TWI630669B - 液體檢測裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種液體檢測裝置，包括：一取像單元，用以擷取一待測物之表面影像；一光源單元，設於該取像單元下方，用以提供該待測物檢測之光源；一罩殼，罩設在該光源單元之外，該罩殼底部開設有一檢測口；一吹氣單元，設於該罩殼下方，可形成一氣幕遮蔽該檢測口，該吹氣單元設有一呈水平設置之細扁狀噴氣部。
Description
本發明係有關於一種檢測裝置，尤指一種用於檢測基板之金屬墊上液體覆蓋狀況且可防止液體揮發物影響檢測精度之液體檢測裝置。
習知在半導體封裝製程中的植球(Ball Mounting)作業，係先在一噴塗工作站中對設有複數個金屬墊之基板噴塗助焊劑(Flux Jetting)，再至一清洗工作站將金屬墊上之助焊劑連同金屬墊之氧化層一起洗去，最後至一植球工作站將複數個銲球分別植放在基板之金屬墊上；其中，在基板噴塗完助焊劑後需藉由一檢測裝置來檢測金屬墊上助焊劑的覆蓋狀況，該檢測裝置係以鏡頭對基板取像後分析影像，以確保所有的基板都能達到符合下一製程之預定標準。
因助焊劑等溶劑皆會揮發而產生揮發物，助焊劑之揮發物可能會附著在檢測裝置之鏡頭上，使鏡頭之鏡面霧化而影響檢測之精度，理論上需在基板噴塗完助焊劑後等待一段時間讓揮發物完全散去後再進行檢測，但是實務上因追求單位時間內之產能效率，不可能耗費太多之等待時間，故在以檢測裝置檢測金屬墊上助焊劑覆蓋狀況時，仍有助焊劑之揮發物影響檢測精度之情形發生。
爰是，本發明的目的，在於提供一種可防止待測物上之液體揮發物影響檢測精度之液體檢測裝置。
依據本發明目的之液體檢測裝置，包括：一取像單元，用以擷取一待測物之表面影像；一光源單元，設於該取像單元下方，用以提供該待測物檢測之光源；一罩殼，罩設在該光源單元之外，該罩殼底部開設有一檢測口；一吹氣單元，設於該罩殼下方，可形成一氣幕遮蔽該檢測口，該吹氣單元設有一呈水平設置之細扁狀噴氣部。
依據本發明目的之另一液體檢測裝置，包括：一取像單元，用以擷取一待測物之表面影像；一光源單元，設於該取像單元下方，用以提供該待測物檢測之光源；一罩殼，罩設在該光源單元之外，該罩殼底部開設有一檢測口；該光源單元與該檢測口之間設有一遮蓋件，其上設有一透明之透光件在該光源單元之一分光鏡下方；一吹氣單元，設於該罩殼下方，可形成一氣幕遮蔽該檢測口。
依據本發明目的之又一液體檢測裝置，包括：一取像單元，用以擷取一待測物之表面影像，該取像單元在與該待測物表面垂直之方向上設有一取像器與一鏡頭；一光源單元，設於該取像單元下方，用以提供該待測物檢測之光源，該光源單元設有一發光器與一分光鏡，該發光器與待測物表面呈水平設置，該分光鏡呈四十五度偏斜角度設於該取像單元與待測物之間，分光鏡一側面對應該鏡頭，另一側面對應該發光器；一罩殼，罩設在該光源單元之外，該罩殼底部開設有一檢測口；一吹氣單元，設於該罩殼下方，可形成一氣幕遮蔽該檢測口。
本發明實施例之液體檢測裝置，因取像單元與光源單元係受罩殼所罩覆，並在罩殼底部之檢測口處又設有吹氣單元吹送氣體以形成氣幕遮蔽檢測口，使待測物上之液體揮發物不易直接進入罩殼內附著在取像單元或光源單元上而影響檢測精度；此外，若液體揮發物不慎穿過氣幕進
入罩殼內時，遮蓋件可阻擋液體揮發物繼續向上竄升，其上之透光件若附著上液體揮發物而霧化時，可直接擦拭透光件去除揮發物，在清潔上亦具有便利性。
A‧‧‧液體檢測裝置
A1‧‧‧取像單元
A11‧‧‧取像器
A12‧‧‧鏡頭
A2‧‧‧安裝板
A21‧‧‧端面
A3‧‧‧光源單元
A31‧‧‧發光器
A32‧‧‧分光鏡
A4‧‧‧罩殼
A41‧‧‧第一側板
A42‧‧‧第二側板
A43‧‧‧檢測口
A44‧‧‧頂板
A441‧‧‧配線口
A5‧‧‧吹氣單元
A51‧‧‧噴氣部
A52‧‧‧氣幕
A6‧‧‧遮蓋件
A61‧‧‧鏤口
A62‧‧‧透光件
W‧‧‧待測物
W1‧‧‧液體
W11‧‧‧液體揮發物
W2‧‧‧基板
W3‧‧‧金屬墊
圖1係本發明實施例中液體檢測裝置與待測物之配置之示意圖。
圖2係本發明實施例中液體檢測裝置分離罩殼之立體示意圖。
圖3係本發明實施例中罩殼下方之吹氣單元配置之示意圖。
圖4係本發明實施例中液體檢測裝置對待測物進行檢測之示意圖。
請參閱圖1，本發明實施例可使用如圖所示之液體檢測裝置A來執行待測物W之表面檢測，該待測物W為一表面噴塗有助焊劑等透明液體W1之基板W2，該基板W2之表面設有複數個金屬墊W3。
請參閱圖2、3、4，該液體檢測裝置A包括：一取像單元A1，設於一安裝板A2之一側，用以擷取待測物W之表面影像，該取像單元A1在與該待測物W表面垂直之方向上設有一取像器A11與一鏡頭A12，該取像器A11可為電荷耦合元件(CCD)或互補金屬氧化半導體(CMOS)；一光源單元A3，設於該安裝板A2之一側並位於該取像單元A1下方，用以提供待測物W檢測之光源，該光源單元A3設有一發光器A31與一分光鏡A32，該發光器A31與待測物W表面呈水平設置並可發射紫外光(UV光)，該分光鏡A32呈左上右下之四十五度偏斜角度且設於取像單元A1與待測物W之間，分光鏡A32之一側面對應該鏡頭A12，另一側面對應該發光器A31，
使發光器A31發射出之紫外光可藉由分光鏡A32之折射以垂直方向投射於待測物W之表面形成與取像單元A1同軸之同軸光；一罩殼A4，設於安裝板A2之一側，其係由一塊立設之第一側板A41與兩塊立設之第二側板A42呈ㄇ字型配置所組成，罩殼A4以兩塊第二側板A42分別螺固於安裝板A2之兩個端面A21上，且罩殼A4之高度在罩殼A4罩覆於安裝板A2之一側時可構成罩殼A4同時罩覆於取像單元A1與光源單元A3之外；罩殼A4底部開設有一檢測口A43，罩殼A4頂部設有一頂板A44，其上開設有一配線口A441以提供外部線路經該配線口A441與罩殼A4內之取像單元A1與光源單元A3電性連結；一吹氣單元A5，設於安裝板A2之底部並位於罩殼A4下方之一側，吹氣單元A5設有一呈水平設置之細扁狀噴氣部A51，以在檢測口A43下方形成一氣幕A52遮蔽檢測口A43；一遮蓋件A6，設於光源單元A3與檢測口A43之間，其上設有一鏤口A61，並有一透明之透光件A62嵌設於該鏤口A62處，該透光件A62設於分光鏡A32下方。
本發明實施例之液體檢測裝置A中，光源單元A3以同軸紫外光照射待測物W表面，並以取像單元A1在垂直方向上取得待測物W表面之俯視影像；覆蓋有液體W1之金屬墊W3區域因金屬墊W3係具有高反射性的金屬材料，故紫外光在液體W1與金屬墊W3間之漫射過程會使該區域在影像上較為明亮，之後再對待測物W表面之俯視影像進行二值化影像處理以檢測待測物W表面透明液體W1在金屬墊W3上之覆蓋狀況。
本發明實施例檢之液體檢測裝置防止液體揮發物影響檢測精度之方法在實施上，包括：在檢測裝置A對噴塗有液體W1之待測物W進行表
面影像檢測時，使取像單元A1與光源單元A3受罩殼A4所罩覆，並藉罩殼A4下方之吹氣單元A5吹送氣體以形成氣幕A52阻擋待測物W上之液體揮發物W11由罩殼A4底部之檢測口A43進入罩殼A4內。
本發明實施例之液體檢測裝置，因取像單元A1與光源單元A3係受罩殼A4所罩覆，並在罩殼A4底部之檢測口A43處又設有吹氣單元A5吹送氣體以形成氣幕A52遮蔽檢測口A43，使待測物W上之液體揮發物W11不易直接進入罩殼A4內附著在取像單元A1或光源單元A3上而影響檢測精度；此外，若液體揮發物W11不慎穿過氣幕A52進入罩殼A4內時，遮蓋件A6可阻擋液體揮發物W11繼續向上竄升，其上之透光件A62若附著上液體揮發物W11而霧化時，可直接擦拭透光件A62去除揮發物W11，在清潔上亦具有便利性。
惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。
Claims (7)
- 一種液體檢測裝置，包括：一取像單元，用以擷取一待測物之表面影像；一光源單元，設於該取像單元下方，用以提供該待測物檢測之光源；一罩殼，罩設在該光源單元之外，該罩殼底部開設有一檢測口；一吹氣單元，設於該罩殼下方，可形成一氣幕遮蔽該檢測口，該吹氣單元設有一呈水平設置之細扁狀噴氣部。
- 一種液體檢測裝置，包括：一取像單元，用以擷取一待測物之表面影像；一光源單元，設於該取像單元下方，用以提供該待測物檢測之光源；一罩殼，罩設在該光源單元之外，該罩殼底部開設有一檢測口；該光源單元與該檢測口之間設有一遮蓋件，其上設有一透明之透光件在該光源單元之一分光鏡下方；一吹氣單元，設於該罩殼下方，可形成一氣幕遮蔽該檢測口。
- 一種液體檢測裝置，包括：一取像單元，用以擷取一待測物之表面影像，該取像單元在與該待測物表面垂直之方向上設有一取像器與一鏡頭；一光源單元，設於該取像單元下方，用以提供該待測物檢測之光源，該光源單元設有一發光器與一分光鏡，該發光器與待測物表面呈水平設置，該分光鏡呈四十五度偏斜角度設於該取像單元與待測物之間，分光鏡一側面對應該鏡頭，另一側面對應該發光器；一罩殼，罩設在該光源單元之外，該罩殼底部開設有一檢測口；一吹氣單元，設於該罩殼下方，可形成一氣幕遮蔽該檢測口。
- 如申請專利範圍第3項所述液體檢測裝置，其中，該發光器係發射紫外光。
- 如申請專利範圍第1至3項任一項所述液體檢測裝置，其中，該罩殼罩設在該取像單元之外。
- 如申請專利範圍第5項所述液體檢測裝置，其中，該罩殼之高度可構成罩殼同時罩設於取像單元與光源單元之外。
- 如申請專利範圍第5項所述液體檢測裝置，其中，該罩殼頂部設有一頂板，該頂板開設有一配線口以提供外部線路經該配線口與罩殼內之取像單元與光源單元電性連結。
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