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WO1990005796A1 - Anlage zum ätzen von gegenständen - Google Patents

Anlage zum ätzen von gegenständen Download PDF

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Publication number
WO1990005796A1
WO1990005796A1 PCT/EP1989/001344 EP8901344W WO9005796A1 WO 1990005796 A1 WO1990005796 A1 WO 1990005796A1 EP 8901344 W EP8901344 W EP 8901344W WO 9005796 A1 WO9005796 A1 WO 9005796A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
etching
etchant
etching machine
buffer tank
electrolytic cell
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
PCT/EP1989/001344
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Rainer Haas
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hans Hollmueller Maschinenbau & Co GmbH
Original Assignee
Hans Hollmueller Maschinenbau & Co GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hans Hollmueller Maschinenbau & Co GmbH filed Critical Hans Hollmueller Maschinenbau & Co GmbH
Publication of WO1990005796A1 publication Critical patent/WO1990005796A1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Ceased legal-status Critical Current

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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/08—Apparatus, e.g. for photomechanical printing surfaces
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/46—Regeneration of etching compositions

Definitions

  • the invention relates to a system for etching objects, in particular printed circuit boards
  • the object of the present invention is to design an etching system of the type mentioned at the outset in such a way that the density of the etching agent in the etching machine and also in the electrolysis cell are all with a low hysteresis and high accuracy
  • a first buffer tank located in the connection line between the outlet of the electrolytic cell and the inlet of the etching machine;
  • a first control loop which monitors the density of etchant "in the etching machine and feeds a certain density value of the ⁇ tzmaschi ⁇ e from the first buffer tank depleted etchant is exceeded and a corresponding amount enriched ⁇ tz ⁇ dissipates from the etching means in the second buffer tank;
  • a second control circuit which monitors the density of the etchant in the electrolytic cell and, if the electrolyte cell falls below a certain density value, supplies etching agent enriched in the second buffer tank and a corresponding amount of depleted etchant from the electrolytic cell into the first buffer tank dissipates
  • the electrolysis cell works completely independently of the etching machine. Due to the buffer tanks provided, the amounts of depleted etching agents required to maintain the correct density can be supplied to the etching machine easily and at any time. are carried out, regardless of whether the electrolytic cell is currently provided with etched or not. Correspondingly, etching agent enriched can be removed from the etching machine, regardless of whether the electrolytic cell is ready to receive enriched etching agent or not.
  • the electrolysis cell in turn can work completely independently of the amount of etchant to be depleted from the etching machine or the need of the etching machine for depleted etchant. It is stopped when the second buffer tank is empty. Switching the electrolysis cell on and off is only necessary at larger intervals due to the buffering action of the buffer tanks.
  • the electrolysis cell should also be switched off at a second density value which is below the above-mentioned density value.
  • the electrolysis cell is deactivated by switching off the pump, which circulates the etchant through the electrolysis cell, when voltage is applied, the cell contents flowing into the associated collecting container.
  • the etchant fed to the etching machine from the first buffer tank and the etchant fed to the second buffer tank from the etching machine are passed through a heat exchanger, energy is saved.
  • the etchant introduced from the first buffer tank into the etching machine must namely be brought to the working temperature there; The required heat can be extracted to a considerable extent from the etchant, which is removed from the etching machine into the second buffer tank.
  • the outlet point of the line via which the etching machine removes etchant is at the level of the operating level of the sump of the etching machine, and if the delivery rate of the pump, which extracts etchant from the etching machine, is slightly above the delivery rate of the pump, which supplies the etching machine to the etching machine. In this way it is automatically ensured, without special additional measures such as level sensors or the like, that the fill level in the pump sump always remains constant. Because of the higher delivery rate of the draining pump, the fill level can never rise above the mouth of the extraction line.
  • a water control unit which keeps the sum of the fill levels in the different sumps, containers and tanks constant by adding fresh water.
  • the fill levels in the buffer tanks are monitored by level sensors which are connected to the water control unit;
  • condition c) is met anyway by the design of the etching cell (see also the embodiment of the invention according to claim 5). In this case, only the fill levels in the two buffer tanks to be monitored, to which the corresponding amount of fresh water is then supplied.
  • the fresh water is advantageously added to each of the buffer tanks in proportion to the fill levels of these buffer tanks.
  • the fuller buffer tank thus receives a larger amount of fresh water than the empty buffer tank, so that the dilution by fresh water is approximately the same in both buffer tanks.
  • a particular advantage of the use of buffer tanks according to the invention is that the capacity of the electrolysis cell can be smaller than the capacity of the etching machine. This takes into account the fact that the daily operating time of the etching machine generally corresponds to the normal working hours in operation (e.g. 8 hours), while the electrolysis cell can be operated around the clock, i.e. 24 hours a day. According to the different operating times of the electrolytic cell and the etching machine, the capacity of the buffer tanks must be dimensioned.
  • the system for etching objects shown in the drawing comprises as main components an etching machine 1, a metering unit 2, a first buffer tank 3, a second buffer tank 4, an electrolysis cell 5 and a collecting container 6 for etchant discharged from the electrolysis cell 5.
  • the structure of the etching machine 1 is known in principle:
  • the objects 7 to be etched are continuously Continuous process moved from an inlet 8 to an outlet 9 of the etching machine on a roller conveyor system 10. You will pass an upper nozzle assembly 11 and a lower one .
  • the etchant drops back into the sump from the objects 7 to be etched, its chemical composition changing as a result of the etching process and by evaporation processes.
  • the metering unit 2 is provided for monitoring and regulating the chemical composition of the etchant in the etching machine 1.
  • the sump 14 of the etching machine 1 is connected via a connecting line 15 to a container 16 of the dosing unit 2.
  • a pump 17 continuously removes etchant from the container 16 and directs it in a circuit. back into the container 16 via a pH measuring device 18 and a density measuring device 19.
  • the pressure side of the pump 17 is also connected to two injectors 20, 21, in which the flowing etchant NH3 is mixed.
  • the etchant HH ⁇ - flowing through is added, which comes from a storage container and whose flow is determined by a solenoid valve 22.
  • the solenoid valve 22 is controlled electrically by the pH measuring device 18. By adding NH3 via the solenoid valve 22, a minimum pH value of the etchant is ensured in the etching machine 1 by means of the pH measuring device 18.
  • the gas drawn off from the electrolysis cell 5, which essentially contains ammonia, is returned into the etchant via the injector 21 on the right in the drawing. In this way, the evaporation losses at NH3 are kept low and environmental problems are reduced.
  • Density of the etchant in the etching machine 1 which was increased without special precautions by the metal etched off from the objects 7 (in the case of printed circuit boards in general copper), kept at a constant value. This is done in the following way:
  • the buffer tank 3 on the left in the drawing contains a supply of etchant which was supplied from the electrolytic cell 5 in the manner described below.
  • the buffer tank 4 on the right in the drawing contains copper-enriched etching agent of higher density, which is also fed to the electrolysis cell 5 for depletion in a manner which is also to be described.
  • a pump 23 is connected on the suction side to the buffer tank 3 via a line 24. It requests the depleted etchant removed from the buffer tank 3 via a heat exchanger
  • the pump 26 also pushes the etchant removed from the sump 14 of the etching machine 1 through the heat exchanger 25, where a heat exchange takes place between the etchant supplied to the sump 14 and the sump 14 removed.
  • the etchant required by the pump 26 then flows from the heat exchanger 25 further into the second buffer tank 4, in which, as mentioned above, there is etching agent enriched with copper.
  • the pumps 23 and 26 are electrically or - as shown - mechanically connected to one another by a common motor.
  • the arrangement is such that both pumps 23, 26 are always operated at the same time, the delivery rate of the pump 26 always being kept somewhat higher than the delivery rate of the pump 23. In this way it is ensured that the operating level of the etchant is in the Swamp 14 the etching machine 1 is always determined by the junction of the line 27 in the sump 14.
  • the right-hand buffer tank 4 in the drawing is connected via a line 28 to the suction side of a pump 29, which is connected on the pressure side to the sump 32 of the electrolytic cell 5 via a check valve 30 and a flow meter 31.
  • the overflow 33 of the electrolysis cell, from which the depleted etchant flows out, is connected via a line 34 to the first buffer tank 3 on the left in the drawing.
  • a further line 36, in which a magnetic valve 37 is connected, leads from the overflow 34 of the electrolytic cell 5 into the collecting container 6.
  • the sump 38 of the collecting container 6 is connected via a line 39 to a pump 40 which removes that from the sump 38 Etchant via a flow meter 41, to which a non-return valve 42 is connected in parallel, feeds the sump 32 of the electrolytic cell 5.
  • the pump 40 is also connected on the pressure side to a solenoid valve 43 which controls the flow path to a density measuring device 44. The etchant flowing through the density measuring device 44 is returned to the collecting container 6.
  • a hydroxide filter 45 Parallel to the density measuring device 44 is a hydroxide filter 45, the flow of which can be released if necessary by means of a valve 46.
  • Electrolysis cell 5 and collecting container 6 are operated and regulated in the following way:
  • the electrolytic cell 5 must be filled with etchant from the collecting container 6. This is done by means of the pump 40.
  • a level sensor 47 which opens the solenoid valve 43.
  • a flow bypass is released, which reduces the inflow of etchant from the collecting container 6 into the electrolysis cell 5 to the extent required in continuous operation.
  • a large part of the etchant conveyed by the pump 40 now flows back through the density measuring device 44 and through the hydroxide filter 45 to the collecting container 6.
  • the solenoid valve 37 is normally open. This means that the etchant is continuously circulated by the pump 40 via the electrolysis cell 5, its overflow 34 and the solenoid valve 37. If, however, 4 etchant reaches the sump 32 of the electrolytic cell from the buffer tank 4, the level in the sump 38 of the collecting container rises. A level switch 48 registers the rise in the liquid level in the sump 38 and closes the solenoid valve 37. Depleted etchant now flows via line 35 into the buffer tank 3.
  • the density measuring device 44 monitors the copper content of the etchant circulated by the pump 40. If this copper content falls below a certain value, for example below 30 g / l, the pump 29 is activated. On the basis of the processes described above, a corresponding amount of etchant is removed from the electrolytic cell 5 and fed to the buffer tank 3. The supply of enriched etchant from the buffer tank 4 increases the density of the etchant in the electrolytic cell 5 until the density measuring device 44 shuts down the pump 29 again.
  • the electrolytic cell 5 is deactivated when the buffer tank 4 is empty. This is done by switching off the pump 40. As a result, the content of the electrolytic cell flows back into the collecting container 6 via the flow measuring device 41 and_d mainly via the check valve 42, line 39 and pump 40. The electrolysis cell 5 remains however under tension.
  • the electrolytic cell 5 is also always shut down when the density of the contained therein. Etchant drops below a second value, which is below the above-mentioned control point.
  • the density measuring device 19 acting in the first control system ensures a constant density of the etchant in the etching machine 1.
  • the constant density is brought about by supplying depleted etchant from the buffer tank 3 or by removing enriched etchant into the buffer tank 4. Due to the existence of the buffer tanks 3, 4, depleted etchant or space for enriched * etchant is always available, regardless of the respective function of the electrolytic cell 5.
  • the first control system which contains the density measuring device 19 as the “core”, can therefore work completely “autonomously”.
  • the second control system contains the density measuring device 44 as a control unit. It ensures that the density and thus the copper content of the etchant in the electrolytic cell 5 is kept at a certain value. This is done, as described above, by switching the pump 29 on and off. Again, this control system is complete with the first control system, which is the etching machine
  • the electrolytic cell 5 can release depleted etchant into the buffer tank 3 independently of the current demand. Also, the electrolytic cell 5 can according to the requirements of this dominant control loop always enriched etchant from the tank 4 Puffer ⁇ be supplied regardless of whether screened after the state in the etching machine 1 there 'de-enriched Etchant occurs or not.
  • the described decoupling of the two control systems makes it possible to regulate the density of the etchant at the actual crucial point, namely in the etching machine 1 itself, with greater precision and to keep it constant than when using only one control system, which both the etching machine 1 as well as the electrolytic cell 5, would be achievable.
  • the two buffer tanks 3 and 4 can be used in a further advantageous manner, which will now be discussed:
  • the operating times of the etching machine 1 and the electrolysis cell 5 used to regenerate the etchant are identical on a daily basis. If, as described above, buffer tanks 3 and 4 are used, the operating times can be kept different. In this way, a smaller capacity of the electrolysis cell 5 is sufficient; it no longer needs to be adapted to the peak requirements of the etching machine 1.
  • the etching machine 1 was designed so that it sold 9 kg of Cu per hour, ie 72 kg, for an 8-hour working day. In order to recover the same amount of copper in an electrolysis cell 5 which works 24 hours a day, an output of 3 kg Cu / h is sufficient for this. If the depletion in the electrolytic cell is 50 g Cu / 1, this means that 1440 1 of etchant must be buffered. Since, however, in the 8 hours of the operation time of the etching machine 1 480 1 coming in from the electrolytic cell 5 A, every Puffertan 3, 4 1000 1 summarize.
  • the possible continuous operation of the electrolytic cell 5 when using the buffer tanks 3, 4 not only reduces the expenditure on equipment for the entire etching system: it also improves the regeneration process in the electrolytic cell 5.
  • the level levels in the buffer tanks 3, 4 are continuously monitored by level sensors 49 and 50, respectively. These are connected to an electronic water control unit 51. The latter, in turn, controls a first magnetic valve 52, which controls the fresh water supply in the buffer tank 3 on the left in the drawing, and a second solenoid valve 53, which controls the fresh water supply in the electrical lines, which are shown in broken lines in the drawing the drawing right buffer tank 4 controls.
  • the electrolysis cell 5 ensures a constant fill level is ensured there without special measures. It is therefore only necessary to ensure that the sum of the levels in the two buffer tanks 3, 4 also remains constant. This is exactly the task of the water control unit 51. If it detects a decrease in the level in the buffer tanks 3, 4 in such a way that their sum falls below a setpoint value, it opens the solenoid valves 52, 53 until the sum the level has reached the desired value again. In order to avoid undesirable dilutions of the etchant, which could interfere with the operation of the various control loops, the water is added to each of the buffer tanks 3, 4 in proportion to the respective level in these tanks. So is e.g.
  • the level in the left-hand buffer tank 3 in the drawing is twice as high as in the right-hand buffer tank 4 in the drawing, the water is added by the water control unit 51 in such a way that in the left-hand buffer tank 3 twice as much water as in the right-hand one Buffer tank 4 is added.

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Abstract

Eine Anlage zum Ätzen von Gegenständen umfasst mindestens eine Ätzmaschine, in welcher Metall von den behandelten Gegenständen abgeätzt wird, wobei sich das Ätzmittel mit Metall anreichert. Das Ätzmittel wird in mindestens einer Elektrolysezelle (5) durch Entfernen von Metall wieder regeneriert. In den Leitungen (28, 35), welche die Ätzmaschine (1) mit der Elektrolysezelle verbinden, befinden sich zwei Puffertanks (3, 4). Ein erster Regelkreis (15, 16, 17, 19, 23, 26) sorgt für eine im wesentlichen konstante Dichte des Ätzmittels in der Ätzmaschine (1). Dies geschieht durch Zufuhr von abgereichertem Ätzmittel aus dem ersten Puffertank (3) in die Ätzmaschine (1) und durch Abfuhr von angereichertem Ätzmittel aus der Ätzmaschine (1) in den zweiten Puffertank (4). Ein zweiter Regelkreis (40, 43, 44) sorgt für eine im wesentlichen konstante Dichte in der Elektrolysezelle (5) durch Zufuhr von angereichertem Ätzmittel aus dem zweiten Puffertank (4) in die Elektrolysezelle und durch Abfuhr einer entsprechenden Menge abgereicherten Ätzmittels aus der Elektrolysezelle (5) in den ersten Puffertank (3). Beide Regelkreise arbeiten unabhängig voneinander.

Description

Anlage zum Ätzen von Gegenständen
Beschreibung
Die Erfindung betrifft eine Anlage zum Ätzen von Gegen¬ ständen, insbesondere von Leiterplatten, mit
a) mindestens einer Ätzmaschine, in welcher Metall von den Gegenständen abgeätzt wird, wobei sich das Ätzmittel mit Metall anreichert;
b) mindestens einer Elek rolysezelle, in welcher angerei¬ chertes Ätzmittel abgereichert wird;
c) mindestens einem elektronischen Regelkreis, der den Austausch von Ätzmittel zwischen der Ätzmaschine und der Elektrolysezelle so steuert, daß die Dichte des Ätz¬ mittels in der Ätzmaschine im wesentlichen konstant ist
Bei bekannten Ätzanlagen dieser Art ist nur ein einziger Regelkreis vorhanden, welcher versucht, die Dichte des Atz¬ mittels in der Atzmaschine durch geeigneten Betrieb der Elektrolysezelle konstant zu halten. Dieses Regelsvstem arbeitet verhältnismäßig trage, so daß es zu erheblichem Unter- bzw. Überschießen der Metallkonzentratlon in dem in der Atzmaschine befindlichen Atzmittel kommen kann. Außerdem ist ein diskontinuierlicher Betrieb mit häufigem Ein- und Ausschalten der Elektrolysezelle die Folge, was die Qualität des abgeschiedenen Kupfers ungünstig beein¬ flußt. Es kann auch zu Ablösungen der Kupferschicht kommen, was zu Kurzschlüssen führen kann.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Ätzanlage der eingangs genannten Art so auszugestalten, daß die Dichte des Atzmittels in der Ätzmaschine wie auch der Elektrolyse¬ zelle mit geringer Hysterese und hoher Genauigkeit auf einem
ERSATZBLATT konstanten Wert gehalten werden kann.
Eine erfindungsgemäße Ätzanlage, mit welcher diese Aufgabe gelöst wird, ist gekennzeichnet durch
d) einen ersten Puffertank, der in der Verbindungsleitung zwischen dem Auslaß der Elektrolysezelle und dem Einlaß der Ätzmaschine liegt;
e) einen zweiten Puffertank, der in der Verbindungsleitung zwischen dem Auslaß der Ätzmaschine und dem Einlaß der Elektrolysezelle liegt;
f) einen ersten Regelkreis, der die Dichte des Ätzmittels" in der Ätzmaschine überwacht und bei Überschreiten eines bestimmten Dichtewertes der Ätzmaschiπe aus dem ersten Puffertank abgereichertes Ätzmittel zuführt und aus der Ätzmaschine eine entsprechende Menge angereicherten Ätz¬ mittels in den zweiten Puffertank abführt;
g) einen zweiten Regelkreis, der die Dichte des Ätzmittels in der Elektrolysezelle überwacht und bei Unterschrei¬ ten eines bestimmten Dichtewertes der Elektroly ezelle aus dem zweiten Puffertank angereichertes Ätzmittel zu- führt und aus der Elektrolysezelle eine entsprechende Menge abgereicherten Ätzmittels in den ersten Puffer¬ tank abführt,
derart, daß die beiden Regelkreise durch die Puffertanks voneinander entkoppelt sind und unabhängig voneinander arbeiten.
Erfindungsgemäß arbeitet also die Elektrolysezelle voll¬ ständig unabhängig von der Ätzmaschine. Aufgrund der vor- gesehenen Puffertanks können der Ätzmaschine die zur Auf¬ rechterhaltung der richtigen Dichte erforderlichen Mengen an abgereicherte Ätzmittel problemlos und jederzeit zu- geführt werden, unabhängig davon, ob die Elektrolysezelle gerade abgerelchertes Ätzmittel bereitstellt oder nicht. Entsprechend kann der Ätzmaschine angereichertes Ätzmittel entnommen werden, unabhängig davon, ob die Elektrolysezelle zur Aufnahme von angereichertem Ätzmittel bereit ist oder nicht. Die Elektrolysezelle ihrerseits kann vollständig unabhängig von dem Anfall abzureicherndem Ätzmittel aus der Ätzmaschine bzw. dem Bedarf der Ätzmaschine an abgerei- chertem Ätzmittel arbeiten. Sie wird stillgesetzt, wenn die der zweite Puffertank leer ist. Ein Ein- und Ausschalten der Elektrolysezelle ist durch die Pufferwirkung der Puffer¬ tanks nur in größeren zeitlichen Abständen erforderlich.
Aus Sicherheitsgründen sollte die Elektrolysezelle auch bei einem zweiten Dichtewert, der unter dm oben genannten Dichtewert liegt, abgeschaltet werden.
Zweckmäßig ist, wenn die Elektrolysezelle durch Abschalten der Pumpe, welche das Ätzmittel durch die Elektrolysezelle umwälzt, bei anliegender Spannung außer Funktion gesetzt wird, wobei der Zelleninhalt in den zugehörigen Sammelbe¬ hälter fließt.
Wenn, wie in Anspruch 4 dargelegt, das der Atzmaschine aus dem ersten Puffertank zugeführte Ätzmittel und das dem zweiten Puffertank aus der Ätzmaschine zugeführte Ätzmittel durch einen Wärmetauscher geführt werden, wird Energie ge¬ spart. Das aus dem ersten Puffertank in die Ätzmaschine eingebrachte Ätzmittel muß nämlich auf die dortige Arbeits- temperatur gebracht werden; die erforderliche Wärme kann dem Ätzmittel in erheblichem Umfange entzogen werden, wel¬ ches aus der Ätzmaschine in den zweiten Puffertank abgeführt wird.
Dabei ist wiederum von Vorteil, wenn die Mündungsstelle der Leitung, über welche der Ätzmaschrne Ätzmittel ent¬ nommen wird, in der Höhe des Betriebsniveaus des Sumpfes der Ätzmaschine liegt, und wenn die Förderleistung der Pumpe, welche der Ätzmaschine Ätzmittel entnimmt, gering¬ fügig über der Förderleistung der Pumpe liegt, welche der Ätzmaschine Ätzmittel zuführt. Auf diese Weise ist auto- matisch, ohne besondere zusätzliche Maßnahmen wie Niveau- fühler oder dergleichen, gewährleistet, daß der Füllstand im Pu peπsumpf stets konstant bleibt. Durch die höhere Förderleistung der abführenden Pumpe kann nämlich der Füll¬ stand niemals über die Mündungsstelle der Entnah elei- tung ansteigen.
In Ätzanlagen der eingangs genannten Art, verstärkt aber bei der erfindungsgemäßen Ausgestaltung, treten Flüssig¬ keitsverluste durch Verdunstung ein. Diese müssen ausge- glichen werden. Hierzu ist nach einem Merkmal der Erfindung eine Wasser-Steuereinheit vorgesehen, welche die Summe der Füllstände in den verschiedenen Sümpfen, Behältern und Tanks durch Zugabe von Frischwasser konstant hält.
Schaltungstechπisch und apparativ ist dabei diejenige Aus¬ führungsform besonders günstig, bei welcher
a) die Füllstände in den Puffertanks durch Niveaufühler überwacht werden, welche mit der Wasser-Steuereinheit verbunden sind;
b) die Summe der Füllstände in den Puffertanks durch Zugabe von Frischwasser konstant gehalten wird;
c) die Füllstände in den sonstigen Teilen der Anlage un¬ abhängig von der Zugabe von Frischwasser konstant -ge¬ halten werden.
Im allgemeinen ist die obige Bedingung c) ohnehin durch die Bauweise der Ätzzelle (vergl. auch die Ausgestaltung der Erfindung nach Anspruch 5) erfüllt. In diesem Falle brauchen somit nur noch die Füllstände in den beiden Puffer- tanks überwacht zu werden, denen dann auch die entspre¬ chende Menge Frischwasser zugeführt wird.
Um nun zu vermeiden, daß die Zuführung von Frischwasser in die Puffe-rtanks zu unerwünschten Verdünnungen des hierin enthaltenen Ätzmittels führt, erfolgt vorteilhaft die Zugabe von Frischwasser in jeden der Puffertanks im Verhältnis der Füllstände dieser Puffertanks. Der vollere Puffertank erhält somit eine größere Menge Frischwasser als der leerere Puffer tank, so daß die Verdünnung durch Frischwasser in beiden Puffertanks etwa dieselbe ist.
Ein besonderer Vorteil der erfindungsgemäßen Verwendung von Puffertanks besteht darin, daß gemäß Anspruch 8 die Kapazität der Elektrolysezelle kleiner als die Kapazität der Atzmaschine sein kann. Dabei wird der Tatsacne Rechnung getragen, daß im allgemeinen die tägliche BetrleDsdauer der Atzmaschine der normalen Arbeitszeit im Betrieb ent¬ spricht (z.B. 8 Stunden), wahrend die Elektrolysezelle problemlos rund um die Uhr, also 24 Stunden am Tag, betrie¬ ben werden kann. Entsprechend den unterschiedlichen Betriebs zeiten der Elektrolysezelle und der Atzmaschine muß das Fassungs ermögen der Puffertanks dimensioniert werden.
Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wird nachfolgend an¬ hand der Zeichnung näher erläutert; die einzige Figur zeigt schematisch eine Anlage zum Ätzen von Gegenständen.
Die in der Zeichnung dargestellte Anlage zum Ätzen von Gegenständen umfaßt als Hauptkomponenten eine Ätzmaschine 1 , eine Dosiereinheit 2 , einen ersten Puffertank 3, einen zweiten Puffertank 4, eine Elektrolyseze-lle 5 sowie einen Sammelbehälter 6 für aus der Elektrolysezelle 5 abgelasse¬ nes Ätzmittel .
Der Aufbau der Ätzmaschine 1 ist grundsätzlich bekannt: Die zu ätzenden Gegenstande 7 werden im kontinuierlichen Durchlaufverfahren von einem Einlauf 8 zu einem Auslauf 9 der Ätzmaschine auf einem Rollenfördersystem 10 bewegt. Sie passieren dabei einen oberen Düsenstock 11 sowie einen unteren. Düsenstuck 12, von denen sie mit Ätzmittel besprüht werden. Dieses wird von einer Pumpe 13, die saugseitig mit dem Sumpf 14 der Ätzmaschine verbunden ist, den Düsenstöcken 11, 12 zugeführt. Von den zu ätzenden Gegenständen 7 tropft das Ätzmittel in den Sumpf zurück, wobei es aufgrund des Ätzvorganges und durch Verdampfungsvorgänge seine chemische Zusammensetzung ändert.
Zur Überwachung und Regelung der chemischen Zusammensetzung des Ätzmittels in der Ätzmaschine 1 ist die Dosiereinheit 2 vorgesehen. Der Sumpf 14 der Ätzmaschine 1 steht über eine Verbindungsleitung 15 mit einem Behälter 16 der Dosier¬ einheit 2 in Verbindung. Eine Pumpe 17 entnimmt dem Behälter 16 kontinuierlich Ätzmittel und leitet dieses im Kreislauf . über eine pH-Meßeinrichtung 18 sowie eine Dichtemeßeinrich¬ tung 19 in den Behälter 16 zurück. Die Druckseite der Pumpe 17 ist außerdem mit zwei Injektoren 20, 21 verbunden, in denen dem durchströmenden Ätzmittel NH3 zugemischt wird. In dem in der Zeichnung linken Injektor 20 wird dem durch¬ strömenden Ätzmittel HH ~- beigegeben, welches aus einem Vorratsbehälter stammt und dessen Strömung von einem Magnet- ventil 22 bestimmt wird. Das Magnetventil 22 wird dabei elektrisch von der pH-Meßeinrichtung 18 angesteuert. Durch Zugabe von NH3 über das Magnetventil 22 wird also mittels der pH-Meßeinrichtung 18 ein Mindest-pH-Wert des Ätzmittels in der Ätzmaschine 1 sichergestellt.
Über den in der Zeichnung rechten Injektor 21 wird das von der Elektrolysezelle 5 abgesaugte Gas, welches im wesentli¬ chen Ammoniak enthält, in das Ätzmittel zurückgegeben. Auf diese Weise werden die Verdunstungsverluste an NH3 klein- gehalten und Umweltprobleme reduziert.
Mittels der oben erwähnten Dichtemeßeinrichtung 19 wird die Dichte des Atzmittels in der Atzmaschine 1 , die sich ohne besondere Vorkehrungen durch das von den Gegenstanden 7 abgeätzte Metall (im Falle von Leiterplatten im allgemeinen Kupfer) erhohen wurde, auf konstantem Wert gehalten. Dies geschieht in folgender Weise:
Der in der Zeichung linke Puffertank 3 enthalt einen Vorrat an Ätzmittel, welcher in weiter unten beschriebener Weise von der Elektrolysezelle 5 her zugeführt wurde. Der in der Zeichnung rechte Puffertank 4 dagegen enthalt mit Kupfer angereichertes Atzmittel höherer Dichte welches in eben¬ falls noch zu beschreibender Weise der Elektrolysezelle 5 zur Abreicherung zugeleitet wird.
Eine Pumpe 23 ist saugseitig über eine Leitung 24 mit dem Puffertank 3 verbunden. Sie fordert das dem Puffertank 3 entnommene, abgereicherte Atzmittel über einen Wärmetauscher
25 in den Sumpf 14 der Atzmaschine 1. Eine weitere Pumpe
26 ist über eine Leitung 27 saugseitig mit dem Sumpf 14 der Atzmaschine 1 verbunden. Die Mundungsstelle der Leitung
27 liegt in einer Hohe, welche dem Betriebsniveau des Sump¬ fes 14 in der Atzmaschine 1 entspricht. Die Pumpe 26 funrt das dem Sumpf 14 der Atzmaschine 1 entnommene Atzmittel ebenfalls durch den Wärmetauscher 25, wo zwischen dem dem Sumpf 14 zugefuhrten und dem dem Sumpf 14 entnommenen Atz¬ mittel ein Wärmeaustausch stattfindet. Das von der Pumpe 26 geforderte Atzmittel fließt dann vom Wärmetauscher 25 weiter in den zweiten Puffertank 4, in dem sich, wie oben erwähnt, mit Kupfer angereichertes Ätzmittel befindet.
Die Pumpen 23 und 26 sind elektrisch oder - wie dargestellt - mechanisch durch einen gemeinsamen Motor miteinander ver¬ bunden. Die Anordnung ist derart, daß beide Pumpen 23, 26 immer gleichzeitig betrieben werden, wobei die Forderleistun der Pumpe 26 stets etwas hoher gehalten wird als die För¬ derleistung der Pumpe 23. Auf diese Weise ist sicherge¬ stellt, daß das Betriebsniveau des Atzmittels im Sumpf 14 der Ätzmaschine 1 stets durch die Mündungsstelle der Lei¬ tung 27 in den Sumpf 14 bestimmt ist.
Der in der Zeichnung rechte Puffertank 4 ist über eine Leitung 28 mit der Saugseite einer Pumpe 29 verbunden, die druckseitig über ein Rückschlagventil 30 sowie einen Durch¬ flußmengenmesser 31 mit dem Sumpf 32 der Elektrolysezelle 5 in Verbindung steht.
Der Überlauf 33 der Elektrolysezelle, aus welchem das ab- gereicherte Ätzmittel ausfließt, steht über eine Leitung 34 mit dem in der Zeichnung linken, ersten Puffertank 3 in Verbindung. Eine weitere Leitung 36, in welche ein Mag¬ netventil 37 geschaltet ist, führt vom Überlauf 34 der Elektrolysezelle 5 in den Sammelbehälter 6. Der Sumpf 38 des Sammelbehälters 6 ist über eine Leitung 39 mit einer Pumpe 40 verbunden» welche das dem Sumpf 38 entnommene Ätz¬ mittel über einen Durchflußmengenmesser 41, dem ein Rück¬ schlagventil 42 parallel geschaltet ist, dem Sumpf 32 der Elektrolysezelle 5 zuführt. Die Pumpe 40 steht druckseitig außerdem mit einem Magnetventil 43 in Verbindung, welches den Strömungsweg zu einer Dichtemeßeinrichtung 44 kontrol¬ liert. Das die Dichtemeßeinrichtung 44 durchströmende Ätz¬ mittel wird in den Auffangbehälter 6 zurückgeführ .
Parallel zur Dichtemeßeinrichtung 44 liegt ein Hydroxid- Filter 45, dessen Durchströmung bei Bedarf mittels eines Ventils 46 freigegeben werden kann.
Elektrolysezelle 5 und Sammelbehälter 6 werden in folgender Weise betrieben und geregelt:
Zu Betriebsbeginn muß die Elektrolysezelle 5 mit Ätzmittel aus dem Sammelbehälter 6 angefüllt werden. Dies geschieht mittels der Pumpe 40. Hat die Elektrolysezelle 5 ihr Füll¬ niveau erreicht, so wird dies von einem Niveaufühler 47 festgestellt, welcher das Magnetventil 43 öffnet. Hierdurch wird ein Strömungsbypass freigegeben, der die Zuströmung von Ätzmittel aus dem Sammelbehälter 6 in die Elektrolyse¬ zelle 5 auf das im kontinuierlichen Betrieb erforderliche Maß verringert. Ein Großteil des von der Pumpe 40 geförder¬ ten Ätzmittels strömt nunmehr durch die Dichtemeßeinπch- tung 44 und durch das Hydroxidfilter 45 zum Sammelbehälter 6 zurück .
Normalerweise ist das Magnetventil 37 offen. Das heißt, das Ätzmittel wird von der Pumpe 40 über die Elektrolyse¬ zelle 5, deren Überlauf 34 und das Magnetventil 37 konti¬ nuierlich umgewälzt. Gelangt jedoch aus dem Puffertank 4 Ätz¬ mittel in den Sumpf 32 der Elektrolysezelle, so steigt das Niveau im Sumpf 38 des Sammelbehälters an. Ein Niveauschal- ter 48 registriert das Ansteigen des Flüssigkeitsspiegels im Sumpf 38 und schließt das Magnetventil 37. Nunmehr fließt abgereichertes Ätzmittel über die Leitung 35 in den Puffer¬ tank 3.
Die Dichtemeßeinrichtung 44 überwacht den Kupfergehalt des von der Pumpe 40 umgewälzten Ätzmittels. Fällt dieser Kup¬ fergehalt unter einen bestimmten Wert, beispielsweise unter 30 g/1 ab, so wird die Pumpe 29 in Funktion gesetzt. Auf¬ grund der oben geschilderten Vorgänge wird hierbei eine entsprechende Menge Ätzmittel der Elektrolysezelle 5 ent¬ nommen und dem Puffertank 3 zugeführt. Die Zufuhr von angereichertem Ätzmittel aus dem Puffertank 4 erhöht die Dichte des Ätzmittels in der Elektrolysezelle 5 so weit, bis die Dichtemesseinrichtung 44 die Pumpe 29 wieder still- legt.
Die Elektrolysezelle 5 wird außer Funktion gesetzt, wenn der Puffertank 4 leer ist. Dies geschieht durch Abschalten der Pumpe 40. Dadurch fließt der Inhalt der Elektrolysezelle über die Durchflußmeßeinrichtung 41 un_d hauptsächlich über das Rückschlagventil 42, Leitung 39 und Pumpe 40 in den Sammelbehälter 6 zurück. Die Elektrolvsezelle 5 bleibt jedoch unter Spannung.
Aus Sicherheitsgründen wird die Elektrolysezelle 5 außer¬ dem immer dann stillgesetzt, wenn die Dichte des in ihr enthaltenen. Ätzmittels unter einen zweiten Wert abfällt, der unter dem oben genannten Regelpuπkt liegt.
Die gesamte, oben beschriebene Anlage enthält offensicht¬ lich zwei Regelsysteme, welche durch die beiden Puffertanks 3, 4 voneinander entkoppelt sind:
Die im ersten Regelsystem wirkende Dichtemeßeinrichtung 19 sorgt für eine konstante Dichte des Ätzmittels in der Ätzmaschine 1. Die konstante Dichte wird durch Zufuhr von abgereichertem Ätzmittel aus dem Puffertank 3 bzw. durch Abfuhr von angereichertem Ätzmittel in den Puffertank 4 bewirkt. Aufgrund der Existenz der Puffertanks 3, 4 steht unabhängig von der jeweiligen Funktion der Elektrolysezelle 5 immer abgereichertes Ätzmittel bzw. Platz für angereicher* tes Ätzmittel zur Verfügung. Das erste Regelsystem, welches als "Kern" die Dichtemeßeinrichtung 19 enthält, kann also völlig "autonom" arbeiten.
Das zweite Regelsystem enthält als steuernde Einheit die Dichtemeßeinrichtung 44. Sie sorgt dafür, daß die Dichte und somit der Kupfergehalt des Ätzmittels in der Elektro¬ lysezelle 5 auf einem bestimmten Wert gehalten wird. Dies geschieht, wie oben beschrieben, durch Ein- bzw. Ausschal¬ ten der Pumpe 29. Wiederum ist dieses Regelsystem vollstän- dig von dem erstem Regelsystem, welches die Ätzmaschine
1 beinhaltet, entkoppelt, da die Elektrolysezelle 5 unab¬ hängig vom momentanen Bedarf abgereichertes Ätzmittel in den Puffertank 3 abgeben kann. Ebenso kann der Elektrolysezelle 5 entsprechend den Anforderungen des diese beherrschenden Regelkreises stets angereichertes Ätzmittel aus dem Puffer¬ tank 4 zugeführt werden, unabhängig davon, ob nach dem Zustand in der Ätzmaschine 1 dort gera'de angereichertes Ätzmittel anfällt oder nicht.
Durch die beschriebene Entkopplung der beiden Regelsysteme ist es möglich, die Dichte des Ätzmittels an der eigentlicn entscheidenden Stelle, nämlich in der Ätzmaschine 1 selbst, mit größerer Präzision zu regeln und konstant zu halten als dies bei Verwendung nur eines Regelsystemes , welches sowohl die Ätzmaschine 1 als auch die Elektrolysezelle 5 umfaßt, erzielbar wäre. Die beiden Puffertanks 3 und 4 lassen sich jedoch in weiterer vorteilhafter Weise nutzen, worauf nunmehr eingegangen wird:
Bei bekannten Atzanlagen sind die Betriebszeiten der Atz¬ maschine 1 sowie der zur Regeneration des Atzmittels be- nutzten Elektrolysezelle 5 täglich identisch. Verwendet man, wie oben beschrieben, Puffertanks 3 und 4, so können die Betriebszeiten unterschiedlich gehalten werden. Auf diese Weise ist eine kleinere Kapazität der Elektrolvse- zelle 5 ausreichend; sie braucht nicht mehr an den Spitzen- bedarf der Atzmaschine 1 angepaßt zu werden.
Ein Beispiel :
Die Atzmaschine 1 sei so ausgelegt, daß sie 9 kg Cu pro Stunde, d.h. 72 kg bei einem 8-stundιgen Arbeitstag abatzt. Um die gleiche Kupfermenge in einer Elektrolysezelle 5 zu¬ rückzugewinnen, die 24 Stunden am Tag arbeitet, genügt für diese eine Leistung von 3 kg Cu/h. Wenn die Abreicherung in der Elektrolysezelle 50 g Cu/1 beträgt, bedeutet dies, daß 1440 1 Ätzmittel gepuffert werden müssen. Da aber in den 8 Stunden der Betriebszeit der Ätzmaschine 1 ca. 480 1 von der Elektrolysezelle 5 zurückkommenA muß jeder Puffertan 3, 4 ca. 1000 1 fassen.
Die bei Einsatz der Puffertanks 3, 4 mögliche kontinuier¬ liche Betriebsweise der Elektrolysezelle 5 verringert nicht nur den apparativen Aufwand für die gesamte Ätzanlage: sie verbessert zudem den Regenerationsvorgang in der Elektro¬ lysezelle 5.
Beim Betrieb jeder Ätzanlage, besonders aber beim Einsatz von Puffertanks 3, 4, kommt es zu Flüssigkeitsverlusten durch Verdunstung. Diese Flüssigkeitsverluste müssen aus¬ geglichen werden. Dies geschieht bei der oben beschriebenen Ätzanlage wie folgt:
Die Niveaustände in den Puffertanks 3, 4 werden durch Ni¬ veaufühler 49 bzw. 50 stufenlos überwacht. Diese sind mit einer elektronischen Wasser-Steuereinheit 51 verbunden. Letztere wiederum steuert über elektrische Leitungen, die in der Zeichnung gestrichelt dargestellt sind, ein erstes Mag- netventil 52 an, welches die Frischwasserzufuhr in den in der Zeichnung linken Puffertaπk 3 regelt, sowie ein zwei¬ tes Magnetventil 53, welches die Frischwasserzufuhr in den in der Zeichnung rechten Puffertank 4 steuert.
Durch die oben beschriebene Betriebsweise der Ätzmaschine
1 sowie der Elektrolysεzelle 5 ist sichergestellt, daß dort ohne besondere Maßnahmen ein konstanter Füllstand gewähr¬ leistet ist. Es ist daher nur noch erforderlich, dafür zu sorgen, daß die Summe der Niveaustände in den beiden Puffer- tanks 3, 4 ebenfalls konstant bleibt. Genau dies ist die Aufgabe der Wasser-Steuereinheit 51. Stellt diese ein Ab¬ sinken der Niveaustände in den Puffertanks 3, 4 in der Weise fest, daß deren Summe unter einen Sollwert abfällt, so öffnet sie die Magnetventile 52, 53, bis die Summe der Niveaustände wieder den gewünschten Wert erreicht hat. Um unerwünschte Verdünnungen des Ätzmittels, welche den Betrieb der verschiedenen Regelkreise stören könnten, zu vermeiden, erfolgt die Wasserzugabe in jeden der Puffertanks 3, 4 porportional zum jeweiligen Niveaustand in diesen Tanks. Ist also z.B. der Niveaustand im in der Zeichnung linken Puffertank 3 doppelt so hoch wie in dem in der Zeichnung rechten Puffertank 4, so erfolgt die Wasserzugabe durch die Wasser-Steuereinheit 51 in der Weise, daß in den linken Puffertank 3 doppelt so viel Wasser wie in den rechten Puffertank 4 zugegeben wird.

Claims

Patentansprüche
1. Anlage zum Ätzen von Gegenständen, insbesondere von Leiterplatten, mit
a) mindestens einer Ätzmaschine, in welcher Metall von den Gegenständen abgeätzt wird, wobei sich das Ätzmittel mit Metall anreichert;
b) mindestens einer Elektrolysezelle, in welcher angerei¬ chertes Ätzmittel abgereichert wird;
c) mindestens einem elektronischen Regelkreis, der den Austausch von Ätzmittel zwischen der Ätzmaschine und der Elektrolysezelle so steuert, daß die Dichte des Ätz¬ mittels in der Ätzmaschine im wesentlichen konstant ist;
gekennzeichnet durch
d) einen ersten Puffertank (3), der in der Verbindungslei¬ tung (35) zwischen dem Auslaß der Elektrolysezelle (5) und dem Einlaß der Ätzmaschine (1) liegt;
e) einen zweiten Puffertank (4), der in der Verbindungslei¬ tung (28) zwischen dem Auslaß der Ätzmaschine (1) und dem Einlaß der Elektrolysezelle (5) liegt;
f) einen ersten Regelkreis (15, 16, 17, 19, 23, 26), der die Dichte des Ätzmittels in der Ätzmaschine (1) über¬ wacht und bei Überschreiten eines bestimmten Dichtewertes der Ätzmaschine (1) aus dem ersten Puffertank (3) abge- reichertes Ätzmittel zuführt und aus der Ätzmaschine
(1) eine entsprechende Menge angereicherten Ätzmittels in den zweiten Puffertank (4) abführt; g) einen zweiten Regelkreis (40, 43, 44), der die Dichte des Ätzmittels in der Elektrolysezelle (5) überwacht und bei Unterschreiten eines bestimmten Dichtewertes der ** Elektrolysezelle (5) aus dem zweiten Puffertank (4) angereichertes Ätzmittel zuführt und aus der Elektro¬ lysezelle (5) eine entsprechende Menge abgereicherten Ätzmittels in den ersten Puffertank (3) abführt,
derart, daß die beiden Regelkreise durch die Puffertanks (3, 4) voneinander entkoppelt sind und unabhängig vonein¬ ander arbeiten.
2. Ätzanlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrolysezelle (5) bei Unterschreiten eines zweiten Dichtewertes, der unter dem ersten Dichtewert liegt, außer Funktion gesetzt wird.
3. Ätzanlage nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Elektrolysezelle (5) durch Abschatten der Pumpe
(40), welche das Ätzmittel durch die Elektrolysezelle (5) umwälzt, bei an den Elektroden anliegender Spannung außer Funktion gesetzt wird.
4. Ätzanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das der Ätzmaschine (1) aus dem ersten Puffertank (3) zugeführte Ätzmittel und das dem zweiten Puffertank (4) aus der Ätzmaschine (1) zugeführte Ätzmittel durch einen Wärmetauscher (25) geführt werden.
5. Ätzanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Mündungsstelle der Leitung (27), über welche der Ätzmaschine (1) Ätzmittel entnommen wird, in der Höhe des Betriebsniveaus des Sumpfes (14) der Ätzmaschine (1) liegt und daß die Förderleistung der Pumpe (26)r welche der Ätzmaschine (1) Ätzmittel ent¬ nimmt, geringfügig über der Förderleistung der Pumpe (23) liegt, welche der Ätzmaschine (1 ) Ätzmittel zuführt.
6. Ätzanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß eine Wasser-Steuereinheit (51 ) vorgesehen ist, welche die Summen der Füllstände in den verschiedenen Sümpfen (14, 32), Behältern (16, 38) und Tanks (3, 4) der Ätzanlage durch Zugabe von Frischwasser konstant hält.
7. Ätzanlage nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
a) die Füllstände in den Puffertanks (3, 4) durch Niveau¬ fühler (49, 50) überwacht werden, welche mit der Wasser- Steuereinheit (51 ) verbunden sind;
b) die Summe der Füllstände in den Puffertanks (3, 4) durch Zugabe von Frischwasser konstant gehalten wird;
c) die Füllstände in den sonstigen Teilen der Anlage unab- hängig von der Zugabe von Frischwasser konstant gehalten werden .
8. Ätzanlage nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Zugabe von Frischwasser in jeden der Puffertanks (3, 4) im Verhältnis der Füllstände dieser Puffertanks (3, 4 ) erfolgt .
9. Ätzanlage nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Kapazität der Elektro- lysezelle (5) kleiner als die Kapazität der Ätzmaschine (1 ) ist.
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