TWI726225B - 生醫晶片製作方法 - Google Patents
生醫晶片製作方法 Download PDFInfo
- Publication number
- TWI726225B TWI726225B TW107124873A TW107124873A TWI726225B TW I726225 B TWI726225 B TW I726225B TW 107124873 A TW107124873 A TW 107124873A TW 107124873 A TW107124873 A TW 107124873A TW I726225 B TWI726225 B TW I726225B
- Authority
- TW
- Taiwan
- Prior art keywords
- conductive layer
- plates
- manufacturing
- laser
- biomedical
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 15
- 238000000018 DNA microarray Methods 0.000 title abstract 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 8
- 238000005304 joining Methods 0.000 claims description 5
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 7
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 description 2
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 2
- 0 **C(C(C1C(C2)(C3)C4CC5CC6*)C3(CC*3CC(CC7)CCC7CCCC3)O)C3C12C45C6C3* Chemical compound **C(C(C1C(C2)(C3)C4CC5CC6*)C3(CC*3CC(CC7)CCC7CCCC3)O)C3C12C45C6C3* 0.000 description 1
- 102000004190 Enzymes Human genes 0.000 description 1
- 108090000790 Enzymes Proteins 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000008280 blood Substances 0.000 description 1
- 210000004369 blood Anatomy 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 201000010099 disease Diseases 0.000 description 1
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- -1 polydimethylsiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C40—COMBINATORIAL TECHNOLOGY
- C40B—COMBINATORIAL CHEMISTRY; LIBRARIES, e.g. CHEMICAL LIBRARIES
- C40B50/00—Methods of creating libraries, e.g. combinatorial synthesis
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
一種生醫晶片製作方法,包含:形成一導電層在複數板件中的至少一者上;去除該導電層之部分區域以形成一導電線路;及將該些板件接合在一起,而形成該生醫晶片。
Description
本發明是有關於一種晶片製作方法,特別是指一種生醫晶片製作方法。
生醫晶片已被廣泛應用於採樣篩檢,可使用少量樣品而輕易地大量執行諸如高產量篩選、酶素測定等之疾病診斷以及實驗。生醫晶片往往需要多道繁複的程序來製作,例如:光罩、化學或光學蝕刻、清潔等處理。除了製作過程繁複之外,還伴隨產生廢棄物之問題。
有鑑於此,本發明提出一種生醫晶片製作方法,包含:形成一導電層在複數板件中的至少一者上;去除該導電層之部分區域以形成一導電線路;及將該些板件接合在一起,而形成該生醫晶片。
在一些實施例中,所述去除步驟是以電漿蝕刻方式去除導電層之部分區域。
在一些實施例中,所述去除步驟更包含:以雷射薄化導電層。
在一些實施例中,所述去除步驟是採用深紫外光雷射。
在一些實施例中,所述雷射刻劃步驟是採用深紫外光雷射。
在一些實施例中,該至少一凹陷選擇性的橫跨導電層與板件,或者僅位於導電層。
在一些實施例中,橫跨導電層與板件的凹陷為一流道。
在一些實施例中,導電層是透過電鍍方式形成。
在一些實施例中,於雷射刻劃步驟中還於該些板件上形成位置相對應的複數定位標靶,以於接合步驟中,根據該些定位標靶對位該些板件。
根據本發明實施例之生醫晶片製作方法,利用雷射進行多項加工,包含刻劃、去除、接合等步驟,可提供簡易快速的加工製程。特別是採用深紫外光雷射進行加工,可避免板件碎裂或產生熱效應與污染物。並且,配合電漿蝕刻,可一併去除不要的導電層區域與清潔接合區域,利於後續的接合步驟。
參照圖1,係為本發明一實施例之生醫晶片製作方法流程示意圖。首先,提供複數板件100。在此,以三個板件100a、100b、100c為例。所述板件100的材質可為相同,亦可不同,本發明實施例不特別限制。在一些實施例中,板件100的材質為聚二甲基矽氧烷(PMDS)。
在步驟S310中,形成一導電層200在複數板件中的至少一者(於此以板件100c為例)上。在此,可利用電鍍的方式形成導電層200。
在步驟S320中,執行一雷射刻劃步驟,以在其中至少一個板件100上形成至少一凹陷110。於此,是以在板件100a與板件100b上分別形成凹陷111、112。板件100a上的凹陷111是圓形的穿孔,但本發明實施例不限制凹陷110的形狀。板件100b上的凹陷112是依據所需導流道而構成對應形狀的槽道,於此形狀僅為例示,並非以此為限。槽道包含引入區120及從引入區120引流而出的二流路121、122。
在一些實施例中,雷射刻劃步驟是利用深紫外光雷射來實現。
在此,雖是以對於未形成導電層200的板件100a、100b執行雷射刻劃步驟為例來說明,但本發明之實施例非限於此。在一些實施例中,仍可對於具有導電層200的板件100施以雷射刻劃步驟而在該板件100上形成凹陷110。
在步驟S330中,執行一去除步驟,去除導電層200之部分區域,使得未被去除的部份形成導電線路。在此,未被去除的部份是形成電極210,但本發明實施例非以此為限。導電線路還可包含其他需要導電的線路,如導線。在此,去除步驟是利用雷射去除。在一些實施例中,去除步驟是利用深紫外光雷射。
在一些實施例中,去除步驟是利用電漿蝕刻方式去除部分的導電層200區域。在一些實施例中,在以電漿蝕刻之前,還可以雷射預先薄化導電層200,可降低電漿蝕刻深度,加快製程。電漿蝕刻除了用來去除導電層200部分區域之外,還可對板件100之間的接合區域進行清潔,在後續接合步驟前進行預處理。
參照圖2,係為本發明一實施例之生醫晶片示意圖。對於經過前述加工的板件100a、100b、100c,執行一接合步驟,以將板件100a、100b、100c接合在一起,而形成生醫晶片400。所述接合方式可利用雷射焊接技術。在一些實施例中,雷射焊接技術是採用深紫外光雷射來實現。在此,各板件100之間的對應位置可設置多個接合區域,以在此些板件100疊合後,針對此些接合區域進行前述接合步驟。
在一些實施例中,接合方式還可利用黏合、熔接、銲接等技術達成。
在一些實施例中,在前述雷射刻劃步驟中,還可在此些板件100上以雷射刻劃多個定位標靶,以利於接合步驟中,輔助對位此些板件100。所述對位是利用攝影機進行視覺對位,因此可配合機械手臂或運動平台來調整板件100的位置。
在一些實施例中,可省略前述板件100b,而在板件100c上形成導電層200,並雷射刻劃出如圖1所示的凹陷112,並將部分導電層200去除而形成電極210。最後將板件100a與板件100c接合。換言之,所述凹陷110可選擇性的橫跨導電層200與板件100,或者僅位於導電層200。在此例中,橫跨導電層200與板件100的凹陷100則形成流道,僅位於導電層200的凹陷100則為導電層200被去除的部份。
根據本發明實施例之生醫晶片製作方法,利用雷射進行多項加工,包含刻劃、去除、接合等步驟,可提供簡易快速的加工製程。特別是採用深紫外光雷射進行加工,可避免板件100碎裂或產生熱效應與污染物。並且,配合電漿蝕刻,可一併去除不要的導電層200區域與清潔接合區域,利於後續的接合步驟。
100、100a、100b、100c‧‧‧板件
110、111、112‧‧‧凹陷
120‧‧‧引入區
121、122‧‧‧流路
200‧‧‧導電層
210‧‧‧電極
S310、S320、330‧‧‧步驟
400‧‧‧生醫晶片
410‧‧‧滴血孔
[圖1]為本發明一實施例之生醫晶片製作方法流程示意圖。 [圖2]為本發明一實施例之生醫晶片示意圖。
100、100a、100b、100c‧‧‧板件
110、111、112‧‧‧凹陷
120‧‧‧引入區
121、122‧‧‧流路
200‧‧‧導電層
210‧‧‧電極
S310、S320、330‧‧‧步驟
Claims (5)
- 一種生醫晶片製作方法,包含:形成一導電層在複數板件中的至少一者上;執行一雷射刻劃步驟,以在該些板件中的至少一者上形成至少一凹陷,且於該些板件上形成位置相對應的複數定位標靶;執行一去除步驟,以雷射薄化該導電層,接以電漿蝕刻方式去除該導電層之部分區域以形成一導電線路;及執行一接合步驟,根據該些定位標靶對位該些板件,採用深紫外光雷射的方式將該些板件接合在一起,而形成該生醫晶片。
- 如請求項1所述之生醫晶片製作方法,其中該雷射刻劃步驟是採用深紫外光雷射。
- 如請求項1所述之生醫晶片製作方法,其中該至少一凹陷選擇性的橫跨該導電層與該板件,或者僅位於該導電層。
- 如請求項3所述之生醫晶片製作方法,其中橫跨該導電層與該板件的該凹陷為一流道。
- 如請求項1所述之生醫晶片製作方法,其中該導電層是透過電鍍方式形成。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW107124873A TWI726225B (zh) | 2018-07-18 | 2018-07-18 | 生醫晶片製作方法 |
| CN201910384513.XA CN110735186A (zh) | 2018-07-18 | 2019-05-09 | 生医芯片制作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TW107124873A TWI726225B (zh) | 2018-07-18 | 2018-07-18 | 生醫晶片製作方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TW202006356A TW202006356A (zh) | 2020-02-01 |
| TWI726225B true TWI726225B (zh) | 2021-05-01 |
Family
ID=69236683
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TW107124873A TWI726225B (zh) | 2018-07-18 | 2018-07-18 | 生醫晶片製作方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN110735186A (zh) |
| TW (1) | TWI726225B (zh) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI230257B (en) * | 2002-10-01 | 2005-04-01 | Univ Nat Cheng Kung | Integrated analytical biochip and manufacturing method thereof |
| US7087181B2 (en) * | 2000-01-31 | 2006-08-08 | Diagnoswiss S.A. | Method for fabricating micro-structures with various surface properties in multi-layer body by plasma etching |
| TWM526073U (zh) * | 2016-04-29 | 2016-07-21 | zhi-hui Li | 具多功能檢測數值的試片 |
| TW201643430A (zh) * | 2015-04-24 | 2016-12-16 | 梅薩生物科技股份有限公司 | 流體測試卡匣 |
| TWM559769U (zh) * | 2017-12-21 | 2018-05-11 | 李俊豪 | 雷射加工設備 |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA2441366A1 (en) * | 2001-03-24 | 2002-10-03 | Aviva Biosciences Corporation | Biochips including ion transport detecting structures and methods of use |
| US20090004403A1 (en) * | 2007-06-29 | 2009-01-01 | Yonggang Li | Method of Providing Patterned Embedded Conducive Layer Using Laser Aided Etching of Dielectric Build-Up Layer |
| CN101949946B (zh) * | 2010-09-03 | 2012-11-07 | 东华大学 | 一种三电极体系光电化学微流控检测芯片的制作方法 |
| CN103232023B (zh) * | 2013-04-22 | 2016-06-29 | 西安交通大学 | 一种基于飞秒激光处理和湿法刻蚀的硅微结构加工方法 |
| TWI514670B (zh) * | 2013-05-21 | 2015-12-21 | Wistron Neweb Corp | 天線的製作方法 |
| TWI533929B (zh) * | 2013-12-13 | 2016-05-21 | 財團法人國家實驗研究院 | 微流道檢測系統及其製造方法 |
| WO2016163339A1 (ja) * | 2015-04-07 | 2016-10-13 | 二プロ株式会社 | ステント |
| CN105548315A (zh) * | 2016-02-02 | 2016-05-04 | 苏州甫一电子科技有限公司 | 聚合物微流控芯片及其制备方法 |
| CN107570245B (zh) * | 2017-09-04 | 2019-09-24 | 清华大学深圳研究生院 | 一种自循环微流控芯片及其制备方法和用途 |
| CN107855142B (zh) * | 2017-11-01 | 2024-07-05 | 深圳市第二人民医院 | 一种基于微流控技术的检测芯片及检测设备 |
-
2018
- 2018-07-18 TW TW107124873A patent/TWI726225B/zh active
-
2019
- 2019-05-09 CN CN201910384513.XA patent/CN110735186A/zh not_active Withdrawn
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7087181B2 (en) * | 2000-01-31 | 2006-08-08 | Diagnoswiss S.A. | Method for fabricating micro-structures with various surface properties in multi-layer body by plasma etching |
| TWI230257B (en) * | 2002-10-01 | 2005-04-01 | Univ Nat Cheng Kung | Integrated analytical biochip and manufacturing method thereof |
| TW201643430A (zh) * | 2015-04-24 | 2016-12-16 | 梅薩生物科技股份有限公司 | 流體測試卡匣 |
| TWM526073U (zh) * | 2016-04-29 | 2016-07-21 | zhi-hui Li | 具多功能檢測數值的試片 |
| TWM559769U (zh) * | 2017-12-21 | 2018-05-11 | 李俊豪 | 雷射加工設備 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202006356A (zh) | 2020-02-01 |
| CN110735186A (zh) | 2020-01-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101940331B1 (ko) | 레이저 가공 방법 | |
| TWI458583B (zh) | 多層半導體晶圓之加工技術 | |
| KR102629100B1 (ko) | 다이아몬드 기판 생성 방법 | |
| JP6911288B2 (ja) | ガラスの加工方法 | |
| JP5819605B2 (ja) | 基板の分割方法 | |
| CN108067746B (zh) | 基板的加工方法 | |
| TW201838753A (zh) | 工件加工方法 | |
| US6974721B2 (en) | Method for manufacturing thin semiconductor chip | |
| TW200847377A (en) | Method of manufacturing wiring board | |
| JP2010090022A (ja) | 貼り合せ基板のスクライブ方法 | |
| JP2008006809A (ja) | シリコンノズルプレートの製造方法及びインクジェットヘッドの製造方法 | |
| KR101942110B1 (ko) | 레이저 가공방법 | |
| TWI726225B (zh) | 生醫晶片製作方法 | |
| CN102486992A (zh) | 一种半导体器件的制造方法 | |
| KR20100071909A (ko) | 가공 기판 및 그 제조 방법 | |
| JP2011206838A (ja) | レーザ加工方法 | |
| CN114284243A (zh) | 键合用晶圆、键合结构以及键合方法 | |
| TW202203307A (zh) | 晶圓的檢查方法 | |
| CN109979879A (zh) | 半导体芯片制造方法 | |
| JP2013026604A (ja) | 接合基板の製造方法 | |
| CN117983984A (zh) | 三维探针及其制造方法 | |
| JP2023080402A (ja) | ガラス基板製造方法 | |
| JP2018197800A (ja) | ガラスパネル製造方法および液晶パネル製造方法 | |
| CN111975211B (zh) | 一种晶圆异形结构的激光加工方法 | |
| CN112447884B (zh) | 标记方法 |