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WO1993013109A1 - Cephalosporin derivative - Google Patents

Cephalosporin derivative Download PDF

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Publication number
WO1993013109A1
WO1993013109A1 PCT/JP1992/001660 JP9201660W WO9313109A1 WO 1993013109 A1 WO1993013109 A1 WO 1993013109A1 JP 9201660 W JP9201660 W JP 9201660W WO 9313109 A1 WO9313109 A1 WO 9313109A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
group
compound
acid
formula
reaction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/JP1992/001660
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Akira Onodera
Tomoki Miyazawa
Shigeo Morimoto
Katsuo Hatayama
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taisho Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Taisho Pharmaceutical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Taisho Pharmaceutical Co Ltd filed Critical Taisho Pharmaceutical Co Ltd
Publication of WO1993013109A1 publication Critical patent/WO1993013109A1/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

Definitions

  • the present invention relates to a novel cephalosporin derivative having a substituted thiocyanate group at the 3-position. More specifically, the present invention relates to an oral cephalosporin derivative and a non-toxic salt thereof, which are novel compounds and exhibit strong antibacterial activity. Background art
  • Cephalosporins are extremely effective drugs for treating bacterial infections because of their excellent antibacterial activity and high safety.
  • a number of research and development have been carried out on cefm derivatives having an aminothiazolyl group on the substituent of the 7-amino group, in particular, because they have strong antibacterial activity and a broad antibacterial spectrum.
  • cephalosporin-based antimicrobial substances useful as pharmaceuticals are known, but many of them are administered parenterally due to poor oral absorption.
  • cephalexin and cefaclor have a phenylglycylamino group at the 7-position and exhibit high oral absorption, but their antibacterial activity is high. Is significantly inferior to Gram-negative bacteria compared to cephalosporins for injection
  • the present inventors have conducted intensive studies to solve the above problems, and as a result, have strong antibacterial activity and high We succeeded in synthesizing a novel cephalosporin derivative that also has oral absorbability and completed the present invention.
  • Honkiaki is of the formula (I)
  • R 1 represents a hydrogen atom or an amino protecting group
  • R 2 represents a hydrogen atom, a lower alkyl group or a hydroxyl protecting group
  • R 3 represents a hydrogen atom or a carboxyl protecting group.
  • X , ⁇ , and ⁇ represent a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, a phenyl group, or a lower alkoxycarbonyl group, and at least one of X, ⁇ , and ⁇ is a halogen atom, a lower alkyl group, A phenyl group or a lower alkoxy carboxy group.
  • the functional groups in the present invention have the following meanings. That is, the protecting group for an amino group, the protecting group for a hydroxyl group, and the protecting group for a hydroxyl group mean a protecting group that is commonly used in the field of ⁇ -lactamylamide.
  • the protecting group for the amino group represented by R 1 includes a monochloroacetyl group, a formyl group, a benzyloxycarbonyl group, a paranitrobenzyloxycarbonyl group, a paramethoxybenzyloxycarbonyl group, t —Butoxycarbonyl group, trimethylsilyl group, etc.
  • the protecting group for the hydroxyl group represented by R 2 includes formyl group, acetyl group, propyl group, methoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, t-butoxycarbonyl group, benzoyl group, toluoyl group, benzenesulfinyl group, Tosyl group, phenyl group, 4-methoxybenzyl group, 2,4-dimethylbenzyl group, trityl group, tetrahydroviranyl group and the like.Lower alkyl group means methyl group, ethyl group, propyl group and the like. is there.
  • the carboxyl-protecting group represented by R 3 includes methyl, ethyl, and propyl Group, isopropyl group, t-butyl group, vinyl group, aryl group, ethynyl group, methoxymethyl group, ethoxymethyl group, 1-methoxethyl group, methylthiomethyl group, carboxymethyl group, carboxyl group, t-butyl group Butoxycarbonylmethyl group, 2- (t-butoxycarbonyl) ethyl group, benzyl group, paranitrobenzyl group, bis- (4-methoxyphenyl) methyl group, 3,4-dimethoxybenzyl group, trityl group, phenethyl group, Prodrugs of phenacyl group, 2,2,2-trichloroethyl group, trimethylsilyl group, 4-hydroxy-3,5-di (t-butyl) benzyl group, phenyl group, trilyl group, xyl
  • the lower alkyl group represented by X, ⁇ , or ⁇ represents a methyl group, an ethyl group, or a propyl group
  • the lower alkoxycarbonyl group includes a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, or the like. It is.
  • the non-toxic salt of the compound represented by the formula (I) of the present invention means a pharmacologically acceptable salt, for example, an inorganic base containing sodium, potassium, magnesium, ammonium and the like.
  • Salts with organic bases such as triethylamine and cyclohexylamine, salts with basic amino acids such as arginine and lysine, salts with mineral acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and phosphoric acid, or acetic acid, lactic acid, tartaric acid, fumaral Examples thereof include salts with organic acids such as acid, maleic acid, trifluoroacetic acid, and methyl sulfonic acid.
  • a preferred example of R 1 is a hydrogen atom
  • a preferred example of R 2 is a hydrogen atom
  • R 3 can be exemplified hydrogen atom, respectively, to the compound represented by the formula of the present MizunotoAkira (I) may exist as geometric isomers derived from Okishiimino group 7-position side chain '(E body and ⁇
  • the present invention encompasses any one of the above, and is preferably an isomer.
  • Compound represented by the general formula of the present Mizunoto March ( ⁇ ) for example, it can be obtained by the production method shown in the reaction ⁇ shown in the following synthetic g path. m
  • R 1 R 3 is X. Y and Z are as defined above, and R 4 is phenylacetyl, phenoxyacetyl, trityl, fluoryl, formyl, benzoyl] And a protecting group for an amino group such as a group.
  • R 5 represents a lower alkyl group or a hydroxyl group shown by the R 2
  • R 6 represents a hydrogen atom or a lower alkyl group shown above.
  • R is a group that can be hydrolyzed in vivo, which is known from the ⁇ -lactam agent prodrug-forming technology shown in R 3 above
  • W, A, and B are each a halogen atom (eg, a chlorine atom, a bromine Atom, iodine Atoms), leaving groups such as methanesulfonyloxy, trifluoromethylsulfonyloxy, diphenylsulfonyloxy, and toluenesulfonyloxy.
  • Step a dissolving a known compound of the formula (II) in an organic solvent which does not participate in the reaction and stirring with 1.0 to 1.2 molar equivalents of sodium hydrosulfide in the presence of a base to obtain a 3-mercapto compound .
  • the reaction temperature is from 150 to 100 ° C, preferably from -40 to 5 ° C.
  • the reaction time is ⁇ 0 minutes ⁇ to 4 hours, preferably 10 minutes to 1 hour.
  • the reaction time varies depending on the kind of the base used, the kind of the compound of the formula (III) and the reaction temperature, but is 10 minutes to 5 hours, usually 10 minutes to 2 hours.
  • preferred organic solvents include N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide, hexamethylphosphoric acid triamide, acetate nitrile, tetrahydrofuran, dichloromethane and the like. They can be used alone or in combination.
  • Preferred bases include organic bases such as diisoprovirethylamine, N, N-dimethylaminopyridine, N, N-dimethylaniline, triethylamine, and the like.
  • concentration is 1.0 to 2.0 moles per compound.
  • the 3-mercapto form obtained by the above operation can be used for the next reaction after isolation. That is, a 3-mercapto compound is reacted with a compound of the formula (II) in the presence of the same base and organic solvent as described above to obtain a 3-thio-substituted compound of the formula (IV). The same applies to the reaction conditions.
  • Step b Next, the protecting group for the 7-amino group of the compound of the formula (IV) obtained in the above step a is removed by a method commonly used in the field of ⁇ -lactam chemistry to obtain a compound of the formula (V) is obtained.
  • the protecting group R 4 of the compound of formula (IV) may be substituted with a quinoxyacetyl group,
  • the compound of formula (IV) is dissolved in dichloromethane or benzene, and 1.5 to 2.0 molar equivalents of phosphorus pentachloride and pyridin 2.0 to 3.0.
  • the protecting group R 4 of the compound of the formula (IV) is a trityl group
  • the compound of the formula (IV) is dissolved in a solvent that does not participate in the reaction (eg, ethyl acetate), and the solution is cooled under ice-cooling.
  • a solvent that does not participate in the reaction eg, ethyl acetate
  • a paratoluenesulfonic acid salt of the compound of the formula (V) can be obtained.
  • This paratoluenesulfonate can be treated with a base, if necessary, to give a free compound of the formula (V).
  • Step c In order to obtain a compound of the formula (VII) from a compound of the formula (V), a compound of the formula (V) is reacted with a 2-aminothiazolacetic acid derivative of the formula (VI) in the presence of a condensing agent. Or reacting a compound of formula (V) with a reactive derivative of a compound of formula (VI).
  • the condensing agent is N, N-dicyclohexylcarpoimidide, 1-ethoxydiphenyl-1,2-ethoxy-1,2-dihydroquinoline, carbonyldiimidazole, diphenylphosphoric azide, Vilsmeier reagent And so on.
  • the reactive derivative of the compound of the formula (VI) includes an acid halide (for example, an acid chloride or an acid bromide of the formula (VI)), an acid anhydride (for example, a symmetrical acid anhydride of the compound of the formula (VI) or Mixed acid anhydrides with chlorocarbonate, diphenylphosphoric acid, methanesulfonic acid, etc.), and activated esters (for example, esters with paranitrophenol, titanium phenol, N-hydroxysuccinimide, etc.) .
  • an acid halide for example, an acid chloride or an acid bromide of the formula (VI)
  • an acid anhydride for example, a symmetrical acid anhydride of the compound of the formula (VI) or Mixed acid anhydrides with chlorocarbonate, diphenylphosphoric acid, methanesulfonic acid, etc.
  • activated esters for example, esters with paranitrophenol, titanium phenol, N-hydroxysuccinimide, etc.
  • a mixed acid anhydride of the compound of the formula (VI) with methanesulfonate is described.
  • the compound of the formula (VI) is dissolved in a solvent which does not participate in the reaction.
  • a base at a temperature of from 70 to 130 ° C, 1.0 to 1.1 molar equivalents of methanesulfonic acid chloride are added, and the mixture is stirred for 20 to 40 minutes and mixed acid anhydride of the compound of the formula (VI) Is prepared.
  • 0.5-0.7 mol equivalent of the compound of the formula (V) is added within a range of 170--30, and stirred for 20-40 minutes.
  • Preferred solvents in the present step include N, N-dimethylmethylammonium, tetrahydrofuran, acetonitrile, dichloromethanyl chloride form and the like.
  • Suitable bases are diisopropylethylamine, triethylamine, N, N-dimethylaniline, N.N-dimethylamino pyridine, pyridine and the like, and the amount of the base used is 1.0 to 1 with respect to the compound of the formula (V). 0 to 2.2 molar equivalents.
  • the compound of the formula (V ()) is dissolved in a solvent that does not participate in the reaction, and is dissolved in the presence of a base at 30 to 110. Then, 1.0 to 1.1 molar equivalents of phosphorus pentachloride are added, and the mixture is stirred for 10 to 30 minutes to prepare an acid chloride of the compound of the formula (VI).
  • a solution in which ⁇ 1.0 molar equivalent is dissolved in a solvent which does not participate in the same reaction as described above is added within a range of 130 to 0 ° C, and stirred for 10 to 30 minutes to obtain a compound of the formula (VII).
  • the preferred solvent for the step is dichloromethane, black hole Holm, Asetonitori Le, r N-dimethyl formamidine de, etc.
  • suitable bases are pyridine, Toryechiruamin, N, N-dimethylamino pyridine, N, N-Jimechiruaniri And diisoprovirethylamine, etc. It is from 4.0 to 5.5 molar equivalents against the compound of formula (V).
  • Step d Next, in order to obtain a compound of the formula (VIII) from the compound of the formula (VII) obtained in the above step c, the protecting group of the compound of the formula (VIi) is converted to ⁇ -lactam chemical Elimination is carried out by hydrolysis and reduction methods commonly used in the field. (1) Hydrolysis
  • the hydrolysis is preferably carried out in the presence of an acid.
  • an acid examples include inorganic acids such as hydrochloric acid, hydrobromic acid and sulfuric acid, formic acid, acetic acid, acetic acid with triflic acid, methanesulfonic acid, and benzene.
  • Organic acids such as sulfonic acid and para-toluenesulfonic acid are exemplified.
  • Lewis acids and acid ions such as boron trifluoride, boron trifluoride etherate, aluminum trichloride, antimony pentachloride, ferric chloride, tin chloride, titanium tetrachloride, zinc chloride, etc.
  • An exchange resin or the like may be used.
  • a scavenger such as anisol.
  • Preferred solvents for the hydrolysis are, for example, water, methanol, ethanol, tetrahydrofuran, N, N
  • the reduction is performed by a chemical reduction or a catalytic reduction method.
  • the reducing agent used in the chemical reduction include a combination of a metal such as zinc and iron with an organic or inorganic acid such as formic acid, acetic acid, trifluroic acid, hydrochloric acid, and hydrobromic acid.
  • the catalyst used in the catalytic reduction include platinum black, platinum oxide, palladium black, palladium carbon, Raney nickel and the like.
  • the reduction is usually carried out in a conventional solvent which does not adversely affect the reaction, such as water, methanol, ethanol, vinegar, tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide, dioxane, or a mixture thereof. It takes place inside.
  • a conventional solvent which does not adversely affect the reaction, such as water, methanol, ethanol, vinegar, tetrahydrofuran, N, N-dimethylformamide, dioxane, or a mixture thereof. It takes place inside.
  • the reaction temperature of the above-mentioned hydrolysis and reduction is not particularly limited, but it is usually carried out under cooling or under heating.
  • the compound of the formula (X) is prepared by reacting the compound of the formula (VIII) with the compound of the formula (IX) in the presence of a base or reacting the compound of the formula (IX) with a salt of the compound of the formula (VIII) Can be obtained.
  • Suitable bases in this reaction include triethylamine, diisoprovirethylamine, N, N-dimethyl Organic bases such as aminoviridine or inorganic bases such as sodium bicarbonate, sodium carbonate, cesium carbonate, sodium hydroxide and potassium hydroxide.
  • the salt of the compound of the formula (VI [I]) is a salt with a metal such as silver, sodium, potassium, calcium, and magnesium.
  • This reaction will be described by taking a sodium salt as an example of the salt of the compound of the formula (VIII).
  • the sodium salt of the compound of the formula (VIII) is dissolved or suspended in a solvent that does not participate in the reaction, and is used in an amount of 1.0 to 2.0 molar equivalents. Is added, and the mixture is stirred at 50 to 50, preferably -30 to 20 ° C for 5 minutes to 2 hours, preferably 10 minutes to 1 hour.
  • Suitable solvents for this reaction are acetone, chloroform, dichloromethane, tetrahydrofuran, acetoneonitrile, getyl ether, methanol, ethanol, benzene, N, N-dimethyl wood amide, N, N-dimethyl acetate. Evening dimethyl, dimethyl sulfoxide, hexamethyl thiocyanate, water, etc.
  • the best form for carrying out KIKI is acetone, chloroform, dichloromethane, tetrahydr
  • the reaction solution was dropped into 100 ml of isopropyl ether, and the precipitated crystals were collected by filtration. Next, the crystals were dissolved in 9.0 ml of formic acid and stirred at room temperature for 1 hour. The insolubles were removed by filtration, and the filtrate was added dropwise to 120 ml of isopropyl ether.
  • Example 2 300 mg (0.6 mM) of the sodium salt obtained in Example 1 (d) was The solution was dissolved in 4.5 ml of dimethylformamide, added with 204 mg (0.8 mM) of bivaloyloxymethyl iodide under ice cooling, and stirred for 1 hour. After the reaction, 30 ml of water was added, extracted with 50 ml of ethyl acetate, washed with 30 ml of saturated saline, and dried over anhydrous magnesium sulfate.
  • Example 3 (b) 330 mg (0.6 mM) of the sodium salt obtained in Example 3 (b) above was dissolved in 4.5 ml of N, N-dimethylformamide, and 219 mg of bivaloyloxymethyl iodide was added under ice cooling. CO. 9 mM) and stirred for 1 hour.
  • G indicates a phenylasemid group
  • Tr indicates a trityl group
  • PMB ' indicates a paramethoxybenzyl group
  • nd indicates unmeasured.
  • the compound of formula (I) and the non-toxic salt thereof of the present invention not only have a strong antibacterial activity against various pathogenic bacteria including gram-positive bacteria and negative bacteria, but also have an excellent oral absorbability. As an antibacterial agent for oral administration Useful.
  • the compound of the present invention can be orally administered in the form of tablets, pills, capsules, granules, etc., manufactured according to conventional formulation techniques.
  • usual additives such as a bulking agent, a binder, a pH adjusting agent, and a solvent can be used.
  • the dosage of the compound of the present invention for a treated patient may vary depending on the age of the patient, the type and condition of the disease, and the like, but usually, 10 to 300 mg per day is divided into 1 to several doses. can do. Next, the antibacterial activity of the compound of the present invention is shown.
  • Drug dosage 20mgZkg (5% gum arabic suspension)
  • Quantitative S Bioassay method (Test bacterium: Bacillus cellureus S ⁇ 101) 3 cloud 7 to 7 "

Landscapes

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  • Organic Chemistry (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)

Description

明細書 セファロスポリン誘導体
技術分野
本癸明は、 3位に置換チ才基を有する新規セファロスポリン誘導体に関する。 さらに詳細には、 本発明は新規化合物であって、 強い抗菌活性を示す経口用セフ ァロスポリン誘導体およびその非毒性塩に関する。 背景技術
セファロスポリン系抗生物質は、 優れた抗菌作用を有し、 安全性が高いことか ら細菌感染症の治療薬として極めて有効な薬剤である。 近年、 特に 7位ァミノ基 の置換基上にァミノチアゾリル基を有するセフエム誘導体が強い抗菌力と広範囲 抗菌スぺク トルを有することから、 数多く研究開発されている。
医薬として有用なセファロスポリン系抗性物質は、 数多く知られているが、 そ の多くは、 経口吸収性が悪いため非経口的に投与されている。 現在、 臨床で用い られている経口用セファロスポリン剤の中で、 セファレキシンやセファクロール などは 7位にフヱニルグリシルァミノ基を有し、 高い経口吸収性を示すが、 その 抗菌力は、 注射用セファロスポリン剤に比べグラム陰性菌に対し著しく劣ってい る
最近になって、 4位の力ルポン酸をエステル化し'、 いわゆるプロ ドラックとし て経口吸収性を高めた経口用セファロスポリン剤が開発されてきた。 それらは 7 位にアミノチアゾリル基を導入したことにより、 セファレキシンなどに比べてグ ラム陰性菌に対する抗菌力が強化さたが、 グラム陽性菌に対する抗菌力がかえつ て低下していること、 また経口吸収性がそれ程に良好でないなどの欠点を残して いる。 発明'の開示
本発明者らは、 上記問題点を解決すべく鋭意研究した結果、 強い抗菌力と高い 経口吸収性を併せ兼ねてもつ新規セファロスポリン誘導体の合成に成功し、 本発 明を完成した。
すなわち、 本癸明は式 ( I )
Η 、 s Ν
Figure imgf000004_0001
(式中、 R 1は水素原子またはァミノ基の保護基を示し、 R 2は水素原子、 低級 ァルキル基または水酸基の保護基を示し、 R 3は水素原子またはカルボキシル基 の保護基を示す。 X、 Υ、 Ζは、 水素原子、 ハロゲン原子、 低級アルキル基、 フ ェニル基、 またば低級アルコキシカルボ二ル基を示し、 X、 Υ、 Ζのうち少なく とも一つはハロゲン原子、 低級アルキル基、 フエニル基、 または低級アルコキシ カルボ二ル基を示す。 ) で表されるセファロスポリン誘導体及びその非毒性塩。 本発明における官能基は、 それぞれ以下の意味を有する。 すなわち、 アミノ基 の保護基、 水酸基の保護基および力ルポキシル基の保護基とは、 β—ラク夕ムィ匕 学の分野で繁用されている保護基を意味する。
たとえば、 R 1で示されるァミノ基の保護基とは、 モノクロルァセチル基、 ホ ルミル基、 ベンジルォキシカルボニル基、 パラニトロべンジルォキシカルホ'ニル 基、 パラメ トキシベンジルォキシカルボニル基、 t—ブトキシカルボニル基、 ト リメチルシリル基などである。
R 2で示される水酸基の保護基とは、 ホルミル基、 ァセチル基、 プロピ才ニル 基、 メ トキシカルボニル基、 ブトキシカルボニル基、 t—ブトキシカルポニル基 、 ベンゾィル基、 トルオイル基、 ベンゼンスル木ニル基、 トシル基、 フエニル基 、 4ーメ トキシベンジル基、 2 , 4ージメ 卜キシベンジル基、 トリチル基、 テト ラヒドロビラニル基などであり、 低級ア キル基とは、 メチル基、 ェチル基、 プ □ビル基などである。
R 3で示されるカルボキシル基の保護基とは、 メチル基、 ェチル基、 プロビル 基、 イソプロビル基、 t一ブチル基、 ビニル基、 ァリル基、 ェチニル基、 メ トキ シメチル基、 エトキシメチル基、 1 ーメ トキシェチル基、 メチルチオメチル基、 カルボキシメチル基、 カルボキシェチル基、 t一ブトキシカルボニルメチル基、 2— ( t一ブトキシカルポニル) ェチル基、 ベンジル基、 パラニトロベンジル基 、 ビス一 (4ーメ トキシフエニル) メチル基、 3, 4ージメ トキシベンジル基、 卜リチル基、 フエネチル基、 フエナシル基、 2 , 2 , 2— トリクロルェチル基、 トリメチルシリル基、 4ーヒドロキシー 3 , 5—ジ ( tーブチル) ベンジル基、 フエニル基、 卜リル基、 キシル基および β—ラク夕ム剤のプロ ドラック化技術で 知られている 5—メチルー 1 , 3—ジ才キサシク口ペントー 4一ェンー 2—オン - 4ーィルメチル基、 ァセ卜キシメチル基、 ビバロイルォキシメチル基、 1 ービ バロィルォキシェチル基、 1ーシクロへキシルメチルカルポ二ルォキシェチル基、 1 ーァセトキシェチル基、 3—フ夕リジル基、 1 一 (シクロへキシルォキシカル ボニル才キシ) ェチル基、 1一 (イソプロポキシカルボニル才キシ) ェチル基な どである。
また、 X、 Υ、 Ζで示される低級アルキル基とは、 メチル基、 ェチル基、 プロ ピル基を示し、 低級アルコキシカルポニル基とは、 メ 卜キシカルボニル基、 エト キシカルボニル基、 プロポキシカルポニル基などである。
—方、 本発明の式 ( I ) で示される化合物の非毒性塩とは、 薬理学的に許容さ れるものを意味し、 たとえば、 ナトリウム、 カリウム、 マグネシウム、 アンモニ ゥムなどを含む無機塩基との塩、 卜リエチルァミン、 シクロへキシルァミンなど の有機塩基との塩、 アルギニン、 リジンなどの塩基性アミノ酸との塩、 硫酸、 塩 酸、 燐酸などの鉱酸との塩または酢酸、 乳酸、 酒石酸、 フマール酸、 マレイン酸、 卜リフルォロ酢酸、 メ夕ンスルホン酸などの有機酸との塩が挙げられる。
式 ( I ) において、 R 1の好ましい例としては水素原子、 R 2の好ましい例と しては水素原子、 またはビバロイルォキシメチル基などの β—ラクタム剤のプロ ドラック化技術で知られている基、 R 3は水素原子をそれぞれ挙げることが出来る また、 本癸明の式 ( I ) で示される化合物には、 7位側鎖のォキシィミノ基に 由来'する幾何異性体 (Ε体および Ζ体) が存在し、 そのいすれをも本発明は包含 するが、 好ましくは Ζ体である。 本癸3月の一般式 (〖) で示される化合物は、 たとえば、 以下の合成 g路に示す 反応经路で示される製造法によって得ることができる。 m
Figure imgf000006_0001
C v)
RlN N rCO2H
工程 c H s (VI) またはその反応性誘導体
H
Η
Figure imgf000007_0001
[ 反応経路中、 R1 R3は X. Yおよび Zは前記と同意義であり、 R4は、 フ ェニルァセチル基、 フエノキシァセチル基、 トリチル基、 フ夕ロイル基、 ホルミ ル基、 ベンゾィル基などのアミノ基の保護基を示す。
R5は、 前記 R 2で示した低級アルキル基あるいは水酸基を示し、 R6は、 前記 で示した水素原子あるいは低級アルキル基を示す。 Rマは前記 R 3で示した β—ラ クタム剤のプロ ドラッグ化技術で知られている生体内で加水分解可能な基であり、 W、 Aおよび Bはそれぞれハロゲン原子 (たとえば塩素原子、 臭素原子、 ヨウ素 原子) 、 メタンスルホニルォキシ基、 トリフルォロメ夕ンスルホニルォキシ基、 ジフエニル木スホリルォキシ基、 ノ ラ トルエンスルホニル才キシ基などの脱離基 である。 ] 工程 a :既知の式 ( I I ) の化合物を反応に関与しない有機溶媒に溶解し、 塩基 の存在下、 水硫化ナトリウム 1. 0〜1. 2モル当量とともに攪拌し 3—メルカ ブト体を得る。 反応温度は一 50〜 1 00°C、 好ましくば— 40〜 5 °Cである。 反応時間は〗 0分閩〜 4時間、 好ましくは 1 0分間〜 1時間である。
次いで、 上記操作で得られる 3—メルカプ卜体を単離せずに同一系内に塩基の 存在下、 式( i I 1 ) の化合物1 . 0〜2. 0モル当量を加え、 反応温度— 50 〜 1 00。C、 好まし〈は 一 25~50°Cで攪拌して、 式 ( I V) の 3—チォ置 換体を得る。
反応時間は、 使用される塩基の種類、 式( I I I ) の化合物の種類および反応 温度により異なるが、 1 0分間〜 5時間であり、 通常は 1 0分間〜 2時間である。 上記において好適な有機溶媒としては N, N—ジメチルホルムアミド、 N, N 一ジメチルァセ夕ミ ド、 ジメチルスルホキシド、 へキサメチル燒酸トリアミ ド、 ァセ卜二トリル、 テトラヒドロフラン、 ジクロルメタンなどが挙げられ、 これら は単独または混合して用いることができる。
また、 好ましい塩基としてはジイソプロビルェチルァミン、 N, N—ジメチル アミノビリジン、 N, N—ジメチルァニリン、 卜リエチルァミンなどの有機塩基 が挙げられ、 その最適使用量は式( I I ) の化合物 対し 1 . 0〜2. 0モル当 褢でめる。
また、 前記操作で得られる 3—メルカプト体は単離した後に次の反応に用いる こともできる。 すなわち、 前記と同様な塩基および有機溶媒の存在下、 3—メル カプト体と式( I I 【) の化合物を反応させて式( I V) の 3—チォ置換体を得 ることができる。 反応条件などば同様である。
工程 b :次に、 上記工程 aで得られた式( I V) の化合物の 7位ァミノ基の保 護基を、 β—ラク夕ム化学の分野で繁用されている方法で除去して式(V) の化 合物を得る。 たとえば、 式( I V) の化合物の保護基 R4がフ Iノキシァセチル基、 フエ二ルァセチル基またはベンゾィル基の場合は、 式 ( I V) の化合物をジクロ ルメ夕ンまたは、 ベンゼンに溶解し、 五塩化リン 1. 5〜2· 0モル当量とピリ ジン 2. 0〜3. 0モル当量を加え、 一 40〜30°Cで、 30分間〜 3時間攪拌 する。 次いで、 一 50〜 20 °Cで大過剰のメタノールまたは、 イソブチルアル コールを加え、 30分間〜 2時間攪拌し、 更に大過剰の水を加え、 — 50〜20 でで 30分間〜 1時間攪拌して式 (V) の化合物を得る。
また、 式 ( I V) の化合物の保護基 R 4が卜リチル基の場合は、 式 ( I V) の化 合物を反応に関与しない溶媒 (たとえば酢酸ェチル) に溶解し、 氷冷下、 パラ ト ルエンスルホン酸 . 1水和物を 1. 0〜1. 5モル当量加え、 1〜5時間攪拌す ることにより式 (V) の化合物のパラ トルエンスルホン酸塩を得ることができる。 このパラ トルエンスルホン酸塩は必要に応じ塩基で処理し、 遊離の式 (V) の 化合物とすることもできる。
工程 c :式 (V) の化合物から式 (V I I ) の化合物を得るには、 式 (V) の 化合物に縮合剤の存在下、 式 (V I ) の 2—ァミノチアゾ一ル酢酸誘導体を反応 'させるか、 または式 (V) の化合物に式 (V I ) の化合物の反応性誘導体を反応 させる。 ここで縮合剤とは N, N—ジシクロへキシルカルポジイミ ド、 1 —エ ト キジ力ルポ二ル一 2—エトキシー 1 , 2—ジヒ ドロキノリン、 カルボニルジイミ ダゾール、 ジフエニルリン酸アジド、 ビルスマイヤ一試薬などである。
また、 式 (V I ) の化合物の反応性誘導体とは酸ハロゲン化物 (たとえば式 ( V I ) の酸クロリ ド、 酸ブロミ ド) 、 酸無水物 (たとえば式 (V I ) の化合物の 対称酸無水物またはクロル炭酸ェチル、 ジフヱニルリン酸、 メタンスルホン酸な どとの混合酸無水物) 、 活性化エステル (たとえばパラニトロフ Iノール、 チ才 フエノール、 N—ヒ ドロキシサクシンィミ ド等とのエステル) などである。
式 (V I ) の化合物の反応性誘導体として式 (V I ) の化合物のメタンスルホ ン酸との混合酸無水物を例にして説明すると、 ます式 (V I ) の化合物を反応に 関与しない溶媒に溶解し、 一 70〜一 30°Cで塩基の存在下、 メタンスルホン酸 クロリ ドを 1. 0~ 1. 1モル当量加えて、 20〜40分間攪拌して式 (V I ) の化合物の混合酸無水物を調製する。 これに塩基の存在下、 式 (V) の化合物 0. 5-0. 7モル当量を一 70〜― 30での範囲内で加え、 20〜40分間攪拌し /画
-8- て式 (V I I ) の化合物を得る。 本工程における好ましい溶媒は N, N—ジメチ ル木ル厶アミ ド、 テトラヒドロフラン、 ァセトニトリル、 ジクロルメ夕ン クロ 口ホルムなどである。
また、 好適な塩基はジイソプロピルェチルァミン、 卜リエチルァミン、 N, N —ジメチルァ二リン、 N. N—ジメチルアミノ ビリジン、 ピリジンなどであり、 その使用量は式 (V) の化合物に対し 1 . 0〜2. 2モル当量である。
式 (V I ) の化合物の反応性誘導体として酸クロリ ドを用いる場合は、 ます式 (V ( ) の化合物を反応に関与しない溶媒に溶解し、 — 30〜一 1 0でにて塩基 の存在下、 五塩化リンを 1. 0~ 1. 1 モル当量加えて、 1 0〜30分間攪拌し て式 (V I ) の化合物の酸クロリ ドを調製する。 これに式 (V) の化合物 0. 7 〜1. 0モル当量を上記と同じ反応に関与しない溶媒に溶解した溶液を、 一 30 〜0°Cの範囲内で加え、 1 0~30分間攪拌して式(V I I ) の化合物を得る。 本工程における好ましい溶媒はジクロルメタン、 クロ口ホルム、 ァセトニトリ ル、 r N—ジメチルホルムアミ ド、 などである。 また、 好適な塩基はピリジン、 トリェチルァミン、 N, N—ジメチルアミノ ビリジン、 N, N—ジメチルァニリ ン、 ジイソプロビルェチルァミンなどであり、 その使用量は式 (V) の化合物に 対し 4. 0〜5. 5モル当量である。
更に、 式 (V I ) の化合物の反応性誘導体として式 (V I ) の化合物のォキシ 塩化リンとの混合酸無水物を例にして説明すると、 ます式 (V) の化合物と 1 . 0〜1. 3モル当量の式 (V 【) の化合物を上記と同じ反応に関与しない溶媒に 溶解する。 これに一 20〜― 5 °Cで 2. 0〜4. 0.モル当羞の塩基と 1. 0〜3. 0モル当量のォキシ塩化リンを加え、 一 20〜0での範囲内で、 1 0~30分間 攪拌して式 (V I I ) の化合物を得る。 本工程における好ましい溶媒はエチレン グリコールジメチルエーテル、 テトラヒドロフラン、 ジォキサン、 ジクロルメ夕 ン、 クロ口ホルムなどである。 また、 好適な塩基ばピリジン、 卜リエチルァミン、 ジイソプロピルェチルァミンなどである。
工程 d :次ぎに上記工程 cで得られた式 (V I I ) 化 "^物から式 (V I I I ) の化合物を得るには、 式 (V I i ) の化合物の保護基を β—ラク夕ム化学の分野 で繁用されている加水分解、 還元などの方法にょリ脱離する。 ( 1 ) 加水分解
加水分解は通常、 酸の存在下で行うことが好ましく、 そのような酸としては、 たとえば塩酸、 臭化水素酸、 硫酸などの無機酸、 ギ酸、 酢酸、 トリフル才口酢酸、 メタンスルホン酸、 ベンゼンスルホン酸、 パラ トルエンスルホン酸などの有機酸 が挙げられる。 更に上記の酸の代わりに三フッ化ホウ素、 三フッ化ホウ素 · エー テラー卜、 三塩化アルミニウム、 五塩化アンチモン、 塩化第二鉄、 塩化スズ、 四 塩化チタン、 塩化亜鉛などのルイス酸および酸性イオン交換樹脂などを用いても よい。
また、 上記の有機酸またはルイス酸を使用する場合には、 たとえばァニソ一ル などの陽ィ才ン捕捉剤の存在下に行うことが望ましい。 加水分解における好まし い溶媒は、 たとえば水、 メ夕ノール、 エタノール、 テトラヒ ドロフラン, N , N
—ジメチルホルムアミ ド、 ジ才キサン、 ジクロルメタン、 ニトロメタンなどであ る。 また、 前記の酸が液体の場合は、 それ自体を溶媒としても使用することがで きる。
( 2 ) 還元
還元は、 化学還元または接触還元法により行なわれる。 化学還元で使用される 還元剤としては、 たとえば亜鉛、 鉄などの金属とギ酸、 酢酸、 トリフル才ロ酉乍酸、 塩酸、 臭化水素酸などの有機酸もしくは無機酸との組合わせが挙げられる。 接触 還元で使用される触媒としては、 白金黒、 酸化白金、 パラジウム黒、 パラジウム 炭素、 ラネーニッケルなどが挙げられる。
還元は、 通常、 水、 メ夕ノール、 ェ夕ノール、 酢 、 テ トラヒ ドロフラン、 N , N —ジメチルホルムアミ ド、 ジ才キサンなど反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶 媒中、 またはそれらの混合物中で行なわれる。
上記の加水分解および還元の反応温度は特に限定されないが、 通常、 冷却下な いしは加温下で行なわれる。
ェ :式 (X ) の化合物は、 式 (V I I I ) の化合物に塩基の存在下式 ( I X ) の化合物を反応させるか、 または式 (V I I I ) の化合物の塩に式 ( I X ) の化合物を反応させることにより得ることができる。 本反応における好適な塩基 としては、 卜リエチルァミン、 ジイソプロビルェチルァミン、 N , N —ジメチル アミノビリジンなどの有機塩基または炭酸水素ナトリウム、 炭酸ナトリウム、 炭 酸セシウム、 水酸化ナトリウム、 水酸化カリウムなどの無機塩基である。 式 (V I 【 I ) の化合物の塩とは、 銀、 ナトリウム、 カリウム、 カルシウム、 マグネシ ゥムなどの金属との塩である。 式 (V I I I ) の化合物の塩としてナトリウム塩 を例として本反応を説明すると、 式 (V I I I ) の化合物のナトリウム塩を反応 に関与しない溶媒に溶解あるいは懸濁し、 1 . 0〜2· 0モル当量の式 ( I X) の化合物を加え、 一 50〜50で、 好ましくは— 30~20°Cで、 5分間〜 2時 間、 好ましくは 1 0分間〜 1 時間攪拌する。 本反応における好適な溶媒は、 ァセ トン、 クロ口ホルム、 ジクロルメタン、 テトラヒ ドロフラン、 ァセ トニトリル、 ジェチルエーテル、 メタノール、 エタノール、 ベンゼン、 N, N—ジメチル木ル ムアミ ド、 N, N—ジメチルァセ夕ミ ド、 ジメチルスル木キシド、 へキサメチル 燒酸トリアミ ド、 水などである。 癸明を実施するための最良の形態
次に、 実施例にて本 明化合物の製造方法を更に詳細に説明する。
実施例 1
(a) 7 β—フエ二ルァセタミ ドー 3—メタンスル木ニル才キシー 3—セフエ ムー 4一力ルボン酸パラメ トキシベンジルエステル 2. 5 g (4. 7mM) を N , N—ジメチルホルムアミ ド 29. 5 m l に溶解し、 一 1 0。Cで 70 %水硫化ナ トリウム 4 1 3 m g (5. 2 mM) の N, N—ジメチルホルムアミ ド 1 7 m I溶 液とジイソプロビルェチルァミン 9 1 0 m g (7. .1 mM) を加えた。 同温度で 30分間攪拌した後、 2, 3ジク□□プロペン 1. 05 g (9. 5 mM) を加 えて、 更に氷冷下 2時間攪拌した。
反応後、 0. 5 %塩酸 1 00 m I を加え、 酢酸ェチル 200 mし抽出し、 飽和 食塩水 1 O O m 【 (X 2) で洗浄した後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶 媒を留去し、 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出溶媒;酢酸ェチ ル:ジクロルメタン = 1 : 2) に付し 7 β -フエ二ルァセタミ ド一3— (2—ク 口 2—プロぺニル) チ才一 3—セフエムー 4一力ルボン酸パラメ 卜キシベン ジルエステル 1. 8 1 gを得た N M R ( D M S 0 - d 6) δ ( p p m) ;
3. 48 a n d 3. 56 ( 2 H, A B q , J = 1 H z ) , 3. 75 (3 H, S) , 3. 77 (2 H, b s) , 3. 80 a n d 3. 88 ( 2 H , A B q . J = 1 5 H z ) , 5. 1 1 a n d 5. 23 ( 2 H , A B q , J = 1 2 H z ) , 5. 1 3 ( 1 H, d, J = 4. 5 H z) , 5. 33 ( 1 H, d, J = 1. 5 H z ) , 5. 53 ( 1 H, d, J = 1 H z) , 5. 65 ( 1 H, d d , J = 4. 5, 8 H 2 ) , 6. 92 (2 H, d, J = 8. 5 H z ) , 7. 20〜 7. 33 ( 5 H , m) 7. 34 ( 2 H, d, J = 8. 5 H z ) , 9. 1 3 ( 1 H , d , J = 8 H z )
I RKBr vmaxc m"1 ; 3269, 3030, 1 770, 1 705, 1 654, 1 6 1 , 1 537, 1 5 1 6, 1 455, 1 388, 1 358, 1 287, 1 249, 1 228, 1 1 74, 1 1 2 1 , 1 033
(b) 上記 (a) で得た 7 β—フエニルァセ夕ミ ドー 3— (2—クロロ一 2— プロぺニル) チ才一 3—セフエムー 4一力ルボン酸パラメ トキシベンジルエステ ル 1. 78 g (3. 3 mM) を無水ジクロルメタン 20 m I に溶解し、 氷冷下 、 ビリジン 0. 52 g (6. 6 mM) と五塩化リン 1. 02 g (4. 9 mM) を加え、 室温下、 1. 5時間攪拌した。 付いで、 氷冷下、 イソブチルアルコール
1. 8 g (24. 3 mM) を加え、 同温度で、 1 時間攪拌した後、 更に水 5 m L を加え、 30分間攪拌した。 反応後、 反応液の有機層を飽和食塩水 1 0 m I で洗 浄し、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を濃^ (約 5 m I ) し、 残渣をジ イソプロピルエーテル 80 m I に滴下した後、 析出した粉末を濾取して、 7 β— アミノー 3— (2—ク□ロー 2—プロぺニル) チ才一 3—セフエム— 4—カルボ ン酸パラメ 卜キシベンジルエステルの塩酸塩 1. 4 1 gを得た。
N M R (DM S 0 - d 6) δ ( p p m)
3. 40 (3 Η, b s) , 3. 75 ( 3 Η, s) , 3. 79 a n d 3. 87
( 2 Η, A B q, J = 1 5 Η ζ ) , 3. 98 (2 Η, b s) 5. 09 ( 1 Η, d, J = 5 Η ζ ) , 5. 1 8 (2 Η. s ) , 5. 25 ( 1 Η d , J = 5 Η ζ ) , 5. 40 ( 1 Η , d , J = 1. 5 Η ζ ) , 5. 60 ( 1 Η d , J = 1 H z) 6. 9 2 (2 H, d , J = 8. 5 H z ) , 7. 34 (2 H. d . J = 8. 5 H z)
I RKBrvra3xc m- 1 ; 343 1 , 2 9 0 6, 1 78 0, 1 7 0 2, 1 6 1 3,
I 5 1 5, 1 464, 1 3 9 5, 1 2 9 9, 1 249, 1 2 1 4, 1 1 7 6,
I I 2 3, 1 0 3 3
(c) 上記 (b) で得た了 β—ァミノ - 3— (2—ク□□- 2—プロぺニル) チ才ー 3—セフエムー 4—カルポン酸パラメ トキシベンジルエステルの塩酸塩 1 . 38 g (3. 0 mM) と 2— (トリチルァミノチアゾ一ルー 4一ィル) 一 2 一 [ (Z) —トリチルォキシィミノ] 酢酸のナトリウム塩 2. 0 6 g (3. 0 m ) をテトラヒドロフラン 5 0 m I に溶解し、 一 20°Gに冷却した。 これにピリ ジン 0. 7 1 g (9. 0 mM) とォキシ塩化リン 0. 9 1 g (5. 9 mM) を加 えて一 1 5〜一 5°Cで 2 0分間攪拌した。 反応後、 水 5 0 m I を加え、 酢酸ェチ ル 1 0 0 m lで抽出し、 飽和食塩水 5 0 m I で洗浄した後、 無水硫酸マグネシゥ ムで乾燥した。 溶媒を留去し、 残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶 出溶媒;齚酸ェチル: π—へキサン = 1 : 1 ) に付し、 7 β— { 2— (2—卜リ チルァミノチアゾールー 4一ィル) 一 2—〖 (Ζ) —トリチルォキシィミノ] ァ セ夕ミ ド} ー3— (2—クロロー 2—プロぺニル) チォー 3—セフエム一 4一力 ルポン酸パラメ トキシベンジルエステル 2. 5 2 gを得た。
NM R (DMS O- de) δ (p p m)
3. 75 (3 H, s) , 3. 7 5 (2 H, b s) , 3. 88 (2 H, b s ) , 5. 1 9 (2 H, b s) , 5. 24 ( 1 H, d, J =4. 5 H z) , 5. 3 5 ( l H, d, J = 1 . 5 H z) , 5. 5 5 C 1 H, d , J = 1 H z) , 5. 7 8 ( 1 H, d, J = 4. 5, 8 H z) , 6. 63 ( 1 H, s ) , 6. 9 3 (2 H. d, J = 8. 5 H z) , 7. 0 6〜 7. 40 (3 2 H, m) , 8. 7 6 ( 1 H, s) , 9. 8 6 ( 1 H, d, J = 8 H z)
I Rk'Brvraaxc m"1; 3 3 8 2, 3 0 52, 2 9 5 7, 1 78 9, 1 73 1 , 1 688, 1 6 1 3, 1 5 1 6, 1 49 3, 1 48, 1 3 6 0 , 1 2 5 0, 1 2 1 8, 1 1 7 5, 1 1 1 4, 1 0 3 4 ( d ) 上記 (c) で得た 7 β - { 2— (2— トリ.チルァミノチアゾールー 4 —ィル) 一 2— [ (Ζ) — トリチル才キシィミノ] ァセ夕ミ ド } — 3— (2—ク □□- 2—プロぺニル) チ才一 3—セフエ厶 - 4一力ルボン酸パラメ トキシベン ジルエステル 2. 39 g ( 2. 2 mM) をトリフルォ口酢酸 4. 5 m l とァニ ソ一ル 0. 9 m I およびジクロルメタン 4. 5 m I の混合液に氷冷下加えて 1 . 5時間攪拌した。 反応液をイソプロピルエーテル 1 00 m l 中に滴下し、 析出し た結晶を濾取した。 次いで、 この結晶をギ酸 9. 0 m I に溶解し室温下 1 時間攪 拌した後、 不溶物を濾取して除き、 濾液をイソプロピルェ一テル 1 20 m I 中に 滴下した。
析出した結晶を濾取して 7 β— { 2— (2—ァミノチアゾ一ルー 4一ィル) 一 2— { [ (Ζ) —ヒ ドロキシィミノ] ァセ夕ミ ド } 一 3— (2—クロロー 2— プロぺニル) チ才— 3—セフエムー 4一力ルボン酸のギ酸塩 800 m gを得た。 このギ酸塩を水 1 0 m I に懸濁し、 炭酸水素ナ トリウム 464m g (5. 5 mM) を加えて溶解した後、 トヨパール (HW— 40 F) カラムクロマトグラフィー ( 溶出溶媒;水) に付し、 7 β— { 2— (2—ァミノチアゾールー 4一ィル) 一 2 — [ (Ζ) —ヒドロキシィミノ] ァセ夕ミ ド } 一 3— (2—ク□ロー 2—プロべ ニル) チォー 3—セフエム - 4一力ルボン酸のナ卜リゥム塩 500 m gを得た。 N R (DM S 0 - d 6) δ ( p p m ) ;
3. 33 a n d 3. 57 (2 H, A B q, J = 1 7 H z) , 3. 60 a n d 3. 70 (2 H, A B q, J = 1 5 H z ) , 4. 97 ( 1 H, d, J = 4. 5 H z ) , 5. 27 ( 1 H, d , J = 1. 5 H z ) , 5. 58 ( 1 H, d d , J =4. 5, 8 H z ) , 5. 6 1 ( 1 H, d, J = 1 H z ) , 6. 64 ( 1 H, S) , 7-. 1 2 (2 H、 b S) , 9. 1 ( 1 H, d, J = 8 H z ) , 1 1 . 3 2 ( 1 H, S)
I RKBr v max c m_1 ; 3326, 1 762, 1 6 07, 1 532, 1 3 92. 1 352, 1 1 84, 1 1 1 8, 1 046 実施例 2 '
上記実施例 1 (d) で得たナトリウム塩 3 00 m g (0. 6 mM) を N, N ジメチルホルムアミ ド 4. 5 m l に溶解し、 氷冷下ビバロイルォキシメチルアイ オダイ ド 2 04 m g (0. 8 mM) を加えて 1 時間攪拌した。 反応後、 水 3 0 m 1を加えて酢酸ェチル 5 0 m Iで抽出し、 飽和食塩水 3 0 m I で洗浄した後、 無 水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を留去し、 残渣をセフアデックスし H— 2 0カラムクロマトグラフィー (溶出溶媒; ァセトン) に付し、 7 β— {2— (2 —ァミノチアゾ一ルー 4一ィル) 一 2— [ (Ζ) ーヒドロキシィミノ〕 ァセ夕ミ ド} 一 3— (2—ク□□— 2—プロぺニル) チォー 3—セフエム一 4一力ルボン 酸ビバロイルォキシメチルエステル 1 2 5 m gを得た。
N R (DMS O - de) δ ( p p m ) ;
1 . 1 5 (9 H, S) , 3. 7 9 (2 H, b s) , 3. 8 9 a n d 3. 9 5 (2 H, A B q , J = 1 5 H z ) , 5. 2 1 ( 1 H, d, J = 4. 5 H z) , 5 . 38 ( T H, d, J = 1 . 5 H z ) , 5. 5 7 ( 1 H, d , J = 1 H z) , 5 . 77 ( 1 H, d d, J = 4. 5, 8 H z) , 5. 8 0 a n d 5. 8 8 ( 2 H, A B q , J = 6 H z) . 6. 68 ( 1 H , S) , 7. 1 7 ( 2 H , b S) , 9. 48 ( 1 H, d, J = 8 H z) , 1 1 . 3 ( 1 H, s )
I RKBrvraaxc m_1 t - 343 5, 2 6 75, 1 78 1 , 1 7 5 7, 1 67 2, 1 628, 1 5 3 1 , 1 48 1 , 1 3 7 1 , 1 2 8 1 , 1 2 1 6, 1 1 5 8, 1 1 0 9, 1 0 28 実施例 3
(a) 実施例 1 の (b) で得た 7 β—アミノー 3— (2 -ク□□一 2—プロべ ニル) チォー 3—セフエムー 4一力ルポン酸パラメ トキシベンジルエステルの塩 酸塩 1 . 0 5 g (2. 3 mM) と 2— (トリチルァミノチアゾールー 4一ィル) 一 2— [ (Z) —メ トキシィミノ] 酢酸 1 . 0 0 g (2. 3 mM) をテ卜ラヒ ド ' 口フラン 25 m I に溶解し、 一 20°Cに冷却した。 これにビリジン 0. 5 9 g (7. 5 mM) とォキ 塩化リン 0. 45 g (2. 9 mM) を加えて一 1 5〜一 5°Gで 2 0分間攪拌した。
反応後、 水 5 0 m 【を加え、 酢酸ェチル 1 0 0 m l で抽出し、 飽和食塩水 5 0 m 【で洗浄した後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を留去し、 残渣を シリカゲルカラムクロマトグラフィー (溶出溶媒;酢酸ェチル: n—へキサン = 1 : 1 ) に付し、 7 β— { 2— (2— 卜リチルァミノチアゾ一ルー 4—ィル) 一 2— [ (Ζ) —メ トキシィミノ] ァセ夕ミ ド } — 3— (2—クロ□— 2—プロぺ ニル) チ才ー 3—セフエム一 4一力ルボン酸パラメ トキシベンジルエステル 1 -
00 gを得た。
N M R ( D S 0 - d 6) δ ( p p m) ;
3. 7 3 ( 2 H , b s) , 3. 7 5 (3 H, s ) , 3. 8 1 ( 3 H, s) , 3. 80 a n d 3. 89 (2 H, A B q , J = 1 5 H z ) , 5. 1 7 a n d
5. 2 1 ( 2 H, A B q , J = 1 2 H z ) , 5. 1 6 ( 1 H, d, J = 4. 5 H z) , 5. 33 ( 1 H, d, J = 1 . 5 H z) , 5. 53 ( 1 H, d, J = 1 H z ) , 5. 65 ( 1 H, d d , J = 4. 5, 8 H z ) , 6. 72 ( 1 H , s ) ,
6. 9 2 ( 2 H, d, J = 8. 5 H z ) , 7. 1 6~7. 42 ( 1 7 H, m) , 8. 82 ( 1 H, s) , 9. 5 6 ( 1 H, d, J = 8 H z )
1 RKBr vmaxc m_1 ; 3306, 2937, 1 785, 1 730, 1 683, 1 6 1 3, 1 5 1 6, 1 448, 1 385, 1 36 1 , 1 284, 1 249, 1 2 1 9, 1 1 7 5, 1 1 1 5, 1 036
(b) 上記 ( a) で得た 7 β - { 2 - (2— トリチルァミノチアゾールー 4ーィ ル) 一 2— [ ( Ζ ) ーメ トキシィミノ] ァセ夕ミ ド } 一 3— (2—ク□□— 2— プロぺニル) チ才ー 3—セフエム一 4—カルボン酸パラメ トキシベンジルエステ ル 95 0 m g ( 1 . 1 mM) を卜リフル才ロ酢酸 2. 9 m Lとァニソ一ル 0. 5 8 m I およびジクロルメ夕ン 2. 9 m I の混合液に氷冷下加えて 1 時間、 更に室 温下 20分間攪拌した。
反応後、 反応液をイソプロピルエーテル 50 m I 中に滴下し、 析出した結晶を を濾取して 7 (3— { 2— (2—ァミノチアゾ一ルー 4一ィル) — 2— [ (Z) - メ トキシィミノ] ァセタミ ド} 一 3— ( 2—ク□□一 2—プロぺニル) チ才一 3 —セフエム— 4一力ルボン酸の卜リフル才口酢酸塩 600 m gを得た。 このトリ フルォロ酢酸塩を水 5 m I に懸濁し、 炭酸水素ナトリウム 234 m g (2. 8 m ) を加えて溶解した後、 トヨパール (HW—40 F) カラムクロマ卜グラフィ 一 (溶出溶媒;水) に付し、 7 β— {2— (2—ァミノチアゾ一ルー 4—ィル) —2— [ CZ) ーメ トキシィミノ] ァセ夕ミ ド } 一 3— (2—ク□□— 2—プロ ぺニル) チォー 3—セフエ厶— 4—カルボン酸のナトリウム塩 478 m gを得た
N M R (DMS 0- d6) δ (p p m) ;
3. 35 a n d 3. 58 (2 H, AB q, J = 1 7 H z) , 3. 6 1 a n d 3. 70 (2 H, A B q, J = 1 5 H z) , 3. 83 (3 H, s) , 4. 9 7 ( 1 H, d, J = 4. 5 H z ) , 5. 28 ( 1 H, d, J = 1. 5 H z) , 5 . 56 ( 1 H. d d, J = 4. 5, 8 H z ) , 5. 62 ( 1 H, d, J = 1 H z ) , 6. 72 ( 1 H, s) , 7. 22 ( 2 H , b s) , 9. 55 ( 1 H, d , J = 8 H z)
I RKBrvmax C m_I ; 341 2, 1 766, 1 662, 1 607, 1 534, 1 392, 1 353, 1 1 82, 1 1 20, 1 040 実施例 4
上記実施例 3 (b) で得たナトリウム塩 330 m g (0. 6mM) を N, N - ジメチルホルムアミ ド 4. 5 m I に溶解し、 氷冷下ビバロイルォキシメチルアイ オダイド 21 9 mg CO. 9 mM) を加えて 1時間攪拌した。
反応後、 水 30 m 1を加えて齚酸ェチル 50 m Iで抽出し、 飽和食塩水 30 m 1で洗浄した後、 無水硫酸マグネシウムで乾燥した。 溶媒を留去し、 残渣をセフ アデックス L H— 20カラムクロマ卜グラフィ一 (寧出溶媒;ァセトン) に付し 、 7 β - {2— (2—ァミノチアゾ一ルー 4-ィル) 一2— [ (Ζ) —メ トキシ ィミノ] ァセ夕ミ ド} 一 3— (2—クロ□— 2—プロぺニル) チォ一 3—セフエ 厶ー 4—カルボン酸ビバロイルォキシメチルエステル 265 m gを得た。
NMR (DMSO-de) δ (p p m) ;
1. 1 6 (9 H, s) , 3. 8 1 (2 H, b s) , 3. 84 (3 H, s) , 3. 89 a n d 3. 96 (2 H, AB q, J = 1 5 H z) , 5. 22 (1 H, d, J = 4. 5 H z) , 5. 38 ( 1 H, d, J = 1. 5 H z ) , 5. 57 ( 1 H, d, J = 1 H z ) , 5. 76 ( 1 H( d d, J = 4. 5, 8 H z ) , 5. 8 0 a n d 5. 88 (2 H, AB q, J = 6 H 2 ) , 6. 6 6 ( 1 H , s ) 7. 2 2 (2 H, b s ) . 9. ' 62 ( 1 H, d , J = 8 H z )
1 RKBrvmaxc m_1 ; 3436, 297 6, 1 780, 1 7 57, 1 673, 1 628, 1 537, 1 48 1 , 1 463, 1 37 2, 1 28 1 , 1 2 1 7, 1 1 58, 1 1 09, 1 0 35 実施例 5 ( a:) 〜 9 ( a )
• 実施例〗 (a ) に開示した操作および反応条件に準拠して、 下記の表 1 に示す 化合物を得た。
以下、 各表中において、 Gはフエ二ルァセ夕ミ ド基、 T rはトリチル基、 P M B'はパラメ トキシベンジル基、 および n dは、 未測定を示す。
Figure imgf000020_0001
Figure imgf000021_0001
Figure imgf000021_0002
HN · iOH
_ ::) 2^02土 、ュっ嗨^ φ}¾ ί¾:α:τ : ^っ^ ¾:) ( q ) ι rnmrn
(q) 6~ (q) 9
-61
099I0/r6df/JOd 60ΐει/εβ O 旲施例 5 (c) 〜9 (c) _ 実旎例 1 (c) に開示した操作および反応条件に準拠して、 下記の表 3に示す 化合物を得た。
Figure imgf000022_0001
実施例 5 ( d ) ~ 9 ( d )
実施例〗 (d ) に開示した操作および反応条件に準拠して、 下記の表 4に示す 化合物を得た。
表 4
Figure imgf000023_0001
* ;測定溶媒; D20
実施例 1 0〜 1 3
実施例 4に示した操作および反応条件に準拠して、 下記表 5に示す化合物を得 (s "Hi) OS 'TT ,(ZH8=f 'P i sa
'111)3 "6 '(sq ΉΖ)ΤΤ
'(ZHS '5 = Γ "δ ES 'HT)S8
2L "9 "(s "HT)i9 -9 '(ZH9 'ZHS Ή
'PP i ss *HT)8i 'SPUE i -g '(in
Ηΐ)Τ9 ·5〜55 'S "(ZH2=f 'P ^BS
OOOT "9iOT '9Πΐ HT)6S 'S '(ZHS "f=f "P t
L9TT 'λΙΖΤ Ό9ΖΤ 'HT)TZ-S UE6T'S '("i'HT)Z9
6i£T '6 'TEST 〜OS · "(m ΉΖ)00 〜 98 ·£ '(sq ¾0
8Z9T 'Zi9T 'Ζ9Π t{ B9 'HZ)61-g uB8i-8 "(ZHS*S:
T98Z '6£6Z ·6εεε 'P ΉΕ) 6 T '( 'Η0τ)ΐ6-Τ〜9Τ "ΐ
(s ΉΤ) OS TT '(ZHS "8=f 'P
i es 'HT) '6PUE3 ·6 '(sq "HZ) ひ OOOOHO- TT 'L '(2HS '9 = Γ 'b ES 'HT)S8 "9
puE8i -g '(s qつ es 'Ηΐ) s -9PUE99
•9 '(ZHS '8 'S "f=f "PP Ήΐ)6
L -SPue "s -(m ·ΗΤ)29 'S〜SS "S(
S '(ZHS =f 'P t ES ·ΗΤ)Τ2 'SPUE
OT 0TT 'i9TT 61 'S '(m 'HOS8 ^〜Si ' '( 'ΗΖ)
8ΤΠ '692T Ίΐ£ΐ OCTト i8'S '(sq ¾OBa-HZ)6i'S -HO
TEST '8Z9T 'ZI9T p
Z9LT '8868 '6288 6 S(«HO)HOOOOOHO- ZT
HS
"(
Figure imgf000024_0001
89 "9PUBi9 "9 "(ZHS "8 S ^=f 'PP
i ss 'HI)U 'SPUE ·5 '(m'HT)
09 'S〜9S -S "(ZHZ=f 'P ¾3B3 ΉΤ
690T '80TT )6£ 'SPUBSE "S '(ZHS '?=f 'P'HT)
89TT '9ΤΠ '98ZT OZ ·5 '(ω'ΗΖ)00^~58 ·ε '(sq
6AST '8 'OSST δ8 ·ΗΖ)6λ 'ε "Ε9λ 'ε '(ΖΗ5"9=Γ 'Ρ
L29T 'Si9T 'Τ8Π MOBS 'ΗΖ)0Ζ 'ΖΡ"δ6Τ 'I '(ZHS 'S = f
T982 'S262 "OS? £ 'Ρ 'HS) 9f ·ΐ ' 'ΗΤΐ) ·Τ〜 WO
(s ·ΉΤ)Τ8 "TT '(2Η8
=Γ Ρ 'ΗΤ)6 '6pue "6 '(sq ひ 2H3030H0- IT
Ή2)9Τ ·£ '(ZHS 'S=f 6 q。es ΉΤ '
HT)T6 "Θ υΒί'δ "9 *(s qoB3 ΉΤ) 89
•9PUB99 -9 '(ZH8 "9 'Τ=Γ 'PP ^ ES
690T "ΟΟΐΐ "HT)6i 'SPUBSi "S '( q。 ΉΤ)6
SS TT 7221 Ί2Ζ 2 'SPUEiS "S '(ZHS ' -f P es Ή
08ST "ZSST "S ^02 ' '( 'ΗΖ)66 〜^ SH3
8Z9T "0i9T 'SSiT •S '(sq Ή2)08 'iP^LL "£ '( 1
08LT '5i62 '2ZZZ ZHS 'S=f "P 'HS) 'T '(s Ή6)Η 'Τ Ε(ΕΗ3)Ο000Η3- 01
(ui d d )
i一 UI o (a p— o s w a )
( J 8 i ) H I H W N
Figure imgf000024_0002
.11-I0/Z6df/JDd 60I£I/£6 OAV 産業上の利用可能性
本発明の式 ( I ) の化合物およびその非毒性塩はグラム陽性菌および陰性菌を 含む各種病原菌に対し強い抗菌力を示すばかりでなく、 優れた経口吸収性を示し. 経口投与用抗菌剤として有用である。
この目的のためには、 本癸明化合物を慣用的な製剤技術に従って製造される錠 剤、 丸剤、 カプセル剤、 顆粒剤などの投与剤型で経口的に投与することができる < 上言己の各製剤においては、 通常の増量剤、 結合剤、 p H調製剤、 溶 剤などの添 加剤を用いることができる。
本発明化合物の治療患者に対する投与量は、 患者の年齢、 疾病の種類および状 態などにより変動し得るが、 通常、 1 日あたり 1 0〜3 0 0 0 m gを 1 〜数回に 分けて投与することができる。 次に、 本癸明の化合物の抗菌活性の結杲を示す。
試験例
寒天平板希釈法により各種細菌に対する抗菌試験を行い (接種菌量: 1 0s e e l I s / m I ) 、 下記表 6の結杲を得た。
3^ 6
Figure imgf000025_0001
【 M I C値 (y gZm l ) j ., (註)
•A :実施例 1 (d ) で得られた化合物を示す。
B': セファクロール (既知化合物) を示す。
C : セフィキシム (ナ トリゥム塩、 既知化合物を) 示す K験例 2
ί CR系 Si'feマウス (4·週令、 1113匹) への经ロ投与による血中濃度の Hi 変化を篛ベた。
薬剤投与量: 20mgZk g (5 %アラビアゴム懸濁)
定量 S:バイオアツセィ法 (検定菌:バシルス セルレウス S 〗 1 01 ) その?3云 7に し 7"こ。 表 7
Figure imgf000026_0001
(註)
D:実旒令 2で得られた化合物を示す
B:セファクロールを示す。

Claims

請求の範囡
H — z
Figure imgf000027_0001
(式中、 R 1は水素原子またはァミノ基の保護基を示し、 R 2は水素原子、 低級 アルキル基または水酸基の保護基を示し、 R 3は水素原子または力ルポキシル基 の保護基を示す。 X、 Υ、 Ζは、 水素原子、 ハロゲン原子、 低級アルキル基、 フ ェニル基、 または低級アルコキシ力ルポ二ル基を示し、 X、 Υ、 Ζのうち少なく とも一つはハロゲン原子、 低級アルキル基、 フ: L二ル基、 または低級アルコキシ カルボ二ル基を示す。 ) で表されるセファロスポリン誘導体及びその非毒性塩。
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