UA81374C2 - Device for treating liquid by plasma-chemical method - Google Patents
Device for treating liquid by plasma-chemical method Download PDFInfo
- Publication number
- UA81374C2 UA81374C2 UAA200611694A UAA200611694A UA81374C2 UA 81374 C2 UA81374 C2 UA 81374C2 UA A200611694 A UAA200611694 A UA A200611694A UA A200611694 A UAA200611694 A UA A200611694A UA 81374 C2 UA81374 C2 UA 81374C2
- Authority
- UA
- Ukraine
- Prior art keywords
- liquid
- plasma
- reaction channel
- differs
- processed
- Prior art date
Links
- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000006260 foam Substances 0.000 claims description 5
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 2
- ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 232Th Chemical compound [232Th] ZSLUVFAKFWKJRC-IGMARMGPSA-N 0.000 claims 1
- 229910052776 Thorium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910001080 W alloy Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 abstract 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 11
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 5
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 3
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 3
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 2
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 2
- 229910001385 heavy metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000010349 pulsation Effects 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000003209 petroleum derivative Substances 0.000 description 1
- 230000000144 pharmacologic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
Description
Опис винаходуDescription of the invention
Дійсний винахід відноситься до пристроїв для синтезу органічних | неорганічних продуктів, очищення, 2 знераження стічних вод і рідких середовищ, активації розчинів. Може бути використано в хімічних, електрохімічних, гальванічних кіно- фотовиробництвах, об'єктах санітарно-тгігієнічного, медичного, фармакологічного призначення, атомній енергетиці, харчовій та інших галузях промисловості.The present invention relates to devices for the synthesis of organic compounds of inorganic products, cleaning, 2 neutralization of wastewater and liquid media, activation of solutions. It can be used in chemical, electrochemical, galvanic film and photo production, objects of sanitary and hygienic, medical, pharmacological purpose, atomic energy, food and other industries.
Відомий пристрій для випалювання нафто-вміщених домішок зі стічних вод у стовпі відкритої електричної дуги (1). Пристрій складається з корпусу з встановленими у середині кільцевими електродами і по вісі 710 стрижневим електродом. Зовні корпусу встановлена електрична обмотка. Між корпусом і електричною обмоткою розміщена охолодна сорочка. Забруднена вода з необхідною для згоряння домішкою повітря подається у середину пристрою. В наслідок проходження води і повітря через стовп дуги нафтопродукти вигоряють, а продукти згорання виводяться з пристрою. Недоліком зазначеного пристрою є: - неможливість використання даного пристрою для інших цілей через відсутність у відкритій електричній 12 дузі ініціюючих факторів для здійснення інших хімічних процесів; - висока температура у зоні електричної дуги, що сприяє інтенсивному випару рідини, яку оброблюють; - необхідність додавання повітря з метою ініціювання процесу горіння нафтовміщених домішок; - неможливість здійснення процесу в плівковому режимі що погіршує параметри ведення процесу очищення стічних вод; - неможливість виділення зі стічних вод іонів важких металів; - неможливість ведення процесу в режимі, близькому до режиму плазмового розряду, який би забезпечував ініціюючі фактори для проведення процесу очищення забруднених рідких середовищ.A known device for burning oil-containing impurities from sewage in a column of an open electric arc (1). The device consists of a housing with ring electrodes installed in the middle and a rod electrode along the 710 axis. An electrical winding is installed outside the case. A cooling jacket is placed between the housing and the electrical winding. Contaminated water with air admixture necessary for combustion is fed into the middle of the device. As a result of the passage of water and air through the column of the arc, petroleum products burn out, and the products of combustion are removed from the device. The disadvantage of the specified device is: - the impossibility of using this device for other purposes due to the absence of initiating factors for the implementation of other chemical processes in an open electric 12 arc; - high temperature in the area of the electric arc, which contributes to intensive evaporation of the liquid being processed; - the need to add air in order to initiate the process of combustion of oil-containing impurities; - the impossibility of carrying out the process in the film mode, which worsens the parameters of the wastewater treatment process; - impossibility of extracting heavy metal ions from waste water; - the impossibility of conducting the process in a mode close to the plasma discharge mode, which would provide the initiating factors for carrying out the process of cleaning contaminated liquid media.
Відомо також пристрій для очищення рідини |2), що представляє собою камеру іонізатора, який виконано з ізольованими стінками для розміщення електродів, які підключені до джерела високої напруги, та з с 22 встановленими шиберами. Нижня частина камери виконана у вигляді заземленого піддона з підведенням і Го) відведенням рідини, яку оброблюють, а верхній частині розміщено патрубки підведення окислювача, які з'єднані трубопроводом з патрубками підведення рідини, яка очищується.Also known is a device for cleaning liquid |2), which is an ionizer chamber, which is made with insulated walls for placing electrodes that are connected to a high voltage source, and with 22 installed shutters. The lower part of the chamber is made in the form of a grounded pallet with the supply and discharge of the liquid being processed, and the upper part contains the nozzles for the supply of the oxidizer, which are connected by a pipeline to the nozzles for the supply of the liquid to be cleaned.
Недоліком відомого технічного рішення є: - громіздкість; в - неможливість виділення зі стічних вод іонів важких металів, радіонуклідів, очищення стічних вод від - органічних і неорганічних домішок та сполук, здійснення синтезу органічних і неорганічних продуктів; - неможливість проведення процесу в режимі плазмового контактного розряду; о - неможливість здійснення процесу без виділення токсичних домішок у повітря; «-- - робота пристрою з використанням системи подачі окислювача в реагуючий простір.The disadvantage of the known technical solution is: - bulkiness; c - impossibility of extracting heavy metal ions, radionuclides from wastewater, cleaning wastewater from - organic and inorganic impurities and compounds, synthesis of organic and inorganic products; - the impossibility of carrying out the process in the plasma contact discharge mode; o - the impossibility of carrying out the process without releasing toxic impurities into the air; "-- - operation of the device using the oxidant supply system into the reaction space.
Зо Розкриття винаходу. В основу винаходу поставлено задачу створення пристрою, що забезпечує проведення со широкого спектру технологічних процесів у різних виробництвах з використанням контактної нерівноважної плазми. Поставлена задача досягається тим, що пристрій (Фіг., розріз і перетин) для проведення плазмохімічних процесів складається з корпусу реактора 1, який являється одночасно електродом розрядної камери, « приймальної ємності З для збирання рідини, яку оброблено, реакційного каналу 8, сорочки 11, регулятора подачі З 50 рідини 14, демпфера-піногасника 4 у вигляді перфорованого циліндричного стакану, підіймального механізму 12 с і шарніру 13, які забезпечують нахил реактора щодо горизонтальної площини, кришки реактора 2, на якійFrom Disclosure of Invention. The invention is based on the task of creating a device that ensures a wide range of technological processes in various industries using non-equilibrium contact plasma. The set task is achieved by the fact that the device (Fig., section and section) for conducting plasma chemical processes consists of the reactor body 1, which is simultaneously the electrode of the discharge chamber, the receiving container C for collecting the liquid that has been processed, the reaction channel 8, the jacket 11, supply regulator C 50 of liquid 14, damper-foam suppressor 4 in the form of a perforated cylindrical cup, lifting mechanism 12 s and hinge 13, which ensure the inclination of the reactor relative to the horizontal plane, the reactor cover 2, on which
Із» розміщено ряди електродів 6 з радіаторами 7 і датчиком 10 наявності рідини в реакційному каналі. Робочий елемент електрода виконано у вигляді сферичного конусу, вершина якого направлена убік поверхні рідини, яку оброблюють. Робочу частину електрода виготовлено з торійованого вольфраму, яку вмонтовано в сферичну обійму на її конічному кінці. Електроди гальванічно розв'язані між собою, корпусом 1 і кришкою 2. Кількість со електродів задають за умови забезпечення необхідного часу перебування рідини в реакційному просторі з - метою досягнення заданої ефективності процесу. Ширину реакційного каналу формують діелектричними накладками 9. Переливний поріг 5 відокремлює реакційній простір від накопичувача і демпфера-піногасника. о Пристрій працює у такий спосіб. У робочому просторі реактора створюють розрядження, яке постійно -І 20 підтримують в процесі роботи пристрою на рівні значення, при якому не настає процес природного кипіння рідини при сталій температурі рідини в реакторі. З метою забезпечення ізотермічних умов процесу хімічногоFrom" there are rows of electrodes 6 with radiators 7 and a sensor 10 for the presence of liquid in the reaction channel. The working element of the electrode is made in the form of a spherical cone, the top of which is directed to the side of the surface of the liquid being processed. The working part of the electrode is made of thoriated tungsten, which is mounted in a spherical sleeve at its conical end. The electrodes are galvanically disconnected from each other, the body 1 and the cover 2. The number of electrodes is set under the condition of ensuring the required time of the liquid in the reaction space in order to achieve the specified efficiency of the process. The width of the reaction channel is formed by dielectric pads 9. The overflow threshold 5 separates the reaction space from the accumulator and the damper-foam suppressor. o The device works in the following way. A discharge is created in the working space of the reactor, which is constantly -I 20 maintained during the operation of the device at a level of value at which the process of natural boiling of the liquid does not occur at a constant temperature of the liquid in the reactor. In order to ensure isothermal conditions of the chemical process
Т» перетворення в рідині, яку оброблюють, в простір сорочки 11 подають холодоагент з метою охолодження реакційного каналу. Рідину, яку оброблюють в проточному режимі подають крізь регулятор рідини 14, демпфер-піногасник 4 у приймальну ємність З і далі крізь переливний поріг 5 у реакційний канал 8 реактора. 29 Наявність рідини в реакційному каналі контролюється датчиком 10.T" transformation in the liquid being processed, a refrigerant is supplied to the space of the shirt 11 in order to cool the reaction channel. The liquid, which is processed in the flow mode, is fed through the liquid regulator 14, the damper-foam suppressor 4 into the receiving container C and then through the overflow threshold 5 into the reaction channel 8 of the reactor. 29 The presence of liquid in the reaction channel is monitored by sensor 10.
ГФ) Контактна нерівноважна плазма над шаром рідини створюється за допомогою електродів, на які подають юю необхідні напруга та струм, при цьому електрод (катод), який є корпусом 1 реактора, знаходиться під шаром рідини, а електроди 6 (аноди) розташовані в газовій фазі на кришці реактора. Електроди 6 розташовані в зоні реакційного каналу на відстані 5-3О0мм від поверхні рідини, яку оброблюють. Формування розряду 60 забезпечується високою напругою при малих струменях, обробка рідини забезпечується робочим струмом при більш низьких напругах. У зоні дії розрядів знаходиться поверхня рідини в реакційному каналі. Пройшовши реакційну зону першого електрода, який знаходиться в газовій фазі, рідина, яку оброблюють, попадає під дію другого електрода і так далі. Кількість електродів у просторі реакційного каналу і кількість паралельних реакційних каналів вибирається за умови необхідного часу контакту плазмового розряду з рідиною, завдяки чому бо забезпечується досягнення заданої ефективності обробки рідини і її продуктивності. Форма конфігурації електродів дозволяє стабілізувати плазмовий розряд. Оброблена контактною нерівноважною низькотемпературною плазмою рідина виводиться з реактора через патрубок у приймальну ємність. Товщину шару рідини (1,5-10мм) забезпечують шляхом зміни кута нахилу пристрою за допомогою підіймального механізму 12, шарніру 13 і регулятора рідини 14.HF) Contact non-equilibrium plasma above the liquid layer is created with the help of electrodes, which are supplied with the necessary voltage and current, while the electrode (cathode), which is the body 1 of the reactor, is located under the liquid layer, and electrodes 6 (anodes) are located in the gas phase on the lid of the reactor. Electrodes 6 are located in the zone of the reaction channel at a distance of 5-300 mm from the surface of the liquid being processed. Discharge formation 60 is provided by high voltage at small jets, liquid processing is provided by operating current at lower voltages. The surface of the liquid in the reaction channel is in the area of action of the discharges. After passing through the reaction zone of the first electrode, which is in the gas phase, the liquid being processed is exposed to the action of the second electrode, and so on. The number of electrodes in the space of the reaction channel and the number of parallel reaction channels is selected on the condition of the required contact time of the plasma discharge with the liquid, which ensures the achievement of the specified efficiency of liquid processing and its productivity. The shape of the electrode configuration allows to stabilize the plasma discharge. The liquid treated with contact non-equilibrium low-temperature plasma is discharged from the reactor through a nozzle into a receiving container. The thickness of the liquid layer (1.5-10 mm) is provided by changing the angle of inclination of the device using the lifting mechanism 12, the hinge 13 and the liquid regulator 14.
Для створення плазми в реакторі застосовано електричний блок живлення з параметрами: вхідна напруга - перемінна, однофазна, 50Гц, 2208, бОГц, 118; вихідна напруга - постійна, пульсуюча, регульована в межах 700-15008; струм навантаження - максимальне значення 0,25А; напруга підпалу - амплітуда 12000-15000КВ, тривалість імпульсу 1,0-1,5мс. 70 Додатково до аноду реактора відносно катоду підключено пристрій підпалу, що формує імпульси амплітудою до 15КВ при тривалості до 1,5мс. Імпульси підпалу жорстко синхронізовані з фазою пульсуючої напруги.To create plasma in the reactor, an electric power supply unit is used with the following parameters: input voltage - alternating, single-phase, 50Hz, 2208, bOHHz, 118; output voltage - constant, pulsating, adjustable within 700-15008; load current - maximum value 0.25A; ignition voltage - amplitude 12000-15000KV, pulse duration 1.0-1.5ms. 70 Additionally, an ignition device is connected to the anode of the reactor relative to the cathode, which generates pulses with an amplitude of up to 15 kV and a duration of up to 1.5 ms. The ignition pulses are rigidly synchronized with the phase of the pulsating voltage.
У момент формування імпульсу підпалу відбувається пробій вакуумного проміжку між електродами реактора, опір проміжку різко знижується в результаті чого починає текти анодний струм, який створює плазму.At the moment of formation of the ignition pulse, a breakdown of the vacuum gap between the reactor electrodes occurs, the resistance of the gap decreases sharply, as a result of which the anodic current begins to flow, which creates a plasma.
Напруга плазмового розряду практично незмінна (550-90083) і залежить в основному від ступеня /5 розрідженості газу в середині реактора, Величина струму в плазмовому стовпі обумовлена електричним опором плазми і величиною прикладеної напруги до системи плазмовий стовп - баластовий резистор.The voltage of the plasma discharge is practically unchanged (550-90083) and depends mainly on the /5 degree of rarefaction of the gas in the middle of the reactor. The magnitude of the current in the plasma column is determined by the electrical resistance of the plasma and the value of the applied voltage to the plasma column - ballast resistor system.
В електричному блоці живлення реалізовано принцип фазового методу регулювання величини напруги, тобто середнє значення анодної напруги залежить від фази пульсуючої напруги на аноді і моменту подачі імпульсу, що сприяє підпалу. Плазма виникає в момент підпалу і гасне в момент закінчення пульсації анодної 2о напруги. Зазначений процес повторюється з частотою 100Гц. Регулювання струму в плазмовому стовпі здійснюється за рахунок зміни моменту підпалу відносно пульсації анодної напруги за допомогою синхронізуючого пристрою, а силовим регулюючим пристроєм, таким чином, є безпосередньо сам реактор. 1. В.И. Льісенко. Устройство для вьіделения нефтесодержащих примесей из сточньїх вод. А.С. (СССР)In the electric power supply unit, the principle of the phase method of voltage regulation is implemented, i.e. the average value of the anode voltage depends on the phase of the pulsating voltage on the anode and the moment of the pulse, which contributes to ignition. The plasma appears at the moment of ignition and extinguishes at the moment of the end of the pulsation of the anode 2o voltage. The specified process is repeated with a frequency of 100 Hz. Current regulation in the plasma column is carried out by changing the ignition moment relative to the pulsation of the anode voltage with the help of a synchronizing device, and the power regulating device, thus, is directly the reactor itself. 1. V.I. Lysenko. Device for removing oil-containing impurities from wastewater. A.S. (USSR)
Мо497244. М. Кл. СО2В 1/82, ВОЗС 5/00. Опубл. 30.12.75. Б. Мо48. сч 2. А.А. Лях, А.А. Лях, В.В.Крьілов, Н.И. Крьілова, А.И. Ройтенберг. Установка для очистки жидкостей. А.С. (СССР) Мо1068394. М. Кл. СО2Е 1/46, ВОЗС 5/00, ВО10 35/06 Опубл. 23.01.84. Б. Мо3. і)Mo497244. M. Cl. СО2В 1/82, VOZS 5/00. Publ. 30.12.75. B. Mo48. sch 2. A.A. Lyakh, A.A. Lyakh, V.V. Kryilov, N.I. Kryilova, A.I. Roitenberg. Installation for cleaning liquids. A.S. (USSR) Mo1068394. M. Cl. СО2Е 1/46, VOZS 5/00, VO10 35/06 Publ. 23.01.84. B. Mo3. and)
Claims (5)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| UAA200611694A UA81374C2 (en) | 2006-11-06 | 2006-11-06 | Device for treating liquid by plasma-chemical method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| UAA200611694A UA81374C2 (en) | 2006-11-06 | 2006-11-06 | Device for treating liquid by plasma-chemical method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| UA81374C2 true UA81374C2 (en) | 2007-12-25 |
Family
ID=39228743
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| UAA200611694A UA81374C2 (en) | 2006-11-06 | 2006-11-06 | Device for treating liquid by plasma-chemical method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| UA (1) | UA81374C2 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2533506C1 (en) * | 2013-09-02 | 2014-11-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный строительный университет" (ФГБОУ ВПО "МГСУ") | Method of activating hardening water of cement-based composites |
| CN107051337A (en) * | 2017-06-16 | 2017-08-18 | 云南大学 | A kind of nonequilibrium state photocatalytic reaction device and its application |
| PL428488A1 (en) * | 2019-01-03 | 2019-05-06 | Lubelska Polt | Device for plasmination, preferably of plants |
-
2006
- 2006-11-06 UA UAA200611694A patent/UA81374C2/en unknown
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| RU2533506C1 (en) * | 2013-09-02 | 2014-11-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Московский государственный строительный университет" (ФГБОУ ВПО "МГСУ") | Method of activating hardening water of cement-based composites |
| CN107051337A (en) * | 2017-06-16 | 2017-08-18 | 云南大学 | A kind of nonequilibrium state photocatalytic reaction device and its application |
| CN107051337B (en) * | 2017-06-16 | 2023-01-31 | 云南大学 | Non-equilibrium state photocatalytic reaction device and application thereof |
| PL428488A1 (en) * | 2019-01-03 | 2019-05-06 | Lubelska Polt | Device for plasmination, preferably of plants |
| PL234121B1 (en) * | 2019-01-03 | 2020-01-31 | Lubelska Polt | Plasma device, especially for plants |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4796733B2 (en) | Gas decomposition apparatus and plasma equipment using the same | |
| EP3072854B1 (en) | Liquid treatment device and liquid treatment method | |
| US12245352B2 (en) | Plasma generator | |
| US20170291830A1 (en) | System and Method for Plasma Discharge in Liquid | |
| KR102502825B1 (en) | Apparatus for removing scale from cyclic water using water-jet | |
| WO2009033436A1 (en) | Apparatus for decontamination and disinfection of aqueous solutions | |
| KR101497591B1 (en) | Apparatus for treating water using discharge in reactor | |
| KR101984437B1 (en) | Water treating apparatus using plasma | |
| KR950012619A (en) | Apparatus and Method for Reducing Contaminants in Plasma Etch Chambers | |
| UA81374C2 (en) | Device for treating liquid by plasma-chemical method | |
| KR101280445B1 (en) | Underwater discharge apparatus for purifying water | |
| US12295090B2 (en) | System and method for plasma discharge in liquid | |
| KR20170126666A (en) | Water treatment apparatus using plasma | |
| RU2326820C1 (en) | Method of cleaning and sterilisation of liquid or gas media and device for method implemention | |
| JPWO2009066395A1 (en) | Plasma processing equipment | |
| JP6541105B2 (en) | Liquid treatment device | |
| JP2013081916A (en) | Water treatment apparatus | |
| RU61705U1 (en) | ELECTROHYDRAULIC DEVICE FOR CLEANING AND DISINFECTING INDUSTRIAL AND WASTE WATERS | |
| RU156243U1 (en) | DEVICE FOR CLEANING CONTAMINATED WATER | |
| KR101371521B1 (en) | Plasma powder treating apparatus having rotating cylinder structure comprising tubular plasma structure | |
| RU174491U1 (en) | DEVICE FOR CLEANING CONTAMINATED WATER | |
| RU2256007C9 (en) | Apparatus for producing heat power, hydrogen and oxygen | |
| JP5844124B2 (en) | Starting method of exhaust gas treatment equipment | |
| JP2015116558A (en) | Liquid processing equipment | |
| UA77676C2 (en) | Method for water purification by electric discharges and mechanism for realizing the same |