WO1997047581A1 - Process for the preparation of halomethylated 2-phenylpropionic acid derivatives - Google Patents
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/36—Preparation of carboxylic acid esters by reaction with carbon monoxide or formates
- C07C67/38—Preparation of carboxylic acid esters by reaction with carbon monoxide or formates by addition to an unsaturated carbon-to-carbon bond
Definitions
- the present invention relates to a method for producing a 2-phenylpropionic acid derivative having a halomethyl group.
- 2-Phenylpropionic acid derivatives having a halomethyl group are useful compounds as synthetic intermediates for pharmaceuticals, agricultural chemicals, etc., and include, for example, anti-inflammatory analgesics 2- [4-1]
- the method (4) requires a large amount of an expensive halogenating agent such as N-bromosuccinimide or the reaction under light irradiation, which is disadvantageous for industrial implementation. It also has problems such as low yield.
- a method for synthesizing a 2- (hydroxymethylphenyl) propionic acid derivative, which is a raw material is carried out by using 2- [4-1- (2-methyl-1 O) Ozone oxidation of propionic acid must be used, which is dangerous and disadvantageous for industrial implementation, and wastes carbon resources and is economically disadvantageous. are doing.
- all of the conventional methods for producing a 2-phenylpropionic acid derivative having a halomethyl group have many problems in industrially implementing them.
- An object of the present invention is to provide a simple and inexpensive method for producing a 2-phenylpropionic acid derivative having a halomethyl group.
- the present inventors have found that a target compound can be produced with high yield and high selectivity by subjecting styrenes having a halomethyl group to sulfonylation using a palladium catalyst, and reached the present invention.
- the present invention relates to a compound represented by the general formula (I):
- R represents a hydrogen atom or a lower alkyl group
- the compounds represented by the general formula (I), the general formula (II) and the general formula (III) are referred to as a compound (I), a compound (II) and a compound (III), respectively.
- the lower alkyl group is a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, for example, methyl, Ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, isoamyl, neopentyl, hexyl, heptyl, -octyl, etc.
- the halogen atom and the halogen moiety of the methyl group are fluorine, chlorine. , Bromine, and iodine atoms.
- the palladium catalyst examples include palladium metals, metal salts, gold complex compounds, organometallic complexes having carbon monoxide as a ligand, organometallic complexes having a halogen atom as a ligand, tertiary phosphine or tertiary arsine.
- organometallic complexes having ligands such as olefins or acetylenes, and palladium compounds supported on carriers such as calcium carbonate, barium sulfate, activated carbon, silica, and alumina Things and the like can be used.
- Suitable palladium catalysts include palladium / carbon, palladium / silica, palladium alumina, palladium Z barium sulfate, palladium calcium carbonate, palladium black, palladium powder, Palladium oxide, palladium nitrate, palladium sulfate, palladium chloride, palladium bromide, palladium iodide, sodium tetrachloride palladate, potassium tetrachloride palladate, ammonium tetrachloride palladate, dichlorodiamine palladium, palladium acetate, palladium trifluoro Loacetate, palladium acetylacetonate, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, dichlorobis (acetitolitol) palladium, dichlorobis (benzonitrile) palladium, dichloro (cyclooctane) palladium, aryl palladium Chloride dim
- the palladium catalyst can be suitably used in the range of 0.0005 to 0.5 molar equivalent relative to compound (I), and more preferably in the range of 0.001 to 0.02 molar equivalent.
- the reaction may be carried out by adding a suitable coordinating compound as an additive.
- Coordinating compounds that can be used include triphenylphosphine, tri (0-tolyl) phosphine, tris (p-methoxyphenyl) phosphine, trimethylphosphine, triethylphosphine, trioctylphosphine, and triisopropylphosphine.
- (2-diphenylphosphinoethyl) tertiary phosphines such as phenylphosphine, 1-diphenylphosphino 2-diphenylarsinoethane, menthyldiphenylphosphine, neo-menthyldiphenylphosphine, triphenylphosphite, triethylphos
- Examples include lower-grade phosphites such as phyto, tributyl phosphite, and trioctyl phosphite, and tertiary arsines such as triphenyl arsine, trimethyl arsine, and triethyl arsine.
- the amount of the coordinating compound used is preferably in the range of up to 20.0 molar equivalents with respect to the above-mentioned palladium catalyst.
- Examples of the group at the ⁇ -position of the cyclohexane ring include a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl —Butyl, pentyl, isoamyl, neopentyl, hexyl and the like.
- the fact that the desired product can be obtained with high yield even when the reaction is performed at such a low pressure is an important merit from an industrial viewpoint. If the desired product can be obtained with high yield only at high pressure, expensive equipment such as a reactor with high pressure resistance is required, and Disadvantageous in terms of aspect.
- Compound (I) is industrially available and can also be easily synthesized by halogenating the corresponding methylstyrenes.
- Compound (II) is industrially available, and its amount is at least 0.5 molar equivalent, preferably at least 1 molar equivalent, relative to compound (I). .
- the carbon monoxide used in the present invention is industrially available. Further, in the present invention, the reaction suitably proceeds even in the presence of hydrogen gas. Therefore, a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen, a synthetic gas, a water gas, or the like, which is industrially available at low cost, can be used as the oxo gas.
- a range of 1 to 150 atm, preferably 1 to 80 atm, more preferably 1 to 5 atm can be selected.
- solvents that can be used include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane, heptane, and octane; Jethyl ether, tetrahydrofuran (THF), Ether solvents such as dioxane, dimethyl kishetan, dibutyl ether, etc .; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; nitrile solvents such as acetate nitrile, propionitrile, benzonitrile, dimethylformamide And aprotic polar solvents such as N-methylpyrrolidone and dimethylsulfoxide; and
- the reaction temperature can be selected from the range of room temperature to 150 ° C, preferably 50 to 120 ° C.
- a polymerization inhibitor may be added.
- the polymerization inhibitor that can be used is not particularly limited as long as it does not hinder the desired reaction. Examples thereof include nitromethane, nitrobenzene, nitrosobenzene, picric acid, tri-p-nitrophenylphenylmethyl, and triphenyl.
- Examples include copper, ferric chloride, and sodium P-toluenesulfonate.
- X is as defined above, a styrene having a halomethyl group, carbon monoxide and a compound represented by the general formula (II)
- COOFT (IV) (Wherein R A has the same meaning as R) is dissolved in an aprotic polar solvent, for example, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, etc., for example, a base such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, etc .; By stirring for 1 to 3 hours at room temperature to 60 in the presence of 2 equivalents, general formula (V)
- the compound (VI) is neutralized with a suitable solvent such as water or ethanol, for example, with sodium methoxide or sodium hydroxide to obtain a sodium salt.
- a suitable solvent such as water or ethanol, for example, with sodium methoxide or sodium hydroxide to obtain a sodium salt.
- Equation (IX) The compound represented by is first produced. This can be achieved by reacting 1 to 6 equivalents of a hexane solution of n-butyllithium in a solution of the corresponding oxime compound in tetrahydrofuran at room temperature. 0.8 to 1 equivalent of compound (IX)
- Example 6 153 mg (l. 00 mmol) of 4-chloromethylstyrene as a substrate, 1.8 mg (0.0 lmmol) of palladium chloride as a catalyst, 5.2 mg (0.02 mmo ⁇ ⁇ ) of triphenylphosphine as a ligand, alcohol as an alcohol
- the reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4, except that 0.5 ml of ethanol and 2.5 ml of toluene were used as a solvent.
- the yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate with respect to the raw material 4-chloromethylstyrene is 90%, and the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate with ethyl is 1%. % Or less, the yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 2%.
- the yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl was 88% based on the raw material 4-chloromethylstyrene, and the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl was 7%.
- the yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 4%.
- the yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene is 83%
- the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl is 1%
- the yield of 2- (4 The yield of 1-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 2%.
- the yield of isopropyl (4-monochloromethylphenyl) propionate was 1% or less, and the yield of isopropyl 2- (4-isopropoxycarbonylmethylphenyl) propionate was 2%.
- the yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate to the raw material 4-chloromethylstyrene is 85%
- the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate to ethyl is 5%
- the yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 1% or less.
- the yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl is 83% based on the raw material 4-chloromethylstyrene, and the yield of 3- (4-monochloromethylphenyl) propionate is 5%.
- the yield of ethyl 2-, 4- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) propionate was 1%.
- the yield of isopropyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene is The yield of isopropyl 3- (4-chloromethylphenyl) propionate was 4%, and the yield of isopropyl 2- (4-isopropoxycarbonylmethylphenyl) propionate was 4%.
- the temperature was raised to 60 with heating and stirring, and the inside of the system was replaced with a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen at appropriate times so that the carbon monoxide partial pressure in the system did not fall below 2 atm, and the carbonylation reaction was carried out for 30 hours.
- a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen at appropriate times so that the carbon monoxide partial pressure in the system did not fall below 2 atm, and the carbonylation reaction was carried out for 30 hours.
- 1 L stainless steel autoclave 15.3 g (10 Ommo 1) of 4-chloromethylstyrene, 0.5 g (2 mmo 1 Zg, 1.0 Ommo 1) of sodium tetrachloride parade, reference example ), 38 lmg of neomenthyl diphenylphosphine (purity 85%, 1.00 mmol), 50 ml of ethanol and 250 ml of acetone as ligands, and carbon monoxide mixed in the system After sufficient replacement with gas (1: 1), a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen was injected so that the pressure became 5 atm. The temperature was raised to 6 Ot: while heating and stirring, and the inside of the system was replaced with a mixture of carbon monoxide and hydrogen at appropriate times so that the carbon monoxide partial pressure in the system did not fall below 2 atm. Was done.
- 2-phenylpropionic acid derivatives having a halomethyl group simply and inexpensively.
- 2-Phenylpropionic acid derivatives having an octamethyl group are useful compounds as synthetic intermediates for pharmaceuticals, agricultural chemicals and the like.
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Abstract
Description
明細書 Specification
ハロメチル基を有する 2—フエニルプロピオン酸誘導体の製造方法 Method for producing 2-phenylpropionic acid derivative having halomethyl group
技術分野 Technical field
本発明は、 ハロメチル基を有する 2—フエニルプロピオン酸誘導体の製造方法 に関する。 ハロメチル基を有する 2—フエニルプロピオン酸誘導体は、 医薬、 農 薬等の合成中間体等として有用な化合物であり、 例えば消炎鎮痛剤 2— [ 4一 The present invention relates to a method for producing a 2-phenylpropionic acid derivative having a halomethyl group. 2-Phenylpropionic acid derivatives having a halomethyl group are useful compounds as synthetic intermediates for pharmaceuticals, agricultural chemicals, etc., and include, for example, anti-inflammatory analgesics 2- [4-1]
( 2—ォキソペンタン一 1 一ィルメチル) フエニル] プロピオン酸 (例えば特公 昭 58-4699 ) の合成中間体として用いることができる。 (2-oxopentane-111-methyl) phenyl] propionic acid (for example, Japanese Patent Publication No. 58-4699).
背景技術 Background art
従来、 ハロメチル基を有する 2—フエニルプロピオン酸誘導体を製造する方法 としては、 (1 ) ジアルコキシメタンと縮合剤を用いて 2—フエニルプロピオン 酸誘導体をハロメチル化する方法 (特開昭 56-138140 ) 、 ( 2 ) モノハロゲノ メチルエーテルと金属塩化物を用いて 2—フエニルプロピオン酸誘導体をハロメ チル化する方法 (特開昭 63-93748 ) , ( 3 ) ハロメチルフエ二ルケトンとオル 卜ギ酸エステルと三価のョード化合物を反応させる方法 (特開昭 60-116647 ) 、 Conventionally, as a method for producing a 2-phenylpropionic acid derivative having a halomethyl group, (1) a method of halomethylating a 2-phenylpropionic acid derivative using a dialkoxymethane and a condensing agent (Japanese Patent Application Laid-Open No. 138140), (2) A method of halomethylating a 2-phenylpropionic acid derivative using a monohalogenomethyl ether and a metal chloride (JP-A-63-93748), and (3) a method of preparing a halomethylphenylketone and an orthoformate ester. A method of reacting a trivalent odo compound (JP-A-60-116647),
( 4 ) 2— (メチルフエニル) プロピオン酸誘導体をラジカル発生剤の存在下で ハロゲン化する方法 (特開昭 62-129250, 62-155237, 62-161740 ) 、 (5 ) 2—(4) 2- (Method of halogenating a (methylphenyl) propionic acid derivative in the presence of a radical generator (JP-A-62-129250, 62-155237, 62-161740), (5) 2-
(ヒドロキシメチルフエニル) プロピオン酸誘導体をハロゲン化する方法 [R. S. P. Hsi, L. S. Stelzer, and W. T. Stolle, Farmaco, Ed. Sci.. 43. 597 (1988) ] 等が知られ ている。 しかしながら、 (1 ) および (2 ) の方法は、 塩化アルミニウムや四塩 化スズのような腐食性を有する試薬を多量に用いなければならない、 o—、 m— および P—の位置異性体の副生が避けられないうえ収率も低い等の問題点を有し ている。 (3 ) の方法は、 高価かつ強力な酸化剤であるョードベンゼンジァセ夕 一卜を多量に使用しなければならないので取り扱いに注意を要するうえ、 経済的 に不利である等の問題点を有している。 (4 ) の方法は、 N—ブロモコハク酸ィ ミドのような高価なハロゲン化剤を多量に用いるか、 または光照射下に反応を行 わなければならず、 工業的に実施するには不利であるうえ収率も低い等の問題点 を有している。 (5 ) の方法は、 原料となる 2— (ヒドロキシメチルフエニル) プロピオン酸誘導体を合成するために 2— [ 4一 (2—メチルー 1 一プロべ二 ル) フエニル] プロピオン酸のオゾン酸化を用いなければならないので、 危険を 伴い工業的に実施するには不利であるうえ、 炭素資源を無駄にするため経済的に 不利である等の問題点を有している。 以上のように、 ハロメチル基を有する 2— フエニルプロピオン酸誘導体を製造する従来法は、 いずれも工業的に実施するに は多くの問題点を有していた。 (Hydroxymethylphenyl) A method of halogenating a propionic acid derivative [RSP Hsi, LS Stelzer, and WT Stolle, Farmaco, Ed. Sci .. 43. 597 (1988)] and the like are known. However, the methods (1) and (2) require the use of a large amount of corrosive reagents such as aluminum chloride and tin tetrachloride. It has problems such as inevitable production and low yield. The method (3) requires a large amount of eodobenzene diacetate, which is an expensive and powerful oxidizing agent, and thus requires careful handling and is economically disadvantageous. Have a point. The method (4) requires a large amount of an expensive halogenating agent such as N-bromosuccinimide or the reaction under light irradiation, which is disadvantageous for industrial implementation. It also has problems such as low yield. In the method (5), a method for synthesizing a 2- (hydroxymethylphenyl) propionic acid derivative, which is a raw material, is carried out by using 2- [4-1- (2-methyl-1 O) Ozone oxidation of propionic acid must be used, which is dangerous and disadvantageous for industrial implementation, and wastes carbon resources and is economically disadvantageous. are doing. As described above, all of the conventional methods for producing a 2-phenylpropionic acid derivative having a halomethyl group have many problems in industrially implementing them.
一方、 2—および 3—フエニルプロピオン酸誘導体を混合物として製造する方 法として、 遷移金属触媒の存在下にスチレン誘導体を一酸化炭素ならびにアルコ —ルと反応させて合成する方法も公知であるが [例えば" New Syntheses with Carbon Monoxide", Edited by Falbe, Springer- Verlag (1980).第 4章, 309 頁] 、 ハロ メチル基を有する 2—フエニルプロピオン酸誘導体の合成についての報告はない。 ハロメチル基を有するベンゼン類においては、 ハロメチル部位が遷移金属触媒と 反応することが知られている [例えば H.Uraは, N. Hu, H. Maekawa, and T. On the other hand, as a method for producing a mixture of 2- and 3-phenylpropionic acid derivatives, a method of synthesizing a styrene derivative by reacting it with carbon monoxide and alcohol in the presence of a transition metal catalyst is also known. [For example, "New Syntheses with Carbon Monoxide", Edited by Falbe, Springer-Verlag (1980). Chapter 4, page 309], There is no report on the synthesis of a 2-phenylpropionic acid derivative having a halomethyl group. In benzenes having a halomethyl group, it is known that the halomethyl moiety reacts with a transition metal catalyst [for example, H. Ura is described in N. Hu, H. Maekawa, and T.
Fuchikami, Tetrahedron Lett., 32, 4733 (1991); H. Urata, H. Maekawa, S. Takahashi, and T. Fuchikami, J. Org. Chem.,≤6, 4320 (1991).] 。 例えば、 4一クロロメチルスチレ ンを鉄ペン夕カルボニル触媒および一酸化炭素の存在下にメタノールと反応させ ると、 4一ビニルフエニル酢酸メチルエステルが生成することが報告されており、 この際、 2— ( 4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸エステルの副生は認め られていない [S. W. Wright and L. D. McClure, Org. Prep. Proced. Int.. 26. #5, (1994) ] 。 また、 カルボニル化反応においては、 水素ガスを共存させると、 原 料ォレフインのヒドロホルミル化反応、 水素化反応、 ハロメチル基部位の加水素 化分解反応等が引き起こされるため好ましくなく、 反応にあたっては水素ガスを 含まない一酸化炭素を用いることが当然とされていた。 Fuchikami, Tetrahedron Lett., 32, 4733 (1991); H. Urata, H. Maekawa, S. Takahashi, and T. Fuchikami, J. Org. Chem., ≤ 6, 4320 (1991).]. For example, it has been reported that the reaction of 4-chloromethylstyrene with methanol in the presence of iron carbonyl catalyst and carbon monoxide produces 4-vinylphenylacetic acid methyl ester. (4-Chloromethylphenyl) Propionate by-product was not observed [SW Wright and LD McClure, Org. Prep. Proced. Int .. 26. # 5, (1994)]. In addition, in the carbonylation reaction, coexistence of hydrogen gas is not preferable because a hydroformylation reaction of the raw material olefin, a hydrogenation reaction, a hydrogenolysis decomposition reaction of a halomethyl group site, etc. are not preferred. It was natural to use carbon monoxide that did not contain it.
発明の開示 Disclosure of the invention
本発明の目的は、 ハロメチル基を有する 2—フエニルプロピオン酸誘導体を簡 便かつ安価に製造する方法を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a simple and inexpensive method for producing a 2-phenylpropionic acid derivative having a halomethyl group.
本発明者らは、 パラジウム触媒を用いてハロメチル基を有するスチレン類を力 ルポニル化することにより、 目的化合物を高収率かつ高選択的に製造できること を見い出し本発明に至った。 The present inventors have found that a target compound can be produced with high yield and high selectivity by subjecting styrenes having a halomethyl group to sulfonylation using a palladium catalyst, and reached the present invention.
すなわち、 本発明は、 パラジウム触媒の存在下、 一般式 ( I ) That is, the present invention relates to a compound represented by the general formula (I):
(式中、 Xはハロゲン原子を表す) で表されるハロメチル基を有するスチレン類 と、 一酸化炭素および一般式 ( I I ) (Wherein X represents a halogen atom), a styrene having a halomethyl group represented by the following formula: carbon monoxide and a general formula (II)
R-OH (II) R-OH (II)
(式中、 Rは水素原子または低級アルキル基を表す) で表される化合物とを反応 させることを特徴とする一般式 ( I I I ) (III)(Wherein, R represents a hydrogen atom or a lower alkyl group), characterized by reacting with a compound represented by the following general formula (III) (III)
(式中, Xおよび Rは前記と同じである) で表されるハロメチル基を有する 2— フエニルプロピオン酸誘導体の製造方法に関する。 Wherein X and R are the same as defined above, and a method for producing a 2-phenylpropionic acid derivative having a halomethyl group represented by the formula:
以下、 一般式 (I ) 、 一般式 (I I ) および一般式 (I I I ) で表される化合 物をそれぞれ化合物 (I) 、 化合物 (I I ) および化合物 ( I I I ) という。 一般式 (I ) 、 一般式 (I I ) および一般式 (I I I ) の各基の定義において、 低級アルキル基としては、 直鎖または分岐状の炭素数 1〜8のアルキル基、 例え ば、 メチル、 ェチル、 プロピル、 イソプロピル、 プチル、 イソプチル、 s e c— ブチル、 t e r tーブチル、 ペンチル、 イソァミル、 ネオペンチル、 へキシル、 ヘプチル、 -ォクチル等があげられ、 ハロゲン原子およびハ口メチル基のハロゲン 部分は、 フッ素、 塩素、 臭素、 ヨウ素の各原子を意味する。 Hereinafter, the compounds represented by the general formula (I), the general formula (II) and the general formula (III) are referred to as a compound (I), a compound (II) and a compound (III), respectively. In the definition of each group of the general formula (I), the general formula (II) and the general formula (III), the lower alkyl group is a straight-chain or branched alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, for example, methyl, Ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl, pentyl, isoamyl, neopentyl, hexyl, heptyl, -octyl, etc., and the halogen atom and the halogen moiety of the methyl group are fluorine, chlorine. , Bromine, and iodine atoms.
パラジウム触媒としては、 パラジウムの金属、 金属塩、 金厲錯化合物、 一酸 化炭素を配位子とする有機金属錯体、 ハロゲン原子を配位子とする有機金属錯体、 三級ホスフィンあるいは三級アルシン等を配位子とする有機金属錯体、 ォレフィ ン類あるいはアセチレン類等を配位子とする有機金属錯体、 これらのパラジウム 化合物を炭酸カルシウム、 硫酸バリウム、 活性炭、 シリカ、 アルミナ等の担体に 担持したもの等を使用することができる。 適当なパラジウム触媒としては、 パラ ジゥム /炭素、 パラジウム /シリカ、 パラジウム アルミナ、 パラジウム Z硫酸 バリウム、 パラジウムノ炭酸カルシウム、 パラジウムブラック、 パラジウム粉末、 酸化パラジウム、 硝酸パラジウム、 硫酸パラジウム、 塩化パラジウム、 臭化パラ ジゥム、 ヨウ化パラジウム、 ナトリウムテトラクロ口パラデート、 カリウムテ卜 ラクロ口パラデート、 アンモニゥムテトラクロ口パラデート、 ジクロロジァミン パラジウム、 酢酸パラジウム、 パラジウムトリフルォロアセテート、 パラジウム ァセチルァセ卜ネート、 卜リス (ジベンジリデンアセトン) ジパラジウム、 ジク ロロビス (ァセ卜二卜リル) パラジウム、 ジクロロビス (ベンゾニ卜リル) パラ ジゥム、 ジクロロ (シクロォク夕ジェン) パラジウム、 ァリルパラジウムクロリ ドダイマ一、 ジクロロビス (卜リフエニルホスフィン) パラジウム、 ジクロロビ ス (シクロへキシルジフエニルホスフィン) パラジウム、 ジクロロ [ 1 , 2—ビ ス (ジフエニルホスフイノ) ェタン] パラジウム、 ジクロロ [ 1, 3—ビス (ジ フエニルホスフイノ) プロパン] パラジウム、 ジクロロ [ 1 , 4一ビス (ジフエ ニルホスフイノ) ブタン] パラジウム、 ジクロロ [ 1 , 1 ' 一ビス (ジフエニル ホスフイノ) フエ口セン] パラジウム、 ジクロロビス (ジフエニルメチルホスフ イン) パラジウム、 ジクロロビス (トリメチルホスフィン) パラジウム、 ジクロ 口ビス (卜リエチルホスフィン) パラジウム、 ジクロロ [ 2 , 2 ' 一ビス (ジフ ェニルホスフイノ) 一 1 , 1 ' ービナフチル] パラジウム、 ジクロロビス (トリ フエニルアルシン) パラジウム、 トランス一べンジル (クロ口) ビス (卜リフエ ニルホスフィン) パラジウム、 ジアセテートビス (卜リフエニルホスフィン) パ ラジウム、 ジァセトビス (卜リフエニルホスフィン) パラジウム、 テトラキス (トリフ 二ルホスフィン) パラジウム等を例示することができる。 パラジウム 触媒は、 化合物 ( I ) に対して 0 . 0 0 0 5〜0 . 5モル当量の範囲で好適に使 用でき、 0 . 0 0 1〜0 . 0 2モル当量の範囲がより好ましい。 また、 本発明で は、 好適な配位性化合物を添加剤として加えて反応を実施してもよい。 用いるこ とのできる配位性化合物としては、 トリフエニルホスフィン、 トリ (0—トリ ル) ホスフィン、 トリス (p—メ卜キシフエニル) ホスフィン、 トリメチルホス フィン、 トリェチルホスフィン、 トリオクチルホスフィン、 トリイソプロピルホ スフイン、 トリシクロへキシルホスフィン、 卜リアリルホスフィン、 ジフエ二ル メチルホスフィン、 ベンジルジフエニルホスフィン、 シクロへキシルジフエニル ホスフィン、 ビス (2—シァノエチル) フエニルホスフィン、 ジフエニルホスフ イノベンゼン一 m—スルホン酸ナトリウム、 ビス (4一スルホナ一トフエニル) フエニルホスフィンカリウム、 卜リス (3—スルホナー卜フエニル) ナトリウム, ビス (ジフエニルホスフイノ) メタン、 1 , 2—ビス (ジフエニルホスフイノ) ェタン、 1 , 3—ビス (ジフエニルホスフイノ) プロパン、 1 , 4—ビス (ジフ ェニルホスフイノ) ブタン、 1, 1 ' —ビス (ジフエニルホスフイノ) フエロセ ン、 2, 2 ' —ビス (ジフエニルホスフイノ) 一 1 , 1 ' —ビナフチル、 Examples of the palladium catalyst include palladium metals, metal salts, gold complex compounds, organometallic complexes having carbon monoxide as a ligand, organometallic complexes having a halogen atom as a ligand, tertiary phosphine or tertiary arsine. Or organometallic complexes having ligands such as olefins or acetylenes, and palladium compounds supported on carriers such as calcium carbonate, barium sulfate, activated carbon, silica, and alumina Things and the like can be used. Suitable palladium catalysts include palladium / carbon, palladium / silica, palladium alumina, palladium Z barium sulfate, palladium calcium carbonate, palladium black, palladium powder, Palladium oxide, palladium nitrate, palladium sulfate, palladium chloride, palladium bromide, palladium iodide, sodium tetrachloride palladate, potassium tetrachloride palladate, ammonium tetrachloride palladate, dichlorodiamine palladium, palladium acetate, palladium trifluoro Loacetate, palladium acetylacetonate, tris (dibenzylideneacetone) dipalladium, dichlorobis (acetitolitol) palladium, dichlorobis (benzonitrile) palladium, dichloro (cyclooctane) palladium, aryl palladium Chloride dimer, dichlorobis (triphenylphosphine) palladium, dichlorobis (cyclohexyldiphenylphosphine) palladium, dichloro [1, 2-bis (diphenylphosphino) ethane] palladium, dichloro [1,3-bis (diphenylphosphino) propane] palladium, dichloro [1,4,1-bis (diphenylphosphino) butane] palladium, dichloro [1 , 1'-bis (diphenylphosphino) phenoctene] palladium, dichlorobis (diphenylmethylphosphine) palladium, dichlorobis (trimethylphosphine) palladium, dichlorobis (triethylphosphine) palladium, dichloro [2,2'-1 Bis (diphenylphosphino) 1-1,1'-binaphthyl] palladium, dichlorobis (triphenylarsine) palladium, trans-benzyl (chloro opening) bis (triphenylphosphine) palladium, diacetatebis (triphenylphenylphosphine) Radium, diacetbis (triphenylphosphine) palladium, tetrakis (trifurylphosphine) palladium and the like can be exemplified. The palladium catalyst can be suitably used in the range of 0.0005 to 0.5 molar equivalent relative to compound (I), and more preferably in the range of 0.001 to 0.02 molar equivalent. In the present invention, the reaction may be carried out by adding a suitable coordinating compound as an additive. Coordinating compounds that can be used include triphenylphosphine, tri (0-tolyl) phosphine, tris (p-methoxyphenyl) phosphine, trimethylphosphine, triethylphosphine, trioctylphosphine, and triisopropylphosphine. Sphine, tricyclohexylphosphine, triallylphosphine, diphenylmethylphosphine, benzyldiphenylphosphine, cyclohexyldiphenylphosphine, bis (2-cyanoethyl) phenylphosphine, diphenylphosphine Inobenzene 1 m-sodium sulfonate, bis (4-sulfonatophenyl) phenylphosphine potassium, tris (3-sulfonatophenyl) sodium, bis (diphenylphosphino) methane, 1,2-bis (diphenylphosphine) Ino) ethane, 1,3-bis (diphenylphosphino) propane, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane, 1,1'-bis (diphenylphosphino) furosene, 2,2'-bis Diphenylphosphino) 1 1, 1 '—binaphthyl,
1, 2—ビス (ジシクロへキシルホスフイノ) ェ夕ン、 1 , 2—ビス (ジェチル ホスフイノ) ェタン、 1, 2—ビス (ジェチルホスホラノ) ベンゼン、 ビス1,2-bis (dicyclohexylphosphino) ethane, 1,2-bis (getylphosphino) ethane, 1,2-bis (getylphosphorano) benzene, bis
( 2—ジフエニルホスフィノエチル) フエニルホスフィン、 1ージフエニルホス フィノー 2—ジフエニルアルシノエタン、 メンチルジフエニルホスフィン、 ネオ メンチルジフエニルホスフィン等の三級ホスフィン類、 卜リフエニルホスフアイ ト、 トリェチルホスファイト、 卜リブチルホスファイ ト、 卜リオクチルホスファ イト等の Ξ級ホスファイト類、 トリフエニルアルシン、 卜リメチルアルシン、 ト リエチルアルシン等の三級アルシン類等を例示することができる。 配位性化合物 を添加する場合には、 用いる配位性化合物の使用量として、 前述のパラジウム触 媒に対し 2 0 . 0モル当量までの範囲が好適である。 (2-diphenylphosphinoethyl) tertiary phosphines such as phenylphosphine, 1-diphenylphosphino 2-diphenylarsinoethane, menthyldiphenylphosphine, neo-menthyldiphenylphosphine, triphenylphosphite, triethylphos Examples include lower-grade phosphites such as phyto, tributyl phosphite, and trioctyl phosphite, and tertiary arsines such as triphenyl arsine, trimethyl arsine, and triethyl arsine. When a coordinating compound is added, the amount of the coordinating compound used is preferably in the range of up to 20.0 molar equivalents with respect to the above-mentioned palladium catalyst.
特に、 メンチルジフエニルホスフィン、 ネオメンチルジフエニルホスフィンに 代表される少なくともシクロへキサン環の α位にひとつの置換基をもつシクロへ キシルジァリールホスフィンを用いた場合、 このホスフィンが触媒種に組み込ま れた時に適度な立体障害をもっているために、 一酸化炭素の分圧が 1〜 5気圧と いった低圧条件下でも反応が効率よく進行し、 収率よく目的物が得られる。 さら に、 直鎖異性体の副生が非常に少ないというメリットも同時に得られる。 このシ クロへキサン環の α位に存在する基としては、 直鎖または分岐状の炭素数 1〜 6 のアルキル基、 例えば、 メチル、 ェチル、 プロピル、 イソプロピル、 プチル、 ィ ソブチル、 s e cーブチル、 t e r t —プチル、 ペンチル、 イソァミル、 ネオペ ンチル、 へキシル等があげられる。 このように低い圧力で反応をおこなっても収率よく目的物を得ることができる 点は工業的な観点から重要なメリットである。 高い圧力でしか収率よく目的物が 得られない場合、 耐圧の高い反応器等の高価な設備が必要になるなど、 経済的な 面で不利である。 In particular, when cyclohexyldiarylphosphine having at least one substituent at the α-position of the cyclohexane ring represented by menthyldiphenylphosphine and neomenthyldiphenylphosphine is used, this phosphine is incorporated into the catalyst species. Because of its moderate steric hindrance, the reaction proceeds efficiently even under low pressure conditions such as a partial pressure of carbon monoxide of 1 to 5 atm, and the desired product can be obtained in good yield. In addition, the advantage that the by-product of the linear isomer is very small can be obtained at the same time. Examples of the group at the α-position of the cyclohexane ring include a linear or branched alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, for example, methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, sec-butyl, tert-butyl —Butyl, pentyl, isoamyl, neopentyl, hexyl and the like. The fact that the desired product can be obtained with high yield even when the reaction is performed at such a low pressure is an important merit from an industrial viewpoint. If the desired product can be obtained with high yield only at high pressure, expensive equipment such as a reactor with high pressure resistance is required, and Disadvantageous in terms of aspect.
化合物 ( I ) は、 工業的に入手可能であり、 また、 相当するメチルスチレン類 をハロゲン化することによつても容易に合成可能である。 Compound (I) is industrially available and can also be easily synthesized by halogenating the corresponding methylstyrenes.
化合物 ( I I ) は、 工業的に入手可能であり、 その使用量は、 化合物 ( I ) に 対して 0 . 5モル当量以上、 好ましくは 1モル当量以上であり、 過剰量用いても 何ら差し支えない。 Compound (II) is industrially available, and its amount is at least 0.5 molar equivalent, preferably at least 1 molar equivalent, relative to compound (I). .
本発明に用いる一酸化炭素は、 工業的に入手可能である。 また、 本発明におい ては、 水素ガスが共存していても好適に反応が進行する。 従って、 ォキソガスと して工業的に安価に入手可能である一酸化炭素と水素の混合ガスや、 合成ガス、 水性ガス等を用いても何ら差し支えない。 一酸化炭素の分圧としては、 1〜 1 5 0気圧、 好ましくは 1〜8 0気圧、 さらに好ましくは 1〜5気圧の範囲を選 択することができる。 The carbon monoxide used in the present invention is industrially available. Further, in the present invention, the reaction suitably proceeds even in the presence of hydrogen gas. Therefore, a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen, a synthetic gas, a water gas, or the like, which is industrially available at low cost, can be used as the oxo gas. As the partial pressure of carbon monoxide, a range of 1 to 150 atm, preferably 1 to 80 atm, more preferably 1 to 5 atm can be selected.
反応は、 無溶媒で実施することができるが、 化合物 ( I I ) を溶媒として用い ることも可能である。 また、 反応に関与しない溶媒を好適に使用できる。 用いる ことのできる溶媒としては、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の芳香族炭化水素 系溶媒、 へキサン、 シクロへキサン、 ヘプタン、 オクタン等の脂肪族炭化水素系 溶媒、 ジェチルェ一テル、 テトラヒドロフラン (T H F ) 、 ジォキサン、 ジメ卜 キシェタン、 ジブチルエーテル等のエーテル系溶媒、 アセトン、 メチルェチルケ トン、 シクロへキサノン等のケトン系溶媒、 ァセ卜二トリル、 プロピオ二トリル、 ベンゾニ卜リル等の二トリル系溶媒、 ジメチルホルムアミド、 N—メチルピロり ドン、 ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、 塩化メチレン、 クロ口 ホルム、 ジクロロェタン等のハロゲン系溶媒等を例示することができる。 The reaction can be carried out without a solvent, but compound (II) can also be used as a solvent. Further, a solvent that does not participate in the reaction can be suitably used. Solvents that can be used include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene, and xylene; aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, cyclohexane, heptane, and octane; Jethyl ether, tetrahydrofuran (THF), Ether solvents such as dioxane, dimethyl kishetan, dibutyl ether, etc .; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone and cyclohexanone; nitrile solvents such as acetate nitrile, propionitrile, benzonitrile, dimethylformamide And aprotic polar solvents such as N-methylpyrrolidone and dimethylsulfoxide; and halogen-based solvents such as methylene chloride, chloroform and dichloroethane.
反応温度としては、 室温〜 1 5 0 °C、 好ましくは 5 0〜 1 2 0 の範囲を選択 することができる。 The reaction temperature can be selected from the range of room temperature to 150 ° C, preferably 50 to 120 ° C.
なお、 原料であるハロメチル基を有するスチレン類の重合を抑制する目的で、 重合禁止剤を添加することもできる。 用いることのできる重合禁止剤としては、 目的とする反応を妨げないものである限りいかなるものでもよいが、 例えば、 二 トロメタン、 ニトロベンゼン、 ニトロソベンゼン、 ピクリン酸、 トリー p—二ト 口フエニルメチル、 トリフエニルフエルダジル、 ヒドロキノン、 p—べンゾキノ ン、 4ーメ卜キシフエノ一ル、 2, 6—ジー t e r t—ブチルー 4—メチルフエ ノール、 4一 t e r t—ブチルカテコール、 フエノチアジン、 ジチォベンゾィル ジスルフイ ド、 アルミニウム N—二トロソフエニルヒドロキシルァミン、 塩化第 二銅、 塩化第二鉄、 P—トルエンスルホン酸ナトリウム等を例示することができ る。 In order to suppress the polymerization of styrenes having a halomethyl group, which is a raw material, a polymerization inhibitor may be added. The polymerization inhibitor that can be used is not particularly limited as long as it does not hinder the desired reaction. Examples thereof include nitromethane, nitrobenzene, nitrosobenzene, picric acid, tri-p-nitrophenylphenylmethyl, and triphenyl. Ferdazil, hydroquinone, p-benzoquino , 4-methoxyphenol, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, 4-tert-butylcatechol, phenothiazine, dithiobenzoyl disulphide, aluminum N-ditrosophenylhydroxylamine, secondary chloride Examples include copper, ferric chloride, and sodium P-toluenesulfonate.
次にハロメチル基を有する 2—フエニルプロピオン酸誘導体を合成中間体と して用い、 2— [4— (2—ォキソペンタン一 1—ィルメチル) フエニル] プロ ピオン酸等を製造する方法について以下に述べる。 Next, a method for producing 2- [4- (2-oxopentane-1-ylmethyl) phenyl] propionic acid and the like using a 2-phenylpropionic acid derivative having a halomethyl group as a synthetic intermediate will be described below. .
パラジウム触媒の存在下、 一般式 (I) Formula (I) in the presence of a palladium catalyst
(式中、 Xは前記と同義である) で表されるハロメチル基を有するスチレン類と, 一酸化炭素および一般式 (I I) Wherein X is as defined above, a styrene having a halomethyl group, carbon monoxide and a compound represented by the general formula (II)
R-OH (II) R-OH (II)
(式中、 Rは前記と同義である) で表される化合物とを反応させ一般式 (Wherein R has the same meaning as described above)
(I I I) (III)
(式中、 Xおよび Rは前記と同義である) で表されるハロメチル基を有する 2— フエニルプロピオン酸誘導体とした後、 これを用いて 2— [4- (2—ォキソぺ ン夕ン一 1一ィルメチル) フエニル] プロピオン酸等を製造するには、 例えば以 下に工程 1、 工程 2、 工程 3として示される工程を用いる。 (Wherein, X and R have the same meanings as described above), and the resulting compound is used as a 2-phenylpropionic acid derivative having a halomethyl group, and is used to prepare 2- [4- (2-oxobenzoate). In order to produce [111-methyl) phenyl] propionic acid and the like, for example, the steps shown below as Step 1, Step 2, and Step 3 are used.
工程 1 Process 1
化合物 (I I I) に対して 1〜 2当量の一般式 ( I V) 1 to 2 equivalents of the compound of the formula (IV) based on the compound (III)
0 0
COOFT (IV) (式中、 RAは Rと同義である) で表わされる化合物を、 非プロトン性極性溶媒、 例えばジメチルホルムアミド、 ジメチルスルホキシド等に溶解し、 例えば水酸化 カリウム、 水酸化ナトリウム等の塩基、 1〜 2当量の存在下、 室温〜 60でで 1 ~ 3時間攪拌することにより一般式 (V) COOFT (IV) (Wherein R A has the same meaning as R) is dissolved in an aprotic polar solvent, for example, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, etc., for example, a base such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, etc .; By stirring for 1 to 3 hours at room temperature to 60 in the presence of 2 equivalents, general formula (V)
(式中、 Rおよび RAは前記と同義である) で表わされる化合物を得る。 化合物 (V) を硫酸、 塩酸等に溶解し、 1〜3日間加熱還流して加水分解、 脱炭酸し、 一般式 (V I) (Wherein, R and RA are as defined above). The compound (V) is dissolved in sulfuric acid, hydrochloric acid, etc., heated and refluxed for 1 to 3 days to hydrolyze and decarboxylate the compound of formula (VI)
で表わされる化合物を得る。 さらに化合物 (V I) を水、 エタノール等の適当な 溶媒中、 例えばナトリウムメトキシド、 水酸化ナトリウムにより中和すればナト リウム塩を得る。 To obtain a compound represented by the formula: Further, the compound (VI) is neutralized with a suitable solvent such as water or ethanol, for example, with sodium methoxide or sodium hydroxide to obtain a sodium salt.
工程 2 . Step 2.
シクロペン夕ノンより新実験化学講座 14巻 (有機化合物の合成と反応 ΠΙ、 1422〜1423頁、 日本化学会編、 丸善)に記載された一般的方法に従って得られる 一般式 (V I I) General formula (V I I) obtained according to the general method described in New Experimental Chemistry Lecture Vol. 14 (Synthesis and Reaction of Organic Compounds II, pp. 1422-1423, edited by The Chemical Society of Japan, Maruzen)
(式中、 Υは CH2、 CH,CH2または OCH7を表す) で表わされるェナミン 化合物 (V I I) 、 1〜 1.5当量を、 化合物 ( I I I) とトルエン、 キシレン 等の溶媒中、 加熱還流下に 1〜2日反応させ、 さらに希塩酸を加えて室温で 0. 5〜2時間処理して一般式 (V I I I) (Where Υ represents CH 2 , CH, CH 2 or OCH 7 ) The compound (VII) is reacted with 1 to 1.5 equivalents of the compound (III) in a solvent such as toluene or xylene for 1 to 2 days under heating and reflux, and diluted hydrochloric acid is added thereto, followed by treatment at room temperature for 0.5 to 2 hours. And the general formula (VIII)
(式中、 Rは前記と同義である) で表わされる化合物を得る。 さらにこれを 10%程度の水酸化ナトリウムを含む水、 エタノール—水等の溶媒中、 3〜12 時間加熱還流して加水分解後、 精製時に塩酸等で溶液を p H 2〜 3に調整するこ とによって一般式 (V I) (Wherein, R has the same meaning as described above). Further, this is hydrolyzed by heating under reflux for 3 to 12 hours in a solvent such as water containing about 10% sodium hydroxide, ethanol-water, etc., and then adjusting the solution to pH 2-3 with hydrochloric acid during purification. And by the general formula (VI)
で表わされる化合物を得る。 さらに工程 1と同様にしてその塩を得る。 To obtain a compound represented by the formula: Further, the salt is obtained in the same manner as in Step 1.
工程 3 Process 3
化合物 (I I I) は、 Xがよう素でない場合には、 アセトン、 メチルェチルケ トン等の溶媒中、 よう化ナトリウムを 1〜3当量加え、 4〜 12時間加熱還流し てよう素体に導いておいてもよい。 次に式 (I X) で表わされる化合物をまず生成させる。 それには対応するォキシム化合物のテト ラヒドロフラン溶液中、 1〜6当量の n—ブチルリチウムのへキサン溶液を室温 下反応させればよい。 これに化合物 (I X) に対して 0.8〜1当量の化合物When X is not iodine, add 1 to 3 equivalents of sodium iodide in a solvent such as acetone or methyl ethyl ketone, and heat to reflux for 4 to 12 hours to lead to iodine. Is also good. Next, equation (IX) The compound represented by is first produced. This can be achieved by reacting 1 to 6 equivalents of a hexane solution of n-butyllithium in a solution of the corresponding oxime compound in tetrahydrofuran at room temperature. 0.8 to 1 equivalent of compound (IX)
( I I I) をテトラヒドロフラン中、 室温で 10~30分反応させ、 さらに水酸 化ナトリウム一メタノール中、 室温で 6〜12時間加水分解反応させて式 (X) で表わされる化合物を得る。 さらにこれを例えば 10%硫酸を用いてオーガニッ ク ·シンセシス [Organic Synthesis., Ill, 20 (1995) ] に記載の水蒸気蒸留下の加 水分解反応に付し、 一般式 (V I) (III) is reacted in tetrahydrofuran at room temperature for 10 to 30 minutes, and further hydrolyzed in sodium hydroxide-methanol at room temperature for 6 to 12 hours to obtain the formula (X) To obtain a compound represented by the formula: This is further subjected to a hydrolysis reaction under steam distillation described in Organic Synthesis, Ill, 20 (1995) using, for example, 10% sulfuric acid to obtain a compound of the general formula (VI)
で表わされる化合物を得る。 さらに工程 1と同様にしてその塩を得る。 To obtain a compound represented by the formula: Further, the salt is obtained in the same manner as in Step 1.
以下に、 本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、 本発明はこれらの実 施例に限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these Examples.
発明を実施するための最良の形態 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
実施例 1 Example 1
100mlのステンレス製オートクレーブに 4—クロロメチルスチレン 763 mg (5. OOmmo l) 、 ジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジゥ ム 70. 2mg (0. 1 Ommo 1 ) 、 エタノール 5m Iおよびトルエン 35 mlを仕込み、 系内を一酸化炭素—水素混合ガス (1 : 1) で十分置換した後、 20気圧になるように一酸化炭素—水素混合ガス (1 : 1) を圧入した。 加熱撹 拌しながら 80でに昇温し、 16時間カルボニル化反応を行った。 A 100 ml stainless steel autoclave was charged with 4-chloromethylstyrene 763 mg (5.OOmmol), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium 70.2 mg (0.1 Ommo1), ethanol 5mI and toluene 35ml. After sufficiently replacing the inside with a mixed gas of carbon monoxide-hydrogen (1: 1), a mixed gas of carbon monoxide-hydrogen (1: 1) was injected so that the pressure became 20 atm. The temperature was raised to 80 with heating and stirring, and the carbonylation reaction was carried out for 16 hours.
反応終了後、 オートクレープを室温まで冷却し、 続いて脱気して常圧に戻し、 反応液を取り出した。 反応液にメタノール 50m 1を加え、 触媒を不溶化させて 濾別した後、 シリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出溶媒:へキサン/酢酸 ェチル =1571) で精製することにより、 無色液体の 2— (4一クロロメチル フエニル) プロピオン酸ェチル 869mg (収率 77%) 、 無色液体の 3— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチル 66mg (収率 6%) および πAfter completion of the reaction, the autoclave was cooled to room temperature, subsequently degassed and returned to normal pressure, and the reaction solution was taken out. The reaction solution was mixed with 50 ml of methanol to insolubilize the catalyst, filtered off, and purified by silica gel column chromatography (elution solvent: hexane / ethyl acetate = 1571) to give a colorless liquid 2- (4-chloro-chloroform). Methyl phenyl) propionate 869 mg (yield 77%), colorless liquid 3- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl 66 mg (6% yield) and π
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S€0r0/Z.6df/XDd L /L6 OAX 1H-NMR (CDCl 3) δ (ppm): 2.63(t,J=7.8Hz,2H), 2.96(t,J=7.8Hz,2H), 3.67(s,3H), 4.57(s,2H), 7.17-7.34(m,4H) S € 0r0 / Z.6df / XDd L / L6 OAX 1H-NMR (CDCl 3 ) δ (ppm): 2.63 (t, J = 7.8Hz, 2H), 2.96 (t, J = 7.8Hz, 2H), 3.67 (s, 3H), 4.57 (s, 2H), 7.17-7.34 (m, 4H)
2 - (4—メ卜キシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸メチル 2- (4-methoxycarbonylmethylphenyl) methyl propionate
1H-NMR (CDC13) δ (ppm): 1.48(d,J=7.1Hz,3H), 3.60(s,2H), 3.65(s,3H), 3.68(s,3H), 3.71(q,J=7.1H2,lH),7.17-7.29(m,4H) 1H-NMR (CDC1 3) δ (ppm): 1.48 (d, J = 7.1Hz, 3H), 3.60 (s, 2H), 3.65 (s, 3H), 3.68 (s, 3H), 3.71 (q, J = 7.1H2, lH), 7.17-7.29 (m, 4H)
実施例 3 Example 3
50m lのステンレス製オートクレーブに 4—クロロメチルスチレン 763 mg (5. 0 Ommo 1 ) 、 酢酸パラジウム 1 1. 3mg (0. 05mmo 1 ) 、 卜リフエニルホスフィン 26. 2mg (0. 1 Ommo 1 ) 、 イソプロピルアル コール 5m 1およびトルエン 10m lを仕込み、 系内を一酸化炭素一水素混合ガ ス (1 : 1) で十分置換した後、 30気圧になるように一酸化炭素一水素混合ガ ス (1 : 1) を圧入した。 加熱撹拌しながら 80°Cに昇温し、 16時間力ルポ二 ル化反応を行った。 In a 50 ml stainless steel autoclave, 4-chloromethylstyrene 763 mg (5.0 Ommo 1), palladium acetate 11.3 mg (0.05 mmo 1), triphenylphenylphosphine 26.2 mg (0.1 Ommo 1), After charging 5 ml of isopropyl alcohol and 10 ml of toluene and thoroughly replacing the system with a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (1: 1), the mixed gas of carbon monoxide and hydrogen was adjusted to 30 atm. : 1) was press-fitted. The temperature was raised to 80 ° C with heating and stirring, and a force-reforming reaction was carried out for 16 hours.
反応終了後、 実施例 1と同様にして後処理および精製を行うことにより、 無色 液体の 2— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸イソプロピル 84 Omg (収率 70%) 、 無色液体の 3— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ィ ソプロピル 48 mg (収率 4%) および無色液体の 2— (4—イソプロピルォキ シカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸イソプロピル 33mg (収率 2%) を得た。 After completion of the reaction, a post-treatment and purification were carried out in the same manner as in Example 1 to obtain a colorless liquid 2- (4-chloromethylphenyl) isopropyl propionate 84 Omg (yield 70%), a colorless liquid 3- 48 mg (yield 4%) of isopropyl (4-chloromethylphenyl) propionate and 33 mg (yield 2%) of isopropyl 2- (4-isopropyloxycarbonylmethylphenyl) propionate as a colorless liquid were obtained. Was.
2 - (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸イソプロピル 2- (4-chloromethylphenyl) isopropyl propionate
1H-NMR (CDC13) (5 (ppm): 1.14(d,J=6.3Hz,3H), 1.22(d,J=6.3Hz,3H), 1H-NMR (CDC1 3) ( 5 (ppm): 1.14 (d, J = 6.3Hz, 3H), 1.22 (d, J = 6.3Hz, 3H),
1.47(d,J=7.2Hz,3H), 3.67(q,J=7.2Hz,lH), 4.58(s,2H), 4.99(sep,J=6.3Hz,lH), 7.26- 7.37(m,4H) 1.47 (d, J = 7.2Hz, 3H), 3.67 (q, J = 7.2Hz, lH), 4.58 (s, 2H), 4.99 (sep, J = 6.3Hz, lH), 7.26- 7.37 (m, 4H )
3— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸イソプロピル 3- (4-chloromethylphenyl) isopropyl propionate
1H-NMR (CDCl 3) ^ (ppm): 1.20(d,J=6.3Hz,6H), 2.58(t,J=7.7Hz,2H), 1H-NMR (CDCl 3 ) ^ (ppm): 1.20 (d, J = 6.3Hz, 6H), 2.58 (t, J = 7.7Hz, 2H),
2.94(t,J=7.7Hz,2H), 4.57(s,2H), 5.00(sep,J=6.3Hz,lH), 7.17-7.33(m,4H) 2.94 (t, J = 7.7Hz, 2H), 4.57 (s, 2H), 5.00 (sep, J = 6.3Hz, lH), 7.17-7.33 (m, 4H)
2 - (4—イソプロピルォキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸イソプ 口ピル 2- (4-isopropyloxycarbonylmethylphenyl) isopionate
1H-NMR (CDC13) δ (ppm): 1.13(d,J=6.3Hz,3H), 1.21(d,J=6.3Hz,3H), 1.22(d,J=6.3Hz,6H), 1.46(d,J=7.1Hz,3H), 3.55(s,2H), 3.65(q,J=7.1Hz,lH), 1H-NMR (CDC1 3) δ (ppm): 1.13 (d, J = 6.3Hz, 3H), 1.21 (d, J = 6.3Hz, 3H), 1.22 (d, J = 6.3Hz, 6H), 1.46 (d, J = 7.1Hz, 3H), 3.55 (s, 2H), 3.65 (q, J = 7.1Hz, lH),
4.98(sep,J=6.3Hz,lH), 5.01(sep,J=6.3Hz,lH), 7.15-7.30(m,4H) 4.98 (sep, J = 6.3Hz, lH), 5.01 (sep, J = 6.3Hz, lH), 7.15-7.30 (m, 4H)
実施例 4 Example 4
10m lのステンレス製オートクレーブに 4—クロロメチルスチレン 153 mg (1. 00 mm o 1 ) 、 ジクロロビス (卜リフエニルホスフィン) パラジゥ ム 7. Omg (0. 0 lmmo 1 ) 、 エタノール 0. 5m lおよびトルエン 2. 5m lを仕込み、 系内を一酸化炭素で十分置換した後、 40気圧になるよう に一酸化炭素を圧入した。 加熱撹拌しながら 80 に昇温し、 16時間カルボ二 ル化反応を行った。 4-Chloromethylstyrene 153 mg (1.00 mmo 1), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium 7. Omg (0.0 lmmo 1), ethanol 0.5 ml and toluene in a 10 ml stainless steel autoclave 2. After charging 5 ml, the inside of the system was sufficiently replaced with carbon monoxide, and then carbon monoxide was injected to 40 atm. The temperature was raised to 80 with heating and stirring, and a carbonylation reaction was carried out for 16 hours.
反応終了後、 オートクレープを室温まで冷却し、 続いて脱気して常圧に戻し、 反応液を取り出した。 反応液をガスクロマトグラフィー (装置: 30%SE-30on Uniport B [ジ一エルサイエンス (株) 製] を充填した 1.1mのガラスカラム After completion of the reaction, the autoclave was cooled to room temperature, subsequently degassed and returned to normal pressure, and the reaction solution was taken out. A 1.1 m glass column packed with the reaction solution and gas chromatography (30% SE-30on Uniport B [manufactured by GE Science Co., Ltd.])
(島津製) を装着し熱伝導度型検出器 [Thermal Conductivity Detector(TCD)]を備え た Shimadzu GC-7A (島津製) 、 内部標準物質:デカン、 100 で 2分間保った 後 分の速度で 240でまで昇温、 以下同様 } により分析した結果、 原料の 4—クロロメチルスチレンに対する 2— (4一クロロメチルフエニル) プロピオ ン酸ェチルの収率は 93 %であり、 3— (4—クロロメチルフエニル) プロピオ ン酸ェチルの収率は 2 %、 2 - (4一エトキシカルボニルメチルフエニル) プロ ピオン酸ェチルの収率は 5 %であった。 Shimadzu GC-7A (manufactured by Shimadzu) equipped with a thermal conductivity detector (Thermal Conductivity Detector (TCD)), internal standard substance: decane, 100 min. As a result, the yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl ester with respect to the raw material 4-chloromethylstyrene was 93%, and the yield was 3— (4— The yield of chloromethylphenyl) ethyl propionate was 2%, and the yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) propionate was 5%.
実施例 5 Example 5
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (1. 0 Ommo 1 ) 、 触媒 としてジクロロビス (シクロへキシルジフエニルホスフィン) パラジウム 7. 1 mg (0. O lmmo l) 、 アルコールとしてエタノール 1. 0m l、 さらに溶 媒として THF 2. 0m lを用いる以外は、 実施例 4と同様にして反応および分 析を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4一クロロメチル フエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 97 %であり、 3— (4—クロロメチル フエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %以下、 2— (4—ェ卜キシカルボ二 ルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %以下であった。 4-Chloromethylstyrene 153 mg (1.0 Ommo 1) as a substrate, dichlorobis (cyclohexyldiphenylphosphine) palladium 7.1 mg (0.1 O lmmo l) as a catalyst, ethanol 1.0 ml as an alcohol, and further dissolved The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4 except that 2.0 ml of THF was used as a medium. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl based on the raw material 4-chloromethylstyrene is 97%, and the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl is 1% or less. — The yield of (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was less than 1%.
実施例 6 基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (l. 00 mm o l ) 、 触媒 として塩化パラジウム 1. 8mg (0. O lmmo l) 、 配位子としてトリフエ ニルホスフィン 5. 2mg (0. 02mmo 〖) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5mし さらに溶媒としてトルエン 2. 5m 1を用いる以外は、 実施例 4と 同様にして反応および分析を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対するExample 6 153 mg (l. 00 mmol) of 4-chloromethylstyrene as a substrate, 1.8 mg (0.0 lmmol) of palladium chloride as a catalyst, 5.2 mg (0.02 mmo ト リ) of triphenylphosphine as a ligand, alcohol as an alcohol The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4, except that 0.5 ml of ethanol and 2.5 ml of toluene were used as a solvent. Raw material for 4-chloromethylstyrene
2— (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 88 %であり、The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) ethyl propionate was 88%,
3— (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %以下、 2— (4—ェ卜キシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 3%で あつ/こ。 The yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate is 1% or less, and the yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) propionate is 3%.
実施例 7 Example 7
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (1. 0 Ommo 1 ) 、 触媒 として酢酸パラジウム 2. 2mg (0. 0 lmmo 1 ) 、 配位子として卜リフエ ニルホスフィン 2. 6mg (0. O lmmo l) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5m l、 さらに溶媒としてトルエン 2. 5m 1を用い、 初期一酸化炭素圧を 30気圧とする以外は、 実施例 4と同様にして反応および分析を行った。 原料の 4—クロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロロメチルフエニル) プロピオ ン酸ェチルの収率は 90 %であり、 3— (4一クロロメチルフエニル) プロピオ ン酸ェチルの収率は 1 %以下、 2— (4—エトキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 2%であった。 153 mg (1.0 Ommo 1) of 4-chloromethylstyrene as a substrate, 2.2 mg (0.0 lmmo 1) of palladium acetate as a catalyst, 2.6 mg (0.O lmmo l) of triphenylphenylphosphine as a ligand, The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4, except that 0.5 ml of ethanol was used as the alcohol, and 2.5 ml of toluene was used as the solvent, and the initial carbon monoxide pressure was 30 atm. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate with respect to the raw material 4-chloromethylstyrene is 90%, and the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate with ethyl is 1%. % Or less, the yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 2%.
実施例 8 Example 8
基質として 4—クロロメチルスチレン 153mg (1. 00 mm o 1 ) 、 触媒 としてパラジウムァセチルァセトネ一卜 3. Omg (0. O lmmo l ) 、 配位 子として卜リフエニルホスフィン 5. 2mg (0. 02mmo 1 ) 、 アルコール としてエタノール 0. 5ml、 さらに溶媒としてトルエン 2. 5m lを用い、 初 期一酸化炭素圧を 30気圧とする以外は、 実施例 4と同様にして反応および分析 を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4一クロロメチルフ ェニル) プロピオン酸ェチルの収率は 89 %であり、 3— (4一クロロメチルフ ェニル) プロピオン酸ェチルの収率は 4 %、 2— (4一エトキシカルボ二ルメチ ルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 3 %であった。 実施例 9 4-chloromethylstyrene 153 mg (1.00 mm o 1) as a substrate, palladium acetylacetylacetonate as a catalyst 3.Omg (0.Olmmol), triphenylphenylphosphine 5.2 mg (0 The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4, except that 0.5 ml of ethanol was used as the alcohol, 2.5 ml of toluene was used as the solvent, and the initial carbon monoxide pressure was 30 atm. . The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene is 89%, and the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl is 4% and 2- (4 The yield of 1-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 3%. Example 9
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (l. 00 mm o l ) 、 触媒 としてパラジウムァセチルァセトネー卜 3. Omg (0. O lmmo l) 、 配位 子としてジフエニルホスフイノベンゼン一 m—スルホン酸ナトリウム 7. 3mg (0. 02mmo 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5m l、 さらに溶媒と してトルエン 2. 5m lを用い、 初期一酸化炭素圧を 30気圧とする以外は、 実 施例 4と同様にして反応および分析を行つた。 原料の 4一クロロメチルスチレン に対する 2— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 88 % であり、 3— (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 7 %、 2 - (4—エトキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 4%であった。 153 mg (l. 00 mmol) of 4-chloromethylstyrene as a substrate, palladium acetyl acetonate as a catalyst 3. Omg (O. lmmol), diphenylphosphinobenzene benzene as a ligand 1 m-sulfonic acid Example 4 was repeated except that sodium 7.3 mg (0.02 mmo 1), ethanol 0.5 ml of alcohol and toluene 2.5 ml of solvent were used, and the initial carbon monoxide pressure was 30 atm. Reaction and analysis were performed in the same manner. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl was 88% based on the raw material 4-chloromethylstyrene, and the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl was 7%. The yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 4%.
実施例 10 Example 10
基質として 4—クロロメチルスチレン 153mg (1. 0 Ommo 1 ) 、 触媒 としてテトラキス (トリフエニルホスフィン) パラジウム 1 1. 6mg 4-chloromethylstyrene 153mg (1.0 Ommo 1) as substrate, tetrakis (triphenylphosphine) palladium 11.6mg as catalyst
(0. O lmmo l) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5m 1、 さらに溶媒と してトルエン 2. 5m lを用いる以外は、 実施例 4と同様にして反応および分析 を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロロメチルフ ェニル) プロピオン酸ェチルの収率は 85 %であり、 3— (4—クロロメチルフ ェニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %、 2— (4—エトキシカルボ二ルメチ ルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 2%であった。 The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4 except that (0.5 Olmmol), 0.5 ml of ethanol as an alcohol, and 2.5 ml of toluene as a solvent. The yield of ethyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate based on 4-chloromethylstyrene of the raw material was 85%, and the yield of ethyl 3- (4-chloromethylphenyl) propionate was 1% and 2- (4 —Ethoxycarbonylmethylphenyl) The yield of ethyl propionate was 2%.
実施例 1 1 Example 1 1
基質として 4—クロロメチルスチレン 153mg (l. 00 mm o l ) 、 触媒 として 5%—パラジウム炭素 21. 3mg (0. 0 lmmo 1〉 、 配位子として トリフエニルホスフィン 5. 2mg (0. 02mmo 1) 、 アルコールとしてェ 夕ノール 1. Oml、 さらに溶媒として THF 2. Om lを用いる以外は、 実施 例 4と同様にして反応および分析を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに 対する 2— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 89%で あり、 3— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %、 2 - (4一エトキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 4%であった。 4-chloromethylstyrene 153mg (l.00mmol) as substrate, 5% -palladium on carbon 21.3mg (0.0 lmmo 1) as catalyst, triphenylphenylphosphine 5.2mg (0.02mmo 1) as ligand The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4, except that ethanol 1.Oml was used as the alcohol and THF 2.Oml was used as the solvent 2. 2- (4 -Chloromethylphenyl) propionate yield is 89%, 3- (4-chloromethylphenyl) propionate yield is 1%, 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) propione The yield of acid ethyl is 4%.
実施例 12 Example 12
基質として 4—クロロメチルスチレン 153mg (1. 0 Ommo 1 ) 、 触媒 としてジクロロビス (シクロへキシルジフエニルホスフィン) パラジウム 7. 1 mg (0. 01 mm o 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5mし さらに溶 媒として THF 2. 5m lを用い、 初期一酸化炭素圧を 70気圧とする以外は、 実施例 4と同様にして反応および分析を行つた。 原料の 4—クロロメチルスチレ ンに対する 2— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 98%であり、 3— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1%以下、 2— (4—エトキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチル の収率は 1 %以下であった。 4-chloromethylstyrene 153 mg (1.0 Ommo 1) as a substrate, dichlorobis (cyclohexyldiphenylphosphine) palladium 7.1 mg (0.01 mmo 1) as a catalyst, ethanol 0.5 m as alcohol and further dissolved The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4, except that 2.5 ml of THF was used as the medium and the initial carbon monoxide pressure was 70 atm. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl is 98% based on the raw material 4-chloromethylstyrene, and the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl is 1%. Hereinafter, the yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 1% or less.
実施例 13 Example 13
基質として 4—クロロメチルスチレン 153mg (l. 00 mm o l) 、 触媒 としてジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム 7. Omg (0. 0 lmmo 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5m 1、 さらに溶媒として THF2. 5m lを用い、 初期一酸化炭素圧を 20気圧とする以外は、 実施例 4 と同様にして反応および分析を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対す る 2— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 92 %であり、 3— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %以下、 2— 4-chloromethylstyrene as substrate 153 mg (l. 00 mmol), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium as catalyst 7. Omg (0.0 lmmo 1), ethanol as alcohol 0.5 m1, and solvent as THF 2.5 m The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4 except that the initial carbon monoxide pressure was set to 20 atm. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl is 92% based on the raw material 4-chloromethylstyrene, and the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl is 1%. % Or less, 2—
(4ーェトキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 2 %で あった。 (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) The yield of ethyl propionate was 2%.
実施例 14 Example 14
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg ( 1. 0 Ommo 1 ) 、 触媒 としてジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム 7. Omg 4-chloromethylstyrene as substrate 153mg (1.0 Ommo 1), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium as catalyst 7.Omg
(0. 01 mm 0 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5mし さらに溶媒と して THF 2. 5m lを用い、 初期一酸化炭素圧を 10気圧とする以外は、 実施 例 4と同様にして反応および分析を行った。 原料の 4—クロロメチルスチレンに 対する 2— (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 54%で あり、 3— (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 3 %、 2— (4一エトキシカルポニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 2%であった。 さらに、 4一クロロメチルスチレン 15%を回収した。 (0.01 mm 01), the reaction was carried out in the same manner as in Example 4 except that 0.5 m of ethanol was used as the alcohol, 2.5 ml of THF was used as the solvent, and the initial carbon monoxide pressure was 10 atm. And analysis was performed. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl ester relative to the raw material 4-chloromethylstyrene is 54%, and the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl ester is 3%. , The yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 2%. Further, 15% of 4-chloromethylstyrene was recovered.
実施例 15 Example 15
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (l. 00 mm o l) 、 触媒 としてジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム 7. Omg 4-chloromethylstyrene as substrate 153mg (l. 00mm o l), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium as catalyst 7.Omg
(0. 0 lmmo 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 1. 0ml、 さらに溶媒と して THF2. 0mlを用い、 反応温度を 70でとする以外は、 実施例 4と同様 にして反応および分析を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 91 %であり、 3— (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 3 %、 2— (4ーェ トキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 6%であった。 実施例 16 The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4 except that (0.0 lmmo 1), ethanol (1.0 ml) as an alcohol, and THF (2.0 ml) as a solvent, and the reaction temperature was 70. The yield of ethyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene is 91%, the yield of ethyl 3- (4-chloromethylphenyl) propionate is 3%, The yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 6%. Example 16
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (l. 00 mm o l) 、 触媒 としてジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム 7. Omg 4-chloromethylstyrene as substrate 153mg (l. 00mm o l), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium as catalyst 7.Omg
(0. O lmmo l) 、 アルコールとしてエタノール 1. Omし さらに溶媒と してジェチルエーテル 2. Omlを用いる以外は、 実施例 4と同様にして反応お よび分析を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロ口 メチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 85%であり、 3— (4一クロ口 メチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 5 %、 2 - (4一エトキシカルボ ニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 5 %であった。 The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4 except that (O.llmol), 1.Om of ethanol as an alcohol, and 2.Oml of getyl ether as a solvent. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate to 85% of the raw material 4-chloromethylstyrene is 85%, and the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate to 5% is 2%. (4-Ethoxycarbonylmethylphenyl) The yield of ethyl propionate was 5%.
実施例 17 Example 17
基質として 4—クロロメチルスチレン 153mg (l. OOmmo l) 、 触媒 としてジクロロビス (シクロへキシルジフエニルホスフィン) パラジウム 7. 1 mg (0. 0 lmmo 1) 、 アルコールとしてエタノール 1. Omし さらに溶 媒としてアセトン 2. Omlを用いる以外は、 実施例 4と同様にして反応および 分析を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4一クロロメチ ルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 78 %であり、 3— (4—クロロメチ ルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %以下、 2— (4ーェ卜キシカルボ ニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %であった。 基質として 4—クロロメチルスチレン 153mg (l. 00 mm o l) 、 触媒 としてジクロロビス (シクロへキシルジフエニルホスフィン) パラジウム 7. 1 mg (0. O lmmo l) 、 アルコールとしてエタノール 1. 0m〖、 さらに溶 媒としてへキサン 2. 0mlを用いる以外は、 実施例 4と同様にして反応および 分析を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4一クロロメチ ルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 83%であり、 3— (4—クロロメチ ルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %、 2— (4一エトキシカルボニル メチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 2 %であった。 4-chloromethylstyrene 153 mg (l.OOmmol) as substrate, dichlorobis (cyclohexyldiphenylphosphine) palladium 7.1 mg (0.0 lmmo 1) as catalyst, ethanol 1.Om as alcohol, and as solvent The reaction and analysis were performed in the same manner as in Example 4 except that acetone 2.Oml was used. The yield of ethyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate based on 4-chloromethylstyrene as a raw material is 78%, and the yield of ethyl 3- (4-chloromethylphenyl) propionate is 1% or less. The yield of 4-ethyloxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 1%. 4-chloromethylstyrene 153 mg (l. 00 mmol) as substrate, dichlorobis (cyclohexyldiphenylphosphine) palladium 7.1 mg (0.1 Olmmol) as catalyst, ethanol 1.0 m 〖as alcohol, and further dissolved The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4, except that 2.0 ml of hexane was used as a medium. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene is 83%, the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl is 1%, and the yield of 2- (4 The yield of 1-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 2%.
実施例 19 Example 19
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (1. 0 Ommo 1 ) 、 触媒 として酢酸パラジウム 2. 2mg (0. O lmmo l) 、 配位子としてトリフエ ニルホスフィン 5, 2mg (0. 02mmo 1 ) 、 重合禁止剤として 4—メトキ シフエノール 2. 5mg (0. 02mmo 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 25mし さらに溶媒としてトルエン 1. 25mlを用い、 初期一酸化炭素 圧を 30気圧とする以外は、 実施例 4と同様にして反応および分析を行った。 原 料の 4—クロロメチルスチレンに対する 2— (4一クロロメチルフエニル) プロ ピオン酸ェチルの収率は 81 %であり、 3— (4—クロロメチルフエニル) プロ ピオン酸ェチルの収率は 2 %、 2 - (4—エトキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 3 %であった。 4-chloromethylstyrene as substrate 153 mg (1.0 Ommo 1), palladium acetate as catalyst 2.2 mg (0.Olmmol), ligand as triphenylphosphine 5.2 or 2 mg (0.02 mmo 1), polymerization inhibition Example 4 was repeated except that 2.5 mg (0.02 mmo 1) of 4-methoxyphenol was used as the agent, 0.25 m of ethanol was used as the alcohol, and 1.25 ml of toluene was used as the solvent, and the initial carbon monoxide pressure was 30 atm. Reaction and analysis were performed in the same manner. The yield of ethyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene is 81%, and the yield of ethyl 3- (4-chloromethylphenyl) propionate is 81%. The yield of 2%, 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 3%.
実施例 20 Example 20
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (1. 0 Ommo 1 ) 、 触媒 として酢酸パラジウム 2. 2mg (0. O lmmo l) 、 配位子として卜リフエ ニルホスフィン 5. 2mg (0. 02mmo 1 ) 、 添加剤として卜リオクチルホ スフイン 7. 4mg (0. 02mmo 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5 mし さらに溶媒としてトルエン 2. 5mlを用い、 初期一酸化炭素圧を 30気 圧とする以外は、 実施例 4と同様にして反応および分析を行った。 原料の 4—ク ロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェ チルの収率は 92 %であり、 3— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェ Add 153 mg (1.0 Ommo 1) of 4-chloromethylstyrene as a substrate, 2.2 mg (0.Olmmol) of palladium acetate as a catalyst, 5.2 mg (0.02 mmo 1) of triphenylphosphine as a ligand Example 4 except that trioctylphosphine 7.4 mg (0.02 mmo 1) as an agent, ethanol 0.5 ml as an alcohol, and toluene 2.5 ml as a solvent, and the initial carbon monoxide pressure was 30 atm. The reaction and analysis were performed in the same manner as described above. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene was 92%, and the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate was 92%.
18 チルの収率は 2 %、 2 - (4一エトキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン 酸ェチルの収率は 3 %であった。 18 The yield of tyl was 2%, and the yield of ethyl 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) propionate was 3%.
実施例 21 Example 21
基質として 4—クロロメチルスチレン 153mg (l. 00 mm o l) 、 触媒 としてジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム 7. Omg 4-chloromethylstyrene as substrate 153mg (l. 00mmol), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium as catalyst 7. Omg
(0. O lmmo l) 、 アルコールとしてメタノール 0. 5ml、 さらに溶媒と して THF2. 5mlを用いる以外は、 実施例 4と同様にして反応および分析を 行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロロメチルフエ ニル) プロピオン酸メチルの収率は 88%であり、 3— (4—クロロメチルフエ ニル) プロピオン酸メチルの収率は 1 %以下、 2— (4—メ卜キシカルボニルメ チルフエニル) プロピオン酸メチルの収率は 3 %であった。 The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4 except that (0.5 Olmol), 0.5 ml of methanol as an alcohol, and 2.5 ml of THF as a solvent. The yield of methyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate based on 4-chloromethylstyrene as raw material is 88%, and the yield of methyl 3- (4-chloromethylphenyl) propionate is 1% or less. The yield of methyl 2- (4-methoxycarbonylmethylphenyl) propionate was 3%.
実施例 22 Example 22
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (l. 00 mm o l) 、 触媒 としてジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム 7. Omg 4-chloromethylstyrene as substrate 153mg (l. 00mm o l), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium as catalyst 7.Omg
(0. O lmmo l) 、 アルコールとしてイソプロピルアルコール 1. Omし さらに溶媒としてトルエン 2. Omlを用いる以外は、 実施例 4と同様にして反 応および分析を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4ーク ロロメチルフエニル) プロピオン酸イソプロピルの収率は 89%であり、 3— The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4 except that (0. Olmmol), 1.Om of isopropyl alcohol as the alcohol, and 2.Oml of toluene as the solvent. The yield of isopropyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene was 89%,
(4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸イソプロピルの収率は 1 %以下、 2 - (4一イソプロポキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸イソプロピ ルの収率は 2 %であった。 The yield of isopropyl (4-monochloromethylphenyl) propionate was 1% or less, and the yield of isopropyl 2- (4-isopropoxycarbonylmethylphenyl) propionate was 2%.
実施例 23 Example 23
基質としてクロロメチルスチレン (3位置換体ノ 4位置換体- 7/3の混合 物) 153mg (l. 0 Ommo 1 ) 、 触媒として酢酸パラジウム 2. 2mg (0. 0 lmmo 1) 、 配位子としてトリフエニルホスフィン 5. 2mg (0. 02 mm o 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5m 1、 さらに溶媒と してトルエン 2. 5mlを用い、 初期一酸化炭素圧を 30気圧とする以外は、 実 施例 4と同様にして反応および分析を行った。 原料のクロロメチルスチレンに対 する 2— (クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 93 %であり、 3— (クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 3 %、 2 - (ェトキ シカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 3 %であった。 153 mg (l. 0 Ommo 1) of chloromethylstyrene (mixture of 3-substituted and 4-substituted-7/3) as a substrate, 2.2 mg (0.0 lmmo 1) of palladium acetate as a catalyst, and trif as a ligand Example 2 Except 5.2 mg (0.02 mm o 1) of enylphosphine, 0.5 ml of ethanol as an alcohol, and 2.5 ml of toluene as a solvent, and an initial carbon monoxide pressure of 30 atm. Reaction and analysis were carried out as in 4. The yield of ethyl 2- (chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material chloromethylstyrene was 93%. The yield of 3- (chloromethylphenyl) propionate was 3%, and the yield of 2- (ethoxycarbonylmethylphenyl) propionate was 3%.
実施例 24 Example 24
基質として 4一クロロメチルスチレン 1 53mg (1. 0 Ommo 1 ) 、 触媒 としてジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム 7. Omg 4-Monochloromethylstyrene as substrate 53 mg (1.0 Ommo 1), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium as catalyst 7.Omg
(0. 0 lmmo 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5m l、 さらに溶媒と してトルエン 2. 5m lを用い、 一酸化炭素分圧 35気圧、 水素分圧 35気圧と なるようにそれぞれのガスを圧入する以外は、 実施例 4と同様にして反応および 分析を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロロメチ ルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 93%であり、 3— (4一クロロメチ ルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 4 %、 2— (4—エトキシカルボニル メチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 3%であった。 (0.0 lmmo 1), 0.5 ml of ethanol as the alcohol, and 2.5 ml of toluene as the solvent, each gas was adjusted to a carbon monoxide partial pressure of 35 atm and a hydrogen partial pressure of 35 atm. The reaction and analysis were performed in the same manner as in Example 4 except that the injection was performed. The yield of ethyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate based on the raw material 4-chloromethylstyrene is 93%, and the yield of ethyl 3- (4-chloromethylphenyl) propionate is 4%, and the yield of 2- (4 —Ethoxycarbonyl methylphenyl) The yield of ethyl propionate was 3%.
実施例 25 Example 25
基質として 4—クロロメチルスチレン 1 53mg (l. O Ommo l ) 、 触媒 としてジクロロビス (シクロへキシルジフエニルホスフィン) パラジウム 7. 1 mg (0. 0 lmmo 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 1. Omし さらに溶 媒としてトルエン 2. Om lを用い、 一酸化炭素分圧 35気圧、 水素分圧 35気 圧となるようにそれぞれのガスを圧入する以外は、 実施例 4と同様にして反応お よび分析を行った。 原料の 4—クロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロ口 メチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 79 %であり、 3— (4—クロ口 メチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %以下、 2— (4一エトキシカ ルポニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %以下であった。 4-chloromethylstyrene as substrate: 153 mg (l.Ommol), dichlorobis (cyclohexyldiphenylphosphine) palladium as catalyst 7.1 mg (0.0 lmmo 1), ethanol as alcohol 1.Om The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4 except that toluene was used as the medium and each gas was injected so that the carbon monoxide partial pressure was 35 atm and the hydrogen partial pressure was 35 atm. Was. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate to the raw material 4-chloromethylstyrene is 79%, and the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate is 1% or less. — The yield of 4-ethylethoxyproponylmethylphenyl propionate was less than 1%.
実施例 26 Example 26
基質として 4一クロロメチルスチレン 1 53mg (1. O Ommo l ) 、 触媒 としてジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム Omg 4-Monochloromethylstyrene as substrate 53 mg (1.Ommol), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium Omg as catalyst
(0. 0 lmmo 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5mし さらに溶媒と してトルエン 2. 5m lを用い、 30気圧となるように一酸化炭素一水素混合ガ ス (1 : 1) を圧入する以外は、 実施例 4と同様にして反応および分析を行った。 原料の 4—クロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロロメチルフエニル) プ 口ピオン酸ェチルの収率は 84%であり、 3— (4一クロロメチルフエニル) プ 口ピオン酸ェチルの収率は 6 %、 2 - (4—エトキシカルボニルメチルフエ二 ル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %であった。 (0.0 lmmo 1), 0.5 ml of ethanol as alcohol, 2.5 ml of toluene as solvent, and pressurized gas mixture of carbon monoxide and hydrogen (1: 1) to 30 atm. Reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4 except for the above. 2- (4-Chloromethylphenyl) propyl to 4-Chloromethylstyrene as raw material The yield of ethyl ethyl pionate is 84%, the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propyl ethyl pionate is 6%, and the ethyl 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) propionate Was 1%.
実施例 27 Example 27
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (1. 0 Ommo 1 ) 、 触媒 として塩化パラジウム 1. 8mg (0. 01 mm 01 ) 、 配位子として卜リフエ ニルホスフィン 5. 2mg (0. 02mmo 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5ml、 さらに溶媒としてトルエン 2. 5mlを用い、 30気圧となるよう に一酸化炭素一水素混合ガス (1 : 1) を圧入する以外は、 実施例 4と同様にし て反応および分析を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 85 %であり、 3— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 5 %、 2— (4ーェ 卜キシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %以下であつ た。 4-chloromethylstyrene as substrate 153 mg (1.0 Ommo 1), palladium chloride 1.8 mg (0.01 mm 01) as catalyst, triphenylphenylphosphine 5.2 mg (0.02 mmo 1) as ligand, alcohol The reaction and analysis were performed in the same manner as in Example 4 except that 0.5 ml of ethanol was used as the solvent, and 2.5 ml of toluene was used as the solvent, and a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (1: 1) was injected to 30 atm. Was done. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate to the raw material 4-chloromethylstyrene is 85%, the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate to ethyl is 5%, The yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 1% or less.
実施例 28 Example 28
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (l. 00 mm o l) 、 触媒 として酢酸パラジウム 2. 2mg (0. 0 lmmo 1 ) 、 配位子としてトリフエ ニルホスフィン 5. 2mg (0. 02mmo 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5ml , さらに溶媒としてトルエン 2. 5m lを用い、 30気圧となるよう に一酸化炭素一水素混合ガス (1 : 1) を圧入する以外は、 実施例 4と同様にし て反応および分析を行った。 原料の 4—クロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 80 %であり、 3— (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 3 %、 2 - (4—ェ 卜キシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %であった。 実施例 29 153 mg (l.00 mmol) of 4-chloromethylstyrene as a substrate, 2.2 mg (0.0 lmmo 1) of palladium acetate as a catalyst, 5.2 mg (0.02 mmo 1) of triphenylphosphine as a ligand, alcohol as an alcohol Reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4, except that 0.5 ml of ethanol and 2.5 ml of toluene were used as the solvent, and a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (1: 1) was injected to 30 atm. Was done. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate based on the raw material 4-chloromethylstyrene is 80%, the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate is 3%, The yield of ethyl 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) propionate was 1%. Example 29
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (1. 0 Ommo 1 ) 、 触媒 としてパラジウムァセチルァセトネ一ト 3. Omg (0. 0 lmmo 1 ) 、 配位 子として卜リフエニルホスフィン 5. 2mg (0. 02 mm o 1 ) 、 アルコール としてエタノール 0. 5mし さらに溶媒としてトルエン 2. 5m lを用い、 30気圧となるように一酸化炭素一水素混合ガス (1 : 1) を圧入する以外は、 実施例 4と同様にして反応および分析を行つた。 原料の 4—クロロメチルスチレ ンに対する 2— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 83%であり、 3— (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 5%, 2- (4—ェ卜キシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収 率は 1 %であった。 153 mg (1.0 Ommo 1) of 4-chloromethylstyrene as substrate, 3.Omg (0.0 lmmo 1) of palladium acetylacetylacetonate as catalyst, 5.2 mg of triphenylphenylphosphine as ligand (0. 02 mm o 1), using 0.5 ml of ethanol as alcohol and 2.5 ml of toluene as solvent, The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4, except that a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (1: 1) was injected so that the pressure became 30 atm. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl is 83% based on the raw material 4-chloromethylstyrene, and the yield of 3- (4-monochloromethylphenyl) propionate is 5%. The yield of ethyl 2-, 4- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) propionate was 1%.
実施例 30 Example 30
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (l. 00 mm o l) 、 触媒 としてジクロロビス (卜リフエニルホスフィン) パラジウム 7. Omg (0. 0 1 mm o 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5ml、 さらに溶媒としてトル ェン 2. 5m 1を用い、 一酸化炭素分圧 35気圧、 水素分圧 35気圧となるよう にそれぞれのガスを圧入し、 反応温度を 70 とする以外は、 実施例 4と同様に して反応および分析を行つた。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2 - (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 90 %であり、 3— (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 4 %、 2 - (4ーェ トキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %であった。 実施例 31 4-chloromethylstyrene as substrate 153mg (l. 00mmol), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium as catalyst 7.Omg (0.01mmo1), ethanol as alcohol 0.5ml, and toluene as solvent The same procedure as in Example 4 was carried out except that each gas was injected so that the carbon monoxide partial pressure was 35 atm and the hydrogen partial pressure was 35 atm, and the reaction temperature was 70. Reaction and analysis were performed. The yield of ethyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate based on the raw material 4-chloromethylstyrene is 90%, the yield of ethyl 3- (4-chloromethylphenyl) propionate is 4%, The yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 1%. Example 31
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (1. 0 Ommo 1 ) 、 触媒 としてジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム 7. Omg 4-chloromethylstyrene as substrate 153mg (1.0 Ommo 1), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium as catalyst 7.Omg
(0. 0 lmmo 1 ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5ml、 さらに溶媒と して THF2. 5mlを用い、 一酸化炭素分圧 35気圧、 水素分圧 35気圧とな るようにそれぞれのガスを圧入し、 反応温度を 70でとする以外は、 実施例 4と 同様にして反応および分析を行った。 原料の 4—クロロメチルスチレンに対する (0.0 lmmo 1), 0.5 ml of ethanol as alcohol, and 2.5 ml of THF as solvent, and pressurized gas to achieve a partial pressure of carbon monoxide of 35 atm and a partial pressure of hydrogen of 35 atm. The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4, except that the reaction temperature was changed to 70. For raw material 4-chloromethylstyrene
2— (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 84 %であり、The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) ethyl propionate was 84%,
3 - (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 2 %、 2—The yield of 3- (4-chloromethylphenyl) ethyl propionate is 2%,
(4一エトキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %で あった。 The yield of (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 1%.
実施例 32 Example 32
基質として 4—クロロメチルスチレン 153mg (1. O Ommo l) 、 触媒 として酢酸パラジウム 2. 2mg (0. O lmmo l ) 、 配位子としてトリフエ ニルホスフィン 5. 2mg (0. 02mmo l ) 、 アルコールとしてエタノール 0. 5ml . さらに溶媒として THF 2. 5mlを用い、 30気圧となるように 一酸化炭素一水素混合ガス (1 : 1) を圧入する以外は、 実施例 4と同様にして 反応および分析を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4 - クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 8 1 %であり、 3— (4 - クロロメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 2 %、 2— (4一エトキシ カルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 3 %であった。 4-Chloromethylstyrene 153mg (1. O Ommol) as substrate, catalyst Using 2.2 mg of palladium acetate (0.2 Olmol), 5.2 mg of triphenylphosphine (0.02 mmol) as ligand, 0.5 mL of ethanol as alcohol and 2.5 mL of THF as solvent, and 30 atm. Reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4 except that a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (1: 1) was injected so that The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl is 81% based on the raw material 4-monochloromethylstyrene, and the yield of 3- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl is 2%. The yield of, 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) ethyl propionate was 3%.
実施例 33 Example 33
基質として 4—クロロメチルスチレン 1. 53 g (10. 00 mm o l) 、 触 媒として塩化パラジウム 17. 7mg (0. lmmo l ) 、 配位子としてネオメ ンチルジフエニルホスフィン 76. 3mg (純度 85%、 0. 2mmo 1 ) 、 ァ ルコールとしてエタノール 5m 1、 さらに溶媒としてアセトン 25m 1を用い、 5気圧となるように一酸化炭素—水素混合ガス (1 : 1) を圧入し、 反応温度を 60で、 反応時間を 20時間とする以外は、 実施例 4と同様にして反応および分析 を行った。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロロメチルフ ェニル) プロピオン酸ェチルの収率は 75%であり、 3— (4—クロロメチルフ ェニル) プロピオン酸ェチル、 2— (4一エトキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸ェチルはほとんど生成しなかった。 1.53 g (10.00 mmol) of 4-chloromethylstyrene as a substrate, 17.7 mg (0.1 lmmol) of palladium chloride as a catalyst, 76.3 mg of neomethyldiphenylphosphine as a ligand (purity of 85 %, 0.2 mmo 1), 5 ml of ethanol as alcohol, and 25 ml of acetone as solvent, pressurized carbon monoxide-hydrogen mixed gas (1: 1) to 5 atm, and raise the reaction temperature to 60 The reaction and analysis were performed in the same manner as in Example 4 except that the reaction time was changed to 20 hours. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate to 4-chloromethylstyrene as a raw material is 75%, and 3- (4-chloromethylphenyl) ethyl propionate and 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) Ethyl propionate was hardly formed.
実施例 34 Example 34
基質として 4—クロロメチルスチレン 153mg (1. 0 Ommo 1) 、 触媒 としてジクロロビス (卜リフエニルホスフィン) パラジウム 7. Omg 4-chloromethylstyrene as substrate 153mg (1.0 Ommo 1), dichlorobis (triphenylphosphine) palladium as catalyst 7.Omg
(0. O lmmo l) 、 アルコールとしてメタノール 0. 5mし さらに溶媒と してトルエン 2. 5m lを用い、 一酸化炭素分圧 30気圧、 水素分圧 30気圧と なるようにそれぞれのガスを圧入する以外は、 実施例 4と同様にして反応および 分析を行った。 原料の 4—クロロメチルスチレンに対する 2— (4一クロロメチ ルフエ二ル) プロピオン酸メチルの収率は 77 %であり、 3— (4—クロロメチ ルフエニル) プロピオン酸メチルの収率は 2 %、 2 - (4—メトキシカルボニル メチルフエニル) プロピオン酸メチルの収率は 1 %以下であった。 実施例 35 (0.5 lmmol), 0.5 ml of methanol as alcohol, and 2.5 ml of toluene as the solvent, and each gas was injected under a pressure of 30 atm of carbon monoxide and 30 atm of hydrogen. The reaction and analysis were performed in the same manner as in Example 4 except that the reaction was performed. The yield of methyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene is 77%, and the yield of methyl 3- (4-chloromethylphenyl) propionate is 2%, 2- (4-Methoxycarbonylmethylphenyl) The yield of methyl propionate was 1% or less. Example 35
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg ( 1. 0 Ommo 1 ) 、 触媒 として酢酸パラジウム 2. 2mg (0. 0 lmmo 1 ) 、 配位子としてトリフエ ニルホスフィン 5. 2mg (0. 02mmo 1 ) 、 アルコールとしてメタノール 0. 5mし さらに溶媒としてトルエン 2. 5mlを用い、 30気圧となるよう に一酸化炭素一水素混合ガス (1 : 1) を圧入する以外は、 実施例 4と同様にし て反応および分析を行った。 原料の 4—クロロメチルスチレンに対する 2— (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸メチルの収率は 78 %であり、 3— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸メチルの収率は 8 %、 2— (4ーメ トキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸メチルの収率は 3 %であった。 実施例 36 4-chloromethylstyrene as substrate 153 mg (1.0 Ommo 1), palladium acetate as catalyst 2.2 mg (0.0 lmmo 1), ligand as triphenylphosphine 5.2 mg (0.02 mmo 1), as alcohol The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4, except that 0.5 m of methanol and 2.5 ml of toluene were used as the solvent, and a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (1: 1) was injected to 30 atm. went. The yield of methyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene is 78%, the yield of methyl 3- (4-chloromethylphenyl) propionate is 8%, The yield of methyl 2- (4-methoxycarbonylmethylphenyl) propionate was 3%. Example 36
基質として 4—クロロメチルスチレン 153mg (l. 00 mm o l) 、 触媒 としてジクロロビス (トリフエニルホスフィン) パラジウム 7. Omg (0. 0 lmmo 1 ) 、 アルコールとしてイソプロピルアルコール 1. Omし さらに溶 媒としてトルエン 2. Omlを用い、 一酸化炭素分圧 30気圧、 水素分圧 30気 圧となるようにそれぞれのガスを圧入する以外は、 実施例 4と同様にして反応お よび分析を行った。 原料の 4—クロロメチルスチレンに対する 2— (4一クロ口 メチルフエニル) プロピオン酸イソプロピルの収率は 78%であり、 3— (4一 クロロメチルフエニル) プロピオン酸イソプロピルの収率は 1 %、 2— (4 r ソプロポキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン酸イソプロピルの収率は 3%であった。 4-chloromethylstyrene 153 mg (l. 00 mmol) as substrate, dichlorobis (triphenylphosphine) palladium as catalyst 7. Omg (0.0 lmmo 1), isopropyl alcohol as alcohol 1. Om, and toluene 2 as solvent The reaction and analysis were carried out in the same manner as in Example 4 except that each gas was injected so that the partial pressure of carbon monoxide was 30 atm and the partial pressure of hydrogen was 30 atm using Oml. The yield of isopropyl 2- (4-monomethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene was 78%, and the yield of isopropyl 3- (4-chloromethylphenyl) propionate was 1%. — (4rsopropoxycarbonylmethylphenyl) The yield of isopropyl propionate was 3%.
実施例 37 Example 37
基質として 4一クロロメチルスチレン 153mg (1. 0 Ommo 1 ) 、 触媒 として酢酸パラジウム 2. 2mg (0. 0 lmmo 1 ) 、 配位子としてトリフエ ニルホスフィン 5. 2mg (0. 02mmo 1 ) 、 アルコールとしてイソプロピ ルアルコール 1. Om 1 , さらに溶媒としてトルエン 2. Omlを用い、 30気 圧となるように一酸化炭素一水素混合ガス (1 : 1) を圧入する以外は、 実施例 4と同様にして反応および分析を行つた。 原料の 4一クロロメチルスチレンに対 する 2— (4一クロロメチルフエニル) プロピオン酸イソプロピルの収率は 81%であり、 3— (4—クロロメチルフエニル) プロピオン酸イソプロピルの 収率は 4%、 2 - (4—イソプロポキシカルボニルメチルフエニル) プロピオン 酸イソプロピルの収率は 4%であった。 4-Monochloromethylstyrene as substrate 153 mg (1.0 Ommo 1), palladium acetate as catalyst 2.2 mg (0.0 lmmo 1), ligand as triphenylphosphine 5.2 mg (0.02 mmo 1), as alcohol Except for using isopropyl alcohol 1.Om 1 and toluene 2.Oml as the solvent and injecting a mixed gas of carbon monoxide (1: 1) so that the pressure becomes 30 atm, the same procedure as in Example 4 was carried out. Reaction and analysis were performed. The yield of isopropyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene is The yield of isopropyl 3- (4-chloromethylphenyl) propionate was 4%, and the yield of isopropyl 2- (4-isopropoxycarbonylmethylphenyl) propionate was 4%.
実施例 38 Example 38
1 Lのステンレス製オートクレーブに 4—クロロメチルスチレン 1 5. 3 g ( 10 Ommo 1 ) 、 酢酸パラジウム 1 12mg (0. 5 Ommo 1 ) 、 配位子 としてトリフエニルホスフィン 262mg (1. 0 Ommo 1 ) 、 エタノール 4-chloromethylstyrene 15.3 g (10 Ommo 1), palladium acetate 112 mg (0.5 Ommo 1), and triphenylphosphine 262 mg (1.0 Ommo 1) as a ligand in a 1 L stainless steel autoclave , Ethanol
50m lおよびトルエン 250m lを仕込み、 系内を一酸化炭素—水素混合ガス (1 : 1) で十分置換した後、 35気圧になるように一酸化炭素一水素混合ガス を圧入した。 加熱撹拌しながら 80でに昇温し、 22時間力ルポニル化反応を行 つた。 After 50 ml of toluene and 250 ml of toluene were charged and the inside of the system was sufficiently replaced with a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (1: 1), a mixed gas of hydrogen and carbon monoxide was injected to a pressure of 35 atm. The temperature was raised to 80 with heating and stirring, and a force luponylation reaction was carried out for 22 hours.
反応終了後、 実施例 4と同様にしてガスクロマトグラフィーにより分析した結 果, 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロロメチルフエ二 ル) プロピオン酸ェチルの収率は 96 %であり、 3— (4一クロロメチルフエ二 ル) プロピオン酸ェチルの収率は 2 %、 2— (4—エトキシカルボニルメチルフ ェニル) プロピオン酸ェチルの収率は 2 %であった。 After the reaction was completed, the product was analyzed by gas chromatography in the same manner as in Example 4. As a result, the yield of ethyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene was 96%. The yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate was 2%, and the yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) propionate was 2%.
実施例 39 Example 39
1 Lのステンレス製オートクレ一ブに 4一クロロメチルスチレン 15. 3 g (10 Ommo 1 ) 、 酢酸パラジウム 67mg (0. 30 mm o 1 ) 、 配位子と してトリフエニルホスフィン 157mg (0. 6 Ommo 1 ) 、 エタノール 50 m 1およびトルエン 250m lを仕込み、 系内を一酸化炭素一水素混合ガス (1 : 1) で十分置換した後、 35気圧になるように一酸化炭素—水素混合ガス を圧入した。 加熱撹拌しながら 80 に昇温し、 30時間カルボニル化反応を行 つた。 反応終了後、 実施例 4と同様にしてガスクロマトグラフィーにより分析した結 果、 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロロメチルフエ二 ル) プロピオン酸ェチルの収率は 86%であり、 3— (4—クロロメチルフエ二 ル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %以下、 2— (4—エトキシカルボ二ルメチ ルフエニル) プロピオン酸ェチルの収率は 1 %であった。 In a 1-L stainless steel autoclave, 15.3 g (10 Ommo 1) of 4-chloromethylstyrene, 67 mg (0.30 mmo 1) of palladium acetate, and 157 mg (0.6 mm) of triphenylphosphine as a ligand Ommo 1), 50 ml of ethanol and 250 ml of toluene were charged, and the system was sufficiently replaced with a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (1: 1), and then a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen was brought to 35 atm. Pressed. The temperature was raised to 80 with heating and stirring, and the carbonylation reaction was performed for 30 hours. After the reaction was completed, the product was analyzed by gas chromatography in the same manner as in Example 4. As a result, the yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl ester relative to the raw material 4-chloromethylstyrene was 86%. The yield of 3-, 4- (4-chloromethylphenyl) ethyl propionate is less than 1%, and the yield of 2- (4-ethoxycarbonylmethyl) (Ruphenyl) The yield of ethyl propionate was 1%.
実施例 40 Example 40
1 Lのステンレス製ォ一トクレーブに 4—クロロメチルスチレン 15. 3 g ( 100 mm o 1 ) 、 塩化パラジウム 89mg (0. 5 Ommo 1 ) 、 配位子と してネオメンチルジフエニルホスフィン 382m g (純度 85%、 1. 00 mmo 1 ) 、 エタノール 50 m 1およびアセトン 250m lを仕込み、 系内を一 酸化炭素一水素混合ガス (1 : 1) で十分置換した後、 5気圧になるように一酸 化炭素一水素混合ガスを圧入した。 加熱撹拌しながら 60 に昇温し、 適時系内 を一酸化炭素一水素混合ガスで置換して系内の一酸化炭素分圧が 2気圧を下回ら ないようにして、 30時間カルボニル化反応を行った。 In a 1 L stainless steel autoclave, 15.3 g (100 mmo 1) of 4-chloromethylstyrene, 89 mg (0.5 Ommo 1) of palladium chloride, and 382 mg of neomenthyldiphenylphosphine as a ligand ( Purity 85%, 1.00 mmo 1), 50 ml of ethanol and 250 ml of acetone were charged, and the system was sufficiently replaced with a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (1: 1). A mixed gas of carbon monoxide and hydrogen was injected. The temperature was raised to 60 with heating and stirring, and the inside of the system was replaced with a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen at appropriate times so that the carbon monoxide partial pressure in the system did not fall below 2 atm, and the carbonylation reaction was carried out for 30 hours. Was.
反応終了後、 実施例 4と同様にしてガスクロマトグラフィーにより分析した結 果、 原料の 4—クロロメチルスチレンに対する 2— (4—クロロメチルフエ二 ル) プロピオン酸ェチルの収率は 79 %であり、 3— (4—クロロメチルフエ二 ル) プロピオン酸ェチル、 2— (4一エトキシカルポニルメチルフエニル) プロ ピオン酸ェチルは 0. 2%以下しか生成しなかった。 After the reaction, the product was analyzed by gas chromatography in the same manner as in Example 4. As a result, the yield of ethyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene was 79%. Ethyl, 3- (4-chloromethylphenyl) propionate, and 2- (4-ethoxyethoxycarbonylphenyl) ethyl propionate produced less than 0.2%.
実施例 41 Example 41
1 Lのステンレス製オートクレープに 4一クロロメチルスチレン 15. 3 g ( 10 Ommo 1 ) 、 ナ卜リウムテトラクロ口パラデ一卜 0. 5 g (2 mmo 1 Zg、 1. 0 Ommo 1 , 参考例にしたがって調製) 、 配位子としてネオメンチ ルジフエニルホスフィン 38 lmg (純度 85 %、 1. 00mmo l) 、 ェ夕ノ —ル 50m 1およびアセトン 250m lを仕込み、 系内を一酸化炭素一水素混合 ガス (1 : 1) で十分置換した後、 5気圧になるように一酸化炭素一水素混合ガ スを圧入した。 加熱撹拌しながら 6 Ot:に昇温し、 適時系内を一酸化炭素一水素 混合ガスで置換して系内の一酸化炭素分圧が 2気圧を下回らないようにして、 22時間カルボニル化反応を行った。 1 L stainless steel autoclave: 15.3 g (10 Ommo 1) of 4-chloromethylstyrene, 0.5 g (2 mmo 1 Zg, 1.0 Ommo 1) of sodium tetrachloride parade, reference example ), 38 lmg of neomenthyl diphenylphosphine (purity 85%, 1.00 mmol), 50 ml of ethanol and 250 ml of acetone as ligands, and carbon monoxide mixed in the system After sufficient replacement with gas (1: 1), a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen was injected so that the pressure became 5 atm. The temperature was raised to 6 Ot: while heating and stirring, and the inside of the system was replaced with a mixture of carbon monoxide and hydrogen at appropriate times so that the carbon monoxide partial pressure in the system did not fall below 2 atm. Was done.
反応終了後、 実施例 4と同様にしてガスクロマトグラフィーにより分析した結 果、 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4一クロロメチルフエ二 ル) プロピオン酸ェチルの収率は 72%であり、 3— (4一クロロメチルフエ二 ル) プロピオン酸ェチル、 2— (4—エトキシカルボニルメチルフエニル) プロ ピオン酸ェチルは 0. 2 %以下しか生成しなかった。 After the reaction was completed, the product was analyzed by gas chromatography in the same manner as in Example 4. As a result, the yield of ethyl 2- (4-chloromethylphenyl) propionate relative to the raw material 4-chloromethylstyrene was 72%. , 3- (4-chloromethylphenyl) propionate, 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) pro Ethyl pionate produced less than 0.2%.
実施例 42 Example 42
1 Lのガラス製ォ一トクレーブに 4—クロロメチルスチレン 91. 6 g (60 Ommo 1 ) 、 ナトリウムテトラクロ口パラデート水溶液 1. 00 g(2 mmo l Zg、 3mmo 参考例にしたがって調製)、 配位子としてネオメン チルジフエニルホスフィン 1. 72 g (純度 85%、 4. 5 Ommo 1) 、 エタ ノール 10 Om 1およびアセトン 50 Omlを仕込み、 系内を一酸化炭素一水素 混合ガス (1 : 1) で十分置換した後、 5気圧になるように一酸化炭素一水素混 合ガスを圧入した。 加熱撹拌しながら 60 に昇温し、 一酸化炭素を補給しなが ら系内の一酸化炭素分圧が 2気圧を下回らないようにして 30時間力ルポニル化 反応を行った。 91.6 g (60 Ommo 1) of 4-chloromethylstyrene, 1.00 g of aqueous solution of sodium tetrachloride paradate in a 1 L glass autoclave (2 mmol Zg, prepared according to 3 mmo reference example), coordination 1.72 g (purity: 85%, 4.5 Ommo 1) of neomenthyldiphenylphosphine, 10 Om1 of ethanol and 50 Oml of acetone were charged into the system, and a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen (1: 1) was introduced into the system. After sufficient replacement with, a mixed gas of carbon monoxide and hydrogen was injected so that the pressure became 5 atm. The temperature was raised to 60 with heating and stirring, and while the carbon monoxide was being replenished, a force luponylation reaction was carried out for 30 hours so that the carbon monoxide partial pressure in the system did not fall below 2 atm.
反応終了後、 実施例 4と同様にしてガスクロマトグラフィーにより分析した 結果、 原料の 4一クロロメチルスチレンに対する 2— (4一クロロメチルフエ二 ル) プロピオン酸ェチルの収率は 74%であり、 3— (4—クロロメチルフエ二 ル) プロピオン酸ェチル、 2— (4—ェ卜キシカルボニルメチルフエニル) プロ ピオン酸ェチルは 0. 2 %以下しか生成しなかった。 After the completion of the reaction, the product was analyzed by gas chromatography in the same manner as in Example 4. As a result, the yield of 2- (4-chloromethylphenyl) propionate ethyl ester relative to the raw material 4-chloromethylstyrene was 74%. Ethyl 3- (4-chloromethylphenyl) propionate and ethyl 2- (4-ethoxycarbonylmethylphenyl) propionate produced less than 0.2%.
実施例 43 Example 43
ロキソプロフェンナ卜リウムの合成 Synthesis of loxoprofen sodium
ジメチルホルムアミド (1. Oml) に水酸化カリウム 66 mgを加え、 こ れに室温で撹拌下 2—カルボエトキシシクロペン夕ノン 164mg (1. Omm o 1 ) を加えた。 均一な溶液になった後、 氷冷下、 2— (4一クロロメチルフエ ニル) プロピオン酸ェチル 227mg (1. Ommo 1 ) を滴下し、 得られた混 合物を 60でで 2時間撹拌した。 反応終了後、 反応混合物を氷水中に投入し、 卜 ルェンで抽出した。 有機層を水洗し、 溶媒を留去することにより、 油状の粗生成 物 323mg (含量補正値 262mg、 収率 75. 6%) を得た。 66 mg of potassium hydroxide was added to dimethylformamide (1. Oml), and 164 mg (1. Ommol) of 2-carboethoxycyclopenone was added thereto at room temperature with stirring. After a homogeneous solution was formed, 227 mg (1. Ommo 1) of ethyl 2-((4-chloromethylphenyl) propionate) was added dropwise under ice cooling, and the resulting mixture was stirred at 60 for 2 hours. . After completion of the reaction, the reaction mixture was poured into ice water and extracted with toluene. The organic layer was washed with water, and the solvent was distilled off to obtain 323 mg of an oily crude product (content correction value: 262 mg, yield: 75.6%).
このようにして得られた 2— [4一 ( 1—エトキシカルボ二ルー 2—ォキソ シクロペンタン— 1 Γルメチル) フエニル] プロピオン酸ェチルの粗生成物 18. 5 g (含量補正値 15. 0 g、 43. 3mmo 1 ) を室温で 25%硫酸 (15 OmL) に添加し、 37時間加熱還流した。 トルエンで抽出し、 抽出液を 1 N水酸化ナトリゥム水溶液で処理して目的物を水層に移行させた後, 水層を塩 酸で酸性にし、 再度トルエンで抽出した。 抽出液を水洗し、 溶媒を留去すること により、 微黄色油状の粗生成物 13. 8 g (含量補正値 10. 7 g、 収率 88. 6 %) を得た。 トルエンを溶媒として晶析し、 50%の回収率で 2—18.5 g of crude product of 2- [4- (1- (1-ethoxycarbonyl) -2-oxocyclopentane-1-dimethyl) phenyl] propionate thus obtained (content correction value: 15.0 g) , 43.3 mmo 1) were added to 25% sulfuric acid (15 OmL) at room temperature, and the mixture was heated under reflux for 37 hours. Extract with toluene and extract After the target substance was transferred to the aqueous layer by treatment with a 1N aqueous solution of sodium hydroxide, the aqueous layer was acidified with hydrochloric acid and extracted again with toluene. The extract was washed with water, and the solvent was distilled off, thereby obtaining 13.8 g of a crude product as a slightly yellow oil (content correction value: 10.7 g, yield: 88.6%). Crystallized with toluene as the solvent and recovered with a 50% recovery rate.
[4一 (2—ォキソシクロペンタン一 1一ィルメチル) フエニル] プロピオン酸 の結晶を得た。 Crystals of [4- (2-oxocyclopentane-111-methyl) phenyl] propionic acid were obtained.
続いてこの結晶 10. 0 g (40. 6mmo 1 ) を室温でエタノール (45 mL) に添加し、 ナトリウムメトキシドを 0. 96当量添加し撹拌した。 ェタノ ールを減圧留去後、 含水アセトンで結晶化し、 ロキソプロフェンナトリウム 1 1. 8 g (収率 95. 8%) を得た。 Subsequently, 10.0 g (40.6 mmo 1) of the crystal was added to ethanol (45 mL) at room temperature, and 0.96 equivalent of sodium methoxide was added and stirred. After ethanol was distilled off under reduced pressure, the residue was crystallized from aqueous acetone to obtain loxoprofen sodium (11.8 g, yield 95.8%).
参考例 Reference example
ナトリウムテ卜ラクロロパラデート水溶液の調製法 Preparation of aqueous solution of sodium tetrachloroparadate
塩化パラジウム 3. 55 g(20. 0mmo l)、 塩化ナトリウム 2. 34 g (40. Ommo 1)に対して全量が 10 gになるように水を加えて溶解して調製 した。 Water was added to and dissolved in 3.55 g (20.0 mmol) of palladium chloride and 2.34 g (40. Ommo 1) of sodium chloride so that the total amount was 10 g.
産業上の利用可能性 Industrial applicability
本発明により、 ハロメチル基を有する 2—フエニルプロピオン酸誘導体を簡便 かつ安価に製造する方法が提供される。 八ロメチル基を有する 2—フエニルプロ ピオン酸誘導体は、 医薬、 農薬等の合成中間体等として有用な化合物である。 According to the present invention, there is provided a method for producing a 2-phenylpropionic acid derivative having a halomethyl group simply and inexpensively. 2-Phenylpropionic acid derivatives having an octamethyl group are useful compounds as synthetic intermediates for pharmaceuticals, agricultural chemicals and the like.
Claims
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| AU31068/97A AU3106897A (en) | 1996-06-13 | 1997-06-12 | Process for the preparation of halomethylated 2-phenylpropionic acid derivatives |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15262096 | 1996-06-13 | ||
| JP8/152620 | 1996-06-13 |
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Cited By (4)
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|---|---|---|---|---|
| JP2002069030A (en) * | 2000-08-30 | 2002-03-08 | Kyowa Hakko Kogyo Co Ltd | Method for producing sodium 2- {4-[(2-oxocyclopentyl) methyl] phenyl} propionate dihydrate |
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Citations (3)
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|---|---|---|---|---|
| JPS5318533A (en) * | 1976-07-31 | 1978-02-20 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | Preparation of alpha-(substituted aryl) propionic acids |
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1997
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- 1997-06-12 WO PCT/JP1997/002035 patent/WO1997047581A1/en not_active Ceased
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
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| AU3106897A (en) | 1998-01-07 |
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