TWI860893B

TWI860893B - 光阻蒸鍍方法

Info

Publication number: TWI860893B
Application number: TW112144677A
Authority: TW
Inventors: 林劉恭
Original assignee: 光群雷射科技股份有限公司
Priority date: 2023-11-20
Filing date: 2023-11-20
Publication date: 2024-11-01
Also published as: TW202521726A

Abstract

本發明公開一種光阻蒸鍍方法，其包含：一備料步驟、一置件步驟、及一蒸鍍步驟。所述備料步驟：於一載體噴塗形成厚度介於2.5微米～5微米的一光阻噴塗層；固化並烘烤所述光阻噴塗層，以使所述光阻噴塗層呈固態狀且去除其溶劑；及將固態狀的所述光阻噴塗層以物理性手段自所述載體移除、並進行碎料以構成一固態光阻劑。所述置件步驟：將一金屬滾輪置於一真空蒸鍍腔體，以使所述金屬滾輪能於所述真空蒸鍍腔體之內自轉。所述蒸鍍步驟：加熱所述固態光阻劑，以使所述固態光阻劑轉變為一氣態光阻劑、並朝向所述金屬滾輪沉積而形成一光阻薄膜。

Description

光阻蒸鍍方法

本發明涉及一種蒸鍍方法，尤其涉及一種適用於製造轉印滾輪的光阻蒸鍍方法。

現有轉印滾輪於其外表面所形成的光阻層大都是以塗佈方式進行，但此塗佈方式所形成的所述光阻層有其侷限性存在，因而無形中導致本領域的相關技術研究產生停滯。於是，本發明人認為上述缺陷可改善，乃特潛心研究並配合科學原理的運用，終於提出一種設計合理且有效改善上述缺陷的本發明。

本發明實施例在於提供一種光阻蒸鍍方法，其能有效地改善現有光阻層僅能採用塗佈方式形成的缺陷。

本發明實施例公開一種光阻蒸鍍方法，其包括：一備料步驟，其包含：於一載體噴塗形成厚度介於2.5微米（μm）～5微米的一光阻噴塗層；固化並烘烤所述光阻噴塗層，以使所述光阻噴塗層呈固態狀且去除其溶劑；及將固態狀的所述光阻噴塗層以物理性手段自所述載體移除、並進行碎料以構成一固態光阻劑；一置件步驟：將一金屬滾輪置於一真空蒸鍍腔體，以使所述金屬滾輪能於所述真空蒸鍍腔體之內自轉；以及一蒸鍍步驟：加熱所述固態光阻劑，以使所述固態光阻劑轉變為一氣態光阻劑、並朝向所述金屬滾輪沉積而形成一光阻薄膜。

綜上所述，本發明實施例所公開的光阻蒸鍍方法，其通過所述備料步驟取得所述固態光阻劑，以利於在後續所述蒸鍍步驟之中以所述固態光阻劑實現蒸鍍形成所述光阻薄膜，進而提供有別於既有塗佈方式所形成的光阻層。

為能更進一步瞭解本發明的特徵及技術內容，請參閱以下有關本發明的詳細說明與附圖，但是此等說明與附圖僅用來說明本發明，而非對本發明的保護範圍作任何的限制。

以下是通過特定的具體實施例來說明本發明所公開有關“光阻蒸鍍方法”的實施方式，本領域技術人員可由本說明書所公開的內容瞭解本發明的優點與效果。本發明可通過其他不同的具體實施例加以施行或應用，本說明書中的各項細節也可基於不同觀點與應用，在不悖離本發明的構思下進行各種修改與變更。另外，本發明的附圖僅為簡單示意說明，並非依實際尺寸的描繪，事先聲明。以下的實施方式將進一步詳細說明本發明的相關技術內容，但所公開的內容並非用以限制本發明的保護範圍。

應當可以理解的是，雖然本文中可能會使用到“第一”、“第二”、“第三”等術語來描述各種元件或者信號，但這些元件或者信號不應受這些術語的限制。這些術語主要是用以區分一元件與另一元件，或者一信號與另一信號。另外，本文中所使用的術語“或”，應視實際情況可能包括相關聯的列出項目中的任一個或者多個的組合。

[實施例一]

請參閱圖1至圖10所示，其為本發明的實施例一。如圖1～圖4所示，本實施例公開一種光阻蒸鍍方法（或稱為金屬滾輪製造方法），其適用於製造一轉印滾輪。所述光阻蒸鍍方法於本實施例中依序包含一備料步驟、一準備步驟、一置件步驟、一蒸鍍步驟、一圖案化步驟、一金屬蝕刻步驟、及一成形蝕刻步驟。以下將依據說明上述多個步驟的具體實施方式，但其也可依據設計需求而加以調整變化。

舉例來說，於本發明未繪示的其他實施例中，所述備料步驟與所述置件步驟之間可以沒有實施順序的差異；或者，所述光阻蒸鍍方法可以依據設計需求而省略所述準備步驟、所述圖案化步驟、所述金屬蝕刻步驟、及所述成形蝕刻步驟的至少其中之一。

所述備料步驟：如圖1至圖4示，於一載體2a噴塗形成厚度介於2.5微米（μm）～5微米的一光阻噴塗層PR；固化並烘烤所述光阻噴塗層PR，以使所述光阻噴塗層PR呈固態狀且去除其溶劑；及將固態狀的所述光阻噴塗層PR以物理性手段自所述載體2a移除、並進行碎料以構成一固態光阻劑200a。其中，所述光阻噴塗層PR固化至呈固態狀所歷經的烘烤溫度介於70度C～160度C且歷時2小時～2.5小時，但不以此為限。

需說明的是，所述備料步驟的上述流程於本實施例中較佳是通過提供一固態光阻生產設備來進行實施。其中，所述固態光阻生產設備包含一工作台1a、設置於所述工作台1a的所述載體2a、安裝於所述工作台1a的一光阻噴塗器3a與一烘烤機構4a、及位於所述烘烤機構4a下游的一分離機構5a與一碎料機構6a。

所述載體2a於本實施例中呈平坦板狀且為矩形玻璃，並且所述載體2a的長度介於1公尺～1.8公尺，所述載體2a的寬度介於0.1公尺～0.5公尺，但本發明不以此為限。再者，所述載體2a具有一承載面21a，其面向遠離所述工作台1a的一側。

所述光阻噴塗器3a對應於所述承載面21a設置，用以於所述承載面21a噴塗形成有所述光阻噴塗層PR。其中，所述光阻噴塗器3a的具體構造可依設計需求而加以調整變化，本實施例於下述僅列舉其中兩種較佳的所述光阻噴塗器3a實施構造，但本發明不以此為限。

如圖1所示，所述光阻噴塗器3a具有面向所述承載面21a的一鋼噴嘴31a，並且所述鋼噴嘴31a能相對於所述承載面21a移動，用以使自其噴灑而出的霧狀光阻（能覆蓋整個所述承載面21a且）能於所述承載面21a形成所述光阻噴塗層PR。

或者，如圖2所示，所述光阻噴塗器3a具有面向所述承載面21a且彼此間隔設置的多個鋼噴嘴31a，並且多個所述鋼噴嘴31a用於使自其噴灑而出的霧狀光阻能於所述承載面21a形成所述光阻噴塗層PR。其中，多個所述鋼噴嘴31a排成一列且其位置保持固定，並且多個所述鋼噴嘴31a的噴灑範圍也能覆蓋整個所述承載面21a。

如圖1、圖3、及圖4所示，所述烘烤機構4a、所述分離機構5a、及所述碎料機構6a可以視設計需求而安裝於所述工作台1a、也可以是分離於所述工作台1a而為獨立運作機構。其中，所述烘烤機構4a對應於所述載體2a設置，用以通過加熱固化所述光阻噴塗層PR、以使所述光阻噴塗層PR形成固態狀且去除其所包含的溶劑。

再者，所述分離機構5a對應於所述承載面21a設置，用以將形成固態狀且未包含所述溶劑的所述光阻噴塗層PR自所述載體2a以物理性手段移除。例如：所述分離機構5a可以是包含有刮刀的機構，據以通過所述刮刀而使所述光阻噴塗層PR自所述載體2a剝離。此外，呈固態狀的所述光阻噴塗層PR可以進一步通過所述碎料機構6a而呈顆粒狀或粉末狀的所述固態光阻劑200a，以利於後續步驟（如：所述蒸鍍步驟）使用。

依上所述，所述固態光阻生產設備於本實施例中可以運作取得呈固態狀且未含所述溶劑的所述光阻噴塗層PR（或所述固態光阻劑200a），其能被以不同於以往的方式（如：蒸鍍方式）進行應用，以有效地改變既有僅光阻劑僅能以液態狀進行應用的侷限。

所述準備步驟：如圖5至圖7所示，提供一光阻蒸鍍設備100。其中，所述光阻蒸鍍設備100包含一真空蒸鍍腔體1、對應設置於所述真空蒸鍍腔體1的一旋轉機構2、位於所述真空蒸鍍腔體1之內的一蒸鍍舟體3、及連接於所述蒸鍍舟體3的一加熱器4。

進一步地說，所述真空蒸鍍腔體1具有一工作區域11，其呈長形且定義有一長度方向L，並且所述工作區域11較佳是呈橫躺配置。所述旋轉機構2（沿所述長度方向L）對應於所述工作區域11設置；也就是說，所述旋轉機構2配置於所述工作區域11沿所述長度方向L的至少一端處，用以承載並轉動設置於所述工作區域11的一金屬滾輪300。

再者，所述蒸鍍舟體3於本實施例中以一鎢舟來說明，並且所述蒸鍍舟體3可以是位於所述工作區域11的下方。其中，所述蒸鍍舟體3具有沿所述長度方向L排列的多個蒸鍍區31，並且多個所述蒸鍍區31較佳是沿所述長度方向L彼此等間距地設置。於本實施例中，多個所述蒸鍍區31是與所述工作區域11（或所述金屬滾輪300）相隔有同等距離，但本發明不以此為限。

進一步地說，每個所述蒸鍍區31呈凹槽狀且設置有所述固態光阻劑200a，並且所述固態光阻劑200a於本實施例中是限定為不包含溶劑。也就是說，非用來蒸鍍固態光阻劑200a的任何構件皆不同於本實施例所指的所述蒸鍍舟體3。

所述加熱器4連接於所述蒸鍍舟體3，並且所述加熱器4能用來對所述蒸鍍舟體3加熱，以使設置於每個所述蒸鍍區31的所述固態光阻劑200a朝向所述工作區域11轉變為一氣態光阻劑200b，以利於所述氣態光阻劑200b以氣態形式進行沉積作業，進而提供一種新的光阻成形方式，其所成形的光阻層能在厚度較薄的形況下達到符合要求的均勻度。也就是說，非用來蒸鍍固態光阻劑200a的任何步驟皆不同於本實施例所指的所述準備步驟。

此外，為使所述光阻蒸鍍設備100能夠實現較佳的光阻蒸鍍效果、且更利於控制光阻蒸鍍的實施流程，所述光阻蒸鍍設備100較佳是具備有下述特徵的至少部分。具體來說，每個所述蒸鍍區31與所述工作區域11之間定義有一蒸鍍範圍311，並且相鄰的任兩個所述蒸鍍區31的所述蒸鍍範圍311產生局部重疊，據以有效地避免所述工作區域11產生無法被所述氣態光阻劑200b所覆蓋的區域。

再者，每個所述蒸鍍區31呈凹槽狀且具有對應於所述蒸鍍範圍311的一發射角度312，並且相鄰的任兩個所述蒸鍍區31的所述發射角度312之間的差值小於10度。其中，每個所述蒸鍍區31的所述發射角度312較佳是介於60度～150度。此外，所述加熱器4包含有多個加熱部41，其分別對應於多個所述蒸鍍區31設置；例如：每個所述蒸鍍區31的下方可以設置有一個所述加熱部41。

需先說明的是，所述光阻蒸鍍方法於本實施例中是以採用所述光阻蒸鍍設備100來實現所述置件步驟、所述蒸鍍步驟、及所述圖案化步驟，但本發明不以此為限。舉例來說，在本發明未繪示的其他實施例中，所述置件步驟、所述蒸鍍步驟、及所述圖案化步驟也可以採用構造有別於本實施例的其他光阻蒸鍍機構來實現。

所述置件步驟：如圖5至圖7所示，將所述金屬滾輪300置於所述真空蒸鍍腔體1之內，並使所述金屬滾輪300能於所述真空蒸鍍腔體1之內自轉。於本實施例中，所述金屬滾輪300較佳是採用呈圓柱狀的一銅滾輪或一鉻滾輪，並且所述金屬滾輪300是被設置在所述真空蒸鍍腔體1的所述工作區域11之內，以使所述旋轉機構2能夠承載並轉動設置於所述工作區域11的所述金屬滾輪300。也就是說，所述金屬滾輪300能通過所述旋轉機構2而於所述工作區域11內自轉。

所述蒸鍍步驟：如圖5至圖7所示，加熱所述固態光阻劑200a，以使所述固態光阻劑200a轉變為所述氣態光阻劑200b、並朝向轉動中的所述金屬滾輪300沉積而形成厚度不大於0.2微米（μm）的一光阻薄膜200c（如：所述光阻薄膜200c的所述厚度介於0.05微米～0.2微米）。於本實施例中，當所述旋轉機構2轉動所述金屬滾輪300時，所述加熱器4能用來對所述蒸鍍舟體3加熱，以使設置於每個所述蒸鍍區31的所述固態光阻劑200a朝向所述金屬滾輪300轉變為所述氣態光阻劑200b、並沉積於所述金屬滾輪300而形成所述光阻薄膜200c。

其中，所述光阻薄膜200c較佳是以不大於0.5奈米/分鐘的速度所沉積形成，並且所述光阻薄膜200c的均勻度可以有效地達到不大於15%。進一步地說，每個所述蒸鍍區31的溫度能由相對應所述加熱部41提升至適合將所述固態光阻劑200a轉變為所述氣態光阻劑200b的溫度（如：600度C～1100度C），進而能夠控制所述蒸鍍舟體3（或多個所述蒸鍍區31）通過所述加熱器4於所述金屬滾輪300（的外表面）以不大於0.5奈米/分鐘的速度形成均勻度不大於15%的所述光阻薄膜200c。

依上所述，所述光阻蒸鍍方法於本實施例中通過所述備料步驟取得所述固態光阻劑200a，以利於在後續所述蒸鍍步驟之中以所述固態光阻劑200a實現蒸鍍形成所述光阻薄膜200c，進而提供有別於既有塗佈方式所形成的光阻層。

所述圖案化步驟：如圖7和8所示，對所述光阻薄膜200c進行一曝光顯影作業，以使所述光阻薄膜200c形成一預設圖案層200d。於本實施例中，所述金屬滾輪300的外表面具有裸露於所述預設圖案層200d之外的一第一成形區域301、及被所述預設圖案層200d覆蓋的一第二成形區域302。

據此，如圖5至圖8所示，所述光阻蒸鍍方法於本實施例中能通過實施所述置件步驟及所述蒸鍍步驟，而於所述金屬滾輪300形成厚度較薄且具有較佳均勻度的所述光阻薄膜200c。再者，所述光阻蒸鍍方法來能進一步通過所述圖案化步驟來使所述光阻薄膜200c形成所述預設圖案層200d，以利於精確地實施後續的所述金屬滾輪300的外表面圖案化（如：所述金屬蝕刻步驟與所述成形蝕刻步驟）。

所述金屬蝕刻步驟：如圖8和圖9所示，對所述金屬滾輪300的所述外表面以一乾式蝕刻方式進行蝕刻，以使所述金屬滾輪300於所述第一成形區域301凹設形成有多個凹槽3011。其中，多個所述凹槽3011的外型對應於所述預設圖案層200d，以共同構成一中介立體圖案M。

所述成形蝕刻步驟：如圖9和圖10所示，自所述中介立體圖案M進行蝕刻，去除所述預設圖案層200d、並使所述金屬滾輪300的所述外表面凹設形成有一滾壓立體圖案R，其對應於（如：大致相同於）所述中介立體圖案M。其中，所述金屬滾輪300於所述第二成形區域302因通過蝕刻而成形的一部位，其外型對應於（如：大致相同於）所述預設圖案層200d。

需額外說明的是，所述光阻蒸鍍方法於本實施例中雖是以實施上述多個步驟來說明，但本發明不以此為限。舉例來說，在本發明未繪示的其他實施例中，所述準備步驟、所述金屬蝕刻步驟、及所述成形蝕刻步驟的至少其中之一也可以依據設計需求而加以省略或是以其他方式取代。

[實施例二]

請參閱圖11和圖12所示，其為本發明的實施例二。由於本實施例類似於上述實施例一，所以兩個實施例的相同處不再加以贅述，而本實施例相較於上述實施例一的差異主要在於：所述載體2a的型態。

於本實施例中，所述固態光阻生產設備包含有安裝於所述工作台1a的一自轉機構7a及安裝於所述自轉機構7a的一圓筒8a。其中，所述圓筒8a能通過所述自轉機構7a而自轉（如：等速地自轉），並且所述圓筒8a的長度介於1公尺～1.8公尺，而所述圓筒8a的直徑介於15公分～20公分，但本發明不以此為限。

所述載體2a的材質例如是聚對苯二甲酸乙二酯（PET），並且所述載體2a披覆於所述圓筒8a的外表面、並使所述承載面21a朝向遠離所述圓筒8a的一側。進一步地說，所述載體2a圍繞成圓管狀，並且所述載體2a的兩端彼此相鄰且形成有一長形縫隙S，以使所述圓筒8a的局部所述外表面自所述長形縫隙S裸露於所述載體2a之外。

據此，所述光阻噴塗器3a能於於所述承載面21a噴塗形成有所述光阻噴塗層PR；在所述光阻噴塗層PR形成固態狀且去除其所包含的溶劑，所述載體2a與所述光阻噴塗層PR可以自所述圓筒取下，而後再將所述光阻噴塗層PR自所述載體2a剝離。此外，呈固態狀的所述光阻噴塗層PR可以進一步通過所述碎料機構而呈顆粒狀或粉末狀的所述固態光阻劑，以利於後續步驟（如：所述蒸鍍步驟）使用。

[本發明實施例的技術效果]

綜上所述，本發明實施例所公開的光阻蒸鍍方法，其能通過所述備料步驟取得所述固態光阻劑，以利於在後續所述蒸鍍步驟之中以所述固態光阻劑實現蒸鍍形成所述光阻薄膜，進而提供有別於既有塗佈方式所形成的光阻層。進一步地說，所述固態光阻生產設備可以運作取得呈固態狀且未含所述溶劑的所述光阻噴塗層（或所述固態光阻劑），其能被以不同於以往的方式進行應用，以有效地改變既有僅光阻劑僅能以液態狀進行應用的侷限。

再者，本發明實施例所公開的光阻蒸鍍方法，其能通過實施所述置件步驟及所述蒸鍍步驟，而於所述金屬滾輪形成厚度較薄且具有較佳均勻度的所述光阻薄膜。再者，所述光阻蒸鍍方法來能進一步通過所述圖案化步驟來使所述光阻薄膜形成所述預設圖案層，以利於實施後續的所述金屬滾輪的外表面圖案化。

進一步地說，本發明實施例所公開的光阻蒸鍍設備，其能以所述氣態光阻劑來進行沉積作業，據以提供一種新的光阻成形方式，其所成形的所述光阻薄膜能夠在厚度較薄的形況下達到符合要求的均勻度。

此外，本發明實施例所公開的光阻蒸鍍方法，其通過直接氣態沉積光阻劑來形成厚度薄且均勻的所述光阻薄膜、並進一步搭配特定材質的所述金屬滾輪來共同通過多個蝕刻步驟（如：所述金屬蝕刻步驟、及所述成形蝕刻步驟），以能夠在所述金屬滾輪的所述外表面形成有所述滾壓立體圖案，進而克服本領域的技術偏見。

以上所公開的內容僅為本發明的優選可行實施例，並非因此侷限本發明的專利範圍，所以凡是運用本發明說明書及圖式內容所做的等效技術變化，均包含於本發明的專利範圍內。

1a:工作台 2a:載體 21a:承載面 3a:光阻噴塗器 31a:鋼噴嘴 4a:烘烤機構 5a:分離機構 6a:碎料機構 7a:自轉機構 8a:圓筒 100:光阻蒸鍍設備 1:真空蒸鍍腔體 11:工作區域 2:旋轉機構 3:蒸鍍舟體 31:蒸鍍區 311:蒸鍍範圍 312:發射角度 4:加熱器 41:加熱部 L:長度方向 200a:固態光阻劑 200b:氣態光阻劑 200c:光阻薄膜 200d:預設圖案層 300:金屬滾輪 301:第一成形區域 3011:凹槽 302:第二成形區域 M:中介立體圖案 R:滾壓立體圖案 PR:光阻噴塗層 S:長形縫隙

圖1為本發明實施例一的光阻蒸鍍方法的備料步驟示意圖（一）。

圖2為圖1另一態樣的示意圖。

圖3為本發明實施例一的光阻蒸鍍方法的備料步驟示意圖（二）。

圖4為本發明實施例一的光阻蒸鍍方法的備料步驟示意圖（三）。

圖5為本發明實施例一的光阻蒸鍍方法的置件步驟示意圖。

圖6為本發明實施例一的光阻蒸鍍方法的蒸鍍步驟示意圖。

圖7為圖6沿剖線VII-VII的局部剖視示意圖。

圖8為本發明實施例一的光阻蒸鍍方法的圖案化步驟示意圖。

圖9為本發明實施例一的光阻蒸鍍方法的金屬蝕刻步驟示意圖。

圖10為本發明實施例一的光阻蒸鍍方法的成形蝕刻步驟示意圖。

圖11為本發明實施例二的光阻蒸鍍方法的備料步驟示意圖（一）。

圖12為本發明實施例二的光阻蒸鍍方法的備料步驟示意圖（二）。

1a:工作台

2a:載體

21a:承載面

3a:光阻噴塗器

31a:鋼噴嘴

4a:烘烤機構

PR:光阻噴塗層

Claims

一種光阻蒸鍍方法，其包括：一備料步驟，其包含：於一載體噴塗形成厚度介於2.5微米（μm）～5微米的一光阻噴塗層；固化並烘烤所述光阻噴塗層，以使所述光阻噴塗層呈固態狀且去除其溶劑；及將固態狀的所述光阻噴塗層以物理性手段自所述載體移除、並進行碎料以構成一固態光阻劑；一置件步驟：將一金屬滾輪置於一真空蒸鍍腔體，以使所述金屬滾輪能於所述真空蒸鍍腔體之內自轉；以及一蒸鍍步驟：加熱所述固態光阻劑，以使所述固態光阻劑轉變為一氣態光阻劑、並朝向所述金屬滾輪沉積而形成一光阻薄膜。
如請求項1所述的光阻蒸鍍方法，其中，所述光阻薄膜的厚度介於0.05微米～0.2微米，所述光阻薄膜是以不大於0.5奈米/分鐘的速度所沉積形成，所述光阻薄膜的均勻度不大於15%。
如請求項1所述的光阻蒸鍍方法，其中，於所述備料步驟之中，所述光阻噴塗層固化至呈固態狀所歷經的烘烤溫度介於70度C～160度C且歷時2小時～2.5小時。
如請求項1所述的光阻蒸鍍方法，其中，所述光阻蒸鍍方法於所述蒸鍍步驟之後，進一步包括：一圖案化步驟：對所述光阻薄膜進行一曝光顯影作業，以使所述光阻薄膜形成一預設圖案層。
如請求項4所述的光阻蒸鍍方法，其中，所述金屬滾輪的外表面具有裸露於所述預設圖案層之外的一第一成形區域、及被所述預設圖案層覆蓋的一第二成形區域，所述光阻蒸鍍方法於所述圖案化步驟之後進一步包含有：一金屬蝕刻步驟：對所述金屬滾輪的所述外表面以一乾式蝕刻方式進行蝕刻，以使所述金屬滾輪於所述第一成形區域凹設形成有多個凹槽；其中，多個所述凹槽的外型對應於所述預設圖案層，以共同構成一中介立體圖案；及一成形蝕刻步驟：自所述中介立體圖案進行蝕刻，去除所述預設圖案層、並使所述金屬滾輪的所述外表面凹設形成有一滾壓立體圖案，其對應於所述中介立體圖案。
如請求項1所述的光阻蒸鍍方法，其中，所述備料步驟進一步包含：提供一固態光阻生產設備，其包含：一載體，具有一承載面；一光阻噴塗器，對應於所述承載面設置，用以於所述承載面噴塗形成有一光阻噴塗層；一烘烤機構，對應於所述載體設置，用以通過加熱固化所述光阻噴塗層、以使所述光阻噴塗層形成固態狀且去除其所包含的溶劑；及一分離機構，對應於所述承載面設置，用以將形成固態狀且未包含所述溶劑的所述光阻噴塗層自所述載體以物理性手段移除。
如請求項6所述的光阻蒸鍍方法，其中，所述載體呈平坦板狀，並且所述載體的長度介於1公尺～1.8公尺，並且所述載體的寬度介於0.1公尺～0.5公尺。
如請求項6所述的光阻蒸鍍方法，其中，所述固態光阻生產設備包含有一自轉機構及安裝於所述自轉機構的一圓筒，並且所述圓筒能通過所述自轉機構而自轉，而所述載體披覆於所述圓筒的外表面；其中，所述載體的兩端彼此相鄰且形成有一長形縫隙，以使所述圓筒的局部所述外表面自所述長形縫隙裸露於所述載體之外。
如請求項1所述的光阻蒸鍍方法，其中，所述光阻蒸鍍方法於所述置件步驟之前，進一步包括：一準備步驟：提供一光阻蒸鍍設備，其包含：所述真空蒸鍍腔體，具有一工作區域，其呈長形且定義有一長度方向；一旋轉機構，對應於所述工作區域設置；一蒸鍍舟體，具有沿所述長度方向排列的多個蒸鍍區；其中，每個所述蒸鍍區設置有所述固態光阻劑；及一加熱器，連接於所述蒸鍍舟體；其中，於所述置件步驟之中，所述旋轉機構承載並轉動設置於所述工作區域的所述金屬滾輪；於所述蒸鍍步驟之中，所述加熱器對所述蒸鍍舟體加熱，以使設置於每個所述蒸鍍區的所述固態光阻劑朝向所述金屬滾輪轉變為所述氣態光阻劑。
如請求項9所述的光阻蒸鍍方法，其中，每個所述蒸鍍區與所述工作區域之間定義有一蒸鍍範圍，並且相鄰的任兩個所述蒸鍍區的所述蒸鍍範圍產生局部重疊；其中，每個所述蒸鍍區具有對應於所述蒸鍍範圍的一發射角度，並且相鄰的任兩個所述蒸鍍區的所述發射角度之間的差值小於10度，而每個所述蒸鍍區的所述發射角度介於60度～150度。