは、リン酸部分の保護基（特に、メトキシ基等の低級アルキルォキシ基、シァノエチルォキシ基等のシァノアルキルォキシ基、第 4 1又は 4 7工程においては、特にオルトクロロフエノキシ基）を示し、 V is a protecting group for the phosphoric acid moiety (particularly, a lower alkyloxy group such as a methoxy group, a cyanoalkyloxy group such as a cyanoethyloxy group, and in the step 41 or 47, in particular, orthochlorophenyl). Enoxy group)

Uは、アミダイト部分のアミノ基（特に、ジメチルァミノ基、ジイソプロピルァミノ基等のジアルキルァミノ基；モルホリノ基等の 1又は 2 個の酸素原子及び Z又は窒素原子を環内に有する複素環基）を示し、 P hは、フエ二ル基を示し、 U is an amino group of an amidite portion (particularly, a dialkylamino group such as a dimethylamino group or a diisopropylamino group; a heterocyclic group having one or two oxygen atoms and a Z or nitrogen atom in a ring such as a morpholino group) And Ph represents a phenyl group,

DMTは、 4， 4 ' ージメトキシトリチル基を示し、 Β ₂' 及ぴ Β ₃' は、それぞれ、前述の Β ₂及び Β ₃のァミノ基及びリン酸基部分が保護基で保護されたものを示し、 DMT represents a 4,4 'dimethoxytrityl group, Β ₂ ′ and Β ₃ ′ respectively represent those in which the amino and phosphoric acid groups of the above Β ₂ and Β ₃ are protected by a protecting group,

W,、 W₂及び W₃は、それぞれ、 C法により得られる化合物（ 1 0— 7 )、（ 1 0— 9 ) 及び（ 1 0— 1 0) において末端の水酸基の水素原子を含まない部分を示す。 W, W ₂ and W ₃ are the portions of the compounds (10-7), (10-9) and (10-10) obtained by the method C which do not contain the hydrogen atom of the terminal hydroxyl group, respectively. Is shown.

A— 1及び A— 2法は、化合物（3— 1 ) の 5'位の水酸基のみを、置換基を有していてもよい 3, 4-ジベンジルォキシベンジル基で修飾し、化合物（3 ) を製造.する方法であり、また、 A— 3法は、化合物（4— 1 ) の一方の水酸基のみを置換基を有していてもよい 3, 4-ジベンジルォキシベンジル基で修飾して化合物（4 ) を製造する方法である。 In the methods A-1 and A-2, only the hydroxyl group at the 5'-position of the compound (3-1) is modified with an optionally substituted 3,4-dibenzyloxybenzyl group, and the compound (3-1) In the method A-3, only one of the hydroxyl groups of the compound (4-1) is modified with an optionally substituted 3,4-dibenzyloxybenzyl group. This is a method for producing the compound (4).

B— 1、 B— 2、 B— 3、 B— 4及び B— 5法は、 C法で用いる化合物（5 )、（6)、（7)、 (8) 又は（9) を製造する方法である。 Methods B-1, B-2, B-3, B-4 and B-5 produce compounds (5), (6), (7), (8) or (9) used in Method C Is the way.

C法は、ジオール化合物（ 1 0— 1 ) の一方の水酸基を DMT化して得られる化合物（ 1 0— 2) の水酸基にァミダイト化試薬（ 5— 4 ) を反応し、化合物（ 1 0— 3 ) を得る方法であり、また、前述の化合物（ 1 0— 2) を、 B— 3の方法と同様に、ジカルボン酸を介して、 C P Gと結合し、 C PG担体（ 1 0— 6) を得、さらに、 DMT基を除去して得られる C P G担体（ 1 0— 7) を原料として、 DNA合成機上、前述のヌクレオチドユエットを用いて、通常の方法で、順次ヌクレオチドを伸長し、所望のオリゴヌクレオチドより 1つ少ないオリゴヌクレオチド前まで結合させた化合物（ 1 0 a ) を製造する方法であり、またさらに、 D N A合成機上、 C P G担体（ 1 0— 7 ) に、化合物（ 1 0— 3 ) を反応し、次いで、脱メチル化し、所望により、これらの 2工程を繰り返して、得られる化合物（ 1 0— 9) 等を原料として、ヌクレオチドュニットを用いて、通常の方法で、順次ヌクレオチドを伸長し、所望のオリゴヌクレオチドょり 1つ少ないオリゴヌクレオチド前まで結合した化合物 ( 1 0 b ) 又は（ 1 0 c ) を製造する方法である。 In the method C, the amidating reagent (5-4) is reacted with the hydroxyl group of the compound (10-2) obtained by converting one hydroxyl group of the diol compound (10-1) to DMT, and the compound (10-1) is reacted. — 3), and the compound (10-2) described above is bonded to CPG via a dicarboxylic acid in the same manner as in the method B-3 to form a CPG carrier (10-6) ), And using the CPG carrier (10-7) obtained by removing the DMT group as a raw material, using a nucleotide synthesizer as described above, and sequentially using the nucleotide unit described above, in the usual manner, This is a method for producing a compound (10a) in which the compound (10a) has been extended to the position before the oligonucleotide by one less than the desired oligonucleotide, and further, a CPG carrier (10-7) is prepared on a DNA synthesizer. Then, the compound (10-3) was reacted, followed by demethylation, and, if desired, these two processes. Repeat Using the resulting compound (10-9), etc. as a raw material, nucleotides were sequentially extended in a usual manner using a nucleotide unit, and the desired oligonucleotide was linked to the next oligonucleotide by one less. This is a method for producing the compound (10b) or (10c).

D— 1及び D— 4法は、化合物（3 ) 又は（4 ) に、亜リン酸化剤を反応して、調製した 3 ' —亜リン酸誘導体（ 1 1 ) 又は（ 1 4) と、 C 法で合成した化合物（ 1 0 a ) 、 ( 1 0 b ) 又は（ 1 0 c ) の D M T基を除去した対応化合物とを、それぞれ、 DN Α合成機上で縮合し、次いで、酸化し、さらに、 C P Gとの結合を切断し、最後に、保護基を除去して、本発明の化合物（ 1 ) を製造する方法である。 In the methods D-1 and D-4, the compound (3) or (4) is reacted with a phosphating agent to prepare a 3′-phosphorous acid derivative (11) or (14), and Of the compound (10a), (10b) or (10c) from which the DMT group has been removed, respectively, are condensed on a DNΑsynthesizer, and then oxidized. The method further comprises cleaving the bond with CPG and, finally, removing the protecting group to produce the compound (1) of the present invention.

D— 2及び D— 5法は、化合物（3 ) 又は（4 ) に、リン酸化剤を反応して調製した 3 ' —リン酸誘導体（ 1 2) 又は（ 1 5) と、 C法で合成した化合物（ 1 0 a；) 、 ( 1 0 b ) 又は（ 1 0 c ) の DMT基を除去した対応化合物とを、それぞれ、 DN A合成機上で縮合し、 C P Gとの結合を切断し、最後に、保護基を除去して、本発明の化合物（ 1 ) を製造する方法である。 The D-2 and D-5 methods are based on the 3'-phosphate derivative (12) or (15) prepared by reacting a compound (3) or (4) with a phosphorylating agent, and the method C The synthesized compound (10a;), (10b) or the corresponding compound from which (10c) from which the DMT group has been removed is condensed on a DNA synthesizer to break the bond with CPG. And finally, a method for producing the compound (1) of the present invention by removing the protecting group.

D— 3及び D— 6法は、化合物（3 ) 又は（4 ) の 3 ' 位にホスホン酸基を導入した化合物（ 1 3 ) 又は（ 1 6) と、 C法で合成した化合物 ( 1 0 a ) 、（ 1 0 b ) 又は（ 1 0 c ) の DMT基を除去した対応化合物とを、それぞれ、縮合し、次いで、酸化して、リン酸ジエステル結合を形成し、さらに、 C P Gとの結合を切断し、最後に、保護基を除去して、本発明の化合物（ 1 ) を得る方法である。以下に、 A— 1法乃至 D— 6法における各工程につき詳しく説明する。なお、同様にして行うことができる工程については、最先の工程を代表として説明する。 The D-3 and D-6 methods are based on the compound (13) or (16) in which a phosphonic acid group is introduced at the 3 ′ position of the compound (3) or (4), and the compound (10) synthesized by the method C. a), (10b) or the corresponding compound from which (10c) the DMT group has been removed, respectively, is condensed and then oxidized to form a phosphodiester bond, and In this method, the bond is cleaved, and finally, the protecting group is removed to obtain the compound (1) of the present invention. Hereinafter, each step in the methods A-1 to D-6 will be described in detail. Steps that can be performed in the same manner will be described with the earliest step as a representative.

(第 1 、 8、 1 1 、 1 8、 2 0、 2 6、 2 8工程） (1st, 8th, 11th, 18th, 20th, 26th, 28th steps)

本工程は、不活性溶剤中、化合物（3— 1 ) 等 <但し、塩基部分が A、 G、 Cの場合は、存在するァミノ基のァシル化保護工程を前段階に含む。該保護工程は、公知の方法（ J. Am. Chem. Soc . , 104, 1316，（1982) )により容易に実施することができる。 This step includes, in an inert solvent, the step of protecting the existing amino group for acylation in the case where the base moiety is A, G or C in the presence of the compound (3-1) or the like. The protection step can be easily carried out by a known method (J. Am. Chem. Soc., 104, 1316, (1982)).

ァミノ基の保護基としては、一般に、低級脂肪族ァシル又は芳香族ァシルが用いられる。 As the protecting group for the amino group, a lower aliphatic acyl or an aromatic acyl is generally used.

使用される低級脂肪族ァシルとしては、例えば、ホルミル、ァセチル、プロピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノィル、ビバロイル、バレリル、イソバレリル基などがあげられ、使用される芳香族ァシルとしては、例えば、ベンゾィル、 4—ァセトキシベンゾィル、 4—メトキシベンゾィル、 4 一メチルベンゾィル、 1 —ナフトイルなどがあげられ、好適には、塩基部分が A又は Cの場合はベンゾィル基、 Gの場合はイソプチリル基である。〉に、水酸基の保護化試薬を反応し、選択的に 5 ' 位の水酸基のみを保護した化合物（3— 2 ) 等を製造する工程である。使用される溶剤としては、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ口ホルム、四塩化炭素、ジクロロェタン、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジェチルのようなエステル類；ジェチルエーテル、ジイソプ口ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシェタン、ジェチレングリコーノレジメチルエーテルのようなエーテル類；ァセトン、メチノレエチノレケトン、メチルイソブチノレケトン、イソホロン、シクロへキサノンのようなケトン類；二トロェタン、二トロベンゼンのような二ト口化合物類；ァセトニトリル、ィソブチ口 - トリルのようなエトリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド（D M F ) 、ジメチルァセトァミド、へキサメチルホスホロトリアミドのようなァミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類；トリメチルァミン、トリェチルァミン、 N—メチルモルホリン等の脂肪族三級ァミン類；ピリジン、ピコリンのような芳香族ァミンなどがあげられ、さらに好適には、ハロゲン化炭化水素類（特にメチレンクロリド）、アミド類（特に D M F ) である。 Examples of the lower aliphatic acyl used include formyl, acetyl, propionyl, butyryl, isobutyryl, pentanoyl, bivaloyl, valeryl, and isovaleryl groups.Examples of the aromatic acyl used include, for example, Benzyl, 4-acetoxybenzoyl, 4-methoxybenzoyl, 4-methylbenzoyl, 1-naphthyl and the like are preferred. A benzoyl group when the base moiety is A or C, and an isobutyryl group when G is G It is. <3> is a step of reacting a hydroxyl-protecting reagent to selectively produce a compound (3-2) or the like in which only the 5′-hydroxyl group is protected. The solvent used is preferably an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene or xylene; methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, cyclobenzene, dichlorobenzene or the like. Halogenated hydrocarbons; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and getyl carbonate; getyl ether, diisopyl pill ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethyloxetane, and dimethylene glycol Ethers such as dimethyl ether; acetone, Ketones such as methinoolethinoroketone, methylisobutinoleketone, isophorone and cyclohexanone; two-mouth compounds such as nitrotroethane and nitrobenzene; acetonitrile, isobuchi mouth-tolyl Such ethrils; amides such as formamide, dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide, and hexamethyl phosphorotriamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane; Aliphatic tertiary amines such as methylamine, triethylamine and N-methylmorpholine; aromatic amines such as pyridine and picoline; and more preferably, halogenated hydrocarbons (particularly methylene chloride). ) And amides (especially DMF).

使用される保護化試薬としては、 5 ' 位のみを選択的に保護でき、酸性、中性の条件下、除去できるものであれば、特に制限はないが、好適には、トリチルクロリド、モノメトキシトリチルク口リド、ジメトキシトリチルクロリドのようなトリァリ一ルメチルハライド類である。 The protecting reagent to be used is not particularly limited as long as it can selectively protect only the 5′-position and can be removed under acidic and neutral conditions. These are trimethyl halides such as lid, monomethoxytrityl chloride, and dimethoxytrityl chloride.

保護化試薬としてトリアリールメチルハライド類を用いる場合には、通常、塩基を用いる。 When a triarylmethyl halide is used as a protecting reagent, a base is usually used.

その場合において、使用される塩基としては、ピリジン、ジメチルァミノピリジン、ピロリジノピリジン等の複素環ァミン類、トリメチルァミン、トリェチルァミン等の脂肪族三級ァミン類があげられ、好適には、ピリジン、ジメチルァミノピリジン、ピロリジノピリジンである。 In this case, examples of the base used include heterocyclic amines such as pyridine, dimethylaminopyridine and pyrrolidinopyridine, and aliphatic tertiary amines such as trimethylamine and triethylamine. Preferred are pyridine, dimethylamino pyridine and pyrrolidino pyridine.

溶剤として、液状の塩基を用いる場合には、該塩基自体が脱酸剤として働くので、改めて塩基を加える必要はない。 When a liquid base is used as the solvent, the base itself acts as a deoxidizing agent, so that it is not necessary to add a base again.

反応温度は、使用される原料、試薬、溶剤などにより通常 0乃至 1 5 0 °Cであり、好適には 2 0乃至 1 0 0 °Cである。また、反応時間は使用される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常 1乃至 1 0 0時間であり、好適には、 2乃至 2 4時間である。反応終了後、反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえば、ベンゼン、エーテル、酢酸ェチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって、目的物（ 3— 2 ) 等は得られ、通常、そのまま次のェ程に用いる。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製することもできる。 The reaction temperature is usually from 0 to 150 ° C, preferably from 20 to 100 ° C, depending on the starting materials, reagents, solvents and the like used. The reaction time varies depending on the starting material, solvent, reaction temperature and the like to be used, but is usually 1 to 100 hours, preferably 2 to 24 hours. After completion of the reaction, the reaction solution is poured into water, extracted with a water-immiscible solvent, for example, benzene, ether, ethyl acetate, etc., and the solvent is distilled off from the extract to obtain the desired compound (3-2). And so on, and usually used in the next step as it is. If desired, it can be isolated and purified by various chromatography or recrystallization methods.

(第 2、 1 2工程） (Steps 2 and 12)

本工程は、不活性溶剤中、化合物（3— 2 ) 等に水酸基の保護化試薬を反応して、化合物（3— 3 ) 等を製造する工程である。 This step is a step of producing a compound (3-3) or the like by reacting a compound for protecting a hydroxyl group with the compound (3-2) or the like in an inert solvent.

使用される溶剤としては、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ口ホルム、四塩化炭素、ジクロロェタン、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼンのようなノヽロゲン化炭化水素類；蟻酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジェチルのようなエステル類；ジェチルエーテル、ジイソプ口ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコ一ルジメチルエーテルのようなエーテル類；ァセトン、メチノレエチノレケトン、メチノレイソプチノレケトン、イソホロン、シクロへキサノンのようなケトン類；二トロェタン、二ト口ベンゼンのような二トロ化合物類；ァセトエトリル、ィソブチロニトリルのような二トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド、へキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類があげられ、. さらに好適には、ヱ一テル類（特に、テトラヒドロフラン）、ハロゲン化炭化水素類（特に、塩化メチレン）、芳香族炭化水素類（特に、トルエン）、アミド類 (特に、ジメチルホルムアミド）があげられる。 As the solvent to be used, preferably, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; methylene chloride, carbon form, carbon tetrachloride, dichloroethane, carbon benzene and dichlorobenzene such as dichlorobenzene are preferably used. Hydrocarbons; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and getyl carbonate; getyl ether, diisopyl propyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol dimethyl ether Ethers such as acetone; ketones such as aceton, methinoolethinoleketone, methinolay soptino oketone, isophorone, cyclohexanone; and nitro compounds such as nitrotroethane, nitrobenzene; Toe Toril, Isobuchilo Nitritols such as nitril; amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide and hexamethylphosphorotriamide; and sulfoxides such as dimethylsulfoxide and sulfolane. More preferably, polyesters (particularly, tetrahydrofuran), halogenated hydrocarbons (particularly, methylene chloride), aromatic hydrocarbons (particularly, toluene), amides (particularly, Dimethylformamide).

使用される保護化試薬としては、通常、 5 ' 位の保護基と区別して脱保護できるものであれば、特に制限はないが、好適には、 t 一プチルジメチルシリルク口リドあるいはトリイソプロビルシリルクロリドのようなシリルハライド類、トリクロロェトキシカルボユルクロリドのようなハロアルコキシカルボニルハライド類、ベンジルォキシカルボエルク P リドのようなァラルキルォキシカルボニルハライド類があげられる。保護化試薬として、シリルハライド類、ハロアルコキシカルボニルハライド類ゃァラルキルォキシカルボニルハライド類を用いる場合には、通常、塩基を用いる。 The protecting reagent used is usually removed separately from the protecting group at the 5'-position. There is no particular limitation as long as it can be protected, but preferably, silyl halides such as t-butyldimethylsilyl chloride or triisopropylsilyl chloride, or haloalkoxys such as trichloroethoxycarbyl chloride. Examples include carbonyl halides and aralkyloxycarbonyl halides such as benzyloxycarboerk P-lide. When a silyl halide, a haloalkoxycarbonyl halide, or a dialkyloxycarbonyl halide is used as the protecting reagent, a base is usually used.

その場合において、使用される塩基としては、好適には、有機塩基類 (特にトリェチルァミン、ピリジン、 N—メチルモルホリン、 D B U及びイミダゾ一ルなど）である。 In this case, the base to be used is preferably an organic base (especially triethylamine, pyridine, N-methylmorpholine, DBU and imidazole).

反応温度は、使用される試薬、原料、溶剤などにより通常— 2 0乃至 1 5 0 °Cであり、好適には、 — 1 0乃至 5 0 °Cである。また、反応時間は使用される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常 1乃至 1 0 0時間であり、好適には、 1乃至 2 4時間である。 The reaction temperature is usually from −20 to 150 ° C., and preferably from −10 to 50 ° C., depending on the reagent, raw material, solvent and the like used. The reaction time varies depending on the starting material, solvent, reaction temperature and the like to be used, but is usually 1 to 100 hours, preferably 1 to 24 hours.

反応終了後、たとえば、反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢酸ェチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって、目的物（3— 3 ) 等は得られ、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製することもできる。 After completion of the reaction, for example, the reaction solution is poured into water, extracted with a water-immiscible solvent such as benzene, ether, ethyl acetate, and the like. ) Etc. are usually obtained and used for the next step. If desired, it can be isolated and purified by various chromatography or recrystallization methods.

(第 3、 1 0、 1 3、 3 2、 3 5工程） (3rd, 10th, 13th, 32nd, 35th steps)

本工程は、不活性溶剤中、化合物（3— 3 ) 等に脱保護化試薬を反応させて、 5 ' 位の水酸基の保護基を選択的に除去して、化合物（3— 4 ) 等を製造する工程である。 In this step, the compound (3-4) is reacted with a deprotection reagent in an inert solvent to selectively remove the protecting group for the 5′-hydroxyl group. This is the manufacturing process.

使用される溶剤としては、反応を阻害しなければ、特に限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ口ホルム、四塩化炭素、ジクロロェタン、クロ口ベンゼン、ジクロ口ベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジェチルのようなエステル類；ジェチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒド口フラン、ジォキサン、ジメトキシェタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；メタノール、エタノール、 _n-プロパノール、イソプロパノール、 n -ブタノール、イソブタノール、 t-ブタノ —ノレ、イソアミノレァノレコ一ノレ、ジエチレングリコーノレ、グリセリン、ォクタノーノレ、シクロへキサノール、メチノレセロソルプ、のようなァノレコ —ル類；アセトン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、ィソホロン、シクロへキサノンのようなケトン類；ニトロェタン、エトロベンゼンのような二トロ化合物類；ァセトニトリル、ィソプチロニトリルのような- トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチノレァセトアミド、へキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類があげられ、さらに好適には、アルコール類（特にメタノール、エタノール）や塩化メチレン及び脱保護化試薬として酢酸を用いる場合は酢酸と水の混液があげられる。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. Preferably, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, cyclobenzene, and dichloromethane; formic acid Esters such as tyl, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and getyl carbonate; ethers such as getyl ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran, furan, dioxane, dimethyloxetane, and diethylene glycol dimethyl ether; methanol, ethanol, _n- propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, isoaminoethanol, diethyleneglycone, glycerin, o-ctananol, cyclohexanol, methinoreserosol Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone and cyclohexanone; nitro compounds such as nitroethane and etrobenzene; acetonitrile; -Tolyls, such as tolyl and isoptyronitrile; amides, such as formamide, dimethylformamide, dimethylethanolamide, hexamethylphosphorotriamide; and sulfoxides, such as dimethylsulfoxide and sulfolane. More preferably, a mixture of acetic acid and water is used when alcohols (particularly, methanol and ethanol), methylene chloride, and acetic acid are used as the deprotecting reagent.

使用される脱保護化試薬としては、通常用いられるものであれば、特に制限はないが、保護基がトリァリ一ルメチル基の場合には、例えば酢酸、ジク口口酢酸、トリフルォロ酢酸、塩酸、及ぴ臭化亜鉛のようなルイス酸があげられ、好適には酢酸、ジクロロ酢酸、トリフルォロ酢酸である。 The deprotecting reagent to be used is not particularly limited as long as it is a commonly used deprotecting reagent. When the protecting group is a triarylmethyl group, for example, acetic acid, acetic acid at the mouth of the mouth, trifluoroacetic acid , Hydrochloric acid, and Lewis acids such as zinc bromide, and acetic acid, dichloroacetic acid, and trifluoroacetic acid are preferred.

反応温度は、使用される試薬、原料、溶剤などにより異なるが、通常一 1 0乃至 1 0 0 °Cであり、好適には 0乃至 5 0 °Cである。反応時間は使用される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常 1分間乃至 5 0時間であり、好適には、 1分間乃至 2 4時間である。 The reaction temperature varies depending on the used reagents, raw materials, solvents and the like, but is usually from 110 to 100 ° C, preferably from 0 to 50 ° C. The reaction time is Although it varies depending on the starting material, solvent, reaction temperature and the like used, it is usually 1 minute to 50 hours, preferably 1 minute to 24 hours.

反応終了後、たとえば、反応液をピリジン等の塩基を用いて中和し、水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢酸チルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって、目的物（3 一 4 ) は得られ、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製することもできる。 After completion of the reaction, for example, the reaction solution is neutralized with a base such as pyridine, poured into water, and extracted with a water-immiscible solvent such as benzene, ether, or butyl acetate, and the solvent is distilled off from the extract. As a result, the desired product (314) is obtained, and usually used as it is in the next step. If desired, it can be isolated and purified by various chromatography or recrystallization methods.

なお、第 3 2及び 3 5工程においては、目的物（ 1 0— 7 ) 及び（ 1 0— 9 ) は濾取することができ、メチレンクロリドのような有機溶剤で洗浄後、そのまま、次の工程に用いる。 In Steps 32 and 35, the desired compounds (10-7) and (10-9) can be collected by filtration, washed with an organic solvent such as methylene chloride, and then subjected to the next step. Used in the step.

(第 4、 6、 7、 9工程） (Steps 4, 6, 7, 9)

本工程は、不活性溶剤中、塩基の存在下、化合物（3— 4 ) 等に、化合物（3— 5 ) を反応させ、化合物（3— 6 ) 等を製造する工程である。使用される溶剤としては、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ口ホルム、四塩化炭素、ジ、クロ口ェタン、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼンのようなノヽロゲン化炭化水素類；蟻酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジェチルのようなエステル類；ジェチルェ—テル、ジイソプ口ピノレエーテノレ、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルエーテルのようなエーテル類；ァセトン、メチノレエチノレケトン、メチ^/イソブチノレケトン、イソホロン、シクロへキサノンのようなケトン類；ニトロェタン、ニトロベンゼンのような二トロ化合物類；ァセトエトリル、ィソプチロニトリルのような二トリル類；ホルムァミド、ジメチルホルムァミド、ジメチルァセトアミド、へキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類があげられ、さらに好適には、エーテル類（特に、テトラヒドロフラン）、ケトン類（特に、アセトン）ハロゲン化炭化水素類（特に、メチレンクロリド）、アミド類（特に、ジメチルホルムアミド）及ぴ芳香族ァミン類（特に、ピリジン）である。使用される塩基としては、好適には、有機塩基類（特にトリェチルァミン、ピリジン、 N—メチルモルホリン、 D B Uなど）、アルカリ金属水素化物（特に、水素化ナトリウム）及びアルカリ金属炭酸塩（特に、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム）である。 In this step, the compound (3-5) is reacted with the compound (3-4) in the presence of a base in an inert solvent to produce the compound (3-6) and the like. Preferred solvents used are aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, di, cycloethane, cyclobenzene, dibenzene. Hydrogenated hydrocarbons such as chlorobenzene; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and getyl carbonate; getyl ether, diisopropinole pinoleate ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol Ethers such as dimethyl ether; ketones such as acetone, methinolethynoleketone, meth ^ / isobutynoleketone, isophorone and cyclohexanone; and nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; Setoetril, isoptilonito Nitrils such as ril; amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexamethylphosphorotriamide; dimethylsulfoxyl And sulfolane such as sulfolane. More preferably, ethers (particularly, tetrahydrofuran), ketones (particularly, acetone), halogenated hydrocarbons (particularly, methylene chloride), amides (Especially dimethylformamide) and aromatic amines (especially pyridine). As the base used, preferably, organic bases (particularly, triethylamine, pyridine, N-methylmorpholine, DBU, etc.), alkali metal hydrides (particularly, sodium hydride), and alkali metal Carbonates (particularly sodium carbonate and lithium carbonate).

反応温度は、特に限定はないが、通常 0 °Cから 100 °Cであり、好適に、 2 0乃至 6 0 °Cで実施する。反応時間は、通常 5分から 3 0時間であるが、反応を 5 0 °Cで実施したときには、 1 0時間で反応は終了する。例えば、反応終了後、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸ェチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって、目的物（3— 6 ) は得られる。 Although the reaction temperature is not particularly limited, it is generally 0 ° C. to 100 ° C., and preferably 20 to 60 ° C. The reaction time is usually from 5 minutes to 30 hours, but when the reaction is carried out at 50 ° C, the reaction is completed in 10 hours. For example, after completion of the reaction, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if there is any insoluble matter, it is removed by filtration. Then, an immiscible organic solvent such as water and ethyl acetate is added. The target product (3-6) can be obtained by separating the organic layer containing, drying with anhydrous magnesium sulfate or the like, and distilling off the solvent.

得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ一等によって更に精製できる。 If necessary, the obtained target compound can be further purified by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.

(第 5、 2 5工程） (Steps 5 and 25)

本工程は、不活性溶剤中、化合物（3— 6 ) 等に脱保護剤を反応させ、化合物（3 ) 等を製造する工程である。 In this step, the compound (3-6) is reacted with a deprotecting agent in an inert solvent to produce the compound (3) and the like.

本工程は、化合物（3— 6 ) 等の保護基の種類により、その方法が異なる。 The method of this step differs depending on the type of the protecting group such as compound (3-6).

1 ) 3 ' 位の保護基として、シリル原子を有する基を使用した場合には、通常、弗化テトラプチルアンモニゥムのような弗化物イオンを生成する化合物で処理することにより除去される。 1) When a group having a silyl atom is used as the 3'-protecting group, a fluoride ion such as tetrabutylammonium fluoride is usually generated. It is removed by treatment with the compound.

使用される溶剤としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、テトラヒドロフラン、ジォキサンのようなエーテル類が好適である。 ― 反応温度は、特に限定はないが、通常一 3 0 °Cから 1 0 0 °Cであり、好適に、 0 °C乃至 3 0 ^DCで実施する。 The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but ethers such as tetrahydrofuran and dioxane are preferable. - The reaction temperature is not particularly limited, but usually is 1 0 0 ° C from a 3 0 ° C, preferably carried out at 0 ° C to 3 0 ^D C.

反応時問は、通常 5分から 3 0時問であるが、反応を 2 0 °Cで実施したときには、 1 0時間で反応は終了する。 The reaction time is usually from 5 minutes to 30 hours, but when the reaction is carried out at 20 ° C, the reaction is completed in 10 hours.

例えば、反応終了後、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には漉過により除去した後、水と酢酸ェチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって、目的物（3 ) 等が得られる。 For example, after completion of the reaction, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if insolubles are present, they are removed by filtration, and an immiscible organic solvent such as water and ethyl acetate is added. The organic layer containing the compound is separated, dried over anhydrous magnesium sulfate or the like, and then the solvent is distilled off to obtain the desired product (3).

2 ) 3 ' 位の保護基としてハロアルコキシカルボエル基を使用した場合には、通常、亜鉛末を用いる。 2) When a haloalkoxycarboyl group is used as the 3′-protecting group, zinc powder is usually used.

使用される溶剤としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はないが、酢酸、アルコール又はこれらと水との混合溶剤が好適である。反応温度は、特に限定はないが、通常 0 から 100 °Cであり、好適には、室温で実施する。反応時間は、通常 5分から 3 0時間であるが、反応を室温で実施したときには、 1 0時間で反応は終了する。 The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but acetic acid, alcohol, or a mixed solvent of these with water is preferred. The reaction temperature is not particularly limited, but is usually 0 to 100 ° C., and preferably is carried out at room temperature. The reaction time is usually 5 minutes to 30 hours, but when the reaction is carried out at room temperature, the reaction is completed in 10 hours.

例えば、反応終了後、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸ェチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって、目的物（3 ) は得られる。 For example, after completion of the reaction, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if there is any insoluble matter, it is removed by filtration. Then, an immiscible organic solvent such as water and ethyl acetate is added. The organic layer containing the target compound is separated, dried over anhydrous magnesium sulfate, etc., and then the solvent is distilled off to obtain the desired product (3). Is obtained.

3 ) 3 ' 位の脱保護としてァラルキルォキシカルボ二ル基類を使用した場合には、接触還元又は酸化によって行なうことができる。 3) When an aralkyloxycarbonyl group is used as the 3′-position deprotection, the reaction can be carried out by catalytic reduction or oxidation.

接触還元を行なう場合に使用される還元触媒としては、通常、接触還元反応に使用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、パラジゥム炭素、ラネーニッケル、酸化白金、白金黒、ロジウム—酸化アルミニゥム、トリフエニルホスフィン一塩化ロジウム、パラジウム一硫酸バリゥムが用いられる。 The reduction catalyst used in the catalytic reduction is not particularly limited as long as it is generally used in the catalytic reduction reaction, but is preferably palladium carbon, Raney nickel, platinum oxide, Platinum black, rhodium-aluminum oxide, triphenylphosphine rhodium monochloride, and palladium monosulfate barrier are used.

圧力は、特に限定はないが、通常 1乃至 1 0気圧で行なわれる。 The pressure is not particularly limited, but it is usually 1 to 10 atm.

反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、通常、 0乃至 1 0 0 °Cで、 5分乃至 2 4時間実施される。 The reaction temperature and the reaction time vary depending on the starting material, the solvent, the type of the catalyst and the like, but are usually from 0 to 100 ° C for 5 minutes to 24 hours.

酸化による除去において使用される溶剤としては、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好適には、含水有機溶剤である。該有機溶剤としては、好適には、アセトンのようなケトン類、メチレンクロリド、クロ口ホルム、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類、ァセトニトリルのような- トリル類、ジェチルェ一テル、テトラヒドロフラン、ジォキサンのようなエーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド、へキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類及ぴジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類をあげることができる。使用される酸化剤としては、酸化に使用される化合物であれば、特に限定はないが、好適には、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、アンモユウムセリゥムナイトレイト（CAN) 、 2, 3 -ジク口口- 5, 6-ジシァノ— p-ベンゾキノン（DDQ) が用いられる。 The solvent used in the removal by oxidation is not particularly limited as long as it does not participate in this reaction, but is preferably a water-containing organic solvent. As the organic solvent, preferably, ketones such as acetone, methylene chloride, chloroform, halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, -triles such as acetonitrile, Ethers such as Jethyl ether, tetrahydrofuran, and dioxane; amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexamethylphosphorotriamide; and sulfoxides such as dimethylsulfoxide. Can be. The oxidizing agent to be used is not particularly limited as long as it is a compound used for the oxidation. Preferably, potassium persulfate, sodium persulfate, ammonium cell nitrate (CAN), 2 , 3-Dicopento-5,6-dicyano-p-benzoquinone (DDQ) is used.

反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒及び触媒の種類等により異なるが、通常、 0乃至 1 5 0°Cで、 1 0分乃至 24時間実施される。又、液体アンモニア中若しくはメタノール、エタノールのようなアルコール中において、一 7 8乃至一 2 0°Cで、金属リチウム、金属ナトリゥムのようなアル力リ金属類を作用させることによつても除去できる。更に、不活性溶剤中、塩化アルミユウムー沃化ナトリウム、又はトリメチルシリルィォダイドのようなアルキルシリルハラィド類を用いても除去することができる。 The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting material, solvent, type of catalyst, etc. However, it is usually carried out at 0 to 150 ° C. for 10 minutes to 24 hours. In addition, in liquid ammonia or in an alcohol such as methanol or ethanol, an alkali metal such as lithium metal or metal sodium is allowed to act at 178 to 120 ° C. Can also be removed. Furthermore, it can also be removed by using an alkylsilyl halide such as aluminum chloride-sodium iodide or trimethylsilyl iodide in an inert solvent.

この場合に、使用される溶剤としては、本反応に関与しないものであれば特に限定はないが、好適には、ァセトニトリルのような二トリル類、メチレンク口リド、クロ口ホルムのようなハロゲン化炭化水素類又はこれらの混合溶剤が使用される。 In this case, the solvent to be used is not particularly limited as long as it does not participate in the reaction, but preferably, nitriles such as acetonitrile, methylene chloride, and chloroform are preferred. Halogenated hydrocarbons such as form or mixed solvents thereof are used.

反応温度及び反応時間は、出発物質、溶媒等により異なるが、通常は 0乃至 5 0°Cで、 5分乃至 3 曰間実施される。 The reaction temperature and reaction time vary depending on the starting material, solvent and the like, but are usually carried out at 0 to 50 ° C for 5 minutes to 3 hours.

尚、反応基質が硫黄原子を有する場合は、好適には、塩化アルミニゥムー沃化ナトリウムが用いられる。 When the reaction substrate has a sulfur atom, aluminum chloride sodium iodide is preferably used.

反応終了後、例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸ェチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシゥム等で乾燥後、溶剤を留去することによって、目的物（3 ) 等は得られる。 After completion of the reaction, for example, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if insolubles are present, they are removed by filtration. Then, an immiscible organic solvent such as water and ethyl acetate is added. The organic layer containing is separated, dried with magnesium sulfate anhydride and the like, and the solvent is distilled off to obtain the desired product (3).

(第 1 4、 1 7、 1 9、 2 1、 2 7、 2 9、 3 9、 4 5工程） (Steps 1, 4, 17, 19, 21, 21, 27, 29, 39, 45)

本工程は、不活性溶剤中、脱酸剤の存在下、化合物（ 5— 3 ) 等に、亜リン酸化剤（ 5— 4) を反応させて、 3，亜リン酸誘導体（5) 等を製造する工程である。 In this step, a compound (5-3) or the like is reacted with a phosphite (5-4) in an inert solvent in the presence of a deoxidizing agent to convert the 3,3 phosphite derivative (5) or the like. This is the manufacturing process.

亚リン酸化剤（5— 4 ) としては、クロ口モルホリノメトキシホスフイン、クロ口モノレホリノシァノエトキシホスフィン、クロロジメチノレアミノメトキシホスフィン、クロロジメチルァミノシァノエトキシホスフイン、クロロジィソプロピルァミノメトキシホスフィン、クロ口ジィソプロピルァミノシァノエトキシホスフィンのようなホスフィン類があげられ、好適には、クロ口モノレホリノメトキシホスフィン、クロ口モノレホリノシァノエトキシホスフィン、クロロジイソプロピルァミノメトキシホスフィン、クロ口ジィソプロピルァミノシァノエトキシホスフィンである。亚 As the phosphorylating agent (5-4), morpholine morpholinomethoxyphosphine, chloromonorenolynosinoetoxyphosphine, chlorodimethinoleamine methoxyphosphine, chlorodimethylaminosinoetoxyphosphine, chlorodisopropylamino methoxyphosphine And phosphines such as black diisopropylaminoamino ethoxyphosphine, and preferably black monorenoline methoxyphosphine, black monorenoline ethoxy phosphine, chlorodisopropylamino methoxy phosphine, and chlorophyll. It is oral dipropylamino cyanoethoxyphosphine.

使用される溶剤としては、反応に影響を与えないものであれば、特に限定はないが、好適には、テトラヒドロフラン、ジェチルエーテル、ジォキサンのようなエーテル類である。 The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not affect the reaction, but is preferably an ether such as tetrahydrofuran, getyl ether, or dioxane.

使用される脱酸剤としては、ピリジン、ジメチルァミノピリジンのような複素環ァミン類、トリメチルァミン、トリェチルァミン、ジイソプ口ピルェチルァミンのような脂肪族ァミン類があげられるが、好適には、脂肪族ァミン類（特にジイソプロピルェチルァミン）である。 Examples of the deoxidizing agent used include heterocyclic amines such as pyridine and dimethylaminopyridine, and aliphatic amines such as trimethylamine, triethylamine and diisopyrupyrethylamine. Amides (especially diisopropylethylamine).

反応温度は、特に限定はないが、通常一 5 0乃至 5 0 °Cであり、好適には、室温である。反応時間は、使用する原料、試薬、温度等により異なるが、通常、 5分から 3 0時間であり、好適には、室温で反応した場合、 3 0分である。 The reaction temperature is not particularly limited, but is usually from 150 to 50 ° C., preferably room temperature. The reaction time varies depending on the starting materials, reagents, temperature and the like to be used, but is usually 5 minutes to 30 hours, preferably 30 minutes when the reaction is carried out at room temperature.

反応終了後、目的化合物は、例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には、濾過により除去した後、水と酢酸ェチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによつて得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば、再結晶、再沈殿又はク口マトグラフィ一等によって更に精製できる。 (第 1 5工程） After completion of the reaction, the target compound is neutralized, for example, by appropriately neutralizing the reaction mixture.If there is an insoluble substance, it is removed by filtration, and then an immiscible organic solvent such as water and ethyl acetate is added, followed by washing with water. Thereafter, the organic layer containing the target compound is separated, dried over anhydrous magnesium sulfate or the like, and then the solvent is distilled off. The obtained target compound can be obtained by a conventional method, for example, recrystallization, It can be further purified by reprecipitation or by mouth chromatography. (Step 15)

本工程は、不活性溶剤中、化合物（3 — 1 ) に、水酸基の保護化試薬を反応して、 5 '位及び 3 '位の水酸基を保護した化合物（6 — 1 ) を製造する工程である。 In this step, a compound (3-1) is reacted with a hydroxyl-protecting reagent in an inert solvent to produce a compound (6-1) in which the 5′- and 3′-hydroxyl groups are protected. It is.

使用される溶剤としては、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ口ホルム、四塩化炭素、ジクロロェタン、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼンのようなノヽロゲン化炭化水素類；蟻酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジェチルのようなエステル類；ジェチルエーテル、ジィソプ口ピルェ一テル、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシェタン、ジエチレングリコ一ルジメチルェ一テルのようなエーテル類；ァセトン、メチノレエチノレケトン、メチ _ /レイソブチノレケトン、イソホロン、シクロへキサノンのようなケトン類；ニトロェタン、ニトロベンゼンのような二ト口化合物類；ァセトニトリル、ィソブチロニトリルのような二トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド（D M F ) 、ジメチルァセトァミド、へキサメチルホスホロトリアミドのようなァミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類；トリメチルァミン、トリェチルァミン、 N—メチルモルホリン等の脂肪族三級ァミン類；ピリジン、ピコリンのような芳香族ァミンなどがあげられ、さらに好適には、ハロゲン化炭化水素類（特にメチレンクロリド）、アミド類（特に D M F ) である。 The solvent used is preferably an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene, or xylene; or a hydrocarbon such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, cyclobenzene, or dichlorobenzene. Esters such as ethyl ethyl formate, ethyl ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and getyl carbonate; getyl ether, diisoprop, pirate ether, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxetane, diethylene glycol Ethers such as ethyldimethylether; ketones such as acetone, methinoleetinoleketone, methionine / raysobutinoleketone, isophorone, cyclohexanone; and nitrobenzene and nitrobenzene Acetonitrile compounds; Nitrils such as butyronitrile; amides such as formamide, dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide and hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide and sulfolane Aliphatic tertiary amines such as trimethylamine, triethylamine, N-methylmorpholine; aromatic amines such as pyridine and picoline; more preferably, halogenated hydrocarbons (particularly methylene chloride); ) And amides (especially DMF).

使用される保護化試薬としては、 5 '位及び 3 '位の水酸基を保護した後、第 1 6工程で 5 '位水酸基のみを選択的に除去できるものであれば、特に制限はないが、好適には、トリチルクロリド、 4 一モノメトキシトリチルク口リド、 4、 4 ' ージメトキシトリチルクロリドのようなトリァリールメチルハライド類である。 The protecting reagent to be used is not particularly limited as long as it can protect the 5′-position and 3′-position hydroxyl groups and then selectively remove only the 5′-position hydroxyl groups in the 16th step. But, preferably, trityl chloride, These are triaryl methyl halides, such as lithium-rich mouth lids and 4,4'-dimethoxytrityl chloride.

保護化試薬として、トリァリ一ルメチルハライド類を用いる場合には、通常、塩基を用いる。 When triarylmethyl halides are used as the protecting reagent, a base is usually used.

使用される塩基としては、ピリジン、ジメチルァミノピリジン、ピロリジノピリジン等の複素環ァミン類、トリメチルァミン、トリェチルァミン等の脂肪族三級アミン類があげられ、好適には、有機塩基類（特にピリジン、ジメチルァミノピリジン、ピロリジノピリジン）である。溶剤として有機ァミン類を用いる場合には、有機ァミン類自体が脱酸剤として働くので、改めて他の脱酸剤を加える必要はない。 Examples of the base used include heterocyclic amines such as pyridine, dimethylaminopyridine and pyrrolidinopyridine, and aliphatic tertiary amines such as trimethylamine and triethylamine. Preferably, organic bases (especially Pyridine, dimethylaminopyridine, pyrrolidinopyridine). When an organic amine is used as a solvent, the organic amine itself functions as a deoxidizing agent, so that it is not necessary to add another deoxidizing agent.

反応温度は使用される原料、試薬、溶剤などにより通常 0乃至 1 5 0 °C であり、好適には 2 0乃至 1 0 0 °Cである。 The reaction temperature is usually from 0 to 150 ° C, preferably from 20 to 100 ° C, depending on the starting materials, reagents, solvents and the like used.

反応時間は使用される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、第 1工程より長時間を必要とし、通常 1乃至 1 0 0時間であり、好適には、 2乃至 2 4時間である。 The reaction time varies depending on the starting material, solvent, reaction temperature and the like to be used, but it requires a longer time than the first step, and is usually 1 to 100 hours, preferably 2 to 24 hours.

反応終了後、たとえば、反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢酸ェチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製することもできる。 After completion of the reaction, for example, the reaction solution is usually poured into water, extracted with a water-immiscible solvent, for example, benzene, ether, ethyl acetate, and the like. Use it in the next step as it is. If desired, it can be isolated and purified by various chromatography or recrystallization methods.

(第 1 6工程） (Step 16)

本工程は、不活性溶剤中、化合物（6— 1 ) に脱保護化試薬を反応して、 5 ' 位の水酸基の保護基（A J を選択的に除去して、化合物（6 一 2 ) を製造する工程である。 In this step, the compound (6-1) is reacted with a deprotecting reagent in an inert solvent to selectively remove the 5′-hydroxyl protecting group (AJ) to give the compound (612). This is the manufacturing process.

使用される溶剤としては、好適には、メチレンクロリド、クロ口ホルム、四塩化炭素、ジクロロェタン、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸プロピル、酢酸プチル、炭酸ジェチルのようなエステル類；メタノール、エタノール、 n-プロパノール、イソプロパノーノレ、 n-ブタノーノレ、イソブタ— ノール、 t-ブタノール、イソアミルアルコール、ジエチレングリコール、グリセリン、ォクタノーノレ、シクロへキサノーノレ、メチノレセロソノレブ、のようなアルコール類；アセトン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロへキサノンのようなケトン類；ニトロェタン、ニトロベンゼンのようなニトロ化合物類；ァセトエトリル、ィソプチロニトリルのような- トリル類；ホルムァミド、ジメチルホルムァミド、ジメチルァセトアミド、へキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類があげられ、さらに好適には、アルコール類（特にイソプロパノール）、塩化メチレン、及びアルコール類（特にイソプロパノール）と塩化メチレン混液があげられる。 As the solvent to be used, preferably, methylene chloride, Halogenated hydrocarbons such as carbon tetrachloride, dichloroethane, cyclobenzene, dichlorobenzene; esters such as ethyl ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and getyl carbonate; methanol, ethanol, n -Alcohols such as propanol, isopropanol, n-butanol, isobutanol, t-butanol, isoamyl alcohol, diethylene glycol, glycerin, octanol, cyclohexanol, methinoleserosolonolev, etc .; Ketones such as tyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone and cyclohexanone; Nitro compounds such as nitroethane and nitrobenzene; -Tolyls such as acetoethryl and isoptyronitrile; Amides such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexamethylphosphorotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide and sulfolane; and more preferably, alcohols. (Particularly isopropanol), methylene chloride, and a mixture of alcohols (particularly isopropanol) and methylene chloride.

使用される脱保護化試薬としては、臭化亜鉛のようなルイス酸があげられ、好適には臭化亜鉛である。 Examples of the deprotecting reagent used include Lewis acids such as zinc bromide, and zinc bromide is preferred.

反応温度は使用される試薬、原料、溶剤などにより異なるが、通常一 1 0乃至 1 0 0 °Cであり、好適には 0乃至 5 0 °Cである。 The reaction temperature varies depending on the reagents, raw materials, solvents and the like used, but is usually from 110 to 100 ° C, preferably from 0 to 50 ° C.

反応時問は使用される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常 1分間乃至 5 0時間であり、好適には、 1分間乃至 2 4時間である。反応終了後、たとえば、水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばべンゼン、エーテル、酢酸ェチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製することもできる。 (第 2 2工程） The reaction time varies depending on the starting material, solvent, reaction temperature and the like used, but is usually 1 minute to 50 hours, preferably 1 minute to 24 hours. After completion of the reaction, for example, the mixture obtained by pouring into water, extracting with a water-immiscible solvent such as benzene, ether, or ethyl acetate, and distilling off the solvent from the extract is usually used as is in the next step. Used for the process. If desired, it can be isolated and purified by various chromatographic or recrystallization methods. (Step 22)

本工程は、不活性溶剤中、 2 '—デォキシグアノシン（ 9一 1 ) に水酸基の保護化試薬を反応して、選択的に 3 '及ぴ 5 '位の水酸基のみを保護した化合物（ 9一 2 ) を製造する工程である。 In this step, 2'-deoxyguanosine (9-11) is reacted with a hydroxyl-protecting reagent in an inert solvent to selectively protect only the 3'- and 5'-position hydroxyl groups. This is a process for producing the compound (9-1-2).

保護基としては、シリルハライド類があげられ、 3 '、 5 '位の水酸基を 1つの保護基で保護できる保護基として、トリイソプロビルシリルク口リドゃジクロロテトライソプロピルジロキサンなどがあげられ、 3 '、 5 '位の水酸基をそれぞれ保護する保護基として、 t—プチルジメチルシシリルクロリドなどがあげられる。 Examples of the protecting group include silyl halides.Examples of protecting groups capable of protecting the 3′- and 5′-hydroxyl groups with a single protecting group include triisopropylsilyl-capped lidodichlorotetrisopropyldiloxane and the like. And t-butyldimethylsilyl chloride as a protecting group for protecting the 3′- and 5′-position hydroxyl groups, respectively.

使用される溶剤としては、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ口ホルム、四塩化炭素、ジクロロエタン、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼンのようなノヽロゲン化炭化水素類；蟻酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジェチルのようなエステル類；ジェチルエーテル、ジイソプ口ピルェ一テル、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシエタン、ジエチレングリコールジメチルェ—テルのようなエーテル類；ァセトン、メチノレエチノレケトン、メチノレイソブチノレケトン、イソホロン、シクロへキサノンのようなケトン類；ニトロェタン、ニト口ベンゼンのような- ト口化合物類；ァセトニトリル、ィソブチロニトリルのような二トリル類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド、へキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシド、スルホランのようなスルホキシド類があげられ、さらに好適には、エーテル類（特にテトラヒドロフラン）、ハロゲン化炭化水素類（特に塩化メチレン）、芳香族炭化水素類（特にトルエン）、了ミド類（特に DMF) があげられる。使用される塩基としては、好適には、有機塩基類（特にトリェチルァミン、ピリジン、 N—メチルモルホリン、 D B U及ぴイミダゾールなど）である。 Preferred solvents used are aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, cyclobenzene, and dichlorobenzene. Novel hydrogenated hydrocarbons; esters such as ethyl formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and getyl carbonate; getyl ether, diisop ore pirueter, tetrahydrofuran, dioxane, dimethoxyethane, diethylene glycol. Ethers such as coal dimethyl ether; ketones such as acetone, methinoleetinoleketone, methinolay sobutinoleketone, isophorone and cyclohexanone; Compounds; acetonitrile, isobutyro Nitrils such as tolyl; amides such as formamide, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; and sulfoxides such as dimethylsulfoxide and sulfolane. More preferred are ethers (especially tetrahydrofuran), halogenated hydrocarbons (especially methylene chloride), aromatic hydrocarbons (especially toluene), and imides (especially DMF). The base used is preferably an organic base (especially triethylamine, pyridine, N-methylmorpholine, DBU and imidazole).

, 反応温度は使用される試薬、原料、溶剤などにより通常一 2 0乃至 1 5 0 °Cであり、好適には一 1 0乃至 5 0 °Cである。 The reaction temperature is usually from 120 to 150 ° C, preferably from 110 to 50 ° C, depending on the reagents, raw materials, solvents and the like used.

反応時間は使用される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常 1乃至 1 0 0時間であり、好適には、 1乃至 2 4時間である。 The reaction time varies depending on the starting material, solvent, reaction temperature and the like to be used, but is usually 1 to 100 hours, preferably 1 to 24 hours.

(第 2 3工程） (Step 23)

本工程は、不活性溶剤中、化合物（ 9 _ 2 ) のアミノ基をモノメチル化し、化合物（ 9一 3 ) を製造する工程である。 In this step, the amino group of compound (9_2) is monomethylated in an inert solvent to produce compound (9-13).

すなわち、化合物（ 9一 2 ) を溶剤中、酸、ホルムアルデヒド及びァルキル置換フエュルチオールを加え、反応して、 2— N—アルキル置換フエ二ルチオメチル体を得た後、還元を行い、 2—N—メチル体である化合物（9一 3 ) を製造する工程である。 That is, the compound (9-12) is added with an acid, formaldehyde and an alkyl-substituted fuerthiol in a solvent and reacted to obtain a 2-N-alkyl-substituted phenylthiomethyl compound, which is then reduced and subjected to 2-N —This is a step of producing the compound (9-13) which is a methyl form.

アルキル置換フエェルチオメチル化に使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ口ホルムのようなハロゲン化炭化水素類；エーテル、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシェタンのようなエーテル類；ジメチルホルムァミド、ジメチルァセトアミド、へキサメチルホスホロトリアミドのようなァミド類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；メタノ一ル、ェタノ一ノレ、 n—プロノヽ。ノール、イソプロノヽ。ノ —ル、 n -ブタノール、イソブタノ一ル、イソアミルアルコールのようなアルコール類；硫酸水のような希釈酸；水；アセトン；メチルェチルケトンのようなケトン類；ピリジンのような複素環アミン類又はァセトュトリルのような- トリル類をあげることができ、好適には、メタノール、エタノーノレ、 n—プロノヽ⁰ノーノレ、イソプロノ、⁰ノ一ノレ、 n—ブタノーノレ、イソブタノ一ル、イソアミルアルコールのようなアルコール類である。 The solvent used for the alkyl-substituted phenylthiomethylation is not particularly limited as long as it does not hinder the reaction and dissolves the starting material to some extent, but aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene, and xylene can be used. Hydrogens; Halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and methylform ether; Ethers such as ether, tetrahydrofuran, dioxane, and dimethoxetane; dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphos Amides such as holotriamide; sulfoxides such as dimethylsulfoxide; methanol, ethanol, n-prono ヽ. Knoll, Isoprono II. Alcohols such as ethanol, n-butanol, isobutanol and isoamyl alcohol; diluent acids such as sulfuric acid water; water; acetone; ketones such as methylethylketone; heterocyclic amines such as pyridine or § Se Toyu bets such as Lil - tolyl acids can be mentioned, preferably, methanol, Etanonore, n- Puronoヽ⁰ Nonore, isoproterenol Bruno, ⁰ Bruno one Honoré, n- Butanonore, iso butanol Ichiru, isoamyl Alcohols such as alcohol.

アルキル置換フエ二ルチオメチル化に使用される酸としては、反応を Pil害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、硫酸水のような希釈酸；酢酸のようなアルキルカルボン酸類があげられ、好適には、酢酸である。 The acid used for the alkyl-substituted phenylthiomethylation is not particularly limited as long as it does not hinder the reaction and dissolves the starting material to some extent. Alkyl carboxylic acids are preferred, and acetic acid is preferred.

アルキル置換フエ二ルチオメチル化に使用されるアルキル置換フエ- ルチオ一ルとしては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、チオフエノ一ルゃトルエンチオールなどがあげられ、好適には、トルエンチオールである。 The alkyl-substituted phenolthiol used for the alkyl-substituted phenylthiomethylation is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent, and examples thereof include thiophenol-toluenethiol. And preferably toluene thiol.

アルキル置換フエ-ルチオメチル化の反応温度は使用される試薬、原料、溶剤などにより通常— 2 0乃至 1 5 0 °Cであり、好適には一 1 0乃至 5 0 ^eCである。 Substituted Hue - reagent reaction temperature used in Ruchiomechiru reduction, raw materials, usually by and solvent - a 2 0 to 1 5 0 ° C, preferably an 1 0乃optimum 5 0 ^e C.

アルキル置換フユ二ルチオメチル化の反応時間は使用される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常 1乃至 1 0 0時間であり、好適には、 1乃至 2 4時間である。 The reaction time of the alkyl-substituted thiothiomethylation varies depending on the starting materials used, the solvent, the reaction temperature and the like, but is usually 1 to 100 hours, and preferably 1 to 24 hours.

アルキル置換フエ二ルチオメチル化の反応終了後、たとえば、反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢酸ェチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することによつて得られるものを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製することもできる。 After the completion of the alkyl-substituted phenylthiomethylation reaction, for example, the reaction solution is poured into water, extracted with a water-immiscible solvent such as benzene, ether, or ethyl acetate, and the solvent is distilled off from the extract. The product obtained is usually used as it is in the next step. Various chromatographs as desired Alternatively, it can be isolated and purified by a recrystallization method.

引き続く還元の反応時に使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、ク— 口口ホルムのようなハロゲン化炭化水素類；ェ一テル、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシェタンのようなエーテル類；ジメチルホルムァミド、ジメチルァセトアミド、へキサメチルホスホロトリアミドのようなァミド類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；メタノ一ノレ、エタノーノレ、 n-プロパノール、イソプロノヽ。ノーノレ、 n—ブタノ —ル、イソプタノ一ノレ、イソアミノレアルコーノレのようなァノレコール類；硫酸水のような希釈酸；水；ピリジンのような複素環ァミン類又はァセトニトリルのようなェトリル類をあげることができ、好適には、メタノ一ノレ、エタノーノレ、 n—プロノノーノレ、ィソフ。ロノヽ⁰ノーノレ、 n—ブタノーノレ、イソブタノール、イソアミルアルコールのようなアルコール類、ジメチノレスルホキシドのようなスルホキシド類である。 The solvent used in the subsequent reduction reaction is not particularly limited as long as it does not hinder the reaction and dissolves the starting materials to some extent; however, aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; methylene chloride Halogenated hydrocarbons such as alcohol, tetrahydrofuran, dioxane, and dimethoxetane; dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide Sulphoxides such as dimethylsulphoxide; methanol, ethanol, n-propanol and isoprono ヽ. Nonoles, n-butanols, isobutanols, isoaminoles alcohols, etc .; anorecols; dilute acids, such as sulfuric acid water; water; heterocyclic amines, such as pyridine or acetates, such as acetonitrile. Tolyls can be mentioned, and preferred are methano mono, ethano nor, n-prono nor and isov. B Nono ⁰ Nonore, n- Butanonore, isobutanol, alcohols such as isoamyl alcohol, sulfoxides such as dimethylcarbamoyl Noresuruhokishido.

還元反応剤としては、反応を阻害ないものであれば、特に限定はないが、水素化ほう素ナトリウム、ラネ一ニッケルなどがあげられ、好適には、水素化ほう素ナトリウムである。 The reducing reagent is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, and examples thereof include sodium borohydride and nickel nickel raney, and more preferably, sodium borohydride.

反応温度は使用される試薬、原料、溶剤などにより通常一 2 0乃至 1 5 0 °Cであり、好適には— 1 0乃至 5 0 。Cである。 The reaction temperature is usually from 120 to 150 ° C., and preferably from −10 to 50 ° C., depending on the reagent, raw material, solvent and the like used. C.

反応終了後、たとえば、反応液を水に注ぎ、水と混和しない溶剤、たとえばベンゼン、エーテル、酢酸ェチルなどで抽出し、抽出液より溶剤を留去することによって得られるものを、通常、そのまま次の工程に用いる。所望により、各種クロマトあるいは再結晶法により、単離精製することもできる。 (第 2 4工程） After completion of the reaction, for example, the reaction solution is usually poured into water, extracted with a water-immiscible solvent, for example, benzene, ether, ethyl acetate, and the like. Use it in the next step as it is. If desired, isolate and purify by various chromatographic or recrystallization methods. You can also. (Step 24)

本工程は、化合物（ 9— 3 ) に、ジフエ二ルカルバミルクロリドを反— 応して、化合物（ 9一 4 ) を製造する工程である。 This step is a step of reacting compound (9-3) with diphenylcarbamyl chloride to produce compound (914).

使用される溶剤としては、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ口ホルム、四塩化炭素、ジクロロェタン、クロ口ベンゼン、ジクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素類；蟻酸ェチル、酢酸ェチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸ジェチルのようなエステル類；ジェチルエーテル、ジイソプ口ピルエーテル、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシェタン、ジェチレングリコ一ルジメチルエーテルのようなエーテル類；ァセトン、メチルェチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソホロン、シクロへキサノンのようなケトン類；ュトロェタン、ニトロベンゼンのような二トロ化合物類；ァセトニトリル、ィソブチロニトリルのような二トリノレ類；ホルムアミド、ジメチルホルムアミド（D M F )、ジメチルァセトァミド、へキサメチルホスホロトリアミドのようなァミド類；ジメチルスノレホキシド、スノレホランのようなスノレホキシド類；トリメチノレアミン、トリエチルァミン、 N—メチルモルホリン等の脂肪族三級ァミン類；ピリジン、ピコリンのような芳香族ァミンなどがあげられ、さらに好適には、ハロゲン化炭化水素類（特にメチレンクロリド）、アミド類（特に D M F ) である。 The solvent used is preferably an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene, or xylene; or a hydrocarbon such as methylene chloride, chloroform, carbon tetrachloride, dichloroethane, cyclobenzene, or dichlorobenzene. Esters such as ethylen formate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and getyl carbonate; tert-hydrofuran, dioxane, dimethoxetane, and dimethylene glycol. Ethers such as dimethyl ether; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isophorone, and cyclohexanone; nitro compounds such as trotroethane and nitrobenzene; acetonitrile, Issobutyroni Tril Trilinoles; amides such as formamide, dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide, hexamethylphosphorotriamide; snorreoxides such as dimethyl snolefoxide and snoreholane; trimethinorea Aliphatic tertiary amines such as amine, triethylamine and N-methylmorpholine; aromatic amines such as pyridine and picoline; more preferably, halogenated hydrocarbons (particularly methylene chloride). And amides (especially DMF).

保護化反応には、通常、塩基を用いる。使用される塩基としては、ピリジン、ジメチルァミノピリジン、ピロリジノピリジン等の複素環アミン類、トリメチルァミン、トリェチルァミン等の脂肪族三級アミン類があげられ、好適には、有機塩基類（特にピリジン、ジメチルァミノピリジン、ピロリジノピリジン）である。 A base is usually used for the protection reaction. Examples of the base used include heterocyclic amines such as pyridine, dimethylaminopyridine and pyrrolidinopyridine, and aliphatic tertiary amines such as trimethylamine and triethylamine. (Especially pyridine, dimethylaminopyri) Gin, pyrrolidinopyridine).

溶剤として有機ァミン類を用いる場合には、有機ァミン類自体が脱酸剤として働くので、改めて他の脱酸剤を加える必要はない。 When an organic amine is used as a solvent, the organic amine itself functions as a deoxidizing agent, so that it is not necessary to add another deoxidizing agent.

反応時間は使用される原料、溶剤、反応温度などにより異なるが、通常 1乃至 1 0 0時間であり、好適には、 2乃至 2 4時間である。 The reaction time varies depending on the starting material, solvent, reaction temperature and the like to be used, but is usually 1 to 100 hours, preferably 2 to 24 hours.

(第 3 0工程） (Step 30)

本工程は、化合物（ 1 0— 2 ) に、塩基性触媒の存在下、ジカルボン酸の無水物を反応させ、ジカルボン酸ハーフエステル（ 1 0— 4 ) を製造する工程である。 In this step, the compound (10-2) is reacted with a dicarboxylic acid anhydride in the presence of a basic catalyst to produce a dicarboxylic acid half ester (10-4).

なお、工程のスキームでは、代表としてコハク酸で記載するが、他のジカルボン酸についても同様に行うことができる。 In the process scheme, succinic acid is described as a representative, but the same can be applied to other dicarboxylic acids.

使用されるジカルボン酸としては特に限定はないが、好適には、炭素数 2乃至 1 0のものであり、最も好適には、コハク酸又はグルタール酸である。 The dicarboxylic acid used is not particularly limited, but preferably has 2 to 10 carbon atoms, most preferably succinic acid or glutaric acid.

使用される塩基性触媒としては、ジメチルァミノピリジンやピロリジノビリジンのようなアミノビリジン類、トリメチルァミンゃトリェチルァミンのような三級ァミン、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウムのようなアル力リ金属の炭酸塩などが好ましいが、ジメチルァミノピリジン、ピロリジノピリジンが最も好ましい。 Examples of the basic catalyst used include aminopyridines such as dimethylaminopyridine and pyrrolidinoviridine, tertiary amines such as trimethylamine / triethylamine, sodium hydrogen carbonate, and potassium carbonate. Preferred are alkali metal carbonates, but dimethylamino pyridine, Pyrrolidino pyridine is most preferred.

使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；メチレンクロリド、クロ口ホルムのようなハロゲン化炭化水素類；エーテル、テトラヒドロフラン、ジォキサン、ジメトキシェタンのようなエーテル類；ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド、へキサメチルホスホロトリアミドのようなァミド類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；メタノール、ェタノ一ノレ、 n—プロノヽ。ノ一ノレ、イソプロノヽ。ノール、 n -ブタノール、イソブタノ一ル、イソアミルアルコールのようなアルコール類；硫酸水のような希釈酸；水酸化ナトリゥム水のような希釈塩基；水；アセトン；メチルェチルケトンのようなケトン類；ピリジンのような複素環ァミン類又はァセトニトリルのような二トリル類をあげることができ、好適には、二トリル類（特にァセトニトリル）、エーテル類（特にテトラヒドロフラン）、ハロゲン化炭化水素類（特にメチレンクロリド）である。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not hinder the reaction and dissolves the starting material to some extent, but is preferably an aromatic hydrocarbon such as benzene, toluene, or xylene; Halogenated hydrocarbons such as lids and chloroforms; ethers such as ethers, tetrahydrofuran, dioxane, and dimethoxetane; dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexamethylphosphorotriamide Amides; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide; methanol, ethanol, n-prono II. Nonore, I Soprono. Alcohols such as ethanol, n-butanol, isobutanol, and isoamyl alcohol; diluent acids such as sulfuric acid; diluent bases such as sodium hydroxide; water; acetone; Ketones include heterocyclic amines such as pyridine and nitriles such as acetonitrile, and preferably, nitriles (especially acetonitrile), ethers ( Especially, tetrahydrofuran) and halogenated hydrocarbons (especially methylene chloride).

反応温度は、一 5 0乃至 1 0 0 °Cで行なわれ、反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常 3 0分乃至 1 5時間である。 The reaction is carried out at a temperature of 150 to 100 ° C., and the reaction time is usually 30 minutes to 15 hours, although it depends mainly on the reaction temperature, the starting compound or the type of the solvent used.

反応終了後、例えば、反応混合物を適宜中和し、また、不溶物が存在する場合には濾過により除去したのち、水と酢酸ェチルのような水と混和しない有機溶剤を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分取し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することにより、目的物 ( 1 0— 4 ) を得ることができる。 After the completion of the reaction, for example, the reaction mixture is appropriately neutralized, and if insolubles are present, they are removed by filtration, and water and an immiscible organic solvent such as ethyl acetate are added. The target compound (10-4) can be obtained by separating the organic layer containing the target compound, drying over an anhydrous magnesium sulfate or the like, and distilling off the solvent.

(第 3 1工程） (Step 3)

本工程は、縮合剤の存在下、第 3 0工程で得られるジカルボン酸のハーフエステノレ（ 1 0— 4) に、ペンタクロノレフエノ一ノレのようなフエノ -ル類を反応させ、活性エステルとし、次いで、塩基の存在下、この活性エステルと、アミノー C P G ( 1 0 - 5) とを反応させ、目的物（ 1 0 - 6 ) を得る工程である。 ― 使用されるフエノール類としては、カルボン酸と反応して活性エステルを形成するものであれば特に限定はないが、ペンタクロロフエノ一ルや 4—ェトロフエノールが好適である。 . In this step, the dicarboxylic acid obtained in Step 30 is treated in the presence of a condensing agent. Phenol (10-4) is reacted with phenols such as pentachloronorenophenol to form an active ester, and then, in the presence of a base, the active ester and amino-CPG (10-5) ) To obtain the desired product (10-6). -The phenols used are not particularly limited as long as they react with a carboxylic acid to form an active ester, but pentachlorophenol and 4-ethylphenol are preferred. .

使用される塩基としては、通常の反応において塩基として使用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、トリェチルァミン、トリブチルァミン、ジイソプロピルァミンである。 The base to be used is not particularly limited as long as it is used as a base in a usual reaction, but is preferably triethylamine, tributylamine or diisopropylamine.

使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、ジメチルホルムアミド、ジメチルァセトアミド、へキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類；ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類；ァセトン；メチルェチルケトンのようなケトン類；ピリジンのような複素環ァミン又はァセトェトリルのような二トリル類をあげることができ、好適には、ジメチルホルムアミドのようなアミド類である。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not hinder the reaction and dissolves the starting material to some extent. Examples of the solvent include dimethylformamide, dimethylacetamide, and hexamethylphosphorotriamide. Amides; sulfoxides such as dimethyl sulfoxide; acetones; ketones such as methylethyl ketone; heterocyclic amines such as pyridine or nitriles such as acetotrile; Preferably, they are amides such as dimethylformamide.

使用される塩基としては、通常の反応において塩基として使用されるものであれば、特に限定はないが、好適には、トリェチルァミン、トリブチルァミン、ジイソプロピルアミンェチルァミン、 N—メチルモルホリンピリジン、 4— (N、 N—ジメチルァミノ）ピリジン、 N、 N—ジメチルァニリン、 N、 N—ジェチルァニリン、 1、 5—ジァザビシクロ [4， 3， 0] ノナー 5—ェン、 1、 4ージァザビシクロ [ 2， 2， 2] オクタン（DAB CO) 、 1， 8—ジァザビシクロ [ 5， 4， 0] ゥンデクー 7—ェン（DBU) のような有機塩基類があげられ、好適には、トリェチルァミン、ピリジン、 N—メチルモルホリン、 D BUである。反応温度は一 5 0乃至 1 0 0°Cで行われ、反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常、反応を室温で行う場合には、 3 0乃至 5 0時間である。 The base to be used is not particularly limited as long as it is used as a base in a usual reaction. Preferably, triethylamine, tributylamine, diisopropylamineethylamine, N-methylmorpholinepyridine, — (N, N-dimethylamino) pyridine, N, N-dimethylaniline, N, N-getylaniline, 1,5-diazabicyclo [4,3,0] noner 5-ene, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] Organic bases such as 2] octane (DAB CO), 1,8-diazabicyclo [5,4,0] pandec-7-ene (DBU), and preferably, triethylamine, pyridine, N— Methylmorpholine, DBU. The reaction temperature is from 150 to 100 ° C, and the reaction time depends mainly on the reaction temperature, the type of the starting compounds and the type of the solvent used. 0 to 50 hours.

反応終了後、目的物は滤取され、メチレンクロリドのような有機溶剤で洗浄された後、そのまま、次の工程に用いられる。 After the completion of the reaction, the target substance is collected, washed with an organic solvent such as methylene chloride, and used as it is in the next step.

(第 3 3， 3 6， 3 8工程） (Steps 33, 36, 38)

本工程は、目的のオリゴヌクレオチドの 3 ' 末端側のヌクレオチドとなる、ヌクレオシドを担持した C PG ( 1 0 - 7) 等を原料として、 D NA合成機上、通常 DNA鎖の伸長反応に用いられる操作を繰り返し、目的のオリゴヌクレオチドの 5 ' 末端以外のヌクレオチドを除いたオリゴヌクレオチドまで伸長し、 C P Gに担持された状態でのオリゴデォキシリボヌクレオチド（ 1 0 a ) 等を得る工程である。 In this step, a nucleoside-supporting CPG (10-7), which is a nucleotide at the 3 'end of the target oligonucleotide, is used as a raw material, and the DNA is usually extended on a DNA synthesizer. The procedure used in the reaction is repeated to extend the oligonucleotide to the oligonucleotide from which the nucleotides other than the 5 'end of the target oligonucleotide have been removed, and to obtain the oligodeoxyribonucleotide (10a) etc. while being supported on CPG. is there.

以下、 D N A合成機上での DN A鎖の伸長反応に関し、ホスホロアミダイド法について述べるが、本方法に特に限定されるわけではない。第 3 3工程において、 C PG担体（ 1 0— 7) 等を、 DNA合成機上、脱 DMT化試薬を用いて、 DMTを除去した後、ヌクレオチドユニットを縮合して生成した亜リン酸トリエステル結合を、酸化剤を用いて、リン酸トリエステルに酸化する。上記の操作を繰り返し、目的のオリゴヌクレオチドの 5 ' 末端以外のヌクレオチドを除いたォリゴヌクレオチドまで伸長し、 DMT基を 5 ' 末端に有する C PGに担持されたオリゴデォキシヌクレオチド（ 1 0 a ) (以下、オリゴデォキシヌクレオチドは ODNと略記する）を得ることができる。 Hereinafter, the phosphoramidite method will be described for the elongation reaction of the DNA chain on the DNA synthesizer, but is not particularly limited to this method. In the third step, the CPG carrier (10-7) and the like are removed on a DNA synthesizer using a DMT-removing reagent to remove DMT, and triphosphite formed by condensing nucleotide units. The ester bond is oxidized to a phosphoric acid triester using an oxidizing agent. By repeating the above procedure, the oligonucleotide is extended to an oligonucleotide excluding nucleotides other than the 5 'end of the desired oligonucleotide, and the oligodeoxynucleotide (1) supported on a CPG having a DMT group at the 5' end. 0a) (hereinafter, oligodoxynucleotide is abbreviated as ODN).

5 ' 末端が DMT基で保護された、所望のヌクレオチド配列の OD N を担持した C P Gは、 DNA合成機（たとえば、アプライドバイオシステムズ社のホスホロァミダイト法によるモデル 3 8 0 Bや、ミリジェン Zバイオサーチのホスホロアミダイト法によるサイクロンプラス）を用レヽて、 N u c l e i c A c i d s R e s , 1 2 4 5 3 9 ( 1 9 8 4 ) における方法又はその変法によって合成できる。 A CPG carrying an ODN of the desired nucleotide sequence protected at the 5 'end with a DMT group can be synthesized on a DNA synthesizer (for example, Applied Biosystems' phosphoramidite model 380B or Milligen®). The compound can be synthesized by the method described in Nucleic Acids Res, 124539 (19894) or a modified method thereof using the cycloamidite method of the phosphoramidite method of Z Biosearch.

また、オリゴヌクレオチドの合成に用いるヌクレオチドュニッ卜の塩基部としては、脂肪族又は芳香族ァシル基で保護されたものを用いる。該ァシル基としては、塩基部が A又は Cの場合にはベンゾィル基が、 Gの場合にはィソブチリル基が、好適に用いられる。 As the base of the nucleotide unit used in the synthesis of the oligonucleotide, one protected with an aliphatic or aromatic acyl group is used. When the base is A or C, a benzoyl group is used, and when the base is G, an isobutyryl group is suitably used.

本工程の縮合反応において、使用される溶剤としては、反応を阻害しないものであれば特に限定はしないが、ァセトニトリル及びテトラヒド口フランが好適であり、触媒として使用される酸性物質としては、テトラゾールが、好適である。 The solvent used in the condensation reaction in this step is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction.Acetonitrile and tetrahydrofuran are suitable, and are used as catalysts. As an acidic substance, tetrazole is preferable.

反応温度は、一 3 0乃至 5 0 °Cまでのいずれでもよいが、通常は、室温で実施する。反応時間は、 1分乃至 2 0時間まで反応温度によって異なるが、室温で反応を実施した場合は、反応は 1 0分間で終了する。本工程の酸化反応において、使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、複素環ァミン類（特に、ピリジン）、二トリル類（特に、ァセト二トリル）、エーテル類（特に、テトラヒドロフラン）、ハロゲン化炭化水素類（特に、メチレンクロリド）であり、使用される酸化剤としては、通常、酸化反応に使用されるものであれば特に限定はないが、好適には、 m—クロ口過安息香酸のような過酸類； t -ブチルヒドロパーォキシドのようなパーォキシド類；よう素ーピリジン一水である。 The reaction temperature may be anywhere from 130 to 50 ° C., but is usually carried out at room temperature. The reaction time varies depending on the reaction temperature from 1 minute to 20 hours. When the reaction is carried out at room temperature, the reaction is completed in 10 minutes. The solvent used in the oxidation reaction in this step is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction and dissolves the starting material to some extent. Preferably, the heterocyclic amine (particularly, Gin), nitriles (especially acetonitrile), ethers (especially tetrahydrofuran), and halogenated hydrocarbons (especially methylene chloride). There is no particular limitation so long as it is usually used in an oxidation reaction. However, preferred are peracids such as m-chloroperbenzoic acid; peroxides such as t-butyl hydroperoxide; iodine-pyridine Is water.

反応温度は一 5 0乃至 100 °Cで行なわれ、反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類によって異なるが、通常 3 0 分乃至 1 5時間である。 The reaction is carried out at a temperature of from 150 to 100 ° C, and the reaction time is usually from 30 minutes to 15 hours, although it depends mainly on the reaction temperature, the type of the starting compound or the type of the solvent used.

尚、上記酸化反応においては、トリェチルベンジルアンモニゥムクロライド、トリブチルベンジルアンモェゥムブロミドのような層間移動触媒を加えることによって反応が加速される。 In the oxidation reaction, triethylbenzylammonium The reaction is accelerated by the addition of intercalation catalysts such as ride and tributylbenzylammonium bromide.

反応終了後、目的物（ 1 0 a ) 等は濾取され、メチレンクロリドのような有機溶剤で洗浄され、そのまま次の工程に用いられる。 After completion of the reaction, the desired product (10a) and the like are collected by filtration, washed with an organic solvent such as methylene chloride, and used as they are in the next step.

第 3 6及び 3 8工程においても、上記に示した方法と同様にして行うことができる。 The steps 36 and 38 can be performed in the same manner as described above.

(第 3 4工程） (Step 34)

本工程は、第 3 3工程において D N A合成機用のヌクレオチドュニットであるヌクレオシドホスホロァミダイト体のかわりに化合物（ 1 0— 3 ) を反応する以外は同様に行って、リン酸トリエステル結合を有する C P G担体（ 1 0— 8 ) を製造する工程である。 This step is performed in the same manner as in step 33 except that the compound (10-3) is reacted in place of the nucleoside phosphoramidite, which is a nucleotide unit for a DNA synthesizer, in the step 33. This is a step of producing a CPG carrier (10-8) having an ester bond.

(第 3 7工程） (Step 37)

本工程は、第 3 5工程で得られる C P G担体（ 1 0— 9) を、第 3 4 及び 3 5工程を _Z— 1回（ _Zは前述と同意義を示す）繰り返して、 C PIn this step, the CPG carrier (10-9) obtained in the step 35 is repeated by repeating the steps 34 and 35 _Z -1 times ( _Z has the same meaning as described above).

G担体（ 1 0— 1 0) を製造する工程である。 This is the step of producing the G carrier (10-10).

(第 4 0、 4 5工程） (Steps 40 and 45)

本工程は、第 3 9工程等で得られる化合物（ 1 1 ) 等と、化合物（ 1 0 a ) 等の 5 ' 位末端の DMT基を除去して得られる化合物とを、酸触媒の存在下、縮合し、次いで、酸化し、さらに、 C PGを切断し、最後に、保護基を除去して、精製操作を経て、本発明の目的化合物（ 1 ) を得る工程である。 In this step, the compound (11) obtained in the step 39, etc., and the compound obtained by removing the DMT group at the 5′-position, such as the compound (10a), are reacted with the presence of an acid catalyst. This is a step of condensing, then oxidizing, further cleaving the CPG, and finally removing the protecting group to obtain the target compound (1) of the present invention through a purification operation.

縮合反応において、使用される酸触媒としては、好適には、テトラゾールである。酸化反応において、使用される酸化剤としては、通常、酸化反応に使用されるものであれば特に限定はないが、好適には、 m—クロ口過安息香酸のような過酸類； t-ブチルヒドロパーォキシドのようなパーォキシド類；よう素一ピリジン一水である。 In the condensation reaction, the acid catalyst used is preferably tetrazole. In the oxidation reaction, the oxidizing agent to be used is not particularly limited as long as it is usually used in the oxidation reaction, but is preferably a peracid such as m-chloroperbenzoic acid. Peroxides such as t-butyl hydroperoxide; iodine-pyridine-water.

使用される溶剤としては、反応を阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適には、複素環ァミン類（特に、ピリジン）、二トリル類（特に、ァセトニトリル）、エーテル類（特に、テトラヒドロフラン）、ハロゲン化炭化水素類（特に、メチレンクロリド）である。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not hinder the reaction and dissolves the starting material to some extent, but is preferably a heterocyclic amine (particularly, pyridine) or nitrile. (Especially acetonitrile), ethers (especially tetrahydrofuran), and halogenated hydrocarbons (especially methylene chloride).

反応温度は、一 5 0乃至 1 0 0 °Cで行なわれ、反応時間は、主に、反応温度、原料化合物又は使用される溶剤の種類によって異なるが、通常 3 0分乃至 1 5時間である。 The reaction is carried out at a temperature of 150 to 100 ° C, and the reaction time varies depending on the reaction temperature, the type of the starting compound or the solvent used, but is usually 30 minutes to 15 hours. is there.

尚、上記酸化反応においては、トリェチルベンジルアンモニゥムクロリド、トリブチルベンジルアンモユウムブロミドのような層間移動触媒を加えることによって反応が加速される。 In the above oxidation reaction, the reaction is accelerated by adding a layer transfer catalyst such as triethylbenzylammonium chloride or tributylbenzylammonium bromide.

C P Gの切断、及び、最終段階における保護基の除去は、公知の方法 (J. Am. Chem. Soc. , 103, 3185, ( 1981) )によって行なうことができる。このようにして得られる、一般式（ 1 ) の化合物を含む反応混合物を、逆相およびイオン交換クロマトグラフィー（高速液体クロマトグラフィ一を含む。）等の各種クロマトグラフィーを用いて、通常のオリゴヌクレオチド精製で行なわれる操作で精製することにより、目的化合物を得ることができる。 CPG cleavage and removal of the protecting group in the final step can be performed by a known method (J. Am. Chem. Soc., 103, 3185, (1981)). The reaction mixture containing the compound of the general formula (1) thus obtained is subjected to various chromatographies such as reversed-phase and ion-exchange chromatography (including high-performance liquid chromatography). The target compound can be obtained by purification by a procedure usually performed for oligonucleotide purification.

(第 4 1、 4 7工程） (Steps 41 and 47)

本工程は、不活性溶剤中で、化合物（3 ) 等に、リン酸化試薬（例えば、 V置換ホスホロピストリアゾリド（Vが 2—クロ口フエニル基の場合、 2—クロ口フエニルホスホロビストリァゾリド））を反応させ、中問体であるモノヌクレオチド（ 1 2) 等を得る工程である。 In this step, the compound (3) or the like is treated with a phosphorylating reagent (for example, V-substituted phosphoropis triazolide (where V is 2-cyclophenyl group) in an inert solvent. In this case, this is the step of reacting 2-chlorophenylphosphorobistriazolide)) to obtain an intermediate, such as mononucleotide (12).

用いられる溶剤としては、反応を阻害しないものであれば、特に限定はないが、通常は、ピリジンのような芳香族ァミンが用いられる。 The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. Usually, an aromatic amine such as pyridine is used.

反応温度は、一 2 0乃至 1 0 0°Cまで特に限定はないが、通常は、室温で実施する。反応時間は、溶剤、反応温度によって異なるが、反応溶剤として、ピリジンを用い、室温で実施した場合は 1時間である。 The reaction temperature is not particularly limited up to 120 to 100 ° C., but it is usually carried out at room temperature. The reaction time varies depending on the solvent and the reaction temperature, but is 1 hour when pyridine is used as the reaction solvent at room temperature.

反応終了後、目的化合物は、例えば、反応混合物を適宜中和し、又、不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸ェチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。 After completion of the reaction, the target compound is neutralized, for example, by appropriately neutralizing the reaction mixture.If insolubles are present, they are removed by filtration, and an immiscible organic solvent such as water and ethyl acetate is added. It can be obtained by separating the organic layer containing the target compound, drying over anhydrous magnesium sulfate or the like, and distilling off the solvent.

得られた目的化合物は、必要ならば、常法、例えば、再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ一等によって更に精製できる。 The obtained target compound can be further purified, if necessary, by a conventional method, for example, recrystallization, reprecipitation or chromatography.

(第 4 2、 4 8工程） (Steps 42, 48)

本工程は、第 4 1工程等で得られる化合物（ 1 2) 等と、化合物（ 1 0 a ) 、（ 1 0 b ) 又は（ 1 0 c ) の 5 ' 末端の DMT基のみを除去した化合物とを、それぞれ縮合し、次いで、 C P Gを切断し、最後に、保護基を除去して、本発明の化合物（ ] ) を得る工程である。 In this step, only the DMT group at the 5 ′ end of the compound (10a), (10b) or (10c) obtained by removing the compound (12) obtained in the step 41 or the like was removed. In this step, the compound is condensed, the CPG is cleaved, and finally, the protecting group is removed to obtain the compound (]) of the present invention.

用いられる溶媒は、反応を阻害しないものであれば、特に限定はないが、好適には、ピリジンのような芳香族ァミンが用いられる。 The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but an aromatic amine such as pyridine is preferably used.

縮合に用いられる縮合剤としては、ジシク口カルボジィミド（DC C) 、メシチレンスルホン酸クロリド（M s— C 1 ) 、トリイソプロピルベンゼンスルホン酸ク口リド、メシチレンスルホン酸トリアゾリド（MS T) 、メシチレンスルホン酸一 3—ニトロトリアゾリド（MS NT) 、トリイソプロピルべンゼンスルホン酸テトラゾリド（ T P S— T e ) 、トリイソプロピルべンゼンスルホン酸ニトロイミダゾリド（ T P S— N I ) 、及びトリイソプロピルベンゼンスルホン酸ピリジルテトラゾリドなどをあげることができる力、好適には、 MS NTや T P S— T e及び T P S - N I が用いられる。 Examples of the condensing agent used for the condensation include disuccinic carbodiimide (DCC), mesitylene sulfonic acid chloride (Ms—C 1), triisopropylbenzene sulfonic acid chloride, and mesitylene sulfonic acid triazolide. (MS T), mesitylenesulfonic acid-3-nitrotriazolide (MS NT), triethylamine The ability to raise isopropyl benzene sulfonic acid tetrazolide (TPS-Te), triisopropyl benzene sulfonic acid nitroimidazolide (TPS-NI), and triisopropylbenzene sulfonic acid pyridyl tetrazolide; , MS NT and TPS-Te and TPS-NI are used.

反応温度は、一 1 0乃至 1 o o°cまで、特に限定はないが、通常、室温で実施する。反応時間は使用する溶剤、反応温度によって異なるが、反応溶剤としてピリジンを使用し、室温で実施した場合は、 3 0分である。 The reaction temperature is not particularly limited, and is usually from room temperature to 110 ° C to 1 ° C. The reaction time varies depending on the solvent used and the reaction temperature. However, when pyridine is used as the reaction solvent and the reaction is carried out at room temperature, the reaction time is 30 minutes.

C P Gの切断、及び、最終段階における保護基の除去は、公知の方法 (J.Am. Chem. Soc. , 103, 3185, (1981))によって行なうことができる。このようにして得られる、一般式（ 1 ) の化合物を含む反応混合物を、逆相およびィオン交換クロマトグラフィ一（高速液体クロマトグラフィ一を含む。）等の各種クロマトグラフィーを用いて、通常のオリゴヌクレオチド精製で行なわれる操作で精製することにより、目的化合物を得ることができる。 CPG cleavage and removal of the protecting group in the final step can be performed by a known method (J. Am. Chem. Soc., 103, 3185, (1981)). The thus obtained reaction mixture containing the compound of the general formula (1) is subjected to ordinary chromatography using various chromatographies such as reversed-phase and ion-exchange chromatography (including high-performance liquid chromatography). The target compound can be obtained by purification by the operation performed in oligonucleotide purification.

(第 4 3、 4 9工程） (Steps 43, 49)

本工程は、不活性溶剤中、化合物（3)に、例えば、文献（B.C. Freohler, P. G. Ng and MD. Matteucci, NucleicAcids Res. , 14 5399 (1986)) に従つて三塩化リン及び 1 , 2, 4— 卜リアゾールから調製したトリス一（ 1， 2， 4— トリァゾリル）ホスフアイトを反応させ、ヌクレオシド 3 ' H —ホスホネ一ト（ 1 3 ) を得る工程である。 In this step, compound (3) is added to compound (3) in an inert solvent, for example, according to literature (BC Freohler, PG Ng and MD. Matteucci, Nucleic Acids Res., 145399 (1986)). In this step, tris- (1,2,4-triazolyl) phosphite prepared from 2,4-triazole is reacted to obtain nucleoside 3'H-phosphonate (13).

用いられる溶剤としては、反応を阻害しないものであれば、特に限定はないが、好適には、塩化メチレンのようなハロゲン化炭化水素である。反応温度は一 20乃至 1 0 0°Cまで、特に限定はないが、通常は、室温で荚施する。 The solvent used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction, but is preferably a halogenated hydrocarbon such as methylene chloride. The reaction temperature ranges from 120 to 100 ° C., although there is no particular limitation. Apply at

反応時問は、溶剤、反応時間によって異なるが、塩化メチレン中で、室温で反応した場合は、 3 0分である。 The reaction time varies depending on the solvent and the reaction time, but the reaction time is 30 minutes in methylene chloride at room temperature.

反応終了後、目的化合物は、例えば、反応混合物を適宜中和し、又、 ― 不溶物が存在する場合には濾過により除去した後、水と酢酸ェチルのような混和しない有機溶媒を加え、水洗後、目的化合物を含む有機層を分離し、無水硫酸マグネシウム等で乾燥後、溶剤を留去することによって得られる。 After completion of the reaction, the target compound is neutralized, for example, by appropriately neutralizing the reaction mixture.- If insolubles are present, remove them by filtration, then add an immiscible organic solvent such as water and ethyl acetate, and wash with water. Thereafter, the organic layer containing the target compound is separated, dried over anhydrous magnesium sulfate or the like, and then the solvent is distilled off.

(第 4 4、 5 0工程） (Steps 4 and 50)

本工程は、第 4 3工程等で得られる化合物（ 1 3 ) 等と、化合物（ 1 0 a ) 、 ( 1 0 b) 又は（ 1 0 c ) の 5' 末端の DMT基を除去した化合物を、縮合剤と脱酸剤の存在下、縮合させ、次いで、酸化し、最後に、塩基性条件下、 C P Gを切断し、同時に、保護基を除去して、本発明の化合物（ 1 ) を得る工程である。 In this step, the compound (13) obtained in the step 43 etc. is combined with the compound (10a), (10b) or (10c) obtained by removing the DMT group at the 5 'end of the compound (10a). The compound is condensed in the presence of a condensing agent and a deoxidizing agent, and then oxidized. Finally, the CPG is cleaved under basic conditions, and at the same time, the protecting group is removed to obtain the compound (1) of the present invention. This is the step of obtaining

用いられる溶剤としては、反応を阻害しないものであれば、特に限定はないが、好適には、無水のァセトニトリルが使用される。 The solvent to be used is not particularly limited as long as it does not inhibit the reaction. Preferably, anhydrous acetonitril is used.

用いられる縮合剤としては、カルボン酸やリン酸の酸塩化物が用いられるが、好適には、ピバロイルクロリドが用いられる。 . 用いられる酸化剤としては、通常、酸化反応に使用されるものであれば特に限定はないが、好適には、 m—ク口口過安息香酸のような過酸類； t -ブチルヒドロパーォキシドのようなパ一ォキシド類；よう素一ピリジン一水である。 As the condensing agent to be used, carboxylic acid or acid chloride of phosphoric acid is used, and pivaloyl chloride is preferably used. The oxidizing agent to be used is not particularly limited as long as it is usually used in an oxidation reaction, but is preferably a peracid such as m-mouth perbenzoic acid; or a t-butyl hydroperoxide. Major peroxides: iodine-pyridin-water.

使用される脱酸剤としては、ピリジン、ジメチルァミノピリジンのような複素環ァミン類、トリメチルァミン、トリェチルァミン、ジィソプロピルェチルァミンのような脂肪族ァミン類があげられるが好適には脂肪族ァミン類（特にジイソプロピルェチルァミン）である。反応温度は、特に限定はないが、通常一 5 0乃至 5 0 °Cであり、好適には、室温である。 The deoxidizing agents used include pyridine and dimethylaminopyridine. Such heterocyclic amines, and aliphatic amines such as trimethylamine, triethylamine, and diisopropylethylamine, and preferably aliphatic amines (particularly, diisopropylethylamine). . Although the reaction temperature is not particularly limited, it is generally 50 to 50 ° C., and preferably room temperature.

反応時間は、使用する原料、試薬、温度等により異なるが、通常、 5 分から 3 0時間であり、好適には、室温で反応した場合、 3 0分である。 The reaction time varies depending on the starting materials, reagents, temperature and the like to be used, but is usually 5 minutes to 30 hours, and preferably 30 minutes when reacted at room temperature.

C P Gの切断、及び、最終段階における保護基の除去は、公知の方法 (J. Am. Chem. Soc. , 103, 3185 , ( 1981 ) )によって行なうことができる。このようにして得られる、一般式（ 1 ) の化合物を含む反応混合物を、逆相およびイオン交換クロマトグラフィー（高速液体ク口マトグラフィ —を含む。）等の各種クロマトグラフィーなど、通常の核酸の精製に用いる操作で精製することにより、前記一般式（ 1 ) を有する化合物を得ることができる。本発明の化合物（ 1 ) およびその薬理上許容される塩は、優れた抗 Η I V— 1活性を示し、化合物（ 1 ) およびその薬理上許容される塩を抗エイズ剤として使用する場合には、それ自体あるいは適宜の薬理学的に許容される、賦形剤、希釈剤等と混合し、錠剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等による経口的又は注射剤等による非経口的に投与することができる。，これらの製剤は、赋形剤（例えば、乳糖、白糖、ブドウ糖、マンニット、ソルビットのような糖誘導体；トウモロコシデンプン、馬鈴薯デンプン、 α—デンプン、デキストリン、カルボキシメチルデンプンのようなデンプン誘導体；結晶セルロース、低置換度ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピノレメチノレセノレロース、カノレボキシメチノレセノレ口一ス、カルボキシメチルセルロースカルシウム、内部架橋力ノレボキシメチルセルロースナトリウムのようなセル口一ス誘導体；ァラビアゴム；デキストラン；プルラン；軽質無水珪酸、合成珪酸アルミエゥム、メタ珪酸アルミン酸マグネシウムのような珪酸塩類；リン酸カルシウムのようなリン酸塩類；炭酸カルシウムのような炭酸塩類；硫酸カルシゥムのような硫酸塩類等）、結合剤（例えば、前記の賦形剤；ゼラチン；ポリビュルピロリドン；マクロゴール等）、崩壊剤（例えば、前記の賦形剤；クロスカルメロースナトリゥム、カルボキシメチルスターチナトリゥム、架橋ポリビニルピロリドンのような化学修飾された、デンプン、セルロース誘導体等）、滑沢剤（例えば、タルク；ステアリン酸；ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシゥムのようなステアリン酸金属塩；コロイドシリカ；ビーガム、ゲイロウのようなワックス類；硼酸；グリココール；フマル酸；アジピン酸のようなカルボン酸類：安息香酸ナトリウムのようなカルボン酸ナトリゥム塩；硫酸ナトリウムのような硫酸類塩；ロイシン；ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸マグネシゥムのようなラウリル硫酸塩；無水珪酸、珪酸水和物のような珪酸類；前記の賦形剤におけるデンプン誘導体等）、安定剤（例えば、メチルパラペン、プロピルパラペンのようなパラォキシ安息香酸エステル類；クロロブタノール、ベンジルァノレコ一ル、フエニルェチルアルコ一ルのようなァノレコ一ノレ類；塩化ベンザルコニゥム；フエノール；クレゾールのようなフエノ一ル類；チメ口サール；無水酢酸；ソルビン酸等）、矯味矯臭剤（例えば、通常使用される、甘味料、酸味料、香料等）、懸濁化剤（例えば、ポリソルベート 8 0、カルボキシメチルセルロースナトリウム等）、希釈剤、製剤用溶剤（例えば、水、エタノール、グリセリン等）等の添加物を用いて周知の方法で製造される。 CPG cleavage and removal of protecting groups in the final step can be carried out by a known method (J. Am. Chem. Soc., 103, 3185, (1981)). The reaction mixture containing the compound of the general formula (1) thus obtained is subjected to ordinary nucleic acid chromatography, such as reversed-phase and ion-exchange chromatography (including high-performance liquid chromatography). The compound having the general formula (1) can be obtained by purification by the same operation as used for the purification of The compound (1) of the present invention and a pharmaceutically acceptable salt thereof exhibit excellent anti-IV-1 activity, and when the compound (1) and a pharmaceutically acceptable salt thereof are used as an anti-AIDS agent, Mixed with excipients, diluents, etc., or as appropriate pharmacologically acceptable, orally by tablets, capsules, granules, powders or syrups, or parenterally by injections, etc. Can be administered. , These preparations may be excipients (eg, lactose, sucrose, glucose, mannite, saccharides such as sorbite; corn starch, potato starch, starch such as α-starch, dextrin, carboxymethyl starch). Derivatives: microcrystalline cellulose, low-substituted hydroxypropylcellulose, hydroxypropinolemethinoresenorelose, canoleboxymethinoresenolle Cellulose derivatives such as oral, carboxymethylcellulose calcium, internal cross-linking power, norboxoxymethylcellulose sodium; arabiagome; dextran; pullulan; light anhydrous silicic acid, synthetic aluminum silicate, magnesium metasilicate aluminum Silicates; Phosphates such as calcium phosphate; Carbonates such as calcium carbonate; Sulfates such as calcium sulfate; binders (eg, the above-mentioned excipients; gelatin; polybutylpyrrolidone; Disintegrants (eg, the above excipients; croscarmellose sodium, carboxymethyl starch sodium, crosslinked polyvinylpyrrolidone, starch, cellulose derivatives, etc.) ), Lubricants (eg, talc; Metal salts of stearic acid such as calcium stearate and magnesium stearate; colloid silica; waxes such as veegum and gay wax; boric acid; glycochol; fumaric acid; carboxylic acids such as adipic acid: benzoic acid Sodium carboxylate such as sodium sulphate; sulfates such as sodium sulphate; leucine; lauryl sulphate such as sodium lauryl sulphate, magnesium lauryl sulphate; like silicic anhydride, silicic acid hydrate Silicic acids; starch derivatives in the above-mentioned excipients); stabilizers (for example, para-oxybenzoic acid esters such as methylparapene and propylparapene); chlorobutanol, benzyl alcohol, and phenylethyl alcohol. Such as vinyl chloride; ben chloride Sarconium; phenol; phenols such as cresol; thimerosal; acetic anhydride; sorbic acid, etc.), flavoring agents (eg, commonly used sweeteners, sour agents, flavors, etc.) It is manufactured by a well-known method using additives such as a turbidity agent (for example, polysorbate 80, sodium carboxymethylcellulose), a diluent, and a formulation solvent (for example, water, ethanol, glycerin, etc.). You.

その使用量は症状、年齢等により異なるが、成人に対して、経口投与の場合には、 1 l当たり 1乃至 2 0 0 Omg (好適には、 1 0乃至 1 0 0 Omg) を、静脈內投与の場合には、一日当たり 1乃至 2 0 0 Omg (好適には、 1 0乃至 1 0 0 Omg) を、 1乃至 6回症状に応じて投与することが望ましい。また、有効な治療に必要な化合物（ 1 ) の濃度を維持するために、連続的に投与することもできる。 The amount used depends on symptoms, age, etc. In the case of intravenous administration, 1 to 200 Omg (preferably 10 to 100 Omg) per liter, and in the case of intravenous administration, 1 to 200 Omg per day (preferably, 10 to 100 Omg) is preferably administered 1 to 6 times depending on the symptoms. It can also be administered continuously to maintain the concentration of compound (1) required for effective treatment.

¾明を実施するための最良の形態以下に、実施例、参考例、製剤例および試験例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, Reference Examples, Formulation Examples and Test Examples.

なお、以下に示す化学式中の塩基配列（例えば、 Tgggg) は、特に断りがない場合は、一般式（ 1 ) と同意義を表し、またその塩の形はトリェチルァミン塩とする。 In addition, the base sequence (for example, Tgggg) in the chemical formula shown below has the same meaning as in the general formula (1) unless otherwise specified, and the salt form is a triethylamine salt.

また、目的化合物を示すのに、適宜、化学名又は構造式を用いた。 (実施例 1 ) (表 1の例示化合物 1 )

パーキンエルマ一社製の 3 9 2 DNA/RNA シンセサイザーに、付属する合成用試薬類を接続し、プログラムとして ΙΟ/zmolDNA 合成を使用した。ただしこのとき、 #5 のボトルに、およそ 0.1 M に調製した 5' -0 - [(3,4- ジベンジルォキシ）ベンジル] チミジン- 3' -0 - ( 2—シァノェチル =N, N—ジイソプロピルホスホロアミダイト）（特開平 7— 8 7 9 8 2号の実施例 7b に記載）のァセトニトリル溶液、 #6 のボトルに 3' - 0- (4, 4' -ジメトキシトリチル） - N-ィソブチリル- 2'-デォキシグァノシン- 5'- 0- ( 2—シァノエチノレ= Ν， Ν—ジイソプロピノレホスホロアミダイト）（Glen Research 社製）を用い、固相担体としては、修飾されたコントロ一ルドポァグラス（CPG) In addition, a chemical name or a structural formula is appropriately used to indicate a target compound. (Example 1) (Exemplified compound 1 in Table 1)

The supplied synthesis reagents were connected to a PerkinElmer 392 DNA / RNA synthesizer, and ΙΟ / zmol DNA synthesis was used as a program. However, at this time, 5'-0-[(3,4-dibenzyloxy) benzyl] thymidine-3'-0- (2-cyanoethyl = N, N-diisopropylphospho Lamidite) (described in Example 7b of JP-A-7-87982) in an acetonitrile solution # 3 in a bottle # 3-0- (4,4'-dimethoxytrityl)- N-Sobutyryl-2'-Doxyguano Synth-5'-0- (2-cyanoethynole = Ν, Ν-diisopropinole phosphoramidite) (manufactured by Glen Research) was used as the solid-phase support, and modified control pore glass was used. (CPG)

DMT-OCH。CH₂OCCH。CH₂CNHCH₂CH₂CH。 -(CPG^) DMT-OCH. CH ₂ OCCH. CH _{_₂} CNHCH ₂ CH ₂ CH. -(CPG ^)

II II II II

0 0 0 0

(特開平 7— 8 7 9 8 2の実施例 1 2b に記载）を 7μπι₀1 分はかりとり、 ΙΟμπιοΙ 用エンプティーカラムにつめて使用した。 56666Τ とレヽぅ塩基配列を入力し、最後の #5 のボトルの試薬を結合させた後には酸処理を行わない設定のプログラムを作動させることによって、 CPG 上に保護されたオリゴヌクレオチドが構築された誘導体を得た。これを減圧下乾燥したのちにカラムからとり出し、約 1 0 mL の 2 9 %アンモエア水にひたして密閉し、室温で約 2 日間反応した。 CPG をろ過により除き、 1 Omしの水で 2回洗浄した。ろ液と洗浄液を合わせて、減圧下に水溶液を約 4mL に濃縮した。これを 90°Cで 5分間加熱し、氷冷した後、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Cosmosil 75C18 - 0PN、ナカラィテスク、 1.5x l5 c m ; A : 5 0 mM重炭酸トリェチルァミン水溶液 ( T E A B )、 p II 7.5, B ：ァセトニトリル； 5— 4 0 % B / linear gradient； 2 5 4 nm) に供与した。約 3 0。/。ァセトニトリルで溶出する分画を集め、減圧下に溶媒を留去したのちに、約 l OmL の水にとかしてから再度溶媒を留去を繰り返して、アモルファス状の目的化合物を 1 0 6 OD ( 26 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS- DNA、 4.6 x 150mm ； A ： 5 %ァセトニトリル、 0.1M 酢酸トリェチルァミン水溶液（T E A A) , p H7.0, B ：ァセトニトリル； 1 0— 6 0 % B / 2 0 m i n ； linear gradient ； 1 ml/ mi n ; 2 6 0 nm) で分析すると 1 4. 6 3 m i nに溶出された。 (Described in Example 12b of Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-87982) was weighed for 7 μπι ₀ 1 minute, and packed in an empty column for カラム μπιοΙ. After inputting the sequence of 56666Τ and the nucleotide sequence and running the program that does not perform acid treatment after binding the reagent in the last # 5 bottle, the oligonucleotide protected on the CPG is activated. Was obtained. This was dried under reduced pressure, taken out of the column, immersed in about 10 mL of 29% aqueous ammonia, sealed, and reacted at room temperature for about 2 days. CPG was removed by filtration, and washed twice with 1 Om of water. The filtrate and the washing solution were combined, and the aqueous solution was concentrated to about 4 mL under reduced pressure. This was heated at 90 ° C for 5 minutes, cooled on ice, and then reversed-phase silica gel column chromatography (Cosmosil 75C18-0PN, Nacalai Tesque, 1.5x15 cm; A: 50 mM aqueous solution of triethylamine bicarbonate (TEAB) , PII7.5, B: acetonitril; 5-40% B / linear gradient; 254 nm). About 30. /. The fractions eluted with acetonitrile were collected, and the solvent was distilled off under reduced pressure.After dissolving in about 10 mL of water, the solvent was distilled off again to obtain the amorphous target compound. 6 OD (260 nm) was obtained. This compound was obtained by reverse-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150 mm; A: 5% acetonitril, 0.1 M aqueous triethylamine acetate (TEAA), pH 7.0, B: acetonitrile Analyze with a tril; 10—60% B / 20 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm) And eluted at 14.6 3 min.

UVmax (II₂0)： 254 nm。 UVmax (II ₂₀ ): 254 nm.

(実施例 2 ) (表 1 の例示化合物 2 ) (Example 2) (Exemplified compound 2 in Table 1)

5G666T という塩基配列に変更して入力し、但し、精製においては、逆相シリ力ゲル力ラムクロマトグラフィー（ Cosmosil 75C18- 0PN、 1.5x15 c m ； A ： 5 0 mM T E A B、 p H7.5， B : ァセトニトリル；Change the nucleotide sequence to 5G666T and enter it. However, in the purification, reverse phase silica gel gel chromatography (Cosmosil 75C18-0PN, 1.5x15 cm; A: 50 mM TEAB, pH7.5, B : Acetonitrile;

1 0 - 5 0 % B ; linear gradient ； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様にして合成した。実施例 1 と同様の後処理を行い、アモルファス状の目的化合物を 4 9 O D ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS- DNA、 4.6 x l 5 0 mm ; A : 5 %ァセトニトリル、 0.10-50% B; linear gradient; 254 nm). It was synthesized in the same manner as in Example 1. The same post-treatment as in Example 1 was performed to obtain an amorphous target compound of 49 O D (260 nm). This compound is reverse-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 50 mm; A: 5% acetonitril, 0.

1 M T E A A、 p H 7 . 0 , B : ァセトニトリノレ； 1 0 — 6 0 % B / 2 0 m i n ； linear gradient ； 1 ml/min ; 2 6 0 nm) で分析すると1 M TEA A, pH 7.0, B: Acetonitrile; 10 — 60% B / 20 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm)

1 5. 4 5 m i nに溶出された。 It was eluted at 15.45 min.

UVmax (H₂0) :253nm₀ UVmax (H ₂ 0): 253 nm ₀

(実施例 3 ) (表 1 の例示化合物 3 ) (Example 3) (Exemplified compound 3 in Table 1)

5GG66T という塩基配列に変更して入力し、修飾された CPG 7.5 μ mol を用いて、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ Cosmosil 75C18— 0PN、 1 . 5 1 5 c m ； A ： 5 0 mM T E A B、 p H 7. 5， B : ァセトニトリノレ； 1 0 — 5 0 % B ; linear gradient ； 2 5 4 nm) を用レヽた。実施例 1 と同様の後処理を行い、アモルファス状の目的化合物を 3 9 O D ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS- DNA、 4.6 x 150mm ； A ： 5 %ァセトニトリル、 0. 1 M T E AA、 p H 7. 0 ， B : ァセトニトリル； 1 0 - 6 0 % B / 2 0 m i n ; linear gradient； 1 ml/min ； 2 6 0 nm) で分析すると 1 3 . 9 8 m i nに溶出された。 Modified base sequence of 5GG66T and input, modified CPG 7.5 μmol And synthesized in the same manner as in Example 1. However, in the purification, reverse phase silica gel column chromatography (Cosmosil 75C18-0PN, 1.515 cm; A: 50 mM TEAB, pH 7.5, B: acetonitrile; 10 — 50% B; linear gradient; 254 nm) was used. The same post-treatment as in Example 1 was performed to obtain 39 OD (260 nm) of the target compound in an amorphous state. This compound was obtained by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150 mm; A: 5% acetonitrile, 0.1 MTE AA, pH 7.0, B: acetonitrile; 10-60 % B / 20 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm) eluted at 13.98 min.

UVmax(H₂0) :254 nm₀ UVmax (H ₂ 0): 254 nm ₀

(実施例 4 ) (表 1の例示化合物 4 ) (Example 4) (Exemplary compound 4 in Table 1)

Q-CH₂0 / VCH₂ -0-TGGGg-CH₂CH OH Q-CH ₂₀ / VCH ₂ -0-TGGGg-CH ₂ CH OH

5GGG6T という塩基配列に変更して入力し、修飾された CPG 7 μ mol を用いて、実施例 1 と同様にして合成した。実施例 1 と同様の後処理を行い、アモルファス状の目的化合物を 1 7 3 O D ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS-DNA、 4, 6x 150mm ； A ： 5 % ァセトニトリル、 0 . 1 M T E A A、 p H 7. 0 , B : ァセトニトリノレ； 1 0 — 6 0 % B z 2 0 m i n ; linear gradient ； 1 ml/min ； 2 6 0 nm) で分析すると 1 4. 0 1 m i nに溶出された。 The sequence was changed to the base sequence of 5GGG6T, and was synthesized in the same manner as in Example 1 using 7 μmol of modified CPG. The same post-treatment as in Example 1 was performed to obtain an amorphous target compound (173 nm, 260 nm). This compound was obtained by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150 mm; A: 5% acetonitrile, 0.1 MTEAA, pH 7.0, B: acetonitrine); — 60% Bz 20 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm) eluted at 14.0 1 min.

UVmax (11₂0)： 254nm。 (荚施例 5 ) (表 1の例示化合物 1 0 ) _{UVmax (11 2 0): 254nm} . (Example 5) (Example compound 10 in Table 1)

#7のボトルに、およ 0.1 M に調製した 3' - 0- (4, 4' -ジメトキシトリチル） -チミジン - 5' -0- ( 2—シァノエチル N, N—ジイソプロピノレ）ホスホロアミダイト（Glen Research 社製）のァセトニトリル溶液を用い、 5GG667T という塩基配列に変更して入力し、実施例 1 と同様にして合成した。実施例 1 と同様の後処理を行い、アモルファス状の目的化合物を 8 4 OD ( 2 6 Onm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS - DNA、 4.6x 150mm ； A : 5 %ァセトニトリル、 0. 1 M T E AA、 p H 7. 0， B :ァセトニトリル； 1 0 - 6 0 % B/ 2 0 m i n； linear gradient ； 1 ml/min； 2 6 0 nm) で分析すると 1 5. 2 9 m i nに溶出された。 3'-0- (4,4'-Dimethoxytrityl) -thymidine-5'-0- (2-cyanoethyl N, N-diisopropinole) phosphorylamide prepared in # 7 bottle and 0.1 M Using an acetonitrile solution (manufactured by Glen Research), the nucleotide sequence was changed to 5GG667T, and input was carried out. The same post-treatment as in Example 1 was performed to obtain 84 OD (26 Onm) of the target compound in an amorphous state. The compound was analyzed by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150 mm; A: 5% acetonitrile, 0.1 MTE AA, pH 7.0, B: acetonitrile; 10- When analyzed by 60% B / 20 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm), it was eluted at 15.29 min.

UVmax(ll₂0) :255nm。 UVmax (ll ₂₀ ): 255 nm.

(実施例 6 ) (表 1の例示化合物 5 3 5 ) (Example 6) (Exemplified compound 5 35 in Table 1)

O - TXXXX-CH₂CH₂OH

O-TXXXX-CH ₂ CH ₂ OH

#2のポトルに、およそ 0.1 Mに調製した 5' -0- (4, 4' -ジメトキシトリチノレ）- N-ィソプチリノレ- 2' - 0-メチルダァノシン- 3' -0- ( 2—シァノエチノレ N，N-ジイソプロピノレ）ホスホロアミダイト（ファノレマシア社製）のァセトニトリル溶液を用い、 5GGGGTという塩基配列に変更して入力し、実施例 1 と同様にして合成した。実施例 1 と同様の後処理を行い、ァモルファス状の目的化合物を 64 OD ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS-DNA, 4.6 150mm ； A ： 5 %ァセ小二トリル、 0. 1 M TEAA、 p H 7. 0， B : ァセトニトリル； 1 0— 6 0 % B Z 2 0 m i n ； linear gradient ； 1 ml/min； 2 6 0 nm) で分析すると 1 3. 8 0 m i nに溶出された。 In the # 2 pot, 5'-0- (4,4'-dimethoxytritinol) -N-soptyrinole-2'- 0-methyldananosin-3'-0- (2-cyanoethynole Using an acetonitrile solution of (N, N-diisopropynole) phosphoroamidite (manufactured by Fanole Masia), change the base sequence to 5GGGGT and enter it. Synthesized in the same manner as in Example 1. The same post-treatment as in Example 1 was performed to obtain 64 OD (260 nm) of the target compound in an amorphous state. This compound was analyzed by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 150 mm; A: 5% acetonitrile, 0.1 M TEAA, pH 7.0, B: acetonitrile; 10— When analyzed by 60% BZ 20 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm), it was eluted at 13.80 min.

UVmax(II₂0) :257nm。 _{UVmax (II 2 0): 257nm} .

(実施例 7) (表 1の例示化合物 3 0 3 ) (Example 7) (Exemplified compound 303 of Table 1)

( 7 a) 2-N-メチルフエ -ルチオメチル一 2' -デォキシー 3'， 5' -0 - (1， 1,3,3-テトライソプロピルジシロキサン- 1, 3 -ジィル）グアノシン 2' -デォキシ一 3' , 5' -0- (1, 1, 3, 3-テトライソプロピルジシロキサン - 1,3 -ジィル）グアノシン（ Tetrahedron Lett. 35, 3045 - 3048 (1994)) 6.63g (13 mmol) をエタノール 100ml に懸濁し、 35% ホルムアルデヒド水溶液 3.7 ml (46.2 mmol)、 p—チォクレゾ一ノレ 6.5g (52 mmol)、酢酸 (7a) 2-N-methylphen-luthiomethyl-1'-deoxy 3 ', 5'-0- (1,1,3,3-tetraisopropyldisiloxane-1,3-diyl) guanosine 2' -Doxy-1 3 ', 5' -0- (1,1,3,3-tetraisopropyldisiloxane-1,3-diyl) guanosine (Tetrahedron Lett. 35, 3045-3048 (1994)) 6.63 g (13 mmol) ) In 100 ml of ethanol, 3.7 ml (46.2 mmol) of a 35% aqueous solution of formaldehyde, 6.5 g (52 mmol) of p-thiocresomono, acetic acid

3.25 ml を順に加え、油浴を用いて、還流した。 7時間後、室温に戻し、析出した結晶をろ取し、これを冷エタノールで洗浄し、目的物を得た3.25 ml were added in order, and the mixture was refluxed using an oil bath. After 7 hours, the temperature was returned to room temperature, and the precipitated crystals were collected by filtration and washed with cold ethanol to obtain the desired product.

(5.86 g, 70 %) (5.86 g, 70%)

'Ι卜 NMR(360MHz、CDCl₃、TMS) δ ppm: 12.18(brs, 1H, NH) , 8.68(brs, 1H, NH), 7.39(s, 111, H8) , 7.35 (d, 2H, Ph, J=8.0Hz), 6.96(d， 2H， Ph, J=8.0Hz), 6.09-6.06 (dd, 111, HI'), , 93-4.80 (m, 2H, NHCH₂) , 4.71-NMR (360 MHz, CDCl ₃ , TMS) δ ppm: 12.18 (brs, 1H, NH), 8.68 (brs, 1H, NH), 7.39 (s, 111, H8), 7.35 (d, 2H, Ph, J = 8.0Hz), 6.96 (d, 2H, Ph, J = 8.0Hz), 6.09-6.06 (dd, 111, HI '),, 93-4.80 (m, 2H, NHCH ₂ ), 4.71-

4.65 (m, 1H, H3'), 4, 12-4, 00 (m, 211, H5' ) 3.91-3.87 (m, 1H, H4，）， 2.73-2.49 (m, 211, 112'), 2.22 (S, 3ト 1， Ph_CH₃) , 1.10— 0.98 (m, 28H, CH (CH₃) )。 4.65 (m, 1H, H3 '), 4, 12-4, 00 (m, 211, H5') 3.91-3.87 (m, 1H, H4,), 2.73-2.49 (m, 211, 112 '), 2.22 (S, 3 to 1, Ph_CH ₃ ), 1.10 to 0.98 (m, 28H, CH (CH ₃ )).

( 7 b) 2一 Nーメチノレー 6— 0—ジフエ二ノレカノレノミノレ一 2,一デ才キシー 3, , 5'—0— (1, 1, 3, 3-テトライソプロピルジシロキサン- 1, 3-ジィル）グァノシン実施例 7 aの化合物 5.8g (8.98 mmol) をジメチルスルホキシド 90 ml に懸濁し、ほう素化水素ナトリウム 0.68 g (18 mmol)を加え、 100度で加温した。 1時間後、室温に戻し、 1M リン酸カリゥム水溶液 1 0 0 OmL 中に反応液を滴下した。得られた沈殿をろ取し、沈殿をクロ口ホルム（ 400 ml) に溶解し、水洗後、有機層を I P S濾紙（商標ワットマン社製）を用いて濾過後、減圧下溶媒を留去した。残渣をピリジンに溶解し、留去して、乾燥した。そこへピリジン（50m l ) を加え、溶解し、さらに、ジイソプロピルェチノレアミン 2.4m 1 (13m m o 1 ) とジフエ二ノレ力ノレバミルク口ライド 4.17g (18 mmol)を加え、室温で 2時間撹拌した。減圧下溶媒を留去し、塩化メチレン（400m l ) を加え溶解後、有機層を飽和重醬水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を 1 P S濾紙（商標ヮットマン社製）を用いて濾過後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ 7 0— 2 3 0 m e s h、 3 0 0 g、溶出液：へキサン：酢酸ェチル = 7 : 3 ) を行い精製し、あわ状物質として 3.17g (49%) の目的化合物を得た。 (7 b) 2 1 N-methinole 6— 0—Dipheninolecanoreno Minore 1 2, 1-year-old kissy 3,, 5'-0— (1,1,3,3-Tetrisopropyldisiloxane-1,3-diyl) guanosine 5.8 g (8.98 mmol) of the compound of Example 7a was suspended in 90 ml of dimethyl sulfoxide, and sodium borohydride was added. 0.68 g (18 mmol) was added, and the mixture was heated at 100 ° C. One hour later, the temperature was returned to room temperature, and the reaction solution was added dropwise to 100 mL of a 1M aqueous solution of potassium phosphate. The resulting precipitate was collected by filtration, and the precipitate was dissolved in chloroform (400 ml). After washing with water, the organic layer was filtered using IPS filter paper (manufactured by Wattman), and the solvent was distilled off under reduced pressure. . The residue was dissolved in pyridine, evaporated and dried. Pyridine (50 ml) was added and dissolved therein, and diisopropylethinoreamin 2.4 m 1 (13 mmol) and dipheninolone-forced milk milk mouth lid 4.17 g (18 mmol) were added. For 2 hours. The solvent was distilled off under reduced pressure, and methylene chloride (400 ml) was added for dissolution. The organic layer was washed with saturated sodium bicarbonate and saturated saline. After the organic layer was filtered using 1PS filter paper (trade name, manufactured by Petman), the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (70-230 mesh, 300 g, eluent: hexane: ethyl acetate = 7: 3), and 3.17 g (49%) of foam was obtained. The desired compound was obtained.

'Π -證（360MHz、CDCl:い TMS) δ ppm: 8.00(s, 111, H8) , 7.47-7.22 (m, 匪， Ph)， 6.27-6.24 (dd, III, HI'), 5.88(brs, 1H, NH)， 4.76-4.69 (m, 1H, H3'), 4.13-3.98 (m, 2H, H5' ) 3.91— 3.88 (m, 1H, H4' ), 3.04(s, 3H, NHCH₃) , 2.68-2.58 (m, 2H, H2' ), 1.10-1.02 (m, 28H, CH(CH₃))。 'Π-Certificate (360MHz, CDCl: TMS) δ ppm: 8.00 (s, 111, H8), 7.47-7.22 (m, marauder, Ph), 6.27-6.24 (dd, III, HI'), 5.88 (brs , 1H, NH), 4.76-4.69 ( m, 1H, H3 '), 4.13-3.98 (m, 2H, H5') 3.91- 3.88 (m, 1H, H4 '), 3.04 (s, 3H, NHCH 3) , 2.68-2.58 (m, 2H, H2 '), 1.10-1.02 (m, 28H, CH (CH 3)).

( 7 c) 2- N-メチル- 6-0-ジフエ -ルカルバミル- 2' -デォキシー 5' -0- (4, 4'-ジメトキシトリチル）グアノシン（表 2の例示化合物 2— 4 ) 実施例 7 bの化合物 3.16g (4.36 mmol) をテトラヒドロフラン 17.4 ml に溶解し、 1M テトラプチルアンモニゥムフルオリド /テトラヒドロフラン溶液 17.4 ml (17.4 mmol)を加え、室温で撹拌した。 1 時間後、ピリジン：水：メタノール（3:1:1 v/v/v) 混液 150 ml を反応液に加え、さらに D0WEX 50 (ピリジェゥム型）約 30ml を加えた。樹脂をろ過して除き、同混液 150 ml で樹脂を洗浄した。ろ液と洗液を合わせて、減圧下溶媒を留去した。残渣を塩化メチレン（300 ml) に溶解し、水洗した。水層を塩化メチレン（200 ml) で逆抽出し、有機層を合わせて、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した。有機層を減圧下溶媒を留去し、残渣を塩化メチレン（約 10 ml) に溶解し、この溶液を n-へキサン中に滴下し、沈殿とした。この沈殿をろ取した後、塩化メチレンに溶解し、減圧下溶媒を留去し、粗精製物 3', 5' 0H体（2.7 g) を得た。 (7c) 2-N-Methyl-6-0-diphenyl-carbamyl-2'-deoxy 5'-0- (4,4'-dimethoxytrityl) guanosine (Exemplified compound 2-4 in Table 2) 3.16 g (4.36 mmol) of the compound of 7b was dissolved in 17.4 ml of tetrahydrofuran, and 17.4 ml (17.4 mmol) of a 1 M solution of tetrahydroammonium fluoride / tetrahydrofuran was added, followed by stirring at room temperature. One hour later, 150 ml of a mixture of gin: water: methanol (3: 1: 1 v / v / v) was added to the reaction solution, and about 30 ml of D0WEX 50 (pyridem type) was further added. The resin was removed by filtration, and the resin was washed with 150 ml of the same mixture. The filtrate and the washing solution were combined, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was dissolved in methylene chloride (300 ml) and washed with water. The aqueous layer was back-extracted with methylene chloride (200 ml), and the organic layers were combined, dried over anhydrous sodium sulfate. The solvent was distilled off from the organic layer under reduced pressure, the residue was dissolved in methylene chloride (about 10 ml), and this solution was dropped into n-hexane to form a precipitate. After the precipitate was collected by filtration, the precipitate was dissolved in methylene chloride, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude 3 ', 5'0H form (2.7 g).

このものをピリジンに溶解し、留去して、乾燥した。そこへピリジン (30m 1 ) を加え、溶解し、さらに、 4， 4'-ジメトキシトリチルクロラィド 1.48g (4.36 mmol)を加え、室温で 3時間撹拌した。さらに、 4, 4' - ジメトキシトリチルクロライド 0· 14g (0.43 mmol)を加え、室温で 1 時問撹拌した。 5 ml のメタノールを加えた後、減圧下溶媒を留去し、塩化メチレン（200m l ) を加え溶解後、有機層を 5 %重曹水、水の順に洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した後、减圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲル力ラムクロマトグラフィー（ 7 0— 2 3 0 m e s h、 1 0 0 g、溶出液：へキサン：酢酸ェチノレ = 1 : 4 ) を行い精製し、あわ状物質として 2.6g (77%) の目的化合物を得た。 This was dissolved in pyridine, evaporated and dried. Pyridine (30 ml) was added and dissolved therein, and further, 1.48 g (4.36 mmol) of 4,4'-dimethoxytrityl chloride was added, followed by stirring at room temperature for 3 hours. Further, 0.14 g (0.43 mmol) of 4,4′-dimethoxylithicyl chloride was added, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour. After adding 5 ml of methanol, the solvent was distilled off under reduced pressure, methylene chloride (200 ml) was added and dissolved, and the organic layer was washed with 5% aqueous sodium hydrogen carbonate and water in this order. After the organic layer was dried by adding anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (70-230 mesh, 100 g, eluent: hexane: ethyl acetate = 1: 4), and 2.6 g (77% ) Was obtained.

'Η - NMR(360MHz、Acetone- d₆、TMS) δ ppm: 8.01 (s, IH, H8) , 7.51-6.74 (m, 23H， Ph), 6.40 (t, 111, HI' ), 6.22(brs, 111, NH) , 4.74 - 4.71 (m, IH, H3')， 4.50 (d, IH, OH), 4.15-4. ll(m, IH, H4'), 3.74, 3.72 (ss, 6H, — 0CH₃, ) , 3.41-3.29 (m, 2H， H5'), 3.03— 2.96 (m， IH, H2' ), 2.85 (d, IH, NHCH₃, J=4, 79 Hz) , 2.49-2.42 (m, IH, H2')。 'Η - NMR (360MHz, Acetone- d 6, TMS) δ ppm: 8.01 (s, IH, H8), 7.51-6.74 (m, 23H, Ph), 6.40 (t, 111, HI'), 6.22 (brs , 111, NH), 4.74-4.71 (m, IH, H3 '), 4.50 (d, IH, OH), 4.15-4. Ll (m, IH, H4'), 3.74, 3.72 (ss, 6H, — _{0CH 3,), 3.41-3.29 (m} , 2H, H5 '), 3.03- 2.96 (m, IH, H2'), 2.85 (d, IH, NHCH 3, J = 4, 79 Hz), 2.49-2.42 ( m, IH, H2 ').

( 7 d) 2—シァノェチノレ =2— N—メチノレ一 6—0—ジフェ-ノレカノレノミノレ一 2'— デォキシ- 5'- 0- (4, 4' -ジメトキシトリチル）グアノシン- 3' -0-ィルー Ν, Ν-ジィソプロピルホスホロァミダイト（表 2の例示化合物 2— 5 ) 実施例 7c の化合物 0.78g (1mm o 1 ) をピリジンに溶解し、留去して、乾燥した。そこへ塩化メチレン（5m l ) を加え、溶解し、さらに、 N, N-ジィソプロピルァンモ -ゥムテトラゾリド 86 mg (0.5mm o 1 ) を加え、窒素置換を行った。そこへ、 2—シァノエチル N, N, Ν',Ν'-テトライソプロピルホスホ口ジァミダイト 0.38m 1 (1.2mm o 1 ) を 2 分かけて滴下した。室温で 5.5時間攪拌し、原料が消失したことを T L Cで確認後、酢酸ェチル（ 5 0 m l ) を加え、有機層を 5 %重曹水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を I P S濾紙（商標ワットマン社製）を用いて濾過後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ — (7 0— 2 3 0 m e s h、 30g、溶出液：へキサン：酢酸ェチル = 3 ：(7 d) 2—Cyanochenole = 2— N—Methinole 6—0—Dife-Norecanoreno Minore 1′— Deoxy-5'-0- (4,4'-dimethoxytrityl) guanosine-3'-0-yl ィ, Ν-diisopropylphosphoramidite (exemplified compound 2-5 in Table 2) Example 7c 0.78 g (1 mmol) of the above compound was dissolved in pyridine, evaporated and dried. Methylene chloride (5 ml) was added and dissolved therein, and further, 86 mg (0.5 mmo 1) of N, N-diisopropylamino-dimethyltetrazolide was added, followed by purging with nitrogen. Thereto, 2-cyanoethyl N, N, Ν ', Ν'-tetrisopropyl phosphodiamide 0.38 m 1 (1.2 mm o 1) was added dropwise over 2 minutes. The mixture was stirred at room temperature for 5.5 hours, and after confirming that the raw materials had disappeared by TLC, ethyl acetate (50 ml) was added, and the organic layer was washed with 5% aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated saline. The organic layer was filtered using IPS filter paper (trade name, manufactured by Wattman), the solvent was distilled off, and the residue was subjected to silica gel column chromatography — (70-230 mesh, 30 g, eluent: hexane: ethyl acetate) = 3:

7) を行い精製し、あわ状物質として 0.89 g (91%) の目的化合物を得た。 Purification was performed by 7), and 0.89 g (91%) of the target compound was obtained as a foam.

¹ Il-NMR (360MHz , Ace tone-d₆, TMS) 8 ppm: 8.03(s, 1H, H8) , 7.51-6.77 (m， 2311, Ph) , 6.43-6.39 (m, 1H, HI' ), 6.21 (brs, III, NH) , 4.93 (m, 1H, H3' ), 4.26-4.21 (m, 111, H4' ) , 3.94-3.37 (m, 12H, H5' , — 0CH₃, POCH 2 and PNCH), 3.18-2.55 (m, 711, H2' , CH₂CN and NHCH₃) , 1.21— 1.12(m, 12H, CH (CH₃) )。 ¹ Il-NMR (360MHz, Ace tone-d ₆ , TMS) 8 ppm: 8.03 (s, 1H, H8), 7.51-6.77 (m, 2311, Ph), 6.43-6.39 (m, 1H, HI '), 6.21 (brs, III, NH), 4.93 (m, 1H, H3 '), 4.26-4.21 (m, 111, H4'), 3.94-3.37 (m, 12H, H5 ', — 0CH ₃ , POCH 2 and PNCH ), 3.18-2.55 (m, 711, H2 ', CH 2 CN and NHCH 3), 1.21- 1.12 (m, 12H, CH (CH 3)).

(7e) (7e)

ボトル #7 におよそ 0.1 Mの実施例 7dの化合物のァセトニトリル溶液を用い、 57GGAGT という塩基配列に変更して入力し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー (Preparative C18, Waters, 1. 5 x 1 1 c m ； A ： 5 0 mM TEAB、 p H 7. 5， B :ァセトニトリル； 15— 50% B ； linear gradient； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、ァモルファス状の目的化合物を 2 6 9 O D ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS- DNA、 4.6x 150mm ； A ： 5 %ァセトュトリル、 0. 1 M TEAA、 p H 7. 0， B : ァセトニトリル； 1 0— 6 0 %B 2 0 m i n ； linear gradient ； 1 ml/min ; 2 6 0 nm) で分析すると 1 4. 3 9 m i nに溶出された。

Approximately 0.1 M solution of the compound of Example 7d in acetonitrile in bottle # 7 The nucleotide sequence was changed to 57GGAGT and input, and synthesized in the same manner as in Example 1. However, in the purification, reverse-phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.5 x 11 cm; A: 50 mM TEAB, pH 7.5, B: acetonitrile; 50% B; linear gradient; 254 nm). The same post-treatment as in Example 1 was carried out to obtain a target compound in the form of amorphous (269 OD, 260 nm). This compound was analyzed by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150 mm; A: 5% acetate trilue, 0.1 M TEAA, pH 7.0, B: acetate nitrile; 10 — 60% B at 20 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm) eluted at 14.39 min.

UVmax(H₂0) :255nm₀ _{UVmax (H 2 0): 255nm} 0

(実施例 8 ) (表 1の例示化合物 3 04 )

ボトル #7 におよそ 0.1 Mの実施例 7dの化合物のァセトニトリル溶液を用い、 5G7GAGT という塩基配列に変更して入力し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィ一 (Preparative C18, Waters, 1. 5 1 1 c m ； A ： 5 0 mM TEAB、 p H 7. 5, B :ァセトニトリノレ； 15— 50% B； linear gradient； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、ァモルファス状の目的化合物を 2 7 5 OD ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS-DNA、 4.6 150mm ； A ： 5 %ァセト二トリル、 0. 1 M T EAA、 p H 7. 0 , B : ァセトニトリル； 1 0— 6 0 % B y 2 0 m i n ； linear gradient； 1 ml/min ; 2 6 0 nm) で分析すると 1 4. 4 9 m i nに溶出された。 (Example 8) (Exemplified compound 304 in Table 1)

Using a 0.1 M solution of the compound of Example 7d in acetonitrile in bottle # 7, the nucleotide sequence was changed to 5G7GAGT, and the mixture was synthesized in the same manner as in Example 1. However, in the purification, reverse-phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.511 cm; A: 50 mM TEAB, pH 7.5, B: acetonitrile; 50% B; linear gradient; 254 nm). The same post-treatment as in Example 1 was carried out to obtain a target compound in the form of amorphous (275 OD (260 nm)). This compound was obtained by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 150 mm; A: 5% acetate nitrile, 0.1 MT EAA, pH 7.0, B: acetate nitrile; 1 It was eluted at 14.49 min when analyzed by 0—60% By 20 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm).

UVmax(H₂0) :255nm₀ _{UVmax (H 2 0): 255nm} 0

(実施例 9 ) (表 1 の例示化合物 3 0 5 ) (Example 9) (Exemplary compound 300 in Table 1)

ボトル #7 におよそ 0.1 Mの実施例 7dの化合物のァセトニトリル溶液を用い、 5GG7AGT という塩基配列に変更して入力し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトクラフィ一 (Preparative C18, Waters, 1 . 5 x 1 1 c m ； A ： 5 0 mM T E AB、 p H 7. 5 , B：ァセトニトリノレ； 15— 50% B； linear gradient； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、ァモルファス状の目的化合物を 2 2 5 O D ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS- DNA、 4.6 x 150mm ； A ： 5 %ァセト二トリノレ、 0. 1 M T E AA、 p H 7. 0， B : ァセトニトリル； 1 0 - 6 0 % B/^/ 2 0 m i n ； linear gradient； 1 ml/min； 2 6 0 nm) で分析すると 1 4. 5 2 m i nに溶出された。

Using a 0.1 M solution of the compound of Example 7d in acetonitrile in a bottle # 7, the nucleotide sequence was changed to 5GG7AGT, and input. The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1. However, in the purification, reverse-phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.5 x 11 cm; A: 50 mM TEAB, pH 7.5, B: acetone nitrile); 50% B; linear gradient; 254 nm). The same post-treatment as in Example 1 was carried out to obtain a target compound in the form of amorphous (225 OD (260 nm)). This compound was analyzed by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150 mm; A: 5% acetate ditriol, 0.1 MTE AA, pH 7.0, B: acetate nitrile; 10 ^{- 6 0% B / / 2} 0 min; 1 4. eluted in 5 2 min and analyzed by 2 6 0 nm); linear gradient ; 1 ml / min.

UVmax(H₂0) :254nm₀ UVmax (H ₂ 0): 254nm ₀

(実施例 1 0 ) (表 1 の例示化合物 3 0 6 ) (Example 10) (Exemplified compound 30 of Table 1)

ボトル #7 におよそ 0.1 Mの実施例 7dの化合物のァセトニトリル溶液を用い、 5GGGA7T という塩基配列に変更して入力し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトクラフィー (Preparative C18, Waters, 1. 5 x 1 1 c m ； A ： 5 0 m M T E A B、 p H 7. 5， B ：ァセトニトリノレ； 15— 50% B ; linear gradient； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、ァモルファス状の目的化合物を 2 8 8 OD ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS- DNA、 4.6 150mm ； A ： 5 %ァセト二トリル、 0. 1 M TEAA、 p H 7. 0， B : ァセトニトリル； 1 0— 6 0 %B ^/ 2 O m i n ； linear gradient； 1 ml/min ; 2 6 0 nm) で分析すると 1 4. 5 2 m i nに溶出された。

Using a 0.1 M solution of the compound of Example 7d in acetonitrile in bottle # 7, the nucleotide sequence was changed to 5GGGA7T, and input. The synthesis was carried out in the same manner as in Example 1. However, in the purification, reverse phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.5 x 11 cm; A: 50 m MTEAB, pH 7.5, B: acetonitrile; 15-50% B; linear gradient; 254 nm). The same post-treatment as in Example 1 was carried out to obtain a target compound in the form of amorphous (288 OD (260 nm)). This compound was analyzed by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 150 mm; A: 5% acetate nitrile, 0.1 M TEAA, pH 7.0, B: acetate nitrile; 10— When analyzed by 60% B ^/ 2Omin; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm), it was eluted at 14.52 min.

UVmax (11₂0)： 254nm₀ UVmax (11 ₂ 0): 254 nm ₀

(実施例 ] 1 ) (表 1の例示化合物 3 1 3) (Example) 1) (Exemplified compound 3 13 in Table 1)

ボトル #7 におよそ 0.1 Mの実施例 7dの化合物のァセトニトリル溶液を用い、 5777AGT という塩基配列に変更して入力し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー (Preparative C18, Waters, 1. 5 x 1 1 c m ； A ： 5 0 mM TEAB、 p H 7. 5， B：ァセトニトリノレ； 15— 50% B ； linear gradient； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、ァモルファス状の目的化合物を 1 9 6 O D ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS_DNA、 4.6 150mm ； A ： 5 %ァセトエトリノレ、 0. 1 M TEAA、 p H 7. 0， B : ァセトニトリノレ； 1 0— 6 0 B/2 0 m i n ； linear gradient； 1 ml/min ; 2 6 0 nm) で分析すると 1 4. 3 9 m i nに溶出された。

Using a 0.1 M acetonitrile solution of the compound of Example 7d in bottle # 7, the nucleotide sequence was changed to 5777AGT, and input. The synthesis was performed in the same manner as in Example 1. However, in the purification, reverse phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.5 × 11 cm; A: 50 mM TEAB, pH 7.5, B: acetonitrile; 15-50% B; linear gradient; 254 nm) was used. The same post-treatment as in Example 1 was carried out to obtain an amorphous target compound at 1966 OD (260 nm). The compound Is a reversed phase HPLC (Wakosil WS_DNA, 4.6 150 mm; A: 5% acetoethanol, 0.1 M TEAA, pH 7.0, B: acetonitrine; 10—60 When analyzed by B / 2 0 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm), it was eluted at 14.39 min.

UVmax (H₂0) :256nm₀ _{UVmax (H 2 0): 256nm} 0

(実施例 1 2) (表 1の例示化合物 3 5 0 ) (Example 12) (Exemplified compound 350 of Table 1)

( 1 2a) 3- [(3, 4-ジベンジルォキシ）ベンジノレオキシ] -プロパン- 1 - オール (12a) 3-[(3,4-dibenzyloxy) benzinoleoxy] -propane-1-ol

1, 3-プロパンジオール 0.72ml (10 mmol) を 20 mL のテトラヒドロフランにとかし、窒素雰囲気下で、 400 mg (10 mmol) の 60%NaH を加えて、 6 0 °Cで 2時間撹拌した。室温にもどしたのちに、 3,4- (ジベンジノレォキシ）ベンジルク口ライド 1.69 g (5 mmol) を 2.5mLのテトラヒド口フランに溶解したものを滴下し、ヨウ化ナトリウム 374mg (2.5 mmol) を加えて室温で撹拌した。 20 時間後に減圧下溶媒を留去し、残渣を 5 Omしの; t化工チレンにとかし、 lOOmL の 0.01N 塩化アンモェゥム水溶液で 2回洗浄してから無水硫酸マグネシゥムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣を 2 5 g ( 2 3 0 - 4 0 0 mesh) のシリ力ゲル力ラムにァプライして、へキサン：酢酸ェチル = 4 ： 6の溶液で溶出することにより目的化合物を 0.68g (36 %) 得た。 Dissolve 0.72 ml (10 mmol) of 1,3-propanediol in 20 mL of tetrahydrofuran, add 400 mg (10 mmol) of 60% NaH under a nitrogen atmosphere, and stir at 60 ° C for 2 hours. did. After returning to room temperature, a solution prepared by dissolving 1.69 g (5 mmol) of 3,4- (dibenzyloxy) benzyl chloride in 2.5 mL of tetrahydrofuran was added dropwise, and 374 mg of sodium iodide (2.5 mmol) was added. Was added and stirred at room temperature. After 20 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was dissolved in 5 Om; dissolved in titanium chloride, washed twice with 100 mL of 0.01 N aqueous ammonium chloride solution, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent is distilled off under reduced pressure, and the residue is applied to 25 g (230-400 mesh) of silica gel, and eluted with a solution of hexane: ethyl acetate = 4: 6. As a result, 0.68 g (36%) of the target compound was obtained.

ト匪 R(360MHz、CDCl₃、TMS) δ ppm: 7.47-6.81 (m, 13H, Ph)， 5.16(s, 2H, -CH₂-Ph) , 5.15(s, 2H, - CH₂- Ph), 4, 40 (s, 2H, (BnO) ₂PhCH₂) , 3.75(m, 2H, CH₂0H), 3.58(t, 2H, (Bn0)₂PhCH₂0CH₂₎ J=5.8Hz), 2.16(t, 1H, OH, J=5.5Hz), 1.85-1.79(m, 2H, CH₂CH₂CH₂)₀ Marauder R (360MHz, CDCl ₃ , TMS) δ ppm: 7.47-6.81 (m, 13H, Ph), 5.16 (s, 2H, -CH ₂ -Ph), 5.15 (s, 2H,-CH ₂ -Ph) , 4, 40 (s, 2H, (BnO) ₂ PhCH ₂ ), 3.75 (m, 2H, CH ₂ 0H), 3.58 (t, 2H, (Bn0) ₂ PhCH ₂ 0CH ₂₎ J = 5.8Hz), 2.16 (t, 1H, OH, J = 5.5Hz), 1.85-1.79 (m, 2H, CH ₂ CH ₂ CH ₂ ) ₀

( 1 2b) 3— 0- [(3,4- ジベンジルォキシ）ベンジル] -プロパンジォール- 1 - 0- ( 2—シァノエチル N、 N—ジイソプロピル）ホスホロアミダイト (1 2b) 3— 0-[(3,4-dibenzyloxy) benzyl] -propanedio -1-0- (2-cyanoethyl N, N-diisopropyl) phosphoramidite

実施例 12a の化合物 0· 189g (0.5mm o 1 ) をピリジンに溶解し、留去して、乾燥した。そこへ塩化メチレン（2.5m l ) を加え、溶解し/ さらに、 N， N—ジイソプロピルアンモニゥムテトラゾリド 43 mg 189 g (0.5 mmo 1) of the compound of Example 12a was dissolved in pyridine, distilled off and dried. Methylene chloride (2.5 ml) was added thereto to dissolve / additionally, and N, N-diisopropylammonium tetrazolide 43 mg

(0.25mm o 1 ) を加え、窒素置換を行った。そこへ、 2—シァノエチル N, N, N' , N' -テトライソプロピルホスホロジアミダイト 0.248 m 1(0.25 mmo 1), and the atmosphere was replaced with nitrogen. There, 2-cyanoethyl N, N, N ', N'-tetrisopropylphosphorodiamidite 0.248 m 1

(0.75mm o 1 ) を 2分かけて滴下した。室温で 5時間攪拌し、原料が消失したことを T L Cで確認後、酢酸ェチル（ 5 0 m l ) を加え、有機層を 5 %重曹水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を I P S濾紙（商標ヮットマン社製）を用いて濾過後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ 7 0— 2 3 0 m e s h、 1 6 g、溶出液：へキサン：酢酸ェチル二 7 : 3 ) を行い精製し、油状物質として 165 mg (57%) の目的化合物を得た。 (0.75 mm o 1) was added dropwise over 2 minutes. After stirring at room temperature for 5 hours, the disappearance of the raw materials was confirmed by TLC, and then ethyl acetate (50 ml) was added, and the organic layer was washed with 5% aqueous sodium bicarbonate and saturated saline. After the organic layer was filtered using IPS filter paper (trade name, manufactured by Petman), the solvent was distilled off, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (70-230 mesh, 16 g, eluent: eluent). Purification by hexane: ethyl acetate (7: 3) yielded 165 mg (57%) of the desired compound as an oil.

'Η -賺（360MHz、CDCl₃、TMS) δ ppm: 7.46-6.82 (m, 13H, Ph) , 5.16 (s, 2H, -CH₂ - Ph), 5.15(s, 2H, - CH₂- Ph) , 4.39(s, 2H, (BnO) ₂PhCH₂) , 3.86-3.50 (m, 811, DBP- 0CH₂, CH₂0P, and PNCH), 2.61-2.57 (t, 2H, CH₂CN) , 1.92 - 1.85 (m, 2H, CH₂CI1₂CH₂) , 1.19- 1.15(m, 12H, CH₃)。 'Η-new (360MHz, CDCl ₃ , TMS) δ ppm: 7.46-6.82 (m, 13H, Ph), 5.16 (s, 2H, -CH ₂ -Ph), 5.15 (s, 2H,-CH ₂ -Ph ), 4.39 (s, 2H, (BnO) ₂ PhCH ₂ ), 3.86-3.50 (m, 811, DBP- 0CH ₂ , CH ₂ 0P, and PNCH), 2.61-2.57 (t, 2H, CH ₂ CN), 1.92 - 1.85 (m, 2H, CH 2 CI1 2 CH 2), 1.19- 1.15 (m, 12H, CH 3).

( 1 2 c) (1 2 c)

ボトノレ #5 におよそ 0.1 M の実施例 12b の化合物のァセトニトリル溶液を用い、 5GGGAGT という配列に変更して入力し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィ ― (Preparative C18, Waters, 1. 5 x 1 1 c m ； A ： 5 0 mM TEAB、 p H 7. 5， B :ァセトニトリル； 15— 50% B ； linear gradient； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、ァモルファス状の目的化合物を 2 5 1 OD ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS- DNA、 4.6 x 150mm ； A ： 5 %ァセトエトリル、 0. Ι Μ TEAA、 p H 7. 0， B : ァセトニトリノレ； 1 0— 6 0 %B / 2 0 m i n ； linear gradient； 1 ml/min ; 2 6 0 nm; で分析すると 1 4. 9 7 m i nに溶出された。

Using a 0.1 M solution of the acetonitrile solution of the compound of Example 12b in Bottonore # 5, the sequence was changed to 5GGGAGT, and input was performed in the same manner as in Example 1. And synthesized. However, in the purification, reverse-phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.5 x 11 cm; A: 50 mM TEAB, pH 7.5, B: acetonitrile; 15-50 % B; linear gradient; 254 nm). The same post-treatment as in Example 1 was carried out to obtain a target compound in the form of amorphous (251 OD (260 nm)). This compound was obtained by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150 mm; A: 5% acetate etryl, 0.1% TEAA, pH 7.0, B: acetone nitrile; 10-6 When eluted with 0% B / 20 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm;

UVmax(H₂0) :253nm₀ UVmax (H ₂ 0): 253nm ₀

(実施例 1 3) (表 1の例示化合物 3 9 8 ) (Example 13) (Exemplified compound 398 of Table 1)

( 1 3 a) 6— [(3,4- ジベンジルォキシ）ベンジルォキシ] -へキサン - 1-オール (1 3 a) 6— [(3,4-dibenzyloxy) benzyloxy] -hexan-1-ol

1, 6 -へキサンジォ一ノレ 1.18g (10 mmol) を 20 mL のテトラヒドロフランにとかし、窒素雰囲気下で、 200 mg (5 mmol) の 60%NaH を加えて、 6 0°Cで 2時間撹拌した。室温にもどしたのちに、 3,4- (ジベンジルォキシ）ベンジルク口ライド 1· 69 g (5 mmol) を 2.5mLのテトラヒド口フランに溶解したものを滴下し、ヨウ化ナトリウム 374mg (2.5 mmol) を加えて室温で撹拌した。 20時間後に減圧下溶媒を留去し、残渣を 200mL の塩化エチレンにとかし、 150mLの 0.01N 塩化アンモユウム水溶液で 2 回洗浄してから無水硫酸マグネシゥムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣を 6 5 g ( 2 3 0 - 4 0 0 mesh) のシリカゲルカラムにアプライして、へキサン：酢酸ェチル = 4 ： 6の溶液で溶出することにより目的化合物を得て、再び同カラム（ 1 5 g、同溶液）で精製することにより、目的化合物を 0.19g (10 %) 得た。 Ή-NMR (360MHz, CDCl_a, IMS) 6 ppm: 7.46-6.62 (m, 13H, Ph) , 5.16(s, 2H, -CII₂-Ph), 5.15(s, 2H, - CH₂- Ph), 4.38(s, 211, (BnO) ₂PhCH₂) , 3.66-3.61 (t, 211, C1I₂0I1) , 3.40 (t, 211, (BnO) ₂PhCH₂OCH₂, J=6.6Hz), 1.58— 1.10(m, 9H, CH₂(CII.₂)₄CII₂, 0H)。 ― Dissolve 1.18 g (10 mmol) of 1,6-hexanediol in 20 mL of tetrahydrofuran, add 200 mg (5 mmol) of 60% NaH under a nitrogen atmosphere, and add Stirred for hours. After returning to room temperature, a solution prepared by dissolving 1.69 g (5 mmol) of 3,4- (dibenzyloxy) benzyl chloride in 2.5 mL of tetrahydrofuran was added dropwise, and 374 mg of sodium iodide was added. 2.5 mmol) and stirred at room temperature. After 20 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was dissolved in 200 mL of ethylene chloride, washed twice with 150 mL of 0.01 N aqueous ammonium chloride solution, and then dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was applied to a silica gel column of 65 g (230-400 mesh), and eluted with a solution of hexane: ethyl acetate = 4: 6 to elute the desired compound. The product was obtained and purified again with the same column (15 g, same solution) to obtain 0.19 g (10%) of the target compound. NMR-NMR (360MHz, CDCl _a , IMS) 6 ppm: 7.46-6.62 (m, 13H, Ph), 5.16 (s, 2H, -CII ₂ -Ph), 5.15 (s, 2H,-CH ₂ -Ph) , 4.38 (s, 211, (BnO) ₂ PhCH ₂ ), 3.66-3.61 (t, 211, C1I ₂ 0I1), 3.40 (t, 211, (BnO) ₂ PhCH ₂ OCH ₂ , J = 6.6 Hz), 1.58 - 1.10 (. m, 9H, CH 2 (CII 2) 4 CII 2, 0H). ―

( 1 3 b) 6-0- [(3,4- ジベンジルォキシ）ベンジル] -へキサンジォール-卜 0- ( 2—シァノエチル N、 N—ジイソプロピル）ホスホロアミダィ卜 (1 3 b) 6-0-[(3,4-dibenzyloxy) benzyl] -hexanediol 0- (2-cyanoethyl N, N-diisopropyl) phosphoramidite

実施例 13a の化合物 0.19g (0.45mmol) をピリジンに溶解し、留去して、乾燥した。そこへ塩化メチレン（2ml) を加え、溶解し、さらに、 N , N—ジイソプロピルアンモニゥムテトラゾリド 39 mg 0.19 g (0.45 mmol) of the compound of Example 13a was dissolved in pyridine, evaporated and dried. Thereto, methylene chloride (2 ml) was added to dissolve, and N, N-diisopropylammonium tetrazoloxide 39 mg

(0.225mmol) を加え、窒素置換を行った。そこへ、 2—シァノエチル N, N, N' , N' -テトライソプロピルホスホロジアミダイト 0.21ml(0.225 mmol), and the atmosphere was replaced with nitrogen. There, 2-cyanoethyl N, N, N ', N'-Tetraisopropyrphos hollomidite 0.21ml

(0.68mmol) を 2分かけて滴下した。室温で ³.5時間攪拌し、原料が消失したことを T L Cで確認後、酢酸ェチル（ 5 0ml) を加え、有機層を 5%重醬水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を 1 P S濾紙（商標ヮットマン社製）を用いて濾過後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（7 0— 2 3 0m e s h、 1 6 g、溶出液：へキサン：酢酸ェチル = 7 ： 3 ) を行い精製し、油状物質として 165 mg (59%) の目的化合物を得た。 (0.68 mmol) was added dropwise over 2 minutes. And stirred ^3.5 hours at room temperature, after confirmed by TLC that the raw material has been deleted vanishing, acetate Echiru a (5 0 ml) was added, the organic layer was washed with 5% heavy醬水and saturated brine. The organic layer was filtered using 1PS filter paper (trade name, manufactured by Petman), the solvent was distilled off, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (70-230 mesh, 16 g, eluent: Hexane: ethyl acetate = 7: 3) for purification gave 165 mg (59%) of the desired compound as an oil.

'Η -顺 R(360MHz、CDCl₃、TMS) δ pptn: 7.46-6.81 (m, 13H, Ph) , 5.16(s, 2H, - CH₂-Ph), 5.15(s, 2H, -ひ1₂ - Ph)， 4.38 (s, 211, (BnO) ₂PhCH₂) , 3.89- 3.53(m, 6H, P0CH₂₎ PNC1I) , 3.39 (t, 2H, (BnO) ₂PhCH₂0CH₂) , 2.62(t, 2H, CH₂CN) , 1.68-1.35(m, 8H, CH₂ (CH₂) ₄CH₂)， 1.19一 1.16 (m, 12H, CH₃)。 'Η-顺 R (360MHz, CDCl ₃ , TMS) δ pptn: 7.46-6.81 (m, 13H, Ph), 5.16 (s, 2H,-CH ₂ -Ph), 5.15 (s, 2H, -H1 ₂ -Ph), 4.38 (s, 211, (BnO) ₂ PhCH ₂ ), 3.89- 3.53 (m, 6H, P0CH ₂₎ PNC1I), 3.39 (t, 2H, (BnO) ₂ PhCH ₂ 0CH ₂ ), 2.62 ( t, 2H, CH ₂ CN), 1.68-1.35 (m, 8H, CH ₂ (CH ₂ ) ₄ CH ₂ ), 1.19-1.16 (m, 12H, CH ₃ ).

( 1 3 c) -ο- iGGGAG-CH₂CH₂OH ボトル #5 におよそ 0.1 の実施例 13b の化合物のァセトニトリル溶液を用い、 5GGGAGT という配列に変更して入力し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィ一 (Preparative C18, Waters, 1. 5 x 1 1 c m ； A ： 5 0 mM T EAB、 p H 7. 5 , B ：ァセトニトリル； 15— 50% B ; linear gradient； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、ァモルファス状の目的化合物を 1 7 0 OD (2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS- DNA、 4.6 150mm ； A ： 5 %ァセト二卜リノレ、 0. 1 M T EAA、 p H 7. 0， B : ァセトエトリル； 1 0— 6 0 %B/ 2 0 m i n ； linear gradient； 1 ml/min ; 2 6 0 nm) で分析すると 1 7. 0 3 m i nに溶出された。 (1 3c) -ο- iGGGAG-CH ₂ CH ₂ OH Synthesized in the same manner as in Example 1 by using an acetonitrile solution of the compound of Example 13b of approximately 0.1 in bottle # 5, changing the sequence to 5GGGAGT and inputting it. did. However, in the purification, reverse-phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.5 x 11 cm; A: 50 mM TEAB, pH 7.5, B: acetonitrile) 15-50% B; linear gradient; 254 nm). The same post-treatment as in Example 1 was carried out to obtain a target compound in the form of amorphous (170 OD (260 nm)). This compound was analyzed by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 150 mm; A: 5% acetate ditriol, 0.1 MT EAA, pH 7.0, B: acetate etyr; 10— When analyzed by 60% B / 20 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm), it was eluted at 17.03 min.

UVmax (II₂0) :253nm。 UVmax (II ₂₀ ): 253 nm.

(実施例 1 4 ) (表 1の例示化合物 3 1 8) (Example 14) (Exemplified compound 3 18 of Table 1)

( 1 4 a) 1,2-ジデォキシ -3 - 0-トリイソプロピノレシリノレ- D-リボフラノ —ス (14a) 1,2-dideoxy-3--0-tolysopropinolesilinole-D-ribofurano-

5 - 0- (4-モノメトキシトリチル） -1, 2 -ジデォキシ- D-リボフラノース (J. Am. Chem. Soc. 115, 9734-9746, (1993)) 3.9g (10 mmol) をピリジンに溶解し、留去して、乾燥した。そこへジメチルホルムァミド（100 m l ) を加え、溶解し、さらに、イミダゾール 2.38 g (35 mmol)、トリイソプロビルシリルクロライド 3.2 ml (15 mmol)を加え、室温で 2 日間撹拌した。 5 ml のメタノールを加えた後、減圧下溶媒を留去し、酢酸ェチル（100m l ) を加え溶解後、有機層を 5 %重曹水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリゥムを加えて乾燥した後、減圧下溶媒を留去した。残馇をクロ口ホルム（50 ml) に溶解し、トリクロ口酢酸 1 _ml を氷冷下加えた。室温に戻し、 2時間撹拌した。 5 %重曹水で中和し、分液して、有機層を集めた。クロ口ホルムで水層を逆抽出し、有機層を合わせて、無水硫酸ナトリウムを加えて乾燥した後、減圧下溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ 7 0— 2 3 0 m e s h、 l O O g、溶出液：へキサン：酢酸ェチル = 4 : 1 ) を行い精製し、油状物質として 2.2g (80%) の目的化合物を得た。 3.9 g (10 mmol) of 5-0- (4-monomethoxytrityl) -1,2-dideoxy-D-ribofuranose (J. Am. Chem. Soc. 115, 9734-9746, (1993)) in pyridine Dissolve, evaporate and dry. Dimethylformamide (100 ml) was added and dissolved, and 2.38 g (35 mmol) of imidazole and 3.2 ml (15 mmol) of triisopropylsilyl chloride were added. The mixture was added at room temperature for 2 days. Stirred. After adding 5 ml of methanol, the solvent was distilled off under reduced pressure. After adding and dissolving ethyl acetate (100 ml), the organic layer was washed with 5% aqueous sodium hydrogen carbonate. After the organic layer was dried by adding anhydrous sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. Was dissolved Zan馇the black port Holm (50 ml), the trichloroacetic port acetate 1 _m l was added under ice-cooling. It returned to room temperature and stirred for 2 hours. The mixture was neutralized with 5% aqueous sodium bicarbonate and separated, and the organic layer was collected. The aqueous layer was back-extracted with a black hole form, the organic layers were combined, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was purified by silica gel column chromatography (70-230 mesh, 100 g, eluent: hexane: ethyl acetate = 4: 1) to obtain 2.2 g (80%) of an oily substance. The compound was obtained.

Ή-NMR (360MHz, CDC1₃,TMS) δ ppm: 4.35-4.32 (m, 1H， H3) , 3.99 - 3.96 (dd, 211, HI, J=5.0 Hz), 3.84-3.81 (m, 1H, H4) ' 3.76 - 3.72, 3.58-3.53 (m, 2H, 115) , 2.08-1.84 (m, 211, H2), 1.07-1.04 (m, 21H, Si(iPr)₃)。 _{Ή-NMR (360MHz, CDC1 3} , TMS) δ ppm: 4.35-4.32 (m, 1H, H3), 3.99 - 3.96 (dd, 211, HI, J = 5.0 Hz), 3.84-3.81 (m, 1H, H4 ) '3.76-3.72, 3.58-3.53 (m, 2H, 115), 2.08-1.84 (m, 211, H2), 1.07-1.04 (m, 21H, Si (iPr) ₃ ).

( 1 4 b) 1, 2-ジデォキシ- 3-0-トリイソプロビルシリル- 5-0- [(3, 4_ジベンジノレオキシ）ベンジノレ] -D-リボフラノース (14b) 1,2-dideoxy-3-0-triisopropylsilyl-5-0-[(3,4_dibenzinoleoxy) benzinole] -D-ribofuranose

実施例 14 aの化合物 1. l (4 mmol) を 8 mしのテトラヒドロフランにとかし、窒素雰囲気下で、 230 mg (8 mmol) の 60%Nali を加えて、 6 0°Cで 2時間撹拌した。室温にもどしたのちに、 3,4- (ジベンジルォキシ）ベンジルク口ライド 1· 69g (5 mmol) を 2.5mLのテトラヒドロフランに溶解したものを滴下し、ヨウ化ナトリウム 374mg (2.5 mmol) を加えて室温で撹拌した。 20 時間後に減圧下溶媒を留去し、残渣を 2 0 OmL の塩化エチレンにとかし、 lOOmL の 0.01N 塩化アンモニゥム水溶液で 2回洗浄してから無水硫酸マグネシゥムで乾燥した。溶媒を減圧下留去し、残渣を 100 g ( 2 3 0 - 4 0 0 raesh) のシリカゲノレカラムにァプライして、 15%酢酸ェチルを含むへキサン溶液で溶出することにより目的化合物を 2.0g (87 %) 得た。 'lUMR(360MHz、CDCl₃、TMS) Sppm: 7.46- 6.81 (m, 13H, Ph), 5.14(s, 4H, -CH₂-Ph) , 4.44 (s, 211, (BnO)₂PhCH₂) , 4.33-4.29 (m, 1H, H3), 3.97— 3.93 (m, 211, 111), 3.90-3.87 (m, 1H, H4) , 3.44(d, 2H, H5, J=4.8Hz) , 2.03-1.81 (m, 211, 112) , 1.07-1.00 (m, 2 III, Si(iPr)_:i)。 Example 14a Compound 1.Dissolve 1 l (4 mmol) in 8 m of tetrahydrofuran, add 230 mg (8 mmol) of 60% Nali under nitrogen atmosphere, and stir at 60 ° C for 2 hours. did. After returning to room temperature, a solution of 1.69 g (5 mmol) of 3,4- (dibenzyloxy) benzyl chloride in 2.5 mL of tetrahydrofuran was added dropwise, and 374 mg of sodium iodide (2.5 mmol) was added. ) Was added and the mixture was stirred at room temperature. After 20 hours, the solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was dissolved in 20 OmL of ethylene chloride, washed twice with 100 mL of 0.01 N aqueous solution of ammonium chloride, and dried over anhydrous magnesium sulfate. The solvent was distilled off under reduced pressure, the residue was applied to a 100 g (230-400 raesh) silica gel column, and eluted with a hexane solution containing 15% ethyl acetate to elute the target compound. g (87%). 'lUMR (360MHz, CDCl ₃ , TMS) Sppm: 7.46- 6.81 (m, 13H, Ph), 5.14 (s, 4H, -CH ₂ -Ph), 4.44 (s, 211, (BnO) ₂ PhCH ₂ ), 4.33-4.29 (m, 1H, H3), 3.97-- 3.93 (m, 211, 111), 3.90-3.87 (m, 1H, H4), 3.44 (d, 2H, H5, J = 4.8Hz), 2.03-1.81 (m, 211, 112), 1.07-1.00 (m, 2 III, Si (iPr) _{: i} ).

( ] 4 c) 1, 2-ジデォキシ -5-0- [(3,4- ジベンジノレオキシ）ベンジノレ] - D-リボフラノ一ス (] 4 c) 1,2-dideoxy -5-0- [(3,4-dibenzinoleoxy) benzinole]-D-ribofuranois

実施例 14bの化合物 2.0g (3.47 mmol) を 3.47mL のテトラヒドロフランにとかし、テトラブチルァンモニゥムフロリドのテトラヒドロフラン溶液（ 1 M) を 3.47mL 加えて室温で撹拌した。 3 0分後に減圧下溶媒を留去し、残渣を 100 mL の酢酸ェチルにとかして、 5 OmL の飽和食塩水で 2回洗浄し、有機層を I P S濾紙（商標ワットマン社製）を用いて滤過後、減圧下に溶媒を留去した。残渣を 8 0 g ( 2 3 0 - 4 0 0 mesh) のシリカゲルカラムにアプライし、 1 5 %酢酸ェチルーへキサンで溶出することにより 1.21g (83%) の目的化合物を得た。 2.0 g (3.47 mmol) of the compound of Example 14b was dissolved in 3.47 mL of tetrahydrofuran, and 3.47 mL of a solution of tetrahydroammonium fluoride in tetrahydrofuran (1 M) was added, followed by stirring at room temperature. did. After 30 minutes, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was dissolved in 100 mL of ethyl acetate, washed twice with 5 OmL of saturated saline, and the organic layer was washed with IPS filter paper (Watman trademark). After filtration, the solvent was distilled off under reduced pressure. The residue was applied to an 80 g (230-400 mesh) silica gel column, and eluted with 15% ethyl acetate-hexane to obtain 1.21 g (83%) of the desired compound.

'H-NMROeOMHz.CDC^.T S) δ ppm: 7.46-6.80 (m, 13H, Ph) , 5.17(s, 4H, -CH₂-Ph), 5.15(s, 4H, - CH₂ - Ph) , 4.44(s, 2H, (BnO) ₂PhCH₂) , 4.21-4.19(m, 111, H3)， 3.96-3.92 (m, 2H,H1), 3.84 - 3.80 (m, 1H, H4), 3.52 - 3.36 (d, 2H, H5, J=4.8Hz), 2.16-1.82 (m, 2H, H2) , 1.71 (d, 1H, OH)。 'H-NMROeOMHz.CDC ^ .TS) δ ppm: 7.46-6.80 (m, 13H, Ph), 5.17 (s, 4H, -CH ₂ -Ph), 5.15 (s, 4H,-CH ₂ -Ph), 4.44 (s, 2H, (BnO) ₂ PhCH ₂ ), 4.21-4.19 (m, 111, H3), 3.96-3.92 (m, 2H, H1), 3.84-3.80 (m, 1H, H4), 3.52-3.36 (d, 2H, H5, J = 4.8Hz), 2.16-1.82 (m, 2H, H2), 1.71 (d, 1H, OH).

( 1 4 d) 1, 2-ジデォキシ -5-0- [ (3, 4- ジベンジルォキシ）ベンジル] -D -リボフラノース- 3 - 0- (2—シァノエチル N、 N—ジイソプロピル）ホスホロアミダイト (14d) 1,2-dideoxy-5-0-[(3,4-dibenzyloxy) benzyl] -D-ribofuranose-3-0- (2-cyanoethyl N, N-diisopropyl) phosphoramidite

実施例 e の化合物 0.21g (0.5mmol) をピリジンに溶解し、留去して、乾燥した。そこへ塩化メチレン（².⁵ml) を加え、溶解し、さらに、 Ν,Ν-ジイソプロピルアンモニゥムテトラゾリド 43 mg (0.25mmol) を加え、窒素置換を行った。そこへ、 2—シァノエチル Ν, Ν,Ν' ,Ν' -テトライソプロピルホスホロジアミダイト 0.19m l (0.6mmol) を 2分力、けて滴下した。室温で一晚攪袢し、原料がほぼ消失したことを T L Cで確認後、酢酸ェチル（ 5 0 ml) を加え、有機層を 5%重曹水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を I P S濾紙（商標ワットマン社製）を用いて濾過後、溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ 7 0 - 2 3 0 m e s h、 1 2 g、溶出液：へキサン：酢酸ェチル = 1 : 1 ) を行い精製し、油状物質として 0.26g (84%) の目的化合物を得た。 0.21 g (0.5 mmol) of the compound of Example e was dissolved in pyridine, evaporated and dried. Thereto methylene chloride ^(2. ⁵ ml) was added, dissolved, further, New, Nyu- diisopropyl isopropyl ammonium Niu arm Tetorazori de 43 mg of (0.25 mmol) In addition, nitrogen substitution was performed. Thereto, 0.19 ml (0.6 mmol) of 2-cyanoethyl Ν, Ν, Ν ′, Ν′-tetraisopropyl phosphorodiamidite was added dropwise with a 2-minute force. After stirring at room temperature for 10 hours, it was confirmed by TLC that the raw materials had almost disappeared. Ethyl acetate (50 ml) was added, and the organic layer was washed with 5% aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated saline. The organic layer was filtered through IPS filter paper (trade name, manufactured by Wattman), the solvent was distilled off, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (70-230 mesh, 12 g, eluent: hexane: hexane). Purification was performed with ethyl acetate = 1: 1) to obtain 0.26 g (84%) of the target compound as an oil.

'1ト醒（360MHz、CDCl₃、TMS) δ ppm: 7.47-6.81 (m, 13H, Ph) , 5.16(s, 4H, -CH₂-Ph), 5.15(s, 4H, — CH₂— Ph) , 4.45, 4.44(s, 2H, (BnO)₂PhCH₂) , 4.37-4.28 (in, 111, H3) , 4, 01-3.42 (m, 911, HI, H4, H5, P0CH₂ and PNCH) , 2.61-2.46(m, 2H, CH₂CN) , 2.11-1.92(m, 2H, H2), 1.18-1.11 (m, 12H, CH₃)₀ '1 Awake (360MHz, CDCl ₃ , TMS) δ ppm: 7.47-6.81 (m, 13H, Ph), 5.16 (s, 4H, -CH ₂ -Ph), 5.15 (s, 4H, — CH ₂ — Ph ), 4.45, 4.44 (s, 2H, (BnO) ₂ PhCH ₂ ), 4.37-4.28 (in, 111, H3), 4, 01-3.42 (m, 911, HI, H4, H5, P0CH ₂ and PNCH) , 2.61-2.46 (m, 2H, CH ₂ CN), 2.11-1.92 (m, 2H, H2), 1.18-1.11 (m, 12H, CH ₃ ) ₀

( 1 4 e)

ボトル #5 におよそ 0.1 M の実施例 14d の化合物のァセトエトリル溶液を用い、 5GGGAGT という配列に変更して入力し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィ一 (Preparative C18, Waters, 1 . 5 x 1 1 c m ； A ： 5 0 mM T E AB、 p H 7. 5， B ：ァセトニトリノレ； 15— 50% B ; 1 inear gradient ； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、ァモルファス状の目的化合物を 2 6 3 O D ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150m m ； A ： 5 %ァセトニトリル、 0. 1 M T EAA、 p H 7. 0 , B : ァセトニトリル； 1 0 — 6 0 %B ' 2 0 m i n ； linear gradient； 1 ml/min ; 2 6 0 nm) で分析すると 1 4. 9 2 m i nに溶出された。 (1 4 e)

Using a 0.1 M solution of the compound of Example 14d in acetoetrile of about 0.1 M in bottle # 5, the sequence was changed to 5GGGAGT and input. However, in the purification, reverse phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.5 × 11 cm; A: 50 mM TEAB, pH 7.5, B: acetonitrile); — 50% B; 1 inear gradient; 254 nm) was used. The same post-treatment as in Example 1 was carried out to obtain a target compound in the form of an ammonium (263 OD (260 nm)). This compound was analyzed by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150 mm; A: 5% acetateton) Ril, 0.1 MT EAA, pH 7.0, B: Acetonitrile; 10-60% B '20 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm) It was eluted at 14.92 min.

UVmax (H₂0) :253nm。 _{UVmax (H 2 0): 253nm} .

(実施例 1 5 ) (表 1の例示化合物 2 3 9) (Example 15) (Exemplified compound 23 9 in Table 1)

ボトル #5 におよそ 0.1 M の実施例 12b の化合物のァセトニトリル溶液を用い、 5GGGGT という塩基配列に変更し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィ一 (Preparative C18, Waters, 1. 5 1 1 c m ; A : 50 mM T EAB、 p H 7. 5 , B：ァセトニトリル； 15-50% B； linear gradient； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、アモルファス状の目的化合物を 2 4 8 OD ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS— DNA、 4.6 x 150m m ； A ： 5 %ァセトニトリノレ、 0. 1 M T EAA、 p H 7. 0 , B : ァセトニトリル； 1 0 - 6 0 % B / 2 0 rn i n ； linear gradient； 1 ml/min； 2 6 0 nm) で分析すると 1 5. 5 9 m i nに溶出された。

Using a 0.1 M solution of the acetonitrile solution of the compound of Example 12b in bottle # 5, the nucleotide sequence was changed to 5GGGGT and synthesized in the same manner as in Example 1. However, in the purification, reverse phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.511 cm; A: 50 mM TEAB, pH 7.5, B: acetonitrile; 50% B; linear gradient; 254 nm). The same post-treatment as in Example 1 was carried out to obtain the desired compound in an amorphous state at 248 OD (260 nm). This compound was analyzed by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150 mm; A: 5% acetate nitrile, 0.1 MT EAA, pH 7.0, B: acetate nitrile; 10- When analyzed by 60% B / 20 rn in; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm), it was eluted at 15.59 min.

UVmax (H₂0)： 254nm UVmax (H ₂ 0): 254nm

(実施例 1 6) (表 1の例示化合物 4 8 6) (Example 16) (Exemplified compound 4 86 of Table 1)

( 1 6a) 0- (4, 4' -ジメトキシトリチル）エチレングリコ一ルー 0- (2- シァノエチル N、N-ジイソプロピル）ホスホロアミダイト (16a) 0- (4,4'-Dimethyxitolyl) Ethylene glycol 0- (2-Cyanoethyl N, N-diisopropyl) phosphoramidite

0 - （4, 4' -ジメトキシトリチル）エチレングリコール（特開平 7— 8 7 9 8 2の実施例 1 2a 記載） 317mg (0.84 mm o 1 ) をピリジンに溶解し、留去して、乾燥した。そこへ塩化メチレン（3m l ) を加え、溶解し、さらに、ジイソプロピルェチルァミン 0.61m 1 (3.48mm o 1 ) を加え、窒素置換を行った。そこへ、 2—シァノエチル N，N-ジイソプ口ピルクロ口ホスホロアミダイト 0.23m l (1.04mmol) を 2分かけて滴下した。室温で 6 0分攪拌し、原料が消失したことを T L Cで確認後、酢酸ェチル（ 3 0ml) を加え、有機層を飽和重曹水、飽和食塩水で洗浄した。有機層を I P S濾紙（商標ワットマン社製）を用いて濾過後、溶媒を留去し、残渣をシリ力ゲルカラムク口マトグラフィー（7 0— 2 3 0 m e s h、 1 6 g、溶出液：へキサン：酢酸ェチル： = 3 : 1 ) を行い精製し、油状物質として 270mg (55%) の目的化合物を得た。 0- (4,4'-Dimethoxytrityl) ethylene glycol (JP-A-7-8 317 mg (0.84 mmol) of 317 mg (described in Example 12a of 7982) was dissolved in pyridine, distilled off, and dried. Methylene chloride (3 ml) was added thereto to dissolve, and 0.61 ml (3.48 mmol) of diisopropylethylamine was further added, followed by purging with nitrogen. Thereto was added dropwise 0.23 ml (1.04 mmol) of 2-cyanoethyl N, N-diisopropyl pyrrochloride phosphoramidite over 2 minutes. After stirring at room temperature for 60 minutes, the disappearance of the raw materials was confirmed by TLC, ethyl acetate (30 ml) was added, and the organic layer was washed with saturated aqueous sodium hydrogen carbonate and saturated brine. The organic layer was filtered using IPS filter paper (trade name, manufactured by Wattman), the solvent was distilled off, and the residue was subjected to silica gel column chromatography (70-230 mesh, 16 g, eluent: Hexane: ethyl acetate: = 3: 1) for purification gave 270 mg (55%) of the desired compound as an oil.

¹1卜 NMR (270MHz、 CDC1₃、 TMS) δ ppm: 7.48- 7· 19 (9H, m, Ph) 、 6.84- 6.80(4H, m, Ph)、 3.87— 3.58(12H、 m, — 0CH₃, P0CH₂ and PNCH) 、 3.26— 3.21 (211, m, DMTr - 0— CH₂)、 2· 62-2.58 (2H, m, CH₂CN) , 1.26-1.17 (12H, m, CH₃) ₀ ( 1 6b)

ボトル #5 におよそ 0.1 の実施例 12b の化合物のァセトュトリル溶液、ボトル #6 におよそ 0.1 の実施例 16a の化合物のァセトニトリル溶液、を用い、 5GGGG6T という塩基配列に変更し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィ一 (Preparative C18, Waters, 1. 5 x 1 1 c m ； A ： 5 0 mM T EAB、 p H 7. 5， B ：ァセトニトリル； 15— 50% B ; linear gradient； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、ァモルファス状の目的化合物を 1 8 7 O D ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS- DNA、 4.6 150 mm ； A ： 5。/。ァセト二トリノレ、 0. 1 M T E AA、 p H 7. 0 , B : ァセトニトリル； 1 0 — 6 0 % B/ 2 0 m i n ； linear gradient ； 1 ml/min ; 2 6 0 nm) で分析すると 1 5. 4 3 m i nに溶出された。 ¹ 1 Bok _{NMR (270MHz, CDC1 3, TMS} ) δ ppm: 7.48- 7 · 19 (9H, m, Ph), 6.84- 6.80 (4H, m, Ph), 3.87- 3.58 (12H, m, - 0CH 3 , P0CH ₂ and PNCH), 3.26-- 3.21 (211, m, DMTr-0-- CH ₂ ), 2.62.58 (2H, m, CH ₂ CN), 1.26-1.17 (12H, m, CH ₃ ) ₀ (16b)

Using about 0.1 solution of the compound of Example 12b in bottle # 5, and about 0.1 solution of the compound of Example 16a in bottle # 6, the base sequence was changed to 5GGGG6T. Synthesized in the same manner as 1. However, in the purification, reverse-phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.5 x 11 cm; A: 50 mM TEAB, pH 7.5, B: acetonitrile; 15-50% B; linear gradient; 254 nm). The same post-processing as in the first embodiment is performed. The target compound in a morphous state was obtained at 187 OD (260 nm). This compound was obtained by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 150 mm; A: 5. /. Acetonitrile, 0.1 MTE AA, pH 7.0, B: Acetonitrile; When analyzed by 1 0 — 60% B / 20 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm), it was eluted at 15.43 min.

UVmax (H₂0) :253nm₀ UVmax (H ₂ 0): 253 nm ₀

(実施例 1 7 ) (表 1の例示化合物 4 3 0) (Example 17) (Exemplary compound 430 in Table 1)

ボトル #5 におよそ 0.1 M の実施例 12b の化合物のァセトニトリル溶液、ボトル #6 におよそ 0.1 M の実施例 16a の化合物のァセトニトリル溶液、を用い、 5GGG6GT という塩基配列に変更し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー (Preparative C18, Waters, 1 . 5 x 1 1 c m ； A ： 5 0 mM T E AB、 p H 7. 5， B :ァセトニトリノレ； 15— 50% B ； linear gradient ； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、ァモルファス状の目的化合物を 2 5 3 O D ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS- DNA、 4.6 x 150mm ； A ： 5 %ァセト二トリノレ、 0. 1 M 丁 E AA、 p H 7. 0， B : ァセトエトリル； 1 0— D 0 % B / 2 0 m 1 n ； linear gradient ； 1 ml/min ; 2 6 0 nm) で分析すると 1 5. 4 1 m i nに溶出された。

Using about 0.1 M of an acetonitrile solution of the compound of Example 12b in bottle # 5 and about 0.1 M of an acetonitrile solution of the compound of Example 16a in bottle # 6, the base sequence was changed to 5GGG6GT. And synthesized in the same manner as in Example 1. However, in the purification, reverse phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.5 x 11 cm; A: 50 mM TEAB, pH 7.5, B: acetonitrile; 15-50 % B; linear gradient; 254 nm). The same post-treatment as in Example 1 was carried out to obtain a target compound in the form of amorphous (253 OD (260 nm)). The compound was analyzed by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150 mm; A: 5% acetate ditriol, 0.1 M EEA, pH 7.0, B: acetate ethl; When analyzed by 1 0—D 0% B / 20 m 1 n; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm), it was eluted at 15.41 min.

UVmax (H₂0) :252nm_Q UVmax (H ₂ 0): 252nm _Q

(実施例 1 8 ) (表 1の例示化合物 4 4 1 ) 05

ボトル #5 におよそ 0.1 M の実施例 12b の化合物のァセトニ卜リル溶液、ボトル #6 におよそ 0.1 M の実施例 16a の化合物のァセトニトリル溶液、ボトル #7 におよそ 0.1 Mの実施例 7dの化合物のァセトニトリル溶液を用い、 57776GT という塩基配列に変更し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトダラフィ一 (Preparative し 18, Waters, 1. 5 1 1 c m ； A ： 5 0 m M T EAB、 p H 7. 5， B ：ァセトニトリル； 15— 50% B ; 1 inear gradient； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、ァモルファス状の目的化合物を 1 7 0 O D ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS- DNA、 4.6 x 150mm ； A ： 5 %ァセト二トリル、 0. 1 M T EAA、 p H 7. 0, B : ァセトニトリル； 1 0— 6 0 %B ^/ 2 0 m i n ； 1 inear gradient； 1 ml/min ; 2 6 0 nm) で分析すると 1 5. 4 5 m i nに溶出された。 (Example 18) (Example compound 4 4 1 in Table 1) 05

Approximately 0.1 M acetonitrile solution of the compound of Example 12b in bottle # 5, approximately 0.1 M in bottle # 6, approximately 0.1 M of the compound of Example 16a in bottle # 7, approximately 0.1 M in bottle # 7 The compound was synthesized in the same manner as in Example 1 except that the base sequence was changed to 57776GT using an acetonitrile solution of the compound of Example 7d. However, in the purification, reverse phase silica gel column chromatography (Preparative 18, Waters, 1.511 cm; A: 50 mM MT EAB, pH 7.5, B: acetonitrile) 15-50% B; 1 inear gradient; 254 nm) was used. The same post-treatment as in Example 1 was carried out to obtain a target compound in the form of amorphous (170 OD (260 nm)). This compound was obtained by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150 mm; A: 5% acetate nitrile, 0.1 MT EAA, pH 7.0, B: acetate nitrile; 10 — 60% B ^/ 20 min; 1 inear gradient; 1 ml / min; 260 nm) eluted at 15.45 min.

UVmax(H₂0) :254nm₀ UVmax (H ₂ 0): 254nm ₀

(実施例 1 9) (表 1の例示化合物 1 6 7) (Example 19) (Exemplified compound 16 7 in Table 1)

ボトル #5 におよそ 0.1 M の実施例 12b の化合物のァセトニトリル溶液、ボトル #⁷ におよそ 0.1 Mの実施例 7dの化合物のァセトニトリル溶液を用い、 5777T という塩基配列に変更し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィ一 (Preparative C18, Waters, 1. 5 1 1 c m ； A ： 5 0 mM T EAB、 p I- I 7. 5， B :ァセトニトリル； 15— 50% B； linear gradient； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、アモルファス状の目的化合物を 1 2 7 O D ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150m m ； A ： 5 %ァセトニトリノレ、 0. 1 M T E AA、 p H 7. 0 , B : ァセトニトリル； 1 0 - 6 0 % B / 2 0 m i n ； linear gradient； 1 ml/rain ; 2 6 0 nm) で分析すると 1 5. 8 1 m i nに溶出された。

Using about 0.1 M of an acetonitrile solution of the compound of Example 12b in bottle # 5 and about 0.1 M of an acetonitrile solution of the compound of Example 7d in bottle # ⁷ , changing the base sequence to 5777T, Synthesized in the same manner as in Example 1. did. However, in the purification, reverse phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.511 cm; A: 50 mM TEAB, pI-I7.5, B: acetonitrile; 15-50% B; linear gradient; 254 nm). The same post-treatment as in Example 1 was performed to obtain 127 OD (260 nm) of the target compound in an amorphous state. This compound was obtained by reverse-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 150 mm; A: 5% acetate nitrile, 0.1 MTE AA, pH 7.0, B: acetate nitrile; 10 When analyzed by -60% B / 20 min; linear gradient; 1 ml / rain; 260 nm), it was eluted at 15.81 min.

UVmax(H₂0) :255nm。 _{UVmax (H 2 0): 255nm} .

(実施例 20) (表 1の例示化合物 1 6 0) (Example 20) (Example compound 160 in Table 1)

£~ cH₂0 CH₂ - O - K₃GGG-CH₂CH₂OH £ ~ cH ₂ 0 CH ₂ -O-K ₃ GGG-CH ₂ CH ₂ OH

ボトル #5 におよそ 0.1 M の実施例 12b の化合物のァセトニトリノレ溶液、 5GGGT という塩基配列に変更し、実施例 1 と同様にして合成した。伹し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー (Preparative C18, Waters, 1. 5 x 1 1 c m ； A ： 5 0 mM T EAB、 p I- 17. 5， B：ァセトニトリル； 15— 50% B； linear gradient； 2 5 4 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、アモルファス状の目的化合物を 2 0 1 OD ( 2 6 Onm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 0m m ； A ： 5 %ァセトニトリノレ、 0. 1 M T EAA、 p H 7. 0 , B : ァセトニトリル； 1 0— 6 0 %B Z 2 0 m i n ； linear gradient； 1 ral/min ; 2 6 0 nm) で分析すると 1 5. 7 6 m i nに溶出された。 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the base sequence of 5GGGT was changed to about 0.1 M of an acetonitrile solution of the compound of Example 12b in bottle # 5. For purification, reverse-phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.5 x 11 cm; A: 50 mM TEAB, pI-17.5, B: acetonitrile) Ril; 15-50% B; linear gradient; 254 nm). The same post-treatment as in Example 1 was performed to obtain 210 OD (26 Onm) of the amorphous target compound. This compound was obtained by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 x 0 mm; A: 5% acetate nitrile, 0.1 MT EAA, pH 7.0, B: acetate nitrile; 10 — 60% BZ 20 min; linear gradient; 1 ral / min; 260 nm) It was eluted at 15.76 minutes.

UVmax(H₂0) :252nm₀ UVmax (H ₂ 0): 252nm ₀

(実施例 2 1 ) (表 1の例示化合物 1 4 3) (Example 21) (Exemplified compound 1 43 of Table 1)

ボトル #7 におよそ 0.1 Mの実施例 7dの化合物のァセトニトリル溶液を用い、 5777T という塩基配列に変更し、実施例 1 と同様にして合成した。但し、精製においては、逆相シリカゲルカラムクロマトグラフィー (Preparative C18, Waters, 1. 5 x 1 1 c m ； A ： 5 0 mM T EAB、 p H 7. 5， B :ァセトニトリノレ； 15— 50% B； linear gradient； 2 54 nm) を用いた。実施例 1 と同様の後処理を行い、アモルファス状の目的化合物を 9 8 OD ( 2 6 0 nm) 得た。本化合物は、逆相 H P L C (Wakosil WS-DNA, 4· 6 x 150m m ； A ： 5 <½ァセトニトリノレ、 0. 1 M T E AA、 p H 7. 0 , B : ァセトニトリノレ； 1 0— 6 0 % B / 2 0 m i n ； linear gradient； 1 ml/min ; 2 6 0 nm; で分析すると 1 5. 2 0 m i nに溶出された。

Using a 0.1 M solution of the compound of Example 7d in acetonitrile in bottle # 7, the nucleotide sequence was changed to 5777T, and synthesis was performed in the same manner as in Example 1. However, in the purification, reverse-phase silica gel column chromatography (Preparative C18, Waters, 1.5 x 11 cm; A: 50 mM TEAB, pH 7.5, B: acetonitrile; — 50% B; linear gradient; 254 nm) was used. The same post-treatment as in Example 1 was performed to obtain 98 OD (260 nm) of the target compound in an amorphous state. This compound was obtained by reversed-phase HPLC (Wakosil WS-DNA, 4.6 × 150 mm; A: 5 <acetonitrile, 0.1 MTE AA, pH 7.0, B: acetonitrile) When analyzed with 10-60% B / 20 min; linear gradient; 1 ml / min; 260 nm; it was eluted at 15.20 min.

UVmax(H₂0) :256nm₀ _{UVmax (H 2 0): 256nm} 0

(製剤例 1 ) 注射剤 (Formulation Example 1) Injection

1.5 重量％の実施例 11 の化合物を、 10 容量％のプロピレングリコール中で撹拌し、次いで、注射用水で一定容量にした後、滅菌して製造する。 1.5% by weight of the compound of Example 11 are stirred in 10% by volume of propylene glycol, made up to volume with water for injection and then sterilized.

(製剤例 2) 錠剤 1 08 (Formulation Example 2) Tablet 1 08

1 ) 実施例 1 1の化合物 20 0 1) Compound of Example 11 1 200

2 ) ピロ憐酸ナトリウム 5 2) Sodium pyrophosphate 5

3 ) ァエロジル 2 0 0 5 3) Aerosil 2 0 0 5

4 ) ステアリン酸マグネシゥム 5 4) Magnesium stearate 5

5) 乳糖 4 9 5 5) Lactose 4 9 5

6 ) トウモロコシデンプン 1 54 6) Corn starch 1 54

7) ァピセノレ 1 2 3 7) Apisenore 1 2 3

8 ) H P L ( L) 1 0 8) H P L (L) 10

計 9 9 7 m g 9 9 7 mg in total

上記のうち 5 ) 〜 8) を混合し造粒した予製顆粒に、 1 ) 〜4 ) を混合し粉砕したものを添加し、次いで打錠機により打錠して 1錠 1 0 0 m gの錠剤とする。 Of the above, 5) to 8) were mixed and granulated, and 1) to 4) were mixed and pulverized.Then, the mixture was compressed with a tableting machine and 1 tablet was 100 mg. Tablets.

(製剤例 3) カプセル剤 (Formulation Example 3) Capsule

1 ) 実施例 1 1の化合物 20 0 1) Compound of Example 11 1 200

2 ) リン酸水素カルシウム 20 0 2) Calcium hydrogen phosphate 200 0

3 ) ケィ酸アルミニゥム 3 4 5 3) Aluminum silicate 3 4 5

4 ) 結晶セノレロース 2 5 0 4) Crystalline Senorelose 2 5 0

5 ) ステアリン酸マグネシウム 2 5) Magnesium stearate 2

計 9 9 7 m g 9 9 7 mg in total

上記の 1 ) 〜 5) を混合粉砕し，さらにふるいを通し、よく混合したのち，常法に従いカプセル 20 0 m gのカプセル剤とする。 Mix and pulverize 1) to 5) above, pass through a sieve, mix well, and prepare capsules of 200 mg according to the usual method.

(製剤例 4) ハードカプセル剤 (Formulation Example 4) Hard capsule

標準二分式ハードゼラチンカプセルの各々に、 100 mg の粉末状の実施例 1 1の化合物、 150 mgのラクトース、 50 mg のセルロース及び 6 mg のステアリン酸マグネシウムを充填することにより、単位カプセルを製造し、洗浄後、乾燥する。 (製剤例 5 ) ソフトカプセル剤 Unit capsules were prepared by filling each of the standard bisected hard gelatin capsules with 100 mg of the powdered Example 11 compound, 150 mg lactose, 50 mg cellulose and 6 mg magnesium stearate. Manufacture, wash and dry. (Formulation Example 5) Soft capsule

消化性汕状物、例えば、大豆油、綿実油又はォリーブ油中に入れた実施例 1 1の化合物の混合物を調製し、正置換ポンプでゼラチン中に注入して、 100 mg の活性成分を含有するソフトカプセルを得、洗浄後、乾燥する。 Prepare a mixture of the compound of Example 11 in a digestible scallop, for example, soybean oil, cottonseed oil, or olive oil, inject into gelatin with positive displacement pump, contain 100 mg of active ingredient To obtain a soft capsule to be washed, dried after washing.

(製剤例 6 ) 錠剤 2 (Formulation Example 6) Tablet 2

常法に従って、 100 mg の実施例 1 1 の化合物、 0. 2 mg のコロイド性二酸化珪素、 5 mg のステアリン酸マグネシウム、 275 mg の微結晶性セルロース、 1 1 mg のデンプン及び 98. 8 mg のラクトースを用いて製造する。 In a conventional manner, 100 mg of the compound of Example 11, 0.2 mg of colloidal silicon dioxide, 5 mg of magnesium stearate, 275 mg of microcrystalline cellulose, 11 mg of starch and 98.8 Produced using mg lactose.

(試験例 1 ) 修飾オリゴデォキシリボヌクレオチドの抗 HIV-1 活性の測定 (Test Example 1) Measurement of anti-HIV-1 activity of modified oligodeoxyribonucleotide

抗 HIV- 1活性はパゥエルらの方法によって測定した（R. Pauel et al . , J. Virologi cal Methods 20, 309-321 ( 1988) ) 。すなわち，対数増殖期にある M T— 4細胞を 150 X _g で 5 分間遠心し，得られた細胞沈澱を培地にて懸濁したのち HIV- 1 (Ι ΠΒ 型）を 10 CCID _{5 Q} の濃度で 37°Cで 1時間感染させた。その後、牛胎児血清 10%を含む RPMI- 1640培地（以下「血清培地」と称する）で遠心し、洗浄することにより HIV - 1感染 MT-4 細胞を得た。 Anti-HIV-1 activity was measured by the method of Pawel et al. (R. Pauel et al., J. Virology Methods 20, 309-321 (1988)). That is, the MT- 4 cells in the logarithmic growth phase were centrifuged for 5 min at 0.99 X _g, a concentration of the resulting After the cell pellets were suspended in a medium HIV- 1 (Ι ΠΒ type) to 10 CCID _{5 Q} Infected for 1 hour at 37 ° C. Thereafter, HIV-1 infected MT-4 cells were obtained by centrifugation and washing with RPMI-1640 medium containing 10% fetal calf serum (hereinafter referred to as "serum medium").

HIV- 1感染 MT- 4細胞および HIV- 1 非感染 MT- 4細胞をそれぞれ 4 X 10⁵ 細胞/ ml になるように血清培地に懸濁した。 96 穴プラスチックマイクロタイタ一プレート中にあらかじめ段階希釈した検体化合物溶液（血清培地に溶解したもの）を各穴に 100 μ 1 づっ入れ，次いでこの各穴に上記細胞懸濁液を各々 100 μ 1づっ添加し、 5 %の炭酸ガス存在下で 6 日間静置培養した。 HIV-1 infected MT-4 cells and HIV-1 uninfected MT-4 cells were each suspended in a serum medium so as to be 4 × 10 ⁵ cells / ml. Into a 96-well plastic microtiter plate, add 100 µl of the test compound solution (dissolved in serum medium) serially diluted in advance to each well, and then add 100 µl of the above cell suspension to each well. The mixture was added, and culturing was carried out for 6 days in the presence of 5% carbon dioxide.

同様に，検体化合物添加の HIV- 1 感染 ΜΤ- 4細胞および検体化合物無添加の Π I V- 1 非感染 MT-4細胞を培養した。 Similarly, HIV-1 infected ΜΤ-4 cells supplemented with the test compound and no test compound The added ΠIV-1 non-infected MT-4 cells were cultured.

培養終了後， MTT(3- (4, 5-dimethylthiazole-2-yl)-2, 5-diphenyl tetrazolium bromide)法に基づき，生細胞数を測定し（L. M. Green et al. , J. Immunol. Methods, 70, 257-268(1984)), HIV- 1 による細胞障害活性を求めた。検体化合物無添加の HIV- 1 感染 MT- 4細胞の細胞障害活性を 100%とし、検体化合物無添加の HIV- 1 (IIIB 型）非感染 MT-4細胞の細胞障害活性を 0 %として、 H I V - 1 感染 MT- 4細胞の細胞障害活性を 5 0 %抑制しうる検体の濃度（ I C₅₀) を求めた。また、検体化合物の細胞毒性活性として、 HIV-1 非感染 MT- 4細胞の増殖を 5 0 %抑制する濃度（C C₅。）を求めた。これらの測定結果を表 3または表 4に示す。 After completion of the culture, the number of viable cells was measured based on the MTT (3- (4,5-dimethylthiazole-2-yl) -2, 5-diphenyltetrazolium bromide) method (LM Green et al., J. Immunol. Methods , 70, 257-268 (1984)), to determine the cytotoxic activity of HIV-1. The cytotoxic activity of HIV-1 infected MT-4 cells without sample compound addition is defined as 100%, and the cytotoxic activity of HIV-1 (IIIB) uninfected MT-4 cells without sample compound is defined as 0%. Then, the concentration (IC ₅₀ ) of a sample capable of suppressing the cytotoxic activity of MT-4 cells infected with HIV-1 by ₅₀ % was determined. As the cytotoxic activity of the test compound, a concentration (CC ₅ ) that inhibits the proliferation of HIV-1 non-infected MT-4 cells by 50% was determined. The results of these measurements are shown in Table 3 or Table 4.

この試験は、用いた細胞の状態によって、 I C₅。が変動することがあるので、試験ごとに、特願平 7 _ 8 7 9 8 2の実施例 94の化合物 [本発明の一般式（ 1 ) において、 B ₂及び B ₃からなる配列が TGG G AGであり、 zが 0である化合物に相当する。] を比較対照化合物として用い、その I C₅。値で実施例化合物の I C ₅。値を除した値を I C ₅ 。相対値とした。 This test, the state of the cells with, IC _5. Since There may vary for each test, the compound of Japanese Patent Application No. 7 _ 8 7 9 8 2 Example 94 [compound represented by the formula (1), array of B ₂ and B ₃ are TGG G AG and corresponds to a compound in which z is 0. ] Used as a comparative control compound, the IC _5. IC ₅ Example compound value. IC ₅ the value obtained by dividing the value. Relative values were used.

(表 3 ) 実施例 I C 5 0 I C_{5 C} C C 5 0 (Table 3) Example IC 50 IC _{5 C} CC 50

(μ g/ral) 相対値 (β g/ml) (μ g / ral) Relative value (β g / ml)

1 2.5 5.0 〉50 1 2.5 5.0〉 50

2 1.1 2.2 〉50 2 1.1 2.2〉 50

3 1.0 2.0 〉50 3 1.0 2.0〉 50

4 0.23 0.46 〉50 4 0.23 0.46〉 50

5 4.2 8.4 >50 6 1.7 3.4 >50 5 4.2 8.4> 50 6 1.7 3.4> 50

対照 0.5 1.0 >50 Control 0.5 1.0> 50

(表 4 ) 実施例 I c₅₀ I c₅₀ C ₅ Q (Table 4) Example I c ₅₀ I c ₅₀ C ₅ Q

( μ g/ml) 相対値 (μ g/ml) (μg / ml) Relative value (μg / ml)

7 1.0 0.63 >50 7 1.0 0.63> 50

8 1.0 0.63 〉50 8 1.0 0.63〉 50

9 0.72 0.45 〉50 9 0.72 0.45〉 50

0 1.0 0.63 >50 0 1.0 0.63> 50

0.74 0.46 〉50 0.74 0.46〉 50

1 2 2.8 1.8 〉50 1 2 2.8 1.8〉 50

1 3 5.6 3.5 〉50 1 3 5.6 3.5〉 50

1 4 2.4 1.5 〉50 1 4 2.4 1.5〉 50

対照 1.6 1.0 〉50 その結果、表 3及び表 4にあげた修飾ォリゴデォキシリボヌクレオチドは、高い抗 HIV - 1 活性を有することが明かとなった。これらの化合物は、いずれも 1 0 g Zm 1以下の濃度で抗 HIV-1 活性を示した。産業上の利用可能性本発明の一般式（ 1 ) を有する化合物は、エイズウイルス（H I V— ) に対して特異的な障害活性を有し、感染細胞における本ウィルスの増殖を特異的に抑制した。したがって、一般式（ 1 ) を有する化合物はエイズ疾患の治療および予防薬として有用である。 Control 1.6 1.0〉 50 As a result, it was revealed that the modified oligodeoxyribonucleotides listed in Tables 3 and 4 have high anti-HIV-1 activity. All of these compounds showed anti-HIV-1 activity at a concentration of 10 g Zm1 or less. INDUSTRIAL APPLICABILITY The compound having the general formula (1) of the present invention has a specific inhibitory activity against AIDS virus (HIV-), Proliferation was specifically suppressed. Therefore, the compound having the general formula (1) is useful as an agent for treating and preventing AIDS disease.

また、本発明の一般式（2 ) で表わされる 2-N -メチル -2' -デォキシグアノシン誘導体は、 2— N—メチルグアノシンを含有するヌクレオチドを合成するにあたり有用である。 The 2-N-methyl-2'-deoxyguanosine derivative represented by the general formula (2) of the present invention is useful for synthesizing a 2-N-methylguanosine-containing nucleotide.

Claims

Claims General formula (1)

(1)

(Wherein, B iM, X, R, K n, A, G, C or T, the beta ₂ and beta _3, same or different, a, g, c, t , M, X, R, is K _n, a, G, C or T, m is an integer of 0 to 7, z represents an integer number of 0 to 9, 3 ₁ and 3 ₂ are the same or different, a hydrogen atom, a carbon Represents an alkyl group having 1 to 4 alkyl groups, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, or a halogen atom, wherein B ₂ may be the same or different in each repetition of m; c, t, M, X, R, _Kn , A, G, C and T are

o-

14

M X R Kn

In the expression indicating AGC, K _n itself and K _n , η is an integer of 2 to 6. However, those sequences consisting of B ₂ and B ₃ is composed of A, G, only the combination of C and T, and becomes sequence consisting beta and beta ₂ is A, G, a combination of C and T, and, excluding those Β ₃ is Κ _2. ) And a pharmacologically acceptable salt thereof.

2. In claim 1, BT, (the eta 2 to 6) R or K _n Ri der, 13 _2, G, g, M, X or K _n (eta 2 to 6) are, beta ₃ Is G, g or Μ, m is 2 to 4, and z is 0 to 4.

3. In claim 1, BT, (the eta 3 or 6) R or K _n der Ri, BG, g and or M, B ₃ is g, m is 2 to 3, z is 0 Or 1, wherein S 1 and S ₂ are hydrogen atoms.

4. In claim 1, is T or K _n (η is 3 or 6), Β ₂ is G, g or Μ, B ₃ is g, m is 2 to 3, and z is A compound in which S is 0 and S ₂ and S ₂ are hydrogen atoms.

5. In claim 1, array of BB ₂ and B ₃ are, TGG gg, TGGG g, K 3 GGG, K 3 MMM or K ₃ compound is GGGG.

6. In claim 1, a sequence consisting of B p B ₂及Pi B ₃ is a TGGG g, m is 2 to 3, z is 0, 3 ₁ and 3 ₂ are hydrogen atom Compound.

7. In claim 1, is G, Τ, M or X, B ₂ is A, G, M or X, BG, M or X, m is 0 to 4, and z is 0 Or a compound which is 1.

8. In claim 1, but a T, 13 ₂ is a G or M, B ₃ is G or M, m is 2 to 4, z force 0, and S ₂ are hydrogen A compound which is an atom and has 0 to 1 A in the sequence consisting of B 1, B ₂ and B ₃ .

9. In claim 1, is T, B ₂ is A, G or M, B ₃ is G or M, m is 4, z is 0, and 3 ₁ and 3 ₂ water A compound in which the number of Α in the sequence consisting of Β _{1 Λ} Β ₂ and Β ₃ is one element atom.

10. The method according to claim 1, wherein the sequence consisting of B p B ₂ and B ₃ is TMMM, TMGGAG, TGMGAG, TG GMAG, TGGGAM, TMMM AG or TXXXX, m is 4 and z is 0. A compound wherein SI and S 2 are hydrogen atoms.

1 1. In claim 1, the sequence consisting of B ₁ B ₂ and B ₃ is TMGG AG, TGMGAG, TG GMAG, TGGG AM or T MMM AG, m is 4, z is 0, S Compounds in which i and S ₂ are hydrogen atoms.

1 2. A pharmaceutical composition comprising the compound according to claim 1 or a pharmacologically acceptable salt thereof as an active ingredient.

1 3. A composition for treating or preventing an AIDS disease, comprising the compound according to claim 1 or a pharmacologically acceptable salt thereof as an active ingredient.

1 4. Use of the compound according to claim 1 or a pharmaceutically acceptable salt thereof for producing a medicament.

1 5. Use of the compound according to claim 1 or a pharmaceutically acceptable salt thereof for producing an anti-AIDS agent.

1 6. A method for treating or preventing AIDS disease, comprising administering a pharmacologically effective amount of the compound according to claim 1 or a pharmacologically acceptable salt thereof to a warm-blooded animal. 7 General formula

Wherein a hydrogen atom, 4,4' dimethyl Tokishito salicylic group or ⁴ - Monome Tokishitorichiru represents a group, R ₂ represents a hydrogen atom, the formula _{_{- P (OCH 2 CH 2 CN}} ) N (CH (CH 3 ) ₂ ) ₂ or the formula —P (OCH ₃ ) N (CH (CH ₃ ) ₂ ) ₂ . ] The compound represented by these.

1 8. The compound according to claim 17, selected from the following group:

2-Cyanethinole = 2—N-Methinole—6-0—Diphenylcarnomino 2′—Doxy-5′-0— (4,4′-Dimethoxytolytyl) Guanosine—3′-0-yl—N, N-diisopropyl phosphoramidite,

Methynole = 2— N—Methynole 6—0—Dipheninolecananoleno Minorie 2'-deoxy 5, -0- (4,4'-dimethoxytrityl) Guanosine -3'-0-ylue N, N -Gysopro pill phosphoramidite,

2-cyanoethyl = 2-N-methyl-6-0-diphenylcarbaminole-2'-doxy-5'-0- (4-monomethoxytrityl) guanosine-3'-0-yl-N, N-di Sopropyl phosphoramidite and

Methinole = 2-N—Methinole—6—0—Diphenolecanoreno Minore—2′—Deoxy—5′—0— (4-Monomethoxytrityl) Guanosine-3′-0-yl-1-Ν, Ν-diisopropylphospho A roamidite compound.