TWI677327B - 椎間植入物及其製造方法 - Google Patents

Abstract

本發明揭露一種椎間植入物，其包括一前端、一後端以及二側壁。前端與後端是相對於椎間植入物的一被植入方向。後端具有一注入孔。至少該二側壁的其中之一具有一斜出孔，斜出孔的開設方向是由後端朝向前端並向外斜的方向開設於側壁上。斜出孔與注入孔連通。本發明另外揭露一種椎間植入物之製造方法。

Description

椎間植入物及其製造方法

本發明係關於一種椎間植入物及其製造方法。

脊椎係為決定人體活動能力最重要的部位之一，當脊椎發生病變時，往往會對患者產生相當大的影響，包括引起疼痛、麻木感、無力感，甚至是大小便失禁或困難等症狀。脊椎病變發生的原因大多是椎間盤（Intervertebral disc）周圍韌帶受損或弱化導致髓核由韌帶間突出，或椎骨（或稱椎體，Vertebral body）因老化、骨折等原因而塌陷或受損，兩者都可能導致神經或脊髓受到壓迫，使患者感到劇烈疼痛或下肢運動功能受到影響。

椎間盤是連接相鄰二個椎骨的纖維軟骨盤，位置就位於二個椎骨之間，可作為椎骨間的緩衝區域，降低外力對脊椎骨的衝擊以及增加脊椎的運動幅度。椎間盤是由兩個部分所組成，包括位於中心部分的髓核（nucleus pulposus）以及位於周圍部分的纖維環（anulus fibrosis）。髓核的成分是多醣體和水分，用以緩衝脊柱的受力及衝擊。纖維環是由數十層環狀及放射狀的膠原纖維及彈性纖維交織而成的緻密組織，可保護髓核，並將相鄰的椎骨緊密地連接成一體。

若椎間盤退化，髓核會逐漸失去吸收水份的能力而變成脫水狀態。此時髓核的厚度會增加，同時也會發生纖維化而失去吸收衝擊的能力，結果造成壓力會直接作用在脊椎的骨頭結構上，進而產生椎骨相互磨損、骨刺生成、椎間韌帶鬆弛以及神經根壓迫等問題。另外，椎間盤退化或是脊椎不正常受力會造成纖維環變形，甚至纖維環結構破裂，導致髓核膨出或破出而壓迫後方的脊椎神經根，產生背痛等惱人的症狀。

椎間盤退化除了可能會發展成為椎間盤突出症外，其他可能引發的包括脊椎滑脫症、脊椎管狹窄症或其他神經壓迫症狀等。目前治療嚴重椎間盤退化的手術方式是以脊椎融合手術（Spinal fusion surgery）為主，其是先由施術者以器械破壞外層纖維環進入內層髓核，以清理出可供植體植入的路徑，或者以椎間盤切除術（Discectomy）直接移除整個椎間盤。接著，對患者施以椎間融合術（Intervertebral Cage Fusion）。施術者於相鄰兩個椎骨之間植入椎間植入物（Spinal implant）及充填植骨材料，使相鄰的椎骨融合在一起。其中，椎間植入物例如是椎間融合器（Spinal interbody fusion cage或Intervertebral cage），此植入物的主要功能是將椎骨之間的高度回復至正常或合適的高度。植骨材料包括植骨（Bone graft），植骨例如是自體骨、異體骨或人工骨替代物（Bone graft substitutes），並可能搭配骨生長因子一同使用，可促進植骨生長，以與椎骨融合。

習知的手術在植入椎間植入物及充填植骨材料的搭配上僅有兩種方式可選擇，但效果均有限。第一種方式是先在植入空間預先充填植骨材料，再植入椎間植入物。然而，後植入的椎間植入物會壓迫已充填的植骨材料，使植骨材料向二側與前端擠壓。除了可能產生額外的風險以外，也會因植入空間已充填植骨材料，造成椎間植入物難以到達預定的位置。

第二種方式是先植入椎間植入物再充填植骨材料。然而，植入空間在椎間植入物植入後所剩餘的空間有限，故能夠填充的植骨材料相當有限，影響融合的效果與速度。

為解決上述問題，市面上出現一種椎間植入物9，如圖1所示，圖1為習知的椎間植入物的示意圖。此類型的椎間植入物9的一端具有注入孔91，內部具有一注入空間92，注入孔91與注入空間92相互連通。又，椎間植入物9的上、下表面具有出孔93，而側壁具有側出孔94。出孔93及側出孔94皆與注入空間92相互連通。施術者可以先利用椎間植入物持取裝置（Holder）持取椎間植入物9，並將其植入患部，再搭配植骨材料輸送組件自椎間植入物9的注入孔91注入植骨材料至注入空間92。接著，注入的植骨材料可再從出孔93及側出孔94溢出而與周遭的骨組織接觸，加速椎骨間的融合。

然而，由於上述設計的側出孔94是垂直於椎間植入物9之長軸方向的貫孔，實際使用時會發生溢出的植骨材料堆積在側出孔94的出口周邊，而椎間植入物9的前端周圍反而沒有充填足夠量的植骨材料，導致植入的椎間植入物9容易發生鬆動及融合效果不佳的問題。另外，自側出孔94溢出的植骨材料也有可能被向後推擠而從植入路徑的開口中滲漏出去，傷害周圍組織。

因此，如何提供一種椎間植入物，其結構設計可以引導注入之植骨材料至適當的位置，避免植骨材料堆積在部分區域或由植入路徑向後滲漏，已成為相關領域中亟欲突破之重點。

有鑑於上述課題，本發明之主要目的係在提供一種椎間植入物及其製造方法，藉由開設一個斜出孔於側壁上，且斜出口是由後端朝向前端並向外斜的方向開設於側壁上，以解決習知椎間植入物無法將植骨材料分散，導致堆積在出口周圍、無法輸送到植入物前端或由植入路徑向後滲漏的問題。

為達成上述之目的，本發明提供一種椎間植入物，其包括一前端、一後端以及二側壁。前端與後端是相對於椎間植入物的一被植入方向。後端具有一注入孔。至少該二側壁的其中之一具有一斜出孔，斜出孔是由後端向前端並向外斜的方向開設於側壁上，且斜出孔與注入孔連通。

根據本發明之一實施例，椎間植入物更包括一注入空間，其形成於椎間植入物的內部，並與注入孔連通。

根據本發明之一實施例，斜出孔係透過與注入空間連通，而連通注入孔。

根據本發明之一實施例，斜出孔靠近前端之一側為一導引壁。

根據本發明之一實施例，導引壁與被植入方向之間具有一預定角度，預定角度大於90度。

根據本發明之一實施例，椎間植入物包括二斜出孔、二導引壁以及一分流壁，分流壁位於二導引壁交界處。

根據本發明之一實施例，椎間植入物更包括一容置空間，其形成於椎間植入物的內部，且靠近前端。

根據本發明之一實施例，至少該二側壁的其中之一具有一側出孔，其係與容置空間連通。

根據本發明之一實施例，椎間植入物更包括一上表面以及一下表面。上表面具有一上出孔，下表面具有一下出孔，上出孔與下出孔相互連通。

為達成上述之目的，本發明另提供一種椎間植入物，包括一前端、一後端以及二側壁。前端與後端是相對於椎間植入物的一被植入方向，後端具有一注入孔。至少該二側壁的其中之一具有一斜出孔。斜出孔是由後端向前端並向外斜的方向開設於側壁上，並斜出孔與注入孔連通。斜出孔靠近該前端之一側為一導引壁，導引壁與被植入方向之間具有一預定角度，預定角度大於90度。

根據本發明之一實施例，椎間植入物更包括一注入空間以及二該斜出孔。注入空間形成於椎間植入物的內部，並與注入孔連通。二斜出孔位於注入空間的相對二側。

根據本發明之一實施例，椎間植入物更包括一容置空間以及一上表面。容置空間形成於椎間植入物的內部，且靠近前端。上表面具有一上出孔，上出孔的孔徑大於或等於容置空間的孔徑。

為達成上述之目的，本發明又提供一種椎間植入物，其包括一前端、一後端、二側壁以及一分流壁。前端與後端是相對於椎間植入物的一被植入方向。後端具有一注入孔。二側壁分別具有一斜出孔。斜出孔是由後端向前端並向外斜的方向開設於側壁上，且斜出孔與注入孔連通。斜出孔靠近前端之一側為一導引壁。分流壁位於該二側壁之導引壁交界處。

根據本發明之一實施例，導引壁與被植入方向之間具有一預定角度，預定角度大於90度。

根據本發明之一實施例，椎間植入物更包括一容置空間以及一上表面。容置空間形成於椎間植入物的內部，且靠近前端。上表面具有一上出孔，上出孔的孔徑小於容置空間的孔徑。

為達成上述之目的，本發明又提供一種椎間植入物之製造方法，包括下列步驟：提供一椎間植入物，其包括一前端、一後端及二側壁；提供一治具，固定椎間植入物；提供一刀具，刀具與椎間植入物的一被植入方向之間具有一預定角度，預定角度大於90度；以及刀具於該二側壁的其中之一進行加工，以形成由後端向前端並向外斜的方向延伸的斜出孔。

根據本發明之一實施例，斜出孔靠近前端之一側為一導引壁，且導引壁與被植入方向之間具有預定角度。

根據本發明之一實施例，研磨刀以類橢圓形的一旋轉軌跡於該二側壁的其中之一進行研磨。

根據本發明之一實施例，研磨刀為圓柱形或水滴形。

承上所述，依據本發明之椎間植入物及其製造方法，其後端具有注入孔，至少一側壁具有斜出孔。斜出孔是由後端向前端並向外斜的方向開設於側壁上，且斜出孔與該注入孔連通。植骨材料可自後端的注入孔注入，並藉由斜出孔的構型被導引往椎間植入物的外側及前端方向移動，使植骨材料在植入空間內的分散及充填效果更好，以避免過度堆積在部分區域。

為能讓 貴審查委員能更瞭解本發明之技術內容，特舉較佳具體實施例說明如下。

圖2為本發明之椎間植入物之第一實施例的示意圖，圖3A為圖2所示之椎間植入物的部分剖面示意圖，圖3B為圖3A所示之椎間植入物之另一視角的部分剖面示意圖，請先同時參考圖2及圖3A所示。首先，本實施例之椎間植入物1是以椎間融合器（或稱為椎籠）為例說明。椎間植入物1包括一前端11、一後端12以及二側壁13。其中，前端11與後端12是相對於椎間植入物1的一被植入方向P，被植入方向P即為椎間植入物1植入患部時的移動方向（請先參見圖6A）。當椎間植入物1植入患部（例如二個椎骨之間受損或退化的椎間盤80內，或原本受損或退化的椎間盤80被移除後的位置，可先參考圖6A所示），先靠近於患部的該端於本實施例稱為前端11；反之，稱為後端12。換言之，前端11與後端12分別位於椎間植入物1的相對二端，且前端11與後端12的連線平行於椎間植入物1的被植入方向P。在本實施例中，被植入方向P與椎間植入物1的長軸相互平行。

一般而言，施術者可利用椎間植入物持取裝置（Holder）連結椎間植入物1的後端12，藉此固定並持取椎間植入物1。本實施例之後端12具有一注入孔121，且注入孔121的內側具有內螺紋，其係與持取裝置前端的外螺紋配合，以透過螺鎖的方式將持取裝置與椎間植入物1固定在一起，供施術者操作持取裝置將椎間植入物1植入患部。在本實施例中，椎間植入物1更包括一注入空間14，其形成於椎間植入物1的內部，並與注入孔121連通。持取裝置不僅扮演移動椎間植入物1的角色，另外還可與輸送植骨材料的送料組件組合，以供施術者自注入孔121將植骨材料充填至注入空間14再分散至植入空間中。當然，在本發明其他實施例中，椎間植入物1可以用注入孔121直接與輸送植骨材料的送料組件組合，本發明在此不限。注入的植骨材料可例如但不限於自體骨、異體骨或人工骨替代物（Bone graft substitutes）。

請同時參考圖2及圖3B所示，二側壁13分別具有一斜出孔131，且二斜出孔131分別位於注入空間14的相對二側。又，斜出孔131是由後端12向前端11並向外斜的方向開設於側壁13上。詳細而言，斜出孔131是設置於側壁13，並貫穿側壁13的開孔，故於側壁13的內側（即椎間植入物1內部）及外側皆具有開口。其中，斜出孔131位於側壁13內側的開口較靠近於後端12，而斜出孔131位於側壁13外側的開口則靠近於前端11，以形成自後端12向前端11並向外斜的方向延伸的開孔（斜出孔131）。斜出孔131與位於椎間植入物1內部的注入空間14連通，進而連通注入孔121。植骨材料可自注入孔121充填至注入空間14，當注入的量增多後，部分的植骨材料會被推擠朝向注入空間14的周圍移動，然後進入連通注入空間14與外部的開口，包括斜出孔131。

進入斜出孔131的植骨材料移動方向受到侷限，只能被沿著斜出孔131向外推出，例如植骨材料被斜出孔131本身開設的方向導引至側壁13的外側。是以，斜出孔131向前端11並向外斜的方向延伸的設計，使植骨材料被導引可以優先往前端11的方向輸出，進而從前端11附近的植入空間開始充填植骨材料，再慢慢往後堆積。相較來說，習知椎間植入物9在側壁上只有開設垂直貫通的側出孔94，植骨材料沿側出孔94被推擠出去後，很容易滯留在出口附近，當溢出側出孔94的植骨材料持續被擠壓後，就會變得緊實而難以再移動，導致椎間植入物9前端的植入空間所被充填的植骨材料不足，過度集中在部分區域（側出孔94的外側）的情形。

圖4為圖3A所示之椎間植入物的俯視圖，請同時參考圖3A、圖3B及圖4所示。由於斜出孔131是向前端11且向外斜的方向延伸的開孔，故於斜出孔131靠近前端11之一側為一導引壁132，且導引壁132為弧形側壁，有助於加強植骨材料沿斜出孔131的流動。具體而言，導引壁132與被植入方向P之間具有一預定角度q1，且預定角度q1大於90度。本實施例之斜出孔131可以為類圓形、或類橢圓形的通道，較佳可以為類橢圓形通道，如圖2所示，以增加導引植骨材料的空間、維持植骨材料的流動性以及避免加工難度過高。

在本實施例中，斜出孔131及其導引壁132可透過刀具加工製成，例如透過刀具研磨方式製成。圖5A為圖2所示之椎間植入物的製造方法的步驟流程圖，圖5B為圖5A所示之步驟S30的示意圖，圖5C為圖5A所示之步驟S40的示意圖，請同時參考圖5A、圖5B及圖5C所示。本實施例之椎間植入物1的製造方法，其包括下列步驟：提供一椎間植入物1a，椎間植入物1a包括一前端11a、一後端12a及二側壁13a（步驟S10）；提供一治具，固定椎間植入物1a（步驟S20）；提供一刀具2，刀具2與椎間植入物1a的一被植入方向P之間具有一預定角度q2，預定角度q2大於90度（步驟S30）；以及刀具2於該二側壁13a的其中之一進行加工，以形成由後端12a向前端11a並向外斜的方向延伸的斜出孔131a（步驟S40）。

於步驟S20中，先提供一治具，以固定椎間植入物1a，需說明的是，此時的椎間植入物1a為半成品，其具有前端11a、後端12a及二側壁13a，且椎間植入物1a的內部可以預先加工形成注入空間14a，但側壁13a仍為封閉而尚未開設斜出孔131a。較佳的，椎間植入物1a可利用具生物相容性或的可高溫高濕滅菌的高分子材料製成，例如聚醚醚酮（polyetheretherketone，PEEK）。椎間植入物1a先加工形成貫通的上出孔151與下出孔161（可參考圖2），然後使用圓柱形的治具由水平方向貫通椎間植入物1a的上出孔151與下出孔161，以固定椎間植入物1a並使椎間植入物1a的側壁13a朝上，準備以刀具2進行加工。

利用治具固定半成品的椎間植入物1a後，再將刀具2相對於二側壁13a的其中之一傾斜設置（步驟S30）。如圖5B及圖5C所示，刀具2與椎間植入物1a的被植入方向P之間具有一預定角度q2，且預定角度q2大於90度，較佳可介於110度至130度之間，本實施例之預定角度q2是120度。需說明的是，本實施例所述之預定角度q2是指刀具2與側壁13a之間的夾角角度，且為靠近後端12a之側壁13a與刀具2之間的夾角。

接著，刀具2於其中一側壁13a上開始研磨（步驟S40），刀具2係自側壁13a的外表面往椎間植入物1a的內部移動，如圖5B及圖5C所示，刀具2的移動方向M與被植入方向P之間同樣是夾有預定角度q2。藉由預定角度q2的設計，以形成自後端12a向前端11a並向外斜的方向延伸的斜出孔131a，且斜出孔131a與注入空間14a連通。又，斜出孔131a靠近前端11a之一側為導引壁132a，且導引壁132a與被植入方向P之間所具有的預定角度q1（請參考圖4所示）其度數是與刀具2與側壁13a之間的預定角度q2相同。本實施例之預定角度q1及預定角度q2皆是120度。在本實施例中，刀具2亦可以為圓柱形或水滴形，並以類橢圓形的旋轉軌跡於側壁13a進行研磨，同樣可形成類橢圓形的斜出孔131a。

接著，再於另一側壁13a重複步驟S30及步驟S40，以形成如圖4所示之椎間植入物1。另需說明的是，本發明不限制斜出孔131的數量，亦可僅有一個斜出孔131，即至少二側壁13的其中之一具有一斜出孔131。另外，亦可於同一個側壁13上具有一個以上的斜出孔131。

請同時參考圖2、圖3A及圖3B所示，椎間植入物1亦包括一上表面15及一下表面16，且上表面15具有一上出孔151，下表面16具有一下出孔161。其中，上出孔151及下出孔161分別與注入空間14連通，使上出孔151與下出孔161可透過注入空間14相互連通。換言之，注入空間14的後側與注入孔121連通、左右二側與斜出孔131連通、及上下二側分別與上出孔151及下出孔161連通。

較佳的，椎間植入物1更包括一容置空間17，其形成於椎間植入物1的內部，且相對於注入空間14更靠近前端11。在本實施例中，容置空間17為靠近於前端11的貫孔，故於上表面15及下表面16上分別形成出孔171。又，至少二側壁13的其中之一具有一側出孔172，其係與容置空間17連通。如圖4所示，側出孔172垂直於被植入方向P，換言之，側出孔172與被植入方向P之間的夾角角度實質上為90度。容置空間17用以容置植骨材料，可例如但不限於自體骨、異體骨或人工骨替代物，但較佳為自體骨。將椎間植入物1植入患部之前，可先將植骨材料置入容置空間17內，且部分植骨材料自出孔171及側出孔172露出於椎間植入物1的外側。

請搭配參考圖6A及圖6B所示，圖6A為圖2所示之椎間植入物植入椎間盤的側視圖，圖6B為圖6A所示之椎間植入物植入椎間盤的俯視圖。當椎間植入物1植入患者的椎間盤80後，預先置於容置空間17的自體骨會自出孔171露出，並與相鄰二椎骨81、82接觸。接著，將人工骨替代物自後端12的注入孔121注入，並充填注入空間14。當人工骨替代物被推擠進入斜出孔131後，可以順著前側的導引壁132被導引往椎間植入物1的外側及前端11的方向移動，如圖6B所示，使人工骨替代物可優先充填在前端11附近的植入空間中，有利完整填充椎間植入物1以外的空間，尤其是椎間植入物1兩側的空間，協助誘導上下椎骨81、82在椎間植入物1兩側的融合生長。又人工骨替代物可由上出孔151或下出孔161溢出，以接觸上下椎骨81、82，同樣可以提供誘導上下椎骨81、82融合生長的功效，以形成自上方的椎骨81貫穿上出孔151、容置空間17以及下出孔161至下方的椎骨82的融合骨結構。

在第一實施例中，注入空間14與容置空間17的比例大致相同，或注入空間14略大於容置空間17。換言之，上出孔151的孔徑R1大於或等於容置空間17的孔徑R2，如圖4所示。此類型的椎間植入物1可應用在自體骨的需求量或可用量較少的患部。較佳的，本實施例之斜出孔131的孔徑R3可大於椎間植入物1之總長度L的1/4。由於注入孔121與導引壁132的距離較長，且斜出孔131的孔徑R3較大，使得注入的骨粉可順利地被導引至斜出孔131的通道內，進而可溢出椎間植入物1的外側，避免堆積於注入空間14。

在其他實施例中，容置空間17b亦可大於注入空間14b，以下第二實施例之椎間植入物1b進一步說明之。圖7為本發明之椎間植入物之第二實施例的示意圖，圖8A為圖2所示之椎間植入物的部分剖面示意圖，圖8B為圖8A所示之椎間植入物之另一視角的部分剖面示意圖，請先同時參考圖7及圖8A所示。本實施例之椎間植入物1b同樣包括前端11b、後端12b及二側壁13b。後端12b具有注入孔121b，二側壁13b則分別具有一斜出孔131b。斜出孔131b同樣以後端12b向外斜及向前端11b的方向開設於側壁13b上，且斜出孔131b靠近前端11b的一側為導引壁132b。椎間植入物1b的上表面15b具有上出孔151b，且下表面16b具有下出孔161b。注入孔121b、斜出孔131b、上出孔151b及下出孔161b皆與椎間植入物1b內部注入空間14b連通。

圖9為圖8A所示之椎間植入物的俯視圖，請搭配參考圖9所示。本實施例之椎間植入物1b亦具有容置空間17b，並靠近於前端11b。與第一實施例之椎間植入物1的差異之一為容置空間17b與注入空間14b的比例關係。在本實施例中，注入空間14b小於容置空間17b，進而使上出孔151b的孔徑R1亦小於容置空間17b的孔徑R2。容置空間17b用以容置自體骨，故本實施例之椎間植入物1b可應用在自體骨使用需求量較大的患部。

相較於第一實施例之椎間植入物1，在本實施例中，椎間植入物1b更包括一分流壁18b，且分流壁18b位於二導引壁132b之間。亦即，分流壁18b位於二側壁13b之導引壁132b的交界處。自注入孔121b注入的人工骨替代物在注入空間14b中會逐漸被推擠向前，當與分流壁18b接觸時，分流壁18b類似稜台或是錐台的構型將有助於人工骨替代物向兩側分散，並分別順著導引壁132b而進入斜出孔131b，從而被導引壁132b侷限流向而沿著導引壁132b向椎間植入物1b的外側及前端11b移動。本實施例之椎間植入物1b藉由分流壁18b的設計，使注入注入空間14b的植骨材料不會因為被推擠向前而在二斜出孔131b的交界處堆積，也就是不會被推擠而在注入孔121b直線方向的前方位置上堆積，有助於注入椎間植入物1b的植骨材料充填至植入空間內。

綜上所述，依據本發明之椎間植入物及其製造方法，其後端具有注入孔，至少一側壁具有斜出孔。斜出孔是由後端向前端並向外斜的方向開設於側壁上，且斜出孔與注入孔連通。植骨材料可自後端的注入孔注入，並藉由斜出孔的構型被導引往椎間植入物的外側及前端方向移動，使植骨材料在植入空間內的分散及充填效果更好，以避免過度堆積在部分區域。

應注意的是，上述諸多實施例係為了便於說明而舉例，本發明所主張之權利範圍自應以申請專利範圍所述為準，而非僅限於上述實施例。

1、1a、1b、9‧‧‧椎間植入物

11、11a、11b‧‧‧前端

12、12a、12b‧‧‧後端

121、121b、91‧‧‧注入孔

13、13a、13b‧‧‧側壁

131、131a、131b‧‧‧斜出孔

132、132a、132b‧‧‧導引壁

14、14a、14b、92‧‧‧注入空間

15、15b‧‧‧上表面

151、151b‧‧‧上出孔

16、16b‧‧‧下表面

161、161b‧‧‧下出孔

17、17b‧‧‧容置空間

171、172b、93‧‧‧出孔

172、172b、94‧‧‧側出孔

18b‧‧‧分流壁

2‧‧‧刀具

80‧‧‧椎間盤

81、82‧‧‧椎骨

L‧‧‧長度

M‧‧‧移動方向

P‧‧‧被植入方向

R1、R2、R3‧‧‧孔徑

S20～S40‧‧‧步驟

q1、q2‧‧‧預定角度

圖1為習知椎間植入物的外觀示意圖。 圖2為本發明之椎間植入物之第一實施例的示意圖。 圖3A為圖2所示之椎間植入物的部分剖面示意圖。 圖3B為圖3A所示之椎間植入物之另一視角的部分剖面示意圖。 圖4為圖3A所示之椎間植入物的俯視圖。 圖5A為圖2所示之椎間植入物的製造方法的步驟流程圖。 圖5B為圖5A所示之步驟S30的示意圖。 圖5C為圖5A所示之步驟S40的示意圖。 圖6A為圖2所示之椎間植入物植入椎間盤的側視圖。 圖6B為圖6A所示之椎間植入物植入椎間盤的俯視圖。 圖7為本發明之椎間植入物之第二實施例的示意圖。 圖8A為圖2所示之椎間植入物的部分剖面示意圖。 圖8B為圖8A所示之椎間植入物之另一視角的部分剖面示意圖。 圖9為圖8A所示之椎間植入物的俯視圖。

Claims (19)

1. 一種椎間植入物，包括：一前端；一後端，該前端與該後端是相對於該椎間植入物的一被植入方向，該後端具有一注入孔；以及二側壁，至少該二側壁的其中之一具有一斜出孔，該斜出孔是由該後端朝向該前端並向外斜的方向開設於該側壁上，且該斜出孔與該注入孔連通。
2. 如申請專利範圍第1項所述之椎間植入物，更包括：一注入空間，其形成於該椎間植入物的內部，並與該注入孔連通。
3. 如申請專利範圍第2項所述之椎間植入物，其中該斜出孔係透過與該注入空間連通，而連通該注入孔。
4. 如申請專利範圍第1項所述之椎間植入物，其中該斜出孔靠近該前端之一側為一導引壁。
5. 如申請專利範圍第4項所述之椎間植入物，其中該導引壁與該被植入方向之間具有一預定角度，該預定角度大於90度。
6. 如申請專利範圍第4項所述之椎間植入物，其中該椎間植入物包括二該斜出孔、二該導引壁以及一分流壁，該分流壁位於二該導引壁交界處。
7. 如申請專利範圍第1項所述之椎間植入物，更包括：一容置空間，其形成於該椎間植入物的內部，且靠近該前端。
8. 如申請專利範圍第7項所述之椎間植入物，其中至少該二側壁的其中之一具有一側出孔，其係與該容置空間連通。
9. 如申請專利範圍第1項所述之椎間植入物，更包括：一上表面，其具有一上出孔；以及一下表面，其具有一下出孔，該上出孔與該下出孔相互連通。
10. 一種椎間植入物，包括：一前端；一後端，該前端與該後端是相對於該椎間植入物的一被植入方向，該後端具有一注入孔；以及二側壁，至少該二側壁的其中之一具有一斜出孔，該斜出孔是由該後端向該前端並向外斜的方向開設於該側壁上，並與該注入孔連通，且該斜出孔靠近該前端之一側為一導引壁，該導引壁與該被植入方向之間具有一預定角度，該預定角度大於90度。
11. 如申請專利範圍第10項所述之椎間植入物，更包括：一注入空間，其形成於該椎間植入物的內部，並與該注入孔連通；以及二該斜出孔，二該斜出孔位於該注入空間的相對二側。
12. 如申請專利範圍第10項所述之椎間植入物，更包括：一容置空間，其形成於該椎間植入物的內部，且靠近該前端；以及一上表面，具有一上出孔，該上出孔的孔徑大於或等於該容置空間的孔徑。
13. 一種椎間植入物，包括：一前端；一後端，該前端與該後端是相對於該椎間植入物的一被植入方向，該後端具有一注入孔；二側壁，分別具有一斜出孔，該斜出孔是由該後端向該前端並向外斜的方向開設於該側壁上，並與該注入孔連通，且該斜出孔靠近該前端之一側為一導引壁；以及一分流壁，位於該二側壁之該導引壁交界處。
14. 如申請專利範圍第13項所述之椎間植入物，其中該導引壁與該被植入方向之間具有一預定角度，該預定角度大於90度。
15. 如申請專利範圍第13項所述之椎間植入物，更包括：一容置空間，其形成於該椎間植入物的內部，且靠近該前端；以及一上表面，具有一上出孔，該上出孔的孔徑小於該容置空間的孔徑。
16. 一種椎間植入物之製造方法，包括下列步驟：提供一椎間植入物，該椎間植入物包括一前端、一後端及二側壁；提供一治具，固定該椎間植入物；提供一刀具，該刀具與該椎間植入物的一被植入方向之間具有一預定角度，該預定角度大於90度；以及該刀具於該二側壁的其中之一進行加工，以形成由該後端向該前端並向外斜的方向延伸的該斜出孔。
17. 如申請專利範圍第16項所述之椎間植入物之製造方法，其中該斜出孔靠近該前端之一側為一導引壁，且該導引壁與該被植入方向之間具有該預定角度。
18. 如申請專利範圍第16項所述之椎間植入物之製造方法，其中該研磨刀以類橢圓形的一旋轉軌跡於該二側壁的其中之一進行研磨。
19. 如申請專利範圍第16項所述之椎間植入物之製造方法，其中該研磨刀為圓柱形或水滴形。