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TWI798171B - 用於產生包括定向非球形磁體或可磁化顏料粒子的光學效應層（ｏｅｌ）的方法、使用此方法所產生的ｏｅｌ、包括此ｏｅｌ的安全文件、裝飾元素和物體、用於產生此ｏｅｌ的設備、使用此設備產生此ｏｅｌ的用途及包括此設備的印刷設備 - Google Patents

用於產生包括定向非球形磁體或可磁化顏料粒子的光學效應層（ｏｅｌ）的方法、使用此方法所產生的ｏｅｌ、包括此ｏｅｌ的安全文件、裝飾元素和物體、用於產生此ｏｅｌ的設備、使用此設備產生此ｏｅｌ的用途及包括此設備的印刷設備 Download PDF

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馬修 史密德
克勞德艾倫 德斯普蘭德
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瑞士商西克帕控股有限公司
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Abstract

本發明係有關於磁性組件領域及用於產生光學效應層(OEL)於基板上的方法，該光學效應層(OEL)包含磁定向非球形磁體或可磁化顏料粒子。特定來說，本發明係有關於磁性組件及用於產生該OEL為安全文件上或安全物品上的仿偽手段或用於裝飾目的的方法。

Description

用於產生包括定向非球形磁體或可磁化顏料粒子的光學效應 層(OEL)的方法、使用此方法所產生的OEL、包括此OEL的安全文件、裝飾元素和物體、用於產生此OEL的設備、使用此設備產生此OEL的用途及包括此設備的印刷設備
本發明與保護價值文件及價值商品以防止偽造及非法複製的領域相關。特定言之，本發明係與顯示視角依賴光學效應的光學效應層(OEL)、用於生產該等OEL的磁性組件和方法及該等OEL作為文件上之防偽手段的用途相關。
使用包含磁體或可磁化顏料粒子(特定來說為包含非球形的光學可變磁體或可磁化顏料粒子)的墨水、塗料組合物或層以生產安全元素及安全文件在本領域中已眾所皆知。
例如用於安全文件的安全特徵可分為「隱藏(covert)」及「公開(overt)」的安全特徵。藉由隱藏的安全特徵所提供的保護係依賴於此類特徵被隱藏的概念，通常需要專用設備及知識來偵測此類特徵；對之，「公開」的安全特徵可經由無輔助的人體感官而易於偵測到(例如，此類特徵可為可見的及/或可經由觸覺偵測到此類特徵)，且同時此類特徵仍為難以產生及/或複製。然，公開的安全特徵之有效性在很大程度上係取決於此類特徵作為安全特徵的易於辨識性；因若使用者知道安全特徵的存在及性質，則該等使用者才會將基於此類安全特徵來實際執行安全檢查。
包含定向磁體或可磁化顏料粒子的塗料或層經揭露於(例如)US 2,570,586、US 3,676,273、US 3,791,864、US 5,630,877及US 5,364,689中。塗料中的磁體或可磁化顏料粒子允許施加相應的磁場來產生磁感應圖像、設計及/或圖案，導致未硬化塗料中的磁體或可磁化顏料粒子局部定向，隨後硬化後者。此事導致特定的光學效果；亦即，固定的磁感應圖像和高度抗偽的設計或圖案。基於定向磁體或可磁化顏料粒子的安全元素僅可由使用磁體或可磁化顏料粒子或對應墨水或包含該等粒子的組合物及所採取的特定技術兩者所產生，以施加該墨水或組合物及以定向該顏料粒子於經施加的墨水或組合物中。
舉例而言，US 7,047,883揭露一種用於生產光學效應層(OEL)的設備及方法，該等光學效應層(OEL)係透過在塗料組合物中定向磁體或可磁化的光學可變顏料薄片所獲得的；該所揭露之設備包含放置在承載該塗料組合物的基板下的永磁體的具體布置。根據US 7,047,883，定向OEL中之磁體或可磁化的光學可變顏料薄片的第一部分以便在第一方向上反射光，及對齊鄰近於該第一部分的第二部分以便在第二方向上反射光，以在傾斜OEL時產生視覺「觸發器」效應。
WO 2006/069218 A2揭露一種包含OEL的基板，該OEL包含光學可變磁體或可磁化顏料薄片，該光學可變磁體或可磁化顏料薄片以當該OEL傾斜時(「滾動條」)條看起來是移動的方式定向。根據WO 2006/069218 A2，放置在承載光學可變磁體或可磁化顏料薄片的基板下的永磁體的具體布置係用於定向該等薄片以模擬曲面。
US 7,955,695與OEL相關，其中所謂的格柵化的磁體或可磁化顏料粒子主要垂直於基板表面定向，以產生模擬具有強干涉色的蝴蝶翼的視覺效果。再次地說，承載塗料組合物的基板下的永磁體的具體布置係用於定向顏料粒子。
EP 1 819 525 B1揭露一種具有OEL的安全元素，該OEL在某些視角看起來是透明的，從而讓視覺存取底層資訊且同時在其他視角保持不透明。為了得到 此種被稱為「百葉窗效應」的效果，在基板下的永磁體的具體布置使光學可變可磁化或磁性顏料薄片相對於基板表面以預定角度定向。
已開發移動環效應作為有效的安全元素。移動環效應由光學虛幻的物體圖像(如漏斗、圓錐體、碗、圓形、橢圓形及半球)組成，該等光學虛幻的物體圖像看起來像是根據該光學效應層的傾斜角度來在任何x-y方向上移動。用於產生移動環效應的方法揭露於(舉例而言)EP 1 710 756 A1、US 8,343,615、EP 2 306 222 A1、EP 2 325 677 A2及US 2013/084411中。
WO 2011/092502 A2揭露一種用於產生移動環圖像的設備，該等移動環圖像顯示變化視角時明顯移動的環。所揭露的移動環圖像可透過使用允許磁體或可磁化粒子的定向的裝置來獲得或產生，該裝置係藉助於由軟的可磁化片及具有垂直於塗層平面之磁軸的球形磁體的組合所產生的磁場(該磁場設置於該軟的可磁化片的下方)。
先前技術的移動環圖像通常根據僅一個旋轉或靜磁體的磁場對準磁體或可磁化粒子而產生。由於僅一個磁體的磁場線通常相對較軟地彎曲(亦即，具有低曲率)，故磁體或可磁化粒子之定向變化在OEL的表面上相對較軟。此外，當僅使用單一磁體時，磁場的強度隨著與磁體距離的增加而迅速減小。此事使得難以透過磁體或可 磁化顆粒的定向來獲得高度動態及明確的特徵，且可能導致呈現模糊環形邊緣的視覺效果。
WO 2014/108404 A2揭露光學效應層(OEL)，該光學效應層(OEL)包含分散在塗料中的複數個磁性定向的非球形磁體或可磁化粒子。所揭露的OEL之特定磁定向圖案為檢視者提供在傾斜OEL時移動的環型主體的光學效應或印象。此外，WO 2014/108404 A2揭露OEL進一步地展示由環形主體所包圍之中心區域中的反射區域所引起的環形主體內的突起的光學效應或印象。所揭露的突起提供存在於在由環型主體所包含的中心區域中之三維物體(如半球)的印象。
WO 2014/10830 A1揭露光學效應層(OEL)，該光學效應層包含分散在塗料中之複數個磁定向非球形磁體或可磁化粒子。所揭露之OEL的特定磁定向圖案為檢視者提供圍繞一共同中心區域之複數個嵌套環型主體的光學效應或印象，其中該等主體依賴於似動運動呈現視角。此外，WO 2014/108303A1揭露OEL進一步包含突起，該突起由最內環型主體所圍繞且該突起部分填充藉此所定義的中心區域。所揭露的突起提供三維物體的錯覺，如存在於中心區域的半球。
對在基板上以良好品質顯示眼睛捕捉動態環形作用的安全特徵仍有需求，其中該等安全特徵係可易於驗證，該等安全特徵係必須難以用偽造者可得的設備大規 模地生產，及該等安全特徵係可提供大量可能的形狀及形式。
因此，本發明的目的是克服如上所述之先前技術的缺陷。
在第一態樣中，本發明提供用於在基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)上生產光學效應層(OEL)的方法及用此方式獲得的光學效應層(OEL)，該方法包含以下步驟：(i)施加包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的可輻射固化塗料組合物於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面上，該可輻射固化塗料組合物處於第一狀態，(ii)將可輻射固化塗料組合物暴露於設備的磁場，該設備包含以下各者：(a)包含支撐基質(134,234,334,434,534,634,734,834,934,1034,1134,1234,1334,1434)的磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)及：(a1)環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,93 1,1031,1131,1231,1331,1431)，該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)是單一環形磁鐵或以環形布置所設置的兩個或更多個偶極子磁鐵的組合，該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)具有徑向磁化，及(a2)具有實質上垂直於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面之磁軸的單一個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)，或具有實質上平行於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面之磁軸的單一個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)，或兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)，該兩個或 更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)中之每者具有實質上垂直於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面的磁軸，其中當單一環形磁鐵的北極或形成環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的兩個或更多個偶極子磁鐵的北極指向該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的周邊時，該單一個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)的北極或該兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)中的至少一者的北極指向基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面， 或其中當單一環形磁鐵的南極或形成環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的兩個或更多個偶極子磁鐵的南極指向該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的周邊時，該單一個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)的南極或該兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)中的至少一者的南極指向基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面，及(b)磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)，該磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)為具有實質上平行於基板 (120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面之磁軸的單一棒狀偶極子磁鐵或兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)的組合，該兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)的每一者具有實質上平行於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面的磁軸及具有相同的磁場方向，以使至少一部分的非球形磁體或可磁化顏料粒子定向，及(iii)將步驟(ii)的可輻射固化塗料組合物至少部分固化至第二狀態，以將非球形磁體或可磁化顏料粒子固定在非球形磁體或可磁化顏料粒子所採用的位置及方向中。
在進一步的態樣中，本發明提供由如上所述之方法所製備的光學效應層(OEL)。
在進一步的態樣中，提供一種用於保護安全文件免受偽造或詐欺或用於裝飾性應用之光學效應層的用途。
在進一步的態樣中，本發明提供包含如本文所述的彼等光學效應層的一或更多個光學效應層的安全文件或裝飾性元素或物體。
在進一步的態樣中，本發明提供用於在基板上產生如本文所描述之光學效應層(OEL)的設備(如本文所述的彼等設備)，該OEL提供具有傾斜光學效應層(110,210,310,410,510,610,710,810,910,1010,1110,1210,1310,1410)而變化的尺寸的一或更多個環形主體的光學印象，及該OEL包含固化的可輻射固化塗料組合物中之定向的非球形磁體或可磁化顏料粒子，其中該設備包含本文所描述的磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)及本文所描述的磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)。
磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)及磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)可經安排在彼此頂部。
由磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)產生的磁場及由磁場產生裝 置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)產生的磁場可相互作用，使得所得到的設備磁場能定向非球形磁體或可磁化顏料粒子於基板上之尚未未固化的可輻射固化塗料組合物中，該等非球形磁體或可磁化顏料粒子設置於設備的磁場中以產生具有傾斜光學效應層(110,210,310,410,510,610,710,810,910,1010,1110,1210,1310,1410)而變化的尺寸的一或更多個環形主體的光學印象。
光學印象可以是這樣的：當基板從垂直視角向一方向傾斜時，一或更多個環形主體看起來會增大，及當基板從垂直視角向與第一方向相對的方向傾斜時，一或更多個環形主體看起來會收縮。
單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)或兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)可位於由單一環形磁鐵(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)所定義的環內或位於由設置於環形布置中之兩個或更多個偶極子磁鐵(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)所定義的環內。
支撐基質(134,234,334,434,534,634,734,834,934,1034,1134,1234,1334,1434)可將單個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)或兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)保持在由單一環形磁鐵(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)所定義且與單一環形磁鐵(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)相隔離的環內，或保持在由環形布置中之兩個或更多個偶極子磁鐵所定義且與兩個或更多個偶極子磁鐵相隔離的環內。
經設置在環形布置中的單一環形磁鐵(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)或兩個或更多個偶極子磁鐵(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)及單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)或兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)較佳地設置在支撐基質(134,234,334,434,534,634,734,834,934,1034, 1134,1234,1334,1434)中；例如，在支撐基質中的凹槽或間隔內。
本文所描述的設備可進一步包含(c)一或更多個環形極片(133,233,333,433,533,633,733,833,933,1033,1133,1233,1333,1433)。當一或更多個環形極片(133,233,333,433,533,633,733,833,933,1033,1133,1233,1333,1433)存在時，該一或更多個環形極片(133,233,333,433,533,633,733,833,933,1033,1133,1233,1333,1433)亦可設置在支撐基質(134,234,334,434,534,634,734,834,934,1034,1134,1234,1334,1434)中。
支撐基質(134,234,334,434,534,634,734,834,934,1034,1134,1234,1334,1434)可將一或更多個環形極片(133,233,333,433,533,633,733,833,933,1033,1133,1233,1333,1433)保持在由單一環形磁鐵(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)所定義的環內或由設置在環形布置中之兩個或更多個偶極子磁鐵(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)所定義的環內。
可將單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)或兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)及可選的一或更多個環形極片(133,233,333,433,533,633,733,833,933,1033,1133,1233,1333,1433)布置為與單一環形磁鐵(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)或設置在環形布置中的兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)共面。
在進一步的態樣中，本發明提供本文所描述之設備用於產生本文所描述之光學效應層(OEL)於基板上的用途(如本文所描述的彼等用途)。
在進一步的態樣中，本發明提供包含旋轉磁體圓筒或平板印刷單元的設備，該旋轉磁性圓筒包含本文所描述之設備的至少一者及該平版印刷單元包含本文所描述之設備的至少一者。
在進一步的態樣中，本發明提供一種本文所描述之印刷設備用來產生本文所描述的光學效應層(OEL)於基板上的用途(如本文所描述的彼等用途)。
110:光學效應層
120:基板
130:磁性組件
131:環形磁場產生裝置
132:偶極子磁鐵
134:支撐基質
140:磁場產生裝置
210:光學效應層
220:基板
230:磁性組件
231:環形磁場產生裝置
232:偶極子磁鐵
234:支撐基質
240:磁場產生裝置
310:光學效應層
320:基板
330:磁性組件
331:環形磁場產生裝置
332:偶極子磁鐵
334:支撐基質
340:磁場產生裝置
410:光學效應層
420:基板
430:磁性組件
431:環形磁場產生裝置
432:偶極子磁鐵
434:支撐基質
440:磁場產生裝置
510:光學效應層
520:基板
530:磁性組件
531:環形磁場產生裝置
532:偶極子磁鐵
534:支撐基質
540:磁場產生裝置
610:光學效應層
620:基板
630:磁性組件
631:環形磁場產生裝置
632:偶極子磁鐵
633:環形極片
634:支撐基質
640:磁場產生裝置
710:光學效應層
720:基板
730:磁性組件
731:環形磁場產生裝置
732:偶極子磁鐵
733:環形極片
734:支撐基質
740:磁場產生裝置
810:光學效應層
820:基板
830:磁性組件
831:環形磁場產生裝置
832:偶極子磁鐵
834:支撐基質
840:磁場產生裝置
910:光學效應層
920:基板
930:磁性組件
931:環形磁場產生裝置
932:偶極子磁鐵
934:支撐基質
940:磁場產生裝置
950:極片
1010:光學效應層
1020:基板
1030:磁性組件
1031:環形磁場產生裝置
1032:偶極子磁鐵
1034:支撐基質
1040:磁場產生裝置
1050:極片
1110:光學效應層
1120:基板
1130:磁性組件
1131:環形磁場產生裝置
1132:偶極子磁鐵
1134:支撐基質
1140:磁場產生裝置
1150:極片
1210:光學效應層
1220:基板
1230:磁性組件
1231:環形磁場產生裝置
1232:偶極子磁鐵
1234:支撐基質
1240:磁場產生裝置
1310:光學效應層
1320:基板
1330:磁性組件
1331:環形磁場產生裝置
1332:偶極子磁鐵
1334:支撐基質
1340:磁場產生裝置
1341:偶極子磁鐵
1342:支撐基質
1410:光學效應層
1420:基板
1430:磁性組件
1431:環形磁場產生裝置
1432:偶極子磁鐵
1434:支撐基質
1440:磁場產生裝置
1441:偶極子磁鐵
1442:支撐基質
圖1A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(130)，該磁性組件包含支撐基質(134)，(a1)環形磁場產生裝置(131)(特別是環形磁鐵)，及(a2)單一偶極子磁鐵(132)，該單一偶極子磁鐵(132)具有實質上垂直於基板(120)表面的磁軸；及(b)磁場產生裝置(140)(特別是單一棒狀偶極子磁鐵)，該磁場產生裝置(140)具有實質上平行於基板(120)表面的磁軸。該設備適於產生光學效應層(110)於基板(120)上。
圖1B1示意性地圖示說明圖1A的磁性組件(130)的頂視圖。
圖1B2示意性地圖示說明圖1A的支撐基質(134)的投影圖。
圖1C展示當在不同視角檢視時之使用圖1A及圖1B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
圖2A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(230)，該磁性組件包含支撐基質(234)，(a1)環形磁場產生裝置(231)(特別是環形磁鐵)，及(a2)單一偶極子磁鐵(232)，該單一偶極子磁鐵(232)具有實質上垂直於基板(220)表面的磁軸；及(b)磁場產生裝置(240)(特別是單一棒狀偶極子磁鐵)，該磁場產生裝置(240)具有實質上平行於基板(220)表面的磁軸。該設備適於產生光學效應層(210)於基板(220)上。
圖2B1示意性地圖示說明圖2A的磁性組件(230)的頂視圖。
圖2B2示意性地圖示說明圖2A的支撐基質(234)的投影圖。
圖2C展示當在不同視角檢視時之使用圖2A及圖2B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
圖3A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(330)，該磁性組件包含支撐基質(334)，(a1)環形磁場產生裝置(331)(特別是環形磁鐵)，及(a2)單一偶極子磁鐵(332)，該單一偶極子磁鐵(332)具有實質上平行於基板(320)表面的磁軸；及(b)磁場產生裝置(340)(特別是單一棒狀偶極子磁鐵)，該磁場產生裝置(340)具有實質上平行於基板(320)表面的磁軸。該設備適於產生光學效應層(310)於基板(320)上。
圖3B1示意性地圖示說明圖3A的磁性組件(330)的頂視圖。
圖3B2示意性地圖示說明圖3A的支撐基質(334)的投影圖。
圖3C展示當在不同視角檢視時之使用圖3A及圖3B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
圖4A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(430)，該磁性組件包含支撐基質(434)，(a1)環形磁場產生裝置(431)(特別是環形磁鐵)，及(a2)單一偶極子磁鐵(432)，該單一偶極子磁鐵(432)具有實質上平行於基板(420)表面的磁軸；及(b)磁場產生裝置(440)(特別是單一棒狀偶極子磁鐵)，該磁場產生裝置(440)具有 實質上平行於基板(420)表面的磁軸。該設備適於產生光學效應層(410)於基板(420)上。
圖4B1示意性地圖示說明圖4A的磁性組件(430)的頂視圖。
圖4B2示意性地圖示說明圖4A的支撐基質(434)的投影圖。
圖4C展示當在不同視角檢視時之使用圖4A及圖4B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
圖5A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(530)，該磁性組件包含支撐基質(534)，(a1)環形磁場產生裝置(531)(特別是設置在正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵的組合)，及(a2)單一偶極子磁鐵(532)，該單一偶極子磁鐵(532)具有實質上垂直於基板(520)表面的磁軸；及(b)磁場產生裝置(540)(特別是單一棒狀偶極子磁鐵)，該磁場產生裝置(540)具有實質上平行於基板(520)表面的磁軸。該設備適於產生光學效應層(510)於基板(520)上。
圖5B1示意性地圖示說明圖5A的磁性組件(530)的頂視圖。
圖5B2示意性地圖示說明圖5A的支撐基質(534)的投影圖。
圖5C展示當在不同視角檢視時之使用圖5A及圖5B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
圖6A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(630)，該磁性組件包含支撐基質(634)，(a1)環形磁場產生裝置(631)(特別是設置在正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵的組合)，及(a2)偶極子磁鐵(632)，該偶極子磁鐵(632)具有實質上垂直於基板(620)表面的磁軸，及(a3)一或更多個環形極片(633)(特別是一環形極片)；及(b)磁場產生裝置(640)(特別是單一棒狀偶極子磁鐵)，該磁場產生裝置(640)具有實質上平行於基板(620)表面的磁軸。該設備適於產生光學效應層(610)於基板(620)上。
圖6B1示意性地圖示說明圖6A的磁性組件(630)的頂視圖。
圖6B2示意性地圖示說明圖6A的支撐基質(634)的投影圖。
圖6C展示當在不同視角檢視時之使用圖6A及圖6B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
圖7A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(730)，該磁性組件包含支撐基質(734)，(a1)環形磁場產生裝置(731)(特別是設置在正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵的組合)，及(a2)單一偶極子磁鐵(732)，該單一偶極子磁鐵(732)具有實質上平行於基板(720)表面的磁軸，及(a3)一或更多個環形極片(733)(特別是一環形極片)；及(b)磁場產生裝置(740)(特別是單一棒狀偶極子磁鐵)，該磁場產生裝置(740)具有實質上平行 於基板(720)表面的磁軸。該設備適於產生光學效應層(710)於基板(720)上。
圖7B1示意性地圖示說明圖7A的磁性組件(730)的頂視圖。
圖7B2示意性地圖示說明圖7A的支撐基質(734)的投影圖。
圖7C展示當在不同視角檢視時之使用圖7A及圖7B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
圖8A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(830)，該磁性組件包含支撐基質(834)，(a1)環形磁場產生裝置(831)(特別是設置在正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵的組合)，及(a2)兩個或更多個(特別是三個)偶極子磁鐵(832)，該兩個或更多個(特別是三個)偶極子磁鐵(832)中之每者具有實質上垂直於基板(820)表面的磁軸；及(b)磁場產生裝置(840)(特別是單一棒狀偶極子磁鐵)，該磁場產生裝置(840)具有實質上平行於基板(820)表面的磁軸。該設備適於產生光學效應層(810)於基板(820)上。
圖8B1示意性地圖示說明圖8A的磁性組件(830)的頂視圖。
圖8B2示意性地圖示說明圖8A的支撐基質(834)的投影圖。
圖8C展示當在不同視角檢視時之使用圖8A及圖8B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
圖9A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(930)，該磁性組件包含支撐基質(934)，(a1)環形磁場產生裝置(931)(特別是設置在正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵的組合)，及(a2)兩個或更多個(特別是三個)偶極子磁鐵(932)，該兩個或更多個(特別是三個)偶極子磁鐵(932)中之每者具有實質上垂直於基板(920)表面的磁軸；及(b)磁場產生裝置(940)(特別是單一棒狀偶極子磁鐵)，該磁場產生裝置(940)具有實質上平行於基板(920)表面的磁軸；及(c)一或更多個極片(950)(特別是一碟形極片)。該設備適於產生光學效應層(910)於基板(920)上。
圖9B1示意性地圖示說明圖9A的磁性組件(930)的頂視圖。
圖9B2示意性地圖示說明圖9A的支撐基質(934)的投影圖。
圖9C展示當在不同視角檢視時之使用圖9A及圖9B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
圖10A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(1030)，該磁性組件包含支撐基質(1034)，(a1)環形磁場產生裝置(1031)(特別是設置在正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵的組合)，及(a2)兩個或更多個偶極子磁鐵(1032)(特別是十個兩個偶極子磁鐵的組合)，該兩個或更多個偶極子磁鐵(1032)中之每者具有實質上垂直於基板(1020)表面的磁軸；(b)磁場產生裝置 (1040)(特別是單一棒狀偶極子磁鐵)，該磁場產生裝置(1040)具有實質上平行於基板(1020)表面的磁軸；及(c)一或更多個極片(1050)(特別是一碟形極片)。該設備適於產生光學效應層(1010)於基板(1020)上。
圖10B1示意性地圖示說明圖10A的磁性組件(1030)的頂視圖。
圖10B2示意性地圖示說明圖10A的支撐基質(1034)的投影圖。
圖10B3示意性地圖示說明圖10A的碟形極片(1050)的頂視圖。
圖10C展示當在不同視角檢視時之使用圖10A及圖10B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
圖11A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(1130)，該磁性組件包含支撐基質(1134)、環形磁場產生裝置(1131)(特別是設置在正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵的組合)及兩個或更多個偶極子磁鐵(1032)(特別是十三個兩個偶極子磁鐵的組合)，該兩個或更多個偶極子磁鐵(1032)中之每者具有實質上垂直於基板(1120)表面的磁軸；(b)磁場產生裝置(1140)(特別是單一棒狀偶極子磁鐵)，該磁場產生裝置(1140)具有實質上平行於基板(1120)表面的磁軸；及(c)一或更多個極片(1150)(特別是一碟形極片)。該設備適於產生光學效應層(1110)於基板(1120)上。
圖11B1示意性地圖示說明圖11A的磁性組件(1130)的頂視圖。
圖11B2示意性地圖示說明圖11A的支撐基質(1134)的投影圖。
圖11C展示當在不同視角檢視時之使用圖11A及圖11B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
圖12A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(1230)，該磁性組件包含支撐基質(1234)，(a1)環形磁場產生裝置(1231)(特別是設置在正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵的組合)，及(a2)兩個或更多個偶極子磁鐵(1232)(特別是九個兩個偶極子磁鐵的組合)，該兩個或更多個偶極子磁鐵(1232)中之每者具有實質上垂直於基板(1220)表面的磁軸；及(b)磁場產生裝置(1240)(特別是單一棒狀偶極子磁鐵)，該磁場產生裝置(1240)具有實質上平行於基板(1220)表面的磁軸。該設備適於產生光學效應層(1210)於基板(1220)上。
圖12B1示意性地圖示說明圖12A的磁性組件(1230)的頂視圖。
圖12B2示意性地圖示說明圖12A的支撐基質(1234)的投影圖。
圖12C展示當在不同視角檢視時之使用圖12A及圖12B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
圖13A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(1330)，該磁性組件包含支撐基質(1334)，(a1) 環形磁場產生裝置(1331)(特別是設置在正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵的組合)，及(a2)兩個或更多個偶極子磁鐵(1332)(特別是九個兩個偶極子磁鐵的組合)，該兩個或更多個偶極子磁鐵(1332)中之每者具有實質上垂直於基板(1320)表面的磁軸；及(b)磁場產生裝置(1340)(特別是支撐基質(1342)中之八個棒狀偶極子磁鐵(1341)的組合)，該八個棒狀偶極子磁鐵(1341)中之每者具有實質上平行於基板(1320)表面的磁軸及具有相同的磁場方向。該設備適於產生光學效應層(1310)於基板(1320)上。
圖13B1示意性地圖示說明圖13A的磁性組件(1330)的頂視圖。
圖13B2示意性地圖示說明圖13A的支撐基質(1334)的投影圖。
圖13B3示意性地圖示說明圖13A的支撐基質(1342)的橫截面圖。
圖13C展示當在不同視角檢視時之使用圖13A及圖13B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
圖14A示意性地圖示說明設備包含(a)磁性組件(1430)，該磁性組件包含支撐基質(1434)，(a1)環形磁場產生裝置(1431)(特別是設置在正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵的組合)，及(a2)兩個或更多個偶極子磁鐵(1432)(特別是九個兩個偶極子磁鐵的組合)，該兩個或更多個偶極子磁鐵(1432)中之每者具有實質上 垂直於基板(1420)表面的磁軸；及(b)磁場產生裝置(1440)(特別是支撐基質(1442)中之七個棒狀偶極子磁鐵(1441)的組合)，該七個棒狀偶極子磁鐵(1441)中之每者具有實質上平行於基板(1420)表面的磁軸及具有相同的磁場方向。該設備適於產生光學效應層(1410)於基板(1420)上。
圖14B1示意性地圖示說明圖14A的磁性組件(1430)的頂視圖。
圖14B2示意性地圖示說明圖14A的支撐基質(1434)的投影圖。
圖14B3示意性地圖示說明圖14A的支撐基質(1442)的頂視圖及橫截面圖。
圖14C展示當在不同視角檢視時之使用圖14A及圖14B所圖示說明之設備所獲得的OEL的圖像。
定義：使用下列定義來解釋說明書中所論述及申請專利範圍中所描述之術語之意義。
如本文中所使用地，不定冠詞「一(a)」指示一及多於一個，且不一定將其指示名詞限制為單數。
如本文中所使用地，術語「約」表示所涉及的數量或數值可為經指定的具體數值或鄰近該經指定的具體數值的一些其他數值。一般來說，表示某一值的術語「約」係意欲表示該值的±5%以內的範圍。舉例而言，片語「約100」表示100±5的範圍(亦即，95至105的範 圍)。一般來說，當使用術語「約」時，可預期可在指定值的±5%的範圍內獲得根據本發明之相同結果或效果。
術語「實質上平行」係指從平行對準偏離不超過10°，且術語「實質上垂直」係指從垂直對準偏離不超過10°。
如本文中所使用地，術語「及/或」係指該群組的全部元素或僅一個元素可存在。舉例而言，「A及/或B」意為「只有A，或只有B，或A及B兩者」。在「只有A」的情況下，術語亦包含B不存在的可能性；亦即，「只有A(而不是B)」。
本文所使用的術語「包含」係意欲為非排他性及開放式的。因此，(舉例而言)包含化合物A的潤版液可包含除了A以外的其他化合物。然，術語「包含」作為其具體實施例來說亦涵蓋「基本上由...組成」及「由...組成」之更嚴格的涵義，使得(舉例而言)「包含A、B及可選的C的潤版液」亦可(基本上)由A及B組成，或(基本上)由A、B及C組成。
術語「塗料組合物」係指任何能形成本發明之光學效應層(OEL)於固體基板上及可由印刷方法優先地(但不僅限)施加的組合物。塗料組合物包含至少複數個非球形磁體或可磁化粒子及黏合劑。
本文所使用的術語「光學效應層(OEL)」表示包含至少複數個磁定向非球形磁體或可磁化粒子及黏 合劑的層，其中非球形磁體或可磁化粒子在黏合劑中固定或凍結(固定/凍結)。
術語「磁軸」表示連接磁鐵之相應北極及南極及延伸通過該等極的理論線。此術語不包含任何特定的磁場方向。
術語「磁場方向」表示沿著磁場線的磁場向量的方向，該磁場線係從磁鐵外部的北極指向南極(參見「物理學手冊」，Springer 2002，第463頁至第464頁)。
如本文所使用地，術語「徑向磁化」係用於描述環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)中的磁場方向，其中在該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的每個點處，磁場方向實質上平行於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面且磁場方向指向該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)所定義的中心區域或指向其周邊。
術語「固化」用來表示一種方法，其中塗料組合物與刺激反應的黏度增加以將材料轉換狀態(亦即，硬 化或固體狀態)，其中非球形磁體或可磁化的顏料粒子經固定/凍結在該等非球形磁體或可磁化的顏料粒子當前的位置及方向上且不能再移動或旋轉。
在本說明書參考「較佳的」實施例/特徵的情況下，只要「較佳的」實施例/特徵的組合在技術上是有意義的，則此等「較佳的」實施例/特徵的組合亦應被視為揭露。
如本文所使用地，術語「至少」亦在限定一個或多於一個；舉例而言，一個或兩個或三個。
術語「安全文件」是指通常藉由至少一個安全特徵防止偽造或詐欺的文件。安全文件的範例包含(但不限於)價值文件及價值商品。
使用術語「安全特徵」以表示可被用來認證目的的影像、圖案或圖形化元素。
術語「環形主體」表示提供非球形磁體或可磁化粒子使得OEL賦予檢視者與其自身重新組合、形成包含一中心區域之封閉環形主體之閉合體的視覺印象。「環形主體」可具有圓形、類橢圓形(oval)、橢圓形(ellipsoid)、正方形、三角形、矩形或任何多邊形形狀。環形的範例包含環形或圓形、矩形或正方形(有或無圓角)、三角形(有或無圓角)、(正或不規則)五邊形(有或無圓角)、(正或不規則)六邊形(有或無圓角)、(正或不規則)七邊形(有或無圓角)、(正或不規則)八邊形(有或無圓角)及任何多邊形形狀(有或無圓角)等。在本發明中，透過非 球形磁體或可磁化粒子的定向來形成一或更多個環形主體的光學印象。
本發明提供用於在基板上產生光學效應層(OEL)的方法及以該方法獲得的光學效應層(OEL)，其中該方法包含本文所描述之步驟(i)施加包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的可輻射固化塗料組合物於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面上，該可輻射固化塗料組合物處於第一狀態。
本文所描述之步驟(i)較佳地由印刷處理執行，該印刷處理較佳地由網版印刷、輪轉凹版印刷、柔版印刷、噴墨印刷及凹版印刷(也被稱為雕刻銅版印刷及雕刻鋼模印刷)組成的群組中選擇出來；更較佳地，該印刷處理由網版印刷、輪轉凹版印刷及柔版印刷組成的群組中選擇出來。
在本文所述的可輻射固化塗料組合物施加於本文所述的基板表面上(步驟(i))之後、與此部分地同時或與此同時，藉由將可輻射固化塗料組合物暴露於本文所描述之設備的磁場以定向至少部分的非球形磁體或可磁化顏料粒子(步驟(ii))，以便沿著由設備產生的磁場線來對準至少部分的非球形磁體或可磁化顏料粒子。
在藉由施加本文所描述之磁場來執行定向/對準至少部分的非球形磁體或可磁化顏料粒子之步驟之後或與此部分地同時，非球形磁體或可磁化顏料的定向經固 定或凍結。因此，可輻射固化塗料組合物明顯地必須具有第一狀態(亦即，液體狀態或糊狀狀態)及第二固化(例如，固體)狀態，該第一狀態其中可輻射固化塗料組合物是足夠濕的或足夠軟的，使得分散在可輻射固化塗料組合物中的非球形磁體或可磁化顏料粒子在暴露於磁場時可自由移動、可自由旋轉及/或可自由定向，及該第二狀態其中非球形磁體或可磁化顏料粒子經固定或凍結於該等非球形磁體或可磁化顏料粒子之各自的位置及定向中。
因此，本文所述之在基板上產生光學效應層(OEL)的方法包含步驟(iii)：將步驟(ii)的可輻射固化塗料組合物至少部分地固化至第二狀態，以固定非球形磁體或可磁化顏料粒子於該等非球形磁體或可磁化顏料粒子所採用的位置及定向中。至少部分地固化可輻射固化塗料組合物的步驟(iii)可在如本文所述之藉由施加磁場來定向/對準至少部分的非球形磁體或可磁化顏料粒子步驟(步驟(ii))後執行或部分同時執行。較佳地，至少部分地固化可輻射固化塗料組合物的步驟(iii)可與如本文所述之藉由施加磁場來定向/對準至少部分的非球形磁體或可磁化顏料粒子步驟(步驟(ii))部分同時執行。藉由「部分同時」係意味著兩個步驟部分地同時執行；亦即，執行每個步驟的時間部分重疊。在本文所述的上下文中，當固化與定向步驟(ii)部分同時執行時，必須理解在定向後固化會變得有效，故在OEL完全硬化或部分硬化前將顏料粒子定向。
如此方式獲得的光學效應層(OEL)為檢視者提供一或更多個環狀主體的光學印象，該一或更多個環狀主體具有傾斜包含光學效應層之基板時而變化的尺寸；亦即，所獲得的OEL提供檢視者具有傾斜包含光學效應層之基板時而變化的尺寸之環形主體的光學印象，或提供檢視者複數個具有傾斜包含光學效應層之基板時而變化的尺寸之嵌套環形主體的光學印象。光學印象可以是這樣的：當基板從垂直視角向一方向傾斜時，環形主體看起來會增大，及當基板從垂直視角向與第一方向相對的方向傾斜時，環形主體看起來會收縮。
藉由使用某種類型的可輻射固化塗料組合物來提供可輻射固化塗料組合物的第一狀態及第二狀態。舉例而言，除了非球形磁體或可磁化顏料粒子外的可輻射固化塗料組合物的成分可採用油墨或可輻射固化塗料組合物的形式，如於安全應用(例如，用於鈔票印刷)中使用的彼等組合物。藉由使用顯示黏度會回應暴露於電磁輻射而增加的材料來提供上述第一狀態及第二狀態。換句話說，當流體黏合劑材料固化或凝固時，該黏合劑材料轉換成第二狀態，其中非球形磁體或可磁化顏料粒子經固定於該等非球形磁體或可磁化顏料粒子的目前位置及方向中，且再也無法在黏合劑材料中移動或旋轉。
如所屬技術領域中具有通常知識者已知地，包含於待施加至表面(如基板)上的可輻射固化塗料組合物中的要素及該可輻射固化塗料組合物的物理特性必須滿 足用於轉移可輻射固化塗料組合物至基板表面之方法的要求。因此，包含於本文所描述之可輻射固化塗料組合物中的黏合劑材料通常選自本領域已知的黏合劑材料，且本文所描述之可輻射固化塗料組合物中的黏合劑材料係取決於施加可輻射固化塗料組合物之塗料或印刷方法及所選擇的輻射固化方法。
在本文所述的光學效應層(OEL)中，本文所述的非球形磁體或可磁化顏料粒子分散於可輻射固化塗料組合物中，該可輻射固化塗料組合物包含固化/凍結非球形磁體或可磁化顏料粒子之定向的固化的黏合劑材料。固化的黏合劑材料對於包含於200nm與2500nm間之波長範圍的電磁輻射是至少部分透明的。因此，黏合劑材料至少在該黏合劑材料之固化或固體狀態(本文中亦稱為第二狀態)對於包含於200nm與2500nm間之波長範圍的電磁輻射是至少部分透明的；亦即，在該波長範圍內通常被稱為「光譜」及包含電磁光譜的紅外線、可見光及UV部分，使得包含在該黏合劑材料之固化或固體狀態中之該黏合劑材料中之粒子及該等粒子定向依賴的反射率可經由黏合劑材料感知。較佳地，固化的黏合劑材料對於包含於200nm與800nm間之波長範圍的電磁輻射是至少部分透明的；更較佳地，固化的黏合劑材料對於包含於400nm與700nm間之波長範圍的電磁輻射是至少部分透明的。本文中之術語「透明」表示電磁輻射通過存在於OEL中之固化的黏合劑材料層之20μm層(不包含片狀磁 體或可磁化顏料粒子，但包含存在所有其他可選成分之情況中之OEL的此類成分)之透射在所涉及的波長處為至少50%、更較佳地為至少60%，甚至更較佳地為70%。舉例而言，可透過根據公認的測試方法(例如，DIN 5036-3(1979-11))量測固化的黏合劑材料(不包含片狀磁體或可磁化顏料粒子)之測試片的透射率來確定此事。若OEL作為隱藏的安全特徵，則通常需要技術手段來偵測由OEL在包含所選擇之不可見光波長之相應照明條件下產生的(完整的)光學效應；該偵測係要求入射輻射之波長選擇在可見光範圍之外(例如，在近UV範圍中)。在此種情況下，OEL包含回應於在入射輻射中包含的可見光譜外之所選擇波長而顯示發光的發光顏料粒子是較佳的。電磁光譜的紅外線、可見光及UV部分分別近似對應於700-2500nm間、400-700nm及200-400nm之波長範圍。
如上所述，本文所述之可輻射固化塗料組合物係取決於用來施加該可輻射固化塗料組合物之塗料或印刷方法及所選擇的固化方法。較佳地，可輻射固化塗料組合物之固化涉及不會藉由簡單的溫度升高(例如高達80℃)而逆反應的化學反應，該簡單的溫度升高係可在一般使用包含本文所述之OEL之物品之期間所發生的。術語「固化」或「可固化」是指包含所施加的可輻射固化塗料組合物中之至少一成分之化學反應、交聯或聚合的方法，且該方法係使用一種使該至少一成分變成具有較大分子 量(相較於起始物質而言)之聚合物材料的方式。輻射固化有利地導致可輻射固化塗料組合物在暴露於固化照射後黏度瞬時增加，從而防止顏料粒子的任何進一步移動及因而導致磁性定向步驟後的任何資訊遺失。較佳地，藉由包含UV-可見光輻射固化的輻射固化或藉由電子束(E-beam)輻射固化來執行固化步驟(步驟iii)；更較佳地是藉由UV-Vis光輻射固化來執行固化步驟(步驟iii)。
因此，用於本發明之合適的可輻射固化塗料組合物包含可藉由UV-可見光輻射(以下稱為UV-Vis輻射)或藉由電子束(E-beam)輻射(以下稱為EB輻射)固化的可輻射固化組合物。可輻射固化組合物係已知於本領域中且可在標準教科書中找到，該等標準教科書如1996年由John Wiley & Sons與SITA Technology Limited聯合出版之由C.Lowe、G.Webster、S.Kessel和I.McDonald所制訂的「Chemistry & Technology of UV & EB Formulation for Coatings,Inks & Paints」之第IV卷。根據本發明之一特別較佳的實施例，本文所述的可輻射固化塗料組合物是UV-Vis可輻射固化塗料組合物。
較佳地，UV-Vis可輻射固化塗料組合物包含一或更多個選自由自由基可固化化合物及陽離子可固化化合物組成之群組的化合物。本文所述的UV-Vis可輻射固化塗料組合物可為混合體系且包含一或更多個陽離子 可固化化合物及一或更多個自由基可固化化合物的混合物。陽離子可固化化合物經由陽離子機轉固化，該等陽離子機轉通常包含藉由一或更多個光起始劑之輻射的活化(activation)，該活化係釋放陽離子物質(例如酸)繼而引發固化，以使單體及/或低聚物反應及/或交聯從而固化可輻射固化塗料組合物。自由基可固化化合物藉由自由基機轉固化，該自由基機轉通常包含藉由一或更多個光起始劑之輻射的活化(activation)，從而產生自由基，該等自由基進而引發聚合以固化可輻射固化塗料組合物。取決於用來製備包含於本文所描述之UV-Vis可輻射固化塗料組合物中的黏合劑的單體、低聚物或預聚物，可使用不同的光起始劑。自由基光起始劑的合適範例為所屬技術領域中具有通常知識者已知的，該等合適範例包含(但不限於)苯乙酮、二苯甲酮、芐基二甲基縮酮、α-胺基酮、α-羥基酮、氧化膦及氧化膦衍生物及上述範例中之兩種或更多種的混合物。陽離子光起始劑的合適範例為所屬技術領域中具有通常知識者已知的，該等合適範例包含(但不限於)鎓鹽(如有機碘鎓鹽(例如，二芳基碘鎓鹽))、氧鎓(例如，三芳基氧鎓鹽)及鋶鹽(例如三芳基鋶鹽)及上述範例中之兩種或更多種的混合物。有用的光起始劑之其他範例可在標準教科書中找到，該等標準教科書如1998年由John Wiley & Sons與SITA Technology Limited聯合出版之由JV Crivello & K.Dietliker所著及由G.Bradley所編輯的「Chemistry & Technology of UV & EB Formulation for Coatings,Inks & Paints」之第III卷「Photoinitiators for Free Radical Cationic and Anionic Polymerization」第2版。包含與一或更多個光起始劑結合以實現有效固化的敏化劑亦可能為有利的。合適的光敏劑之一般範例包含(但不限於)異丙基噻噸酮(ITX)、1-氯-2-丙氧基-噻噸酮(CPTX)、2-氯-噻噸酮(CTX)及2,4-二乙基噻噸酮(DETX)及上述光敏劑中之兩個或更多個的混合物。包含在UV-Vis可輻射固化塗料組合物中的一或多種光起始劑較佳地在總量中存在約0.1重量百分比至約20重量百分比；更較佳地係約1重量百分比至約15重量百分比，重量百分比係基於UV-Vis可輻射固化塗料組合物的總重量。
本文所述的可輻射固化塗料組合物可進一步地包含選自由磁性材料(不同於本文所述之片狀磁體或可磁化顏料粒子)、發光材料、導電材料及紅外線吸收材料組成的群組之一或更多個標記物質或標記物及/或一或更多個機器可讀取材料。如本文所使用地，術語「機器可讀取材料」係指展示至少一種不被肉眼感知的獨特性質的材料且該材料可包含於層中，以賦予一種藉由使用(用於該層認證的)特定設備來認證該層或包含該層之物品的方式。
本文所述的可輻射固化塗料組合物可進一步地包含選自由有機顏料粒子、無機顏料粒子及有機染料組 成的群組的一或更多個著色成分及/或一或更多個添加劑。後者包含(但不限於)用來調整可輻射固化塗料組合物的物理、流變及化學參數的化合物及材料，該等參數如黏度(例如溶劑、增稠劑及表面活性劑)、稠度(例如，抗沉降劑、填料及增塑劑)、發泡性質(例如，消泡劑)、潤滑性質(蠟及油)、UV穩定性(光穩定劑)、黏合性質、抗靜電性質及儲存穩定性(聚合抑制劑)等。本文所述的添加劑可用本領域中已知的量及形式而存在於可輻射固化塗料組合物中，該等已知的量及形式包含所謂的奈米材料，其中添加劑之至少一個尺寸係在1至1000nm的範圍中。
本文所述之可輻射固化塗料組合物包含本文所述的非球形磁體或可磁化顏料粒子。較佳地，非球形磁體或可磁化顏料粒子在量中存在約2重量百分比至約40重量百分比；更較佳地係約4重量百分比至約30重量百分比，重量百分比係基於可輻射固化塗料組合物的總重量，該可輻射固化塗料組合物包含黏合劑材料、非球形磁體或可磁化顏料粒子及該可輻射固化塗料組合物的其他可選成分。
本文所述的非球形磁體或可磁化顏料粒子經定義為由於該等非球形磁體或可磁化顏料粒子之非球形形狀而具有相對於(對於硬化的黏合劑材料至少部分透明的)入射電磁輻射的非等向反射性。如本文中所使用地，術語「非等向反射率」表示從粒子反射到某一(檢視)方向(第二角度)的第一角度的入射電磁輻射的比例為粒子定 向的函數；亦即，相對於第一角度之粒子定向的變化可導致反射至檢視方向的不同大小。較佳地，本文所述之非球形磁體或可磁化顏料粒子具有(就入射電磁輻射的角度而言)約200至約2500nm之一些部分或完整波長範圍中的非等向反射率；更較佳地，係約400nm至約700nm之一些部分或完整波長範圍中非等向反射率，使得粒子定向的變化導致粒子在某一方向上的反射變化。如本領域中具有通常知識者已知地，本文所述的磁體或可磁化顏料粒子不同於常規顏料；該常規顏料粒子對於所有視角皆顯示相同顏色，但本文所述之磁體或可磁化顏料粒子展示如上所述之非等向反射率。
非球形磁體或可磁化顏料粒子較佳地為長或扁橢圓形(ellipsoid)形狀、片狀或針狀粒子或上述形狀中之兩種或更多種的混合物；更較佳地為片狀粒子。
本文所述的非球形磁體或可磁化顏料粒子的合適範例包含(但不限於)的顏料粒子，該等顏料粒子係包含選自由鈷(Co)、鐵(Fe)、釓(Gd)及鎳(Ni)所組成之群組的磁性金屬、鐵、錳、鈷及鎳的磁性合金及上述磁性合金中之兩種或更多種的混合物、鉻、錳、鈷、鐵及鎳的磁性氧化物及上述磁性氧化物之兩種或更多種的混合物及上述磁性金屬、磁性合金及磁性氧化物中的兩種或更多種的混合物。關於金屬、合金及氧化物的術語「磁性」係針對鐵磁性金屬或亞鐵磁性金屬、合金及氧化物。鉻、錳、鈷、鐵、鎳或上述中之兩種或更多種的混合物之磁性氧化 物可為純的氧化物或混合的氧化物。磁性氧化物之範例包含(但不限於)鐵氧化物(如赤鐵礦(Fe2O3)及磁鐵礦(Fe3O4)，)、二氧化鉻(CrO2)、磁性鐵氧體(MFe2O4)、磁性尖晶石(MR2O4)、磁性六方鐵氧體(MFe12O19)、磁性正鐵氧體(RFeO3)、磁性石榴石M3R2(AO4)3，其中M代表2價金屬、R代表3價金屬及A代表4價金屬。
本文所述之非球形磁體或可磁化顏料粒子的範例包含(但不限於)包括磁性層M的顏料粒子，該磁性層M係由一或更多個如鈷(Co)、鐵(Fe)、釓(Gd)或鎳(Ni)的磁性金屬及鐵、鈷或鎳的磁性合金組成，其中該片狀磁體或可磁化顏料粒子可為包含一或更多個額外層的多層結構。較佳地，一或更多個額外層是獨立地由一或更多個材料所構成的層A，該一或更多個材料係選自由金屬氟化物所組成的群組，該等金屬氟化物如氟化鎂(MgF2)、氧化矽(SiO)、二氧化矽(SiO2)、氧化鈦(TiO2)、硫化鋅(ZnS)及氧化鋁(Al2O3)，更較佳地為二氧化矽(SiO2)；或，一或更多個層是獨立地由一或更多個材料所構成的層B，該一或更多個材料係選自由金屬及金屬合金所組成的群組，較佳地係選自由反射金屬及反射金屬合金所組成的群組，更較佳地是選自由鋁(Al)、鉻(Cr)及鎳(Ni)所組成的群組，更較佳地是鋁(Al)；或，一或更多個層是如上所述的一或更多個層A及如上所述的一或更多個層B的組合。作為上述多層結構的片狀磁體或可磁化顏料粒子的 典型範例包含(但不限於)A/M多層結構、A/M/A多層結構、A/M/B多層結構、A/B/M/A多層結構、A/B/M/B多層結構、A/B/M/B/A多層結構、B/M多層結構、B/M/B多層結構、B/A/M/A多層結構、B/A/M/B多層結構及B/A/M/B/A多層結構，其中磁性層A及層B選自上文所述。
本文所述之非球形磁體或可磁化顏料粒子的至少部分可由非球形光學可變磁體或可磁化顏料粒子及/或不具有光學可變性的非球形磁體或可磁化顏料粒子構成。較佳地，本文所述之非球形磁體或可磁化顏料粒子的至少一部分係由非球形光學可變磁體或可磁化顏料粒子構成。除了由非球形光學可變磁體或可磁化顏料粒子之變色性質所提供的公開(overt)安全性外，亦允許易於使用無輔助的人體感官來偵測及辨識攜帶包含本文所述之非球形光學可變磁體或可磁化顏料粒子之墨水、可輻射固化塗料組合物、塗料或層的物品或安全文件，及/或允許易於使用無輔助的人體感官來將該等物品或安全文件與該等物品或安全文件之可能的偽造物區分出來，片狀光學可變磁體或可磁化顏料粒子的光學性質亦可作為用於OEL辨識的機器可讀取工具。因此，非球形光學可變磁體或可磁化顏料粒子的光學性質可同時作為其中分析顏料粒子的光學(例如，光譜)性質之認證處理中之隱藏(covert)或半隱藏(semi-covert)的安全特徵。用於生產OEL之可輻射固化塗料組合物中之非球形光學可變磁體或可磁 化顏料粒子之使用增強了OEL作為安全文件應用中之安全特徵的重要性，因為此種材料(亦即，非球形光學可變磁體或可磁化顏料粒子)係保留給安全文件印刷產業且大眾無法購得此種材料。
此外，且由於本文所述之非球形磁體或可磁化顏料粒子的磁特性，該等本文所述之非球形磁體或可磁化顏料粒子為機器可讀取的；因此，可(舉例而言)用特定的磁性偵測器來偵測包含此等顏料粒子的可輻射固化塗料組合物。因此，包含本文所述之非球形磁體或可磁化顏料粒子的可輻射固化塗料組合物可做為用於安全文件的隱藏(covert)或半隱藏(semi-covert)的安全元素(認證工具)。
如上所述，較佳地，至少一部分的非球形磁體或可磁化顏料粒子由非球形光學可變磁體或可磁化顏料粒子構成。此等構成物可更較佳地選自由非球形磁性薄膜干涉顏料粒子、非球形磁性膽固醇型液晶顏料粒子、包含磁性材料的非球形干涉塗覆顏料粒子及上述顏料粒子中之兩種或更多種混合物組成的群組。
磁性薄膜干涉顏料粒子是所屬技術領域中具有通常知識者已知的，且揭露於(例如)US 4,838,648、WO 2002/073250 A2、EP 0 686 675 B1、WO 2003/000801 A2、US 6,838,166、WO 2007/131833 A1、EP 2 402 401 A1及其中所引用的文件中。較佳地，磁性薄膜干涉顏料粒子包含具有五層 Fabry-Perot多層結構的顏料粒子及/或具有六層Fabry-Perot多層結構的顏料粒子及/或具有七層Fabry-Perot多層結構的顏料粒子。
較佳的五層Fabry-Perot多層結構由吸收體/介電質/反射體/介電質/吸收體多層結構組成，其中反射體及/或吸收體亦為磁性層；較佳地，反射體及/或吸收體為包含鎳、鐵及/或鈷的磁性層、及/或包含鎳、鐵及/或鈷的磁性合金，及/或包含鎳(Ni)、鐵(Fe)及/或鈷(Co)的磁性氧化物。
較佳的六層Fabry-Perot多層結構由吸收體/介電質/反射體/磁體/介電質/吸收體多層結構組成。
較佳的七層Fabry-Perot多層結構由如US 4,838,648中所揭露的吸收體/介電質/反射體/磁體/反射體/介電質/吸收體多層結構組成。
較佳地，本文所述之反射體層獨立地由一或更多個材料組成，該一或更多個材料係選自由金屬及金屬合金所組成的群組，較佳地是選自由反射金屬及反射金屬合金所組成的群組，更較佳地是選自由鋁(Al)、銀(Ag)、銅(Cu)、金(Au)、錫(Sn)、鈦(Ti)、鈀(Pd)、銠(Rh)、鈮(Nb)、鉻(Cr)、鎳(Ni)及上述金屬之合金組成的群組，甚至更較佳地是選自由鋁(Al)、鉻(Cr)、鎳(Ni)及上述金屬之合金組成的群組，亦更較佳地為鋁(Al)。較佳地，介電質層獨立地由一或更多個材料組成，該一或更多個材料係選自由金屬氟化物及金屬氧化物組成的群 組，該等金屬氟化物如氟化鎂(MgF2)、氟化鋁(AlF3)、氟化鈰(CeF3)、氟化鑭(LaF3)、氟化鋁鈉(例如，Na3AlF6)、氟化釹(NdF3)、氟化釤(SmF3)、氟化鋇(BaF2)、氟化鈣(CaF2)及氟化鋰(LiF)，及該等金屬氧化物如氧化矽(SiO)、二氧化矽(SiO2)、氧化鈦(TiO2)及氧化鋁(Al2O3)；更較佳地係選自由氟化鎂(MgF2)和二氧化矽(SiO2)組成的群組，亦更較佳地為氟化鎂(MgF2)。較佳地，吸收體層獨立地由一或更多個材料組成，該一或更多個材料係選自由鋁(Al)、銀(Ag)、銅(Cu)、鈀(Pd)、鉑(Pt)、鈦(Ti)、釩(V)、鐵(Fe)錫(Sn)、鎢(W)、鉬(Mo)、銠(Rh)、鈮(Nb)、鉻(Cr)、鎳(Ni)、上述金屬之金屬氧化物、上述金屬之金屬硫化物、上述金屬之金屬碳化物及上述金屬之金屬合金組成的群組，更較佳地是選自由鉻(Cr)、鎳(Ni)、上述金屬之金屬氧化物及上述金屬之金屬合金組成的群組，亦更較佳地是選自由鉻(Cr)、鎳(Ni)及上述金屬之金屬合金組成的群組。較佳地，磁性層包含鎳(Ni)、鐵(Fe)及/或鈷(Co)、及/或包含鎳(Ni)、鐵(Fe)及/或鈷(Co)的磁性合金，及/或包含鎳(Ni)、鐵(Fe)及/或鈷(Co)的磁性氧化物。當包含七層Fabry-Perot結構的磁性薄膜干涉顏料粒子係較佳時，特別較佳的是磁性薄膜干涉顏料粒子包含七層Fabry-Perot吸收體/介電質/反射體/磁體/反射體/介電質/吸收體多層結構，該多層結構係由Cr/MgF2/Al/M/Al/MgF2/Cr多層結構組成，其中M 為包含鎳(Ni)、鐵(Fe)及/或鈷(Co)的磁性層、及/或包含鎳(Ni)、鐵(Fe)及/或鈷(Co)的磁性合金，及/或包含鎳(Ni)、鐵(Fe)及/或鈷(Co)的磁性氧化物。
本文所述之磁性薄膜干涉顏料粒子可為被視為對人類健康及環境安全的多層顏料粒子，且該等多層顏料粒子基於(例如)五層Fabry-Perot多層結構、六Fabry-Perot多層結構及七層Fabry-Perot多層結構，其中該等顏料粒子包含一或更多個磁性層，該一或更多個磁性層包含磁性合金，該磁性合金具有實質上不含鎳的組合物，該實質上不含鎳的組合物包含約40重量百分比至約90重量百分比的鐵、約10重量百分比至約50重量百分比的鉻及約0重量百分比至約30重量百分比的鋁。被視為對人類健康及環境安全的多層顏料粒子的典型範例可見於EP 2 402 401 A1中，及EP 2 402 401 A1的全部內容藉由引用而併入本文中。
本文所述之磁性薄膜干涉顏料粒子通常由傳統沉積技術製造，以用於網上之不同的所需層。例如藉由物理氣相沉積(PVD)、化學氣相沉積(CVD)或電解沉積來沉積所需數量的層後，藉由將釋放層溶解於合適溶劑中或藉由自網剝離材料而自網除去層之堆疊。接著將如此獲得的材料分解成必須藉由磨製、研磨(例如噴射研磨加工)或任何合適方式來進一步處理的片狀顏料粒子，以獲得所需尺寸的顏料粒子。所得產物由具有破碎邊緣、不規則形狀及不同深寬比的平板狀顏料粒子組成。關於製備合適的 片狀磁性薄膜干涉顏料粒子的更多資訊可見於(例如)EP 1 710 756 A1及EP 1 666 546 A1中，EP 1 710 756 A1及EP 1 666 546 A1藉由引用併入本文中。
展示光學可變特性之合適的磁性膽固醇型液晶顏料粒子包含(但不限於)磁性單層膽固醇型液晶顏料粒子及磁性多層膽固醇型液晶顏料粒子。此類顏料粒子經揭露於(舉例而言)WO 2006/063926 A1、US 6,582,781及US 6,531,221中。WO 2006/063926 A1揭露自其獲得的具高光澤度及變色性質之單層及顏料粒子，及該等單層及顏料粒子具有額外的特定性質，如可磁化性。藉由粉碎經揭露的單層所獲得的該等單層及顏料粒子包含三維交聯的膽固醇型液晶混合物及磁性奈米粒子。US 6,582,781及US 6,410,130揭露包含序列A1/B/A2的膽固醇型多層顏料粒子，其中A1及A2可完全相同或不同且各自包含至少一個膽固醇層，及B為吸收全部或部分之由層A1及層A2所傳遞且賦予中間層磁性之光的該中間層。US 6,531,221揭露包含A/B及任選C的片狀膽固醇型多層顏料粒子，其中A及C為包含賦予磁性之顏料粒子的吸收層，及B為膽固醇層。
包含一或更多個磁性材料的合適干涉塗覆顏料包含(但不限於)由基板組成的結構，該基板係選自由一或更多個層所塗覆的芯組成的群組，其中該芯或該至少一或更多個層的至少一者具有磁性。舉例而言，合適的干涉塗覆顏料包含由如上所述之磁性材料製成的芯，該芯以一 或更多個金屬氧化物所製成的一或更多個層塗覆，或該等合適的干涉塗覆顏料具有由芯所組成的結構，該芯係由合成或天然雲母、層狀矽酸鹽(例如滑石、高嶺土及絹雲母)、玻璃(例如硼矽酸鹽)、二氧化矽(SiO2)、氧化鋁(Al2O3)、二氧化鈦(TiO2)、石墨及上述中之兩種或更多種的混合物所製成。此外，一或更多個額外層(如著色層)可存在。
本文所述之非球形磁體或可磁化顏料粒子可進行表面處理，以防止該等非球形磁體或可磁化顏料粒子在可輻射固化塗料組合物中可能發生的任何劣化及/或促進該等非球形磁體或可磁化顏料粒子摻入可輻射固化塗料組合物中；通常可使用緩蝕劑材料及/或潤濕劑。
根據一實施例及給定非球形磁體或可磁化顏料粒子為片狀顏料粒子，本文所述之用於生產光學效應層的方法可進一步包含將本文所述之可輻射固化塗料組合物暴露到第一磁場產生裝置的動態磁場以將至少一部分的片狀磁體或可磁化顏料粒子雙軸定向之步驟，該步驟在步驟(i)後及在步驟(ii)前執行。包含此類將塗料組合物暴露到第一磁場產生裝置的動態磁場以便在進一步地將塗料組合物暴露於第二磁場產生裝置(特別是本文所述之磁性組件之磁場)之步驟前將至少一部分的片狀磁體或可磁化顏料粒子雙軸定向之步驟的方法揭露於WO 2015/086257 A1中。隨後將可輻射固化塗料組合物暴露在本文所述之第一磁場產生裝置的動態磁場，同時可輻 射固化塗料組合物仍是足夠濕或足夠軟的，使得可進一步地移動及旋轉其中的片狀磁體或可磁化顏料粒子，可藉由使用本文所述之設備來進一步地將片狀磁體或可磁化顏料粒子重新定向。
執行雙軸定向係指使片狀磁體或可磁化顏料粒子以使該等片狀磁體或可磁化顏料粒子之兩主軸受限的方式定向。亦即，可視為每個片狀磁體或可磁化顏料粒子具有在顏料粒子平面中的長軸及具有在顏料粒子平面中之正交的短軸。根據動態磁場來定向片狀磁體或可磁化顏料粒子之長軸及短軸每者。實際上，此事導致在空間中彼此接近之鄰近的片狀磁性顏料粒子基本上與彼此平行。為了執行雙軸定向，必須對片狀磁性顏料粒子進行強烈的時間依賴性外部磁場。亦即，雙軸定向使片狀磁體或可磁化顏料粒子的平面對準，使得該等顏料粒子的平面經定向至相對於(在所有方向中)鄰近平面基本平行。在一實施例中，片狀磁體或可磁化顏料粒子之平面的長軸及垂直於該長軸之短軸兩者藉由動態磁場定向，使得(在所有方向中)鄰近的顏料粒子具有與其彼此對準之長軸及短軸。
根據一實施例，執行片狀磁體或可磁化顏料粒子的雙軸定向之步驟導致磁性定向，其中該等片狀磁體或可磁化顏料粒子使該等片狀磁體或可磁化顏料粒子的兩個主軸實質上平行於基板表面。對於此類對準來說，片狀磁體或可磁化顏料粒子於基板上的可輻射固化塗料組合物內平坦化，且該等片狀磁體或可磁化顏料粒子以該等片 狀磁體或可磁化顏料粒子之與基板表面平行之X軸及Y軸兩者定向(展示於WO 2015/086257 A1之圖1中)。
根據另一實施例，執行片狀磁體或可磁化顏料粒子的雙軸定向之步驟導致磁性定向，其中該等片狀磁體或可磁化顏料粒子使X-Y平面內的第一軸實質上平行於基板表面及使第二軸實質上以實質上相對基板表面非零的仰角垂直於該第一軸。
根據另一實施例，執行片狀磁體或可磁化顏料粒子的雙軸定向之步驟導致磁性定向，其中該等片狀磁體或可磁化顏料粒子使該等片狀磁體或可磁化顏料粒子之X-Y平面實質上平行於假想的球型表面。
用於雙軸定向片狀磁體或可磁化顏料粒子之特別較佳的磁場產生裝置揭露於EP 2 157 141 A1中。揭露於EP 2 157 141 A1中的磁場產生裝置提供一種動態磁場，該動態磁場變化該動態磁場之方向而迫使片狀磁體或可磁化顏料粒子快速振動直到兩主軸X軸及Y軸為實質上平行於基板表面為止；亦即，片狀磁體或可磁化顏料粒子旋轉直到該等片狀磁體或可磁化顏料粒子進入具有實質上平行於基板表面之X軸及Y軸的穩定片狀形態為止，且該等片狀磁體或可磁化顏料粒子在該兩維度中被平坦化。
用於雙軸定向片狀磁體或可磁化顏料粒子之其他特別較佳的磁場產生裝置包含線性永磁鐵Halbach陣列；亦即，包含具有不同磁化方向的複數個磁鐵之組 件。Halbach永磁鐵的詳細描述見於Z.Q.Zhu et D.Howe所著之Halbach permanent magnet machines and applications：a review(IEE.Proc.Electric Power Appl,2001,148,p.299-308)。由此種Halbach陣列產生的磁場具有集中在一側的性質且在另一側變弱幾乎至零。審查中申請案EP 14195159.0揭露用於雙軸定向片狀磁體或可磁化顏料粒子的合適裝置，其中該等裝置包含Halbach氣缸組件。用於雙軸定向片狀磁體或可磁化顏料粒子之其他特別較佳的磁場產生裝置為旋轉磁鐵，該等磁鐵包含碟形旋轉磁鐵或基本上沿著其直徑磁化的磁鐵組件。合適的旋轉磁鐵或磁鐵組件揭露於US 2007/0172261 A1中，該等旋轉磁鐵或磁鐵組件產生徑向對稱的時間可變磁場及允許尚未硬化之塗料組合物之片狀磁體或可磁化顏料粒子的雙向定向。此等磁鐵或磁鐵組件由連接至外部發動機的軸(或主軸)驅動。CN 102529326 B揭露包含旋轉磁鐵的磁場產生裝置的範例，該等旋轉磁鐵可適用於雙軸定向的片狀磁體或可磁化顏料粒子。在較佳的實施例中，用於雙軸定向的片狀磁體或可磁化顏料粒子之合適的磁場產生裝置為無軸的碟形旋轉磁鐵或磁鐵組件，該等無軸的碟形旋轉磁鐵或磁鐵組件經限制於由非磁性的、(較佳地)非導電的材料所組成的外殼中及由纏繞在該外殼上的一或更多個磁鐵線圈驅動。此類無軸的碟形旋轉磁鐵或 磁鐵組件之範例揭露於WO 2015082344 A1及審查中申請案EP 14181939.1中。
本文所述的基板較佳地選自由紙或其他纖維材料組成的群組，該等其他纖維材料如纖維素、含紙材料、玻璃、金屬、陶瓷、塑料及聚合物、金屬化塑料或聚合物、複合材料及上述材料之混合物或組合。典型的紙、紙狀或其他纖維材料由各種纖維製成，該等各種纖維包含(但不限於)馬尼拉麻(abaca)、棉、亞麻、木漿及上述之混合物。如所屬技術領域中具有通常知識者所熟知地，棉及棉/亞麻混合物較佳地適用於鈔票，而木漿通常適用於非鈔票安全文件中。塑料及聚合物的典型範例包含如聚乙烯(PE)及聚丙烯(PP)的聚烯烴、聚醯胺、如聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚對苯二甲酸1,4-丁二醇酯(PBT)、聚2,6-萘甲酸乙烯酯(PEN)之聚酯及聚氯乙烯(PVC)。紡黏型烯烴纖維(如以商標Tyvek®銷售的彼等纖維)亦可作為基板。金屬化塑料或聚合物的典型範例包含上文所述的塑料或聚合物材料，該等上文所述的塑料或聚合物材料具有在其表面上連續或不連續地設置的金屬。金屬的典型範例包含(但不限於)鋁(Al)、鉻(Cr)、銅(Cu)、金(Au)、鐵(Fe)、鎳(Ni)、銀(Ag)、上述金屬之組合或上述金屬中之兩種或更多種金屬的合金。上述塑料或聚合物材料的金屬化可藉由電沉積法、高真空塗覆法或濺射法來完成。複合材料的典型範例包含(但不限於)紙的多層結構或層壓及至少一種塑料或聚合物材料，如上 文所述的彼等及結合於紙狀或纖維材料(如上文所述的彼等)中的塑料及/或聚合物纖維。當然，基板可包含進一步之所屬技術領域中具有通常知識者已知的添加劑，如施膠劑、增白劑、加工助劑、增強劑或濕強化劑等。可用網的形式(例如，上述材料的連續片材)或用片材的形式來提供本文所述之基板。若根據本發明所生產之OEL是在安全文件上，則為了進一步地提高安全級別及抵制偽造與非法複製該安全文件之目的，基板可包含印刷的、塗覆的或雷射標記的(或雷射穿孔的)標記、浮水印、安全線、纖維、平面圖、發光化合物、窗、箔、貼花及上述兩種或更多種的組合。同樣為了進一步地提高安全級別及抵制偽造與非法複製該安全文件之目的，基板可包含一或更多個標記物質或標記物及/或機器可讀取物質(例如，發光物質、UV/可見/IR吸收物質、磁性物質及上述之組合)。
本文亦描述用於生產如本文所描述的彼等OEL之OEL於本文所描述之基板上的設備，該OEL包含在經固化之如本文中所述的可輻射固化塗料組合物中定向的非球形磁體或可磁化顏料粒子。
本文所述之用於生產如本文所述之OEL在基板上的設備包含以下各者：(a)包含支撐基質(134,234,334,434,534,634,734,834,934,1034,1134,1234,1334,1434)的磁性組件 (130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)及：(a1)環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)，該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)是單一環形磁鐵或以環形布置所設置的兩個或更多個偶極子磁鐵的組合，該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)具有徑向磁化，及(a2)具有實質上垂直於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面之磁軸的單一個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)，或具有實質上平行於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面之磁軸的單一個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)，或兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)，該兩個或更多個偶極子磁鐵 (132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)中之每者具有實質上垂直於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面的磁軸，其中當單一環形磁鐵的北極或形成環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的兩個或更多個偶極子磁鐵的北極指向該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的周邊時，該單一個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)的北極或該兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)中的至少一者的北極指向基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面，或其中當單一環形磁鐵的南極或形成環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的兩個或更多個偶極子磁鐵的南極指向該環形磁場產生裝置 (131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的周邊時，該單一個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)的南極或該兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)中的至少一者的南極指向基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面，及(a3)可選的一或更多個環形極片(133,233,333,433,533,633,733,833,933,1033,1133,1233,1333,1433)；及(b)磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)，該磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)為具有實質上平行於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面之磁軸的單一棒狀偶極子磁鐵或兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)的組合，該兩個或更多個棒狀 偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)的每一者具有實質上平行於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面的磁軸及具有相同的磁場方向；及可選的(C)一或更多個極片(150,250,350,450,550,650,750,850,950,1050,1150,1250,1350,1450)，其中磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)經布置於一或更多個極片(150,250,350,450,550,650,750,850,950,1050,1150,1250,1350,1450)的頂部。
磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)及磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)可經安排在彼此頂部。
根據本發明之一實施例，本文所述之設備(a)本文所述之磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)、(b)本文所述之磁場產生裝置 (140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)及(c)一或更多個極片(150,250,350,450,550,650,750,850,950,1050,1150,1250,1350,1450)，其中磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)經安排在磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)的頂部及其中磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)經安排在一或更多個極片(150,250,350,450,550,650,750,850,950,1050,1150,1250,1350,1450)的頂部。
磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)之支撐基質(134,234,334,434,534,634,734,834,934,1034,1134,1234,1334,1434)係由一或更多個非磁性材料製成。非磁性材料較佳地選自由低導電材料、非導電材料及上述材料之混合物組成的群組，該等上述材料舉例而言如工程塑料及聚合物、鋁、鋁合金、鈦、鈦合金及沃斯田鋼(亦即，非磁性鋼)。工程塑料及聚合物包含(但不限於)聚芳醚酮(PAEK)與其衍生物聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酮酮(PEKK)、聚醚醚酮酮(PEEKK)及聚醚酮醚酮酮(PEKEKK)及聚縮醛、聚醯胺、聚酯、聚醚、共聚醚酯、 聚醯亞胺、聚醚醯亞胺、高密度聚乙烯(HDPE)、超高分子量聚乙烯(UHMWPE)、聚對苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚丙烯、丙烯腈丁二烯苯乙烯(ABS)共聚物、氟化及全氟化聚乙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚苯硫醚(PPS)及液晶聚合物。較佳的材料為PEEK(聚醚醚酮)、POM(聚甲醛)、PTFE(聚四氟乙烯)、Nylon®(聚醯胺)及PPS。
本文所揭露之磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)包含環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)，該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)(i)可由單一環形磁鐵製成或(ii)可為設置在環形布置中之兩個或更多個偶極子磁鐵的組合。
根據一實施例，環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)為具有實質上平行於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面之磁軸及具有徑向方向的單一環形磁鐵；亦即，當從頂部檢視時(亦即，從基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)的側面)，該單一環形磁鐵之 磁軸自環形磁鐵之環的中心區域指向至周圍，或換句話說，該單一環形磁鐵之北極或南極係徑向指向環形偶極子磁鐵之環的中心區域。
根據一實施例，環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)為設置在環形布置中之兩個或更多個偶極子磁鐵的組合，該兩個或更多個偶極子磁鐵之每者具有實質上平行於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面的磁軸。本文所述之組合的所有兩個或更多個偶極子磁鐵的北極或南極係指向環形布置的中心區域，從而導致徑向磁化。設置於環形布置中之兩個或更多個偶極子磁鐵的組合之典型範例包含(但不限於)以圓形環形布置設置的兩個偶極子磁鐵的組合、以三角形環形布置設置的三個偶極子磁鐵或以方形或矩形環形布置設置的四個偶極子磁鐵之組合。
環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)可對稱地設置於支撐基質(134,234,334,434,534,634,734,834,934,1034,1134,1234,1334,1434)內或可不對稱地設置於支撐基質(134,234,334,434,534,634,734,834,934,1034,1134,1234,1334,1434)內。
環形磁鐵及設置在環形布置中及包含於磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)中之兩個更多個偶極子磁鐵(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)較佳地由高矯頑力材料(亦稱為強磁性材料)獨立製成。合適的高矯頑力材料為具有至少20kJ/m3最大磁能積((BH)max)之材料、及較佳地為具有至少50kJ/m3最大磁能積((BH)max)之材料，及更較佳地為具有至少100kJ/m3最大磁能積((BH)max)之材料，及甚至更較佳地為具有至少200kJ/m3最大磁能積((BH)max)之材料。該等合適的高矯頑力材料較佳地由一或更多個燒結或聚合物接合材料所製成，該一或更多個燒結或聚合物接合材料係選自由鋁鎳鈷合金(Alnico)、六方鐵氧體通式MFe12O19(例如，鍶六方鐵氧體(SrO*6Fe2O3)或鋇六方鐵氧體(BaO*6Fe2O3))、硬鐵氧體通式MFe2O4(例如，鈷鐵氧體(CoFe2O4)或磁鐵礦(Fe3O4)，其中M為二價金屬離子)、陶瓷8(SI-1-5)、稀土磁性材料、Fe Cr Co非等向性合金及選自由PtCo、MnAlC、RE鈷5/16，RE鈷14組成之群組的材料所組成的群組，該鋁鎳鈷合金(Alnico)舉例而言如Alnico 5(R1-1-1)、Alnico 5 DG(R1-1-2)、Alnico 5-7(R1-1-3)、Alnico 6(R1-1-4)、Alnico 8(R1-1-5)、Alnico 8 HC(R1-1-7)及Alnico 9(R1-1-6)，及該等稀土磁性材料係選自由RECo5(RE=Sm或Pr)、RE2TM17(RE=Sm，TM=Fe、Cu、Co、Zr、Hf)、RE2TM14B(RE=Nd、Pr、Dy，TM=Fe、Co)組成之群組。較佳地，磁棒之高矯頑力材料係選自由稀土磁性材料組成的群組，及更佳地係選自由Nd2Fe14B及SmCo5組成的群組4特別較佳的是易於加工的永磁複合材料，該等永磁複合材料包含在塑料或橡膠型基質中之如鍶六方鐵氧體(SrFe12O19)或釹一鐵一硼(Nd2Fe14B)粉末的永磁填料。
根據一實施例，本文所述之磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)包含(如本文所述的彼等)環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)、(如本文所述的彼等)單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)或兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)。單一偶極子磁鐵或兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)經設置於環形偶極子磁鐵(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031, 1131,1231,1331,1431)內或在以環形佈置設置的偶極子磁體的組合內。單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)或兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)可以對稱地設置在環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的環內(如圖1、圖3、圖5至圖14所示)或可非對稱地設置在環形偶極子磁鐵(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的環內(如圖2及圖4所示)。
根據另一實施例，本文所述的磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)包含(如本文所述的彼等)環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)、(如本文所述的彼等)單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)或兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)及一或更多個環形極片(133,233,333,433,533,633,733,833,933,1033, 1133,1233,1333,1433)。單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)或兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)及一或更多個環形極片(133,233,333,433,533,633,733,833,933,1033,1133,1233,1333,1433)獨立地設置在環形偶極子磁鐵(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)內或經設置於環形布置中之偶極子磁鐵的組合內。單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)或兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)及一或更多個環形極片(133,233,333,433,533,633,733,833,933,1033,1133,1233,1333,1433)可獨立地對稱或不對稱地設置於環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)之環內。
極片表示由軟磁性材料構成的結構。軟磁性材料具有低矯頑力及高飽和。合適的低矯頑力及高飽和材料具有低於1000A．m-1的矯頑力以允許快速磁化及退磁，且該等材料的飽和較佳地為至少0.1特斯拉，及更較佳地 為1.0特斯拉，及甚至更較佳地為至少2特斯拉。本文所述之低矯頑力及高飽和材料包含(但不限於)軟磁鐵(其來自退火的鐵及羰基鐵)、鎳、鈷、如錳鋅鐵氧體或鎳鋅鐵氧體的軟鐵氧體、鎳一鐵合金(如坡莫合金型材料)、鈷鐵合金、矽鐵及非晶態金屬合金(如Metglas®鐵-硼合金)，較佳地為純鐵及矽鐵(電工鋼)，及鈷鐵與鎳鐵合金(坡莫合金型材料)，更較佳地為鐵。極片係作為引導由磁鐵產生的磁場。
根據一實施例，本文所述之設備包含單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)，其中該單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)具有實質上垂直於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面之磁軸且其北極指向基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)之表面(當形成環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的單一環形磁鐵或兩個或更多個偶極子磁鐵之北極指向該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031, 1131,1231,1331,1431)之周邊時)，或其南極指向基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)之表面(當形成環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的單一環形磁鐵或兩個或更多個偶極子磁鐵之南極指向該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)之周邊時)。
根據另一實施例，本文所描述之設備包含單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)，其中該偶極子磁鐵具有實質上平行於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面的磁軸。
根據另一實施例，本文所述之設備包含兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)，其中該兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)具有實質上垂直於基板 (120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面的磁軸，及其中當形成環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的單一環形磁鐵或兩個或更多個偶極子磁鐵之北極指向該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)之周邊時，該兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)之至少一者的北極指向基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面；或其中當形成環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的單一環形磁鐵或兩個或更多個偶極子磁鐵之南極指向該環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)之周邊時，該兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)之至少一者的南極指向基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面。
單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)及兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)較佳地由強磁性材料獨立製成，該等強磁性材料如上述彼等用於環狀磁鐵及環狀磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)之兩個或更多個偶極子磁鐵的材料。
支撐基質(134,234,334,434,534,634,734,834,934,1034,1134,1234,1334,1434)包含一或更多個用於接收本文所描述之環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)、單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)或如本文所述的彼等偶極子磁鐵之兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)及一或更多個環形極片(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)(當存在時)的凹口或凹槽。
本文所述之用於產生OEL在基板上之設備(如本文所述的彼等設備)包含本文所述的磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)，該磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)：(i)可由具有實質上平行於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面之磁軸的單一棒狀偶極子磁鐵製成，或(ii)可為由兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)之組合，該兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)之每者具有實質上平行於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面之磁軸及具有相同的磁場方向(亦即，所有該兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)的北極都面向同一個方向)。
根據另一實施例，磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040, 1140,1240,1340,1440)為兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)之組合，該兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)之每者具有實質上平行於基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面之磁軸及具有相同的磁場方向(亦即，所有該兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)的北極都面向同一個方向)。兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)可用對稱配置(如圖13中所展示)布置或用不對稱配置(如圖14中所展示)布置。
磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)的棒狀偶極子磁鐵較佳地由強磁性材料製成，該等強磁性材料如上所述的彼等用於環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)之環形磁鐵及兩個或更多個 偶極子磁鐵之材料及用於單一偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)及兩個或更多個偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)之材料。
當磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)為兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)之組合時，該兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)可由一或更多個由非磁性材料所製成的間隔件分開或可包含於由非磁性材料製成的支撐基質(142,242,342,442,542,642,742,842,942,1042,1142,1242,1342,1442)中。非磁性材料較佳地可從由低導電材料、非導電材料及上述低導電材料及非導電材料之混合物組成的群組選出，該等材料舉例而言如工程塑料及聚合物、鋁、鋁合金、鈦、鈦合金及沃斯田鋼(亦即，非磁性鋼)。工程塑料及聚合物包含(但不限於)聚芳醚酮(PAEK)與其衍生物聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酮酮(PEKK)、聚醚醚酮酮(PEEKK)及聚醚酮醚酮酮 (PEKEKK)及聚縮醛、聚醯胺、聚酯、聚醚、共聚醚酯、聚醯亞胺、聚醚醯亞胺、高密度聚乙烯(HDPE)、超高分子量聚乙烯(UHMWPE)、聚對苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚丙烯、丙烯腈丁二烯苯乙烯(ABS)共聚物、全氟化聚乙烯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚苯硫醚(PPS)及液晶聚合物。較佳的材料為PEEK(聚醚醚酮)、POM(聚甲醛)、PTFE(聚四氟乙烯)、Nylon®(聚醯胺)及PPS。
磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)可位於磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)與承載可輻射固化塗料組合物之基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)之間，該可輻射固化塗料組合物包含由本文所述之設備所定向之本文所述之非球形磁體或可磁化顏料粒子；或磁磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)可位於磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)與基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)之間。
本文所述之用於產生OEL在基板上之設備(如本文所述的彼等設備)可進一步地包含一或更多個極片(150,250,350,450,550,650,750,850,950,1050,1150,1250,1350,1450)，其中磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)經布置在磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)的頂部及其中磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)經布置在一或更多個極片(150,250,350,450,550,650,750,850,950,1050,1150,1250,1350,1450)的頂部(舉例而言見圖9A、圖10A及圖11A)。一或更多個極片(150,250,350,450,550,650,750,850,950,1050,1150,1250,1350,1450)可為環形極片或固體形狀極片(亦即，不包含缺少極片之材料之中心區域的該等極片)；一或更多個極片(150,250,350,450,550,650,750,850,950,1050,1150,1250,1350,1450)較佳地為固體形狀極片，及一或更多個極片(150,250,350,450,550,650,750,850,950,1050,1150,1250,1350,1450)更較佳地為碟形極片。
磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)與磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)之間的距離(d)可包含在一範圍中，該範圍係包含於約0至約10mm之間；較佳地係在約0至約3mm之間的範圍內。
磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)的上表面或磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)的上表面(亦即，最靠近基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面的部分)與面對該磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)之基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面或該磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)之間的距離(h)較佳地在約0.1至約10mm之間，更較佳地在約0.2至約5mm之間。
在磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030, 1130,1230,1330,1430)的下表面與一或更多個極片(150,250,350,450,550,650,750,850,950,1050,1150,1250,1350,1450)上表面之間的距離(e)可包含在一範圍中，該範圍係包含於約0至約5mm之間，該範圍較佳地係包含於約0至約1mm之間。
選擇環形磁場產生裝置(131,231,331,431,531,631,731,831,931,1031,1131,1231,1331,1431)的材料、偶極子磁鐵(132,232,332,432,532,632,732,832,932,1032,1132,1232,1332,1432)的材料、一個或多個環形極片(133,233,333,433,533,633,733,833,933,1033,1133,1233,1333,1433)的材料、磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)的材料、兩個或更多的棒狀偶極子磁鐵(141,241,341,441,541,641,741,841,941,1041,1141,1241,1341,1441)的材料、一個或更多個極片(150,250,350,450,550,650,750,850,950,1050,1150,1250,1350,1450)的材料及距離(d)、距離(e)及距離(h)，使得由磁鐵組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)所產生之磁場之交互作用產生的磁場及由磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040, 1140,1240,1340,1440)及一個或多個極片(150,250,350,450,550,650,750,850,950,1050,1150,1250,1350,1450)產生的磁場(亦即，本文所述之設備之產生的磁場)適於生產本文所描述的光學效應層。由磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)產生的磁場與由磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)及一個或多個極片(150,250,350,450,550,650,750,850,950,1050,1150,1250,1350,1450)產生的磁場可相互作用，使得產生的設備磁場能將非球形磁體或可磁化顏料粒子定向在在基板上之尚未固化的可輻射固化塗料組合物中，該組合物經設置在設備磁場中以產生具有傾斜光學效應層而變化之尺寸的一或更多個環形主體之光學效應層的光學印象。
用於生產本文所述之OEL的設備可進一步包含由一或更多個強磁性材料製成的雕刻板(舉例而言如WO 2005/002866 A1及WO 2008/046702 A1中所揭露的彼等雕刻板)。或，板可由一或更多個軟磁性材料製成(舉例而言如WO 2008/139373A1中描述的彼等軟磁性材料)。雕刻板(當存在時)位於磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030, 1130,1230,1330,1430)或磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440)與基板(120,220,320,420,520,620,720,820,920,1020,1120,1220,1320,1420)表面之間。雕刻承載(舉例而言)藉由局部修改由本文所述設備所產生的磁場而在其非硬化狀態下轉移到OEL的設計、圖案、文字、代碼、標誌或標記。
圖1至圖4圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(110,210,310,410)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(120,220,320,420)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖1至圖4之設備包含(a)磁性組件(130,230,330,430)，該磁性組件(130,230,330,430)包含支撐基質(134,234,334,434)及為環形磁鐵(131,231,331,431)與單一偶極子磁鐵(132,232,332,432)的環形磁場產生裝置；(b)磁場產生裝置(140,240,340,440)，該磁場產生裝置為單一棒狀偶極子磁鐵及使該磁場產生裝置之磁軸實質上與基板(120,220,320,420)表面平行，其中磁性組件(130,230,330,430)經設置在單一棒狀偶極子磁鐵下方。圖1至圖4中之為環形磁鐵(131,231,331,431)的環形磁場產生裝置獨立地具有與基板 (120,220,320,420)表面平行的磁軸及具有徑向磁化，特別是該徑向磁化使該等環形磁場產生裝置之北極徑向指向該環形磁鐵(131,231,331,431)的周邊。
圖1A至圖1B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(110)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(120)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖1A之設備包含為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場產生裝置(140)，該磁場產生裝置(140)經設置在磁性組件(130)的頂部。磁場產生裝置(140)可為如圖1A所示之具有長度(B1)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面體。磁場產生裝置(140)之磁軸實質上平行於基板(120)表面。
圖1A的磁性組件(130)包含支撐基質(134)，該支撐基質(134)可為如圖1A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖1A的磁性組件(130)包含(a1)為環形磁鐵的環形磁場產生裝置(131)及(a2)單一偶極子磁鐵(132)。如圖1A及圖1B1所展示地，單一偶極子磁鐵(132)可對稱地設置在環形磁場產生裝置(131)之環內。
為環形偶極子磁鐵之環形磁場產生裝置(131)具有外徑(A4)、內徑(A5)及厚度(A6)。環狀磁場產生裝置(131)的磁軸實質上平行於基板(120)表面。環形磁場產生裝置(131)具有徑向磁化，特別是該徑向磁化使該環形磁場產生裝置(131)之南極徑向朝向環 形磁場產生裝置(131)之環的中心區域及使該環形磁場產生裝置(131)之北極指向支撐基質(134)的外部。
單一偶極子磁鐵(132)具有直徑(A9)、厚度(A10)及具有實質上垂直於磁場產生裝置(140)之磁軸(亦即，以面向基板(120)之北極來實質上垂直於基板(120)表面)的磁軸。
磁性組件(130)及為棒狀偶極子磁鐵的磁場產生裝置(140)較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(130)的上表面與磁場產生裝置(140)的下表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖1A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(140)的上表面與面對該磁場產生裝置(140)之基板(120)表面之間的距離用距離(h)圖示。較佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
由圖1A至圖1B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖1C中，該圖1C係藉由在-30°與+30°之間傾斜基板(120)來在不同視角下觀察該所得到的OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學效應層(110)之基板(120)時變化之尺寸之環形主體的光學印象。
圖2A至圖2B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(210)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(220)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖2A之設備包含為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場 產生裝置(240)，該磁場產生裝置(240)經設置在磁性組件(230)的頂部。磁場產生裝置(240)可為如圖2A所示之具有長度(B1)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面體。磁場產生裝置(240)之磁軸實質上平行於基板(220)表面。
磁性組件(230)包含支撐基質(234)，該支撐基質(234)可為如圖2A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖2A的磁性組件(230)包含如圖2A及圖2B所展示的(a1)為環形磁鐵的環形磁場產生裝置(231)及(a2)單一偶極子磁鐵(232)。如圖2A所展示地，單一偶極子磁鐵(232)可非對稱地設置在環形磁場產生裝置(231)之環內。
為環形磁鐵之環形磁場產生裝置(231)具有外徑(A4)、內徑(A5)及厚度(A6)。環狀磁場產生裝置(231)的磁軸實質上平行於基板(220)表面。環形磁場產生裝置(231)具有徑向磁化，特別是該徑向磁化使該環形磁場產生裝置(231)之南極徑向朝向環形磁場產生裝置(231)之環的中心區域及使該環形磁場產生裝置(231)之北極指向支撐基質(234)的外部。
單一偶極子磁鐵(232)具有直徑(A9)、厚度(A10)及具有實質上垂直於磁場產生裝置(240)之磁軸(亦即，以面向基板(220)之北極來實質上垂直於基板(220)表面)的磁軸。
磁性組件(230)及磁場產生裝置(240)較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(230)的上表面與磁場產生裝置(240)的下表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖2A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(240)的上表面與面對該磁場產生裝置(240)之基板(220)表面之間的距離用距離(h)圖示。較佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
由圖2A至圖2B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖2C中，該圖2C係藉由在-30°與+30°之間傾斜基板(220)來在不同視角下觀察該所得到的OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學效應層(210)之基板(220)時變化之尺寸之環形主體的光學印象。
圖3A至圖3B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(310)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(320)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖3A之設備包含為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場產生裝置(340)，該磁場產生裝置(340)經設置在磁性組件(330)的頂部。磁場產生裝置(340)可為如圖3A所示之具有長度(B1)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面體。磁場產生裝置(140)之磁軸實質上平行於基板(320)表面。
圖3A的磁性組件(330)包含支撐基質(334)，該支撐基質(334)可為如圖3A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖3A的磁性組件(330)包含(a1)為環形磁鐵的環形磁場產生裝置(331)及(a2)單一偶極子磁鐵(332)。如圖3A及圖3B1所展示地，單一偶極子磁鐵(332)可對稱地設置在環形磁場產生裝置(331)之環內。
為環形偶極子磁鐵之環形磁場產生裝置(331)具有外徑(A4)、內徑(A5)及厚度(A6)。環狀磁場產生裝置(331)的磁軸實質上平行於基板(320)表面。環形磁場產生裝置(331)具有徑向磁化，特別是該徑向磁化使該環形磁場產生裝置(331)之南極徑向朝向環形磁場產生裝置(331)之環的中心區域及使該環形磁場產生裝置(331)之北極指向支撐基質(334)的外部。
單一偶極子磁鐵(332)具有長度(A13)、寬度(A14)及厚度(A10)及具有實質上平行於磁場產生裝置(340)之磁軸(亦即，實質上平行於基板(320)表面)的磁軸。
磁性組件(330)及為單一偶極子磁鐵的磁場產生裝置(340)較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(330)的上表面與磁場產生裝置(340)的下表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖3A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(340)的上表面與面對該磁場產生裝置(340)之基板(320)表面之間的距離用距離(h)圖示。較 佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
由圖3A至圖3B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖3C中，該圖3C係藉由在-30°與+30°之間傾斜基板(320)來在不同視角下觀察該所得到的OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學效應層(310)之基板(320)時變化之尺寸之環形主體的光學印象。
圖4A至圖4B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(410)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(420)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖4A之設備包含為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場產生裝置(440)，該磁場產生裝置(440)經設置在磁性組件(430)的頂部。磁場產生裝置(440)可為如圖4A所示之具有長度(B1)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面體。磁場產生裝置(440)之磁軸實質上平行於基板(420)表面。
圖4A的磁性組件(430)包含支撐基質(434)，該支撐基質(434)可為如圖4A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖4A的磁性組件(430)包含(a1)為環形磁鐵的環形磁場產生裝置(431)及(a2)單一偶極子磁鐵(432)。如圖4A及圖4B1所展示地，單一偶極子磁鐵 (432)可非對稱地設置在環形磁場產生裝置(431)之環內。
為環形偶極子磁鐵之環形磁場產生裝置(431)具有外徑(A4)、內徑(A5)及厚度(A6)。環狀磁場產生裝置(431)的磁軸實質上平行於基板(420)表面。環形磁場產生裝置(431)具有徑向磁化，特別是該徑向磁化使該環形磁場產生裝置(431)之南極徑向朝向環形磁場產生裝置(431)之環的中心區域及使該環形磁場產生裝置(431)之北極指向支撐基質(434)的外部。
單一偶極子磁鐵(432)具有長度(A13)、寬度(A14)及厚度(A10)及具有實質上平行於磁場產生裝置(440)之磁軸(亦即，實質上平行於基板(420)表面)的磁軸。
磁性組件(430)及為單一偶極子磁鐵的磁場產生裝置(440)較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(430)的上表面與磁場產生裝置(440)的下表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖4A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(440)的上表面與面對該磁場產生裝置(440)之基板(420)表面之間的距離用距離(h)圖示。較佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
由圖4A至圖4B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖4C中，該圖4C係藉由在-30°與+30°之間傾斜基板(420)來在不同視角下觀察該所得到的 OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學效應層(410)之基板(420)時變化之尺寸之環形主體的光學印象。
圖5至圖7圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(510,610,710)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(520,620,720)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖5至圖7之設備包含(a)磁性組件(530,630,730)，該磁性組件(530,630,730)包含支撐基質(534,634,734)及為設置成正方形環形佈置中之四個偶極子磁鐵及單一棒狀偶極子磁鐵(532,632,732)之組合的環形磁場產生裝置(531,631,731)；(b)磁場產生裝置，該磁場產生裝置為單一棒狀偶極子磁鐵(540,640,740)及使該磁場產生裝置之磁軸實質上與基板(520,620,720)表面平行，其中磁性組件(530,630,730)經設置在單一棒狀偶極子磁鐵(540,640,740)下方。圖5至圖7中之環形磁場產生裝置(531,631,731)獨立地由設置成正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合製成，其中該四個偶極子磁鐵之每者具有與基板(520,620,720)平行的磁軸。所有四個偶極子磁鐵具有其之指向該環形磁場產生裝置(531,631,731)之中心區域或外部的北極或南極，從而導致徑向磁化。
圖5A至圖5B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(510)之設備的範例，該等光學效 應層(OEL)包含基板(520)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖5A之設備包含為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場產生裝置(540)，該磁場產生裝置(540)經設置在磁性組件(530)的頂部。磁場產生裝置(540)可為如圖5A所示之具有長度(B1)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面體。磁場產生裝置(540)之磁軸實質上平行於基板(520)表面。
圖5A的磁性組件(530)包含支撐基質(534)，該支撐基質(534)可為如圖5A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖5A的磁性組件(530)包含(a1)為設置於正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合的環形磁場產生裝置(531)及(a2)單一偶極子磁鐵(532)。如圖5A及圖5B1所展示地，單一偶極子磁鐵(532)可對稱地設置在環形磁場產生裝置(531)之環內。
形成為正方形環形磁性裝置之環形磁場產生裝置(531)的四個偶極子磁鐵之每者可為如圖5A中所展示的具有長度(A7)、寬度(A8)及厚度(A6)的平行六面體。該四個偶極子磁鐵之每者具有實質上與基板(520)表面平行的磁軸及每者具有其之徑向朝向正方形環形布置(531)之環的中心區域之北極及其之朝向支撐基質(534)之外部的南極。
單一偶極子磁鐵(532)具有直徑(A9)、厚度(A10)及具有實質上垂直於磁場產生裝置(540)之磁軸 (亦即，以面向基板(520)之南極來實質上垂直於基板(520)表面)的磁軸。
磁性組件(530)及為單一偶極子磁鐵的磁場產生裝置(540)較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(530)的上表面與磁場產生裝置(540)的下表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖5A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(540)的上表面與面對該磁場產生裝置(540)之基板(520)表面之間的距離用距離(h)圖示。較佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
由圖5A至圖5B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖5C中，該圖5C係藉由在-30°與+30°之間傾斜基板(520)來在不同視角下觀察該所得到的OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學效應層(510)之基板(520)時變化之尺寸之環形主體的光學印象。
圖6A至圖6B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(610)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(620)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖6A之設備包含為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場產生裝置(640)，該磁場產生裝置(640)經設置在磁性組件(630)的頂部。磁場產生裝置(640)可為如圖6A所示之具有長度(B1)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面 體。磁場產生裝置(640)之磁軸實質上平行於基板(620)表面。
圖6A的磁性組件(630)包含支撐基質(634)，該支撐基質(634)可為如圖6A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖6A的磁性組件(630)包含(a1)為設置於正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合的環形磁場產生裝置(631)、(a2)單一偶極子磁鐵(632)及(a3)一或一或更多個(特別是一個)為環狀極片(633)的環形極片(633)。
如圖6A及圖6B1所展示地，單一偶極子磁鐵(632)可對稱地設置在環形磁場產生裝置(631)之環內。
形成為正方形環形磁性裝置之環形磁場產生裝置(631)的四個偶極子磁鐵之每者可為如圖6A中所展示的具有長度(A7)、寬度(A8)及厚度(A6)的平行六面體。該四個偶極子磁鐵之每者具有實質上與基板(620)表面平行的磁軸及每者具有其之徑向朝向正方形環形布置(631)之環的中心區域之北極及其之朝向支撐基質(634)之外部的南極。
單一偶極子磁鐵(632)具有直徑(A9)、厚度(A10)及具有實質上垂直於磁場產生裝置(640)之磁軸(亦即，以面向基板(620)之南極來實質上垂直於基板(620)表面)的磁軸。
一或更多個(特別是一個)為環狀極片(633)的環形極片(633)具有外徑(A19)、內徑(A20)及厚度(A21)。如圖6A及圖6B1所展示地，環形極片(633)可對稱地設置在環形磁場產生裝置(631)之環內。如圖6A及圖6B1所展示地，單一偶極子磁鐵(632)可對稱地設置在環形磁場產生裝置(631)之環內及環形極片(633)內。
磁性組件(630)及為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場產生裝置(640)較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(630)的上表面與磁場產生裝置(640)的下表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖6A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(640)的上表面與面對該磁場產生裝置(640)之基板(620)表面之間的距離用距離(h)圖示。較佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
由圖6A至圖6B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖6C中，該圖6C係藉由在-30°與+30°之間傾斜基板(620)來在不同視角下觀察該所得到的OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學效應層(610)之基板(620)時變化之尺寸之環形主體的光學印象。
圖7A至圖7B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(710)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(720)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖7A之設備包含為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場 產生裝置(740)，該磁場產生裝置(740)經設置在磁性組件(730)的頂部。磁場產生裝置(740)可為如圖7A所示之具有長度(B1)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面體。磁場產生裝置(740)之磁軸實質上平行於基板(720)表面。
圖7A的磁性組件(730)包含支撐基質(734)，該支撐基質(734)可為如圖7A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖7A的磁性組件(730)包含(a1)為設置於正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合的環形磁場產生裝置(731)、(a2)單一偶極子磁鐵(732)，其中該單一偶極子磁鐵(732)具有實質上與磁場產生裝置(740)之磁軸平行(亦即，實質上與基板(20)表面平行)的磁軸，及(a3)一或一或更多個(特別是一個)為環狀極片(733)的環形極片(733)。
如圖7A及圖7B1所展示地，單一偶極子磁鐵(732)可對稱地設置在環形磁場產生裝置(731)之環內。
形成為正方形環形磁性裝置之環形磁場產生裝置(731)的四個偶極子磁鐵之每者可為如圖7A中所展示的具有長度(A7)、寬度(A8)及厚度(A6)的平行六面體。該四個偶極子磁鐵之每者具有實質上與基板(720)表面平行的磁軸及每者具有其之徑向朝向正方形環形布置(731)之環的中心區域之北極及其之朝向支撐基質(734)之外部的南極。
單一偶極子磁鐵(732)具有寬度(A13)、長度(A14)及厚度(A10)及具有實質上平行於磁場產生裝置(740)之磁軸(亦即，實質上平行於基板(720)表面)的磁軸。
一或更多個(特別是一個)為環狀極片(733)的環形極片(733)具有外徑(A19)、內徑(A20)及厚度(A21)。如圖7A及圖7B1所展示地，環形極片(733)可對稱地設置在環形磁場產生裝置(731)之環內。如圖7A及圖7B1所展示地，單一偶極子磁鐵(732)可對稱地設置在環形磁場產生裝置(731)之環內及環狀極片(733)內。
磁性組件(730)及為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場產生裝置(740)較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(730)的上表面與磁場產生裝置(740)的下表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖7A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(740)的上表面與面對該磁場產生裝置(740)之基板(720)表面之間的距離用距離(h)圖示。較佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
由圖7A至圖7B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖7C中，該圖7C係藉由在-30°與+30°之間傾斜基板(720)來在不同視角下觀察該所得到的OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學效應層(710)之基板(720)時變化之尺寸之環形主體的光學印象。
圖8至圖12圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(810,910,1010,1110,1210)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(820,920,1020,1120,1220)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖8至圖12之設備包含(a)磁性組件(830,930,1030,1130,1230)，該磁性組件(830,930,1030,1130,1230)包含支撐基質(834,934,1034,1134,1234)，及(a1)為設置成正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合的環形磁場產生裝置(831,931,1031,1131,1231)，及(a2)兩個或更多個(特別是三個、二十六個、十八個或二十個)偶極子磁鐵(832,932,1032,1132,1232)；及(b)磁場產生裝置(840,940,1040,1140,1240)，該磁場產生裝置(840,940,1040,1140,1240)為單一棒狀偶極子磁鐵及使該磁場產生裝置之磁軸實質上與基板(820,920,1020,1120,1220)表面平行，其中磁性組件(830,930,1030,1130,1230)經設置在圖8至圖11之磁場產生裝置(840,940,1040,1140,1240)下方，及其中磁場產生裝置(840,940,1040,1140,1240)經設置在圖12之磁性組件(830,930,1030,1130,1230)下方。圖8至圖12中之環形磁場產生裝置(831,931,1031,1131,1231)獨立地由設置成正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合製成，其中該四個偶極子磁鐵之每者具有與基板 (820,920,1020,1120,1220)表面平行的磁軸。所有四個偶極子磁鐵具有其之徑向指向該環形磁場產生裝置(831,931,1031,1131,1231)之中心區域的北極及其之指向支撐基質(834,934,1034,1134,1234)之外部的南極。如圖9至圖11所展示地，設備可進一步包含(c)一或更多個極片(950,1050,1150)(特別是一碟形極片)，其中本文所述之磁性組件(930,1030,1130)經布置在一或更多個極片(950,1050,1150)的頂部。
圖8A至圖8B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(810)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(820)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖8A之設備包含為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場產生裝置(840)，該磁場產生裝置(840)經設置在磁性組件(830)的頂部。磁場產生裝置(840)可為如圖8A所示之具有長度(B1)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面體。磁場產生裝置(840)之磁軸實質上平行於基板(820)表面。
圖8A的磁性組件(830)包含支撐基質(834)，該支撐基質(834)可為如圖5A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖8A的磁性組件(830)包含(a1)為設置於正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合的環形磁場產生裝置(831)及(a2)兩個或更多個(特別是三個)偶極子磁鐵(832)的組合。如圖8A及圖8B1所展示地，兩個 或更多個(特別是三個)偶極子磁鐵(832)的組合可對稱地設置在環形磁場產生裝置(831)之環內。
形成為正方形環形磁性裝置之環形磁場產生裝置(831)的四個偶極子磁鐵之每者可為如圖8A中所展示的具有長度(A7)、寬度(A8)及厚度(A6)的平行六面體。該四個偶極子磁鐵之每者具有實質上與基板(820)表面平行的磁軸及每者具有其之徑向朝向正方形環形布置(831)之環的中心區域之北極及其之朝向支撐基質(834)之外部的南極。
兩個或更多個(特別是三個)偶極子磁鐵(832)的組合之每者具有長度(A13)、寬度(A14)及厚度(A10)，及具有實質上垂直於磁場產生裝置(840)之磁軸(亦即，以面向基板(820)之南極來實質上垂直於基板(820)表面)的磁軸。
磁性組件(830)及為單一偶極子磁鐵的磁場產生裝置(840)較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(830)的上表面與磁場產生裝置(840)的下表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖8A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(840)的上表面與面對該磁場產生裝置(840)之基板(820)表面之間的距離用距離(h)圖示。較佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
由圖8A至圖8B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖8C中，該圖8C係藉由在-20°與+40°之 間傾斜基板(820)來在不同視角下觀察該所得到的OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學效應層(810)之基板(820)時變化之尺寸之凹六邊形體的光學印象。
圖9A至圖9B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(910)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(920)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖9A之設備包含為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場產生裝置(940)，該磁場產生裝置(940)經設置在磁性組件(930)的頂部。磁場產生裝置(940)可為如圖9A所示之具有長度(B1)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面體。磁場產生裝置(940)之磁軸實質上平行於基板(920)表面。
圖9A的磁性組件(930)包含支撐基質(934)，該支撐基質(934)可為如圖9A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖9A的磁性組件(930)包含(a1)為設置於正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合的環形磁場產生裝置(931)及(a2)兩個或更多個(特別是三個)偶極子磁鐵(932)的組合。
形成為正方形環形磁性裝置之環形磁場產生裝置(931)的四個偶極子磁鐵之每者可為如圖9A中所展示的具有長度(A7)、寬度(A8)及厚度(A6)的平行六面體。該四個偶極子磁鐵之每者具有實質上與基板(920) 表面平行的磁軸及每者具有其之徑向朝向正方形環形布置(931)之環的中心區域之北極及其之朝向支撐基質(934)之外部的南極。
兩個或更多個(特別是三個)偶極子磁鐵(932)的組合之每者具有長度(A13)、寬度(A14)及厚度(A10)，及具有實質上垂直於磁場產生裝置(940)之磁軸(亦即，以面向基板(920)之南極來實質上垂直於基板(920)表面)的磁軸。
圖9A之設備包含(c)一或更多個極片(950)(特別是具有直徑(C1)及厚度(C2)的一碟形極片(950))，其中磁性組件(930)經布置在該一或更多個極片(950)的頂部。
磁性組件(930)及為單一偶極子磁鐵的磁場產生裝置(940)較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(930)的上表面與磁場產生裝置(940)的下表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖9A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(940)的上表面與面對該磁場產生裝置(940)之基板(920)表面之間的距離用距離(h)圖示。較佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
磁性組件(930)及一或多個極片(950)(特別是一個碟形極片(950))較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(930)的下表面與碟形極片(950)的上表面之間的距 離(e)約為0mm(為清楚圖示起見，圖9A中未圖示實際大小)。
由圖9A至圖9B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖9C中，該圖9C係藉由在-30°與+30°之間傾斜基板(920)來在不同視角下觀察該所得到的OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學效應層(910)之基板(920)時變化之尺寸之凹六邊形體的光學印象。
圖10A至圖10B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(1010)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(1020)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖10A之設備包含為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場產生裝置(1040)，該磁場產生裝置(1040)經設置在磁性組件(1030)的頂部。磁場產生裝置(1040)可為如圖10A所示之具有長度(B1)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面體。磁場產生裝置(1040)之磁軸實質上平行於基板(1020)表面。
圖10A的磁性組件(1030)包含支撐基質(1034)，該支撐基質(1034)可為如圖10A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖10A的磁性組件(1030)包含(a1)為設置於正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合的環形磁場產生裝置(1031)及(a2)兩個或更多個(特別是二十個)偶極子磁鐵(1032)的組合。
形成為正方形環形磁性裝置之環形磁場產生裝置(1031)的四個偶極子磁鐵之每者可為如圖10A中所展示的具有長度(A7)、寬度(A8)及厚度(A6)的平行六面體。該四個偶極子磁鐵之每者具有實質上與基板(1020)表面平行的磁軸及每者具有其之徑向朝向正方形環形布置(1031)之環的中心區域之北極及其之朝向支撐基質(1034)之外部的南極。
兩個或更多個(特別是二十個)偶極子磁鐵(1032)的組合之每者具有直徑(A9)及厚度(A10的1/2)，及具有實質上垂直於磁場產生裝置(1040)之磁軸(亦即，以面向基板(1020)之南極來實質上垂直於基板(1020)表面)的磁軸。
圖10A之設備包含(c)一或更多個極片(1050)(特別是具有直徑(C1)及厚度(C2)的一碟形極片(1050))，其中磁性組件(1030)經布置在該一個極片(1050)的頂部。
磁性組件(1030)及為單一偶極子磁鐵的磁場產生裝置(1040)較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(1030)的上表面與磁場產生裝置(1040)的下表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖10A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(1040)的上表面與面對該磁場產生裝置(1040)之基板(1020)表面之間的距離用距離(h)圖示。較佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
磁性組件(1030)及一或多個極片(1050)(特別是一個碟形極片(1050))較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(1030)的下表面與碟形極片(1050)的上表面之間的距離(e)約為0mm(為清楚圖示起見，圖10A中未圖示實際大小)。在碟形極片(1050)的實施例中(其中該碟形極片具有小於支撐基質(1034)之長度(A1)的直徑(C1)及/或小於支撐基質(1034)之寬度(A2)的直徑(C1))，可在該支撐基質(1034)的底部形成直徑為C1的凹部，以容納碟形極片(1050)，因而導致更緊湊的布置(如圖10A所示)。在此情況中，取決於碟形極片(1050)的厚度(C2)，距離(e)可小於0mm(如-1mm、-2mm或-3mm)。
由圖10A至圖10B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖10C中，該圖10C係藉由在-30°與+30°之間傾斜基板(1020)來在不同視角下觀察該所得到的OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學效應層(1010)之基板(1020)時變化之尺寸之三角形體的光學印象。
圖11A至圖11B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(1110)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(1120)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖11A之設備包含為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場產生裝置(1140)，該磁場產生裝置(1140)經設置在磁性組件(1130)的頂部。磁場產生裝置(1140)可為如圖 11A所示之具有長度(B1)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面體。磁場產生裝置(1140)之磁軸實質上平行於基板(1120)表面。
圖11A的磁性組件(1130)包含支撐基質(1134)，該支撐基質(1134)可為如圖11A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖11A的磁性組件(1130)包含(a1)為設置於正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合的環形磁場產生裝置(1131)及(a2)兩個或更多個(特別是二十六個)偶極子磁鐵(1132)的組合。
形成為正方形環形磁性裝置之環形磁場產生裝置(1131)的四個偶極子磁鐵之每者可為如圖11A中所展示的具有長度(A7)、寬度(A8)及厚度(A6)的平行六面體。該四個偶極子磁鐵之每者具有實質上與基板(1120)表面平行的磁軸及每者具有其之徑向朝向正方形環形布置(1131)之環的中心區域之北極及其之朝向支撐基質(1134)之外部的南極。
兩個或更多個(特別是二十六個)偶極子磁鐵(1132)的組合之每者具有直徑(A9)及厚度(A10的1/2)，及具有實質上垂直於磁場產生裝置(1140)之磁軸(亦即，實質上垂直於基板(1120)表面)的磁軸。二十六個偶極子磁鐵(1132)中之兩個或更多個偶極子磁鐵具有其之面向基板(1120)的北極及該二十六個偶極子磁鐵 (1132)中之兩個或更多個偶極子磁鐵具有其之面向基板(1120)的南極。
圖11A之設備包含(c)一或更多個極片(1150)(特別是具有直徑(C1)及厚度(C2)的一碟形極片(1150))，其中磁性組件(1130)經布置在極片(1150)的頂部。
磁性組件(1130)及為單一偶極子磁鐵的磁場產生裝置(1140)較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(1130)的上表面與磁場產生裝置(1140)的下表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖11A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(1140)的上表面與面對該磁場產生裝置(1140)之基板(1120)表面之間的距離用距離(h)圖示。較佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
磁性組件(1130)及一或多個極片(1150)(特別是一個碟形極片(1150))較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(1130)的下表面與碟形極片(1150)的上表面之間的距離(e)約為0mm(為清楚圖示起見，圖11A中未圖示實際大小)。
由圖11A至圖11B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖11C中，該圖11C係藉由在-30°與+30°之間傾斜基板(1120)來在不同視角下觀察該所得到的OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學 效應層(1110)之基板(1120)時變化之尺寸之凹六邊形體的光學印象。
圖12A至圖12B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(1210)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(1220)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖12A之設備包含為單一棒狀偶極子磁鐵的磁場產生裝置(1240)，該磁場產生裝置(1240)經設置在磁性組件(1230)的底部。磁場產生裝置(1240)可為如圖12A所示之具有長度(B1)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面體。磁場產生裝置(1240)之磁軸實質上平行於基板(1220)表面。
圖12A的磁性組件(1230)包含支撐基質(1234)，該支撐基質(1234)可為如圖12A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖12A的磁性組件(1230)包含(a1)為設置於正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合的環形磁場產生裝置(1231)及(a2)兩個或更多個(特別是十八個)偶極子磁鐵(1232)的組合。
形成為正方形環形磁性裝置之環形磁場產生裝置(1231)的四個偶極子磁鐵之每者可為如圖12B1至圖12B2中所展示之具有寬度(A7)、長度(A8)及厚度(A6)的平行六面體。該四個偶極子磁鐵之每者具有實質上與基板(1220)表面平行的磁軸及每者具有其之徑向朝 向正方形環形布置(1231)之環的中心區域之北極及其之朝向支撐基質(1234)之外部的南極。
兩個或更多個(特別是十八個)偶極子磁鐵(1232)的組合之每者具有直徑(A9)及厚度(A10的1/2)，及具有實質上垂直於磁場產生裝置(1240)之磁軸(亦即，以面向基板(1220)之南極來實質上垂直於基板(1220)表面)的磁軸。
磁性組件(1230)及為單一偶極子磁鐵的磁場產生裝置(1240)較佳地直接接觸；亦即，磁場產生裝置(1240)的上表面與磁性組件(1230)的下表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖12A中未圖示實際大小)。磁性組件(1230)的上表面與面對該磁性組件(1230)之基板(1220)表面之間的距離用距離(h)圖示。較佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
由圖12A至圖12B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖12C中，該圖12C係藉由在-30°與+30°之間傾斜基板(1220)來在不同視角下觀察該所得到的OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學效應層(1210)之基板(1220)時變化之尺寸之凹八邊形體的光學印象。
圖13至圖14圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(1310,1410)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(1320,1420)上之非球形 磁體或可磁化顏料粒子。圖13至圖14之設備包含(a)磁性組件(1330,1430)，該磁性組件(1330,1430)包含支撐基質(1334,1434)，及(a1)為設置成正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合的環形磁場產生裝置(1331,1431)，及(a2)兩個或更多個(特別是十八個)偶極子磁鐵(1332,1432)；及(b)磁場產生裝置(1340,1440)，該磁場產生裝置(1340,1440)為兩個或更多個(特別是七個或八個)棒狀偶極子磁鐵(1341,1441)之組合，該等棒狀偶極子磁鐵(1341,1441)之每者具有相同的磁場方向及該等棒狀偶極子磁鐵(1341,1441)之每者具有實質上平行於基板(1320,1420)表面的磁軸，其中磁場產生裝置(1340,1440)經設置在磁性組件(1330,1430)下方。
圖13A至圖13B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(1310)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(1320)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖13A之設備包含為兩個或更多個(特別是八個)棒狀偶極子磁鐵(1341)之組合的磁場產生裝置(1340)，該兩個或更多個(特別是八個)棒狀偶極子磁鐵(1341)之每者具有實質上平行於基板(1320)表面的磁軸及具有相同的磁場方向。磁場產生裝置(1340)經設置於磁性組件(1330)下方。磁場產生裝置(1340)之八個棒狀偶極子磁鐵(1341)之每者可為如圖13A及圖13B3所 示之具有長度(B2)、寬度(B1b)及厚度(B3)的平行六面體。
磁場產生裝置(1340)包含支撐基質(1342)中的兩個或更多個(特別是八個)棒狀偶極子磁鐵(1341)。棒狀偶極子磁鐵(1341)可為如圖13A所示之具有長度(B1a)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面體。如圖13A所展示地，兩個或更多個(特別是八個)棒狀偶極子磁鐵(1341)可用對稱配置布置於支撐基質(1342)內，該支撐基質(1342)之頂視圖及側視圖展示於圖13B3中。
圖13A的磁性組件(1330)包含支撐基質(1334)，該支撐基質(1334)可為如圖13A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖13A的磁性組件(1330)包含(a1)為設置於正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合的環形磁場產生裝置(1331)及(a2)兩個或更多個(特別是十八個)偶極子磁鐵(1332)的組合。
形成為正方形環形磁性裝置之環形磁場產生裝置(1331)的四個偶極子磁鐵之每者可為如圖13B1及圖13B2A中所展示的具有長度(A7)、寬度(A8)及厚度(A6)的平行六面體。該四個偶極子磁鐵之每者具有實質上與基板(1220)表面平行的磁軸及每者具有其之徑向朝向正方形環形布置(1331)之環的中心區域之北極及其之朝向支撐基質(1334)之外部的南極。
兩個或更多個(特別是十八個)偶極子磁鐵(1332)的組合之每者具有直徑(A9)及厚度(A10的1/2)，及具有實質上垂直於磁場產生裝置(1340)之磁軸(亦即，以面向基板(1320)之南極來實質上垂直於基板(1320)表面)的磁軸。
磁性組件(1330)及磁場產生裝置(1340)較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(1330)的下表面與磁場產生裝置(1340)的上表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖13A中未圖示實際大小)。磁性組件(1330)的上表面與面對該磁性組件(1330)之基板(1320)表面之間的距離用距離(h)圖示。較佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
由圖13A至圖13B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖13C中，該圖13C係藉由在-30°與+30°之間傾斜基板(1320)來在不同視角下觀察該所得到的OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學效應層(1310)之基板(1320)時變化之尺寸之凹八邊形體的光學印象。
圖14A至圖14B圖示說明根據本發明之適於生產光學效應層(OEL)(1410)之設備的範例，該等光學效應層(OEL)包含基板(1420)上之非球形磁體或可磁化顏料粒子。圖14A之設備包含為兩個或更多個(特別是七個)棒狀偶極子磁鐵(1441)之組合的磁場產生裝置 (1440)，該兩個或更多個(特別是七個)棒狀偶極子磁鐵(1441)之每者具有實質上平行於基板(1420)表面的磁軸及具有相同的磁場方向。磁場產生裝置(1440)經設置於磁性組件(1430)下方。磁場產生裝置(1440)之七個棒狀偶極子磁鐵(1441)之每者可為如圖14A及圖14B3所示之具有長度(B2)、寬度(B1b)及厚度(B3)的平行六面體。
磁場產生裝置(1440)包含支撐基質(1442)中的兩個或更多個(特別是七個)棒狀偶極子磁鐵(1441)。棒狀偶極子磁鐵(1441)可為如圖14A所示之具有長度(B1a)、寬度(B2)及厚度(B3)的平行六面體。如圖14A所展示地，兩個或更多個(特別是七個)棒狀偶極子磁鐵(1441)可用非對稱配置布置於支撐基質(1442)內，該支撐基質(1442)之頂視圖及側視圖展示於圖14B3中。
圖14A的磁性組件(1430)包含支撐基質(1434)，該支撐基質(1434)可為如圖14A所示之具有長度(A1)、寬度(A2)及厚度(A3)的平行六面體。
圖14A的磁性組件(1430)包含(a1)為設置於正方形環形布置中之四個偶極子磁鐵之組合的環形磁場產生裝置(1431)及(a2)兩個或更多個(特別是十八個)偶極子磁鐵(1432)的組合。
形成為正方形環形磁性裝置之環形磁場產生裝置(1431)的四個偶極子磁鐵之每者可為如圖14及圖 14B2中所展示的具有寬度(A7)、長度(A8)及厚度(A6)的平行六面體。該四個偶極子磁鐵之每者具有實質上與基板(1420)表面平行的磁軸及每者具有其之徑向朝向正方形環形布置(1431)之環的中心區域之北極及其之朝向支撐基質(1434)之外部的南極。
兩個或更多個(特別是十八個)偶極子磁鐵(1432)的組合之每者具有直徑(A9)及厚度(A10的1/2)，及具有實質上垂直於磁場產生裝置(1440)之磁軸(亦即，以面向基板(1420)之南極來實質上垂直於基板(1420)表面)的磁軸。
磁性組件(1430)及磁場產生裝置(1440)較佳地直接接觸；亦即，磁性組件(1430)的下表面與磁場產生裝置(1440)的上表面之間的距離(d)約為0mm(為清楚圖示起見，圖14A中未圖示實際大小)。磁性組件(1430)的上表面與面對該磁性組件(1430)之基板(1420)表面之間的距離用距離(h)圖示。較佳地，距離(h)在約0.1至約10mm之間，及更較佳地距離(h)在約0.2至約5mm之間。
由圖14A至圖14B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖14C中，該圖14C係藉由在-30°與+30°之間傾斜基板(1420)來在不同視角下觀察該所得到的OEL。如此獲得的OEL提供了具有在傾斜包含光學效應層(1410)之基板(1420)時變化之尺寸之八邊形體的光學印象。
本發明進一步提供包含旋轉磁性圓筒的印刷設備，該旋轉磁性圓筒包含本文所述的一或更多個設備(亦即，設備包含本文所述之磁性組件(130,230,330,430,530,630,730,830,930,1030,1130,1230,1330,1430)及本文所述之磁場產生裝置(140,240,340,440,540,640,740,840,940,1040,1140,1240,1340,1440))，其中該一或更多個設備經安裝至該旋轉磁性圓筒的周向凹槽中及包含平版印刷單元的印刷組件中，該平版印刷單元包含本文所述之一或更多個設備，其中該一或更多個設備經安裝至該平版印刷單元的凹部中。
旋轉磁性圓筒意在用於印刷或塗布設備中，或與印刷或塗布設備一起使用或為印刷或塗布設備的部分，及承載本文所述的一或更多個設備。在一實施例中，旋轉磁性圓筒為以連續方式以高印刷速度作業之旋轉的、單張紙式或捲筒紙式工業印刷機的部分。
平版印刷單元意在用於印刷或塗布設備中，或與印刷或塗布設備一起使用或為印刷或塗布設備的部分，及承載本文所述的一或更多個設備。在一實施例中，平版印刷單元為以不連續方式操作之單張紙式工業印刷機的部分。
包含本文所述之旋轉磁性圓筒或本文所述之平版印刷單元的印刷設備可包含用於饋送基板(該基板如本文所述的彼等在其上具有本文所述之非球形磁體或可 磁化顏料粒子的基板)的基板饋送器，使得設備產生作用於顏料粒子的磁場以使該等顏料粒子定向而形成光學效應層(OEL)。在包含本文所述之旋轉磁性圓筒的印刷設備的實施例中，以片狀或網片的形式之基板由基板饋送器饋送。在包含本文所述之平版印刷單元的印刷設備的實施例中，基板由片狀形式饋送。
包含本文所述的旋轉磁性圓筒或本文所述的平版印刷單元的印刷設備可包含塗布或印刷單元，該塗布或印刷單元係用於施加包含本文所述之非球形磁體或可磁化顏料粒子的可輻射固化塗料組合物至本文所述的基板上，該可輻射固化塗料組合物包含由本文所述之設備所產生之磁場所定向以形成光學效應層(OEL)的非球形磁體或可磁化顏料粒子。在包含本文所述之旋轉磁性圓筒之印刷設備的實施例中，塗布或印刷單元根據旋轉的、連續的處理作業。在包含本文所述之平版印刷單元之印刷設備的實施例中，塗布或印刷單元根據縱向的、不連續的處理作業。
包含本文所述之旋轉磁性圓筒或本文所述的平版印刷單元的印刷設備可包含固化單元，該固化單元係用於至少部分地固化包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的可輻射固化塗料組合物，該等非球形磁體或可磁化顏料粒子已由本文所述之設備磁性定向，從而固定該等非球形磁體或可磁化顏料粒子的方向及位置以產生光學效應層(OEL)。
本文所述之OEL可直接提供於在其上永久保持(如用於鈔票應用)的基板上。作為替代地，也可在用於生產目的的臨時基板上提供OEL，隨後從其中移除OEL。此事可(舉例而言)促進OEL的生產(特別是當黏合劑材料仍處於其流體狀態時)。此後，在至少部分地固化用於生產OEL的塗布組合物後，可從OEL中移除臨時基板。
作為替代地，黏合劑層可存在於OEL上或可存在於包含光學效應層(OEL)的基板上，該黏合劑層位於基板之相對於提供OEL之一側的另一側上或在與OEL同側上且在OEL頂部。因此，可將黏合劑層施加到光學效應層(OEL)或基板上。此類物品可附加到所有類型的文件或其他物品或項目，而無須印刷或其他涉及到機械及相當多功夫之處理。作為替代地，包含本文所述之OEL之本文所述的基板可為轉印箔的形式，可在單獨轉印步驟中施加該形式的基板至文件或物品。為此目的，提供釋放塗層於基板上，在該基板上如本文所述地製備OEL。可在如此生產的OEL上施加一或更多個黏合劑層。
本文亦描述了包含超過一個(亦即，兩個、三個及四個等)的光學效應層(OEL)的基板，該光學效應層(OEL)係由本文所述之處理所得到的。
本文亦描述包含根據本發明所產生的光學效應層(OEL)的製品(特別是安全文件、裝飾元素或物體)。該等製品(特別是安全文件、裝飾元素或物體)可包 含超過一個(舉例而言，兩個及三個等)的根據本發明所生產之OEL。
如上所述，根據本發明所製造的光學效應層(OEL)可用於裝飾目的及用於保護認證安全文件。裝飾元素或物體的典型範例包含(但不限於)奢侈品、化妝品包裝、汽車零件、電子/電器、家具及指甲油。
安全文件包含(但不限於)價值文件及價值商業商品。價值文件的典型範例包含(但不限於)鈔票、契據、票證、支票、憑單、財政郵票及稅標、協議等、如護照、身分證、簽證及駕駛執照的身份證件、金融卡、信用卡、交易卡片、訪問文件或卡片、入場券、公共交通票券或標題等，該等價值文件的典型範例較佳地為鈔票、身份證件、授權文件、駕駛執照及信用卡。術語「商業價值物品」係指包裝材料，特別係指用於化妝品、保健品、藥品、酒精、菸草製品、飲料或食品、電器/電子產品及織物或首飾的包裝材料；亦即，防止偽造及/或非法複製以保證如用於真正藥物之包裝內容的物品。此等包裝材料之範例包含(但不限於)標籤，如認證品牌標籤、竄改證據標籤及密封件。要指出的是，所揭露之基板、價值文件及價值商品僅是為示例性目的而給出，並不限制本發明之範疇。
作為替代地，可在如安全線程、安全條帶、箔、貼花、窗或標籤的輔助基板上生產光學效應層(OEL)，及因而在單獨步驟中被轉移至安全文件。
範例
使用描繪於圖1A至圖14A的設備來定向表1所示之可UV固化網版印刷油墨之印刷層中的非球形光學可變磁性顏料粒子，以產生圖1C至圖14C中所描繪之光學效應層(OEL)。使用T90絲印機將可UV固化網版印刷油墨手工塗布在黑色商業紙上來做為基板。攜帶可UV固化網版印刷油墨之塗布層的紙基板經設置在磁場產生裝置上(圖1A至圖14A)。藉由UV固化包含顏料粒子的印刷層(其係使用來自Phoseon的UV-LED燈(Type FireFlex 50x75mm、395mm及8W/cm2))來固定非球形光學可變顏料粒子之如此得到的磁性定向圖案(特別是與定向步驟同時)。
Figure 106105875-A0305-02-0113-1
範例1(圖1A至圖1C)
如圖1A所示，用於製備範例1的設備包含磁場產生裝置(140)，該磁場產生裝置(140)設置在磁性組件(130)與基板(120)之間，該基板(120)承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物。
磁場產生裝置(140)由棒狀偶極子磁鐵製成，該棒狀偶極子磁鐵具有約30mm的長度(B1)、約30mm的寬度(B2)及約2mm的厚度(B3)。磁場產生裝置(140)的磁軸實質上平行於基板(120)的表面。磁場產生裝置(140)由釹鐵硼N30製成。
磁性組件(130)包含環狀磁鐵(131)、偶極子磁鐵(132)及支撐基質(134)。
如圖1B1及圖1B2所示，環形磁鐵(131)具有約33.5mm的外徑(A4)、約25.5mm的內徑(A5)及約10mm的厚度(A6)。環形磁鐵(131)具有徑向磁化，其中北極指向支撐基質(134)的外部及南極指向環形磁場產生裝置(131)之環的中心區域(亦即，面對偶極子磁鐵(132))。環形磁鐵(131)的中心與支撐基質(134)的中心重合。環形偶極子磁鐵(131)由釹鐵硼N35製成。
偶極子磁鐵(132)具有約10mm的直徑(A9)及約2mm的厚度(A10)。偶極子磁鐵(132)的磁軸實質上垂直於磁場產生裝置(140)的磁軸且實質上垂直於基板(120)表面，該偶極子磁鐵(132)之北極面向基板(120)。偶極子磁鐵(132)的中心與支撐基質(134)的中心重合。偶極子磁鐵(132)由釹鐵硼N45製成。
支撐基質(134)具有約40mm的長度(A1)、約40mm的寬度(A2)及約11mm的厚度(A3)。支撐基質(134)由POM製成。支撐基質(134)的表面包含具有用於接收偶極子磁鐵(132)之約2mm深度(A10)的凹部及具有用於接收環形磁場產生裝置(131)之約10mm深度(A6)的凹部。
磁場產生裝置(140)及磁性組件(130)直接接觸；亦即，磁場產生裝置(140)的下表面與磁性組件(130)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖1A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(140)及磁性組件(130)相對於彼此居中；亦即，磁場產生裝置(140)的長度(B1)及寬度(B2)的中間部分與支撐基質(134)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分對準。磁場產生裝置(140)的上表面與面對磁場產生裝置(140)之基板(120)的表面之間的距離(h)約為1.5mm。
由圖1A至圖1B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖1C中，該圖1C係展示在-30°與+30°之間傾斜基板(120)之不同視角下的該等所得到的OEL。
範例2(圖2A至圖2C)
如圖2A所示，用於製備範例2的設備包含磁場產生裝置(240)，該磁場產生裝置(240)設置在磁性組件(230)與基板(220)之間，該基板(220)承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物。
磁場產生裝置(240)由棒狀偶極子磁鐵製成，該棒狀偶極子磁鐵具有約30mm的長度(B1)、約30mm的寬度(B2)及約2mm的厚度(B3)。磁場產生裝置(240)的磁軸實質上平行於基板(220)的表面。磁場產生裝置(240)由釹鐵硼N30製成。
磁性組件(230)包含環狀磁鐵(231)、偶極子磁鐵(232)及支撐基質(234)。
如圖2B1及圖2B2所示，環形磁鐵(231)具有約33.5mm的外徑(A4)、約25.5mm的內徑(A5)及約10mm的厚度(A6)。環形磁鐵(231)具有徑向磁化，其中北極指向支撐基質(234)的外部及南極指向環形磁場產生裝置(231)之環的中心區域(亦即，面對偶極子磁鐵(232))。環形磁鐵(231)的中心與支撐基質(234)的中心重合。環形偶極子磁鐵(231)由釹鐵硼N35製成。
偶極子磁鐵(232)具有約10mm的直徑(A9)及約5mm的厚度(A10)。偶極子磁鐵(232)的磁軸實質上垂直於磁場產生裝置(240)的磁軸且實質上垂直於基板(220)表面，該偶極子磁鐵(232)之北極面向基板(220)。將偶極子磁鐵(232)的中心沿著其寬度(A2)放置在與支撐基質(334)之邊緣相距約15mm的距離(A12)處及沿著其長度(A1)放置在與支撐基質(234)之邊緣相距約20mm的距離(A11)處；亦即，與範例1相比，偶極子磁鐵(232)沿著支撐基質(234)之寬度(A2)偏移約5mm。偶極子磁鐵(232)由釹鐵硼N45製成。
支撐基質(234)具有約40mm的長度(A1)、約40mm的寬度(A2)及約11mm的厚度(A3)。支撐基質(234)由POM製成。如圖2B2所示，支撐基質(234)的表面包含具有用於接收單一偶極子磁鐵(232)之約5mm深度(A10)的凹部及具有用於接收環形磁場產生裝置(231)之約10mm深度(A6)的凹部。
磁場產生裝置(240)及磁性組件(230)直接接觸；亦即，磁場產生裝置(240)的下表面與磁性組件(230)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖2A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(240)及磁性組件(230)相對於彼此居中；亦即，磁場產生裝置(240)的長度(B1)及寬度(B2)的中間部分與支撐基質(234)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分對準。磁場產生裝置(240)的上表面與面對磁場產生裝置(240)之基板(220)的表面之間的距離(h)約為4mm。
由圖2A至圖2B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖2C中，該圖2C係展示在-30°與+30°之間傾斜基板(220)之不同視角下的該等所得到的OEL。
範例3(圖3A至圖3C)
如圖3A所示，用於製備範例3的設備包含磁場產生裝置(340)，該磁場產生裝置(340)設置在磁性組件(330)與基板(320)之間，該基板(320)承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物。
磁場產生裝置(340)由棒狀偶極子磁鐵製成，該棒狀偶極子磁鐵具有約30mm的長度(B1)、約30mm的寬度(B2)及約2mm的厚度(B3)。磁場產生裝置(340)的磁軸實質上平行於基板(320)的表面。磁場產生裝置(340)由釹鐵硼N30製成。
磁性組件(330)包含環狀磁鐵(331)、偶極子磁鐵(332)及支撐基質(334)。
如圖3B1及圖3B2所示，環形磁鐵(331)具有約33.5mm的外徑(A4)、約25.5mm的內徑(A5)及約10mm的厚度(A6)。環形磁鐵(331)具有徑向磁化，其中北極指向支撐基質(334)的外部及南極指向環形磁場產生裝置(331)之環的中心區域(亦即，面對偶極子磁鐵(332))。環形磁鐵(331)的中心與支撐基質(334)的中心重合。環形偶極子磁鐵(331)由釹鐵硼N35製成。
偶極子磁鐵(332)具有約10mm的長度(A13)、約10mm的寬度(A14)及約5mm的厚度(A10)。偶極子磁鐵(332)的磁軸實質上平行於磁場產生裝置(340)的磁軸且實質上平行於基板(320)表面，該偶極子磁鐵(332)之北極與磁場產生裝置(340)之北極面向相同方向。偶極子磁鐵(332)之中心與支撐基質(334)之中心重合。偶極子磁鐵(332)由釹鐵硼N35製成。
支撐基質(334)具有約40mm的長度(A1)、約40mm的寬度(A2)及約11mm的厚度(A3)。支撐基質(334)由POM製成。如圖3B2所示，支撐基質(334)的 表面包含具有用於接收偶極子磁鐵(332)之約5mm深度(A10)的凹部及具有用於接收環形磁場產生裝置(331)之約10mm深度(A6)的凹部。
磁場產生裝置(340)及磁性組件(330)直接接觸；亦即，磁場產生裝置(340)的下表面與磁性組件(330)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖3A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(340)及磁性組件(330)相對於彼此居中；亦即，磁場產生裝置(340)的長度(B1)及寬度(B2)的中間部分與支撐基質(334)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分對準。磁場產生裝置(340)的上表面與面對磁場產生裝置(340)之基板(320)的表面之間的距離(h)約為1.5mm。
由圖3A至圖3B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖3C中，該圖3C係展示在-30°與+30°之間傾斜基板(320)之不同視角下的該等所得到的OEL。
範例4(圖4A至圖4C)
如圖4A所示，用於製備範例4的設備包含磁場產生裝置(440)，該磁場產生裝置(440)設置在磁性組件(430)與基板(420)之間，該基板(420)承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物。
磁場產生裝置(440)由棒狀偶極子磁鐵製成，該棒狀偶極子磁鐵具有約30mm的長度(B1)、約30mm的寬度(B2)及約2mm的厚度(B3)。磁場產生裝置 (440)的磁軸實質上平行於基板(420)的表面。磁場產生裝置(440)由釹鐵硼N30製成。
磁性組件(430)包含環狀磁鐵(431)、偶極子磁鐵(432)及支撐基質(434)。
如圖4B1及圖4B2所示，環形磁鐵(431)具有約33.5mm的外徑(A4)、約25.5mm的內徑(A5)及約10mm的厚度(A6)。環形磁鐵(431)具有徑向磁化，其中北極指向支撐基質(434)的外部及南極指向環形磁場產生裝置(431)之環的中心區域(亦即，面對偶極子磁鐵(432))。環形磁鐵(431)的中心與支撐基質(434)的中心重合。環形偶極子磁鐵(431)由釹鐵硼N35製成。
偶極子磁鐵(432)具有約10mm的長度(A13)、約10mm的寬度(A14)及約5mm的厚度(A10)。偶極子磁鐵(432)的磁軸實質上平行於磁場產生裝置(440)的磁軸且實質上平行於基板(420)表面，該偶極子磁鐵(432)之北極與磁場產生裝置(440)之北極面向相同方向。將偶極子磁鐵(432)的中心沿著其長度(A1)放置在與支撐基質(434)之邊緣相距約15mm的距離(A11)處及沿著其寬度(A2)放置在與支撐基質(434)之邊緣相距約20mm的距離(A12)處；亦即，與範例3相比，偶極子磁鐵(432)沿著支撐基質(434)之長度(A1)偏移約5mm。偶極子磁鐵(432)由釹鐵硼N35製成。
支撐基質(434)具有約40mm的長度(A1)、約40mm的寬度(A2)及約11mm的厚度(A3)。支撐基質 (434)由POM製成。如圖4B2所示，支撐基質(434)的表面包含具有用於接收偶極子磁鐵(432)之約5mm深度(A10)的凹部及具有用於接收環形磁場產生裝置(431)之約10mm深度(A6)的凹部。
磁場產生裝置(440)及磁性組件(430)直接接觸；亦即，磁場產生裝置(440)的下表面與磁性組件(430)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖4A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(440)及磁性組件(430)相對於彼此居中；亦即，磁場產生裝置(440)的長度(B1)及寬度(B2)的中間部分與支撐基質(434)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分對準。磁場產生裝置(440)的上表面與面對磁場產生裝置(440)之基板(420)的表面之間的距離(h)約為1.5mm。
由圖4A至圖4B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖4C中，該圖4C係展示在-30°與+30°之間傾斜基板(420)之不同視角下的該等所得到的OEL。
範例5(圖5A至圖5C)
如圖5A所示，用於製備範例5的設備包含磁場產生裝置(540)，該磁場產生裝置(540)設置在磁性組件(530)與基板(520)之間，該基板(520)承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物。
磁場產生裝置(540)由棒狀偶極子磁鐵製成，該棒狀偶極子磁鐵具有約30mm的長度(B1)、約30mm的寬度(B2)及約2mm的厚度(B3)。磁場產生裝置 (540)的磁軸實質上平行於基板(420)的表面。磁場產生裝置(540)由釹鐵硼N30製成。
磁性組件(530)包含設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(531)、偶極子磁鐵(532)及支撐基質(534)。
如圖5B1及圖5B2所示，設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(531)之每者具有約25mm的長度(A7)、約2mm的寬度(A8)及約5mm的厚度(A6)。設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(531)之每者以一方式放置於支撐基質(534)中，該方式其中該等四個棒狀偶極子磁鐵(531)之磁軸實質上平行於磁場產生裝置(540)之磁軸及實質上平行於基板(520)表面，其之北極徑向指向該正方形環形布置(531)之環的中心區域及其之南極指向支撐基質(534)的外部(亦即，指向環境)。由設置在正方形環形佈置中之四個棒狀偶極子磁鐵(531)所形成之正方形的中心與支撐基質(534)的中心重合。四個棒狀偶極子磁鐵(531)之每者由釹鐵硼N45製成。
偶極子磁鐵(532)具有約6mm的直徑(A9)及約2mm的厚度(A10)。偶極子磁鐵(532)的磁軸實質上垂直於磁場產生裝置(540)的磁軸且實質上垂直於基板(520)表面，該偶極子磁鐵(532)之南極面向磁場產生裝置(540)及基板(520)表面。偶極子磁鐵(532)之中心 與支撐基質(534)之中心重合。偶極子磁鐵(532)由釹鐵硼N45製成。
支撐基質(534)具有約30mm的長度(A1)、約30mm的寬度(A2)及約6mm的厚度(A3)。支撐基質(534)由POM製成。如圖5B2所示，支撐基質(534)的表面包含具有用於接收單一偶極子磁鐵(532)之約2mm深度(A10)的凹部及具有用於接收環形磁場產生裝置(531)之約5mm深度(A6)的凹部。
磁場產生裝置(540)及磁性組件(530)直接接觸；亦即，磁場產生裝置(540)的下表面與磁性組件(530)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖5A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(540)及磁性組件(530)相對於彼此居中；亦即，磁場產生裝置(540)的長度(B1)及寬度(B2)的中間部分與支撐基質(534)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分對準。磁場產生裝置(540)的上表面與面對磁場產生裝置(540)之基板(520)的表面之間的距離(h)約為3mm。
由圖5A至圖5B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖5C中，該圖5C係展示在-30°與+30°之間傾斜基板(520)之不同視角下的該等所得到的OEL。
範例6(圖6A至圖6C)
如圖6A所示，用於製備範例6的設備包含磁場產生裝置(640)，該磁場產生裝置(640)設置在磁性組件 (630)與基板(620)之間，該基板(620)承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物。
磁場產生裝置(640)由棒狀偶極子磁鐵製成，該棒狀偶極子磁鐵具有約30mm的長度(B1)、約30mm的寬度(B2)及約2mm的厚度(B3)。磁場產生裝置(640)的磁軸實質上平行於基板(620)的表面。磁場產生裝置(640)由釹鐵硼N30製成。
磁性組件(630)包含設置在正方形環形佈置中的四個棒狀偶極子磁鐵(631)、偶極子磁鐵(632)、環形極片(633)及支撐基質(634)。
如圖6B1及圖6B2所示，設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(631)之每者具有約25mm的長度(A7)、約2mm的寬度(A8)及約5mm的厚度(A6)。設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(631)以一方式放置於支撐基質(634)中，該方式其中該等四個棒狀偶極子磁鐵(631)之磁軸實質上平行於磁場產生裝置(640)之磁軸及實質實質上平行於基板(620)表面，其之北極徑向指向該正方形環形布置(631)之環的中心區域及其之南極指向支撐基質(634)的外部(亦即，指向環境)。由設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(631)所形成之正方形的中心與支撐基質(634)的中心重合。設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(631)之每者由釹鐵硼N45製成。
環形極片(633)具有約12mm的外徑(A19)、約8mm的內徑(A20)及約2mm的厚度(A21)。環形極片(633)的中心與支撐基質(634)的中心重合。環形極片(633)由鐵製成。
偶極子磁鐵(632)具有約6mm的直徑(A9)及約2mm的厚度(A10)。偶極子磁鐵(632)的磁軸實質上垂直於磁場產生裝置(640)的磁軸且實質上垂直於基板(620)表面，該偶極子磁鐵(632)之南極面向磁場產生裝置(640)及基板(620)表面。偶極子磁鐵(632)之中心與支撐基質(634)之中心重合。偶極子磁鐵(632)由釹鐵硼N45製成。
支撐基質(634)具有約30mm的長度(A1)、約30mm的寬度(A2)及約6mm的厚度(A3)。支撐基質(634)由POM製成。如圖6B2所示，支撐基質(634)的表面包含具有用於接收偶極子磁鐵(632)之約2mm深度(A10)的凹部、具有用於接收環形磁場產生裝置(631)之約5mm深度(A6)的凹部，及具有用於接收環形極片(633)之約2mm深度(A21)的凹部。
磁場產生裝置(640)及磁性組件(630)直接接觸；亦即，磁場產生裝置(640)的下表面與磁性組件(630)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖6A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(640)及磁性組件(630)相對於彼此居中；亦即，磁場產生裝置(640)的長度(B1)及寬度(B2)的中間部分與支撐基質 (634)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分對準。磁場產生裝置(640)的上表面與面對磁場產生裝置(640)之基板(620)的表面之間的距離(h)約為3mm。
由圖6A至圖6B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖6C中，該圖6C係展示在-30°與+30°之間傾斜基板(620)之不同視角下的該等所得到的OEL。
範例7(圖7A至圖7C)
如圖7A所示，用於製備範例7的設備包含磁場產生裝置(740)，該磁場產生裝置(740)設置在磁性組件(730)與基板(720)之間，該基板(720)承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物。
磁場產生裝置(740)由棒狀偶極子磁鐵製成，該棒狀偶極子磁鐵具有約30mm的長度(B1)、約30mm的寬度(B2)及約2mm的厚度(B3)。磁場產生裝置(740)的磁軸實質上平行於基板(720)的表面。磁場產生裝置(740)由釹鐵硼N30製成。
磁性組件(730)包含設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(731)、偶極子磁鐵(732)、環形極片(733)及支撐基質(734)。
如圖7B1及圖7B2所示，設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(731)之每者具有約25mm的長度(A7)、約2mm的寬度(A8)及約5mm的厚度(A6)。設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(731)以一方式放置於支撐基質(734)中，該方式其中該 等四個棒狀偶極子磁鐵(731)之磁軸實質上平行於磁場產生裝置(640)之磁軸及實質上平行於基板(720)表面，其之北極徑向指向該正方形環形布置(731)之環的中心區域及其之南極指向支撐基質(734)的外部(亦即，指向環境)。由設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(731)所形成之正方形的中心與支撐基質(734)的中心重合。設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(731)之每者由釹鐵硼N45製成。
環形極片(733)具有約15mm的外徑(A19)、約11mm的內徑(A20)及約2mm的厚度(A21)。環形極片(733)的中心與支撐基質(734)的中心重合。環形極片(733)由鐵製成。
偶極子磁鐵(732)具有約6mm的長度(A13)、約5mm的寬度(A14)及約5mm的厚度(A10)。偶極子磁鐵(732)的磁軸實質上平行於磁場產生裝置(740)的磁軸且實質上平行於基板(720)表面，該偶極子磁鐵(732)之北極與磁場產生裝置(740)之北極面向相同方向。偶極子磁鐵(732)之中心與支撐基質(734)之中心重合。偶極子磁鐵(732)由釹鐵硼N45製成。
支撐基質(734)具有約30mm的長度(A1)、約30mm的寬度(A2)及約6mm的厚度(A3)。支撐基質(734)由POM製成。如圖7B2所示，支撐基質(734)的表面包含具有用於接收單一偶極子磁鐵(732)之約5mm深度(A10)的凹部、具有用於接收環形磁場產生裝置 (731)之約5mm深度(A6)的凹部，及具有用於接收環形極片(733)之約2mm深度(A21)的凹部。
磁場產生裝置(740)及磁性組件(730)直接接觸；亦即，磁場產生裝置(740)的下表面與磁性組件(730)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖7A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(740)及磁性組件(730)相對於彼此居中；亦即，磁場產生裝置(740)的長度(B1)及寬度(B2)的中間部分與支撐基質(734)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分對準。磁場產生裝置(740)的上表面與面對磁場產生裝置(740)之基板(720)的表面之間的距離(h)約為1.5mm。
由圖7A至圖7B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖7C中，該圖7C係展示在-30°與+30°之間傾斜基板(720)之不同視角下的該等所得到的OEL。
範例8(圖8A至圖8C)
如圖8A所示，用於製備範例8的設備包含磁場產生裝置(840)，該磁場產生裝置(840)設置在磁性組件(830)與基板(820)之間，該基板(820)承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物。
磁場產生裝置(840)由棒狀偶極子磁鐵製成，該棒狀偶極子磁鐵具有約30mm的長度(B1)、約30mm的寬度(B2)及約2mm的厚度(B3)。磁場產生裝置(840)的磁軸實質上平行於基板(820)的表面。磁場產生裝置(840)由釹鐵硼N30製成。
磁性組件(830)包含設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(831)、設置在三分支常規星狀布置中的三個偶極子磁鐵(832)及支撐基質(834)。
如圖8B1及圖8B2所示，設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(831)之每者具有約25mm的長度(A7)、約2mm的寬度(A8)及約5mm的厚度(A6)。設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(831)以一方式放置於支撐基質(834)中，該方式其中該等四個棒狀偶極子磁鐵(831)之磁軸實質上平行於磁場產生裝置(840)之磁軸及實質上平行於基板(820)表面，其之北極徑向指向該正方形環形布置(831)之環的中心區域及其之南極指向支撐基質(834)的外部(亦即，指向環境)。由設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(831)所形成之正方形的中心與支撐基質(834)的中心重合。設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(831)之每者由釹鐵硼N45製成。
設置在三分支常規星狀布置中的三個偶極子磁鐵(832)之每者具有約10mm的長度(A13)、約4mm的寬度(A14)及約1mm的厚度(A10)。將該等三個偶極子磁鐵(832)之寬度(A14)放置在直徑(A15)約3.3mm的虛擬圓的切線處，以此方式使得第一個棒狀偶極子磁鐵與磁場產生裝置(840)之磁軸對準，且另外兩個棒狀偶極子磁鐵與第一棒狀偶極子磁鐵呈現約120°的角度(α)。設置在三分支常規星狀布置中的三個偶極子磁鐵(832) 之每者的磁軸實質上垂直於磁場產生裝置(840)的磁軸且實質上垂直於基板(820)表面，該等三個偶極子磁鐵(832)之南極面對磁場產生裝置(840)之南極及基板(820)表面。由三個偶極子磁鐵(832)形成的常規三分支常規星狀布置之虛擬中心與支撐基質(834)的中心重合。設置在三分支常規星狀布置中的三個偶極子磁鐵(832)之每者由釹鐵硼N45製成。
支撐基質(834)具有約30mm的長度(A1)、約30mm的寬度(A2)及約6mm的厚度(A3)。支撐基質(834)由POM製成。如圖8B2所示，支撐基質(834)的表面包含具有用於接收三個偶極子磁鐵(832)之約1mm深度(A10)的三個凹部及具有用於接收正方形環形佈置(831)之約5mm深度(A6)的凹部。
磁場產生裝置(840)及磁性組件(830)直接接觸；亦即，磁場產生裝置(840)的下表面與磁性組件(830)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖8A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(840)及磁性組件(830)相對於彼此居中；亦即，磁場產生裝置(840)的長度(B1)及寬度(B2)的中間部分與支撐基質(834)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分對準。磁場產生裝置(840)的上表面與面對磁場產生裝置(840)之基板(820)的表面之間的距離(h)約為1.5mm。
由圖8A至圖8B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖8C中，該圖8C係展示在-20°與+40°之間傾斜基板(820)之不同視角下的該等所得到的OEL。
範例9(圖9A至圖9C)
如圖9A所示，用於製備範例9的設備包含磁場產生裝置(940)、磁性組件(930)及極片(950)，該磁場產生裝置(940)包含於該磁性組件(930)與基板(920)之間，該基板(920)承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物。
磁場產生裝置(940)由棒狀偶極子磁鐵製成，該棒狀偶極子磁鐵具有約30mm的長度(B1)、約30mm的寬度(B2)及約2mm的厚度(B3)。磁場產生裝置(940)的磁軸實質上平行於基板(920)的表面。磁場產生裝置(940)由釹鐵硼N30製成。
磁性組件(930)包含設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(931)、設置在三分支常規星狀布置中的三個偶極子磁鐵(932)、支撐基質(934)及碟形極片(950)。
如圖9B1及圖9B2所示，設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(931)之每者具有約25mm的長度(A7)、約2mm的寬度(A8)及約5mm的厚度(A6)。設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(931)以一方式放置於支撐基質(934)中，該方式其中該等四個棒狀偶極子磁鐵(931)之磁軸實質上平行於磁場 產生裝置(940)之磁軸及實質上平行於基板(920)表面，其之北極徑向指向該正方形環形布置(931)之環的中心區域及其之南極指向支撐基質(934)的外部(亦即，指向環境)。由設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(931)所形成之正方形的中心與支撐基質(934)的中心重合。設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(931)之每者由釹鐵硼N45製成。
設置在三分支常規星狀布置中的三個偶極子磁鐵(932)之每者具有約10mm的長度(A13)、約4mm的寬度(A14)及約1mm的厚度(A10)。將該等三個偶極子磁鐵(932)之寬度(A14)放置在直徑(A15)約3.3mm的虛擬圓的切線處，以此方式使得第一個棒狀偶極子磁鐵與磁場產生裝置(940)之磁軸對準，且另外兩個棒狀偶極子磁鐵與第一棒狀偶極子磁鐵呈現約120°的角度(α)。設置在三分支常規星狀布置中的三個偶極子磁鐵(932)之每者的磁軸實質上垂直於磁場產生裝置(940)的磁軸且實質上垂直於基板(920)表面，該等三個偶極子磁鐵(932)之南極面對磁場產生裝置(940)及基板(920)表面。由三個偶極子磁鐵(932)形成的常規三分支常規星狀布置之虛擬中心與支撐基質(934)的中心重合。設置在三分支常規星狀布置中的三個偶極子磁鐵(932)之每者由釹鐵硼N45製成。
支撐基質(934)具有約30mm的長度(A1)、約30mm的寬度(A2)及約6mm的厚度(A3)。支撐基質 (934)由POM製成。如圖9B2所示，支撐基質(934)的表面包含具有用於接收三個偶極子磁鐵(932)之約1mm深度(A10)的三個凹部及具有用於接收環形磁場產生裝置(931)之約5mm深度(A6)的凹部。
極片(950)具有約30mm的直徑(C1)及約2mm的厚度(C2)。極片(950)經放置於支撐基質(934)下方及由鐵製成。
磁場產生裝置(940)及磁性組件(930)直接接觸；亦即，磁場產生裝置(940)的下表面與磁性組件(930)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖9A中未圖示實際大小)。支撐基質(934)及極片(950)直接接觸；亦即，支撐基質(934)與極片(950)之間的距離(e)為約0mm(為清楚圖示起見，圖9A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(940)、磁性組件(930)及極片(950)相對於彼此居中；亦即，磁場產生裝置(940)的長度(B1)及寬度(B2)的中間部分與支撐基質(934)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分、與極片(950)的直徑(C1)對準。磁場產生裝置(940)的上表面與面對磁場產生裝置(940)之基板(920)的表面之間的距離(h)約為1.5mm。
由圖9A至圖9B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖9C中，該圖9C係展示在-30°與+30°之間傾斜基板(920)之不同視角下的該等所得到的OEL。
範例10(圖10A至圖10C)
如圖10A所示，用於製備範例10的設備包含磁場產生裝置(1040)、磁性組件(1030)及極片(1050)，該磁場產生裝置(1040)包含於該磁性組件(1030)與基板(1020)之間，該基板(1020)承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物。
磁場產生裝置(1040)由棒狀偶極子磁鐵製成，該棒狀偶極子磁鐵具有約30mm的長度(B1)、約30mm的寬度(B2)及約2mm的厚度(B3)。磁場產生裝置(1040)的磁軸實質上平行於基板(1020)的表面。磁場產生裝置(1040)由釹鐵硼N30製成。
磁性組件(1030)包含設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1031)、設置在三分支常規星狀布置中的兩個偶極子磁鐵(1032)的十個組合、支撐基質(1034)及碟形極片(1050)。
如圖10B1及圖10B2所示，設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1031)之每者具有約25mm的長度(A7)、約2mm的寬度(A8)及約5mm的厚度(A6)。設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1031)以一方式放置於支撐基質(1034)中，該方式其中該等四個棒狀偶極子磁鐵(1031)之磁軸實質上平行於磁場產生裝置(1040)之磁軸及實質上平行於基板(1020)表面，其之北極徑向指向該正方形環形布置(1031)之環的中心區域及其之南極指向支撐基質(1034)的外部(亦即，指向環境)。由設置在正方形環形 布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(1031)所形成之正方形的中心與支撐基質(1034)的中心重合。設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(1031)之每者由釹鐵硼N45製成。
設置在三分支常規星狀布置中之十個組合的二十個偶極子磁鐵(1032)之每者具有約2mm的直徑(A9)及約2mm的厚度(A10的1/2)。十個組合中之每者包含兩個偶極子磁鐵(一個置於另一個之上)以具有4mm的組合厚度(A10)。二十個偶極子磁鐵(1032)之每者具有其之實質上垂直於磁場產生裝置(1040)及基板(1020)表面的磁軸，其中南極面對磁場產生裝置(1040)及基板(1020)表面。從由兩個偶極子磁鐵之組合所佔據的中心位置，沿著(A1)方向的三個位置裝配有兩個偶極子磁鐵的三個組合(亦即，六個偶極子磁鐵)，每個位置之間的距離為約2.5mm(A16)。三個位置的兩個其他分支裝置裝配有兩個偶極子磁鐵的剩餘六個組合，使得從中心位置及沿著(A2)的每個方向開始，將下一個位置放置在沿A2約2.5mm(A18)及沿A1約1.5mm(A17)的距離處。三分支常規星狀布置中之中心位置與支撐基質(1034)的中心重合。二十個偶極子磁鐵(1032)之每者由釹鐵硼N45製成。
支撐基質(1034)具有約30mm的長度(A1)、約30mm的寬度(A2)及約6mm的厚度(A3)。支撐基質(1034)由POM製成。如圖10B2所示，支撐基質 (1034)的表面包含具有用於接收兩個偶極子磁鐵(1032)之十個組合之約4mm深度(A10)的十個凹部及具有用於接收環形磁場產生裝置(1031)之約5mm深度(A6)的凹部。如圖10B3所展示地，在背側亦包含具有用於接收碟形極片(1050)之約20mm的直徑(C1)及約1mm的厚度(C2)的圓形凹槽，其中該碟形極片(1050)具有約20mm的直徑(C1)、約1mm的厚度(C2)及由鐵製成。
磁場產生裝置(1040)及磁性組件(1030)直接接觸；亦即，磁場產生裝置(1040)的下表面與磁性組件(1030)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖10A中未圖示實際大小)。碟形極片(1050)放置在支撐基質(1034)下方的凹部中，使得支撐基質(1034)與碟形極片之間的距離(e)為約-1mm(亦即，極片之底部與支撐基質之底部齊平)。磁場產生裝置(1040)、磁性組件(1030)及碟形極片(1050)相對於彼此居中；亦即，磁場產生裝置(1040)的長度(B1)及寬度(B2)的中間部分與磁性組件(1030)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分、與環形極片(1050)的直徑(C1)對準。磁場產生裝置(1040)的上表面與面對磁場產生裝置(1040)之基板(1020)的表面之間的距離(h)約為1.5mm。
由圖10A至圖10B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖10C中，該圖10C係展示在-30°與 +30°之間傾斜基板(1020)之不同視角下的該等所得到的OEL。
範例11(圖11A至圖11C)
如圖11A所示，用於製備範例11的設備包含磁場產生裝置(1140)、磁性組件(1130)及極片(1150)，該磁場產生裝置(1140)包含於該磁性組件(1130)與基板(1120)之間，該基板(1120)承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物。
磁場產生裝置(1140)由棒狀偶極子磁鐵製成，該棒狀偶極子磁鐵具有約30mm的長度(B1)、約30mm的寬度(B2)及約2mm的厚度(B3)。磁場產生裝置(1140)的磁軸實質上平行於基板(1120)的表面。磁場產生裝置(1140)由釹鐵硼N30製成。
磁性組件(1130)包含設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1131)、設置在三分支星狀布置中的兩個偶極子磁鐵(1132)的十三個組合(亦即，二十六個偶極子磁鐵)、支撐基質(1134)及碟形極片(1150)。
如圖11B1及圖11B2所示，設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1131)之每者具有約25mm的長度(A7)、約2mm的寬度(A8)及約5mm的厚度(A6)。設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1131)以一方式放置於支撐基質(1134)中，該方式其中該等四個棒狀偶極子磁鐵(1131)之磁軸實質上平行於磁場產生裝置(1140)之磁軸及實質上平行於基板 (1120)表面，其之北極徑向指向該正方形環形布置(1131)之環的中心區域及其之南極指向支撐基質(1134)的外部(亦即，指向環境)。由設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(1131)所形成之正方形的中心與支撐基質(1034)的中心重合。設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(1131)之每者由釹鐵硼N45製成。
設置在三分支星狀布置中之二十六個偶極子磁鐵(1132)之每者具有約2mm的直徑(A9)及約2mm的厚度(A10的1/2)。十三個組合中之每者包含兩個偶極子磁鐵(一個置於另一個之上)以具有4mm的組合厚度(A10)，其中該兩個偶極子磁鐵具有其之在相同方向上及實質上垂直於磁場產生裝置(1040)及基板(1120)表面的磁軸。從由兩個偶極子磁鐵之組合所佔據的中心位置，沿著(A1)方向的三個位置裝配有兩個偶極子磁鐵的三個組合(亦即，六個偶極子磁鐵)，每個位置之間的距離為約2.5mm(A16)。三個位置的兩個其他分支裝置裝配有兩個偶極子磁鐵的剩餘六個組合(亦即，十二個偶極子磁鐵)，使得從中心位置及沿著(A2)的兩個方向開始，將下一個位置放置在沿A2約2.5mm(A18)及沿A1約1.5mm(A17)的距離處。此等二十個偶極子磁鐵之每者以一方式放置，該方式其中其之南極面向磁場產生裝置(1140)。自每一分支之開端(亦即，自中心位置開始)但在相反方向中，三個位置進一步地以一方式裝配有兩個偶 極子磁鐵的三個結合(亦即，六個偶極子磁鐵)，該方式其中其之北極面向磁場產生裝置(1140)。兩個偶極子磁鐵之一組合在沿著A1自中心位置開始約2.5mm的距離(A16)處，及兩個偶極子磁鐵的其他兩個組合個別地在沿著A2於兩方向中自中心位置開始沿著(A2)約2.5mm(A18)處及在沿著(A1)約1.5mm(A17)處。三分支星狀布置中之中心位置與支撐基質(1134)的中心重合。二十六個偶極子磁鐵(1132)之每者由釹鐵硼N45製成。
支撐基質(1134)具有約30mm的長度(A1)、約30mm的寬度(A2)及約6mm的厚度(A3)。支撐基質(1134)由POM製成。如圖11B2所示，支撐基質(1134)的表面包含具有用於接收兩個偶極子磁鐵(1132)之十三個組合之約4mm深度(A10的1/2)的十三個凹部及具有用於接收環形磁場產生裝置(1131)之約5mm深度(A6)的凹部。
碟形極片(1150)具有約30mm的直徑(C1)及約2mm的厚度(C2)。碟形極片(1150)由鐵製成。
磁場產生裝置(1140)及磁性組件(1130)直接接觸；亦即，磁場產生裝置(1140)的下表面與磁性組件(1130)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖11A中未圖示實際大小)。碟形極片(1150)放置在支撐基質(1134)下方，使得支撐基質(1134)與碟形極片之間的距離(e)為約0mm(為清楚圖示起見，圖 11A中未圖示實際大小)。磁場產生裝置(1140)、磁性組件(1130)及碟形極片(1150)相對於彼此居中；亦即，磁場產生裝置(1140)的長度(B1)及寬度(B2)的中間部分與支撐基質(1134)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分、與碟形極片(1150)的直徑(C1)對準。磁場產生裝置(1140)的上表面與面對磁場產生裝置(1140)之基板(1120)的表面之間的距離(h)約為1.5mm。
由圖11A至圖11B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖11C中，該圖11C係展示在-30°與+30°之間傾斜基板(1120)之不同視角下的該等所得到的OEL。
範例12(圖12A至圖12C)
如圖12A所示，用於製備範例12的設備包含磁性組件(1230)及磁場產生裝置(1240)，該磁性組件(1230)經放置在承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物之基板(1220)與該磁場產生裝置(1240)間。
磁場產生裝置(1240)由棒狀偶極子磁鐵製成，該棒狀偶極子磁鐵具有約60mm的長度(B1)、約30mm的寬度(B2)及約6mm的厚度(B3)。磁場產生裝置(1240)的磁軸實質上平行於基板(1220)的表面。磁場產生裝置(1240)由釹鐵硼N42製成。
磁性組件(1230)包含設置在正方形環形佈置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1231)、設置在對角X交叉狀 布置中的兩個偶極子磁鐵(1232)的九個組合(亦即，十八個偶極子磁鐵)及支撐基質(1234)。
如圖12B1及圖12B2所示，設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1231)之每者具有約25mm的長度(A7)、約2mm的寬度(A8)及約5mm的厚度(A6)。設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1231)以一方式放置於支撐基質(1234)中，該方式其中該等四個棒狀偶極子磁鐵(1231)之磁軸實質上平行於磁場產生裝置(1240)之磁軸及實質上平行於基板(1220)表面，其之北極徑向指向該正方形環形布置(1231)之環的中心區域及其之南極指向支撐基質(1234)的外部(亦即，指向環境)。由設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(1231)所形成之正方形的中心與支撐基質(1234)的中心重合。設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(1231)之每者由釹鐵硼N45製成。
設置在對角X交叉狀布置中之十八個偶極子磁鐵(1232)之每者具有約2mm的直徑(A9)及約2mm的厚度(A10的1/2)。九個組合中之每者包含兩個偶極子磁鐵(一個置於另一個之上)以具有4mm的組合厚度(A10)，其中該兩個偶極子磁鐵具有其之實質上垂直於磁場產生裝置(1240)及基板(1220)表面的磁軸，及其之南極面向該磁場產生裝置(1240)。從由兩個偶極子磁鐵之組合所佔據的中心位置，在每一方向中沿著兩對角的兩個 位置裝配有兩個偶極子磁鐵的八個組合(亦即，十六個偶極子磁鐵)，使得兩個位置之間的距離為沿著(A2)約2.55mm(A18)及沿著(A1)約2.55mm(A16)。對角X交叉狀中之中心位置與支撐基質(1134)的中心重合。十八個偶極子磁鐵之每者由釹鐵硼N45製成。
支撐基質(1234)具有約30mm的長度(A1)、約30mm的寬度(A2)及約6mm的厚度(A3)。支撐基質(1234)由POM製成。如圖12B2所示，支撐基質(1234)的表面包含具有用於接收兩個偶極子磁鐵(1232)之九個組合之約4mm深度(A10)的九個凹部及具有用於接收環形磁場產生裝置(1231)之約5mm深度(A6)的凹部。
磁性組件(1230)及磁場產生裝置(1240)直接接觸；亦即，磁性組件(1230)的下表面與磁場產生裝置(1240)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖12A中未圖示實際大小)。磁性組件(1230)及磁場產生裝置(1240)相對於彼此居中；亦即，磁場產生裝置(1240)的長度(B1)及寬度(B2)的中間部分與支撐基質(1234)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分對準。磁性組件(1230)的上表面與面對磁性組件(1230)之基板(1220)的表面之間的距離(h)約為2mm。
由圖12A至圖12B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖12C中，該圖12C係展示在-30°與 +30°之間傾斜基板(1220)之不同視角下的該等所得到的OEL。
範例13(圖13A至圖13C)
如圖13A所示，用於製備範例13的設備包含磁性組件(1330)及磁場產生裝置(1340)，該磁性組件(1330)經放置在承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物之基板(1320)與該磁場產生裝置(1340)間。
磁場產生裝置(1340)包含八個棒狀偶極子磁鐵(1341)及支撐基質(1342)。如圖13A所示，八個棒狀偶極子磁鐵(1341)經設置在兩個對稱之四個棒狀偶極子磁鐵之群組中。八個棒狀偶極子磁鐵(1341)之每者具有約30mm的長度(B2)、約3mm的寬度(B1b)及約6mm的厚度(B3)(圖13B3)。八個棒狀偶極子磁鐵(1341)之每者具有實質上平行於基板(1320)的表面的磁軸且指向相同方向。八個棒狀偶極子磁鐵(1341)之每者由釹鐵硼N42製成。如圖13B3所展示地，支撐基質(1342)具有約30mm的長度(B1a)、約30mm的寬度(B2)、約7mm的厚度(B3)及具有約6mm的長度(B6)及約6mm的厚度(B4)(亦即，等於棒狀偶極子磁鐵(1341)的厚度)的中央突起。支撐基質(1342)由POM製成。
磁性組件(1330)包含設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1331)、設置在對角X交叉狀 布置中的兩個偶極子磁鐵(1332)的九個組合(亦即，十八個偶極子磁鐵)及支撐基質(1334)。
如圖13B1及圖13B2所示，設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1331)之每者具有約25mm的長度(A7)、約2mm的寬度(A8)及約5mm的厚度(A6)。設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1331)以一方式放置於支撐基質(1334)中，該方式其中該等四個棒狀偶極子磁鐵(1331)之磁軸實質上平行於磁場產生裝置(1340)之磁軸及實質上平行於基板(1320)表面，其之北極徑向指向該正方形環形布置(1331)之環的中心區域及其之南極指向支撐基質(1334)的外部(亦即，指向環境)。由設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(1331)所形成之正方形的中心與支撐基質(1334)的中心重合。設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(1331)之每者由釹鐵硼N45製成。
設置在對角X交叉狀布置中之十八個偶極子磁鐵(1332)之每者具有約2mm的直徑(A9)及約2mm的厚度(A10的1/2)。九個組合中之每者包含兩個偶極子磁鐵(一個置於另一個之上)以具有4mm的組合厚度(A10)，其中該兩個偶極子磁鐵具有其之實質上垂直於基板(1320)表面的磁軸，及其之南極面向該基板(1320)表面。從由兩個偶極子磁鐵之組合所佔據的中心位置，在每一方向中沿著兩對角的兩個位置裝配有兩個偶極子磁 鐵的八個組合(亦即，十六個偶極子磁鐵)，使得兩個位置之間的距離為沿著(A2)約2.55mm(A18)及沿著(A1)約2.55mm(A16)。對角X交叉狀中之中心位置與支撐基質(1334)的中心重合。十八個偶極子磁鐵之每者由釹鐵硼N45製成。
支撐基質(1334)具有約30mm的長度(A1)、約30mm的寬度(A2)及約6mm的厚度(A3)。支撐基質(1334)由POM製成。如圖13B2所示，支撐基質(1334)的表面包含具有用於接收兩個偶極子磁鐵(1332)之九個組合之約4mm深度(A10)的九個凹部及具有用於接收環形磁場產生裝置(1331)之約5mm深度(A6)的凹部。
磁性組件(1330)及磁場產生裝置(1340)直接接觸；亦即，磁性組件(1330)的下表面與磁場產生裝置(1340)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖13A中未圖示實際大小)。磁性組件(1330)及磁場產生裝置(1340)相對於彼此居中；亦即，支撐基質(1334)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分與磁場產生裝置(1340)的長度(B1a)及寬度(B2)的中間部分對準。磁性組件(1330)的上表面與面對磁性組件(1330)之基板(1320)的表面之間的距離(h)約為1.5mm。由圖13A至圖13B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖13C中，該圖13C係展示在-30°與+30°之間傾斜基板(1320)之不同視角下的該等所得到的OEL。
範例14(圖14A至圖14C)
如圖14A所示，用於製備範例14的設備包含磁性組件(1430)及磁場產生裝置(1440)，該磁性組件(1430)經放置在承載包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的塗料組合物之基板(1420)與該磁場產生裝置(1440)間。
磁場產生裝置(1440)包含七個棒狀偶極子磁鐵(1441)及支撐基質(1442)。如圖14A所示，七個棒狀偶極子磁鐵(1441)經設置在兩個不對稱之四個及三個棒狀偶極子磁鐵之群組中。七個棒狀偶極子磁鐵(1441)之每者具有約30mm的長度(B2)、約3mm的寬度(B1b)及約6mm的厚度(B3)。七個棒狀偶極子磁鐵(1441)之每者具有實質上平行於基板(1420)的表面的磁軸且指向相同方向。七個棒狀偶極子磁鐵(1441)之每者由釹鐵硼N42製成。如圖14B3所展示地，支撐基質(1442)具有約30mm的長度(B1a)、約30mm的寬度(B2)、約7mm的厚度(B3)及具有約6mm的長度(B6)及約6mm的厚度(B4)(亦即，等於棒狀偶極子磁鐵(1441)的厚度)的中央突起。支撐基質(1442)由POM製成。
磁性組件(1430)包含設置在正方形環形佈置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1431)、設置在對角X交叉狀布置中的兩個偶極子磁鐵(1432)的九個組合(亦即，十八個偶極子磁鐵)及支撐基質(1434)。
如圖14B1及圖14B2所示，設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1431)之每者具有約25mm的長度(A7)、約2mm的寬度(A8)及約5mm的厚度(A6)。設置在正方形環形布置中的四個棒狀偶極子磁鐵(1431)以一方式放置於支撐基質(1434)中，該方式其中該等四個棒狀偶極子磁鐵(1431)之磁軸實質上平行於磁場產生裝置(1440)之磁軸及實質上平行於基板(1420)表面，其之北極徑向指向該正方形環形布置(1431)之環的中心區域及其之南極指向支撐基質(1434)的外部(亦即，指向環境)。由設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(1431)所形成之正方形的中心與支撐基質(1434)的中心重合。設置在正方形環形布置中之四個棒狀偶極子磁鐵(1431)之每者由釹鐵硼N45製成。
設置在對角X交叉狀布置中之十八個偶極子磁鐵(1432)之每者具有約2mm的直徑(A9)及約2mm的厚度(A10的1/2)。九個組合中之每者包含兩個偶極子磁鐵(一個置於另一個之上)以具有4mm的組合厚度(A10)，其中該兩個偶極子磁鐵具有其之實質上垂直於基板(1420)表面的磁軸，及其之南極面向該基板(1420)表面。從由兩個偶極子磁鐵之組合所佔據的中心位置，在每一方向中沿著兩對角的兩個位置裝配有兩個偶極子磁鐵的八個組合(亦即，十六個偶極子磁鐵)，使得兩個位置之間的距離為沿著(A2)約2.55mm(A18)及沿著(A1) 約2.55mm(A16)。對角X交叉狀中之中心位置與支撐基質(1434)的中心重合。十八個偶極子磁鐵之每者由釹鐵硼N45製成。
支撐基質(1434)具有約30mm的長度(A1)、約30mm的寬度(A2)及約6mm的厚度(A3)。支撐基質(1434)由POM製成。如圖14B2所示，支撐基質(1434)的表面包含具有用於接收兩個偶極子磁鐵(1432)之九個組合之約4mm深度(A10)的九個凹部及具有用於接收環形磁場產生裝置(1431)之約5mm深度(A6)的凹部。
磁性組件(1430)及磁場產生裝置(1440)直接接觸；亦即，磁性組件(1430)的下表面與磁場產生裝置(1440)的上表面之間的距離(d)為約0mm(為清楚圖示起見，圖14A中未圖示實際大小)。磁性組件(1430)及磁場產生裝置(1440)相對於彼此居中；亦即，支撐基質(1434)的長度(A1)及寬度(A2)的中間部分與磁場產生裝置(1440)的長度(B1a)及寬度(B2)的中間部分對準。磁性組件(1430)的上表面與面對磁性組件(1430)之基板(1420)的表面之間的距離(h)約為1.5mm。
由圖14A至圖14B所圖示之設備產生的所得到的OEL展示於圖14C中，該圖14C係展示在-30°與+30°之間傾斜基板(1420)之不同視角下的該等所得到的OEL。
110:光學效應層
120:基板

Claims (17)

  1. 一種用於在一基板上產生一光學效應層(OEL)的方法，該方法包含以下步驟：(i)施加包含非球形磁體或可磁化顏料粒子的一可輻射固化塗料組合物於一基板表面上，該可輻射固化塗料組合物處於一第一狀態，(ii)將該可輻射固化塗料組合物暴露於一設備的一磁場，該設備包含以下各者：(a)包含一支撐基質的一磁性組件及：(a1)環形磁場產生裝置，該環形磁場產生裝置是一單一環形磁鐵或以一環形布置所設置的兩個或更多個偶極子磁鐵的一組合，該環形磁場產生裝置具有一徑向磁化，及(a2)具有實質上垂直於該基板表面之一磁軸的一單一個偶極子磁鐵，或具有實質上平行於該基板表面之一磁軸的一單一個偶極子磁鐵，或兩個或更多個偶極子磁鐵，該兩個或更多個偶極子磁鐵中之每者具有實質上垂直於該基板表面的一磁軸，其中當該單一環形磁鐵的北極或形成該環形磁場產生裝置的該兩個或更多個偶極子磁鐵的北極指向該環形磁場產生裝置的周邊時，該單一個偶極子磁鐵的北極或該兩個或更多個偶極子磁鐵中的至少一 者的北極指向該基板表面，或其中當該單一環形磁鐵的南極或形成該環形磁場產生裝置的該兩個或更多個偶極子磁鐵的南極指向該環形磁場產生裝置的周邊時，該單一個偶極子磁鐵的南極或該兩個或更多個偶極子磁鐵中的至少一者的南極指向該基板表面，及(b)一磁場產生裝置，該磁場產生裝置為具有實質上平行於該基板表面之一磁軸的一單一棒狀偶極子磁鐵或兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵的一組合，該兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵的每一者具有實質上平行於該基板表面的一磁軸及具有一相同的磁場方向，以使至少一部分的該等非球形磁體或可磁化顏料粒子定向，及(iii)將步驟(ii)的該可輻射固化塗料組合物至少部分固化至一第二狀態，以將該等非球形磁體或可磁化顏料粒子固定在該等非球形磁體或可磁化顏料粒子所採用的位置及方向中，其中該光學效應層提供具有傾斜該光學效應層而變化的一尺寸的一或更多個環形主體的一光學印象。
  2. 如請求項1所述之方法，其中該磁性組件包含該支撐基質及： (a1)該環形磁場產生裝置，(a2)該單一偶極子磁鐵或該兩個或更多個偶極子磁鐵，及(a3)一或更多個環形極片。
  3. 如請求項1或請求項2所述之方法，其中該設備進一步包含(c)一或更多個極片，其中將該磁場產生裝置布置在該磁性組件的頂部及其中將該磁性組件布置在該一或更多個極片的頂部。
  4. 如請求項1所述之方法，其中藉由一印刷處理來執行步驟(i)，較佳地係藉由選擇由網版印刷、輪轉凹版印刷及柔版印刷組成之群組的一印刷處理來執行步驟(i)。
  5. 如請求項1所述之方法，其中該複數個非球形磁體或可磁化粒子的至少一部分由非球形的光學可變磁體或可磁化顏料粒子所構成。
  6. 如請求項5所述之方法，其中該等光學可變磁體或可磁化顏料選自由磁性薄膜干涉顏料、磁性膽固醇型液晶顏料及上述兩種顏料的混合物所組成的群組。
  7. 如請求項1所述之方法，其中步驟(iii)部分地與步驟(ii)同時執行。
  8. 如請求項1所述之方法，其中該等非球形磁 體或可磁化粒子為片狀顏料粒子，及其中該方法進一步包含以下步驟：將該可輻射固化塗料組合物暴露於一第一磁場產生裝置的一動態磁場，以便將該等片狀磁體或可磁化顏料粒子的至少一部分雙軸定向，在步驟(i)後及在步驟(ii)前執行該步驟。
  9. 一種光學效應層(OEL)，該光學效應層(OEL)係由請求項1至8的任何一者所描述的方法產生。
  10. 一種安全文件，該安全文件包含一或更多個請求項9所描述的光學效應層(OEL)。
  11. 一種用於在一基板上產生一光學效應層(OEL)的設備，該OEL提供具有傾斜該光學效應層而變化的一尺寸的一或更多個環形主體的一光學印象，及該OEL包含一可輻射固化塗料組合物中的定向非球形磁體或可磁化顏料粒子，其中該設備包含：(a)包含一支撐基質的一磁性組件及：(a1)環形磁場產生裝置，該環形磁場產生裝置是一單一環形磁鐵或以一環形布置所設置的兩個或更多個偶極子磁鐵的一組合，該環形磁場產生裝置具有一徑向磁化，及(a2)具有實質上垂直於該基板表面之一磁軸的一單一個偶極子磁鐵，或具有實質上平行於該基板表面 之一磁軸的一單一個偶極子磁鐵，或兩個或更多個偶極子磁鐵，該兩個或更多個偶極子磁鐵中之每者具有實質上垂直於該基板表面的一磁軸，其中當該單一環形磁鐵的北極或形成該環形磁場產生裝置的該兩個或更多個偶極子磁鐵的北極指向該環形磁場產生裝置的周邊時，該單一個偶極子磁鐵的北極或該兩個或更多個偶極子磁鐵中的至少一者的北極指向該基板表面，或其中當該單一環形磁鐵的南極或形成該環形磁場產生裝置的該兩個或更多個偶極子磁鐵的南極指向該環形磁場產生裝置的周邊時，該單一個偶極子磁鐵的南極或該兩個或更多個偶極子磁鐵中的至少一者的南極指向該基板表面，及(b)一磁場產生裝置，該磁場產生裝置為具有實質上平行於該基板表面之一磁軸的一單一棒狀偶極子磁鐵或兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵的一組合，該兩個或更多個棒狀偶極子磁鐵的每一者具有實質上平行於該基板表面的一磁軸及具有一相同的磁場方向。
  12. 如請求項11所述之設備，其中該磁性組件包含該支撐基質及：(a1)該環形磁場產生裝置，(a2)該單一偶極子磁鐵或該兩個或更多個偶極子 磁鐵，及(a3)一或更多個環形極片。
  13. 如請求項11或12所述之設備，其中該設備進一步包含(c)一或更多個極片，其中將該磁場產生裝置布置在該磁性組件的頂部及其中將該磁性組件布置在該一或更多個極片的頂部。
  14. 一種請求項11至13中所述之設備用於產生一光學效應層(OEL)於一基板上的用途。
  15. 一種印刷設備，該印刷設備包含一旋轉磁性圓筒或一平版印刷單元，該旋轉磁性圓筒包含請求項11至13中所述之設備的至少一者及該平版印刷單元包含請求項11或13中所描述之設備的至少一者。
  16. 一種裝飾元素，該裝飾元素包含一或更多個請求項9所描述的光學效應層(OEL)。
  17. 一種物體，該物體包含一或更多個請求項9所描述的光學效應層(OEL)。
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