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WO1993013078A1 - Derive de pyrimidine ou de triazine et herbicide a base de ce derive - Google Patents

Derive de pyrimidine ou de triazine et herbicide a base de ce derive Download PDF

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WO1993013078A1
WO1993013078A1 PCT/JP1992/001690 JP9201690W WO9313078A1 WO 1993013078 A1 WO1993013078 A1 WO 1993013078A1 JP 9201690 W JP9201690 W JP 9201690W WO 9313078 A1 WO9313078 A1 WO 9313078A1
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WO
WIPO (PCT)
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group
substituted
alkoxy
alkyl
formula
Prior art date
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Ceased
Application number
PCT/JP1992/001690
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English (en)
French (fr)
Inventor
Masahiro Miyazaki
Masafumi Matsuzawa
Takumi Yoshimura
Kuniaki Shimizu
Shigehiko Tachikawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ihara Chemical Industry Co Ltd
Kumiai Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Ihara Chemical Industry Co Ltd
Kumiai Chemical Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ihara Chemical Industry Co Ltd, Kumiai Chemical Industry Co Ltd filed Critical Ihara Chemical Industry Co Ltd
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Publication of WO1993013078A1 publication Critical patent/WO1993013078A1/ja
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Definitions

  • the present invention relates to a herbicide which can be applied to paddy fields, fields, non-agricultural lands, etc., containing a novel pyrimidine or triazine derivative and a salt thereof as an active ingredient.
  • the present invention was found to be highly efficient. [Disclosure of the Invention]
  • the compound of the present invention has the general formula (I)
  • R represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, Lee Mi Dazoriru group C, -C e alkoxy groups, C 3 ⁇ C C Arukeniruokishi groups, C:> -C C ⁇ Rukiniruokishi groups, C , ⁇ C e alkylthio group, C 3 ⁇ C, consequent Roaru Kokishi group, Benjiruokishi group, a substituted base Njiruokishi group, Benjiruchi O group, a substituted base Njiruchio group, C 3 -C e consequent Roarukiruchio group,
  • alkylthio group C 3 to C, linear or cyclic alkylideneaminooxy group, (, to ( , An alkylsulfonylamino group, a phenylsulfonylamino group, a substituted phenylsulfonylamino group, a trimethylsilylethoxy group, a formula NR * R '(wherein * and R' are the same or different, hydrogen atom, a hydroxyl group, C, -C, alkyl group, C, -C S alkoxy, C, -C e alkenyl group, phenyl group, substituted phenyl group, C, -C e shea click Roarukiru group, C, -C 3 alkoxy C, ⁇ C. Alkyl group, C, ⁇
  • Alkoxy group, amino group, dimethylamino group, cyano group, C, ⁇ C ⁇ alkylsulfonyl n, phenylsulfonyl, ⁇ s substituted phenyl R ′ and R ′ represent a sulfonyl group or an acetylamino anilino group, and R ′ and R ′ may together form a ring which may contain a hetero atom.
  • R 1 are the same or different, a hydrogen atom (however, R 'and R 1 are the same unless otherwise defined), a halogen atom-, a C t -C, an alkyl group, a C' -C haloalkyl group, an alkoxy group , C, -C e
  • R 'and R together contain a headero atom
  • R ′ represents a hydrogen atom, a halogen atom, 0, to ⁇ : an alkyl group, a phenyl group, a substituted phenyl group, a benzyl group, or a substituted group.
  • X is a hydrogen atom, C, -C e alkyl group , C, -C e haloalkyl group, C, -C e alkoxy group, C, -C e haloalkoxy group, C a -C e alkenyl group, phenyl group, '® conversion Hue group, a benzyl group, a substituted Njiru group, Fueno alkoxy 2L:, Shime ⁇ Fueno alkoxy group, Benjiruokishi group, ® conversion Benjiruokishi group, C, ⁇ C 3 Ashiru group, a naphthyl group
  • R ′ and R together, can form a ring that may contain a heteroatom.
  • Arukiru group phenylene group, a heteroarylthio group, a substituted phenylene group, a heteroarylthio group, C, ⁇ C e alkoxycarbonyl group, carboxyl group, Shiano group, forces Rubamoiru group, N-C, ⁇ C, alkyl force Luba moil group, -C, an alkylsulfonyl group, phenylpropyl sulfonyl group, a substituted phenylalanine sulfonyl group, 0 1 and 0, Arukokishi 0, 0, Arukiru group.
  • W is an oxygen atom, a sulfur atom, 'in e (wherein, R' S- NR.
  • a methoxy group, an ethoxy group, an isopropoxy group, a propoxy group, a butoxy group, etc. are used as the alkoxy group of R, an aryloxy group is used as the alkenyloxy group, and a bropargyl group is used as the alkynyloxy group.
  • the oxy group may be an ethylthio group or a propylthio group as an alkylthio group, the cycloalkoxy group or a cyclohexyloxy group as a cycloalkoxy group, or the chloro atom, methyl group, methoxy group, or the like as a substituted pendoxy group.
  • a substituted benzyloxy group is a substituted benzylthio group, a chloro atom-substituted benzyloxy group, a cycloalkylthio group is a cyclopentylthio group, an alkoxyalkoxy group is a methoxyethoxy group, and Phenyloxy substituted with chloro, methyl, etc.
  • a phenethyloxy group as an aralkyloxy group
  • a methylthiomethoxyl group as an alkylthioalkoxy group
  • a cyanomethoxy group as a cyanoalkoxy group
  • a methoxycarbonylmethoxy group as an alkoxycarbonylalkoxy group
  • a ethoxycarboxy group a phenethyloxy group as an aralkyloxy group
  • a methylthiomethoxyl group as an alkylthioalkoxy group
  • a cyanomethoxy group as a cyanoalkoxy group
  • methoxycarbonylmethoxy group as an alkoxycarbonylalkoxy group
  • a ethoxycarboxy group ethoxycarboxy group
  • the group is a straight-chain or cyclic alkylideneaminooxy group, it is isopropylideneaminooxy group, 3-pentylideneaminooxy group, 4-heptylideneaminoxy group, cyclohexylideneaminoxy group, cyclohexylideneaminoxy group, and cyclohexylideneaminoxy group.
  • Methyl as the alkyl group IT or R 'in formula one NR * R 5 is, main butoxy group as the alkoxy group, e butoxy group and the like, chlorine atom as a substituent phenylene group, a methyl group,
  • the substituted phenyl group is a cyclohexyl group as a cycloalkyl group, a methoxymethyl group or a methoxyxethyl group as an alkoxyalkyl group, an acetyl group as an acetyl group, and an alkynyl group.
  • the group is a propargyl group, an alkenyloxy group is an aryloxy group, an alkynyloxy group is a propargyloxy group, the substituted benzyloxy group is a chloro-substituted benzyloxy group, and the alkoxycarbonylalkyl group is A methoxycarbonyloxy group as an alkoxycarbonylalkoxy group; a methoxycarbonylmethoxy group as an alkoxycarbonylalkoxy group; Nylmethoxy, methoxycarbonylethoxy, etc., alkylsulfonyl, methylsulfonyl, ethylsulfonyl, etc., alkylsulfonyl, methylsulfonyl, ethylsulfonyl, etc.
  • the ring include piperidino ⁇ , a morpholino group, a pyrrolidino group, and the like.
  • R l or eight androgenic atom and to click Lol atoms R l is methyl group as a Arukiru group, Bok Rifuruo port methyl as an eight-necked alkyl group, the main Bok alkoxy groups and alkoxy groups A difluoromethoxy group as a haloalkoxy group, a methylthio group as an alkylthio group, a cyclopropyl group as a cycloalkyl group, an aryloxy group as an alkenyloxy group, and a 1-propynyl group as an alkynyl group.
  • Examples thereof include a benzyl group or the like in which a group or the like is substituted.
  • a phenyl group substituted with a chloro atom, a methyl group, a trifluoroethyl group or the like as a replacement phenyl group, a chloro atom or a fluorine atom as a halogen atom, and a methylthio group as an alkylthio group as a replacement phenyl group Is methylthiomethyl S as an alkylthioalkyl group, ethoxycarbonyl group as an alkoxycarbonyl group, methylsulfonyl group as an alkylsulfonyl group, and pyridyl group : 3 or 4 monopyr
  • Examples of the substituted benzoyl group include a chloro-substituted benzoyl group.
  • NR methyl as the alkyl group ° 'R at e' of, Ariru group as a ⁇ alkenyl group, main Toki Shimechiru group as the alkoxyalkyl group, and an alkylsulfonyl group methyl
  • the sulfonyl group is, for example, a formyl group, an acetyl group or the like.
  • the compound of the present invention can be produced, for example, by the following methods A to H.
  • L represents a halogen atom, an alkylsulfonyl group, a benzylsulfonyl group, a substituted benzylsulfonyl group, an alkylsulfonate group or an octaalkylsulfonate; W, X
  • the compound represented by the general formula (IV) is a compound represented by the general formula (II)
  • a compound represented by the general formula [ ⁇ ] By reacting the compound with a compound represented by the general formula [ ⁇ ] in an appropriate solvent in the range of room temperature to the boiling point of the solvent for 0.5 to 24 hours in the presence of an equivalent or more base.
  • the base include alkali metals such as lithium metal, sodium metal, and potassium metal; organic lithium reagents such as n-butyllithium and lithium diisopropylamine; sodium hydride and hydrogen.
  • Alkali metal hydrides and alkaline earth metal hydrides such as calcium and calcium hydride
  • alkali metal alkoxides such as potassium t-butoxide, sodium carbonate, and carbonic acid
  • Alkali metal carbonates such as potassium, sodium hydroxide, and alkali metal hydroxides of potassium hydroxide
  • the solvent include hydrocarbon solvents such as hexane, benzene, toluene, and xylene, halogenated hydrocarbon solvents such as dichloromethane and chloroform, diethyl ether, tetrahydrofuran, and 1,4-dioxane.
  • Ether solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, etc., ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl
  • Non-protonic polar solvents such as sulfoxide, and other acetates can be used.
  • the compound represented by the general formula [VII] can be prepared by converting a compound represented by the general formula [V] and a compound represented by the general formula [VI] in a suitable solvent from room temperature in the presence of an equivalent or more base. It can be produced by reacting at a boiling point of 0.5 to 24 hours. Regarding the base and the solvent to be used, the same T as described in the production method ⁇ A> can be used.
  • R '' is a C, ⁇ 'alkyl group, C, ⁇ , cycloalkyl group, benzyl group, substituted benzyl group, C, ⁇ * alkoxy C, ⁇ * alkyl group, tetrahydrofuryl group, Alkyl group, alkylthio C, alkyl group, cyanoalkyl group, alkoxycarbonyl C, ⁇ * alkyl group, ⁇ , ⁇ -di C, ⁇ 3 alkylamino C, ⁇ 3 alkyl group, A, L , R ', R', W and Z have the same meaning as described above.)
  • the compound represented by the general formula (X) is obtained by reacting a compound represented by the general formula (VIII) with a compound represented by the general formula (IX) in a solvent in the presence of a base at a reaction temperature of 10 to 200. It can be produced by reacting with C for 0.1 to 30 hours.
  • a base an organic or inorganic base such as lithium carbonate, sodium hydrogen carbonate, sodium hydrogen hydride, triethylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine and the like is used. it can.
  • solvent examples include aceton, acetonitrile, tetrahydrofuran, ⁇ , ⁇ -dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, benzene, trileen, cyclobenzene, and dichloromethan. , Black mouth form etc. can be used.
  • the compound represented by the general formula [XII] is obtained by converting a compound represented by the general formula [VIII] and a compound represented by the general formula [XI] to a base and dimethylamide phosphoryl dichloride or phenyl.
  • presence of-phosphate Jikurorai de such Hosuhorojikurora I de, can be produced Ri by the reaction temperature one 1 0 to 1 0 0 e C by causing 1-1 0 hours in a solvent.
  • organic tertiary amines such as pyridine and triethylamine can be used as the base.
  • N, N-dimethylformamide, N, JST-dimethylacetamide, dimethylsulfoxide and the like can be used.
  • R '' represents a C, to s alkoxy group, a C 3 to e alkenyloxy group, a c 3 to e alkynyloxy group, a C t to e alkylthio group, a c 3 to 7 cycloalkoxy group, a benzyloxy group.
  • R '' represents a C, to s alkoxy group, a C 3 to e alkenyloxy group, a c 3 to e alkynyloxy group, a C t to e alkylthio group, a c 3 to 7 cycloalkoxy group, a benzyloxy group.
  • CXIII] can be produced.
  • the general formula [VIII] can be obtained by converting the general formula [XIII] to a pH of 3 to 4 with a conventional method, for example, with hydrochloric acid '.
  • inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate and potassium carbonate can be used as the base.
  • the solvent include aceton, acetonitrile, methanol, ethanol, dioxane, tetrahydrofuran, dimethyloxetane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethyl acetate, dimethyl sulfoxide and the like can be used.
  • R '1 is a benzyl group, a substituted base Njiru 31:
  • the Ri by for example, palladium one-carbon or the like in pressurized hydrogenation of atmospheric pressure to the catalyst, the general formula [VIII ] Can be obtained.
  • the compound represented by the general formula [VIII] and a base are combined with water, alcohol, acetate tritol, acetate, ether, N, N-dimethylforma.
  • a reaction temperature 0 to 10 ° C. for 0.2 to 10 hours in a solvent such as mid or dityl sulfoxide, the organic or Inorganic salts can be produced.
  • hydroxide of alkali metal or alkaline earth metal such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, calcium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, carbonate carbonate
  • secondary and tertiary amines such as carbonates such as calcium, ammonia, ethylamine, dimethylamine, isopropylamine, diisopropylamine, diethanolamine, triethylamine and the like can be used.
  • R ′ ′′ represents C 1, to, an alkyl group, a phenyl group, or a substituted phenyl group, and R ′, R ′, W, Z and A have the same meaning as described above.
  • the compound represented by the general formula [VIII] and the compound [XIV] are reacted in a solvent at a reaction temperature of 110 to 100 ° C for 1 to 10 hours to obtain a compound of the general formula [XV] Can be produced.
  • Ethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, benzene and toluene can be used as the solvent.
  • the presence of the compound with the compound represented by general formula [XV] and [XVI] base 0.5 to 2 0 hours at a reaction temperature one '2 0 ⁇ 1 5 0 e C in a solvent
  • the compound represented by the general formula [XVII] can be produced.
  • the bases are sodium hydride, sodium gold, butoxylium, and butyl. 78
  • I 8 Lithium, calcium carbonate, sodium carbonate and the like can be used. Acetone, acetate nitrile, tetrahydrofuran, NN-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, benzene, toluene, etc. can be used as the solvent. .
  • n D r e n: a: rc n: e
  • the herbicide of the present invention comprises a pyrimidine or triazine derivative represented by the general formula [I] as an active ingredient.
  • the compound of the present invention may be used as it is. It can also be used as a formulation in wettable powders, emulsions, fine granules or granules.
  • Carriers used in the formulation include, for example, solid carriers such as Glycine, talc, bentonite, creed, kaolin, diatomaceous earth, white carbon, vermiculite, calcium carbonate, slaked lime, silica sand, ammonium sulfate, and urea. And liquid carriers such as isopropyl alcohol, xylene, cyclohexane and methylnaphthalene.
  • solid carriers such as Glycine, talc, bentonite, creed, kaolin, diatomaceous earth, white carbon, vermiculite, calcium carbonate, slaked lime, silica sand, ammonium sulfate, and urea.
  • liquid carriers such as isopropyl alcohol, xylene, cyclohexane and methylnaphthalene.
  • surfactant and dispersant examples include metal salts of alkyl benzene sulfonate, metal salts of dinaphthyl methane disulfonic acid, alcohol sulfates, alkyl aryl sulfonates, lignin sulfonates, polyoxyethylene glycol ethers, Examples include polyoxyethylene alkyl aryl ether, polyoxyethylene sonolevitan monoalkylate, and the like.
  • the adjuvant include carboxymethylcellulose, polyethylene glycol, and gum arabic. 'For use, dilute to an appropriate concentration and spray or apply directly.
  • the herbicide of the present invention can be used for spraying sorghum, soil application, or water application.
  • the blending ratio of the active ingredient is appropriately selected according to need, but in the case of a powder or granule, 0.01 to 10% ( (Weight), preferably in the range of 0-5 to 5 ° / ⁇ (weight).
  • Weight preferably in the range of 0-5 to 5 ° / ⁇ (weight).
  • emulsion and a wettable powder it may be appropriately selected from the range of 1 to 50% (weight), preferably 5 to 20% (weight).
  • the application rate of the herbicide of the present invention varies depending on the kind of the compound used, the target weed, occurrence tendency, environmental conditions, and the dosage form to be used, but when used as it is as a powder or granule, the active ingredient 10 Arnole 0.1 g ⁇ : L 0 kg, preferably from 10 g to 5 kg.
  • the active ingredient 10 Arnole 0.1 g ⁇ : L 0 kg preferably from 10 g to 5 kg.
  • a liquid such as an emulsion or a wettable powder
  • 0.1 to 100 ppm preferably 100 to 500 ppm, preferably from 100 to 500 ppm. Good to choose.
  • the compound of the present invention may be mixed with insecticides, fungicides, other herbicides, plant growth regulators, fertilizers and the like, if necessary.
  • part J means part by weight.
  • Emulgen registered trademark of Kao Corporation 80.5 parts, Demol (registered trademark of Kao Corporation) 0.5 parts of N, Kunilite (Kunimine) in 10 parts of compound (625) 20 parts of 201 (registered trademark of Industrial Co., Ltd.) and 69 parts of G-Cryte (registered trademark of G-Cryte Co., Ltd.) are mixed and ground to obtain a wettable powder.
  • Formulation Example 2 wettable powder 10 parts of the compound (675) are 0.5 parts of Emulgen 810, 0.5 parts of Demol N, 20 parts of Kunitrite 201, and Carplex (of Shionogi & Co., Ltd.) 5 parts (registered trademark) 80 and 64 parts of G-Crypt CA are mixed and ground to obtain a wettable powder.
  • Test Example 1 Test of herbicidal effect by paddy soil treatment
  • a 120 cm 'plastic pot was filled with field soil, and seeds were covered with seeds, such as Oouta Nutade (Po), Aobu (Am), Shiroza (Ch), and Kogome Gyari (Ci).
  • the wettable powder prepared according to Formulation Example 1 was diluted with water, and 100 R / 100 was applied to the soil surface using a small atomizer so that 100 R / 400 g of the active ingredient was obtained. Spread evenly. Then, the plants were grown in a greenhouse, and on the 21st day of the treatment, the herbicidal effect was investigated according to the criteria shown in Table 61. The results are shown in Table 63.
  • Test Example 3 (Test of herbicidal effect by field sorghum treatment)
  • 120 cm 'plastic pots are filled with soil cultivation, and seeds of ooi nutade (Po), aobu (Am), siroza (Ch), and kogomegajari (Ci) are sown.
  • hydration prepared according to Formulation Example 1 The preparation was diluted with water, and 100 R per 1001 was sprayed with foliage from above the plant using a small sprayer so that the active ingredient was 400 g per 10 R.
  • the plants were grown in a greenhouse, and on the 14th day of treatment, the weeding efficacy was investigated according to the criteria shown in Table 61. The results are shown in Table 64.

Landscapes

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Description

明細書
ピリ ミ ジンまたは 卜 リ アジン誘導体及び除草剤
[技術分野〕
本発明は新規なピリ ミ ジンまたは 卜 リ アジン誘導体及びその塩を 有効成分と して含有する水田、 畑地及び非農耕地等に適用できる除 草剤に関するものである。
[背景技術〕
すでに、 特開平 2 — 1 2 1 9 7 3号公報明細書には次の化合物が 除草作用を有することが記載されている。
Figure imgf000003_0001
しかしながら、 これらの特許明細書に記載された化合物の除草効 果は必ずしも十分なものとはいえない。 本発明者らはピリ ミ ジンま たは 卜 リアジン系化合物について、 さ らに改良された化合物を開発 すること を 目的に鋭意研究した結果、 ヘテロ環を導入した本発明の ピリ ミ ジンまたは 卜 リ アジン誘^体が一年生雑萆はもとよ り多年生 雑草に対しても^れた除草効果を示すと ともに、 作物に対する安全
'
性が高いこと を見い出し本発明を完成した。 〔発明の開示〕
本発明化合物は一般式 〔 I〕
Figure imgf000004_0001
[式中、 Aは式
Figure imgf000004_0002
r
(ArD (A-2) (A-3) (A-4) - 5) (A-6) (A-7)
Figure imgf000004_0003
Nコ、Xn Xn
(A-10) (A-ll) - 12)
Figure imgf000004_0004
で表される複秦環を示し、 Rは水素原子、 水酸基、 イ ミ ダゾリル基 C,〜Ceアルコキシ基、 C3~CCアルケニルォキシ基、 C:>〜CCァ ルキニルォキシ基、 C,〜 Ceアルキルチオ基、 C3〜C，シク ロアル コキシ基、 ベンジルォキシ基、 置換べンジルォキシ基、 ベンジルチ ォ基、 置換べンジルチオ基、 C3〜Ceシク ロアルキルチオ基、
〜〇<アルコキシ アルコキシ基、 フ リルォキシ基、 テ トラ ヒ ドロフ リルォキシ基、 フエノ キシ基、 置換フエノ キシ基、 c：〜
0<ァラルキルォキシ基、 01〜（ <ァルキルチォ 01〜 0*ァルコキ シ基、 シァノ アルコキシ基、 c,〜c*アルコキシカルボ二 ル アルコキシ基、 N， N-ジC1〜Caァルキルァミ ノ C,〜 C，アルコキシ基、 N , N—ジ C ,〜 C 3アルキルアミ ノ C ,〜 C。アル キルチオ基、 C3〜C,の直鎖または環状のアルキリデンアミ ノ ォキ シ基、 （ ，〜（ ，アルキルスルホニルァミ ノ基、 フエニルスルホニル アミ ノ基、 置換フエニルスルホニルァミ ノ基、 卜 リ メチルシリルェ トキシ基、 式一 N R* R' (式中、 *及び R'は同一または相異なり、 水素原子、 水酸基、 C,〜C,アルキル基、 C,〜CSアルコキシ基、 C,〜Ceアルケニル基、 フエニル基、 置換フエニル基、 C,〜Ceシ ク ロアルキル基、 C,〜C3アルコキシ C, ~C。アルキル基、 C,〜
C,ァシル基、 c3~ceアルキニル基、 c,〜c,アルケニルォキシ 基、 C,〜C,アルキニルォキシ基、 ベンジルォキシ基、 S換ペンジ ルォキシ基、 （^〜 ^ァルコキシカルボニル ，〜 ^ァルキル ¾、 c,〜c,アルコキシカルボ ル c,〜c。アルコキシ基、 アミ ノ基、 ジメチルァミ ノ 基、 シァノ基、 C ,〜 C <アルキルスルホニル n、 フ ェニルスルホニル 、 ¾s換フエニルスルホニル基、 ァセチルァミ ノ ァニリ ノ基を示す。 また、 R '及び R 'は一緒にヘテロ原子を含 んでもよい環を形成することもできる。 ） で表される基を示し、 R 1及び は同一または相異なリ、 水素原子 （但し、 R'及び R1は同 —の場合を除く） 、 ハロゲン原子-、 Ct〜C,アルキル基、 C'〜C« ハロアルキル基、 アルコキシ基、 C,〜CeA口アルコキシ 基、 Ct〜 C,アルキルチオ基、 フエノ キシ基、 置換フエノ キシ基、 C ,〜 C ,アルコキシ C t〜 C 3アルキル基、 C ,〜 C eシクロアルキル 基、 C:〜C,アルケニル基、 C3〜C,アルケニルォキシ基、 Cz〜 C<アルキニル基、 〜C,アルキニルォキシ基、 C,〜C3アルキ ルチオ Ct〜 G,アルキル基、 式一 N Re R， （式中、 Re及び R，は同 —または相異なリ、 水素原子、 水酸基、 アルキル基、 〜C<アルコキシ基、 C,〜C*アルケニル基、 C：〜 C*アルキニル 基、 G,〜 C,アルケニルォキシ基、 （ ，〜。 アルキニルォキシ基を 示す。 また R'及び R，は一緒にへデロ原子を含んでもよい環を形成 することもできる。 ） で表される基を示し、 R'は水素原子、 ハロ ゲン原子、 0,〜〇：アルキル基、 フエニル基、 置換フエニル基、 ベ ンジル基、 置換べンジル基、 ベンゾィル基、 置換ベンゾィル基、 C ,〜C,ァシル基、 C,〜eアルキルスルホニル基、 フエニルスルホニ ル基、 置換フエニルスルホニル基を示し、 Xは水素原子、 C,〜Ce アルキル基、 C,〜Ceハロアルキル基、 C,〜Ceアルコキシ基、 C ,〜Ceハロアルコキシ基、 Ca〜Ceアルケニル基、 フエニル基、 ' ® 換フエ二ル基、 ベンジル基、 置換べンジル基、 フエノ キシ 2L:、 湿換 フエノ キシ基、 ベンジルォキシ基、 ®換ベンジルォキシ基、 C,〜 C3ァシル基、 ナフチル基、 ベンゾィル基、 ^換ベンゾィル基、 ハ ロゲン原子、 ニトロ基、 式一 N R' R' (式中、 R'及び R'は同一ま たは異なり、 水素原子、 アルキル基、 c3〜ceアルケニ ル基、 c,〜ceアルキニル基、 フエニル基、 置換フエニル基、 ナフ チル基、 c,〜c,ァシル基、 ベンゾィル基、 置換ベンゾィル基を示 す。 また、 R '及び R，は一緒にヘテロ原子を含んでもよい環を形成 することもでき 。 ） で表される基を示し、 C,〜 CSアルキルチオ 基、 01〜〇，ァルキルチォ 0,〜〇。ァルキル基、 フエ二ルチオ基、 置換フエ二ルチオ基、 C ,〜 Ceアルコキシカルボニル基、 カルボキ シル基、 シァノ基、 力ルバモイル基、 N— C ,〜 C,アルキル力ルバ モイル基、 〜C,アルキルスルホニル基、 フエニルスルホニル基, 置換フエニルスルホニル基、 01〜 0,ァルコキシ 0 ,〜 0,ァルキル 基、 。，〜じ，ァルコキシ ^〜 ^ァルコキシ基、 0,〜 Οβアルキル チォ C ,〜 C,アルキル基、 C ,〜 C アルコキシ C ,〜 C sァルキルチ ォ基、 C ,〜 C,アルキルチオ C ,〜 C ,アルコキシ基、 ァリルチオ基、 C ,〜 c sアルキルスルフィニル基、 フ リル基、 チェニル基、 ピリ ジ ル基、 置換されていてもよいピリ ミ ジニルォキシ基、 置換されてい てもよいピリ ミ ジニルチオ基、 置換 卜 リ アジニルォキシ基、 置換 ト リアジニルチオ基を示し、 Wは酸素原子、 硫黄原子、 S— N R ' e (式中、 R '。は水素原子、 C,〜 Caアルキル基、 C，〜 C,アルケニ ル基、 アルキニル基、 C,〜（：，アルコキシ C ,〜 C,アルキ ル基、 C ,〜 C ,アルキルスルホニル基、 フエニルスルホニル^、 M 換フエニルスルホニル基、 C ,〜 C ,ァシル 、 ベンゾィル基、 置換 ベンゾィル基を示す。 ） を示し、 Zは窒素原子またはメチン を示 し、 nは 1 〜 5の整数を示す。 〕 で表されるピリ ミ ジンまたは ト リ ァジン誘導体及びそれらの塩並びにこれらを有効成分と して含有す る除草剤である。
ここで、 Rのアルコキシ基と してメ 卜キシ基、 エトキシ基、 イ ソ プロポキシ基、 プロポキシ基、 ブ卜キシ基等が、 アルケニルォキシ 基としてァリルォキシ基が、 アルキニルォキシ基と してブロパルギ ルォキシ基が、 アルキルチオ基と してェチルチオ基、 プロピルチオ 基等が、 シクロアルコキシ基としてシク ロペンチルォキシ基、 シク 口へキシルォキシ基等が、 置換ペンジルォキシ基と してクロル原子、 メチル基、 メ トキシ基等が置換されたべンジルォキシ基が、 置換べ ンジルチオ基と してクロル原子置換べンジルォキシ基が、 シクロア ルキルチオ基と してシク口ペンチルチオ基が、 アルコキシアルコキ シ基としてメ 卜キシメ 卜キシ基が、 '置換フエノキシ基と してクロル 原子、 メチル基等が置換されたフエノ キシ基が、 ァラルキルォキシ 基としてフエネチルォキシ基が、 アルキルチオアルコキシ基と して メチルチオメ 卜キシ基が、 シァノ アルコキシ基としてシァノメ 卜キ シ基が、 アルコキシカルボニルアルコキシ基と してメ 卜キシカルボ ニルメ トキシ基、 ェ卜キシカルボ二ルメ 卜キシ基等が、 N， N—ジ アルキルアミノ アルコキシ基として、 Ν , Ν—ジメチルァミ ノエト キシ基が、 Ν，Ν—ジアルキルアミノ アルキル ォ基と して 1ST， Ν - ジメチルァミノェチルチオ基が、 直鎖または環状のアルキリデンァ ミノォキシ基と してイソプロピリデンアミ ノ ォキシ基、 3 —ペンチ リデンァミノォキシ基、 4一ヘプチリデンァミ ノ ォキシ基、 シク ロ へキシリデンァミ ノォキシ基、 シクロへブチリデンァミ ノォキシ基、 4 ーテトラハイ ドロピラニリデンアミ ノ ォキシ基等が、 アルキルス ルホニルァミ ノ基と してメチルスルホニルァミ ノ基、 ェチルスルホ ニルアミ ノ基等が、 置換フエニルスルホニルアミ ノ基と してク ロル 原子、 メチル基、 ニ ト ロ基、 メ トキシカルボニル基等が置換された フエニルスルホニルァミ ノ基等が例示される。
式一 N R * R 5において ITまたは R 'のアルキル基と してメチル基 が、 アルコキシ基と してメ トキシ基、 エ トキシ基等が、 置換フエ二 ル基と してクロル原子、 メチル基等置換されたフエニル基が、 シク 口アルキル基と してシク ロへキシル基が、 アルコキシアルキル基と してメ 卜キシメチル基、 メ 卜キシェチル基等が、 ァシル基と してァ セチル基が、 アルキニル基と してブロパルギル基が、 アルケニルォ キシ基と してァリルォキシ基が、 ァ 'ルキニルォキシ基と してブロパ ルギルォキシ基が、 置換べンジルォキシ基と してク ロル置換べンジ ルォキシ基が、 アルコキシカルボニルアルキル基と してメ 卜キシカ ルポニルメチル基が、 アルコキシカルボニルアルコキシ基と してメ トキシカルボニルメ 卜キシ基、 ェ 卜キシカルボニルメ トキシ基、 メ 卜キシカルボニルェ 卜キシ基等が、 アルキルスルホニル基と してメ チルスルホニル基、 ェチルスルホニル基等が、 アルキルスルホニル 基と してメチルスルホニル基、 ェチルスルホニル基等力 置換フエ ニルスルホニル基と してク ロル原子、 メ トキシカルボニル^、 メチ ル基、 ニ ト ロ菡等が S換されたフエニルスルホニル毯が、 FT及び R 'が一緒にへテロ原子を含んでもよい環と してピペリ ジノ ^、 モ ルホリ ノ基、 ピロ リ ジノ基等が例示される。 R lまたは R lの八ロゲン原子と してク ロル原子が、 ァルキル基と してメチル基が、 八口アルキル基と して 卜 リフルォ口メチル基が、 アルコキシ基と してメ 卜キシ基が、 ハロアルコキシ基と してジフル ォロメ 卜キシ基が、 アルキルチオ基としてメチルチオ基が、 シク ロ アルキル基と し'てシクロプロピル基が、 アルケニルォキシ基として ァリルォキシ基が、 アルキニル基として 1一プロピニル基が、 アル キニルォキシ基として 2 —プロピニルォキシが、 アルキルチオアル キル基としてメチルチオメチル基が、 式一 N R ' R 'の R sまたは R， のアルキル基と してメチル基等が例示される。
R 'のハロゲン原子としてクロル原子が、 アルキル基と してメチ ル基が、 置換フエニル基と してクロル原子、 メチル基等が置換され たフエニル基が、 置換ベンジル基どしてクロル原子、 メチル基等が 置換されたベンジル基等が例示される。
Xのアルキル基と してメチル基、 イ ソプロピル基、 t一ブチル基 等が、 ハロアルキル基としてパーフルォロェチル基が、 アルコキシ 基としてエトキシ基、 イ ソブチルォキシ基等が、 アルケニル基と し て 1一プロぺニル基が、 笸換フエニル基としてク ロル原子、 メチル 基、 トリフルォロ チル基等が置換されたフエニル基が、 ハロゲン 原子としてクロル原子、 フッ素原子等が、 アルキルチオ基と してメ チルチオ基が、 アルキルチオアルキル基と してメチルチオメチル S が、 アルコキシカルボニル基と してェ卜キシカルボニル基が、 アル キルスルホニル基としてメチルスルホニル ¾が、 ピリジル基 :と して 3 または 4一ピリ ジル基が、 置換されていてもよいピリ ミ ジニルォ キシ基と して （ 4， 6 —ジメ トキシピリ ミ ジン一 2—ィル） ォキシ 基が、 置換されていてもよいピリ ミ ジニルチオ基と して （ 4 , 6 — ジメ トキシピリ ミ ジン一 2 —ィル） チォ基が、 式一 N R ' R，におい て R'又は Rsのアルキル基と してメチル基、 ェチル基、 イ ソプロピ ル基等が、 置換フエニル基と してメチル置換フエニル基が、 置換べ ンゾィル基と してク ロル原子置換ベンゾィル基等が例示される。
Wの式一 N R' eにおいて R' °のアルキル基と してメチル基が、 ァ ルケニル基と してァリル基が、 アルコキシアルキル基と してメ トキ シメチル基が、 アルキルスルホニル基と してメチルスルホニル基が. ァシル基と してホルミル基、 ァセチル基等が例示される。
本発明化合物は、 例えば次に示す A〜Hの方法によ り製造する とができる。
製造法 <A>
Figure imgf000012_0001
〔II〕 【III〕 [IY〕
(式中、 A 1は式
Figure imgf000012_0002
で表される複素 を示し、 Lはハロゲン原子、 アルキルスルホニル 基、 ベンジルスルホニル基、 置換べンジルスルホニル基、 アルキル スルホナー ト基または八口アルキルスルホナー 卜 ¾を示し、 W、 X
Z、 ri、 R、 R '、 R 1及び R 3は前記と同じ意味を示す。 ）
一般式 〔IV〕 で示される化合物は、 一般式 〔II〕 で示される化合 物と一般式 〔ι π〕 で示さ る化合物と を当量以上の塩基の存在下、 適当な溶媒中で室温から溶媒の沸点の範囲で 0 . 5〜 2 4時間反応 させることによ り製造することができる。 塩基と しては金属リチウ ム、 金属ナ ト リ ウム、 金属カ リ ウム等のアルカ リ金属類、 n—プチ ルリチウム及びリチウムジイ ソプロ ピルアミ ン等の有機リチウム試 薬、 水素化ナ ト リ ウム、 水素化カ リ ウム、 水素化カルシウム等の水 素化アルカ リ金属及び水素化アルカ リ土類金属類、 カ リ ウム t一 ブトキシ ド等のアルカ リ金属アルコキシ ド類、 炭酸ナ ト リ ウム、 炭 酸カリ ウム等のアルカ リ金属炭酸塩類、 水酸化ナ ト リ ウム、 水酸化 カリ ウム の水酸化アルカリ金属類が使用できる。 また、 溶媒と し てはへキサン、 ベンゼン、 トルエン、 キシレン等の炭化水素系溶媒、 ジクロロメタ ン、 クロ口ホルム等の'ハロゲン化炭化水素系溶媒、 ジ ェチルエーテル、 テ トラヒ ドロフラン、 1 , 4一ジォキサン等のェ 一テル系溶媒、 酢酸メチル、 酢酸ェチル等のエステル系溶媒、 ァセ トン、 メチルェチルケ トン等のケ 卜 ン系溶媒、 N， N—ジメチルホ ルムアミ ド、 N， N—ジメチルァセ トアミ ド、 ジメチルスルホキシ ド等の非プロ ト ン性極性溶媒、 その他ァセ 卜二 卜 リル等が使用でき る。
製造法 < B >
Figure imgf000013_0001
( V ) (ΥΠ 1690
12
(式中、 Alは式
Figure imgf000014_0001
(A-4) (A-5) (A-9)
Figure imgf000014_0002
で表される複素瑷を示し、 L、 W、 X、 Z、 n、 R、 R'、 R '及び R3は前記と同じ意味を示す。 ）
一般式 [VII〕 で示される化合物は、 一般式 〔V〕 で示される化 合物と一般式 〔VI〕 で示される化合物と を当量以上の塩基の存在下， 適当な溶媒中で室温から溶媒の沸点の範囲で 0. 5〜 2 4時間反応 させることによ り製造することができる。 使用する塩基及び溶媒に つい Tは、 製造法 < A〉で記鉞したものと同じものを使用すること ができる。
製造法 <C>
Figure imgf000014_0003
ίΥΐιη CIX) (X) (式中、 R' 'は C ,〜'アルキル基、 C,〜，シク ロアルキル基、 ベン ジル基、 置換べンジル基、 C,〜*アルコキシ C,〜*アルキル基、 テ トラヒ ドロフ リル基、 じ：〜 ァラルキル基、 アルキルチオ C ,〜 アルキル基、 シァノ アルキル基、 アルコキシカル ボニル C, ~*アルキル基、 Ν, Ν—ジ C ,〜3アルキルアミ ノ C ,〜3 アルキル基を示し、 A、 L、 R'、 R'、 W及び Zは前記と同じ意味 を示す。 ）
一般式 〖X〕 にて表される化合物は、 一般式 〔VIII〕 にて表され る化合物と一般式 〔IX〕 にて表される化合物と を塩基の存在下、 溶 媒中、 反応温度一 1 0〜 2 0 0。Cで 0. 1〜 3 0時間反応させるこ とによ り製造することができる。 ここで、 塩基と しては炭酸力リ ウ ム、 炭酸水素ナ ト リ ウム、 水素化ナ'ト リ ウム、 ト リェチルァミ ン、 ピリ ジン、 4ージメチルァミ ノ ピリ ジン等の有機または無機の塩基 が使用できる。 また、 溶媒と してはアセ ト ン、 ァセ 卜二 卜 リル、 テ トラヒ ドロフラ ン、 Ν, Ν—ジメチルァセ ト ア ミ ド、 ジメチルスル ホキシ ド、 ベンゼン、 卜リレエン、 ク ロ口ベンゼン、 ジク ロロメタ ン、 クロ口ホルム等が使用できる。
製造法 <D>
Figure imgf000015_0001
(ΥΙΠ〕· (XI) (xin (式中、 及び R'aは同一または相異なる C,〜*アルキル基を示 し、 またはへテロ原子を含んでもよぃ瑗を形成することもできる。 A、 W、 Z、 .Rl及び R 'は前記と同じ意味を示す。 ）
一般式 〔XII〕 にて表される化合物は、 一般式 〔VIII〕 にて表さ れる化合物と一般式 〔XI〕 にて表される化合物とを塩基及びジメチ ルアミ ドホスホリルジクロライ ドまたはフエニルホスホロジクロラ ィ ド等のリ ン酸ジクロライ ドの存在下、 溶媒中において反応温度一 1 0〜 1 0 0eCで 1〜 1 0時間反応させることによ り製造すること ができる。 ここで、 塩基としてはピリ ジン、 ト リェチルァミ ン等の 有機 3級ァミン等が使用できる。 また、 溶媒と しては N， N—ジメ チルホルムアミ ド、 N, JST—ジメチルァセ 卜アミ ド、 ジメチルスル ホキシド等が使用できる。 '
製造法 <E>
Figure imgf000016_0001
CX) [ΧΓΙΠ
(式中、 R "は C,〜sアルコキシ基、 C3〜eアルケニルォキシ^、 c3〜eアルキニルォキシ基、 Ct〜eアルキルチオ基、 c3~7シク ロ アルコキシ基、 ベンジルォキシ基、 @換ベンジルォキシ菡、 ベンジ ルチオ基、 S換ベンジルチオ基、 C シク ロアルキルチオ 3:、 C
〜<アルコキシ C ,〜*アルコキシ基、 フ リルォキシ基、 テ 卜ラヒ ド 口フ リルォキシ基、 フエノ キシ基、 置換フエノ キシ基、 ァラ ルキルォキシ基、 c,〜<アルキルチオ c,〜<アルコキシ基、 シァノ c,〜 アルコキシ基、 c,〜，アルコ *シカルボニル アルコキ シ基、 N， N—ジ C,〜3アルキルアミ ノ アルコキシ基、 N， N—ジ C,〜。アルキルアミ ノ C,~,アルキルチオ基、 Ca〜，の直鎖 または環状のアルキリデンァミ ノォキシ基、 ト リメチルシリルエ ト キシ基を示し、 A、 Rl、 R'、 Z及び Wは前記と同じ意味を示し、 Mは 1価のカチオンを示す。 ）
一般式 〖X〕 にて表される化合物を塩基の存在下、 水及び溶媒の 混合系で反応温度 0 ~ 1 2 0eCで 1〜 2 4時間反応させ、 一般式
CXIII] にて表される化合物を製造するこ とができる。 次に、 一般 式 〔XIII〕 を常法によ り、 例えば塩酸で pH 3〜 4にすることによ り —般式 [VIII〕 を得ることができる'。 ここで、 塩基と しては水酸化 ナ ト リ ウム、 水酸化カリ ウム、 炭酸ナ ト リ ウム、 炭酸カ リ ウム等の 無機塩基が使用できる。 また、 溶媒と してはアセ ト ン、 ァセ トニ 卜 リル、 メタ ノ ール、 エタ ノ ール、 ジォキサン、 テ 卜ラヒ ドロフラン、 ジメ 卜キシェタ ン、 N， N—ジメチルホルムアミ ド、 N， N—ジメチ ルァセ 卜アミ ド、 ジメチルスルホキシ ド等が使用できる。 尚、 一般 式 〖X〕 において R'1がベンジル基、 置換べンジル 31:を示すときに は、 例えばパラジウム一炭素等を触媒とする常圧の加水素化反応に よ り、 一般式 [VIII〕 の化合物を得ることができる。
製造法 <F〉
—般式 〔VIII〕 にて表される化合物と塩基とを、 水、 アルコール、 ァセ 卜二 ト リル、 アセ ト ン、 エーテル、 N , N—ジメチルホルムァ ミ ド、 ジ チルスルホキシ ド等の溶媒中、 反応温度 0〜 1 0 o °cで 0 . 2〜 1 0時間反応させることによ り、 一般式 〔XI I I〕 にて表さ れる化合物の有機または無機塩を製造することができる。 ここで、 塩基としては水酸化ナ ト リ ウム、 水酸化カ リ ウム、 水酸化カルシゥ ム等のアル力 リ金属またはアル力 リ土類金属の水酸化物、 炭酸ナ ト リウム、 炭酸カリウム、 炭酸カルシウム等の炭酸塩類、 アンモニア， ェチルァミン、 ジメチルァミ ン、 イ ソプロピルアミ ン、 ジイ ソプロ ピルァミン、 ジエタノ ールァミ ン、 卜 リエチルァミ ン等の 1級、 2 殺及び 3級アミン類が使用できる。
製造法 < G >
一般式 [VI I I〕 にて表される化合物と等モルの水酸化ナ ト リ ウム 水溶液を室温で反応させた後、 塩化'マグネシウム、 塩化第二銅、 塩 化カルシウム、 塩化鉄、 塩化亜鉛、 塩化マンガン等の金属ハロゲン 化物、 硫酸マグネシウム、 硫酸銅、 硫酸カルシウム、 硫酸 、 硫酸 亜鉛、 硫酸マンガン等の硫酸塩を加えて、 水、 アルコール等の溶媒 中で、 一 1 0。C〜 2 0 0 °Cの温度で 1 分〜 2 0時間反応させること により一般式 〔ΧΙ Π〕 にて表される化合物の無機塩を製造すること ができる。 JP92/01690
17 製造法 <H>
Figure imgf000019_0001
(式中、 R' 'は C ,〜，アルキル基、 フエニル基、 置換フエ二ル基を 示し、 R'、 R'、 W、 Z及び Aは前記と同じ意味を示す。 ）
—般式 [VIII〕 にて表され.る化合物と化合物 〔XIV〕 と を溶媒中 において反応温度一 1 0〜 1 0 0 °Cで 1 ~ 1 0時間反応させて、 一 般式 [XV〕 にて表される化合物を製造することができる。 溶媒と し てはェチルエーテル、 テ トラヒ ドロフラン、 ジォキサン、 ベンゼン トルエン等が使用できる。 続いて、 一般式 〔XV〕 にて表される化合 物と化合物 〔XVI〕 とを塩基の存在下、 溶媒中において反応温度一' 2 0〜 1 5 0 eCで 0. 5〜 2 0時間反応させ、 一般式 〔XVII〕 にて 表される化合物を製造することができる。 ここで、 塩基と しては水 素化ナ ト リ ウム、 金屈ナ ト リ ウム、 ブ卜キシカ リ ウム、 ブチル 78
. PCT/JP92/01690
I 8 リチウム、 炭酸カ リ ウム、 炭酸ナ ト リ ウム等が使用できる。 また、 溶媒と しては.アセ トン、 ァセ 卜二ト リル、 テ卜ラヒ ドロフラン、 N N—ジメチルホルムアミ ド、 N， N—ジメチルァセ 卜アミ ド、 ジメ チルスルホキシ ド、 ベンゼン、 トルエン等が使用できる。
次に実施例をあげて具体的に本発明化合物の製造法、 製剤法及び 用途を説明する。
〔発明を実施するための最良の形態〕
実施例 1 ぐ 法>
1一クロロー 4一 （4, 6—ジメ 卜キシピリ ミジン一 2—ィルォ キシ） イソキノ リ ン一 3—力ルボン酸ェチル （化合物番号 7 5 4 ) の合成
1一クロ口一 4ーヒ ドロキシィ ゾ'キノ リ ンー 3—力ルボン酸ェチ ル 1.8 g ( 7. 1 ミ リモル） 、 4， 6—ジメ 卜キシー 2 -フルォロ ピリ ミジン 1.4g ( 8. 6 ミ リモル） 及び炭酸カ リ ウム 1. 2g ( 8. 6 ミ リモノレ） に N， N—ジメチルホルムアミ ド 4 0 miを加え、 8 0 〜 1 0 0 eCで 3時間加熱挽拌した。 冷却後、 反応液を水中に注ぎ、 酢酸ェチルで洗浄した。 水層を 1 0 %HC1溶液で pH3〜 4に調整し、 酢酸ェチルで抽出した。 有機層を、 水及び飽和食塩水で洗浄後、 無 水硫酸ナ ト リ ウムで乾燥した。 次に減圧下で溶媒を留去し、 残澄を カラムクロマ トグラフィーにて？贵製し 0.6 g (収率 2 1.4 %) の 目的物を得た。 屈折率 し 5 8 1 1。
実施例 2 ぐ 法>
3— （ 4 , 6—ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2—ィルォキシ） ベンゾ フラン一 2—力ルボン酸メチルエステル （化合物番号 6 7 4 ) の合 成
3—ヒ ドロキシベンゾフラン一 2—力ルボン酸メチルエステル 5·. 0g ( 2 6. 0 ミ リモル） 、 4， 6—ジメ 卜キシー 2—フルォロ ピリ ミ ジン 4. 6g ( 2 8. 9 ミ リモル） 及び炭酸カ リ ウム （4 3. 4 ミ リモル） に N， N—ジメチリレスルホキシ ド 1 0 0 mlを加え、 8 0〜 1 0 0eCで 3 0分間加熱攪拌した。 冷却後、 反応液を水中に注ぎ、 酢酸ェチルで抽出し、 水及び飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸ナ 卜 リ ゥムで乾燥した。 次に減圧下で溶媒を留去し、 残渣をカラムク ロマ トグラフィ 一にて精製し、 3.6g ' (収率 4 1. 9 %) の目的物を得 た。 融点 1 3 5〜 1 3 8 eC。
実施例 3 <A法 >
4 - (4， 6—ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2—ィルォキシ） 一 2— メチルチオメチルチオフェン一 3—力ルボン酸ェチルエステル （化 合物番号 1 7 0 ) の合成
ーヒ ドロキシー 2—メチルチオメチルチオフェン一 3—カルボ ン酸ェチルエステル 3. 5g ( 1 5. 1 ミ リモル） 、 4 , 6—ジメ ト キシー 2—メチルスルホニルピリ ミ ジン 3. 3g ( 1 5. 1 ミ リモル） 及び炭酸カ リ ウム 2. 1 g ( 1 έ . 2 ミ リモル） に Ν , Ν—ジメチル ホルムアミ ド 5 0 miを加え、 9 0〜 1 0 0 °Cで 2時間加熱搅拌した。 冷却後、 反応液を水中に注ぎ、 酢酸ェチルで抽出し、 水及び飽和 塩水で洗浄後、 無水硫酸ナ ト リ ウムにて乾燥した。 次に減圧下で溶 媒を留去し、 残渣をカラムク ロマ ト グラフ ィ ーにて精製し、 2. 8g (収率 5 0.0 %) の目的物を得た。
実施例 4 <B法 >
3— （4， 6—ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2—ィルォキシ） ピラジ ンー 2—力ルボン酸メチルエステル （化合物番号 6 2 2 ) の合成
3—クロルピラジン一 2—力ルボン酸メチルエステル 3.5g ( 2 0 3ミ リモル） 、 4， 6—ジメ 卜キシー 2—ヒ ドロキシピリ ミジン 3, 6g ( 2 , 3 1 ミ リモル） 及び炭酸カリ ウム 4. 2g ( 3. 04 ミ リモル） に Ν , N—ジメチルホルムアミ ド 1 5 0mlを加え、 1 0 0 でで 2 5時間加熱攙拌した。 冷却後、 反応液を水中に注ぎ、 酢酸ェ チルで抽出し、 水及び飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸ナ ト リウムで 乾燥した。 次に滅圧下で溶媒を留去し、 残渣をカラムク ロマ 卜グラ フィ一にて精製し、 0. 5g (収率 7'· 0 %) の目的物を得た。 融点 8 8〜 9 3 eC。
実施例 5 ぐ 法>
3 - (4, 6—ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2—ィルォキシ） キノ キ サリン— 2—力ルボン酸ェチルエステル （化合物番号 7 6 2 ) の合 成
3—クロルキノ キサリ ンー 2—力ルボン酸ェチルエステル 2.3 g ( 9. 7 2ミ リモル） 、 4, 6 —ジメ 卜キシー 2—ヒ ドロキシピリ ミジン 2.0g ( 1 2. 8 ミ リモル） 及び炭酸力 リ ゥム し 8g ( 1 3. 0 ミ リモル） に N , N—ジメチルホルムァミ ド 1 0 0 miを加え、 1 0 0eCで 2 3時間加熱挠拌した。 冷却後、 反応液を水中に注ぎ、 酢 酸ェチルで抽出し、 水及び飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸ナ卜 リ ウ ムで乾燥した。 次に滅圧下で、 溶媒を留去し、 残渣をカラムク ロマ 卜グラフィ一にて精製し、 2. 2 g (収率 6 4. 7 %) の目的物を得 た。 屈折率 1. 5 9 3 3。
実施例 6 < C法 >
5— （ 4 , 6—ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2—ィルォキシ） 一 3 ( 4一メチルフエ二ノレ） 一 2—メチルチオィ ミ ダゾ一ルー 4一カルボ ン酸ェチルエステル （化合物番号 5 3 7 ) の合成
5 ( 4， 6 —ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2—ィルォキシ） 一 3 ( 4 一メチルフエニル） 一 2 —メチルチオィ ミ ダゾールー 4 一力ルボン 酸 2. 0g ( 4 9. 7 ミ リモル） 及び炭酸カ リ ウム 0. 8 g ( 5 . 7 9 ミ リモル） に、 N , N—ジメチルホルムアミ ド 3 0 mlを加え、 室温 で 3 0分間攙拌した。 ョゥ化工チル ·0. 9 g ( 5 . 7 7 ミ リモル） を 室温下で加え、 さ らに 3時間室温で挽拌後、 水に注いだ。 酢酸ェチ ルで抽出し、 水及び飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸ナ ト リ ウムにて 乾燥した。 次に、 減圧下で溶媒を留去し、 残渣をカラムク マ 卜グ ラフィ 一にて精製し、 1 . 8 6 g (収率 8 6. 9 % ) の目的物を得た。 融点 1 4 7 ~ 1 4 8 。
実施例 7 <D法 >
4 一 （ 4， 6 —ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2—ィ ルォキシ） 一 2 — フエ二ルフラン一 3 —力ルボン酸 4 一へプチリデンアミ ノ エステル
(化合物番号 1 5 ) の合成
4 一 （ 4 , 6 —ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2—ィルォキシ） 一 2 — フエ二ルフラン一 3—力ルボン酸 1 . 7 s ( 5 . 0 ミ リモル） を N， per/請画
22
N—ジメチルホソレムアミ ド 2 0 mlに溶かし、 4一へブタンォキシム 0.6s C 5. 0ミ リモル） 及びピリ ジン 0.8g ( 1 0. 0ミ リモル） を加えて 0。Cに冷却し、 攙拌しながらジメチルアミ ドホスホリルジ クロライ ド 1.0g (6. 0ミ リモノレ） を徐々に滴下した。 滴下後、 室温にて 3時間攙拌した。 反応液を水中に注ぎ、 酢酸ェチルで抽出 し、 水及び飽和食塩水で洗浄後、 無水硫酸ナト リ ウムで乾燥した。 次に滅圧下、 溶媒を留去し、 残渣をカラムクロマ トグラフィーにて 精製し、 0.7g (収率 3 1. 1 %) の目的物を得た。
実施例 8 ぐ £法>
4 - ( 4， 6—ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2—ィルォキシ） 一 3— メチルイ ソチアゾールー 5—力ルボン酸 （化合物番号 8 0 ) の合 成 -
4— (4， 6—ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2—ィルォキシ） 一 3— メチルイ ソチアゾールー 5—力ソレボン酸ェチルエステル 2.0 g ( 6. 1 5ミ リモル） をジメチルスルホキシ ド 2 0 mUこ溶かし、 2 N水酸 化ナト リ ウム水溶液 3. lml ( 6. 2 0ミ リモル） を加え、 室温下 で 2時間挽拌した。 反応液を水中に注ぎ、 希塩酸にて pH3〜4に調 整し生じた沈緞を濾別し、 水洗後、 乾燥した。 粗結晶はへキサンに て洗浄し、 1.7 g (収率 ·9 4.4 % )' の目的物を得た。 融点 1 3 9
〜 1 4 i。C。
実施例 9 ぐ 法>
3 - (4， 6—ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2—ィルォキシ） 一 5— メチルフラン一 2—力ルボン酸ナ ト リ ウム塩 （化合物番号 1 2 ) の 合成
2 N水酸化ナ ト リ ウム水 2. 0 7ml ( 4. 1 4 ミ リモル） に水 3 0 mlを入れ、 室温下 3— （4 , 6 ジメ トキシピリ ミ ジン一 2—ィルォ キシ） 一 5—メチルフラン一 2—力ルボン酸 1. 1 6g (4. 1 4 ミ リモル） を加え、 1時間挽拌した。 次に反応液を減圧下濃縮し、 1 2 l g (収率 9 6. 8 %) の目的物を得た。 融点 2 2 5 ~ 2 2 9. 5 。C。
実施例 1 0 ぐ〇法>
4一 （ 4， 6—ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2—ィルォキシ） イ ソォ キサゾ一ルー 3—カルボン酸銅塩 （化合物番号 4 7 9 ) の合成
2 N水酸化ナ ト リ ウム水 0. 8 0ml ( 1 . 6 0 ミ リモル） に水 2 0 mlを入れ、 室温下、 4 (4 , 6—ジメ トキシピリ ミ ジン一 2—ィル ォキシ） イ ソォキサゾールー 3—力ルボン酸 0.4 0g ( l . 5 0ミ リモル). を加え、 3 0分間挽拌した。 次に硫酸銅 0. 3 0 g ( 1 . 8 8 ミ リモル） を水 1 0 mlに溶解して室温下で加え、 5分間提拌した, 折出した結晶を濾過し、 0.4 0g (収率 8 9.7 %) の目的物を得 た。 融点 1 4 8〜 1 5 2 eC。
実施例 1 1 ぐ H法>
N—メチルスルホニル 4 一 （ 4， 6 —ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2 一ィルォキシ） 一 3—メチルイ ソチアゾールー 5—力ルボンアミ ド (化合物番号 4 8 8 ) の合成
4 - (4， 6—ジメ 卜キシピリ ミ ジン一 2—ィルォキシ） 一 3— メチルイ ソチアゾールーカルボン酸 0. 6 8 g ( 2. 2 9 ミ リモル） 及びカルボ二ルジィ ミダゾーソレ 0.4 1 g ( 2. 5 3 ミ リモル） に N N—ジメチルホノレムアミ ド 1 0 lを加え、 室温で 3時間搔拌した。 次にメタンスルホンアミ ド 0.4 3g (4. 5 2 ミ リモル） 及び 6 0 %水素化ナトリ ウム 0. 1 8g (4. 5 0ミ リモル） に N， N—ジメ チルホルムアミ ド 1 Omlを加え、 8 0〜 9 0 eCで 2時間加熱挽拌し， 室温下、 先に合成したカルボ二ルイ ミ ダゾールのジメチルホルムァ ミ ド溶液に加え、 さらに室温で 3時間攙拌した。 反応液を水に注ぎ、 酢酸ェチルで洗浄後、 水層を 1 0 %HC1溶液で酸性にした。 析出し た結晶を璩過し、 イ ソプロピルエーテルで洗浄し、 0. 6 1 g (収率 7 0.9 %)
次に、 本発明化合物を表 1〜表 6 0に例示する。
【表 1
X
Figure imgf000027_0001
Figure imgf000027_0002
新たな用紙 【表 2】
Figure imgf000028_0001
Figure imgf000028_0002
新たな用紙 ：表 3
Figure imgf000029_0001
新たな用紙 【表 4】
Figure imgf000030_0001
新たな用紙 ：表 5
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新たな 紙 【表 6】
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新たな用紙
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番号D届折率)（n2°
融点) c
！化合物物理性状 [表 8】
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新たな用紙 ：表 9】
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新たな用紙 [表 1 0】
X
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新たな用紙 ：表 1 1
Figure imgf000037_0001
Figure imgf000037_0002
Figure imgf000037_0003
新たな用紙 【表 1 2】
Figure imgf000038_0001
新たな用紙 ：表 1 3
Figure imgf000039_0001
新たな用紙 [表 1 4】
Figure imgf000040_0001
新たな用紙 ：表 1 5】
Figure imgf000041_0001
新たな用紙 【表 1 6】
Figure imgf000042_0001
な用紙 ：表 1 7
Figure imgf000043_0001
新たな用紙 [表 1 8】
Figure imgf000044_0001
新たな用紙 ほ 1 9
Figure imgf000045_0001
新たな用紙 4
：表 2 0】
Figure imgf000046_0001
新たな用紙 ：表 2 1
Figure imgf000047_0001
新たな用紙 [表 2 2】
Figure imgf000048_0001
新たな用紙 ：表 2 3】
Figure imgf000049_0001
新たな用紙 ：表 2 4】
Figure imgf000050_0001
新たな用紙 ：表 2 5
Figure imgf000051_0001
新たな用紙 [表 2 6】
Figure imgf000052_0001
新たな用紙 2 7
Figure imgf000053_0001
新たな用紙 【表 2 8】
Figure imgf000054_0001
新たな用紙 ：表 2 9 物理性状 融点 （°c) 屈折率 （η^)
Figure imgf000055_0001
新たな用紙 [表 3 0】
Figure imgf000056_0001
新たな用紙 ：表 3 1
Figure imgf000057_0001
新たな用紙 [表 3 2】
Figure imgf000058_0001
新たな用紙 [表 3 3】
X
Figure imgf000059_0001
Figure imgf000059_0002
新たな用紙 [表 3 4】
Figure imgf000060_0001
Figure imgf000060_0002
新たな用紙 【表 3 5】
Figure imgf000061_0001
Figure imgf000061_0002
新たな用紙 3 6】
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Figure imgf000062_0002
新たな S紙 Ί3 7
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Figure imgf000063_0002
新たな用紙 [表 3 8】
Figure imgf000064_0001
新たな用紙 ：表 3 9]
Figure imgf000065_0001
Figure imgf000065_0002
新たな用紙 【表 4 0]
Figure imgf000066_0001
Figure imgf000066_0002
新たな用紙 ：表 4 1
R'
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Figure imgf000067_0002
新たな.用紙 【表 4 2】
Figure imgf000068_0001
Figure imgf000068_0002
新たな用紙 ：表 4 3
R
Figure imgf000069_0001
新たな用紙 [表 4 4
Figure imgf000070_0001
Figure imgf000070_0002
新たな用紙 ：表 4 5
:
X
Figure imgf000071_0001
Figure imgf000071_0002
新たな用紙 ：表 = 6
Figure imgf000072_0001
新たな用紙 ：表 4 7
Figure imgf000073_0001
新たな用紙 [表 48]
Figure imgf000074_0001
新たな用紙 3
：表 4 9
Figure imgf000075_0001
Figure imgf000075_0002
新たな用紙 ：表 5 0】
X
Figure imgf000076_0001
Figure imgf000076_0002
新たな用紙 【表 5 1
Figure imgf000077_0001
Figure imgf000077_0002
新たな用紙 [表 5 2】
Figure imgf000078_0001
Figure imgf000078_0002
新たな用紙 ：表 5 3
Figure imgf000079_0001
Figure imgf000079_0002
新たな用紙 [表 5 4】
Figure imgf000080_0001
新たな用紙 ：表 5 5
Figure imgf000081_0001
Figure imgf000081_0002
Jiたな用紙 [表 5 6 物理性状
融点 c)
屈折率 （n2 n° )
Figure imgf000082_0001
4 新たな用紙 ：表 5 7
:
Figure imgf000083_0001
Figure imgf000083_0002
新たな用紙 【表 5 8
Figure imgf000084_0001
Figure imgf000084_0002
新たな用紙 【表 5 9
X
Figure imgf000085_0001
Figure imgf000085_0002
新たな用紙 【表 6 0】
Figure imgf000086_0001
Figure imgf000086_0002
、
新たな用紙 本発明の除草剤は、 一般式 〔 I 〕 で示されるピリ ミ ジンまたは 卜 リ アジン誘導体を有効成分と してなる。
本発明化合物を除草剤と して使用するには本発明化合物それ自体 で用いてもよいが、 製剤化に一般的に用いられる担体、 界面活性剤 分散剤または補助剤等を配合して、 粉剤、 水和剤、 乳剤、 微粒剤ま たは粒剤等に製剤して使用することもできる。
製剤化に際して用いられる担体と しては、 例えばジークライ 卜、 タルク、 ベン トナイ ト、 ク レー、 カオリ ン、 珪藻土、 ホワイ トカー ボン、 バーミキユラィ ト、 炭酸カルシウム、 消石灰、 珪砂、 硫安、 尿素等の固体担体、 イ ソプロ ピルアルコール、 キシレン、 シク ロへ キサン、 メチルナフタ レン等の液体担体等があげられる。
界面活性剤及び分散剤と しては、 例えばアルキルベンゼンスルホ ン酸金属塩、 ジナフチルメ タ ンジスルホン酸金属塩、 アルコール硫 酸エステル塩、 アルキルァ リ ールスルホン酸塩、 リ グニンスルホン 酸塩、 ポリオキシエチレングリ コールエーテル、 ポリオキシェチレ ンアルキルァリ ールエーテル、 ポリオキシエチレンソノレビタ ンモノ アルキレー 卜等があげられる。 補助剤と しては、 例えばカルボキシ メチルセルロース、 ポリエチレングリ コール、 アラビアゴム等があ げられる。'使用に際しては適当な濃度に希釈して散布するかまたは 直接施用する。
本発明の除草剤は茎粱散布、 土 ¾!施用または水而施用等によ リ使 用することができる。 有効成分の配合割合については必要に応じて 適宜選ばれるが、 粉剤または粒剤とする場合は 0 . 0 1 〜 1 0 % ( 重量） 、 好ましくは 0 · 0 5〜 5 °/ο (重量） の範囲から適宜選ぶの がよい。 また、 乳剤及び水和剤とする場合は 1 〜 5 0 % (重量） 、 好ましく は 5〜 2 0 % (重量） の範囲から適宜選ぶのがよい。
本発明の除草剤の施用量は使用される化合物の種類、 対象雑草、 発生傾向、 環境条件ならびに使用する剤型等によってかわるが、 粉 剤及び粒剤のようにそのまま使用する場合は、 有効成分と して 1 0 アーノレ当リ 0 . 1 g〜： L 0 kg、 好ましくは 1 0 g〜 5 kgの範囲から適 宜選ぶのがよい。 また、 乳剤及び水和剤とする場合のように液状で 使用する場合は、 0 . 1〜； I 0 0 , 0 0 O ppiR、 好ましく は 1 0〜 5 0 , 0 0 0 ppmの範囲から適宜選ぶのがよい。
また、 本発明の化合物は必要に応じて殺虫剤、 殺菌剤、 他の除草 剤、 植物生長調節剤、 肥料等と混用'してもよい。
次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具体的に説明する。 化合 物、 添加剤の種類及び配合比率は、 これのみに限定されることなく 広い範囲で変更可能である。 以下の説明において 「部 J は重量部を 意味する。
製剤例 1 水和剤
化合物 （ 6 2 5 ) の 1 0部にエマルゲン （花王株式会社の登録商 標） 8 1 0の 0 . 5部、 デモール （花王株式会社の登録商標） Nの 0 . 5部、 クニライ 卜 （クニミネ工業株式会社の登録商標） 2 0 1 の 2 0部、 ジークライ 卜 （ジークライ 卜株式会社の登録商標） C A の 6 9部を混合粉砕し、 水和剤を得る。
製剤例 2 水和剤 化合物 （ 6 7 5 ) の 1 0部にエマルゲン 8 1 0の 0. 5部、 デモ ール Nの 0. 5部、 クニライ ト 2 0 1 の 2 0部、 カープレックス （ 塩野義製薬株式会社の登録商標） 8 0の 5部、 ジークライ ト C Aの 6 4部を混合粉碎し、 水和剤を得る。
製剤例 3 水和剤
化合物 （ 4 2 ) の 1 0部にデモール Nの 0. 5部、 エマール （花 王ア トラス株式会社の登録商標） 1 0の 0. 5部、 クニライ 卜 3 0 1 の 2 0部、 カープレッ クス 8 0の 5部、 炭酸カルシウムの 6 4部 を混合粉碎し、 水和剤を得る。
製剤例 4 乳剤
化合物 （ 4 5 3 ) の 1 0部にキシレンとイ ソホロンの等量混合物 8 0部、 界面活性剤ソルポール （東'邦化学工業株式会社の登録商標） 8 0 0 Aの 1 0部を加え、 これらをよくかきまぜることによって乳 剤を得る。
製剤例 5 粒剤
化合物 （ 1 3 ) の 1 部、 タルク とベン トナイ 卜 を 1 ： 3 の割合の 混合した増量剤の 8 9部、 ホワイ トカーボンの 5部、 界面活性剤ソ ルポール 8 0 O Aの 5部に水 1 0部を加え、 よ く練ってペース 卜状 と したものを直 0. 7 mmのふるい穴から押し出して乾燥した後に 0. 5〜 1 mmの長さに切断し、 粒剤を得る。
次に試験例をあげて本発明化合物の奏する効果を説明する。
試験例 1 (水田土壌処理による除草効果試験）
1 0 0 cm'プラスチッ クポッ トに水田土壌を充填し、 代搔後、 タ ィヌビエ（Ec)、 コナギ（Mo)及びホタルイ （Sc)の各種子を播種し、 水 深 3 cmに湛水した。 翌日、 製剤例 1 に準じて調製した水和剤を水で 希釈し、 水面滴下した。 施用量は、 有効成分を 1 0 アール当 り 4 0 0gとした。 その後、 温室内で育成し、 処理 2 1 日 目に表 6 1 の基 準に従い、 除草効果を調査した。 その結杲を表 6 2に示した。
比較薬剤と してべンジル 3 — ( 4 , 6 ジメ 卜キシピリ ミジン一 2ィル） ォキシ 2—ナフ 卜エー 卜 （特開平 2 — 1 2 1 9 7 3公報 明細睿記截 ： 化合物番号 2. 5 ) を使用 した。
6. L 3 [表 6 2] 指数 除萆効杲 （生育抑制程度） 化合物 除 草 効
5 9 0%以上の抑制の除萆効果 番 号 Ec Ho Sc
4 7 0 %以上 9 0。/。未铕の除軍効杲 2 3 3 4
3 50 %以上 70 %未篛の除革効果 3 4 2 2
2 3 0 %以上 5 0。/。未篛の除革効杲 1 3 5 5 5
1 1 0%以上 3 0 %未篛の除草効杲 1 5 7 5 5 3
0 1 0 %未篛の除草効果 1 6 8 3 5 4
4 3 7 2 5 5
4 5 3 5 5 5
4 5 9 2 5 5
6 2 2 5 5 5
6 24 5 5 4
6 74 5 5 5
6 7 5 3 5 4
比晈剂 1 2 1 試験例 2 (畑地土壌処理による除草効果試験）
1 2 0 cm'ブラスチックポッ トに畑地土壌を充填し、 ォオイ ヌタ デ（Po )、 ァオビュ（Am)、 シロザ（Ch)、 コゴメ ガャヅリ（Ci )の各種子 を播種して覆土した。 製剤例 1 に準じて調製した水和剤を水で希釈 し、 1 0アール当 り有効成分が 4 0 0 gになる様に、 1 0アール当 り 1 0 0 1を小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。 その後、 温 室内で育成し、 処理 2 1 日 目に表 6 1 の基準に従って、 除草効果を 調査した。 その結果を表 6 3 に示す。
[表 6 3〕 ' 化合物 除 草 効 果
番 号 •Po Am Ch Ci
1 3 3 4 2 5
2 2 5 3 -' 5 3
2 4 5 5 3 4
2 7 5 4 2 2
1 5 3 5 2 5 3
1 5 7 4 5 5 4
1 6 8 5 5 4 2
4 5 3 5 5 5 5
6 2 4 3 5 5 4
6 2 5 4 5 5 4
6 7 4 2 5 5 3
6 7 5 3 5 4 5 試験例 3 (畑地茎粱処理による除草効果試験）
1 2 0 cm'プラスチッ クポッ トに畑地土壊を充填し、 ォオイ ヌタ デ（Po )、 ァオビュ（Am)、 シロザ（Ch )、 コゴメガャッ リ （C i )の各種子 を播種し、 温室内で 2週間育成後、 製剤例 1 に準じて調製した水和 剤を水に希釈し、 1 0アール当 り有効成分が 4 0 0 gになる様に、 1 0アール当 リ 1 0 01を小型噴霧器で植物-体の上方から全体に茎 葉散布処理した。 その後、 温室内で育成し、 処理 1 4 日 目に表 6 1 の基準に従って、 除草効杲を調査した。 その結杲を表 6 4に示す。
[表 6.4 ] 化合物 除 草 効 杲
番 号 Po Am Ch Ci
2 4 5 5 5
1 3 5 5 5 5
1 14 4 3 3 2
1 5 7 4 5 4 3
177 4 5 2 5
43 7 2 5 3 4
45 3 5 5 5 5
622 5 3 - 2 5
624 4 4 4 2
62 5 4 5 4 4
674 5 4 5 2
67 5 5 5 5 5

Claims

請求の範囲
1. —般式 〔 I
Figure imgf000093_0001
〔式中、 Aは式
Figure imgf000093_0002
(A-l) (Α-2) (Α-3) (Α-4) (Α-5) (Α-6) (Α-7)
Figure imgf000093_0003
(Α-10) (Α-11) (Α-12) (Α-13)
Figure imgf000093_0004
で表される複素環を示し、 Rは水緊原子、 水酸基、 イ ミ ダゾリル
C,〜Ceアルコキシ基、 C3〜CSアルケニルォキシ基、 C3〜CCァ ルキニルォキシ某、 アルキルチオ基、 C3〜C， シク ロアル コキシ基、 ベンジルォキシ基、 置換べンジルォキシ基、 ベンジルチ ォ基、 置換べンジルチオ基、 C3〜 C eシクロアルキルチオ基、 C, 〜c*アルコキシ〇【〜〇<アルコキシ基、 フ リルォキシ基、 テ 卜ラ ヒ ドロフリルォキシ基、 フエノ キシ基、 置換フエノ キシ基、 c2〜
C*ァラルキルォキシ基、 C^ C^アルキルチオ〇【〜〇<アルコキ シ基、 シァノ c,〜c*アルコキシ基、 （^〜 ，アルコキシカルボ二 ソレ アルコキシ基、 N， N—ジ アルキルアミノ C,〜 Caアルコキシ基、 N, N—ジ。【〜じ アルキルアミ ノ G,〜C3アル キルチオ基、 C3〜 CSの直鎖または環状のアルキリデンアミ ノォキ シ基、 C ^〜 C *アルキルスルホニルァミノ基、 フエニルスルホニル アミノ基、 置換フエニルスルホニルァミノ基、 卜 リメチルシリルェ トキシ基、 式一 N R* RS (式中、 及び R6は同一または相異なり、 水素原子、 水酸基、 C^ Csアルキル基、 Ct Csアルコキシ基、 C3〜Ceアルケニル基、 フエニル基、 置換フエニル基、 〇3〜 0 -シ クロアルキル基、 C^ C Sアルコキシ アルキル基、
Cユアシル基、 C3〜Ceアルキニル基、 C3〜 Csアルケニルォキシ 基、 C3 ~CSアルキニルォキシ基、 ベンジルォキシ基、 置換べンジ ルォキシ基、 Ct C*アルコキシカルボニルじ^〜じ アルキル基、 アルコキシカルボニル c,〜c3アルコキシ基、 アミ ノ基、 ジメチルァミノ基、 シァノ基、 〇【〜 c<アルキルスルホニル基、 フ ェニルスルホニル基、 置換フエニルスルホニル基、 ァセチルァミ ノ 基、 ァニリ ノ基を示す。 また、 R*及び R'は一緒にヘテロ原子を含 んでもよぃ瑗を形成することもできる。 ） で表される基を示し、 R 1及び R 2は同一または相異な り、 水素原子 （但し、 R 1及び R 2は同 一の場合を除く） 、 ハロゲン原子、 アルキル基、 C1〜Ce ハロアルキル基、 C1〜Ce 7ノレコキシ基、 C,〜CSノ、口アルコキシ 基、 じ，〜じ^アルキルチオ基、 フエノ キシ基、 置換フエノ キシ基、 〇，〜〇3ァルコキシ〇1〜03ァルキル基、 Ca〜Csシクロアルキル 基、 CZ〜C。アルケニル基、 Ca〜C。アルケニルォキシ基、 C2〜 C<アルキニル基、 C3〜CSアルキニルォキシ基、 〇，〜〇。アルキ ルチオ C,〜C3アルキル基、 式— N RS R' (式中、 RB及び R'は同 一または相異なり、 水素原子、 水酸基、 アルキル基、 C, 〜C,アルコキシ基、 （^^〜（^アルケニル基、 C2〜C*アルキニル 基、 C3〜C5アルケニルォキシ基、 Ca〜C5アルキニルォキシ基を 示す。 また RB及び R'は一緒にヘテロ原子を含んでもよい環を形成 することもできる。 ） で表される基を示し、 R3は水素原子、 ハロ ゲン原子、 〇，〜〇6アルキル基、 フエニル基、 置換フエニル基、 ベ ンジル基、 置換べンジル基、 ベンゾィル基、 置換ベンゾィル基、 C ,〜G3ァシル基、 C,〜sアルキルスノレホニル基、 フエニルスルホニ ル基、 置換フエニルスルホニル基を示し、 Xは水素原子、 ^〜（ ^ アルキル基、 C, ~CSノヽロアルキル基、 C ,〜〇6アルコキシ基、 C - ！〜じ^ハ口アルコキシ基、 Ca〜Ceアルケニル基、 フエニル基、 置 換フエ二ル基、 ベンジル基、 置換べンジル基、 フエノ キシ基、 置換 フエノ キシ基、 ベンジルォキシ基、 置換べンジルォキシ基、 C,〜 C3ァシル基、 ナフチル基、 ベンゾィル基、 置換ベンゾィル基、 八 ロゲン原子、 ニ トロ基、 式一 N R' R3 (式中、 R8及び Rsは同一ま たは異なり、 水素原子、 （^〜^：アルキル基、 c3〜ccアルケニ ル基、 c3〜ceアルキニル基、 フエニル基、 置換フエニル基、 ナフ チル基、 〇【〜〇。ァシル基、 ベンゾィル基、 置換ベンゾィル基を示 す。 また、 R'及び Rsは一緒にヘテロ原子を含んでもよい環を形成 することもできる。 ） で表される基を示し、 C,〜（^アルキルチオ 基、 〇1〜〇^ァゾレキルチォ〇1〜03ァルキル基、 フエ二ルチオ基、 置換フエ二ルチオ基、
Figure imgf000096_0001
アルコキシカルボニル基、 カルボキ シル基、 シァノ基、 カルパモイル基、 N— C 〜 Ceアルキルカルパ モイル基、 〜 Ceアルキルスルホニル基、 フエニルスルホニル基、 置換フェニルスルホニル基、 〇，〜0 ァルコキシ〇1〜〇-ァルキル 基、 （^〜（^アルコキシ ^〜（^アルコキシ基、
Figure imgf000096_0002
アルキル チォ（^^〜じ^アルキル基、 01〜〇^ァルコキシ〇1〜〇6ァルキルチ ォ基、 アルキルチオ Ct〜Ceアルコキシ基、 ァリルチオ基、
~ Ceアルキルスルフィニル基、 フ リル基、 チェニル基、 ピリ ジ ル基、 置換されていてもよいピリ ミジニルォキシ基、 置換されてい てもよいピリ ミ ジニルチオ基、 置換卜 リ アジニルォキシ基、 置換卜 リアジニルチオ基を示し、 Wは酸素原子、 硫黄原子、 式一 NRl° (式中、 R'。は水素原子、 C,〜C。アルキル基、' 〇2〜〇6ァルケ二 ル基、 CZ〜C«アルキニル基、 アルコキシ アルキ ル基、 Ct〜Caアルキルスゾレホニル基、 フエニルスルホニル基、 置 換フエニルスルホニル基、 Ct〜C3ァシル基、 ベンゾィル基、 置換 ベンゾィル基を示す。 ） を示し、 Zは窒素原子またはメチン基を示 し、 nは 1〜 5の整数を示す。 〕 で表されるピリ ミジンまたは 卜 リ ァジン誘導体及びそれらの塩。
2. —般式 [ 1 〕 において Aが式 （A— 1 ) ， （A— 2 ) ， ( A - 3 ) ， （A - 4 （A - 5 ) , (A - 6 ) ， （A— 7 ) , ( A - 8 ) , (A - 9 （A - 1 0 ) ， （A - 1 1 ) ， （A - 1 2 ) ま たは （ A— 1 3 ) を示す請求の範囲第 1 項記載のピリ ミ ジンまたは 卜 リアジン誘導体及びそれらの塩。
3. —般式 [ 1 〕 において Aが式 （A— 1 4 ) ( A - 1 5 ) (A— 1 6 ) , (A— 1 7 ) ， （A— 1 8 ) または （A— 1 9 ) を 示す請求の範囲第 1 項記載のピリ ミ ジンまたは 卜 リ ァジン誘導体及 びそれらの塩。
4. 一般式 〔 I 〕 において Aが式 （A— 1 ) ( A - 2 ) , (A— 3 ) ， （A - 4 ) ， （A - 5 ) ， （A - 6 ) ， （A— 7 ) ， （A - & ) ， （A— 9 ) ， （A - 1 0 ) ， （A— 1 1 ) ， （A— 1 2 ) ま たは （A— 1 3 ) を示し、 Wが硫黄原子を示す請求の範囲第 1 項記 載のピリ ミ ジンまたは ト リ アジンジン誘導体及びそれらの塩。
5. 一般式 〔 I 〕 において Aが式 （A— 1 4 ) ( A - 1 5 ) (A— 1 6 ) ， （A— 1 7 ) ， （A— 1 8 ) または （A— 1 9 ) を 示し、 Wが硫黄原子を示す請求の範囲第 1 項記載のピリ ミ ジンまた は 卜 リ アジン誘導体及びそれらの塩。 .
6 . —般式 （： I 〕 において Aが式 （ A— 1 ) ， ( A - 2 ) , (A— 3 ) , (A - 4 ) ， （A - 5 ) , (A - 6 ) ， （A - 7 ) , (A - 8 ) ， （A - 9 ) ， （A - 1 0 ) ， （ A - 1 1 ) ， （A - 1 2 ) ま たは （A— 1 3 ) を示し、 Wが酸素原子を示す請求の範囲第 1 項記 載のビリミジンまたは 卜 リァジン誘導体及びそれらの塩。
7. —般式 〔 I〕 において Aが式 （A— 1 4 ) ， （A— 1 5 ) , (A - 1 6 ) , (A— 1 7 ) ， （A— 1 8 ) または （A— 1 9 ) を 示し、 Wが酸素原子を示す請求の範囲第 1 項記載のピリ ミ ジンまた は卜リァジン誘導体及びそれらの塩。
8. —般式 〔 I〕 において Aが式 （A— 1 ) ， （A— 2 ) ， （A— 3 ) , (A - 4 ) , (A— 5 ) , ( A - 6 ) ， （A - 7 ) ， （A - 8 ) ， （A— 9 ) ， （A— 1 0 ) , ( A - 1 1 ) , (A— 1 2 ) ま たは （A— 1 3 ) を示し、 Wが式一 N R" (式中、 "は水素原子、 C,〜 C3ァノレキゾレ基、 CZ〜CSアルケニル基、 C2〜C*アルキニノレ 基、 C^ Caアルコキシ（ ^〜じ。アルキル基、 Ct Caアルキルス ルホニル基、 フエニルスルホニル基、 置換フエニルスルホニル基、 CT〜C3ァシル基、 ベンゾィル基、 置換ベンゾィル基を示す。 ） を 示す請求の範囲第 1項記載のピリ ミ ジンまたは ト リ ァジン誘導体及 びそれらの塩。
9. —般式 〔 I } において Aが式 （A— 1 4 ) ， ( A - 1 5 ) ， (A— 1 6 ) ， （A— 1 7 ) ， （A— 1 8 ) または （A— 1 9 ) を 示し、 Wが式一 N RL E (式中、 RL°は水素原子、 〇，〜〇 アルキル 基、 C.Z〜 C5アルケニル基、 CZ〜C*アルキニル基、 （^〜（：，アル コキシ CT〜C3ァノレキル基、 C L〜 GAアルキルスルホニル基、 フエ ニルスルホニル基、 置換フエニルスルホニル基、 C^ C^ァシル基、 ベンゾィル基、 置換ベンゾィル基を示す。 ） を示す請求の範囲第 1 項記載のピリ ミジンまたは 卜 リアジン誘導体及びそれらの塩。
1 0. 請求の範囲第 1 項〜第 9項のいずれかに記載のピリ ミ ジンま たは 卜 リアジン誘導体及びそれらの塩を有効成分と して含有する除 草剤。
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