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WO1997035851A1 - Heterocycle-substituted benzene derivatives and herbicides - Google Patents

Heterocycle-substituted benzene derivatives and herbicides Download PDF

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WO1997035851A1
WO1997035851A1 PCT/JP1997/000985 JP9700985W WO9735851A1 WO 1997035851 A1 WO1997035851 A1 WO 1997035851A1 JP 9700985 W JP9700985 W JP 9700985W WO 9735851 A1 WO9735851 A1 WO 9735851A1
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WO
WIPO (PCT)
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group
methyl
alkyl
alkyl group
solvent
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP1997/000985
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Hiroyuki Adachi
Masao Yamaguchi
Takahiro Sagae
Masami Koguchi
Kazuyuki Tomita
Takashi Kawana
Akihiro Takahashi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Soda Co Ltd
Original Assignee
Nippon Soda Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Priority to AU19454/97A priority patent/AU1945497A/en
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    • C07D261/02—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings
    • C07D261/06—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings having two or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D261/08—Heterocyclic compounds containing 1,2-oxazole or hydrogenated 1,2-oxazole rings not condensed with other rings having two or more double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
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    • C07D413/02—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings
    • C07D413/10—Heterocyclic compounds containing two or more hetero rings, at least one ring having nitrogen and oxygen atoms as the only ring hetero atoms containing two hetero rings linked by a carbon chain containing aromatic rings

Definitions

  • the present invention relates to novel heterocyclic-substituted benzene derivatives and herbicides. Background technology:
  • WO96 / 260200 describes a compound represented by the following formula [1 ⁇ ].
  • ⁇ r e is hydrogen, d-8 alkyl group, 6 alkylthio group, C 3 -.
  • Beta represents a cycloalkyl group, etc.
  • ML is hydrogen, C alkyl group, C-6 alkenyl group, a halogen Represents an atom, etc.
  • Z represents a 5- or 6-membered saturated or unsaturated heterocyclic group.
  • An object of the present invention is to provide a herbicide which can be synthesized industrially advantageously, is effective at a low dose, has high safety, and has high crop selectivity.
  • the present invention provides a compound represented by the formula (I):
  • R 1 is a halogen atom, de alkyl group, C, - e alkoxy group, a secondary Bok port group, Shiano group, C, - e haloalkyl group, beta alkylthio group, d-8 alkyl Rusurufiniru group or 6 Represents an alkylsulfonyl group.
  • R 2 represents a halogen atom, a nitro group, Shiano group, de alkyl group, C, - e alkoxy group, d haloalkyl, Cl haloalkoxy group, d-6 alkylthio O group, d alkylsulfinyl group or a C alkyl sulfonyl Represents a group
  • R 3 and R each independently represent a hydrogen atom, a C alkyl group or a ⁇ - or alkyl group.
  • R 5, R 6, R 7, R 8, R 9 and R '° are each independently hydrogen atom, halogen atom, C WINCH e alkyl group, C, - haloalkyl group, C, - 6 an alkoxy group, Ci haloalkoxy group, de alkylthio groups, C DOO 6 Arukirusurufu Iniru groups, C, - alkylsulfonyl group, optionally Fuweniru group which may be substituted, C
  • alkylthio d alkyl d-6 alkylsulfinyl d alkylene Alkyl group, C- ⁇ alkylsulfonyl nitrate 6 alkyl group, s-substituted phenylthio d- ⁇ alkyl group, optionally substituted phenylsulfinyl C-alkyl group, substituted which may off We sulfonyl sulfonyl ⁇ alkyl, C beta alkoxy de alkyl group, ⁇ which do may be Fuweniru de alkyl Okishi d-6 alkyl group, C-beta alkylcarbonyl O alkoxy d-6 alkyl group, hydroxyalkyl beta alkyl group, di-de alkoxy ⁇ Bok 6 alkyl group, beta ⁇ alkoxycarbonyl group, Shiano group, formyl group, hydroxy I amino alkyl le group, de alkoxyimino
  • (R 5 or R e) and (R 7 or R 8) (R 7 or R 8) (R 8 or R 10) are each taken together, methylene or C 2 - 5 of ⁇ alkylene chain May be formed. ) Represents a cyclohexanedione-1,3-dione ring group. ]
  • a herbicide comprising one or more of a benzene derivative or a salt thereof substituted with a heterocyclic ring represented by the formula (1) as an active ingredient.
  • the present invention is a herbicide comprising a benzene derivative represented by the general formula [I] or a salt thereof, a salt thereof, and one or more of them as an active ingredient.
  • R 1 is a halogen atom such as fluorine, chlorine, or bromine, or a d alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, or t-butyl group.
  • R 2 is a halogen atom such as fluorine, chlorine, or bromine, a nitro group, a cyano group, or methyl
  • haloalkoxy groups such as trifluoromethoxy groups, methylthio, ethylthio, propylthio and isopropylthio groups; represents a ⁇ alkyl sulfonyl Le group - 6 Ryo Ruki Rusuru arylsulfinyl group or methylsulfonyl, Echirusuruhoniru, propyl sulfonyl, ⁇ such isopropylsulfonyl group, - C i, such as methylsulfinyl, Echirusu Rufiniru, propyl sulfinyl, isopropyl-sulfinyl group
  • R 3 is a halogen atom such as fluorine, chlorine, or bromine; a d-6 alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, or isopropyl; a d- 6 alkoxy group such as methoxy, ethoxy, propoxy, or isopropoxy; C, such as haloalkyl groups such as nitro group, cyano group, chloromethyl, fluoromethyl, bromomethyl, dichloromethyl, difluoromethyl, trichloromethyl, trifluoromethyl group, methylthio, ethylthio, propylthio, isopropylthio group, etc.
  • a halogen atom such as fluorine, chlorine, or bromine
  • a d-6 alkyl group such as methyl, ethyl, propyl, or isopropyl
  • a d- 6 alkoxy group such as methoxy, ethoxy, propoxy, or is
  • T is [! ! ] It represents the cyclohexanedione ring group represented by these.
  • R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R "and R 10 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine or the like, or a Cl such as a methyl, ethyl, propyl or isopropyl group.
  • C- ⁇ -haloalkyl groups such as - ⁇ alkyl group, chloromethyl, bromomethyl, dichloromethyl, chloroethyl, difluoromethyl, trifluoromethyl, trichloromethyl group, methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, de alkoxy group such as t one butoxy group, Torifuruorome butoxy, C etc.
  • - ⁇ A such as ethylsulfinyl, propylsulfinyl, and isopropylsulfinyl groups Kirusurufiniru group or methylsulfonyl, Echirusuruhoniru, propylsulfonyl, isopropylsulfonyl group, any position is off Tsu-containing benzene ring, a chlorine, a halogen atom such as bromine, C alkyl group such as a methyl group, main butoxy
  • a phenylthio d- ⁇ alkyl group such as phenylthiomethyl, phenylthioethyl, phenylthiopropyl, etc. (any of the benzene rings
  • the position is substituted by a substituent such as a halogen atom such as fluorine, chlorine, or bromine, a C, -8 alkyl group such as a methyl group, a d-S alkoxy group such as a methoxy or ethoxy group, a nitro group, or a cyano group.
  • Optionally substituted phenylsulfonyl c ⁇ -alkyl groups such as phenylsulfonylmethyl, phenylsulfonylethyl, and phenylsulfonylpropyl groups, methoxymethyl, methoxyxethyl, methoxyxyl, ethoxymethyl, ethoxymethyl, ethoxyquinethyl, D
  • halo alkoxides Consequences amino C Bok 6 alkyl group, click port b allyl O alkoximinoalkyl amino methyl, chloro allyl O alkoximinoalkyl amino ethyl, Furuoroa Lil O alkoximinoalkyl amino methyl, full O b allyl O alkoximinoalkyl amino ethyl, Puromoariruo Kishiiminome Le, chloro butenyl Ruo squeaking Bruno methyl, chloro butenyl Ruo squeaking aminoethyl c groups such as 2 - 4 haloalkenyl O key Consequences amino c, - e alkyl group or click Rollo E Hee Ruo alkoximinoalkyl amino methyl, Kuroroechiniruo Kishiiminoechiru represents a black hole propargyl O key Consequences amino methyl, black hole propargy
  • T include the following cyclohexanedione ring groups.
  • T may have the following tautomers. These are all included in the present invention. -
  • the compound of the present invention can be produced by the following method c
  • the compounds UVa] and UVb] are obtained by reacting the compound [II] and the compound [Va] in the presence of 1 mol or an excess of 1 mol or one of each in excess of a base. Can be.
  • Base used in the reaction KOH, N a alkali metal ⁇ hydroxides 0H like, alkali metal carbonates, alkaline earth metal hydroxides, alkaline earth metal carbonate, tri (C, - 6 alkyl) ⁇ Minn, pyridine, sodium phosphate, etc.
  • Solvents include water, methylene chloride, chloroform, toluene, ethyl acetate, N, N-dimethylformamide (DMF), tetrahydrofuran (THF), dimethoxetane , Acetonitrile and the like are used.
  • the reaction mixture is stirred at 0-50 ° C until the reaction is completed.
  • the rearrangement reaction is performed in the presence of a cyano compound and a mild base.
  • a cyano compound and a mild base 1 mol of the compounds [IVa] and [lVb] can be obtained by converting 1-4 mol of a base, preferably 1-2 mol of a base and 0.01-5 mol or more, preferably 0.05-2 mol of a sca. React with the compound.
  • the base used here any of the aforementioned bases can be used.
  • the cyano compound potassium cyanide, sodium cyanide, acetone cyanohydrin, hydrogen cyanide, a polymer holding potassium cyanide, or the like is used.
  • the reaction is completed in a shorter time by adding a phase transfer catalyst such as a small amount of S crown ether.
  • the reaction is carried out at a temperature lower than 80 ° C, preferably at 20 to 40 ° C.
  • Solvents used are 1,2-dichloroethane, toluene, acetonitrile, methylene chloride, ethyl dichloride, DMF, methyl isobutyl ketone, THF, dimethoxetane and the like.
  • W Compound [I] can also be obtained by reacting compound [II] with compound [Vc] in the presence of a base and, if necessary, Lys®® according to the following method.
  • the base used is an alkali metal hydroxide such as ⁇ , Na a, an alkaline earth metal hydroxide, tri (C, 1C 6 alkyl) amine, pyridine, sodium carbonate, sodium phosphate, etc. .
  • Suitable Lewis acids are zinc chloride, aluminum trichloride and the like, preferably zinc chloride.
  • the reaction is carried out in an organic solvent such as acetonitrile, methylene chloride or the like at an appropriate temperature from 120 ° C to the boiling point of the solvent. Manufacturing method (ii)
  • the desired compounds (ib) and (lc) in which the substituent on the cyclohexane ring is converted can be produced by the following method. .
  • compound [Ia] was converted to phenyltrimethylammonium in an inert solvent.
  • Halogenation by reacting with a halogenating agent such as tribromide or Meldrum's acid dibromide at an appropriate temperature from o ° c to the boiling point of the solvent, preferably from room temperature to 50 ° C, for several hours to several tens of hours. It is possible to produce the obtained trione [lb].
  • the solvent used include methylene chloride, benzene, ethyl acetate, THF, acetonitrile, and dimethoxetane.
  • the halogenated trione compound [Ib] can be reacted with a nucleophilic reagent in the presence of a base to produce the desired compound [Ic].
  • R 12 is a lower branched or unsubstituted alkoxy, aralkyloxy, Z represents a leaving group such as a halogen atom, an alkylsulfonate group and an arylsulfonate group.
  • the compound [Ie] can be obtained by reacting the compound [ld] with a hydrohalic acid such as hydrochloric acid or hydrobromic acid, a reaction with trifluoroacetic acid, boron tribromide, etc. It can be produced by potassium hydrolysis or the like, and if necessary, by subsequent hydrolysis.
  • the compound [le] can be converted to the compound [ ⁇ ] by halogenation, alkylsulfonation or arylsulfonation by an ordinary method.
  • the compound (Ig) is obtained by reacting this compound (If) in a solvent in the presence of an equimolar or more base at _20 ° C to the boiling point of the solvent used, preferably from room temperature to 100 ° C for 30 minutes to several tens hours. Can be manufactured.
  • R 13 and R 14 represent a lower alkyl group.
  • R 15 is hydrogen, C, -6 Alkyl, C 2 - 4 alkenyl, C2-4 alkynyl, Cl @ - beta haloalkyl, C 2 -4 haloalkenyl, C 2 - represents 4 haloalkynyl, m represents 0 or 1.
  • the compound [Ih] can be produced by a known method such as the compound [I].
  • the compound [Ih] is dissolved in a solvent in an amount of equimolar or more in the presence of a compound represented by the formula: H 2 NOR 15 from 120 ° C. to the boiling point of the solvent used, preferably 30 ° C. from room temperature to 100 ° C.
  • the compound [li] can be produced by reacting for a few minutes to several tens of hours. The reaction is completed in a shorter time by adding an acid catalyst such as sulfuric acid with a small amount of S.
  • solvent used examples include water, alcohol, methylene chloride, benzene, toluene, ethyl acetate, DMF, THF, dimethoxetane, and acetonitrile, alone or as a mixture.
  • the cyclic dione represented by the general formula [II] can be produced according to a known method. Further, the above-mentioned substituted benzoic acid [Va] can also be produced by a known reaction.
  • the compound [I] of the present invention may exist in a number of tautomeric forms, for example, as shown below. All of these " ⁇ compounds are included in the present invention.
  • Aldehyde (3) and carboxylic acid (4) which are important synthetic intermediates for producing the compound of the present invention, can be produced as follows.
  • R 1 and R 2 represent the same meaning as described above, R 16 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and W represents a halogen atom.
  • toluene derivative (1) From the toluene derivative (1), a known method, for example, a simple halogen such as chlorine or bromine, or a halogenating agent such as N-bromosuccinic acid imide (NBS) or N-chlorosuccinic acid imid (NCS), Alternatively, a benzyl halide derivative (2) is obtained by reacting in the presence of a radical reaction initiator such as benzoylperoxide, and then, for example, J. Am. Chem. Soc., 71.1 The aldehyde (3) can be produced by the method described in 767 (19449).
  • a radical reaction initiator such as benzoylperoxide
  • an aldehyde compound (3) is reacted by reacting an alkali metal salt of a ditroalkane such as 2-dipropane with an alcohol solvent such as methanol or ethanol at a temperature between 0 ° C and the boiling point of the solvent. ) Can be manufactured.
  • the carboxylic acid compound (4) is converted from the toluene derivative (1) by an oxidation reaction of permanganate or the like, or from the aldehyde (3) by Jones reagent, chromic acid or permanganate. It can be produced by a known method such as an oxidation reaction.
  • R 17 and R 18 represent a hydrogen atom or a lower alkyl group
  • V represents a halogen atom
  • R 19 represents a lower alkyl group.
  • the alcohol form (6) is prepared by reacting the aldehyde form (3) with a Grignard reagent to produce an alcohol form (5).
  • the alcohol form (5) is activated with manganese dioxide, Oxidation with chromic acids gives the corresponding acyl form (6).
  • the aldehyde compound (3) and methyl ketone (9) were reacted with the presence of a catalyst.
  • the reaction is carried out in water at 0 to 50 ° C. for 1 to 50 hours to produce an aldol compound (7), which is subjected to a dehydration reaction using a catalyst in an appropriate solvent to give a vinyl ketone compound.
  • the catalyst used for producing the aldol compound (7) include metal hydroxides such as sodium hydroxide and barium hydroxide, and organic bases such as piperidine and pyridine.
  • Examples of the catalyst used in the dehydration reaction include acids such as concentrated sulfuric acid and p-toluenesulfonic acid.
  • the solvent for the dehydration reaction is benzene, toluene, etc. Hydrocarbons, and halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform.
  • the vinyl ketone compound (8) is obtained by reacting the aldehyde compound (3) with the phosphorane (10) in a suitable solvent at a temperature between room temperature and the boiling point of the solvent used for 10 minutes to 30 hours. Can also be manufactured.
  • the / 3—diketone compound (11) can be produced as follows.
  • R 1 , R 2 , and Rie have the same meanings as described above, and R, R 2 °, R 2 ′, and R 22 each independently represent a lower alkyl group.
  • the carboxylic acid compound (4) is converted into an inert solvent such as hydrocarbons such as benzene and toluene, halogenated hydrocarbons such as methylene chloride and chloroform and the like in a solvent such as phosgene, thionyl chloride and oxalyl chloride.
  • an agent By reacting with an agent, an intermediate carbonyl chloride (11) is produced.
  • it can be produced by reacting a magnesium salt obtained by reacting / 9-ketoester (13) with magnesium alcoholate and carbonyl chloride (11) according to a known method.
  • a method for synthesizing an isoxazole intermediate will be exemplified.
  • the vinyl ketone compound (8-1) and hydroxylamine were reacted in an appropriate solvent at 0 ° C at a temperature between the boiling points of the solvents for 0.5 to 5 hours to obtain an oxime compound (14). After that, the compound (15-1) can be produced by further ring closure and oxidation reaction. The hydroxylamine used in this oximation reaction can be reacted in the form of sulfate or hydrochloride, or after neutralization with an appropriate base.
  • Bases used for neutralization include carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium carbonate, sodium hydroxide, alkali metal hydroxides such as 7K oxidizing rim, carboxylate salts such as sodium acetate, sodium methylate, Metal alcohols such as sodium ethyl acetate; and organic bases such as triethylamine and pyridine.
  • the solvent used include alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol; hydrocarbons such as benzene and toluene; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform; ethers such as THF and dioxane. Nitriles such as acetonitrile, DMF, pyridine, acetic acid, water, etc. A mixed solvent of two or more of these solvents may be mentioned.
  • the isoxazole form represented by the general formula (15) is a diketone form (12- It can also be produced by reacting 1) with hydroxylamine or hydroxylamine mineral acid salt. These reactions are carried out in a suitable solvent at a temperature between 0 and the boiling point of the solvent used.
  • R 1 .R 2 .R 3 , R 4 and R ′ e represent the same meaning as described above, and r, .r 2 and R ′ represent a lower alkyl group.
  • isoxazole compound represented by the general formula (15) can be obtained by using the 3-acyl compound (6-1) as a starting material and N, N-dimethylformamide dimethylacetal or other N, N- Reaction of dialkylalkylamidedialkylacetal gives the formula
  • the compound can also be produced by reacting the dialkylaminomethylidene compound with hydramine xyamine.
  • the reaction in the previous step is carried out in the absence of a solvent or in an inert solvent such as benzene, toluene, or xylene from room temperature to the boiling point of the solvent used (in the absence of a solvent, the boiling point of N.N-dialkylalkylamide dialkylacetal).
  • the temperature range is as follows.
  • the following reaction is performed, for example, ether solvents such as dioxane, ether, tetrahydrofuran and 1,2-dimethyloxetane, aprotic polar solvents such as DMF and DMSO, and alcohols such as methanol and ethanol.
  • the reaction is carried out by reacting 1.0 to 2.0 moles of hydroxylamine hydrochloride or hydroxylamine sulfate with respect to 1 mole of the compound represented by the formula (16) in the above solvent.
  • the hydroxylamine can be reacted with the hydroxylamine in a free form using an appropriate base.
  • the reaction is carried out in a temperature range from room temperature to the boiling point of the solvent used.
  • an acid catalyst such as p-toluenesulfonic acid, sulfuric acid or hydrochloric acid to the reaction system in order to complete the ring closure reaction.
  • R 1 , R 3 , R 4 have the same meaning as described above, and R ′′ represents a lower alkyl group.
  • benzoic acids represented by the formula (15-4) act on the 4-C1 compound represented by the formula (15-5) in the presence of a mercaptan represented by R'SH in the presence of a base
  • a 4-SR 'form represented by the formula (15-3) can be obtained and then oxidized.
  • the base used in the reaction includes sodium hydroxide, alkali metal hydroxide such as lithium hydroxide, sodium methoxide, sodium methoxide, potassium t.
  • Metal alkoxides such as butoxide, carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate
  • hydrides such as sodium hydride
  • organic bases such as triethylamine, diisopropylethylamine, 1, diazabicyclo [5.4.0] -panda-7-cene (DBU), and pyridine.
  • the solvent used in the reaction is Examples thereof include alcohols such as ethanol, ethanol and the like, ethers such as THF and DME, amides such as DMF and dimethylacetamide (amides such as DMA, DMSO, acetonitrile, benzene, toluene, xylene and the like).
  • the next oxidation reaction is carried out in an inert solvent such as water, an organic acid such as acetic acid, dichloromethane, chloroform, halogenated hydrocarbon such as carbon tetrachloride, hydrogen peroxide, peracetic acid, perbenzoic acid, m —Performed by using an oxidizing agent such as peroxy acid such as black perbenzoic acid and hypochlorite such as sodium hypochlorite.
  • an oxidizing agent such as peroxy acid such as black perbenzoic acid and hypochlorite such as sodium hypochlorite.
  • the isoxazole derivative (15) can also be produced by the method described in WO 96/26200. The method is described below.
  • the product was purified by (form on black mouth) to obtain 18 g of the desired product.
  • I I-4 1.12, 1.40 (d, 3H), 1.60 (s, 3H) .1.82 (m, IH), 2.13 (a IH), 2.41 (s.3H
  • IV-7 0.70, 0.93 (m, IH), 1.2-2.1 (m, 2H), 1.25 (ra, 3H), 1.49, 1.73 (s, IH) .
  • IV-8 0.83.0.98 ( ⁇ , IH), 1.21-1.41 (m.IH). 1.29, 1.49 (d.3H), 1.55-1.73
  • IV- 10 0.76, 0.93 (m.IH), 1.2-2.Km.2H), 1.25 (m, 3H), 1.49, 1.73 (s, IH),
  • V- 40.98-1.40 (m, 9H), 2.05 (ID, IH). 2.40 (s.3H), 2.54.2.8 (ra.2H), 3.07
  • V-6 1.62 (m, IH), 2.42 (s.3H), 2.47 On, 2H), 2.85 (m, 2H), 3.07 (s.3H), 3.3
  • V-12 1.0-1.33 (m, 6H), 1.60 (m, 3H), 2.18 (n.IH), 2.40Cs, 3H), 2.55 Cm. 5H
  • V-14 1.13, 1.33 (d.3H), 1.70 (m, IH), 2.08 (ui, IH), 2.42 (s, 3H), 2.50 (m, IH
  • V-16 1.10-1.48 (m, 3H). 2.07 (, 3H), 2.21 (m, IH), 2.40 (m, IH), 2.42 (s.
  • V- 17 1.10-1.48 On, 3H), 2.05 (m.2H). 2.40 (s.3H), 2.51 (m, IH), 2.91 (m, IH)
  • V- 18 1.05-1, 48 (m.3H), 2.05 (ra, 2H) .2.41 (s, 3H) .2.51 (in, IH), 2.91 (m, IH)
  • V-20 1.22 (a 3H), 2. 03. 2.05 (s, 3H), 2. 35-2.81 (ra, 2H), 2.42 (s, 3H), 3. 07
  • V-22 1.32 (s, 6H). 1.57 (s. 6H). 2.41 (s, 3H), 3.08 (s. 3H), 6.49 (s. 3H).
  • the obtained organic layer was washed with water, washed with a saturated saline solution, and dried over magnesium sulfate.
  • Methyl 4-methanesulfonyl-12-methyl-3- (trifluoromethanesulfonyl) oxybenzoate 1.65 g (4.4 mimol) and 3-methyl-5- (triptylstannyl) isoxazole 1,97 g (5.3 mimol) was dissolved in dioxane 2 Om1, 0.58 g (14 mimol) of lithium chloride, tetrakis mono (triphenylphosphine) and palladium (0) 0.1 g, 2,6-di-t-butyl-4-methyl-phenol 0.01 g was added, followed by stirring at 140 ° C. for 3 hours in an autoclave.
  • the compound of the present invention shows a high herbicidal activity in any of soil treatment and foliage treatment under field cultivation conditions, and is effective for various field weeds such as crabgrass, potato japonica, itchibi, and inub, and is useful for corn, wheat, soybean, and soybean. Some compounds have selectivity for crops such as tartar.
  • the compound of the present invention also includes a compound exhibiting a plant growth regulating action for producing growth suppression or the like against useful plants such as crops, ornamental plants, and fruit trees.
  • the compound of the present invention has excellent herbicidal activity against various paddy weeds such as paddy weeds such as Nobie, Tamagayari, Omodaka and Hoyurui, and also includes a compound showing selectivity to rice.
  • the compound of the present invention can be applied to the control of weeds in orchards, lawns, track ends, vacant lots and the like.
  • the compounds of the present invention also include those having a plant growth regulating action, a bactericidal activity, an insecticidal / miticidal activity.
  • the herbicide of the present invention contains one or more of the compounds of the present invention as an active ingredient.
  • the compound of the present invention can be used in a pure form without adding other components, and can be used in the form of a general pesticide for the purpose of using it as a pesticide, that is, a wettable powder, a granule, a powder, It can also be used in the form of emulsions, aqueous solvents, suspensions, flowables and the like.
  • plant powders such as soybean flour and flour, diatomaceous earth, apatite, gypsum, talc, bentonite, mineral fine powders such as pyrophyllite and clay, and benzoic acid Organic and inorganic compounds such as soda, urea and sodium sulfate are used.
  • petroleum fractions such as kerosene, xylene and solvent naphtha, cyclohexane, cyclohexanone, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, alcohol, acetone, trichloroethylene, methylisobutyl ketone,
  • mineral oil, vegetable oil, water, etc. as solvent.
  • Surfactants can be added, if necessary, to obtain a uniform and stable form in these preparations.
  • the concentration of the active ingredient in the herbicide of the present invention varies to various concentrations depending on the form of the preparation described above.
  • emulsion preferably 5 to 60%: in granules
  • a port value of 0.01% to 50%, preferably 0.05% to 40% is used.
  • the wettable powder and emulsion thus obtained are diluted to a predetermined concentration with water to prepare a suspension or emulsion, and the granules can be sprayed on the soil before or after germination of the weeds. Are mixed.
  • an appropriate amount of 0.1 g or more of the active ingredient per hectare is applied.
  • the herbicide of the present invention can also be used by mixing with known fungicides, insecticides, acaricides, herbicides, plant growth regulators, fertilizers, and the like.
  • the synergistic effect of the mixed drug can be expected to have a higher effect. In that case, a combination with a plurality of known herbicides is also possible.
  • Suitable agents to be used in combination with the herbicide of the present invention include anilide herbicides such as diflupanican and propanil, and clos-acetanilide herbicides such as arlaclor and pretilachlor 2,4, D, 2,4-1DB and the like.
  • Radical herbicides Phosphoric acid herbicides such as glyphosate, glyphosinate, etc., Quaternary ammonium salt herbicides such as parato, difenzoquat, etc., Cyclic imid herbicides such as Flumicrolac-bentyl and Fluthiacetomethyl, etc.
  • formulation examples of the herbicide of the present invention are shown below.
  • the active ingredient compounds, additives, and the addition ratio are not limited to the examples, and can be changed in a wide range.
  • Parts in Formulation Examples are parts by weight.
  • Example 7 wettable powder
  • the herbicidal effect was investigated according to the following criteria and expressed as a herbicidal index.
  • the numbers 1, 3, 5, 7, and 9 are intermediate values between 0 and 2, 2 and 4, 4 and 6, 6 and 8, and 8 and 10, respectively.
  • the compound of the present invention has excellent herbicidal activity and crop selectivity, and a composition containing the compound of the present invention is useful as a herbicide.

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Description

明 細 害
ヘテロ環で置換さ たベンゼン誘導体および除草剤
技術分野：
本発明は新規なヘテロ環で置換されたべンゼン誘導体及び除草剤に関する。 背景技術：
本発明化合物に類似の 2 _ベンゾィルシクロへキサン一 1 , 3—ジオン化合物 が除草活性を有することは、 特開平 3— 2 5 5 0 4 7、 特開平 6 - 2 7 1 5 6 2 s WO 9 4 / 0 4 5 2 4号公報等に記載されている。 また、 WO 9 6 / 2 6 2 0 0号公報には、 下記に示す式 〔1Π〕 で表される化合物力 <記載されている。
Figure imgf000003_0001
(式中、 〜r e は水素原子、 d— 8 アルキル基、 6 アルキルチオ基、 C 3 - β シクロアルキル基等を表す。 また、 M Lは水素原子、 C アルキル基、 C-6 アルケニル基、 ハロゲン原子等を表す。 Zは 5乃至 6員の飽和若しくは不 飽和のへテロ環基を表す。 ） 発明の開示：
本発明の目的は、 工業的に有利に合成でき、 より低い薬量で効果の確実な安全 性の高い、 作物との選択性の良い除草剤を提供することである。 本発明は、 式 〔I〕
〔I〕
Figure imgf000004_0001
〔式中、 R1 は、 ハロゲン原子、 d-e アルキル基、 C,-e アルコキシ基、 二卜 口基、 シァノ基、 C,-e ハロアルキル基、 β アルキルチオ基、 d— 8 アルキ ルスルフィニル基または 6 アルキルスルホ二ル基を表す。
R2 は、 ハロゲン原子、 ニトロ基、 シァノ基、 d-e アルキル基、 C,—e アル コキシ基、 d ハロアルキル基、 Cl ハロアルコキシ基、 d- 6 アルキルチ ォ基、 d アルキルスルフィニル基または C アルキルスルホ二ル基を表す
R3 、 R は、 それぞれ独立して水素原子、 C アルキル基または β ノ、 口アルキル基を表す。
Tは、 〔π〕
〔II〕
Figure imgf000004_0002
〔式中、 R5 、 R6 、 R7 、 R8 、 R9 および R'°は、 それぞれ独立して水素原 子、 ハロゲン原子、 C卜 e アルキル基、 C,— ハロアルキル基、 C,-6 アルコキ シ基、 Ci ハロアルコキシ基、 d-e アルキルチオ基、 Cト 6 アルキルスルフ ィニル基、 C,- アルキルスルホニル基、 置換されていてもよいフヱニル基、 C
,-8 アルキルチオ d アルキル基、 d- 6 アルキルスルフィニル d アルキ ル基、 C-β アルキルスルホ二ルじ卜6 アルキル基、 s換されていてもよいフエ 二ルチオ d- β アルキル基、 置換されていてもよいフヱニルスルフィニル C アルキル基、 置換されていてもよいフヱニルスルホニル^ アルキル基、 C β アルコキシ d-e アルキル基、 匿換されていてもよいフヱニル d-e アルキル ォキシ d- 6 アルキル基、 C-β アルキルカルボニルォキシ d-6 アルキル基、 ヒドロキシ β アルキル基、 ジ d-e アルコキシ〇卜6 アルキル基、 β ァ ルコキシカルボニル基、 シァノ基、 ホルミル基、 ヒドロキシィミノ アルキ ル基、 d—e アルコキシイミノ ^ アルキル基、 C2-4 アルケニルォキシイミ ノ d- 6 アルキル基、 C2- 4 アルキニルォキシイミノ d - 6 アルキル基、 d- ハロアルコキシィミノ β アルキル基、 C2- 6 ハロアルケニルォキシィミノ C アルキル基または C2- 4 ハロアルキニルォキシィミノ C ,-6 アルキル基を表 す。 また、 （R5 若しくは Re ) と （R7 若しくは R8 ) (R7 若しくは R8 ) と （R8 若しくは R10) は、 それぞれ一緒になって、 メチレン又は C2— 5 のァ ルキレン鎖を形成していてもよい。 ） で表されるシクロへキサンジオン一 1, 3 ージオン環基を表す。 〕
で表されるヘテロ環で置換されたベンゼン誘導体又はその塩およびそれらの 1種 又は 2種以上を有効成分として含有する除草剤である。
以下、 本発明を詳細に説明する。
本発明は、 一般式 〔 I〕 で表されるヘテロ環で置換されたベンゼン誘導体又は その塩及びそれらの 1種又は 2種以上を有効成分として含有する除草剤である。 式 〔I〕 において、 R1 は、 フッ素、 塩素、 臭素等のハロゲン原子、 メチル、 ェチル、 プロピル、 イソプロピル、 プチル、 t一ブチル基等の d アルキル基
、 メ トキシ、 エトキシ、 プロポキシ、 イソプロポキシ基等の。 アルコキシ基
、 ニトロ基、 シァノ基、 クロロメチル、 フルォロメチル、 ジクロロメチル、 ジフ ルォロメチル、 トリフルォロメチル基等の C l ハロアルキル基、 メチルチオ、 ェチルチオ、 プロビルチオ、 イソプロピルチオ基等の d-e アルキルチオ基、 メ チルスルフィニル、 ェチルスルフィニル、 プロピルスルフィニル、 イソプロピル スルフィニル基等の 6 アルキルスルフィニル基、 またはメチルスルホニル、 ェチルスルホニル、 プロピルスルホニル、 イソプロピルスルホニル基等の C ,-β アルキルスルホ二ル基を表す。
R 2 は、 フッ素、 塩素、 臭素等のハロゲン原子、 ニトロ基、 シァノ基、 メチル
、 ェチル、 プロピル、 イソプロビル基等の d -e アルキル基、 メ トキシ、 ェトキ シ、 プロポキシ、 イソプロポキシ基等の C ! - 6 アルコキシ基、 クロロメチル、 フ ルォロメチル、 プロモメチル、 ジクロロメチル、 ジフルォロメチル、 トリクロ口 メチル、 トリフフルォロメチル基等の C l - 8 ハロアルキル基、 トリフルォロメ 卜 キシ基等の C ! -B ハロアルコキシ基、 メチルチオ、 ェチルチオ、 プロピルチオ、 イソプロピルチオ基等の d -β アルキルチオ基、 メチルスルフィニル、 ェチルス ルフィニル、 プロピルスルフィニル、 イソプロピルスルフィニル基等の C i -6 了 ルキルスルフィニル基、 またはメチルスルホニル、 ェチルスルホニル、 プロピル スルホニル、 イソプロピルスルホニル基等の〇, -β アルキルスルホ二ル基を表す
R 3 は、 フッ素、 塩素、 臭素等のハロゲン原子、 メチル、 ェチル、 プロピル、 イソプロピル基等の d - 6 アルキル基、 メ トキシ、 ェ卜キシ、 プロポキシ、 イソ プロポキシ基等の d - 6 アルコキシ基、 ニトロ基、 シァノ基、 クロロメチル、 フ ルォロメチル、 プロモメチル、 ジクロロメチル、 ジフルォロメチル、 卜リクロロ メチル、 トリフフルォロメチル基等の ハロアルキル基、 メチルチオ、 ェチ ルチオ、 プロピルチオ、 イソプロピルチオ基等の C , -6 アルキルチオ基、 メチル スルフィニル、 ェチルスルフィニル、 プロピルスルフィニル、 イソプロピルスル フィニル基等の C卜 S アルキルスルフィニル基、 またはメチルスルホニル、 ェチ ルスルホニル、 プロピルスルホニル、 イソプロピルスルホニル基等の d -6 アル キルスルホ二ル基を表す。
Tは、 〔！！〕 で表されるシクロへキサンジオン環基を表す。
〔II〕
Figure imgf000007_0001
R5 、 R6 、 R7 、 R8 、 R" および R10は、 それぞれ独立して水素原子、 フ ッ素、 塩素、 臭素等のハロゲン原子、 メチル、 ェチル、 プロピル、 イソプロピル 基等の C l-β アルキル基、 クロロメチル、 プロモメチル、 ジクロロメチル、 クロ 口ェチル、 ジフルォロメチル、 トリフルォロメチル、 トリクロロメチル基等の C ,-β ハロアルキル基、 メ トキシ、 エトキシ、 プロボキシ、 イソプロポキシ、 ブト キシ、 t一ブトキシ基等の d-e アルコキシ基、 トリフルォロメ トキシ、 トリク 口ロメ トキシ基等の C, - β ハロアルコキシ基、 メチルチオ、 ェチルチオ、 プロピ ルチオ、 イソプロピルチオ基等の C,-6 アルキルチオ基、 メチルスルフィニル、 ェチルスルフィニル、 プロピルスルフィニル、 イソプロピルスルフィニル基等の C !-β アルキルスルフィニル基、 またはメチルスルホニル、 ェチルスルホニル、 プロピルスルホニル、 イソプロピルスルホニル基、 ベンゼン環の任意の位置がフ ッ素、 塩素、 臭素等のハロゲン原子、 メチル基等の C アルキル基、 メ トキシ
、 エトキシ基等の C,-6 アルコキシ基、 ニトロ、 シァノ基等の置換基で置換され ていてもよいフヱニル基、 メチルチオメチル、 メチルチオェチル、 メチルチオプ 口ピル、 ェチルチオメチル、 ェチルチオェチル、 2—ェチルチオプロピル、 3— ェチルチオプロピル基等の d-s アルキルチオ C,-6 アルキル基、 メチルスルフ ィニルメチル、 メチルスルフィニルェチル、 メチルスルフィニルプロピル、 ェチ ルスルフィニルメチル、 ェチルスルフィニルェチル、 2—ェチルスルフィニルプ 口ピル、 3—ェチルスルフィニルプロピル基等の Ci-6 アルキルスルフィニル C アルキル基、 メチルスルホニルメチル、 メチルスルホニルェチル、 メチルス ノレホニルプロピル、 ェチルスルホニルメチル、 ェチルスルホニルェチル、 2—ェ チルスルホニルブロピル、 3—ェチルスルホニルプロピル基等の アルキル スルホ二ル ぃ β アルキル基、 （ベンゼン環の任意の位 sがフッ素、 塩素、 臭素 等のハロゲン原子、 メチル基!^ C ,— e アルキル基、 メ トキシ、 エトキシ基等の C l- B アルコキシ基、 ニトロ、 シァノ基等の置換基で匿換されていてもよい） フ ェニルチオメチル、 フヱニルチオェチル、 フエ二ルチオプロピル基等のフヱニル チォ d— β アルキル基、 （ベンゼン環の任意の位置がフッ素、 塩素、 臭素等のハ ロゲン原子、 メチル基等の C ,—8 アルキル基、 メ 卜キシ、 エトキシ基等の d - S アルコキシ基、 ニトロ、 シァノ基等の置換基で置換されていてもよい） フ ニル スルフィニルメチル、 フヱニルスルフィニルェチル、 フエニルスルフィニルプロ ピル基等のフエニルスルフィニル C , -6 アルキル基、 （ベンゼン環の任意の位置 がフッ素、 塩素、 臭素等のハロゲン原子、 メチル基等の d - 6 アルキル基、 メ ト キシ、 エトキシ基等の C , - S アルコキシ基、 ニトロ、 シァノ基等の置換基で置換 されていてもよい） フエニルスルホニルメチル、 フエニルスルホニルェチル、 フ ェニルスルホニルブロピル基等の置換されていてもよいフエニルスルホニル c β アルキル基、 メ 卜キシメチル、 メ トキシェチル、 メ トキシォゥ口ピル、 ェトキ シメチル、 エトキンェチル、 プロボキシメチル、 プロポキシェチル基等の d -e アルコキシ 6 アルキル基、 （ベンゼン環の任意の位置がフッ素、 塩素、 臭素 等のハロゲン原子、 メチル基等の アルキル基、 メ トキシ、 エトキン基等の d -6 アルコキシ基、 ニトロ、 シァノ基等の S換基で置換されていてもよい） フ ェニルメ トキシメチル、 フエ二ルェ卜キシメチル、 フエニルプロボキシメチル、 フエニルメ トキシェチル、 フエ二ルェ卜キシェチル基等のフ ニル d - B アルキ ルォキシ C i -e アルキル基、 メ トキシカルボニルォキシメチル、 エトキシカルボ ニルォキシメチル、 メ トキカルボニルォキシェチル基等の d -6 アルキルカルボ ニルォキシ d -6 アルキル基、 ヒドロキシメチル、 ヒドロキシェチル基等のヒ ド ロキシ C β アルキル基、 ジメ 卜キシメチル、 ジェ卜キシメチル、 ジメ トキシェ チル基等のジ〇ぃ6 アルコキシ d - β アルキル基、 メ 卜キシカルボニル、 ェトキ シカルボニル基等の 6 アルコキシカルボニル基、 シァノ基、 ホルミル基、 ヒ ドロキシイミノメチル、 ヒドロキシイミノエチル、 ヒドロキシィミノプロピル基 等のヒドロキシィミノ d -s アルキル基、 メ トキシィミノメチル、 メ トキシミノ ェチル、 メ トキシィミノプロピル、 ェ卜キシィミノメチル、 ェトキシィミノエチ ル基等の C,-6 アルコキシイミノ ぃ8 アルキル基、 ビニルォキシィミノメチル
、 ァリルォキシィミノメチル、 ロチルォキシィミノメチル、 ァリルォキシィミ ノエチル、 ァリルォキシィミノプロピル基等の c2-4 アルケニルォキシィミノ C
,-6 アルキル基、 ェチニルォキシイミノメチル、 ェチニルォキシイミノエチル、 プロパルギルォキシィミノメチル、 プロパギルォキシィミノエチル基等の C2-4 アルキニルォキシイミノ^ アルキル基、 クロロメ トキシィミノメチル、 クロ ロメ 卜キシィミノエチル、 クロロメ トキシィミノプロピル、 ジクロロエトキシィ ミノメチル、 クロロェトキシィミノエチル、 フルォロメ トキシィミノメチル、 フ ルォロメ トキシミノエチル、 トリフルォロエトキシイミノメチル、 トリフルォロ エトキシイミノエチル基等の ハロアルコキシィミノ C卜6 アルキル基、 ク 口ロアリルォキシイミノメチル、 クロロアリルォキシイミノエチル、 フルォロア リルォキシイミノメチル、 フルォロアリルォキシイミノエチル、 プロモアリルォ キシイミノメチル、 クロロブテニルォキシミノメチル、 クロロブテニルォキシミ ノエチル基等の c2— 4 ハロアルケニルォキシィミノ c,-e アルキル基、 またはク ロロェチニルォキシイミノメチル、 クロロェチニルォキシイミノエチル、 クロ口 プロパルギルォキシィミノメチル、 クロ口プロパルギルォキシィミノエチル基等 の C2 4 ハロアルキニルォキシィミノ Cト6 アルキル基を表す。
また、 （R5 若しくは Re ) と （R7 若しくは Re ) 、 （R7 若しくは R8 ) と (RB 若しくは Rl(1) は、 それぞれ一緒になつてメチレン、 エチレン、 プロピレ ン基等の C,-5 のアルキレン鎖を形成していてもよい。 )
より好ましい Tの例として、 以下に掲げるシクロへキサンジオン環基を挙げる ことができる。
Figure imgf000009_0001
なお、 Tには次のような互変異性体が存在し得る。 これらは全て本発明に含ま れる。 -
Figure imgf000010_0001
(化合物の製造）
本発明化合物は、 次の方法に-よって製造することができる c
製造法 （ i )
Figure imgf000011_0001
[I]
Heい
Figure imgf000011_0002
(式中、 R1 、 R2 、 R3 、 R4 、 R5 、 R6 、 R' 、 RB 、 Re 及び R>。は前 記と同じ意味を有し、 Qは、 ハロゲン原子、 アルキルカルボニルォキシ基、 アル コキシカルボ二ルォキシ基またはべンゾィルォキシ基を表す。 ） 工程において、 化合物 UVa〕 および UVb〕 は、 化合物 〔II〕 と化合物 [V a] とを各々 1モルずつあるいは一方を過剰に用い、 1モルないし過剰の塩基の 存在下に反応させることによって得ることができる。 反応に用いられる塩基は、 KOH, N a 0H等のアルカリ金厲水酸化物、 アルカリ金属炭酸塩、 アルカリ土 類金属水酸化物、 アルカリ土類金属炭酸塩、 トリ （C,— 6 アルキル） ァミ ン、 ピ リジン、 燐酸ナトリゥム等であり、 溶媒としては、 水、 塩化メチレン、 クロロホ ルム、 トルエン、 酢酸ェチル、 N, N—ジメチルホルムアミ ド （DMF) 、 テ卜 ラヒドロフラン （THF) 、 ジメ トキシェタン、 ァセトニトリル等が用いられる 。 反応混合物は反応が完了するまで 0~ 50°Cで搜拌される。 また、 四級アンモ 二ゥム塩等の相間移動触媒を用いて、 二相系で反応させることによつても得るこ とができる。 化合物 〔lVa〕 および 〔IVb〕 は、 化合物 (II) と化合物 [Vb] とをジシクロへキシルカルポジイミ ド （DCC) と反応させることによつても得 られる。 DCCとの反応において用いられる溶媒としては、 塩化メチレン、 クロ 口ホルム、 トルエン、 舴酸ェチル、 DMF、 THF、 ジメ トキシェタン、 ァセト 二トリル等が用いられる。 反応混合物は反応が完了するまで一 10~50°Cで « 拌される。 反応混合物は常法によって処理される。
転位反応はシァノ化合物および穏和な塩基の存在下に行われる。 例えば、 1モ ルの化合物 〔IVa〕 および 〔lVb〕 を 1〜4モルの塩基、 好ましくは 1~2モル の塩基および 0. 01〜 5モル以上、 好ましくは 0. 05〜 2モルのシ ァノ化合物と反応させる。 ここで用いられる塩基は前記の塩基がいずれも用いら れ得る。 また、 シァノ化合物としてはシアン化カリウム、 シアン化ナトリウム、 アセトンシアンヒ ドリ ン、 シアン化水素、 シアン化カリウムを保持したポリマー 等が用いられる。 尚、 少 Sのクラウンエーテル等の相間移動触媒を加えることに より、 反応がより短い時間で完結する。 反応温度は 80°Cより低い温度、 好まし くは 20〜40°Cで行われる。 用いられる溶媒は、 1、 2—ジクロロェタン、 ト ルェン、 ァセトニトリル、 塩化メチレン、 齚酸ェチル、 DMF、 メチルイソプチ ルケトン、 THF、 ジメ トキシェタン等である。
この際、 ィ匕合物 〔lVa〕 および 〔IVb〕 を単離することなく、 反応系に前記シ ァノ化合物及び塩基を加えることによつても、 同様の転移反応が進行する。 W また、 化合物 〔I〕 は、 以下の方法に従って化合物 〔II〕 と化合物 [Vc] を 塩基および必要ならばルィス ®?®存在下で反応させることによつても得られる。 用いられる塩基は、 ΚΟΗ, N a ΟΗ等のアルカリ金属水酸化物、 アルカリ土 類金属の水酸化物、 トリ （C,一 C6アルキル） ァミン、 ピリジン、 炭酸ナトリ ゥム、 燐酸ナトリウム等である。 適当なルイス酸は、 塩化亜鉛、 三塩化アルミ二 ゥム等であり、 好ましくは塩化亜鉛である。 反応は、 ァセトニトリル、 塩化メチ レン等の有機溶媒中において、 一 20°Cから溶媒の沸点までの適度な温度で行わ れる。 製造法 （ i i )
また、 上記のようにして製造した化合物 〔Ia〕 を用いて、 以下の方法により、 シクロへキサン環上の置換基を変換した目的とする化合物 〔ib〕 および 〔lc〕 を 製造することもできる。
Figure imgf000013_0001
(R5=0-了ルキル, S-アルキ,レ etc. )
[Ic]
(式中、 R' , R2 , R5 , Rs , R7 . R8 , Re . R'o及び He tは前記と 同じ意味を表す。 ）
すなわち、 化合物 〔Ia〕 を、 不活性溶媒中、 フヱニルトリメチルアンモニゥム トリブロミ ド、 メルドラム酸ジブロミ ド等のハロゲン化剤と、 o°cから溶媒の沸 点までの適度な温度、 好ましくは室温から 50°Cで、 数時間から数 10時間反応 させることによって、 ハロゲン化されたトリオン体 〔lb〕 を製造することができ る。 用いられる溶媒としては、 塩化メチレン、 ベンゼン、 酢酸ェチル、 THF, ァセトニ卜リル、 ジメ トキシェタン等を例示することができる。 また、 ハロゲン 化されたトリオン体 〔Ib〕 は、 塩基の存在下、 求核試剤との反応により目的とす る化合物 〔Ic〕 を製造することができる。 製造法 （ i i i )
Figure imgf000014_0001
Figure imgf000014_0002
(式中、 R1 . R2 , R5 . R6 . R7 , R8 , 及び He tは前記と同じ意 味を表す。 R12は、 低級の分岐していてもよいアルコキシ、 ァラルキルォキシ、 またはァセトキシを意味する。 Zは、 ハロゲン原子、 アルキルスルホナート基お よびァリ一ルスルホナ一ト基等の脱離基を表す。 ）
すなわち、 化合物 〔Ie〕 は、 化合物 〔ld〕 を、 塩酸、 臭化水素酸等のハロゲン 化水素酸、 トリフルォロ酢酸、 三臭化ホウ素等の反応、 水素化分解あるいはアル カリ加水分解等により、 また、 必要に応じて次いで加水分解を行うことによって 製造することができる。 一
さらに、 化合物 〔le〕 は、 通常の方法によりハロゲン化、 アルキルスルホナー 卜化あるいはァリ一ルスルホナート化することにより化合物 〔ΙΠ に導くことが できる。 この化合物 (If) を溶媒中、 等モル以上の塩基の存在下、 _20°Cから 用いる溶媒の沸点まで、 好ましくは室温から 100°Cで 30分から数 10時間反 応させることによって化合物 〔Ig〕 を製造することができる。
用いられる塩基は、 KOH、 N a OH等のアルカリ金属水酸化物、 アルカリ土 類金属の水酸化物、 トリ （C,— Ceアルキル） ァミン、 ピリジン、 1, 8—ジ ァザービシクロ [5. 4. 0] ゥンデ一 7 -セン （DBU) , t—BuOK, ト リ トン B, 炭酸ナトリウム、 燐酸ナトリウム等であり、 溶媒としては、 単独ある いは混合して水、 アルコール、 塩化メチレン、 ベンゼン、 トルエン、 酢酸ェチル 、 DMF> THF、 ジメ トキシェタン、 ァセ卜二トリル等が用いられる。 製造法 （ i V)
Figure imgf000015_0001
Π] [Ih ]
Figure imgf000015_0002
[Ii ]
(式中、 R1 , R2 , R5 , R6 , R7 . Re , R9 , R10及び He tは前記と 同じ意味を表す。 R13， R14は、 低級アルキル基を表し、 R15は、 水素、 C,-6 アルキル、 C2-4 アルケニル、 C2-4 アルキニル、 Cl- β ハロアルキル、 C2-4 ハロアルケニル、 C2— 4 ハロアルキニルを表し、 mは 0または 1を表す。 ） 化合物 〔Ih〕 は、 化合物 〔I 〕 力、ら公知の方法により製造することができる。 次に化合物 〔Ih〕 を溶媒中、 等モル以上の式： H2NOR15で表される化合物の 存在下、 一 20°Cから用いる溶媒の沸点まで、 好ましくは室温から 100°Cで 3 0分から数 10時間反応させることによって化合物 〔li〕 を製造することができ る。 尚、 少 Sの硫酸等の酸触媒を加えることにより、 反応がより短い時間で完結 する。 用いられる溶媒としては、 単独あるいは混合して水、 アルコール、 塩化メ チレン、 ベンゼン、 トルエン、 酢酸ェチル、 DMF、 THF、 ジメ トキシェタン 、 ァセトニ卜リル等である。
—般式 〔II〕 で表される環状ジオン体は、 公知の方法に従って製造することが できる。 また、 上記の鱖換された安息香酸 [Va] も公知の反応により製造する ことが出来る。
なお、 本発明化合物 〔 I〕 には、 多数の互変異性体の形、 例えば、 下記に示す ような形で存在し得る。 これら" ©化合物はすべて本発明に含まれる。
Figure imgf000017_0001
本発明化合物の製造の重要な合成中間体であるアルデヒド体 （3) 、 カルボン 酸体 （4) は以下のように製造できる。
Rie
Figure imgf000018_0001
(式中、 R1 , R2 は前記と同じ意味を表し、 R 16は水素原子あるいは低級アル キル基、 Wはハロゲン原子を表す。 ）
トルエン誘導体 （1) から公知の方法、 例えば塩素、 臭素などの単体のハロゲ ンあるいは N—プロモコハク酸イミ ド （NB S)、 N—クロロコハク酸ィミ ド （ NCS)等のハロゲン化剤を、 光あるいはベンゾィルペルォキシド等のラジカル 反応開始剤の存在下に反応させることによってベンジルハライ ド誘導体 （2) を 得たのち、 例えば、 J. Am. Ch em. So c. , 7 1. 1 767 ( 1 94 9 ) に記載の方法によりアルデヒ ド体 （3) を製造することができる。 すなわち、 2—二トロプロパン等の二卜ロアルカン類のアル力リ金属塩とメタノール、 エタ ノール等のアルコール溶媒中 0 °Cから溶媒の沸点の間の温度で反応させることに よってアルデヒド体 （3) を製造することができる。
次に、 カルボン酸体 （4) は、 トルエン誘導体 （1) から過マンガン酸力リウ ム等の酸化反応によって、 あるいはアルデヒド体 （3) から J on e s試薬、 ク ロム酸あるいは過マンガン酸力リゥム等の酸化反応等の公知の方法で製造するこ とができる。
さらに、 これらのアルデヒ ド体 （3) およびカルボン酸体 （4) を用いること により次に示すような中間体を製造することができる。
Figure imgf000019_0001
PhsP=CHC0R19 (io)
(式中、 R R2 , Rieは、 前記と同じ意味を表し、 R17, R18は、 水素原子 又は低級アルキル基、 Vはハロゲン原子を、 R19は低級アルキル基をそれぞれ表 す。 ）
ァシル体 (6) は、 アルデヒド体 （3) に、 G r i gn a r d試薬を反応させ ることによりアルコール体 （5)を製造し、 このアルコール体 （5) を活性化さ れたニ酸化マンガン、 クロム酸類により酸化を行い、 対応するァシル体 （6) を 得ることができる。
また、 文献公知の方法、 例えば、 Org. Syn. . Co l l. Vo l. , 丄 , 77 ( 1941 ) に記載の方法に従い、 アルデヒド体 (3) とメチルケトン （ 9) とを、 触媒の存在下、 水中で 0〜50°Cで 1〜50時間反応させることによ り、 アルドール体 (7)を製造し、 このものを適当な溶媒中、 触媒を用いた脱水 反応により、 ビニルケ卜ン体 （8)を製造することができる。 アルドール体 (7 ) を製造する際に用いられる触媒としては、 水酸化ナトリウム、 水酸化バリゥム 等の金属水酸化物類、 ピぺリジン、 ピリジン等の有機塩基類が挙げられる。 また 、 脱水反応において用いられる触媒としては、 濃硫酸、 p— トルエンスルホン酸 等の酸類が挙げられる。 また、 脱水反応の溶媒としては、 ベンゼン、 トルエン等 の炭化水素類、 ジクロロメタン、 クロ口ホルム等のハロゲン化炭化水素類等が挙 げられる。 一
さらにまた、 ビニルケトン体 （8) は、 アルデヒド体 （3) とホスホラン （1 0) とを適当な溶媒中で、 室温から用いる溶媒の沸点の間の温度で 1 0分から 3 0時間反応させることによつても製造できる。
/3—ジケトン体 （ 1 1 ) は、 次のようにして製造することができる。
R16022Cし
Figure imgf000020_0001
Figure imgf000020_0002
(式中、 R1 , R2 , Rieは、 前記と同じ意味を表し、 R、 R2°、 R2'、 R22は それぞれ独立して低級アルキル基を表す。 ）
先ず、 カルボン酸体 （4) をベンゼン、 トルエン等の炭化水素類、 メチレンク ロリ ド、 クロ口ホルム等のハロゲン化炭化水素類等の不活性な溶媒中でホスゲン 、 チォニルクロリ ド、 ォキザリルクロリ ド等の塩素化剤と反応させることにより 、 中間体であるカルボニルクロリ ド （1 1) を製造する。 次いで、 /9ーケ卜エス テル （1 3) にマグネシウムアルコラートを作用させて得られるマグネシウム塩 と、 カルボニルクロリ ド （ 1 1 ) とを公知の方法に従って反応させることにより 製造することができる。 次に、 ィソォキサゾール中間体の合成法について例示する <
(製造法 1 ) -
Figure imgf000021_0001
Rl
Figure imgf000021_0002
(15-1)
(式中、 R R2 . R3 は前記と同じ意味を表し、 R'6は低級アルキル基を表 す。 )
ビニルケトン体 （8— 1 ) とヒドロキシルァミンを適当な溶媒中、 0°Cから用 、る溶媒の沸点の間の温度で 0. 5〜 5時間反応させてォキシム体 （ 1 4 ) を得 たのち、 さらに閉環、 酸化反応することによって化合物 （ 1 5— 1 ) を製造する ことができる。 このォキシム化反応で用いられるヒドロキシルアミンは、 硫酸塩 あるいは塩酸塩の形で、 あるいは適当な塩基によって中和した後反応させること ができる。 中和に用いられる塩基としては、 炭酸水素ナトリウム、 炭酸カリウム 等の炭酸塩類、 水酸化ナトリウム、 7K酸化力リゥム等のアル力リ金属水酸化物、 酢酸ナトリウム等のカルボン酸塩類、 ナトリウムメチラート、 ナトリウムェチラ ―卜等の金属アルコラ一ト類、 卜リエチルアミン、 ピリジン等の有機塩基類が挙 げられる。 また、 用いられる溶媒としては、 メタノール、 エタノール、 イソプロ パノール等のアルコール類、 ベンゼン、 トルエン等の炭化水素類、 ジクロロメ夕 ン、 クロ口ホルム等のハロゲン化炭化水素類、 THF、 ジォキサン等のエーテル 類、 ァセトニトリル等の二トリル類、 DMF、 ピリジン、 酢酸、 水等およびこれ らの溶媒の 2種以上の混合溶媒が挙げられる。
ォキシム体 （ 14) を閉環 化させる反応は、 J. Ame r. C h e m. S o c. , 94, 91 28 ( 1 972 ) ； J. He t e r o c yc l. Chem. , 14, 1 289 (1 977) ； Te t r ahe d r on Le t t. , 1 97 7, 5075等に記載の方法に従い、 ヨウ素-ヨウ化カリウム、 N—プロモサク シンイミ ド、 パラジウム触媒等の触媒の存在下に行われる。
(製造法 2 )
Figure imgf000022_0001
(15)
(式中、 R1 , R2 , R3 , R4 及び R 18は、 前記と同じ意味を表す。 ） また、 一般式 （1 5) で表されるイソォキサゾール体は、 ジケトン体 (1 2- 1) とヒドロキシルアミンあるいはヒドロキシルアミ ン鉱酸塩とを反応させるこ とによっても製造することができる。 これらの反応は、 適当な溶媒中、 0でから 用いる溶媒の沸点の間の温度で行われる。 この反応において、 硫酸、 p - 卜ルェ ンスルホン酸等の酸類を触媒として用いることもできる c 用いられる溶媒として は、 メタノール、 エタノール、 イソプロパノール等のアルコール類、 ベンゼン、 トルエン等の炭化水素類、 ジクロロメタン、 クロ口ホルム等のハロゲン化炭化水 素類、 THF、 ジォキサン等のエーテル類、 ァセトニトリル等の二トリル類、 D M F、 ピリジン、 酢酸、 水等およびこれらの溶媒の 2種以上の混合溶媒が挙げら れる。 (製造法 3 )
Figure imgf000023_0001
(15)
(式中、 R1 . R2 . R3 , R4 , R'eは前記と同じ意味を表し、 r, . r2 , R ' は低級アルキル基を表す。 ）
また、 一般式 （1 5) で表されるイソォキサゾ一ル体は、 前記 3—ァシル体 （ 6— 1) を出発原料として、 N, N—ジメチルホルムアミ ドジメチルァセタール 等の N, N—ジアルキルアルキルアミ ドジアルキルァセタールを作用させて、 式
(1 6) で表されるジアルキルアミノメチリデン体を得たのち、 このものにヒド 口キシァミンを反応させることによつても製造することができる。
前段階の反応は、 無溶媒もしくはベンゼン、 トルエン、 キシレン等の不活性溶 媒中、 室温から用いられる溶媒の沸点 （無溶媒の場合は、 N. N-ジアルキルァ ルキルアミ ドジアルキルァセタールの沸点） までの温度範囲で行われる。 また、 次の反応は、 例えば、 ジォキサン、 エーテル、 テトラヒドロフラン、 1, 2—ジ メ 卜キシェタン等のエーテル系溶媒、 DMF、 DM SO等の非プロトン性極性溶 媒、 メタノール、 エタノール等のアルコール類等の溶媒中、 式 （16) で表され る化合物 1モルに対し、 1. 0〜2. 0倍モルの塩酸ヒドロキシルァミンあるい は硫酸ヒ ドロキシルァミ ンを作用させるとにより行われる。 また、 ヒ ドロキシル アミン塩を適当な塩基を用いてヒ ドロキシルアミ ンを遊離の形で反応させること もできる。 反応は室温から用いられる溶媒の沸点までの温度範囲で行われる。 ま た、 ヒドロキシルアミンを添加したのち、 閉環反応を完結させるために、 p— 卜 ルエンスルホン酸、 硫酸、 塩酸等の酸触媒を反応系に添加することも好ましい。
(製造法 4 )
Rl602C
Figure imgf000024_0001
(15-2) (15-3)
Figure imgf000024_0002
(15-4)
(式中、 R1 , R3 , R4 , は前記と同じ意味を表、 R" は低級アルキル基を 表す。 )
さらに、 式 （ 1 5— 4) で表される安息香酸類は、 式 （1 5— 2) で表される 4一 C 1体に、 R' SHで表されるメルカブタンを塩基の存在下に作用させるこ とによって、 式 （ 1 5— 3) で表される 4—SR' 体としたのち、 酸化すること により製造することができる。
反応に用いられる塩基としては， 水酸化ナ卜リゥム、 水酸化力リウム等のアル 力リ金厲水酸化物、 ナ卜リゥムメ 卜キシド、 ナトリゥムェトキシド、 カリウム t
—ブトキシド等の金属アルコキシド、 炭酸ナトリウム、 炭酸カリウム等の炭酸塩
、 水素化ナトリゥム等の水素化物、 トリェチルァミ ン、 ジィソプロピルェチルァ ミ ン、 1, ージァザビシクロ [5.4.0]-ゥンデ -7- セン （DBU) 、 ピリジン等の 有機塩基を例示することができる。 また、 反応に用いられる溶媒としては、 メタ ノール、 エタノール等のアルコール類、 THF、 DME等のエーテル類、 DMF 、 ジメチルァセタミ ド （DMA 等のァミ ド類、 DMSO、 ァセトニトリル、 ベ ンゼン、 トルエン、 キシレン等を例示することができる。
次の酸化反応は、 水、 酢酸等の有機酸、 ジクロロメタン、 クロ口ホルム、 四塩 化炭素等のハロゲン化炭化水素等の不活性溶媒中、 過酸化水素、 過酢酸、 過安息 香酸、 m—クロ口過安息香酸等の過酸、 次亜塩素酸ナトリゥム等の次亜塩素酸塩 等の酸化剤を使用して行われる。 反応は、 室温から溶媒の沸点までの温度範囲で 円滑に進行する。
(製造法 5 )
また、 イソォキサゾール体 （ 1 5) は、 WO 96/26200号に記載の方法 によっても製造することができる。 以下にその方法を示す。
Figure imgf000025_0001
Figure imgf000025_0002
(式中、 R1 、 R2 、 R3 、 Rieは前記と同じ意味を表し、 Yは B r、 1、 一 0 S02 CF3 を、 Mは S n (Ci-6 アルキル） 3 、 B (OH) 2、 Z n C 1を表 す。 ) 【実施例】
次に実施例、 参考例を挙げて—、 本発明を更に詳細に説明する。
実施例 1
2 -[ 2—クロ口一 3— （3—メチルー 1, 2—イソォキサゾールー 5—ィル ) 一 4ーメチルスルホニルベンゾィル] ーシクロへキサン一 1. 3—ジオンの製 造
Figure imgf000026_0001
1, 3—シクロへキサンジオン 0. 6 0 gと トリエチルァミ ン 0. 56 gとを 塩化メチレン 4 0m lに溶解し、 そこへ、 2—クロロー 3— (3—メチルー 1>
2—イソォキサゾールー 5—ィル〉 一 4ーメチルスルホニルベンゾィックァシッ ド 1. 6 gとチォニルクロリ ド 3. 0 gとを反応させて得た 2—クロロー 3— (
3—メチルー 1, 2—イソォキサゾールー 5—ィル） 一 4ーメチルスルホニルべ ンゾィイルク口リ ドの塩化メチレン 1 0m l溶液を室温で滴下した。 室温で 1時 間 «拌した後、 反応混合物を 1規定の塩酸、 次いで飽和食塩水で洗浄し、 無水硫 酸マグネシウムで乾燥し、 溶媒を減圧留去した。 残留物をァセ卜二トリル 4 0m 1に溶解し、 トリェチルァミン 0. 5 6 gとアセトンシアンヒ ドリン 0. 1 3を 加えて、 室温で一夜擾拌した。 溶媒を減圧留去後、 得られた残留物を酢酸ェチル に溶解し、 希塩酸および飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシゥ厶で乾燥した 。 溶媒を減圧留去し、 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー （クロロホ ルム： メタノール =9 8 : 2) で精製し、 目的物 0. 97 gを結晶として得た。 融点 1 6 6— 1 6 8 °C 実施例 2
5— t e r t—ブトキシメチ 7レー 2— [ 2—メチル— 3 (3—メチルー 1 , 2—イソォキゾ一ルー 5—ィル） — 4ーメチルスルホニ ーシクロ へキサン一 1, 3—ジオンの製造
Figure imgf000027_0001
2—メチルー 3— （3—メチルー 1， 2—イソォキサゾール _ 5—ィル） 一 4 ーメチルスルホニルペンゾイツクァシッ ド 1. 1 6 gを出発原料として、 常法に 従い、 2—メチルー 3— （3—メチルー 1, 2—イソォキサゾ一ルー 5—ィル） 一 4ーメチルスルホニルベンゾイルク口リ ドを調製し、 このものと、 5— t e r t—ブトキシメチルーシクロへキサンー 1. 3—ジオン 0. 7 l gとをクロロホ ルム 1 0m 1に溶解して、 氷冷下にトリエチルァミン 36 gを滴下した。 室 温で 3 0分攪拌した後、 氷水にあけ、 希塩酸で酸性とし、 クロ口ホルム層を分取 した。 有機層は、 水、 飽和重曹水、 次いで飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸マグネ シゥムで乾燥した。 溶媒を減圧留去して得られた残留物をァセトニトリル 1 0m
1に溶解し、 卜リエチルァミ ン 0. 4 1 gとアセトンシアンヒ ドリ ン 0. 06 g を加え、 室温で 3日間擾拌した。 溶媒を減圧留去後、 得られた残留物を酢酸ェチ ルに溶解し、 希塩酸および飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥し た。 溶媒を減圧留去して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
(クロ口ホルム） にて精製して、 目的物 1 8 gを得た。
Ή-NMR (CDC 1 δ p pm) : 1. 1 4 (s， 9 H) , 2. 0 3 (s , 3 H) , 2. 39 (s, 3 H) , 2. 4 0 (m, 3 H) , 2. 8 0 (m, 2 H ) . 2. 93 (s， 3H) , 3. 3 5 (m, 2 H) , 6. 3 9 (s, 1 H) , 7 • 3 1 (d, 1 H. J = 8. 2 H z) , 8. 07 (d, 1 H, J = 8. OHz) 1 7. 2 1 (b s, 1 H) 実施例 3
5—ヒドロキシメチルー 2— [ 2—メチルー 3 ― (3—メチルーし 2—イソ ォキサゾール— 5—ィル） — 4ーメチルスルホニルベンゾィル "I ーシクロへキサ ン一 1, 3 -ジオンの製造
Figure imgf000028_0001
Figure imgf000028_0002
実施例 2で得られた粗製 5— t e r t—ブ卜キシメチルー 2— [ 2 _メチル - 3 - (3—メチルー 1, 2—イソォキゾ一ルー 5—ィル） 一 4ーメチルスルホ ニルベンゾィル] —シクロへキサン一 1, 3—ジオン 1. 5 1 gをトリフルォ 口酢酸 1 5m lに溶解し、 室温で一夜攪拌した。 反応混合物を氷水にあけ、 酢酸 ェチルで抽出した。 有機牖を水、 次いで飽和食塩水で洗浄し、 溶媒を減圧下に留 去して、 2— [ 2—メチルー 3— （3—メチルー 1， 2—イソォキゾ一ルー 5— ィル） 一 4ーメチルスルホニルベンゾィル] 一 5— トリフルォロアセトキシシク 口へキサン一 1, 3—ジオンを得た。 このものをエタノール 1 Om 1に溶解し、 1. 2 4 gの炭酸ソ一ダを水 1 0m lに溶解した溶液を加えて、 室温で 6時間攒 拌した。 溶媒を減圧留去した後、 水を加えて酢酸ェチルで洗浄し、 水層を分取し た。 得られた水層を希塩酸で酸性とし、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を水、 次 いで飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥し、 溶媒を減圧留去して 残留物 1. 0 1 gを得た。 粗^^物から 0. 2 1 gを取り、 シリカゲルカラムク 口マトグラフィー （クロ口ホルム） で精製し、 粉末状物質として目的物 0. 0 9 gを得た。
Ή-NMR (CDC 13 , <5 p pm) ： 2. 05 (s, 3H) , 2. 4 2 (s . 3H) , 2. 4 5 (m, 3Η) . 2. 8 5 (m, 2 H) , 2. 9 5 (s, 3H ) . 3. 67 (m, 2H) . 6. 4 1 (s, 1 H) . 7. 3 4 (d. 1 H, J = 8. 3H z) , 8. 1 0 (d, 1 H. J = 8. 3Hz) . 1 7. 2 4 (b s, 1 H) 実施例 4
3 -[ 2—メチル— 3一 （3—メチル— 1, 2—イソォキサゾ一ルー 5—ィル ) - 4ーメチルスルホニルベンゾィル] ービシクロ [4.1.0] ヘプタン一 2, 4— ジオンの製造
Figure imgf000029_0001
Figure imgf000029_0002
実施例 3で得られた粗製の 5—ヒ ドロキシメチル— 2— [ 2—メチルー 3— ( 3—メチルー 1. 2—イソォキサゾールー 5—ィル） 一 4—メチルスルホニルべ ンゾィル] ーシクロへキサン— 1, 3—ジオン 0. 8 0 gをクロ口ホルム 1 0 m lに溶解し、 氷冷下にトリェチルァミン 0 . 5 8 gを滴下した。 次いで、 無水 メタンスルホン酸 0 . 4 0 gを 加し、 室温で 1時間攪拌した。 反応液を氷水に あけ、 希塩酸で酸性として分液した。 クロ口ホルム層を水、 次いで飽和食塩水で 洗浄後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去した後、 得られた 5 ーメチルスルホニルォキシメチルー 2— [ 2—メチルー 3— （3—メチルー 1 , 2—イソォキサゾール一 5—ィル） 一 4—メチルスルホニルベンゾィル] ーシク 口へキサン— 1 , 3—ジオンの粗生成生物をエタノール 1 0 m 1に溶解し、 1規 定の水酸化ナ卜リゥム水溶液 5 . 7 m lを加え、 室温で 6日間撮拌した。 溶媒を 減圧留去した後、 得られた残留物に水を加え、 希塩酸で酸性とした後、 酢酸ェチ ルで抽出した。 有機層を水、 次いで飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウム で乾燥した後、 溶媒を減圧下に留去して残留物 0 . 5 4 gを得た。 このものをシ リカゲルカラムクロマトグラフィー （クロ口ホルム） で精製し、 淡黄色結晶とし て目的物 0 . 3 5 gを得た。 融点 2 0 1— 2 0 3 °C
実施例 5
5—ヒ ドロキシメチルー 4—メチルー 2— [ 2—メチルー 4—メチルスルホニ ルー 3— （3—メチルー 1, 2—イソォキサゾールー 5—ィル） ベンゾィル] シクロへキサン一 1, 3—ジオンの製造
Figure imgf000031_0001
Figure imgf000031_0002
5—ァセトキシメチルー 4 -メチルシクロへキサン一 1, 3—ジオン 0. 4 4 gと トリエチルァミ ン 0. 24 gを塩化メチレン 5m 1に溶解し、 そこへ、 2 ーメチルー 4ーメチルスルホニルー 3— （3—メチルー 1, 2—イソォキサゾー ルー 5—ィル） ベンゾイルクロリ ド 0. 6 gの塩ィヒメチレン 5m 1溶液を滴下し 、 室温で 1時間椽拌した。 反応混合物に水及び希塩酸を加えて酸性にし、 クロ口 ホルムで抽出した。 有機層を水、 次いで飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシ ゥムで乾燥した。 溶媒を-减圧留去し、 得られた残留物にメタノール 5ml及び 1 規定水酸化ナ卜リウム水溶液 5 m 1を加えて、 室温で 1 2時間攪拌した。 反応混 合物に水及び希塩酸を加えて酸性にし、 クロ口ホルムで抽出した。 有機層を水、 次いで飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去 し、 得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、 表記化 合物をアモルファス状物質として 0. 85 g得た。 実施例 6
3— [ 2 —メチル—3— ( 3—ズチルー 1 , 2 —イソォキサゾール— 5—ィル ) 一 4ーメチルスルホニルベンゾィル] 一 5—メチルビシクロ [4. 1. 0] ヘプタン —2 , 4—ジオン （卜ランス体） の製造
Figure imgf000032_0001
5 —ヒ ドロキシメチルー 4ーメチルー 2— [ 2—メチルー 4ーメチルスルホニ ルー 3— ( 3—メチノレー 1 , 2 —イソォキサゾ一ル一 5 —ィル） ベンゾィル] シ クロへキサン一 1 , 3 —ジオン 0 . 4 gと 卜リエチルァミ ン 0 . 2 gを塩化メ チレン 5 m l に溶解し、 そこへ、 メタンスルホン酸無水物 0 . 2 gの塩化メチレ ン 5 m 1溶液を滴下し、 室温で 1時間攪拌した。 反応混合物に水および希塩酸を 加えて酸性にし、 クロ口ホルムで抽出した。 有機層を水、 次いで飽和食塩水で洗 浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去して得られた残留物に メタノール 5 m 1及び 1規定水酸化ナ卜リゥ厶水溶液 5 m 1を加えて、 室温で 4 時間擅拌した。 反応混合物に水及び希塩酸を加えて酸性にし、 クロ口ホルムで抽 出した。 有機層を水、 次いで飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥 し、 溶媒を'减圧留去した。 得られた残留物を分取し、 薄屡クロマトグラフィーで 精製して、 表記化合物をァモルファス状物質として 0 . 1 g得た。 以上の様にして製造することの出来る本発明化合物の例を、 以下の第 1表〜第 表に示した。 一
第 1 表
Figure imgf000033_0001
第 1 表（続き）
Figure imgf000034_0001
第 2 表
Figure imgf000035_0001
第 2 表（铳き）
Figure imgf000036_0001
第 3 表
Figure imgf000037_0001
Figure imgf000037_0002
第 3 表 (続き)
Figure imgf000038_0001
第 4 表
Figure imgf000039_0001
化合物 R1 R2 R3 R4 R9 立体配置 物性値" 番 号
IV-1 CI CI H H H cis
IV - 2 CI CI H H H trans
IV-3 CI S02CH3 H H H cis
IV-4 CI S02CH3 H H H trans
W-5 CI CI CH3 H H cis
W-6 CI CI CH3 H H trans powder
IV - 7 CI S02CH3 CH3 H H cis powder
IV-8 CI S0ZCH3 CH3 H H trans [166-169]
IV-9 CI S02CH3 CH3 H C02Et cis
IV- 10 CI S02CH3 CH3 H C02Et trans powder
IV- 11 CI S02CH3 CH3 H OH cis
IV-12 CI SO2CH3 CH3 H OH trans
IV- 13 CI S0zCH3 CH3 H 0C3H7 cis powder
IV-14 CI SO2CH3 CH3 H OC3H7 trans powder
IV-15 CH3 CI H H H cis
IV- 16 CH3 CI H H H trans
IV- 17 CH3 S02CH3 H H H cis
IV-18 CH3 S02CH3 H H H trans
IV-19 CH3 CI CH3 H H cis
IV-20 CH3 CI CH3 H H trans 第 4 表 （続き）
Figure imgf000040_0001
第 5 表
Figure imgf000041_0001
第 5 表（続き）
Figure imgf000042_0001
第 1表〜第 5表に示した化合物の1 H- MR data( <5 ρρπι) を以下の第 6表に示し た c
第 6 表 化合物番号 1 H-NMR data( <5 ppm)
1-3 2. 04 (m, 2H), 2. 40 (s, 3H), 2. 43 (m, 2H), 2.78 (m, 2H), 6. 32 (s, IH).
7. 25 (m. 1H), 7. 47(m, lH). 16. 68(s, lH)
I I-3 1. 12. 1. 40 (d, 3H). 1. 82 (m, IH). 1. 82 (m, IH). 2. 13(m. IH), 2. 45 (m, 5H
). 2. 82 (m. IH). 6. 33 (s, 1H)， 7. 25 (m, IH), 7. 47 (m, IH)
I I-4 1. 12, 1. 40 (d, 3H), 1. 60 (s, 3H). 1. 82 (m, IH), 2. 13 (a IH), 2. 41 (s. 3H
), 2. 36-2. 58 (m. 2H), 2. 85 (m. IH), 3. 06 (s, 3H)
I I 1-4 0. 80-1. 02 (m. IH), 1. 38 (m. IH), 1. 66-2. 21 (m, 2H), 2. 41(s, 3H),
2.70-2. 88 (m. IH). 3. 01-3. 22 (m. IH), 3. 06 (s, 3H), 6. 47 (m, IH), 7. 52 (m, IH), 8. 20(in, IH). 16. 26. 17. 01 (s, IH)
IV-6 0.81, 1, 00(ra, IH), 1. 11-1. 38 (m, IH), 1. 29. 1. 46(d, 3H), 1. 53-2. 20
(m, 2H), 2. 39 (s, 3H), 3. 10 (m, IH), 6. 31 (s, IH), 7. 22 On, IH), 7. 46 (m , 1H), 16. 33. 17. 28 (s, IH)
IV - 7 0. 70, 0. 93 (m, IH), 1. 2-2. 1 (m, 2H), 1. 25 (ra, 3H), 1. 49, 1. 73(s, IH).
2. 32 On, IH), 2. 43(s, 3H). 3. 07 (s, 3HX4. 18 (ra, 2H), 6. 49(s. IH), 7. 4 4 (m, 1H), 8. 17, 8. 24 (d. IH)
IV-8 0. 83. 0. 98(ω, IH), 1. 21-1. 41 (m. IH). 1. 29, 1. 49 (d. 3H), 1. 55-1. 73
(m, IH), 1. 85-2. 20 On, IH), 2. 42(s. 3H), 2. 80. 3. 13(m. IH). 3. 07(s. 3 H), 6. 48 (m, IH), 7. 53 (m， IH), 8. 22 (m, IH)
IV- 10 0. 76, 0. 93 (m. IH), 1. 2-2. Km. 2H), 1.25(m, 3H) , 1. 49, 1. 73(s, IH),
2. 32 (m, IH). 2. 43 (s. 3H), 3. 07(s. 3H), 4. 18 (m, 2H) , 6. 49 (s, 1H), 7. 4 4 (m, 1H). 8. 17. 8. 24 (d, IH)
IV- 13 0. 88, 0, 98 (t, 3H) , 1. 12, 1. 27 (m, IH), 1. 50. 1. 62(s, 3H), 1. 50-2. 28
(m, 5H), 2. 41 (s, 3H), 3. 06 (s, 3H), 3. 30-3. 81 (m, 2H), 6. 48 (m, IH), 7. 55 (m, IH). 8. 20 (m, IH), 16. 78, IT. 10(s, IH)
IV - 14 0. 85 (ID, 4H), 1. 39, 1. 57 (s, 3H), 1. 40-1. 70 (m, 2H), 1. 86-2. 08 (m, IH)
. 2. 15-2. 29 On, 2H), 2. 42(s. 3H), 2. 95, 3. 37 (ra, IH), 3. 08 (s, 3H), 6. 4 9(s. IH), 7. 56(m, IH). 8. 20 (a IH). 16. 5, 17. 18(s, IH)
IV-22 0. 82, 0. 97 (m. IH), 1. 27, 1. 48(d, 3H), 1. 20-1. 45 (ra, IH), 1. 60-2. 20
(m, 2H). 2. 04， . 207(s. 3H), 2. 0(s, 3H), 2. 80. 3. 13(m, IH), 2. 94 (s. 3 H), 6. 48, 6. 50 (s. IH), 7. 28-7. 38 (m, IH) , 8. 06-8. 12 (m, IH), 16. 73, 1 7. 50(bs, IH)
V- 4 0. 98-1. 40 (m, 9H), 2. 05 (ID, IH). 2. 40(s. 3H) , 2. 54-2. 88 (ra. 2H), 3. 07
(s, 3H), 6. 48(s, 3H). 7. 45 (m, IH), 8. 20 (m, IH), 16. 38, 17. 21 (s, IH) 第 6 表 （統き）
化合物番号 - Ή-NMR data( <5 ppm)
V-6 1. 62 (m, IH), 2. 42 (s. 3H), 2. 47 On, 2H), 2. 85 (m, 2H), 3. 07 (s. 3H), 3. 3
4(s, 3H), 3. 37 (m, 2H), 6. 48 (s, 3H) , 7.43(m, 1H), 8. 20 (m, IH).
lb. 60Cs, 3H)
V-8 2. 08 (s, 3H), 2. 41 (s, 3H), 2. 25-2. 95 (ID, 5H), 3. 07 (s, 3H), 4. 08 (ra, 2H
), 6. 48(s, IH). 7. 5 (m. IH), 8. 20 (m. IH), 16. 60(s, IH)
V- 10 2. 31-2. 52 On. 3H), 2. 40 (s, 3H), 2. 85 (m. 2H), 3. 06 (s. 3H), 3. 62 (m. 2H
). 6. 48(s. IH). 7. 45 (m. IH). 8. 20 (m. IH). 16. 60 (s. IH)
V - 12 1. 0-1. 33 (m, 6H), 1. 60 (m, 3H), 2. 18 (n. IH), 2. 40Cs, 3H), 2. 55 Cm. 5H
), 2. 82 (m, 2H), 3. 05 (s, 3H), 6. 48 (s, IH), 7. 42 (m, IH). 8. 20 (m, IH), 16. 58 (s, IH)
V-14 1. 13, 1. 33 (d. 3H), 1. 70 (m, IH), 2. 08 (ui, IH), 2. 42(s, 3H), 2. 50 (m, IH
), 2. 92 (m. IH), 3. 08 (s, 3H). 3. 30-3. 50 (m, 5H). 6. 48 (s, IH), 7. 45 (m, 1H). 8. 20(m, lH), 16. 48, 17. 05(s. IH)
V-16 1. 10-1. 48 (m, 3H) . 2. 07 ( , 3H) , 2. 21 (m, IH) , 2. 40 (m, IH) , 2. 42 (s. 3H
). 2. 64 (m. IH), 2. 85 (m, 1H)， 3. 07 (s, 3H), 4. 14 (m, 2H), 6. 46(s, IH) , 7. 45 (m. 1H), 8. 20 (m. IH)
V- 17 1. 10-1. 48 On, 3H), 2. 05 (m. 2H). 2. 40 (s. 3H), 2. 51 (m, IH), 2. 91 (m, IH
). 3. 73 (ra, 2H), 6. 30 (s. 1H) . 7.20 (a IH). 7. 45 (m, IH)
V- 18 1. 05-1, 48 (m. 3H), 2. 05 (ra, 2H). 2. 41 (s, 3H). 2. 51 (in, IH), 2. 91 (m, IH
) , 3. 05(s, 3H). 3. 73 (m, 2H), 6.47 (s, IH) , 7. 45 (m. 1H), 8. 18 (ra. IH)
V - 20 1. 22 (a 3H), 2. 03. 2. 05 (s， 3H), 2. 35-2. 81 (ra, 2H), 2. 42 (s, 3H), 3. 07
(s, 3H), 2. 99-3. 47 (ra, 2H), 6. 47(s, IH), 7. 46 (m, IH), 8. 20 (m, IH), 16. 60. 16. 72 (s. IH)
V-22 1. 32 (s, 6H). 1. 57 (s. 6H). 2. 41 (s, 3H), 3. 08 (s. 3H), 6. 49 (s. 3H).
7. 5 Km. 1H). 8. 22 (m, IH), 17. 05(s, IH)
V-23 実施例 2 に記載
V-24 実施例 3 に記載
(参考例）
参考例 1 - メチル 2, 4—ジクロロー 3—ホルミ エー卜の製造
Figure imgf000045_0001
メタノール 1 0 Om lに、 28%ナトリウムメチラートのメタノール溶液 26 . 6 1 gを加え、 氷冷下 25°C以下で、 2 -二トロプロパン 1 2. 29 gを滴下 した。 次いで、 メチル 3—プロモメチルー 2, 4—ジクロ口ベンゾェ一ト 4 1 . 1 6 gを添加後、 加熱還流下 3 0分授拌した。 反応液を冷却後、 減圧濃縮して 、 その残留分を酢酸ェチル 1 00 0m lに溶解し、 氷冷下に 1 %水酸化ナ卜リゥ ム水溶液で洗浄した。 有機層を水、 次いで飽和食塩水で洗浄後、 硫酸マグネシゥ ムで乾燥した。 溶媒を減圧濃縮して得られた結晶をベンゼン、 次いで n—へキサ ンで洗浄して、 目的物メチル 2, 4—ジクロロ— 3—ホルミルべンゾエートを 結晶として 22. 00 g得た。 mp. 1 03 - 1 04 °C 参考例 2
2, 4ージクロ口— 3—ホルミルべンゾィックァシッ ドの製造
Figure imgf000045_0002
メチル 2, 4—ジクロロー 3—ホルミルべンゾエート 1. 0 4 gをエタノール
5 m 1に溶解し、 1規定水酸化ナ卜リゥム水溶液 1 0m lを加えて、 室温で 1 7 時間擾拌した。 反応液を氷水 4 0m lに空け、 濃塩酸で酸性とし、 析出した結晶 を濂過、 乾燥の後、 目的物 2 , 4—ジクロロー 3—ホルミルべンゾイツクァシッ ドを結晶として 0. 7 5 g得た。 m p . 1 8 8 - 1 9 0 "C 参考例 3
2、 4ージクロロー 3— ( 3—メチルー 1、 2—イソォキサゾールー 5—ィル ) ベンゾィックァシッ ドの製造
Figure imgf000046_0001
メチル 3—ホルミル一 2、 4ージクロ口ベンゾェ一卜 2 4 . 7 g ( 0 . 1モ ル） をアセトン 1 2 0 m 1と水 1 2 m 1の溶媒に溶かし、 氷水で冷却して 2 0
°C以下で 1規定の苛性ソーダ水溶液 3 5 m 1を 3 0分で滴下し、 室温で一夜拢拌 した。 反応混合物を氷水に注ぎ、 濃塩酸で酸性にし、 酢酸ェチルで抽出した。 酢 酸ェチル層を飽和食塩水で洗浄して、 硫酸マグネシゥムで乾燥し減圧下濃縮した
。 残留物をベンゼンに溶解し、 触媒 Sの p—トルエンスルホン酸を加え 4時間水 を除去しながら加熱環流した。 放冷後、 飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシゥム で乾燥し減圧下濃縮した。 残留物をシリ力ゲル力ラムクロマトグラフィ一で精製 し、 15.4 gのメチル 2, 4—ジクロ口— 3— （3—ォキソ一 1ーブテニル ) ベンゾェートを得た。 収率 5 - 4, 8%
得られたメチル 3— （3—ォキソ— 1一ブテニル） — 2, 4—ジクロ口ベン ゾエー卜 15.4 g (0.056モル） と塩酸ヒドロキシアミン 15 g (021 6モル） をエタノール 80 m 1とピリジン 80 m 1の溶媒に溶かし、 2時間加熱 還流した。 反応混合物を氷水に注ぎ、 酢酸ェチルで抽出し、 酢酸ェチル層を 1規 定の塩酸と飽和食塩水でそれぞれ洗浄して、 硫酸マグネシウムで乾燥し、 減圧下 溶媒を留去した。 15.9 gのメチル 2、 4—ジクロロー 3— （3—ヒドロキ シィミノー 1ーブテニル） ベンゾエー卜を得た。 収率 98.2%
得られたメチル 2、 4ージクロ口一 3— （3—ヒ ドロキシイミノー 1ーブテ ニル） ベンゾェ一ト 15.9 g ( 0.052モル） をテ卜ラヒドロフラン 250 m 1に溶解した中へ、 炭酸水素ナトリウム 16.8 g (0.2モル） の水 1 60 m 1溶液を加え、 次いでヨウ化力リウ厶 30.1 g (0. i 8モル） とヨウ素 1 4 g ( 0.055モル） を水 120mlに溶解した水溶液を加えて光を遮断して 4時間加熱環流した。 反応混合物を氷水に注ぎ、 亞硫酸水素ナトリウムを加えた 後酢酸ェチルで抽出した。 有機層を飽和食塩水で洗浄、 硫酸マグネシゥ厶で乾燥 後、 減圧下に溶媒を留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで 精製し、 8.8 gのメチル 2、 4ージクロロー 3— (3—メチルー 1 , 2—ィ ソォキサゾ一ル一 5—ィル） ベンゾエートを得た。 収率 54. 5%
mp. 84 - 89 °C
得られたメチル 2、 4ージクロロー 3— （3—メチルー 1 , 2—イソォキサ ゾールー 5—ィル） ベンゾエート 2.0g CO.0069モル） を 21 m 1のェチ ルアルコールに溶解し 1規定の苛性ソーダ水溶液 21 m 1を加え室温で一夜撹拌 した。 反応混合物を氷水に注ぎ濃塩酸で酸性にして、 析出した結晶を濾過して、 水洗浄し、 乾燥して 1.86 gの 2、 4—ジクロロー 3— (3—メチル— 1、 2 ーォキサゾールー 5—ィル） ベンゾイツクァシッ ドを得た。 収率 97. 9% mp. 154— 156°C 参考例 4
2—クロ口一 4一メタンスゾ ホニル一 3— （3_メチルー 1、 2—イソォキサ ゾールー 5—ィル） ベンゾイツクァシッ ドの製造
BsCOzC
Figure imgf000048_0001
メチル 2、 4—ジクロロー 3— (3—メチルー 1, 2—イソォキサゾ一ルー 5—ィル） ベンゾエー卜 8. 8 g ( 0.030モル） と炭酸力リウム 4.2 g ( 0.030モル） を 20m 1のジメチルホルムアミ ドに溶解し、 メタンチオール 1. 9 g ( 0.038モル） 、 ジメチルホルムアミ ド 1 0m lの溶液を加え、 室 温で一夜携拌した。 反応混合物を氷水に注ぎ、 詐酸ェチルで抽出、 飽和食塩水で 洗浄、 硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を減圧下留去した。 残留物をシリカゲル カラムクロマトグラフィーで精製し、 7. 49 gのメチル 2—クロロー 3— ( 3—メチル一 1, 2—イソォキサゾールー 5—ィル） 一 4ーメチルチオべンゾェ ートを得た。 収率 82%
得られたメチル 2—クロ口一 3— (3—メチル—し 2—イソォキサゾール 一 5—ィル） — 4ーメチルチオべンゾエー卜 7. 49 g ( 0. 025モル） を、 30mlのクロ口ホルムに溶解し m—クロ口過安息香酸 1 3 g (0. 074モル ) を加え室温で 3時間撹拌した。 反応混合物をろ過し、 ろ液を 1規定の苛性フー ダ水溶液、 次いで飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥後、 溶媒を'减圧 下留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、 8. 19 gのメチル 3— (3—メチルー 1. 2—イソォキサゾールー 5—ィル） 一 2—ク ロロ一 4一メタンスルホニルベ-ンゾエートを得た。
収率 99 % mp. 1 38— 1 3 9 °C
得られたメチル 2—クロロー 4—メタンスルホ二ルー 3— （3—メチルー 1 , 2—イソォキサゾールー 5—ィル） ベンゾエート 8. 1 9 g ( 0. 0 2 4モル ) を 7 5m 1のエチルアルコールに溶解し、 1規定の苛性ソーダ水溶液 75m l を加えて室温で一夜撹拌した。 反応混合物を氷水に注ぎ濃塩酸で酸性にして、 析 出した結晶を濂過、 水洗、 乾燥後目的物 7. 49 gを白色結晶として得た。 収率 9 6% mp. 225 - 2 2 8 °C 参考例 5
メチル 3—ァセチルー 2, 4—ジクロ口ベンゾェ一卜の製造
Figure imgf000049_0001
メチル 1、 4 -ジクロロー 3—ホルミルべンゾエー卜 2. 47 gを乾燥 THF
2 Om lに溶解し、 — Ί 0°Cでメチルマグネシウムブロミ ドージェチルエーテル 溶液 （3. Omo 1/1 ) 4m 1をゆっく り滴下した。 滴下終了後、 冷浴をはずし 、 自然に昇温させながら 1時間擾拌した。 反応混合物を氷水に空け、 希塩酸で酸 性とし、 ジェチルエーテルで抽出した。 有機展を、 水、 飽和食塩水で洗浄後、 硫 酸マグネシゥムで乾燥した。 溶媒を減圧濃縮して、 メチル 2, 4ージクロロー
3 - ( 1—ヒドロキシェチル） ベンゾエートを油伏物質として 2. 4 2 g得た。 次にメチル 2, 4—ジクロロー 3— ( 1—ヒ ドロキシェチル〉 ベンゾェ一卜 2.
4 2 gをベンゼン 1 0m lに溶解し、 二酸化マンガン 4 gを加え、 1時間加熱還 流下攪拌した。 さらに、 二酸化マンガン 3 gを加え、 1時間加熱還流下援拌した 。 反応液を室温まで冷却し、 不溶物を濂別した。 赚は、 溶媒を-减圧留去し、 目 的物メチル 3—ァセチルー 2, 4—ジクロ口ベンゾェ一卜を 1. 7 5 g得た。 n 231.5495 参考例 6
メチル 2, 4—ジクロロー 3— (2—ォキソプロピルべンゾエー卜の製造 2レ Hs
Figure imgf000050_0001
2， 4—ジクロロー 3—ホルミルベンゾエート 25.72 gをトルエン 1 00m
1に添加し、 次いで二トロエタン 39.0 g、 n—プチルァミ ン 1.5 gを添加後、 還流下 21時間反応させた。 反応液は、 氷水に空け、 酢酸ェチルで抽出後 1規定 塩酸、 飽和食塩水で洗浄し、 硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去して
、 メチル 2, 4—ジクロロー 3— （ 2—二トロ一 1一プロぺニル） ベンゾエー 卜 34. 9 gを得た。 このものを精製することなく 30. l gをトルエン 1 20 m 1と水 360 m 1の混合溶媒に添加し、 次いで鉄粉 20. 8 gおよび塩化第二 鉄 0. 4 gを加えた後、 80°Cで濃塩酸 104 gを滴下した。 滴下終了後、 還流下 に 1時間反応させた。 反応液は、 冷却後酢酸ェチルを添加し、 不溶物を據別した
。 得られた有機層は、 水洗、 飽和食塩水で洗浄後、 硫酸マグネシウムで乾燥した
。 溶媒を減圧濃縮した後、 残留物をシリ力ゲルクロマトグラフィ一で精製して、 メチル 2, 4—ジクロロー 3— （2—ォキソプロピル） ベンゾエー卜 1 9. 5
3 gを得た。 22
n 1.5537
参考例 7
メチル 2, 4—ジクロロー - 3— （2—ジメチルアミノメチリデンー 1ーォキ ソプロピル） ベンゾェ一トの製造
)2
Figure imgf000051_0001
メチルマロン酸ジメチルエステル 1 3. 3 2 gをトルエン 1 50m lに溶解し 、 マグネシウムェチラー卜 1 0. 4 3 gを加えて、 2時間加熱還流させた。 反応 液を冷却後、 減圧下に濃縮し、 得られた残留物をトルエン 2 0 0 m lに溶解させ た。 この中に、 3—メ 卜キシカルボニル一 2, 6—ジクロ口べンゾイルクロリ ド 2 4. 4 0 gを加え、 室温で時間、 さらに 4. 5時間加熱還流した。 反応液を氷 水にあけ、 濃塩酸で全体を酸性とし、 有機層を分液した。 有機層を飽和食塩水で 洗浄したのち、 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 溶媒を減圧留去して、 メチル
2. 4—ジクロロー 3— （2, 2) —ジメ 卜キシカルボ二ルー 1一ォキソプロピ ル） ベンゾエート 34. 3 を得た。
このものを水 4 0m l と濃硫酸 8m 1から調製した希硫酸と酢酸 6 3 m 1中加 えて、 1 2. 5時間加熱還流した。 反応液を氷水中にあけ、 鲊酸ェチルで抽出し 、 水、 次いで飽和食塩水で洗浄したのち、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶 媒を減圧留去した後、 一部副生したカルボン酸を DMF中、 炭酸カリウム存在下 にヨウ化メチルで常法に従いエステル化を行い、 粗製のメチル 2, 4—ジクロ ロー 3 - (1一ォキソプロピル） ベンゾェ一ト 1 9. 3 1 gを得た。
このものの 1 4. 2 98を1^, N—ジメチルホルムアミ ドジメチルァセタール 6 0m lに添加し、 23. 5時間加熱還流した。 反応液を室温まで放冷後、 減圧 濩縮して得られた残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、 目 的とするメチル 2, 4—ジクロロー 3- (2 -ォキソ一 1—ジメチルアミ ノメ チルデンプロピル） ベンゾエー卜 7. 75 gを得た。 mp. 1 2 7. 5 - 1 2 8 °C 参考例 8
メチル 2, 4—ジクロロー 3— （4ーメチルイソォキサゾールー 5—ィル） ベンゾエー卜の製造
Figure imgf000052_0001
Figure imgf000052_0002
メチル 2, 4—ジクロロー 3— (2—ジメチルアミノメチリデン一 1ーォキ ソプロピル） ベンゾエー卜 7. 5 7 gをジォキサン 3 Om 1 と水 1 6m 1に溶解し 、 塩酸ヒ ドロキシルァミン 1. 7 0 gを添加し、 室温で 1 7時間搜拌した。 減圧下 に溶媒を留去後、 得られた残留物を酢酸ェチルに溶解し、 飽和食塩水で洗浄して から、 硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧留去後、 得られた粗ォキシム体 をトルエン 3 Om lに溶解し、 0. 5 gの p— トルエンスルホン酸を添加後、 加熱 還流下 14. 5時間撹拌した。 反応液を冷却後、 水洗、 飽和食塩水洗浄を行い、 硫 酸マグネシゥムで乾燥した。 溶媒を'减圧濃縮後、 得られた残留分はシリ力ゲルク 口マトグラフィ一で精製して、 目的物メチル 2, 4—ジクロロー 3— （4ーメ チルイソォキサゾ一ルー 5—ィル） ベンゾェ一ト 0. 8 3 gを得た。
1 H-NMR (CDC 1 δ p pm) ： 1. 97 (3 H, s) , 3. 96 (3 H. s) , 7. 50 ( 1 Η, d) , 7. 89 ( 1 Η, d ) , 8. 27 ( 1 Η. s ) 参考例 9
2, 4ージクロロー 3— (4—メチルイソォキサゾールー 5—ィル） ベンゾィ ックァシッ ドの製造
Figure imgf000053_0001
メチル 2, 4—ジクロロー 3— （4ーメチルイソォキサゾ一ルー 5—ィル） ベンゾエート 0. 83 gをジォキサン 2 Om lに溶解し、 濃塩酸 5 m 1を添加後、 加熱還流下に 15. 5時間攪拌した。 冷却後ジォキサンを留去して、 酢酸ェチルで 抽出し、 有機層を飽和食塩水で洗浄後、 硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減 圧濃縮し、 残留物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製して、 目的物 2, 4— ジクロロ— 3— （4ーメチルイソォキサゾ一ルー 5—ィル） ベンゾィ ックァシッ ドを結晶として 0. 4 8 g得た。 mp. 2 4 8 - 252 °C
(参考例 1 0 )
メチル 4—メタンスルホ レー 2—メチル一 3— （3—メチルー 1 , 2—ィ ソォキサゾ一ルー 5—ィル） ベンゾエー卜の製造
Figure imgf000054_0001
メチル 2, 3—ジメチルー 4一メタンスルホニルベンゾエー卜 1 0. 8 g ( 0. 0 4 5モル） を四塩化炭素 8 0 m 1に溶かし、 N—プロモスクシンィ ミ ド 8 . 3 g (0. 0 4 7モル） と過酸化ベンゾィル 0. 1 gを加え、 加熱還流下 3時 間 拌した。 放冷後、 不溶物を攄别し、 濂液を重亜硫酸水素ナ卜リゥム水溶液で 洗浄後、 無水硫酸マグネシゥムで乾燥した。 溶媒を減圧下濃縮し、 残留物をシリ 力ゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、 結晶として、 メチル 3—プロモメ チル— 4—メタンスルホニル— 2—メチルベンゾェ一ト 6. 2 gを得た。 収率 4 3. 4%
メタノール 2 0m lに、 2 8%ナトリウムメチラ一卜のメタノール溶液 2. 6 g C O . 0 1 4モル） を加え、 室温で 2—二トロプロパン i . 3 g ( 0. 0 1 5 モル） を滴下した。 次いで、 メチル 3—プロモメニルー 4—メタンスルホニル 一 2—メチルべンゾエー卜 4. 4 g (0. 0 1 4モル） を添加後、 加熱還流下 1 時間撹拌した。 放冷後、 反応液に 1 N—塩酸 5 0m lを加え、 酢酸ェチルで抽出 した。 酢酸ェチル層を飽和食塩水で洗浄して、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した 。 溶媒を减圧下濃縮して、 結晶として、 3. l gのメチル 3—ホルミル一 4一 メタンスルホニル— 2—メチルベンゾエートを得た。 収率 88%
3. 1 g (0. 0 1 2モル） のメチル 3—ホルミル一 4一メタンスルホニル - 2—メチルベンゾエー卜にベンゼン 30m lと次いで、 2—ォキソプロピリデ ントリフエニルホスホラン 3. 85 g (0. 012モル） を加え、 加熱還流下 1 時間撹拌した。 放冷後、 不溶物を濾別し、 溶媒を減圧下濃縮して得たメチル 4 —メタンスルホニル _ 3— （3—ォキソ一 1ーブテニル） 一2—メチルベンゾェ —トをエタノール 1 0m 1とピリジン 10mlの溶媒に溶かし、 塩酸ヒドロキシ ァミ ン 1. 1 g (0. 0 1 6モル） を加え、 加熱還流下 1時間拢拌した。 反応混 合物を氷水に注ぎ、 酢酸ェチルで抽出し、 酢酸ェチル層を 1 N -塩酸と飽和食塩 水でそれぞれ洗浄して、 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 減圧下溶媒を留去した 。 得られたメチル 4一メタンスルホニル一 3— ( 3—ヒ ドロキシィミ ノー 1一 ブテニル） 一 2—メチルベンゾェ一 卜を、 THF 15m 1に溶解した中へ、 重炭 酸水素ナトリウム 1. 4 g (0. 0 1 7モル） の水 1 5m 1溶液を加え、 次いで ヨウ化カリウム 2. 5 g (0. 01 5モル） とヨウ素 1. l g (0. 05モル） を水 1 2m lに溶解した水溶液を加え、 水を遮断して 3時間加熱還流した。 反応 混合物を氷水に注ぎ、 亜硫酸水素ナ卜リウムを加えた後、 酢酸ェチルで抽出した 。 有機層を飽和食塩水で洗浄、 無水硫酸マグネシウムで乾燥後、 減圧下に溶媒を 留去した。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、 0. 84 g のメチル 4一メタンスルホニル— 2—メチル— 3— （ 3—メチルー 1 , 2—ィ ソォキサゾ一ルー 5—ィル） ベンゾエートを得た。 収率 23%
Ή-NMR (CDC 1 δ p pm) ； 2. 36 (3 H, s ) , 2. 45 (3 H. s) , 2. 92 (3 Η, s) , 3. 98 (3 Η, s) , 6. 4 1 ( 1 Η, s ) . 8. 07 ( 1 Η, d) . 8. 1 6 ( 1 Η, d)
(参考例 1 1 )
メチル 4一メタンスルホ "^レー 2—メチルー 3— (3—メチルー 1 , 2—ィ ソォキサゾール— 5—ィル） ベンゾェ一トの製造
Figure imgf000056_0001
メチル 3—メ トキシー 2—メチルー 4—メチルチオベンゾェ一卜 1 0 g (0 . 04 4モル） を 90m 1の塩化メチレンに溶解し、 三臭化硼素 8. 4 m 1 (0 . 088モル） の塩化メチレン 9 0 m 1溶液に 5〜1 0°Cで滴下した。 室温で 4 時間搅拌後、 メタノール 5 0m lを氷冷下で滴下し、 水、 次いで飽和食塩水で洗 浄した。 無水硫酸マグネシゥ厶で乾燥後、 溶媒を減圧下留去し、 メチル 3—ヒ ドロキシー 2—メチルー 4—メチルチオベンゾェ一ト 9. 2 gを得た。 収率 9 8 %
メチル 3—ヒドロキシー 2—メチルー 4ーメチルチオべンゾエー卜 9. 2 g (0. 0 4 3モル） を酢酸 50m 1に溶解し、 30 %過酸化水素 1 4. 8 g (0 . 1 3 0モル） を加え、 8 0°Cで 3時間攬拌した。 反応混合物を氷水に注ぎ、 析 出した結晶を濾過し、 水で洗浄後、 乾燥して、 メチル 3—ヒドロキシー 4—メ 夕ンスルホニルー 2—メチルベンゾエート 8. 8 gを得た。 収率 8 3%
メチル 3—ヒ ドロキシー 4一メタンスルホニルー 2—メチルベンゾエート 8 . 8 g ( 0. 0 3 6モル） を塩化メチレン 1 0 0m 1に溶解し、 ピリジン 8. 3 g (0. 1 1モル） を加え、 0°Cに冷却後、 無水トリフロロメタンスルホン酸 1 2. 2 g (0. 043モル） を加えた。 室温で 1時間撹拌後、 反応混合物を 1規 定塩酸、 次いで飽和食塩水で洗浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を 減圧下留去し、 メチル 4一メタンスルホ二ルー 2—メチル— 3— (トリフロロ メタンスルホニル） ォキシベンゾエート 1 3. 5 gを得た。 収率 99%
メチル 4一メタンスルホニル一 2—メチル一 3— （トリフロロメタンスルホ ニル） ォキシベンゾエート 1. 65 g (4. 4ミ リモル） と 3—メチルー 5— ( トリプチルスタニル） イソォキサゾール 1, 97 g (5. 3ミ リモル） をジォキ サン 2 Om 1に溶解し、 塩化リチウム 0. 58 g ( 1 4ミ リモル） 、 テ卜ラキス 一 （トリフエニルホスフィ ン） 一パラジウム一 （0) 0. 1 g、 2， 6—ジ— t —ブチルー 4ーメチルーフエノール 0. 0 1 gを加え、 オートクレープ中 1 40 °Cで 3時間撹拌した。 放冷後、 不溶物を濾別し、 溶媒を減圧下留去後、 シリカゲ ルカラムクロマトグラフィーで精製して、 メチル 4一メタンスルホ二ルー 2— メチル—3— （3—メチルー 1, 2—イソォキサゾールー 5—ィル） ベンゾエー ト 0. 74 gを得た。 収率 55% 参考例 1 2
4一メタンスルホ二ルー 2—メチルー 3— （3—メチルー 1， 2—イソォキサ ゾールー 5—ィル） ベンゾィックアンッ ドの製造
Figure imgf000057_0001
メチル 4—メタンスルホ二ルー 2—メチル一 3— （3—メチルー 1， 2—ィ ソォキサゾールー 5—ィル） ベンゾエート 3. 1 1 g (10. 1 ミ リモル） を 3 Om 1のメチルアルコールに溶解し、 1規定の苛性ソーダ水溶液 3 Om 1を加え 、 室温で、 一夜撹拌した。 反応混合物を氷水に注ぎ、 濃塩酸で酸性にして、 析出 した結晶を鎵過し、 水で洗浄後、 乾燥して 2. 85 gの 4一メタンスルホニル— 2—メチルー 3— （3—メチルー 1 , 2—イソォキサゾールー 5—ィル） ベンゾ イツクァシッ ドを得た。 収率 9 6%。 mp. 24 2 - 2 4 4 °C 参考例 1 3
メチル 2—クロロー 4ーメ 卜キシ— 3—メチルベンゾエー卜の製造
Figure imgf000058_0001
Figure imgf000058_0002
Figure imgf000058_0003
3—クロ□— o—クレゾール 13. 6 g (0. 095モル） を DMF 1 00m 1に 溶解し、 炭酸カリウム 14. 5 g (0. 1 05モル） とヨウ化メチル 17. 6 g (0. 1 2 4モル） を室温で加えた後、 80°Cで 2時間 ¾拌した。 放冷後、 不溶物を據 SIJ し、 水に注加後、 ェチルエーテルで抽出した。 有機雇を飽和食塩水で洗浄後、 無 水硫酸マグネシウムで乾燥し、 溶媒を留去して、 2—クロ口— 6—メ 卜キシトル ェン 1 4. 6 gを得た。 収率 9 5. 4 %
2—クロロー 6—メ トキシ トルエン 14. 6 g (0. 0 9 3 3モル） に塩化メチレ ン 1 0 0m l と塩化アルミニウム 24. 9 g (0. 1 87モル） を加え、 塩化ァセチ ル 14. 6 g (0. 1 8 7モル） を 1 5 °Cで滴下した。 室温で 1時間攪拌後、 1 N— 塩酸中に注ぎ、 有機層を水洗し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を留去 して、 18. 1 gの 2—クロ口一 4ーメ トキシー 3—メチルァセ トフエノンを得た 。 収率 97. 7% 2—クロ口一 4—メ 卜キシー 3—メチルァセトフエノン 18. 1 g (0.09 1 2 モル） をジォキサン 9 Om lに溶解し、 9%次亜塩素酸ナトリゥ厶水溶液 246 g (0.319モル） を室温で滴下した。 滴下終了後室温でさらに 3時間攪拌した 後、 反応液に濃塩酸を加えて酸性とし、 析出した結晶を濾過、 水洗、 乾燥して、 2—クロ口一 4ーメ 卜キシー 3—メチルべンゾィックァシッ ド 16.6 gを得た。 収率 91. 2%
2—クロ口一 4ーメ トキシー 3—メチルベンゾイツクァシッ ド 16.6 g (0. 0 832モル） をメタノール 1 50m 1に溶解し、 濃硫酸 1.0 gを加え、 1 8時間 加熱還流下攪拌した。 溶媒を减圧留去して得た残留物をベンゼンに溶解して、 3 %重曹水、 次いで飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒 を留去した後、 残った結晶をメタノールで洗浄し、 メチル 2—クロロー 4ーメ トキシ— 3—メチルベンゾェ一ト 1 3. 5 gを得た。 収率 76. 0%
Ή-NMR (CDC 1 . δ p pm)
2. 2 1 (3 H. s) , 3. 89 (3H， s) . 3. 92 (3 H, s) , 6. 78 (1 H. d) , 7. 72 ( 1 H, d)
参考例 1 4
2—クロ口一 4ーメ トキシー^ー （3—メチルー 1 , 2—イソォキサゾールー 5—ィル） ベンゾイツクァシッ ドの製造
Figure imgf000060_0001
メチル 2—クロロー 4ーメ 卜キシー 3—メチルベンゾエー卜 5. 0 g (0. 0 2 5モル） を四塩化炭素 5 0 m 1に溶かし、 N—プロモスクシンイ ミ ド 4. 9 g (0. 0 2 8モル） と過酸化ベンゾィル 0 . 1 gを加え、 加熱還流下 4時間攬拌した。 放冷後、 不溶物を據別し、 濂液を重亜硫酸水素ナトリゥム水溶液で洗浄後、 無水 硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を減圧下濃縮し、 粗結晶として、 メチル 3 —ブロモメチルー 2—クロロー 4ーメ 卜キシベンゾエー卜 7 . 5 gを得た。 メタノール 4 O m 1 に、 2 8 %ナトリゥムメチラ一卜のメタノール溶液 5. 4 g を加え、 室温で 2—二トロプロパン 2 . 5 gを滴下した。 次いで、 メチル 3— プロモメチルー 2 _クロ口— 4ーメ トキシベンゾェ一ト 7 . 5 gを添加後、 加熱 還流下 1時間撹拌した。 放冷後、 反応液に 1 N—塩酸 1 0 0 m lを加え、 酢酸ェ チルで抽出した。 酢酸ェチル層を飽和食塩水で洗浄して、 無水硫酸マグネシウム で乾燥した。 溶媒を減圧下濃縮して、 得られた結晶をェチルエーテルで洗浄し、 結晶として、 3. 1 gのメチル 2—クロロー 3—ホルミル一 4—メ トキシベンゾ エー卜を得た。 収率 54%。
3.08 g (0.01 35モル） のメチル 2 -クロロー 3—ホルミル一 4—メ ト キシベンゾエー卜にベンゼン 30m lと次いで、 2—ォキソプロピリデン卜リフ ェニルホスホラン 4.52 g (0.0142モル） を加え、 加熱還流下 1時間援拌し た。 放冷後、 不溶物を濂別し、 溶媒を減圧下濃縮して得たメチル 2—クロロー 3 - (3—ォキソ一 1ーブテニル） 一 4—メ トキシベンゾェ一トをエタノール 2 5 m 1とピリジン 25mlの溶媒に溶かし、 塩酸ヒドロキシァミン 3.3 g (0.0 47モル） を加え、 加熱還流下 1時間攪拌した。 反応混合物を氷水に注ぎ、 酢酸 ェチルで抽出し、 鲊酸ェチル層を 1 N -塩酸と飽和食塩水でそれぞれ洗浄して、 無水硫酸マグネシウムで乾燥し、 弒圧下溶媒を留去した。 得られたメチル 2— クロロー 3— （3—ヒドロキシィミノー 1ーブテニル） 一 4—メ 卜キシベンゾェ 一卜を、 THF 50m 1に溶角 し、 そこへ、 重炭酸水素ナトリゥム 4. 1 g (0.0 4 9モル） の水 40 m 1溶液を加え、 次いでヨウ化力リウム 7.4 g (0.045モ ル） とヨウ素 3.4 g (0.0 1 4モル） を水 35m 1に溶解した水溶液を加え、 光 を遮断して 3時間加熱還流した。 反応混合物を氷水に注ぎ、 亜硫酸水素ナトリゥ ムを加えた後、 鲊酸ェチルで抽出した。 有機層を飽和食塩水で洗浄、 無水硫酸マ グネシゥムで乾燥後、 減圧下に溶媒を留去した。 残留物をシリ力ゲル力ラムクロ マトグラフィ一で精製し、 メチル 2—クロ口一 4ーメ 卜キシー 3— （3—メチ ル一 1, 2—イソォキサゾールー 5—ィル） ベンゾエー卜 2. 02 gを得た。 収 率 53. 5%
得られたメチル 2—クロロー 4ーメ 卜キシ— 3— ( 3—メチルー 1 , 2—ィ ソォキサゾールー 5—ィル） ベンゾェ一卜 2.02 g (7.23ミ リモル） を 2 Om 1のメチルアルコールに溶解し、 1規定の苛性ソーダ水溶液 3 Omlを加え、 室 温で一夜擾拌した。 反応混合物を氷水に注ぎ、 濃塩酸で酸性にして、 析出した結 晶を 過し、 水で洗浄後、 乾燥して 2—クロ口— 4—メ 卜キシー 3— (3—メチ ルー 1, 2—イソォキサゾール—5—ィル） ベンゾイツクアシッ ド 1. 87 gを 得た。 収率 97. 4%、 mp. 217 - 220 °C 本発明化合物は畑作条件で、 土壌処理、 茎葉処理のいずれの方法でも高い除草 活性を示し、 メヒシバ、 力ヤッ^グサ、 ィチビ、 ィヌビュ等の各種畑雑草に有効 で、 トウモロコシ、 ムギ、 大豆、 ヮタ等の作物に選択性を示す化合物も含まれて いる。
また、 本発明化合物は、 作物、 観 »用植物、 果樹等の有用植物に対し、 生育抑 制作用等の植物成長調節作用を示す化合物も含まれている。
また本発明化合物は、 水田雑草のノビエ、 タマガヤッリ、 ォモダカ、 ホ夕ルイ 等の各種水田雑草に対し、 優れた殺草効力を有し、 イネに選択性を示す化合物も 含まれている。
更に本発明化合物は果樹園、 芝生、 線路端、 空き地等の雑草の防除にも適用す ることができる。
本発明化合物には植物成長調節作用、 殺菌活性、 殺虫 ·殺ダニ活性を有するも のも含まれる。
本発明除草剤は、 本発明化合物の 1種又は 2種以上を有効成分として含有する 。 本発明化合物を実際に施用する際には他成分を加えず純粋な形で使用できるし 、 また農薬として使用する目的で一般の農薬のとり得る形態、 即ち、 水和剤、 粒 剤、 粉剤、 乳剤、 水溶剤、 懸濁剤、 フロアブル等の形態で使用することもできる 。 添加剤および担体としては固型剤を目的とする場合は、 大豆粉、 小麦粉等の植 物性粉末、 珪藻土、 燐灰石、 石こう、 タルク、 ベントナイ ト、 パイロフィライ 卜 、 クレイ等の鉱物性微粉末、 安息香酸ソ一ダ、 尿素、 芒硝等の有機及び無機化合 物が使用される。 液体の剤型を目的とする場合は、 ケロシン、 キシレンおよびソ ルベントナフサ等の石油留分、 シクロへキサン、 シクロへキサノン、 ジメチルホ ルムアミ ド、 ジメチルスルホキシド、 アルコール、 アセトン、 トリクロルェチレ ン、 メチルイソプチルケトン、 鉱物油、 植物油、 水等を溶剤として使用する。 こ れらの製剤において均一かつ安定な形態をとるために、 必要ならば界面活性剤を 添加することもできる。
本発明除草剤における有効成分濃度は前述した製剤の形により種々の濃度に変 化するものである力 例えば、 水和剤に於いては、 5〜9 0 %'、 好ましくは 1 0
- 8 5 % :乳剤に於いては、 3 ~ 7 0 %、 好ましくは 5〜 6 0 %：粒剤に於いて は、 0 . 0 1〜5 0 %、 好ましくは、 0 . 0 5 %〜4 0 %の'港度が用いられる。 このようにして得られた水和剤、 乳剤は水で所定の濃度に希釈して懸濁液或い は乳阇液として、 粒剤はそのまま雑草の発芽前又は発芽後に土壌に散布処理もし くは混和処理される。 実際に本発明除草剤を適用するに当たっては 1ヘクタール 当たり有効成分 0 . 1 g以上の適当量が施用される。
又、 本発明除草剤は公知の殺菌剤、 殺虫剤、 殺ダニ剤、 除草剤、 植物成長調整 剤、 肥料等と混合して使用することも出来る。 特に、 除草剤と混合使用すること により、 使用薬量を減少させることが可能である。 又、 省力化をもたらすのみな らず、 混合薬剤の相乗作用により一雇高い効果も期待できる。 その場合、 複数の 公知除草剤との組合せも可能である。
本発明除草剤と混合使用するにふさわしい薬剤としては、 ジフルフヱニカン、 プロパニル等のァニリ ド系除草剤、 ァラクロール、 プレチラクロール等のクロ口 ァセトァニリ ド系除草剤 2 , 4— D、 2 , 4一 D B等のァリールォキシアルカン 酸系除草剤、 ジクロホップーメチル、 フエノキサプロップ一ェチル等のァリール ォキシフヱノキシアルカン酸系除草剤、 ジカンパ、 ピリチォバック等のァリール カルボン酸系除草剤、 イマザキン、 イマゼタピル等のイミダゾリン系除草剤、 ジ ゥロン、 イソプロッロン等のウレァ系除草剤、 クロルプロファム、 フヱンメジフ アム等のカーバメート系除草剤、 チォベンカルプ、 E P T C等のチォカーバメ一 ト系除草剤、 卜リフルラリン、 ペンジメタリン等のジニトロア二りン系除草剤、 アシフルオルフエン、 ホメサフェン等のジフエ二ルェ一テル系除草剤、 ベンスル フロンーメチル、 ニコスルフロン等のスルホニルゥレア系除草剤、 メ 卜リプジン 、 メタミ ト口ン等のトリアジンノン系除草剤、 アトラジン、 シァナジン等のトリ ァジン系除草剤、 グリホサート、 グリホシネートなどのリン酸系除草剤、 パラ一 卜、 ジフェンゾコート等の 4級アンモニゥム塩系除草剤、 フルミクロラック一べ ンチル、 フルチァセッ トーメチル等の環状イミ ド系除草剤、 その他として、 イソ キサベン、 エトフメセ一卜、 ォキサシアノン、 キンク口ラック、 クロマゾン、 ス ルコトリオン、 シンメチリン、 ジチォピル、 ピラゾレート、 ピリデート、 フルポ キサム、 ベンタゾン、 ベンフルセー卜、 更に、 セトキシジム、 卜ラルコキシジム 等のシクロへキサンジオン系の除草剤等が挙げられる。 又、 これらの組み合わせ た物に植物油及び油濃縮物を^ Dすることも出来る。
【実施例】
隱剤〕
次に、 本発明除草剤に関する製剤例を若千示すが、 有効成分化合物、 添加物及 び添加割合は、 本実施例にのみ限定されることなく、 広い範囲で変更可能である 。 製剤実施例中の部は重量部を示す。 実施例 7 水和剤
本発明化合物 2 0部 ホワイ 卜カーボン 2 0部 ケイソゥ土 5 2部 アルキル硫酸ソーダ 8部 以上を均一に混合、 微細に粉砕して、 有効成分 2 0 %の水和剤を得た c 実施例 8 乳剤
本発明化合物 2 0部 キシレン 5 5部 ジメチルホルムァミ ド 1 5部 ポリォキシエチレンフヱニルエーテル 1 0部 以上を混合、 溶解して有効成分 2 0 %の乳剤を得た c 実施例 9 粒剤
本発明化合物 5部 タルク 4 0部 クレー 3 8部 ベン 卜ナイ ト 1 0部 アルキル硫酸ソーダ 7部 以上を均一に混合して微細に粉砕後、 直径 0 . 5 - 1 0 m mの粒状に造粒し て有効成分 5 %の粒剤を得た。 【発明の効果】
次に本発明除草剤の効果に関する試験例を示す。
除草効果は下記の調査基準に従つて調査し、 殺草指数で表した。
調査基準
殺 草 率 殺 草 指 数
0% 0
20〜29% 2
40~49% 4
60〜69% 6
80〜89% 8
1 00% 1 0
また、 1、 3、 5、 7、 9の数値は、 各々 0と 2、 2と 4、 4と 6、 6と 8、 8と 1 0の中間の値を示す。
(無処理区の地上部生草重 -処理区の地上部生草重） 殺草率 （％) - 1 00 無処理区の地上部生草重 試験例 1 茎葉散布処理
200 cm2 のポッ 卜に土壌を充填し、 表層にィチビ、 ィチビ、 ォナモミ、 ァ キノエノコログザ、 ェンバク及びトウモロコシの各種子を播き、 軽く覆土後温室 内で生育させた。 各植物が 5~25 cmの草丈に生育した時点で実施例 8に示し た乳剤の水希釈液を有効成分が 63 g/h aになるように、 1000リッ トル/ h aの散布水量相当量で小型噴霧器にて茎葉部に散布した。 3週間後に作物薬害 及び除草効果を前記調査基準に従って調査し、 その結果を第 7表に示した。 第 Ί 表
Figure imgf000066_0002
対照化合物： W096/26200号記載の化合物
Figure imgf000066_0001
産業上の利用の可能性：
以上説明したように、 本発明化合物は優れた除草活性および作物選択性を有し ており、 本発明化合物を含有する組成物は除草剤として有用である。

Claims

請 求 の 範 囲
1. 一般式 〔 I〕
R4 R3
[1〕
Figure imgf000067_0001
〔式中、 R1 はハロゲン原子、 d- 4 アルキル基、 4 アルコキシ基、 ニトロ 基、 シァノ基、 ハロアルキル基、 Ct- 4 アルキルチオ基、 d-4 アルキル スルフィニル基または d アルキルスルホ二ル基を表す。
R2 はハロゲン原子、 ニトロ基、 シァノ基、 C,-e アルキル基、 C, アルコ キシ基、 β ハロアルキル基、 d- ハロアルコキシ基、 C,- アルキルチオ 基、 d アルキルスルフィニル基または d アルキルスルホ二ル基を表す。
R3 、 R は、 それぞれ独立して水素原子、 « アルキル基または C,-^ ハ 口アルキル基を表す。
Tは、 〔II〕
〔II〕
Figure imgf000067_0002
(R5 、 R6 、 R7 、 R8 、 Re および R】0は、 それぞれ独立して水素原子、 ハ ロゲン原子、 C>— 6 アルキル基、 d— e ハロアルキル基、 じぃ6 アルコキシ基、 Cl ハロアルコキシ基、 Ci-6 アルキルチオ基、 d アルキルスルフィニル 基、 6 アルキルスルホニル基、 匱換されていてもよいフヱニル基、 （ ト6 ァ ルキルチオ C アルキル基、 β アルキルスルフィニル Cト《； アルキル基、 C,_6 アルキルスルホ二ル(：ト 6 アルキル基、 置換されていてもよいフヱニルチ ォじ！—(！ アルキル基、 S換されていてもよいフヱニルスルフィニル C,-6 アルキ ル基、 置換されていてもよいフ―ェニルスルホニル C,—6 アルキル基、 C,-6 アル コキシ アルキル基、 置換されていてもよいフエ二ル ！-6 アルキルォキシ Cl-β アルキル基、 β アルキルカルボニルォキシ アルキル基、 ヒ ドロ キシ Ci-S アルキル基、 ジ C,- 6 アルコキシ C, -S アルキル基、 Ci-S アルコキ シカルボニル基、 シァノ基、 ホルミル基、 ヒドロキシィミノ C , -s アルキル基、 Cl-e アルコキシィミノ アルキル基、 C2- 4 アルケニルォキシィミノ C,- e アルキル基、 C2-4 アルキニルォキシィミノ C>-e アルキル基、 d-e ハロア ルコキシィミノ Ci-6 アルキル基、 C2-4 ハロアルケニルォキシィミノ d-6 了 ルキル基または C2-4 ハロアルキニルォキシィミノ d-e アルキル基を表す。 ま た、 （R5 若しくは R6 ) と （R7 若しくは Re ) 、 (R7 若しくは R8 ) と （ Re 若しくは R10) は、 それぞれ一緒になって、 メチレン又は C2— 5 のアルキレ ン鎖を形成していてもよい。 ） で表されるシクロへキサンジオン— 1 , 3—ジォ ン環基を表す。 〕
で表されるへテ口環で匱換されたベンゼン誘導体またはその塩。
2. 丁が、 以下に示す群から選ばれる一種の基である請求項 1に記載の化合物。
Figure imgf000068_0001
3. 式 〔I〕
r
〔I〕
Figure imgf000069_0001
(式中、 R' 、 R2 、 R3 、 R4 は、 前記と同じ意味を表し、 Tは、 〔II〕
〔II〕
Figure imgf000069_0002
(式中、 R5 、 R6 、 R7 、 R8 、 R9 、 R1Qは、 前記と同じ意味を表す。 ) で表される化合物もしくはその塩の 1種または 2種以上を有効成分として含有す ることを特徴とする除草剤。
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