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TWM672470U - 植物培育系統 - Google Patents

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TWM672470U
TWM672470U TW114204536U TW114204536U TWM672470U TW M672470 U TWM672470 U TW M672470U TW 114204536 U TW114204536 U TW 114204536U TW 114204536 U TW114204536 U TW 114204536U TW M672470 U TWM672470 U TW M672470U
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TW
Taiwan
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substrate layer
outer substrate
plant
plant cultivation
cultivation system
Prior art date
Application number
TW114204536U
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English (en)
Inventor
張德盛
Original Assignee
永記造漆工業股份有限公司
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Abstract

一種植物培育系統,包含一外覆基質層、一內基質塊、一圍繞界定出一用以供該外覆基質層設置之容納空間的外圍基質層,及一容器。該外覆基質層包括一圍繞界定出一容室的圍壁部,及一設置於該容室之底部且圍繞界定出一沿一縱方向延伸之通孔,並具有一朝向上方之承接面的基礎部。該內基質塊用以放置於該容室且由該承接面所支撐,並圍繞界定出一沿該縱方向延伸且適用於容納一植株之根部的栽種孔。該容器用以因應換盆需求,選擇配置為供該內基質塊已放置於該容室之該外覆基質層,或該外覆基質層已放置於該容納空間之該外圍基質層盛裝。

Description

植物培育系統
本新型是有關於一種植物的培育用品,特別是指一種植物培育系統。
針對各種不同植物的培育,都需要因應所述植物的生長習性、外觀型態等等的條件,選擇適合的培育模式。其中,若是在盆器中栽種例如蘭花之多年生草本植物,從開始培育直到成長開花的各個生長階段之間,通常都會需要進行「換盆」。藉此,除了隨著植物的成長而提供充足的成長空間,也是為了因應植物在根系,甚至整個植株對於通風的高度要求。
然而,換盆的作業畢竟是使植物脫離當下生長的環境,於是進行換盆的當下,為了盡可能降低環境變化對於植物的不良影響,不僅需要時時留意根系與使用之介質間的接觸狀況,還要避免陽光直射根系。即使在換盆完成,後續仍需要在灌溉、光線、通風、施肥等等作業都進行調整,藉此降低植物生長的「壓力」,確保其可以盡快適應換盆後的新環境,才能確實達成換盆的目的。因此,即使對於較有經驗的種植者而言,換盆作業不僅仍是冒著植物後續適應不良的風險,在繁複的眾多步驟下,又有許多需要留意的細節,更何況是對於較無相關經驗種植者來說,則更是難以面面俱到。
因此,本新型之目的,即在提供一種較容易完成必要之換盆操作,以因應特定種類之植物生長需求的植物培育系統。
於是,本新型植物培育系統,包含一外覆基質層、一內基質塊、一圍繞界定出一用以供該外覆基質層設置之容納空間的外圍基質層,及一容器。
該外覆基質層包括一圍繞界定出一容室的圍壁部,及一設置於該容室之底部且圍繞界定出一沿一縱方向延伸之通孔,並具有一朝向上方之承接面的基礎部。
該內基質塊用以放置於該容室且由該承接面所支撐,並圍繞界定出一沿該縱方向延伸且適用於容納一植株之根部的栽種孔。
該容器用以供該內基質塊已放置於該容室之該外覆基質層,及該外覆基質層已放置於該容納空間之該外圍基質層的其中之一盛裝。
本新型之功效在於:該內基質塊可因應所要栽種之該植株的特性,預先作為栽種的基底。根據該植株的生長需求,該外覆基質層及該外圍基質層都能調整所需的尺寸,並透過逐層結構之間形成的縫隙產生良好的通風效果,且只要配合選用該容器,在不同的生長階段,可逐步採取只將該內基質塊已設置於該容室之該外覆基質層盛裝於該容器的使用狀態,以及將該外圍基質層連同該外覆基質層一同盛裝於該容器的使用狀態,藉此能在不移除該內基質塊而能簡便操作的情況下,提供至少能因應兩個階段換盆的功能。
在本新型被詳細描述之前,應當注意在以下的說明內容中,類似的元件是以相同的編號來表示。
參閱圖1,為本新型植物培育系統之一第一實施例,本第一實施例包含一外覆基質層1、一適用於預先容納一待栽培之植株的內基質塊2、一圍繞界定出一用以供該外覆基質層1設置之容納空間30的外圍基質層3,及一用以因應該植株之成長階段而進行換盆的容器4。在本實施例中,是以種植生長週期為4~6週的蘭花為例來說明,但實際實施時並不限於種植蘭花。
首先,就材質的選用而言,該外覆基質層1、該內基質塊2,及該外圍基質層3的材質,是選自發泡煉石、煤渣、椰纖、軟木皮、玻璃棉、有機及無機纖維、泥炭土、真珠石、甲醛酚、塑膠粒、聚乙烯、聚合穩定澱粉、聚苯乙烯、聚胺酯、岩棉、水草、聚甲醛、蛭石、火山岩、沸石,及上述的任意組合。更具體而言,為了確保所種植之植物在根系的透氣需求,較佳是採取將多個呈顆粒狀的粒料彼此接合的方式,構成該外覆基質層1、該內基質塊2,及該外圍基質層3的型態構造,藉此形成足夠的孔隙。另外,該外覆基質層1的含水量高於該外圍基質層3的含水量。
參閱圖1與圖2,該外覆基質層1包括一圍繞界定出一容室110的圍壁部11,及一設置於該容室110之底部且圍繞界定出一沿一縱方向延伸之通孔120,並具有一朝向上方之承接面121的基礎部12。為了配合較普遍採用之該容器4所呈現之上寬下窄的型態,該外覆基質層1整體的徑寬是由上而下呈漸縮。其中,該圍壁部11具有二個朝向彼此且間隔界定出一沿徑向延伸且連通於該容室110之通槽119的端面111,也就是說,該外覆基質層1的外觀型態,概是如圖2所呈現地採用一具有一定厚度的片狀構造,且是藉由使該等端面111朝向彼此之方向捲曲的方式來構成,藉此提供一定之適用規格的餘裕。
該內基質塊2用以放置於該容室110且由該承接面121所支撐,並圍繞界定出一沿該縱方向延伸且適用於容納一植株之根部的栽種孔20。該內基質塊2可初步用來固定所要種植的該植株,而該植株之根部能伸置於該栽種孔20,並於後續成長後自該栽種孔20開始往外延展。
該容器4用以供該內基質塊2已放置於該容室110之該外覆基質層1,及該外覆基質層1已放置於該容納空間30之該外圍基質層3的其中之一盛裝。也就是說,在使用本第一實施例時,雖然在每一個種植階段都是使用一個該容器4,但不同的種植階段是配合該外圍基質層3的使用與否,採用不同大小的該容器4。該容器4包括一底壁41,及一自該底壁41之外周緣向上延伸的圍繞壁42,該圍繞壁42與該底壁41共同界定出一配合該外覆基質層1或該外圍基質層3之尺寸的栽培空間40。該底壁41具有一呈貫穿狀且與該栽培空間40連通的排水孔410,藉此避免在該栽培空間40中形成積水,也形成氣流由上而下流通的途徑,以求在使用時於該栽培空間40營造出適當的通氣與濕度條件。
參閱圖3與圖4,為本第一實施例的第一種實施態樣,是透過該外覆基質層1、該內基質塊2,及對應該外覆基質層1之尺寸的該容器4來實施。所要栽種的該植株,是在該植株之根部先行伸置於該栽種孔20的情況下,預先定位於該內基質塊2。接著,只要輕易以該外覆基質層1圍繞該內基質塊2,即可使該內基質塊2穩定設置於該容室110,並且由該承接面121穩定支撐,使得該內基質塊2與該外覆基質層1共同構成一可輕易放置於該容器4中而完成栽種的整體結構。此時,由於該內基質塊2與該外覆基質層1之間會形成縫隙,該外覆基質層1之該通孔120又能與該容器4之該排水孔410連通,藉此形成通氣途徑,進一步配合該內基質塊2與該外覆基質層1的適當孔隙率,即可因應蘭花的透氣需求,並讓該內基質塊2與該外覆基質層1蘊含適度水分,藉此營造出讓該植株能穩定生長的良好環境。
參閱圖5,為本第一實施例的第二種實施態樣,與該第一種實施態樣的差別,係配合所栽培之該植株的生長,進一步使用該外圍基質層3,以及對應該外圍基質層3之尺寸的該容器4來實施。待所栽培之該植株在使用該第一種實施態樣的階段穩定成長,直到需要「換盆」的階段時,由於該植株的根系應已確實自該內基質塊2延伸至該外覆基質層1,於是將該外覆基質層1與該內基質塊2一同移動時,理應能將對該植株的影響降到最低。此時,只要預先準備好所要換盆的該容器4,並配合該容器4及該外覆基質層1的尺寸,預先將該外圍基質層3預先設置於該容器4之該栽培空間40中,只要直接將該外覆基質層1與該內基質塊2的整體結構,連同該植株一同移動至該容納空間30,即可簡便且快速地完成換盆的操作。
此時,由於該外覆基質層1與該外圍基質層3之間,也然形成良好的透氣與含水條件,於是在將必要之換盆過程的影響降到最低的情況下,當該植株後續繼續生長,其根系自然也會自該外覆基質層1繼續延伸至該外圍基質層3,使得該植株可於後續的生長階段順利成長。
參閱圖6與圖7,為本新型植物培育系統之一第二實施例,本第二實施例與該第一實施例的差別在於:該外覆基質層1還包括一形成於該圍壁部11遠離該基礎部12之一端,且徑向寬度大於該圍壁部11的突緣部13。本第二實施例因應與該外圍基質層3一同使用的實施態樣時,該圍壁部11與該外圍基質層3之間,會因該突緣部13而間隔形成間隙。藉此,本第二實施例在因應植株已成長而進行換盆後的階段時,能讓植株已延伸較長範圍的根系於後續進一步延伸至所述間隙,就對於根系之通風要求較高的植株而言,能提供更適合的生長環境。
綜上所述,本新型植物培育系統,能在所栽種之該植株的不同成長階段,採取不同的實施態樣來提供適當之通氣、含水的栽培環境。並且,透過該外覆基質層1、該內基質塊2,及該外圍基質層3的適當尺寸來配合使用的該容器4,能在不移除該內基質塊2而能簡便操作的情況下,提供至少能因應兩個階段換盆的功能。因此,確實能達成本新型之目的。
惟以上所述者,僅為本新型之實施例而已,當不能以此限定本新型實施之範圍,凡是依本新型申請專利範圍及專利說明書內容所作之簡單的等效變化與修飾,皆仍屬本新型專利涵蓋之範圍內。
1:外覆基質層11:圍壁部110:容室111:端面119:通槽12:基礎部120:通孔121:承接面13:突緣部2:內基質塊20:栽種孔3:外圍基質層30:容納空間4:容器40:栽培空間41:底壁410:排水孔42:圍繞壁
本新型之其他的特徵及功效,將於參照圖式的實施方式中清楚地呈現,其中:圖1是一立體分解圖,說明本新型植物培育系統之一第一實施例;圖2是一示意圖,說明該第一實施例之一外覆基質層的構造;圖3是一流程圖,說明該第一實施例的第一種實施態樣;圖4是一剖視圖,配合圖3說明該第一種實施態樣;圖5是一流程圖,說明該第一實施例的第二種實施態樣;圖6是一類似圖2的示意圖,說明本新型植物培育系統之一第二實施例;及圖7是一剖視圖,說明該第二實施例的透氣功效。
1:外覆基質層
11:圍壁部
110:容室
111:端面
119:通槽
12:基礎部
120:通孔
2:內基質塊
20:栽種孔
3:外圍基質層
30:容納空間
4:容器
40:栽培空間
41:底壁
410:排水孔
42:圍繞壁

Claims (8)

  1. 一種植物培育系統,包含:一外覆基質層,包括一圍繞界定出一容室的圍壁部,及一設置於該容室之底部且圍繞界定出一沿一縱方向延伸之通孔,並具有一朝向上方之承接面的基礎部;一內基質塊,用以放置於該容室且由該承接面所支撐,並圍繞界定出一沿該縱方向延伸且適用於容納一植株之根部的栽種孔;一外圍基質層,圍繞界定出一用以供該外覆基質層設置之容納空間;及一容器,用以供該內基質塊已放置於該容室之該外覆基質層,及該外覆基質層已放置於該容納空間之該外圍基質層的其中之一盛裝。
  2. 如請求項1所述的植物培育系統,其中,該外覆基質層之該圍壁部具有二個朝向彼此且間隔界定出一沿徑向延伸且連通於該容室之通槽的端面。
  3. 如請求項1或2所述的植物培育系統,其中,該外覆基質層之徑寬是由上而下呈漸縮。
  4. 如請求項1或2所述的植物培育系統,其中,該外覆基質層還包括一形成於該圍壁部遠離該基礎部之一端,且徑向寬度大於該圍壁部的突緣部。
  5. 如請求項1所述的植物培育系統,其中,該外覆基質層、該內基質塊,及該外圍基質層的材質,是選自發泡煉石、煤渣、椰纖、軟木皮、玻璃棉、有機及無機纖維、泥炭土、真珠石、甲醛酚、塑膠粒、聚乙烯、聚合穩定澱粉、聚苯乙烯、聚胺酯、岩棉、水草、聚甲醛、蛭石、火山岩、沸石,及上述的任意組合。
  6. 如請求項5所述的植物培育系統,其中,該外覆基質層的含水量高於該外圍基質層的含水量。
  7. 如請求項1所述的植物培育系統,其中,該容器包括一底壁,及一自該底壁之外周緣向上延伸的圍繞壁,該圍繞壁與該底壁共同界定出一配合該外覆基質層或該外圍基質層之尺寸的栽培空間。
  8. 如請求項7所述的植物培育系統,其中,該容器之該底壁具有一呈貫穿狀且與該栽培空間連通的排水孔。
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