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TWI828015B - 精密金屬遮罩的製造方法 - Google Patents

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TWI828015B
TWI828015B TW110144888A TW110144888A TWI828015B TW I828015 B TWI828015 B TW I828015B TW 110144888 A TW110144888 A TW 110144888A TW 110144888 A TW110144888 A TW 110144888A TW I828015 B TWI828015 B TW I828015B
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straight
opening
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etching
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方冠傑
林啓維
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達運精密工業股份有限公司
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Abstract

一種精密金屬遮罩包含板體。板體包含相對之第一表面及第二表面。第一表面具有第一內緣，圍繞而定義第一開口。第二表面具有第二內緣，圍繞而定義第二開口，第二開口連通第一開口。板體包含第一弧面及第二弧面，第一弧面位於第一開口並連接第一表面，第二弧面位於第二開口並連接第二表面。第一弧面與第二弧面連接於第三內緣，圍繞而定義第三開口，第三開口小於第一開口及第二開口。第三內緣包含第一直邊、第二直邊以及圓弧邊，第一直邊與第二直邊形成夾角，圓弧邊連接於第一直邊與第二直邊之間，圓弧邊具有半徑，半徑小於或等於15微米。

Description

精密金屬遮罩的製造方法
本發明是關於一種精密金屬遮罩以及製造此精密金屬遮罩的方法。
時至今日，隨著人們的生活水平不斷提高，電子產品的應用已成為了生活中不可式缺的部分，其中，具有顯示螢幕的電子產品更是變得越來越普及。相對地，由於科技的日新月異，人們對電子產品的要求和期望也越來越高。
因此，如何能夠在維持生產成本的情況下，有效提高顯示裝置的顯示品質，無疑是業界相當關注的其中一個重要課題。
本發明之目的之一在於提供一種精密金屬遮罩，其能使通過蒸鍍而形成於顯示器基板上的像素具有更清楚鮮明的形狀，從而有效提高顯示器的顯示品質。
根據本發明的一實施方式，一種精密金屬遮罩包含板體。板體包含相對之第一表面以及第二表面。第一表面具有至少一第一內緣，第一內緣圍繞而定義第一開口。第二表面具有至少一第二內緣，第二內緣圍繞而定義第二開口，第二開口對應並連通第一開口。板體更包含至少一第一弧面以及至少一第二弧面，第一弧面位於第一開口內並連接第一表面，第二弧面位於第二開口內並連接第二表面。板體具有至少一第三內緣，第一弧面與第二弧面連接於第三內緣，第三內緣圍繞而定義第三開口，第三開口小於第一開口及第二開口。第三內緣包含第一直邊、第二直邊以及圓弧邊，第一直邊與第二直邊共同形成夾角，圓弧邊連接於第一直邊與第二直邊之間，圓弧邊具有半徑，半徑小於或等於15微米。
在本發明一或多個實施方式中，上述之第二開口大於第一開口。第三內緣與第一內緣在垂直於第一表面的方向上具有高度，高度小於或等於3微米。第三內緣與第一內緣在平行於第一表面的方向上具有寬度，寬度小於或等於2微米。
在本發明一或多個實施方式中，上述之第三內緣相對第二表面更接近第一表面。
在本發明一或多個實施方式中，上述之第一表面與第二表面之間定義厚度，厚度之範圍為20微米與50微米之間。
在本發明一或多個實施方式中，上述之第三內緣呈矩形。
在本發明一或多個實施方式中，上述之第三內緣呈多邊形。
本發明之目的之一在於提供一種精密金屬遮罩的製造方法，其能簡單容易地製造出具有開口的精密金屬遮罩，而開口於角落處的半徑小於或等於15微米，有利於使精密金屬遮罩可通過蒸鍍而於顯示器基板上形成形狀更清楚鮮明的像素，從而有效提高顯示器的顯示品質。
根據本發明的一實施方式，一種精密金屬遮罩的製造方法包含：提供板材，板材包含相對之第一表面以及第二表面；於第一表面設置第一抗蝕劑膜；於第一抗蝕劑膜設置第一曝光掩模，第一曝光掩模具有至少一第一圖案，第一圖案具有第一邊緣，第一邊緣圍繞而對應板材上之第一蝕刻範圍，第一邊緣包含第一直邊、第二直邊以及第三直邊，第一直邊與第二直邊共同形成第一夾角，第三直邊連接於第一直邊與第二直邊之間，第三直邊具有長度，長度小於或等於8微米；於第二表面設置第二抗蝕劑膜；以及於第二抗蝕劑膜設置第二曝光掩模，第二曝光掩模具有至少一第二圖案，第二圖案大於第一圖案且具有第二邊緣，第二邊緣圍繞而對應板材上之第二蝕刻範圍，第二蝕刻範圍對應第一蝕刻範圍，第二邊緣包含第四直邊、第五直邊以及第六直邊，第四直邊與第五直邊共同形成第二夾角，第六直邊連接於第四直邊與第五直邊之間，並與第三直邊彼此平行，第六直邊與第三直邊在平行於第一表面的方向上相隔距離，距離大於或等於5微米而小於或等於30微米。
在本發明一或多個實施方式中，上述之第一直邊與第四直邊彼此平行，第二直邊與第五直邊彼此平行。
在本發明一或多個實施方式中，上述之第一夾角相同於第二夾角。
在本發明一或多個實施方式中，上述之方法更包含：隔著第一曝光掩模對第一抗蝕劑膜進行曝光，以將第一抗蝕劑膜顯影，並於第一抗蝕劑膜上形成第一圖案，以暴露出第一蝕刻範圍；以及隔著第二曝光掩模對第二抗蝕劑膜進行曝光，以將第二抗蝕劑膜顯影，並於第二抗蝕劑膜上形成第二圖案，以暴露出第二蝕刻範圍。
在本發明一或多個實施方式中，上述之方法更包含：對第一表面進行蝕刻以於第一蝕刻範圍形成第一開口；以及對第二表面進行蝕刻以於第二蝕刻範圍形成第二開口，第一開口與第二開口彼此連通。
在本發明一或多個實施方式中，上述之第一表面與第二表面之間定義厚度，厚度之範圍為20微米與50微米之間。
本發明上述實施方式至少具有以下優點：
（1）藉由把板材上第一圖案的第三直邊的長度控制在小於或等於8微米，並把第二圖案的第六直邊與第三直邊在平行於第一表面的方向上相隔的距離控制在大於或等於5微米而小於或等於30微米，使用者可簡單容易地使板材在通過蝕刻的製程後，形成精密金屬遮罩的板體，而板體對應第三開口角落的圓弧邊的半徑小於或等於15微米。
（2）由於對應第三開口角落的圓弧邊的半徑小於或等於15微米，因此，當精密金屬遮罩被使用於蒸鍍的製程，以於例如有機發光二極體顯示器的基板上形成用以顯示圖像的像素時，可使得每一顆像素於其角落位置的形狀變得更清楚鮮明，從而有效提高有機發光二極體顯示器的顯示品質。
以下將以圖式揭露本發明之複數個實施方式，為明確說明起見，許多實務上的細節將在以下敘述中一併說明。然而，應瞭解到，這些實務上的細節不應用以限制本發明。也就是說，在本發明部分實施方式中，這些實務上的細節是非必要的。此外，為簡化圖式起見，一些習知慣用的結構與元件在圖式中將以簡單示意的方式繪示之，而在所有圖式中，相同的標號將用於表示相同或相似的元件。且若實施上為可能，不同實施例的特徵係可以交互應用。
除非另有定義，本文所使用的所有詞彙（包括技術和科學術語）具有其通常的意涵，其意涵係能夠被熟悉此領域者所理解。更進一步的說，上述之詞彙在普遍常用之字典中之定義，在本說明書的內容中應被解讀為與本發明相關領域一致的意涵。除非有特別明確定義，這些詞彙將不被解釋為理想化的或過於正式的意涵。
請參照第1～2圖。第1圖為繪示依照本發明一實施方式之精密金屬遮罩100的上視圖。第2圖為繪示第1圖沿線段A-A的剖面圖。在本實施方式中，如第1～2圖所示，一種精密金屬遮罩100包含板體110。在實務的應用中，板體110之材質可為鐵鎳合金。板體110包含相對之第一表面111以及第二表面112。板體110的第一表面111具有第一內緣113，第一內緣113圍繞而定義第一開口OP1。板體110的第二表面112具有第二內緣114，第二內緣114圍繞而定義第二開口OP2，第二開口OP2對應並連通第一開口OP1。板體110更包含第一弧面115以及第二弧面116，板體110的第一弧面115位於第一開口OP1內並連接第一表面111，而板體110的第二弧面116則位於第二開口OP2內並連接第二表面112。再者，板體110具有第三內緣117，第一弧面115與第二弧面116連接於第三內緣117，第三內緣117圍繞而定義第三開口OP3，第三開口OP3小於第一開口OP1及第二開口OP2。進一步而言，第三內緣117包含直邊117a、直邊117b以及圓弧邊117c，直邊117a與直邊117b共同形成夾角θ，而圓弧邊117c連接於直邊117a與直邊117b之間，因此圓弧邊117c對應第三開口OP3的角落。值得注意的是，在本實施方式中，圓弧邊117c具有半徑R，而圓弧邊117c的半徑R小於或等於15微米。
由於對應第三開口OP3角落的圓弧邊117c的半徑R小於或等於15微米，因此，當精密金屬遮罩100被使用於蒸鍍的製程，以於例如有機發光二極體（Organic Light-Emitting Diode；　OLED）顯示器的基板300上形成用以顯示圖像的像素時，可使得每一顆像素於其角落位置的形狀變得更清楚鮮明，從而有效提高有機發光二極體顯示器的顯示品質。
另外，在本實施方式中，如第2圖所示，第二開口OP2大於第一開口OP1。第三內緣117與第一內緣113在垂直於第一表面111的方向上具有高度H，高度H小於或等於3微米。第三內緣117與第一內緣113在平行於第一表面111的方向上具有寬度W，寬度W小於或等於2微米。當進行蒸鍍的製程時，板體110位於OLED顯示器的基板300的下方，而板體110的第一表面111配置以抵接OLED顯示器的基板300。
進一步而言，如第2圖所示，板體110的第一表面111與第二表面112之間定義厚度TK，厚度TK之範圍為20微米與50微米之間。如上所述，由於高度H小於或等於3微米，因此，第三內緣117相對第二表面112更接近第一表面111。
在本實施方式，如第1圖所示，第三內緣117呈具有R角之矩形，亦即圓弧邊117c定義此R角，而直邊117a與直邊117b所共同形成的夾角θ為90度，但本發明並不以此為限。
請參照第3圖。第3圖為繪示依照本發明另一實施方式之精密金屬遮罩100的上視圖。在本實施方式中，第三內緣117呈多邊形，亦即直邊117a與直邊117b所共同形成的夾角θ並不等於90度。舉例而言，如第3圖所示，第三內緣117呈具有R角之六邊形，而圓弧邊117c定義此R角，但本發明並不以此為限。在其他實施方式中，根據實際狀況，第三內緣117亦可呈八邊形以及任何封閉的幾何圖形。
請參照第4圖。第4圖為繪示依照本發明一實施方式之精密金屬遮罩的製造方法500的流程圖。在本實施方式中，如第4圖所示，製造方法500包含下列步驟（應了解到，在一些實施方式中所提及的步驟，除特別敘明其順序者外，均可依實際需要調整其前後順序，甚至可同時或部分同時執行）：
（1）提供板材110’（步驟501）。請參照第5圖。第5圖為繪示第4圖的精密金屬遮罩的製造方法500的過程示意圖。在本實施方式中，如第5圖所示，板材110’包含相對之第一表面111以及第二表面112。第一表面111與第二表面112之間定義厚度TK，厚度TK之範圍為20微米與50微米之間。在實務的應用中，板材110’之材質可為鐵鎳合金。
（2）於板材110’的第一表面111設置第一抗蝕劑膜120（步驟502）。如第5圖所示，第一抗蝕劑膜120已設置於板材110’的第一表面111。
（3）於第一抗蝕劑膜120設置第一曝光掩模130（步驟503）。如第5圖所示，第一曝光掩模130已設置於第一抗蝕劑膜120，而第一抗蝕劑膜120位於板材110’與第一曝光掩模130之間。再者，請參照第6圖。第6圖為繪示第5圖沿箭頭B的上視圖。如第6圖所示，第一曝光掩模130具有第一圖案P1。舉例而言，在本實施方式中，第一抗蝕劑膜120為正型光阻，亦即第一抗蝕劑膜120的曝光部分會溶於顯影液，未曝光部份則不溶於顯影液。因此，第一圖案P1實質上鏤空於第一曝光掩模130。當顯影結束後，第一抗蝕劑膜120不溶於顯影液的未曝光部份會保留在板材110’上，並把第一曝光掩模130的第一圖案P1複製到板材110’上，以定義下述的第一蝕刻範圍Z1。
請參照第7圖。第7圖為繪示依照本發明另一實施方式之精密金屬遮罩的製造方法500的過程示意圖。在本實施方式中，如第7圖所示，第一抗蝕劑膜120可根據實際狀況而選用負型光阻，亦即第一抗蝕劑膜120的曝光部分不會溶於顯影液，未曝光部分則溶於顯影液。因此，第一圖案P1由第一曝光掩模130的外形定義。當顯影結束後，第一抗蝕劑膜120不溶於顯影液的曝光部份會保留在板材110’上，並把第一曝光掩模130的第一圖案P1複製到板材110’上，以定義下述的第一蝕刻範圍Z1。
請回到第6圖。更具體而言，第一圖案P1具有第一邊緣131，第一邊緣131圍繞而對應板材110’上之第一蝕刻範圍Z1（第一蝕刻範圍Z1請參照第5圖或第7圖），第一邊緣131包含第一直邊131a、第二直邊131b以及第三直邊131c，第一直邊131a與第二直邊131b共同形成第一夾角α，第三直邊131c連接於第一直邊131a與第二直邊131b之間，因此第三直邊131c對應第一圖案P1的角落。在本實施方式中，第三直邊131c具有長度L，而長度L小於或等於8微米。
（4）於板材110’的第二表面112設置第二抗蝕劑膜140（步驟504）。如第5圖所示，第二抗蝕劑膜140已設置於板材110’的第二表面112。相似地，第二抗蝕劑膜140可根據實際狀況而選用正型光阻或負型光阻。為方便閱讀，在後續的描述中，第二抗蝕劑膜140以正型光阻為例作為解說。
（5）於第二抗蝕劑膜140設置第二曝光掩模150（步驟505）。如第5圖所示，第二曝光掩模150已設置於第二抗蝕劑膜140，而第二抗蝕劑膜140位於板材110’與第二曝光掩模150之間。如第6圖所示，第二曝光掩模150具有第二圖案P2（由於第二曝光掩模150於第6圖中被板材110’等遮蓋，故第二圖案P2以虛線繪示），第二圖案P2大於第一圖案P1且具有第二邊緣151，第二邊緣151圍繞而對應板材110’上之第二蝕刻範圍Z2（第二蝕刻範圍Z2請參照第5圖或第7圖），第二蝕刻範圍Z2對應第一蝕刻範圍Z1，第二邊緣151包含第四直邊151a、第五直邊151b以及第六直邊151c，第四直邊151a與第五直邊151b共同形成第二夾角β，第六直邊151c連接於第四直邊151a與第五直邊151b之間，因此第六直邊151c對應第二圖案P2的角落。再者，第六直邊151c與第三直邊131c彼此平行，而第六直邊151c與第三直邊131c在平行於第一表面111的方向上相隔距離X。值得注意的是，在本實施方式中，距離X大於或等於5微米而小於或等於30微米。
而且，在本實施方式中，如第6圖所示，第一直邊131a與第四直邊151a彼此平行，而第二直邊131b與第五直邊151b亦彼此平行，使得第一夾角α相同於第二夾角β。換句話說，第一圖案P1與第二圖案P2具有相同形狀的輪廓。
進一步而言，製造方法500更包含以下步驟：
（6）隔著第一曝光掩模130對第一抗蝕劑膜120進行曝光，以將第一抗蝕劑膜120顯影，並於第一抗蝕劑膜120上形成第一圖案P1，以暴露出第一蝕刻範圍Z1（步驟506）。請參照第8圖。第8圖為繪示第4圖的精密金屬遮罩的製造方法500的過程示意圖，其中第一表面111準備進行蝕刻。在本實施方式中，如第8圖所示，第一曝光掩模130已被移除，而第一蝕刻範圍Z1已被暴露，且板材110’的第一表面111已準備進行蝕刻。
（7）對第一表面111進行蝕刻以於第一蝕刻範圍Z1形成第一開口OP1（步驟507）。請參照第9圖。第9圖為繪示第4圖的精密金屬遮罩的製造方法500的過程示意圖，其中第一表面111已完成蝕刻。在本實施方式中，如第9圖所示，板材110’的第一表面111已通過蝕刻而形成第一開口OP1。
（8）隔著第二曝光掩模150對第二抗蝕劑膜140進行曝光，以將第二抗蝕劑膜140顯影，並於第二抗蝕劑膜140上形成第二圖案P2，以暴露出第二蝕刻範圍Z2（步驟508）。請參照第10圖。第10圖為繪示第4圖的精密金屬遮罩的製造方法500的過程示意圖，其中第一開口OP1已填充抗蝕材料400，而第二表面112準備進行蝕刻。在本實施方式中，如第10圖所示，第二曝光掩模150已被移除，而第二蝕刻範圍Z2已被暴露，且板材110’的第二表面112已準備進行蝕刻。由於第一開口OP1已填充抗蝕材料400，因此對第二表面112的蝕刻不會影響到第一開口OP1。
（9）對第二表面112進行蝕刻以於第二蝕刻範圍Z2形成第二開口OP2（步驟509）。請參照第11圖。第11圖為繪示第4圖的精密金屬遮罩的製造方法500的過程示意圖，其中第二表面112已完成蝕刻。在本實施方式中，如第11圖所示，板材110’的第二表面112已通過蝕刻而形成第二開口OP2。
（10）移除抗蝕材料400、第一抗蝕劑膜120及第二抗蝕劑膜140（步驟510）。當抗蝕材料400被移除後，第一開口OP1與第二開口OP2將彼此連通，而當第一抗蝕劑膜120及第二抗蝕劑膜140被移除後，板材110’將形成精密金屬遮罩100的板體110，如第2圖所示。
藉由把板材110’上第一圖案P1的第三直邊131c的長度L控制在小於或等於8微米，並把第二圖案P2的第六直邊151c與第三直邊131c在平行於第一表面111的方向上相隔的距離X控制在大於或等於5微米而小於或等於30微米，使用者可簡單容易地使板材110’在通過蝕刻的製程後，形成精密金屬遮罩100的板體110，而板體110對應第三開口OP3角落的圓弧邊117c的半徑R小於或等於15微米。
綜上所述，本發明上述實施方式所揭露的技術方案至少具有以下優點：
（1）藉由把板材上第一圖案的第三直邊的長度控制在小於或等於8微米，並把第二圖案的第六直邊與第三直邊在平行於第一表面的方向上相隔的距離控制在大於或等於5微米而小於或等於30微米，使用者可簡單容易地使板材在通過蝕刻的製程後，形成精密金屬遮罩的板體，而板體對應第三開口角落的圓弧邊的半徑小於或等於15微米。
（2）由於對應第三開口角落的圓弧邊的半徑小於或等於15微米，因此，當精密金屬遮罩被使用於蒸鍍的製程，以於例如有機發光二極體顯示器的基板上形成用以顯示圖像的像素時，可使得每一顆像素於其角落位置的形狀變得更清楚鮮明，從而有效提高有機發光二極體顯示器的顯示品質。
雖然本發明已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。
100:精密金屬遮罩 110:板體 110’:板材 111:第一表面 112:第二表面 113:第一內緣 114:第二內緣 115:第一弧面 116:第二弧面 117:第三內緣 117a,117b:直邊 117c:圓弧邊 120:第一抗蝕劑膜 130:第一曝光掩模 131:第一邊緣 131a:第一直邊 131b:第二直邊 131c:第三直邊 140:第二抗蝕劑膜 150:第二曝光掩模 151:第二邊緣 151a:第四直邊 151b:第五直邊 151c:第六直邊 300:基板 400:抗蝕材料 500:製造方法 501-510:步驟 A-A:線段 B:箭頭 H:高度 L:長度 OP1:第一開口 OP2:第二開口 OP3:第三開口 P1:第一圖案 P2:第二圖案 R:半徑 W:寬度 TK:厚度 X:距離 Z1:第一蝕刻範圍 Z2:第二蝕刻範圍 α:第一夾角 β:第二夾角 θ:夾角
第1圖為繪示依照本發明一實施方式之精密金屬遮罩的上視圖。 第2圖為繪示第1圖沿線段A-A的剖面圖。 第3圖為繪示依照本發明另一實施方式之精密金屬遮罩的上視圖。 第4圖為繪示依照本發明一實施方式之精密金屬遮罩的製造方法的流程圖。 第5圖為繪示第4圖的精密金屬遮罩的製造方法的過程示意圖。 第6圖為繪示第5圖沿箭頭B的上視圖。 第7圖為繪示依照本發明另一實施方式之精密金屬遮罩的製造方法的過程示意圖。 第8圖為繪示第4圖的精密金屬遮罩的製造方法的過程示意圖，其中第一表面準備進行蝕刻。 第9圖為繪示第4圖的精密金屬遮罩的製造方法的過程示意圖，其中第一表面已完成蝕刻。 第10圖為繪示第4圖的精密金屬遮罩的製造方法的過程示意圖，其中第一開口已填充抗蝕材料，而第二表面準備進行蝕刻。 第11圖為繪示第4圖的精密金屬遮罩的製造方法的過程示意圖，其中第二表面已完成蝕刻。
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100:精密金屬遮罩
110:板體
111:第一表面
113:第一內緣
115:第一弧面
117:第三內緣
117a,117b:直邊
117c:圓弧邊
A-A:線段
OP1:第一開口
OP3:第三開口
R:半徑
θ:夾角

Claims (6)

  1. 一種精密金屬遮罩的製造方法，包含：提供一板材，包含相對之一第一表面以及一第二表面；於該第一表面設置一第一抗蝕劑膜；於該第一抗蝕劑膜設置一第一曝光掩模，該第一曝光掩模具有至少一第一圖案，該第一圖案具有一第一邊緣，該第一邊緣圍繞而對應該板材上之一第一蝕刻範圍，該第一邊緣包含一第一直邊、一第二直邊以及一第三直邊，該第一直邊與該第二直邊共同形成一第一夾角，該第三直邊連接於該第一直邊與該第二直邊之間，該第三直邊具有一長度，該長度小於或等於8微米；於該第二表面設置一第二抗蝕劑膜；於該第二抗蝕劑膜設置一第二曝光掩模，該第二曝光掩模具有至少一第二圖案，該第二圖案大於該第一圖案且具有一第二邊緣，該第二邊緣圍繞而對應該板材上之一第二蝕刻範圍，該第二蝕刻範圍對應該第一蝕刻範圍，該第二邊緣包含一第四直邊、一第五直邊以及一第六直邊，該第四直邊與該第五直邊共同形成一第二夾角，該第六直邊連接於該第四直邊與該第五直邊之間，並與該第三直邊彼此平行，該第六直邊與該第三直邊在平行於該第一表面的方向上相隔一距離，該距離大於或等於5微米而小於或等於30微米；隔著該第一曝光掩模對該第一抗蝕劑膜進行曝光，以將該第一抗蝕劑膜顯影，並於該第一抗蝕劑膜上形成該第一 圖案，以暴露出該第一蝕刻範圍；隔著該第二曝光掩模對該第二抗蝕劑膜進行曝光，以將該第二抗蝕劑膜顯影，並於該第二抗蝕劑膜上形成該第二圖案，以暴露出該第二蝕刻範圍；經由該第一抗蝕劑膜對該板材的該第一表面進行蝕刻，以於該第一蝕刻範圍形成一第一開口；於該第一開口中填充一抗蝕材料，使得該抗蝕材料覆蓋該第一開口的一內表面；於形成該抗蝕材料之後，經由該第二抗蝕劑膜對該板材的該第二表面進行蝕刻，以於該第二蝕刻範圍形成一第二開口；以及移除該第一抗蝕劑膜、該第二抗蝕劑膜以及該抗蝕材料，以連通該第一開口以及該第二開口。
  2. 如請求項1所述之方法，其中該第一直邊與該第四直邊彼此平行，該第二直邊與該第五直邊彼此平行。
  3. 如請求項1所述之方法，其中該第一夾角相同於該第二夾角。
  4. 如請求項1所述之方法，更包含於蝕刻該第一表面之前，移除該第一曝光掩模，且該填充該抗蝕材料包含填充該抗蝕材料，使得該抗蝕材料接觸該第一抗蝕劑 膜的複數個上表面與複數個側壁。
  5. 如請求項1所述之方法，其中該對該板材的該第二表面進行蝕刻包含蝕刻形成該第二開口，使得該抗蝕材料的一部分凸出至該第二開口中。
  6. 如請求項1所述之方法，其中該第一表面與該第二表面之間定義一厚度，該厚度之範圍為20微米與50微米之間。
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